JP2020063349A - セルロース及び/又はヘミセルロースの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明の目的は、穏和な条件下で木質材料からセルロース及び/又はヘミセルロースを得る方法を提供する。【解決手段】金属錯体と酸化剤とを用いて木質材料を酸化処理し、セルロース及び/又はヘミセルロースを分離取得する、セルロース及び/又はヘミセルロースの製造方法であって、前記金属錯体が、金属と配位子としてのイミド及びアミドからなる群より選択される少なくとも1つの窒素含有化合物とを含み、前記金属が、鉄族金属及び白金族金属からなる群より選択された少なくとも1つであり、前記窒素含有化合物が、電子求引性基を有するスルホニル基及び芳香族基を有するスルホニル基からなる群より選択された少なくとも1つを置換基として含むことを特徴とするセルロース及び/又はヘミセルロースの製造方法。【選択図】なし
Description
本発明は、セルロース及び/又はヘミセルロースの製造方法に関する。
近年、化石燃料の枯渇や環境問題の見地から、再生可能な有機資源である木質系バイオマス資源への関心が高まっている。木質系バイオマスは、主としてセルロース、ヘミセルロース、及びリグニンから構成されており、この中でもセルロース及びヘミセルロースは、繊維、紙、フィルム、食品(機能性食品)等の幅広い分野に利用されている。
木質系バイオマス資源としての木質材料からセルロースを分離取得する方法としては、例えば、木質材料にアルカリ性水溶液を含浸させ、さらに高温下で保持した後、精製する方法等が知られている(特許文献1〜3)。
しかし、上記方法にて用いられるアルカリ性水溶液は、高濃度の強塩基性溶液であるため取り扱いが難しいという問題があり、さらに、これを高温条件とする必要がある点で、より危険が伴うという問題があった。また、得られた反応混合物にもアルカリ性水溶液が含まれているため、その処理についても注意が必要であった。
従って、本発明の目的は、穏和な条件下で木質材料からセルロース及び/又はヘミセルロースを得る方法を提供することにある。
本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討した結果、特定の金属錯体を用いて木質材料を酸化処理することにより、穏和な条件下でセルロース及び/又はヘミセルロースを得ることが可能であることを見出した。本発明はこれらの知見に基づいて完成させたものである。
すなわち、本発明は、金属錯体と酸化剤とを用いて木質材料を酸化処理し、セルロース及び/又はヘミセルロースを分離取得する、セルロース及び/又はヘミセルロースの製造方法であって、
前記金属錯体が、金属と配位子としてのイミド及びアミドからなる群より選択される少なくとも1つの窒素含有化合物とを含み、
前記金属が、鉄族金属及び白金族金属からなる群より選択された少なくとも1つであり、
前記窒素含有化合物が、電子求引性基を有するスルホニル基及び芳香族基を有するスルホニル基からなる群より選択された少なくとも1つを置換基として含むことを特徴とするセルロース及び/又はヘミセルロースの製造方法を提供する。
前記金属錯体が、金属と配位子としてのイミド及びアミドからなる群より選択される少なくとも1つの窒素含有化合物とを含み、
前記金属が、鉄族金属及び白金族金属からなる群より選択された少なくとも1つであり、
前記窒素含有化合物が、電子求引性基を有するスルホニル基及び芳香族基を有するスルホニル基からなる群より選択された少なくとも1つを置換基として含むことを特徴とするセルロース及び/又はヘミセルロースの製造方法を提供する。
前記酸化剤が、過酸化水素、過酢酸、オゾン、ペルオキシ一硫酸カリウム、t−ブチルハイドロパーオキシド、メタクロロ過安息香酸、酸素、及び空気からなる群より選択される少なくとも1つであることが好ましい。
金属錯体の使用量は、100重量部の木質材料に対し、0.1〜1000重量部であることが好ましい。
酸化剤の使用量は、100重量部の木質材料に対し、0.1〜1000重量部であることが好ましい。
本発明の製造方法は、穏和な条件下で木質材料からセルロース及び/又はヘミセルロースを得ることが可能である。
本発明は、金属錯体と酸化剤とを用いて木質材料を酸化処理し、セルロース及び/又はヘミセルロースを分離取得することを特徴とする、セルロース及び/又はヘミセルロースの製造方法に関する。
木質材料の酸化処理方法としては特に限定されないが、例えば、溶媒の存在下で、原料としての木質材料に、配位子としての窒素含有化合物を含む金属錯体と酸化剤とを加えて撹拌することにより、木質材料を酸化処理に付す方法が挙げられる。前記方法により、木質材料に含まれるセルロース及び/又はヘミセルロース以外の成分が、使用する溶媒に溶け得る成分となることで、セルロース及び/又はヘミセルロースを得ることが可能となる。例えば、木質材料に含まれるリグニン等は酸化分解により水溶性となるため、前記酸化処理において水を溶媒として使用した場合は、水に不溶なセルロース及び/又はヘミセルロースは、例えば、濾過により残渣として容易に分離することが可能となる。
