JP2020023077A - Element substrate, recording head, and recording device - Google Patents

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卓 谷口
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Abstract

To arrange a memory and a temperature detection sensor while suppressing a size increase in an element substrate.SOLUTION: Power for reading and writing information is supplied to a memory, power for temperature detection is supplied to a sensor for detecting temperature, and further, a wiring and a terminal for outputting the temperature information from the sensor are made common. Also, the power for reading and writing information is supplied to the memory, a wiring and a terminal for supplying power for temperature detection to the sensor for detecting temperature are made common, and a wiring and a terminal for outputting the temperature information from the sensor are independently provided.SELECTED DRAWING: Figure 7

Description

本発明は素子基板、記録ヘッド、及び記録装置に関し、特に、例えば、温度センサを備えた素子基板、その素子基板を用いた記録ヘッド、その記録ヘッドを用いた記録装置に関する。   The present invention relates to an element substrate, a recording head, and a recording apparatus, and more particularly to, for example, an element substrate including a temperature sensor, a recording head using the element substrate, and a recording apparatus using the recording head.

従来の記録ヘッドに搭載される素子基板において、製品IDや設定パラメータ等の固有情報をヘッド内部に記録するOTP(One Time Programmable)ROMとしてPolyヒューズメモリが知られている。Polyヒューズメモリは、トランジスタのゲート配線や抵抗素子等を形成するPolyシリコンを用いたものであり、既存の半導体製造工程に何らかの工程を追加することなく、素子基板上にメモリを形成できる利点がある。   In an element substrate mounted on a conventional recording head, a Poly fuse memory is known as an OTP (One Time Programmable) ROM for recording unique information such as a product ID and setting parameters inside the head. The Poly fuse memory uses Poly silicon for forming a gate wiring and a resistance element of a transistor, and has an advantage that a memory can be formed on an element substrate without adding any process to an existing semiconductor manufacturing process. .

近年、Polyヒューズメモリと比較してメモリモジュールを小さくすることができ、且つ従来の半導体製造工程を用いて新たな工程を追加することなく作成可能なメモリとして、特許文献1に開示されているアンチヒューズメモリが知られている。これは、MOSトランジスタのゲート酸化膜をメモリとして形成したものであり、ゲート酸化膜に過電圧を印加、短絡させてその特性変化をメモリとして使用するものである。   In recent years, Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-163,086 discloses a memory that can be made smaller in memory module as compared with a Poly fuse memory and can be created without adding a new process using a conventional semiconductor manufacturing process. Fuse memories are known. In this method, a gate oxide film of a MOS transistor is formed as a memory, and an overvoltage is applied to the gate oxide film and short-circuited to use the characteristic change as a memory.

また一方で、記録ヘッドは温度とインクの滴径および吐出速度などとの間に密接な関係があり、これらが画像濃度に影響を与え、記録品位を左右するので、記録ヘッドに実装する素子基板の温度の検出は重要な役割を占めている。そこで、記録ヘッドの素子基板に設けられる温度検出モジュールとして、半導体製造工程によってシリコン基板上に形成できるダイオードセンサなどが利用されている。   On the other hand, the print head has a close relationship between the temperature, the ink droplet diameter, the ejection speed, etc., which affects the image density and affects the print quality. Temperature detection plays an important role. Therefore, as a temperature detection module provided on an element substrate of a recording head, a diode sensor or the like that can be formed on a silicon substrate by a semiconductor manufacturing process is used.

さて、温度検出のためにダイオードセンサに定電流を供給した時の出力電圧は、配線抵抗が大きくなるほど配線での電圧降下が大きくなるので、低下してしまう。この結果、温度検出精度が低下する。   By the way, the output voltage when a constant current is supplied to the diode sensor for detecting the temperature decreases because the voltage drop in the wiring increases as the wiring resistance increases. As a result, the temperature detection accuracy decreases.

このためダイオードセンサによる温度検出精度を向上させるため、配線抵抗の影響を最小限にすることが必要になる。従来からも温度検出のためのダイオードセンサへの定電流供給と電圧監視とを兼用した端子を用いた測定において、その端子への配線幅を可能な限り太くして、配線抵抗を可能な限り小さくする方法がある。   For this reason, in order to improve the temperature detection accuracy by the diode sensor, it is necessary to minimize the influence of the wiring resistance. Conventionally, when measuring using a terminal that also serves as a constant current supply to the diode sensor for temperature detection and voltage monitoring, the wiring width to that terminal is made as large as possible, and the wiring resistance is made as small as possible. There is a way to do that.

特開2014−058130号公報JP 2014-0558130 A

しかしながら上記従来例では、素子基板上に広い配線領域が必要となるという問題がある。このため、配線抵抗の影響を最小限にする別の構成として、温度検出のための定電流供給とダイオード近傍の電圧監視を行う端子を個別に設けた構成が考えられるが、このような構成では、素子基板に備える端子数が増加するという別の問題が生じてしまう。このように、いずれの測定にしても、ダイオードセンサを用いて高精度に温度測定しようとすると、配線領域や端子数増加に伴う素子基板のサイズの増大を招くという課題があった。   However, the above conventional example has a problem that a large wiring area is required on the element substrate. Therefore, as another configuration for minimizing the influence of wiring resistance, a configuration in which a constant current supply terminal for temperature detection and a terminal for monitoring the voltage near the diode are separately provided can be considered. Another problem occurs in that the number of terminals provided on the element substrate increases. As described above, in any measurement, there is a problem that an attempt to measure the temperature with high accuracy using the diode sensor causes an increase in the size of the element substrate due to an increase in the wiring area and the number of terminals.

特に、素子基板上において、複数の記録素子を配列して形成される記録素子列の中央部付近にダイオードセンサを配置した場合、電気的な接続のために入出力端子からダイオードセンサまで配線を長い距離を這い回す必要があるため、上記課題がより顕著となる。   In particular, when a diode sensor is arranged near the center of a printing element array formed by arranging a plurality of printing elements on an element substrate, the wiring from the input / output terminal to the diode sensor is long for electrical connection. Since it is necessary to crawl the distance, the above problem becomes more remarkable.

本発明は上記従来例に鑑みてなされたもので、小型化を図りながら高精度に温度検出を行うことが可能なセンサを備えた素子基板、その素子基板を用いた記録ヘッド、その記録ヘッドを用いた記録装置を提供すること目的としている。   The present invention has been made in view of the above-described conventional example, and has an element substrate including a sensor capable of performing temperature detection with high accuracy while reducing the size, a recording head using the element substrate, and a recording head using the element substrate. It is an object to provide a recording device used.

上記目的を達成するために本発明の素子基板は次のような構成からなる。   In order to achieve the above object, an element substrate according to the present invention has the following configuration.

即ち、複数の記録素子と、情報の読み書きが可能なメモリと、温度を検出するセンサとを備えた素子基板であって、前記メモリに情報の読み書きを行うための電力と、前記センサに温度検出のための電力を供給するとともに、前記センサからの温度情報を出力するための第1の端子と、前記メモリ及び前記センサを前記第1の端子に接続する第1の配線とを有することを特徴とする。   That is, an element substrate including a plurality of recording elements, a memory capable of reading and writing information, and a sensor for detecting temperature, an electric power for reading and writing information in and from the memory, and a sensor for detecting temperature in the sensor. A first terminal for supplying power for the power supply and outputting temperature information from the sensor, and a first wiring connecting the memory and the sensor to the first terminal. And

あるいは、複数の記録素子と、情報の読み書きが可能なメモリと、温度を検出するセンサとを備えた素子基板であって、前記メモリに情報の読み書きを行うための電力と、前記センサに温度検出のための電力を供給するための第1の端子と、前記センサからの温度情報を出力するための第2の端子と、前記メモリ及び前記センサに電力を供給するため前記第1の端子に接続する第1の配線と、前記センサを前記第2の端子に接続する第2の配線とを有することを特徴としても良い。   Alternatively, an element substrate including a plurality of recording elements, a memory capable of reading and writing information, and a sensor for detecting temperature, a power for reading and writing information from and to the memory, Terminal for supplying power for the first and second terminals for outputting temperature information from the sensor, and connected to the first terminal for supplying power to the memory and the sensor. And a second wiring connecting the sensor to the second terminal.

また本発明を別の側面から見れば、上記構成の素子基板を備えた記録ヘッドを備える。   According to another aspect of the invention, there is provided a recording head including the element substrate having the above-described configuration.

さらに本発明を別の側面から見れば、上記記録ヘッドを備えた記録装置を備える。   According to another aspect of the invention, there is provided a recording apparatus including the recording head.

従って本発明によれば、素子基板の小型化を図りながら高精度に温度検出を行うことができるという効果がある。これにより、この素子基板を用いた記録ヘッドにより記録を行うことで高品位な記録が達成できる。   Therefore, according to the present invention, there is an effect that the temperature can be detected with high accuracy while reducing the size of the element substrate. Thus, high-quality recording can be achieved by performing recording with a recording head using this element substrate.

