JP2020056580A - Three-dimensional measuring device, three-dimensional measuring method, and program - Google Patents

Three-dimensional measuring device, three-dimensional measuring method, and program Download PDF

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Abstract

To facilitate the placement of an object in a measurement area.SOLUTION: A three-dimensional measuring device includes: a pattern projection unit that projects a measurement pattern onto an object; first and second imaging units for capturing the object on which the measurement pattern is projected; first and second projectors; and a control unit that controls the first projector to project the first two-dimensional pattern and controls the second projector to project the second two-dimensional pattern. There is provided the three-dimensional measuring device in which the first two-dimensional pattern includes at least a part of a first figure having a symmetrical shape with respect to a first point or a straight line passing through the first point, and the second two-dimensional pattern includes at least a part of a second figure having a symmetrical shape with respect to a second point or a straight line passing through the second point, so that the first point matches the optical axis direction of the first imaging unit and the second point matches the optical axis direction of the second imaging unit.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、三次元計測装置、三次元計測方法、及びプログラムに関する。   The present invention relates to a three-dimensional measuring device, a three-dimensional measuring method, and a program.

近年、文化財、美術品、及び工芸品など、保存価値の高い物品をスキャンし、その形状やテクスチャをデジタルデータの形で保存する技術(デジタルアーカイブ)の研究開発が進められている。デジタルアーカイブの対象物には、絵画、彫刻、屏風、壁面画、刀剣など、材質も形状も異なる多種多様な物品が含まれる。そのため、対象物の特性に合ったスキャン手法を適用して、その対象物特有の表現を忠実に再現することが重要になる。   2. Description of the Related Art In recent years, research and development of a technology (digital archive) for scanning articles having high storage value, such as cultural properties, arts, and crafts, and storing the shapes and textures in the form of digital data has been advanced. The objects of the digital archive include a wide variety of objects of different materials and shapes, such as paintings, sculptures, folding screens, wall paintings, and swords. Therefore, it is important to apply a scanning method suitable for the characteristics of the target object and faithfully reproduce the expression unique to the target object.

対象物の形状をスキャンする手法としては、例えば、非接触三次元計測が用いられる。非接触三次元計測は、プロジェクタなどを利用して対象物にパターンを投影し、対象物の凹凸などに応じて変形するパターンを複数のカメラで撮像し、撮像データから対象物の三次元形状を測定する技術である。   As a method of scanning the shape of the object, for example, non-contact three-dimensional measurement is used. In non-contact three-dimensional measurement, a pattern is projected on an object using a projector, etc. It is a technology to measure.

非接触三次元計測には、例えば、パターンを投影するプロジェクタ、2台のカメラ、及び対象物の位置合わせに用いられる2つのレーザポインタを備える三次元計測装置が利用される(特許文献1)。2つのレーザポインタは、レーザの照射方向がそれぞれ2台のカメラの光軸と一致するように固定されている。そのため、計測者は、レーザポインタが交差する位置に対象物を配置することで、計測領域に対象物を配置することができる。   For non-contact three-dimensional measurement, for example, a three-dimensional measuring device including a projector that projects a pattern, two cameras, and two laser pointers used for positioning an object is used (Patent Document 1). The two laser pointers are fixed so that the irradiation directions of the lasers respectively match the optical axes of the two cameras. Therefore, the measurer can place the object in the measurement area by arranging the object at the position where the laser pointer intersects.

特開2018-48860号公報JP 2018-48860 JP

上記のレーザポインタによる位置決め機構は、ある程度の大きさがあり、細かな凹凸がない平坦な対象物に対しては有効である。しかし、細かく複雑な立体形状を有する対象物の非接触三次元計測を行う場合、2つのレーザポインタの交点を小さな領域に合わせることは難しい。   The above-described positioning mechanism using a laser pointer has a certain size and is effective for a flat object having no fine irregularities. However, when performing non-contact three-dimensional measurement of an object having a fine and complicated three-dimensional shape, it is difficult to match the intersection of two laser pointers to a small area.

また、対象物は、破損や汚損のリスクを避けるため、多くの場合、その物自体に直接触れることや、その物を移動させることが制限されている。そのため、対象物を動かさず、三次元計測装置の位置や向きを調整して、2つのレーザポインタの交点を小さな領域に合わせる必要があり、これが位置決めを更に困難にしている。   Further, in order to avoid the risk of breakage or soiling of the object, direct contact with the object itself and movement of the object are often restricted. For this reason, it is necessary to adjust the position and orientation of the three-dimensional measuring device without moving the target object so that the intersection of the two laser pointers matches a small area, which makes positioning more difficult.

そこで、本発明の1つの観点によれば、本発明の目的は、対象物の計測領域への配置が容易な三次元計測装置、三次元計測方法、及びプログラムを提供することにある。   Therefore, according to one aspect of the present invention, it is an object of the present invention to provide a three-dimensional measuring device, a three-dimensional measuring method, and a program that can easily arrange an object in a measurement area.

本発明の一態様によれば、対象物に計測用パターンを投影するパターン投影部と、計測用パターンが投影された対象物を撮影する第1及び第2の撮像部と、第1の撮像部の光軸方向に二次元パターンを投影可能な第1のプロジェクタと、第2の撮像部の光軸方向に二次元パターンを投影可能な第2のプロジェクタと、第1のプロジェクタを制御して第1の二次元パターンを投影し、第2のプロジェクタを制御して第2の二次元パターンを投影する制御部と、を備え、第1の二次元パターンは、第1の点又は第1の点を通る直線について対称な形状を有する第1の図形の少なくとも一部を含み、第2の二次元パターンは、第2の点又は第2の点を通る直線について対称な形状を有する第2の図形の少なくとも一部を含み、制御部は、第1の点と第1の撮像部の光軸方向とが一致するように第1のプロジェクタを制御し、第2の点と第2の撮像部の光軸方向とが一致するように第2のプロジェクタを制御する三次元計測装置が提供される。   According to one aspect of the present invention, a pattern projecting unit that projects a measurement pattern on an object, first and second imaging units that photograph the object on which the measurement pattern is projected, and a first imaging unit A first projector capable of projecting a two-dimensional pattern in the optical axis direction of the second imaging unit, a second projector capable of projecting a two-dimensional pattern in the optical axis direction of the second imaging unit, and a first projector that controls the first projector. A control unit that projects one two-dimensional pattern and controls a second projector to project a second two-dimensional pattern, wherein the first two-dimensional pattern is a first point or a first point. A second figure having at least a part of a first figure having a shape symmetric about a straight line passing through the second point, and a second figure having a shape symmetric about a second point or a straight line passing through the second point. And the control unit includes a first point and A tertiary controller that controls the first projector so that the optical axis direction of the first imaging unit matches, and controls the second projector so that the second point matches the optical axis direction of the second imaging unit. An original measurement device is provided.

また、本発明の他の一態様によれば、コンピュータが、第1の撮像部の光軸方向に二次元パターンを投影可能な第1のプロジェクタを制御して、第1の点又は第1の点を通る直線について対称な形状を有する第1の図形の少なくとも一部を含む第1の二次元パターンを、第1の点と第1の撮像部の光軸方向とが一致するように投影し、第2の撮像部の光軸方向に二次元パターンを投影可能な第2のプロジェクタを制御して、第2の点又は第2の点を通る直線について対称な形状を有する第2の図形の少なくとも一部を含む第2の二次元パターンを、第2の点と第2の撮像部の光軸方向とが一致するように投影し、第1の二次元パターン及び第2の二次元パターンの投影を停止後に、対象物に向けて計測用パターンを投影し、第1の撮像部及び第2の撮像部を制御して計測用パターンが投影された対象物を撮影し、対象物の撮影データから対象物の形状を計測する処理を実行する、三次元計測方法が提供される。   According to another aspect of the present invention, the computer controls the first projector capable of projecting the two-dimensional pattern in the optical axis direction of the first imaging unit, and controls the first point or the first point. A first two-dimensional pattern including at least a part of a first figure having a symmetrical shape with respect to a straight line passing through a point is projected so that the first point and the optical axis direction of the first imaging unit match. Controlling a second projector capable of projecting a two-dimensional pattern in the optical axis direction of the second imaging unit to generate a second point or a second figure having a symmetrical shape with respect to a straight line passing through the second point. A second two-dimensional pattern including at least a part is projected so that the second point coincides with the optical axis direction of the second imaging unit, and the first two-dimensional pattern and the second two-dimensional pattern are projected. After stopping the projection, the measurement pattern is projected toward the object, and the first imaging unit and And controls the second imaging unit capturing an object measurement pattern is projected, a process for measuring the shape of the object from the imaging data of the object, three-dimensional measurement method is provided.

また、本発明の更に他の一態様によれば、コンピュータに、第1の撮像部の光軸方向に二次元パターンを投影可能な第1のプロジェクタを制御して、第1の点又は第1の点を通る直線について対称な形状を有する第1の図形の少なくとも一部を含む第1の二次元パターンを、第1の点と第1の撮像部の光軸方向とが一致するように投影し、第2の撮像部の光軸方向に二次元パターンを投影可能な第2のプロジェクタを制御して、第2の点又は第2の点を通る直線について対称な形状を有する第2の図形の少なくとも一部を含む第2の二次元パターンを、第2の点と第2の撮像部の光軸方向とが一致するように投影し、第1の二次元パターン及び第2の二次元パターンの投影を停止後に、対象物に向けて計測用パターンを投影し、第1の撮像部及び第2の撮像部を制御して計測用パターンが投影された対象物を撮影し、対象物の撮影データから対象物の形状を計測する処理を実行させる、プログラムが提供される。また、当該プログラムが記録された、コンピュータにより読み取り可能な非一時的な記録媒体が提供されうる。   Further, according to still another aspect of the present invention, the computer controls the first projector capable of projecting the two-dimensional pattern in the optical axis direction of the first imaging unit, so that the first point or the first point is controlled. Projecting a first two-dimensional pattern including at least a part of a first figure having a shape symmetrical with respect to a straight line passing through the first point so that the first point and the optical axis direction of the first imaging unit coincide with each other. And controlling a second projector capable of projecting a two-dimensional pattern in the optical axis direction of the second image pickup unit to obtain a second figure having a symmetrical shape with respect to the second point or a straight line passing through the second point. Are projected so that the second point and the optical axis direction of the second imaging unit coincide with each other, and the first two-dimensional pattern and the second two-dimensional pattern Is stopped, and then the measurement pattern is projected toward the target object. Beauty and controls the second imaging unit capturing an object measurement pattern is projected, to execute processing to measure the shape of the object from the imaging data of the object, the program is provided. Further, a non-transitory computer-readable recording medium on which the program is recorded can be provided.

本発明によれば、対象物の計測領域への配置が容易になる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, arrangement | positioning of an object to a measurement area becomes easy.

三次元計測装置の構成例を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed the structural example of the three-dimensional measuring apparatus. 制御装置の機能を実現可能なハードウェアの構成例を示したブロック図である。FIG. 3 is a block diagram illustrating a configuration example of hardware capable of realizing a function of a control device. 制御装置が有する機能の一例を示したブロック図である。FIG. 3 is a block diagram illustrating an example of a function of the control device. 三次元計測装置の位置決めについて説明するための第1の図である。FIG. 4 is a first diagram for describing positioning of the three-dimensional measuring device. 三次元計測装置の位置決めについて説明するための第2の図である。FIG. 9 is a second diagram for describing positioning of the three-dimensional measuring device. レンズ情報の一例を示した図表である。5 is a chart showing an example of lens information. ガイドパターンの例を示した第1の図表である。It is the 1st chart which showed the example of the guide pattern. ガイドパターンの例を示した第2の図表である。It is the 2nd chart which showed the example of the guide pattern. 制御装置が実行する処理の流れを示したフロー図である。FIG. 5 is a flowchart showing a flow of a process executed by the control device.

以下に添付図面を参照しながら、本発明の実施形態(以下、本実施形態)について説明する。なお、本明細書及び図面において実質的に同一の機能を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する場合がある。   Hereinafter, embodiments of the present invention (hereinafter, this embodiment) will be described with reference to the accompanying drawings. In the specification and the drawings, elements having substantially the same function are denoted by the same reference numerals, and redundant description may be omitted.

