JP2019218335A - Compound, resin, resist composition, and method for producing resist pattern - Google Patents

Compound, resin, resist composition, and method for producing resist pattern Download PDF

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肥後 睦子
Mutsuko Higo
睦子 肥後
市川 幸司
Koji Ichikawa
幸司 市川
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Abstract

To provide a compound, a resin, and a resist composition capable of producing a resist pattern having good line edge roughness (LER).SOLUTION: The compound is represented by formula (IA) or formula (IB), and the resin and the resist composition contain a structural unit derived from the compound. (Formula IA): CH=C(-R)-X-L(-OR)(-OR)(-0R). (Formula IB): CH=C(-R)-X-L(-X-C(-R)=CH)(-OR)(-0R). [Rand Reach represent H or a methyl group; Xand Xeach represent -C(=O)O- or the like; Lrepresents a substituted/unsubstituted C1-48 hydrocarbon group; and R, Rand Reach represent a C2-4 cyclic hydrocarbon group containing one O, which may have a saturated hydrocarbon group.]SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジスト組成物を用いるレジストパターンの製造方法等に関する。   The present invention relates to a compound, a resin, a resist composition, a method for producing a resist pattern using the resist composition, and the like.

特許文献1には、下記化合物が記載されている。
特許文献2には、下記化合物に由来する構造単位を有する樹脂を含有するレジスト組成物が記載されている。
特許文献3には、下記化合物が記載されている。
特許文献4には、下記化合物に由来する構造単位を有する樹脂を含有するレジスト組成物が記載されている。
Patent Document 1 describes the following compound.
Patent Document 2 discloses a resist composition containing a resin having a structural unit derived from the following compound.
Patent Document 3 discloses the following compound.
Patent Document 4 discloses a resist composition containing a resin having a structural unit derived from the following compound.

特開昭55−060941号公報JP-A-55-060941 特開2007−155851号公報JP 2007-155851 A 特開平09−258441号公報JP 09-258441 A 特開2017−095444号公報JP 2017-095444 A

本発明は、上記化合物に由来する構造単位を有する樹脂を含有するレジスト組成物から形成されたレジストパターンよりも、良好なCD均一性(CDU)でレジストパターンを製造することができる化合物を提供する。   The present invention provides a compound capable of producing a resist pattern with better CD uniformity (CDU) than a resist pattern formed from a resist composition containing a resin having a structural unit derived from the above compound. .

本発明は、以下の発明を含む。
[1]式(IA)又は式(IB)で表される化合物。
[式(IA)及び式(IB)中、
及びRは、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
及びXは、それぞれ独立に、式(X−1)〜式(X−7)のいずれかで表される基を表す。
(式(X−1)〜式(X−7)中、
*、**は結合部位を表し、**はLとの結合部位を表す。)
は、置換基を有していてもよい炭素数1〜48の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO−に置き換わっていてもよい。
は、式(IC)で表される基を有する炭素数1〜36の炭化水素基(該炭化水素基は置換基を有してもよく、該炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO−に置き換わっていてもよい。)を表す。
及びRは、それぞれ独立に、水素原子又は式(IC)で表される基を有していてもよい炭素数1〜36の炭化水素基(該炭化水素基は置換基を有してもよく、該炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO−に置き換わっていてもよい。)を表す。]
[式(IC)中、
Aは、炭素数1〜12の飽和炭化水素基を表す。
u1は、0〜2のいずれかの整数を表し、u1が2である場合、複数のRは同一であるか、相異なる。
s1は、1又は2を表す。
t1は、0又は1を表す。但し、s1とt1との和は、1又は2である。
*は、結合部位を表す。]
[2]Lが、式(LA)で表される基又は式(LB)で表される基である[1]記載の化合物。
[式(LA)及び式(LB)中、
4及びL4'は、それぞれ独立に、単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1〜24の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO−に置き換わっていてもよい。
2及びL3は、それぞれ独立に、単結合又は炭素数1〜4のアルカンジイル基を表す。
3'は、炭素数1〜4のアルカントリイル基を表す。
*aはXとの結合部位を表し、*bは−OR5における酸素原子又はX2との結合部位を表し、*cは−ORにおける酸素原子との結合部位を表し、*dは−ORにおける酸素原子との結合部位を表す。]
[3]L4及びL4’が、それぞれ独立に、単結合、炭素数1〜6のアルカンジイル基又は炭素数1〜6のアルカンジイル基と炭素数3〜18の脂環式炭化水素基とを組み合わせた基(前記アルカンジイル基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、前記脂環式炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO−に置き換わっていてもよい)であり、L2が単結合又は炭素数1〜4のアルカンジイル基であり、L3が炭素数1〜4のアルカンジイル基であり、L3'が炭素数1〜4のアルカントリイル基である[2]記載の化合物。
[4]Xが、式(X−1)、式(X−3)又は式(X−4)のいずれかで表される基である[1]〜[3]のいずれかに記載の化合物。
[5][1]〜[4]のいずれかに記載の化合物に由来する構造単位を含有する樹脂。
[6]さらに、酸不安定基を有する構造単位を含む[5]記載の樹脂。
[7]酸不安定基を有する構造単位が、式(a1−1)で表される構造単位及び式(a1−2)で表される構造単位の少なくとも1種を含む[6]記載の樹脂。
[式(a1−1)及び式(a1−2)中、
a1及びLa2は、それぞれ独立に、−O−又は*−O−(CHk1−CO−O−を表し、k1は1〜7のいずれかの整数を表し、*は−CO−との結合部位を表す。
a4及びRa5は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
a6及びRa7は、それぞれ独立に、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せた基を表す。
m1は、0〜14のいずれかの整数を表す。
n1は、0〜10のいずれかの整数を表す。
n1’は、0〜3のいずれかの整数を表す。]
[8][5]〜[7]のいずれかに記載の樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物。
[9]酸発生剤が、式(B1)で表される塩を含む[8]記載のレジスト組成物。
[式(B1)中、
b1及びQb2は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。
b1は、炭素数1〜24の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Yは、置換基を有していてもよいメチル基又は置換基を有していてもよい炭素数3〜18の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−、−S(O)2−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
は、有機カチオンを表す。]
[10]酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩をさらに含有する[8]又は[9]記載のレジスト組成物。
[11](1)[8]〜[10]のいずれかに記載のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
(2)塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
(3)組成物層に露光する工程、
(4)露光後の組成物層を加熱する工程、及び
(5)加熱後の組成物層を現像する工程、を含むレジストパターンの製造方法。
The present invention includes the following inventions.
[1] A compound represented by the formula (IA) or the formula (IB).
[In the formulas (IA) and (IB),
R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
X 1 and X 2 each independently represent a group represented by any one of formula (X 1 -1) ~ Formula (X 1 -7).
(In the formula (X 1 -1) ~ Formula (X 1 -7),
*, ** represents a binding site, ** represents the bonding site to L 1. )
L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 48 carbon atoms which may have a substituent, and -CH 2- contained in the hydrocarbon group is -O-, -S-, -CO- or —SO 2 — may be substituted.
R 3 is a hydrocarbon group having 1 to 36 carbon atoms having a group represented by the formula (IC) (the hydrocarbon group may have a substituent, and —CH 2 — contained in the hydrocarbon group is included). is, -O -, - S -, - CO- or -SO 2 -. which may be substituted with) represents a.
R 4 and R 5 are each independently a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 36 carbon atoms which may have a group represented by the formula (IC) (the hydrocarbon group has a substituent; And —CH 2 — contained in the hydrocarbon group may be replaced by —O—, —S—, —CO— or —SO 2 —.) ]
[In the formula (IC),
RA represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
u1 represents an integer of 0 to 2, when u1 is 2, or a plurality of R A are the same, different.
s1 represents 1 or 2.
t1 represents 0 or 1. However, the sum of s1 and t1 is 1 or 2.
* Represents a binding site. ]
[2] L 1 is a group represented by the formula radical or formula represented by (L 1 A) (L 1 B) [1] Compounds according.
[In the formulas (L 1 A) and (L 1 B),
L 4 and L 4 ′ each independently represent a single bond or a hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms which may have a substituent, and -CH 2- contained in the hydrocarbon group is- O -, - S -, - CO- or -SO 2 - may be replaced with.
L 2 and L 3 each independently represent a single bond or an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms.
L 3 ′ represents an alkanetriyl group having 1 to 4 carbon atoms.
* A represents a bonding site with X 1, * b represents a bonding site with an oxygen atom or X 2 in -OR 5, * c represents the binding site to the oxygen atoms in the -OR 3, * d is -OR 4 represents a bonding site to an oxygen atom. ]
[3] L 4 and L 4 ′ each independently represent a single bond, an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms and an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms. -CH 2 contained in the base (the alkanediyl group composed of a combination of bets - -CH 2 may be replaced by -O- or -CO-, contained in the alicyclic hydrocarbon group - is - O -, - S -, - CO- or -SO 2 - is also be) have replaced, L 2 is a single bond or an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms, L 3 is 1 to carbon atoms (4) The compound according to (2), wherein L 3 ′ is an alkanetriyl group having 1 to 4 carbon atoms.
[4] X 1 has the formula (X 1 -1), one of which is a group represented by any one of formulas (X 1 -3) or Formula (X 1 -4) [1] ~ [3] The compound according to the above.
[5] A resin containing a structural unit derived from the compound according to any one of [1] to [4].
[6] The resin according to [5], further comprising a structural unit having an acid labile group.
[7] The resin according to [6], wherein the structural unit having an acid labile group includes at least one of a structural unit represented by Formula (a1-1) and a structural unit represented by Formula (a1-2). .
[In the formulas (a1-1) and (a1-2),
L a1 and L a2 each independently, -O- or * -O- (CH 2) k1 -CO -O- the stands, k1 represents an integer of 1-7, and * -CO- And represents a binding site.
R a4 and R a5 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
R a6 and R a7 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or a combination thereof.
m1 represents an integer of any of 0 to 14.
n1 represents any integer of 0-10.
n1 ′ represents any integer of 0 to 3. ]
[8] A resist composition comprising the resin according to any one of [5] to [7] and an acid generator.
[9] The resist composition according to [8], wherein the acid generator contains a salt represented by the formula (B1).
[In the formula (B1),
Q b1 and Q b2 each independently represent a fluorine atom or a C 1-6 perfluoroalkyl group.
L b1 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO—. The hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
Y represents a methyl group which may have a substituent or an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms which may have a substituent, and-is included in the alicyclic hydrocarbon group. CH 2 — may be replaced by —O—, —S (O) 2 — or —CO—.
Z + represents an organic cation. ]
[10] The resist composition according to [8] or [9], further comprising a salt that generates an acid having a lower acidity than the acid generated from the acid generator.
[11] (1) a step of applying the resist composition according to any one of [8] to [10] on a substrate;
(2) drying the composition after application to form a composition layer;
(3) exposing the composition layer to light,
A method for producing a resist pattern, comprising: (4) a step of heating the composition layer after exposure; and (5) a step of developing the composition layer after heating.

本発明の化合物に由来する構造単位を有する樹脂を含有するレジスト組成物を用いることにより、良好なCD均一性(CDU)でレジストパターンを製造することができる。   By using a resist composition containing a resin having a structural unit derived from the compound of the present invention, a resist pattern can be manufactured with good CD uniformity (CDU).

本明細書において、特筆しない限り、「(メタ)アクリレート」とは、「アクリレート及びメタクリレートからなる群から選ばれる少なくとも一種」を意味する。「(メタ)アクリル酸」や「(メタ)アクリロイル」等の表記も、同様の意味を有する。「CH2=C(CH3)−CO−」又は「CH2=CH−CO−」を有する構造単位が例示されている場合には、双方の基を有する構造単位が同様に例示されているものとする。「組み合わせた基」とは、例示した基を2種以上結合させた基を意味し、それら基の価数は結合形態によって適宜変更してもよい。また、立体異性体が存在する場合は、全ての立体異性体を包含する。
本明細書において、「レジスト組成物の固形分」とは、レジスト組成物の総量から、後述する溶剤(E)を除いた成分の合計を意味する。
In this specification, unless otherwise specified, “(meth) acrylate” means “at least one selected from the group consisting of acrylates and methacrylates”. Notations such as "(meth) acrylic acid" and "(meth) acryloyl" have the same meaning. When a structural unit having “CH 2 CC (CH 3 ) —CO—” or “CH 2 CHCH—CO—” is exemplified, a structural unit having both groups is also exemplified. Shall be. The “combined group” means a group in which two or more of the exemplified groups are bonded, and the valence of the group may be appropriately changed depending on the bonding form. Moreover, when a stereoisomer exists, it includes all stereoisomers.
In the present specification, the “solid content of the resist composition” means the sum of components excluding a solvent (E) described later from the total amount of the resist composition.

〔式(IA)及び式(IB)で表される化合物〕
本発明の化合物は、式(IA)で表される化合物(以下「化合物(IA)」という場合がある)及び式(IB)で表される化合物(以下「化合物(IB)」という場合がある)に関する。
式(IA)及び式(IB)において、X及びXは、式(X−1)〜式(X−7)のいずれかで表される基である。なかでも、Xは、式(X−1)、式(X−3)又は式(X−4)のいずれかで表される基であることが好ましく、式(X−1)又は式(X−4)のいずれかで表される基であることがより好ましい。
の炭素数1〜48の炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基(アルカンテトライル基、アルケンテトライル基、アルキンテトライル基等の鎖式炭化水素基及び単環式又は多環式の脂環式炭化水素基)、芳香族炭化水素基等が挙げられ、これらの基のうち2種以上を組み合わせた4価の炭化水素基(例えば、4価の脂肪族炭化水素基と2価の脂環式炭化水素基を組み合わせた4価の炭化水素基、4価の脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基と1以上の2価の脂肪族炭化水素基とを組み合わせた4価の炭化水素基、3価又は4価の脂環式炭化水素基及び/又は芳香族炭化水素基とアルカンジイル基とを組み合わせた4価の炭化水素基等)であってもよい。
[Compounds represented by Formula (IA) and Formula (IB)]
The compound of the present invention may be a compound represented by the formula (IA) (hereinafter, sometimes referred to as “compound (IA)”) and a compound represented by the formula (IB) (hereinafter, referred to as “compound (IB)”) ).
In formula (IA) and Formula (IB), X 1 and X 2 is a group represented by any one of formula (X 1 -1) ~ Formula (X 1 -7). Of these, X 1 is the formula (X 1 -1), wherein (X 1 -3) or is preferably a group represented by any one of formulas (X 1 -4), formula (X 1 -1 ) or more preferably a group represented by any one of formulas (X 1 -4).
Examples of the hydrocarbon group having 1 to 48 carbon atoms of L 1 include an aliphatic hydrocarbon group (a chain hydrocarbon group such as an alkanetetrayl group, an alkenetetrayl group, and an alkynetetrayl group; a monocyclic or polycyclic hydrocarbon group). Alicyclic hydrocarbon groups), aromatic hydrocarbon groups, and the like, and a tetravalent hydrocarbon group (for example, a tetravalent aliphatic hydrocarbon group and a divalent hydrocarbon group) obtained by combining two or more of these groups. A tetravalent hydrocarbon group obtained by combining an alicyclic hydrocarbon group of the above, a tetravalent alicyclic hydrocarbon group or a tetravalent obtained by combining an aromatic hydrocarbon group with one or more divalent aliphatic hydrocarbon groups Hydrocarbon group, a trivalent or tetravalent alicyclic hydrocarbon group and / or a tetravalent hydrocarbon group obtained by combining an aromatic hydrocarbon group and an alkanediyl group).

アルカンテトライル基としては、メタンテトライル基、エタンテトライル基、プロパンテトライル基、ブタンテトライル基、ペンタンテトライル基、ヘキサンテトライル基、ヘプタンテトライル基、オクタンテトライル基、ノナンテトライル基、デカンテトライル基、ウンデカンテトライル基、ドデカンテトライル基等の直鎖状又は分岐状アルカンテトライル基が挙げられる。
アルケンテトライル基としては、エテンテトライル基、プロペンテトライル基、イソプロペンテトライル基、ブテンテトライル基、イソブテンテトライル基、tert−ブテンテトライル基、ペンテンテトライル基、ヘキセンテトライル基、ヘプテンテトライル基、オクチンテトライル基、イソオクチンテトライル基、ノネンテトライル基が挙げられる。
アルキンテトライル基としては、プロピンテトライル基、イソプロピンテトライル基、ブチンテトライル基、イソブチンテトライル基、tert−ブチンテトライル基、ペンチンテトライル基、ヘキシンテトライル基、オクチンテトライル基、ノニンテトライル基等が挙げられる。
単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロブタンテトライル基、シクロペンタンテトライル基、シクロヘキサンテトライル基、シクロヘキセンテトライル基、シクロオクタンテトライル基等の単環式シクロアルカンテトライル基が挙げられる。
多環式の脂環式炭化水素基としては、ノルボルナンテトライル基、ノルボルナンテトライル基、5−ノルボルネンテトライル基、アダマンタンテトライル基、アダマンタンテトライル基等の多環式シクロアルカンテトライル基が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、ベンゼンテトライル基、ナフタレンテトライル基、アントラセンテトライル基等が挙げられる。
2種以上を組み合わせた炭化水素基としては、鎖式炭化水素基と脂環式炭化水素基及び/又は芳香族炭化水素基とを組み合わせた基等が挙げられ、具体的には、アルカンテトライル基と1価の脂環式炭化水素基及び/又は芳香族炭化水素基とを組み合わせた基、アルカンテトライル基に含まれるメチレン基が2価の脂環式炭化水素基及び/又は2価の芳香族炭化水素基に置き換わった基、3価又は4価の脂環式炭化水素基及び/又は芳香族炭化水素基とアルカンジイル基とを組み合わせた基が挙げられる。
Examples of the alkanetetrayl group include a methanetetrayl group, an ethanetetrayl group, a propanetetrayl group, a butanetetrayl group, a pentanetetrayl group, a hexanetetrayl group, a heptanetetrayl group, an octanetetrayl group, and a nonanetetrayl group. And linear or branched alkanetetrayl groups such as a group, a decanetetrayl group, an undecanetetrayl group, and a dodecanetetrayl group.
Examples of the alkenetetrayl group include an ethenetetrayl group, a propenetetrayl group, an isopropenetetrayl group, a butenetetrayl group, an isobutenetetrayl group, a tert-butenetetrayl group, a pentenetetrayl group, a hexenetetrayl group, Examples include a heptenetetrayl group, an octynetetrayl group, an isooctynetetrayl group, and a nonenetetrayl group.
Examples of the alkynetetrayl group include a propynetetrayl group, an isopropynetetrayl group, a butynetetrayl group, an isobutynetetrayl group, a tert-butynetetrayl group, a pentynetetrayl group, a hexynetetrayl group, and an octynetetrayl group. And an yl group and a nonintetrayl group.
Examples of the monocyclic alicyclic hydrocarbon group include a monocyclic cycloalkanetetrayl group such as a cyclobutanetetrayl group, a cyclopentanetetrayl group, a cyclohexanetetrayl group, a cyclohexenetetrayl group, and a cyclooctanetetrayl group. No.
Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include a polycyclic cycloalkanetetrayl group such as a norbornanetetrayl group, a norbornanetetrayl group, a 5-norbornenetetrayl group, an adamantanetetrayl group, and an adamantanetetrayl group. No.
Examples of the aromatic hydrocarbon group include a benzenetetrayl group, a naphthalenetetrayl group, and an anthracenetetrayl group.
Examples of the hydrocarbon group in which two or more kinds are combined include a group in which a chain hydrocarbon group and an alicyclic hydrocarbon group and / or an aromatic hydrocarbon group are combined, and specifically, alkanetetrayl A group obtained by combining a group with a monovalent alicyclic hydrocarbon group and / or an aromatic hydrocarbon group, wherein the methylene group contained in the alkanetetrayl group is a divalent alicyclic hydrocarbon group and / or a divalent alicyclic hydrocarbon group. Examples thereof include a group substituted by an aromatic hydrocarbon group, a trivalent or tetravalent alicyclic hydrocarbon group, and / or a group obtained by combining an aromatic hydrocarbon group with an alkanediyl group.

の炭化水素基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基等が挙げられる。
ヒドロキシ基(メチル基中に含まれる−CH2−が、−O−に置き換わった基)、カルボキシ基(エチル基中に含まれる−CH2−CH2−が、−O−CO−に置き換わった基)、炭素数1〜12のアルコキシ基(炭素数2〜13のアルキル基中に含まれる−CH2−が、−O−に置き換わった基)、炭素数2〜13のアルコキシカルボニル基(炭素数4〜15のアルキル基中に含まれる−CH2−CH2−が、−O−CO−に置き換わった基)、炭素数2〜13のアルキルカルボニル基(炭素数3〜14のアルキル基中に含まれる−CH2−が、−CO−に置き換わった基)、炭素数2〜13のアルキルカルボニルオキシ基(炭素数4〜15のアルキル基中に含まれる−CH2−CH2−が、−CO−O−に置き換わった基)は、炭化水素基に含まれる−CH2−が、−O−又は−CO−に置き換わった基とする。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
炭素数1〜12のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基等が挙げられる。
炭素数2〜13のアルコキシカルボニル基、炭素数2〜13のアルキルカルボニル基及び炭素数2〜13のアルキルカルボニルオキシ基は、上述したアルキル基又はアルコキシ基にカルボニル基又はカルボニルオキシ基が結合した基を表す。
炭素数2〜13のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等が挙げられ、炭素数2〜13のアルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられ、炭素数2〜13のアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基等が挙げられる。
で表される炭素数1〜48の4価の炭化水素基は、1つの置換基又は複数の置換基を有していてもよい。
Examples of the substituent which the hydrocarbon group of L 1 may have include a halogen atom and a cyano group.
A hydroxy group (a group in which —CH 2 — contained in a methyl group is replaced by —O—), a carboxy group (a —CH 2 —CH 2 — contained in an ethyl group is replaced by —O—CO—) Group), an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms (a group in which —CH 2 — contained in an alkyl group having 2 to 13 carbon atoms is replaced by —O—), an alkoxycarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms (carbon A group in which —CH 2 —CH 2 — contained in the alkyl group of Formulas 4 to 15 is replaced by —O—CO—, an alkylcarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms (an alkyl group having 3 to 14 carbon atoms) Is a group in which -CH 2 -is replaced by -CO-), an alkylcarbonyloxy group having 2 to 13 carbon atoms (-CH 2 -CH 2- included in an alkyl group having 4 to 15 carbon atoms is -CO-O-) is a hydrocarbon -CH 2 contained in - is a group replaced by -O- or -CO-.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
Examples of the alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms include methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, pentyloxy, hexyloxy, octyloxy, 2-ethylhexyloxy, nonyloxy, decyloxy, undecyloxy. Group, dodecyloxy group and the like.
An alkoxycarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms and an alkylcarbonyloxy group having 2 to 13 carbon atoms are the above-mentioned alkyl or alkoxy groups to which a carbonyl or carbonyloxy group is bonded. Represents
Examples of the alkoxycarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, and a butoxycarbonyl group. Examples of the alkylcarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms include an acetyl group, a propionyl group, and a butyryl group. Examples of the alkylcarbonyloxy group having 2 to 13 carbon atoms include an acetyloxy group, a propionyloxy group, and a butyryloxy group.
Tetravalent hydrocarbon group of 1 to 48 carbon atoms represented by L 1 may have one substituent or more substituents.

の炭素数1〜48の炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO−に置き換わっていてもよい。
の炭素数1〜48の炭化水素基が置換基を有する場合又は該炭化水素基に含まれる−CH−が−O−、−S−、−CO−又は−SO−に置き換わっている場合、置き換わる前の炭素数を該炭化水素基の炭素数とする。
-CH 2 contained in the hydrocarbon group of 1 to 48 carbon atoms L 1 - is, -O -, - S -, - CO- or -SO 2 - may be replaced with.
Is -O - -, - -CH 2 hydrocarbon group of 1 to 48 carbon atoms of L 1 is contained in a case or the hydrocarbon group having a substituent S -, - CO- or -SO 2 - in the replaced by In this case, the number of carbon atoms before replacement is the number of carbon atoms of the hydrocarbon group.

1は、式(L1A)又は式(L1B)で表される基であることが好ましい。
[式(IIA)及び式(IIB)中、
及びL4'は、それぞれ独立に、単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1〜24の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO−に置き換わっていてもよい。
及びLは、それぞれ独立に、単結合又は炭素数1〜4のアルカンジイル基を表す。
3'は、炭素数1〜4のアルカントリイル基を表す。
*aはXとの結合部位を表し、*bは酸素原子又はXとの結合部位を表し、*cは−ORにおける酸素原子との結合部位を表し、*dは−ORにおける酸素原子との結合部位を表す。]
L 1 is preferably a group represented by the formula (L 1 A) or the formula (L 1 B).
[In the formulas (IIA) and (IIB),
L 4 and L 4 ′ each independently represent a single bond or a hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms which may have a substituent, and -CH 2- contained in the hydrocarbon group is- O -, - S -, - CO- or -SO 2 - may be replaced with.
L 2 and L 3 each independently represent a single bond or an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms.
L 3 ′ represents an alkanetriyl group having 1 to 4 carbon atoms.
* A represents a bonding site with X 1, * b represents a bonding site with an oxygen atom or X 2, * c represents the binding site to the oxygen atoms in the -OR 3, * d is the -OR 4 Represents a bonding site to an oxygen atom. ]

及びL4'の炭素数1〜24の炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基(アルカンジイル基、アルケンジイル基、アルキンジイル基等の鎖式炭化水素基及び単環式又は多環式の2価の脂環式炭化水素基)、芳香族炭化水素基等が挙げられ、これらの基のうち2種以上を組み合わせた2価の炭化水素基であってもよい。 Examples of the hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms of L 4 and L 4 ′ include aliphatic hydrocarbon groups (chain hydrocarbon groups such as alkanediyl group, alkenediyl group, and alkynediyl group, and monocyclic or polycyclic hydrocarbon groups). A divalent alicyclic hydrocarbon group), an aromatic hydrocarbon group, and the like, and a divalent hydrocarbon group obtained by combining two or more of these groups may be used.

アルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基、ヘプタン−1,7−ジイル基、オクタン−1,8−ジイル基、ノナン−1,9−ジイル基、デカン−1,10−ジイル基、ウンデカン−1,11−ジイル基、ドデカン−1,12−ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;
エタン−1,1−ジイル基、プロパン−1,1−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、プロパン−2,2−ジイル基、ペンタン−2,4−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基、ペンタン−1,4−ジイル基、2−メチルブタン−1,4−ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。
アルケンジイル基としては、エテンジイル基、プロペンジイル基、イソプロペンジイル基、ブテンジイル基、イソブテンジイル基、tert−ブテンジイル基、ペンテンジイル基、ヘキセンジイル基、ヘプテンジイル基、オクチンジイル基、イソオクチンジイル基、ノネンジイル基が挙げられる。
アルキンジイル基としては、エチンジイル基、プロピンジイル基、イソプロピンジイル基、ブチンジイル基、イソブチンジイル基、tert−ブチンジイル基、ペンチンジイル基、ヘキシンジイル基、オクチンジイル基、ノニンジイル基等が挙げられる。
単環式の2価の脂環式炭化水素基としては、シクロブタン−1,3−ジイル基、シクロペンタン−1,3−ジイル基、シクロヘキサン−1,4−ジイル基、シクロヘキセン−3,6−ジイル基、シクロオクタン−1,5−ジイル基等の単環式シクロアルカンジイル基が挙げられる。
多環式の2価の脂環式炭化水素基としては、ノルボルナン−1,4−ジイル基、ノルボルナン−2,5−ジイル基、5−ノルボルネン−2,3−ジイル基、アダマンタン−1,5−ジイル基、アダマンタン−2,6−ジイル基等の多環式シクロアルカンジイル基が挙げられる。
2価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基、アントリレン基、ビフェニレン基、フェナントリレン基等が挙げられる。
2種以上を組み合わせた炭化水素基としては、鎖式炭化水素基と脂環式炭化水素基及び/又は芳香族炭化水素基とを組み合わせた基等が挙げられ、具体的には、アルカンジイル基と脂環式炭化水素基及び/又は芳香族炭化水素基とを組み合わせた基等が挙げられ、−シクロアルカンジイル基−アルカンジイル基−、−アルカンジイル基−シクロアルカンジイル基−、−アルカンジイル基−シクロアルカンジイル基−アルカンジイル基−、−アルカンジイル基−芳香族炭化水素基−、−芳香族炭化水素基−アルカンジイル基−等が挙げられる。
Examples of the alkanediyl group include a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a butane-1,4-diyl group, a pentane-1,5-diyl group, a hexane-1,6-diyl group, and a heptane- 1,7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane-1,9-diyl group, decane-1,10-diyl group, undecane-1,11-diyl group, dodecane-1,12-diyl A linear alkanediyl group such as a group;
Ethane-1,1-diyl group, propane-1,1-diyl group, propane-1,2-diyl group, propane-2,2-diyl group, pentane-2,4-diyl group, 2-methylpropane- Examples include a branched alkanediyl group such as a 1,3-diyl group, a 2-methylpropane-1,2-diyl group, a pentane-1,4-diyl group, and a 2-methylbutane-1,4-diyl group.
Examples of the alkenediyl group include an ethenediyl group, a propenediyl group, an isopropenediyl group, a butenediyl group, an isobutenediyl group, a tert-butenediyl group, a pentenediyl group, a hexenediyl group, a heptenediyl group, an octindiyl group, an isooctindiyl group, and a nonenediyl group. .
Examples of the alkynediyl group include an ethynediyl group, a propyndiyl group, an isopropyndiyl group, a butyndiyl group, an isobutyndiyl group, a tert-butyndiyl group, a pentyndiyl group, a hexynediyl group, an octindiyl group, and a nonindiyl group.
Examples of the monocyclic divalent alicyclic hydrocarbon group include cyclobutane-1,3-diyl, cyclopentane-1,3-diyl, cyclohexane-1,4-diyl, cyclohexene-3,6- And monocyclic cycloalkanediyl groups such as a diyl group and a cyclooctane-1,5-diyl group.
Examples of the polycyclic divalent alicyclic hydrocarbon group include norbornane-1,4-diyl group, norbornane-2,5-diyl group, 5-norbornene-2,3-diyl group, and adamantane-1,5. And polycyclic cycloalkanediyl groups such as -diyl group and adamantane-2,6-diyl group.
Examples of the divalent aromatic hydrocarbon group include a phenylene group, a naphthylene group, an anthrylene group, a biphenylene group, and a phenanthrylene group.
Examples of the hydrocarbon group in which two or more kinds are combined include a group in which a chain hydrocarbon group and an alicyclic hydrocarbon group and / or an aromatic hydrocarbon group are combined, and specifically, an alkanediyl group And a cycloaliphatic hydrocarbon group and / or an aromatic hydrocarbon group. -Cycloalkanediyl group-alkanediyl group-, -alkanediyl group-cycloalkanediyl group-, -alkanediyl Group-cycloalkanediyl group-alkanediyl group-, -alkanediyl group-aromatic hydrocarbon group-, -aromatic hydrocarbon group-alkanediyl group- and the like.

及びL4'の炭化水素基が有していてもよい置換基としては、Lの炭化水素基が有する置換基と同様のものが挙げられる。また、炭化水素基における−CH2−の置き換わりによって包含される基も、Lの炭化水素基と同様である。
及びL4'で表される炭素数1〜24の2価の炭化水素基は、1つの置換基又は複数の置換基を有していてもよい。
Examples of the substituent which the hydrocarbon group of L 4 and L 4 ′ may have include the same substituents as those of the hydrocarbon group of L 1 . Further, the group included by the substitution of —CH 2 — in the hydrocarbon group is the same as the hydrocarbon group of L 1 .
The divalent hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms represented by L 4 and L 4 ′ may have one substituent or a plurality of substituents.

及びL4'の炭素数1〜24の炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO−に置き換わっていてもよい。
及びL4'の炭素数1〜24の炭化水素基が置換基を有する場合又は該炭化水素基に含まれる−CH−が−O−、−S−、−CO−又は−SO−に置き換わっている場合、置き換わる前の炭素数を該炭化水素基の炭素数とする。
-CH 2 contained in the hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms in L 4 and L 4 '- is, -O -, - S -, - CO- or -SO 2 - may be replaced with.
When the hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms of L 4 and L 4 ′ has a substituent or —CH 2 — contained in the hydrocarbon group is —O—, —S—, —CO— or —SO 2 When it is replaced by-, the number of carbon atoms before the replacement is defined as the number of carbon atoms of the hydrocarbon group.

及びL4'は、それぞれ独立に、単結合、炭素数1〜6のアルカンジイル基又は炭素数1〜6のアルカンジイル基と炭素数3〜18の脂環式炭化水素基とを組み合わせた基(前記アルカンジイル基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、前記脂環式炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO−に置き換わっていてもよい)であることが好ましく、
単結合、炭素数1〜6のアルカンジイル基又は*−炭素数3〜18の脂環式炭化水素基−炭素数1〜6のアルカンジイル基(該アルカンジイル基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい)−であることがより好ましく、
単結合、炭素数1〜4のアルカンジイル基又は*−アダマンタンジイル基−炭素数1〜4のアルカンジイル基(該アルカンジイル基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい)−であることがさらに好ましい(*はX1又はX2との結合部位を表す。)。L及びLL4'は、互いに異なる基であってもよいが、同じ基であることが好ましい。
L 4 and L 4 ′ each independently represent a single bond, an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms and an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms. groups (-CH 2 contained in the alkanediyl group - may be replaced by -O- or -CO-, -CH 2 contained in the alicyclic hydrocarbon group - is -O-, —S—, —CO— or —SO 2 —).
Single bond, alkanediyl group or * 1 to 6 carbon atoms - -CH 2 contained in the alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms (said alkanediyl group - - alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms , -O- or -CO-).
Single bond, or alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms * - adamantane-diyl group - alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms (-CH 2 contained in the alkanediyl group - is, -O- or -CO- in (Which may be replaced) is more preferable (* represents a binding site to X 1 or X 2 ). L 4 and LL 4 ′ may be different groups from each other, but are preferably the same groups.

及びLのアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;
エタン−1,1−ジイル基、プロパン−1,1−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、プロパン−2,2−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。
3'のアルカントリイル基としては、メチン基、エチン基、プロパントリイル基、ブタントリイル基等が挙げられる。
及びLは、それぞれ独立に、単結合又は炭素数1〜4のアルカンジイル基であることが好ましく、単結合又はメチレン基であることがより好ましい。L及びLは、互いに異なる基であってもよいが、同じ基であることが好ましい。
3'は、炭素数1〜4のアルカントリイル基であることが好ましく、メチン基又はエチン基であることがより好ましい。
Examples of the alkanediyl group for L 2 and L 3 include a linear alkanediyl group such as a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a butane-1,4-diyl group;
Ethane-1,1-diyl group, propane-1,1-diyl group, propane-1,2-diyl group, propane-2,2-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2- And branched alkanediyl groups such as methylpropane-1,2-diyl group.
Examples of the alkanetriyl group for L 3 ′ include a methine group, an ethyne group, a propanetriyl group, a butanetriyl group, and the like.
L 2 and L 3 are each independently preferably a single bond or an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms, and more preferably a single bond or a methylene group. L 2 and L 3 may be different groups from each other, but are preferably the same groups.
L 3 ′ is preferably an alkanetriyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a methine group or an ethyne group.

、R及びRにおける式(IC)で表される基を有する炭化水素基とは、炭化水素基に、1以上の式(IC)で表される基が置換基として置換されているものを意味する。ここでの炭化水素基は、該炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO−に置き換わっていてもよいし、式(IC)で表される基以外の1又は複数の置換基を有していてもよい。
、R及びRにおける炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基(アルキル基、アルケニル基、アルキニル基等の鎖式炭化水素基及び脂環式炭化水素基)、芳香族炭化水素基及びこれらを組み合わせた基等が挙げられる。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基等のアルキル基が挙げられる。アルキル基の炭素数は、好ましくは1〜9であり、より好ましくは1〜4である。
アルケニル基としては、エテニル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、tert−ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクチニル基、イソオクチニル基、ノネニル基が挙げられる。
アルキニル基としては、エチニル基、プロピニル基、イソプロピニル基、ブチニル基、イソブチニル基、tert−ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシニル基、オクチニル基、ノニニル基等が挙げられる。
脂環式炭化水素基は、単環式、多環式及びスピロ環のいずれでもよく、飽和及び不飽和のいずれでもよい。脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロドデシル基等の単環式シクロアルキル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等の多環式シクロアルキル基が挙げられる。
、R及びRで表される脂環式炭化水素基としては、式(Y1)〜(Y41)で表される基(*は結合部位を表す。)が好ましく、式(Y1)〜式(Y20)、式(Y26)、式(Y27)、式(Y30)、式(Y31)、式(Y39)〜式(Y41)のいずれかで表される基であることがより好ましく、式(Y3)、(Y4)、式(Y9)、式(Y11)、式(Y14)、式(Y15)、式(Y16)、式(Y20)、式(Y30)で表される基であることがさらに好ましい。脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは3〜18であり、より好ましくは3〜16である。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、アントリル基、フェナントリル基、ビナフチル基等のアリール基等が挙げられる。芳香族炭化水素基の炭素数は、好ましくは6〜14であり、より好ましくは6〜10である。芳香族炭化水素基は、後述の組み合わせた基のように、鎖式炭化水素基又は脂環式炭化水素基を有していてもよく、鎖式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、p−エチルフェニル基、p−tert−ブチルフェニル基、2,6−ジエチルフェニル基、2−メチル−6−エチルフェニル基等)、脂環式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(p−シクロへキシルフェニル基、p−アダマンチルフェニル基等)等が挙げられる。
組み合わせた基とは、
脂環式炭化水素基と鎖式炭化水素基(アルキル基、アルケニル基及び/又はアルキニル基)とを組み合わせた基(該鎖式炭化水素基(アルキル基、アルケニル基、アルキニル基)及び該脂環式炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO−に置き換わっていてもよい)、
鎖式炭化水素基(アルキル基、アルケニル基及び/又はアルキニル基)と芳香族炭化水素基とを組み合わせた基(該鎖式炭化水素基(アルキル基、アルケニル基及び/又はアルキニル基)に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO−に置き換わっていてもよい)、及び
脂環式炭化水素基と芳香族炭化水素基とを組み合わせた基(該脂環式炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO−に置き換わっていてもよい)を表す。なお、組み合わせにおいて、脂環式炭化水素基、鎖式炭化水素基(アルキル基、アルケニル基、アルキニル)基及び芳香族炭化水素基は、それぞれ2種以上を組み合わせてもよい。
具体的には、組み合わせた基としては、
アダマンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基等の脂環式炭化水素基−鎖式炭化水素基−*(該鎖式炭化水素基及び該脂環式炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO−に置き換わっていてもよい)、
メチルアダマンチル基等の鎖式炭化水素基−脂環式炭化水素基−*(該鎖式炭化水素基及び該脂環式炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO−に置き換わっていてもよい)、
トリル基、キシリル基等の鎖式炭化水素基−芳香族炭化水素基−*(該鎖式炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO−に置き換わっていてもよい)、
シクロヘキシルフェニル基等の脂環式炭化水素基−芳香族炭化水素基−*(該脂環式炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO−に置き換わっていてもよい)、
メチルシクロヘキシルメチル基等の鎖式炭化水素基−脂環式炭化水素基−鎖式炭化水素基−*(該鎖式炭化水素基及び該脂環式炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO−に置き換わっていてもよい)、
ベンジル基等の芳香族炭化水素基−鎖式炭化水素基−*(該鎖式炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO−に置き換わっていてもよい)、
トリルメチル基等の鎖式炭化水素基−芳香族炭化水素基−鎖式炭化水素基−*(該鎖式炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO−に置き換わっていてもよい)
等が挙げられる。ここで、*は酸素原子との結合部位を表す。
The hydrocarbon group having a group represented by the formula (IC) in R 3 , R 4 and R 5 refers to a hydrocarbon group in which one or more groups represented by the formula (IC) are substituted as substituents. Means what you have. Hydrocarbon group here, -CH 2 contained in the hydrocarbon group - is, -O -, - S -, - CO- or -SO 2 - may be replaced, in the formula (IC) It may have one or more substituents other than the groups represented.
Examples of the hydrocarbon group for R 3 , R 4 and R 5 include an aliphatic hydrocarbon group (a chain hydrocarbon group such as an alkyl group, an alkenyl group, and an alkynyl group and an alicyclic hydrocarbon group), and an aromatic hydrocarbon group. And a combination thereof.
Examples of the alkyl group include alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group, and a nonyl group. The carbon number of the alkyl group is preferably 1 to 9, more preferably 1 to 4.
Examples of the alkenyl group include an ethenyl group, a propenyl group, an isopropenyl group, a butenyl group, an isobutenyl group, a tert-butenyl group, a pentenyl group, a hexenyl group, a heptenyl group, an octynyl group, an isooctynyl group, and a nonenyl group.
Examples of the alkynyl group include an ethynyl group, a propynyl group, an isopropynyl group, a butynyl group, an isobutynyl group, a tert-butynyl group, a pentynyl group, a hexynyl group, an octynyl group, a noninyl group, and the like.
The alicyclic hydrocarbon group may be monocyclic, polycyclic or spiro ring, and may be saturated or unsaturated. Examples of the alicyclic hydrocarbon group include a monocyclic cycloalkyl group such as a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cyclooctyl group, a cyclononyl group, a cyclodecyl group, and a cyclododecyl group, a norbornyl group, and an adamantyl. And a polycyclic cycloalkyl group such as a group.
As the alicyclic hydrocarbon group represented by R 3 , R 4 and R 5 , groups represented by formulas (Y1) to (Y41) (* represents a bonding site) are preferable, and formula (Y1) And more preferably a group represented by any one of formulas (Y20), (Y26), (Y27), (Y30), (Y31), (Y39) to (Y41), It is a group represented by the formulas (Y3), (Y4), (Y9), (Y11), (Y14), (Y15), (Y16), (Y20), and (Y30). Is more preferable. The number of carbon atoms of the alicyclic hydrocarbon group is preferably 3 to 18, more preferably 3 to 16.
Examples of the aromatic hydrocarbon group include aryl groups such as a phenyl group, a naphthyl group, a biphenyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, and a binaphthyl group. The number of carbon atoms of the aromatic hydrocarbon group is preferably 6 to 14, and more preferably 6 to 10. The aromatic hydrocarbon group may have a chain hydrocarbon group or an alicyclic hydrocarbon group, as in the group described below, and may be an aromatic hydrocarbon group having a chain hydrocarbon group (tolyl group). Group, xylyl group, cumenyl group, mesityl group, p-ethylphenyl group, p-tert-butylphenyl group, 2,6-diethylphenyl group, 2-methyl-6-ethylphenyl group, etc.), alicyclic hydrocarbon And an aromatic hydrocarbon group having a group (p-cyclohexylphenyl group, p-adamantylphenyl group, etc.).
The combined group is
A group obtained by combining an alicyclic hydrocarbon group and a chain hydrocarbon group (alkyl group, alkenyl group and / or alkynyl group) (the chain hydrocarbon group (alkyl group, alkenyl group, alkynyl group) and the alicyclic group); is, -O - - -CH 2 included in the formula hydrocarbon group, - S -, - CO- or -SO 2 - may be replaced by)
A group in which a chain hydrocarbon group (alkyl group, alkenyl group and / or alkynyl group) and an aromatic hydrocarbon group are combined (included in the chain hydrocarbon group (alkyl group, alkenyl group and / or alkynyl group)) —CH 2 — may be replaced by —O—, —S—, —CO— or —SO 2 —), and a group obtained by combining an alicyclic hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group (the is, -O - - -CH 2 contained in the alicyclic hydrocarbon group, - S -, - CO- or -SO 2 - represents a may be replaced with). In the combination, two or more alicyclic hydrocarbon groups, chain hydrocarbon groups (alkyl group, alkenyl group, alkynyl) group and aromatic hydrocarbon group may be used in combination.
Specifically, as the combined group,
Adamantylmethyl group, an alicyclic hydrocarbon group such as a cyclohexylmethyl group - chain hydrocarbon group - * (-CH included in the chain hydrocarbon group and alicyclic hydrocarbon group 2 -, -O- , -S -, - CO- or -SO 2 - may be replaced by)
A chain hydrocarbon group such as a methyl adamantyl group-an alicyclic hydrocarbon group-* (-CH 2- contained in the chain hydrocarbon group and the alicyclic hydrocarbon group is -O-, -S- , -CO- or -SO 2 - may be replaced by)
Tolyl, chain hydrocarbon groups such as a xylyl group - aromatic hydrocarbon radical - * (-CH 2 contained in the chain hydrocarbon group - is, -O -, - S -, - CO- or -SO 2- may be replaced)
Alicyclic hydrocarbon groups such as a phenyl group - an aromatic hydrocarbon radical - * (-CH 2 contained in the alicyclic hydrocarbon group - is, -O -, - S -, - CO- or -SO 2- may be replaced)
Chain hydrocarbon group such as a methyl cyclohexylmethyl group - alicyclic hydrocarbon group - chain hydrocarbon group - * (-CH included in the chain hydrocarbon group and alicyclic hydrocarbon group 2 -, —O—, —S—, —CO— or —SO 2 —).
Aromatic hydrocarbon group such as benzyl group-chain hydrocarbon group- * (-CH 2- contained in the chain hydrocarbon group is -O-, -S-, -CO- or -SO 2- May be replaced),
Chain hydrocarbon groups such as tolylmethyl group - aromatic hydrocarbon radical - chain hydrocarbon group - * (-CH included in the chain hydrocarbon group 2 -, -O -, - S -, - CO- Or -SO 2- )
And the like. Here, * represents a bonding site with an oxygen atom.