本発明の代表的な実施例であるインクジェット記録装置の構成を示す概観斜視図である。1 is a schematic perspective view illustrating a configuration of an inkjet recording apparatus that is a typical embodiment of the present invention. 図1に示した記録装置の制御構成を示すブロック図である。FIG. 2 is a block diagram illustrating a control configuration of the printing apparatus illustrated in FIG. 1. ヘッドホルダの構造を示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view illustrating a structure of a head holder. ヘッドホルダの分解斜視図である。It is an exploded perspective view of a head holder. 記録ヘッドの構成を説明するための部分破断斜視図である。FIG. 3 is a partially cutaway perspective view for explaining a configuration of a recording head. 実施例1に従うヘッド基板のレイアウト構成を示す平面図である。FIG. 3 is a plan view showing a layout configuration of a head substrate according to the first embodiment. 実施例1に従うヘッド基板の要部の詳細な構成を示す回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram showing a detailed configuration of a main part of the head substrate according to the first embodiment. ヘッド基板に実装されるメモリモジュールの構成を示す回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram illustrating a configuration of a memory module mounted on a head substrate. 実施例2に従うヘッド基板のレイアウト構成を示す平面図である。FIG. 9 is a plan view showing a layout configuration of a head substrate according to a second embodiment. 実施例2に従うヘッド基板の要部の詳細な構成を示す回路図である。FIG. 9 is a circuit diagram showing a detailed configuration of a main part of a head substrate according to a second embodiment.

以下添付図面を参照して本発明の好適な実施例について、さらに具体的かつ詳細に説明する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described more specifically and in detail with reference to the accompanying drawings.

なお、この明細書において、「記録」(「プリント」という場合もある)とは、文字、図形等有意の情報を形成する場合のみならず、有意無意を問わない。さらに人間が視覚で知覚し得るように顕在化したものであるか否かも問わず、広く記録媒体上に画像、模様、パターン等を形成する、または媒体の加工を行う場合も表すものとする。   In this specification, “recording” (also referred to as “print”) means not only forming significant information such as characters and figures, but also meaningless. Furthermore, regardless of whether or not the image is visualized so that a human can perceive it visually, it is also assumed that an image, a pattern, a pattern, or the like is widely formed on a recording medium or a medium is processed.

また、「記録媒体」とは、一般的な記録装置で用いられる紙のみならず、広く、布、プラスチック・フィルム、金属板、ガラス、セラミックス、木材、皮革等、インクを受容可能なものも表すものとする。   In addition, the term “recording medium” refers to not only paper used in general recording apparatuses, but also broadly those that can accept ink, such as cloth, plastic films, metal plates, glass, ceramics, wood, and leather. Shall be.

さらに、「インク」(「液体」と言う場合もある)とは、上記「記録(プリント)」の定義と同様広く解釈されるべきものである。従って、記録媒体上に付与されることによって、画像、模様、パターン等の形成または記録媒体の加工、或いはインクの処理(例えば記録媒体に付与されるインク中の色剤の凝固または不溶化)に供され得る液体を表すものとする。   Further, “ink” (sometimes referred to as “liquid”) is to be widely interpreted similarly to the definition of “recording (printing)”. Therefore, by being applied on the recording medium, it is used for forming an image, a pattern, a pattern, or the like, processing the recording medium, or processing ink (for example, solidifying or insolubilizing a coloring material in the ink applied to the recording medium). Shall represent liquids that can be used.

またさらに、「記録要素(又はノズル)」とは、特にことわらない限り吐出口ないしこれに連通する液路およびインク吐出に利用されるエネルギーを発生する素子を総括して言うものとする。   Further, the “recording element (or nozzle)” generally refers to an ejection port, a liquid path communicating with the ejection port, and an element that generates energy used for ink ejection, unless otherwise specified.

以下に用いる記録ヘッド用の素子基板(ヘッド基板)とは、シリコン半導体からなる単なる基体を指し示すものではなく、各素子や配線等が設けられた構成を差し示すものである。   An element substrate (head substrate) for a recording head used below does not indicate a simple substrate made of a silicon semiconductor, but indicates a configuration provided with each element, wiring, and the like.

さらに、基板上とは、単に素子基板の上を指し示すだけでなく、素子基板の表面、表面近傍の素子基板内部側をも示すものである。また、本発明でいう「作り込み(built−in)」とは、別体の各素子を単に基体表面上に別体として配置することを指し示している言葉ではなく、各素子を半導体回路の製造工程等によって素子板上に一体的に形成、製造することを示すものである。   Further, the term “on the substrate” refers not only to the top of the element substrate but also to the surface of the element substrate and the inside of the element substrate near the surface. The term "built-in" as used in the present invention is not a word indicating that the individual elements are simply arranged as separate elements on the surface of the base, but the elements are manufactured in a semiconductor circuit. This indicates that the device is integrally formed and manufactured on an element plate by a process or the like.

<インクジェット記録装置の説明(図1)>
図1は本発明の代表的な実施例であるインクジェット記録装置1の構成の概要を示す外観斜視図である。
<Description of inkjet recording apparatus (FIG. 1)>
FIG. 1 is an external perspective view showing an outline of a configuration of an ink jet recording apparatus 1 which is a typical embodiment of the present invention.

図1に示すように、インクジェット記録装置(以下、記録装置)はインクジェット方式に従ってインクを吐出して記録を行なうインクジェット記録ヘッド(以下、記録ヘッド)3をキャリッジ2に搭載し、キャリッジ2を矢印A方向に往復移動させて記録を行う。記録紙などの記録媒体Pを給紙機構5を介して給紙し、記録位置まで搬送し、その記録位置において記録ヘッド3から記録媒体Pにインクを吐出することで記録を行なう。   As shown in FIG. 1, an ink jet recording apparatus (hereinafter, a recording apparatus) has an ink jet recording head (hereinafter, a recording head) 3 which performs recording by discharging ink according to an ink jet system mounted on a carriage 2, and the carriage 2 has an arrow A. The recording is performed by reciprocating in the direction. A recording medium P such as recording paper is fed through a paper feeding mechanism 5 and conveyed to a recording position, where recording is performed by discharging ink onto the recording medium P from the recording head 3 at the recording position.

記録装置1のキャリッジ2には記録ヘッド3を搭載するのみならず、記録ヘッド3に供給するインクを貯留するインクカートリッジ6を装着する。インクカートリッジ6はキャリッジ2に対して着脱自在になっている。   The recording head 1 is mounted not only on the carriage 2 of the recording apparatus 1 but also with an ink cartridge 6 for storing ink to be supplied to the recording head 3. The ink cartridge 6 is detachable from the carriage 2.

図1に示した記録装置1はカラー記録が可能であり、そのためにキャリッジ2にはマゼンタ(M)、シアン(C)、イエロ(Y)、ブラック(K)のインクを夫々、収容した4つのインクカートリッジを搭載している。これら4つのインクカートリッジは夫々独立に着脱可能である。   The printing apparatus 1 shown in FIG. 1 is capable of performing color printing. Therefore, the carriage 2 has four carriages containing magenta (M), cyan (C), yellow (Y), and black (K) inks, respectively. Equipped with an ink cartridge. These four ink cartridges are independently detachable.

この実施例の記録ヘッド3は、熱エネルギを利用してインクを吐出するインクジェット方式を採用している。このため、電気熱変換体を備えている。この電気熱変換体は各吐出口のそれぞれに対応して設けられ、記録信号に応じて対応する電気熱変換体にパルス電圧を印加することによって対応する吐出口からインクを吐出する。   The recording head 3 of this embodiment employs an ink-jet method of discharging ink using thermal energy. Therefore, an electrothermal converter is provided. The electrothermal transducers are provided corresponding to the respective ejection ports, and discharge ink from the corresponding ejection ports by applying a pulse voltage to the corresponding electrothermal transducer in accordance with a recording signal.

また、図1に示す例では、記録ヘッド3とインクカートリッジ6とが分離している構成であるが、記録ヘッドとインクカートリッジとが一体となったヘッドカートリッジを用いても良い。   Further, in the example shown in FIG. 1, the recording head 3 and the ink cartridge 6 are separated, but a head cartridge in which the recording head and the ink cartridge are integrated may be used.

<インクジェット記録装置の制御構成(図2)>
図2は図1に示した記録装置の制御構成を示すブロック図である。
<Control configuration of inkjet recording apparatus (FIG. 2)>
FIG. 2 is a block diagram showing a control configuration of the printing apparatus shown in FIG.