本実施形態は、立体的な対象物に計測用のパターンを投影した状態で、その対象物を複数の撮像装置で撮影し、撮影画像に基づいて対象物の三次元形状を計測する三次元計測装置に関する。文化財などの対象物を扱う場合には、対象物の損傷リスクを回避するため、三次元計測装置を移動させて対象物を計測領域に誘導する。   In the present embodiment, three-dimensional measurement is performed in which a measurement pattern is projected on a three-dimensional object, the object is photographed by a plurality of imaging devices, and the three-dimensional shape of the object is measured based on the photographed image. Related to the device. When an object such as a cultural property is handled, the object is guided to the measurement area by moving the three-dimensional measuring device in order to avoid the risk of damage to the object.

従来の三次元計測装置は、各撮像装置の光軸方向をレーザポインタの光点で表示し、光点が重なる位置を計測領域の指標として利用していた。三次元計測装置を固定し、対象物を自由に移動できる環境では、比較的容易に、光点が重なる位置を見つけることができる。しかし、三次元計測装置を移動させると光点を見失うことが多く、さらに、複数の光点を一点に重ねるには、かなりの時間がかかる。   The conventional three-dimensional measuring device displays the optical axis direction of each imaging device by a light spot of a laser pointer, and uses a position where the light spot overlaps as an index of a measurement area. In an environment where the three-dimensional measuring device is fixed and the object can be moved freely, it is relatively easy to find the position where the light spots overlap. However, when the three-dimensional measuring apparatus is moved, the light spot is often lost, and furthermore, it takes a considerable time to overlap a plurality of light spots at one point.

文化財などの対象物を扱う現場では、その対象物を設置している環境で計測を実施することがあり、三次元計測装置を持って自由に移動することが困難な場面も少なくない。また、彫像の指先など、細かな部分に焦点を当てた計測を実施することがあり、このような細かな部分に複数の光点を重ねるのは難しい。特に、厚みが小さい(薄い)部分、及び細い部分では光点を重ねるのが非常に困難である。   In the field where an object such as a cultural property is handled, measurement may be performed in an environment where the object is installed, and it is often difficult to move freely with a three-dimensional measuring device. In addition, there are cases where measurement is performed focusing on a small part such as a fingertip of a statue, and it is difficult to overlap a plurality of light spots on such a small part. In particular, it is very difficult to overlap light spots in a small (thin) portion and a thin portion.

本実施形態は、上記のような三次元計測の現場で生じうる課題を解決する三次元計測装置を提供することを目的とする。以下、本実施形態に係る三次元計測装置及びその三次元計測装置が実行する処理の流れについて順次説明する。   An object of the present embodiment is to provide a three-dimensional measurement apparatus that solves the problems that can occur at the site of three-dimensional measurement as described above. Hereinafter, the three-dimensional measurement apparatus according to the present embodiment and the flow of processing executed by the three-dimensional measurement apparatus will be sequentially described.

[1.三次元計測装置]
図1を参照しながら、三次元計測装置100について説明する。図1は、三次元計測装置の構成例を示した模式図である。図1に示した三次元計測装置100は、本実施形態に係る三次元計測装置の一例である。
[1. 3D measuring device]
The three-dimensional measuring device 100 will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a configuration example of a three-dimensional measurement device. The three-dimensional measurement device 100 illustrated in FIG. 1 is an example of the three-dimensional measurement device according to the present embodiment.

図1に示すように、三次元計測装置100は、パターン投影機101、撮像装置102a、103a、レーザプロジェクタ102b、103b、及び制御装置105を有する。なお、撮像装置102aとレーザプロジェクタ102bとは一体に形成されてもよい。撮像装置103aとレーザプロジェクタ103bとは一体に形成されてもよい。制御装置105は、パターン投影機101と一体に形成されてもよい。   As shown in FIG. 1, the three-dimensional measuring apparatus 100 includes a pattern projector 101, imaging devices 102a and 103a, laser projectors 102b and 103b, and a control device 105. Note that the imaging device 102a and the laser projector 102b may be formed integrally. The imaging device 103a and the laser projector 103b may be formed integrally. The control device 105 may be formed integrally with the pattern projector 101.

パターン投影機101と撮像装置102aとは、支持部材104aで物理的に接続されている。パターン投影機101と撮像装置103aとは、支持部材104bで物理的に接続されている。   The pattern projector 101 and the imaging device 102a are physically connected by a support member 104a. The pattern projector 101 and the imaging device 103a are physically connected by a support member 104b.

制御装置105は、パターン投影機101、撮像装置102a、103a、及びレーザプロジェクタ102b、103bのそれぞれと電気的に接続されている。但し、制御装置105は、無線LAN(Local Area Network)又は近距離無線通信などの無線技術を利用して、パターン投影機101、撮像装置102a、103a、及びレーザプロジェクタ102b、103bのそれぞれと無線回線で接続されてもよい。   The control device 105 is electrically connected to each of the pattern projector 101, the imaging devices 102a and 103a, and the laser projectors 102b and 103b. However, the control device 105 communicates with each of the pattern projector 101, the imaging devices 102a and 103a, and the laser projectors 102b and 103b by using a wireless technology such as a wireless LAN (Local Area Network) or a short-range wireless communication. May be connected.

パターン投影機101は、計測用パターンを対象物に投影するためのプロジェクタである。計測用パターンは、例えば、ゼブラパターン、グリッドパターン、市松模様など、三次元計測に利用可能な任意のパターンである。パターン投影機101として利用可能なプロジェクタには、例えば、液晶プロジェクタ、DLP(Digital Light Processing)プロジェクタ、LCOS(Liquid Crystal On Silicon)プロジェクタなどがある。   The pattern projector 101 is a projector for projecting a measurement pattern on an object. The measurement pattern is an arbitrary pattern that can be used for three-dimensional measurement, such as a zebra pattern, a grid pattern, and a checkered pattern. Examples of the projector that can be used as the pattern projector 101 include a liquid crystal projector, a DLP (Digital Light Processing) projector, and an LCOS (Liquid Crystal On Silicon) projector.

但し、計測用パターンの種類、及びパターン投影機101として利用可能なプロジェクタの種類は上記の例に限定されない。例えば、光源にレーザ光を利用するレーザプロジェクタがパターン投影機101として利用されてもよい。以下では、説明の都合上、パターン投影機101の画角をt1と表記する場合がある。   However, the type of the measurement pattern and the type of the projector that can be used as the pattern projector 101 are not limited to the above example. For example, a laser projector that uses laser light as a light source may be used as the pattern projector 101. Hereinafter, the angle of view of the pattern projector 101 may be described as t1 for convenience of description.

撮像装置102a、103aは、例えば、レンズ、撮像素子、及びプロセッサ(例えば、CPU(Central Processing Unit)、DSP(Digital Signal Processor))などを有するデジタルカメラである。撮像装置102a、103aには、同じ焦点距離及び明るさのレンズが装着される。レンズの種類は、対象物の種類又は計測目的などに応じて決定される。撮像装置102a、103aは、レンズ交換式のデジタルカメラであってもよい。レンズの情報(焦点距離、開放F値など)は、撮像装置102a、103aから制御装置105に提供されうる。   The imaging devices 102a and 103a are, for example, digital cameras having a lens, an imaging device, a processor (for example, a CPU (Central Processing Unit), a DSP (Digital Signal Processor)), and the like. Lenses having the same focal length and brightness are mounted on the imaging devices 102a and 103a. The type of the lens is determined according to the type of the object or the measurement purpose. The imaging devices 102a and 103a may be digital cameras with interchangeable lenses. Lens information (focal length, open F value, etc.) can be provided from the imaging devices 102a and 103a to the control device 105.

以下では、説明の都合上、撮像装置102aの撮影画角をt2、光軸方向をL2と表記する場合がある。また、撮像装置103aの撮影画角をt3、光軸方向をL3と表記する場合がある。また、撮像装置102aの合焦範囲をD2、撮像装置103aの合焦範囲をD3と表記する場合がある。なお、ここで言う合焦範囲は、被写界深度に収まる奥行き方向(光軸に沿って被写体に向かう方向)の範囲を指す。   Hereinafter, for convenience of description, the imaging angle of view of the imaging device 102a may be expressed as t2, and the optical axis direction may be expressed as L2. In addition, the imaging angle of view of the imaging device 103a may be expressed as t3 and the optical axis direction may be expressed as L3. Further, the focusing range of the imaging device 102a may be described as D2, and the focusing range of the imaging device 103a may be described as D3. Note that the in-focus range here refers to a range in a depth direction (a direction toward the subject along the optical axis) within the depth of field.

レーザプロジェクタ102b、103bは、レーザ光を光源とするレーザ光走査式プロジェクタである。レーザ光走査式プロジェクタは、レーザ光をスクリーン上で高速かつ二次元的に走査させることで、スクリーンに二次元パターンを表示させるタイプのプロジェクタである。レーザプロジェクタ102bから出力されるレーザ光の色は、レーザプロジェクタ103bから出力されるレーザ光と同じであってもよいし、異なっていてもよい。   The laser projectors 102b and 103b are laser light scanning projectors using laser light as a light source. The laser beam scanning projector is a type of projector that displays a two-dimensional pattern on a screen by scanning a laser beam two-dimensionally on a screen at high speed. The color of the laser beam output from the laser projector 102b may be the same as or different from the laser beam output from the laser projector 103b.

レーザプロジェクタ102bの向きは、撮像装置102aの光軸方向を基準に設定される。例えば、レーザプロジェクタ102bは、撮像装置102aの光軸方向に垂直な面をスクリーンとみなして二次元パターンを描画できるように配置される。レーザプロジェクタ103bの向きは、撮像装置103aの光軸方向を基準に設定される。例えば、レーザプロジェクタ103bは、撮像装置103aの光軸方向に垂直な面をスクリーンとみなして二次元パターンを描画できるように配置される。   The direction of the laser projector 102b is set based on the optical axis direction of the imaging device 102a. For example, the laser projector 102b is arranged such that a plane perpendicular to the optical axis direction of the imaging device 102a is regarded as a screen and can draw a two-dimensional pattern. The direction of the laser projector 103b is set based on the optical axis direction of the imaging device 103a. For example, the laser projector 103b is arranged such that a plane perpendicular to the optical axis direction of the imaging device 103a is regarded as a screen and can draw a two-dimensional pattern.

ここで、図1を参照しながら、計測領域と対象物の配置について説明する。図1には、一例として、計測領域10(太線で囲まれた領域)及び対象物20aが模式的に示されている。計測領域10は、主に光軸方向L2、L3、撮影画角t2、t3、及び合焦範囲D2、D3によって決まる。但し、対象物20aのうち、計測用パターンが投影されている部分を撮影するため、厳密に言えば、計測用パターンが投影される範囲を決めるパターン投影機101の画角t1にも依存する。   Here, the arrangement of the measurement region and the object will be described with reference to FIG. FIG. 1 schematically shows, as an example, a measurement region 10 (a region surrounded by a thick line) and an object 20a. The measurement area 10 is mainly determined by the optical axis directions L2 and L3, the imaging angles of view t2 and t3, and the focusing ranges D2 and D3. However, since the part of the target object 20a on which the measurement pattern is projected is photographed, it depends strictly on the angle of view t1 of the pattern projector 101 that determines the range in which the measurement pattern is projected.

従って、光軸方向L2、L3、撮影画角t2、t3、合焦範囲D2、D3、及び画角t1から決定される計測領域10に対象物20aが配置されるように三次元計測装置100の位置を移動できれば、所望の計測結果が期待できる。しかし、計測領域10は目に見えない。そこで、三次元計測装置100は、レーザプロジェクタ102b、103bを利用して2つの二次元パターンを描画して、計測領域10に対象物20aが収まるように三次元計測装置100を移動する作業(以下、位置決め)を補助する。   Therefore, the three-dimensional measuring apparatus 100 is arranged so that the target object 20a is arranged in the measurement area 10 determined by the optical axis directions L2 and L3, the shooting angles of view t2 and t3, the focusing ranges D2 and D3, and the angle of view t1. If the position can be moved, a desired measurement result can be expected. However, the measurement area 10 is not visible. Therefore, the three-dimensional measuring apparatus 100 draws two two-dimensional patterns using the laser projectors 102b and 103b, and moves the three-dimensional measuring apparatus 100 so that the target object 20a fits in the measurement area 10 (hereinafter, referred to as an operation). , Positioning).

