JP2020077733A - 固体撮像素子用カラーフィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、並びにインプリントモールド - Google Patents

Abstract

【課題】微細な画素であっても、高い集光効率持つとともに、個々の着色画素に対応して複数の光電変換素子に入射する光の色のバランスが悪くなり固体撮像素子の全体で色むらが生じることを抑制する固体撮像素子用カラーフィルタ及びその製造方法を提供する。【解決手段】複数の光電変換素子を備えた半導体基板上に複数の着色画素が設けられ、半導体基板上に、半球状の凸状に形成された複数のマイクロレンズと、半球状の凸状に形成された複数の着色画素と、をこの順に備える固体撮像素子用カラーフィルタとし、半導体基板上に塗布した着色画素用レジストを、インプリントモールドを用いて半球状の凸形状に型押し、硬化した後、ドライエッチングを行う工程を繰り返すことで、各色の着色画素を形成する固体撮像素子用カラーフィルタの製造方法とする。【選択図】図１

Description

本発明は、Ｃ−ＭＯＳやＣＣＤ等の受光素子に代表される固体撮像素子に用いられるカラーフィルタ及びその製造方法、該カラーフィルタを備える固体撮像素子、並びに該カラーフィルタの製造に用いるインプリントモールドに関する。

固体撮像素子にはフルカラー撮像のためにカラーフィルタと呼ばれる着色層が形成されている。カラーフィルタの作製方法としては、印刷法、電着法、顔料分散法などが知られているが、このうち顔料分散法は顔料を種々の感光性組成物に分散させ着色画素用レジストとし、フォトリソグラフィ法によってカラーフィルタを作製する方法である。顔料分散法は顔料を使用しているため耐熱性、耐光性に優れ、広く利用されてきた。

着色層としては、一般的に光の三原色である赤色、緑色、青色の三色を用いるが、必要に応じて補色である黄色、シアン色、マゼンタ色、及び緑色の着色画素を組み合わせる。

従来の固体撮像素子用カラーフィルタでは、複数の光電変換素子が設けられた半導体基板上に、フォトリソグラフィ法を使用して、複数の光電変換素子に対応した、相互に隣接して隙間のない複数色の着色画素が形成されてカラーフィルタを構成している。各着色画素は、数μｍの厚さを有している。

近年、固体撮像素子の高画素化と微細化が進んでおり、一千万画素を超えるようになっている。さらに、このような高画素化と微細化の進展に伴い、各画素において各画素を動作させるための種々の配線や電子回路が占める面積の割合が増加している。その結果、現在各画素において実際に光電変換素子が受光するために利用することができる面積の割合（開口率）は２０〜４０％程度である。このことは、固体撮像素子の光感度が低下することを意味している。

固体撮像素子の集光効率を高め、光感度を向上させるために、各光電変換素子に対応して、カラーフィルタの各着色画素上にマイクロレンズを配置することが開示されている（特許文献１、特許文献２、特許文献３、特許文献４）。

図８は、従来の固体撮像素子用カラーフィルタ７０の製造方法に係る、製造工程を工程順に例示する模式断面図である。

まず、図８（ａ）のように、光電変換素子１２を備えた半導体基板１１上に着色画素用レジスト塗布膜７４Ｒｒを形成する。尚、色は赤色、緑色、青色、または黄色、シアン色、マゼンタ色及び緑色の組み合わせの内の１色が考えられるが、本例では赤色画素用レジスト塗布膜７４Ｒｒとする。

次に、図８（ｂ）のように、赤色画素用レジスト塗布膜７４Ｒｒをフォトリソグラフィ法によりパターニングし、図８（ｃ）のように、赤色画素７４Ｒを形成する。

さらに、上記の方法を残りの色にも繰り返し、図８（ｄ）のようなＲＧＢ（またはＣＭＹＧ）の色を組み合わせたカラーフィルタ７０ｐをする。

次に、図８（ｅ）のように、カラーフィルタ７０ｐ上に、平坦化層７５を形成後、集光
効率を高めるためのマイクロレンズ７３を形成して、固体撮像素子用カラーフィルタ７０が得られる。

