JP2020034689A - Organic electronic device and charge transport film - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、有機電子デバイス及び電荷輸送性膜に関する。 The present invention relates to an organic electronic device and a charge transporting film.
近年、電子写真感光体、有機ELデバイス、有機トランジスター、有機太陽電池など、有機化合物を用いた電子デバイスが盛んに開発されている。
特に、耐熱性、強度の点においては、架橋構造とすることが有効であり、例えば、熱硬化又は光硬化した膜を用いた有機ELデバイス(例えば特許文献1参照)、電荷輸送性基を含有するアクリルポリマーを用いた電子写真感光体(例えば特許文献2乃至4参照)、電荷輸送性基と反応性基を含有するアクリルポリマーを、膜形成後に架橋した電子写真感光体(例えば特許文献5参照)、光硬化型アクリル系モノマーを含有する液を塗布し硬化した膜(例えば特許文献6参照)等が開示されている。また、炭素−炭素二重結合を有するモノマー、炭素−炭素二重結合を有する電荷移動材及びバインダー樹脂の混合物を熱又は光のエネルギーによって前記モノマーの炭素−炭素二重結合と前記電荷移動材の炭素−炭素二重結合とを反応させることにより形成された膜が開示され、特に、単官能メタクリル変性した電荷移動材と、電荷輸送性を有さないメタクリルモノマーと、ポリカーボネート樹脂と、に有機過酸化物を用いて硬化したものが開示されている(例えば特許文献7参照)。また、重合性官能基をポリマー主鎖中に有する電荷輸送性ポリエステル樹脂も開示されている(例えば特許文献8参照)。
In recent years, electronic devices using organic compounds, such as electrophotographic photoreceptors, organic EL devices, organic transistors, and organic solar cells, have been actively developed.
In particular, in terms of heat resistance and strength, a crosslinked structure is effective. For example, an organic EL device using a thermosetting or photocured film (for example, see Patent Document 1), containing a charge transporting group (For example, see Patent Documents 2 to 4) and an electrophotographic photosensitive member in which an acrylic polymer containing a charge transporting group and a reactive group is crosslinked after forming a film (for example, see Patent Document 5) ), And a film cured by applying a liquid containing a photocurable acrylic monomer (see, for example, Patent Document 6). In addition, a mixture of a monomer having a carbon-carbon double bond, a charge transfer material having a carbon-carbon double bond, and a binder resin may be prepared by heating the mixture of the carbon-carbon double bond of the monomer and the charge transfer material by energy of heat or light. A film formed by reacting a carbon-carbon double bond is disclosed. In particular, a monofunctional methacryl-modified charge transfer material, a methacrylic monomer having no charge transport property, and a polycarbonate resin are disclosed. One cured using an oxide is disclosed (for example, see Patent Document 7). Further, a charge transporting polyester resin having a polymerizable functional group in a polymer main chain is also disclosed (for example, see Patent Document 8).
また、電荷輸送性樹脂の末端に官能基を導入し、硬化した膜からなる有機半導体膜及び電子写真感光体(例えば特許文献9参照)等が開示されている。
さらに、主鎖及び末端の少なくとも一方に重合性不飽和結合を含有する電荷輸送性ポリエステル(特許文献10)が開示されている。
In addition, an organic semiconductor film and an electrophotographic photoreceptor (for example, see Patent Document 9) including a cured film in which a functional group is introduced into a terminal of a charge transporting resin and cured are disclosed.
Further, a charge transporting polyester containing a polymerizable unsaturated bond in at least one of the main chain and the terminal (Patent Document 10) is disclosed.
本発明の課題は、電荷輸送性樹脂としてポリ[ビス(4−フェニル)(2,4,6−トリメチルフェニル)アミン]のみを用いた場合に比べ、可視光吸収性が低い電荷輸送性膜を有する有機電子デバイスを提供することである。 An object of the present invention is to provide a charge transporting film having lower visible light absorption than a case where only poly [bis (4-phenyl) (2,4,6-trimethylphenyl) amine] is used as the charge transporting resin. To provide an organic electronic device having the same.
上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
<1>
下記一般式(1A−1)で表される構造及び下記一般式(1A−2)で表される構造を有する第1の電荷輸送性樹脂、前記第1の電荷輸送性樹脂の架橋体、下記一般式(1B)で表される構造を有する第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂、並びに前記第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の架橋体から選ばれる少なくとも1種を含有する電荷輸送性膜を有する有機電子デバイス。
The above problem is solved by the following means. That is,
<1>
A first charge transporting resin having a structure represented by the following general formula (1A-1) and a structure represented by the following general formula (1A-2), a crosslinked product of the first charge transporting resin, Organic having a second charge-transporting polyester resin having a structure represented by the general formula (1B) and a charge-transporting film containing at least one selected from crosslinked products of the second charge-transporting polyester resin Electronic device.
前記一般式(1A−1)及び前記一般式(1A−2)中、A1及びA2はそれぞれ独立に電荷輸送性を有する2価の有機基を示し、T1及びT2はそれぞれ独立に炭素数1以上10以下の直鎖状又は分岐状の2価の炭化水素基を示し、Y1及びY2はそれぞれ独立に水素原子、重合性官能基、又は重合性官能基を有する基を示し、p及びqはそれぞれ独立に0又は1を示す。 In the general formulas (1A-1) and (1A-2), A 1 and A 2 each independently represent a divalent organic group having a charge transporting property, and T 1 and T 2 each independently represent A linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, Y 1 and Y 2 each independently represent a hydrogen atom, a polymerizable functional group, or a group having a polymerizable functional group; , P and q each independently represent 0 or 1.
前記一般式(1B)中、A3は電荷輸送性を有する2価の有機基を示し、T3は炭素数1以上10以下の直鎖状又は分岐状の2価の炭化水素基を示し、Y3は(n3+2)価の非電荷輸送性のジオール残基を示し、n3は1又は2を示し、Y4は「*−(CH2)n4−L−Z」を示し、*はY3との結合位置を示し、n4は1又は2を示し、Lは炭素原子、酸素原子、及び水素原子から選択される少なくとも1種の原子で構成された2価の連結基又は単結合を示し、Zは重合性官能基を示す。
<2>
前記重合性官能基は、下記一般式(P1)で表される基、下記一般式(P2)で表される基、下記一般式(P3)で表される基、下記一般式(P4)で表される基、及び下記一般式(P5)で表される基から選ばれる少なくとも1つである<1>に記載の有機電子デバイス。
In the general formula (1B), A 3 represents a divalent organic group having a charge transporting property, T 3 represents a linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, Y 3 represents a (n3 + 2) -valent uncharged transporting diol residues, n3 represents 1 or 2, Y 4 is "* - (CH 2) n4 -L -Z " indicates, * is Y 3 And n4 represents 1 or 2, L represents a divalent linking group or a single bond composed of at least one atom selected from a carbon atom, an oxygen atom, and a hydrogen atom; Z represents a polymerizable functional group.
<2>
The polymerizable functional group includes a group represented by the following general formula (P1), a group represented by the following general formula (P2), a group represented by the following general formula (P3), and a group represented by the following general formula (P4). The organic electronic device according to <1>, which is at least one selected from a group represented by the following general formula (P5) and a group represented by the following general formula (P5).
前記一般式(P1)〜(P5)中、R3〜R6は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、又はアルコキシ基を示し、*は、結合位置を示す。
<3>
前記重合性官能基は、下記式(P1−1)で表される基、下記式(P1−2)で表される基、及び下記式(P3−1)で表される基から選ばれる少なくとも1つである<2>に記載の有機電子デバイス。
In the general formulas (P1) to (P5), R 3 to R 6 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group, and * indicates a bonding position.
<3>
The polymerizable functional group is at least selected from a group represented by the following formula (P1-1), a group represented by the following formula (P1-2), and a group represented by the following formula (P3-1). The organic electronic device according to <2>, which is one.
前記式(P1−1)、(P1−2)、及び(P3−1)中、*は、結合位置を示す。
<4>
前記一般式(1A−1)におけるA1、前記一般式(1A−2)におけるA2、及び前記一般式(1B)におけるA3は、正孔輸送能を有する2価の有機基を示す<1>〜<3>のいずれか1つに記載の有機電子デバイス。
<5>
前記一般式(1A−1)におけるA1、前記一般式(1A−2)におけるA2、及び前記一般式(1B)におけるA3は、下記一般式(2)で表される2価の有機基を示す<4>に記載の有機電子デバイス。
In the formulas (P1-1), (P1-2), and (P3-1), * indicates a bonding position.
<4>
A 1 in the general formula (1A-1), A 3 in the general formula (1A-2) in A 2, and the general formula (1B) represents a divalent organic group having hole transport ability < The organic electronic device according to any one of 1> to <3>.
<5>
A 1 in the general formula (1A-1), A 3 in A 2, and the general formula (1B) in the general formula (1A-2) is a divalent organic represented by the following general formula (2) The organic electronic device according to <4>, which represents a group.
前記一般式(2)中、R1及びR2はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、又は置換若しくは未置換のアリール基を示し、Xは置換又は未置換の2価の有機基を示し、k及びmはそれぞれ独立に0又は1を示す。
<6>
前記一般式(1A−1)におけるT1、前記一般式(1A−2)におけるT2、及び前記一般式(1B)におけるT3は、炭素数1以上8以下の直鎖状又は分岐状の2価の炭化水素基を示す<1>〜<5>のいずれか1つに記載の有機電子デバイス。
<7>
前記第1の電荷輸送性樹脂及び前記第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の全体に含まれる水酸基の総数をMHとし、前記第1の電荷輸送性樹脂及び前記第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の全体に含まれる前記重合性官能基の総数をMPとしたとき、下記式(A1)を満たす<1>〜<6>のいずれか1つに記載の有機電子デバイス。
式(A1):0≦MH/(MH+MP)≦0.9
<8>
前記MH及び前記MPは、下記式(A2)を満たす<7>に記載の有機電子デバイス。
式(A2):0≦MH/(MH+MP)≦0.6
In the general formula (2), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, or a substituted or unsubstituted aryl group, and X represents a substituted or unsubstituted divalent. Represents an organic group, and k and m each independently represent 0 or 1.
<6>
T 1 in the general formula (1A-1), T 3 in the general formula (1A-2) in T 2, and the general formula (1B) is a linear or branched of 1 to 8 carbon atoms The organic electronic device according to any one of <1> to <5>, which represents a divalent hydrocarbon group.
<7>
The total number of hydroxyl groups contained in the entirety of the first charge-transporting resin and the second charge-transporting polyester resin is defined as MH, and the total number of hydroxyl groups in the first charge-transporting resin and the second charge-transporting polyester resin is when the total number of the polymerizable functional groups contained in the entire set to M P, organic electronic device as claimed in any one of satisfying the following formula (A1) <1> ~ <6>.
Formula (A1): 0 ≦ MH / ( MH + MP ) ≦ 0.9
<8>
Wherein M H and the M P is an organic electronic device according to the following formula satisfies the (A2) <7>.
Formula (A2): 0 ≦ MH / ( MH + MP ) ≦ 0.6
<9>
前記一般式(1B)におけるY3を構成する原子のうち水素原子以外の原子の数が2以上20以下である<1>〜<8>のいずれか1つに記載の有機電子デバイス。
<10>
前記一般式(1B)におけるY4中の前記Lを構成する原子のうち水素原子以外の原子の数が1以上10以下である<1>〜<9>のいずれか1つに記載の有機電子デバイス。
<11>
前記一般式(1B)におけるY3を構成する原子のうち水素原子以外の原子の数と、前記一般式(1B)におけるY4中の前記n4の数と、前記一般式(1B)におけるY4中の前記Lを構成する原子のうち水素原子以外の原子の数と、の合計が25以下である<1>〜<10>のいずれか1つに記載の有機電子デバイス。
<12>
前記電荷輸送性膜は、前記第1の電荷輸送性樹脂の架橋体及び前記第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の架橋体から選ばれる少なくとも1種を含有する<1>〜<11>のいずれか1つに記載の有機電子デバイス。
<9>
The organic electronic device according to any one of <1> to <8>, wherein the number of atoms other than hydrogen atoms among the atoms constituting Y 3 in the general formula (1B) is 2 or more and 20 or less.
<10>
The organic electron according to any one of <1> to <9>, wherein the number of atoms other than hydrogen atoms among the atoms constituting L in Y 4 in the general formula (1B) is 1 or more and 10 or less. device.
<11>
The number of atoms other than hydrogen atoms of the atoms constituting the Y 3 in the general formula (1B), the number of the general formula wherein in Y 4 in (1B) n4, Y 4 in the general formula (1B) The organic electronic device according to any one of <1> to <10>, wherein the total number of atoms other than hydrogen atoms among the atoms constituting the L is 25 or less.
<12>
Any of <1> to <11>, wherein the charge transporting film contains at least one selected from a crosslinked product of the first charge transportable resin and a crosslinked product of the second charge transportable polyester resin. The organic electronic device according to one.
<13>
前記有機電子デバイスが電子写真感光体である<1>〜<12>のいずれか1つに記載の有機電子デバイス。
<14>
前記電子写真感光体の最表面層として、前記第1の電荷輸送性樹脂の架橋体及び前記第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の架橋体から選ばれる少なくとも1種を含有する電荷輸送性膜を有する<13>に記載の有機電子デバイス。
<15>
前記有機電子デバイスが有機電界発光素子である<1>〜<12>のいずれか1つに記載の有機電子デバイス。
<16>
下記一般式(1A−1)で表される構造及び下記一般式(1A−2)で表される構造を有する第1の電荷輸送性樹脂、前記第1の電荷輸送性樹脂の架橋体、下記一般式(1B)で表される構造を有する第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂、並びに前記第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の架橋体から選ばれる少なくとも1種を含有する電荷輸送性膜。
<13>
The organic electronic device according to any one of <1> to <12>, wherein the organic electronic device is an electrophotographic photosensitive member.
<14>
The outermost surface layer of the electrophotographic photosensitive member has a charge transporting film containing at least one selected from a crosslinked product of the first charge transportable resin and a crosslinked product of the second charge transportable polyester resin. The organic electronic device according to <13>.
<15>
The organic electronic device according to any one of <1> to <12>, wherein the organic electronic device is an organic electroluminescent element.
<16>
A first charge transporting resin having a structure represented by the following general formula (1A-1) and a structure represented by the following general formula (1A-2), a crosslinked product of the first charge transporting resin, A charge transporting film containing a second charge transporting polyester resin having a structure represented by the general formula (1B), and at least one selected from a crosslinked product of the second charge transporting polyester resin.
前記一般式(1A−1)及び前記一般式(1A−2)中、A1及びA2はそれぞれ独立に電荷輸送性を有する2価の有機基を示し、T1及びT2はそれぞれ独立に炭素数1以上10以下の直鎖状又は分岐状の2価の炭化水素基を示し、Y1及びY2はそれぞれ独立に水素原子、重合性官能基、又は重合性官能基を有する基を示し、p及びqはそれぞれ独立に0又は1を示す。 In the general formulas (1A-1) and (1A-2), A 1 and A 2 each independently represent a divalent organic group having a charge transporting property, and T 1 and T 2 each independently represent A linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, Y 1 and Y 2 each independently represent a hydrogen atom, a polymerizable functional group, or a group having a polymerizable functional group; , P and q each independently represent 0 or 1.
前記一般式(1B)中、A3は電荷輸送性を有する2価の有機基を示し、T3は炭素数1以上10以下の直鎖状又は分岐状の2価の炭化水素基を示し、Y3は(n3+2)価の非電荷輸送性のジオール残基を示し、n3は1又は2を示し、Y4は「*−(CH2)n4−L−Z」を示し、*はY3との結合位置を示し、n4は1又は2を示し、Lは炭素原子、酸素原子、及び水素原子から選択される少なくとも1種の原子で構成された2価の連結基又は単結合を示し、Zは重合性官能基を示す。 In the general formula (1B), A 3 represents a divalent organic group having a charge transporting property, T 3 represents a linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, Y 3 represents a (n3 + 2) -valent uncharged transporting diol residues, n3 represents 1 or 2, Y 4 is "* - (CH 2) n4 -L -Z " indicates, * is Y 3 And n4 represents 1 or 2, L represents a divalent linking group or a single bond composed of at least one atom selected from a carbon atom, an oxygen atom, and a hydrogen atom; Z represents a polymerizable functional group.
<1>、<2>、<3>、<4>、<5>、<6>、<7>、<8>、<13>、又は<15>に係る発明によれば、電荷輸送性樹脂としてポリ[ビス(4−フェニル)(2,4,6−トリメチルフェニル)アミン]のみを用いた場合に比べ、可視光吸収性が低い電荷輸送性膜を有する有機電子デバイスが提供される。
<9>に係る発明によれば、一般式(1B)におけるY3を構成する原子のうち水素原子以外の原子の数が20より多い場合に比べ、電荷輸送性が高い電荷輸送性膜を有する有機電子デバイスが提供される。
<10>に係る発明によれば、一般式(1B)におけるY4中の前記Lを構成する原子のうち水素原子以外の原子の数が10より多い場合に比べ、電荷輸送性の高い電荷輸送性膜を有する有機電子デバイスが提供される。
<11>に係る発明によれば、一般式(1B)におけるY3を構成する原子のうち水素原子以外の原子の数と、一般式(1B)におけるY4中のn4の数と、一般式(1B)におけるY4中のLを構成する原子のうち水素原子以外の原子の数と、の合計が25より多い場合に比べ、電荷輸送性の高い電荷輸送性膜を有する有機電子デバイスが提供される。
<12>に係る発明によれば、電荷輸送性膜が第1の電荷輸送性樹脂の架橋体及び第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の架橋体のいずれも含有しない場合に比べ、耐溶剤性の高い電荷輸送性膜を有する有機電子デバイスが提供される。
<14>に係る発明によれば、電子写真感光体の最表面層が、第1の電荷輸送性樹脂の架橋体及び第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の架橋体のいずれも含有しない電荷輸送性膜である場合に比べ、最表面層の機械的強度が高い有機電子デバイスが提供される。
<16>に係る発明によれば、電荷輸送性樹脂としてポリ[ビス(4−フェニル)(2,4,6−トリメチルフェニル)アミン]のみを用いた場合に比べ、可視光吸収性が低い電荷輸送性膜が提供される。
According to the invention according to <1>, <2>, <3>, <4>, <5>, <6>, <7>, <8>, <13>, or <15>, the charge transporting property is obtained. An organic electronic device having a charge transporting film having low visible light absorption compared to a case where only poly [bis (4-phenyl) (2,4,6-trimethylphenyl) amine] is used as a resin is provided.
According to the invention according to <9>, the charge transporting film having a higher charge transporting property than the case where the number of atoms other than hydrogen atoms among the atoms constituting Y 3 in the general formula (1B) is larger than 20 is provided. An organic electronic device is provided.
According to the invention according to <10>, the charge transporting property is higher than that in the case where the number of atoms other than hydrogen atoms among the atoms constituting L in Y 4 in General Formula (1B) is more than 10. An organic electronic device having a conductive film is provided.
According to the invention according to <11>, in the general formula (1B), the number of atoms other than the hydrogen atom among the atoms constituting Y 3 , the number of n4 in Y 4 in the general formula (1B), and the general formula (1B) Provided is an organic electronic device having a charge transporting film having a high charge transporting property as compared with the case where the total number of atoms other than hydrogen atoms among the atoms constituting L in Y 4 in (1B) is more than 25. Is done.
According to the invention according to <12>, as compared with the case where the charge transporting film does not contain any of the crosslinked product of the first charge transporting resin and the crosslinked product of the second charge transporting polyester resin, the solvent resistance is higher. An organic electronic device having a high charge transporting film is provided.
According to the invention according to <14>, the outermost surface layer of the electrophotographic photoreceptor does not include any of a crosslinked body of the first charge transportable resin and a crosslinked body of the second charge transportable polyester resin. An organic electronic device in which the outermost layer has a higher mechanical strength than a film is provided.
According to the invention according to <16>, compared with the case where only poly [bis (4-phenyl) (2,4,6-trimethylphenyl) amine] is used as the charge transporting resin, the charge having a lower visible light absorption is used. A transportable membrane is provided.
以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。これらの説明及び実施例は実施形態を例示するものであり、発明の範囲を制限するものではない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. These descriptions and examples illustrate the embodiments and do not limit the scope of the invention.
[有機電子デバイス]
本実施形態に係る有機電子デバイスは、下記一般式(1A−1)で表される構造及び下記一般式(1A−2)で表される構造を有する第1の電荷輸送性樹脂、前記第1の電荷輸送性樹脂の架橋体、下記一般式(1B)で表される構造を有する第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂、並びに前記第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の架橋体から選ばれる少なくとも1種を含有する電荷輸送性膜を有する。
以下、第1の電荷輸送性樹脂及び第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂から選ばれる少なくとも1種を「特定樹脂」と称する場合があり、特定樹脂の架橋体を「特定樹脂架橋体」と称する場合がある。
[Organic electronic devices]
The organic electronic device according to this embodiment includes a first charge transporting resin having a structure represented by the following general formula (1A-1) and a structure represented by the following general formula (1A-2), , A second charge-transporting polyester resin having a structure represented by the following general formula (1B), and at least one selected from the cross-linked products of the second charge-transporting polyester resin Having a charge transporting film.
Hereinafter, at least one selected from the first charge transporting resin and the second charge transporting polyester resin may be referred to as a “specific resin”, and a crosslinked product of the specific resin may be referred to as a “specific resin crosslinked product”. There is.
前記一般式(1A−1)及び前記一般式(1A−2)中、A1及びA2はそれぞれ独立に電荷輸送性を有する2価の有機基を示し、T1及びT2はそれぞれ独立に炭素数1以上10以下の直鎖状又は分岐状の2価の炭化水素基を示し、Y1及びY2はそれぞれ独立に水素原子、重合性官能基、又は重合性官能基を有する基を示し、p及びqはそれぞれ独立に0又は1を示す。 In the general formulas (1A-1) and (1A-2), A 1 and A 2 each independently represent a divalent organic group having a charge transporting property, and T 1 and T 2 each independently represent A linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, Y 1 and Y 2 each independently represent a hydrogen atom, a polymerizable functional group, or a group having a polymerizable functional group; , P and q each independently represent 0 or 1.
前記一般式(1B)中、A3は電荷輸送性を有する2価の有機基を示し、T3は炭素数1以上10以下の直鎖状又は分岐状の2価の炭化水素基を示し、Y3は(n3+2)価の非電荷輸送性のジオール残基を示し、n3は1又は2を示し、Y4は「*−(CH2)n4−L−Z」を示し、*はY3との結合位置を示し、n4は1又は2を示し、Lは炭素原子、酸素原子、及び水素原子から選択される少なくとも1種の原子で構成された2価の連結基又は単結合を示し、Zは重合性官能基を示す。 In the general formula (1B), A 3 represents a divalent organic group having a charge transporting property, T 3 represents a linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, Y 3 represents a (n3 + 2) -valent uncharged transporting diol residues, n3 represents 1 or 2, Y 4 is "* - (CH 2) n4 -L -Z " indicates, * is Y 3 And n4 represents 1 or 2, L represents a divalent linking group or a single bond composed of at least one atom selected from a carbon atom, an oxygen atom, and a hydrogen atom; Z represents a polymerizable functional group.
本実施形態に係る有機電子デバイスが有する電荷輸送性膜は、特定樹脂及び特定樹脂架橋体から選ばれる少なくとも1種を含有するため電荷輸送能が高い。そのため、上記有機電子デバイスは、電荷輸送能の高い電荷輸送性膜を有することで、電気特性が良好となる。
また、上記有機電子デバイスが有する電荷輸送性膜は、特定樹脂及び特定樹脂架橋体から選ばれる少なくとも1種を含有することにより、可視光を吸収しにくく、可視光の透過性が高い。そのため、例えば有機電子デバイスが有機電界発光素子である場合、可視光の透過性が高い電荷輸送性膜を有することで、光の取り出し効率が向上する。
また、上記有機電子デバイスが有する電荷輸送性膜は、特定樹脂及び特定樹脂架橋体から選ばれる少なくとも1種を含有することにより、電荷輸送性膜形成時における塗膜の平滑性が高い。そのため、上記有機電子デバイスは、平滑性の高い電荷輸送性膜を有することで、電荷輸送性膜の面方向における性能のばらつきが抑制される。
The charge transporting film of the organic electronic device according to the present embodiment has a high charge transporting ability because it contains at least one selected from a specific resin and a crosslinked resin. Therefore, the organic electronic device has good electric characteristics by having the charge transporting film having high charge transporting ability.
In addition, the charge transporting film of the organic electronic device contains at least one selected from a specific resin and a crosslinked specific resin, so that it hardly absorbs visible light and has high transparency of visible light. Therefore, for example, when the organic electronic device is an organic electroluminescent element, light extraction efficiency is improved by having a charge transporting film having high visible light transmittance.
In addition, the charge transporting film of the organic electronic device contains at least one selected from a specific resin and a crosslinked resin, so that the coating film has high smoothness when the charge transporting film is formed. Therefore, since the organic electronic device has the charge transporting film having high smoothness, variation in the performance of the charge transporting film in the plane direction is suppressed.
上記有機電子デバイスの中でも特に、特定樹脂架橋体を含有する電荷輸送性膜を有する有機電子デバイスは、高い電荷輸送性を得つつ耐溶剤性の高い電荷輸送性膜を有する。そのため、例えば有機電子デバイスが有機電界発光素子である場合、下層(すなわち、最表面層以外の層)として特定樹脂架橋体を含有する電荷輸送性膜を適用することで、有機電界発光素子の性能及び生産性が向上する。具体的には、特定樹脂架橋体を含有する電荷輸送性膜の耐溶剤性が高いため、さらに上層を形成する際に「塗布法(すなわち、溶剤を含む塗布液を塗布して層を形成する方法)」を用いても、電荷輸送性膜の溶解に伴う有機電界発光素子の性能が低下しにくい。したがって、特定樹脂架橋体を含有する電荷輸送性膜を下層として用いることで、有機電界発光素子における性能の低下を抑制しつつ、生産性が向上する。
また、特定樹脂架橋体を含有する電荷輸送性膜を有する有機電子デバイスは、高い電荷輸送性を得つつ機械的強度に優れた電荷輸送性膜を有する。そのため、例えば有機電子デバイスが電子写真感光体である場合、最表面層として特定樹脂架橋体を含有する電荷輸送性膜を適用することで、ブレード等との摺擦による膜減少に対する耐性が高く、電子写真感光体の長寿命化が図れる。
Among the organic electronic devices described above, an organic electronic device having a charge transporting film containing a crosslinked specific resin has a charge transporting film having high solvent transportability and high charge transportability. Therefore, for example, when the organic electronic device is an organic electroluminescent device, the performance of the organic electroluminescent device is improved by applying a charge transporting film containing a specific resin crosslinked body as a lower layer (that is, a layer other than the outermost layer). And productivity is improved. Specifically, since the solvent resistance of the charge transporting film containing the crosslinked specific resin is high, when forming the upper layer further, the coating method (that is, a coating solution containing a solvent is applied to form the layer) Method) ", the performance of the organic electroluminescent device is not easily reduced due to the dissolution of the charge transporting film. Therefore, by using the charge transporting film containing the crosslinked specific resin as a lower layer, productivity is improved while suppressing a decrease in performance of the organic electroluminescent device.
Further, an organic electronic device having a charge transporting film containing a crosslinked specific resin has a charge transporting film having excellent mechanical strength while obtaining high charge transporting properties. Therefore, for example, when the organic electronic device is an electrophotographic photoreceptor, by applying a charge transporting film containing a specific resin crosslinked body as the outermost surface layer, the resistance to film reduction due to rubbing with a blade or the like is high, The life of the electrophotographic photosensitive member can be extended.
なお、上記有機電子デバイスが有する電荷輸送性膜は、特定樹脂に対し更に多官能の重合性官能基を有するモノマーを混合して成膜することで、さらに架橋密度を高め、機械的強度、耐溶剤性を一層高めたものであってもよい。多官能の重合性官能基を有するモノマーを混合して成膜することで得られた電荷輸送性膜は、特定樹脂に含まれる重合性官能基が、主鎖から枝分かれした状態(すなわち、運動自由度の高い状態)で存在することで、効率的に架橋されると推察される。 Note that the charge transporting film of the organic electronic device is formed by mixing a specific resin with a monomer having a polyfunctional polymerizable functional group to form a film, thereby further increasing the cross-linking density and increasing the mechanical strength and the resistance. Solvent properties may be further enhanced. The charge transporting film obtained by mixing and forming a film having a monomer having a polyfunctional polymerizable functional group has a state in which the polymerizable functional group contained in the specific resin is branched from the main chain (that is, free movement). It is presumed that by being present in a high degree of state), cross-linking is efficiently performed.
<第1の電荷輸送性樹脂>
第1の電荷輸送性樹脂は、下記一般式(1A−1)で表される構造及び下記一般式(1A−2)で表される構造を有する。
<First charge transporting resin>
The first charge transporting resin has a structure represented by the following general formula (1A-1) and a structure represented by the following general formula (1A-2).
前記一般式(1A−1)及び前記一般式(1A−2)中、A1及びA2はそれぞれ独立に電荷輸送性を有する2価の有機基を示し、T1及びT2はそれぞれ独立に炭素数1以上10以下の直鎖状又は分岐状の2価の炭化水素基を示し、Y1及びY2はそれぞれ独立に水素原子、重合性官能基、又は重合性官能基を有する基を示し、p及びqはそれぞれ独立に0又は1を示す。 In the general formulas (1A-1) and (1A-2), A 1 and A 2 each independently represent a divalent organic group having a charge transporting property, and T 1 and T 2 each independently represent A linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, Y 1 and Y 2 each independently represent a hydrogen atom, a polymerizable functional group, or a group having a polymerizable functional group; , P and q each independently represent 0 or 1.
−一般式(1A−1)及び一般式(1A−2)における各基の説明−
前記一般式(1A−1)及び前記一般式(1A−2)におけるA1及びA2は、それぞれ独立に電荷輸送性を有する2価の有機基を示し、具体的には、フタロシアニン系化合物、ポルフィリン系化合物、アゾベンゼン系化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物、キノン系化合物、フルオレノン系化合物などから誘導される2価の有機基が挙げられる。
前記一般式(1A−1)及び前記一般式(1A−2)におけるA1及びA2は、これらの中でも、正孔輸送能を有する有機基であることが好ましく、さらにその中でも、トリアリールアミン骨格、ベンジジン骨格、スチルベン骨格から選ばれる少なくとも1種を有する有機基であることがより好ましい。
-Explanation of each group in general formula (1A-1) and general formula (1A-2)-
A 1 and A 2 in the general formula (1A-1) and the general formula (1A-2) each independently represent a divalent organic group having a charge transporting property, and specifically, a phthalocyanine compound, From porphyrin compounds, azobenzene compounds, triarylamine compounds, benzidine compounds, arylalkane compounds, aryl-substituted ethylene compounds, stilbene compounds, anthracene compounds, hydrazone compounds, quinone compounds, fluorenone compounds, etc. Derived divalent organic groups are mentioned.
A 1 and A 2 in the general formula (1A-1) and the general formula (1A-2) are preferably an organic group having a hole transporting ability among these, and among them, triarylamine More preferably, it is an organic group having at least one selected from a skeleton, a benzidine skeleton, and a stilbene skeleton.
一般式(1A−1)及び一般式(1A−2)におけるA1及びA2は、それぞれ独立に下記一般式(2)で示される2価の有機基であることが好ましい。 Preferably, A 1 and A 2 in the general formulas (1A-1) and (1A-2) are each independently a divalent organic group represented by the following general formula (2).
前記一般式(2)中、R1及びR2は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、又は置換若しくは未置換のアリール基を示し、Xは置換又は未置換の2価の有機基を示し、k及びmはそれぞれ独立に0又は1を示す。 In the general formula (2), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, or a substituted or unsubstituted aryl group, and X represents a substituted or unsubstituted divalent group. And k and m each independently represent 0 or 1.
前記一般式(2)におけるXは、置換又は未置換の2価の有機基を表し、芳香環を有する基であっても有しない基であってもよい。なお、前記一般式(2)におけるXは、芳香環を有する基であることがより好ましく、この中でも、置換若しくは未置換の2価の芳香族基、置換若しくは未置換の芳香環数2以上10以下の2価の多核芳香族炭化水素基、置換若しくは未置換の芳香環数2以上10以下の2価の縮合芳香族炭化水素基、又は置換若しくは未置換の2価の芳香族複素環基であることがより好ましい。 X in the general formula (2) represents a substituted or unsubstituted divalent organic group, and may be a group having or not having an aromatic ring. X in the general formula (2) is more preferably a group having an aromatic ring, and among them, a substituted or unsubstituted divalent aromatic group or a substituted or unsubstituted aromatic ring having 2 to 10 aromatic rings. The following divalent polynuclear aromatic hydrocarbon groups, substituted or unsubstituted divalent fused aromatic hydrocarbon groups having 2 to 10 aromatic rings, or substituted or unsubstituted divalent aromatic heterocyclic groups More preferably, there is.
「多核芳香族炭化水素基」とは、炭素と水素とから構成される芳香環が2個以上存在し、環同士が炭素−炭素結合によって結合している炭化水素基を表す。具体的には、芳香環を構成する炭素同士が直接炭素−炭素結合によって結合している炭化水素基、芳香環同士が炭素数1以上18以下の炭化水素基(アルキル鎖又はアルキレン鎖)によって連結されている炭化水素基等が挙げられる。
多核芳香族炭化水素基としては、具体的には、例えば、ビフェニル、ターフェニル、スチルベン、トリフェニルエチレン等の水素原子を2つ除いた2価の基が挙げられる。
なお、上記多核芳香族炭化水素基を構成する芳香環は、後述する縮合芳香族炭化水素基であってもよく、芳香族複素環であってもよい。多核芳香族炭化水素基を構成する縮合芳香族炭化水素基及び芳香族複素環の具体例としては、例えば後述する縮合芳香族炭化水素基及び芳香族複素環の具体例の化合物と同様のものが挙げられる。
“Polynuclear aromatic hydrocarbon group” refers to a hydrocarbon group in which two or more aromatic rings composed of carbon and hydrogen exist, and the rings are bonded to each other by a carbon-carbon bond. Specifically, a hydrocarbon group in which carbons constituting an aromatic ring are directly bonded by a carbon-carbon bond, and aromatic rings are linked by a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms (an alkyl chain or an alkylene chain). And the like.
Specific examples of the polynuclear aromatic hydrocarbon group include divalent groups from which two hydrogen atoms have been removed, such as biphenyl, terphenyl, stilbene, and triphenylethylene.
Note that the aromatic ring constituting the polynuclear aromatic hydrocarbon group may be a condensed aromatic hydrocarbon group described later or an aromatic heterocyclic ring. Specific examples of the condensed aromatic hydrocarbon group and the aromatic heterocyclic ring constituting the polynuclear aromatic hydrocarbon group include, for example, those similar to the compounds of the specific examples of the condensed aromatic hydrocarbon group and the aromatic heterocyclic ring described below. No.
「縮合芳香族炭化水素基」とは、炭素と水素から構成される芳香環が2個以上存在し、これらの芳香環同士が隣接して結合する1対の炭素原子を共有している炭化水素基を表す。具体的には、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、ピレン、ペリレン、フルオレン等の水素原子を2つ除いた2価の基が挙げられる。 A “condensed aromatic hydrocarbon group” is a hydrocarbon in which two or more aromatic rings composed of carbon and hydrogen exist, and these aromatic rings share a pair of carbon atoms that are adjacently bonded to each other. Represents a group. Specifically, a divalent group from which two hydrogen atoms have been removed, such as naphthalene, anthracene, phenanthrene, pyrene, perylene, and fluorene, may be mentioned.
「芳香族複素環」は、炭素と水素以外の元素も含む芳香環を表す。
芳香族複素環の環骨格を構成する原子数(Nr)としては、例えば、Nr=5、又はNr=6等が挙げられる。また、環骨格を構成する炭素原子以外の原子(異種原子)の種類及び数は限定されない。異種原子の種類としては、例えば、硫黄原子、窒素原子、酸素原子等が挙げられる。また芳香族複素環は、環骨格中に2個以上の異種原子が含まれていてもよく、2種以上の異種原子が含まれていてもよい
“Aromatic heterocycle” refers to an aromatic ring that also contains elements other than carbon and hydrogen.
Examples of the number of atoms (Nr) constituting the ring skeleton of the aromatic heterocycle include Nr = 5, Nr = 6, and the like. The type and number of atoms (heteroatoms) other than carbon atoms constituting the ring skeleton are not limited. Examples of the type of the hetero atom include a sulfur atom, a nitrogen atom, and an oxygen atom. Further, the aromatic heterocyclic ring may include two or more hetero atoms in the ring skeleton, or may include two or more hetero atoms.
特に、Nr=5の環骨格構造(すなわち5員環構造)を有する複素環としては、例えば、チオフェン、チオフィン、ピロール、フラン、又はこれらの3位及び4位の炭素をさらに窒素で置換した複素環等が挙げられる。またNr=6の環骨格構造(すなわち6員環構造)を有する複素環としては、例えば、ピリジン環等が挙げられる。 In particular, examples of the heterocycle having a ring skeleton structure of Nr = 5 (that is, a 5-membered ring structure) include, for example, thiophene, thiofin, pyrrole, furan, or a heterocycle obtained by further substituting the carbon at the 3- and 4-positions with nitrogen. And the like. Examples of the heterocyclic ring having a ring skeleton structure of Nr = 6 (that is, a 6-membered ring structure) include a pyridine ring and the like.
芳香環、多核芳香環及び縮合芳香環の置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基、置換アミノ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
アルキル基としては、炭素数1以上10以下のものが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。
アルコキシル基としては、炭素数1以上10以下のものが好ましく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基等が挙げられる。
アリール基としては、炭素数6以上20以下のものが好ましく、例えば、フェニル基、トルイル基等が挙げられる。
アラルキル基としては、炭素数7以上20以下のものが好ましく、例えば、ベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。
置換アミノ基の置換基としては、アルキル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられ、具体例は前述の通りである。
置換アリール基、置換アラルキル基の置換基としては、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、置換アミノ基、ハロゲン原子等が挙げられる
Examples of the substituent for the aromatic ring, the polynuclear aromatic ring, and the condensed aromatic ring include an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aralkyl group, a substituted amino group, and a halogen atom.
The alkyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group.
The alkoxyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms, and examples thereof include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and an isopropoxy group.
The aryl group preferably has 6 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a phenyl group and a toluyl group.
The aralkyl group preferably has 7 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a benzyl group and a phenethyl group.
Examples of the substituent of the substituted amino group include an alkyl group, an aryl group, and an aralkyl group, and specific examples are as described above.
Examples of the substituent of the substituted aryl group and the substituted aralkyl group include a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a substituted amino group, and a halogen atom.
一般式(2)におけるXとしては、好ましい例として下記式(X1)〜(X7)から選択された基が挙げられる。 Preferred examples of X in the general formula (2) include groups selected from the following formulas (X1) to (X7).
式(X1)〜(X7)中、R13は、水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、置換若しくは未置換のフェニル基、又は置換若しくは未置換のアラルキル基を示し、R14〜R19は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、置換若しくは未置換のフェニル基、置換若しくは未置換のアラルキル基、又はハロゲン原子を示し、aは0又は1を示し、Vは下記の式(V8)〜(V17)から選択された少なくとも1つの基を示す。 Formula (X1) in ~ (X7), R 13 is a hydrogen atom, 1 or more and 4 or less carbon atoms alkyl group, a substituted or unsubstituted phenyl group, or a substituted or unsubstituted aralkyl group, R 14 to R And 19 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a substituted or unsubstituted phenyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, or a halogen atom. , A represents 0 or 1, and V represents at least one group selected from the following formulas (V8) to (V17).
上記式(V8)〜(V17)中、bは1以上10以下の整数を示し、cは1以上3以下の整数を示す。 In the above formulas (V8) to (V17), b represents an integer of 1 or more and 10 or less, and c represents an integer of 1 or more and 3 or less.
なお、一般式(2)におけるXとしては、以下に示す群(A)から選択される2価の有機基が好ましく、更には以下に示す群(B)から選択される2価の有機基が特に好ましい。 X in the general formula (2) is preferably a divalent organic group selected from the group (A) shown below, and more preferably a divalent organic group selected from the group (B) shown below. Particularly preferred.
一般式(2)におけるR1及びR2は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、又は置換若しくは未置換のアリール基を表す。
アルキル基としては、炭素数1以上10以下のものが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。
アルコキシル基としては、炭素数1以上10以下のものが好ましく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
アリール基としては、炭素数6以上20以下のものが好ましく、例えば、フェニル基、トルイル基等が挙げられる。
置換アリール基の置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、置換アミノ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
R 1 and R 2 in the general formula (2) each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, or a substituted or unsubstituted aryl group.
The alkyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group.
The alkoxyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms, and examples thereof include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and an isopropoxy group.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom and the like.
The aryl group preferably has 6 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a phenyl group and a toluyl group.
Examples of the substituent of the substituted aryl group include an alkyl group, an alkoxy group, a substituted amino group, and a halogen atom.
上記R1及びR2の中でも、水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基が特に好ましい。
尚、R1及びR2が置換する位置としては、窒素(N)が結合する位置に対し、メタ位又はパラ位が好ましい。
Among the above R 1 and R 2 , a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, and a phenyl group are particularly preferable.
The position where R 1 and R 2 are substituted is preferably a meta position or a para position with respect to the position where nitrogen (N) is bonded.
なお、一般式(1A−1)におけるA1と一般式(1A−2)におけるA2とは、同じであっても異なっていてもよい。また、第1の電荷輸送性樹脂が一般式(1A−1)で表される構造を複数有する場合、複数のA1は、全て同一でもよく、一部同一でもよく、互いに異なっていてもよいが、全体の80%以上が同一であることが好ましく、全体の90%以上が同一であることがより好ましく、全て同一であることがさらに好ましい。第1の電荷輸送性樹脂が一般式(1A−2)で表される構造を複数有する場合、複数のA2は、全て同一でもよく、一部同一でもよく、互いに異なっていてもよいが、全体の80%以上が同一であることが好ましく、全体の90%以上が同一であることがより好ましく、全て同一であることがさらに好ましい。 Note that the A 2 in the general formula A 1 and the formula in (1A-1) (1A- 2), may be different even in the same. Further, when a plurality of the structure in which the first charge transport resin is represented by the general formula (1A-1), a plurality of A 1, all may be the same or may be a part of the same, it may be different from each other However, it is preferable that 80% or more of the whole is the same, more preferably 90% or more of the whole is the same, and it is further preferable that they are all the same. If the first charge transporting resins having a plurality of structures represented by the general formula (1A-2), a plurality of A 2, all may be the same or may be a part of the same, may be different from each other, It is preferable that 80% or more of the whole is the same, more preferably 90% or more of the whole is the same, and it is further preferable that they are all the same.
一般式(1A−1)及び一般式(1A−2)におけるT1及びT2はそれぞれ独立に、炭素数1以上10以下の直鎖状又は分枝状の2価の炭化水素基を示す。一般式(1A−1)及び一般式(1A−2)におけるT1及びT2は、それぞれ独立に、炭素数1以上8以下の直鎖状又は分枝状の2価の炭化水素基であることが好ましい。なお、2価の炭化水素基が直鎖状である場合は、炭素数は1以上6以下の範囲がより好ましく、2以上6以下の範囲がさらに好ましい。また、2価の炭化水素基が分枝状である場合には、炭素数は2以上10以下の範囲がより好ましく、3以上7以下の範囲がさらに好ましい。
以下に、T1で表される基及びT2で表される基の具体的な構造の例(炭化水素基T−1〜炭化水素基T−32)を示す。但し、一般式(1A−1)及び一般式(1A−2)におけるA1又はA2は、下記炭化水素基のどちらの側と結合してもよく、例えば、T−5rと記すと構造T−5の右側に、T−5lと記すと構造T−5の左側に、一般式(1A−1)及び一般式(1A−2)におけるA1又はA2が結合していることを示す。
T 1 and T 2 in the general formula (1A-1) and the general formula (1A-2) each independently represent a linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. T 1 and T 2 in the general formula (1A-1) and the general formula (1A-2) are each independently a linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. Is preferred. When the divalent hydrocarbon group is linear, the number of carbon atoms is more preferably in the range of 1 or more and 6 or less, and further preferably in the range of 2 or more and 6 or less. When the divalent hydrocarbon group is branched, the number of carbon atoms is more preferably in the range of 2 or more and 10 or less, and further preferably in the range of 3 or more and 7 or less.
The following are examples of specific structure of the group represented by group and T 2 is represented by T 1 (hydrocarbon group T-. 1 to hydrocarbon radicals T-32). However, A 1 or A 2 in the general formulas (1A-1) and (1A-2) may be bonded to either side of the following hydrocarbon group. For example, when represented by T-5r, the structure T on the right side of -5, the left side of the structure T-5 if referred to as T-5l, indicating that the a 1 or a 2 is bonded in the formula (1A-1) and the general formula (1A-2).
一般式(1A−1)において、pが1である場合、カルボニル基に隣接するT1としては、上記構造T−1、T−2、及びT−4が好ましい。同様に、一般式(1A−2)において、qが1である場合、カルボニル基に隣接するT2としては、上記構造T−1、T−2、及びT−4が好ましい。 In General Formula (1A-1), when p is 1, T 1 adjacent to the carbonyl group is preferably the above-described structures T-1, T-2, and T-4. Similarly, in the general formula (1A-2), when q is 1, the T 2 adjacent to the carbonyl group, the structure T-1, T-2, and T-4 is preferred.
なお、一般式(1A−1)におけるT1と一般式(1A−2)におけるT2とは、同じであっても異なっていてもよい。また、第1の電荷輸送性樹脂が一般式(1A−1)で表される構造を複数有する場合、複数のT1は、全て同一でもよく、一部同一でもよく、互いに異なっていてもよいが、全体の80%以上が同一であることが好ましく、全体の90%以上が同一であることがより好ましく、全て同一であることがさらに好ましい。第1の電荷輸送性樹脂が一般式(1A−2)で表される構造を複数有する場合、複数のT2は、全て同一でもよく、一部同一でもよく、互いに異なっていてもよいが、全体の80%以上が同一であることが好ましく、全体の90%以上が同一であることがより好ましく、全て同一であることがさらに好ましい。 Note that the T 2 in T 1 and the general formula in formula (1A-1) (1A- 2), may be different even in the same. Also, if the first charge transporting resins having a plurality of structures represented by the general formula (1A-1), a plurality of T 1, all may be the same or may be a part of the same, may be different from each other However, it is preferable that 80% or more of the whole is the same, more preferably 90% or more of the whole is the same, and it is further preferable that they are all the same. If the first charge transporting resins having a plurality of structures represented by the general formula (1A-2), a plurality of T 2 are all may be the same or may be a part of the same, may be different from each other, It is preferable that 80% or more of the whole is the same, more preferably 90% or more of the whole is the same, and it is further preferable that they are all the same.
以下、上記一般式(1A−1)及び一般式(1A−2)のA1及びA2が上記一般式(2)で表される2価の有機基を示す場合における、A1とT1とpとの組み合わせ(すなわち、一般式(2)中のX、R1、R2、k、及びm、並びに一般式(1A−1)中のT1及びpの組み合わせ)又はA2とT2とqとの組み合わせ(すなわち、一般式(2)中のX、R1、R2、k、及びm、並びに一般式(1A−2)中のT2及びqの組み合わせ)の具体例を示すが、これら具体例に限定されるわけではない。
なお、下記表において「R1」及び「R2」の欄に記載された数字は、結合の位置を表す。また、「T1又はT2」の欄に記載された番号は、上記に具体的に示した炭化水素基の構造式に付した番号(T−1)〜(T−32)を意味する。尚、「T1又はT2」の欄において、たとえば「T−5r」と記す場合には構造T−5の右側に、「T−5l」と記す場合には構造T−5の左側にアリールアミン骨格(即ち、一般式(1A−1)及び一般式(1A−2)におけるA1又はA2)が結合していることを示すものとする。また、下記表において、「結合位置」に示される値は、前記一般式(2)におけるベンゼン環に記載されている数値の箇所に結合していることを示し、更にkが1の場合、( )内のベンゼン環も数字が記載されているベンゼン環と同様の箇所に結合していることを示す。
Hereinafter, A 1 and T 1 in the case where A 1 and A 2 in the general formulas (1A-1) and (1A-2) each represent a divalent organic group represented by the general formula (2). (Ie, X, R 1 , R 2 , k, and m in the general formula (2), and T 1 and p in the general formula (1A-1)) or A 2 and T combination of 2 and q (i.e., X in formula (2) in, R 1, R 2, k , and m, and the general formula (a combination of 1A-2) in the T 2 and q) a specific example of Although shown, the present invention is not limited to these specific examples.
In addition, in the following table, the numbers described in the columns of “R 1 ” and “R 2 ” represent the positions of the bonds. Also, the number that is listed in the "T 1 or T 2" is above specifically indicated structural formulas given number of hydrocarbon group (T-1) means - a (T-32). In the column of “T 1 or T 2 ”, for example, when “T-5r” is written, an aryl is placed on the right of the structure T-5, and when “T-5l” is written, an aryl is placed on the left of the structure T-5. This indicates that an amine skeleton (that is, A 1 or A 2 in the general formulas (1A-1) and (1A-2)) is bonded. Further, in the following table, the value shown in the “bonding position” indicates that the bond is at the position of the numerical value described in the benzene ring in the general formula (2), and when k is 1, when (k) is 1, The benzene ring in parentheses indicates that it is bonded to the same position as the benzene ring in which the number is described.
一般式(1A−1)及び一般式(1A−2)におけるY1及びY2はそれぞれ独立に、水素原子、重合性官能基、又は重合性官能基を有する基を示す。
重合性官能基としては、例えば、炭素−炭素二重結合、エポキシ基、及びオキセタン基から選択される少なくとも1種を含む基が挙げられる。重合性官能基の具体例としては、例えば、ビニル基、ビニルエーテル基、下記一般式(P1)で表される基、下記一般式(P2)で表される基、下記一般式(P3)で表される基、下記一般式(P4)で表される基、下記一般式(P5)で表される基等が挙げられる。
重合性官能基は、これらの中でも、下記一般式(P1)で表される基、下記一般式(P2)で表される基、下記一般式(P3)で表される基、下記一般式(P4)で表される基、及び下記一般式(P5)で表される基から選ばれる少なくとも1つであることが好ましい。
In formulas (1A-1) and (1A-2), Y 1 and Y 2 each independently represent a hydrogen atom, a polymerizable functional group, or a group having a polymerizable functional group.
