JP2020010028A - Composition for organic el element - Google Patents

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Abstract

To provide a composition for an organic EL element, which contains a high-molecular-weight compound and solvent, and which is useful for manufacturing a film superior in flatness in the case of manufacturing the film by coating the composition.SOLUTION: A composition for an organic EL element comprises solid contents and solvent. The solid contents include at least one main high-molecular-weight compound of 5 mass% or more to a total quantity of the solid contents, and at least one main low-molecular-weight compound of 30 mass% or more to the total quantity of the solid contents. The solvent includes at least two kinds of main solvents of 5 mass% or more to a total quantity of the solvent. A first solvent of the at least two kinds of main solvents, which is the highest in the boiling point at an atmospheric pressure, and a first high-molecular-weight compound of the at least one main high-molecular-weight compound, which is the largest in the number-average molecular weight are included in such a content proportion that the viscosity of a liquid solution consisting of the first solvent and the first high-molecular-weight compound at a temperature of 23°C becomes 1.30×10 cP or more and 1.77×10cP or less. The first high-molecular-weight compound has a weight-average molecular weight of less than 1.4×10.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、有機EL素子用組成物に関し、当該有機EL組成用組成物から形成される膜、当該膜の製造方法、及び当該膜を備える有機EL素子にも関する。   The present invention relates to a composition for an organic EL device, a film formed from the composition for an organic EL composition, a method for producing the film, and an organic EL device including the film.

有機EL素子(有機エレクトロルミネッセンス素子)は、発光効率が高く、駆動電圧が低いことから、ディスプレイおよび照明の用途に好適に使用することが可能である。有機EL素子は、発光層、電荷輸送層等の有機層を備える。有機層は、溶媒中に、有機EL材料(有機エレクトロルミネッセンス材料)等の高分子化合物を溶解させた有機EL素子用組成物を用いることで、インクジェット印刷法に代表される吐出型の塗布法を用いて形成することができる。これまでに、有機EL素子用組成物について検討がなされている。   An organic EL element (organic electroluminescence element) has a high luminous efficiency and a low driving voltage, and thus can be suitably used for display and lighting applications. The organic EL device includes an organic layer such as a light emitting layer and a charge transport layer. The organic layer is formed by using a composition for an organic EL device in which a polymer compound such as an organic EL material (organic electroluminescence material) is dissolved in a solvent, so that a discharge type coating method represented by an ink jet printing method can be used. It can be formed using. So far, compositions for organic EL devices have been studied.

特開2013−026164号公報(特許文献1)には、インクジェット印刷法に用いる有機EL素子用組成物として、有機EL材料(具体的には、高分子有機EL材料)と、芳香族炭化水素溶媒(具体的には、シクロヘキシルベンゼン)と、芳香族エーテル溶媒(具体的には、4−メチルアニソール)とを含む組成物が開示されている。   Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-026164 (Patent Document 1) discloses an organic EL material (specifically, a polymer organic EL material) and an aromatic hydrocarbon solvent as a composition for an organic EL device used in an ink jet printing method. A composition containing (specifically, cyclohexylbenzene) and an aromatic ether solvent (specifically, 4-methylanisole) is disclosed.

特開2013−026164号公報JP 2013-026164 A

本発明は、高分子化合物と溶媒とを含有する有機EL素子用組成物であって、これを塗布して膜を製造する場合に、平坦性に優れる膜の製造に有用な有機EL素子用組成物を提供することを目的とする。本発明はまた、該有機EL素子用組成物から形成される膜、当該膜の製造方法、及び当該膜を備える有機EL素子を提供することを目的とする。   The present invention relates to a composition for an organic EL device, comprising a polymer compound and a solvent, which is useful for producing a film having excellent flatness when the composition is applied to produce a film. The purpose is to provide things. Another object of the present invention is to provide a film formed from the composition for an organic EL device, a method for producing the film, and an organic EL device including the film.

本発明は、以下に示す有機EL素子用組成物、膜、膜の製造方法、及び有機EL素子を提供する。   The present invention provides the following composition for an organic EL device, a film, a method for producing the film, and an organic EL device.

〔1〕 固形分と溶媒とを含む有機EL素子用組成物であって、
前記固形分は、前記固形分の全量に対して5質量%以上含まれる主高分子化合物を少なくとも1種と、前記固形分の全量に対して30質量%以上含まれる主低分子化合物を少なくとも1種と、を含み、
前記溶媒は、前記溶媒の全量に対して5質量%以上含まれる主溶媒を少なくとも2種含み、
前記主溶媒の中で大気圧での沸点が最も高い第1溶媒と、前記主高分子化合物の中で重量平均分子量が最も大きい第1高分子化合物とが、前記第1溶媒と前記第1高分子化合物とのみからなる溶液の温度23℃における粘度が1.30×10cP以上1.77×10cP以下となるような含有比率で含まれており、前記第1高分子化合物の重量平均分子量は1.4×10未満である、有機EL素子用組成物。
〔2〕 前記第1溶媒の大気圧での沸点が250℃以上である、〔1〕に記載の有機EL素子用組成物。
〔3〕 前記第1溶媒は式(1)で表される化合物である、〔1〕又は〔2〕に記載の有機EL素子用組成物。

Figure 2020010028

[式(1)中、Rは、炭素原子数が10〜12のアルキル基を表す。]
〔4〕 前記第1溶媒の濃度は、前記溶媒の全量に対して5質量%以上60質量%以下である、〔1〕〜〔3〕のいずれか1項に記載の有機EL素子用組成物。
〔5〕 前記主溶媒は、第2溶媒をさらに含み、
前記第2溶媒は、式(1)で表される化合物を除く芳香族炭化水素である、〔1〕〜〔4〕のいずれか1項に記載の有機EL素子用組成物。
〔6〕 前記第2溶媒は、ペンチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、ヘプチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン、及びテトラリンからなる群より選択される、〔5〕に記載の有機EL素子用組成物。
〔7〕 前記主溶媒は、第3溶媒をさらに含み、
前記第3溶媒は、芳香族エーテルである、〔1〕〜〔6〕のいずれか1項に記載の有機EL素子用組成物。
〔8〕 前記第3溶媒は、メチルアニソール、ジメチルアニソール、エチルアニソール、ブチルフェニルエーテル、ブチルアニソール、ペンチルアニソール、ヘキシルアニソール、ヘプチルアニソール、オクチルアニソール、及びフェノキシトルエンからなる群より選択される、〔7〕に記載の有機EL素子用組成物。
〔9〕 前記主高分子化合物は、いずれも重量平均分子量が3.0×10以上である、〔1〕〜〔8〕のいずれか1項に記載の有機EL素子用組成物。
〔10〕 前記第1高分子化合物は、発光性化合物である、〔1〕〜〔9〕のいずれか1項に記載の有機EL素子用組成物。
〔11〕 温度23℃における粘度が1cP以上10cP以下である、〔1〕〜〔10〕のいずれか1項に記載の有機EL素子用組成物。
〔12〕 〔1〕〜〔11〕のいずれか1項に記載の有機EL素子用組成物から形成される膜。
〔13〕 〔12〕に記載の膜を備える有機EL素子。
〔14〕 〔1〕〜〔11〕のいずれか1項に記載の有機EL素子用組成物を準備する準備工程と、
前記有機EL素子用組成物を塗布して塗膜を形成する塗布工程と、
前記塗膜を乾燥する乾燥工程と、を有する、膜の製造方法。
〔15〕 前記乾燥工程は、前記塗膜を減圧雰囲気で乾燥する工程である、〔14〕に記載の膜の製造方法。
〔16〕 前記準備工程は、前記第1溶媒と前記第1高分子化合物とが、前記第1溶媒と前記第1高分子化合物とのみからなる前記溶液の温度23℃における前記粘度が2.20×10cP以上1.77×10cP以下となるような含有比率で含まれている有機EL素子用組成物を準備する工程であり、
前記乾燥工程は、前記塗膜を温度が30℃以上50℃以下の減圧雰囲気で乾燥する工程である、〔15〕に記載の膜の製造方法。
〔17〕 前記準備工程は、前記第1溶媒と前記第1高分子化合物とが、前記第1溶媒と前記第1高分子化合物とのみからなる前記溶液の温度23℃における前記粘度が1.30×10cP以上8.70×10cP以下となるような含有比率で含まれている有機EL素子用組成物を準備する工程であり、
前記乾燥工程は、前記塗膜を温度が20℃以上30℃未満の減圧雰囲気で乾燥する工程である、〔15〕に記載の膜の製造方法。
〔18〕 前記乾燥工程は、前記乾燥雰囲気を、大気圧から、1000Pa/秒以上30000Pa/秒以下の減圧速度で1000Paの圧力まで減圧する工程を含む、〔15〕〜〔17〕のいずれか1項に記載の膜の製造方法。 [1] A composition for an organic EL device comprising a solid content and a solvent,
The solid content includes at least one main polymer compound contained in an amount of 5% by mass or more based on the total amount of the solids, and at least one main low molecular compound contained in an amount of 30% by mass or more based on the total amount of the solids. Including a species,
The solvent includes at least two main solvents contained in an amount of 5% by mass or more based on the total amount of the solvent,
The first solvent having the highest boiling point at atmospheric pressure among the main solvents and the first polymer compound having the largest weight average molecular weight among the main polymer compounds are formed by the first solvent and the first high solvent. The solution containing only a molecular compound is contained at a content ratio such that the viscosity at a temperature of 23 ° C. is 1.30 × 10 cP or more and 1.77 × 10 3 cP or less, and the weight-average molecular weight of the first polymer compound Is less than 1.4 × 10 5 , the composition for an organic EL device.
[2] The composition for an organic EL device according to [1], wherein the first solvent has a boiling point at atmospheric pressure of 250 ° C. or higher.
[3] The composition for an organic EL device according to [1] or [2], wherein the first solvent is a compound represented by the formula (1).
Figure 2020010028

[In the formula (1), R 1 represents an alkyl group having 10 to 12 carbon atoms. ]
[4] The composition for an organic EL device according to any one of [1] to [3], wherein the concentration of the first solvent is 5% by mass or more and 60% by mass or less based on the total amount of the solvent. .
[5] the main solvent further includes a second solvent;
The composition for an organic EL device according to any one of [1] to [4], wherein the second solvent is an aromatic hydrocarbon excluding the compound represented by the formula (1).
[6] The composition for an organic EL device according to [5], wherein the second solvent is selected from the group consisting of pentylbenzene, hexylbenzene, heptylbenzene, octylbenzene, nonylbenzene, cyclohexylbenzene, and tetralin.
[7] The main solvent further includes a third solvent,
The composition for an organic EL device according to any one of [1] to [6], wherein the third solvent is an aromatic ether.
[8] The third solvent is selected from the group consisting of methylanisole, dimethylanisole, ethylanisole, butylphenylether, butylanisole, pentylanisole, hexylanisole, heptylanisole, octylanisole, and phenoxytoluene. ] The composition for an organic EL device according to [1].
[9] The composition for an organic EL device according to any one of [1] to [8], wherein each of the main polymer compounds has a weight average molecular weight of 3.0 × 10 4 or more.
[10] The composition for an organic EL device according to any one of [1] to [9], wherein the first polymer compound is a luminescent compound.
[11] The composition for an organic EL device according to any one of [1] to [10], wherein a viscosity at a temperature of 23 ° C is 1 cP or more and 10 cP or less.
[12] A film formed from the composition for an organic EL device according to any one of [1] to [11].
[13] An organic EL device comprising the film according to [12].
[14] a preparation step of preparing the composition for an organic EL device according to any one of [1] to [11],
An application step of applying the composition for an organic EL element to form a coating film,
A drying step of drying the coating film.
[15] The method for producing a film according to [14], wherein the drying step is a step of drying the coating film in a reduced-pressure atmosphere.
[16] In the preparing step, the first solvent and the first polymer compound have a viscosity of 2.20 at a temperature of 23 ° C. of the solution including only the first solvent and the first polymer compound. A step of preparing a composition for an organic EL device, which is contained at a content ratio of not less than × 10 cP and not more than 1.77 × 10 3 cP,
The method for producing a film according to [15], wherein the drying step is a step of drying the coating film in a reduced-pressure atmosphere having a temperature of 30 ° C. or more and 50 ° C. or less.
[17] In the preparing step, the first solvent and the first polymer compound may have a viscosity of 1.30 at a temperature of 23 ° C. of the solution including only the first solvent and the first polymer compound. A step of preparing a composition for an organic EL device, which is contained at a content ratio of not less than × 10 cP and not more than 8.70 × 10 2 cP,
The method for producing a film according to [15], wherein the drying step is a step of drying the coating film in a reduced-pressure atmosphere having a temperature of 20 ° C. or more and less than 30 ° C.
[18] The method according to any one of [15] to [17], wherein the drying step includes a step of reducing the pressure of the drying atmosphere from atmospheric pressure to a pressure of 1000 Pa at a pressure reduction rate of 1,000 Pa / sec or more and 30,000 Pa / sec or less. 13. The method for producing a film according to the above item.

本発明の有機EL素子用組成物によると、平坦性に優れる膜を製造することができる。   According to the composition for an organic EL device of the present invention, a film having excellent flatness can be produced.

各減圧条件における減圧制御方法を示す図である。It is a figure which shows the decompression control method in each decompression condition. 試験例1の基準溶液の粘度xと平坦度yとをプロットしたグラフである。5 is a graph in which the viscosity x and the flatness y of the reference solution of Test Example 1 are plotted. 試験例2の基準溶液の粘度xと平坦度yとをプロットしたグラフである。9 is a graph in which the viscosity x and the flatness y of the reference solution of Test Example 2 are plotted. 試験例3の基準溶液の粘度xと平坦度yとをプロットしたグラフである。10 is a graph in which the viscosity x and the flatness y of the reference solution of Test Example 3 are plotted. 試験例4の基準溶液の粘度xと平坦度yとをプロットしたグラフである。9 is a graph in which the viscosity x and the flatness y of the reference solution of Test Example 4 are plotted. 試験例5の基準溶液の粘度xと平坦度yとをプロットしたグラフである。13 is a graph in which the viscosity x and the flatness y of the reference solution of Test Example 5 are plotted. 試験例6の基準溶液の粘度xと平坦度yとをプロットしたグラフである。13 is a graph in which the viscosity x and the flatness y of the reference solution of Test Example 6 are plotted. 試験例7の基準溶液の粘度xと平坦度yとをプロットしたグラフである。13 is a graph in which the viscosity x and the flatness y of the reference solution of Test Example 7 are plotted. 試験例8の基準溶液の粘度xと平坦度yとをプロットしたグラフである。13 is a graph in which the viscosity x and the flatness y of the reference solution of Test Example 8 are plotted. 試験例9の基準溶液の粘度xと平坦度yとをプロットしたグラフである。14 is a graph in which the viscosity x and the flatness y of the reference solution of Test Example 9 are plotted. 試験例10の基準溶液の粘度xと平坦度yとをプロットしたグラフである。14 is a graph in which the viscosity x and the flatness y of the reference solution of Test Example 10 are plotted.

本明細書で共通して用いられる用語は、特記しない限り、以下の意味である。
「高分子化合物」とは、分子量分布を有し、ポリスチレン換算の重量平均分子量が1×10〜1×10である重合体を意味する。高分子化合物は、ブロック共重合体、ランダム共重合体、交互共重合体、グラフト共重合体のいずれであってもよいし、その他の態様であってもよい。高分子化合物の末端基は、重合活性基がそのまま残っていると、高分子化合物を発光素子の作製に用いた場合に発光特性または輝度寿命が低下する可能性があるので、好ましくは安定な基である。この末端基としては、好ましくは主鎖と共役結合している基であり、例えば、炭素−炭素結合を介してアリール基または1価の複素環基と結合している基が挙げられる。
Terms commonly used in this specification have the following meanings unless otherwise specified.
The “polymer compound” means a polymer having a molecular weight distribution and a weight average molecular weight in terms of polystyrene of 1 × 10 3 to 1 × 10 8 . The polymer compound may be any of a block copolymer, a random copolymer, an alternating copolymer, and a graft copolymer, and may have other embodiments. The terminal group of the polymer compound is preferably a stable group because if the polymerization active group is left as it is, the light emitting characteristics or luminance life may be reduced when the polymer compound is used for manufacturing a light emitting device. It is. The terminal group is preferably a group that is conjugated to the main chain, for example, a group that is bonded to an aryl group or a monovalent heterocyclic group via a carbon-carbon bond.

「低分子化合物」とは、分子量分布を有さず、分子量が1×10以下の化合物を意味する。 “Low molecular weight compound” means a compound having no molecular weight distribution and having a molecular weight of 1 × 10 4 or less.

以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail.

[有機EL素子用組成物]
本発明の有機EL素子用組成物(以下、単に「組成物」とも称する。)は、固形分(以下、「固形分(A)」とも称する。)と溶媒(以下、「溶媒(B)」とも称する。)とを含む。
本明細書において、「主溶媒」(以下、「主溶媒(b)」とも称する。)とは、溶媒(B)の全量に対して5質量%以上含まれる溶媒を意味する。
本明細書において、「主高分子化合物」(以下、「主高分子化合物(a)」とも称する。)とは、固形分(A)の全量に対して5質量%以上含まれる高分子化合物を意味する。
本明細書において、「主低分子化合物」とは、固形分(A)の全量に対して30質量%以上含まれる低分子化合物を意味する。
本明細書において、「第1溶媒」とは、主溶媒(b)の中で大気圧での沸点が最も高い溶媒を意味する。
本明細書において、「第1高分子化合物」とは、主高分子化合物(a)の中で重量平均分子量が最も大きい高分子化合物を意味する。第1高分子化合物は、重量平均分子量が1.4×10未満である。第1高分子化合物は、重量平均分子量が7.0×10以上であることが好ましい。
[Composition for organic EL device]
The composition for an organic EL device (hereinafter, also simply referred to as “composition”) of the present invention includes a solid (hereinafter, also referred to as “solid (A)”) and a solvent (hereinafter, “solvent (B)”). ).
In the present specification, “main solvent” (hereinafter, also referred to as “main solvent (b)”) means a solvent contained in an amount of 5% by mass or more based on the total amount of the solvent (B).
In the present specification, the term “main polymer compound” (hereinafter, also referred to as “main polymer compound (a)”) refers to a polymer compound containing 5% by mass or more based on the total amount of solids (A). means.
In the present specification, the “main low-molecular compound” means a low-molecular compound contained in an amount of 30% by mass or more based on the total amount of the solid content (A).
In the present specification, the “first solvent” means a solvent having the highest boiling point at atmospheric pressure among the main solvents (b).
In the present specification, the “first polymer compound” means a polymer compound having the largest weight average molecular weight among the main polymer compounds (a). The first polymer compound has a weight average molecular weight of less than 1.4 × 10 5 . The first polymer compound preferably has a weight average molecular weight of 7.0 × 10 4 or more.

本発明の組成物は、第1溶媒と第1高分子化合物とを、第1溶媒と第1高分子化合物とのみからなる溶液(以下、「基準溶液」とも称する。)の温度23℃における粘度が1.30×10cP以上1.77×10cP以下となるような含有比率で含む。第1溶媒と第1高分子化合物とのみからなる溶液の粘度が上記数値範囲であることにより、平坦性に優れる膜を製造することができる。 The composition of the present invention comprises a first solvent and a first polymer compound, and a solution at a temperature of 23 ° C. of a solution (hereinafter also referred to as a “reference solution”) consisting only of the first solvent and the first polymer compound. Is contained at a content ratio of not less than 1.30 × 10 cP and not more than 1.77 × 10 3 cP. When the viscosity of the solution comprising only the first solvent and the first polymer compound is within the above numerical range, a film having excellent flatness can be manufactured.

本発明者らは、第1溶媒と第1高分子化合物とのみからなる溶液(基準溶液)を最初に調製し、その後、その他の成分を添加する方法で組成物を調製したところ、基準溶液の粘度と製造される膜の平坦性とに相関があること、基準溶液の粘度と製造される膜の平坦性との相関は膜の乾燥条件によって異なること、を見出し、上記数値範囲内であれば、通常採用し得る製造条件内で平坦性に優れる膜を製造することができることを見出し、本発明に至ったものである。   The present inventors first prepared a solution (reference solution) consisting only of the first solvent and the first polymer compound, and then prepared a composition by a method of adding other components. Correlation between the viscosity and the flatness of the manufactured film, the correlation between the viscosity of the reference solution and the flatness of the manufactured film is different depending on the drying conditions of the film, and found that if within the above numerical range. The present inventors have found that a film having excellent flatness can be manufactured under manufacturing conditions which can be generally adopted, and have led to the present invention.

