JP2019536061A - 高分解能テラヘルツ波集光モジュール、散乱光検出モジュール、及びテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置 - Google Patents

高分解能テラヘルツ波集光モジュール、散乱光検出モジュール、及びテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置 Download PDF

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Abstract

本発明の一実施によるテラヘルツ波集光モジュールは、テラヘルツ波ベッセルビームが検査対象物を透過して発散するテラヘルツ波の角度が小さくなるように変更する第1レンズと、前記第1レンズを通過したテラヘルツ波を検出部に集光する第2レンズとを含んでもよい。

Description

本発明は、テラヘルツ波を用いて非破壊的な方法で検査対象物を検査する技術であり、回折限界を超えて波長以下の高分解能を有する、高分解能テラヘルツ波集光モジュールに関する。
また、本発明は、ベッセルビームを用いてリングビームを形成し、形成されたリングビームを用いて検査対象物を検査する際に、検査対象物を反射又は透過する散乱光を検出してコントラストを向上させることのできる、散乱光検出モジュールに関する。
さらに、本発明は、スキャナを用いて物体の形状を検出し、検出された物体の形状に応じて光学ヘッド及び集光ヘッドを同期化する、テラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置に関する。
[この発明をサポートする国家研究開発事業]
[課題固有番号]ER160200−01
[部署名]未来創造科学部
[研究管理専門機関]韓国食品研究院
[研究事業名]韓国食品研究院の主要事業
[研究課題名]食品異物検出用テラ波高分解能画像技術の開発
[寄与率]1/1
[主管機関]韓国食品研究院
[研究期間]2016年4月1日〜2017年12月31日
非破壊的な方法で物体や物質を検査するためには画像学的方法が主に活用されるが、大きく連続出力光源を用いた画像検出法と分光学的方法を用いた画像検出法の2つの方法が主流をなしている。これらの方法はそれぞれ長所と短所があるが、透過画像のように相対的に高出力を要求する分野では連続出力光源を用いた画像検出法がより広く用いられている。
テラヘルツ波は、物質に対する透過性、定性的確認可能性、生体に対する安全性などの様々な優れた特性により、非破壊的な方法で隠れた物体や物質を定性的に検出する分野で広く活用されている。
よって、テラヘルツ波は、近年、空港やセキュリティ施設の検索装置、食品会社や製薬会社の品質検査装置、半導体検査装置、エンジニアリングプラスチック検査装置など、様々な分野で活用が試みられている。
テラヘルツ波を生産現場に活用する事例が増えており、継続的な研究により検出分解能、検出速度、検出面積などの主な性能指数面で大きく向上している。
従来は、テラヘルツ波透過画像を得るために、物体を透過して発散するテラヘルツ波の集光のために1つのレンズのみを用いていた。この場合、検査対象物にフォーカシングされるテラヘルツ波ビームの大きさを波長以下にするためにベッセルビームを形成するアキシコンレンズの頂角を小さくすると、検査対象物を通過した後にテラヘルツ波ベッセルビームが大きい角度で発散して検出部に全てが集光されなくなるという問題が生じる。よって、集光性が著しく低下して検査装置のSNR(signal per noise ratio)が顕著に低下するので正常な画像が得られないという問題が生じる。
また、透明な検査対象物の場合、鮮明な画像を得ることが困難であるという問題がある。よって、テラヘルツ波の損失がほとんどないと共に、透明な検査対象物に対するコントラスト(contrast)を向上させることのできる方法に関する研究開発が求められている。
さらに、ベッセルビームの焦点深度が検査対象物の端部まで到達できず、高分解能の画像が得られないという問題がある。
さらに、検査対象物に水分が多く含まれる場合、テラヘルツ波の水分に吸収されやすい性質により、テラヘルツ波が検査対象物を透過する割合が著しく減少する。よって、テラヘルツ波検出部は、検出されるテラヘルツ波の信号が弱いので、検査対象物を正確に検査できないという問題がある。
本発明に関連する従来技術については特許文献1に記載されている。
韓国登録特許第10−1392311号公報
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、検査対象物を透過したテラヘルツ波ベッセルビームの集光効率を高めて分解能を向上させることのできる、高分解能テラヘルツ波集光モジュールを提供する。
また、本発明は、テラヘルツ波の損失なくリングビームを形成し、透明な検査対象物に対するコントラスト(contrast)を向上させることのできる、散乱光検出モジュールを提供する。
さらに、本発明は、検査対象物の形状に応じて光学ヘッドをできるだけ検査対象物の外形に沿って移動させることにより、ベッセルビームの焦点深度が検査対象物の端部まで到達できるようにする、テラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置を提供する。
さらに、本発明は、検査対象物を急冷してテラヘルツ波を用いて検査することにより、テラヘルツ波が水分を含む検査対象物を透過しやすくする、テラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置を提供する。
本発明の他の目的及び利点は、以下の説明により理解され、本発明の実施形態からさらに明らかになるであろう。また、本発明の目的及び利点は、請求の範囲に開示されている手段及びその組み合わせにより実現できることを容易に理解できるであろう。
本発明の一実施形態によるテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置は、検査対象物の形状をスキャンするスキャナと、テラヘルツ波を生成し、前記生成されたテラヘルツ波を前記検査対象物に照射するテラヘルツ波光学ヘッドと、前記検査対象物を透過したテラヘルツ波を検出するテラヘルツ波集光ヘッドと、前記スキャナでスキャンされた検査対象物の形状に応じて、前記テラヘルツ波光学ヘッドを移動させる第1移送部と、前記第1移送部に同期化され、前記テラヘルツ波集光ヘッドを前記テラヘルツ波光学ヘッドと同様に移動させる第2移送部とを含んでもよい。
前記第1移送部は、前記生成されたテラヘルツ波の焦点深度内に前記検査対象物が置かれるように、前記スキャンされた検査対象物の厚さに基づいて前記検査対象物及び前記テラヘルツ波光学ヘッドが所定の距離を維持するように前記テラヘルツ波光学ヘッドを移動させるようにしてもよい。
前記テラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置は、前記検査対象物を低温状態に維持する急冷装置をさらに含み、前記テラヘルツ波光学ヘッド及び前記テラヘルツ波集光ヘッドは、前記急冷装置の両側面に離隔して配置されるようにしてもよい。
前記急冷装置は、前記生成されたテラヘルツ波が透過するウィンドウを含むハウジングから構成されてもよい。
前記テラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置は、前記急冷装置の後段に配置され、前記検査対象物を解凍する解凍装置をさらに含んでもよい。
本発明の他の実施形態によるテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置は、テラヘルツ波を生成するテラヘルツ波生成部と、前記テラヘルツ波生成部から入射するテラヘルツ波を用いて検査対象物にテラヘルツ波ベッセルビームが形成されるようにするベッセルビーム形成部と、前記テラヘルツ波ベッセルビームが前記検査対象物を透過して発散するテラヘルツ波の角度が小さくなるように変更する第1レンズと、前記第1レンズを通過したテラヘルツ波を検出部に集光する第2レンズと、前記第2レンズにより集光されたテラヘルツ波を検出するテラヘルツ波検出部とを含む。
前記ベッセルビーム形成部は、前記テラヘルツ波ベッセルビームの直径が前記テラヘルツ波生成部で生成されたテラヘルツ波の波長より小さく形成される頂角を有する第1アキシコンレンズであってもよい。
前記第1レンズは、前記検査対象物を中心に前記第1アキシコンレンズに対称となるように配置される第2アキシコンレンズであってもよい。
前記第2アキシコンレンズは、前記第1アキシコンレンズと同じ大きさの頂角を有するようにしてもよい。
前記テラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置は、前記テラヘルツ波生成部から入射するテラヘルツ波の角度が小さくなるように変更して前記ベッセルビーム形成部に入射させる角度変更部をさらに含んでもよい。
前記角度変更部は、前記テラヘルツ波生成部から入射するテラヘルツ波の角度が小さくなるように変更する第1凸レンズであり、前記第2レンズは、前記検査対象物を中心に前記第1凸レンズに対称となるように配置される第2凸レンズであってもよい。
前記第2レンズは、前記第2アキシコンレンズと同じ形状を有し、光軸に垂直な軸を中心に前記第2アキシコンレンズに対称となるように配置される第3アキシコンレンズであってもよい。
前記第1レンズは、前記テラヘルツ波ベッセルビームが前記検査対象物を透過して発散するテラヘルツ波の角度が小さくなるように変更する第3凸レンズであってもよい。
前記第2レンズは、光軸に垂直な軸を中心に前記第3凸レンズに対称となるように配置される第4凸レンズであってもよい。
本発明のさらに他の実施形態による高分解能テラヘルツ波集光モジュールは、テラヘルツ波ベッセルビームが検査対象物を透過して発散するテラヘルツ波の角度が小さくなるように変更する第1レンズと、前記第1レンズを通過したテラヘルツ波を検出部に集光する第2レンズとを含んでもよい。
前記第1レンズは、前記検査対象物を中心に第1アキシコンレンズに対称となるように配置される第2アキシコンレンズであり、前記第1アキシコンレンズは、前記テラヘルツ波ベッセルビームを形成し、前記検出部に入射するテラヘルツ波の直径が前記テラヘルツ波生成部で生成されたテラヘルツ波の波長より小さく形成される頂角を有するようにしてもよい。
前記第2アキシコンレンズは、前記第1アキシコンレンズと同じ大きさの頂角を有するようにしてもよい。
前記第2レンズは、前記検査対象物を中心に第1凸レンズに対称となるように配置される第2凸レンズであり、前記第1凸レンズは、前記テラヘルツ波生成部から入射するテラヘルツ波の角度が小さくなるように変更するようにしてもよい。
前記第2レンズは、前記第2アキシコンレンズと同じ形状を有し、光軸に垂直な軸を中心に前記第2アキシコンレンズに対称となるように配置されるようにしてもよい。
前記第1レンズは、前記テラヘルツ波ベッセルビームが前記検査対象物を透過して発散するテラヘルツ波の角度が小さくなるように変更する第3凸レンズであってもよい。
前記第2レンズは、光軸に垂直な軸を中心に前記第3凸レンズに対称となるように配置される第4凸レンズであってもよい。
