JP2020025608A - Member having antibacterial membrane, and method for manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

To provide a member having a membrane which shows sufficient antibacterial properties over a long period of time.SOLUTION: A member has a base material and a membrane formed on the base material, and the membrane includes amorphous carbon and zeolite containing metal which is dispersed in the amorphous carbon.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、抗菌性を示す膜を有する部材およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a member having a film having antibacterial properties and a method for producing the same.

ダイヤモンドライクカーボン(DLC)は、種々の分野において表面被覆材として注目されている。また、銀(Ag)は、抗菌性を有することが知られている。非特許文献1において、Ag粒子とDLCの混合膜(Ag−DLC膜)が抗菌性を示すことが記載されている。   Diamond-like carbon (DLC) has attracted attention as a surface coating material in various fields. Silver (Ag) is known to have antibacterial properties. Non-Patent Document 1 describes that a mixed film of Ag particles and DLC (Ag-DLC film) exhibits antibacterial properties.

F.R.Marciano et al.,“Antibacterial activity of DLC and Ag−DLC films produced by PECVD technique”Diamond and Related Materials Volume 18, Issues 5−8, May−August 2009, Pages 1010−1014F. R. Marciano et al. , "Antibacterial activity of DLC and Ag-DLC films produced by PECVD technology", Diamond and Related Materials Volume 18, 10-10-August 10, August 9-August 10, 2008.

非特許文献1によると、Ag−DLC膜は、膜形成後3時間は高い抗菌性を示すが、膜形成後24時間経過すると、Agを混合していないDLC膜と同程度の抗菌性となり、長期抗菌性が不十分である。そこで、本発明は、長時間にわたり十分な抗菌性を示す膜を有する部材、及びその製造方法を提供することを目的とする。   According to Non-Patent Document 1, the Ag-DLC film shows high antibacterial properties for 3 hours after the film formation, but after 24 hours from the film formation, it becomes about the same antibacterial property as the DLC film not containing Ag, Insufficient long-term antibacterial properties. Therefore, an object of the present invention is to provide a member having a film exhibiting sufficient antibacterial properties for a long time, and a method for producing the same.

第1の態様に従えば、
基材と、
前記基材上に形成された膜とを有し、
前記膜が、
アモルファスカーボンと、
金属を内包するゼオライトとを含む部材が提供される。
According to the first aspect,
A substrate,
Having a film formed on the substrate,
The membrane is
Amorphous carbon,
A member including zeolite containing metal is provided.

第2の態様に従えば、金属を内包するゼオライトをキャリアガスに混合して噴霧しながら、フィルタードカソーディックバキュームアーク法により基材上にアモルファスカーボンを成膜することにより、前記アモルファスカーボン中に前記ゼオライトが分散した膜を前記基材上に形成することを含む、部材の製造方法が提供される。   According to the second aspect, the amorphous carbon is formed into a film on the base material by a filtered cathodic vacuum arc method while mixing and spraying the zeolite containing the metal with the carrier gas, so that the amorphous carbon is formed in the amorphous carbon. A method for manufacturing a member is provided, comprising forming a film in which the zeolite is dispersed on the substrate.

実施形態に係る部材の概略断面図である。It is an outline sectional view of a member concerning an embodiment. 金属を内包するゼオライトの構造の一例を概念的に示す図である。It is a figure which shows notionally an example of the structure of the zeolite which contains metal. 成膜装置の概略構成図である。FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a film forming apparatus.

[膜を有する部材]
以下、図面を参照しながら部材の実施形態を説明する。図1に示すように、部材100は、基材10上に形成された膜30を有する。膜30は、抗菌性を有する膜であり、アモルファスカーボン50と、金属90を内包するゼオライト70(図2参照)を含む。
[Member with membrane]
Hereinafter, an embodiment of a member will be described with reference to the drawings. As shown in FIG. 1, the member 100 has a film 30 formed on the base material 10. The film 30 is a film having antibacterial properties, and includes zeolite 70 (see FIG. 2) containing amorphous carbon 50 and metal 90.

(1)基材10
基材10は、部材100の用途に応じて、種々の形状を有してよく、種々の材料から構成されてよい。例えば、樹脂、シリコン、チタン、ステンレス等から構成されてよい。
(1) Base material 10
The base material 10 may have various shapes depending on the use of the member 100, and may be made of various materials. For example, it may be made of resin, silicon, titanium, stainless steel, or the like.

(2)膜30
膜30は、基材10の表面を被覆している。膜30は、基材10に接触する第1表面32及び第1表面32の反対面である第2表面34を有する。
(2) Film 30
The film 30 covers the surface of the substrate 10. The film 30 has a first surface 32 that contacts the substrate 10 and a second surface 34 that is opposite to the first surface 32.