酸化処理後の木質材料からセルロース及び/又はヘミセルロースを分離取得する方法としては特に限定されないが、上述した様な濾過を用いる方法や、遠心分離を用いる方法、静置する方法(静置後に上澄みを除去する方法)、限外濾過により分子量の大小によって分離する方法等の、固体と液体とを分離する方法が例示される。すなわち、酸化処理後の木質材料は、固体状のセルロース及び/又はヘミセルロースと、酸化処理によって溶媒に溶け出した木質材料に由来する成分とを含むため、濾過等を行うことによりセルロース及び/又はヘミセルロースの分離取得が可能となる。
木質材料としては、セルロース及び/又はヘミセルロースを含むものであれば特に限定されないが、例えば、稲わら、麦わら、バガス等の草類、竹、笹、木やこれらの間伐材、おがくず、チップ、端材等の木材加工木屑、街路樹剪定材、木質建築廃材、樹皮、流木等の木質系バイオマス、その他木片、木粉、並びに、古紙等の木質製品からのバイオマスが挙げられる。
木質材料として使用される木(木材)の種類は特に制限されないが、例えば、ブナ、シナ、シラカバ、ポプラ、ユーカリ、アカシア、ナラ、イタヤカエデ、センノキ、ニレ、キリ、ホオノキ、ヤナギ、セン、ウバメガシ、コナラ、クヌギ、トチノキ、ケヤキ、ミズメ、ミズキ、アオダモ等の広葉樹、スギ、アカマツ、エゾマツ、カラマツ、クロマツ、トドマツ、ヒメコマツ、イチイ、ネズコ、ハリモミ、イラモミ、イヌマキ、モミ、サワラ、トガサワラ、アスナロ、ヒバ、ツガ、コメツガ、ヒノキ、イチイ、イヌガヤ、トウヒ、イエローシーダー(ベイヒバ)、ロウソンヒノキ(ベイヒ)、ダグラスファー(ベイマツ)、シトカスプルース(ベイトウヒ)、ラジアータマツ、イースタンスプルース、イースタンホワイトパイン、ウェスタンラーチ、ウェスタンファー、ウェスタンヘムロック、タマラック等の針葉樹が挙げられる。
前記金属錯体は、金属と配位子としてのイミド及びアミドからなる群より選択される少なくとも1つの窒素含有化合物とを含む金属錯体である。前記金属は特に限定されないが、鉄族金属及び白金族金属からなる群より選択された少なくとも1つであることが好ましい。前記窒素含有化合物は特に限定されないが、電子求引性基を有するスルホニル基及び芳香族基を有するスルホニル基からなる群より選択された少なくとも1つを置換基として含むことが好ましい。
前記金属錯体において、鉄族金属は鉄族元素に該当する金属を意味し、鉄、コバルト、ニッケルが挙げられる。白金族金属は白金族元素に該当する金属を意味し、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金が挙げられる。この中でも、酸化活性の観点から、鉄、ルテニウムがより好ましく、鉄が特に好ましい。
前記金属錯体において、配位子としての窒素含有化合物は、例えば、下記式(1)及び(2)で示されるイミド(スルホニルイミド)及びアミド(スルホニルアミド)が挙げられる。
R1−SO2−N−SO2−R2 (1)
R1−SO2−N−R3 (2)
R1−SO2−N−SO2−R2 (1)
R1−SO2−N−R3 (2)
式(1)及び(2)中、R1、R2、及びR3は、同一又は異なって、電子求引性基又は芳香族基を示す。N(窒素原子)は金属(鉄族金属及び白金族金属からなる群より選択された少なくとも1つの金属)に配位する。
電子求引性基としては特に限定されないが、酸化活性の観点からは、ハロゲン又はハロアルキル基であることが好ましく、より好ましくはフッ素原子又はフルオロアルキル基である。
フルオロアルキル基(フッ素原子を置換基として有するアルキル基)における、フッ素原子の数は特に限定されないが、例えば、1〜25であることが好ましく、1〜15であることがより好ましく、1〜6であることがさらに好ましく、1〜3であることが特に好ましく、3であることが最も好ましい。また、アルキル基は直鎖又は分岐鎖状の何れのアルキル基であってもよく、その炭素数は特に限定されないが、例えば、1〜12であることが好ましく、1〜8であることがより好ましく、1〜6であることがさらに好ましく、1〜3であることが特に好ましい。
フルオロアルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロイソプロピル基、ヘキサフルオロイソプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロデシル基、2−(パーフルオロオクチル)エチル基、1H,1H,3H−テトラフルオロプロピル基、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチル基、パーフルオロ−7−メチルオクチル基、4H−オクタフルオロブチル基等が挙げられる。
芳香族基としては特に限定されないが、例えば、水素の一部又は全部がフッ素原子により置換されていてもよいフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、及びアラルキル基等の芳香族基が挙げられるが、酸化活性の観点からは、水素の一部又は全部がフッ素原子により置換されていてもよいフェニル基及びトリル基が好ましい。
前記金属錯体は、イミド及びアミド以外の配位子を含んでいてもよく、前記配位子としては、例えば、カルボキシル基、イソプロポキシ基等のアルコキシ基、ジアルキルアミノ基等のアミノ基、シアノ基、アルキル基、塩素原子等のハロゲン原子が挙げられる。