本発明のさらに他の実施形態によるテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置は、テラヘルツ波を生成するテラヘルツ波生成部と、前記テラヘルツ波生成部から入射するテラヘルツ波を用いてテラヘルツ波ベッセルビームを生成するベッセルビーム形成部と、前記テラヘルツ波ベッセルビームを用いてリング(ring)ビームを形成し、前記形成されたリング(ring)ビームを検査対象物に集光するリングビーム形成部と、前記検査対象物から生成された散乱光を検出する散乱光検出部と、前記検査対象物を透過したリングビームを検出するリングビーム検出部とを含む。
前記リングビーム形成部は、リング(ring)ビームを形成し、前記形成されたリング(ring)ビームを前記検査対象物に集光する第3レンズを含む。
前記散乱光検出部は、前記第3レンズの内部に備えられ、前記検査対象物から反射する散乱光を検出する反射散乱光検出部を含む。
前記反射散乱光検出部は、前記第3レンズから出射されるリングビームの内部に備えられてもよい。
前記散乱光検出部は、前記検査対象物から透過する散乱光を検出する透過散乱光検出部を含んでもよい。
前記透過散乱光検出部は、前記第3レンズから入射するリングビームの内部に配置されるようにしてもよい。
前記第3レンズは、前記検査対象物から反射する散乱光の経路を変更する経路変更部を含み、前記反射散乱光検出部は、前記経路変更部から入射する散乱光を検出するようにしてもよい。
前記リングビーム形成部は、前記ベッセルビーム形成部から入射するテラヘルツ波ベッセルビームの角度が小さくなるように変更して前記第3レンズに入射させる第4レンズを含んでもよい。
前記ベッセルビーム形成部は、前記テラヘルツ波ベッセルビームの直径が前記テラヘルツ波生成部で生成されたテラヘルツ波の波長より小さく形成される頂角を有する第4アキシコンレンズであってもよい。
前記第4レンズは、前記検査対象物を中心に前記第4アキシコンレンズに対称となるように配置される第5アキシコンレンズであってもよい。
前記第5アキシコンレンズは、前記第4アキシコンレンズと同じ大きさの頂角を有するようにしてもよい。
前記テラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置は、前記テラヘルツ波生成部から入射するテラヘルツ波の角度が小さくなるように変更して前記ベッセルビーム形成部に入射させる角度変更部をさらに含んでもよい。
前記角度変更部は、前記テラヘルツ波生成部から入射するテラヘルツ波の角度が小さくなるように変更する第5凸レンズであり、前記第3レンズは、前記検査対象物を中心に前記第5凸レンズに対称となるように配置される第6凸レンズであってもよい。
前記第3レンズは、前記第5アキシコンレンズと同じ形状を有し、光軸に垂直な軸を中心に前記第5アキシコンレンズに対称となるように配置される第6アキシコンレンズであってもよい。
前記第4レンズは、前記テラヘルツ波ベッセルビームが前記検査対象物を透過して発散するテラヘルツ波の角度が小さくなるように変更する第7凸レンズであってもよい。
前記第4レンズは、光軸に垂直な軸を中心に前記第7凸レンズに対称となるように配置される第8凸レンズであってもよい。
本発明のさらに他の実施形態による散乱光検出モジュールは、テラヘルツ波ベッセルビームを用いてリング(ring)ビームを形成し、前記形成されたリング(ring)ビームを検査対象物に集光するリングビーム形成部と、前記検査対象物から生成された散乱光を検出する散乱光検出部とを含む。
前記リングビーム形成部は、リング(ring)ビームを形成し、前記形成されたリング(ring)ビームを前記検査対象物に集光する第3レンズを含む。
前記散乱光検出部は、前記第3レンズから出射されるリングビームの内部に備えられ、前記検査対象物から反射する散乱光を検出する反射散乱光検出部を含む。
前記散乱光検出部は、前記第3レンズから入射するリングビームの内部に配置され、前記検査対象物から透過する散乱光を検出する透過散乱光検出部を含む。
前記第3レンズは、前記検査対象物から反射する散乱光の経路を変更する経路変更部を含み、前記反射散乱光検出部は、前記経路変更部から入射する散乱光を検出する。
本発明の開示によれば、検査対象物を透過したテラヘルツ波をほとんど損失なく集光することができるので、集光効率を高めることができる。
また、検査対象物にフォーカシングされるテラヘルツ波ビームの直径をテラヘルツ波の波長以下にすることにより、分解能を向上させて鮮明な画像を取得することができる。
さらに、テラヘルツ波の損失なくリングビームを形成し、透明な検査対象物に対するコントラスト(contrast)を向上させることができる。
さらに、検査対象物から生成される散乱光を検出することにより、透明な検査対象物に対するコントラスト(contrast)を向上させることができる。
さらに、散乱光検出部が生成されたリングビームの内部に配置されるようにすることにより、散乱光検出部の追加による別途の空間が必要なくなり、小型化が可能である。
さらに、高分解能を実現するためにベッセルビーム形成部のアキシコンレンズの頂角を小さくしても、リングビーム形成部のレンズを2つ用いることにより、生成されるリングビームの直径を小さくし、高分解能の画像を取得することができる。
さらに、検査対象物の形状に応じて光学ヘッドをできるだけ検査対象物の外形に沿って移動させることにより、ベッセルビームの焦点深度内に検査対象物を位置させ、鮮明な透過画像を取得することができる。
さらに、検査対象物を急冷してテラヘルツ波を用いて検査することにより、テラヘルツ波が水分を含む検査対象物を透過しやすくすることができる。
本発明の一実施形態によるテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置を説明するための図である。 図1のテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置を具体的に説明するための図である。 本発明の他の実施形態によるテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置を説明するための図である。 本発明のさらに他の実施形態によるテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置を説明するための図である。 本発明の一実施形態によるベッセルビーム形成部を説明するための図である。 数式4を用いて異なる頂角にフォーカシングされたテラヘルツ波ビームの直径を計算した図である。 単一レンズを用いて集光する検査装置を説明するための図である。 単一レンズを用いて集光する検査装置を説明するための図である。 第1実施形態による図4のテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置を説明するための図である。 第2実施形態による図4の高分解能検査装置を説明するための図である。 第3実施形態による図4の高分解能検査装置を説明するための図である。 図8〜図11の装置を用いて検査対象物を測定した透過画像である。 図8〜図11の装置を用いて検査対象物を測定した透過画像である。 本発明のさらに他の実施形態によるテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置を説明するための図である。 第1実施形態による図14のテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置を説明するための図である。 図15のリングビーム形成部(1540)を具体化した図である。 第2実施形態による図14のテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置を説明するための図である。 第3実施形態による図14のテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置を説明するための図である。 第4実施形態による図14のテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置を説明するための図である。 第5実施形態による図14のテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置を説明するための図である。 第6実施形態による図14のテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置を説明するための図である。 第7実施形態による図14のテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置を説明するための図である。 第8実施形態による図14のテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置を説明するための図である。
以下、添付図面を参照して、発明を実施するための形態について詳細に説明する。
図1は本発明の一実施形態によるテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置を説明するための図である。
図1を参照すると、ベッセルビームを用いた高分解能検査装置100は、スキャナ110、テラヘルツ波光学ヘッド120、検査対象物130、テラヘルツ波集光ヘッド140、第1移送部150及び第2移送部160を含む。
スキャナ110は、検査対象物の形状をスキャンすることができる。
テラヘルツ波光学ヘッド120は、テラヘルツ波を生成し、生成されたテラヘルツ波を検査対象物130に照射することができる。
テラヘルツ波集光ヘッド140は、検査対象物130を透過したテラヘルツ波を検出することができる。
第1移送部150は、スキャナ110でスキャンされた検査対象物の形状に応じて、テラヘルツ波光学ヘッド120を移動させることができる。第1移送部150は、2次元平面及び2次元平面に垂直な方向にテラヘルツ波光学ヘッド120を移動させることができる。
例えば、第1移送部150は、テラヘルツ波光学ヘッド120で生成されたテラヘルツ波の焦点深度内に検査対象物130が置かれるように、スキャンされた検査対象物130の厚さに基づいてテラヘルツ波光学ヘッド120及び検査対象物130が所定の距離を維持するようにテラヘルツ波光学ヘッド120を移動させるようにしてもよい。
具体的には、検査対象物に厚さAの部分及び厚さBの部分があると仮定すると、第1移送部150は、厚さAの部分をスキャンする場合、光学ヘッド120を垂直方向にXだけ移動させる。また、第1移送部150は、厚さBの部分をスキャンする場合、光学ヘッド120を垂直方向にYだけ移動させる。
よって、第1移送部150は、光学ヘッド120をできるだけ検査対象物130の外形に沿って移動させることにより、ベッセルビームの焦点深度内に検査対象物を位置させ、鮮明な透過画像を取得することができる。
第2移送部160は、第1移送部150に同期化され、テラヘルツ波集光ヘッド140をテラヘルツ波光学ヘッド120と同様に移動させることができる。よって、第1移送部150及び第2移送部160は、テラヘルツ波光学ヘッド120及びテラヘルツ波集光ヘッド140が一直線上に配置されるようにすることができる。