Examples of the polymerizable functional group include a group containing at least one selected from a carbon-carbon double bond, an epoxy group, and an oxetane group. Specific examples of the polymerizable functional group include, for example, a vinyl group, a vinyl ether group, a group represented by the following general formula (P1), a group represented by the following general formula (P2), and a group represented by the following general formula (P3). A group represented by the following general formula (P4), a group represented by the following general formula (P5), and the like.
Among these, the polymerizable functional group includes a group represented by the following general formula (P1), a group represented by the following general formula (P2), a group represented by the following general formula (P3), and a group represented by the following general formula (P3). It is preferably at least one selected from the group represented by P4) and the group represented by the following general formula (P5).
前記一般式(P1)〜(P5)中、R3〜R6は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、又はアルコキシ基を示し、*は、結合位置を示す。
アルキル基としては、炭素数1以上10以下のものが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。アルキル基としては、炭素数1以上5以下のものがより好ましく、炭素数1以上3以下のものがさらに好ましく、炭素数1以上2以上のものが特に好ましい。
アルコキシル基としては、炭素数1以上10以下のものが好ましく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基等が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数1以上5以下のものがより好ましく、炭素数1以上3以下のものがさらに好ましく、炭素数1以上2以上のものが特に好ましい。
一般式(P3)で表される基の置換位置は、オルト位、メタ位、及びパラ位のいずれであってもよく、その中でもメタ位及びパラ位から選択される少なくとも一方が好ましく、パラ位がより好ましい。なお、第1の電荷輸送性樹脂が一般式(P3)で表される基を複数有する場合、それらの置換位置は、オルト位、メタ位、及びパラ位から選択される少なくとも2種以上が混在していてもよい。
In the general formulas (P1) to (P5), R 3 to R 6 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group, and * indicates a bonding position.
The alkyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group. The alkyl group preferably has 1 to 5 carbon atoms, more preferably has 1 to 3 carbon atoms, and particularly preferably has 1 to 2 carbon atoms.
The alkoxyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms, and examples thereof include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and an isopropoxy group. The alkoxy group preferably has 1 to 5 carbon atoms, more preferably has 1 to 3 carbon atoms, and particularly preferably has 1 to 2 carbon atoms.
The substitution position of the group represented by the general formula (P3) may be any of the ortho position, the meta position, and the para position, and among them, at least one selected from the meta position and the para position is preferable, and the para position is preferable. Is more preferred. In the case where the first charge transporting resin has a plurality of groups represented by the general formula (P3), at least two kinds of substitution positions selected from the ortho, meta, and para positions are mixed. It may be.
一般式(1A−1)及び一般式(1A−2)におけるY1及びY2が重合性官能基を有する基を示す場合としては、例えば、さらに置換基を有する前記重合性官能基が酸素原子に結合する場合のほか、置換又は無置換の前記重合性官能基が連結基を介して酸素原子に結合する場合等が挙げられる。 When Y 1 and Y 2 in the general formulas (1A-1) and (1A-2) represent a group having a polymerizable functional group, for example, the polymerizable functional group further having a substituent may be an oxygen atom And the case where the substituted or unsubstituted polymerizable functional group is bonded to an oxygen atom via a linking group.
重合性官能基がさらに有する置換基としては、例えば、水酸基、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基、置換アミノ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
アルキル基としては、炭素数1以上10以下のものが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。アルキル基としては、炭素数1以上5以下のものがより好ましく、炭素数1以上3以下のものがさらに好ましく、炭素数1以上2以上のものが特に好ましい。
アルコキシル基としては、炭素数1以上10以下のものが好ましく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基等が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数1以上5以下のものがより好ましく、炭素数1以上3以下のものがさらに好ましく、炭素数1以上2以上のものが特に好ましい。
アリール基としては、炭素数6以上20以下のものが好ましく、例えば、フェニル基、トルイル基等が挙げられる。
アラルキル基としては、炭素数7以上20以下のものが好ましく、例えば、ベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。
置換アミノ基の置換基としては、アルキル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられ、具体例は前述の通りである。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。
Examples of the substituent further included in the polymerizable functional group include a hydroxyl group, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aralkyl group, a substituted amino group, and a halogen atom.
The alkyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group. The alkyl group preferably has 1 to 5 carbon atoms, more preferably has 1 to 3 carbon atoms, and particularly preferably has 1 to 2 carbon atoms.
The alkoxyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms, and examples thereof include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and an isopropoxy group. The alkoxy group preferably has 1 to 5 carbon atoms, more preferably has 1 to 3 carbon atoms, and particularly preferably has 1 to 2 carbon atoms.
The aryl group preferably has 6 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a phenyl group and a toluyl group.
The aralkyl group preferably has 7 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a benzyl group and a phenethyl group.
Examples of the substituent of the substituted amino group include an alkyl group, an aryl group, and an aralkyl group, and specific examples are as described above.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and the like.
重合性官能基と酸素原子との間を連結する連結基としては、例えば、炭素原子及び酸素原子から選択される少なくとも1種の原子により構成される2価の連結基(以下、これをL1とも称する)を示す。L1としては、例えば、アルキレン、−O−、及び−C(=O)−を任意に組み合わせて構成された基が挙げられる。L1を構成する水素原子以外の原子の合計数は、例えば1以上15以下が挙げられ、1以上10以下が好ましく、1以上6以下が最も好ましい。L1を構成する水素原子以外の原子の合計数が上記範囲であることにより、上記範囲よりも多すぎる場合に比べ、電荷輸送性骨格の比率が高く、電気特性が良好となる。 Examples of the linking group linking the polymerizable functional group and the oxygen atom include, for example, a divalent linking group composed of at least one atom selected from a carbon atom and an oxygen atom (hereinafter, also referred to as L1). ). Examples of L1 include a group formed by arbitrarily combining alkylene, -O-, and -C (= O)-. The total number of atoms other than hydrogen atoms constituting L1 is, for example, 1 or more and 15 or less, preferably 1 or more, and more preferably 1 or more and 6 or less. When the total number of atoms other than the hydrogen atoms constituting L1 is in the above range, the ratio of the charge transporting skeleton is higher than in the case where the number is more than the above range, and the electric characteristics are improved.
以下に、Y1で表される基及びY2で表される基のうち、重合性官能基又は重合性官能基を有する基の具体的な構造の例(基Y−1〜基Y−22)を示す。但し、下記式中、Meはメチル基を意味し、Etはエチル基を意味する。 The following, among the groups represented by group and Y 2 is expressed by Y 1, examples of the specific structure of the group having a polymerizable functional group or a polymerizable functional group (group Y-. 1 to group Y-22 ). However, in the following formula, Me means a methyl group and Et means an ethyl group.
なお、一般式(1A−1)におけるY1と一般式(1A−2)におけるY2とは、同じであっても異なっていてもよい。また、第1の電荷輸送性樹脂中における複数のY1は、全て同一でも一部同一でも互いに異なっていてもよい。同様に、第1の電荷輸送性樹脂中における複数のY2は、全て同一でも一部同一でも互いに異なっていてもよい。
つまり、第1の電荷輸送性樹脂の分子中に、一般式(1A−1)及び一般式(1A−2)におけるY1及びY2として、水素原子と重合性官能基及び重合性官能基を有する基から選択される少なくとも1種の基とが混在してもよい。また、複数のY1及び複数のY2のすべてが水素原子であってもよく、複数のY1及び複数のY2のすべてが重合性官能基及び重合性官能基を有する基から選択される少なくとも1種であってもよい。
Note that Y 1 in the general formula (1A-1) and Y 2 in the general formula (1A-2) may be the same or different. Further, the plurality of Y 1 in the first charge transporting resin may be all the same, partly the same, or different from each other. Similarly, the plurality of Y 2 in the first charge transporting resin may be all the same, partly the same, or different from each other.
That is, in the molecule of the first charge transporting resin, a hydrogen atom, a polymerizable functional group, and a polymerizable functional group are represented as Y 1 and Y 2 in the general formulas (1A-1) and (1A-2). At least one kind of group selected from the groups may be present. Further, all of the plurality of Y 1 and the plurality of Y 2 may be hydrogen atoms, and all of the plurality of Y 1 and the plurality of Y 2 are selected from a polymerizable functional group and a group having a polymerizable functional group. At least one type may be used.
第1の電荷輸送性樹脂が有する一般式(1A−1)で表される構造の数としては、例えば5以上5000以下が挙げられ、好ましくは5以上2000以下であり、さらに好ましくは10以上1000以下である。なお、複数の前記一般式(1A−1)で表される構造は、隣り合っていなくてもよい。
また、第1の電荷輸送性樹脂が有する一般式(1A−2)で表される構造の数としては、例えば5以上5000以下が挙げられ、好ましくは5以上2000以下であり、さらに好ましくは10以上1000以下である。同様に、複数の前記一般式(1A−2)で表される構造は、隣り合っていなくてもよい。
なお、第1の電荷輸送性樹脂は、一般式(1A−1)で表される構造及び一般式(1A−2)で表される構造をそれぞれ5以上有し、かつ、重量平均分子量が20万以下であることが好ましい。
The number of structures represented by the general formula (1A-1) included in the first charge transporting resin is, for example, 5 or more and 5000 or less, preferably 5 or more and 2000 or less, and more preferably 10 or more and 1000 or less. It is as follows. Note that a plurality of structures represented by the general formula (1A-1) may not be adjacent to each other.
The number of structures represented by the general formula (1A-2) in the first charge transporting resin is, for example, 5 or more and 5000 or less, preferably 5 or more and 2000 or less, and more preferably 10 or less. It is 1000 or more. Similarly, a plurality of structures represented by the general formula (1A-2) may not be adjacent to each other.
Note that the first charge transporting resin has 5 or more of the structure represented by the general formula (1A-1) and the structure represented by the general formula (1A-2), respectively, and has a weight average molecular weight of 20. It is preferably not more than 10,000.
第1の電荷輸送性樹脂は、例えば、前記一般式(1A−1)で表される構造と前記一般式(1A−2)で表される構造とが交互に隣り合って結合した領域を有していてもよい。すなわち、第1の電荷輸送性樹脂は、下記一般式(1A−3)で表される構造を有する樹脂であってもよい。第1の電荷輸送性樹脂中に含まれる下記一般式(1A−3)で表される構造の数は、例えば5以上5000以下が挙げられ、5以上2000以下が好ましく、10以上1000以下がより好ましい。また、第1の電荷輸送性樹脂全体に対する下記一般式(1A−3)で表される構造の割合は、80質量%以上が好ましく、90質量%以上がより好ましく、95質量%以上がさらに好ましい。 The first charge transporting resin has, for example, a region in which the structure represented by the general formula (1A-1) and the structure represented by the general formula (1A-2) are alternately adjacently bonded. It may be. That is, the first charge transporting resin may be a resin having a structure represented by the following general formula (1A-3). The number of structures represented by the following general formula (1A-3) contained in the first charge transporting resin is, for example, 5 or more and 5000 or less, preferably 5 or more and 2000 or less, more preferably 10 or more and 1000 or less. preferable. Further, the proportion of the structure represented by the following general formula (1A-3) with respect to the entire first charge transporting resin is preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, and even more preferably 95% by mass or more. .
前記一般式(1A−3)中、A1及びA2はそれぞれ独立に電荷輸送性を有する2価の有機基を示し、T1及びT2はそれぞれ独立に炭素数1以上10以下の直鎖状又は分岐状の2価の炭化水素基を示し、Y1及びY2はそれぞれ独立に水素原子、重合性官能基、又は重合性官能基を有する基を示し、p及びqはそれぞれ独立に0又は1を示す。
すなわち、前記一般式(1A−3)中、A1、A2、T1、T2、Y1、Y2、p、及びqは、それぞれ、一般式(1A−1)及び一般式(1A−2)中のA1、A2、T1、T2、Y1、Y2、p、及びqと同じである。
In the general formula (1A-3), A 1 and A 2 each independently represent a divalent organic group having a charge transporting property, and T 1 and T 2 each independently represent a straight chain having 1 to 10 carbon atoms. Jo or shows a branched divalent hydrocarbon group, Y 1 and Y 2 each independently represent a hydrogen atom, polymerizable functional group, or a group having a polymerizable functional group, p and q are each independently 0 Or 1 is shown.
That is, in the general formula (1A-3), A 1 , A 2 , T 1 , T 2 , Y 1 , Y 2 , p, and q represent the general formula (1A-1) and the general formula (1A), respectively. The same as A 1 , A 2 , T 1 , T 2 , Y 1 , Y 2 , p and q in -2).
−第1の電荷輸送性樹脂の説明−
第1の電荷輸送性樹脂は、少なくとも一般式(1A−1)で表される構造及び一般式(1A−2)で表される構造を分子内に有していればよく、一般式(1A−1)で表される構造及び一般式(1A−2)で表される構造に加えて他の構造を分子内に有していてもよい。例えば、一般式(1A−1)で表される構造の末端に1価の置換基又は1価の他の構造単位が結合した形態、一般式(1A−2)で表される構造の末端に1価の置換基又は1価の他の構造単位が結合した形態等が挙げられる。また、第1の電荷輸送性樹脂の主鎖中に一般式(1A−1)で表される構造及び一般式(1A−2)で表される構造以外の他の構造を有する形態としては、例えば、一般式(1A−1)で表される構造の単位と一般式(1A−2)で表される構造の単位が、他の構造を介して結合した形態が挙げられる。
第1の電荷輸送性樹脂が他の構造を分子内に有する場合、第1の電荷輸送性樹脂全体に対する一般式(1A−1)で表される構造及び一般式(1A−2)で表される構造の合計の割合としては、80質量%以上が好ましく、90質量%以上がより好ましく、95質量%以上がさらに好ましい。
なお、上記一般式(1A−1)で表される構造及び一般式(1A−2)で表される構造の合計の割合は、NMRスペクトル又は赤外吸収スペクトルにおける各ピークの面積比などから算出される。また、重合せずに残存したモノマー(例えば、後述する一般式(3A)で表される化合物及び一般式(4A)で表される化合物)の量を定量することで算出してもよい。
-Description of the first charge transporting resin-
The first charge transporting resin only needs to have at least a structure represented by the general formula (1A-1) and a structure represented by the general formula (1A-2) in a molecule, and the first charge transporting resin has the general formula (1A) In addition to the structure represented by -1) and the structure represented by the general formula (1A-2), another structure may be included in the molecule. For example, a form in which a monovalent substituent or another monovalent structural unit is bonded to the terminal of the structure represented by the general formula (1A-1), or the terminal of the structure represented by the general formula (1A-2) Examples include a form in which a monovalent substituent or another monovalent structural unit is bonded. Examples of the form having a structure represented by the general formula (1A-1) and a structure other than the structure represented by the general formula (1A-2) in the main chain of the first charge transporting resin include: For example, a form in which the unit of the structure represented by the general formula (1A-1) and the unit of the structure represented by the general formula (1A-2) are bonded via another structure is exemplified.
When the first charge transporting resin has another structure in the molecule, the structure represented by the general formula (1A-1) and the general formula (1A-2) based on the entire first charge transporting resin. The ratio of the total structure is preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, and even more preferably 95% by mass or more.
Note that the total ratio of the structure represented by the general formula (1A-1) and the structure represented by the general formula (1A-2) is calculated from an area ratio of each peak in an NMR spectrum or an infrared absorption spectrum. Is done. Alternatively, it may be calculated by quantifying the amount of a monomer remaining without polymerization (for example, a compound represented by the following general formula (3A) and a compound represented by the general formula (4A)).
第1の電荷輸送性樹脂全体に含まれる水酸基の総数をMHとし、第1の電荷輸送性樹脂全体に含まれる重合性官能基の総数をMPとしたとき、下記式(A1)を満たすことが好ましく、下記式(A2)を満たすことがより好ましく、下記式(A3)を満たすことがさらに好ましい。
式(A1):0≦MH/(MH+MP)≦0.9
式(A2):0≦MH/(MH+MP)≦0.6
式(A3):0≦MH/(MH+MP)≦0.3
なお、上記MH/(MH+MP)の値は、NMRスペクトル又は赤外吸収スペクトルにおける各ピークの面積比から算出される。
The total number of hydroxyl groups contained in the entire first charge transport resin and M H, when the total number of polymerizable functional groups contained in the entire first charge transporting resin was M P, satisfies the following formula (A1) It is more preferable that the following formula (A2) is satisfied, and it is more preferable that the following formula (A3) is satisfied.
Formula (A1): 0 ≦ MH / ( MH + MP ) ≦ 0.9
Formula (A2): 0 ≦ MH / ( MH + MP ) ≦ 0.6
Formula (A3): 0 ≦ MH / ( MH + MP ) ≦ 0.3
The value of M H / (M H + M P ) is calculated from the area ratio of each peak in the NMR spectrum or infrared absorption spectrum.
第1の電荷輸送性樹脂の重量平均分子量としては、例えば2000以上50万以下が挙げられ、3000以上20万以下が好ましく、4000以上10万以下がより好ましい。
上記重量平均分子量の測定は、測定対象の化合物の0.1質量%THF(テトラヒドロフラン)溶液を調製し、示差屈折率検出器(RI)を用いて、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)により、標準サンプルとしてスチレンポリマーを用いて行う。
The weight average molecular weight of the first charge transporting resin is, for example, 2,000 to 500,000, preferably 3,000 to 200,000, more preferably 4,000 to 100,000.
The weight-average molecular weight is measured by preparing a 0.1% by mass THF (tetrahydrofuran) solution of a compound to be measured and using a differential refractive index detector (RI) to perform gel permeation chromatography (GPC) on a standard sample. Using a styrene polymer.
以下、上記一般式(1A−1)におけるA1及び上記一般式(1A−2)におけるA2が上記一般式(2)である第1の電荷輸送性樹脂の具体例を示すが、これら具体例に限定されるわけではない。
なお、下記表において、「A1,T1,p」及び「A2,T2,q」の欄に記載された番号は、一般式(1A−1)のA1とT1とpとの組み合わせ又は一般式(1A−2)のA2とT2とqとの組み合わせの具体例に付した番号(2−1)〜(2−102)を意味する。また、「Y1又はY2」の欄に記載された番号のうち、Hは水素原子を意味し、その他の番号は前記重合性官能基又は重合性官能基を有する基の具体的な構造の例に付した番号(Y−1)〜(Y−22)を意味する。また、下記表において、「n1」は第1の電荷輸送性樹脂が有する一般式(1A−1)で表される構造の数を意味し、「n2」は第1の電荷輸送性樹脂が有する一般式(A1−2)で表される構造の数を意味する。
Hereinafter, specific examples of the first charge transporting resin in which A 1 in the general formula (1A-1) and A 2 in the general formula (1A-2) are the above general formula (2) are shown. It is not limited to the examples.
In the following table, the numbers described in the columns of “A 1 , T 1 , p” and “A 2 , T 2 , q” correspond to A 1 , T 1, and p in the general formula (1A-1). Or the numbers (2-1) to (2-102) given to specific examples of the combination of A 2 , T 2 and q in the general formula (1A-2). In addition, among the numbers described in the column of “Y 1 or Y 2 ”, H means a hydrogen atom, and the other numbers indicate specific structures of the polymerizable functional group or the group having a polymerizable functional group. The numbers (Y-1) to (Y-22) attached to the examples are meant. In the following table, “n1” means the number of structures represented by the general formula (1A-1) possessed by the first charge transporting resin, and “n2” possessed by the first charge transporting resin It means the number of structures represented by the general formula (A1-2).
−合成方法(第1の電荷輸送性樹脂の製造方法)−
ついで第1の電荷輸送性樹脂の合成方法について説明する。
第1の電荷輸送性樹脂のうち、複数のY1及び複数のY2のすべてが水素原子である電荷輸送性樹脂(以下「特定電荷輸送性樹脂(AI)」ともいう)は、例えば、下記一般式(3A)で表される化合物と下記一般式(4A)で表される化合物との重合により得られる(重合工程)。
具体的には、例えば、下記一般式(3A)で表される化合物と下記一般式(4A)で表される化合物とを当量用い、溶剤中において触媒を用いて合成を行う。
-Synthesis method (first charge transporting resin production method)-
Next, a method for synthesizing the first charge transporting resin will be described.
Among the first charge transporting resins, a charge transporting resin in which all of a plurality of Y 1 and a plurality of Y 2 are hydrogen atoms (hereinafter also referred to as “specific charge transporting resin (AI)”) is, for example, It is obtained by polymerization of a compound represented by the general formula (3A) and a compound represented by the following general formula (4A) (polymerization step).
Specifically, for example, the synthesis is carried out using an equivalent amount of a compound represented by the following general formula (3A) and a compound represented by the following general formula (4A) and using a catalyst in a solvent.
前記一般式(3A)及び(4A)中、A1及びA2はそれぞれ独立に電荷輸送性を有する2価の有機基を示し、T1及びT2はそれぞれ独立に炭素数1以上10以下の直鎖状又は分岐状の2価の炭化水素基を示し、p及びqはそれぞれ独立に0又は1を示す。
なお、前記一般式(3A)及び(4A)中のA1及びA2、T1及びT2、並びにp及びqは、前記一般式(1A−1)及び一般式(1A−2)中のA1及びA2、T1及びT2、並びにp及びqと同じである。
In the general formulas (3A) and (4A), A 1 and A 2 each independently represent a divalent organic group having a charge transporting property, and T 1 and T 2 each independently represent a C 1 to C 10 having no more than 10 carbon atoms. It represents a linear or branched divalent hydrocarbon group, and p and q each independently represent 0 or 1.
Note that A 1 and A 2 , T 1 and T 2 , and p and q in the general formulas (3A) and (4A) are the same as those in the general formulas (1A-1) and (1A-2). Same as A 1 and A 2 , T 1 and T 2 , and p and q.
特定電荷輸送性樹脂(AI)の合成は、例えば、一般式(3A)で表される化合物と一般式(4A)で表される化合物とを当量用い、溶剤中において触媒を用いることで行う。
溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、モノクロロベンゼン等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、モノクロロベンゼン等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
触媒としては、例えば、4級アンモニウム塩、3級アミン、3級ホスフィン、4級ホスホニウム塩、ハロゲン化リチウム、トリフルオロホウ素錯塩等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
The specific charge transporting resin (AI) is synthesized, for example, by using an equivalent amount of the compound represented by the general formula (3A) and the compound represented by the general formula (4A) and using a catalyst in a solvent.
Examples of the solvent include toluene, xylene, tetrahydrofuran, monochlorobenzene and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
Examples of the solvent include toluene, xylene, tetrahydrofuran, monochlorobenzene and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
Examples of the catalyst include quaternary ammonium salts, tertiary amines, tertiary phosphines, quaternary phosphonium salts, lithium halides, trifluoroboron complex salts and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
4級アンモニウム塩としては、例えば、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、テトラメチルアンモニウムヨーダイド、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、メチルトリブチルアンモニウムクロライド、テトラプロピルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムクロライド、テトラブチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムヨーダイド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムハイドロジェンサルフェート、メチルトリオクチルアンモニウムクロライド、メチルトリオクチルアンモニウムブロマイド、エチルトリオクチルアンモニウムクロライド、エチルトリオクチルアンモニウムブロマイド、ジラウリルジメチルアンモニウムクロライド、ジステアリルジメチルアンモニウムクロライド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロマイド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリエチルアンモニウムブロマイド、ベンジルトリエチルアンモニウムヒドロキシド等が挙げられる。 As the quaternary ammonium salt, for example, tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, tetramethylammonium iodide, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium chloride, tetraethylammonium bromide, tetraethylammonium hydroxide, methyltributylammonium chloride, tetramethylammonium chloride Propyl ammonium bromide, tetrabutyl ammonium chloride, tetrabutyl ammonium bromide, tetrabutyl ammonium iodide, tetrabutyl ammonium hydroxide, tetrabutyl ammonium hydrogen sulfate, methyl trioctyl ammonium chloride, methyl trioctyl ammonium bromide, ethyl trioct Ammonium chloride, ethyltrioctylammonium bromide, dilauryldimethylammonium chloride, distearyldimethylammonium chloride, stearyltrimethylammonium chloride, hexadecyltrimethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, benzyltrimethylammonium hydroxide, benzyl Triethylammonium chloride, benzyltriethylammonium bromide, benzyltriethylammonium hydroxide and the like.
3級アミンとしては、例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジメチルエタノールアミン、トリス(N,N−ジメチルアミノメチル)フェノール、トリス(N,N−ジエチルアミノメチル)フェノール、N,N−ジメチルアミノメチルフェノール、N,N−ジメチルベンジルアミン等が挙げられる。
3級ホスフィンとしては、例えば、トリフェニルホスフィン等が挙げられる。
4級ホスホニウム塩としては、例えば、テトラブチルホスホニウムクロライド、テトラブチルホスホニウムブロマイド、テトラブチルホスホニウムヨーダイド、テトラフェニルホスホニウムクロライド、テトラフェニルホスホニウムブロマイド、メチルトリブチルホスホニウムヨーダイド、メチルトリオクチルホスホニウムクロライド、メチルトリオクチルホスホニウムブロマイド、エチルトリオクチルホスホニウムクロライド、エチルトリオクチルホスホニウムブロマイド、デシルトリブチルホスホニウムクロライド、ヘキサデシルトリブチルホスホニウムクロライド、エチルトリオクチルホスホニウムクロライド等が挙げられる。
ハロゲン化リチウムとしては、例えば、塩化リチウム、臭化リチウム等が挙げられる。
トリフルオロホウ素錯塩としては、例えば、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体等が挙げられる。
Examples of the tertiary amine include triethylamine, tributylamine, dimethylethanolamine, tris (N, N-dimethylaminomethyl) phenol, tris (N, N-diethylaminomethyl) phenol, N, N-dimethylaminomethylphenol, N , N-dimethylbenzylamine and the like.
As the tertiary phosphine, for example, triphenylphosphine and the like can be mentioned.
As the quaternary phosphonium salt, for example, tetrabutylphosphonium chloride, tetrabutylphosphonium bromide, tetrabutylphosphonium iodide, tetraphenylphosphonium chloride, tetraphenylphosphonium bromide, methyltributylphosphonium iodide, methyltrioctylphosphonium chloride, methyltrioctyl Examples thereof include phosphonium bromide, ethyltrioctylphosphonium chloride, ethyltrioctylphosphonium bromide, decyltributylphosphonium chloride, hexadecyltributylphosphonium chloride, and ethyltrioctylphosphonium chloride.
Examples of the lithium halide include lithium chloride and lithium bromide.
Examples of the trifluoroboron complex salt include boron trifluoride diethyl ether complex.
触媒の添加量としては、例えば、モノマー総質量(すなわち、一般式(3A)で表される化合物の質量と一般式(4A)で表される化合物の質量との合計)1質量部に対して、1/10000質量部以上1/10質量部以下が挙げられ、好ましくは1/1000質量部以上1/50質量部以下である。
溶剤の添加量としては、例えば、生成する電荷輸送性樹脂の1質量部に対して、1質量部以上100質量部以下が挙げられ、好ましくは2質量部以上50質量部以下である。
反応温度(すなわち、一般式(3A)で表される化合物と一般式(4A)で表される化合物との重合温度)は特に限定されるものではなく、例えば30℃以上100℃以下の範囲が挙げられる。
The amount of the catalyst to be added is, for example, 1 part by mass of the total mass of the monomers (that is, the sum of the mass of the compound represented by the general formula (3A) and the mass of the compound represented by the general formula (4A)). , 1 / 10,000 to 1/10 parts by mass, preferably 1/1000 to 1/50 parts by mass.
The addition amount of the solvent is, for example, 1 part by mass or more and 100 parts by mass or less, preferably 2 parts by mass or more and 50 parts by mass or less with respect to 1 part by mass of the generated charge transporting resin.
The reaction temperature (that is, the polymerization temperature of the compound represented by the general formula (3A) and the compound represented by the general formula (4A)) is not particularly limited, and may be, for example, in the range of 30 ° C to 100 ° C. No.
一般式(3A)で表される化合物と一般式(4A)で表される化合物との重合反応が終了した後は、例えば、得られた電荷輸送性樹脂が溶解しにくい貧溶剤(例えば、メタノール、エタノール等のアルコール類、アセトンなど)に反応溶液を滴下することで、電荷輸送性樹脂を析出させ、分離した後、水、有機溶剤等により洗浄し、乾燥させる。
さらに、必要に応じて有機溶剤に溶解させ、貧溶剤中に滴下し、電荷輸送性樹脂を析出させる再沈殿処理を繰り返してもよい。再沈殿処理は、メカニカルスターラー等により撹拌しながら行うことが好ましい。再沈殿処理の際に電荷輸送性樹脂を溶解させる溶剤の添加量としては、例えば、電荷輸送性化合物3質量部に対して、1質量部以上100質量部以下の範囲が挙げられ、好ましくは2質量部以上50質量部以下である。また、貧溶剤の量としては、例えば、電荷輸送性樹脂1質量部に対して、1質量部以上1000質量部以下が挙げられ、好ましくは10質量部以上500質量部以下の範囲である。
また、一般式(3A)で表される化合物と一般式(4A)で表される化合物との重合反応が終了した後、例えば、反応液を水にあけ、トルエン、ヘキサン、酢酸エチル等の溶剤で抽出、水洗し、さらに必要に応じて活性炭、シリカゲル、多孔質アルミナ、活性白土等の吸着剤を用いて精製を行ってもよい。
このようにして、一般式(3A)で表される化合物と一般式(4A)で表される化合物とを重合することで、一般式(1A−1)で表される構造及び一般式(1A−2)で表される構造を有する第1の電荷輸送性樹脂の中でも、一般式(1−3)で表される構造を有する第1の電荷輸送性樹脂が得られる。
After the polymerization reaction between the compound represented by the general formula (3A) and the compound represented by the general formula (4A) is completed, for example, a poor solvent (for example, methanol) in which the obtained charge transporting resin is difficult to dissolve. , An alcohol such as ethanol, acetone, etc.) to precipitate the charge transporting resin, separate it, wash it with water, an organic solvent or the like, and dry it.
Further, if necessary, the re-precipitation treatment of dissolving in an organic solvent, dropping it into a poor solvent, and depositing a charge transporting resin may be repeated. The reprecipitation treatment is preferably performed while stirring with a mechanical stirrer or the like. The amount of the solvent for dissolving the charge transporting resin during the reprecipitation treatment is, for example, in the range of 1 part by weight or more and 100 parts by weight or less based on 3 parts by weight of the charge transporting compound, preferably 2 parts by weight. It is not less than 50 parts by mass and not more than 50 parts by mass. The amount of the poor solvent is, for example, 1 part by mass or more and 1000 parts by mass or less, preferably 10 parts by mass or more and 500 parts by mass or less based on 1 part by mass of the charge transporting resin.
After the polymerization reaction between the compound represented by the general formula (3A) and the compound represented by the general formula (4A) is completed, for example, the reaction solution is poured into water and a solvent such as toluene, hexane, or ethyl acetate is added. , And may be further washed with an adsorbent such as activated carbon, silica gel, porous alumina, or activated clay if necessary.
Thus, by polymerizing the compound represented by the general formula (3A) and the compound represented by the general formula (4A), the structure represented by the general formula (1A-1) and the general formula (1A) Among the first charge transporting resins having the structure represented by -2), the first charge transporting resin having the structure represented by the general formula (1-3) is obtained.
第1の電荷輸送性樹脂のうち、複数存在するY1及び複数存在するY2の少なくとも一部として、重合性官能基及び重合性官能基を有する基から選択される少なくとも1種を有する電荷輸送性樹脂(以下「特定電荷輸送性樹脂(AII)」ともいう)は、例えば、前記一般式(3A)で表される化合物と前記一般式(4A)で表される化合物とを重合した後(すなわち、前記重合工程の後)に、得られた重合体と重合性官能基を有する化合物とを反応させ、重合体に重合性官能基を導入することで得られる。
このようにして、一般式(3A)で表される化合物と一般式(4A)で表される化合物とを重合した後に重合性官能基を有する化合物と反応させることで、一般式(1A−1)で表される構造及び一般式(1A−2)で表される構造を有する第1の電荷輸送性樹脂の中でも、一般式(1−3)で表される構造を有する第1の電荷輸送性樹脂が得られる。
なお、一般式(3A)で表される化合物と下記一般式(4A)で表される化合物とを重合する工程(重合工程)については、前記特定電荷輸送性樹脂(AI)の合成方法に記載した通りである。
得られた重合体に重合性官能基を導入する工程(すなわち、導入工程)では、具体的には、例えば、得られた重合体と重合性官能基を有する化合物とを溶剤に添加し、必要に応じて触媒を用いて反応を行う。
Charge transport having at least one selected from a polymerizable functional group and a group having a polymerizable functional group as at least a part of the plurality of Y 1 and the plurality of Y 2 in the first charge transport resin. The reactive resin (hereinafter also referred to as “specific charge transporting resin (AII)”) is obtained by, for example, polymerizing a compound represented by the general formula (3A) and a compound represented by the general formula (4A) ( That is, after the polymerization step), the obtained polymer is reacted with a compound having a polymerizable functional group to introduce a polymerizable functional group into the polymer.
In this manner, the compound represented by the general formula (1A-1) is obtained by polymerizing the compound represented by the general formula (3A) and the compound represented by the general formula (4A) and then reacting with the compound having a polymerizable functional group. Among the first charge transporting resins having the structure represented by the general formula (1A-2) and the structure represented by the general formula (1A-2), the first charge transporting resin having the structure represented by the general formula (1-3) A resin is obtained.
The step of polymerizing the compound represented by the general formula (3A) and the compound represented by the following general formula (4A) (polymerization step) is described in the method for synthesizing the specific charge transport resin (AI). As you did.
In the step of introducing a polymerizable functional group into the obtained polymer (that is, the introduction step), specifically, for example, the obtained polymer and a compound having a polymerizable functional group are added to a solvent, and The reaction is carried out using a catalyst according to.
重合性官能基を有する化合物としては、例えば、Y−1〜Y−4、Y−13〜Y−14、及びY−16〜Y−18に脱離基(例えば、OH基、ハロゲン原子、又は他のカルボン酸等)が置換したカルボン酸誘導体、Y−5〜Y−12、Y−15、及びY−19〜Y−22に脱離基(例えば、ハロゲン原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、又はp−トルエンスルホニルオキシ基等)が置換して求電子剤となった化合物が挙げられる。これらに、必要に応じて公知の触媒又は縮合剤等を添加して反応を行うことで、重合性官能基が導入される。 Examples of the compound having a polymerizable functional group include, for example, leaving groups (for example, an OH group, a halogen atom, or a leaving group) at Y-1 to Y-4, Y-13 to Y-14, and Y-16 to Y-18. A carboxylic acid derivative substituted with another carboxylic acid or the like, or a leaving group (for example, a halogen atom, a trifluoromethanesulfonyloxy group, or a trifluoromethanesulfonyloxy group) on Y-5 to Y-12, Y-15, and Y-19 to Y-22; or (p-toluenesulfonyloxy group, etc.). A polymerizable functional group is introduced by adding a known catalyst or a condensing agent or the like as necessary to the reaction.
得られた重合体に重合性官能基を導入する工程において用いる溶剤としては、例えば、塩化メチレン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)、トルエン、クロロベンゼン、1−クロロナフタレン、アセトン、メチルエチルケトン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
上記溶剤の添加量としては、例えば、得られる電荷輸送性樹脂1質量部に対して、1質量部以上100質量部以下が挙げられ、好ましくは2質量部以上50質量部以下である。
Examples of the solvent used in the step of introducing a polymerizable functional group into the obtained polymer include methylene chloride, diethyl ether, tetrahydrofuran (THF), toluene, chlorobenzene, 1-chloronaphthalene, acetone, methyl ethyl ketone, N, N- Examples include dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide and the like.
The amount of the solvent to be added is, for example, 1 part by mass or more and 100 parts by mass or less, preferably 2 parts by mass or more and 50 parts by mass or less based on 1 part by mass of the obtained charge transporting resin.
なお、重合性官能基を有する化合物としてカルボキシ基を有する化合物を用いる場合、触媒として、例えば、硫酸、パラトルエンスルホン酸等を用いてもよい。
また、重合性官能基を有する化合物としてカルボン酸無水物及びハロゲン化物の少なくとも1種を用いる場合、触媒として、例えば、ピリジン、ピペリジン、ジメチルアミノピリジン、トリメチルアミン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)、トリエチルアミン等の有機塩基;炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基;などを用いてもよい。
触媒の添加量としては、例えば、重合性官能基を有する化合物に対し1当量以上10当量以下が挙げられ、好ましくは2当量以上5当量以下である。
反応温度(すなわち、重合体と重合性官能基を有する化合物との反応温度)は特に限定されるものではなく、例えば30℃以上100℃以下の範囲が挙げられる。
When a compound having a carboxy group is used as the compound having a polymerizable functional group, for example, sulfuric acid, p-toluenesulfonic acid, or the like may be used as a catalyst.
When at least one of a carboxylic anhydride and a halide is used as the compound having a polymerizable functional group, for example, pyridine, piperidine, dimethylaminopyridine, trimethylamine, 1,8-diazabicyclo [5.4. 0] -7-undecene (DBU), triethylamine and the like; inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydride, sodium hydroxide and potassium hydroxide; and the like.
The addition amount of the catalyst is, for example, 1 equivalent to 10 equivalents, preferably 2 equivalents to 5 equivalents, based on the compound having a polymerizable functional group.
The reaction temperature (that is, the reaction temperature between the polymer and the compound having a polymerizable functional group) is not particularly limited, and may be, for example, in a range of 30 ° C or more and 100 ° C or less.
重合体と重合性官能基を有する化合物との反応が終了した後は、前記一般式(3A)で表される化合物と一般式(4A)で表される化合物とを重合した後と同様に、再沈殿処理及び精製を行ってもよい。 After the reaction between the polymer and the compound having a polymerizable functional group is completed, as in the case where the compound represented by the general formula (3A) and the compound represented by the general formula (4A) are polymerized, Reprecipitation treatment and purification may be performed.
<第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂>
第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂は、下記一般式(1B)で表される構造を有する。
<Second charge transporting polyester resin>
The second charge transporting polyester resin has a structure represented by the following general formula (1B).
前記一般式(1B)中、A3は電荷輸送性を有する2価の有機基を示し、T3は炭素数1以上10以下の直鎖状又は分岐状の2価の炭化水素基を示し、Y3は(n3+2)価の非電荷輸送性のジオール残基を示し、n3は1又は2を示し、Y4は「*−(CH2)n4−L−Z」を示し、*はY3との結合位置を示し、n4は1又は2を示し、Lは炭素原子、酸素原子、及び水素原子から選択される少なくとも1種の原子で構成された2価の連結基又は単結合を示し、Zは重合性官能基を示す。 In the general formula (1B), A 3 represents a divalent organic group having a charge transporting property, T 3 represents a linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, Y 3 represents a (n3 + 2) -valent uncharged transporting diol residues, n3 represents 1 or 2, Y 4 is "* - (CH 2) n4 -L -Z " indicates, * is Y 3 And n4 represents 1 or 2, L represents a divalent linking group or a single bond composed of at least one atom selected from a carbon atom, an oxygen atom, and a hydrogen atom; Z represents a polymerizable functional group.
−一般式(1B)における各基の説明−
前記一般式(1B)におけるA3は、電荷輸送性を有する2価の有機基を示し、具体的には、フタロシアニン系化合物、ポルフィリン系化合物、アゾベンゼン系化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物、キノン系化合物、フルオレノン系化合物などから誘導される2価の有機基が挙げられる。
前記一般式(1B)におけるA3は、これらの中でも、正孔輸送能を有する有機基であることが好ましく、さらにその中でも、トリアリールアミン骨格、ベンジジン骨格、スチルベン骨格から選ばれる少なくとも1種を有する有機基であることがより好ましい。
-Description of each group in general formula (1B)-
A 3 in the general formula (1B) represents a divalent organic group having a charge transporting property, and specifically, a phthalocyanine compound, a porphyrin compound, an azobenzene compound, a triarylamine compound, a benzidine compound. And divalent organic groups derived from arylalkane compounds, aryl-substituted ethylene compounds, stilbene compounds, anthracene compounds, hydrazone compounds, quinone compounds, fluorenone compounds, and the like.
A 3 in the general formula (1B) is preferably an organic group having a hole transporting ability among these, and among them, at least one selected from a triarylamine skeleton, a benzidine skeleton, and a stilbene skeleton is preferable. It is more preferable that the organic group has an organic group.
一般式(1B)におけるA3は、下記一般式(2)で示される2価の有機基であることが好ましい。 A 3 in the general formula (1B) is preferably a divalent organic group represented by the following general formula (2).
前記一般式(2)中、R1及びR2は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、又は置換若しくは未置換のアリール基を示し、Xは置換又は未置換の2価の有機基を示し、k及びmはそれぞれ独立に0又は1を示す。
なお、一般式(2)における各基の詳細は、前述の通りである。
In the general formula (2), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, or a substituted or unsubstituted aryl group, and X represents a substituted or unsubstituted divalent group. And k and m each independently represent 0 or 1.
The details of each group in the general formula (2) are as described above.
第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂が一般式(1B)で表される構造を複数有する場合、複数のA3は、全て同一でもよく、一部同一でもよく、互いに異なっていてもよいが、全体の80%以上が同一であることが好ましく、全体の90%以上が同一であることがより好ましく、全て同一であることがさらに好ましい。 If the second charge-transporting polyester resin having a plurality of structures represented by the general formula (1B), a plurality of A 3, all may be the same or may be a part of the same, may be different from each other, overall Is preferably the same, and more preferably 90% or more of the whole is the same, and all the same is more preferable.
一般式(1B)におけるT3は、炭素数1以上10以下の直鎖状又は分枝状の2価の炭化水素基を示す。一般式(1B)におけるT3は、炭素数1以上8以下の直鎖状又は分枝状の2価の炭化水素基であることが好ましい。なお、2価の炭化水素基が直鎖状である場合は、炭素数は1以上6以下の範囲がより好ましく、2以上6以下の範囲がさらに好ましい。また、2価の炭化水素基が分枝状である場合には、炭素数は2以上10以下の範囲がより好ましく、3以上7以下の範囲がさらに好ましい。
なお、T3で表される基の具体的な構造の例としては、例えば、前述のT1で表される基及びT2で表される基の具体的な構造の例として挙げた「炭化水素基T−1〜炭化水素基T−32」が挙げられる。
T 3 in the general formula (1B) represents a linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. T 3 in the general formula (1B) is preferably a linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. When the divalent hydrocarbon group is linear, the number of carbon atoms is more preferably in the range of 1 or more and 6 or less, and further preferably in the range of 2 or more and 6 or less. When the divalent hydrocarbon group is branched, the number of carbon atoms is more preferably in the range of 2 or more and 10 or less, and further preferably in the range of 3 or more and 7 or less.
In addition, as an example of the specific structure of the group represented by T 3 , for example, “carbonized” exemplified as the specific structure of the group represented by T 1 and the group represented by T 2 described above. Hydrogen group T-1 to hydrocarbon group T-32 ".
なお、第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂が一般式(1B)で表される構造を複数有する場合、複数のT3は、全て同一でもよく、一部同一でもよく、互いに異なっていてもよいが、全体の80%以上が同一であることが好ましく、全体の90%以上が同一であることがより好ましく、全て同一であることがさらに好ましい。 When the second charge-transporting polyester resin having a plurality of structures represented by the general formula (1B), a plurality of T 3 are all may be the same or may be a part of the same, may be different from each other , 80% or more of the whole is preferably the same, 90% or more of the whole is more preferably the same, and all the same is more preferable.
以下、上記一般式(1B)のA3が上記一般式(2)で表される2価の有機基を示す場合における、A3とT3との組み合わせ(すなわち、一般式(2)中のX、R1、R2、k、及びm、並びに一般式(1B)中のT3の組み合わせ)の具体例を示すが、これら具体例に限定されるわけではない。
なお、下記表において「R1」及び「R2」の欄に記載された数字は、結合の位置を表す。また、「T3」の欄に記載された番号は、上記に具体的に示した炭化水素基の構造式に付した番号(T−1)〜(T−32)を意味する。尚、「T3」の欄において、たとえば「T−5r」と記す場合には構造T−5の右側に、「T−5l」と記す場合には構造T−5の左側にアリールアミン骨格(即ち、一般式(1B)におけるA3)が結合していることを示すものとする。また、下記表において、「結合位置」に示される値は、前記一般式(2)におけるベンゼン環に記載されている数値の箇所に結合していることを示し、更にkが1の場合、( )内のベンゼン環も数字が記載されているベンゼン環と同様の箇所に結合していることを示す。
Hereinafter, when A 3 in the general formula (1B) represents a divalent organic group represented by the general formula (2), a combination of A 3 and T 3 (that is, a combination of A 3 and T 3 in the general formula (2)) Specific examples of X, R 1 , R 2 , k, and m, and T 3 in the general formula (1B) are shown below, but the present invention is not limited to these specific examples.
In addition, in the following table, the numbers described in the columns of “R 1 ” and “R 2 ” represent the positions of the bonds. Further, the numbers described in the column of “T 3 ” mean the numbers (T-1) to (T-32) given to the structural formulas of the hydrocarbon groups specifically shown above. Incidentally, in the column of "T 3", for example, the right-hand structure T-5 if referred to as "T-5r", "T-5l" and arylamine skeleton on the left side of the structure T-5 if referred ( That is, it indicates that A 3 ) in the general formula (1B) is bonded. Further, in the following table, the value shown in the “bonding position” indicates that the bond is at the position of the numerical value described in the benzene ring in the general formula (2), and when k is 1, when (k) is 1, The benzene ring in parentheses indicates that it is bonded to the same position as the benzene ring in which the number is described.
一般式(1B)におけるY3は、(n3+2)価の非電荷輸送性のジオール残基を示す。ジオール残基は、酸素原子と酸素原子とを連結する連結基であり、炭素原子、酸素原子、及び水素原子から選択される少なくとも1種の原子で構成された連結基であることが好ましい。
Y3で示される連結基は、炭化水素基、又は炭化水素基と酸素原子とを組み合わせた連結基であることが好ましく、炭化水素基、又は炭化水素基とエーテル結合とを組み合わせた連結基であることがより好ましい。上記炭化水素基は、飽和炭化水素基、不飽和炭化水素基、芳香族炭化水素基のいずれでもよく、これらのうち2以上の炭化水素基を組み合わせた基でもよい。2以上の炭化水素基は、同種の炭化水素基でもよく、異種の炭化水素基でもよい。
Y 3 in the general formula (1B) represents a (n3 + 2) -valent non-charge-transporting diol residue. The diol residue is a linking group connecting an oxygen atom to an oxygen atom, and is preferably a linking group composed of at least one atom selected from a carbon atom, an oxygen atom, and a hydrogen atom.
The linking group represented by Y 3 is preferably a hydrocarbon group or a linking group combining a hydrocarbon group and an oxygen atom, and is a hydrocarbon group or a linking group combining a hydrocarbon group and an ether bond. More preferably, there is. The hydrocarbon group may be any of a saturated hydrocarbon group, an unsaturated hydrocarbon group, and an aromatic hydrocarbon group, and may be a group obtained by combining two or more of these hydrocarbon groups. The two or more hydrocarbon groups may be the same hydrocarbon group or different hydrocarbon groups.
飽和炭化水素基は、直鎖状でもよく、分岐状でもよく、環状でもよく、これらの組み合わせでもよい。飽和炭化水素基としては、例えば、炭素数1以上10以下の直鎖状アルキレン基、炭素数2以上10以下の分岐状アルキレン基、炭素数5以上8以下の環状アルキレン基、これらを組み合わせた基等が挙げられる。
不飽和炭化水素基は、直鎖状でもよく、分岐状でもよく、環状でもよく、これらの組み合わせでもよい。不飽和炭化水素基としては、例えば、炭素数2以上10以下の直鎖状アルケニル基、炭素数3以上10以下の分岐状アルケニル基、炭素数5以上8以下の環状アルケニル基、これらを組み合わせた基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基は、少なくとも芳香環を含む環状の連結基であり、例えば、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、ピレン、ペリレン、フルオレン等の水素原子を除いた2価の基等が挙げられる。
2以上の炭化水素基を組み合わせた基としては、例えば、2以上の芳香族炭化水素基を組み合わせた基のほか、芳香族炭化水素基に、飽和炭化水素基及び不飽和炭化水素基から選ばれる少なくとも1種の基が結合した基が挙げられる。
The saturated hydrocarbon group may be linear, branched, cyclic, or a combination thereof. Examples of the saturated hydrocarbon group include a linear alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, a branched alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, a cyclic alkylene group having 5 to 8 carbon atoms, and a combination thereof. And the like.
The unsaturated hydrocarbon group may be linear, branched, cyclic, or a combination thereof. Examples of the unsaturated hydrocarbon group include a linear alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, a branched alkenyl group having 3 to 10 carbon atoms, and a cyclic alkenyl group having 5 to 8 carbon atoms, or a combination thereof. And the like.
The aromatic hydrocarbon group is a cyclic linking group containing at least an aromatic ring, and examples thereof include a divalent group excluding a hydrogen atom such as benzene, naphthalene, anthracene, phenanthrene, pyrene, perylene, and fluorene.
Examples of the group in which two or more hydrocarbon groups are combined include, in addition to a group in which two or more aromatic hydrocarbon groups are combined, an aromatic hydrocarbon group, a saturated hydrocarbon group and an unsaturated hydrocarbon group. A group to which at least one kind of group is bonded is exemplified.