前記金属錯体は、例えば、金属(例えば、金属粉)や金属化合物とイミド化合物及び/又はアミド化合物とを溶媒中で混合し、必要に応じて加熱することにより得ることができる。溶媒としては特に限定されず、例えば、後述の溶媒等が例示される。
前記金属、及び前記金属化合物における金属は、前記金属錯体における金属にて説明したものと同じものが挙げられる。金属化合物としては、例えば、金属を含む無機塩、有機酸塩、錯体(錯塩)等が挙げられる。無機塩としては、例えば、硝酸塩、硫酸塩、亜硫酸塩、リン酸塩、ホスホン酸塩、過塩素酸塩等の過ハロゲン酸塩、クロム酸塩等の無機酸塩;塩化物、臭化物、ヨウ化物等のハロゲン化物;酸化物;硫化物;窒化物;水酸化物等が挙げられる。有機酸塩としては、例えば、C1-12アルカン酸塩(例えば、酢酸塩、プロピオン酸塩)、ハロC1-4アルカン酸塩(例えば、ジクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸塩、トリブロモ酢酸塩)等のカルボン酸塩;オキシカルボン酸塩;チオシアン酸塩;スルホン酸塩等が挙げられる。
前記イミド化合物及びアミド化合物としては、例えば、下記式(3)で表されるイミド化合物、下記式(4)で表されるアミド化合物が挙げられる。
R1−SO2−NRa−SO2−R2 (3)
R1−SO2−NRa−R3 (4)
R1−SO2−NRa−SO2−R2 (3)
R1−SO2−NRa−R3 (4)
式(3)及び(4)中、R1、R2、及びR3は式(1)及び(2)にて説明したものと同じでる。
Raは、水素、アンモニウムイオン、アルカリ金属原子、及びアルカリ土類金属から選択される少なくとも1つである。アルカリ金属原子としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウムが挙げられる。アルカリ土類金属としては、例えば、マグネシウム、カルシウム等が挙げられる。アルカリ金属原子及びアルカリ土類金属は、前記窒素原子とイオン結合を形成していてもよい。
式(3)で表されるイミド化合物としては、例えば、ビス(フルオロスルホニル)イミド、ナトリウムビス(フルオロスルホニル)イミド、リチウムビス(フルオロスルホニル)イミド、アンモニウムビス(フルオロスルホニル)イミド等のR1及びR2がフッ素原子であるもの;ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、ナトリウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、アンモニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド等のR1及びR2がトリフルオロメチル基であるもの;ビス(ノナフルオロブタンスルホニル)イミド、ナトリウムビス(ノナフルオロブタンスルホニル)イミド、リチウムビス(ノナフルオロブタンスルホニル)イミド、アンモニウムビス(ノナフルオロブタンスルホニル)イミド等のR1及びR2がノナフルオロブチル基であるもの;ノナフルオロ−N−[(トリフルオロメタン)スルホニル]ブタンスルホニルアミド、カリウムノナフルオロ−N−[(トリフルオロメタン)スルホニル]ブタンスルホニルアミド、ナトリウムノナフルオロ−N−[(トリフルオロメタン)スルホニル]ブタンスルホニルアミド、リチウムノナフルオロ−N−[(トリフルオロメタン)スルホニル]ブタンスルホニルアミド、アンモニウムノナフルオロ−N−[(トリフルオロメタン)スルホニル]ブタンスルホニルアミド等のR1がトリフルオロメチル基であり、R2がノナフルオロブチル基であるものが挙げられる。
式(4)で表されるアミド化合物としては、例えば、1,1,1−トリフルオロ−N−フェニルメタンスルホンアミド、1,1,1−トリフルオロ−N−(4−メチルフェニル)メタンスルホンアミド、1,1,1−トリフルオロ−N−(2−メチルフェニル)メタンスルホンアミド、1,1,1−トリフルオロ−N−(2,6−ジメチルフェニル)メタンスルホンアミド、1,1,1−トリフルオロ−N−(3,5−ジメチルフェニル)メタンスルホンアミド、1,1,1−トリフルオロ−N−(2−フルオロフェニル)メタンスルホンアミド、1,1,1−トリフルオロ−N−(3−フルオロフェニル)メタンスルホンアミド、1,1,1−トリフルオロ−N−(4−フルオロフェニル)メタンスルホンアミド、1,1,1−トリフルオロ−N−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]メタンスルホンアミド、1,1,1−トリフルオロ−N−[2−(トリフルオロメチル)フェニル]メタンスルホンアミド等のR1がトリフルオロメチル基であり、R3が芳香族基であるものが挙げられる。
(酸化剤)
