JP2019212388A - Spark plug - Google Patents

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Abstract

To provide a spark plug which allows improvement in durability.SOLUTION: A spark plug comprises: a conductor which is arranged between a center electrode and a terminal fitting; a first conductive glass part which electrically connects the center electrode to the conductor; and a second conductive glass part which electrically connects the terminal fitting to the conductor. The first conductive glass part and the second conductive glass part are made of a mixture containing insulative glass and metal. The conductor has a main phase, a first phase, and a second phase. The main phase, the first phase, and the second phase are each made of a sintered body of a conductive oxide. The main phase is electrically connected to the first conductive glass part via the first phase and is electrically connected to the second conductive glass part via the second phase. Volume resistivities of the first phase and the second phase are lower than that of the main phase.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明はスパークプラグに関し、特に導電体が内蔵されたスパークプラグに関するものである。   The present invention relates to a spark plug, and more particularly to a spark plug with a built-in conductor.

放電時に発生する電波ノイズを抑えるために、抵抗器などの導電体が絶縁体に内蔵されたスパークプラグがある(特許文献1)。特許文献1の技術では、筒状の絶縁体に内蔵された導電体は、中心電極に接続された導電性ガラスと接触する。   In order to suppress radio noise generated during discharge, there is a spark plug in which a conductor such as a resistor is incorporated in an insulator (Patent Document 1). In the technique of Patent Document 1, the conductor incorporated in the cylindrical insulator is in contact with the conductive glass connected to the center electrode.

特開2007−122879号公報JP 2007-122879 A

しかし、上記従来の技術では、導電体と導電性ガラスとの界面の接触抵抗が高くなることがある。即ち、導電体と導電性ガラスとは、導電体をなす導電性酸化物と導電性ガラスに含まれる金属との接触によって導通するので、ショットキー障壁によって接触抵抗が高くなり易い。この結果、放電時にこの界面に電界が集中して導電体が劣化するおそれがある。   However, in the above conventional technique, the contact resistance at the interface between the conductor and the conductive glass may be increased. That is, since the conductor and the conductive glass are brought into conduction by the contact between the conductive oxide forming the conductor and the metal contained in the conductive glass, the contact resistance is likely to increase due to the Schottky barrier. As a result, the electric field may concentrate on this interface during discharge, and the conductor may be deteriorated.

本発明は上述した問題点を解決するためになされたものであり、耐久性を向上できるスパークプラグを提供することを目的としている。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object thereof is to provide a spark plug capable of improving durability.

この目的を達成するために本発明のスパークプラグは、先端側から後端側へと軸線の方向に延びる軸孔を有する絶縁体と、軸孔の先端側に配置された中心電極と、軸孔の後端側に配置された端子金具と、軸孔内の中心電極と端子金具との間に配置される導電体と、中心電極と導電体とを電気的に接続する第1導電性ガラスと、端子金具と導電体とを電気的に接続する第2導電性ガラスと、を備える。第1導電性ガラス及び第2導電性ガラスは、絶縁性のガラスと金属とを含む混合物からなる。導電体は、主相、主相の先端側に接触する第1相、及び、主相の後端側に接触する第2相を有し、主相、第1相および第2相はそれぞれ導電性酸化物の焼結体からなる。主相は、第1相を介して第1導電性ガラスと電気的に接続され、第2相を介して第2導電性ガラスと電気的に接続される。第1相および第2相の体積抵抗率は主相の体積抵抗率よりも低い。   To achieve this object, a spark plug according to the present invention comprises an insulator having an axial hole extending in the direction of the axis from the front end side to the rear end side, a center electrode disposed on the front end side of the axial hole, and an axial hole A terminal fitting disposed on the rear end side, a conductor disposed between the center electrode in the shaft hole and the terminal bracket, and a first conductive glass electrically connecting the center electrode and the conductor; And a second conductive glass for electrically connecting the terminal fitting and the conductor. The first conductive glass and the second conductive glass are made of a mixture containing insulating glass and metal. The conductor has a main phase, a first phase that contacts the front end side of the main phase, and a second phase that contacts the rear end side of the main phase, and the main phase, the first phase, and the second phase are conductive, respectively. It consists of a sintered body of a functional oxide. The main phase is electrically connected to the first conductive glass via the first phase, and is electrically connected to the second conductive glass via the second phase. The volume resistivity of the first phase and the second phase is lower than the volume resistivity of the main phase.