Y3で示される連結基は、これらの中でも、飽和炭化水素基、芳香族炭化水素基、飽和炭化水素基及び芳香族炭化水素基から選ばれる少なくとも1種の基を2以上組み合わせた炭化水素基、並びにこれらの炭化水素基と酸素原子とを組み合わせた基が好ましく、飽和炭化水素基、芳香族炭化水素基、飽和炭化水素基及び芳香族炭化水素基から選ばれる少なくとも1種の基を2以上組み合わせた炭化水素基、並びにこれらの炭化水素基とエーテル結合とを組み合わせた基がより好ましく、飽和炭化水素基、及び飽和炭化水素基とエーテル結合とを組み合わせた基が更に好ましい。 Among these, the linking group represented by Y 3 is a hydrocarbon group obtained by combining two or more of at least one group selected from a saturated hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, a saturated hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group. And a group obtained by combining these hydrocarbon groups with an oxygen atom is preferable, and at least one group selected from a saturated hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, a saturated hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group is two or more. Hydrocarbon groups in combination, and groups in which these hydrocarbon groups and ether bonds are combined are more preferable, and saturated hydrocarbon groups and groups in which saturated hydrocarbon groups and ether bonds are combined are even more preferable.
また、Y3で示される連結基が酸素原子を含む場合、Y3で示される連結基は、酸素原子を介して複数の炭化水素基が連結した基でもよい。複数の炭化水素基は、同種の炭化水素基であってもよく、異種の炭化水素基であってもよい。
ただし、Y3で示される連結基の主鎖の末端の原子(すなわち、Y3で示される連結基を構成する原子のうち、一般式(1B)中の酸素原子に直接結合する原子)は、いずれも炭素原子であることがよい。
また、Y3で示される連結基を構成する原子のうち、Y4で示される基に直接結合する原子は、炭素原子であることがよく、その中でもY3で示される連結基の主鎖を構成する炭素原子であることがより好ましい。
Also, if the linking group represented by Y 3 is an oxygen atom, the linking group represented by Y 3 may be a through an oxygen atom plurality of hydrocarbon radicals linked group. The plurality of hydrocarbon groups may be the same kind of hydrocarbon group or different kinds of hydrocarbon groups.
However, the main chain terminal of the atoms of the linking group represented by Y 3 (i.e., among the atoms constituting the linking group represented by Y 3, directly attached to atoms to the oxygen atom in the general formula (1B)), the Both are preferably carbon atoms.
Of the atoms constituting the linking group represented by Y 3 , the atom directly bonded to the group represented by Y 4 is preferably a carbon atom, and among them, the main chain of the linking group represented by Y 3 is More preferably, it is a constituent carbon atom.
Y3で示される連結基を構成する原子のうち水素原子以外の原子の数としては、例えば2以上32以下が挙げられ、2以上22以下が好ましく、2以上20以下がより好ましく、2以上15以下がさらに好ましい。Y3で示される連結基を構成する水素原子以外の原子の数が前記範囲であることにより、前記範囲より多い場合に比べて、第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂に対する電荷輸送性骨格の割合が多く、第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の電荷特性が良好となる。また、Y3で示される連結基を構成する水素原子以外の原子の数が前記範囲であることにより、前記範囲より少ない場合に比べて、第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の合成時に分子量の調整がしやすくなる。
なお、上記Y3で示される連結基を構成する原子のうち水素原子以外の原子の数は、連結に直接関与する原子だけでなく、連結に直接関与していない原子(例えば、分岐鎖、芳香環等)も含む数である。例えば、下記具体例Y3−12を構成する原子のうち水素原子以外の原子の数は、31である。
The number of atoms other than hydrogen atoms among the atoms constituting the linking group represented by Y 3 is, for example, 2 or more and 32 or less, preferably 2 or more and 22 or less, more preferably 2 or more and 20 or less, and more preferably 2 or more and 15 or less. The following are more preferred. When the number of atoms other than the hydrogen atoms constituting the linking group represented by Y 3 is in the above range, the ratio of the charge transporting skeleton to the second charge transporting polyester resin is smaller than that in the case where the number is larger than the above range. In many cases, the charge characteristics of the second charge transporting polyester resin are improved. Further, when the number of atoms other than hydrogen atoms constituting the linking group represented by Y 3 is within the above range, the molecular weight can be adjusted during the synthesis of the second charge transporting polyester resin as compared with the case where the number is smaller than the above range. Easier to do.
The number of atoms other than hydrogen atoms among the atoms constituting the linking group represented by Y 3 is not only the atom directly involved in the link, but also the atom not directly involved in the link (for example, a branched chain, aromatic Ring). For example, the number of atoms other than hydrogen atoms of the atoms constituting the following specific examples Y 3 -12 is 31.
以下に、Y3で示される連結基とその両端の酸素原子を含めた構造の具体的な例(すなわち、O−Y3−O)を示す。但し、下記構造中の「*」は、Y4で示される基との結合位置を示す。 Hereinafter, a specific example of a structure including the linking group and the oxygen atom of its ends represented by Y 3 (i.e., O-Y 3 -O). However, "*" in the following structure shows the binding position of the group represented by Y 4.
なお、第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂が一般式(1B)で表される構造を複数有する場合、複数のY3は、全て同一でもよく、一部同一でもよく、互いに異なっていてもよいが、全体の80%以上が同一であることが好ましく、全体の90%以上が同一であることがより好ましく、全て同一であることがさらに好ましい。 When the second charge-transporting polyester resin has a plurality of structures represented by the general formula (1B), the plurality of Y 3 may be all the same, may be partially the same, or may be different from each other. , 80% or more of the whole is preferably the same, 90% or more of the whole is more preferably the same, and all the same is more preferable.
一般式(1B)におけるY4は、「*−(CH2)n4−L−Z」で表される基を示し、n4は1又は2を示し、Lは炭素原子、酸素原子、及び水素原子から選択される少なくとも1種の原子で構成された2価の連結基又は単結合を示し、Zは重合性官能基を示す。 Y 4 in the general formula (1B) represents a group represented by “*-(CH 2 ) n4 -LZ”, n4 represents 1 or 2, and L represents a carbon atom, an oxygen atom, and a hydrogen atom. A divalent linking group or a single bond composed of at least one atom selected from the group consisting of: and Z represents a polymerizable functional group.
まず、「*−(CH2)n4−L−Z」で表される基におけるLで示される連結基について説明する。
Lで示される連結基は、炭素原子、酸素原子、及び水素原子から選択される少なくとも1種の原子で構成された2価の連結基である。Lで示される連結基としては、例えば、アルキレン基、エーテル結合(すなわち「−O−」)、カルボニル基(すなわち「−C(=O)−」)、及びこれらを組み合わせた基等が挙げられる。
また、これらを組み合わせた基(すなわち、アルキレン基、エーテル結合、及びカルボニル基から選択される少なくとも2以上を組み合わせた基)としては、例えば、エーテル結合とアルキレン基との組み合わせ、エーテル結合とカルボニル基との組み合わせ(例えばエステル結合)、エーテル結合とカルボニル基とアルキレン基との組み合わせ(例えばエステル結合とアルキレン基との組み合わせ)等が挙げられる。
Lで示される連結基は、エーテル結合を少なくとも含むことが好ましい。
First, "* - (CH 2) n4 -L -Z " for linking groups described for L in the group represented by.
The linking group represented by L is a divalent linking group composed of at least one atom selected from a carbon atom, an oxygen atom, and a hydrogen atom. Examples of the linking group represented by L include an alkylene group, an ether bond (that is, “—O—”), a carbonyl group (that is, “—C (= O) —”), and a group obtained by combining these. .
Examples of a group obtained by combining the above (that is, a group obtained by combining at least two or more selected from an alkylene group, an ether bond, and a carbonyl group) include, for example, a combination of an ether bond and an alkylene group, and a combination of an ether bond and a carbonyl group. (Eg, an ester bond), a combination of an ether bond, a carbonyl group, and an alkylene group (eg, a combination of an ester bond and an alkylene group), and the like.
The linking group represented by L preferably contains at least an ether bond.
Lで示される基(Lで示される連結基又はLで示される単結合)を構成する原子のうち水素原子以外の原子の数としては、例えば0以上16以下が挙げられ、1以上11以下が好ましく、1以上10以下がより好ましく、1以上7以下がさらに好ましい。Lで示される基を構成する水素原子以外の原子の数が前記範囲であることにより、前記範囲より多い場合に比べて、第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂に対する電荷輸送性骨格の割合が多く、第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の電荷特性が良好となる。また、Lで示される基を構成する水素原子以外の原子の数が前記範囲であることにより、前記範囲より少ない場合に比べて、第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の架橋反応が起こりやすく、耐溶剤性及び機械的強度の優れた膜が得られやすくなる。
なお、上記Lで示される基を構成する原子のうち水素原子以外の原子の数は、連結に直接関与する原子だけでなく、連結に直接関与していない原子(例えば、カルボニル基の酸素原子等)も含む数である。例えば、下記具体例L−9を構成する原子のうち水素原子以外の原子の数は、11である。
The number of atoms other than hydrogen atoms among the atoms constituting the group represented by L (the linking group represented by L or the single bond represented by L) is, for example, 0 or more and 16 or less, and 1 or more and 11 or less. It is preferably 1 or more and 10 or less, more preferably 1 or more and 7 or less. When the number of atoms other than hydrogen atoms constituting the group represented by L is within the above range, the ratio of the charge transporting skeleton to the second charge transporting polyester resin is larger than in the case where the number is larger than the above range, The charge characteristics of the second charge transporting polyester resin are improved. Further, when the number of atoms other than hydrogen atoms constituting the group represented by L is in the above range, the crosslinking reaction of the second charge transporting polyester resin is more likely to occur than in the case where the number is less than the above range, A film having excellent solvent properties and mechanical strength can be easily obtained.
In addition, the number of atoms other than the hydrogen atom among the atoms constituting the group represented by L is not only the atom directly involved in the connection but also the atom not directly involved in the connection (for example, the oxygen atom of the carbonyl group, etc.). ). For example, among the atoms constituting the following specific example L-9, the number of atoms other than hydrogen atoms is 11.
以下に、Lで表される連結基の具体的な例を示す。なお、下記構造中における2つの「*」のうち、左側に示された「*」が「−(CH2)n4−」との結合位置を示し、右側に示された「*」がZで示される重合性官能基との結合位置を示す。 Hereinafter, specific examples of the linking group represented by L are shown. In addition, among the two “*” in the following structure, “*” shown on the left side indicates a bonding position with “− (CH 2 ) n4 −”, and “*” shown on the right side is Z. The bonding position with the indicated polymerizable functional group is shown.
次に、「*−(CH2)n4−L−Z」で表される基におけるZで示される重合性官能基について説明する。
重合性官能基としては、例えば、炭素−炭素二重結合、エポキシ基、及びオキセタン基から選択される少なくとも1種を含む基が挙げられる。重合性官能基の具体例としては、例えば、ビニル基、ビニルエーテル基、下記一般式(P1)で表される基、下記一般式(P2)で表される基、下記一般式(P3)で表される基、下記一般式(P4)で表される基、下記一般式(P5)で表される基等が挙げられる。
重合性官能基は、これらの中でも、下記一般式(P1)で表される基、下記一般式(P2)で表される基、下記一般式(P3)で表される基、下記一般式(P4)で表される基、及び下記一般式(P5)で表される基から選ばれる少なくとも1つであることが好ましい。
Then, "* - (CH 2) n4 -L -Z " in a group represented about polymerizable functional group represented by Z will be described.
Examples of the polymerizable functional group include a group containing at least one selected from a carbon-carbon double bond, an epoxy group, and an oxetane group. Specific examples of the polymerizable functional group include, for example, a vinyl group, a vinyl ether group, a group represented by the following general formula (P1), a group represented by the following general formula (P2), and a group represented by the following general formula (P3). A group represented by the following general formula (P4), a group represented by the following general formula (P5), and the like.
Among these, the polymerizable functional group includes a group represented by the following general formula (P1), a group represented by the following general formula (P2), a group represented by the following general formula (P3), and a group represented by the following general formula (P3). It is preferably at least one selected from the group represented by P4) and the group represented by the following general formula (P5).
前記一般式(P1)〜(P5)中、R3〜R6は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、又はアルコキシ基を示し、*は、結合位置を示す。
アルキル基としては、炭素数1以上10以下のものが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。アルキル基としては、炭素数1以上5以下のものがより好ましく、炭素数1以上3以下のものがさらに好ましく、炭素数1以上2以上のものが特に好ましい。
アルコキシル基としては、炭素数1以上10以下のものが好ましく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基等が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数1以上5以下のものがより好ましく、炭素数1以上3以下のものがさらに好ましく、炭素数1以上2以上のものが特に好ましい。
一般式(P3)で表される基の置換位置は、オルト位、メタ位、及びパラ位のいずれであってもよく、その中でもメタ位及びパラ位から選択される少なくとも一方が好ましく、パラ位がより好ましい。なお、第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂が一般式(P3)で表される基を複数有する場合、それらの置換位置は、オルト位、メタ位、及びパラ位から選択される少なくとも2種以上が混在していてもよい。
In the general formulas (P1) to (P5), R 3 to R 6 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group, and * indicates a bonding position.
The alkyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group. The alkyl group preferably has 1 to 5 carbon atoms, more preferably has 1 to 3 carbon atoms, and particularly preferably has 1 to 2 carbon atoms.
The alkoxyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms, and examples thereof include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and an isopropoxy group. The alkoxy group preferably has 1 to 5 carbon atoms, more preferably has 1 to 3 carbon atoms, and particularly preferably has 1 to 2 carbon atoms.
The substitution position of the group represented by the general formula (P3) may be any of the ortho position, the meta position, and the para position, and among them, at least one selected from the meta position and the para position is preferable, and the para position is preferable. Is more preferred. In the case where the second charge-transporting polyester resin has a plurality of groups represented by the general formula (P3), at least two kinds of substitution positions thereof are selected from an ortho position, a meta position, and a para position. They may be mixed.
以下に、Zで示される重合性官能基の具体的な構造の例を示す。なお、下記構造中、*は、Lで表される基との結合位置を示す。
Zで示される重合性官能基は、下記具体例の中でも特に、下記式(P1−1)で表される基、下記式(P1−2)で表される基、及び下記式(P3−1)で表される基が好ましい。
また、Zで示される重合性官能基が下記式(P1−1)で表される基又は下記式(P1−2)で表される基である場合、Lで表される基が連結基であり、かつ、Lで表される連結基を構成する原子のうちZで表される重合性官能基と直接結合する原子が酸素原子である(つまり、アクリル酸エステル構造又はメタクリル酸エステル構造を有する)ことが好ましい。
Hereinafter, examples of the specific structure of the polymerizable functional group represented by Z are shown. In the following structures, * indicates the bonding position with the group represented by L.
Among the specific examples below, the polymerizable functional group represented by Z is a group represented by the following formula (P1-1), a group represented by the following formula (P1-2), and a group represented by the following formula (P3-1). ) Is preferred.
When the polymerizable functional group represented by Z is a group represented by the following formula (P1-1) or a group represented by the following formula (P1-2), the group represented by L is a linking group. And among the atoms constituting the linking group represented by L, the atom directly bonded to the polymerizable functional group represented by Z is an oxygen atom (that is, having an acrylate or methacrylate structure) Is preferred.
なお、一般式(1B)におけるY4中のn4が2である場合、2つのY4は同じであってもよく、異なっていてもよいが、同じであることが好ましい。
また、第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂が一般式(1B)で表される構造を複数有する場合、複数のY4は、全て同一でもよく、一部同一でもよく、互いに異なっていてもよいが、全体の80%以上が同一であることが好ましく、全体の90%以上が同一であることがより好ましく、全て同一であることがさらに好ましい。
In the case n4 in Y 4 in the general formula (1B) is 2, the two Y 4 may be the same, may be different, preferably the same.
When the second charge transporting polyester resin has a plurality of structures represented by the general formula (1B), the plurality of Y 4 may be all the same, may be partially the same, or may be different from each other. , 80% or more of the whole is preferably the same, 90% or more of the whole is more preferably the same, and all the same is more preferable.
一般式(1B)におけるY3で示される連結基を構成する原子のうち水素原子以外の原子の数と、一般式(1B)におけるY4中のn4の数と、一般式(1B)におけるY4中のLで示される基を構成する原子のうち水素原子以外の原子の数と、の合計としては、例えば30以下が挙げられ、25以下が好ましく、15以下がより好ましい。前記合計が前記範囲であることにより、前記範囲より多い場合に比べて、第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂に対する電荷輸送性骨格の割合が多く、第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の電荷特性が良好となる。また、前記合計が前記範囲であることにより、前記範囲より少ない場合に比べて、第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の架橋反応が起こりやすく、耐溶剤性及び機械的強度の優れた膜が得られやすくなる。 Among the atoms constituting the linking group represented by Y 3 in the general formula (1B), the number of atoms other than hydrogen atoms, the number of n4 in Y 4 in the general formula (1B), and the number of Y in the general formula (1B) The total of the number of atoms other than hydrogen atoms among the atoms constituting the group represented by L in 4 is, for example, 30 or less, preferably 25 or less, more preferably 15 or less. When the total is in the range, the ratio of the charge-transporting skeleton to the second charge-transporting polyester resin is larger than in the case where the total is larger than the range, and the charge characteristics of the second charge-transporting polyester resin are good. Becomes Further, when the total is within the above range, the crosslinking reaction of the second charge transporting polyester resin is more likely to occur than in the case where the total is less than the above range, and a film having excellent solvent resistance and mechanical strength is obtained. It will be easier.
以下、O−Y3−O、n3、及びY4の組み合わせ(すなわち、O−Y3−O、n3、n4、L、及びZの組み合わせ)の具体例を示すが、これら具体例に限定されるわけではない。
なお、下記表において「O−Y3−O」の欄における「*」は、Y4で表される基との結合位置を示す。また、記載された数字は、結合の位置を表す。また、「L」の欄における2つの「*」のうち、左側に示された「*」は、Y4で表される基における「−(CH2)n4−」との結合位置を示し、右側に示された「*」は、Zで示される重合性官能基との結合位置を示す。また、「Z」の欄における「*」は、Lで表される基との結合位置を示す。また、下記具体例においては、n3が2である例については、2つのY4が同じである例を示している。
Hereinafter, specific examples of the combination of O—Y 3 —O, n3, and Y 4 (that is, the combination of O—Y 3 —O, n3, n4, L, and Z) are shown, but are not limited to these specific examples. Not necessarily.
In the table below, “*” in the column of “O—Y 3 —O” indicates a bonding position with the group represented by Y 4 . Also, the numbers described indicate the positions of the bonds. In addition, of the two “*” in the “L” column, “*” shown on the left side indicates a bonding position with “— (CH 2 ) n4 —” in the group represented by Y 4 , “*” Shown on the right side indicates the bonding position with the polymerizable functional group represented by Z. Further, “*” in the column of “Z” indicates a bonding position with the group represented by L. In the following specific examples, for example n3 is 2, two Y 4 is an example of the same.
−第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の説明−
第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂は、少なくとも一般式(1B)で表される構造を分子内に有していればよく、一般式(1B)で表される構造に加えて他の構造を分子内に有していてもよい。第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂が他の構造を分子内に有する場合、第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂全体に対する一般式(1B)で表される構造の割合としては、80質量%以上が好ましく、90質量%以上がより好ましく、95質量%以上がさらに好ましい。
また、第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂が有する一般式(1B)で表される構造の数としては、例えば5以上5000以下が挙げられ、好ましくは5以上2000以下であり、さらに好ましくは10以上1000以下である。
-Explanation of the second charge transporting polyester resin-
The second charge transporting polyester resin only needs to have at least the structure represented by the general formula (1B) in the molecule, and has another structure in addition to the structure represented by the general formula (1B). You may have inside. When the second charge transporting polyester resin has another structure in the molecule, the ratio of the structure represented by the general formula (1B) to the entire second charge transporting polyester resin is preferably 80% by mass or more. , 90% by mass or more, more preferably 95% by mass or more.
The number of structures represented by the general formula (1B) in the second charge transporting polyester resin is, for example, 5 or more and 5000 or less, preferably 5 or more and 2000 or less, and more preferably 10 or more. 1000 or less.
第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の重量平均分子量は、2000以上50万以下が好ましく、3000以上20万以下がより好ましく、4000以上10万以下がさらに好ましい。
上記重量平均分子量の測定は、測定対象の化合物の0.1質量%THF(テトラヒドロフラン)溶液を調製し、示差屈折率検出器(RI)を用いて、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)により、標準サンプルとしてスチレンポリマーを用いて行う。
The weight average molecular weight of the second charge transporting polyester resin is preferably from 2,000 to 500,000, more preferably from 3,000 to 200,000, even more preferably from 4,000 to 100,000.
The weight-average molecular weight is measured by preparing a 0.1% by mass THF (tetrahydrofuran) solution of a compound to be measured and using a differential refractive index detector (RI) to perform gel permeation chromatography (GPC) on a standard sample. Using a styrene polymer.
以下、前記一般式(1B)におけるA3が前記一般式(2)で表される2価の有機基を示す場合における第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の具体例を示すが、これら具体例に限定されるわけではない。
なお、下記表において、「組み合わせAT」及び「組み合わせY」の欄に記載された番号は、それぞれ、A3とT3との組み合わせの具体例に付した番号AT−1〜AT−102及びO−Y3−Oとn3とY4と組み合わせの具体例に付した番号Y−1〜Y−63を意味する。また、「構造の数」の欄に記載された数字は、第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂が有する一般式(1B)で表される構造の数を意味する。
Hereinafter, specific examples of the second charge-transporting polyester resin in the case where A 3 in the general formula (1B) represents a divalent organic group represented by the general formula (2) will be described. It is not limited.
In the following table, number that is listed in the "combined AT" and "combination Y", respectively, A 3 and T 3 and No. AT-1~AT-102 and O which was subjected to a specific example of a combination of means -Y 3 -O and n3 and Y 4 and No. Y-1 to Y-63 which was subjected to the specific examples of the combination. The number described in the column of “number of structures” means the number of structures represented by the general formula (1B) possessed by the second charge transporting polyester resin.
−合成方法(第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の製造方法)−
ついで合成方法について説明する。
第2の電荷輸送性樹脂は、例えば、下記一般式(3B)で表される化合物(以下、「電荷輸送性モノマー」ともいう)と下記一般式(4B)で表される化合物(以下、「非電荷輸送性モノマー」ともいう)との重縮合により得られる。
-Synthesis method (second charge transporting polyester resin production method)-
Next, the synthesis method will be described.
The second charge transporting resin is, for example, a compound represented by the following general formula (3B) (hereinafter, also referred to as a “charge transporting monomer”) and a compound represented by the following general formula (4B) (hereinafter, “ (Also referred to as "non-charge transporting monomer").
前記一般式(3B)及び(4B)中のA3、T3、Y3、n3、及びY4は、前記一般式(1B)中のA3、T3、Y3、n3、及びY4と同じである。
つまり、前記一般式(3B)及び(4B)中、A3は電荷輸送性を有する2価の有機基を示し、T3は炭素数1以上10以下の直鎖状又は分岐状の2価の炭化水素基を示し、Y3は(n3+2)価の非電荷輸送性のジオール残基を示し、n3は1又は2を示し、Y4は「*−(CH2)n4−L−Z」を示し、*はY3との結合位置を示し、n4は1又は2を示し、Lは炭素原子、酸素原子、及び水素原子から選択される少なくとも1種の原子で構成された2価の連結基又は単結合を示し、Zは重合性官能基を示す。
A 3, T 3 in the general formula (3B) and (4B), Y 3, n3 , and Y 4, A 3, T 3 in the general formula (1B), Y 3, n3 , and Y 4 Is the same as
That is, in the general formulas (3B) and (4B), A 3 represents a divalent organic group having a charge transporting property, and T 3 represents a linear or branched divalent organic group having 1 to 10 carbon atoms. a hydrocarbon group, Y 3 represents a (n3 + 2) -valent uncharged transporting diol residues, n3 represents 1 or 2, Y 4 is "* - (CH 2) n4 -L -Z " the * Indicates a bonding position to Y 3 , n4 indicates 1 or 2, L is a divalent linking group composed of at least one atom selected from a carbon atom, an oxygen atom, and a hydrogen atom Or Z represents a single bond, and Z represents a polymerizable functional group.
また、前記一般式(3B)及び(4B)中、Z1及びZ2は、互いに重縮合反応し得る組み合わせとなる基を示す。
具体的には、Z1で示される基が水酸基である場合、Z2で示される基としては、例えば、水酸基、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、メタンスルホン酸エステル基、トリフルオロメタンスルホン酸エステル基、p−トルエンスルホン酸エステル基等が挙げられる。
また、Z2で示される基が水酸基である場合、Z1で示される基としては、例えば、アルコキシ基、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、他の有機酸との混合無水物の残基等が挙げられる。なお、上記他の有機酸としては、例えば、酢酸、トリフルオロ酢酸、ギ酸イソブチル、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸等が挙げられる。
In the general formulas (3B) and (4B), Z 1 and Z 2 each represent a group capable of performing a polycondensation reaction with each other.
Specifically, when the group represented by Z 1 is a hydroxyl group, the group represented by Z 2, for example, a hydroxyl group, a halogen atom (e.g., fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), methanesulfonic An acid ester group, a trifluoromethanesulfonic acid ester group, a p-toluenesulfonic acid ester group and the like can be mentioned.
When the group represented by Z 2 is a hydroxyl group, examples of the group represented by Z 1 include an alkoxy group, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom), and other organic acids. And the residue of a mixed anhydride. In addition, as said other organic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, isobutyl formate, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, etc. are mentioned, for example.
上記電荷輸送性モノマーと非電荷輸送性モノマーとの重縮合反応においては、その反応形式に応じて、公知の添加剤、触媒等(具体的には、例えば、酸触媒、縮合剤、縮合で副生する水、アルコール、酸などを捕捉する捕捉剤等)を用いてもよい。 In the polycondensation reaction between the charge-transporting monomer and the non-charge-transporting monomer, known additives, catalysts, and the like (specifically, for example, an acid catalyst, a condensing agent, A capturing agent for capturing generated water, alcohol, acid, etc.) may be used.
前記の通り、非電荷輸送性モノマーは、重合性官能基を含有する。そのため、電荷輸送性モノマーと非電荷輸送性モノマーとの重縮合反応中に、非電荷輸送性モノマーが有する重合性官能基(すなわち、Y4で示される「*−(CH2)n4−L−Z」中のZで示される基)が反応しないよう、重縮合反応条件を選択してもよい。具体的には、例えば、必要に応じて、公知の重合禁止剤を添加して重縮合反応を実施してもよい。 As described above, the non-charge transporting monomer contains a polymerizable functional group. Therefore, during the polycondensation reaction between the charge-transporting monomer and the non-charge-transporting monomer, the polymerizable functional group of the non-charge-transporting monomer (ie, “*-(CH 2 ) n4 -L- represented by Y 4 ) Polycondensation reaction conditions may be selected so that the group represented by Z in “Z” does not react. Specifically, for example, if necessary, a known polymerization inhibitor may be added to carry out the polycondensation reaction.
また、上記非電荷輸送性モノマーの代わりに、Zで示される重合性官能基を有さないモノマーを用いて、電荷輸送性モノマーとの重縮合反応を実施することでポリエステルを得た後に、公知の反応により前記ポリエステル(すなわち、重合性官能基を有さないポリエステル)にZで示される重合性官能基を導入してもよい。
上記Zで示される重合性官能基を有さないモノマーと電荷輸送性モノマーとの重縮合反応を実施する場合、後からZで示される重合性官能基を導入するための官能基が重縮合中に反応しないよう、該官能基を適宜保護して重縮合を行ってもよい。
後からZで示される重合性官能基を導入する方法としては、重合性官能基を有さないポリエステルと、重合性官能基を有する化合物と、を反応させる方法が挙げられる。
Further, in place of the non-charge-transporting monomer, a monomer having no polymerizable functional group represented by Z is used, and a polyester is obtained by performing a polycondensation reaction with the charge-transporting monomer. May introduce a polymerizable functional group represented by Z into the polyester (that is, a polyester having no polymerizable functional group).
When carrying out a polycondensation reaction between a monomer having no polymerizable functional group represented by Z and a charge transporting monomer, a functional group for introducing the polymerizable functional group represented by Z later undergoes polycondensation. The polycondensation may be performed by appropriately protecting the functional group so as not to react with the compound.
Examples of a method for introducing a polymerizable functional group represented by Z later include a method of reacting a polyester having no polymerizable functional group with a compound having a polymerizable functional group.
重合性官能基を有する化合物としては、例えば、導入する重合性官能基に脱離基(例えば、水酸基、ハロゲン原子、他のカルボン酸等)が置換したカルボン酸誘導体、導入する重合性官能基に脱離基(例えば、ハロゲン原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、p−トルエンスルホニルオキシ基等)が置換して求電子剤となった化合物等が挙げられる。 Examples of the compound having a polymerizable functional group include, for example, a carboxylic acid derivative in which a leaving group (for example, a hydroxyl group, a halogen atom, or another carboxylic acid, etc.) is substituted for the polymerizable functional group to be introduced; Examples include compounds in which a leaving group (for example, a halogen atom, a trifluoromethanesulfonyloxy group, a p-toluenesulfonyloxy group, or the like) is substituted to become an electrophile.
電荷輸送性モノマー及び非電荷輸送性モノマーは、それぞれ、公知の方法で合成することで得られる。また、Zで示される重合性官能基を有する非電荷輸送性モノマーとして、市販品を使用してもよい。非電荷輸送性モノマーとして、重縮合の反応部位となるZ2で示される基が水酸基であるジオールモノマーをそのまま使用してもよく、重縮合反応条件によっては、該ジオールモノマーの水酸基を、公知の方法でハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、メタンスルホン酸エステル基、トリフルオロメタンスルホン酸エステル基、p−トルエンスルホン酸エステル基等に変換して使用してもよい。 The charge transporting monomer and the non-charge transporting monomer can be obtained by synthesizing each by a known method. Further, as the non-charge transporting monomer having a polymerizable functional group represented by Z, a commercially available product may be used. As a non-charge transporting monomer, the group represented by Z 2 as a reaction site of polycondensation may be used as the diol monomer is a hydroxyl group, by the polycondensation reaction conditions, the hydroxyl group of the diol monomers, known It may be converted to a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom), a methanesulfonic acid ester group, a trifluoromethanesulfonic acid ester group, a p-toluenesulfonic acid ester group, or the like by a method. .
Zで示される重合性官能基を有する非電荷輸送性モノマーのうち、Z2で示される基が水酸基であるジオールモノマーを合成する方法としては、例えば、エポキシ基又はオキセタン基を含有する市販の重合性官能基含有化合物(例えば、(メタ)アクリル酸エステル、スチレン誘導体等)に、水を付加させ、エポキシ基又はオキセタン基を開環させることで得る方法が挙げられる。
また、前記ジオールモノマーを合成する方法として、グリシドールに代表される、水酸基を含有するエポキシド又は水酸基を含有するオキセタンに対して、カルボキシ基又は水酸基を有する重合性官能基含有化合物(例えば、(メタ)アクリル酸、ヒドロキシ置換スチレン、ヒドロキシメチル置換スチレン、ビニル安息香酸等)を付加させ、エポキシ基又はオキセタン基を開環させて得る方法も挙げられる。
その他、前記ジオールモノマーを合成する方法として、3−クロロ−1,2−プロパンジオールに代表されるハロゲン含有ジオールに対して、カルボキシ基又は水酸基を有する重合性官能基含有化合物(例えば、(メタ)アクリル酸、ヒドロキシ置換スチレン、ヒドロキシメチル置換スチレン、ビニル安息香酸等)を反応させ、置換反応させることによって得る方法も挙げられる。
なお、「(メタ)アクリル」とは、「アクリル」及び「メタクリル」から選ばれる少なくとも一方を意味する。また、「(メタ)アクリレート」とは、「アクリレート」及び「メタクリレート」から選ばれる少なくとも一方を意味する。
Of the non-charge transporting monomer having a polymerizable functional group represented by Z, as a method of the group represented by Z 2 to synthesize diol monomer is a hydroxyl group may, for example, a commercially available polymer having an epoxy group or an oxetane group Examples of the method include a method in which water is added to a compound having an acidic functional group (for example, a (meth) acrylate ester, a styrene derivative, or the like) to open a ring of an epoxy group or an oxetane group.
Further, as a method for synthesizing the diol monomer, a carboxy group or a hydroxyl group-containing polymerizable functional group-containing compound (for example, (meth) Acrylic acid, hydroxy-substituted styrene, hydroxymethyl-substituted styrene, vinylbenzoic acid, etc.) may be added, and the epoxy group or oxetane group may be ring-opened.
In addition, as a method for synthesizing the diol monomer, a polymerizable functional group-containing compound having a carboxy group or a hydroxyl group with respect to a halogen-containing diol represented by 3-chloro-1,2-propanediol (for example, (meth) Acrylic acid, hydroxy-substituted styrene, hydroxymethyl-substituted styrene, vinylbenzoic acid, etc.) may be reacted and substituted.
In addition, “(meth) acryl” means at least one selected from “acryl” and “methacryl”. Further, “(meth) acrylate” means at least one selected from “acrylate” and “methacrylate”.
一分子中に2つの重合性官能基を有する非電荷輸送性のジオールモノマーについては、市販の2官能エポキシ(メタ)アクリレートに代表される、重合性官能基を2つ有する重合性官能基含有化合物をそのまま使用してもよい。
一分子中に2つの重合性官能基を有する非電荷輸送性のジオールモノマーを合成する方法としては、例えば、2官能のエポキシド又は2官能のオキセタン化合物に対して、カルボキシ基又は水酸基を有する重合性官能基含有化合物(例えば、(メタ)アクリル酸、ヒドロキシ置換スチレン、ヒドロキシメチル置換スチレン、ビニル安息香酸等)を付加させ、エポキシ基又はオキセタン基を開環させて得る方法が挙げられる。
Regarding the non-charge-transporting diol monomer having two polymerizable functional groups in one molecule, a polymerizable functional group-containing compound having two polymerizable functional groups represented by a commercially available bifunctional epoxy (meth) acrylate May be used as is.
As a method of synthesizing a non-charge-transporting diol monomer having two polymerizable functional groups in one molecule, for example, a polymerizable compound having a carboxy group or a hydroxyl group with respect to a bifunctional epoxide or a bifunctional oxetane compound is used. A method in which a functional group-containing compound (for example, (meth) acrylic acid, hydroxy-substituted styrene, hydroxymethyl-substituted styrene, vinylbenzoic acid, or the like) is added and an epoxy group or an oxetane group is ring-opened to obtain a method.
前記電荷輸送性モノマー及び非電荷輸送性モノマーを用いた第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の合成は、例えば、電荷輸送性モノマーと非電荷輸送性モノマーとを当量用い、溶剤中において、公知の添加剤や触媒(例えば、酸触媒、縮合剤、縮合で副生する水、アルコール、酸などを捕捉する捕捉剤等)等を用いることで行う。
溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、モノクロロベンゼン等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
The synthesis of the second charge-transporting polyester resin using the charge-transporting monomer and the non-charge-transporting monomer includes, for example, using an equivalent amount of the charge-transporting monomer and the non-charge-transporting monomer, and adding a known additive in a solvent. This is performed by using an agent or a catalyst (for example, an acid catalyst, a condensing agent, a trapping agent for trapping water, alcohol, acid, and the like by-produced in condensation) and the like.
Examples of the solvent include toluene, xylene, tetrahydrofuran, monochlorobenzene and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
・第二の電荷輸送性ポリエステル樹脂の合成(重縮合)の例
上記電荷輸送性モノマーと非電荷輸送性モノマーとの重合方法については、第4版実験化学講座28巻等に記載された公知の種々の方法を採用してもよい。例えば、以下の様な方法が挙げられる。
Example of Synthesis (Polycondensation) of Second Charge-Transporting Polyester Resin The polymerization method of the above-mentioned charge-transporting monomer and non-charge-transporting monomer is described in, for example, Vol. Various methods may be adopted. For example, the following method can be used.
(1)触媒を用いた二価のアルコールと二価のカルボン酸の重合
触媒を用いた二価のアルコールと二価のカルボン酸の重合では、二価のアルコールと二価のカルボン酸とを、ほぼ当量混合し、酸触媒を用いて重合する。
酸触媒としては、硫酸、トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等、通常のエステル化反応に用いるものが使用され、モノマー1質量部に対して、1/10000〜1/10質量部、好ましくは1/1000〜1/50質量部の範囲で用いられる。重合中に生成する水を除去するために、水と共沸可能な溶剤を用いることが好ましく、トルエン、クロロベンゼン等が有効であり、モノマー1質量部に対して、1〜100質量部、好ましくは2〜50質量部の範囲で用いられる。反応温度は任意に設定されるが、重合中に生成する水を除去するために、溶剤の沸点で反応させることが好ましい。反応終了後、溶剤を用いなかった場合には、可溶な溶剤に溶解させる。溶剤を用いた場合には、反応溶液をそのまま、メタノール、エタノール等のアルコール類、アセトン等のポリマーが溶解しにくい貧溶剤中に滴下し、電荷輸送性ポリエステル樹脂を析出させ、電荷輸送性ポリエステル樹脂を分離した後、水、有機溶剤等で十分洗浄し、乾燥させる。さらに、必要であれば適当な有機溶剤に溶解させ、貧溶剤中に滴下し、電荷輸送性ポリエステル樹脂を析出させる再沈殿処理を繰り返してもよい。再沈殿処理の際には、メカニカルスターラー等で効率よく撹拌しながら行うことが好ましい。再沈殿処理の際に電荷輸送性ポリエステル樹脂を溶解させる溶剤は、電荷輸送性ポリエステル樹脂1質量部に対して、1〜100質量部、好ましくは2〜50質量部の範囲で用いられる。また、貧溶剤は電荷輸送性樹脂1質量部に対して、1〜1000質量部、好ましくは10〜500質量部の範囲で用いられる。
(1) Polymerization of dihydric alcohol and divalent carboxylic acid using a catalyst In the polymerization of dihydric alcohol and a divalent carboxylic acid using a catalyst, a dihydric alcohol and a divalent carboxylic acid are obtained by Approximately equivalent amounts are mixed and polymerized using an acid catalyst.
As the acid catalyst, those used in a usual esterification reaction such as sulfuric acid, toluenesulfonic acid, and trifluoroacetic acid are used, and 1/10000 to 1/10 parts by mass, preferably 1/100 parts by mass with respect to 1 part by mass of the monomer. It is used in the range of 1000 to 1/50 parts by mass. In order to remove water generated during the polymerization, it is preferable to use a solvent capable of azeotropic distillation with water, and toluene, chlorobenzene and the like are effective, and 1 to 100 parts by mass, preferably 1 to 100 parts by mass, preferably 1 part by mass of the monomer It is used in the range of 2 to 50 parts by mass. The reaction temperature is arbitrarily set, but the reaction is preferably performed at the boiling point of the solvent in order to remove water generated during the polymerization. After completion of the reaction, if no solvent is used, the solvent is dissolved in a soluble solvent. When a solvent is used, the reaction solution is directly dropped into a poor solvent in which alcohols such as methanol and ethanol and polymers such as acetone are difficult to dissolve, and a charge-transporting polyester resin is precipitated. , And then sufficiently washed with water, an organic solvent or the like, and dried. Further, if necessary, the re-precipitation treatment of dissolving in a suitable organic solvent, dropping it into a poor solvent, and precipitating the charge transporting polyester resin may be repeated. In the case of the reprecipitation treatment, it is preferable to carry out the stirring while efficiently stirring with a mechanical stirrer or the like. The solvent for dissolving the charge transporting polyester resin in the reprecipitation treatment is used in an amount of 1 to 100 parts by weight, preferably 2 to 50 parts by weight, based on 1 part by weight of the charge transporting polyester resin. The poor solvent is used in an amount of 1 to 1000 parts by weight, preferably 10 to 500 parts by weight, based on 1 part by weight of the charge transporting resin.
また、酸性度の高い二価のアルコール類をモノマーとして用いる場合には、界面重合法を用いてもよい。すなわち、二価アルコール類を水に加え、当量の塩基を加えて溶解させた後、激しく撹拌しながら2価アルコール類と当量の電荷輸送性モノマーの溶液を加えることによって重合する。この際、水は2価アルコール類1質量部に対して、1〜1000質量部、好ましくは2〜500質量部の範囲で用いられる。もう一方のモノマーを溶解させる溶剤としては、塩化メチレン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、トルエン、クロロベンゼン、1−クロロナフタレン等が有効である。反応温度は任意に設定され、反応を促進するために、アンモニウム塩、スルホニウム塩等の相間移動触媒を用いることが効果的である。相間移動触媒は、モノマー1質量部に対して、0.1〜10質量部、好ましくは0.2〜5質量部の範囲で用いられる。 When a dihydric alcohol having a high acidity is used as a monomer, an interfacial polymerization method may be used. That is, polymerization is carried out by adding a dihydric alcohol to water, adding an equivalent of a base and dissolving the same, and then adding a solution of the dihydric alcohol and an equivalent of a charge-transporting monomer with vigorous stirring. At this time, water is used in an amount of 1 to 1000 parts by mass, preferably 2 to 500 parts by mass, based on 1 part by mass of the dihydric alcohol. As a solvent for dissolving the other monomer, methylene chloride, dichloroethane, trichloroethane, toluene, chlorobenzene, 1-chloronaphthalene and the like are effective. The reaction temperature is arbitrarily set, and it is effective to use a phase transfer catalyst such as an ammonium salt or a sulfonium salt to promote the reaction. The phase transfer catalyst is used in an amount of 0.1 to 10 parts by mass, preferably 0.2 to 5 parts by mass, based on 1 part by mass of the monomer.
(2)縮合剤を用いた二価のアルコールと二価のカルボン酸の重合
縮合剤を用いた二価のアルコールと二価のカルボン酸の重合では、二価のアルコールと二価のカルボン酸とを、ほぼ当量混合し、縮合剤を用いて重合する。縮合剤としては公知のものが使用され、具体的には、カルボジイミド系、イミダゾール系、トリアジン系、ホスホニウム系、ウロニウム系、ハロウロニウム系、光延反応試剤(アゾジカルボン酸ジエチルとトリフェニルホスフィン)等が挙げられる。
縮合剤の添加量は、二価のアルコールと二価のカルボン酸を当量使用する場合、二価のアルコールに対して1〜5モル当量、好ましくは1.05〜3モル当量、最も好ましくは1.1〜2モル当量である。
必要に応じ、塩基を添加してもよい。塩基としては有機塩基が好ましい。具体的には、ピリジン、トリエチルアミン、4−ジメチルアミノピリジン、イミダゾールなどが挙げられる。これらの使用量は縮合剤に対して0.05〜2モル当量、好ましくは0.1〜1.5モル当量、最も好ましくは0.15〜1.3モル当量である。
(2) Polymerization of dihydric alcohol and divalent carboxylic acid using condensing agent In the polymerization of dihydric alcohol and divalent carboxylic acid using the condensing agent, the dihydric alcohol and the divalent carboxylic acid are used. Are mixed in approximately equivalent amounts and polymerized using a condensing agent. Known condensing agents are used, and specific examples thereof include carbodiimide-based, imidazole-based, triazine-based, phosphonium-based, uronium-based, halouronium-based, and Mitsunobu reagents (diethyl azodicarboxylate and triphenylphosphine). Can be
When the divalent alcohol and the divalent carboxylic acid are used in an equivalent amount, the condensing agent is added in an amount of 1 to 5 molar equivalents, preferably 1.05 to 3 molar equivalents, most preferably 1 to 5 molar equivalents with respect to the dihydric alcohol. 0.1 to 2 molar equivalents.
If necessary, a base may be added. As the base, an organic base is preferred. Specific examples include pyridine, triethylamine, 4-dimethylaminopyridine, imidazole and the like. These are used in an amount of 0.05 to 2 molar equivalents, preferably 0.1 to 1.5 molar equivalents, and most preferably 0.15 to 1.3 molar equivalents, based on the condensing agent.
(3)二価のアルコールと二価のカルボン酸エステルの重合
二価のアルコールと二価のカルボン酸エステルの重合では、二価のアルコールを二価のカルボン酸エステルに加え、硫酸、リン酸等の無機酸、チタンアルコキシド、カルシウムおよびコバルト等の酢酸塩または炭酸塩、亜鉛または鉛の酸化物を触媒に用いて加熱し、エステル交換により合成する。
特に二価のカルボン酸エステルとして、沸点の高い電荷輸送性モノマーを用いる場合は、比較的沸点の低い二価のアルコールを、カルボン酸エステルに対し過剰に用いることが好ましい。二価のアルコールは、電荷輸送性モノマー1当量に対して、2〜100当量、好ましくは3〜50当量の範囲で用いられる。触媒は電荷輸送性モノマー1質量部に対して、1/1000〜1質量部、好ましくは1/1000〜1/2質量部の範囲で用いられる。反応温度200〜300℃で行い、エステル交換終了後は、二価のアルコールの脱離による重合を促進するため、減圧下で反応させることが好ましい。また、二価のアルコールと共沸する1−クロロナフタレン等の高沸点溶剤を用いて、常圧下で二価のアルコールを共沸で除きながら反応させてもよい。
(3) Polymerization of dihydric alcohol and divalent carboxylic acid ester In the polymerization of dihydric alcohol and divalent carboxylic acid ester, dihydric alcohol is added to divalent carboxylic acid ester, and sulfuric acid, phosphoric acid, etc. It is synthesized by transesterification by heating using an inorganic acid, an acetate or carbonate such as titanium alkoxide, calcium and cobalt, or an oxide of zinc or lead as a catalyst.
In particular, when a charge transporting monomer having a high boiling point is used as the divalent carboxylic acid ester, it is preferable to use a divalent alcohol having a relatively low boiling point in excess of the carboxylic acid ester. The dihydric alcohol is used in an amount of 2 to 100 equivalents, preferably 3 to 50 equivalents, per equivalent of the charge transporting monomer. The catalyst is used in an amount of 1/1000 to 1 part by mass, preferably 1/1000 to 1/2 part by mass, per 1 part by mass of the charge transporting monomer. The reaction is carried out at a reaction temperature of 200 to 300 ° C. After the transesterification, the reaction is preferably carried out under reduced pressure in order to promote the polymerization by elimination of the dihydric alcohol. Alternatively, the reaction may be carried out using a high-boiling solvent such as 1-chloronaphthalene which azeotropes with the dihydric alcohol while removing the dihydric alcohol azeotropically under normal pressure.
(4)二価のアルコール誘導体と二価のカルボン酸の重合
二価のアルコール誘導体と二価のカルボン酸の重合では、二価のアルコール誘導体として、二価のハロゲン化合物が好ましく用いられる。この場合には、二価のハロゲン化合物と二価のカルボン酸をほぼ当量になるように混合し、塩基性触媒を用いて重合すればよい。塩基性触媒としては、トリエチルアミン、ジエチルアミン、ジアザビシクロウンデセン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、ピリジン、ピペリジン等の一般の有機塩基、K2CO3、Na2CO3等の無機塩基が使用され、モノマー1molに対して1〜100mol、好ましくは1〜10molの範囲で用いられる。反応に使用する溶剤は特に制限はないが、塩基として無機塩基を用いる場合はN,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶剤が特に好ましい。反応温度は特に制限はなく自由に設定されるが、0度〜反応溶剤の沸点に設定することが望ましい。
(4) Polymerization of dihydric alcohol derivative and divalent carboxylic acid In the polymerization of dihydric alcohol derivative and divalent carboxylic acid, a divalent halogen compound is preferably used as the dihydric alcohol derivative. In this case, the divalent halogen compound and the divalent carboxylic acid may be mixed so as to be substantially equivalent, and polymerized using a basic catalyst. Examples of the basic catalyst include common organic bases such as triethylamine, diethylamine, diazabicycloundecene, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, pyridine and piperidine, K 2 CO 3 , Na 2 CO 3 and the like. Is used in an amount of 1 to 100 mol, preferably 1 to 10 mol, per 1 mol of the monomer. The solvent used for the reaction is not particularly limited, but when an inorganic base is used as the base, an aprotic polar solvent such as N, N-dimethylformamide, dimethylsulfoxide and the like is particularly preferable. The reaction temperature is not particularly limited and may be freely set, but is desirably set to a value between 0 degrees and the boiling point of the reaction solvent.
触媒の添加量としては、例えば、モノマー総質量(すなわち、電荷輸送性モノマーの質量と非電荷輸送性モノマーの質量との合計)1質量部に対して、1/10000質量部以上1/10質量部以下が挙げられ、好ましくは1/1000質量部以上1/50質量部以下である。
溶剤の添加量としては、例えば、生成する第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の1質量部に対して、1質量部以上100質量部以下が挙げられ、好ましくは2質量部以上50質量部以下である。
反応温度(すなわち、電荷輸送性モノマーと非電荷輸送性モノマーとの重合温度)は特に限定されるものではなく、例えば30℃以上100℃以下の範囲が挙げられる。
The amount of the catalyst added is, for example, 1 / 10,000 parts by mass or more and 1/10 part by mass with respect to 1 part by mass of the total monomer mass (that is, the sum of the mass of the charge transporting monomer and the mass of the non-charge transporting monomer). Or less, preferably from 1/1000 part by mass to 1/50 part by mass.
The amount of the solvent to be added is, for example, 1 part by mass or more and 100 parts by mass or less, preferably 2 parts by mass or more and 50 parts by mass or less with respect to 1 part by mass of the second charge transporting polyester resin to be produced. is there.
The reaction temperature (that is, the polymerization temperature of the charge-transporting monomer and the non-charge-transporting monomer) is not particularly limited, and may be, for example, in a range from 30 ° C to 100 ° C.