で表される炭化水素基としては、好ましくは、置換基を有してもよい炭素数1〜36の脂肪族炭化水素基(但し、該脂肪族炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO−に置き換わっていてもよく、該脂肪族炭化水素基に含まれる水素原子の少なくとも1つは、式(IC)で表される基で置換されている。)であり、
より好ましくは、アルキル基(該アルキル基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該アルキル基に含まれる水素原子の少なくとも1つは、式(IC)で表される基で置換されている。)又は脂環式炭化水素基とアルキル基とを組み合わせた基(該アルキル基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該アルキル基に含まれる水素原子の少なくとも1つは、式(IC)で表される基で置換されている。)であり、
さらに好ましくは、*−アルキル基(該アルキル基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該アルキル基に含まれる水素原子の少なくとも1つは、式(IC)で表される基で置換されている。*は酸素原子との結合部位を表す。)又は*−アルキル基−脂環式炭化水素基−アルキル基(該アルキル基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該アルキル基に含まれる水素原子の少なくとも1つは、式(IC)で表される基で置換されている。*は酸素原子との結合部位を表す。)である。
The hydrocarbon group represented by R 3 is preferably an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 36 carbon atoms which may have a substituent (provided that —CH 2 — contained in the aliphatic hydrocarbon group is included). May be replaced by —O—, —S—, —CO— or —SO 2 —, and at least one of the hydrogen atoms contained in the aliphatic hydrocarbon group is represented by the formula (IC) Substituted with a group.)
More preferably, an alkyl group (-CH 2- contained in the alkyl group may be replaced by -O- or -CO-, and at least one hydrogen atom contained in the alkyl group is represented by the formula (IC )) Or a combination of an alicyclic hydrocarbon group and an alkyl group (-CH 2- contained in the alkyl group is replaced by -O- or -CO-. And at least one of the hydrogen atoms contained in the alkyl group is substituted with a group represented by the formula (IC).
More preferably, a * -alkyl group (-CH 2- contained in the alkyl group may be replaced by -O- or -CO-, and at least one hydrogen atom contained in the alkyl group is represented by the formula: (IC represents a bonding site to an oxygen atom.) Or * -alkyl group-alicyclic hydrocarbon group-alkyl group (-CH contained in the alkyl group) 2- may be replaced by -O- or -CO-, and at least one of the hydrogen atoms contained in the alkyl group is replaced by a group represented by the formula (IC). Represents a bonding site with an atom).

及びRで表される炭化水素基としては、好ましくは、水素原子又は置換基を有してもよい炭素数1〜36の脂肪族炭化水素基(但し、該脂肪族炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO−に置き換わっていてもよく、該脂肪族炭化水素基に含まれる水素原子の少なくとも1つは、式(IC)で表される基で置換されていてもよい。)であり、
より好ましくは、水素原子、アルキル基(該アルキル基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該アルキル基に含まれる水素原子の少なくとも1つは、式(IC)で表される基で置換されている。)又は脂環式炭化水素基とアルキル基とを組み合わせた基(該アルキル基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該アルキル基に含まれる水素原子の少なくとも1つは、式(IC)で表される基で置換されていてもよい。)であり、
さらに好ましくは、水素原子、*−アルキル基(該アルキル基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該アルキル基に含まれる水素原子の少なくとも1つは、式(IC)で表される基で置換されている。*は酸素原子との結合部位を表す。)又は*−アルキル基−脂環式炭化水素基−アルキル基(該アルキル基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該アルキル基に含まれる水素原子の少なくとも1つは、式(IC)で表される基で置換されていてもよい。*は酸素原子との結合部位を表す。)であり、
より一層好ましくは、水素原子、置換基を有してもよい炭素数1〜36の脂肪族炭化水素基(但し、該脂肪族炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO−に置き換わっていてもよく、該脂肪族炭化水素基に含まれる水素原子の少なくとも1つは、式(IC)で表される基で置換されている。)であり、
さらに一層好ましくは、水素原子、アルキル基(該アルキル基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該アルキル基に含まれる水素原子の少なくとも1つは、式(IC)で表される基で置換されている。)又は脂環式炭化水素基とアルキル基とを組み合わせた基(該アルキル基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該アルキル基に含まれる水素原子の少なくとも1つは、式(IC)で表される基で置換されている。)であり、
特に好ましくは、水素原子、*−アルキル基(該アルキル基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該アルキル基に含まれる水素原子の少なくとも1つは、式(IC)で表される基で置換されている。*は酸素原子との結合部位を表す。)又は*−アルキル基−脂環式炭化水素基−アルキル基(該アルキル基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該アルキル基に含まれる水素原子の少なくとも1つは、式(IC)で表される基で置換されている。*は酸素原子との結合部位を表す。)である。
As the hydrocarbon group represented by R 4 and R 5 , preferably a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 36 carbon atoms which may have a substituent (provided that the aliphatic hydrocarbon group —CH 2 — contained therein may be replaced by —O—, —S—, —CO— or —SO 2 —, and at least one of the hydrogen atoms contained in the aliphatic hydrocarbon group is represented by the formula ( IC) may be substituted.)
More preferably, a hydrogen atom, an alkyl group (-CH 2- contained in the alkyl group may be replaced by -O- or -CO-, and at least one hydrogen atom contained in the alkyl group is Substituted with a group represented by the formula (IC)) or a group obtained by combining an alicyclic hydrocarbon group with an alkyl group (-CH 2- contained in the alkyl group is -O- or -CO And at least one of the hydrogen atoms contained in the alkyl group may be substituted with a group represented by the formula (IC).
More preferably, a hydrogen atom, * -alkyl group (-CH 2- contained in the alkyl group may be replaced by -O- or -CO-, and at least one of the hydrogen atoms contained in the alkyl group Is substituted with a group represented by the formula (IC). * Represents a bonding site to an oxygen atom.) Or * -alkyl group-alicyclic hydrocarbon group-alkyl group (included in the alkyl group) —CH 2 — may be replaced by —O— or —CO—, and at least one of the hydrogen atoms contained in the alkyl group may be substituted with a group represented by the formula (IC). * Represents a bonding site to an oxygen atom.)
Even more preferably, a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 36 carbon atoms which may have a substituent (provided that -CH 2- contained in the aliphatic hydrocarbon group is -O-,- S -, - CO- or -SO 2 - may be replaced, at least one of the hydrogen atoms contained in the aliphatic hydrocarbon group is substituted with a group represented by the formula (IC). )
Even more preferably, a hydrogen atom, an alkyl group (-CH 2 contained in the alkyl group - may be replaced by -O- or -CO-, at least one of the hydrogen atoms contained in the alkyl group , A group represented by the formula (IC)) or a combination of an alicyclic hydrocarbon group and an alkyl group (-CH 2- contained in the alkyl group is -O- or- CO-, and at least one of the hydrogen atoms contained in the alkyl group is substituted with a group represented by the formula (IC).
Particularly preferably, a hydrogen atom, * -alkyl group (-CH 2- contained in the alkyl group may be replaced by -O- or -CO-, and at least one hydrogen atom contained in the alkyl group is Is substituted with a group represented by the formula (IC). * Represents a bonding site to an oxygen atom.) Or * -alkyl group-alicyclic hydrocarbon group-alkyl group (included in the alkyl group) —CH 2 — may be replaced by —O— or —CO—, and at least one of the hydrogen atoms contained in the alkyl group is substituted with a group represented by the formula (IC). * Represents a bonding site with an oxygen atom.)

式(IC)で表される基は、以下のとおりである。
[式(IC)中、
Aは、炭素数1〜12の飽和炭化水素基を表す。
u1は、0〜2のいずれかの整数を表し、u1が2である場合、複数のRAは同一であるか、相異なる。
s1は、1又は2を表す。
t1は、0又は1を表す。但し、s1とt1との和は、1又は2である。
*は、結合部位を表す。]
The groups represented by the formula (IC) are as follows.
[In the formula (IC),
RA represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
u1 represents an integer of 0 to 2, when u1 is 2, or a plurality of R A are the same, different.
s1 represents 1 or 2.
t1 represents 0 or 1. However, the sum of s1 and t1 is 1 or 2.
* Represents a binding site. ]

s1は1であることが好ましく、t1は1であることが好ましく、s1とt1との和は1又は2であることが好ましく、s1とt1との和が2であることがより好ましい。
式(IC)で表される基としては、以下で表される基であることが好ましい。
s1 is preferably 1, t1 is preferably 1, the sum of s1 and t1 is preferably 1 or 2, and more preferably the sum of s1 and t1 is 2.
The group represented by the formula (IC) is preferably a group represented by the following.

式(IC)で表される基において、u1が1である場合、下記式で表される基も式(IC)に含まれる。
の飽和炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基及びこれらの組み合わせが挙げられる。
のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基等のアルキル基が挙げられる。アルキル基の炭素数は、好ましくは1〜9であり、より好ましくは1〜4である。
脂環式炭化水素基は、単環式、多環式及びスピロ環のいずれでもよい。脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロドデシル基等の単環式シクロアルキル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等の多環式シクロアルキル基が挙げられる。
When u1 is 1 in the group represented by the formula (IC), a group represented by the following formula is also included in the formula (IC).
Examples of the saturated hydrocarbon group for RA include an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group, and a combination thereof.
Examples of the alkyl group of RA include an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group, and a nonyl group. The carbon number of the alkyl group is preferably 1 to 9, more preferably 1 to 4.
The alicyclic hydrocarbon group may be any of a monocyclic, polycyclic and spiro ring. Examples of the alicyclic hydrocarbon group include a monocyclic cycloalkyl group such as a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cyclooctyl group, a cyclononyl group, a cyclodecyl group, and a cyclododecyl group, a norbornyl group, and an adamantyl. And a polycyclic cycloalkyl group such as a group.

、R及びRで表される炭化水素基における式(IC)で表される基以外の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、Lで例示したものと同様のものが挙げられる。
また、炭化水素基における−CH2−の置き換わりによって包含される基、つまり、ヒドロキシ基、カルボキシ基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数2〜13のアルコキシカルボニル基、炭素数2〜13のアルキルカルボニル基、炭素数2〜13のアルキルカルボニルオキシ基についてもLと同様である。
、R及びRで表される炭化水素基に含まれる−CH2−が−O−、−S−、−CO−又は−SO−に置き換わっている場合、置き換わる前の炭素数を該炭化水素基の総炭素数とする。また、R、R及びRで表される炭化水素基に、式(IC)等の置換基が結合する場合、置換する前の炭素数を該炭化水素基の総炭素数とする。
Examples of the substituent other than the group represented by the formula (IC) in the hydrocarbon group represented by R 3 , R 4 and R 5 include a halogen atom and a cyano group.
The halogen atom include the same ones as exemplified for L 1.
Further, a group included by the substitution of —CH 2 — in the hydrocarbon group, that is, a hydroxy group, a carboxy group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms, and 2 to 13 carbon atoms alkylcarbonyl group, is the same as L 1 for alkylcarbonyloxy group 2 to 13 carbon atoms.
When —CH 2 — contained in the hydrocarbon group represented by R 3 , R 4, and R 5 is replaced with —O—, —S—, —CO—, or —SO 2 —, the number of carbon atoms before the replacement. Is the total carbon number of the hydrocarbon group. When a substituent such as Formula (IC) is bonded to the hydrocarbon group represented by R 3 , R 4, and R 5 , the number of carbon atoms before substitution is defined as the total number of carbon atoms of the hydrocarbon group.

化合物(IA)としては、例えば、以下の化合物が挙げられる。
Examples of the compound (IA) include the following compounds.

式(IA−1)〜式(IA−10)、式(IA−12)、式(IA−14)、式(IA−16)〜式(IA−32)で表される化合物において、式(IA)のRに相当するメチル基が水素原子に置き換わった化合物並びに式(IA−11)、式(IA−13)、式(IA−15)で表される化合物において、式(IA)のRに相当する水素原子がメチル基に置き換わった化合物も、化合物(IA)の具体例として挙げることができる。なかでも、式(IA−1)〜式(IA−12)、式(IA−17)〜式(IA−18)、式(IA−23)〜式(IA−26)で表される化合物が好ましい。 In the compounds represented by the formulas (IA-1) to (IA-10), (IA-12), (IA-14), and (IA-16) to (IA-32), IA) In the compounds in which the methyl group corresponding to R 1 in IA) has been replaced by a hydrogen atom, and the compounds represented by the formulas (IA-11), (IA-13) and (IA-15), Compounds in which the hydrogen atom corresponding to R 1 has been replaced by a methyl group can also be mentioned as specific examples of compound (IA). Among them, the compounds represented by the formulas (IA-1) to (IA-12), (IA-17) to (IA-18), (IA-23) to (IA-26) preferable.

化合物(IB)としては、例えば、以下の化合物が挙げられる。
As the compound (IB), for example, the following compounds can be mentioned.

式(IB−1)〜式(IB−10)、式(IB−12)、式(IB−14)、式(IB−16)〜式(IB−26)で表される化合物において、式(IB)のR及びRに相当するメチル基が水素原子に置き換わった化合物並びに式(IB−11)、式(IB−13)、式(IB−15)で表される化合物において、式(IB)のR及びRに相当する水素原子がメチル基に置き換わった化合物も、化合物(IB)の具体例として挙げることができる。なかでも、式(IB−1)〜式(IB−12)、式(IB−17)〜式(IB−18)、式(IB−23)〜式(IB−26)で表される化合物が好ましい。 In the compounds represented by the formulas (IB-1) to (IB-10), (IB-12), (IB-14), (IB-16) to (IB-26), In a compound in which a methyl group corresponding to R 1 and R 2 in IB) is replaced by a hydrogen atom, and a compound represented by formula (IB-11), formula (IB-13) or formula (IB-15), Compounds in which the hydrogen atoms corresponding to R 1 and R 2 in IB) have been replaced with methyl groups can also be mentioned as specific examples of compound (IB). Among them, the compounds represented by the formulas (IB-1) to (IB-12), (IB-17) to (IB-18), (IB-23) to (IB-26) preferable.

<化合物(IA)又は化合物(IB)の製造方法>
化合物(IA)において、
、R及びRが、それぞれ独立に、式(ICI)で表される基である化合物(式(IA1)で表される化合物)、
が水素原子であり、R及びRが、それぞれ独立に、式(ICI)で表される基である化合物(式(IA2)で表される化合物)、
及びRが水素原子であり、Rが、式(ICI)で表される基である化合物(式(IA3)で表される化合物)は、例えば、式(I−b)で表される化合物とカルボニルジイミダゾールとを溶媒中で反応させた後、さらに、式(IA−a)で表される塩と反応させることにより製造することができる。
化合物(IB)において、
及びRが、それぞれ独立に、式(ICI)で表される基である化合物(式(IB1)で表される化合物)、
が水素原子であり、Rが、式(ICI)で表される基である化合物(式(IB2)で表される化合物)は、例えば、式(I−b)で表される化合物とカルボニルジイミダゾールとを溶媒中で反応させた後、さらに、式(IB−a)で表される塩と反応させることにより製造することができる。
(式(ICI)中、s1、t1、u1及びRは、それぞれ前記と同じ意味を表す。L2Iは、置換基を有していてもよい炭素数1〜34の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO−に置き換わっていてもよい。nnは0又は1を表す。*は、酸素原子との結合部位を表す。)
<Method for producing compound (IA) or compound (IB)>
In the compound (IA),
A compound in which R 3 , R 4 and R 5 are each independently a group represented by the formula (ICI) (a compound represented by the formula (IA1));
A compound in which R 5 is a hydrogen atom, and R 3 and R 4 are each independently a group represented by the formula (ICI) (a compound represented by the formula (IA2));
A compound in which R 4 and R 5 are a hydrogen atom and R 3 is a group represented by the formula (ICI) (a compound represented by the formula (IA3)) is, for example, a compound represented by the formula (Ib) After reacting the compound to be reacted with carbonyldiimidazole in a solvent, the compound can be further reacted with a salt represented by the formula (IA-a).
In the compound (IB),
A compound in which R 3 and R 4 are each independently a group represented by the formula (ICI) (a compound represented by the formula (IB1));
The compound (compound represented by formula (IB2)) in which R 4 is a hydrogen atom and R 3 is a group represented by formula (ICI) is, for example, a compound represented by formula (Ib) And carbonyldiimidazole in a solvent, and further reacted with a salt represented by the formula (IB-a).
(In the formula (ICI), s1, t1, u1, and RA each have the same meaning as described above. L 2I represents an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 34 carbon atoms; —CH 2 — contained in the hydrocarbon group may be replaced by —O—, —S—, —CO— or —SO 2 — nn represents 0 or 1. * represents an oxygen atom Represents a binding site.)

(式中、全ての符号は、それぞれ前記と同じ意味を表す。)
この反応における溶媒としては、クロロホルム、アセトニトリル等が挙げられる。
式(IA−a)で表される化合物1モルに対して、式(I−b)で表される化合物を2.6モル以上(好ましくは、3.0モル以上)反応させると式(IA1)で表される化合物が主生成物として得られる。式(IA−a)で表される化合物1モルに対して、式(I−b)で表される化合物を1.6〜2.4モル(好ましくは、1.8〜2.2モル)反応させると式(IA2)で表される化合物が主生成物として得られる。式(IA−a)で表される化合物1モルに対して、式(I−b)で表される化合物を0.6〜1.4モル(好ましくは、0.8〜1.1モル)反応させると式(IA3)で表される化合物が主生成物として得られる。
式(IB−a)で表される化合物1モルに対して、式(I−b)で表される化合物を1.6モル以上(好ましくは、2.0モル以上)反応させると式(IB1)で表される化合物が主生成物として得られる。式(IB−a)で表される化合物1モルに対して、式(I−b)で表される化合物を0.6モル〜1.4モル(好ましくは、0.8〜1.1モル)反応させると式(IB2)で表される化合物が主生成物として得られる。
反応温度は通常5℃〜80℃であり、反応時間は通常0.5時間〜24時間である。
式(I−b)で表される化合物としては、下記式で表される化合物等が挙げられ、市場より容易に入手することができる。
(In the formula, all symbols represent the same meaning as described above.)
Examples of the solvent in this reaction include chloroform, acetonitrile, and the like.
When 1 mol of the compound represented by the formula (IA-a) is reacted with 2.6 mol or more (preferably 3.0 mol or more) of the compound represented by the formula (Ib), the compound represented by the formula (IA1) is obtained. Is obtained as the main product. 1.6 to 2.4 mol (preferably 1.8 to 2.2 mol) of the compound represented by the formula (Ib) per 1 mol of the compound represented by the formula (IA-a) When reacted, the compound represented by the formula (IA2) is obtained as a main product. The compound represented by the formula (Ib) is used in an amount of 0.6 to 1.4 mol (preferably 0.8 to 1.1 mol) per 1 mol of the compound represented by the formula (IA-a). When reacted, the compound represented by the formula (IA3) is obtained as a main product.
When 1 mol of the compound represented by the formula (IB-a) is reacted with 1.6 mol or more (preferably 2.0 mol or more) of the compound represented by the formula (Ib), the compound represented by the formula (IB1) Is obtained as the main product. The compound represented by the formula (Ib) is used in an amount of 0.6 to 1.4 mol (preferably 0.8 to 1.1 mol) per 1 mol of the compound represented by the formula (IB-a). ) When reacted, the compound represented by the formula (IB2) is obtained as a main product.
The reaction temperature is usually 5 ° C to 80 ° C, and the reaction time is usually 0.5 hours to 24 hours.
Examples of the compound represented by the formula (Ib) include a compound represented by the following formula, which can be easily obtained from the market.

式(IA−a)で表される化合物において、Xが、式(X−1)、式(X−3)又は式(X−4)のいずれかで表される基である化合物(式(I1A−a)で表される化合物)は、式(I1−c1)で表される化合物とカルボニルジイミダゾールとを溶媒中で反応させた後、さらに、式(I−d)で表される化合物と反応させ、酸で処理することにより製造することができる。
式(IB−a)で表される化合物において、X及びXが、それぞれ独立に、式(X−1)、式(X−3)又は式(X−4)のいずれかで表される基である化合物(式(I1B−a)で表される化合物)は、式(I1−c1)で表される化合物と式(I1−c2)で表される化合物とカルボニルジイミダゾールとを溶媒中で反応させた後、さらに、式(I−d)で表される化合物と反応させ、酸で処理することにより製造することができる。
(式中、R1、L1、及びRは、それぞれ前記と同じ意味を表す。X1A及びX2Aは、単結合1,4−フェニレン基、又は−CO−O−Ar1−*を表し、Ar1は1,4−フェニレン基を表す。*はカルボニル基の炭素原子との結合部位を表す。)
溶媒としては、テトラヒドロフラン、クロロホルム及びアセトニトリルなどが挙げられる。
酸としては、p−トルエンスルホン酸、硫酸、塩酸等が挙げられる。
反応温度は通常0℃〜80℃であり、反応時間は通常0.5時間〜24時間である。
式(I1−c1)及び式(I1−c2)で表される化合物としては、下記式で表される化合物等が挙げられ、市場より容易に入手することができる。
式(I−d)で表される化合物としては、下記式で表される化合物等が挙げられ、市場より容易に入手でき、また、公知の合成方法により容易に製造できる。
In the compounds of the formula (IA-a), X 1 is the formula (X 1 -1), a group represented by any one of formulas (X 1 -3) or Formula (X 1 -4) The compound (compound represented by the formula (I1A-a)) is obtained by reacting a compound represented by the formula (I1-c1) with carbonyldiimidazole in a solvent, and further reacting the compound represented by the formula (Id) The compound can be produced by reacting with the compound represented by the formula and treating with an acid.
In the compounds of the formula (IB-a), X 1 and X 2 are, each independently, formula (X 1 -1), any of the formulas (X 1 -3) or Formula (X 1 -4) (A compound represented by the formula (I1B-a)), a compound represented by the formula (I1-c1), a compound represented by the formula (I1-c2) and carbonyldiimidazole Is reacted in a solvent, and further reacted with a compound represented by the formula (Id), followed by treatment with an acid.
(Wherein, R 1 , L 1 , and R 2 each have the same meaning as described above. X 1A and X 2A represent a single bond 1,4-phenylene group or —CO—O—Ar 1 — * And Ar 1 represents a 1,4-phenylene group. * Represents a bonding site to a carbon atom of a carbonyl group.)
Examples of the solvent include tetrahydrofuran, chloroform and acetonitrile.
Examples of the acid include p-toluenesulfonic acid, sulfuric acid, hydrochloric acid and the like.
The reaction temperature is usually 0 ° C to 80 ° C, and the reaction time is usually 0.5 hours to 24 hours.
Examples of the compounds represented by the formulas (I1-c1) and (I1-c2) include the compounds represented by the following formulas, which can be easily obtained from the market.
Examples of the compound represented by the formula (Id) include a compound represented by the following formula and the like, which can be easily obtained from the market, and can be easily produced by a known synthesis method.

式(IA−a)で表される化合物において、Xが、式(X−2)又は式(X−5)で表される基である化合物(式(I2A−a)で表される化合物)は、式(I2−c1)で表される化合物と式(I−d)で表される化合物とを、塩基存在下、溶媒中で反応させた後、酸で処理することにより製造することができる。
式(IB−a)で表される化合物において、X及びXが、それぞれ独立に、式(X−2)又は式(X−5)で表される基である化合物(式(I2B−a)で表される化合物)は、式(I2−c1)で表される化合物と式(I2−c2)で表される化合物と式(I−d)で表される化合物とを、塩基存在下、溶媒中で反応させた後、酸で処理することにより製造することができる。
(式中、R1、L1及びRは、それぞれ前記と同じ意味を表す。X1B及びX2Bは、−Ar1−*又は−CO−O−Ar1−*を表す。Arは1,4−フェニレン基を表す。*は酸素原子との結合部位を表す。)
溶媒としては、テトラヒドロフラン、クロロホルム及びアセトニトリルなどが挙げられる。
塩基としては、水酸化カリウムなどが挙げられる。
酸としては、p−トルエンスルホン酸、硫酸、塩酸等が挙げられる。
反応温度は通常0℃〜80℃であり、反応時間は通常0.5時間〜24時間である。
式(I2−c1)及び式(I2−c2)で表される化合物としては、下記式で表される化合物等が挙げられ、市場より容易に入手することができる。
In the compounds of the formula (IA-a), X 1 is represented by the formula (X 1 -2) or compound is a group represented by the formula (X 1 -5) (formula (I2A-a) Is produced by reacting a compound represented by the formula (I2-c1) with a compound represented by the formula (Id) in a solvent in the presence of a base, followed by treatment with an acid. can do.
In the compounds of the formula (IB-a), X 1 and X 2 are, each independently, formula (X 1 -2) or compound is a group represented by the formula (X 1 -5) (formula ( The compound represented by I2B-a) is a compound represented by the formula (I2-c1), a compound represented by the formula (I2-c2) and a compound represented by the formula (Id): It can be produced by reacting in a solvent in the presence of a base and then treating with an acid.
(Wherein, R 1 , L 1 and R 2 each have the same meaning as described above. X 1B and X 2B each represent -Ar 1- * or -CO-O-Ar 1- *. Ar represents 1 , 4-phenylene group. * Represents a bonding site to an oxygen atom.)
Examples of the solvent include tetrahydrofuran, chloroform and acetonitrile.
Examples of the base include potassium hydroxide.
Examples of the acid include p-toluenesulfonic acid, sulfuric acid, hydrochloric acid and the like.
The reaction temperature is usually 0 ° C to 80 ° C, and the reaction time is usually 0.5 hours to 24 hours.
Examples of the compounds represented by the formulas (I2-c1) and (I2-c2) include the compounds represented by the following formulas, and can be easily obtained from the market.

が、式(X−6)又は式(X−7)で表される基である式(I3A−a)で表される化合物は、式(I2−c1)で表される化合物とカルボニルジイミダゾールとを溶剤中で反応させた後、さらに、式(I−d)で表される化合物と反応させた後、酸で処理することにより製造することができる。
及びXが、それぞれ独立に、式(X−6)又は式(X−7)で表される基である式(I3B−a)で表される化合物は、式(I2−c1)で表される化合物と式(I2−c2)で表される化合物とカルボニルジイミダゾールとを溶剤中で反応させた後、さらに、式(I−d)で表される化合物と反応させた後、酸で処理することにより製造することができる。
(式中、全ての符号は、それぞれ前記と同じ意味を表す。)
溶媒としては、テトラヒドロフラン、クロロホルム及びアセトニトリルなどが挙げられる。
酸としては、p−トルエンスルホン酸、硫酸、塩酸等が挙げられる。
反応温度は通常0℃〜80℃であり、反応時間は通常0.5時間〜24時間である。
X 1 has the formula (X 1 -6) or a compound of the formula group a is the formula represented by (X 1 -7) (I3A- a) is a compound represented by the formula (I2-c1) And carbonyldiimidazole in a solvent, and further reacted with a compound represented by the formula (Id), followed by treatment with an acid.
X 1 and X 2 are, each independently, formula (X 1 -6) or a compound of the formula group a is the formula represented by (X 1 -7) (I3B- a) has the formula (I2- After reacting the compound represented by c1) with the compound represented by the formula (I2-c2) and carbonyldiimidazole in a solvent, the compound was further reacted with the compound represented by the formula (Id). Thereafter, it can be produced by treating with an acid.
(In the formula, all symbols represent the same meaning as described above.)
Examples of the solvent include tetrahydrofuran, chloroform and acetonitrile.
Examples of the acid include p-toluenesulfonic acid, sulfuric acid, hydrochloric acid and the like.
The reaction temperature is usually 0 ° C to 80 ° C, and the reaction time is usually 0.5 hours to 24 hours.

〔樹脂〕
本発明の樹脂は、化合物(IA)又は化合物(IB)に由来する構造単位(以下「構造単位(I)」という場合がある。)を含む樹脂(以下「樹脂(A)」という場合がある。)である。樹脂(A)は、構造単位(I)のホモポリマーであってもよいし、構造単位(I)のみからなるコポリマーであってもよいし、構造単位(I)以外の構造単位を1以上含むポリマーであってもよい。
構造単位(I)以外の構造単位としては、酸不安定基を有する構造単位(以下「構造単位(a1)」という場合がある)、酸不安定基を有する構造単位以外の構造単位であってハロゲン原子を有する構造単位(以下「構造単位(a4)」という場合がある)、酸不安定基を有さない構造単位(以下「構造単位(s)」という場合がある)、非脱離炭化水素基を有する構造単位(以下「構造単位(a5)」という場合がある)等が挙げられる。ここで、酸不安定基とは、脱離基を有し、酸との接触により脱離基が脱離して、親水性基(例えば、ヒドロキシ基又はカルボキシ基)を形成する基を意味する。
〔resin〕
The resin of the present invention may be a resin containing a structural unit derived from the compound (IA) or the compound (IB) (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (I)”) (hereinafter sometimes referred to as “resin (A)”). )). The resin (A) may be a homopolymer of the structural unit (I), a copolymer composed of only the structural unit (I), or include one or more structural units other than the structural unit (I). It may be a polymer.
Examples of the structural unit other than the structural unit (I) include a structural unit having an acid labile group (hereinafter, may be referred to as a “structural unit (a1)”) and a structural unit other than a structural unit having an acid labile group. A structural unit having a halogen atom (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (a4)”), a structural unit having no acid labile group (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (s)”), non-desorbed carbonized And a structural unit having a hydrogen group (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (a5)”). Here, the acid labile group means a group that has a leaving group and forms a hydrophilic group (for example, a hydroxy group or a carboxy group) by leaving the leaving group upon contact with an acid.

〈構造単位(a1)〉
構造単位(a1)は、酸不安定基を有するモノマー(以下「モノマー(a1)」という場合がある)から導かれる。
樹脂(A)に含まれる酸不安定基は、式(1)で表される基(以下、基(1)とも記す)及び/又は式(2)で表される基(以下、基(2)とも記す)が好ましい。
[式(1)中、Ra1、Ra2及びRa3は、それぞれ独立に、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数3〜20の脂環式炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表すか、Ra1及びRa2は互いに結合してそれらが結合する炭素原子とともに炭素数3〜20の脂環式炭化水素基を形成する。
ma及びnaは、それぞれ独立して、0又は1を表し、ma及びnaの少なくとも一方は1を表す。
*は結合部位を表す。]
[式(2)中、Ra1'及びRa2'は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜12の炭化水素基を表し、Ra3'は、炭素数1〜20の炭化水素基を表すか、Ra2'及びRa3'は互いに結合してそれらが結合する炭素原子及びXとともに炭素数3〜20の複素環を形成し、該炭化水素基及び該複素環に含まれる−CH−は、−O−又は−S−で置き換わってもよい。
Xは、酸素原子又は硫黄原子を表す。
na’は、0又は1を表す。
*は結合部位を表す。]
<Structural unit (a1)>
The structural unit (a1) is derived from a monomer having an acid labile group (hereinafter, may be referred to as “monomer (a1)”).
The acid labile group contained in the resin (A) includes a group represented by the formula (1) (hereinafter, also referred to as a group (1)) and / or a group represented by the formula (2) (hereinafter, a group (2) ) Is also preferred.
[In the formula (1), R a1 , R a2 and R a3 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms or a group obtained by combining these. R a1 and R a2 are bonded to each other to form an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms together with the carbon atom to which they are bonded.
ma and na each independently represent 0 or 1, and at least one of ma and na represents 1.
* Represents a binding site. ]
[In the formula (2), R a1 ′ and R a2 ′ each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and R a3 ′ represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. Or R a2 ′ and R a3 ′ are bonded to each other to form a heterocyclic ring having 3 to 20 carbon atoms together with the carbon atom and X to which they are bonded, and —CH 2 contained in the hydrocarbon group and the heterocyclic ring; -May be replaced by -O- or -S-.
X represents an oxygen atom or a sulfur atom.
na ′ represents 0 or 1.
* Represents a binding site. ]

a1、Ra2及びRa3におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等が挙げられる。
a1、Ra2及びRa3における脂環式炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基(*は結合部位を表す。)等が挙げられる。Ra1、Ra2及びRa3の脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは3〜16である。
アルキル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基としては、例えば、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、メチルノルボルニル基、シクロヘキシルメチル基、アダマンチルメチル基、アダマンチルジメチル基、ノルボルニルエチル基等が挙げられる。
好ましくは、maは0であり、naは1である。
a1及びRa2が互いに結合して脂環式炭化水素基を形成する場合の−C(Ra1)(Ra2)(Ra3)としては、下記の基が挙げられる。脂環式炭化水素基は、好ましくは炭素数3〜12である。*は−O−との結合部位を表す。
The alkyl group in which R a1, R a2 and a R a3, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group.
The alicyclic hydrocarbon group for R a1 , R a2 and R a3 may be either monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic hydrocarbon group include a cycloalkyl group such as a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include a decahydronaphthyl group, an adamantyl group, a norbornyl group, and the following groups (* represents a binding site). R a1, the number of carbon atoms in the alicyclic hydrocarbon group R a2 and R a3 is preferably 3 to 16.
Examples of a group obtained by combining an alkyl group and an alicyclic hydrocarbon group include, for example, a methylcyclohexyl group, a dimethylcyclohexyl group, a methylnorbornyl group, a cyclohexylmethyl group, an adamantylmethyl group, an adamantyldimethyl group, and a norbornyl group. And an ethyl group.
Preferably, ma is 0 and na is 1.
When R a1 and R a2 are bonded to each other to form an alicyclic hydrocarbon group, examples of —C (R a1 ) (R a2 ) (R a3 ) include the following groups. The alicyclic hydrocarbon group preferably has 3 to 12 carbon atoms. * Represents a binding site to -O-.

a1'、Ra2'及びRa3'における炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。
アルキル基及び脂環式炭化水素基は、Ra1、Ra2及びRa3で挙げた基と同様のものが挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニル基、フェナントリル基等のアリール基等が挙げられる。
組み合わせた基としては、上述したアルキル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基(例えばシクロアルキルアルキル基)、ベンジル基等のアラルキル基、アルキル基を有する芳香族炭化水素基(p−メチルフェニル基、p−tert−ブチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、2,6−ジエチルフェニル基、2−メチル−6−エチルフェニル基等)、脂環式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(p−シクロヘキシルフェニル基、p−アダマンチルフェニル基等)、アリール−シクロアルキル基(フェニルシクロヘキシル基等)等が挙げられる。
a2'及びRa3'が互いに結合してそれらが結合する炭素原子及びXとともに複素環を形成する形成する場合、−C(Ra1')(Ra3')−X−Ra2'としては、下記の基が挙げられる。*は、結合部位を表す。
a1'及びRa2'のうち、少なくとも1つは水素原子であることが好ましい。
na’は、好ましくは0である。
Examples of the hydrocarbon group for R a1 ′ , R a2 ′ and R a3 ′ include an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a group formed by combining these.
Examples of the alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group include the same groups as those described for R a1 , R a2, and R a3 .
Examples of the aromatic hydrocarbon group include an aryl group such as a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a biphenyl group, and a phenanthryl group.
Examples of the combined group include a group obtained by combining the above-described alkyl group and an alicyclic hydrocarbon group (for example, a cycloalkylalkyl group), an aralkyl group such as a benzyl group, and an aromatic hydrocarbon group having an alkyl group (p-methyl). Phenyl group, p-tert-butylphenyl group, tolyl group, xylyl group, cumenyl group, mesityl group, 2,6-diethylphenyl group, 2-methyl-6-ethylphenyl group, etc.) and alicyclic hydrocarbon group. Aromatic hydrocarbon groups (p-cyclohexylphenyl group, p-adamantylphenyl group, etc.) and aryl-cycloalkyl groups (phenylcyclohexyl group, etc.).
When R a2 ′ and R a3 ′ are bonded to each other to form a heterocyclic ring with the carbon atom to which they are bonded and X, —C (R a1 ′ ) (R a3 ′ ) —X—R a2 ′ is And the following groups. * Represents a binding site.
Preferably, at least one of R a1 ′ and R a2 ′ is a hydrogen atom.
na ′ is preferably 0.

基(1)としては、以下の基が挙げられる。
式(1)においてRa1、Ra2及びRa3がアルキル基であり、ma=0であり、na=1である基。当該基としては、tert−ブトキシカルボニル基が好ましい。
式(1)において、Ra1、Ra2が、これらが結合する炭素原子と一緒になってアダマンチル基を形成し、Ra3がアルキル基であり、ma=0であり、na=1である基。
式(1)において、Ra1及びRa2がそれぞれ独立してアルキル基であり、Ra3がアダマンチル基であり、ma=0であり、na=1である基。
基(1)としては、具体的には以下の基が挙げられる。*は結合部位を表す。
The group (1) includes the following groups.
In the formula (1), R a1 , R a2 and R a3 are alkyl groups, ma = 0 and na = 1. As the group, a tert-butoxycarbonyl group is preferable.
In the formula (1), R a1 and R a2 together with the carbon atom to which they are attached form an adamantyl group, R a3 is an alkyl group, ma = 0, and na = 1. .
In the formula (1), a group wherein R a1 and R a2 are each independently an alkyl group, R a3 is an adamantyl group, ma = 0, and na = 1.
Specific examples of the group (1) include the following groups. * Represents a binding site.

基(2)の具体例としては、以下の基が挙げられる。*は結合部位を表す。
Specific examples of the group (2) include the following groups. * Represents a binding site.

モノマー(a1)は、好ましくは、酸不安定基とエチレン性不飽和結合とを有するモノマー、より好ましくは酸不安定基を有する(メタ)アクリル系モノマーである。   The monomer (a1) is preferably a monomer having an acid labile group and an ethylenically unsaturated bond, more preferably a (meth) acrylic monomer having an acid labile group.

酸不安定基を有する(メタ)アクリル系モノマーのうち、好ましくは、炭素数5〜20の脂環式炭化水素基を有するものが挙げられる。脂環式炭化水素基のような嵩高い構造を有するモノマー(a1)に由来する構造単位を有する樹脂(A)をレジスト組成物に使用すれば、レジストパターンの解像度を向上させることができる。   Among the (meth) acrylic monomers having an acid labile group, those having an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 20 carbon atoms are preferable. When a resin (A) having a structural unit derived from a monomer (a1) having a bulky structure such as an alicyclic hydrocarbon group is used for a resist composition, the resolution of a resist pattern can be improved.

基(1)を有する(メタ)アクリル系モノマーに由来する構造単位として、好ましくは、式(a1−0)で表される構造単位(以下、構造単位(a1−0)という場合がある。)、式(a1−1)で表される構造単位(以下、構造単位(a1−1)という場合がある。)又は式(a1−2)で表される構造単位(以下、構造単位(a1−2)という場合がある。)が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
[式(a1−0)、式(a1−1)及び式(a1−2)中、
a01、La1及びLa2は、それぞれ独立に、−O−又は−O−(CHk1−CO−O−を表し、k1は1〜7のいずれかの整数を表し、*は−CO−との結合部位を表す。
a01、Ra4及びRa5は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
a02、Ra03及びRa04は、それぞれ独立に、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表す。
a6及びRa7は、それぞれ独立に、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せることにより形成される基を表す。
m1は0〜14のいずれかの整数を表す。
n1は0〜10のいずれかの整数を表す。
n1’は0〜3のいずれかの整数を表す。]
The structural unit derived from the (meth) acrylic monomer having the group (1) is preferably a structural unit represented by the formula (a1-0) (hereinafter, may be referred to as a structural unit (a1-0)). , A structural unit represented by the formula (a1-1) (hereinafter sometimes referred to as a structural unit (a1-1)) or a structural unit represented by the formula (a1-2) (hereinafter, the structural unit (a1- 2).). These may be used alone or in combination of two or more.
[In the formulas (a1-0), (a1-1) and (a1-2),
L a01, L a1 and L a2 each independently, -O- or * -O- (CH 2) k1 -CO -O- the stands, k1 represents an integer of 1-7, and * Represents a binding site to —CO—.
R a01 , R a4 and R a5 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
R a02 , R a03 and R a04 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or a combination thereof.
R a6 and R a7 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or a group formed by combining these.
m1 represents an integer of any of 0 to 14.
n1 represents an integer of any of 0 to 10.
n1 'represents any integer of 0-3. ]

a01、Ra4及びRa5は、好ましくはメチル基である。
a01、La1及びLa2は、好ましくは酸素原子又は*−O−(CHk01−CO−O−であり(但し、k01は、好ましくは1〜4のいずれかの整数、より好ましくは1である。)、より好ましくは酸素原子である。
a02、Ra03、Ra04、Ra6及びRa7におけるアルキル基、脂環式炭化水素基及びこれらを組合せた基としては、式(1)のRa1、Ra2及びRa3で挙げた基と同様の基が挙げられる。
a02、Ra03、及びRa04におけるアルキル基の炭素数は、好ましくは1〜6であり、より好ましくはメチル基又はエチル基であり、さらに好ましくはメチル基である。
a6及びRa7におけるアルキル基の炭素数は、好ましくは1〜6であり、より好ましくはメチル基、エチル基又はイソプロピル基であり、さらに好ましくはエチル基又はイソプロピル基である。
a02、Ra03及びRa04の脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは5〜12であり、より好ましくは5〜10である。
アルキル基と脂環式炭化水素基とを組合せた基は、これらアルキル基と脂環式炭化水素基とを組合せた合計炭素数が、18以下であることが好ましい。
a02及びRa03は、好ましくは炭素数1〜6のアルキル基であり、より好ましくはメチル基又はエチル基である。
a04は、好ましくは炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数5〜12の脂環式炭化水素基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、シクロヘキシル基又はアダマンチル基である。
a6及びRa7は、好ましくは1〜6のアルキル基であり、より好ましくはメチル基、エチル基又はイソプロピル基であり、さらに好ましくはエチル基又はイソプロピル基である。
m1は、好ましくは0〜3のいずれかの整数であり、より好ましくは0又は1である。
n1は、好ましくは0〜3のいずれかの整数であり、より好ましくは0又は1である。
n1’は好ましくは0又は1である。
R a01 , R a4 and R a5 are preferably a methyl group.
L a01 , L a1 and L a2 are preferably an oxygen atom or * —O— (CH 2 ) k01 —CO—O— (however, k01 is preferably an integer of 1 to 4, more preferably Is 1.), and more preferably an oxygen atom.
Examples of the alkyl group, alicyclic hydrocarbon group and the combination thereof in R a02 , R a03 , R a04 , R a6 and R a7 include the groups listed for R a1 , R a2 and R a3 in the formula (1). And the same groups as mentioned above.
R a02, R a03, and the carbon number of the alkyl group in R a04 is preferably 1 to 6, more preferably methyl group or ethyl group, more preferably a methyl group.
The carbon number of the alkyl group in Ra6 and Ra7 is preferably 1 to 6, more preferably a methyl group, an ethyl group or an isopropyl group, and further preferably an ethyl group or an isopropyl group.
The carbon number of the alicyclic hydrocarbon group of Ra02 , Ra03 and Ra04 is preferably 5 to 12, and more preferably 5 to 10.
The group obtained by combining the alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group preferably has a total carbon number of 18 or less obtained by combining the alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group.
Ra02 and Ra03 are preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably a methyl group or an ethyl group.
Ra04 is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 12 carbon atoms, and more preferably a methyl group, an ethyl group, a cyclohexyl group or an adamantyl group.
R a6 and R a7 are preferably an alkyl group of 1 to 6, more preferably a methyl group, an ethyl group or an isopropyl group, and further preferably an ethyl group or an isopropyl group.
m1 is preferably an integer of any of 0 to 3, and more preferably 0 or 1.
n1 is preferably an integer of any of 0 to 3, and more preferably 0 or 1.
n1 ′ is preferably 0 or 1.

構造単位(a1−0)としては、例えば、式(a1−0−1)〜式(a1−0−12)のいずれかで表される構造単位及び構造単位(a1−0)におけるRa01に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられ、式(a1−0−1)〜式(a1−0−10)のいずれかで表される構造単位が好ましい。
As the structural unit (a1-0), for example, the structural unit represented by any of the formulas (a1-0-1) to (a1-0-12) and R a01 in the structural unit (a1-0) include Examples include a structural unit in which a corresponding methyl group is replaced by a hydrogen atom, and a structural unit represented by any of formulas (a1-0-1) to (a1-0-10) is preferable.

構造単位(a1−1)としては、例えば、特開2010−204646号公報に記載されたモノマーに由来する構造単位が挙げられる。中でも、式(a1−1−1)〜式(a1−1−4)のいずれかで表される構造単位及び構造単位(a1−1)におけるRa4に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が好ましく、式(a1−1−1)〜式(a1−1−4)のいずれかで表される構造単位がより好ましい。
Examples of the structural unit (a1-1) include a structural unit derived from a monomer described in JP-A-2010-204646. Above all, a methyl group corresponding to R a4 in the structural unit represented by any of the formulas (a1-1-1) to (a1-1-4) and the structural unit (a1-1) was replaced with a hydrogen atom. Structural units are preferred, and structural units represented by any of formulas (a1-1-1) to (a1-1-4) are more preferred.

構造単位(a1−2)としては、式(a1−2−1)〜式(a1−2−6)のいずれかで表される構造単位及び構造単位(a1−2)におけるRa5に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられ、式(a1−2−2)、式(a1−2−5)及び式(a1−2−6)で表される構造単位が好ましい。
The structural unit (a1-2) corresponds to the structural unit represented by any of the formulas (a1-2-1) to (a1-2-6) and R a5 in the structural unit (a1-2). Examples include a structural unit in which a methyl group is replaced by a hydrogen atom, and a structural unit represented by Formula (a1-2-2), Formula (a1-2-5), or Formula (a1-2-6) is preferable.