パターン投影機101、撮像装置102a、103a、及びレーザプロジェクタ102b、103bの動作は、制御装置105により制御される。以下、制御装置105について説明し、その説明の中で、レーザプロジェクタ102b、103bを利用した二次元パターンの描画が位置決めに有効である理由について詳述する。   The operations of the pattern projector 101, the imaging devices 102a and 103a, and the laser projectors 102b and 103b are controlled by the control device 105. Hereinafter, the control device 105 will be described, and in the description, the reason why drawing of a two-dimensional pattern using the laser projectors 102b and 103b is effective for positioning will be described in detail.

(制御装置のハードウェア)
まず、図2を参照しながら、制御装置105のハードウェアについて説明する。図2は、制御装置の機能を実現可能なハードウェアの構成例を示したブロック図である。
(Control device hardware)
First, the hardware of the control device 105 will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a block diagram illustrating a configuration example of hardware capable of realizing the functions of the control device.

制御装置105が有する機能は、例えば、図2に示すハードウェア資源を用いて実現することが可能である。つまり、制御装置105が有する機能は、コンピュータプログラムを用いて図2に示すハードウェアを制御することにより実現される。   The functions of the control device 105 can be realized using, for example, the hardware resources shown in FIG. That is, the functions of the control device 105 are realized by controlling the hardware shown in FIG. 2 using a computer program.

図2に示すように、このハードウェアは、主に、プロセッサ105a、メモリ105b、表示I/F(Interface)105c、通信I/F105d、及び接続I/F105eを有する。   As shown in FIG. 2, this hardware mainly includes a processor 105a, a memory 105b, a display I / F (Interface) 105c, a communication I / F 105d, and a connection I / F 105e.

プロセッサ105aは、例えば、CPU、DSP、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)、FPGA(Field Programmable Gate Array)などである。メモリ105bは、例えば、ROM(Read Only Memory)、RAM(Random Access Memory)、HDD(Hard Disk Drive)、SSD(Solid State Drive)、フラッシュメモリなどの記憶装置である。   The processor 105a is, for example, a CPU, a DSP, an ASIC (Application Specific Integrated Circuit), an FPGA (Field Programmable Gate Array), or the like. The memory 105b is a storage device such as a read only memory (ROM), a random access memory (RAM), a hard disk drive (HDD), a solid state drive (SSD), and a flash memory.

表示I/F105cは、LCD(Liquid Crystal Display)、ELD(Electro-Luminescence Display)などのディスプレイデバイスを接続するためのインターフェースである。例えば、表示I/F105cは、プロセッサ105a及び/又は表示I/F105cに搭載されたGPU(Graphic Processing Unit)により表示制御を実施する。なお、制御装置105にディスプレイデバイスが搭載されていてもよい。   The display I / F 105c is an interface for connecting a display device such as an LCD (Liquid Crystal Display) and an ELD (Electro-Luminescence Display). For example, the display I / F 105c performs display control by a GPU (Graphic Processing Unit) mounted on the processor 105a and / or the display I / F 105c. Note that a display device may be mounted on the control device 105.

通信I/F105dは、有線及び/又は無線のネットワークに接続するためのインターフェースである。通信I/F105dは、例えば、有線LAN、無線LAN、光通信ネットワーク、携帯電話ネットワークなどに接続される。   The communication I / F 105d is an interface for connecting to a wired and / or wireless network. The communication I / F 105d is connected to, for example, a wired LAN, a wireless LAN, an optical communication network, a mobile phone network, or the like.

接続I/F105eは、外部デバイスを接続するためのインターフェースである。接続I/F105eは、例えば、USB(Universal Serial Bus)ポート、IEEE1394ポート、SCSI(Small Computer System Interface)などである。   The connection I / F 105e is an interface for connecting an external device. The connection I / F 105e is, for example, a USB (Universal Serial Bus) port, an IEEE1394 port, a SCSI (Small Computer System Interface), or the like.

接続I/F105eには、例えば、キーボード、マウス、タッチパネル、タッチパッドなどの入力インターフェースが接続されうる。また、接続I/F105eには、スピーカなどのオーディオデバイス及び/又はプリンタなどが接続されうる。また、接続I/F105eには、可搬性の記録媒体105fが接続されうる。記録媒体105fは、例えば、磁気記録媒体、光ディスク、光磁気ディスク、半導体メモリなどである。   An input interface such as a keyboard, a mouse, a touch panel, and a touch pad can be connected to the connection I / F 105e. In addition, an audio device such as a speaker and / or a printer may be connected to the connection I / F 105e. A portable recording medium 105f can be connected to the connection I / F 105e. The recording medium 105f is, for example, a magnetic recording medium, an optical disk, a magneto-optical disk, a semiconductor memory, or the like.

上述したプロセッサ105aは、記録媒体105fに格納されたプログラムを読み出してメモリ105bに格納し、メモリ105bから読み出したプログラムに従って制御装置105の動作を制御することができる。なお、制御装置105の動作を制御するプログラムは、メモリ105bに予め格納されていてもよいし、通信I/F105dを介してネットワークからダウンロードされてもよい。   The processor 105a described above can read a program stored in the recording medium 105f, store the program in the memory 105b, and control the operation of the control device 105 according to the program read from the memory 105b. Note that a program for controlling the operation of the control device 105 may be stored in the memory 105b in advance, or may be downloaded from a network via the communication I / F 105d.

(制御装置の機能)
次に、図3を参照しながら、制御装置105の機能について、さらに説明する。図3は、制御装置が有する機能の一例を示したブロック図である。
(Function of control device)
Next, the function of the control device 105 will be further described with reference to FIG. FIG. 3 is a block diagram illustrating an example of a function of the control device.

図3に示すように、制御装置105は、記憶部151、ガイドパターン描画制御部152、計測用パターン投影制御部153、及び計測部154を有する。   As illustrated in FIG. 3, the control device 105 includes a storage unit 151, a guide pattern drawing control unit 152, a measurement pattern projection control unit 153, and a measurement unit 154.

なお、記憶部151の機能は、上記のメモリ105bなどを用いて実現可能である。ガイドパターン描画制御部152、計測用パターン投影制御部153、及び計測部154の機能は、上記のプロセッサ105aを用いて実現可能である。   Note that the function of the storage unit 151 can be realized using the memory 105b and the like. The functions of the guide pattern drawing control unit 152, the measurement pattern projection control unit 153, and the measurement unit 154 can be realized using the processor 105a.

記憶部151には、ガイドパターンの情報151a、計測用パターンの情報151b、及びレンズ情報151cが格納される。   The storage unit 151 stores guide pattern information 151a, measurement pattern information 151b, and lens information 151c.

ガイドパターンの情報151aは、位置決め用にレーザプロジェクタ102b、103bにより描画される二次元パターン(以下、ガイドパターン)の形状に関する情報である。なお、ガイドパターンの形状については、後段(図7及び図8の説明)において詳述する。計測用パターンの情報151bは、計測用パターンの形状に関する情報である。レンズ情報151cは、撮像装置102a、103aに装着されたレンズに関する情報(焦点距離、開放F値など)である。   The guide pattern information 151a is information on the shape of a two-dimensional pattern (hereinafter, a guide pattern) drawn by the laser projectors 102b and 103b for positioning. The shape of the guide pattern will be described in detail later (the description of FIGS. 7 and 8). The measurement pattern information 151b is information on the shape of the measurement pattern. The lens information 151c is information (focal length, open F value, and the like) regarding the lenses attached to the imaging devices 102a and 103a.

ガイドパターン描画制御部152は、ガイドパターンの情報151aに含まれる少なくとも1つのガイドパターンのうち、レーザプロジェクタ102bで描画する第1のガイドパターンと、レーザプロジェクタ103bで描画する第2のガイドパターンとを特定する。例えば、第1のガイドパターン及び第2のガイドパターンは、位置決めを行う計測者より、或いは、三次元計測装置100の製造時に予め設定される。第1のガイドパターンと第2のガイドパターンとは同じガイドパターンであってもよいし、異なるガイドパターンであってもよい。   The guide pattern drawing control unit 152 determines, among at least one guide pattern included in the guide pattern information 151a, a first guide pattern drawn by the laser projector 102b and a second guide pattern drawn by the laser projector 103b. Identify. For example, the first guide pattern and the second guide pattern are set in advance by a measurer who performs positioning or when the three-dimensional measuring apparatus 100 is manufactured. The first guide pattern and the second guide pattern may be the same guide pattern or different guide patterns.

ガイドパターン描画制御部152は、第1のガイドパターンを描画するためのレーザ光の色(以下、第1の色)と、第2のガイドパターンを描画するためのレーザ光の色(以下、第2の色)とを特定する。第1の色と第2の色とは、同じ色であってもよいし、異なる色であってもよい。但し、レーザプロジェクタ102b、103bのそれぞれが出力可能なレーザ光の色が決まっている場合、ガイドパターン描画制御部152は、第1の色及び第2の色を特定する処理を省略する。   The guide pattern drawing control unit 152 includes a laser light color (hereinafter, a first color) for drawing a first guide pattern and a laser light color (hereinafter, a first color) for drawing a second guide pattern. 2). The first color and the second color may be the same color or different colors. However, when the color of the laser light that can be output by each of the laser projectors 102b and 103b is determined, the guide pattern drawing control unit 152 omits the process of specifying the first color and the second color.

ガイドパターン描画制御部152は、レーザプロジェクタ102bを制御して、第1の色のレーザ光で第1のガイドパターンを描画する。ガイドパターン描画制御部152は、撮像装置102aの光軸方向L2に垂直な面(以下、第1の仮想スクリーン)を想定して第1のガイドパターンを描画する。つまり、第1の仮想スクリーンの位置に実際のスクリーンがあれば、そのスクリーン上に第1のガイドパターンが表示されるように、レーザプロジェクタ102bにより第1のガイドパターンが描画される。   The guide pattern drawing control unit 152 controls the laser projector 102b to draw the first guide pattern with the first color laser light. The guide pattern drawing control unit 152 draws a first guide pattern assuming a plane perpendicular to the optical axis direction L2 of the imaging device 102a (hereinafter, a first virtual screen). That is, if there is an actual screen at the position of the first virtual screen, the first guide pattern is drawn by the laser projector 102b so that the first guide pattern is displayed on the screen.

また、ガイドパターン描画制御部152は、レーザプロジェクタ103bを制御して、第2の色のレーザ光で第2のガイドパターンを描画する。ガイドパターン描画制御部152は、撮像装置103aの光軸方向L3に垂直な面(以下、第2の仮想スクリーン)を想定して第2のガイドパターンを描画する。つまり、第2の仮想スクリーンの位置に実際のスクリーンがあれば、そのスクリーン上に第2のガイドパターンが表示されるように、レーザプロジェクタ103bにより第2のガイドパターンが描画される。   Further, the guide pattern drawing control unit 152 controls the laser projector 103b to draw the second guide pattern with the second color laser light. The guide pattern drawing control unit 152 draws a second guide pattern assuming a plane perpendicular to the optical axis direction L3 of the imaging device 103a (hereinafter, a second virtual screen). That is, if there is an actual screen at the position of the second virtual screen, the second guide pattern is drawn by the laser projector 103b so that the second guide pattern is displayed on the screen.

撮像装置102a、103aがレンズ交換式のデジタルカメラである場合、ガイドパターン描画制御部152は、レンズ情報151cに基づいて撮像装置102a、103aの撮影画角t2、t3を特定する。このとき、ガイドパターン描画制御部152は、撮影画角t2、t3として垂直画角及び水平画角を特定してもよい。   When the imaging devices 102a and 103a are interchangeable lens digital cameras, the guide pattern drawing control unit 152 specifies the shooting angle of view t2 and t3 of the imaging devices 102a and 103a based on the lens information 151c. At this time, the guide pattern drawing control unit 152 may specify the vertical angle of view and the horizontal angle of view as the imaging angles of view t2 and t3.