アモルファスカーボン50は、sp混成軌道を用いて結合を形成している炭素原子(sp混成炭素原子、sp−C原子)及びsp混成軌道を用いて結合を形成している炭素原子(sp混成炭素原子、sp−C原子)を含む。このようなアモルファスカーボン50は、PVD法(物理気相成長法)、CVD法(化学気相成長法)等により形成することができる。PVD法としては、イオン化蒸着法、イオンビームスパッタ法、マグネトロンスパッタ法、レーザ蒸着法、アークイオンプレーティング法、フィルタードカソーディックバキュームアーク(FCVA)法等が挙げられる。CVD法としては、炭化水素ガスを原料として用いた、マイクロ波プラズマCVD法、直流プラズマCVD法、高周波プラズマCVD法、有磁場プラズマCVD法等が挙げられる。特に、FCVA法では、室温にて、複雑な形状の表面上に均一に且つ高い付着力でアモルファスカーボン50を形成することができる。 The amorphous carbon 50 has carbon atoms forming bonds using sp 2 hybrid orbitals (sp 2 hybrid carbon atoms, sp 2 -C atoms) and carbon atoms forming bonds using sp 3 hybrid orbitals ( sp 3 hybridized carbon atoms, including sp 3 -C atom). Such an amorphous carbon 50 can be formed by a PVD method (physical vapor deposition method), a CVD method (chemical vapor deposition method), or the like. Examples of the PVD method include an ionization evaporation method, an ion beam sputtering method, a magnetron sputtering method, a laser evaporation method, an arc ion plating method, and a filtered cathodic vacuum arc (FCVA) method. Examples of the CVD method include a microwave plasma CVD method, a DC plasma CVD method, a high-frequency plasma CVD method, and a magnetic field plasma CVD method using a hydrocarbon gas as a raw material. In particular, in the FCVA method, at room temperature, the amorphous carbon 50 can be formed uniformly and with a high adhesive force on a surface having a complicated shape.

アモルファスカーボン50は、水素を含んでよい。それにより膜30の応力を緩和できる。   The amorphous carbon 50 may contain hydrogen. Thereby, the stress of the film 30 can be reduced.

膜30の第2表面34において、アモルファスカーボン50中のsp−C原子の数とsp−C原子の数の合計に対する、sp−C原子の数の割合が15〜85原子%であってよい。sp−C原子の数の割合が15原子%未満である場合、すなわち、sp−C原子の数の割合が85原子%を超える場合、膜の圧縮応力が非常に大きく、膜の硬度が高すぎる傾向がある。sp−C原子の数の割合が85原子%を超える場合、すなわち、sp−C原子の数の割合が15at%未満の場合、膜が軟らかいため、傷付いたり剥離したりし易い傾向がある。 On the second surface 34 of the film 30, the ratio of the number of sp 2 -C atoms to the total number of sp 2 -C atoms and the number of sp 3 -C atoms in the amorphous carbon 50 is 15 to 85 atomic%. May be. When the proportion of the number of sp 2 —C atoms is less than 15 at%, that is, when the proportion of the number of sp 3 —C atoms exceeds 85 at%, the compressive stress of the film is very large, and the hardness of the film is low. Tends to be too high. When the proportion of the number of sp 2 -C atoms exceeds 85 atomic%, that is, when the proportion of the number of sp 3 -C atoms is less than 15 at%, the film is soft and tends to be damaged or peeled. is there.

また、本発明者らはこれまでに、sp−C原子の数とsp−C原子の数の合計に対する、sp−C原子の数の割合が50原子%を超えるとき、特に、sp−C原子の数の割合が23〜43原子%のとき、アモルファスカーボンが、タンパク質、細胞、細菌等が特に吸着しにくい特性を有することを見出している。 In addition, the present inventors have previously reported that when the ratio of the number of sp 3 -C atoms to the sum of the number of sp 2 -C atoms and the number of sp 3 -C atoms exceeds 50 atomic%, in particular, sp It has been found that when the ratio of the number of 2- C atoms is 23 to 43 atomic%, amorphous carbon has a characteristic that proteins, cells, bacteria, and the like are particularly difficult to adsorb.

しかし、銀等の抗菌性を有する金属ナノ粒子をアモルファスカーボン中に分散させると、金属ナノ粒子を分散させない場合と比べてアモルファスカーボン中のsp−C原子の数とsp−C原子の数の合計に対するsp−C原子の数の割合が低くなることが知られていた(P.Pisarik et al.,“Antibacterial, mechanical and surface properties of Ag−DLC films prepared by dual PLD for medical applications”Materials Science and Engineering:C Volume 77, 1 August 2017, Pages 955−962)。 However, when metal nanoparticles having antibacterial properties such as silver are dispersed in amorphous carbon, the number of sp 2 -C atoms and the number of sp 3 -C atoms in amorphous carbon are lower than when metal nanoparticles are not dispersed. sp 3 ratio of the number of -C atom has been known to be low (P.Pisarik et al to the sum of., "Antibacterial, mechanical and surface properties of Ag-DLC films prepared by dual PLD for medical applications" Materials Science and Engineering: C Volume 77, 1 August 2017, Pages 955-962).

この点、実施形態に係る部材100の膜30においては、金属90がゼオライト70に内包されているため、アモルファスカーボン50と金属90が接触しにくい。それにより、sp−C原子の割合が実質的に変化することなく維持されるため、タンパク質、細胞、細菌等が吸着しにくい特性を長時間維持することができる。なお、膜30全体にわたって、アモルファスカーボン50中のsp−C原子の数とsp−C原子の数の合計に対する、sp−C原子の数の割合が15〜85原子%であってもよく、sp−C原子の割合が50原子%未満であってもよい。 In this regard, in the film 30 of the member 100 according to the embodiment, since the metal 90 is included in the zeolite 70, the amorphous carbon 50 and the metal 90 hardly come into contact with each other. Thereby, the ratio of sp 3 —C atoms is maintained without substantially changing, so that characteristics in which proteins, cells, bacteria, and the like are not easily adsorbed can be maintained for a long time. In addition, even if the ratio of the number of sp 2 -C atoms to the total number of sp 2 -C atoms and the number of sp 3 -C atoms in the amorphous carbon 50 is 15 to 85 atomic% over the entire film 30. well, the proportion of sp 2 -C atoms may be less than 50 atomic%.