図2は図1のテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置を具体的に説明するための図である。
図2を参照すると、ベッセルビームを用いた高分解能検査装置100は、スキャナ110、テラヘルツ波光学ヘッド120、検査対象物130、テラヘルツ波集光ヘッド140、第1移送部150及び第2移送部160を含む。
スキャナ110は、検査対象物の形状をスキャンすることができる。スキャナ110は、別体のフレームに配置されてもよく、テラヘルツ波光学ヘッド120の前側に一体に配置されてもよい。
テラヘルツ波光学ヘッド120は、テラヘルツ波を生成し、生成されたテラヘルツ波を検査対象物130に照射することができる。
第1移送部150は、テラヘルツ波光学ヘッド120に機械的に結合されてもよい。第1移送部150は、スキャナ110でスキャンされた検査対象物の形状に応じて、テラヘルツ波光学ヘッド120を移動させることができる。第1移送部150は、2次元平面及び2次元平面に垂直な方向にテラヘルツ波光学ヘッド120を移動させることができる。
検査対象物130は、コンベアベルト上に載置され、スキャナ110からテラヘルツ波光学ヘッド120の方向に移動するようにしてもよい。検査対象物130は、本実施形態のようにコンベアベルトなどにより移動するようにしてもよいが、特定の位置に固定配置されるようにしてもよい。
テラヘルツ波集光ヘッド140は、検査対象物130を透過したテラヘルツ波を検出することができる。
第2移送部160は、第1移送部150に同期化され、テラヘルツ波集光ヘッド140をテラヘルツ波光学ヘッド120と同様に移動させることができる。
よって、第1移送部150及び第2移送部160は、テラヘルツ波光学ヘッド120及びテラヘルツ波集光ヘッド140が一直線上に配置されるようにすることができる。
本実施形態はテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置の形状の理解を助けるための構造物にすぎず、テラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置はその他の様々な形態の構造物で実現することができる。
図3は本発明の他の実施形態によるテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置を説明するための図である。
図3を参照すると、ベッセルビームを用いた高分解能検査装置は、テラヘルツ波光学ヘッド120、検査対象物130、テラヘルツ波集光ヘッド140、第1移送部150、第2移送部160、急冷装置300及び解凍装置320を含む。
テラヘルツ波光学ヘッド120、検査対象物130、テラヘルツ波集光ヘッド140、第1移送部150及び第2移送部160については、図1の構成と同様であるので説明を省略する。
テラヘルツ波光学ヘッド120及びテラヘルツ波集光ヘッド140は、急冷装置300の両側面に離隔して配置されてもよい。
急冷装置300は、検査対象物130を低温状態に維持することができる。例えば、急冷装置300は、検査対象物130を冷却して固体状態にするようにしてもよい。検査対象物130が低温状態又は固体状態に維持されるので、テラヘルツ波が検査対象物130に吸収される割合を減少させることができる。
急冷装置300は、生成されたテラヘルツ波が透過するウィンドウ310を含むハウジングから構成されてもよい。検査対象物130は、急冷装置300のハウジングの内部を通過するようにしてもよい。例えば、ウィンドウ310は、断熱効果が高く、かつテラヘルツ波が通過しやすい断熱材発砲フォームで構成されてもよい。
解凍装置320は、急冷装置300の後段に配置され、急冷された検査対象物130を解凍することができる。
本実施形態における急冷装置300の構造物は説明のための一実施形態にすぎないものであり、急冷装置300は様々な形態の構造物で実現することができる。
検査対象物130を急冷してテラヘルツ波が透過しやすくすることにより、テラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置は、水分を含む検査対象物も高分解能で検査することができる。
図4は本発明のさらに他の実施形態によるテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置を説明するための図である。
図4を参照すると、ベッセルビームを用いた高分解能検査装置400は、テラヘルツ波光学ヘッド410、検査対象物420及びテラヘルツ波集光ヘッド430を含んでもよい。図4には図示していないが、本実施形態においても、図1のスキャナ110、第1移送部150及び第2移送部160がさらに構成されてもよい。
テラヘルツ波光学ヘッド410は、テラヘルツ波生成部411、角度変更部412及びベッセルビーム形成部413を含んでもよい。本実施形態においては、テラヘルツ波光学ヘッド410がテラヘルツ波生成部411、角度変更部412及びベッセルビーム形成部413を全て含む場合を説明するが、テラヘルツ波光学ヘッド410は、テラヘルツ波生成部411、角度変更部412及びベッセルビーム形成部413の一部のみを含むように実現してもよい。
ベッセルビームとは、マクスウェルの方程式の1つの解集合であって0次第1種ベッセル関数として与えられる自由空間における電磁波をいい、非回折ビームとして知られている。1987年にDurninにより初めて紹介されており、軸対称であると共にまるで針状のように軸を中心に所定の長さだけエネルギーが集中している。無限の口径(aperture)ではなく制限された口径を有する光学系により実現されるため、無限に進むベッセルビームは存在しないので、通常それをQuasi−Bessel Beam(QBB)ともいう。このようなQBBは、ホログラム、複数のリング又は有限の開口(aperture)からなる円形のマスクとレンズの組み合わせ、アキシコンとして知られている円錐状レンズで形成することができる。
テラヘルツ波生成部110は、テラヘルツ波を発生することができる。テラヘルツ波とは、テラヘルツ(terahertz)領域の電磁波を意味し、0.1THz〜10THzの振動数を有することが好ましい。ただし、上記範囲から多少外れても、本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に想到できる範囲であれば、本発明におけるテラ波として認められることは言うまでもない。
角度変更部120は、テラヘルツ波生成部411から入射するテラヘルツ波の角度が小さくなるように変更してベッセルビーム形成部413に入射させることができる。例えば、角度変更部412は、入射したテラヘルツ波を光軸に対して所定角度以下に小さくなるように変更するか又は平行にすることができる。角度変更部412は、入射したテラヘルツ波を平行に屈折させる凸レンズ、又は入射したテラヘルツ波を平行に反射させる放物面鏡などであってもよい。
ベッセルビーム形成部413は、角度変更部412から入射するテラヘルツ波を用いて検査対象物の少なくとも一部分にテラヘルツ波ベッセルビームが形成されるようにすることができる。
角度変更部412が備えられていない場合、ベッセルビーム形成部413は、テラヘルツ波生成部411から入射するテラヘルツ波を用いて検査対象物の少なくとも一部分にテラヘルツ波ベッセルビームが形成されるようにすることができる。
ベッセルビーム形成部413は現実的に理想的なベッセルビームを形成することが困難であるので、ベッセルビーム形成部413により形成されるベッセルビームはQuasi−Bessel Beam(QBB)といえる。このようなベッセルビーム形成部413によりベッセルビームを形成する構成については、図2を参照して、より詳細に説明する。
ベッセルビーム形成部413は、角度変更部412により角度が変更されたテラヘルツ波がベッセルビーム形成部413の入光面に対して垂直に入射するように配置されてもよい。
ベッセルビーム形成部413は、複数の円形溝又は円形孔が形成された回折光学素子及び正の屈折率を有するレンズから構成するか、アキシコンレンズから構成するか、ホログラム光学素子から構成するなど、様々な形態で構成することができる。
ベッセルビーム形成部413は、検査対象物にフォーカシングされたテラヘルツ波ベッセルビームの直径がテラヘルツ波生成部で生成されたテラヘルツ波の波長より小さく形成される頂角を有する第1アキシコンレンズであってもよい。本実施形態においては、波長以下のテラヘルツ波ベッセルビームの直径を形成する頂角を最大頂角と定義する。
この場合、第1アキシコンレンズの頂角(τ)の最大値は、検査対象物にフォーカシングされたテラヘルツ波ベッセルビームの半値幅(Full Width at Half Maximum)の直径(ρFWHM)、波長(λ)及び屈折率(n,n)を用いて下数学式の方程式により計算することができる。
ここで、J(z)は0次第1種ベッセル関数であり、J (z)=0.5を満たすためには、J(z)=1/√2でなければならず、この値を満たすz=1.1264である。よって、1.1264=kρFWHM sinα式から上記数式1を導出することができる。J (z)=0.5において値0.5は変更することができる。
ここで、J:0次ベッセル関数
ρFWHM:フォーカシングされたテラヘルツ波ベッセルビームの半値幅
λ:テラヘルツ波の波長
α:アキシコンレンズを通って交差するテラヘルツ波の交差角の半値
n:第1アキシコンレンズの屈折率
:周辺環境の平均屈折率
τ:第1アキシコンレンズの頂角
数式4は数式1、数式2及び数式3を用いて導出された数式である。
それに対して、第1アキシコンレンズの頂角の最小値は、第1アキシコンの屈折率による全反射が発生しない第1アキシコンレンズの頂角であり得る。
よって、テラヘルツ波ベッセルビームの直径がテラヘルツ波生成部で生成されたテラヘルツ波の波長より小さく形成される第1アキシコンレンズの頂角は、上記で得られた最大値と最小値の間で形成されるようにしてもよい。
検査対象物420とは、検査を行う対象物を意味し、テラヘルツ波光学ヘッド410とテラヘルツ波集光ヘッド430との間に配置されてもよい。
テラヘルツ波集光ヘッド430は、第1レンズ431、第2レンズ432及び検出部433を含む。本実施形態においては、テラヘルツ波集光ヘッド430が第1レンズ431、第2レンズ432及び検出部433を全て含む場合を説明するが、テラヘルツ波集光ヘッド430は、第1レンズ431、第2レンズ432及び検出部433の一部のみを含むように実現してもよい。
第1レンズ431は、ベッセルビーム形成部413で生成されたテラヘルツ波ベッセルビームが検査対象物420を透過して発散するテラヘルツ波の角度が小さくなるように変更することができる。例えば、第1レンズ431は、テラヘルツ波の角度を光軸に対して所定角度以下に変更するか又は平行にすることができる。
第2レンズ432は、第1レンズ431を通過したテラヘルツ波を検出部433に集光することができる。