請求項1記載のスパークプラグによれば、導電体の第1相および第2相はそれぞれ主相に接触する。主相は、第1相を介して第1導電性ガラスに電気的に接続され、第2相を介して第2導電性ガラスに電気的に接続される。第1相および第2相の体積抵抗率は主相の体積抵抗率よりも低いので、第1相に接触し主相の反対側に位置する部材と第1相との間の接触抵抗、及び、第2相に接触し主相の反対側に位置する部材と第2相との間の接触抵抗を低減できる。よって、放電時にこれらの界面に電界が集中するのを緩和できる。さらに主相、第1相および第2相はそれぞれ導電性酸化物の焼結体からなるので、酸化による劣化を防止できる。その結果、スパークプラグの耐久性を向上できる。   According to the spark plug of the first aspect, each of the first phase and the second phase of the conductor is in contact with the main phase. The main phase is electrically connected to the first conductive glass through the first phase, and is electrically connected to the second conductive glass through the second phase. Since the volume resistivity of the first phase and the second phase is lower than the volume resistivity of the main phase, the contact resistance between the first phase and a member that contacts the first phase and is located on the opposite side of the main phase, and The contact resistance between the second phase and a member that contacts the second phase and is located on the opposite side of the main phase can be reduced. Therefore, it is possible to reduce the concentration of the electric field at these interfaces during discharge. Furthermore, since the main phase, the first phase, and the second phase are each made of a sintered body of conductive oxide, deterioration due to oxidation can be prevented. As a result, the durability of the spark plug can be improved.

請求項2記載のスパークプラグによれば、第1相の体積抵抗率および第2相の体積抵抗率は1.0×10−1Ω・m以下なので、主相の反対側に位置する部材と第1相や第2相との間の接触抵抗の抑制効果を向上できる。よって、請求項1の効果に加え、スパークプラグの耐久性をさらに向上できる。 According to the spark plug according to claim 2, since the volume resistivity of the first phase and the volume resistivity of the second phase are 1.0 × 10 −1 Ω · m or less, the member located on the opposite side of the main phase is The effect of suppressing contact resistance between the first phase and the second phase can be improved. Therefore, in addition to the effect of Claim 1, the durability of the spark plug can be further improved.

請求項3記載のスパークプラグによれば、第1相および第2相の軸線の方向の厚さの最小値は5μm以上なので、請求項1又は2の効果に加え、第1相および第2相による接触抵抗の低減効果を発現し易くできる。また、厚さの最大値は5mm以下なので、相対的に主相を長くすることができ、主相の電気特性を発現し易くできる。   According to the spark plug of claim 3, since the minimum value of the thickness in the direction of the axis of the first phase and the second phase is 5 μm or more, in addition to the effect of claim 1 or 2, the first phase and the second phase The effect of reducing the contact resistance due to can be easily expressed. Further, since the maximum value of the thickness is 5 mm or less, the main phase can be relatively lengthened, and the electric characteristics of the main phase can be easily developed.

請求項4記載のスパークプラグによれば、主相は、第1相が含有する金属元素と同じ金属元素を1種以上含有し、第2相が含有する金属元素と同じ金属元素を1種以上含有する。これにより、第1相や第2相と主相との相互作用を生じ難くできる。よって、請求項1から4のいずれかの効果に加え、耐久性をさらに向上できる。   According to the spark plug of claim 4, the main phase contains one or more metal elements that are the same as the metal element contained in the first phase, and one or more metal elements that are the same as the metal element contained in the second phase. contains. Thereby, it is possible to make it difficult for the first phase or the second phase to interact with the main phase. Therefore, in addition to the effect of any one of claims 1 to 4, the durability can be further improved.