図2に示すように、コントローラ600は、MPU601、ROM602、特殊用途集積回路(ASIC)603、RAM604、システムバス605、A/D変換器606などで構成される。ここで、ROM602は後述する制御シーケンスに対応したプログラム、所要のテーブル、その他の固定データを格納する。ASIC603は、キャリッジモータM1の制御、搬送モータM2の制御、及び、記録ヘッド3の制御のための制御信号を生成する。RAM604は、画像データの展開領域やプログラム実行のための作業用領域等として用いられる。システムバス605は、MPU601、ASIC603、RAM604を相互に接続してデータの授受を行う。A/D変換器606は以下に説明するセンサ群からのアナログ信号を入力してA/D変換し、デジタル信号をMPU601に供給する。   As shown in FIG. 2, the controller 600 includes an MPU 601, a ROM 602, a special-purpose integrated circuit (ASIC) 603, a RAM 604, a system bus 605, an A / D converter 606, and the like. Here, the ROM 602 stores a program corresponding to a control sequence described later, a required table, and other fixed data. The ASIC 603 generates control signals for controlling the carriage motor M1, controlling the transport motor M2, and controlling the recording head 3. The RAM 604 is used as a development area for image data, a work area for executing programs, and the like. A system bus 605 interconnects the MPU 601, the ASIC 603, and the RAM 604 to exchange data. The A / D converter 606 inputs an analog signal from a sensor group described below, performs A / D conversion, and supplies a digital signal to the MPU 601.

また、図2において、610は画像データの供給源となるコンピュータ(或いは、画像読取り用のリーダやデジタルカメラなど)でありホスト装置と総称される。ホスト装置610と記録装置1との間ではインタフェース(I/F)611を介して画像データ、コマンド、ステータス信号等を送受信する。この画像データは、例えば、ラスタ形式で入力される。   In FIG. 2, reference numeral 610 denotes a computer (or a reader for reading images, a digital camera, or the like) serving as a supply source of image data, and is generally called a host device. Image data, commands, status signals, and the like are transmitted and received between the host device 610 and the recording device 1 via an interface (I / F) 611. This image data is input, for example, in a raster format.

さらに、620はスイッチ群であり、電源スイッチ621、プリントスイッチ622、回復スイッチ623などから構成される。   A switch group 620 includes a power switch 621, a print switch 622, a recovery switch 623, and the like.

630は装置状態を検出するためのセンサ群であり、位置センサ631、温度センサ632等から構成される。   A sensor group 630 for detecting the state of the apparatus includes a position sensor 631, a temperature sensor 632, and the like.

さらに、640はキャリッジ2を矢印A方向に往復走査させるためのキャリッジモータM1を駆動させるキャリッジモータドライバ、642は記録媒体Pを搬送するための搬送モータM2を駆動させる搬送モータドライバである。また、644はコントローラ600から転送される記録データや制御信号に基づいて記録ヘッドを駆動するヘッドドライバである。   Reference numeral 640 denotes a carriage motor driver for driving a carriage motor M1 for reciprocally scanning the carriage 2 in the direction of arrow A, and reference numeral 642 denotes a transport motor driver for driving a transport motor M2 for transporting the recording medium P. Reference numeral 644 denotes a head driver that drives the print head based on print data and control signals transferred from the controller 600.

ASIC603は、記録ヘッド3による記録走査の際に、RAM604の記憶領域に直接アクセスしながら記録ヘッドに対して記録素子(吐出用のヒータ)を駆動するためのデータを転送する。   The ASIC 603 transfers data for driving a print element (ejection heater) to the print head while directly accessing the storage area of the RAM 604 during print scan by the print head 3.

そして、電力供給装置100がコントローラ600に対して電力を供給する。また、電力供給装置100は各ドライバ、各モータ、記録ヘッド、センサ群、スイッチ群、また、各機構部など装置各部の動作に必要な電力を供給することができる。   Then, the power supply device 100 supplies power to the controller 600. Further, the power supply device 100 can supply power required for the operation of each unit of the device such as each driver, each motor, the recording head, the sensor group, the switch group, and each mechanism unit.

<記録ヘッドの構成(図3〜図5)>
図3はヘッドホルダの構造を示す斜視図である。
<Configuration of Recording Head (FIGS. 3 to 5)>
FIG. 3 is a perspective view showing the structure of the head holder.

記録ヘッド3は図3に示されているようにヘッドホルダ30に組み込まれ、ヘッドホルダ30が記録装置が搭載するインクタンクとは別々にキャリッジ2に搭載される。   The recording head 3 is incorporated in a head holder 30 as shown in FIG. 3, and the head holder 30 is mounted on the carriage 2 separately from the ink tank mounted on the recording apparatus.

図4はヘッドホルダの分解斜視図である。ヘッドホルダ30は、記録ヘッド3、ヘッド固定部1200、電気配線テープ1300、インクタンク保持部1500から構成されている。   FIG. 4 is an exploded perspective view of the head holder. The head holder 30 includes the recording head 3, a head fixing section 1200, an electric wiring tape 1300, and an ink tank holding section 1500.

以下、記録ヘッド3の構成要素を詳細に説明する。   Hereinafter, the components of the recording head 3 will be described in detail.

なお、インクタンク保持部1500には、図1に示したように、YMCKインクを夫々収容した4つのインクカートリッジが搭載される。このため、記録ヘッド3は4色のインクを吐出するために4つのインク供給口が形成されるが、ここでは説明を簡単にするために1色のインクを吐出する1つのインク供給口を形成した構成を例として説明する。   In addition, as shown in FIG. 1, four ink cartridges each containing YMCK ink are mounted on the ink tank holding unit 1500. For this reason, the recording head 3 is formed with four ink supply ports for ejecting four color inks. Here, for simplicity of description, one ink supply port for ejecting one color ink is formed. The configuration described above will be described as an example.

記録ヘッド3は、電気信号に応じて膜沸騰をインクに対して生じさせるための熱エネルギーを生成する電気熱変換体を備えた素子基板を備えている。記録ヘッド3は、電気熱変換体とインク吐出口とが対向するように配置されている。   The recording head 3 includes an element substrate provided with an electrothermal converter for generating thermal energy for causing ink to cause film boiling in response to an electric signal. The recording head 3 is arranged so that the electrothermal transducer and the ink ejection port face each other.

図5は記録ヘッド3の構成を説明するための部分破断斜視図である。   FIG. 5 is a partially cutaway perspective view for explaining the configuration of the recording head 3.

記録ヘッド3は、例えば、厚さ0.5mm〜1mmのSi(シリコン)基板に、インクをその基板の裏面から流すための貫通口であるインク供給口408を形成したヘッド基板400を有している。   The recording head 3 has, for example, a head substrate 400 in which an ink supply port 408 that is a through-hole for flowing ink from the back surface of the substrate is formed on a 0.5 mm to 1 mm thick Si (silicon) substrate. I have.

ヘッド基板400には、インク供給口408を挟んでその両側に、インク供給口408に沿って電気熱変換素子(記録素子)Rhが配列されており(この実施例ではインク供給口の両側に1列ずつ並べて配置している)。さらに電気熱変換素子Rhに電力を供給するアルミニウム(Al)などで構成される電気配線(不図示)がインク供給口408から所定の距離を離して並設されている。これら電気熱変換素子Rhと電気配線は、既存の成膜技術(例えば、フォトリソグラフィ技術)を利用して形成することができる。   On the head substrate 400, on both sides of the ink supply port 408, electrothermal transducers (recording elements) Rh are arranged along the ink supply port 408 (in this embodiment, one side is provided on both sides of the ink supply port). Arranged side by side). Further, electric wiring (not shown) made of aluminum (Al) or the like for supplying electric power to the electrothermal conversion element Rh is arranged in parallel at a predetermined distance from the ink supply port 408. The electrothermal transducer Rh and the electric wiring can be formed by using an existing film forming technique (for example, photolithography technique).

また、ヘッド基板400には、電気配線に電力を供給したり、電気熱変換素子Rhを駆動するための電気信号を供給したりするための電極部(接続端子)1104が電気熱変換素子Rhの列の両端に位置する側の辺部に沿って配列されている。それぞれの電極部1104はAuなどからなるバンプ1105が形成されていても良い。   In addition, the head substrate 400 has an electrode portion (connection terminal) 1104 for supplying electric power to the electric wiring and supplying an electric signal for driving the electrothermal conversion element Rh, to the electrothermal conversion element Rh. The rows are arranged along the sides located on both ends. Each electrode portion 1104 may be formed with a bump 1105 made of Au or the like.

また、ヘッド基板400の面上には、電気熱変換素子Rhに対応してインク流路を構成する樹脂材料からなる構造体がフォトリソグラフィー技術によって形成されている。この構造体は、各インク流路を区切るインク流路壁1106とその上方を覆う天井部とを有し、天井部には吐出口1107が開口されている。吐出口1107は、電気熱変換素子Rhのそれぞれに対向して設けられており、これにより吐出口群1108を形成している。このようにして、インクを吐出する記録素子が構成される。   On the surface of the head substrate 400, a structure made of a resin material constituting an ink flow path is formed by photolithography technology corresponding to the electrothermal transducer Rh. This structure has an ink flow path wall 1106 that divides each ink flow path, and a ceiling that covers the ink flow path wall 1106, and a discharge port 1107 is opened in the ceiling. The discharge ports 1107 are provided to face each of the electrothermal transducers Rh, thereby forming a discharge port group 1108. Thus, a recording element that ejects ink is configured.