<溶媒(B)>
本発明の組成物に含有される溶媒(B)は、主溶媒(b)を少なくとも2種含む。主溶媒(b)としては、式(1)で表される化合物である溶媒(b1)、式(1)で表される化合物を除く芳香族炭化水素である溶媒(b2)、芳香族エーテルである溶媒(b3)、が好適である。ここでいう「少なくとも2種」の「種」は、化合物としての種類を意味し、溶媒(b1)、溶媒(b2)、溶媒(b3)のそれぞれをカテゴリーとした場合のカテゴリーの種類を意味するものではない。したがって、例えば、溶媒(B)中に、主溶媒(b)として溶媒(b1)に属する異なる2種の化合物のみを含む場合も、主溶媒(b)を少なくとも2種含むことになる。なお、溶媒(b1)、溶媒(b2)、溶媒(b3)は、溶媒(B)中に、主溶媒(b)として含まれていてもよく、主溶媒(b)以外として、すなわち5質量%未満含まれる溶媒として含まれていてもよい。
<Solvent (B)>
The solvent (B) contained in the composition of the present invention contains at least two main solvents (b). Examples of the main solvent (b) include a solvent (b1) that is a compound represented by the formula (1), a solvent (b2) that is an aromatic hydrocarbon excluding the compound represented by the formula (1), and an aromatic ether. Certain solvents (b3) are preferred. The “species” of “at least two” as used herein means a kind as a compound, and means a kind of a category when each of the solvent (b1), the solvent (b2), and the solvent (b3) is a category. Not something. Therefore, for example, even when the solvent (B) contains only two different compounds belonging to the solvent (b1) as the main solvent (b), at least two types of the main solvent (b) are included. The solvent (b1), the solvent (b2), and the solvent (b3) may be contained in the solvent (B) as the main solvent (b). It may be contained as a solvent contained in less than.

≪溶媒(b1)≫
溶媒(b1)は、式(1)で表される。

Figure 2020010028

[式(1)中、Rは、炭素原子数が10〜12のアルキル基を表す。] << Solvent (b1) >>
The solvent (b1) is represented by the formula (1).
Figure 2020010028

[In the formula (1), R 1 represents an alkyl group having 10 to 12 carbon atoms. ]

で表される炭素原子数が10〜12のアルキル基は、直鎖のアルキル基であっても分岐のアルキル基であってもよいが、直鎖のアルキル基であることが好ましい。 The alkyl group having 10 to 12 carbon atoms represented by R 1 may be a straight-chain alkyl group or a branched alkyl group, but is preferably a straight-chain alkyl group.

は、炭素原子数が10のアルキル基であることが好ましく、炭素原子数が10の直鎖のアルキル基であることが好ましい。 R 1 is preferably an alkyl group having 10 carbon atoms, and more preferably a linear alkyl group having 10 carbon atoms.

で表される炭素原子数が10〜12のアルキル基としては、例えば、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等の直鎖のアルキル基;メチルノニル基、メチルデシル基、メチルウンデシル基、ジメチルオクチル基、ジメチルノニル基、ジメチルデシル基、トリメチルヘプチル基、トリメチルオクチル基、トリメチルノニル基、テトラメチルヘキシル基、テトラメチルヘプチル基、テトラメチルオクチル基、ペンタメチルヘキシル基、ペンタメチルヘプチル基、ヘキサメチルヘキシル基等の分岐のアルキル基が挙げられ、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、テトラメチルオクチル基、ペンタメチルヘプチル基またはヘキサメチルヘキシル基が好ましく、デシル基、ウンデシル基またはドデシル基がより好ましく、1−デシル基、2−デシル基、3−デシル基、4−デシル基、5−デシル基、1−ウンデシル基、2−ウンデシル基、3−ウンデシル基、1−ドデシル基、2−ドデシル基または3−ドデシル基が更に好ましく、1−デシル基、2−デシル基または3−デシル基が特に好ましい。 Examples of the alkyl group having 10 to 12 carbon atoms represented by R 1 include a linear alkyl group such as a decyl group, an undecyl group, and a dodecyl group; a methylnonyl group, a methyldecyl group, a methylundecyl group, and dimethyloctyl. Group, dimethylnonyl group, dimethyldecyl group, trimethylheptyl group, trimethyloctyl group, trimethylnonyl group, tetramethylhexyl group, tetramethylheptyl group, tetramethyloctyl group, pentamethylhexyl group, pentamethylheptyl group, hexamethylhexyl And a branched alkyl group such as a group.A decyl group, an undecyl group, a dodecyl group, a tetramethyloctyl group, a pentamethylheptyl group or a hexamethylhexyl group is preferable, a decyl group, an undecyl group or a dodecyl group is more preferable. -Decyl group, 2-decyl , A 3-decyl group, a 4-decyl group, a 5-decyl group, a 1-undecyl group, a 2-undecyl group, a 3-undecyl group, a 1-dodecyl group, a 2-dodecyl group or a 3-dodecyl group is more preferred. , 1-decyl group, 2-decyl group and 3-decyl group are particularly preferred.

溶媒(b1)としては、例えば、デシルベンゼン(沸点:293℃)、ドデシルベンゼン(沸点:331℃)が挙げられる。   Examples of the solvent (b1) include decylbenzene (boiling point: 293 ° C.) and dodecylbenzene (boiling point: 331 ° C.).

本発明の組成物には、溶媒(b1)が1種単独で含有されていてもよく、2種以上含有されていてもよい。   The composition of the present invention may contain one kind of the solvent (b1) alone, or may contain two or more kinds of the solvent (b1).

≪溶媒(b2)≫
溶媒(b2)は、式(1)で表される化合物を除く芳香族炭化水素である。
溶媒(b2)は、全炭素原子数が6〜15であることが好ましく、7〜15であることがより好ましい。
溶媒(b2)は、ベンゼン環を1個含むものであることが好ましく、全炭素原子数7〜15の、アルキル基またはシクロアルキル基で置換されているベンゼンであることがより好ましい。
溶媒(b2)としては、例えば、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、エチルメチルベンゼン、プロピルベンゼン、ブチルベンゼン、ペンチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、ヘプチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、ジプロピルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン、テトラリンが挙げられ、本発明の組成物を用いて形成される膜の平坦性がより優れるので、ペンチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、ヘプチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、シクロヘキシルベンゼンまたはテトラリンが好ましく、ヘプチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、シクロヘキシルベンゼンまたはテトラリンがより好ましく、ヘプチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼンまたはシクロヘキシルベンゼンが更に好ましく、1−へプチルベンゼン、1−オクチルベンゼン、1−ノニルベンゼン、シクロヘキシルベンゼンが特に好ましい。
<< Solvent (b2) >>
The solvent (b2) is an aromatic hydrocarbon excluding the compound represented by the formula (1).
The total number of carbon atoms in the solvent (b2) is preferably from 6 to 15, more preferably from 7 to 15.
The solvent (b2) preferably contains one benzene ring, more preferably benzene substituted with an alkyl group or a cycloalkyl group, having a total of 7 to 15 carbon atoms.
Examples of the solvent (b2) include toluene, xylene, trimethylbenzene, ethylbenzene, diethylbenzene, ethylmethylbenzene, propylbenzene, butylbenzene, pentylbenzene, hexylbenzene, heptylbenzene, octylbenzene, nonylbenzene, dipropylbenzene, and cyclohexyl. Benzene and tetralin are included, and the flatness of a film formed using the composition of the present invention is more excellent. Therefore, pentylbenzene, hexylbenzene, heptylbenzene, octylbenzene, nonylbenzene, cyclohexylbenzene or tetralin is preferable, and heptyl is used. Benzene, octylbenzene, nonylbenzene, cyclohexylbenzene or tetralin is more preferred, and heptylbenzene, octylbenzene, nonylbenzene is preferred. Or more preferably cyclohexyl benzene, heptyl benzene to 1-, 1-octyl benzene, 1-nonyl benzene, cyclohexylbenzene is particularly preferred.

本発明の組成物には、溶媒(b2)が1種単独で含有されていてもよく、2種以上含有されていてもよい。   The composition of the present invention may contain one kind of the solvent (b2) alone, or may contain two or more kinds of the solvent (b2).

≪溶媒(b3)≫
溶媒(b3)は、芳香族エーテルである。
溶媒(b3)は、全炭素原子数が7〜15であることが好ましい。
溶媒(b3)としては、全炭素原子数が7〜15の、アリール部位がアルキル基で置換されていてもよいアルキルアリールエーテル、全炭素原子数が12〜15の、アルキル基で置換されていてもよいジアリールエーテルが挙げられ、全炭素原子数が7〜15の、フェニル部位がアルキル基で置換されていてもよいアルキルフェニルエーテル、全炭素原子数が12〜15の、アルキル基で置換されていてもよいジフェニルエーテルが好ましい。
溶媒(b3)としては、例えば、アニソール、エチルフェニルエーテル、メチルアニソール、ジメチルアニソール、エチルアニソール、ブチルフェニルエーテル、ブチルアニソール、ペンチルアニソール、ヘキシルアニソール、ヘプチルアニソール、オクチルアニソール、1−メトキシナフタレン、ジフェニルエーテル、フェノキシトルエンが挙げられ、この中でも、メチルアニソール、ジメチルアニソール、エチルアニソール、ブチルフェニルエーテル、ブチルアニソール、ペンチルアニソール、ヘキシルアニソール、ヘプチルアニソール、オクチルアニソールまたはフェノキシトルエンが好ましく、2−メチルアニソール、3−メチルアニソール、4−メチルアニソール、2,5―ジメチルアニソール、2−エチルアニソール、4−エチルアニソールまたは3−フェノキシトルエンがより好ましく、2−メチルアニソール、3−メチルアニソール、4−メチルアニソールまたは3−フェノキシトルエンが更に好ましい。
<< Solvent (b3) >>
The solvent (b3) is an aromatic ether.
The solvent (b3) preferably has 7 to 15 carbon atoms in total.
Examples of the solvent (b3) include alkylaryl ethers having a total number of carbon atoms of 7 to 15 and an aryl moiety optionally substituted with an alkyl group, and an alkyl aryl ether having a total number of carbon atoms of 12 to 15 and substituted with an alkyl group. And alkylphenyl ethers having a total number of carbon atoms of 7 to 15 and a phenyl moiety optionally substituted with an alkyl group, and an alkylphenyl ether having a total number of carbon atoms of 12 to 15 and substituted with an alkyl group. Preferred are diphenyl ethers.
Examples of the solvent (b3) include anisole, ethylphenyl ether, methylanisole, dimethylanisole, ethylanisole, butylphenylether, butylanisole, pentylanisole, hexylanisole, heptylanisole, octylanisole, 1-methoxynaphthalene, diphenylether, Phenoxytoluene is exemplified, and among these, methylanisole, dimethylanisole, ethylanisole, butylphenylether, butylanisole, pentylanisole, hexylanisole, heptylanisole, octylanisole or phenoxytoluene is preferable, and 2-methylanisole, 3-methyl Anisole, 4-methylanisole, 2,5-dimethylanisole, 2-ethylanisole, 4-ethyl More preferably anisole or 3-phenoxypropyl toluene, 2-methyl anisole, 3-methyl anisole, 4-methyl anisole or 3 phenoxytoluene is more preferable.

本発明の組成物には、溶媒(b3)が1種単独で含有されていてもよく、2種以上含有されていてもよい。   The composition of the present invention may contain one kind of the solvent (b3) alone, or may contain two or more kinds of the solvent (b3).

≪その他の溶媒≫
本発明の組成物には、溶媒(b1)、溶媒(b2)、溶媒(b3)以外の溶媒(以下、「溶媒(b4)」とも称する。)が含まれていてもよい。溶媒(b4)は、溶媒(B)の全量に対して5質量%以上含まれる主溶媒(b)として含まれていてもよいし、溶媒(B)の全量に対して5質量%未満含まれる主溶媒以外の溶媒として含まれていてもよい。
≪Other solvents≫
The composition of the present invention may contain a solvent other than the solvent (b1), the solvent (b2), and the solvent (b3) (hereinafter, also referred to as “solvent (b4)”). The solvent (b4) may be contained as the main solvent (b) contained at 5% by mass or more based on the total amount of the solvent (B), or may be contained at less than 5% by mass based on the total amount of the solvent (B). It may be contained as a solvent other than the main solvent.

溶媒(b4)としては、例えば、脂肪族炭化水素溶媒、単価アルコール溶媒、多価アルコール溶媒、エステル溶媒、ケトン溶媒、脂肪族エーテル溶媒、窒素原子を含む溶媒、硫黄原子を含む溶媒が挙げられる。   Examples of the solvent (b4) include an aliphatic hydrocarbon solvent, a monovalent alcohol solvent, a polyhydric alcohol solvent, an ester solvent, a ketone solvent, an aliphatic ether solvent, a solvent containing a nitrogen atom, and a solvent containing a sulfur atom.

本発明の組成物には、溶媒(b4)が1種単独で含有されていてもよく、2種以上含有されていてもよい。   The composition of the present invention may contain one kind of the solvent (b4) alone, or may contain two or more kinds of the solvent (b4).

≪第1溶媒≫
主溶媒(b)の中で沸点が最も高い第1溶媒は、大気圧での沸点が200℃以上であることが好ましい。また、第1溶媒は、大気圧での沸点が350℃以下であることが好ましい。第1溶媒は、上記した溶媒(b1)であることが好ましい。第1溶媒の大気圧での沸点は、主溶媒(b)の中で大気圧での沸点が2番目に高い溶媒の大気圧での沸点との差が、10℃以上であることが好ましく、20℃以上であることがより好ましく、30℃以上であることがさらに好ましい。第1溶媒の濃度は、主溶媒(b)の全量に対して5質量%以上60質量%以下であることが好ましく、10質量%以上50質量%以下であることがより好ましい。
<< First solvent >>
The first solvent having the highest boiling point among the main solvents (b) preferably has a boiling point at atmospheric pressure of 200 ° C. or higher. Further, the first solvent preferably has a boiling point at atmospheric pressure of 350 ° C. or lower. The first solvent is preferably the above-mentioned solvent (b1). The boiling point at atmospheric pressure of the first solvent is preferably 10 ° C. or more, which is different from the boiling point at atmospheric pressure of the solvent having the second highest boiling point at atmospheric pressure in the main solvent (b). The temperature is more preferably 20 ° C or higher, and further preferably 30 ° C or higher. The concentration of the first solvent is preferably from 5% by mass to 60% by mass, more preferably from 10% by mass to 50% by mass, based on the total amount of the main solvent (b).

≪溶媒の組成比≫
溶媒(B)の一例において、主溶媒(b)は、溶媒(b1)、溶媒(b2)、及び溶媒(b3)を含み、溶媒(b1)の含有量:m1(質量)と、溶媒(b2)の含有量:m2(質量)と、溶媒(b3)の含有量:m3(質量)について、本発明の組成物を用いて形成される膜の平坦性がより優れるので、以下の関係式(1)及び(2)を満たすことが好ましい。
0.05≦m1/(m1+m2+m3)≦0.60 (1)
0.10≦m2/(m2+m3)≦0.90 (2)
m1は、溶媒(b1)が2種以上含有されている場合、溶媒(b1)の合計含有量を示す。m2は、溶媒(b2)が2種以上含有されている場合、溶媒(b2)の合計含有量を示す。m3は、溶媒(b3)が2種以上含有されている場合、溶媒(b3)の合計含有量を示す。
組成 Solvent composition ratio≫
In one example of the solvent (B), the main solvent (b) includes the solvent (b1), the solvent (b2), and the solvent (b3), and the content of the solvent (b1): m1 (mass) and the solvent (b2) The content of m2 (mass) and the content of the solvent (b3): m3 (mass) are more excellent in flatness of a film formed using the composition of the present invention. It is preferable to satisfy 1) and (2).
0.05 ≦ m1 / (m1 + m2 + m3) ≦ 0.60 (1)
0.10 ≦ m2 / (m2 + m3) ≦ 0.90 (2)
m1 indicates the total content of the solvent (b1) when two or more solvents (b1) are contained. m2 indicates the total content of the solvent (b2) when two or more solvents (b2) are contained. m3 indicates the total content of the solvent (b3) when two or more solvents (b3) are contained.

溶媒(B)は、溶媒(B)の全量に対して5質量%未満の含有量であれば、第1溶媒より沸点が高い溶媒を含んでいてもよい。なお、第1溶媒より沸点が高い溶媒は、溶媒(B)の全量に対して、単独で1質量%未満であることが好ましく、合計で5質量%未満であることが好ましい。   The solvent (B) may contain a solvent having a higher boiling point than the first solvent as long as the content is less than 5% by mass based on the total amount of the solvent (B). The solvent having a boiling point higher than that of the first solvent is preferably independently less than 1% by mass relative to the total amount of the solvent (B), and preferably less than 5% by mass in total.

<固形分(A)>
本発明の組成物に含有される固形分(A)は、高分子化合物及び低分子化合物を含む。高分子化合物は、固形分(A)の全量に対して5質量%以上含まれる主高分子化合物(a)を少なくとも1種含む。主高分子化合物(a)は、それぞれの含有量が固形分(A)の全量に対して5質量%以上70質量%未満であり、2種以上含まれる場合には全種類を合計した含有量が固形分(A)の全量に対して70質量%未満である。主高分子化合物(a)は、重量平均分子量が3.0×10以上であることが好ましい。
<Solid content (A)>
The solid content (A) contained in the composition of the present invention contains a high molecular compound and a low molecular compound. The polymer compound contains at least one main polymer compound (a) contained in an amount of 5% by mass or more based on the total amount of the solid content (A). The content of the main polymer compound (a) is 5% by mass or more and less than 70% by mass based on the total amount of the solid content (A), and when two or more types are contained, the total content of all types is contained. Is less than 70% by mass based on the total amount of the solid content (A). The main polymer compound (a) preferably has a weight average molecular weight of 3.0 × 10 4 or more.

低分子化合物は、固形分(A)の全量に対して30質量%以上含まれる主低分子化合物を少なくとも1種含む。主低分子化合物は、それぞれの含有量が固形分(A)の全量に対して60質量%以下であることが好ましく、2種以上含まれる場合には全種類を合計した含有量が固形分(A)の全量に対して95質量%未満である。主低分子化合物は、分子量が1×10以下であり、1×10以上であることが好ましい。 The low molecular weight compound contains at least one main low molecular weight compound contained in an amount of 30% by mass or more based on the total amount of the solid content (A). The content of the main low-molecular compound is preferably 60% by mass or less based on the total amount of the solid content (A), and when two or more types are contained, the total content of all the types is the solid content ( It is less than 95% by weight based on the total amount of A). The main low molecular weight compound has a molecular weight of 1 × 10 4 or less, and preferably 1 × 10 2 or more.

高分子化合物及び低分子化合物は、例えば、発光材料、ホスト材料、正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料、酸化防止剤等である。   The high molecular compound and the low molecular compound are, for example, a light emitting material, a host material, a hole transport material, a hole injection material, an electron transport material, an electron injection material, an antioxidant, and the like.

固形分(A)に含まれる低分子化合物は、低分子化合物は発光材料であってもよい。低分子化合物が発光材料である場合は、優れた発光特性を有する観点から、イリジウム錯体であることが好ましい。なお、イリジウム錯体は、低分子化合物としてではなく、イリジウム錯体の構造を有する構成単位(すなわち、イリジウム錯体を構成する炭素原子またはヘテロ原子に直接結合する1個以上の水素原子を除いてなる基を有する構成単位。以下、「イリジウム錯体構成単位」ともいう)を含む高分子化合物として含まれていてもよい。   The low molecular compound contained in the solid content (A) may be a light emitting material. When the low molecular compound is a light emitting material, it is preferably an iridium complex from the viewpoint of having excellent light emitting properties. Note that the iridium complex is not a low-molecular compound but a structural unit having a structure of the iridium complex (that is, a group formed by removing one or more hydrogen atoms directly bonded to a carbon atom or a hetero atom constituting the iridium complex). (Hereinafter, also referred to as “iridium complex constituent unit”).

≪共通する用語の説明≫
以下で共通して用いられる用語は、特記しない限り、次の意味である。
≫Explanation of common terms≫
Terms commonly used below have the following meanings unless otherwise specified.

Meはメチル基、Etはエチル基、Buはブチル基、i−Prはイソプロピル基、t−Buはtert−ブチル基を表す。   Me represents a methyl group, Et represents an ethyl group, Bu represents a butyl group, i-Pr represents an isopropyl group, and t-Bu represents a tert-butyl group.

水素原子は、重水素原子であっても、軽水素原子であってもよい。   The hydrogen atom may be a deuterium atom or a light hydrogen atom.

金属錯体を表す式中、中心金属との結合を表す実線は、共有結合または配位結合を意味する。   In the formula representing the metal complex, a solid line representing a bond with the central metal means a covalent bond or a coordinate bond.

「構成単位」とは、高分子化合物中に1個以上存在する単位を意味する。   “Structural unit” refers to a unit that is present one or more times in a polymer compound.

「アルキル基」は、直鎖および分岐のいずれでもよい。直鎖のアルキル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常1〜50であり、好ましくは3〜30であり、より好ましくは4〜20である。分岐のアルキル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常3〜50であり、好ましくは3〜30であり、より好ましくは4〜20である。   “Alkyl group” may be linear or branched. The number of carbon atoms of the linear alkyl group is usually 1 to 50, preferably 3 to 30, and more preferably 4 to 20, excluding the number of carbon atoms of the substituent. The number of carbon atoms of the branched alkyl group is usually 3 to 50, preferably 3 to 30, and more preferably 4 to 20, excluding the number of carbon atoms of the substituent.