樹脂(A)が構造単位(a1−0)を含む場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、通常1〜50モル%であり、好ましくは3〜40モル%であり、より好ましくは5〜30モル%である。
樹脂(A)が構造単位(a1−1)及び/又は構造単位(a1−2)を含む場合、これらの合計含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、
通常10〜95モル%であり、好ましくは15〜80モル%であり、より好ましくは15〜75モル%であり、さらに好ましくは20〜70モル%であり、さらにより好ましくは20〜65モル%である。
When the resin (A) contains the structural unit (a1-0), its content is usually 1 to 50 mol%, preferably 3 to 40 mol%, based on all structural units of the resin (A). And more preferably 5 to 30 mol%.
When the resin (A) includes the structural unit (a1-1) and / or the structural unit (a1-2), the total content thereof is based on the total structural units of the resin (A).
Usually, it is 10 to 95 mol%, preferably 15 to 80 mol%, more preferably 15 to 75 mol%, still more preferably 20 to 70 mol%, and still more preferably 20 to 65 mol%. It is.

構造単位(a1)において基(2)を有する構造単位としては、式(a1−4)で表される構造単位(以下、「構造単位(a1−4)」という場合がある。)が挙げられる。
[式(a1−4)中、
a32は、水素原子、ハロゲン原子、又は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基を表す。
a33は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数2〜4のアルキルカルボニル基、炭素数2〜4のアルキルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
laは0〜4のいずれかの整数を表す。laが2以上である場合、複数のRa33は互いに同一であっても異なってもよい。
a34及びRa35はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜12の炭化水素基を表し、Ra36は、炭素数1〜20の炭化水素基を表すか、Ra35及びRa36は互いに結合してそれらが結合する−C−O−とともに炭素数2〜20の2価の炭化水素基を形成し、該炭化水素基及び該2価の炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−又は−S−で置き換わってもよい。]
Examples of the structural unit having the group (2) in the structural unit (a1) include a structural unit represented by the formula (a1-4) (hereinafter, sometimes referred to as “structural unit (a1-4)”). .
[In the formula (a1-4),
Ra32 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom.
R a33 represents a halogen atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkylcarbonyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, acryloyl. Represents an oxy group or a methacryloyloxy group.
la represents any integer of 0-4. When la is 2 or more, a plurality of Ra33 may be the same or different from each other.
R a34 and R a35 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, R a36 may represent a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, R a35 and R a36 are bonded to each other To form a divalent hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms together with -CO- to which they are bonded, and -CH 2- contained in the hydrocarbon group and the divalent hydrocarbon group is- It may be replaced by O- or -S-. ]

a32及びRa33におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基等が挙げられる。該アルキル基は、炭素数1〜4のアルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。
a32及びRa33におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等が挙げられる。
ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、1,1,2,2−テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4−オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、2,2,3,3,4,4,5,5,5−ノナフルオロペンチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基及びヘキシルオキシ基等が挙げられる。なかでも、炭素数1〜4のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
アルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基が挙げられる。
アルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基等が挙げられる。
a34、Ra35及びRa36における炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらを組み合わせた基が挙げられ、アルキル基及び脂環式炭化水素基としては、Ra02、Ra03、Ra04、Ra6及びRa7におけるアルキル基及び脂環式炭化水素基と同様の基が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニル基、フェナントリル基等のアリール基等が挙げられる。
組み合わせた基としては、上述したアルキル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基、ベンジル基等のアラルキル基、アルキル基を有する芳香族炭化水素基(p−メチルフェニル基、p−tert−ブチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、2,6−ジエチルフェニル基、2−メチル−6−エチルフェニル基等)、脂環式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(p−シクロヘキシルフェニル基、p−アダマンチルフェニル基等)、アリール−シクロアルキル基(フェニルシクロヘキシル基等)等が挙げられる。特に、Ra36としては、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基、炭素数6〜18の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせることにより形成される基が挙げられる。
Examples of the alkyl group for Ra32 and Ra33 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a pentyl group, and a hexyl group. The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a methyl group or an ethyl group, and further preferably a methyl group.
Examples of the halogen atom in R a32 and R a33 include a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom.
Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom include a trifluoromethyl group, a difluoromethyl group, a methyl group, a perfluoroethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, 2,2-tetrafluoroethyl group, ethyl group, perfluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, propyl group, perfluorobutyl group, 1,1,2,2,3,3 4,4-octafluorobutyl, butyl, perfluoropentyl, 2,2,3,3,4,4,5,5,5-nonafluoropentyl, pentyl, hexyl, perfluorohexyl, etc. No.
Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group and a hexyloxy group. Among them, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms is preferable, a methoxy group or an ethoxy group is more preferable, and a methoxy group is further preferable.
Examples of the alkylcarbonyl group include an acetyl group, a propionyl group, and a butyryl group.
Examples of the alkylcarbonyloxy group include an acetyloxy group, a propionyloxy group, a butyryloxy group, and the like.
As the hydrocarbon group for R a34, R a35 and R a36, an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group, aromatic hydrocarbon group and a group formed by combining these are exemplified, as the alkyl group and alicyclic hydrocarbon groups It is, R a02, R a03, R a04, include the same groups as the alkyl group and alicyclic hydrocarbon group for R a6 and R a7.
Examples of the aromatic hydrocarbon group include an aryl group such as a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a biphenyl group, and a phenanthryl group.
Examples of the combined group include a group obtained by combining the above-described alkyl group and alicyclic hydrocarbon group, an aralkyl group such as a benzyl group, and an aromatic hydrocarbon group having an alkyl group (p-methylphenyl group, p-tert- An aromatic hydrocarbon group having a butylphenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a cumenyl group, a mesityl group, a 2,6-diethylphenyl group, a 2-methyl-6-ethylphenyl group, or an alicyclic hydrocarbon group ( p-cyclohexylphenyl group, p-adamantylphenyl group, etc., and aryl-cycloalkyl group (phenylcyclohexyl group, etc.). In particular, R a36 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a group formed by combining these. Is mentioned.

式(a1−4)において、Ra32としては、水素原子が好ましい。
a33としては、炭素数1〜4のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基及びエトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
laとしては、0又は1が好ましく、0がより好ましい。
a34は、好ましくは、水素原子である。
a35は、好ましくは、炭素数1〜12のアルキル基又は脂環式炭化水素基であり、より好ましくはメチル基又はエチル基である。
a36の炭化水素基は、好ましくは、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基、炭素数6〜18の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせることにより形成される基であり、より好ましくは、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基又は炭素数7〜18のアラルキル基である。Ra36におけるアルキル基及び脂環式炭化水素基は、無置換であることが好ましい。Ra36における芳香族炭化水素基は、炭素数6〜10のアリールオキシ基を有する芳香環が好ましい。
構造単位(a1−4)における−OC(Ra34)(Ra35)−O−Ra36は、酸(例えばp−トルエンスルホン酸)と接触して脱離し、ヒドロキシ基を形成する。
In the formula (a1-4), R a32 is preferably a hydrogen atom.
Ra33 is preferably an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a methoxy group and an ethoxy group, and further preferably a methoxy group.
As la, 0 or 1 is preferable, and 0 is more preferable.
Ra34 is preferably a hydrogen atom.
Ra35 is preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an alicyclic hydrocarbon group, and more preferably a methyl group or an ethyl group.
The hydrocarbon group of Ra36 is preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a combination thereof. It is a group formed, more preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 18 carbon atoms. The alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group for R a36 are preferably unsubstituted. Aromatic hydrocarbon group for R a36 is an aromatic ring preferably has an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms.
-OC (R a34) (R a35 ) -O-R a36 in the structural unit (a1-4) is desorbed by contact with an acid (e.g. p- toluenesulfonic acid) to form a hydroxy group.

構造単位(a1−4)としては、例えば、特開2010−204646号公報に記載されたモノマー由来の構造単位が挙げられる。好ましくは、式(a1−4−1)〜式(a1−4−12)でそれぞれ表される構造単位及び構造単位(a1−4)におけるRa32に相当する水素原子がメチル基に置き換わった構造単位が挙げられ、より好ましくは、式(a1−4−1)〜式(a1−4−5)、式(a1−4−10)でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。
Examples of the structural unit (a1-4) include a structural unit derived from a monomer described in JP-A-2010-204646. Preferably, hydrogen atom corresponding to R a32 in equation (a1-4-1) represented respectively to Formula (a1-4-12) structural units and structural units (a1-4) is replaced by a methyl group structure Units, and more preferably, structural units represented by formulas (a1-4-1) to (a1-4-5) and (a1-4-10).

樹脂(A)が、構造単位(a1−4)を有する場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位の合計に対して、5〜60モル%であることが好ましく、5〜50モル%であることがより好ましく、10〜40モル%であることがさらに好ましい。   When the resin (A) has the structural unit (a1-4), its content is preferably 5 to 60 mol%, and more preferably 5 to 50 mol%, based on the total of all the structural units of the resin (A). More preferably, it is 10 mol%, more preferably 10 mol% to 40 mol%.

基(2)を有する(メタ)アクリル系モノマーに由来する構造単位としては、式(a1−5)で表される構造単位(以下「構造単位(a1−5)」という場合がある)も挙げられる。
式(a1−5)中、
a8は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。
a1は、単結合又は*−(CH2h3−CO−L54−を表し、h3は1〜4のいずれかの整数を表し、*は、L51との結合部位を表す。
51、L52、L53及びL54は、それぞれ独立に、−O−又は−S−を表す。
s1は、1〜3のいずれかの整数を表す。
s1’は、0〜3のいずれかの整数を表す。
Examples of the structural unit derived from the (meth) acrylic monomer having the group (2) also include a structural unit represented by the formula (a1-5) (hereinafter, may be referred to as “structural unit (a1-5)”). Can be
In the formula (a1-5),
R a8 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom, a hydrogen atom or a halogen atom.
Z a1 represents a single bond or * - (CH 2) h3 -CO -L 54 - represents, h3 represents an integer of 1 to 4, * represents a binding site with L 51.
L 51 , L 52 , L 53 and L 54 each independently represent —O— or —S—.
s1 represents any integer of 1 to 3.
s1 ′ represents any integer of 0 to 3.

ハロゲン原子としては、フッ素原子及び塩素原子が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、フルオロメチル基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。
式(a1−5)においては、Ra8は、水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基が好ましい。
51は、酸素原子が好ましい。
52及びL53のうち、一方が−O−であり、他方が−S−であることが好ましい。
s1は、1が好ましい。
s1’は、0〜2のいずれかの整数が好ましい。
a1は、単結合又は*−CH2−CO−O−が好ましい。
Examples of the halogen atom include a fluorine atom and a chlorine atom, and a fluorine atom is preferable.
Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a fluoromethyl group and a trifluoromethyl group. Groups.
In the formula (a1-5), R a8 is preferably a hydrogen atom, a methyl group or a trifluoromethyl group.
L 51 is preferably an oxygen atom.
Of L 52 and L 53, one of -O-, and is preferably other is -S-.
s1 is preferably 1.
s1 ′ is preferably an integer of 0 to 2.
Z a1 represents a single bond or * -CH 2 -CO-O- are preferable.

構造単位(a1−5)としては、例えば、特開2010−61117号公報に記載されたモノマー由来の構造単位が挙げられる。中でも、式(a1−5−1)〜式(a1−5−4)でそれぞれ表される構造単位が好ましく、式(a1−5−1)又は式(a1−5−2)で表される構造単位がより好ましい。
Examples of the structural unit (a1-5) include a structural unit derived from a monomer described in JP-A-2010-61117. Above all, structural units represented by the formulas (a1-5-1) to (a1-5-4) are preferable, and represented by the formula (a1-5-1) or the formula (a1-5-2). Structural units are more preferred.

樹脂(A)が、構造単位(a1−5)を有する場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、1〜50モル%が好ましく、3〜45モル%がより好ましく、5〜40モル%がさらに好ましく、5〜30モル%がさらにより好ましい。   When the resin (A) has a structural unit (a1-5), its content is preferably from 1 to 50 mol%, more preferably from 3 to 45 mol%, based on all structural units of the resin (A). , 5 to 40 mol%, even more preferably 5 to 30 mol%.

構造単位(a1)としては、例えば、式(a1−0X)で表される構造単位(以下、構造単位(a1−0X)という場合がある。)も挙げられる。
[式(a1−0X)中、
X1は、水素原子又はメチル基を表す。
x2及びRx3は、それぞれ独立に、炭素数1〜6の飽和炭化水素基を表す。
ArX1は、炭素数6〜36の芳香族炭化水素基を表す。]
The structural unit (a1) also includes, for example, a structural unit represented by the formula (a1-0X) (hereinafter, may be referred to as a structural unit (a1-0X)).
[In the formula (a1-0X),
R X1 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R x2 and R x3 each independently represent a saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
Ar X1 represents an aromatic hydrocarbon group having 6 to 36 carbon atoms. ]

x2及びRx3の飽和炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基及びこれらの組合せることにより形成される基が挙げられる。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。
脂環式炭化水素基は、単環式又は多環式のいずれでもよく、単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
ArX1の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基等の炭素数6〜36のアリール基が挙げられる。
芳香族炭化水素基は、好ましくは炭素数6〜24であり、より好ましくは炭素数6〜18であり、さらに好ましくは、フェニル基である。
ArX1は、好ましくは炭素数6〜18の芳香族炭化水素基であり、より好ましくはフェニル基又はナフチル基であり、さらに好ましくは、フェニル基である。
X1、Rx2及びRx3は、それぞれ独立に、メチル基又はエチル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。
Examples of the saturated hydrocarbon group of R x2 and R x3 include an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group, and a group formed by a combination thereof.
Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, and a hexyl group.
The alicyclic hydrocarbon group may be either monocyclic or polycyclic, and examples of the monocyclic alicyclic hydrocarbon group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group.
Examples of the aromatic hydrocarbon group for Ar X1 include an aryl group having 6 to 36 carbon atoms such as a phenyl group, a naphthyl group, and an anthryl group.
The aromatic hydrocarbon group preferably has 6 to 24 carbon atoms, more preferably has 6 to 18 carbon atoms, and still more preferably is a phenyl group.
Ar X1 is preferably an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, more preferably a phenyl group or a naphthyl group, and further preferably a phenyl group.
R X1 , R x2 and R x3 are each independently preferably a methyl group or an ethyl group, more preferably a methyl group.

構造単位(a1−0X)としては、以下に記載の構造単位及び構造単位(a1−0X)におけるRX1に相当するメチル基が水素原子に置き換わった化合物が挙げられる。構造単位(a1−0X)は、構造単位(a1−0X−1)〜構造単位(a1−0X−3)であることが好ましい。
Examples of the structural unit (a1-0X) include a structural unit described below and a compound in which a methyl group corresponding to R X1 in the structural unit (a1-0X) is replaced with a hydrogen atom. The structural unit (a1-0X) is preferably a structural unit (a1-0X-1) to a structural unit (a1-0X-3).

樹脂(A)が、構造単位(a1−0X)を有する場合、その含有率は、樹脂(A)における全モノマーに対して、5〜60モル%であることが好ましく、5〜50モル%であることがより好ましく、10〜40モル%であることがさらに好ましい。
樹脂(A)は、構造単位(a1−0X)を2種以上含有していてもよい。
When the resin (A) has the structural unit (a1-0X), its content is preferably from 5 to 60 mol%, more preferably from 5 to 50 mol%, based on all monomers in the resin (A). More preferably, it is more preferably 10 to 40 mol%.
The resin (A) may contain two or more structural units (a1-0X).

また、構造単位(a1)としては、以下の構造単位も挙げられる。
The structural unit (a1) also includes the following structural units.

樹脂(A)が上記構造単位を含む場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、5〜60モル%が好ましく、5〜50モル%がより好ましく、10〜40モル%がさらに好ましい。   When the resin (A) contains the above structural unit, its content is preferably 5 to 60 mol%, more preferably 5 to 50 mol%, and more preferably 10 to 40 mol%, based on all structural units of the resin (A). % Is more preferred.

〈構造単位(s)〉
構造単位(s)を導くモノマーは、レジスト分野で公知の酸不安定基を有さないモノマーを使用できる。
構造単位(s)としては、ヒドロキシ基又はラクトン環を有するのが好ましい。ヒドロキシ基を有し、かつ酸不安定基を有さない構造単位(以下「構造単位(a2)」という場合がある)及び/又はラクトン環を有し、かつ酸不安定基を有さない構造単位(以下「構造単位(a3)」という場合がある)を有する樹脂を本発明のレジスト組成物に使用すれば、レジストパターンの解像度及び基板との密着性を向上させることができる。
<Structural unit (s)>
As the monomer for deriving the structural unit (s), a monomer having no acid labile group known in the resist field can be used.
The structural unit (s) preferably has a hydroxy group or a lactone ring. Structure having a hydroxy group and not having an acid labile group (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (a2)”) and / or having a lactone ring and having no acid labile group Use of a resin having units (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (a3)”) in the resist composition of the present invention can improve the resolution of a resist pattern and the adhesion to a substrate.

〈構造単位(a2)〉
構造単位(a2)が有するヒドロキシ基は、アルコール性ヒドロキシ基でも、フェノール性ヒドロキシ基でもよい。
本発明のレジスト組成物からレジストパターンを製造するとき、露光光源としてKrFエキシマレーザ(248nm)、電子線又はEUV(超紫外光)等の高エネルギー線を用いる場合には、構造単位(a2)として、フェノール性ヒドロキシ基を有する構造単位(a2)を用いることが好ましい。また、ArFエキシマレーザ(193nm)等を用いる場合には、構造単位(a2)として、アルコール性ヒドロキシ基を有する構造単位(a2)が好ましく、後述する構造単位(a2−1)を用いることがより好ましい。構造単位(a2)としては、1種を単独で含んでいてもよく、2種以上を含んでいてもよい。
<Structural unit (a2)>
The hydroxy group contained in the structural unit (a2) may be an alcoholic hydroxy group or a phenolic hydroxy group.
When producing a resist pattern from the resist composition of the present invention, when using a high energy ray such as a KrF excimer laser (248 nm), an electron beam or EUV (ultra-ultraviolet light) as an exposure light source, the structural unit (a2) is used. It is preferable to use a structural unit (a2) having a phenolic hydroxy group. When an ArF excimer laser (193 nm) or the like is used, a structural unit (a2) having an alcoholic hydroxy group is preferable as the structural unit (a2), and a structural unit (a2-1) described later is more preferably used. preferable. As the structural unit (a2), one type may be included alone, or two or more types may be included.

構造単位(a2)においてフェノール性ヒドロキシ基有する構造単位としては式(a2−A)で表される構造単位(以下「構造単位(a2−A)」という場合がある)が挙げられる。
[式(a2−A)中、
a50は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基を表す。
a51は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数2〜4のアルキルカルボニル基、炭素数2〜4のアルキルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
a50は、単結合又は−Xa51−(Aa52−Xa52nb−を表し、*は−Ra50が結合する炭素原子との結合部位を表す。
a52は、炭素数1〜6のアルカンジイル基を表す。
a51及びXa52は、それぞれ独立に、−O−、−CO−O−又は−O−CO−を表す。
nbは、0又は1を表す。
mbは0〜4のいずれかの整数を表す。mbが2以上のいずれかの整数である場合、複数のRa51は互いに同一であっても異なってもよい。]
Examples of the structural unit having a phenolic hydroxy group in the structural unit (a2) include a structural unit represented by the formula (a2-A) (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (a2-A)”).
[In the formula (a2-A),
Ra50 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom.
R a51 represents a halogen atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkylcarbonyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, acryloyl. Represents an oxy group or a methacryloyloxy group.
A a50 represents a single bond or * -X a51 - (A a52 -X a52) nb - represents, * represents a binding site to the carbon atom to which -R a50 binds.
A a52 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.
X a51 and X a52 each independently represent -O-, -CO -O-, or -O-CO-.
nb represents 0 or 1.
mb represents any integer of 0-4. When mb is any integer of 2 or more, a plurality of R a51 may be the same or different. ]

a50におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等が挙げられる。
a50におけるハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、1,1,2,2−テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4−オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、2,2,3,3,4,4,5,5,5−ノナフルオロペンチル基、ペンチル基、ヘキシル基及びペルフルオロヘキシル基が挙げられる。
a50は、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基が好ましく、水素原子、メチル基又はエチル基がより好ましく、水素原子又はメチル基がさらに好ましい。
a51におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が挙げられる。
a51におけるアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基が挙げられる。炭素数1〜4のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
a51におけるアルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。
a51におけるアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基及びブチリルオキシ基が挙げられる。
a51は、メチル基が好ましい。
Examples of the halogen atom for R a50 include a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom.
Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom in R a50 include a trifluoromethyl group, a difluoromethyl group, a methyl group, a perfluoroethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, , 1,2,2-tetrafluoroethyl group, ethyl group, perfluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, propyl group, perfluorobutyl group, 1,1,2,2,3 , 3,4,4-octafluorobutyl, butyl, perfluoropentyl, 2,2,3,3,4,4,5,5,5-nonafluoropentyl, pentyl, hexyl and perfluorohexyl Groups.
Ra50 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, and even more preferably a hydrogen atom or a methyl group.
Examples of the alkyl group for Ra51 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, and a hexyl group.
Examples of the alkoxy group for Ra51 include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, a sec-butoxy group, and a tert-butoxy group. An alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms is preferred, a methoxy group or an ethoxy group is more preferred, and a methoxy group is even more preferred.
Examples of the alkylcarbonyl group for Ra51 include an acetyl group, a propionyl group, and a butyryl group.
Examples of the alkylcarbonyloxy group for Ra51 include an acetyloxy group, a propionyloxy group, and a butyryloxy group.
Ra51 is preferably a methyl group.

−Xa51−(Aa52−Xa52nb−としては、−O−、−CO−O−、−O−CO−、−CO−O−Aa52−CO−O−、−O−CO−Aa52−O−、−O−Aa52−CO−O−、−CO−O−Aa52−O−CO−、−O−CO−Aa52−O−CO−、が挙げられる。なかでも、−CO−O−、−CO−O−Aa52−CO−O−又は−O−Aa52−CO−O−が好ましい。 * -X a51 - (A a52 -X a52) nb - The, * -O-, * -CO-O- , * -O-CO-, a52 -CO-O- * -CO-O-A, * -O-CO-A a52 -O- , * -O-A a52 -CO-O-, * -CO-O-A a52 -O-CO-, * -O-CO-A a52 -O-CO -. Especially, * -CO-O-, * -CO- OAa52- CO-O- or * -OAa52- CO-O- is preferable.

アルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基、ブタン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基、ペンタン−1,4−ジイル基及び2−メチルブタン−1,4−ジイル基等が挙げられる。
a52は、メチレン基又はエチレン基であることが好ましい。
Examples of the alkanediyl group include a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a propane-1,2-diyl group, a butane-1,4-diyl group, a pentane-1,5-diyl group, a hexane- 1,6-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group and 2 -Methylbutane-1,4-diyl group and the like.
A a52 is preferably a methylene group or an ethylene group.

a50は、単結合、−CO−O−又は−CO−O−Aa52−CO−O−であることが好ましく、単結合、−CO−O−又は−CO−O−CH2−CO−O−であることがより好ましく、単結合又は−CO−O−であることがさらに好ましい。 A a50 is preferably a single bond, * -CO-O- or * -CO-O- Aa52- CO-O-, and a single bond, * -CO-O- or * -CO-O-CH It is more preferably 2- CO-O-, and even more preferably a single bond or * -CO-O-.

mbは0、1又は2が好ましく、0又は1がより好ましく、0が特に好ましい。
ヒドロキシ基は、ベンゼン環のo−位又はp−位に結合することが好ましく、p−位に結合することがより好ましい。
mb is preferably 0, 1 or 2, more preferably 0 or 1, and particularly preferably 0.
The hydroxy group is preferably bonded to the o- or p-position of the benzene ring, and more preferably bonded to the p-position.

構造単位(a2−A)としては、特開2010−204634号公報、特開2012−12577号公報に記載されているモノマー由来の構造単位が挙げられる。   Examples of the structural unit (a2-A) include monomer-derived structural units described in JP-A-2010-204634 and JP-A-2012-12577.

構造単位(a2−A)としては、式(a2−2−1)〜式(a2−2−6)で表される構造単位及び、式(a2−2−1)〜式(a2−2−6)で表される構造単位において構造単位(a2−A)におけるRa50に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。構造単位(a2−A)は、式(a2−2−1)で表される構造単位、式(a2−2−3)で表される構造単位、式(a2−2−6)で表される構造単位及び式(a2−2−1)で表される構造単位、式(a2−2−3)で表される構造単位又は式(a2−2−6)で表される構造単位において、構造単位(a2−A)におけるRa50に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位であることが好ましい。
As the structural unit (a2-A), the structural units represented by formulas (a2-2-1) to (a2-2-6) and the formulas (a2-2-1) to (a2-2-2-) In the structural unit represented by 6), a structural unit in which a methyl group corresponding to Ra50 in the structural unit (a2-A) is replaced by a hydrogen atom is exemplified . The structural unit (a2-A) is a structural unit represented by the formula (a2-2-1), a structural unit represented by the formula (a2-2-3), or a structural unit represented by the formula (a2-2-6). In the structural unit represented by the formula (a2-2-1), the structural unit represented by the formula (a2-2-3) or the structural unit represented by the formula (a2-2-6), It is preferable that the methyl unit corresponding to Ra50 in the structural unit (a2-A) is a structural unit in which a hydrogen atom is replaced.

樹脂(A)中に構造単位(a2−A)が含まれる場合の構造単位(a2−A)の含有率は、全構造単位に対して、好ましくは5〜80モル%であり、より好ましくは10〜70モル%であり、さらに好ましくは15〜65モル%であり、さらにより好ましくは20〜65モル%である。
構造単位(a2−A)は、例えば構造単位(a1−4)を含む樹脂を、p−トルエンスルホン酸等の酸で処理することにより、樹脂(A)に含ませることができる。また、アセトキシスチレン等を用いて重合した後、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等のアルカリで処理することにより、構造単位(a2−A)を樹脂(A)に含ませることができる。
When the structural unit (a2-A) is contained in the resin (A), the content of the structural unit (a2-A) is preferably from 5 to 80 mol%, more preferably from all structural units. It is 10 to 70 mol%, further preferably 15 to 65 mol%, even more preferably 20 to 65 mol%.
The structural unit (a2-A) can be included in the resin (A) by, for example, treating a resin containing the structural unit (a1-4) with an acid such as p-toluenesulfonic acid. After polymerization using acetoxystyrene or the like, the resin (A) can be made to contain the structural unit (a2-A) by treating with an alkali such as tetramethylammonium hydroxide.

構造単位(a2)においてアルコール性ヒドロキシ基を有する構造単位としては、式(a2−1)で表される構造単位(以下「構造単位(a2−1)」という場合がある。)が挙げられる。
式(a2−1)中、
a3は、−O−又は−O−(CH2k2−CO−O−を表し、
k2は1〜7のいずれかの整数を表す。*は−CO−との結合部位を表す。
a14は、水素原子又はメチル基を表す。
a15及びRa16は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基又はヒドロキシ基を表す。
o1は、0〜10のいずれかの整数を表す。
Examples of the structural unit having an alcoholic hydroxy group in the structural unit (a2) include a structural unit represented by the formula (a2-1) (hereinafter, may be referred to as “structural unit (a2-1)”).
In the formula (a2-1),
L a3 is, -O- or * -O- (CH 2) k2 -CO -O- the stands,
k2 represents any integer of 1 to 7. * Represents a binding site to -CO-.
R a14 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R a15 and R a16 each independently represent a hydrogen atom, a methyl group or a hydroxy group.
o1 represents any integer of 0 to 10.

式(a2−1)では、La3は、好ましくは、−O−、−O−(CH2f1−CO−O−であり(前記f1は、1〜4のいずれかの整数を表す)、より好ましくは−O−である。
a14は、好ましくはメチル基である。
a15は、好ましくは水素原子である。
a16は、好ましくは水素原子又はヒドロキシ基である。
o1は、好ましくは0〜3のいずれかの整数、より好ましくは0又は1である。
Formula (a2-1), L a3 is preferably, -O -, - O- (CH 2) f1 -CO-O- and is (wherein f1 represents an integer of 1 to 4) And more preferably -O-.
R a14 is preferably a methyl group.
Ra15 is preferably a hydrogen atom.
Ra16 is preferably a hydrogen atom or a hydroxy group.
o1 is preferably an integer of 0 to 3, more preferably 0 or 1.

構造単位(a2−1)としては、例えば、特開2010−204646号公報に記載されたモノマーに由来する構造単位が挙げられる。式(a2−1−1)〜式(a2−1−6)のいずれかで表される構造単位が好ましく、式(a2−1−1)〜式(a2−1−4)のいずれかで表される構造単位がより好ましく、式(a2−1−1)又は式(a2−1−3)で表される構造単位がさらに好ましい。
Examples of the structural unit (a2-1) include a structural unit derived from a monomer described in JP-A-2010-204646. A structural unit represented by any of formulas (a2-1-1) to (a2-1-6) is preferable, and a structural unit represented by any of formulas (a2-1-1) to (a2-1-4) is preferable. The structural unit represented by the formula (a2-1-1) or the formula (a2-1-3) is more preferable.

樹脂(A)が構造単位(a2−1)を含む場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、通常1〜45モル%であり、好ましくは1〜40モル%であり、より好ましくは1〜35モル%であり、さらに好ましくは1〜20モル%であり、さらにより好ましくは1〜10モル%である。   When the resin (A) contains the structural unit (a2-1), its content is usually from 1 to 45 mol%, preferably from 1 to 40 mol%, based on all structural units of the resin (A). Yes, more preferably 1 to 35 mol%, still more preferably 1 to 20 mol%, and still more preferably 1 to 10 mol%.

〈構造単位(a3)〉
構造単位(a3)が有するラクトン環は、β−プロピオラクトン環、γ−ブチロラクトン環、δ−バレロラクトン環のような単環でもよく、単環式のラクトン環と他の環との縮合環でもよい。好ましくは、γ−ブチロラクトン環、アダマンタンラクトン環、又は、γ−ブチロラクトン環構造を含む橋かけ環(例えば下式(a3−2)で表される構造単位)が挙げられる。
<Structural unit (a3)>
The lactone ring of the structural unit (a3) may be a monocyclic ring such as a β-propiolactone ring, a γ-butyrolactone ring or a δ-valerolactone ring, or a condensed ring of a monocyclic lactone ring and another ring. May be. Preferably, a γ-butyrolactone ring, an adamantane lactone ring, or a bridged ring containing a γ-butyrolactone ring structure (for example, a structural unit represented by the following formula (a3-2)) is exemplified.

構造単位(a3)は、好ましくは、式(a3−1)、式(a3−2)、式(a3−3)又は式(a3−4)で表される構造単位である。これらの1種を単独で含有してもよく、2種以上を含有してもよい。
[式(a3−1)、式(a3−2)、式(a3−3)及び式(a3−4)中、
a4、La5及びLa6は、それぞれ独立に、−O−又は−O−(CHk3−CO−O−(k3は1〜7のいずれかの整数を表す。)で表される基を表す。
a7は、−O−、−O−La8−O−、−O−La8−CO−O−、−O−La8−CO−O−La9−CO−O−又は−O−La8−O−CO−La9−O−を表す。
a8及びLa9は、それぞれ独立に、炭素数1〜6のアルカンジイル基を表す。
*はカルボニル基との結合部位を表す。
a18、Ra19及びRa20は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
a24は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。
a3は、−CH−又は酸素原子を表す。
a21は炭素数1〜4の脂肪族炭化水素基を表す。
a22、Ra23及びRa25は、それぞれ独立に、カルボキシ基、シアノ基又は炭素数1〜4の脂肪族炭化水素基を表す。
p1は0〜5のいずれかの整数を表す。
q1は、0〜3のいずれかの整数を表す。
r1は、0〜3のいずれかの整数を表す。
w1は、0〜8のいずれかの整数を表す。
p1、q1、r1及び/又はw1が2以上のとき、複数のRa21、Ra22、Ra23及び/又はRa25は互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。]
The structural unit (a3) is preferably a structural unit represented by Formula (a3-1), Formula (a3-2), Formula (a3-3), or Formula (a3-4). One of these may be contained alone, or two or more thereof may be contained.
[In the formula (a3-1), the formula (a3-2), the formula (a3-3) and the formula (a3-4),
L a4, L a5 and L a6 each independently, -O- or * -O- (CH 2) k3 -CO -O- (k3 represents. An integer of 1-7) is represented by Represents a group.
L a7 is, -O-, * -O-L a8 -O-, * -O-L a8 -CO-O-, * -O-L a8 -CO-O-L a9 -CO-O- or * Represents -O- La8- O-CO- La9- O-.
La8 and La9 each independently represent an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.
* Represents a bonding site with a carbonyl group.
R a18 , R a19 and R a20 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
R a24 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom, a hydrogen atom or a halogen atom.
X a3 represents —CH 2 — or an oxygen atom.
Ra21 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
R a22 , R a23 and R a25 each independently represent a carboxy group, a cyano group or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
p1 represents any integer of 0 to 5.
q1 represents any integer of 0 to 3.
r1 represents an integer of any of 0 to 3.
w1 represents an integer of any of 0 to 8.
When p1, q1, r1 and / or w1 are 2 or more, a plurality of R a21 , R a22 , R a23 and / or R a25 may be the same or different. ]

a21、Ra22、Ra23及びRa25における脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基及びtert−ブチル基等のアルキル基が挙げられる。
a24におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
a24におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基等が挙げられ、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基が挙げられ、より好ましくはメチル基又はエチル基が挙げられる。
a24におけるハロゲン原子を有するアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec−ブチル基、ペルフルオロtert−ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、トリクロロメチル基、トリブロモメチル基、トリヨードメチル基等が挙げられる。
Examples of the aliphatic hydrocarbon group for R a21 , R a22 , R a23 and R a25 include alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group and a tert-butyl group. Can be
Examples of the halogen atom for R a24 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
Examples of the alkyl group for Ra24 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, and a hexyl group. And more preferably a methyl group or an ethyl group.
Examples of the alkyl group having a halogen atom at Ra24 include a trifluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluoroisopropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluorosec-butyl group, a perfluorotert-butyl group, a perfluoropentyl group, and a perfluoropentyl group. Examples include a hexyl group, a trichloromethyl group, a tribromomethyl group, and a triiodomethyl group.

a8及びLa9におけるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基、ブタン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基、ペンタン−1,4−ジイル基及び2−メチルブタン−1,4−ジイル基等が挙げられる。 The alkanediyl group in La8 and La9 includes a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a propane-1,2-diyl group, a butane-1,4-diyl group, a pentane-1,5. -Diyl group, hexane-1,6-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1, Examples include a 4-diyl group and a 2-methylbutane-1,4-diyl group.

式(a3−1)〜式(a3−3)において、La4〜La6は、それぞれ独立に、好ましくは−O−又は、*−O−(CHk3−CO−O−において、k3が1〜4のいずれかの整数である基、より好ましくは−O−及び、*−O−CH−CO−O−、さらに好ましくは酸素原子である。
a18〜Ra21は、好ましくはメチル基である。
a22及びRa23は、それぞれ独立に、好ましくはカルボキシ基、シアノ基又はメチル基である。
p1、q1及びr1は、それぞれ独立に、好ましくは0〜2のいずれかの整数であり、より好ましくは0又は1である。
In the formulas (a3-1) to (a3-3), L a4 to L a6 each independently preferably represent k3 in —O— or * —O— (CH 2 ) k3 —CO—O—. group but is any integer of 1 to 4, more preferably -O- and, * - O-CH 2 -CO -O-, more preferably an oxygen atom.
Ra18 to Ra21 are preferably a methyl group.
Ra22 and Ra23 are each independently preferably a carboxy group, a cyano group or a methyl group.
p1, q1 and r1 are each independently preferably an integer of any of 0 to 2, and more preferably 0 or 1.

式(a3−4)において、Ra24は、好ましくは水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基であり、より好ましくは水素原子、メチル基又はエチル基であり、さらに好ましくは水素原子又はメチル基である。
a25は、好ましくはカルボキシ基、シアノ基又はメチル基である。
a7は、好ましくは−O−又は−O−La8−CO−O−であり、より好ましくは−O−、−O−CH−CO−O−又は−O−C−CO−O−である。
w1は、好ましくは0〜2のいずれかの整数であり、より好ましくは0又は1である。
特に、式(a3−4)は、式(a3−4)’が好ましい。
(式中、Ra24、La7は、上記と同じ意味を表す。)
In the formula (a3-4), R a24 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, and further preferably a hydrogen atom or a methyl group. It is.
Ra25 is preferably a carboxy group, a cyano group or a methyl group.
L a7 is preferably -O- or * -O-L a8 -CO-O-, more preferably an -O -, - O-CH 2 -CO-O- or -O-C 2 H 4 - CO-O-.
w1 is preferably an integer of 0 to 2, and more preferably 0 or 1.
Particularly, the formula (a3-4) is preferably the formula (a3-4) ′.
(In the formula, R a24 and L a7 represent the same meaning as described above.)

構造単位(a3)としては、特開2010−204646号公報に記載されたモノマー、特開2000−122294号公報に記載されたモノマー、特開2012−41274号公報に記載されたモノマーに由来の構造単位が挙げられる。構造単位(a3)としては、式(a3−1−1)、式(a3−1−2)、式(a3−2−1)、式(a3−2−2)、式(a3−3−1)、式(a3−3−2)及び式(a3−4−1)〜式(a3−4−12)のいずれかで表される構造単位及び、前記構造単位において、式(a3−1)〜式(a3−4)におけるRa18、Ra19、Ra20及びRa24に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が好ましい。
Examples of the structural unit (a3) include a monomer described in JP-A-2010-204646, a monomer described in JP-A-2000-122294, and a structure derived from a monomer described in JP-A-2012-41274. Units. As the structural unit (a3), the formula (a3-1-1), the formula (a3-1-2), the formula (a3-2-1), the formula (a3-2-2), the formula (a3-3-3) 1), a structural unit represented by any one of the formulas (a3-3-2) and (a3-4-1) to (a3-4-12), and the structural unit represented by the formula (a3-1) ) To (a3-4), a structural unit in which a methyl group corresponding to R a18 , R a19 , R a20 and R a24 is replaced by a hydrogen atom is preferable.

樹脂(A)が構造単位(a3)を含む場合、その合計含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、通常5〜70モル%であり、好ましくは10〜65モル%であり、より好ましくは10〜60モル%である。
また、構造単位(a3−1)、構造単位(a3−2)、構造単位(a3−3)又は構造単位(a3−4)の含有率は、それぞれ、樹脂(A)の全構造単位に対して、5〜60モル%が好ましく、5〜50モル%がより好ましく、10〜50モル%がさらに好ましい。
When the resin (A) contains the structural unit (a3), the total content is usually from 5 to 70 mol%, preferably from 10 to 65 mol%, based on all the structural units of the resin (A). , More preferably 10 to 60 mol%.
In addition, the content of the structural unit (a3-1), the structural unit (a3-2), the structural unit (a3-3) or the content of the structural unit (a3-4) is respectively based on the total structural unit of the resin (A). Is preferably 5 to 60 mol%, more preferably 5 to 50 mol%, and still more preferably 10 to 50 mol%.

〈構造単位(a4)〉
構造単位(a4)としては、以下の構造単位が挙げられる。
[式(a4)中、
41は、水素原子又はメチル基を表す。
42は、炭素数1〜24のフッ素原子を有する飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−又は−COに置き換わっていてもよい。]
42で表される飽和炭化水素基は、鎖式炭化水素基及び単環又は多環の脂環式炭化水素基、並びに、これらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。
<Structural unit (a4)>
Examples of the structural unit (a4) include the following structural units.
[In the formula (a4),
R 41 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R 42 represents a saturated hydrocarbon group having a fluorine atom having 1 to 24 carbon atoms, -CH 2 contained in the saturated hydrocarbon group - may be replaced by -O- or -CO. ]
Examples of the saturated hydrocarbon group represented by R 42 include a chain hydrocarbon group, a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon group, and a group formed by combining these.

鎖式炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基及びオクタデシル基が挙げられる。
単環又は多環の脂環式炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基;デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基(*は結合部位を表す。)等の多環式の脂環式炭化水素基が挙げられる。
組み合わせにより形成される基としては、1以上のアルキル基又は1以上のアルカンジイル基と、1以上の脂環式炭化水素基とを組み合わせることにより形成される基が挙げられ、−アルカンジイル基−脂環式炭化水素基、−脂環式炭化水素基−アルキル基、−アルカンジイル基−脂環式炭化水素基−アルキル基等が挙げられる。
Examples of the chain hydrocarbon group include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, decyl, dodecyl, pentadecyl, hexadecyl, heptadecyl and octadecyl. No.
Examples of the monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon group include cycloalkyl groups such as cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, and cyclooctyl group; decahydronaphthyl group, adamantyl group, norbornyl group and the following groups (* Represents a binding site.) And a polycyclic alicyclic hydrocarbon group.
Examples of the group formed by the combination include a group formed by combining one or more alkyl groups or one or more alkanediyl groups with one or more alicyclic hydrocarbon groups, and include -alkanediyl group- Alicyclic hydrocarbon group, -alicyclic hydrocarbon group-alkyl group, -alkanediyl group-alicyclic hydrocarbon group-alkyl group, and the like.

構造単位(a4)としては、式(a4−0)、式(a4−1)、式(a4−2)、式(a4−3)及び式(a4−4)からなる群から選択される少なくとも1つで表される構造単位が挙げられる。
[式(a4−0)中、
5aは、水素原子又はメチル基を表す。
4aは、単結合又は炭素数1〜4のアルカンジイル基を表す。
3aは、炭素数1〜8のペルフルオロアルカンジイル基又は炭素数3〜12のペルフルオロシクロアルカンジイル基を表す。
6aは、水素原子又はフッ素原子を表す。]
As the structural unit (a4), at least one selected from the group consisting of the formulas (a4-0), (a4-1), (a4-2), (a4-3), and (a4-4) The structural unit represented by one is mentioned.
[In the formula (a4-0),
R 5a represents a hydrogen atom or a methyl group.
L 4a represents a single bond or an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms.
L 3a represents a perfluoroalkanediyl group having 1 to 8 carbon atoms or a perfluorocycloalkanediyl group having 3 to 12 carbon atoms.
R 6a represents a hydrogen atom or a fluorine atom. ]

4aにおけるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基、エタン−1,1−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、ブタン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基及び2−メチルプロパン−1,2−ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。 Examples of the alkanediyl group for L 4a include a linear alkanediyl group such as a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a butane-1,4-diyl group, an ethane-1,1-diyl group, And branched alkanediyl groups such as propane-1,2-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group and 2-methylpropane-1,2-diyl group. Can be

3aにおけるペルフルオロアルカンジイル基としては、ジフルオロメチレン基、ペルフルオロエチレン基、ペルフルオロプロパン−1,1−ジイル基、ペルフルオロプロパン−1,3−ジイル基、ペルフルオロプロパン−1,2−ジイル基、ペルフルオロプロパン−2,2−ジイル基、ペルフルオロブタン−1,4−ジイル基、ペルフルオロブタン−2,2−ジイル基、ペルフルオロブタン−1,2−ジイル基、ペルフルオロペンタン−1,5−ジイル基、ペルフルオロペンタン−2,2−ジイル基、ペルフルオロペンタン−3,3−ジイル基、ペルフルオロヘキサン−1,6−ジイル基、ペルフルオロヘキサン−2,2−ジイル基、ペルフルオロヘキサン−3,3−ジイル基、ペルフルオロヘプタン−1,7−ジイル基、ペルフルオロヘプタン−2,2−ジイル基、ペルフルオロヘプタン−3,4−ジイル基、ペルフルオロヘプタン−4,4−ジイル基、ペルフルオロオクタン−1,8−ジイル基、ペルフルオロオクタン−2,2−ジイル基、ペルフルオロオクタン−3,3−ジイル基、ペルフルオロオクタン−4,4−ジイル基等が挙げられる。
3aにおけるペルフルオロシクロアルカンジイル基としては、ペルフルオロシクロヘキサンジイル基、ペルフルオロシクロペンタンジイル基、ペルフルオロシクロヘプタンジイル基、ペルフルオロアダマンタンジイル基等が挙げられる。
Examples of the perfluoroalkanediyl group for L 3a include a difluoromethylene group, a perfluoroethylene group, a perfluoropropane-1,1-diyl group, a perfluoropropane-1,3-diyl group, a perfluoropropane-1,2-diyl group, and a perfluoropropane group. -2,2-diyl group, perfluorobutane-1,4-diyl group, perfluorobutane-2,2-diyl group, perfluorobutane-1,2-diyl group, perfluoropentane-1,5-diyl group, perfluoropentane -2,2-diyl group, perfluoropentane-3,3-diyl group, perfluorohexane-1,6-diyl group, perfluorohexane-2,2-diyl group, perfluorohexane-3,3-diyl group, perfluoroheptane -1,7-diyl group, perfluorohep -2,2-diyl group, perfluoroheptane-3,4-diyl group, perfluoroheptane-4,4-diyl group, perfluorooctane-1,8-diyl group, perfluorooctane-2,2-diyl group, perfluoro An octane-3,3-diyl group, a perfluorooctane-4,4-diyl group and the like can be mentioned.
Examples of the perfluorocycloalkanediyl group in L 3a include a perfluorocyclohexanediyl group, a perfluorocyclopentanediyl group, a perfluorocycloheptanediyl group, a perfluoroadamantanediyl group, and the like.

4aは、好ましくは単結合、メチレン基又はエチレン基であり、より好ましくは、単結合、メチレン基である。
3aは、好ましくは炭素数1〜6のペルフルオロアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数1〜3のペルフルオロアルカンジイル基である。
L 4a is preferably a single bond, a methylene group or an ethylene group, and more preferably a single bond or a methylene group.
L 3a is preferably a C 1-6 perfluoroalkanediyl group, more preferably a C 1-3 perfluoroalkanediyl group.

構造単位(a4−0)としては、以下に示す構造単位及び下記構造単位中の構造単位(a4−0)におけるR5aに相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。
Examples of the structural unit (a4-0) include a structural unit shown below, and a structural unit in which a methyl group corresponding to R 5a in the structural unit (a4-0) in the following structural unit is replaced with a hydrogen atom.

