JP2019526100A - センサおよびディスプレイを製造するための装置および方法、ならびにセンサ、ならびにセンサおよびディスプレイ - Google Patents

センサおよびディスプレイを製造するための装置および方法、ならびにセンサ、ならびにセンサおよびディスプレイ Download PDF

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Abstract

センサを製造するための方法および装置が開示される。1つの構成では、方法は、第1の電極および第2の電極を基板上に形成することを含む。第1の電極を第2の電極に接続するために電気機能層を適用する。電気機能層を適用することは、キャリア流体と電気機能材料とを含む組成物を複数の第1のサブ領域を備える第1のパターンで適用する、少なくとも第1のステップを含む。【選択図】図1

Description

本発明は、センサ、特に感圧ユニット、またはディスプレイのようなヒューマンマシンインターフェースのための他のセンサ、たとえば、たとえば指またはスタイラスがディスプレイの画面に押し付けられることよってディスプレイ上の領域に加えられた力の大きさを検出することが可能なセンサを提供することに関する。
コンピュータ、タブレット、電話およびウォッチのような家庭用電子機器は通常、スクリーンへの1つまたは複数のタッチの位置を検出することが可能なタッチ感知スクリーンを備える。スクリーンへのタッチと関連付けられた力を検出する能力をさらに提供することに関する関心が増大している。
過去の力検出を実装するために、典型的には静電容量センサまたは圧電デバイスを含む多数の技法が使用されてきた。しかしながら、信頼性と低コストの製造との許容可能な組み合わせを達成するには課題が多いことが分かっていた。
見込みのある手法は、ナノ粒子ベースの抵抗性歪みゲージを形成するために、電極の間にナノ粒子を適用することに基づく。ナノ粒子に力が加えられると、電極間の抵抗は、加えられた力に応じて変化し、それによって、力の測定が行われる。このアセンブリは、比較的低コストで製造することができ、好ましくは、剛性基板にもフレキシブル基板にも適用できる。しかしながら、ナノ粒子のアセンブリにおける変動は、圧力センサの反応における変動の原因となり、異なるセンサ間の不一致につながる。
本発明の目的は、信頼性が高く、低コストかつ一貫した性能特性で製造できるセンサを提供することである。
本発明の一態様によれば、第1の電極および第2の電極を基板上に形成することと、第1の電極を第2の電極に接続するために電気機能層を適用することとを含む、センサを製造する方法が提供され、電気機能層を適用することは、複数の第1のサブ領域を備える第1のパターンでキャリア流体と電気機能材料とを含む組成物を適用する第1のステップを、少なくとも含み、第1のサブ領域のうちの2つ以上の各々は、基板に対して垂直に見たときに、すべての他の第1のサブ領域から離隔している、および/または第1のサブ領域のうちの2つ以上の各々は、基板に対して垂直に見たときに、1つまたは複数の他の第1のサブ領域に接続されており、第1のサブ領域と第1のサブ領域に接続された1つまたは複数の他の第1のサブ領域の各々との間の最短接触線が、基板に対して垂直に見たときに、第1のサブ領域の外側境界線の長さの20%未満である。
発明者らは、複数のサブ領域において組成物を適用することは、キャリア流体の蒸発中に電気機能材料が移動し、不均質に蓄積し得る程度を低減し、それにより、単一の連続領域において電気機能材料のすべてを堆積させる代替的手法よりも均質で、繰り返し可能な電気機能材料の堆積を達成することを発見した。したがって、電気機能層の電気特性は、より予測可能かつ規則的である。異なるセンサの間の特性における変動は低減される。
一実施形態では、電気機能層を適用することは、第1のステップの後に、キャリア流体と電気機能材料とを含む組成物を複数の第2のサブ領域を備える第2のパターンで適用する第2のステップを含む。
発明者らは、このようにして複数のステップで電気機能材料を堆積させることにより、各ステップにおいて、互いからさらに離れた異なるサブ領域を配置することが可能になり、それによって、キャリア流体の蒸発中の異なるサブ領域の間での電気機能材料の移動を容易に回避できるようにすると同時に、すべてのステップが完了した後に電気機能層による高度なカバレージが可能になることを発見した。キャリア流体は、異なるステップの間に大部分または完全に蒸発することができる。