本発明において、高分解能テラヘルツ波集光モジュールとは、第1レンズ431及び第2レンズ432を含む装置を意味する。例えば、テラヘルツ波はベッセルビーム形成部413から遠ざかるにつれてリング状の円形ビームの形態で広がるが、高分解能テラヘルツ波集光モジュール(第1レンズ及び第2レンズ)は、このように円状に広がるテラヘルツ波を集光し、集光されたテラヘルツ波が検出部433に向かうようにする。
例えば、高分解能テラヘルツ波集光モジュールは、凸レンズ、凹面鏡、放物面鏡、楕円面鏡などのように、様々な形態の構成で実現することができる。
検出部433は、第2レンズにより集光されたテラヘルツ波を検出することができる。例えば、検出部433は、テラヘルツ波の強度を検出するようにしてもよい。例えば、検出部433は、ショットキダイオード(Schottky Diode)を備えるように実現してもよい。
画像生成部(図示せず)は、検出部433により検出されたベッセルビームを用いて画像を生成することができる。生成された画像は、ディスプレイ部(図示せず)に表示されるようにしてもよい。
ベッセルビームを用いた高分解能検査装置は、検査対象物を透過したテラヘルツ波をほとんど損失なく集光することができるので、集光効率を高めることができる。
また、ベッセルビームを用いた高分解能検査装置は、検出部に到達するテラヘルツ波の直径をテラヘルツ波の波長以下にすることにより、分解能を向上させて鮮明な画像を取得することができる。
図5は本発明の一実施形態によるベッセルビーム形成部を説明するための図である。
図5を参照すると、ベッセルビーム形成部は、アキシコンレンズ(axicon)500で構成されてもよい。Rはアキシコンレンズの半径を示し、τはアキシコンレンズの頂角を示し、αはアキシコンレンズを通って交差するビームの交差角の半分を示し、wはアキシコンレンズに入射する平行光の半径を示す。また、ベッセルビームが形成される区間は図5においてZmaxで示し、アキシコンレンズに入射したテラ波は当該区間領域で補強干渉によりz軸に沿って中心部にエネルギーが集まる。
ここで、アキシコンレンズに入射するガウスビームとアキシコンレンズにより形成されるベッセルビームは、軸対称(axial symmetry)に分布し、z軸に沿って円形状にフィールドが分布している。すなわち、図5において左から右方向に見たとき、アキシコンレンズの前方のガウスビームとアキシコンレンズの後方のベッセルビームはどちらも円形状に形成される。特に、アキシコンレンズにより形成されるベッセルビームは、アキシコンレンズから遠ざかるにつれてリング状の円形ビームとして広がる。
一方、ラスタ走査(raster scanning)のように一点、一点を動いて得られる透過画像において、画像の分解能を決定する最も重要な要素は、被検物1に入射するビームの直径である。
特に、アキシコンレンズにより形成されるベッセルビームの場合、その直径はテラ波の波長及びαにより決定されるが、ここでαはスネルの法則により下記数式1を用いて求めることができる。
ここで、nは空気中の屈折率を示し、nはアキシコンレンズの屈折率を示し、τはアキシコンレンズの頂角を示す。
一方、Zmaxは焦点深度を示すが、焦点深度は下記数式6で表される。
ここで、wは、図5に示すように、アキシコンレンズに入射するビームの半径を示す。当該数式を参照すると、焦点深度もαに依存することが分かる。
よって、このような点をまとめると、画像の分解能と焦点深度は主にαの値によって大きく変化するといえる。
このような点に基づいて、図5に示す構造のアキシコンレンズにおいて、nは1.0、nは1.54(High Density Polyethylene)、τは150゜、Rは25mmであると仮定し、αと焦点深度を計算すると次の通りである。
まず、数式5を用いてαを計算すると、αは8.5゜になる。また、数式6を用いて焦点深度(Zmax)を計算すると、Zmaxは40.2mmになる。
ベッセルビーム形成部は、複数の円形溝又は円形孔が同心円状に配置された回折光学素子及び正の屈折率を有するレンズを備えてもよい。ここで、回折光学素子に形成された円形溝又は円形孔は、回折光学素子に凹状に窪んだ形状又は回折光学素子を貫通する形状に形成されてもよい。また、このような正の屈折率を有するレンズは、回折光学素子に対して平行光が入射する方向の反対側に配置される。
本実施形態以外にも、ベッセルビーム形成部は、ホログラム構造体などの様々な形態で構成することができる。
図6は数式4を用いて異なる頂角にフォーカシングされたテラヘルツ波ビームの直径を計算した図である。
図6を参照すると、テラヘルツ波の波長(λ)が2.14mmであり、第1アキシコンレンズの屈折率(n)が1.54であり、周辺環境の平均屈折率(n)が1である場合、第1アキシコンレンズの頂角(τ)の最大値は約119度であり、第1アキシコンレンズの頂角(τ)の最小値は約99度であることを確認することができる。
図7及び図8は単一レンズを用いて集光する検査装置を説明するための図である。
図7及び図8を参照すると、検査装置700は、テラヘルツ波生成部710、角度変更部720、ベッセルビーム形成部730、集光部740及び検出部750を含む。
テラヘルツ波生成部710は、テラヘルツ波を発生することができる。
角度変更部720は、テラヘルツ波生成部710から入射するテラヘルツ波の角度が小さくなるように変更してベッセルビーム形成部730に入射させることができる。
ベッセルビーム形成部730は、角度変更部720から入射するテラヘルツ波を用いて検査対象物の少なくとも一部分にテラヘルツ波ベッセルビームが形成されるようにすることができる。例えば、ベッセルビーム形成部はアキシコンであってもよい。検査対象物は、ベッセルビーム形成部730と集光部740との間に形成されてもよい。
集光部740は、単一レンズで実現してもよい。
検出部750は、集光部740により集光されたテラヘルツ波を検出することができる。
図7を参照すると、ベッセルビーム形成部730であるアキシコンの頂角が140度である場合、検査対象物を透過して検出部750に入射するテラヘルツ波の半径が約5.1mmであるので、検出部750でのテラヘルツ波の直径は約10.2mmである。
この場合、単一レンズを用いる集光部740から入射するテラヘルツ波のほとんどが約9mmの直径を有し、ホーン(Horn)を有する検出部750に集光される。
図8を参照すると、検査対象物にフォーカシングされたテラヘルツ波ベッセルビームの直径をテラヘルツ波の波長以下にするためには、アキシコンの頂角を小さくしなければならない。すなわち、高分解能を実現するためにはアキシコンの頂角が小さくなければならない。よって、図7におけるアキシコンの頂角より小さい110度に形成した。
ベッセルビーム形成部730であるアキシコンの頂角が110度である場合、検査対象物を透過して検出部750に入射するテラヘルツ波の半径が約17mmであるので、検出部750でのテラヘルツ波の直径は約34mmである。
このように検出部750に入射するテラヘルツ波の直径が大きくなるにつれて、単一レンズを用いる集光部740から入射するテラヘルツ波の一部のみ検出部750に集光される。すなわち、集光部740から入射するテラヘルツ波の多くの部分が検出部750に入射しないので、検出部750の検出性能が著しく低下する。
図9は第1実施形態による図4のテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置を説明するための図である。
図9を参照すると、高分解能検査装置900は、テラヘルツ波生成部910、角度変更部920、ベッセルビーム形成部930、第1レンズ940、第2レンズ950及び検出部960を含む。
テラヘルツ波生成部910は、テラヘルツ波を発生することができる。
角度変更部920は、テラヘルツ波生成部910から入射するテラヘルツ波の角度が小さくなるように変更してベッセルビーム形成部930に入射させることができる。
ベッセルビーム形成部930は、角度変更部920から入射するテラヘルツ波を用いて検査対象物の少なくとも一部分にテラヘルツ波ベッセルビームが形成されるようにすることができる。例えば、ベッセルビーム形成部はアキシコンであってもよい。
検査対象物は、ベッセルビーム形成部930と第1レンズ940との間に形成されてもよい。
ベッセルビーム形成部930は、テラヘルツ波ベッセルビームの直径がテラヘルツ波生成部で生成されたテラヘルツ波の波長より小さく形成される頂角を有する第1アキシコンレンズであってもよい。
第1アキシコンレンズの頂角の最大値は、数式1〜3に基づいて演算することができる。例えば、テラヘルツ波の波長(λ)が2.14mmであり、第1アキシコンレンズの屈折率(n)が1.54であり、周辺環境の平均屈折率(n)が1である場合、第1アキシコンレンズの頂角(τ)は約119度である。よって、第1アキシコンレンズの頂角の最大値は約119度である。
それに対して、第1アキシコンレンズの最小値は、第1アキシコンの屈折率による全反射が発生しない第1アキシコンレンズの頂角であり得る。本実施形態における屈折率においては、全反射による臨界角度が99度である。よって、第1アキシコンレンズの頂角の最小値は約99度である。
つまり、第1アキシコンレンズの頂角が最大値119度と最小値99度の間に形成されると、テラヘルツ波ベッセルビームの直径がテラヘルツ波生成部で生成されたテラヘルツ波の波長より小さく形成される。
第1レンズ940は、ベッセルビーム形成部930で生成されたテラヘルツ波ベッセルビームが検査対象物を透過して発散するテラヘルツ波の角度が小さくなるように変更することができる。
第1レンズ940は、検査対象物を中心に第1アキシコンレンズ930に対称となるように配置される第2アキシコンレンズであってもよい。
第2アキシコンレンズ950は、第1アキシコンレンズ930と同じ大きさの頂角を有するようにしてもよい。この場合、第2アキシコンレンズの大きさは、第1アキシコンレンズ930の大きさより小さくても、同じでも、大きくてもよい。第2アキシコンレンズの頂角が第1アキシコンレンズ930と同じ場合、テラヘルツ波が検出部950に集光される効率が最もよい。
もし、角度変更部920が第1凸レンズの場合、第2レンズ950は、検査対象物を中心に第1凸レンズに対称となるように配置される第2凸レンズであってもよい。
テラヘルツ波の波長(λ)が2.14mmであり、ベッセルビーム形成部930の第1アキシコンレンズが110度である場合、検出部960でのテラヘルツ波の半径が0.006mmであるので、テラヘルツ波の直径は0.012mmである。
第1レンズ940及び第2レンズ950を用いてテラヘルツ波を集光することにより、検出部960に集光されるテラヘルツ波の直径が図8における検出部950に集光されるテラヘルツ波の直径より著しく小さいので、集光効率を高めることができる。
よって、第1レンズ940及び第2レンズ950を用いてテラヘルツ波を集光すると、第1アキシコンレンズの頂角が小さい場合も、高い集光効率を有し、分解能を著しく向上させることができ、高解像度の検査画像を取得することができる。
図10は第2実施形態による図4の高分解能検査装置を説明するための図である。
図10を参照すると、高分解能検査装置1000は、テラヘルツ波生成部1010、角度変更部1020、ベッセルビーム形成部1030、検査対象物1040、第1レンズ1050、第2レンズ1060及び検出部1070を含む。
