JP2020078804A - Method for producing chlorine-based disinfectant - Google Patents

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耕太 原
Kota Hara
耕太 原
勇祐 下野
Yusuke Shimono
勇祐 下野
雅則 長藤
Masanori Nagafuji
雅則 長藤
岡本 幸彦
Yukihiko Okamoto
幸彦 岡本
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Abstract

To suppress the generation of chlorine gas upon production of a chlorine-based disinfectant to be used for the treatment of seawater, in order to reduce the adverse effects of chlorine gas.SOLUTION: At the time when a solid raw material [ms] taken from a hopper [H] is mixed and agitated with fresh water [ws] to produce a chlorine-based disinfectant [As], the temperature inside the hopper [H] is set or controlled at 39°C or lower, preferably 38°C or lower.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本発明は、船舶のバラストに用いる水(以下「バラスト水」という場合がある)を塩素系殺菌剤により殺菌するための水処理技術に関し、より詳しくは、塩素化イソシアヌル酸化合物の固形物と真水から製造された塩素系殺菌剤をバラスト水に注入することにより、そのバラスト水の殺菌を行う水処理方法及び水処理装置に関する。   The present invention relates to a water treatment technology for sterilizing water used for ballast of ships (hereinafter sometimes referred to as “ballast water”) with a chlorine-based bactericide, and more specifically, a solid substance of chlorinated isocyanuric acid compound and fresh water. TECHNICAL FIELD The present invention relates to a water treatment method and a water treatment apparatus for sterilizing ballast water by injecting a chlorine-based bactericidal agent produced from the ballast water.

塩素化イソシアヌル酸化合物は、固形状で流通しており(特許文献1)、水への溶解度は小さいものの、水に溶解して次亜塩素酸を生成し、殺菌作用を有する塩素の供給源となることが知られている。そのため、塩素系殺菌剤は殺菌剤として使用されている(特許文献2)。   The chlorinated isocyanuric acid compound is distributed in a solid state (Patent Document 1), and although it has a low solubility in water, it dissolves in water to generate hypochlorous acid, and serves as a source of chlorine having a bactericidal action. Is known to be. Therefore, chlorine-based germicides are used as germicides (Patent Document 2).

一方、この塩素系殺菌剤は、船舶のバラストに用いる水を殺菌するための殺菌剤としても使用されている。その代表例は、船舶内で製造された塩素系殺菌剤を、船外から導入され、バラストタンクに向かって移送される水に注入することにより、当該水に殺菌処理を施すバラスト水処理である(特許文献3)。塩素化イソシアヌル酸化合物の固形物を原料とする塩素系殺菌剤を用いるバラスト水処理には、その塩素系殺菌剤を、塩素化イソシアヌル酸化合物の固形物を海水に混合し溶解することにより製造するものもあれば(特許文献4)、海水ではなく真水に混合し溶解することにより製造するものもある(特許文献5)。   On the other hand, this chlorine-based disinfectant is also used as a disinfectant for sterilizing water used for ship ballast. A typical example thereof is a ballast water treatment in which a chlorine-based bactericide manufactured in a ship is injected into water that is introduced from outside the ship and transferred to a ballast tank to sterilize the water. (Patent Document 3). For ballast water treatment using a chlorine-based bactericide made from a solid chlorinated isocyanuric acid compound as a raw material, the chlorine-based bactericide is produced by mixing and dissolving the chlorinated isocyanuric acid compound solid in seawater. Some (Patent Document 4) and some are manufactured by mixing and dissolving in fresh water instead of seawater (Patent Document 5).

特開2003-89607号公報JP 2003-89607 JP 特公昭63-63527号公報Japanese Patent Publication No. 63-63527 特開2011-92899号公報JP 2011-92899 JP 特開2012-254402号公報JP 2012-254402 JP 特開2011-92898号公報JP 2011-92898 JP

ここで、塩素化イソシアヌル酸化合物の固形物は、摂氏40度以上になると自己分解を起こし始め、摂氏45度以上になると、塩素化イソシアヌル酸化合物の固形物の自己分解は顕著に進む。そして、そのような自己分解により発生する水と別の塩素化イソシアヌル酸化合物とが反応すると、塩素ガスが発生する。水分を含んだ塩素ガスは強い腐食性を有し、刺激臭を帯びているので、バラスト水処理に使用する塩素系殺菌剤を船舶内で製造する際に塩素ガスが発生すると、塩素系殺菌剤を製造し、海水に供給するための装置を構成する配管、計測機器等における金属腐食や材質劣化を引き起こし、保守費用の増加を招来する。また、当該塩素ガスが当該装置外に漏洩すると、船員の不快感や不安感の原因となり、船内作業環境を悪化させる。そのため、バラスト水処理に使用する塩素系殺菌剤の原料として塩素化イソシアヌル酸化合物の固形物を船内に保管する場合には、通常、これを密閉可能なコンテナ容器に入れて、摂氏40度未満(たとえば摂氏25度程度)に温度設定された場所で保管し、塩素系殺菌剤を船舶内で製造する必要の都度、コンテナ容器から塩素化イソシアヌル酸化合物の固形物を取り出し、ホッパーのような一時的貯蔵用容器に移し、当該一時的貯蔵用容器から取り出された当該固形物を水と混合し攪拌することで、水に溶解させている。   Here, the solid substance of the chlorinated isocyanuric acid compound starts to self-decompose at 40° C. or higher, and the self-decomposition of the solid substance of the chlorinated isocyanuric acid compound significantly progresses at 45° C. or higher. When water generated by such self decomposition reacts with another chlorinated isocyanuric acid compound, chlorine gas is generated. Since chlorine gas containing water has a strong corrosive property and has an irritating odor, if chlorine gas is generated during the production of a chlorine-based disinfectant used for ballast water treatment onboard a chlorine-based disinfectant, It causes metal corrosion and material deterioration in pipes, measuring instruments, etc. that make up the device for manufacturing and supplying seawater, resulting in an increase in maintenance costs. Further, if the chlorine gas leaks to the outside of the device, it may cause discomfort and anxiety of the crew, and deteriorate the working environment on board. Therefore, when storing a solid substance of a chlorinated isocyanuric acid compound as a raw material of a chlorine-based bactericide used for ballast water treatment in a ship, it is usually placed in a container container that can be sealed and the temperature is less than 40 degrees Celsius ( Store in a place where the temperature is set to, for example, about 25 degrees Celsius, and take out the solid substance of the chlorinated isocyanuric acid compound from the container container every time it is necessary to manufacture the chlorine-based bactericide in the vessel, and temporarily store it in a hopper. The solid substance is transferred to a storage container, and the solid substance taken out from the temporary storage container is mixed with water and stirred to be dissolved in water.

ところが、船舶の機関室や甲板に近い場所は摂氏40度以上になるケースがあることが知られており、赤道近くの低緯度を航行する船舶の機関室は摂氏55度又はそれ以上の温度になるといわれている。そのような場合であっても、塩素化イソシアヌル酸化合物の固形物を密閉可能なコンテナ容器に入れて摂氏40度未満で保管しているのであれば問題はない。しかし、当該固形物を水に溶解させることにより塩素系殺菌剤を船内で製造する場合には、(1)当該固形物を当該コンテナ容器から一時的貯蔵用容器内に移し替えた時点から塩素系殺菌剤の原料として使用するまでの間、一時的であれ、当該一時的貯蔵用容器内で摂氏40度以上の温度に晒すことになりかねない。また、(2)当該一時的貯蔵用容器内に当該固形物の一部が、最終的に塩素系殺菌剤の原料として使い尽くされずに、未使用のまま残留することもあれば、使い尽くされたはずの当該固形物が当該一時的貯蔵用容器の内表面に僅かながら付着して残留することもあるので、それらの残留物が当該一時的貯蔵用容器内で摂氏40度以上の温度に晒されるケースが起こり得る。   However, it is known that there are cases where the engine room of a ship or a place near the deck has a temperature of 40 degrees Celsius or higher, and the engine room of a ship sailing at low latitudes near the equator has a temperature of 55 degrees Celsius or higher. It is said to be. Even in such a case, there is no problem as long as the solid substance of the chlorinated isocyanuric acid compound is put in a container container that can be sealed and stored at a temperature of less than 40 degrees Celsius. However, when a chlorine-based germicide is manufactured onboard a vessel by dissolving the solid substance in water, (1) the chlorine-based germicide is transferred from the time when the solid substance is transferred from the container container into the temporary storage container. Until it is used as a raw material for a bactericide, it may be exposed to a temperature of 40 degrees Celsius or higher in the temporary storage container even temporarily. (2) A part of the solid matter in the temporary storage container may remain unused as a raw material for the chlorine-based bactericide, or may remain unused. Since the solid matter that should have been left may adhere slightly to the inner surface of the temporary storage container and remain, the residue is exposed to a temperature of 40 degrees Celsius or more in the temporary storage container. There may be cases where

上記(1)及び(2)のいずれの事態であれ、実際に起こると、塩素化イソシアヌル酸化合物の固形物は塩素ガスの発生源となり、金属腐食や材質劣化の原因あるいは船内作業環境の悪化の原因となる。   In both cases of (1) and (2) above, when it actually occurs, the solid substance of the chlorinated isocyanuric acid compound becomes a source of chlorine gas, which may cause metal corrosion or material deterioration or deterioration of the working environment on board. Cause.

本発明は、上記の問題に鑑みてなされたものであり、海水処理用の殺菌剤である塩素系殺菌剤を製造する際に、塩素ガスの発生を抑制することにより、塩素ガスの悪影響を低減することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, when producing a chlorine-based disinfectant that is a disinfectant for seawater treatment, by suppressing the generation of chlorine gas, reduce the adverse effect of chlorine gas The purpose is to do.

<水処理方法>
上記目的を解決するための、本発明の第1の形態に係る水処理方法は、船舶のバラストに用いる水を船外から導入し、その水を当該船舶が具備するバラストタンクに向かって移動させる過程で殺菌する水処理方法であって、塩素化イソシアヌル酸化合物の固形物と該固形物を一時的に貯蔵するための一時的貯蔵用容器を用意する準備段階と、前記固形物を一時的貯蔵用容器内に装入する工程を有する第一段階と、前記一時的貯蔵用容器内から取り出された前記固形物を真水と混合し、撹拌することにより、塩素系殺菌剤を製造する工程を有する第二段階と、船舶のバラストに用いる水として船外から導入した水に前記塩素系殺菌剤を注入する工程を有する第三段階と、を有するとともに、前記第一段階は、前記一時的貯蔵用容器内の温度を摂氏39度以下に設定する工程を有することを特徴とする。
<Water treatment method>
A water treatment method according to a first aspect of the present invention for solving the above-mentioned object introduces water used for ballast of a ship from outside the ship and moves the water toward a ballast tank provided in the ship. A water treatment method of sterilizing in the process, a preparation step of preparing a temporary storage container for temporarily storing a solid substance of a chlorinated isocyanuric acid compound and the solid substance, and temporarily storing the solid substance. It has a first step having a step of charging it into a container for use in the container, and a step of producing a chlorine-based bactericide by mixing the solid substance taken out from the container for temporary storage with fresh water and stirring the mixture. While having a second step, a third step having a step of injecting the chlorine-based bactericide into water introduced from outside as water used for ballast of the ship, the first step is for the temporary storage The method is characterized by having a step of setting the temperature in the container to 39°C or lower.

本発明の第2の形態に係る水処理方法は、第1の形態に係る水処理方法であって、前記第一段階は、前記一時的貯蔵用容器が設置されている場所の温度が摂氏39度未満であるとき、前記一時的貯蔵用容器内の温度を、前記一時的貯蔵用容器が設置されている場所の温度以上に設定する工程を有することを特徴とする。   A water treatment method according to a second aspect of the present invention is the water treatment method according to the first aspect, wherein in the first step, a temperature of a place where the temporary storage container is installed is 39 degrees Celsius. When the temperature is less than 100 degrees Celsius, the method further comprises the step of setting the temperature in the temporary storage container to be equal to or higher than the temperature of the place where the temporary storage container is installed.

本発明の第3の形態に係る水処理方法は、第1の形態に係る水処理方法であって、前記第一段階は、前記固形物を前記一時的貯蔵用容器内に装入している間のみならず、装入前及び/又は装入後も前記一時的貯蔵用容器内の温度を摂氏39度以下に設定する工程を有することを特徴とする。   A water treatment method according to a third aspect of the present invention is the water treatment method according to the first aspect, wherein in the first step, the solid matter is charged into the temporary storage container. The method is characterized by including the step of setting the temperature in the temporary storage container to 39 degrees Celsius or less not only during the period but also before and/or after the charging.

本発明の第4の形態に係る水処理方法は、第1及至第3のいずれか1つの形態に係る水処理方法であって、前記固形物と混合される前の前記真水の温度は、摂氏5度以上、摂氏39度以下の範囲内に予め設定されている、ことを特徴とする。   A water treatment method according to a fourth aspect of the present invention is the water treatment method according to any one of the first to third aspects, wherein the temperature of the fresh water before being mixed with the solid matter is Celsius. It is characterized in that it is preset within a range of 5 degrees or more and 39 degrees Celsius or less.

本発明の第5の形態に係る水処理方法は、第1乃至第4のいずれか1つの形態に係る水処理方法であって、前記第三段階は、摂氏5度以上、摂氏39度以下の温度範囲内で前記固形物を前記真水と混合する工程を有する、ことを特徴とする。   A water treatment method according to a fifth aspect of the present invention is the water treatment method according to any one of the first to fourth aspects, wherein the third stage is 5 degrees Celsius or more and 39 degrees Celsius or less. It has a process of mixing the solid substance with the fresh water within a temperature range.

本発明の第6の形態に係る水処理方法は、第5の形態に係る水処理方法であって、前記第三段階は、前記固形物を前記真水に溶解させてできる塩素系殺菌剤の温度を摂氏39度以下に設定する工程を有する、ことを特徴とする。   A water treatment method according to a sixth aspect of the present invention is the water treatment method according to the fifth aspect, wherein the third step is a temperature of a chlorine-based bactericide formed by dissolving the solid matter in the fresh water. Is set to 39 degrees Celsius or less.

本発明の第7の形態に係る水処理方法は、第1の形態に係る水処理方法であって、前記一時的貯蔵用容器が設置されている場所の温度が、摂氏39度以下に予め設定されている基準温度を超えたとき、前記一時的貯蔵用容器内の温度を下げる工程を有することを特徴とする。   A water treatment method according to a seventh aspect of the present invention is the water treatment method according to the first aspect, wherein the temperature of the place where the temporary storage container is installed is preset to 39 degrees Celsius or less. When the temperature exceeds a predetermined reference temperature, a step of lowering the temperature in the temporary storage container is included.

本発明の第8の形態に係る水処理方法は、第2の形態に係る水処理方法であって、前記一時的貯蔵用容器が設置されている場所の温度が、摂氏0度以上に予め設定されている基準温度を下回ったとき、前記一時的貯蔵用容器内の温度を上げる工程を有することを特徴とする。   The water treatment method according to an eighth aspect of the present invention is the water treatment method according to the second aspect, wherein the temperature of the place where the temporary storage container is installed is preset to 0 degrees Celsius or higher. It is characterized by including the step of raising the temperature in the temporary storage container when the temperature falls below the reference temperature.

本発明の第9の形態に係る水処理方法は、第4の形態に係る水処理方法であって、前記塩素系殺菌剤の温度が、摂氏39度以下に予め設定されている基準温度を超えたとき、前記一時的貯蔵用容器内の温度及び/又は前記固形物と混合される前の前記真水の温度を下げる工程を有する、ことを特徴とする。   A water treatment method according to a ninth aspect of the present invention is the water treatment method according to the fourth aspect, wherein the temperature of the chlorine-based bactericide exceeds a reference temperature preset to 39 degrees Celsius or less. In this case, the method further comprises the step of lowering the temperature in the temporary storage container and/or the temperature of the fresh water before being mixed with the solid matter.

本発明の第10の形態に係る水処理方法は、第1乃至第9のいずれか1つの形態に係る水処理方法であって、前記第一段階は、前記第二段階の実行中及び実行後少なくとも一定期間、前記一時的貯蔵用容器内の温度を摂氏39度以下に設定する工程を有する、ことを特徴とする。   A water treatment method according to a tenth aspect of the present invention is the water treatment method according to any one of the first to ninth aspects, wherein the first step is during and after execution of the second step. The method further comprises the step of setting the temperature in the temporary storage container to 39 degrees Celsius or less for at least a certain period.

本発明の第11の形態に係る水処理方法は、第1乃至第9のいずれか1つの形態に係る水処理方法であって、前記第一段階は、前記第三段階の実行中及び実行後少なくとも一定期間、前記一時的貯蔵用容器内の温度を摂氏39度以下に設定する工程を有する、ことを特徴とする。   A water treatment method according to an eleventh aspect of the present invention is the water treatment method according to any one of the first to ninth aspects, wherein the first step is during and after execution of the third step. The method further comprises the step of setting the temperature in the temporary storage container to 39 degrees Celsius or less for at least a certain period.

本発明の第12の形態に係る水処理方法は、第11の形態に係る水処理方法であって、前記第一段階は、前記固形物を前記一時的貯蔵用容器に補給する工程を有することを特徴とする。   A water treatment method according to a twelfth aspect of the present invention is the water treatment method according to the eleventh aspect, wherein the first step has a step of supplying the solid matter to the temporary storage container. Is characterized by.

<水処理装置>
本発明の第13の形態に係る水処理装置は、船舶のバラストに用いる水として船外から導入された水に殺菌剤を注入するために、当該船舶に搭載される水処理装置であって、塩素化イソシアヌル酸化合物の固形物と真水を混合し撹拌することにより、塩素系殺菌剤を製造する溶液製造部と、前記固形物を一時的に貯蔵し、前記溶液製造部に供給するホッパーと、前記真水を前記溶液製造部に供給する水供給部と、船舶のバラストに用いる水として船外から導入された水に前記塩素系殺菌剤を注入する殺菌剤注入部を備えており、前記ホッパー内の温度は摂氏39度以下に設定されている、ことを特徴とする。
<Water treatment device>
A water treatment apparatus according to a thirteenth aspect of the present invention is a water treatment apparatus mounted on a ship for injecting a bactericide into water introduced from outside as water used for ballast of the ship, By mixing and stirring a solid substance of the chlorinated isocyanuric acid compound and fresh water, a solution production section for producing a chlorine-based bactericide, a temporary storage of the solid matter, and a hopper for supplying the solution production section, The hopper includes a water supply unit that supplies the fresh water to the solution manufacturing unit, and a disinfectant injection unit that injects the chlorine-based disinfectant into water introduced from the outside as water used for ballast of a ship, and in the hopper. The temperature of is set to 39 degrees Celsius or less.

本発明の第14の形態に係る水処理装置は、第13の形態に係る水処理装置であって、前記ホッパー内の前記固形物を前記溶液製造部に供給する原料供給機を更に備えており、前記原料供給機は、前記ホッパー内の前記固形物を少量又は所定量に小分けにするための計量機構と該計量機構を駆動する駆動機構を具備しており、前記計量機構内の温度は摂氏39度以下に設定されている、ことを特徴とする。   A water treatment apparatus according to a fourteenth aspect of the present invention is the water treatment apparatus according to the thirteenth aspect, further comprising a raw material supply device for supplying the solid matter in the hopper to the solution manufacturing unit. The raw material feeder includes a measuring mechanism for dividing the solid matter in the hopper into small amounts or a predetermined amount, and a drive mechanism for driving the measuring mechanism, and the temperature in the measuring mechanism is Celsius. It is characterized in that it is set to 39 degrees or less.

本発明の第15の形態に係る水処理装置は、第13又は第14の形態に係る水処理装置であって、前記ホッパー内から前記溶液製造部に供給される前記固形物の移動経路内の温度は、摂氏39度以下に設定されている、ことを特徴とする。   A water treatment apparatus according to a fifteenth aspect of the present invention is the water treatment apparatus according to the thirteenth or fourteenth aspects, in which a moving path of the solid matter supplied from the inside of the hopper to the solution manufacturing unit is The temperature is set to 39 degrees Celsius or lower.

本発明の第16の形態に係る水処理装置は、第13及至第15のいずれか1つの形態に係る水処理装置であって、前記真水の温度は、摂氏5度以上、摂氏39度以下の範囲内に予め設定されている、ことを特徴とする。   A water treatment apparatus according to a sixteenth aspect of the present invention is the water treatment apparatus according to any one of the thirteenth to fifteenth aspects, wherein the temperature of the fresh water is 5 degrees Celsius or higher and 39 degrees Celsius or lower. It is characterized in that it is preset within the range.

本発明の第17の形態に係る水処理装置は、第13及至第16のいずれか1つの形態に係る水処理装置であって、前記溶液製造部は、摂氏5度以上、摂氏39度以下の温度範囲内で前記固形物を前記真水と混合するように構成されている、ことを特徴とする。   A water treatment apparatus according to a seventeenth aspect of the present invention is the water treatment apparatus according to any one of the thirteenth to sixteenth aspects, wherein the solution manufacturing unit has a temperature of 5 degrees Celsius or higher and 39 degrees Celsius or lower. It is configured to mix the solid matter with the fresh water within a temperature range.

本発明の第18の形態に係る水処理装置は、第13及至第16のいずれか1つの形態に係る水処理装置であって、前記溶液製造部は、前記固形物を前記真水と混合し、攪拌し、前記真水に溶解させるためのタンクを備えており、前記タンク内の温度は、摂氏5度以上、摂氏39度以下の範囲内に設定されている、ことを特徴とする。   A water treatment apparatus according to an eighteenth aspect of the present invention is the water treatment apparatus according to any one of the thirteenth to sixteenth aspects, wherein the solution manufacturing unit mixes the solid matter with the fresh water, A tank for stirring and dissolving in the fresh water is provided, and the temperature in the tank is set within a range of 5 degrees Celsius or more and 39 degrees Celsius or less.

本発明の第19の形態に係る水処理装置は、第13及至第16のいずれか1つの形態に係る水処理装置であって、前記溶液製造部は、前記固形物を前記真水と混合する混合部と、該混合部の下流に配置し、前記固形物の前記真水への溶解を促進する溶解促進部とを具備しており、前記溶解促進部は、前記固形物と前記真水の混合物及び/又は前記塩素系殺菌剤が移動し循環する循環配管経路を具備しており、前記循環配管経路は、ポンプと、該ポンプの出側と接続する第一の配管経路と、該第一の配管経路の出側と接続する固液分離装置と、該固液分離装置と前記ポンプの入側とを接続する第二の配管経路と、該第二の配管経路と前記混合部とが接続する接続部とを具備しており、前記殺菌剤注入部は、前記固液分離装置が排出する前記塩素系殺菌剤を、船舶のバラストに用いる水として船外から導入された水に注入するように構成されており、前記固液分離装置が排出する前記塩素系殺菌剤の温度又は前記固液分離装置内の温度が、摂氏5度以上、摂氏39度以下になるように、前記水供給部における前記真水の温度が設定されている、ことを特徴とする。   A water treatment apparatus according to a nineteenth aspect of the present invention is the water treatment apparatus according to any one of the thirteenth to sixteenth aspects, wherein the solution manufacturing unit mixes the solid matter with the fresh water. And a dissolution promoting unit that is disposed downstream of the mixing unit and that promotes dissolution of the solid matter in the fresh water, and the dissolution promoting unit is a mixture of the solid matter and the fresh water and/or Alternatively, the chlorine-based germicide has a circulating piping path that moves and circulates, and the circulating piping path includes a pump, a first piping path connected to an outlet side of the pump, and the first piping path. Solid-liquid separation device connected to the outlet side of the, the second pipe path connecting the solid-liquid separation device and the inlet side of the pump, the connection portion connecting the second pipe path and the mixing section The sterilizing agent injecting section is configured to inject the chlorine-based sterilizing agent discharged by the solid-liquid separation device into water introduced from outside as water used for ballast of a ship. The temperature of the chlorine-based bactericide discharged by the solid-liquid separator or the temperature in the solid-liquid separator is 5 degrees Celsius or more and 39 degrees Celsius or less so that the fresh water in the water supply unit is Is characterized in that the temperature is set.

本発明の第20の形態に係る水処理装置は、第13及至第15のいずれか1つの形態に係る水処理装置であって、前記ホッパーが設置されている場所の温度が、摂氏39度以下に予め設定されている基準温度を超えたとき、前記ホッパー内の温度が下がるように構成されている、ことを特徴とする。   A water treatment apparatus according to a twentieth aspect of the present invention is the water treatment apparatus according to any one of the thirteenth to fifteenth aspects, wherein a temperature of a place where the hopper is installed is 39 degrees Celsius or less. The temperature inside the hopper is lowered when the temperature exceeds a reference temperature set in advance.

本発明の第21の形態に係る水処理装置は、第16の形態に係る水処理装置であって、前記ホッパーが設置されている場所の温度が、摂氏0度以上に予め設定されている基準温度を下回ったとき、前記真水の温度が上がるように構成されている、ことを特徴とする。   The water treatment apparatus according to the twenty-first aspect of the present invention is the water treatment apparatus according to the sixteenth aspect, wherein the temperature of the place where the hopper is installed is a reference value that is preset to 0 degrees Celsius or higher. The temperature of the fresh water rises when the temperature falls below the temperature.

本発明の第22の形態に係る水処理装置は、第19の形態に係る水処理装置であって、前記固液分離装置が排出する前記塩素系殺菌剤の温度又は前記固液分離装置内の温度が、摂氏39度以下に予め設定されている基準温度を超えたとき、前記水供給部における前記真水の温度及び/又は前記ホッパー内の温度が下がるように構成されている、ことを特徴とする。   A water treatment apparatus according to a twenty-second aspect of the present invention is the water treatment apparatus according to the nineteenth aspect, wherein the temperature of the chlorine-based bactericide discharged by the solid-liquid separation apparatus or the inside of the solid-liquid separation apparatus is When the temperature exceeds a reference temperature preset to 39 degrees Celsius or less, the temperature of the fresh water in the water supply unit and/or the temperature in the hopper are configured to decrease. To do.

本発明の第23の形態に係る水処理装置は、第13及至第15のいずれか1つの形態に係る水処理装置であって、前記溶液製造部における前記塩素系殺菌剤の製造中及びその製造終了後少なくとも一定期間、前記ホッパー内の温度が摂氏39度以下に設定されている、ことを特徴とする。   A water treatment apparatus according to a twenty-third aspect of the present invention is the water treatment apparatus according to any one of the thirteenth to fifteenth aspects, during and during the production of the chlorine-based germicide in the solution production section. The temperature inside the hopper is set to 39 degrees Celsius or lower for at least a certain period after the end.

本発明の第24の形態に係る水処理装置は、第13及至第15のいずれか1つの形態に係る水処理装置であって、前記殺菌剤注入部における前記船舶のバラストに用いる水として導入された水への前記塩素系殺菌剤の注入中及びその注入の終了後少なくとも一定期間、前記ホッパー内の温度が摂氏39度以下になるように設定されている、ことを特徴とする。   A water treatment apparatus according to a twenty-fourth aspect of the present invention is the water treatment apparatus according to any one of the thirteenth to fifteenth aspects, and is introduced as water used for ballast of the ship in the bactericide injection section. The temperature inside the hopper is set to 39 degrees Celsius or less during the injection of the chlorine-based bactericide into the water and at least for a certain period after the injection is completed.

本発明の第25の形態に係る水処理装置は、第13及至第15のいずれか1つの形態に係る水処理装置であって、前記ホッパーの周囲を冷却又は加熱する温度調節装置を備えている、ことを特徴とする。   A water treatment apparatus according to a twenty-fifth aspect of the present invention is the water treatment apparatus according to any one of the thirteenth to fifteenth aspects, and is provided with a temperature adjusting device for cooling or heating the periphery of the hopper. , Is characterized.

本発明の第26の形態に係る水処理装置は、第25の形態に係る水処理装置であって、前記温度調節装置は、前記ホッパーが設置されている場所の空気調和を行うための空気調和装置を更に備えている、ことを特徴とする。   A water treatment apparatus according to a twenty-sixth aspect of the present invention is the water treatment apparatus according to the twenty-fifth aspect, wherein the temperature adjusting device is an air conditioner for performing air conditioning of a place where the hopper is installed. A device is further provided.

本発明の第27の形態に係る水処理装置は、第13及至第15のいずれか1つの形態に係る水処理装置であって、前記ホッパーの周囲に断熱材が取り付けられている、ことを特徴とする。   A water treatment apparatus according to a twenty-seventh aspect of the present invention is the water treatment apparatus according to any one of the thirteenth to fifteenth aspects, wherein a heat insulating material is attached around the hopper. And

本発明の第28の形態は、第17乃至第19のいずれか1つの形態に係る水処理装置であって、前記溶解製造部は、断熱材により囲われた空間内に設置されている、ことを特徴とする。   A twenty-eighth form of the present invention is the water treatment apparatus according to any one of the seventeenth to nineteenth forms, wherein the dissolution production section is installed in a space surrounded by a heat insulating material, Is characterized by.

本発明の第29の形態に係る水処理装置は、第13及至第15のいずれか1つの形態に係る水処理装置であって、前記殺菌剤注入部における前記船舶のバラストに用いる水として導入された水への前記塩素系殺菌剤の注入の終了前に前記塩素化イソシアヌル酸化合物の固形物と前記真水の混合物と接触していた前記溶液製造部の表面の少なくとも一部が、その注入中及びその注入の終了後あるいはその注入の終了後、前記水供給部から供給される前記真水と接触するように構成されている、ことを特徴とする。   A water treatment apparatus according to a twenty-ninth aspect of the present invention is the water treatment apparatus according to any one of the thirteenth to fifteenth aspects, and is introduced as water used for ballast of the ship in the sterilizing agent injecting section. At least a part of the surface of the solution manufacturing unit, which had been in contact with the solid of the chlorinated isocyanuric acid compound and the mixture of fresh water before the end of the injection of the chlorine-based bactericide into the water, during the injection and It is characterized in that it is configured to come into contact with the fresh water supplied from the water supply unit after the completion of the injection or after the completion of the injection.

本発明の第30の形態に係る水処理装置は、第13及至第15のいずれか1つの形態に係る水処理装置であって、前記殺菌剤注入部における前記船舶のバラストに用いる水として導入された水への注入に使用されずに残留した前記塩素系殺菌剤又は前記塩素系殺菌剤の製造に使用されずに残留した、前記塩素化イソシアヌル酸化合物の固形物と前記真水の混合物を、貯蔵する残留物貯蔵用タンクを更に備えている、ことを特徴とする。   A water treatment apparatus according to a thirtieth aspect of the present invention is the water treatment apparatus according to any one of the thirteenth to fifteenth aspects, and is introduced as water used for ballast of the ship in the sterilizing agent injecting section. A mixture of the chlorinated isocyanuric acid compound solids and the fresh water, which is not used for injection into water and remains not used for the production of the chlorine-based bactericide or the chlorine-based bactericide, which is stored. Further comprising a residue storage tank.

本発明の第31の形態に係る水処理装置は、第13及至第15のいずれか1つの形態に係る水処理装置であって、前記ホッパー内から前記溶液製造部に供給される前記固形物の移動経路内に、前記固形物の移動方向に沿って移動する気体を供給する気体供給装置を備えている、ことを特徴とする。   A water treatment apparatus according to a thirty-first aspect of the present invention is the water treatment apparatus according to any one of the thirteenth to fifteenth aspects, in which the solid matter supplied from the inside of the hopper to the solution manufacturing unit. A gas supply device for supplying a gas that moves along the moving direction of the solid matter is provided in the moving path.

本発明の第32の形態に係る水処理装置は、第13乃至15のいずれか1つの形態に係る水処理装置であって、前記ホッパーから前記溶液製造部に原料固形物が供給されていないとき、前記ホッパー内から前記溶液製造部に供給される前記固形物の移動経路を遮断する機構を備えている、ことを特徴とする。   A water treatment apparatus according to a thirty-second aspect of the present invention is the water treatment apparatus according to any one of the thirteenth to fifteenth aspects, when raw material solids are not supplied from the hopper to the solution manufacturing unit. And a mechanism for blocking a moving path of the solid matter supplied from the inside of the hopper to the solution manufacturing unit.

本発明の第33の形態に係る水処理装置は、第13及至第15のいずれか1つの形態に係る水処理装置であって、前記ホッパーは、少なくとも、その胴体側面を複数個の断熱パネルで囲われていることを特徴とする。   A water treatment apparatus according to a thirty-third aspect of the present invention is the water treatment apparatus according to any one of the thirteenth to fifteenth aspects, wherein the hopper has a plurality of heat insulation panels at least on its body side surface. It is characterized by being enclosed.

<用語の定義・解釈>
本発明において、次に掲げる用語の定義又は解釈は、以下のとおりとする。
<Definition and interpretation of terms>
In the present invention, the definitions or interpretations of the following terms are as follows.

(1) 船舶のバラストに用いる水、つまり「バラスト水」は、海水、汽水及び淡水のうちいずれでもよい。   (1) Water used for ship ballast, that is, “ballast water” may be any of seawater, brackish water and fresh water.

(2) 「真水」は、海水よりも塩素濃度が低い水をいい、純水や淡水が代表例である。「真水」には、海水から製造した淡水が含まれる。   (2) “Fresh water” refers to water having a chlorine concentration lower than that of seawater, and pure water and fresh water are typical examples. "Fresh water" includes fresh water produced from seawater.

(3) 「塩素化イソシアヌル酸化合物」は、殺菌作用を有する塩素の供給源であり、一般に溶解度はあまり大きくない(特公昭63-63527第二欄)。その代表例としては、ジクロロイソシアヌル酸(1,3−ジクロロイソシアヌル酸)塩及びトリクロロイソシアヌル酸(1,3,5−イソシアヌル酸)が挙げられる。たとえば、溶解速度を重視するのであれば(早く溶解させたいのであれば)前者のジクロロイソシアヌル酸塩を選択し、長期保存や長期塩素供給を重視するのであれば、後者のトリクロロイソシアヌル酸を選択することはよく知られているが(特許5290983/特表2010-509038の段落0005、再公表2012-124039の段落0024、0025参照)、実際にいずれを選択するかは用途、使用条件、入手容易性などによる。本発明における塩素化イソシアヌル酸化合物は、ジクロロイソシアヌル酸塩、トリクロロイソシアヌル酸等の塩素化イソシアヌル酸化合物のいずれか一つ又はいくつかの組み合わせである。   (3) "Chlorinated isocyanuric acid compound" is a source of chlorine having a bactericidal action, and its solubility is generally not so large (Japanese Patent Publication No. 63-63527, second column). Representative examples thereof include dichloroisocyanuric acid (1,3-dichloroisocyanuric acid) salt and trichloroisocyanuric acid (1,3,5-isocyanuric acid). For example, if the dissolution rate is important (if you want to dissolve quickly), select the former dichloroisocyanuric acid salt, and if the long-term storage or long-term chlorine supply is important, select the latter trichloroisocyanuric acid. It is well known (see Patent 5290983/Table 2010-509038, paragraph 0005, Republished 2012-124039, paragraphs 0024, 0025), but which one is actually selected depends on the application, use conditions, and availability. Etc. The chlorinated isocyanuric acid compound in the present invention is any one or some combination of chlorinated isocyanuric acid compounds such as dichloroisocyanuric acid salt and trichloroisocyanuric acid.

(4) 「固形状」とは、常温において固体であること、たとえば、常温において塊、顆粒、粉末及び微小錠剤のいずれかの状態にあることをいう。   (4) “Solid state” means that it is solid at room temperature, for example, it is in the state of any of lumps, granules, powders and microtablets at room temperature.

(5) 「固形物」とは、常温において固形状の物質、たとえば、常温において塊、顆粒、粉末及び微小錠剤のいずれかの状態にある物質をいう。ジクロロイソシアヌル酸ナトリウム(無水塩)、ジクロロイソシアヌル酸ナトリウム(二水塩)、トリクロロイソシアヌル酸(無水塩)などの塩素化イソシアヌル酸化合物が常温において固形物であることはよく知られている(再公表2012-124039の段落0025参照)。   (5) “Solid matter” refers to a substance that is solid at room temperature, for example, a substance that is in the state of any of lumps, granules, powders, and microtablets at room temperature. It is well known that chlorinated isocyanuric acid compounds such as sodium dichloroisocyanuric acid (anhydrous salt), sodium dichloroisocyanuric acid (dihydrate), and trichloroisocyanuric acid (anhydrous salt) are solids at room temperature (republication) See paragraph 0025 of 2012-124039).

(6) 船舶に搭載すること及び搭載されることは、それぞれ、船舶内又は船舶上に設置すること及び設置されることを意味する。   (6) To be installed in a ship and to be installed means to be installed in or on a ship, respectively.

(7) 温度の「設定」には、温度の「制御」が含まれる。同様に、温度を「設定する」ことには、温度を「制御」することが含まれ、温度が「設定される」ことには、温度が「制御される」ことが含まれる。   (7) The “setting” of temperature includes “control” of temperature. Similarly, “setting” a temperature includes “controlling” the temperature, and “setting” the temperature includes “controlling” the temperature.

(8) 「塩素系殺菌剤」とは、塩素の殺菌作用を利用して殺菌を行う殺菌剤をいう。本発明における塩素系殺菌剤は、塩素化イソシアヌル酸化合物の固形物の水への溶解により製造される、塩素の殺菌作用を呈する成分を含有する液体である。   (8) “Chlorine-based bactericide” refers to a bactericide that sterilizes by utilizing the bactericidal action of chlorine. The chlorine-based bactericide in the present invention is a liquid containing a component exhibiting a bactericidal action of chlorine, which is produced by dissolving a solid of a chlorinated isocyanuric acid compound in water.

(9) 塩素系殺菌剤の「海水の殺菌に必要な量」には、海水に塩素系殺菌剤を注入するために必要になる配管内を行き渡らせるに足る、塩素系殺菌剤の余分な量が含まれる。   (9) "Amount required for sterilization of seawater" of chlorine-based bactericide is an extra amount of chlorine-based bactericide sufficient to spread in the pipes necessary for injecting chlorine-based bactericide into seawater. Is included.

(10) 「一時的所蔵用容器」の代表例はホッパーであり、内容物を装入するための装入部と、装入された内容物を収容する収容部と、内容物の排出を行う排出部とを備えている。排出部は、通常、一時的所蔵用容器の内容物を排出先に供給するための原料供給機(フィーダー)を備えている。原料供給機は、多くの場合、一時的所蔵用容器の内容物を排出先に供給する前に予め、当該内容物を少量又は所定量に小分けするための計量機構とそれを駆動する駆動機構を備えている。その場合、内容物は、計量機構により小分けにされた後、複数回にわたり、排出先に供給される。   (10) A typical example of the "temporary storage container" is a hopper, which is used to load the contents, a storage unit for storing the loaded contents, and a discharge of the contents. And a discharge part. The discharge part usually includes a raw material feeder (feeder) for supplying the contents of the temporary storage container to the discharge destination. In many cases, the raw material feeder has a weighing mechanism for subdividing the contents of the temporary storage container into a small amount or a predetermined amount and a drive mechanism for driving the contents before supplying the contents to the discharge destination. I have it. In that case, the content is subdivided by the measuring mechanism and then supplied to the discharge destination multiple times.

(11) 「還元剤」とは、固形であると否とを問わず、塩素系殺菌剤に由来する遊離有効塩素を還元する物質である。還元剤の代表例は、亜硫酸ナトリウム又はその水和物、チオ硫酸ナトリウム又はその水和物、あるいは、それらの水溶液である。   (11) The “reducing agent” is a substance that reduces free available chlorine derived from a chlorine-based bactericide, whether solid or not. Representative examples of the reducing agent are sodium sulfite or a hydrate thereof, sodium thiosulfate or a hydrate thereof, or an aqueous solution thereof.

<発明の原理及び効果>
(1) まず、本発明の第1及び第13の各形態においては、塩素系殺菌剤を製造する際、その原料である塩素化イソシアヌル酸化合物の固形物(以下「原料固形物」という場合がある)を海水ではなく真水と混合する。海水中にはより多くの塩素成分が含まれているので、原料固形物を海水と混合すると、真水と混合する場合に比べて、より多くの塩素ガスが発生するおそれがあるからである。
<Principle and effect of the invention>
(1) First, in each of the first and thirteenth aspects of the present invention, when a chlorine-based bactericide is produced, a solid substance of a chlorinated isocyanuric acid compound that is a raw material thereof (hereinafter, referred to as “raw material solid substance”). A) is mixed with fresh water rather than seawater. This is because seawater contains a larger amount of chlorine components, and thus when the raw solid material is mixed with seawater, a larger amount of chlorine gas may be generated as compared with the case where it is mixed with fresh water.

なお、当該真水は、船舶が搭載されている海水淡水化装置を使用して製造した淡水で賄うことができる。このようにすれば、当該真水を貯蔵するためのタンクを狭い船舶内に追加で設置する必要がなくなる。   The fresh water can be covered with fresh water produced by using a seawater desalination apparatus mounted on a ship. In this way, it is not necessary to additionally install a tank for storing the fresh water in a narrow ship.

加えて、本発明の第1及び第13の各形態によれば、原料固形物が一時的に貯蔵されているホッパーその他の一時的貯蔵用容器内の温度の上限(以下「容器内温度上限」という)を摂氏39度に設定するので、一時的貯蔵用容器内に貯蔵される又は未使用のままもしくは一時的貯蔵用容器の内表面に付着して残留している当該原料固形物の温度を、その自己分解温度(摂氏約40度)よりも低い摂氏39度以下に収めることができ、従って一時的貯蔵用容器内からの塩素ガスの発生を抑制することができ、既述の塩素ガスの悪影響を低減することができる。   In addition, according to each of the first and thirteenth aspects of the present invention, the upper limit of the temperature in the hopper or other temporary storage container in which the raw material solid material is temporarily stored (hereinafter referred to as “upper temperature limit in container”). Is set to 39 degrees Celsius, so that the temperature of the raw solid material that is stored in the temporary storage container or remains unused or adheres to the inner surface of the temporary storage container. , The temperature can be kept at 39 degrees Celsius or lower, which is lower than the self-decomposition temperature (about 40 degrees Celsius), and therefore the generation of chlorine gas from the temporary storage container can be suppressed, and the chlorine gas The adverse effect can be reduced.

容器内温度上限を、原料固形物の自己分解温度(摂氏約40度)ではなく、摂氏39度にしているのは、当該自己分解温度と容器内温度上限との差の絶対値が小さく、従って温度制御の幅に余裕がないと、たとえば温度制御の遅延又はオーバーシュートにより、一時的に摂氏40度以上になるケースが生じるおそれがあるからである。尤も、原料固形物の自己分解をより確実に防止する必要があるのであれば、容器内温度上限を原料固形物の自己分解温度(摂氏約40度)より、2度低い温度(摂氏38度)に設定するのが望ましく、より確実に防止する必要があるのであれば、3度低い温度(摂氏37度)又はより低い温度(摂氏37度未満)に設定するのが望ましい。   The upper limit of the temperature inside the container is set to 39 degrees Celsius instead of the self-decomposition temperature of the raw material solid (about 40 degrees Celsius) because the absolute value of the difference between the autolysis temperature and the upper limit of the temperature inside the container is small This is because if there is no margin in the temperature control range, for example, there may be a case where the temperature is temporarily 40° C. or higher due to a delay or overshoot of the temperature control. However, if it is necessary to more reliably prevent the self-decomposition of the raw material solids, the upper limit of the temperature inside the container is 2 degrees lower than the self-decomposition temperature of the raw material solids (about 40 degrees Celsius) (38 degrees Celsius). It is desirable to set the temperature to 3 degrees lower (37 degrees Celsius) or lower temperature (less than 37 degrees Celsius) if it is necessary to prevent more reliably.

(2) 一時的貯蔵用容器であるホッパー内から供給される原料固形物を溶液製造部に供給するための原料供給機(フィーダー)においては、当該原料固形物と接触する、原料供給機を構成する部材の壁面は確実に存在する。たとえば、原料供給機が、当該原料固形物を少量又は所定量に小分けにするための計量機構を具備している場合には、計量機構を構成する部材の壁面の中には、当該原料固形物とかなり強く接触するものがある。その場合、当該壁面又はその周囲には、原料固形物が残留する可能性が高い。そのような残留物は、摂氏約40度を超えると、自己分解を起こして塩素ガスの発生源となる。これに対して、本発明の第14の形態によれば、計量機構内の温度を容器内温度上限以下に設定するので、計量機構内からの塩素ガスの発生を抑制することができ、既述の塩素ガスの悪影響を低減することができる。   (2) In a raw material feeder (feeder) for supplying the raw material solids supplied from the hopper, which is a temporary storage container, to the solution manufacturing unit, a raw material feeder is configured to come into contact with the raw material solids. The wall surface of the member that exists is certainly present. For example, when the raw material feeder is equipped with a measuring mechanism for dividing the raw solid material into a small amount or a predetermined amount, the raw solid material may be included in the wall surface of the member constituting the measuring mechanism. There are things that come into strong contact with. In that case, there is a high possibility that raw material solids will remain on the wall surface or its surroundings. When such a residue exceeds about 40 degrees Celsius, it self-decomposes and becomes a source of chlorine gas. On the other hand, according to the fourteenth aspect of the present invention, since the temperature in the measuring mechanism is set to be equal to or lower than the upper temperature limit in the container, it is possible to suppress the generation of chlorine gas from the measuring mechanism. The adverse effect of chlorine gas can be reduced.

(3) ホッパー内から前記溶液製造部に供給される原料固形物は、その移動経路を構成する部材の表面と接触し、その表面に付着して残留するおそれがある。そして、そのような残留物は、摂氏約40度を超えると、自己分解を起こして塩素ガスの発生源となる。これに対して、本発明の第15の形態によれば、当該移動経路内の温度を容器内温度上限以下に設定するので、当該移動経路内からの塩素ガスの発生を抑制することができ、既述の塩素ガスの悪影響を低減することができる。   (3) The raw material solids supplied from the hopper to the solution manufacturing unit may come into contact with the surface of the member forming the moving path thereof and adhere to and remain on the surface. When such a residue exceeds about 40 degrees Celsius, it self-decomposes and becomes a source of chlorine gas. On the other hand, according to the fifteenth aspect of the present invention, since the temperature in the moving path is set to be equal to or lower than the temperature upper limit in the container, it is possible to suppress the generation of chlorine gas from the moving path. It is possible to reduce the above-mentioned adverse effects of chlorine gas.

(4) 本発明の第2の形態によれば、一時的貯蔵用容器が設置されている室内、空間その他の場所の温度(以下「環境温度」という)が摂氏39度未満であるとき、環境温度を下回る水準まで一時的貯蔵用容器内の温度を下げる必要がなくなるので、一時的貯蔵用容器内の温度の設定又は制御に要する消費エネルギーを節約できる。   (4) According to the second aspect of the present invention, when the temperature of the room, space or other place where the temporary storage container is installed (hereinafter referred to as “environmental temperature”) is less than 39 degrees Celsius, the environment Since it is not necessary to lower the temperature in the temporary storage container to a level below the temperature, energy consumption required for setting or controlling the temperature in the temporary storage container can be saved.

なお、環境温度が摂氏0度以下になるケースが想定される場合には、一時的貯蔵用容器内の温度を環境温度以上に設定するのではなく、一時的貯蔵用容器内の温度の下限(以下「容器内温度下限」という)を設けて、その容器内温度下限を摂氏0度より高い温度に設定するのが望ましい。容器内温度下限が摂氏0度未満になると、原料固形物が摂氏0度未満になり、原料固形物と溶媒となる真水を混合したときにおこる真水の氷結により、原料固形物の真水への溶解を妨げる又はその溶解に時間がかかり過ぎてしまう、おそれがあるからである。また、たとえば一時的貯蔵用容器内の温度の制御の際にアンダーシュートが起こると、一時的貯蔵用容器内の温度が摂氏0度未満になる事態が起こり得るところ、容器内温度下限を摂氏0度より高い温度に設定すれば、そのような事態の発生を防止することができる。   In addition, when the case where the environmental temperature becomes 0 degrees Celsius or less is assumed, the temperature in the temporary storage container is not set to the environmental temperature or higher, but the lower limit of the temperature in the temporary storage container ( Hereinafter, it is preferable to set a “lower limit of temperature inside the container” and set the lower limit of temperature inside the container to a temperature higher than 0 degrees Celsius. When the lower limit of the temperature inside the container is less than 0 degree Celsius, the solid content of the raw material becomes less than 0 degree Celsius, and the freezing of fresh water that occurs when the solid material of the raw material and fresh water serving as a solvent is frozen to dissolve the solid material in fresh water. This is because there is a risk that it will interfere with the above or that it will take too long to dissolve. Further, for example, if an undershoot occurs during the control of the temperature in the temporary storage container, the temperature in the temporary storage container may be less than 0 degrees Celsius. If the temperature is set higher than the temperature, such a situation can be prevented.

一時的貯蔵用容器内の温度の制御の際に起こり得る、摂氏0度以下へのアンダーシュートが懸念される場合には、容器内温度下限を摂氏0度よりも2度高い摂氏2度に設定するのがより望ましく、摂氏0度よりも3度高い摂氏3度に設定するのが更に望ましい。   If there is a risk of undershoot below 0 degrees Celsius that may occur when controlling the temperature inside the temporary storage vessel, set the lower temperature limit inside the vessel to 2 degrees Celsius, which is 2 degrees higher than 0 degrees Celsius. It is more preferable to set the temperature to 3 degrees Celsius, which is higher than 0 degrees Celsius and 3 degrees Celsius.

(5) 本発明の第3の形態によれば、原料固形物を一時的貯蔵用容器内に装入している間のみならず、装入前及び/又は装入後も当該一時的貯蔵用容器内の温度を容器内温度上限以下に設定するので、一時的貯蔵用容器内に貯蔵される又は残留している原料固形物の温度は摂氏40度以上になり難くなり、一時的に摂氏40度以上になることがあったとしても、摂氏40度以上になっている時間を短く抑えることができ、従って、一時的貯蔵用容器内からの塩素ガスの発生をより効果的に抑制することができ、既述の塩素ガスの悪影響をより低減することができる。   (5) According to the third aspect of the present invention, not only during charging of the solid raw material into the container for temporary storage but also before and/or after charging. Since the temperature inside the container is set below the upper limit of the temperature inside the container, the temperature of the raw material solids stored or remaining in the temporary storage container is less likely to exceed 40 degrees Celsius, and the temperature of the temporary solids is temporarily below 40 degrees Celsius. Even if the temperature is higher than 40 degrees Celsius, the time when the temperature is higher than 40 degrees Celsius can be shortened, and therefore, the generation of chlorine gas from the temporary storage container can be suppressed more effectively. It is possible to further reduce the above-mentioned adverse effects of chlorine gas.

(6) 本発明の第4及び第16の各形態においては、原料固形物と混合される前の真水の温度を、摂氏5度以上、摂氏39度以下の範囲内(以下「特定温度範囲内」という場合がある)になるように予め設定する。   (6) In each of the fourth and sixteenth aspects of the present invention, the temperature of the fresh water before being mixed with the raw material solid is within a range of 5 degrees Celsius or more and 39 degrees Celsius or less (hereinafter, “within a specific temperature range”). It may be said that))).

ここで、図44は、ジクロロイソシアヌル酸ナトリウムを純水に溶解させたときの有効塩素濃度と溶解時間との関係、より具体的には、所定の有効塩素濃度に達する溶解時間は、純水の温度が高いほど短くなる関係を示す図である。摂氏3度の純水にジクロロイソシアヌル酸ナトリウムを溶解させた場合については、溶解開始から7%の有効塩素濃度の達成までの時間がかかり過ぎたので計測をしていない。   Here, FIG. 44 shows the relationship between the effective chlorine concentration and the dissolution time when sodium dichloroisocyanurate is dissolved in pure water, more specifically, the dissolution time to reach a predetermined effective chlorine concentration is It is a figure which shows the relationship which becomes short, so that temperature is high. In the case where sodium dichloroisocyanurate was dissolved in pure water at 3 degrees Celsius, the measurement was not performed because it took too long from the start of dissolution until the effective chlorine concentration of 7% was reached.

塩素系殺菌剤として使用するために必要な有効塩素濃度は概ね7%である。そして、海水殺菌処理に用いる塩素系殺菌剤の製造時間として船内作業者が甘受できる時間が30分であるとすると、溶解開始から7%の有効塩素濃度の達成までの時間は30分以内であることが求められる。すると、この図44によれば、有効塩素濃度7%の溶液を30分以内で得るために求められる純水の温度は摂氏5度以上であることが分かる。この知見に基づき、原料固形物と混合される前の真水の温度を摂氏5度以上にした。   The effective chlorine concentration required for use as a chlorine-based bactericide is about 7%. If it is assumed that the time required for the ship operator to accept the chlorine-based bactericide used for seawater sterilization is 30 minutes, the time from the start of dissolution to the achievement of an effective chlorine concentration of 7% is within 30 minutes. Is required. Then, according to FIG. 44, it is found that the temperature of pure water required to obtain a solution having an effective chlorine concentration of 7% within 30 minutes is 5° C. or higher. Based on this finding, the temperature of fresh water before being mixed with the raw material solids was set to 5°C or higher.

一方、真水の温度が摂氏40度以上になると、当該真水と接触した原料固形物の温度が高まり、自己分解温度以上となり、自己分解を契機とする塩素ガスの発生が起こるおそれがある。この塩素ガスは、既述のとおり、金属腐食や材質劣化の原因になり得るし、ホッパーその他の容器に移動し、外部に漏れると、船内作業環境を悪化させる原因となり得る。また、真水から放出される熱が、一時的貯蔵用容器内の温度の設定に悪影響を与える場合もあり得る(この悪影響は、当該一時的貯蔵用容器と真水の流通経路が近接している場合に特に顕著になる)。それ故、原料固形物と混合される前の真水の温度は摂氏39度以下にした。   On the other hand, when the temperature of the fresh water becomes 40 degrees Celsius or higher, the temperature of the raw material solid that comes into contact with the fresh water rises to reach the self-decomposition temperature or higher, and self-decomposition may generate chlorine gas. As described above, this chlorine gas can cause metal corrosion or material deterioration, and if it moves to a hopper or other container and leaks to the outside, it can cause deterioration of the work environment on board. In addition, the heat released from fresh water may adversely affect the setting of the temperature in the temporary storage container (this adverse effect is caused when the temporary storage container and fresh water flow paths are close to each other. Is especially noticeable). Therefore, the temperature of the fresh water before being mixed with the raw solid material was set to 39°C or lower.

かくして、上記各形態によれば、(i)バラスト水処理用殺菌剤として必要な有効塩素濃度を有する水溶液を得ることができるとともに、(ii)真水と接触した原料固形物の自己分解を防止することができ、原料固形物が一時的に貯蔵されている容器内の温度制御も行い易くなるので、本発明の第1及び第13の各形態の作用効果がより顕著になる。   Thus, according to each of the above modes, (i) an aqueous solution having an effective chlorine concentration necessary as a bactericidal agent for treating ballast water can be obtained, and (ii) self-decomposition of a raw material solid in contact with fresh water is prevented. Since it is possible to control the temperature in the container in which the solid raw material is temporarily stored, the effects of the first and thirteenth aspects of the present invention become more remarkable.

なお、船内作業環境の安全を重視するのであれば、(a)真水の温度を、原料固形物の自己分解温度(摂氏約40度)である上限よりも2度以上の余裕を持たせた、摂氏38度以下になるよう設定するのが安全であり、船内作業環境の安全をより重視するのであれば、(b)真水の温度を、当該上限よりも3度以上の余裕を持たせた、摂氏37度以下になるように設定するのがより安全である。言うまでもなく、前者(a)の場合であれば、特定温度範囲内は、摂氏5度以上、摂氏38度以下の範囲内となり、後者(b)の場合であれば、特定温度範囲内は、摂氏5度以上、摂氏39度以下の範囲内となる。   In addition, if importance is attached to the safety of the work environment on board, (a) the temperature of the fresh water is set to have a margin of 2 degrees or more above the upper limit which is the self-decomposition temperature (about 40 degrees Celsius) of the raw material solids, If it is safe to set the temperature to 38 degrees Celsius or lower, and if the safety of the work environment on board is emphasized, (b) the temperature of fresh water is set to have a margin of 3 degrees or more above the upper limit. It is safer to set it below 37 degrees Celsius. Needless to say, in the case of the former (a), the specific temperature range is within the range of 5 degrees Celsius or more and 38 degrees Celsius or less, and in the case of the latter (b), the specific temperature range is within the Celsius range. It is in the range of 5 degrees or more and 39 degrees Celsius or less.

(7) 本発明の第5及び第17の各形態においては、特定温度範囲内で原料固形物と真水とを混合するので、その混合物の温度も特定温度範囲内に収まって行く。当該混合物の真水の温度を摂氏5度以上にするのは、それ未満であると、原料固形物の真水に対する溶解度が低すぎて、殺菌剤として必要な有効塩素濃度の水溶液を得ることができない、又は得るのに時間がかかり過ぎるからである。   (7) In each of the fifth and seventeenth aspects of the present invention, since the raw material solids and fresh water are mixed within the specific temperature range, the temperature of the mixture also falls within the specific temperature range. If the temperature of the fresh water of the mixture is not lower than 5 degrees Celsius, if it is lower than that, the solubility of the raw material solid in fresh water is too low to obtain an aqueous solution having an effective chlorine concentration necessary as a bactericide, Or because it takes too long to obtain.

一方、当該混合物の温度が摂氏40度以上になると、混合物中の未溶解の原料固形物の温度が高まり、自己分解温度以上となり、自己分解を契機とする塩素ガスの発生が起こるおそれがある。この塩素ガスは、金属腐食や材質劣化の原因に、ホッパーその他の容器に移動し外部に漏れると船内作業環境を悪化させる原因になりうる。また、当該混合物から放出される熱が、原料固形物が一時的貯蔵容器内の温度の設定に悪影響を与えるおそれもある(この悪影響は大きなものではないが、当該一時的貯蔵用容器と当該混合物とが近接している場合に比較的顕著になる)。そこで、塩素系殺菌剤を製造する船内作業環境の安全を重視して、原料固形物と真水とを混合する際の温度は摂氏39度以下にする。   On the other hand, when the temperature of the mixture becomes 40 degrees Celsius or higher, the temperature of the undissolved raw material solids in the mixture rises to the self-decomposition temperature or higher, and chlorine gas may be generated due to self-decomposition. If this chlorine gas moves to a hopper or other container and leaks to the outside due to metal corrosion or material deterioration, it may cause deterioration of the working environment on board. Further, the heat released from the mixture may adversely affect the setting of the temperature of the raw material solids in the temporary storage container (this adverse effect is not great, but the temporary storage container and the mixture). Relatively noticeable when and are close). Therefore, the temperature when mixing the raw material solids and fresh water is set to 39 degrees Celsius or less, placing importance on the safety of the working environment for producing a chlorine-based bactericide.

かくして、上記各形態によれば、真水と混合した原料固形物の自己分解を防止することができ、原料固形物が一時的に貯蔵されている容器の温度の設定も行い易くなり、総じて、本発明の第1及び第13の各形態の作用効果がより顕著になる。なお、船内作業環境の安全を重視するのであれば、原料固形物と真水とを混合する際の温度を、摂氏38度以下になるように(つまり、特定温度範囲内を、摂氏5度以上、摂氏38度以下の範囲内に)設定するのが安全であり、摂氏37度以下になるように(つまり、特定温度範囲内を、摂氏5度以上、摂氏37度以下の範囲内に)設定するのがより安全である。   Thus, according to each of the above modes, it is possible to prevent the self-decomposition of the raw material solids mixed with fresh water, and it becomes easier to set the temperature of the container in which the raw material solids are temporarily stored. The effects of the first and thirteenth aspects of the invention become more remarkable. In addition, if importance is attached to the safety of the work environment on board, the temperature when mixing the raw material solids and fresh water should be 38 degrees Celsius or less (that is, within a specific temperature range, 5 degrees Celsius or more, It is safe to set it within the range of 38 degrees Celsius or less, and set it to be below 37 degrees Celsius (that is, within a specific temperature range of 5 degrees Celsius or more and 37 degrees Celsius or less). Is safer.

(8) 本発明の第6の形態によれば、原料固形物を真水に溶解させてできる塩素系殺菌剤の温度を摂氏39度以内にするので、当該塩素系殺菌剤に原料固形物が未溶解のまま紛れ込んでいても、その未溶解の原料固形物の自己分解を契機とする塩素ガスの発生を抑制又は防止することができる。また、塩素系殺菌剤から原料固形物と真水との混合物へ熱が伝わっても、当該混合物中の未溶解の原料固形物が摂氏40度以上になることも防止することができる。   (8) According to the sixth aspect of the present invention, since the temperature of the chlorine-based bactericide formed by dissolving the raw material solid in fresh water is set to be within 39 degrees Celsius, the chlorine-based bactericide does not contain the raw material solid. Even if it is mixed in as it is dissolved, it is possible to suppress or prevent the generation of chlorine gas triggered by the self-decomposition of the undissolved raw material solid. Further, even if heat is transferred from the chlorine-based bactericide to the mixture of the raw material solids and fresh water, it is possible to prevent the undissolved raw material solids in the mixture from reaching 40°C or higher.

(9) 本発明の第7及び第20の各形態によれば、環境温度が高いとき、一時的貯蔵用容器内の温度を確実に容器内温度上限以下に抑えることができる。特に、この各形態によれば、上昇傾向にある環境温度の影響を受けて一時的貯蔵用容器内の温度が上昇し、容器内温度上昇を超えることを未然に防ぐことができる。   (9) According to each of the seventh and twentieth aspects of the present invention, when the environmental temperature is high, the temperature in the temporary storage container can be reliably suppressed to the container internal temperature upper limit or less. In particular, according to each of the embodiments, it is possible to prevent the temperature in the temporary storage container from rising due to the influence of the increasing environmental temperature and to prevent the temperature in the container from rising.

なお、摂氏39度以下に予め設定されている基準温度は、一時的貯蔵用容器内の温度に対する環境温度の影響の強弱や程度を考慮して決定する。たとえば、その影響が大きいのであれば、摂氏39度との差を大きく設定し、逆の場合は小さく設定する。   The reference temperature preset to 39 degrees Celsius or less is determined in consideration of the strength and degree of the influence of the environmental temperature on the temperature in the temporary storage container. For example, if the influence is large, the difference from 39 degrees Celsius is set large, and in the opposite case, the difference is set small.

(10) 本発明の第8及び第21の各形態によれば、環境温度が低いとき、一時的貯蔵用容器内の温度を確実に容器内温度下限以上に高めることができる。特に、この各形態によれば、下降傾向にある環境温度の影響を受けて一時的貯蔵用容器内の温度が低下し、容器内温度下限を下回ることを未然に防ぐことができる。   (10) According to each of the eighth and twenty-first aspects of the present invention, when the environmental temperature is low, the temperature in the temporary storage container can be reliably increased to the container internal temperature lower limit or more. In particular, according to each of the embodiments, it is possible to prevent the temperature in the temporary storage container from lowering below the lower limit of the internal temperature of the container due to the influence of the environmental temperature that tends to decrease.

なお、摂氏0度以上に予め設定されている基準温度は、一時的貯蔵用容器内の温度に対する環境温度の影響の強弱や程度を考慮して決定する。たとえば、その影響が大きいのであれば、摂氏0度との差を大きく設定し、逆の場合は小さく設定する。   The reference temperature preset to 0 degrees Celsius or higher is determined in consideration of the strength and degree of the influence of the environmental temperature on the temperature in the temporary storage container. For example, if the influence is great, the difference from 0 degrees Celsius is set large, and in the opposite case, the difference is set small.

(11) 本発明の第9及び第23の各形態によれば、塩素系殺菌剤の温度が高いとき、一時的貯蔵用容器内の温度を確実に容器内温度上限以下に抑えることができる。特に、この各形態によれば、上昇傾向にある環境温度の影響を受けて一時的貯蔵用容器内の温度が上昇し、容器内温度上昇を超えることを未然に防ぐことができる。   (11) According to the ninth and twenty-third aspects of the present invention, when the temperature of the chlorine-based bactericide is high, the temperature in the temporary storage container can be reliably suppressed to the container internal temperature upper limit or less. In particular, according to each of the embodiments, it is possible to prevent the temperature in the temporary storage container from rising due to the influence of the increasing environmental temperature and to prevent the temperature in the container from rising.

また、塩素系殺菌剤の温度が高いとき、原料固形物と混合される前の真水の温度を確実に摂氏39度以下に抑えることができ、それにより、原料固形物と真水との混合物の温度や塩素系殺菌剤の温度の更なる上昇を避けることができる。真水から放出される熱が、一時的貯蔵用容器内の温度の設定に悪影響を与えることも避けることができる。   Further, when the temperature of the chlorine-based bactericide is high, the temperature of the fresh water before being mixed with the raw material solid matter can be surely suppressed to 39 degrees Celsius or less, whereby the temperature of the mixture of the raw material solid matter and the fresh water can be suppressed. It is possible to avoid a further increase in the temperature of the chlorine-based bactericide. It can also be avoided that the heat released from fresh water adversely affects the setting of the temperature in the temporary storage container.

なお、摂氏39度以下に予め設定されている基準温度は、一時的貯蔵用容器内の温度や原料固形物と真水との混合物の温度に対する、塩素系殺菌剤の温度の影響の有無及び強弱や程度を考慮して決定する。   In addition, the reference temperature preset to 39 degrees Celsius or less is the presence or absence of the influence of the temperature of the chlorine-based bactericide on the temperature in the container for temporary storage and the temperature of the mixture of the raw material solid and fresh water, and the strength. Decide in consideration of the degree.

(12) 本発明の第7乃至第9ならびに第20、第21及び第23の各形態によれば、水処理の条件に応じて基準温度を柔軟に設定し、水処理方法や水処理装置をカスタマイズすることができる。   (12) According to the seventh to ninth aspects of the invention and the twentieth, twenty-first and twenty-third aspects, the reference temperature is flexibly set according to the condition of the water treatment, and the water treatment method and the water treatment device are provided. Can be customized.

(13) 本発明の第18の形態によれば、タンク内の温度が特定温度範囲内に設定され、故に当該タンク内の原料固形物と真水の混合物の温度は特定温度範囲内に収まって行くので、本発明の第5及び第17の各形態が奏するものと同じ効果を得ることができる。   (13) According to the eighteenth aspect of the present invention, the temperature in the tank is set within a specific temperature range, and therefore the temperature of the mixture of the raw material solids and fresh water in the tank falls within the specific temperature range. Therefore, it is possible to obtain the same effects as those obtained by the fifth and seventeenth aspects of the present invention.

一方、タンク内の温度が摂氏40度以上になると、そのタンクに収容されている原料固形物と真水の混合物、更にはその混合物中の未溶解の原料固形物が摂氏40度以上になり、当該未溶解の原料固形物の自己分解を契機とする塩素ガスの発生が起こり易くなる。   On the other hand, when the temperature in the tank reaches 40 degrees Celsius or higher, the mixture of the raw material solids and fresh water contained in the tank, and the undissolved raw material solids in the mixture rises to 40 degrees Celsius or higher. Chlorine gas is likely to be generated due to self-decomposition of undissolved raw material solids.

また、原料固形物が真水に溶解してできる水溶液、つまり塩素系殺菌剤も同一のタンク内に収容されているので、当該混合物の攪拌の過程で当該塩素系殺菌剤に原料固形物が未溶解のまま紛れ込むケースも起こり得る。そのようなケースにおいては、タンク内の温度が摂氏40度以上になることに伴い、当該塩素系殺菌剤が摂氏40度以上になり、そこに紛れ込んだ、未溶解の原料固形物の自己分解を契機とする塩素ガスの発生も起こるおそれがある。   Further, since the raw material solid solution is an aqueous solution formed by dissolving it in fresh water, that is, the chlorine-based germicide is also stored in the same tank, the raw material solid is not dissolved in the chlorine-based germicide in the process of stirring the mixture. There may be cases where it is left alone. In such a case, as the temperature in the tank becomes 40 degrees Celsius or higher, the chlorine-based bactericide becomes 40 degrees Celsius or higher, and the self-decomposition of undissolved raw material solids mixed therein is caused. Chlorine gas may be generated as a trigger.