また、ガイドパターン描画制御部152は、撮影画角t2に基づいて、第1のガイドパターンの最も外側に位置する部分が撮影画角t2に収まるように第1のガイドパターンのサイズを調整する。また、ガイドパターン描画制御部152は、撮影画角t3に基づいて、第2のガイドパターンの最も外側に位置する部分が撮影画角t3に収まるように第2のガイドパターンのサイズを調整する。そして、ガイドパターン描画制御部152は、上述した方法で第1のガイドパターン及び第2のガイドパターンを描画する。   In addition, the guide pattern drawing control unit 152 adjusts the size of the first guide pattern based on the shooting angle of view t2 such that the outermost portion of the first guide pattern falls within the shooting angle of view t2. In addition, the guide pattern drawing control unit 152 adjusts the size of the second guide pattern based on the shooting angle of view t3 so that the outermost portion of the second guide pattern falls within the shooting angle of view t3. Then, the guide pattern drawing control unit 152 draws the first guide pattern and the second guide pattern by the method described above.

第1のガイドパターン及び第2のガイドパターンは、同時に、かつ継続的に描画される。第1のガイドパターン及び第2のガイドパターンが描画されている期間は、パターン投影機101による計測用パターンの投影、及び撮像装置102a、103aによる撮影は実施されない。ガイドパターンの描画を停止する操作が実行されると、ガイドパターン描画制御部152は、レーザプロジェクタ102b、103bの出力を停止する。   The first guide pattern and the second guide pattern are drawn simultaneously and continuously. During the period in which the first guide pattern and the second guide pattern are drawn, the projection of the measurement pattern by the pattern projector 101 and the imaging by the imaging devices 102a and 103a are not performed. When the operation of stopping the drawing of the guide pattern is performed, the guide pattern drawing control unit 152 stops the output of the laser projectors 102b and 103b.

計測用パターン投影制御部153は、計測用パターンの情報151bから計測用パターンの形状を示す画像データを取得する。そして、計測用パターン投影制御部153は、パターン投影機101に画像データを入力し、パターン投影機101により計測用パターンを対象物に投影する。計測部154は、撮像装置102a、103aを制御して対象物を撮影し、撮影画像に基づいて対象物の三次元形状を計測する。   The measurement pattern projection control unit 153 acquires image data indicating the shape of the measurement pattern from the measurement pattern information 151b. Then, the measurement pattern projection control unit 153 inputs the image data to the pattern projector 101, and projects the measurement pattern on the target object by the pattern projector 101. The measurement unit 154 controls the imaging devices 102a and 103a to photograph the target, and measures the three-dimensional shape of the target based on the captured image.

(位置決め)
ここで、図4及び図5を参照しながら、三次元計測装置100の位置決めについて、さらに説明する。図4は、三次元計測装置の位置決めについて説明するための第1の図である。図5は、三次元計測装置の位置決めについて説明するための第2の図である。
(Positioning)
Here, the positioning of the three-dimensional measuring apparatus 100 will be further described with reference to FIGS. 4 and 5. FIG. 4 is a first diagram for describing positioning of the three-dimensional measuring device. FIG. 5 is a second diagram for describing positioning of the three-dimensional measuring device.

三次元計測装置100を移動して計測領域10内に対象物を収める作業の難しさは、三次元計測装置100と対象物との距離、及び三次元計測装置100の傾き(特にZ軸を回転軸とする回転方向)を計測者の手で適切に制御する難しさにある。   Difficulties in moving the three-dimensional measuring device 100 to fit the target in the measurement area 10 include the distance between the three-dimensional measuring device 100 and the target, and the inclination of the three-dimensional measuring device 100 (particularly, rotating the Z axis It is difficult to appropriately control the rotation direction as an axis) by the measurer's hand.

図4に示すように、三次元計測装置100を対象物20bに近づけ過ぎると(T1時点)、撮像装置102a、103aの光軸が対象物20bに交わらない。また、三次元計測装置100を対象物20bから遠ざけすぎた場合も(T2時点)、撮像装置102a、103aの光軸は対象物20bに交わらない。レーザポインタで光軸方向だけを指し示す従来方式では、計測者が、これらの状況で光点を見失う。   As shown in FIG. 4, when the three-dimensional measuring apparatus 100 is too close to the object 20b (at time T1), the optical axes of the imaging devices 102a and 103a do not cross the object 20b. Also, when the three-dimensional measuring apparatus 100 is too far away from the object 20b (time T2), the optical axes of the imaging devices 102a and 103a do not cross the object 20b. In the conventional method in which only the direction of the optical axis is pointed by the laser pointer, the measurer loses the light spot in these situations.

三次元計測装置100と対象物20bとの間の距離が適切だと(T3時点)、撮像装置102a、103aの光軸は対象物20bで交差する。Y軸を回転軸とする回転方向に三次元計測装置100が傾くと光軸は+Z方向又は−Z方向に傾く。対象物20bのZ方向の幅(高さ)が小さい場合、Z方向への傾きによって光軸が対象物20bと交わらなくなることがある。この場合も、レーザポインタで光軸方向だけを指し示す従来方式では、計測者が光点を見失う。   If the distance between the three-dimensional measuring apparatus 100 and the object 20b is appropriate (at time T3), the optical axes of the imaging devices 102a and 103a intersect at the object 20b. When the three-dimensional measuring apparatus 100 tilts in the rotation direction about the Y axis as the rotation axis, the optical axis tilts in the + Z direction or the −Z direction. When the width (height) of the object 20b in the Z direction is small, the optical axis may not cross the object 20b due to the inclination in the Z direction. Also in this case, in the conventional method in which the laser pointer points only in the optical axis direction, the measurer loses the light spot.

しかしながら、図5に示すように、本実施形態に係る三次元計測装置100は、レーザプロジェクタ102b、103bを用いて二次元パターン121、131を描画する。なお、図5の例では、十字に交わる二本の直線と、十字を囲む矩形の枠線とで形成される二次元パターンを例示しているが、二次元パターンの形状はこれに限定されない。二次元パターン121は、レーザプロジェクタ102bで描画される図形の一例である。二次元パターン131は、レーザプロジェクタ103bで描画される図形の一例である。   However, as shown in FIG. 5, the three-dimensional measuring apparatus 100 according to the present embodiment draws the two-dimensional patterns 121 and 131 using the laser projectors 102b and 103b. Although the example of FIG. 5 illustrates a two-dimensional pattern formed by two straight lines crossing a cross and a rectangular frame surrounding the cross, the shape of the two-dimensional pattern is not limited to this. The two-dimensional pattern 121 is an example of a figure drawn by the laser projector 102b. The two-dimensional pattern 131 is an example of a figure drawn by the laser projector 103b.

図4に示したようにT1時点では対象物20bに光軸が交わらないが、図5に示すように、二次元パターン121、131の一部が対象物20bと交わる。また、対象物20bに描画される二次元パターン121、131のサイズから、三次元計測装置100と対象物20bとが近すぎることを計測者が認識できる。つまり、一部の図形でも、適切な位置関係で表示される図形のサイズに比べて大きいか小さいかを認識することは可能であり、その認識に基づいて、近すぎるのか、遠すぎるのかを判定することができる。   As shown in FIG. 4, the optical axis does not intersect with the object 20b at the time T1, but as shown in FIG. 5, a part of the two-dimensional patterns 121 and 131 intersect with the object 20b. Further, from the sizes of the two-dimensional patterns 121 and 131 drawn on the object 20b, the measurer can recognize that the three-dimensional measuring device 100 and the object 20b are too close. In other words, it is possible to recognize whether some figures are larger or smaller than the size of the figure displayed in an appropriate positional relationship, and determine whether the figure is too close or too far based on the recognition. can do.

T2時点では対象物20bに光軸が交わらないが、図5に示すように、二次元パターン121、131の一部が対象物20bと交わる。対象物20bに交わる部分のサイズ、及び、二次元パターン121、131の配置が逆であること(適切な位置であれば二次元パターン121が紙面の右側に位置すること)から、三次元計測装置100と対象物20bとが遠すぎることを計測者が認識できる。   At time T2, the optical axis does not cross the target 20b, but as shown in FIG. 5, a part of the two-dimensional patterns 121 and 131 cross the target 20b. Since the size of the portion that intersects with the object 20b and the arrangement of the two-dimensional patterns 121 and 131 are reversed (the two-dimensional pattern 121 is located on the right side of the paper if appropriate), the three-dimensional measurement device is used. The measurer can recognize that the object 100b is too far from the object 100b.

ある程度、三次元計測装置100と対象物20bとが適切な位置関係にある場合(T3時点)、図5に示すように、二次元パターン121、131がほぼ一致する。このとき、二次元パターン121、131の傾き、サイズの相違、形状の歪みなどから、三次元計測装置100の傾きを計測者が把握できる。そのため、二次元パターン121、131の利用により、傾きを含めた三次元計測装置100の微調整も容易になる。このように、本実施形態に係る三次元計測装置100を適用すれば、従来の三次元計測装置に比べて格段に位置決めが容易になる。   When the three-dimensional measuring apparatus 100 and the target object 20b have an appropriate positional relationship to some extent (at time T3), the two-dimensional patterns 121 and 131 substantially match as shown in FIG. At this time, the measurer can grasp the inclination of the three-dimensional measurement apparatus 100 from the inclination, the difference in size, the shape distortion, and the like of the two-dimensional patterns 121 and 131. Therefore, by using the two-dimensional patterns 121 and 131, the fine adjustment of the three-dimensional measuring apparatus 100 including the inclination becomes easy. As described above, when the three-dimensional measuring apparatus 100 according to the present embodiment is applied, positioning is significantly easier than in a conventional three-dimensional measuring apparatus.

(レンズ情報)
次に、図6を参照しながら、レンズ情報151cの利用について、さらに説明する。図6は、レンズ情報の一例を示した図表である。
(Lens information)
Next, the use of the lens information 151c will be further described with reference to FIG. FIG. 6 is a chart showing an example of the lens information.

図6に示すように、レンズ情報151cには、レンズ名、F値、合焦範囲、撮影画角などの情報が含まれる。レンズ名は、レンズの識別に利用される識別情報の一例である。F値は、レンズの明るさを示す指標であり、一般にレンズの焦点距離を有効口径で割った値として定義される。レンズ情報151cに含まれるF値は、絞り開放F値であってもよいが、図6の例では、計測時に適用される絞り設定に対応するF値(設定値)である。   As shown in FIG. 6, the lens information 151c includes information such as a lens name, an F value, a focusing range, and a shooting angle of view. The lens name is an example of identification information used for identifying a lens. The F value is an index indicating the brightness of the lens, and is generally defined as a value obtained by dividing the focal length of the lens by the effective aperture. The F value included in the lens information 151c may be an aperture-open F value, but in the example of FIG. 6, is an F value (set value) corresponding to the aperture setting applied at the time of measurement.

合焦範囲は、撮像装置102a、103aでピントが合う範囲を示す。合焦範囲及び被写界深度は、被写体までの距離、レンズの焦点距離、撮像素子のサイズ、及びF値に基づいて計算できる。例えば、被写体までの距離を2m、レンズの焦点距離を90mm、撮像素子のサイズをフルサイズ(36mm×24mm)、F値を5.6に設定すると、合焦範囲は約1.9〜約2.1m、被写界深度は約0.18mになる。   The in-focus range indicates a range where the imaging devices 102a and 103a are in focus. The focusing range and the depth of field can be calculated based on the distance to the subject, the focal length of the lens, the size of the image sensor, and the F value. For example, if the distance to the subject is set to 2 m, the focal length of the lens is set to 90 mm, the size of the image sensor is set to full size (36 mm × 24 mm), and the F-number is set to 5.6, the focusing range is about 1.9 to about 2 .1 m, the depth of field is about 0.18 m.

三次元計測の場合には、対象物を鮮明に捉える必要があるため、実効値として、余裕を持った合焦範囲がレンズ情報151cに設定される。   In the case of three-dimensional measurement, since it is necessary to clearly capture an object, a focusing range with a margin is set in the lens information 151c as an effective value.