[式(a4−1)中、
a41は、水素原子又はメチル基を表す。
a42は、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
a41は、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルカンジイル基又は式(a−g1)で表される基を表す。ただし、Aa41及びRa42のうち少なくとも1つは、置換基としてハロゲン原子(好ましくはフッ素原子)を有する。
〔式(a−g1)中、
sは0又は1を表す。
a42及びAa44は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1〜5の2価の飽和炭化水素基を表す。
a43は、単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1〜5の2価の脂肪族炭化水素基を表す。
a41及びXa42は、それぞれ独立に、−O−、−CO−、−CO−O−又は−O−CO−を表す。
ただし、Aa42、Aa43、Aa44、Xa41及びXa42の炭素数の合計は7以下である。〕
*は結合部位を表し、右側の*が−O−CO−Ra42との結合部位を表す。]
[In the formula (a4-1),
Ra41 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R a42 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and —CH 2 — contained in the saturated hydrocarbon group is replaced by —O— or —CO—. You may.
A a41 represents an optionally substituted alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms or a group represented by the formula (a-g1). However, at least one of A a41 and R a42 has a halogen atom (preferably a fluorine atom) as a substituent.
[In the formula (a-g1),
s represents 0 or 1.
A a42 and A a44 each independently represent a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms which may have a substituent.
A a43 represents a single bond or a divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms which may have a substituent.
X a41 and X a42 each independently represent -O-, -CO-, -CO -O-, or -O-CO-.
However, the total number of carbon atoms of A a42 , A a43 , A a44 , X a41 and X a42 is 7 or less. ]
* Represents a binding site, and * on the right side represents a binding site to -O-CO- Ra42 . ]

a42における飽和炭化水素基としては、鎖式飽和炭化水素基及び単環又は多環の脂環式飽和炭化水素基、並びに、これらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。 Examples of the saturated hydrocarbon group for Ra42 include a chain saturated hydrocarbon group, a monocyclic or polycyclic alicyclic saturated hydrocarbon group, and a group formed by combining these.

鎖式飽和炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基及びオクタデシル基が挙げられる。単環又は多環の脂環式飽和炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基;デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基(*は結合部位を表す。)等の多環式の脂環式飽和炭化水素基が挙げられる。
組み合わせにより形成される基としては、1以上のアルキル基又は1以上のアルカンジイル基と、1以上の脂環式飽和炭化水素基とを組み合わせることにより形成される基が挙げられ、−アルカンジイル基−脂環式飽和炭化水素基、−脂環式飽和炭化水素基−アルキル基、−アルカンジイル基−脂環式飽和炭化水素基−アルキル基等が挙げられる。
Examples of the chain-type saturated hydrocarbon group include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, decyl, dodecyl, pentadecyl, hexadecyl, heptadecyl and octadecyl. Is mentioned. As the monocyclic or polycyclic alicyclic saturated hydrocarbon group, a cycloalkyl group such as a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group; a decahydronaphthyl group, an adamantyl group, a norbornyl group and the following And a polycyclic alicyclic saturated hydrocarbon group such as a group (* represents a bonding site).
Examples of the group formed by the combination include a group formed by combining one or more alkyl groups or one or more alkanediyl groups with one or more alicyclic saturated hydrocarbon groups, and include a -alkanediyl group. -Alicyclic saturated hydrocarbon group,-alicyclic saturated hydrocarbon group-alkyl group,-alkanediyl group-alicyclic saturated hydrocarbon group-alkyl group.

a42が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子及び式(a−g3)で表される基からなる群から選択される少なくとも1種が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられ、好ましくはフッ素原子である。
[式(a−g3)中、
a43は、酸素原子、カルボニル基、*−O−CO−又は*−CO−O−を表す(*はRa42との結合部位を表す。)。
a45は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜17の脂肪族炭化水素基を表す。
*は結合部位を表す。]
ただし、Ra42−Xa43−Aa45において、Ra42がハロゲン原子を有しない場合は、Aa45は、少なくとも1つのハロゲン原子を有する炭素数1〜17の脂肪族炭化水素基を表す。
Examples of the substituent which Ra42 may have include at least one selected from the group consisting of a halogen atom and a group represented by the formula (a-g3). Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, and a fluorine atom is preferable.
[In the formula (a-g3),
X a43 represents an oxygen atom, a carbonyl group, * -O -CO- or * -CO-O- (* represents a bonding site to Ra42 ).
A a45 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms which may have a halogen atom.
* Represents a binding site. ]
However, in R a42 -X a43 -A a45, when R a42 has no halogen atom, A a45 represents an aliphatic hydrocarbon group of 1 to 17 carbon atoms and having at least one halogen atom.

a45における脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基及びオクタデシル基等のアルキル基;シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の単環式の脂環式炭化水素基;並びにデカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基(*は結合部位を表す。)等の多環式の脂環式炭化水素基が挙げられる。
組み合わせにより形成される基としては、1以上のアルキル基又は1以上のアルカンジイル基と、1以上の脂環式炭化水素基とを組み合わせることにより形成される基が挙げられ、−アルカンジイル基−脂環式炭化水素基、−脂環式炭化水素基−アルキル基、−アルカンジイル基−脂環式炭化水素基−アルキル基等が挙げられる。
Examples of the aliphatic hydrocarbon group for A a45 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a decyl group, a dodecyl group, a pentadecyl group, a hexadecyl group, a heptadecyl group and Alkyl groups such as octadecyl group; monocyclic alicyclic hydrocarbon groups such as cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group and cyclooctyl group; and decahydronaphthyl group, adamantyl group, norbornyl group and the following groups (* Represents a binding site.) And a polycyclic alicyclic hydrocarbon group.
Examples of the group formed by the combination include a group formed by combining one or more alkyl groups or one or more alkanediyl groups with one or more alicyclic hydrocarbon groups, and include -alkanediyl group- Alicyclic hydrocarbon group, -alicyclic hydrocarbon group-alkyl group, -alkanediyl group-alicyclic hydrocarbon group-alkyl group, and the like.

a42は、ハロゲン原子を有していてもよい飽和炭化水素基が好ましく、ハロゲン原子を有するアルキル基及び/又は式(a−g3)で表される基を有する飽和炭化水素基がより好ましい。
a42がハロゲン原子を有する飽和炭化水素基である場合、好ましくはフッ素原子を有する飽和炭化水素基であり、より好ましくはペルフルオロアルキル基又はペルフルオロシクロアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数が1〜6のペルフルオロアルキル基であり、特に好ましくは炭素数1〜3のペルフルオロアルキル基である。ペルフルオロアルキル基としては、ペルフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロヘプチル基及びペルフルオロオクチル基等が挙げられる。ペルフルオロシクロアルキル基としては、ペルフルオロシクロヘキシル基等が挙げられる。
a42が、式(a−g3)で表される基を有する飽和炭化水素基である場合、式(a−g3)で表される基に含まれる炭素数を含めて、Ra42の総炭素数は、15以下が好ましく、12以下がより好ましい。式(a−g3)で表される基を置換基として有する場合、その数は1個が好ましい。
Ra42 is preferably a saturated hydrocarbon group optionally having a halogen atom, and more preferably an alkyl group having a halogen atom and / or a saturated hydrocarbon group having a group represented by the formula (a-g3).
When R a42 is a saturated hydrocarbon group having a halogen atom, it is preferably a saturated hydrocarbon group having a fluorine atom, more preferably a perfluoroalkyl group or a perfluorocycloalkyl group, and still more preferably a carbon number of 1 to 1. And is particularly preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 3 carbon atoms. Examples of the perfluoroalkyl group include a perfluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluoropentyl group, a perfluorohexyl group, a perfluoroheptyl group, and a perfluorooctyl group. Examples of the perfluorocycloalkyl group include a perfluorocyclohexyl group.
When Ra42 is a saturated hydrocarbon group having a group represented by the formula (a-g3), the total carbon number of Ra42 including the number of carbon atoms contained in the group represented by the formula (a-g3) The number is preferably 15 or less, more preferably 12 or less. When it has a group represented by the formula (a-g3) as a substituent, the number is preferably one.

a42が式(a−g3)で表される基を有する飽和炭化水素基である場合、Ra42は、さらに好ましくは式(a−g2)で表される基である。
[式(a−g2)中、
a46は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜17の2価の飽和炭化水素基を表す。
a44は、*−O−CO−又は*−CO−O−を表す(*はAa46との結合部位を表す。)。
a47は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜17の脂肪族炭化水素基を表す。
ただし、Aa46、Aa47及びXa44の炭素数の合計は18以下であり、Aa46及びAa47のうち、少なくとも一方は、少なくとも1つのハロゲン原子を有する。
*はカルボニル基との結合部位を表す。]
When R a42 is a saturated hydrocarbon group having a group represented by the formula (a-g3), R a42 is more preferably a group represented by the formula (a-g2).
[In the formula (a-g2),
A a46 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms which may have a halogen atom.
X a44 represents * -O -CO- or * -CO-O- (* represents a binding site to A a46 ).
A a47 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms which may have a halogen atom.
However, the total number of carbon atoms of A a46 , A a47 and X a44 is 18 or less, and at least one of A a46 and A a47 has at least one halogen atom.
* Represents a bonding site with a carbonyl group. ]

a46の飽和炭化水素基の炭素数は1〜6が好ましく、1〜3がより好ましい。
a47の脂肪族炭化水素基の炭素数は4〜15が好ましく、5〜12がより好ましく、Aa47は、シクロヘキシル基又はアダマンチル基がさらに好ましい。
The carbon number of the saturated hydrocarbon group for A a46 is preferably from 1 to 6, and more preferably from 1 to 3.
The number of carbon atoms of the aliphatic hydrocarbon group A a47 is preferably 4 to 15, more preferably from 5 to 12, A a47 is more preferably cyclohexyl group or adamantyl group.

式(a−g2)で表される基の好ましい構造は、以下の構造である(*はカルボニル基との結合部位を表す)。
The preferred structure of the group represented by the formula (a-g2) is as follows (* represents a bonding site with a carbonyl group).

a41におけるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;プロパン−1,2−ジイル基、ブタン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基、1−メチルブタン−1,4−ジイル基、2−メチルブタン−1,4−ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。
a41の表すアルカンジイル基における置換基としては、ヒドロキシ基及び炭素数1〜6のアルコキシ基等が挙げられる。
a41は、好ましくは炭素数1〜4のアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数2〜4のアルカンジイル基であり、さらに好ましくはエチレン基である。
Examples of the alkanediyl group in A a41 include a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a butane-1,4-diyl group, a pentane-1,5-diyl group, and a hexane-1,6-diyl group. Linear alkanediyl groups such as propane-1,2-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, 1-methylbutane-1,4-diyl group, Examples include a branched alkanediyl group such as a 2-methylbutane-1,4-diyl group.
Examples of the substituent in the alkanediyl group represented by A a41 include a hydroxy group and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.
A a41 is preferably an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably an alkanediyl group having 2 to 4 carbon atoms, and still more preferably an ethylene group.

式(a−g1)で表される基におけるAa42、Aa43及びAa44の表す2価の飽和炭化水素基としては、直鎖又は分岐のアルカンジイル基及び単環又は多環の2価の脂環式炭化水素基、並びに、アルカンジイル基及び2価の脂環式炭化水素基を組合せることにより形成される基等が挙げられる。具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、1−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基等が挙げられる。
a42、Aa43及びAa44の表す2価の飽和炭化水素基の置換基としては、ヒドロキシ基及び炭素数1〜6のアルコキシ基等が挙げられる。
sは、0であることが好ましい。
Examples of the divalent saturated hydrocarbon group represented by A a42 , A a43 and A a44 in the group represented by the formula (a-g1) include a linear or branched alkanediyl group and a monocyclic or polycyclic divalent Examples thereof include an alicyclic hydrocarbon group, and a group formed by combining an alkanediyl group and a divalent alicyclic hydrocarbon group. Specifically, a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a propane-1,2-diyl group, a butane-1,4-diyl group, a 1-methylpropane-1,3-diyl group, Examples thereof include a 2-methylpropane-1,3-diyl group and a 2-methylpropane-1,2-diyl group.
Examples of the substituent of the divalent saturated hydrocarbon group represented by A a42 , A a43 and A a44 include a hydroxy group and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.
s is preferably 0.

式(a−g1)で表される基において、Xa42が−O−、−CO−、−CO−O−又は−O−CO−である基としては、以下の基等が挙げられる。以下の例示において、*及び**はそれぞれ結合部位を表わし、**が−O−CO−Ra42との結合部位を表す。
In the group represented by the formula (a-g1), examples of the group in which X a42 is —O—, —CO— , —CO —O—, or —O—CO— include the following groups. In the following examples, * and ** each represent a binding site, and ** represents a binding site to -O-CO- Ra42 .

式(a4−1)で表される構造単位としては、以下に示す構造単位及び下記構造単位中の式(a4−1)で表される構造単位におけるRa41に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。

As the structural unit represented by the formula (a4-1), a methyl group corresponding to R a41 in the structural unit shown below and a structural unit represented by the formula (a4-1) in the following structural unit is a hydrogen atom. Replaced structural units can be mentioned.

式(a4−1)で表される構造単位としては、式(a4−2)で表される構造単位が好ましい。
[式(a4−2)中、
f5は、水素原子又はメチル基を表す。
44は、炭素数1〜6のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
f6は、炭素数1〜20のフッ素原子を有する飽和炭化水素基を表す。
ただし、L44及びRf6の合計炭素数の上限は21である。]
As the structural unit represented by the formula (a4-1), a structural unit represented by the formula (a4-2) is preferable.
[In the formula (a4-2),
R f5 represents a hydrogen atom or a methyl group.
L 44 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms, -CH 2 contained in the alkanediyl group - may be replaced by -O- or -CO-.
R f6 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms and a fluorine atom.
However, the upper limit of the total number of carbon atoms of L 44 and R f6 are 21. ]

44のアルカンジイル基は、L4aで例示したものと同様の基が挙げられる。
f6の飽和炭化水素基は、Ra42で例示したものと同様の基が挙げられる。
44におけるアルカンジイル基としては、炭素数2〜4のアルカンジイル基が好ましく、エチレン基がより好ましい。
Alkanediyl group of L 44 include the same groups as those exemplified with L 4a.
As the saturated hydrocarbon group for R f6 , the same groups as those exemplified for R a42 can be mentioned.
The alkanediyl group in L 44, preferably alkanediyl group having 2 to 4 carbon atoms, and more preferably an ethylene group.

式(a4−2)で表される構造単位としては、例えば、式(a4−1−1)〜式(a4−1−11)でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。構造単位(a4−2)におけるRf5に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も式(a4−2)で表される構造単位として挙げられる。 Examples of the structural unit represented by the formula (a4-2) include structural units represented by formulas (a4-1-1) to (a4-1-11). A structural unit in which the methyl group corresponding to R f5 in the structural unit (a4-2) is replaced by a hydrogen atom is also exemplified as the structural unit represented by the formula (a4-2).

[式(a4−3)中、
f7は、水素原子又はメチル基を表す。
5は、炭素数1〜6のアルカンジイル基を表す。
f13は、フッ素原子を有していてもよい炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基を表す。
f12は、*−O−CO−又は*−CO−O−を表す(*はAf13との結合部位を表す。)。
f14は、フッ素原子を有していてもよい炭素数1〜17の飽和炭化水素基を表す。
但し、Af13及びAf14の少なくとも1つは、フッ素原子を有し、L5、Af13及びAf14の合計炭素数の上限は20である。]
[In the formula (a4-3),
R f7 represents a hydrogen atom or a methyl group.
And L 5 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.
Af13 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms which may have a fluorine atom.
Xf12 represents * -O-CO- or * -CO-O- (* represents a binding site to Af13 ).
Af14 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms which may have a fluorine atom.
However, at least one of A f13 and A f14 has a fluorine atom, and the upper limit of the total carbon number of L 5 , A f13 and A f14 is 20. ]

5におけるアルカンジイル基としては、L4aのアルカンジイル基で例示したものと同様の基が挙げられる。 The alkanediyl group in L 5, include the same groups as those exemplified alkanediyl group L 4a.

f13におけるフッ素原子を有していてもよい2価の飽和炭化水素基としては、好ましくはフッ素原子を有していてもよい2価の鎖式飽和炭化水素基及びフッ素原子を有していてもよい2価の脂環式飽和炭化水素基であり、より好ましくはペルフルオロアルカンジイル基である。
フッ素原子を有していてもよい2価の鎖式炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基及びペンタンジイル基等のアルカンジイル基;ジフルオロメチレン基、ペルフルオロエチレン基、ペルフルオロプロパンジイル基、ペルフルオロブタンジイル基及びペルフルオロペンタンジイル基等のペルフルオロアルカンジイル基等が挙げられる。
フッ素原子を有していてもよい2価の脂環式炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の基としては、シクロヘキサンジイル基及びペルフルオロシクロヘキサンジイル基等が挙げられる。多環式の基としては、アダマンタンジイル基、ノルボルナンジイル基、ペルフルオロアダマンタンジイル基等が挙げられる。
As the divalent saturated hydrocarbon group which may have a fluorine atom for A f13 , preferably a divalent chain type saturated hydrocarbon group which may have a fluorine atom and a fluorine atom having A divalent alicyclic saturated hydrocarbon group, and more preferably a perfluoroalkanediyl group.
Examples of the divalent chain hydrocarbon group which may have a fluorine atom include alkanediyl groups such as methylene group, ethylene group, propanediyl group, butanediyl group and pentanediyl group; difluoromethylene group, perfluoroethylene group, perfluoro group And perfluoroalkanediyl groups such as a propanediyl group, a perfluorobutanediyl group and a perfluoropentanediyl group.
The divalent alicyclic hydrocarbon group which may have a fluorine atom may be either monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic group include a cyclohexanediyl group and a perfluorocyclohexanediyl group. Examples of the polycyclic group include an adamantanediyl group, a norbornanediyl group, a perfluoroadamantanediyl group, and the like.

f14の飽和炭化水素基及びフッ素原子を有していてもよい飽和炭化水素基は、Ra42で例示したものと同様の基が挙げられる。なかでも、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、1,1,2,2−テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4−オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、2,2,3,3,4,4,5,5,5−ノナフルオロペンチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ペルフルオロヘキシル基、ヘプチル基、ペルフルオロヘプチル基、オクチル基及びペルフルオロオクチル基等のフッ化アルキル基、シクロプロピルメチル基、シクロプロピル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ペルフルオロシクロヘキシル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基、アダマンチルジメチル基、ノルボルニル基、ノルボルニルメチル基、ペルフルオロアダマンチル基、ペルフルオロアダマンチルメチル基等が好ましい。 Or saturated hydrocarbon group which may have a saturated hydrocarbon group and a fluorine atom of A f14 include the same groups as those exemplified with R a42. Among them, trifluoromethyl group, difluoromethyl group, methyl group, perfluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 1,1,2,2-tetrafluoroethyl group, ethyl group, perfluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, propyl group, perfluorobutyl group, 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluorobutyl group, butyl group, perfluoropentyl group, Fluorination of 2,2,3,3,4,4,5,5,5-nonafluoropentyl group, pentyl group, hexyl group, perfluorohexyl group, heptyl group, perfluoroheptyl group, octyl group and perfluorooctyl group Alkyl group, cyclopropylmethyl group, cyclopropyl group, cyclobutylmethyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, Fluorocyclohexyl group, adamantyl group, adamantylmethyl group, adamantyl dimethyl group, norbornyl group, norbornylmethyl group, perfluoro adamantyl group, a perfluoroalkyl adamantylmethyl group and the like are preferable.

式(a4−3)において、L5は、エチレン基が好ましい。
f13の2価の飽和炭化水素基は、炭素数1〜6の2価の鎖式炭化水素基及び炭素数3〜12の2価の脂環式炭化水素基を含む基が好ましく、炭素数2〜3の2価の鎖式炭化水素基がさらに好ましい。
f14の飽和炭化水素基は、炭素数3〜12の鎖式炭化水素基及び炭素数3〜12の脂環式炭化水素基を含む基が好ましく、炭素数3〜10の鎖式炭化水素基及び炭素数3〜10の脂環式炭化水素基を含む基がさらに好ましい。なかでも、Af14は、好ましくは炭素数3〜12の脂環式炭化水素基を含む基であり、より好ましくは、シクロプロピルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基及びアダマンチル基である。
In the formula (a4-3), L 5 is preferably an ethylene group.
The divalent saturated hydrocarbon group for A f13 is preferably a group containing a divalent chain hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms and a divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, 2-3 divalent chain hydrocarbon groups are more preferred.
The saturated hydrocarbon group for A f14 is preferably a group containing a chain hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms and an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, and is preferably a chain hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms. And a group containing an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms is more preferable. Among them, Af14 is preferably a group containing an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, and more preferably a cyclopropylmethyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a norbornyl group, and an adamantyl group.

式(a4−3)で表される構造単位としては、例えば、式(a4−1’−1)〜式(a4−1’−11)でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。構造単位(a4−3)におけるRf7に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も式(a4−3)で表される構造単位として挙げられる。 Examples of the structural unit represented by the formula (a4-3) include structural units represented by the formulas (a4-1′-1) to (a4-1′-11). The structural unit in which the methyl group corresponding to R f7 in the structural unit (a4-3) is replaced with a hydrogen atom is also exemplified as the structural unit represented by the formula (a4-3).

構造単位(a4)としては、式(a4−4)で表される構造単位も挙げられる。
[式(a4−4)中、
f21は、水素原子又はメチル基を表す。
f21は、−(CH2j1−、−(CH2j2−O−(CH2j3−又は−(CH2j4−CO−O−(CH2j5−を表す。
j1〜j5は、それぞれ独立に、1〜6のいずれかの整数を表す。
f22は、フッ素原子を有する炭素数1〜10の飽和炭化水素基を表す。]
Examples of the structural unit (a4) also include a structural unit represented by Formula (a4-4).
[In the formula (a4-4),
R f21 represents a hydrogen atom or a methyl group.
A f21 is, - (CH 2) j1 - , - (CH 2) j2 -O- (CH 2) j3 - or - (CH 2) j4 -CO- O- (CH 2) j5 - represents a.
j1 to j5 each independently represent an integer of any of 1 to 6.
R f22 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and having a fluorine atom. ]

f22の飽和炭化水素基は、Ra42で表される飽和炭化水素基と同じものが挙げられる。Rf22は、フッ素原子を有する炭素数1〜10のアルキル基又はフッ素原子を有する炭素数1〜10の脂環式炭化水素基が好ましく、フッ素原子を有する炭素数1〜10のアルキル基がより好ましく、フッ素原子を有する炭素数1〜6のアルキル基がさらに好ましい。 As the saturated hydrocarbon group for R f22 , the same as the saturated hydrocarbon group for R a42 can be mentioned. R f22 is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a fluorine atom or an alicyclic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms having a fluorine atom, more preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a fluorine atom. Preferably, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms having a fluorine atom is more preferable.

式(a4−4)においては、Af21としては、−(CH2j1−が好ましく、エチレン基又はメチレン基がより好ましく、メチレン基がさらに好ましい。 In formula (A4-4), as the A f21, - (CH 2) j1 - , more preferably an ethylene group or a methylene group, more preferably a methylene group.

式(a4−4)で表される構造単位としては、例えば、以下の構造単位及び以下の式で表される構造単位において、構造単位(a4−4)におけるRf21に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。
As the structural unit represented by the formula (a4-4), for example, in the following structural unit and the structural unit represented by the following formula, a methyl group corresponding to R f21 in the structural unit (a4-4) is hydrogen. Structural units replaced with atoms.

樹脂(A)が、構造単位(a4)を有する場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、1〜20モル%が好ましく、2〜15モル%がより好ましく、3〜10モル%がさらに好ましい。   When the resin (A) has the structural unit (a4), its content is preferably from 1 to 20 mol%, more preferably from 2 to 15 mol%, and more preferably from 3 to 15 mol%, based on all structural units of the resin (A). -10 mol% is more preferred.

〈構造単位(a5)〉
構造単位(a5)が有する非脱離炭化水素基としては、直鎖、分岐又は環状の炭化水素基を有する基が挙げられる。なかでも、構造単位(a5)は、脂環式炭化水素基を有する基が好ましい。
構造単位(a5)としては、例えば、式(a5−1)で表される構造単位が挙げられる。
[式(a5−1)中、
51は、水素原子又はメチル基を表す。
52は、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基で置換されていてもよい。
55は、単結合又は炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。]
<Structural unit (a5)>
Examples of the non-eliminated hydrocarbon group contained in the structural unit (a5) include groups having a linear, branched, or cyclic hydrocarbon group. Among them, the structural unit (a5) is preferably a group having an alicyclic hydrocarbon group.
Examples of the structural unit (a5) include a structural unit represented by the formula (a5-1).
[In the formula (a5-1),
R 51 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R 52 represents an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the alicyclic hydrocarbon group may be substituted with an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. .
L 55 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, -CH 2 contained in the saturated hydrocarbon group - may be replaced by -O- or -CO- . ]

52における脂環式炭化水素基としては、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、アダマンチル基及びノルボルニル基等が挙げられる。
炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基及び2−エチルヘキシル基等のアルキル基が挙げられる。
置換基を有する脂環式炭化水素基としては、3−メチルアダマンチル基などが挙げられる。
52は、好ましくは、無置換の炭素数3〜18の脂環式炭化水素基であり、より好ましくは、アダマンチル基、ノルボルニル基又はシクロヘキシル基である。
The alicyclic hydrocarbon group for R 52 may be either monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic hydrocarbon group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include an adamantyl group and a norbornyl group.
Examples of the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, octyl, and 2 An alkyl group such as -ethylhexyl group.
Examples of the alicyclic hydrocarbon group having a substituent include a 3-methyladamantyl group.
R 52 is preferably an unsubstituted alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, more preferably an adamantyl group, a norbornyl group or a cyclohexyl group.

55における2価の飽和炭化水素基としては、2価の鎖式飽和炭化水素基及び2価の脂環式飽和炭化水素基が挙げられ、好ましくは2価の鎖式飽和炭化水素基である。
2価の鎖式飽和炭化水素基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基及びペンタンジイル基等のアルカンジイル基が挙げられる。
2価の脂環式飽和炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式飽和炭化水素基としては、シクロペンタンジイル基及びシクロヘキサンジイル基等のシクロアルカンジイル基が挙げられる。多環式の2価の脂環式飽和炭化水素基としては、アダマンタンジイル基及びノルボルナンジイル基等が挙げられる。
Examples of the divalent saturated hydrocarbon group for L 55 include a divalent chain saturated hydrocarbon group and a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group, and preferably a divalent chain saturated hydrocarbon group. .
Examples of the divalent chain saturated hydrocarbon group include an alkanediyl group such as a methylene group, an ethylene group, a propanediyl group, a butanediyl group, and a pentanediyl group.
The divalent alicyclic saturated hydrocarbon group may be monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic saturated hydrocarbon group include a cycloalkanediyl group such as a cyclopentanediyl group and a cyclohexanediyl group. Examples of the polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group include an adamantanediyl group and a norbornanediyl group.

55の表す2価の飽和炭化水素基に含まれる−CH−が、−O−又は−CO−で置き換わった基としては、例えば、式(L1−1)〜式(L1−4)で表される基が挙げられる。下記式中、*及び**は各々結合部位を表し、*は酸素原子との結合部位を表す。
式(L1−1)中、
x1は、*−O−CO−又は*−CO−O−を表す(*はLx1との結合部位を表す。)。
x1は、炭素数1〜16の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
x2は、単結合又は炭素数1〜15の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Lx1及びLx2の合計炭素数は、16以下である。
式(L1−2)中、
x3は、炭素数1〜17の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
x4は、単結合又は炭素数1〜16の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Lx3及びLx4の合計炭素数は、17以下である。
式(L1−3)中、
x5は、炭素数1〜15の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
x6及びLx7は、それぞれ独立に、単結合又は炭素数1〜14の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Lx5、Lx6及びLx7の合計炭素数は、15以下である。
式(L1−4)中、
x8及びLx9は、単結合又は炭素数1〜12の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
x1は、炭素数3〜15の2価の脂環式飽和炭化水素基を表す。
ただし、Lx8、Lx9及びWx1の合計炭素数は、15以下である。
-CH 2 contained in the divalent saturated hydrocarbon group represented by L 55 - is, the group replaced by -O- or -CO-, for example, by the formula (L1-1) ~ formula (L1-4) The group represented is mentioned. In the following formulas, * and ** each represent a binding site, and * represents a binding site to an oxygen atom.
In the formula (L1-1),
X x1 represents * -O-CO- or * -CO-O- (* represents a binding site to L x1 ).
L x1 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms.
L x2 represents a single bond or a divalent saturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms.
However, the total carbon number of L x1 and L x2 is 16 or less.
In the formula (L1-2),
L x3 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms.
Lx4 represents a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms.
However, the total carbon number of L x3 and L x4 is 17 or less.
In the formula (L1-3),
L x5 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms.
L x6 and L x7 each independently represent a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 14 carbon atoms.
However, the total carbon number of L x5 , L x6 and L x7 is 15 or less.
In the formula (L1-4),
L x8 and L x9 each represent a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
W x1 represents a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 15 carbon atoms.
However, the total carbon number of L x8 , L x9 and W x1 is 15 or less.

x1は、好ましくは、炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、メチレン基又はエチレン基である。
x2は、好ましくは、単結合又は炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、単結合である。
x3は、好ましくは、炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基である。
x4は、好ましくは、単結合又は炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基である。
x5は、好ましくは、炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、メチレン基又はエチレン基である。
x6は、好ましくは、単結合又は炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、メチレン基又はエチレン基である。
x7は、好ましくは、単結合又は炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基である。
x8は、好ましくは、単結合又は炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、単結合又はメチレン基である。
x9は、好ましくは、単結合又は炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、単結合又はメチレン基である。
x1は、好ましくは、炭素数3〜10の2価の脂環式飽和炭化水素基、より好ましくは、シクロヘキサンジイル基又はアダマンタンジイル基である。
L x1 is preferably a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a methylene group or an ethylene group.
L x2 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and more preferably a single bond.
L x3 is preferably a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L x4 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L x5 is preferably a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a methylene group or an ethylene group.
L x6 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a methylene group or an ethylene group.
L x7 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
Lx8 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a single bond or a methylene group.
Lx9 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a single bond or a methylene group.
W x1 is preferably a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms, more preferably a cyclohexanediyl group or an adamantanediyl group.

式(L1−1)で表される基としては、例えば、以下に示す2価の基が挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (L1-1) include the following divalent groups.

式(L1−2)で表される基としては、例えば、以下に示す2価の基が挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (L1-2) include the following divalent groups.

式(L1−3)で表される基としては、例えば、以下に示す2価の基が挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (L1-3) include the following divalent groups.

式(L1−4)で表される基としては、例えば、以下に示す2価の基が挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (L1-4) include the following divalent groups.

55は、好ましくは、単結合又は式(L1−1)で表される基である。 L 55 is preferably a single bond or a group represented by the formula (L1-1).

構造単位(a5−1)としては、以下に示す構造単位及び下記構造単位中の構造単位(a5−1)におけるR51に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。
The structural unit (a5-1), a methyl group corresponding to R 51 may be mentioned a structural unit replacing a hydrogen atom in the structural units in the structural units and the following structural units shown below (a5-1).

樹脂(A)が、構造単位(a5)を有する場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、1〜30モル%が好ましく、2〜20モル%がより好ましく、3〜15モル%がさらに好ましい。 When the resin (A) has the structural unit (a5), its content is preferably from 1 to 30 mol%, more preferably from 2 to 20 mol%, based on all the structural units of the resin (A). ~ 15 mol% is more preferred.

<構造単位(II)>
樹脂(A)は、さらに、露光により分解して酸を発生する構造単位(以下、「構造単位(II)という場合がある)を含有してもよい。構造単位(II)としては、具体的には特開2016−79235号公報に記載の構造単位が挙げられ、側鎖にスルホナート基若しくはカルボキシレート基と有機カチオンとを有する構造単位又は側鎖にスルホニオ基と有機アニオンとを有する構造単位であることが好ましい。
<Structural unit (II)>
The resin (A) may further contain a structural unit that decomposes upon exposure to generate an acid (hereinafter, may be referred to as “structural unit (II)”). The structural unit described in JP-A-2006-79235 is mentioned, a structural unit having a sulfonate group or a carboxylate group and an organic cation in the side chain or a structural unit having a sulfonio group and an organic anion in the side chain. Preferably, there is.

側鎖にスルホナート基若しくはカルボキシレート基と有機カチオンとを有する構造単位は、式(II−2−A’)で表される構造単位であることが好ましい。
[式(II−2−A’)中、
III3は、炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−、−S−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基又はヒドロキシ基で置き換わっていてもよい。
x1は、炭素数1〜8のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基で置換されていてもよい。
RAは、スルホナート基又はカルボキシレート基を表す。
III3は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基を表す。
ZAは、有機カチオンを表す。]
The structural unit having a sulfonate group or a carboxylate group and an organic cation in the side chain is preferably a structural unit represented by the formula (II-2-A ′).
[In the formula (II-2-A ′),
X III3 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, -CH 2 contained in the saturated hydrocarbon group - is -O -, - it is replaced in S- or -CO- The hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced by a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom or a hydroxy group.
A x1 represents an alkanediyl group having 1 to 8 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the alkanediyl group may be substituted with a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
RA - represents a sulfonate or carboxylate groups.
R III3 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom.
ZA + represents an organic cation. ]

III3で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
III3で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基としては、Ra8で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基と同じものが挙げられる。
x1で表される炭素数1〜8のアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基、エタン−1,1−ジイル基、プロパン−1,1−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、プロパン−2,2−ジイル基、ペンタン−2,4−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基、ペンタン−1,4−ジイル基、2−メチルブタン−1,4−ジイル基等が挙げられる。
x1に置換されていてもよい炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec-ブチル基、ペルフルオロtert-ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
III3で表される炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基としては、直鎖又は分岐状アルカンジイル基、単環式又は多環式の2価の脂環飽和炭化水素基が挙げられ、これらの組み合わせであってもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基、ヘプタン−1,7−ジイル基、オクタン−1,8−ジイル基、ノナン−1,9−ジイル基、デカン−1,10−ジイル基、ウンデカン−1,11−ジイル基、ドデカン−1,12−ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;ブタン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基、ペンタン−1,4−ジイル基、2−メチルブタン−1,4−ジイル基等の分岐状アルカンジイル基;シクロブタン−1,3−ジイル基、シクロペンタン−1,3−ジイル基、シクロヘキサン−1,4−ジイル基、シクロオクタン−1,5−ジイル基等のシクロアルカンジイル基;ノルボルナン−1,4−ジイル基、ノルボルナン−2,5−ジイル基、アダマンタン−1,5−ジイル基、アダマンタン−2,6−ジイル基等の2価の多環式脂環式飽和炭化水素基等が挙げられる。
飽和炭化水素基に含まれる−CH−が、−O−、−S−又は−CO−で置き換わったものとしては、例えば式(X1)〜式(X53)で表される2価の基が挙げられる。ただし、飽和炭化水素基に含まれる−CH−が、−O−、−S−又は−CO−で置き換わる前の炭素数はそれぞれ17以下である。下記式において、*及び**は結合部位を表し、*はAX1との結合部位を表す。
Examples of the halogen atom represented by R III3 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
As the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom represented by R III3, the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom represented by R a8 The same is mentioned.
Examples of the alkanediyl group having 1 to 8 carbon atoms represented by A x1 include a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a butane-1,4-diyl group, and a pentane-1,5-diyl group. Hexane-1,6-diyl group, ethane-1,1-diyl group, propane-1,1-diyl group, propane-1,2-diyl group, propane-2,2-diyl group, pentane-2, 4-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group, 2-methylbutane-1,4-diyl group and the like. No.
Examples of the perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted by Ax1 include a trifluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluoroisopropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluorosec-butyl group, and a perfluorotert-butyl group. -Butyl group, perfluoropentyl group, perfluorohexyl group and the like.
Examples of the divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms represented by XIII3 include a linear or branched alkanediyl group and a monocyclic or polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group. It may be a combination of these.
Specifically, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, propane-1,2-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1 , 6-Diyl group, heptane-1,7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane-1,9-diyl group, decane-1,10-diyl group, undecane-1,11-diyl group Alkanediyl groups such as, dodecane-1,12-diyl group; butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group Alkanediyl groups such as pentane-1,4-diyl group, 2-methylbutane-1,4-diyl group; cyclobutane-1,3-diyl group, cyclopentane-1,3-diyl group, cyclohexane-1 , 4-diyl group, Cycloalkanediyl groups such as looctane-1,5-diyl group; norbornane-1,4-diyl group, norbornane-2,5-diyl group, adamantane-1,5-diyl group, adamantane-2,6-diyl group And other divalent polycyclic alicyclic saturated hydrocarbon groups.
Examples of the case where —CH 2 — contained in the saturated hydrocarbon group is replaced by —O—, —S— or —CO— include divalent groups represented by Formulas (X1) to (X53). No. However, -CH 2 contained in a saturated hydrocarbon group - is, -O -, - number of carbon atoms before replacing with S- or -CO- is respectively 17 or less. In the following formulas, * and ** represent the binding site, and * represents a binding site with A X1.

3は、2価の炭素数1〜16の飽和炭化水素基を表す。
4は、2価の炭素数1〜15の飽和炭化水素基を表す。
5は、2価の炭素数1〜13の飽和炭化水素基を表す。
6は、2価の炭素数1〜14の飽和炭化水素基を表す。
7は、3価の炭素数1〜14の飽和炭化水素基を表す。
8は、2価の炭素数1〜13の飽和炭化水素基を表す。
X 3 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms.
X 4 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms.
X 5 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms.
X 6 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 14 carbon atoms.
X 7 represents a trivalent saturated hydrocarbon group having 1 to 14 carbon atoms.
X 8 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms.

ZA+で表される有機カチオンとしては、有機オニウムカチオン、例えば有機スルホニウムカチオン、有機ヨードニウムカチオン、有機アンモニウムカチオン、有機ベンゾチアゾリウムカチオン及び有機ホスホニウムカチオンなどが挙げられ、有機スルホニウムカチオン及び有機ヨードニウムカチオンが好ましく、アリールスルホニウムカチオンがより好ましい。
式(II−2−A’)中のZAは、後述の酸発生剤(B1)における有機カチオンZと同様のものが挙げられる。
Examples of the organic cation represented by ZA + include an organic onium cation, for example, an organic sulfonium cation, an organic iodonium cation, an organic ammonium cation, an organic benzothiazolium cation and an organic phosphonium cation, and an organic sulfonium cation and an organic iodonium cation Is preferable, and an arylsulfonium cation is more preferable.
ZA + in the formula (II-2-A ′) is the same as the organic cation Z + in the acid generator (B1) described later.

式(II−2−A’)で表される構造単位は、式(II−2−A)で表される構造単位であることが好ましい。
[式(II−2−A)中、RIII3、XIII3及びZAは、上記と同じ意味を表す。
z2Aは、0〜6のいずれかの整数を表す。
III2及びRIII4は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表し、zが2以上のとき、複数のRIII2及びRIII4は互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。
及びQは、それぞれ独立して、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。]
III2、RIII4、Q及びQで表される炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基としては、後述のQb1で表される炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基と同じものが挙げられる。
The structural unit represented by the formula (II-2-A ′) is preferably a structural unit represented by the formula (II-2-A).
[In formula (II-2-A), R III3 , X III3 and ZA + represent the same meaning as described above.
z2A represents any integer of 0 to 6.
R III2 and R III4 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom or a C 1-6 perfluoroalkyl group, and when z is 2 or more, a plurality of R III2 and R III4 are the same as each other; Or different.
Q a and Q b are each independently represent a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms. ]
Examples of the perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by R III2 , R III4 , Q a and Q b include the same as the perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by Q b1 described below. .

式(II−2−A)で表される構造単位は、式(II−2−A−1)で表される構造単位であることが好ましい。
[式(II−2−A−1)中、
III2、RIII3、RIII4、Qa、Qb及びZAは、上記と同じ意味を表す。
III5は、炭素数1〜12の飽和炭化水素基を表す。
z2A1は、0〜6のいずれかの整数を表す。
I2は、炭素数1〜11の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−、−S−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。]
III5で表される炭素数1〜12の飽和炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基及びドデシル基等の直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられる。
I2で表される2価の飽和炭化水素基としては、XIII3で表される2価の飽和炭化水素基と同様のものが挙げられる。
The structural unit represented by the formula (II-2-A) is preferably a structural unit represented by the formula (II-2-A-1).
[In the formula (II-2-A-1),
R III2 , R III3 , R III4 , Q a , Q b and ZA + have the same meaning as described above.
R III5 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
z2A1 represents an integer of any of 0 to 6.
X I2 represents a divalent saturated hydrocarbon group of 1 to 11 carbon atoms, -CH 2 contained in the saturated hydrocarbon group - is -O -, - it is replaced in S- or -CO- The hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a halogen atom or a hydroxy group. ]
Examples of the saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms represented by R III5 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, Examples include a linear or branched alkyl group such as a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, an undecyl group and a dodecyl group.
Examples of the divalent saturated hydrocarbon group represented by X I2 include the same as the divalent saturated hydrocarbon group represented by X III3 .

式(II−2−A−1)で表される構造単位としては、式(II−2−A−2)で表される構造単位がさらに好ましい。
[式(II−2−A−2)中、RIII3、RIII5及びZAは、上記と同じ意味を表す。
m及びnは、互いに独立に、1又は2を表す。]
As the structural unit represented by the formula (II-2-A-1), a structural unit represented by the formula (II-2-A-2) is more preferable.
[In the formula (II-2-A-2), R III3 , R III5 and ZA + represent the same meaning as described above.
m and n each independently represent 1 or 2. ]

式(II−2−A’)で表される構造単位としては、例えば、以下の構造単位及び国際公開第2012/050015号記載の構造単位が挙げられる。ZAは、有機カチオンを表す。
Examples of the structural unit represented by the formula (II-2-A ′) include the following structural units and the structural units described in WO2012 / 050015. ZA + represents an organic cation.

側鎖にスルホニオ基を有するカチオンと有機アニオンとを有する構造単位は、式(II−1−1)で表される構造単位であることが好ましい。
[式(II−1−1)中、
II1は、単結合又は2価の連結基を表す。
II1は、炭素数6〜18の2価の芳香族炭化水素基を表す。
II2及びRII3は、それぞれ独立して、炭素数1〜18の炭化水素基を表し、RII2及びRII3は互いに結合してそれらが結合する硫黄原子とともに環を形成していてもよい。
II4は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基を表す。
は、有機アニオンを表す。]
II1で表される炭素数6〜18の2価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基及びナフチレン基等が挙げられる。
II2及びRII3で表される炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。具体的には、Ra1’、Ra2’及びRa3’における炭化水素基と同じものが挙げられる。
II4で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
II4で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基としては、Ra8で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基と同じものが挙げられる。
II1で表される2価の連結基としては、例えば、炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基が挙げられ、該2価の飽和炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−、−S−又は−CO−で置き換わっていてもよい。具体的には、XIII3で表される炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基と同じものが挙げられる。
The structural unit having a cation having a sulfonio group in the side chain and an organic anion is preferably a structural unit represented by the formula (II-1-1).
[In the formula (II-1-1),
A II1 represents a single bond or a divalent linking group.
R II1 represents a divalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms.
R II2 and R II3 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and R II2 and R II3 may be bonded to each other to form a ring together with the sulfur atom to which they are bonded.
R II4 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom.
A - represents an organic anion. ]
Examples of the divalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms represented by R II1 include a phenylene group and a naphthylene group.
Examples of the hydrocarbon group represented by R II2 and R II3 include an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a group formed by combining these. Specific examples include the same hydrocarbon groups as R a1 ′ , R a2 ′ and R a3 ′ .
Examples of the halogen atom represented by R II4 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
As the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom represented by R II4 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom represented by R a8 The same is mentioned.
Examples of the divalent linking group represented by A II1 include, for example, a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and -CH 2- contained in the divalent saturated hydrocarbon group is It may be replaced by -O-, -S- or -CO-. Specific examples include the same divalent saturated hydrocarbon groups having 1 to 18 carbon atoms represented by XIII3 .

式(II−1−1)中のカチオンを含む構造単位としては、以下で表される構造単位及びRII4のメチル基に相当する基が、水素原子、フッ素原子、トリフルオロメチル等に置き換わった構造単位などが挙げられる。
As the structural unit containing a cation in the formula (II-1-1), a structural unit represented by the following and a group corresponding to a methyl group of R II4 have been replaced with a hydrogen atom, a fluorine atom, trifluoromethyl, or the like. And a structural unit.

で表される有機アニオンとしては、スルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン、スルホニルメチドアニオン及びカルボン酸アニオン等が挙げられる。Aで表される有機アニオンは、スルホン酸アニオンが好ましく、スルホン酸アニオンとしては、後述する式(B1)で表される塩に含まれるアニオンであることがより好ましい。 Examples of the organic anion represented by A include a sulfonate anion, a sulfonylimide anion, a sulfonylmethide anion, and a carboxylate anion. The organic anion represented by A is preferably a sulfonic acid anion, and more preferably an anion contained in a salt represented by the formula (B1) described below.

で表されるスルホニルイミドアニオンとしては、以下のものが挙げられる。
Examples of the sulfonylimide anion represented by A include the following.

スルホニルメチドアニオンとしては、以下のものが挙げられる。
Examples of the sulfonylmethide anion include the following.

カルボン酸アニオンとしては、以下のものが挙げられる。
Examples of the carboxylate anion include the following.

式(II−1−1)で表される構造単位としては、以下で表される構造単位などが挙げられる。
Examples of the structural unit represented by the formula (II-1-1) include the following structural units.