しかしながら、マイクロレンズ７３を配置したとしても、マイクロレンズ７３と光電変換素子１２との距離が大きいと、入射光を効率よく集光できない。例えば、画素サイズが１．５μｍ、マイクロレンズ７３から光電変換素子１２までの距離が５μｍとすれば、カメラレンズからマイクロレンズ７３に入射する光が２０°の角度を持っていたとしても、マイクロレンズ７３から光電変換素子１２には１０°程度の角度の範囲の光しか取り込むことができず、集光効率が悪くなって固体撮像素子の感度の低下につながる。

一方で、着色された半球形状のマイクロレンズをカラーフィルタとして併用することが特許文献５に開示されている。

すなわち、図３に示すように、感光性着色レジストにて、側面を有する着色画素とマイクロレンズを一体化した形状のマイクロレンズ機能付き着色画素３４Ｒ、３４Ｇ、３４Ｂを有する固体撮像素子用カラーフィルタ３０とする。この技術によれば、マイクロレンズに通常使用する透明性樹脂を削減することができる。

しかしながら、前記のマイクロレンズ一体型固体撮像素子用カラーフィルタでは、マイクロレンズの中央部と周辺部とではマイクロレンズに入射後の光の光路長に差異が生じる。カラーフィルタ中を通過する光路長が異なると、各光路を通過する光の分光特性に差異が生じ、その結果、マイクロレンズの中央部と周辺部とを通過する光の着色に差異が発生する。

言い換えれば、マイクロレンズ一体型固体撮像素子用カラーフィルタは、従来からのマイクロレンズ別付き固体撮像素子用カラーフィルタに比べて、集光効率が色毎に異なるようになるため、個々の着色画素に対応して複数の光電変換素子に入射する光の色のバランスが悪くなり、固体撮像素子の全体として色むらを発生しやすくなる。

また、図３のようなマイクロレンズ一体型固体撮像素子用カラーフィルタ３０の着色画素３４Ｒ、３４Ｇ、３４Ｂを形成するために、階調性を有するハーフトーンマスクをパターン露光用マスクとして使用するフォトリソグラフィ法が用いられている。

すなわち、光電変換素子の中心を中心にして、大きな円形の透過部である開口形成部位と、該開口形成部位に対して複数の同心円状に階調（グレースケール）を順次変化させる階調変化部位とを有するハーフトーンマスクを用いるものである。

階調性を有するハーフトーンマスクに光を照射すると、マスクに形成した各階調に応じてマスクを通過する光の量は変化する。そのため、ハーフトーンマスクを用いて着色画素用レジストにパターン露光、現像を行なえば、断面視で凸状となった半球形状のレンズ形状を有する着色画素が得られる。

しかしながら、前記のハーフトーンマスクを用いて露光形成した半球形状では、近年の１μｍ前後の微細な画素パターンを得ることが困難であった。

特開昭５９−１２２１９３号公報 特開昭６０−３８９８９号公報 特開昭６０−５３０７３号公報 特開２００５−２９４４６７号公報 特開２００７−２８１０１６号公報

本発明は、上記の問題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、微細な画素であっても、高い集光効率持つとともに、個々の着色画素に対応して複数の光電変換素子に入射する光の色のバランスが悪くなり固体撮像素子の全体として色むらが生じることを抑制する固体撮像素子用カラーフィルタ、及び該カラーフィルタを備える固体撮像素子を提供することである。

本発明のもう１つの目的は、ハーフトーンマスクを用いることなく、微細な着色画素パターンが得られる高精細な固体撮像素子用カラーフィルタの製造方法、及び該カラーフィルタの製造に用いるインプリントモールドを提供することである。

上記の課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、複数の光電変換素子を備えた半導体基板上に複数の着色画素が設けられた固体撮像素子用カラーフィルタであって、
前記半導体基板上に、半球状の凸状に形成された複数のマイクロレンズと、半球状の凸状に形成された複数の前記着色画素と、をこの順に備える、ことを特徴とする固体撮像素子用カラーフィルタとしたものである。

請求項２に記載の発明は、複数の光電変換素子を備えた半導体基板上に複数の着色画素が設けられた固体撮像素子用カラーフィルタの製造方法であって、
前記半導体基板上に塗布した着色画素用レジストを、インプリントモールドを用いて半球状の凸形状に型押し、硬化した後、ドライエッチングを行う工程を繰り返すことで、各色の着色画素を形成する、ことを特徴とする固体撮像素子用カラーフィルタの製造方法としたものである。