撮影画角は、レンズの焦点距離及び撮像素子のサイズに基づいて計算できる。一般にレンズの焦点距離が長いほど撮影画角は狭くなり、レンズの焦点距離が短いほど撮影画角は広くなる。撮像素子のサイズが大きいほど撮影画角は広くなり、撮像素子のサイズが小さいほど撮影画角は狭くなる。一般的な撮像素子は形状が横長であるため、撮影画角としては、撮像素子の対角線方向に対応する対角線画角、横方向(水平方向)に対応する水平画角、縦方向(垂直方向)に対応する垂直画角がある。   The shooting angle of view can be calculated based on the focal length of the lens and the size of the image sensor. Generally, the longer the focal length of the lens, the narrower the shooting angle of view, and the shorter the focal length of the lens, the wider the shooting angle of view. The larger the size of the image sensor, the wider the shooting angle of view, and the smaller the size of the image sensor, the narrower the field of view. Since a general image sensor has a horizontally long shape, the photographing angle of view includes a diagonal angle of view corresponding to a diagonal direction of the image sensor, a horizontal angle of view corresponding to a horizontal direction (horizontal direction), and a vertical direction (vertical direction). There is a corresponding vertical angle of view.

本実施形態に係る三次元計測装置100(ガイドパターン描画制御部152)は、レーザプロジェクタ102b、103bにより描画されるガイドパターンの形状(外枠のサイズなど)を撮影画角に合わせる調整を実施する。そのため、レンズ情報151cには、撮影画角として、水平画角及び垂直画角が記述される。   The three-dimensional measuring apparatus 100 (guide pattern drawing control unit 152) according to the present embodiment adjusts the shape (the size of the outer frame and the like) of the guide pattern drawn by the laser projectors 102b and 103b to the shooting angle of view. . Therefore, the horizontal angle of view and the vertical angle of view are described as the shooting angle of view in the lens information 151c.

レンズ情報151cは、使用予定のレンズ及び事前に設定したF値に基づいて予め生成されてもよいし、レンズの換装時にガイドパターン描画制御部152により生成されてもよい。例えば、ガイドパターン描画制御部152は、撮像装置102a、103aからレンズの情報(焦点距離など)を取得し、事前設定されたF値及び対象物までの距離、そして、既知の撮像素子のサイズに基づいて合焦距離及び撮影画角を計算する。   The lens information 151c may be generated in advance based on the lens to be used and the F value set in advance, or may be generated by the guide pattern drawing control unit 152 when the lens is replaced. For example, the guide pattern drawing control unit 152 acquires lens information (focal length and the like) from the imaging devices 102a and 103a, and sets the F value and the distance to the object set in advance, and the size of the known imaging device. The focusing distance and the angle of view are calculated based on the focusing distance.

上記のレンズ情報151cを利用すると、ガイドパターン描画制御部152は、撮像装置102a、103aの光軸から最も遠い位置に描画されるガイドパターンの構成部分を撮影画角の端に合わせること、或いは、撮影画角の内部に収めることが可能になる。   Using the above lens information 151c, the guide pattern drawing control unit 152 adjusts the component of the guide pattern drawn at the position farthest from the optical axis of the imaging devices 102a and 103a to the end of the shooting angle of view, or It is possible to fit inside the shooting angle of view.

例えば、図5に示した二次元パターン121の場合、ガイドパターン描画制御部152は、中央で交差する2本の直線の交点を光軸に合わせる。また、ガイドパターン描画制御部152は、外枠を形成する4本の直線のうち、2本の縦線(撮像素子の縦方向に延びた直線)を垂直画角に合わせ、2本横線(撮像素子の横方向に延びた直線)を水平画角に合わせる。   For example, in the case of the two-dimensional pattern 121 shown in FIG. 5, the guide pattern drawing control unit 152 matches the intersection of two straight lines that intersect at the center with the optical axis. In addition, the guide pattern drawing control unit 152 adjusts two vertical lines (straight lines extending in the vertical direction of the image sensor) of the four straight lines forming the outer frame to the vertical angle of view, and adjusts the two horizontal lines (imaging (A straight line extending in the lateral direction of the element) to the horizontal angle of view.

図6に例示したレンズ情報151cのNo.1のレンズが撮像装置102aに装着されている場合、ガイドパターン描画制御部152は、水平方向に光軸から+11.25°の位置を通る縦線、及び水平方向に光軸から−11.25°の位置を通る縦線を描画し、垂直方向に光軸から+7.5°の位置を通る横線、及び垂直方向に光軸から−7.5°の位置を通る横線を描画する。このように、撮影画角に合わせてガイドパターンのサイズを調整することで、ガイドパターンから計測領域10を認識可能になる。   The lens information 151c illustrated in FIG. When one lens is mounted on the imaging device 102a, the guide pattern drawing control unit 152 determines that the vertical line passes through a position + 11.25 ° from the optical axis in the horizontal direction, and -11.25 from the optical axis in the horizontal direction. A vertical line passing through the position of ° is drawn, and a horizontal line passing through the position of + 7.5 ° from the optical axis in the vertical direction and a horizontal line passing through the position of -7.5 ° from the optical axis in the vertical direction are drawn. As described above, by adjusting the size of the guide pattern according to the shooting angle of view, the measurement area 10 can be recognized from the guide pattern.

(ガイドパターンの例)
上記の説明では、矩形の外枠に十字の二本線を組み合わせた二次元パターン121、131を例示したが、本実施形態に係る三次元計測装置100に適用可能なガイドパターンの形状はこれに限定されない。
(Example of guide pattern)
In the above description, the two-dimensional patterns 121 and 131 in which a rectangular outer frame is combined with two cross lines are illustrated, but the shape of the guide pattern applicable to the three-dimensional measuring apparatus 100 according to the present embodiment is not limited thereto. Not done.

例えば、図7及び図8に示すような様々な形状のガイドパターンを適用することが可能である。図7は、ガイドパターンの例を示した第1の図表である。図8は、ガイドパターンの例を示した第2の図表である。なお、図7及び図8に示した図形はあくまでも例示であり、これらの図形の組み合わせ、これらの図形から切り取られる部分的な図形、その部分的な図形の組み合わせ、或いは、これらの図形から着想される任意の図形の適用についても本実施形態の技術的範囲に属する。   For example, guide patterns of various shapes as shown in FIGS. 7 and 8 can be applied. FIG. 7 is a first chart showing an example of a guide pattern. FIG. 8 is a second chart showing an example of the guide pattern. It should be noted that the figures shown in FIGS. 7 and 8 are merely examples, and combinations of these figures, partial figures cut out from these figures, combinations of the partial figures, or ideas conceived from these figures. Also, the application of an arbitrary figure is also within the technical scope of the present embodiment.

まず、図7を参照する。図7に示した15個の図形のうち、図形#01は円である。図形#01は楕円に変形できる。例えば、ガイドパターン描画制御部152は、ガイドパターンを楕円とする場合、水平画角に合わせて長軸を設定し、垂直画角に合わせて短軸を設定し、長軸と短軸との交点を光軸に一致させる。図形#02は、図形#01の一部である。円又は楕円は、中心又は中心を通る直線(長軸、短軸)に対して対称的な形状である。そのため、一部の形状から中心の位置を容易に推測することができる。   First, reference is made to FIG. Of the fifteen figures shown in FIG. 7, figure # 01 is a circle. Figure # 01 can be transformed into an ellipse. For example, when the guide pattern is an ellipse, the guide pattern drawing control unit 152 sets the major axis according to the horizontal angle of view, sets the minor axis according to the vertical angle of view, and sets the intersection of the major axis and the minor axis. To the optical axis. Figure # 02 is a part of figure # 01. The circle or the ellipse has a shape symmetric with respect to the center or a straight line (long axis, short axis) passing through the center. Therefore, the position of the center can be easily estimated from a part of the shape.

図形#3は、図形#01と同じ形状でサイズの異なる複数の図形を、中心を一致させて配置した図形である。図7には2つの円を同心円状に配置した例が示されているが、図形#03の変形例としては、3つ以上の円を同心円状に配置した図形や、2つ又は3つ以上の楕円を同心配置した図形がある。また、円と楕円とを組み合わせた図形や、図形#02のような部分図形の組み合わせも図形#03の変形例に含まれる。   The figure # 3 is a figure in which a plurality of figures having the same shape and different sizes as the figure # 01 are arranged at the same center. FIG. 7 shows an example in which two circles are arranged concentrically. As a modification of FIG. # 03, a figure in which three or more circles are arranged concentrically, or a figure in which two or three or more circles are arranged concentrically There is a figure in which ellipses are arranged concentrically. Further, a modified example of the graphic # 03 includes a graphic in which a circle and an ellipse are combined and a combination of partial graphics such as the graphic # 02.

図形#04は、図形#01と中心点とを組み合わせた図形である。図形#4の変形例としては、図形#02又は図形#03と中心点とを組み合わせた図形がある。図形#05は、図形#01の実線を鎖線又は点線で表現した図形である。図形#05の変形例としては、一点鎖線及び二点鎖線などの実線とは異なる線種で表現した図形がある。図形#06のように、図形#01−#04及びその変形例に対して、図形#05の表現を適用してもよい。   The graphic # 04 is a graphic obtained by combining the graphic # 01 and the center point. As a modified example of the graphic # 4, there is a graphic in which the graphic # 02 or the graphic # 03 is combined with the center point. The graphic # 05 is a graphic in which the solid line of the graphic # 01 is represented by a chain line or a dotted line. As a modified example of the figure # 05, there is a figure expressed by a line type different from a solid line such as a dashed line and a two-dot chain line. Like the graphic # 06, the graphic # 05 may be applied to the graphic # 01- # 04 and its modifications.

図形#07は、4本の直線で描かれた矩形の枠線と、中心で直交する2本の直線とを含む、所謂「田の字」型の図形である。図形#07の変形例としては、枠線の形状を縦長又は横長の長方形にした図形や、全体又は枠線を45°回転させた菱形の図形がある。また、中心で直交する2本の直線と枠線とが接しない図形、或いは、それら2本の直線が枠線と交差する図形も図形#07の変形例に含まれる。   The graphic # 07 is a so-called “cross-shaped” graphic including a rectangular frame drawn by four straight lines and two straight lines orthogonal to each other at the center. As a modified example of the figure # 07, there are a figure in which the shape of the frame is a vertically long or horizontally long rectangle, and a rhombus in which the whole or the frame is rotated by 45 °. Further, a figure in which two straight lines perpendicular to the center and the frame line do not touch each other, or a figure in which these two straight lines intersect the frame line are also included in the modified example of the figure # 07.

図形#08は、中心で直交する2本の直線で形成された図形である。2本の直線の長さは、同じであってもよいし、異なっていてもよい。図形#08を適用する場合、ガイドパターン描画制御部152は、水平画角に合わせて横線の長さを調整し、垂直画角に合わせて縦線の長さを調整する。つまり、ガイドパターン描画制御部152は、中心から最も遠い図形上の点を水平画角及び垂直画角に基づいて設定する。   The figure # 08 is a figure formed by two straight lines orthogonal to each other at the center. The lengths of the two straight lines may be the same or different. When applying the figure # 08, the guide pattern drawing control unit 152 adjusts the length of the horizontal line according to the horizontal angle of view, and adjusts the length of the vertical line according to the vertical angle of view. That is, the guide pattern drawing control unit 152 sets a point on the figure farthest from the center based on the horizontal angle of view and the vertical angle of view.

図形#09は、図形#07の枠線に相当する図形である。図形#09の変形例としては、図形#4と同様に図形#09と中心点とを組み合わせた図形がある。また、図形#03と同様に中心が一致するようにサイズの異なる複数の矩形を組み合わせた図形や、図形#02と同様に図形#09の第1象限及び第3象限に相当する部分を切り欠いた図形も図形#09の変形例に含まれる。   The graphic # 09 is a graphic corresponding to the frame line of the graphic # 07. As a modification of the graphic # 09, there is a graphic in which the graphic # 09 and the center point are combined like the graphic # 4. Also, a figure in which a plurality of rectangles having different sizes are combined so that the centers coincide with each other as in the case of the figure # 03, and a portion corresponding to the first and third quadrants of the figure # 09 as in the case of the figure # 02 are cut out. The changed figure is also included in the modified example of the figure # 09.