更に、タンクの液面と一時的貯蔵用容器との距離が近いときは、タンクの内容物から放出される熱が一時的貯蔵用容器に及び、一時的貯蔵用容器内に存在する原料固形物の自己分解を契機とする塩素ガスの発生を助長するおそれもある。   Furthermore, when the distance between the liquid level of the tank and the temporary storage container is short, the heat released from the contents of the tank reaches the temporary storage container, and the raw solid material present in the temporary storage container. There is also a risk of promoting the generation of chlorine gas triggered by the self-decomposition of.

これに対し、本発明の第18の形態によれば、タンク内に存在する塩素系殺菌剤の温度が特定温度範囲内に収まって行くので、未溶解の原料固形物の自己分解を契機とする塩素ガスの発生を防止又は抑制することができる。   On the other hand, according to the eighteenth aspect of the present invention, since the temperature of the chlorine-based bactericide existing in the tank falls within the specific temperature range, the self-decomposition of the undissolved raw material solid is used as a trigger. Generation of chlorine gas can be prevented or suppressed.

(14) 本発明の第19の形態においては、固液分離装置が排出する塩素系殺菌剤の温度又は固液分離装置内の温度を、摂氏5度以上、摂氏39度以下の温度範囲内になるように設定する。   (14) In the nineteenth aspect of the present invention, the temperature of the chlorine-based bactericide discharged by the solid-liquid separator or the temperature in the solid-liquid separator is set within a temperature range of 5 degrees Celsius or higher and 39 degrees Celsius or lower. To be set.

固液分離装置内の温度又は固液分離装置が排出する水溶液の温度が摂氏10度未満であると、原料固形物の真水に対する溶解度が低すぎて、一度溶解した塩素化イソシアヌル酸化合物又はこれに由来する成分が析出してくるおそれがあるからである。   If the temperature in the solid-liquid separator or the temperature of the aqueous solution discharged by the solid-liquid separator is less than 10 degrees Celsius, the solubility of the raw material solids in fresh water is too low and the once dissolved chlorinated isocyanuric acid compound or this This is because the derived component may be precipitated.

一方、固液分離装置内の温度又は固液分離装置が排出する水溶液の温度が摂氏40度以上になると、当該水溶液中の未溶解の原料固形物の温度が高まり、自己分解温度以上となり、自己分解を契機とする塩素ガスの発生が起こるおそれがある。この塩素ガスは、固液分離装置に接続している溶解促進部(特に循環配管経路)を通じて、混合部へ、混合部からホッパーへ移動し、ホッパーから外部に漏れ出ることにより、あるいはその移動の途中で外部に漏れ出ることにより、船内作業環境を悪化させる原因となる。また、固液分離装置が排出する塩素系殺菌剤の温度又は固液分離装置内の温度が摂氏40度以上になっている状況では、溶解促進部から放出される熱が、混合部、ホッパーに及ぶおそれがあり、混合部やホッパー内に存在する原料固形物の自己分解を契機とする塩素ガスの発生を助長するおそれがある(この問題は大きなものではないが、たとえば、バラスト水処理装置をよりコンパクトに設計した結果、固液分離装置や固液分離装置からの当該水溶液の流通経路(循環配管経路を含む)が混合部やホッパーに近接するに至った場合に顕在化するケースがありうる)。そこで、塩素系殺菌剤を製造する船内作業環境の安全を重視して、当該温度は摂氏39度以下にする。   On the other hand, when the temperature inside the solid-liquid separation device or the temperature of the aqueous solution discharged by the solid-liquid separation device becomes 40 degrees Celsius or higher, the temperature of the undissolved raw material solids in the aqueous solution rises, and the self-decomposition temperature or higher Chlorine gas may be generated due to decomposition. This chlorine gas moves to the mixing section, from the mixing section to the hopper through the dissolution promoting section (particularly, the circulation piping path) connected to the solid-liquid separation device, leaks from the hopper to the outside, or the movement of the chlorine gas. If it leaks to the outside on the way, it will deteriorate the working environment on board. Further, in a situation where the temperature of the chlorine-based bactericide discharged by the solid-liquid separator or the temperature inside the solid-liquid separator is 40 degrees Celsius or higher, the heat released from the dissolution promoting unit is transferred to the mixing unit and the hopper. There is a possibility that it will spread, and it may promote the generation of chlorine gas triggered by the self-decomposition of the raw material solids existing in the mixing section and the hopper (This problem is not a big problem, but for example, a ballast water treatment device As a result of a more compact design, there may be cases where the solid-liquid separation device or the flow path of the aqueous solution from the solid-liquid separation device (including the circulation piping path) comes close to the mixing section or the hopper. ). Therefore, the temperature is set to 39 degrees Celsius or lower, placing importance on the safety of the working environment for producing a chlorine-based bactericide.

かくして、第19の形態によれば、塩素系殺菌剤中の未溶解の原料固形物の自己分解を防止することができ、本発明の第1及び第13の各形態の作用効果がより顕著になる。   Thus, according to the nineteenth aspect, it is possible to prevent the self-decomposition of undissolved raw material solids in the chlorine-based bactericide, and the effects of each of the first and thirteenth aspects of the present invention become more remarkable. Become.

なお、船内作業環境の安全を重視するのであれば、固液分離装置内の温度又は固液分離装置が排出する水溶液の温度は、原料固形物の自己分解温度(摂氏約40度)である上限から2度以上の余裕を持たせた、摂氏38度以下になるように、より安全を重視するのであれば当該上限から3度以上の余裕を持たせた、摂氏37度以下になるように設定するのが好ましい。   In addition, if importance is attached to the safety of the work environment on board, the temperature inside the solid-liquid separator or the temperature of the aqueous solution discharged by the solid-liquid separator is the upper limit of the self-decomposition temperature (about 40 degrees Celsius) of the raw material solids. Set to less than 37 degrees Celsius with a margin of 3 degrees or more from the upper limit if more emphasis is placed on safety so that there is a margin of 2 degrees or more to 38 degrees Celsius or less Preferably.

(15) 本発明の第22の形態によれば、塩素系殺菌剤の温度又は固液分離装置内の温度が高いとき、原料固形物と混合される前の真水の温度を確実に摂氏39度以下に抑えることができ、それにより、原料固形物と真水との混合物の温度や塩素系殺菌剤の温度の更なる上昇を避けることができる。真水から放出される熱が、一時的貯蔵用容器内の温度の設定に悪影響を与えることも避けることができる。   (15) According to the twenty-second aspect of the present invention, when the temperature of the chlorine-based bactericide or the temperature in the solid-liquid separation device is high, the temperature of the fresh water before being mixed with the raw material solid matter is surely 39 degrees Celsius. The temperature can be suppressed to the following level, whereby a further increase in the temperature of the mixture of the raw material solid and fresh water and the temperature of the chlorine-based bactericide can be avoided. It can also be avoided that the heat released from fresh water adversely affects the setting of the temperature in the temporary storage container.

なお、摂氏39度以下に予め設定されている基準温度は、一時的貯蔵用容器内の温度ならびに原料固形物と真水との混合物の温度及び塩素系殺菌剤の温度のうち少なくとも一方に対する、塩素系殺菌剤の温度又は固液分離装置内の温度の影響の有無及び強弱や程度を考慮して決定する。   The reference temperature preset to 39 degrees Celsius or less is a chlorine-based temperature for at least one of the temperature in the temporary storage container, the temperature of the mixture of raw material solids and fresh water, and the temperature of the chlorine-based germicide. It is determined in consideration of the influence of the temperature of the disinfectant or the temperature in the solid-liquid separation device, and the strength and degree of the influence.

本発明の第22の形態によれば、水処理の条件に応じて基準温度を柔軟に設定し、水処理方法や水処理装置をカスタマイズすることができる。   According to the twenty-second aspect of the present invention, it is possible to flexibly set the reference temperature according to the water treatment conditions and customize the water treatment method and the water treatment device.

(16) 原料固形物の自己分解を契機とする塩素ガスは、塩素系殺菌剤を製造するために使用されることなく一時的貯蔵用容器内に残留する原料固形物(当該一時的貯蔵用容器の内壁面に付着して残留するものを含む)からも発生する。そのため、塩素ガスの発生を十分抑制するためには、塩素系殺菌剤の製造中のみにおいて、当該一時的貯蔵用容器内の温度を摂氏39度以下に設定するだけでは足りないケースが起こり得る。   (16) Chlorine gas triggered by the self-decomposition of a raw material solid remains in the temporary storage container without being used for producing a chlorine-based germicide (the temporary storage container). (Including those that adhere to and remain on the inner wall surface of). Therefore, in order to sufficiently suppress the generation of chlorine gas, there may be a case in which it is not sufficient to set the temperature in the temporary storage container to 39° C. or lower only during the production of the chlorine-based bactericide.

これに対し、本発明の第10及び第23の各形態によれば、塩素系殺菌剤の製造中のみならず、その製造終了後少なくとも一定期間、また、本発明の第11及び第25の各形態によれば、塩素系殺菌剤のバラスト水として用いる水への注入中のみならず、その注入終了後少なくとも一定期間、当該一時的貯蔵用容器内の温度を摂氏39度以下に設定するので、一時的貯蔵用容器内に残留する原料固形物の自己分解を契機とする塩素ガスの発生をも防止又は抑制することができる。   On the other hand, according to the tenth and twenty-third aspects of the present invention, not only during the production of the chlorine-based bactericide, but also for at least a certain period after the end of the production, and the eleventh and twenty-fifth aspects of the present invention. According to the form, not only during the injection into the water used as the ballast water of the chlorine-based sterilizing agent, for at least a certain period after the end of the injection, the temperature in the temporary storage container is set to 39 degrees Celsius or less, It is also possible to prevent or suppress the generation of chlorine gas which is triggered by the self-decomposition of the raw material solids remaining in the temporary storage container.

なお、本発明の第7及び第18の各形態の場合、「一定期間」とは、塩素系殺菌剤の製造終了後から、当該一時的貯蔵用容器内に未使用のまま残留している原料固形物の自己分解を契機とする塩素ガスの発生量が、当該原料固形物の自己分解を契機として発生する塩素ガスの悪影響を防止又は低減する効果が発揮されたといえる程度まで減少するまでの期間をいう。本発明の第7及び第18の各形態の場合、「一定期間」とは、塩素系殺菌剤の海水への注入終了後から、当該一時的貯蔵用容器内に未使用のまま残留している原料固形物の自己分解を契機とする塩素ガスの発生量が、当該原料固形物の自己分解を契機として発生する塩素ガスの悪影響を防止又は低減する効果が発揮されたといえる程度まで減少するまでの期間をいう。いずれの場合であれ、「一定期間」は、短期間であるケースもあれば、長時間であるケースもある。   In addition, in the case of each of the seventh and eighteenth aspects of the present invention, the “certain period” means a raw material that remains unused in the temporary storage container after the production of the chlorine-based bactericide is completed. Period until the amount of chlorine gas generated due to self-decomposition of solid matter decreases to such an extent that the effect of preventing or reducing the adverse effect of chlorine gas generated due to self-decomposition of the raw solid matter can be said to have been exerted Say. In the case of each of the seventh and eighteenth aspects of the present invention, the "certain period" means that the chlorine-based disinfectant remains unused in the temporary storage container after completion of injection into seawater. Until the amount of chlorine gas generated by the self-decomposition of the raw material solids decreases to the extent that the effect of preventing or reducing the adverse effect of the chlorine gas generated by the self-decomposition of the raw material solids can be said to have been exerted. Refers to the period. In any case, the “certain period” may be a short period or a long period.

また、当該一時的貯蔵用容器内の温度を摂氏39度以下に設定する期間は「少なくとも」一定期間であるので、上記の塩素ガスの悪影響を防止又は低減する効果が発揮されたといえる程度に達した後も引き続き、当該一時的貯蔵用容器内の温度を摂氏39度以下に設定してもよい。   Moreover, since the period for setting the temperature in the temporary storage container to 39 degrees Celsius or less is "at least" a fixed period, it can be said that the effect of preventing or reducing the above-mentioned adverse effects of chlorine gas is exhibited. After that, the temperature in the temporary storage container may be continuously set to 39 degrees Celsius or lower.

殺菌剤の製造の時間帯は使用の時間帯と重複してもよいが、重複している必要はない。   The time of manufacture of the fungicide may, but need not, overlap with the time of use.

本発明の第10及び第23の各形態における「塩素系殺菌剤の製造終了後少なくとも一定期間」と、本発明の第11及び第24の各形態における「塩素系殺菌剤の海水への注入終了後少なくとも一定期間」とは、多くの場合、重複するが、重複している必要はない。   "At least a certain period after the production of the chlorine-based germicide in the tenth and twenty-third aspects of the present invention", and "End of injection of the chlorine-based germicide into seawater in the eleventh and twenty-fourth aspects of the invention. "At least for a certain period of time" often overlaps, but need not overlap.

たとえば、本発明の第1の形態に係る水処理方法を最初に実行してから、次に実行するまでの間継続して、当該一時的貯蔵用容器内の温度を摂氏39度以下に設定してもよい。   For example, the temperature in the temporary storage container is set to 39 degrees Celsius or less continuously from the first execution of the water treatment method according to the first embodiment of the present invention to the next execution. May be.

(17) 本発明の第12の形態によれば、原料固形物を容器に補給するので、当該固形物の使い尽くし、つまり第一段階の終了を先延ばしでき、海水処理を継続することができる。   (17) According to the twelfth aspect of the present invention, since the raw material solid matter is replenished in the container, the solid matter can be used up, that is, the end of the first stage can be postponed, and the seawater treatment can be continued. ..

(18) 本発明の第25の形態によれば、温度調節装置を用いて、ホッパー内の温度の設定又は制御を行うことができる。   (18) According to the twenty-fifth aspect of the present invention, the temperature inside the hopper can be set or controlled using the temperature adjusting device.

本発明の第26の形態によれば、ホッパーの設置場所の空気調和とともに、ホッパーの周囲の冷却又は加熱を行なうことができるので、合理的である。   According to the twenty-sixth aspect of the present invention, it is rational because it is possible to cool or heat the periphery of the hopper together with air conditioning of the installation location of the hopper.

本発明の第27の形態においては、ホッパーの周囲に断熱材が取り付けられているので、環境温度がホッパー内の温度の設定に悪影響する又はそのおそれがある場合であっても、その悪影響をなくす又は軽減することができる。なお、この形態においては、ホッパーの周囲に取り付けられている断熱材は、ホッパーの外表面の少なくとも一部に接触していてもよく、ホッパーの外表面に接触せずに、その外表面から離隔していてもよい。   In the twenty-seventh aspect of the present invention, since the heat insulating material is attached to the periphery of the hopper, even if the environmental temperature adversely affects or is likely to adversely affect the temperature setting in the hopper, eliminate the adverse effect. Or it can be reduced. In this embodiment, the heat insulating material attached to the periphery of the hopper may be in contact with at least a part of the outer surface of the hopper, and may be separated from the outer surface of the hopper without contacting the outer surface of the hopper. You may have.

本発明の第28の形態においては、溶解製造部が断熱材により囲われた空間内に設置されているので、環境温度が溶解製造部内の温度や容器製造部から排出される内容物の温度の設定に悪影響する又はそのおそれがある場合であっても、その悪影響をなくす又は軽減することができる。なお、この形態においては、溶解製造部が設置されている空間を囲っている断熱材は、溶解製造部を構成するタンク、配管などの外表面の少なくとも一部に接触していてもよく、当該外表面から離隔していてもよい。   In the twenty-eighth aspect of the present invention, since the melting manufacturing section is installed in the space surrounded by the heat insulating material, the environmental temperature is different from the temperature in the melting manufacturing section or the temperature of the contents discharged from the container manufacturing section. Even if the setting is adversely affected or there is a possibility of such an adverse effect, the adverse effect can be eliminated or reduced. In this embodiment, the heat insulating material that surrounds the space where the melting and manufacturing unit is installed may be in contact with at least a part of the outer surface of the tank and the pipes that configure the melting and manufacturing unit. It may be separated from the outer surface.

本発明の第29の形態においては、バラスト水への塩素系殺菌剤の注入中及びその注入の終了後あるいはその注入の終了後、原料固形物と真水の混合物が接触していた溶液製造部の表面の少なくとも一部が水供給部から供給される真水と接触するので、乾燥しない。それ故、この形態によれば、当該表面の少なくとも一部における、溶質である塩素化イソシアヌル酸化合物やその組成成分の析出、堆積又は固化を抑制又は防止することができ、延いては保守点検を軽減し、その頻度を低減させることができる。なお、溶液製造部内に原料固形物が残留している場合があるので、水供給部から供給される真水の温度及び/又は当該真水が供給された後の溶液製造部内の温度を、摂氏39度以下に設定又は制御することが望ましい。   In a twenty-ninth aspect of the present invention, during the injection of the chlorine-based bactericide into the ballast water, and after or after the injection, the mixture of the raw material solid and fresh water is in contact with the solution production section. It does not dry because at least a part of the surface comes into contact with fresh water supplied from the water supply section. Therefore, according to this aspect, at least a part of the surface, it is possible to suppress or prevent the precipitation, deposition or solidification of the chlorinated isocyanuric acid compound which is a solute and its constituent components, and eventually maintenance inspection. The frequency can be reduced. In addition, since the raw material solid matter may remain in the solution manufacturing unit, the temperature of the fresh water supplied from the water supply unit and/or the temperature in the solution manufacturing unit after the fresh water is supplied are set to 39 degrees Celsius. It is desirable to set or control below.

本発明の第30の形態によれば、バラスト水の殺菌に使用されずに残留した塩素系殺菌剤や塩素系殺菌剤の製造に使用されずに残留した原料固形物と真水の混合物を貯蔵する残留物貯蔵用タンクを備えているので、水処理装置を構成する容器内、配管経路内等における溶質である塩素化イソシアヌル酸化合物やその組成成分の析出、堆積又は固化を抑制又は防止することができ、延いては保守点検を軽減し、その頻度を低減させることができる。   According to a thirtieth aspect of the present invention, a chlorine-based disinfectant which is not used for sterilization of ballast water and a mixture of raw solid and fresh water which is not used for production of chlorine-based disinfectant and is stored. Since it has a residue storage tank, it is possible to suppress or prevent the precipitation, deposition or solidification of the chlorinated isocyanuric acid compound or its constituent components that are solutes in the container constituting the water treatment device, the piping path, etc. Therefore, maintenance inspections can be reduced, and the frequency can be reduced.

本発明の第31の形態によれば、気体供給装置から供給される気体の流れにより、溶液製造部に供給される真水に由来する水分が、ホッパー内に到達することを抑制又は防止することができる。   According to the thirty-first aspect of the present invention, the flow of the gas supplied from the gas supply device can suppress or prevent the moisture derived from the fresh water supplied to the solution manufacturing unit from reaching the hopper. it can.

本発明の第32の形態によれば、ホッパーから溶液製造部に原料固形物が供給されていないときは、ホッパーと溶液製造部との間の原料固形物の移動経路がバルブなどの機構により遮断されるので、溶液製造部に供給される真水に由来する水分が、ホッパー内に到達することを抑制又は防止することができる。   According to the thirty-second aspect of the present invention, when the raw material solids are not supplied from the hopper to the solution manufacturing unit, the movement route of the raw material solids between the hopper and the solution manufacturing unit is blocked by a mechanism such as a valve. Therefore, it is possible to suppress or prevent the moisture derived from the fresh water supplied to the solution manufacturing unit from reaching the hopper.

本発明の第33の形態によれば、ホッパーの、少なくともその胴体の側面を断熱パネルにより囲うので、ホッパーの断熱構造を比較的容易に構築することができる。   According to the thirty-third aspect of the present invention, at least the side surface of the body of the hopper is surrounded by the heat insulating panel, so that the heat insulating structure of the hopper can be relatively easily constructed.

本発明に係る水処理方法の基本形の説明図である。It is explanatory drawing of the basic form of the water treatment method which concerns on this invention. 本発明に係る水処理方法の基本形の変形例1の説明図である。It is explanatory drawing of the modification 1 of the basic form of the water treatment method which concerns on this invention. 本発明に係る水処理方法の基本形の変形例2の説明図である。It is explanatory drawing of the modification 2 of the basic form of the water treatment method which concerns on this invention. 本発明に係る水処理方法の基本形の総括的説明図である。It is a general|schematic explanatory drawing of the basic form of the water treatment method which concerns on this invention. 本発明に係る水処理方法の実施例1の説明図である。It is explanatory drawing of Example 1 of the water treatment method which concerns on this invention. 本発明に係る水処理方法の実施例2の説明図である。It is explanatory drawing of Example 2 of the water treatment method which concerns on this invention. 本発明に係る水処理方法の実施例3の説明図である。It is explanatory drawing of Example 3 of the water treatment method which concerns on this invention. 本発明に係る水処理方法の実施例4の説明図である。It is explanatory drawing of Example 4 of the water treatment method which concerns on this invention. 本発明に係る水処理方法の実施例5の説明図である。It is explanatory drawing of Example 5 of the water treatment method which concerns on this invention. 水処理装置の基本構成の説明図である。It is explanatory drawing of the basic composition of a water treatment apparatus. ホッパー部の基本構成の説明図である。It is explanatory drawing of the basic composition of a hopper part. 原料供給機の説明図である。It is explanatory drawing of a raw material feeder. 計量機構の原理説明図である。It is a principle explanatory view of a measuring mechanism. 計量機構の主要部品の説明図である。It is explanatory drawing of the main components of a weighing mechanism. 排出支援機構の一例の説明図である。It is an explanatory view of an example of a discharge support mechanism. 本発明に係る水処理装置の実施例-Aの説明図である。It is explanatory drawing of Example-A of the water treatment apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る水処理装置のホッパー部の温度設定機構の変形例1の説明図である。It is explanatory drawing of the modification 1 of the temperature setting mechanism of the hopper part of the water treatment apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る水処理装置のホッパー部の温度設定機構の変形例2の説明図である。It is explanatory drawing of the modification 2 of the temperature setting mechanism of the hopper part of the water treatment apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る水処理装置のホッパー部の温度設定機構の変形例3の説明図である。It is explanatory drawing of the modification 3 of the temperature setting mechanism of the hopper part of the water treatment apparatus which concerns on this invention. 図19に示されている変形例3の派生例1の説明図である。FIG. 20 is an explanatory diagram of a derived example 1 of the modified example 3 shown in FIG. 19. 図19に示されている変形例3の派生例2の説明図である。It is explanatory drawing of the derivative example 2 of the modification 3 shown by FIG. 図19に示されている変形例3の派生例3の説明図である。It is explanatory drawing of the derivative example 3 of the modification 3 shown by FIG. 本発明に係る水処理装置のホッパー部の温度設定機構の変形例4の説明図である。It is explanatory drawing of the modification 4 of the temperature setting mechanism of the hopper part of the water treatment apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る水処理装置のホッパー部の温度設定機構の変形例5の説明図である。It is explanatory drawing of the modification 5 of the temperature setting mechanism of the hopper part of the water treatment apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る水処理装置の実施例-Bの説明図である。It is explanatory drawing of Example-B of the water treatment apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る水処理装置の実施例-Cの説明図である。It is explanatory drawing of Example-C of the water treatment apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る水処理装置の実施例-Dの説明図である。It is explanatory drawing of Example-D of the water treatment apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る水処理装置の実施例-Eの説明図である。It is explanatory drawing of Example-E of the water treatment apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る水処理装置の実施例-Fの説明図である。It is explanatory drawing of Example-F of the water treatment apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る水処理装置の実施例-Gの説明図である。It is explanatory drawing of Example-G of the water treatment apparatus which concerns on this invention. 水処理装置の基本構成の変形例の説明図である。It is explanatory drawing of the modification of the basic composition of a water treatment apparatus. 本発明に係る水処理装置の実施例-Hの説明図である。It is explanatory drawing of Example-H of the water treatment apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る水処理装置の実施例-Iの説明図である。It is explanatory drawing of Example-I of the water treatment apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る水処理装置の実施例-Jの説明図である。It is explanatory drawing of Example-J of the water treatment apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る水処理装置の実施例-Kの説明図である。It is explanatory drawing of Example-K of the water treatment apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る水処理装置の実施例-Lの説明図である。It is explanatory drawing of Example-L of the water treatment apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る水処理装置の実施例-Mの説明図である。It is explanatory drawing of Example-M of the water treatment apparatus which concerns on this invention. ホッパー部における断熱材の取り付け構造の説明図である。It is explanatory drawing of the attachment structure of the heat insulating material in a hopper part. ホッパー部の改良例2の説明図である。It is explanatory drawing of the example 2 of improvement of a hopper part. ホッパー部の改良例3の説明図である。It is explanatory drawing of the example 3 of improvement of a hopper part. バラスト水処理装置を搭載する船舶の基本構成の説明図である。It is explanatory drawing of the basic composition of the ship carrying a ballast water treatment apparatus. 図41に示されている船舶において実行される殺菌処理の説明図である。FIG. 42 is an explanatory diagram of a sterilization process executed in the ship shown in FIG. 41. 図41に示されている船舶において実行される還元処理の説明図である。FIG. 42 is an explanatory diagram of a return process executed in the ship shown in FIG. 41. ジクロロイソシアヌル酸ナトリウムを純水に溶解させたときの有効塩素濃度と溶解時間との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between effective chlorine concentration and the time of dissolution when sodium dichloroisocyanurate is dissolved in pure water.

以下、本発明の実施形態又は実施例を示し、本発明を詳細に説明する。その際、必要に応じて図表を参照しつつ説明するが、各図表において同じ部分又は相当する若しくは共通する部分にはこれと同じ符号を付す。いうまでもなく、本発明は、図面に記載された実施の形態や実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in detail by showing embodiments or examples of the present invention. At that time, description will be given with reference to the drawings as necessary, but the same portions or corresponding or common portions in the respective drawings are denoted by the same reference numerals. Needless to say, the present invention is not limited to the embodiments and examples described in the drawings.

<< 水処理方法の実施形態 >>
1)基本形の概要
(1) 図1は、本発明に係る水処理方法の基本形の説明図である。基本形は、図1(a)に示されているように、塩素化イソシアヌル酸化合物の固形物(原料固形物)msと原料固形物msを一時的に貯蔵するための一時的貯蔵用容器H(以下「容器H」と略称する)を用意する準備段階S0と、原料固形物msを容器H内に装入し、容器H内から取り出す前に一時的に貯蔵する工程S11を有する第一段階S1と、容器H内から取り出された原料固形物msを真水wsと混合し、撹拌することにより、塩素化イソシアヌル酸化合物の水溶液である塩素系殺菌剤Asを製造する工程S21を有する第二段階S2と、塩素系殺菌剤Asを船舶VSLの外部から導入した海水Woに注入する工程S31を有する第三段階S3を有するとともに、第一段階S1は、容器H内の温度Thを容器内温度上限以下に設定する工程(以下「温度設定工程S12」という)を有している。容器内温度上限は、既述のとおり、摂氏39度であるが、温度制御の幅に余裕を持たせるため、これを摂氏38度、摂氏37度又は更に低い温度に設定してもよい。
<<Embodiment of Water Treatment Method>>
1) Outline of basic form (1) FIG. 1 is an explanatory diagram of the basic form of the water treatment method according to the present invention. The basic form is, as shown in FIG. 1(a), a temporary storage container H (for temporarily storing solids (raw material solids) ms of the chlorinated isocyanuric acid compound and raw material solids ms ( Hereinafter, abbreviated as "container H"), and a first step S1 having a preparation step S0 and a step S11 of charging the raw material solid ms into the container H and temporarily storing it before taking it out of the container H. And mixing the raw material solid ms taken out from the container H with fresh water ws, and by stirring, a second step S2 having a step S21 for producing a chlorine-based germicide As which is an aqueous solution of a chlorinated isocyanuric acid compound. And, having a third step S3 having a step S31 of injecting the chlorine-based bactericidal agent As into the seawater Wo introduced from the outside of the ship VSL, the first step S1 is that the temperature Th in the container H is equal to or lower than the upper temperature limit in the container Has a step of setting (hereinafter referred to as "temperature setting step S12"). As described above, the upper limit of the temperature inside the container is 39 degrees Celsius, but this may be set to 38 degrees Celsius, 37 degrees Celsius, or a lower temperature in order to allow a wide range of temperature control.

温度設定工程S12は、図1(b)に示されているように、容器H内の温度Thを容器内温度上限以下に設定することに加え、容器内温度下限以上に設定する温度設定工程S12*であってもよい。容器内温度下限は、既述のとおり、摂氏0度超であるが、温度制御の幅に余裕を持たせるため、これを摂氏2度、摂氏3度又は更に高い温度に設定してもよい。   In the temperature setting step S12, as shown in FIG. 1B, in addition to setting the temperature Th in the container H to be equal to or lower than the upper temperature limit in the container, the temperature setting step S12 is set to be higher than the lower temperature limit in the container. It may be *. As described above, the lower limit of the temperature inside the container is higher than 0 degrees Celsius, but in order to allow a margin of temperature control, it may be set to 2 degrees Celsius, 3 degrees Celsius or higher.

図2は、本発明に係る水処理方法の基本形の変形例1の説明図である。変形例1は、図2(a)に示されているように、基本形と同様に、準備段階、第一段階S1、第二段階S2及び第三段階S3を有するとともに、第一段階S1は温度設定工程S12を有している。しかし、基本形と異なり、第二段階S2が、原料固形物msと混合する前の真水wsの温度Twsを特定温度範囲内に予め設定しておく工程S22、原料固形物msと真水wsとを混合させる際に特定温度範囲内でその混合を行う(より具体的には混合物Csの温度Tcsを特定温度範囲内に設定する)工程S23、製造された塩素系殺菌剤Asの温度Tasを特定温度範囲内に設定する工程S24のうち少なくとも一つの工程を有している。温度設定工程S12は、図2(b)に示されているように、温度設定工程S12*であってもよい。   FIG. 2 is an explanatory diagram of Modification 1 of the basic form of the water treatment method according to the present invention. As shown in FIG. 2(a), the modification 1 has a preparation step, a first step S1, a second step S2, and a third step S3 as in the basic form, and the first step S1 is a temperature It has a setting step S12. However, unlike the basic form, the second step S2 is a step S22 of presetting the temperature Tws of the fresh water ws before mixing with the raw solid matter ms within a specific temperature range, mixing the raw solid matter ms and the fresh water ws. Performing the mixing within a specific temperature range when setting (more specifically, setting the temperature Tcs of the mixture Cs within the specific temperature range) Step S23, the temperature Tas of the produced chlorine-based germicide As is within the specific temperature range There is at least one step of the step S24 set inside. The temperature setting step S12 may be the temperature setting step S12*, as shown in FIG. 2(b).

図3は、本発明に係る水処理方法の基本形の変形例2の説明図である。変形例2は、図3(a)に示されているように、基本形と同様に、準備段階、第一段階S1、第二段階S2及び第三段階S3を有するとともに、第一段階S1が温度設定工程S12を有している。しかし、基本形と異なり、第三段階S3が、製造された塩素系殺菌剤Asの温度Tas*を特定温度範囲内に設定する工程S32を有している。温度設定工程S12は、図3(b)に示されているように、温度設定工程S12*であってもよい。   FIG. 3 is an explanatory diagram of a modified example 2 of the basic form of the water treatment method according to the present invention. As shown in FIG. 3(a), the second modification has a preparation step, a first step S1, a second step S2, and a third step S3, and the first step S1 has a temperature as shown in FIG. It has a setting step S12. However, unlike the basic form, the third step S3 has a step S32 of setting the temperature Tas* of the manufactured chlorine-based germicide As within a specific temperature range. The temperature setting step S12 may be the temperature setting step S12*, as shown in FIG.

(2) 第二段階S2において真水と混合すべき原料固形物を予め少量又は所定量に小分けにする場合には、温度設定工程S12は、その小分けにするための装置(後述の計量機構に相当する装置)内の温度Th(fdr)を容器内温度上限以下に設定する工程S12-1を有していてもよい。この工程S12-1は、温度Th(fdr)を容器内温度上限以下に設定することに加え、容器内温度下限以上に設定する温度設定工程S12-1*であってもよい。   (2) When the raw material solids to be mixed with fresh water are subdivided into small amounts or predetermined amounts in the second stage S2, the temperature setting step S12 is a device for subdividing the subdivided solids (corresponding to a measuring mechanism described later). Step S12-1 of setting the temperature Th(fdr) in the device) to be equal to or lower than the upper limit of the temperature in the container. This step S12-1 may be a temperature setting step S12-1* of setting the temperature Th(fdr) to not less than the upper limit of the in-container temperature but also to be not lower than the lower limit of the in-container temperature.

第二段階S2において真水と混合するための原料固形物を一時的貯蔵用容器内から取り出す際には、温度設定工程S12は、当該原料固形物の移動経路(たとえば後述の原料供給路Cms)内の温度Th(cms)を容器内温度上限以下に設定する工程S12-2を有していてもよい。この工程S12-2は、温度Th(cms)を容器内温度上限以下に設定することに加え、容器内温度下限以上に設定する温度設定工程S12-2*であってもよい。   When the raw material solids to be mixed with fresh water in the second step S2 are taken out of the temporary storage container, the temperature setting step S12 is performed in the movement route of the raw material solids (for example, the raw material supply passage Cms described later). It may include a step S12-2 of setting the temperature Th (cms) of not more than the upper limit of the temperature inside the container. This step S12-2 may be a temperature setting step S12-2* in which the temperature Th (cms) is set to be equal to or lower than the upper limit of the in-container temperature or set to be equal to or higher than the lower limit of the in-container temperature.

なお、以下においては、特に区別して説明する場合を除き、工程S12-1及び工程S12-2のそれぞれを工程S12により代表させ、工程S12-1*及び工程S12-2*のそれぞれを工程S12により代表させる。工程S12の説明を工程S12-1及び工程S12-2のそれぞれの説明として又は工程S12*の説明を工程S12-1*及び工程S12-2*のそれぞれの説明として取り扱う際には、温度Thを温度Th(fdr)及び温度Th(cms)のそれぞれに読み替えるものとする。   In the following description, unless otherwise specified, the steps S12-1 and S12-2 are represented by the step S12, and the steps S12-1* and S12-2* are represented by the step S12. Let them be represented. When treating the description of step S12 as the description of step S12-1 and step S12-2 or the description of step S12* as the description of step S12-1* and step S12-2*, the temperature Th is It should be read as the temperature Th(fdr) and the temperature Th(cms).

(3) 総じて、本発明に係る水処理方法の基本形は、図4(a)に示されているように、準備段階、第一段階S1、第二段階S2及び第三段階S3を有すること、ならびに、第一段階S1が温度設定工程S12を有することを必須としている。そして、この基本形は、その変形例として、工程S22、S23及びS24ならびに工程S32のうち少なくとも一つの工程を有していてもよく、図4(b)に示されているように、温度設定工程S12は温度設定工程S12*であってもよい。   (3) Generally, the basic form of the water treatment method according to the present invention has a preparation step, a first step S1, a second step S2 and a third step S3, as shown in FIG. 4(a). In addition, it is essential that the first step S1 has the temperature setting step S12. And this basic form may have at least one process of process S22, S23 and S24, and process S32 as a modification, and as shown in FIG.4(b), temperature setting process. S12 may be the temperature setting step S12*.

(4) 本発明に係る水処理方法の代表例は、塩素系殺菌剤を使用するバラスト水処理方法である。バラスト水処理方法は、本発明に係る水処理方法に該当するものである限り、上記の基本形及び変形例に基づき説明することができる。   (4) A typical example of the water treatment method according to the present invention is a ballast water treatment method using a chlorine-based bactericide. The ballast water treatment method can be described based on the above basic form and modifications as long as it corresponds to the water treatment method according to the present invention.

2)各工程の説明
図4を参照しつつ、各工程について説明する。
2) Description of Each Step Each step will be described with reference to FIG.

2.1)準備段階
準備段階S0は、原料固形物msを一時的に貯蔵するための容器Hを用意する工程S01と塩素化イソシアヌル酸化合物の固形物(原料固形物)msを用意する工程S02を有している。工程S01は、通常、長期間又は複数回使用可能な装置を用意する工程であり、当該装置を新設して用意する工程であってもよいし、既存の当該装置を用意する工程であってもよい。工程S02は、塩素系殺菌剤Asの原料である原料固形物msを用意する工程であり、原料固形物msを補給する工程を有していてもよい。
2.1) Preparation Step In the preparation step S0, a step S01 of preparing a container H for temporarily storing the raw material solid matter ms and a step S02 of preparing a solid matter (raw material solid matter) ms of the chlorinated isocyanuric acid compound. have. Step S01 is usually a step of preparing an apparatus that can be used for a long time or a plurality of times, and may be a step of newly installing the apparatus, or a step of preparing an existing apparatus. Good. Step S02 is a step of preparing a raw material solid ms that is a raw material of the chlorine-based bactericide As, and may have a step of replenishing the raw material solid ms.

工程S01は、船舶VSL内に容器Hを新設する場合には、その新設の容器Hを用意することを意味し、船舶VSL内に容器Hが既設である場合には、その既設の容器Hを用意することを意味する。工程S01の開始時点t[s01s]には特に制限はないが、その終了時点t[s01e]は、遅くとも第二段階S2の開始時点t[s1s]である。   Step S01 means that when a container H is newly installed in the ship VSL, the newly installed container H is prepared, and when the container H is already installed in the ship VSL, the existing container H is installed. Means to prepare. The start time t[s01s] of the step S01 is not particularly limited, but the end time t[s01e] is the start time t[s1s] of the second step S2 at the latest.

工程S02は、具体的には、容器Hへの原料固形物の装入に備えて、船舶VSL内の所定の場所に原料固形物msを用意する工程であり、たとえば、船舶VSLが備える空調設備付きの倉庫内に、原料固形物msを収容したコンテナを格納することを意味する。工程S02の開始時点t[s02e]には特に制限はなく、通常は、t[s01s]以後の時点であり、多くの場合、t[so1e]以後の時点である。工程S02は、遅くとも、後述の貯蔵工程S11の開始時点t[s11s]以前に終了している必要がある。   Step S02 is specifically a step of preparing a raw material solid ms at a predetermined place in the vessel VSL in preparation for charging the raw material solid into the container H, and for example, an air conditioning facility provided in the vessel VSL. This means storing the container containing the raw solid matter ms in the warehouse with. The start time t[s02e] of the step S02 is not particularly limited and is usually the time t[s01s] or later, and in many cases, the time t[so1e] or later. The step S02 needs to be completed before the start time t[s11s] of the storage step S11 described later at the latest.

原料固形物msを容器Hに最初に貯蔵した後、容器Hに補給する場合には、その補給のための原料固形物msの用意は、t[s11s]より前に終了しているか、t[s11e]より前の補給時までに完了している必要がある。   When the raw material solid ms is first stored in the container H and then replenished to the container H, the preparation of the raw material solid ms for the replenishment is completed before t[s11s], or t[s11s]. [s11e] must be completed by the time of supply before s11e].

2.2)第一段階S1
(1) 第一段階S1は、原料固形物msを容器H内に装入し、容器H内から取り出す前に一時的に貯蔵する工程(以下「貯蔵工程S11」という)と、温度設定工程S12を有する段階である。温度設定工程S12は、温度設定工程S12*であってもよい。温度設定工程S12は、既述のとおり、工程S12-1や工程S12-2を有する場合があり、工程S12-1及び工程S12-2は、それぞれ、工程S12-1*及び工程S12-2*であってもよい。
2.2) First stage S1
(1) The first step S1 is a step of charging the raw material solid ms into the container H and temporarily storing it before taking it out of the container H (hereinafter referred to as "storage step S11"), and a temperature setting step S12. It is a stage which has. The temperature setting step S12 may be the temperature setting step S12*. As described above, the temperature setting step S12 may include the step S12-1 and the step S12-2, and the step S12-1 and the step S12-2 respectively include the step S12-1* and the step S12-2*. May be

(2) 貯蔵工程S11は、容器H内に原料固形物msが装入された時点t[s11s]から開始し、容器H内に一時的に貯蔵されている原料固形物msが容器H内からすべて取り出された時点t[s11e]で終了する工程である。容器H内への原料固形物msの装入には、容器H内への原料固形物msの補給、つまり容器H内の原料固形物msが容器H内からすべて取り出される前に行う原料固形物msの装入が含まれる。従って、容器H内に一時的に貯蔵されている原料固形物msには、補給された原料固形物msが含まれる。   (2) The storage step S11 starts from the time t[s11s] when the raw material solids ms are loaded into the container H, and the raw material solids ms temporarily stored in the container H is removed from the container H. This is a process that ends at the time point t[s11e] when all of them are taken out. The charging of the raw material solids ms into the container H is performed by replenishing the raw material solids ms into the container H, that is, the raw material solids carried out before all the raw material solids ms in the container H are taken out of the container H. Includes ms loading. Therefore, the replenished raw material solid ms is included in the raw material solid ms temporarily stored in the container H.

塩素系殺菌剤Asの製造に使用されずに残った原料固形物msを容器H内に引き続き貯蔵し続ける場合は、貯蔵工程S11の実行を継続させる必要があるので、t[s11e]は、より遅い時点となる。   When continuing to store the raw material solid matter ms that is not used in the production of the chlorine-based sterilizer As in the container H, it is necessary to continue the storage step S11, so t[s11e] is It's late.

(3) 温度設定工程S12又はS12*の開始時点t[s12s]は、貯蔵工程S11の開始時点t[s11s]以前の時点である。容器H内の温度Thは、容器H内に原料固形物msが装入される前に、容器内温度上限以下に設定されていることが望ましいので、t[s12s]は、通常、t[s11s]より前の時点である。   (3) The start time point t[s12s] of the temperature setting step S12 or S12* is a time point before the start time point t[s11s] of the storage step S11. Since the temperature Th in the container H is preferably set to be equal to or lower than the upper limit of the temperature inside the container before the raw material solid ms is charged into the container H, t[s12s] is usually t[s11s ] Before.

一方、温度設定工程S12又はS12*の終了時点t[s12e]は、貯蔵工程S11の終了時点t[s11e]より後の時点である。なぜならば、貯蔵工程S11の終了後も、容器Hの内表面に付着する原料固形物msが残留している場合があり、その残留物の自己分解を契機として発生する塩素ガスの悪影響が懸念されるからである。ただし、容器Hの内表面に残留する原料固形物msの除去やその残留物が発生源である塩素ガスへの対策が功を奏して、当該塩素ガスの悪影響が一定水準以下に低減されている場合には、t[s12e]は、t[s11e]より後の時点である必要はない。   On the other hand, the end time point t[s12e] of the temperature setting step S12 or S12* is a time point after the end time point t[s11e] of the storage step S11. Because, after the storage step S11 is completed, the raw material solid matter ms adhering to the inner surface of the container H may remain, and the adverse effect of chlorine gas generated by the self-decomposition of the residue may occur. This is because that. However, the removal of the raw material solid matter ms remaining on the inner surface of the container H and the countermeasures against the chlorine gas that is the source of the residue have been successful, and the adverse effects of the chlorine gas have been reduced to below a certain level. In some cases, t[s12e] need not be after t[s11e].

(4) t[s12e]がt[s11e]より後の時点である場合には、温度設定工程S12又はS12*は、第二段階S2の実行中及び実行後少なくとも一定期間、継続的に実行される工程であってよく、第三段階S3の実行中及び実行後少なくとも一定期間、継続的に実行される工程であってもよい。また、温度設定工程S12は、貯蔵工程S11の終了後、次の貯蔵工程S11の開始時点まで継続的に実行される工程であってよく、次の温度設定工程S12又はS12*の開始時点まで継続的に実施される工程であってもよく、原則として常時実行される工程であってもよい。   (4) When t[s12e] is after t[s11e], the temperature setting step S12 or S12* is continuously executed during the second step S2 and at least for a certain period after the execution. The third step S3 may be performed, and may be continuously performed for at least a certain period during and after the execution of the third step S3. Further, the temperature setting step S12 may be a step that is continuously executed until the start point of the next storage step S11 after the end of the storage step S11, and continues until the start point of the next temperature setting step S12 or S12*. It may be a process that is performed on a regular basis or a process that is always performed in principle.

2.3)第二段階S2
(1) 第二段階S2は、容器H内から取り出された原料固形物msを真水wsと混合し、撹拌することにより、塩素系殺菌剤Asを製造する工程S21を有する段階である。
2.3) Second stage S2
(1) The second step S2 is a step including a step S21 of manufacturing the chlorine-based germicide As by mixing the raw material solid ms taken out from the container H with fresh water ws and stirring the mixture.

(2) 容器H内から原料固形物msを取り出す際には、少量又は所定量の小分けにして複数回にわたり取り出するのが望ましい。なぜならば、容器H内から一度に大量の原料固形物msを取り出して真水wsに混合し攪拌すると、攪拌効果が行き渡らず、未溶解の原料固形物msが少なからず残ってしまうところ、容器H内から、少量又は所定量に小分けされた原料固形物ms*を複数回にわたり取り出し、その取り出す都度、真水wsと混合し攪拌すれば、その真水wsに確実に溶解させることができ、これを繰り返せば、海水処理用殺菌剤として必要な有効塩素濃度を有する塩素系殺菌剤Asの必要量を、確実に製造することができるからである。   (2) When the raw material solid matter ms is taken out from the container H, it is desirable to take it out a plurality of times in a small amount or a predetermined amount. The reason is that if a large amount of raw material solids ms are taken out of the container H at a time and mixed with fresh water ws and stirred, the stirring effect does not spread, and undissolved raw material solids ms remain in a considerable amount. From the above, a small amount or a small amount of the raw material solid matter ms* is taken out multiple times, and each time it is taken out, it can be surely dissolved in the fresh water ws if mixed with fresh water ws and stirred. If this is repeated, This is because it is possible to reliably produce the required amount of the chlorine-based bactericide As having the effective chlorine concentration necessary as a bactericide for seawater treatment.

(3) 第二段階S2では、原料固形物msと真水wsとの混合と、その混合物Csの攪拌を、同時に及び/又は同じ空間内で行ってもよく、別々の時間に及び/又は異なる空間で行ってもよい。たとえば、原料固形物msと真水wsを槽内に装入し、その槽内に設置してあるインペラにより混合と攪拌を同時に行い、その槽内で塩素系殺菌剤Asを製造してもよく(図11乃至図16参照)、原料固形物msと真水wsを、混合を主目的とする槽内に装入し、その槽内で混合した後、その槽内から取り出された混合物Csを、攪拌及び固液分離を主目的とする装置内に装入し、その装置内で攪拌することで塩素系殺菌剤Asを製造してもよい(図19乃至図23参照)。   (3) In the second step S2, the mixing of the raw material solid ms and the fresh water ws and the stirring of the mixture Cs may be performed simultaneously and/or in the same space, at different times and/or in different spaces. You may go in. For example, raw solid matter ms and fresh water ws may be charged into a tank, and mixing and stirring may be simultaneously performed by an impeller installed in the tank to produce the chlorine-based germicide As in the tank ( 11 to 16), raw material solid matter ms and fresh water ws are charged into a tank whose main purpose is mixing, and after mixing in the tank, the mixture Cs taken out from the tank is stirred. Alternatively, the chlorine-based bactericidal agent As may be produced by charging in an apparatus whose main purpose is solid-liquid separation and stirring in the apparatus (see FIGS. 19 to 23).

(4) 第二段階S2は、工程S22、S23、S24のうち少なくとも一つを有していてもよい。工程S22、S23、S24は、いずれも、原料固形物msの真水wsに対する溶解度を一定水準以上に保つと同時に、真水wsと接触する、混合物Cs中のあるいは塩素系殺菌剤As中に残留する原料固形物msの自己分解を契機とする塩素ガスの発生を抑制又は防止することを主たる目的として実行される工程である。   (4) The second step S2 may include at least one of steps S22, S23, and S24. Steps S22, S23, S24 are all raw materials that remain in the mixture Cs or in the chlorine-based bactericide As while contacting with fresh water ws while maintaining the solubility of the raw material solid ms in fresh water ws above a certain level. This is a process mainly performed to suppress or prevent generation of chlorine gas triggered by self-decomposition of solid matter ms.

(5) 第三段階S3の実行開始の頃合を見計らって、事前に工程S21を開始する。その開始時点t[s21s]は、貯蔵工程S11の開始時点t[s11s]以降であり、且つ、温度設定工程S12の開始時点t[s12s]以降である。工程S21の終了時点t[s21e]は、(i)海水Woの殺菌に必要な量の塩素系殺菌剤Asを製造し終えた時点、(ii)その製造が不可能になった時点ならびに(iii)その製造が無用になった時点のうち、最も早いものである。   (5) The step S21 is started in advance in consideration of the time when the execution of the third stage S3 is started. The start time t[s21s] is after the start time t[s11s] of the storage step S11 and after the start time t[s12s] of the temperature setting step S12. The end point t[s21e] of the step S21 is (i) when the production of the chlorine-based bactericide As required for the sterilization of the seawater Wo is finished, (ii) when the production becomes impossible, and (iii This is the earliest time when its production is no longer needed.

(6) 工程S22を実行する場合、その開始時点t[s22s]は、工程S21の開始時点t[s21s]と同時又はそれより前の時点である。工程S22の終了時点t[s22e]は、原則としてt[s21e]と同時点であるが、t[s21e]より後の時点であってもよい。   (6) When step S22 is executed, its start time t[s22s] is the same time as or before the start time t[s21s] of step S21. The end point t[s22e] of step S22 is, in principle, the same point as t[s21e], but it may be a point after t[s21e].

工程S23を実行する場合、その開始時点t[s23s]は、原料固形物msと真水wsとの混合開始時点である。工程S23の終了時点t[s23e]は、(i)海水Woの殺菌に必要な量の塩素系殺菌剤Asを製造するために必要な、原料固形物msと真水wsとの混合を終えた時点、(ii)その混合が不能になった時点ならびに(iii)その混合が不要になった時点のうち、最も早いものである。しかしながら、混合物Cs中の未溶解の原料固形物msの自己分解を契機として発生する塩素ガスの悪影響が一定水準以下に低減されていない限り又は当該塩素ガスへの別段の対策が講じられない限り、工程S23を終了させる必要はない(むしろ継続して実行するのが望ましい)。   When the step S23 is executed, the starting time t[s23s] is the starting time of mixing the raw material solid ms and the fresh water ws. The end time t[s23e] of the step S23 is (i) the time when the mixing of the raw material solid ms and the fresh water ws necessary for producing the chlorine-based bactericide As necessary for sterilizing the seawater Wo is completed. , (Ii) when the mixing is no longer possible and (iii) when the mixing is no longer necessary. However, unless the adverse effect of chlorine gas generated upon self-decomposition of the undissolved raw material solids ms in the mixture Cs is reduced to a certain level or less, or unless another measure is taken to the chlorine gas, It is not necessary to end step S23 (rather, it is preferable to continue execution).

工程S24を実行する場合、その開始時点t[s24s]は、通常、塩素系殺菌剤Asが製造され始めた時点である。工程S24の終了時点t[s24e]は、(i)塩素系殺菌剤Asを製造し終えた時点、(ii)その製造が不能になった時点ならびに(iii)その製造が不要になった時点のうち、最も早いものである。しかしながら、塩素系殺菌剤As 中の未溶解の原料固形物msの自己分解を契機として発生する塩素ガスの悪影響が一定水準以下に低減されていない限り又は当該塩素ガスへの別段の対策が講じられない限り、t[s24e]は、より遅い時点となる。   When performing step S24, the starting time t[s24s] is usually the time when the chlorine-based bactericide As is started. The time point t[s24e] at the end of the step S24 is (i) when the production of the chlorine-based bactericide As is completed, (ii) when the production is disabled, and (iii) when the production is no longer necessary. Of these, the earliest. However, unless the adverse effect of chlorine gas generated by the self-decomposition of the undissolved raw material solids ms in the chlorine-based sterilizer As is reduced below a certain level, or other measures are taken against the chlorine gas. Unless t[s24e] is later.

(7) 原料固形物msと真水wsの混合を特定温度範囲内で行うためには、比熱の大きな真水wsの温度を特定温度範囲内に予め設定しておいた方が効果があり、効率も良い。それ故、工程S22の開始時点t[s22s]は、工程S21の開始時点t[s21s]より前の時点であることが望ましい。また、工程S23を実行する場合には、工程S22も実行することが望ましい。   (7) In order to mix the raw solid matter ms and the fresh water ws within the specific temperature range, it is more effective to preset the temperature of the fresh water ws having a large specific heat within the specific temperature range, and the efficiency is also improved. good. Therefore, it is desirable that the start time point t[s22s] of the step S22 be a time point before the start time point t[s21s] of the step S21. When performing step S23, it is desirable to also perform step S22.

(8) 真水wsから放出される熱が容器H内の原料固形物msの温度Thを容器内温度上限以下に設定することを妨げるおそれがある場合、たとえば真水wsを流通させる配管が容器Hに近接しており、当該配管から放出される熱が温度Thに影響するおそれが場合は、そのおそれがなくなるまで工程S22を実行するのが望ましい。その場合、t[s22s]は、t[s21s]より前の時点とするのが望ましい。   (8) When the heat released from the fresh water ws may hinder the temperature Th of the raw material solid ms in the container H from being set below the upper limit of the internal temperature of the container, for example, a pipe through which fresh water ws circulates in the container H. If there is a possibility that the heat released from the pipe affects the temperature Th, it is desirable to execute the step S22 until the fear disappears. In that case, t[s22s] is preferably set to a point before t[s21s].

混合物Csから放出される熱が温度Thを容器内温度上限以下に設定することを妨げるおそれがある場合、たとえば混合物Csが容器Hに近接しており、混合物Csから放出される熱が温度Thに影響するおそれがある場合には、そのおそれがなくなるまで工程S23を実行するのが望ましい。   When the heat released from the mixture Cs may prevent the temperature Th from being set below the upper temperature limit in the container, for example, the mixture Cs is close to the container H, and the heat released from the mixture Cs reaches the temperature Th. If there is a possibility of being affected, it is desirable to carry out step S23 until such fear is eliminated.

塩素系殺菌剤Asから放出される熱が、混合物Csの温度Tcsを特定温度範囲内に設定する工程23の実行を妨げるおそれがある場合、たとえば塩素系殺菌剤Asと混合物Csとの接触面積が大きいために塩素系殺菌剤Asから放出される該熱が混合物Csに及ぶおそれがある場合は、工程23に加えて工程24を実行するのが望ましい。   When the heat released from the chlorine-based germicide As may hinder the execution of step 23 of setting the temperature Tcs of the mixture Cs within a specific temperature range, for example, the contact area between the chlorine-based germicide As and the mixture Cs is If the heat released from the chlorine-based bactericide As is likely to reach the mixture Cs, it is desirable to perform step 24 in addition to step 23.

塩素系殺菌剤Asから放出される熱が温度Thを容器内温度上限以下に設定することを妨げるおそれがある場合、たとえば塩素系殺菌剤Asが容器Hに近接しているために塩素系殺菌剤Asから放出される熱が直接容器Hに及び、その結果温度Thに影響するおそれがある場合や、塩素系殺菌剤Asから放出される熱が混合物Csに及び、その混合物Csから放出される熱が容器Hに及び、その結果温度Thに影響するおそれがある場合には、そのおそれがなくなるまで工程S24を実行するのが望ましい。   If the heat released from the chlorine-based germicide As may prevent the temperature Th from being set below the upper limit of the temperature in the container, for example, because the chlorine-based germicide As is close to the container H, the chlorine-based germicide When the heat released from As directly reaches the container H and may affect the temperature Th as a result, or the heat released from the chlorine-based germicide As reaches the mixture Cs and the heat released from the mixture Cs. When there is a risk that the gas will affect the container H and, as a result, the temperature Th, it is desirable to carry out step S24 until the risk disappears.

2.4)第三段階S3
(1) 第三段階S3は、塩素系殺菌剤Asを船舶VSLの外部から導入した海水Woに注入する工程S31を有する段階である。バラスト水処理の場合であれば、工程S31は、船舶VSLが具備するバラストタンクBTに向かって、船外で取水した海水WoをバラストタンクBTに向けて船内を移動させる過程で、その海水Woに塩素系殺菌剤Asを注入することにより殺菌処理を施す工程に相当する。
2.4) Third stage S3
(1) The third step S3 is a step including a step S31 of injecting the chlorine-based germicide As into the seawater Wo introduced from the outside of the ship VSL. In the case of ballast water treatment, in step S31, seawater Wo taken outside the ship is moved toward the ballast tank BT of the ship VSL in the process of moving the seawater Wo inside the ship toward the ballast tank BT. This corresponds to the step of performing sterilization treatment by injecting the chlorine-based sterilizer As.

(2) 第三段階S3は、工程S32を有していてもよい。工程S32は、原料固形物msの真水wsに対する溶解度を一定水準以上に保つと同時に、塩素系殺菌剤As中に残留する原料固形物msの自己分解を契機とする塩素ガスの発生を防止することを主たる目的として実行される工程である。   (2) The third step S3 may include the step S32. Step S32 is to maintain the solubility of the raw material solid ms in fresh water ws above a certain level and at the same time prevent the generation of chlorine gas triggered by the self-decomposition of the raw material solid ms remaining in the chlorine-based bactericide As. Is a process executed with the main purpose of.

(3) 第三段階S3の開示時点t[s3s]は、船舶VSLの外部から導入した海水Woが塩素系殺菌剤Asの注入口に到達した時点といって差し支えない。   (3) The disclosure time t[s3s] in the third stage S3 can be said to be the time when the seawater Wo introduced from outside the ship VSL reaches the inlet of the chlorine-based germicide As.

塩素系殺菌剤Asを残さず海水Woに注入する場合であれば、第三段階S3の終了時点t[s3e]は、概ね、船舶VSLの外部からの海水Woの導入を終えた時点である。しかし、海水Woに注入されずに塩素系殺菌剤Asが残留し(たとえば、未注入の塩素系殺菌剤Asが注入口に接続する配管内に残留し)、放置すると実害がある場合には、後述の隔離、無害化等の処置が講じられない限り、工程S32の実行を継続させる必要があるので、t[s3e]は、より遅い時点となる。   In the case of injecting all the chlorine-based sterilizer As into the seawater Wo, the end time t[s3e] of the third step S3 is almost the time when the introduction of the seawater Wo from the outside of the ship VSL is completed. However, if chlorine-based bactericide As remains without being injected into seawater Wo (for example, uninjected chlorine-based bactericide As remains in the pipe connected to the inlet) and is left as it is, if it is actually harmful, Unless the measures such as isolation and detoxification described later are taken, it is necessary to continue the execution of step S32, so t[s3e] is a later time point.

(4) 工程S32は、工程S24とは別の工程として説明しているが、工程S24と同様に、製造された塩素系殺菌剤Asの温度Tas*を特定温度範囲内に設定する工程である。本発明に係る水処理方法を実行するための装置の構成にも拠るが、(i)工程S24における温度設定のために必要な機器・装置類の一部又は全部を、工程S32において用いることができるケースがあり、(ii)第二段階S2において製造される塩素系殺菌剤Asと第三段階S3において海水Woに注入される塩素系殺菌剤Asが同じ場所に存在する又は、異なる場所ではあるが、一方から他方への熱伝導が起こるにように構成されている場合には、工程S24及び工程S32を単一の工程とみなすことができるケースもある。後者(ii)の場合、工程S32の実行期間の少なくとも一部は、工程S24の実行期間の少なくとも一部と重なることになる。   (4) Although the step S32 is described as a step different from the step S24, like the step S24, it is a step of setting the temperature Tas* of the manufactured chlorine-based bactericide As within a specific temperature range. .. Depending on the configuration of the apparatus for performing the water treatment method according to the present invention, (i) part or all of the equipment/devices necessary for temperature setting in step S24 may be used in step S32. In some cases, (ii) the chlorine-based germicide As produced in the second stage S2 and the chlorine-based germicide As injected into the seawater Wo in the third stage S3 are present at the same location or at different locations. However, in the case where heat conduction from one side to the other occurs, the step S24 and the step S32 may be regarded as a single step in some cases. In the latter case (ii), at least a part of the execution period of step S32 overlaps with at least a part of the execution period of step S24.

3)基準温度の設定
(1) 温度設定工程S12においては、予め設定してある、摂氏39度以下の基準温度Tm(h)を超えたときに、容器H内の温度Thを下げることで、温度Thを容器内温度上限以下に設定する制御を行ってもよい。また、温度設定工程S12*においては、温度設定工程S12と同様の温度制御に加えて、予め設定してある、摂氏0度より高い基準温度Tl(h)を下回ったときに、容器H内の温度Thを高める下げることで、温度Thを容器内温度下限以上に設定する制御を行ってもよい。
3) Setting the reference temperature (1) In the temperature setting step S12, when the preset reference temperature Tm(h) of 39 degrees Celsius or less is exceeded, the temperature Th in the container H is lowered, You may perform control which sets temperature Th below the temperature upper limit in a container. Further, in the temperature setting step S12*, in addition to the same temperature control as in the temperature setting step S12, when the temperature falls below a preset reference temperature Tl(h) higher than 0 degrees Celsius, The temperature Th may be increased or decreased to control the temperature Th to be equal to or higher than the lower limit of the temperature inside the container.

(2) 第二段階S2が工程S22を有する場合には、予め設定してある、摂氏39度以下の基準温度Tm(ws)を超えたときに、真水wsの温度Twsを下げ、予め設定してある、摂氏5度以上の基準温度Tl(ws)を下回ったときに、真水wsの温度Twsを上げることで、温度Twsを特定温度範囲内に設定する制御を行ってもよい。   (2) When the second stage S2 includes the step S22, when the preset reference temperature Tm(ws) of 39 degrees Celsius or lower is exceeded, the temperature Tws of the fresh water ws is lowered and set in advance. When the temperature falls below the reference temperature Tl(ws) of 5 degrees Celsius or more, the temperature Tws of the fresh water ws may be increased to control the temperature Tws to fall within the specific temperature range.

第二段階S2が工程S23を有する場合には、予め設定してある、摂氏39度以下の基準温度Tm(cs)を超えたときに、混合物Csの温度Tcsを下げ、予め設定してある、摂氏5度以上の基準温度Tl(cs)を下回ったときに、混合物Csの温度Tcsを上げることで、温度Tcsを特定温度範囲内に設定する制御を行ってもよい。   In the case where the second step S2 includes the step S23, when the preset reference temperature Tm (cs) of 39 degrees Celsius or less is exceeded, the temperature Tcs of the mixture Cs is lowered and preset. When the temperature falls below the reference temperature Tl(cs) of 5 degrees Celsius or higher, the temperature Tcs of the mixture Cs may be increased to control the temperature Tcs to be within the specific temperature range.

第二段階S2が工程S24を有する場合には、予め設定してある、摂氏39度以下の基準温度Tm(as)を超えたときに、塩素系殺菌剤Asの温度Tasを下げ、予め設定してある、摂氏5度以上の基準温度Tl(as)を下回ったときに、塩素系殺菌剤Asの温度Tasを上げることで、温度Tasを特定温度範囲内に設定する制御を行ってもよい。   When the second step S2 includes the step S24, when the preset reference temperature Tm(as) of 39 degrees Celsius or less is exceeded, the temperature Tas of the chlorine-based bactericide As is lowered and set in advance. When the temperature falls below the reference temperature Tl(as) of 5 degrees Celsius or higher, the temperature Tas of the chlorine-based germicide As may be increased to control the temperature Tas to fall within a specific temperature range.

第三段階S3が工程S32を有する場合には、予め設定してある基準温度Tm(as*)を超えたときに、塩素系殺菌剤Asの温度Tas*を下げ、予め設定してある、摂氏5度以上の基準温度Tl(as*)を下回ったときに、塩素系殺菌剤Asの温度Tas*を上げることで、温度Tas*を特定温度範囲内に設定する制御を行ってもよい。   When the third step S3 includes the step S32, when the preset reference temperature Tm(as*) is exceeded, the temperature Tas* of the chlorine-based bactericide As is lowered and set in advance. When the temperature falls below the reference temperature Tl(as*) of 5 degrees or more, the temperature Tas* of the chlorine-based bactericide As may be increased to control the temperature Tas* within a specific temperature range.

(3) 基準温度Tm(h)、Tm(ws)、Tm(cs)、Tm(as)及びTm(as)*は、たとえば、摂氏38度に設定し、船内作業環境の安全をより重視するのであれば、たとえば摂氏37度(又は更に低い温度)に設定してもよい。ケースによっては、基準温度の値を分散させて設定してもよい(たとえば、基準温度Tm(h)を摂氏36度、基準温度Tm(ws)及びTm(cs)を摂氏37度、残りの基準温度Tm(as)及びTm(as)*を摂氏38度にする)。   (3) The reference temperatures Tm(h), Tm(ws), Tm(cs), Tm(as) and Tm(as)* are set to, for example, 38 degrees Celsius, and the safety of the working environment on board is emphasized more. If so, for example, it may be set to 37 degrees Celsius (or a lower temperature). Depending on the case, the reference temperature value may be set in a dispersed manner (for example, the reference temperature Tm(h) is 36 degrees Celsius, the reference temperatures Tm(ws) and Tm(cs) are 37 degrees Celsius, and the rest of the reference temperatures are set. Temperatures Tm(as) and Tm(as)* to 38 degrees Celsius).

(4) 基準温度Tl(h)は、容器内温度下限と同じ温度に設定し、ケースによっては、容器内温度下限よりも高い温度(たとえば、0.5度高い温度)に設定してもよい。   (4) The reference temperature Tl(h) may be set to the same temperature as the lower limit of the temperature inside the container, and in some cases, may be set to a temperature higher than the lower limit of the temperature inside the container (for example, a temperature higher by 0.5 degrees).

基準温度Tl(ws)、Tl(cs)、Tl(as)及びTl(as)*は、たとえば摂氏6度に設定し、温度制御の際に起こり得るアンダーシュートの影響を懸念するのであれば、たとえば摂氏7度(又は更に高い温度)に設定してもよい。ケースによっては、基準温度の値を分散させて設定してもよい(たとえば、基準温度Tl(ws)を摂氏7度、基準温度Tl(cs)を摂氏6度、残りの基準温度Tm(as)及びTm(as)*を摂氏5度に設定する)。   The reference temperatures Tl(ws), Tl(cs), Tl(as) and Tl(as)* are set to, for example, 6 degrees Celsius, and if there is concern about the effect of undershoot that may occur during temperature control, For example, it may be set to 7 degrees Celsius (or higher temperature). Depending on the case, the reference temperature values may be dispersed and set (for example, the reference temperature Tl(ws) is 7 degrees Celsius, the reference temperature Tl(cs) is 6 degrees Celsius, and the remaining reference temperatures Tm(as) are set. And Tm(as)* to 5 degrees Celsius).

4)実施例
4.1) 図5及至図9は、それぞれ、本発明に係る水処理方法の実施例1及至実施例5に関する説明図である。いずれの実施例においても、別段の説明がある場合を除き、基準温度Tm(h)は摂氏38度とする。
4) Example 4.1) FIGS. 5 to 9 are explanatory views relating to Example 1 to Example 5 of the water treatment method according to the present invention, respectively. In all the examples, the reference temperature Tm(h) is 38 degrees Celsius unless otherwise specified.

(1)工程S11、S12、S21及びS31について
(実施例1)
実施例1では、図5に示されているとおり、準備段階S0の終了後、温度設定工程S12→貯蔵工程S11→工程S21→工程S31の順で開始させ、貯蔵工程S11→工程S21→温度設定工程S12→工程S31の順に終了させる。また、工程S11の終了時点t[s11e]及び工程S21の終了時点t[s21e]は、いずれも工程S31の開始時点t[s31s]よりも後の時点とする。
(1) Steps S11, S12, S21 and S31 (Example 1)
In the first embodiment, as shown in FIG. 5, after the completion of the preparation step S0, the temperature setting step S12 → the storage step S11 → the step S21 → the step S31 are started in this order, and the storage step S11 → the step S21 → the temperature setting. The process S12 and the process S31 are ended in this order. Further, the end time point t[s11e] of step S11 and the end time point t[s21e] of step S21 are both times after the start time point t[s31s] of step S31.

従って、実施例1では、(i)工程S11の実行期間中、ならびに(ii)工程S21の実行期間中及びその後一定期間(t[s21e]からt[s12e]までの期間)継続して、温度設定工程S12を実行し、これにより温度Thを容器内温度上限以下に設定する。   Therefore, in the first embodiment, (i) during the execution period of step S11, and (ii) during the execution period of step S21 and thereafter for a certain period (period from t[s21e] to t[s12e]), the temperature is The setting step S12 is executed, and thereby the temperature Th is set to the container internal temperature upper limit or less.