請求項３に記載の発明は、請求項１に記載の固体撮像素子用カラーフィルタを備える、ことを特徴とする固体撮像素子としたものである。

請求項４に記載の発明は、請求項２に記載の固体撮像素子用カラーフィルタの製造方法に用いるインプリントモールドであって、
前記インプリントモールドの半球状の凹形状の深さが、自工程で形成する前記着色画素部、または前工程で形成した前記着色画素部と自工程で形成する前記着色画素部、の深さが、後工程で形成する前記着色画素部の深さよりも深い、
ことを特徴とするインプリントモールドとしたものである。

本発明によれば、微細な画素であっても、高い集光効率持つとともに、個々の着色画素に対応して複数の光電変換素子に入射する光の色のバランスが悪くなり固体撮像素子の全体として色むらが生じることを抑制する固体撮像素子用カラーフィルタが得られる。また、ハーフトーンマスクを用いることなく、微細な着色画素パターンが得られる高精細な固体撮像素子用カラーフィルタの製造方法が得られる。

本発明に係る、（ａ）固体撮像素子用カラーフィルタの構成、（ｂ）（ａ）にさらにオーバーコート層を備える構成を例示する模式断面図である。 本発明に係る、固体撮像素子用カラーフィルタにおいて集光効率が向上する理由を説明するための模式断面図である。 半球状の凸状に形成された複数の着色画素を備える固体撮像素子用カラーフィルタの構成を例示する模式断面図である。 本発明の固体撮像素子用カラーフィルタの製造方法に係る、製造工程の一部を工程順に例示する模式断面図である。 図４に続く、製造工程の一部を工程順に例示する模式断面図である。 図５に続く、製造工程の一部を工程順に例示する模式断面図である。 （ａ）、（ｂ）本発明に係るインプリントモールドを例示する模式断面図、（ｃ）通常型のインプリントモールドを例示する模式断面図である。 従来の固体撮像素子用カラーフィルタの製造方法に係る、製造工程を工程順に例示する模式断面図である。

以下、本発明の実施形態に係る固体撮像素子用カラーフィルタ及びその製造方法、インプリントモールドについて図面を用いて説明する。同一の構成要素については便宜上の理由がない限り同一の符号を付ける。各図面において、見易さのため構成要素の厚さや比率は誇張されていることがあり、構成要素の数も減らして図示している。また、本発明は以下の実施形態そのままに限定されるものではなく、主旨を逸脱しない限りにおいて、適宜の組み合わせ、変形によって具体化できる。

［固体撮像素子用カラーフィルタ］
図１（ａ）は、本発明に係る固体撮像素子用カラーフィルタの構成の第１例であり、基本構成を示す模式断面図である。第１例の固体撮像素子用カラーフィルタ１０は、複数の光電変換素子１２を備えた半導体基板１１上に、半球状の凸状に形成された複数のマイクロレンズ１３を備え、さらに個々のマイクロレンズ１３上に、半球状の凸状に形成された複数の着色画素１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂをこの順に備えている。尚、本例では赤色、緑色、青色用の着色画素を示すが、必要に応じて補色である黄色、シアン色、マゼンタ色、及び緑色であってもよい。

図１（ｂ）は、本発明に係る固体撮像素子用カラーフィルタの構成の第２例を示す模式断面図である。第２例の固体撮像素子用カラーフィルタ２０は、図１（ａ）の第１例の固体撮像素子用カラーフィルタ１０の着色画素１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂの上に、さらにオーバーコート層１５を備えている。オーバーコート層１５は、透明性樹脂または透明性の無機膜からなり、固体撮像素子用カラーフィルタの表面を平坦化し、着色画素１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂを保護する機能を有する。また、着色画素１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂでの表面反射を低減させるよう、着色画素１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂよりも屈折率の小さい材料とすることが好ましい。

図２は、本発明に係る、固体撮像素子用カラーフィルタにおいて集光効率が向上する理由を説明するための模式断面図である。記号Ｋｃｍは着色画素１４とマイクロレンズ１３との界面を表わし、記号Ｎｃｍは、界面Ｋｃｍ上の頂点以外の任意の１点を通る、界面Ｋｃｍの法線を表わしている。