図形#10は、図形#08を45°回転させた図形である。2本の直線の長さは、同じであってもよいし、異なっていてもよい。図形#10を適用する場合、ガイドパターン描画制御部152は、水平画角又は垂直画角に合わせて2本の直線の端点の位置を設定する。図形#10の変形例としては、2本の直線を中心で直交させず、撮影画角に応じた角度で交わるように設定した図形がある。例えば、ガイドパターン描画制御部152は、水平画角及び垂直画角に合う矩形の頂点を結ぶ2本の対角線を設定できる。   The graphic # 10 is a graphic obtained by rotating the graphic # 08 by 45 °. The lengths of the two straight lines may be the same or different. When applying the figure # 10, the guide pattern drawing control unit 152 sets the positions of the end points of the two straight lines in accordance with the horizontal angle of view or the vertical angle of view. As a modified example of the graphic # 10, there is a graphic set such that two straight lines are not orthogonal to each other at the center but intersect at an angle corresponding to the angle of view. For example, the guide pattern drawing control unit 152 can set two diagonal lines connecting the vertices of a rectangle matching the horizontal angle of view and the vertical angle of view.

図形#11は、中心で交わる3本以上の直線で形成された図形である。図形#12は、図形#11を形成する各線の頂点にドット(レーザ光の広がりで表現される点又は小径の円)を表示した図形である。図形#11を形成する各線の長さは、例えば、各線の交点を中心とする円又は楕円(図形#01及びその変形例)の内側に当接する長さに設定される。図形#13は、図形#08を形成する各線の頂点及び中心にドットを表示した図形である。   The graphic # 11 is a graphic formed by three or more straight lines intersecting at the center. The graphic # 12 is a graphic in which dots (points expressed by the spread of laser light or small-diameter circles) are displayed at the vertices of each line forming the graphic # 11. The length of each line forming the graphic # 11 is set, for example, to a length in contact with the inside of a circle or an ellipse (graphic # 01 and its modifications) centered on the intersection of each line. The graphic # 13 is a graphic in which dots are displayed at the vertices and the center of each line forming the graphic # 08.

図形#14は、図形#03の一部を切り欠いた図形である。図形#14は、例えば、図形#03を図形#10の線で切断し、中心の上下に位置する4本の曲線を除去した図形である。図形#15は、図形#09の枠内に収まる長さの複数の直線により形成されたメッシュ状の図形である。図形#09の変形例としては、図形#01の枠内に収まるように形成したメッシュ状の図形がある。   The graphic # 14 is a graphic obtained by cutting off a part of the graphic # 03. The graphic # 14 is, for example, a graphic obtained by cutting the graphic # 03 by the line of the graphic # 10 and removing four curves located above and below the center. The graphic # 15 is a mesh-shaped graphic formed by a plurality of straight lines having a length that fits within the frame of the graphic # 09. As a modified example of the graphic # 09, there is a mesh-shaped graphic formed so as to fit within the frame of the graphic # 01.

次に、図8を参照する。図8には、9個の図形#16−#24が示されている。まず、図形#16−#21に注目する。図形#16−#21はいずれも、鉛直方向に沿って上方又は下方を指し示す図形(以下、指示図形)が含まれている。例えば、図形#16には、指示図形として、1つの頂点が鉛直上向きを指す三角形が含まれている。   Next, reference is made to FIG. FIG. 8 shows nine figures # 16 to # 24. First, attention is paid to figures # 16 to # 21. Each of the figures # 16 to # 21 includes a figure (hereinafter referred to as an instruction figure) pointing upward or downward along the vertical direction. For example, figure # 16 includes a triangle in which one vertex points vertically upward as an instruction figure.

図5を参照しながら既に説明したように、三次元計測装置100の位置を合わせる際、計測者は、対象物と三次元計測装置100との間の距離に加え、三次元計測装置100の傾き(Y−Z面内の回転)を調整する。このとき、図8に示した図形#16を適用すると、鉛直上向きを指し示す三角形の傾きを見ることで、計測者は、三次元計測装置100が右方向に傾いているのか、左方向に傾いているのかを容易に把握することが可能になる。これにより、計測者は、三次元計測装置100の傾きを容易に調整することができる。   As described above with reference to FIG. 5, when adjusting the position of the three-dimensional measuring device 100, the measurer adds the distance between the target object and the three-dimensional measuring device 100 and the tilt of the three-dimensional measuring device 100. (Rotation in the YZ plane) is adjusted. At this time, when the graphic # 16 shown in FIG. 8 is applied, by observing the inclination of the triangle pointing vertically upward, the measurer can see whether the three-dimensional measuring device 100 is inclined rightward or leftward. It is possible to easily grasp whether the user is present. Thus, the measurer can easily adjust the inclination of the three-dimensional measuring device 100.

図形#17には、指示図形として、1つの頂点が鉛直下向きを指す三角形が含まれている。ガイドパターンとして図形#17を採用した場合も同様に、計測者は、鉛直下向きを指し示す三角形の傾きから三次元計測装置100の傾き方向を容易に把握でき、その傾きを容易に調整することができる。なお、図形#16、#17では三角形を方向指示の指標としていたが、例えば、図形#18、#19のように先が丸い蒲鉾状の図形を方向指示の指標に利用することも可能である。   The graphic # 17 includes a triangle whose one vertex points vertically downward as an instruction graphic. Similarly, when the figure # 17 is adopted as the guide pattern, the measurer can easily grasp the inclination direction of the three-dimensional measuring apparatus 100 from the inclination of the triangle pointing vertically downward, and can easily adjust the inclination. . In the figures # 16 and # 17, a triangle is used as an index for indicating a direction. However, for example, a figure having a rounded tip such as a figure # 18 or # 19 may be used as an index for indicating a direction. .

また、図形#16−#18は、外枠の矩形と、三角形又は蒲鉾状の図形とを組み合わせた図形であるが、図形#20、#21のように外枠の矩形を省略する変形が可能である。また、三角形に代えて矢印を方向指示の指標に利用する変形が可能である。また、三角形、蒲鉾状の図形、矢印、それらを変形した方向指示の指標は、外枠の矩形と接していなくてもよい。また、図形#16−#21及びそれらを変形した方向指示の指標となる図形は、図7に示した各図形の少なくとも一部と組み合わせてもよい。   Further, the figures # 16 to # 18 are figures in which a rectangle of the outer frame is combined with a triangular or semi-cylindrical figure, but a modification in which the rectangle of the outer frame is omitted as in the figures # 20 and # 21 is possible. It is. Further, a modification is possible in which an arrow is used as a direction indication index instead of a triangle. In addition, the triangle, the semicircular figure, the arrow, and the indicator of the direction indicating the deformation thereof may not be in contact with the rectangle of the outer frame. In addition, the figures # 16 to # 21 and the figures serving as indices of direction indications obtained by deforming them may be combined with at least a part of each figure shown in FIG.

次に、図8に示した図形#22−#24に注目し、複数の線分で形成される図形をガイドパターンとして利用する場合の好適な図形の設定方法について説明する。線分を含む図形は、これまで説明した図形の一部を切り取ること、或いは、複数の線分を組み合わせることにより生成されうる。   Next, focusing on figures # 22 to # 24 shown in FIG. 8, a description will be given of a suitable figure setting method when a figure formed by a plurality of line segments is used as a guide pattern. A graphic including a line segment can be generated by cutting out a part of the graphic described so far or by combining a plurality of line segments.

例えば、図形#22は、上下に延びる2本の線分、及び、左側にある線分の下端と右側にある線分の上端とを結ぶ斜めの線分を有する。ガイドパターンとして2本の線分が描画されると、計測者は、光軸方向に対応する基準点が存在する範囲を認識することができる。また、2本の線分の幅が広いか狭いかによって、計測者は、対象物と三次元計測装置100との間の距離が遠いか近いかを認識することができる。そのため、2本の線分だけを採用しても意味を成すが、ガイドパターンが斜めの線分を有することで、計測者は、ガイドパターンから基準点の位置を推測しやすくなる。   For example, the figure # 22 has two vertically extending line segments and an oblique line segment connecting the lower end of the left side line segment and the upper end of the right side line segment. When two line segments are drawn as the guide pattern, the measurer can recognize the range where the reference point corresponding to the optical axis direction exists. In addition, the measurer can recognize whether the distance between the target object and the three-dimensional measuring apparatus 100 is long or short depending on whether the width of the two line segments is wide or narrow. Therefore, it makes sense to adopt only two line segments. However, since the guide pattern has oblique line segments, the measurer can easily estimate the position of the reference point from the guide pattern.

図形#22の場合、2本の線分は、基準点を通る上下に延びた直線(縦鎖線)に対して対称に配置されている。また、斜めの線分は、基準点を通るように設定されている。そのため、計測者は、2本の線分の中間に位置し、2本の線分に平行な直線(縦鎖線に対応する直線)を推測し、その直線と斜めの線分との交点を基準点として推測することができる。また、図形#22の場合、2本の線分と斜めの線分とが交わる部分が鉛直方向の指示指標となるため、計測者は、これを三次元計測装置100の傾き調整に利用できる。   In the case of the graphic # 22, the two line segments are arranged symmetrically with respect to a vertically extending straight line (vertical chain line) passing through the reference point. The oblique line segment is set to pass through the reference point. Therefore, the measurer estimates a straight line (a straight line corresponding to the vertical chain line) that is located in the middle of the two line segments and is parallel to the two line segments, and uses the intersection point of the straight line and the oblique line segment as a reference. Can be guessed as a point. In the case of the graphic # 22, a portion where the two line segments intersect with the oblique line segment serves as a vertical indicator, so that the measurer can use the indicator for adjusting the inclination of the three-dimensional measuring apparatus 100.

また、図形#23、#24のように、基準点又は基準点を通る直線についての対称性を有する図形の一部を切り出す場合(図形#23、#24は図形#09からの切り出し)に、基準点を挟んで対向する位置にある複数の要素を切り出すことで、計測者は、基準点の位置を推測しやすくなる。言い換えると、基準点を通る一の直線(例えば、横鎖線)について対称な要素群と、他の直線(例えば、縦鎖線)について対称な要素群とがあれば、計測者は、2本の直線及びそれら直線の交点(基準点)を推定することができる。このとき、2本の直線は交差していればよく、直交していなくてもよい。   When a part of a figure having symmetry with respect to a reference point or a straight line passing through the reference point, such as figures # 23 and # 24, is cut out (figure # 23 and # 24 are cut out from figure # 09), By cutting out a plurality of elements at positions facing each other with the reference point interposed therebetween, the measurer can easily estimate the position of the reference point. In other words, if there is an element group that is symmetric about one straight line (for example, a horizontal dashed line) passing through the reference point and an element group that is symmetric for another straight line (for example, a vertical dashed line), the measurer can use two straight lines. And the intersection (reference point) of these straight lines can be estimated. At this time, the two straight lines need only intersect and need not be orthogonal.

ここまで、図形#01−#24を例にガイドパターンの形状について説明したが、上記説明のように各図形には種々の変形が可能であり、ここで例示した図形の組み合わせ、その変形例についても当然に本実施形態の技術的範囲に属する。例えば、上記の説明で直線又は線分と表現した図形を点の集合で表現した図形に変形することが可能である。例えば、図形#24に示した4本の線分の頂点を含む点の集合は図形#24の一変形例である。   Up to this point, the shapes of the guide patterns have been described using the figures # 01 to # 24 as an example. However, various modifications can be made to each figure as described above. This naturally belongs to the technical scope of the present embodiment. For example, a graphic represented as a straight line or a line segment in the above description can be transformed into a graphic represented by a set of points. For example, a set of points including the vertices of four line segments shown in FIG. 24 is a modification of FIG.

[2.処理フロー]
次に、図9を参照しながら、制御装置105が実行する処理の流れについて説明する。図9は、制御装置が実行する処理の流れを示したフロー図である。
[2. Processing flow]
Next, a flow of processing executed by the control device 105 will be described with reference to FIG. FIG. 9 is a flowchart illustrating a flow of a process executed by the control device.

(S101)ガイドパターン描画制御部152は、レンズ情報151cを参照し、対応レンズの撮影画角を取得する。なお、ガイドパターン描画制御部152は、撮像装置102a、103aを介してレンズから取得されるレンズの情報に基づいて撮影画角を計算してもよい。   (S101) The guide pattern drawing control unit 152 refers to the lens information 151c and acquires the shooting angle of view of the corresponding lens. Note that the guide pattern drawing control unit 152 may calculate the shooting angle of view based on lens information acquired from the lenses via the imaging devices 102a and 103a.