実施例1では、工程S11、S21をt[s21s]からt[s11e]の期間中同時に実行し、工程S11、S21、S31のすべてをt[s11e]からt[s31s]までの期間中同時に実行する。このような各工程の実行方法は、原料固形物msと真水wsから塩素系殺菌剤Asを製造しながら、海水Woに注入するケースに適している。このケースでは、当該塩素系殺菌剤Asを一時的に貯蔵してもよいし、一時的に貯蔵することなく直接海水Woに注入してもよい。   In the first embodiment, steps S11 and S21 are simultaneously executed during the period from t[s21s] to t[s11e], and all steps S11, S21, and S31 are simultaneously executed during the period from t[s11e] to t[s31s]. To do. Such a method of executing each step is suitable for the case of injecting into the seawater Wo while manufacturing the chlorine-based bactericide As from the raw solid matter ms and the fresh water ws. In this case, the chlorine-based germicide As may be stored temporarily or may be directly injected into the seawater Wo without being stored temporarily.

(実施例2)
実施例2では、図6に示されているとおり、準備段階S0の終了後、温度設定工程S12→貯蔵工程S11→工程S21→工程S31の順で開始させ、貯蔵工程S11→工程S21→工程S31→温度設定工程S12の順に終了させる。また、工程S31の開始時点t[s31s]は工程S11の終了時点t[s11e]の後であり、工程S21の終了時点t[s21e]は工程S31の開始時点t[s31s]の後とする。
(Example 2)
In the second embodiment, as shown in FIG. 6, after the preparation step S0 is finished, the temperature setting step S12 → the storage step S11 → the step S21 → the step S31 are started in this order, and the storage step S11 → the step S21 → the step S31. → The temperature setting step S12 is ended in this order. The start time t[s31s] of the step S31 is after the end time t[s11e] of the step S11, and the end time t[s21e] of the step S21 is after the start time t[s31s] of the step S31.

従って、実施例2では、(i)工程S11の実行期間中、(ii)工程S21の実行期間中及びその後一定期間(t[s21e]からt[s12e]までの期間)継続して、ならびに(iii)工程31の実行期間中及びその後一定期間(t[s31e]からt[s12e]までの期間)継続して、温度設定工程S12を実行し、これにより温度Thを容器内温度上限以下に設定する。   Therefore, in the second embodiment, (i) during the execution period of step S11, (ii) during the execution period of step S21 and thereafter for a certain period (the period from t[s21e] to t[s12e]), and ( iii) The temperature setting step S12 is executed during the execution period of the process 31 and continuously for a certain period thereafter (the period from t[s31e] to t[s12e]), whereby the temperature Th is set to be equal to or lower than the upper limit temperature in the container. To do.

実施例2では、実施例1と同様、工程S11、S21をt[s21s]からt[s11e]の期間中同時に実行し、工程S21、S31をt[s31s]からt[s21e]までの期間中同時に実行するが、実施例1と異なり、工程S11、S21、S31のすべてを同時に実行することはない(特に工程S11、S31を同時に実行することはない)。とはいえ、このような各工程の実行方法は、実施例1と同様、原料固形物msと真水wsから塩素系殺菌剤Asを製造しながら、海水Woに注入するケースに適している。このケースでも、当該塩素系殺菌剤Asを一時的に貯蔵してもよいし、一時的に貯蔵することなく直接海水Woに注入してもよい。   In the second embodiment, similarly to the first embodiment, the steps S11 and S21 are simultaneously executed during the period from t[s21s] to t[s11e], and the steps S21 and S31 are performed during the period from t[s31s] to t[s21e]. Although executed at the same time, unlike the first embodiment, all of the steps S11, S21, S31 are not executed at the same time (particularly, the steps S11, S31 are not executed at the same time). However, the execution method of each step is suitable for the case where the chlorine-based bactericide As is produced from the raw material solid ms and the fresh water ws and injected into the seawater Wo as in the first embodiment. Also in this case, the chlorine-based germicide As may be temporarily stored, or may be directly injected into the seawater Wo without being temporarily stored.

(実施例3)
実施例3は、図7に示されているとおり、また実施例1と同様、準準備段階S0の終了後、温度設定工程S12→貯蔵工程S11→工程S21→工程S31の順で開始させ、貯蔵工程S11→工程S21→温度設定工程S12→工程S31の順に終了させる。また、工程S11の終了時点t[s11e]及び工程S21の終了時点t[s21e]は、いずれも工程S31の開始時点t[s31s]よりも後の時点とする。
(Example 3)
In Example 3, as shown in FIG. 7 and similarly to Example 1, after completion of the semi-preparation step S0, the temperature setting step S12->storage step S11->step S21->step S31 is started and stored in this order. The process S11→process S21→temperature setting process S12→process S31 are ended in this order. Further, the end time point t[s11e] of step S11 and the end time point t[s21e] of step S21 are both times after the start time point t[s31s] of step S31.

従って、実施例3では、(i)工程S11の実行期間中、ならびに(ii)工程S21の実行期間中及びその後一定期間(t[s21e]からt[s12e]までの期間)継続して、温度設定工程S12を実行し、これにより温度Thを容器内温度上限以下に設定する。   Therefore, in Example 3, (i) during the execution period of step S11, and (ii) during the execution period of step S21 and thereafter for a certain period (period from t[s21e] to t[s12e]), the temperature The setting step S12 is executed, and thereby the temperature Th is set to the container internal temperature upper limit or less.

実施例3では、実施例1と同様、工程S11、S21をt[s21s]からt[s11e]の期間中同時に実行するが、実施例1と異なり、工程S11、S21、S31のすべてを同時に実行することはない(特に工程S21、S31を同時に実行することはない)。このような各工程の実行方法は、原料固形物msと真水wsから塩素系殺菌剤Asを製造した後一時的に貯蔵し、その後貯槽されている当該塩素系殺菌剤Asを取り出して海水Woに注入するケースに適している。   In the third embodiment, similar to the first embodiment, the steps S11 and S21 are simultaneously executed during the period from t[s21s] to t[s11e], but unlike the first embodiment, all the steps S11, S21, and S31 are simultaneously executed. Nothing is done (in particular, steps S21 and S31 are not executed simultaneously). Such a method of performing each step is to temporarily store the chlorine-based germicide As produced from the raw solid matter ms and fresh water ws, and then take out the chlorine-based germicide As stored in the storage tank to seawater Wo. Suitable for injection cases.

(実施例4)
実施例4では、図8に示されているとおり、準備段階S0(特に工程S02)の終了前から温度設定工程S12を開始させ、引き続き、貯蔵工程S11→工程S21→工程S31の順で開始させる。また、温度設定工程S12開始後、貯蔵工程S11開始前に工程S02を終了させ、引き続き、貯蔵工程S11→工程S21→工程S31→温度設定工程S12の順に終了させる。工程S31の開始時点t[s31s]は工程S21の終了時点t[s21e]の後とする。
(Example 4)
In the fourth embodiment, as shown in FIG. 8, the temperature setting step S12 is started before the end of the preparation step S0 (particularly step S02), and subsequently, the storage step S11→step S21→step S31 is started in this order. .. After the start of the temperature setting step S12, the step S02 is ended before the start of the storage step S11, and then the storage step S11→step S21→step S31→temperature setting step S12 is ended in this order. The start time point t[s31s] of step S31 is assumed to be after the end time point t[s21e] of step S21.

従って、実施例4では、(i)工程S11の実行期間中、(ii)工程S21の実行期間中及びその後一定期間(t[s21e]からt[s12e]までの期間)継続して、ならびに(iii)工程31の実行期間中及びその後一定期間(t[s31e]からt[s12e]までの期間)継続して、温度設定工程S12を実行し、これにより温度Thを容器内温度上限以下に設定する。   Therefore, in the fourth embodiment, (i) during the execution period of step S11, (ii) during the execution period of step S21, and thereafter for a certain period (the period from t[s21e] to t[s12e]), and ( iii) The temperature setting step S12 is executed during the execution period of the process 31 and continuously for a certain period thereafter (the period from t[s31e] to t[s12e]), whereby the temperature Th is set to be equal to or lower than the upper limit temperature in the container. To do.

実施例4では、実施例3と同様、工程S11、S21をt[s21s]からt[s11e]の期間中同時に実行するが、工程S11、S21、S31のすべてを同時に実行することはない(特に工程S21、S31を同時に実行することはない)。このような各工程の実行方法は、実施例3と同様、原料固形物msと真水wsから塩素系殺菌剤Asを製造した後一時的に貯蔵し、その後貯槽されている当該塩素系殺菌剤Asを取り出して海水Woに注入するケースに適している。   In the fourth embodiment, as in the third embodiment, the steps S11 and S21 are simultaneously executed during the period from t[s21s] to t[s11e], but all the steps S11, S21, and S31 are not executed simultaneously (particularly, The steps S21 and S31 are not executed simultaneously). As in the case of the third embodiment, the method for performing each of these steps is to manufacture the chlorine-based germicide As from the raw solid matter ms and fresh water ws and then temporarily store the chlorine-based germicide As, and then store the chlorine-based germicide As in the tank. It is suitable for the case of taking out and injecting it into seawater Wo.

(実施例5)
実施例5は、実施例2に相当する海水処理を二回以上連続して実行するものと同じであり、図9に示されているとおり、一回目の温度設定工程S12をt[s12s]から t[s12e]までの期間実行後直ちに二回目の温度設定工程S12*をt[s12s]*から t[s12e]*までの期間実行し、三回目以降も同様に連続して実行するものである。この場合、t[s12e]とt[s12s]*ならびにt[s12e]*と三回目の温度設定工程S12#の開始時点t[s12s]#は、それぞれ、同じ時点となり、以降も同様となる。
(Example 5)
The fifth embodiment is the same as the one in which the seawater treatment corresponding to the second embodiment is continuously performed twice or more. As shown in FIG. 9, the first temperature setting step S12 is performed from t[s12s]. Immediately after the period up to t[s12e], the second temperature setting step S12* is performed during the period from t[s12s]* to t[s12e]*, and the third and subsequent times are similarly performed continuously. .. In this case, t[s12e] and t[s12s]* as well as t[s12e]* and the starting time t[s12s]# of the third temperature setting step S12# are the same, and so on.

なお、複数回の温度設定工程S12が連続する場合、隣接する温度設定工程S12の境界時点(たとえばt[s12e]とt[s12s]*、t[s12e]*とt[s12s]#)と二回目以降の準備工程S0*、S0#や二回目以降の貯蔵工程S11*、S11#との先後関係を厳密に設定する実益は希薄になる。そのような場合には、二回目の実施例2におけるt[s02e]*、t[s11s]*及びt[s12s]*ならびに三回目の実施例2におけるt[s02e]#、t[s11s]#及びt[s12s]#は同じ時点とみなしてよく、四回目以降も同様である。   In addition, when the temperature setting step S12 is performed a plurality of times in succession, it is possible to set a boundary point between adjacent temperature setting steps S12 (for example, t[s12e] and t[s12s]*, t[s12e]* and t[s12s]#) and a boundary point. The actual benefit of strictly setting the predecessor-successor relationship with the preparatory processes S0*, S0# after the second time and the storage processes S11*, S11# after the second time will be weak. In such a case, t[s02e]*, t[s11s]* and t[s12s]* in the second embodiment and t[s02e]#, t[s11s]# in the third embodiment. And t[s12s] # may be regarded as the same time point, and the same is true for the fourth time and thereafter.

実施例5では、第二段階S2、S2*、…のそれぞれの終了後一定期間Pa、Pa*、…継続して温度設定工程S12、S12*、…を実行し、第三段階S3、S3*、…のそれぞれの終了後一定期間Pb、Pb*、…を実行し、温度Thを容器内温度上限以下に設定する。   In the fifth embodiment, the temperature setting steps S12, S12*,... Are continuously executed for a certain period Pa after each of the second steps S2, S2*,. , Are executed for a certain period of time after the respective ends, and the temperature Th is set to be equal to or lower than the upper limit of the in-container temperature.

実施例5がバラスト水処理方法の実施例である場合、準備工程S0、S0*、S0#、…を考慮しないで簡明に説明すると、図9中のP1は、船舶VSLが第一の港において、船外から取水した海水WoをバラストタンクBTに向けて移送する過程で塩素系殺菌剤Asを用いて殺菌処理を実行する段階であり、P2は、船舶VSLが第一の港を出港し、第二の港に向かって航行し、第二の港に到着し、その後第二の港において、バラストタンクBTから船外に向けて流通する海水に還元剤を加えて、当該海水中に残存する、塩素系殺菌剤Asに起因する遊離有効塩素を還元し、当該海水を船外排水が許される水準に至るまで無害化する還元処理を実行し、引き続く二回目の殺菌処理に備える段階であり、P1*は、第二の港において、二回目の殺菌処理を実行する段階であり、P2*は、船舶VSLが第二の港を出港し、別の港(第一の港を含む)に向かって航行し、当該別の港に到着し、その後当該別の港において、バラストタンクBTから船外に向けて流通する海水に還元剤を加える上記の還元処理を実行し、引き続く二回目の殺菌処理に備える段階である(その後の段階の描写は、図9では省略されている)。   When Example 5 is an example of a ballast water treatment method, a brief description will be given without considering the preparation steps S0, S0*, S0#,..., P1 in FIG. In the process of transferring the seawater Wo taken from the outside toward the ballast tank BT, the sterilization process is performed using the chlorine-based sterilizer As, P2 is that the ship VSL leaves the first port, Sail toward the second port, arrive at the second port, and then add a reducing agent to the seawater flowing out of the ballast tank BT at the second port and remain in the seawater. , A step of reducing free effective chlorine caused by the chlorine-based sterilizer As, performing a reduction treatment to detoxify the seawater to a level where outboard drainage is allowed, and preparing for the subsequent second sterilization treatment, P1* is the stage where the second sterilization process is executed at the second port, and P2* is when the vessel VSL leaves the second port and heads to another port (including the first port). And then arrives at the other port, and then at the other port, the reducing treatment is executed by adding the reducing agent to the seawater flowing from the ballast tank BT to the outside of the vessel, and the subsequent second sterilization treatment is performed. (Preparing for the subsequent steps is omitted in FIG. 9).

なお、バラストタンクBTから船外に向けて流通する海水が、還元剤を加えるまでもなく、既に船外排水が許される水準にある場合には、上記の還元処理の実行は省略される。   If the seawater flowing from the ballast tank BT to the outside of the ship is already at a level at which outboard drainage is allowed without adding a reducing agent, the above reduction process is omitted.

(2)工程S22、S23、S24及びS32について
既述のとおり、本発明に係る水処理方法において、工程S22、S23、S24及びS32は必須の工程ではない。それ故、工程S22がない場合には、通常、t[s2s]とt[s21s]及びt[s2e]とt[s21e]はそれぞれ同じ時点になり、工程S32がない場合には、通常、t[s3s]とt[s31s]及びt[s3e]とt[s31e]はそれぞれ同じ時点になる。
(2) Steps S22, S23, S24 and S32 As described above, in the water treatment method according to the present invention, steps S22, S23, S24 and S32 are not essential steps. Therefore, when step S22 is not present, t[s2s] and t[s21s] and t[s2e] and t[s21e] are usually at the same time point, and when step S32 is not present, usually t [s3s] and t[s31s] and t[s3e] and t[s31e] are at the same time point.

他方、実施例1乃至4において工程S22、S23、S24及びS32がある場合には、次のように設定する。
(a) いずれの実施例においても、工程S22の開始時点t[s22s]を、工程S21の開始時点t[s21s]以前とし、好ましくは、t[s22s]をt[s21s]より前の時点とする。
(b) いずれの実施例においても、好ましくは、工程S32の開始時点t[s32s]を、工程S31の開始時点t[s31s]以前とし、より好ましくは、t[s32s]をt[s31s]より前の時点とする。ただし、第二段階S2において製造される塩素系殺菌剤Asと第三段階S3において海水Woに注入される塩素系殺菌剤Asが同じ場所に存在する又は、異なる場所ではなるが、一方から他方への熱伝導が起こるにように構成されている場合には、工程S24、S32を単一の工程とみなすことができるケースもある。そのようなケースでは、工程S24と工程S32を区別する実益は余りなく、t[s32s]を工程S24の開始時点t[s24s]とみなすことができる。
(c) 工程S22、S23、S24の終了時点t[s22e]、t[s23e]、t[s24e]は、いずれも、好ましくは、工程S21の終了時点t[s21e]以後の時点とする。t[s22e]、t[s23e]、t[s24e]は、いずれか二つ又はすべてが同じ時点であってもよく、すべて異なる時点であってもよい。
(d) 工程S32の終了時点t[s32e]は、好ましくは、工程S31の終了時点t[s31e]以後の時点とする。
On the other hand, when the processes S22, S23, S24, and S32 are performed in the first to fourth embodiments, the following settings are made.
(A) In any of the examples, the start time point t[s22s] of step S22 is set to before the start time point t[s21s] of step S21, and preferably t[s22s] is set to a time point before t[s21s]. To do.
(B) In any of the examples, preferably, the start time t[s32s] of step S32 is before the start time t[s31s] of step S31, and more preferably t[s32s] is greater than t[s31s]. The previous time. However, the chlorine-based germicide As produced in the second step S2 and the chlorine-based germicide As injected into the seawater Wo in the third step S3 are present at the same location or at different locations, but from one to the other. In some cases, the steps S24 and S32 can be regarded as a single step if the heat conduction of the above is performed. In such a case, there is little actual benefit of distinguishing the process S24 from the process S32, and t[s32s] can be regarded as the start time t[s24s] of the process S24.
(C) The end times t[s22e], t[s23e], and t[s24e] of steps S22, S23, and S24 are all preferably after the end time t[s21e] of step S21. Any two or all of t[s22e], t[s23e], and t[s24e] may be at the same time point, or may be at different time points.
(D) The end time t[s32e] of the step S32 is preferably a time point after the end time t[s31e] of the step S31.

4)残留物の取扱い
(1) t[s11e]の時点で、容器H内から取り出されることなく残留した原料固形物msを放置すると、原料固形物msの自己分解を契機として発生する塩素ガスが船内作業環境に悪影響を及ぼす。特に、そのようにして発生した塩素ガスが容器H内の水分と混ざると、強い腐食性を呈し、刺激臭の原因となる。それ故、(i)t[s11e]の時点で、容器H内に原料固形物msが残留することなく、塩素系殺菌剤Asの製造のために使い尽くされているように、原料固形物msの容器H内への装入を厳格に管理し、上記の問題の発生を未然に防止する、(ii)t[s11e]の時点で、容器H内に原料固形物msが残留してしまった場合又はそのような事態に備えて、工程S12は継続し、必要に応じて、容器H内の除湿を行い、(iii)t[s11e]の時点又はその後早期に、容器H内に残留した原料固形物msを貯蔵用のコンテナ容器に移して保管する、混合物Cs又は塩素系殺菌剤Asの製造に使い切った後、当該混合物Cs又は塩素系殺菌剤Asを別途用意したタンクに移して隔離する、そのタンク内で薬剤を加えて無害化するなどの処置を講じる、ことが望ましい。
4) Handling of residue (1) At t[s11e], if the remaining raw material solid ms is left without being taken out of the container H, chlorine gas generated by self-decomposition of the raw material solid ms is generated. It adversely affects the working environment on board. In particular, when the chlorine gas thus generated mixes with the water content in the container H, it exhibits strong corrosiveness and causes an irritating odor. Therefore, at the time of (i) t[s11e], the raw material solid matter ms does not remain in the container H and is exhausted for the production of the chlorine-based sterilizer As, so that the raw material solid matter ms is consumed. Strictly control the charging of the container H into the container H to prevent the above problems from occurring. (ii) At the time of t[s11e], the raw material solid ms remains in the container H. In the case or in preparation for such a situation, step S12 is continued, and if necessary, dehumidification in the container H is performed, and (iii) at time t[s11e] or early thereafter, the raw material remaining in the container H The solid matter ms is transferred to a container container for storage and stored, after being used up in the production of the mixture Cs or the chlorine-based germicide As, the mixture Cs or the chlorine-based germicide As is transferred to a separately prepared tank and isolated, It is desirable to take measures such as adding chemicals to render the tank harmless.

(2) t[s23e]の時点で、塩素系殺菌剤Asの製造に供されずに残留した混合物Csを放置すると、水wsの蒸発により混合物Csが固化する現象が起こる。この現象は、混合物Csが残留している配管の閉塞、圧損増加その他の流通障害、配管に取り付けてバルブ、ポンプ等の付属物の機能不全などの不具合の原因となり、次の、別の第二段階S2の実行の阻害要因となるおそれがある。また、混合物Cs中に残留する未溶解の原料固形物msの自己分解を契機として発生する塩素ガスが船内作業環境に悪影響を及ぼす可能性もある。そのような事態が懸念される場合には、t[s23e]の時点で又はその後早期に、残留した混合物Csを別途用意したタンクに移して隔離する、そのタンク内で薬剤を加えて無害化するなどの処置を講じる、ことが望ましい。   (2) At time t[s23e], if the residual mixture Cs that has not been used for the production of the chlorine-based bactericide As is left to stand, a phenomenon occurs in which the mixture Cs solidifies due to evaporation of water ws. This phenomenon causes problems such as blockage of the pipe in which the mixture Cs remains, increase in pressure loss and other flow disturbances, malfunction of accessories such as valves and pumps attached to the pipe, and the following, second There is a possibility that it may be a factor that hinders the execution of step S2. In addition, chlorine gas generated by self-decomposition of the undissolved raw material solid ms remaining in the mixture Cs may adversely affect the working environment on board. If such a situation is concerned, at time t[s23e] or early thereafter, the residual mixture Cs is transferred to a separate tank for isolation, and a chemical is added in the tank to render it harmless. It is desirable to take measures such as.

(3) t[s24e]の時点又はt[s3e]の時点で、海水Woに注入されずに、つまり殺菌剤として未使用のままで残留した塩素系殺菌剤Asを放置すると、溶媒である水の蒸発により溶質が濃化し、塩素化イソシアヌル酸化合物の成分が析出し、堆積し、固化する現象が起こる。当該水溶液Asの水温が低下し、塩素化イソシアヌル酸化合物の水に対する溶解度が低下すると、その低下した水温の下では溶解しきれなかった塩素化イソシアヌル酸化合物の成分が析出し、堆積し、固化する現象が起こる場合もある。これらの現象は、配管の閉塞、圧損増加その他の流通障害、配管に取り付けられているバルブ、ポンプ等の付属物の機能不全などの不具合の原因となり、次の、別の第三段階S3の実行の阻害要因となるおそれがある。そのような事態が懸念される場合には、t[s24e]の時点もしくはt[s3e]の時点で又はその後早期に、未使用のままで残留した塩素系殺菌剤Asを別途用意したタンクに移して隔離する、そのタンク内で薬剤を加えて無害化するなどの処置を講じる、ことが望ましい。   (3) At time t[s24e] or time t[s3e], if chlorine-based disinfectant As, which has not been injected into seawater Wo and remains unused as a disinfectant, is left as it is, the solvent water Due to the evaporation of the solute, the solute is concentrated, and the component of the chlorinated isocyanuric acid compound is deposited, deposited, and solidified. When the water temperature of the aqueous solution As decreases and the solubility of the chlorinated isocyanuric acid compound in water decreases, the components of the chlorinated isocyanuric acid compound that could not be completely dissolved under the decreased water temperature are precipitated, deposited, and solidified. Sometimes the phenomenon occurs. These phenomena cause troubles such as blockage of pipes, increase in pressure loss and other distribution obstacles, malfunction of accessories such as valves and pumps attached to pipes, and execution of the following third stage S3. May become a factor that hinders If such a situation is a concern, at the time of t[s24e] or t[s3e] or at an early stage, transfer the unused chlorine-based germicide As to a separately prepared tank. Therefore, it is desirable to take measures such as isolation by adding chemicals in the tank to render it harmless.

<補 遺>
(1) 本発明に係る水処理方法における温度の設定又は制御は、常時実行される必要はない。たとえば、一時的貯蔵用容器内の温度を容器内温度上限以下にする設定又は制御は、一時的貯蔵用容器内の温度が容器内温度上限以下であるときは、行う必要はない。同様に、一時的貯蔵用容器内の温度を容器内温度下限以上にする設定又は制御は、一時的貯蔵用容器内の温度が容器内温度下限以上であるときは、行う必要はない。また、第4の形態及び第16の形態は、いずれも、真水の温度を摂氏5度以上に設定することを必須の構成としているが、真水の温度が摂氏5度以上であるときは、その設定を行う必要はない。第5の形態及び第17の形態は、いずれも、原料固形物を真水と混合する温度を摂氏5度以上に設定することを必須の構成としているが、原料固形物を真水と混合する温度が摂氏5度以上であるときは、その設定を行う必要はない。第18の形態は、溶解製造部のタンク内の温度を摂氏5度以上に設定することを必須の構成としているが、溶解製造部のタンク内の温度が摂氏5度以上であるときは、その設定を行う必要はない。第19の形態は、固液分離装置が排出する塩素系殺菌剤の温度又は固液分離装置内の温度が摂氏5度以上になるように、真水の温度を設定することを必須の構成としているが、その温度が摂氏5度以上であるときは、その設定を行う必要はない。
<Addendum>
(1) The temperature setting or control in the water treatment method according to the present invention does not have to be constantly executed. For example, setting or control of making the temperature in the temporary storage container equal to or lower than the upper temperature limit in the container does not need to be performed when the temperature in the temporary storage container is equal to or lower than the upper temperature limit in the container. Similarly, it is not necessary to set or control the temperature in the temporary storage container to be equal to or higher than the lower temperature limit in the container when the temperature in the temporary storage container is equal to or higher than the lower temperature limit in the container. Further, in both the fourth and sixteenth embodiments, it is essential to set the temperature of fresh water to 5 degrees Celsius or higher, but when the temperature of fresh water is 5 degrees Celsius or higher, No settings are required. In both the fifth and seventeenth embodiments, it is essential to set the temperature at which the raw material solid is mixed with fresh water to 5 degrees Celsius or higher, but the temperature at which the raw material solid is mixed with fresh water is When the temperature is 5 degrees Celsius or higher, it is not necessary to set it. In the eighteenth aspect, it is indispensable to set the temperature in the tank of the melting and manufacturing department to 5 degrees Celsius or higher, but when the temperature in the tank of the melting and manufacturing department is 5 degrees Celsius or higher, No settings are required. The nineteenth form has an essential configuration in which the temperature of the fresh water is set so that the temperature of the chlorine-based bactericide discharged by the solid-liquid separator or the temperature inside the solid-liquid separator becomes 5 degrees Celsius or higher. However, when the temperature is 5 degrees Celsius or higher, it is not necessary to set the temperature.

(2) 「摂氏5度」は、第4、第5ならびに第16乃至第19の各形態における温度の数値限定の臨界値になっている。この臨界値は、図44に基づき説明したとおり、海水殺菌処理に用いる塩素系殺菌剤の製造時間として船内作業者が甘受できる時間は30分であるとの仮定に基づき、定められている。しかし、海水殺菌処理に用いる塩素系殺菌剤の製造時間として船内作業者が甘受できる時間は、状況によって変わる。それ故、たとえば、船内作業者が甘受できる時間が15分であれば、当該臨界値は「摂氏10度」が相応しく、それが60分であれば、当該臨界値は「摂氏3度」が相応しい。   (2) "5 degrees Celsius" is a numerically limited critical value of temperature in each of the fourth, fifth, and sixteenth to nineteenth modes. As described with reference to FIG. 44, this critical value is determined based on the assumption that the time required for the onboard worker to accept is 30 minutes as the production time of the chlorine-based bactericide used for seawater sterilization. However, the time that a ship operator can accept as the production time of a chlorine-based bactericide used for seawater sterilization varies depending on the situation. Therefore, for example, if the time that the inboard worker can accept is 15 minutes, the critical value is “10 degrees Celsius”, and if it is 60 minutes, the critical value is “3 degrees Celsius”. ..

<< 水処理装置の実施形態 >>
図10乃至図26に基づき本発明に係る水処理装置の実施形態1について説明し、図27乃至図38に基づきその実施形態2について説明し、図39乃至図41に基づきその実施形態3について説明する。
<<Embodiment of water treatment device>>
A first embodiment of a water treatment apparatus according to the present invention will be described based on FIGS. 10 to 26, a second embodiment thereof will be described based on FIGS. 27 to 38, and a third embodiment thereof will be described based on FIGS. 39 to 41. To do.

図10ならびに図20乃至図33では、(i)ホッパーは正面図で描かれており、(ii)いずれのバルブも、水処理装置の動作に応じて開閉動作を行うものであるが、開状態で描かれている。図面の複雑化を避けるため、図39及至図41では、バルブ(逆止弁Vcmは除く)の描写は省略されており、いずれの図においても、計測機器(流量計、TRO計測装置、温度計及び液位計を含む)の描写は省略されている。   In FIGS. 10 and 20 to 33, (i) the hopper is depicted in a front view, and (ii) both valves open and close according to the operation of the water treatment device, but are in an open state. It is drawn with. 39 to 41, the valves (excluding the check valve Vcm) are not shown in order to avoid complication of the drawings, and the measuring devices (flowmeter, TRO measuring device, thermometer) are not shown in any of the drawings. And a liquid level gauge) are omitted.

<実施形態1>
1)基本構成
図10は、本発明を適用する前の、水処理装置D1の基本構成の説明図である。この水処理装置D1は、図10に示されているとおり、原料固形物msと真水wsとの混合により塩素系殺菌剤Asを製造するための溶液製造部S[pr]と、混合攪拌槽Ts内に原料固形物msを供給するためのホッパー部S[hp]と、混合攪拌槽Ts内に真水wsを供給するための水供給部S[ws]と、原料固形物msが真水wsに溶解することにより製造される塩素系殺菌剤Asを、船外から導入され、バラスト水取水用配管経路Lfを流通する水Woに注入するための殺菌剤注入部S[is]とを備えている。ホッパー部S[hp]は、図示されていない支持機構により位置決めされている。
<Embodiment 1>
1) Basic configuration FIG. 10 is an explanatory diagram of the basic configuration of the water treatment device D1 before applying the present invention. As shown in FIG. 10, this water treatment device D1 includes a solution production section S[pr] for producing a chlorine-based bactericide As by mixing raw material solids ms and fresh water ws, and a mixing stirring tank Ts. The hopper S[hp] for supplying the raw solids ms into the water, the water supply S[ws] for supplying the fresh water ws into the mixing and stirring tank Ts, and the raw solid ms dissolved in the fresh water ws The chlorine-based bactericide As produced by the above is provided with a bactericide injection section S[is] for introducing the chlorine-based bactericidal agent As from outside the vessel into the water Wo flowing through the ballast water intake pipe line Lf. The hopper section S[hp] is positioned by a support mechanism (not shown).

1.1)溶解製造部S[pr]
溶液製造部S[pr]は、原料固形物msを真水wsに混合させる(つまり、原料固形物msと真水wsの混合物Csを製造する)混合部S[mx]と、混合物Csを攪拌することにより原料固形物msを真水wsに溶解させる(つまり、混合物Csから塩素系殺菌剤Asを製造する)溶解促進部S[st]とから構成されている。尤も、原料固形物msと真水wsの混合及び両者の混合物Csの攪拌は、溶液製造部S[pr]が具備する混合攪拌槽Ts内で行われるので、混合部S[mx]と溶解促進部S[st]との境界は曖昧であり、両者を明確に区別することは難しい。
1.1) Dissolution Manufacturing Department S[pr]
The solution production unit S[pr] mixes the raw material solids ms with the fresh water ws (that is, produces the mixture Cs of the raw material solids ms and the fresh water ws) and the mixture Cs with stirring. The raw material solid matter ms is dissolved in fresh water ws (that is, the chlorine-based bactericide As is produced from the mixture Cs) and a dissolution promoting unit S[st]. However, since the mixing of the raw material solid ms and the fresh water ws and the stirring of the mixture Cs of both are performed in the mixing stirring tank Ts included in the solution manufacturing section S[pr], the mixing section S[mx] and the dissolution promoting section are included. The boundary with S[st] is ambiguous, and it is difficult to clearly distinguish the two.

溶液製造部S[pr]は、混合攪拌槽Tsのほか、ホッパー部S[hp]から供給される原料固形物ms(又はms*)を混合攪拌槽Ts内に供給するための原料供給路Cmsの吐出開口部と、水供給部S[ws]から供給される真水wsを混合攪拌槽Ts内に供給するための給水導管Cwsの吐出開口部と、混合攪拌槽Ts内で混合物Csを攪拌するための攪拌手段と、混合物Csの上方の空間から混合攪拌槽Ts外への気体Gvの排出を行うための排気手段と、混合攪拌槽Tsの槽内の露出を防止するための上蓋Ts1とを備えている。   In addition to the mixing and stirring tank Ts, the solution manufacturing unit S[pr] has a raw material supply path Cms for supplying the raw material solids ms (or ms*) supplied from the hopper S[hp] into the mixing and stirring tank Ts. And a discharge opening of a water supply conduit Cws for supplying the fresh water ws supplied from the water supply section S[ws] into the mixing and stirring tank Ts, and the mixture Cs is stirred in the mixing and stirring tank Ts. A stirring means for, an exhaust means for discharging the gas Gv from the space above the mixture Cs to the outside of the mixing stirring tank Ts, and an upper lid Ts1 for preventing the exposure of the inside of the mixing stirring tank Ts. I have it.

攪拌手段は、インペラIpと、インペラIpが取り付けられた回転軸Axiと、回転軸Axiを回転させる駆動モータMtiとを備えている。   The stirring means includes an impeller Ip, a rotary shaft Axi to which the impeller Ip is attached, and a drive motor Mti that rotates the rotary shaft Axi.

排気手段は、混合物Csの上方の空間と混合攪拌槽Ts外とを連通させ、その空間からの気体Gvの移動を可能にする排気用配管Cvを伴う排気装置(図示されていない)を具備しており、気体Gvの無害化するための無害化処理装置(図示されていない)を具備していてもよい。   The exhaust means is provided with an exhaust device (not shown) with an exhaust pipe Cv for communicating the space above the mixture Cs with the outside of the mixing stirring tank Ts and enabling the movement of the gas Gv from the space. However, a detoxification treatment device (not shown) for detoxifying the gas Gv may be provided.

混合攪拌槽Tsの下部Rbpは漏斗状をなしており、混合攪拌槽Tsに収容されている内容物(混合物Csや塩素系殺菌剤As)が重力により下降したとき、漏斗状の下部Rbpに集まり、最下部にある排出口Dbpに向かって流れ込むように構成されている。   The lower Rbp of the mixing and stirring tank Ts has a funnel shape, and when the contents (mixture Cs and chlorine-based bactericide As) contained in the mixing and stirring tank Ts descend due to gravity, they gather in the lower funnel-shaped Rbp. , It is configured to flow toward the outlet Dbp at the bottom.

1.2)ホッパー部S[hp]
図11は、ホッパー部S[hp]の基本構造の説明図であり、図11(a)はその正面図、図11(b)はその側面図である。図11(b)の側面図に描かれているz−zに沿って紙面右側から左側の方向に眺めたものが、図11(a)の正面図に概ね相当する。
1.2) Hopper S (hp)
11A and 11B are explanatory views of the basic structure of the hopper unit S[hp]. FIG. 11A is its front view and FIG. 11B is its side view. A view from the right side to the left side of the drawing along z-z drawn in the side view of FIG. 11B roughly corresponds to the front view of FIG. 11A.

1.2.1) ホッパー部S[hp]は、図11に示されているとおり、原料固形物msを収容するためのホッパーHと、ホッパーHの下部に配置する原料供給機(フィーダー)Fdrと、原料供給機Fdrの下部に配置する原料供給路Cmsを備えている。ホッパーHは、原料固形物msを収容するための貯蔵部(図示されていない)と、貯蔵部に原料固形物msを装入するための原料補給口Crfを備えるとともに、その下部が、原料供給機Fdrの一部を構成する計量機構Mvfに接続されている。貯蔵部は、ホッパーH内に存在する、原料固形物msを収容する容器として機能する部分である。   1.2.1) As shown in FIG. 11, the hopper unit S[hp] includes a hopper H for containing the raw material solid matter ms and a raw material feeder (feeder) Fdr arranged below the hopper H. And a raw material supply channel Cms arranged below the raw material supply device Fdr. The hopper H is provided with a storage unit (not shown) for storing the raw material solids ms and a raw material supply port Crf for charging the raw material solids ms into the storage unit, and a lower portion of the hopper H supplies the raw material. It is connected to the weighing mechanism Mvf that forms part of the machine Fdr. The storage part is a part existing in the hopper H and functioning as a container for containing the raw material solid matter ms.

原料補給口Crfの端部開口部には、普段は蓋が取り付けられており、ホッパーHの貯蔵部に原料固形物msを装入又は補給する際には、蓋が取り外され、補給用管(図示されていない)が取り付けられる。補給用管は、ホッパーHの上方に配置している原料固形物msの保管室から延伸する管状体であってよく、その場合、作業者は、原料固形物msを保管室から補給用管及び原料補給口Crfを通じて、ホッパーHの貯蔵部に装入又は補給することができる。また、補給用管は、伸縮自在な蛇腹部を有する連結パイプであってもよい。   A lid is usually attached to the end opening of the raw material supply port Crf.When the raw material solid ms is charged or replenished in the storage section of the hopper H, the lid is removed and the supply pipe ( (Not shown). The replenishment pipe may be a tubular body extending from the storage chamber of the raw material solid ms arranged above the hopper H, in which case, the worker supplies the raw material solid ms from the storage chamber to the replenishment pipe and Through the raw material supply port Crf, it is possible to charge or supply to the storage part of the hopper H. Further, the supply pipe may be a connection pipe having a stretchable bellows portion.

原料供給機Fdrは、ホッパーHの貯蔵部から移動してきた原料固形物msを少量又は所定量に小分けにし、小分けにされた原料固形物ms*が原料供給路Cmsへ移送するように構成されている。   The raw material feeder Fdr is configured to subdivide the raw material solids ms moved from the storage section of the hopper H into a small amount or a predetermined amount, and transfer the subdivided raw material solids ms* to the raw material supply path Cms. There is.

原料供給路Cmsは、原料供給機Fdrから移動してきた原料固形物ms*を、下端の吐出開口部から混合攪拌槽Ts内へ供給する。   The raw material supply path Cms supplies the raw material solid matter ms* moved from the raw material feeder Fdr into the mixing stirring tank Ts through the discharge opening at the lower end.

総じて、原料固形物msは、原料補給口CrfからホッパーH内に装入又は補給され、ホッパーHの貯蔵部に収容され、その貯蔵部の下部から原料供給機Fdrに移動し、原料供給機Fdrで小分けにされ、小分けにされた原料固形物ms*として原料供給路Cmsに移動し、原料供給路Cmsを通じて混合攪拌槽Ts内に装入される。   In general, the raw material solid ms is charged or replenished into the hopper H from the raw material replenishing port Crf, is stored in the storage part of the hopper H, moves from the lower part of the storage part to the raw material supply device Fdr, and the raw material supply device Fdr. The raw material solid matter ms* is divided into small pieces, and the raw material solid matter ms* is moved to the raw material supply passage Cms and charged into the mixing and stirring tank Ts through the raw material supply passage Cms.

1.2.2) 図12は、原料供給機Fdrの説明図であり、図12(a)に示されている一点鎖線の楕円内にある原料供給機Fdrの主要部の部分断面図が図12(b)である。   1.2.2) FIG. 12 is an explanatory view of the raw material feeder Fdr, and a partial cross-sectional view of the main part of the raw material feeder Fdr within the ellipse of the alternate long and short dash line shown in FIG. 12(b).

(1) 原料供給機Fdrは、ホッパーHの貯蔵部から移動してきた原料固形物msを少量又は所定量に小分けにするための計量機構Mvfと、計量機構Mvfを駆動する駆動部Ss[mga]を備えており、計量機構Mvfにより小分けにされた原料固形物ms*が原料供給路Cmsへ移動するように構成されている。   (1) The raw material feeder Fdr has a measuring mechanism Mvf for dividing the raw material solid matter ms moved from the storage section of the hopper H into a small amount or a predetermined amount, and a driving unit Ss[mga] for driving the measuring mechanism Mvf. The raw material solid matter ms* subdivided by the measuring mechanism Mvf is moved to the raw material supply path Cms.

計量機構Mvfは、図12(b)に示されているとおり、筐体上部Ym1、筐体下部Ym2及び筐体側部Ym3を備える筐体Ymvf内に、ホッパーHの貯蔵部から下降してきた原料固形物msを通過させる受入口Dinと、水平の主面Btを有する台座と、台座の主面Bt上で回転する回転テーブルRtfと、回転テーブルRtfとともに回転する回転軸Axfと、小分けにされた原料固形物ms*を原料供給路Cmsへ移動させる排出口Doutとを備えている。なお、図12(b)中、符号Haは、ホッパーHの貯蔵部の底部を受入口Dinに向かって漏斗状に形成する傾斜面である。   As shown in FIG. 12( b ), the weighing mechanism Mvf is a raw material solid that has descended from the storage section of the hopper H into a housing Ymvf including a housing upper portion Ym1, a housing lower portion Ym2, and a housing side portion Ym3. Inlet Din for passing the object ms, a pedestal having a horizontal main surface Bt, a rotary table Rtf that rotates on the main surface Bt of the pedestal, a rotary shaft Axf that rotates with the rotary table Rtf, and the raw material that has been subdivided A discharge port Dout for moving the solid matter ms* to the raw material supply path Cms is provided. In addition, in FIG. 12B, reference numeral Ha is an inclined surface that forms the bottom of the storage portion of the hopper H in a funnel shape toward the receiving port Din.

回転テーブルRtfは、上下の厚さ方向に貫通する孔Opを少なくとも一つ備えている。孔Opは、複数個の孔の群であってもよい。受入口Dinは、ホッパーH内と筐体Ymvf内を連通させる、筐体上部Ym1に形成された貫通孔であり、従って回転テーブルRtfの上側に配置している。排出口Doutは、筐体Ymvf内と原料供給路Cmsを連通させる、筐体下部Ym2に形成された貫通孔であり、従って回転テーブルRtfの下側に配置している。回転軸Axfは、筐体下部Ym2を貫通する回転軸であり、後述のとおり、駆動部Ss[mga]の一部でもある。   The turntable Rtf has at least one hole Op that penetrates in the thickness direction above and below. The hole Op may be a group of a plurality of holes. The receiving port Din is a through hole formed in the housing upper part Ym1 for communicating the inside of the hopper H and the inside of the housing Ymvf, and is therefore arranged above the turntable Rtf. The discharge port Dout is a through hole formed in the lower part Ym2 of the casing for communicating the inside of the casing Ymvf with the raw material supply passage Cms, and is therefore arranged below the rotary table Rtf. The rotation axis Axf is a rotation axis that penetrates the lower portion Ym2 of the housing and is also a part of the drive unit Ss[mga] as described later.

(2) 図13は、計量機構Mvfの原理説明図である。回転テーブルRtfが具備する孔(又は個々の孔)Opは、排出口Doutの位置にあるときを除き、その内壁面が台座の主面Btとともに凹部Uを形成し(図13(a)参照)、排出口Doutの位置にあるときは、凹部Uを形成せずに排出口Doutに連通する(図13(b)参照)。そのため、凹部Uは、受入口Dinから下降してきた原料固形物msの一定量(原料供給物ms*)を収容することができ、回転テーブルRtfの回転に伴い排出口Doutまで移動させることができ、一定量の原稿固形物ms*を排出口Doutへ排出し、原料供給路Cmsへ移動させることができる(図12(b)参照)。   (2) FIG. 13 is an explanatory diagram of the principle of the measuring mechanism Mvf. The holes (or individual holes) Op provided in the rotary table Rtf form a recess U in the inner wall surface together with the main surface Bt of the pedestal except when it is at the position of the discharge port Dout (see FIG. 13A). At the position of the discharge port Dout, the recess U is not formed to communicate with the discharge port Dout (see FIG. 13B). Therefore, the recess U can accommodate a fixed amount of the raw material solid ms (raw material supply ms*) that has descended from the receiving port Din, and can be moved to the discharge port Dout as the rotary table Rtf rotates. , A fixed amount of original solid matter ms* can be discharged to the discharge port Dout and moved to the raw material supply path Cms (see FIG. 12B).

図14は、計量機構Mvfの主要部品の説明図であり、図14(a)は回転テーブルRtfの平面図であり、図14(b)は台座の主面Btの平面図である。図14(a)に示されている回転テーブルRtfは、その周方向(回転方向)に沿って四半周(90度)ごとに配列している合計四つの孔Op1、Op2、Op3、Op4を具備している。当該四つの孔のそれぞれは、略扇形をしているが、孔Opの数、形状、大きさ、位置、配列等は、図14(a)に示されているものに限定されない。たとえば、四つの孔Op1、Op2、Op3、Op4のうち少なくとも一つは孔の群であってもよい。   14A and 14B are explanatory views of main parts of the weighing mechanism Mvf, FIG. 14A is a plan view of the rotary table Rtf, and FIG. 14B is a plan view of the main surface Bt of the pedestal. The rotary table Rtf shown in FIG. 14(a) includes a total of four holes Op1, Op2, Op3, Op4 arranged every quarter circle (90 degrees) along the circumferential direction (rotational direction). is doing. Each of the four holes has a substantially fan shape, but the number, shape, size, position, arrangement, etc. of the holes Op are not limited to those shown in FIG. For example, at least one of the four holes Op1, Op2, Op3, Op4 may be a group of holes.

受入口Din及び排出口Doutは、互いに、回転テーブルRtfの回転軸周りに180度ずれた位置に配置している(図14(b)参照)。そのため、孔Op1、Op2、Op3、Op4は、それぞれ、排出口Doutの位置にあるときを除き、その内壁面が台座の主面Btとともに、上側に開口する凹部U1、U2、U3、U4を形成し、排出口Doutの位置にあるときは、排出口Doutに連通する。   The inlet Din and the outlet Dout are arranged at positions displaced by 180 degrees around the rotation axis of the rotary table Rtf (see FIG. 14B). Therefore, the holes Op1, Op2, Op3, and Op4, respectively, except when the holes Op1, Op2, Op3, and Op4 are located at the position of the discharge port Dout, form the recesses U1, U2, U3, and U4 that open upward together with the main surface Bt of the base. When it is at the position of the discharge port Dout, it communicates with the discharge port Dout.

孔Op1が受入口Dinの直下の位置にあるとき、受入口Dinから下降してくる原料固形物msのうちの一定量の原料固形物ms*を、凹部U1に収容させる。次に回転テーブルRtfを回転させ、凹部U1を移動させ、それに伴い当該一定量の原料固形物ms*を移動させる。回転テーブルRtfを受入口Dinの位置から180度回転させ、孔Op1 を排出口Doutの位置に到達させる。これにより、孔Op1が排出口Doutに連通するので、凹部U1に収容されている当該一定量の原料固形物ms*を排出口Doutへ下降させ、原料供給路Cmsへ移動させることができる。   When the hole Op1 is located directly below the receiving port Din, a certain amount of the raw material solids ms* falling from the receiving port Din is accommodated in the recess U1. Next, the rotary table Rtf is rotated to move the concave portion U1, and accordingly, the fixed amount of the raw material solid matter ms* is moved. The rotary table Rtf is rotated 180 degrees from the position of the receiving port Din so that the hole Op1 reaches the position of the discharging port Dout. As a result, the hole Op1 communicates with the discharge port Dout, so that the certain amount of the raw material solid matter ms* accommodated in the recess U1 can be lowered to the discharge port Dout and moved to the raw material supply path Cms.

凹部U1に収容させた後は、回転テーブルRtfを90度回転させるたびに、凹部U2、凹部U3、凹部U4、凹部U1、…をその順に、受入口Dinの直下に位置させることができ、受入口Dinから下降してくる原料固形物msのうちの一定量の原料固形物ms*を、凹部U2、凹部U3、凹部U4、凹部U1、…の順に収容させることができる。凹部U1から排出口Doutを通じて原料供給路Cmsへ移動させた後は、回転テーブルRtfを90度回転させるたびに、Op2、Op3、Op4、Op1、…をその順に排出口Doutに連通させること、従って、凹部U2、凹部U3、凹部U4、凹部U1、…のそれぞれが収容している一定量の原料固形物Ms*を排出口Doutへ下降させ、原料供給路Cmsへ移動させることができる。   After being housed in the recess U1, each time the rotary table Rtf is rotated 90 degrees, the recess U2, the recess U3, the recess U4, the recess U1,... Can be located in that order directly below the receiving port Din. A fixed amount of raw material solid matter ms* of the raw material solid matter ms descending from the inlet Din can be accommodated in the order of the concave portion U2, the concave portion U3, the concave portion U4, the concave portion U1,. After moving from the recess U1 to the raw material supply path Cms through the discharge port Dout, every time the rotary table Rtf is rotated by 90 degrees, Op2, Op3, Op4, Op1,... Are connected to the discharge port Dout in that order. , A fixed amount of the raw material solids Ms* accommodated in each of the recessed portion U2, the recessed portion U3, the recessed portion U4, the recessed portion U1,... Can be lowered to the discharge port Dout and moved to the raw material supply passage Cms.

総じて、この計量機構Mvfによれば、ホッパーHの貯蔵部から移動してくる原料化合物msを定量又は少量に小分けにし、小分けにされた原料化合物ms*を複数回に分けて原料供給路Cmsへ移動させることができる。   Generally, according to this measuring mechanism Mvf, the raw material compound ms moving from the storage part of the hopper H is quantified or subdivided into a small amount, and the subdivided raw material compound ms* is divided into a plurality of times and fed to the raw material supply path Cms. Can be moved.

なお、計量機構Mvfは、受入口Dinを必要時に封じる蓋を備えていてもよく、排出口Doutを必要時に封じる蓋を備えていてもよい(いずれの蓋も 図示はされていない)。   The measuring mechanism Mvf may be provided with a lid for closing the receiving port Din when necessary, or may be provided with a lid for closing the discharge port Dout when needed (none of the lids is shown).

計量機構Mvfは、図12(b)に示されているように、受入口Dinに移動してきた原料固形物msを粉砕し、粒度を調節する上下一対のブレードBru、Brdを備えていてもよい。下側ブレードBrdは筐体側部Ym3に固定されており、上側ブレードBruは回転軸Axfとともに回転するので、想定外に大きな粒径の原料固形物msは、上下のブレードBru、Brd間に挟まれたときに受けるせん断力により粉砕され、小粒化される。ただし、想定外に大きな粒径の原料固形物msがホッパーH内に存在することを懸念する配する必要がない場合には、ブレードBru、Brdにより構成されるような粒度調整機構は不要である。   As shown in FIG. 12B, the measuring mechanism Mvf may be provided with a pair of upper and lower blades Bru and Brd for crushing the raw material solid matter ms moving to the receiving port Din and adjusting the particle size. . The lower blade Brd is fixed to the housing side part Ym3, and the upper blade Bru rotates together with the rotation axis Axf, so the raw material solid ms having an unexpectedly large particle size is sandwiched between the upper and lower blades Bru and Brd. It is crushed by the shearing force that it receives when it breaks into small particles. However, if it is not necessary to place a fear that there is an unexpectedly large raw material solid ms having a particle size in the hopper H, a particle size adjusting mechanism such as the blades Bru and Brd is not necessary. ..

計量機構Mvfは、原料固形物ms*を回転テーブルRtfの孔Opから排出させ、排出口Doutへの移動を補助する排出支援機構を具備していてもよい。図15は、排出支援機構の一例の説明図である。この図15に示されている排出支援機構は、孔Opが排出口Doutに連通しているとき、孔Opの上方から下方に向けて気体sを噴出させ、そのときの気体A1に圧力により、孔Opから排出口Doutを通じて原料供給路Cmsへ移動させる機構である。気体A1の代表例は、除湿された空気である。気体A1の噴出範囲を広げれば、孔Opの壁面や回転テーブルRtfの表面に付着している原料固形物msの細粒も一緒に原料供給路Cmsへ移動させることができる。なお、原料供給路Cmsを通じて、溶解製造部S[pr]へ移動した気体A1は、溶解製造部S[pr]が備える排気手段により、外部に排出される。   The measuring mechanism Mvf may include a discharge support mechanism that discharges the raw material solid matter ms* from the hole Op of the rotary table Rtf and assists the movement to the discharge port Dout. FIG. 15 is an explanatory diagram of an example of the discharge support mechanism. When the hole Op communicates with the discharge port Dout, the discharge support mechanism shown in FIG. 15 causes the gas s to be jetted downward from above the hole Op, and the pressure of the gas A1 at that time causes It is a mechanism for moving from the hole Op to the raw material supply path Cms through the discharge port Dout. A typical example of the gas A1 is dehumidified air. If the ejection range of the gas A1 is widened, fine particles of the raw material solid ms attached to the wall surface of the hole Op or the surface of the rotary table Rtf can also be moved to the raw material supply path Cms. The gas A1 that has moved to the dissolution production section S[pr] through the raw material supply path Cms is discharged to the outside by the exhaust means provided in the dissolution production section S[pr].

(4) 駆動機構Ss[mga]は、回転テーブルRtfが直接又はギア、ベルト等の公知の動力伝達機構を介して取り付けられている回転軸Axfと、回転軸Axfの回転の駆動力を生み出すためのモータMthと、その駆動力をモータMthから回転軸Axfへ伝達するための、ギア、ベルト等の公知の動力伝達機構Gbxとを備えている。なお、モータMthの回転軸を回転軸Axfに同軸に取り付ける場合には、その取り付けに用いる器具が駆動力伝達機構Gbxである。モータMthの動作を制御することにより、回転テーブルRtfの動作も制御することができる。   (4) The drive mechanism Ss[mga] is for generating the rotational driving force of the rotary shaft Axf and the rotary shaft Axf to which the rotary table Rtf is attached directly or via a known power transmission mechanism such as a gear or a belt. The motor Mth and a known power transmission mechanism Gbx such as a gear and a belt for transmitting the driving force from the motor Mth to the rotation shaft Axf. When the rotation shaft of the motor Mth is coaxially attached to the rotation shaft Axf, the device used for the attachment is the driving force transmission mechanism Gbx. By controlling the operation of the motor Mth, the operation of the rotary table Rtf can also be controlled.

図12及び図15に示されているとおり、駆動機構Ss[mga]の一部である動力伝達機構Gbx及びモータMthの各筐体は、計量機構Mvfの筐体の外部に配置するように構成されている。   As shown in FIGS. 12 and 15, each casing of the power transmission mechanism Gbx and the motor Mth, which is a part of the drive mechanism Ss[mga], is arranged outside the casing of the weighing mechanism Mvf. Has been done.

1.3)水供給部S[ws]
水供給部S[ws]は、真水wsの供給源(図示されていない)と、当該供給源から混合攪拌槽Ts内への真水wsの供給を行うための給水導管Cwsを備えている。給水導管Cwsは、混合攪拌槽Ts内に開口し、真水wsを吐出するための吐出開口部と、真水wsの供給源から当該吐出開口部への真水wsの移送を駆動するためのポンプ(図示されていない)と、真水wsの移送と停止を切り替えるためのバルブ(図示されていない)を備えている。
1.3) Water supply unit S[ws]
The water supply unit S[ws] includes a supply source (not shown) of fresh water ws and a water supply conduit Cws for supplying fresh water ws from the supply source into the mixing and stirring tank Ts. The water supply conduit Cws opens in the mixing and stirring tank Ts, a discharge opening for discharging the fresh water ws, and a pump for driving the transfer of the fresh water ws from the supply source of the fresh water ws to the discharge opening (shown in the drawing). (Not shown) and a valve (not shown) for switching between transfer and stop of fresh water ws.

真水wsは、船舶が搭載されている海水淡水化装置を使用して製造した淡水で賄うことができる。   Fresh water ws can be covered by fresh water produced using a seawater desalination device onboard a ship.

1.4)殺菌剤注入部S[is]
殺菌剤注入部S[is]は、混合攪拌槽Tsの下部Rbpの最下部に配置し、混合攪拌槽Ts内からの塩素系殺菌剤Asの排出を行うための排出口Dbpと、バラスト水取水用配管内に開口し、流通する海水Woに塩素系殺菌剤Asを注入する殺菌剤注入口Isと、排出口Dbpと殺菌剤注入口Isを接続する殺菌剤配管経路Lsを備えている。殺菌剤配管経路Lsは、混合攪拌槽Ts内から排出口Dbpへの塩素系殺菌剤Asの移動と停止を切り替えるためのバルブVbpと、殺菌剤注入口Isからバラスト水取水用配管経路Lfへの塩素系殺菌剤Asの注入と停止を切り替えるためのバルブVsと、バルブVbpの下流、バルブVsの上流において殺菌剤配管経路Lsに沿った塩素系殺菌剤Asの移動を駆動するポンプPsを備えている。
1.4) Sterilizer injection part S[is]
The disinfectant injection section S[is] is arranged at the lowest part of the lower part Rbp of the mixing stirring tank Ts, and the discharge port Dbp for discharging the chlorine-based germicide As from the mixing stirring tank Ts and the ballast water intake. A disinfectant injection port Is that is opened in the service pipe and that injects a chlorine-based disinfectant As into the circulating seawater Wo, and a disinfectant pipe path Ls that connects the discharge port Dbp and the disinfectant injection port Is are provided. The disinfectant pipe line Ls is a valve Vbp for switching the movement and stop of the chlorine-based disinfectant As from the inside of the mixing and stirring tank Ts to the discharge port Dbp, and the disinfectant injection port Is to the ballast water intake pipe line Lf. It is equipped with a valve Vs for switching the injection and stop of the chlorine-based germicide As, and a pump Ps that drives the movement of the chlorine-based germicide As along the germicide piping path Ls downstream of the valve Vbp and upstream of the valve Vs. There is.

ポンプPsは、混合攪拌槽Ts内に塩素系殺菌剤Asが存在し、両バルブVbp、Vsがいずれも開であるとき、混合攪拌槽Ts内からの塩素系殺菌剤Asの排出を助け、その塩素系殺菌剤Asを殺菌剤注入口Isから水Woに注入する。   The pump Ps, when the chlorine-based germicide As is present in the mixing stirring tank Ts and both valves Vbp and Vs are both open, helps discharge the chlorine-based germicide As from the mixing stirring tank Ts. The chlorine-based germicide As is poured into the water Wo from the germicide inlet Is.

なお、図10に示されている殺菌剤配管経路Lsは、バルブVbpとポンプPsの間及びポンプPsとバルブVsとの間で描写が省略されてはいるものの、混合攪拌槽Ts内から排出される混合物Csを一時的に貯留する槽や、そのような混合物Csを混合攪拌槽Tsへ帰還させる帰還用配管経路を具備していてもよい。   The disinfectant piping path Ls shown in FIG. 10 is discharged from the mixing agitating tank Ts although the illustration between the valve Vbp and the pump Ps and between the pump Ps and the valve Vs is omitted. It may be provided with a tank for temporarily storing the mixture Cs to be mixed, and a return piping path for returning such mixture Cs to the mixing and stirring tank Ts.

1.5)動作
図10に示されている水処理装置D1においては、まず、ホッパーHから原料固形物msが、給水導管Cwsから真水wsが、それぞれ混合攪拌槽Ts内に供給され、原料固形物msと真水wsの混合物Csが収容されるに至る。その後、混合攪拌槽Ts内でインペラIpにより混合物Csが攪拌され、これにより原料固形物msと真水wsの混合及び原料固形物msの真水wsへの溶解が進み、塩素系殺菌剤Asが製造される。混合攪拌槽Ts内で製造された塩素系殺菌剤Asは、混合攪拌槽Ts内から排出され、殺菌剤配管経路Lsを通じて移動し、殺菌剤注入口Isからバラスト水取水用配管経路Lfを流通する水Woに注入され、水Woを殺菌する。なお、塩素系殺菌剤Asが注入された水Woは、ミキサーMxsを通過した後、殺菌剤注入済みの水WsとしてバラストタンクBTに向かって移動して行き、バラストタンクBTに収容される。
1.5) Operation In the water treatment device D1 shown in FIG. 10, first, the raw material solid ms is supplied from the hopper H and the fresh water ws is supplied from the water supply conduit Cws into the mixing and stirring tank Ts, respectively. A mixture Cs of thing ms and fresh water ws is received. Then, the mixture Cs is stirred by the impeller Ip in the mixing stirring tank Ts, whereby the mixing of the raw material solid ms and the fresh water ws and the dissolution of the raw material solid ms into the fresh water ws proceed, and the chlorine-based germicide As is produced. It The chlorine-based sterilizer As produced in the mixing and stirring tank Ts is discharged from the mixing and stirring tank Ts, moves through the sterilizing agent piping path Ls, and flows from the bactericidal agent inlet Is through the ballast water intake piping path Lf. Injected into water Wo to sterilize water Wo. After passing through the mixer Mxs, the water Wo into which the chlorine-based sterilizing agent As has been injected moves toward the ballast tank BT as the sterilizing agent-injected water Ws, and is stored in the ballast tank BT.

1.6)各工程との関係
工程S01は水処理装置D1、特にホッパーHを準備する工程であり、工程S02は、ホッパーHに装入するための原料固形物msを準備する工程である。工程S11はホッパー部S[hp]で実行され、工程S21は溶液製造部S[pr]、特に混合攪拌槽Ts内で実行され、工程S31は殺菌剤注入部S[is]で実行される。
1.6) Relationship with Each Step Step S01 is a step of preparing the water treatment device D1, especially the hopper H, and Step S02 is a step of preparing the raw solid matter ms to be charged into the hopper H. The step S11 is executed in the hopper section S[hp], the step S21 is executed in the solution manufacturing section S[pr], particularly in the mixing and stirring tank Ts, and the step S31 is executed in the bactericide injection section S[is].

2)実施例
(実施例-A)
2.A.1)構成の特徴
図16は、本発明に係る水処理装置Dの実施例-Aの説明図である。実施例-Aの構成及び動作は、ホッパー部S[hp]が温度設定機構を備えている点を除き、図10に示されている水処理装置D1のそれらと基本的に同じである。
2) Example (Example-A)
2. A. 1) Features of Configuration FIG. 16 is an explanatory diagram of an embodiment-A of the water treatment device D according to the present invention. The configuration and operation of the example-A are basically the same as those of the water treatment device D1 shown in FIG. 10, except that the hopper section S[hp] is provided with a temperature setting mechanism.

2.A.2)ホッパー部S[hp]が備える温度設定機構
ホッパー部S[hp]が備える温度設定機構は、ホッパーHの外表面を、距離をおくことなく覆う断熱材InsH、InsH*を備えている。原料供給機Fdr及び原料供給路Cmsの各外表面は断熱材により覆われていない。計量機構Mvfの筐体と駆動機構Ss[mga]の少なくとも一部の筐体(モータMtfの筐体及び/又は動力伝達機構Gbxの筐体の少なくとも一部)の間には断熱材は存在しない。断熱材InsH*は、原料補給口Crfの上部外表面を、距離をおこくとなく覆う断熱材であり、頂部の開口部からの原料固形物msの導入又は補給の際には取り外せるように構成されている。
2. A. 2) Temperature setting mechanism provided in the hopper S[hp] The temperature setting mechanism provided in the hopper S[hp] is provided with heat insulating materials InsH and InsH* that cover the outer surface of the hopper H without a distance. The outer surfaces of the raw material supply device Fdr and the raw material supply passage Cms are not covered with a heat insulating material. There is no heat insulating material between the housing of the measuring mechanism Mvf and at least part of the housing of the drive mechanism Ss[mga] (at least part of the housing of the motor Mtf and/or the housing of the power transmission mechanism Gbx). .. The heat insulating material InsH* is a heat insulating material that covers the upper outer surface of the raw material supply port Crf with no distance, and is configured to be removable when introducing or replenishing the raw material solid matter ms from the top opening. Has been done.

この温度設定機構によれば、ホッパーHの外表面、従ってホッパーH内と外部との間の熱伝達が断熱材InsH、InsH*により遮断されるので、環境温度が容器内温度上限より高いときや、容器内温度下限より低いときに、環境温度の影響がホッパーH内の温度Thに及び難くすることができる。   According to this temperature setting mechanism, the heat transfer between the outer surface of the hopper H, that is, the inside of the hopper H and the outside is blocked by the heat insulating materials InsH and InsH*, so that when the environmental temperature is higher than the upper limit of the temperature inside the container, When the temperature is lower than the lower limit of the in-container temperature, the influence of the environmental temperature can be less likely to reach the temperature Th in the hopper H.

ホッパーH内の温度Thは、ホッパーHに隣接する原料供給機Fdrの温度の影響を受け、原料供給機Fdrの温度は環境温度の影響を受けるので、間接的に環境温度の影響を受ける。それ故、ホッパーH内の温度Thから環境温度の影響をより多く除去する必要がある場合には、その必要性の程度に応じて、ホッパー部S[hp]が備える温度設定機構を、変形例1乃至5のように変形することが望ましい。   The temperature Th in the hopper H is influenced by the temperature of the raw material feeder Fdr adjacent to the hopper H, and the temperature of the raw material feeder Fdr is influenced by the environmental temperature, and thus indirectly influenced by the environmental temperature. Therefore, when it is necessary to remove more of the influence of the environmental temperature from the temperature Th in the hopper H, the temperature setting mechanism provided in the hopper S[hp] may be modified according to the degree of the necessity. It is desirable to be deformed like 1 to 5.

なお、排出支援機構を用いて計量機構Mvf内に気体A1を供給し、原料供給路Cmsを流通させる場合には(図15参照)、気体A1の温度は環境温度が容器内温度上限以下とする。また、望ましくは、計量機構Mvf内に供給される気体A1の湿度はできるだけ低く設定する。これらにより、計量機構Mvf内や原料供給路Cms内に残留する原料固形物msが塩素ガスの発生源になる危険を低減することができる。   When the gas A1 is supplied into the measuring mechanism Mvf by using the discharge support mechanism and circulates through the raw material supply path Cms (see FIG. 15), the temperature of the gas A1 is set such that the ambient temperature is equal to or lower than the upper limit of the temperature inside the container. .. Further, desirably, the humidity of the gas A1 supplied into the measuring mechanism Mvf is set as low as possible. As a result, it is possible to reduce the risk that the raw material solid matter ms remaining in the measuring mechanism Mvf or the raw material supply path Cms becomes a source of chlorine gas.

(A−1)変形例1
図17は、ホッパー部S[hp]が備える温度設定機構の変形例1の説明図であり、図17(a)は、その正面図であり、図17(b)は、その側面図である。
(A-1) Modification 1
17A and 17B are explanatory views of a modified example 1 of the temperature setting mechanism included in the hopper unit S[hp], FIG. 17A is a front view thereof, and FIG. 17B is a side view thereof. ..

変形例1は、図17に示されているとおり、ホッパーHの外表面を、距離をおいて囲う断熱材Ins1と、(ii)原料補給口Crfの上部外表面を、距離をおこくとなく覆う断熱材Ins1*と、(iii)ホッパーHの外表面と断熱材Ins1との間の空間W[hi]内の温度を調節する温度調節装置CL1を具備している。   In the modified example 1, as shown in FIG. 17, the heat insulating material Ins1 that surrounds the outer surface of the hopper H at a distance and the upper outer surface of the (ii) raw material supply port Crf are not separated from each other. It is provided with a heat insulating material Ins1* for covering and (iii) a temperature adjusting device CL1 for adjusting the temperature in the space W[hi] between the outer surface of the hopper H and the heat insulating material Ins1.

断熱材Ins1は、ホッパーHと計量機構Mvfとの境界まで達しているが、計量機構Mvf)の側面までは囲っておらず、覆ってもいない。また、計量機構Mvfを収容する筐体と駆動機構Ss[mga]の少なくとも一部の筐体(モータMtfの筐体及び/又は動力伝達機構Gbxの筐体の少なくとも一部)の間には断熱材は存在しない。   The heat insulating material Ins1 reaches the boundary between the hopper H and the weighing mechanism Mvf, but does not surround or cover the side surface of the weighing mechanism Mvf). In addition, heat insulation is provided between the housing that houses the weighing mechanism Mvf and at least part of the housing of the drive mechanism Ss[mga] (at least part of the housing of the motor Mtf and/or the housing of the power transmission mechanism Gbx). There is no wood.