酸化剤としては、酸化処理に悪影響を及ぼさない限り特に限定されるものではなく、例えば、ベンゾキノン、アントラキノン、2−(シクロヘキシルスルフィニル)−ベンゾキノン、2−(フェニルスルフィニル)−ベンゾキノン等のキノン類;過酸化水素、過酸化水素水、過酢酸、酸素存在下で過酸化物を発生し得るイソブチルアルデヒド等のアルデヒド類、クメンハイドロパーオキシド、エチルベンゼンハイドロパーオキシド、メタクロロ過安息香酸、t−ブチルハイドロパーオキシド、ヨードシルベンゼン、過ヨウ素酸ナトリウム、過塩素酸ナトリウム、ペルオキシ一硫酸カリウム等の過酸化物;分子状酸素(O2)、原子状酸素等の酸素、及び酸素を含む気体(例えば、空気);オゾン;酸化ルテニウム、酸化アンチモン、酸化ビスマス、酸化セレン、酸化テルル、ポリオキソメタレート、酸化バナジウム、バナジルアセチルアセトナート等のバナジウム含有化合物、二酸化マンガン等の酸化物;亜硝酸メチル、亜硝酸エチル、亜硝酸ブチル、亜硝酸t−ブチル等の亜硝酸エステル類;塩酸、硝酸(濃硝酸、発煙硝酸を含む)、硫酸(濃硫酸、発煙硫酸を含む)、一酸化窒素、一酸化二窒素等が挙げられる。この中でも、触媒としての金属錯体の酸化活性の向上の観点から、過酸化水素、過酢酸、オゾン、ペルオキシ一硫酸カリウム、t−ブチルハイドロパーオキシド、メタクロロ過安息香酸、酸素、空気が好ましい。これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
酸化剤としては、酸化処理に悪影響を及ぼさない限り特に限定されるものではなく、例えば、ベンゾキノン、アントラキノン、2−(シクロヘキシルスルフィニル)−ベンゾキノン、2−(フェニルスルフィニル)−ベンゾキノン等のキノン類;過酸化水素、過酸化水素水、過酢酸、酸素存在下で過酸化物を発生し得るイソブチルアルデヒド等のアルデヒド類、クメンハイドロパーオキシド、エチルベンゼンハイドロパーオキシド、メタクロロ過安息香酸、t−ブチルハイドロパーオキシド、ヨードシルベンゼン、過ヨウ素酸ナトリウム、過塩素酸ナトリウム、ペルオキシ一硫酸カリウム等の過酸化物;分子状酸素(O2)、原子状酸素等の酸素、及び酸素を含む気体(例えば、空気);オゾン;酸化ルテニウム、酸化アンチモン、酸化ビスマス、酸化セレン、酸化テルル、ポリオキソメタレート、酸化バナジウム、バナジルアセチルアセトナート等のバナジウム含有化合物、二酸化マンガン等の酸化物;亜硝酸メチル、亜硝酸エチル、亜硝酸ブチル、亜硝酸t−ブチル等の亜硝酸エステル類;塩酸、硝酸(濃硝酸、発煙硝酸を含む)、硫酸(濃硫酸、発煙硫酸を含む)、一酸化窒素、一酸化二窒素等が挙げられる。この中でも、触媒としての金属錯体の酸化活性の向上の観点から、過酸化水素、過酢酸、オゾン、ペルオキシ一硫酸カリウム、t−ブチルハイドロパーオキシド、メタクロロ過安息香酸、酸素、空気が好ましい。これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
(溶媒)
溶媒は特に限定されないが、例えば、水;トリフルオロトルエン、フルオロベンゼン、フルオロヘキサン等のフッ素系溶媒;芳香族炭化水素(例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン等)や脂肪族炭化水素(例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等)等の炭化水素系溶媒;1,2−ジオキサン、1,3−ジオキサン、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒;エタノール、n−プロパノール、2−プロパノール、n−ブタノール等のアルコール系溶媒;アセトアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等のアミド系溶媒;酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒;アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル系溶媒;塩化メチル、ジクロロメタン、トリクロロメタン(クロロホルム)、1,2−ジクロロエタン、1,1,1−トリクロロエタン、1,1,2−トリクロロエタン、1,1,2−トリクロロエチレン、1−クロロブタン等のハロゲン化炭化水素が挙げられる。この中でも、酸化活性の向上の観点から、水、芳香族炭化水素、エステル系溶媒、ニトリル系溶媒、ハロゲン化炭化水素が好ましく、水、トルエン、酢酸エチル、アセトニトリル、ジクロロメタン、トリクロロメタンが特に好ましい。これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
溶媒は特に限定されないが、例えば、水;トリフルオロトルエン、フルオロベンゼン、フルオロヘキサン等のフッ素系溶媒;芳香族炭化水素(例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン等)や脂肪族炭化水素(例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等)等の炭化水素系溶媒;1,2−ジオキサン、1,3−ジオキサン、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒;エタノール、n−プロパノール、2−プロパノール、n−ブタノール等のアルコール系溶媒;アセトアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等のアミド系溶媒;酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒;アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル系溶媒;塩化メチル、ジクロロメタン、トリクロロメタン(クロロホルム)、1,2−ジクロロエタン、1,1,1−トリクロロエタン、1,1,2−トリクロロエタン、1,1,2−トリクロロエチレン、1−クロロブタン等のハロゲン化炭化水素が挙げられる。この中でも、酸化活性の向上の観点から、水、芳香族炭化水素、エステル系溶媒、ニトリル系溶媒、ハロゲン化炭化水素が好ましく、水、トルエン、酢酸エチル、アセトニトリル、ジクロロメタン、トリクロロメタンが特に好ましい。これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