ここで、前記任意の１点を入射点とする光線（矢印の線Ｌ１、Ｌ２）の軌跡を考える。着色画素１４の屈折率をｎｃ、マイクロレンズ１３の屈折率をｎｍ、光線Ｌ１の入射角をθｃ、光線Ｌ２の出射角（屈折角）をθｍとすると、スネルの法則により、
ｎｃ・Ｓｉｎ（θｃ）＝ｎｍ・Ｓｉｎ（θｍ） ・・・・・（１）
である。通常、着色画素１４の屈折率は、透明性のマイクロレンズ１３の屈折率よりも大きい（ｎｃ＞ｎｍ）ので、θｃ＜θｍとなり、出射光線Ｌ２は入射光線Ｌ１よりも、より水平に近い低角（Ｘ軸とのなす角が小さい）から光電変換素子１２に入射する。

一方で、図３のような従来型のマイクロレンズ一体型固体撮像素子用カラーフィルタ３０においては、着色画素（兼レンズ）３４Ｒ、３４Ｇ、３４Ｂの表面で屈折した光の一部が光電変換素子１２に入射するのみであり、その入射角はより垂直に近くなる。また、レンズ表面から光電変換素子１２までの距離は、本発明（図２）の最終屈折点である、レンズ１３の表面からの距離よりも長い。

上記の、従来型のマイクロレンズ一体型固体撮像素子用カラーフィルタと本発明の固体撮像素子用カラーフィルタとの違いは、マイクロレンズの頂点以外の側面全般にわたって共通している。従って、画素サイズの一層の微細化に伴い、光電変換素子１２が微細化しても、本発明の固体撮像素子用カラーフィルタでは、光電変換素子１２への入射光が光電変換素子１２の中心部に集まり易くなり、それ故に集光効率が従来型よりも向上する。それとともに、より低角からから光電変換素子１２に入射するので、混色を回避できる効果も向上する。

加えて、従来型のマイクロレンズ一体型固体撮像素子用カラーフィルタでは、着色画素３４Ｒ、３４Ｇ、３４Ｂのみで色フィルター機能とマイクロレンズ機能とを兼用していたので、マイクロレンズの中央部と周辺部とではマイクロレンズに入射後の光の光路長に差異が生じ、ひいては、個々の着色画素に対応して複数の光電変換素子に入射する光の色のバランスが悪くなり、固体撮像素子の全体として色むらを発生しやすくなっていた。

これに対し、本発明の固体撮像素子用カラーフィルタ（図１）では、色フィルター機能は着色画素１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂで独立しているので、着色画素中の光路長はマイクロレンズ形状であってもの中央部と周辺部とで大きな差がない。仮に分光特性に差異が生じ、集光効率が色毎に差異が発生しても、別のパラメータであるマイクロレンズ１３と組み合わせて調整することができる。従って、複数の光電変換素子に入射する光の色のバランスが悪くなり、固体撮像素子の全体として色むらが発生することを抑制できる。

［固体撮像素子用カラーフィルタの製造方法］
図４〜図６は、本発明の固体撮像素子用カラーフィルタの製造方法に係る、製造工程を工程順に例示する模式断面図である。本発明の固体撮像素子用カラーフィルタの製造方法では、光インプリント法により着色画素を形成する。（光インプリント法については、例えば、文献１：光技術コンタクト、Ｖｏｌ．４３、Ｎｏ．１１（２００５）、Ｐ２４参照）。

まず、複数の光電変換素子を備える、Ｓｉなどの半導体基板１１を準備し、該半導体基板１１上にマイクロレンズ１３を形成する。マイクロレンズ１３を形成する方法は、公知の方法でよく、例えば特開昭６０−５３０７３号公報、特開平１−１０６６６号公報などに比較的詳細に示されている。レンズを丸く半球状に形成する技術として熱フローによる樹脂の熱流動性（熱フロー）を用いた技術、あるいは、いくつかのエッチング技術によりレンズを加工する技術も詳細に開示されている。

次に、図４（ａ）のように、マイクロレンズ１３を形成したＳｉなどの半導体基板１１（ここでは半導体基板１１中の光電変換素子の図示を省略する）上に、着色画素用レジストを塗布（ここでは赤色画素用レジスト塗布膜１４Ｒｒ）した後、本発明のインプリントモールド４０を接近させ、接型する。