図5に示す例では、上述のように、インク供給口408を挟んでその両側に、インク供給口408に沿って複数の電気熱変換素子(記録素子)Rhが配列されて記録素子列を形成し、さらに各記録素子に対応して吐出口が形成される。この実施例では、インク供給口408の両側それぞれの記録素子は解像度600dpiのピッチで配列され、片側の記録素子に対して反対側の記録素子が1/2ピッチずれて配列される。従って、両側の記録素子により記録素子列の方向に1200dpiの解像度で記録が可能となっている。   In the example shown in FIG. 5, as described above, a plurality of electrothermal conversion elements (recording elements) Rh are arranged along the ink supply port 408 on both sides of the ink supply port 408 to form a recording element row. Further, ejection ports are formed corresponding to the respective printing elements. In this embodiment, the recording elements on both sides of the ink supply port 408 are arranged at a pitch of 600 dpi, and the recording elements on the opposite side are arranged with a shift of ピ ッ チ pitch from the recording elements on one side. Therefore, printing can be performed at a resolution of 1200 dpi in the direction of the printing element array by the printing elements on both sides.

上記のように構成された記録ヘッドH1100において、インク供給口408から供給されたインクは、各電気熱変換素子Rhの発熱によって発生した気泡の圧力によって、各電気熱変換素子Rhに対向する吐出口1107から吐出される。   In the recording head H1100 configured as described above, the ink supplied from the ink supply port 408 is supplied to the ejection port facing each electrothermal conversion element Rh by the pressure of the bubbles generated by the heat generated by each electrothermal conversion element Rh. Discharged from 1107.

次に、以上の構成に記録ヘッド3に組み込まれるヘッド基板の構成について実施例について説明する。   Next, an embodiment of the configuration of the head substrate incorporated in the recording head 3 in the above configuration will be described.

図6は実施例1に従うヘッド基板のレイアウト構成を示す平面図である。   FIG. 6 is a plan view showing a layout configuration of the head substrate according to the first embodiment.

図6に示すように、ヘッド基板400はその長辺方向にインク供給口408が形成され、インク供給口408に沿って両側に吐出モジュール204が2列配列される。また、インク供給口408に沿って片側にはメモリモジュール206が配列される。同様に、インク供給口408に沿って片側に共通ロジックバス配線402が配置される。また、複数のメモリモジュール206と複数のメモリモジュール206との間には温度検出モジュール208が配置される。   As shown in FIG. 6, the ink supply ports 408 are formed in the long side direction of the head substrate 400, and the ejection modules 204 are arranged in two rows on both sides along the ink supply ports 408. The memory modules 206 are arranged on one side along the ink supply port 408. Similarly, a common logic bus line 402 is arranged on one side along the ink supply port 408. Further, a temperature detection module 208 is arranged between the plurality of memory modules 206.

図7は実施例1に従うヘッド基板の要部の詳細な構成を示す回路図である。   FIG. 7 is a circuit diagram showing a detailed configuration of a main part of the head substrate according to the first embodiment.

図7に示すように、吐出モジュール204は、記録素子Rh、記録素子Rhを駆動する駆動素子(DMOSトランジスタ)204a、記録素子を選択する選択回路(AND回路)204bで構成される。記録素子Rhを駆動することにより、即ち、記録素子Rhを通電させて熱を発生させることにより、インクが吐出され、記録を行うことができる。   As shown in FIG. 7, the ejection module 204 includes a printing element Rh, a driving element (DMOS transistor) 204a for driving the printing element Rh, and a selection circuit (AND circuit) 204b for selecting the printing element. By driving the recording element Rh, that is, by applying heat to the recording element Rh to generate heat, ink is ejected and recording can be performed.

メモリモジュール206は、アンチヒューズ素子AF、抵抗素子Rp、アンチヒューズ素子AFに情報を書き込むための駆動素子206a、アンチヒューズ素子AFを選択する選択回路(AND回路)206bで構成される。選択回路204bと選択回路206bは共通ロジックバス配線402に接続され、さらに制御データ供給回路201に接続され、ロジックバス配線402を吐出モジュール204とメモリモジュール206とで兼用している。アンチヒューズ素子AFは、過電圧が印加されることにより情報を固定的に保持する、即ち、1回だけプログラム可能なメモリとして機能する。駆動素子206aは、制御データ供給回路201からの論理データ信号によって制御される。   The memory module 206 includes an anti-fuse element AF, a resistance element Rp, a drive element 206a for writing information to the anti-fuse element AF, and a selection circuit (AND circuit) 206b for selecting the anti-fuse element AF. The selection circuit 204b and the selection circuit 206b are connected to the common logic bus wiring 402, and further connected to the control data supply circuit 201, and the ejection bus 204 and the memory module 206 share the logic bus wiring 402. The anti-fuse element AF holds information in a fixed manner when an overvoltage is applied, that is, functions as a memory that can be programmed only once. The drive element 206a is controlled by a logical data signal from the control data supply circuit 201.

また、温度検出モジュール208は、温度検出素子DIとして動作するダイオード素子で構成されたダイオードセンサであり、複数のメモリモジュール206で構成されるモジュール列中の中央部付近に1つ配置される。   The temperature detection module 208 is a diode sensor including a diode element that operates as the temperature detection element DI, and is disposed near a central portion in a module row including a plurality of memory modules 206.

制御データ供給回路201は、例えば、不図示のシフトレジスタやラッチ回路等によって構成される。制御データ供給回路201には、記録装置の本体部からクロック信号CLK、画像データ信号DATA、ラッチ信号LT、記録素子制御信号HE等の論理データ信号が入力される。また、選択回路204b/206b並びに制御データ供給回路201には、ロジック用の電源電圧として電源電圧VDD(例えば、3〜5V)が供給される。   The control data supply circuit 201 includes, for example, a shift register and a latch circuit (not shown). The control data supply circuit 201 receives logic data signals such as a clock signal CLK, an image data signal DATA, a latch signal LT, and a print element control signal HE from the main body of the printing apparatus. A power supply voltage VDD (for example, 3 to 5 V) is supplied to the selection circuits 204b / 206b and the control data supply circuit 201 as a logic power supply voltage.

ここで、制御データ供給回路201は、其々がn個の吐出モジュール204を有するm個のグループについて、グループごとに吐出モジュール204を制御して記録素子Rhを時分割駆動制御する。具体的には、ブロック選択信号202のうち少なくとも1ビットと、時分割選択信号203のうち少なくとも1ビットと、切替信号205のうち少なくとも1ビットとを各々吐出モジュール204が受信する事で記録素子Rhを時分割制御する。ブロック選択信号202は制御データ供給回路201からmビット出力される。時分割選択信号203は制御データ供給回路201からnビット出力される。切替信号205は制御データ供給回路201から少なくとも1ビット出力される。   Here, the control data supply circuit 201 controls the ejection modules 204 for each of the m groups each having n ejection modules 204 to perform time-division driving control of the recording element Rh. More specifically, the ejection element 204 receives at least one bit of the block selection signal 202, at least one bit of the time division selection signal 203, and at least one bit of the switching signal 205, so that the recording element Rh Is time-divisionally controlled. The block selection signal 202 is output from the control data supply circuit 201 by m bits. The time division selection signal 203 is output from the control data supply circuit 201 for n bits. The control signal supply circuit 201 outputs at least one bit of the switching signal 205.

また、制御データ供給回路201は、其々がx個のメモリモジュール206を有するy個のグループについて、グループ毎にメモリモジュール206を制御してアンチヒューズ素子AFを時分割駆動制御する。具体的には、ブロック選択信号202、時分割選択信号203、および切替信号205の各信号の少なくとも1ビットずつを各々メモリモジュール206が受信する事でアンチヒューズ素子AFを時分割制御する。この時、吐出モジュール204とメモリモジュール206は切替信号205により排他的に駆動され、全ての記録素子Rhと全てのアンチヒューズ素子AFが同一の時間において駆動されないよう構成されている。   Further, the control data supply circuit 201 controls the memory modules 206 for each of the y groups each having x memory modules 206 to perform time-division driving control of the anti-fuse element AF. More specifically, the memory module 206 receives at least one bit of each of the block selection signal 202, the time division selection signal 203, and the switching signal 205, so that the antifuse element AF is time division controlled. At this time, the ejection module 204 and the memory module 206 are exclusively driven by the switching signal 205, so that all the recording elements Rh and all the anti-fuse elements AF are not driven at the same time.