温度調節装置CL1は、冷熱発生機能と温熱発生機能の両方を備える装置である。ただし、船舶の種類、航路、ホッパーHの設置場所などの条件によっては、温熱発生機能は不可欠ではない。   The temperature control device CL1 is a device having both a cold heat generating function and a hot heat generating function. However, the heat generation function is not essential depending on the type of ship, route, installation location of hopper H, and other conditions.

冷熱発生機能を発揮する装置の代表例は、ボルテックス・チューブの原理を応用した冷熱発生装置である。この冷熱発生装置は、断熱材Ins1の外部で発生させた冷風を、空間W[hi]へ導入し、ホッパーHの外周に沿って(たとえば巡回するように)移動させ、その過程で空間W[hi]内の空気を冷却させ、その後空間W[hi]から排出させる。   A typical example of a device that exhibits a cold heat generation function is a cold heat generator that applies the principle of a vortex tube. This cold heat generating device introduces the cold air generated outside the heat insulating material Ins1 into the space W[hi] and moves it along the outer periphery of the hopper H (for example, in a circulating manner), in the process of which the space W[hi] The air in [hi] is cooled and then discharged from the space W[hi].

温熱発生機能を発揮する装置の代表例は、伝熱ヒータを備える温熱発生装置である。この温熱発生装置は、伝熱ヒータを空間W[hi]内に設置し、伝熱ヒータにより温熱を発生させて空間W[hi]内の空気を直接暖めるか、ホッパーHの外部に設置した伝熱ヒータにより発生させた温風を、空間W[hi]へ導入し、ホッパーHの外周に沿って(たとえば巡回するように)移動させ、その過程で空間W[hi]内の空気を温め、その後空間W[hi]から排出させる。なお、ボルテックス・チューブの原理を応用した冷熱発生装置を用いる場合には、その冷熱発生装置において冷風と同時に発生する温風を、空間W[hi]の空気の暖めることに活用してもよい。   A typical example of a device that exhibits a heat generation function is a heat generation device including a heat transfer heater. In this heat generator, a heat transfer heater is installed in the space W[hi] and heat is generated by the heat transfer heater to directly heat the air in the space W[hi], or a heat transfer heater installed outside the hopper H is used. The hot air generated by the heat heater is introduced into the space W[hi] and moved along the outer periphery of the hopper H (for example, in a circulating manner), in the process of warming the air in the space W[hi], After that, it is discharged from the space W[hi]. In the case of using the cold heat generator applying the principle of the vortex tube, warm air generated at the same time as cold air in the cold heat generator may be used to warm the air in the space W[hi].

温度調節装置CL1は、船舶が備えている熱源又は船外にある熱源と熱交換を行なった熱搬送物質を利用して、ホッパー内の温度の設定又は制御を行うように構成することができる。その場合、船舶が備える熱源は、船舶の外部から取水した海水であってよく、その海水と熱交換した蓄熱物質又は熱搬送物質であってもよく、空気調和装置であってもよい。熱搬送物質の代表例は空気や水であり、蓄熱物質の代表例は水である。   The temperature control device CL1 can be configured to set or control the temperature in the hopper by using a heat carrier substance that has exchanged heat with a heat source provided in the ship or a heat source outside the ship. In that case, the heat source provided in the ship may be seawater taken from the outside of the ship, may be a heat storage material or heat carrier material that has exchanged heat with the seawater, or may be an air conditioner. Typical examples of the heat transfer substance are air and water, and typical examples of the heat storage substance are water.

変形例1によれば、断熱材Ins1に加えて空間W[hi]を設けているので、図16に示されているホッパー部に比べて、ホッパーH内の温度Thへの環境温度の影響を、より効果的に抑制又は防止することができる。   According to the modified example 1, since the space W[hi] is provided in addition to the heat insulating material Ins1, the influence of the environmental temperature on the temperature Th in the hopper H is smaller than that in the hopper portion shown in FIG. , Can be suppressed or prevented more effectively.

また、温度調節装置CL1によれば、(a.1)環境温度がホッパーH内の温度Thよりも高いとき、冷熱発生機能を動作させ、空間W[hi]内の温度を環境温度よりも低くなるように設定し、それにより温度Thを維持する又は下げることができ、(a.2)環境温度が温度Thよりも低いとき、温熱発生機能を動作させ、空間W[hi]内の温度を環境温度よりも高くなるように設定し、それにより、温度Thを維持する又は上げることができる。それ故、変形例1によれば、冷熱発生機能の動作と温熱発生機能の動作を適宜切り替えることにより、空間W[hi]の温度を調節し、温度Thを容器内温度上限以下にし、容器内温度下限以上に設定することができる。   Further, according to the temperature control device CL1, (a.1) when the ambient temperature is higher than the temperature Th in the hopper H, the cold heat generation function is activated to lower the temperature in the space W[hi] to a temperature lower than the ambient temperature. So that the temperature Th can be maintained or lowered, and (a.2) when the environmental temperature is lower than the temperature Th, the heat generation function is activated to change the temperature in the space W[hi]. It can be set to be higher than the ambient temperature, so that the temperature Th can be maintained or raised. Therefore, according to the first modification, the operation of the cold heat generating function and the operation of the warm heat generating function are appropriately switched to adjust the temperature of the space W[hi] so that the temperature Th is equal to or lower than the upper temperature limit in the container. It can be set above the lower temperature limit.

上記(a.1)及び(a.2)のいずれの場合であれ、環境温度と同じ温度の空間W[hi]に比べて、環境温度とは異なる温度に設定される空間W[hi]は、より有効な熱伝達の障壁になる。それ故、変形例1によれば、環境温度の温度Thへの影響を更に効果的に抑制又は防止することができる。   In any of the cases (a.1) and (a.2) above, the space W[hi] set to a temperature different from the environment temperature is higher than the space W[hi] having the same temperature as the environment temperature. , Becomes a more effective heat transfer barrier. Therefore, according to the first modification, it is possible to more effectively suppress or prevent the influence of the environmental temperature on the temperature Th.

なお、原料補給口Crfの上部外表面を、断熱材Ins1*により覆うのではなく、当該上部外表面を、距離をおいて断熱材Ins1により囲ってもよい。その場合、空間W[hi]は、原料補給口Crfの上部外表面と断熱材Ins1との間の空間と連結するので、空間W[hi]の温度の調節の効果を、後者の空間にも及ぼすことができる。   The upper outer surface of the raw material supply port Crf may not be covered with the heat insulating material Ins1*, but the upper outer surface may be surrounded by the heat insulating material Ins1 at a distance. In that case, the space W[hi] is connected to the space between the upper outer surface of the raw material supply port Crf and the heat insulating material Ins1, so that the effect of adjusting the temperature of the space W[hi] is also applied to the latter space. Can be exerted.

ホッパーH内の温度Thが原料供給機Fdrを介して環境温度の影響を間接的に受ける場合であっても、その影響がそれほど大きくないときは、この変形例1で足りる。しかし、その影響を無視できないときは、別の変形例を採用するのが妥当である。   Even if the temperature Th in the hopper H is indirectly influenced by the environmental temperature via the raw material feeder Fdr, the variation 1 is sufficient if the influence is not so large. However, when the effect cannot be ignored, it is appropriate to adopt another modification.

(A−2)変形例2
図18は、ホッパー部S[hp]が備える温度設定機構の変形例2の説明図であり、図18(a)は、その正面図であり、図18(b)は、その側面図である。変形例2は、図18に示されているとおり、ホッパーH内の温度Thを調節する温度調節装置CL1*を具備している。変形例2のその余の構成は、変形例1と同じであるので、その説明は省略する。
(A-2) Modification 2
18A and 18B are explanatory views of a modified example 2 of the temperature setting mechanism included in the hopper unit S[hp], FIG. 18A is a front view thereof, and FIG. 18B is a side view thereof. .. As shown in FIG. 18, the modified example 2 includes a temperature adjusting device CL1* that adjusts the temperature Th in the hopper H. The rest of the configuration of the second modification is the same as that of the first modification, so the description thereof is omitted.

ホッパーH内の温度Thを下げるための温度調節装置CL1*の代表例は、空間W[hi]の温度を下げるための温度調節装置CLのそれと同じ、ボルテックス・チューブの原理を応用した冷風発生装置である。また、ホッパーH内の温度Thを上げるための温度調節装置CL1*の代表例は、当該空間の温度を上げるための温度調節装置CLのそれと同じ、伝熱ヒータを備える温熱発生装置である。ボルテックス・チューブの原理を応用した冷熱発生装置を用いる場合には、その冷風発生装置において冷風と同時に発生する温風を、空間W[hi]の温度を上げるために活用してもよい。   A typical example of the temperature control device CL1* for lowering the temperature Th in the hopper H is a cold air generating device that applies the same vortex tube principle as that of the temperature control device CL for lowering the temperature of the space W[hi]. Is. Further, a representative example of the temperature adjusting device CL1* for increasing the temperature Th in the hopper H is a heat generating device including a heat transfer heater, which is the same as that of the temperature adjusting device CL for increasing the temperature of the space. In the case of using the cold heat generating device applying the principle of the vortex tube, the warm air generated at the same time as the cold air in the cold air generating device may be used to raise the temperature of the space W[hi].

温度調節装置CL1*は、船舶が備えている熱源又は船外にある熱源と熱交換を行なった熱搬送物質を利用して、ホッパー内の温度の設定又は制御を行うように構成することができる。その場合、船舶が備える熱源は、船舶の外部から取水した海水であってよく、その海水と熱交換した蓄熱物質又は熱搬送物質であってもよく、空気調和装置であってもよい。熱搬送物質の代表例は空気や水であり、蓄熱物質の代表例は水である。   The temperature control device CL1* can be configured to set or control the temperature in the hopper by using a heat carrier substance that exchanges heat with a heat source provided in the ship or a heat source outside the ship. .. In that case, the heat source provided in the ship may be seawater taken from the outside of the ship, may be a heat storage material or heat carrier material that has exchanged heat with the seawater, or may be an air conditioner. Typical examples of the heat transfer substance are air and water, and typical examples of the heat storage substance are water.

変形例1は、温度調節装置CL1のみにより、ホッパーH内の温度Thを制御又は設定する。一方、変形例2は、二つの温度調節装置CL1、CL1*により、温度Thを制御又は設定する。それ故、変形例2によれば、変形例1よりも効果的に温度Thを制御又は設定することができる。従って、温度Thが原料供給機Fdrを介して環境温度の影響を受ける場合には、変形例1より、変形例2を採用するのが妥当である。   In the first modification, the temperature Th in the hopper H is controlled or set only by the temperature adjustment device CL1. On the other hand, in the modified example 2, the temperature Th is controlled or set by the two temperature adjusting devices CL1 and CL1*. Therefore, according to the second modification, the temperature Th can be controlled or set more effectively than the first modification. Therefore, when the temperature Th is affected by the environmental temperature via the raw material feeder Fdr, it is appropriate to adopt the modified example 2 rather than the modified example 1.

一方、変形例2は、変形例1と同様、計量機構Mvfを収容する筐体と駆動機構Ss[mga]の少なくとも一部の筐体(モータMtfの筐体及び/又は動力伝達機構Gbxの筐体の少なくとも一部)に断熱材を具備していない。そのような場合には、モータMtf及び/又は動力伝達機構Gbxが外部から受けた熱や内部で発生させる熱が、近接する計量機構Mvfに向かって放出され、その放熱が計量機構Mvfを介してホッパーH内に伝わり、温度Thに影響することがある。それ故、その影響を無視することができないときは、更に別の変形例を採用するのが望ましい。   On the other hand, the modified example 2 is similar to the modified example 1 in that the housing that houses the weighing mechanism Mvf and at least part of the housing of the drive mechanism Ss[mga] (the housing of the motor Mtf and/or the housing of the power transmission mechanism Gbx). At least part of the body) does not have insulation. In such a case, the heat received from the outside by the motor Mtf and/or the power transmission mechanism Gbx or the heat generated inside is released toward the adjacent measuring mechanism Mvf, and the heat radiation is transmitted through the measuring mechanism Mvf. It may be transmitted to the hopper H and affect the temperature Th. Therefore, when the influence cannot be ignored, it is desirable to adopt another modification.

(A−3)変形例3
図19は、ホッパー部S[hp]が備える温度設定機構の変形例3の説明図であり、図19(a)は、その正面図であり、図19(b)は、その側面図であり、図19(c)及び(d)は、それぞれ、図19(a)及び(b)に示されている変形例3の部分拡大図である。図20(a)及び(b)は、変形例3の派生形1の部分拡大図であり、それぞれ、正面図及び側面図である。図21(a)及び(b)は、変形例3の派生形2の部分拡大図であり、それぞれ、正面図及び側面図である。図22(a)及び(b)は、変形例3の派生形3の部分拡大図であり、それぞれ、正面図及び側面図である。
(A-3) Modification 3
19A and 19B are explanatory views of a modified example 3 of the temperature setting mechanism included in the hopper unit S[hp], FIG. 19A is a front view thereof, and FIG. 19B is a side view thereof. , (C) and (d) of FIG. 19 are partial enlarged views of Modification 3 shown in (a) and (b) of FIG. 19, respectively. 20A and 20B are partially enlarged views of the derivative form 1 of the modified example 3, which are a front view and a side view, respectively. 21A and 21B are partially enlarged views of the derivative form 2 of the modified example 3, which are a front view and a side view, respectively. 22A and 22B are partially enlarged views of the derivative form 3 of the modified example 3, which are a front view and a side view, respectively.

変形例3は、図19に示されているとおり、(b.1)断熱材Ins1が、計量機構Mvfの側面を、距離をおいて囲むように延伸しており、そのため計量機構Mvfの周囲に、空間W[hi]に連結する空間W[fi]を具備しており、(b.2)計量機構Mvfの(駆動部Ss[mga]の側の)筐体外表面を、距離をおくことなく覆う断熱材Ins2を具備している。そして、(b.3)断熱材Ins2は、計量機構Mvfの筐体と駆動機構Ss[mga]の筐体の少なくとも一部(原料供給機Fdrの筐体及び/又は動力伝達機構Gbxの筐体の少なくも一部)の間に配置する断熱材でもある。変形例3のその余の構成は、変形例1と同じであるので、その説明は省略する。   In the modified example 3, as shown in FIG. 19, (b.1) the heat insulating material Ins1 extends so as to surround the side surface of the measuring mechanism Mvf with a distance, and therefore, around the measuring mechanism Mvf. , The space W[fi] connected to the space W[hi] is provided, and (b.2) the outer surface of the casing (on the side of the drive unit Ss[mga]) of the weighing mechanism Mvf is kept at a distance. It is equipped with a heat insulating material Ins2. And (b.3) the heat insulating material Ins2 is at least a part of the casing of the weighing mechanism Mvf and the casing of the drive mechanism Ss[mga] (the casing of the raw material feeder Fdr and/or the casing of the power transmission mechanism Gbx). It is also a heat insulator placed between (at least a part of). The rest of the configuration of the modification 3 is the same as that of the modification 1, and thus the description thereof is omitted.

変形例3によれば、上記(b.1)及び(b.2)の構成を具備するので、計量機構Mvfを外部から断熱することができ、それにより環境温度の影響が計量機構Mvfを介してホッパーH内に及ぶことを抑制又は防止することができる。また、上記(b.3)の構成を具備するので、駆動機構Ss[mga]が外部から受けた熱や内部で発生させた熱を計量機構Mvfに向かって放出しても、断熱材Ins2により遮断することができ、その放熱が計量機構Mvfを介してホッパーHに及ぶことを抑制又は防止することができる。   According to the modified example 3, since the measuring mechanism Mvf can be thermally insulated from the outside since it has the configurations of the above (b.1) and (b.2), the influence of the ambient temperature is mediated by the measuring mechanism Mvf. It is possible to suppress or prevent the hopper H from reaching the inside. Further, since the drive mechanism Ss[mga] releases the heat received from the outside or the heat generated inside to the measuring mechanism Mvf, the heat insulating material Ins2 is provided by the heat insulating material Ins2 because it has the configuration of (b.3) above. It is possible to cut off the heat, and to suppress or prevent the heat radiation from reaching the hopper H via the measuring mechanism Mvf.

断熱材Ins2のみでは、駆動機構Ss[mga]からの放熱がホッパーHに及ぶことを十分抑制又は防止することができない場合には、計量機構Mvfの筐体と駆動機構Ss[mga]の筐体の少なくとも一部(原料供給機Fdrの筐体及び/又は動力伝達機構Gbxの筐体の少なくも一部)の間に断熱材Ins[sf]を設置するのが望ましい(図20参照)。また、断熱材Ins2と駆動機構Ss[mga]のの筐体との間を離隔させ、それにより空間W[fi]*を設け、駆動機構Ss[mga]のからの放熱の影響が計量機構Mvfを介してホッパーHに及び難くしてもよい(図21参照)。この間隙の効果が十分であれば、断熱材Ins[st]を断熱材Ins2に追加して設ける必要はない。しかし、この間隙の効果が十分でない場合には、断熱材Ins2と断熱材Ins[st]との間を離隔させ、それにより空間W[2i]を設け、駆動機構Ss[mga]のからの放熱の影響が計量機構Mvfを介してホッパーHに、更に及び難くしてもよい(図22参照)。   If the heat insulating material Ins2 alone cannot sufficiently suppress or prevent the heat radiation from the drive mechanism Ss[mga] from reaching the hopper H, the casing of the weighing mechanism Mvf and the casing of the drive mechanism Ss[mga] can be used. It is desirable to install the heat insulating material Ins[sf] between at least a portion (at least a portion of the casing of the raw material feeder Fdr and/or the casing of the power transmission mechanism Gbx) (see FIG. 20). In addition, the heat insulating material Ins2 and the housing of the drive mechanism Ss[mga] are separated from each other, thereby providing a space W[fi]*, and the influence of heat radiation from the drive mechanism Ss[mga] is reduced by the measuring mechanism Mvf. It may be difficult to reach the hopper H through (see FIG. 21). If the effect of this gap is sufficient, it is not necessary to additionally provide the heat insulating material Ins[st] to the heat insulating material Ins2. However, when the effect of this gap is not sufficient, the heat insulating material Ins2 and the heat insulating material Ins[st] are separated from each other, and the space W[2i] is thereby provided to dissipate heat from the drive mechanism Ss[mga]. May be less likely to be exerted on the hopper H via the weighing mechanism Mvf (see FIG. 22).

駆動機構Ss[mga]と計量機構Mvfの間には回転軸Axfが配置しているので、駆動機構Ss[mga]が外部から受けた熱や内部で発生させた熱が、回転軸Axfを経由して計量機構Mvfに、さらにはホッパーH内に伝わり、温度Thに影響を与える可能性がある。しかし、変形例3では、計量機構Mvfの周囲に、空間W[hi]に連結する空間W[fi]を確保し(図19(c)(d)参照)、温度調節装置CL1による空間W[hi]の温度を調節の効果を空間W[fi]に及ぼすので、それらの熱が回転軸Axfを経由して計量機構Mvfに伝わっても、温度Thへの影響を小さくすることができる。   Since the rotating shaft Axf is arranged between the drive mechanism Ss[mga] and the measuring mechanism Mvf, the heat received from the outside by the drive mechanism Ss[mga] or the heat generated inside the drive mechanism Ss[mga] passes through the rotary shaft Axf. Then, it may be transmitted to the measuring mechanism Mvf and further into the hopper H, and may affect the temperature Th. However, in the modified example 3, a space W[fi] connected to the space W[hi] is secured around the weighing mechanism Mvf (see FIGS. 19C and 19D), and the space W[ by the temperature control device CL1 is used. Since the effect of adjusting the temperature of [hi] is exerted on the space W[fi], even if such heat is transferred to the measuring mechanism Mvf via the rotation axis Axf, the influence on the temperature Th can be reduced.

断熱材Ins2は、駆動機構Ss[mga]の動作を妨げない場所に設置される。断熱材Ins2は、断熱材Ins1と別の断熱材であってもよいが(図19(c)(d)参照)、断熱材Ins1と一体の断熱材であってもよい。図21に示されているように、計量機構Mvfの底部と断熱材Ins2との間には空間W[fi]*を設け、それを空間W[hi]及び空間W[fi]に連結するように構成し、温度調節装置CL1による空間W[hi]の温度を調節の効果が空間W[fi]*にも及ぶようにしてもよい。   The heat insulating material Ins2 is installed in a place that does not interfere with the operation of the drive mechanism Ss[mga]. The heat insulating material Ins2 may be a heat insulating material different from the heat insulating material Ins1 (see FIGS. 19C and 19D), or may be a heat insulating material integrated with the heat insulating material Ins1. As shown in FIG. 21, a space W[fi]* is provided between the bottom of the weighing mechanism Mvf and the heat insulating material Ins2 so that it is connected to the space W[hi] and the space W[fi]. The temperature control device CL1 may adjust the temperature of the space W[hi] to the space W[fi]*.

断熱材Ins[sf]の設置は、断熱材2と駆動機構の筐体との間に、断熱材Ins[sf]を設置するに足りる空間があることが前提となる。断熱材Ins[sf]は、断熱材Ins2と一体のものであっても別体であってもよい。図22に示されているように、断熱材Ins[sf]と断熱材Ins2との間には空間W[2i]を設ける場合には、空間W[2i]を空間W[hi]及び空間W[fi]に(場合によっては空間W[fi]*にも)連結するように構成し、温度調節装置CL1による空間W[hi]の温度を調節の効果が空間W[2i]にも及ぶようにしてもよい。   The installation of the heat insulating material Ins[sf] is premised on that there is sufficient space between the heat insulating material 2 and the housing of the drive mechanism to install the heat insulating material Ins[sf]. The heat insulating material Ins[sf] may be integral with or separate from the heat insulating material Ins2. As shown in FIG. 22, when the space W[2i] is provided between the heat insulating material Ins[sf] and the heat insulating material Ins2, the space W[2i] is divided into the space W[hi] and the space W[hi]. It is configured so that it is connected to [fi] (and space W[fi]* in some cases) so that the effect of adjusting the temperature of space W[hi] by temperature control device CL1 extends to space W[2i]. You can

(A−4)変形例4
図23は、ホッパー部S[hp]が備える温度設定機構の変形例4の説明図であり、図23(a)は、その正面図であり、図23(b)は、その側面図である。変形例4は、図23に示されているとおり、ホッパーH内の温度Thを調節する温度調節装置CL1*を具備している。変形例4のその余の構成は、変形例3と同じであるので説明は省略する。変形例3の派生形1(図20参照)、派生形2(図21参照)及び派生形3(図22参照)についての説明は、変形例4についてもそのまま当てはまる。温度調節装置CL1*は、変形例2と同じであるので説明は省略する。
(A-4) Modification 4
23: is explanatory drawing of the modification 4 of the temperature setting mechanism with which the hopper part S[hp] is equipped, FIG. 23(a) is its front view, FIG. 23(b) is its side view. .. As shown in FIG. 23, the modification 4 includes a temperature adjusting device CL1* that adjusts the temperature Th in the hopper H. The rest of the configuration of the modified example 4 is the same as that of the modified example 3, and thus the description thereof is omitted. The description of the derivative form 1 (see FIG. 20), the derivative form 2 (see FIG. 21), and the derivative form 3 (see FIG. 22) of the modified example 3 also applies to the modified example 4 as it is. The temperature control device CL1* is the same as that of the second modification, so its explanation is omitted.

変形例3は、温度調節装置CL1のみにより、ホッパーH内の温度Thを制御又は設定する。一方、変形例4は、二つの温度調節装置CL1、CL*により、温度Thを制御又は設定する。それ故、変形例4によれば、変形例3よりも効果的に温度Thを制御又は設定することができる。従って、温度Thへの環境温度の影響をより小さくするためには、変形例3より、変形例4を採用するのが妥当である。   In the third modification, the temperature Th in the hopper H is controlled or set only by the temperature adjustment device CL1. On the other hand, in the modified example 4, the temperature Th is controlled or set by the two temperature control devices CL1 and CL*. Therefore, according to the modification 4, the temperature Th can be controlled or set more effectively than the modification 3. Therefore, in order to reduce the influence of the environmental temperature on the temperature Th, it is appropriate to adopt the modified example 4 rather than the modified example 3.

一方、変形例4は、変形例1及至3と同様、原料供給路Cmsの外表面と外部との熱伝達を遮断する断熱材を具備していない。そのような場合には、原料供給路Cmsが外部から受けた熱が、近接する計量機構Mvfに向かって伝わり、計量機構Mvfを介してホッパーH内に伝わり、温度Thに影響する可能性がある。それ故、その影響を無視することができないときは、変形例5を採用するのが妥当である。   On the other hand, the modified example 4 does not include a heat insulating material that blocks heat transfer between the outer surface of the raw material supply passage Cms and the outside, like the modified examples 1 to 3. In such a case, the heat received from the outside by the raw material supply path Cms is transmitted to the adjacent measuring mechanism Mvf, is transmitted to the inside of the hopper H via the measuring mechanism Mvf, and may affect the temperature Th. .. Therefore, when the influence cannot be ignored, it is appropriate to adopt the modified example 5.

(A−5)変形例5
図24は、ホッパー部S[hp]が備える温度設定機構の変形例5の説明図であり、図24(a)は、その正面図であり、図24(b)は、その側面図である。変形例5は、図24に示されているとおり、原料供給路Cmsの外表面を、距離をおくことなく覆う断熱材Ins2*を具備している。断熱材Ins2*は、距離をおいて囲う断熱材であってもよい。
(A-5) Modification 5
24: is explanatory drawing of the modification 5 of the temperature setting mechanism with which the hopper part S[hp] is equipped, FIG. 24(a) is its front view, FIG. 24(b) is its side view. .. As shown in FIG. 24, the modified example 5 includes a heat insulating material Ins2* that covers the outer surface of the raw material supply passage Cms without a distance. The thermal insulation Ins2* may be a thermal insulation that surrounds it at a distance.

変形例5によれば、原料供給路Cmsの外表面と外部との間の熱伝達を遮断することができるので、原料供給路Cmsが外部から受けた熱が、原料供給路Cmsを介して計量機構Mvfに、計量機構MvfからホッパーH内に伝わり、温度Thに影響する現象を抑制又は防止することができる。   According to the modified example 5, the heat transfer between the outer surface of the raw material supply passage Cms and the outside can be interrupted, so that the heat received from the outside by the raw material supply passage Cms is measured via the raw material supply passage Cms. A phenomenon that is transmitted to the mechanism Mvf from the measuring mechanism Mvf into the hopper H and affects the temperature Th can be suppressed or prevented.

変形例5の構成は、断熱材Ins2*以外は変形例4のそれと同じなので説明を省略する。変形例4の構成は、温度調整装置CL1*以外は変形例3のそれと同じであり、変形例3の構成は、(c.1)計量機構Mvfの側面を囲むように断熱材Ins1が延伸しており、そのため計量機構Mvfの周囲に、空間W[hi]に連結する空間W[fi]を具備していること(上記(b.1)参照)、(c..2)計量機構Mvfの(駆動部Ss[mga]の側の)筐体外表面を、距離をおくことなく覆う断熱材Ins2を具備していること(上記(b.2)参照)、(c.3)計量機構Mvfの筐体と駆動機構Ss[mga]の筐体の少なくとも一部(原料供給機Fdrの筐体及び/又は動力伝達機構Gbxの筐体の少なくも一部)の間に、断熱材Ins2に加えて断熱材Ins[sf]を具備していてもよいこと(上記(b.3)参照)の三つ以外は変形例1のそれと同じである。変形例3の派生形1(図20参照)、派生形2(図21参照)及び派生形3(図22参照)についての説明は、変形例5についてもそのまま当てはまる。   The configuration of the modified example 5 is the same as that of the modified example 4 except for the heat insulating material Ins2*, and thus the description thereof is omitted. The configuration of the modified example 4 is the same as that of the modified example 3 except for the temperature adjusting device CL1*, and the modified example 3 has the configuration (c.1) in which the heat insulating material Ins1 extends so as to surround the side surface of the measuring mechanism Mvf. Therefore, a space W[fi] connected to the space W[hi] is provided around the weighing mechanism Mvf (see (b.1) above), (c..2) of the weighing mechanism Mvf. Ins2 that covers the outer surface of the casing (on the side of the drive unit Ss[mga]) without any distance (see (b.2) above), (c.3) of the measuring mechanism Mvf In addition to the heat insulating material Ins2, between the housing and at least a part of the housing of the drive mechanism Ss[mga] (at least a part of the housing of the raw material feeder Fdr and/or the housing of the power transmission mechanism Gbx). It is the same as that of the modified example 1 except that the heat insulating material Ins[sf] may be provided (see (b.3) above). The description of the derivative form 1 (see FIG. 20), the derivative form 2 (see FIG. 21), and the derivative form 3 (see FIG. 22) of the modification example 3 also applies to the modification example 5 as it is.

なお、図25乃至図30ならびに図32乃至図37の各図では、ホッパー部S[hp]が備える温度設定機構は、すべて変形例5としている。このことは、本発明を限定することを意図するものではない。ホッパー部S[hp]が備える温度設定機構は変形例5に限定されず、例えば、図16に示されているホッパー部の温度設定機構及びその変形である変形例1乃至4のうちのいずれかであってよく、断熱材の取り付け構造が改良されたもの(後述の3.5参照)及び改良例1乃至3のいずれか(後述の3.6参照)を伴うもの、のうちのいずれであってもよい。   Note that, in each of FIGS. 25 to 30 and FIGS. 32 to 37, the temperature setting mechanism included in the hopper S[hp] is the modified example 5. This is not intended to limit the invention. The temperature setting mechanism provided in the hopper unit S[hp] is not limited to the modified example 5, and for example, any one of the temperature setting mechanism of the hopper unit shown in FIG. 16 and modified examples 1 to 4 thereof. Which has an improved attachment structure of the heat insulating material (see 3.5 described below) and one of the improvement examples 1 to 3 (see 3.6 described below). May be.

2.A.3)工程S12との関係
実施例-Aにおいて、ホッパー部S[hp]は、工程S12が実行される領域R[s12]である。このことは、以下で言及される他の実施例に共通する。
2. A. 3) Relationship with Step S12 In Example-A, the hopper section S[hp] is the region R[s12] in which the step S12 is executed. This is common to the other examples mentioned below.

(実施例-B)
図25は、本発明に係る水処理装置Dの実施例-Bの説明図である。実施例-Bの構成及び動作は、ホッパー部S[hp]の温度設定機構が変形例5である点を除き、図16に示されている実施例-Aのそれらと基本的に同じである。ホッパー部S[hp]が、工程S12が実行される領域R[s12]になる点も、実施例-Aと同じである。
(Example-B)
25: is explanatory drawing of Example-B of the water treatment apparatus D which concerns on this invention. The configuration and operation of the example-B are basically the same as those of the example-A shown in FIG. 16 except that the temperature setting mechanism of the hopper section S[hp] is the modified example 5. .. The point that the hopper section S[hp] becomes the area R[s12] in which the step S12 is executed is also the same as in the embodiment-A.

(実施例-C)
2.C.1)構成の特徴
図26は、本発明に係る水処理装置Dの実施例-Cの説明図である。実施例-Cの構成及び動作は、水供給部S[ws]が温度設定機構を備える点を除き、図25に示されている実施例-Bのそれらと基本的に同じである。
(Example-C)
2. C. 1) Features of Configuration FIG. 26 is an explanatory diagram of Example-C of the water treatment device D according to the present invention. The configuration and operation of the example-C are basically the same as those of the example-B shown in FIG. 25, except that the water supply unit S[ws] includes a temperature setting mechanism.

2.C.2)水供給部S[ws]が備える温度設定機構
水供給部S[ws]が備える温度設定機構は、少なくとも、(i)給水導管Cwsの外表面に取り付けられた伝熱管と当該伝熱管内に熱媒体(h1、h1*)を流通させる温度調節装置CL2と、(ii)給水導管Cwsの外表面と伝熱管を覆う断熱材Ins3を備えている。
2. C. 2) Temperature setting mechanism included in the water supply unit S[ws] The temperature setting mechanism included in the water supply unit S[ws] is at least (i) a heat transfer tube attached to the outer surface of the water supply conduit Cws and the inside of the heat transfer tube. The temperature control device CL2 that allows the heat medium (h1, h1*) to flow therethrough, and (ii) the heat insulating material Ins3 that covers the outer surface of the water supply conduit Cws and the heat transfer tube.

h1*は、伝熱管の管材及び給水導管Cws を介して真水wsと熱交換する前の熱媒体であり、h1は、その熱交換後の熱媒体である。熱媒体(h1、h1*)として利用できる物質は種々あるが、当該温度設定機構に求められる機能を阻害しない物質であることが不可欠である。熱媒体(h1、h1*)の代表例は、パラフィンや代替フロンである。   h1* is a heat medium before heat exchange with fresh water ws via the tube material of the heat transfer tube and the water supply conduit Cws, and h1 is a heat medium after the heat exchange. There are various substances that can be used as the heat medium (h1, h1*), but it is essential that the substance does not interfere with the function required for the temperature setting mechanism. Typical examples of the heat medium (h1, h1*) are paraffin and CFC substitute.

給水導管Cwsの外表面を断熱材Ins3で覆うので、真水wsの温度Twsへの環境温度の影響を低減することができる。また、熱媒体h1*の温度を適切に設定又は制御することにより、真水wsの温度を特定温度範囲内に設定することができる。   Since the outer surface of the water supply conduit Cws is covered with the heat insulating material Ins3, the influence of the environmental temperature on the temperature Tws of the fresh water ws can be reduced. Further, the temperature of the fresh water ws can be set within a specific temperature range by appropriately setting or controlling the temperature of the heat medium h1*.

なお、温度調節装置CL2はコイルヒータを具備していてもよく、真水wsの温度を上げる必要があるときは、当該コイルヒータにより、給水導管Cwsを介して真水wsの温度を上げるようにしてもよい。   The temperature controller CL2 may include a coil heater, and when it is necessary to raise the temperature of the fresh water ws, the temperature of the fresh water ws may be raised by the coil heater via the water supply conduit Cws. Good.

2.C.3)各工程との関係
実施例-Cでは、温度設定機構を備える水供給部S[ws]は、工程S22が実行される領域R[s22]である。
2. C. 3) Relationship with Each Process In the embodiment-C, the water supply unit S[ws] including the temperature setting mechanism is the region R[s22] in which the process S22 is executed.

水供給部S[ws]が備える温度設定機構により真水wsの温度Twsを特定温度範囲内に設定し、その真水wsを混合攪拌槽Ts内に装入すると、混合攪拌槽Ts内に収容されている混合物Csや塩素系殺菌剤Asが真水wsの影響を受けて、混合物Csの温度Tcs及び/又は塩素系殺菌剤Asの温度Tasが特定温度範囲内に収まるケースが生じ得る。そのようなケースでは、後述の実施例-D乃至Fのように溶液製造部S[pr]が温度設定機構を備えていない場合であっても、溶液製造部S[pr]が、工程S23が実行される領域R[s23]及び/又は工程S24が実行される領域R[s24]になる。   When the temperature Tws of the fresh water ws is set within a specific temperature range by the temperature setting mechanism provided in the water supply unit S[ws] and the fresh water ws is charged into the mixing stirring tank Ts, it is stored in the mixing stirring tank Ts. The mixture Cs and the chlorine-based germicide As may be affected by the fresh water ws, and the temperature Tcs of the mixture Cs and/or the temperature Tas of the chlorine-based germicide As may fall within a specific temperature range. In such a case, even when the solution manufacturing unit S[pr] does not have a temperature setting mechanism as in Examples-D to F described later, the solution manufacturing unit S[pr] is It becomes the region R[s23] in which the process is performed and/or the region R[s24] in which the process S24 is performed.

(実施例-D)
2.D.1)構成の特徴
図27は、本発明に係る水処理装置Dの実施例-Dの説明図である。実施例-Dの構成及び動作は、溶液製造部S[pr]に温度設定機構を備えている点を除き、図26に示されている実施例-Cのそれらと基本的に同じである。
(Example-D)
2. D. 1) Features of Configuration FIG. 27 is an explanatory diagram of Example-D of the water treatment device D according to the present invention. The configuration and operation of Example-D are basically the same as those of Example-C shown in FIG. 26, except that the solution manufacturing unit S[pr] is provided with a temperature setting mechanism.

2.D.2)溶液製造部S[pr]が備える温度設定機構
溶液製造部S[pr]が備える温度設定機構は、少なくとも、(i)混合攪拌槽Tsの及びその上蓋Ts1のそれぞれの外表面を、距離をおいて囲む断熱材Ins4及び断熱材Ins4uと、(ii)混合攪拌槽Tsの外表面と断熱材Ins4との間の空間とこれに連結する、上蓋Ts1の外表面と断熱材Ins4uとの間の空間W[ti]に、混合攪拌槽Tsの胴体外表面に巻き付けられた給水導管Cwsを具備している。混合攪拌槽Tsの胴体外表面に巻き付けられた給水導管Cwsは、その給水導管Cws内を流通する真水wsを熱媒体とする伝熱管として機能する。水供給部S[ws]が備える温度設定機構によりある温度Tws0に設定又は制御された真水wsは、給水導管Cwsを通じて混合攪拌槽Tsの胴周りを移動する過程で、給水導管Cwsの管材及び混合攪拌槽Tsの構成部材を介して混合攪拌槽Ts内に収容されている混合物Cs及び/又は塩素系殺菌剤Asと熱交換を行い、熱交換後の真水ws*として混合攪拌槽Ts内に装入され、原料固形物ms*の溶媒として利用される。
2. D. 2) Temperature setting mechanism provided in the solution manufacturing unit S[pr] The temperature setting mechanism provided in the solution manufacturing unit S[pr] is at least (i) the distance between the outer surfaces of the mixing and stirring tank Ts and the upper lid Ts1 thereof. Between the heat insulating material Ins4 and the heat insulating material Ins4u, and (ii) the space between the outer surface of the mixing and stirring tank Ts and the heat insulating material Ins4 and the outer surface of the upper lid Ts1 and the heat insulating material Ins4u connected to this space. The space W[ti] is provided with a water supply conduit Cws wound around the outer surface of the body of the mixing and stirring tank Ts. The water supply conduit Cws wound around the outer surface of the body of the mixing and stirring tank Ts functions as a heat transfer tube using the fresh water ws flowing in the water supply conduit Cws as a heat medium. The fresh water ws set or controlled to a certain temperature Tws0 by the temperature setting mechanism provided in the water supply unit S[ws] moves the pipe material and the mixing material of the water supply conduit Cws in the process of moving around the body of the mixing stirring tank Ts through the water supply conduit Cws. Heat is exchanged with the mixture Cs and/or the chlorine-based bactericide As contained in the mixing agitation tank Ts through the components of the agitation tank Ts, and the mixed agitation tank Ts is loaded with fresh water ws* after the heat exchange. It is put in and used as a solvent for the raw solid matter ms*.

この溶液製造部S[pr]が備える温度設定機構によれば、まず、混合攪拌槽Ts及びその上蓋Ts1をそれぞれ断熱材Ins4及び断熱材Ins4uで囲うとともに空間W[ti]を設けるので、しかも空間W[ti]の温度を給水導管Cwsにより真水wsの温度の水準に調整するので、混合攪拌槽Ts内に収容されている混合物Csの温度Tcsや塩素系殺菌剤Asの温度Tasへの環境温度の影響を低減することができる。また、水供給部S[ws]が備える温度設定機構により真水wsの温度Tws0を適切に(より具体的には、溶液製造部S[pr]内の温度が特定温度範囲内になるように)設定又は制御し、熱交換後の真水ws*の温度Tws1を特定温度範囲内にすることにより、混合攪拌槽Ts内に収容されている混合物Csの温度Tcs及び塩素系殺菌剤Asの温度Tasも、特定温度範囲内に設定することができる。   According to the temperature setting mechanism provided in the solution manufacturing unit S[pr], first, the mixing stirring tank Ts and the upper lid Ts1 thereof are surrounded by the heat insulating material Ins4 and the heat insulating material Ins4u, respectively, and the space W[ti] is provided. Since the temperature of W[ti] is adjusted to the level of the temperature of fresh water ws by the water supply conduit Cws, the temperature of the mixture Cs contained in the mixing stirring tank Ts and the temperature Tas of the chlorine-based germicide As are the environmental temperature. The influence of can be reduced. In addition, the temperature Tws0 of the fresh water ws is properly adjusted by the temperature setting mechanism provided in the water supply unit S[ws] (more specifically, the temperature in the solution manufacturing unit S[pr] is within a specific temperature range). By setting or controlling the temperature Tws1 of the fresh water ws* after heat exchange to be within the specific temperature range, the temperature Tcs of the mixture Cs and the temperature Tas of the chlorine-based germicide As stored in the mixing stirring tank Ts can also be set. , Can be set within a specific temperature range.

なお、図27に示されている給水導管Cwsは、混合攪拌槽Tsの胴体外表面に上から下に向けて、そしれ最後に上に戻るように巻き付けられいる。しかし、これは、下から上に巻き付けられていてもよい。   The water supply conduit Cws shown in FIG. 27 is wound around the outer surface of the body of the mixing and stirring tank Ts from the top to the bottom, and finally to the top. However, it may be wrapped from bottom to top.

溶液製造部S[pr]が備える温度設定機構は、水処理装置Dの設置場所の床面と混合攪拌槽Tsの底部との間に設置され、混合攪拌槽Tsの底部の床面側への露出を防止する断熱材Ins4dを具備していてもよい。その場合、断熱材Ins4dと混合攪拌槽Tsの底部との間の空間W[ti]bを空間W[ti]に連結するように構成すれば、上記の溶液製造部S[pr]が備える温度設定機構による空間W[ti] の温度の調節の効果を、を空間W[ti]bにも及ぼすことができる。   The temperature setting mechanism provided in the solution manufacturing unit S[pr] is installed between the floor surface of the place where the water treatment device D is installed and the bottom portion of the mixing and stirring tank Ts. It may be provided with a heat insulating material Ins4d for preventing exposure. In that case, if the space W[ti]b between the heat insulating material Ins4d and the bottom of the mixing stirring tank Ts is connected to the space W[ti], the temperature provided in the solution manufacturing unit S[pr] is The effect of adjusting the temperature of the space W[ti] by the setting mechanism can be exerted on the space W[ti]b.

2.D.3)各工程との関係
実施例-Dでは、温度設定機構を備える水供給部S[ws]は、工程S22が実行される領域R[s22]である。温度設定機構を備える溶液製造部S[pr]は、工程S23が実行される領域R[s23]であり、工程S24が実行される領域R[s24]でもある。
2. D. 3) Relationship with Each Process In Example-D, the water supply unit S[ws] including the temperature setting mechanism is the region R[s22] in which the process S22 is executed. The solution manufacturing unit S[pr] including the temperature setting mechanism is the region R[s23] in which the process S23 is executed and the region R[s24] in which the process S24 is executed.

(実施例-E)
2.E.1)構成の特徴
図28は、本発明に係る水処理装置Dの実施例-Eの説明図である。実施例-Eの構成及び動作は、溶液製造部S[pr]に温度設定機構の構成が異なる点を除き、図27に示されている実施例-Dのそれらと基本的に同じである。
(Example-E)
2. E. 1) Features of Configuration FIG. 28 is an explanatory diagram of Example-E of the water treatment device D according to the present invention. The configuration and operation of Example-E are basically the same as those of Example-D shown in FIG. 27, except that the temperature setting mechanism of the solution manufacturing unit S[pr] is different.

2.E.2)溶液製造部S[pr]が備える温度設定機構
実施例-Eの溶液製造部S[pr]が備える温度設定機構は、温度調節装置CL3により、空間W[ti]の温度を調節する。温度調節装置CL3は、空間W[ti]内で熱媒体(h2、h2*)を流通させることにより、空間W[ti]の温度を調節する装置である。
2. E. 2) Temperature setting mechanism included in the solution manufacturing unit S[pr] The temperature setting mechanism included in the solution manufacturing unit S[pr] of Example-E adjusts the temperature of the space W[ti] by the temperature adjusting device CL3. The temperature adjustment device CL3 is a device that adjusts the temperature of the space W[ti] by circulating the heat medium (h2, h2*) in the space W[ti].

h2は、混合攪拌槽Tsの上部の空間W[it]内に外部から供給され、混合攪拌槽Tsの壁面を介して、混合攪拌槽Ts内に収容されている内容物(混合物Cs及び塩素系殺菌剤As)と熱交換する熱媒体である。h2は、上蓋Ts1を介して、当該内容物の上方にある、混合攪拌槽Ts内の空気と熱交換する熱媒体でもある。h2*は、混合攪拌槽Tsの下部の空間W[it]内又は底部の空間W[ti]b内から外部に排出される、熱交換後の熱媒体h2である。   h2 is supplied from the outside into the space W[it] in the upper part of the mixing and stirring tank Ts, and the contents (mixture Cs and chlorine system) contained in the mixing and stirring tank Ts through the wall surface of the mixing and stirring tank Ts. It is a heat medium that exchanges heat with the germicide As). h2 is also a heat medium that exchanges heat with the air in the mixing and stirring tank Ts above the contents via the upper lid Ts1. h2* is the heat medium h2 after heat exchange, which is discharged to the outside from the space W[it] at the bottom of the mixing and stirring tank Ts or the space W[ti]b at the bottom.

図28に示されている熱媒体(h2、h2*)は、外部→混合攪拌槽Tsの上部の空間W[it]→混合攪拌槽Tsの下部の空間W[it]又は底部の空間W[ti]b→外部の順に流れているが、この逆方向の流れであってもよい。いずれの場合であれ、熱媒体(h2、h2*)は、混合攪拌槽Tsの内容物の概ね上下全体の温度の調整に寄与する。   The heat medium (h2, h2*) shown in FIG. 28 is external→space W[it] above mixing stirring tank Ts→space W[it] below mixing stirring tank Ts or space W[bottom] The flow is from ti]b to the outside, but the flow may be in the opposite direction. In any case, the heat medium (h2, h2*) contributes to the adjustment of the temperature of the entire contents of the mixing and stirring tank Ts approximately above and below.

熱媒体(h2、h2*)として利用できる物質は種々あるが、言うまでもなく、溶液製造部S[pr]が備える温度設定機構に求められる機能を阻害しない物質であることが不可欠である。熱媒体(h2、h2*)の代表例は、空気である。ホッパーHの設置場所の空気調和を行うための空調装置から送り出される空気(つまり送風される空気)を熱媒体(h2、h2*)として利用してもよい。   There are various substances that can be used as the heat medium (h2, h2*), but needless to say, it is essential that the substance does not inhibit the function required for the temperature setting mechanism of the solution manufacturing unit S[pr]. A typical example of the heat medium (h2, h2*) is air. The air sent out from the air conditioner for performing the air conditioning of the installation location of the hopper H (that is, the air that is blown) may be used as the heat medium (h2, h2*).

この溶液製造部S[pr]が備える温度設定機構によれば、真水wsを熱媒体として使用する必要がない。たとえば、環境温度が容器内温度上限よりもかなり高いときは、真水wsの温度をより低くしないと、温度Tcsや温度Tasを特定温度範囲内に収めることができなくなるので、温度調整装置CL2にかかる負荷が大きくなる。これに対して、温度調節装置CL3を用いて、熱媒体(h2、h2*)により空間W[ti]の温度を調節すれば、温度調節装置CL2にかかる負荷を軽減することができる。   According to the temperature setting mechanism provided in the solution manufacturing unit S[pr], it is not necessary to use fresh water ws as the heat medium. For example, when the environmental temperature is considerably higher than the upper temperature limit in the container, the temperature Tcs and the temperature Tas cannot be kept within the specific temperature range unless the temperature of the fresh water ws is lowered. The load increases. On the other hand, if the temperature of the space W[ti] is adjusted by the heat medium (h2, h2*) using the temperature adjustment device CL3, the load on the temperature adjustment device CL2 can be reduced.

2.E.3)各工程との関係
実施例-Eでは、実施例-Dの場合と同様に、温度設定機構を備える溶液製造部S[pr]は、工程S23が実行される領域R[s23]であり、工程S24が実行される領域R[s24]でもある。
2. E. 3) Relationship with Each Process In the embodiment-E, as in the case of the embodiment-D, the solution manufacturing unit S[pr] including the temperature setting mechanism is the region R[s23] in which the process S23 is executed. This is also the region R[s24] in which the step S24 is executed.

(実施例-F)
2.F.1)構成の特徴
図29は、本発明に係る水処理装置Dの実施例-Fの説明図である。実施例-Fの構成及び動作は、後述の連結空間に対する温度設定機構を備えている点を除き、実施例-Eのそれらと基本的に同じである。
(Example-F)
2. F. 1) Features of Configuration FIG. 29 is an explanatory diagram of Example-F of the water treatment device D according to the present invention. The configuration and operation of the example-F are basically the same as those of the example-E except that a temperature setting mechanism for the connection space described later is provided.

2.F.2)連結空間に対する温度設定機構
(1)連結空間
殺菌剤配管経路Lsは、図29に示されているとおり、ポンプPs及びその近傍の領域(以下「Ps近傍範囲」という)以外の外表面が断熱材Ins5により距離をおいて囲われている。そのため、殺菌剤配管経路Lsの外表面と断熱材Ins5との間の空間は、Ps近傍範囲により上流側の空間(以下、「上流側空間W[bp]1」という)と下流側の空間(以下、「下流側空間W[bp]2」という)に分断されて見える。しかし、上流側空間及び下流側空間は、Ps近傍範囲を迂回するバイパス管Ctにより連結されている。
2. F. 2) Temperature setting mechanism for connection space (1) Connection space As shown in FIG. 29, the sterilizing agent piping path Ls has an outer surface other than the pump Ps and the area in the vicinity thereof (hereinafter referred to as “Ps vicinity range”). It is surrounded by insulation material Ins5 at a distance. Therefore, the space between the outer surface of the disinfectant pipe path Ls and the heat insulating material Ins5 is a space on the upstream side (hereinafter, referred to as “upstream space W[bp]1”) and a space on the downstream side (hereinafter referred to as “upstream space W[bp]1”) due to the Ps vicinity range. Hereinafter, it will be divided into "downstream space W[bp]2"). However, the upstream space and the downstream space are connected by the bypass pipe Ct that bypasses the Ps vicinity range.

加えて、上流側空間W[bp]1は、混合攪拌槽Tsの底部の外表面と断熱材Ins4dとの間の空間W[ti]bに連結されている。空間W[ti]bは空間W[ti]に連結されているので、上流側空間W[bp]1は、空間W[ti]に連結されていることになる。   In addition, the upstream space W[bp]1 is connected to the space W[ti]b between the outer surface of the bottom of the mixing and stirring tank Ts and the heat insulating material Ins4d. Since the space W[ti]b is connected to the space W[ti], the upstream space W[bp]1 is connected to the space W[ti].

それ故、空間W[ti]、空間W[ti]b、上流側空間W[bp]1、バイパス管Ct及び下流側空間W[bp]2は、全体として、連結された空間(以下「連結空間」という)を構成する。なお、バイパス管Ctの外表面は、図示しない断熱材により覆われていてもよい。   Therefore, the space W[ti], the space W[ti]b, the upstream space W[bp]1, the bypass pipe Ct, and the downstream space W[bp]2 are, as a whole, a connected space (hereinafter referred to as "connection"). Space)). The outer surface of the bypass pipe Ct may be covered with a heat insulating material (not shown).

(2)温度調節装置CL4
実施例-Fは、連結空間に熱媒体(h3、h3*)を流通させるための温度調節装置CL4を備えている。h3は、混合攪拌槽Tsの上部の空間W[it]内に外部から供給され、混合攪拌槽Tsの壁面を介して、混合攪拌槽Ts内及び殺菌剤配管経路Ls内に収容されている内容物(混合物Cs及び塩素系殺菌剤As)と熱交換する熱媒体である。h3は、上蓋Ts1を介して、混合攪拌槽Ts内の内容物の上方にある空気と熱交換する熱媒体でもある。h3*は、混合攪拌槽Tsの下部又は底部→上流側空間W[bp]1→バイパス管Ct→下流側空間W[bp]2の順に流れた後、下流側空間W[bp]2内から外部に排出される、熱交換後の熱媒体h3である。
(2) Temperature control device CL4
Example-F is equipped with the temperature control device CL4 for circulating the heat medium (h3, h3*) in the connection space. h3 is supplied from the outside into the space W[it] above the mixing and stirring tank Ts, and is stored in the mixing and stirring tank Ts and the sterilizing agent piping path Ls via the wall surface of the mixing and stirring tank Ts. It is a heat medium that exchanges heat with the materials (mixture Cs and chlorine-based bactericide As). h3 is also a heat medium that exchanges heat with the air above the contents in the mixing and stirring tank Ts via the upper lid Ts1. h3* flows from the bottom or bottom of the mixing and stirring tank Ts to the upstream space W[bp]1→the bypass pipe Ct→the downstream space W[bp]2, and then from the downstream space W[bp]2. It is the heat medium h3 after heat exchange, which is discharged to the outside.

図29に示されている熱媒体(h32、h3*)は、外部→混合攪拌槽Tsの上部の空間W[it]→混合攪拌槽Tsの下部の空間W[it]又は底部の空間W[ti]b→上流側空間W[bp]1→バイパス管Ct→下流側空間W[bp]2の順、つまり連結空間の上流から下流に向かって流れているが、この逆方向の流れであってもよい。いずれの場合であれ、熱媒体(h3、h3*)は、混合攪拌槽Ts内及び殺菌剤配管経路Ls内の内容物の概ね全体の温度の調整に寄与する。熱媒体(h3、h3*)の代表例は、空気であり、ホッパーHの設置場所の空調を行うための空気調和装置から送り出される空気(つまり送風される空気)であってもよい。   The heat medium (h32, h3*) shown in FIG. 29 is external → space W[it] at the top of the mixing and stirring tank Ts → space W[it] at the bottom of the mixing and stirring tank Ts or space W[ at the bottom. ti]b→upstream side space W[bp]1→bypass pipe Ct→downstream side space W[bp]2, that is, from the upstream side to the downstream side of the connection space, but in the opposite direction. May be. In any case, the heat medium (h3, h3*) contributes to the adjustment of the temperature of almost the entire contents of the mixing and stirring tank Ts and the sterilizing agent piping path Ls. A representative example of the heat medium (h3, h3*) is air, and may be air sent out from an air conditioner for performing air conditioning of the installation location of the hopper H (that is, air sent in).

温度調節装置CL4によれば、熱媒体h3の温度を適切に(より具体的には連結空間内の温度が特定温度範囲内になるように)設定又は制御することにより、連結空間内の混合物Csの温度Tcs及び塩素系殺菌剤Asの温度Tasならびに殺菌剤配管経路Ls内の塩素系殺菌剤Asの温度Tas*のうち少なくとも一つを特定温度範囲内に設定することができる。   According to the temperature control device CL4, by appropriately setting or controlling the temperature of the heat medium h3 (more specifically, so that the temperature in the connection space is within the specific temperature range), the mixture Cs in the connection space is At least one of the temperature Tcs and the temperature Tas of the chlorine-based germicide As and the temperature Tas* of the chlorine-based germicide As in the germicide pipe path Ls can be set within a specific temperature range.

(3)温度設定機構
連結空間に対する温度設定機構は、少なくとも、(i)連結空間の内外を画する断熱材Ins4u、Ins4、Ins4d及びIns5と、(ii)温度調節装置CL4を備えている。連結空間は空間W[ti]を含み、且つ、温度調節装置CL4は空間W[ti]内の温度を調節する装置でもあるので、連結空間に対する温度設定機構は、溶液製造部S[pr]が備える温度設定機構として機能する。また、連結空間は上流側空間W[bp]1及び下流側空間W[bp]2を含み、且つ、温度調節装置CL4はそれらの空間内の温度を調節する装置でもあるので、殺菌剤注入部S[is]が備える温度設定機構としても機能する。総じて、連結空間に対する温度設定機構は、殺菌剤注入部S[is]が備える温度設定機構と溶液製造部S[pr]が備える温度設定機構を兼ねる。
(3) Temperature Setting Mechanism The temperature setting mechanism for the connection space includes at least (i) heat insulating materials Ins4u, Ins4, Ins4d and Ins5 that define the inside and the outside of the connection space, and (ii) the temperature control device CL4. The connection space includes the space W[ti], and the temperature adjusting device CL4 is also a device for adjusting the temperature in the space W[ti]. Therefore, the temperature setting mechanism for the connection space is the solution manufacturing unit S[pr]. It functions as a temperature setting mechanism. In addition, since the connection space includes the upstream space W[bp]1 and the downstream space W[bp]2, and the temperature control device CL4 is also a device that controls the temperature in these spaces, the germicide injection part It also functions as a temperature setting mechanism included in S[is]. In general, the temperature setting mechanism for the connection space serves both as the temperature setting mechanism provided in the sterilizing agent injecting unit S[is] and the temperature setting mechanism provided in the solution manufacturing unit S[pr].

連結空間に対する温度設定機構によれば、連結空間を断熱材Ins4u、Ins4、Ins4d及びIns5で囲うので、加えて混合攪拌槽Tsや殺菌剤配管経路Lsとの間に空間W[ti]、W[bp]1及びW[bp]2が設けられているので、混合攪拌槽Ts内の混合物Csの温度Tcsや塩素系殺菌剤の温度Tasならびに殺菌剤配管経路Ls内の塩素系殺菌剤Asの温度Tas*への環境温度の影響を低減することができる。また、熱媒体h3の温度を適切に(より具体的には、連結空間内の温度を特定温度範囲内になるように)設定又は制御すれば、混合攪拌槽Ts内に収容されている混合物Cs及び塩素系殺菌剤Asのそれぞれの温度の温度Tcs 及びTasを、特定温度範囲内に設定することができ、必要があれば、殺菌剤配管経路Ls内の塩素系殺菌剤Asの温度Tas*も、特定温度範囲内に設定することができる。   According to the temperature setting mechanism for the connection space, since the connection space is surrounded by the heat insulating material Ins4u, Ins4, Ins4d and Ins5, in addition, the space W[ti], W[] between the mixing stirring tank Ts and the sterilizing agent piping path Ls. Since bp]1 and W[bp]2 are provided, the temperature Tcs of the mixture Cs in the mixing and stirring tank Ts, the temperature Tas of the chlorine-based germicide, and the temperature of the chlorine-based germicide As in the germicide pipe line Ls. The influence of environmental temperature on Tas* can be reduced. Further, if the temperature of the heat medium h3 is appropriately set or controlled (more specifically, the temperature in the connection space is within a specific temperature range), the mixture Cs contained in the mixing stirring tank Ts is The temperatures Tcs and Tas of the chlorine-based germicide As and the chlorine-based germicide As can be set within a specific temperature range. If necessary, the temperature Tas* of the chlorine-based germicide As in the germicide pipe line Ls can also be set. , Can be set within a specific temperature range.

2.F.3)各工程との関係
溶液製造部S[pr]は、工程S23が実行される領域R[s23]及び工程S24が実行される領域R[s24]に相当する。殺菌剤注入部S[is]、より詳しくは殺菌剤注入部S[is]のうち上流側空間W[bp]1及び下流側空間W[bp]2がある範囲は、工程S32が実行される領域R[s32]である。
2. F. 3) Relationship with each process The solution manufacturing unit S[pr] corresponds to a region R[s23] in which the process S23 is performed and a region R[s24] in which the process S24 is performed. The step S32 is executed in the range where the upstream space W[bp]1 and the downstream space W[bp]2 are present in the disinfectant injection part S[is], more specifically, in the disinfectant injection part S[is]. It is the region R[s32].

(実施例-G)
図30は、本発明に係る水処理装置の実施例-Gの説明図であり、その説明は、水処理装置Dの本体内に残留する原料固形物msに由来する物質(以下「残留物」という)Reに対する後処理に関する。
(Example-G)
FIG. 30 is an explanatory diagram of Example-G of the water treatment apparatus according to the present invention. The description is based on the substance derived from the raw material solid matter ms remaining in the main body of the water treatment apparatus D (hereinafter, “residue”). Say) Re-processing for Re.

残留物Reの代表例は、塩素系殺菌剤Asの製造に使用されずに混合攪拌槽Ts内に残留した混合物Cs及び水Woに注入されずに混合攪拌槽Ts内や殺菌剤配管経路Ls内に残留した塩素系殺菌剤Asである。これらを放置すると、残留物Reから溶媒(真水ws)が蒸発し、その結果原料固形物ms又はその組成物が析出し、(i)塩素ガスの発生源になる、(ii)析出物が成長して物質移動を阻害するなどの問題が生じる。残留物Reからの溶媒(真水ws)の蒸発は、水処理装置が船舶VSLに搭載されている限り多かれ少なかれ起こり、温度Thが容器内温度上限以下に設定されている場合であっても、また温度Tws、温度Tcs、温度Tas及び温度Tas*のうち少なくとも一つが特定温度範囲内に設定されている場合であっても、その設定温度がより高い(たとえば摂氏25度以上)のであれば、あるいは水処理装置Dが設定されている場所の湿度がより低いほど、起こり易く、船舶VSLの航海時間が長いほど蒸発の累積量は多くなるので、当該問題への対策が必要になってくる。実施例-Gは、残留物Reの後処理を実行する機構を具備し、これにより当該問題の発生の抑制又は予防を行うものである。   A typical example of the residue Re is the mixture Cs remaining in the mixing stirring tank Ts that is not used in the production of the chlorine-based germicide As and the water Wo is not injected into the mixing stirring tank Ts and the germicide pipe path Ls. It is a chlorine-based bactericide As that remains in the. If these are left unattended, the solvent (fresh water ws) evaporates from the residue Re, and as a result, the raw material solid ms or its composition precipitates, (i) becomes a source of chlorine gas, and (ii) precipitate grows. As a result, problems such as inhibition of mass transfer occur. Evaporation of the solvent (fresh water ws) from the residue Re occurs more or less as long as the water treatment device is mounted on the ship VSL, and even when the temperature Th is set below the upper temperature limit in the container, Even if at least one of the temperature Tws, the temperature Tcs, the temperature Tas, and the temperature Tas* is set within the specific temperature range, if the set temperature is higher (for example, 25 degrees Celsius or more), or The lower the humidity in the place where the water treatment device D is set, the more likely it is to occur, and the longer the voyage time of the ship VSL, the greater the cumulative amount of evaporation, and therefore a countermeasure for the problem becomes necessary. Example-G is provided with a mechanism for performing the post-treatment of the residue Re, thereby suppressing or preventing the occurrence of the problem.

以下、図30を参照しつつ、実施例-Gにおいて実行される残留物Reの後処理、つまり(i)残留物の減容・除去と、(ii)内表面の乾燥防止について説明する。なお、図30に描かれている水処理装置Dの本体は、実施例-Bに相当するものであるが、これは例示に過ぎない。実施例-Gにおける水処理装置Dの本体は実施例-B以外の実施例に相当するものであってもよい。   Hereinafter, with reference to FIG. 30, the post-treatment of the residue Re performed in Example-G, that is, (i) volume reduction/removal of the residue and (ii) prevention of drying of the inner surface will be described. The main body of the water treatment device D illustrated in FIG. 30 corresponds to the example-B, but this is merely an example. The main body of the water treatment device D in the embodiment-G may correspond to embodiments other than the embodiment-B.

2.G.1)残留物の減容・除去
(工程G1)
まず、予め、残留物貯蔵用タンクTsrを用意しておく。残留物貯蔵用タンクTsrは、残留物貯蔵用タンクTsr内へ残留物Reを供給するための配管Lsrと、残留物貯蔵用タンクTsrからその内容物を排出するための配管Lptと、残留物貯蔵用タンクTsr内の上方に溜まった気体の排気を行うための配管Cv*を伴う排気装置(図示されていない)を具備している。配管Lsrは、位置Qsrにおいて、殺菌剤配管経路Ls上のバルブVsの下流側にある位置Qsに接続している。配管Lptは、位置Qptと位置Qdrの間にバルブVaとポンプPptを備えている。
2. G. 1) Volume reduction/removal of residue (process G1)
First, the residue storage tank Tsr is prepared in advance. The residue storage tank Tsr includes a pipe Lsr for supplying the residue Re to the residue storage tank Tsr, a pipe Lpt for discharging the content from the residue storage tank Tsr, and a residue storage An exhaust device (not shown) is provided with a pipe Cv* for exhausting the gas accumulated in the tank Tsr for use above. The pipe Lsr is connected to the position Qs on the downstream side of the valve Vs on the disinfectant pipe passage Ls at the position Qsr. The pipe Lpt is provided with a valve Va and a pump Ppt between the position Qpt and the position Qdr.

なお、残留物貯蔵用タンクTsrは、低濃度の中和剤An#を注入する装置を具備していてもよい。低濃度の中和剤An#の注入は、(i)残留物Re中に存在する又は残留物に由来して発生する遊離有効塩素の無害化に役立つとともに、(ii)当該遊離有効塩素と中和剤An*との反応の際に発生する発熱の量を低く抑えるのに役立つ。   The residue storage tank Tsr may be equipped with a device for injecting a low concentration neutralizing agent An#. The injection of a low concentration of the neutralizing agent An# serves to detoxify (i) the free available chlorine existing in the residue Re or generated from the residue, and (ii) the free available chlorine and the medium. It helps to keep the amount of heat generated during the reaction with the Japanese medicine An* low.

残留物貯蔵用タンクTsrは、低濃度の中和剤An#を注入する装置を具備している場合、インペラのような公知の攪拌手段を具備していてもよい。   When the residue storage tank Tsr is equipped with a device for injecting a low concentration neutralizing agent An#, it may be equipped with a known stirring means such as an impeller.

(工程G2)
次に、混合攪拌槽Ts内及びこれに接続する位置Qsまでの殺菌剤配管経路Ls内の何れかの場所に存在する残留物Reを、バルブVbpを開、バルブVa及びVsを閉にした状態でポンプPsにより付勢して、Qs→Lsr→Tsrの経路に沿って移動させ、残留物貯蔵用タンクTsr内に収容させる。その場合、水供給部S[ws]から真水wsを混合攪拌槽Tsに追加供給し、当該何れかの場所に存在する残留物Reを真水wsで希釈する又は洗浄もしくは押し流してもよい(ただし、残留物貯蔵用タンクTsrの容量には上限があるので、必要に応じて残留物貯蔵用タンクTsrの内容物を別の場所に移動させたうえで、真水wsの追加供給を行う)。なお、この残留物Reの残留物貯蔵用タンクTsrへの移動は、たとえば第三段階S3の終了後、特に第三段階S3の終了後のできるだけ早い時期(たとえば一時間以内)に行うのが望ましい。
(Process G2)
Next, the residue Re existing in any place in the sterilizing agent piping path Ls up to the position Qs connected to the mixing stirring tank Ts, the state in which the valve Vbp is opened and the valves Va and Vs are closed. Then, it is urged by the pump Ps to move along the route of Qs→Lsr→Tsr and accommodated in the residue storage tank Tsr. In that case, fresh water ws may be additionally supplied from the water supply unit S[ws] to the mixing and stirring tank Ts, and the residue Re existing in any of the locations may be diluted with fresh water ws or washed or washed away (however, Since there is an upper limit to the capacity of the residue storage tank Tsr, the contents of the residue storage tank Tsr are moved to another location as necessary, and then fresh water ws is additionally supplied). It should be noted that it is desirable to move the residue Re to the residue storage tank Tsr, for example, after the completion of the third step S3, particularly as soon as possible after the completion of the third step S3 (for example, within one hour). ..

(工程G3)
次に、残留物貯蔵用タンクTsr内に収容されている残留物Reに対し、後述の処理1乃至処理3のいずれかを行うことにより、残留物Reを残留物貯蔵用タンクTsr内に貯蔵する。そして、残留物貯蔵用タンクTsr内に貯蔵されている残留物Reに対し、処理5を行う。状況が許すのであれば処理5の前に処理4を行う。
(Process G3)
Next, the residue Re stored in the residue storage tank Tsr is stored in the residue storage tank Tsr by performing one of the processes 1 to 3 described below. .. Then, the process 5 is performed on the residue Re stored in the residue storage tank Tsr. If the situation permits, process 4 is performed before process 5.