樹脂(A)中に、構造単位(II)を含有する場合の構造単位(II)の含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、好ましくは1〜20モル%であり、より好ましくは2〜15モル%であり、さらに好ましくは3〜10モル%である。   When the structural unit (II) is contained in the resin (A), the content of the structural unit (II) is preferably from 1 to 20 mol% based on all structural units of the resin (A). Preferably it is 2 to 15 mol%, more preferably 3 to 10 mol%.

樹脂(A)は、上述の構造単位以外の構造単位を有していてもよく、このような構造単位としては、当技術分野で周知の構造単位が挙げられる。   The resin (A) may have a structural unit other than the structural units described above, and examples of such a structural unit include structural units known in the art.

樹脂(A)は、好ましくは構造単位(I)と酸不安定基とからなる樹脂、さらに構造単位(I)と構造単位(a1)とからなる樹脂、構造単位(I)と構造単位(s)とからなる樹脂、構造単位(I)と構造単位(a1)と構造単位(s)とからなる樹脂、構造単位(I)と構造単位(a1)と構造単位(s)と構造単位(a4)及び/又は構造単位(a5)とからなる樹脂、構造単位(I)のみからなる樹脂、あるいは、構造単位(I)と構造単位(a4)のみからなる樹脂であり、より好ましくは、構造単位(I)と構造単位(a1)と構造単位(s)とからなる樹脂、構造単位(I)と構造単位(s)とからなる樹脂、あるいは、構造単位(I)と構造単位(a4)と構造単位(a5)とのみからなる樹脂、構造単位(I)と構造単位(a4)とのみからなる樹脂、構造単位(I)と構造単位(a4)と構造単位(a1)とのみからなる樹脂である。
構造単位(I)の含有率は、樹脂(A)における全モノマーに対して、通常1〜20モル%であり、好ましくは2〜10モル%であり、より好ましくは2〜6モル%である。
樹脂(A)が式(a4)及び/又は(a5)で表される構造単位を含む場合(以下「樹脂(AX)」という場合がある。)、本発明の樹脂(AX)における構造単位(I)の含有率は、本発明の樹脂(AX)の全構造単位の合計に対して、好ましくは2〜10モル%であり、より好ましくは2〜6モル%である。
The resin (A) is preferably a resin comprising the structural unit (I) and an acid labile group, a resin comprising the structural unit (I) and the structural unit (a1), and a resin comprising the structural unit (I) and the structural unit (s). ), A resin comprising the structural unit (I), the structural unit (a1) and the structural unit (s), a resin comprising the structural unit (I), the structural unit (a1), the structural unit (s) and the structural unit (a4) ) And / or a resin composed only of the structural unit (a5), a resin composed solely of the structural unit (I), or a resin composed solely of the structural unit (I) and the structural unit (a4), more preferably a structural unit. A resin composed of (I), the structural unit (a1) and the structural unit (s), a resin composed of the structural unit (I) and the structural unit (s), or a resin composed of the structural unit (I) and the structural unit (a4) Resin consisting only of structural unit (a5), structural unit (I) and structural unit Resin comprising a4) and only a resin comprising structural units (I) and the structural unit (a4) and the structural unit (a1) alone.
The content of the structural unit (I) is usually 1 to 20 mol%, preferably 2 to 10 mol%, more preferably 2 to 6 mol%, based on all monomers in the resin (A). .
When the resin (A) contains a structural unit represented by the formula (a4) and / or (a5) (hereinafter sometimes referred to as “resin (AX)”), the structural unit in the resin (AX) of the present invention ( The content of I) is preferably 2 to 10 mol%, more preferably 2 to 6 mol%, based on the total of all the structural units of the resin (AX) of the present invention.

構造単位(a1)は、好ましくは構造単位(a1−0)、構造単位(a1−0X)、構造単位(a1−1)及び構造単位(a1−2)(好ましくはシクロヘキシル基、及びシクロペンチル基を有する該構造単位)からなる群から選ばれる少なくとも一種であり、より好ましくは構造単位(a1−0)、構造単位(a1−0X)、構造単位(a1−1)及び構造単位(a1−2)(好ましくはシクロヘキシル基、又はシクロペンチル基を有する該構造単位)からなる群から選ばれる少なくとも二種である。
構造単位(s)は、好ましくは構造単位(a2)及び構造単位(a3)からなる群から選ばれる少なくとも一種である。構造単位(a2)は、好ましくは式(a2−A)で表される構造単位である。構造単位(a3)は、好ましくは式(a3−1)で表される構造単位、式(a3−2)で表される構造単位及び式(a3−4)で表される構造単位からなる群から選ばれる少なくとも一種である。
The structural unit (a1) is preferably a structural unit (a1-0), a structural unit (a1-0X), a structural unit (a1-1) and a structural unit (a1-2) (preferably a cyclohexyl group and a cyclopentyl group). At least one selected from the group consisting of the above structural units), more preferably the structural unit (a1-0), the structural unit (a1-0X), the structural unit (a1-1), and the structural unit (a1-2) (Preferably, the structural unit having a cyclohexyl group or a cyclopentyl group) is at least two selected from the group consisting of:
The structural unit (s) is preferably at least one selected from the group consisting of the structural unit (a2) and the structural unit (a3). The structural unit (a2) is preferably a structural unit represented by the formula (a2-A). The structural unit (a3) is preferably a group consisting of a structural unit represented by the formula (a3-1), a structural unit represented by the formula (a3-2), and a structural unit represented by the formula (a3-4). At least one selected from

樹脂(A)を構成する各構造単位は、1種のみ又は2種以上を組合せて用いてもよく、これら構造単位を導くモノマーを用いて、公知の重合法(例えばラジカル重合法)によって製造することができる。樹脂(A)が有する各構造単位の含有率は、重合に用いるモノマーの使用量で調整できる。
樹脂(A)の重量平均分子量は、好ましくは2,000以上(より好ましくは2,500以上、さらに好ましくは3,000以上)、50,000以下(より好ましくは30,000以下、さらに好ましくは15,000以下)である。
本明細書において、重量平均分子量は、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィーにより求めた値である。ゲルパーミュエーションクロマトグラフィーは、実施例に記載の分析条件により測定することができる。
Each of the structural units constituting the resin (A) may be used alone or in combination of two or more, and is produced by a known polymerization method (for example, a radical polymerization method) using a monomer that leads to these structural units. be able to. The content of each structural unit of the resin (A) can be adjusted by the amount of the monomer used for polymerization.
The weight average molecular weight of the resin (A) is preferably 2,000 or more (more preferably 2,500 or more, more preferably 3,000 or more), 50,000 or less (more preferably 30,000 or less, and further preferably 15,000 or less).
In the present specification, the weight average molecular weight is a value determined by gel permeation chromatography. Gel permeation chromatography can be measured under the analysis conditions described in the examples.

〔レジスト組成物〕
本発明のレジスト組成物は、樹脂(A)と、レジスト分野で公知の酸発生剤(以下「酸発生剤(B)」という場合がある)を含有することが好ましい。
本発明のレジスト組成物は、さらに、樹脂(A)以外の樹脂を含有していることが好ましい。
本発明のレジスト組成物は、酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩等のクエンチャー(以下「クエンチャー(C)」という場合がある)を含有することが好ましく、溶剤(以下「溶剤(E)」という場合がある)を含有することが好ましい。
(Resist composition)
The resist composition of the present invention preferably contains a resin (A) and an acid generator known in the resist field (hereinafter sometimes referred to as “acid generator (B)”).
It is preferable that the resist composition of the present invention further contains a resin other than the resin (A).
The resist composition of the present invention preferably contains a quencher such as a salt that generates an acid having a lower acidity than the acid generated from the acid generator (hereinafter sometimes referred to as “quencher (C)”). And a solvent (hereinafter sometimes referred to as “solvent (E)”).

<樹脂(A)以外の樹脂>
本発明のレジスト組成物は、樹脂(A)以外の樹脂を含んでもよい。樹脂(A)以外の樹脂とは、構造単位(I)を含まない樹脂であり、このような樹脂としては、例えば、酸不安定基を有する構造単位を有し、かつ構造単位(I)を含まない樹脂(以下「樹脂(A2)」という場合がある)、構造単位(a4)のみからなる樹脂、及び構造単位(a4)と構造単位(a5)とからなる樹脂(以下、構造単位(a4)のみからなる樹脂、及び構造単位(a4)と構造単位(a5)とからなる樹脂を合わせて樹脂(X)という場合がある)等が挙げられる。
<Resins other than resin (A)>
The resist composition of the present invention may contain a resin other than the resin (A). The resin other than the resin (A) is a resin not containing the structural unit (I). Examples of such a resin include a resin having a structural unit having an acid labile group, and a resin having the structural unit (I). Resin not containing (hereinafter sometimes referred to as “resin (A2)”), resin comprising only structural unit (a4), and resin comprising structural unit (a4) and structural unit (a5) (hereinafter referred to as structural unit (a4) ) Alone, and the resin consisting of the structural unit (a4) and the structural unit (a5) may be referred to as a resin (X) in some cases).

樹脂(X)において、構造単位(a4)の含有率は、樹脂(X)の全構造単位の合計に対して、30モル%以上であることが好ましく、40モル%以上であることがより好ましく、45モル%以上であることがさらに好ましい。   In the resin (X), the content of the structural unit (a4) is preferably at least 30 mol%, more preferably at least 40 mol%, based on the total of all the structural units of the resin (X). , 45 mol% or more.

樹脂(X)を構成する各構造単位は、1種のみ又は2種以上を組合せて用いてもよく、これら構造単位を誘導するモノマーを用いて、公知の重合法(例えばラジカル重合法)によって製造することができる。樹脂(X)が有する各構造単位の含有率は、重合に用いるモノマーの使用量で調整できる。
樹脂(A2)及び樹脂(X)の重量平均分子量は、それぞれ独立して、好ましくは6,000以上(より好ましくは7,000以上)、80,000以下(より好ましくは60,000以下)である。樹脂(A2)及び樹脂(X)の重量平均分子量の測定手段は、樹脂(A)の場合と同様である。
本発明のレジスト組成物が、樹脂(A2)を含む場合、その含有量は、樹脂(A)100質量部に対して、通常、1〜2500質量部(より好ましくは10〜1000質量部)である。
また、レジスト組成物が樹脂(X)を含む場合、その含有量は、樹脂(A)100質量部に対して、好ましくは1〜60質量部であり、より好ましくは1〜50質量部であり、さらに好ましくは1〜40質量部であり、特に好ましくは1〜30質量部であり、特に好ましくは1〜8質量部である。
Each of the structural units constituting the resin (X) may be used alone or in combination of two or more, and is produced by a known polymerization method (for example, a radical polymerization method) using a monomer for deriving these structural units. can do. The content of each structural unit in the resin (X) can be adjusted by the amount of the monomer used for polymerization.
The weight average molecular weights of the resin (A2) and the resin (X) are each independently preferably 6,000 or more (more preferably 7,000 or more) and 80,000 or less (more preferably 60,000 or less). is there. The means for measuring the weight average molecular weight of the resin (A2) and the resin (X) is the same as in the case of the resin (A).
When the resist composition of the present invention contains the resin (A2), the content is usually 1 to 2500 parts by mass (more preferably 10 to 1000 parts by mass) with respect to 100 parts by mass of the resin (A). is there.
When the resist composition contains the resin (X), the content is preferably 1 to 60 parts by mass, more preferably 1 to 50 parts by mass, based on 100 parts by mass of the resin (A). More preferably, it is 1 to 40 parts by mass, particularly preferably 1 to 30 parts by mass, particularly preferably 1 to 8 parts by mass.

レジスト組成物における樹脂(A)の含有率は、レジスト組成物の固形分に対して、80質量%以上99質量%以下であることが好ましく、90〜99質量%がより好ましい。また、樹脂(A)以外の樹脂を含む場合は、樹脂(A)と樹脂(A)以外の樹脂との合計含有率は、レジスト組成物の固形分に対して、80質量%以上99質量%以下であることが好ましく、90〜99質量%がより好ましい。レジスト組成物の固形分及びこれに対する樹脂の含有率は、液体クロマトグラフィー又はガスクロマトグラフィー等の公知の分析手段で測定することができる。   The content of the resin (A) in the resist composition is preferably from 80% by mass to 99% by mass, more preferably from 90% to 99% by mass, based on the solid content of the resist composition. When a resin other than the resin (A) is contained, the total content of the resin (A) and the resin other than the resin (A) is from 80% by mass to 99% by mass based on the solid content of the resist composition. It is preferably at most 90% by mass, more preferably 90 to 99% by mass. The solid content of the resist composition and the content of the resin with respect to the solid content can be measured by known analytical means such as liquid chromatography or gas chromatography.

<酸発生剤(B)>
酸発生剤(B)は、非イオン系又はイオン系のいずれを用いてもよい。非イオン系酸発生剤としては、スルホネートエステル類(例えば2−ニトロベンジルエステル、芳香族スルホネート、オキシムスルホネート、N−スルホニルオキシイミド、スルホニルオキシケトン、ジアゾナフトキノン 4−スルホネート)、スルホン類(例えばジスルホン、ケトスルホン、スルホニルジアゾメタン)等が挙げられる。イオン系酸発生剤としては、オニウムカチオンを含むオニウム塩(例えばジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩)が代表的である。オニウム塩のアニオンとしては、スルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン、スルホニルメチドアニオン等が挙げられる。
<Acid generator (B)>
The acid generator (B) may be either nonionic or ionic. Examples of the nonionic acid generator include sulfonate esters (eg, 2-nitrobenzyl ester, aromatic sulfonate, oxime sulfonate, N-sulfonyloxyimide, sulfonyloxyketone, diazonaphthoquinone 4-sulfonate), sulfones (eg, disulfone, Ketosulfone, sulfonyldiazomethane) and the like. Onium salts containing onium cations (eg, diazonium salts, phosphonium salts, sulfonium salts, iodonium salts) are typical examples of the ionic acid generator. Examples of the anion of the onium salt include a sulfonate anion, a sulfonylimide anion, and a sulfonylmethide anion.

酸発生剤(B)としては、特開昭63−26653号、特開昭55−164824号、特開昭62−69263号、特開昭63−146038号、特開昭63−163452号、特開昭62−153853号、特開昭63−146029号、米国特許第3,779,778号、米国特許第3,849,137号、独国特許第3914407号、欧州特許第126,712号等に記載の放射線によって酸を発生する化合物を使用することができる。また、公知の方法で製造した化合物を使用してもよい。酸発生剤(B)は、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Examples of the acid generator (B) include JP-A-63-26653, JP-A-55-164824, JP-A-62-69263, JP-A-63-146038, and JP-A-63-163452. JP-A-62-153853, JP-A-63-146029, U.S. Patent No. 3,779,778, U.S. Patent No. 3,849,137, German Patent No. 3,914,407, European Patent No. 126,712, etc. The compounds capable of generating an acid by the radiation described in (1) can be used. Further, a compound produced by a known method may be used. The acid generator (B) may be used in combination of two or more.

酸発生剤(B)は、好ましくはフッ素含有酸発生剤であり、より好ましくは式(B1)で表される塩(以下「酸発生剤(B1)」という場合がある。)である。
[式(B1)中、
b1及びQb2は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。
b1は、炭素数1〜24の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Yは、置換基を有していてもよいメチル基又は置換基を有していてもよい炭素数3〜18の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−、−S(O)−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
は、有機カチオンを表す。]
The acid generator (B) is preferably a fluorine-containing acid generator, and more preferably a salt represented by the formula (B1) (hereinafter sometimes referred to as “acid generator (B1)”).
[In the formula (B1),
Q b1 and Q b2 each independently represent a fluorine atom or a C 1-6 perfluoroalkyl group.
L b1 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO—. The hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
Y represents a methyl group which may have a substituent or an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms which may have a substituent, and-is included in the alicyclic hydrocarbon group. CH 2 — may be replaced by —O—, —S (O) 2 — or —CO—.
Z + represents an organic cation. ]

b1及びQb2の表すペルフルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec−ブチル基、ペルフルオロtert−ブチル基、ペルフルオロペンチル基及びペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
b1及びQb2は、それぞれ独立に、フッ素原子又はトリフルオロメチル基であることが好ましく、ともにフッ素原子であることがより好ましい。
Examples of the perfluoroalkyl group represented by Q b1 and Q b2 include a trifluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluoroisopropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluorosec-butyl group, a perfluorotert-butyl group, a perfluoropentyl group and And perfluorohexyl groups.
Q b1 and Q b2 are each independently preferably a fluorine atom or a trifluoromethyl group, and more preferably both are fluorine atoms.

b1における2価の飽和炭化水素基としては、直鎖状アルカンジイル基、分岐状アルカンジイル基、単環式又は多環式の2価の脂環式飽和炭化水素基が挙げられ、これらの基のうち2種以上を組合せることにより形成される基でもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基、ヘプタン−1,7−ジイル基、オクタン−1,8−ジイル基、ノナン−1,9−ジイル基、デカン−1,10−ジイル基、ウンデカン−1,11−ジイル基、ドデカン−1,12−ジイル基、トリデカン−1,13−ジイル基、テトラデカン−1,14−ジイル基、ペンタデカン−1,15−ジイル基、ヘキサデカン−1,16−ジイル基及びヘプタデカン−1,17−ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;
エタン−1,1−ジイル基、プロパン−1,1−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、プロパン−2,2−ジイル基、ペンタン−2,4−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基、ペンタン−1,4−ジイル基、2−メチルブタン−1,4−ジイル基等の分岐状アルカンジイル基;
シクロブタン−1,3−ジイル基、シクロペンタン−1,3−ジイル基、シクロヘキサン−1,4−ジイル基、シクロオクタン−1,5−ジイル基等のシクロアルカンジイル基である単環式の2価の脂環式飽和炭化水素基;
ノルボルナン−1,4−ジイル基、ノルボルナン−2,5−ジイル基、アダマンタン−1,5−ジイル基、アダマンタン−2,6−ジイル基等の多環式の2価の脂環式飽和炭化水素基等が挙げられる。
Examples of the divalent saturated hydrocarbon group for L b1 include a linear alkanediyl group, a branched alkanediyl group, and a monocyclic or polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group. It may be a group formed by combining two or more of the groups.
Specifically, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1 , 7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane-1,9-diyl group, decane-1,10-diyl group, undecane-1,11-diyl group, dodecane-1,12-diyl group Linear groups such as tridecane-1,13-diyl group, tetradecane-1,14-diyl group, pentadecane-1,15-diyl group, hexadecane-1,16-diyl group and heptadecane-1,17-diyl group Alkanediyl group;
Ethane-1,1-diyl group, propane-1,1-diyl group, propane-1,2-diyl group, propane-2,2-diyl group, pentane-2,4-diyl group, 2-methylpropane- Branched alkanediyl groups such as 1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group, 2-methylbutane-1,4-diyl group;
Monocyclic 2 which is a cycloalkanediyl group such as cyclobutane-1,3-diyl group, cyclopentane-1,3-diyl group, cyclohexane-1,4-diyl group, cyclooctane-1,5-diyl group; Divalent alicyclic saturated hydrocarbon group;
Polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbons such as norbornane-1,4-diyl group, norbornane-2,5-diyl group, adamantane-1,5-diyl group, and adamantane-2,6-diyl group And the like.

b1で表される2価の飽和炭化水素基に含まれる−CH−が−O−又は−CO−で置き換わった基としては、例えば、式(b1−1)〜式(b1−3)のいずれかで表される基が挙げられる。なお、式(b1−1)〜式(b1−3)で表される基及びそれらの具体例である式(b1−4)〜式(b1−11)で表される基において、*及び**は結合部位を表し、*は−Yとの結合部位を表す。 Examples of the group in which —CH 2 — contained in the divalent saturated hydrocarbon group represented by L b1 is replaced by —O— or —CO— include, for example, formulas (b1-1) to (b1-3) And a group represented by any of the above. In the groups represented by the formulas (b1-1) to (b1-3) and the groups represented by the formulas (b1-4) to (b1-11), which are specific examples, * and * * Represents a binding site, and * represents a binding site to -Y.

[式(b1−1)中、
b2は、単結合又は炭素数1〜22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
b3は、単結合又は炭素数1〜22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
ただし、Lb2とLb3との炭素数合計は、22以下である。
式(b1−2)中、
b4は、単結合又は炭素数1〜22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
b5は、単結合又は炭素数1〜22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
ただし、Lb4とLb5との炭素数合計は、22以下である。
式(b1−3)中、
b6は、単結合又は炭素数1〜23の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
b7は、単結合又は炭素数1〜23の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
ただし、Lb6とLb7との炭素数合計は、23以下である。]
[In the formula (b1-1),
L b2 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b3 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group; —CH 2 — contained in the hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO—.
However, the total carbon number of L b2 and L b3 is 22 or less.
In the formula (b1-2),
L b4 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b5 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group; —CH 2 — contained in the hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO—.
However, the total carbon number of L b4 and L b5 is 22 or less.
In the formula (b1-3),
L b6 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
L b7 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group; —CH 2 — contained in the hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO—.
However, the total carbon number of L b6 and L b7 is 23 or less. ]

式(b1−1)〜式(b1−3)で表される基においては、飽和炭化水素基に含まれる−CH−が−O−又は−CO−に置き換わっている場合、置き換わる前の炭素数を該飽和炭化水素基の炭素数とする。
2価の飽和炭化水素基としては、Lb1の2価の飽和炭化水素基と同様のものが挙げられる。
b2は、好ましくは単結合である。
b3は、好ましくは炭素数1〜4の2価の飽和炭化水素基である。
b4は、好ましくは炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基であり、該2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
b5は、好ましくは単結合又は炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基である。
b6は、好ましくは単結合又は炭素数1〜4の2価の飽和炭化水素基であり、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
b7は、好ましくは単結合又は炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基であり、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該2価の飽和炭化水素基に含まれる−CH−は−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
で表される2価の飽和炭化水素基に含まれる−CH−が−O−又は−CO−で置き換わった基としては、式(b1−1)又は式(b1−3)で表される基が好ましい。
In the groups represented by the formulas (b1-1) to (b1-3), when —CH 2 — contained in the saturated hydrocarbon group is replaced by —O— or —CO—, the carbon before replacement is The number is defined as the number of carbon atoms of the saturated hydrocarbon group.
Examples of the divalent saturated hydrocarbon group include the same as the divalent saturated hydrocarbon group for L b1 .
L b2 is preferably a single bond.
L b3 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
L b4 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b5 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b6 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b7 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group. —CH 2 — contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO—.
Examples of the group in which —CH 2 — contained in the divalent saturated hydrocarbon group represented by L 1 is replaced by —O— or —CO— include those represented by Formula (b1-1) or Formula (b1-3). Are preferred.

式(b1−1)で表される基としては、式(b1−4)〜式(b1−8)でそれぞれ表される基が挙げられる。
[式(b1−4)中、
b8は、単結合又は炭素数1〜22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
式(b1−5)中、
b9は、炭素数1〜20の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる−CH−は−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
b10は、単結合又は炭素数1〜19の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb9及びLb10の合計炭素数は20以下である。
式(b1−6)中、
b11は、炭素数1〜21の2価の飽和炭化水素基を表す。
b12は、単結合又は炭素数1〜20の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb11及びLb12の合計炭素数は21以下である。
式(b1−7)中、
b13は、炭素数1〜19の2価の飽和炭化水素基を表す。
b14は、単結合又は炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる−CH−は−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
b15は、単結合又は炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb13〜Lb15の合計炭素数は19以下である。
式(b1−8)中、
b16は、炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる−CH−は−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
b17は、炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基を表す。
b18は、単結合又は炭素数1〜17の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb16〜Lb18の合計炭素数は19以下である。]
b8は、好ましくは炭素数1〜4の2価の飽和炭化水素基である。
b9は、好ましくは炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基である。
b10は、好ましくは単結合又は炭素数1〜19の2価の飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合又は炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基である。
b11は、好ましくは炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基である。
b12は、好ましくは単結合又は炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基である。
b13は、好ましくは炭素数1〜12の2価の飽和炭化水素基である。
b14は、好ましくは単結合又は炭素数1〜6の2価の飽和炭化水素基である。
b15は、好ましくは単結合又は炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合又は炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基である。
b16は、好ましくは炭素数1〜12の2価の飽和炭化水素基である。
b17は、好ましくは炭素数1〜6の2価の飽和炭化水素基である。
b18は、好ましくは単結合又は炭素数1〜17の2価の飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合又は炭素数1〜4の2価の飽和炭化水素基である。
Examples of the group represented by the formula (b1-1) include groups represented by the formulas (b1-4) to (b1-8).
[In the formula (b1-4),
L b8 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
In the formula (b1-5),
L b9 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO—.
L b10 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group .
However, the total carbon number of L b9 and L b10 is 20 or less.
In the formula (b1-6),
L b11 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms.
L b12 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group .
However, the total carbon number of L b11 and L b12 is 21 or less.
In the formula (b1-7),
L b13 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms.
L b14 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and -CH 2- contained in the divalent saturated hydrocarbon group is replaced by -O- or -CO-. Is also good.
L b15 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group .
However, the total number of carbon atoms of L b13 ~L b15 is 19 or less.
In the formula (b1-8),
L b16 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO—.
L b17 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms.
L b18 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group .
However, the total carbon number of L b16 to L b18 is 19 or less. ]
L b8 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
L b9 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b10 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, and more preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b11 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b12 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b13 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
L b14 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
L b15 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and more preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b16 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
L b17 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
L b18 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms, and more preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.

式(b1−3)で表される基としては、式(b1−9)〜式(b1−11)でそれぞれ表される基が挙げられる。
式(b1−9)中、
b19は、単結合又は炭素数1〜23の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
b20は、単結合又は炭素数1〜23の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子、ヒドロキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基に置換されていてもよい。該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb19及びLb20の合計炭素数は23以下である。
式(b1−10)中、
b21は、単結合又は炭素数1〜21の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
b22は、単結合又は炭素数1〜21の2価の飽和炭化水素基を表す。
b23は、単結合又は炭素数1〜21の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子、ヒドロキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基に置換されていてもよい。該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb21、Lb22及びLb23の合計炭素数は21以下である。
式(b1−11)中、
b24は、単結合又は炭素数1〜20の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
b25は、炭素数1〜21の2価の飽和炭化水素基を表す。
b26は、単結合又は炭素数1〜20の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子、ヒドロキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基に置換されていてもよい。該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb24、Lb25及びLb26の合計炭素数は21以下である。
Examples of the group represented by the formula (b1-3) include groups represented by the formulas (b1-9) to (b1-11).
In the formula (b1-9),
L b19 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b20 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group is substituted with a fluorine atom, a hydroxy group or an alkylcarbonyloxy group. Is also good. —CH 2 — contained in the alkylcarbonyloxy group may be replaced by —O— or —CO—, and a hydrogen atom contained in the alkylcarbonyloxy group may be replaced by a hydroxy group.
However, the total carbon number of L b19 and L b20 is 23 or less.
In the formula (b1-10),
L b21 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b22 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms.
L b23 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group is substituted with a fluorine atom, a hydroxy group or an alkylcarbonyloxy group. Is also good. —CH 2 — contained in the alkylcarbonyloxy group may be replaced by —O— or —CO—, and a hydrogen atom contained in the alkylcarbonyloxy group may be replaced by a hydroxy group.
However, the total carbon number of L b21 , L b22 and L b23 is 21 or less.
In the formula (b1-11),
L b24 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b25 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms.
L b26 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group is substituted with a fluorine atom, a hydroxy group or an alkylcarbonyloxy group. Is also good. —CH 2 — contained in the alkylcarbonyloxy group may be replaced by —O— or —CO—, and a hydrogen atom contained in the alkylcarbonyloxy group may be replaced by a hydroxy group.
However, L b24, the total number of carbon atoms of L b25 and L b26 is 21 or less.

なお、式(b1−9)で表される基から式(b1−11)で表される基においては、飽和炭化水素基に含まれる水素原子がアルキルカルボニルオキシ基に置換されている場合、置き換わる前の炭素数を該飽和炭化水素基の炭素数とする。   In addition, in the group represented by the formula (b1-11) from the group represented by the formula (b1-9), when the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group is substituted by an alkylcarbonyloxy group, the group is replaced. The previous carbon number is the carbon number of the saturated hydrocarbon group.

アルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、アダマンチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。   Examples of the alkylcarbonyloxy group include an acetyloxy group, a propionyloxy group, a butyryloxy group, a cyclohexylcarbonyloxy group, and an adamantylcarbonyloxy group.

式(b1−4)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-4) include the following.

式(b1−5)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-5) include the following.

式(b1−6)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-6) include the following.

式(b1−7)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-7) include the following.

式(b1−8)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-8) include the following.

式(b1−2)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-2) include the following.

式(b1−9)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-9) include the following.

式(b1−10)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-10) include the following.

式(b1−11)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-11) include the following.

Yで表される脂環式炭化水素基としては、式(Y1)〜式(Y11)、式(Y36)〜式(Y38)で表される基が挙げられる。
Yで表される脂環式炭化水素基に含まれる−CH−が−O−、−S(O)−又は−CO−で置き換わる場合、その数は1つでもよいし、2以上でもよい。そのような基としては、式(Y12)〜式(Y35)、式(Y39)〜式(Y41)で表される基が挙げられる。
Examples of the alicyclic hydrocarbon group represented by Y include groups represented by formulas (Y1) to (Y11) and (Y36) to (Y38).
When —CH 2 — contained in the alicyclic hydrocarbon group represented by Y is replaced with —O—, —S (O) 2 — or —CO—, the number may be one or two or more. Good. Examples of such a group include groups represented by formulas (Y12) to (Y35) and formulas (Y39) to (Y41).

Yで表される脂環式炭化水素基としては、好ましくは式(Y1)〜式(Y20)、式(Y26)、式(Y27)、式(Y30)、式(Y31)、式(Y39)〜式(Y41)のいずれかで表される基であり、より好ましくは式(Y11)、式(Y15)、式(Y16)、式(Y20)、式(Y26)、式(Y27)、式(Y30)、式(Y31)、式(Y39)又は式(Y40)で表される基であり、さらに好ましくは式(Y11)、式(Y15)、式(Y20)、式(Y30)、式(Y39)又は式(Y40)で表される基である。
Yで表される脂環式炭化水素基が式(Y28)〜式(Y35)、式(Y39)〜式(Y40)等のスピロ環である場合には、2つの酸素原子間のアルカンジイル基は、1以上のフッ素原子を有することが好ましい。また、ケタール構造に含まれるアルカンジイル基のうち、酸素原子に隣接するメチレン基には、フッ素原子が置換されていないのが好ましい。
As the alicyclic hydrocarbon group represented by Y, preferably, formulas (Y1) to (Y20), formula (Y26), formula (Y27), formula (Y30), formula (Y31), and formula (Y39) To a group represented by any one of formulas (Y41) to (Y41), more preferably a formula (Y11), a formula (Y15), a formula (Y16), a formula (Y20), a formula (Y26), a formula (Y27), a formula A group represented by formula (Y30), formula (Y31), formula (Y39) or formula (Y40), and more preferably formula (Y11), formula (Y15), formula (Y20), formula (Y30), (Y39) or a group represented by the formula (Y40).
When the alicyclic hydrocarbon group represented by Y is a spiro ring represented by formulas (Y28) to (Y35), (Y39) to (Y40), an alkanediyl group between two oxygen atoms Preferably has one or more fluorine atoms. Further, among the alkanediyl groups contained in the ketal structure, it is preferable that the methylene group adjacent to the oxygen atom is not substituted with a fluorine atom.

Yで表されるメチル基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数3〜16の脂環式炭化水素基、炭素数6〜18の芳香族炭化水素基、グリシジルオキシ基、−(CHja−CO−O−Rb1基又は−(CHja−O−CO−Rb1基(式中、Rb1は、炭素数1〜16のアルキル基、炭素数3〜16の脂環式炭化水素基又は炭素数6〜18の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表す。jaは、0〜4のいずれかの整数を表す。炭素数1〜16のアルキル基、及び炭素数3〜16の脂環式炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−、−S(O)−又は−CO−で置き換わっていてもよい。)等が挙げられる。
Yで表される脂環式炭化水素基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基で置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数3〜16の脂環式炭化水素基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜18の芳香族炭化水素基、炭素数7〜21のアラルキル基、炭素数2〜4のアルキルカルボニル基、グリシジルオキシ基、−(CHja−CO−O−Rb1基又は−(CHja−O−CO−Rb1基(式中、Rb1は、炭素数1〜16のアルキル基、炭素数3〜16の脂環式炭化水素基又は炭素数6〜18の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表す。jaは、0〜4のいずれかの整数を表す。炭素数1〜16のアルキル基、及び炭素数3〜16の脂環式炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−、−S(O)−又は−CO−で置き換わっていてもよい。)等が挙げられる。
Examples of the substituent of the methyl group represented by Y include a halogen atom, a hydroxy group, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, a glycidyloxy group,-( CH 2 ) ja —CO—O—R b1 group or — (CH 2 ) ja —O—CO—R b1 group (where R b1 is an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, Represents an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a combination thereof; ja represents an integer of any of 0 to 4. an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms; And —CH 2 — contained in the alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms may be replaced with —O—, —S (O) 2 —, or —CO—.
Examples of the substituent of the alicyclic hydrocarbon group represented by Y include a halogen atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a hydroxy group, and an alicyclic group having 3 to 16 carbon atoms. A hydrocarbon group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 21 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, a glycidyloxy group,-( CH 2 ) ja —CO—O—R b1 group or — (CH 2 ) ja —O—CO—R b1 group (where R b1 is an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, Represents an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a combination thereof; ja represents an integer of any of 0 to 4. an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms; and -CH 2 - contained in the alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms - are -O -, - S (O) 2 -. Or -CO- in may be replaced), and the like.

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントリル基ビフェニル基、フェナントリル基等のアリール基等が挙げられる。芳香族炭化水素基は、鎖式炭化水素基又は脂環式炭化水素基を有していてもよく、鎖式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、p−エチルフェニル基、p−tert−ブチルフェニル基、2,6−ジエチルフェニル基、2−メチル−6−エチルフェニル基等)及び脂環式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(p−シクロへキシルフェニル基、p−アダマンチルフェニル基等)等が挙げられる。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、2−エチルヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等が挙げられる。
ヒドロキシ基で置換されているアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基等のヒドロキシアルキル基が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基及びドデシルオキシ基等が挙げられる。
アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基及びナフチルエチル基等が挙げられる。
アルキルカルボニル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
Examples of the alicyclic hydrocarbon group include a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a methylcyclohexyl group, a dimethylcyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a norbornyl group, an adamantyl group, and the like.
Examples of the aromatic hydrocarbon group include an aryl group such as a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a biphenyl group, and a phenanthryl group. The aromatic hydrocarbon group may have a chain hydrocarbon group or an alicyclic hydrocarbon group, and an aromatic hydrocarbon group having a chain hydrocarbon group (tolyl group, xylyl group, cumenyl group, mesityl group) Group, p-ethylphenyl group, p-tert-butylphenyl group, 2,6-diethylphenyl group, 2-methyl-6-ethylphenyl group, etc.) and an aromatic hydrocarbon group having an alicyclic hydrocarbon group ( p-cyclohexylphenyl group, p-adamantylphenyl group, etc.).
Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, heptyl, 2-ethylhexyl, octyl, and nonyl. Group, decyl group, undecyl group, dodecyl group and the like.
Examples of the alkyl group substituted with a hydroxy group include a hydroxyalkyl group such as a hydroxymethyl group and a hydroxyethyl group.
Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, a heptyloxy group, an octyloxy group, a decyloxy group and a dodecyloxy group.
Examples of the aralkyl group include a benzyl group, a phenethyl group, a phenylpropyl group, a naphthylmethyl group and a naphthylethyl group.
Examples of the alkylcarbonyl group include an acetyl group, a propionyl group, and a butyryl group.

Yとしては、以下のものが挙げられる。
Examples of Y include the following.

Yは、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数3〜18の脂環式炭化水素基であり、より好ましく置換基を有していてもよいアダマンチル基であり、該脂環式炭化水素基又はアダマンチル基を構成する−CH−は−CO−、−S(O)−又は−CO−に置き換わっていてもよい。Yは、さらに好ましくはアダマンチル基、ヒドロキシアダマンチル基、オキソアダマンチル基又は下記で表される基である。
Y is preferably an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms which may have a substituent, and more preferably an adamantyl group which may have a substituent. is -CO - - -CH 2 constituting a hydrogen group or an adamantyl group, - S (O) 2 - or -CO- may be replaced with. Y is more preferably an adamantyl group, a hydroxyadamantyl group, an oxoadamantyl group or a group represented by the following.

式(B1)で表される塩におけるアニオンとしては、式(B1−A−1)〜式(B1−A−55)で表されるアニオン〔以下、式番号に応じて「アニオン(B1−A−1)」等という場合がある。〕が好ましく、式(B1−A−1)〜式(B1−A−4)、式(B1−A−9)、式(B1−A−10)、式(B1−A−24)〜式(B1−A−33)、式(B1−A−36)〜式(B1−A−40)、式(B1−A−47)〜式(B1−A−55)のいずれかで表されるアニオンがより好ましい。
As the anion in the salt represented by the formula (B1), an anion represented by the formula (B1-A-1) to the formula (B1-A-55) [hereinafter referred to as an anion (B1-A -1) ". ] Are preferable, and the formulas (B1-A-1) to (B1-A-4), the formula (B1-A-9), the formula (B1-A-10), and the formulas (B1-A-24) to (B1-A-33), Formula (B1-A-36) to Formula (B1-A-40), or Formula (B1-A-47) to Formula (B1-A-55). Anions are more preferred.

ここでRi2〜Ri7は、互いに独立に、例えば、炭素数1〜4のアルキル基、好ましくはメチル基又はエチル基である。Ri8は、例えば、炭素数1〜12の脂肪族炭化水素基、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基、炭素数5〜12の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せることにより形成される基、より好ましくはメチル基、エチル基、シクロヘキシル基又はアダマンチル基である。LA41は、単結合又は炭素数1〜4のアルカンジイル基である。
b1及びQb2は、上記と同じ意味を表す。
式(B1)で表される塩におけるスルホン酸アニオンとしては、具体的には、特開2010−204646号公報に記載されたアニオンが挙げられる。
Here, R i2 to R i7 are each independently, for example, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, preferably a methyl group or an ethyl group. R i8 is formed by, for example, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 12 carbon atoms, or a combination thereof. And more preferably a methyl group, an ethyl group, a cyclohexyl group or an adamantyl group. L A41 is a single bond or an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms.
Q b1 and Q b2 represent the same meaning as described above.
Specific examples of the sulfonate anion in the salt represented by the formula (B1) include anions described in JP-A-2010-204646.

好ましい式(B1)で表される塩におけるアニオンとしては、式(B1a−1)〜式(B1a−34)でそれぞれ表されるアニオンが挙げられる。
Preferred anions in the salt represented by formula (B1) include anions represented by formulas (B1a-1) to (B1a-34).

なかでも、式(B1a−1)〜式(B1a−3)及び式(B1a−7)〜式(B1a−16)、式(B1a−18)、式(B1a−19)、式(B1a−22)〜式(B1a−34)のいずれかで表されるアニオンが好ましい。   Among them, Formulas (B1a-1) to (B1a-3) and Formulas (B1a-7) to (B1a-16), Formula (B1a-18), Formula (B1a-19), and Formula (B1a-22) ) To (B1a-34) are preferred.

の有機カチオンとしては、有機オニウムカチオン、有機スルホニウムカチオン、有機ヨードニウムカチオン、有機アンモニウムカチオン、ベンゾチアゾリウムカチオン及び有機ホスホニウムカチオン等が挙げられる。これらの中でも、有機スルホニウムカチオン及び有機ヨードニウムカチオンが好ましく、アリールスルホニウムカチオンがより好ましい。具体的には、式(b2−1)〜式(b2−4)のいずれかで表されるカチオン(以下、式番号に応じて「カチオン(b2−1)」等という場合がある。)が挙げられる。 Examples of the organic cation for Z + include an organic onium cation, an organic sulfonium cation, an organic iodonium cation, an organic ammonium cation, a benzothiazolium cation, and an organic phosphonium cation. Among these, an organic sulfonium cation and an organic iodonium cation are preferable, and an aryl sulfonium cation is more preferable. Specifically, a cation represented by any of formulas (b2-1) to (b2-4) (hereinafter, may be referred to as “cation (b2-1)” or the like depending on the formula number). No.

式(b2−1)〜式(b2−4)において、
b4〜Rb6は、それぞれ独立に、炭素数1〜30の鎖式炭化水素基、炭素数3〜36の脂環式炭化水素基又は炭素数6〜36の芳香族炭化水素基を表し、該鎖式炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数3〜12の脂環式炭化水素基又は炭素数6〜18の芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基、炭素数2〜4のアルキルカルボニル基又はグリシジルオキシ基で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基又は炭素数1〜12のアルコキシ基で置換されていてもよい。
b4とRb5とは、互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と一緒になって環を形成してもよく、該環に含まれる−CH2−は、−O−、−S−又は−CO−に置き換わってもよい。
b7及びRb8は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、炭素数1〜12の脂肪族炭化水素基又は炭素数1〜12のアルコキシ基を表す。
m2及びn2は、それぞれ独立に0〜5のいずれかの整数を表す。
m2が2以上のとき、複数のRb7は同一でも異なってもよく、n2が2以上のとき、複数のRb8は同一でも異なってもよい。
b9及びRb10は、それぞれ独立に、炭素数1〜36の鎖式炭化水素基又は炭素数3〜36の脂環式炭化水素基を表す。
b9とRb10とは、互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と一緒になって環を形成してもよく、該環に含まれる−CH2−は、−O−、−S−又は−CO−に置き換わってもよい。
b11は、水素原子、炭素数1〜36の鎖式炭化水素基、炭素数3〜36の脂環式炭化水素基又は炭素数6〜18の芳香族炭化水素基を表す。
b12は、炭素数1〜12の鎖式炭化水素基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基又は炭素数6〜18の芳香族炭化水素基を表し、該鎖式炭化水素に含まれる水素原子は、炭素数6〜18の芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、炭素数1〜12のアルコキシ基又は炭素数1〜12のアルキルカルボニルオキシ基で置換されていてもよい。
b11とRb12とは、互いに結合してそれらが結合する−CH−CO−を含めて環を形成していてもよく、該環に含まれる−CH2−は、−O−、−S−又は−CO−に置き換わってもよい。
b13〜Rb18は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、炭素数1〜12の脂肪族炭化水素基又は炭素数1〜12のアルコキシ基を表す。
b31は、硫黄原子又は酸素原子を表す。
o2、p2、s2、及びt2は、それぞれ独立に、0〜5のいずれかの整数を表す。
q2及びr2は、それぞれ独立に、0〜4のいずれかの整数を表す。
u2は0又は1を表す。
o2が2以上のとき、複数のRb13は同一又は相異なり、p2が2以上のとき、複数のRb14は同一又は相異なり、q2が2以上のとき、複数のRb15は同一又は相異なり、r2が2以上のとき、複数のRb16は同一又は相異なり、s2が2以上のとき、複数のRb17は同一又は相異なり、t2が2以上のとき、複数のRb18は同一又は相異なる。
脂肪族炭化水素基とは、鎖式炭化水素基及び脂環式炭化水素基を表す。
鎖式炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基及び2−エチルヘキシル基のアルキル基が挙げられる。
特に、Rb9〜Rb12の鎖式炭化水素基は、好ましくは炭素数1〜12である。
脂環式炭化水素基としては、単環式又は多環式のいずれでもよく、単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基等が挙げられる。
特に、Rb9〜Rb12の脂環式炭化水素基は、好ましくは炭素数3〜18、より好ましくは炭素数4〜12である。
In the formulas (b2-1) to (b2-4),
R b4 to R b6 each independently represent a chain hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 36 carbon atoms; The hydrogen atom contained in the chain hydrocarbon group is a hydroxy group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms. The hydrogen atom contained in the alicyclic hydrocarbon group which may be substituted is a halogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms or a glycidyloxy group. The hydrogen atom contained in the aromatic hydrocarbon group may be substituted with a halogen atom, a hydroxy group or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.
R b4 and R b5 may be bonded to each other to form a ring together with the sulfur atom to which they are bonded, and -CH 2- contained in the ring is -O-, -S- or -CO- may be substituted.
R b7 and R b8 each independently represent a hydroxy group, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.
m2 and n2 each independently represent an integer of 0 to 5;
When m2 is 2 or more, a plurality of R b7 may be the same or different, and when n2 is 2 or more, a plurality of R b8 may be the same or different.
R b9 and R b10 each independently represent a chain hydrocarbon group having 1 to 36 carbon atoms or an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms.
R b9 and R b10 may be bonded to each other to form a ring together with the sulfur atom to which they are bonded, and -CH 2- contained in the ring is -O-, -S- or -CO- may be substituted.
R b11 represents a hydrogen atom, a chain hydrocarbon group having 1 to 36 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms.
R b12 represents a chain hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, and is included in the chain hydrocarbon. May be substituted with an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the aromatic hydrocarbon group may be an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms or a carbon atom having 1 to 12 carbon atoms. It may be substituted with 12 alkylcarbonyloxy groups.
R b11 and R b12 may be bonded to each other to form a ring including —CH—CO— to which they are bonded, and —CH 2 — contained in the ring includes —O— and —S -Or -CO-.
R b13 to R b18 each independently represent a hydroxy group, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.
L b31 represents a sulfur atom or an oxygen atom.
o2, p2, s2, and t2 each independently represent any integer from 0 to 5.
q2 and r2 each independently represent any integer of 0 to 4.
u2 represents 0 or 1.
When o2 is 2 or more, a plurality of R b13 are the same or different. When p2 is 2 or more, a plurality of R b14 are the same or different. When q2 is 2 or more, a plurality of R b15 are the same or different. , When r2 is 2 or more, a plurality of R b16 are the same or different; when s2 is 2 or more, a plurality of R b17 are the same or different; when t2 is 2 or more, a plurality of R b18 are the same or different. different.
The aliphatic hydrocarbon group represents a chain hydrocarbon group and an alicyclic hydrocarbon group.
Examples of the chain hydrocarbon group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group and an alkyl group of a 2-ethylhexyl group. No.
In particular, the chain hydrocarbon group of R b9 to R b12 preferably has 1 to 12 carbon atoms.
The alicyclic hydrocarbon group may be either monocyclic or polycyclic, and the monocyclic alicyclic hydrocarbon group may be a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, Cycloalkyl groups such as a heptyl group, a cyclooctyl group and a cyclodecyl group are exemplified. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include a decahydronaphthyl group, an adamantyl group, a norbornyl group, and the following groups.
In particular, the alicyclic hydrocarbon group of R b9 to R b12 preferably has 3 to 18 carbon atoms, more preferably 4 to 12 carbon atoms.