酸化処理後の木質材料からセルロース及び/又はヘミセルロースを分離取得する方法が、濾過等の固体と液体とを分離する方法である場合は、酸化処理によって溶媒に溶け出す木質材料(セルロース及びヘミセルロース以外の成分)の量が多いことが好ましいことから、溶媒は物性の異なるものを2種以上使用することが望ましい。例えば、水と有機溶媒(例えば、芳香族炭化水素、エステル系溶媒、ニトリル系溶媒、ハロゲン化炭化水素)とを使用することが好ましく、水とエステル系溶媒とを使用することがより好ましい。
溶媒として水を含む場合、溶媒の水素イオン指数(pH)は特に限定されないが、例えば、3.0〜11.0であることが好ましく、より好ましくは4.0〜10.0、さらに好ましくは5.0〜9.0、特に好ましくは6.0〜8.0である。
酸化処理における温度(反応温度)は特に限定されないが、例えば、0〜80℃、好ましくは10〜50℃、特に好ましくは15〜35℃、最も好ましくは室温(25℃程度)である。また、反応時間は、反応温度及び圧力に応じて適宜調整することができ、例えば、1〜120時間程度、好ましくは3〜100時間、より好ましくは6〜80時間である。
酸化処理は、常圧又は加圧下で行うことができ、加圧下で反応させる場合には、通常0.1〜10MPa程度(好ましくは0.15〜8MPa、特に好ましくは0.5〜8MPa)である。
金属錯体の使用量は特に限定されないが、100重量部の木質材料に対し、例えば、0.1〜1000重量部が好ましく、より好ましくは0.5〜500重量部、さらに好ましくは1〜300重量部、特に好ましくは5〜100重量部である。金属錯体の使用量が上記範囲内であることにより、穏和な条件下でセルロース及びヘミセルロースが得られる傾向がある。
酸化剤の使用量は、100重量部の木質材料に対し、例えば、0.1〜1000重量部が好ましく、より好ましくは0.5〜800重量部、さらに好ましくは1〜600重量部、特に好ましくは5〜400重量部である。酸化剤の使用量が上記範囲内であることにより、穏和な条件下でセルロース及びヘミセルロースが得られる傾向がある。
本発明では、得られたセルロース及び/又はヘミセルロースを精製する工程を含んでいてもよい。精製手段としては、例えば、濾過、濃縮、蒸留、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の分離手段や、これらを組み合わせた分離手段が挙げられる。
本発明にて得られるセルロース及びヘミセルロースの重量平均分子量は特に限定されないが、例えば、1.0×103〜5.0×106が好ましく、より好ましくは5.0×103〜1.0×106であり、1.0×103〜5.0×106さらに好ましい。また、分子量分散度(Mw/Mn)は、例えば、30以下が好ましく、より好ましくは1.05〜25、さらに好ましくは1.2〜20である。なお、セルロース及びヘミセルロースの数平均分子量(Mn)、重量平均分子量(Mw)、及び分散度(Mw/Mn)は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーによる標準ポリスチレン換算の分子量より算出される。
本発明にて得られるセルロース及びヘミセルロースは、例えば、3350cm-1付近、2900cm-1付近、1646cm-1付近、1425cm-1付近、1371cm-1付近、1320cm-1付近、1160cm-1付近、1112cm-1付近、1060cm-1にFT−IRスペクトルの吸収ピークを有する。
以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
(製造例)
ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド(5.0g、18mmol)、鉄粉(2.5g、45mmol)、及び蒸留水(50ml)を、アルゴン置換した反応容器にて混合した後、加熱還流を3日間行った。得られた反応液から不溶物を濾別し、溶媒を留去した後、真空条件下、60℃にて終夜乾燥することにより、鉄−ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド(5.0g、8.1mmol、白色固体)を得た。
ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド(5.0g、18mmol)、鉄粉(2.5g、45mmol)、及び蒸留水(50ml)を、アルゴン置換した反応容器にて混合した後、加熱還流を3日間行った。得られた反応液から不溶物を濾別し、溶媒を留去した後、真空条件下、60℃にて終夜乾燥することにより、鉄−ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド(5.0g、8.1mmol、白色固体)を得た。