一実施形態では、電気機能層は導電性ナノ粒子を含み、任意選択的には、電気機能層内の抵抗率を決定する支配的因子は、導電性ナノ粒子の間の量子トンネリングであるように構成される。発明者らは、このようにして電気機能層を構成することによって、加えられた力に対する感度が特に高くなることを見出した。
代替的な態様によれば、基板上に形成された第1の電極および第2の電極と、第1の電極を第2の電極に接続する電気機能層であって、電気機能層が、複数のサブ領域を備えるパターンを形成する、電気機能層とを備える、センサが提供され、サブ領域のうちの2つ以上の各々は、基板に対して垂直に見たときに、すべての他のサブ領域から離隔している、および/またはサブ領域のうちの2つ以上の各々は、基板に対して垂直に見たときに、1つまたは複数の他のサブ領域に接続されており、サブ領域とサブ領域に接続された1つまたは複数の他のサブ領域の各々との間の最短接触線は、基板に対して垂直に見たときに、サブ領域の外側境界線の長さの20%未満である。
次に、添付図面を参照して、例として、本発明についてさらに説明する。
一実施形態による、センサの概略上面図である。 図1のセンサの一部分の概略側断面図である。 代替実施形態による、図1に示したタイプのセンサの一部分の概略側断面図である。 基板に対して垂直に見た、キャリア流体と電気機能材料との組成物の例示的な第1のパターンを示す図である。 基板に対して垂直に見た、代替的な第1のパターンを示す図である。 図5の第1のパターンと相補的な、キャリア流体と電気機能材料との組成物の例示的な第2のパターンを示す図である。 図5の第1のパターンを適用し、その後、図6の第2のパターンを適用した結果を示す図である。 第1の電極と第2の電極の両方と各々が重なっている、キャリア流体と電気機能材料との組成物の第1のサブ領域を示す、センサの一部分の概略上面図である。 図5または図6に示したタイプの第1のパターンまたは第2のパターンの一部分を示す図であり、各サブ領域は、すべての他のサブ領域から離隔している。 図5または図6に示したタイプの第1のパターンまたは第2のパターンの一部分を示す図であり、各サブ領域は、隣接するサブ領域に、その隅角部において接続されている。 複数のセンサを備えるディスプレイの概略上面図である。
一実施形態では、センサ2を製造する方法が提供される。図1〜図3に、例示的なセンサ2が示される。一実施形態では、センサ2は、感圧ユニットを備える。感圧ユニットは、ヒューマンマシンインターフェース、(たとえば、図11に示すような)ディスプレイ30、たとえばタッチ感知ディスプレイの一部を形成してもよい。それに代えて、またはそれに加えて、センサ2は、静電容量センサまたは他のセンサ2でもよい。センサ2は、指を組むように電極を備えてもよい。
方法は、第1の電極11および第2の電極12を基板6上に形成することを備える。典型的には、基板6は、絶縁材料で形成されており、および/または絶縁材料で覆われており、したがって、第1の電極11および第2の電極12は、絶縁材料を介して基板6と接触している。第1の電極11および第2の電極12は、当業者に知られている様々な異なる方法で、たとえば、導電性材料を所望のパターンで基板上に堆積させることによって、および/または要求されるパターンを提供するために堆積の後にパターニングプロセスを適用することによって形成され得る。第1の電極11および第2の電極12は、たとえば金属または酸化インジウムスズ(ITO)のような導電層のレーザーパターニングによって形成され得る。図1に示した特定の例では、第1の電極11は、複数の平行なフィンガ部111を備え、第2の電極12は、複数の平行なフィンガ部121を備え、第1の電極11の複数の平行なフィンガ部11と第2の電極12の複数の平行なフィンガ部121とは、互いに相互係止して、いわゆる指を組むようなパターンを形成する。ただし、本発明は、この特定の配列には限定されない。