水素原子が脂肪族炭化水素基で置換された脂環式炭化水素基としては、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、2−メチルアダマンタン−2−イル基、2−エチルアダマンタン−2−イル基、2−イソプロピルアダマンタン−2−イル基、メチルノルボルニル基、イソボルニル基等が挙げられる。水素原子が脂肪族炭化水素基で置換された脂環式炭化水素基においては、脂環式炭化水素基と脂肪族炭化水素基との合計炭素数が好ましくは20以下である。   Examples of the alicyclic hydrocarbon group in which a hydrogen atom is substituted with an aliphatic hydrocarbon group include a methylcyclohexyl group, a dimethylcyclohexyl group, a 2-methyladamantan-2-yl group and a 2-ethyladamantan-2-yl group. , 2-isopropyladamantan-2-yl group, methylnorbornyl group, isobornyl group and the like. In the alicyclic hydrocarbon group in which a hydrogen atom is substituted with an aliphatic hydrocarbon group, the total number of carbon atoms of the alicyclic hydrocarbon group and the aliphatic hydrocarbon group is preferably 20 or less.

芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、フェナントリル基等のアリール基が挙げられる。芳香族炭化水素基は、鎖式炭化水素基又は脂環式炭化水素基を有していてもよく、炭素数1〜18の鎖式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、p−エチルフェニル基、p−tert−ブチルフェニル基、2,6−ジエチルフェニル基、2−メチル−6−エチルフェニル基等)及び炭素数3〜18の脂環式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(p−アダマンチルフェニル基、p−シクロへキシルフェニル基等)が好ましい。 水素原子がアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基としては、p−メトキシフェニル基等が挙げられる。
水素原子が芳香族炭化水素基で置換された鎖式炭化水素基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、トリチル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等のアラルキル基が挙げられる。
Examples of the aromatic hydrocarbon group include aryl groups such as a phenyl group, a biphenylyl group, a naphthyl group, and a phenanthryl group. The aromatic hydrocarbon group may have a chain hydrocarbon group or an alicyclic hydrocarbon group, and an aromatic hydrocarbon group having a chain hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms (tolyl group, xylyl group) Group, cumenyl group, mesityl group, p-ethylphenyl group, p-tert-butylphenyl group, 2,6-diethylphenyl group, 2-methyl-6-ethylphenyl group, etc.) and an alicyclic ring having 3 to 18 carbon atoms. An aromatic hydrocarbon group having a formula hydrocarbon group (p-adamantylphenyl group, p-cyclohexylphenyl group, etc.) is preferred. Examples of the aromatic hydrocarbon group in which a hydrogen atom is substituted with an alkoxy group include a p-methoxyphenyl group.
Examples of the chain hydrocarbon group in which a hydrogen atom is substituted with an aromatic hydrocarbon group include aralkyl groups such as benzyl group, phenethyl group, phenylpropyl group, trityl group, naphthylmethyl group, and naphthylethyl group.

アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基及びドデシルオキシ基等が挙げられる。
アルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
アルキルカルボニルオキシ基としては、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、sec−ブチルカルボニルオキシ基、tert−ブチルカルボニルオキシ基、ペンチルカルボニルオキシ基、ヘキシルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基及び2−エチルヘキシルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, a heptyloxy group, an octyloxy group, a decyloxy group and a dodecyloxy group.
Examples of the alkylcarbonyl group include an acetyl group, a propionyl group and a butyryl group.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
Examples of the alkylcarbonyloxy group include a methylcarbonyloxy group, an ethylcarbonyloxy group, a propylcarbonyloxy group, an isopropylcarbonyloxy group, a butylcarbonyloxy group, a sec-butylcarbonyloxy group, a tert-butylcarbonyloxy group, and a pentylcarbonyloxy group Hexylcarbonyloxy group, octylcarbonyloxy group and 2-ethylhexylcarbonyloxy group.

b4とRb5とが互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と一緒になって形成する環は、単環式、多環式、芳香族性、非芳香族性、飽和及び不飽和のいずれの環であってもよい。この環は、炭素数3〜18の環が挙げられ、好ましくは炭素数4〜18の環である。また、硫黄原子を含む環は、3員環〜12員環が挙げられ、好ましくは3員環〜7員環であり、例えば下記の環が挙げられる。*は結合部位を表す。
The ring formed by R b4 and R b5 bonded together with the sulfur atom to which they are bonded may be any of monocyclic, polycyclic, aromatic, non-aromatic, saturated and unsaturated. May be a ring. The ring includes a ring having 3 to 18 carbon atoms, and is preferably a ring having 4 to 18 carbon atoms. Further, the ring containing a sulfur atom may be a 3- to 12-membered ring, preferably a 3- to 7-membered ring, for example, the following rings. * Represents a binding site.

b9とRb10とが一緒になって形成する環は、単環式、多環式、芳香族性、非芳香族性、飽和及び不飽和のいずれの環であってもよい。この環は、3員環〜12員環が挙げられ、好ましくは3員環〜7員環である。例えば、チオラン−1−イウム環(テトラヒドロチオフェニウム環)、チアン−1−イウム環、1,4−オキサチアン−4−イウム環等が挙げられる。
b11とRb12とが一緒になって形成する環は、単環式、多環式、芳香族性、非芳香族性、飽和及び不飽和のいずれの環であってもよい。この環は、3員環〜12員環が挙げられ、好ましくは3員環〜7員環である。オキソシクロヘプタン環、オキソシクロヘキサン環、オキソノルボルナン環、オキソアダマンタン環等が挙げられる。
The ring formed by R b9 and R b10 together may be any of monocyclic, polycyclic, aromatic, non-aromatic, saturated and unsaturated rings. The ring may be a 3- to 12-membered ring, preferably a 3- to 7-membered ring. For example, a thiolan-1-ium ring (tetrahydrothiophenium ring), a thiane-1-ium ring, a 1,4-oxathian-4-ium ring and the like can be mentioned.
The ring formed by R b11 and R b12 together may be any of a monocyclic, polycyclic, aromatic, non-aromatic, saturated and unsaturated ring. The ring may be a 3- to 12-membered ring, preferably a 3- to 7-membered ring. Oxocycloheptane ring, oxocyclohexane ring, oxonorbornane ring, oxoadamantane ring and the like.

カチオン(b2−1)〜カチオン(b2−4)の中でも、好ましくは、カチオン(b2−1)である。
カチオン(b2−1)としては、以下のカチオンが挙げられる。
Among cations (b2-1) to cations (b2-4), cations (b2-1) are preferred.
Examples of the cation (b2-1) include the following cations.

カチオン(b2−2)としては、以下のカチオン等が挙げられる。
Examples of the cation (b2-2) include the following cations.

カチオン(b2−3)としては、以下のカチオン等が挙げられる。
Examples of the cation (b2-3) include the following cations.

カチオン(b2−4)としては、以下のカチオン等が挙げられる。
Examples of the cation (b2-4) include the following cations.

酸発生剤(B)は、上述のスルホン酸アニオン及び上述の有機カチオンの組合せであり、これらは任意に組合せることができる。酸発生剤(B)としては、好ましくは式(B1a−1)〜式(B1a−3)及び式(B1a−7)〜式(B1a−16)、式(B1a−18)、式(B1a−19)、式(B1a−22)〜式(B1a−34)のいずれかで表されるアニオンと、カチオン(b2−1)又はカチオン(b2−3)との組合せが挙げられる。   The acid generator (B) is a combination of the above-mentioned sulfonic acid anion and the above-mentioned organic cation, and these can be arbitrarily combined. As the acid generator (B), preferably, the formulas (B1a-1) to (B1a-3) and the formulas (B1a-7) to (B1a-16), the formulas (B1a-18), and the formulas (B1a-) 19) and a combination of an anion represented by any of formulas (B1a-22) to (B1a-34) with a cation (b2-1) or a cation (b2-3).

酸発生剤(B)としては、好ましくは式(B1−1)〜式(B1−48)でそれぞれ表されるものが挙げられる、中でもアリールスルホニウムカチオンを含むものが好ましく、式(B1−1)〜式(B1−3)、式(B1−5)〜式(B1−7)、式(B1−11)〜式(B1−14)、式(B1−20)〜式(B1−26)、式(B1−29)、式(B1−31)〜式(B1−48)で表されるものがとりわけ好ましい。
The acid generator (B) preferably includes those represented by the formulas (B1-1) to (B1-48). Among them, those containing an arylsulfonium cation are preferable, and the formula (B1-1) To (B1-3), (B1-5) to (B1-7), (B1-11) to (B1-14), (B1-20) to (B1-26), Those represented by the formulas (B1-29) and (B1-31) to (B1-48) are particularly preferable.

本発明のレジスト組成物においては、酸発生剤の含有率は、樹脂(A)100質量部に対して、好ましくは1質量部以上40質量部以下、より好ましくは3質量部以上35質量部以下、さらに好ましくは10質量部以上35質量部以下である。本発明のレジスト組成物は、酸発生剤(B)の1種を単独で含有してもよく、複数種を含有してもよい。   In the resist composition of the present invention, the content of the acid generator is preferably from 1 part by mass to 40 parts by mass, more preferably from 3 parts by mass to 35 parts by mass, per 100 parts by mass of the resin (A). And more preferably 10 parts by mass or more and 35 parts by mass or less. The resist composition of the present invention may contain one kind of acid generator (B) alone, or may contain plural kinds.

<酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩>
酸発生剤(B)から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩における酸性度は、酸解離定数(pKa)で示される。酸発生剤(B)から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩は、該塩から発生する酸の酸解離定数が、通常−3<pKaの塩であり、好ましくは−1<pKa<7の塩であり、より好ましくは0<pKa<5の塩である。
酸発生剤(B)から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩としては、下記式で表される塩、特開2015−147926号公報記載の式(D)で表される塩(以下、「弱酸分子内塩(D)」という場合がある。)、並びに特開2012−229206号公報、特開2012−6908号公報、特開2012−72109号公報、特開2011−39502号公報及び特開2011−191745号公報記載の塩が挙げられる。酸発生剤(B)から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩として好ましくは、弱酸分子内塩(D)である。
<Salt that generates an acid whose acidity is weaker than the acid generated from the acid generator>
The acidity of a salt that generates an acid having a lower acidity than the acid generated from the acid generator (B) is represented by an acid dissociation constant (pKa). The salt that generates an acid having a lower acidity than the acid generated from the acid generator (B) is a salt having an acid dissociation constant of usually -3 <pKa, preferably -1 <pKa. It is a salt with pKa <7, more preferably a salt with 0 <pKa <5.
Examples of the salt that generates an acid having a lower acidity than the acid generated from the acid generator (B) include a salt represented by the following formula and a salt represented by the formula (D) described in JP-A-2015-147926. (Hereinafter, it may be referred to as “weak acid inner salt (D).”), JP-A-2012-229206, JP-A-2012-6908, JP-A-2012-72109, and JP-A-2011-39502. And the salts described in JP-A-2011-191745. The salt that generates an acid having a lower acidity than the acid generated from the acid generator (B) is preferably a weak acid inner salt (D).

弱酸分子内塩(D)としては、以下の塩が挙げられる。
Examples of the weak acid inner salt (D) include the following salts.

レジスト組成物に含有する酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩の含有率は、レジスト組成物の固形分中、通常、0.01〜5質量%であり、好ましくは0.01〜3質量%である。   The content of the salt that generates an acid having a lower acidity than the acid generated from the acid generator contained in the resist composition is usually 0.01 to 5% by mass in the solid content of the resist composition, and is preferably Is 0.01 to 3% by mass.

<溶剤(E)>
溶剤(E)の含有率は、レジスト組成物中、通常90質量%以上99.9質量%以下であり、好ましくは92質量%以上99質量%以下であり、より好ましくは94質量%以上99質量%以下である。溶剤(E)の含有率は、例えば液体クロマトグラフィー又はガスクロマトグラフィー等の公知の分析手段で測定できる。
溶剤(E)としては、エチルセロソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルエステル類;プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類;乳酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル及びピルビン酸エチル等のエステル類;アセトン、メチルイソブチルケトン、2−ヘプタノン及びシクロヘキサノン等のケトン類;γ−ブチロラクトン等の環状エステル類;等を挙げることができる。溶剤(E)の1種を単独で使用してもよく、2種以上を使用してもよい。
<Solvent (E)>
The content of the solvent (E) in the resist composition is usually from 90% by mass to 99.9% by mass, preferably from 92% by mass to 99% by mass, more preferably from 94% by mass to 99% by mass. % Or less. The content of the solvent (E) can be measured by a known analysis means such as liquid chromatography or gas chromatography.
Examples of the solvent (E) include glycol ether esters such as ethyl cellosolve acetate, methyl cellosolve acetate and propylene glycol monomethyl ether acetate; glycol ethers such as propylene glycol monomethyl ether; ethyl lactate, butyl acetate, amyl acetate and ethyl pyruvate; Esters; ketones such as acetone, methyl isobutyl ketone, 2-heptanone and cyclohexanone; cyclic esters such as γ-butyrolactone; One kind of the solvent (E) may be used alone, or two or more kinds may be used.

<クエンチャー(C)>
クエンチャー(C)としては、前述の、酸発生剤(B)から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩以外に、塩基性の含窒素有機化合物が挙げられる。クエンチャー(C)の含有量は、レジスト組成物の固形分量を基準に、0.01〜5質量%程度であることが好ましい。
塩基性の含窒素有機化合物としては、アミン及びアンモニウム塩が挙げられる。アミンとしては、脂肪族アミン及び芳香族アミンが挙げられる。脂肪族アミンとしては、第一級アミン、第二級アミン及び第三級アミンが挙げられる。
アミンとしては、1−ナフチルアミン、2−ナフチルアミン、アニリン、ジイソプロピルアニリン、2−,3−又は4−メチルアニリン、4−ニトロアニリン、N−メチルアニリン、N,N−ジメチルアニリン、ジフェニルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ジブチルアミン、ジペンチルアミン、ジヘキシルアミン、ジヘプチルアミン、ジオクチルアミン、ジノニルアミン、ジデシルアミン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオクチルアミン、トリノニルアミン、トリデシルアミン、メチルジブチルアミン、メチルジペンチルアミン、メチルジヘキシルアミン、メチルジシクロヘキシルアミン、メチルジヘプチルアミン、メチルジオクチルアミン、メチルジノニルアミン、メチルジデシルアミン、エチルジブチルアミン、エチルジペンチルアミン、エチルジヘキシルアミン、エチルジヘプチルアミン、エチルジオクチルアミン、エチルジノニルアミン、エチルジデシルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミン、トリス〔2−(2−メトキシエトキシ)エチル〕アミン、トリイソプロパノールアミン、エチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、4,4’−ジアミノ−1,2−ジフェニルエタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジメチルジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジエチルジフェニルメタン、2,2’−メチレンビスアニリン、イミダゾール、4−メチルイミダゾール、ピリジン、4−メチルピリジン、1,2−ジ(2−ピリジル)エタン、1,2−ジ(4−ピリジル)エタン、1,2−ジ(2−ピリジル)エテン、1,2−ジ(4−ピリジル)エテン、1,3−ジ(4−ピリジル)プロパン、1,2−ジ(4−ピリジルオキシ)エタン、ジ(2−ピリジル)ケトン、4,4’−ジピリジルスルフィド、4,4’−ジピリジルジスルフィド、2,2’−ジピリジルアミン、2,2’−ジピコリルアミン、ビピリジン等が挙げられ、好ましくはジイソプロピルアニリン等の芳香族アミンが挙げられ、より好ましくは2,6−ジイソプロピルアニリンが挙げられる。
アンモニウム塩としては、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトライソプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラヘキシルアンモニウムヒドロキシド、テトラオクチルアンモニウムヒドロキシド、フェニルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、3−(トリフルオロメチル)フェニルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ−n−ブチルアンモニウムサリチラート及びコリン等が挙げられる。
<Quencher (C)>
Examples of the quencher (C) include a basic nitrogen-containing organic compound in addition to the salt that generates an acid having a lower acidity than the acid generated from the acid generator (B). The content of the quencher (C) is preferably about 0.01 to 5% by mass based on the solid content of the resist composition.
Examples of the basic nitrogen-containing organic compound include amines and ammonium salts. Amines include aliphatic amines and aromatic amines. Aliphatic amines include primary, secondary and tertiary amines.
Examples of the amine include 1-naphthylamine, 2-naphthylamine, aniline, diisopropylaniline, 2-, 3- or 4-methylaniline, 4-nitroaniline, N-methylaniline, N, N-dimethylaniline, diphenylamine, hexylamine, Heptylamine, octylamine, nonylamine, decylamine, dibutylamine, dipentylamine, dihexylamine, diheptylamine, dioctylamine, dinonylamine, didecylamine, triethylamine, trimethylamine, tripropylamine, tributylamine, tripentylamine, trihexylamine, trihexylamine Heptylamine, trioctylamine, trinonylamine, tridecylamine, methyldibutylamine, methyldipentylamine, methyldihexylamine, Rudicyclohexylamine, methyldiheptylamine, methyldioctylamine, methyldinonylamine, methyldidecylamine, ethyldibutylamine, ethyldipentylamine, ethyldihexylamine, ethyldiheptylamine, ethyldioctylamine, ethyldinonylamine, ethyl Didecylamine, dicyclohexylmethylamine, tris [2- (2-methoxyethoxy) ethyl] amine, triisopropanolamine, ethylenediamine, tetramethylenediamine, hexamethylenediamine, 4,4′-diamino-1,2-diphenylethane, 4,4'-diamino-3,3'-dimethyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-3,3'-diethyldiphenylmethane, 2,2'-methylenebisaniline, imidazole, 4-methyli Dazole, pyridine, 4-methylpyridine, 1,2-di (2-pyridyl) ethane, 1,2-di (4-pyridyl) ethane, 1,2-di (2-pyridyl) ethene, 1,2-di (4-pyridyl) ethene, 1,3-di (4-pyridyl) propane, 1,2-di (4-pyridyloxy) ethane, di (2-pyridyl) ketone, 4,4′-dipyridylsulfide, 4, Examples include 4′-dipyridyl disulfide, 2,2′-dipyridylamine, 2,2′-dipicolylamine, bipyridine and the like, preferably aromatic amines such as diisopropylaniline, and more preferably 2,6-diisopropyl Aniline is mentioned.
Examples of ammonium salts include tetramethylammonium hydroxide, tetraisopropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, tetrahexylammonium hydroxide, tetraoctylammonium hydroxide, phenyltrimethylammonium hydroxide, and 3- (trifluoromethyl) phenyltrimethyl. Ammonium hydroxide, tetra-n-butylammonium salicylate and choline.

〈その他の成分〉
本発明のレジスト組成物は、必要に応じて、上述の成分以外の成分(以下「その他の成分(F)」という場合がある。)を含有していてもよい。その他の成分(F)に特に限定はなく、レジスト分野で公知の添加剤、例えば、増感剤、溶解抑止剤、界面活性剤、安定剤、染料等を利用できる。
<Other ingredients>
The resist composition of the present invention may contain components other than the above components (hereinafter, sometimes referred to as “other components (F)”) as necessary. The other component (F) is not particularly limited, and additives known in the resist field, for example, sensitizers, dissolution inhibitors, surfactants, stabilizers, dyes, and the like can be used.

〈レジスト組成物の調製〉
本発明のレジスト組成物は、本発明の樹脂(A)、酸発生剤(B)及び酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩、並びに、必要に応じて、樹脂(A2)、樹脂(X)、クエンチャー(C)、溶剤(E)及びその他の成分(F)を混合することにより調製することができる。混合順は任意であり、特に限定されるものではない。混合する際の温度は、10〜40℃から、樹脂等の種類や樹脂等の溶剤(E)に対する溶解度等に応じて適切な温度を選ぶことができる。混合時間は、混合温度に応じて、0.5〜24時間の中から適切な時間を選ぶことができる。なお、混合手段も特に制限はなく、攪拌混合等を用いることができる。
各成分を混合した後は、孔径0.003〜0.2μm程度のフィルターを用いてろ過することが好ましい。
<Preparation of resist composition>
The resist composition of the present invention comprises a resin (A) of the present invention, an acid generator (B), a salt that generates an acid having a lower acidity than the acid generated from the acid generator, and, if necessary, a resin. It can be prepared by mixing (A2), resin (X), quencher (C), solvent (E) and other components (F). The mixing order is arbitrary, and is not particularly limited. An appropriate temperature can be selected from 10 to 40 ° C. depending on the type of the resin or the like and the solubility of the resin or the like in the solvent (E). An appropriate mixing time can be selected from 0.5 to 24 hours depending on the mixing temperature. The mixing means is not particularly limited, and stirring and mixing can be used.
After mixing each component, it is preferable to perform filtration using a filter having a pore size of about 0.003 to 0.2 μm.

〈レジストパターンの製造方法〉
本発明のレジストパターンの製造方法は、
(1)本発明のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
(2)塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
(3)組成物層に露光する工程、
(4)露光後の組成物層を加熱する工程、及び
(5)加熱後の組成物層を現像する工程を含む。
レジスト組成物を基板上に塗布するには、スピンコーター等、通常、用いられる装置によって行うことができる。基板としては、シリコンウェハ等の無機基板が挙げられる。レジスト組成物を塗布する前に、基板を洗浄してもよく、基板上に反射防止膜等が形成されていてもよい。
塗布後の組成物を乾燥することにより、溶剤を除去し、組成物層を形成する。乾燥は、例えば、ホットプレート等の加熱装置を用いて溶剤を蒸発させること(いわゆるプリベーク)により行うか、あるいは減圧装置を用いて行う。加熱温度は、50〜200℃であることが好ましく、加熱時間は、10〜180秒間であることが好ましい。また、減圧乾燥する際の圧力は、1〜1.0×105Pa程度であることが好ましい。
得られた組成物層に、通常、露光機を用いて露光する。露光機は、液浸露光機であってもよい。露光光源としては、KrFエキシマレーザ(波長248nm)、ArFエキシマレーザ(波長193nm)、F2エキシマレーザ(波長157nm)のような紫外域のレーザ光を放射するもの、固体レーザ光源(YAG又は半導体レーザ等)からのレーザ光を波長変換して遠紫外域または真空紫外域の高調波レーザ光を放射するもの、電子線や、超紫外光(EUV)を照射するもの等、種々のものを用いることができる。尚、本明細書において、これらの放射線を照射することを総称して「露光」という場合がある。露光の際、通常、求められるパターンに相当するマスクを介して露光が行われる。露光光源が電子線の場合は、マスクを用いずに直接描画により露光してもよい。
露光後の組成物層を、酸不安定基における脱保護反応を促進するために加熱処理(いわゆるポストエキスポジャーベーク)を行う。加熱温度は、通常50〜200℃程度、好ましくは70〜150℃程度である。
加熱後の組成物層を、通常、現像装置を用いて、現像液を利用して現像する。現像方法としては、ディップ法、パドル法、スプレー法、ダイナミックディスペンス法等が挙げられる。現像温度は、例えば、5〜60℃であることが好ましく、現像時間は、例えば、5〜300秒間であることが好ましい。現像液の種類を以下のとおりに選択することにより、ポジ型レジストパターン又はネガ型レジストパターンを製造できる。
本発明のレジスト組成物からポジ型レジストパターンを製造する場合は、現像液としてアルカリ現像液を用いる。アルカリ現像液は、この分野で用いられる各種のアルカリ性水溶液であればよい。例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドや(2−ヒドロキシエチル)トリメチルアンモニウムヒドロキシド(通称コリン)の水溶液等が挙げられる。アルカリ現像液には、界面活性剤が含まれていてもよい。
現像後レジストパターンを超純水で洗浄し、次いで、基板及びパターン上に残った水を除去することが好ましい。
本発明のレジスト組成物からネガ型レジストパターンを製造する場合は、現像液として有機溶剤を含む現像液(以下「有機系現像液」という場合がある)を用いる。
有機系現像液に含まれる有機溶剤としては、2−ヘキサノン、2−ヘプタノン等のケトン溶剤;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルエステル溶剤;酢酸ブチル等のエステル溶剤;プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル溶剤;N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド溶剤;アニソール等の芳香族炭化水素溶剤等が挙げられる。
有機系現像液中、有機溶剤の含有率は、90質量%以上100質量%以下が好ましく、95質量%以上100質量%以下がより好ましく、実質的に有機溶剤のみであることがさらに好ましい。
中でも、有機系現像液としては、酢酸ブチル及び/又は2−ヘプタノンを含む現像液が好ましい。有機系現像液中、酢酸ブチル及び2−ヘプタノンの合計含有率は、50質量%以上100質量%以下が好ましく、90質量%以上100質量%以下がより好ましく、実質的に酢酸ブチル及び/又は2−ヘプタノンのみであることがさらに好ましい。
有機系現像液には、界面活性剤が含まれていてもよい。また、有機系現像液には、微量の水分が含まれていてもよい。
現像の際、有機系現像液とは異なる種類の溶剤に置換することにより、現像を停止してもよい。
現像後のレジストパターンをリンス液で洗浄することが好ましい。リンス液としては、レジストパターンを溶解しないものであれば特に制限はなく、一般的な有機溶剤を含む溶液を使用することができ、好ましくはアルコール溶剤又はエステル溶剤である。
洗浄後は、基板及びパターン上に残ったリンス液を除去することが好ましい。
<Resist pattern manufacturing method>
The method of manufacturing a resist pattern according to the present invention includes:
(1) a step of applying the resist composition of the present invention on a substrate,
(2) drying the composition after application to form a composition layer;
(3) exposing the composition layer to light,
(4) a step of heating the composition layer after exposure, and (5) a step of developing the composition layer after heating.
The application of the resist composition onto the substrate can be carried out by a commonly used apparatus such as a spin coater. Examples of the substrate include an inorganic substrate such as a silicon wafer. Before applying the resist composition, the substrate may be washed, or an antireflection film or the like may be formed on the substrate.
By drying the composition after application, the solvent is removed to form a composition layer. Drying is performed, for example, by evaporating the solvent using a heating device such as a hot plate (so-called prebaking), or using a decompression device. The heating temperature is preferably from 50 to 200 ° C., and the heating time is preferably from 10 to 180 seconds. The pressure at the time of drying under reduced pressure is preferably about 1 to 1.0 × 10 5 Pa.
The obtained composition layer is usually exposed using an exposure machine. The exposure machine may be an immersion exposure machine. The exposure light source, which emits laser light in a UV-region such as a KrF excimer laser (wavelength 248 nm), ArF excimer laser (wavelength 193 nm), F 2 excimer laser (wavelength 157 nm), solid-state laser source (YAG or semiconductor laser And others that emit laser beams of higher harmonics in the far ultraviolet or vacuum ultraviolet region by converting the wavelength of the laser light from E.g. Can be. In this specification, irradiating these radiations may be collectively referred to as “exposure”. At the time of exposure, the exposure is usually performed through a mask corresponding to a required pattern. When the exposure light source is an electron beam, exposure may be performed by direct drawing without using a mask.
The composition layer after exposure is subjected to a heat treatment (so-called post-exposure bake) in order to promote a deprotection reaction at the acid labile group. The heating temperature is usually about 50 to 200C, preferably about 70 to 150C.
The heated composition layer is usually developed using a developing solution using a developing device. Examples of the developing method include a dip method, a paddle method, a spray method, and a dynamic dispense method. The development temperature is preferably, for example, 5 to 60 ° C., and the development time is, for example, preferably 5 to 300 seconds. By selecting the type of the developer as follows, a positive resist pattern or a negative resist pattern can be produced.
When producing a positive resist pattern from the resist composition of the present invention, an alkaline developer is used as a developer. The alkaline developer may be any of various alkaline aqueous solutions used in this field. For example, aqueous solutions of tetramethylammonium hydroxide and (2-hydroxyethyl) trimethylammonium hydroxide (commonly known as choline) can be mentioned. The alkaline developer may contain a surfactant.
After the development, it is preferable to wash the resist pattern with ultrapure water, and then remove water remaining on the substrate and the pattern.
When a negative resist pattern is produced from the resist composition of the present invention, a developer containing an organic solvent (hereinafter sometimes referred to as “organic developer”) is used as a developer.
Examples of the organic solvent contained in the organic developer include ketone solvents such as 2-hexanone and 2-heptanone; glycol ether ester solvents such as propylene glycol monomethyl ether acetate; ester solvents such as butyl acetate; glycols such as propylene glycol monomethyl ether. Ether solvents; amide solvents such as N, N-dimethylacetamide; and aromatic hydrocarbon solvents such as anisole.
The content of the organic solvent in the organic developer is preferably from 90% by mass to 100% by mass, more preferably from 95% by mass to 100% by mass, and further preferably substantially only the organic solvent.
Above all, as the organic developer, a developer containing butyl acetate and / or 2-heptanone is preferable. The total content of butyl acetate and 2-heptanone in the organic developer is preferably from 50% by mass to 100% by mass, more preferably from 90% by mass to 100% by mass, and substantially butyl acetate and / or 2% by mass. More preferably it is only heptanone.
The organic developer may contain a surfactant. Further, the organic developer may contain a small amount of water.
At the time of development, the development may be stopped by substituting a solvent of a type different from the organic developer.
It is preferable to wash the developed resist pattern with a rinse solution. The rinsing liquid is not particularly limited as long as it does not dissolve the resist pattern, and a solution containing a general organic solvent can be used, and is preferably an alcohol solvent or an ester solvent.
After the cleaning, it is preferable to remove the rinse liquid remaining on the substrate and the pattern.

〈用途〉
本発明のレジスト組成物は、KrFエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、ArFエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、電子線(EB)露光用のレジスト組成物又はEUV露光用のレジスト組成物として好適であり、ArFエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、電子線(EB)露光用のレジスト組成物又はEUV露光用のレジスト組成物としてより好適であり、半導体の微細加工に有用である。
<Applications>
The resist composition of the present invention is suitable as a resist composition for KrF excimer laser exposure, a resist composition for ArF excimer laser exposure, a resist composition for electron beam (EB) exposure, or a resist composition for EUV exposure. Yes, it is more suitable as a resist composition for ArF excimer laser exposure, a resist composition for electron beam (EB) exposure or a resist composition for EUV exposure, and is useful for fine processing of semiconductors.

実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。例中、含有量ないし使用量を表す「%」及び「部」は、特記しないかぎり質量基準である。
重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで下記条件により求めた値である。
装置:HLC−8120GPC型(東ソー社製)
カラム:TSKgel Multipore HXL-M x 3 + guardcolumn(東ソー社製)
溶離液:テトラヒドロフラン
流量:1.0mL/min
検出器:RI検出器
カラム温度:40℃
注入量:100μl
分子量標準:標準ポリスチレン(東ソー社製)
また、化合物の構造は、質量分析(LCはAgilent製1100型、MASSはAgilent製LC/MSD型)を用い、分子イオンピークを測定することで確認した。以下の実施例ではこの分子イオンピークの値を「MASS」で示す。
The present invention will be described more specifically with reference to examples. In the examples, "%" and "part" representing the content or the use amount are based on mass unless otherwise specified.
The weight average molecular weight is a value determined by gel permeation chromatography under the following conditions.
Apparatus: HLC-8120GPC type (Tosoh Corporation)
Column: TSKgel Multipore H XL -M x 3 + guardcolumn (Tosoh Corporation)
Eluent: tetrahydrofuran Flow rate: 1.0 mL / min
Detector: RI detector Column temperature: 40 ° C
Injection volume: 100 μl
Molecular weight standard: Standard polystyrene (manufactured by Tosoh Corporation)
The structure of the compound was confirmed by measuring a molecular ion peak using mass spectrometry (LC: 1100, manufactured by Agilent, MASS: LC / MSD, manufactured by Agilent). In the following examples, the value of this molecular ion peak is indicated by “MASS”.

実施例1:式(IB−1)で表される化合物の合成
式(I−1−a)で表される化合物20部、式(I−1−b)で表される化合物140部及び硫酸0.74部を混合し、70℃で10時間撹拌した後、23℃まで冷却した。得られた混合物に、クロロホルム300部及び5%炭酸水素ナトリウム水溶液130部を混合し、23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層に、イオン交換水100部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮残渣をカラム(シリカゲル60N(球状、中性)100−210μm;関東化学(株)製、展開溶媒:酢酸エチル)を用いて分取することにより、式(I−1−c)で表される化合物10.22部を得た。
式(I−1−d)で表される化合物0.65部及びアセトニトリル20部を混合し、23℃で30分間攪拌した後、式(I−1−e)で表される化合物1.34部を添加し、50℃に昇温後、50℃で2時間撹拌した。得られた混合物に、式(I−1−c)で表される化合物0.66部を添加し、50℃で2時間撹拌した。得られた混合物を23℃まで冷却した後、クロロホルム50部及びイオン交換水20部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層に、イオン交換水20部を添加し、23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮混合物をカラム(シリカゲル60N(球状、中性)100−210μm;関東化学(株)製、展開溶媒:n−ヘプタン/酢酸エチル=1/1)を用いて分取することにより、式(IB−1−f)で表される化合物0.52部を得た。得られた式(IB−1−f)で表される化合物0.52部、硫酸0.01部及びアセトニトリル20部を混合し、23℃で6時間攪拌した。得られた混合物を濃縮することにより、式(IB−1−g)で表される化合物0.41部を得た。
式(I−1−h)で表される化合物0.29部及びアセトニトリル30部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合物に、式(I−1−e)で表される化合物0.39部を添加し、さらに、50℃で2時間攪拌した。得られた反応混合物に、式(IB−1−g)で表される化合物0.33部を添加し、さらに、50℃で4時間攪拌した後、23℃まで冷却した。得られた反応混合物に、クロロホルム50部及び5%シュウ酸水溶液30部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層にイオン交換水30部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮混合物をカラム(シリカゲル60N(球状、中性)100−210μm;関東化学(株)製、展開溶媒:n−ヘプタン/酢酸エチル=1/1)を用いて分取することにより、式(IB−1)で表される化合物0.35部を得た。
MASS:557.3[M+H]
Example 1: Synthesis of compound represented by formula (IB-1)
After mixing 20 parts of the compound represented by the formula (I-1-a), 140 parts of the compound represented by the formula (I-1-b) and 0.74 part of sulfuric acid, and stirring at 70 ° C. for 10 hours, Cooled to 23 ° C. The obtained mixture was mixed with 300 parts of chloroform and 130 parts of a 5% aqueous sodium hydrogen carbonate solution, stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and separated to separate an organic layer. 100 parts of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then separated to take out the organic layer. This washing operation was repeated five times. The obtained organic layer was concentrated, and the concentrated residue was fractionated using a column (silica gel 60N (spherical, neutral) 100 to 210 μm; manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd., developing solvent: ethyl acetate) to obtain the formula ( 10.22 parts of the compound represented by I-1-c) were obtained.
After mixing 0.65 part of the compound represented by the formula (I-1-d) and 20 parts of acetonitrile and stirring the mixture at 23 ° C. for 30 minutes, 1.34 of the compound represented by the formula (I-1-e) is mixed. Then, the mixture was heated to 50 ° C., and then stirred at 50 ° C. for 2 hours. To the obtained mixture, 0.66 parts of the compound represented by the formula (I-1-c) was added, and the mixture was stirred at 50 ° C for 2 hours. After the obtained mixture was cooled to 23 ° C., 50 parts of chloroform and 20 parts of ion-exchanged water were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. 20 parts of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then separated to take out the organic layer. This washing operation was repeated five times. The obtained organic layer was concentrated, and the concentrated mixture was subjected to column chromatography (silica gel 60N (spherical, neutral) 100 to 210 μm; Kanto Chemical Co., Ltd., developing solvent: n-heptane / ethyl acetate = 1/1). By fractionation, 0.52 parts of a compound represented by the formula (IB-1-f) was obtained. 0.52 parts of the obtained compound represented by the formula (IB-1-f), 0.01 part of sulfuric acid and 20 parts of acetonitrile were mixed and stirred at 23 ° C. for 6 hours. The obtained mixture was concentrated to obtain 0.41 part of a compound represented by the formula (IB-1-g).
0.29 parts of the compound represented by the formula (I-1-h) and 30 parts of acetonitrile were mixed and stirred at 23 ° C. for 30 minutes. To the obtained mixture, 0.39 parts of a compound represented by the formula (I-1-e) was added, and the mixture was further stirred at 50 ° C for 2 hours. To the obtained reaction mixture, 0.33 part of a compound represented by the formula (IB-1-g) was added, and the mixture was further stirred at 50 ° C for 4 hours, and then cooled to 23 ° C. To the obtained reaction mixture, 50 parts of chloroform and 30 parts of a 5% oxalic acid aqueous solution were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. After 30 parts of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, the layers were separated and the organic layer was taken out. This washing operation was repeated five times. The obtained organic layer was concentrated, and the concentrated mixture was subjected to column chromatography (silica gel 60N (spherical, neutral) 100 to 210 μm; manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd., developing solvent: n-heptane / ethyl acetate = 1/1). By fractionation, 0.35 part of a compound represented by the formula (IB-1) was obtained.
MASS: 557.3 [M + H] +

実施例2:式(IA−1)で表される化合物の合成
式(I−1−d)で表される化合物0.65部及びアセトニトリル20部を混合し、23℃で30分間攪拌した後、式(I−1−e)で表される化合物1.34部を添加し、50℃に昇温後、50℃で2時間撹拌した。得られた混合物に、式(I−1−c)で表される化合物1.32部を添加し、50℃で2時間撹拌した。得られた混合物を23℃まで冷却した後、クロロホルム50部及びイオン交換水20部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層に、イオン交換水20部を添加し、23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮混合物をカラム(シリカゲル60N(球状、中性)100−210μm;関東化学(株)製、展開溶媒:n−ヘプタン/酢酸エチル=1/2)を用いて分取することにより、式(IA−1−f)で表される化合物0.68部を得た。得られた式(IA−1−f)で表される化合物0.68部、硫酸0.01部及びアセトニトリル20部を混合し、23℃で6時間攪拌した。得られた混合物を濃縮することにより、式(IA−1−g)で表される化合物0.52部を得た。
式(I−1−h)で表される化合物0.44部及びアセトニトリル30部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合物に、式(I−1−e)で表される化合物0.59部を添加し、さらに、50℃で2時間攪拌した。得られた反応混合物に、式(IA−1−g)で表される化合物0.25部を添加し、さらに、50℃で4時間攪拌した後、23℃まで冷却した。得られた反応混合物に、クロロホルム50部及び5%シュウ酸水溶液30部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層にイオン交換水30部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮混合物をカラム(シリカゲル60N(球状、中性)100−210μm;関東化学(株)製、展開溶媒:n−ヘプタン/酢酸エチル=1/1)を用いて分取することにより、式(IA−1)で表される化合物0.42部を得た。
MASS:631.3[M+H]
Example 2: Synthesis of compound represented by formula (IA-1)
After mixing 0.65 part of the compound represented by the formula (I-1-d) and 20 parts of acetonitrile and stirring the mixture at 23 ° C. for 30 minutes, 1.34 of the compound represented by the formula (I-1-e) is mixed. Then, the mixture was heated to 50 ° C., and then stirred at 50 ° C. for 2 hours. 1.32 parts of a compound represented by the formula (I-1-c) was added to the obtained mixture, and the mixture was stirred at 50 ° C for 2 hours. After the obtained mixture was cooled to 23 ° C., 50 parts of chloroform and 20 parts of ion-exchanged water were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. 20 parts of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then separated to take out the organic layer. This washing operation was repeated five times. The obtained organic layer was concentrated, and the concentrated mixture was subjected to column chromatography (silica gel 60N (spherical, neutral) 100 to 210 μm; Kanto Chemical Co., Ltd., developing solvent: n-heptane / ethyl acetate = 1/2). By fractionation, 0.68 part of a compound represented by the formula (IA-1-f) was obtained. 0.68 part of the obtained compound represented by the formula (IA-1-f), 0.01 part of sulfuric acid and 20 parts of acetonitrile were mixed and stirred at 23 ° C. for 6 hours. The resulting mixture was concentrated to obtain 0.52 parts of a compound represented by the formula (IA-1-g).
0.44 parts of the compound represented by the formula (I-1-h) and 30 parts of acetonitrile were mixed and stirred at 23 ° C. for 30 minutes. To the obtained mixture, 0.59 parts of the compound represented by the formula (I-1-e) was added, and the mixture was further stirred at 50 ° C for 2 hours. To the obtained reaction mixture, 0.25 part of a compound represented by the formula (IA-1-g) was added, and the mixture was further stirred at 50 ° C for 4 hours, and then cooled to 23 ° C. To the obtained reaction mixture, 50 parts of chloroform and 30 parts of a 5% oxalic acid aqueous solution were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. After 30 parts of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, the layers were separated and the organic layer was taken out. This washing operation was repeated five times. The obtained organic layer was concentrated, and the concentrated mixture was subjected to column chromatography (silica gel 60N (spherical, neutral) 100 to 210 μm; Kanto Chemical Co., Ltd., developing solvent: n-heptane / ethyl acetate = 1/1). By fractionation, 0.42 parts of a compound represented by the formula (IA-1) was obtained.
MASS: 631.3 [M + H] +

実施例3:式(IB−6)で表される化合物の合成
式(I−6−d)で表される化合物1.79部及びアセトニトリル20部を混合し、23℃で30分間攪拌した後、式(I−1−e)で表される化合物1.34部を添加し、50℃に昇温後、50℃で2時間撹拌した。得られた混合物に、式(I−1−c)で表される化合物1.24部を添加し、50℃で2時間撹拌した。得られた混合物を23℃まで冷却した後、クロロホルム50部及びイオン交換水20部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層に、イオン交換水20部を添加し、23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮混合物をカラム(シリカゲル60N(球状、中性)100−210μm;関東化学(株)製、展開溶媒:n−ヘプタン/酢酸エチル=1/1)を用いて分取することにより、式(IB−6−f)で表される化合物1.09部を得た。得られた式(IB−6−f)で表される化合物1.05部、硫酸0.01部及びアセトニトリル20部を混合し、23℃で6時間攪拌した。得られた混合物を濃縮することにより、式(IB−6−g)で表される化合物0.92部を得た。
式(I−1−h)で表される化合物0.29部及びアセトニトリル30部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合物に、式(I−1−e)で表される化合物0.39部を添加し、さらに、50℃で2時間攪拌した。得られた反応混合物に、式(IB−6−g)で表される化合物0.80部を添加し、さらに、50℃で4時間攪拌した後、23℃まで冷却した。得られた反応混合物に、クロロホルム50部及び5%シュウ酸水溶液30部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層にイオン交換水30部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮混合物をカラム(シリカゲル60N(球状、中性)100−210μm;関東化学(株)製、展開溶媒:n−ヘプタン/酢酸エチル=1/1)を用いて分取することにより、式(IB−6)で表される化合物0.65部を得た。
MASS:945.4[M+H]
Example 3: Synthesis of compound represented by formula (IB-6)
After mixing 1.79 parts of the compound represented by the formula (I-6-d) and 20 parts of acetonitrile and stirring the mixture at 23 ° C. for 30 minutes, the compound 1.34 represented by the formula (I-1-e) is mixed. Then, the mixture was heated to 50 ° C. and then stirred at 50 ° C. for 2 hours. To the obtained mixture, 1.24 parts of the compound represented by the formula (I-1-c) was added, and the mixture was stirred at 50 ° C for 2 hours. After the obtained mixture was cooled to 23 ° C., 50 parts of chloroform and 20 parts of ion-exchanged water were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. 20 parts of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then separated to take out the organic layer. This washing operation was repeated five times. The obtained organic layer was concentrated, and the concentrated mixture was subjected to column chromatography (silica gel 60N (spherical, neutral) 100 to 210 μm; Kanto Chemical Co., Ltd., developing solvent: n-heptane / ethyl acetate = 1/1). By fractionation, 1.09 parts of a compound represented by the formula (IB-6-f) were obtained. 1.05 part of the obtained compound represented by the formula (IB-6-f), 0.01 part of sulfuric acid and 20 parts of acetonitrile were mixed and stirred at 23 ° C for 6 hours. The obtained mixture was concentrated to obtain 0.92 parts of a compound represented by the formula (IB-6-g).
0.29 parts of the compound represented by the formula (I-1-h) and 30 parts of acetonitrile were mixed and stirred at 23 ° C. for 30 minutes. To the obtained mixture, 0.39 parts of a compound represented by the formula (I-1-e) was added, and the mixture was further stirred at 50 ° C for 2 hours. To the obtained reaction mixture, 0.80 part of a compound represented by the formula (IB-6-g) was added, and the mixture was further stirred at 50 ° C for 4 hours, and then cooled to 23 ° C. To the obtained reaction mixture, 50 parts of chloroform and 30 parts of a 5% oxalic acid aqueous solution were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. After 30 parts of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, the layers were separated and the organic layer was taken out. This washing operation was repeated five times. The obtained organic layer was concentrated, and the concentrated mixture was subjected to column chromatography (silica gel 60N (spherical, neutral) 100 to 210 μm; Kanto Chemical Co., Ltd., developing solvent: n-heptane / ethyl acetate = 1/1). By fractionation, 0.65 part of a compound represented by the formula (IB-6) was obtained.
MASS: 945.4 [M + H] +