ゼオライト70はアルミノ珪酸塩の一種であり、一般式xM2/nO・Al・ySiO・zHOで表される。ここで、nはイオン交換可能なカチオンMの原子価である。ゼオライト70は、図2に示すように、アルミニウム原子と珪素原子と酸素原子からなる三次元網目状骨格を有する。 Zeolite 70 is a kind of aluminosilicate, represented by the general formula xM 2 / n O · Al 2 O 3 · ySiO 2 · zH 2 O. Here, n is the valence of the ion exchangeable cation M. As shown in FIG. 2, the zeolite 70 has a three-dimensional network skeleton composed of aluminum atoms, silicon atoms, and oxygen atoms.

ゼオライト70は、天然ゼオライト及び合成ゼオライトのいずれでもよい。具体的には、例えば、A−型ゼオライト、X−型ゼオライト、Y−型ゼオライト、T−型ゼオライト、高シリカゼオライト、ソーダライト、モルデナイト、アナルサイム、クリノブチロライト、チャバサイト、エリオナイト等が挙げられるが、これらに限定されない。   The zeolite 70 may be either a natural zeolite or a synthetic zeolite. Specifically, for example, A-type zeolite, X-type zeolite, Y-type zeolite, T-type zeolite, high silica zeolite, sodalite, mordenite, analcyme, clinobutyrolite, chabazite, erionite and the like. But not limited thereto.

ゼオライト70は、抗菌性を有する金属90を内包する。図2に示すように、金属90は、ゼオライト70の三次元骨格中の細孔に取り込まれている。金属90はイオンの状態でゼオライト70に内包されてよい。ゼオライト70中のイオン交換可能なカチオンM、例えば、ナトリウムイオン、カルシウムイオン、カリウムイオン、マグネシウムイオン、鉄イオン等の少なくとも一部が、抗菌性を有する金属イオンに置換されることにより、ゼオライト70は金属90をイオンの状態で内包できる。あるいは、金属90は、ナノ粒子の状態でゼオライト70に内包されてもよい。   The zeolite 70 contains a metal 90 having antibacterial properties. As shown in FIG. 2, the metal 90 is taken into pores in the three-dimensional skeleton of the zeolite 70. The metal 90 may be included in the zeolite 70 in an ionic state. By replacing at least a part of the ion-exchangeable cation M in the zeolite 70, for example, sodium ion, calcium ion, potassium ion, magnesium ion, iron ion and the like, with a metal ion having antibacterial properties, the zeolite 70 The metal 90 can be included in an ion state. Alternatively, the metal 90 may be included in the zeolite 70 in a state of nanoparticles.

抗菌性を有する金属90は、特に限定されないが、例えば、銀、水銀、白金、銅、カドミウム、金、コバルト、ニッケル、及び鉛からなる群から選択される少なくとも一種を含んでよく、特に銀を含んでよい。   The metal 90 having antibacterial properties is not particularly limited, and may include, for example, at least one selected from the group consisting of silver, mercury, platinum, copper, cadmium, gold, cobalt, nickel, and lead. May include.

一般的に、銀等の抗菌性を有する金属のナノ粒子をアモルファスカーボン膜中に分散させた場合、時間経過に伴い金属ナノ粒子がアモルファスカーボン膜の表面に移動して凝集し、アモルファスカーボン膜の表面に粗大化した金属粒子が現れることが知られている。そのため、金属ナノ粒子をアモルファスカーボン膜中に分散させた膜は、金属ナノ粒子による抗菌性を長時間有することができない。また、アモルファスカーボン膜の表面が金属粒子に覆われるため、アモルファスカーボンの特性(例えば、タンパク質等が吸着しにくい性質、高い硬度、摺動性、高耐久性等)も時間の経過に伴い損なわれる。一方、実施形態に係る部材100の膜30においては、金属90はゼオライト70の細孔に保持された状態でアモルファスカーボン50中に分散している。ゼオライト70に保持されている金属90は、ゼオライト70から放出されて膜30内を第2表面34まで移動するのに、より長い時間を要する。そのため、膜30の第2表面34に金属90が過剰に供給されて凝集体を形成することが抑制される。したがって、膜30は長時間にわたり抗菌性を有することができるとともに、アモルファスカーボン50の特性が損なわれることも抑制できる。   In general, when nanoparticles of a metal having antibacterial properties such as silver are dispersed in an amorphous carbon film, the metal nanoparticles move to the surface of the amorphous carbon film and aggregate with time, and the amorphous carbon film It is known that coarse metal particles appear on the surface. Therefore, a film in which metal nanoparticles are dispersed in an amorphous carbon film cannot have antibacterial properties due to metal nanoparticles for a long time. In addition, since the surface of the amorphous carbon film is covered with the metal particles, the characteristics of the amorphous carbon (for example, a property that protein and the like are not easily adsorbed, a high hardness, a slidability, a high durability, and the like) are deteriorated with time. . On the other hand, in the film 30 of the member 100 according to the embodiment, the metal 90 is dispersed in the amorphous carbon 50 while being held in the pores of the zeolite 70. The metal 90 retained in the zeolite 70 takes a longer time to be released from the zeolite 70 and travel through the membrane 30 to the second surface 34. Therefore, formation of aggregates due to excessive supply of the metal 90 to the second surface 34 of the film 30 is suppressed. Therefore, the film 30 can have antibacterial properties for a long time, and can also prevent the characteristics of the amorphous carbon 50 from being impaired.