テラヘルツ波生成部1010は、テラヘルツ波を発生することができる。
角度変更部1020は、テラヘルツ波生成部1010から入射するテラヘルツ波の角度が小さくなるように変更してベッセルビーム形成部1030に入射させることができる。
ベッセルビーム形成部1030は、角度変更部1020から入射するテラヘルツ波を用いて検査対象物の少なくとも一部分にテラヘルツ波ベッセルビームが形成されるようにすることができる。例えば、ベッセルビーム形成部はアキシコンであってもよい。
検査対象物は、ベッセルビーム形成部1030と集光部1040との間に形成されてもよい。
ベッセルビーム形成部1030は、テラヘルツ波ベッセルビームの直径がテラヘルツ波生成部で生成されたテラヘルツ波の波長より小さく形成される頂角を有する第1アキシコンレンズであってもよい。
第1レンズ1040は、テラヘルツ波ベッセルビームが検査対象物を透過して発散するテラヘルツ波の角度が小さくなるように変更する第3凸レンズであってもよい。
第2レンズ1050は、光軸に垂直な軸を中心に第3凸レンズに対称となるように配置される第4凸レンズであってもよい。
テラヘルツ波の波長(λ)が2.14mmである場合、検査対象物を透過して検出部1070に入射するテラヘルツ波の半径が約2.5mmであるので、検出部でのテラヘルツ波の直径は約5mmである。
第1レンズ1040及び第2レンズ1050を用いてテラヘルツ波を集光することにより、図8における検出部350に集光されるテラヘルツ波の直径より著しく小さいので、集光効率を高めることができる。よって、本実施形態による高分解能検査装置は、第1アキシコンレンズの頂角が小さい場合も、高い集光効率を有し、分解能を著しく向上させることができ、高解像度の検査画像を取得することができる。
図11は第3実施形態による図4の高分解能検査装置を説明するための図である。
図11を参照すると、高分解能検査装置1100は、テラヘルツ波生成部1110、角度変更部1120、ベッセルビーム形成部1130、検査対象物1140、第1レンズ1150、第2レンズ1160及び検出部1170を含む。
テラヘルツ波生成部1110は、テラヘルツ波を発生することができる。
角度変更部1120は、テラヘルツ波生成部1110から入射するテラヘルツ波の角度が小さくなるように変更してベッセルビーム形成部1130に入射させることができる。
ベッセルビーム形成部1130は、角度変更部1120から入射するテラヘルツ波を用いて検査対象物の少なくとも一部分にテラヘルツ波ベッセルビームが形成されるようにすることができる。例えば、ベッセルビーム形成部はアキシコンであってもよい。
検査対象物は、ベッセルビーム形成部1130と集光部1140との間に形成されてもよい。
ベッセルビーム形成部1130は、テラヘルツ波ベッセルビームの直径がテラヘルツ波生成部で生成されたテラヘルツ波の波長より小さく形成される頂角を有する第1アキシコンレンズであってもよい。
第1レンズ1140は、検査対象物を中心に第1アキシコンレンズ1130に対称となるように配置される第2アキシコンレンズであってもよい。
第2アキシコンレンズは、第1アキシコンレンズ1130と同じ大きさの頂角を有するようにしてもよい。
第2レンズ1150は、第2アキシコンレンズ1140と同じ形状を有し、光軸に垂直な軸を中心に第2アキシコンレンズ1140に対称となるように配置されるようにしてもよい。
テラヘルツ波の波長(λ)が2.14mmである場合、検査対象物を透過して検出部1160に入射するテラヘルツ波の半径が約1.7mmであるので、検出部1160でのテラヘルツ波の直径は約3.4mmである。
第1レンズ1140及び第2レンズ1150を用いてテラヘルツ波を集光することにより、図8における検出部350に集光されるテラヘルツ波の直径より著しく小さいので、集光効率を高めることができる。よって、本実施形態による高分解能検査装置は、第1アキシコンレンズの頂角が小さい場合も、高い集光効率を有し、分解能を著しく向上させることができ、高解像度の検査画像を取得することができる。
図12及び図13は図8〜図11の装置を用いて検査対象物を測定した透過画像である。
具体的には、図12は図8で説明した装置を用いて検査対象物を測定したものであり、図13は図8〜図11で説明した装置を用いて検査対象物を測定したものである。
図12を参照すると、単一レンズのみで集光して取得された透過画像であって、検査対象物を全く識別できないことを確認することができる。
それに対して、図13を参照すると、図8〜図11のレンズ構成で集光して取得された透過画像であって、検査対象物を鮮明に識別できることを確認することができる。
このように、本発明によるベッセルビームを用いた高分解能検査装置を用いると、高分解能の画像を取得することができる。
図14は本発明のさらに他の実施形態によるテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置を説明するための図である。
図14を参照すると、ベッセルビームを用いた高分解能検査装置1400は、テラヘルツ波光学ヘッド1410、検査対象物1420及びテラヘルツ波集光ヘッド1430を含んでもよい。図14には図示していないが、本実施形態においても、図1のスキャナ110、第1移送部150及び第2移送部160がさらに構成されてもよい。
テラヘルツ波光学ヘッド1410は、テラヘルツ波生成部1411、角度変更部1412、ベッセルビーム形成部1413及びリングビーム形成部1414を含んでもよい。本実施形態においては、テラヘルツ波光学ヘッド1410が角度変更部1412、ベッセルビーム形成部1413及びリングビーム形成部1414を全て含む場合を説明するが、テラヘルツ波光学ヘッド1410は、角度変更部1412、ベッセルビーム形成部1413及びリングビーム形成部1414の一部のみを含むように実現してもよい。
テラヘルツ波生成部1411は、テラヘルツ波を発生することができる。
角度変更部1412は、テラヘルツ波生成部1411から入射するテラヘルツ波の角度が小さくなるように変更してベッセルビーム形成部1413に入射させることができる。例えば、角度変更部1412は、入射したテラヘルツ波を光軸に対して所定角度以下に小さくなるように変更するか又は平行にすることができる。角度変更部1412は、入射したテラヘルツ波を平行に屈折させる凸レンズ、又は入射したテラヘルツ波を平行に反射させる放物面鏡などであってもよい。
ベッセルビーム形成部1413は、角度変更部1412から入射するテラヘルツ波を用いてテラヘルツ波ベッセルビームを生成することができる。
角度変更部1412が備えられていない場合、ベッセルビーム形成部1413は、テラヘルツ波生成部1411から入射するテラヘルツ波を用いてテラヘルツ波ベッセルビームを形成することができる。
ベッセルビーム形成部1413は現実的に理想的なベッセルビームを形成することが困難であるので、ベッセルビーム形成部1413により形成されるベッセルビームはQuasi−Bessel Beam(QBB)といえる。このようなベッセルビーム形成部1413によりベッセルビームを形成する構成については、図5で詳細に説明した。
ベッセルビーム形成部1413は、角度変更部1412により角度が変更されたテラヘルツ波がベッセルビーム形成部1413の入光面に対して垂直に入射するように配置されてもよい。
ベッセルビーム形成部1413は、検査対象物にフォーカシングされたテラヘルツ波ベッセルビームの直径がテラヘルツ波生成部で生成されたテラヘルツ波の波長より小さく形成される頂角を有する第4アキシコンレンズであってもよい。本実施形態においては、波長以下のテラヘルツ波ベッセルビームの直径を形成する頂角を最大頂角と定義する。
この場合、第4アキシコンレンズの頂角(τ)の最大値は、検査対象物にフォーカシングされたテラヘルツ波ベッセルビームの半値幅(Full Width at Half Maximum)の直径(ρFWHM)、波長(λ)及び屈折率(n,n)を用いて下数学式の方程式により計算することができる。その詳細については、図4で説明したので以下では省略する。
リングビーム形成部1414は、テラヘルツ波ベッセルビームを用いてリング(ring)ビームを形成し、形成されたリング(ring)ビームを検査対象物1420に集光することができる。
例えば、リングビーム形成部1420は、ベッセルビーム形成部1413を介してフォーカシングされて発散するテラヘルツ波ベッセルビームを再びリング状の円形ビームの形態で検査対象物に集光することができる。
例えば、リングビーム形成部1420は、リング(ring)ビームを形成し、前記形成されたリング(ring)ビームを検査対象物に集光する第3レンズであってもよい。
リングビーム形成部1420については、図15〜図23で具体的に説明する。
検査対象物1420とは、検査を行う対象物を意味し、テラヘルツ波光学ヘッド1410とテラヘルツ波集光ヘッド1430との間に配置されてもよい。
テラヘルツ波集光ヘッド1430は、リングビーム検出部1431及び散乱光検出部1432を含んでもよい。図示していないが、本実施形態においては、図4〜図11で説明した第1レンズ及び第2レンズ(「集光部」)を、検査対象物1420とテラヘルツ波集光ヘッド1430との間にさらに含んでもよい。よって、第1レンズ及び第2レンズは、検査対象物1420を透過したリングビームをリングビーム検出部1431に集光することにより、検査装置の分解能を向上させることができる。
リングビーム検出部1431は、検査対象物1420を透過したリングビームを検出することができる。
散乱光検出部1432は、検査対象物1420から生成された散乱光を検出することができる。例えば、散乱光検出部1432は、検査対象物1420から反射する散乱光を検出する反射散乱光検出部、又は検査対象物1420から透過する散乱光を検出する透過散乱光検出部を含んでもよい。
画像生成部(図示せず)は、リングビーム検出部1431及び散乱光検出部1432により検出されたベッセルビームを用いて画像を生成することができる。生成された画像は、ディスプレイ部(図示せず)に表示されるようにしてもよい。
ベッセルビームを用いた高分解能検査装置は、テラヘルツ波の損失なくリングビームを形成し、透明な検査対象物に対するコントラスト(contrast)を向上させることができる。
また、ベッセルビームを用いた高分解能検査装置は、検査対象物から生成される散乱光を検出することにより、透明な検査対象物に対するコントラスト(contrast)を向上させることができる。
さらに、ベッセルビームを用いた高分解能検査装置は、散乱光検出部が生成されたリングビームの内部に配置されるようにすることにより、散乱光検出部の追加による別途の空間が必要なくなり、小型化が可能である。
ベッセルビームを用いた高分解能検査装置は、高分解能を実現するためにベッセルビーム形成部のアキシコンの頂角を小さくしても、リングビーム形成部のレンズを2つ用いることにより、生成されるリングビームの直径を小さくし、高分解能の画像を取得することができる。
図15は第1実施形態による図14のテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置を説明するための図である。