実施例4:式(IA−6)で表される化合物の合成
式(I−6−d)で表される化合物1.79部及びアセトニトリル20部を混合し、23℃で30分間攪拌した後、式(I−1−e)で表される化合物1.34部を添加し、50℃に昇温後、50℃で2時間撹拌した。得られた混合物に、式(I−1−c)で表される化合物2.48部を添加し、50℃で2時間撹拌した。得られた混合物を23℃まで冷却した後、クロロホルム50部及びイオン交換水20部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層に、イオン交換水20部を添加し、23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮混合物をカラム(シリカゲル60N(球状、中性)100−210μm;関東化学(株)製、展開溶媒:n−ヘプタン/酢酸エチル=1/2)を用いて分取することにより、式(IA−6−f)で表される化合物2.21部を得た。得られた式(IA−6−f)で表される化合物1.50部、硫酸0.01部及びアセトニトリル20部を混合し、23℃で6時間攪拌した。得られた混合物を濃縮することにより、式(IA−6−g)で表される化合物1.22部を得た。
式(I−1−h)で表される化合物0.44部及びアセトニトリル30部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合物に、式(I−1−e)で表される化合物0.59部を添加し、さらに、50℃で2時間攪拌した。得られた反応混合物に、式(IA−6−g)で表される化合物0.49部を添加し、さらに、50℃で4時間攪拌した後、23℃まで冷却した。得られた反応混合物に、クロロホルム50部及び5%シュウ酸水溶液30部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層にイオン交換水30部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮混合物をカラム(シリカゲル60N(球状、中性)100−210μm;関東化学(株)製、展開溶媒:n−ヘプタン/酢酸エチル=1/1)を用いて分取することにより、式(IA−6)で表される化合物0.62部を得た。
MASS:825.4[M+H]
Example 4: Synthesis of compound represented by formula (IA-6)
After mixing 1.79 parts of the compound represented by the formula (I-6-d) and 20 parts of acetonitrile and stirring the mixture at 23 ° C. for 30 minutes, the compound 1.34 represented by the formula (I-1-e) is mixed. Then, the mixture was heated to 50 ° C. and then stirred at 50 ° C. for 2 hours. To the resulting mixture, 2.48 parts of the compound represented by the formula (I-1-c) was added, and the mixture was stirred at 50 ° C for 2 hours. After the obtained mixture was cooled to 23 ° C., 50 parts of chloroform and 20 parts of ion-exchanged water were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. 20 parts of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then separated to take out the organic layer. This washing operation was repeated five times. The obtained organic layer was concentrated, and the concentrated mixture was subjected to column chromatography (silica gel 60N (spherical, neutral) 100 to 210 μm; Kanto Chemical Co., Ltd., developing solvent: n-heptane / ethyl acetate = 1/2). By fractionation, 2.21 parts of a compound represented by the formula (IA-6-f) was obtained. 1.50 parts of the obtained compound represented by the formula (IA-6-f), 0.01 parts of sulfuric acid and 20 parts of acetonitrile were mixed, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 6 hours. The obtained mixture was concentrated to obtain 1.22 parts of a compound represented by the formula (IA-6-g).
0.44 parts of the compound represented by the formula (I-1-h) and 30 parts of acetonitrile were mixed and stirred at 23 ° C. for 30 minutes. To the obtained mixture, 0.59 parts of the compound represented by the formula (I-1-e) was added, and the mixture was further stirred at 50 ° C for 2 hours. To the obtained reaction mixture, 0.49 part of a compound represented by the formula (IA-6-g) was added, and the mixture was further stirred at 50 ° C for 4 hours, and then cooled to 23 ° C. To the obtained reaction mixture, 50 parts of chloroform and 30 parts of a 5% oxalic acid aqueous solution were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. After 30 parts of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, the layers were separated and the organic layer was taken out. This washing operation was repeated five times. The obtained organic layer was concentrated, and the concentrated mixture was subjected to column chromatography (silica gel 60N (spherical, neutral) 100 to 210 μm; Kanto Chemical Co., Ltd., developing solvent: n-heptane / ethyl acetate = 1/1). By fractionation, 0.62 parts of a compound represented by the formula (IA-6) was obtained.
MASS: 825.4 [M + H] +

実施例5:式(IB−12)で表される化合物の合成
式(I−12−d)で表される化合物1.56部及びアセトニトリル20部を混合し、23℃で30分間攪拌した後、式(I−1−e)で表される化合物1.34部を添加し、50℃に昇温後、50℃で2時間撹拌した。得られた混合物に、式(I−1−c)で表される化合物0.35部を添加し、50℃で2時間撹拌した。得られた混合物を23℃まで冷却した後、クロロホルム50部及びイオン交換水20部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層に、イオン交換水20部を添加し、23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮混合物をカラム(シリカゲル60N(球状、中性)100−210μm;関東化学(株)製、展開溶媒:n−ヘプタン/酢酸エチル=1/1)を用いて分取することにより、式(IB−12−f)で表される化合物0.28部を得た。得られた式(IB−12−f)で表される化合物0.27部、硫酸0.01部及びアセトニトリル20部を混合し、23℃で6時間攪拌した。得られた混合物を濃縮することにより、式(IB−12−g)で表される化合物0.24部を得た。
式(I−1−h)で表される化合物0.10部及びアセトニトリル30部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合物に、式(I−1−e)で表される化合物0.13部を添加し、さらに、50℃で2時間攪拌した。得られた反応混合物に、式(IB−12−g)で表される化合物0.21部を添加し、さらに、50℃で4時間攪拌した後、23℃まで冷却した。得られた反応混合物に、クロロホルム50部及び5%シュウ酸水溶液20部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層にイオン交換水20部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮混合物をカラム(シリカゲル60N(球状、中性)100−210μm;関東化学(株)製、展開溶媒:n−ヘプタン/酢酸エチル=1/1)を用いて分取することにより、式(IB−12)で表される化合物0.24部を得た。
MASS:797.3[M+H]
Example 5: Synthesis of compound represented by formula (IB-12)
After mixing 1.56 parts of the compound represented by the formula (I-12-d) and 20 parts of acetonitrile, stirring the mixture at 23 ° C. for 30 minutes, 1.34 of the compound represented by the formula (I-1-e) is mixed. Then, the mixture was heated to 50 ° C., and then stirred at 50 ° C. for 2 hours. To the obtained mixture, 0.35 part of a compound represented by the formula (I-1-c) was added, and the mixture was stirred at 50 ° C for 2 hours. After the obtained mixture was cooled to 23 ° C., 50 parts of chloroform and 20 parts of ion-exchanged water were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. 20 parts of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then separated to take out the organic layer. This washing operation was repeated five times. The obtained organic layer was concentrated, and the concentrated mixture was subjected to column chromatography (silica gel 60N (spherical, neutral) 100 to 210 μm; Kanto Chemical Co., Ltd., developing solvent: n-heptane / ethyl acetate = 1/1). By fractionation, 0.28 part of a compound represented by the formula (IB-12-f) was obtained. 0.27 part of the obtained compound represented by the formula (IB-12-f), 0.01 part of sulfuric acid and 20 parts of acetonitrile were mixed and stirred at 23 ° C for 6 hours. By concentrating the obtained mixture, 0.24 parts of a compound represented by the formula (IB-12-g) was obtained.
0.10 part of the compound represented by the formula (I-1-h) and 30 parts of acetonitrile were mixed and stirred at 23 ° C. for 30 minutes. To the obtained mixture, 0.13 part of a compound represented by the formula (I-1-e) was added, and the mixture was further stirred at 50 ° C for 2 hours. To the obtained reaction mixture, 0.21 part of a compound represented by the formula (IB-12-g) was added, and the mixture was further stirred at 50 ° C for 4 hours, and then cooled to 23 ° C. To the resulting reaction mixture, 50 parts of chloroform and 20 parts of a 5% oxalic acid aqueous solution were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. After adding 20 parts of ion-exchanged water to the obtained organic layer and stirring at 23 ° C. for 30 minutes, liquid separation was performed to take out the organic layer. This washing operation was repeated five times. The obtained organic layer was concentrated, and the concentrated mixture was subjected to column chromatography (silica gel 60N (spherical, neutral) 100 to 210 μm; manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd., developing solvent: n-heptane / ethyl acetate = 1/1). By fractionation, 0.24 part of a compound represented by the formula (IB-12) was obtained.
MASS: 797.3 [M + H] +

実施例6:式(IA−12)で表される化合物の合成
式(I−12−d)で表される化合物1.56部及びアセトニトリル20部を混合し、23℃で30分間攪拌した後、式(I−1−e)で表される化合物1.34部を添加し、50℃に昇温後、50℃で2時間撹拌した。得られた混合物に、式(I−1−c)で表される化合物0.70部を添加し、50℃で2時間撹拌した。得られた混合物を23℃まで冷却した後、クロロホルム50部及びイオン交換水20部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層に、イオン交換水20部を添加し、23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮混合物をカラム(シリカゲル60N(球状、中性)100−210μm;関東化学(株)製、展開溶媒:n−ヘプタン/酢酸エチル=1/2)を用いて分取することにより、式(IA−12−f)で表される化合物0.39部を得た。得られた式(IA−12−f)で表される化合物0.27部、硫酸0.01部及びアセトニトリル20部を混合し、23℃で6時間攪拌した。得られた混合物を濃縮することにより、式(IA−12−g)で表される化合物0.28部を得た。
式(I−1−h)で表される化合物0.22部及びアセトニトリル30部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合物に、式(I−1−e)で表される化合物0.30部を添加し、さらに、50℃で2時間攪拌した。得られた反応混合物に、式(IA−12−g)で表される化合物0.20部を添加し、さらに、50℃で4時間攪拌した後、23℃まで冷却した。得られた反応混合物に、クロロホルム50部及び5%シュウ酸水溶液20部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層にイオン交換水20部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮混合物をカラム(シリカゲル60N(球状、中性)100−210μm;関東化学(株)製、展開溶媒:n−ヘプタン/酢酸エチル=1/1)を用いて分取することにより、式(IA−12)で表される化合物0.22部を得た。
MASS:751.3[M+H]
Example 6: Synthesis of compound represented by formula (IA-12)
After mixing 1.56 parts of the compound represented by the formula (I-12-d) and 20 parts of acetonitrile, stirring the mixture at 23 ° C. for 30 minutes, 1.34 of the compound represented by the formula (I-1-e) is mixed. Then, the mixture was heated to 50 ° C., and then stirred at 50 ° C. for 2 hours. 0.70 parts of the compound represented by the formula (I-1-c) was added to the obtained mixture, and the mixture was stirred at 50 ° C for 2 hours. After the obtained mixture was cooled to 23 ° C., 50 parts of chloroform and 20 parts of ion-exchanged water were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. 20 parts of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then separated to take out the organic layer. This washing operation was repeated five times. The obtained organic layer was concentrated, and the concentrated mixture was subjected to column chromatography (silica gel 60N (spherical, neutral) 100 to 210 μm; Kanto Chemical Co., Ltd., developing solvent: n-heptane / ethyl acetate = 1/2). By fractionation, 0.39 part of a compound represented by the formula (IA-12-f) was obtained. 0.27 part of the obtained compound represented by the formula (IA-12-f), 0.01 part of sulfuric acid and 20 parts of acetonitrile were mixed and stirred at 23 ° C for 6 hours. The obtained mixture was concentrated to obtain 0.28 parts of a compound represented by the formula (IA-12-g).
0.22 parts of the compound represented by the formula (I-1-h) and 30 parts of acetonitrile were mixed and stirred at 23 ° C. for 30 minutes. To the obtained mixture, 0.30 part of a compound represented by the formula (I-1-e) was added, and the mixture was further stirred at 50 ° C for 2 hours. To the obtained reaction mixture, 0.20 part of a compound represented by the formula (IA-12-g) was added, and the mixture was further stirred at 50 ° C for 4 hours, and then cooled to 23 ° C. To the resulting reaction mixture, 50 parts of chloroform and 20 parts of a 5% oxalic acid aqueous solution were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. After adding 20 parts of ion-exchanged water to the obtained organic layer and stirring at 23 ° C. for 30 minutes, liquid separation was performed to take out the organic layer. This washing operation was repeated five times. The obtained organic layer was concentrated, and the concentrated mixture was subjected to column chromatography (silica gel 60N (spherical, neutral) 100 to 210 μm; Kanto Chemical Co., Ltd., developing solvent: n-heptane / ethyl acetate = 1/1). By fractionation, 0.22 parts of a compound represented by the formula (IA-12) was obtained.
MASS: 751.3 [M + H] +

実施例7:式(IB−17)で表される化合物の合成
式(I−1−d)で表される化合物0.65部及びアセトニトリル20部を混合し、23℃で30分間攪拌した後、式(I−1−e)で表される化合物1.34部を添加し、50℃に昇温後、50℃で2時間撹拌した。得られた混合物に、式(I−17−c)で表される化合物0.61部を添加し、50℃で2時間撹拌した。得られた混合物を23℃まで冷却した後、クロロホルム50部及びイオン交換水20部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層に、イオン交換水20部を添加し、23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮混合物をカラム(シリカゲル60N(球状、中性)100−210μm;関東化学(株)製、展開溶媒:n−ヘプタン/酢酸エチル=1/1)を用いて分取することにより、式(IB−17−f)で表される化合物0.48部を得た。得られた式(IB−17−f)で表される化合物0.48部、硫酸0.01部及びアセトニトリル20部を混合し、23℃で6時間攪拌した。得られた混合物を濃縮することにより、式(IB−17−g)で表される化合物0.39部を得た。
式(I−1−h)で表される化合物0.29部及びアセトニトリル30部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合物に、式(I−1−e)で表される化合物0.39部を添加し、さらに、50℃で2時間攪拌した。得られた反応混合物に、式(IB−17−g)で表される化合物0.31部を添加し、さらに、50℃で4時間攪拌した後、23℃まで冷却した。得られた反応混合物に、クロロホルム50部及び5%シュウ酸水溶液30部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層にイオン交換水30部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮混合物をカラム(シリカゲル60N(球状、中性)100−210μm;関東化学(株)製、展開溶媒:n−ヘプタン/酢酸エチル=1/1)を用いて分取することにより、式(IB−17)で表される化合物0.29部を得た。
MASS:543.2[M+H]
Example 7: Synthesis of compound represented by formula (IB-17)
After mixing 0.65 part of the compound represented by the formula (I-1-d) and 20 parts of acetonitrile and stirring the mixture at 23 ° C. for 30 minutes, 1.34 of the compound represented by the formula (I-1-e) is mixed. Then, the mixture was heated to 50 ° C., and then stirred at 50 ° C. for 2 hours. To the obtained mixture, 0.61 part of a compound represented by the formula (I-17-c) was added, and the mixture was stirred at 50 ° C for 2 hours. After the obtained mixture was cooled to 23 ° C., 50 parts of chloroform and 20 parts of ion-exchanged water were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. 20 parts of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then separated to take out the organic layer. This washing operation was repeated five times. The obtained organic layer was concentrated, and the concentrated mixture was subjected to column chromatography (silica gel 60N (spherical, neutral) 100 to 210 μm; Kanto Chemical Co., Ltd., developing solvent: n-heptane / ethyl acetate = 1/1). By fractionation, 0.48 part of a compound represented by the formula (IB-17-f) was obtained. 0.48 part of the obtained compound represented by the formula (IB-17-f), 0.01 part of sulfuric acid and 20 parts of acetonitrile were mixed and stirred at 23 ° C for 6 hours. The obtained mixture was concentrated to obtain 0.39 parts of a compound represented by the formula (IB-17-g).
0.29 parts of the compound represented by the formula (I-1-h) and 30 parts of acetonitrile were mixed and stirred at 23 ° C. for 30 minutes. To the obtained mixture, 0.39 parts of a compound represented by the formula (I-1-e) was added, and the mixture was further stirred at 50 ° C for 2 hours. To the obtained reaction mixture, 0.31 part of a compound represented by the formula (IB-17-g) was added, and the mixture was further stirred at 50 ° C for 4 hours, and then cooled to 23 ° C. To the obtained reaction mixture, 50 parts of chloroform and 30 parts of a 5% oxalic acid aqueous solution were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. After 30 parts of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, the layers were separated and the organic layer was taken out. This washing operation was repeated five times. The obtained organic layer was concentrated, and the concentrated mixture was subjected to column chromatography (silica gel 60N (spherical, neutral) 100 to 210 μm; Kanto Chemical Co., Ltd., developing solvent: n-heptane / ethyl acetate = 1/1). By fractionation, 0.29 part of a compound represented by the formula (IB-17) was obtained.
MASS: 543.2 [M + H] +

実施例8:式(IA−17)で表される化合物の合成
式(I−1−d)で表される化合物0.65部及びアセトニトリル20部を混合し、23℃で30分間攪拌した後、式(I−1−e)で表される化合物1.34部を添加し、50℃に昇温後、50℃で2時間撹拌した。得られた混合物に、式(I−17−c)で表される化合物1.22部を添加し、50℃で2時間撹拌した。得られた混合物を23℃まで冷却した後、クロロホルム50部及びイオン交換水20部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層に、イオン交換水20部を添加し、23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮混合物をカラム(シリカゲル60N(球状、中性)100−210μm;関東化学(株)製、展開溶媒:n−ヘプタン/酢酸エチル=1/2)を用いて分取することにより、式(IA−17―f)で表される化合物0.57部を得た。得られた式(IA−17―f)で表される化合物0.57部、硫酸0.01部及びアセトニトリル20部を混合し、23℃で6時間攪拌した。得られた混合物を濃縮することにより、式(IA−17−g)で表される化合物0.46部を得た。
式(I−1−h)で表される化合物0.44部及びアセトニトリル30部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合物に、式(I−1−e)で表される化合物0.59部を添加し、さらに、50℃で2時間攪拌した。得られた反応混合物に、式(IA−17−g)で表される化合物0.23部を添加し、さらに、50℃で4時間攪拌した後、23℃まで冷却した。得られた反応混合物に、クロロホルム50部及び5%シュウ酸水溶液30部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層にイオン交換水30部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮混合物をカラム(シリカゲル60N(球状、中性)100−210μm;関東化学(株)製、展開溶媒:n−ヘプタン/酢酸エチル=1/1)を用いて分取することにより、式(IA−17)で表される化合物0.34部を得た。
MASS:617.3[M+H]
Example 8: Synthesis of compound represented by formula (IA-17)
After mixing 0.65 part of the compound represented by the formula (I-1-d) and 20 parts of acetonitrile and stirring the mixture at 23 ° C. for 30 minutes, 1.34 of the compound represented by the formula (I-1-e) is mixed. Then, the mixture was heated to 50 ° C., and then stirred at 50 ° C. for 2 hours. To the obtained mixture, 1.22 parts of a compound represented by the formula (I-17-c) was added, and the mixture was stirred at 50 ° C for 2 hours. After the obtained mixture was cooled to 23 ° C., 50 parts of chloroform and 20 parts of ion-exchanged water were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. 20 parts of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then separated to take out the organic layer. This washing operation was repeated five times. The obtained organic layer was concentrated, and the concentrated mixture was subjected to column chromatography (silica gel 60N (spherical, neutral) 100 to 210 μm; Kanto Chemical Co., Ltd., developing solvent: n-heptane / ethyl acetate = 1/2). By fractionation, 0.57 part of a compound represented by the formula (IA-17-f) was obtained. 0.57 part of the obtained compound represented by the formula (IA-17-f), 0.01 part of sulfuric acid and 20 parts of acetonitrile were mixed and stirred at 23 ° C. for 6 hours. The obtained mixture was concentrated to obtain 0.46 parts of a compound represented by the formula (IA-17-g).
0.44 parts of the compound represented by the formula (I-1-h) and 30 parts of acetonitrile were mixed and stirred at 23 ° C. for 30 minutes. To the obtained mixture, 0.59 parts of the compound represented by the formula (I-1-e) was added, and the mixture was further stirred at 50 ° C for 2 hours. To the obtained reaction mixture, 0.23 part of a compound represented by the formula (IA-17-g) was added, and the mixture was further stirred at 50 ° C for 4 hours, and then cooled to 23 ° C. To the obtained reaction mixture, 50 parts of chloroform and 30 parts of a 5% oxalic acid aqueous solution were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. After 30 parts of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, the layers were separated and the organic layer was taken out. This washing operation was repeated five times. The obtained organic layer was concentrated, and the concentrated mixture was subjected to column chromatography (silica gel 60N (spherical, neutral) 100 to 210 μm; Kanto Chemical Co., Ltd., developing solvent: n-heptane / ethyl acetate = 1/1). By fractionation, 0.34 part of a compound represented by the formula (IA-17) was obtained.
MASS: 617.3 [M + H] +

実施例9:式(IA−2)で表される化合物の合成
式(I−1−h)で表される化合物0.29部及びアセトニトリル30部を混合し、23℃で30分間攪拌した。得られた混合物に、式(I−1−e)で表される化合物0.59部を添加し、さらに、50℃で2時間攪拌した。得られた反応混合物に、式(IA−1−g)で表される化合物0.25部を添加し、さらに、50℃で4時間攪拌した後、23℃まで冷却した。得られた反応混合物に、クロロホルム50部及び5%シュウ酸水溶液30部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層にイオン交換水30部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮混合物をカラム(シリカゲル60N(球状、中性)100−210μm;関東化学(株)製、展開溶媒:n−ヘプタン/酢酸エチル=1/1)を用いて分取することにより、式(IA−2)で表される化合物0.21部を得た。
MASS:489.2[M+H]
Example 9: Synthesis of compound represented by formula (IA-2)
0.29 parts of the compound represented by the formula (I-1-h) and 30 parts of acetonitrile were mixed and stirred at 23 ° C. for 30 minutes. To the obtained mixture, 0.59 parts of the compound represented by the formula (I-1-e) was added, and the mixture was further stirred at 50 ° C for 2 hours. To the obtained reaction mixture, 0.25 part of a compound represented by the formula (IA-1-g) was added, and the mixture was further stirred at 50 ° C for 4 hours, and then cooled to 23 ° C. To the obtained reaction mixture, 50 parts of chloroform and 30 parts of a 5% oxalic acid aqueous solution were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. After 30 parts of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, the layers were separated and the organic layer was taken out. This washing operation was repeated five times. The obtained organic layer was concentrated, and the concentrated mixture was subjected to column chromatography (silica gel 60N (spherical, neutral) 100 to 210 μm; manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd., developing solvent: n-heptane / ethyl acetate = 1/1). By fractionation, 0.21 part of a compound represented by the formula (IA-2) was obtained.
MASS: 489.2 [M + H] +

樹脂の合成
樹脂の合成において使用した化合物(モノマー)を下記に示す。
Synthesis of Resin The compounds (monomers) used in the synthesis of the resin are shown below.

以下、これらのモノマーを式番号に応じて「モノマー(a1−1−3)」等という。 Hereinafter, these monomers are referred to as “monomer (a1-1-3)” or the like according to the formula number.

実施例10〔樹脂A1の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1−1−3)、モノマー(a1−2−5)、モノマー(a2−1−1)、モノマー(a3−4−2)及びモノマー(IB−1)を用い、そのモル比〔モノマー(a1−1−3):モノマー(a1−2−5):モノマー(a2−1−3):モノマー(a3−4−2):モノマー(IB−1)〕が45:14:4:34:3となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を全モノマー量に対して各々、1.5mol%及び4.5mol%添加し、これらを73℃で約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過した。得られた樹脂を再び、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解させて得られる溶解液をメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過するという再沈殿操作を2回行い、重量平均分子量7.7×10の樹脂A1を収率60%で得た。この樹脂A1は、以下の構造単位を有するものである。
Example 10 [Synthesis of Resin A1]
As monomers, monomer (a1-1-3), monomer (a1-2-5), monomer (a2-1-1), monomer (a3-4-2) and monomer (IB-1) were used. The ratio [monomer (a1-1-3): monomer (a1-2-5): monomer (a2-1-3): monomer (a3-4-2): monomer (IB-1)] is 45:14: The mixture was mixed at a ratio of 4: 34: 3, and propylene glycol monomethyl ether acetate 1.5 times by mass of the total amount of the monomers was added to form a solution. To this solution, azobisisobutyronitrile and azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) were added as initiators in an amount of 1.5 mol% and 4.5 mol% with respect to the total amount of the monomers, respectively. Heat for about 5 hours. The obtained reaction mixture was poured into a large amount of a mixed solvent of methanol / water to precipitate a resin, and the resin was filtered. The obtained resin is again dissolved in propylene glycol monomethyl ether acetate, and the resulting solution is poured into a mixed solvent of methanol / water to precipitate the resin. Resin A1 having a molecular weight of 7.7 × 10 3 was obtained with a yield of 60%. This resin A1 has the following structural units.

実施例11〔樹脂A2の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1−1−3)、モノマー(a1−2−5)、モノマー(a2−1−1)、モノマー(a3−4−2)及びモノマー(IA−1)を用い、そのモル比〔モノマー(a1−1−3):モノマー(a1−2−5):モノマー(a2−1−3):モノマー(a3−4−2):モノマー(IA−1)〕が45:14:4:34:3となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を全モノマー量に対して各々、1mol%及び3mol%添加し、これらを73℃で約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過した。得られた樹脂を再び、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解させて得られる溶解液をメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過するという再沈殿操作を2回行い、重量平均分子量7.9×10の樹脂A2を収率58%で得た。この樹脂A2は、以下の構造単位を有するものである。
Example 11 [Synthesis of resin A2]
As monomers, monomer (a1-1-3), monomer (a1-2-5), monomer (a2-1-1), monomer (a3-4-2) and monomer (IA-1) were used. The ratio [monomer (a1-1-3): monomer (a1-2-5): monomer (a2-1-3): monomer (a3-4-2): monomer (IA-1)] is 45:14: The mixture was mixed at a ratio of 4: 34: 3, and propylene glycol monomethyl ether acetate 1.5 times by mass of the total amount of the monomers was added to form a solution. To this solution, 1 mol% and 3 mol% of azobisisobutyronitrile and azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) were added as initiators based on the total amount of the monomers, and these were heated at 73 ° C. for about 5 hours. did. The obtained reaction mixture was poured into a large amount of a mixed solvent of methanol / water to precipitate a resin, and the resin was filtered. The obtained resin is again dissolved in propylene glycol monomethyl ether acetate, and the resulting solution is poured into a mixed solvent of methanol / water to precipitate the resin. Resin A2 having a molecular weight of 7.9 × 10 3 was obtained with a yield of 58%. This resin A2 has the following structural units.

実施例12〔樹脂A3の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1−1−3)、モノマー(a1−2−5)、モノマー(a2−1−1)、モノマー(a3−4−2)及びモノマー(IB−6)を用い、そのモル比〔モノマー(a1−1−3):モノマー(a1−2−5):モノマー(a2−1−3):モノマー(a3−4−2):モノマー(IB−6)〕が45:14:4:34:3となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を全モノマー量に対して各々、1.5mol%及び4.5mol%添加し、これらを73℃で約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過した。得られた樹脂を再び、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解させて得られる溶解液をメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過するという再沈殿操作を2回行い、重量平均分子量8.0×10の樹脂A3を収率62%で得た。この樹脂A3は、以下の構造単位を有するものである。
Example 12 [Synthesis of Resin A3]
As the monomer, a monomer (a1-1-3), a monomer (a1-2-5), a monomer (a2-1-1), a monomer (a3-4-2), and a monomer (IB-6) are used. The ratio [monomer (a1-1-3): monomer (a1-2-5): monomer (a2-1-3): monomer (a3-4-2): monomer (IB-6)] is 45:14: The mixture was mixed at a ratio of 4: 34: 3, and propylene glycol monomethyl ether acetate 1.5 times by mass of the total amount of the monomers was added to form a solution. To this solution, azobisisobutyronitrile and azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) were added as initiators in an amount of 1.5 mol% and 4.5 mol% with respect to the total amount of the monomers, respectively. Heat for about 5 hours. The obtained reaction mixture was poured into a large amount of a mixed solvent of methanol / water to precipitate a resin, and the resin was filtered. The obtained resin is again dissolved in propylene glycol monomethyl ether acetate, and the resulting solution is poured into a mixed solvent of methanol / water to precipitate the resin. Resin A3 having a molecular weight of 8.0 × 10 3 was obtained with a yield of 62%. This resin A3 has the following structural units.

実施例13〔樹脂A4の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1−1−3)、モノマー(a1−2−5)、モノマー(a2−1−1)、モノマー(a3−4−2)及びモノマー(IA−6)を用い、そのモル比〔モノマー(a1−1−3):モノマー(a1−2−5):モノマー(a2−1−3):モノマー(a3−4−2):モノマー(IA−6)〕が45:14:4:34:3となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を全モノマー量に対して各々、1mol%及び3mol%添加し、これらを73℃で約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過した。得られた樹脂を再び、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解させて得られる溶解液をメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過するという再沈殿操作を2回行い、重量平均分子量7.9×10の樹脂A4を収率62%で得た。この樹脂A4は、以下の構造単位を有するものである。
Example 13 [Synthesis of Resin A4]
As the monomer, a monomer (a1-1-3), a monomer (a1-2-5), a monomer (a2-1-1), a monomer (a3-4-2), and a monomer (IA-6) were used. The ratio [monomer (a1-1-3): monomer (a1-2-5): monomer (a2-1-3): monomer (a3-4-2): monomer (IA-6)] is 45:14: The mixture was mixed at a ratio of 4: 34: 3, and propylene glycol monomethyl ether acetate 1.5 times by mass of the total amount of the monomers was added to form a solution. To this solution, 1 mol% and 3 mol% of azobisisobutyronitrile and azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) were added as initiators based on the total amount of the monomers, and these were heated at 73 ° C. for about 5 hours. did. The obtained reaction mixture was poured into a large amount of a mixed solvent of methanol / water to precipitate a resin, and the resin was filtered. The obtained resin is again dissolved in propylene glycol monomethyl ether acetate, and the resulting solution is poured into a mixed solvent of methanol / water to precipitate the resin. Resin A4 having a molecular weight of 7.9 × 10 3 was obtained with a yield of 62%. This resin A4 has the following structural units.

実施例14〔樹脂A5の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1−1−1)、モノマー(a1−0−1)、モノマー(a3−2−1)及びモノマー(IB−1)を用い、そのモル比〔モノマー(a1−1−1):モノマー(a1−0−1):モノマー(a3−2−1):モノマー(IB−1)〕が46:11:34:9となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を全モノマー量に対して各々、1.5mol%及び4.5mol%添加し、これらを73℃で約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過した。得られた樹脂を再び、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解させて得られる溶解液をメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過するという再沈殿操作を2回行い、重量平均分子量7.8×10の樹脂A5を収率85%で得た。この樹脂A5は、以下の構造単位を有するものである。
Example 14 [Synthesis of Resin A5]
Monomers (a1-1-1), monomers (a1-0-1), monomers (a3-2-1) and monomers (IB-1) were used as monomers, and their molar ratios were [monomer (a1-1-1) ): Monomer (a1-0-1): Monomer (a3-2-1): Monomer (IB-1)] was mixed so as to be 46: 11: 34: 9, and 1.5 mass of the total monomer amount. Double the amount of propylene glycol monomethyl ether acetate was added to make a solution. To this solution, azobisisobutyronitrile and azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) were added as initiators in an amount of 1.5 mol% and 4.5 mol% with respect to the total amount of the monomers, respectively. Heat for about 5 hours. The obtained reaction mixture was poured into a large amount of a mixed solvent of methanol / water to precipitate a resin, and the resin was filtered. The obtained resin is again dissolved in propylene glycol monomethyl ether acetate, and the resulting solution is poured into a mixed solvent of methanol / water to precipitate the resin. Resin A5 having a molecular weight of 7.8 × 10 3 was obtained at a yield of 85%. This resin A5 has the following structural units.

実施例15〔樹脂A9の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1−1−3)、モノマー(a1−2−5)、モノマー(a2−1−1)、モノマー(a3−4−2)及びモノマー(IB−17)を用い、そのモル比〔モノマー(a1−1−3):モノマー(a1−2−5):モノマー(a2−1−3):モノマー(a3−4−2):モノマー(IB−17)〕が45:14:4:34:3となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を全モノマー量に対して各々、1.5mol%及び4.5mol%添加し、これらを73℃で約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過した。得られた樹脂を再び、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解させて得られる溶解液をメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過するという再沈殿操作を2回行い、重量平均分子量7.4×10の樹脂A9を収率62%で得た。この樹脂A9は、以下の構造単位を有するものである。
Example 15 [Synthesis of resin A9]
As the monomer, a monomer (a1-1-3), a monomer (a1-2-5), a monomer (a2-1-1), a monomer (a3-4-2), and a monomer (IB-17) are used. The ratio [monomer (a1-1-3): monomer (a1-2-5): monomer (a2-1-3): monomer (a3-4-2): monomer (IB-17)] is 45:14: The mixture was mixed at a ratio of 4: 34: 3, and propylene glycol monomethyl ether acetate 1.5 times by mass of the total amount of the monomers was added to form a solution. To this solution, azobisisobutyronitrile and azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) were added as initiators in an amount of 1.5 mol% and 4.5 mol% with respect to the total amount of the monomers, respectively. Heat for about 5 hours. The obtained reaction mixture was poured into a large amount of a mixed solvent of methanol / water to precipitate a resin, and the resin was filtered. The obtained resin is again dissolved in propylene glycol monomethyl ether acetate, and the resulting solution is poured into a mixed solvent of methanol / water to precipitate the resin. Resin A9 having a molecular weight of 7.4 × 10 3 was obtained with a yield of 62%. This resin A9 has the following structural units.

実施例16〔樹脂A10の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1−1−3)、モノマー(a1−2−5)、モノマー(a2−1−1)、モノマー(a3−4−2)及びモノマー(IA−17)を用い、そのモル比〔モノマー(a1−1−3):モノマー(a1−2−5):モノマー(a2−1−3):モノマー(a3−4−2):モノマー(IA−17)〕が45:14:4:34:3となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を全モノマー量に対して各々、1mol%及び3mol%添加し、これらを73℃で約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過した。得られた樹脂を再び、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解させて得られる溶解液をメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過するという再沈殿操作を2回行い、重量平均分子量7.7×10の樹脂A10を収率61%で得た。この樹脂A10は、以下の構造単位を有するものである。
Example 16 [Synthesis of Resin A10]
As monomers, monomer (a1-1-3), monomer (a1-2-5), monomer (a2-1-1), monomer (a3-4-2) and monomer (IA-17) were used. The ratio [monomer (a1-1-3): monomer (a1-2-5): monomer (a2-1-3): monomer (a3-4-2): monomer (IA-17)] is 45:14: The mixture was mixed at a ratio of 4: 34: 3, and propylene glycol monomethyl ether acetate 1.5 times by mass of the total amount of the monomers was added to form a solution. To this solution, 1 mol% and 3 mol% of azobisisobutyronitrile and azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) were added as initiators based on the total amount of the monomers, and these were heated at 73 ° C. for about 5 hours. did. The obtained reaction mixture was poured into a large amount of a mixed solvent of methanol / water to precipitate a resin, and the resin was filtered. The obtained resin is again dissolved in propylene glycol monomethyl ether acetate, and the resulting solution is poured into a mixed solvent of methanol / water to precipitate the resin. Resin A10 having a molecular weight of 7.7 × 10 3 was obtained with a yield of 61%. This resin A10 has the following structural units.

実施例17〔樹脂A11の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1−1−3)、モノマー(a1−2−5)、モノマー(a2−1−1)、モノマー(a3−4−2)及びモノマー(IA−2)を用い、そのモル比〔モノマー(a1−1−3):モノマー(a1−2−5):モノマー(a2−1−3):モノマー(a3−4−2):モノマー(IA−2)〕が45:14:4:34:3となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を全モノマー量に対して各々、1mol%及び3mol%添加し、これらを73℃で約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過した。得られた樹脂を再び、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解させて得られる溶解液をメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過するという再沈殿操作を2回行い、重量平均分子量7.8×10の樹脂A11を収率60%で得た。この樹脂A11は、以下の構造単位を有するものである。
Example 17 [Synthesis of Resin A11]
As the monomer, a monomer (a1-1-3), a monomer (a1-2-5), a monomer (a2-1-1), a monomer (a3-4-2), and a monomer (IA-2) were used. The ratio [monomer (a1-1-3): monomer (a1-2-5): monomer (a2-1-3): monomer (a3-4-2): monomer (IA-2)] is 45:14: The mixture was mixed at a ratio of 4: 34: 3, and propylene glycol monomethyl ether acetate 1.5 times by mass of the total amount of the monomers was added to form a solution. To this solution, 1 mol% and 3 mol% of azobisisobutyronitrile and azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) were added as initiators based on the total amount of the monomers, and these were heated at 73 ° C. for about 5 hours. did. The obtained reaction mixture was poured into a large amount of a mixed solvent of methanol / water to precipitate a resin, and the resin was filtered. The obtained resin is again dissolved in propylene glycol monomethyl ether acetate, and the resulting solution is poured into a mixed solvent of methanol / water to precipitate the resin. Resin A11 having a molecular weight of 7.8 × 10 3 was obtained at a yield of 60%. This resin A11 has the following structural units.

合成例1〔樹脂AX1の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1−1−1)、モノマー(a1−0−1)、モノマー(a3−2−1)及びモノマー(IX−1)を用い、そのモル比〔モノマー(a1−1−1):モノマー(a1−0−1):モノマー(a3−2−1):モノマー(IX−1)〕が46:11:34:9となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を全モノマー量に対して各々、1.5mol%及び4.5mol%添加し、これらを73℃で約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過した。得られた樹脂を再び、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解させて得られる溶解液をメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過するという再沈殿操作を2回行い、重量平均分子量7.8×10の樹脂AX1を収率85%で得た。この樹脂AX1は、以下の構造単位を有するものである。
Synthesis Example 1 [Synthesis of Resin AX1]
As the monomers, a monomer (a1-1-1), a monomer (a1-0-1), a monomer (a3-2-1) and a monomer (IX-1) were used, and the molar ratio thereof was [monomer (a1-1-1) ): Monomer (a1-0-1): monomer (a3-2-1): monomer (IX-1)] was mixed so as to be 46: 11: 34: 9, and 1.5 mass of the total amount of monomers. Double the amount of propylene glycol monomethyl ether acetate was added to make a solution. To this solution, azobisisobutyronitrile and azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) were added as initiators in an amount of 1.5 mol% and 4.5 mol% with respect to the total amount of the monomers, respectively. Heat for about 5 hours. The obtained reaction mixture was poured into a large amount of a mixed solvent of methanol / water to precipitate a resin, and the resin was filtered. The obtained resin is again dissolved in propylene glycol monomethyl ether acetate, and the resulting solution is poured into a mixed solvent of methanol / water to precipitate the resin. Resin AX1 having a molecular weight of 7.8 × 10 3 was obtained with a yield of 85%. This resin AX1 has the following structural units.

合成例2〔樹脂AX2の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1−1−3)、モノマー(a1−2−5)、モノマー(a2−1−1)、モノマー(a3−4−2)及びモノマー(IX−1)を用い、そのモル比〔モノマー(a1−1−3):モノマー(a1−2−5):モノマー(a2−1−3):モノマー(a3−4−2):モノマー(IX−1)〕が45:14:4:34:3となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を全モノマー量に対して各々、1.5mol%及び4.5mol%添加し、これらを73℃で約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過した。得られた樹脂を再び、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解させて得られる溶解液をメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過するという再沈殿操作を2回行い、重量平均分子量7.9×10の樹脂AX2を収率60%で得た。この樹脂AX2は、以下の構造単位を有するものである。
Synthesis Example 2 [Synthesis of resin AX2]
As monomers, monomer (a1-1-3), monomer (a1-2-5), monomer (a2-1-1), monomer (a3-4-2) and monomer (IX-1) were used. The ratio [monomer (a1-1-3): monomer (a1-2-5): monomer (a2-1-3): monomer (a3-4-2): monomer (IX-1)] is 45:14: The mixture was mixed at a ratio of 4: 34: 3, and propylene glycol monomethyl ether acetate 1.5 times by mass of the total amount of the monomers was added to form a solution. To this solution, azobisisobutyronitrile and azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) were added as initiators in an amount of 1.5 mol% and 4.5 mol% with respect to the total amount of the monomers, respectively. Heat for about 5 hours. The obtained reaction mixture was poured into a large amount of a mixed solvent of methanol / water to precipitate a resin, and the resin was filtered. The obtained resin is again dissolved in propylene glycol monomethyl ether acetate, and the resulting solution is poured into a mixed solvent of methanol / water to precipitate the resin. Resin AX2 having a molecular weight of 7.9 × 10 3 was obtained with a yield of 60%. This resin AX2 has the following structural units.

合成例3〔樹脂AX3の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1−1−3)、モノマー(a1−2−5)、モノマー(a2−1−1)、モノマー(a3−4−2)及びモノマー(IX−2)を用い、そのモル比〔モノマー(a1−1−3):モノマー(a1−2−5):モノマー(a2−1−3):モノマー(a3−4−2):モノマー(IX−2)〕が45:14:4:34:3となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を全モノマー量に対して各々、1.5mol%及び4.5mol%添加し、これらを73℃で約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過した。得られた樹脂を再び、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解させて得られる溶解液をメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過するという再沈殿操作を2回行い、重量平均分子量7.8×10の樹脂AX3を収率64%で得た。この樹脂AX3は、以下の構造単位を有するものである。
Synthesis Example 3 [Synthesis of resin AX3]
Monomers (a1-1-3), monomers (a1-2-5), monomers (a2-1-1), monomers (a3-4-2) and monomers (IX-2) were used as monomers, The ratio [monomer (a1-1-3): monomer (a1-2-5): monomer (a2-1-3): monomer (a3-4-2): monomer (IX-2)] is 45:14: The mixture was mixed at a ratio of 4: 34: 3, and propylene glycol monomethyl ether acetate 1.5 times by mass of the total amount of the monomers was added to form a solution. To this solution, azobisisobutyronitrile and azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) were added as initiators in an amount of 1.5 mol% and 4.5 mol% with respect to the total amount of the monomers, respectively. Heat for about 5 hours. The obtained reaction mixture was poured into a large amount of a mixed solvent of methanol / water to precipitate a resin, and the resin was filtered. The obtained resin is again dissolved in propylene glycol monomethyl ether acetate, and the resulting solution is poured into a mixed solvent of methanol / water to precipitate the resin. Resin AX3 having a molecular weight of 7.8 × 10 3 was obtained with a yield of 64%. This resin AX3 has the following structural units.

合成例4〔樹脂AX4の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1−1−3)、モノマー(a1−2−5)、モノマー(a2−1−1)、モノマー(a3−4−2)及びモノマー(IX−3)を用い、そのモル比〔モノマー(a1−1−3):モノマー(a1−2−5):モノマー(a2−1−3):モノマー(a3−4−2):モノマー(IX−3)〕が45:14:4:34:3となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を全モノマー量に対して各々、1mol%及び3mol%添加し、これらを73℃で約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過した。得られた樹脂を再び、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解させて得られる溶解液をメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過するという再沈殿操作を2回行い、重量平均分子量8.0×10の樹脂AX4を収率60%で得た。この樹脂AX4は、以下の構造単位を有するものである。
Synthesis Example 4 [Synthesis of resin AX4]
As the monomer, a monomer (a1-1-3), a monomer (a1-2-5), a monomer (a2-1-1), a monomer (a3-4-2), and a monomer (IX-3) were used. The ratio [monomer (a1-1-3): monomer (a1-2-5): monomer (a2-1-3): monomer (a3-4-2): monomer (IX-3)] is 45:14: The mixture was mixed at a ratio of 4: 34: 3, and propylene glycol monomethyl ether acetate 1.5 times by mass of the total amount of the monomers was added to form a solution. To this solution, 1 mol% and 3 mol% of azobisisobutyronitrile and azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) were added as initiators based on the total amount of the monomers, and these were heated at 73 ° C. for about 5 hours. did. The obtained reaction mixture was poured into a large amount of a mixed solvent of methanol / water to precipitate a resin, and the resin was filtered. The obtained resin is again dissolved in propylene glycol monomethyl ether acetate, and the resulting solution is poured into a mixed solvent of methanol / water to precipitate the resin. A resin AX4 having a molecular weight of 8.0 × 10 3 was obtained with a yield of 60%. This resin AX4 has the following structural units.

合成例5〔樹脂AX5の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1−1−3)、モノマー(a1−2−5)、モノマー(a2−1−1)、モノマー(a3−4−2)及びモノマー(IX−4)を用い、そのモル比〔モノマー(a1−1−3):モノマー(a1−2−5):モノマー(a2−1−3):モノマー(a3−4−2):モノマー(IX−4)〕が45:14:4:34:3となるように混合し、全モノマー量の1.5質量倍のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を全モノマー量に対して各々、1mol%及び3mol%添加し、これらを73℃で約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過した。得られた樹脂を再び、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解させて得られる溶解液をメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過するという再沈殿操作を2回行い、重量平均分子量7.6×10の樹脂AX5を収率55%で得た。この樹脂AX5は、以下の構造単位を有するものである。
Synthesis Example 5 [Synthesis of resin AX5]
As monomers, monomer (a1-1-3), monomer (a1-2-5), monomer (a2-1-1), monomer (a3-4-2) and monomer (IX-4) were used. The ratio [monomer (a1-1-3): monomer (a1-2-5): monomer (a2-1-3): monomer (a3-4-2): monomer (IX-4)] is 45:14: The mixture was mixed at a ratio of 4: 34: 3, and propylene glycol monomethyl ether acetate 1.5 times by mass of the total amount of the monomers was added to form a solution. To this solution, 1 mol% and 3 mol% of azobisisobutyronitrile and azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) were added as initiators based on the total amount of the monomers, and these were heated at 73 ° C. for about 5 hours. did. The obtained reaction mixture was poured into a large amount of a mixed solvent of methanol / water to precipitate a resin, and the resin was filtered. The obtained resin is again dissolved in propylene glycol monomethyl ether acetate, and the resulting solution is poured into a mixed solvent of methanol / water to precipitate the resin. Resin AX5 having a molecular weight of 7.6 × 10 3 was obtained with a yield of 55%. This resin AX5 has the following structural units.