膜30の第2表面34に適切な量及び速度で金属90を供給するために、膜30の形成時に、膜30の第1表面32におけるゼオライト70の含有量(含有率)を、第2表面34におけるゼオライト70の含有量(含有率)よりも高くしてよい。膜30中のゼオライト70から適量の金属90が放出されて第2表面34へ移動することにより、第2表面34が抗菌性を示す。   In order to supply the metal 90 to the second surface 34 of the membrane 30 in an appropriate amount and at an appropriate rate, the content (content) of the zeolite 70 on the first surface 32 of the membrane 30 is determined during the formation of the membrane 30. 34 may be higher than the content (content) of zeolite 70. An appropriate amount of metal 90 is released from the zeolite 70 in the membrane 30 and moves to the second surface 34, so that the second surface 34 exhibits antibacterial properties.

例えば、膜30の厚み方向にゼオライト70の含有量の勾配をつけて、第1表面32から第2表面34まで、ゼオライト70の含有量が漸減する構成としてもよい。第2表面34はゼオライト70を含有しなくてもよい。別の例として、膜30は、第1表面32側に、金属90を内包するゼオライト70のみを含む層と、該ゼオライト70のみを含む層の上に形成されたアモルファスカーボンの層とを有してよい。該アモルファスカーボンの層は、金属90を内包するゼオライト70を含んでいてもよいし、含んでいなくてもよい。いずれの例においても、膜30中の第2表面34から所定の厚みの領域において、金属90を内包するゼオライト70が含有されていなくてもよい。当該厚みを制御することにより、第2表面34への金属90の供給量及び供給速度を制御できる。   For example, a configuration may be employed in which the content of zeolite 70 is gradually reduced from the first surface 32 to the second surface 34 by giving a gradient of the content of zeolite 70 in the thickness direction of the membrane 30. Second surface 34 may not include zeolite 70. As another example, the film 30 includes, on the first surface 32 side, a layer containing only the zeolite 70 containing the metal 90 and an amorphous carbon layer formed on the layer containing only the zeolite 70. May be. The amorphous carbon layer may or may not include the zeolite 70 containing the metal 90. In any of the examples, the zeolite 70 including the metal 90 may not be contained in a region having a predetermined thickness from the second surface 34 in the film 30. By controlling the thickness, the supply amount and the supply speed of the metal 90 to the second surface 34 can be controlled.

なお、部材100において、上述のような膜30が基材10上に複数積層されていてもよい。   In the member 100, a plurality of the films 30 described above may be stacked on the base material 10.

また、上述のように、銀等の抗菌性を有する金属ナノ粒子をアモルファスカーボン中に分散させると、金属ナノ粒子を分散させない場合と比べてアモルファスカーボン中のsp−C原子の数の割合が低くなることが知られている。一方、実施形態に係る部材100の膜30においては、少なくとも膜30の形成直後は、金属90はゼオライト70の細孔に保持されている。その結果、膜30の形成プロセスにおいて、アモルファスカーボン50と金属90が接触しないため、アモルファスカーボン50中のsp−C原子の数とsp−C原子の数の合計に対するsp−C原子の数の割合を容易に適切な値に制御することができる。特に、sp−C原子の割合を高く維持することができる。なお、アモルファスカーボン50は、ゼオライト70のアルミニウム原子と珪素原子と酸素原子からなる骨格に接触しているが、以下の理由によりゼオライト70の骨格はアモルファスカーボン50の結合に寄与する混成軌道に影響を与えない。ゼオライト70はアルミニウムと珪素の複合酸化物であり、その骨格は、主に、アルミニウムと酸素の化学結合、及び、珪素と酸素の化学結合から構成される。アルミニウムと酸素の化学結合、及び、珪素と酸素の化学結合は、アルミニウムと炭素の化学結合、及び、珪素と炭素の化学結合より熱力学的に安定である。そのため、ゼオライト70の骨格中の原子はアモルファスカーボン50中の炭素原子と結合を形成せず、アモルファスカーボン50中の炭素原子の結合に影響を及ぼさない。 Further, as described above, when metal nanoparticles having antibacterial properties such as silver are dispersed in amorphous carbon, the ratio of the number of sp 3 -C atoms in the amorphous carbon is smaller than that in the case where metal nanoparticles are not dispersed. It is known to be lower. On the other hand, in the membrane 30 of the member 100 according to the embodiment, the metal 90 is held in the pores of the zeolite 70 at least immediately after the formation of the membrane 30. As a result, in the formation process of the film 30, since the amorphous carbon 50 and the metal 90 do not contact, to the total number of the number of sp 3 -C atom of sp 2 -C atoms in the amorphous carbon 50 of sp 2 -C atoms The ratio of the numbers can be easily controlled to an appropriate value. In particular, the ratio of sp 3 -C atoms can be kept high. The amorphous carbon 50 is in contact with the skeleton of aluminum, silicon, and oxygen atoms of the zeolite 70, but the skeleton of the zeolite 70 affects the hybrid orbitals that contribute to the bonding of the amorphous carbon 50 for the following reasons. Do not give. The zeolite 70 is a composite oxide of aluminum and silicon, and its skeleton is mainly composed of a chemical bond between aluminum and oxygen and a chemical bond between silicon and oxygen. The chemical bond between aluminum and oxygen and the chemical bond between silicon and oxygen are more thermodynamically stable than the chemical bond between aluminum and carbon and the chemical bond between silicon and carbon. Therefore, the atoms in the skeleton of the zeolite 70 do not form bonds with the carbon atoms in the amorphous carbon 50, and do not affect the bonds of the carbon atoms in the amorphous carbon 50.

