JP2020041929A - Automatic analyzer - Google Patents

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あずさ 山田
Azusa Yamada
あずさ 山田
前田 淳
Atsushi Maeda
淳 前田
利幸 稲邊
Toshiyuki Inabe
利幸 稲邊
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Abstract

To sensitively detect such abnormalities of a reaction chamber as scratches or dirt on the reaction chamber or air bubbles in a reaction solution.SOLUTION: A trigger signal is generated when the optical axis extending from a light source to a photometer is passing through the liquid in a reaction chamber, the voltage equal to the output voltage of the photometer 41 at the timing T1 for the trigger signal is generated as a reference voltage Vr, and whether there are abnormalities in the reaction container is determined on the basis of an amplified waveform 204 formed by amplifying the difference between the output voltage of the photometer and the reference voltage Vr.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本発明は、血液、尿等の生体サンプルの定性・定量分析を行う自動分析装置に係り、特に、反応容器の微小な傷や汚れ、及び反応容器内の溶液中の気泡等を検出する自動分析装置に関する。   The present invention relates to an automatic analyzer that performs qualitative / quantitative analysis of biological samples such as blood and urine, and particularly to an automatic analyzer that detects minute scratches and dirt on a reaction vessel, and bubbles in a solution in the reaction vessel. Related to the device.

自動分析装置は、血液、尿等の生体サンプルを試薬と反応させた反応液に光を照射し、透過光あるいは散乱光を測定して得られるデータに基づいて、目的成分の濃度や有無を求めるものである。反応液を収容する反応容器は、回転可能な反応ディスクの円周上に連続的に並べられており、反応ディスクの回転に伴って、検出すべき光の光軸を移動させながら測定が行われる。   The automatic analyzer irradiates a reaction solution obtained by reacting a biological sample such as blood or urine with a reagent with light, and calculates the concentration or presence or absence of a target component based on data obtained by measuring transmitted light or scattered light. Things. The reaction vessels containing the reaction solution are continuously arranged on the circumference of the rotatable reaction disk, and the measurement is performed while moving the optical axis of the light to be detected with the rotation of the reaction disk. .

近年、自動分析装置には、ますます高精度で信頼性の高い分析結果を提供することが求められている。ここで、分析に用いられる反応容器に微小な傷や汚れが含まれていた場合、分析結果のばらつきの要因となるおそれがあることから、事前に異常を検出する、あるいはこれらの影響を考慮した測定データを算出することが重要となる。   In recent years, automatic analyzers have been required to provide more accurate and reliable analysis results. Here, if the reaction vessel used for the analysis contains minute scratches or dirt, it may cause a variation in the analysis result. It is important to calculate the measurement data.

特許文献1には、反応液を収容する反応容器の一端から他端までの全区間に亘って透過光の測光を行い、得られた測光データにおける光度の減少に基づいて異物を検出する技術が開示されている。   Patent Literature 1 discloses a technique for performing photometry of transmitted light over an entire section from one end to the other end of a reaction vessel containing a reaction solution, and detecting a foreign substance based on a decrease in luminous intensity in obtained photometric data. It has been disclosed.

特許文献2には、キュベットホイール上にキュベットを配置し、キュベットホイールを回転させ、キュベットホイールと共に回転するキュベット中の反応液の吸光度を測光する分析方法において、キュベットが測光部を横切る間の吸光度を測光し、この期間の測光波形を連続的に取得して記憶したのち、同一キュベット、同一波長における比較元の測光データと比較対象の測光データとの二つの測光波形を用いてマッチングの度合いを計算し、得られたマッチング度合いに基づいてエラーを判定する技術が開示されている。   Patent Literature 2 discloses an analytical method in which a cuvette is arranged on a cuvette wheel, the cuvette wheel is rotated, and the absorbance of a reaction solution in the cuvette rotating with the cuvette wheel is measured. After measuring and continuously acquiring and storing the photometric waveforms during this period, the degree of matching is calculated using two photometric waveforms of the photometric data of the comparison source and the photometry data of the comparison object at the same cuvette and wavelength. In addition, a technique for determining an error based on the obtained matching degree is disclosed.

特開2007−198739号公報JP 2007-198739 A 特開2009−281941号公報JP 2009-281941 A

特許文献1に記載の技術では、反応液中の光軸の走査上に異物等が存在した場合に、透過光の光度が減少することを利用して、光度推移の波形解析によりこれを検出している。光度推移を波形解析するためには、走査中のデータを記録するメモリが必要となる。特に微小な傷や汚れを検出するためには、時間分解に従いその容量を大きくしなければならず、また、記録したデータを高速に処理する必要がある。   In the technique described in Patent Document 1, when a foreign substance or the like is present on the optical axis in the reaction solution during scanning, utilizing the fact that the luminous intensity of the transmitted light decreases, this is detected by waveform analysis of luminous intensity transition. ing. In order to perform a waveform analysis of the light intensity transition, a memory for recording data during scanning is required. In particular, in order to detect minute scratches and dirt, it is necessary to increase the capacity in accordance with time resolution and to process recorded data at high speed.

特許文献2に記載の技術では、比較元の測光データと比較対象の測光データとの二つの測光波形に基づいて、マッチングの度合いを計算している。この場合も、傷が微小である場合、これによる波形の変化は小さいと予想され、異常が検出できないおそれがある。   In the technique described in Patent Document 2, the degree of matching is calculated based on two photometric waveforms, that is, photometric data of a comparison source and photometric data of a comparison target. Also in this case, if the flaw is minute, the change in the waveform due to this is expected to be small, and the abnormality may not be detected.

本発明の一実施態様である自動分析装置は、第1の反応容器を含む複数の反応容器が保持され、間欠回転する反応ディスクと、光源と、光源と対向して配置される光度計と、ブランク水またはサンプルを反応容器に吐出するサンプル分注機構と、反応容器の異常を検出する異常検出回路と、コンピュータとを有し、反応ディスクの回転動作により第1の反応容器が光源と光度計との間を横切るように移動し、異常検出回路は、光源から光度計に向かう光軸が第1の反応容器に収容された液体を通過しているタイミングでトリガ信号を生成するトリガ信号生成回路と、トリガ信号に応じたタイミングでの光度計の出力電圧と等しい電圧を基準電圧として生成する基準電圧生成回路と、光度計の出力電圧と基準電圧との差分を増幅する差動増幅回路とを有し、コンピュータは、前記異常検出回路の前記差動増幅回路の出力に基づき、前記第1の反応容器における異常の有無を判定する。   An automatic analyzer according to an embodiment of the present invention includes a plurality of reaction vessels including a first reaction vessel, a reaction disk that rotates intermittently, a light source, and a photometer disposed to face the light source, A sample dispensing mechanism for discharging blank water or a sample into the reaction vessel, an abnormality detection circuit for detecting an abnormality in the reaction vessel, and a computer, wherein the first reaction vessel is driven by a light source and a photometer by rotating the reaction disk. A trigger signal generating circuit that generates a trigger signal at a timing when the optical axis from the light source to the photometer passes through the liquid contained in the first reaction container. A reference voltage generation circuit that generates a voltage equal to the output voltage of the photometer at a timing according to the trigger signal as a reference voltage, and a differential amplification circuit that amplifies a difference between the output voltage of the photometer and the reference voltage. Has the door, the computer, based on the output of the differential amplifier circuit of the abnormality detection circuit determines the presence or absence of abnormality in the first reaction vessel.