図15を参照すると、ベッセルビームを用いた高分解能検査装置1500は、テラヘルツ波生成部1510、角度変更部1520、ベッセルビーム形成部1530、リングビーム形成部1540、検査対象物1550、リングビーム検出部1560、透過散乱光検出部1570及び反射散乱光検出部1571を含む。
テラヘルツ波生成部1510は、テラヘルツ波を発生することができる。
角度変更部1520は、テラヘルツ波生成部1510から入射するテラヘルツ波の角度が小さくなるように変更してベッセルビーム形成部1530に入射させることができる。
ベッセルビーム形成部1530は、角度変更部1520から入射するテラヘルツ波を用いてテラヘルツ波ベッセルビームを形成することができる。例えば、ベッセルビーム形成部はアキシコンであってもよい。
リングビーム形成部1540は、ベッセルビーム形成部1530から入射したテラヘルツ波ベッセルビームを用いてリング(ring)ビームを形成し、形成されたリング(ring)ビームを検査対象物1550に集光する第3レンズであってもよい。
リングビーム検出部1560は、検査対象物1550を透過したリングビームを検出することができる。
透過散乱光検出部1570は、検査対象物1550から透過する散乱光を検出することができる。例えば、透過散乱光検出部1570は、第3レンズから入射するリングビームの内部に配置されるようにしてもよい。このように、透過散乱光検出部1570をリングビームの内部に配置することにより、透過散乱光検出部1570をさらに備えても装置全体の大きさに変化がないという利点がある。
反射散乱光検出部1571は、リングビーム形成部である第3レンズ1540から出射されるリングビームの内部に配置され、第3レンズ1540内に備えられるようにしてもよい。
図16は図15のリングビーム形成部1540を具体化した図である。
図16を参照すると、リングビーム形成部1540は、反射散乱光検出部1571を収容する部材を含んでもよい。例えば、リングビーム形成部1540は孔(hole)1600を備え、反射散乱光検出部1571は孔1600の内部に配置されるようにしてもよい。例えば、反射散乱光検出部1571は、リングビーム形成部1640の内部に配置され、第3レンズ1540から出射されるリングビームの内部に配置されるようにしてもよい。このように、反射散乱光検出部1571をリングビーム形成部1540の内部に配置することにより、反射散乱光検出部1571をさらに備えても装置全体の大きさに変化がないという利点がある。
ベッセルビームを用いた高分解能検査装置は、検査対象物から生成される散乱光を検出することにより、透明な検査対象物に対するコントラスト(contrast)を向上させることができる。
また、ベッセルビームを用いた高分解能検査装置は、散乱光検出部が生成されたリングビームの内部に配置されるようにすることにより、散乱光検出部の追加による別途の空間が必要なくなり、小型化が可能である。
図17は第2実施形態による図14のテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置を説明するための図である。
図17を参照すると、ベッセルビームを用いた高分解能検査装置1700は、テラヘルツ波生成部1710、角度変更部1720、ベッセルビーム形成部1730、リングビーム形成部1740、検査対象物1750、リングビーム検出部1760、経路変更部1770、透過散乱光検出部1780及び反射散乱光検出部1781を含む。
テラヘルツ波生成部1710、角度変更部1720、ベッセルビーム形成部1730、リングビーム形成部1740及び検査対象物1750については、既に説明したので以下では省略する。
リングビーム検出部1760は、検査対象物1750を透過したリングビームを検出することができる。
経路変更部1770は、検査対象物1750から反射する散乱光の経路を変更することができる。例えば、経路変更部1770は、検査対象物1750から反射する散乱光を反射散乱光検出部1781に入射させることができる。
経路変更部1770は、散乱光を反射散乱光検出部1781に入射させることのできる様々なタイプの装置であり得る。
リングビーム形成部1740は、経路変更部1770を収容する部材を含んでもよい。
透過散乱光検出部1780は、検査対象物1750から透過する散乱光を検出することができる。例えば、透過散乱光検出部1780は、第3レンズから入射するリングビームの内部に配置されるようにしてもよい。このように、透過散乱光検出部1780をリングビームの内部に配置することにより、透過散乱光検出部1780をさらに備えても装置全体の大きさに変化がないという利点がある。
反射散乱光検出部1781は、経路変更部1770から入射する散乱光を検出することができる。
ベッセルビームを用いた高分解能検査装置は、検査対象物から生成される散乱光を検出することにより、透明な検査対象物に対するコントラスト(contrast)を向上させることができる。
図18は第3実施形態による図14のテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置を説明するための図である。
図18を参照すると、ベッセルビームを用いた高分解能検査装置1800は、テラヘルツ波生成部1810、角度変更部1820、ベッセルビーム形成部1830、リングビーム形成部1840、1850、検査対象物1860、リングビーム検出部1870、透過散乱光検出部1880及び反射散乱光検出部1881を含む。
テラヘルツ波生成部1810、角度変更部1820、ベッセルビーム形成部1830、検査対象物1860、リングビーム検出部1870、透過散乱光検出部1880及び反射散乱光検出部1881については、図17で説明したので、本実施形態においては説明を省略する。
リングビーム形成部1840、1850は、前記ベッセルビーム形成部から入射するテラヘルツ波ベッセルビームの角度が小さくなるように変更して第3レンズ1850に入射させる第4レンズ1840、及び第4レンズ1840から入射したテラヘルツ波ベッセルビームを用いてリング(ring)ビームを形成し、形成されたリング(ring)ビームを検査対象物1860に集光する第1レンズ1850を含んでもよい。
ベッセルビーム形成部1830が第4アキシコンレンズである場合、第4レンズ1840は、光軸に垂直な線を中心に第4アキシコンレンズ1830に対称となるように配置される第5アキシコンレンズであってもよい。
第5アキシコンレンズ1840は、第4アキシコンレンズ1830と同じ大きさの頂角を有するようにしてもよい。この場合、第5アキシコンレンズの大きさは、第4アキシコンレンズ1830の大きさより小さくても、同じでも、大きくてもよい。
第3レンズ1850は、第5アキシコンレンズ1840と同じ形状を有し、光軸に垂直な軸を中心に第5アキシコンレンズ1840に対称となるように配置される第6アキシコンレンズであってもよい。
このように、リングビーム形成部を第4レンズ1840及び第3レンズ1850を用いて実現することにより、分解能を向上させるために第4アキシコンレンズの頂角を小さくした場合も、検査対象物に入射するリングビームの直径を小さくすることができる。よって、分解能を著しく向上させることができ、高解像度の反射及び透過検査画像を取得することができる。
図19は第4実施形態による図14のテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置を説明するための図である。
図19を参照すると、ベッセルビームを用いた高分解能検査装置1900は、テラヘルツ波生成部1910、角度変更部1920、ベッセルビーム形成部1930、リングビーム形成部1940、1950、検査対象物1960、リングビーム検出部1970、透過散乱光検出部1980及び反射散乱光検出部1981を含む。
テラヘルツ波生成部1910、角度変更部1920、ベッセルビーム形成部1930、検査対象物1960、リングビーム検出部1970、透過散乱光検出部1980及び反射散乱光検出部1981については、図17で説明したので、本実施形態においては説明を省略する。
角度変更部1920は、テラヘルツ波生成部1910から入射するテラヘルツ波の角度が小さくなるように変更する第5凸レンズであってもよい。
リングビーム形成部1940、1950は、ベッセルビーム形成部から入射するテラヘルツ波ベッセルビームの角度が小さくなるように変更して第3レンズに入射させる第4レンズ1940、及び第4レンズ1940から入射したテラヘルツ波ベッセルビームを用いてリング(ring)ビームを形成し、形成されたリング(ring)ビームを検査対象物1960に集光する第3レンズ1950を含んでもよい。
第4レンズ1940は、テラヘルツ波ベッセルビームが検査対象物を透過して発散するテラヘルツ波の角度が小さくなるように変更する第7凸レンズであってもよい。
第3レンズ1950は、光軸に垂直な軸を中心に角度変更部1920である第5凸レンズに対称となるように配置され、第4レンズ1940である第7凸レンズに対向して配置される第8凸レンズであってもよい。第7凸レンズと第8凸レンズとは、同じ形状/大きさを有するものであってもよい。
このように、リングビーム形成部を第2レンズ及び第1レンズを用いて実現することにより、分解能を向上させるために第4アキシコンレンズの頂角を小さくした場合も、検査対象物に入射するリングビームの直径を小さくすることができる。よって、分解能を著しく向上させることができ、高解像度の反射及び透過検査画像を取得することができる。
図20は第5実施形態による図14のテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置を説明するための図である。
図20を参照すると、ベッセルビームを用いた高分解能検査装置2000は、テラヘルツ波生成部2010、角度変更部2020、ベッセルビーム形成部2030、リングビーム形成部2040、2050、検査対象物2060、リングビーム検出部2070、透過散乱光検出部2080及び反射散乱光検出部2081を含む。
テラヘルツ波生成部2010、角度変更部2020、ベッセルビーム形成部2030、検査対象物2060、リングビーム検出部2070、透過散乱光検出部2080及び反射散乱光検出部2081については、図17で説明したので、本実施形態においては説明を省略する。
角度変更部2020は、テラヘルツ波生成部2010から入射するテラヘルツ波の角度が小さくなるように変更する第5凸レンズであってもよい。
リングビーム形成部2040、2050は、前記ベッセルビーム形成部から入射するテラヘルツ波ベッセルビームの角度が小さくなるように変更して第3レンズ2050に入射させる第4レンズ2040、及び第4レンズ2040から入射したテラヘルツ波ベッセルビームを用いてリング(ring)ビームを形成し、形成されたリング(ring)ビームを検査対象物2060に集光する第3レンズ2050を含んでもよい。
ベッセルビーム形成部2030が第4アキシコンレンズである場合、第4レンズ2040は、光軸に垂直な線を中心に第4アキシコンレンズ2030に対称となるように配置される第5アキシコンレンズであってもよい。