方法はさらに、第1の電極11を第2の電極12に接続するために電気機能層4を適用することを含む。電気機能層4は、様々な形態をとり得る。一実施形態では、電気機能層4は、電気機能層4に加えられた力が電気機能層4の電気特性を変化させるように構成される。電気特性における変化は、第1の電極11および第2の電極12に接続された標準的な電子機器を使用して(たとえば、第1の電極11と第2の電極12との間に印加される電位差と第1の電極11と第2の電極12との間で流れる電流との関係を監視することによって)検出され得る。一実施形態では、電気機能層4は、基板6の撓曲(すなわち、基板6の屈曲のような基板6の変形)が電気機能層4の電気特性を変化させるように構成される。したがって、たとえば、センサ2の領域で基板6を撓曲させるようにセンサ2を備えるディスプレイ30に力が加えられた場合、第1の電極11および第2の電極12に接続された電子機器によって、この変化を検出することができる。
一実施形態では、電気特性における変化は、電気機能層4の抵抗率における変化、したがって、第1の電極11と第2の電極12との間の電気経路の抵抗における変化を含む。それに代えて、またはそれに加えて、電気特性における変化は、電気機能層4の誘電率における変化、したがって、第1の電極11と第2の電極12との間の電気経路の容量特性における変化を含む。電気特性における変化の検出を使用して、センサ2に加えられた力の大きさを判断することができる。
一実施形態では、電気機能層は、導電性ナノ粒子を備える。導電性ナノ粒子は、電気機能層内の抵抗率を決定する支配的因子が、導電性ナノ粒子間の量子トンネリングであるように構成され得る。このタイプの電気機能層は、加えられた力に対して特に敏感であり、それによって、感度が高くなることが分かっている。そのような材料を使用すると、異なるレベルの力をより高い信頼度で区別することが可能になる。それに代えて、またはそれに加えて、そのような材料を使用すると、より剛性が高い基板を使用することが可能になり、これは、基板の形状におけるより小さい変化を高い信頼度で検出することができるからである。したがって、デバイスをよりロバストにすることができる。
導電性ナノ粒子を含む電気機能層は、金属と非導電性のエラストマー結合材との組成物、たとえば、弾性のゴム状性質(たとえば、エラストマー)をもつ高分子組成物とニッケルのような金属粒子との組み合わせを含むことができる。電気機能層を、不透過性の形態または透過性の形態で設けることができる。電気機能層は、圧力がない場合には、電気を有意に伝導するには導電性ナノ粒子が必要以上に遠くに離れすぎているように構成され得る。圧力を加えることにより、導電性ナノ粒子を一緒に、導電素子間で絶縁材料上の有意な程度で量子トンネリングが生じ得るのに十分に近づけることができる。電気抵抗が典型的には距離とともに線形変化する古典的な状況とは対照的に、量子トンネリングに左右される抵抗の変動は、指数関数的であると予想される。線形ではなく指数関数的なこの変動は、高感度のための基礎を提供する。
電気機能層4を適用することは、複数の第1のサブ領域21を備える第1のパターンでキャリア流体と電気機能材料とを含む組成物を適用する、少なくとも第1のステップを含む。一実施形態では、第1のステップは、電気機能層4を適用する唯一のステップであり、第1の電極11と第2の電極12との間に所望の接続を提供するために必要な電気機能層4のすべてを適用するのに有効である(したがって、第1のサブ領域21は、そのような実施形態における唯一のサブ領域21である)。そのような第1のパターンの例は図4に示されている。他の実施形態では、第1のステップは、電気機能層4を提供するために使用される複数のステップ(たとえば、2つのステップ、3つのステップまたはより多くのステップ)のうちの1つにすぎない。そのようなマルチステッププロセスの2つの異なるステップにおいて使用される第1のパターンおよび第2のパターンの例を、図5および図6にそれぞれ示す。所望の厚さの電気機能材料を構築するために、第1のパターンおよび第2のパターン(または実際には、任意のさらなるパターン)のいずれかまたは両方を複数回適用することができる。
一実施形態では、複数の第1のサブ領域21を備える第1のパターンは、任意のその後のキャリア流体の蒸発または組成物の移動よりも前に、キャリア流体と電気機能材料とを含む組成物が第1の電極および第2の電極に最初に接触するのと同時に形成される。いくつかの実施形態では、たとえば図2に示したように、第1の電極11および第2の電極12のような基板6の上面の構造は、キャリア流体の蒸発中に、組成物内の電気機能材料の配置を大幅には損なわない。電気機能材料は、キャリア流体の蒸発の後に、第1のパターンと実質的に同一のパターンで堆積される。しかしながら、他の実施形態では、基板6の上面の構造は、組成物が第1の電極11および第2の電極12に最初に接触した後の電気機能材料の移動の原因となり得る。たとえば、図3の例示的な配列に示されるように、第1の電極11および第2の電極12が比較的高い(厚い)場合、電気機能材料は、キャリア流体の蒸発中に、第1の電極11と第2の電極12との間の谷間に優先的に落下し得、したがって、キャリア流体が蒸発した後、第1の電極11および/または第2の電極12の頂部に電気機能材料がほとんど残らない、または電気機能材料が実質的に残らない。この場合、キャリア流体の蒸発の後に電気機能材料によって形成されるパターンは、第1のパターンとは実質的に異なっていてもよい。