反応容器の傷や汚れ、あるいは反応液の気泡といった反応容器の異常を精度よく検出することができるため、高精度で信頼性の高い分析結果を得ることができる。   Since abnormalities in the reaction vessel such as scratches and dirt on the reaction vessel or bubbles in the reaction solution can be detected with high accuracy, highly accurate and highly reliable analysis results can be obtained.

その他の課題と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。   Other problems and novel features will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

自動分析装置の基本構成を示す図である。It is a figure showing the basic composition of an automatic analyzer. 反応容器と測光波形との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between a reaction container and a photometric waveform. 検知器、反応セル、検知板の位置関係を示す図である。It is a figure which shows the positional relationship of a detector, a reaction cell, and a detection plate. 微小な傷や汚れを有する反応容器と測光波形の関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the reaction container which has a minute flaw or dirt, and a photometric waveform. 異常検出回路のブロック図(第1構成例)である。FIG. 3 is a block diagram (first configuration example) of an abnormality detection circuit. 異常検出回路のブロック図(第2構成例)である。It is a block diagram (2nd structural example) of an abnormality detection circuit. 異常検出回路のブロック図(第3構成例)である。FIG. 10 is a block diagram (third configuration example) of an abnormality detection circuit. 反応容器の異常判定を行うフローチャートである。It is a flowchart which performs abnormality determination of a reaction container. 反応容器の異常判定、気泡検知を行うフローチャートである。It is a flowchart which performs abnormality determination of a reaction container and bubble detection.

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本実施の形態を説明するための全図において同一機能を有するものは原則として同一の符号を付すようにし、繰り返しの説明は省略するものとする。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In all of the drawings for describing the present embodiment, components having the same function will be denoted by the same reference symbol in principle, and repeated description will be omitted.

図1は、本発明の実施の形態に係る、ターンテーブル方式の自動分析装置の基本構成を示す図である。分析装置1は、主に、反応ディスク10、サンプルディスク20、第1試薬ディスク30a、第2試薬ディスク30b、光源40、光度計41、およびコンピュータ50から構成されている。   FIG. 1 is a diagram showing a basic configuration of a turntable type automatic analyzer according to an embodiment of the present invention. The analyzer 1 mainly includes a reaction disk 10, a sample disk 20, a first reagent disk 30a, a second reagent disk 30b, a light source 40, a photometer 41, and a computer 50.

反応ディスク10は、間欠回転可能に設けられており、ディスク上に透光性材料からなる多数の反応容器11が周方向に沿って保持されている。反応容器11は、恒温槽12により所定温度(例えば37℃)に維持されている。恒温槽12内の流体は、恒温維持装置13により温度調整されている。   The reaction disk 10 is provided so as to be intermittently rotatable, and a number of reaction vessels 11 made of a translucent material are held on the disk along the circumferential direction. The reaction vessel 11 is maintained at a predetermined temperature (for example, 37 ° C.) by a thermostat 12. The temperature of the fluid in the thermostat 12 is adjusted by a thermostat 13.

サンプルディスク20上には、血液、尿等の生体サンプルを収容する多数の検体容器21が、図示の例では二重に、周方向に沿って載置されている。また、サンプルディスク20の近傍には、サンプル分注機構22が配置されている。このサンプル分注機構22は、可動アーム23と、これに取り付けられたピペットノズル24とから主に構成されている。この構成により、サンプル分注機構22は、サンプル分注時にはピペットノズル24が可動アーム23により分注位置に適宜移動して、サンプルディスク20の吸入位置に位置する検体容器21から所定量のサンプルを吸入し、そのサンプルを反応ディスク10上の吐出位置にある反応容器11内に吐出する。   On the sample disk 20, a number of sample containers 21 for storing biological samples such as blood and urine are mounted in the illustrated example in a double manner along the circumferential direction. A sample dispensing mechanism 22 is arranged near the sample disk 20. The sample dispensing mechanism 22 mainly includes a movable arm 23 and a pipette nozzle 24 attached thereto. With this configuration, at the time of sample dispensing, the pipette nozzle 24 is appropriately moved to the dispensing position by the movable arm 23 when the sample is dispensed, and the sample dispensing mechanism 22 transfers a predetermined amount of sample from the sample container 21 located at the suction position of the sample disk 20. After inhaling, the sample is discharged into the reaction vessel 11 at the discharge position on the reaction disk 10.

第1試薬ディスク30a、第2試薬ディスク30bは、第1試薬保冷庫31a、第2試薬保冷庫31b内部にそれぞれ配置されている。この第1試薬保冷庫31a、第2試薬保冷庫31bには、バーコードのように試薬識別情報を表示したラベルが貼られた複数の第1試薬ボトル32a、第2試薬ボトル32bが、第1試薬ディスク30a、第2試薬ディスク30bの周方向に沿ってそれぞれ載置されている。これらの第1試薬ボトル32a、第2試薬ボトル32bには、分析装置1により分析され得る分析項目に対応する試薬液が収容されている。また、第1試薬保冷庫31a、第2試薬保冷庫31bには、第1バーコード読み取り装置33a、第2バーコード読み取り装置33bが付属されており、これらの装置が試薬登録時に第1試薬ボトル32a、第2試薬ボトル32bの外壁に表示されているバーコードを読み取る。読み取られた試薬情報は、第1試薬ディスク30a、第2試薬ディスク30b上のポジションとともにメモリ56に登録される。   The first reagent disk 30a and the second reagent disk 30b are disposed inside the first reagent cool box 31a and the second reagent cool box 31b, respectively. In the first reagent cool box 31a and the second reagent cool box 31b, a plurality of first reagent bottles 32a and second reagent bottles 32b each having a label indicating reagent identification information such as a barcode are attached to the first reagent cool box 31b. The reagent disk 30a and the second reagent disk 30b are placed along the circumferential direction. The first reagent bottle 32a and the second reagent bottle 32b contain a reagent solution corresponding to an analysis item that can be analyzed by the analyzer 1. The first reagent cool box 31a and the second reagent cool box 31b are provided with a first barcode reading device 33a and a second barcode reading device 33b, respectively. 32a, the barcode displayed on the outer wall of the second reagent bottle 32b is read. The read reagent information is registered in the memory 56 together with the positions on the first reagent disk 30a and the second reagent disk 30b.