第3レンズ2050は、光軸に垂直な軸を中心に角度変更部2020である第4凸レンズに対称となるように配置される第6凸レンズであってもよい。
このように、リングビーム形成部を第2レンズ及び第1レンズを用いて実現することにより、分解能を向上させるために第4アキシコンレンズの頂角を小さくした場合も、検査対象物に入射するリングビームの直径を小さくすることができる。よって、分解能を著しく向上させることができ、高解像度の反射及び透過検査画像を取得することができる。
図21は第6実施形態による図14のテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置を説明するための図である。
図21を参照すると、ベッセルビームを用いた高分解能検査装置2100は、テラヘルツ波生成部2110、角度変更部2120、ベッセルビーム形成部2130、リングビーム形成部2140、2150、検査対象物2160、リングビーム検出部2170、経路変更部2180、透過散乱光検出部2190及び反射散乱光検出部2191を含む。
テラヘルツ波生成部2110、角度変更部2120、ベッセルビーム形成部2130、検査対象物2160、リングビーム検出部2170、経路変更部2180、透過散乱光検出部2190及び反射散乱光検出部2191については、図17で説明したので、本実施形態においては説明を省略する。
リングビーム形成部2140、2150は、前記ベッセルビーム形成部から入射するテラヘルツ波ベッセルビームの角度が小さくなるように変更して第3レンズ2150に入射させる第2レンズ2140、及び第4レンズ2140から入射したテラヘルツ波ベッセルビームを用いてリング(ring)ビームを形成し、形成されたリング(ring)ビームを検査対象物2160に集光する第3レンズ2150を含んでもよい。
ベッセルビーム形成部2130が第4アキシコンレンズである場合、第4レンズ2140は、光軸に垂直な線を中心に第4アキシコンレンズ2130に対称となるように配置される第5アキシコンレンズであってもよい。
第5アキシコンレンズ2140は、第4アキシコンレンズ2130と同じ大きさの頂角を有するようにしてもよい。この場合、第5アキシコンレンズの大きさは、第4アキシコンレンズ2130の大きさより小さくても、同じでも、大きくてもよい。第5アキシコンレンズの頂角が第4アキシコンレンズ2130と同じ場合、テラヘルツ波が検出部2170に集光される効率が最もよい。
第3レンズ2150は、第5アキシコンレンズ2140と同じ形状を有し、光軸に垂直な軸を中心に第5アキシコンレンズ2140に対称となるように配置される第5アキシコンレンズであってもよい。
図22は第7実施形態による図14のテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置を説明するための図である。
図22を参照すると、ベッセルビームを用いた高分解能検査装置2200は、テラヘルツ波生成部2210、角度変更部2220、ベッセルビーム形成部2230、リングビーム形成部2240、2250、検査対象物2260、リングビーム検出部2270、経路変更部2280、透過散乱光検出部2290及び反射散乱光検出部2291を含む。
テラヘルツ波生成部2210、角度変更部2220、ベッセルビーム形成部2230、検査対象物2260、リングビーム検出部2270、経路変更部2280、透過散乱光検出部2290及び反射散乱光検出部2291については、図17で説明したので、本実施形態においては説明を省略する。
角度変更部2220は、テラヘルツ波生成部2210から入射するテラヘルツ波の角度が小さくなるように変更する第5凸レンズであってもよい。
リングビーム形成部2240、2250は、ベッセルビーム形成部から入射するテラヘルツ波ベッセルビームの角度が小さくなるように変更して第3レンズ2250に入射させる第4レンズ2240、及び第4レンズ2240から入射したテラヘルツ波ベッセルビームを用いてリング(ring)ビームを形成し、形成されたリング(ring)ビームを検査対象物2260に集光する第3レンズ2250を含んでもよい。
第3レンズ2240は、テラヘルツ波ベッセルビームが検査対象物を透過して発散するテラヘルツ波の角度が小さくなるように変更する第7凸レンズであってもよい。
第3レンズ2250は、光軸に垂直な軸を中心に角度変更部2220である第5凸レンズに対称となるように配置され、第4レンズ2240である第7凸レンズに対向して配置される第8凸レンズであってもよい。
図23は第8実施形態による図14のテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置を説明するための図である。
図23を参照すると、ベッセルビームを用いた高分解能検査装置2300は、テラヘルツ波生成部2310、角度変更部2320、ベッセルビーム形成部2330、リングビーム形成部2340、2350、検査対象物2360、リングビーム検出部2370、経路変更部2380、透過散乱光検出部2390及び反射散乱光検出部2391を含む。
テラヘルツ波生成部2310、角度変更部2320、ベッセルビーム形成部2330、リングビーム形成部2340、2350、検査対象物2360、リングビーム検出部2370、経路変更部2380、透過散乱光検出部2390及び反射散乱光検出部2391については、図17で説明したので、本実施形態においては説明を省略する。
角度変更部2320は、テラヘルツ波生成部2310から入射するテラヘルツ波の角度が小さくなるように変更する第4凸レンズであってもよい。
リングビーム形成部2340、2350は、ベッセルビーム形成部から入射するテラヘルツ波ベッセルビームの角度が小さくなるように変更して第3レンズ2350に入射させる第4レンズ2340、及び第4レンズ2340から入射したテラヘルツ波ベッセルビームを用いてリング(ring)ビームを形成し、形成されたリング(ring)ビームを検査対象物2360に集光する第3レンズ2350を含んでもよい。
ベッセルビーム形成部2330が第4アキシコンレンズである場合、第4レンズ2340は、光軸に垂直な線を中心に第4アキシコンレンズ2330に対称となるように配置される第5アキシコンレンズであってもよい。
第3レンズ2350は、光軸に垂直な軸を中心に角度変更部2320である第5凸レンズに対称となるように配置される第6凸レンズであってもよい。
前述した実施形態は、様々な変形が行われるように、各実施形態の全部又は一部を選択的に組み合わせて構成してもよい。
また、実施形態はその説明のためのものであり、その制限のためのものではないことに注意すべきである。さらに、本発明の技術分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術思想の範囲で様々な実施形態が可能であることを理解するであろう。

Claims (22)

  1. テラヘルツ波ベッセルビームが検査対象物を透過して発散するテラヘルツ波の角度が小さくなるように変更する第1レンズと、
    前記第1レンズを通過したテラヘルツ波を検出部に集光する第2レンズとを含む、高分解能テラヘルツ波集光モジュール。
  2. 前記第1レンズは、
    前記検査対象物を中心に第1アキシコンレンズに対称となるように配置される第2アキシコンレンズであり、
    前記第1アキシコンレンズは、
    前記テラヘルツ波ベッセルビームを形成し、前記検出部に入射するテラヘルツ波の直径がテラヘルツ波生成部で生成されたテラヘルツ波の波長より小さく形成される頂角を有する、請求項1に記載の高分解能テラヘルツ波集光モジュール。
  3. 前記第2アキシコンレンズは、
    前記第1アキシコンレンズと同じ大きさの頂角を有する、請求項2に記載の高分解能テラヘルツ波集光モジュール。
  4. 前記第2レンズは、
    前記検査対象物を中心に第1凸レンズに対称となるように配置される第2凸レンズであり、
    前記第1凸レンズは、
    前記テラヘルツ波生成部から入射するテラヘルツ波の角度が小さくなるように変更する、請求項2に記載の高分解能テラヘルツ波集光モジュール。
  5. 前記第2レンズは、
    前記第2アキシコンレンズと同じ形状を有し、光軸に垂直な軸を中心に前記第2アキシコンレンズに対称となるように配置される、請求項2に記載の高分解能テラヘルツ波集光モジュール。
  6. 前記第1レンズは、
    前記テラヘルツ波ベッセルビームが前記検査対象物を透過して発散するテラヘルツ波の角度が小さくなるように変更する第3凸レンズである、請求項1に記載の高分解能テラヘルツ波集光モジュール。
  7. 前記第2レンズは、
    光軸に垂直な軸を中心に前記第3凸レンズに対称となるように配置される第4凸レンズである、請求項6に記載の高分解能テラヘルツ波集光モジュール。
  8. テラヘルツ波ベッセルビームを用いてリングビームを形成し、前記形成されたリングビームを検査対象物に集光するリングビーム形成部と、
    前記検査対象物から生成された散乱光を検出する散乱光検出部とを含む、散乱光検出モジュール。
  9. 前記リングビーム形成部は、
    リングビームを形成し、前記形成されたリングビームを前記検査対象物に集光する第3レンズを含む、請求項8に記載の散乱光検出モジュール。
  10. 前記散乱光検出部は、
    前記第3レンズから出射されるリングビームの内部に備えられ、前記検査対象物から反射する散乱光を検出する反射散乱光検出部を含む、請求項9に記載の散乱光検出モジュール。
  11. 前記散乱光検出部は、
    前記第3レンズから入射するリングビームの内部に配置され、前記検査対象物から透過する散乱光を検出する透過散乱光検出部を含む、請求項9に記載の散乱光検出モジュール。
  12. 前記第3レンズは、
    前記検査対象物から反射する散乱光の経路を変更する経路変更部を含み、
    前記反射散乱光検出部は、
    前記経路変更部から入射する散乱光を検出する、請求項9に記載の散乱光検出モジュール。
  13. テラヘルツ波を生成するテラヘルツ波生成部と、
    前記テラヘルツ波生成部から入射するテラヘルツ波を用いて検査対象物にテラヘルツ波ベッセルビームが形成されるようにするベッセルビーム形成部と、
    前記テラヘルツ波ベッセルビームが前記検査対象物を透過して発散するテラヘルツ波の角度が小さくなるように変更する第1レンズと、
    前記第1レンズを通過したテラヘルツ波を検出部に集光する第2レンズと、
    前記第2レンズにより集光されたテラヘルツ波を検出するテラヘルツ波検出部とを含む、テラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置。
  14. 前記ベッセルビーム形成部は、
    前記テラヘルツ波ベッセルビームの直径が前記テラヘルツ波生成部で生成されたテラヘルツ波の波長より小さく形成される頂角を有する第1アキシコンレンズである、請求項13に記載のテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置。
  15. 前記第1レンズは、
    前記検査対象物を中心に前記第1アキシコンレンズに対称となるように配置される第2アキシコンレンズである、請求項14に記載のテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置。
