JP2019500690A - 気体不感応マスフロー制御システム及び気体不感応マスフロー制御方法 - Google Patents
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Abstract
Description
AF=(d(p/T))/dt*(Ts*V)/(Ps*R)
式中で、
AFは、評価フローを示し、
T及びPは夫々、気体温度測定値及び気体圧力測定値を示し、
Ts及びPsは夫々、標準温度(273.15K)及び標準圧力(101.3kPa)を示し、
Vは、既知容量であり、
Rは、気体定数(8.31441JK-1)である。
燃料電池は、酸素または他の酸化剤との化学反応によって燃料からの化学エネルギーを電気に変換する装置である。燃料電池は、化学反応を維持するための継続的な燃料源を必要とする点で電池とは異なるが、電池に関しては、電池の中にある化学物質が互いに反応し合って起電力を生成する。燃料電池は燃料が供給される限り電気を発生させることができる。
Claims (8)
- 気体の流れを誘導する一次導管と、
二次導管を介して前記一次導管に連結され、前記気体の一部を前記一次導管から前記二次導管へと分流させ、前記気体の組成が変化すると変化する調整信号を提供するように構成された調整システムと、を備えるマスフロー制御システムであって、
前記調整システムは、
変化する圧力を有する評価フローを前記二次導管に発生させる加圧システムと、
前記評価フローの圧力変化率に基づいて、前記評価フローの流量の第1の測定値を提供する変化率フローメータと、
前記二次導管を通過する前記評価フローの流量の第2の測定値を提供するために配置されたマスフローメータと、
前記評価フローの流量の前記第1の測定値と前記第2の測定値との差異に基づいて前記調整信号を生成する調整コンポーネントと、
前記気体の一次流量を制御するために、前記一次導管に動作的に連結されたマスフローコントローラと、を含み、
前記マスフローコントローラは、
前記一次導管を通過する前記気体の前記一次流量を制御するために前記一次導管に配置された弁と、
前記一次導管を通過する前記気体の前記一次流量に基づいて計測フロー信号を生成するように構成されたマスフロー計測システムと、
前記計測フロー信号を前記調整信号で調整して、気体補正済みフロー信号を生成するように構成された補正モジュールと、
前記一次導管を通過する前記気体の前記一次流量が設定値に等しいことを前記気体補正済みフロー信号が示すように、前記弁を制御するように構成されたコントローラと、を含む
マスフロー制御システム。 - 前記マスフローコントローラは、少なくとも毎分100リットルの作動範囲を有する請求項1に記載のマスフロー制御システム。
- 前記加圧システムは、前記二次導管内に配置された上流弁及び下流弁を含み、
前記マスフローメータ及び前記変化率フローメータは、前記上流弁及び前記下流弁の間に配置され、
前記加圧システムはさらに、
前記気体の一部を前記一次導管から前記二次導管へ分流するために前記上流弁を開け、前記気体を加圧するために前記下流弁を閉じ、
前記下流弁が閉じられて、加圧された気体を、既知容量を含む前記二次導管の一部に閉じ込める間、前記上流弁を閉じ、
前記上流弁が閉じられて、変化する圧力を有する前記評価フローを発生させる間、前記下流弁を開けるように構成される、評価フローコントローラを含む
請求項1に記載のマスフロー制御システム。 - 前記評価フローコントローラは、前記評価フローを発生させるために、前記上流弁及び前記下流弁を開閉するための命令が暗号化されたプロセッサ及び非一時的メモリを含む請求項3に記載のマスフロー制御システム。
- 前記評価フローコントローラは、前記評価フローを発生させるために、前記上流弁及び前記下流弁を開閉するためのハードウェアを含み、
前記ハードウェアは、1または複数のFPGA、ASIC、プログラム化できる論理デバイス、及びディスクリートゲートまたはトランジスタ論理デバイスを含む
請求項3に記載のマスフロー制御システム。 - 気体の流量を制御する方法であって、
マスフローコントローラによって、一次導管を流れる前記気体の流量を制御し、
前記気体の一部を二次導管に分流し、
変化する圧力を有する評価フローを前記二次導管に発生させ、
前記評価フローの圧力変化率に基づいて、前記評価フローの流量の第1の測定値を算出し、
前記気体の組成によって影響される前記評価フローの流量をマスフローメータで計測し、前記評価フローの流量の第2の測定値を発生させ、
前記評価フローの流量の前記第1の測定値と前記第2の測定値との差異に基づいて調整信号を生成し、
前記マスフローコントローラの計測フロー信号を前記調整信号で調整して、気体補正済みフロー信号を生成し、
前記一次導管を通過する前記気体の流量が設定値に等しいことを前記気体補正済みフロー信号が示すように、前記マスフローコントローラの弁を制御する、方法。 - 前記一次導管を通過する前記気体の流量を前記マスフローコントローラで制御することは、前記気体の流量を少なくとも毎分100リットルに制御することを含む請求項6に記載の方法。
- 前記評価フローを発生させることは、
前記二次導管にある上流弁を開けて、前記気体の一部を前記一次導管から前記二次導管へ分流し、下流弁を閉じて前記気体を加圧し、
前記下流弁を閉じて、加圧された気体を、既知容量を含む前記二次導管の一部に閉じ込める間、前記上流弁を閉じ、
前記上流弁が閉じて、変化する圧力を有する前記評価フローを発生させる間、前記下流弁を開けることを含む