また、第1試薬ディスク30a、第2試薬ディスク30bの近傍には、サンプル分注機構22と概ね同様の機構をなす第1試薬分注機構34a、第2試薬分注機構34bがそれぞれ配置されている。試薬分注時には、これらが備えるピペットノズルにより、反応ディスク10上の試薬受け入れ位置に位置付けられる検査項目に応じた第1試薬ボトル32a、第2試薬ボトル32bから試薬を吸入し、該当する反応容器11内へ吐出する。   Further, near the first reagent disk 30a and the second reagent disk 30b, a first reagent dispensing mechanism 34a and a second reagent dispensing mechanism 34b, which are substantially the same as the sample dispensing mechanism 22, are disposed, respectively. I have. At the time of dispensing reagents, the pipette nozzles provided therein aspirate the reagent from the first reagent bottle 32a and the second reagent bottle 32b corresponding to the test item positioned at the reagent receiving position on the reaction disk 10, and the corresponding reaction vessel 11 Discharge into the inside.

反応ディスク10、第1試薬ディスク30a、第2試薬ディスク30bおよび第1試薬分注機構34a、第2試薬分注機構34bに囲まれる位置には、第1攪拌機構35a、第2攪拌機構35bが配置されている。反応容器11内に収容されたサンプルと試薬との反応液は、この第1攪拌機構35a、第2攪拌機構35bにより攪拌されて反応が促進される。   At positions surrounded by the reaction disk 10, the first reagent disk 30a, the second reagent disk 30b, the first reagent dispensing mechanism 34a, and the second reagent dispensing mechanism 34b, a first stirring mechanism 35a and a second stirring mechanism 35b are provided. Are located. The reaction solution of the sample and the reagent accommodated in the reaction vessel 11 is stirred by the first stirring mechanism 35a and the second stirring mechanism 35b to promote the reaction.

光源40は反応ディスク10の中心部付近に、光度計41は反応ディスク10の外周側に配置されており、攪拌を終えた反応容器11は光源40と光度計41とによって挟まれた測光位置を通るように回転移動する。光源40と光度計41とにより光検出系を構成する。光度計41は検出器が複数設けられており、透過光と散乱光の両方を検出する機能を備えている。各反応容器11内におけるサンプルと試薬との反応液は、反応ディスク10の回転動作中に光度計41の前を横切る度に測光される。サンプル毎に測定された散乱光のアナログ信号は、A/D(アナログ/デジタル)変換器54及び異常検出回路60に入力される。異常検出回路60は反応容器11の微小な傷や汚れ、あるいは反応容器11に収容された反応液中の微細な気泡を検出するための回路であり、その詳細については後述する。   The light source 40 is disposed near the center of the reaction disk 10, and the photometer 41 is disposed on the outer peripheral side of the reaction disk 10. The reaction vessel 11 after stirring is positioned at a photometric position sandwiched between the light source 40 and the photometer 41. Rotate to pass. The light source 40 and the photometer 41 constitute a light detection system. The photometer 41 is provided with a plurality of detectors and has a function of detecting both transmitted light and scattered light. The reaction liquid of the sample and the reagent in each reaction vessel 11 is measured every time it crosses the front of the photometer 41 during the rotation operation of the reaction disk 10. The analog signal of the scattered light measured for each sample is input to an A / D (analog / digital) converter 54 and an abnormality detection circuit 60. The abnormality detection circuit 60 is a circuit for detecting minute scratches and dirt on the reaction vessel 11 or fine bubbles in the reaction solution contained in the reaction vessel 11, and details thereof will be described later.

使用済みの反応容器11は、反応ディスク10の近傍に配置された反応容器洗浄機構36により、内部が洗浄されて繰り返しの使用を可能にする。   The inside of the used reaction vessel 11 is cleaned by a reaction vessel cleaning mechanism 36 arranged near the reaction disk 10 so that it can be used repeatedly.

次に、分析装置1における制御系及び信号処理系について簡単に説明する。コンピュータ50は、インターフェース51を介して、サンプル分注制御部52、試薬分注制御部53、A/D変換器54、異常検出回路60に接続されている。コンピュータ50は、サンプル分注制御部52に対して指令を送り、サンプルの分注動作を制御する。また、コンピュータ50は、試薬分注制御部53に対して指令を送り、試薬の分注動作を制御する。A/D変換器54によってデジタル信号に変換された測光値は、コンピュータ50に取り込まれる。   Next, a control system and a signal processing system in the analyzer 1 will be briefly described. The computer 50 is connected to a sample dispensing control unit 52, a reagent dispensing control unit 53, an A / D converter 54, and an abnormality detection circuit 60 via an interface 51. The computer 50 sends a command to the sample dispensing control unit 52 to control the sample dispensing operation. Further, the computer 50 sends a command to the reagent dispensing control unit 53 to control the dispensing operation of the reagent. The photometric value converted into a digital signal by the A / D converter 54 is taken into the computer 50.

インターフェース51には、印字するためのプリンタ55、記憶装置であるメモリ56や外部出力メディア57、操作指令等を入力するためのキーボード58、画面表示するための表示装置59が接続されている。表示装置59としては、CRTディスプレイや液晶ディスプレイなどが採用できる。メモリ56は、例えばハードディスクメモリまたは外部メモリにより構成される。メモリ56には、各操作者のパスワード、各画面の表示レベル、分析パラメータ、分析項目依頼内容、キャリブレーション結果、分析結果等の情報が記憶される。   The interface 51 is connected to a printer 55 for printing, a memory 56 as a storage device, an external output medium 57, a keyboard 58 for inputting operation commands and the like, and a display device 59 for displaying a screen. As the display device 59, a CRT display, a liquid crystal display, or the like can be employed. The memory 56 is composed of, for example, a hard disk memory or an external memory. The memory 56 stores information such as the password of each operator, the display level of each screen, analysis parameters, analysis item request contents, calibration results, and analysis results.

次に、分析装置1におけるサンプルの分析動作を説明する。分析装置1によって分析可能な項目に関する分析パラメータは、予めキーボード58等の情報入力装置を介して入力され、メモリ56に記憶されている。操作者は、操作機能画面を用いて各サンプルに依頼されている検査項目を選択する。   Next, the analysis operation of the sample in the analyzer 1 will be described. Analysis parameters relating to items that can be analyzed by the analyzer 1 are input in advance via an information input device such as the keyboard 58 and stored in the memory 56. The operator selects an inspection item requested for each sample using the operation function screen.

この際に、患者IDなどの情報もキーボード58から入力される。各サンプルに対して指示された検査項目を分析するために、サンプル分注機構22のピペットノズル24は、分析パラメータにしたがって、検体容器21から反応容器11へ所定量のサンプルを分注する。   At this time, information such as a patient ID is also input from the keyboard 58. In order to analyze the test item designated for each sample, the pipette nozzle 24 of the sample dispensing mechanism 22 dispenses a predetermined amount of sample from the sample container 21 to the reaction container 11 according to the analysis parameters.