次に、図４（ｂ）のように、紫外線等を照射して、赤色画素用レジスト塗布膜１４Ｒｒを硬化処理し、赤色画素用レジストパターン１４Ｒｐと、赤色画素用レジスト残存部１４Ｒｄとを形成した後、図４（ｃ）のように、本発明のインプリントモールド４０を離型す
る。

最後に、前記の赤色画素用レジストパターン１４Ｒｐと、赤色画素用レジスト残存部１４Ｒｄとのドライエッチングを行い、赤色画素用レジスト残存部を除去（符号１４Ｒｄ’）するとともに、赤色画素１４Ｒを形成する。ドライエッチングは、酸素を含むプラズマを用い、赤色画素用レジストパターン１４Ｒｐの形状が継続されるように、エッチング領域に自己バイアス電圧がかかり、直進性がよいイオンを主体とする方式が望ましい。

図５では、図４と同様の工程を行い、緑色画素１４Ｇを形成する。図４と異なるところは、すでに赤色画素１４Ｒは形成済みであるので、インプリントモールド５０の形状がインプリントモールド４０とは異なる点のみである。これについては、図７で説明する。

図６では、図４、図５と同様の工程を行い、青色画素１４Ｂを形成し、図１（ａ）の形状の固体撮像素子用カラーフィルタ１０が作製される。図４、図５と異なるところは、すでに赤色画素１４Ｒ、緑色画素１４Ｇは形成済みであるので、インプリントモールド６０の形状がインプリントモールド４０、５０とは異なる点のみである。これについては、図７で説明する。

図１（ｂ）の形状の固体撮像素子用カラーフィルタ２０は、上記の固体撮像素子用カラーフィルタ１０の作製後、さらに公知のコーティング法により透明性樹脂、または蒸着法やスパッタリング法により透明性の無機膜からなるオーバーコート層１５を形成して作製する。

このように、本発明の固体撮像素子用カラーフィルタの製造方法では、ハーフトーンマスクを用いることなく、半球状の凸状の着色画素の形成に、半導体素子製造分野でｎｍオーダーの性能を有するインプリント法とドライエッチング法を用いるので、半球状の凸状のマイクロレンズ上であっても、微細な着色画素パターンが得られ、高精細な固体撮像素子用カラーフィルタを製造することができる。

［固体撮像素子］
本発明の固体撮像素子は、本発明の固体撮像素子用カラーフィルタを備えることを特徴とする。上記で説明した本発明の固体撮像素子用カラーフィルタの各要素の他に、混色をより強固に防止するために、半球状の各マイクロレンズの境界領域の下に遮光膜パターン、また、半球状の各着色画素や各マイクロレンズの境界領域に遮光性の隔壁を備えていてもよい。

［インプリントモールド］
図７（ａ）、（ｂ）は、本発明に係るインプリントモールドを例示する模式断面図、図７（ｃ）はいわば通常型のインプリントモールドを例示する模式断面図であり、図４〜図６の本発明の固体撮像素子用カラーフィルタの製造で用いたモールドを例示している。

本発明のインプリントモールドは、本発明の固体撮像素子用カラーフィルタの製造において、インプリントモールドの半球状の凹形状の深さが、自工程で形成する着色画素部、または前工程で形成した着色画素部と自工程で形成する着色画素部、の深さが、後工程で形成する着色画素部の深さよりも深い、ことを特徴としている。

具体的には、図７（ａ）のインプリントモールド４０は赤色画素１４Ｒを形成するためのインプリントモールドであるので、赤色画素用レジストパターン１４Ｒｐ（図４参照）を形成する部分の深さｄ１ｒが、レジスト残存部１４Ｒｄを形成する部分の深さｄ１ｇ、ｄ１ｂよりも深くなっている。

図７（ｂ）のインプリントモールド５０は緑色画素１４Ｇを形成するためのインプリントモールドであるので、緑色画素用レジストパターン１４Ｇｐ（図５参照）を形成する部分の深さｄ２ｇ、及び既に形成済みの赤色画素１４Ｒ上にレジスト残存部１４Ｇｄを形成する部分の深さｄ２ｒが、後工程で青色画素１４Ｂを形成する部分にレジスト残存部１４Ｇｄを形成する部分の深さｄ２ｂよりも深くなっている。