電荷輸送性モノマーと非電荷輸送性モノマーとの重合反応が終了した後は、例えば、得られた電荷輸送性樹脂が溶解しにくい貧溶剤(例えば、メタノール、エタノール等のアルコール類、アセトンなど)に反応溶液を滴下することで、電荷輸送性樹脂を析出させ、分離した後、水、有機溶剤等により洗浄し、乾燥させる。
さらに、必要に応じて有機溶剤に溶解させ、貧溶剤中に滴下し、電荷輸送性樹脂を析出させる再沈殿処理を繰り返してもよい。再沈殿処理は、メカニカルスターラー等により撹拌しながら行うことが好ましい。再沈殿処理の際に電荷輸送性樹脂を溶解させる溶剤の添加量としては、例えば、電荷輸送性化合物3質量部に対して、1質量部以上100質量部以下の範囲が挙げられ、好ましくは2質量部以上50質量部以下である。また、貧溶剤の量としては、例えば、電荷輸送性樹脂1質量部に対して、1質量部以上1000質量部以下が挙げられ、好ましくは10質量部以上500質量部以下の範囲である。
また、電荷輸送性モノマーと非電荷輸送性モノマーとの重合反応が終了した後、例えば、反応液を水にあけ、トルエン、ヘキサン、酢酸エチル等の溶剤で抽出、水洗し、さらに必要に応じて活性炭、シリカゲル、多孔質アルミナ、活性白土等の吸着剤を用いて精製を行ってもよい。
After the polymerization reaction between the charge transporting monomer and the non-charge transporting monomer is completed, for example, the resulting charge transporting resin is dissolved in a poor solvent (eg, alcohols such as methanol and ethanol, acetone, etc.). By dropping the reaction solution, the charge transporting resin is precipitated, separated, washed with water, an organic solvent or the like, and dried.
Further, if necessary, the re-precipitation treatment of dissolving in an organic solvent, dropping it into a poor solvent, and depositing a charge transporting resin may be repeated. The reprecipitation treatment is preferably performed while stirring with a mechanical stirrer or the like. The amount of the solvent for dissolving the charge transporting resin during the reprecipitation treatment is, for example, in the range of 1 part by weight or more and 100 parts by weight or less based on 3 parts by weight of the charge transporting compound, preferably 2 parts by weight. It is not less than 50 parts by mass and not more than 50 parts by mass. The amount of the poor solvent is, for example, 1 part by mass or more and 1000 parts by mass or less, preferably 10 parts by mass or more and 500 parts by mass or less based on 1 part by mass of the charge transporting resin.
After the polymerization reaction between the charge transporting monomer and the non-charge transporting monomer is completed, for example, the reaction solution is poured into water, extracted with a solvent such as toluene, hexane, or ethyl acetate, washed with water, and further, if necessary. Purification may be performed using an adsorbent such as activated carbon, silica gel, porous alumina, and activated clay.
<電荷輸送性膜>
次に、電荷輸送性膜について説明する。
電荷輸送性膜は、第1の電荷輸送性樹脂、第1の電荷輸送性樹脂の架橋体、第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂、及び第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の架橋体から選ばれる少なくとも1種(すなわち、特定樹脂及び特定樹脂架橋体から選ばれる少なくとも1種)を含有する。
電荷輸送性膜は、例えば、特定樹脂が溶剤に溶解した特定樹脂溶解液を用いて膜とすることで形成される。
<Charge transporting film>
Next, the charge transporting film will be described.
The charge transporting film is at least one selected from a first charge transporting resin, a crosslinked product of the first charge transporting resin, a second charge transporting polyester resin, and a crosslinked product of the second charge transporting polyester resin. It contains one type (that is, at least one type selected from a specific resin and a specific resin crosslinked product).
The charge transporting film is formed, for example, by forming a film using a specific resin solution in which a specific resin is dissolved in a solvent.
−特定樹脂溶解液−
特定樹脂溶解液に用いる溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤、エチレングリコールモノメチルエーテル等のセロソルブ系溶剤、イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール系溶剤等の溶剤が挙げられ、これらを単独で用いてもよく、混合溶剤として用いてもよい。
-Specific resin solution-
Examples of the solvent used for the specific resin solution include aromatic solvents such as toluene and xylene; ketone solvents such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; tetrahydrofuran and dioxane. And a solvent such as a cellosolve solvent such as ethylene glycol monomethyl ether and an alcohol solvent such as isopropyl alcohol and butanol. These may be used alone or as a mixed solvent.
なお、これらの溶剤に特定樹脂を溶解する溶解方法としては、例えば、10℃から150℃、好ましくは15℃から120℃の温度で溶剤と攪拌混合(例えば超音波照射しながら攪拌混合)するなど通常の方法が挙げられる。 As a dissolving method for dissolving the specific resin in these solvents, for example, stirring and mixing with the solvent at a temperature of 10 ° C. to 150 ° C., preferably 15 ° C. to 120 ° C. (for example, stirring and mixing while irradiating ultrasonic waves) The usual method is mentioned.
−特定樹脂の架橋−
電荷輸送性膜の中でも特に、特定樹脂架橋体を含有する電荷輸送性膜を得る方法としては、例えば、重合性官能基を有する特定樹脂を含有する特定樹脂溶解液を用い、これに熱、光、放射線等を付与することで特定樹脂をさらに架橋させる方法が挙げられる。上記架橋により、強度、耐溶剤性が向上した電荷輸送性膜が得られる。
なお、熱及び光の少なくとも一方により架橋を行う場合、重合開始剤は必ずしも必要ではないが、光硬化触媒及び熱重合開始剤の少なくとも一方を用いてもよい。この光硬化触媒及び熱重合開始剤としては、公知の光硬化触媒や熱重合開始剤が用いられる。放射線としては電子線が好ましい。
-Crosslinking of specific resin-
Among the charge transporting films, in particular, as a method for obtaining a charge transporting film containing a crosslinked specific resin, for example, a specific resin solution containing a specific resin having a polymerizable functional group is used, and heat, light, And a method of further crosslinking the specific resin by applying radiation or the like. By the crosslinking, a charge transporting film having improved strength and solvent resistance can be obtained.
When crosslinking is performed by at least one of heat and light, a polymerization initiator is not necessarily required, but at least one of a photocuring catalyst and a thermal polymerization initiator may be used. Known photocuring catalysts and thermal polymerization initiators are used as the photocuring catalyst and the thermal polymerization initiator. The radiation is preferably an electron beam.
(電子線架橋)
特定樹脂の架橋に電子線を用いる場合、加速電圧は300KV以下が好ましく、最適には150KV以下である。また、線量は好ましくは1Mrad以上100Mrad以下の範囲、より好ましくは3Mrad以上50Mrad以下の範囲である。加速電圧が300KV以下であることにより感光体特性に対する電子線照射のダメージが抑制される。また、線量が1Mrad以上であることにより架橋が十分に行なわれ、100Mrad以下であることにより感光体の劣化が抑制される。
(Electron beam crosslinking)
When an electron beam is used for crosslinking the specific resin, the acceleration voltage is preferably 300 KV or less, and most preferably 150 KV or less. The dose is preferably in the range of 1 Mrad to 100 Mrad, more preferably in the range of 3 Mrad to 50 Mrad. When the accelerating voltage is 300 KV or less, the damage of the electron beam irradiation on the characteristics of the photoconductor is suppressed. When the dose is 1 Mrad or more, crosslinking is sufficiently performed, and when the dose is 100 Mrad or less, deterioration of the photoconductor is suppressed.
照射は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、酸素濃度が1000ppm、好ましくは500ppm以下で行い、さらに照射中、又は照射後に50℃以上150℃以下に加熱してもよい。 Irradiation is performed in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen or argon at an oxygen concentration of 1000 ppm, preferably 500 ppm or less, and may be heated to 50 ° C. or more and 150 ° C. or less during or after the irradiation.
(光架橋)
光源としては、高圧水銀灯、低圧水銀灯、メタルハライドランプなどが用いられ、バンドパスフィルター等のフィルターを用いて好適な波長を選択してもよい。照射時間、光強度は自由に選択されるが、例えば照度(365nm)は300mW/cm2以上、1000mW/cm2以下が好ましく、例えば600mW/cm2のUV光を照射する場合、5秒以上360秒以下照射すればよい。
(Photocrosslinking)
As the light source, a high-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or the like is used, and a suitable wavelength may be selected using a filter such as a band-pass filter. Irradiation time, the light intensity is selected freely, for example, the illuminance (365 nm) is 300 mW / cm 2 or more, preferably 1000 mW / cm 2 or less, for example, the case of irradiation with UV light of 600 mW / cm 2, 5 seconds or more 360 Irradiation may be performed for less than a second.
照射は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、酸素濃度が好ましくは1000ppm以下、より好ましくは500ppm以下で行い、さらに照射中、又は照射後に50℃以上150℃以下に加熱してもよい。 Irradiation is performed in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen or argon at an oxygen concentration of preferably 1000 ppm or less, more preferably 500 ppm or less, and may be heated to 50 ° C. or more and 150 ° C. or less during or after the irradiation.
光硬化触媒として、分子内開裂型としては、ベンジルケタール系、アルキルフェノン系、アミノアルキルフェノン系、ホスフィンオキサイド系、チタノセン系、オキシム系などが挙げられる。
より具体的には、ベンジルケタール系として、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オンが挙げられる。
As the photocuring catalyst, examples of the intramolecular cleavage type include benzyl ketal type, alkylphenone type, aminoalkylphenone type, phosphine oxide type, titanocene type, oxime type and the like.
More specifically, as the benzyl ketal, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one is exemplified.
また、アルキルフェノン系としては、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン、アセトフェノン、2−フェニル−2−(p−トルエンスルフォニルオキシ)アセトフェノンが挙げられる。 Examples of alkylphenones include 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl]. -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl} -2-methyl- Examples include propan-1-one, acetophenone, and 2-phenyl-2- (p-toluenesulfonyloxy) acetophenone.
アミノアルキルフェノン系としては、p−ジメチルアミノアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1,2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モリホニル)フェニル]−1−ブタノンなどが挙げられる。 Examples of aminoalkylphenones include p-dimethylaminoacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-one. Dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-morphonyl) phenyl] -1 -Butanone and the like.
ホスフィノキサイド系としては、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンキサイドなどが挙げられる。 Examples of the phosphinoxide system include 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide.
チタノセン系としては、ビス(η5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)−フェニル)チタニウムなどが挙げられる。 Examples of the titanocene-based compound include bis (η5-2,4-cyclopentadien-1-yl) -bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) -phenyl) titanium.
オキシム系としては、1,2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)−,2−(O−ベンゾイルオキシム)]、エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(O−アセチルオキシム)などが挙げられる。 Oxime-based compounds include 1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio)-, 2- (O-benzoyloxime)], ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl)-. 9H-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime) and the like.
水素引抜型としては、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンジル系、ミヒラーケトン系などが挙げられる。
より具体的には、ベンゾフェノン系として、2−ベンゾイル安息香酸、2−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルスルフィド、p,p’−ビスジエチルアミノベンゾフェノンなどが挙げられる。
Examples of the hydrogen abstraction type include benzophenone type, thioxanthone type, benzyl type and Michler's ketone type.
More specifically, benzophenones include 2-benzoylbenzoic acid, 2-chlorobenzophenone, 4,4′-dichlorobenzophenone, 4-benzoyl-4′-methyldiphenyl sulfide, p, p′-bisdiethylaminobenzophenone, and the like. No.
チオキサントン系としては、2,4−ジエチルチオキサンテン−9−オン、2−クロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントンなどが挙げられる。 Examples of the thioxanthone type include 2,4-diethylthioxanthen-9-one, 2-chlorothioxanthone, and 2-isopropylthioxanthone.
ベンジル系としては、ベンジル、(±)−カンファーキノン、p−アニシルなどが挙げられる。 Examples of the benzyl group include benzyl, (±) -camphorquinone, p-anisyl and the like.
これらの光重合開始剤は、単独で又は2種類以上を組み合わせて用られる。 These photopolymerization initiators are used alone or in combination of two or more.
(熱架橋)
熱重合開始剤としては、V−30、V−40、V−59、V601、V65、V−70、VF−096、VE−073、Vam−110、Vam−111(富士フイルム和光純薬(株)製)、OTazo−15、OTazo−30、AIBN、AMBN、ADVN、ACVA(大塚化学)等のアゾ系開始剤;パーテトラA、パーヘキサHC、パーヘキサC、パーヘキサV、パーヘキサ22、パーヘキサMC、パーブチルH、パークミルH、パークミルP、パーメンタH、パーオクタH、パーブチルC、パーブチルD、パーヘキシルD、パーロイルIB、パーロイル355、パーロイルL、パーロイルSA、ナイパーBW、ナイパーBMT−K40/M、パーロイルIPP、パーロイルNPP、パーロイルTCP、パーロイルOPP、パーロイルSBP、パークミルND、パーオクタND、パーヘキシルND、パーブチルND、パーブチルNHP、パーヘキシルPV、パーブチルPV、パーヘキサ250、パーオクタO、パーヘキシルO、パーブチルO、パーブチルL、パーブチル355、パーヘキシルI、パーブチルI、パーブチルE、パーヘキサ25Z、パーブチルA、パーヘキシルZ、パーブチルZT、パーブチルZ(日油化学社製)、カヤケタールAM−C55、トリゴノックス36−C75、ラウロックス、パーカドックスL−W75、パーカドックスCH−50L、トリゴノックスTMBH、カヤクメンH、カヤブチルH−70、ペルカドックスBC−FF、カヤヘキサAD、パーカドックス14、カヤブチルC、カヤブチルD、カヤヘキサYD−E85、パーカドックス12−XL25、パーカドックス12−EB20、トリゴノックス22−N70、トリゴノックス22−70E、トリゴノックスD−T50、トリゴノックス423−C70、カヤエステルCND−C70、カヤエステルCND−W50、トリゴノックス23−C70、トリゴノックス23−W50N、トリゴノックス257−C70、カヤエステルP−70、カヤエステルTMPO−70、トリゴノックス121、カヤエステルO、カヤエステルHTP−65W、カヤエステルAN、トリゴノックス42、トリゴノックスF−C50、カヤブチルB、カヤカルボンEH−C70、カヤカルボンEH−W60、カヤカルボンI−20、カヤカルボンBIC−75、トリゴノックス117、カヤレン6−70(化薬アクゾ社製)、ルペロックス610、ルペロックス188、ルペロックス844、ルペロックス259、ルペロックス10、ルペロックス701、ルペロックス11、ルペロックス26、ルペロックス80、ルペロックス7、ルペロックス270、ルペロックスP、ルペロックス546、ルペロックス554、ルペロックス575、ルペロックスTANPO、ルペロックス555、ルペロックス570、ルペロックスTAP、ルペロックスTBIC、ルペロックスTBEC、ルペロックスJW、ルペロックスTAIC、ルペロックスTAEC、ルペロックスDC、ルペロックス101、ルペロックスF、ルペロックスDI、ルペロックス130、ルペロックス220、ルペロックス230、ルペロックス233、ルペロックス531(アルケマ吉富社製)などが挙げられる。
(Thermal crosslinking)
Examples of the thermal polymerization initiator include V-30, V-40, V-59, V601, V65, V-70, VF-096, VE-073, Vam-110, and Vam-111 (Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd. Azo) initiators such as OTazo-15, OTazo-30, AIBN, AMBN, ADVN, ACVA (Otsuka Chemical); Pertetra A, Perhexa HC, Perhexa C, Perhexa V, Perhexa 22, Perhexa MC, Perbutyl H Parkmill H, Parkmill P, Permentor H, Perocta H, Perbutyl C, Perbutyl D, Perhexyl D, Parloyl IB, Parloyl 355, Parloyl L, Parloyl SA, Niper BW, Niper BMT-K40 / M, Parloyl IPP, Parloyl NPP, Parloyl TCP, Parloyl OPP, Parroy SBP, Parkmill ND, Peroctal ND, Perhexyl ND, Perbutyl ND, Perbutyl NHP, Perhexyl PV, Perbutyl PV, Perhexa 250, Perocta O, Perhexyl O, Perbutyl O, Perbutyl L, Perbutyl 355, Perhexyl I, Perbutyl I, Perbutyl E, Perhexa 25Z, Perbutyl A, Perhexyl Z, Perbutyl ZT, Perbutyl Z (manufactured by NOF Chemicals), Kayaketal AM-C55, Trigonox 36-C75, Laurox, Parkadox L-W75, Parkadox CH-50L, Trigonox TMBH, Kayakumen H, Kayabutyl H-70, Perkadox BC-FF, Kayahexa AD, Parkadox 14, Kayabutyl C, Kayabutyl D, Kayahexa YD-E85, Parkadoc 12-XL25, Parkadox 12-EB20, Trigonox 22-N70, Trigonox 22-70E, Trigonox DT50, Trigonox 423-C70, Kayaester CND-C70, Kayaester CND-W50, Trigonox 23-C70, Trigonox 23- W50N, Trigonox 257-C70, Kayaester P-70, Kayaester TMPO-70, Trigonox 121, Kayaester O, Kayaester HTP-65W, Kayaester AN, Trigonox 42, Trigonox FC50, Kayabutyl B, Kayacarbon EH- C70, Kayacarbon EH-W60, Kayacarbon I-20, Kayacarbon BIC-75, Trigonox 117, Kayaren 6-70 (manufactured by Kayaku Akzo), Luperox 610, Luperox 188, Luperrox 844, Luperrox 259, Luperrox 10, Luperrox 701, Luperrox 11, Luperrox 26, Luperrox 80, Luperrox 7, Luperrox 270, Luperrox P, Luperrox 546, Luperrox 554, Luperrox TA 55, Luperrox 575 Luperrox 570, Luperrox TAP, Luperrox TBIC, Luperrox TBEC, Luperrox JW, Luperrox TAIC, Luperrox TAEC, Luperrox DC, Luperrox 101, Luperrox F, Luperrox DI, Luperrox 130, Luperrox 220, Luperlox 53, Luperrox 33, Luperloques 33, Luperrox 2 Company) .
これらのうち、分子量250以上のアゾ系重合開始剤を用いると、低い温度でムラなく反応が進行することから、ムラが抑制された高強度の膜が形成される。より好適には、アゾ系重合開始剤の分子量は、250以上であり、300以上が更に好適である。 Among these, when an azo-based polymerization initiator having a molecular weight of 250 or more is used, the reaction proceeds evenly at a low temperature, so that a high-strength film in which unevenness is suppressed is formed. More preferably, the molecular weight of the azo-based polymerization initiator is 250 or more, and even more preferably 300 or more.
加熱は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、酸素濃度が好ましくは1000ppm以下、より好ましくは500ppm以下で行い、好ましくは50℃以上170℃以下、より好ましくは70℃以上150℃以下で、好ましくは10分以上120分以下、より好ましくは15分以上100分以下加熱する。 Heating is performed under an atmosphere of an inert gas such as nitrogen or argon, with an oxygen concentration of preferably 1000 ppm or less, more preferably 500 ppm or less, preferably 50 ° C or more and 170 ° C or less, more preferably 70 ° C or more and 150 ° C or less. Heating is preferably performed for 10 minutes to 120 minutes, more preferably 15 minutes to 100 minutes.
光硬化触媒又は熱重合開始剤の総含有量は、層形成のための溶解液中の全固形分に対して0.1質量%以上10質量%以下が好ましく、更には0.1質量%以上8質量%以下がより好ましく、0.1質量%以上5質量%以下の範囲が特に好ましい。 The total content of the photocuring catalyst or the thermal polymerization initiator is preferably from 0.1% by mass to 10% by mass, and more preferably from 0.1% by mass to 10% by mass based on the total solid content in the solution for forming a layer. 8 mass% or less is more preferable, and the range of 0.1 mass% or more and 5 mass% or less is particularly preferable.
−他の成分−
電荷輸送性膜は、特定樹脂を、特定樹脂以外のバインダー樹脂に相溶させた膜であってもよく、二重結合を有するモノマー、オリゴマー、又はポリマー(以下「反応性化合物」ともいう)と混合し硬化させた硬化膜であってもよい。
また、電荷輸送性膜は、発光材料、色素化合物、正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料及び電子注入材料から選択される少なくとも1種を含有していてもよい。これら材料の具体例については後述する。
-Other components-
The charge transporting film may be a film in which a specific resin is compatible with a binder resin other than the specific resin, and may include a monomer, oligomer, or polymer having a double bond (hereinafter, also referred to as a “reactive compound”). It may be a cured film mixed and cured.
The charge transporting film may contain at least one selected from a luminescent material, a dye compound, a hole transporting material, a hole injecting material, an electron transporting material, and an electron injecting material. Specific examples of these materials will be described later.
(バインダー樹脂)
バインダー樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂等、公知の非反応性のバインダー樹脂が挙げられる。
(Binder resin)
Examples of the binder resin include known non-reactive binder resins such as polyester resin, polyarylate resin, methacrylic resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, and polystyrene resin.
バインダー樹脂の総含有量は、電荷輸送性膜を形成する際に用いられる組成物の全固形分に対して、0質量%以上60質量%以下が望ましく、より望ましくは0質量%以上55質量%以下、更に望ましくは0質量%以上50質量%以下である。 The total content of the binder resin is preferably from 0% by mass to 60% by mass, more preferably from 0% by mass to 55% by mass, based on the total solid content of the composition used for forming the charge transporting film. The content is more preferably 0% by mass or more and 50% by mass or less.
(反応性化合物)
反応性化合物としては、例えば、1官能の化合物(すなわち、分子内に二重結合を1つ有する化合物)、及び2官能以上の化合物(すなわち、同一分子内に2つ以上の二重結合を含む化合物)が挙げられ、これらの中でも、電荷輸送性膜の強度向上の観点から2官能以上の化合物が好ましい。なお、反応性化合物は、分子内に電荷輸送性の構造を有するものであってもよい。
(Reactive compound)
Examples of the reactive compound include a monofunctional compound (that is, a compound having one double bond in a molecule) and a bifunctional or more compound (that is, a compound having two or more double bonds in the same molecule). Compounds), and among these, a bifunctional or higher functional compound is preferable from the viewpoint of improving the strength of the charge transporting film. The reactive compound may have a charge transporting structure in the molecule.
反応性化合物として、1官能のモノマーは、例えば、イソブチルアクリレート、t−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、ヒドロキシエチルo−フェニルフェノールアクリレート、o−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート、スチレンなどが挙げられる。 As the reactive compound, monofunctional monomers include, for example, isobutyl acrylate, t-butyl acrylate, isooctyl acrylate, lauryl acrylate, stearyl acrylate, isobornyl acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate , 2-ethoxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, benzyl acrylate, ethyl carbitol acrylate, phenoxyethyl acrylate, 2-hydroxy acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, methoxy polyethylene glycol acrylate, methoxy polyethylene glycol methacrylate , Phenoxy polyethylene glyco Le acrylate, phenoxy polyethylene glycol methacrylate, hydroxyethyl o- phenylphenol acrylate, o- phenylphenol glycidyl ether acrylate and styrene.
反応性化合物として、2官能のモノマーは、例えば、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート等が挙げられる。 As the reactive compound, bifunctional monomers include, for example, diethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexane Diol di (meth) acrylate, divinylbenzene, diallyl phthalate and the like can be mentioned.
反応性化合物として、3官能のモノマーは、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、脂肪族トリ(メタ)アクリレート、トリビニルシクロヘキサン等が挙げられる。 Examples of the trifunctional monomer as the reactive compound include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, aliphatic tri (meth) acrylate, and trivinylcyclohexane.
反応性化合物として、4官能のモノマーは、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、脂肪族テトラ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of the reactive compound include tetrafunctional monomers such as pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, and aliphatic tetra (meth) acrylate.
反応性化合物として、5官能以上のモノマーは、例えば、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の他、ポリエステル骨格、ウレタン骨格、フォスファゼン骨格を有する(メタ)アクリレート等が挙げられる。 As the reactive compound, monomers having five or more functional groups include, for example, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and a (meth) acrylate having a polyester skeleton, a urethane skeleton, and a phosphazene skeleton. Is mentioned.
また、反応性化合物として、反応性のポリマーは、例えば、特開平5−216249号公報、特開平5−323630号公報、特開平11―52603号公報、特開2000−264961号公報、特開2005−2291号公報などに開示されたものが挙げられる。 Further, as the reactive compound, reactive polymers include, for example, JP-A-5-216249, JP-A-5-323630, JP-A-11-52603, JP-A-2000-264961, and JP-A-2005-2005. -2291.
反応性化合物を用いる場合には、単独又は2種以上の混合物として使用される。反応性化合物は、膜を形成する際に用いられる組成物の全固形分の全固形分に対して、好ましくは60質量%以下、より好ましくは55質量%以下で用い、更に好ましくは50質量%以下で使用される。 When a reactive compound is used, it is used alone or as a mixture of two or more. The reactive compound is used in an amount of preferably not more than 60% by mass, more preferably not more than 55% by mass, more preferably not more than 50% by mass, based on the total solids of the solid used in forming the film. Used in:
<有機電子デバイスの種類>
有機電子デバイスとしては、例えば、支持体上に、上記電荷輸送性膜を設けたものが挙げられ、具体的には、例えば、電子写真感光体、有機電界発光素子、太陽電池、トランジスター等が挙げられる。
なお、有機電子デバイスが感光層を有する電子写真感光体である場合、最表面層が前記電荷輸送性膜であってもよく、感光層が前記電荷輸送性膜であってもよい。感光層が前記電荷輸送性膜である場合、感光層である電荷輸送性膜が、電荷輸送材料として特定樹脂及び特定樹脂架橋体から選ばれる少なくとも1種と、電荷発生材料と、を含有してもよい。
電荷輸送性膜に含有される電荷発生材料としては、例えばフタロシアニン化合物が挙げられ、さらに具体的には、例えば、特開平5ー98181号公報に開示されているハロゲン化ガリウムフタロシアニン結晶、特開平5ー140472号公報及び特開平5ー140473号公報に開示されているハロゲン化スズフタロシアニン結晶、特開平5ー263007号公報及び特開平5ー279591号公報に開示されているヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶、特開平4−189873号公報及び特開平5ー43813号公報に開示されているオキシチタニウムフタロシアニン水和物結晶等が挙げられる。これらのフタロシアニン化合物を用いることにより、高感度で、繰り返し安定性の優れる電子写真感光体が得られる。
以下、有機電子デバイスの一例として、電子写真感光体及び有機電界発光素子について説明する。
<Types of organic electronic devices>
Examples of the organic electronic device include, for example, a device in which the above-described charge transporting film is provided on a support. Can be
When the organic electronic device is an electrophotographic photosensitive member having a photosensitive layer, the outermost surface layer may be the charge transporting film, and the photosensitive layer may be the charge transporting film. When the photosensitive layer is the charge transporting film, the charge transporting film as the photosensitive layer contains at least one selected from a specific resin and a specific resin crosslinked product as a charge transporting material, and a charge generating material. Is also good.
Examples of the charge generation material contained in the charge transporting film include phthalocyanine compounds. More specifically, for example, halogenated gallium phthalocyanine crystals disclosed in JP-A-5-98181, Halogenated tin phthalocyanine crystals disclosed in JP-A-140472 and JP-A-5-140473, hydroxygallium phthalocyanine crystals disclosed in JP-A-5-263007 and JP-A-5-279951, Oxytitanium phthalocyanine hydrate crystals and the like disclosed in JP-A-4-189873 and JP-A-5-43813. By using these phthalocyanine compounds, an electrophotographic photosensitive member having high sensitivity and excellent repetition stability can be obtained.
Hereinafter, an electrophotographic photosensitive member and an organic electroluminescent element will be described as examples of the organic electronic device.
−電子写真感光体−
電子写真感光体としては、例えば、導電性基体上に前述の電荷輸送性膜を設けたものが挙げられる。その中でも、導電性基体上に設けられた層のうち最表面層が前述の電荷輸送性膜であるものが好ましい。
なお、最表面層は、電子写真感光体自体の最上面を形成していればよく、保護層として機能する層であってもよく、電荷輸送層として機能する層であってもよい。
最表面層が保護層として機能する層である場合、例えば、この保護層の下層に、電荷輸送層及び電荷発生層からなる感光層、又は単層型感光層を有する。つまり、最表面層が保護層として機能する層である場合、例えば、導電性基体上に、感光層、及び最表面層としての保護層を有し、該保護層が前記電荷輸送性膜である形態が挙げられる。
一方、最表面層が電荷輸送層として機能する層である場合、例えば、導電性基体上に、電荷発生層、及び最表面層としての電荷輸送層を有し、該電荷輸送層が前記電荷輸送性膜である形態が挙げられる。なお、電荷輸送層は、チオール基又は不飽和結合などの反応性基を有さない電荷輸送材料をさらに含有してもよい。
-Electrophotographic photoreceptor-
Examples of the electrophotographic photoreceptor include those having the above-described charge transporting film provided on a conductive substrate. Among them, a layer in which the outermost surface layer among the layers provided on the conductive substrate is the above-described charge transporting film is preferable.
Note that the outermost surface layer only needs to form the uppermost surface of the electrophotographic photoreceptor itself, and may be a layer functioning as a protective layer or a layer functioning as a charge transport layer.
When the outermost layer is a layer that functions as a protective layer, for example, a photosensitive layer including a charge transport layer and a charge generation layer, or a single-layer type photosensitive layer is provided below the protective layer. That is, when the outermost surface layer is a layer that functions as a protective layer, for example, on a conductive substrate, a photosensitive layer, and a protective layer as an outermost surface layer, and the protective layer is the charge transporting film. Form.
On the other hand, when the outermost layer is a layer that functions as a charge transport layer, for example, a charge generation layer and a charge transport layer as the outermost layer are provided on a conductive substrate, and the charge transport layer is the charge transport layer. And a film that is a conductive film. The charge transport layer may further contain a charge transport material having no reactive group such as a thiol group or an unsaturated bond.
以下、電子写真感光体の例として、最表面層が保護層として機能する層である電子写真感光体について、図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付することとし、重複する説明は省略する。 Hereinafter, as an example of the electrophotographic photosensitive member, an electrophotographic photosensitive member in which the outermost layer functions as a protective layer will be described in detail with reference to the drawings. In the drawings, the same or corresponding parts will be denoted by the same reference characters, without redundant description.
図1は、電子写真用感光体の好適な一例を示す模式断面図である。図2及び図3はそれぞれ電子写真感光体の好適な他の一例を示す模式断面図である。 FIG. 1 is a schematic sectional view showing a preferred example of an electrophotographic photoconductor. FIGS. 2 and 3 are schematic cross-sectional views showing another preferred example of the electrophotographic photosensitive member.
図1に示す電子写真感光体7Aは、いわゆる機能分離型感光体(又は積層型感光体)であり、導電性基体4上に下引層1が設けられ、その上に電荷発生層2、電荷輸送層3、及び保護層5が順次形成された構造を有するものである。電子写真感光体7Aにおいては、電荷発生層2及び電荷輸送層3により感光層が構成される。 The electrophotographic photoreceptor 7A shown in FIG. 1 is a so-called function-separated type photoreceptor (or a stacked type photoreceptor), in which an undercoat layer 1 is provided on a conductive substrate 4, on which a charge generation layer 2 and a charge It has a structure in which the transport layer 3 and the protective layer 5 are sequentially formed. In the electrophotographic photoreceptor 7A, a photosensitive layer is constituted by the charge generation layer 2 and the charge transport layer 3.
図2に示す電子写真感光体7Bは、図1に示す電子写真感光体7Aのごとく、電荷発生層2と電荷輸送層3とに機能が分離された機能分離型感光体である。
図2に示す電子写真感光体7Bにおいては、導電性基体4上に下引層1が設けられ、その上に、電荷輸送層3、電荷発生層2、及び保護層5が順次形成された構造を有するものである。電子写真感光体7Bにおいては、電荷輸送層3及び電荷発生層2により感光層が構成される。
The electrophotographic photoreceptor 7B shown in FIG. 2 is a function-separated type photoreceptor in which the functions are separated into a charge generation layer 2 and a charge transport layer 3, like the electrophotographic photoreceptor 7A shown in FIG.
The electrophotographic photoreceptor 7B shown in FIG. 2 has a structure in which an undercoat layer 1 is provided on a conductive substrate 4, and a charge transport layer 3, a charge generation layer 2, and a protective layer 5 are sequentially formed thereon. It has. In the electrophotographic photoreceptor 7B, the charge transport layer 3 and the charge generation layer 2 constitute a photosensitive layer.
図3に示す電子写真感光体7Cは、電荷発生材料と電荷輸送材料とを同一の層(単層型感光層6)に含有するものである。図3に示す電子写真感光体7Cにおいては、導電性基体4上に下引層1が設けられ、その上に単層型感光層6及び保護層5が順次形成された構造を有するものである。 The electrophotographic photoreceptor 7C shown in FIG. 3 contains a charge generation material and a charge transport material in the same layer (single-layer type photosensitive layer 6). The electrophotographic photoreceptor 7C shown in FIG. 3 has a structure in which an undercoat layer 1 is provided on a conductive substrate 4, and a single-layer type photosensitive layer 6 and a protective layer 5 are sequentially formed thereon. .
そして、図1、図2、及び図3に示す電子写真感光体7A、7B、及び7Cにおいて、保護層5が、導電性基体4から最も遠い側に配置される最表面層となっており、当該最表面層が、上記の構成となっている。
尚、図1、図2、及び図3に示す電子写真感光体において、下引層1は設けてもよいし、設けなくてもよい。
In addition, in the electrophotographic photosensitive members 7A, 7B, and 7C shown in FIGS. 1, 2, and 3, the protective layer 5 is the outermost surface layer disposed on the farthest side from the conductive substrate 4, The outermost surface layer has the above configuration.
In the electrophotographic photoreceptors shown in FIGS. 1, 2 and 3, the undercoat layer 1 may or may not be provided.
以下、代表例として図1に示す電子写真感光体7Aに基づいて、各要素について説明する。なお、符号は省略して説明する。 Hereinafter, each element will be described based on the electrophotographic photosensitive member 7A shown in FIG. 1 as a representative example. The description will be omitted with reference numerals omitted.
(導電性基体)
導電性基体としては、例えば、金属(アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等)又は合金(ステンレス鋼等)を含む金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等が挙げられる。また、導電性基体としては、例えば、導電性化合物(例えば導電性ポリマー、酸化インジウム等)、金属(例えばアルミニウム、パラジウム、金等)又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等も挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が1013Ωcm未満であることをいう。
(Conductive substrate)
Examples of the conductive substrate include a metal plate, a metal drum, and a metal belt containing a metal (aluminum, copper, zinc, chromium, nickel, molybdenum, vanadium, indium, gold, platinum, etc.) or an alloy (stainless steel, etc.). Is mentioned. Examples of the conductive substrate include paper, resin films, belts, and the like, on which a conductive compound (for example, a conductive polymer, indium oxide, or the like), a metal (for example, aluminum, palladium, gold, or the like) or an alloy is applied, deposited, or laminated. Are also mentioned. Here, “conductive” means that the volume resistivity is less than 10 13 Ωcm.
導電性基体の表面は、電子写真感光体がレーザプリンタに使用される場合、レーザ光を照射する際に生じる干渉縞を抑制する目的で、中心線平均粗さRaで0.04μm以上0.5μm以下に粗面化されていることが好ましい。なお、非干渉光を光源に用いる場合、干渉縞防止の粗面化は、特に必要ないが、導電性基体の表面の凹凸による欠陥の発生を抑制するため、より長寿命化に適する。 When the electrophotographic photosensitive member is used in a laser printer, the surface of the conductive substrate has a center line average roughness Ra of 0.04 μm or more and 0.5 μm or less for the purpose of suppressing interference fringes generated when irradiating laser light. The surface is preferably roughened below. In the case where non-interfering light is used as a light source, roughening for preventing interference fringes is not particularly necessary. However, since generation of defects due to irregularities on the surface of the conductive substrate is suppressed, it is suitable for longer life.
粗面化の方法としては、例えば、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、回転する砥石に導電性基体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が挙げられる。 As a method of surface roughening, for example, wet honing performed by suspending an abrasive in water and spraying the support, a centerless grinding method in which a conductive substrate is pressed against a rotating grindstone and grinding is performed continuously, Anodizing treatment and the like can be mentioned.
粗面化の方法としては、導電性基体の表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、導電性基体の表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も挙げられる。 As a method of surface roughening, without roughening the surface of the conductive substrate, a conductive or semiconductive powder is dispersed in a resin to form a layer on the surface of the conductive substrate, A method of roughening the surface with particles dispersed in the layer may also be used.
陽極酸化による粗面化処理は、金属製(例えばアルミニウム製)の導電性基体を陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することにより導電性基体の表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、例えば、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、多孔質陽極酸化膜に対して、酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中(ニッケル等の金属塩を加えてもよい)で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが好ましい。 The surface roughening treatment by anodic oxidation is to form an oxide film on the surface of the conductive substrate by performing anodic oxidation in an electrolyte solution using a conductive substrate made of metal (for example, aluminum) as an anode. Examples of the electrolyte solution include a sulfuric acid solution and an oxalic acid solution. However, the porous anodic oxide film formed by anodic oxidation is chemically active as it is, is easily contaminated, and has a large resistance fluctuation due to the environment. Therefore, the pores of the oxide film are blocked by the volume expansion due to the hydration reaction with pressurized steam or boiling water (or a metal salt such as nickel may be added) with respect to the porous anodic oxide film. It is preferable to perform a sealing treatment for changing the material.
陽極酸化膜の膜厚は、例えば、0.3μm以上15μm以下が好ましい。この膜厚が上記範囲内にあると、注入に対するバリア性が発揮される傾向があり、また繰り返し使用による残留電位の上昇が抑えられる傾向にある。 The thickness of the anodic oxide film is preferably, for example, 0.3 μm or more and 15 μm or less. When the film thickness is within the above range, a barrier property against injection tends to be exhibited, and an increase in residual potential due to repeated use tends to be suppressed.
導電性基体には、酸性処理液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が10質量%以上11質量%以下の範囲、クロム酸が3質量%以上5質量%以下の範囲、フッ酸が0.5質量%以上2質量%以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は13.5質量%以上18質量%以下の範囲がよい。処理温度は例えば42℃以上48℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、0.3μm以上15μm以下が好ましい。
The conductive substrate may be subjected to a treatment with an acidic treatment liquid or a boehmite treatment.
The treatment with the acidic treatment liquid is performed, for example, as follows. First, an acidic treatment solution containing phosphoric acid, chromic acid and hydrofluoric acid is prepared. The mixing ratio of phosphoric acid, chromic acid and hydrofluoric acid in the acidic treatment liquid is, for example, in the range of 10% by mass or more and 11% by mass or less of phosphoric acid, 3% by mass or more and 5% by mass or less of chromic acid, The concentration is 0.5% by mass or more and 2% by mass or less, and the concentration of these acids as a whole is preferably 13.5% by mass or more and 18% by mass or less. The processing temperature is preferably, for example, 42 ° C. or more and 48 ° C. or less. The thickness of the coating is preferably 0.3 μm or more and 15 μm or less.
ベーマイト処理は、例えば90℃以上100℃以下の純水中に5分から60分間浸漬すること、又は90℃以上120℃以下の加熱水蒸気に5分から60分間接触させて行う。被膜の膜厚は、0.1μm以上5μm以下が好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。 The boehmite treatment is performed, for example, by immersing in pure water at 90 ° C. or more and 100 ° C. or less for 5 minutes to 60 minutes, or by contacting with heated steam at 90 ° C. or more and 120 ° C. or less for 5 minutes to 60 minutes. The thickness of the coating is preferably 0.1 μm or more and 5 μm or less. This is further anodized using an electrolyte solution having low film solubility such as adipic acid, boric acid, borate, phosphate, phthalate, maleate, benzoate, tartrate, citrate, etc. Good.
(下引層)
下引層は、例えば、無機粒子と結着樹脂とを含む層である。
(Undercoat layer)
The undercoat layer is, for example, a layer containing inorganic particles and a binder resin.
無機粒子としては、例えば、粉体抵抗(体積抵抗率)102Ωcm以上1011Ωcm以下の無機粒子が挙げられる。
これらの中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子がよく、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。
Examples of the inorganic particles include inorganic particles having a powder resistance (volume resistivity) of 10 2 Ωcm to 10 11 Ωcm.
Among these, as the inorganic particles having the above resistance value, for example, metal oxide particles such as tin oxide particles, titanium oxide particles, zinc oxide particles, and zirconium oxide particles are preferable, and zinc oxide particles are particularly preferable.
無機粒子のBET法による比表面積は、例えば、10m2/g以上がよい。
無機粒子の体積平均粒径は、例えば、50nm以上2000nm以下(好ましくは60nm以上1000nm以下)がよい。
The specific surface area of the inorganic particles determined by the BET method is preferably, for example, 10 m 2 / g or more.
The volume average particle diameter of the inorganic particles is, for example, preferably from 50 nm to 2000 nm (preferably from 60 nm to 1000 nm).
無機粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、10質量%以上80質量%以下であることが好ましく、より好ましくは40質量%以上80質量%以下である。 The content of the inorganic particles is, for example, preferably from 10% by mass to 80% by mass, more preferably from 40% by mass to 80% by mass, based on the binder resin.
無機粒子は、表面処理が施されていてもよい。無機粒子は、表面処理の異なるもの、又は、粒子径の異なるものを2種以上混合して用いてもよい。 The inorganic particles may have been subjected to a surface treatment. Inorganic particles having different surface treatments or particles having different particle diameters may be used as a mixture of two or more kinds.
表面処理剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性剤等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が好ましく、アミノ基を有するシランカップリング剤がより好ましい。 Examples of the surface treatment agent include a silane coupling agent, a titanate coupling agent, an aluminum coupling agent, and a surfactant. Particularly, a silane coupling agent is preferable, and a silane coupling agent having an amino group is more preferable.
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 Examples of the silane coupling agent having an amino group include 3-aminopropyltriethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, and N-2- (aminoethyl) -3-amino Examples include, but are not limited to, propylmethyldimethoxysilane, N, N-bis (2-hydroxyethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, and the like.
シランカップリング剤は、2種以上混合して使用してもよい。例えば、アミノ基を有するシランカップリング剤と他のシランカップリング剤とを併用してもよい。この他のシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、3−メタクリルオキシプロピル−トリス(2−メトキシエトキシ)シラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 Two or more silane coupling agents may be used as a mixture. For example, a silane coupling agent having an amino group and another silane coupling agent may be used in combination. Other silane coupling agents include, for example, vinyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyl-tris (2-methoxyethoxy) silane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycol Sidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- ( Aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N, N-bis (2-hydroxyethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, and the like, but are not limited thereto. Not something.
表面処理剤による表面処理方法は、公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法又は湿式法のいずれでもよい。 The surface treatment method using the surface treatment agent may be any known method, and may be either a dry method or a wet method.
表面処理剤の処理量は、例えば、無機粒子に対して0.5質量%以上10質量%以下が好ましい。 The treatment amount of the surface treatment agent is preferably, for example, 0.5% by mass or more and 10% by mass or less based on the inorganic particles.
ここで、下引層は、無機粒子と共に電子受容性化合物(アクセプター化合物)を含有することが、電気特性の長期安定性、キャリアブロック性が高まる観点からよい。 Here, the undercoat layer preferably contains an electron-accepting compound (acceptor compound) together with the inorganic particles, from the viewpoint of increasing the long-term stability of electric characteristics and the carrier blocking property.
電子受容性化合物としては、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物;テトラシアノキノジメタン系化合物;2,4,7−トリニトロフルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレノン等のフルオレノン化合物;2−(4−ビフェニル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス(4−ナフチル)−1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス(4−ジエチルアミノフェニル)−1,3,4オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物;キサントン系化合物;チオフェン化合物;3,3’,5,5’テトラ−t−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物;等の電子輸送性物質等が挙げられる。
特に、電子受容性化合物としては、アントラキノン構造を有する化合物が好ましい。アントラキノン構造を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシアントラキノン化合物、アミノアントラキノン化合物、アミノヒドロキシアントラキノン化合物等が好ましく、具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が好ましい。
Examples of the electron-accepting compound include quinone compounds such as chloranil and bromoanil; tetracyanoquinodimethane compounds; 2,4,7-trinitrofluorenone, 2,4,5,7-tetranitro-9-fluorenone, and the like. 2- (4-biphenyl) -5- (4-t-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole, 2,5-bis (4-naphthyl) -1,3,4- Oxadiazole compounds such as oxadiazole and 2,5-bis (4-diethylaminophenyl) -1,3,4oxadiazole; xanthone compounds; thiophene compounds; 3,3 ', 5,5'tetra- electron transporting substances such as diphenoquinone compounds such as t-butyl diphenoquinone;
In particular, a compound having an anthraquinone structure is preferable as the electron accepting compound. As the compound having an anthraquinone structure, for example, a hydroxyanthraquinone compound, an aminoanthraquinone compound, an aminohydroxyanthraquinone compound and the like are preferable, and specifically, for example, anthraquinone, alizarin, quinizarin, anthralphine, purpurin and the like are preferable.
電子受容性化合物は、下引層中に無機粒子と共に分散して含まれていてもよいし、無機粒子の表面に付着した状態で含まれていてもよい。 The electron-accepting compound may be contained in the undercoat layer in a state of being dispersed together with the inorganic particles, or may be contained in a state of being attached to the surface of the inorganic particles.
電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着させる方法としては、例えば、乾式法、又は、湿式法が挙げられる。 Examples of a method for attaching the electron accepting compound to the surface of the inorganic particles include a dry method and a wet method.
乾式法は、例えば、無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させた電子受容性化合物を滴下、乾燥空気又は窒素ガスとともに噴霧させて、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。電子受容性化合物の滴下又は噴霧するときは、溶剤の沸点以下の温度で行うことがよい。電子受容性化合物を滴下又は噴霧した後、更に100℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に制限されない。 In the dry method, for example, while stirring the inorganic particles with a mixer having a large shearing force, the electron-accepting compound dissolved directly or in an organic solvent is dropped, sprayed with dry air or nitrogen gas, and the electron-accepting compound is sprayed. This is a method of attaching to the surface of inorganic particles. When the electron-accepting compound is dropped or sprayed, the temperature is preferably lower than the boiling point of the solvent. After dropping or spraying the electron-accepting compound, baking may be performed at 100 ° C. or more. The printing is not particularly limited as long as the temperature and the time at which the electrophotographic characteristics can be obtained.
湿式法は、例えば、攪拌、超音波、サンドミル、アトライター、ボールミル等により、無機粒子を溶剤中に分散しつつ、電子受容性化合物を添加し、攪拌又は分散した後、溶剤除去して、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。溶剤除去方法は、例えば、ろ過又は蒸留により留去される。溶剤除去後には、更に100℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。湿式法においては、電子受容性化合物を添加する前に無機粒子の含有水分を除去してもよく、その例として溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法が挙げられる。 The wet method includes, for example, stirring, ultrasonic waves, a sand mill, an attritor, a ball mill, etc., while dispersing the inorganic particles in a solvent, adding an electron-accepting compound, stirring or dispersing, removing the solvent, In this method, a receptive compound is attached to the surface of inorganic particles. The solvent is removed by filtration or distillation, for example. After removing the solvent, baking may be performed at 100 ° C. or more. The printing is not particularly limited as long as the temperature and the time at which the electrophotographic characteristics can be obtained. In the wet method, the water content of the inorganic particles may be removed before the addition of the electron-accepting compound, and examples thereof include a method of removing while stirring and heating in a solvent, and a method of removing by azeotropic distillation with the solvent. No.
なお、電子受容性化合物の付着は、表面処理剤による表面処理を無機粒子に施す前又は後に行ってよく、電子受容性化合物の付着と表面処理剤による表面処理と同時に行ってもよい。 The attachment of the electron-accepting compound may be performed before or after the surface treatment with the surface-treating agent is performed on the inorganic particles, or may be performed simultaneously with the attachment of the electron-accepting compound and the surface treatment with the surface-treating agent.
電子受容性化合物の含有量は、例えば、無機粒子に対して0.01質量%以上20質量%以下がよく、好ましくは0.01質量%以上10質量%以下である。 The content of the electron-accepting compound is, for example, preferably from 0.01% by mass to 20% by mass, and more preferably from 0.01% by mass to 10% by mass, based on the inorganic particles.
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、アセタール樹脂(例えばポリビニルブチラール等)、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子化合物;ジルコニウムキレート化合物;チタニウムキレート化合物;アルミニウムキレート化合物;チタニウムアルコキシド化合物;有機チタニウム化合物;シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂(例えばポリアニリン等)等も挙げられる。
Examples of the binder resin used for the undercoat layer include an acetal resin (for example, polyvinyl butyral), a polyvinyl alcohol resin, a polyvinyl acetal resin, a casein resin, a polyamide resin, a cellulose resin, a gelatin, a polyurethane resin, a polyester resin, and an unsaturated polyester. Resin, methacrylic resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride resin, silicone resin, silicone-alkyd resin, urea resin, phenol resin, phenol-formaldehyde resin, melamine resin, Known polymer compounds such as urethane resin, alkyd resin, epoxy resin, etc .; zirconium chelate compound; titanium chelate compound; aluminum chelate compound; titanium alkoxide compound ; Organic titanium compounds; known materials silane coupling agent, and the like.
Examples of the binder resin used for the undercoat layer include a charge transporting resin having a charge transporting group and a conductive resin (for example, polyaniline).
これらの中でも、下引層に用いる結着樹脂としては、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂;ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら結着樹脂を2種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
Among these, as the binder resin used for the undercoat layer, a resin that is insoluble in the coating solvent of the upper layer is preferable. Resin, alkyd resin, thermosetting resin such as epoxy resin; at least one resin selected from the group consisting of polyamide resin, polyester resin, polyether resin, methacrylic resin, acrylic resin, polyvinyl alcohol resin and polyvinyl acetal resin; Resins obtained by reaction with a curing agent are preferred.
When two or more of these binder resins are used in combination, the mixing ratio is set as necessary.
下引層には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加剤を含んでいてもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層に添加してもよい。
The undercoat layer may contain various additives for improving electrical properties, environmental stability, and image quality.
Examples of the additive include known materials such as a polycyclic fused system, an electron transporting pigment such as an azo system, a zirconium chelate compound, a titanium chelate compound, an aluminum chelate compound, a titanium alkoxide compound, an organic titanium compound, and a silane coupling agent. Can be The silane coupling agent is used for the surface treatment of the inorganic particles as described above, but may be further added to the undercoat layer as an additive.
添加剤としてのシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、3−メタクリルオキシプロピル−トリス(2−メトキシエトキシ)シラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。 Examples of the silane coupling agent as an additive include vinyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyl-tris (2-methoxyethoxy) silane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, Glycidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- (Aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N, N-bis (2-hydroxyethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, and the like.
ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。 As the zirconium chelate compound, for example, zirconium butoxide, ethyl zirconium acetoacetate, zirconium triethanolamine, acetylacetonate zirconium butoxide, ethyl zirconium butoxide acetoacetate, zirconium acetate, zirconium oxalate, zirconium lactate, zirconium phosphonate, zirconium octoate, Examples include zirconium naphthenate, zirconium laurate, zirconium stearate, zirconium isostearate, zirconium butoxide methacrylate, zirconium butoxide stearate, zirconium butoxide isostearate, and the like.
チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ(2−エチルヘキシル)チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。 Examples of the titanium chelate compound include tetraisopropyl titanate, tetranormal butyl titanate, butyl titanate dimer, tetra (2-ethylhexyl) titanate, titanium acetylacetonate, polytitanium acetylacetonate, titanium octylene glycolate, and titanium lactate ammonium salt , Titanium lactate, titanium lactate ethyl ester, titanium triethanol aminate, polyhydroxytitanium stearate and the like.
アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)等が挙げられる。 Examples of the aluminum chelate compound include aluminum isopropylate, monobutoxyaluminum diisopropylate, aluminum butyrate, diethyl acetoacetate aluminum diisopropylate, and aluminum tris (ethylacetoacetate).
これらの添加剤は、単独で、又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。 These additives may be used alone or as a mixture or a polycondensate of a plurality of compounds.
下引層は、ビッカース硬度が35以上であることがよい。
下引層の表面粗さ(十点平均粗さ)は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの1/(4n)(nは上層の屈折率)から1/2までに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。また、表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。
The undercoat layer preferably has a Vickers hardness of 35 or more.
The surface roughness (ten-point average roughness) of the undercoat layer ranges from 1 / (4n) (n is the refractive index of the upper layer) to 1/2 of the exposure laser wavelength λ used to suppress moire images. It is good to be adjusted to.
Resin particles or the like may be added to the undercoat layer for adjusting the surface roughness. Examples of the resin particles include silicone resin particles and cross-linked polymethyl methacrylate resin particles. Further, the surface of the undercoat layer may be polished for adjusting the surface roughness. Examples of the polishing method include buffing, sand blasting, wet honing, and grinding.
下引層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた下引層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。 The formation of the undercoat layer is not particularly limited, and a well-known formation method is used. Then, heating is performed as necessary.
下引層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。
As a solvent for preparing the coating liquid for forming the undercoat layer, known organic solvents, for example, alcohol solvents, aromatic hydrocarbon solvents, halogenated hydrocarbon solvents, ketone solvents, ketone alcohol solvents, ether solvents Solvents, ester solvents and the like.
Specific examples of these solvents include, for example, methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol, benzyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl acetate, ethyl acetate, Usable organic solvents such as n-butyl acetate, dioxane, tetrahydrofuran, methylene chloride, chloroform, chlorobenzene, and toluene.
下引層形成用塗布液を調製するときの無機粒子の分散方法としては、例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の公知の方法が挙げられる。 Examples of the method of dispersing the inorganic particles when preparing the coating liquid for forming the undercoat layer include known methods such as a roll mill, a ball mill, a vibration ball mill, an attritor, a sand mill, a colloid mill, and a paint shaker.
下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、例えば、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。 Examples of the method of applying the coating liquid for forming an undercoat layer on a conductive substrate include a blade coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a dip coating method, a bead coating method, an air knife coating method, and a curtain coating method. And the like.
下引層の膜厚は、例えば、好ましくは15μm以上、より好ましくは20μm以上50μm以下の範囲内に設定される。 The thickness of the undercoat layer is set, for example, preferably in a range of 15 μm or more, more preferably in a range of 20 μm or more and 50 μm or less.
(中間層)
図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂(例えばポリビニルブチラール等)、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
(Intermediate layer)
Although not shown, an intermediate layer may be further provided between the undercoat layer and the photosensitive layer.
The intermediate layer is, for example, a layer containing a resin. Examples of the resin used for the intermediate layer include an acetal resin (for example, polyvinyl butyral), a polyvinyl alcohol resin, a polyvinyl acetal resin, a casein resin, a polyamide resin, a cellulose resin, a gelatin, a polyurethane resin, a polyester resin, a methacryl resin, an acrylic resin, Polymer compounds such as a polyvinyl chloride resin, a polyvinyl acetate resin, a vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride resin, a silicone resin, a silicone-alkyd resin, a phenol-formaldehyde resin, and a melamine resin.
The intermediate layer may be a layer containing an organometallic compound. Examples of the organometallic compound used for the intermediate layer include organometallic compounds containing metal atoms such as zirconium, titanium, aluminum, manganese, and silicon.
The compounds used for these intermediate layers may be used alone or as a mixture or a polycondensate of a plurality of compounds.
これらの中でも、中間層は、ジルコニウム原子又はケイ素原子を含有する有機金属化合物を含む層であることが好ましい。 Among them, the intermediate layer is preferably a layer containing an organometallic compound containing a zirconium atom or a silicon atom.
中間層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
The formation of the intermediate layer is not particularly limited, and a well-known forming method is used.For example, a coating film of the coating solution for forming an intermediate layer in which the above components are added to a solvent is formed, and the coating film is dried and dried. It is performed by heating according to.
As a coating method for forming the intermediate layer, a usual method such as a dip coating method, a push-up coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a blade coating method, a knife coating method, and a curtain coating method is used.
中間層の膜厚は、例えば、好ましくは0.1μm以上3μm以下の範囲に設定される。なお、中間層を下引層として使用してもよい。 The thickness of the intermediate layer is, for example, preferably set in a range of 0.1 μm or more and 3 μm or less. In addition, you may use an intermediate | middle layer as an undercoat layer.
(電荷発生層)
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂とを含む層である。また、電荷発生層は、電荷発生材料の蒸着層であってもよい。電荷発生材料の蒸着層は、LED(Light Emitting Diode)、有機EL(Electro−Luminescence)イメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合に好適である。
(Charge generation layer)
The charge generation layer is, for example, a layer containing a charge generation material and a binder resin. Further, the charge generation layer may be a vapor deposition layer of a charge generation material. The vapor-deposited layer of the charge generating material is suitable when using a non-coherent light source such as an LED (Light Emitting Diode) and an organic EL (Electro-Luminescence) image array.
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料;ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料;ペリレン顔料;ピロロピロール顔料;フタロシアニン顔料;酸化亜鉛;三方晶系セレン等が挙げられる。 Examples of the charge generation material include azo pigments such as bisazo and trisazo; condensed aromatic pigments such as dibromoanthanthrone; perylene pigments; pyrrolopyrrole pigments; phthalocyanine pigments; zinc oxide; and trigonal selenium.
これらの中でも、近赤外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、金属フタロシアニン顔料、又は無金属フタロシアニン顔料を用いることが好ましい。具体的には、例えば、特開平5−263007号公報、特開平5−279591号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン;特開平5−98181号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン;特開平5−140472号公報、特開平5−140473号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン;特開平4−189873号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンがより好ましい。 Among these, in order to cope with laser exposure in the near infrared region, it is preferable to use a metal phthalocyanine pigment or a metal-free phthalocyanine pigment as the charge generation material. Specifically, for example, hydroxygallium phthalocyanine disclosed in JP-A-5-263007 and JP-A-5-279951; chlorogallium phthalocyanine disclosed in JP-A-5-98181; Dichlorotin phthalocyanine disclosed in JP-A-140472 and JP-A-5-140473; and titanyl phthalocyanine disclosed in JP-A-4-189873 and the like are more preferred.
一方、近紫外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料;チオインジゴ系顔料;ポルフィラジン化合物;酸化亜鉛;三方晶系セレン;特開2004−78147号公報、特開2005−181992号公報に開示されたビスアゾ顔料等が好ましい。 On the other hand, in order to cope with laser exposure in the near ultraviolet region, as a charge generating material, condensed aromatic pigments such as dibromoanthanthrone; thioindigo pigments; porphyrazine compounds; zinc oxide; trigonal selenium; Bisazo pigments disclosed in JP-A-2004-78147 and JP-A-2005-181992 are preferred.
450nm以上780nm以下に発光の中心波長があるLED,有機ELイメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合にも、上記電荷発生材料を用いてもよいが、解像度の観点より、感光層を20μm以下の薄膜で用いるときには、感光層中の電界強度が高くなり、基体からの電荷注入による帯電低下、いわゆる黒点と呼ばれる画像欠陥を生じやすくなる。これは、三方晶系セレン、フタロシアニン顔料等のp−型半導体で暗電流を生じやすい電荷発生材料を用いたときに顕著となる。 When using a non-coherent light source such as an LED or an organic EL image array having a light emission center wavelength of 450 nm or more and 780 nm or less, the above-mentioned charge generation material may be used. When a thin film is used, the electric field strength in the photosensitive layer is increased, and the charge is reduced due to the injection of charge from the substrate, and an image defect called a so-called black spot is easily generated. This is remarkable when a p-type semiconductor such as a trigonal selenium or a phthalocyanine pigment is used, which is a charge generating material that easily generates a dark current.
これに対し、電荷発生材料として、縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、アゾ顔料等のn−型半導体を用いた場合、暗電流を生じ難く、薄膜にしても黒点と呼ばれる画像欠陥を抑制し得る。n−型の電荷発生材料としては、例えば、特開2012−155282号公報の段落[0288]〜[0291]に記載された化合物(CG−1)〜(CG−27)が挙げられるがこれに限られるものではない。
なお、n−型の判定は、通常使用されるタイムオブフライト法を用い、流れる光電流の極性によって判定され、正孔よりも電子をキャリアとして流しやすいものをn−型とする。
On the other hand, when an n-type semiconductor such as a condensed aromatic pigment, a perylene pigment, or an azo pigment is used as the charge generation material, a dark current hardly occurs, and an image defect called a black spot can be suppressed even in a thin film. . Examples of the n-type charge generating material include compounds (CG-1) to (CG-27) described in paragraphs [0288] to [0291] of JP-A-2012-155282. It is not limited.
The n-type is determined by the polarity of the flowing photocurrent using a commonly used time-of-flight method, and the one that allows electrons to flow more easily as carriers than holes is regarded as n-type.
電荷発生層に用いる結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択され、また、結着樹脂としては、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。
結着樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂(ビスフェノール類と芳香族2価カルボン酸の重縮合体等)、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。ここで、「絶縁性」とは、体積抵抗率が1013Ωcm以上であることをいう。
これらの結着樹脂は1種を単独で又は2種以上を混合して用いられる。
The binder resin used for the charge generation layer is selected from a wide range of insulating resins, and the binder resin is selected from organic photoconductive polymers such as poly-N-vinylcarbazole, polyvinylanthracene, polyvinylpyrene, and polysilane. You may choose.
Examples of the binder resin include a polyvinyl butyral resin, a polyarylate resin (eg, a polycondensate of a bisphenol and an aromatic divalent carboxylic acid), a polycarbonate resin, a polyester resin, a phenoxy resin, a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, Examples include polyamide resin, acrylic resin, polyacrylamide resin, polyvinyl pyridine resin, cellulose resin, urethane resin, epoxy resin, casein, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl pyrrolidone resin and the like. Here, “insulating” means that the volume resistivity is 10 13 Ωcm or more.
These binder resins may be used alone or as a mixture of two or more.
なお、電荷発生材料と結着樹脂の配合比は、質量比で10:1から1:10までの範囲内であることが好ましい。 The compounding ratio of the charge generating material and the binder resin is preferably in the range of 10: 1 to 1:10 by mass.
電荷発生層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。 The charge generation layer may contain other well-known additives.
電荷発生層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷発生層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。なお、電荷発生層の形成は、電荷発生材料の蒸着により行ってもよい。電荷発生層の蒸着による形成は、特に、電荷発生材料として縮環芳香族顔料、ペリレン顔料を利用する場合に好適である。 The formation of the charge generation layer is not particularly limited, and a known formation method is used.For example, a coating film of a coating solution for forming a charge generation layer in which the above components are added to a solvent is formed, and the coating film is dried. Then, heating is performed as necessary. Note that the charge generation layer may be formed by vapor deposition of a charge generation material. The formation of the charge generation layer by vapor deposition is particularly suitable when a condensed aromatic pigment or perylene pigment is used as the charge generation material.
電荷発生層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸n−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等が挙げられる。これら溶剤は、1種を単独で又は2種以上を混合して用いる。 Examples of the solvent for preparing the coating solution for forming the charge generation layer include methanol, ethanol, n-propanol, n-butanol, benzyl alcohol, methylcellosolve, ethylcellosolve, acetone, methylethylketone, cyclohexanone, methyl acetate, and methyl acetate n. -Butyl, dioxane, tetrahydrofuran, methylene chloride, chloroform, chlorobenzene, toluene and the like. These solvents may be used alone or as a mixture of two or more.
電荷発生層形成用塗布液中に粒子(例えば電荷発生材料)を分散させる方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、例えば、高圧状態で分散液を液−液衝突又は液−壁衝突させて分散する衝突方式、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式等が挙げられる。
なお、この分散の際、電荷発生層形成用塗布液中の電荷発生材料の平均粒径を0.5μm以下、好ましくは0.3μm以下、更に好ましくは0.15μm以下にすることが有効である。
Examples of a method for dispersing particles (for example, a charge generating material) in the coating liquid for forming a charge generating layer include, for example, a media dispersing machine such as a ball mill, a vibration ball mill, an attritor, a sand mill, a horizontal sand mill, stirring, an ultrasonic dispersing machine, A medialess disperser such as a roll mill or a high-pressure homogenizer is used. Examples of the high-pressure homogenizer include a collision method in which the dispersion liquid is subjected to liquid-liquid collision or liquid-wall collision in a high pressure state to disperse the dispersion liquid, and a penetration method in which the dispersion liquid is penetrated and dispersed in a fine flow path in a high pressure state.
At the time of this dispersion, it is effective to make the average particle diameter of the charge generation material in the coating liquid for forming a charge generation layer 0.5 μm or less, preferably 0.3 μm or less, and more preferably 0.15 μm or less. .
電荷発生層形成用塗布液を下引層上(又は中間層上)に塗布する方法としては、例えばブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。 Examples of a method for applying the coating solution for forming the charge generation layer on the undercoat layer (or on the intermediate layer) include a blade coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a dip coating method, a bead coating method, and an air knife coating. And a usual method such as a curtain coating method.
電荷発生層の膜厚は、例えば、好ましくは0.1μm以上5.0μm以下、より好ましくは0.2μm以上2.0μm以下の範囲内に設定される。 The thickness of the charge generation layer is set, for example, preferably in the range of 0.1 μm or more and 5.0 μm or less, and more preferably in the range of 0.2 μm or more and 2.0 μm or less.
(電荷輸送層)
電荷輸送層は、例えば、電荷輸送材料と結着樹脂とを含む層である。電荷輸送層は、高分子電荷輸送材料を含む層であってもよい。
(Charge transport layer)
The charge transport layer is, for example, a layer containing a charge transport material and a binder resin. The charge transport layer may be a layer containing a polymer charge transport material.
電荷輸送材料としては、p−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物;テトラシアノキノジメタン系化合物;2,4,7−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物;キサントン系化合物;ベンゾフェノン系化合物;シアノビニル系化合物;エチレン系化合物等の電子輸送性化合物が挙げられる。電荷輸送材料としては、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の正孔輸送性化合物も挙げられる。これらの電荷輸送材料は1種を単独で又は2種以上で用いられるが、これらに限定されるものではない。 Examples of the charge transport material include quinone compounds such as p-benzoquinone, chloranil, bromanyl and anthraquinone; tetracyanoquinodimethane compounds; fluorenone compounds such as 2,4,7-trinitrofluorenone; xanthones; benzophenone compounds A cyanovinyl compound; and an electron-transporting compound such as an ethylene compound. Examples of the charge transport material include hole transport compounds such as triarylamine compounds, benzidine compounds, arylalkane compounds, aryl-substituted ethylene compounds, stilbene compounds, anthracene compounds, and hydrazone compounds. These charge transport materials may be used alone or in combination of two or more, but are not limited thereto.
電荷輸送材料としては、電荷移動度の観点から、下記構造式(a−1)で示されるトリアリールアミン誘導体、及び下記構造式(a−2)で示されるベンジジン誘導体が好ましい。 As the charge transport material, a triarylamine derivative represented by the following structural formula (a-1) and a benzidine derivative represented by the following structural formula (a-2) are preferable from the viewpoint of charge mobility.
構造式(a−1)中、ArT1、ArT2、及びArT3は、各々独立に置換若しくは無置換のアリール基、−C6H4−C(RT4)=C(RT5)(RT6)、又は−C6H4−CH=CH−CH=C(RT7)(RT8)を示す。RT4、RT5、RT6、RT7、及びRT8は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、炭素数1以上5以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数1以上3以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
In the structural formula (a-1), Ar T1 , Ar T2 , and Ar T3 are each independently a substituted or unsubstituted aryl group, —C 6 H 4 —C ( RT 4 ) = C ( RT 5 ) (R T6), or -C 6 H 4 -CH = CH- CH = C (R T7) shows the (R T8). R T4 , R T5 , R T6 , R T7 , and R T8 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group.
Examples of the substituent of each group include a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. In addition, examples of the substituent of each of the above groups include a substituted amino group substituted with an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
構造式(a−2)中、RT91及びRT92は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、又は炭素数1以上5以下のアルコキシ基を示す。RT101、RT102、RT111及びRT112は各々独立に、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、炭素数1以上5以下のアルコキシ基、炭素数1以上2以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは無置換のアリール基、−C(RT12)=C(RT13)(RT14)、又は−CH=CH−CH=C(RT15)(RT16)を示し、RT12、RT13、RT14、RT15及びRT16は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。Tm1、Tm2、Tn1及びTn2は各々独立に0以上2以下の整数を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、炭素数1以上5以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数1以上3以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
In the structural formula (a-2), R T91 and R T92 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. R T101 , R T102 , R T111 and R T112 are each independently substituted with a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms. A substituted amino group, a substituted or unsubstituted aryl group, -C ( RT12 ) = C ( RT13 ) ( RT14 ), or -CH = CH-CH = C ( RT15 ) ( RT16 ). R T12 , R T13 , R T14 , R T15 and R T16 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group. Tm1, Tm2, Tn1, and Tn2 each independently represent an integer of 0 or more and 2 or less.
Examples of the substituent of each group include a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. In addition, examples of the substituent of each of the above groups include a substituted amino group substituted with an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
ここで、構造式(a−1)で示されるトリアリールアミン誘導体、及び前記構造式(a−2)で示されるベンジジン誘導体のうち、特に、「−C6H4−CH=CH−CH=C(RT7)(RT8)」を有するトリアリールアミン誘導体、及び「−CH=CH−CH=C(RT15)(RT16)」を有するベンジジン誘導体が、電荷移動度の観点で好ましい。 Here, among the triarylamine derivative represented by the structural formula (a-1) and the benzidine derivative represented by the structural formula (a-2), particularly, “—C 6 H 4 —CH = CH—CHCH C (R T7) triarylamine derivative having (R T8) ", and benzidine derivatives having" -CH = CH-CH = C ( R T15) (R T16) ", preferable from the viewpoint of charge mobility.
高分子電荷輸送材料としては、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリシラン等の電荷輸送性を有する公知のものが用いられる。特に、特開平8−176293号公報、特開平8−208820号公報等に開示されているポリエステル系の高分子電荷輸送材は特に好ましい。なお、高分子電荷輸送材料は、単独で使用してよいが、結着樹脂と併用してもよい。 As the polymer charge transporting material, a known charge transporting material such as poly-N-vinylcarbazole and polysilane is used. In particular, polyester polymer charge transport materials disclosed in JP-A-8-176293 and JP-A-8-208820 are particularly preferable. The polymer charge transport material may be used alone, or may be used in combination with a binder resin.
電荷輸送層に用いる結着樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。これらの中でも、結着樹脂としては、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂が好適である。これらの結着樹脂は1種を単独で又は2種以上で用いる。
なお、電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は、質量比で10:1から1:5までが好ましい。
Binder resin used for the charge transport layer, polycarbonate resin, polyester resin, polyarylate resin, methacrylic resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polystyrene resin, polyvinyl acetate resin, styrene-butadiene copolymer, Vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride copolymer, silicone resin, silicone alkyd resin, phenol-formaldehyde resin, styrene-alkyd resin, poly-N -Vinyl carbazole, polysilane and the like. Among these, a polycarbonate resin or a polyarylate resin is preferable as the binder resin. These binder resins may be used alone or in combination of two or more.
The mixing ratio of the charge transport material to the binder resin is preferably from 10: 1 to 1: 5 by mass.
電荷輸送層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。 The charge transport layer may contain other well-known additives.
電荷輸送層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷輸送層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。 The formation of the charge transport layer is not particularly limited, and a well-known formation method is used.For example, a coating film of a charge transport layer forming coating solution obtained by adding the above components to a solvent is formed, and the coating film is dried. It is carried out by heating if necessary.
電荷輸送層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類;アセトン、2−ブタノン等のケトン類;塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類;テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状又は直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は2種以上混合して用いる。 Examples of the solvent for preparing the coating solution for forming the charge transport layer include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene; ketones such as acetone and 2-butanone; methylene chloride, chloroform and ethylene chloride. Halogenated aliphatic hydrocarbons; ordinary organic solvents such as cyclic or linear ethers such as tetrahydrofuran and ethyl ether; These solvents are used alone or in combination of two or more.
電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層の上に塗布する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。 The coating method for coating the charge transport layer forming coating liquid on the charge generating layer includes a blade coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a dip coating method, a bead coating method, an air knife coating method, and a curtain. A usual method such as a coating method may be used.
電荷輸送層の膜厚は、例えば、好ましくは5μm以上50μm以下、より好ましくは10μm以上30μm以下の範囲内に設定される。 The thickness of the charge transport layer is set, for example, preferably in the range of 5 μm or more and 50 μm or less, and more preferably in the range of 10 μm or more and 30 μm or less.
(保護層)
電子写真感光体7Aにおける最表面層である保護層について説明する。
保護層は、電子写真感光体7Aにおける最表面層であり、例えば前述の特定樹脂溶解液を用いて形成されたものであることが好ましく、前述の電荷輸送性膜を含むことが好ましく、さらに特定樹脂架橋体を含有することが最も好ましい。
(Protective layer)
The protective layer which is the outermost layer in the electrophotographic photosensitive member 7A will be described.
The protective layer is the outermost surface layer of the electrophotographic photoreceptor 7A, and is preferably formed using, for example, the above-described specific resin solution, preferably includes the above-described charge transporting film, and more preferably Most preferably, it contains a crosslinked resin.
架橋方法としては、熱、光、又は放射線などによるラジカル重合が行なわれる。反応が早く進行しすぎないよう調整すると膜のムラ及びシワの発生が抑制されるため、ラジカル発生が比較的ゆっくりと起こる条件下で架橋させることが望ましい。この点からは、架橋速度を調整しやすい熱架橋が好適である。 As a crosslinking method, radical polymerization by heat, light, radiation, or the like is performed. If the reaction is adjusted so as not to proceed too fast, the unevenness and wrinkles of the film are suppressed, and therefore it is desirable to crosslink under conditions where radical generation occurs relatively slowly. From this point, thermal crosslinking is preferable because the crosslinking speed can be easily adjusted.
・非反応性の電荷輸送材料
保護層(最表面層)5を構成する膜は、非反応性の電荷輸送材料を併用してもよい。非反応性の電荷輸送材料は電荷輸送を担っていない反応性基を有さないため、非反応性の電荷輸送材料を保護層(最表面層)5に用いた場合には実質的に電荷輸送成分の濃度が高まり、電気特性を更に改善するのに有効である。また、非反応性の電荷輸送材料を添加して架橋密度を減じ、強度を調整してもよい。
-Non-reactive charge transporting material The non-reactive charge transporting material may be used together with the film constituting the protective layer (outermost surface layer) 5. Since the non-reactive charge transporting material does not have a reactive group that is not responsible for charge transport, when the non-reactive charge transporting material is used for the protective layer (outermost surface layer) 5, the charge transporting material is substantially charged. This is effective for increasing the concentration of the component and further improving the electrical characteristics. Alternatively, a non-reactive charge transport material may be added to reduce the crosslink density and adjust the strength.
非反応性の電荷輸送材料としては、公知の電荷輸送材料を用いてもよく、具体的には、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等が用いられる。
中でも、モビリティー、相溶性など点から、トリフェニルアミン骨格を有するものが望ましい。
As the non-reactive charge transporting material, known charge transporting materials may be used. Specifically, triarylamine-based compounds, benzidine-based compounds, arylalkane-based compounds, aryl-substituted ethylene-based compounds, stilbene-based compounds , Anthracene-based compounds, hydrazone-based compounds, and the like.
Above all, those having a triphenylamine skeleton are desirable from the viewpoint of mobility, compatibility and the like.
非反応性の電荷輸送材料は、層形成のための塗布液中の全固形分に対して0質量%以上30質量%以下で用いられることが望ましく、より望ましくは1質量%以上25質量%以下であり、更に望ましくは5質量%以上25質量%以下である。 The non-reactive charge transporting material is preferably used in an amount of 0% by mass or more and 30% by mass or less, more preferably 1% by mass or more and 25% by mass or less, based on the total solid content in the coating solution for forming a layer. And more desirably 5% by mass or more and 25% by mass or less.
・その他の添加剤
保護層(最表面層)5は、更に成膜性、可とう性、潤滑性、接着性を調整するなどの目的から、他のカップリング剤、特にフッ素含有のカップリング剤を用いたものであってもよい。このような化合物として、各種シランカップリング剤、及び市販のシリコーン系ハードコート剤が用いられる。また、ラジカル重合性基を有するシリコン化合物、フッ素含有化合物を用いてもよい。
-Other additives The protective layer (outermost layer) 5 is used for the purpose of further adjusting the film-forming property, flexibility, lubricity, adhesiveness, etc., and other coupling agents, especially fluorine-containing coupling agents. May be used. As such compounds, various silane coupling agents and commercially available silicone-based hard coat agents are used. Further, a silicon compound having a radical polymerizable group or a fluorine-containing compound may be used.
シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、等が挙げられる。
市販のハードコート剤としては、KP−85、X−40−9740、X−8239(以上、信越化学工業社製)、AY42−440、AY42−441、AY49−208(以上、東レダウコーニング社製)等が挙げられる。
Examples of the silane coupling agent include vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and γ-glycidoxypropyltrimethoxy. Silane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltriethoxysilane, tetramethoxysilane, methyltrimethoxysilane, Dimethyldimethoxysilane, and the like.
Commercially available hard coat agents include KP-85, X-40-9740, X-8239 (all manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), AY42-440, AY42-441, AY49-208 (all manufactured by Toray Dow Corning) ) And the like.
また、撥水性等の付与のために、(トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル)トリエトキシシラン、(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリメトキシシラン、3−(ヘプタフルオロイソプロポキシ)プロピルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクチルトリエトシキシラン、等の含フッ素化合物を加えてもよい。 In order to impart water repellency and the like, (tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyl) triethoxysilane, (3,3,3-trifluoropropyl) trimethoxysilane, 3- (hepta Fluoroisopropoxy) propyltriethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluoroalkyltriethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorodecyltriethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctyl A fluorine-containing compound such as triethoxysilane may be added.
シランカップリング剤は任意の量で使用されるが、含フッ素化合物の量は、架橋膜の成膜性の観点から、フッ素を含まない化合物に対して質量で0.25倍以下とすることが望ましい。更に、特開2001−166510号公報などに開示されている反応性のフッ素化合物などを混合してもよい。
ラジカル重合性基を有するシリコン化合物、フッ素含有化合物としては、特開2007−11005号公報に記載の化合物などが挙げられる。
The silane coupling agent is used in an arbitrary amount, but the amount of the fluorine-containing compound is preferably not more than 0.25 times the mass of the fluorine-free compound from the viewpoint of the film-forming property of the crosslinked film. desirable. Further, a reactive fluorine compound or the like disclosed in JP-A-2001-166510 or the like may be mixed.
Examples of the silicon compound and the fluorine-containing compound having a radical polymerizable group include compounds described in JP-A-2007-11005.
保護層(最表面層)5は、劣化防止剤を含有してもよい。劣化防止剤としては、ヒンダードフェノール系、ヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知の酸化防止剤を用いてもよい。
劣化防止剤の添加量としては20質量%以下が望ましく、10質量%以下がより望ましい。
The protective layer (outermost layer) 5 may contain a deterioration inhibitor. Hindered phenol-based and hindered amine-based antioxidants are desirable, and organic sulfur-based antioxidants, phosphite-based antioxidants, dithiocarbamate-based antioxidants, thiourea-based antioxidants, and benzimidazole-based antioxidants are preferable. And other known antioxidants.
The addition amount of the deterioration inhibitor is preferably 20% by mass or less, more preferably 10% by mass or less.
ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、イルガノックス1076、イルガノックス1010、イルガノックス1098、イルガノックス245、イルガノックス1330、イルガノックス3114、イルガノックス1076、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシビフェニル等が挙げられる。
ヒンダードアミン系酸化防止剤としては、サノールLS2626、サノールLS765、サノールLS770、サノールLS744、チヌビン144、チヌビン622LD、マークLA57、マークLA67、マークLA62、マークLA68、マークLA63が挙げられ、チオエーテル系として、スミライザーTPS、スミライザーTP−Dが挙げられ、ホスファイト系として、マーク2112、マークPEP−8、マークPEP−24G、マークPEP−36、マーク329K、マークHP−10等が挙げられる。
Examples of the hindered phenolic antioxidants include Irganox 1076, Irganox 1010, Irganox 1098, Irganox 245, Irganox 1330, Irganox 3114, Irganox 1076, 3,5-di-t-butyl-4-. Hydroxybiphenyl and the like.
Examples of the hindered amine antioxidants include SANOL LS2626, SANOL LS765, SANOL LS770, SANOL LS744, Tinuvin 144, Tinuvin 622LD, Mark LA57, Mark LA67, Mark LA62, Mark LA68, and Mark LA63. , And Sumilizer TP-D, and examples of the phosphite system include Mark 2112, Mark PEP-8, Mark PEP-24G, Mark PEP-36, Mark 329K, and Mark HP-10.
更に、保護層(最表面層)5は導電性粒子、有機、無機粒子を添加してもよい。
この粒子の一例として、ケイ素含有粒子が挙げられる。ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカ及びシリコーン粒子等が挙げられる。ケイ素含有粒子として用いられるコロイダルシリカは、好ましくは平均粒径1nm以上100nm以下、より好ましくは10nm以上30nm以下のシリカを、酸性若しくはアルカリ性の水分散液、又はアルコール、ケトン、エステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれる。該粒子としては一般に市販されているものを使用してもよい。
Further, the protective layer (outermost layer) 5 may contain conductive particles, organic or inorganic particles.
One example of the particles is silicon-containing particles. The silicon-containing particles are particles containing silicon as a constituent element, and specific examples thereof include colloidal silica and silicone particles. Colloidal silica used as the silicon-containing particles is preferably a silica having an average particle size of 1 nm or more and 100 nm or less, more preferably 10 nm or more and 30 nm or less, in an acidic or alkaline aqueous dispersion, or in an organic solvent such as alcohol, ketone, or ester. Selected from those dispersed in Generally, commercially available particles may be used as the particles.
保護層中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、保護層の全固形分全量を基準として、0.1質量%以上50質量%以下、好ましくは0.1質量%以上30質量%以下の範囲で用いられる。 The solid content of the colloidal silica in the protective layer is not particularly limited, but is 0.1% by mass or more and 50% by mass or less, preferably 0.1% by mass, based on the total solid content of the protective layer. % To 30% by mass or less.
ケイ素含有粒子として用いられるシリコーン粒子は、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子、シリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものを使用してもよい。
これらのシリコーン粒子は球状で、その平均粒径は好ましくは1nm以上500nm以下、より好ましくは10nm以上100nm以下である。
表面層中のシリコーン粒子の含有量は、保護層の全固形分全量を基準として、好ましくは0.1質量%以上30質量%以下、より好ましくは0.5質量%以上10質量%以下である。
The silicone particles used as the silicon-containing particles are selected from silicone resin particles, silicone rubber particles, and silicone surface-treated silica particles, and generally commercially available particles may be used.
These silicone particles are spherical and have an average particle size of preferably 1 nm or more and 500 nm or less, more preferably 10 nm or more and 100 nm or less.
The content of the silicone particles in the surface layer is preferably from 0.1% by mass to 30% by mass, more preferably from 0.5% by mass to 10% by mass, based on the total solid content of the protective layer. .
また、その他の粒子としては、四フッ化エチレン、三フッ化エチレン、六フッ化プロピレン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン等のフッ素系粒子“第8回ポリマー材料フォーラム講演予稿集、89頁”に示されるような、フッ素樹脂と水酸基を有するモノマーを共重合させた樹脂で構成される粒子、ZnO−Al2O3、SnO2−Sb2O3、In2O3−SnO2、ZnO2−TiO2、ZnO−TiO2、MgO−Al2O3、FeO−TiO2、TiO2、SnO2、In2O3、ZnO、MgO等の半導電性金属酸化物が挙げられる。さらに、粒子を分散させるために公知の種々の分散材を用いてもよい。 Other particles include fluorine-based particles such as ethylene tetrafluoride, ethylene trifluoride, propylene hexafluoride, vinyl fluoride, and vinylidene fluoride. is as shown, fluororesin and hydroxyl particles composed of a resin obtained by copolymerizing a monomer having a, ZnO-Al 2 O 3, SnO 2 -Sb 2 O 3, in 2 O 3 -SnO 2, ZnO 2 - Semiconductive metal oxides such as TiO 2 , ZnO—TiO 2 , MgO—Al 2 O 3 , FeO—TiO 2 , TiO 2 , SnO 2 , In 2 O 3 , ZnO, and MgO can be given. Further, various known dispersants may be used to disperse the particles.
また、シリコーンオイル等のオイルを添加してもよい。
シリコーンオイルとしては、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル;アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル;ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類;1,3,5−トリメチル−1.3.5−トリフェニルシクロトリシロキサン、1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7,9−ペンタメチル−1,3,5,7,9−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類;ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類;3−(3,3,3−トリフルオロプロピル)メチルシクロトリシロキサン等のフッ素含有シクロシロキサン類;メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類;ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等が挙げられる。
Further, oil such as silicone oil may be added.
Examples of the silicone oil include silicone oils such as dimethylpolysiloxane, diphenylpolysiloxane, and phenylmethylsiloxane; amino-modified polysiloxane, epoxy-modified polysiloxane, carboxyl-modified polysiloxane, carbinol-modified polysiloxane, methacryl-modified polysiloxane, and mercapto-modified polysiloxane. Reactive silicone oils such as siloxane and phenol-modified polysiloxane; cyclic dimethylcyclosiloxanes such as hexamethylcyclotrisiloxane, octamethylcyclotetrasiloxane, decamethylcyclopentasiloxane, and dodecamethylcyclohexasiloxane; 1,3,5- Trimethyl-1.3.5-triphenylcyclotrisiloxane, 1,3,5,7-tetramethyl-1,3,5,7-tetraphenylcyclo Cyclic methylphenylcyclosiloxanes such as trasiloxane, 1,3,5,7,9-pentamethyl-1,3,5,7,9-pentaphenylcyclopentasiloxane; cyclic phenylcyclosiloxane such as hexaphenylcyclotrisiloxane Fluorine-containing cyclosiloxanes such as 3- (3,3,3-trifluoropropyl) methylcyclotrisiloxane; hydrosilyl group-containing cyclosiloxanes such as methylhydrosiloxane mixtures, pentamethylcyclopentasiloxane and phenylhydrocyclosiloxane Vinyl group-containing cyclosiloxanes such as pentavinylpentamethylcyclopentasiloxane.
また、金属、金属酸化物、及びカーボンブラック等を添加してもよい。金属としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀、及びステンレス等、又はこれらの金属をプラスチックの粒子の表面に蒸着したもの等が挙げられる。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモン又はタンタルをドープした酸化スズ及びアンチモンをドープした酸化ジルコニウム等が挙げられる。
これらは単独で、又は2種以上を組み合わせて用いる。2種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合しても、固溶体又は融着での混合でもよい。導電性粒子の平均粒径は0.3μm以下、特に0.1μm以下が好ましい。
Further, a metal, a metal oxide, carbon black, or the like may be added. Examples of the metal include aluminum, zinc, copper, chromium, nickel, silver, stainless steel, and the like, and those obtained by vapor-depositing these metals on the surfaces of plastic particles. Examples of the metal oxide include zinc oxide, titanium oxide, tin oxide, antimony oxide, indium oxide, bismuth oxide, tin-doped indium oxide, antimony or tantalum-doped tin oxide, and antimony-doped zirconium oxide. .
These may be used alone or in combination of two or more. When two or more kinds are used in combination, they may be simply mixed or mixed by solid solution or fusion. The average particle size of the conductive particles is preferably 0.3 μm or less, particularly preferably 0.1 μm or less.
保護層を形成するために用いる組成物としては、例えば前述の特定樹脂溶解液が挙げられる。
なお、特定樹脂溶解液を得るために、前述の成分と溶剤とを反応させる場合、各成分を単純に混合、溶解させるだけでもよいが、望ましくは室温(20℃)以上100℃以下、より望ましくは30℃以上80℃以下で、望ましくは10分以上100時間以下、より望ましくは1時間以上50時間以下の条件で加温する。また、この際に超音波を照射することも望ましい。
Examples of the composition used for forming the protective layer include the above-mentioned specific resin solution.
When the above-mentioned components are reacted with a solvent in order to obtain a specific resin solution, the components may be simply mixed and dissolved, but preferably from room temperature (20 ° C.) to 100 ° C., more preferably. Is heated at a temperature of 30 ° C. to 80 ° C., preferably 10 minutes to 100 hours, more preferably 1 hour to 50 hours. At this time, it is also desirable to irradiate ultrasonic waves.
保護層形成用塗布液は、被塗布面(図1に示す態様では電荷輸送層3)の上に、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法、インクジェット塗布法等の通常の方法により塗布される。
その後、得られた塗膜に対して、光、電子線、又は熱を付与してラジカル重合を生起させて、該塗膜を架橋、硬化させる。
The coating liquid for forming the protective layer is applied on the surface to be coated (the charge transport layer 3 in the embodiment shown in FIG. 1) by a blade coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a dip coating method, a bead coating method, an air knife. Coating is performed by a normal method such as a coating method, a curtain coating method, and an inkjet coating method.
Thereafter, light, an electron beam, or heat is applied to the obtained coating film to cause radical polymerization, whereby the coating film is cross-linked and cured.
熱により塗膜を架橋、硬化させる際、加熱条件は50℃以上であることが望ましい。特に、加熱温度としては、100℃以上180℃以下が望ましい。 When the coating film is crosslinked and cured by heat, the heating condition is desirably 50 ° C. or higher. In particular, the heating temperature is desirably from 100 ° C to 180 ° C.
光により塗膜を架橋、硬化させる際、水銀灯、メタルハライドなどの公知の方法で照射して硬化膜を得る。 When the coating film is crosslinked and cured by light, it is irradiated with a known method such as a mercury lamp or metal halide to obtain a cured film.
上記のような、架橋、硬化反応の際には、光、電子線、又は熱によって発生したラジカルが失活することなく連鎖反応を行えるよう、真空又は不活性ガス雰囲気下で、酸素濃度が望ましくは10%以下、より望ましくは5%以下、更に望ましくは2%以下、最も望ましくは500ppm以下の低酸素濃度で行われる。 As described above, at the time of the crosslinking and curing reaction, the oxygen concentration is preferably under a vacuum or an inert gas atmosphere so that the chain reaction can be performed without deactivating the radicals generated by light, electron beam, or heat. Is performed at a low oxygen concentration of 10% or less, more preferably 5% or less, even more preferably 2% or less, and most preferably 500 ppm or less.
本実施態様では、ラジカルの発生が比較的ゆっくりと起こる熱による硬化方法が特に好ましい。 In the present embodiment, a heat curing method in which radical generation occurs relatively slowly is particularly preferable.
保護層の膜厚は3μm以上40μm以下が好ましく、5μm以上35μm以下とすることがさらに好ましい。 The thickness of the protective layer is preferably from 3 μm to 40 μm, more preferably from 5 μm to 35 μm.
以上、図1に示される電子写真感光体7Aを参照し、機能分離型の感光層における各層の構成を説明したが、図2に示される機能分離型の電子写真感光体7Bにおける各層においてもこの構成が採用しうる。
以下、図3に示される電子写真感光体7Cの単層型感光層6について説明する。
In the above, the configuration of each layer in the function-separated type photosensitive layer has been described with reference to the electrophotographic photosensitive member 7A shown in FIG. 1. A configuration may be employed.
Hereinafter, the single-layer type photosensitive layer 6 of the electrophotographic photosensitive member 7C shown in FIG. 3 will be described.
(単層型感光層)
単層型感光層(電荷発生/電荷輸送層)は、例えば、電荷発生材料と電荷輸送材料と、必要に応じて、結着樹脂、及びその他周知の添加剤と、を含む層である。なお、これら材料は、電荷発生層及び電荷輸送層で説明した材料と同様である。
そして、単層型感光層中、電荷発生材料の含有量は、全固形分に対して0.1質量%以上10質量%以下がよく、好ましくは0.8質量%以上5質量%以下である。また、単層型感光層中、電荷輸送材料の含有量は、全固形分に対して5質量%以上50質量%以下がよい。
単層型感光層の形成方法は、電荷発生層及び電荷輸送層の形成方法と同様である。
単層型感光層の膜厚は、例えば、5μm以上50μm以下がよく、好ましくは10μm以上40μm以下である。
(Single-layer type photosensitive layer)
The single-layer type photosensitive layer (charge generation / charge transport layer) is, for example, a layer containing a charge generation material, a charge transport material, and, if necessary, a binder resin and other known additives. These materials are the same as those described for the charge generation layer and the charge transport layer.
The content of the charge generating material in the single-layer type photosensitive layer is preferably 0.1% by mass or more and 10% by mass or less, and more preferably 0.8% by mass or more and 5% by mass or less based on the total solid content. . The content of the charge transporting material in the single-layer type photosensitive layer is preferably 5% by mass or more and 50% by mass or less based on the total solid content.
The method for forming the single-layer type photosensitive layer is the same as the method for forming the charge generation layer and the charge transport layer.
The thickness of the single-layer type photosensitive layer is, for example, preferably from 5 μm to 50 μm, and more preferably from 10 μm to 40 μm.
なお、上述の実施形態では、最表面層が保護層である形態を説明したが、保護層がない層構成の場合には、その層構成において最表面に位置する電荷輸送層が該最表面層となる。最表面層が電荷輸送層である場合、この層の厚みは、7μm以上70μm以下が望ましく、10μm以上60μm以下がより望ましい。 In the above-described embodiment, the mode in which the outermost layer is a protective layer has been described. However, in the case of a layer configuration without a protective layer, the charge transport layer located on the outermost surface in the layer configuration is the outermost layer. Becomes When the outermost surface layer is a charge transport layer, the thickness of this layer is preferably from 7 μm to 70 μm, and more preferably from 10 μm to 60 μm.
−画像形成装置及びプロセスカートリッジ−
次に、上記電子写真感光体を用いた画像形成装置及びプロセスカートリッジについて説明する。
画像形成装置は、例えば、電子写真感光体と、電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える。そして、電子写真感光体として、上記電子写真感光体が適用される。
-Image forming apparatus and process cartridge-
Next, an image forming apparatus and a process cartridge using the electrophotographic photosensitive member will be described.
The image forming apparatus includes, for example, an electrophotographic photosensitive member, a charging unit that charges a surface of the electrophotographic photosensitive member, an electrostatic latent image forming unit that forms an electrostatic latent image on the surface of the charged electrophotographic photosensitive member, The image forming apparatus includes a developing unit that develops an electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member with a developer containing a toner to form a toner image, and a transfer unit that transfers the toner image to the surface of a recording medium. Then, the above-described electrophotographic photosensitive member is applied as the electrophotographic photosensitive member.
画像形成装置としては、記録媒体の表面に転写されたトナー像を定着する定着手段を備える装置;電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の装置;電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写し、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する中間転写方式の装置;トナー像の転写後、帯電前の電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング手段を備えた装置;トナー像の転写後、帯電前に電子写真感光体の表面に除電光を照射して除電する除電手段を備える装置;電子写真感光体の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための電子写真感光体加熱部材を備える装置等の周知の画像形成装置が適用される。 As the image forming apparatus, an apparatus having a fixing unit for fixing the toner image transferred to the surface of the recording medium; an apparatus of a direct transfer system for directly transferring the toner image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member to the recording medium; An intermediate transfer type apparatus for primary-transferring the toner image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member onto the surface of the intermediate transfer member and secondary-transferring the toner image transferred on the surface of the intermediate transfer member onto the surface of the recording medium; An apparatus having cleaning means for cleaning the surface of the electrophotographic photosensitive member after transfer of the toner image and before charging; static elimination by irradiating static elimination light to the surface of the electrophotographic photosensitive member after transfer of the toner image and before charging Apparatus provided with means; a known image forming apparatus such as an apparatus provided with an electrophotographic photosensitive member heating member for raising the temperature of the electrophotographic photosensitive member and reducing the relative temperature is applied.
中間転写方式の装置の場合、転写手段は、例えば、表面にトナー像が転写される中間転写体と、電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写手段と、を有する構成が適用される。 In the case of an intermediate transfer type device, the transfer unit includes, for example, an intermediate transfer member on which a toner image is transferred on the surface, and a primary unit for primarily transferring the toner image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member to the surface of the intermediate transfer member. A configuration including a transfer unit and a secondary transfer unit that secondary-transfers the toner image transferred on the surface of the intermediate transfer body to the surface of the recording medium is applied.
画像形成装置は、乾式現像方式の画像形成装置、湿式現像方式(液体現像剤を利用した現像方式)の画像形成装置のいずれであってもよい。 The image forming apparatus may be either a dry developing type image forming apparatus or a wet developing type (developing type using a liquid developer) image forming apparatus.
なお、画像形成装置において、例えば、電子写真感光体を備える部分が、画像形成装置に対して着脱されるカートリッジ構造(プロセスカートリッジ)であってもよい。プロセスカートリッジとしては、例えば、前記電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジが好適に用いられる。なお、プロセスカートリッジには、電子写真感光体以外に、例えば、帯電手段、静電潜像形成手段、現像手段、転写手段からなる群から選択される少なくとも一つを備えてもよい。 In the image forming apparatus, for example, the portion including the electrophotographic photoreceptor may be a cartridge structure (process cartridge) that is detachable from the image forming apparatus. As the process cartridge, for example, a process cartridge provided with the electrophotographic photosensitive member is suitably used. The process cartridge may include, for example, at least one selected from the group consisting of a charging unit, an electrostatic latent image forming unit, a developing unit, and a transfer unit, in addition to the electrophotographic photosensitive member.
以下、画像形成装置の一例を示すが、これに限定されるわけではない。なお、図に示す主要部を説明し、その他はその説明を省略する。 Hereinafter, an example of the image forming apparatus will be described, but the present invention is not limited thereto. The main parts shown in the figure will be described, and the description of the other parts will be omitted.
図4は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置100は、図4に示すように、電子写真感光体7を備えるプロセスカートリッジ300と、露光装置9(静電潜像形成手段の一例)と、転写装置40(一次転写装置)と、中間転写体50とを備える。なお、画像形成装置100において、露光装置9はプロセスカートリッジ300の開口部から電子写真感光体7に露光し得る位置に配置されており、転写装置40は中間転写体50を介して電子写真感光体7に対向する位置に配置されており、中間転写体50はその一部が電子写真感光体7に接触して配置されている。図示しないが、中間転写体50に転写されたトナー像を記録媒体(例えば用紙)に転写する二次転写装置も有している。なお、中間転写体50、転写装置40(一次転写装置)、及び二次転写装置(不図示)が転写手段の一例に相当する。
FIG. 4 is a schematic configuration diagram illustrating an example of the image forming apparatus according to the present embodiment.
As shown in FIG. 4, the image forming apparatus 100 according to the present embodiment includes a process cartridge 300 including an electrophotographic photosensitive member 7, an exposure device 9 (an example of an electrostatic latent image forming unit), and a transfer device 40 (primary image forming device). Transfer device) and an intermediate transfer member 50. In the image forming apparatus 100, the exposure device 9 is disposed at a position where the electrophotographic photosensitive member 7 can be exposed through the opening of the process cartridge 300, and the transfer device 40 is connected to the electrophotographic photosensitive member via the intermediate transfer member 50. 7, and the intermediate transfer body 50 is arranged such that a part thereof is in contact with the electrophotographic photosensitive member 7. Although not shown, it also has a secondary transfer device for transferring the toner image transferred to the intermediate transfer body 50 to a recording medium (for example, paper). The intermediate transfer body 50, the transfer device 40 (primary transfer device), and the secondary transfer device (not shown) correspond to an example of a transfer unit.
図4におけるプロセスカートリッジ300は、ハウジング内に、電子写真感光体7、帯電装置8(帯電手段の一例)、現像装置11(現像手段の一例)、及びクリーニング装置13(クリーニング手段の一例)を一体に支持している。クリーニング装置13は、クリーニングブレード(クリーニング部材の一例)131を有しており、クリーニングブレード131は、電子写真感光体7の表面に接触するように配置されている。なお、クリーニング部材は、クリーニングブレード131の態様ではなく、導電性又は絶縁性の繊維状部材であってもよく、これを単独で、又はクリーニングブレード131と併用してもよい。 In the process cartridge 300 in FIG. 4, the electrophotographic photoreceptor 7, the charging device 8 (an example of a charging device), the developing device 11 (an example of a developing device), and the cleaning device 13 (an example of a cleaning device) are integrated in a housing. I support it. The cleaning device 13 has a cleaning blade (an example of a cleaning member) 131, and the cleaning blade 131 is arranged so as to contact the surface of the electrophotographic photosensitive member 7. The cleaning member is not limited to the cleaning blade 131, but may be a conductive or insulating fibrous member. The cleaning member may be used alone or in combination with the cleaning blade 131.