(実施例1)
2.0gのユーカリ木粉、0.4gの鉄−ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、16mlの酢酸エチルをフラスコに入れて撹拌し、10分後に5.94mlの35%過酸化水素水(過酸化水素換算で2.08g)を12時間かけて滴下し、さらに12時間撹拌して反応を完了させた。なお、以上の操作は室温条件下で行った。その後、孔径5μmのPTFEフィルター(商品名「ADVANTEC PF050」、アドバンテック(株)製)で吸引濾過を行い、残渣を濾別した。得られた濾物を40mlの1M硫酸水溶液に加えてよく撹拌して残渣を洗浄し、再び濾別した。この洗浄操作を濾液が無色になるまで3回行った。その後、200mlの水を使用して濾液が中性になるまで濾物を洗浄し、真空下で乾燥させた結果、0.986gの反応生成物が得られた。
2.0gのユーカリ木粉、0.4gの鉄−ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、16mlの酢酸エチルをフラスコに入れて撹拌し、10分後に5.94mlの35%過酸化水素水(過酸化水素換算で2.08g)を12時間かけて滴下し、さらに12時間撹拌して反応を完了させた。なお、以上の操作は室温条件下で行った。その後、孔径5μmのPTFEフィルター(商品名「ADVANTEC PF050」、アドバンテック(株)製)で吸引濾過を行い、残渣を濾別した。得られた濾物を40mlの1M硫酸水溶液に加えてよく撹拌して残渣を洗浄し、再び濾別した。この洗浄操作を濾液が無色になるまで3回行った。その後、200mlの水を使用して濾液が中性になるまで濾物を洗浄し、真空下で乾燥させた結果、0.986gの反応生成物が得られた。
(実施例2)
1.0gのスギ木粉、0.2gの鉄−ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、10mlの酢酸エチルをフラスコに入れて撹拌し、2.97mlの35%過酸化水素水(過酸化水素換算で1.04g)を12時間かけて滴下し、さらに24時間撹拌して反応させた。なお、以上の操作は室温条件下で行った。その後、PTFEフィルターで吸引濾過を行い、残渣を濾別した。得られた濾物を真空下で乾燥させた結果、0.251gの反応生成物が得られた。
1.0gのスギ木粉、0.2gの鉄−ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、10mlの酢酸エチルをフラスコに入れて撹拌し、2.97mlの35%過酸化水素水(過酸化水素換算で1.04g)を12時間かけて滴下し、さらに24時間撹拌して反応させた。なお、以上の操作は室温条件下で行った。その後、PTFEフィルターで吸引濾過を行い、残渣を濾別した。得られた濾物を真空下で乾燥させた結果、0.251gの反応生成物が得られた。
(評価−X線マイクロCT法による3次元顕微鏡撮像)
実施例2における、原料である杉木材と、反応生成物について、セルロースの生成過程を細胞レベルで確認するために、X線マイクロCT法による3次元顕微鏡撮像を行い、得られた画像を比較することで木質細胞及び組織の分解過程の観察を行った。なお、X線マイクロCT法による3次元顕微鏡撮像はリガク社の高分解能3DX線顕微鏡nano3DX、及び高輝度放射光科学研究センターのシンクロトロン放射光施設SPring−8のBL20XUビームラインを使用し、測定条件は前者においてはCu線源(8.0keV)を利用し、後者においては8.0keVの放射光X線を利用して常温常圧の大気下にて行った。その結果、反応液がよく流通し、触媒や酸化剤との接触効率が高い、試料の露出表面と木材内部の道管及び道管内部(二次壁内層)、放射状組織等の空隙から分解が進行し、反応初期に壁孔縁が消失すること、試料最外部の露出面と内壁表面が分解されるのに伴って、道管及び仮導管壁面に観察されるセルロース由来の繊維状構造の配向が変化することが確認された(図1)。以上より、鉄−ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドによる木質組織の分解が、反応液とよく接する外面、道管、仮導管壁面及び壁孔縁から進行することを明らかにした。
実施例2における、原料である杉木材と、反応生成物について、セルロースの生成過程を細胞レベルで確認するために、X線マイクロCT法による3次元顕微鏡撮像を行い、得られた画像を比較することで木質細胞及び組織の分解過程の観察を行った。なお、X線マイクロCT法による3次元顕微鏡撮像はリガク社の高分解能3DX線顕微鏡nano3DX、及び高輝度放射光科学研究センターのシンクロトロン放射光施設SPring−8のBL20XUビームラインを使用し、測定条件は前者においてはCu線源(8.0keV)を利用し、後者においては8.0keVの放射光X線を利用して常温常圧の大気下にて行った。その結果、反応液がよく流通し、触媒や酸化剤との接触効率が高い、試料の露出表面と木材内部の道管及び道管内部(二次壁内層)、放射状組織等の空隙から分解が進行し、反応初期に壁孔縁が消失すること、試料最外部の露出面と内壁表面が分解されるのに伴って、道管及び仮導管壁面に観察されるセルロース由来の繊維状構造の配向が変化することが確認された(図1)。以上より、鉄−ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドによる木質組織の分解が、反応液とよく接する外面、道管、仮導管壁面及び壁孔縁から進行することを明らかにした。