請求項6に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201562272315P | 2015-12-29 | 2015-12-29 | |
US62/272315 | 2015-12-29 | ||
PCT/JP2016/089028 WO2017115830A1 (en) | 2015-12-29 | 2016-12-28 | Gas insensitive mass flow control systems and methods |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019500690A true JP2019500690A (ja) | 2019-01-10 |
JP6922910B2 JP6922910B2 (ja) | 2021-08-18 |
Family
ID=59088339
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018528077A Active JP6922910B2 (ja) | 2015-12-29 | 2016-12-28 | 気体不感応マスフロー制御システム及び気体不感応マスフロー制御方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US10126761B2 (ja) |
JP (1) | JP6922910B2 (ja) |
KR (1) | KR102669006B1 (ja) |
CN (1) | CN108475077B (ja) |
WO (1) | WO2017115830A1 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106323426B (zh) * | 2015-06-30 | 2019-11-19 | 上海梅山钢铁股份有限公司 | 连铸结晶器在线吹氩流量计测量精度校正方法 |
US10126761B2 (en) * | 2015-12-29 | 2018-11-13 | Hitachi Metals, Ltd. | Gas insensitive mass flow control systems and methods |
JP6996289B2 (ja) * | 2016-12-26 | 2022-01-17 | 株式会社島津製作所 | バルブ装置 |
EP3633329B1 (en) * | 2017-05-22 | 2021-12-15 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Gas meter |
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CN110857875B (zh) * | 2018-08-23 | 2021-01-29 | 中国石油天然气股份有限公司 | 天然气原级标准装置用质量测定系统 |
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US10126761B2 (en) * | 2015-12-29 | 2018-11-13 | Hitachi Metals, Ltd. | Gas insensitive mass flow control systems and methods |
-
2016
- 2016-12-21 US US15/386,183 patent/US10126761B2/en active Active
- 2016-12-28 JP JP2018528077A patent/JP6922910B2/ja active Active
- 2016-12-28 KR KR1020187021372A patent/KR102669006B1/ko active IP Right Grant
- 2016-12-28 CN CN201680077384.4A patent/CN108475077B/zh active Active
- 2016-12-28 WO PCT/JP2016/089028 patent/WO2017115830A1/en active Application Filing
-
2018
- 2018-08-09 US US16/059,906 patent/US10534375B2/en active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20180099763A (ko) | 2018-09-05 |
CN108475077B (zh) | 2021-03-05 |
JP6922910B2 (ja) | 2021-08-18 |
KR102669006B1 (ko) | 2024-05-28 |
US20180348798A1 (en) | 2018-12-06 |
US20170185091A1 (en) | 2017-06-29 |
WO2017115830A1 (en) | 2017-07-06 |
US10126761B2 (en) | 2018-11-13 |
CN108475077A (zh) | 2018-08-31 |
US10534375B2 (en) | 2020-01-14 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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