一実施形態では、第1のサブ領域21のうちの2つ以上の各々(任意選択的には、第1のサブ領域のうちのすべて)は、基板6に対して垂直に見たときに、すべての他の第1のサブ領域21から離隔している(すなわち接続されてない)。そのような配列の例は、図4に示される。各第1のサブ領域21は、電気機能層4の材料が存在しない領域によって取り囲まれている。発明者らは、この配列は、電気機能層4のすべてが単一の連続領域に形成される代替的な手法に対して、コーヒーリング効果によって引き起こされる電気機能層4における変動のスケールを低減することを発見した。コーヒーリング効果は、キャリア流体と電気機能材料とを含む堆積組成物にわたる蒸発速度差に起因して、粒子の不均一析出を引き起こす。縁部から蒸発する液体は、内部からの液体によって補給され、その結果、蒸発中の流れが縁部を向き、電気機能材料が堆積組成物の縁部に向かって不均衡に蓄積する。堆積組成物を個別の領域(第1のサブ領域21)に限定することにより、電気機能材料がそれらの個別の領域内に残ることを抑制し、電気機能材料がより長い距離にわたって移動することを防止する。したがって、電気機能層4の電気特性は、より予測可能かつ規則的である。異なるが名目上同一のセンサ2の間の特性における変動は低減される。
一実施形態では、第1のサブ領域21のうちの1つまたは複数の各々は、第1の電極11の一部分および第2の電極12の一部分と重なっている。このタイプの例示的な構成は、図8に示されている。したがって、個々の第1のサブ領域21の間にギャップがある場合でも、第1の電極11と第2の電極12との間は依然として、第1の電極11と第2の電極12の両方と重なっている1つまたは複数の第1のサブ領域21の各々を介して、継続的に接続される。
一実施形態では、電気機能層4を適用することは、第1のステップの後に第2のステップを含む。第2のステップでは、キャリア流体と電気機能材料とを含む組成物を第2のパターンで適用する。第2のパターンは、複数の第2のサブ領域22を備える。一実施形態では、第1のステップ中に適用されたキャリア流体の少なくとも大部分は、第2のステップが実行される前に蒸発する。したがって、第2のサブ領域22は、大規模なコーヒーリング効果のあらゆる有意なリスクなしに、第1のサブ領域21に直接隣接して、あるいは、第1のサブ領域21と重なって適用することができる。電気機能材料は、有意なキャリア流体が存在しない領域にわたって移動することができない。
一実施形態では、第2のパターンは、第1のパターンに対して実質的に相補的であり、したがって、第2のサブ領域22は、第1のサブ領域21の間のギャップ25を実質的に埋める(また、第1のサブ領域21は、第2のサブ領域22の間のギャップ27を実質的に埋める)。このタイプの例示的な第1のパターンおよび第2のパターンは、図5および図6にそれぞれ示されている。図5の第1のパターンを使用して第1のステップを実行し、その後、図6の第2のパターンを使用して第2のステップを実行した結果が図7に示される。図を見ると分かるように、第1のステップと第2のステップとの組み合わせは、比較的大きい区域にわたる実質的に連続するカバレージを提供するが、大きい区域の全体にわたってコーヒーリング効果が生じる恐れはない。いかなるコーヒーリング効果も、第1のサブ領域21および第2のサブ領域22の各々の中でのみ起こることができる。
一実施形態では、第2のサブ領域22の全表面区域の少なくとも大部分は、基板6に対して垂直に見たときに、第1のサブ領域21のうちのいずれとも重なっていない。図5〜図7を参照して上述した配列は、このタイプの一例である。重なりを最小限に抑えることは、電気機能材料の均一な堆積を保証するのに役立つ。