(評価−光学顕微鏡撮像)
実施例1の反応生成物を光学顕微鏡観察はキーエンス社のデジタル顕微鏡(VHX−500F及び対応レンズZVH−8250R)を使用し、観察条件は偏光板を用いた透過型で行った。その結果、図2で示される様に、木質組織(セルロース)が無色透明であり、道管にそって結晶性部分に回折に由来する偏光が観察された。繊維束の長さは約1mm、太さが約25〜30μmであり、ユーカリの一般的な繊維長と一致していた。なお、木質組織にリグニン等が残留している場合は組織表面に茶色のシミ状模様が現れることがあるが、本実施例における木質組織では見られなかった。従って、実施例1における酸化処理にて、リグニンやその酸化物等は濾液に溶解していると考えられる。
実施例1の反応生成物を光学顕微鏡観察はキーエンス社のデジタル顕微鏡(VHX−500F及び対応レンズZVH−8250R)を使用し、観察条件は偏光板を用いた透過型で行った。その結果、図2で示される様に、木質組織(セルロース)が無色透明であり、道管にそって結晶性部分に回折に由来する偏光が観察された。繊維束の長さは約1mm、太さが約25〜30μmであり、ユーカリの一般的な繊維長と一致していた。なお、木質組織にリグニン等が残留している場合は組織表面に茶色のシミ状模様が現れることがあるが、本実施例における木質組織では見られなかった。従って、実施例1における酸化処理にて、リグニンやその酸化物等は濾液に溶解していると考えられる。
(評価−IRスペクトル測定)
実施例1の反応生成物のIRスペクトルをパーキンエルマー社のFT−IR分光器(Spectrum One AS)を用いて全反射測定法により測定したところ、図3で示される通り、3350cm-1付近、2900cm-1付近、1646cm-1付近、1425cm-1付近、1371cm-1付近、1320cm-1付近、1160cm-1付近、1112cm-1付近、1060cm-1付近にスペクトルを有していた。前記スペクトルはセルロースに起因するものであることから、実施例1の反応生成物にセルロースが含まれていることが示された。
実施例1の反応生成物のIRスペクトルをパーキンエルマー社のFT−IR分光器(Spectrum One AS)を用いて全反射測定法により測定したところ、図3で示される通り、3350cm-1付近、2900cm-1付近、1646cm-1付近、1425cm-1付近、1371cm-1付近、1320cm-1付近、1160cm-1付近、1112cm-1付近、1060cm-1付近にスペクトルを有していた。前記スペクトルはセルロースに起因するものであることから、実施例1の反応生成物にセルロースが含まれていることが示された。
(評価−IRスペクトル測定)
実施例1の反応生成物を、真空乾燥機を用いて60℃にて3時間以上乾燥後、均一にほぐしたものを供試試料とした。供試試料の約0.2gを天秤でビーカーへはかりとり、72%硫酸を3ml加え、30℃で撹拌しながら1時間静置した。これを純水84mlと混釈しながら耐圧瓶に完全に移した後、120℃で、1時間オートクレーブで加熱分解した。加熱分解後、分解液と残渣を濾別し、濾液と残渣の洗液を加えて100mlに定容したものを検液とした。検液中の単糖(キシロース・アラビノース・マンノース・グルコース・ガラクトース)については、高液体クロマトグラフ法(蛍光検出器)により定量を行った。得られた分解液の単糖濃度と試料分解量から、試料中の構成糖量を算定した。また、単糖の回収率試験より求めた分解時の糖過分解補正係数(Sf:各単糖の回収率の逆数)を用いて構成糖量を補正した。なお構成糖の過分解補正係数(Sf)は、キシロース/1.08、アラビノース/1.01、マンノース/1.05、グルコース/1.02、ガラクトース/1.05とした。また、装置はGLサイエンス社製のGL−7400 HPLC system を使用した。
実施例1の反応生成物を、真空乾燥機を用いて60℃にて3時間以上乾燥後、均一にほぐしたものを供試試料とした。供試試料の約0.2gを天秤でビーカーへはかりとり、72%硫酸を3ml加え、30℃で撹拌しながら1時間静置した。これを純水84mlと混釈しながら耐圧瓶に完全に移した後、120℃で、1時間オートクレーブで加熱分解した。加熱分解後、分解液と残渣を濾別し、濾液と残渣の洗液を加えて100mlに定容したものを検液とした。検液中の単糖(キシロース・アラビノース・マンノース・グルコース・ガラクトース)については、高液体クロマトグラフ法(蛍光検出器)により定量を行った。得られた分解液の単糖濃度と試料分解量から、試料中の構成糖量を算定した。また、単糖の回収率試験より求めた分解時の糖過分解補正係数(Sf:各単糖の回収率の逆数)を用いて構成糖量を補正した。なお構成糖の過分解補正係数(Sf)は、キシロース/1.08、アラビノース/1.01、マンノース/1.05、グルコース/1.02、ガラクトース/1.05とした。また、装置はGLサイエンス社製のGL−7400 HPLC system を使用した。