請求項5記載のスパークプラグによれば、主相、第1相および第2相は、構成元素が同じ複合酸化物の焼結体からなるので、請求項4の効果に加え、第1相や第2相と主相との相互作用をさらに生じ難くできる。   According to the spark plug of the fifth aspect, since the main phase, the first phase, and the second phase are composed of a sintered body of complex oxides having the same constituent elements, in addition to the effect of the fourth aspect, The interaction between the second phase and the main phase can be made more difficult to occur.

請求項6記載のスパークプラグによれば、第1導電性ガラスと導電体との間に配置される第1緩衝層は第1導電性ガラスと第1相とに接触する。第2導電性ガラスと導電体との間に配置される第2緩衝層は第2導電性ガラスと第2相とに接触する。第1緩衝層および第2緩衝層は、金属と導電性酸化物との混合物または金属からなる。そのため、第1導電性ガラス及び第2導電性ガラスに含まれる金属(粉末や粒子)が導電体に接触する場合に比べ、第1緩衝層および第2緩衝層に含まれる導電性物質(金属や導電性酸化物)と導電体との接触面積を大きくできる。第1緩衝層および第2緩衝層はそれぞれ第1導電性ガラス及び第2導電性ガラスに含まれる金属(粉末や粒子)といわゆる点接触して導通するが、この導通は第1緩衝層および第2緩衝層に含まれる金属によってもなされる。これにより、第1緩衝層と第1導電性ガラスとの間、第2緩衝層と第2導電性ガラスとの間で、それぞれオーミック接触またはオーミック接触に近い接触を実現できる。その結果、放電時にこれらの界面に電界が集中するのをさらに緩和できるので、請求項1から5のいずれかの効果に加え、スパークプラグの耐久性をさらに向上できる。   According to the spark plug of the sixth aspect, the first buffer layer disposed between the first conductive glass and the conductor is in contact with the first conductive glass and the first phase. The second buffer layer disposed between the second conductive glass and the conductor is in contact with the second conductive glass and the second phase. The first buffer layer and the second buffer layer are made of a mixture of a metal and a conductive oxide or a metal. Therefore, compared with the case where the metal (powder or particle) contained in the first conductive glass and the second conductive glass is in contact with the conductor, the conductive material (metal or metal contained in the first buffer layer and the second buffer layer). The contact area between the conductive oxide) and the conductor can be increased. The first buffer layer and the second buffer layer are electrically connected in so-called point contact with the metals (powder and particles) contained in the first conductive glass and the second conductive glass, respectively. It is also made by the metal contained in the two buffer layers. Thereby, an ohmic contact or a contact close to an ohmic contact can be realized between the first buffer layer and the first conductive glass and between the second buffer layer and the second conductive glass, respectively. As a result, it is possible to further alleviate the concentration of the electric field at these interfaces during discharge, so that the durability of the spark plug can be further improved in addition to the effect of any one of claims 1 to 5.

第1実施形態におけるスパークプラグの片側断面図である。It is a half sectional view of the spark plug in a 1st embodiment. 図1の一部を拡大して示したスパークプラグの断面図である。It is sectional drawing of the spark plug which expanded and showed a part of FIG. 第2実施形態におけるスパークプラグの一部を拡大して示した断面図である。It is sectional drawing which expanded and showed a part of spark plug in 2nd Embodiment. 第3実施形態におけるスパークプラグの一部を拡大して示した断面図である。It is sectional drawing which expanded and showed a part of spark plug in 3rd Embodiment. 第4実施形態におけるスパークプラグの一部を拡大して示した断面図である。It is sectional drawing which expanded and showed a part of spark plug in 4th Embodiment. 第5実施形態におけるスパークプラグの一部を拡大して示した断面図である。It is sectional drawing which expanded and showed a part of spark plug in 5th Embodiment. 比較例におけるスパークプラグの一部を拡大して示した断面図である。It is sectional drawing which expanded and showed a part of spark plug in the comparative example.