一実施形態では、第1のサブ領域21と第2のサブ領域22とは、同じ形状を有し、互いにモザイクになっている。この手法は、実装が単純であり、良好に空間を埋めることを達成する。図5〜図7の例では、第1のサブ領域21および第2のサブ領域22は正方形であるが、任意の他のモザイク形状を使用することもできる。他の実施形態では、互いに異なる形状を有するが、依然としてモザイクパターンを形成する第1のサブ領域21および/または第2のサブ領域22の組み合わせが使用される。
モザイク形状の使用は、電気機能層を適用するためにマルチステップ手法が使用されるケースには限定されない。(図4の例のように)第1のサブ領域21のみが存在する場合であっても、第1のサブ領域21はすべて、同じ形状を有してもよく、および/または互いにモザイクを形成するように構成されてもよい。また、この手法は、実装が単純であり、良好に空間を埋める。他の実施形態では、モザイク化パターンを形成する異なる形状の第1のサブ領域21の組み合わせが使用される。
一実施形態では、第1のサブ領域21および第2のサブ領域22は、行と列とで配列され、各行および各列において互いに交互になっている。図7に示したチェス盤状の例は、このタイプの実施形態である。
図9および図10は、2つの異なる実施形態による、図5を参照して上述したタイプの第1のパターンの一部分の拡大図である。
図9の実施形態では、第1のサブ領域21の各々は、他のサブ領域21のすべてから分離している。したがって、隣接している第1のサブ領域21に最も密接に接近する第1のサブ領域21の隅角部においても、接触が起こらない。この手法は、コーヒーリング効果を最小限に抑えるが、サブ領域21が正確に形成されること、および/または電気機能層によりカバレージがわずかに小さくなることが必要とされる。
図10によって例示される代替実施形態では、第1のサブ領域21のうちの2つ以上の各々(任意選択的には、第1のサブ領域21のすべて)は、基板6に対して垂直に見たときに、1つまたは複数の他の第1のサブ領域21に接続されており、第1のサブ領域21と第1のサブ領域21に接続された1つまたは複数の他の第1のサブ領域21の各々との間の最短接触線は、基板6に対して垂直に見たときに、第1のサブ領域21の外側境界線31の長さの20%未満、任意選択的には10%未満、任意選択的には5%未満、任意選択的には2%未満、任意選択的には1%未満である。図10では、図8の左下に示した第1のサブ領域21と(対角線に沿って)その最も近くにある第1のサブ領域21の各々との間の最短接触線は、4本の破線A−B、C−D、E−FおよびG−Hによって示される。外側境界線31は、線A−B、B−C、C−D、D−E、E−F、F−G、G−HおよびH−Aによって形成される、第1のサブ領域の境界全体を含む。
一実施形態では、キャリア流体と電気機能材料とを含む組成物は、インクジェット印刷を使用して適用される。組成物が第1の電極および第2の電極に最初に接触した時に(すなわち、組成物が印刷によって適用された時に)組成物により形成されるパターンが、インクジェット印刷プロセスによって規定される。インクジェット印刷ヘッド(またはヘッド)は、組成物を所望のパターン(たとえば、第1のパターン、第2のパターンなど)で印刷する。発明者らは、この手法が効率的であり、融通が利くことを発見した。
一実施形態では、第1の電極11、第2の電極12、電気機能層4および基板6のうちの1つまたは複数(任意選択的には、すべて)が、実質的に透過性である(たとえば、90%超の透過率を有する)。たとえば、基板6は、PETで形成してもよい。
一実施形態では、基板6は、たとえば、(基板6を損傷することなく)第1の電極11と第2の電極12とを1つに接続する電気機能層の電気的特性(たとえば、抵抗率および/または誘電率)における有意な(たとえば、簡単に測定可能な)変化を引き起こすのに十分な基板6の変形を可能にする程度に可撓性である。
一実施形態では、電気機能層を適用することは、キャリア流体の蒸発を促進するために、組成物を適用した後にキャリア流体と電気機能材料とを含む組成物を加熱することを含む。加熱は、たとえば、電気機能層を適用するための処理中に、基板6を支持するチャックを介して適用されてもよい。
一実施形態では、図2および図3に示した配列のように、電気機能層を適用した後に、保護カバー層10が提供される。
一実施形態では、方法は、ディスプレイ30上の異なる位置に複数のセンサ2を形成するように適応される。センサが力を測定するように構成される場合、これにより、ディスプレイ上の位置に応じて力を測定することが可能になる。複数のそのようなセンサ2を備える例示的なディスプレイ30が、図11に概略的に示されている。