サンプルが分注された反応容器11は、反応ディスク10の回転によって移送され、試薬受け入れ位置に停止する。第1試薬分注機構34a、第2試薬分注機構34bのピペットノズルは、該当する検査項目の分析パラメータにしたがって、反応容器11に所定量の試薬液を分注する。サンプルと試薬の分注順序は、この例とは逆に、サンプルより試薬が先であってもよい。   The reaction container 11 into which the sample has been dispensed is transferred by rotation of the reaction disk 10 and stops at the reagent receiving position. The pipette nozzles of the first reagent dispensing mechanism 34a and the second reagent dispensing mechanism 34b dispense a predetermined amount of the reagent solution into the reaction container 11 according to the analysis parameters of the corresponding test item. Contrary to this example, the dispensing order of the sample and the reagent may be such that the reagent precedes the sample.

その後、第1攪拌機構35a、第2攪拌機構35bにより、サンプルと試薬との攪拌が行われ、混合される。この反応容器11が、測光位置を横切る時、光度計41により反応液の透過光および散乱光が測光される。測光された透過光および散乱光は、A/D変換器54により光量に比例した数値に変換され、インターフェース51を経由して、コンピュータ50に取り込まれる。   Thereafter, the sample and the reagent are stirred and mixed by the first stirring mechanism 35a and the second stirring mechanism 35b. When the reaction container 11 crosses the photometric position, the transmitted light and the scattered light of the reaction solution are measured by the photometer 41. The measured transmitted light and scattered light are converted into numerical values proportional to the light amount by the A / D converter 54, and are taken into the computer 50 via the interface 51.

この変換された数値を用い、検査項目毎に指定された分析法により予め測定しておいた検量線に基づき、濃度データが算出される。各検査項目の分析結果としての成分濃度データは、プリンタ55や表示装置59の画面に出力される。   Using this converted numerical value, concentration data is calculated based on a calibration curve measured in advance by an analysis method designated for each test item. The component concentration data as the analysis result of each inspection item is output to the screen of the printer 55 or the display device 59.

以上の測定動作が実行される前に、操作者は、分析測定に必要な種々のパラメータの設定や試料の登録を、表示装置59の操作画面を介して行う。また、操作者は、測定後の分析結果を表示装置59上の操作画面により確認する。   Before the above-described measurement operation is performed, the operator sets various parameters necessary for the analysis and measurement and registers the sample via the operation screen of the display device 59. The operator confirms the analysis result after the measurement on the operation screen on the display device 59.

図2は、分析装置1においてブランク水を含んだ反応容器11の散乱光を測光した際の測光波形を説明する図である。ここで、測光波形とは、1つの波長について測光を行った場合に検出される光の強度に関する情報(例えば、電圧、電流、カウント値など)の時間変化のことである。分析装置1の光検出系は、透過光および散乱光を測光する装置であり、透過光および散乱光どちらにも応用できるが、ここでは散乱光を測光した例を用いて説明する。図2には、測光波形104と測光波形104に対応する反応容器11の正面図100とを併せて示している。   FIG. 2 is a diagram illustrating a photometric waveform when the scattered light of the reaction vessel 11 containing the blank water is measured in the analyzer 1. Here, the photometric waveform refers to a time change of information (for example, a voltage, a current, a count value, etc.) regarding the intensity of light detected when photometry is performed for one wavelength. The light detection system of the analyzer 1 is a device that measures transmitted light and scattered light, and can be applied to both transmitted light and scattered light. Here, an example in which scattered light is measured will be described. FIG. 2 also shows a photometric waveform 104 and a front view 100 of the reaction vessel 11 corresponding to the photometric waveform 104.

反応容器11にはブランク水102が入っている。反応容器11は、反応ディスク10に円周上に配置され、回転しながら測光されるため、反応容器11およびブランク水102による散乱光の強度測定は、光源40から光度計41に向かう光軸の走査方向103に沿って反応容器11を横切るように行なわれる。このときの散乱光の強度測定の結果の例が測光波形104である。測光波形104の縦軸は散乱光の強度と相関する電圧値であり、横軸は時間である。ここで、縦軸は、電圧以外に、電流やカウントデジタル値を用いることもできる。ブランク水を含んだ反応容器11の散乱光を測光した測光波形104は、反応容器11がないところの測光波形108、反応容器11の壁部101の測光波形107、ブランク水が存在するところの測光波形106を含む。   The reaction vessel 11 contains blank water 102. Since the reaction vessel 11 is arranged on the circumference of the reaction disk 10 and is measured while rotating, the intensity measurement of the scattered light by the reaction vessel 11 and the blank water 102 is performed by measuring the intensity of the optical axis from the light source 40 to the photometer 41. This is performed so as to cross the reaction vessel 11 along the scanning direction 103. An example of the result of the intensity measurement of the scattered light at this time is a photometric waveform 104. The vertical axis of the photometric waveform 104 is a voltage value correlated with the intensity of the scattered light, and the horizontal axis is time. Here, the vertical axis may use a current or a count digital value other than the voltage. The photometric waveform 104 obtained by measuring the scattered light of the reaction vessel 11 containing the blank water includes a photometric waveform 108 where the reaction vessel 11 is not provided, a photometric waveform 107 of the wall 101 of the reaction vessel 11, and a photometry where blank water is present. Includes waveform 106.

実施例1では、反応容器11に含まれるブランク水、あるいは被測定試料からの散乱光強度を高精度に測定するため、ブランク水が存在するところの測光波形106のある一点の電圧値を基準電圧Vrとする。基準電圧Vrを設定する一方法として、回転する反応容器11と同期したトリガ信号を生成し、トリガ信号の生成タイミングT1における電圧値を基準電圧Vrとすることができる。図3は、トリガ信号を発生させる検知器61と検知板70及び反応容器11との位置関係を説明するための図である。図3の上側には鳥瞰図を、下側には鳥瞰図に示した矢印方向から(下から)みた平面図が描かれている。検知板70は反応ディスク10の周方向に沿って配置される反応容器11に対応する位置に設けられ、反応ディスク10の回転により検知板70と反応容器11とは相対的な位置関係を変化させることなく、反応ディスク10の周方向に移動する。検知器61は所定の位置に固定されており、例えば、向かい合って配置された光源62と受光部63とを有する。検知器61は光源62と受光部63との間を検知板70が通り過ぎるのを検知し、この検知信号に基づきトリガ信号を発生させる。   In the first embodiment, in order to accurately measure the intensity of scattered light from the blank water contained in the reaction vessel 11 or the sample to be measured, the voltage value at one point of the photometric waveform 106 where the blank water exists is referred to as the reference voltage. Vr. As one method of setting the reference voltage Vr, a trigger signal synchronized with the rotating reaction vessel 11 can be generated, and the voltage value at the trigger signal generation timing T1 can be used as the reference voltage Vr. FIG. 3 is a diagram for explaining the positional relationship among the detector 61 that generates the trigger signal, the detection plate 70, and the reaction container 11. The bird's-eye view is shown in the upper part of FIG. 3, and the plan view seen from the arrow direction (from the bottom) shown in the bird's-eye view is shown in the lower part. The detection plate 70 is provided at a position corresponding to the reaction container 11 arranged along the circumferential direction of the reaction disk 10, and changes the relative positional relationship between the detection plate 70 and the reaction container 11 by rotation of the reaction disk 10. Without moving, it moves in the circumferential direction of the reaction disk 10. The detector 61 is fixed at a predetermined position, and includes, for example, a light source 62 and a light receiving unit 63 that are arranged to face each other. The detector 61 detects that the detection plate 70 has passed between the light source 62 and the light receiving unit 63, and generates a trigger signal based on the detection signal.

