JP2019508712A - 電磁界測定システム - Google Patents
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Abstract
Description
図面に関して前述した詳細な説明は、特許請求の範囲にて規定される本発明および追加の特徴の単なる例示である。本発明は種々の方法で実施することができる。これを例示するためにいくつかの代替形を簡単に示す。
Claims (15)
- 第1プローブ素子(709)、第2プローブ素子(710)および基準平面(711)を有するプローブ(700)を含み、電磁界が、前記基準平面に対して、導電性の前記第1プローブ素子に第1プローブ信号を誘導するとともに、前記基準平面に対して、前記第2プローブ素子に第2プローブ信号を誘導する、プローブ基板(701)と、
前記プローブと結合され、前記第1プローブ信号および前記第2プローブ信号に基づいて測定結果を提供するように構成された測定処理装置(102)へと前記第1プローブ信号および前記第2プローブ信号を個別に導くように構成された伝送線路構造(800)を含む伝送線路基板(202)とを備え、
前記プローブ基板と前記伝送線路基板とはT字状構造を構成し、前記プローブ基板は前記T字状構造のキャップ部を構成するとともに、前記伝送線路基板は前記T字状構造の軸部を構成し、
前記第1プローブ素子と前記第2プローブ素子とは、これらのプローブ素子の間に対称軸(712)が存在するように配置され、前記対称軸は前記伝送線路基板に対して垂直である、電磁界測定システム(100)。 - 前記伝送線路構造(800)は、
前記第1プローブ素子(709)と導電的に結合した第1導電性ストリップ(805)と、
前記第2プローブ素子(710)と導電的に結合した第2導電性ストリップ(807)と、
前記第1導電性ストリップと前記第2導電性ストリップとの間に配置されるとともに、前記プローブ(700)の前記基準平面(711)と導電的に結合した中間導電性ストリップ(806)とを有するヘッド部(802)を含む、請求項1に記載のシステム。 - 前記伝送線路構造(800)の前記ヘッド部(802)における前記第1導電性ストリップ(805)と前記第2導電性ストリップ(807)とは、前記プローブ(700)の導電性の前記基準平面(711)と導電的に結合した2つの導電性シールド平面(402、502)の間に挟まれている、請求項2に記載のシステム。
- シールドフェンス(822)は、前記伝送線路構造(800)の前記ヘッド部(802)における前記第1導電性ストリップ(805)と前記第2導電性ストリップ(807)との間に配置され、前記2つの導電性シールド平面(402、502)と前記ヘッド部の前記中央導電性ストリップ(806)とを互いに導電的に結合する貫通孔接続部のアレイによって構成される、請求項3に記載のシステム。
- 前記伝送線路構造(800)の前記ヘッド部(802)における前記第1導電性ストリップ(805)と前記第2導電性ストリップ(807)とがその間に配置された2つのさらなるシールドフェンス(821、823)を含み、該シールドフェンスは、前記2つの導電性シールド平面(402、502)を互いに導電的に結合する貫通孔接続部のアレイによって構成される、請求項4に記載のシステム。
- 伝送線路構造(800)はマイクロストリップ線路部(804)を含み、前記ヘッド部(802)は前記プローブ(700)と前記マイクロストリップ線路部との間にあり、前記マイクロストリップ線路部は、
前記ヘッド部の前記第1導電性ストリップ(805)と導電的に結合した第1導電性ストリップ(809)と、
前記ヘッド部の前記第2導電性ストリップ(807)と導電的に結合した第2導電性ストリップ(810)と、
前記マイクロストリップ線路部の前記第1導電性ストリップおよび前記第2導電性ストリップに平行に配置されるとともに、これらの導電性ストリップに対向し、前記ヘッド部の前記中間導電性ストリップ(806)と導電的に結合するグランド平面(813)とを含む、請求項1〜5のいずれかに記載のシステム。 - 前記伝送線路構造(800)は、
前記2つの導電性シールド平面の一方の導電性シールド平面(402)を含む第1導電層(601)と、
前記ヘッド部(802)の前記第1導電性ストリップ(805)、前記第2導電性ストリップ(807)、および前記中間導電性ストリップ(806)を含む第2導電層(603)と、
前記2つの導電性シールド平面の他方の導電性シールド平面(502)を含む第3導電層(602)とを備える、請求項6に記載のシステム。 - 前記第1導電層(601)は、前記伝送線路構造(800)の前記マイクロストリップ線路部(804)における前記第1導電性ストリップ(809)と前記第2導電性ストリップ(810)とを含み、
前記第2導電層(603)は、前記マイクロストリップ線路部における前記グランド平面(813)を含み、
前記伝送線路基板(202)は、前記マイクロストリップ線路部における前記第1導電性ストリップおよび前記第2導電性ストリップを、前記伝送線路構造の前記ヘッド部(802)における前記第1導電性ストリップ(805)および前記第2導電性ストリップ(807)にそれぞれ導電的に接続する第1貫通孔接続部(815)と第2貫通孔接続部(816)とを含む、請求項7に記載のシステム。 - 前記プローブ基板(701)はスロット(702)を含み、
前記伝送線路基板(202)は、前記プローブ基板の前記スロットを貫通するプローブ結合タブ(703)を含む、請求項1〜8のいずれかに記載のシステム。 - 前記第1プローブ素子(709)および前記第2プローブ素子(710)は前記スロット(702)の一方側に配置され、前記基準平面(711)は前記スロットの他方である反対側に配置される、請求項9に記載のシステム。
- 前記第1プローブ素子(709)と前記第2プローブ素子(710)とは、互いに直交して配置される、請求項1〜10のいずれかに記載のシステム。
- 前記第1プローブ信号と前記第2プローブ信号とを加算するように構成され、前記第2プローブ信号から前記第1プローブ信号を減算するように構成された回路(205、102)を含む、請求項1〜11のいずれかに記載のシステム。
- 複数のプローブモジュール(104〜111)を含み、前記プローブ基板(701)と前記伝送線路基板(202)とがともにプローブモジュール(200)を構成し、その他の前記プローブモジュールも同様である、請求項1〜12のいずれかに記載のシステム。
- プローブのそれぞれは、前記プローブ(700)が格子点をなす2次元格子として配置される、請求項13に記載のシステム。
- 請求項1〜14のいずれかに記載の電磁界測定システム(100)に関する、電磁界を測定する方法。
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