以下、本発明の好ましい実施形態について添付図面を参照して説明する。図1は第1実施の形態におけるスパークプラグ10の軸線Oを境にした片側断面図である。図1では、紙面下側をスパークプラグ10の先端側、紙面上側をスパークプラグ10の後端側という(図2から図7においても同じ)。スパークプラグ10は、絶縁体11、中心電極14及び端子金具15を備えている。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a half sectional view with an axis O of a spark plug 10 according to the first embodiment as a boundary. In FIG. 1, the lower side of the paper surface is referred to as the front end side of the spark plug 10, and the upper side of the paper surface is referred to as the rear end side of the spark plug 10 (the same applies to FIGS. 2 to 7). The spark plug 10 includes an insulator 11, a center electrode 14, and a terminal fitting 15.

絶縁体11は、機械的特性や高温下の絶縁性に優れるアルミナ等のセラミック製の部材であり、軸線Oに沿って貫通する軸孔が形成されている。本実施の形態では、軸孔が貫通して形成される絶縁体11の内周面12は、軸線Oと直交する断面の形状が円形である。絶縁体11の内周面12には、先端に向かって内径が次第に小さくなる後端向き面13が先端側に設けられている。   The insulator 11 is a ceramic member such as alumina that is excellent in mechanical properties and insulation at high temperatures, and has a shaft hole penetrating along the axis O. In the present embodiment, the inner peripheral surface 12 of the insulator 11 formed through the shaft hole has a circular cross-sectional shape orthogonal to the axis O. The inner peripheral surface 12 of the insulator 11 is provided with a rear end-facing surface 13 on the front end side, the inner diameter of which gradually decreases toward the front end.

中心電極14は、軸線Oに沿って延びる棒状の部材であり、銅または銅を主成分とする芯材がニッケル又はニッケル基合金で覆われている。中心電極14は、絶縁体11の後端向き面13に係止され、先端が絶縁体11から露出する。中心電極14は芯材を省略しても良い。   The center electrode 14 is a rod-shaped member extending along the axis O, and copper or a core material mainly composed of copper is covered with nickel or a nickel-based alloy. The center electrode 14 is locked to the rear end facing surface 13 of the insulator 11, and the tip is exposed from the insulator 11. The center electrode 14 may omit the core material.

端子金具15は、高圧ケーブル(図示せず)が接続される棒状の部材であり、導電性を有する金属材料(例えば低炭素鋼等)によって形成されている。端子金具15は、先端側が軸孔に挿入された状態で、絶縁体11の後端に固定されている。   The terminal fitting 15 is a rod-like member to which a high voltage cable (not shown) is connected, and is formed of a conductive metal material (for example, low carbon steel). The terminal fitting 15 is fixed to the rear end of the insulator 11 with the tip end inserted into the shaft hole.

絶縁体11の先端側の外周に主体金具16が加締め固定されている。主体金具16は、導電性を有する金属材料(例えば低炭素鋼等)によって形成された略円筒状の部材である。主体金具16は、径方向の外側へ鍔状に張り出す座部17と、座部17よりも先端側の外周面に形成されたねじ部18とを備えている。主体金具16は、内燃機関(シリンダヘッド)のねじ穴(図示せず)にねじ部18を締結して固定される。   A metal shell 16 is caulked and fixed to the outer periphery on the distal end side of the insulator 11. The metal shell 16 is a substantially cylindrical member formed of a conductive metal material (for example, low carbon steel). The metal shell 16 includes a seat portion 17 that projects in a bowl shape outward in the radial direction, and a screw portion 18 that is formed on the outer peripheral surface on the tip side of the seat portion 17. The metal shell 16 is fixed by fastening a screw portion 18 to a screw hole (not shown) of the internal combustion engine (cylinder head).