本実施例では、トリガ信号により反応容器11の散乱光を測光するタイミングを定めている。すなわち、トリガ信号が生成されるタイミングT1からあらかじめ定められた測光期間105において、反応容器11の散乱光強度を測定する。あわせて、トリガ信号が生成されるタイミングT1における測光波形の電圧を基準電圧Vrとする。図4に傷や汚れ201が付着した反応容器11の正面図100’と散乱光を測光した際の測光波形202を併せて示している。測光波形203は反応容器11の傷や汚れ201を測光した際に得られる波形である。反応容器11がないところの測光波形108、反応容器11の壁部101の測光波形107において測光波形の電圧値が大きく上下するため、測光波形203の検出のためにゲインを大きくとることができない。このため、反応容器表面の傷や汚れが微小である場合、測光期間105の変動量を求めると、信号中のノイズ等と区別することができず、反応容器11にできた微小な傷や汚れを発見できない可能性がある。そこで、本実施例の異常検出回路60においては、トリガ信号が生成されるタイミングT1における測光波形の電圧を基準電圧Vrとし、基準電圧Vrとの差分を増幅した増幅波形204を得る。これにより、微小な傷や汚れであっても、精度よく検出することが可能になる。   In the present embodiment, the timing for measuring the scattered light of the reaction vessel 11 is determined by the trigger signal. That is, the scattered light intensity of the reaction vessel 11 is measured in a predetermined photometric period 105 from the timing T1 at which the trigger signal is generated. In addition, the voltage of the photometric waveform at the timing T1 when the trigger signal is generated is set as the reference voltage Vr. FIG. 4 also shows a front view 100 ′ of the reaction vessel 11 to which the scratches and dirt 201 have adhered, and a photometric waveform 202 when scattered light is measured. The photometric waveform 203 is a waveform obtained when the scratches and dirt 201 of the reaction container 11 are measured. Since the voltage value of the photometric waveform in the photometric waveform 108 where the reaction vessel 11 is not provided and the photometric waveform 107 of the wall portion 101 of the reaction vessel 11 fluctuate greatly, the gain cannot be increased to detect the photometric waveform 203. For this reason, when the surface of the reaction vessel has minute scratches and dirt, if the amount of change in the photometric period 105 is obtained, it cannot be distinguished from noise or the like in the signal, and the minute scratches or dirt on the reaction vessel 11 cannot be distinguished. May not be found. Therefore, in the abnormality detection circuit 60 of the present embodiment, the voltage of the photometric waveform at the timing T1 when the trigger signal is generated is set as the reference voltage Vr, and an amplified waveform 204 obtained by amplifying the difference from the reference voltage Vr is obtained. This makes it possible to accurately detect even minute scratches and dirt.

図5に異常検出回路60のブロック図(第1の構成例)を示す。図は、異常検出回路60と関連するブロックとあわせて示している。異常検出回路60は、トリガ信号生成回路301、基準電圧生成回路302、差動増幅回路303、A/D変換器304を有する。トリガ信号生成回路301は、図3を用いて説明したように、検知器61が検知板70を検知したことを示す検知信号から、測光を開始するタイミングを定めるトリガ信号を生成する回路である。基準電圧生成回路302は、基準電圧生成回路302はトリガ信号のタイミングで、光度計41(ここでは光の強度に関する電圧値Vdを出力するものとする)の測定値を計測し、そのときの測定値に等しい電圧を基準電圧Vrとして生成する。差動増幅回路303は、光度計41が出力する電圧値Vdと基準電圧Vrとの差分を増幅する。A/D変換器304は、差動増幅回路303の出力をデジタル値に変換し、差分値(Vd−Vr)はインターフェース51を介してコンピュータ50に入力され、コンピュータ50はこの差分値に基づき、傷や汚れの有無を判定する。   FIG. 5 shows a block diagram (first configuration example) of the abnormality detection circuit 60. The figure also shows the blocks related to the abnormality detection circuit 60. The abnormality detection circuit 60 includes a trigger signal generation circuit 301, a reference voltage generation circuit 302, a differential amplifier circuit 303, and an A / D converter 304. As described with reference to FIG. 3, the trigger signal generation circuit 301 is a circuit that generates a trigger signal that determines the timing of starting photometry from a detection signal indicating that the detector 61 has detected the detection plate 70. The reference voltage generation circuit 302 measures the measurement value of the photometer 41 (here, it is assumed that the voltage value Vd relating to the light intensity is output) at the timing of the trigger signal, and performs the measurement at that time. A voltage equal to the value is generated as a reference voltage Vr. The differential amplifier circuit 303 amplifies the difference between the voltage value Vd output from the photometer 41 and the reference voltage Vr. The A / D converter 304 converts the output of the differential amplifier circuit 303 into a digital value, and the difference value (Vd-Vr) is input to the computer 50 via the interface 51. The presence or absence of scratches and dirt is determined.

本構成では、光度計41の測定値(電圧値Vd)は異常検出回路60と並行にA/D変換器54にも入力されている。このため、反応容器11に被測定試料を入れてサンプルの分析を行っている場合においても、異常検出回路60を用いた反応容器11の異常の検出を並行して行うことができる。この構成では、反応容器11の傷や汚ればかりではなく、被測定試料に生じた気泡を検出することが可能になる。反応容器11の傷や汚ればかりではなく、実分析においてはサンプルや試薬の分注時に気泡が発生する場合があり、そのような気泡も分析精度に悪影響を及ぼす。このように第1の構成例は、実分析時においても反応容器の微小な傷や汚れ、微細な気泡を精度よく検出できる利点を有する。   In this configuration, the measurement value (voltage value Vd) of the photometer 41 is also input to the A / D converter 54 in parallel with the abnormality detection circuit 60. Therefore, even when the sample to be measured is placed in the reaction vessel 11 and the sample is analyzed, the abnormality detection of the reaction vessel 11 using the abnormality detection circuit 60 can be performed in parallel. With this configuration, it is possible to detect not only the scratches and dirt on the reaction container 11 but also the bubbles generated in the sample to be measured. Not only scratches and dirt on the reaction vessel 11 but also bubbles may be generated during dispensing of a sample or a reagent in actual analysis, and such bubbles adversely affect the analysis accuracy. As described above, the first configuration example has an advantage that minute scratches, dirt, and fine bubbles of the reaction container can be accurately detected even during actual analysis.