Claims (38)

  1. 第1の電極および第2の電極を基板上に形成することと、
    前記第1の電極を前記第2の電極に接続するために電気機能層を適用することと
    を含む、センサを製造する方法であって、
    前記電気機能層を前記適用することが、キャリア流体と電気機能材料とを含む組成物を複数の第1のサブ領域を備える第1のパターンで適用する第1のステップを、少なくとも含み、
    前記第1のサブ領域のうちの2つ以上の各々が、前記基板に対して垂直に見たときに、すべての他の第1のサブ領域から離隔している、および/または
    前記第1のサブ領域のうちの2つ以上の各々が、前記基板に対して垂直に見たときに、1つまたは複数の他の第1のサブ領域に接続されており、前記第1のサブ領域と前記第1のサブ領域に接続された前記1つまたは複数の他の第1のサブ領域の各々との間の最短接触線が、前記基板に対して垂直に見たときに、前記第1のサブ領域の外側境界線の長さの20%未満である、
    センサを製造する方法。
  2. 前記センサが、感圧ユニットを備える、請求項1に記載の方法。
  3. 前記キャリア流体と前記電気機能材料とを含む前記組成物が、インクジェット印刷を使用して適用される、請求項1または2に記載の方法。
  4. 前記基板が可撓性である、請求項1から3のいずれかに記載の方法。
  5. 前記電気機能層は、前記電気機能層に加えられた力が前記電気機能層の電気特性を変化させるように構成される、請求項1から4のいずれかに記載の方法。
  6. 前記電気機能層は、前記基板の撓曲が、前記電気機能層の電気特性を変化させるように構成される、請求項1から5のいずれかに記載の方法。
  7. 前記電気特性における前記変化が、前記電気機能層の抵抗率における変化、したがって、前記第1の電極と前記第2の電極との間の電気経路の抵抗における変化を含む、請求項5または6に記載の方法。
  8. 前記電気特性における変化が、前記電気機能層の前記誘電率における変化、したがって、前記第1の電極と前記第2の電極との間の電気経路の前記容量特性における変化を含む、請求項5から7のいずれかに記載の方法。
  9. 前記第1のサブ領域のすべてが、前記基板に対して垂直に見たときに、すべての他の第1のサブ領域から離隔している、請求項1から8のいずれかに記載の方法。
  10. 前記第1のサブ領域のうちの1つまたは複数の各々が、前記第1の電極の一部分および前記第2の電極の一部分と重なっている、請求項1から9のいずれかに記載の方法。
  11. 前記電気機能層を前記適用することが、前記第1のステップの後に、複数の第2のサブ領域を備える第2のパターンで前記キャリア流体と前記電気機能材料とを含む前記組成物を適用する、第2のステップを含む、請求項1から10のいずれかに記載の方法。
  12. 前記第2のサブ領域の全表面区域の少なくとも大部分が、前記基板に対して垂直に見たときに、前記第1のサブ領域のうちのいずれとも重なっていない、請求項11に記載の方法。
  13. 前記第2のパターンは、前記第2のサブ領域が、前記第1のサブ領域の間のギャップを実質的に埋めるように、前記第1のパターンに対して実質的に相補的である、請求項11または12に記載の方法。
  14. 前記第1のステップ中に適用された前記キャリア流体の少なくとも大部分が、前記第2のステップが実行される前に蒸発する、請求項11から13のいずれかに記載の方法。
  15. 前記第1のサブ領域と前記第2のサブ領域とが、互いにモザイク状になっている、請求項11から14のいずれかに記載の方法。
  16. 前記第1のサブ領域および前記第2のサブ領域が、行と列とに配列され、各行および各列において互いに交互になっている、請求項11から15のいずれかに記載の方法。
  17. 前記電気機能層が、導電性ナノ粒子を含む、請求項1から16のいずれかに記載の方法。
  18. 前記導電性ナノ粒子を含む電気機能層は、前記電気機能層内の抵抗率を決定する支配的因子が、前記導電性ナノ粒子の間の量子トンネリングであるように構成される、請求項17に記載の方法。
  19. 前記第1の電極、前記第2の電極、前記電気機能層および前記基板のうちの1つまたは複数が、実質的に透過性である、請求項1から18のいずれかに記載の方法。