アルキル基は、置換基を有していてもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソアミル基、2−エチルブチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2−ブチル基、2−エチルヘキシル基、3−プロピルヘプチル基、デシル基、3,7−ジメチルオクチル基、2−エチルオクチル基、2−ヘキシルデシル基、ドデシル基、および、これらの基における水素原子が、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子等で置換された基が挙げられ、例えば、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、3−フェニルプロピル基、3−(4−メチルフェニル)プロピル基、3−(3,5−ジ-ヘキシルフェニル)プロピル基、6−エチルオキシヘキシル基が挙げられる。   The alkyl group may have a substituent, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, isoamyl group, 2-ethylbutyl group, Hexyl group, heptyl group, octyl group, 2-butyl group, 2-ethylhexyl group, 3-propylheptyl group, decyl group, 3,7-dimethyloctyl group, 2-ethyloctyl group, 2-hexyldecyl group, dodecyl group And a group in which a hydrogen atom in these groups is substituted with a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group, a fluorine atom, or the like, for example, a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group, Fluorobutyl group, perfluorohexyl group, perfluorooctyl group, 3-phenylpropyl group, 3 (4-methylphenyl) propyl group, 3- (3,5-di - hexyl phenyl) propyl group, and 6-ethyloxy-hexyl group.

「シクロアルキル基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常3〜50であり、好ましくは3〜30であり、より好ましくは4〜20である。   The number of carbon atoms of the “cycloalkyl group” is usually from 3 to 50, preferably from 3 to 30, more preferably from 4 to 20, excluding the number of carbon atoms of the substituent.

シクロアルキル基は、置換基を有していてもよく、例えば、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基が挙げられる。   The cycloalkyl group may have a substituent, and examples thereof include a cyclohexyl group, a cyclohexylmethyl group, and a cyclohexylethyl group.

「アリール基」は、芳香族炭化水素から環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子1個を除いた残りの原子団を意味する。アリール基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常6〜60であり、好ましくは6〜20であり、より好ましくは6〜10である。   “Aryl group” means an atomic group obtained by removing one hydrogen atom directly bonded to a carbon atom constituting a ring from an aromatic hydrocarbon. The number of carbon atoms of the aryl group is usually from 6 to 60, preferably from 6 to 20, more preferably from 6 to 10, excluding the number of carbon atoms of the substituent.

アリール基は、置換基を有していてもよく、例えば、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、1−アントラセニル基、2−アントラセニル基、9−アントラセニル基、1−ピレニル基、2−ピレニル基、4−ピレニル基、2−フルオレニル基、3−フルオレニル基、4−フルオレニル基、2−フェニルフェニル基、3−フェニルフェニル基、4−フェニルフェニル基、および、これらの基における水素原子が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子等で置換された基が挙げられる。   The aryl group may have a substituent, for example, phenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, 1-anthracenyl group, 2-anthracenyl group, 9-anthracenyl group, 1-pyrenyl group, -Pyrenyl group, 4-pyrenyl group, 2-fluorenyl group, 3-fluorenyl group, 4-fluorenyl group, 2-phenylphenyl group, 3-phenylphenyl group, 4-phenylphenyl group, and hydrogen atoms in these groups Is a group substituted with an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group, a fluorine atom, or the like.

「アルコキシ基」は、直鎖および分岐のいずれでもよい。直鎖のアルコキシ基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常1〜40であり、好ましくは4〜10である。分岐のアルコキシ基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常3〜40であり、好ましくは4〜10である。   The “alkoxy group” may be linear or branched. The number of carbon atoms of the linear alkoxy group is usually from 1 to 40, preferably from 4 to 10, excluding the number of carbon atoms of the substituent. The number of carbon atoms of the branched alkoxy group is usually from 3 to 40, preferably from 4 to 10, excluding the number of carbon atoms of the substituent.

アルコキシ基は、置換基を有していてもよく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、tert-ブ
チルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、3,7−ジメチルオクチルオキシ基、ラウリルオキシ基、および、これらの基における水素原子が、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子等で置換された基が挙げられる。
The alkoxy group may have a substituent, for example, methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, isopropyloxy group, butyloxy group, isobutyloxy group, tert-butyloxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, Heptyloxy group, octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, nonyloxy group, decyloxy group, 3,7-dimethyloctyloxy group, lauryloxy group, and a hydrogen atom in these groups is a cycloalkyl group, an alkoxy group, Examples thereof include a cycloalkoxy group, an aryl group, and a group substituted with a fluorine atom.

「シクロアルコキシ基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常3〜40であり、好ましくは4〜10である。シクロアルコキシ基は、置換基を有していてもよく、例えば、シクロヘキシルオキシ基が挙げられる。   The number of carbon atoms of the "cycloalkoxy group" is usually from 3 to 40, preferably from 4 to 10, excluding the number of carbon atoms of the substituent. The cycloalkoxy group may have a substituent, for example, a cyclohexyloxy group.

「アリールオキシ基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常6〜60であり、好ましくは6〜48である。アリールオキシ基は、置換基を有していてもよく、例えば、フェノキシ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、1−アントラセニルオキシ基、9−アントラセニルオキシ基、1−ピレニルオキシ基、および、これらの基における水素原子が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、フッ素原子等で置換された基が挙げられる。   The number of carbon atoms of the "aryloxy group" is usually from 6 to 60, preferably from 6 to 48, excluding the number of carbon atoms of the substituent. The aryloxy group may have a substituent, for example, a phenoxy group, a 1-naphthyloxy group, a 2-naphthyloxy group, a 1-anthracenyloxy group, a 9-anthracenyloxy group, Examples include a pyrenyloxy group, and a group in which a hydrogen atom in these groups is substituted with an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, a fluorine atom, or the like.

「p価の複素環基」(pは、1以上の整数を表す。)とは、複素環式化合物から、環を構成する炭素原子またはヘテロ原子に直接結合している水素原子のうちp個の水素原子を除いた残りの原子団を意味する。p価の複素環基の中でも、芳香族複素環式化合物から、環を構成する炭素原子またはヘテロ原子に直接結合している水素原子のうちp個の水素原子を除いた残りの原子団である「p価の芳香族複素環基」が好ましい。   The “p-valent heterocyclic group” (p represents an integer of 1 or more) is a heterocyclic compound in which p hydrogen atoms are directly bonded to carbon atoms or hetero atoms constituting a ring. Means the remaining atomic groups except for the hydrogen atom. Among the p-valent heterocyclic groups, it is the remaining atomic group obtained by removing p hydrogen atoms among the hydrogen atoms directly bonded to the carbon atoms or hetero atoms constituting the ring from the aromatic heterocyclic compound. “P-valent aromatic heterocyclic group” is preferred.

「芳香族複素環式化合物」は、オキサジアゾール、チアジアゾール、チアゾール、オキサゾール、チオフェン、ピロール、ホスホール、フラン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、トリアジン、ピリダジン、キノリン、イソキノリン、カルバゾール、ジベンゾホスホール等の複素環自体が芳香族性を示す化合物、および、フェノキサジン、フェノチアジン、ジベンゾボロール、ジベンゾシロール、ベンゾピラン等の複素環自体は芳香族性を示さなくとも、複素環に芳香環が縮環されている化合物を意味する。   "Aromatic heterocyclic compound" includes oxadiazole, thiadiazole, thiazole, oxazole, thiophene, pyrrole, phosphole, furan, pyridine, pyrazine, pyrimidine, triazine, pyridazine, quinoline, isoquinoline, carbazole, dibenzophosphole Compounds in which the ring itself shows aromaticity, and heterocycles such as phenoxazine, phenothiazine, dibenzoborole, dibenzosilole, and benzopyran do not show aromaticity, but an aromatic ring is fused to the heterocycle Means a compound.

1価の複素環基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常、2〜60であり、好ましくは4〜20である。
1価の複素環基は、置換基を有していてもよく、例えば、チエニル基、ピロリル基、フリル基、ピリジル基、ピペリジニル基、キノリニル基、イソキノリニル基、ピリミジニル基、トリアジニル基、および、これらの基における水素原子が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基等で置換された基が挙げられる。
The number of carbon atoms of the monovalent heterocyclic group is usually 2 to 60, preferably 4 to 20, without including the number of carbon atoms of the substituent.
The monovalent heterocyclic group may have a substituent, for example, thienyl group, pyrrolyl group, furyl group, pyridyl group, piperidinyl group, quinolinyl group, isoquinolinyl group, pyrimidinyl group, triazinyl group, and And a group in which a hydrogen atom in the above group is substituted with an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, or the like.

「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を示す。   “Halogen atom” refers to a fluorine, chlorine, bromine or iodine atom.

「アミノ基」は、置換基を有していてもよく、置換アミノ基が好ましい。アミノ基が有する置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基が好ましい。置換アミノ基としては、例えば、ジアルキルアミノ基、ジシクロアルキルアミノ基およびジアリールアミノ基が挙げられる。アミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ビス(4−メチルフェニル)アミノ基、ビス(4−tert−ブチルフェニル)アミノ基、ビス(3,5−ジ−tert−ブチルフ
ェニル)アミノ基が挙げられる。
The “amino group” may have a substituent, and a substituted amino group is preferable. As the substituent of the amino group, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group is preferable. Examples of the substituted amino group include a dialkylamino group, a dicycloalkylamino group, and a diarylamino group. Examples of the amino group include a dimethylamino group, a diethylamino group, a diphenylamino group, a bis (4-methylphenyl) amino group, a bis (4-tert-butylphenyl) amino group, and a bis (3,5-di-tert- (Butylphenyl) amino group.

「アルケニル基」は、直鎖および分岐のいずれでもよい。直鎖のアルケニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常2〜30であり、好ましくは3〜20である。分岐のアルケニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常3〜30であり、好ましくは4〜20である。「シクロアルケニル基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常3〜30であり、好ましくは4〜20である。   The “alkenyl group” may be linear or branched. The number of carbon atoms of the straight-chain alkenyl group is usually 2 to 30, preferably 3 to 20, without including the number of carbon atoms of the substituent. The number of carbon atoms of the branched alkenyl group is usually from 3 to 30, preferably from 4 to 20, excluding the number of carbon atoms of the substituent. The number of carbon atoms of the “cycloalkenyl group” is usually from 3 to 30, preferably from 4 to 20, excluding the number of carbon atoms of the substituent.

アルケニル基およびシクロアルケニル基は、置換基を有していてもよく、例えば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、3−ペンテニル基、4−ペンテニル基、1−ヘキセニル基、5−ヘキセニル基、7−オクテニル基、および、これらの基が置換基を有する基が挙げられる。   The alkenyl group and the cycloalkenyl group may have a substituent, for example, a vinyl group, a 1-propenyl group, a 2-propenyl group, a 2-butenyl group, a 3-butenyl group, a 3-pentenyl group, a 4-pentenyl group, Examples include a pentenyl group, a 1-hexenyl group, a 5-hexenyl group, a 7-octenyl group, and a group in which these groups have a substituent.

「アルキニル基」は、直鎖および分岐のいずれでもよい。アルキニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子を含めないで、通常2〜20であり、好ましくは3〜20である。分岐のアルキニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子を含めないで、通常4〜30であり、好ましくは4〜20である。   The “alkynyl group” may be linear or branched. The number of carbon atoms of the alkynyl group is usually 2 to 20, preferably 3 to 20, excluding the carbon atom of the substituent. The number of carbon atoms of the branched alkynyl group is usually 4 to 30, preferably 4 to 20, excluding the carbon atom of the substituent.

「シクロアルキニル基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子を含めないで、通常4〜30であり、好ましくは4〜20である。   The number of carbon atoms of the “cycloalkynyl group” is usually 4 to 30, preferably 4 to 20, excluding the carbon atom of the substituent.

アルキニル基およびシクロアルキニル基は、置換基を有していてもよく、例えば、エチニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、3−ペンチニル基、4−ペンチニル基、1−ヘキシニル基、5−ヘキシニル基、および、これらの基が置換基を有する基が挙げられる。   The alkynyl group and the cycloalkynyl group may have a substituent, for example, an ethynyl group, a 1-propynyl group, a 2-propynyl group, a 2-butynyl group, a 3-butynyl group, a 3-pentynyl group, a 4-pentynyl group. Examples include a pentynyl group, a 1-hexynyl group, a 5-hexynyl group, and groups in which these groups have a substituent.

「アリーレン基」は、芳香族炭化水素から環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子2個を除いた残りの原子団を意味する。アリーレン基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常、6〜60であり、好ましくは6〜30であり、より好ましくは6〜18である。   The “arylene group” means an atomic group obtained by removing two hydrogen atoms directly bonded to carbon atoms constituting a ring from an aromatic hydrocarbon. The number of carbon atoms of the arylene group is usually from 6 to 60, preferably from 6 to 30, more preferably from 6 to 18, excluding the number of carbon atoms of the substituent.

アリーレン基は、置換基を有していてもよく、例えば、フェニレン基、ナフタレンジイル基、アントラセンジイル基、フェナントレンジイル基、ジヒドロフェナントレンジイル基、ナフタセンジイル基、フルオレンジイル基、ピレンジイル基、ペリレンジイル基、クリセンジイル基、および、これらの基が置換基を有する基が挙げられ、好ましくは、式(A−1)〜式(A−20)で表される基である。アリーレン基は、これらの基が複数結合した基を含む。   The arylene group may have a substituent, for example, a phenylene group, a naphthalenediyl group, an anthracenediyl group, a phenanthylenediyl group, a dihydrophenanthylenediyl group, a naphthacenediyl group, a fluorenediyl group, a pyrenediyl group, a perylenediyl group, Chrysenediyl groups and groups in which these groups have a substituent are mentioned, and preferred are groups represented by formulas (A-1) to (A-20). The arylene group includes a group in which a plurality of these groups are bonded.

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028

[式中、RおよびRは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基を表す。複数存在するRおよびRは、各々、同一でも異なっていてもよく、R同士は互いに結合して、それぞれが結合する原子と共に環を形成していてもよい。]
Figure 2020010028

[Wherein, R and R a each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or monovalent heterocyclic group. A plurality of R and R a may be the same or different, and R a may be bonded to each other to form a ring together with the atoms to which they are bonded. ]

2価の複素環基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常、2〜60であり、好ましくは、3〜20であり、より好ましくは、4〜15である。
2価の複素環基は、置換基を有していてもよく、例えば、ピリジン、ジアザベンゼン、トリアジン、アザナフタレン、ジアザナフタレン、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、ジベンゾシロール、フェノキサジン、フェノチアジン、アクリジン、ジヒドロアクリジン、フラン、チオフェン、アゾール、ジアゾール、トリアゾールから、環を構成する炭素原子またはヘテロ原子に直接結合している水素原子のうち2個の水素原子を除いた2価の基が挙げられ、好ましくは、式(AA−1)〜式(AA−34)で表される基である。2価の複素環基は、これらの基が複数結合した基を含む。
The number of carbon atoms of the divalent heterocyclic group is usually 2 to 60, preferably 3 to 20, more preferably 4 to 15, without including the number of carbon atoms of the substituent.
The divalent heterocyclic group may have a substituent, for example, pyridine, diazabenzene, triazine, azanaphthalene, diazanaphthalene, carbazole, dibenzofuran, dibenzothiophene, dibenzosilole, phenoxazine, phenothiazine, acridine, Dihydroacridine, furan, thiophene, azole, diazole, triazole, and a divalent group obtained by removing two hydrogen atoms among hydrogen atoms directly bonded to a carbon atom or a hetero atom constituting a ring, preferably Is a group represented by formulas (AA-1) to (AA-34). The divalent heterocyclic group includes a group in which a plurality of these groups are bonded.

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028

[式中、RおよびRは、前記と同じ意味を表す。]
Figure 2020010028

[Wherein, R and R a are as defined above. ]

「架橋基」とは、加熱処理、紫外線照射処理、近紫外線照射処理、可視光照射処理、赤外線照射処理、ラジカル反応等に供することにより、新たな結合を生成することが可能な基であり、好ましくは、式(B−1)−(B−17)のいずれかで表される基である。これらの基は、置換基を有していてもよい。   The “crosslinking group” is a group capable of generating a new bond by subjecting to a heat treatment, an ultraviolet irradiation treatment, a near ultraviolet irradiation treatment, a visible light irradiation treatment, an infrared irradiation treatment, a radical reaction, and the like, Preferably, it is a group represented by any of formulas (B-1) to (B-17). These groups may have a substituent.

Figure 2020010028
Figure 2020010028

「置換基」とは、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、1価の複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、置換アミノ基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基またはシクロアルキニル基を表す。置換基は架橋基であってもよい。   "Substituent" refers to a halogen atom, cyano group, alkyl group, cycloalkyl group, aryl group, monovalent heterocyclic group, alkoxy group, cycloalkoxy group, aryloxy group, amino group, substituted amino group, alkenyl group , A cycloalkenyl group, an alkynyl group or a cycloalkynyl group. The substituent may be a crosslinking group.

≪高分子化合物≫
固形分(A)に含まれる高分子化合物は、発光材料であってもよく、発光材料である場合は、優れた発光特性を有する観点から、式(X)で表される構成単位および式(Y)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物であることが好ましい。
≪Polymer compound≫
The polymer compound contained in the solid content (A) may be a light emitting material. When the polymer compound is a light emitting material, the structural unit represented by the formula (X) and the formula ( It is preferable that the polymer is a polymer compound containing at least one structural unit selected from the group consisting of the structural units represented by Y).

本発明の組成物には、式(X)で表される構成単位および式(Y)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物が、1種単独で含有されていてもよく、2種以上含有されていてもよい。   In the composition of the present invention, one kind of a polymer compound containing at least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit represented by the formula (X) and a structural unit represented by the formula (Y) is used. They may be contained alone or in combination of two or more.

(式(X)で表される構成単位)

Figure 2020010028

[式中、
X1およびaX2は、それぞれ独立に、0以上の整数を表す。
ArX1およびArX3は、それぞれ独立に、アリーレン基または2価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
ArX2およびArX4は、それぞれ独立に、アリーレン基、2価の複素環基、または、少なくとも1種のアリーレン基と少なくとも1種の2価の複素環基とが直接結合した2価の基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ArX2およびArX4が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
X1、RX2およびRX3は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。RX2およびRX3が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。] (Structural unit represented by formula (X))
Figure 2020010028

[Where,
a X1 and a X2 each independently represent an integer of 0 or more.
Ar X1 and Ar X3 each independently represent an arylene group or a divalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent.
Ar X2 and Ar X4 each independently represent an arylene group, a divalent heterocyclic group, or a divalent group in which at least one arylene group and at least one divalent heterocyclic group are directly bonded. And these groups may have a substituent. When a plurality of Ar X2 and Ar X4 are present, they may be the same or different.
R X1 , R X2 and R X3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. When a plurality of R X2 and R X3 are present, they may be the same or different. ]

X1は、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する発光素子の発光効率が優れるので、好ましくは2以下の整数であり、より好ましくは1である。 a X1 is preferably an integer of 2 or less, and more preferably 1, because a light-emitting element having a film formed using the composition of the present invention has excellent luminous efficiency.

X2は、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する発光素子の発光効率が優れるので、好ましくは2以下の整数であり、より好ましくは0である。 a X2 is preferably an integer of 2 or less, more preferably 0, because the light-emitting element having a film formed using the composition of the present invention has excellent luminous efficiency.

X1、RX2およびRX3は、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基であり、より好ましくはアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 R X1 , R X2 and R X3 are preferably an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, more preferably an aryl group, and these groups have a substituent. Is also good.

ArX1およびArX3で表されるアリーレン基は、より好ましくは式(A−1)または式(A−9)で表される基であり、更に好ましくは式(A−1)で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 The arylene group represented by Ar X1 and Ar X3 is more preferably a group represented by the formula (A-1) or (A-9), and still more preferably a group represented by the formula (A-1) And these groups may have a substituent.

ArX1およびArX3で表される2価の複素環基は、より好ましくは式(AA−1)、式(AA−2)または式(AA−7)−(AA−26)で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 The divalent heterocyclic group represented by Ar X1 and Ar X3 is more preferably represented by Formula (AA-1), Formula (AA-2) or Formula (AA-7)-(AA-26) And these groups may have a substituent.

ArX1およびArX3は、好ましくは置換基を有していてもよいアリーレン基である。 Ar X1 and Ar X3 are preferably an arylene group optionally having a substituent.

ArX2およびArX4で表されるアリーレン基としては、より好ましくは式(A−1)、式(A−6)、式(A−7)、式(A−9)−(A−11)または式(A−19)で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 The arylene group represented by Ar X2 and Ar X4 is more preferably the formula (A-1), the formula (A-6), the formula (A-7), the formula (A-9)-(A-11) Or a group represented by the formula (A-19), and these groups may have a substituent.