上述のように、適切な割合のsp−C原子を有するアモルファスカーボン50は、タンパク質、細胞、細菌等が付着しにくい。そのため、アモルファスカーボン50のsp−C原子の割合を適切な値にすることで、膜30はより高い抗菌性を有することができる。特に、膜30中の金属90の含有量が10原子%以下でも、膜30が十分な抗菌性を有することができる。金属90の含有量を少なくすることで、膜30の製造コストを抑制するとともに、膜30の耐久性を向上させることができる。 As described above, the amorphous carbon 50 having an appropriate ratio of sp 2 -C atoms is unlikely to adhere to proteins, cells, bacteria, and the like. Therefore, by setting the ratio of the sp 2 —C atoms of the amorphous carbon 50 to an appropriate value, the film 30 can have higher antibacterial properties. In particular, even when the content of the metal 90 in the film 30 is 10 atomic% or less, the film 30 can have sufficient antibacterial properties. By reducing the content of the metal 90, the manufacturing cost of the film 30 can be suppressed and the durability of the film 30 can be improved.

実施形態に係る部材100は、例えば、医療器具、医用材料、住宅建材、日用品に用いられてよい。膜30は、部材100の用途によって任意に配置されてよい。膜30が基材10の全ての表面を覆うように形成されていてもよいし、基材10の表面に一部にのみ形成されていてもよい。部材100が医療器具に用いられる場合、部材100の細菌に暴露される可能性がある領域に膜30が設けられてよい。膜30は抗菌効果を有するため細菌の増殖を抑制できる。部材100は単独で用いられてもよいし、複数の部材100を組み合わせて用いてもよい。   The member 100 according to the embodiment may be used for, for example, medical instruments, medical materials, house building materials, and daily necessities. The membrane 30 may be arbitrarily arranged depending on the use of the member 100. The film 30 may be formed so as to cover the entire surface of the substrate 10 or may be formed only partially on the surface of the substrate 10. If the member 100 is used in a medical device, the membrane 30 may be provided in an area of the member 100 that may be exposed to bacteria. Since the film 30 has an antibacterial effect, the growth of bacteria can be suppressed. The member 100 may be used alone, or a plurality of members 100 may be used in combination.

なお、「医療器具」という語は、一般に医療器具と呼ばれ得るものをすべて含み、具体的には、人工関節、人工骨、人工歯、人工歯根、人工心臓、人工心臓弁、人工血管、人工肛門、人工尿管、人工胸膜、人工補綴物、ステント(血管ステント、気管支ステントを含む)、ガイドワイヤー、カテーテル、留置カテーテル、ペースメーカー電極、ペースメーカーリード線、コンタクトレンズ、人工水晶体、電気メス、注射針、血液バッグ、採血管、メス、内視鏡、血液フィルタなどのフィルタ類、血液回路などの流路類、送血チューブなどのチューブ類、鉗子、人工肺、人工心肺装置、透析装置、整形外科器具、人工内耳、人工鼓膜、人工声帯、カニューレ、脳動脈治療用コイル、人工すい臓、鍼灸治療器具、電極、縫合糸、創傷被覆材、創傷保護材、廃液チューブ、整形外科インプラント、ペースメーカー等を含む。   Note that the term “medical device” includes all that can be generally referred to as a medical device, and specifically includes artificial joints, artificial bones, artificial teeth, artificial roots, artificial hearts, artificial heart valves, artificial blood vessels, and artificial blood vessels. Anus, artificial ureter, artificial pleura, artificial prosthesis, stent (including vascular stent and bronchial stent), guide wire, catheter, indwelling catheter, pacemaker electrode, pacemaker lead wire, contact lens, artificial lens, electric scalpel, needle , Blood bags, blood collection tubes, scalpels, endoscopes, filters such as blood filters, channels such as blood circuits, tubes such as blood supply tubes, forceps, artificial lungs, artificial heart-lung machines, dialysis devices, orthopedics Instruments, cochlear implants, artificial eardrums, artificial vocal cords, cannulas, coils for treating cerebral arteries, artificial pancreas, acupuncture and moxibustion instruments, electrodes, sutures, wound dressings, wounds Including Mamoruzai, waste tube, orthopedic implants, pacemakers and the like.