  20. 前記電気機能層を適用することが、前記キャリア流体の蒸発を促進するために、前記組成物を適用した後に前記キャリア流体と前記電気機能材料とを含む前記組成物を加熱することを含む、請求項1から19のいずれかに記載の方法。
  21. 前記複数の第1のサブ領域を備える前記第1のパターンは、任意のその後のキャリア流体の蒸発または組成物の移動よりも前に、前記キャリア流体と前記電気機能材料と含む組成物が前記第1の電極および前記第2の電極に最初に接触するのと同時に形成される、請求項1から20のいずれかに記載の方法。
  22. ディスプレイを製造する方法であって、前記ディスプレイ上の異なる位置に複数のセンサを形成することを含み、各センサが、請求項1から21のいずれかに記載の方法を使用して製造される、方法。
  23. センサを製造するための装置であって、前記装置が、請求項1から21のいずれかに記載の方法を実行するように構成される、装置。
  24. 基板上に形成された第1の電極および第2の電極と、
    前記第1の電極を前記第2の電極に接続する電気機能層であって、前記電気機能層が、複数のサブ領域を備えるパターンを形成する、電気機能層と
    を備える、センサであって、
    前記サブ領域のうちの2つ以上の各々が、前記基板に対して垂直に見たときに、すべての他のサブ領域から離隔している、および/または
    前記サブ領域のうちの2つ以上の各々が、前記基板に対して垂直に見たときに、1つまたは複数の他のサブ領域に接続されており、前記サブ領域と前記サブ領域に接続された前記1つまたは複数の他のサブ領域の各々との間の最短接触線が、前記基板に対して垂直に見たときに、前記サブ領域の外側境界線の長さの20%未満である、
    センサ。
  25. 前記センサが、感圧ユニットを備える、請求項24に記載のセンサ。
  26. 前記基板が可撓性である、請求項24または25に記載のセンサ。
  27. 前記電気機能層は、前記電気機能層に加えられた力が、前記第1の電極および前記第2の電極によって測定可能である前記電気機能層の電気特性を変化させるように構成される、請求項24から26のいずれかに記載のセンサ。
  28. 前記電気機能層は、前記基板の撓曲が、前記第1の電極および前記第2の電極によって測定可能である前記電気機能層の電気特性を変化させるように構成される、請求項24から27のいずれかに記載のセンサ。
  29. 前記電気特性における前記変化が、前記電気機能層の抵抗率における変化、したがって、前記第1の電極と前記第2の電極との間の電気経路の抵抗における変化を含む、請求項27または28に記載のセンサ。
  30. 前記電気特性における変化が、前記電気機能層の前記誘電率における変化、したがって、前記第1の電極と前記第2の電極との間の電気経路の前記容量特性における変化を含む、請求項27から29のいずれかに記載のセンサ。
  31. 前記サブ領域のすべてが、前記基板に対して垂直に見たときに、すべての他のサブ領域から離隔している、請求項24から30のいずれかに記載のセンサ。
  32. 前記サブ領域のうちの1つまたは複数の各々が、前記第1の電極の一部分および前記第2の電極の一部分と重なっている、請求項24から31のいずれかに記載のセンサ。
  33. 前記電気機能層が、導電性ナノ粒子を備える、請求項24から32のいずれかに記載のセンサ。
  34. 前記導電性ナノ粒子を含む電気機能層は、前記電気機能層内の抵抗率を決定する支配的因子が、前記導電性ナノ粒子の間の量子トンネリングであるように構成される、請求項33に記載のセンサ。
  35. 前記第1の電極、前記第2の電極、前記電気機能層および前記基板のうちの1つまたは複数が、実質的に透過性である、請求項24から34のいずれかに記載のセンサ。
  36. 複数の請求項24から35のいずれかに記載のセンサを備えるディスプレイであって、各センサが、前記ディスプレイ上の異なる位置にある、ディスプレイ。
  37. 実質的に添付図面を参照して説明され、および/または添付図面に示された、センサを製造する方法またはディスプレイを製造する方法。
  38. 実質的に添付図面を参照して説明され、および/または添付図面に示されたように動作するように配列および構成されたセンサまたはディスプレイ。
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