ArX2およびArX4で表される2価の複素環基のより好ましい範囲は、ArX1およびArX3で表される2価の複素環基のより好ましい範囲と同じである。 The more preferable range of the divalent heterocyclic group represented by Ar X2 and Ar X4 is the same as the more preferable range of the divalent heterocyclic group represented by Ar X1 and Ar X3 .

ArX2およびArX4で表される少なくとも1種のアリーレン基と少なくとも1種の2価の複素環基とが直接結合した2価の基における、アリーレン基および2価の複素環基のより好ましい範囲、更に好ましい範囲は、それぞれ、ArX1およびArX3で表されるアリーレン基および2価の複素環基のより好ましい範囲、更に好ましい範囲と同様である。 More preferred range of the arylene group and the divalent heterocyclic group in the divalent group in which at least one type of the arylene group represented by Ar X2 and Ar X4 is directly bonded to at least one type of the divalent heterocyclic group The more preferable ranges are the same as the more preferable ranges and the more preferable ranges of the arylene group and the divalent heterocyclic group represented by Ar X1 and Ar X3 , respectively.

ArX2およびArX4で表される少なくとも1種のアリーレン基と少なくとも1種の2価の複素環基とが直接結合した2価の基としては、例えば、下記式で表される基が挙げられ、これらは置換基を有していてもよい。 Examples of the divalent group in which at least one arylene group represented by Ar X2 and Ar X4 is directly bonded to at least one divalent heterocyclic group include groups represented by the following formulas. And these may have a substituent.

Figure 2020010028

[式中、RXXは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。]
Figure 2020010028

[Wherein, R XX represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. ]

XXは、好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 R XX is preferably an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, and these groups may have a substituent.

ArX2およびArX4は、好ましくは置換基を有していてもよいアリーレン基である。 Ar X2 and Ar X4 are preferably an arylene group optionally having a substituent.

ArX1〜ArX4およびRX1〜RX3で表される基が有してもよい置換基としては、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基またはアリール基であり、これらの基は更に置換基を有していてもよい。 The substituent which the groups represented by Ar X1 to Ar X4 and R X1 to R X3 may have is preferably an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, and these groups further have a substituent. It may be.

式(X)で表される構成単位は、好ましくは式(X−1)−(X−7)で表される構成単位であり、より好ましくは式(X−1)−(X−6)で表される構成単位であり、更に好ましくは式(X−3)−(X−6)で表される構成単位である。   The structural unit represented by the formula (X) is preferably a structural unit represented by the formula (X-1)-(X-7), and more preferably the formula (X-1)-(X-6) And more preferably a structural unit represented by Formulas (X-3) to (X-6).

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028
Figure 2020010028

[式中、Rx4およびRx5は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、1価の複素環基またはシアノ基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するRx4は、同一でも異なっていてもよい。複数存在するRx5は、同一でも異なっていてもよく、隣接するRx5同士は互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子と共に環を形成していてもよい。] [Wherein, R x4 and R x5 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a halogen atom, a monovalent heterocyclic group or a cyano group; Represents a group, and these groups may have a substituent. A plurality of R x4 may be the same or different. A plurality of R x5 may be the same or different, and adjacent R x5 may be bonded to each other to form a ring together with the carbon atom to which each is bonded. ]

式(X)で表される構成単位は、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する有機EL素子の正孔輸送性が優れる観点から、高分子化合物中に含まれる構成単位の合計量に対して、好ましくは0.1〜50モル%であり、より好ましくは1〜40モル%であり、更に好ましくは5〜30モル%である。   The structural unit represented by the formula (X) is the total of the structural units contained in the polymer compound from the viewpoint of excellent hole transportability of the organic EL device having the film formed using the composition of the present invention. The amount is preferably 0.1 to 50 mol%, more preferably 1 to 40 mol%, and still more preferably 5 to 30 mol% based on the amount.

式(X)で表される構成単位としては、例えば、式(X1−1)−(X1−11)で表される構成単位が挙げられ、好ましくは式(X1−3)−(X1−10)で表される構成単位である。   Examples of the structural unit represented by the formula (X) include structural units represented by the formulas (X1-1)-(X1-11), and preferably the formulas (X1-3)-(X1-10) ).

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028
Figure 2020010028

式(X)で表される構成単位は、高分子化合物中に、1種のみ含まれていてもよく、2種以上含まれていてもよい。   The structural unit represented by the formula (X) may be contained alone or in combination of two or more in the polymer compound.

(式(Y)で表される構成単位)

Figure 2020010028

[式中、ArY1は、アリーレン基、2価の複素環基、または、少なくとも1種のアリーレン基と少なくとも1種の2価の複素環基とが直接結合した2価の基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。] (Structural unit represented by formula (Y))
Figure 2020010028

[In the formula, Ar Y1 represents an arylene group, a divalent heterocyclic group, or a divalent group in which at least one type of arylene group and at least one type of divalent heterocyclic group are directly bonded. May have a substituent. ]

ArY1で表されるアリーレン基は、より好ましくは、式(A−1)、式(A−2)、式(A−6)−(A−10)、式(A−19)または式(A−20)で表される基であり、更に好ましくは、式(A−1)、式(A−2)、式(A−7)、式(A−9)または式(A−19)で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 The arylene group represented by Ar Y1 is more preferably the formula (A-1), the formula (A-2), the formula (A-6)-(A-10), the formula (A-19) or the formula (A-19). A group represented by formula (A-20), more preferably a formula (A-1), a formula (A-2), a formula (A-7), a formula (A-9) or a formula (A-19) And these groups may have a substituent.

ArY1で表される2価の複素環基は、より好ましくは、式(AA−1)−(AA−4)、式(AA−10)−(AA−15)、式(AA−18)−(AA−21)、式(AA−33)または式(AA−34)で表される基であり、更に好ましくは、式(AA−4)、式(AA−10)、式(AA−12)、式(AA−14)または式(AA−33)で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 The divalent heterocyclic group represented by Ar Y1 is more preferably a compound represented by the formula (AA-1)-(AA-4), a compound represented by the formula (AA-10)-(AA-15) or a compound represented by the formula (AA-18) -A group represented by formula (AA-21), formula (AA-33) or formula (AA-34), and more preferably formula (AA-4), formula (AA-10), or formula (AA- 12), a group represented by the formula (AA-14) or the formula (AA-33), and these groups may have a substituent.

ArY1で表される少なくとも1種のアリーレン基と少なくとも1種の2価の複素環基とが直接結合した2価の基における、アリーレン基および2価の複素環基のより好ましい範囲、更に好ましい範囲は、それぞれ、前述のArY1で表されるアリーレン基および2価の複素環基のより好ましい範囲、更に好ましい範囲と同様である。 In a divalent group in which at least one kind of an arylene group represented by Ar Y1 and at least one kind of a divalent heterocyclic group are directly bonded, a more preferable range of the arylene group and the divalent heterocyclic group is more preferable. The ranges are the same as the more preferable range and the more preferable range of the arylene group and the divalent heterocyclic group represented by Ar Y1 described above.

ArY1で表される少なくとも1種のアリーレン基と少なくとも1種の2価の複素環基とが直接結合した2価の基としては、式(X)のArX2およびArX4で表される少なくとも1種のアリーレン基と少なくとも1種の2価の複素環基とが直接結合した2価の基と同様のものが挙げられる。 As the divalent group in which at least one kind of arylene group represented by Ar Y1 and at least one kind of divalent heterocyclic group are directly bonded, at least one represented by Ar X2 and Ar X4 of the formula (X) Examples include the same divalent groups in which one kind of arylene group and at least one kind of divalent heterocyclic group are directly bonded.

ArY1で表される基が有してもよい置換基は、好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基であり、これらの基は更に置換基を有していてもよい。 The substituent which the group represented by Ar Y1 may have is preferably an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, and these groups may further have a substituent.

式(Y)で表される構成単位としては、例えば、式(Y−1)−(Y−10)で表される構成単位が挙げられ、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する発光素子の輝度寿命の観点からは、好ましくは式(Y−1)−(Y−3)で表される構成単位であり、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する発光素子の電子輸送性の観点からは、好ましくは式(Y−4)−(Y−7)で表される構成単位であり、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する発光素子の発光効率又は正孔輸送性の観点からは、好ましくは式(Y−8)−(Y−10)で表される構成単位である。   Examples of the structural unit represented by the formula (Y) include structural units represented by the formulas (Y-1) to (Y-10), and a film formed using the composition of the present invention is From the viewpoint of the luminance life of the light-emitting element having the light-emitting element, the light-emitting element is preferably a structural unit represented by Formulas (Y-1) to (Y-3), and has a film formed using the composition of the present invention. From the viewpoint of the electron transport property, the light-emitting element having a film formed using the composition of the present invention is preferably a structural unit represented by the formula (Y-4)-(Y-7). From the viewpoint of efficiency or hole transportability, a structural unit represented by the formula (Y-8)-(Y-10) is preferable.

Figure 2020010028

[式中、RY1は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するRY1は、同一でも異なっていてもよく、隣接するRY1同士は互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子と共に環を形成していてもよい。]
Figure 2020010028

[Wherein, R Y1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. . A plurality of RY1s may be the same or different, and adjacent RY1s may be bonded to each other to form a ring together with the carbon atoms to which they are bonded. ]

Y1は、好ましくは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 R Y1 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, and these groups may have a substituent.

式(Y−1)で表される構成単位は、好ましくは、式(Y−1’)で表される構成単位である。   The structural unit represented by the formula (Y-1) is preferably a structural unit represented by the formula (Y-1 ').

Figure 2020010028

[式中、RY11は、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
複数存在するRY11は、同一でも異なっていてもよい。]
Figure 2020010028

[Wherein, R Y11 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group, or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent.
A plurality of RY11s may be the same or different. ]

Y11は、好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基であり、より好ましくは、アルキル基またはシクロアルキル基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 R Y11 is preferably an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, more preferably an alkyl group or a cycloalkyl group, and these groups may have a substituent.

Figure 2020010028

[式中、
Y1は、前記と同じ意味を表す。
Y1は、−C(RY2)−、−C(RY2)=C(RY2)−または−C(RY2)−C(RY2)−で表される基を表す。RY2は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するRY2は、同一でも異なっていてもよく、RY2同士は互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子と共に環を形成していてもよい。]
Figure 2020010028

[Where,
R Y1 represents the same meaning as described above.
X Y1 is, -C (R Y2) 2 - , - represents a group represented by - C (R Y2) = C (R Y2) - or -C (R Y2) 2 -C ( R Y2) 2. R Y2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. A plurality of RY2s may be the same or different, and RY2s may be bonded to each other to form a ring together with the carbon atoms to which they are bonded. ]

Y2は、好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基であり、より好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 R Y2 is preferably an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, more preferably an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, and these groups have a substituent. It may be.

Y1において、−C(RY2)−で表される基中の2個のRY2の組み合わせは、好ましくは両方がアルキル基もしくはシクロアルキル基、両方がアリール基、両方が1価の複素環基、または、一方がアルキル基もしくはシクロアルキル基で他方がアリール基若しくは1価の複素環基であり、より好ましくは一方がアルキル基もしくはシクロアルキル基で他方がアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。2個存在するRY2は互いに結合して、それぞれが結合する原子と共に環を形成していてもよく、RY2が環を形成する場合、−C(RY2)−で表される基としては、好ましくは式(Y−A1)−(Y−A5)で表される基であり、より好ましくは式(Y−A4)で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 In X Y1, -C (R Y2) 2 - 2 pieces of combinations of R Y2 in the group represented by is preferably both an alkyl group or a cycloalkyl group, both an aryl group, both monovalent heterocyclic A ring group, or one of which is an alkyl group or a cycloalkyl group and the other is an aryl group or a monovalent heterocyclic group, more preferably one is an alkyl group or a cycloalkyl group and the other is an aryl group; May have a substituent. 2 to R Y2, taken together present, each may form a ring together with the binding atoms, if R Y2 form a ring, -C (R Y2) 2 - as a group represented by Is preferably a group represented by the formula (Y-A1)-(Y-A5), more preferably a group represented by the formula (Y-A4), and these groups have a substituent. May be.

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Y1において、−C(RY2)=C(RY2)−で表される基中の2個のRY2の組み合わせは、好ましくは両方がアルキル基もしくはシクロアルキル基、または、一方がアルキル基もしくはシクロアルキル基で他方がアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 In XY1 , the combination of two RY2 in the group represented by -C ( RY2 ) = C ( RY2 ) -is preferably an alkyl group or a cycloalkyl group, or one of them is an alkyl group. Alternatively, the other is a cycloalkyl group and an aryl group, and these groups may have a substituent.

Y1において、−C(RY2)−C(RY2)−で表される基中の4個のRY2は、好ましくは置換基を有していてもよいアルキル基またはシクロアルキル基である。複数あるRY2は互いに結合して、それぞれが結合する原子と共に環を形成していてもよく、RY2が環を形成する場合、−C(RY2)−C(RY2)−で表される基は、好ましくは式(Y−B1)−(Y−B5)で表される基であり、より好ましくは式(Y−B3)で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 In X Y1, -C (R Y2) 2 -C (R Y2) 2 - 4 pieces of R Y2 in the group represented by is preferably an optionally substituted alkyl group or a cycloalkyl group It is. A plurality of RY2s may be bonded to each other to form a ring together with the atoms to which they are bonded, and when RY2 forms a ring, -C ( RY2 ) 2- C ( RY2 ) 2- The group represented by the formula is preferably a group represented by the formula (Y-B1)-(Y-B5), more preferably a group represented by the formula (Y-B3). It may have a group.

Figure 2020010028

[式中、RY2は前記と同じ意味を表す。]
Figure 2020010028

[Wherein, R Y2 represents the same meaning as described above. ]

式(Y−2)で表される構成単位は、式(Y−2’)で表される構成単位であることが好ましい。   The structural unit represented by the formula (Y-2) is preferably a structural unit represented by the formula (Y-2 ').

Figure 2020010028

[式中、RY1およびXY1は、前記と同じ意味を表す。]
Figure 2020010028

[Wherein, R Y1 and X Y1 represent the same meaning as described above. ]

Figure 2020010028

[式中、RY1およびXY1は、前記と同じ意味を表す。]
Figure 2020010028

[Wherein, R Y1 and X Y1 represent the same meaning as described above. ]

式(Y−3)で表される構成単位は、式(Y−3’)で表される構成単位であることが好ましい。   The structural unit represented by the formula (Y-3) is preferably a structural unit represented by the formula (Y-3 ').

Figure 2020010028

[式中、RY11およびXY1は、前記と同じ意味を表す。]
Figure 2020010028

[Wherein, R Y11 and X Y1 represent the same meaning as described above. ]

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028

[式中、
Y1は、前記と同じ意味を表す。
Y3は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。]
Figure 2020010028

[Where,
R Y1 represents the same meaning as described above.
R Y3 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. ]

Y3は、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基または1価の複素環基であり、より好ましくはアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 R Y3 is preferably an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, more preferably an aryl group, and these groups have a substituent. You may.

式(Y−4)で表される構成単位は、式(Y−4’)で表される構成単位であることが好ましく、式(Y−6)で表される構成単位は、式(Y−6’)で表される構成単位であることが好ましい。   The structural unit represented by the formula (Y-4) is preferably a structural unit represented by the formula (Y-4 ′), and the structural unit represented by the formula (Y-6) is represented by the formula (Y-4) The structural unit represented by -6 ′) is preferable.

Figure 2020010028

[式中、RY1およびRY3は、前記と同じ意味を表す。]
Figure 2020010028

[Wherein, R Y1 and R Y3 represent the same meaning as described above. ]

Figure 2020010028

[式中、
Y1は、前記を同じ意味を表す。
Y4は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。]
Figure 2020010028

[Where,
R Y1 represents the same meaning as described above.
R Y4 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. ]

Y4は、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基または1価の複素環基であり、より好ましくはアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 R Y4 is preferably an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, more preferably an aryl group, and these groups have a substituent. You may.

式(Y)で表される構成単位としては、例えば、式(Y−101)−(Y−121)で表されるアリーレン基からなる構成単位、式(Y−201)−(Y−206)で表される2価の複素環基からなる構成単位、式(Y−301)−(Y−304)で表される少なくとも1種のアリーレン基と少なくとも1種の2価の複素環基とが直接結合した2価の基からなる構成単位が挙げられる。   As the structural unit represented by the formula (Y), for example, a structural unit composed of an arylene group represented by the formula (Y-101)-(Y-121) or the formula (Y-201)-(Y-206) A structural unit comprising a divalent heterocyclic group represented by the formula: wherein at least one arylene group represented by the formula (Y-301)-(Y-304) and at least one divalent heterocyclic group are Structural units composed of a divalent group directly bonded are exemplified.

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028
Figure 2020010028

式(Y)で表される構成単位であって、ArY1がアリーレン基である構成単位は、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する有機EL素子の輝度寿命が優れるので、高分子化合物に含まれる構成単位の合計量に対して、好ましくは0.5〜90モル%であり、より好ましくは30〜80モル%である。 A structural unit represented by the formula (Y), wherein Ar Y1 is an arylene group, has a high luminance life of an organic EL device having a film formed using the composition of the present invention, It is preferably from 0.5 to 90 mol%, more preferably from 30 to 80 mol%, based on the total amount of the structural units contained in the molecular compound.

式(Y)で表される構成単位であって、ArY1が2価の複素環基、または、少なくとも1種のアリーレン基と少なくとも1種の2価の複素環基とが直接結合した2価の基である構成単位は、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する有機EL素子の発光効率、正孔輸送性または電子輸送性が優れるので、高分子化合物に含まれる構成単位の合計量に対して、好ましくは0.5〜50モル%であり、より好ましくは3〜30モル%である。 A structural unit represented by the formula (Y), wherein Ar Y1 is a divalent heterocyclic group, or a divalent group in which at least one kind of arylene group and at least one kind of divalent heterocyclic group are directly bonded. The structural unit is a group of the structural unit contained in the polymer compound because the organic EL device having a film formed using the composition of the present invention has excellent luminous efficiency, hole transporting property, or electron transporting property. It is preferably 0.5 to 50 mol%, more preferably 3 to 30 mol%, based on the total amount.

式(Y)で表される構成単位は、高分子化合物中に、1種のみ含まれていてもよく、2種以上含まれていてもよい。   The structural unit represented by the formula (Y) may be contained alone or in combination of two or more in the polymer compound.

高分子化合物としては、例えば、表1の高分子化合物(P−101)〜(P−107)が挙げられる。   Examples of the polymer compound include the polymer compounds (P-101) to (P-107) shown in Table 1.

Figure 2020010028

[表中、p、q、r、sおよびtは、各構成単位のモル比率を示す。p+q+r+s+t=100であり、かつ、100≧p+q+r+s≧70である。その他の構成単位とは、
式(Y)で表される構成単位、式(X)で表される構成単位以外の構成単位を意味する。]
Figure 2020010028

[In the table, p, q, r, s and t indicate the molar ratio of each structural unit. p + q + r + s + t = 100, and 100 ≧ p + q + r + s ≧ 70. Other constituent units are
It means a structural unit represented by the formula (Y) and a structural unit other than the structural unit represented by the formula (X). ]

式(X)で表される構成単位および式(Y)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物のみを発光材料として用いる場合(すなわち、後述するイリジウム錯体等、他の発光材料を併用しない場合)、
高分子化合物としては、
式(Y−8)で表される構成単位、式(Y−9)で表される構成単位および式(Y−10)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物であることが好ましく、
式(Y−8)で表される構成単位および式(Y−9)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物であることがより好ましく、
式(Y−8)で表される構成単位を含む高分子化合物であることが更に好ましい。
When only a polymer compound containing at least one kind of structural unit selected from the group consisting of the structural unit represented by the formula (X) and the structural unit represented by the formula (Y) is used as a light-emitting material (that is, as described later) When other light emitting materials such as iridium complex are not used together),
As a polymer compound,
At least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit represented by the formula (Y-8), a structural unit represented by the formula (Y-9), and a structural unit represented by the formula (Y-10) It is preferably a polymer compound containing
More preferably, it is a polymer compound containing at least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit represented by the formula (Y-8) and a structural unit represented by the formula (Y-9),
More preferably, it is a polymer compound containing a structural unit represented by the formula (Y-8).

また、高分子化合物としては、式(Y−8)で表される構成単位、式(Y−9)で表される構成単位および式(Y−10)で表される構成単位以外の構成単位として、
式(Y−1)で表される構成単位、式(Y−2)で表される構成単位、式(Y−3)で表される構成単位および式(X)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物であることが好ましく、
式(Y−1)で表される構成単位、式(Y−2)で表される構成単位および式(X)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物であることがより好ましく、
式(Y−2)で表される構成単位および式(X)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物であることが更に好ましく、
式(Y−2)で表される構成単位および式(X)で表される構成単位を含む高分子化合物であることが特に好ましい。
In addition, as the high molecular compound, structural units other than the structural unit represented by the formula (Y-8), the structural unit represented by the formula (Y-9), and the structural unit represented by the formula (Y-10) As
From the structural unit represented by the formula (Y-1), the structural unit represented by the formula (Y-2), the structural unit represented by the formula (Y-3), and the structural unit represented by the formula (X) It is preferably a polymer compound containing at least one structural unit selected from the group consisting of:
Including at least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit represented by the formula (Y-1), a structural unit represented by the formula (Y-2), and a structural unit represented by the formula (X) More preferably a polymer compound,
More preferably, it is a polymer compound containing at least one structural unit selected from the group consisting of the structural unit represented by the formula (Y-2) and the structural unit represented by the formula (X),
It is particularly preferable that the polymer be a polymer compound containing a structural unit represented by the formula (Y-2) and a structural unit represented by the formula (X).