接地電極19は、主体金具16の先端に接合される金属製(例えばニッケル基合金製)の部材である。本実施の形態では、接地電極19は棒状に形成されており、先端側が屈曲し中心電極14と対向する。接地電極19は、中心電極14との間に火花ギャップを形成する。   The ground electrode 19 is a metal (for example, nickel-base alloy) member joined to the tip of the metal shell 16. In the present embodiment, the ground electrode 19 is formed in a rod shape, the tip side is bent and faces the center electrode 14. The ground electrode 19 forms a spark gap with the center electrode 14.

導電体20は、放電時に発生する電波ノイズを抑えるための部材であり、絶縁体11の内周面12の内側の中心電極14と端子金具15との間に配置されている。導電体20は、中心電極14と導電体20との間に配置された第1導電性ガラス24を介して、中心電極14と電気的に接続される。本実施の形態では、導電体20は円柱状に形成されている。また、端子金具15と導電体20との間に配置された第2導電性ガラス25を介して、導電体20は端子金具15と電気的に接続されている。   The conductor 20 is a member for suppressing radio noise generated during discharge, and is disposed between the center electrode 14 on the inner peripheral surface 12 of the insulator 11 and the terminal fitting 15. The conductor 20 is electrically connected to the center electrode 14 via the first conductive glass 24 disposed between the center electrode 14 and the conductor 20. In the present embodiment, the conductor 20 is formed in a cylindrical shape. The conductor 20 is electrically connected to the terminal fitting 15 via the second conductive glass 25 disposed between the terminal fitting 15 and the conductor 20.

図2は図1の一部(導電体20の付近)を拡大して示したスパークプラグ10の軸線Oを含む断面図である。図2は導電体20の軸線方向の中間部分の図示が省略されている(図3から図7においても同じ)。   FIG. 2 is a cross-sectional view including an axis O of the spark plug 10 showing a part of FIG. 1 (in the vicinity of the conductor 20) in an enlarged manner. In FIG. 2, the illustration of the intermediate portion in the axial direction of the conductor 20 is omitted (the same applies to FIGS. 3 to 7).

図2に示すように導電体20は、主相21、主相21の先端側に接触する第1相22、主相21の後端側に接触する第2相23を備えている。主相21、第1相22及び第2相23は、それぞれ導電性酸化物の焼結体からなる。導電体20は、焼成によって主相21、第1相22及び第2相23を一体化した単一物が好ましいが、主相21、第1相22及び第2相23の各焼結体を互いに接触させた集合物でも良い。本実施形態の導電体20は、焼成によって主相21、第1相22及び第2相23が一体化された焼結体である。   As shown in FIG. 2, the conductor 20 includes a main phase 21, a first phase 22 that contacts the front end side of the main phase 21, and a second phase 23 that contacts the rear end side of the main phase 21. The main phase 21, the first phase 22, and the second phase 23 are each made of a sintered body of conductive oxide. The conductor 20 is preferably a single body in which the main phase 21, the first phase 22 and the second phase 23 are integrated by firing, but the sintered bodies of the main phase 21, the first phase 22 and the second phase 23 are made of each. Aggregates in contact with each other may be used. The conductor 20 of the present embodiment is a sintered body in which the main phase 21, the first phase 22, and the second phase 23 are integrated by firing.

導電体20としては、抵抗体や磁性体などが挙げられる。抵抗体は、放電電流のうち電波ノイズの原因となる周波数帯の成分を吸収する。磁性体は、フェライトのインピーダンスや磁気損失等によって、放電電流のうち電波ノイズの原因となる周波数帯の成分を遮断または吸収する。磁性体を構成する導電性酸化物としては、例えばMn−Znフェライトが挙げられる。   Examples of the conductor 20 include a resistor and a magnetic material. The resistor absorbs a component in a frequency band that causes radio noise in the discharge current. The magnetic body blocks or absorbs a component of the frequency band that causes radio noise in the discharge current due to the impedance, magnetic loss, etc. of the ferrite. Examples of the conductive oxide constituting the magnetic material include Mn—Zn ferrite.