[部材の製造方法]
部材100の製造方法について説明する。図3は、基材10上に膜30を形成する成膜装置1の構造を概念的に示す図である。
[Method of manufacturing members]
A method for manufacturing the member 100 will be described. FIG. 3 is a diagram conceptually showing the structure of the film forming apparatus 1 for forming the film 30 on the base material 10.

成膜装置1は、主に、アークプラズマ生成部110と、フィルタ部120と、成膜チャンバ部130と、アトマイザ150から構成される。アークプラズマ生成部110は、ダクト状のフィルタ部120により成膜チャンバ部130に接続されている。成膜チャンバ部130の圧力は、図示省略する真空装置により10−4〜10−6[Torr]程度に設定される。 The film forming apparatus 1 mainly includes an arc plasma generating unit 110, a filter unit 120, a film forming chamber unit 130, and an atomizer 150. The arc plasma generating section 110 is connected to the film forming chamber section 130 by a duct-shaped filter section 120. The pressure of the film forming chamber unit 130 is set to about 10 −4 to 10 −6 [Torr] by a vacuum device not shown.

アークプラズマ生成部110には、カソードとしてのグラファイトターゲット111とアノード(ストライカー)(不図示)が設けられている。ターゲット111に直流電圧を印加することによりアーク放電が生じ、それによりアークプラズマが発生される。アークプラズマによりターゲット111から生成された中性粒子及び荷電粒子が、成膜チャンバ部130に向けてフィルタ部120を飛行する。   The arc plasma generator 110 includes a graphite target 111 as a cathode and an anode (striker) (not shown). When a DC voltage is applied to the target 111, an arc discharge occurs, thereby generating an arc plasma. Neutral particles and charged particles generated from the target 111 by the arc plasma fly through the filter unit 120 toward the film forming chamber unit 130.

フィルタ部120には、電磁石コイル121が巻かれたダクト123及びイオンスキャン用コイル125が設けられている。ダクト123は、アークプラズマ生成部110と成膜チャンバ部130との間で、直交する二方向に2度曲折されており、その外周に電磁石コイル121が巻き付けられている。ダクト123がこのような屈曲構造(ダブルベンド構造)を有することにより、ダクト123内の中性粒子は内壁面に衝突して堆積することにより除去される。電磁石コイル121に電流を流すことによりダクト123内部の荷電粒子にローレンツ力が作用し、荷電粒子がダクト断面の中心領域に集約されてダクトの屈曲に沿って飛行し、成膜チャンバ部130に導かれる。すなわち、電磁石コイル121とダクト123が、荷電粒子のみを高効率で通過させる狭帯域の電磁気空間的フィルタを構成する。   The filter unit 120 is provided with a duct 123 around which an electromagnet coil 121 is wound, and an ion scanning coil 125. The duct 123 is bent twice in two orthogonal directions between the arc plasma generating unit 110 and the film forming chamber unit 130, and the electromagnet coil 121 is wound around the outer periphery thereof. Since the duct 123 has such a bent structure (double bend structure), neutral particles in the duct 123 are removed by colliding with and accumulating on the inner wall surface. The Lorentz force acts on the charged particles in the duct 123 by passing a current through the electromagnet coil 121, and the charged particles are concentrated in the center area of the duct cross section, fly along the bend of the duct, and are guided to the film forming chamber section 130. I will That is, the electromagnetic coil 121 and the duct 123 constitute a narrow-band electromagnetic spatial filter that allows only the charged particles to pass with high efficiency.

イオンスキャン用コイル125により、ダクト123を通り成膜チャンバ部130に入る荷電粒子のビームを任意の方向に動かすことができる。成膜チャンバ部130には、ホルダ131が設けられ、このホルダ131の表面に基材10がセットされる。ホルダ131はモータ135により自転運動する。ホルダ131に保持された基材10の表面に、イオンスキャン用コイル125によって方向付けられた荷電粒子のビームが入射する。ホルダ131には電源137によって負のバイアス電圧が印加されており、それにより、基材10に入射する荷電粒子が加速される。加速した荷電粒子は基材10上に堆積する。それにより、基材10上に緻密なアモルファスカーボン膜が一様に形成される。バイアス電圧を調整することによって、アモルファスカーボン中のsp−C原子とsp−C原子の含有量を制御できる。 The ion scanning coil 125 can move the beam of charged particles entering the deposition chamber 130 through the duct 123 in any direction. A holder 131 is provided in the film forming chamber section 130, and the substrate 10 is set on the surface of the holder 131. The holder 131 rotates by a motor 135. The beam of charged particles directed by the ion scanning coil 125 is incident on the surface of the base material 10 held by the holder 131. A negative bias voltage is applied to the holder 131 by the power supply 137, and thereby, charged particles incident on the base material 10 are accelerated. The accelerated charged particles are deposited on the substrate 10. Thereby, a dense amorphous carbon film is uniformly formed on the substrate 10. By adjusting the bias voltage, the content of sp 2 -C atoms and sp 3 -C atoms in amorphous carbon can be controlled.