なお、図4には、画像形成装置として、潤滑材14を電子写真感光体7の表面に供給する繊維状部材132(ロール状)、及び、クリーニングを補助する繊維状部材133(平ブラシ状)を備えた例を示してあるが、これらは必要に応じて配置される。 In FIG. 4, as an image forming apparatus, a fibrous member 132 (roll-like) for supplying the lubricant 14 to the surface of the electrophotographic photosensitive member 7 and a fibrous member 133 (flat brush-like) for assisting cleaning are provided. Are shown, but these are arranged as needed.
以下、本実施形態に係る画像形成装置の各構成について説明する。 Hereinafter, each configuration of the image forming apparatus according to the present embodiment will be described.
(帯電装置)
帯電装置8としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器又はコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。
(Charging device)
As the charging device 8, for example, a contact type charger using a conductive or semiconductive charging roller, a charging brush, a charging film, a charging rubber blade, a charging tube, or the like is used. In addition, a known charger such as a non-contact type roller charger, a scorotron charger using corona discharge, or a corotron charger may be used.
(露光装置)
露光装置9としては、例えば、電子写真感光体7表面に、半導体レーザ光、LED光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、780nm付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、600nm台の発振波長レーザ又は青色レーザとして400nm以上450nm以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
(Exposure equipment)
Examples of the exposure device 9 include an optical device that exposes the surface of the electrophotographic photoreceptor 7 with light such as a semiconductor laser light, an LED light, and a liquid crystal shutter light in a predetermined image. The wavelength of the light source is within the spectral sensitivity range of the electrophotographic photosensitive member. As a wavelength of a semiconductor laser, near-infrared light having an oscillation wavelength near 780 nm is mainly used. However, the wavelength is not limited to this, and an oscillation wavelength laser of the order of 600 nm or a laser having an oscillation wavelength of 400 nm or more and 450 nm or less as a blue laser may be used. For forming a color image, a surface emitting laser light source capable of outputting multiple beams is also effective.
(現像装置)
現像装置11としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置11としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体7に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。
(Developer)
The developing device 11 includes, for example, a general developing device that performs development by contacting or non-contacting a developer. The developing device 11 is not particularly limited as long as it has the above-described functions, and is selected according to the purpose. For example, a known developing device having a function of attaching a one-component developer or a two-component developer to the electrophotographic photoreceptor 7 using a brush, a roller, or the like may be used. Among them, those using a developing roller holding a developer on the surface are preferable.
現像装置11に使用される現像剤は、トナー単独の一成分系現像剤であってもよいし、トナーとキャリアとを含む二成分系現像剤であってもよい。また、現像剤は、磁性であってもよいし、非磁性であってもよい。これら現像剤は、周知のものが適用される。 The developer used in the developing device 11 may be a one-component developer containing only the toner or a two-component developer containing the toner and the carrier. Further, the developer may be magnetic or non-magnetic. Known developers are applied to these developers.
(クリーニング装置)
クリーニング装置13は、クリーニングブレード131を備えるクリーニングブレード方式の装置が用いられる。
なお、クリーニングブレード方式以外にも、ファーブラシクリーニング方式、現像同時クリーニング方式を採用してもよい。
(Cleaning device)
As the cleaning device 13, a cleaning blade type device including a cleaning blade 131 is used.
In addition to the cleaning blade system, a fur brush cleaning system and a simultaneous development cleaning system may be employed.
(転写装置)
転写装置40としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器又はコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
(Transfer device)
As the transfer device 40, for example, a belt, a roller, a film, a contact-type transfer charger using a rubber blade or the like, a transfer charger known per se such as a scorotron transfer charger using a corona discharge or a corotron transfer charger is used. No.
(中間転写体)
中間転写体50としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むベルト状のもの(中間転写ベルト)が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。
(Intermediate transfer member)
As the intermediate transfer member 50, a belt-like one (intermediate transfer belt) containing semiconductive polyimide, polyamideimide, polycarbonate, polyarylate, polyester, rubber, or the like is used. Further, as a form of the intermediate transfer member, a drum-shaped one may be used instead of the belt-shaped one.
図5は、画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
図5に示す画像形成装置120は、プロセスカートリッジ300を4つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置120では、中間転写体50上に4つのプロセスカートリッジ300がそれぞれ並列に配置されており、1色に付き1つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置120は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置100と同様の構成を有している。
FIG. 5 is a schematic configuration diagram illustrating another example of the image forming apparatus.
The image forming apparatus 120 shown in FIG. 5 is a tandem type multicolor image forming apparatus having four process cartridges 300 mounted thereon. In the image forming apparatus 120, four process cartridges 300 are arranged in parallel on the intermediate transfer member 50, and one electrophotographic photosensitive member is used for one color. Note that the image forming apparatus 120 has the same configuration as the image forming apparatus 100 except that the image forming apparatus 120 is of a tandem type.
−有機電界発光素子−
有機電界発光素子は、少なくとも一方が透明である一対の電極と、該一対の電極に挟持された、発光層を含む1つ又は複数の有機化合物層とから構成されるデバイスである。
本実施形態に係る有機電界発光素子は、有機化合物層の少なくとも1つが、前述の電荷輸送性膜である。
-Organic electroluminescent device-
The organic electroluminescent element is a device including a pair of electrodes, at least one of which is transparent, and one or a plurality of organic compound layers including a light emitting layer sandwiched between the pair of electrodes.
In the organic electroluminescent device according to this embodiment, at least one of the organic compound layers is the above-described charge transporting film.
本実施形態に係る有機電界発光素子において、有機化合物層が単層の場合は、この有機化合物層が正孔輸送性能を有する発光層であり、この正孔輸送性能を有する発光層が本実施形態における前述した電荷輸送性膜となる。 In the organic electroluminescent device according to the present embodiment, when the organic compound layer is a single layer, the organic compound layer is a light emitting layer having a hole transporting performance, and the light emitting layer having the hole transporting performance is the present embodiment. In the above-described charge transporting film.
有機電界発光素子において、有機化合物層が複数層の場合(即ち、各層が異なる機能を有する機能分離型の場合)は、少なくともいずれか1層が発光層であり、例えば、下記の層構成(1)〜(3)が挙げられる。層構成(1)〜(3)において、本実施形態に係る有機電界発光素子では、少なくとも1層が、前述した電荷輸送性膜となる。 In the organic electroluminescent device, when the organic compound layer has a plurality of layers (that is, in the case of a function separation type in which each layer has a different function), at least one of the layers is a light emitting layer. ) To (3). In the layer configurations (1) to (3), in the organic electroluminescent device according to the present embodiment, at least one layer is the charge transporting film described above.
層構成(1):正孔輸送層と、発光層と、を有する機能分離型の層構成。本構成においては、正孔輸送層及び発光層の少なくとも一方が電荷輸送性膜であればよく、正孔輸送層が前述の電荷輸送性膜であることが好ましい。 Layer configuration (1): A function-separated layer configuration having a hole transport layer and a light emitting layer. In this configuration, at least one of the hole transporting layer and the light emitting layer may be a charge transporting film, and the hole transporting layer is preferably the above-described charge transporting film.
層構成(2):正孔輸送層と、発光層と、電子輸送層と、を有する機能分離型の層構成。本構成においては、正孔輸送層、発光層及び電子輸送層の少なくとも1層が前述の電荷輸送性膜であればよく、正孔輸送層が前述の電荷輸送性膜であることが好ましい。 Layer configuration (2): a function-separated layer configuration including a hole transport layer, a light-emitting layer, and an electron transport layer. In this configuration, at least one of the hole transport layer, the light emitting layer, and the electron transport layer may be the above-described charge transport film, and the hole transport layer is preferably the above-described charge transport film.
層構成(3):発光層と、電子輸送層と、を有する機能分離型の層構成。本構成においては、発光層及び電子輸送層の少なくとも一方が前述の電荷輸送性膜であればよく、発光層が前述の電荷輸送性膜であることが好ましい。 Layer configuration (3): a function-separated type layer configuration including a light emitting layer and an electron transport layer. In this configuration, at least one of the light emitting layer and the electron transport layer may be the charge transport film described above, and the light emitting layer is preferably the charge transport film described above.
以下、図面を参照しつつ、本実施形態に係る有機電界発光素子を説明するが、本実施形
態はこれに限定されるわけではない、
Hereinafter, the organic electroluminescent device according to the present embodiment will be described with reference to the drawings, but the present embodiment is not limited thereto.
図7乃至図10は、本実施形態に係る有機電界発光素子の層構成を説明するための模式的断面図であって、図7、図8、及び図9は、有機化合物層が複数層からなる場合の一例であり、図10は、有機化合物層が単層からなる場合の一例である。図7乃至図10において、同様の機能を有する層には同じ符号を付して説明する。 FIGS. 7 to 10 are schematic cross-sectional views illustrating the layer configuration of the organic electroluminescent device according to the present embodiment. FIGS. 7, 8, and 9 show the case where the organic compound layer is composed of a plurality of layers. FIG. 10 shows an example in which the organic compound layer is a single layer. 7 to 10, layers having similar functions are denoted by the same reference numerals and described.
図7は、前記の層構成(1)を示す。
図7に示す有機電界発光素子は、透明絶縁体基板21上に、透明電極22、正孔輸送層23、発光層24、及び背面電極27がこの順に積層された素子である。透明電極22と正孔輸送層23との間には、正孔注入層が配置されていてもよい。図7に示す形態例においては、正孔輸送層23を、本実施形態における前述の電荷輸送性膜とすることが好ましく、更に、正孔注入層が配置されていれば、この正孔注入層を本実施形態における前述の電荷輸送性膜としてもよい。
FIG. 7 shows the layer configuration (1).
The organic electroluminescent device shown in FIG. 7 is a device in which a transparent electrode 22, a hole transport layer 23, a light emitting layer 24, and a back electrode 27 are laminated in this order on a transparent insulator substrate 21. A hole injection layer may be arranged between the transparent electrode 22 and the hole transport layer 23. In the embodiment shown in FIG. 7, it is preferable that the hole transport layer 23 is the charge transporting film described in the present embodiment, and further, if a hole injection layer is provided, May be the charge transporting film in the present embodiment.
図8は、前記の層構成(2)を示す。
図8に示す有機電界発光素子は、透明絶縁体基板21上に、透明電極22、正孔輸送層23、発光層24、電子輸送層25、及び背面電極27がこの順に積層された素子である。透明電極22と正孔輸送層23との間には、正孔注入層が配置されていてもよい。電子輸送層25と背面電極27との間には、電子注入層が配置されていてもよい。図8に示す形態例においては、正孔輸送層23を、本実施形態における前述の電荷輸送性膜とすることが好ましく、更に、正孔注入層が配置されていれば、この正孔注入層を本実施形態における前述の電荷輸送性膜としてもよい。
FIG. 8 shows the layer configuration (2).
The organic electroluminescent device shown in FIG. 8 is a device in which a transparent electrode 22, a hole transport layer 23, a light emitting layer 24, an electron transport layer 25, and a back electrode 27 are laminated in this order on a transparent insulator substrate 21. . A hole injection layer may be arranged between the transparent electrode 22 and the hole transport layer 23. An electron injection layer may be provided between the electron transport layer 25 and the back electrode 27. In the embodiment shown in FIG. 8, it is preferable that the hole transport layer 23 is the charge transport film described above in the present embodiment, and further, if a hole injection layer is provided, the hole injection layer May be used as the above-described charge transporting film in the present embodiment.
図9は、前記の層構成(3)を示す。
図9に示す有機電界発光素子は、透明絶縁体基板21上に、透明電極22、発光層26、電子輸送層25、及び背面電極27がこの順に積層された素子である。電子輸送層25と背面電極27との間には、電子注入層が配置されていてもよい。図9に示す形態例においては、発光層26を、本実施形態における前述の電荷輸送性膜とすることが好ましい。この場合、本実施形態における前述の電荷輸送性膜には、発光材料を少なくとも1種含有させる。
FIG. 9 shows the above-mentioned layer configuration (3).
The organic electroluminescent device shown in FIG. 9 is a device in which a transparent electrode 22, a light emitting layer 26, an electron transport layer 25, and a back electrode 27 are laminated in this order on a transparent insulator substrate 21. An electron injection layer may be provided between the electron transport layer 25 and the back electrode 27. In the embodiment shown in FIG. 9, the light emitting layer 26 is preferably the charge transporting film in the present embodiment. In this case, the above-described charge transporting film in the present embodiment contains at least one light emitting material.
図10は、単層型の層構成を示す。図10に示す有機電界発光素子は、透明絶縁体基板21上に、透明電極22、正孔輸送性能を有する発光層26、及び背面電極27がこの順に積層された素子である。図10に示す形態例においては、発光層26を、本実施形態における前述の電荷輸送性膜とする。この場合、本実施形態における前述の電荷輸送性膜には、発光材料を少なくとも1種含有させる。 FIG. 10 shows a single-layer structure. The organic electroluminescent device shown in FIG. 10 is a device in which a transparent electrode 22, a light emitting layer 26 having a hole transporting property, and a back electrode 27 are laminated in this order on a transparent insulator substrate 21. In the embodiment shown in FIG. 10, the light emitting layer 26 is the above-described charge transporting film in the present embodiment. In this case, the above-described charge transporting film in the present embodiment contains at least one light emitting material.
図7乃至図10に示す各有機電界発光素子において、背面電極27上には、水分や酸素による有機電界発光素子の劣化を防ぐ目的で、保護層を設けてもよい。 In each of the organic electroluminescent devices shown in FIGS. 7 to 10, a protective layer may be provided on the back electrode 27 for the purpose of preventing the organic electroluminescent device from being deteriorated by moisture or oxygen.
トップエミッション構造とする場合、又は、2つの電極を共に透明電極とする場合は、図7乃至図10に示される層構成を複数段積み重ねた構造としてもよい。 In the case of a top emission structure or when both electrodes are transparent electrodes, a structure in which a plurality of layer configurations shown in FIGS. 7 to 10 are stacked may be employed.
以下、図7乃至図10における各層をより詳細に説明する。 Hereinafter, each layer in FIGS. 7 to 10 will be described in more detail.
透明絶縁体基板21について透明とは、可視領域の光の透過率が10%以上であることを意味し、透過率が75%以上であることが好ましい。
透明絶縁体基板21としては、例えば、ガラス板、石英板、金属箔、樹脂製フィルムが用いられる。樹脂製フィルムの材料としては、ポリメチルメタクリレート(PMMA)等のメタクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂が挙げられる。
透明絶縁体基板21は、透水性や透ガス性を抑える目的で、表面処理を行なってもよく、積層構造にしてもよい。
Transparent with respect to the transparent insulator substrate 21 means that the transmittance of light in the visible region is 10% or more, and the transmittance is preferably 75% or more.
As the transparent insulator substrate 21, for example, a glass plate, a quartz plate, a metal foil, or a resin film is used. Examples of the material of the resin film include methacrylic resins such as polymethyl methacrylate (PMMA), polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), and polycarbonate resins.
The transparent insulator substrate 21 may be subjected to a surface treatment or a laminated structure for the purpose of suppressing water permeability and gas permeability.
透明電極22は、透明絶縁体基板21と同様に発光を取り出すため透明であって、かつ正孔の注入を行うため仕事関数の大きな電極が好ましく、仕事関数が4eV以上の電極が好ましい。 Like the transparent insulator substrate 21, the transparent electrode 22 is preferably an electrode that is transparent for extracting light emission and has a large work function for injecting holes, and an electrode having a work function of 4 eV or more.
透明電極22について透明とは、可視領域の光の透過率が10%以上であることを意味し、透過率が75%以上であることが好ましい。
透明電極22の材料としては、酸化スズインジウム(ITO)、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化インジウム亜鉛等の金属酸化物;アルミニウム、ニッケル、金、銀、白金、パラジウム等の金属;ヨウ化銅等のハロゲン化金属;カーボンブラック、ポリ(3−メチルチオフェン)、ポリピロール、ポリアニリン等の導電性高分子;が挙げられる。
透明電極22のシート抵抗は、低いほど望ましく、数百Ω/□以下が好ましく、100Ω/□以下がより好ましい。
Transparent with respect to the transparent electrode 22 means that the transmittance of light in the visible region is 10% or more, and the transmittance is preferably 75% or more.
Examples of the material of the transparent electrode 22 include metal oxides such as indium tin oxide (ITO), tin oxide, indium oxide, zinc oxide, and indium zinc oxide; metals such as aluminum, nickel, gold, silver, platinum, and palladium; Metal halides such as copper; and conductive polymers such as carbon black, poly (3-methylthiophene), polypyrrole, and polyaniline.
The sheet resistance of the transparent electrode 22 is preferably as low as possible, preferably several hundred Ω / □ or less, more preferably 100 Ω / □ or less.
有機化合物層(図7乃至図10において、符号23乃至26で示される層)は、その機能に応じて、正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料、及び発光材料から選択される材料を含む。
有機化合物層が本実施形態における前述の電荷輸送性膜である場合には、これら材料と共に、架橋性基を有する正孔輸送化合物及び架橋性基を有する電子輸送化合物を混合した組成物を用いて層形成してもよい。
The organic compound layers (layers denoted by reference numerals 23 to 26 in FIGS. 7 to 10) are formed from a hole-transporting material, a hole-injecting material, an electron-transporting material, an electron-injecting material, and a light-emitting material depending on their functions. Including selected materials.
When the organic compound layer is the above-described charge transporting film in the present embodiment, a composition in which a hole transporting compound having a crosslinkable group and an electron transporting compound having a crosslinkable group are mixed with these materials is used. A layer may be formed.
正孔輸送材料としては、テトラフェニレンジアミン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、カルバゾール誘導体、スチルベン誘導体、アリールヒドラゾン誘導体、ポルフィリン系化合物が挙げられ、テトラフェニレンジアミン誘導体、スピロフルオレン誘導体、トリフェニルアミン誘導体が挙げられる。 Examples of the hole transport material include a tetraphenylenediamine derivative, a triphenylamine derivative, a carbazole derivative, a stilbene derivative, an arylhydrazone derivative, and a porphyrin-based compound, and include a tetraphenylenediamine derivative, a spirofluorene derivative, and a triphenylamine derivative. .
正孔注入材料としては、フェニレンジアミン誘導体、フタロシアニン誘導体、インダンスレン誘導体、ポリアルキレンジオキシチオフェン誘導体等が挙げられ、これらには、ルイス酸、スルホン酸等の有機酸、塩化鉄等の無機酸を混合してもよい。 Examples of the hole injection material include phenylenediamine derivatives, phthalocyanine derivatives, indanthrene derivatives, polyalkylenedioxythiophene derivatives, and the like. These include organic acids such as Lewis acids and sulfonic acids, and inorganic acids such as iron chloride. May be mixed.
電子輸送材料としては、オキサジアゾール誘導体、ニトロ置換フルオレノン誘導体、ジフェノキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、シロール誘導体、キレート型有機金属錯体、多核又は縮合芳香環化合物、ペリレン誘導体、トリアゾール誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体等が挙げられる。 Electron transport materials include oxadiazole derivatives, nitro-substituted fluorenone derivatives, diphenoquinone derivatives, thiopyrandioxide derivatives, silole derivatives, chelating organometallic complexes, polynuclear or condensed aromatic ring compounds, perylene derivatives, triazole derivatives, fluorenylidene Methane derivatives and the like can be mentioned.
電子注入材料としては、Li、Ca、Sr等の金属やLiF、MgF等の金属フッ化物、MgO、Al2O3、LiO等の金属酸化物が挙げられる。 Examples of the electron injecting material include metals such as Li, Ca, and Sr, metal fluorides such as LiF and MgF, and metal oxides such as MgO, Al2O3, and LiO.
発光材料としては、固体状態で高い発光量子効率を示す化合物が望ましい。発光材料は、低分子化合物及び高分子化合物のいずれでもよい。
有機低分子化合物としては、キレート型有機金属錯体、多核又は縮合芳香環化合物、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、スチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサチアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体が挙げられる。
有機高分子化合物としては、ポリパラフェニレン誘導体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリアセチレン誘導体が挙げられる。
As the light emitting material, a compound exhibiting high light emission quantum efficiency in a solid state is desirable. The light emitting material may be either a low molecular compound or a high molecular compound.
Examples of the organic low molecular weight compound include a chelate type organometallic complex, a polynuclear or condensed aromatic ring compound, a perylene derivative, a coumarin derivative, a styryl arylene derivative, a silole derivative, an oxazole derivative, an oxathiazole derivative, and an oxadiazole derivative.
Examples of the organic polymer compound include a polyparaphenylene derivative, a polyparaphenylenevinylene derivative, a polythiophene derivative, and a polyacetylene derivative.
発光材料の具体例として、下記例示化合物(VI−1)乃至(VI−17)が挙げられる。
なお、下記例示化合物(VI−1)乃至(VI−17)は、電子輸送材料として用いてもよい。
Specific examples of the light emitting material include the following exemplified compounds (VI-1) to (VI-17).
In addition, the following exemplified compounds (VI-1) to (VI-17) may be used as an electron transport material.
例示化合物(VI−13)乃至(VI−17)中、n及びgはそれぞれ独立に1以上の整数であり、Vは2価の連結基である。Vとしては、例えば、下記の2価の基が挙げられる。
下記の2価の基において、gは1以上の整数を表し、hは0以上5以下の整数を表す。
In the exemplified compounds (VI-13) to (VI-17), n and g are each independently an integer of 1 or more, and V is a divalent linking group. Examples of V include the following divalent groups.
In the following divalent groups, g represents an integer of 1 or more, and h represents an integer of 0 or more and 5 or less.
有機電界発光素子の耐久性の向上又は発光効率の向上を目的に、発光材料の中に、発光材料とは異なる色素化合物をゲスト材料としてドーピングしてもよい。
色素化合物のドーピング量は、ホスト100質量部に対して、0.001質量部以上40質量部以下が好ましく、0.01質量部以上10質量部以下がより好ましい。
For the purpose of improving the durability or luminous efficiency of the organic electroluminescent element, a dye compound different from the luminescent material may be doped into the luminescent material as a guest material.
The doping amount of the dye compound is preferably from 0.001 to 40 parts by mass, more preferably from 0.01 to 10 parts by mass, based on 100 parts by mass of the host.
ドーピング用の色素化合物としては、クマリン誘導体、DCM誘導体、キナクリドン誘導体、ペリミドン誘導体、ベンゾピラン誘導体、ローダミン誘導体、ベンゾチオキサンテン誘導体、ルブレン誘導体、ポルフィリン誘導体;ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、レニウム、オスニウム、イリジウム、白金、及び金等の金属錯体化合物;などが挙げられる。
ドーピング用の色素化合物の具体例として、例示化合物(VII−1)〜(VII−6)が挙げられる。
Examples of dye compounds for doping include coumarin derivatives, DCM derivatives, quinacridone derivatives, perimidone derivatives, benzopyran derivatives, rhodamine derivatives, benzothioxanthene derivatives, rubrene derivatives, porphyrin derivatives; ruthenium, rhodium, palladium, silver, rhenium, osmium, iridium. , Platinum, and metal complex compounds such as gold; and the like.
Specific examples of the dye compound for doping include exemplified compounds (VII-1) to (VII-6).
各有機化合物層は、結着樹脂を含有していてもよい。
結着樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリススチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレンブタジエン共重合体、塩化ビニルデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコン樹脂、ポリ−N−ビニルカルバゾール樹脂、ポリシラン樹脂、ポリチオフェン、ポリピロール等の導電性樹脂が挙げられる。
各有機化合物層は、必要に応じて、公知の酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤等を含有していてもよい。
Each organic compound layer may contain a binder resin.
As the binder resin, polycarbonate resin, polyester resin, methacrylic resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, cellulose resin, urethane resin, epoxy resin, polystyrene resin, polyvinyl acetate resin, styrene-butadiene copolymer, vinyldene chloride-acrylonitrile Conductive resins such as copolymers, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride copolymers, silicone resins, poly-N-vinyl carbazole resins, polysilane resins, polythiophenes, and polypyrroles.
Each organic compound layer may contain a known antioxidant, ultraviolet absorber, plasticizer, and the like, if necessary.
背面電極27の材料としては、真空蒸着可能で、電子注入を行なうため仕事関数の小さな材料が好ましく、金属、金属酸化物、金属フッ化物が好ましい。
金属としては、マグネシウム、アルミニウム、金、銀、インジウム、リチウム、カルシウム及びこれらの合金が挙げられる。
金属酸化物としては、酸化リチウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化スズインジウム、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化インジウム亜鉛が挙げられる。
金属フッ化物としては、フッ化リチウム、フッ化マグネシウム、フッ化ストロンチウム、フッ化カルシウム、フッ化アルミニウムが挙げられる。
The material of the back electrode 27 is preferably a material that can be vacuum-deposited and has a small work function for performing electron injection, and is preferably a metal, a metal oxide, or a metal fluoride.
Examples of the metal include magnesium, aluminum, gold, silver, indium, lithium, calcium, and alloys thereof.
Examples of the metal oxide include lithium oxide, magnesium oxide, aluminum oxide, indium tin oxide, tin oxide, indium oxide, zinc oxide, and indium zinc oxide.
Examples of the metal fluoride include lithium fluoride, magnesium fluoride, strontium fluoride, calcium fluoride, and aluminum fluoride.
背面電極27上には、保護層を設けてもよい。
保護層の材料としては、インジウム、スズ、鉛、金、銀、銅、アルミニウム等の金属;酸化マグネシウム、二酸化ケイ素、酸化チタン等の金属酸化物;ポリエチレン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂等の樹脂;が挙げられる。
A protective layer may be provided on the back electrode 27.
Examples of the material of the protective layer include metals such as indium, tin, lead, gold, silver, copper, and aluminum; metal oxides such as magnesium oxide, silicon dioxide, and titanium oxide; resins such as polyethylene resin, polyurea resin, and polyimide resin; Is mentioned.
透明電極22、各有機化合物層、背面電極27、及び保護層の厚さは、一般的に、0.001μm以上10μm以下であり、0.001μm以上5μm以下が好ましい。 The thickness of the transparent electrode 22, each organic compound layer, the back electrode 27, and the protective layer is generally 0.001 μm or more and 10 μm or less, and preferably 0.001 μm or more and 5 μm or less.
図7乃至図10に示される有機電界発光素子は、透明絶縁体基板21上に、透明電極22、各有機化合物層、及び背面電極27を順次形成することで作製される。
透明電極22、各有機化合物層、及び背面電極27は、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、塗布法等により形成される。
塗布法は、材料を適切な溶媒に溶解又は分散した塗布液を透明電極22上に塗布し、塗布膜を乾燥させる成膜法である。
塗布液の塗布方法としては、スピンコーティング法、ダイコート法、インクジェット法、キャスト法、ディップ法等が挙げられる。
The organic electroluminescent device shown in FIGS. 7 to 10 is manufactured by sequentially forming a transparent electrode 22, each organic compound layer, and a back electrode 27 on a transparent insulator substrate 21.
The transparent electrode 22, each organic compound layer, and the back electrode 27 are formed by, for example, a vacuum deposition method, a sputtering method, a coating method, or the like.
The coating method is a film forming method in which a coating solution in which materials are dissolved or dispersed in an appropriate solvent is applied on the transparent electrode 22, and the coating film is dried.
Examples of the method for applying the coating liquid include a spin coating method, a die coating method, an ink jet method, a casting method, and a dipping method.
有機化合物層における各材料の含有状態は、分子が分散した状態(分子分散状態)でもよく、粒子を形成して分散した状態(粒子分散状態)でもよい。
塗布液を用いた成膜法において分子分散状態にするためには、塗布液の溶媒を、各材料の分散性及び溶解性を考慮して選択する。
塗布液を用いた成膜法において粒子分散状態にするためには、ボールミル、サンドミル、ペイントシェイカー、アトライター、ホモジナイザー、超音波のいずれかを利用して塗布液を調製する。
The content state of each material in the organic compound layer may be a state in which molecules are dispersed (molecular dispersion state) or a state in which particles are formed and dispersed (particle dispersion state).
In order to form a molecular dispersion state in a film forming method using a coating solution, a solvent of the coating solution is selected in consideration of dispersibility and solubility of each material.
In order to make the particles dispersed in a film forming method using a coating solution, a coating solution is prepared using any of a ball mill, a sand mill, a paint shaker, an attritor, a homogenizer, and ultrasonic waves.
本実施形態に係る有機電界発光素子を、マトリクス状又はセグメント状に配置して画像表示媒体が構成される。
有機電界発光素子をマトリクス状に配置する場合、電極のみをマトリクス状に配置する形態であってもよいし、電極及び有機化合物層をマトリクス状に配置する形態であってもよい。
有機電界発光素子をセグメント状に配置する場合、電極のみをセグメント状に配置する形態であってもよいし、電極及び有機化合物層をセグメント状に配置する形態であってもよい。
マトリクス状又はセグメント状の有機化合物層は、インクジェット法により形成してもよい。
The image display medium is configured by arranging the organic electroluminescent elements according to the present embodiment in a matrix or a segment.
When the organic electroluminescent elements are arranged in a matrix, a mode in which only the electrodes are arranged in a matrix may be employed, or a mode in which the electrodes and the organic compound layer are arranged in a matrix.
When the organic electroluminescent element is arranged in a segment, the electrode may be arranged in a segment only, or the electrode and the organic compound layer may be arranged in a segment.
The matrix or segment organic compound layer may be formed by an inkjet method.
マトリクス状の有機電界発光素子及びセグメント状の有機電界発光素子の駆動装置及び駆動方法としては、特開平2−148687号公報、特開平6−301355号公報、特開平5−29080号、特開平7−134558号公報、特開平8−234685号公報、特開平8−241047号公報、特許第2784615号公報、米国特許5828429号明細書、米国特許6023308号明細書などに記載の駆動装置及び駆動方法を適用し得る。 Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2-148687, 6-301355, 5-29080, and 7 describe a driving device and a driving method for a matrix organic electroluminescent device and a segment organic electroluminescent device. The driving apparatus and the driving method described in JP-A-134558, JP-A-8-234885, JP-A-8-241047, Japanese Patent No. 2778415, U.S. Pat. No. 5,828,429, U.S. Pat. Applicable.
以下、実施例及び比較例について説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。尚、以下において「部」は、特に断りのない限り質量基準である。 Hereinafter, Examples and Comparative Examples will be described, but the present invention is not limited to the following Examples. In the following, “parts” are based on mass unless otherwise specified.
<合成例A1>
化合物3−5として、前記一般式(3A)で表され、かつ、A1とT1とpとの組み合わせが前述の具体例番号(2−5)である化合物を準備した。
500mlフラスコに、化合物3―5を80g、エピクロロヒドリン230g、水酸化ナトリウム26.8g、トリエチルアミン3gを入れ、窒素置換したのち、室温(25℃)で24時間撹拌した。反応後、希塩酸水溶液、次いで水で洗浄した。濃縮後、シリカゲルクロマトにて精製し、化合物4―5を64g得た。
なお、化合物4−5は、前記一般式(4A)で表され、かつ、A2とT2とqとの組み合わせが前述の具体例番号(2−5)である。
<Synthesis example A1>
As compounds 3-5, wherein is represented by the general formula (3A), and the combination of A 1 and T 1 and p has prepared compound is a preceding example number (2-5).
A 500 ml flask was charged with 80 g of the compound 3-5, 230 g of epichlorohydrin, 26.8 g of sodium hydroxide, and 3 g of triethylamine. After the atmosphere was replaced with nitrogen, the mixture was stirred at room temperature (25 ° C.) for 24 hours. After the reaction, the resultant was washed with a dilute hydrochloric acid aqueous solution and then with water. After concentration, the residue was purified by silica gel chromatography to obtain 64 g of compound 4-5.
The compound 4-5, wherein is represented by the general formula (4A), and the combination of A 2 and T 2 and q is a preceding example number (2-5).
化合物3−29として、前記一般式(3A)で表され、かつ、A1とT1とpとの組み合わせが前述の具体例番号(2−29)である化合物を準備した。
2000mlフラスコに、化合物3−29を79.8g、テトラヒドロフランを700ml、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体を1.8g入れ、窒素置換したのち、50℃に加熱した。この溶液に、テトラヒドロフラン200mlに化合物4−5を50.0g溶かした溶液を、30分かけて滴下した。滴下終了後、2時間反応させた後、10Lのメタノールに滴下してポリマーを析出させた。得られたポリマーを十分にメタノールで洗浄し、乾燥して、第1の電荷輸送性樹脂の具体例として示した番号(A−1)の樹脂である樹脂(A−1)を107.0g得た。
GPCで分子量を測定したところ、ポリスチレン換算で60000であった。また、前記MH/(MH+MP)の値は1.0であった。
As compounds 3-29, wherein is represented by the general formula (3A), and the combination of A 1 and T 1 and p has prepared compound is a preceding example number (2-29).
In a 2000 ml flask, 79.8 g of compound 3-29, 700 ml of tetrahydrofuran, and 1.8 g of boron trifluoride diethyl ether complex were placed, and the mixture was purged with nitrogen and heated to 50 ° C. A solution in which 50.0 g of the compound 4-5 was dissolved in 200 ml of tetrahydrofuran was dropped into this solution over 30 minutes. After completion of the dropping, the mixture was reacted for 2 hours, and then dropped into 10 L of methanol to precipitate a polymer. The obtained polymer was sufficiently washed with methanol and dried to obtain 107.0 g of a resin (A-1) which is a resin of the number (A-1) shown as a specific example of the first charge transporting resin. Was.
The molecular weight measured by GPC was 60000 in terms of polystyrene. The value of MH / ( MH + MP ) was 1.0.
<合成例A2>
合成例A1で得られた樹脂(A−1)10gを300mlのフラスコに入れ、4−ヨードメチルスチレン18g、ニトロベンゼン0.1gをフラスコに入れ、テトラヒドロフランを100ml加えて溶解した。これに、t−ブトキシナトリウム5.8gを室温(25℃)で2時間かけて加えた後、50℃で3時間反応させた。反応終了後、トルエン100mlを加え、希塩酸、ついで水で洗浄した後、500mlのメタノールに滴下してポリマーを析出させた。得られたポリマーを十分にメタノールで洗浄し、乾燥して、第1の電荷輸送性樹脂の具体例として示した番号(A−2)の樹脂である樹脂(A−2)を10.1g得た。
GPCで分子量を測定したところ、ポリスチレン換算で61000であった。また、前記MH/(MH+MP)の値は0であった。
<Synthesis example A2>
10 g of the resin (A-1) obtained in Synthesis Example A1 was placed in a 300 ml flask, 18 g of 4-iodomethylstyrene and 0.1 g of nitrobenzene were placed in the flask, and 100 ml of tetrahydrofuran was added and dissolved. To this was added 5.8 g of sodium t-butoxy at room temperature (25 ° C.) over 2 hours, and the mixture was reacted at 50 ° C. for 3 hours. After completion of the reaction, 100 ml of toluene was added, washed with dilute hydrochloric acid and then with water, and dropped into 500 ml of methanol to precipitate a polymer. The obtained polymer was sufficiently washed with methanol and dried to obtain 10.1 g of a resin (A-2) which is a resin of the number (A-2) shown as a specific example of the first charge transporting resin. Was.
The molecular weight measured by GPC was 61,000 in terms of polystyrene. The value of MH / ( MH + MP ) was 0.
<合成例A3>
4−ヨードメチルスチレンの添加量を1.0g、t−ブトキシナトリウムの添加量を0.3gとした以外は、合成例A2と同様にして、第1の電荷輸送性樹脂の具体例として示した番号(A−3)の樹脂である樹脂(A−3)を9.9g得た。
GPCで分子量を測定したところ、ポリスチレン換算で60000であった。また、前記MH/(MH+MP)の値は0.95であった。
<Synthesis example A3>
Except that the addition amount of 4-iodomethylstyrene was 1.0 g and the addition amount of sodium t-butoxy was 0.3 g, it was shown as a specific example of the first charge transporting resin in the same manner as in Synthesis Example A2. 9.9 g of resin (A-3), which is the resin of number (A-3), was obtained.
The molecular weight measured by GPC was 60000 in terms of polystyrene. The value of the M H / (M H + M P) was 0.95.
<合成例A4>
4−ヨードメチルスチレンの添加量を1.8g、t−ブトキシナトリウムの添加量を0.5gとした以外は、合成例A2と同様にして、第1の電荷輸送性樹脂の具体例として示した番号(A−4)の樹脂である樹脂(A−4)を9.9g得た。
GPCで分子量を測定したところ、ポリスチレン換算で60000であった。また、前記MH/(MH+MP)の値は0.85であった。
<Synthesis example A4>
Except that the addition amount of 4-iodomethylstyrene was 1.8 g and the addition amount of sodium t-butoxy was 0.5 g, it was shown as a specific example of the first charge transporting resin in the same manner as in Synthesis Example A2. 9.9 g of resin (A-4), which is the resin of number (A-4), was obtained.
The molecular weight measured by GPC was 60000 in terms of polystyrene. The value of the M H / (M H + M P) was 0.85.
<合成例A5>
4−ヨードメチルスチレンの添加量を9.0g、t−ブトキシナトリウムの添加量を2.9gとした以外は、合成例A2と同様にして、第1の電荷輸送性樹脂の具体例として示した番号(A−5)の樹脂である樹脂(A−5)を9.9g得た。
GPCで分子量を測定したところ、ポリスチレン換算で60000であった。また、前記MH/(MH+MP)の値は0.45であった。
<Synthesis example A5>
Except that the added amount of 4-iodomethylstyrene was 9.0 g and the added amount of sodium t-butoxy was 2.9 g, it was shown as a specific example of the first charge transporting resin in the same manner as in Synthesis Example A2. 9.9 g of resin (A-5), which is the resin of number (A-5), was obtained.
The molecular weight measured by GPC was 60000 in terms of polystyrene. The value of the M H / (M H + M P) was 0.45.
<合成例A6>
化合物3−17として、前記一般式(3A)で表され、かつ、A1とT1とpとの組み合わせが前述の具体例番号(2−17)である化合物を準備した。
500mlフラスコに、化合物3―17を60g、エピクロロヒドリン200g、水酸化ナトリウム17.6g、トリエチルアミン2gを入れ、窒素置換したのち、室温(25℃)で24時間撹拌した。反応後、希塩酸水溶液、次いで水で洗浄した。濃縮後、シリカゲルクロマトにて精製し、化合物4―17を74.5g得た。
なお、化合物4−17は、前記一般式(4A)で表され、かつ、A2とT2とqとの組み合わせが前述の具体例番号(2−17)である。
<Synthesis example A6>
As compounds 3-17, wherein is represented by the general formula (3A), and the combination of A 1 and T 1 and p has prepared compound is a preceding example number (2-17).
A 500 ml flask was charged with 60 g of compound 3-17, 200 g of epichlorohydrin, 17.6 g of sodium hydroxide, and 2 g of triethylamine, and the mixture was purged with nitrogen, followed by stirring at room temperature (25 ° C.) for 24 hours. After the reaction, the resultant was washed with a dilute hydrochloric acid aqueous solution and then with water. After concentration, the residue was purified by silica gel chromatography to obtain 74.5 g of compound 4-17.
The compound 4-17, wherein is represented by the general formula (4A), and the combination of A 2 and T 2 and q is a preceding example number (2-17).
1000mlフラスコに、化合物3−17を39.4g、テトラヒドロフランを700ml、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体を1.0g入れ、窒素置換したのち、50℃に加熱した。この溶液に、テトラヒドロフラン200mlに化合物4−17を45.2g溶かした溶液を、30分かけて滴下した。滴下終了後、2時間反応させた後、10Lのメタノールに滴下してポリマーを析出させた。得られたポリマーを十分にメタノールで洗浄し、乾燥して、第1の電荷輸送性樹脂の具体例として示した番号(A−6)の樹脂である樹脂(A−6)を75.0g得た。
GPCで分子量を測定したところ、ポリスチレン換算で40000であった。また、前記MH/(MH+MP)の値は1.0であった。
In a 1000 ml flask, 39.4 g of compound 3-17, 700 ml of tetrahydrofuran, and 1.0 g of boron trifluoride diethyl ether complex were placed, and the mixture was purged with nitrogen and heated to 50 ° C. To this solution, a solution of 45.2 g of compound 4-17 dissolved in 200 ml of tetrahydrofuran was added dropwise over 30 minutes. After completion of the dropping, the mixture was reacted for 2 hours, and then dropped into 10 L of methanol to precipitate a polymer. The obtained polymer was sufficiently washed with methanol and dried to obtain 75.0 g of a resin (A-6) which is a resin of the number (A-6) shown as a specific example of the first charge transporting resin. Was.
The molecular weight measured by GPC was 40,000 in terms of polystyrene. The value of MH / ( MH + MP ) was 1.0.
<合成例A7>
200mlフラスコに、合成例A6で得られた樹脂(A−6)を8.0g、テトラヒドロフランを100ml、メタクリル酸クロライドを52.0g、トリエチルアミンを50.0入れ、室温(25℃)で24時間反応した。反応終了後、1Lのメタノールに滴下してポリマーを析出させた。得られたポリマーを十分にメタノールで洗浄し、乾燥して、第1の電荷輸送性樹脂の具体例として示した番号(A−7)の樹脂である樹脂(A−7)を7.1g得た。
GPCで分子量を測定したところ、ポリスチレン換算で41000であった。また、前記MH/(MH+MP)の値は0であった。
<Synthesis example A7>
A 200 ml flask was charged with 8.0 g of the resin (A-6) obtained in Synthesis Example A6, 100 ml of tetrahydrofuran, 52.0 g of methacrylic acid chloride, and 50.0 of triethylamine, and reacted at room temperature (25 ° C.) for 24 hours. did. After completion of the reaction, the polymer was dropped into 1 L of methanol to precipitate the polymer. The obtained polymer was sufficiently washed with methanol and dried to obtain 7.1 g of a resin (A-7) which is a resin of the number (A-7) shown as a specific example of the first charge transporting resin. Was.
The molecular weight measured by GPC was 41,000 in terms of polystyrene. The value of MH / ( MH + MP ) was 0.
<合成例A8>
500mlフラスコに、合成例A6で得られた樹脂(A−6)を8.0g、テトラヒドロフランを100ml、メタクリル酸クロライドを1.0g、トリエチルアミンを1.0入れ、室温(25℃)で24時間反応した。反応終了後、1Lのメタノールに滴下してポリマーを析出させた。得られたポリマーを十分にメタノールで洗浄し、乾燥して、第1の電荷輸送性樹脂の具体例として示した番号(A−8)の樹脂である樹脂(A−8)を7.4g得た。
GPCで分子量を測定したところ、ポリスチレン換算で40000であった。また、前記MH/(MH+MP)の値は0.95であった。
<Synthesis example A8>
A 500 ml flask was charged with 8.0 g of the resin (A-6) obtained in Synthesis Example A6, 100 ml of tetrahydrofuran, 1.0 g of methacrylic acid chloride, and 1.0 of triethylamine, and reacted at room temperature (25 ° C.) for 24 hours. did. After completion of the reaction, the polymer was dropped into 1 L of methanol to precipitate the polymer. The obtained polymer was sufficiently washed with methanol and dried to obtain 7.4 g of a resin (A-8) which is a resin of the number (A-8) shown as a specific example of the first charge transporting resin. Was.
The molecular weight measured by GPC was 40,000 in terms of polystyrene. The value of the M H / (M H + M P) was 0.95.
<合成例A9〜合成例A31>
合成例A1〜A8と同様にして、第1の電荷輸送性樹脂の具体例として示した番号(A−9)〜(A−31)の樹脂である樹脂(A−9)〜(A−31)を得た。
<Synthesis Example A9 to Synthesis Example A31>
Resins (A-9) to (A-31), which are resins of numbers (A-9) to (A-31) shown as specific examples of the first charge transporting resin, in the same manner as in Synthesis Examples A1 to A8. ) Got.
<合成例A32>
200mlフラスコに、合成例A9で得られた樹脂(A−9)を8.0g、テトラヒドロフラン100ml、エピクロロヒドリン50g、水酸化ナトリウム4.4g、トリエチルアミン2.5gを入れ、窒素置換したのち、40℃で48時間撹拌した。反応終了後、1Lのメタノールに滴下してポリマーを析出させた。得られたポリマーを十分にメタノールで洗浄し、乾燥して、第1の電荷輸送性樹脂の具体例として示した番号(A−32)の樹脂である樹脂(A−32)を7.8g得た。
GPCで分子量を測定したところ、ポリスチレン換算で31000であった。また、前記MH/(MH+MP)の値は0.45であった。
<Synthesis example A32>
A 200 ml flask was charged with 8.0 g of the resin (A-9) obtained in Synthesis Example A9, 100 ml of tetrahydrofuran, 50 g of epichlorohydrin, 4.4 g of sodium hydroxide, and 2.5 g of triethylamine. Stirred at 40 ° C. for 48 hours. After completion of the reaction, the polymer was dropped into 1 L of methanol to precipitate the polymer. The obtained polymer was sufficiently washed with methanol and dried to obtain 7.8 g of a resin (A-32) which is a resin of the number (A-32) shown as a specific example of the first charge transporting resin. Was.
The molecular weight measured by GPC was 31,000 in terms of polystyrene. The value of the M H / (M H + M P) was 0.45.
<合成例A33>
使用するエピクロロヒドリンを100g、水酸化ナトリウムを8.8g、トリエチルアミンを5gに変更した以外は合成例A32と同様にして、第1の電荷輸送性樹脂の具体例として示した番号(A−33)の樹脂である樹脂(A−33)を7.9g得た。
GPCで分子量を測定したところ、ポリスチレン換算で31000であった。また、前記MH/(MH+MP)の値は0であった。
<Synthesis example A33>
The same number as the synthesis example A32 (A- 7.9 g of resin (A-33) which is the resin of 33) was obtained.
The molecular weight measured by GPC was 31,000 in terms of polystyrene. The value of MH / ( MH + MP ) was 0.
<合成例A34>
エピクロロヒドリンを3−(クロロメチル)−3−メチルオキセタンに変更する以外は合成例A33と同様にして、第1の電荷輸送性樹脂の具体例として示した番号(A−34)の樹脂である樹脂(A−34)を得た。
GPCで分子量を測定したところ、ポリスチレン換算で31000であった。また、前記MH/(MH+MP)の値は0であった。
<Synthesis example A34>
A resin of the number (A-34) shown as a specific example of the first charge transporting resin in the same manner as in Synthesis Example A33 except that epichlorohydrin was changed to 3- (chloromethyl) -3-methyloxetane (A-34) was obtained.
The molecular weight measured by GPC was 31,000 in terms of polystyrene. The value of MH / ( MH + MP ) was 0.
<合成例B1>
化合物A−4として、一般式(3B)で表され、かつ、組み合わせAT(すなわち、A3とT3との組み合わせ)が具体例AT−4の組み合わせであり、Z1で示される基が水酸基である電荷輸送性モノマー(すなわち、具体例AT−4に相当するジカルボン酸モノマー)を準備した。
また、化合物B−2として、一般式(4B)で表され、組み合わせY(すなわち、O−Y3−O、n3、及びY4の組み合わせ)が具体例Y−2の組み合わせであり、Z2で示される基が水酸基である非電荷輸送性のジオールモノマー(品名:ブレンマーGLM、日油製)を準備した。
フラスコに、化合物A−4(分子量417.5)8.35g(0.02mol)、化合物B−2(分子量160.17)3.20g(0.02mol)、4−ジメチルアミノピリジン(分子量122.17)2.44g(0.02mol)、及びテトラヒドロフラン50mlを加え、窒素気流下で撹拌しながら0℃に冷却した。そこへ、1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイミド(分子量155.24)6.83g(0.044mol)を添加し、徐々に反応温度を室温(25℃)まで戻し、4時間撹拌した。その後、反応溶液を水に滴下して再沈させ、さらに希塩酸を加えて中和した。ろ過で採取した固体をメタノール100ml中で撹拌して洗浄した。ろ過で採取した固体を真空乾燥し、樹脂B−1(第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の具体例として示した樹脂B−1)を7.85g得た。GPCで樹脂B−1の分子量を測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は28000であった。
<Synthesis example B1>
As Compound A-4, is represented by the general formula (3B), and the combination AT (i.e., the combination of A 3 and T 3) is a combination of specific example AT-4, hydroxyl groups represented by Z 1 (I.e., a dicarboxylic acid monomer corresponding to the specific example AT-4).
Further, as the compound B-2, is represented by the general formula (4B), the combination Y (i.e., O-Y 3 -O, n3 , and combinations Y 4) is a combination of specific example Y-2, Z 2 A non-charge-transporting diol monomer (product name: Blemmer GLM, manufactured by NOF Corporation) in which the group represented by is a hydroxyl group was prepared.
In a flask, 8.35 g (0.02 mol) of compound A-4 (molecular weight 417.5), 3.20 g (0.02 mol) of compound B-2 (molecular weight 160.17), and 4-dimethylaminopyridine (molecular weight 122. 17) 2.44 g (0.02 mol) and 50 ml of tetrahydrofuran were added, and the mixture was cooled to 0 ° C. while stirring under a nitrogen stream. To this, 6.83 g (0.044 mol) of 1- [3- (dimethylamino) propyl] -3-ethylcarbodiimide (molecular weight 155.24) was added, and the reaction temperature was gradually returned to room temperature (25 ° C). Stir for 4 hours. Thereafter, the reaction solution was dropped into water to cause re-precipitation, and neutralized by further adding dilute hydrochloric acid. The solid collected by filtration was washed by stirring in 100 ml of methanol. The solid collected by filtration was vacuum dried to obtain 7.85 g of Resin B-1 (Resin B-1 shown as a specific example of the second charge transporting polyester resin). When the molecular weight of the resin B-1 was measured by GPC, the weight average molecular weight in terms of polystyrene was 28,000.