≪高分子化合物の製造方法≫
式(X)で表される構成単位および式(Y)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物は、ケミカルレビュー(Chem. Rev.),第109巻,897-1091頁(2009年)等に記載の公知の重合方法を用いて製造することができ、Suzuki反応、Yamamoto反応、Buchwald反応、Stille反応、Negishi反応およびKumada反応等の遷移金属触媒を用いるカップリング反応により重合させる方法が例示される。
≫Production method of polymer compound≫
Polymer compounds containing at least one structural unit selected from the group consisting of the structural unit represented by the formula (X) and the structural unit represented by the formula (Y) can be obtained from Chemical Review (Chem. Rev.), 109, 897-1091 (2009) and the like, and can be produced by a transition metal catalyst such as a Suzuki reaction, a Yamamoto reaction, a Buchwald reaction, a Stille reaction, a Negishi reaction, and a Kumada reaction. A method of polymerizing by a coupling reaction using is exemplified.

前記重合方法において、単量体を仕込む方法としては、単量体全量を反応系に一括して仕込む方法、単量体の一部を仕込んで反応させた後、残りの単量体を一括、連続または分割して仕込む方法、単量体を連続または分割して仕込む方法等が挙げられる。   In the polymerization method, as a method of charging the monomers, a method of charging the entire amount of the monomers to the reaction system at once, charging a part of the monomers and reacting them, and then collecting the remaining monomers at once, A method of charging continuously or dividedly, a method of charging monomers continuously or dividedly, and the like can be mentioned.

遷移金属触媒としては、パラジウム触媒、ニッケル触媒等が挙げられる。   Examples of the transition metal catalyst include a palladium catalyst and a nickel catalyst.

重合反応の後処理は、公知の方法、例えば、分液により水溶性不純物を除去する方法、メタノール等の低級アルコールに重合反応後の反応液を加えて、析出させた沈殿をろ過した後、乾燥させる方法等を単独または組み合わせて行う。高分子化合物の純度が低い場合、例えば、再結晶、再沈殿、ソックスレー抽出器による連続抽出、カラムクロマトグラフィー等の通常の方法にて精製することができる。   The post-treatment of the polymerization reaction is a known method, for example, a method of removing water-soluble impurities by liquid separation, adding the reaction solution after the polymerization reaction to a lower alcohol such as methanol, filtering the deposited precipitate, and then drying. These methods are performed alone or in combination. When the purity of the polymer compound is low, it can be purified by an ordinary method such as recrystallization, reprecipitation, continuous extraction with a Soxhlet extractor, column chromatography, and the like.

≪イリジウム錯体≫
イリジウム錯体は、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する有機EL素子の発光効率がより優れるので、式(Ir−1)で表されるイリジウム錯体、式(Ir−2)で表されるイリジウム錯体、式(Ir−3)で表されるイリジウム錯体、式(Ir−4)で表されるイリジウム錯体または式(Ir−5)で表されるイリジウム錯体であることが好ましく、式(Ir−1)で表されるイリジウム錯体、式(Ir−2)で表されるイリジウム錯体または式(Ir−3)で表されるイリジウム錯体であることがより好ましい。
≪Iridium complex≫
Since the iridium complex is more excellent in the luminous efficiency of the organic EL device having the film formed using the composition of the present invention, the iridium complex is represented by the formula (Ir-1) and the iridium complex represented by the formula (Ir-2). The iridium complex represented by the formula (Ir-3), the iridium complex represented by the formula (Ir-4) or the iridium complex represented by the formula (Ir-5) is preferable. The iridium complex represented by (Ir-1), the iridium complex represented by the formula (Ir-2) or the iridium complex represented by the formula (Ir-3) is more preferable.

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028

[式中、
D1は、1、2または3を表す。nD2は、1または2を表す。
D1、RD2、RD3、RD4、RD5、RD6、RD7、RD8、RD11、RD12、RD13、RD14、RD15、RD16、RD17、RD18、RD19、RD20、RD21、RD22、RD23、RD24、RD25、RD26、RD31、RD32、RD33、RD34、RD35、RD36およびRD37は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、1価の複素環基またはハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。RD1、RD2、RD3、RD4、RD5、RD6、RD7、RD8、RD11、RD12、RD13、RD14、RD15、RD16、RD17、RD18、RD19、RD20、RD21、RD22、RD23、RD24、RD25、RD26、RD31、RD32、RD33、RD34、RD35、RD36およびRD37が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
−AD1---AD2−は、アニオン性の2座配位子を表す。AD1およびAD2は、そ
れぞれ独立に、イリジウム原子と結合する炭素原子、酸素原子または窒素原子を表し、これらの原子は環を構成する原子であってもよい。−AD1---AD2−が複数存在する場
合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
Figure 2020010028

[Where,
n D1 represents 1, 2 or 3. n D2 represents 1 or 2.
R D1, R D2, R D3 , R D4, R D5, R D6, R D7, R D8, R D11, R D12, R D13, R D14, R D15, R D16, R D17, R D18, R D19 , R D20, R D21, R D22, R D23, R D24, R D25, R D26, R D31, R D32, R D33, R D34, R D35, R D36 and R D37 each independently represent a hydrogen atom , An alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a monovalent heterocyclic group or a halogen atom, and these groups may have a substituent. R D1, R D2, R D3 , R D4, R D5, R D6, R D7, R D8, R D11, R D12, R D13, R D14, R D15, R D16, R D17, R D18, R D19 , R D20, R D21, R D22, R D23, R D24, R D25, R D26, R D31, R D32, R D33, R D34, R D35, if R D36 and R D37 there are a plurality, they Each may be the same or different.
-A D1 --- A D2 - represents a bidentate ligand of the anionic. A D1 and A D2 each independently represent a carbon atom, an oxygen atom or a nitrogen atom bonded to an iridium atom, and these atoms may be atoms constituting a ring. When there are a plurality of -A D1 --- A D2- , they may be the same or different. ]

式(Ir−1)で表されるイリジウム錯体において、RD1〜RD8の少なくとも1つは、好ましくは、式(D−A)で表される基である。 In the iridium complex represented by the formula (Ir-1), at least one of R D1 to R D8 is preferably a group represented by the formula (DA).

式(Ir−2)で表されるイリジウム錯体において、好ましくはRD11〜RD20の少なくとも1つは式(D−A)で表される基である。 In the iridium complex represented by the formula (Ir-2), preferably, at least one of R D11 to R D20 is a group represented by the formula (DA).

式(Ir−3)で表されるイリジウム錯体において、好ましくはRD1〜RD8およびRD11〜RD20の少なくとも1つは式(D−A)で表される基である。 In the iridium complex represented by the formula (Ir-3), preferably at least one of R D1 to R D8 and R D11 to R D20 is a group represented by the formula (D-A).

式(Ir−4)で表されるイリジウム錯体において、好ましくはRD21〜RD26の少なくとも1つは式(D−A)で表される基である。 In the iridium complex represented by the formula (Ir-4), preferably, at least one of R D21 to R D26 is a group represented by the formula (DA).

式(Ir−5)で表されるイリジウム錯体において、好ましくはRD31〜RD37の少なくとも1つは式(D−A)で表される基である。 In the iridium complex represented by the formula (Ir-5), preferably at least one of R D31 to R D37 is a group represented by the formula (D-A).

Figure 2020010028

[式中、
DA1、mDA2およびmDA3は、それぞれ独立に、0以上の整数を表す。
DAは、窒素原子、芳香族炭化水素基または複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
ArDA1、ArDA2およびArDA3は、それぞれ独立に、アリーレン基または2価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ArDA1、ArDA2およびArDA3が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
DAは、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するTDAは、同一でも異なっていてもよい。]
Figure 2020010028

[Where,
m DA1 , m DA2 and m DA3 each independently represent an integer of 0 or more.
GDA represents a nitrogen atom, an aromatic hydrocarbon group or a heterocyclic group, and these groups may have a substituent.
Ar DA1 , Ar DA2 and Ar DA3 each independently represent an arylene group or a divalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. When a plurality of Ar DA1 , Ar DA2 and Ar DA3 are present, they may be the same or different.
TDA represents an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. The plurality of TDAs may be the same or different. ]

DA1、mDA2およびmDA3は、通常10以下の整数であり、好ましくは5以下の整数であり、より好ましくは0または1である。mDA1、mDA2およびmDA3は、同一の整数であることが好ましい。 m DA1 , m DA2 and m DA3 are usually integers of 10 or less, preferably 5 or less, and more preferably 0 or 1. It is preferable that m DA1 , m DA2 and m DA3 are the same integer.

DAは、好ましくは式(GDA−11)〜(GDA−15)で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 G DA is preferably a group represented by the formula (GDA-11) ~ (GDA -15), these groups may have a substituent.

Figure 2020010028

[式中、
*、**および***は、各々、ArDA1、ArDA2、ArDA3との結合を表す。
DAは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は更に置換基を有していてもよい。RDAが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
Figure 2020010028

[Where,
*, ** and *** represent a bond to Ar DA1 , Ar DA2 and Ar DA3 , respectively.
R DA represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may further have a substituent. When a plurality of R DAs are present, they may be the same or different. ]

DAは、好ましくは水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基またはシクロアルコキシ基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基またはシクロアルキル基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 R DA is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group or a cycloalkoxy group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group or a cycloalkyl group, and these groups have a substituent. You may.

ArDA1、ArDA2およびArDA3は、好ましくは式(ArDA−1)〜(ArDA−3)で表される基である。 Ar DA1 , Ar DA2 and Ar DA3 are preferably groups represented by formulas (ArDA-1) to (ArDA-3).

Figure 2020010028

[式中、
DAは、前記と同じ意味を表す。
DBは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。RDBが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
Figure 2020010028

[Where,
R DA has the same meaning as described above.
R DB represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. When a plurality of R DBs exist, they may be the same or different. ]

DAは、好ましくは式(TDA−1)〜(TDA−3)で表される基である。 T DA is preferably a group represented by the formula (TDA-1) ~ (TDA -3).

Figure 2020010028

[式中、RDAおよびRDBは、前記と同じ意味を表す。]
Figure 2020010028

[Wherein, R DA and R DB represent the same meaning as described above. ]

式(D−A)で表される基は、好ましくは式(D−A1)〜(D−A3)で表される基である。   The group represented by the formula (DA) is preferably a group represented by the formulas (DA1) to (DA3).

Figure 2020010028

[式中、
np1は、0〜5の整数を表し、np2は0〜3の整数を表し、np3は0または1を表す。複数存在するnp1は、同一でも異なっていてもよい。
p1、Rp2およびRp3は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基またはハロゲン原子を表す。Rp1およびRp2が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。]
Figure 2020010028

[Where,
np1 represents an integer of 0 to 5, np2 represents an integer of 0 to 3, and np3 represents 0 or 1. A plurality of np1 may be the same or different.
R p1 , R p2 and R p3 each independently represent an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group or a halogen atom. When a plurality of R p1 and R p2 are present, they may be the same or different. ]

np1は、好ましくは0または1であり、より好ましくは1である。np2は、好ましくは0または1であり、より好ましくは0である。np3は好ましくは0である。   np1 is preferably 0 or 1, and more preferably 1. np2 is preferably 0 or 1, and more preferably 0. np3 is preferably 0.

p1、Rp2およびRp3は、好ましくはアルキル基またはシクロアルキル基である。 R p1 , R p2 and R p3 are preferably an alkyl group or a cycloalkyl group.

−AD1---AD2−で表されるアニオン性の2座配位子としては、例えば、下記式で
表される配位子が挙げられる。
Examples of the anionic bidentate ligand represented by -A D1 --- A D2- include a ligand represented by the following formula.

Figure 2020010028

[式中、*は、イリジウム原子と結合する部位を表す。]
Figure 2020010028

[In the formula, * represents a site bonded to an iridium atom. ]

式(Ir−1)で表されるイリジウム錯体としては、好ましくは式(Ir−11)〜式(Ir−13)で表されるイリジウム錯体である。式(Ir−2)で表されるイリジウム錯体としては、好ましくは式(Ir−21)で表されるイリジウム錯体である。式(Ir−3)で表されるイリジウム錯体としては、好ましくは式(Ir−31)〜式(Ir−33)で表されるイリジウム錯体である。式(Ir−4)で表されるイリジウム錯体としては、好ましくは式(Ir−41)〜式(Ir−43)で表されるイリジウム錯体である。
式(Ir−5)で表されるイリジウム錯体としては、好ましくは式(Ir−51)〜式(Ir−53)で表されるイリジウム錯体である。
The iridium complex represented by the formula (Ir-1) is preferably an iridium complex represented by the formulas (Ir-11) to (Ir-13). The iridium complex represented by the formula (Ir-2) is preferably an iridium complex represented by the formula (Ir-21). The iridium complex represented by the formula (Ir-3) is preferably an iridium complex represented by the formulas (Ir-31) to (Ir-33). The iridium complex represented by the formula (Ir-4) is preferably an iridium complex represented by the formulas (Ir-41) to (Ir-43).
The iridium complex represented by the formula (Ir-5) is preferably an iridium complex represented by the formulas (Ir-51) to (Ir-53).

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028

[式中、
D2は、1または2を表す。
Dは、式(D−A)で表される基を表す。複数存在するDは、同一でも異なっていてもよい。
DCは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するRDCは、同一でも異なっていてもよい。
DDは、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するRDDは、同一でも異なっていてもよい。]
Figure 2020010028

[Where,
n D2 represents 1 or 2.
D represents a group represented by the formula (DA). A plurality of Ds may be the same or different.
R DC represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. The plurality of R DCs may be the same or different.
R DD represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. A plurality of RDDs may be the same or different. ]

イリジウム錯体としては、例えば、下記式で表されるイリジウム錯体が挙げられる。   Examples of the iridium complex include an iridium complex represented by the following formula.

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028
Figure 2020010028

イリジウム錯体は、例えば、特表2004−530254号公報、特開2008−179617号公報、特開2011−105701号公報、特表2007−504272号公報、特開2013−147449号公報、特開2013−147450号公報に記載されている方法に従って合成することができる。   Iridium complexes are described in, for example, JP-T-2004-530254, JP-A-2008-179617, JP-A-2011-105701, JP-T-2007-504272, JP-A-2013-147449, and JP-A-2013-2013. It can be synthesized according to the method described in JP-A-147450.

固形分(A)は、イリジウム錯体構成単位を含む高分子化合物を含んでいてもよい。イリジウム錯体構成単位は、式(Ir−1)、式(Ir−2)、式(Ir−3)、式(Ir−4)または式(Ir−5)で表されるイリジウム錯体の構造を有する構成単位である。式(Ir−1)、式(Ir−2)、式(Ir−3)、式(Ir−4)または式(Ir−5)で表されるイリジウム錯体の構造を有する構成単位としては、好ましくは、式(Ir−1)、式(Ir−2)、式(Ir−3)、式(Ir−4)または式(Ir−5)で表されるイリジウム錯体から、該錯体を構成する炭素原子またはヘテロ原子に直接結合する1個以上3個以下の水素原子を取り除いてなる基を有する構成単位であり、より好ましくは、式(Ir−1)、式(Ir−2)、式(Ir−3)、式(Ir−4)または式(Ir−5)で表されるイリジウム錯体から、該錯体を構成する炭素原子またはヘテロ原子に直接結合する2個の水素原子を取り除いてなる基を有する構成単位である。   The solid content (A) may contain a polymer compound containing an iridium complex constituent unit. The iridium complex constituent unit has a structure of an iridium complex represented by the formula (Ir-1), (Ir-2), (Ir-3), (Ir-4) or (Ir-5). It is a structural unit. As a structural unit having a structure of the iridium complex represented by the formula (Ir-1), the formula (Ir-2), the formula (Ir-3), the formula (Ir-4) or the formula (Ir-5), it is preferable. Is a carbon constituting an iridium complex represented by the formula (Ir-1), the formula (Ir-2), the formula (Ir-3), the formula (Ir-4) or the formula (Ir-5). A structural unit having a group obtained by removing one or more and three or less hydrogen atoms directly bonded to an atom or a hetero atom, and more preferably a compound represented by the formula (Ir-1), the formula (Ir-2) or the formula (Ir) -3), a group obtained by removing two hydrogen atoms directly bonded to a carbon atom or a hetero atom constituting the complex from the iridium complex represented by the formula (Ir-4) or the formula (Ir-5). It is a structural unit having.

イリジウム錯体構成単位を含む高分子化合物としては、更に、前述した式(X)で表される構成単位および式(Y)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物が好ましい。   As the polymer compound containing an iridium complex structural unit, at least one type of structural unit selected from the group consisting of the structural unit represented by the formula (X) and the structural unit represented by the formula (Y) is further used. Preferred is a polymer compound containing

これらの中でも、イリジウム錯体構成単位を含む高分子化合物としては、
式(Y−4)で表される構成単位、式(Y−5)で表される構成単位、式(Y−6)で表される構成単位および式(Y−7)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物であることが好ましく、
式(Y−4)で表される構成単位および式(Y−6)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物であることがより好ましく、
式(Y−4)で表される構成単位を含む高分子化合物であることが更に好ましい。
Among these, as a polymer compound containing an iridium complex structural unit,
The structural unit represented by the formula (Y-4), the structural unit represented by the formula (Y-5), the structural unit represented by the formula (Y-6), and the configuration represented by the formula (Y-7) It is preferably a polymer compound containing at least one type of structural unit selected from the group consisting of units,
More preferably, it is a polymer compound containing at least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit represented by the formula (Y-4) and a structural unit represented by the formula (Y-6),
More preferably, it is a polymer compound containing a structural unit represented by the formula (Y-4).

また、イリジウム錯体構成単位を含む高分子化合物としては、式(Y−4)で表される構成単位、式(Y−5)で表される構成単位、式(Y−6)で表される構成単位および式(Y−7)で表される構成単位以外の構成単位として、
式(Y−1)で表される構成単位、式(Y−2)で表される構成単位、式(Y−3)で表される構成単位および式(X)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物であることが好ましく、
式(Y−1)で表される構成単位、式(Y−2)で表される構成単位および式(X)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物であることがより好ましい。
As the polymer compound containing an iridium complex structural unit, a structural unit represented by the formula (Y-4), a structural unit represented by the formula (Y-5), and a structural unit represented by the formula (Y-6) As a structural unit other than the structural unit and the structural unit represented by the formula (Y-7),
From the structural unit represented by the formula (Y-1), the structural unit represented by the formula (Y-2), the structural unit represented by the formula (Y-3), and the structural unit represented by the formula (X) It is preferably a polymer compound containing at least one structural unit selected from the group consisting of:
Including at least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit represented by the formula (Y-1), a structural unit represented by the formula (Y-2), and a structural unit represented by the formula (X) More preferably, it is a polymer compound.

イリジウム錯体構成単位は、高分子化合物中に、1種のみ含まれていても、2種以上含まれていてもよい。   The iridium complex constituent unit may be contained in the polymer compound in one kind alone or in two or more kinds.

≪第1高分子化合物≫
主高分子化合物(a)の中で重量平均分子量が最も大きい第1高分子化合物は、重量平均分子量が1.4×10未満である。第1高分子化合物は、重量平均分子量が1.4×10未満であれば、種類は限定されない。本発明者らは、固形分(A)として、重量平均分子量が1.4×10未満の第1高分子化合物と主低分子化合物とを含む場合に、平坦性に優れる膜を製造することができる基準溶液の粘度の好適範囲を見出し、基準溶液の粘度の好適範囲を決定した。第1高分子化合物としては、例えば、式(X)で表される構成単位および式(Y)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物が挙げられる。第1高分子化合物としては、発光性化合物が例示される。発光性化合物は、それ自体が発光する化合物(発光材料)であってもよく、発光材料へ電荷を輸送することにより発光材料を発光させる化合物(ホスト材料)であってもよい。第1高分子化合物は、ホスト材料であることが好ましく、例えば緑色発光材料のホスト材料であってもよいし、赤色発光材料のホスト材料であってもよい。また、第1高分子化合物は、緑色発光材料であってもよいし、赤色発光材料であってもよい。
<< First polymer compound >>
The first polymer compound having the largest weight average molecular weight among the main polymer compounds (a) has a weight average molecular weight of less than 1.4 × 10 5 . The type of the first polymer compound is not limited as long as the weight average molecular weight is less than 1.4 × 10 5 . The present inventors provide a film having excellent flatness when the first high molecular compound having a weight average molecular weight of less than 1.4 × 10 5 and a main low molecular compound are contained as solids (A). A suitable range of the viscosity of the reference solution was found, and a suitable range of the viscosity of the reference solution was determined. Examples of the first polymer compound include a polymer compound containing at least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit represented by the formula (X) and a structural unit represented by the formula (Y). Can be As the first polymer compound, a luminescent compound is exemplified. The light-emitting compound may be a compound that emits light by itself (light-emitting material), or a compound that causes the light-emitting material to emit light by transporting charges to the light-emitting material (host material). The first polymer compound is preferably a host material, and may be, for example, a host material of a green light emitting material or a host material of a red light emitting material. The first polymer compound may be a green light emitting material or a red light emitting material.