図6に異常検出回路60aのブロック図(第2の構成例)を示す。異常検出回路60aにはA/D変換器を設けず、回路構成を簡素化したものである。異常検出回路60aはマルチプレクサ305を有し、マルチプレクサ305は光度計41の出力と差動増幅回路303の出力を選択的にA/D変換器54に入力する。マルチプレクサ305がどちらの出力を選択するかどうかはコンピュータ50により制御される。分析装置1は、光検出系に異常がないか検査するため、反応容器11にブランク水を入れた状態で複数回測定を行う。そこで、そのうちの1回を反応容器11の傷や汚れの検出に用いることとし、コンピュータ50はその1回につき、差動増幅回路303の出力をA/D変換器54に入力し、コンピュータ50はこの差分値(Vd−Vr)に基づき、傷や汚れの有無を判定する。それ以外のタイミングでは、光度計41の出力をA/D変換器54に入力し、コンピュータ50はブランク水の測光を行う。   FIG. 6 shows a block diagram (second configuration example) of the abnormality detection circuit 60a. The A / D converter is not provided in the abnormality detection circuit 60a, and the circuit configuration is simplified. The abnormality detection circuit 60a has a multiplexer 305, and the multiplexer 305 selectively inputs the output of the photometer 41 and the output of the differential amplifier circuit 303 to the A / D converter 54. Which output the multiplexer 305 selects is controlled by the computer 50. The analyzer 1 performs the measurement a plurality of times in a state where the reaction vessel 11 is filled with blank water, in order to inspect whether there is any abnormality in the light detection system. Therefore, one of them is used for detecting scratches and dirt on the reaction vessel 11, and the computer 50 inputs the output of the differential amplifier circuit 303 to the A / D converter 54 each time, and the computer 50 Based on this difference value (Vd-Vr), the presence or absence of a flaw or dirt is determined. At other times, the output of the photometer 41 is input to the A / D converter 54, and the computer 50 performs photometry of the blank water.

図7に異常検出回路60bのブロック図(第3の構成例)を示す。異常検出回路60bはトリガ信号を生成するための検知器61がなくともトリガ信号を生成可能な構成である。図2に示した通り、測光波形107は反応容器11の壁部において大きな変動を示す。そこで、コンピュータ50は、A/D変換器54から入力される光度計Vdの出力から反応容器11の壁付近に生じる急峻な変化を検出し、トリガ信号生成回路306では、例えば、変化の検出後、所定時間経過したタイミングでトリガ信号を生成する。これにより、検知器61を有さない場合であっても、図5に示した異常検出回路60と同等の処理を行うことが可能である。なお、図6に示した異常検出回路60aのトリガ信号生成回路301を、第3の構成例(図7)のトリガ信号生成回路306に置き換えることで、検知器61を有さない場合であっても、図6に示した異常検出回路60aと同等の処理を行うことが可能である。   FIG. 7 shows a block diagram (third configuration example) of the abnormality detection circuit 60b. The abnormality detection circuit 60b can generate a trigger signal without the detector 61 for generating the trigger signal. As shown in FIG. 2, the photometric waveform 107 shows a large fluctuation on the wall of the reaction vessel 11. Then, the computer 50 detects a steep change occurring near the wall of the reaction vessel 11 from the output of the photometer Vd input from the A / D converter 54, and the trigger signal generation circuit 306 detects, for example, a change after the change is detected. A trigger signal is generated at a timing when a predetermined time has elapsed. Thus, even when the detector 61 is not provided, it is possible to perform the same processing as the abnormality detection circuit 60 shown in FIG. The trigger signal generation circuit 301 of the abnormality detection circuit 60a shown in FIG. 6 is replaced with the trigger signal generation circuit 306 of the third configuration example (FIG. 7), so that the detector 61 is not provided. Also, it is possible to perform the same processing as the abnormality detection circuit 60a shown in FIG.

反応容器11の傷や汚れを検知する方法について、図8に示すフローチャートを用いて説明する。異常検出回路は、先に説明したいずれの構成であってもよい。   A method for detecting scratches and dirt on the reaction container 11 will be described with reference to a flowchart shown in FIG. The abnormality detection circuit may have any of the configurations described above.

まず、トリガ信号生成回路301(306)によりトリガ信号を生成し、基準電圧生成回路302は、このタイミングでの光度計41の出力電圧Vdを基準電圧Vrとして設定する(ステップS501)。差動増幅回路303は光度計41の出力電圧Vdと基準電圧Vrとの増幅波形を出力し(ステップS502)、A/D変換器304(54)によりデジタル化され、インターフェース51を介してコンピュータ50に入力される(ステップS504)。コンピュータ50は、増幅した差分値と閾値とを比較し(ステップS504)、増幅した差分値が閾値より大きい場合は、反応容器11を異常と判定し(ステップS506)、装置にアラームを表示する(ステップS507)。一方、差分値が閾値より小さかった場合は、光度計41の出力電圧Vdが更新される(所定のサンプリング間隔で出力電圧Vdが更新される)たびに、基準電圧Vrとの差分値に基づく判定を行い、測光期間105外となれば処理を終了する(ステップS505)。ここで閾値は、あらかじめ定めた値である。このように、1つの測光波形において基準電圧を定めて異常判定を行なうことにより、比較データを予め有することなく、反応容器の微小な傷や汚れを精度よく検出することが可能になる。   First, a trigger signal is generated by the trigger signal generation circuit 301 (306), and the reference voltage generation circuit 302 sets the output voltage Vd of the photometer 41 at this timing as the reference voltage Vr (step S501). The differential amplifier circuit 303 outputs an amplified waveform of the output voltage Vd of the photometer 41 and the reference voltage Vr (step S502), is digitized by the A / D converter 304 (54), and is output to the computer 50 via the interface 51. (Step S504). The computer 50 compares the amplified difference value with the threshold value (step S504). If the amplified difference value is larger than the threshold value, the computer 50 determines that the reaction vessel 11 is abnormal (step S506) and displays an alarm on the device (step S506). Step S507). On the other hand, when the difference value is smaller than the threshold value, each time the output voltage Vd of the photometer 41 is updated (the output voltage Vd is updated at a predetermined sampling interval), the determination based on the difference value with the reference voltage Vr is performed. Is performed, and the process ends if the time is outside the photometric period 105 (step S505). Here, the threshold value is a predetermined value. Thus, by determining the reference voltage in one photometric waveform and performing the abnormality determination, it is possible to accurately detect minute scratches and dirt on the reaction vessel without having comparison data in advance.