選択回路204bには、対応するブロック選択信号202と時分割選択信号203および切替信号205が入力される。入力信号に応答して駆動素子204aを導通状態にし、駆動素子204aと直列に接続された記録素子Rhを駆動する。駆動素子204aには、高耐圧MOSトランジスタであるDMOSトランジスタ(Double−diffused MOSFET)が用いられる。   The corresponding block selection signal 202, time-division selection signal 203, and switching signal 205 are input to the selection circuit 204b. The driving element 204a is turned on in response to the input signal, and the recording element Rh connected in series with the driving element 204a is driven. As the driving element 204a, a DMOS transistor (Double-diffused MOSFET) which is a high-voltage MOS transistor is used.

ここで、吐出モジュール204には、記録素子を駆動するための電源電圧として電源電圧VH(例えば、24V)が供給され、接地電位をGNDHとする。このように、ヘッド基板400は、記録素子および記録素子を駆動する駆動素子を含む駆動部(吐出モジュール204に対応)と、駆動部を制御する論理部(制御データ供給回路201に対応)とを含む。一般に、駆動部は、論理部よりも高い電圧で動作させるため、高耐圧用のトランジスタと通常のトランジスタとが併存する基板が用いられる。   Here, a power supply voltage VH (for example, 24 V) is supplied to the ejection module 204 as a power supply voltage for driving the printing element, and a ground potential is set to GNDH. As described above, the head substrate 400 includes the driving unit (corresponding to the ejection module 204) including the recording element and the driving element for driving the recording element, and the logic unit (corresponding to the control data supply circuit 201) for controlling the driving unit. Including. In general, a substrate in which a transistor for high withstand voltage and a normal transistor coexist is used for the driving unit to operate at a higher voltage than the logic unit.

選択回路206bにも、対応するブロック選択信号202と時分割選択信号203および切替信号205が入力される。入力信号に応じた信号が駆動素子206aに出力され、駆動素子206aの導通状態/非導通状態が切り替えられる。駆動素子206aにも、駆動素子204aと同様に、DMOSトランジスタが用いられる。選択回路206bはMOSトランジスタで構成される。メモリモジュール206には、アンチヒューズ素子AFに情報を書き込むための電源電圧VID(例えば、24V)が供給され、接地電位をGNDHとする。   The corresponding block selection signal 202, time-division selection signal 203, and switching signal 205 are also input to the selection circuit 206b. A signal corresponding to the input signal is output to the driving element 206a, and the driving element 206a is switched between a conductive state and a non-conductive state. As the driving element 204a, a DMOS transistor is used for the driving element 206a. The selection circuit 206b is configured by a MOS transistor. A power supply voltage VID (for example, 24 V) for writing information to the anti-fuse element AF is supplied to the memory module 206, and the ground potential is set to GNDH.

なお、電源電圧VIDと電源電圧VHとは独立した電源ラインである。また、いずれのメモリモジュール206のアンチヒューズ素子AFに情報を書き込むかは、各信号CLK、DATA、LT、HEに従うブロック選択信号202と時分割選択信号203、および切替信号205とによって決定される。   The power supply voltage VID and the power supply voltage VH are independent power supply lines. Which information is written to the anti-fuse element AF of which memory module 206 is determined by the block selection signal 202, the time-division selection signal 203, and the switching signal 205 according to the signals CLK, DATA, LT, and HE.

図6を再び参照して説明すると、吐出モジュール204の電力供給側はVH配線410に、接地電位側はGNDH配線411に、複数の吐出モジュール204を構成されるモジュール列毎に共通にビア4022を介して別層に電気的に接続される。また、メモリモジュール206の読み書き電力供給側はVID/DIA配線412に、接地電位側はGNDH配線411に共通にビア4022を介して別層に電気的に接続される。温度検出モジュール208のダイオードセンサのアノード側はVID/DIA配線412に、カソード側は基板GND配線413にビア4022を介して別層に電気的に接続される。   Referring again to FIG. 6, the power supply side of the ejection module 204 is connected to the VH wiring 410, the ground potential side is connected to the GNDH wiring 411, and a via 4022 is commonly provided for each module row constituting the plurality of ejection modules 204. It is electrically connected to another layer via the same. The read / write power supply side of the memory module 206 is electrically connected to the VID / DIA wiring 412, and the ground potential side is commonly connected to the GNDH wiring 411 via a via 4022 to another layer. The anode side of the diode sensor of the temperature detection module 208 is electrically connected to the VID / DIA wiring 412 and the cathode side of the diode sensor is connected to the substrate GND wiring 413 via a via 4022 to another layer.

なお、メモリモジュール206と温度検出モジュール208のダイオードセンサは、VID/DIA配線412に沿って、一列に配列するのが望ましい。これにより、各素子とVID/DIA配線412を最短距離で接続し、配線抵抗を最小化できる。   It is preferable that the diode sensors of the memory module 206 and the temperature detection module 208 be arranged in a line along the VID / DIA wiring 412. Thus, each element and the VID / DIA wiring 412 can be connected with the shortest distance, and the wiring resistance can be minimized.

ダイオードセンサは吐出モジュール204からのインク液滴吐出を安定して行うために温度情報を監視して記録制御を行うために用いられる。従って、吐出モジュール204を駆動する時はダイオードセンサを動作させるが、メモリモジュール読み書き動作中はダイオードセンサを動作させない。そのため、同時動作する可能性のあるダイオードセンサに定電流の供給と電圧監視する配線と吐出モジュール204に電力供給する配線(VH配線410)は、吐出モジュール駆動時の影響で正確な温度検出ができなくなる可能性があるため共通化していない。   The diode sensor is used for monitoring the temperature information and performing recording control in order to stably discharge the ink droplets from the discharge module 204. Therefore, the diode sensor is operated when the ejection module 204 is driven, but is not operated during the memory module read / write operation. Therefore, the wiring for supplying a constant current and monitoring the voltage to the diode sensor that may operate simultaneously and the wiring for supplying power to the ejection module 204 (VH wiring 410) can accurately detect the temperature due to the influence of the driving of the ejection module. It is not shared because it may disappear.

一方、同時動作することのないメモリモジュール206の読み書き時に電力を供給する配線とその端子とダイオードセンサの動作時に定電流の供給と電圧監視する配線は共通化が可能となる(VID/DIA配線412及び端子)。これにより、端子数の削減と配線領域の縮小が可能となる。なお、ダイオードセンサのカソード側を基板GND配線413に接続し、吐出モジュール204とメモリモジュールの接地電位接続先であるGNDH配線411とを共通にしていない理由も吐出モジュール駆動時の影響を排除するためである。   On the other hand, the wiring for supplying power at the time of reading / writing of the memory module 206 which does not operate at the same time and the wiring for supplying a constant current and monitoring the voltage during operation of the diode sensor and its terminals can be shared (VID / DIA wiring 412). And terminals). This makes it possible to reduce the number of terminals and the wiring area. The reason why the cathode side of the diode sensor is connected to the substrate GND wiring 413 and the discharge module 204 and the GNDH wiring 411 that is the ground potential connection destination of the memory module are not shared is also to eliminate the influence of driving the discharge module. It is.

なお、VH配線410、GNDH配線411、VID/DIA配線412、基板GND配線413はそれぞれ、電極部(接続端子)1104の1つに接続される。図6にはこれらの接続端子をVH、GNDH、基板GND、VID/DIAとして示されている。   Note that the VH wiring 410, the GNDH wiring 411, the VID / DIA wiring 412, and the substrate GND wiring 413 are each connected to one of the electrode units (connection terminals) 1104. FIG. 6 shows these connection terminals as VH, GNDH, substrate GND, and VID / DIA.

図8はヘッド基板に実装されるメモリモジュールの構成を示す回路図である。   FIG. 8 is a circuit diagram showing a configuration of a memory module mounted on a head substrate.

図8では、選択回路206bをNAND回路306とインバータINVで構成される例を示している。インバータINVはPMOSトランジスタMP1とNMOSトランジスタMN1で構成される。インバータINVには入力信号Sigが入力され、出力信号Vgが駆動素子(MOSFET)206aのゲートに出力される。アンチヒューズ素子AFとしてその容量Caが、その一方の端において駆動素子206aと直列に接続されている。容量Caの他方の端には情報の読み書きを行う際に用いる電源電圧VIDが供給される。   FIG. 8 illustrates an example in which the selection circuit 206b includes the NAND circuit 306 and the inverter INV. The inverter INV includes a PMOS transistor MP1 and an NMOS transistor MN1. The input signal Sig is input to the inverter INV, and the output signal Vg is output to the gate of the drive element (MOSFET) 206a. The capacitance Ca of the anti-fuse element AF is connected at one end to the drive element 206a in series. The other end of the capacitor Ca is supplied with a power supply voltage VID used when reading and writing information.