≪ホスト材料≫
固形分(A)が、発光材料を含む場合、特に発光材料としてイリジウム錯体を含む場合、正孔輸送性、正孔注入性、電子輸送性および電子注入性からなる群より選ばれる少なくとも1つの機能を有するホスト材料と併用することで、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する有機EL素子の発光効率がより優れたものとなる。すなわち、本発明の組成物は、発光性材料としてイリジウム錯体を含む場合、さらにホスト材料を含むことが好ましい。本発明の組成物にホスト材料が含有される場合、ホスト材料は、1種単独で含有されていてもよく、2種以上含有されていてもよい。
≪Host material≫
When the solid content (A) contains a light-emitting material, particularly when it contains an iridium complex as the light-emitting material, at least one function selected from the group consisting of a hole transport property, a hole injection property, an electron transport property, and an electron injection property. When used in combination with a host material having the above, the luminous efficiency of an organic EL device having a film formed using the composition of the present invention becomes more excellent. That is, when the composition of the present invention contains an iridium complex as the light-emitting material, it is preferable that the composition further contains a host material. When a host material is contained in the composition of the present invention, the host material may be contained alone or in combination of two or more.

本発明の組成物が、イリジウム錯体とホスト材料とを含有する場合、イリジウム錯体の含有量は、イリジウム錯体とホスト材料との合計含有量を100質量部とした場合、通常、0.05〜80質量部であり、好ましくは0.1〜60質量部であり、より好ましくは0.5〜50質量部である。   When the composition of the present invention contains an iridium complex and a host material, the content of the iridium complex is usually 0.05 to 80 when the total content of the iridium complex and the host material is 100 parts by mass. Parts by mass, preferably 0.1 to 60 parts by mass, more preferably 0.5 to 50 parts by mass.

ホスト材料の有する最低励起三重項状態(T1)は、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する有機EL素子の発光効率が優れるので、イリジウム錯体の有するT1と同等のエネルギー準位、または、より高いエネルギー準位であることが好ましい。   The lowest excited triplet state (T1) of the host material has the same energy level as T1 of the iridium complex, because the organic EL device having the film formed using the composition of the present invention has excellent luminous efficiency. Alternatively, a higher energy level is preferable.

ホスト材料は、低分子化合物(以下、「低分子ホスト」とも称する。)と高分子化合物(以下、「高分子ホスト」とも称する。)に分類され、低分子ホストおよび高分子ホストのいずれであってもよいが、高分子ホストであることが好ましい。   Host materials are classified into low molecular weight compounds (hereinafter also referred to as “low molecular weight hosts”) and high molecular weight compounds (hereinafter also referred to as “high molecular weight hosts”), and are either low molecular weight hosts or high molecular weight hosts. However, it is preferably a polymer host.

低分子ホストとしては、例えば、カルバゾール構造を有する化合物、トリアリールアミン構造を有する化合物、フェナントロリン構造を有する化合物、トリアリールトリアジン構造を有する化合物、アゾール構造を有する化合物、ベンゾチオフェン構造を有する化合物、ベンゾフラン構造を有する化合物、フルオレン構造を有する化合物、スピロフルオレン構造を有する化合物等が挙げられる。   Examples of the low-molecular-weight host include a compound having a carbazole structure, a compound having a triarylamine structure, a compound having a phenanthroline structure, a compound having a triaryltriazine structure, a compound having an azole structure, a compound having a benzothiophene structure, and benzofuran. A compound having a structure, a compound having a fluorene structure, a compound having a spirofluorene structure, and the like.

低分子ホストの具体例としては、下記式で表される化合物が挙げられる。   Specific examples of the low molecular host include a compound represented by the following formula.

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028
Figure 2020010028

Figure 2020010028
Figure 2020010028

高分子ホストとしては、前述した式(X)で表される構成単位および式(Y)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物が好ましい。   As the polymer host, a polymer compound containing at least one kind of structural unit selected from the group consisting of the structural unit represented by the formula (X) and the structural unit represented by the formula (Y) is preferable.

これらの中でも、高分子ホストとしては、
式(Y−4)で表される構成単位、式(Y−5)で表される構成単位、式(Y−6)で表される構成単位および式(Y−7)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物であることが好ましく、
式(Y−4)で表される構成単位および式(Y−6)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物であることがより好ましく、
式(Y−4)で表される構成単位を含む高分子化合物であることが更に好ましい。
Among them, as the polymer host,
The structural unit represented by the formula (Y-4), the structural unit represented by the formula (Y-5), the structural unit represented by the formula (Y-6), and the configuration represented by the formula (Y-7) It is preferably a polymer compound containing at least one type of structural unit selected from the group consisting of units,
More preferably, it is a polymer compound containing at least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit represented by the formula (Y-4) and a structural unit represented by the formula (Y-6),
More preferably, it is a polymer compound containing a structural unit represented by the formula (Y-4).

また、高分子ホストとしては、式(Y−4)で表される構成単位、式(Y−5)で表される構成単位、式(Y−6)で表される構成単位および式(Y−7)で表される構成単位以外の構成単位として、
式(Y−1)で表される構成単位、式(Y−2)で表される構成単位、式(Y−3)で表される構成単位および式(X)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物であることが好ましく、
式(Y−1)で表される構成単位、式(Y−2)で表される構成単位および式(X)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物であることがより好ましい。
Examples of the polymer host include a structural unit represented by the formula (Y-4), a structural unit represented by the formula (Y-5), a structural unit represented by the formula (Y-6), and a compound represented by the formula (Y). As a structural unit other than the structural unit represented by -7),
From the structural unit represented by the formula (Y-1), the structural unit represented by the formula (Y-2), the structural unit represented by the formula (Y-3), and the structural unit represented by the formula (X) It is preferably a polymer compound containing at least one structural unit selected from the group consisting of:
Including at least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit represented by the formula (Y-1), a structural unit represented by the formula (Y-2), and a structural unit represented by the formula (X) More preferably, it is a polymer compound.

≪低分子化合物≫
固形分(A)に含有される低分子化合物としては、特に限定されることはなく、上記のイリジウム錯体等の発光材料、上記のホスト材料、下記の正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料、酸化防止剤等が例示される。
≪Low molecular compounds≫
The low molecular compound contained in the solid content (A) is not particularly limited, and the light emitting material such as the iridium complex, the host material, the hole transport material, the hole injection material, and the electron Examples thereof include a transport material, an electron injection material, and an antioxidant.

≪その他の固形分≫
本発明の組成物に含有される固形分(A)は、下記の正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料および発光材料を含んでいてもよい。
≪Other solid contents≫
The solid content (A) contained in the composition of the present invention may include the following hole transport material, hole injection material, electron transport material, electron injection material, and luminescent material.

(正孔輸送材料)
正孔輸送材料は、低分子化合物と高分子化合物とに分類され、好ましくは高分子化合物であり、より好ましくは架橋基を有する高分子化合物である。
(Hole transport material)
The hole transporting material is classified into a low molecular weight compound and a high molecular weight compound, preferably a high molecular weight compound, and more preferably a high molecular weight compound having a crosslinking group.

高分子化合物としては、例えば、ポリビニルカルバゾールおよびその誘導体;側鎖または主鎖に芳香族アミン構造を有するポリアリーレンおよびその誘導体が挙げられる。高分子化合物は、電子受容性部位が結合された化合物でもよい。電子受容性部位としては、例えば、フラーレン、テトラフルオロテトラシアノキノジメタン、テトラシアノエチレン、トリニトロフルオレノン等が挙げられ、好ましくはフラーレンである。   Examples of the polymer compound include polyvinyl carbazole and derivatives thereof; polyarylene having an aromatic amine structure in a side chain or a main chain and derivatives thereof. The polymer compound may be a compound having an electron-accepting site bound thereto. Examples of the electron accepting site include fullerene, tetrafluorotetracyanoquinodimethane, tetracyanoethylene, trinitrofluorenone, and the like, and preferably fullerene.

本発明の組成物には、正孔輸送材料が、1種単独で含有されていてもよく、2種以上含有されていてもよい。   The composition of the present invention may contain one kind of hole transport material alone, or may contain two or more kinds thereof.

(電子輸送材料)
電子輸送材料は、低分子化合物と高分子化合物とに分類される。電子輸送材料は、架橋基を有していてもよい。
(Electron transport materials)
Electron transport materials are classified into low molecular weight compounds and high molecular weight compounds. The electron transporting material may have a crosslinking group.

低分子化合物としては、例えば、8-ヒドロキシキノリンを配位子とする金属錯体、オキサジアゾール、アントラキノジメタン、ベンゾキノン、ナフトキノン、アントラキノン、テトラシアノアントラキノジメタン、フルオレノン、ジフェニルジシアノエチレンおよびジフェノキノン、並びに、これらの誘導体が挙げられる。   Examples of low-molecular compounds include, for example, metal complexes having 8-hydroxyquinoline as a ligand, oxadiazole, anthraquinodimethane, benzoquinone, naphthoquinone, anthraquinone, tetracyanoanthraquinodimethane, fluorenone, diphenyldicyanoethylene, and diphenoquinone And their derivatives.

高分子化合物としては、例えば、ポリフェニレン、ポリフルオレン、および、これらの誘導体が挙げられる。高分子化合物は、金属でドープされていてもよい。   Examples of the polymer compound include polyphenylene, polyfluorene, and derivatives thereof. The polymer compound may be doped with a metal.

本発明の組成物には、電子輸送材料が、1種単独で含有されていてもよく、2種以上含有されていてもよい。   The composition of the present invention may contain one kind of the electron transporting material alone, or may contain two or more kinds thereof.

(正孔注入材料および電子注入材料)
正孔注入材料および電子注入材料は、各々、低分子化合物と高分子化合物とに分類される。正孔注入材料および電子注入材料は、架橋基を有していてもよい。
(Hole injection material and electron injection material)
The hole injection material and the electron injection material are classified into a low molecular compound and a high molecular compound, respectively. The hole injection material and the electron injection material may have a crosslinking group.

低分子化合物としては、例えば、銅フタロシアニン等の金属フタロシアニン;カーボン;モリブデン、タングステン等の金属酸化物;フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化セシウム、フッ化カリウム等の金属フッ化物が挙げられる。   Examples of the low molecular compound include metal phthalocyanines such as copper phthalocyanine; carbon; metal oxides such as molybdenum and tungsten; and metal fluorides such as lithium fluoride, sodium fluoride, cesium fluoride and potassium fluoride.

高分子化合物としては、例えば、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレンビニレン、ポリチエニレンビニレン、ポリキノリンおよびポリキノキサリン、並びに、これらの誘導体;芳香族アミン構造を主鎖または側鎖に含む重合体等の導電性高分子が挙げられる。
本発明の組成物には、正孔注入材料および電子注入材料が、各々、1種単独で含有されていてもよく、2種以上含有されていてもよい。
Examples of the high molecular compound include polyaniline, polythiophene, polypyrrole, polyphenylenevinylene, polythienylenevinylene, polyquinoline and polyquinoxaline, and derivatives thereof; conductive polymers such as polymers containing an aromatic amine structure in the main chain or side chain. Functional polymers.
In the composition of the present invention, each of the hole injecting material and the electron injecting material may be contained alone or in combination of two or more.

正孔注入材料または電子注入材料が導電性高分子を含む場合、導電性高分子の電気伝導度は、好ましくは、1×10−5S/cm〜1×10S/cmである。導電性高分子の電気伝導度をかかる範囲とするために、導電性高分子に適量のイオンをドープすることができる。 When the hole injection material or the electron injection material contains a conductive polymer, the conductive polymer preferably has an electric conductivity of 1 × 10 −5 S / cm to 1 × 10 3 S / cm. In order to make the electric conductivity of the conductive polymer fall within such a range, the conductive polymer can be doped with an appropriate amount of ions.

ドープするイオンの種類は、正孔注入材料であればアニオン、電子注入材料であればカチオンである。アニオンとしては、例えば、ポリスチレンスルホン酸イオン、アルキルベンゼンスルホン酸イオン、ショウノウスルホン酸イオンが挙げられる。カチオンとしては、例えば、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、テトラブチルアンモニウムイオンが挙げられる。   The type of ions to be doped is an anion for a hole injection material and a cation for an electron injection material. Examples of the anion include a polystyrene sulfonate ion, an alkylbenzene sulfonate ion, and a camphor sulfonate ion. Examples of the cation include a lithium ion, a sodium ion, a potassium ion, and a tetrabutylammonium ion.

ドープするイオンは、1種単独で用いても2種以上を併用してもよい。   The ions to be doped may be used alone or in combination of two or more.

(発光材料)
固形分(A)は、発光材料として例示した、上記の高分子化合物又は低分子化合物以外の発光材料(以下、「その他の発光材料」とも称する。)を含んでいてもよい。その他の発光材料としては、例えば、ナフタレンおよびその誘導体、アントラセンおよびその誘導体、並びに、ペリレンおよびその誘導体が挙げられる。
(Light-emitting material)
The solid content (A) may include a light-emitting material other than the above-described high molecular compound or low-molecular compound (hereinafter, also referred to as “other light-emitting materials”) as a light-emitting material. Other light-emitting materials include, for example, naphthalene and its derivatives, anthracene and its derivatives, and perylene and its derivatives.

本発明の組成物には、その他の発光材料が、1種単独で含有されていてもよく、2種以上含有されていてもよい。   The composition of the present invention may contain one kind of other luminescent material alone, or may contain two or more kinds of luminescent materials.

(酸化防止剤)
本発明の組成物は、溶媒(B)に可溶であり、発光および電荷輸送を阻害しない酸化防止剤を含有していてもよい。酸化防止剤としては、例えば、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤が挙げられる。
(Antioxidant)
The composition of the present invention may contain an antioxidant that is soluble in the solvent (B) and does not inhibit luminescence and charge transport. Examples of the antioxidant include a phenolic antioxidant and a phosphorus-based antioxidant.

本発明の組成物には、酸化防止剤が、1種単独で含有されていてもよく、2種以上含有されていてもよい。   The composition of the present invention may contain one kind of antioxidant alone or two or more kinds thereof.

<組成比>
本発明の組成物は、固形分(A)と溶媒(B)とを含む。本発明の組成物において、固形分(A)の含有量は、溶媒(B)の含有量を100質量部とした場合、通常、0.1〜10.0質量部であり、インクジェット印刷法での吐出性が優れるので、好ましくは0.2〜7.0質量部であり、より好ましくは0.3〜5.0質量部である。
<Composition ratio>
The composition of the present invention contains a solid (A) and a solvent (B). In the composition of the present invention, the content of the solid content (A) is usually 0.1 to 10.0 parts by mass when the content of the solvent (B) is 100 parts by mass, Is preferably 0.2 to 7.0 parts by mass, more preferably 0.3 to 5.0 parts by mass.

<粘度>
本発明の組成物は、塗布性の観点から、温度23℃における粘度が1cP以上10cP以下であることが好ましく、2cP以上8cP以下であることがより好ましい。
<Viscosity>
The viscosity of the composition of the present invention at a temperature of 23 ° C. is preferably 1 cP or more and 10 cP or less, more preferably 2 cP or more and 8 cP or less, from the viewpoint of applicability.

[有機EL素子用組成物の製造方法]
本発明の有機EL素子用組成物は、例えば、固形分(A)、溶剤(B)及びその他の成分を混合することにより調製できる。各成分の混合順は限定されることはなく、固形分(A)の一部又は全部は、予め溶剤(B)の一部と混合した後に、残りの成分を、所定の濃度となるように混合することにより、目的の有機EL素子用組成物を調製してもよい。例えば、第1溶媒と第1高分子化合物とのみを予め混合して基準溶液を調製し、基準溶液の粘度が所望の粘度となるように調製した後に、残りの成分を混合して目的の有機EL素子用組成物を調製してもよい。基準溶液の粘度は、このように製造工程で測定した値であってもよいし、第1溶媒と第1高分子との組成比に基づいて、予め測定した値から決定される値であってもよい。
[Production method of composition for organic EL device]
The composition for an organic EL device of the present invention can be prepared, for example, by mixing a solid (A), a solvent (B) and other components. The mixing order of the components is not limited, and a part or all of the solid content (A) is mixed with a part of the solvent (B) in advance, and then the remaining components are adjusted to a predetermined concentration. The desired composition for an organic EL device may be prepared by mixing. For example, a reference solution is prepared by preliminarily mixing only the first solvent and the first polymer compound, and the viscosity of the reference solution is adjusted to a desired viscosity. A composition for an EL device may be prepared. The viscosity of the reference solution may be a value measured in the manufacturing process as described above, or a value determined from a value measured in advance based on the composition ratio of the first solvent and the first polymer. Is also good.

[膜]
膜は、本発明の組成物を用いて形成された膜である。膜には、本発明の組成物に含まれる固形分がそのまま含有されていてもよいし、固形分が、分子内又は分子間、もしくは、分子内及び分子間で架橋した状態(架橋体)で含有されていてもよい。固形分の架橋体を含有する膜は、固形分を含有する膜を、加熱、光照射等の外部刺激により架橋させて得られる膜である。固形分の架橋体を含有する膜は、溶媒に対して実質的に不溶化されているため、有機EL素子の積層化に好適に使用することができる。
[film]
The film is a film formed using the composition of the present invention. The film may contain the solid content contained in the composition of the present invention as it is, or in a state where the solid content is crosslinked within or between molecules, or within and between molecules (crosslinked product). It may be contained. The film containing a crosslinked solid is a film obtained by crosslinking a film containing a solid by an external stimulus such as heating or light irradiation. Since the film containing the crosslinked product of the solid content is substantially insoluble in the solvent, it can be suitably used for laminating the organic EL device.

膜を架橋させるための加熱の温度は、通常、25〜300℃であり、好ましくは50〜250℃であり、より好ましくは150〜200℃である。   The heating temperature for crosslinking the film is usually 25 to 300C, preferably 50 to 250C, and more preferably 150 to 200C.

膜を架橋させるための光照射に用いられる光の種類は、例えば、紫外線、近紫外線、可視光、赤外線である。   The type of light used for light irradiation for crosslinking the film is, for example, ultraviolet light, near ultraviolet light, visible light, or infrared light.

膜は、発光素子における発光層、正孔輸送層または正孔注入層として好適である。膜の厚さは、通常、1nm〜1μmである。膜の平坦度は0%であることが最も好ましい。膜が凹状である場合、膜の平坦度は、−45%以上であることが好ましく、−30%以上であることがより好ましく、−20%以上であることがさらに好ましい。膜が凸状である場合、膜の平坦度は、15%以下であることが好ましく、12%以下であることがより好ましく、10%以下であることがさらに好ましい。本明細書における膜の平坦度は、後述の算出方法により算出された値とする。   The film is suitable as a light-emitting layer, a hole transport layer, or a hole injection layer in a light-emitting element. The thickness of the film is usually from 1 nm to 1 μm. Most preferably, the flatness of the film is 0%. When the film is concave, the flatness of the film is preferably at least -45%, more preferably at least -30%, further preferably at least -20%. When the film is convex, the flatness of the film is preferably 15% or less, more preferably 12% or less, and even more preferably 10% or less. The flatness of a film in this specification is a value calculated by a calculation method described later.

[膜の製造方法]
膜は、本発明の組成物を塗布する工程と、組成物中の溶媒を蒸発させる乾燥工程とを有する方法により製造することができる。
[Film production method]
The film can be produced by a method including a step of applying the composition of the present invention and a drying step of evaporating a solvent in the composition.

塗布工程は、例えば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェット印刷法、キャピラリ−コート法、ノズルコート法等の塗布方法を用いることができ、膜の平坦性をより向上させることができる観点から、吐出型の塗布法であるインクジェット印刷法が好ましく用いられる。   The coating process includes, for example, a spin coating method, a casting method, a microgravure coating method, a gravure coating method, a bar coating method, a roll coating method, a wire bar coating method, a dip coating method, a spray coating method, a screen printing method, and a flexographic printing method. From the viewpoint that the coating method such as an offset printing method, an ink jet printing method, a capillary coating method, a nozzle coating method, etc. can be used, and the flatness of the film can be further improved, the ink jet printing which is an ejection type coating method is used. The method is preferably used.