図７（ｃ）のインプリントモールド６０は青色画素１４Ｂを形成するためのインプリントモールドであり、赤色画素１４Ｒ及び緑色画素１４Ｇは既に形成済みであるので、青色画素用レジストパターン１４Ｂｐ（図６参照）を形成する部分の深さｄ３ｂは、形成済みの赤色画素１４Ｒ及び緑色画素１４Ｇ上にレジスト残存部１４Ｂｄを形成する部分の深さｄ３ｒ、ｄ３ｇと等しくなっている。

１０、２０・・・本発明の固体撮像素子用カラーフィルタ
３０・・・・・・半球状の凸状着色画素を備える固体撮像素子用カラーフィルタ
４０・・・・・・本発明のインプリントモールド（１色目着色画素形成用）
５０・・・・・・本発明のインプリントモールド（２色目着色画素形成用）
６０・・・・・・通常型のインプリントモールド（最後の着色画素形成用）
１１・・・・・・半導体基板
１２・・・・・・光電変換素子
１３・・・・・・マイクロレンズ
１４・・・・・・着色画素
１４Ｒ、３４Ｒ・・・・赤色画素
１４Ｒｒ・・・・・・赤色画素用レジスト塗布膜
１４Ｒｐ・・・・・・赤色画素用レジストパターン（ドライエッチング前）
１４Ｒｄ・・・・・・赤色画素用レジスト残存部
１４Ｒｄ’・・・・・赤色画素用レジスト残存部の除去された部分
１４Ｇ、３４Ｇ・・・・緑色画素
１４Ｇｒ・・・・・・緑色画素用レジスト塗布膜
１４Ｇｐ・・・・・・緑色画素用レジストパターン（ドライエッチング前）
１４Ｇｄ・・・・・・緑色画素用レジスト残存部
１４Ｇｄ’・・・・・緑色画素用レジスト残存部の除去された部分
１４Ｂ、３４Ｂ・・・・青色画素
１４Ｂｒ・・・・・・青色画素用レジスト塗布膜
１４Ｂｐ・・・・・・青色画素用レジストパターン（ドライエッチング前）
１４Ｂｄ・・・・・・青色画素用レジスト残存部
１４Ｂｄ’・・・・・青色画素用レジスト残存部の除去された部分
１５・・・・・・オーバーコート層
７０・・・・・・従来の固体撮像素子用カラーフィルタ
７０ｐ・・・・従来のカラーフィルタ（マイクロレンズ形成前）
７３・・・・・・マイクロレンズ
７４Ｒ・・・・・・・赤色画素
７４Ｒｒ・・・・・・赤色画素用レジスト塗布膜
７４Ｇ・・・・・・・緑色画素
７４Ｂ・・・・・・・青色画素
７５・・・・・・・・平坦化層
８０・・・・・・フォトマスク
８１・・・・・・透光部
８２・・・・・・遮光部

Claims (4)

1. 複数の光電変換素子を備えた半導体基板上に複数の着色画素が設けられた固体撮像素子用カラーフィルタであって、
   前記半導体基板上に、半球状の凸状に形成された複数のマイクロレンズと、半球状の凸状に形成された複数の前記着色画素と、をこの順に備える、
   ことを特徴とする固体撮像素子用カラーフィルタ。
2. 複数の光電変換素子を備えた半導体基板上に複数の着色画素が設けられた固体撮像素子用カラーフィルタの製造方法であって、
   前記半導体基板上に塗布した着色画素用レジストを、インプリントモールドを用いて半球状の凸形状に型押し、硬化した後、ドライエッチングを行う工程を繰り返すことで、各色の着色画素を形成する、
   ことを特徴とする固体撮像素子用カラーフィルタの製造方法。
3. 請求項１に記載の固体撮像素子用カラーフィルタを備える、
   ことを特徴とする固体撮像素子。
4. 請求項２に記載の固体撮像素子用カラーフィルタの製造方法に用いるインプリントモールドであって、
   前記インプリントモールドの半球状の凹形状の深さが、自工程で形成する前記着色画素部、または前工程で形成した前記着色画素部と自工程で形成する前記着色画素部、の深さが、後工程で形成する前記着色画素部の深さよりも深い、
   ことを特徴とするインプリントモールド。