(処理1)
バルブVa及びVsを閉にしたままで所定期間、残留物Reを残留物貯蔵用タンクTsr内に貯蔵する。ここで、所定期間とは、残留物Reを、残留物貯蔵用タンクTsr内に収容させた後、次の処理を開始するまでの期間を意味し、当該次の処理の種類や内容により、(i)数秒間、数分間などのかなり短い期間である場合もあれば、(ii)数十分、数時間などの中程度の長さの時間が経過するまでの期間である場合もあれば、(iii)数日、数週間などの比較的長い時間が経過するまでの期間である場合もある。
(Process 1)
The residue Re is stored in the residue storage tank Tsr for a predetermined period with the valves Va and Vs kept closed. Here, the predetermined period means a period until the next process is started after the residue Re is stored in the residue storage tank Tsr, and depending on the type and content of the next process, ( i) It may be a fairly short period such as a few seconds or a few minutes, or (ii) a period of a medium length such as a few tens of minutes or a few hours, etc. (Iii) It may be a period until a relatively long time, such as several days or weeks, elapses.

(処理2)
工程G2の実行により残留物貯蔵用タンクTsr内に収容された残留物Reを、バルブVa及びVsを開にした状態でポンプPptにより付勢して、Tsr→Lpt→Qdr→Ldr1→Tsの経路に沿って移動させ、混合攪拌槽Ts内へ還流させる。その後、混合攪拌槽Ts内に還流された残留物Reを、Ts→Dbp→Ls→Qs→Lsr→Tsrの経路に沿って移動させる。その際には、バルブVbpを開、バルブVsを閉にした状態でポンプPsにより残留物Reを付勢する。これにより、残留物Reを混合攪拌槽Tsから排出させ、再び残留物貯蔵用タンクTsr内に収容させ、総じて残留物貯蔵用タンクTsr内と混合攪拌槽Tsとの間を循環させる。
(Processing 2)
The residue Re stored in the residue storage tank Tsr by the execution of the process G2 is urged by the pump Ppt with the valves Va and Vs opened, and the route of Tsr→Lpt→Qdr→Ldr1→Ts. And is refluxed into the mixing and stirring tank Ts. Then, the residue Re refluxed in the mixing and stirring tank Ts is moved along the route of Ts→Dbp→Ls→Qs→Lsr→Tsr. At that time, the residue Re is urged by the pump Ps with the valve Vbp open and the valve Vs closed. As a result, the residue Re is discharged from the mixing and stirring tank Ts, stored again in the residue storage tank Tsr, and is generally circulated between the inside of the residue storage tank Tsr and the mixing and stirring tank Ts.

上記の循環を少なくとも一回行なった後、最終的に、残留物Reを残留物貯蔵用タンクTsr内に収容させ、バルブVa及びVsを閉にし、所定期間、残留物貯蔵用タンクTsr内に貯蔵する。ここで、所定期間は、処理1における所定期間と同義である。一般に、上記の循環の回数が多いほど、混合攪拌槽Ts及び殺菌剤配管経路Lsからの残留物Reの減容又は除去の効果は高くなるので、二回以上循環させるのが望ましい。   After performing the above circulation at least once, finally, the residue Re is stored in the residue storage tank Tsr, the valves Va and Vs are closed, and the residue Re is stored in the residue storage tank Tsr for a predetermined period. To do. Here, the predetermined period is synonymous with the predetermined period in the process 1. Generally, the greater the number of times of circulation described above, the higher the effect of reducing or removing the volume of the residue Re from the mixing and stirring tank Ts and the sterilizing agent piping path Ls.

なお、混合攪拌槽Ts内に還流された残留物Reを再び残留物貯蔵用タンクTsr内に収容させる際には、(a)水供給部S[ws]から真水wsを混合攪拌槽Tsに追加供給し、混合攪拌槽Ts内及びこれに接続する位置Qsまでの殺菌剤配管経路Ls内の何れかの場所に存在する残留物Reを真水wsで希釈する又は洗浄もしくは押し流してもよい。これにより、当該何れかの場所に存在する残留物Reの減容又は除去を、より効果的に行うことができる(ただし、残留物貯蔵用タンクTsrの容量には上限があるので、必要に応じて残留物貯蔵用タンクTsrの内容物を別の場所に移動させたうえで、真水wsの追加供給を行う)。   When the residue Re that has been refluxed in the mixing and stirring tank Ts is stored again in the residue storage tank Tsr, (a) fresh water ws is added to the mixing and stirring tank Ts from the water supply section S[ws]. The residue Re which is supplied and exists in any place in the sterilizing agent piping path Ls up to the position Qs connected to the mixing and stirring tank Ts may be diluted with fresh water ws or washed or washed away. As a result, it is possible to more effectively reduce or remove the residue Re existing in any of the places (however, since the capacity of the residue storage tank Tsr has an upper limit, if necessary, After moving the contents of the residue storage tank Tsr to another location, fresh water ws is additionally supplied).

また、その際には、(b)給水導管Cwsの途中の位置Qnから、低濃度の中和剤An*を注入し、真水wsで希釈された状態で混合攪拌槽Ts内に供給してもよい。低濃度の中和剤An*の供給は、(i)残留物Re中に存在する又は残留物に由来して発生する遊離有効塩素の無害化に役立つ、または、中和剤An*と当該遊離有効塩素との反応の過程で、混合攪拌槽Ts内及び殺菌剤配管経路Ls内の何れかの場所に析出、堆積又は固化した残留物Reの溶解や剥離を促進し、当該何れかの場所に存在する残留物Reの減容又は除去の効果をより高めるとともに、(ii)当該遊離有効塩素と中和剤An*との反応の際に発生する発熱の量を低く抑えるのに役立つ。   In that case, (b) even if a low-concentration neutralizing agent An* is injected from a position Qn in the middle of the water supply conduit Cws and supplied into the mixing stirring tank Ts diluted with fresh water ws. Good. Supplying a low concentration of neutralizing agent An* helps to detoxify (i) free available chlorine existing in the residue Re or generated from the residue, or the neutralizing agent An* and the free In the process of reaction with available chlorine, precipitation, deposition or solidification in any place in the mixing stirring tank Ts and in the sterilizing agent piping path Ls promotes dissolution or peeling of the residue Re, and in any such place. It serves to further enhance the effect of reducing or removing the existing Re, and (ii) to suppress the amount of heat generated during the reaction between the free available chlorine and the neutralizing agent An* to be low.

(処理3)
残留物Reを、バルブVaを開、バルブVbp及びVsを閉にした状態でポンプPpt及びPsにより付勢して、Tsr→Lpt→Qdr→Ldr2→Qs2→Ls→Qs→Qsr→Lsr→Tsrの経路に沿って移動させる。位置Qs2は、殺菌剤配管経路Ls上の、バルブVbpの下流、ポンプPsの上流の位置である。これにより、残留物Reを残留物貯蔵用タンクTsr外に排出させ、殺菌剤配管経路Lsを経由して、再び残留物貯蔵用タンクTsr内に収容させ、総じて、残留物Reを、残留物貯蔵用タンクTsr内と混合攪拌槽Tsとの間で循環させる。
(Process 3)
The residue Re is urged by the pumps Ppt and Ps with the valve Va opened and the valves Vbp and Vs closed, and Tsr → Lpt → Qdr → Ldr2 → Qs2 → Ls → Qs → Qsr → Lsr → Tsr Move along the path. The position Qs2 is a position on the germicide pipe path Ls, downstream of the valve Vbp and upstream of the pump Ps. As a result, the residue Re is discharged to the outside of the residue storage tank Tsr and is stored again in the residue storage tank Tsr via the sterilizing agent piping path Ls. In general, the residue Re is stored in the residue storage tank Tsr. It is circulated between the tank Tsr for mixing and the mixing and stirring tank Ts.

上記の循環を少なくとも一回行なった後、最終的に、残留物Reを残留物貯蔵用タンクTsr内に収容させ、バルブVa及びVsを閉にし、所定期間、残留物貯蔵用タンクTsr内に貯蔵する。ここで、所定期間は、処理1における所定期間と同義である。一般に、上記の循環の回数が多いほど、殺菌剤配管経路Lsからの残留物Reの減容又は除去の効果は高くなるので、二回以上循環させるのが望ましい。   After performing the above circulation at least once, finally, the residue Re is stored in the residue storage tank Tsr, the valves Va and Vs are closed, and the residue Re is stored in the residue storage tank Tsr for a predetermined period. To do. Here, the predetermined period is synonymous with the predetermined period in the process 1. In general, the greater the number of times of circulation described above, the higher the effect of reducing or removing the residue Re from the sterilizing agent piping path Ls becomes, and therefore it is desirable to circulate at least twice.

(処理4)
残留物貯蔵用タンクTsrが、そのタンクTsr内に低濃度の中和剤An#を注入する装置及びそのタンクTsr内を攪拌する攪拌手段を具備している場合には、残留物貯蔵用タンクTsr内の残留物Reに低濃度の中和剤An#を注入しつつ攪拌を行い、残留物Reを無害化する。
(Processing 4)
When the residue storage tank Tsr is equipped with a device for injecting a low concentration neutralizing agent An# into the tank Tsr and a stirring means for stirring the tank Tsr, the residue storage tank Tsr The residue Re is detoxified by stirring while injecting a low-concentration neutralizing agent An# into the residue Re.

(処理5)
残留物貯蔵用タンクTsr内に貯蔵されている残留物Reを、バルブVaを開にした状態でポンプPptにより付勢して、Tsr→Lpt→Qdr→Vb3の経路Ldr3に沿って移動させて、残留物貯蔵用タンクTsr外へ排出させる。無害化された残留物Reの排出先は、(i)船舶VSLが搭載するバラストタンクBT、(ii)ビルジタンク(図示されていない)であってもよく、(iii)船舶VSL外であってもよい。
(Process 5)
The residue Re stored in the residue storage tank Tsr is urged by the pump Ppt with the valve Va opened, and moved along the route Ldr3 of Tsr → Lpt → Qdr → Vb3, Discharge to the outside of the residue storage tank Tsr. The discharge destination of the detoxified residue Re may be (i) a ballast tank BT mounted on the ship VSL, (ii) a bilge tank (not shown), or (iii) outside the ship VSL. Good.

なお、船舶VSLが搭載するバラストタンクBTや船舶VSL外へ排出させる場合には、水Woがバラスト水取水用配管Lf内をバラストタンクBT又は船外に向かって流通しているとき、無害化された残留物ReをTsr→Lpt→Qdr→Vb3→Vs→Isの経路に沿って移動させて、開状態のバルブVs を経由させて殺菌剤注入口Isから水Woに注入してもよい。その場合、無害化された残留物Reが位置QsからポンプPsの側に流れ込まないように(たとえば、ポンプPsの下流側に逆止弁を予め設けておく)手当てを済ませておく。   When discharged to the outside of the ballast tank BT mounted on the ship VSL or the ship VSL, it is rendered harmless when the water Wo flows through the ballast water intake pipe Lf toward the ballast tank BT or outside the ship. The residual Re may be moved along the path of Tsr→Lpt→Qdr→Vb3→Vs→Is and injected into the water Wo from the germicide injection port Is via the valve Vs in the open state. In that case, care is taken to prevent the detoxified residue Re from flowing from the position Qs to the pump Ps side (for example, a check valve is provided in advance on the downstream side of the pump Ps).

また、無害化された残留物Reを船舶VSL外へ排出する場合には、後述の還元剤供給装置Nが動作しているとき、還元剤供給経路Lnの、還元剤注入口Inより上流、ポンプPnの下流の位置から、その無害化された残留物Reが注入されるように構成してもよい。   Further, when the detoxified residue Re is discharged to the outside of the ship VSL, when the reducing agent supply device N described later is operating, the reducing agent supply path Ln is upstream of the reducing agent injection port In, and is pumped. The detoxified residue Re may be injected from a position downstream of Pn.

残留物Reを残留物貯蔵用タンクTsr内に貯蔵する場合には、処理1の後、処理5を行なってもよく、処理1の後、状況が許せば処理4を行い、最後に処理5を行なってもよい。また、処理2乃至処理4のうち少なくとも二つを組み合わせて行ってもよい。たとえば、(i)処理2又は処理3を実行した後あるいは処理2及び処理3のいずれか一方を先に実行し次に他方を実行した後、状況が許せば処理4を行い、最後に処理5を行う、(ii)処理2及び処理3のいずれか一方を先に実行した後他方を実行することを繰り返し、状況が許せば処理4を行い、最後に処理5を行う、といった組み合わせも採用できる。   When the residue Re is stored in the residue storage tank Tsr, the treatment 1 and the treatment 5 may be performed. After the treatment 1, the treatment 4 is performed if circumstances permit, and the treatment 5 is finally performed. You may do it. Further, at least two of the processes 2 to 4 may be combined. For example, (i) after performing the process 2 or the process 3, or after performing one of the process 2 and the process 3 first and then the other, the process 4 is performed if the situation permits, and finally the process 5 It is also possible to adopt a combination of (ii) performing (ii) one of processing 2 and processing 3 first and then repeating the other, performing processing 4 if circumstances permit, and finally performing processing 5. ..

2.G.2)内表面の乾燥防止
混合攪拌槽Tsや殺菌剤配管経路Lsの内表面が溶媒(真水ws)の蒸発により乾燥しないようにするため、残留物Reを残留物貯蔵用タンクTsmへ移動させると否とにかかわらず、水供給部S[ws]から混合攪拌槽Ts内に真水wsを供給し、その真水wsにより混合攪拌槽Ts内を満たし、必要があれば追加で給水して、混合攪拌槽Tsの内容物の液位を維持する。その場合、必要があれば、バルブVbpを開状態にする。バルブVbpを開状態にすると、混合攪拌槽Tsの下部に接続している殺菌剤配管経路Ls内も真水wsで満たすことができ、殺菌剤配管経路Lsの内表面の乾燥も防止することができる。
2. G. 2) Drying prevention of inner surface When the residue Re is moved to the residue storage tank Tsm in order to prevent the inner surfaces of the mixing stirring tank Ts and the disinfectant pipe line Ls from being dried by the evaporation of the solvent (fresh water ws). Regardless of whether or not, fresh water ws is supplied from the water supply unit S[ws] into the mixing and stirring tank Ts, the mixing and stirring tank Ts is filled with the fresh water ws, and if necessary, additional water is supplied to perform mixing and stirring. Maintain the liquid level of the contents of the tank Ts. In that case, the valve Vbp is opened if necessary. When the valve Vbp is opened, the inside of the disinfectant piping path Ls connected to the lower part of the mixing and stirring tank Ts can be filled with fresh water ws, and the inner surface of the disinfectant piping path Ls can be prevented from drying. ..

混合攪拌槽Tsへの真水wsの供給とその停止により、混合攪拌槽Tsの内容物の液位を維持するための液位調整機構の代表例は、混合攪拌槽Tsの内容物の液位を計測する液位計と、給水導管Cwsに取り付けられ、液位計により計測される液位と、予め設定されている液位上限値との差に応じて自動開閉を行う弁体との組み合わせである。このような液位調整機構によれば、混合攪拌槽Tsの内容物は液位上限値まで満ちることになるので、液位上限値以下にある、混合攪拌槽Tsや殺菌剤配管経路Lsの内表面の乾燥を防止することができる。   A representative example of a liquid level adjusting mechanism for maintaining the liquid level of the contents of the mixing and stirring tank Ts by supplying and stopping the supply of fresh water ws to the mixing and stirring tank Ts is to change the liquid level of the contents of the mixing and stirring tank Ts. A combination of a liquid level meter to measure and a valve body that is attached to the water supply conduit Cws and automatically opens and closes according to the difference between the liquid level measured by the liquid level meter and the preset liquid level upper limit value. is there. According to such a liquid level adjusting mechanism, the contents of the mixing and stirring tank Ts will be filled up to the liquid level upper limit value, so that the mixing stirring tank Ts and the sterilizing agent piping path Ls that are below the liquid level upper limit value are It is possible to prevent the surface from drying.

また、この液位調整機構は、ボールタップ式の定水位弁であってもよい。ボールタップ式の定水位弁を給水導管Cwsの吐出口又はその近傍に取り付け、定水位弁を構成するボールを混合攪拌槽Tsの内容物に浮かせる。定水位弁は、ボールの上昇に連動して閉状態となり、下降に連動して開状態になるので、当該内容物の液位は一定レベルに維持される。そして、その一定レベル以下にある、混合攪拌槽Tsや殺菌剤配管経路Lsの内表面の乾燥を防止することができる。   The liquid level adjusting mechanism may be a ball tap type constant water level valve. A ball tap type constant water level valve is attached to the discharge port of the water supply conduit Cws or in the vicinity thereof, and the balls constituting the constant water level valve are floated on the contents of the mixing stirring tank Ts. The constant water level valve is closed in association with the rise of the ball and is opened in association with the fall of the ball, so that the liquid level of the content is maintained at a constant level. Then, it is possible to prevent the inner surfaces of the mixing and stirring tank Ts and the disinfectant pipe path Ls, which are below the certain level, from being dried.

混合攪拌槽Ts内で塩素系殺菌剤Asを製造しているときの、混合攪拌槽Tsの内表面と接触する混合物Cs又は塩素系殺菌剤Asの液位の最上位置をLmとすると、水供給部S[ws]から混合攪拌槽Ts内に供給された真水wsの液位Lpは、Lmと同じ又はLmより高い液位であることが望ましい。このようなLmとLpの関係であれば、混合物Cs又は塩素系殺菌剤Asと接触していた混合攪拌槽Tsの内表面は必ず水没することになり、乾燥することがないからである。   When the chlorine-based germicide As is produced in the mixing and stirring tank Ts, if the uppermost position of the liquid level of the mixture Cs or the chlorine-based germicide As that comes into contact with the inner surface of the mixing and stirring tank Ts is Lm, water supply The liquid level Lp of the fresh water ws supplied from the section S[ws] into the mixing stirring tank Ts is preferably the same as Lm or higher than Lm. This is because, in such a relationship between Lm and Lp, the inner surface of the mixing stirring tank Ts that was in contact with the mixture Cs or the chlorine-based sterilizing agent As will always be submerged and will not be dried.

<実施形態2>
1)基本構成
図31は、本発明を適用する前の、水処理装置D1の変形例である水処理装置D2の基本構成の説明図である。この水処理装置D2は、図10に示されている水処理装置D1と同様、原料固形物msと真水wsとの混合により塩素系殺菌剤Asを製造する溶液製造部S[pr]と、混合攪拌槽Ts内に原料固形物msを供給するためのホッパー部S[hp]と、混合攪拌槽Ts内に真水wsを供給するための水供給部S[ws]と、原料固形物msが真水wsに溶解することにより製造される塩素系殺菌剤Asを、船外から導入され、バラスト水取水用配管経路Lfを流通する水Woに注入するための殺菌剤注入部S[is]とを備えている。ホッパー部S[hp]は、図示されていない支持機構により位置決めされている。
<Embodiment 2>
1) Basic configuration FIG. 31 is an explanatory diagram of a basic configuration of a water treatment device D2 that is a modified example of the water treatment device D1 before applying the present invention. Like the water treatment device D1 shown in FIG. 10, this water treatment device D2 is mixed with a solution production section S[pr] for producing a chlorine-based bactericide As by mixing raw solid matter ms and fresh water ws. A hopper section S[hp] for supplying the raw material solids ms into the stirring tank Ts, a water supply section S[ws] for supplying fresh water ws into the mixing stirring tank Ts, and the raw material solids ms are fresh water Equipped with a disinfectant injection part S[is] for injecting chlorine-based disinfectant As produced by dissolving in ws into the water Wo that is introduced from the outside of the ship and flows through the ballast water intake pipe line Lf. ing. The hopper section S[hp] is positioned by a support mechanism (not shown).

1.1)溶解製造部S[pr]
(1) 溶液製造部S[pr]は、原料固形物msを真水wsに混合させる(つまり、原料固形物msと真水wsの混合物Csを製造する)混合部S[mx]と、混合物Csを攪拌することにより原料固形物msを真水wsに溶解させる(つまり、混合物Csから塩素系殺菌剤Asを製造する)溶解促進部S[st]とから構成されている。
1.1) Dissolution Manufacturing Department S[pr]
(1) The solution production unit S[pr] mixes the raw material solid ms with fresh water ws (that is, produces the mixture Cs of the raw material solid ms and fresh water ws) and the mixing unit S[mx]. It is composed of a dissolution promoting unit S[st] that dissolves the raw material solid matter ms in fresh water ws by stirring (that is, produces the chlorine-based germicide As from the mixture Cs).

(2) 混合部S[mx]は、バッファタンクTcsと、ホッパー部S[hp]から供給される原料固形物ms(又はms*)をバッファタンクTcs内に供給するための原料供給路Cmsの吐出開口部と、水供給部S[ws]から供給される真水wsを混合攪拌槽Ts内に供給するための給水導管Cwsの吐出開口部と、混合物Csの上方の空間から混合攪拌槽Ts外への気体Gvの排出を行うための排気手段と、混合攪拌槽Tsの槽内の露出を防止するための上蓋Tcs1とを備えている。排気手段は、水処理装置D1が備える廃棄手段と基本的に同じであるので、その説明は省略する。   (2) The mixing section S[mx] has a buffer tank Tcs and a raw material supply path Cms for supplying the raw material solids ms (or ms*) supplied from the hopper section S[hp] into the buffer tank Tcs. From the discharge opening, the discharge opening of the water supply conduit Cws for supplying the fresh water ws supplied from the water supply section S[ws] into the mixing and stirring tank Ts, and the space above the mixture Cs from the mixing and stirring tank Ts An exhaust means for discharging the gas Gv to the tank and an upper lid Tcs1 for preventing the inside of the mixing and stirring tank Ts from being exposed are provided. The evacuation means is basically the same as the disposal means provided in the water treatment device D1, and therefore its explanation is omitted.

バッファタンクTcsの下部は略漏斗状をなしており、バッファタンクTcsに収容されている内容物(主に混合物Cs)が下降したとき、略漏斗状の最下部にある排出口Dcbpから、排出口Dcbpと一端が接続されている配管Lc0を通じて後述の投入位置Qc1に向かって移動するように構成されている。   The lower part of the buffer tank Tcs has a substantially funnel shape, and when the contents (mainly the mixture Cs) contained in the buffer tank Tcs descends, the discharge port Dcbp at the lowermost part of the substantially funnel shape causes a discharge port. It is configured to move toward a loading position Qc1 described later through a pipe Lc0 having one end connected to Dcbp.

(3) 溶解促進部S[st]は、排出口Dcbpと一端が接続されている配管Lc0の他端が接続する投入位置Qc1と、投入位置Qc1の下流にあるポンプPcと、ポンプPcの下流にある固液分離装置Spと、投入位置Qc1、ポンプPc及び固液分離装置Spとを順に接続するとともに、固液分離装置Spと投入位置Qc1とを接続する循環配管経路Lcとを備えている。   (3) The dissolution promoting unit S[st] includes a closing position Qc1 to which the other end of the pipe Lc0 whose one end is connected to the discharge port Dcbp is connected, a pump Pc located downstream of the supplying position Qc1, and a downstream side of the pump Pc. In addition to connecting the solid-liquid separation device Sp and the input position Qc1, the pump Pc and the solid-liquid separation device Sp in order, a circulation pipe path Lc that connects the solid-liquid separation device Sp and the input position Qc1 is provided. ..

混合部S[mx]から配管Lc0を通じて投入位置Qc1に投入される、バッファタンクTcsの内容物は、ポンプPcにより付勢されるとともに攪拌され、循環配管経路Lcに沿って固液分離装置Spに向かって移動する。その移動の過程で、当該内容物は、その少なくとも一部が溶液(原料固形物msが真水wsに溶解してできる塩素系殺菌剤As)になり、混合物Csと塩素系殺菌剤Asが混ざった状態になり、固液分離装置Spにおいて、(A)塩素系殺菌剤Asの一部と、(B)当該塩素系殺菌剤Asの残部又は真水wsと、真水wsに溶解しなかった原料固形物msとの混合物に分離される。前者(A)は、固液分離装置Spの液体排出口Qc2から後述の殺菌剤注入部S[is]へ移動し、残部の後者(B)は、固体排出口Qc3から、循環配管経路Lcに沿って、投入位置Qc1に向かって移動する。後者(B)は、投入位置Qc1に向かって移動する過程で攪拌されるので、その少なくとも一部が塩素系殺菌剤Asになり、投入位置Qc1において、殺菌剤注入部S[is]への前者(A)の移動量を補充するに足るだけの量のバッファタンクTcsの内容物が投入を受け、補充されたバッファタンクTcsの内容物とともに、再びポンプPcにより付勢され、攪拌され、循環配管経路Lcに沿って固液分離装置Spに向かって移動する。   The content of the buffer tank Tcs, which is charged from the mixing section S[mx] to the charging position Qc1 through the pipe Lc0, is urged and agitated by the pump Pc, and is supplied to the solid-liquid separation device Sp along the circulation pipe path Lc. Move towards. In the process of the transfer, at least a part of the content becomes a solution (a chlorine-based germicide As that is formed by dissolving the raw material solid matter ms in fresh water ws), and the mixture Cs and the chlorine-based germicide As are mixed. In the solid-liquid separation device Sp, (A) a part of the chlorine-based bactericide As, (B) the rest of the chlorine-based bactericide As or fresh water ws, and raw material solids not dissolved in fresh water ws separated into a mixture with ms. The former (A) moves from the liquid outlet Qc2 of the solid-liquid separator Sp to the sterilizing agent injection section S[is] described below, and the remaining latter (B) moves from the solid outlet Qc3 to the circulation piping path Lc. Along this, it moves toward the closing position Qc1. Since the latter (B) is agitated in the process of moving toward the charging position Qc1, at least a part thereof becomes the chlorine-based bactericide As, and at the charging position Qc1, the former to the bactericide injection section S[is] (A) The amount of the contents of the buffer tank Tcs that is sufficient to replenish the moving amount is received, and the contents of the replenished buffer tank Tcs are urged again by the pump Pc, stirred, and the circulation pipe It moves toward the solid-liquid separation device Sp along the path Lc.

溶解促進部S[st]は、上記のようなに構成されているので、投入又は補充されたバッファタンクTcsの内容物が循環配管経路Lcに沿って循環する過程で塩素系殺菌剤Asを連続的に製造することができ、製造された塩素系殺菌剤Asを固液分離装置Spにより分離することができる。   Since the dissolution promoting unit S[st] is configured as described above, the chlorine-based germicide As is continuously supplied in the process in which the content of the buffer tank Tcs that has been added or replenished circulates along the circulation piping route Lc. The chlorine-based bactericide As produced can be separated by the solid-liquid separator Sp.

なお、固液分離装置Spの代表例は、液体サイクロンである。固液分離装置Spが液体サイクロンである場合は、液体サイクロンの内容物の液位は、バッファタンクTcsの内容物の液位よりも下に配置させる。バッファタンクTcsの内容物の混合部S[mx]から投入位置Qc1への移動は、重力及びポンプPcによる負圧の作用による。   A typical example of the solid-liquid separation device Sp is a liquid cyclone. When the solid-liquid separator Sp is a hydrocyclone, the liquid level of the contents of the liquid cyclone is arranged below the liquid level of the contents of the buffer tank Tcs. The movement of the contents of the buffer tank Tcs from the mixing section S[mx] to the charging position Qc1 is due to the action of gravity and the negative pressure of the pump Pc.

1.2)ホッパー部S[hp]
ホッパー部S[hp]は、図10に示されている水処理装置D1のそれと変わらないので、説明は省略する。
1.2) Hopper S (hp)
The hopper S[hp] is the same as that of the water treatment device D1 shown in FIG.

1.3)水供給部S[ws]
水供給部S[ws]は、図10に示されている水処理装置D1のそれと変わらないので、説明は省略する。
1.3) Water supply unit S[ws]
Since the water supply unit S[ws] is the same as that of the water treatment device D1 shown in FIG. 10, the description thereof will be omitted.

1.4)殺菌剤注入部S[is]
殺菌剤注入部S[is]は、固液分離装置Spの液体排出口Qc2と、バラスト水取水用配管内に開口し、流通する海水Woに塩素系殺菌剤Asを注入する殺菌剤注入口Isと、液体排出口Qc2と殺菌剤注入口Isを接続する殺菌剤配管経路Lsを備えている。殺菌剤配管経路Lsは、殺菌剤注入口Isからバラスト水取水用配管経路Lfへの塩素系殺菌剤Asの注入と停止を切り替えるためのバルブVsと、液体排出口Qc2の下流、バルブVsの上流において殺菌剤配管経路Lsに沿った塩素系殺菌剤Asの移動を駆動するポンプPsを備えている。
1.4) Sterilizer injection part S[is]
The disinfectant injection part S[is] is opened in the liquid discharge port Qc2 of the solid-liquid separation device Sp and the ballast water intake pipe, and injects the chlorine-based disinfectant As into the circulating seawater Wo. And a disinfectant piping path Ls connecting the liquid outlet Qc2 and the disinfectant inlet Is. The disinfectant pipe line Ls is a valve Vs for switching the injection and stop of the chlorine-based disinfectant As from the disinfectant inlet Is to the ballast water intake pipe line Lf, and the downstream of the liquid outlet Qc2 and the upstream of the valve Vs. In, a pump Ps for driving the movement of the chlorine-based sterilizing agent As along the sterilizing agent piping path Ls is provided.

ポンプPsは、液体排出口Qc2から排出される塩素系殺菌剤Asが存在し、バルブVsが開であるとき、固液分離装置Sp内からの塩素系殺菌剤Asの排出を助け、その塩素系殺菌剤Asを殺菌剤注入口Isから水Woに注入する。   The pump Ps assists the discharge of the chlorine-based germicide As from the solid-liquid separation device Sp when the chlorine-based germicide As discharged from the liquid outlet Qc2 exists and the valve Vs is open, and the chlorine-based germicide As Inject the germicide As into the water Wo from the germicide inlet Is.

なお、殺菌剤注入部S[is]は、固液分離装置Sp内から排出される塩素系殺菌剤Asを一時的に貯留する槽や、そのような塩素系殺菌剤Asを循環配管経路Lcへ帰還させる帰還用配管経路を具備していてもよい。   The disinfectant injection unit S[is] is a tank for temporarily storing the chlorine-based disinfectant As discharged from the solid-liquid separation device Sp, or such a chlorine-based disinfectant As is supplied to the circulation piping route Lc. It may be provided with a return piping route for returning.

1.5)動作
図31に示されている水処理装置D2においては、まず、ホッパーHから原料固形物msが、給水導管Cwsから真水wsが、それぞれバッファタンクTcs内に供給され、バッファタンクTcsに原料固形物msと真水wsの混合物Csが収容されるに至る。その後、混合物CsがバッファタンクTcsから配管Lc0を通じて循環配管経路Lcへ移動し、ポンプPcの付勢を受けて循環配管経路Lcに沿って循環し、その循環の過程で攪拌を受ける。その攪拌により、原料固形物msの真水wsへの溶解が進み、塩素系殺菌剤Asが製造される。製造された塩素系殺菌剤Asは、固液分離装置Sp内から排出され、殺菌剤配管経路Lsを通じて移動し、殺菌剤注入口Isからバラスト水取水用配管経路Lfを流通する水Woに注入され、水Woを殺菌する。なお、塩素系殺菌剤Asが注入された水Woは、ミキサーMxsを通過した後、殺菌剤注入済みの水WsとしてバラストタンクBTに向かって移動して行き、バラストタンクBTに収容される。
1.5) Operation In the water treatment device D2 shown in FIG. 31, first, the raw material solids ms are supplied from the hopper H and the fresh water ws is supplied from the water supply conduit Cws into the buffer tank Tcs, respectively. A mixture Cs of raw solid matter ms and fresh water ws is stored in the. Then, the mixture Cs moves from the buffer tank Tcs to the circulation piping route Lc through the pipe Lc0, is urged by the pump Pc, circulates along the circulation piping route Lc, and is agitated in the course of the circulation. By the stirring, dissolution of the raw material solid matter ms in fresh water ws proceeds, and the chlorine-based bactericide As is produced. The produced chlorine-based germicide As is discharged from the solid-liquid separator Sp, moves through the germicide piping path Ls, and is injected from the germicide injection port Is into the water Wo flowing through the ballast water intake piping path Lf. , Sterilize water Wo. After passing through the mixer Mxs, the water Wo into which the chlorine-based sterilizing agent As has been injected moves toward the ballast tank BT as the sterilizing agent-injected water Ws, and is stored in the ballast tank BT.

1.6)各工程との関係
工程S01は水処理装置D2、特にホッパーHを準備する工程であり、工程S02は、ホッパーHに装入するための原料固形物msを準備する工程である。工程S11はホッパー部S[hp]で実行され、工程S21は溶液製造部S[pr]、特に混合は混合部S[mx]で、攪拌は溶解促進部S[st]で実行され、工程S31は殺菌剤注入部S[is]で実行される。
1.6) Relationship with Each Step Step S01 is a step of preparing the water treatment device D2, especially the hopper H, and Step S02 is a step of preparing the raw solid matter ms to be charged into the hopper H. Step S11 is performed in the hopper section S[hp], step S21 is performed in the solution manufacturing section S[pr], particularly mixing is performed in the mixing section S[mx], stirring is performed in the dissolution promoting section S[st], and step S31 is performed. Is carried out in the germicide injection part S[is].

2)実施例
(実施例-H)
図32は、本発明に係る水処理装置の実施例-Hの説明図である。実施例-Hの構成及び動作は、ホッパー部S[hp]が温度設定機構を備えている点を除き、図31に示されている水処理装置D2のそれらと基本的に同じである。また、ホッパー部S[hp]の温度設定機構の構成及び動作は、図24に示されているホッパー部S[hp]の温度設定機構の変形例5のそれらと同じである。
2) Example (Example-H)
FIG. 32 is an explanatory diagram of Example-H of the water treatment device according to the present invention. The configuration and operation of Example-H are basically the same as those of the water treatment device D2 shown in FIG. 31, except that the hopper S[hp] is provided with a temperature setting mechanism. Further, the configuration and operation of the temperature setting mechanism of the hopper section S[hp] are the same as those of the modification 5 of the temperature setting mechanism of the hopper section S[hp] shown in FIG.

(実施例-I)
2.I.1)構成の特徴
図33は、本発明に係る水処理装置の実施例-Iの説明図である。実施例-Iの構成及び動作は、水供給部S[ws]及び混合部S[mx]のそれぞれが温度設定機構を備えている点を除き、図32に示されている水処理装置D(実施例-H)のそれらと基本的に同じである。
(Example-I)
2. I. 1) Features of Configuration FIG. 33 is an explanatory diagram of Example-I of the water treatment device according to the present invention. The configuration and operation of Example-I are the same as those of the water treatment device D (shown in FIG. 32 except that each of the water supply unit S[ws] and the mixing unit S[mx] includes a temperature setting mechanism. Basically the same as those in Example-H).

2.I.2)水供給部S[ws]の温度設定機構
水供給部S[ws]が備える温度設定機構は、少なくとも、(i)給水導管Cwsの外表面に取り付けられた温度調節装置CL2*と、(ii)給水導管Cwsの外表面と伝熱管を覆う断熱材Ins3を備えている。温度調節装置CL2*の代表例は、ペルチエ冷却ユニットである。温度調節装置CL2*は、実施例-C乃至実施例-Fが備える温度調節装置CLと同じものであってよく、温度調節装置CL2*はコイルヒータを具備していてもよく、真水wsの温度を上げる必要があるときは、当該コイルヒータにより、給水導管Cwsを介して真水wsの温度を上げるようにしてもよい。
2. I. 2) Temperature setting mechanism of water supply unit S[ws] The temperature setting mechanism of the water supply unit S[ws] is at least (i) a temperature control device CL2* attached to the outer surface of the water supply conduit Cws, and ii) Ins3 is provided to cover the outer surface of the water supply conduit Cws and the heat transfer tube. A typical example of the temperature controller CL2* is a Peltier cooling unit. The temperature control device CL2* may be the same as the temperature control device CL included in Examples-C to F, and the temperature control device CL2* may include a coil heater, and the temperature of the fresh water ws When it is necessary to raise the temperature, the temperature of the fresh water ws may be raised by the coil heater via the water supply conduit Cws.

給水導管Cwsの外表面を断熱材Ins3で覆うので、真水wsの温度Twsへの環境温度の影響を低減することができる。また、温度調節装置CL2*により、真水wsの温度を特定温度範囲内に設定することができる。   Since the outer surface of the water supply conduit Cws is covered with the heat insulating material Ins3, the influence of the environmental temperature on the temperature Tws of the fresh water ws can be reduced. Further, the temperature of the fresh water ws can be set within a specific temperature range by the temperature control device CL2*.

2.I.3)混合部S[mx]の温度設定機構
混合部S[mx]の温度設定機構は、少なくとも、バッファタンクTcs、その上蓋Tcs1及びその底部のそれぞれを、距離をおくことなく覆う断熱材Ins4*、Ins4u*及びIns4d*を備えている。
2. I. 3) Temperature setting mechanism of the mixing section S[mx] The temperature setting mechanism of the mixing section S[mx] is an insulating material Ins4* that covers at least the buffer tank Tcs, its upper lid Tcs1 and its bottom without any distance. , Ins4u* and Ins4d*.

この温度設定機構によれば、バッファタンクTcsの外表面、従ってバッファタンクTcs内と外部との間の熱伝達が断熱材Ins4*、Ins4u*及びIns4d*により遮断されるので、環境温度が容器内温度上限より高いときや、容器内温度下限より低いときであっても、バッファタンクTcs内の混合物Csの温度Tcsや原料固形物msが真水wsに溶解してできる塩素系殺菌剤Asの温度Tasへの、環境温度の影響を小さくすることができる。また、環境温度の影響の影響により温度Tcsや温度Tasが上昇し難くなるので、ホッパーH内の温度Thへの、バッファタンクTcsの内容物の温度の影響を小さくすることができる。   According to this temperature setting mechanism, the heat transfer between the outer surface of the buffer tank Tcs, that is, the inside of the buffer tank Tcs and the outside is blocked by the heat insulating materials Ins4*, Ins4u*, and Ins4d*, so that the environmental temperature inside the container Even when it is higher than the upper temperature limit or lower than the lower temperature limit in the container, the temperature Tas of the chlorine-based germicide As that is formed by dissolving the temperature Tcs of the mixture Cs in the buffer tank Tcs and the raw material solid ms in the fresh water ws It is possible to reduce the influence of ambient temperature on the temperature. Moreover, since the temperature Tcs and the temperature Tas are less likely to rise due to the influence of the environmental temperature, the influence of the temperature of the contents of the buffer tank Tcs on the temperature Th in the hopper H can be reduced.

2.I.4)各工程との関係
水供給部S[ws]は、工程S22が実行される領域R[s22]であり、混合部S[mx]は、工程S23が主に実行される領域R[s23]である。なお、混合部S[mx]では、溶解促進部S[st]内ほどではないが、多少、工程S24が実行されるので、混合部S[mx]は、工程S24が実行される領域R[s24]でもある。
2. I. 4) Relationship with each process The water supply part S[ws] is the region R[s22] in which the process S22 is executed, and the mixing part S[mx] is the region R[s23] in which the process S23 is mainly executed. ]. It should be noted that in the mixing section S[mx], the step S24 is executed to some extent, though not so much as in the dissolution promoting section S[st]. s24].

(実施例-J)
2.J.1)構成の特徴
図34は、本発明に係る水処理装置の実施例-Jの説明図である。実施例-Jの構成及び動作は、混合部S[mx]の温度設定機構の構成が異なる点を除き、図33に示されている水処理装置D(実施例-I)のそれらと基本的に同じである。
(Example-J)
2. J. 1) Features of Configuration FIG. 34 is an explanatory diagram of Example-J of the water treatment device according to the present invention. The configuration and operation of Example-J are basically the same as those of the water treatment device D (Example-I) shown in FIG. 33, except that the configuration of the temperature setting mechanism of the mixing section S[mx] is different. Is the same as

2.J.2)混合部S[mx]の温度設定機構
混合部S[mx]の温度設定機構の機能は、少なくとも、(i)バッファタンクTcs、その上蓋Tcs1及びその底部のそれぞれを、距離をおいて囲む断熱材Ins4、Ins4u及びIns4dと、(ii)バッファタンクTcs、その上蓋Tcs1及びその底部のそれぞれと左記断熱材との間の空間W[ti]内で熱媒体(h2、h2*)を流通させることにより、空間W[ti]の温度を調節する温度調整装置CL3*を具備している。
2. J. 2) Temperature setting mechanism of mixing section S[mx] The function of the temperature setting mechanism of mixing section S[mx] is to surround at least (i) each of the buffer tank Tcs, its upper lid Tcs1 and its bottom with a distance. The heat medium (h2, h2*) is circulated in the space W[ti] between the heat insulating materials Ins4, Ins4u and Ins4d, and (ii) the buffer tank Tcs, its upper lid Tcs1 and its bottom and the heat insulating material on the left. Therefore, it is equipped with a temperature adjustment device CL3* that adjusts the temperature of the space W[ti].

混合部S[mx]の温度設定機構の機能は、実施例-Eの溶液製造部S[pr]の温度設定機構のそれと同じである。   The function of the temperature setting mechanism of the mixing section S[mx] is the same as that of the temperature setting mechanism of the solution manufacturing section S[pr] of Example-E.

実施例-Eにおける熱媒体(h2、h2*)についての説明は、混合攪拌槽Ts及びその上蓋Ts1をそれぞれバッファタンクTcs及びその上蓋Tcs1に読み替えれば、熱媒体(h4、h4*)に当てはまる。つまり、h4は、バッファタンクTcsの上部の空間W[it]内に外部から供給され、バッファタンクTcsの壁面を介して、バッファタンクTcs内に収容されている内容物(主に混合物Cs)と熱交換する熱媒体である。h4は、上蓋Tcs1を介して、当該内容物の上方にある、バッファタンクTcs内の空気と熱交換する熱媒体でもある。h4*は、バッファタンクTcsの下部の空間W[it]内から外部に排出される、熱交換後の熱媒体h4である。図34に示されている熱媒体(h4、h4*)は、外部→バッファタンクTcsの上部の空間W[it]→バッファタンクTcsの下部又は底部の空間W[it]→外部の順に流れているが、この逆方向の流れであってもよい。いずれの場合であれ、熱媒体(h4、h4*)は、バッファタンクTcsの内容物の概ね上下全体の温度の調整に寄与する。熱媒体(h4、h4*)の代表例は、空気である。ホッパーHの設置場所の空気調和を行うための空調装置から送り出される空気(つまり送風される空気)を熱媒体(h4、h4*)として利用してもよい。   The description of the heat medium (h2, h2*) in Example-E applies to the heat medium (h4, h4*) if the mixing stirring tank Ts and its upper lid Ts1 are replaced with the buffer tank Tcs and its upper lid Tcs1, respectively. .. That is, h4 is supplied from the outside into the space W[it] above the buffer tank Tcs, and through the wall surface of the buffer tank Tcs, the contents (mainly the mixture Cs) contained in the buffer tank Tcs are supplied. It is a heat medium that exchanges heat. h4 is also a heat medium that exchanges heat with the air in the buffer tank Tcs above the contents through the top lid Tcs1. h4* is the heat medium h4 after heat exchange, which is discharged to the outside from the space W[it] below the buffer tank Tcs. The heat medium (h4, h4*) shown in FIG. 34 flows in the order of external→space W[it] above the buffer tank Tcs→space W[it] below or below the buffer tank Tcs→outside. However, the flow may be in the opposite direction. In any case, the heat medium (h4, h4*) contributes to the adjustment of the temperature of the entire contents of the buffer tank Tcs approximately above and below. A typical example of the heat medium (h4, h4*) is air. The air sent out from the air conditioner for performing the air conditioning of the installation location of the hopper H (that is, the air blown) may be used as the heat medium (h4, h4*).

この混合部S[mx]が備える温度設定機構によれば、まず、バッファタンクTcs及びその上蓋Tcs1をそれぞれ断熱材Ins4及び断熱材Ins4uで囲うとともに空間W[ti]を設けるので、バッファタンクTcs内に収容されている主たる内容物である混合物Csの温度Tcsへの環境温度の影響を低減することができる。また、温度調節装置CL3*により空間W[ti]の温度を適切に(より具体的には、混合部S[mx]内の温度が特定温度範囲内になるように)設定又は制御することにより、温度Tcsも、特定温度範囲内に設定することができる。   According to the temperature setting mechanism provided in the mixing section S[mx], first, the buffer tank Tcs and the upper lid Tcs1 thereof are surrounded by the heat insulating material Ins4 and the heat insulating material Ins4u, respectively, and the space W[ti] is provided. It is possible to reduce the influence of the ambient temperature on the temperature Tcs of the mixture Cs, which is the main content contained in the. Also, by appropriately setting or controlling the temperature of the space W[ti] (more specifically, so that the temperature in the mixing section S[mx] is within a specific temperature range) by the temperature control device CL3*. The temperature Tcs can also be set within a specific temperature range.

2.J.3)各工程との関係
実施例-Jでは、実施例-Iの場合と同様に、水供給部S[ws]は、工程S22が実行される領域R[s22]であり、混合部S[mx]は、工程S23が主に実行される領域R[s23]である。なお、混合部S[mx]では、溶解促進部S[st]内ほどではないが、多少、工程S24が実行されるので、混合部S[mx]は、工程S24が実行される領域R[s24]でもある。
2. J. 3) Relationship with Each Process In Example-J, as in the case of Example-I, the water supply unit S[ws] is the region R[s22] in which the process S22 is executed, and the mixing unit S[ mx] is the region R[s23] in which the process S23 is mainly performed. It should be noted that in the mixing section S[mx], the step S24 is executed to some extent, though not so much as in the dissolution promoting section S[st]. s24].

(実施例-K)
2.K.1)構成の特徴
図35は、本発明に係る水処理装置の実施例-Jの説明図である。実施例-Jの構成及び動作は、溶解促進部S[st]及び殺菌剤注入部S[is]のそれぞれが温度設定機構を備えている点を除き、図34に示されている水処理装置D(実施例-J)のそれらと基本的に同じである。
(Example-K)
2. K. 1) Features of Configuration FIG. 35 is an explanatory diagram of Example-J of the water treatment device according to the present invention. The configuration and operation of Example-J are the same as those of the water treatment apparatus shown in FIG. 34, except that the dissolution promoting section S[st] and the sterilizing agent injecting section S[is] each have a temperature setting mechanism. Basically the same as those of D (Example-J).

2.K.2)溶解促進部S[st]の温度設定機構
溶解促進部S[st]の温度設定機構は、図35に示されているとおり、少なくとも、配管Lc0、ポンプPcと固液分離装置Spとの間(ポンプPc及びその近傍の領域は除く)をつなぐ配管及び固液分離装置Spと投入位置Qc1との間をつなぐ配管のそれぞれの外表面を、距離をおかずに覆う断熱材Ins5*を具備している。この温度設定機構は、固液分離装置Spの外表面を覆う断熱材を具備していてもよい。
2. K. 2) Temperature setting mechanism of dissolution promoting section S[st] As shown in FIG. 35, the temperature setting mechanism of the dissolution promoting section S[st] includes at least the pipe Lc0, the pump Pc, and the solid-liquid separation device Sp. Equipped with a heat insulating material Ins5* that covers the outer surfaces of the pipes that connect the space (excluding the region near the pump Pc and the vicinity thereof) and the pipe that connects the solid-liquid separation device Sp and the feeding position Qc1 without any distance. ing. The temperature setting mechanism may include a heat insulating material that covers the outer surface of the solid-liquid separation device Sp.

この温度設定機構によれば、バッファタンクTcs内から配管Lc0を通じて投入位置Qc1に向かって移動する混合物Csの温度Tcsへの環境温度の影響を小さくすることができる。また、循環配管経路Lcに沿って移動する混合物Cs及び塩素系殺菌剤Asのそれぞれの温度Tcs及び温度Tasへの環境温度の影響を小さくすることができる。   According to this temperature setting mechanism, it is possible to reduce the influence of the environmental temperature on the temperature Tcs of the mixture Cs moving from the buffer tank Tcs toward the charging position Qc1 through the pipe Lc0. Further, it is possible to reduce the influence of the environmental temperature on the temperature Tcs and the temperature Tas of the mixture Cs and the chlorine-based bactericide As that move along the circulation pipe path Lc.

2.K.3)殺菌剤注入部S[is]の温度設定機構
殺菌剤注入部S[is]の温度設定機構は、図35に示されているとおり、少なくとも、固液分離装置SpとポンプPsとの間(Ps近傍範囲を除く)をつなぐ殺菌剤配管経路Lsの外表面を、距離をおかずに覆う断熱材Ins6*を具備している。この温度設定機構は、ポンプPsとバルブVsとの間(Ps近傍範囲ならびにバルブVs及びその近傍の領域を除く)をつなぐ殺菌剤配管経路Lsの外表面を覆う断熱材を具備していてもよい。
2. K. 3) Temperature setting mechanism of sterilizing agent injecting section S[is] As shown in FIG. 35, the temperature setting mechanism of sterilizing agent injecting section S[is] is at least between solid-liquid separation device Sp and pump Ps. A heat insulating material Ins6* is provided to cover the outer surface of the sterilizing agent piping path Ls that connects (excluding the area near Ps) without any distance. The temperature setting mechanism may include a heat insulating material that covers the outer surface of the sterilizing agent piping path Ls that connects between the pump Ps and the valve Vs (excluding the Ps vicinity range and the valve Vs and the vicinity thereof). ..

この温度設定機構によれば、殺菌剤配管経路Lsに沿って移動する塩素系殺菌剤Asの温度Tas*への環境温度の影響を小さくすることができる。   According to this temperature setting mechanism, it is possible to reduce the influence of the environmental temperature on the temperature Tas* of the chlorine-based sterilizing agent As moving along the sterilizing agent piping path Ls.

2.K.3)各工程との関係
水供給部S[ws]は、工程S22が実行される領域R[s22]であり、混合部S[mx]は、工程S23が主に実行される領域R[s23]である。なお、混合部S[mx]では、溶解促進部S[st]内ほどではないが、多少、工程S24が実行されるので、混合部S[mx]は、工程S24が実行される領域R[s24]でもある。溶解促進部S[st]は、工程S24が実行される領域R[s24]である。殺菌剤注入部S[is]は、工程S32が実行される領域R[s32]である。
2. K. 3) Relationship with each process The water supply part S[ws] is the region R[s22] in which the process S22 is executed, and the mixing part S[mx] is the region R[s23 in which the process S23 is mainly executed. ]. It should be noted that in the mixing section S[mx], the step S24 is executed to some extent, though not so much as in the dissolution promoting section S[st], so that the mixing section S[mx] is a region R[] in which the step S24 is executed. s24]. The dissolution promoting section S[st] is a region R[s24] in which the step S24 is executed. The germicide injection unit S[is] is a region R[s32] in which the process S32 is performed.

(実施例-L)
図36は、本発明に係る水処理装置の実施例-Lの説明図であり、その説明は、水処理装置Dの本体内に残留する残留物Reに対する後処理に関する。実施例-Lの構成及び動作は、水処理装置Dが実施形態2の水処理装置Dである点を除き、図30に示されている実施形態1の実施例-Gのそれらと基本的に同じである。
(Example-L)
36: is explanatory drawing of Example-L of the water treatment apparatus which concerns on this invention, The description is related with the post-treatment with respect to the residue Re which remains in the main body of the water treatment apparatus D. FIG. The configuration and operation of Example-L are basically the same as those of Example-G of Embodiment 1 shown in FIG. 30, except that the water treatment device D is the water treatment device D of Embodiment 2. Is the same.

以下、図36を参照しつつ、実施例-Lにおいて実行される残留物Reの後処理、つまり(i)残留物の減容・除去と、(ii)内表面の乾燥防止について説明する。なお、図36に描かれている水処理装置Dの本体は、実施例-Hに相当するものであるが、これは例示に過ぎない。実施例-Hにおける水処理装置Dの本体は実施例-H以外の実施例に相当するものであってもよい。   Hereinafter, with reference to FIG. 36, the post-treatment of the residue Re performed in Example-L, that is, (i) volume reduction/removal of the residue and (ii) prevention of drying of the inner surface will be described. The main body of the water treatment device D depicted in FIG. 36 corresponds to Example-H, but this is merely an example. The main body of the water treatment device D in the embodiment-H may correspond to embodiments other than the embodiment-H.

2.L.1)残留物の減容・除去
(工程L1)
まず、予め、残留物貯蔵用タンクTsrを用意しておく。残留物貯蔵用タンクTsrは、残留物貯蔵用タンクTsr内へ残留物Reを供給するための配管Lsrと、残留物貯蔵用タンクTsrからその内容物を排出するための配管Lptと、残留物貯蔵用タンクTsr内の上方に溜まった気体の排気を行うための配管Cv*を伴う排気装置(図示されていない)を具備している。配管Lsrは、位置Qsrにおいて、殺菌剤配管経路Ls上のバルブVsの下流側にある位置Qsに接続している。配管Lptは、位置Qptと位置Qdrの間にバルブVaとポンプPptを備えている。
2. L. 1) Volume reduction/removal of residue (process L1)
First, the residue storage tank Tsr is prepared in advance. The residue storage tank Tsr includes a pipe Lsr for supplying the residue Re to the residue storage tank Tsr, a pipe Lpt for discharging the content from the residue storage tank Tsr, and a residue storage An exhaust device (not shown) is provided with a pipe Cv* for exhausting the gas accumulated in the tank Tsr for use above. The pipe Lsr is connected to the position Qs on the downstream side of the valve Vs on the disinfectant pipe passage Ls at the position Qsr. The pipe Lpt is provided with a valve Va and a pump Ppt between the position Qpt and the position Qdr.

なお、実施例-Gの場合と同様に、残留物貯蔵用タンクTsrは、低濃度の中和剤An#を注入する装置を具備していてもよく、低濃度の中和剤An#を注入する装置を具備している場合、インペラのような公知の攪拌手段を具備していてもよい。   Note that, as in the case of Example-G, the residue storage tank Tsr may be equipped with a device for injecting a low concentration neutralizing agent An#. In the case of being equipped with a device for performing the above, a known stirring means such as an impeller may be provided.

(工程L2)
次に、バッファタンクTcs内、配管Lc0内、循環配管経路Lc内ならびに固液分離装置Spと位置Qsとの間をつなぐ殺菌剤配管経路Ls内の何れかの場所に存在する残留物Reを、バルブVa及びVsを閉にした状態でポンプPc及びポンプPsにより付勢して、Qs→Lsr→Tsrの経路に沿って移動させ、残留物貯蔵用タンクTsr内に収容させる。その場合、水供給部S[ws]から真水wsをバッファタンクTcsに追加供給し、当該何れかの場所に存在する残留物Reを真水wsで希釈する又は洗浄もしくは押し流してもよい(ただし、残留物貯蔵用タンクTsrの容量には上限があるので、必要に応じて残留物貯蔵用タンクTsrの内容物を別の場所に移動させたうえで、真水wsの追加供給を行う)。なお、この残留物Reの残留物貯蔵用タンクTsrへの移動は、たとえば第三段階S3の終了後、特に第三段階S3の終了後のできるだけ早い時期(たとえば一時間以内)に行うのが望ましい。
(Process L2)
Next, in the buffer tank Tcs, in the pipe Lc0, the circulation pipe path Lc and the residue Re existing in any place in the germicide pipe path Ls connecting between the solid-liquid separator Sp and the position Qs, With the valves Va and Vs closed, they are urged by the pumps Pc and Ps to move along the path of Qs→Lsr→Tsr and accommodated in the residue storage tank Tsr. In that case, fresh water ws may be additionally supplied from the water supply unit S[ws] to the buffer tank Tcs, and the residue Re existing at any of the locations may be diluted with fresh water ws or washed or washed away (however, Since there is an upper limit to the capacity of the material storage tank Tsr, the contents of the residue storage tank Tsr are moved to another location as necessary, and then fresh water ws is additionally supplied). It should be noted that it is desirable to move the residue Re to the residue storage tank Tsr, for example, after the completion of the third step S3, particularly as soon as possible after the completion of the third step S3 (for example, within one hour). ..

(工程L3)
次に、残留物貯蔵用タンクTsr内に収容されている残留物Reに対し、後述の処理1乃至処理3のいずれかを行うことにより、残留物Reを残留物貯蔵用タンクTsr内に貯蔵する。そして、残留物貯蔵用タンクTsr内に貯蔵されている残留物Reに対し、処理5を行う。状況が許すのであれば処理5の前に処理4を行う。
(Process L3)
Next, the residue Re stored in the residue storage tank Tsr is stored in the residue storage tank Tsr by performing one of the processes 1 to 3 described below. .. Then, the process 5 is performed on the residue Re stored in the residue storage tank Tsr. If the situation permits, process 4 is performed before process 5.

(処理1)
バルブVa及びVsを閉にしたままで所定期間、残留物Reを残留物貯蔵用タンクTsr内に貯蔵する。ここで、所定期間とは、残留物Reを、残留物貯蔵用タンクTsr内に収容させた後、次の処理を開始するまでの期間を意味し、当該次の処理の種類や内容により、(i)数秒間、数分間などのかなり短い期間である場合もあれば、(ii)数十分、数時間などの中程度の長さの時間が経過するまでの期間である場合もあれば、(iii)数日、数週間などの比較的長い時間が経過するまでの期間である場合もある。
(Process 1)
The residue Re is stored in the residue storage tank Tsr for a predetermined period with the valves Va and Vs kept closed. Here, the predetermined period means a period until the next process is started after the residue Re is stored in the residue storage tank Tsr, and depending on the type and content of the next process, ( i) It may be a fairly short period such as a few seconds or a few minutes, or (ii) a period of a medium length such as a few tens of minutes or a few hours, etc. (Iii) It may be a period until a relatively long time, such as several days or weeks, elapses.

(処理2)
工程H2の実行により残留物貯蔵用タンクTsr内に収容された残留物Reを、バルブVa及びVsを開にした状態でポンプPptにより付勢して、Tsr→Lpt→Qdr→Ldr1→Tcsの経路に沿って移動させ、バッファタンクTcs内へ還流させる。その後、バッファタンクTs内に還流された残留物Reを、Tcs→Dcbp→Lc0→Qc1→Lc→Sp→Qc2→Ls→Qs→Lsr→Tsrの経路に沿って移動させる。その際には、バルブVbpを開、バルブVsを閉にした状態でポンプPsにより残留物Reを付勢し、必要に応じて循環配管経路Lcを一回又は複数回循環させる。これにより、残留物ReをバッファタンクTcsから排出させ、再び残留物貯蔵用タンクTsr内に収容させ、総じて残留物貯蔵用タンクTsr内とバッファタンクTcsとの間を循環させる。
(Processing 2)
The residue Re contained in the residue storage tank Tsr due to the execution of the process H2 is urged by the pump Ppt with the valves Va and Vs opened, and the route of Tsr→Lpt→Qdr→Ldr1→Tcs. Along with, and reflux into the buffer tank Tcs. After that, the residue Re refluxed in the buffer tank Ts is moved along the path of Tcs→Dcbp→Lc0→Qc1→Lc→Sp→Qc2→Ls→Qs→Lsr→Tsr. At that time, the residue Re is urged by the pump Ps with the valve Vbp opened and the valve Vs closed, and the circulation piping path Lc is circulated once or plural times as necessary. As a result, the residue Re is discharged from the buffer tank Tcs, stored again in the residue storage tank Tsr, and is generally circulated between the residue storage tank Tsr and the buffer tank Tcs.

上記の循環を少なくとも一回行なった後、最終的に、残留物Reを残留物貯蔵用タンクTsr内に収容させ、バルブVa及びVsを閉にし、所定期間、残留物貯蔵用タンクTsr内に貯蔵する。ここで、所定期間は、処理1における所定期間と同義である。一般に、上記の循環の回数が多いほど、バッファタンクTcs、配管Lc0、循環配管経路Lc及び位置Qc2から位置Qsまでの殺菌剤供給経路Lsからの残留物Reの減容又は除去の効果は高くなるので、二回以上循環させるのが望ましい。   After performing the above circulation at least once, finally, the residue Re is stored in the residue storage tank Tsr, the valves Va and Vs are closed, and the residue Re is stored in the residue storage tank Tsr for a predetermined period. To do. Here, the predetermined period is synonymous with the predetermined period in the process 1. In general, as the number of times of circulation described above increases, the effect of reducing or removing the residue Re from the buffer tank Tcs, the pipe Lc0, the circulation pipe passage Lc, and the germicide supply passage Ls from the position Qc2 to the position Qs becomes higher. Therefore, it is desirable to circulate it twice or more.

なお、バッファタンクTcs内に還流された残留物Reを再び残留物貯蔵用タンクTsr内に収容させる際には、(a)水供給部S[ws]から真水wsをバッファタンクTcsに追加供給し、これによりバッファタンクTcs内、配管Lc0内、循環配管経路Lc内及び位置Qc2から位置Qsまでの殺菌剤供給経路Ls内に存在する残留物Reを真水wsで希釈する又は洗浄もしくは押し流してもよい。これにより、当該残留物Reの減容又は除去を、より効果的に行うことができる(ただし、残留物貯蔵用タンクTsrの容量には上限があるので、必要に応じて残留物貯蔵用タンクTsrの内容物を別の場所に移動させたうえで、真水wsの追加供給を行う)。   When the residue Re that has been refluxed in the buffer tank Tcs is to be stored in the residue storage tank Tsr again, (a) fresh water ws is additionally supplied to the buffer tank Tcs from the water supply section S[ws]. , Thereby, the residue Re existing in the buffer tank Tcs, in the pipe Lc0, in the circulation pipe line Lc and in the germicide supply route Ls from the position Qc2 to the position Qs may be diluted with fresh water ws or washed or washed away. .. Thereby, the volume or removal of the residue Re can be performed more effectively (however, since the capacity of the residue storage tank Tsr has an upper limit, the residue storage tank Tsr can be added as necessary. After moving the contents of to another location, additional supply of fresh water ws).

また、その際には、(b)給水導管Cwsの途中の位置Qnから、低濃度の中和剤An*を注入し、真水wsで希釈された状態でバッファタンクTcs内に供給してもよい。低濃度の中和剤An*の供給は、(i)残留物Re中に存在する又は残留物に由来して発生する遊離有効塩素の無害化に役立つ、または、中和剤An*と当該遊離有効塩素との反応の過程で、バッファタンクTcs内、配管Lc0内、循環配管経路Lc内及び位置Qc2から位置Qsまでの殺菌剤供給経路Ls内の何れかの場所に存在する残留物Re内の何れかの場所に析出、堆積又は固化した残留物Reの溶解や剥離を促進し、当該何れかの場所に存在する残留物Reの減容又は除去の効果をより高めるとともに、(ii)当該遊離有効塩素と中和剤An*との反応の際に発生する発熱の量を低く抑えるのに役立つ。   At that time, (b) a low concentration neutralizing agent An* may be injected from a position Qn in the middle of the water supply conduit Cws and supplied into the buffer tank Tcs in a state diluted with fresh water ws. .. Supplying a low concentration of neutralizing agent An* helps to detoxify (i) free available chlorine existing in the residue Re or generated from the residue, or the neutralizing agent An* and the free In the process of the reaction with available chlorine, in the buffer tank Tcs, in the pipe Lc0, in the circulation pipe route Lc and in the residue Re existing in any place in the germicide supply route Ls from the position Qc2 to the position Qs. It promotes the dissolution and exfoliation of the residue Re that has been deposited, deposited or solidified at any place, and enhances the effect of reducing or removing the volume of the residue Re that exists at any place, and (ii) the release It helps to reduce the amount of heat generated during the reaction between available chlorine and the neutralizing agent An*.

(処理3)
残留物Reを、バルブVaを開、バルブVbp及びVsを閉にした状態でポンプPpt及びPsにより付勢して、Tsr→Lpt→Qdr→Ldr2→Qs2→Lc→Sp→Qc2→Ls→Qs→Lsr→Tsrの経路に沿って移動させる。位置Qs2は、殺菌剤配管経路Ls上の、バルブVbpの下流、ポンプPsの上流の位置である。これにより、残留物Reを残留物貯蔵用タンクTsr外に排出させ、循環配管経路Lc及び殺菌剤配管経路Lsを経由して、再び残留物貯蔵用タンクTsr内に収容させ、総じて残留物Reを、残留物貯蔵用タンクTsr内と混合攪拌槽Tsとの間で循環させる。
(Process 3)
The residue Re is energized by the pumps Ppt and Ps with the valves Va opened and the valves Vbp and Vs closed, and Tsr → Lpt → Qdr → Ldr2 → Qs2 → Lc → Sp → Qc2 → Ls → Qs → Move along the route of Lsr→Tsr. The position Qs2 is a position on the germicide pipe path Ls, downstream of the valve Vbp and upstream of the pump Ps. As a result, the residue Re is discharged to the outside of the residue storage tank Tsr, and stored again in the residue storage tank Tsr via the circulation piping path Lc and the sterilizing agent piping path Ls, and the residue Re is generally The residue storage tank Tsr is circulated between the mixing and stirring tank Ts.

上記の循環を少なくとも一回行なった後、最終的に、残留物Reを残留物貯蔵用タンクTsr内に収容させ、バルブVa及びVsを閉にし、所定期間、残留物貯蔵用タンクTsr内に貯蔵する。ここで、所定期間は、処理1における所定期間と同義である。一般に、上記の循環の回数が多いほど、循環配管経路Lc及び殺菌剤配管経路Lsからの残留物Reの減容又は除去の効果は高くなるので、二回以上循環させるのが望ましい。   After performing the above circulation at least once, finally, the residue Re is stored in the residue storage tank Tsr, the valves Va and Vs are closed, and the residue Re is stored in the residue storage tank Tsr for a predetermined period. To do. Here, the predetermined period is synonymous with the predetermined period in the process 1. In general, the greater the number of times of circulation described above, the higher the effect of reducing or removing the residue Re from the circulation piping path Lc and the sterilizing agent piping path Ls becomes, and therefore it is desirable to circulate at least twice.

なお、位置Qs2は、配管Lc0上にあってもよい。その場合には、位置Qs2と位置Qc1の間をつなげる配管Lc0内に存在する残留物Reの減容又は除去も実現できる。上記の循環の回数が多いほど、その残留物Reの減容又は除去の効果も高くなる。   The position Qs2 may be on the pipe Lc0. In that case, it is also possible to reduce or remove the residual Re existing in the pipe Lc0 that connects the position Qs2 and the position Qc1. The greater the number of times of the above circulation, the higher the effect of reducing or removing the residual Re.

(処理4)
残留物貯蔵用タンクTsrが、そのタンクTsr内に低濃度の中和剤An#を注入する装置及びそのタンクTsr内を攪拌する攪拌手段を具備している場合には、残留物貯蔵用タンクTsr内の残留物Reに低濃度の中和剤An#を注入しつつ攪拌を行い、残留物Reを無害化する。
(Processing 4)
When the residue storage tank Tsr is equipped with a device for injecting a low concentration neutralizing agent An# into the tank Tsr and a stirring means for stirring the tank Tsr, the residue storage tank Tsr The residue Re is detoxified by stirring while injecting a low-concentration neutralizing agent An# into the residue Re.

(処理5)
残留物貯蔵用タンクTsr内に貯蔵されている残留物Reを、バルブVaを開にした状態でポンプPptにより付勢して、Qpt→Qdr→Vb3の経路Ldr3に沿って移動させて、残留物貯蔵用タンクTsr外へ排出させる。無害化された残留物Reの排出先は、(i)船舶VSLが搭載するバラストタンクBT、(ii)ビルジタンク(図示されていない)であってもよく、(iii)船舶VSL外であってもよい。
(Process 5)
The residue Re stored in the residue storage tank Tsr is urged by the pump Ppt with the valve Va open and moved along the path Ldr3 of Qpt → Qdr → Vb3 to remove the residue. Discharge to the outside of the storage tank Tsr. The discharge destination of the detoxified residue Re may be (i) a ballast tank BT mounted on the ship VSL, (ii) a bilge tank (not shown), or (iii) outside the ship VSL. Good.