<合成例B2>
化合物A−4として、一般式(3B)で表され、かつ、組み合わせAT(すなわち、A3とT3との組み合わせ)が具体例AT−4の組み合わせであり、Z1で示される基が水酸基である電荷輸送性モノマー(すなわち、具体例AT−4に相当するジカルボン酸モノマー)を準備した。
また、化合物B−43として、一般式(4B)で表され、組み合わせY(すなわち、O−Y3−O、n3、及びY4の組み合わせ)が具体例Y−43の組み合わせであり、Z2で示される基が水酸基である非電荷輸送性のジオールモノマー(品名:エポキシエステル40EM、共栄社化学製)を準備した。
フラスコに、化合物A−4(分子量417.5)8.35g(0.02mol)、化合物B−43(分子量388.45)7.77g(0.02mol)、4−ジメチルアミノピリジン(分子量122.17)2.44g(0.02mol)、及びテトラヒドロフラン50mlを加え、窒素気流下で撹拌しながら0℃に冷却した。そこへ、1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイミド(分子量155.24)6.83g(0.044mol)を添加し、徐々に反応温度を室温(25℃)まで戻し、4時間撹拌した。その後、反応溶液を水に滴下して再沈させ、さらに希塩酸を加えて中和した。ろ過で採取した固体をメタノール200ml中で撹拌して洗浄した。ろ過で採取した固体を真空乾燥し、樹脂B−2(第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の具体例として示した樹脂B−2)を11.17g得た。GPCで樹脂B−2の分子量を測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は27000であった。
<Synthesis example B2>
As Compound A-4, is represented by the general formula (3B), and the combination AT (i.e., the combination of A 3 and T 3) is a combination of specific example AT-4, hydroxyl groups represented by Z 1 (I.e., a dicarboxylic acid monomer corresponding to the specific example AT-4).
The compound B-43 is represented by the general formula (4B), and the combination Y (that is, the combination of O—Y 3 —O, n3, and Y 4 ) is a combination of the specific examples Y-43, and Z 2 A non-charge-transporting diol monomer (product name: epoxy ester 40EM, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) in which the group represented by is a hydroxyl group was prepared.
8.35 g (0.02 mol) of compound A-4 (molecular weight 417.5), 7.77 g (0.02 mol) of compound B-43 (molecular weight 388.45) and 4-dimethylaminopyridine (molecular weight 122. 17) 2.44 g (0.02 mol) and 50 ml of tetrahydrofuran were added, and the mixture was cooled to 0 ° C. while stirring under a nitrogen stream. To this, 6.83 g (0.044 mol) of 1- [3- (dimethylamino) propyl] -3-ethylcarbodiimide (molecular weight 155.24) was added, and the reaction temperature was gradually returned to room temperature (25 ° C). Stir for 4 hours. Thereafter, the reaction solution was dropped into water to cause re-precipitation, and neutralized by further adding dilute hydrochloric acid. The solid collected by filtration was washed by stirring in 200 ml of methanol. The solid collected by filtration was vacuum dried to obtain 11.17 g of a resin B-2 (resin B-2 shown as a specific example of the second charge-transporting polyester resin). When the molecular weight of the resin B-2 was measured by GPC, the weight average molecular weight in terms of polystyrene was 27000.
<合成例B3>
化合物A−6として、一般式(3B)で表され、かつ、組み合わせAT(すなわち、A3とT3との組み合わせ)が具体例AT−6の組み合わせであり、Z1で示される基が水酸基である電荷輸送性モノマー(すなわち、具体例AT−6に相当するジカルボン酸モノマー)を準備した。
また、化合物B−2として、一般式(4B)で表され、組み合わせY(すなわち、O−Y3−O、n3、及びY4の組み合わせ)が具体例Y−2の組み合わせであり、Z2で示される基が水酸基である非電荷輸送性のジオールモノマー(品名:ブレンマーGLM、日油製)を準備した。
フラスコに、化合物A−6(分子量465.54)5.00g(0.0107mol)、化合物B−2(分子量160.17)1.89g(0.0118mol)、4−ジメチルアミノピリジン(分子量122.17)2.69g(0.0220mol)、及びテトラヒドロフラン25mlを加え、窒素気流下で撹拌しながら0℃に冷却した。そこへ、1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイミド(分子量155.24)3.67g(0.024mol)を添加し、徐々に反応温度を室温(25℃)まで戻し、4時間撹拌した。その後、反応溶液を水に滴下して再沈させ、さらに希塩酸を加えて中和した。ろ過で採取した固体をメタノール100ml中で撹拌して洗浄した。ろ過で採取した固体を真空乾燥し、樹脂B−3(第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の具体例として示した樹脂B−3)を5.85g得た。GPCで樹脂B−3の分子量を測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は22000であった。
<Synthesis example B3>
As Compound A-6, is represented by the general formula (3B), and the combination AT (i.e., the combination of A 3 and T 3) is a combination of specific example AT-6, hydroxyl groups represented by Z 1 (I.e., a dicarboxylic acid monomer corresponding to the specific example AT-6).
Further, as the compound B-2, is represented by the general formula (4B), the combination Y (i.e., O-Y 3 -O, n3 , and combinations Y 4) is a combination of specific example Y-2, Z 2 A non-charge-transporting diol monomer (product name: Blemmer GLM, manufactured by NOF Corporation) in which the group represented by is a hydroxyl group was prepared.
In a flask, 5.00 g (0.0107 mol) of compound A-6 (molecular weight 465.54), 1.89 g (0.0118 mol) of compound B-2 (molecular weight 160.17), and 4-dimethylaminopyridine (molecular weight 122.54). 17) 2.69 g (0.0220 mol) and 25 ml of tetrahydrofuran were added, and the mixture was cooled to 0 ° C. while stirring under a nitrogen stream. Thereto, 3.67 g (0.024 mol) of 1- [3- (dimethylamino) propyl] -3-ethylcarbodiimide (molecular weight 155.24) was added, and the reaction temperature was gradually returned to room temperature (25 ° C). Stir for 4 hours. Thereafter, the reaction solution was dropped into water to cause re-precipitation, and neutralized by further adding dilute hydrochloric acid. The solid collected by filtration was washed by stirring in 100 ml of methanol. The solid collected by filtration was vacuum-dried to obtain 5.85 g of Resin B-3 (Resin B-3 shown as a specific example of the second charge transporting polyester resin). When the molecular weight of the resin B-3 was measured by GPC, the weight average molecular weight in terms of polystyrene was 22,000.
<合成例B4>
2Lフラスコに、4−ヒドロキシスチレン(分子量120.15)120.15g(1.0mol)、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(分子量91.15)93.88g(1.03mol)、ニトロベンゼン(分子量123.06)1.23g(0.01mol)、及びN−メチルピロリドン700mlを加えて、80℃で1時間撹拌した。その後、一旦室温(25℃)まで温度を戻した後、3−クロロ−1,2−プロパンジオール(分子量110.54)110.54g(1.0mol)を添加し、80℃で5時間反応させた。反応後、トルエンを添加して水で洗浄し、濃縮後、シリカゲルクロマトにて精製し、化合物B−3(分子量194.23)147.61gを得た。
上記化合物B−3は、一般式(4B)で表され、組み合わせY(すなわち、O−Y3−O、n3、及びY4の組み合わせ)が具体例Y−3の組み合わせであり、Z2で示される基が水酸基である非電荷輸送性のジオールモノマーである。
<Synthesis example B4>
In a 2 L flask, 120.15 g (1.0 mol) of 4-hydroxystyrene (molecular weight 120.15), 93.88 g (1.03 mol) of tetramethylammonium hydroxide (molecular weight 91.15), nitrobenzene (molecular weight 123.06) 1.23 g (0.01 mol) and 700 ml of N-methylpyrrolidone were added, and the mixture was stirred at 80 ° C for 1 hour. After the temperature was once returned to room temperature (25 ° C.), 110.54 g (1.0 mol) of 3-chloro-1,2-propanediol (molecular weight 110.54) was added, and the mixture was reacted at 80 ° C. for 5 hours. Was. After the reaction, toluene was added and the mixture was washed with water, concentrated, and purified by silica gel chromatography to obtain 147.61 g of a compound B-3 (molecular weight: 194.23).
The above compound B-3 is represented by the general formula (4B), the combination Y (i.e., O-Y 3 -O, n3 , a combination of and Y 4) is a combination of embodiment Y-3, with Z 2 A non-charge-transporting diol monomer in which the group shown is a hydroxyl group.
化合物A−6として、一般式(3B)で表され、かつ、組み合わせAT(すなわち、A3とT3との組み合わせ)が具体例AT−6の組み合わせであり、Z1で示される基が水酸基である電荷輸送性モノマー(すなわち、具体例AT−6に相当するジカルボン酸モノマー)を準備した。
フラスコに、化合物A−6(分子量465.54)5.00g(0.0107mol)、化合物B−3(分子量194.23)2.29g(0.0118mol)、4−ジメチルアミノピリジン(分子量122.17)2.69g(0.0220mol)、及びテトラヒドロフラン25mlを加え、窒素気流下で撹拌しながら0℃に冷却した。そこへ、1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイミド(分子量155.24)3.67g(0.024mol)を添加し、徐々に反応温度を室温(25℃)まで戻し、4時間撹拌した。その後、反応溶液を水に滴下して再沈させ、さらに希塩酸を加えて中和した。ろ過で採取した固体をメタノール100ml中で撹拌して洗浄した。ろ過で採取した固体を真空乾燥し、樹脂B−4(第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の具体例として示した樹脂B−4)を6.31g得た。GPCで樹脂B−4の分子量を測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は26000であった。
As Compound A-6, is represented by the general formula (3B), and the combination AT (i.e., the combination of A 3 and T 3) is a combination of specific example AT-6, hydroxyl groups represented by Z 1 (I.e., a dicarboxylic acid monomer corresponding to the specific example AT-6).
In a flask, 5.00 g (0.0107 mol) of compound A-6 (molecular weight 465.54), 2.29 g (0.0118 mol) of compound B-3 (molecular weight 194.23), and 4-dimethylaminopyridine (molecular weight 122.54) were added. 17) 2.69 g (0.0220 mol) and 25 ml of tetrahydrofuran were added, and the mixture was cooled to 0 ° C. while stirring under a nitrogen stream. Thereto, 3.67 g (0.024 mol) of 1- [3- (dimethylamino) propyl] -3-ethylcarbodiimide (molecular weight 155.24) was added, and the reaction temperature was gradually returned to room temperature (25 ° C). Stir for 4 hours. Thereafter, the reaction solution was dropped into water to cause re-precipitation, and neutralized by further adding dilute hydrochloric acid. The solid collected by filtration was washed by stirring in 100 ml of methanol. The solid collected by filtration was vacuum-dried to obtain 6.31 g of resin B-4 (resin B-4 shown as a specific example of the second charge-transporting polyester resin). When the molecular weight of the resin B-4 was measured by GPC, the weight average molecular weight in terms of polystyrene was 26,000.
<合成例B5>
化合物A−18として、一般式(3B)で表され、かつ、組み合わせAT(すなわち、A3とT3との組み合わせ)が具体例AT−18の組み合わせであり、Z1で示される基が水酸基である電荷輸送性モノマー(すなわち、具体例AT−18に相当するジカルボン酸モノマー)を準備した。
また、化合物B−2として、一般式(4B)で表され、組み合わせY(すなわち、O−Y3−O、n3、及びY4の組み合わせ)が具体例Y−2の組み合わせであり、Z2で示される基が水酸基である非電荷輸送性のジオールモノマー(品名:ブレンマーGLM、日油製)を準備した。
フラスコに、化合物A−18(分子量784.94)6.65g(0.0085mol)、化合物B−2(分子量160.17)1.43g(0.0089mol)、4−ジメチルアミノピリジン(分子量122.17)2.12g(0.0174mol)、及びテトラヒドロフラン50ml、N−メチルピロリドン15mlを加え、窒素気流下で撹拌しながら0℃に冷却した。そこへ、1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイミド(分子量155.24)2.89g(0.0186mol)を添加し、徐々に反応温度を室温(25℃)まで戻し、7時間撹拌した。その後、反応溶液を水に滴下して再沈させ、さらに希塩酸を加えて中和した。ろ過で採取した固体をメタノール100ml中で撹拌して洗浄した。ろ過で採取した固体を真空乾燥し、樹脂B−11(第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の具体例として示した樹脂B−11)を5.37g得た。GPCで樹脂B−11の分子量を測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は12000であった。
<Synthesis example B5>
As Compound A-18, represented by the general formula (3B), and the combination AT (i.e., the combination of A 3 and T 3) is a combination of specific example AT-18, hydroxyl groups represented by Z 1 (I.e., a dicarboxylic acid monomer corresponding to the specific example AT-18).
Further, as the compound B-2, is represented by the general formula (4B), the combination Y (i.e., O-Y 3 -O, n3 , and combinations Y 4) is a combination of specific example Y-2, Z 2 A non-charge-transporting diol monomer (product name: Blemmer GLM, manufactured by NOF Corporation) in which the group represented by is a hydroxyl group was prepared.
In a flask, 6.65 g (0.0085 mol) of compound A-18 (molecular weight 784.94), 1.43 g (0.0089 mol) of compound B-2 (molecular weight 160.17), 4-dimethylaminopyridine (molecular weight 122. 17) 2.12 g (0.0174 mol), 50 ml of tetrahydrofuran and 15 ml of N-methylpyrrolidone were added, and the mixture was cooled to 0 ° C while stirring under a nitrogen stream. Thereto, 2.89 g (0.0186 mol) of 1- [3- (dimethylamino) propyl] -3-ethylcarbodiimide (molecular weight 155.24) was added, and the reaction temperature was gradually returned to room temperature (25 ° C.). Stir for 7 hours. Thereafter, the reaction solution was dropped into water to cause re-precipitation, and neutralized by further adding dilute hydrochloric acid. The solid collected by filtration was washed by stirring in 100 ml of methanol. The solid collected by filtration was vacuum-dried to obtain 5.37 g of Resin B-11 (Resin B-11 shown as a specific example of the second charge-transporting polyester resin). When the molecular weight of the resin B-11 was measured by GPC, the weight average molecular weight in terms of polystyrene was 12,000.
<合成例B6>
2Lフラスコに、グリシドール(分子量74.08)74.08g(1.0mol)、4−ビニル安息香酸(分子量148.16)148.16g(1.0mol)、テトラブチルアンモニウムクロリド(分子量277.92)27.79g(0.1mol)、ニトロベンゼン(分子量123.06)1.23g(0.01mol)、及びメチルエチルケトン700mlを加えて、窒素気流下で7時間加熱還流した。反応後、水で洗浄し、濃縮後、シリカゲルクロマトにて精製し、化合物B−5(分子量222.24)184.46gを得た。
上記化合物B−5は、一般式(4B)で表され、組み合わせY(すなわち、O−Y3−O、n3、及びY4の組み合わせ)が具体例Y−5の組み合わせであり、Z2で示される基が水酸基である非電荷輸送性のジオールモノマーである。
<Synthesis Example B6>
In a 2 L flask, 74.08 g (1.0 mol) of glycidol (molecular weight 74.08), 148.16 g (1.0 mol) of 4-vinylbenzoic acid (molecular weight 148.16), tetrabutylammonium chloride (molecular weight 277.92) 27.79 g (0.1 mol), 1.23 g (0.01 mol) of nitrobenzene (molecular weight 123.06) and 700 ml of methyl ethyl ketone were added, and the mixture was heated and refluxed for 7 hours under a nitrogen stream. After the reaction, the mixture was washed with water, concentrated and purified by silica gel chromatography to obtain 184.46 g of a compound B-5 (molecular weight: 222.24).
The compound B-5 is represented by the general formula (4B), wherein the combination Y (that is, the combination of O—Y 3 —O, n3, and Y 4 ) is a combination of the specific examples Y-5, and Z 2 is A non-charge-transporting diol monomer in which the group shown is a hydroxyl group.
化合物A−18として、一般式(3B)で表され、かつ、組み合わせAT(すなわち、A3とT3との組み合わせ)が具体例AT−18の組み合わせであり、Z1で示される基が水酸基である電荷輸送性モノマー(すなわち、具体例AT−18に相当するジカルボン酸モノマー)を準備した。
フラスコに、化合物A−18(分子量784.94)6.65g(0.0085mol)、化合物B−5(分子量222.24)1.98g(0.0089mol)、4−ジメチルアミノピリジン(分子量122.17)2.12g(0.0174mol)、テトラヒドロフラン50ml、及びN−メチルピロリドン15mlを加え、窒素気流下で撹拌しながら0℃に冷却した。そこへ、1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイミド(分子量155.24)2.89g(0.0186mol)を添加し、徐々に反応温度を室温(25℃)まで戻し、7時間撹拌した。その後、反応溶液を水に滴下して再沈させ、さらに希塩酸を加えて中和した。ろ過で採取した固体をメタノール100ml中で撹拌して洗浄した。ろ過で採取した固体を真空乾燥し、樹脂B−13(第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の具体例として示した樹脂B−13)を6.39g得た。GPCで樹脂B−13の分子量を測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は16000であった。
As Compound A-18, represented by the general formula (3B), and the combination AT (i.e., the combination of A 3 and T 3) is a combination of specific example AT-18, hydroxyl groups represented by Z 1 (I.e., a dicarboxylic acid monomer corresponding to the specific example AT-18).
In a flask, 6.65 g (0.0085 mol) of compound A-18 (molecular weight 784.94), 1.98 g (0.0089 mol) of compound B-5 (molecular weight 222.24), and 4-dimethylaminopyridine (molecular weight 122.94). 17) 2.12 g (0.0174 mol), 50 ml of tetrahydrofuran and 15 ml of N-methylpyrrolidone were added, and the mixture was cooled to 0 ° C while stirring under a nitrogen stream. Thereto, 2.89 g (0.0186 mol) of 1- [3- (dimethylamino) propyl] -3-ethylcarbodiimide (molecular weight 155.24) was added, and the reaction temperature was gradually returned to room temperature (25 ° C.). Stir for 7 hours. Thereafter, the reaction solution was dropped into water to cause re-precipitation, and neutralized by further adding dilute hydrochloric acid. The solid collected by filtration was washed by stirring in 100 ml of methanol. The solid collected by filtration was vacuum-dried to obtain 6.39 g of Resin B-13 (Resin B-13 shown as a specific example of the second charge-transporting polyester resin). When the molecular weight of the resin B-13 was measured by GPC, the weight average molecular weight in terms of polystyrene was 16,000.
<合成例B7>
化合物A−43として、一般式(3B)で表され、かつ、組み合わせAT(すなわち、A3とT3との組み合わせ)が具体例AT−43の組み合わせであり、Z1で示される基が水酸基である電荷輸送性モノマー(すなわち、具体例AT−43に相当するジカルボン酸モノマー)を準備した。
また、化合物B−2として、一般式(4B)で表され、組み合わせY(すなわち、O−Y3−O、n3、及びY4の組み合わせ)が具体例Y−2の組み合わせであり、Z2で示される基が水酸基である非電荷輸送性のジオールモノマー(品名:ブレンマーGLM、日油製)を準備した。
フラスコに、化合物A−43(分子量861.03)7.75g(0.009mol)、化合物B−2(分子量160.17)1.59g(0.0099mol)、4−ジメチルアミノピリジン(分子量122.17)2.25g(0.0184mol)、テトラヒドロフラン50ml、及びN−メチルピロリドン15mlを加え、窒素気流下で撹拌しながら0℃に冷却した。そこへ、1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイミド(分子量155.24)3.07g(0.0198mol)を添加し、徐々に反応温度を室温(25℃)まで戻し、7時間撹拌した。その後、反応溶液を水に滴下して再沈させ、さらに希塩酸を加えて中和した。ろ過で採取した固体をメタノール100ml中で撹拌して洗浄した。ろ過で採取した固体を真空乾燥し、樹脂B−20(第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の具体例として示した樹脂B−20)を7.23g得た。GPCで樹脂B−20の分子量を測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は14000であった。
<Synthesis example B7>
As Compound A-43, represented by the general formula (3B), and the combination AT (i.e., the combination of A 3 and T 3) is a combination of specific example AT-43, hydroxyl groups represented by Z 1 (I.e., a dicarboxylic acid monomer corresponding to the specific example AT-43).
Further, as the compound B-2, is represented by the general formula (4B), the combination Y (i.e., O-Y 3 -O, n3 , and combinations Y 4) is a combination of specific example Y-2, Z 2 A non-charge-transporting diol monomer (product name: Blemmer GLM, manufactured by NOF Corporation) in which the group represented by is a hydroxyl group was prepared.
In a flask, 7.75 g (0.009 mol) of compound A-43 (molecular weight 861.03), 1.59 g (0.0099 mol) of compound B-2 (molecular weight 160.17), and 4-dimethylaminopyridine (molecular weight 122. 17) 2.25 g (0.0184 mol), 50 ml of tetrahydrofuran and 15 ml of N-methylpyrrolidone were added, and the mixture was cooled to 0 ° C while stirring under a nitrogen stream. Thereto, 3.07 g (0.0198 mol) of 1- [3- (dimethylamino) propyl] -3-ethylcarbodiimide (molecular weight 155.24) was added, and the reaction temperature was gradually returned to room temperature (25 ° C). Stir for 7 hours. Thereafter, the reaction solution was dropped into water to cause re-precipitation, and neutralized by further adding dilute hydrochloric acid. The solid collected by filtration was washed by stirring in 100 ml of methanol. The solid collected by filtration was vacuum-dried to obtain 7.23 g of resin B-20 (resin B-20 shown as a specific example of the second charge-transporting polyester resin). When the molecular weight of the resin B-20 was measured by GPC, the weight average molecular weight in terms of polystyrene was 14,000.
<合成例B8>
2Lフラスコに、3−エチル−3−オキセタンメタノール(分子量116.16)116.16g(1.0mol)、メタクリル酸(分子量86.06)86.06g(1.0mol)、テトラブチルアンモニウムクロリド(分子量277.92)27.79g(0.1mol)、ニトロベンゼン(分子量123.06)1.23g(0.01mol)、及びメチルエチルケトン700mlを加えて、窒素気流下で7時間加熱還流した。反応後、水で洗浄し、濃縮後、シリカゲルクロマトにて精製し、化合物B−23(分子量214.26)143.55gを得た。
上記化合物B−23は、一般式(4B)で表され、組み合わせY(すなわち、O−Y3−O、n3、及びY4の組み合わせ)が具体例Y−23の組み合わせであり、Z2で示される基が水酸基である非電荷輸送性のジオールモノマーである。
<Synthesis example B8>
In a 2 L flask, 116.16 g (1.0 mol) of 3-ethyl-3-oxetanemethanol (molecular weight 116.16), 86.06 g (1.0 mol) of methacrylic acid (molecular weight 86.06), tetrabutylammonium chloride (molecular weight) 27.92 g (0.1 mol), 1.23 g (0.01 mol) of nitrobenzene (molecular weight 123.06), and 700 ml of methyl ethyl ketone were added, and the mixture was heated and refluxed for 7 hours under a nitrogen stream. After the reaction, the mixture was washed with water, concentrated, and purified by silica gel chromatography to obtain 143.55 g of a compound B-23 (molecular weight: 214.26).
The compound B-23 is represented by the general formula (4B), and the combination Y (that is, the combination of O—Y 3 —O, n3, and Y 4 ) is a combination of the specific examples Y-23, and Z 2 is A non-charge-transporting diol monomer in which the group shown is a hydroxyl group.
化合物A−43として、一般式(3B)で表され、かつ、組み合わせAT(すなわち、A3とT3との組み合わせ)が具体例AT−43の組み合わせであり、Z1で示される基が水酸基である電荷輸送性モノマー(すなわち、具体例AT−43に相当するジカルボン酸モノマー)を準備した。
フラスコに、化合物A−43(分子量861.03)7.75g(0.009mol)、化合物B−23(分子量214.26)2.12g(0.0099mol)、4−ジメチルアミノピリジン(分子量122.17)2.25g(0.0184mol)、テトラヒドロフラン50ml、及びN−メチルピロリドン15mlを加え、窒素気流下で撹拌しながら0℃に冷却した。そこへ、1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイミド(分子量155.24)3.07g(0.0198mol)を添加し、徐々に反応温度を室温(25℃)まで戻し、7時間撹拌した。その後、反応溶液を水に滴下して再沈させ、さらに希塩酸を加えて中和した。ろ過で採取した固体をメタノール100ml中で撹拌して洗浄した。ろ過で採取した固体を真空乾燥し、樹脂B−21(第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の具体例として示した樹脂B−21)を7.02g得た。GPCで樹脂B−21の分子量を測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は16000であった。
As Compound A-43, represented by the general formula (3B), and the combination AT (i.e., the combination of A 3 and T 3) is a combination of specific example AT-43, hydroxyl groups represented by Z 1 (I.e., a dicarboxylic acid monomer corresponding to the specific example AT-43).
7.75 g (0.009 mol) of compound A-43 (molecular weight 861.03), 2.12 g (0.0099 mol) of compound B-23 (molecular weight 214.26), and 4-dimethylaminopyridine (molecular weight 122. 17) 2.25 g (0.0184 mol), 50 ml of tetrahydrofuran and 15 ml of N-methylpyrrolidone were added, and the mixture was cooled to 0 ° C. while stirring under a nitrogen stream. Thereto, 3.07 g (0.0198 mol) of 1- [3- (dimethylamino) propyl] -3-ethylcarbodiimide (molecular weight 155.24) was added, and the reaction temperature was gradually returned to room temperature (25 ° C). Stir for 7 hours. Thereafter, the reaction solution was dropped into water to cause re-precipitation, and neutralized by further adding dilute hydrochloric acid. The solid collected by filtration was washed by stirring in 100 ml of methanol. The solid collected by filtration was dried under vacuum to obtain 7.02 g of resin B-21 (resin B-21 shown as a specific example of the second charge-transporting polyester resin). When the molecular weight of the resin B-21 was measured by GPC, the weight average molecular weight in terms of polystyrene was 16,000.
<合成例B9>
2Lフラスコに、1,5−ヘキサジエンジエポキシド(分子量114.14)114.14g(1.0mol)、メタクリル酸(分子量86.06)172.12g(2.0mol)、テトラブチルアンモニウムクロリド(分子量277.92)27.79g(0.1mol)、ニトロベンゼン(分子量123.06)1.23g(0.01mol)、及びメチルエチルケトン700mlを加えて、窒素気流下で7時間加熱還流した。反応後、水で洗浄し、濃縮後、シリカゲルクロマトにて精製し、化合物B−30(分子量314.37)198.05gを得た。
上記化合物B−30は、一般式(4B)で表され、組み合わせY(すなわち、O−Y3−O、n3、及びY4の組み合わせ)が具体例Y−30の組み合わせであり、Z2で示される基が水酸基である非電荷輸送性のジオールモノマーである。
<Synthesis example B9>
In a 2 L flask, 114.14 g (1.0 mol) of 1,5-hexadiene diepoxide (molecular weight 114.14), 172.12 g (2.0 mol) of methacrylic acid (molecular weight 86.06), tetrabutylammonium chloride (molecular weight 277) .92), 27.79 g (0.1 mol), 1.23 g (0.01 mol) of nitrobenzene (molecular weight 123.06) and 700 ml of methyl ethyl ketone were added, and the mixture was heated and refluxed for 7 hours under a nitrogen stream. After the reaction, the mixture was washed with water, concentrated, and purified by silica gel chromatography to obtain 198.05 g of a compound B-30 (molecular weight: 314.37).
The compound B-30 is represented by the general formula (4B), the combination Y (i.e., O-Y 3 -O, n3 , a combination of and Y 4) is a combination of specific example Y-30, with Z 2 A non-charge-transporting diol monomer in which the group shown is a hydroxyl group.
化合物A−43として、一般式(3B)で表され、かつ、組み合わせAT(すなわち、A3とT3との組み合わせ)が具体例AT−43の組み合わせであり、Z1で示される基が水酸基である電荷輸送性モノマー(すなわち、具体例AT−43に相当するジカルボン酸モノマー)を準備した。
フラスコに、化合物A−43(分子量861.03)7.75g(0.009mol)、前記合成例で得られた化合物B−30(分子量314.37)3.11g(0.0099mol)、4−ジメチルアミノピリジン(分子量122.17)2.25g(0.0184mol)、テトラヒドロフラン50ml、及びN−メチルピロリドン15mlを加え、窒素気流下で撹拌しながら0℃に冷却した。そこへ、1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイミド(分子量155.24)3.07g(0.0198mol)を添加し、徐々に反応温度を室温(25℃)まで戻し、7時間撹拌した。その後、反応溶液を水に滴下して再沈させ、さらに希塩酸を加えて中和した。ろ過で採取した固体をメタノール100ml中で撹拌して洗浄した。ろ過で採取した固体を真空乾燥し、樹脂B−24(第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の具体例として示した樹脂B−24)を7.46g得た。GPCで樹脂B−24の分子量を測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は14000であった。
As Compound A-43, represented by the general formula (3B), and the combination AT (i.e., the combination of A 3 and T 3) is a combination of specific example AT-43, hydroxyl groups represented by Z 1 (I.e., a dicarboxylic acid monomer corresponding to the specific example AT-43).
7.75 g (0.009 mol) of compound A-43 (molecular weight 861.03), 3.11 g (0.0099 mol) of compound B-30 (molecular weight 314.37) obtained in the above Synthesis Example, 2.25 g (0.0184 mol) of dimethylaminopyridine (molecular weight 122.17), 50 ml of tetrahydrofuran, and 15 ml of N-methylpyrrolidone were added, and the mixture was cooled to 0 ° C while stirring under a nitrogen stream. Thereto, 3.07 g (0.0198 mol) of 1- [3- (dimethylamino) propyl] -3-ethylcarbodiimide (molecular weight 155.24) was added, and the reaction temperature was gradually returned to room temperature (25 ° C). Stir for 7 hours. Thereafter, the reaction solution was dropped into water to cause re-precipitation, and neutralized by further adding dilute hydrochloric acid. The solid collected by filtration was washed by stirring in 100 ml of methanol. The solid collected by filtration was vacuum-dried to obtain 7.46 g of resin B-24 (resin B-24 shown as a specific example of the second charge-transporting polyester resin). When the molecular weight of the resin B-24 was measured by GPC, the weight average molecular weight in terms of polystyrene was 14,000.
<合成例B10>
化合物A−47として、一般式(3B)で表され、かつ、組み合わせAT(すなわち、A3とT3との組み合わせ)が具体例AT−47の組み合わせであり、Z1で示される基が水酸基である電荷輸送性モノマー(すなわち、具体例AT−47に相当するジカルボン酸モノマー)を準備した。
また、化合物B−41として、一般式(4B)で表され、組み合わせY(すなわち、O−Y3−O、n3、及びY4の組み合わせ)が具体例Y−41の組み合わせであり、Z2で示される基が水酸基である非電荷輸送性のジオールモノマー(品名:エポキシエステル70PA、共栄社化学製)を準備した。
フラスコに、化合物A−47(分子量764.95)6.88g(0.009mol)、化合物B−41(分子量360.40)3.57g(0.0099mol)、4−ジメチルアミノピリジン(分子量122.17)2.25g(0.0184mol)、テトラヒドロフラン50ml、及びN−メチルピロリドン15mlを加え、窒素気流下で撹拌しながら0℃に冷却した。そこへ、1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイミド(分子量155.24)3.07g(0.0198mol)を添加し、徐々に反応温度を室温(25℃)まで戻し、10時間撹拌した。その後、反応溶液を水に滴下して再沈させ、さらに希塩酸を加えて中和した。ろ過で採取した固体をメタノール200ml中で撹拌して洗浄した。ろ過で採取した固体を真空乾燥し、樹脂B−26(第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の具体例として示した樹脂B−26)を8.65g得た。GPCで樹脂B−26の分子量を測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は14000であった。
<Synthesis example B10>
As Compound A-47, represented by the general formula (3B), and the combination AT (i.e., the combination of A 3 and T 3) is a combination of specific example AT-47, hydroxyl groups represented by Z 1 (I.e., a dicarboxylic acid monomer corresponding to the specific example AT-47).
The compound B-41 is represented by the general formula (4B), and the combination Y (that is, the combination of OY 3 —O, n3, and Y 4 ) is a combination of the specific examples Y-41, and Z 2 A non-charge-transporting diol monomer (product name: epoxy ester 70PA, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) in which the group represented by is a hydroxyl group was prepared.
In a flask, 6.88 g (0.009 mol) of compound A-47 (molecular weight 764.95), 3.57 g (0.0099 mol) of compound B-41 (molecular weight 360.40), and 4-dimethylaminopyridine (molecular weight 122. 17) 2.25 g (0.0184 mol), 50 ml of tetrahydrofuran and 15 ml of N-methylpyrrolidone were added, and the mixture was cooled to 0 ° C while stirring under a nitrogen stream. Thereto, 3.07 g (0.0198 mol) of 1- [3- (dimethylamino) propyl] -3-ethylcarbodiimide (molecular weight 155.24) was added, and the reaction temperature was gradually returned to room temperature (25 ° C). Stirred for 10 hours. Thereafter, the reaction solution was dropped into water to cause re-precipitation, and neutralized by further adding dilute hydrochloric acid. The solid collected by filtration was washed by stirring in 200 ml of methanol. The solid collected by filtration was vacuum dried to obtain 8.65 g of a resin B-26 (resin B-26 shown as a specific example of the second charge-transporting polyester resin). When the molecular weight of the resin B-26 was measured by GPC, the weight average molecular weight in terms of polystyrene was 14,000.
<合成例B11>
2Lフラスコに、1,7−オクタジエンジエポキシド(分子量142.20)142.20g(1.0mol)、β−カルボキシエチルアクリレート(分子量144.13)288.26g(2.0mol)、テトラブチルアンモニウムクロリド(分子量277.92)27.79g(0.1mol)、ニトロベンゼン(分子量123.06)1.23g(0.01mol)、及びメチルエチルケトン700mlを加えて、窒素気流下で7時間加熱還流した。反応後、水で洗浄し、濃縮後、シリカゲルクロマトにて精製し、化合物B−39(分子量430.45)361.59gを得た。
上記化合物B−39は、一般式(4B)で表され、組み合わせY(すなわち、O−Y3−O、n3、及びY4の組み合わせ)が具体例Y−39の組み合わせであり、Z2で示される基が水酸基である非電荷輸送性のジオールモノマーである。
<Synthesis example B11>
In a 2 L flask, 142.20 g (1.0 mol) of 1,7-octadiene diepoxide (molecular weight 142.20), 288.26 g (2.0 mol) of β-carboxyethyl acrylate (molecular weight 144.13), tetrabutylammonium 27.79 g (0.1 mol) of chloride (molecular weight 277.92), 1.23 g (0.01 mol) of nitrobenzene (molecular weight 123.06), and 700 ml of methyl ethyl ketone were added, and the mixture was heated and refluxed for 7 hours under a nitrogen stream. After the reaction, the mixture was washed with water, concentrated, and purified by silica gel chromatography to obtain 361.59 g of a compound B-39 (molecular weight: 430.45).
The compound B-39 is represented by the general formula (4B), the combination Y (i.e., O-Y 3 -O, n3 , and combinations Y 4) is a combination of specific example Y-39, with Z 2 A non-charge-transporting diol monomer in which the group shown is a hydroxyl group.
化合物A−64として、一般式(3B)で表され、かつ、組み合わせAT(すなわち、A3とT3との組み合わせ)が具体例AT−64の組み合わせであり、Z1で示される基が水酸基である電荷輸送性モノマー(すなわち、具体例AT−64に相当するジカルボン酸モノマー)を準備した。
フラスコに、化合物A−64(分子量812.99)7.32g(0.009mol)、化合物B−39(分子量430.45)4.26g(0.0099mol)、4−ジメチルアミノピリジン(分子量122.17)2.25g(0.0184mol)、テトラヒドロフラン50ml、及びN−メチルピロリドン15mlを加え、窒素気流下で撹拌しながら0℃に冷却した。そこへ、1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイミド(分子量155.24)3.07g(0.0198mol)を添加し、徐々に反応温度を室温(25℃)まで戻し、14時間撹拌した。その後、反応溶液を水に滴下して再沈させ、さらに希塩酸を加えて中和した。ろ過で採取した固体をメタノール200ml中で撹拌して洗浄した。ろ過で採取した固体を真空乾燥し、樹脂B−28(第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の具体例として示した樹脂B−28)を8.65g得た。GPCで樹脂B−28の分子量を測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は29000であった。
The compound A-64 is represented by the general formula (3B), and the combination AT (that is, the combination of A 3 and T 3 ) is a combination of the specific examples AT-64, and the group represented by Z 1 is a hydroxyl group (I.e., a dicarboxylic acid monomer corresponding to the specific example AT-64).
In a flask, 7.32 g (0.009 mol) of compound A-64 (molecular weight 812.99), 4.26 g (0.0099 mol) of compound B-39 (molecular weight 430.45), and 4-dimethylaminopyridine (molecular weight 122. 17) 2.25 g (0.0184 mol), 50 ml of tetrahydrofuran and 15 ml of N-methylpyrrolidone were added, and the mixture was cooled to 0 ° C. while stirring under a nitrogen stream. Thereto, 3.07 g (0.0198 mol) of 1- [3- (dimethylamino) propyl] -3-ethylcarbodiimide (molecular weight 155.24) was added, and the reaction temperature was gradually returned to room temperature (25 ° C). Stir for 14 hours. Thereafter, the reaction solution was dropped into water to cause re-precipitation, and neutralized by further adding dilute hydrochloric acid. The solid collected by filtration was washed by stirring in 200 ml of methanol. The solid collected by filtration was vacuum dried to obtain 8.65 g of Resin B-28 (Resin B-28 shown as a specific example of the second charge-transporting polyester resin). When the molecular weight of the resin B-28 was measured by GPC, the weight average molecular weight in terms of polystyrene was 29000.
<合成例B12>
2Lフラスコに、9,9−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)フルオレン(分子量462.55)231.28g(0.5mol)、メタクリル酸(分子量86.06)86.06g(1.0mol)、テトラブチルアンモニウムクロリド(分子量277.92)13.90g(0.05mol)、ニトロベンゼン(分子量123.06)0.62g(0.005mol)、及びメチルエチルケトン700mlを加えて、窒素気流下で7時間加熱還流した。反応後、水で洗浄し、濃縮後、シリカゲルクロマトにて精製し、化合物B−60(分子量758.85)246.63gを得た。
上記化合物B−60は、一般式(4B)で表され、組み合わせY(すなわち、O−Y3−O、n3、及びY4の組み合わせ)が具体例Y−60の組み合わせであり、Z2で示される基が水酸基である非電荷輸送性のジオールモノマーである。
<Synthesis example B12>
In a 2 L flask, 23,28 g (0.5 mol) of 9,9-bis (4-glycidyloxyphenyl) fluorene (molecular weight 462.55), 86.06 g (1.0 mol) of methacrylic acid (molecular weight 86.06), 13.90 g (0.05 mol) of butylammonium chloride (molecular weight 277.92), 0.62 g (0.005 mol) of nitrobenzene (molecular weight 123.06), and 700 ml of methyl ethyl ketone were added, and the mixture was heated and refluxed for 7 hours under a nitrogen stream. . After the reaction, the reaction solution was washed with water, concentrated, and purified by silica gel chromatography to obtain 246.63 g of a compound B-60 (molecular weight: 758.85).
The compound B-60 is represented by the general formula (4B), the combination Y (i.e., O-Y 3 -O, n3 , and combinations Y 4) is a combination of specific example Y-60, with Z 2 A non-charge-transporting diol monomer in which the group shown is a hydroxyl group.
化合物A−64として、一般式(3B)で表され、かつ、組み合わせAT(すなわち、A3とT3との組み合わせ)が具体例AT−64の組み合わせであり、Z1で示される基が水酸基である電荷輸送性モノマー(すなわち、具体例AT−64に相当するジカルボン酸モノマー)を準備した。
フラスコに、化合物A−64(分子量812.99)7.32g(0.009mol)、化合物B−60(分子量758.85)7.51g(0.0099mol)、4−ジメチルアミノピリジン(分子量122.17)2.25g(0.0184mol)、テトラヒドロフラン50ml、及びN−メチルピロリドン15mlを加え、窒素気流下で撹拌しながら0℃に冷却した。そこへ、1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイミド(分子量155.24)3.07g(0.0198mol)を添加し、徐々に反応温度を室温(25℃)まで戻し、14時間撹拌した。その後、反応溶液を水に滴下して再沈させ、さらに希塩酸を加えて中和した。ろ過で採取した固体をメタノール200ml中で撹拌して洗浄した。ろ過で採取した固体を真空乾燥し、樹脂B−29(第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の具体例として示した樹脂B−29)を11.34g得た。GPCで樹脂B−29の分子量を測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は32000であった。
The compound A-64 is represented by the general formula (3B), and the combination AT (that is, the combination of A 3 and T 3 ) is a combination of the specific examples AT-64, and the group represented by Z 1 is a hydroxyl group (I.e., a dicarboxylic acid monomer corresponding to the specific example AT-64).
In a flask, 7.32 g (0.009 mol) of compound A-64 (molecular weight 812.99), 7.51 g (0.0099 mol) of compound B-60 (molecular weight 758.85), and 4-dimethylaminopyridine (molecular weight 122.99). 17) 2.25 g (0.0184 mol), 50 ml of tetrahydrofuran and 15 ml of N-methylpyrrolidone were added, and the mixture was cooled to 0 ° C. while stirring under a nitrogen stream. Thereto, 3.07 g (0.0198 mol) of 1- [3- (dimethylamino) propyl] -3-ethylcarbodiimide (molecular weight 155.24) was added, and the reaction temperature was gradually returned to room temperature (25 ° C). Stir for 14 hours. Thereafter, the reaction solution was dropped into water to cause re-precipitation, and neutralized by further adding dilute hydrochloric acid. The solid collected by filtration was washed by stirring in 200 ml of methanol. The solid collected by filtration was vacuum-dried to obtain 11.34 g of a resin B-29 (resin B-29 shown as a specific example of the second charge-transporting polyester resin). When the molecular weight of the resin B-29 was measured by GPC, the weight average molecular weight in terms of polystyrene was 32,000.
<合成例B13>
化合物A−67として、一般式(3B)で表され、かつ、組み合わせAT(すなわち、A3とT3との組み合わせ)が具体例AT−67の組み合わせであり、Z1で示される基が水酸基である電荷輸送性モノマー(すなわち、具体例AT−67に相当するジカルボン酸モノマー)を準備した。
また、化合物B−54として、一般式(4B)で表され、組み合わせY(すなわち、O−Y3−O、n3、及びY4の組み合わせ)が具体例Y−54の組み合わせであり、Z2で示される基が水酸基である非電荷輸送性のジオールモノマー(品名:エポキシエステル3000A、共栄社化学製)を準備した。
フラスコに、化合物A−67(分子量716.91)6.45g(0.009mol)、化合物B−54(分子量512.59)5.07g(0.0099mol)、4−ジメチルアミノピリジン(分子量122.17)2.25g(0.0184mol)、テトラヒドロフラン50ml、及びN−メチルピロリドン15mlを加え、窒素気流下で撹拌しながら0℃に冷却した。そこへ、1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイミド(分子量155.24)3.07g(0.0198mol)を添加し、徐々に反応温度を室温(25℃)まで戻し、14時間撹拌した。その後、反応溶液を水に滴下して再沈させ、さらに希塩酸を加えて中和した。ろ過で採取した固体をメタノール200ml中で撹拌して洗浄した。ろ過で採取した固体を真空乾燥し、樹脂B−30(第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の具体例として示した樹脂B−30)を8.50g得た。GPCで樹脂B−30の分子量を測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は26000であった。
<Synthesis example B13>
As Compound A-67, represented by the general formula (3B), and the combination AT (i.e., the combination of A 3 and T 3) is a combination of specific example AT-67, hydroxyl groups represented by Z 1 (I.e., a dicarboxylic acid monomer corresponding to the specific example AT-67).
Further, as the compound B-54, is represented by the general formula (4B), the combination Y (i.e., O-Y 3 -O, n3 , and combinations Y 4) a combination of specific example Y-54, Z 2 A non-charge-transporting diol monomer (product name: epoxy ester 3000A, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) in which the group represented by is a hydroxyl group was prepared.
In a flask, 6.45 g (0.009 mol) of compound A-67 (molecular weight 716.91), 5.07 g (0.0099 mol) of compound B-54 (molecular weight 512.59), 4-dimethylaminopyridine (molecular weight 122. 17) 2.25 g (0.0184 mol), 50 ml of tetrahydrofuran and 15 ml of N-methylpyrrolidone were added, and the mixture was cooled to 0 ° C. while stirring under a nitrogen stream. Thereto, 3.07 g (0.0198 mol) of 1- [3- (dimethylamino) propyl] -3-ethylcarbodiimide (molecular weight 155.24) was added, and the reaction temperature was gradually returned to room temperature (25 ° C). Stir for 14 hours. Thereafter, the reaction solution was dropped into water to cause re-precipitation, and neutralized by further adding dilute hydrochloric acid. The solid collected by filtration was washed by stirring in 200 ml of methanol. The solid collected by filtration was vacuum-dried to obtain 8.50 g of Resin B-30 (Resin B-30 shown as a specific example of the second charge transporting polyester resin). When the molecular weight of the resin B-30 was measured by GPC, the weight average molecular weight in terms of polystyrene was 26,000.
<合成例B14>
2Lフラスコに、3−メチル−3−オキセタンカルボン酸(分子量116.12)116.12g(1.0mol)、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(分子量91.15)93.88g(1.03mol)、及びN−メチルピロリドン700mlを加えて、室温で1時間撹拌した。その後、3−クロロ−1,2−プロパンジオール(分子量110.54)110.54g(1.0mol)を添加し、80℃で5時間反応させた。反応後、トルエンを添加して水で洗浄し、濃縮後、シリカゲルクロマトにて精製し、化合物B−61(分子量190.19)150.25gを得た。
上記化合物B−61は、一般式(4B)で表され、組み合わせY(すなわち、O−Y3−O、n3、及びY4の組み合わせ)が具体例Y−61の組み合わせであり、Z2で示される基が水酸基である非電荷輸送性のジオールモノマーである。
<Synthesis example B14>
In a 2 L flask, 116.12 g (1.0 mol) of 3-methyl-3-oxetanecarboxylic acid (molecular weight 116.12), 93.88 g (1.03 mol) of tetramethylammonium hydroxide (molecular weight 91.15), and N -Methylpyrrolidone (700 ml) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. Thereafter, 110.54 g (1.0 mol) of 3-chloro-1,2-propanediol (molecular weight 110.54) was added and reacted at 80 ° C. for 5 hours. After the reaction, toluene was added, the mixture was washed with water, concentrated, and purified by silica gel chromatography to obtain 150.25 g of a compound B-61 (molecular weight: 190.19).
The compound B-61 is represented by the general formula (4B), and the combination Y (that is, the combination of O—Y3—O, n3, and Y4) is a combination of the specific examples Y-61, and the group represented by Z2 Is a non-charge transporting diol monomer having a hydroxyl group.
化合物A−6として、一般式(3B)で表され、かつ、組み合わせAT(すなわち、A3とT3との組み合わせ)が具体例AT−6の組み合わせであり、Z1で示される基が水酸基である電荷輸送性モノマー(すなわち、具体例AT−6に相当するジカルボン酸モノマー)を準備した。 As Compound A-6, is represented by the general formula (3B), and the combination AT (i.e., the combination of A 3 and T 3) is a combination of specific example AT-6, hydroxyl groups represented by Z 1 (I.e., a dicarboxylic acid monomer corresponding to the specific example AT-6).
フラスコに、化合物A−6(分子量465.54)5.00g(0.0107mol)、化合物B−61(分子量190.19)2.24g(0.0118mol)、4−ジメチルアミノピリジン(分子量122.17)2.69g(0.0220mol)、及びテトラヒドロフラン25mlを加え、窒素気流下で撹拌しながら0℃に冷却した。そこへ、1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイミド(分子量155.24)3.67g(0.024mol)を添加し、徐々に反応温度を室温(25℃)まで戻し、4時間撹拌した。その後、反応溶液を水に滴下して再沈させ、さらに希塩酸を加えて中和した。ろ過で採取した固体をメタノール100ml中で撹拌して洗浄した。ろ過で採取した固体を真空乾燥し、樹脂B−31(第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の具体例として示した樹脂B−31)を 6.28g得た。GPCで樹脂B−31の分子量を測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は25000であった。 In a flask, 5.00 g (0.0107 mol) of compound A-6 (molecular weight 465.54), 2.24 g (0.0118 mol) of compound B-61 (molecular weight 190.19), and 4-dimethylaminopyridine (molecular weight 122. 17) 2.69 g (0.0220 mol) and 25 ml of tetrahydrofuran were added, and the mixture was cooled to 0 ° C. while stirring under a nitrogen stream. Thereto, 3.67 g (0.024 mol) of 1- [3- (dimethylamino) propyl] -3-ethylcarbodiimide (molecular weight 155.24) was added, and the reaction temperature was gradually returned to room temperature (25 ° C). Stir for 4 hours. Thereafter, the reaction solution was dropped into water to cause reprecipitation, and neutralized by further adding dilute hydrochloric acid. The solid collected by filtration was washed by stirring in 100 ml of methanol. The solid collected by filtration was vacuum-dried to obtain 6.28 g of Resin B-31 (Resin B-31 shown as a specific example of the second charge-transporting polyester resin). When the molecular weight of the resin B-31 was measured by GPC, the weight average molecular weight in terms of polystyrene was 25,000.
<合成例B15>
2Lフラスコに、オキシラン−2−カルボン酸(分子量88.06)88.06g(1.0mol)、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(分子量91.15)93.88g(1.03mol)、及びN−メチルピロリドン700mlを加えて、室温で1時間撹拌した。その後、3−クロロ−1,2−プロパンジオール(分子量110.54)110.54g(1.0mol)を添加し、80℃で5時間反応させた。反応後、トルエンを添加して水で洗浄し、濃縮後、シリカゲルクロマトにて精製し、化合物B−62(分子量162.14)110.26gを得た。
上記化合物B−62は、一般式(4B)で表され、組み合わせY(すなわち、O−Y3−O、n3、及びY4の組み合わせ)が具体例Y−62の組み合わせであり、Z2で示される基が水酸基である非電荷輸送性のジオールモノマーである。
<Synthesis example B15>
In a 2 L flask, 88.06 g (1.0 mol) of oxirane-2-carboxylic acid (molecular weight 88.06), 93.88 g (1.03 mol) of tetramethylammonium hydroxide (molecular weight 91.15), and N-methylpyrrolidone 700 ml was added and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. Thereafter, 110.54 g (1.0 mol) of 3-chloro-1,2-propanediol (molecular weight 110.54) was added and reacted at 80 ° C. for 5 hours. After the reaction, toluene was added, the mixture was washed with water, concentrated, and purified by silica gel chromatography to obtain 110.26 g of a compound B-62 (molecular weight: 162.14).