乾燥工程は、乾燥工程の時間を短縮する観点から、好ましくは、減圧下で乾燥を行う。乾燥工程での圧力調整は、通常、真空チャンバー内に乾燥対象を載置した後に、真空チャンバー内の圧力を大気圧から徐々に又は段階的に低下させることによる。乾燥工程の到達圧力は、膜が固定化されていれば特に限定されるものではないが、100Pa以下が好ましく、10Pa以下がさらに好ましい。大気圧から1000Paまでの減圧速度は、例えば、1000Pa/秒〜30000Pa/秒である。真空チャンバー内(より具体的には、乾燥対象を載置するステージ上)の温度は、例えば、20℃〜100℃の範囲、好ましくは20℃〜50℃の範囲に維持する制御を行う。乾燥時間の短縮化を図ることができる観点からは、真空チャンバー内の温度は高温である程好ましく、一方、耐熱性が低い乾燥対象は真空チャンバー内の温度が室温に近い程好ましい。
※山下コメント:限定は致しませんが、到達圧力の規定も入れておきたいと考えます。
The drying step is preferably performed under reduced pressure from the viewpoint of shortening the time of the drying step. The pressure adjustment in the drying step is usually performed by placing the object to be dried in the vacuum chamber and then gradually or stepwise reducing the pressure in the vacuum chamber from the atmospheric pressure. The ultimate pressure in the drying step is not particularly limited as long as the film is fixed, but is preferably 100 Pa or less, more preferably 10 Pa or less. The pressure reduction rate from the atmospheric pressure to 1000 Pa is, for example, 1000 Pa / sec to 30000 Pa / sec. The temperature in the vacuum chamber (more specifically, on the stage on which the object to be dried is placed) is controlled, for example, in a range of 20 ° C to 100 ° C, preferably in a range of 20 ° C to 50 ° C. From the viewpoint that the drying time can be shortened, the temperature in the vacuum chamber is preferably as high as possible. On the other hand, the drying target having low heat resistance is more preferably as the temperature in the vacuum chamber is close to room temperature.
* Yamashita's comment: We do not limit, but we would like to add the regulation of ultimate pressure.

乾燥工程における乾燥雰囲気の温度が30℃以上50℃以下である場合には、優れた平坦化を得られる観点から、基準溶液の温度23℃における粘度が2.20×10cP以上1.77×10cP以下となるように本発明の組成物を調製することが好ましい。 When the temperature of the drying atmosphere in the drying step is 30 ° C. or more and 50 ° C. or less, the viscosity of the reference solution at a temperature of 23 ° C. is 2.20 × 10 cP or more and 1.77 × 10 2 from the viewpoint of obtaining excellent flattening. It is preferable to prepare the composition of the present invention so as to have 3 cP or less.

乾燥工程における乾燥雰囲気の温度が20℃以上30℃未満である場合には、優れた平坦化を得られる観点から、基準溶液の温度23℃における粘度が1.30×10cP以上8.70×10cP以下となるように本発明の組成物を調製することが好ましい。 When the temperature of the drying atmosphere in the drying step is from 20 ° C. to less than 30 ° C., the viscosity of the reference solution at a temperature of 23 ° C. is from 1.30 × 10 cP to 8.70 × 10 from the viewpoint of obtaining excellent flattening. It is preferable to prepare the composition of the present invention so as to be 2 cP or less.

本発明者らは、乾燥工程の乾燥条件(減圧速度、真空チャンバー内の温度)を適宜選択した複数の乾燥条件のもとで膜を製造し、乾燥条件を適宜選択することにより優れた平坦性を有する膜を製造することができる基準溶液の温度23℃での粘度の好適範囲を決定し、本発明に至った。   The present inventors manufactured a film under a plurality of drying conditions in which drying conditions (decompression rate, temperature in a vacuum chamber) were appropriately selected in a drying step, and excellent flatness was obtained by appropriately selecting the drying conditions. The preferred range of the viscosity at a temperature of 23 ° C. of the reference solution capable of producing a film having the following was determined, and the present invention was reached.

[有機EL素子]
本発明の有機EL素子は、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する有機EL素子である。膜は、前述のとおり、本発明の組成物に含まれる固形分がそのまま含有されていてもよいし、固形分が、分子内又は分子間、もしくは、分子内及び分子間で架橋した状態(架橋体)で含有されていてもよい。本発明の有機EL素子の構成としては、例えば、陽極および陰極からなる電極と、該電極間に設けられた本発明の組成物を用いて形成された膜とを有する。
[Organic EL device]
The organic EL device of the present invention is an organic EL device having a film formed using the composition of the present invention. As described above, the film may contain the solid content contained in the composition of the present invention as it is, or may be in a state where the solid content is cross-linked intramolecularly or intermolecularly, or intramolecularly and intermolecularly (crosslinked). Body). The configuration of the organic EL device of the present invention includes, for example, an electrode composed of an anode and a cathode, and a film provided between the electrodes and formed using the composition of the present invention.

<層構成>
本発明の組成物を用いて得られる膜は、通常、発光層、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層の1種以上の層であり、好ましくは、発光層である。これらの層は、各々、発光材料、正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料を含む。
<Layer configuration>
The film obtained by using the composition of the present invention is usually one or more layers of a light-emitting layer, a hole transport layer, a hole injection layer, an electron transport layer, and an electron injection layer. is there. These layers each include a light emitting material, a hole transporting material, a hole injecting material, an electron transporting material, and an electron injecting material.

有機EL素子は、陽極と陰極の間に発光層を有する。本発明の有機EL素子は、正孔注入性および正孔輸送性の観点からは、陽極と発光層との間に、正孔注入層および正孔輸送層の少なくとも1層を有することが好ましく、電子注入性および電子輸送性の観点からは、陰極と発光層の間に、電子注入層および電子輸送層の少なくとも1層を有することが好ましい。   The organic EL element has a light emitting layer between an anode and a cathode. The organic EL device of the present invention preferably has at least one layer of a hole injection layer and a hole transport layer between the anode and the light emitting layer, from the viewpoints of the hole injection property and the hole transport property, From the viewpoint of the electron injection property and the electron transport property, it is preferable to have at least one of an electron injection layer and an electron transport layer between the cathode and the light emitting layer.

正孔輸送層の材料、電子輸送層の材料および発光層の材料は、有機EL素子の作製において、各々、正孔輸送層、電子輸送層および発光層に隣接する層の形成時に使用される溶媒に溶解する場合、該溶媒に該材料が溶解することを回避するために、該材料が架橋基を有することが好ましい。架橋基を有する材料を用いて各層を形成した後、該架橋基を架橋させることにより、該層を溶媒に対して実質的に不溶化させることができる。   The material of the hole transport layer, the material of the electron transport layer, and the material of the light emitting layer are the solvents used when forming the layers adjacent to the hole transport layer, the electron transport layer, and the light emitting layer, respectively, in the production of the organic EL device. When dissolved in the solvent, the material preferably has a cross-linking group in order to avoid dissolving the material in the solvent. After forming each layer using a material having a crosslinking group, the layer can be substantially insolubilized in a solvent by crosslinking the crosslinking group.

本発明の有機EL素子において、発光層、正孔輸送層、電子輸送層、正孔注入層、電子注入層等の各層の形成方法としては、低分子化合物を用いる場合、例えば、粉末からの真空蒸着法、溶液または溶融状態からの成膜による方法が挙げられ、高分子化合物を用いる場合、例えば、溶液または溶融状態からの成膜による方法が挙げられる。   In the organic EL device of the present invention, as a method of forming each layer such as a light emitting layer, a hole transport layer, an electron transport layer, a hole injection layer, and an electron injection layer, when a low molecular compound is used, Examples thereof include a vapor deposition method, a method of forming a film from a solution or a molten state, and when a polymer compound is used, for example, a method of forming a film from a solution or a molten state.

積層する層の順番、数および厚さは、発光効率および輝度寿命を勘案して調整する。   The order, number and thickness of the layers to be laminated are adjusted in consideration of luminous efficiency and luminance life.

<基板/電極>
有機EL素子における基板は、電極を形成することができ、かつ、有機層を形成する際に化学的に変化しない基板であればよく、例えば、ガラス、プラスチック、シリコン等の材料からなる基板である。不透明な基板の場合には、基板から最も遠くにある電極が透明または半透明であることが好ましい。
<Substrate / electrode>
The substrate in the organic EL element may be a substrate on which an electrode can be formed and which does not chemically change when an organic layer is formed, for example, a substrate made of a material such as glass, plastic, or silicon. . In the case of an opaque substrate, it is preferred that the electrode furthest from the substrate is transparent or translucent.

陽極の材料としては、例えば、導電性の金属酸化物、半透明の金属が挙げられ、好ましくは、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ;インジウム・スズ・オキサイド(ITO)、イ
ンジウム・亜鉛・オキサイド等の導電性化合物;銀とパラジウムと銅との複合体(APC);NESA、金、白金、銀、銅である。
Examples of the material of the anode include conductive metal oxides and translucent metals, and preferably, indium oxide, zinc oxide, and tin oxide; indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide, and the like A complex of silver, palladium and copper (APC); NESA, gold, platinum, silver and copper.

陰極の材料としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、亜鉛、インジウム等の金属;それらのうち2種以上の合金;それらのうち1種以上と、銀、銅、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン、錫のうち1種以上との合金;並びに、グラファイトおよびグラファイト層間化合物が挙げられる。合金としては、例えば、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金、インジウム−銀合金、リチウム−アルミニウム合金、リチウム−マグネシウム合金、リチウム−インジウム合金、カルシウム−アルミニウム合金が挙げられる。
陽極および陰極は、各々、2層以上の積層構造としてもよい。
Examples of the material of the cathode include metals such as lithium, sodium, potassium, rubidium, cesium, beryllium, magnesium, calcium, strontium, barium, aluminum, zinc, and indium; alloys of two or more thereof; Alloys of at least one species with at least one of silver, copper, manganese, titanium, cobalt, nickel, tungsten, and tin; and graphite and graphite intercalation compounds. Examples of the alloy include a magnesium-silver alloy, a magnesium-indium alloy, a magnesium-aluminum alloy, an indium-silver alloy, a lithium-aluminum alloy, a lithium-magnesium alloy, a lithium-indium alloy, and a calcium-aluminum alloy.
Each of the anode and the cathode may have a laminated structure of two or more layers.

<用途>
有機EL素子を用いて面状の発光を得るためには、面状の陽極と陰極が重なり合うように配置すればよい。パターン状の発光を得るためには、面状の発光素子の表面にパターン状の窓を設けたマスクを設置する方法、非発光部にしたい層を極端に厚く形成し実質的に非発光とする方法、陽極もしくは陰極、または、両方の電極をパターン状に形成する方法がある。これらのいずれかの方法でパターンを形成し、いくつかの電極を独立にON/OFFできるように配置することにより、数字、文字等を表示できるセグメントタイプの表示装置が得られる。ドットマトリックス表示装置とするためには、陽極と陰極を共にストライプ状に形成して直交するように配置すればよい。複数の種類の発光色の異なる高分子化合物を塗り分ける方法、カラーフィルターまたは蛍光変換フィルターを用いる方法により、部分カラー表示、マルチカラー表示が可能となる。ドットマトリックス表示装置は、パッシブ駆動も可能であるし、TFT等と組み合わせてアクティブ駆動も可能である。これらの表示装置は、コンピュータ、テレビ、携帯端末等のディスプレイに用いることができる。面状の発光素子は、液晶表示装置のバックライト用の面状光源、または、面状の照明用光源として好適に用いることができる。フレキシブルな基板を用いれば、曲面状の光源および表示装置としても使用できる。
<Application>
In order to obtain planar light emission using an organic EL element, a planar anode and a planar cathode may be arranged so as to overlap. In order to obtain patterned light emission, a method of installing a mask provided with a patterned window on the surface of a planar light emitting element, forming a layer to be a non-light emitting portion extremely thick and substantially non-light emitting There is a method, a method of forming an anode or a cathode, or both electrodes in a pattern. By forming a pattern by any of these methods and arranging some electrodes so that they can be turned on / off independently, a segment type display device capable of displaying numbers, characters, and the like can be obtained. In order to form a dot matrix display device, both the anode and the cathode may be formed in a stripe shape and arranged orthogonally. A partial color display and a multi-color display can be achieved by a method in which a plurality of types of polymer compounds having different emission colors are separately applied and a method using a color filter or a fluorescence conversion filter. The dot matrix display device can be driven passively, and can also be driven actively in combination with a TFT or the like. These display devices can be used for displays of computers, televisions, mobile terminals, and the like. The planar light emitting element can be suitably used as a planar light source for a backlight of a liquid crystal display device or a planar illumination light source. If a flexible substrate is used, it can be used as a curved light source and a display device.

以下、試験例によって本発明を更に詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to test examples.

<組成物1〜4の調製>
固形分として、ポリマー1(重量平均分子量:1.25×10、第1高分子化合物)と低分子化合物1(分子量:1.68×10、主低分子化合物)を表2に示す比率で用い、溶媒として、デシルベンゼン(東京化成社製、大気圧での沸点:293℃、第1溶媒、表2において「D」と称する。)と、シクロヘキシルベンゼン(東京化成社製、大気圧での沸点:238℃、表2において「CHB」と称する。)と、4−メチルアニソール(東京化成社製、大気圧での沸点:175℃、表2において「MT」と称する。)とを表2に示す比率で用い、固形分を表2に示す固形分濃度となるようにして溶媒中に溶解させて、緑色発光材料インクである組成物1〜4を調製した。
<Preparation of Compositions 1 to 4>
As a solid content, the ratio shown in Table 2 between Polymer 1 (weight average molecular weight: 1.25 × 10 5 , first high molecular compound) and low molecular compound 1 (molecular weight: 1.68 × 10 3 , main low molecular compound) And a solvent, decylbenzene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., boiling point at atmospheric pressure: 293 ° C., a first solvent, referred to as “D” in Table 2) and cyclohexylbenzene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., at atmospheric pressure) Boiling point: 238 ° C., referred to as “CHB” in Table 2) and 4-methylanisole (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., boiling point at atmospheric pressure: 175 ° C., referred to as “MT” in Table 2). Using the ratios shown in Table 2, the solids were dissolved in a solvent such that the solids had the solids concentrations shown in Table 2, thereby preparing Compositions 1 to 4 as green light emitting material inks.

<組成物1〜4中の基準溶液の粘度測定>
デシルベンゼンとポリマー1とを、組成物1〜4における比率と同じ比率で混合して、デジルベンゼンとポリマー1とのみを含む基準溶液を調製し、基準溶液の温度23℃での粘度を、自動携帯型ディスポーザブル粘度計(PDVa−100、Stony Brook Scientific社製)を使用して測定した。表2に測定結果を示す。
<Measurement of viscosity of reference solution in compositions 1 to 4>
Decylbenzene and Polymer 1 are mixed at the same ratio as in Compositions 1-4 to prepare a reference solution containing only decylbenzene and Polymer 1, and the viscosity of the reference solution at a temperature of 23 ° C. is automatically measured. The measurement was performed using a portable disposable viscometer (PDVa-100, manufactured by Stony Brook Scientific). Table 2 shows the measurement results.

<固形分として用いられるポリマーの重量平均分子量の測定>
ポリマーのポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)の測定は、GPC法により以下の条件で行った。
装置 ;HLC−8120GPC(東ソー(株)製)
カラム ;TSK−GELG2000HXLカラム温度 ;40℃
溶媒 ;THF
流速 ;1.0mL/min
被検液固形分濃度;0.001〜0.01質量%
注入量 ;50μL
検出器 ;RI
校正用標準物質 ;TSK STANDARD POLYSTYRENE
F−40、F−4、F−288、A−2500、A−500
(東ソー(株)製)
<Measurement of weight average molecular weight of polymer used as solid content>
The weight average molecular weight (Mw) of the polymer in terms of polystyrene was measured by the GPC method under the following conditions.
Apparatus: HLC-8120GPC (manufactured by Tosoh Corporation)
Column: TSK-GELG2000HXL Column temperature: 40 ° C
Solvent; THF
Flow rate: 1.0 mL / min
Test liquid solid content concentration: 0.001 to 0.01% by mass
Injection volume: 50 μL
Detector; RI
Calibration standard material; TSK STANDARD POLYSTYRENE
F-40, F-4, F-288, A-2500, A-500
(Tosoh Corporation)

Figure 2020010028
Figure 2020010028

<乾燥条件>
組成物1〜4を緑色発光材料インクとして用いて発光層を形成する際の乾燥条件として、乾燥対象を真空乾燥装置内のステージ上に、ステージ上の温度を25℃、35℃、55℃、70℃のいずれかの温度に保ち、また真空乾燥装置内の圧力を、大気圧(101325Pa)から1Paまで図1に示す減圧条件A、B1、B2、B3、Cのいずれかの減圧条件にて減圧を行い、溶媒が蒸発するまで1Paを維持して乾燥を行った。なお、図1に示す減圧条件A、B1、B2、B3、Cについて、大気圧から1000Paに到達するまでに要する時間T(秒)、及び大気圧から1000Paに到達するまでの減圧速度V(Pa/秒)は、表3に示す通りであった。
<Drying conditions>
As a drying condition when forming the light emitting layer using the compositions 1 to 4 as a green light emitting material ink, a drying target is placed on a stage in a vacuum drying apparatus, and the temperature on the stage is set at 25 ° C., 35 ° C., 55 ° C. Maintained at any temperature of 70 ° C., and the pressure in the vacuum drying apparatus was increased from atmospheric pressure (101325 Pa) to 1 Pa under reduced pressure conditions A, B1, B2, B3, and C shown in FIG. The pressure was reduced, and drying was performed while maintaining 1 Pa until the solvent was evaporated. Note that, under the decompression conditions A, B1, B2, B3, and C shown in FIG. 1, the time T (second) required to reach 1000 Pa from the atmospheric pressure, and the decompression speed V (Pa) required to reach 1000 Pa from the atmospheric pressure. / Sec) was as shown in Table 3.

Figure 2020010028
Figure 2020010028

[試験例1〜10:膜形状測定素子の作製と評価]
(透明電極基板の準備)
370mm×470mm×0.5mmのサイズのガラス基板(コーニング社製イーグルXG)に、ジオマテック株式会社製の透明導電膜FLAT−ITOを所定のパターンで50nm形成した。
[Test Examples 1 to 10: Production and evaluation of film shape measuring element]
(Preparation of transparent electrode substrate)
A transparent conductive film FLAT-ITO made by Geomatech Co., Ltd. was formed in a predetermined pattern on a glass substrate having a size of 370 mm × 470 mm × 0.5 mm (Eagle XG made by Corning) in a predetermined pattern.

(撥液性隔壁付基板の作製)
上記にて作製した透明導電膜付基板に対して、UV−O洗浄装置(日立ハイテクノロジ―社製;PL3−200−15)を用い、積算光量400mJ/cm下で親水化処理
を実施し、純水にて洗浄、エアーにて乾燥を実施した。この基板に対して、調製済みの感光性樹脂組成物を30g滴下し、スピンコータにて900rpmにて7秒回転させ、感光性樹脂組成物からなる薄膜を塗布形成した。その後、真空乾燥装置(東京応化工業株式会社製;TR28340CPD−CLT)にて66Paまで減圧乾燥を行い、ホットプレートにて110℃、110秒コンタクトしプリベークを実施した。次に、露光装置(日立ハイテクノロジ―社製;LE4000A)を用いて、露光を実施した。露光量は200mJ/cm、Gapは100μmとした。フォトマスクには、パターン(遮光部の形状が、長軸方向200μm、短軸方向50μmの長方形から、その四隅を円弧状にカットした形
(長丸))が同一平面上に形成されたものを用いた。その後、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液(トクヤマ(株)製、トクソーSD25)を濃度が2.38%となるように純水で希釈して調製した現像液を使用し、前記塗膜をシャワー現像機(セファテクノロジー株式会社製)にて、23℃で80秒間現像し、水洗およびエアー乾燥後、オーブン(エスペック社製:HSC−4)中、230℃で20分間ポストベークを行い、パターンを得た。
(Production of substrate with liquid-repellent partition)
Implementation used, the integrated light quantity 400 mJ / cm 2 down in hydrophilic treatment; - (PL3-200-15 company manufactured by Hitachi High-Technologies) to the transparent substrate with a conductive film produced in the above, UV-O 3 cleaning device Then, washing with pure water and drying with air were performed. 30 g of the prepared photosensitive resin composition was dropped onto the substrate, and the substrate was rotated at 900 rpm for 7 seconds by a spin coater to form a thin film of the photosensitive resin composition by coating. Thereafter, drying under reduced pressure was performed to 66 Pa using a vacuum drying apparatus (TR28340 CPD-CLT, manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.), and contact was made at 110 ° C. for 110 seconds on a hot plate to perform prebaking. Next, exposure was performed using an exposure apparatus (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation; LE4000A). The exposure amount was 200 mJ / cm 2 , and the gap was 100 μm. For the photomask, a pattern in which a pattern (shape of the light-shielding portion is a rectangle of 200 μm in the major axis direction and 50 μm in the minor axis direction and whose four corners are cut into an arc shape (long circle)) is formed on the same plane. Using. Thereafter, using a developing solution prepared by diluting an aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide (Tokuso SD25, manufactured by Tokuyama Corporation) with pure water to a concentration of 2.38%, using a shower developing machine (Sepha Technology Co., Ltd.), developed at 23 ° C. for 80 seconds, washed with water and air-dried, and post-baked in an oven (ESC: HSC-4) at 230 ° C. for 20 minutes to obtain a pattern. .