反応容器11の傷や汚れと区別して気泡を検出する方法について、図9を用いて説明する。異常の原因が気泡だと判定する場合、反応容器を取り換える必要はなく、再測定を行なうことで対応できる。異常検出回路は、異常検出回路60または60bを適用する。ステップS501〜S505については、図8に示したフローチャートと同様であるので、重複する説明については省略する。増幅した差分値が閾値より大きい場合は、光度計41の出力電圧Vdが更新される度に行われた複数回の測光で、増幅した差分値が変化するか判定する(ステップS601)。増幅した差分値の変動幅が所定以上の大きさを有する場合には気泡の影響と考えられるので、装置にアラームを出力し、再測定を促す(ステップS602)。一方、増幅した差分値の変動幅が所定未満の大きさを有する場合には気泡もしくは、傷や汚れなど反応容器固有の異常の両方の影響が考えられるため、装置にアラームを出力し、目視確認もしくは再測定を促す(ステップS603)。   A method for detecting bubbles while distinguishing the reaction container 11 from scratches and dirt will be described with reference to FIG. When it is determined that the cause of the abnormality is air bubbles, it is not necessary to replace the reaction container, and it is possible to cope by performing the measurement again. As the abnormality detection circuit, the abnormality detection circuit 60 or 60b is applied. Steps S501 to S505 are the same as those in the flowchart shown in FIG. 8, and a duplicate description will be omitted. If the amplified difference value is larger than the threshold value, it is determined whether or not the amplified difference value changes by a plurality of photometry performed every time the output voltage Vd of the photometer 41 is updated (step S601). If the variation width of the amplified difference value is greater than or equal to a predetermined value, it is considered to be the effect of bubbles, so an alarm is output to the apparatus to prompt re-measurement (step S602). On the other hand, if the variation width of the amplified difference value is smaller than a predetermined value, the influence of both bubbles and abnormalities inherent to the reaction vessel such as scratches and dirt can be considered. Alternatively, re-measurement is prompted (step S603).

以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。例えば、差動増幅回路303の出力と閾値を比較して異常を検出する旨説明したが、ノイズの影響を踏まえ、差動増幅回路303の移動平均を取った値と閾値とを比較してもよい。   As described above, the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiment. However, the invention is not limited to the embodiment and can be variously modified without departing from the gist thereof. For example, although it has been described that the abnormality is detected by comparing the output of the differential amplifier circuit 303 with the threshold value, it is also possible to compare the moving average value of the differential amplifier circuit 303 with the threshold value in consideration of the influence of noise. Good.

また、散乱光を測光する例を示したが、散乱光もしくは透過光どちらかで測光した波形を用いてもよい。ただし、散乱光を用いた方が、傷等に対する感度は高い。傷の存在により、散乱する光が増大するためである。また、光検出系は単一波長を測光する系であっても、二波長測光を測光する系であってもよい。二波長測光系の場合には、それぞれの波長について判断するようにしてもよい。二波長測光系の場合は、2つの波長で測光し、その差分をとるため、傷や汚れがあっても差分をとることにより、その影響を低減することができるが、単一波長系の場合は、反応容器11の傷や汚れ、あるいは気泡の影響が直接的に計測値に現れる。このため、特に単一波長測光系では、散乱光を用いて測光した波形を用いて異常検出を行うことが効果的である。   Although the example of measuring the scattered light has been described, a waveform measured with either the scattered light or the transmitted light may be used. However, sensitivity to scratches and the like is higher when scattered light is used. This is because scattered light increases due to the presence of the scratch. Further, the light detection system may be a system that measures light of a single wavelength or a system that measures light of two wavelengths. In the case of a two-wavelength photometry system, the determination may be made for each wavelength. In the case of a two-wavelength photometry system, photometry is performed at two wavelengths, and the difference between the two wavelengths is obtained. In the measurement, the influence of the scratches, dirt, or air bubbles on the reaction vessel 11 directly appears in the measured value. For this reason, particularly in a single wavelength photometry system, it is effective to perform abnormality detection using a waveform measured using scattered light.

また、自動分析装置のみならず、反応容器の製造時の検査装置に適用することで、反応容器の品質確認にも利用可能である。   Further, the present invention can be used not only for an automatic analyzer but also for a quality check of a reaction container by applying to an inspection device at the time of manufacturing the reaction container.

1:分析装置、10:反応ディスク、11:反応容器、12:恒温槽、13:恒温維持装置、20:サンプルディスク、21:検体容器、22:サンプル分注機構、23:可動アーム、24:ピペットノズル、30a:第1試薬ディスク、30b:第2試薬ディスク、31a:第1試薬保冷庫、31b:第2試薬保冷庫、32a:第1試薬ボトル、32b:第2試薬ボトル、33a:第1バーコード読み取り装置、33b:第2バーコード読み取り装置、34a:第1試薬分注機構、34b:第2試薬分注機構、35a:第1攪拌機構、35b:第2攪拌機構、36:反応容器洗浄機構、40:光源、41:光度計、50:コンピュータ、51:インターフェース、52:サンプル分注制御部、53:試薬分注制御部、54:A/D変換器、55:プリンタ、56:メモリ、57:外部出力メディア、58:キーボード、59:表示装置、60,60a,60b:異常検出回路、61:検知器、62:光源、63:受光部、70:検知板、100,100’:反応容器の正面図、101:反応容器の壁部、102:ブランク水、103:光軸の走査方向、104:測光波形、105:測光期間、106〜108:測光波形、201:傷や汚れ、202,203:測光波形、204:増幅波形、301,306:トリガ信号生成回路、302:基準電圧生成回路、303:差動増幅回路、304:A/D変換器、305:マルチプレクサ。 1: analyzer, 10: reaction disk, 11: reaction container, 12: constant temperature bath, 13: constant temperature maintaining device, 20: sample disk, 21: sample container, 22: sample dispensing mechanism, 23: movable arm, 24: Pipette nozzle, 30a: 1st reagent disk, 30b: 2nd reagent disk, 31a: 1st reagent cool box, 31b: 2nd reagent cool box, 32a: 1st reagent bottle, 32b: 2nd reagent bottle, 33a: 3rd 1 barcode reader, 33b: second barcode reader, 34a: first reagent dispensing mechanism, 34b: second reagent dispensing mechanism, 35a: first stirring mechanism, 35b: second stirring mechanism, 36: reaction Container washing mechanism, 40: light source, 41: photometer, 50: computer, 51: interface, 52: sample dispensing control unit, 53: reagent dispensing control unit, 54: A / D converter, 5: printer, 56: memory, 57: external output medium, 58: keyboard, 59: display device, 60, 60a, 60b: abnormality detection circuit, 61: detector, 62: light source, 63: light receiving section, 70: detection Plates, 100, 100 ': front view of reaction vessel, 101: wall of reaction vessel, 102: blank water, 103: scanning direction of optical axis, 104: photometric waveform, 105: photometric period, 106-108: photometric waveform , 201: scratch and dirt, 202, 203: photometric waveform, 204: amplified waveform, 301, 306: trigger signal generating circuit, 302: reference voltage generating circuit, 303: differential amplifier circuit, 304: A / D converter, 305: Multiplexer.