抵抗体を構成する導電性酸化物としては、例えばMn,Co,Ni,Fe,Cr等の酸化物を配合して焼成された半導性の焼結体、一般式A2−XCuOで表される複合酸化物や一般式CDOで表される複合酸化物を含有する焼結体等が挙げられる。一般式の元素A及び元素Cは、IUPAC1990年勧告に基づく周期表の第3族元素から選択される1種または2種以上である。元素BはIUPAC1990年勧告に基づく周期表の第2族元素から選ばれたCa,Sr及びBaから選択される少なくとも1種または2種以上である。元素Dは遷移元素の1種または2種以上である。添え字xは0≦x<2を満たす。なお、添え字x=0は元素Bが含まれていないことを示す。 As the conductive oxide constituting the resistor, for example, a semiconductive sintered body obtained by blending and firing oxides such as Mn, Co, Ni, Fe, and Cr, a general formula A 2 -X B X CuO 4 or a sintered body containing the composite oxide represented by the general formula CDO 3 . Element A and element C in the general formula are one or more selected from Group 3 elements in the periodic table based on the IUPAC 1990 recommendation. The element B is at least one selected from Ca, Sr and Ba selected from Group 2 elements of the periodic table based on the IUPAC 1990 recommendation. Element D is one or more of transition elements. The subscript x satisfies 0 ≦ x <2. The subscript x = 0 indicates that the element B is not included.

元素A及び元素Cとしては、La,Ce,Pr,Nd,Pm,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm及びYb等のランタノイド、Ac等のアクチノイド、Sc及びYが挙げられる。特に、元素AはLa,Ce,Pr,Nd,Sm,Gd,Y及びYbから選択される少なくとも1種が好ましく、La,Ce,Nd及びGdから選択される少なくとも1種がより好ましい。元素Cの一部をCa,Sr及びBa等の他の元素に置換できる。元素Dとしては、Cr,Mn,Fe,Ni,Al等が挙げられる。   Examples of the elements A and C include lanthanoids such as La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, and Yb, actinoids such as Ac, and Sc and Y. . In particular, the element A is preferably at least one selected from La, Ce, Pr, Nd, Sm, Gd, Y and Yb, more preferably at least one selected from La, Ce, Nd and Gd. Part of the element C can be replaced with other elements such as Ca, Sr and Ba. Examples of the element D include Cr, Mn, Fe, Ni, and Al.

一般式A2−XCuOで表される複合酸化物としては、例えばLaCuO,YBaCu,La1.85Ba0.15CuO等が挙げられる。一般式CDOで表される複合酸化物としては、YCrO,YMnO,La(Fe0.5Ni0.5)O,(Nd0.7Ca0.3)(Mn0.4Al0.6)O等が挙げられる。 As the composite oxide represented by the general formula A 2-X B X CuO 4 , for example, La 2 CuO 4, YBa 2 Cu 3 O 7, La 1.85 Ba 0.15 CuO 4 , and the like. The composite oxide represented by the general formula CDO 3 includes YCrO 3 , YMnO 3 , La (Fe 0.5 Ni 0.5 ) O 3 , (Nd 0.7 Ca 0.3 ) (Mn 0.4 Al 0.6 ) O 3 and the like.

導電体20は、抵抗値を調整するため、この導電性酸化物よりも体積抵抗率が高い物質を含有できる。この物質(絶縁粉末)としては、例えばAl,Y,ZrO,ムライト、ステアタイト等の金属酸化物、Si等の金属窒化物、B−SiO系、BaO−B系、SiO−B−CaO−BaO系、SiO−ZnO−B系、SiO−B−LiO系およびSiO−B−LiO−BaO系等のガラスが挙げられる。これらの物質は1種のみを用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 The conductor 20 can contain a substance having a volume resistivity higher than that of the conductive oxide in order to adjust the resistance value. Examples of this substance (insulating powder) include metal oxides such as Al 2 O 3 , Y 2 O 3 , ZrO 2 , mullite and steatite, metal nitrides such as Si 3 N 4 , and B 2 O 3 —SiO 2. , BaO—B 2 O 3 system, SiO 2 —B 2 O 3 —CaO—BaO system, SiO 2 —ZnO—B 2 O 3 system, SiO 2 —B 2 O 3 —Li 2 O system and SiO 2 — Examples thereof include B 2 O 3 —Li 2 O—BaO-based glasses. These substances may be used alone or in combination of two or more.