なお、船舶VSLが搭載するバラストタンクBTや船舶VSL外へ排出させる場合には、水Woがバラスト水取水用配管Lf内をバラストタンクBT又は船外に向かって流通しているとき、無害化された残留物ReをTsr→Lpt→Qdr→Ldr3→Vb3→Vs→Isの経路に沿って移動させて、開状態のバルブVs を経由させて殺菌剤注入口Isから水Woに注入してもよい。その場合、無害化された残留物Reが位置QsからポンプPsの側に流れ込まないように(たとえば、ポンプPsの下流側に逆止弁を予め設けておく)手当てを済ませておく。   When discharged to the outside of the ballast tank BT mounted on the ship VSL or the ship VSL, it is rendered harmless when the water Wo flows through the ballast water intake pipe Lf toward the ballast tank BT or outside the ship. The residual residue Re may be moved along the path of Tsr→Lpt→Qdr→Ldr3→Vb3→Vs→Is and injected into the water Wo from the germicide inlet Is via the valve Vs in the open state. .. In that case, care is taken to prevent the detoxified residue Re from flowing from the position Qs to the pump Ps side (for example, a check valve is provided in advance on the downstream side of the pump Ps).

また、無害化された残留物Reを船舶VSL外へ排出する場合には、後述の還元剤供給装置Nが動作しているとき、還元剤供給経路Lnの、還元剤注入口Inより上流、ポンプPnの下流の位置から、その無害化された残留物Reが注入されるように構成してもよい。   Further, when the detoxified residue Re is discharged to the outside of the ship VSL, when the reducing agent supply device N described later is operating, the reducing agent supply path Ln is upstream of the reducing agent injection port In, and is pumped. The detoxified residue Re may be injected from a position downstream of Pn.

残留物Reを残留物貯蔵用タンクTsr内に貯蔵する場合には、処理1の後、処理5を行なってもよく、処理1の後、状況が許せば処理4を行い、最後に処理5を行なってもよい。また、処理2乃至処理4のうち少なくとも二つを組み合わせて行ってもよい。たとえば、(i)処理2又は処理3を実行した後あるいは処理2及び処理3のいずれか一方を先に実行し次に他方を実行した後、状況が許せば処理4を行い、最後に処理5を行う、(ii)処理2及び処理3のいずれか一方を先に実行した後他方を実行することを繰り返し、状況が許せば処理4を行い、最後に処理5を行う、といった組み合わせも採用できる。   When the residue Re is stored in the residue storage tank Tsr, the treatment 1 and the treatment 5 may be performed. After the treatment 1, the treatment 4 is performed if circumstances permit, and the treatment 5 is finally performed. You may do it. Further, at least two of the processes 2 to 4 may be combined. For example, (i) after performing the process 2 or the process 3, or after performing one of the process 2 and the process 3 first and then the other, the process 4 is performed if the situation permits, and finally the process 5 It is also possible to adopt a combination of (ii) performing (ii) one of processing 2 and processing 3 first and then repeating the other, performing processing 4 if circumstances permit, and finally performing processing 5. ..

2.L.2)内表面の乾燥防止
バッファタンクTcs、配管Lc0及び循環配管経路Lcの内表面、特にバッファタンクTcsの内表面が溶媒(真水ws)の蒸発により乾燥しないようにするため、残留物Reを残留物貯蔵用タンクTsrへ移動させると否とにかかわらず、水供給部S[ws]からバッファタンクTcs内に真水wsを供給し、その真水wsによりバッファタンクTcs内を満たし、必要があれば追加で給水して、バッファタンクTcsの内容物の液位を維持する。バッファタンクTcs内の真水の液位を維持しているときには、配管Lc0内及び循環配管経路Lc内は真水wsが入り込んでいるので、それらの内表面の乾燥は、バッファタンクTcsの内表面の乾燥とともに防止することができる。
2. L. 2) Prevention of drying of inner surface Residue Re remains in order to prevent the inner surface of the buffer tank Tcs, the pipe Lc0 and the circulation piping path Lc, especially the inner surface of the buffer tank Tcs, from drying due to evaporation of the solvent (fresh water ws). Regardless of whether it is moved to the object storage tank Tsr, fresh water ws is supplied from the water supply unit S[ws] into the buffer tank Tcs, and the fresh water ws fills the buffer tank Tcs and is added if necessary. To maintain the liquid level of the contents of the buffer tank Tcs. When the liquid level of the fresh water in the buffer tank Tcs is maintained, the fresh water ws has entered the pipe Lc0 and the circulation pipe route Lc. Can be prevented together with.

混合攪拌槽Tsへの真水wsの供給とその停止により、混合攪拌槽Tsの内容物の液位を維持するための液位調整機構の代表例は、実施形態1の実施例-Gの場合において説明したものと同じである。また、この液位調整機構は、実施例-Gの場合と同様に、ボールタップ式の定水位弁であってもよい。   A representative example of the liquid level adjusting mechanism for maintaining the liquid level of the content of the mixing and stirring tank Ts by supplying and stopping the fresh water ws to the mixing and stirring tank Ts is the case of Example-G of the first embodiment. Same as described. Further, this liquid level adjusting mechanism may be a ball tap type constant water level valve as in the case of the embodiment-G.

バッファタンクTcsが混合物Csを収容しているときの、バッファタンクTcsの内表面と接触する内容物(主に混合物Cs)の液位の最上位置をLmとすると、水供給部S[ws]からバッファタンクTcs内に供給された真水wsの液位Lpは、Lmと同じ又はLmより高い液位であることが望ましい。このようなLmとLpの関係であれば、混合物Cs又は塩素系殺菌剤Asと接触していた混合攪拌槽Tsの内表面は必ず水没することになり、乾燥することがないからである。   When the uppermost liquid level of the content (mainly the mixture Cs) that comes into contact with the inner surface of the buffer tank Tcs when the buffer tank Tcs contains the mixture Cs is Lm, from the water supply unit S[ws] The liquid level Lp of the fresh water ws supplied into the buffer tank Tcs is preferably the same as Lm or higher than Lm. This is because, in such a relationship between Lm and Lp, the inner surface of the mixing stirring tank Ts that was in contact with the mixture Cs or the chlorine-based sterilizing agent As will always be submerged and will not be dried.

<補 遺>
1)実施形態1について
1.1)駆動モータMtiから放出される熱への対策
図16ならびに図25乃至図30において描かれている駆動モータMtiは、図10に示されている駆動モータMtiと同様に、その筐体が上蓋Ts1の外表面に直に接触している。そのような場合、駆動モータMtiから放出される熱が、上蓋Ts1を伝って、原料供給路Cms及び計量機構Mvfを経て、ホッパーH内へ伝わり、温度Thを上昇させるおそれがある。また、その熱が、混合攪拌槽Ts上方の空気の温度を高め、その空気を介して又は混合攪拌槽Tsの側壁を経て、内容物(混合物Cs及び塩素系殺菌剤As)に伝わり、温度Tcsや温度Tasを上昇させるおそれがあり、間接的に温度Thを上昇させるおそれもある。
<Addendum>
1) About Embodiment 1 1.1) Countermeasures against Heat Dissipated from Drive Motor Mti The drive motor Mti depicted in FIGS. 16 and 25 to 30 is the same as the drive motor Mti shown in FIG. Similarly, the casing is in direct contact with the outer surface of the upper lid Ts1. In such a case, the heat emitted from the drive motor Mti may be transmitted through the upper lid Ts1, the raw material supply passage Cms, and the measuring mechanism Mvf, and may be transmitted into the hopper H to raise the temperature Th. Further, the heat raises the temperature of the air above the mixing stirring tank Ts, and is transmitted to the contents (mixture Cs and chlorine-based bactericide As) via the air or through the side wall of the mixing stirring tank Ts, and the temperature Tcs And the temperature Tas may rise, and the temperature Th may rise indirectly.

それ故、駆動モータMtiを設置するときは、駆動モータMtiの筐体と上蓋Ts1の外表面との間に断熱材を介在させる、(ii)駆動モータMtiの筐体を、熱伝導性が低い材料で作られた支持機構を用いて、上蓋Ts1の外表面から上方に離隔した位置に固定する、(iii)左記(ii)の場合、上蓋Ts1の外表面と、そこ上方に離隔した位置に固定されている駆動モータMtiの筐体との間に断熱材を介在させる、などの工夫を施して、駆動モータMtiから放出される熱が、できる限り、上蓋Ts1に伝わらないようにする。   Therefore, when installing the drive motor Mti, a heat insulating material is interposed between the case of the drive motor Mti and the outer surface of the upper lid Ts1, (ii) the case of the drive motor Mti has low thermal conductivity. Using a support mechanism made of a material, fix the upper lid Ts1 at a position spaced apart from the outer surface of the upper lid. (iii) In the case of (ii) on the left side, at the outer surface of the upper lid Ts1 and a position spaced above it. A heat insulating material is provided between the fixed drive motor Mti and the housing to prevent heat emitted from the drive motor Mti from being transferred to the upper lid Ts1 as much as possible.

2)実施形態2についての補遺
2.1)実施例-Lにおける残留物の更なる除去
実施例-Lの場合、残留物Reを、殺菌剤配管経路Ls上の位置Qsから取り出して、残留物貯蔵用タンクTsrへ移動させているので、固液分離装置Spから殺菌剤配管経路Lsの側に移動させることができなかった残留物Reが、循環配管経路Lcの一部(たとえば図36に示されている位置Qc3から位置Qc1までの循環配管経路Lc)に残留するケースが生じる。そこで、残留物Reを、循環配管経路Lc上の位置Qsa(図36参照)から取り出して、それを残留物貯蔵用タンクTsrへ移動させることができる構成にする。このようにすれば、より多くの残留物Reを残留物貯蔵用タンクTsrへ移動させることができる。
2) Addendum on Embodiment 2 2.1) Further Removal of Residue in Example-L In the case of Example-L, the residue Re is taken out from the position Qs on the disinfectant piping path Ls to remove the residue. Since it is moved to the storage tank Tsr, the residue Re that could not be moved from the solid-liquid separation device Sp to the sterilizing agent piping path Ls side is part of the circulation piping path Lc (for example, shown in FIG. 36). There is a case where the residual remains in the circulating piping route Lc) from the position Qc3 to the position Qc1. Therefore, the residue Re is taken out from the position Qsa (see FIG. 36) on the circulation pipe route Lc and moved to the residue storage tank Tsr. With this, a larger amount of the residue Re can be moved to the residue storage tank Tsr.

残留物Reを位置Qsaから取り出して残留物貯蔵用タンクTsrへ移動させる手順の具体例は、次のとおりである。   A specific example of the procedure for taking out the residue Re from the position Qsa and moving it to the residue storage tank Tsr is as follows.

まず、位置Qsaと残留物貯蔵用タンクTsrとの間を接続する、循環配管経路Lcの分岐配管Lsraを用意する。分岐配管Lsarは、それが具備するバルブVsarの開閉により、位置Qsaから残留物貯蔵用タンクTsrへの残留物Reの移動の可否を変更できるものである。   First, the branch pipe Lsra of the circulation pipe path Lc that connects between the position Qsa and the residue storage tank Tsr is prepared. The branch pipe Lsar is capable of changing whether or not the residue Re can be moved from the position Qsa to the residue storage tank Tsr by opening/closing the valve Vsar provided therein.

(具体例1)
ポンプPc及びPsにより付勢された残留物Reを、殺菌剤配管経路Ls上の位置Qsから取り出して、残留物貯蔵用タンクTsrへ移動させる工程の実行中に、ポンプPcにより付勢されて循環配管経路Lcを循環している残留物Reの一部を、バルブVsarを開状態にしたままの分岐配管Lsarを通じて位置Qsaから残留物貯蔵用タンクTsrへ移動させる。これにより、循環配管経路Lcの一部に残留し得る残留物Reの量を減らす。
(Specific example 1)
The residue Re urged by the pumps Pc and Ps is taken out from the position Qs on the disinfectant piping path Ls and moved to the residue storage tank Tsr, while being urged by the pump Pc and circulated. A part of the residue Re circulating in the pipe path Lc is moved from the position Qsa to the residue storage tank Tsr through the branch pipe Lsar with the valve Vsar kept open. This reduces the amount of the residue Re that can remain in a part of the circulation piping path Lc.

(具体例2)
バルブVsarを閉状態にして、循環配管経路Lcから残留物Reが分岐配管Lsarに移動しない状態にしたうえで、ポンプPc及びPsにより付勢された残留物Reを、殺菌剤配管経路Ls上の位置Qsから取り出して、残留物貯蔵用タンクTsrへ移動させる工程を実行する。その工程の実行を終えた後、ポンプPsを停止させ、殺菌剤配管経路Lsが具備するバルブ(図示されていない)を閉じることで位置Qc2から殺菌剤配管経路Lsに残留物Reが流れ込まない状態にしたうえで、バルブVsarを開状態にして、ポンプPcにより付勢されて循環配管経路Lcを循環している残留物Reを、分岐配管Lsarを通じて位置Qsaから残留物貯蔵用タンクTsrへ移動させる。これにより、循環配管経路Lcの一部に残留し得る残留物Reの量を減らす。
(Specific example 2)
The valve Vsar is closed and the residue Re is prevented from moving from the circulation piping Lc to the branch piping Lsar, and then the residue Re urged by the pumps Pc and Ps is transferred to the disinfectant piping path Ls. The process of taking out from the position Qs and moving to the residue storage tank Tsr is executed. After the execution of the process is completed, the pump Ps is stopped, and the valve (not shown) included in the disinfectant piping path Ls is closed to prevent the residue Re from flowing from the position Qc2 to the disinfectant piping path Ls. After that, the valve Vsar is opened, and the residue Re urged by the pump Pc and circulating in the circulation pipe path Lc is moved from the position Qsa to the residue storage tank Tsr through the branch pipe Lsar. .. This reduces the amount of the residue Re that can remain in a part of the circulation piping path Lc.

3)実施形態1及び実施形態2に共通する補遺
3.1)断熱材
保守点検を行う作業者によるホッパーH、混合攪拌槽Ts、バッファタンクTcs、循環配管経路Lc、殺菌剤配管経路Ls等へのアクセスの便のため、断熱材(Ins1、Ins1*、Ins2、Ins2*、Ins3、Ins4、Ins4u、Ins4d、Ins5、Ins6*、Ins7等)はいずれも、その少なくとも一部が取り外せるように構成されている。
3) Addendum common to the first and second embodiments 3.1) Insulation material To the hopper H, the mixing stirring tank Ts, the buffer tank Tcs, the circulation piping path Lc, the sterilizing agent piping path Ls, etc. by the worker who performs maintenance and inspection For convenience of access, any of the insulation materials (Ins1, Ins1*, Ins2, Ins2*, Ins3, Ins4, Ins4u, Ins4d, Ins5, Ins6*, Ins7, etc.) are configured so that at least some of them can be removed. ing.

3.2)真水wsの過剰供給への対策
上記2.G.2)で言及した液位調整機構が故障すると、混合攪拌槽Tsから内容物が溢れ出て、水処理装置Dの設置場所の作業環境を悪化させるおそれがある。そこで、液位調整機構の故障という万が一の事態に備えて、混合攪拌槽Tsにオーバーフロー管を取り付け、混合攪拌槽Ts及びバッファタックTcsの内容物の液位が上限を超えたとき、当該上限を超えた分の内容物が、当該オーバーフロー管を通じて混合攪拌槽Ts外に排出されるようにする。
3.2) Measures against excessive supply of fresh water ws G. If the liquid level adjusting mechanism mentioned in 2) fails, the contents may overflow from the mixing and stirring tank Ts, and the working environment of the installation location of the water treatment device D may be deteriorated. Therefore, in case of a failure of the liquid level adjusting mechanism, an overflow pipe is attached to the mixing stirring tank Ts, and when the liquid level of the contents of the mixing stirring tank Ts and the buffer tack Tcs exceeds the upper limit, the upper limit is set. The content in excess is discharged to the outside of the mixing and stirring tank Ts through the overflow pipe.

上記2.H.2)で言及した液位調整機構についても同様であり、これが故障すると、バッファタンクTcsから内容物が溢れ出て、水処理装置Dの設置場所の作業環境を悪化させるおそれがある。そこで、液位調整機構の故障という万が一の事態に備えて、バッファタンクTcsにオーバーフロー管を取り付け、バッファタンクTcsの内容物の液位が上限を超えたとき、当該上限を超えた分の内容物が、当該オーバーフロー管を通じてバッファタンクTcs外に排出されるようにする。   The above 2. H. The same applies to the liquid level adjusting mechanism referred to in 2). If it fails, the contents overflow from the buffer tank Tcs, which may deteriorate the working environment of the installation location of the water treatment device D. Therefore, in case of a failure of the liquid level adjustment mechanism, an overflow pipe is attached to the buffer tank Tcs, and when the liquid level of the contents of the buffer tank Tcs exceeds the upper limit, the contents exceeding the upper limit are Are discharged to the outside of the buffer tank Tcs through the overflow pipe.

3.3)溶解製造部S[pr]の断熱設計
図37は、本発明に係る水処理装置の実施例-Mの説明図である。実施例-Mは、船舶VSL内の設置場所ERにおいて、床面Bvに配置した台座Bpの上に設置された水処理装置Dであり、実施例-H乃至実施例-Lと同様に、(i)ホッパー部S[hp]と、水供給部S[ws]と、混合部S[mx]及び溶解促進部S[st]を備える溶解製造部S[pr]と、殺菌剤注入部S[is]を備えている。
3.3) Thermal insulation design of dissolution manufacturing unit S[pr] FIG. 37 is an explanatory diagram of Example-M of the water treatment device according to the present invention. Example-M is a water treatment device D installed on the pedestal Bp arranged on the floor Bv at the installation location ER in the ship VSL, and like Example-H to Example-L, i) Hopper section S[hp], water supply section S[ws], dissolution production section S[pr] including mixing section S[mx] and dissolution promoting section S[st], and bactericide injection section S[ is].

実施例-Mは、実施例-H乃至実施例-Lと異なり、混合部S[mx]及び溶解促進部S[st]が温度設定機構を共有しており、具体的には、(i)溶解製造部S[pr]全体、従って混合部S[mx]及び溶解促進部S[st]の両方が単一の断熱空間W[u]内に設置されており、(ii)断熱空間W[u]内の温度を調節することにより、温度Tcs及び温度Tasを特定温度範囲内に設定又は制御するための温度調節装置CL(u)を備えている。なお、ホッパー部S[hp]が備える温度設定機構は、図24に示されている変形例5に限定されない。温度調節装置CL(u)は、少なくとも冷熱発生機能を有する公知の装置であり、望ましくは、冷熱発生機能と温熱発生機能の両方を有する公知の装置である。   Unlike Example-H to Example-L, in Example-M, the mixing section S[mx] and the dissolution promoting section S[st] share a temperature setting mechanism. Specifically, (i) The entire melting production section S[pr], and therefore both the mixing section S[mx] and the dissolution promoting section S[st] are installed in a single heat insulating space W[u], and (ii) the heat insulating space W[ The temperature adjusting device CL(u) is provided for adjusting or setting the temperature in [u] to set or control the temperature Tcs and the temperature Tas within a specific temperature range. The temperature setting mechanism provided in the hopper unit S[hp] is not limited to the modification 5 shown in FIG. The temperature control device CL(u) is a known device having at least a cold heat generating function, and is preferably a known device having both a cold heat generating function and a warm heat generating function.

実施例-Mの場合、混合部S[mx]及び溶解促進部S[st]の両方が、断熱空間W[u]内に設置されているので、断熱空間W[u]内の温度を調整することにより、主として混合部S[mx]内に多い混合物Csの温度Tcs及び溶解促進部S[st]内に多い塩素系殺菌剤Asの温度Tasを同時に設定することができる。   In the case of Example-M, since both the mixing section S[mx] and the dissolution promoting section S[st] are installed in the heat insulating space W[u], the temperature in the heat insulating space W[u] is adjusted. By doing so, it is possible to simultaneously set the temperature Tcs of the mixture Cs mainly in the mixing portion S[mx] and the temperature Tas of the chlorine-based bactericide As in the dissolution promoting portion S[st].

図37に描かれている断熱空間W[u]内に、実施形態1における溶解製造部S[pr]を設置することもできる。その場合、断熱空間W[u]の上部の断熱材Ins7に貫通孔を設け、回転軸Axiを挿入可能にし、当該上部の断熱材Ins7の上方に駆動モータMtiを設置すればよい。このようにして構成される水処理装置Dの代表例は、実施例-Eである。   The melting manufacturing section S[pr] in the first embodiment can be installed in the heat insulating space W[u] illustrated in FIG. 37. In that case, a through hole may be provided in the heat insulating material Ins7 above the heat insulating space W[u] so that the rotating shaft Axi can be inserted, and the drive motor Mti can be installed above the heat insulating material Ins7 above. A representative example of the water treatment device D configured in this manner is Example-E.

3.4)空気調和装置
水処理装置Dの設置場所ERには、空気調和装置を設置するのが好ましい。図37に示されている空気調和装置CL(ac)は、設置場所ER外との熱交換を通じて、設置場所ER内の空気h(a)の温度や湿度を調節し、調温後又は調湿後の空気h(a)*を設置場所ER内へ送り出すことにより、環境温度のみならず、湿度の調節を行う機能を有している。
3.4) Air conditioner At the installation location ER of the water treatment device D, it is preferable to install an air conditioner. The air conditioner CL(ac) shown in FIG. 37 adjusts the temperature and humidity of the air h(a) in the installation location ER through heat exchange with the outside of the installation location ER, and after temperature control or humidity control. By sending the subsequent air h(a)* into the installation location ER, it has the function of adjusting not only the environmental temperature but also the humidity.

空気調和装置CL(ac)を用いることにより、ホッパー部S[hp]、溶液製造部S[pr]、水供給部S[ws]等のそれぞれが備える温度設定機構や連結空間に対する温度設定機構の役割を補完し、軽減することができる。また、原料固形物msの自己分解を契機に発生する塩素ガスが水分を含むと、強い腐食性を呈し、刺激臭の原因となる等の問題が生じるところ、空気調和装置CL(ac)を用いれば設置場所ERの除湿を行うことができるので、それらの問題の発生を未然に抑制又は防止することができる。   By using the air conditioner CL(ac), the temperature setting mechanism of each of the hopper section S[hp], solution manufacturing section S[pr], water supply section S[ws], etc. Roles can be complemented and reduced. Also, when chlorine gas generated upon self-decomposition of the raw material solid ms contains water, it exhibits strong corrosiveness and causes problems such as irritating odor, where an air conditioner CL(ac) is used. For example, since it is possible to dehumidify the installation location ER, it is possible to suppress or prevent the occurrence of those problems.

空気調和装置CL(ac)の設置は、実施例-Mの場合に限られない。実施例-A乃至実施例-Lのいずれにおいても、設置することができる。   The installation of the air conditioner CL(ac) is not limited to the case of the embodiment-M. It can be installed in any of Examples-A to L.

3.5)ホッパー部における断熱材の取り付け構造
(1) 図38は、ホッパー部S[hp]への断熱材の取り付け構造の説明図であり、図38(a)は、その正面図であり、図38(b)は、その側面図である。
3.5) Mounting structure of heat insulating material in hopper part (1) FIG. 38 is an explanatory view of a mounting structure of heat insulating material to the hopper part S[hp], and FIG. 38(a) is a front view thereof. 38(b) is a side view thereof.

図38に示されている、ホッパー部S[hp]への断熱材の取り付け構造は、ホッパーHを断熱パネルで囲うものであり、より詳しくは、(i)ホッパー部S[hp]の支持機構(図示されていない)のうち剛性の高い箇所ならびに水処理装置Dの筐体を構成する剛性の高い箇所のうち少なくとも一方に固定された一対の支持柱Frと(図37も参照)、(ii)前記一対の支持柱Frに距離をおいて並行に配置する一対の補助支持柱Fr*と、(iii)前記一対の支持柱Frと前記一対の補助支持柱Fr*の下端側を四隅とする四角形の各辺の位置にあり、当該四隅を固定する、合計四本の下段水平フレーム材Xdと、(iv)前記一対の支持柱Frと前記一対の補助支持柱Fr*の上端側を四隅とする四角形の各辺の位置にあり、当該四隅を固定する、合計四本の上段水平フレーム材Xuと、(v)前記一対の支持柱Frに一端が固定され、前記一対の補助支持柱Fr*の下端部間を固定する下段水平フレーム材Xdに他端が固定され、それにより当該下段水平フレームの上下方向の位置を固定する補剛部材Bmと、(vi)支持柱Frと、それに隣接する補助支持柱Fr*と、当該支持柱Frと当該支持柱Fr*との間を上部と下部で固定する上段水平フレーム材Xuと下段水平フレーム材Xdとにより構成される四角形の枠に直接又は補助部材(図示されていない)を介して取り付けられる側面断熱パネルIP(1)、IP(1)*と、(vii)当該一対の支持柱Frと、当該一対の支持柱Frの間を上部と下部で固定する上段水平フレーム材Xuと下段水平フレーム材Xdとにより構成される四角形の枠に直接又は補助部材(図示されていない)を介して取り付けられる側面断熱パネルIP(2)と、(viii)当該一対の補助支持柱Fr*と、当該一対の補助支持柱Fr*の間を上部と下部で固定する上段水平フレーム材Xuと下段水平フレーム材Xdとにより構成される四角形の枠に直接又は補助部材(図示されていない)を介して取り付けられる側面断熱パネルIP(2)*と、(ix)合計四本の上段水平フレーム材Xuにより構成される四角形の枠に直接又は補助部材(図示されていない)を介して取り付けられる上面断熱パネルIP(u)と、(x)合計四本の下段水平フレーム材Xdのそれぞれにより構成される四角形の枠に直接又は補助部材(図示されていない)を介して取り付けられる下面断熱パネルと、(xi)上面断熱パネルIP(u)の上に着脱可能に設置される最上断熱パネルIP(t)と、を備えている。ホッパーHを囲む、支持柱Fr、補助支持柱Fr*、上段水平フレーム材Xu、下段水平フレーム材Xd、パネル板などは断熱材(図示されていない)で覆われており、また、それらの部材間の境界部分はシールラップにより密封されたうえで、断熱材(図示されていない)で覆われており、それらにより外部への露出が防止されている。   The mounting structure of the heat insulating material to the hopper S[hp] shown in FIG. 38 is to enclose the hopper H with a heat insulating panel. More specifically, (i) a support mechanism for the hopper S[hp]. A pair of support pillars Fr fixed to at least one of the high rigidity part (not shown) and the high rigidity part constituting the housing of the water treatment device D (see also FIG. 37), (ii ) A pair of auxiliary support columns Fr* arranged in parallel with the pair of support columns Fr with a distance therebetween, and (iii) four corners on the lower end sides of the pair of support columns Fr and the pair of auxiliary support columns Fr*. There are a total of four lower horizontal frame members Xd which are located at the respective sides of the quadrangle and fix the four corners, and (iv) the upper ends of the pair of support columns Fr and the pair of auxiliary support columns Fr* are four corners. At the position of each side of the quadrangle, fixing the four corners, a total of four upper horizontal frame members Xu, and (v) one end fixed to the pair of support columns Fr, and the pair of auxiliary support columns Fr* The other end is fixed to the lower horizontal frame member Xd that fixes the lower end portions of the lower horizontal frame member Xd, and thereby the stiffening member Bm that fixes the vertical position of the lower horizontal frame, and (vi) the supporting pillar Fr and adjacent to it. Direct or auxiliary to the rectangular frame composed of the auxiliary support column Fr* and the upper horizontal frame member Xu and the lower horizontal frame member Xd that fix the support column Fr and the corresponding support column Fr* at the upper and lower parts. Side insulation panels IP(1), IP(1)* attached via members (not shown), and (vii) the pair of support pillars Fr and the upper and lower parts between the pair of support pillars Fr. Side heat insulation panel IP(2) attached directly or via an auxiliary member (not shown) to a rectangular frame constituted by the upper horizontal frame member Xu and the lower horizontal frame member Xd fixed by (viii) Directly or auxiliary to a square frame composed of the pair of auxiliary support pillars Fr* and an upper horizontal frame member Xu and a lower horizontal frame member Xd that fix the space between the pair of auxiliary support pillars Fr* at the upper and lower portions. A side insulation panel IP(2)* attached via a member (not shown) and (ix) a total of four upper horizontal frame members Xu directly or in an auxiliary member (not shown) in a rectangular frame. Upper insulation panel IP(u), which is attached via (x), and (x) a total of four lower horizontal frame members Xd, each of which is directly or through an auxiliary member (not shown) to a rectangular frame. Can be installed It has a lower surface insulation panel and (xi) an uppermost insulation panel IP(t) which is detachably installed on the upper surface insulation panel IP(u). The supporting pillar Fr, the auxiliary supporting pillar Fr*, the upper horizontal frame member Xu, the lower horizontal frame member Xd, the panel plate, etc. surrounding the hopper H are covered with a heat insulating material (not shown), and their members. The boundary portion between them is sealed by a seal wrap and then covered with a heat insulating material (not shown), which prevents exposure to the outside.

断熱パネルIP(1)、IP(1)*、IP(2)、IP(2)*、IP(u)、IP(d)、IP(t)は、いずれも、パネル板P上に取り付けられた断熱材を具備しており、特に、側面断熱パネルIP(1)、IP(1)*、IP(2)、IP(2)*及び上面断熱パネルIP(u)の断熱材は断熱材Ins1であり、下面断熱パネルIP(d)の断熱材は断熱材Ins2であり、最上断熱パネルIP(t)の断熱材は断熱材Ins1*である。   The heat insulation panels IP(1), IP(1)*, IP(2), IP(2)*, IP(u), IP(d) and IP(t) are all mounted on the panel P. Ins1 is used for the side insulation panels IP(1), IP(1)*, IP(2), IP(2)* and the top insulation panel IP(u). The heat insulating material of the lower heat insulating panel IP(d) is the heat insulating material Ins2, and the heat insulating material of the uppermost heat insulating panel IP(t) is the heat insulating material Ins1*.

上面断熱パネルIP(u)は、図38に示されているように、取り付け前は二つに分割されている。これは取り付けを容易にするためである。それ故、取り付けが難しくなければ、上面断面パネルIP(u)は、分割されていない一体物であってもよい。   The upper heat insulating panel IP(u) is divided into two parts before mounting, as shown in FIG. This is to facilitate installation. Therefore, the top cross-section panel IP(u) may be an undivided unitary piece if it is not difficult to mount.

上面断熱パネルIP(u)は、ホッパーHが備える原料補給口Crfの端部開口部に取り付けられている蓋への作業者のアクセスの便のため、当該蓋に対応する位置に開口を有する。上面断熱パネルIP(u)の上に最上断熱パネルIP(t)を取り付ける場合には、パネル板Pに取り付けられた断熱材Ins1*を、上面断面パネルが有する当該開口に差し込む。上面断熱パネルIP(u)の上から最上断熱パネルIP(t)を取り外す場合には、断熱材Ins1*を、当該開口から引き抜く。   The upper surface insulation panel IP(u) has an opening at a position corresponding to the lid for facilitating the operator's access to the lid attached to the end opening of the raw material supply port Crf provided in the hopper H. When mounting the uppermost heat insulating panel IP(t) on the upper heat insulating panel IP(u), the heat insulating material Ins1* attached to the panel board P is inserted into the opening of the upper cross sectional panel. When removing the uppermost heat insulating panel IP(t) from the upper heat insulating panel IP(u), the heat insulating material Ins1* is pulled out from the opening.

なお、最上断熱パネルIP(t)を用いることは、断熱材Ins1*を上面断面パネルが有する開口に差し込む又は当該開口から引き抜くために必須ではない。パネル板Pに取り付けられていない断熱材そのものを断熱材Ins1*として用いて、当該開口を埋める又は当該開口から取り出してもよい。   The use of the uppermost heat insulating panel IP(t) is not essential for inserting the heat insulating material Ins1* into or removing from the opening of the top cross-sectional panel. The heat insulating material itself not attached to the panel board P may be used as the heat insulating material Ins1* to fill the opening or be taken out from the opening.

下面断熱パネルIP(d)は、計量機構Mvfの筐体の底部と駆動部Ss[mga]の筐体の少なくとも一部との間に設置されるので、回転軸Axf及び原料供給路Cmsを通す開口を有する。下面断熱パネルIP(d)は、取り付けを容易にするため、図38に示されているように、取り付け前は二つに分割されている。   Since the lower surface heat insulation panel IP(d) is installed between the bottom of the casing of the weighing mechanism Mvf and at least a part of the casing of the drive unit Ss[mga], it passes through the rotation axis Axf and the raw material supply passage Cms. It has an opening. The lower heat insulating panel IP(d) is divided into two parts before installation as shown in FIG. 38 to facilitate installation.

図38に示されている断熱材の取り付け構造は、いずれの実施例のホッパー部S[hp]にも適用できる。たとえば図24に示されている変形例5の場合、側面断熱パネルIP(1)、IP(1)*は温度調節装置CL1、CL1*の熱媒体を流通させるための導管を通すための孔を具備しているが、その描写は省略されている。   The attachment structure of the heat insulating material shown in FIG. 38 can be applied to the hopper portion S[hp] of any of the embodiments. For example, in the case of the modified example 5 shown in FIG. 24, the side heat insulation panels IP(1), IP(1)* have holes for passing conduits for passing the heat medium of the temperature control devices CL1, CL1*. It is provided, but its depiction is omitted.

図38に示されている、支持柱Fr、補助支持柱Fr*、上段水平フレーム材Xu及下段水平フレーム材XdがホッパーHを稜線とし、ホッパーHを囲む多面体は、直方体である。しかし、ホッパーHを断熱材で囲むことができるものである限り、当該多面体は、直方体や六面体に限定されない。   The support pillar Fr, the auxiliary support pillar Fr*, the upper horizontal frame member Xu and the lower horizontal frame member Xd shown in FIG. 38 have the hopper H as a ridge and the polyhedron surrounding the hopper H is a rectangular parallelepiped. However, the polyhedron is not limited to a rectangular parallelepiped or a hexahedron as long as the hopper H can be surrounded by a heat insulating material.

(2) 図38に示されている断熱材の取り付け構造は、たとえば、次の手順により製作することができる。   (2) The heat insulating material mounting structure shown in FIG. 38 can be manufactured, for example, by the following procedure.

[1] ホッパー部S[hp]の支持機構(図示されていない)のうち剛性の高い箇所ならびに水処理装置Dの筐体を構成する剛性の高い箇所のうち少なくとも一方に、一対の支持柱Frを固定する。その際必要に応じて、一対の支持柱Frの距離を保つとともに、それらを補強する補強部材Zaを取り付ける。   [1] A pair of support pillars Fr are provided on at least one of a highly rigid part of the support mechanism (not shown) of the hopper S (hp) and a highly rigid part of the housing of the water treatment device D. To fix. At that time, if necessary, a distance between the pair of support columns Fr is maintained and a reinforcing member Za for reinforcing them is attached.

[2] 一対の支持柱Frに補剛部材Bmを取り付ける。   [2] Attach the stiffening member Bm to the pair of support columns Fr.

[3] 一部の下段水平フレーム材Xdを補剛部材Bmにより支えながら、一対の支持柱Fr、一対の補助支持柱Fr*、上段水平フレーム材Xu及び下段水平フレーム材Xdを、ホッパーHを囲うように組み立てる。一対の支持柱Fr、一対の補助支持柱Fr*、上段水平フレーム材Xu及び下段水平フレーム材Xdの接続の順序には、特に制限はなく、その接続のために必要であれば、締め付け具、固定具・取付具などの接続補助部材を用いてもよい。   [3] While supporting a part of the lower horizontal frame member Xd by the stiffening member Bm, while supporting the pair of supporting columns Fr, the pair of auxiliary supporting columns Fr*, the upper horizontal frame member Xu and the lower horizontal frame member Xd, the hopper H, Assemble to enclose. The order of connecting the pair of support pillars Fr, the pair of auxiliary support pillars Fr*, the upper horizontal frame member Xu and the lower horizontal frame member Xd is not particularly limited, and if necessary for the connection, a tightening tool, You may use connection auxiliary members, such as a fixture and an attachment.

[4] 一対の支持柱Frと、対向する上段水平フレーム材Xu及び下段水平フレーム材Xdにより構成される四角形の枠に直接又は補助部材を介して、予め用意しておいた側面断熱パネルIP(2)を取り付ける。一対の補助支持柱Fr*と、対向する上段水平フレーム材Xu及び下段水平フレーム材Xdにより構成される四角形の枠に直接又は補助部材を介して、予め用意しておいた側面断熱パネルIP(2)*を取り付ける。支持柱Frと、それに隣接する補助支持柱Fr*と、対向する上段水平フレーム材Xu及び下段水平フレーム材Xdにより構成される四角形の枠に直接又は補助部材を介して、予め用意しておいた側面断熱パネルIP(1)、IP(1)*を取り付ける。上段水平フレーム材Xuにより構成される四角形の枠に直接又は補助部材を介して、予め用意しておいた上面断熱パネルIP(u)を取り付ける。下段水平フレーム材Xdにより構成される四角形の枠に直接又は補助部材を介して、予め用意しておいた下面断熱パネルIP(d)を取り付ける。上面断熱パネルIP(u)を取り付けた後、最上断熱パネルX(t)を取り付ける。側面断熱パネルIP(1)、IP(1)*、IP(2)、IP(2)*、上面断熱パネルIP(u)及び下面断熱パネルIP(d)の取り付けの順序には、特に制限はない。上記の四角形の枠は、必要に応じてそのコーナー部分にアングル材を取り付けて補強してもよい。   [4] A side heat insulation panel IP (prepared in advance) directly or through an auxiliary member in a rectangular frame composed of the pair of support columns Fr and the upper horizontal frame member Xu and the lower horizontal frame member Xd facing each other. 2) Install. A side heat insulation panel IP (2) prepared in advance, directly or through an auxiliary member, in a rectangular frame composed of a pair of auxiliary support pillars Fr* and the opposing upper horizontal frame member Xu and lower horizontal frame member Xd. )* is attached. The support pillar Fr, the auxiliary support pillar Fr* adjacent to the support pillar Fr, and the rectangular frame composed of the upper horizontal frame member Xu and the lower horizontal frame member Xd facing each other are prepared directly or through an auxiliary member in advance. Install side insulation panels IP(1), IP(1)*. An upper surface insulation panel IP(u) prepared in advance is attached to a rectangular frame constituted by the upper horizontal frame member Xu directly or via an auxiliary member. The lower surface heat insulation panel IP(d) prepared in advance is attached to a rectangular frame constituted by the lower horizontal frame member Xd directly or through an auxiliary member. After installing the top insulation panel IP(u), install the top insulation panel X(t). There are no particular restrictions on the mounting order of the side insulation panels IP(1), IP(1)*, IP(2), IP(2)*, the top insulation panel IP(u) and the bottom insulation panel IP(d). Absent. If necessary, angle members may be attached to the corners of the rectangular frame to reinforce it.

[5] 支持柱Fr、補助支持柱Fr*、上段水平フレーム材Xu、下段水平フレーム材Xd、パネル板Pなどの露出部分を、断熱材(図示されていない)で覆う。また、それらの部材間の境界部分はシールラップにより密封したうえで断熱材(図示されていない)で覆う。   [5] The exposed portions of the support columns Fr, the auxiliary support columns Fr*, the upper horizontal frame member Xu, the lower horizontal frame member Xd, the panel plate P, etc. are covered with a heat insulating material (not shown). Further, the boundary portion between these members is sealed with a seal wrap and then covered with a heat insulating material (not shown).

(3) 上記のようなホッパー部S[hp]への断熱材の取り付け構造は、枠内に断熱パネルを取り付ける構成なので、構築が容易である。このような断熱材の取り付け構造は、船舶VSL内に既に設置されている水処理装置Dのホッパー部S[hp]に断熱材を事後的に取り付ける作業を容易にするものであり、有益である。   (3) The structure for mounting the heat insulating material on the hopper S[hp] as described above is easy to construct because it has the structure of mounting the heat insulating panel in the frame. Such a heat insulating material attachment structure facilitates the work of subsequently attaching the heat insulating material to the hopper S[hp] of the water treatment device D already installed in the ship VSL, and is useful. ..

3.6)ホッパー部S[hp]の改良例
ホッパーH内の温度Thを容器内温度上限以下に設定又は制御する際には、ホッパーH内の湿度をより低く維持することが望ましい。ホッパーH内の湿度が低いと、何らかの事情によりホッパーH内で塩素ガスが発生しても、金属腐食が起こり難くなり、刺激臭が生じ難くなるからである。一方、ホッパー部S[hp]から原料固形物ms(ms*)が装入される溶解製造部S[pr]には、水供給部S[ws]から真水wsも供給されるので、供給された真水wsに由来する水分が、原料供給路Cms及び計量機構Mvfを通じて上昇し、ホッパーHにまで到達し、ホッパーH内の湿度を高めるおそれがある。そこで、以下、溶解製造部S[pr]に供給される真水wsに由来する水分を、ホッパーH内に到達させない又は到達し難くさせる、ホッパー部S[hp]の改良例について説明する。
3.6) Improvement Example of Hopper S[hp] When setting or controlling the temperature Th in the hopper H to be equal to or lower than the upper limit of the temperature in the container, it is desirable to keep the humidity in the hopper H lower. This is because if the humidity in the hopper H is low, even if chlorine gas is generated in the hopper H for some reason, metal corrosion is less likely to occur and an irritating odor is less likely to occur. On the other hand, fresh water ws is also supplied from the water supply unit S[ws] to the dissolution production unit S[pr] in which the raw material solids ms (ms*) are charged from the hopper S[hp]. The moisture derived from the fresh water ws rises through the raw material supply path Cms and the measuring mechanism Mvf, reaches the hopper H, and may increase the humidity in the hopper H. Therefore, hereinafter, an improved example of the hopper section S[hp] that prevents or makes it difficult for the moisture derived from the fresh water ws supplied to the dissolution manufacturing section S[pr] to reach the hopper H will be described.

(1)改良例1
図15に示されている、排出支援機構を用いて、気体A1の単位時間当たりの供給量を増やす。これにより、原料供給路Cmsを通じて溶解製造部S[pr]内に流入する気体A1の流れを創り出し、真水wsに由来する水分のホッパー部S[hp]への侵入を阻止する。なお、既述のとおり、気体A1の温度は環境温度が容器内温度上限以下とする。また、もしくは、計量機構Mvf内に供給される気体A1の湿度はできるだけ低く設定する。これらにより、計量機構Mvf内や原料供給路Cms内に残留する原料固形物msが塩素ガスの発生源になる危険や、発生した塩素ガスが水分を含んで強い腐食性を呈し、刺激臭の原因となる危険を低減することができる。
(1) Improvement example 1
The supply amount of the gas A1 per unit time is increased by using the discharge support mechanism shown in FIG. As a result, a flow of the gas A1 flowing into the dissolution production section S[pr] through the raw material supply path Cms is created, and the invasion of water derived from fresh water ws into the hopper section S[hp] is prevented. As described above, the temperature of the gas A1 is such that the environmental temperature is equal to or lower than the upper limit of the temperature inside the container. Alternatively, the humidity of the gas A1 supplied into the measuring mechanism Mvf is set as low as possible. Due to these, there is a danger that the raw material solids ms remaining in the measuring mechanism Mvf or the raw material supply path Cms becomes a source of chlorine gas, or the generated chlorine gas contains water and is highly corrosive, causing an irritating odor. It is possible to reduce the risk that

(2)改良例2
図39は、ホッパー部S[hp]の改良例2の説明図である。この改良例2では、気体A2を、供給口Din側から計量機構Mvf内に供給し、排出口Doutから原料供給路Cmsに移動させ、原料供給路Cmsを通じて溶解製造部S[pr]内に流入させることにより、真水wsに由来する水分のホッパー部S[hp]への侵入を阻止する。改良例1の場合、気体A2の供給量を増やすと、排出口Doutから原料供給路Cmsに移動せずに計量機構Mvf内に留まる流れが形成され、計量機構Mvf内に残留する原料固形物msが増えるおそれがある。これに対し、気体A2を供給すれば、供給口Din の側から排出口Doutの側への気体の流れが形成されるので、計量機構Mvf内に残留する原料固形物msの量の増加を抑制又は防止することができる。
(2) Improvement example 2
FIG. 39 is an explanatory diagram of a second modification of the hopper section S[hp]. In this improvement example 2, the gas A2 is supplied into the measuring mechanism Mvf from the supply port Din side, moved from the discharge port Dout to the raw material supply passage Cms, and flows into the dissolution manufacturing section S[pr] through the raw material supply passage Cms. By doing so, the invasion of water derived from fresh water ws into the hopper S[hp] is prevented. In the case of the improved example 1, when the supply amount of the gas A2 is increased, a flow that remains in the measuring mechanism Mvf without moving to the raw material supply path Cms from the outlet Dout is formed, and the raw material solids ms remaining in the measuring mechanism Mvf May increase. On the other hand, when the gas A2 is supplied, a gas flow is formed from the supply port Din side to the discharge port Dout side, so that an increase in the amount of the raw material solid matter ms remaining in the measuring mechanism Mvf is suppressed. Or it can be prevented.

改良例2では、更に、気体A3を、原料供給路Cmsに供給し、原料供給路Cmsを通じて、溶解製造部S[pr]内に流入させることにより、真水wsに由来する水分のホッパー部S[hp]への侵入を阻止する。   In the improved example 2, further, the gas A3 is supplied to the raw material supply passage Cms and is allowed to flow into the dissolution production section S[pr] through the raw material supply passage Cms, so that the hopper section S[[ hp] is blocked.

真水wsに由来する水分をホッパーH内に到達させない又は到達し難くさせるためには、気体A2及び気体A3のうち少なくとも一方の供給を行えばよい。   In order to prevent or make it difficult for the moisture derived from the fresh water ws to reach the hopper H, at least one of the gas A2 and the gas A3 may be supplied.

気体A2及び気体A3の代表例は、除湿された空気である。気体A2及び気体A3の各温度は環境温度が容器内温度上限以下とする。また、望ましくは、計量機構Mvf内に供給される気体A1の湿度はできるだけ低く設定する。これらにより、計量機構Mvf内や原料供給路Cms内に残留する原料固形物msが塩素ガスの発生源になる危険を低減することができる。   A typical example of the gas A2 and the gas A3 is dehumidified air. The temperature of each of the gas A2 and the gas A3 is such that the environmental temperature is equal to or lower than the upper limit of the temperature inside the container. Further, desirably, the humidity of the gas A1 supplied into the measuring mechanism Mvf is set as low as possible. As a result, it is possible to reduce the risk that the raw material solid matter ms remaining in the measuring mechanism Mvf or the raw material supply path Cms becomes a source of chlorine gas.

(3)改良例3
(3−1) 図40は、ホッパー部S[hp]の改良例3の説明図であり、図40(a)はその正面図であり、図40(b)はその側面図である。この改良例3では、原料供給路Cmsの途中又は溶解製造部S[pr]側の先端にバルブVblを設け、ホッパー部S[hp]から溶解製造部S[pr]への原料固形物ms(ms*)の装入を停止しているときは、バルブVblを閉状態にして、真水wsに由来する水分のホッパー部S[hp]への侵入を阻止する。バルブVblの代表例は、締切性能が非常に高いことで知られているボールバルブである。水処理装置Dの自動化の程度を高めるのであれば、電動ボールバルブの採用が好ましい。
(3) Improvement example 3
(3-1) FIG. 40 is an explanatory diagram of a third modified example of the hopper S[hp], FIG. 40(a) is a front view thereof, and FIG. 40(b) is a side view thereof. In this improvement example 3, a valve Vbl is provided in the middle of the raw material supply path Cms or at the tip on the side of the melting production section S[pr], and the raw material solids ms (from the hopper section S[hp] to the melting production section S[pr] When the charging of ms*) is stopped, the valve Vbl is closed to prevent the moisture derived from the fresh water ws from entering the hopper S[hp]. A typical example of the valve Vbl is a ball valve which is known to have a very high shutoff performance. If the degree of automation of the water treatment device D is increased, it is preferable to use an electric ball valve.

(3−2) 図40(c)及び図40(d)は、それぞれ、図40(a)(b)に示されているホッパー部S[hp]の改良例3の派生例1及び派生例2の説明図であり、いずれも側面図である。改良例3の派生例1では、気体A4をバルブVblの側面から原料供給路Cmsに供給し、原料供給路Cmsを通じて溶解製造部S[pr]内に流入させることにより、真水wsに由来する水分のホッパー部S[hp]への侵入を阻止する。改良例3の派生例2では、バルブVblを上蓋Ts1(又はTcs1)から離隔した位置に設置する場合において、気体A5を、バルブVblと上蓋Ts1(又はTcs1)との間の原料供給路Cmsに供給し、原料供給路Cmsを通じて溶解製造部S[pr]内に流入させることにより、真水wsに由来する水分のホッパー部S[hp]への侵入を阻止する。   (3-2) FIGS. 40(c) and 40(d) are a derivative example 1 and a derivative example of the improvement example 3 of the hopper section S[hp] shown in FIGS. 40(a) and 40(b), respectively. It is explanatory drawing of 2, and is a side view in each case. In the derivation example 1 of the improved example 3, the gas A4 is supplied from the side surface of the valve Vbl to the raw material supply passage Cms, and is allowed to flow into the dissolution production section S[pr] through the raw material supply passage Cms, whereby the water content derived from the fresh water ws is obtained. Prevents intrusion into the hopper S [hp] of. In the modified example 2 of the modified example 3, when the valve Vbl is installed at a position separated from the upper lid Ts1 (or Tcs1), the gas A5 is supplied to the raw material supply path Cms between the valve Vbl and the upper lid Ts1 (or Tcs1). By supplying and flowing into the dissolution manufacturing section S[pr] through the raw material supply channel Cms, the invasion of water originating from fresh water ws into the hopper section S[hp] is prevented.

真水wsに由来する水分をホッパーH内に到達させない又は到達し難くさせるためには、気体A4及び気体A5のうち少なくとも一方の供給を行えばよい。気体A4及び気体A5の代表例は、除湿された空気である。気体A4及び気体A5の各温度は容器内温度上限以下にする。   In order to prevent or make it difficult for the moisture derived from the fresh water ws to reach the hopper H, at least one of the gas A4 and the gas A5 may be supplied. A typical example of the gas A4 and the gas A5 is dehumidified air. The temperature of each of the gas A4 and the gas A5 should be below the upper limit of the temperature inside the container.

真水wsに由来する水分のホッパー部S[hp]への侵入を阻止するためには、上記の改良例1乃至3(改良例3の派生例1及び2を含む)のうち少なくとも一つを採用すればよいが、全部を同時に採用するのが望ましい。   In order to prevent the moisture derived from fresh water ws from entering the hopper S[hp], at least one of the above-mentioned improvement examples 1 to 3 (including the derivative examples 1 and 2 of the improvement example 3) is adopted. However, it is desirable to adopt all at the same time.

<実施形態3>
バラスト水処理装置を搭載する船舶
図41は、バラスト水処理装置を搭載する船舶VSLの基本構成説明図であり、図42は、船舶VSLにおいて実行される殺菌処理の説明図であり、図43は、船舶VSLにおいて実行される還元処理の説明図である。
<Embodiment 3>
Vessel equipped with ballast water treatment device FIG. 41 is an explanatory diagram of the basic configuration of a vessel VSL equipped with a ballast water treatment device, FIG. 42 is an explanatory diagram of a sterilization process executed in the vessel VSL, and FIG. FIG. 8 is an explanatory diagram of a return process executed in the ship VSL.

1.1)基本構成
図41に示されているとおり、船舶VSLは、取水口又はシーチェストITと、バラストポンプPmと、バラストタンクBTと、排水口DOとを備え、シーチェストIT、バラストポンプPm及びバラストタンクBTを連結し、取水口ITを通じて船外から取水した海水WoをバラストタンクBTに向かって流通させ、その途中で塩素系殺菌剤Asを注入して、塩素系殺菌剤Asが注入された海水Wsにして、バラストタンクBTに排出するバラスト水取水用配管経路Lfと、バラストタンクBT、バラストポンプPm及び排水口DOを連結し、バラストタンクBTから取水したバラスト水Wtを排水口DOに向かって流通させ、排水口DOを通じて船外へ排出するバラスト水排水用配管経路Lrと、バラスト水取水用配管経路Lfを流通する海水Woをろ過するフィルタ装置Fと、フィルタ装置Fの下流においてバラスト水取水用配管経路Lfに塩素系殺菌剤Asを注入する殺菌剤注入口Isを具備する殺菌剤供給装置Dを備えている。
1.1) Basic configuration As shown in FIG. 41, the ship VSL includes a water intake or sea chest IT, a ballast pump Pm, a ballast tank BT, and a drain DO, and the sea chest IT and the ballast pump. Pm and ballast tank BT are connected, seawater Wo taken from the outside through the intake IT is circulated toward the ballast tank BT, and chlorine-based germicide As is injected in the middle, and chlorine-based germicide As is injected. The ballast water intake pipe line Lf that discharges the ballast tank BT into the ballast tank BT is connected to the ballast tank BT, the ballast pump Pm, and the outlet DO, and the ballast water Wt taken from the ballast tank BT is connected to the outlet DO. And a filter device F for filtering seawater Wo flowing through the ballast water intake pipe line Lf, and a downstream of the filter device F. The ballast water intake pipe line Lf is provided with a disinfectant supply device D having a disinfectant injection port Is for injecting a chlorine-based disinfectant As.

船舶VSLは、更に、バラスト水排水用配管経路Lrに還元剤Anを注入する還元剤注入口Inを具備する還元剤供給装置Nを備えており、バラスト水排水用配管経路Lrの途中でバラストタンクBTから取水したバラスト水Wtに還元剤Anを注入して、バラスト水Wtに残留している殺菌剤Asの影響を低減させ、バラスト水Wtを船外への排水が許容されるバラスト水Wnにし、そのバラスト水Wnを排水口DOから船外へ排出することを可能にしている。バラストポンプPmの吐出側には、通常、ポンプの停止、故障等の異常時に起こり得る逆流を防止するための逆止弁Vcmが設置してある。   The vessel VSL further includes a reducing agent supply device N having a reducing agent inlet In for injecting the reducing agent An into the ballast water drainage piping path Lr, and a ballast tank is provided in the middle of the ballast water drainage piping path Lr. The reducing agent An is injected into the ballast water Wt taken from the BT to reduce the influence of the bactericide As remaining in the ballast water Wt, and the ballast water Wt is changed to the ballast water Wn that is allowed to be discharged outboard. , The ballast water Wn can be discharged to the outside of the ship from the drain port DO. The discharge side of the ballast pump Pm is usually provided with a check valve Vcm for preventing a backflow that may occur in the event of an abnormality such as a pump stop or failure.

バラスト水取水用配管経路Lfは、図42中で太字により描写されているIT→Qa→Pm→Vcm→Qb→F→Qc→Is→Mxc→Qe→BTの配管経路であり、殺菌剤注入口Isの下流、バラストタンクBTの上流に、船外から取水した海水Woと塩素系殺菌剤Asとの混合を促進するためのミキサーMxsを備えている。バラスト水排水用配管経路Lrは、図43中で太字により描写されている、BT→Qa→Pm→Vcm→Qb→Qd→Qc→In→Mxc→Qe→DOの配管経路である。   The ballast water intake pipe line Lf is a pipe line of IT → Qa → Pm → Vcm → Qb → F → Qc → Is → Mxc → Qe → BT, which is drawn in bold in FIG. Downstream of Is and upstream of the ballast tank BT, a mixer Mxs for promoting the mixing of the seawater Wo taken from the outside of the ship and the chlorine-based germicide As is provided. The ballast water drainage pipe line Lr is a pipe line of BT → Qa → Pm → Vcm → Qb → Qd → Qc → In → Mxc → Qe → DO, which is drawn in bold in FIG. 43.

バラストポンプPm、図示されていない複数個のバルブ、殺菌剤供給装置D、還元剤供給装置Nなどの機器・装置等の操作や調整は、当該操作や調整の一部又は全部を手動で行う場合を除き、制御装置PLC又は、図示されていないその他の制御装置に予めインストールしてある制御プログラムに従って自動で行われる。たとえば、バラスト水取水用配管経路Lf及びバラスト水排水用配管経路Lrのうちのいずれか一つを選択するための複数個の開閉バルブの開閉の設定、設定した配管経路から他の配管経路への変更ならびにバラストポンプPmの運転モードの切り換え、ならびに殺菌剤供給装置D及び還元剤供給装置Nのそれぞれの動作及び停止の切り換えは、当該設定、変更及び切り換えの操作の一部又は全部を手動で行う場合を除き、制御装置PLCに予めインストールしてある制御プログラムに従って自動で行われる。   When a part or all of the operation or adjustment of the ballast pump Pm, a plurality of valves (not shown), the disinfectant supply device D, the reducing agent supply device N, etc. is manually performed. Except for the above, it is automatically performed according to a control program pre-installed in the control device PLC or another control device (not shown). For example, setting of opening and closing of a plurality of open/close valves for selecting one of the ballast water intake piping path Lf and the ballast water drainage piping path Lr, and setting of the set piping path to another piping path. The change and the switching of the operation mode of the ballast pump Pm, and the switching of the operation and stop of each of the disinfectant supply device D and the reducing agent supply device N are manually performed by performing a part or all of the setting, changing and switching operations. Except the case, it is automatically performed according to the control program pre-installed in the control device PLC.

制御装置PLCは、バラスト水取水用配管経路Lf及びバラスト水排水用配管経路Lrのうちのいずれか又はすべてに取り付けてある計測機器の出力Smを受信し、記録し、監視し、その出力Smに基づき、他のいずれかの機器・装置等を制御するための制御信号Saを生成し、その機器・装置等に向けて発信する機能を有する監視制御装置であってもよい。出力Smは、たとえば流量計の出力F(i)、TRO計測装置の出力Sn(j)及び温度計の出力T(k)であり、図示されていないその他の計測装置の出力であってもよい。制御信号Saは、たとえば図示されていないバルブの開閉や開度を変更するためのモータの制御信号V(l)、バラストポンプPmを初めとするポンプ装置を駆動するモータの制御信号P(m)ならびに温度調節装置CL1、CL2、CL3、…の動作を制御するための制御信号C(n)であり、その他の機器・装置類の動作を制御する信号であってもよい。機器・装置類の動作を計測装置の出力に基づき直接制御する場合には、制御装置PLCによる当該動作の制御は行われない。   The control device PLC receives, records, and monitors the output Sm of the measuring device attached to any or all of the ballast water intake pipe line Lf and the ballast water drainage pipe line Lr, and monitors the output Sm. Based on this, the monitor control device may have a function of generating a control signal Sa for controlling any other device/apparatus, and transmitting the control signal Sa to the device/apparatus or the like. The output Sm is, for example, the output F(i) of the flow meter, the output Sn(j) of the TRO measuring device and the output T(k) of the thermometer, and may be the output of another measuring device not shown. .. The control signal Sa is, for example, a motor control signal V(l) for changing the opening/closing or opening of a valve (not shown), a control signal P(m) for a motor that drives a pump device including the ballast pump Pm. In addition, it is a control signal C(n) for controlling the operation of the temperature adjusting devices CL1, CL2, CL3,... And may be a signal for controlling the operation of other devices/apparatuses. When the operation of the equipment/devices is directly controlled based on the output of the measuring device, the operation is not controlled by the control device PLC.

1.2)殺菌処理及び還元処理
バラスト水処理のうち殺菌処理とは、バラスト水取水用配管経路Lfを流通する海水Woに対して、当該海水WoがバラストタンクBTに収容される前に、殺菌剤供給装置Dから塩素系殺菌剤Asを殺菌剤注入口Isから注入する処理をいい、殺菌された海水Wsとして当該海水WoをバラストタンクBTに収容させることを可能にするものである。
1.2) Sterilization treatment and reduction treatment Among the ballast water treatments, sterilization treatment means sterilization of seawater Wo flowing through the ballast water intake pipe line Lf before the seawater Wo is stored in the ballast tank BT. This is a process of injecting a chlorine-based bactericidal agent As from the agent supply device D from the bactericidal agent injection port Is, and makes it possible to store the seawater Wo as sterilized seawater Ws in the ballast tank BT.

バラスト水処理のうち還元処理とは、バラスト水排水用配管経路Lrを流通する、バラストタンクBTから取り出された海水Wtに対して、当該海水Wtが船外に排水される前に、還元剤供給装置Nから還元剤Anを注入する還元剤注入口Inから注入することにより、当該Wt中に残留している、塩素系殺菌剤Asに由来する遊離有効塩素を還元し、当該海水Wtを船外排水が許される水準に至るまで無害化する処理をいう。海水Wtは、還元処理により、無害化された海水Wnとして船外へ排水することができるようになる。   Among the ballast water treatments, the reduction treatment refers to the supply of a reducing agent to the seawater Wt, which flows through the ballast water drainage piping Lr and is taken out from the ballast tank BT, before the seawater Wt is drained outboard. By injecting the reducing agent An from the device N, the free effective chlorine derived from the chlorine-based bactericidal agent As remaining in the Wt is reduced by injecting the reducing agent An, and the seawater Wt is outboard. This is a treatment that renders wastewater harmless until it reaches a level that allows it. The seawater Wt can be discharged outboard as detoxified seawater Wn by reduction treatment.

なお、バラスト水処理において殺菌処理は不可欠であるが、還元処理は不可欠とまではいえない。海水Wt中の塩素系殺菌剤Asに由来する遊離有効塩素が十分少なく、海水Wtが既に船外排水が許される水準に達している場合には、海水Wtに対して還元剤を加える必要はなく、従って還元処理を実行する必要はない。   Although sterilization is indispensable for ballast water treatment, reduction treatment is not indispensable. If the amount of free available chlorine derived from the chlorine-based germicide As in seawater Wt is sufficiently low and seawater Wt has already reached the level at which outboard drainage is allowed, it is not necessary to add a reducing agent to seawater Wt. Therefore, it is not necessary to perform the reduction process.

1.3)バラスト水処理装置
バラスト水処理装置は、船舶VSLに搭載されることにより、図41に示されている船舶VSLの基本構成を実現し、且つ、図42及び図43にそれぞれ示されている殺菌処理及び還元処理を実行する装置であり、具体的には、フィルタ装置F、殺菌剤供給装置D、還元剤供給装置N、ミキサーMxc、ならびに位置Qbとフィルタ装置Fとを接続する配管経路及びフィルタ装置Fと位置Qcとを接続する配管経路がバラスト水処理装置を構成する要素とする装置である。本発明に係る水処理装置は、バラストタンクBTを具備する船舶VSLの外部から当該バラストタンクBTに向かって移動する海水Woに塩素系殺菌剤Asを注入することにより殺菌処理を施す装置、つまり殺菌剤供給装置Dにほかならない。
1.3) Ballast Water Treatment Device The ballast water treatment device realizes the basic configuration of the ship VSL shown in FIG. 41 by being mounted on the ship VSL, and is also shown in FIGS. 42 and 43, respectively. Which is a device for performing sterilization treatment and reduction treatment, specifically, a filter device F, a sterilizing agent supply device D, a reducing agent supply device N, a mixer Mxc, and a pipe connecting the position Qb and the filter device F. The pipe path connecting the path and the filter device F to the position Qc is a device that constitutes an element of the ballast water treatment device. The water treatment device according to the present invention is a device for performing a sterilization treatment by injecting a chlorine-based bactericidal agent As into the seawater Wo moving toward the ballast tank BT from the outside of the ship VSL equipped with the ballast tank BT, that is, sterilization. It is nothing but agent supply device D.

1.4)実施例
貨物船VSLが第一の港から空荷で出港する際、第一の港で海水WoをバラストタンクBTに積み込み、貨物を積載する第二の港でバラストタンクBTから海水Wtを船外へ排出し、その後貨物を積載して第一の港に戻る。そして貨物を荷卸しした第一の港から再び空荷で、第二の港に向かって出航する際、第一の港で海水WoをバラストタンクBTに積み込む場合、まず、第一の港において、船内に海水Woを取水し、バラスト水出用配管経路Lfに流通させる際に、本発明に係る水処理装置を殺菌剤供給装置Dとして用いて塩素系殺菌剤Asを殺菌剤注入口Isから、流通する海水Woに注入する。これにより、海水Woに対して殺菌処理を施し、塩素系殺菌剤Asが注入された海水Wo(つまり海水Ws)をバラストタンクBTに収容させる。その後、貨物船VSLは、第一の港を出港し、航行し、貨物を搭載するために第二の港に向かう。
1.4) Example When the freighter VSL leaves the first port with an empty cargo, seawater Wo is loaded into the ballast tank BT at the first port, and seawater from the ballast tank BT is loaded at the second port where cargo is loaded. Wt is discharged overboard, then loaded with cargo and returned to the first port. Then, when emptying again from the first port where the cargo was unloaded, when sailing towards the second port, when loading seawater Wo into the ballast tank BT at the first port, first at the first port, Taking seawater Wo into the ship, when circulating the ballast water discharge piping route Lf, the chlorine-based germicide As using the water treatment device according to the present invention as the germicide supply device D from the germicide inlet Is, Inject it into the circulating seawater Wo. Thus, the seawater Wo is sterilized, and the seawater Wo (that is, the seawater Ws) in which the chlorine-based bactericide As is injected is stored in the ballast tank BT. The freighter VSL then departs from the first port, sails and goes to the second port for loading cargo.

次に、第二の港において、バラストタンクBTから海水Wtを船外へ排出させるために、バラスト水排水用配管経路Lrに流通させる際に、海水Wt中に残留している遊離有効塩素濃度が排水許容レベルより高いときは、還元剤供給装置Nを用いて還元剤Anを還元剤注入口Inから、流通する海水Wtに注入し、これにより海水Wtに還元処理を施し、無害化された海水Wt(つまり海水Wn)を船外へ排水する。海水Wt中に残留している遊離有効塩素濃度が排水許容レベル以下であるときは、還元剤供給装置Nを用いて還元剤Anを注入することなく、海水Wtをそのまま船外へ排水する。その後、貨物船VSLは、貨物を積載して第二の港を出港し、航行し、貨物を荷卸しするために第一の港に向かう。   Next, at the second port, when the seawater Wt is discharged from the ballast tank BT to the outside of the ship, the free effective chlorine concentration remaining in the seawater Wt is increased when the seawater Wt is circulated to the ballast water drainage piping route Lr. When the discharge level is higher than the allowable level, the reducing agent supply device N is used to inject the reducing agent An from the reducing agent inlet In into the circulating seawater Wt, thereby reducing the seawater Wt to render it harmless. Drain Wt (that is, seawater Wn) outboard. When the concentration of free available chlorine remaining in the seawater Wt is equal to or lower than the drainage allowable level, the reducing agent supply device N is not used to inject the reducing agent An, and the seawater Wt is drained out of the ship as it is. The freighter VSL then leaves the second port with cargo loaded and sails to the first port for unloading.

第一の港で荷卸しを終えると、貨物船VSLは空荷状態になる。それ故、貨物船VSLが、再び、第一の港から空荷で出港する際は、最初のとおり、本発明に係る水処理装置を殺菌剤供給装置Dとして用いて、海水Woに対して殺菌処理を施し、塩素系殺菌剤Asが注入された海水Wo(つまり海水Ws)をバラストタンクBTに収容させる。   After unloading at the first port, the freighter VSL will be empty. Therefore, when the cargo ship VSL again leaves the first port with an empty cargo, as in the first place, the water treatment device according to the present invention is used as the germicide supply device D to sterilize seawater Wo. The seawater Wo (that is, the seawater Ws) in which the chlorine-based sterilizer As is injected is stored in the ballast tank BT after being treated.

本発明に係る水処理装置を殺菌剤供給装置Dとして用いる殺菌処理の実行例は、図6及び図9にそれぞれ示されている、本発明に係る水処理方法の実施例2及び実施例5である。   Execution examples of the sterilization treatment using the water treatment device according to the present invention as the sterilizing agent supply device D are the second and fifth embodiments of the water treatment method according to the present invention shown in FIGS. 6 and 9, respectively. is there.

図6及び図9中に示されている期間Paは、第一の港における殺菌処理のために第二段階S2を実行した後、出港先の第二の港から第一の港に戻ってきた後に、第一の港において再度の殺菌処理を開始するまでの期間に概ね等しい。期間Pa*についても同様のことがいえる。   During the period Pa shown in FIG. 6 and FIG. 9, after performing the second stage S2 for the sterilization treatment in the first port, the second port, which is the departure destination, returned to the first port. It is almost equal to the period until the second sterilization process is started later in the first port. The same applies to the period Pa*.