アトマイザ150は、金属を内包するゼオライトの粉末をキャリアガスに混合して成膜チャンバ部130中に噴霧する。それによりゼオライトが成膜チャンバ部130に導入される。例えば、アルゴン又はヘリウムガスをキャリアガスとして用い、当該キャリアガスを0.1〜30sccmの範囲内の所定の流量にてアトマイザ150内に導入する。アトマイザ150内にはあらかじめ金属を内包するゼオライト粉末が載置されている。キャリアガスがアトマイザ150を通過することにより、ゼオライト粉末がキャリアガスとともに成膜チャンバ部130へ輸送される。   The atomizer 150 mixes a zeolite powder containing a metal with a carrier gas and sprays the mixed gas into the film forming chamber unit 130. Thereby, the zeolite is introduced into the film forming chamber unit 130. For example, argon or helium gas is used as a carrier gas, and the carrier gas is introduced into the atomizer 150 at a predetermined flow rate within a range of 0.1 to 30 sccm. In the atomizer 150, zeolite powder containing a metal is placed in advance. When the carrier gas passes through the atomizer 150, the zeolite powder is transported together with the carrier gas to the film forming chamber 130.

金属を内包するゼオライトの粉末は、金属イオンを含有する水溶液にゼオライトの粉末を接触させ、ゼオライト中のイオン交換可能なカチオンと水溶液中の金属イオンを置換させることによって得られる。ゼオライトの金属含有(内包)量は、水溶液中の金属イオン濃度を調整することによって制御できる。金属を内包するゼオライトの粉末として市販品を用いてもよい。   The zeolite powder containing a metal is obtained by contacting the zeolite powder with an aqueous solution containing metal ions, and replacing the ion-exchangeable cations in the zeolite with the metal ions in the aqueous solution. The amount of metal content (inclusion) of zeolite can be controlled by adjusting the concentration of metal ions in the aqueous solution. A commercially available zeolite powder containing metal may be used.

アークプラズマ生成部110及びフィルタ部120により炭素の荷電粒子を成膜チャンバ部130に導入しながら、アトマイザ150により金属内包ゼオライトを成膜チャンバ部130に導入することにより、荷電粒子(炭素イオン)と金属含有ゼオライトが基材10上に堆積する。それにより、アモルファスカーボン及び該アモルファスカーボン中に分散した金属内包ゼオライトから構成される膜(抗菌膜)が、基材10上に形成される。   By introducing the metal-encapsulated zeolite into the film forming chamber 130 by the atomizer 150 while introducing the charged particles of carbon into the film forming chamber 130 by the arc plasma generating unit 110 and the filter unit 120, the charged particles (carbon ions) are removed. A metal-containing zeolite is deposited on the substrate 10. Thereby, a film (antimicrobial film) composed of amorphous carbon and zeolite encapsulating metal dispersed in the amorphous carbon is formed on the base material 10.

アトマイザ150から成膜チャンバ部130に導入するキャリアガス流量を調節することにより、膜中の金属内包ゼオライトの含有量を制御できる。成膜中にキャリアガス流量を変えることで、膜の厚み方向に金属内包ゼオライトの濃度勾配をつけることができる。   By adjusting the flow rate of the carrier gas introduced from the atomizer 150 into the film forming chamber unit 130, the content of zeolite containing metal in the film can be controlled. By changing the flow rate of the carrier gas during the film formation, a concentration gradient of the metal-encapsulated zeolite can be provided in the thickness direction of the film.

基材10の表面の一部のみに抗菌膜を形成することもできる。この場合、基材10の抗菌膜を形成しない領域をマスクで被覆した後に、基材10をホルダ131にセットして抗菌膜の形成を行ってよい。   An antimicrobial film may be formed only on a part of the surface of the substrate 10. In this case, after the region of the base material 10 where the antimicrobial film is not formed is covered with a mask, the base material 10 may be set on the holder 131 to form the antimicrobial film.

なお、成膜装置1は、フィルタードカソーディックバキュームアーク(FCVA)法によりアモルファスカーボンを形成する装置であるが、アモルファスカーボンの形成方法はFCVA法に限定されない。アモルファスカーボンは、PVD法(物理気相成長法)又はCVD法(化学気相成長法)により形成できる。PVD法としては、例えば、カーボンターゲットを原料として用いた、イオン化蒸着法、イオンビームスパッタ法、マグネトロンスパッタ法、レーザ蒸着法、アークイオンプレーティング法、FCVA法等が挙げられる。CVD法としては、例えば、炭化水素ガスを原料として用いた、マイクロ波プラズマCVD法、直流プラズマCVD法、高周波プラズマCVD法、有磁場プラズマCVD法等が挙げられる。上述したFCVA法は、複雑な形状の基材を均一にコーティングできる点、及び、室温でも基材との付着力が高い膜を形成できるという点で好ましい。   Note that the film forming apparatus 1 is an apparatus for forming amorphous carbon by a filtered cathodic vacuum arc (FCVA) method, but the method for forming amorphous carbon is not limited to the FCVA method. Amorphous carbon can be formed by PVD (physical vapor deposition) or CVD (chemical vapor deposition). Examples of the PVD method include an ionization evaporation method, an ion beam sputtering method, a magnetron sputtering method, a laser evaporation method, an arc ion plating method, and an FCVA method using a carbon target as a raw material. Examples of the CVD method include a microwave plasma CVD method, a DC plasma CVD method, a high frequency plasma CVD method, and a magnetic field plasma CVD method using a hydrocarbon gas as a raw material. The above-described FCVA method is preferable in that a substrate having a complicated shape can be uniformly coated and a film having a high adhesion to the substrate even at room temperature can be formed.