また、アンチヒューズ素子AFと並列に接続された抵抗素子(抵抗値をRp、以下、抵抗素子Rpという)をさらに備える。これにより、駆動素子206aが非導通状態であるにも係らず、アンチヒューズ素子AFの両端に過電圧が印加されて、アンチヒューズ素子AFに誤って情報が書き込まれるような事態が生じることが防止できる。   Further, a resistance element (resistance value is Rp, hereinafter, referred to as resistance element Rp) connected in parallel with the anti-fuse element AF is further provided. Thus, it is possible to prevent a situation in which an overvoltage is applied to both ends of the anti-fuse element AF and information is erroneously written to the anti-fuse element AF even though the drive element 206a is non-conductive. .

次に、アンチヒューズ素子AFに情報書込み時の動作を説明する。   Next, an operation at the time of writing information to the anti-fuse element AF will be described.

アンチヒューズ素子AFに情報を書込みたいときは、制御信号Sigに“Low”レベルの信号を入力することにより、駆動素子206aをON状態にする。これにより、アンチヒューズ素子AFを構成するゲート酸化膜に高電圧VIDが印加されることになる。従って、ゲート酸化膜が破壊され、アンチヒューズ素子AFに情報が書込まれる。即ち、書き込み前にはアンチヒューズ素子AFは容量素子であったのに対し、書き込み後には抵抗素子となる。一度、ゲート酸化膜が破壊されると、情報の書き換えはできないので、アンチヒューズ素子AFはOTPROMとして動作する。   When writing information to the anti-fuse element AF, the drive element 206a is turned on by inputting a "Low" level signal to the control signal Sig. As a result, the high voltage VID is applied to the gate oxide film forming the anti-fuse element AF. Therefore, the gate oxide film is destroyed, and information is written to the anti-fuse element AF. That is, the anti-fuse element AF is a capacitance element before writing, whereas it becomes a resistance element after writing. Once the gate oxide film is destroyed, information cannot be rewritten, and the anti-fuse element AF operates as an OTPROM.

アンチヒューズ素子AFに書込まれた情報を読出す方法としては、アンチヒューズ素子AFのインピーダンスの変化を測定する等の方法がある。この実施例では、後述するダイオードセンサ動作時に使用する記録装置の定電流回路(不図示)に接続し、定電流200μAを供給し、その時のアンチヒューズ素子AFの電圧値からアンチヒューズ素子に書込まれた情報を判断する。1つのアンチヒューズ素子AFでその抵抗素子の抵抗値が所定の閾値以上となるかどうかで、“0”又は“1”の情報、即ち、1ビットの情報を保持することが可能になる。   As a method of reading information written in the anti-fuse element AF, there is a method of measuring a change in impedance of the anti-fuse element AF, or the like. In this embodiment, a constant current circuit (not shown) is connected to a recording device used when a diode sensor described later is operated, a constant current of 200 μA is supplied, and writing to the anti-fuse element is performed based on the voltage value of the anti-fuse element AF at that time. Judge the information that was included. Depending on whether or not the resistance value of the resistance element of one anti-fuse element AF is equal to or greater than a predetermined threshold value, information of “0” or “1”, that is, 1-bit information can be held.

図6〜図7に示した構成から分かるように、アンチヒューズ素子AFの数(M)は、インク供給口408の片側に配置される吐出モジュール204の数(N)よりやや少ない数となる。近年の素子基板にはインク供給口408の片側に数100〜1000程度の吐出モジュールが実装されるので、アンチヒューズ素子AFの数(M)のそれと同程度の数が実装される。上述のように、1つのアンチヒューズ素子AFのゲート酸化膜を破壊することで1ビット情報が書き込まれるので、1つの素子基板全体とすれば、M個のアンチヒューズ素子AFでMビット(数100〜1000ビット程度)の情報を保持できる。   As can be seen from the configurations shown in FIGS. 6 and 7, the number (M) of the anti-fuse elements AF is slightly smaller than the number (N) of the ejection modules 204 arranged on one side of the ink supply port 408. Since several hundred to 1,000 ejection modules are mounted on one side of the ink supply port 408 on a recent element substrate, the same number as the number (M) of the anti-fuse elements AF is mounted. As described above, one-bit information is written by destroying the gate oxide film of one anti-fuse element AF. Therefore, if one element substrate is used as a whole, M anti-fuse elements AF require M bits (several hundreds). (About 1000 bits).

アンチヒューズ素子AFに記録する情報は、チップIDや設定パラメータ等の製品固有情報であり、これらは製品出荷時に工場にて検査機等を用いて書込みが行われる。或は、製品本体に搭載され、ユーザが製品の使用開始後に情報を書込む場合は、製品本体から高電圧VIDに相当する電圧が供給される。   The information recorded in the anti-fuse element AF is product-specific information such as a chip ID and a setting parameter, and these are written at a factory using an inspection machine or the like at the time of product shipment. Alternatively, when the information is mounted on the product main body and the user writes information after the start of use of the product, a voltage corresponding to the high voltage VID is supplied from the product main body.

次に、温度検出モジュール208として用いるダイオードセンサの動作について説明する。   Next, the operation of the diode sensor used as the temperature detection module 208 will be described.

ヘッド基板400に形成された半導体ダイオードDIのアノードはVID/DIA配線412、カソードは基板GND413に接続される。温度センサとして用いるときは、記録装置の定電流回路(不図示)に接続し、アノードに接続されるVID/DIA配線412からカソードに接続される基板GND端子413に向けて定電流200μAを供給する。その時の順方向電圧(Vf)を監視すれば、順電圧電圧Vfは、約−2〜−2.5mV/℃の温度特性を持っているため、これにより温度の変化を検出できる。言い換えると、電圧監視は温度情報を検出することであると言える。   The anode of the semiconductor diode DI formed on the head substrate 400 is connected to the VID / DIA wiring 412, and the cathode is connected to the substrate GND 413. When used as a temperature sensor, it is connected to a constant current circuit (not shown) of the printing apparatus and supplies a constant current of 200 μA from the VID / DIA wiring 412 connected to the anode to the substrate GND terminal 413 connected to the cathode. . By monitoring the forward voltage (Vf) at that time, the forward voltage Vf has a temperature characteristic of about −2 to −2.5 mV / ° C., whereby a change in temperature can be detected. In other words, it can be said that voltage monitoring is detecting temperature information.

また、メモリモジュール206の読み書き時に電力を供給する配線は、アンチヒューズ素子AFに情報書き込み時に大電流が流れるため配線幅を大きくすることが望ましい。一方、ダイオードセンサ動作時に定電流を供給し電圧監視する配線も配線抵抗による電圧降下を小さくするため配線幅を大きくすることが望ましい。これらの幅広にする必要のある配線同士を共通化することで配線領域を縮小する効果はより大きくなる。   Further, it is desirable to increase the width of the wiring for supplying electric power at the time of reading / writing of the memory module 206 because a large current flows at the time of writing information to the anti-fuse element AF. On the other hand, it is desirable to increase the width of the wiring for supplying a constant current and monitoring the voltage during operation of the diode sensor in order to reduce the voltage drop due to the wiring resistance. The effect of reducing the wiring area is increased by sharing these wirings that need to be widened.

従って以上説明した実施例に従えば、アンチヒューズ素子とダイオードセンサへの配線を共通化することで、基板サイズの増大を招くことなくメモリモジュールと温度検出モジュールを配置することができる。また、この共通化された配線は十分に広い配線幅を有しているので、配線抵抗による電圧降下も抑え、高精度な温度検知が可能になる。   Therefore, according to the embodiment described above, the memory module and the temperature detection module can be arranged without increasing the substrate size by sharing the wiring to the anti-fuse element and the diode sensor. Further, since the shared wiring has a sufficiently wide wiring width, a voltage drop due to wiring resistance is suppressed, and high-precision temperature detection becomes possible.

なお、以上説明した実施例では、インク供給口408に沿って片側にメモリモジュール列と1つのダイオードセンサを配置したが、両側にメモリモジュール列とダイオードセンサを配置して、両側とも上記のような構成にしてもよい。また、メモリモジュール列は片側、ダイオードセンサを両側に配置して、片側だけ上記のような構成にしてもよい。   In the above-described embodiment, the memory module row and one diode sensor are arranged on one side along the ink supply port 408. However, the memory module row and the diode sensor are arranged on both sides, and both sides are as described above. It may be configured. Alternatively, the memory module row may be arranged on one side and the diode sensors may be arranged on both sides, and only one side may be configured as described above.

また、以上説明した実施例では、ダイオードセンサは、メモリモジュール列中の中央部付近に1つ配置したが、ダイオードセンサの配置場所と個数はこれに限らず任意であり、吐出モジュール列端部の端子近傍であってもよい。   In the embodiment described above, one diode sensor is arranged near the center of the memory module row. However, the location and the number of the diode sensors are not limited to this, and the diode sensor is not limited to this. It may be near the terminal.