実施例18〔樹脂A6の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1−4−2)、モノマー(a1−1−3)、モノマー(a1−2−6)及びモノマー(IB−12)を用い、そのモル比〔モノマー(a1−4−2):モノマー(a1−1−3):モノマー(a1−2−6):モノマー(IB−12)〕が、38:29:30:3の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、1.5質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルを全モノマーの合計モル数に対して、12mol%となるように添加し、これを85℃で約5時間加熱することで重合を行った。その後、重合反応液に、p−トルエンスルホン酸水溶液を加え、6時間攪拌した後、分液した。得られた有機層を、大量のn−ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約5.6×10である樹脂A6を収率55%で得た。この樹脂A6は、以下の構造単位を有するものである。
Example 18 [Synthesis of Resin A6]
As the monomers, a monomer (a1-4-2), a monomer (a1-1-3), a monomer (a1-2-6) and a monomer (IB-12) were used, and their molar ratios [monomer (a1-4-2) ): Monomer (a1-1-3): Monomer (a1-2-6): Monomer (IB-12)], and mixed at a ratio of 38: 29: 30: 3. Was mixed with 1.5 parts by mass of methyl isobutyl ketone based on the total mass of all the monomers. To the obtained mixture, azobisisobutyronitrile as an initiator was added in an amount of 12 mol% based on the total number of moles of all monomers, and the mixture was heated at 85 ° C. for about 5 hours to perform polymerization. Was. Thereafter, an aqueous solution of p-toluenesulfonic acid was added to the polymerization reaction solution, stirred for 6 hours, and then separated. The obtained organic layer was poured into a large amount of n-heptane to precipitate a resin, which was filtered and collected to obtain a resin A6 having a weight average molecular weight of about 5.6 × 10 3 in a yield of 55%. This resin A6 has the following structural units.

実施例19〔樹脂A7の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1−4−2)、モノマー(a1−1−3)、モノマー(a1−2−6)及びモノマー(IA−12)を用い、そのモル比〔モノマー(a1−4−2):モノマー(a1−1−3):モノマー(a1−2−6):モノマー(IA−12)〕が、38:29:30:3の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、1.5質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルを全モノマーの合計モル数に対して、7mol%となるように添加し、これを85℃で約5時間加熱することで重合を行った。その後、重合反応液に、p−トルエンスルホン酸水溶液を加え、6時間攪拌した後、分液した。得られた有機層を、大量のn−ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約5.9×10である樹脂A7を収率59%で得た。この樹脂A7は、以下の構造単位を有するものである。
Example 19 [Synthesis of Resin A7]
As the monomer, a monomer (a1-4-2), a monomer (a1-1-3), a monomer (a1-2-6), and a monomer (IA-12) were used, and the molar ratio thereof was [monomer (a1-4-2) ): Monomer (a1-1-3): Monomer (a1-2-6): Monomer (IA-12)], and mixed at a ratio of 38: 29: 30: 3. Was mixed with 1.5 mass times of methyl isobutyl ketone based on the total mass of all monomers. To the obtained mixture, azobisisobutyronitrile as an initiator was added in an amount of 7 mol% based on the total number of moles of all monomers, and the mixture was heated at 85 ° C. for about 5 hours to perform polymerization. Was. Thereafter, an aqueous solution of p-toluenesulfonic acid was added to the polymerization reaction solution, stirred for 6 hours, and then separated. The obtained organic layer was poured into a large amount of n-heptane to precipitate a resin, followed by filtration and recovery, whereby a resin A7 having a weight average molecular weight of about 5.9 × 10 3 was obtained at a yield of 59%. This resin A7 has the following structural units.

実施例20〔樹脂A8の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1−4−2)、モノマー(a1−1−3)、モノマー(a1−2−6)及びモノマー(IB−1)を用い、そのモル比〔モノマー(a1−4−2):モノマー(a1−1−3):モノマー(a1−2−6):モノマー(IB−1)〕が、38:29:30:3の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、1.5質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルを全モノマーの合計モル数に対して、12mol%となるように添加し、これを85℃で約5時間加熱することで重合を行った。その後、重合反応液に、p−トルエンスルホン酸水溶液を加え、6時間攪拌した後、分液した。得られた有機層を、大量のn−ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約5.9×10である樹脂A8を収率48%で得た。この樹脂A8は、以下の構造単位を有するものである。
Example 20 [Synthesis of resin A8]
As the monomers, a monomer (a1-4-2), a monomer (a1-1-3), a monomer (a1-2-6) and a monomer (IB-1) were used, and their molar ratios [monomer (a1-4-2) ): Monomer (a1-1-3): Monomer (a1-2-6): Monomer (IB-1)], and mixed at a ratio of 38: 29: 30: 3. Was mixed with 1.5 parts by mass of methyl isobutyl ketone based on the total mass of all the monomers. To the obtained mixture, azobisisobutyronitrile as an initiator was added in an amount of 12 mol% based on the total number of moles of all monomers, and the mixture was heated at 85 ° C. for about 5 hours to perform polymerization. Was. Thereafter, an aqueous solution of p-toluenesulfonic acid was added to the polymerization reaction solution, stirred for 6 hours, and then separated. The obtained organic layer was poured into a large amount of n-heptane to precipitate a resin, and the resin was filtered and collected to obtain a resin A8 having a weight average molecular weight of about 5.9 × 10 3 in a yield of 48%. This resin A8 has the following structural units.

実施例21〔樹脂A12の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1−4−2)、モノマー(a1−1−3)、モノマー(a1−2−6)及びモノマー(IA−1)を用い、そのモル比〔モノマー(a1−4−2):モノマー(a1−1−3):モノマー(a1−2−6):モノマー(IA−1)〕が、38:29:30:3の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、1.5質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルを全モノマーの合計モル数に対して、7mol%となるように添加し、これを85℃で約5時間加熱することで重合を行った。その後、重合反応液に、p−トルエンスルホン酸水溶液を加え、6時間攪拌した後、分液した。得られた有機層を、大量のn−ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約5.6×10である樹脂A12を収率64%で得た。この樹脂A12は、以下の構造単位を有するものである。
Example 21 [Synthesis of Resin A12]
As the monomers, a monomer (a1-4-2), a monomer (a1-1-3), a monomer (a1-2-6) and a monomer (IA-1) were used, and their molar ratios [monomer (a1-4-2) ): Monomer (a1-1-3): Monomer (a1-2-6): Monomer (IA-1)], and mixed at a ratio of 38: 29: 30: 3. Was mixed with 1.5 parts by mass of methyl isobutyl ketone based on the total mass of all the monomers. To the obtained mixture, azobisisobutyronitrile as an initiator was added in an amount of 7 mol% based on the total number of moles of all monomers, and the mixture was heated at 85 ° C. for about 5 hours to perform polymerization. Was. Thereafter, an aqueous solution of p-toluenesulfonic acid was added to the polymerization reaction solution, stirred for 6 hours, and then separated. The obtained organic layer was poured into a large amount of n-heptane to precipitate a resin, and the resin was filtered and collected to obtain a resin A12 having a weight average molecular weight of about 5.6 × 10 3 in a yield of 64%. This resin A12 has the following structural units.

実施例22〔樹脂A13の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1−4−2)、モノマー(a1−1−3)、モノマー(a1−2−6)及びモノマー(IB−17)を用い、そのモル比〔モノマー(a1−4−2):モノマー(a1−1−3):モノマー(a1−2−6):モノマー(IB−17)〕が、38:29:30:3の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、1.5質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルを全モノマーの合計モル数に対して、12mol%となるように添加し、これを85℃で約5時間加熱することで重合を行った。その後、重合反応液に、p−トルエンスルホン酸水溶液を加え、6時間攪拌した後、分液した。得られた有機層を、大量のn−ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約5.5×10である樹脂A13を収率54%で得た。この樹脂A13は、以下の構造単位を有するものである。
Example 22 [Synthesis of Resin A13]
As the monomer, a monomer (a1-4-2), a monomer (a1-1-3), a monomer (a1-2-6) and a monomer (IB-17) were used, and the molar ratio thereof was [monomer (a1-4-2) ): Monomer (a1-1-3): Monomer (a1-2-6): Monomer (IB-17)], and mixed at a ratio of 38: 29: 30: 3. Was mixed with 1.5 mass times of methyl isobutyl ketone based on the total mass of all monomers. To the obtained mixture, azobisisobutyronitrile as an initiator was added in an amount of 12 mol% based on the total number of moles of all monomers, and the mixture was heated at 85 ° C. for about 5 hours to perform polymerization. Was. Thereafter, an aqueous solution of p-toluenesulfonic acid was added to the polymerization reaction solution, stirred for 6 hours, and then separated. The obtained organic layer was poured into a large amount of n-heptane to precipitate a resin, which was filtered and collected, whereby a resin A13 having a weight average molecular weight of about 5.5 × 10 3 was obtained at a yield of 54%. This resin A13 has the following structural units.

実施例23〔樹脂A14の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1−4−2)、モノマー(a1−1−3)、モノマー(a1−2−6)及びモノマー(IA−17)を用い、そのモル比〔モノマー(a1−4−2):モノマー(a1−1−3):モノマー(a1−2−6):モノマー(IA−17)〕が、38:29:30:3の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、1.5質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルを全モノマーの合計モル数に対して、7mol%となるように添加し、これを85℃で約5時間加熱することで重合を行った。その後、重合反応液に、p−トルエンスルホン酸水溶液を加え、6時間攪拌した後、分液した。得られた有機層を、大量のn−ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約5.4×10である樹脂A14を収率62%で得た。この樹脂A14は、以下の構造単位を有するものである。
Example 23 [Synthesis of Resin A14]
Monomers (a1-4-2), monomers (a1-1-3), monomers (a1-2-6) and monomers (IA-17) were used as the monomers, and the molar ratio thereof was [monomer (a1-4-2) ): Monomer (a1-1-3): Monomer (a1-2-6): Monomer (IA-17)], and mixed at a ratio of 38: 29: 30: 3. Was mixed with 1.5 parts by mass of methyl isobutyl ketone based on the total mass of all the monomers. To the obtained mixture, azobisisobutyronitrile as an initiator was added in an amount of 7 mol% based on the total number of moles of all monomers, and the mixture was heated at 85 ° C. for about 5 hours to perform polymerization. Was. Thereafter, an aqueous solution of p-toluenesulfonic acid was added to the polymerization reaction solution, stirred for 6 hours, and then separated. The obtained organic layer was poured into a large amount of n-heptane to precipitate a resin, and the resin was filtered and collected to obtain a resin A14 having a weight average molecular weight of about 5.4 × 10 3 in a yield of 62%. This resin A14 has the following structural units.

実施例24〔樹脂A15の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1−4−2)、モノマー(a1−1−3)、モノマー(a1−2−6)及びモノマー(IA−2)を用い、そのモル比〔モノマー(a1−4−2):モノマー(a1−1−3):モノマー(a1−2−6):モノマー(IA−2)〕が、38:29:30:3の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、1.5質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルを全モノマーの合計モル数に対して、7mol%となるように添加し、これを85℃で約5時間加熱することで重合を行った。その後、重合反応液に、p−トルエンスルホン酸水溶液を加え、6時間攪拌した後、分液した。得られた有機層を、大量のn−ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約5.5×10である樹脂A15を収率65%で得た。この樹脂A15は、以下の構造単位を有するものである。
Example 24 [Synthesis of Resin A15]
Monomers (a1-4-2), monomers (a1-1-3), monomers (a1-2-6) and monomers (IA-2) were used as the monomers, and the molar ratio thereof was [monomer (a1-4-2) ): Monomer (a1-1-3): Monomer (a1-2-6): Monomer (IA-2)], and mixed at a ratio of 38: 29: 30: 3. Was mixed with 1.5 parts by mass of methyl isobutyl ketone based on the total mass of all the monomers. To the obtained mixture, azobisisobutyronitrile as an initiator was added in an amount of 7 mol% based on the total number of moles of all monomers, and the mixture was heated at 85 ° C. for about 5 hours to perform polymerization. Was. Thereafter, an aqueous solution of p-toluenesulfonic acid was added to the polymerization reaction solution, stirred for 6 hours, and then separated. The obtained organic layer was poured into a large amount of n-heptane to precipitate a resin, which was filtered and collected, whereby a resin A15 having a weight average molecular weight of about 5.5 × 10 3 was obtained in a yield of 65%. This resin A15 has the following structural units.

合成例6〔樹脂AX6の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1−4−2)、モノマー(a1−1−3)、モノマー(a1−2−6)及びモノマー(IX−1)を用い、そのモル比〔モノマー(a1−4−2):モノマー(a1−1−3):モノマー(a1−2−6):モノマー(IX−1)〕が、38:29:30:3の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、1.5質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルを全モノマーの合計モル数に対して、12mol%となるように添加し、これを85℃で約5時間加熱することで重合を行った。その後、重合反応液に、p−トルエンスルホン酸水溶液を加え、6時間攪拌した後、分液した。得られた有機層を、大量のn−ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約5.7×10である樹脂AX6を収率50%で得た。この樹脂AX6は、以下の構造単位を有するものである。
Synthesis Example 6 [Synthesis of resin AX6]
Monomers (a1-4-2), monomers (a1-1-3), monomers (a1-2-6) and monomers (IX-1) were used as the monomers, and the molar ratio thereof was [monomer (a1-4-2) ): Monomer (a1-1-3): Monomer (a1-2-6): Monomer (IX-1)], and mixed at a ratio of 38: 29: 30: 3. Was mixed with 1.5 parts by mass of methyl isobutyl ketone based on the total mass of all the monomers. To the obtained mixture, azobisisobutyronitrile as an initiator was added in an amount of 12 mol% based on the total number of moles of all monomers, and the mixture was heated at 85 ° C. for about 5 hours to perform polymerization. Was. Thereafter, an aqueous solution of p-toluenesulfonic acid was added to the polymerization reaction solution, stirred for 6 hours, and then separated. The obtained organic layer was poured into a large amount of n-heptane to precipitate a resin, which was filtered and collected, whereby a resin AX6 having a weight average molecular weight of about 5.7 × 10 3 was obtained at a yield of 50%. This resin AX6 has the following structural units.

合成例7〔樹脂AX7の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1−4−2)、モノマー(a1−1−3)、モノマー(a1−2−6)及びモノマー(IX−2)を用い、そのモル比〔モノマー(a1−4−2):モノマー(a1−1−3):モノマー(a1−2−6):モノマー(IX−2)〕が、38:29:30:3の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、1.5質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルを全モノマーの合計モル数に対して、12mol%となるように添加し、これを85℃で約5時間加熱することで重合を行った。その後、重合反応液に、p−トルエンスルホン酸水溶液を加え、6時間攪拌した後、分液した。得られた有機層を、大量のn−ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約5.8×10である樹脂AX7を収率53%で得た。この樹脂AX7は、以下の構造単位を有するものである。
Synthesis Example 7 [Synthesis of resin AX7]
Monomers (a1-4-2), monomers (a1-1-3), monomers (a1-2-6), and monomers (IX-2) were used as the monomers, and the molar ratio of the monomers (monomer (a1-4-2) ): Monomer (a1-1-3): Monomer (a1-2-6): Monomer (IX-2)], and mixed at a ratio of 38: 29: 30: 3. Was mixed with 1.5 parts by mass of methyl isobutyl ketone based on the total mass of all the monomers. To the obtained mixture, azobisisobutyronitrile as an initiator was added in an amount of 12 mol% based on the total number of moles of all monomers, and the mixture was heated at 85 ° C. for about 5 hours to perform polymerization. Was. Thereafter, an aqueous solution of p-toluenesulfonic acid was added to the polymerization reaction solution, stirred for 6 hours, and then separated. The obtained organic layer was poured into a large amount of n-heptane to precipitate a resin, which was filtered and collected to obtain a resin AX7 having a weight average molecular weight of about 5.8 × 10 3 in a yield of 53%. This resin AX7 has the following structural units.

合成例8〔樹脂AX8の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1−4−2)、モノマー(a1−1−3)、モノマー(a1−2−6)及びモノマー(IX−3)を用い、そのモル比〔モノマー(a1−4−2):モノマー(a1−1−3):モノマー(a1−2−6):モノマー(IX−3)〕が、38:29:30:3の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、1.5質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルを全モノマーの合計モル数に対して、7mol%となるように添加し、これを85℃で約5時間加熱することで重合を行った。その後、重合反応液に、p−トルエンスルホン酸水溶液を加え、6時間攪拌した後、分液した。得られた有機層を、大量のn−ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約5.7×10である樹脂AX8を収率50%で得た。この樹脂AX8は、以下の構造単位を有するものである。
Synthesis Example 8 [Synthesis of resin AX8]
Monomers (a1-4-2), monomers (a1-1-3), monomers (a1-2-6) and monomers (IX-3) were used as the monomers, and the molar ratio thereof was [monomer (a1-4-2) ): Monomer (a1-1-3): Monomer (a1-2-6): Monomer (IX-3)], and mixed at a ratio of 38: 29: 30: 3. Was mixed with 1.5 parts by mass of methyl isobutyl ketone based on the total mass of all the monomers. To the obtained mixture, azobisisobutyronitrile as an initiator was added in an amount of 7 mol% based on the total number of moles of all monomers, and the mixture was heated at 85 ° C. for about 5 hours to perform polymerization. Was. Thereafter, an aqueous solution of p-toluenesulfonic acid was added to the polymerization reaction solution, stirred for 6 hours, and then separated. The obtained organic layer was poured into a large amount of n-heptane to precipitate a resin, and the resin was filtered and collected to obtain a resin AX8 having a weight average molecular weight of about 5.7 × 10 3 in a yield of 50%. This resin AX8 has the following structural units.

合成例9〔樹脂AX9の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1−4−2)、モノマー(a1−1−3)、モノマー(a1−2−6)及びモノマー(IX−4)を用い、そのモル比〔モノマー(a1−4−2):モノマー(a1−1−3):モノマー(a1−2−6):モノマー(IX−4)〕が、38:29:30:3の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、1.5質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルを全モノマーの合計モル数に対して、7mol%となるように添加し、これを85℃で約5時間加熱することで重合を行った。その後、重合反応液に、p−トルエンスルホン酸水溶液を加え、6時間攪拌した後、分液した。得られた有機層を、大量のn−ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約5.9×10である樹脂AX9を収率55%で得た。この樹脂AX9は、以下の構造単位を有するものである。
Synthesis Example 9 [Synthesis of resin AX9]
As the monomers, a monomer (a1-4-2), a monomer (a1-1-3), a monomer (a1-2-6) and a monomer (IX-4) were used, and their molar ratio [monomer (a1-4-2) ): Monomer (a1-1-3): Monomer (a1-2-6): Monomer (IX-4)], and mixed at a ratio of 38: 29: 30: 3. Was mixed with 1.5 mass times of methyl isobutyl ketone based on the total mass of all monomers. To the obtained mixture, azobisisobutyronitrile as an initiator was added in an amount of 7 mol% based on the total number of moles of all monomers, and the mixture was heated at 85 ° C. for about 5 hours to perform polymerization. Was. Thereafter, an aqueous solution of p-toluenesulfonic acid was added to the polymerization reaction solution, stirred for 6 hours, and then separated. The obtained organic layer was poured into a large amount of n-heptane to precipitate a resin, and the resin was filtered and collected, whereby a resin AX9 having a weight average molecular weight of about 5.9 × 10 3 was obtained at a yield of 55%. This resin AX9 has the following structural units.

合成例10:樹脂X1の合成
モノマーとして、モノマー(a5−1−1)及びモノマー(a4−0−12)を用い、そのモル比〔モノマー(a5−1−1):モノマー(a4−0−12)〕が50:50となるように混合し、全モノマー量の1.2質量倍のメチルイソブチルケトンを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を全モノマー量に対して3mol%添加し、70℃で約5時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のメタノール/水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過し、重量平均分子量1.0×10の樹脂X1を収率91%で得た。この樹脂X1は、以下の構造単位を有するものである。
Synthesis Example 10: Synthesis of resin X1 A monomer (a5-1-1) and a monomer (a4-0-12) were used as monomers, and the molar ratio [monomer (a5-1-1): monomer (a4-0-) was used. 12)] was mixed at a ratio of 50:50, and a solution was prepared by adding methyl isobutyl ketone 1.2 times by mass of the total amount of monomers. To this solution, 3 mol% of azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) was added as an initiator based on the total amount of monomers, and heated at 70 ° C. for about 5 hours. The obtained reaction mixture was poured into a large amount of a mixed solvent of methanol / water to precipitate a resin, and this resin was filtered to obtain a resin X1 having a weight average molecular weight of 1.0 × 10 4 in a yield of 91%. This resin X1 has the following structural units.

<レジスト組成物の調製>
表1に示す各成分を混合して溶解することにより得られた混合物を孔径0.2μmのフッ素樹脂製フィルターで濾過し、レジスト組成物を調製した。
<Preparation of resist composition>
A mixture obtained by mixing and dissolving the components shown in Table 1 was filtered through a fluororesin filter having a pore size of 0.2 μm to prepare a resist composition.



<樹脂>
A1〜A15、AX1〜AX9、X1:樹脂A1〜樹脂A15、樹脂AX1〜樹脂AX9、樹脂X1
<酸発生剤(B)>
B1−21:式(B1−21)で表される塩(特開2012−224611号公報の実施例に従って合成)
B1−22:式(B1−22)で表される塩(特開2012−224611号公報の実施例に従って合成)
B1−43:式(B1−43)で表される塩(特開2016−47815号公報の実施例に従って合成)
<クエンチャー(C)>
(酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩)
D1:特開2011−39502号公報記載の方法で合成
D2:(東京化成工業(株)製)
<溶剤:組成物1〜5、9〜11、比較組成物1〜5>
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 265部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 20部
2−ヘプタノン 20部
γ−ブチロラクトン 3.5部
<溶剤:組成物6〜8、12〜15、比較組成物6〜9>
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 400部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 150部
γ−ブチロラクトン 5部
<Resin>
A1 to A15, AX1 to AX9, X1: resin A1 to resin A15, resin AX1 to resin AX9, resin X1
<Acid generator (B)>
B1-21: A salt represented by the formula (B1-21) (synthesized according to the examples of JP-A-2012-246611)
B1-22: Salt represented by the formula (B1-22) (synthesized according to the example of JP-A-2012-246611)
B1-43: Salt represented by formula (B1-43) (synthesized according to the examples in JP-A-2016-47815)
<Quencher (C)>
(Salt that generates an acid whose acidity is weaker than the acid generated from the acid generator)
D1: synthesized by the method described in JP-A-2011-39502
D2: (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
<Solvent: composition 1-5, 9-11, comparative composition 1-5>
Propylene glycol monomethyl ether acetate 265 parts Propylene glycol monomethyl ether 20 parts 2-heptanone 20 parts γ-butyrolactone 3.5 parts <Solvent: compositions 6 to 8, 12 to 15, comparative compositions 6 to 9>
Propylene glycol monomethyl ether acetate 400 parts Propylene glycol monomethyl ether 150 parts γ-butyrolactone 5 parts

(レジスト組成物のArF露光評価)
シリコンウェハに、有機反射防止膜用組成物(ARC−29;日産化学(株)製)を塗布して、205℃、60秒の条件でベークすることによって、ウェハ上に膜厚78nmの有機反射防止膜を形成した。次いで、この有機反射防止膜の上に、上記のレジスト組成物を乾燥後の膜厚が85nmとなるように塗布(スピンコート)した。塗布後、シリコンウェハをダイレクトホットプレート上にて、表1の「PB」欄に記載された温度で60秒間プリベークし、組成物層を形成した。組成物層が形成されたシリコンウェハに、液浸露光用ArFエキシマステッパー(XT:1900Gi;ASML社製、NA=1.35、3/4Annular X−Y偏光)で、コンタクトホールパターン(ホールピッチ90nm/ホール径55nm)を形成するためのマスクを用いて、露光量を段階的に変化させて露光した。なお、液浸媒体としては超純水を使用した。
露光後、ホットプレート上にて、表1の「PEB」欄に記載された温度で60秒間ポストエキスポジャーベークを行った。次いで、このシリコンウェハ上の組成物層を、現像液として酢酸ブチル(東京化成工業(株)製)を用いて、23℃で20秒間ダイナミックディスペンス法によって現像を行うことにより、ネガ型レジストパターンを製造した。
現像後に得られたレジストパターンにおいて、前記マスクを用いて形成したホール径が45nmとなる露光量を実効感度とした。
(Evaluation of ArF exposure of resist composition)
A composition for an organic anti-reflection film (ARC-29; manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) is applied to a silicon wafer and baked at 205 ° C. for 60 seconds, so that a 78 nm-thick organic reflection film is formed on the wafer. An prevention film was formed. Next, the above resist composition was applied (spin-coated) on the organic antireflection film so that the film thickness after drying was 85 nm. After the application, the silicon wafer was prebaked on a direct hot plate at a temperature described in the “PB” column of Table 1 for 60 seconds to form a composition layer. An ArF excimer stepper for liquid immersion exposure (XT: 1900 Gi; manufactured by ASML, NA = 1.35, 3/4 Annular XY polarized light) was used to form a contact hole pattern (hole pitch 90 nm) on the silicon wafer on which the composition layer was formed. / Hole diameter 55 nm) using a mask for forming the film, and changing the exposure amount in a stepwise manner. Note that ultrapure water was used as the immersion medium.
After exposure, post-exposure baking was performed on a hot plate at a temperature described in the “PEB” column of Table 1 for 60 seconds. Then, the composition layer on the silicon wafer is developed by a dynamic dispense method at 23 ° C. for 20 seconds using butyl acetate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) as a developing solution to form a negative resist pattern. Manufactured.
In the resist pattern obtained after the development, the exposure amount at which the hole diameter formed using the mask was 45 nm was defined as the effective sensitivity.

<CD均一性(CDU)評価>
実効感度において、ホール径55nmのマスクで形成したパターンのホール径を、一つのホールにつき24回測定し、その平均値を一つのホールの平均ホール径とした。同一ウェハ内の、ホール径55nmのマスクで形成したパターンの平均ホール径を400箇所測定したものを母集団として標準偏差を求めた。
その結果を表2に示す。括弧内の数値は標準偏差(nm)を示す。
<CD uniformity (CDU) evaluation>
In the effective sensitivity, the hole diameter of a pattern formed with a mask having a hole diameter of 55 nm was measured 24 times for each hole, and the average value was defined as the average hole diameter of one hole. The standard deviation was determined using a population obtained by measuring 400 average hole diameters of a pattern formed with a mask having a hole diameter of 55 nm in the same wafer.
Table 2 shows the results. The values in parentheses indicate the standard deviation (nm).

比較組成物1〜5と比較して、組成物1〜5、9〜11での標準偏差が小さく、CD均一性(CDU)評価が良好であった。 Standard deviations of compositions 1 to 5 and 9 to 11 were smaller than those of comparative compositions 1 to 5, and the evaluation of CD uniformity (CDU) was good.

(レジスト組成物の電子線露光評価)
6インチのシリコンウェハを、ダイレクトホットプレート上で、ヘキサメチルジシラザンを用いて90℃で60秒処理した。このシリコンウェハに、レジスト組成物を、組成物層の膜厚が0.04μmとなるようにスピンコートした。その後、ダイレクトホットプレート上で、表1の「PB」欄に示す温度で60秒間プリベークして組成物層を形成した。ウェハ上に形成された組成物層に、電子線描画機〔(株)エリオニクス製の「ELS−F125 125keV」〕を用い、露光量を段階的に変化させてコンタクトホールパターン(ホールピッチ40nm/ホール径17nm)を直接描画した。
露光後、ホットプレート上にて表1の「PEB」欄に示す温度で60秒間ポストエキスポジャーベークを行い、さらに2.38質量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で60秒間のパドル現像を行うことにより、レジストパターンを得た。
現像後に得られたレジストパターンにおいて、前記マスクを用いて形成したホール径が17nmとなる露光量を実効感度とした。
(Evaluation of electron beam exposure of resist composition)
A 6-inch silicon wafer was treated on a direct hot plate using hexamethyldisilazane at 90 ° C. for 60 seconds. The silicon wafer was spin-coated with a resist composition such that the composition layer had a thickness of 0.04 μm. Thereafter, the composition was prebaked on a direct hot plate at a temperature shown in the “PB” column of Table 1 for 60 seconds to form a composition layer. A contact hole pattern (hole pitch: 40 nm / hole) is formed on the composition layer formed on the wafer by using an electron beam lithography machine (“ELS-F125 125 keV” manufactured by Elionix Inc.) and changing the exposure amount stepwise. (Diameter 17 nm) was directly drawn.
After exposure, post-exposure baking is performed for 60 seconds on a hot plate at a temperature shown in the “PEB” column of Table 1, and paddle development is performed for 60 seconds with a 2.38% by mass aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide. Thus, a resist pattern was obtained.
In the resist pattern obtained after development, the exposure amount at which the hole diameter formed using the mask was 17 nm was defined as the effective sensitivity.

<CD均一性(CDU)評価>
実効感度において、ホール径17nmのマスクで形成したパターンのホール径を、一つのホールにつき24回測定し、その平均値を一つのホールの平均ホール径とした。同一ウェハ内の、ホール径55nmのマスクで形成したパターンの平均ホール径を400箇所測定したものを母集団として標準偏差を求めた。
その結果を表3に示す。括弧内の数値は標準偏差(nm)を示す。
<CD uniformity (CDU) evaluation>
In the effective sensitivity, the hole diameter of a pattern formed with a mask having a hole diameter of 17 nm was measured 24 times for each hole, and the average value was defined as the average hole diameter of one hole. The standard deviation was determined using a population obtained by measuring 400 average hole diameters of a pattern formed with a mask having a hole diameter of 55 nm in the same wafer.
Table 3 shows the results. The values in parentheses indicate the standard deviation (nm).

比較組成物6〜9と比較して、組成物6〜8、12〜15での標準偏差が小さく、CD均一性(CDU)評価が良好であった。 Standard deviations of compositions 6 to 8 and 12 to 15 were smaller than those of comparative compositions 6 to 9, and the CD uniformity (CDU) evaluation was good.

本発明のレジスト組成物は、良好なCD均一性(CDU)を有するレジストパターンを得られるため、半導体の微細加工に好適であり、産業上極めて有用である。   Since the resist composition of the present invention can obtain a resist pattern having good CD uniformity (CDU), it is suitable for fine processing of semiconductors and is extremely useful in industry.

Claims (11)

式(IA)又は式(IB)で表される化合物。
[式(IA)及び式(IB)中、
及びRは、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
及びXは、それぞれ独立に、式(X−1)〜式(X−7)のいずれかで表される基を表す。
(式(X−1)〜式(X−7)中、
*、**は結合部位を表し、**はLとの結合部位を表す。)
は、置換基を有していてもよい炭素数1〜48の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO−に置き換わっていてもよい。
は、式(IC)で表される基を有する炭素数1〜36の炭化水素基(該炭化水素基は置換基を有してもよく、該炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO−に置き換わっていてもよい。)を表す。
及びRは、それぞれ独立に、水素原子又は式(IC)で表される基を有していてもよい炭素数1〜36の炭化水素基(該炭化水素基は置換基を有してもよく、該炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO−に置き換わっていてもよい。)を表す。]
[式(IC)中、
Aは、炭素数1〜12の飽和炭化水素基を表す。
u1は、0〜2のいずれかの整数を表し、u1が2である場合、複数のRは同一であるか、相異なる。
s1は、1又は2を表す。
t1は、0又は1を表す。但し、s1とt1との和は、1又は2である。
*は、結合部位を表す。]
A compound represented by the formula (IA) or (IB).
[In the formulas (IA) and (IB),
R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
X 1 and X 2 each independently represent a group represented by any one of formula (X 1 -1) ~ Formula (X 1 -7).
(In the formula (X 1 -1) ~ Formula (X 1 -7),
*, ** represents a binding site, ** represents the bonding site to L 1. )
L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 48 carbon atoms which may have a substituent, and -CH 2- contained in the hydrocarbon group is -O-, -S-, -CO- or —SO 2 — may be substituted.
R 3 is a hydrocarbon group having 1 to 36 carbon atoms having a group represented by the formula (IC) (the hydrocarbon group may have a substituent, and —CH 2 — contained in the hydrocarbon group is included). is, -O -, - S -, - CO- or -SO 2 -. which may be substituted with) represents a.
R 4 and R 5 are each independently a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 36 carbon atoms which may have a group represented by the formula (IC) (the hydrocarbon group has a substituent; And —CH 2 — contained in the hydrocarbon group may be replaced by —O—, —S—, —CO— or —SO 2 —.) ]
[In the formula (IC),
RA represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
u1 represents an integer of 0 to 2, when u1 is 2, or a plurality of R A are the same, different.
s1 represents 1 or 2.
t1 represents 0 or 1. However, the sum of s1 and t1 is 1 or 2.
* Represents a binding site. ]
が、式(L1A)で表される基又は式(L1B)で表される基である請求項1記載の化合物。
[式(LA)及び式(LB)中、
4及びL4'は、それぞれ独立に、単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1〜24の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO−に置き換わっていてもよい。
2及びL3は、それぞれ独立に、単結合又は炭素数1〜4のアルカンジイル基を表す。
3'は、炭素数1〜4のアルカントリイル基を表す。
*aはXとの結合部位を表し、*bは−OR5における酸素原子又はX2との結合部位を表し、*cは−ORにおける酸素原子との結合部位を表し、*dは−ORにおける酸素原子との結合部位を表す。]
L 1 is The compound of claim 1, wherein a group represented by the formula radical or formula represented by (L 1 A) (L 1 B).
[In the formulas (L 1 A) and (L 1 B),
L 4 and L 4 ′ each independently represent a single bond or a hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms which may have a substituent, and -CH 2- contained in the hydrocarbon group is- O -, - S -, - CO- or -SO 2 - may be replaced with.
L 2 and L 3 each independently represent a single bond or an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms.
L 3 ′ represents an alkanetriyl group having 1 to 4 carbon atoms.
* A represents a bonding site with X 1, * b represents a bonding site with an oxygen atom or X 2 in -OR 5, * c represents the binding site to the oxygen atoms in the -OR 3, * d is -OR 4 represents a bonding site to an oxygen atom. ]
4及びL4'が、それぞれ独立に、単結合、炭素数1〜6のアルカンジイル基又は炭素数1〜6のアルカンジイル基と炭素数3〜18の脂環式炭化水素基とを組み合わせた基(前記アルカンジイル基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、前記脂環式炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO−に置き換わっていてもよい)であり、L2が単結合又は炭素数1〜4のアルカンジイル基であり、L3が炭素数1〜4のアルカンジイル基であり、L3'が炭素数1〜4のアルカントリイル基である請求項2記載の化合物。 L 4 and L 4 ′ are each independently a single bond, an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms and an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms. groups (-CH 2 contained in the alkanediyl group - may be replaced by -O- or -CO-, -CH 2 contained in the alicyclic hydrocarbon group - is -O-, —S—, —CO— or —SO 2 —), L 2 is a single bond or an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms, and L 3 is an alkane having 1 to 4 carbon atoms. The compound according to claim 2, wherein the compound is a diyl group, and L3 ' is an alkanetriyl group having 1 to 4 carbon atoms. が、式(X−1)、式(X−3)又は式(X−4)のいずれかで表される基である請求項1〜3のいずれかに記載の化合物。 X 1 has the formula (X 1 -1), wherein (X 1 -3) or compound according to claim 1 is a group represented by any one of formulas (X 1 -4). 請求項1〜4のいずれかに記載の化合物に由来する構造単位を含有する樹脂。   A resin containing a structural unit derived from the compound according to claim 1. さらに、酸不安定基を有する構造単位を含む請求項5記載の樹脂。   The resin according to claim 5, further comprising a structural unit having an acid labile group. 酸不安定基を有する構造単位が、式(a1−1)で表される構造単位及び式(a1−2)で表される構造単位の少なくとも1種を含む請求項6記載の樹脂。
[式(a1−1)及び式(a1−2)中、
a1及びLa2は、それぞれ独立に、−O−又は*−O−(CHk1−CO−O−を表し、k1は1〜7のいずれかの整数を表し、*は−CO−との結合部位を表す。
a4及びRa5は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
a6及びRa7は、それぞれ独立に、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せた基を表す。
m1は、0〜14のいずれかの整数を表す。
n1は、0〜10のいずれかの整数を表す。
n1’は、0〜3のいずれかの整数を表す。]
The resin according to claim 6, wherein the structural unit having an acid labile group includes at least one of a structural unit represented by the formula (a1-1) and a structural unit represented by the formula (a1-2).
[In the formulas (a1-1) and (a1-2),
L a1 and L a2 each independently, -O- or * -O- (CH 2) k1 -CO -O- the stands, k1 represents an integer of 1-7, and * -CO- And represents a binding site.
R a4 and R a5 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
R a6 and R a7 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or a combination thereof.
m1 represents an integer of any of 0 to 14.
n1 represents any integer of 0-10.
n1 ′ represents any integer of 0 to 3. ]
請求項5〜7のいずれかに記載の樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物。   A resist composition comprising the resin according to claim 5 and an acid generator. 酸発生剤が、式(B1)で表される塩を含む請求項8記載のレジスト組成物。
[式(B1)中、
b1及びQb2は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。
b1は、炭素数1〜24の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Yは、置換基を有していてもよいメチル基又は置換基を有していてもよい炭素数3〜18の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−、−S(O)2−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
は、有機カチオンを表す。]
The resist composition according to claim 8, wherein the acid generator contains a salt represented by the formula (B1).
[In the formula (B1),
Q b1 and Q b2 each independently represent a fluorine atom or a C 1-6 perfluoroalkyl group.
L b1 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO—. The hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
Y represents a methyl group which may have a substituent or an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms which may have a substituent, and-is included in the alicyclic hydrocarbon group. CH 2 — may be replaced by —O—, —S (O) 2 — or —CO—.
Z + represents an organic cation. ]
酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩をさらに含有する請求項8又は9記載のレジスト組成物。   10. The resist composition according to claim 8, further comprising a salt that generates an acid having a lower acidity than the acid generated from the acid generator. (1)請求項8〜10のいずれかに記載のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
(2)塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
(3)組成物層に露光する工程、
(4)露光後の組成物層を加熱する工程、及び
(5)加熱後の組成物層を現像する工程、
を含むレジストパターンの製造方法。
(1) a step of applying the resist composition according to any one of claims 8 to 10 on a substrate;
(2) drying the composition after application to form a composition layer;
(3) exposing the composition layer to light,
(4) a step of heating the composition layer after exposure, and (5) a step of developing the composition layer after heating.
A method for producing a resist pattern comprising:
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019214709A (en) * 2018-06-07 2019-12-19 住友化学株式会社 Compound, resin, resist composition, and method for producing resist pattern
JP2019214708A (en) * 2018-06-07 2019-12-19 住友化学株式会社 Compound, resin, resist composition, and method for producing resist pattern

Citations (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1439016A (en) * 1963-12-02 1966-05-20 Ciba Geigy New polymerization products obtained from monomeric esters of unsaturated carboxylic acids in the alpha, beta position, comprising in the alcohol residue a cycloaliphatic nucleus, as well as a process for their preparation
JPS62229549A (en) * 1985-12-27 1987-10-08 Ricoh Co Ltd Optical information recording medium
JPS6460633A (en) * 1987-08-31 1989-03-07 Tokuyama Soda Kk Coating material
JPH05306392A (en) * 1992-03-03 1993-11-19 Tokuyama Soda Co Ltd Photochromic composition
JP2000321416A (en) * 1999-05-10 2000-11-24 Jsr Corp Radiation sensitive composition for color filter and color filter utilizing the same
JP2001075275A (en) * 1999-09-07 2001-03-23 Tamura Kaken Co Ltd Active energy line-setting resin, photosensitive resin composition, and printed wiring board
JP2007316445A (en) * 2006-05-26 2007-12-06 Fujifilm Corp Curable composition, color filter and method for producing the same
JP2010020018A (en) * 2008-07-09 2010-01-28 Fujifilm Corp Colored curable composition, color filter, color filter manufacturing method, and liquid crystal display element
JP2012524828A (en) * 2009-04-24 2012-10-18 コリア インスティチュート オブ インダストリアル テクノロジー New epoxy resin and epoxy resin composition containing the same
WO2013172450A1 (en) * 2012-05-17 2013-11-21 協立化学産業株式会社 Esterified epoxy resin, method for producing same, and curable composition comprising same
JP2014196265A (en) * 2013-03-29 2014-10-16 Dic株式会社 Polymerizable compound and optical element
WO2015004947A1 (en) * 2013-07-10 2015-01-15 Jnc株式会社 Polymerizable compound, polymerizable composition, and liquid crystal display element
JP2017095444A (en) * 2015-11-16 2017-06-01 住友化学株式会社 Compound, resin, resist composition and method for producing resist pattern
WO2018010605A1 (en) * 2016-07-13 2018-01-18 常州强力先端电子材料有限公司 Mixed-type photosensitive resin and preparation method therefor
WO2019065075A1 (en) * 2017-09-28 2019-04-04 富士フイルム株式会社 Photopolymerizable composition, hard coat film, method for manufacturing hard coat film, and article provided with hard coat film
WO2019220970A1 (en) * 2018-05-18 2019-11-21 富士フイルム株式会社 Photo-alignable copolymer, photo-alignment film, and optical laminate
JP2019214553A (en) * 2018-06-07 2019-12-19 住友化学株式会社 Compound, resin, resist composition and method for producing resist pattern

Patent Citations (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1439016A (en) * 1963-12-02 1966-05-20 Ciba Geigy New polymerization products obtained from monomeric esters of unsaturated carboxylic acids in the alpha, beta position, comprising in the alcohol residue a cycloaliphatic nucleus, as well as a process for their preparation
JPS62229549A (en) * 1985-12-27 1987-10-08 Ricoh Co Ltd Optical information recording medium
JPS6460633A (en) * 1987-08-31 1989-03-07 Tokuyama Soda Kk Coating material
JPH05306392A (en) * 1992-03-03 1993-11-19 Tokuyama Soda Co Ltd Photochromic composition
JP2000321416A (en) * 1999-05-10 2000-11-24 Jsr Corp Radiation sensitive composition for color filter and color filter utilizing the same
JP2001075275A (en) * 1999-09-07 2001-03-23 Tamura Kaken Co Ltd Active energy line-setting resin, photosensitive resin composition, and printed wiring board
JP2007316445A (en) * 2006-05-26 2007-12-06 Fujifilm Corp Curable composition, color filter and method for producing the same
JP2010020018A (en) * 2008-07-09 2010-01-28 Fujifilm Corp Colored curable composition, color filter, color filter manufacturing method, and liquid crystal display element
JP2012524828A (en) * 2009-04-24 2012-10-18 コリア インスティチュート オブ インダストリアル テクノロジー New epoxy resin and epoxy resin composition containing the same
WO2013172450A1 (en) * 2012-05-17 2013-11-21 協立化学産業株式会社 Esterified epoxy resin, method for producing same, and curable composition comprising same
JP2014196265A (en) * 2013-03-29 2014-10-16 Dic株式会社 Polymerizable compound and optical element
WO2015004947A1 (en) * 2013-07-10 2015-01-15 Jnc株式会社 Polymerizable compound, polymerizable composition, and liquid crystal display element
JP2017095444A (en) * 2015-11-16 2017-06-01 住友化学株式会社 Compound, resin, resist composition and method for producing resist pattern
WO2018010605A1 (en) * 2016-07-13 2018-01-18 常州强力先端电子材料有限公司 Mixed-type photosensitive resin and preparation method therefor
WO2019065075A1 (en) * 2017-09-28 2019-04-04 富士フイルム株式会社 Photopolymerizable composition, hard coat film, method for manufacturing hard coat film, and article provided with hard coat film
WO2019220970A1 (en) * 2018-05-18 2019-11-21 富士フイルム株式会社 Photo-alignable copolymer, photo-alignment film, and optical laminate
JP2019214553A (en) * 2018-06-07 2019-12-19 住友化学株式会社 Compound, resin, resist composition and method for producing resist pattern

Non-Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
AZERBAIDZHANSKII KHIMICHESKII ZHURNAL, vol. (1), JPN6023002039, 2015, pages 44 - 49, ISSN: 0004970363 *
AZERBAIDZHANSKII KHIMICHESKII ZHURNAL, vol. (3), JPN6023002041, 2008, pages 146 - 150, ISSN: 0004970365 *
BIOMACROMOLECULES, vol. 17(8), JPN6023002038, 2016, pages 2701 - 2709, ISSN: 0004970362 *
FATIPEC CONGRESS, vol. 17th(1), JPN6023002040, 1984, pages 255 - 274, ISSN: 0004970364 *

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019214709A (en) * 2018-06-07 2019-12-19 住友化学株式会社 Compound, resin, resist composition, and method for producing resist pattern
JP2019214708A (en) * 2018-06-07 2019-12-19 住友化学株式会社 Compound, resin, resist composition, and method for producing resist pattern
JP7333202B2 (en) 2018-06-07 2023-08-24 住友化学株式会社 Compound, resin, resist composition, and method for producing resist pattern
JP7389566B2 (en) 2018-06-07 2023-11-30 住友化学株式会社 Compound, resin, resist composition, and method for producing resist pattern

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