JP2019506349A5

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Publication number: JP2019506349A5
Application number: JP2018531073A
Authority: JP
Filing date: 2016-12-16
Publication date: 2020-01-23

Description

好ましくは、二酸化ケイ素粉末は、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、四塩化ケイ素、ならびにトリクロロシラン、またはこれらの２つ以上の組み合わせからなる群から選択される化合物から、例えば四塩化ケイ素およびオクタメチルシクロテトラシロキサンから、特に好ましくはオクタメチルシクロテトラシロキサンから、調製することができる。

本発明によらない選択肢では、ガラス溶融物は、焼結坩堝内で形成することもできる。焼結坩堝は、少なくとも１つの焼結金属を含み、その金属の理論密度の９６％以下、しばしば８５％〜９３％、の密度を有する焼結材料から作製された坩堝を意味する。焼結金属は、溶融によってではなく、焼結によって金属粉末から得られる金属または合金を意味する。これらは、常に、特に高融点の金属である。二酸化ケイ素を溶融するために、特にモリブデン、タングステンなどの高融点金属、ならびに黒鉛または黒鉛箔で内張りされた材料が、焼結材料として好適である。焼結坩堝は、基礎焼結材料を鋳型内で焼結することにより作製されるため、焼結坩堝と称される。焼結坩堝は、坩堝内で一体として作製されてもよく、またはそれぞれ鋳型内で作製され、その後焼結坩堝を得るように加工される複数の部品から作製されてもよい。これは、ねじ締めにより、または様々な部品のさねはぎ接合を使用して、遂行することができる。最初の作動時に、焼結坩堝の総寸法の変化が発生するように焼結坩堝を構成する部品を一緒に焼結することが、通常発生する。焼結坩堝は、立設式または吊り下げ式のいずれかで配置することができる。

予熱加熱部
好ましくは、炉は、通路により互いにつながれた第１のチャンバとさらなるチャンバとを少なくとも有し、第１のチャンバとさらなるチャンバは、異なる温度を有し、第１のチャンバの温度は、さらなるチャンバの温度より低い。更なるチャンバでは、ガラス溶融物が、二酸化ケイ素造粒体から形成される。このチャンバは、以下において溶融チャンバと呼ばれる。ダクトを介して溶融チャンバにつながれているが、溶融チャンバの上流にあるチャンバは、予熱加熱部とも呼ばれる。１つの例は、少なくとも１つの出口が溶融チャンバの入口と直接接続されているチャンバである。上記の配置は、独立した炉内に作製されてもよく、この場合、溶融チャンバは、溶融炉である。しかしながら、さらなる説明では、「溶融炉」という用語は、「溶融チャンバ」という用語と同一であると解されてよい。ゆえに、溶融炉に関して述べられることは、溶融チャンバにも当てはまると解されてよく、その逆もまた同様である。「予熱加熱部」という用語は、両方の場合に同じものを意味する。

ｆ．フッ化物の決定
１５ｇの石英ガラス試料を粉砕し、硝酸中で７０℃で処理することにより清浄化する。次いで試料を高純度水で数回洗い、次いで乾燥させる。２ｇの試料を計量してニッケル坩堝内に入れ、１０ｇのＮａ_２ＣＯ_３および０．５ｇのＺｎＯで覆う。坩堝をＮｉ蓋で閉め、１０００℃で１時間ローストする。次いでニッケル坩堝に水を充填し、溶融ケークが完全に溶解するまで沸騰させる。溶液を２００ｍｌメスフラスコに移し、２００ｍｌまで高純度水で充填する。未溶解の構成要素の堆積後、３０ｍｌをとって１００ｍｌメスフラスコに移し、０．７５ｍｌの氷酢酸および６０ｍｌのＴＩＳＡＢを添加し、高純度水で満たす。試料溶液を１５０ｍｌガラスビーカーに移す。

Ｊ．「使用済みの酸」（使用後のＨＦ浴）
実施例Ｉにおける浸漬浴内の液体（Ｖ＝２ｍ^３）を、石英ガラス体（Ｎ−１‘）の処理直後に、さらなる処理なしに試験する。上記の処理のために用いる液体は、処理前および処理後に、表２０に示す特性により特徴付けられる。