さらに、以上説明した実施例では、メモリモジュールの中にアンチヒューズ素子AFの誤書込み防止のために抵抗素子Rpを接続しているが、使用条件や別の構成で誤書込み防止がなされている場合は抵抗素子Rpは無くてもよい。   Further, in the above-described embodiment, the resistance element Rp is connected in the memory module to prevent the erroneous writing of the anti-fuse element AF. However, in the case where the erroneous writing is prevented under the use conditions or another configuration. May not have the resistance element Rp.

またさらに、以上説明した実施例では、メモリモジュールのメモリとしてアンチヒューズ素子を用いたが、本発明はこれによって限定されるものではなく、例えば、Polyヒューズ等を用いても良い。またさらに、以上説明した実施例では、記録素子Rhは電気熱変換素子としたが、ピエゾ素子でも良い。   Further, in the embodiments described above, the anti-fuse element is used as the memory of the memory module. However, the present invention is not limited to this. For example, a Poly fuse or the like may be used. Further, in the embodiment described above, the recording element Rh is an electrothermal conversion element, but may be a piezo element.

実施例1では図6に示す構成からも分かるように、複数のメモリモジュール206で構成されるメモリモジュール列の中央部に1つの温度検出モジュール208を配置し、温度検出のための電力供給と電圧監視を1つの端子で行う構成を用いた。ここでは、メモリモジュール列に複数の温度検出モジュールを配置し、温度検出のための電力供給と電圧監視を別々の端子で行う構成について説明する。   In the first embodiment, as can be seen from the configuration shown in FIG. 6, one temperature detection module 208 is disposed at the center of a memory module row including a plurality of memory modules 206, and power supply and voltage for temperature detection are provided. A configuration in which monitoring is performed by one terminal was used. Here, a configuration will be described in which a plurality of temperature detection modules are arranged in a memory module row, and power supply and voltage monitoring for temperature detection are performed at different terminals.

図9は実施例2に従うヘッド基板のレイアウト構成を示す平面図である。図10は実施例2に従うヘッド基板の要部の詳細な構成を示す回路図である。なお、図9〜図10において、既に図6〜図7を参照して説明したのと同じ構成要素には同じ参照番号又は参照符号を付し、その説明は省略する。ここでは、この実施例に特有の構成や特徴についてのみ説明する。   FIG. 9 is a plan view showing a layout configuration of a head substrate according to the second embodiment. FIG. 10 is a circuit diagram showing a detailed configuration of a main part of a head substrate according to the second embodiment. 9 and 10, the same components as those already described with reference to FIGS. 6 and 7 are denoted by the same reference numerals or reference numerals, and description thereof will be omitted. Here, only the configuration and features unique to this embodiment will be described.

・ダイオードセンサの電力供給と電圧監視を別配線別端子で行う点
この実施例では、図9に示すように、温度検出素子の電圧監視用のDIAモニタ配線414とその接続端子(DIAモニタ)を新たに設ける。そして、ダイオードセンサのアノード側をVID/DIA配線412とDIAモニタ配線414にビアを介して別層に電気的に接続し、そのカソード側を基板GND配線413にビアを介して別層に電気的に接続する。
In this embodiment, as shown in FIG. 9, the DIA monitor wiring 414 for monitoring the voltage of the temperature detecting element and the connection terminal (DIA monitor) are provided. It is newly provided. Then, the anode side of the diode sensor is electrically connected to the VID / DIA wiring 412 and the DIA monitor wiring 414 via a via to another layer, and the cathode side is electrically connected to the substrate GND wiring 413 via a via to another layer. Connect to

実施例1では、VID/DIA配線412とその接続端子(VID/DIA)は、メモリモジュールの読み書き時における電力供給と、ダイオードセンサ動作時における定電流供給と電圧(温度情報)監視の3つの役割を共通化して担っていた。このため、できるだけVID/DIA配線412の配線幅を大きくして配線抵抗を小さくすることで、定電流が流れることによる配線での電圧降下を最小限にしてダイオードセンサの高精度の測定を可能としていた。しかしながら、その配線抵抗をゼロにすることは不可能であり、配線での電圧降下は少なからず発生していた。   In the first embodiment, the VID / DIA wiring 412 and its connection terminal (VID / DIA) have three roles of power supply during reading / writing of the memory module, constant current supply during operation of the diode sensor, and voltage (temperature information) monitoring. Was shared. Therefore, by increasing the wiring width of the VID / DIA wiring 412 and reducing the wiring resistance as much as possible, it is possible to minimize the voltage drop in the wiring due to the flow of a constant current, thereby enabling highly accurate measurement of the diode sensor. Was. However, it is impossible to reduce the wiring resistance to zero, and a voltage drop in the wiring has occurred to some extent.

これに対して、この実施例では、メモリモジュール206の読み書き時に電力を供給する配線とダイオードセンサ動作時に定電流供給する配線としてVID/DIA配線412を用い、電圧監視する配線にDIAモニタ配線414を用いる。これにより、ダイオードセンサ動作時に定電流供給するVID/DIA配線412は、実施例1と同様に配線抵抗による電圧降下は生じるが、電圧監視するだけのDIAモニタ配線414はほとんど電流が流れないので配線による電圧降下もほとんど生じない。このため、ダイオードセンサ近傍から配線を取り出せば限りなく真値に近いダイオード素子電圧を測定できる。   On the other hand, in this embodiment, the VID / DIA wiring 412 is used as a wiring for supplying power at the time of reading / writing of the memory module 206 and a wiring for supplying a constant current at the time of operating the diode sensor, and the DIA monitor wiring 414 is used as a wiring for monitoring the voltage. Used. As a result, the VID / DIA wiring 412 that supplies a constant current when the diode sensor is operated has a voltage drop due to the wiring resistance as in the first embodiment. The voltage drop due to is hardly caused. For this reason, if the wiring is taken out from the vicinity of the diode sensor, the diode element voltage as close as possible to the true value can be measured.

このように、この実施例では、メモリモジュール206の読み書き時における電力供給とダイオードセンサ動作時における定電流供給とをVID/DIA配線412に共通化している。これにより、端子数の削減と配線領域の縮小が可能となる。なお、メモリモジュール206とダイオードセンサは、図9に示されるように、VID/DIA配線412とDIAモニタ配線414に沿って一列に配列するのが望ましい。これにより、各素子とVID/DIA配線412とDIAモニタ配線414を最短距離で接続し、その配線抵抗を最小化できる。   As described above, in this embodiment, the power supply during reading and writing of the memory module 206 and the constant current supply during the operation of the diode sensor are shared by the VID / DIA wiring 412. This makes it possible to reduce the number of terminals and the wiring area. It is preferable that the memory module 206 and the diode sensor be arranged in a line along the VID / DIA wiring 412 and the DIA monitor wiring 414, as shown in FIG. Thus, each element, the VID / DIA wiring 412 and the DIA monitor wiring 414 can be connected with the shortest distance, and the wiring resistance can be minimized.

・温度検出モジュールの構成及び温度検出モジュールの複数個所配置
図10に示されるように、温度検出モジュール208は、温度検出素子DI(ダイオードセンサ)と、温度検出素子DIを駆動する駆動素子(トランジスタ)208aと温度検出素子DIを選択する選択回路(AND回路)208bとで構成される。そして、温度検出モジュール208はメモリモジュール列の中の複数箇所(図9の例では3か所)に設けられる。
Configuration of Temperature Detection Module and Arrangement of Plurality of Temperature Detection Modules As shown in FIG. 10, the temperature detection module 208 includes a temperature detection element DI (diode sensor) and a driving element (transistor) for driving the temperature detection element DI. 208a and a selection circuit (AND circuit) 208b for selecting the temperature detection element DI. The temperature detection modules 208 are provided at a plurality of locations (three locations in the example of FIG. 9) in the memory module row.

また、選択回路(AND回路)208bは、選択回路204b及び選択回路206bとともに共通ロジックバス配線402に接続される。共通ロジックバス配線402は、さらに制御データ供給回路201に接続され、ロジックバス配線を吐出モジュール204とメモリモジュール206と温度検出モジュール208とで兼用している。   The selection circuit (AND circuit) 208b is connected to the common logic bus line 402 together with the selection circuit 204b and the selection circuit 206b. The common logic bus line 402 is further connected to the control data supply circuit 201, and the discharge bus 204, the memory module 206, and the temperature detection module 208 share the logic bus line.

選択回路208bには対応するブロック選択信号202と時分割選択信号203及び切替信号205とが入力される。そして、入力信号に応じた信号が駆動素子208aに出力され、駆動素子208aの導通状態/非導通状態が切り替えられる。駆動素子208aには、駆動素子204aや駆動素子206aと同様に、DMOSトランジスタが用いられる。また、選択回路208bはMOSトランジスタで構成される。   The corresponding block selection signal 202, time-division selection signal 203, and switching signal 205 are input to the selection circuit 208b. Then, a signal corresponding to the input signal is output to the driving element 208a, and the driving element 208a is switched between a conductive state and a non-conductive state. As the driving element 208a, a DMOS transistor is used similarly to the driving element 204a and the driving element 206a. Further, the selection circuit 208b is configured by a MOS transistor.