(S102)ガイドパターン描画制御部152は、ガイドパターンの情報151aを参照し、レーザプロジェクタ102bで描画する第1のガイドパターンと、レーザプロジェクタ103bで描画する第2のガイドパターンとを決定する。第1のガイドパターンと第2のガイドパターンとは異なるガイドパターンであってもよい。また、第1のガイドパターン及び第2のガイドパターンは、事前に固定値として設定されてもよいし、計測者が計測時に設定できるようにしてもよい。   (S102) The guide pattern drawing control unit 152 determines the first guide pattern to be drawn by the laser projector 102b and the second guide pattern to be drawn by the laser projector 103b with reference to the guide pattern information 151a. The first guide pattern and the second guide pattern may be different guide patterns. In addition, the first guide pattern and the second guide pattern may be set in advance as fixed values, or may be set by a measurer at the time of measurement.

(S103)ガイドパターン描画制御部152は、第1のガイドパターン及び第2のガイドパターンの表現方法を決定する。第1のガイドパターンと第2のガイドパターンとを異なる表現にすると、第1のガイドパターンと第2のガイドパターンとが重なる部分で、注目している線が、いずれのガイドパターンの一部であるかを計測者が認識しやすくなる。表現方法としては、例えば、色、明滅、線の太さなどがある。   (S103) The guide pattern drawing control unit 152 determines a method of expressing the first guide pattern and the second guide pattern. If the first guide pattern and the second guide pattern are expressed differently, a line of interest is a part of any of the guide patterns at a portion where the first guide pattern and the second guide pattern overlap. It becomes easier for the measurer to recognize whether or not there is. Examples of the expression method include color, blinking, and line thickness.

例えば、ガイドパターン描画制御部152は、レーザプロジェクタ102bから出力されるレーザ光の色(以下、第1の色)と、レーザプロジェクタ103bから出力されるレーザ光の色(以下、第2の色)とを決定する。第1の色と第2の色とは、同じであってもよいし、異なっていてもよい。また、第1の色及び第2の色は、事前に固定値として設定されてもよいし、計測者が計測時に設定できるようにしてもよい。   For example, the guide pattern drawing control unit 152 controls the color of the laser light output from the laser projector 102b (hereinafter, first color) and the color of the laser light output from the laser projector 103b (hereinafter, second color). And decide. The first color and the second color may be the same or different. In addition, the first color and the second color may be set in advance as fixed values, or may be set by a measurer at the time of measurement.

また、ガイドパターン描画制御部152は、第1のガイドパターン又は第2のガイドパターンを明滅させるか否かを決定する。例えば、第1の色と第2の色とが同じであっても、一方のガイドパターンが一定周期で明滅(例えば、1秒おきに0.5秒だけ消滅)すれば、注目している線が、いずれのガイドパターンの一部であるかを計測者が認識しやすくなる。明滅の有無は、事前に固定値として設定されてもよいし、計測者が計測時に設定できるようにしてもよい。   In addition, the guide pattern drawing control unit 152 determines whether to blink the first guide pattern or the second guide pattern. For example, even if the first color and the second color are the same, if one of the guide patterns blinks at a fixed period (for example, disappears every second for 0.5 second), the line of interest is drawn. However, it becomes easier for the measurer to recognize which of the guide patterns is a part. The presence or absence of blinking may be set in advance as a fixed value, or may be set by a measurer at the time of measurement.

また、ガイドパターン描画制御部152は、第1のガイドパターンと第2のガイドパターンとで線の太さを変えるか否かを決定する。例えば、第1の色と第2の色とが同じで、ガイドパターンの明滅がない場合でも、線の太さが異なれば、注目している線が、いずれのガイドパターンの一部であるかを計測者が認識しやすくなる。線の太さを変えるか否かは、事前に固定値として設定されてもよいし、計測者が計測時に設定できるようにしてもよい。   In addition, the guide pattern drawing control unit 152 determines whether to change the line thickness between the first guide pattern and the second guide pattern. For example, even if the first color and the second color are the same and there is no flickering of the guide pattern, if the line thickness is different, the line of interest is part of which guide pattern. Can be easily recognized by the measurer. Whether or not to change the line thickness may be set in advance as a fixed value, or may be set by a measurer at the time of measurement.

上述した表現方法を適用できるか否かは、レーザプロジェクタ102b、103bの機能によるため、実施の態様に応じて、適用可能な表現方法が選択されうる。また、レーザプロジェクタ102b、103bに搭載されたレーザ光源の種類により、互いに異なる色のレーザ光が出力される仕様であれば、S103の処理は省略されてもよい。   Whether or not the above-described expression method can be applied depends on the functions of the laser projectors 102b and 103b. Therefore, an applicable expression method can be selected according to the embodiment. Further, if the specification is such that laser beams of different colors are output depending on the types of laser light sources mounted on the laser projectors 102b and 103b, the process of S103 may be omitted.

(S104)ガイドパターン描画制御部152は、レーザプロジェクタ102bを制御して第1のガイドパターンを描画し、レーザプロジェクタ103bを制御して第2のガイドパターンを描画する。このとき、ガイドパターン描画制御部152は、レンズ情報151cから取得した撮影画角(水平画角、垂直画角)に合わせて第1のガイドパターン及び第2のガイドパターンの描画サイズを調整する。   (S104) The guide pattern drawing control unit 152 draws a first guide pattern by controlling the laser projector 102b, and draws a second guide pattern by controlling the laser projector 103b. At this time, the guide pattern drawing control unit 152 adjusts the drawing size of the first guide pattern and the second guide pattern according to the shooting angle of view (horizontal angle of view, vertical angle of view) acquired from the lens information 151c.

(S105)ガイドパターン描画制御部152は、三次元計測装置100の位置決めが完了したか否かを判定する。例えば、計測者が位置決め完了の操作を行った場合、或いは、計測者が計測開始の操作を行った場合、ガイドパターン描画制御部152は、位置決めが完了したと判定する。位置決めが完了した場合、処理はS106へと進む。一方、位置決めが完了していない場合、処理はS104へと進み、ガイドパターンの描画を継続する。   (S105) The guide pattern drawing control unit 152 determines whether the positioning of the three-dimensional measuring device 100 has been completed. For example, when the measurer has performed the operation of completing the positioning, or when the measurer has performed the operation of starting the measurement, the guide pattern drawing control unit 152 determines that the positioning has been completed. If the positioning has been completed, the process proceeds to S106. On the other hand, if the positioning has not been completed, the process proceeds to S104, and drawing of the guide pattern is continued.

(S106)ガイドパターン描画制御部152は、レーザプロジェクタ102b、103bを制御してレーザ光の出力を停止し、ガイドパターンの描画を終了する。また、ガイドパターン描画制御部152は、位置決めの完了を計測用パターン投影制御部153に通知する。   (S106) The guide pattern drawing control unit 152 controls the laser projectors 102b and 103b to stop the output of the laser beam, and ends the guide pattern drawing. Further, the guide pattern drawing control unit 152 notifies the measurement pattern projection control unit 153 of the completion of positioning.

(S107)計測用パターン投影制御部153は、計測用パターンの情報151bから計測用パターンの画像データを取得する。また、計測用パターン投影制御部153は、取得した画像データをパターン投影機101に入力し、計測用パターンを投影する。計測用パターン投影制御部153は、計測用パターンの投影開始を計測部154に通知する。   (S107) The measurement pattern projection control unit 153 acquires image data of the measurement pattern from the measurement pattern information 151b. The measurement pattern projection control unit 153 inputs the acquired image data to the pattern projector 101, and projects the measurement pattern. The measurement pattern projection control unit 153 notifies the measurement unit 154 of the start of projection of the measurement pattern.

(S108)計測部154は、撮像装置102a、103aを制御して、計測用パターンが投影された状態の対象物を撮像する。また、計測部154は、撮像装置102a、103aから出力される撮像データを取得し、取得した撮像データに基づいて対象物の三次元計測を実施する。   (S108) The measurement unit 154 controls the imaging devices 102a and 103a to image the target on which the measurement pattern is projected. In addition, the measurement unit 154 acquires imaging data output from the imaging devices 102a and 103a, and performs three-dimensional measurement of an object based on the acquired imaging data.

(S109)計測部154は、計測を継続するか否かを判定する。   (S109) The measurement unit 154 determines whether to continue the measurement.

例えば、計測者が三次元計測装置100を移動して別の角度から対象物を計測する場合など、別の位置からの三次元計測を継続する場合、計測部154は、計測者の操作(ガイドパターンの再表示操作など)に応じて、計測を継続すると判定する。この場合、計測部154は、計測の継続を計測用パターン投影制御部153及びガイドパターン描画制御部152に通知する。計測用パターン投影制御部153は、この通知に応じて計測用パターンの投影を停止する。また、処理はS104へと進む。   For example, when the measurer moves the three-dimensional measuring apparatus 100 to measure the target object from another angle and continues the three-dimensional measurement from another position, the measuring unit 154 operates the measurer (guide). It is determined that the measurement is to be continued in response to a pattern redisplay operation. In this case, the measurement unit 154 notifies the measurement pattern projection control unit 153 and the guide pattern drawing control unit 152 of the continuation of the measurement. The measurement pattern projection control unit 153 stops projecting the measurement pattern in response to the notification. Further, the process proceeds to S104.

一方、ある対象物の三次元計測作業が完了して計測者が計測を終える場合、計測部154は、計測者の操作(三次元計測装置100の電源オフなど)に応じて、計測を継続しないと判定する。この場合、計測部154は、計測の終了を計測用パターン投影制御部153に通知する。計測用パターン投影制御部153は、この通知に応じて計測用パターンの投影を終了する。そして、図9に示した一連の処理は終了する。   On the other hand, when the measurer finishes the measurement by completing the three-dimensional measurement work on a certain object, the measurement unit 154 does not continue the measurement in accordance with the operation of the measurer (such as turning off the power of the three-dimensional measurement device 100). Is determined. In this case, the measurement unit 154 notifies the measurement pattern projection control unit 153 of the end of the measurement. The measurement pattern projection control unit 153 ends the projection of the measurement pattern in response to the notification. Then, a series of processes illustrated in FIG. 9 ends.

上記のように、対象物に対して二次元的な広がりを持った目に見えるガイドパターンを表示することで、計測者がガイドパターンを見失うことが少なくなる。また、ガイドパターンのサイズから、計測者が三次元計測装置100と対象物との間の距離を容易に推測できるようになり、三次元計測装置100の位置調整が容易になる。また、ガイドパターンの傾きから三次元計測装置100の傾きを推測することが容易になり、三次元計測装置100の傾き調整が容易になる。その結果、計測者は、三次元計測装置100を効率良く移動させて容易に好適な撮影範囲へと対象物を導入することが可能になる。サイズが小さい物、細い物、複雑な凹凸がある物、或いはそれらの一部を対象にする場合には、上記のようなガイドパターンを目に見える形で表示することが特に有効である。   As described above, by displaying a visible guide pattern having a two-dimensional spread with respect to the target object, the measurer is less likely to lose sight of the guide pattern. In addition, the measurer can easily estimate the distance between the three-dimensional measuring device 100 and the object from the size of the guide pattern, and the position of the three-dimensional measuring device 100 can be easily adjusted. In addition, the inclination of the three-dimensional measuring device 100 can be easily estimated from the inclination of the guide pattern, and the inclination of the three-dimensional measuring device 100 can be easily adjusted. As a result, the measurer can efficiently move the three-dimensional measuring apparatus 100 and easily introduce the target into a suitable photographing range. When an object having a small size, a thin object, an object having complicated irregularities, or a part thereof is displayed, it is particularly effective to display the above guide pattern in a visible form.

以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例又は修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属する。   Although the preferred embodiments of the present invention have been described with reference to the accompanying drawings, the present invention is not limited to such examples. It is obvious that those skilled in the art can conceive various changes or modifications within the scope of the claims, and these naturally belong to the technical scope of the present invention.