The compound B-62 is represented by a general formula (4B), wherein the combination Y (that is, the combination of O—Y3—O, n3, and Y4) is a combination of the specific examples Y-62, and the group represented by Z2 Is a non-charge transporting diol monomer having a hydroxyl group.
化合物A−18として、一般式(3B)で表され、かつ、組み合わせAT(すなわち、A3とT3との組み合わせ)が具体例AT−18の組み合わせであり、Z1で示される基が水酸基である電荷輸送性モノマー(すなわち、具体例AT−18に相当するジカルボン酸モノマー)を準備した。 The compound A-18 is represented by the general formula (3B), the combination AT (that is, the combination of A3 and T3) is a combination of the specific examples AT-18, and the group represented by Z1 is a hydroxyl group. A transportable monomer (that is, a dicarboxylic acid monomer corresponding to the specific example AT-18) was prepared.
フラスコに、化合物A−18(分子量784.94)6.65g(0.0085mol)、化合物B−62(分子量162.14)1.44g(0.0089mol)、4−ジメチルアミノピリジン(分子量122.17)2.12g(0.0174mol)、テトラヒドロフラン50ml、及びN−メチルピロリドン15mlを加え、窒素気流下で撹拌しながら0℃に冷却した。そこへ、1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイミド(分子量155.24)2.89g(0.0186mol)を添加し、徐々に反応温度を室温(25℃)まで戻し、7時間撹拌した。その後、反応溶液を水に滴下して再沈させ、さらに希塩酸を加えて中和した。ろ過で採取した固体をメタノール100ml中で撹拌して洗浄した。ろ過で採取した固体を真空乾燥し、樹脂B−32(第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂の具体例として示した樹脂B−32)を6.63g得た。GPCで樹脂B−32の分子量を測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は15000であった。 In a flask, 6.65 g (0.0085 mol) of compound A-18 (molecular weight 784.94), 1.44 g (0.0089 mol) of compound B-62 (molecular weight 162.14), and 4-dimethylaminopyridine (molecular weight 122.14). 17) 2.12 g (0.0174 mol), 50 ml of tetrahydrofuran and 15 ml of N-methylpyrrolidone were added, and the mixture was cooled to 0 ° C while stirring under a nitrogen stream. Thereto, 2.89 g (0.0186 mol) of 1- [3- (dimethylamino) propyl] -3-ethylcarbodiimide (molecular weight 155.24) was added, and the reaction temperature was gradually returned to room temperature (25 ° C.). Stir for 7 hours. Thereafter, the reaction solution was dropped into water to cause reprecipitation, and neutralized by further adding dilute hydrochloric acid. The solid collected by filtration was washed by stirring in 100 ml of methanol. The solid collected by filtration was vacuum-dried to obtain 6.63 g of Resin B-32 (Resin B-32 shown as a specific example of the second charge transporting polyester resin). When the molecular weight of the resin B-32 was measured by GPC, the weight average molecular weight in terms of polystyrene was 15,000.
<実施例A1−1>
−下引層の作製−
酸化亜鉛(平均粒子径70nm:テイカ社製:比表面積値15m2/g)100部をテトラヒドロフラン500部と攪拌混合し、シランカップリング剤(KBM503:信越化学工業社製)1.3部を添加し、2時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、120℃で3時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛を得た。
前記表面処理を施した酸化亜鉛110部を500部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、アリザリン1.0部を50部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、50℃にて5時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛を濾別し、さらに60℃で減圧乾燥を行い、アリザリン付与酸化亜鉛を得た。
<Example A1-1>
-Preparation of undercoat layer-
100 parts of zinc oxide (average particle diameter: 70 nm, manufactured by Teica: specific surface area: 15 m 2 / g) is stirred and mixed with 500 parts of tetrahydrofuran, and 1.3 parts of a silane coupling agent (KBM503: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) is added. And stirred for 2 hours. Thereafter, the toluene was distilled off under reduced pressure and baked at 120 ° C. for 3 hours to obtain a silane coupling agent surface-treated zinc oxide.
110 parts of the surface-treated zinc oxide was mixed with 500 parts of tetrahydrofuran with stirring, a solution of 1.0 part of alizarin dissolved in 50 parts of tetrahydrofuran was added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 5 hours. Thereafter, the zinc oxide to which alizarin had been applied was filtered off under reduced pressure, and further dried at 60 ° C. under reduced pressure to obtain alizarin-added zinc oxide.
このアリザリン付与酸化亜鉛60部と硬化剤(ブロック化イソシアネート、スミジュール3175、住友バイエルンウレタン社製)13.5部とブチラール樹脂(エスレックBM−1、積水化学工業製)15部とをメチルエチルケトン85部に溶解した溶液38部と、メチルエチルケトン25部と、を混合し1mmφのガラスビーズを用いてサンドミルにて2時間の分散を行い分散液を得た。
得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート0.005部、シリコーン樹脂粒子(トスパール145、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製)45部を添加し、下引層用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて、直径30mm、長さ340mm、肉厚1mmのアルミニウム基材上に塗布し、170℃、40分の乾燥硬化を行い厚さ18μmの下引層を得た。
85 parts of methyl ethyl ketone was obtained by mixing 60 parts of this alizarin-added zinc oxide, 13.5 parts of a curing agent (blocked isocyanate, Sumidur 3175, manufactured by Sumitomo Bayern Urethane Co., Ltd.) and 15 parts of a butyral resin (Eslec BM-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.). Was mixed with 25 parts of methyl ethyl ketone and dispersed in a sand mill using 1 mmφ glass beads for 2 hours to obtain a dispersion.
0.005 parts of dioctyltin dilaurate as a catalyst and 45 parts of silicone resin particles (Tospearl 145, manufactured by Momentive Performance Materials) were added to the resulting dispersion to obtain a coating liquid for an undercoat layer. This coating solution was applied on an aluminum substrate having a diameter of 30 mm, a length of 340 mm and a thickness of 1 mm by a dip coating method, and dried and cured at 170 ° C. for 40 minutes to obtain an undercoat layer having a thickness of 18 μm.
−電荷発生層の作製−
電荷発生物質としてのCukα特性X線を用いたX線回折スペクトルのブラッグ角度(2θ±0.2°)が少なくとも7.3゜、16.0゜,24.9゜、28.0゜の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン15部、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂(VMCH、株式会社NUC製)10部、n−酢酸ブチル200部からなる混合物を、直径1mmφのガラスビーズを用いてサンドミルにて4時間分散した。得られた分散液にn−酢酸ブチル175部、メチルエチルケトン180部を添加し、攪拌して電荷発生層用塗布液を得た。この電荷発生層用塗布液を、前記下引層上に浸漬塗布し、常温(20℃)で乾燥して、膜厚が0.2μmの電荷発生層を形成した。
-Preparation of charge generation layer-
Positions where the Bragg angles (2θ ± 0.2 °) of the X-ray diffraction spectrum using Cukα characteristic X-rays as the charge generating substance are at least 7.3 °, 16.0 °, 24.9 °, 28.0 ° A mixture of 15 parts of hydroxygallium phthalocyanine having a diffraction peak, 10 parts of a vinyl chloride / vinyl acetate copolymer resin (VMCH, manufactured by NUC Co., Ltd.) as a binder resin, and 200 parts of n-butyl acetate was used. The mixture was dispersed in a sand mill using glass beads for 4 hours. 175 parts of n-butyl acetate and 180 parts of methyl ethyl ketone were added to the obtained dispersion and stirred to obtain a charge generating layer coating liquid. This coating solution for a charge generation layer was applied onto the undercoat layer by dip coating, and dried at normal temperature (20 ° C.) to form a charge generation layer having a thickness of 0.2 μm.
−電荷輸送層の作製−
合成例A2で得られた樹脂(A−2)10部、OTazo−15(大塚化学社製、分子量354.4)0.2部をクロロベンゼン40部に加えて溶解し、電荷輸送層用塗布液を得た。この塗布液を突き上げコートにて前記電荷発生層上に塗布し、室温(20℃)で30分風乾した後、酸素濃度200ppmの窒素下で室温(20℃)から10℃/分の速度で150℃まで昇温し、150℃で1時間加熱処理して硬化させ、膜厚18μmの電荷輸送層を形成して実施例A1−1の電子写真感光体を作製した。
-Preparation of charge transport layer-
10 parts of the resin (A-2) obtained in Synthesis Example A2 and 0.2 part of OTazo-15 (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd., molecular weight 354.4) were added to 40 parts of chlorobenzene and dissolved, and the coating solution for the charge transport layer was dissolved. I got This coating solution was applied on the charge generation layer by push-up coating, air-dried at room temperature (20 ° C.) for 30 minutes, and then heated from room temperature (20 ° C.) at a rate of 10 ° C./min. The mixture was heated to 150 ° C., cured by heating at 150 ° C. for 1 hour, and a charge transport layer having a thickness of 18 μm was formed to produce an electrophotographic photosensitive member of Example A1-1.
−画質の評価−
上述のようにして作製した電子写真感光体を富士ゼロックス社製、ApeosPort−IV C4470に装着し、低温低湿(8℃、20%RH)及び高温高湿(30℃、85%RH)のそれぞれにおいて、以下の評価を連続して行なった。
-Evaluation of image quality-
The electrophotographic photoreceptor produced as described above was mounted on ApeosPort-IV C4470 manufactured by Fuji Xerox Co., Ltd., and was subjected to low temperature and low humidity (8 ° C., 20% RH) and high temperature and high humidity (30 ° C., 85% RH), respectively. The following evaluation was continuously performed.
まず低温低湿(8℃、20%RH)環境下で10000枚の画像形成テストを行い、10000枚目の画質評価(すなわち、下記ゴースト、カブリ、スジ、及び画像流れ)を実施した。次いで、低温低湿(8℃、20%RH)環境下で24時間放置した後の最初の1枚目の画質についてさらに画質評価を行った。
その結果を表2に示す。
First, an image formation test was performed on 10,000 sheets in a low-temperature and low-humidity (8 ° C., 20% RH) environment, and the image quality evaluation of the 10,000th sheet (that is, ghost, fog, streak, and image deletion described below) was performed. Next, the image quality of the first sheet after left for 24 hours in a low temperature and low humidity (8 ° C., 20% RH) environment was further evaluated.
Table 2 shows the results.
この低温低湿環境下での画質評価に続いて、高温高湿(30℃、85%RH)の環境下にて10000枚の画像形成テストを行い、10000枚目の画質評価を実施した。次いで、高温高湿(30℃、85%RH)環境下で24時間放置した後の最初の1枚目の画質についてさらに画質評価を行った。
その結果を表3に示す。
Subsequent to the image quality evaluation under the low-temperature and low-humidity environment, an image forming test was performed on 10,000 sheets in an environment of high temperature and high humidity (30 ° C., 85% RH), and the image quality of the 10,000th sheet was evaluated. Next, the image quality of the first image after left for 24 hours in a high temperature and high humidity (30 ° C., 85% RH) environment was further evaluated.
Table 3 shows the results.
(ゴースト評価)
ゴーストは、図6(A)に示したGと画像濃度50%の灰色領域を有するパターンのチャートをプリントし、50%の灰色部分にGの文字の現れ具合を目視にて評価した。
A:図6(A)のように良好又は軽微である。
B:図6(B)のようにやや目立つ。
C:図6(C)のようにはっきり確認される。
(Ghost evaluation)
The ghost printed a chart of G and a pattern having a gray area with an image density of 50% shown in FIG. 6A, and visually evaluated the appearance of the letter G in the 50% gray area.
A: Good or slight as shown in FIG.
B: Somewhat noticeable as shown in FIG.
C: It is clearly confirmed as shown in FIG.
(カブリ評価)
カブリ評価は上述のゴースト評価と同じサンプルを用いて白地部のトナーの付着した度合いを目視にて観察し判断した。
A:良好。
B:うっすらとカブリあり。
C:画質上問題となるカブリあり。
(Fog evaluation)
The fog evaluation was performed by visually observing the degree of adhesion of the toner on the white background using the same sample as the above-mentioned ghost evaluation.
A: Good.
B: There is slight fog.
C: There is fog which is a problem in image quality.
(スジ評価)
スジ評価は上述のゴースト評価と同じサンプルを用いて目視にて判断した。
A:良好。
B:部分的にスジの発生あり。
C:画質上問題となるスジ発生。
(Streak evaluation)
The streak evaluation was visually determined using the same sample as the ghost evaluation described above.
A: Good.
B: Streaks are partially generated.
C: Streak which causes a problem in image quality.
(画像流れ評価)
画像流れは上述のゴースト評価と同じサンプルを用いて目視にて判断した。
A:良好。
B:連続的にプリントテストしている時は問題ないが、1日(24時間)放置後に発生。
C:連続的にプリントテストしている時にも発生。
(Image deletion evaluation)
The image deletion was visually determined using the same sample as the ghost evaluation described above.
A: Good.
B: No problem during continuous print test, but occurred after standing for one day (24 hours).
C: Also occurs during a continuous print test.
−残留電位の上昇分の評価−
以下の方法により、残留電位を測定し、画像形成テスト前後での残留電位の上昇分評価を行った。具体的には、富士ゼロックス社製、ApeosPort−IV C4470改造機に電位センサーを取り付け、低温低湿(8℃、20%RH)下で画像形成テスト前の電位(初期の電位)の測定を行った。ついで、低温低湿(8℃、20%RH)下で1万枚のプリントテストを行った後に、同様にして低温低湿(8℃、20%RH)下で電子写真感光体表面の残留電位(1万枚後の残留電位)の測定を行った。初期の電位と1万枚後の残留電位との差(1万枚後の残留電位−初期の電位)を「残留電位の上昇分」とした。結果を表2に示す。
−Evaluation of rise in residual potential−
The residual potential was measured by the following method, and the increase in the residual potential before and after the image forming test was evaluated. Specifically, a potential sensor was attached to a modified ApeosPort-IV C4470 manufactured by Fuji Xerox Co., and the potential (initial potential) before the image formation test was measured under low temperature and low humidity (8 ° C., 20% RH). . Then, after performing a print test of 10,000 sheets under low temperature and low humidity (8 ° C., 20% RH), the residual potential (1) on the surface of the electrophotographic photoreceptor was similarly similarly low temperature and low humidity (8 ° C., 20% RH). (Residual potential after 10,000 sheets) was measured. The difference between the initial potential and the residual potential after 10,000 copies (the residual potential after 10,000 copies minus the initial potential) was defined as “the rise in the residual potential”. Table 2 shows the results.
−電荷輸送層の磨耗量の評価−
画像形成テストを行う前の初期の感光体膜厚(すなわち、下引層、電荷発生層、及び電荷輸送層の合計膜厚)と、前述した低温低湿(8℃、20%RH)環境下及び高温高湿(30℃、85%RH)環境下での画像形成テストを終了した後の感光体膜厚と、を渦電流測定装置(フィッシャースコープMMS)にて測定し、磨耗量を評価した。結果を表2に示す。
-Evaluation of the amount of wear of the charge transport layer-
The initial photoreceptor film thickness before performing the image forming test (that is, the total film thickness of the undercoat layer, the charge generation layer, and the charge transport layer) and the low temperature and low humidity (8 ° C., 20% RH) environment and The photoreceptor film thickness after completion of the image formation test in a high temperature and high humidity (30 ° C., 85% RH) environment was measured with an eddy current measuring device (Fisher scope MMS) to evaluate the amount of abrasion. Table 2 shows the results.
<実施例A1−2〜A1−7>
電荷発生層の作製までは、実施例A1−1に記載の方法により行った。
ついで、電荷輸送層の作製において、樹脂(A−2)の代わりに表1に示す第1の電荷輸送性樹脂を用いた以外は、実施例A1−1と同様にして、電子写真感光体を作製し、評価した。評価結果を表2及び表3に示す。
<Examples A1-2 to A1-7>
Preparation of the charge generation layer was performed by the method described in Example A1-1.
Then, in the preparation of the charge transport layer, an electrophotographic photoreceptor was prepared in the same manner as in Example A1-1, except that the first charge transport resin shown in Table 1 was used instead of the resin (A-2). Fabricated and evaluated. The evaluation results are shown in Tables 2 and 3.
<実施例A1−8>
樹脂(A−2)を樹脂(A−1)に代え、電荷輸送層の作製においてOTazo−15(大塚化学社製、分子量354.4)0.2部を加えなかった以外は、実施例A1−1と同様にして電子写真感光体を作製し、評価した。評価結果を表2及び表3に示す。
<Example A1-8>
Example A1 except that the resin (A-2) was replaced with the resin (A-1) and 0.2 parts of OTazo-15 (manufactured by Otsuka Chemical Co., molecular weight 354.4) was not added in the preparation of the charge transport layer. An electrophotographic photosensitive member was prepared and evaluated in the same manner as in Example-1. The evaluation results are shown in Tables 2 and 3.
<実施例A1−9〜A1−10>
電荷発生層の作製までは、実施例A1−1に記載の方法により行った。
ついで、電荷輸送層の作製において、樹脂(A−2)の代わりに表1に示す第1の電荷輸送性樹脂を用い、OTazo−15(大塚化学社製、分子量354.4)0.2部に代えて三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体0.05部を用いた以外は、実施例A1−1と同様にして電子写真感光体を作製し、評価した。評価結果を表2及び表3に示す。
<Examples A1-9 to A1-10>
Preparation of the charge generation layer was performed by the method described in Example A1-1.
Then, in the preparation of the charge transport layer, the first charge transport resin shown in Table 1 was used in place of the resin (A-2), and 0.2 parts of OTazo-15 (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd., molecular weight 354.4) was used. An electrophotographic photoreceptor was prepared and evaluated in the same manner as in Example A1-1, except that 0.05 parts of boron trifluoride diethyl ether complex was used in place of the above. The evaluation results are shown in Tables 2 and 3.
<実施例A1−11>
電荷発生層の作製までは、実施例A1−1に記載の方法により行った。
ついで、合成例A4で得られた樹脂(A−4)10部、トリメチロールプロパントリアクリレート(A−TMPT、新中村化学社製)2部、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(イルガキュア184、BASF製)0.2部をモノクロロベンゼン40部に溶解し、得られた溶解液を突き上げコートにて電荷輸送層上に塗布した。室温(20℃)で30分風乾した後、メタルハライドランプ:160W/cm、照射距離:120mm、照射強度:500mW/cm2、照射時間:60秒の条件で酸素濃度200ppmの窒素下で光照射を行ない、塗布膜を硬化させた。更に130℃で20分乾燥を加え膜厚17μmの表面層を形成して電子写真感光体を作製し、実施例A1−1に記載の方法により評価を行った。評価結果を表2及び表3に示す。
<Example A1-11>
Preparation of the charge generation layer was performed by the method described in Example A1-1.
Then, 10 parts of the resin (A-4) obtained in Synthesis Example A4, 2 parts of trimethylolpropane triacrylate (A-TMPT, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Irgacure 184, 0.2 part (manufactured by BASF) was dissolved in 40 parts of monochlorobenzene, and the obtained solution was applied on the charge transport layer by push-up coating. After air-drying at room temperature (20 ° C.) for 30 minutes, light irradiation was performed under nitrogen with a 200 ppm oxygen concentration under the conditions of a metal halide lamp: 160 W / cm, irradiation distance: 120 mm, irradiation intensity: 500 mW / cm 2 , irradiation time: 60 seconds. Then, the coating film was cured. Further, drying was performed at 130 ° C. for 20 minutes to form a surface layer having a film thickness of 17 μm to produce an electrophotographic photosensitive member, which was evaluated by the method described in Example A1-1. The evaluation results are shown in Tables 2 and 3.
<実施例A1−12>
電荷発生層の作製までは、実施例A1−1に記載の方法により行った。
ついで、合成例A7で得られた樹脂(A−7)10部、下記構造式(G)で示される化合物2部、OTazo−15(大塚化学社製、分子量354.4)0.2部をモノクロロベンゼン40部に溶解し、得られた溶解液を突き上げコートにて電荷輸送層上に塗布した。室温(20℃)で30分風乾した後、酸素濃度200ppmの窒素下で室温(20℃)から10℃/分の速度で150℃まで昇温し、150℃で1時間加熱処理して硬化させ、膜厚18μmの電荷輸送層を形成して電子写真感光体を作製し、実施例A1−1に記載の方法により評価を行った。評価結果を表2及び表3に示す。
<Example A1-12>
Preparation of the charge generation layer was performed by the method described in Example A1-1.
Then, 10 parts of the resin (A-7) obtained in Synthesis Example A7, 2 parts of the compound represented by the following structural formula (G), and 0.2 parts of OTazo-15 (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd., molecular weight 354.4) were added. The solution was dissolved in 40 parts of monochlorobenzene, and the obtained solution was applied on the charge transport layer by push-up coating. After air-drying at room temperature (20 ° C.) for 30 minutes, the temperature was raised from room temperature (20 ° C.) to 150 ° C. at a rate of 10 ° C./min under nitrogen with an oxygen concentration of 200 ppm, and heat-treated at 150 ° C. for 1 hour to cure. A charge transport layer having a thickness of 18 μm was formed to produce an electrophotographic photoreceptor, which was evaluated by the method described in Example A1-1. The evaluation results are shown in Tables 2 and 3.
<実施例A1−13>
電荷発生層の作製までは、実施例A1−1に記載の方法により行った。
ついで、合成例A2で得られた樹脂(A−2)10部、ポリテトラフルオロエチレン微粒子(ルブロンL−2、ダイキン工業社製)0.8部をモノクロロベンゼン40部に溶解し、ナノマイザー(NM2−L200AR−D08、ナノマイザー社製)にて分散したのち、OTazo−15(大塚化学社製、分子量354.4)0.2部を加えて溶解させ、得られた溶解液を突き上げコートにて電荷輸送層上に塗布した。室温(20℃)で30分風乾した後、酸素濃度200ppmの窒素下で室温(20℃)から10℃/分の速度で150℃まで昇温し、150℃で1時間加熱処理して硬化させ、膜厚18μmの電荷輸送層を形成して電子写真感光体を作製し、実施例A1−1に記載の方法により評価を行った。評価結果を表2及び表3に示す。
<Example A1-13>
Preparation of the charge generation layer was performed by the method described in Example A1-1.
Next, 10 parts of the resin (A-2) obtained in Synthesis Example A2 and 0.8 parts of polytetrafluoroethylene fine particles (Rublon L-2, manufactured by Daikin Industries, Ltd.) were dissolved in 40 parts of monochlorobenzene, and the mixture was treated with a Nanomizer (NM2). -L200AR-D08, manufactured by Nanomizer Co., Ltd., and dissolved by adding 0.2 parts of OTazo-15 (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd., molecular weight: 354.4). Coated on transport layer. After air-drying at room temperature (20 ° C.) for 30 minutes, the temperature was raised from room temperature (20 ° C.) to 150 ° C. at a rate of 10 ° C./min under nitrogen having an oxygen concentration of 200 ppm, and heat-treated at 150 ° C. for 1 hour to cure. A charge transport layer having a thickness of 18 μm was formed to produce an electrophotographic photoreceptor, which was evaluated by the method described in Example A1-1. The evaluation results are shown in Tables 2 and 3.
<実施例A1−14>
電荷発生層の作製までは、実施例A1−1に記載の方法により行った。
この電荷発生層上に、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−[1,1’]ビフェニル−4,4’−ジアミン(TPD)40質量部、N,N−ビス(3,4−ジメチルフェニル)ビフェニル−4−アミン10質量部、及びビスフェノールZポリカーボネート樹脂(PC(Z):粘度平均分子量:6万)55質量部をクロロベンゼン800質量部に加えて溶解した塗布液を塗布し、130℃、45分の乾燥を行って膜厚が15μmの電荷輸送層を形成した。
<Example A1-14>
Preparation of the charge generation layer was performed by the method described in Example A1-1.
On this charge generation layer, 40 parts by mass of N, N′-diphenyl-N, N′-bis (3-methylphenyl)-[1,1 ′] biphenyl-4,4′-diamine (TPD), 10 parts by mass of N-bis (3,4-dimethylphenyl) biphenyl-4-amine and 55 parts by mass of bisphenol Z polycarbonate resin (PC (Z): viscosity average molecular weight: 60,000) are added to 800 parts by mass of chlorobenzene and dissolved. The applied coating solution was applied and dried at 130 ° C. for 45 minutes to form a charge transport layer having a thickness of 15 μm.
−保護層の作製−
合成例A10で得られた樹脂(A−10)を10部、トリメチロールプロパントリアクリレート(A−TMPT、新中村化学社製)3部をモノクロロベンゼン20部、トルエン40部に溶解し、得られた溶解液を突き上げコートにて電荷輸送層上に塗布した。室温(20℃)で30分風乾した後、酸素濃度20ppmの窒素下で感光体を300rpmの速度で回転させながら照射距離が30mm、電子線加速電圧が90kV、電子線ビーム電流が2mA、電子線照射時間が1.0秒の条件で感光体に電子線を照射した。照射後すぐに、酸素濃度20ppmの窒素下で150℃に加熱し、10分保持して硬化反応を完結させ、膜厚4μmの保護層を形成して電子写真感光体を作製し、実施例A1−1に記載の方法により評価を行った。評価結果を表2及び表3に示す。
-Preparation of protective layer-
10 parts of the resin (A-10) obtained in Synthesis Example A10 and 3 parts of trimethylolpropane triacrylate (A-TMPT, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) were dissolved in 20 parts of monochlorobenzene and 40 parts of toluene. The dissolved solution was applied on the charge transport layer by a push-up coat. After air-drying at room temperature (20 ° C.) for 30 minutes, the irradiation distance is 30 mm, the electron beam acceleration voltage is 90 kV, the electron beam current is 2 mA, and the electron beam is rotated while rotating the photoconductor at a speed of 300 rpm under nitrogen having an oxygen concentration of 20 ppm. The photosensitive member was irradiated with an electron beam under the condition that the irradiation time was 1.0 second. Immediately after the irradiation, the film was heated to 150 ° C. under nitrogen having an oxygen concentration of 20 ppm and maintained for 10 minutes to complete the curing reaction, and a 4 μm-thick protective layer was formed to produce an electrophotographic photoreceptor. The evaluation was performed by the method described in -1. The evaluation results are shown in Tables 2 and 3.
<実施例B1−1〜B1−15>
電荷発生層の作製までは、実施例A1−1に記載の方法により行った。
ついで、電荷輸送層の作製において、樹脂(A−2)の代わりに表1に示す第2の電荷輸送性ポリエステル樹脂を用いた以外は、実施例A1−1と同様にして、電子写真感光体を作製し、評価した。評価結果を表2及び表3に示す。
<Examples B1-1 to B1-15>
Preparation of the charge generation layer was performed by the method described in Example A1-1.
Then, in the preparation of the charge transport layer, an electrophotographic photoreceptor was prepared in the same manner as in Example A1-1, except that the second charge transport polyester resin shown in Table 1 was used instead of the resin (A-2). Was prepared and evaluated. The evaluation results are shown in Tables 2 and 3.
<比較例1−1>
電荷発生層の作製までは、実施例A1−1に記載の方法により行った。
ついで、電荷輸送層の作製において、樹脂(A−2)の代わりに比較樹脂1(ポリ(9−ビニルカルバゾール)、シグマ−アルドリッチ製、数平均分子量:25000)を用いた以外は、実施例A1−1と同様にして、電子写真感光体を作製し、評価した。評価結果を表2及び表3に示す。
<Comparative Example 1-1>
Preparation of the charge generation layer was performed by the method described in Example A1-1.
Then, in the preparation of the charge transporting layer, Example A1 was used except that Comparative resin 1 (poly (9-vinylcarbazole), manufactured by Sigma-Aldrich, number average molecular weight: 25,000) was used instead of resin (A-2). In the same manner as in Example 1, an electrophotographic photosensitive member was prepared and evaluated. The evaluation results are shown in Tables 2 and 3.
<比較例1−2>
電荷発生層の作製までは、実施例A1−1に記載の方法により行った。
ついで、電荷輸送層の作製において、樹脂(A−2)の代わりに下記構造式の化合物(H)を用いた以外は、実施例A1−1と同様にして、電子写真感光体を作製し、評価した。評価結果を表2及び表3に示す。
<Comparative Example 1-2>
Preparation of the charge generation layer was performed by the method described in Example A1-1.
Next, an electrophotographic photoreceptor was prepared in the same manner as in Example A1-1, except that the compound (H) having the following structural formula was used instead of the resin (A-2) in the preparation of the charge transport layer. evaluated. The evaluation results are shown in Tables 2 and 3.
<比較例1−3>
実施例A1−14において、電荷発生層の厚みを25μmとし、保護層を形成しなかった以外は、実施例A1−14と同様にして、電子写真感光体を作製し、評価した。評価結果を表2及び表3に示す。
<Comparative Example 1-3>
An electrophotographic photosensitive member was prepared and evaluated in the same manner as in Example A1-14, except that the thickness of the charge generation layer was 25 μm and the protective layer was not formed in Example A1-14. The evaluation results are shown in Tables 2 and 3.
表2及び表3に示す結果から、実施例の電子写真感光体は、長期間に渡って繰り返し使用後における画質の低下が抑えられていることがわかる。 From the results shown in Tables 2 and 3, it can be seen that in the electrophotographic photoreceptors of the examples, deterioration in image quality after repeated use over a long period was suppressed.
<実施例A2−1>
−有機EL素子の作製−
厚さ150nmのITO膜を設けたガラス基板を、プラズマ洗浄機(サムコインターナショナル社製、BP1)を用い、酸素プラズマにて30秒間洗浄した。さらに、中性洗剤、水、アセトン(電子工業用、関東化学製)及びイソプロパノール(電子工業用、関東化学製)の順に、各液に浸して超音波を各5分間印加して洗浄した後、スピンコーターで乾燥させた。
前記樹脂(A−2)を3質量部と、OTazo−15(大塚化学、分子量354.4)0.06質量部と、をジクロロメタン97質量部に溶解した溶液を、孔径0.1μmのPTFEフィルターで濾過し塗布液を得た。塗布液を前記ガラス基板にスピンコートした。回転数は、後述する膜厚(400nm)となるように調整して行った。酸素濃度150ppmの不活性ガス雰囲気下で、160℃で1時間加熱することにより、膜厚400nm(触針膜厚計にて測定)の正孔輸送層を形成した。
<Example A2-1>
-Preparation of organic EL device-
The glass substrate provided with the 150-nm-thick ITO film was cleaned with oxygen plasma for 30 seconds using a plasma cleaning machine (BP1 manufactured by Samco International). Further, after washing with a neutral detergent, water, acetone (for electronic industry, manufactured by Kanto Chemical) and isopropanol (for electronic industry, manufactured by Kanto Chemical) in this order, ultrasonic waves were applied for 5 minutes each, and then washed. It was dried with a spin coater.
A solution prepared by dissolving 3 parts by mass of the resin (A-2) and 0.06 parts by mass of OTazo-15 (Otsuka Chemical Co., molecular weight 354.4) in 97 parts by mass of dichloromethane was used as a PTFE filter having a pore size of 0.1 μm. To obtain a coating solution. The coating solution was spin-coated on the glass substrate. The number of rotations was adjusted so as to be a film thickness (400 nm) described later. By heating at 160 ° C. for 1 hour in an inert gas atmosphere having an oxygen concentration of 150 ppm, a hole transport layer having a thickness of 400 nm (measured with a stylus thickness meter) was formed.
次に、この正孔輸送層上に、発光層の材料として、例示化合物(VI−1):トリス(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム(Alq)を50nmの厚さに真空蒸着したのち、マグネシウム・銀合金陰極を200nmの厚さに蒸着し、有機EL素子を作製した。 Next, on the hole transport layer, as a material for the light emitting layer, exemplary compound (VI-1): tris (8-hydroxyquinoline) aluminum (Alq) is vacuum-deposited to a thickness of 50 nm, and then magnesium / silver. An alloy cathode was evaporated to a thickness of 200 nm to produce an organic EL device.
−有機EL素子の性能評価−
この有機EL素子のITO電極を陽極とし、マグネシウム・銀合金電極を陰極として、直流7Vを印加して、電流密度を以下の方法により求めるとともに、輝度を以下の方法により測定した。さらに、1000時間動作後の輝度を以下の方法により測定した。その結果を表4に示す。
なお、電流密度、電圧、及び輝度は、測定装置として有機EL発光効率測定装置(東京インスツルメンツ社製)を用い、且つ測定条件を25℃に調整して測定した。また、有機EL素子は、ディスプレイ又はレーザに利用する場合には、高電流注入が必要となることから、印加電圧7Vで電流密度及び輝度を測定した。
-Performance evaluation of organic EL element-
Using an ITO electrode of the organic EL element as an anode and a magnesium / silver alloy electrode as a cathode, a current of 7 V was applied, and the current density was determined by the following method, and the luminance was measured by the following method. Further, the luminance after operation for 1000 hours was measured by the following method. Table 4 shows the results.
The current density, voltage, and luminance were measured using an organic EL luminous efficiency measuring device (manufactured by Tokyo Instruments) as a measuring device, and adjusting the measurement conditions to 25 ° C. In addition, when the organic EL element is used for a display or a laser, a high current injection is required. Therefore, the current density and the luminance were measured at an applied voltage of 7 V.
−電荷輸送性膜の可視光透過性評価−
正孔輸送層を形成した後、発光層を蒸着する前に、正孔輸送層として設けられた電荷輸送性膜の可視光透過性評価を行った。具体的には、分光光度計(U−4100、日立製作所)を用い、正孔輸送層として設けられた電荷輸送性膜における可視光域(380nm〜780nm)の平均透過率(%)を測定し、以下の基準で評価した。結果を表5に示す。
A:平均透過率が97%以上
B:平均透過率が90%以上97%未満
C:平均透過率が90%未満
-Evaluation of visible light transmittance of charge transporting film-
After forming the hole transport layer and before depositing the light emitting layer, the visible light transmittance of the charge transporting film provided as the hole transport layer was evaluated. Specifically, the average transmittance (%) in the visible light region (380 nm to 780 nm) of the charge transporting film provided as the hole transporting layer was measured using a spectrophotometer (U-4100, Hitachi, Ltd.). Was evaluated according to the following criteria. Table 5 shows the results.
A: Average transmittance is 97% or more B: Average transmittance is 90% or more and less than 97% C: Average transmittance is less than 90%
以下のようにして、電荷輸送性膜形成時における塗膜の平滑性評価を行った。具体的には、本発明の電荷輸送性膜(正孔輸送層)を作製した後、膜をカッター等で切り出し、表面形状測定装置DEKTAK6M(ULVAC社製)を用いて表面粗さRaを測定し、以下の基準で評価した。
測定条件としては、JIS B0601(1994年)に準拠し、測定長4mm、測定速度0.3mm/sec、カットオフ波長0.8mm、カットオフ種別:ガウシアンとした。結果を表5に示す。
A:Raが25未満
B:Raが25以上45未満
C:Raが45以上
The smoothness of the coating film during the formation of the charge transporting film was evaluated as follows. Specifically, after preparing the charge transporting film (hole transporting layer) of the present invention, the film is cut out with a cutter or the like, and the surface roughness Ra is measured using a surface shape measuring device DEKTAK6M (manufactured by ULVAC). Was evaluated according to the following criteria.
The measurement conditions were based on JIS B0601 (1994), and the measurement length was 4 mm, the measurement speed was 0.3 mm / sec, the cutoff wavelength was 0.8 mm, and the cutoff type was Gaussian. Table 5 shows the results.
A: Ra is less than 25 B: Ra is 25 or more and less than 45 C: Ra is 45 or more
(電荷輸送性膜の耐溶剤性評価)
正孔輸送層を形成した後、発光層を蒸着する前に、正孔輸送層として設けられた電荷輸送性膜の耐溶剤性評価を行った。具体的には、2.5cm角の測定対象の膜に対して紫外−可視吸収測定を行い、長波長側で極大値を示す波長(λmax)における吸光度(トルエン静置前吸光度)を求めた。その後、電荷輸送性膜をスピンコータの台座に置き、膜の上にトルエン2mlを載せて30秒間静置した後、200rpmで10秒間、2000rpmで20秒間スピンさせ、トルエンを除去し、再び紫外−可視吸収測定を行い、λmaxにおける吸光度(トルエン除去後吸光度)を求めた。
下記式より残膜率を算出し、下記の判断基準で膜の耐溶剤性を評価した。結果を表5に示す。
式 : 残膜率=(トルエン除去後吸光度/トルエン静置前吸光度)×100(%)
A:残膜率が95%以上
B:残膜率が90%以上95%未満
C:残膜率が90%未満
(Evaluation of solvent resistance of charge transporting film)
After forming the hole transport layer and before depositing the light emitting layer, the charge transporting film provided as the hole transport layer was evaluated for solvent resistance. Specifically, ultraviolet-visible absorption measurement was performed on a 2.5 cm square film to be measured, and the absorbance (absorbance before standing still in toluene) at a wavelength (λmax) showing a maximum value on the long wavelength side was determined. Thereafter, the charge transporting film is placed on a pedestal of a spin coater, and 2 ml of toluene is placed on the film and allowed to stand for 30 seconds. Then, the film is spun at 200 rpm for 10 seconds and at 2,000 rpm for 20 seconds to remove the toluene, and the ultraviolet-visible light is again emitted. Absorption measurement was performed to determine the absorbance at λmax (absorbance after removing toluene).
The residual film ratio was calculated from the following equation, and the solvent resistance of the film was evaluated according to the following criteria. Table 5 shows the results.
Formula: Percentage of remaining film = (absorbance after removing toluene / absorbance before standing still in toluene) × 100 (%)
A: Remaining film ratio is 95% or more B: Remaining film ratio is 90% or more and less than 95% C: Remaining film ratio is less than 90%
<実施例A2−2>
樹脂(A−2)を樹脂(A−1)に代え、正孔輸送層の作製においてOTazo−15(大塚化学社製、分子量354.4)を加えなかった以外は、実施例A2−1に記載の方法により有機EL素子の作製及び評価を行った。また、実施例A2−1に記載の方法により電荷輸送性膜の評価を行った。その結果を表4及び表5に示す。
<Example A2-2>
Example A2-1 was carried out in the same manner as in Example A2-1, except that the resin (A-2) was replaced with the resin (A-1), and OTazo-15 (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd., molecular weight: 354.4) was not added in the preparation of the hole transport layer. Production and evaluation of the organic EL device were performed by the methods described. Further, the charge transporting film was evaluated by the method described in Example A2-1. The results are shown in Tables 4 and 5.
<実施例A2−3〜A2−10>
実施例A2−1における樹脂(A−2)を表4に示す樹脂に変えた以外は、実施例A2−1に記載の方法により有機EL素子の作製及び評価を行った。また、実施例A2−1に記載の方法により電荷輸送性膜の評価を行った。その結果を表4及び表5に示す。
<Examples A2-3 to A2-10>
Preparation and evaluation of an organic EL device were performed by the method described in Example A2-1, except that the resin (A-2) in Example A2-1 was changed to the resin shown in Table 4. Further, the charge transporting film was evaluated by the method described in Example A2-1. The results are shown in Tables 4 and 5.
<実施例B2−1〜B2−10>
実施例A2−1における樹脂(A−2)を表4に示す樹脂に変えた以外は、実施例A2−1に記載の方法により有機EL素子の作製及び評価を行った。また、実施例A2−1に記載の方法により電荷輸送性膜の評価を行った。その結果を表4及び表5に示す。
<Examples B2-1 to B2-10>
Preparation and evaluation of an organic EL device were performed by the method described in Example A2-1, except that the resin (A-2) in Example A2-1 was changed to the resin shown in Table 4. Further, the charge transporting film was evaluated by the method described in Example A2-1. The results are shown in Tables 4 and 5.
<比較例2−1>
実施例A2−2における樹脂(A−1)を比較樹脂2(ポリ[ビス(4−フェニル)(2,4,6−トリメチルフェニル)アミン]、シグマ−アルドリッチ製、数平均分子量:7000)に代えた以外は、実施例A2−2に記載の方法により有機EL素子の作製及び評価を行った。また、実施例A2−2に記載の方法により電荷輸送性膜の評価を行った。結果を表4及び表5に示す。
<Comparative Example 2-1>
The resin (A-1) in Example A2-2 was used as a comparative resin 2 (poly [bis (4-phenyl) (2,4,6-trimethylphenyl) amine], manufactured by Sigma-Aldrich, number average molecular weight: 7000). Except for changing, the production and evaluation of the organic EL device were performed by the method described in Example A2-2. Further, the charge transporting film was evaluated by the method described in Example A2-2. The results are shown in Tables 4 and 5.
<比較例2−2>
実施例A2−1における樹脂(A−2)を用いて形成した正孔輸送層に代えて、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−[1,1’]ビフェニル−4,4’−ジアミン(TPD)を膜厚400nmで真空蒸着した正孔輸送層を適用した以外は実施例A2−1に記載の方法により有機EL素子を作製し、評価した。結果を表4及び表5に示す。
<Comparative Example 2-2>
Instead of the hole transport layer formed using the resin (A-2) in Example A2-1, N, N′-diphenyl-N, N′-bis (3-methylphenyl)-[1,1 ′ An organic EL device was prepared and evaluated by the method described in Example A2-1, except that a hole transport layer obtained by vacuum-depositing biphenyl-4,4'-diamine (TPD) with a thickness of 400 nm was applied. The results are shown in Tables 4 and 5.
表4及び表5に示す結果から、実施例の有機EL素子は、長期に渡って安定した発光特性が得られることがわかる。
また、電荷輸送性膜の耐溶剤性の結果から、将来、本発明の電荷輸送性膜の上に塗布形式で層を形成する場合、両層界面の混合が抑制される効果を有することが分かる。よって、塗布積層型の有機電界発光素子においても良好な発光特性を示すことが期待できる。
From the results shown in Tables 4 and 5, it can be seen that the organic EL elements of the examples can obtain stable light-emitting characteristics over a long period of time.
Further, from the result of the solvent resistance of the charge transporting film, it can be seen that, in the case where a layer is formed in a coating form on the charge transporting film of the present invention in the future, it has an effect of suppressing mixing at the interface between both layers. . Therefore, it can be expected that the organic electroluminescent device of the coating and lamination type also shows good light emitting characteristics.
1 下引層、2 電荷発生層、3 電荷輸送層、4 導電性基体、5 保護層、6 単層型感光層、7,7A,7B,7C 電子写真感光体、8 帯電装置、9 露光装置、11 現像装置、13 クリーニング装置、14 潤滑材、21 透明絶縁体基板、22 透明電極、23 正孔輸送層、24 発光層、25 電子輸送層、26 発光層、27 背面電極、40 転写装置、50 中間転写体、100 画像形成装置、120 画像形成装置、131 クリーニングブレード、132 繊維状部材(ロール状)、133 繊維状部材(平ブラシ状)、300 プロセスカートリッジ REFERENCE SIGNS LIST 1 undercoat layer, 2 charge generation layer, 3 charge transport layer, 4 conductive substrate, 5 protective layer, 6 single-layer type photosensitive layer, 7, 7A, 7B, 7C electrophotographic photoreceptor, 8 charging device, 9 exposure device , 11 developing device, 13 cleaning device, 14 lubricant, 21 transparent insulator substrate, 22 transparent electrode, 23 hole transport layer, 24 light emitting layer, 25 electron transport layer, 26 light emitting layer, 27 back electrode, 40 transfer device, Reference Signs List 50 intermediate transfer member, 100 image forming apparatus, 120 image forming apparatus, 131 cleaning blade, 132 fibrous member (roll), 133 fibrous member (flat brush), 300 process cartridge
Claims (16)
(前記一般式(1A−1)及び前記一般式(1A−2)中、A1及びA2はそれぞれ独立に電荷輸送性を有する2価の有機基を示し、T1及びT2はそれぞれ独立に炭素数1以上10以下の直鎖状又は分岐状の2価の炭化水素基を示し、Y1及びY2はそれぞれ独立に水素原子、重合性官能基、又は重合性官能基を有する基を示し、p及びqはそれぞれ独立に0又は1を示す。)
(前記一般式(1B)中、A3は電荷輸送性を有する2価の有機基を示し、T3は炭素数1以上10以下の直鎖状又は分岐状の2価の炭化水素基を示し、Y3は(n3+2)価の非電荷輸送性のジオール残基を示し、n3は1又は2を示し、Y4は「*−(CH2)n4−L−Z」を示し、*はY3との結合位置を示し、n4は1又は2を示し、Lは炭素原子、酸素原子、及び水素原子から選択される少なくとも1種の原子で構成された2価の連結基又は単結合を示し、Zは重合性官能基を示す。) A first charge transporting resin having a structure represented by the following general formula (1A-1) and a structure represented by the following general formula (1A-2), a crosslinked product of the first charge transporting resin, Organic having a second charge-transporting polyester resin having a structure represented by the general formula (1B) and a charge-transporting film containing at least one selected from crosslinked products of the second charge-transporting polyester resin Electronic device.
(In the general formula (1A-1) and the general formula (1A-2), A 1 and A 2 each independently represent a divalent organic group having a charge transporting property, and T 1 and T 2 each independently represent Represents a linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and Y 1 and Y 2 each independently represent a hydrogen atom, a polymerizable functional group, or a group having a polymerizable functional group. And p and q each independently represent 0 or 1.)
(In the general formula (1B), A 3 represents a divalent organic group having a charge transporting property, and T 3 represents a linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. , Y 3 represents a (n3 + 2) -valent uncharged transporting diol residues, n3 represents 1 or 2, Y 4 is "* - (CH 2) n4 -L -Z " indicates, * is Y 3 represents a bonding position, n4 represents 1 or 2, L represents a divalent linking group or a single bond composed of at least one atom selected from a carbon atom, an oxygen atom, and a hydrogen atom. , Z represents a polymerizable functional group.)
(前記一般式(P1)〜(P5)中、R3〜R6は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、又はアルコキシ基を示し、*は、結合位置を示す。) The polymerizable functional group includes a group represented by the following general formula (P1), a group represented by the following general formula (P2), a group represented by the following general formula (P3), and a group represented by the following general formula (P4). The organic electronic device according to claim 1, wherein the organic electronic device is at least one selected from a group represented by a group represented by the following general formula (P5) and a group represented by the following general formula (P5).
(In the general formulas (P1) to (P5), R 3 to R 6 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group, and * indicates a bonding position.)
(前記式(P1−1)、(P1−2)、及び(P3−1)中、*は、結合位置を示す。) The polymerizable functional group is at least selected from a group represented by the following formula (P1-1), a group represented by the following formula (P1-2), and a group represented by the following formula (P3-1). 3. The organic electronic device according to claim 2, wherein the number is one.
(In the formulas (P1-1), (P1-2), and (P3-1), * indicates a bonding position.)
(前記一般式(2)中、R1及びR2はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、又は置換若しくは未置換のアリール基を示し、Xは置換又は未置換の2価の有機基を示し、k及びmはそれぞれ独立に0又は1を示す。) A 1 in the general formula (1A-1), A 3 in A 2, and the general formula (1B) in the general formula (1A-2) is a divalent organic represented by the following general formula (2) 5. The organic electronic device of claim 4, wherein the organic electronic device represents a group.
(In the general formula (2), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, or a substituted or unsubstituted aryl group, and X represents a substituted or unsubstituted divalent. Wherein k and m each independently represent 0 or 1.)
式(A1):0≦MH/(MH+MP)≦0.9 The total number of hydroxyl groups contained in the entirety of the first charge-transporting resin and the second charge-transporting polyester resin is defined as MH, and the total number of hydroxyl groups in the first charge-transporting resin and the second charge-transporting polyester resin is when the total number of the polymerizable functional groups contained in the entire set to M P, organic electronic device according to any one of claims 1 to 6 which satisfies the following formula (A1).
Formula (A1): 0 ≦ MH / ( MH + MP ) ≦ 0.9
式(A2):0≦MH/(MH+MP)≦0.6 Wherein M H and the M P is an organic electronic device of claim 7, satisfying the following formula (A2).
Formula (A2): 0 ≦ MH / ( MH + MP ) ≦ 0.6
(前記一般式(1A−1)及び前記一般式(1A−2)中、A1及びA2はそれぞれ独立に電荷輸送性を有する2価の有機基を示し、T1及びT2はそれぞれ独立に炭素数1以上10以下の直鎖状又は分岐状の2価の炭化水素基を示し、Y1及びY2はそれぞれ独立に水素原子、重合性官能基、又は重合性官能基を有する基を示し、p及びqはそれぞれ独立に0又は1を示す。)
(前記一般式(1B)中、A3は電荷輸送性を有する2価の有機基を示し、T3は炭素数1以上10以下の直鎖状又は分岐状の2価の炭化水素基を示し、Y3は(n3+2)価の非電荷輸送性のジオール残基を示し、n3は1又は2を示し、Y4は「*−(CH2)n4−L−Z」を示し、*はY3との結合位置を示し、n4は1又は2を示し、Lは炭素原子、酸素原子、及び水素原子から選択される少なくとも1種の原子で構成された2価の連結基又は単結合を示し、Zは重合性官能基を示す。) A first charge transporting resin having a structure represented by the following general formula (1A-1) and a structure represented by the following general formula (1A-2), a crosslinked product of the first charge transporting resin, A charge transporting film containing a second charge transporting polyester resin having a structure represented by the general formula (1B), and at least one selected from a crosslinked product of the second charge transporting polyester resin.
(In the general formula (1A-1) and the general formula (1A-2), A 1 and A 2 each independently represent a divalent organic group having a charge transporting property, and T 1 and T 2 each independently represent Represents a linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and Y 1 and Y 2 each independently represent a hydrogen atom, a polymerizable functional group, or a group having a polymerizable functional group. And p and q each independently represent 0 or 1.)
(In the general formula (1B), A 3 represents a divalent organic group having a charge transporting property, and T 3 represents a linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. , Y 3 represents a (n3 + 2) -valent uncharged transporting diol residues, n3 represents 1 or 2, Y 4 is "* - (CH 2) n4 -L -Z " indicates, * is Y 3 represents a bonding position, n4 represents 1 or 2, L represents a divalent linking group or a single bond composed of at least one atom selected from a carbon atom, an oxygen atom, and a hydrogen atom. , Z represents a polymerizable functional group.)
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