(塗布用基板の作製)
上記で得られた透明電極上に撥液性隔壁がパターニングされた基板を、LCD Glass分断装置(MS500、三星ダイヤモンド工業株式会社製)を用いて、370mm×470mm×0.5mmのサイズから50mm×50mm×0.5mmのサイズへと分断した。
(Preparation of coating substrate)
The substrate obtained by patterning the liquid-repellent partition on the transparent electrode obtained above was converted from a size of 370 mm × 470 mm × 0.5 mm to 50 mm × using an LCD Glass cutting device (MS500, manufactured by Samsung Diamond Industrial Co., Ltd.). It was cut into a size of 50 mm × 0.5 mm.

(正孔注入層の形成)
正孔注入材料(ND−3202、日産化学工業株式会社製)を、インクジェット印刷装置(142P、Litrex社製)に導入した。次に塗布前の前処理として、50mm角のサイズに分断した基板を、230℃、15分間ベークした。その後、ガラス基板上に形成され、撥液性の隔壁で囲まれたITO膜上(ITO膜厚:50nm)に、インクジェット印刷法により、正孔注入材料を塗布し、ステージ温度13℃、減圧速度25790Pa/秒の条件下で、溶媒が蒸発するまで減圧乾燥させ、65nmの平均厚さの正孔注入層を成膜した。得られた膜を、大気雰囲気下において、ホットプレート上で230℃、15分間加熱することにより、正孔注入層を形成した。
(Formation of hole injection layer)
A hole injection material (ND-3202, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) was introduced into an ink jet printing apparatus (142P, manufactured by Litex). Next, as pretreatment before coating, the substrate cut into a size of 50 mm square was baked at 230 ° C. for 15 minutes. Thereafter, a hole injecting material is applied by an inkjet printing method on an ITO film (ITO film thickness: 50 nm) formed on a glass substrate and surrounded by liquid-repellent partition walls, a stage temperature of 13 ° C., and a pressure reduction rate. Under a condition of 25790 Pa / sec, the solvent was dried under reduced pressure until the solvent was evaporated, and a hole injection layer having an average thickness of 65 nm was formed. The obtained film was heated at 230 ° C. for 15 minutes on a hot plate under an air atmosphere to form a hole injection layer.

(正孔輸送層の形成)
混合溶媒(デシルベンゼン/シクロヘキシルベンゼン/4−メチルアニソール=18.4質量%/40.2質量%/41.4質量%)に、正孔輸送材料(高分子化合物)を、固形分濃度として0.5質量%溶解させた正孔輸送材料組成物を調製した。得られた正孔輸送材料組成物を、インクジェット印刷装置(Litrex社製、142P)に導入した。次に、正孔注入層上に、正孔輸送材料組成物をインクジェット印刷法により塗布し、ステージ温度23℃、減圧速度37000Pa/秒の条件下で、溶媒が蒸発するまで減圧乾燥させ、膜を20nmの平均厚さで成膜した。得られた膜を、窒素ガス雰囲気下において、ホットプレート上で200℃、30分間加熱することにより、正孔輸送層を形成した。
(Formation of hole transport layer)
In a mixed solvent (decylbenzene / cyclohexylbenzene / 4-methylanisole = 18.4% by mass / 40.2% by mass / 41.4% by mass), the hole transporting material (polymer compound) was added at a solid concentration of 0%. A hole transport material composition in which 0.5% by mass was dissolved was prepared. The obtained hole transport material composition was introduced into an inkjet printing apparatus (142P, manufactured by Litex). Next, the hole transport material composition is applied on the hole injection layer by an inkjet printing method, and dried under reduced pressure at a stage temperature of 23 ° C. and a reduced pressure of 37000 Pa / sec until the solvent is evaporated. A film was formed with an average thickness of 20 nm. The obtained film was heated on a hot plate at 200 ° C. for 30 minutes in a nitrogen gas atmosphere to form a hole transport layer.

(発光層の形成)
上記で調製した組成物1〜4のいずれかを緑色発光材料インクとして用い、これをインクジェット印刷装置(Litrex社製、142P)に導入した。次に、正孔輸送層上に、緑色発光材料インクをインクジェット印刷法により塗布し、次に、表4に示す乾燥条件(ステージ温度及び減圧条件)で、溶媒が蒸発するまで減圧乾燥させ、狙い膜厚80nmの厚さで成膜した。得られた膜を、窒素ガス雰囲気下において、ホットプレート上で180℃、10分間加熱することにより、発光層を形成した。
(Formation of light emitting layer)
One of the compositions 1 to 4 prepared above was used as a green light emitting material ink, and this was introduced into an ink jet printing apparatus (142P, manufactured by Litex). Next, a green light emitting material ink is applied on the hole transport layer by an inkjet printing method, and then dried under reduced pressure under the drying conditions (stage temperature and reduced pressure conditions) shown in Table 4 until the solvent evaporates. The film was formed with a thickness of 80 nm. The obtained film was heated on a hot plate at 180 ° C. for 10 minutes under a nitrogen gas atmosphere to form a light emitting layer.

(測定用反射膜の形成)
「正孔注入層/正孔輸送層」の2層、もしくは「正孔注入層/正孔輸送層/発光層」の3層を形成したガラス基板を蒸着機内において、1.0×10−4Pa以下にまで減圧した後、正孔輸送層又は発光層の上にアルミニウムを約20nm蒸着することで測定用反射膜を形成し、膜形状測定素子を作製した。
(Formation of reflective film for measurement)
A glass substrate on which two layers of “hole injection layer / hole transport layer” or three layers of “hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer” were formed was placed in a vapor deposition machine at 1.0 × 10 −4. After the pressure was reduced to Pa or less, aluminum was evaporated to a thickness of about 20 nm on the hole transporting layer or the light emitting layer to form a reflective film for measurement, thereby producing a film shape measuring element.

(膜形状の評価)
「正孔注入層/正孔輸送層/測定用反射膜」の層構成の基板X1と、「正孔注入層/正孔輸送層/発光層/測定用反射膜」の層構成の基板X2の2種類の基板の膜厚を、非接触3次元表面形状測定装置(Zygo社製)により測定した。基板X1の3次元膜厚をD1、基板X2の3次元膜厚をD2とし、評価対象となる発光層単層の膜厚D3を下記式から得た。
D3=D2−D1
(Evaluation of film shape)
A substrate X1 having a layer configuration of “hole injection layer / hole transport layer / reflection film for measurement” and a substrate X2 having a layer configuration of “hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / reflection film for measurement” The film thicknesses of the two types of substrates were measured by a non-contact three-dimensional surface shape measuring device (manufactured by Zygo). The three-dimensional film thickness of the substrate X1 was D1, the three-dimensional film thickness of the substrate X2 was D2, and the thickness D3 of the single light emitting layer to be evaluated was obtained from the following equation.
D3 = D2-D1

膜厚D3に関して、撥液性隔壁で囲まれた1つの画素内において、最も薄い膜厚をd、膜厚がd+5nm以下の範囲になる面積をa、平均膜厚をbとし、平坦度y(%)の絶対値|y|を下記式から得た。
|y|=(1−(a/画素面積)/(b/狙い膜厚))×100
Regarding the film thickness D3, in one pixel surrounded by the liquid-repellent partition, d is the thinnest film thickness, a is the area where the film thickness is d + 5 nm or less, b is the average film thickness, and the flatness y ( %) Was obtained from the following equation.
| Y | = (1− (a / pixel area) / (b / target film thickness)) × 100

さらに膜厚D3に関して、短軸の中心部で、画素長軸側の断面が得られるように輪切りした場合の撥液性隔壁端部から10μmの位置の2点の膜厚と画素中心の膜厚を比較し、撥液性隔壁端部から10μmの位置の2点の膜厚の内、どちらか一方でも画素中心より厚かった場合、膜形状を凹とみなし、yの値を負、画素中心の方が膜厚が厚かった場合は、膜形状を凸とみなし、平坦度yの値を正とし、平坦度y(%)を決定した。表4に測定結果に基づいて得られた平坦度y(%)を示す。   Further, with respect to the film thickness D3, the film thickness at two points at 10 μm from the edge of the liquid-repellent partition wall and the film thickness at the center of the pixel when a cross section is obtained at the center of the short axis so as to obtain a cross section on the pixel long axis side. When one of the two film thicknesses at a position 10 μm from the edge of the liquid-repellent partition was thicker than the pixel center, the film shape was regarded as concave, the value of y was negative, and the pixel center When the film thickness was larger, the film shape was regarded as convex, the value of the flatness y was set to a positive value, and the flatness y (%) was determined. Table 4 shows the flatness y (%) obtained based on the measurement results.

(基準溶液の粘度xと平坦度yとの関係)
図2〜図11は、試験例1〜10について、基準溶液の粘度xと測定結果に基づいて得られた平坦度yとをプロットしたグラフである。図2〜図11において、基準溶液の粘度xと平坦度yとの関係について、近似直線で示した関係があることがわかった。図2〜図11の近似直線が示す関係式を導出関係式として、表4に示す。
(Relationship between viscosity x of reference solution and flatness y)
2 to 11 are graphs plotting the viscosity x of the reference solution and the flatness y obtained based on the measurement results for Test Examples 1 to 10. 2 to 11, it was found that the relationship between the viscosity x of the reference solution and the flatness y had a relationship indicated by an approximate straight line. Table 4 shows the relational expressions indicated by the approximate straight lines in FIGS.

(所望の平坦度が得られる粘度範囲の算出)
各試験例において、上記における導出関係式に基づいて、所望の平坦度である−45%〜15%の平坦度が得られる基準溶液の粘度を粘度の好適範囲としその下限及び上限値を計算した。その結果を表4に示す。基準溶液の粘度の好適範囲の下限値は、平坦度が−45%になると算出される基準溶液の粘度であり、基準溶液の粘度の好適範囲の上限値は、平坦度が15%になると算出される基準溶液の粘度である。
(Calculation of viscosity range to obtain desired flatness)
In each test example, based on the derivation relational expression described above, the viscosity of the reference solution in which the desired flatness of -45% to 15% was obtained was taken as a suitable range of the viscosity, and the lower and upper limits thereof were calculated. . Table 4 shows the results. The lower limit of the preferable range of the viscosity of the reference solution is the viscosity of the reference solution calculated when the flatness becomes -45%, and the upper limit of the preferable range of the viscosity of the reference solution is calculated when the flatness becomes 15%. Is the viscosity of the reference solution used.

Figure 2020010028
Figure 2020010028

(考察)
試験例1〜10では、発光層形成時の乾燥条件(温度、減圧速度)について、当業者が適宜採用し得る範囲内の乾燥条件を採用した。したがって、基準溶液の粘度xが、試験例1〜10のいずれかで−45%〜15%の平坦度が得られる粘度x(4.40×10cP以上5.01×10cP以下)を有する組成物であれば、当業者が適宜乾燥条件を調整することにより、−45%〜15%の平坦度を実現し得ることがわかる。
(Discussion)
In Test Examples 1 to 10, the drying conditions (temperature, decompression rate) at the time of forming the light emitting layer were within the range that can be appropriately adopted by those skilled in the art. Therefore, the viscosity x of the reference solution has a viscosity x (4.40 × 10 cP or more and 5.01 × 10 3 cP or less) at which a flatness of −45% to 15% is obtained in any of Test Examples 1 to 10. It can be seen that the composition can realize a flatness of −45% to 15% by appropriately adjusting the drying conditions by those skilled in the art.

また、試験例2,4,6,8,10からは、乾燥温度が35℃の場合、基準溶液の温度23℃での粘度xが2.20×10cP以上1.77×10cP以下を有する組成物であれば高い平坦度を実現し得ることがわかる。試験例1,3,5,7,9からは、乾燥温度が25℃の場合、基準溶液の温度23℃での粘度xが1.30×10cP以上8.70×10cP以下を有する組成物であれば高い平坦度を実現し得ることがわかる。 Further, from Test Examples 2, 4, 6, 8, and 10, when the drying temperature is 35 ° C., the viscosity x of the reference solution at a temperature of 23 ° C. is 2.20 × 10 cP or more and 1.77 × 10 3 cP or less. It can be seen that a composition having the composition can achieve high flatness. From Test Examples 1, 3, 5, 7, and 9, when the drying temperature is 25 ° C., the composition having a viscosity x at a temperature of 23 ° C. of the reference solution of not less than 1.30 × 10 cP and not more than 8.70 × 10 2 cP. It can be seen that a high degree of flatness can be realized with a material.

Claims (18)

固形分と溶媒とを含む有機EL素子用組成物であって、
前記固形分は、前記固形分の全量に対して5質量%以上含まれる主高分子化合物を少なくとも1種と、前記固形分の全量に対して30質量%以上含まれる主低分子化合物を少なくとも1種と、を含み、
前記溶媒は、前記溶媒の全量に対して5質量%以上含まれる主溶媒を少なくとも2種含み、
前記主溶媒の中で大気圧での沸点が最も高い第1溶媒と、前記主高分子化合物の中で重量平均分子量が最も大きい第1高分子化合物とが、前記第1溶媒と前記第1高分子化合物とのみからなる溶液の温度23℃における粘度が1.30×10cP以上1.77×10cP以下となるような含有比率で含まれており、
前記第1高分子化合物の重量平均分子量は1.4×10未満である、有機EL素子用組成物。
A composition for an organic EL device comprising a solid and a solvent,
The solid content includes at least one main polymer compound contained in an amount of 5% by mass or more based on the total amount of the solids, and at least one main low molecular compound contained in an amount of 30% by mass or more based on the total amount of the solids. Including a species,
The solvent includes at least two main solvents contained in an amount of 5% by mass or more based on the total amount of the solvent,
The first solvent having the highest boiling point at atmospheric pressure among the main solvents, and the first polymer compound having the largest weight average molecular weight among the main polymer compounds are the first solvent and the first high solvent. The solution containing only the molecular compound is contained at a content ratio such that the viscosity at a temperature of 23 ° C. becomes 1.30 × 10 cP or more and 1.77 × 10 3 cP or less,
The composition for an organic EL device, wherein the weight average molecular weight of the first polymer compound is less than 1.4 × 10 5 .
前記第1溶媒の大気圧での沸点が250℃以上である、請求項1に記載の有機EL素子用組成物。   The composition for an organic EL device according to claim 1, wherein the first solvent has a boiling point at atmospheric pressure of 250 ° C. or higher. 前記第1溶媒は式(1)で表される化合物である、請求項1又は2に記載の有機EL素子用組成物。
Figure 2020010028

[式(1)中、Rは、炭素原子数が10〜12のアルキル基を表す。]
The composition for an organic EL device according to claim 1, wherein the first solvent is a compound represented by the formula (1).
Figure 2020010028

[In the formula (1), R 1 represents an alkyl group having 10 to 12 carbon atoms. ]
前記第1溶媒の濃度は、前記主溶媒の全量に対して5質量%以上60質量%以下である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の有機EL素子用組成物。   The composition for an organic EL device according to any one of claims 1 to 3, wherein the concentration of the first solvent is 5% by mass or more and 60% by mass or less based on the total amount of the main solvent. 前記主溶媒は、第2溶媒をさらに含み、
前記第2溶媒は、式(1)で表される化合物を除く芳香族炭化水素である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の有機EL素子用組成物。
The main solvent further includes a second solvent,
The composition for an organic EL device according to any one of claims 1 to 4, wherein the second solvent is an aromatic hydrocarbon excluding the compound represented by the formula (1).
前記第2溶媒は、ペンチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、ヘプチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン、及びテトラリンからなる群より選択される、請求項5に記載の有機EL素子用組成物。   The composition for an organic EL device according to claim 5, wherein the second solvent is selected from the group consisting of pentylbenzene, hexylbenzene, heptylbenzene, octylbenzene, nonylbenzene, cyclohexylbenzene, and tetralin. 前記主溶媒は、第3溶媒をさらに含み、
前記第3溶媒は、芳香族エーテルである、請求項1〜6のいずれか1項に記載の有機EL素子用組成物。
The main solvent further includes a third solvent,
The composition for an organic EL device according to any one of claims 1 to 6, wherein the third solvent is an aromatic ether.
前記第3溶媒は、メチルアニソール、ジメチルアニソール、エチルアニソール、ブチルフェニルエーテル、ブチルアニソール、ペンチルアニソール、ヘキシルアニソール、ヘプチルアニソール、オクチルアニソール、及びフェノキシトルエンからなる群より選択される、請求項7に記載の有機EL素子用組成物。   The method according to claim 7, wherein the third solvent is selected from the group consisting of methylanisole, dimethylanisole, ethylanisole, butylphenylether, butylanisole, pentylanisole, hexylanisole, heptylanisole, octylanisole, and phenoxytoluene. The composition for an organic EL device. 前記主高分子化合物は、いずれも重量平均分子量が3.0×10以上である、請求項1〜8のいずれか1項に記載の有機EL素子用組成物。 9. The composition for an organic EL device according to claim 1, wherein each of the main polymer compounds has a weight average molecular weight of 3.0 × 10 4 or more. 10. 前記第1高分子化合物は、発光性化合物である、請求項1〜9のいずれか1項に記載の有機EL素子用組成物。   The composition for an organic EL device according to claim 1, wherein the first polymer compound is a luminescent compound. 温度23℃における粘度が1cP以上10cP以下である、請求項1〜10のいずれか1項に記載の有機EL素子用組成物。   The composition for an organic EL device according to any one of claims 1 to 10, wherein the viscosity at a temperature of 23C is 1 cP or more and 10 cP or less. 請求項1〜11のいずれか1項に記載の有機EL素子用組成物から形成される膜。   A film formed from the composition for an organic EL device according to claim 1. 請求項12に記載の膜を備える有機EL素子。   An organic EL device comprising the film according to claim 12. 請求項1〜11のいずれか1項に記載の有機EL素子用組成物を準備する準備工程と、
前記有機EL素子用組成物を塗布して塗膜を形成する塗布工程と、
前記塗膜を乾燥する乾燥工程と、を有する、膜の製造方法。
A preparation step of preparing the composition for an organic EL device according to any one of claims 1 to 11,
An application step of applying the composition for an organic EL element to form a coating film,
A drying step of drying the coating film.
前記乾燥工程は、前記塗膜を減圧雰囲気で乾燥する工程である、請求項14に記載の膜の製造方法。   The method for producing a film according to claim 14, wherein the drying step is a step of drying the coating film in a reduced-pressure atmosphere. 前記準備工程は、前記第1溶媒と前記第1高分子化合物とが、前記第1溶媒と前記第1高分子化合物とのみからなる前記溶液の温度23℃における前記粘度が2.20×10cP以上1.77×10cP以下となるような含有比率で含まれている有機EL素子用組成物を準備する工程であり、
前記乾燥工程は、前記塗膜を温度が30℃以上50℃以下の減圧雰囲気で乾燥する工程である、請求項15に記載の膜の製造方法。
In the preparing step, the first solvent and the first polymer compound have a viscosity at a temperature of 23 ° C. of the solution consisting of only the first solvent and the first polymer compound of 2.20 × 10 cP or more. A step of preparing a composition for an organic EL device, which is contained at a content ratio of not more than 1.77 × 10 3 cP,
The method for producing a film according to claim 15, wherein the drying step is a step of drying the coating film in a reduced-pressure atmosphere having a temperature of 30C or higher and 50C or lower.
前記準備工程は、前記第1溶媒と前記第1高分子化合物とが、前記第1溶媒と前記第1高分子化合物とのみからなる前記溶液の温度23℃における前記粘度が1.30×10cP以上8.70×10cP以下となるような含有比率で含まれている有機EL素子用組成物を準備する工程であり、
前記乾燥工程は、前記塗膜を温度が20℃以上30℃未満の減圧雰囲気で乾燥する工程である、請求項15に記載の膜の製造方法。
In the preparing step, the first solvent and the first polymer compound have a viscosity at a temperature of 23 ° C. of the solution consisting of only the first solvent and the first polymer compound of 1.30 × 10 cP or more. A step of preparing a composition for an organic EL device, which is contained at a content ratio of 8.70 × 10 2 cP or less,
The method for producing a film according to claim 15, wherein the drying step is a step of drying the coating film in a reduced-pressure atmosphere having a temperature of 20 ° C or more and less than 30 ° C.
前記乾燥工程は、雰囲気を、大気圧から、1000Pa/秒以上30000Pa/秒以下の減圧速度で1000Paの圧力まで減圧する工程を含む、請求項15〜17のいずれか1項に記載の膜の製造方法。   The production of a film according to any one of claims 15 to 17, wherein the drying step includes a step of reducing the atmosphere from atmospheric pressure to a pressure of 1,000 Pa at a pressure reduction rate of 1,000 Pa / sec or more and 30,000 Pa / sec or less. Method.
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