Claims (9)

第1の反応容器を含む複数の反応容器が保持され、間欠回転する反応ディスクと、
光源と、
前記光源と対向して配置される光度計と、
ブランク水またはサンプルを前記反応容器に吐出するサンプル分注機構と、
前記反応容器の異常を検出する異常検出回路と、
コンピュータとを有し、
前記反応ディスクの回転動作により前記第1の反応容器が前記光源と前記光度計との間を横切るように移動し、
前記異常検出回路は、前記光源から前記光度計に向かう光軸が前記第1の反応容器に収容された液体を通過しているタイミングでトリガ信号を生成するトリガ信号生成回路と、前記トリガ信号に応じたタイミングでの前記光度計の出力電圧と等しい電圧を基準電圧として生成する基準電圧生成回路と、前記光度計の出力電圧と前記基準電圧との差分を増幅する差動増幅回路とを有し、
前記コンピュータは、前記異常検出回路の前記差動増幅回路の出力に基づき、前記第1の反応容器における異常の有無を判定する自動分析装置。
A plurality of reaction vessels including a first reaction vessel held therein, and an intermittently rotating reaction disc;
Light source,
A photometer arranged opposite to the light source,
A sample dispensing mechanism that discharges blank water or a sample into the reaction vessel,
An abnormality detection circuit for detecting an abnormality of the reaction vessel,
Having a computer,
The first reaction container moves across the space between the light source and the photometer by the rotation of the reaction disk,
The abnormality detection circuit includes a trigger signal generation circuit that generates a trigger signal at a timing when an optical axis from the light source toward the photometer passes through a liquid stored in the first reaction container, and the trigger signal includes: A reference voltage generation circuit that generates a voltage equal to the output voltage of the photometer at a corresponding timing as a reference voltage, and a differential amplifier circuit that amplifies a difference between the output voltage of the photometer and the reference voltage. ,
An automatic analyzer that determines whether there is an abnormality in the first reaction container based on an output of the differential amplifier circuit of the abnormality detection circuit.
請求項1において、
前記光度計の出力電圧をデジタル値に変換する第1のA/D変換器を有し、
前記異常検出回路は、前記差動増幅回路の出力電圧をデジタル値に変換する第2のA/D変換器を有し、
前記コンピュータには、前記第1のA/D変換器によりデジタル化された前記光度計の出力電圧及び、前記第2のA/D変換器によりデジタル化された前記差動増幅回路の出力電圧が入力される自動分析装置。
In claim 1,
A first A / D converter for converting an output voltage of the photometer into a digital value,
The abnormality detection circuit has a second A / D converter that converts an output voltage of the differential amplifier circuit into a digital value,
The computer includes an output voltage of the photometer digitized by the first A / D converter and an output voltage of the differential amplifier circuit digitized by the second A / D converter. Automatic analyzer input.
請求項1において、
A/D変換器を有し、
前記異常検出回路は、前記光度計の出力電圧または前記差動増幅回路の出力電圧を前記A/D変換器に選択的に入力するマルチプレクサを有し、
前記コンピュータには、前記マルチプレクサの選択に応じて、前記A/D変換器によりデジタル化された前記光度計の出力電圧または、前記A/D変換器によりデジタル化された前記差動増幅回路の出力電圧が入力される自動分析装置。
In claim 1,
Having an A / D converter,
The abnormality detection circuit includes a multiplexer that selectively inputs the output voltage of the photometer or the output voltage of the differential amplifier circuit to the A / D converter,
The computer has an output voltage of the photometer digitized by the A / D converter or an output of the differential amplifier circuit digitized by the A / D converter according to the selection of the multiplexer. Automatic analyzer to which voltage is input.
請求項1において、
前記反応ディスクは、前記複数の反応容器に対応して設けられ、前記反応ディスクの回転動作により前記複数の反応容器との位置関係を変えることなく移動する複数の検知板と、前記複数の検知板の通過を検知して検知信号を出力する検知器とを備え、
前記異常検出回路の前記トリガ信号生成回路は、前記検知器の前記検知信号に基づき前記トリガ信号を生成する自動分析装置。
In claim 1,
The reaction disk is provided corresponding to the plurality of reaction vessels, a plurality of detection plates that move without changing the positional relationship with the plurality of reaction containers by rotating the reaction disk, the plurality of detection plates And a detector that outputs a detection signal by detecting the passage of
The automatic analyzer in which the trigger signal generation circuit of the abnormality detection circuit generates the trigger signal based on the detection signal of the detector.
請求項1において、
前記光度計の出力電圧をデジタル値に変換するA/D変換器を有し、
前記コンピュータには前記A/D変換器によりデジタル化された前記光度計の出力電圧が入力され、前記コンピュータは前記光度計の出力電圧における所定の変化を検出し、
前記異常検出回路の前記トリガ信号生成回路は、前記コンピュータが検出した所定の変化に基づき前記トリガ信号を生成する自動分析装置。
In claim 1,
An A / D converter for converting an output voltage of the photometer into a digital value;
An output voltage of the photometer digitized by the A / D converter is input to the computer, and the computer detects a predetermined change in the output voltage of the photometer,
The automatic analyzer, wherein the trigger signal generation circuit of the abnormality detection circuit generates the trigger signal based on a predetermined change detected by the computer.
請求項5において、
前記コンピュータは、前記第1の反応容器の壁部を示す前記光度計の出力電圧の変化を検出する自動分析装置。
In claim 5,
An automatic analyzer for detecting a change in an output voltage of the photometer indicating a wall portion of the first reaction container.
請求項1において、
前記トリガ信号に基づく所定期間を測光期間として定義する自動分析装置。
In claim 1,
An automatic analyzer that defines a predetermined period based on the trigger signal as a photometric period.
請求項7において、
前記異常検出回路の前記差動増幅回路は、前記測光期間の間に複数回、前記光度計の出力電圧と前記基準電圧との差分を増幅し、
前記コンピュータは、前記複数回の前記差動増幅回路の出力の変動幅が大きい場合は、前記第1の反応容器において、前記第1の反応容器に収容された液体の気泡に起因する異常が生じていると判定する自動分析装置。
In claim 7,
The differential amplifier circuit of the abnormality detection circuit, a plurality of times during the photometric period, amplifies the difference between the output voltage of the photometer and the reference voltage,
When the fluctuation width of the output of the differential amplifier circuit is large a plurality of times, the computer generates an abnormality in the first reaction vessel due to bubbles of the liquid stored in the first reaction vessel. Automatic analyzer that determines that
請求項1において、
前記コンピュータが前記第1の反応容器における異常を判定した場合にアラーム出力する自動分析装置。
In claim 1,
An automatic analyzer that outputs an alarm when the computer determines an abnormality in the first reaction vessel.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023119835A1 (en) * 2021-12-24 2023-06-29 株式会社日立ハイテク Automatic analysis device

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