また、複数の温度検出モジュールのいずれのダイオードセンサに情報を書き込むかは、クロック信号CLK、画像データ信号DATA、ラッチ信号LT、記録素子制御信号HEの各信号に従うブロック選択信号と時分割選択信号と切替信号とによって決定される。   Further, which of the diode sensors of the plurality of temperature detection modules is to be written with information is determined by a block selection signal and a time division selection signal according to each of the clock signal CLK, the image data signal DATA, the latch signal LT, and the recording element control signal HE. It is determined by the switching signal.

以上説明したように、この実施例では、吐出モジュール、メモリモジュール、温度検出モジュールは切替信号により排他的に駆動され、全ての記録素子と全てのアンチヒューズ素子と全てのダイオードセンサが同一時間には駆動されないよう構成されている。このような構成のため、温度検出とインク吐出が同時動作しない場合には、ダイオードセンサのカソード側接続を基板GND配線でなく、吐出モジュールとメモリモジュールの接地電位接続先と同じGNDH配線と共通にしてもよい。   As described above, in this embodiment, the ejection module, the memory module, and the temperature detection module are exclusively driven by the switching signal, and all the recording elements, all the anti-fuse elements, and all the diode sensors are operated at the same time. It is configured not to be driven. Due to such a configuration, when the temperature detection and the ink ejection do not operate simultaneously, the cathode side connection of the diode sensor is not shared with the substrate GND wire, but is shared with the same GNDH wire as the ground potential connection destination of the ejection module and the memory module. You may.

従って以上説明した実施例に従えば、ダイオードセンサの電力供給と電圧監視を別配線別端子とすることでダイオードセンサからより高精度な温度検出を行うことができる。   Therefore, according to the above-described embodiment, more accurate temperature detection can be performed from the diode sensor by using the power supply and the voltage monitoring of the diode sensor as separate wiring terminals.

201 制御データ供給回路、204 吐出モジュール、
204a、206a、208a 駆動素子(DMOSトランジスタ)、
204b、206b、208b 選択回路(AND回路)、
206 メモリモジュール、208 温度検出モジュール、
400 ヘッド基板、402 共通ロジックバス配線、
410 VH配線、411 GNDH配線、412 VID/DIA配線、
413 基板GND配線、414 DIAモニタ配線、
AF アンチヒューズ素子、DI 温度検出素子(ダイオードセンサ)、
Rh 電気熱変換素子(記録素子)、Rp 抵抗素子、
201 control data supply circuit, 204 discharge module,
204a, 206a, 208a drive elements (DMOS transistors),
204b, 206b, 208b selection circuit (AND circuit),
206 memory module, 208 temperature detection module,
400 head substrate, 402 common logic bus wiring,
410 VH wiring, 411 GNDH wiring, 412 VID / DIA wiring,
413 board GND wiring, 414 DIA monitor wiring,
AF anti-fuse element, DI temperature detection element (diode sensor),
Rh electrothermal conversion element (recording element), Rp resistance element,

Claims (17)

複数の記録素子と、情報の読み書きが可能なメモリと、温度を検出するセンサとを備えた素子基板であって、
前記メモリに情報の読み書きを行うための電力と、前記センサに温度検出のための電力を供給するとともに、前記センサからの温度情報を出力するための第1の端子と、
前記メモリ及び前記センサを前記第1の端子に接続する第1の配線とを有することを特徴とする素子基板。
An element substrate including a plurality of recording elements, a memory capable of reading and writing information, and a sensor for detecting a temperature,
Power for reading and writing information from and to the memory, and supplying power for temperature detection to the sensor, and a first terminal for outputting temperature information from the sensor;
An element substrate, comprising: a first wiring connecting the memory and the sensor to the first terminal.
前記センサは、ダイオードで形成されることを特徴とする請求項1に記載の素子基板。   The element substrate according to claim 1, wherein the sensor is formed of a diode. 前記ダイオードのアノード側が前記第1の配線に接続されることを特徴とする請求項2に記載の素子基板。   The element substrate according to claim 2, wherein an anode side of the diode is connected to the first wiring. 複数の記録素子と、情報の読み書きが可能なメモリと、温度を検出するセンサとを備えた素子基板であって、
前記メモリに情報の読み書きを行うための電力と、前記センサに温度検出のための電力を供給するための第1の端子と、
前記センサからの温度情報を出力するための第2の端子と、
前記メモリ及び前記センサに電力を供給するため前記第1の端子に接続する第1の配線と、
前記センサを前記第2の端子に接続する第2の配線とを有することを特徴とする素子基板。
An element substrate including a plurality of recording elements, a memory capable of reading and writing information, and a sensor for detecting a temperature,
Power for reading and writing information from and to the memory, a first terminal for supplying power for temperature detection to the sensor,
A second terminal for outputting temperature information from the sensor;
A first wiring connected to the first terminal to supply power to the memory and the sensor;
An element substrate, comprising: a second wiring connecting the sensor to the second terminal.
前記センサは、ダイオードで形成されることを特徴とする請求項4に記載の素子基板。   The element substrate according to claim 4, wherein the sensor is formed of a diode. 前記ダイオードのアノード側が前記第1の配線と前記第2の配線に接続されることを特徴とする請求項5に記載の素子基板。   The element substrate according to claim 5, wherein an anode side of the diode is connected to the first wiring and the second wiring. 前記メモリを、前記複数の記録素子を配列した記録素子列に沿って、複数、設けることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の素子基板。   The element substrate according to claim 1, wherein a plurality of the memories are provided along a recording element row in which the plurality of recording elements are arranged. 前記センサは、前記記録素子列の中央部に設けられることを特徴とする請求項7に記載の素子基板。   The element substrate according to claim 7, wherein the sensor is provided at a central portion of the recording element row. 前記センサは、前記記録素子列の複数の箇所それぞれに設けられることを特徴とする請求項7に記載の素子基板。   The element substrate according to claim 7, wherein the sensor is provided at each of a plurality of locations in the recording element row. 前記複数の記録素子それぞれを駆動する複数の第1の駆動素子と、
前記複数の第1の駆動素子を選択する複数の第1の選択回路と、
前記メモリを駆動する第2の駆動素子と、
前記第2の駆動素子を選択する第2の選択回路とをさらに有することを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の素子基板。
A plurality of first driving elements for driving each of the plurality of recording elements;
A plurality of first selection circuits for selecting the plurality of first driving elements;
A second driving element for driving the memory;
The element substrate according to claim 1, further comprising a second selection circuit that selects the second drive element.
前記センサを駆動する第3の駆動素子と、
前記第3の駆動素子を選択する第3の選択回路とをさらに有することを特徴とする請求項10に記載の素子基板。
A third drive element for driving the sensor;
The device substrate according to claim 10, further comprising a third selection circuit that selects the third drive element.
前記メモリは、ゲート酸化膜を用いて作られたアンチヒューズ素子で形成され、
前記複数の第1の駆動素子と前記第2の駆動素子と前記第3の駆動素子は、DMOSトランジスタであり、
前記複数の第1の選択回路と前記第2の選択回路と前記第3の選択回路は、MOSトランジスタであることを特徴とする請求項11に記載の素子基板。
The memory is formed of an anti-fuse element made using a gate oxide film,
The plurality of first driving elements, the second driving elements, and the third driving elements are DMOS transistors,
The device substrate according to claim 11, wherein the plurality of first selection circuits, the second selection circuit, and the third selection circuit are MOS transistors.
前記複数の記録素子と前記メモリと前記センサはそれぞれ、共通の配線より入力される共通の信号により、前記複数の第1の選択回路と前記第2の選択回路と前記第3の選択回路により選択されることを特徴とする請求項12に記載の素子基板。   The plurality of recording elements, the memory, and the sensor are each selected by the plurality of first selection circuits, the second selection circuit, and the third selection circuit by a common signal input from a common wiring. The element substrate according to claim 12, wherein: 前記複数の記録素子と、前記メモリ及び前記センサの選択とは排他的であることを特徴とする請求項13に記載の素子基板。   14. The element substrate according to claim 13, wherein the plurality of recording elements and the selection of the memory and the sensor are mutually exclusive. 前記複数の記録素子にインクを供給するインク供給口とをさらに有し、
前記複数の記録素子それぞれは、電気熱変換素子を含むことを特徴とする請求項1乃至14のいずれか1項に記載の素子基板。
Further comprising an ink supply port for supplying ink to the plurality of recording elements,
The element substrate according to claim 1, wherein each of the plurality of recording elements includes an electrothermal conversion element.
請求項15に記載の素子基板を含む記録ヘッド。   A recording head comprising the element substrate according to claim 15. 請求項16に記載の記録ヘッドを用いてインクを記録媒体に吐出して記録を行う記録装置。   A recording apparatus that performs recording by discharging ink onto a recording medium using the recording head according to claim 16.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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