以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されるものではない。   As described above, the preferred embodiments of the present invention have been described, but the present invention is not limited to these embodiments.

1 成膜装置
10 基材
30 膜
32 第1表面
34 第2表面
50 アモルファスカーボン
70 ゼオライト
90 金属
100 部材
110 アークプラズマ生成部
120 フィルタ部
130 成膜チャンバ部
150 アトマイザ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Film-forming apparatus 10 Base material 30 Film 32 1st surface 34 2nd surface 50 Amorphous carbon 70 Zeolite 90 Metal 100 Member 110 Arc plasma generating unit 120 Filter unit 130 Film-forming chamber unit 150 Atomizer

Claims (11)

基材と、
前記基材上に形成された膜とを有し、
前記膜が、
アモルファスカーボンと、
金属を内包するゼオライトとを含む部材。
A substrate,
Having a film formed on the substrate,
The membrane is
Amorphous carbon,
A zeolite containing metal;
前記金属を内包するゼオライトが、前記アモルファスカーボン中に分散している請求項1に記載の部材。   The member according to claim 1, wherein the zeolite including the metal is dispersed in the amorphous carbon. 前記金属が、銀、水銀、白金、銅、カドミウム、金、コバルト、ニッケル、及び鉛からなる群から選択される少なくとも一種を含む請求項1又は2に記載の部材。   The member according to claim 1, wherein the metal includes at least one selected from the group consisting of silver, mercury, platinum, copper, cadmium, gold, cobalt, nickel, and lead. 前記金属が銀を含む請求項3に記載の部材。   The member according to claim 3, wherein the metal includes silver. 前記膜が、前記基材に接触する第1表面と、前記第1表面の反対面である第2表面を有し、
前記第1表面における前記ゼオライトの含有率が、前記第2表面における前記ゼオライトの含有率よりも高い請求項1〜4のいずれか一項に記載の部材。
The film has a first surface in contact with the substrate, and a second surface opposite the first surface;
The member according to any one of claims 1 to 4, wherein a content of the zeolite on the first surface is higher than a content of the zeolite on the second surface.
前記アモルファスカーボンが、sp混成軌道を用いて結合を形成している炭素原子及びsp混成軌道を用いて結合を形成している炭素原子を含む請求項1〜5のいずれか一項に記載の部材。 The amorphous carbon, according to any one of claims 1-5 containing a carbon atom forming a bond with a carbon atom and sp 3 hybrid orbital to form a bond with sp 2 hybrid orbital Members. 前記膜中において、前記sp混成軌道を用いて結合を形成している炭素原子の数と前記sp混成軌道を用いて結合を形成している炭素原子の数の合計に対する前記sp混成軌道を用いて結合を形成している炭素原子の数の割合が15〜85原子%である請求項6に記載の部材。 In the film, the sp 2 hybrid orbital with respect to the sum of the number of carbon atoms forming a bond using the sp 2 hybrid orbital and the number of carbon atoms forming a bond using the sp 3 hybrid orbital The member according to claim 6, wherein the ratio of the number of carbon atoms forming a bond by using is 15 to 85 atomic%. 前記膜中において、前記sp混成軌道を用いて結合を形成している炭素原子の数と前記sp混成軌道を用いて結合を形成している炭素原子の数の合計に対する前記sp混成軌道を用いて結合を形成している炭素原子の数の割合が50原子%未満である請求項6に記載の部材。 In the film, the sp 2 hybrid orbital with respect to the sum of the number of carbon atoms forming a bond using the sp 2 hybrid orbital and the number of carbon atoms forming a bond using the sp 3 hybrid orbital The member according to claim 6, wherein the ratio of the number of carbon atoms forming a bond by using is less than 50 atomic%. 前記膜の前記第2表面において、前記sp混成軌道を用いて結合を形成している炭素原子の数と前記sp混成軌道を用いて結合を形成している炭素原子の数の合計に対する前記sp混成軌道を用いて結合を形成している炭素原子の数の割合が15〜85原子%である請求項5〜8のいずれか一項に記載の部材。 On the second surface of the film, the number of carbon atoms forming a bond using the sp 2 hybrid orbital and the number of carbon atoms forming a bond using the sp 3 hybrid orbital member according to any one of claims 5-8 percentage of the number of carbon atoms forming the bond with sp 2 hybrid orbital is 15 to 85 atomic%. 請求項1〜9のいずれか一項に記載の部材を含む医療器具、建材又は日用品。   A medical device, a building material, or a daily necessity comprising the member according to claim 1. 金属を内包するゼオライトをキャリアガスに混合して噴霧しながら、フィルタードカソーディックバキュームアーク法により基材上にアモルファスカーボンを成膜することにより、前記アモルファスカーボン中に前記ゼオライトが分散した膜を前記基材上に形成することを含む、部材の製造方法。
By mixing and spraying a zeolite encapsulating metal with a carrier gas and forming a film of amorphous carbon on a substrate by a filtered cathodic vacuum arc method, a film in which the zeolite is dispersed in the amorphous carbon is formed. A method for producing a member, comprising forming the member on a substrate.
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