例えば、上記の説明では、ガイドパターンを表示する手段として、レーザ光走査式プロジェクタを例に挙げたが、レーザ光走査式プロジェクタ以外の任意の光源を適用することも可能である。ガイドパターンを表示する手段として、例えば、液晶やDMD(Digital Mirror Device)を利用して画像を投影するタイプのプロジェクタを適用することも可能である。このタイプのプロジェクタを適用する場合、撮像装置102a、103aの光軸が交わる位置の近傍に焦点を合わせることで、レーザ光走査式プロジェクタと同様に利用することが可能になる。但し、レーザ光のように線幅が狭く直進性の高い光を出力可能な光源を利用することで、焦点を合わせる手間を省略できるというメリットが得られる。   For example, in the above description, a laser light scanning type projector has been described as an example of the means for displaying the guide pattern, but any light source other than the laser light scanning type projector can be applied. As a means for displaying the guide pattern, for example, a projector that projects an image using a liquid crystal or a DMD (Digital Mirror Device) can be applied. When this type of projector is applied, by focusing on the vicinity of the position where the optical axes of the imaging devices 102a and 103a intersect, it is possible to use the projector in the same manner as a laser beam scanning projector. However, by using a light source capable of outputting light having a narrow line width and high linearity, such as laser light, there is an advantage that the trouble of focusing can be omitted.

また、上記の説明では、撮像装置102a、103aに単焦点レンズを装着することを想定して説明したが、撮像装置102a、103aにズームレンズが装着されていてもよい。ズームレンズを適用する場合でも、計測に利用する焦点距離が設定されれば、単焦点レンズを適用する場合と同様に、合焦範囲及び撮影画角を計算することができ、上述した方法(レンズ情報151cに基づく制御)を同様に適用できる。   Further, in the above description, a description has been given assuming that a single focus lens is mounted on the imaging devices 102a and 103a. However, a zoom lens may be mounted on the imaging devices 102a and 103a. Even when a zoom lens is applied, if the focal length used for measurement is set, the focusing range and the angle of view can be calculated in the same manner as when a single focus lens is applied. Control based on the information 151c) can be similarly applied.

これらの変形例についても当然に本実施形態の技術的範囲に属する。   Naturally, these modifications also belong to the technical scope of the present embodiment.

10 計測領域
20a、20b 対象物
100 三次元計測装置
101 パターン投影機
102a、103a 撮像装置
102b、103b レーザプロジェクタ
104a、104b 支持部材
105 制御装置
121、131 二次元パターン
151 記憶部
151a ガイドパターンの情報
151b 計測用パターンの情報
151c レンズ情報
152 ガイドパターン描画制御部
153 計測用パターン投影制御部
154 計測部
Reference Signs List 10 measurement area 20a, 20b object 100 three-dimensional measurement device 101 pattern projector 102a, 103a imaging device 102b, 103b laser projector 104a, 104b support member 105 control device 121, 131 two-dimensional pattern 151 storage unit 151a guide pattern information 151b Measurement pattern information 151c Lens information 152 Guide pattern drawing control unit 153 Measurement pattern projection control unit 154 Measurement unit

Claims (11)

対象物に計測用パターンを投影するパターン投影部と、
前記計測用パターンが投影された前記対象物を撮影する第1及び第2の撮像部と、
前記第1の撮像部の光軸方向に二次元パターンを投影可能な第1のプロジェクタと、
前記第2の撮像部の光軸方向に二次元パターンを投影可能な第2のプロジェクタと、
前記第1のプロジェクタを制御して第1の二次元パターンを投影し、前記第2のプロジェクタを制御して第2の二次元パターンを投影する制御部と、を備え、
前記第1の二次元パターンは、第1の点又は前記第1の点を通る直線について対称な形状を有する第1の図形の少なくとも一部を含み、
前記第2の二次元パターンは、第2の点又は前記第2の点を通る直線について対称な形状を有する第2の図形の少なくとも一部を含み、
前記制御部は、前記第1の点と前記第1の撮像部の光軸方向とが一致するように前記第1のプロジェクタを制御し、前記第2の点と前記第2の撮像部の光軸方向とが一致するように前記第2のプロジェクタを制御する
三次元計測装置。
A pattern projecting unit that projects a measurement pattern onto the target object,
First and second imaging units for imaging the target object on which the measurement pattern is projected,
A first projector that can project a two-dimensional pattern in an optical axis direction of the first imaging unit;
A second projector capable of projecting a two-dimensional pattern in the optical axis direction of the second imaging unit;
A control unit that controls the first projector to project a first two-dimensional pattern, and controls the second projector to project a second two-dimensional pattern.
The first two-dimensional pattern includes at least a part of a first figure having a shape symmetric about a first point or a straight line passing through the first point,
The second two-dimensional pattern includes at least a part of a second graphic having a shape symmetric about a second point or a straight line passing through the second point,
The control unit controls the first projector so that the first point and the optical axis direction of the first imaging unit match, and controls the second point and the light of the second imaging unit. A three-dimensional measuring device for controlling the second projector so that the axial direction coincides with the axial direction.
前記第1の図形は、前記第1の点を通る第1の直線について対称に配置された複数の線分を含む場合、前記第1の点で前記第1の直線と交わる第2の直線についての対称性を有するか、又は前記第1の点についての対称性を有する図形をさらに含み、
前記第2の図形は、前記第2の点を通る第3の直線について対称に配置された複数の線分を含む場合、前記第2の点で前記第3の直線と交わる第4の直線についての対称性を有するか、又は前記第2の点についての対称性を有する図形をさらに含む
請求項1に記載の三次元計測装置。
When the first graphic includes a plurality of line segments symmetrically arranged with respect to a first straight line passing through the first point, a second straight line intersecting the first straight line at the first point Or further comprising a graphic having symmetry of the first point or having symmetry about the first point,
When the second graphic includes a plurality of line segments arranged symmetrically with respect to a third straight line passing through the second point, a fourth straight line intersecting the third straight line at the second point The three-dimensional measurement apparatus according to claim 1, further comprising: a figure having symmetry of the second point or a figure having symmetry with respect to the second point.
前記第1の図形及び前記第2の図形の少なくとも一方は、1以上の円又は楕円を含む
請求項1又は2に記載の三次元計測装置。
The three-dimensional measurement device according to claim 1, wherein at least one of the first graphic and the second graphic includes one or more circles or ellipses.
前記第1の二次元パターンが前記第1の点で交差する複数の線分を含むか、
前記第2の二次元パターンが前記第2の点で交差する複数の線分を含むか、又は、
前記第1の二次元パターンが前記第1の点で交差する複数の線分を含み、かつ、前記第2の二次元パターンが前記第2の点で交差する複数の線分を含む
請求項1〜3のいずれか1項に記載の三次元計測装置。
The first two-dimensional pattern includes a plurality of line segments that intersect at the first point;
The second two-dimensional pattern includes a plurality of line segments that intersect at the second point, or
The first two-dimensional pattern includes a plurality of line segments that intersect at the first point, and the second two-dimensional pattern includes a plurality of line segments that intersect at the second point. The three-dimensional measuring device according to any one of claims 3 to 3.
前記第1の二次元パターンと前記第2の二次元パターンとは異なる色である
請求項1〜4のいずれか1項に記載の三次元計測装置。
The three-dimensional measuring apparatus according to claim 1, wherein the first two-dimensional pattern and the second two-dimensional pattern have different colors.
前記第1の二次元パターンと前記第2の二次元パターンとは異なる形状である
請求項1〜5のいずれか1項に記載の三次元計測装置。
The three-dimensional measuring apparatus according to any one of claims 1 to 5, wherein the first two-dimensional pattern and the second two-dimensional pattern have different shapes.
前記第1の図形と前記第2の図形とは同じ形状である
請求項1〜6のいずれか1項に記載の三次元計測装置。
The three-dimensional measuring apparatus according to any one of claims 1 to 6, wherein the first graphic and the second graphic have the same shape.
前記第1及び第2の撮像部が利用するレンズの撮影画角に関する情報が格納される記憶部をさらに備え、
前記制御部は、前記レンズの撮影画角に対応するサイズで前記第1の二次元パターン及び前記第2の二次元パターンを投影する
請求項1〜7のいずれか1項に記載の三次元計測装置。
A storage unit for storing information relating to a shooting angle of view of a lens used by the first and second imaging units;
The three-dimensional measurement according to any one of claims 1 to 7, wherein the control unit projects the first two-dimensional pattern and the second two-dimensional pattern at a size corresponding to a shooting angle of view of the lens. apparatus.
前記第1のプロジェクタ及び前記第2のプロジェクタは、レーザ光を出力するレーザプロジェクタである
請求項1〜8のいずれか1項に記載の三次元計測装置。
The three-dimensional measuring apparatus according to any one of claims 1 to 8, wherein the first projector and the second projector are laser projectors that output laser light.
コンピュータが、
第1の撮像部の光軸方向に二次元パターンを投影可能な第1のプロジェクタを制御して、第1の点又は前記第1の点を通る直線について対称な形状を有する第1の図形の少なくとも一部を含む第1の二次元パターンを、前記第1の点と前記第1の撮像部の光軸方向とが一致するように投影し、
第2の撮像部の光軸方向に二次元パターンを投影可能な第2のプロジェクタを制御して、第2の点又は前記第2の点を通る直線について対称な形状を有する第2の図形の少なくとも一部を含む第2の二次元パターンを、前記第2の点と前記第2の撮像部の光軸方向とが一致するように投影し、
前記第1の二次元パターン及び前記第2の二次元パターンの投影を停止後に、対象物に向けて計測用パターンを投影し、
前記第1の撮像部及び前記第2の撮像部を制御して前記計測用パターンが投影された前記対象物を撮影し、前記対象物の撮影データから前記対象物の形状を計測する
処理を実行する、三次元計測方法。
Computer
A first projector capable of projecting a two-dimensional pattern in the optical axis direction of the first imaging unit is controlled to generate a first figure having a shape symmetrical with respect to a first point or a straight line passing through the first point. Projecting a first two-dimensional pattern including at least a part such that the first point and the optical axis direction of the first imaging unit coincide with each other;
By controlling a second projector capable of projecting a two-dimensional pattern in the optical axis direction of the second imaging unit, a second figure having a symmetrical shape with respect to a second point or a straight line passing through the second point is formed. Projecting a second two-dimensional pattern including at least a part such that the second point coincides with the optical axis direction of the second imaging unit;
After stopping the projection of the first two-dimensional pattern and the second two-dimensional pattern, project a measurement pattern toward the object,
Executing a process of controlling the first imaging unit and the second imaging unit to photograph the target on which the measurement pattern is projected, and measuring the shape of the target from photographing data of the target; , Three-dimensional measurement method.
コンピュータに、
第1の撮像部の光軸方向に二次元パターンを投影可能な第1のプロジェクタを制御して、第1の点又は前記第1の点を通る直線について対称な形状を有する第1の図形の少なくとも一部を含む第1の二次元パターンを、前記第1の点と前記第1の撮像部の光軸方向とが一致するように投影し、
第2の撮像部の光軸方向に二次元パターンを投影可能な第2のプロジェクタを制御して、第2の点又は前記第2の点を通る直線について対称な形状を有する第2の図形の少なくとも一部を含む第2の二次元パターンを、前記第2の点と前記第2の撮像部の光軸方向とが一致するように投影し、
前記第1の二次元パターン及び前記第2の二次元パターンの投影を停止後に、対象物に向けて計測用パターンを投影し、
前記第1の撮像部及び前記第2の撮像部を制御して前記計測用パターンが投影された前記対象物を撮影し、前記対象物の撮影データから前記対象物の形状を計測する
処理を実行させる、プログラム。
On the computer,
A first projector capable of projecting a two-dimensional pattern in the optical axis direction of the first imaging unit is controlled to generate a first figure having a shape symmetrical with respect to a first point or a straight line passing through the first point. Projecting a first two-dimensional pattern including at least a part such that the first point and the optical axis direction of the first imaging unit coincide with each other;
By controlling a second projector capable of projecting a two-dimensional pattern in the optical axis direction of the second imaging unit, a second figure having a symmetrical shape with respect to a second point or a straight line passing through the second point is formed. Projecting a second two-dimensional pattern including at least a part such that the second point coincides with the optical axis direction of the second imaging unit;
After stopping the projection of the first two-dimensional pattern and the second two-dimensional pattern, project a measurement pattern toward the object,
Executing a process of controlling the first imaging unit and the second imaging unit to photograph the target on which the measurement pattern is projected, and measuring the shape of the target from photographing data of the target; Let the program.
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