図6及び図9中に示されている期間Pbは、第一の港における殺菌処理のために第二段階S3を実行した後、出港先の第二の港から第一の港に戻ってきた後に、第一の港において再度の殺菌処理を開始するまでの期間に概ね等しい。期間Pb*についても同様のことがいえる。   During the period Pb shown in FIG. 6 and FIG. 9, after performing the second stage S3 for the sterilization treatment in the first port, the second port, which is the departure destination, returned to the first port. It is almost equal to the period until the second sterilization process is started later in the first port. The same applies to the period Pb*.

本発明の技術的範囲は、均等の範囲にまで及ぶものである。本明細書における各用語の意味又は解釈は、本発明の技術的範囲が均等の範囲にまで及ぶことを妨げるものではない。   The technical scope of the present invention extends to an equivalent range. The meaning or interpretation of each term in the present specification does not prevent the technical scope of the present invention from extending to an equivalent range.

S0…準備段階、S1…第一段階、S2…第二段階、S3…第三段階、S12…温度設定工程、H…一時的貯蔵用容器(ホッパー)、ms…原料固形物、ws…真水、Cs…混合物、As…塩素系殺菌剤、Wo…殺菌剤注入前の水、Ws…殺菌剤注入後の水、船舶(貨物船)…VSL、D, D1, D2…水処理装置(殺菌剤供給装置)、N…還元剤供給装置、Mxs, Mxc…ミキサー、F…フィルタ装置、Lf…バラスト水取水用配管経路、Lr…バラスト水排水用配管経路、Ls…殺菌剤配管経路、Pm…バラストポンプ、BT…バラストタンク、S[pr]…溶液製造部、S[hp]…ホッパー部、S[ws]…水供給部、 S[is]…殺菌剤注入部、S[mx]…混合部、S[st]…溶解促進部   S0...Preparation stage, S1...First stage, S2...Second stage, S3...Third stage, S12...Temperature setting process, H...Temporary storage container (hopper), ms...Raw solids, ws...Fresh water, Cs... Mixture, As... Chlorine disinfectant, Wo... Water before injection of disinfectant, Ws... Water after injection of disinfectant, Ship (cargo ship)... VSL, D, D1, D2... Water treatment equipment (disinfectant supply Equipment), N...reductant supply device, Mxs, Mxc...mixer, F...filter device, Lf...ballast water intake pipe line, Lr...ballast water drainage pipe line, Ls...sterilizer pipe line, Pm...ballast pump , BT... Ballast tank, S[pr]... Solution manufacturing department, S[hp]... Hopper part, S[ws]... Water supply part, S[is]... Disinfectant injection part, S[mx]... Mixing part, S[st]... Dissolution promotion section

<塩素系殺菌剤の製造方法>
本発明の第1の形態に係る塩素系殺菌剤の製造方法は、船舶のバラストに用いる水の殺菌に用いる塩素系殺菌剤の製造方法であって、ジクロロイソシアヌル酸ナトリウムの固形物を真水と混合し、撹拌することにより、前記固形物が前記真水に溶解してできる溶液を得る工程を有し、前記溶液は、前記固形物の前記真水への溶解の開始から30分以内に得られた有効塩素濃度7%以上の溶液であり、前記固形物と混合する前の前記真水の温度は、摂氏5度以上である、ことを特徴とする。
本発明の第2の形態に係る塩素系殺菌剤の製造方法は、第1の形態に係る塩素系殺菌剤の製造方法であって、前記真水と混合する前の前記固形物の温度は、摂氏39度以下であることを特徴とする。
本発明の第3の形態に係る塩素系殺菌剤の製造方法は、第1または第2の形態に係る塩素系殺菌剤の製造方法であって、前記工程は、溶液製造部で前記溶液を得る工程を有する、ことを特徴とする。
本発明の第4の形態に係る塩素系殺菌剤の製造方法は、第3の形態に係る塩素系殺菌剤の製造方法であって、前記固形物と前記真水の混合物又は前記溶液が接触していた前記溶液製造部の表面の少なくとも一部を、前記真水と接触させ、前記表面の乾燥を防止する工程を更に有する、ことを特徴とする。
<水処理方法>
上記目的を解決するための、本発明の第の形態に係る水処理方法は、船舶のバラストに用いる水を船外から導入し、その水を当該船舶が具備するバラストタンクに向かって移動させる過程で殺菌する水処理方法であって、塩素化イソシアヌル酸化合物の固形物と該固形物を一時的に貯蔵するための一時的貯蔵用容器を用意する準備段階と、前記固形物を一時的貯蔵用容器内に装入する工程を有する第一段階と、前記一時的貯蔵用容器内から取り出された前記固形物を真水と混合し、撹拌することにより、塩素系殺菌剤を製造する工程を有する第二段階と、船舶のバラストに用いる水として船外から導入した水に前記塩素系殺菌剤を注入する工程を有する第三段階と、を有するとともに、前記第一段階は、前記一時的貯蔵用容器内の温度を摂氏39度以下に設定する工程を有することを特徴とする。
<Method for producing chlorine-based bactericide>
A method for producing a chlorine-based bactericide according to the first aspect of the present invention is a method for producing a chlorine-based bactericide used for sterilizing water used for ballast of ships, in which solid sodium dichloroisocyanurate is mixed with fresh water. Then, the method has a step of obtaining a solution by dissolving the solid matter in the fresh water by stirring, and the solution is obtained within 30 minutes from the start of the dissolution of the solid matter in the fresh water. It is a solution having a chlorine concentration of 7% or more, and the temperature of the fresh water before being mixed with the solid matter is 5 degrees Celsius or more.
The method for producing a chlorine-based germicide according to the second aspect of the present invention is the method for producing a chlorine-based germicide according to the first aspect, wherein the temperature of the solid matter before mixing with the fresh water is Celsius. It is characterized in that it is 39 degrees or less.
A method for producing a chlorine-based germicide according to a third aspect of the present invention is the method for producing a chlorine-based germicide according to the first or second aspect, wherein the step obtains the solution in a solution producing section. It has a process.
The method for producing a chlorine-based germicide according to the fourth aspect of the present invention is the method for producing a chlorine-based germicide according to the third aspect, wherein the solid matter and the fresh water mixture or the solution are in contact with each other. Furthermore, the method further comprises the step of contacting at least a part of the surface of the solution manufacturing unit with the fresh water to prevent the surface from drying.
<Water treatment method>
A water treatment method according to the A-th embodiment of the present invention for solving the above-mentioned object introduces water used for ballast of a ship from outside the ship and moves the water toward a ballast tank provided in the ship. A water treatment method for sterilizing in the process, a preparatory step of preparing a solid substance of a chlorinated isocyanuric acid compound and a temporary storage container for temporarily storing the solid substance, and temporarily storing the solid substance. It has a first step having a step of charging it into a container for use in the container, and a step of producing a chlorine-based bactericide by mixing the solid substance taken out from the container for temporary storage with fresh water and stirring the mixture. While having a second step and a third step having a step of injecting the chlorine-based bactericide into water introduced from outside as water used for ballast of a ship, the first step is for the temporary storage. The method is characterized by having a step of setting the temperature in the container to 39°C or lower.

本発明の第の形態に係る水処理方法は、第の形態に係る水処理方法であって、前記第一段階は、前記一時的貯蔵用容器が設置されている場所の温度が摂氏39度未満であるとき、前記一時的貯蔵用容器内の温度を、前記一時的貯蔵用容器が設置されている場所の温度以上に設定する工程を有することを特徴とする。 A water treatment method according to a B-th aspect of the present invention is the water treatment method according to the A-th aspect, wherein in the first step, a temperature of a place where the temporary storage container is installed is 39 degrees Celsius. When the temperature is less than 100° C., the method has a step of setting the temperature in the temporary storage container to be equal to or higher than the temperature of the place where the temporary storage container is installed.

本発明の第の形態に係る水処理方法は、第の形態に係る水処理方法であって、前記第一段階は、前記固形物を前記一時的貯蔵用容器内に装入している間のみならず、装入前及び/又は装入後も前記一時的貯蔵用容器内の温度を摂氏39度以下に設定する工程を有することを特徴とする。 A water treatment method according to a C-th aspect of the present invention is the water treatment method according to the A-th aspect, wherein in the first step, the solid matter is charged into the temporary storage container. The method is characterized by including the step of setting the temperature in the temporary storage container to 39° C. or lower not only during the charging but also before and/or after charging.

本発明の第の形態に係る水処理方法は、第A乃至のいずれか1つの形態に係る水処理方法であって、前記固形物と混合される前の前記真水の温度は、摂氏5度以上、摂氏39度以下の範囲内に予め設定されている、ことを特徴とする。 The water treatment method according to the D-th aspect of the present invention is the water treatment method according to any one of the A- th to C-th aspects, wherein the temperature of the fresh water before being mixed with the solid matter is Celsius. It is characterized in that it is preset within a range of 5 degrees or more and 39 degrees Celsius or less.

本発明の第の形態に係る水処理方法は、第乃至第のいずれか1つの形態に係る水処理方法であって、前記第三段階は、摂氏5度以上、摂氏39度以下の温度範囲内で前記固形物を前記真水と混合する工程を有する、ことを特徴とする。 Water treatment method according to the form of the E of the present invention is a first A to water treatment method according to any one form of the D, the third stage, or 5 degrees Celsius, below 39 degrees Celsius It has a process of mixing the solid substance with the fresh water within a temperature range.

本発明の第の形態に係る水処理方法は、第の形態に係る水処理方法であって、前記第三段階は、前記固形物を前記真水に溶解させてできる塩素系殺菌剤の温度を摂氏39度以下に設定する工程を有する、ことを特徴とする。 Water treatment method according to the embodiment of the F of the present invention is a water treatment method according to the form of the E, the third step, the temperature of the chlorine-based disinfectant which the solids can be dissolved in the fresh water Is set to 39 degrees Celsius or less.

本発明の第の形態に係る水処理方法は、第の形態に係る水処理方法であって、前記一時的貯蔵用容器が設置されている場所の温度が、摂氏39度以下に予め設定されている基準温度を超えたとき、前記一時的貯蔵用容器内の温度を下げる工程を有することを特徴とする。 Water treatment method according to the form of the G of the present invention is a water treatment method according to the embodiment of the A, temperature of the location where the temporary storage vessel is installed, preset below 39 degrees Celsius When the temperature exceeds a predetermined reference temperature, a step of lowering the temperature in the temporary storage container is included.

本発明の第の形態に係る水処理方法は、第の形態に係る水処理方法であって、前記一時的貯蔵用容器が設置されている場所の温度が、摂氏0度以上に予め設定されている基準温度を下回ったとき、前記一時的貯蔵用容器内の温度を上げる工程を有することを特徴とする。 The water treatment method according to the H-th aspect of the present invention is the water treatment method according to the B-th aspect, wherein the temperature of the place where the temporary storage container is installed is preset to 0 degrees Celsius or higher. When the temperature falls below the prescribed reference temperature, the temperature in the temporary storage container is raised.

本発明の第の形態に係る水処理方法は、第の形態に係る水処理方法であって、前記塩素系殺菌剤の温度が、摂氏39度以下に予め設定されている基準温度を超えたとき、前記一時的貯蔵用容器内の温度及び/又は前記固形物と混合される前の前記真水の温度を下げる工程を有する、ことを特徴とする。 Water treatment method according to the form of the I of the present invention is a water treatment method according to the form of the D, the temperature of the chlorine-based disinfectant, exceeds the reference temperature that is preset below 39 degrees Celsius In this case, the method further comprises the step of lowering the temperature in the temporary storage container and/or the temperature of the fresh water before being mixed with the solid matter.

本発明の第の形態に係る水処理方法は、第乃至第のいずれか1つの形態に係る水処理方法であって、前記第一段階は、前記第二段階の実行中及び実行後少なくとも一定期間、前記一時的貯蔵用容器内の温度を摂氏39度以下に設定する工程を有する、ことを特徴とする。 A water treatment method according to a J-th aspect of the present invention is the water treatment method according to any one of the A- th to I-th aspects, wherein the first step is during and after the execution of the second step. The method further comprises the step of setting the temperature in the temporary storage container to 39 degrees Celsius or less for at least a certain period.

本発明の第の形態に係る水処理方法は、第乃至第のいずれか1つの形態に係る水処理方法であって、前記第一段階は、前記第三段階の実行中及び実行後少なくとも一定期間、前記一時的貯蔵用容器内の温度を摂氏39度以下に設定する工程を有する、ことを特徴とする。 Water treatment method according to the form of the K of the present invention is a water treatment method according to any one form of the A to the I, the first step is, during execution of the third stage and after running The method further comprises the step of setting the temperature in the temporary storage container to 39 degrees Celsius or less for at least a certain period.

本発明の第の形態に係る水処理方法は、第の形態に係る水処理方法であって、前記第一段階は、前記固形物を前記一時的貯蔵用容器に補給する工程を有することを特徴とする。 The water treatment method according to the L-th aspect of the present invention is the water treatment method according to the K-th aspect, wherein the first step has a step of supplying the solid matter to the temporary storage container. Is characterized by.

<水処理装置>
本発明の第の形態に係る水処理装置は、船舶のバラストに用いる水として船外から導入された水に殺菌剤を注入するために、当該船舶に搭載される水処理装置であって、塩素化イソシアヌル酸化合物の固形物と真水を混合し撹拌することにより、塩素系殺菌剤を製造する溶液製造部と、前記固形物を一時的に貯蔵し、前記溶液製造部に供給するホッパーと、前記真水を前記溶液製造部に供給する水供給部と、船舶のバラストに用いる水として船外から導入された水に前記塩素系殺菌剤を注入する殺菌剤注入部を備えており、前記ホッパー内の温度は摂氏39度以下に設定されている、ことを特徴とする。
<Water treatment device>
A water treatment device according to a M-th aspect of the present invention is a water treatment device mounted on a ship for injecting a bactericide into water introduced from outside as water used for ballast of the ship, By mixing and stirring a solid substance of the chlorinated isocyanuric acid compound and fresh water, a solution production section for producing a chlorine-based bactericide, a temporary storage of the solid matter, and a hopper for supplying the solution production section, The hopper includes a water supply unit that supplies the fresh water to the solution manufacturing unit, and a disinfectant injection unit that injects the chlorine-based disinfectant into water introduced from the outside as water used for ballast of a ship, and in the hopper. The temperature of is set to 39 degrees Celsius or lower.

本発明の第の形態に係る水処理装置は、第の形態に係る水処理装置であって、前記ホッパー内の前記固形物を前記溶液製造部に供給する原料供給機を更に備えており、前記原料供給機は、前記ホッパー内の前記固形物を少量又は所定量に小分けにするための計量機構と該計量機構を駆動する駆動機構を具備しており、前記計量機構内の温度は摂氏39度以下に設定されている、ことを特徴とする。 The water treatment apparatus according to the Nth aspect of the present invention is the water treatment apparatus according to the Mth aspect, further comprising a raw material supply device for supplying the solid matter in the hopper to the solution manufacturing unit. The raw material feeder includes a measuring mechanism for dividing the solid matter in the hopper into small amounts or a predetermined amount, and a drive mechanism for driving the measuring mechanism, and the temperature in the measuring mechanism is Celsius. It is characterized in that it is set to 39 degrees or less.

本発明の第の形態に係る水処理装置は、第又は第の形態に係る水処理装置であって、前記ホッパー内から前記溶液製造部に供給される前記固形物の移動経路内の温度は、摂氏39度以下に設定されている、ことを特徴とする。 Water treatment device according to the O mode of the present invention, there is provided a water treatment unit according to the first M or the N, from within the hopper in the movement path of the solids supplied to the solution preparation part The temperature is set to 39 degrees Celsius or lower.

本発明の第の形態に係る水処理装置は、第M乃至のいずれか1つの形態に係る水処理装置であって、前記真水の温度は、摂氏5度以上、摂氏39度以下の範囲内に予め設定されている、ことを特徴とする。 A water treatment apparatus according to a P-th aspect of the present invention is the water treatment apparatus according to any one of the M- th to O-th aspects, wherein the temperature of the fresh water is 5 degrees Celsius or higher and 39 degrees Celsius or lower. It is characterized in that it is preset within the range.

本発明の第の形態に係る水処理装置は、第M乃至のいずれか1つの形態に係る水処理装置であって、前記溶液製造部は、摂氏5度以上、摂氏39度以下の温度範囲内で前記固形物を前記真水と混合するように構成されている、ことを特徴とする。 Water treatment unit according to the first Q of the present invention, there is provided a water treatment apparatus according to any one form of the M to the P, the solution preparation unit, more than 5 degrees Celsius, below 39 degrees Celsius It is configured to mix the solid matter with the fresh water within a temperature range.

本発明の第の形態に係る水処理装置は、第M乃至のいずれか1つの形態に係る水処理装置であって、前記溶液製造部は、前記固形物を前記真水と混合し、攪拌し、前記真水に溶解させるためのタンクを備えており、前記タンク内の温度は、摂氏5度以上、摂氏39度以下の範囲内に設定されている、ことを特徴とする。 Water treatment device according to the R form of the present invention, there is provided a water treatment apparatus according to any one form of the M to the P, the solution preparation part, the solid was mixed with the fresh water, A tank for stirring and dissolving in the fresh water is provided, and the temperature in the tank is set within a range of 5 degrees Celsius or more and 39 degrees Celsius or less.

本発明の第の形態に係る水処理装置は、第M乃至のいずれか1つの形態に係る水処理装置であって、前記溶液製造部は、前記固形物を前記真水と混合する混合部と、該混合部の下流に配置し、前記固形物の前記真水への溶解を促進する溶解促進部とを具備しており、前記溶解促進部は、前記固形物と前記真水の混合物及び/又は前記塩素系殺菌剤が移動し循環する循環配管経路を具備しており、前記循環配管経路は、ポンプと、該ポンプの出側と接続する第一の配管経路と、該第一の配管経路の出側と接続する固液分離装置と、該固液分離装置と前記ポンプの入側とを接続する第二の配管経路と、該第二の配管経路と前記混合部とが接続する接続部とを具備しており、前記殺菌剤注入部は、前記固液分離装置が排出する前記塩素系殺菌剤を、船舶のバラストに用いる水として船外から導入された水に注入するように構成されており、前記固液分離装置が排出する前記塩素系殺菌剤の温度又は前記固液分離装置内の温度が、摂氏5度以上、摂氏39度以下になるように、前記水供給部における前記真水の温度が設定されている、ことを特徴とする。 The water treatment apparatus according to the S-th aspect of the present invention is the water treatment apparatus according to any one of the M- th to P-th aspects, wherein the solution manufacturing unit mixes the solid matter with the fresh water. And a dissolution promoting unit that is disposed downstream of the mixing unit and that promotes dissolution of the solid matter in the fresh water, and the dissolution promoting unit is a mixture of the solid matter and the fresh water and/or Alternatively, the chlorine-based germicide has a circulating piping path that moves and circulates, and the circulating piping path includes a pump, a first piping path connected to an outlet side of the pump, and the first piping path. Solid-liquid separation device connected to the outlet side of the, the second pipe path connecting the solid-liquid separation device and the inlet side of the pump, the connection portion connecting the second pipe path and the mixing section The sterilizing agent injecting section is configured to inject the chlorine-based sterilizing agent discharged by the solid-liquid separation device into water introduced from outside as water used for ballast of a ship. The temperature of the chlorine-based bactericide discharged by the solid-liquid separator or the temperature in the solid-liquid separator is 5 degrees Celsius or more and 39 degrees Celsius or less so that the fresh water in the water supply unit is Is characterized in that the temperature is set.

本発明の第の形態に係る水処理装置は、第M乃至のいずれか1つの形態に係る水処理装置であって、前記ホッパーが設置されている場所の温度が、摂氏39度以下に予め設定されている基準温度を超えたとき、前記ホッパー内の温度が下がるように構成されている、ことを特徴とする。 The water treatment apparatus according to the T-th aspect of the present invention is the water treatment apparatus according to any one of the M- th to O-th aspects, wherein the temperature of the place where the hopper is installed is 39 degrees Celsius or less. The temperature inside the hopper is lowered when the temperature exceeds a reference temperature set in advance.

本発明の第の形態に係る水処理装置は、第の形態に係る水処理装置であって、前記ホッパーが設置されている場所の温度が、摂氏0度以上に予め設定されている基準温度を下回ったとき、前記真水の温度が上がるように構成されている、ことを特徴とする。 A water treatment apparatus according to a U-th aspect of the present invention is the water treatment apparatus according to the P-th aspect, wherein a temperature of a place where the hopper is installed is a reference value which is preset to 0 degrees Celsius or higher. The temperature of the fresh water rises when the temperature falls below the temperature.

本発明の第の形態に係る水処理装置は、第の形態に係る水処理装置であって、前記固液分離装置が排出する前記塩素系殺菌剤の温度又は前記固液分離装置内の温度が、摂氏39度以下に予め設定されている基準温度を超えたとき、前記水供給部における前記真水の温度及び/又は前記ホッパー内の温度が下がるように構成されている、ことを特徴とする。 Water treatment unit according to the first V of the present invention is a water treatment unit according to the first S, of the solid-liquid temperature of the chlorine fungicides separator discharges or the solid-liquid separation in the apparatus When the temperature exceeds a reference temperature preset to 39 degrees Celsius or less, the temperature of the fresh water in the water supply unit and/or the temperature in the hopper are configured to decrease. To do.

本発明の第の形態に係る水処理装置は、第M乃至のいずれか1つの形態に係る水処理装置であって、前記溶液製造部における前記塩素系殺菌剤の製造中及びその製造終了後少なくとも一定期間、前記ホッパー内の温度が摂氏39度以下に設定されている、ことを特徴とする。 Water treatment unit according to the first W of the present invention, there is provided a water treatment apparatus according to any one form of the M to the O, during the manufacture of the chlorine-based disinfectant in the solution preparation part and a manufacturing The temperature inside the hopper is set to 39 degrees Celsius or lower for at least a certain period after the end.

本発明の第の形態に係る水処理装置は、第M乃至のいずれか1つの形態に係る水処理装置であって、前記殺菌剤注入部における前記船舶のバラストに用いる水として導入された水への前記塩素系殺菌剤の注入中及びその注入の終了後少なくとも一定期間、前記ホッパー内の温度が摂氏39度以下になるように設定されている、ことを特徴とする。 Water treatment device according to the X of the present invention, there is provided a water treatment apparatus according to any one form of the M, second of O, introduced as water used for ballast of the ship in the sterilizing agent supply portion The temperature inside the hopper is set to 39 degrees Celsius or less during the injection of the chlorine-based bactericide into the water and at least for a certain period after the injection is completed.

本発明の第の形態に係る水処理装置は、第M乃至のいずれか1つの形態に係る水処理装置であって、前記ホッパーの周囲を冷却又は加熱する温度調節装置を備えている、ことを特徴とする。 A water treatment apparatus according to a Y-th aspect of the present invention is the water treatment apparatus according to any one of the M- th to O-th aspects, and is provided with a temperature adjusting device for cooling or heating the periphery of the hopper. , Is characterized.

本発明の第の形態に係る水処理装置は、第の形態に係る水処理装置であって、前記温度調節装置は、前記ホッパーが設置されている場所の空気調和を行うための空気調和装置を更に備えている、ことを特徴とする。 A water treatment apparatus according to a Z-th aspect of the present invention is the water treatment apparatus according to the Y-th aspect, wherein the temperature adjusting device is an air conditioner for performing air-conditioning of a place where the hopper is installed. A device is further provided.

本発明の第AAの形態に係る水処理装置は、第M乃至のいずれか1つの形態に係る水処理装置であって、前記ホッパーの周囲に断熱材が取り付けられている、ことを特徴とする。 Water treatment unit according to the first AA of the present invention, there is provided a water treatment apparatus according to any one form of the M to the O, wherein a heat insulating material is attached, that around the hopper And

本発明の第BBの形態は、第乃至第のいずれか1つの形態に係る水処理装置であって、前記溶液製造部は、断熱材により囲われた空間内に設置されている、ことを特徴とする。 A BB-th aspect of the present invention is the water treatment device according to any one of the Q- th to S-th aspects, wherein the solution manufacturing section is installed in a space surrounded by a heat insulating material, Is characterized by.

本発明の第CCの形態に係る水処理装置は、第M乃至のいずれか1つの形態に係る水処理装置であって、前記殺菌剤注入部における前記船舶のバラストに用いる水として導入された水への前記塩素系殺菌剤の注入の終了前に前記塩素化イソシアヌル酸化合物の固形物と前記真水の混合物と接触していた前記溶液製造部の表面の少なくとも一部が、その注入中及びその注入の終了後あるいはその注入の終了後、前記水供給部から供給される前記真水と接触するように構成されている、ことを特徴とする。 Water treatment unit according to the first CC of the present invention, there is provided a water treatment apparatus according to any one form of the M, second of O, introduced as water used for ballast of the ship in the sterilizing agent supply portion At least a part of the surface of the solution manufacturing unit, which had been in contact with the solid of the chlorinated isocyanuric acid compound and the mixture of fresh water before the end of the injection of the chlorine-based bactericide into the water, during the injection and It is characterized in that it is configured to come into contact with the fresh water supplied from the water supply unit after the completion of the injection or after the completion of the injection.

本発明の第DDの形態に係る水処理装置は、第M乃至のいずれか1つの形態に係る水処理装置であって、前記殺菌剤注入部における前記船舶のバラストに用いる水として導入された水への注入に使用されずに残留した前記塩素系殺菌剤又は前記塩素系殺菌剤の製造に使用されずに残留した、前記塩素化イソシアヌル酸化合物の固形物と前記真水の混合物を、貯蔵する残留物貯蔵用タンクを更に備えている、ことを特徴とする。 Water treatment unit according to the first DD of the present invention, there is provided a water treatment apparatus according to any one form of the M, second of O, introduced as water used for ballast of the ship in the sterilizing agent supply portion A mixture of the chlorinated isocyanuric acid compound solids and the fresh water, which is not used for injection into water and remains not used for the production of the chlorine-based bactericide or the chlorine-based bactericide, which is stored. Further comprising a residue storage tank.

本発明の第EEの形態に係る水処理装置は、第M乃至のいずれか1つの形態に係る水処理装置であって、前記ホッパー内から前記溶液製造部に供給される前記固形物の移動経路内に、前記固形物の移動方向に沿って移動する気体を供給する気体供給装置を備えている、ことを特徴とする。 Water treatment unit according to the first EE of the present invention, there is provided a water treatment apparatus according to any one form of the M to the O, of the solids supplied to the solution prepared portion from within said hopper A gas supply device for supplying a gas that moves along the moving direction of the solid matter is provided in the moving path.

本発明の第FFの形態に係る水処理装置は、第乃至のいずれか1つの形態に係る水処理装置であって、前記ホッパーから前記溶液製造部に原料固形物が供給されていないとき、前記ホッパー内から前記溶液製造部に供給される前記固形物の移動経路を遮断する機構を備えている、ことを特徴とする。 Water treatment unit according to the first FF of the present invention, there is provided a water treatment apparatus according to any one form of the M to O, when raw material solids is not supplied to the solution prepared portion from said hopper And a mechanism for blocking a moving path of the solid matter supplied from the inside of the hopper to the solution manufacturing unit.

本発明の第GGの形態に係る水処理装置は、第M乃至のいずれか1つの形態に係る水処理装置であって、前記ホッパーは、少なくとも、その胴体側面を複数個の断熱パネルで囲われていることを特徴とする。 Water treatment unit according to the first GG of the present invention, there is provided a water treatment apparatus according to any one form of the M to the O, the hopper, at least, the body side by a plurality of insulation panels It is characterized by being enclosed.

<発明の原理及び効果>
(1) まず、本発明の第及び第の各形態においては、塩素系殺菌剤を製造する際、その原料である塩素化イソシアヌル酸化合物の固形物(以下「原料固形物」という場合がある)を海水ではなく真水と混合する。海水中にはより多くの塩素成分が含まれているので、原料固形物を海水と混合すると、真水と混合する場合に比べて、より多くの塩素ガスが発生するおそれがあるからである。
<Principle and effect of the invention>
(1) First, in each of the A-th and M- th embodiments of the present invention, when a chlorine-based bactericide is produced, a solid substance of a chlorinated isocyanuric acid compound which is a raw material thereof (hereinafter, referred to as “raw material solid substance”). A) is mixed with fresh water rather than seawater. This is because seawater contains a larger amount of chlorine components, and thus when the raw solid material is mixed with seawater, a larger amount of chlorine gas may be generated as compared with the case where it is mixed with fresh water.

加えて、本発明の第及び第の各形態によれば、原料固形物が一時的に貯蔵されているホッパーその他の一時的貯蔵用容器内の温度の上限(以下「容器内温度上限」という)を摂氏39度に設定するので、一時的貯蔵用容器内に貯蔵される又は未使用のままもしくは一時的貯蔵用容器の内表面に付着して残留している当該原料固形物の温度を、その自己分解温度(摂氏約40度)よりも低い摂氏39度以下に収めることができ、従って一時的貯蔵用容器内からの塩素ガスの発生を抑制することができ、既述の塩素ガスの悪影響を低減することができる。 In addition, according to each of the Ath and Mth aspects of the present invention, the upper limit of the temperature in the hopper or other temporary storage container in which the raw material solids are temporarily stored (hereinafter referred to as "the upper limit of the temperature in the container"). Is set to 39 degrees Celsius, so that the temperature of the raw solid material that is stored in the temporary storage container or remains unused or adheres to the inner surface of the temporary storage container. , The temperature can be kept at 39 degrees Celsius or lower, which is lower than the self-decomposition temperature (about 40 degrees Celsius), and therefore the generation of chlorine gas from the temporary storage container can be suppressed, and the chlorine gas The adverse effect can be reduced.

(2) 一時的貯蔵用容器であるホッパー内から供給される原料固形物を溶液製造部に供給するための原料供給機(フィーダー)においては、当該原料固形物と接触する、原料供給機を構成する部材の壁面は確実に存在する。たとえば、原料供給機が、当該原料固形物を少量又は所定量に小分けにするための計量機構を具備している場合には、計量機構を構成する部材の壁面の中には、当該原料固形物とかなり強く接触するものがある。その場合、当該壁面又はその周囲には、原料固形物が残留する可能性が高い。そのような残留物は、摂氏約40度を超えると、自己分解を起こして塩素ガスの発生源となる。これに対して、本発明の第の形態によれば、計量機構内の温度を容器内温度上限以下に設定するので、計量機構内からの塩素ガスの発生を抑制することができ、既述の塩素ガスの悪影響を低減することができる。 (2) In a raw material feeder (feeder) for supplying the raw material solids supplied from the hopper, which is a temporary storage container, to the solution manufacturing unit, a raw material feeder is configured to come into contact with the raw material solids. The wall surface of the member that exists is certainly present. For example, when the raw material feeder is equipped with a measuring mechanism for dividing the raw solid material into a small amount or a predetermined amount, the raw solid material may be included in the wall surface of the member constituting the measuring mechanism. There are things that come into strong contact with. In that case, there is a high possibility that raw material solids will remain on the wall surface or its surroundings. When such a residue exceeds about 40 degrees Celsius, it self-decomposes and becomes a source of chlorine gas. On the other hand, according to the Nth aspect of the present invention, since the temperature in the measuring mechanism is set to be equal to or lower than the temperature upper limit in the container, it is possible to suppress the generation of chlorine gas from the measuring mechanism. The adverse effect of chlorine gas can be reduced.

(3) ホッパー内から前記溶液製造部に供給される原料固形物は、その移動経路を構成する部材の表面と接触し、その表面に付着して残留するおそれがある。そして、そのような残留物は、摂氏約40度を超えると、自己分解を起こして塩素ガスの発生源となる。これに対して、本発明の第の形態によれば、当該移動経路内の温度を容器内温度上限以下に設定するので、当該移動経路内からの塩素ガスの発生を抑制することができ、既述の塩素ガスの悪影響を低減することができる。 (3) The raw material solids supplied from the hopper to the solution manufacturing unit may come into contact with the surface of the member forming the moving path thereof and adhere to and remain on the surface. When such a residue exceeds about 40 degrees Celsius, it self-decomposes and becomes a source of chlorine gas. In contrast, according to the O mode of the present invention, since the temperature of within the movement path below vessel upper temperature limit, it is possible to suppress the generation of chlorine gas from the mobile path, It is possible to reduce the above-mentioned adverse effects of chlorine gas.

(4) 本発明の第の形態によれば、一時的貯蔵用容器が設置されている室内、空間その他の場所の温度(以下「環境温度」という)が摂氏39度未満であるとき、環境温度を下回る水準まで一時的貯蔵用容器内の温度を下げる必要がなくなるので、一時的貯蔵用容器内の温度の設定又は制御に要する消費エネルギーを節約できる。 (4) According to the B form of the present invention, when a room temporarily storage vessel is installed, the space elsewhere temperature (hereinafter referred to as "ambient temperature") of less than 39 degrees Celsius, the environment Since it is not necessary to lower the temperature in the temporary storage container to a level below the temperature, energy consumption required for setting or controlling the temperature in the temporary storage container can be saved.

(5) 本発明の第の形態によれば、原料固形物を一時的貯蔵用容器内に装入している間のみならず、装入前及び/又は装入後も当該一時的貯蔵用容器内の温度を容器内温度上限以下に設定するので、一時的貯蔵用容器内に貯蔵される又は残留している原料固形物の温度は摂氏40度以上になり難くなり、一時的に摂氏40度以上になることがあったとしても、摂氏40度以上になっている時間を短く抑えることができ、従って、一時的貯蔵用容器内からの塩素ガスの発生をより効果的に抑制することができ、既述の塩素ガスの悪影響をより低減することができる。 (5) According to the C form of the present invention, not only during being charged temporarily storage for container raw material solids, for even the temporary storage before and / or charged after charging Since the temperature inside the container is set below the upper limit of the temperature inside the container, the temperature of the raw material solids stored or remaining in the temporary storage container is less likely to exceed 40 degrees Celsius, and the temperature of the temporary solids is temporarily below 40 degrees Celsius. Even if the temperature is higher than 40 degrees Celsius, the time when the temperature is higher than 40 degrees Celsius can be shortened, and therefore, the generation of chlorine gas from the temporary storage container can be suppressed more effectively. It is possible to further reduce the above-mentioned adverse effects of chlorine gas.

(6) 本発明の第及び第の各形態においては、原料固形物と混合される前の真水の温度を、摂氏5度以上、摂氏39度以下の範囲内(以下「特定温度範囲内」という場合がある)になるように予め設定する。 (6) In each of the D-th and P- th embodiments of the present invention, the temperature of the fresh water before being mixed with the raw material solid is within the range of 5 degrees Celsius or more and 39 degrees Celsius or less (hereinafter, “within a specific temperature range”). It may be said that))).

かくして、上記各形態によれば、(i)バラスト水処理用殺菌剤として必要な有効塩素濃度を有する水溶液を得ることができるとともに、(ii)真水と接触した原料固形物の自己分解を防止することができ、原料固形物が一時的に貯蔵されている容器内の温度制御も行い易くなるので、本発明の第及び第の各形態の作用効果がより顕著になる。 Thus, according to each of the above modes, (i) an aqueous solution having an effective chlorine concentration necessary as a bactericidal agent for treating ballast water can be obtained, and (ii) self-decomposition of a raw material solid in contact with fresh water is prevented. Since it is possible to easily control the temperature in the container in which the solid raw material is temporarily stored, the effects of the A-th and M- th embodiments of the present invention become more remarkable.

(7) 本発明の第及び第の各形態においては、特定温度範囲内で原料固形物と真水とを混合するので、その混合物の温度も特定温度範囲内に収まって行く。当該混合物の真水の温度を摂氏5度以上にするのは、それ未満であると、原料固形物の真水に対する溶解度が低すぎて、殺菌剤として必要な有効塩素濃度の水溶液を得ることができない、又は得るのに時間がかかり過ぎるからである。 (7) In each form of the E and the Q of the present invention, since mixing the raw materials solids and fresh water within a certain temperature range, the temperature of the mixture even go falls within a specific temperature range. If the temperature of the fresh water of the mixture is not lower than 5 degrees Celsius, if it is lower than that, the solubility of the raw material solid in fresh water is too low to obtain an aqueous solution having an effective chlorine concentration necessary as a bactericide, Or because it takes too long to obtain.

(8) 本発明の第の形態によれば、原料固形物を真水に溶解させてできる塩素系殺菌剤の温度を摂氏39度以内にするので、当該塩素系殺菌剤に原料固形物が未溶解のまま紛れ込んでいても、その未溶解の原料固形物の自己分解を契機とする塩素ガスの発生を抑制又は防止することができる。また、塩素系殺菌剤から原料固形物と真水との混合物へ熱が伝わっても、当該混合物中の未溶解の原料固形物が摂氏40度以上になることも防止することができる。 (8) According to the F form of the present invention, since the temperature of the chlorine-based disinfectant which can dissolve the raw material solids fresh water within 39 degrees Celsius, the raw material solids to the chlorine-based disinfectant is not selected Even if it is mixed in as it is dissolved, it is possible to suppress or prevent the generation of chlorine gas triggered by the self-decomposition of the undissolved raw material solid. Further, even if heat is transferred from the chlorine-based bactericide to the mixture of the raw material solids and fresh water, it is possible to prevent the undissolved raw material solids in the mixture from reaching 40°C or higher.

(9) 本発明の第及び第の各形態によれば、環境温度が高いとき、一時的貯蔵用容器内の温度を確実に容器内温度上限以下に抑えることができる。特に、この各形態によれば、上昇傾向にある環境温度の影響を受けて一時的貯蔵用容器内の温度が上昇し、容器内温度上昇を超えることを未然に防ぐことができる。 (9) According to the form of the G and the T of the present invention, when the environmental temperature is high, the temperature of the temporary storage for the container can be reliably suppressed below vessel temperature limit. In particular, according to each of the embodiments, it is possible to prevent the temperature in the temporary storage container from rising due to the influence of the increasing environmental temperature and to prevent the temperature in the container from rising.

(10) 本発明の第及び第の各形態によれば、環境温度が低いとき、一時的貯蔵用容器内の温度を確実に容器内温度下限以上に高めることができる。特に、この各形態によれば、下降傾向にある環境温度の影響を受けて一時的貯蔵用容器内の温度が低下し、容器内温度下限を下回ることを未然に防ぐことができる。 According to the H and the form of the U (10) the present invention, when the environmental temperature is low, can be increased to ensure that more container temperature lower limit temperature of a temporary storage for the container. In particular, according to each of the embodiments, it is possible to prevent the temperature in the temporary storage container from lowering below the lower limit of the internal temperature of the container due to the influence of the environmental temperature that tends to decrease.

(11) 本発明の第及び第の各形態によれば、塩素系殺菌剤の温度が高いとき、一時的貯蔵用容器内の温度を確実に容器内温度上限以下に抑えることができる。特に、この各形態によれば、上昇傾向にある環境温度の影響を受けて一時的貯蔵用容器内の温度が上昇し、容器内温度上昇を超えることを未然に防ぐことができる。 (11) According to the form of the I and the W of the present invention, when the temperature of the chlorine-based disinfectant is high, the temperature of the temporary storage for the container can be reliably suppressed below vessel temperature limit. In particular, according to each of the embodiments, it is possible to prevent the temperature in the temporary storage container from rising due to the influence of the increasing environmental temperature and to prevent the temperature in the container from rising.

(12) 本発明の第乃至第ならびに第、第及び第の各形態によれば、水処理の条件に応じて基準温度を柔軟に設定し、水処理方法や水処理装置をカスタマイズすることができる。 (12) The G to I-th and the T of the present invention, according to the form of the U and the W, flexibly setting the reference temperature in accordance with the conditions of the water treatment, the water treatment method and a water treatment device Can be customized.

(13) 本発明の第の形態によれば、タンク内の温度が特定温度範囲内に設定され、故に当該タンク内の原料固形物と真水の混合物の温度は特定温度範囲内に収まって行くので、本発明の第及び第の各形態が奏するものと同じ効果を得ることができる。 (13) According to the R form of the present invention, is set within a temperature specified temperature range in the tank, because the temperature of the raw material solid and a mixture of fresh water in the tank is gradually falls within a specific temperature range since, it is possible to obtain the same effect as that exhibited by the respective form of the E and the Q of the present invention.

これに対し、本発明の第の形態によれば、タンク内に存在する塩素系殺菌剤の温度が特定温度範囲内に収まって行くので、未溶解の原料固形物の自己分解を契機とする塩素ガスの発生を防止又は抑制することができる。 In contrast, according to the R form of the present invention, the temperature of a chlorine-based germicide present in the tank go falls within a specific temperature range, triggered by the self-decomposition of the raw material solid undissolved Generation of chlorine gas can be prevented or suppressed.

(14) 本発明の第の形態においては、固液分離装置が排出する塩素系殺菌剤の温度又は固液分離装置内の温度を、摂氏5度以上、摂氏39度以下の温度範囲内になるように設定する。 (14) In the S-th embodiment of the present invention, the temperature of the chlorine-based bactericide discharged by the solid-liquid separator or the temperature in the solid-liquid separator is set within a temperature range of 5 degrees Celsius or higher and 39 degrees Celsius or lower. To be set.

かくして、第の形態によれば、塩素系殺菌剤中の未溶解の原料固形物の自己分解を防止することができ、本発明の第及び第の各形態の作用効果がより顕著になる。 Thus, according to the S-th embodiment, it is possible to prevent the self-decomposition of the undissolved raw material solid in the chlorine-based bactericide, and the effects of the A-th and M- th embodiments of the present invention become more remarkable. Become.

(15) 本発明の第の形態によれば、塩素系殺菌剤の温度又は固液分離装置内の温度が高いとき、原料固形物と混合される前の真水の温度を確実に摂氏39度以下に抑えることができ、それにより、原料固形物と真水との混合物の温度や塩素系殺菌剤の温度の更なる上昇を避けることができる。真水から放出される熱が、一時的貯蔵用容器内の温度の設定に悪影響を与えることも避けることができる。 (15) According to the V form of the present invention, when the temperature of the temperature or solid-liquid separation in the apparatus of a chlorine-based germicide is high, certainly Celsius 39 degrees fresh water temperature before being mixed with the raw material solids The temperature can be suppressed to the following level, whereby further increase in the temperature of the mixture of the raw material solid and fresh water and the temperature of the chlorine-based bactericide can be avoided. It can also be avoided that the heat released from fresh water adversely affects the setting of the temperature in the temporary storage container.

本発明の第の形態によれば、水処理の条件に応じて基準温度を柔軟に設定し、水処理方法や水処理装置をカスタマイズすることができる。 According to the V form of the present invention, the flexibility to set the reference temperature in accordance with the conditions of the water treatment, it is possible to customize the water treatment method and a water treatment device.

これに対し、本発明の第及び第の各形態によれば、塩素系殺菌剤の製造中のみならず、その製造終了後少なくとも一定期間、また、本発明の第及び第の各形態によれば、塩素系殺菌剤のバラスト水として用いる水への注入中のみならず、その注入終了後少なくとも一定期間、当該一時的貯蔵用容器内の温度を摂氏39度以下に設定するので、一時的貯蔵用容器内に残留する原料固形物の自己分解を契機とする塩素ガスの発生をも防止又は抑制することができる。 In contrast, according to the form of the J and the W of the present invention, not only during the production of a chlorine-based germicide, its production after the end of at least a certain period, and each of the K and the Y of the present invention According to the form, not only during the injection into the water used as the ballast water of the chlorine-based sterilizing agent, for at least a certain period after the end of the injection, the temperature in the temporary storage container is set to 39 degrees Celsius or less, It is also possible to prevent or suppress the generation of chlorine gas which is triggered by the self-decomposition of the raw material solids remaining in the temporary storage container.

なお、本発明の第及び第の各形態の場合、「一定期間」とは、塩素系殺菌剤の製造終了後から、当該一時的貯蔵用容器内に未使用のまま残留している原料固形物の自己分解を契機とする塩素ガスの発生量が、当該原料固形物の自己分解を契機として発生する塩素ガスの悪影響を防止又は低減する効果が発揮されたといえる程度まで減少するまでの期間をいう。本発明の第及び第の各形態の場合、「一定期間」とは、塩素系殺菌剤の海水への注入終了後から、当該一時的貯蔵用容器内に未使用のまま残留している原料固形物の自己分解を契機とする塩素ガスの発生量が、当該原料固形物の自己分解を契機として発生する塩素ガスの悪影響を防止又は低減する効果が発揮されたといえる程度まで減少するまでの期間をいう。いずれの場合であれ、「一定期間」は、短期間であるケースもあれば、長時間であるケースもある。 In addition, in each of the G and R forms of the present invention, the "certain period" means a raw material that remains unused in the temporary storage container after the production of the chlorine-based bactericide is completed. Period until the amount of chlorine gas generated due to self-decomposition of solid matter decreases to such an extent that the effect of preventing or reducing the adverse effect of chlorine gas generated due to self-decomposition of the raw solid matter can be said to have been exerted Say. For each form of the G and the R of the present invention, a "certain period", after completion of injection into the seawater a chlorine-based germicide, remaining unused in the temporary storage for container Until the amount of chlorine gas generated by the self-decomposition of the raw material solids decreases to the extent that the effect of preventing or reducing the adverse effect of the chlorine gas generated by the self-decomposition of the raw material solids can be said to have been exerted. Refers to the period. In any case, the “certain period” may be a short period or a long period.

本発明の第及び第の各形態における「塩素系殺菌剤の製造終了後少なくとも一定期間」と、本発明の第及び第の各形態における「塩素系殺菌剤の海水への注入終了後少なくとも一定期間」とは、多くの場合、重複するが、重複している必要はない。 "At least a certain period after the end of production of the chlorine-based disinfectant" in each form of the J and the W of the present invention, the end of infusion into seawater "chlorine disinfectant in the form of the K and X of the present invention "At least for a certain period of time" often overlaps, but need not overlap.

たとえば、本発明の第の形態に係る水処理方法を最初に実行してから、次に実行するまでの間継続して、当該一時的貯蔵用容器内の温度を摂氏39度以下に設定してもよい。 For example, the temperature in the temporary storage container is set to 39 degrees Celsius or less continuously from the first execution of the water treatment method according to the A-th embodiment of the present invention to the next execution. May be.

(17) 本発明の第の形態によれば、原料固形物を容器に補給するので、当該固形物の使い尽くし、つまり第一段階の終了を先延ばしでき、海水処理を継続することができる。 (17) According to the Lth aspect of the present invention, since the solid material of the raw material is supplied to the container, the solid material can be used up, that is, the end of the first stage can be postponed, and the seawater treatment can be continued. ..

(18) 本発明の第の形態によれば、温度調節装置を用いて、ホッパー内の温度の設定又は制御を行うことができる。 (18) According to the Y-th aspect of the present invention, the temperature inside the hopper can be set or controlled using the temperature adjusting device.

本発明の第の形態によれば、ホッパーの設置場所の空気調和とともに、ホッパーの周囲の冷却又は加熱を行なうことができるので、合理的である。 According to the Z-th aspect of the present invention, it is rational because the surroundings of the hopper can be cooled or heated together with air conditioning of the installation location of the hopper.

本発明の第AAの形態においては、ホッパーの周囲に断熱材が取り付けられているので、環境温度がホッパー内の温度の設定に悪影響する又はそのおそれがある場合であっても、その悪影響をなくす又は軽減することができる。なお、この形態においては、ホッパーの周囲に取り付けられている断熱材は、ホッパーの外表面の少なくとも一部に接触していてもよく、ホッパーの外表面に接触せずに、その外表面から離隔していてもよい。 In the AA form of the present invention, since the heat insulating material is attached to the periphery of the hopper, even if the environmental temperature adversely affects or is likely to adversely affect the setting of the temperature in the hopper, eliminate the adverse effect. Or it can be reduced. In this embodiment, the heat insulating material attached to the periphery of the hopper may be in contact with at least a part of the outer surface of the hopper, and may be separated from the outer surface of the hopper without contacting the outer surface of the hopper. You may have.

本発明の第BBの形態においては、溶液製造部が断熱材により囲われた空間内に設置されているので、環境温度が溶液製造部内の温度や溶液製造部から排出される内容物の温度の設定に悪影響する又はそのおそれがある場合であっても、その悪影響をなくす又は軽減することができる。なお、この形態においては、溶液製造部が設置されている空間を囲っている断熱材は、溶液製造部を構成するタンク、配管などの外表面の少なくとも一部に接触していてもよく、当該外表面から離隔していてもよい。 In the form of the BB of the present invention, since the solution prepared portion is provided in a space surrounded by the heat insulating material, the temperature of the contents of the environmental temperature is discharged from the temperature and the solution preparation of the solution preparation unit Even when the setting is adversely affected or there is a possibility of such an adverse effect, the adverse effect can be eliminated or reduced. In this embodiment, the heat insulating material that surrounds the space where the solution manufacturing unit is installed may be in contact with at least a part of the outer surface of the tank, the pipe, or the like that configures the solution manufacturing unit. It may be separated from the outer surface.

本発明の第CCの形態においては、バラスト水への塩素系殺菌剤の注入中及びその注入の終了後あるいはその注入の終了後、原料固形物と真水の混合物が接触していた溶液製造部の表面の少なくとも一部が水供給部から供給される真水と接触するので、乾燥しない。それ故、この形態によれば、当該表面の少なくとも一部における、溶質である塩素化イソシアヌル酸化合物やその組成成分の析出、堆積又は固化を抑制又は防止することができ、延いては保守点検を軽減し、その頻度を低減させることができる。なお、溶液製造部内に原料固形物が残留している場合があるので、水供給部から供給される真水の温度及び/又は当該真水が供給された後の溶液製造部内の温度を、摂氏39度以下に設定又は制御することが望ましい。 In the CC form of the present invention, during the injection of the chlorine-based bactericide into the ballast water and after the injection or after the injection, the mixture of the raw material solid and fresh water is in contact with the solution production section. It does not dry because at least a part of the surface comes into contact with fresh water supplied from the water supply section. Therefore, according to this aspect, at least a part of the surface, it is possible to suppress or prevent the precipitation, deposition or solidification of the chlorinated isocyanuric acid compound which is a solute and its constituent components, and eventually maintenance inspection. The frequency can be reduced. In addition, since the raw material solid matter may remain in the solution manufacturing unit, the temperature of the fresh water supplied from the water supply unit and/or the temperature in the solution manufacturing unit after the fresh water is supplied are set to 39 degrees Celsius. It is desirable to set or control below.

本発明の第DDの形態によれば、バラスト水の殺菌に使用されずに残留した塩素系殺菌剤や塩素系殺菌剤の製造に使用されずに残留した原料固形物と真水の混合物を貯蔵する残留物貯蔵用タンクを備えているので、水処理装置を構成する容器内、配管経路内等における溶質である塩素化イソシアヌル酸化合物やその組成成分の析出、堆積又は固化を抑制又は防止することができ、延いては保守点検を軽減し、その頻度を低減させることができる。 According to the DD of the present invention, to store the mixture of the raw materials solids and fresh water remaining without being used for the preparation of a chlorine-based germicide or a chlorine-based germicide that remains without being used for disinfection of ballast water Since it has a residue storage tank, it is possible to suppress or prevent the precipitation, deposition or solidification of the chlorinated isocyanuric acid compound or its constituent components that are solutes in the container constituting the water treatment device, the piping path, etc. Therefore, maintenance inspections can be reduced, and the frequency can be reduced.

本発明の第EEの形態によれば、気体供給装置から供給される気体の流れにより、溶液製造部に供給される真水に由来する水分が、ホッパー内に到達することを抑制又は防止することができる。 According to the EEth aspect of the present invention, the flow of the gas supplied from the gas supply device can suppress or prevent the moisture derived from the fresh water supplied to the solution manufacturing unit from reaching the hopper. it can.

本発明の第FFの形態によれば、ホッパーから溶液製造部に原料固形物が供給されていないときは、ホッパーと溶液製造部との間の原料固形物の移動経路がバルブなどの機構により遮断されるので、溶液製造部に供給される真水に由来する水分が、ホッパー内に到達することを抑制又は防止することができる。 According to the FF mode of the present invention blocking, when the raw material solids is not supplied to the solution prepared unit from the hopper, the movement path of the material solids between the hopper and the solution prepared portion by a mechanism such as a valve Therefore, it is possible to suppress or prevent the moisture derived from the fresh water supplied to the solution manufacturing unit from reaching the hopper.

本発明の第GGの形態によれば、ホッパーの、少なくともその胴体の側面を断熱パネルにより囲うので、ホッパーの断熱構造を比較的容易に構築することができる。 According to the GGth form of the present invention, at least the side surface of the body of the hopper is surrounded by the heat insulating panel, so that the heat insulating structure of the hopper can be relatively easily constructed.

(8) 真水wsから放出される熱が容器H内の原料固形物msの温度Thを容器内温度上限以下に設定することを妨げるおそれがある場合、たとえば真水wsを流通させる配管が容器Hに近接しており、当該配管から放出される熱が温度Thに影響するおそれがある場合は、そのおそれがなくなるまで工程S22を実行するのが望ましい。その場合、t[s22s]は、t[s21s]より前の時点とするのが望ましい。 (8) When the heat released from the fresh water ws may hinder the temperature Th of the raw material solid ms in the container H from being set below the upper limit of the internal temperature of the container, for example, a pipe through which fresh water ws circulates in the container H. closely and, if there is a risk that the heat released from the pipe affects the temperature Th, it is desirable to perform the reaction process S22 until the danger is eliminated. In that case, t[s22s] is preferably set to a point before t[s21s].

(3) 第三段階S3の開始時点t[s3s]は、船舶VSLの外部から導入した海水Woが塩素系殺菌剤Asの注入口に到達した時点といって差し支えない。 (3) The start time t[s3s] of the third stage S3 can be said to be the time when the seawater Wo introduced from outside the vessel VSL reaches the inlet of the chlorine-based bactericide As.

4)実施例
4.1) 図5乃至図9は、それぞれ、本発明に係る水処理方法の実施例1乃至実施例5に関する説明図である。いずれの実施例においても、別段の説明がある場合を除き、基準温度Tm(h)は摂氏38度とする。
4) Example 4.1) Figure 5 to 9, respectively, are explanatory views relating to Examples 1 to 5 of the water treatment method according to the present invention. In all the examples, the reference temperature Tm(h) is 38 degrees Celsius unless otherwise specified.

(実施例3)
実施例3は、図7に示されているとおり、また実施例1と同様、準備段階S0の終了後、温度設定工程S12→貯蔵工程S11→工程S21→工程S31の順で開始させ、貯蔵工程S11→工程S21→温度設定工程S12→工程S31の順に終了させる。また、工程S11の終了時点t[s11e]及び工程S21の終了時点t[s21e]は、いずれも工程S31の開始時点t[s31s]よりも後の時点とする。
(Example 3)
Example 3, as shown in Figure 7, also similarly to Example 1, after the end of the Preparation stage S0, is started in the order of the temperature setting step S12 → storage step S11 → step S21 → step S31, the storage The process S11→process S21→temperature setting process S12→process S31 are ended in this order. Further, the end time point t[s11e] of step S11 and the end time point t[s21e] of step S21 are both times after the start time point t[s31s] of step S31.

他方、実施例1乃至4において工程S22、S23、S24及びS32がある場合には、次のように設定する。
(a) いずれの実施例においても、工程S22の開始時点t[s22s]を、工程S21の開始時点t[s21s]以前とし、好ましくは、t[s22s]をt[s21s]より前の時点とする。
(b) いずれの実施例においても、好ましくは、工程S32の開始時点t[s32s]を、工程S31の開始時点t[s31s]以前とし、より好ましくは、t[s32s]をt[s31s]より前の時点とする。ただし、第二段階S2において製造される塩素系殺菌剤Asと第三段階S3において海水Woに注入される塩素系殺菌剤Asが同じ場所に存在する又は、異なる場所ではるが、一方から他方への熱伝導が起こるように構成されている場合には、工程S24、S32を単一の工程とみなすことができるケースもある。そのようなケースでは、工程S24と工程S32を区別する実益は余りなく、t[s32s]を工程S24の開始時点t[s24s]とみなすことができる。
(c) 工程S22、S23、S24の終了時点t[s22e]、t[s23e]、t[s24e]は、いずれも、好ましくは、工程S21の終了時点t[s21e]以後の時点とする。t[s22e]、t[s23e]、t[s24e]は、いずれか二つ又はすべてが同じ時点であってもよく、すべて異なる時点であってもよい。(d) 工程S32の終了時点t[s32e]は、好ましくは、工程S31の終了時点t[s31e]以後の時点とする。
On the other hand, when the processes S22, S23, S24, and S32 are performed in the first to fourth embodiments, the following settings are made.
(A) In any of the examples, the start time point t[s22s] of step S22 is set to before the start time point t[s21s] of step S21, and preferably t[s22s] is set to a time point before t[s21s]. To do.
(B) In any of the examples, preferably, the start time t[s32s] of step S32 is before the start time t[s31s] of step S31, and more preferably t[s32s] is greater than t[s31s]. The previous time. However, or a chlorine-based germicide As injected into seawater Wo in a chlorine-based germicide As a third step S3, is produced in the second stage S2 is present in the same location, but Oh Ru in different locations, one from the other In some cases, the steps S24 and S32 can be regarded as a single step if the heat conduction to the steps is performed. In such a case, there is little actual benefit of distinguishing the process S24 from the process S32, and t[s32s] can be regarded as the start time t[s24s] of the process S24.
(C) The end times t[s22e], t[s23e], and t[s24e] of steps S22, S23, and S24 are all preferably after the end time t[s21e] of step S21. Any two or all of t[s22e], t[s23e], and t[s24e] may be at the same time point, or may be at different time points. (D) The end time t[s32e] of the step S32 is preferably a time point after the end time t[s31e] of the step S31.

<補 遺>
(1) 本発明に係る水処理方法における温度の設定又は制御は、常時実行される必要はない。たとえば、一時的貯蔵用容器内の温度を容器内温度上限以下にする設定又は制御は、一時的貯蔵用容器内の温度が容器内温度上限以下であるときは、行う必要はない。同様に、一時的貯蔵用容器内の温度を容器内温度下限以上にする設定又は制御は、一時的貯蔵用容器内の温度が容器内温度下限以上であるときは、行う必要はない。また、第4の形態及び第16の形態は、いずれも、真水の温度を摂氏5度以上に設定することを必須の構成としているが、真水の温度が摂氏5度以上であるときは、その設定を行う必要はない。第5の形態及び第17の形態は、いずれも、原料固形物を真水と混合する温度を摂氏5度以上に設定することを必須の構成としているが、原料固形物を真水と混合する温度が摂氏5度以上であるときは、その設定を行う必要はない。第18の形態は、溶液製造部のタンク内の温度を摂氏5度以上に設定することを必須の構成としているが、溶液製造部のタンク内の温度が摂氏5度以上であるときは、その設定を行う必要はない。第19の形態は、固液分離装置が排出する塩素系殺菌剤の温度又は固液分離装置内の温度が摂氏5度以上になるように、真水の温度を設定することを必須の構成としているが、その温度が摂氏5度以上であるときは、その設定を行う必要はない。
<Addendum>
(1) The temperature setting or control in the water treatment method according to the present invention does not have to be constantly executed. For example, setting or control of making the temperature in the temporary storage container equal to or lower than the upper temperature limit in the container does not need to be performed when the temperature in the temporary storage container is equal to or lower than the upper temperature limit in the container. Similarly, it is not necessary to set or control the temperature in the temporary storage container to be equal to or higher than the lower temperature limit in the container when the temperature in the temporary storage container is equal to or higher than the lower temperature limit in the container. Further, in both the fourth and sixteenth embodiments, it is essential to set the temperature of fresh water to 5 degrees Celsius or higher, but when the temperature of fresh water is 5 degrees Celsius or higher, No settings are required. In both the fifth and seventeenth embodiments, it is essential to set the temperature at which the raw material solid is mixed with fresh water to 5 degrees Celsius or higher, but the temperature at which the raw material solid is mixed with fresh water is When the temperature is 5 degrees Celsius or higher, it is not necessary to set it. In the eighteenth aspect, it is essential to set the temperature in the tank of the solution manufacturing unit to 5 degrees Celsius or higher. However, when the temperature in the tank of the solution manufacturing unit is 5 degrees Celsius or higher, No settings are required. The nineteenth form has an essential configuration in which the temperature of the fresh water is set so that the temperature of the chlorine-based bactericide discharged by the solid-liquid separator or the temperature in the solid-liquid separator becomes 5 degrees Celsius or higher. However, when the temperature is 5 degrees Celsius or higher, it is not necessary to set the temperature.

1.1)溶液製造部S[pr]
溶液製造部S[pr]は、原料固形物msを真水wsに混合させる(つまり、原料固形物msと真水wsの混合物Csを製造する)混合部S[mx]と、混合物Csを攪拌することにより原料固形物msを真水wsに溶解させる(つまり、混合物Csから塩素系殺菌剤Asを製造する)溶解促進部S[st]とから構成されている。尤も、原料固形物msと真水wsの混合及び両者の混合物Csの攪拌は、溶液製造部S[pr]が具備する混合攪拌槽Ts内で行われるので、混合部S[mx]と溶解促進部S[st]との境界は曖昧であり、両者を明確に区別することは難しい。
1.1) Solution Manufacturing Department S[pr]
The solution production unit S[pr] mixes the raw material solids ms with the fresh water ws (that is, produces the mixture Cs of the raw material solids ms and the fresh water ws) and the mixture Cs with stirring. The raw material solid matter ms is dissolved in fresh water ws (that is, the chlorine-based bactericide As is produced from the mixture Cs) and a dissolution promoting unit S[st]. However, since the mixing of the raw material solid ms and the fresh water ws and the stirring of the mixture Cs of both are performed in the mixing stirring tank Ts included in the solution manufacturing section S[pr], the mixing section S[mx] and the dissolution promoting section are included. The boundary with S[st] is ambiguous, and it is difficult to clearly distinguish the two.

(2) 図13は、計量機構Mvfの原理説明図である。回転テーブルRtfが具備する孔(又は個々の孔)Opは、排出口Doutの位置にあるときを除き、その内壁面が台座の主面Btとともに凹部Uを形成し(図13(a)参照)、排出口Doutの位置にあるときは、凹部Uを形成せずに排出口Doutに連通する(図13(b)参照)。そのため、凹部Uは、受入口Dinから下降してきた原料固形物msの一定量(原料供給物ms*)を収容することができ、回転テーブルRtfの回転に伴い排出口Doutまで移動させることができ、一定量の原料固形物ms*を排出口Doutへ排出し、原料供給路Cmsへ移動させることができる(図12(b)参照)。 (2) FIG. 13 is an explanatory diagram of the principle of the measuring mechanism Mvf. The holes (or individual holes) Op provided in the rotary table Rtf form a recess U in the inner wall surface together with the main surface Bt of the pedestal except when it is at the position of the discharge port Dout (see FIG. 13A). At the position of the discharge port Dout, the recess U is not formed to communicate with the discharge port Dout (see FIG. 13B). Therefore, the recess U can accommodate a fixed amount of the raw material solid ms (raw material supply ms*) that has descended from the receiving port Din, and can be moved to the discharge port Dout as the rotary table Rtf rotates. , A fixed amount of the raw material solid matter ms* can be discharged to the discharge port Dout and moved to the raw material supply path Cms (see FIG. 12(b)).

計量機構Mvfは、原料固形物ms*を回転テーブルRtfの孔Opから排出させ、排出口Doutへの移動を補助する排出支援機構を具備していてもよい。図15は、排出支援機構の一例の説明図である。この図15に示されている排出支援機構は、孔Opが排出口Doutに連通しているとき、孔Opの上方から下方に向けて気体sを噴出させ、そのときの気体A1圧力により、孔Opから排出口Doutを通じて原料供給路Cmsへ移動させる機構である。気体A1の代表例は、除湿された空気である。気体A1の噴出範囲を広げれば、孔Opの壁面や回転テーブルRtfの表面に付着している原料固形物msの細粒も一緒に原料供給路Cmsへ移動させることができる。なお、原料供給路Cmsを通じて、溶液製造部S[pr]へ移動した気体A1は、溶液製造部S[pr]が備える排気手段により、外部に排出される。 The measuring mechanism Mvf may include a discharge support mechanism that discharges the raw material solid matter ms* from the hole Op of the rotary table Rtf and assists the movement to the discharge port Dout. FIG. 15 is an explanatory diagram of an example of the discharge support mechanism. The discharge support mechanism shown in FIG. 15 causes the gas s to be ejected downward from above the hole Op when the hole Op communicates with the discharge port Dout, and the pressure of the gas A1 at that time causes It is a mechanism for moving from the hole Op to the raw material supply path Cms through the discharge port Dout. A typical example of the gas A1 is dehumidified air. If the ejection range of the gas A1 is widened, fine particles of the raw material solid ms attached to the wall surface of the hole Op or the surface of the rotary table Rtf can also be moved to the raw material supply path Cms. The gas A1 that has moved to the solution manufacturing unit S[pr] through the raw material supply passage Cms is exhausted to the outside by the exhaust means provided in the solution manufacturing unit S[pr].

(4) 駆動機構Ss[mga]は、回転テーブルRtfが直接又はギア、ベルト等の公知の動力伝達機構を介して取り付けられている回転軸Axfと、回転軸Axfの回転の駆動力を生み出すためのモータMthと、その駆動力をモータMthから回転軸Axfへ伝達するための、ギア、ベルト等の公知の動力伝達機構Gbxとを備えている。なお、モータMthの回転軸を回転軸Axfに同軸に取り付ける場合には、その取り付けに用いる器具が動力伝達機構Gbxである。モータMthの動作を制御することにより、回転テーブルRtfの動作も制御することができる。 (4) The drive mechanism Ss[mga] is for generating the rotational driving force of the rotary shaft Axf and the rotary shaft Axf to which the rotary table Rtf is attached directly or via a known power transmission mechanism such as a gear or a belt. The motor Mth and a known power transmission mechanism Gbx such as a gear and a belt for transmitting the driving force from the motor Mth to the rotation shaft Axf. Incidentally, when mounting coaxially to the rotary shaft Axf the rotating shaft of the motor Mth, an instrument Gado force transmission mechanism Gbx used for the mounting. By controlling the operation of the motor Mth, the operation of the rotary table Rtf can also be controlled.

断熱材Ins2のみでは、駆動機構Ss[mga]からの放熱がホッパーHに及ぶことを十分抑制又は防止することができない場合には、計量機構Mvfの筐体と駆動機構Ss[mga]の筐体の少なくとも一部(原料供給機Fdrの筐体及び/又は動力伝達機構Gbxの筐体の少なくも一部)の間に断熱材Ins[sf]を設置するのが望ましい(図20参照)。また、断熱材Ins2と駆動機構Ss[mga]の筐体との間を離隔させ、それにより空間W[fi]*を設け、駆動機構Ss[mga]からの放熱の影響が計量機構Mvfを介してホッパーHに及び難くしてもよい(図21参照)。この間隙の効果が十分であれば、断熱材Ins[st]を断熱材Ins2に追加して設ける必要はない。しかし、この間隙の効果が十分でない場合には、断熱材Ins2と断熱材Ins[st]との間を離隔させ、それにより空間W[2i]を設け、駆動機構Ss[mga]のからの放熱の影響が計量機構Mvfを介してホッパーHに、更に及び難くしてもよい(図22参照)。 If the heat insulating material Ins2 alone cannot sufficiently suppress or prevent the heat radiation from the drive mechanism Ss[mga] from reaching the hopper H, the casing of the weighing mechanism Mvf and the casing of the drive mechanism Ss[mga] can be used. It is desirable to install the heat insulating material Ins[sf] between at least a portion (at least a portion of the casing of the raw material feeder Fdr and/or the casing of the power transmission mechanism Gbx) (see FIG. 20). Further, by spacing between the heat insulating material Ins2 and a housing of the drive mechanism Ss [mga], thereby the space W [fi] * provided, the drive mechanism Ss [mga] or these effects of heat radiation metering mechanism Mvf It may be difficult to reach through the hopper H (see FIG. 21). If the effect of this gap is sufficient, it is not necessary to additionally provide the heat insulating material Ins[st] to the heat insulating material Ins2. However, when the effect of this gap is not sufficient, the heat insulating material Ins2 and the heat insulating material Ins[st] are separated from each other, and the space W[2i] is thereby provided to dissipate heat from the drive mechanism Ss[mga]. May be less likely to be exerted on the hopper H via the weighing mechanism Mvf (see FIG. 22).