その結果、反応生成物中の構成糖全量(100重量%)に対するキシロースの含有量は15.1重量%、アラビノースの含有量は0.2重量%、マンノースの含有量は0.2重量%、グルコースの含有量は81.8重量%、ガラクトースの含有量は2.7重量%であった。グルコースはセルロースの構成単位であり、キシロースはヘミセルロースの構成単位であることから、本反応生成物にセルロース及びヘミセルロースが含まれていることが示された。
以上の結果より、金属錯体と酸化剤とを用いて木質材料を酸化処理することにより、穏和な条件下、すなわち、室温条件下であって、且つほぼ中性の条件下でセルロース及び/又はヘミセルロースを得ることが明らかとなった。
1・・・・・仮導管
Claims (4)
- 金属錯体と酸化剤とを用いて木質材料を酸化処理し、セルロース及び/又はヘミセルロースを分離取得する、セルロース及び/又はヘミセルロースの製造方法であって、
前記金属錯体が、金属と配位子としてのイミド及びアミドからなる群より選択される少なくとも1つの窒素含有化合物を含み、
前記金属が、鉄族金属及び白金族金属からなる群より選択された少なくとも1つであり、
前記窒素含有化合物が、電子求引性基を有するスルホニル基及び芳香族基を有するスルホニル基からなる群より選択された少なくとも1つを置換基として含むことを特徴とするセルロース及び/又はヘミセルロースの製造方法。 - 酸化剤が、過酸化水素、過酢酸、オゾン、ペルオキシ一硫酸カリウム、t−ブチルハイドロパーオキシド、メタクロロ過安息香酸、酸素、及び空気からなる群より選択される少なくとも1つである請求項1に記載のセルロース及び/又はヘミセルロースの製造方法。
- 金属錯体の使用量が、100重量部の木質材料に対し、0.1〜1000重量部である請求項1又は2に記載のセルロース及び/又はヘミセルロースの製造方法。
- 酸化剤の使用量が、100重量部の木質材料に対し、0.1〜1000重量部である請求項1〜3の何れか1項に記載のセルロース及び/又はヘミセルロースの製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018195240A JP2020063349A (ja) | 2018-10-16 | 2018-10-16 | セルロース及び/又はヘミセルロースの製造方法 |
PCT/JP2019/042231 WO2020080557A1 (ja) | 2018-10-16 | 2019-10-15 | セルロース及び/又はヘミセルロースの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018195240A JP2020063349A (ja) | 2018-10-16 | 2018-10-16 | セルロース及び/又はヘミセルロースの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2020063349A true JP2020063349A (ja) | 2020-04-23 |
Family
ID=70283295
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2018195240A Withdrawn JP2020063349A (ja) | 2018-10-16 | 2018-10-16 | セルロース及び/又はヘミセルロースの製造方法 |
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JP (1) | JP2020063349A (ja) |
WO (1) | WO2020080557A1 (ja) |
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JP5938979B2 (ja) * | 2012-03-23 | 2016-06-22 | 日本製紙株式会社 | 植物系原料の処理方法 |
UA115900C2 (uk) * | 2013-04-18 | 2018-01-10 | Родіа Оперейшнз | Каталізатори окиснення циклоалкану та спосіб одержання спиртів і кетонів |
JP2019151602A (ja) * | 2018-03-05 | 2019-09-12 | 国立大学法人京都大学 | 金属イミド錯体及びこれを用いた基質変換方法 |
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2018
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-
2019
- 2019-10-15 WO PCT/JP2019/042231 patent/WO2020080557A1/ja active Application Filing
Also Published As
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WO2020080557A1 (ja) | 2020-04-23 |
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