  16. 前記第2アキシコンレンズは、
    前記第1アキシコンレンズと同じ大きさの頂角を有する、請求項15に記載のテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置。
  17. テラヘルツ波を生成するテラヘルツ波生成部と、
    前記テラヘルツ波生成部から入射するテラヘルツ波を用いてテラヘルツ波ベッセルビームを生成するベッセルビーム形成部と、
    前記テラヘルツ波ベッセルビームを用いてリングビームを形成し、前記形成されたリングビームを検査対象物に集光するリングビーム形成部と、
    前記検査対象物から生成された散乱光を検出する散乱光検出部と、
    前記検査対象物を透過したリングビームを検出するリングビーム検出部とを含む、テラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置。
  18. 前記リングビーム形成部は、
    リングビームを形成し、前記形成されたリングビームを前記検査対象物に集光する第3レンズを含む、請求項17に記載のテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置。
  19. 検査対象物の形状をスキャンするスキャナと、
    テラヘルツ波を生成し、前記生成されたテラヘルツ波を前記検査対象物に照射するテラヘルツ波光学ヘッドと、
    前記検査対象物を透過したテラヘルツ波を検出するテラヘルツ波集光ヘッドと、
    前記スキャナでスキャンされた検査対象物の形状に応じて、前記テラヘルツ波光学ヘッドを移動させる第1移送部と、
    前記第1移送部に同期化され、前記テラヘルツ波集光ヘッドを前記テラヘルツ波光学ヘッドと同様に移動させる第2移送部とを含む、テラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置。
  20. 前記第1移送部は、
    前記生成されたテラヘルツ波の焦点深度内に前記検査対象物が置かれるように、前記スキャンされた検査対象物の厚さに基づいて前記検査対象物及び前記テラヘルツ波光学ヘッドが所定の距離を維持するように前記テラヘルツ波光学ヘッドを移動させる、請求項19に記載のテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置。
  21. 前記テラヘルツ波光学ヘッドは、
    テラヘルツ波を生成するテラヘルツ波生成部と、
    前記テラヘルツ波生成部から入射するテラヘルツ波を用いて前記検査対象物にテラヘルツ波ベッセルビームが形成されるようにするベッセルビーム形成部とを含み、
    前記テラヘルツ波集光ヘッドは、
    前記テラヘルツ波ベッセルビームが前記検査対象物を透過して発散するテラヘルツ波の角度が小さくなるように変更する第1レンズと、
    前記第1レンズを通過したテラヘルツ波を検出部に集光する第2レンズと、
    前記第2レンズにより集光されたテラヘルツ波を検出するテラヘルツ波検出部とを含む、請求項19に記載のテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置。
  22. 前記テラヘルツ波光学ヘッドは、
    テラヘルツ波を生成するテラヘルツ波生成部と、
    前記テラヘルツ波生成部から入射するテラヘルツ波を用いてテラヘルツ波ベッセルビームを生成するベッセルビーム形成部と、
    前記テラヘルツ波ベッセルビームを用いてリングビームを形成し、前記形成されたリングビームを前記検査対象物に集光するリングビーム形成部とを含み、
    前記テラヘルツ波集光ヘッドは、
    前記検査対象物から生成された散乱光を検出する散乱光検出部と、
    前記検査対象物を透過したリングビームを検出するリングビーム検出部とを含む、請求項19に記載のテラヘルツ波ベッセルビームを用いた高分解能検査装置。
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20200150446A1 (en) * 2016-02-16 2020-05-14 UNIVERSITé LAVAL Method and System for Improving Lateral Resolution in Optical Scanning Microscopy
CN111103254B (zh) * 2019-12-11 2022-11-18 中国电子科技集团公司第四十一研究所 一种电子学太赫兹层析成像仪及测试方法
CN110941025A (zh) * 2019-12-30 2020-03-31 北京华航北斗能源科技有限公司 一种便携式太赫兹安检仪
CN112540055B (zh) * 2020-11-20 2021-12-03 华中科技大学 一种以Bessel波束为探针的太赫兹叠层成像方法和系统
DE102021117422A1 (de) * 2021-07-06 2023-01-12 Trioptics Gmbh Optische Messbeleuchtungsvorrichtung zum Beleuchten eines optischen Prüflings und Verfahren zum Betreiben einer optischen Messbeleuchtungsvorrichtung
CN113534321B (zh) * 2021-07-08 2023-05-02 上海交通大学 激光等离子体产生贝塞尔太赫兹脉冲辐射的系统及方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4480146B2 (ja) * 2004-09-01 2010-06-16 独立行政法人理化学研究所 テラヘルツ波を用いた散乱物検出装置と方法
US20150212060A1 (en) * 2014-01-28 2015-07-30 Jacobus Lodevicus Martinus VAN MECHELEN Sensor System For Characterizing A Coating Such As A Paint Film By THz Radiation
JP2015141172A (ja) * 2014-01-30 2015-08-03 パイオニア株式会社 テラヘルツ波ガイド装置、及びテラヘルツ波装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE1014222A3 (fr) 2001-06-13 2003-06-03 Ct Rech Metallurgiques Asbl Procede de caracterisation en ligne d'une surface en mouvement et dispositif pour sa mise en oeuvre.
KR100687900B1 (ko) 2003-05-07 2007-02-27 주식회사 포스코 천연 식품첨가물 및 저온살균을 이용하여 저장성을 향상한김치의 제조방법
US8194170B2 (en) 2009-06-02 2012-06-05 Algonquin College Axicon lens array
US8711211B2 (en) * 2010-06-14 2014-04-29 Howard Hughes Medical Institute Bessel beam plane illumination microscope
KR101392311B1 (ko) 2012-11-12 2014-05-08 한국식품연구원 테라파 베셀 빔을 이용한 물체 검사 장치
US9135682B2 (en) * 2013-03-15 2015-09-15 Indian Institute Of Technology Delhi Image recovery from single shot digital hologram
KR101738391B1 (ko) 2013-04-29 2017-05-23 한국식품연구원 스캐닝 모듈 및 베셀빔을 이용한 검출 장치
WO2014178514A1 (ko) * 2013-04-29 2014-11-06 한국식품연구원 스캐닝 모듈, 베셀빔을 이용한 검출 장치, 검출용 프로브 및 프로브형 검출 장치
FR3012059B1 (fr) * 2013-10-17 2016-01-08 Centre Nat Rech Scient Methode et dispositif de micro-usinage par laser
US10067072B2 (en) * 2015-07-10 2018-09-04 Kla-Tencor Corporation Methods and apparatus for speckle suppression in laser dark-field systems

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4480146B2 (ja) * 2004-09-01 2010-06-16 独立行政法人理化学研究所 テラヘルツ波を用いた散乱物検出装置と方法
US20150212060A1 (en) * 2014-01-28 2015-07-30 Jacobus Lodevicus Martinus VAN MECHELEN Sensor System For Characterizing A Coating Such As A Paint Film By THz Radiation
JP2015141172A (ja) * 2014-01-30 2015-08-03 パイオニア株式会社 テラヘルツ波ガイド装置、及びテラヘルツ波装置

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
BUSCH STEFAN, ET AL.: "Broadband "focus-free" terahertz imaging using axicons", 2014 39TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON INFRARED, MILLIMETER, AND TERAHERTZ WAVES (IRMMW-THZ), JPN6020015289, 14 September 2014 (2014-09-14), pages 1 - 2, XP032683646, ISSN: 0004259331, DOI: 10.1109/IRMMW-THz.2014.6956090 *
GYEONGSIK OK ET AL.: "Foreign Object Detection by Sub-Terahertz Quasi-Bessel Beam Imaging", SENSORS, vol. 13, JPN6020015292, 2013, pages 71 - 85, ISSN: 0004259332 *

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