変形例5の構成は、断熱材Ins2*以外は変形例4のそれと同じなので説明を省略する。変形例4の構成は、温度調節装置CL1*以外は変形例3のそれと同じであり、変形例3の構成は、(c.1)計量機構Mvfの側面を囲むように断熱材Ins1が延伸しており、そのため計量機構Mvfの周囲に、空間W[hi]に連結する空間W[fi]を具備していること(上記(b.1)参照)、(c..2)計量機構Mvfの(駆動部Ss[mga]の側の)筐体外表面を、距離をおくことなく覆う断熱材Ins2を具備していること(上記(b.2)参照)、(c.3)計量機構Mvfの筐体と駆動機構Ss[mga]の筐体の少なくとも一部(原料供給機Fdrの筐体及び/又は動力伝達機構Gbxの筐体の少なくも一部)の間に、断熱材Ins2に加えて断熱材Ins[sf]を具備していてもよいこと(上記(b.3)参照)の三つ以外は変形例1のそれと同じである。変形例3の派生形1(図20参照)、派生形2(図21参照)及び派生形3(図22参照)についての説明は、変形例5についてもそのまま当てはまる。 The configuration of the modified example 5 is the same as that of the modified example 4 except for the heat insulating material Ins2*, and thus the description thereof is omitted. The configuration of the modified example 4 is the same as that of the modified example 3 except for the temperature control device CL1*. In the modified example 3, (c.1) the heat insulating material Ins1 extends so as to surround the side surface of the weighing mechanism Mvf. Therefore, a space W[fi] connected to the space W[hi] is provided around the weighing mechanism Mvf (see (b.1) above), (c..2) of the weighing mechanism Mvf. Ins2 that covers the outer surface of the casing (on the side of the drive unit Ss[mga]) without any distance (see (b.2) above), (c.3) of the measuring mechanism Mvf In addition to the heat insulating material Ins2, between the housing and at least a part of the housing of the drive mechanism Ss[mga] (at least a part of the housing of the raw material feeder Fdr and/or the housing of the power transmission mechanism Gbx). It is the same as that of the modified example 1 except that the heat insulating material Ins[sf] may be provided (see (b.3) above). The description of the derivative form 1 (see FIG. 20), the derivative form 2 (see FIG. 21), and the derivative form 3 (see FIG. 22) of the modification example 3 also applies to the modification example 5 as it is.

この溶液製造部S[pr]が備える温度設定機構によれば、真水wsを熱媒体として使用する必要がない。たとえば、環境温度が容器内温度上限よりもかなり高いときは、真水wsの温度をより低くしないと、温度Tcsや温度Tasを特定温度範囲内に収めることができなくなるので、温度調節装置CL2にかかる負荷が大きくなる。これに対して、温度調節装置CL3を用いて、熱媒体(h2、h2*)により空間W[ti]の温度を調節すれば、温度調節装置CL2にかかる負荷を軽減することができる。 According to the temperature setting mechanism provided in the solution manufacturing unit S[pr], it is not necessary to use fresh water ws as the heat medium. For example, when the environmental temperature is considerably higher than the container temperature limit, if not lower the temperature of the fresh water ws, since it becomes impossible to keep the temperature Tcs and temperature Tas in a certain temperature range, according to the temperature regulating device CL2 The load increases. On the other hand, if the temperature of the space W[ti] is adjusted by the heat medium (h2, h2*) using the temperature adjustment device CL3, the load on the temperature adjustment device CL2 can be reduced.

1.1)溶液製造部S[pr]
(1) 溶液製造部S[pr]は、原料固形物msを真水wsに混合させる(つまり、原料固形物msと真水wsの混合物Csを製造する)混合部S[mx]と、混合物Csを攪拌することにより原料固形物msを真水wsに溶解させる(つまり、混合物Csから塩素系殺菌剤Asを製造する)溶解促進部S[st]とから構成されている。
1.1) Solution Manufacturing Department S[pr]
(1) The solution production unit S[pr] mixes the raw material solid ms with fresh water ws (that is, produces the mixture Cs of the raw material solid ms and fresh water ws) and the mixing unit S[mx]. It is composed of a dissolution promoting unit S[st] that dissolves the raw material solid matter ms in fresh water ws by stirring (that is, produces the chlorine-based germicide As from the mixture Cs).

2.J.2)混合部S[mx]の温度設定機構
混合部S[mx]の温度設定機構の機能は、少なくとも、(i)バッファタンクTcs、その上蓋Tcs1及びその底部のそれぞれを、距離をおいて囲む断熱材Ins4、Ins4u及びIns4dと、(ii)バッファタンクTcs、その上蓋Tcs1及びその底部のそれぞれと左記断熱材との間の空間W[ti]内で熱媒体(h2、h2*)を流通させることにより、空間W[ti]の温度を調節する温度調節装置CL3*を具備している。
2. J. 2) Temperature setting mechanism of mixing section S[mx] The function of the temperature setting mechanism of mixing section S[mx] is to surround at least (i) each of the buffer tank Tcs, its upper lid Tcs1 and its bottom with a distance. The heat medium (h2, h2*) is circulated in the space W[ti] between the heat insulating materials Ins4, Ins4u and Ins4d, and (ii) the buffer tank Tcs, its upper lid Tcs1 and its bottom and the heat insulating material on the left. Therefore, the temperature control device CL3* for controlling the temperature of the space W[ti] is provided.

(処理2)
工程H2の実行により残留物貯蔵用タンクTsr内に収容された残留物Reを、バルブVa及びVsを開にした状態でポンプPptにより付勢して、Tsr→Lpt→Qdr→Ldr1→Tcsの経路に沿って移動させ、バッファタンクTcs内へ還流させる。その後、バッファタンクTcs内に還流された残留物Reを、Tcs→Dcbp→Lc0→Qc1→Lc→Sp→Qc2→Ls→Qs→Lsr→Tsrの経路に沿って移動させる。その際には、バルブVbpを開、バルブVsを閉にした状態でポンプPsにより残留物Reを付勢し、必要に応じて循環配管経路Lcを一回又は複数回循環させる。これにより、残留物ReをバッファタンクTcsから排出させ、再び残留物貯蔵用タンクTsr内に収容させ、総じて残留物貯蔵用タンクTsr内とバッファタンクTcsとの間を循環させる。
(Processing 2)
The residue Re contained in the residue storage tank Tsr due to the execution of the process H2 is urged by the pump Ppt with the valves Va and Vs opened, and the route of Tsr→Lpt→Qdr→Ldr1→Tcs. Along with, and reflux into the buffer tank Tcs. After that, the residue Re that has been refluxed in the buffer tank Tcs is moved along the route of Tcs→Dcbp→Lc0→Qc1→Lc→Sp→Qc2→Ls→Qs→Lsr→Tsr. At that time, the residue Re is urged by the pump Ps with the valve Vbp opened and the valve Vs closed, and the circulation piping path Lc is circulated once or plural times as necessary. As a result, the residue Re is discharged from the buffer tank Tcs, stored again in the residue storage tank Tsr, and is generally circulated between the residue storage tank Tsr and the buffer tank Tcs.

上記の循環を少なくとも一回行なった後、最終的に、残留物Reを残留物貯蔵用タンクTsr内に収容させ、バルブVa及びVsを閉にし、所定期間、残留物貯蔵用タンクTsr内に貯蔵する。ここで、所定期間は、処理1における所定期間と同義である。一般に、上記の循環の回数が多いほど、バッファタンクTcs、配管Lc0、循環配管経路Lc及び位置Qc2から位置Qsまでの殺菌剤配管経路Lsからの残留物Reの減容又は除去の効果は高くなるので、二回以上循環させるのが望ましい。 After performing the above circulation at least once, finally, the residue Re is stored in the residue storage tank Tsr, the valves Va and Vs are closed, and the residue Re is stored in the residue storage tank Tsr for a predetermined period. To do. Here, the predetermined period is synonymous with the predetermined period in the process 1. In general, as the number of times of circulation described above increases, the effect of reducing or removing the volume of the residue Re from the buffer tank Tcs, the pipe Lc0, the circulation pipe line Lc, and the disinfectant pipe line Ls from the position Qc2 to the position Qs becomes higher. Therefore, it is desirable to circulate it twice or more.

なお、バッファタンクTcs内に還流された残留物Reを再び残留物貯蔵用タンクTsr内に収容させる際には、(a)水供給部S[ws]から真水wsをバッファタンクTcsに追加供給し、これによりバッファタンクTcs内、配管Lc0内、循環配管経路Lc内及び位置Qc2から位置Qsまでの殺菌剤配管経路Ls内に存在する残留物Reを真水wsで希釈する又は洗浄もしくは押し流してもよい。これにより、当該残留物Reの減容又は除去を、より効果的に行うことができる(ただし、残留物貯蔵用タンクTsrの容量には上限があるので、必要に応じて残留物貯蔵用タンクTsrの内容物を別の場所に移動させたうえで、真水wsの追加供給を行う)。 When the residue Re that has been refluxed in the buffer tank Tcs is to be stored in the residue storage tank Tsr again, (a) fresh water ws is additionally supplied to the buffer tank Tcs from the water supply section S[ws]. , Thereby, the residue Re existing in the buffer tank Tcs, in the pipe Lc0, in the circulation pipe line Lc and in the germicide pipe line Ls from the position Qc2 to the position Qs may be diluted with fresh water ws or washed or washed away. .. Thereby, the volume or removal of the residue Re can be performed more effectively (however, since the capacity of the residue storage tank Tsr has an upper limit, the residue storage tank Tsr can be added as necessary. After moving the contents of to another location, additional supply of fresh water ws).

また、その際には、(b)給水導管Cwsの途中の位置Qnから、低濃度の中和剤An*を注入し、真水wsで希釈された状態でバッファタンクTcs内に供給してもよい。低濃度の中和剤An*の供給は、(i)残留物Re中に存在する又は残留物に由来して発生する遊離有効塩素の無害化に役立つ、または、中和剤An*と当該遊離有効塩素との反応の過程で、バッファタンクTcs内、配管Lc0内、循環配管経路Lc内及び位置Qc2から位置Qsまでの殺菌剤配管経路Ls内の何れかの場所に存在する残留物Re内の何れかの場所に析出、堆積又は固化した残留物Reの溶解や剥離を促進し、当該何れかの場所に存在する残留物Reの減容又は除去の効果をより高めるとともに、(ii)当該遊離有効塩素と中和剤An*との反応の際に発生する発熱の量を低く抑えるのに役立つ。 At that time, (b) a low concentration neutralizing agent An* may be injected from a position Qn in the middle of the water supply conduit Cws and supplied into the buffer tank Tcs in a state diluted with fresh water ws. .. Supplying a low concentration of neutralizing agent An* helps to detoxify (i) free available chlorine existing in the residue Re or generated from the residue, or the neutralizing agent An* and the free In the process of reaction with available chlorine, in the buffer tank Tcs, in the pipe Lc0, in the circulation pipe line Lc and in the residue Re existing in any place in the disinfectant pipe line Ls from the position Qc2 to the position Qs. It promotes the dissolution and exfoliation of the residue Re that has been deposited, deposited or solidified at any place, and enhances the effect of reducing or removing the volume of the residue Re that exists at any place, and (ii) the release It helps to reduce the amount of heat generated during the reaction between available chlorine and the neutralizing agent An*.

3.3)溶液製造部S[pr]の断熱設計
図37は、本発明に係る水処理装置の実施例-Mの説明図である。実施例-Mは、船舶VSL内の設置場所ERにおいて、床面Bvに配置した台座Bpの上に設置された水処理装置Dであり、実施例-H乃至実施例-Lと同様に、(i)ホッパー部S[hp]と、水供給部S[ws]と、混合部S[mx]及び溶解促進部S[st]を備える溶液製造部S[pr]と、殺菌剤注入部S[is]を備えている。
3.3) Adiabatic Design of Solution Manufacturing Department S[pr] FIG. 37 is an explanatory diagram of Example-M of the water treatment device according to the present invention. Example-M is a water treatment device D installed on the pedestal Bp arranged on the floor Bv at the installation location ER in the ship VSL, and like Example-H to Example-L, i) Hopper part S[hp], water supply part S[ws], solution manufacturing part S[pr] including mixing part S[mx] and dissolution promoting part S[st], and bactericide injection part S[ is].

実施例-Mは、実施例-H乃至実施例-Lと異なり、混合部S[mx]及び溶解促進部S[st]が温度設定機構を共有しており、具体的には、(i)溶液製造部S[pr]全体、従って混合部S[mx]及び溶解促進部S[st]の両方が単一の断熱空間W[u]内に設置されており、(ii)断熱空間W[u]内の温度を調節することにより、温度Tcs及び温度Tasを特定温度範囲内に設定又は制御するための温度調節装置CL(u)を備えている。なお、ホッパー部S[hp]が備える温度設定機構は、図24に示されている変形例5に限定されない。温度調節装置CL(u)は、少なくとも冷熱発生機能を有する公知の装置であり、望ましくは、冷熱発生機能と温熱発生機能の両方を有する公知の装置である。 Unlike Example-H to Example-L, in Example-M, the mixing section S[mx] and the dissolution promoting section S[st] share a temperature setting mechanism. Specifically, (i) The entire solution production section S[pr], and thus both the mixing section S[mx] and the dissolution promoting section S[st] are installed in a single adiabatic space W[u], and (ii) adiabatic space W[ The temperature adjusting device CL(u) is provided for adjusting or setting the temperature in [u] to set or control the temperature Tcs and the temperature Tas within a specific temperature range. The temperature setting mechanism provided in the hopper unit S[hp] is not limited to the modification 5 shown in FIG. The temperature control device CL(u) is a known device having at least a cold heat generating function, and is preferably a known device having both a cold heat generating function and a warm heat generating function.

図37に描かれている断熱空間W[u]内に、実施形態1における溶液製造部S[pr]を設置することもできる。その場合、断熱空間W[u]の上部の断熱材Ins7に貫通孔を設け、回転軸Axiを挿入可能にし、当該上部の断熱材Ins7の上方に駆動モータMtiを設置すればよい。このようにして構成される水処理装置Dの代表例は、実施例-Eである。 The solution manufacturing unit S[pr] in the first embodiment may be installed in the heat insulating space W[u] illustrated in FIG. 37. In that case, a through hole may be provided in the heat insulating material Ins7 above the heat insulating space W[u] so that the rotating shaft Axi can be inserted, and the drive motor Mti can be installed above the heat insulating material Ins7 above. A representative example of the water treatment device D configured in this manner is Example-E.

上面断熱パネルIP(u)は、図38に示されているように、取り付け前は二つに分割されている。これは取り付けを容易にするためである。それ故、取り付けが難しくなければ、上面断熱パネルIP(u)は、分割されていない一体物であってもよい。 The upper heat insulating panel IP(u) is divided into two parts before mounting, as shown in FIG. This is to facilitate installation. Therefore, the top insulation panel IP(u) may be an undivided unitary piece if it is not difficult to mount.

上面断熱パネルIP(u)は、ホッパーHが備える原料補給口Crfの端部開口部に取り付けられている蓋への作業者のアクセスの便のため、当該蓋に対応する位置に開口を有する。上面断熱パネルIP(u)の上に最上断熱パネルIP(t)を取り付ける場合には、パネル板Pに取り付けられた断熱材Ins1*を、上面断熱パネルが有する当該開口に差し込む。上面断熱パネルIP(u)の上から最上断熱パネルIP(t)を取り外す場合には、断熱材Ins1*を、当該開口から引き抜く。 The upper surface insulation panel IP(u) has an opening at a position corresponding to the lid for facilitating the operator's access to the lid attached to the end opening of the raw material supply port Crf provided in the hopper H. When mounting the uppermost heat insulating panel IP(t) on the upper heat insulating panel IP(u), the heat insulating material Ins1* attached to the panel board P is inserted into the opening of the upper heat insulating panel. When removing the uppermost heat insulating panel IP(t) from the upper heat insulating panel IP(u), the heat insulating material Ins1* is pulled out from the opening.

なお、最上断熱パネルIP(t)を用いることは、断熱材Ins1*を上面断熱パネルが有する開口に差し込む又は当該開口から引き抜くために必須ではない。パネル板Pに取り付けられていない断熱材そのものを断熱材Ins1*として用いて、当該開口を埋める又は当該開口から取り出してもよい。 The use of the uppermost heat insulating panel IP(t) is not essential for inserting the heat insulating material Ins1* into or removing from the opening of the upper heat insulating panel. The heat insulating material itself not attached to the panel board P may be used as the heat insulating material Ins1* to fill the opening or be taken out from the opening.

3.6)ホッパー部S[hp]の改良例
ホッパーH内の温度Thを容器内温度上限以下に設定又は制御する際には、ホッパーH内の湿度をより低く維持することが望ましい。ホッパーH内の湿度が低いと、何らかの事情によりホッパーH内で塩素ガスが発生しても、金属腐食が起こり難くなり、刺激臭が生じ難くなるからである。一方、ホッパー部S[hp]から原料固形物ms(ms*)が装入される溶液製造部S[pr]には、水供給部S[ws]から真水wsも供給されるので、供給された真水wsに由来する水分が、原料供給路Cms及び計量機構Mvfを通じて上昇し、ホッパーHにまで到達し、ホッパーH内の湿度を高めるおそれがある。そこで、以下、溶液製造部S[pr]に供給される真水wsに由来する水分を、ホッパーH内に到達させない又は到達し難くさせる、ホッパー部S[hp]の改良例について説明する。
3.6) Improvement Example of Hopper S[hp] When setting or controlling the temperature Th in the hopper H to be equal to or lower than the upper limit of the temperature in the container, it is desirable to keep the humidity in the hopper H lower. This is because if the humidity in the hopper H is low, even if chlorine gas is generated in the hopper H for some reason, metal corrosion is less likely to occur and an irritating odor is less likely to occur. On the other hand, fresh water ws is also supplied from the water supply section S[ws] to the solution manufacturing section S[pr] in which the raw material solids ms (ms*) are charged from the hopper section S[hp]. The moisture derived from the fresh water ws rises through the raw material supply path Cms and the measuring mechanism Mvf, reaches the hopper H, and may increase the humidity in the hopper H. Therefore, hereinafter, an improved example of the hopper section S[hp] that prevents or prevents the moisture derived from the fresh water ws supplied to the solution manufacturing section S[pr] from reaching the hopper H will be described.

(1)改良例1
図15に示されている、排出支援機構を用いて、気体A1の単位時間当たりの供給量を増やす。これにより、原料供給路Cmsを通じて溶液製造部S[pr]内に流入する気体A1の流れを創り出し、真水wsに由来する水分のホッパー部S[hp]への侵入を阻止する。なお、既述のとおり、気体A1の温度は環境温度が容器内温度上限以下とする。また、もしくは、計量機構Mvf内に供給される気体A1の湿度はできるだけ低く設定する。これらにより、計量機構Mvf内や原料供給路Cms内に残留する原料固形物msが塩素ガスの発生源になる危険や、発生した塩素ガスが水分を含んで強い腐食性を呈し、刺激臭の原因となる危険を低減することができる。
(1) Improvement example 1
The supply amount of the gas A1 per unit time is increased by using the discharge support mechanism shown in FIG. As a result, a flow of the gas A1 flowing into the solution manufacturing unit S[pr] through the raw material supply passage Cms is created, and the invasion of water derived from fresh water ws into the hopper S[hp] is prevented. As described above, the temperature of the gas A1 is such that the environmental temperature is equal to or lower than the upper limit of the temperature inside the container. Alternatively, the humidity of the gas A1 supplied into the measuring mechanism Mvf is set as low as possible. Due to these, there is a danger that the raw material solids ms remaining in the measuring mechanism Mvf or the raw material supply path Cms becomes a source of chlorine gas, or the generated chlorine gas contains water and is highly corrosive, causing an irritating odor. It is possible to reduce the risk that

(2)改良例2
図39は、ホッパー部S[hp]の改良例2の説明図である。この改良例2では、気体A2を、受入口Din側から計量機構Mvf内に供給し、排出口Doutから原料供給路Cmsに移動させ、原料供給路Cmsを通じて溶液製造部S[pr]内に流入させることにより、真水wsに由来する水分のホッパー部S[hp]への侵入を阻止する。改良例1の場合、気体A2の供給量を増やすと、排出口Doutから原料供給路Cmsに移動せずに計量機構Mvf内に留まる流れが形成され、計量機構Mvf内に残留する原料固形物msが増えるおそれがある。これに対し、気体A2を供給すれば、受入口Din の側から排出口Doutの側への気体の流れが形成されるので、計量機構Mvf内に残留する原料固形物msの量の増加を抑制又は防止することができる。
(2) Improvement example 2
FIG. 39 is an explanatory diagram of a second modification of the hopper section S[hp]. In this improvement example 2, the gas A2 is supplied from the inlet Din side into the measuring mechanism Mvf, moved from the outlet Dout to the raw material supply passage Cms, and flows into the solution manufacturing unit S[pr] through the raw material supply passage Cms. By doing so, the invasion of water derived from fresh water ws into the hopper S[hp] is prevented. In the case of the improved example 1, when the supply amount of the gas A2 is increased, a flow that remains in the measuring mechanism Mvf without moving to the raw material supply path Cms from the outlet Dout is formed, and the raw material solids ms remaining in the measuring mechanism Mvf May increase. On the other hand, when the gas A2 is supplied, a gas flow from the inlet Din side to the outlet Dout side is formed, so that the increase in the amount of the raw material solid ms remaining in the measuring mechanism Mvf is suppressed. Or it can be prevented.

改良例2では、更に、気体A3を、原料供給路Cmsに供給し、原料供給路Cmsを通じて、溶液製造部S[pr]内に流入させることにより、真水wsに由来する水分のホッパー部S[hp]への侵入を阻止する。 In the improved example 2, further, the gas A3 is supplied to the raw material supply passage Cms and is allowed to flow into the solution production section S[pr] through the raw material supply passage Cms, so that the hopper portion S[[ hp] is blocked.

(3)改良例3
(3−1) 図40は、ホッパー部S[hp]の改良例3の説明図であり、図40(a)はその正面図であり、図40(b)はその側面図である。この改良例3では、原料供給路Cmsの途中又は溶液製造部S[pr]側の先端にバルブVblを設け、ホッパー部S[hp]から溶液製造部S[pr]への原料固形物ms(ms*)の装入を停止しているときは、バルブVblを閉状態にして、真水wsに由来する水分のホッパー部S[hp]への侵入を阻止する。バルブVblの代表例は、締切性能が非常に高いことで知られているボールバルブである。水処理装置Dの自動化の程度を高めるのであれば、電動ボールバルブの採用が好ましい。
(3) Improvement example 3
(3-1) FIG. 40 is an explanatory diagram of a third modified example of the hopper S[hp], FIG. 40(a) is a front view thereof, and FIG. 40(b) is a side view thereof. In this improved example 3, the tip of the middle or solution produced unit S [pr] side of the feed channel Cms provided a valve Vbl, raw solid ms from the hopper portion S [hp] To a solution prepared portion S [pr] ( When the charging of ms*) is stopped, the valve Vbl is closed to prevent the moisture derived from the fresh water ws from entering the hopper S[hp]. A typical example of the valve Vbl is a ball valve which is known to have a very high shutoff performance. If the degree of automation of the water treatment device D is increased, it is preferable to use an electric ball valve.

(3−2) 図40(c)及び図40(d)は、それぞれ、図40(a)(b)に示されているホッパー部S[hp]の改良例3の派生例1及び派生例2の説明図であり、いずれも側面図である。改良例3の派生例1では、気体A4をバルブVblの側面から原料供給路Cmsに供給し、原料供給路Cmsを通じて溶液製造部S[pr]内に流入させることにより、真水wsに由来する水分のホッパー部S[hp]への侵入を阻止する。改良例3の派生例2では、バルブVblを上蓋Ts1(又はTcs1)から離隔した位置に設置する場合において、気体A5を、バルブVblと上蓋Ts1(又はTcs1)との間の原料供給路Cmsに供給し、原料供給路Cmsを通じて溶液製造部S[pr]内に流入させることにより、真水wsに由来する水分のホッパー部S[hp]への侵入を阻止する。 (3-2) FIG. 40(c) and FIG. 40(d) are a derivative example 1 and a derivative example of the improvement example 3 of the hopper section S[hp] shown in FIGS. 40(a) and (b), respectively. It is explanatory drawing of 2, and is a side view in each case. In the derivation example 1 of the improvement example 3, by supplying the gas A4 from the side surface of the valve Vbl to the raw material supply passage Cms and flowing into the solution manufacturing section S[pr] through the raw material supply passage Cms, the moisture derived from the fresh water ws is obtained. Prevents entry into the hopper S [hp] of. In the second derivative of the improved example 3, when the valve Vbl is installed at a position separated from the upper lid Ts1 (or Tcs1), the gas A5 is supplied to the raw material supply passage Cms between the valve Vbl and the upper lid Ts1 (or Tcs1). By supplying and flowing into the solution manufacturing section S[pr] through the raw material supply channel Cms, the invasion of water derived from fresh water ws into the hopper section S[hp] is prevented.

1.4)実施例
貨物船VSLが第一の港から空荷で出港する際、第一の港で海水WoをバラストタンクBTに積み込み、貨物を積載する第二の港でバラストタンクBTから海水Wtを船外へ排出し、その後貨物を積載して第一の港に戻る。そして貨物を荷卸しした第一の港から再び空荷で、第二の港に向かって出航する際、第一の港で海水WoをバラストタンクBTに積み込む場合、まず、第一の港において、船内に海水Woを取水し、バラスト水取水用配管経路Lfに流通させる際に、本発明に係る水処理装置を殺菌剤供給装置Dとして用いて塩素系殺菌剤Asを殺菌剤注入口Isから、流通する海水Woに注入する。これにより、海水Woに対して殺菌処理を施し、塩素系殺菌剤Asが注入された海水Wo(つまり海水Ws)をバラストタンクBTに収容させる。その後、貨物船VSLは、第一の港を出港し、航行し、貨物を搭載するために第二の港に向かう。
1.4) Example When the freighter VSL leaves the first port with an empty cargo, seawater Wo is loaded into the ballast tank BT at the first port, and seawater from the ballast tank BT is loaded at the second port where cargo is loaded. Wt is discharged overboard, then loaded with cargo and returned to the first port. Then, when emptying again from the first port where the cargo was unloaded, when sailing towards the second port, when loading seawater Wo into the ballast tank BT at the first port, first at the first port, Taking seawater Wo into the ship, when circulating the ballast water intake pipe line Lf, the chlorine-based germicide As using the water treatment device according to the present invention as the germicide supply device D from the germicide inlet Is, Inject it into the circulating seawater Wo. Thus, the seawater Wo is sterilized, and the seawater Wo (that is, the seawater Ws) in which the chlorine-based bactericide As is injected is stored in the ballast tank BT. The freighter VSL then departs from the first port, sails and goes to the second port for loading cargo.

図6及び図9中に示されている期間Pbは、第一の港における殺菌処理のために第二段階S2を実行した後、出港先の第二の港から第一の港に戻ってきた後に、第一の港において再度の殺菌処理を開始するまでの期間に概ね等しい。期間Pb*についても同様のことがいえる。 During the period Pb shown in FIG. 6 and FIG. 9, after performing the second stage S2 for the sterilization treatment in the first port, the second port, which is the departure destination, returned to the first port. It is almost equal to the period until the second sterilization process is started later in the first port. The same applies to the period Pb*.

本発明の技術的範囲は、均等の範囲にまで及ぶものである。本明細書における各用語の意味又は解釈は、本発明の技術的範囲が均等の範囲にまで及ぶことを妨げるものではない。
以下、本願の出願当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
[1]
船舶のバラストに用いる水を船外から導入し、その水を当該船舶が具備するバラストタンクに向かって移動させる過程で殺菌する水処理方法であって、
塩素化イソシアヌル酸化合物の固形物と該固形物を一時的に貯蔵するための一時的貯蔵用容器を用意する準備段階と、
前記固形物を前記一時的貯蔵用容器内に装入する工程を有する第一段階と、
前記一時的貯蔵用容器内から取り出された前記固形物を真水と混合し、撹拌することにより、塩素系殺菌剤を製造する工程を有する第二段階と、
船舶のバラストに用いる水として船外から導入した水に前記塩素系殺菌剤を注入する工程を有する第三段階と、を有するとともに、
前記第一段階は、前記一時的貯蔵用容器内の温度を摂氏39度以下に設定する工程を有する、
ことを特徴とする水処理方法。
[2]
前記第一段階は、前記一時的貯蔵用容器が設置されている場所の温度が摂氏39度未満であるとき、前記一時的貯蔵用容器内の温度を、前記一時的貯蔵用容器が設置されている場所の温度以上に設定する工程を有する、ことを特徴とする[1]に記載の水処理方法。
[3]
前記第一段階は、前記固形物を前記一時的貯蔵用容器内に装入している間のみならず、装入前及び/又は装入後も前記一時的貯蔵用容器内の温度を摂氏39度以下に設定する工程を有する、ことを特徴とする[1]に記載の水処理方法。
[4]
前記固形物と混合される前の前記真水の温度は、摂氏5度以上、摂氏39度以下の範囲内に予め設定されている、ことを特徴とする[1]乃至[3]のいずれかに記載の水処理方法。
[5]
前記第二段階は、摂氏5度以上、摂氏39度以下の温度範囲内で前記固形物を前記真水と混合する工程を有する、ことを特徴とする[1]乃至[4]のいずれかに記載の水処理方法。
[6]
前記第二段階は、前記固形物を前記真水に溶解させてできる塩素系殺菌剤の温度を摂氏39度以下の温度範囲内に設定する工程を有する、ことを特徴とする[5]に記載の水処理方法。
[7]
前記一時的貯蔵用容器が設置されている場所の温度が、摂氏39度以下に予め設定されている基準温度を超えたとき、前記一時的貯蔵用容器内の温度を下げる工程を有する、ことを特徴とする[1]に記載の水処理方法。
[8]
前記一時的貯蔵用容器が設置されている場所の温度が、摂氏0度以上に予め設定されている基準温度を下回ったとき、前記一時的貯蔵用容器内の温度を上げる工程を有する、ことを特徴とする[2]に記載の水処理方法。
[9]
前記塩素系殺菌剤の温度が、摂氏39度以下に予め設定されている基準温度を超えたとき、前記一時的貯蔵用容器内の温度及び/又は前記固形物と混合される前の前記真水の温度を下げる工程を有する、ことを特徴とする[4]に記載の水処理方法。
[10]
前記第一段階は、前記第二段階の実行中及び実行後少なくとも一定期間、前記一時的貯蔵用容器内の温度を摂氏39度以下に設定する工程を有する、ことを特徴とする[1]乃至[9]のいずれかに記載の水処理方法。
[11]
前記第一段階は、前記第三段階の実行中及び実行後少なくとも一定期間、前記一時的貯蔵用容器内の温度を摂氏39度以下に設定する工程を有する、ことを特徴とする[1]乃至[9]のいずれかに記載の水処理方法。
[12]
前記第一段階は、前記固形物を前記一時的貯蔵用容器に補給する工程を有する、ことを特徴とする[1]乃至[11]のいずれかに記載の水処理方法。
[13]
船舶のバラストに用いる水として船外から導入された水に殺菌剤を注入するために、当該船舶に搭載される水処理装置であって、
塩素化イソシアヌル酸化合物の固形物と真水を混合し撹拌することにより、塩素系殺菌剤を製造する溶液製造部と、前記固形物を一時的に貯蔵し、前記溶液製造部に供給するホッパーと、前記真水を前記溶液製造部に供給する水供給部と、船舶のバラストに用いる水として船外から導入された水に前記塩素系殺菌剤を注入する殺菌剤注入部を備えており、
前記ホッパー内の温度は摂氏39度以下に設定されている、
ことを特徴とする水処理装置。
[14]
前記ホッパー内の前記固形物を前記溶液製造部に供給する原料供給機を更に備えており、前記原料供給機は、前記ホッパー内の前記固形物を少量又は所定量に小分けにするための計量機構と該計量機構を駆動する駆動機構を具備しており、前記計量機構内の温度は摂氏39度以下に設定されている、ことを特徴とする[13]に記載の水処理装置。
[15]
前記ホッパー内から前記溶液製造部に供給される前記固形物の移動経路内の温度は、摂氏39度以下に設定されている、ことを特徴とする[13]又は[14]に記載の水処理装置。
[16]
前記真水の温度は、摂氏5度以上、摂氏39度以下の範囲内に予め設定されている、ことを特徴とする[13]乃至[15]のいずれかに記載の水処理装置。
[17]
前記溶液製造部は、摂氏5度以上、摂氏39度以下の温度範囲内で前記固形物を前記真水と混合するように構成されている、ことを特徴とする[13]乃至[16]のいずれかに記載の水処理装置。
[18]
前記溶液製造部は、前記固形物を前記真水と混合し、攪拌し、前記真水に溶解させるためのタンクを備えており、前記タンク内の温度は、摂氏5度以上、摂氏39度以下の範囲内に設定されている、ことを特徴とする[13]乃至[16]のいずれかに記載の水処理装置。
[19]
前記溶液製造部は、前記固形物を前記真水と混合する混合部と、該混合部の下流に配置し、前記固形物の前記真水への溶解を促進する溶解促進部とを具備しており、
前記溶解促進部は、前記固形物と前記真水の混合物及び/又は前記塩素系殺菌剤が移動し循環する循環配管経路を具備しており、
前記循環配管経路は、ポンプと、該ポンプの出側と接続する第一の配管経路と、該第一の配管経路の出側と接続する固液分離装置と、該固液分離装置と前記ポンプの入側とを接続する第二の配管経路と、該第二の配管経路と前記混合部とが接続する接続部とを具備しており、
前記殺菌剤注入部は、前記固液分離装置が排出する前記塩素系殺菌剤を、船舶のバラストに用いる水として船外から導入された水に注入するように構成されており、
前記固液分離装置が排出する前記塩素系殺菌剤の温度又は前記固液分離装置内の温度が、摂氏5度以上、摂氏39度以下になるように、前記水供給部における前記真水の温度が設定されている、
ことを特徴とする[13]乃至[16]のいずれかに記載の水処理装置。
[20]
前記ホッパーが設置されている場所の温度が、摂氏39度以下に予め設定されている基準温度を超えたとき、前記ホッパー内の温度が下がるように構成されている、ことを特徴とする[13]及至[15]のいずれかに記載の水処理装置。
[21]
前記ホッパーが設置されている場所の温度が、摂氏0度以上に予め設定されている基準温度を下回ったとき、前記真水の温度が上がるように構成されている、ことを特徴とする[16]に記載の水処理装置。
[22]
前記固液分離装置が排出する前記塩素系殺菌剤の温度又は前記固液分離装置内の温度が、摂氏39度以下に予め設定されている基準温度を超えたとき、前記水供給部における前記真水の温度及び/又は前記ホッパー内の温度が下がるように構成されている、ことを特徴とする[19]に記載の水処理装置。
[23]
前記溶液製造部における前記塩素系殺菌剤の製造中及びその製造終了後少なくとも一定期間、前記ホッパー内の温度が摂氏39度以下に設定されている、ことを特徴とする[13]及至[15]のいずれかに記載の水処理装置。
[24]
前記殺菌剤注入部における前記船舶のバラストに用いる水として導入された水への前記塩素系殺菌剤の注入中及びその注入の終了後少なくとも一定期間、前記ホッパー内の温度が摂氏39度以下になるように設定されている、ことを特徴とする[13]及至[15]のいずれかに記載の水処理装置。
[25]
前記ホッパーの周囲を冷却又は加熱する温度調節装置を備えている、ことを特徴とする[13]及至[15]のいずれかに記載の水処理装置。
[26]
前記温度調節装置は、前記ホッパーが設置されている場所の空気調和を行うための空気調和装置を更に備えている、ことを特徴とする[25]に記載の水処理装置。
[27]
前記ホッパーの周囲に断熱材が取り付けられている、ことを特徴とする[13]及至[15]のいずれかに記載の水処理装置。
[28]
前記溶解製造部は、断熱材により囲われた空間内に設置されている、ことを特徴とする[17]乃至[19]のいずれかに記載の水処理装置。
[29]
前記殺菌剤注入部における前記船舶のバラストに用いる水として導入された水への前記塩素系殺菌剤の注入の終了前に前記塩素化イソシアヌル酸化合物の固形物と前記真水の混合物と接触していた前記溶液製造部の表面の少なくとも一部が、その注入中及びその注入の終了後あるいはその注入の終了後、前記水供給部から供給される前記真水と接触するように構成されている、ことを特徴とする[13]及至[15]のいずれかに記載の水処理装置。
[30]
前記殺菌剤注入部における前記船舶のバラストに用いる水として導入された水への注入に使用されずに残留した前記塩素系殺菌剤又は前記塩素系殺菌剤の製造に使用されずに残留した、前記塩素化イソシアヌル酸化合物の固形物と前記真水の混合物を、貯蔵する残留物貯蔵用タンクを更に備えている、ことを特徴とする[13]及至[15]のいずれかに記載の水処理装置。
[31]
前記ホッパー内から前記溶液製造部に供給される前記固形物の移動経路内に、前記固形物の移動方向に沿って移動する気体を供給する気体供給装置を備えている、ことを特徴とする特徴とする[13]及至[15]のいずれかに記載の水処理装置。
[32]
前記ホッパーから溶液製造部に原料固形物が供給されていないとき、前記ホッパー内から前記溶液製造部に供給される前記固形物の移動経路を遮断する機構を備えている、ことを特徴とする[13]及至[15]のいずれかに記載の水処理装置。
[33]
前記ホッパーは、少なくとも、その胴体側面を複数個の断熱パネルで囲われている、ことを特徴とする[13]及至[15]のいずれかに記載の水処理装置。
The technical scope of the present invention extends to an equivalent range. The meaning or interpretation of each term in the present specification does not prevent the technical scope of the present invention from extending to an equivalent range.
Hereinafter, the inventions described in the claims at the time of filing the present application will be additionally described.
[1]
A water treatment method of introducing water used for ballast of a ship from outside the ship and sterilizing the water in the process of moving the water toward a ballast tank of the ship,
A preparatory step of preparing a temporary storage container for temporarily storing the solid substance of the chlorinated isocyanuric acid compound and the solid substance,
A first step comprising the step of charging the solid material into the temporary storage container;
A second step having a step of producing a chlorine-based bactericide by mixing the solid matter taken out of the temporary storage container with fresh water and stirring the mixture.
With a third stage having a step of injecting the chlorine-based bactericide into water introduced from outside as water used for ship ballast,
The first step includes the step of setting the temperature in the temporary storage container to 39 degrees Celsius or less.
A water treatment method characterized by the above.
[2]
In the first step, when the temperature of the place where the temporary storage container is installed is less than 39 degrees Celsius, the temperature in the temporary storage container is set to the temperature in the temporary storage container. The method for treating water according to [1], which has a step of setting the temperature at a place higher than or equal to the location.
[3]
In the first step, the temperature in the temporary storage container is adjusted to 39 degrees Celsius not only during the charging of the solid matter into the temporary storage container but also before and/or after the charging. The method for treating water according to [1], which has a step of setting the temperature to not more than 100 degrees.
[4]
In any one of [1] to [3], the temperature of the fresh water before being mixed with the solid matter is preset within a range of 5 degrees Celsius or higher and 39 degrees Celsius or lower. The described water treatment method.
[5]
The second step has a step of mixing the solid matter with the fresh water within a temperature range of 5 degrees Celsius or more and 39 degrees Celsius or less, [1] to [4]. Water treatment method.
[6]
The second step includes the step of setting the temperature of the chlorine-based bactericide formed by dissolving the solid matter in the fresh water within a temperature range of 39 degrees Celsius or less, [5]. Water treatment method.
[7]
When the temperature of the place where the temporary storage container is installed exceeds a reference temperature that is preset to 39 degrees Celsius or less, there is a step of lowering the temperature in the temporary storage container. The water treatment method as described in [1], which is characterized.
[8]
When the temperature of the place where the temporary storage container is installed falls below a preset reference temperature of 0 degrees Celsius or higher, there is a step of increasing the temperature in the temporary storage container. The water treatment method according to [2], which is characterized.
[9]
When the temperature of the chlorine-based bactericide exceeds a reference temperature preset to 39 degrees Celsius or less, the temperature of the temporary storage container and/or the fresh water before being mixed with the solid matter The water treatment method according to [4], which has a step of lowering the temperature.
[10]
The first step includes the step of setting the temperature in the temporary storage container to 39 degrees Celsius or less during the execution of the second step and at least for a certain period after the execution [1] to The water treatment method according to any one of [9].
[11]
The first step includes the step of setting the temperature in the temporary storage container to 39 degrees Celsius or less during the execution of the third step and at least for a certain period after the execution [1] to The water treatment method according to any one of [9].
[12]
The water treatment method according to any one of [1] to [11], wherein the first step includes a step of supplying the solid material to the temporary storage container.
[13]
A water treatment device mounted on a ship for injecting a bactericide into water introduced from outside as ship water used for ballast, comprising:
By mixing and stirring a solid substance of a chlorinated isocyanuric acid compound and fresh water, a solution production section for producing a chlorine-based bactericide, a temporary storage of the solid matter, and a hopper for supplying the solution production section, A water supply unit for supplying the fresh water to the solution manufacturing unit, and a disinfectant injection unit for injecting the chlorine-based disinfectant into water introduced from outside as water used for ballast of a ship,
The temperature in the hopper is set to 39 degrees Celsius or lower,
A water treatment device characterized by the above.
[14]
The solid material in the hopper is further provided with a raw material supply device for supplying the solution manufacturing unit, and the raw material supply device is a measuring mechanism for subdividing the solid material in the hopper into a small amount or a predetermined amount. And a drive mechanism for driving the measuring mechanism, and the temperature inside the measuring mechanism is set to 39 degrees Celsius or lower, [13].
[15]
The water treatment according to [13] or [14], wherein the temperature in the moving path of the solid matter supplied from the hopper to the solution manufacturing unit is set to 39 degrees Celsius or less. apparatus.
[16]
The water treatment apparatus according to any one of [13] to [15], wherein the temperature of the fresh water is preset within a range of 5 degrees Celsius or higher and 39 degrees Celsius or lower.
[17]
Any one of [13] to [16], wherein the solution manufacturing unit is configured to mix the solid matter with the fresh water within a temperature range of 5 degrees Celsius or more and 39 degrees Celsius or less. The water treatment device according to claim 1.
[18]
The solution manufacturing unit includes a tank for mixing the solid matter with the fresh water, stirring the solution, and dissolving it in the fresh water, and the temperature in the tank is in the range of 5 degrees Celsius or higher and 39 degrees Celsius or lower. The water treatment device according to any one of [13] to [16], wherein the water treatment device is set inside.
[19]
The solution production section comprises a mixing section for mixing the solid matter with the fresh water, and a dissolution promoting section arranged downstream of the mixing section for promoting dissolution of the solid matter in the fresh water,
The dissolution promoting unit comprises a circulation pipe path through which the mixture of the solid matter and the fresh water and/or the chlorine-based germicide moves and circulates,
The circulation piping path is a pump, a first piping path connected to the outlet side of the pump, a solid-liquid separator connected to the outlet side of the first piping path, the solid-liquid separator and the pump. A second pipe path connecting the inlet side of the, and a connecting portion connecting the second pipe path and the mixing portion,
The sterilizing agent injecting unit is configured to inject the chlorine-based sterilizing agent discharged by the solid-liquid separator into water introduced from outside as water used for ballast of a ship,
The temperature of the fresh water in the water supply unit is adjusted so that the temperature of the chlorine-based bactericide discharged by the solid-liquid separator or the temperature in the solid-liquid separator is 5 degrees Celsius or higher and 39 degrees Celsius or lower. Is set,
The water treatment device according to any one of [13] to [16].
[20]
When the temperature of the place where the hopper is installed exceeds a reference temperature preset to 39 degrees Celsius or less, the temperature inside the hopper is configured to decrease [13] ] The water treatment apparatus in any one of [1] to [15].
[21]
When the temperature of the place where the hopper is installed falls below a preset reference temperature of 0 degrees Celsius or higher, the temperature of the fresh water is increased [16]. The water treatment device described in 1.
[22]
When the temperature of the chlorine-based bactericide discharged by the solid-liquid separator or the temperature in the solid-liquid separator exceeds a reference temperature preset to 39 degrees Celsius or less, the fresh water in the water supply unit And/or the temperature in the hopper is lowered. The water treatment device according to [19].
[23]
[13] to [15], wherein the temperature in the hopper is set to 39 degrees Celsius or lower during the production of the chlorine-based bactericide in the solution production section and at least for a certain period after the end of the production. The water treatment device according to any one of 1.
[24]
During the injection of the chlorine-based disinfectant into the water introduced as water used for ballast of the ship in the disinfectant injection unit, and at least for a certain period after the end of the injection, the temperature in the hopper becomes 39 degrees C or less The water treatment apparatus according to any one of [13] to [15], which is set as follows.
[25]
The water treatment device according to any one of [13] to [15], which is provided with a temperature control device for cooling or heating the periphery of the hopper.
[26]
The water treatment device according to [25], wherein the temperature control device further includes an air conditioning device for performing air conditioning of a place where the hopper is installed.
[27]
The water treatment device according to any one of [13] to [15], characterized in that a heat insulating material is attached around the hopper.
[28]
The water treatment apparatus according to any one of [17] to [19], wherein the dissolution manufacturing unit is installed in a space surrounded by a heat insulating material.
[29]
Before the end of the injection of the chlorine-based disinfectant to the water introduced as water used for the ballast of the ship in the disinfectant injection section was in contact with the mixture of solid chlorinated isocyanuric acid compound and fresh water At least a part of the surface of the solution production unit is configured to come into contact with the fresh water supplied from the water supply unit during the injection and after the completion of the injection or after the completion of the injection. The water treatment apparatus according to any one of [13] to [15].
[30]
The chlorine-based disinfectant that was not used for injection into water that was introduced as water used for ballast of the ship in the disinfectant-injection part, or remained without being used in the production of the chlorine-based disinfectant, The water treatment device according to any one of [13] to [15], further comprising a residue storage tank that stores a mixture of a solid substance of a chlorinated isocyanuric acid compound and the fresh water.
[31]
A gas supply device for supplying a gas moving along the moving direction of the solid material is provided in the moving path of the solid material supplied from the hopper to the solution manufacturing unit. The water treatment device according to any one of [13] to [15].
[32]
When the raw material solids are not supplied from the hopper to the solution manufacturing unit, a mechanism is provided for blocking a movement path of the solids supplied from the hopper to the solution manufacturing unit. 13] The water treatment device according to any one of [1] to [15].
[33]
The water treatment apparatus according to any one of [13] to [15], wherein at least the body side surface of the hopper is surrounded by a plurality of heat insulation panels.

Claims (33)

船舶のバラストに用いる水を船外から導入し、その水を当該船舶が具備するバラストタンクに向かって移動させる過程で殺菌する水処理方法であって、
塩素化イソシアヌル酸化合物の固形物と該固形物を一時的に貯蔵するための一時的貯蔵用容器を用意する準備段階と、
前記固形物を前記一時的貯蔵用容器内に装入する工程を有する第一段階と、
前記一時的貯蔵用容器内から取り出された前記固形物を真水と混合し、撹拌することにより、塩素系殺菌剤を製造する工程を有する第二段階と、
船舶のバラストに用いる水として船外から導入した水に前記塩素系殺菌剤を注入する工程を有する第三段階と、を有するとともに、
前記第一段階は、前記一時的貯蔵用容器内の温度を摂氏39度以下に設定する工程を有する、
ことを特徴とする水処理方法。
A water treatment method of introducing water used for ballast of a ship from outside the ship and sterilizing the water in the process of moving the water toward a ballast tank of the ship,
A preparatory step of preparing a temporary storage container for temporarily storing the solid substance of the chlorinated isocyanuric acid compound and the solid substance,
A first step comprising the step of charging the solid material into the temporary storage container;
A second step having a step of producing a chlorine-based bactericide by mixing the solid matter taken out of the temporary storage container with fresh water and stirring the mixture.
With a third stage having a step of injecting the chlorine-based bactericide into water introduced from outside as water used for ship ballast,
The first step includes the step of setting the temperature in the temporary storage container to 39 degrees Celsius or less.
A water treatment method characterized by the above.
前記第一段階は、前記一時的貯蔵用容器が設置されている場所の温度が摂氏39度未満であるとき、前記一時的貯蔵用容器内の温度を、前記一時的貯蔵用容器が設置されている場所の温度以上に設定する工程を有する、ことを特徴とする請求項1に記載の水処理方法。   In the first step, when the temperature of the place where the temporary storage container is installed is less than 39 degrees Celsius, the temperature in the temporary storage container is set to the temperature in the temporary storage container. The method for treating water according to claim 1, further comprising a step of setting the temperature to a temperature higher than the temperature of the place. 前記第一段階は、前記固形物を前記一時的貯蔵用容器内に装入している間のみならず、装入前及び/又は装入後も前記一時的貯蔵用容器内の温度を摂氏39度以下に設定する工程を有する、ことを特徴とする請求項1に記載の水処理方法。   In the first step, the temperature in the temporary storage container is adjusted to 39 degrees Celsius not only during the charging of the solid matter into the temporary storage container but also before and/or after the charging. The water treatment method according to claim 1, further comprising a step of setting the temperature to not more than 100 degrees. 前記固形物と混合される前の前記真水の温度は、摂氏5度以上、摂氏39度以下の範囲内に予め設定されている、ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の水処理方法。   The temperature of the fresh water before being mixed with the solid matter is preset within a range of 5 degrees Celsius or higher and 39 degrees Celsius or lower, according to any one of claims 1 to 3. The described water treatment method. 前記第二段階は、摂氏5度以上、摂氏39度以下の温度範囲内で前記固形物を前記真水と混合する工程を有する、ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の水処理方法。   The said 2nd step has the process of mixing the said solid substance with the said fresh water within the temperature range of 5 degrees Celsius or more and 39 degrees Celsius or less, The claim 1 characterized by the above-mentioned. Water treatment method. 前記第二段階は、前記固形物を前記真水に溶解させてできる塩素系殺菌剤の温度を摂氏39度以下の温度範囲内に設定する工程を有する、ことを特徴とする請求項5に記載の水処理方法。   The said 2nd step has the process of setting the temperature of the chlorine-based bactericide formed by melt|dissolving the said solid substance in the said fresh water within the temperature range of 39 degrees C or less, The claim 5 characterized by the above-mentioned. Water treatment method. 前記一時的貯蔵用容器が設置されている場所の温度が、摂氏39度以下に予め設定されている基準温度を超えたとき、前記一時的貯蔵用容器内の温度を下げる工程を有する、ことを特徴とする請求項1に記載の水処理方法。   When the temperature of the place where the temporary storage container is installed exceeds a reference temperature that is preset to 39 degrees Celsius or less, there is a step of lowering the temperature in the temporary storage container. The water treatment method according to claim 1, which is characterized in that. 前記一時的貯蔵用容器が設置されている場所の温度が、摂氏0度以上に予め設定されている基準温度を下回ったとき、前記一時的貯蔵用容器内の温度を上げる工程を有する、ことを特徴とする請求項2に記載の水処理方法。   When the temperature of the place where the temporary storage container is installed falls below a preset reference temperature of 0 degrees Celsius or higher, there is a step of increasing the temperature in the temporary storage container. The water treatment method according to claim 2, which is characterized in that. 前記塩素系殺菌剤の温度が、摂氏39度以下に予め設定されている基準温度を超えたとき、前記一時的貯蔵用容器内の温度及び/又は前記固形物と混合される前の前記真水の温度を下げる工程を有する、ことを特徴とする請求項4に記載の水処理方法。   When the temperature of the chlorine-based bactericide exceeds a reference temperature preset to 39 degrees Celsius or less, the temperature of the temporary storage container and/or the fresh water before being mixed with the solid matter The water treatment method according to claim 4, further comprising a step of lowering the temperature. 前記第一段階は、前記第二段階の実行中及び実行後少なくとも一定期間、前記一時的貯蔵用容器内の温度を摂氏39度以下に設定する工程を有する、ことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の水処理方法。   The first step includes the step of setting the temperature in the temporary storage container to 39 degrees Celsius or less during the execution of the second step and at least for a certain period after the execution of the second step. 9. The water treatment method according to any one of 9 above. 前記第一段階は、前記第三段階の実行中及び実行後少なくとも一定期間、前記一時的貯蔵用容器内の温度を摂氏39度以下に設定する工程を有する、ことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の水処理方法。   The first step includes the step of setting the temperature in the temporary storage container to 39 degrees Celsius or lower during and after the execution of the third step, at least for a certain period. 9. The water treatment method according to any one of 9 above. 前記第一段階は、前記固形物を前記一時的貯蔵用容器に補給する工程を有する、ことを特徴とする請求項1乃至11のいずれか1項に記載の水処理方法。   The water treatment method according to any one of claims 1 to 11, wherein the first step includes a step of supplying the solid matter to the temporary storage container. 船舶のバラストに用いる水として船外から導入された水に殺菌剤を注入するために、当該船舶に搭載される水処理装置であって、
塩素化イソシアヌル酸化合物の固形物と真水を混合し撹拌することにより、塩素系殺菌剤を製造する溶液製造部と、前記固形物を一時的に貯蔵し、前記溶液製造部に供給するホッパーと、前記真水を前記溶液製造部に供給する水供給部と、船舶のバラストに用いる水として船外から導入された水に前記塩素系殺菌剤を注入する殺菌剤注入部を備えており、 前記ホッパー内の温度は摂氏39度以下に設定されている、
ことを特徴とする水処理装置。
A water treatment device mounted on a ship for injecting a bactericide into water introduced from outside as ship water used for ballast, comprising:
By mixing and stirring a solid substance of the chlorinated isocyanuric acid compound and fresh water, a solution production section for producing a chlorine-based bactericide, a temporary storage of the solid matter, and a hopper for supplying the solution production section, The water supply unit that supplies the fresh water to the solution manufacturing unit, and a sterilizing agent injecting unit that injects the chlorine-based sterilizing agent into water introduced from outside as water used for ballast of a ship are provided in the hopper. Temperature is set below 39 degrees Celsius,
A water treatment device characterized by the above.
前記ホッパー内の前記固形物を前記溶液製造部に供給する原料供給機を更に備えており、前記原料供給機は、前記ホッパー内の前記固形物を少量又は所定量に小分けにするための計量機構と該計量機構を駆動する駆動機構を具備しており、前記計量機構内の温度は摂氏39度以下に設定されている、ことを特徴とする請求項13に記載の水処理装置。   The solid material in the hopper is further provided with a raw material supply device for supplying the solution manufacturing unit, and the raw material supply device is a measuring mechanism for subdividing the solid material in the hopper into a small amount or a predetermined amount. 14. The water treatment apparatus according to claim 13, further comprising a drive mechanism for driving the measuring mechanism, and the temperature inside the measuring mechanism is set to 39 degrees Celsius or less. 前記ホッパー内から前記溶液製造部に供給される前記固形物の移動経路内の温度は、摂氏39度以下に設定されている、ことを特徴とする請求項13又は14に記載の水処理装置。   The water treatment apparatus according to claim 13 or 14, wherein the temperature in the movement path of the solid matter supplied from the hopper to the solution manufacturing unit is set to 39°C or lower. 前記真水の温度は、摂氏5度以上、摂氏39度以下の範囲内に予め設定されている、ことを特徴とする請求項13乃至15のいずれか1項に記載の水処理装置。   16. The water treatment device according to claim 13, wherein the temperature of the fresh water is preset within a range of 5 degrees Celsius or higher and 39 degrees Celsius or lower. 前記溶液製造部は、摂氏5度以上、摂氏39度以下の温度範囲内で前記固形物を前記真水と混合するように構成されている、ことを特徴とする請求項13乃至16のいずれか1項に記載の水処理装置。   17. The solution manufacturing unit is configured to mix the solid matter with the fresh water within a temperature range of 5 degrees Celsius or more and 39 degrees Celsius or less, 17. The water treatment device according to item. 前記溶液製造部は、前記固形物を前記真水と混合し、攪拌し、前記真水に溶解させるためのタンクを備えており、前記タンク内の温度は、摂氏5度以上、摂氏39度以下の範囲内に設定されている、ことを特徴とする請求項13乃至16のいずれか1項に記載の水処理装置。   The solution manufacturing unit includes a tank for mixing the solid matter with the fresh water, stirring the solution, and dissolving it in the fresh water, and the temperature in the tank is in the range of 5 degrees Celsius or higher and 39 degrees Celsius or lower. The water treatment apparatus according to any one of claims 13 to 16, wherein the water treatment apparatus is set inside. 前記溶液製造部は、前記固形物を前記真水と混合する混合部と、該混合部の下流に配置し、前記固形物の前記真水への溶解を促進する溶解促進部とを具備しており、
前記溶解促進部は、前記固形物と前記真水の混合物及び/又は前記塩素系殺菌剤が移動し循環する循環配管経路を具備しており、
前記循環配管経路は、ポンプと、該ポンプの出側と接続する第一の配管経路と、該第一の配管経路の出側と接続する固液分離装置と、該固液分離装置と前記ポンプの入側とを接続する第二の配管経路と、該第二の配管経路と前記混合部とが接続する接続部とを具備しており、
前記殺菌剤注入部は、前記固液分離装置が排出する前記塩素系殺菌剤を、船舶のバラストに用いる水として船外から導入された水に注入するように構成されており、
前記固液分離装置が排出する前記塩素系殺菌剤の温度又は前記固液分離装置内の温度が、摂氏5度以上、摂氏39度以下になるように、前記水供給部における前記真水の温度が設定されている、
ことを特徴とする請求項13乃至16のいずれか1項に記載の水処理装置。
The solution production section comprises a mixing section for mixing the solid matter with the fresh water, and a dissolution promoting section arranged downstream of the mixing section for promoting dissolution of the solid matter in the fresh water,
The dissolution promoting unit comprises a circulation pipe path through which the mixture of the solid matter and the fresh water and/or the chlorine-based germicide moves and circulates,
The circulation piping path is a pump, a first piping path connected to the outlet side of the pump, a solid-liquid separator connected to the outlet side of the first piping path, the solid-liquid separator and the pump. A second pipe path connecting the inlet side of the, and a connecting portion connecting the second pipe path and the mixing portion,
The sterilizing agent injecting unit is configured to inject the chlorine-based sterilizing agent discharged by the solid-liquid separator into water introduced from outside as water used for ballast of a ship,
The temperature of the fresh water in the water supply unit is adjusted so that the temperature of the chlorine-based bactericide discharged by the solid-liquid separator or the temperature in the solid-liquid separator is 5 degrees Celsius or higher and 39 degrees Celsius or lower. Is set,
The water treatment device according to any one of claims 13 to 16, characterized in that.
前記ホッパーが設置されている場所の温度が、摂氏39度以下に予め設定されている基準温度を超えたとき、前記ホッパー内の温度が下がるように構成されている、ことを特徴とする請求項13及至15のいずれか1項に記載の水処理装置。   When the temperature of the place where the hopper is installed exceeds a reference temperature preset to 39 degrees Celsius or less, the temperature inside the hopper is configured to decrease. The water treatment device according to any one of 13 to 15. 前記ホッパーが設置されている場所の温度が、摂氏0度以上に予め設定されている基準温度を下回ったとき、前記真水の温度が上がるように構成されている、ことを特徴とする請求項16に記載の水処理装置。   17. The temperature of the fresh water rises when the temperature of the place where the hopper is installed falls below a preset reference temperature of 0 degrees Celsius or higher. The water treatment device described in 1. 前記固液分離装置が排出する前記塩素系殺菌剤の温度又は前記固液分離装置内の温度が、摂氏39度以下に予め設定されている基準温度を超えたとき、前記水供給部における前記真水の温度及び/又は前記ホッパー内の温度が下がるように構成されている、ことを特徴とする請求項19に記載の水処理装置。   When the temperature of the chlorine-based bactericide discharged by the solid-liquid separator or the temperature in the solid-liquid separator exceeds a reference temperature preset to 39 degrees Celsius or less, the fresh water in the water supply unit 20. The water treatment device according to claim 19, wherein the temperature of and/or the temperature in the hopper is decreased. 前記溶液製造部における前記塩素系殺菌剤の製造中及びその製造終了後少なくとも一定期間、前記ホッパー内の温度が摂氏39度以下に設定されている、ことを特徴とする請求項13及至15のいずれか1項に記載の水処理装置。   16. The temperature in the hopper is set to 39 degrees Celsius or lower during the production of the chlorine-based bactericide in the solution production unit and at least for a certain period after the production is completed, wherein the temperature is set to 39 degrees Celsius or less. The water treatment device according to item 1. 前記殺菌剤注入部における前記船舶のバラストに用いる水として導入された水への前記塩素系殺菌剤の注入中及びその注入の終了後少なくとも一定期間、前記ホッパー内の温度が摂氏39度以下になるように設定されている、ことを特徴とする請求項13及至15のいずれか1項に記載の水処理装置。   During the injection of the chlorine-based disinfectant into the water introduced as water used for ballast of the ship in the disinfectant injection unit, and at least for a certain period after the end of the injection, the temperature in the hopper becomes 39 degrees Celsius or less. The water treatment apparatus according to any one of claims 13 to 15, wherein the water treatment apparatus is set as follows. 前記ホッパーの周囲を冷却又は加熱する温度調節装置を備えている、ことを特徴とする請求項13及至15のいずれか1項に記載の水処理装置。   The water treatment device according to any one of claims 13 to 15, further comprising a temperature control device that cools or heats the periphery of the hopper. 前記温度調節装置は、前記ホッパーが設置されている場所の空気調和を行うための空気調和装置を更に備えている、ことを特徴とする請求項25に記載の水処理装置。   26. The water treatment device according to claim 25, wherein the temperature control device further includes an air conditioning device for performing air conditioning of a place where the hopper is installed. 前記ホッパーの周囲に断熱材が取り付けられている、ことを特徴とする請求項13及至15のいずれか1項に記載の水処理装置。   16. A water treatment apparatus according to claim 13, wherein a heat insulating material is attached around the hopper. 前記溶解製造部は、断熱材により囲われた空間内に設置されている、ことを特徴とする請求項17乃至19のいずれか1項に記載の水処理装置。   20. The water treatment device according to claim 17, wherein the dissolution manufacturing unit is installed in a space surrounded by a heat insulating material. 前記殺菌剤注入部における前記船舶のバラストに用いる水として導入された水への前記塩素系殺菌剤の注入の終了前に前記塩素化イソシアヌル酸化合物の固形物と前記真水の混合物と接触していた前記溶液製造部の表面の少なくとも一部が、その注入中及びその注入の終了後あるいはその注入の終了後、前記水供給部から供給される前記真水と接触するように構成されている、ことを特徴とする請求項13及至15のいずれか1項に記載の水処理装置。   Before the end of the injection of the chlorine-based disinfectant to the water introduced as water used for the ballast of the ship in the disinfectant injection section was in contact with the mixture of solid chlorinated isocyanuric acid compound and fresh water At least a part of the surface of the solution production unit is configured to come into contact with the fresh water supplied from the water supply unit during the injection and after the injection is completed or after the injection is completed. The water treatment device according to any one of claims 13 to 15, which is characterized. 前記殺菌剤注入部における前記船舶のバラストに用いる水として導入された水への注入に使用されずに残留した前記塩素系殺菌剤又は前記塩素系殺菌剤の製造に使用されずに残留した、前記塩素化イソシアヌル酸化合物の固形物と前記真水の混合物を、貯蔵する残留物貯蔵用タンクを更に備えている、ことを特徴とする請求項13及至15のいずれか1項に記載の水処理装置。   The chlorine-based disinfectant that was not used for injection into water that was introduced as water used for ballast of the ship in the disinfectant-injection section, or remained without being used for the production of the chlorine-based disinfectant, The water treatment device according to any one of claims 13 to 15, further comprising a residue storage tank that stores a mixture of a solid substance of a chlorinated isocyanuric acid compound and the fresh water. 前記ホッパー内から前記溶液製造部に供給される前記固形物の移動経路内に、前記固形物の移動方向に沿って移動する気体を供給する気体供給装置を備えている、ことを特徴とする特徴とする請求項13及至15のいずれか1項に記載の水処理装置。   A gas supply device for supplying a gas moving along the moving direction of the solid material is provided in a moving path of the solid material supplied from the hopper to the solution manufacturing unit. The water treatment device according to any one of claims 13 to 15. 前記ホッパーから溶液製造部に原料固形物が供給されていないとき、前記ホッパー内から前記溶液製造部に供給される前記固形物の移動経路を遮断する機構を備えている、ことを特徴とする請求項13及至15のいずれか1項に記載の水処理装置。   When the raw material solids are not supplied from the hopper to the solution manufacturing unit, a mechanism is provided for blocking a moving path of the solids supplied from the hopper to the solution manufacturing unit. Item 16. The water treatment device according to any one of items 13 to 15. 前記ホッパーは、少なくとも、その胴体側面を複数個の断熱パネルで囲われている、ことを特徴とする請求項13及至15のいずれか1項に記載の水処理装置。   The water treatment device according to any one of claims 13 to 15, wherein at least the side surface of the body of the hopper is surrounded by a plurality of heat insulation panels.
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Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2315117A1 (en) * 1972-03-30 1973-10-11 Fmc Corp Alkali dichlorocyanurate stabilisation - with cyanuric acid or cyanurates and inorg salts
JPS52127483A (en) * 1976-04-16 1977-10-26 Azote & Prod Chim Solid composites of chlorineegiving substances
JPS5874130A (en) * 1981-10-29 1983-05-04 Babcock Hitachi Kk Producing and feeding device for solid-liquid mixed fluid
JPH0394938U (en) * 1990-01-12 1991-09-27
JP2005112746A (en) * 2003-10-06 2005-04-28 Shikoku Chem Corp Chlorinated isocyanuric acid storage stabilizer and chlorinated isocyanuric acid composition
JP2006297314A (en) * 2005-04-22 2006-11-02 Kubota Corp Chlorine dioxide generator control method and chlorine dioxide generator
JP2011092898A (en) * 2009-10-30 2011-05-12 Jfe Engineering Corp Ballast water treatment apparatus
JP2013039516A (en) * 2011-08-12 2013-02-28 Panasonic Corp Ballast water treatment system and ballast water treatment method
WO2014007171A1 (en) * 2012-07-03 2014-01-09 Jfeエンジニアリング株式会社 Powder/liquid mixing and dissolving device and ballast water treatment apparatus using same
JP2015140055A (en) * 2014-01-28 2015-08-03 三井造船株式会社 Temperature maintenance method of object, temperature maintenance method of object in engine room of ship, and ship
JP2015167937A (en) * 2014-03-10 2015-09-28 栗田工業株式会社 Apparatus and method for treating ballast water

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2315117A1 (en) * 1972-03-30 1973-10-11 Fmc Corp Alkali dichlorocyanurate stabilisation - with cyanuric acid or cyanurates and inorg salts
JPS52127483A (en) * 1976-04-16 1977-10-26 Azote & Prod Chim Solid composites of chlorineegiving substances
JPS5874130A (en) * 1981-10-29 1983-05-04 Babcock Hitachi Kk Producing and feeding device for solid-liquid mixed fluid
JPH0394938U (en) * 1990-01-12 1991-09-27
JP2005112746A (en) * 2003-10-06 2005-04-28 Shikoku Chem Corp Chlorinated isocyanuric acid storage stabilizer and chlorinated isocyanuric acid composition
JP2006297314A (en) * 2005-04-22 2006-11-02 Kubota Corp Chlorine dioxide generator control method and chlorine dioxide generator
JP2011092898A (en) * 2009-10-30 2011-05-12 Jfe Engineering Corp Ballast water treatment apparatus
JP2013039516A (en) * 2011-08-12 2013-02-28 Panasonic Corp Ballast water treatment system and ballast water treatment method
WO2014007171A1 (en) * 2012-07-03 2014-01-09 Jfeエンジニアリング株式会社 Powder/liquid mixing and dissolving device and ballast water treatment apparatus using same
JP2015140055A (en) * 2014-01-28 2015-08-03 三井造船株式会社 Temperature maintenance method of object, temperature maintenance method of object in engine room of ship, and ship
JP2015167937A (en) * 2014-03-10 2015-09-28 栗田工業株式会社 Apparatus and method for treating ballast water

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