抵抗体としての導電体20の抵抗値は、例えば0.1kΩ〜30kΩであることが好ましく、1kΩ〜20kΩであることがさらに好ましい。第1相22及び第2相23の20℃における体積抵抗率は、主相21の20℃における堆積抵抗率よりも低く設定される。好ましくは、第1相22の20℃における体積抵抗率および第2相23の20℃における体積抵抗率は1.0×10−1Ω・m以下に設定される。 The resistance value of the conductor 20 as the resistor is, for example, preferably 0.1 kΩ to 30 kΩ, and more preferably 1 kΩ to 20 kΩ. The volume resistivity at 20 ° C. of the first phase 22 and the second phase 23 is set lower than the deposition resistivity at 20 ° C. of the main phase 21. Preferably, the volume resistivity at 20 ° C. of the first phase 22 and the volume resistivity at 20 ° C. of the second phase 23 are set to 1.0 × 10 −1 Ω · m or less.

導電体20は、例えば主相21、第1相22及び第2相23毎に秤量された出発原料を混合し各々を仮焼成した後、仮焼成後の粉末を粉砕し、必要に応じて絶縁性の物質(絶縁粉末)を混合した後、第1相22、主相21、第2相23の順に各原料粉末を重ねて成形・焼成して得られる焼結体である。焼結体は、必要に応じて外形加工が施される。   The conductor 20 is prepared by, for example, mixing starting materials weighed for each of the main phase 21, the first phase 22 and the second phase 23 and pre-baking each, and then pulverizing the pre-fired powder and insulating if necessary. This is a sintered body obtained by mixing and forming and firing the raw material powders in the order of the first phase 22, the main phase 21, and the second phase 23 after mixing the active material (insulating powder). The sintered body is subjected to external processing as necessary.

導電体20の別の製造方法としては、例えば主相21の原料粉末を成形・焼成して焼結体を得た後、必要に応じて外形加工を施す。次いで、主相21の焼結体の片方の端面に第1相22の原料粉末を含むペーストを塗布し、もう片方の端面に第2相23の原料粉末を含むペーストを塗布し、焼き付ける方法が挙げられる。   As another method for manufacturing the conductor 20, for example, the raw material powder of the main phase 21 is molded and fired to obtain a sintered body, and then an outer shape process is performed as necessary. Then, a paste containing the raw material powder of the first phase 22 is applied to one end face of the sintered body of the main phase 21, and a paste containing the raw material powder of the second phase 23 is applied to the other end face, followed by baking. Can be mentioned.

第1導電性ガラス24及び第2導電性ガラス25は、絶縁性のガラス粉末および金属粉末を含む混合物を焼成したものが用いられる。第1導電性ガラス24及び第2導電性ガラス25に含まれるガラスは、B−SiO系、BaO−B系、SiO−B−CaO−BaO系、SiO−ZnO−B系、SiO−B−LiO系およびSiO−B−LiO−BaO系等が挙げられる。 As the first conductive glass 24 and the second conductive glass 25, those obtained by firing a mixture containing insulating glass powder and metal powder are used. Glasses included in the first conductive glass 24 and the second conductive glass 25 are B 2 O 3 —SiO 2 type, BaO—B 2 O 3 type, SiO 2 —B 2 O 3 —CaO—BaO type, SiO 2 2- ZnO—B 2 O 3 system, SiO 2 —B 2 O 3 —Li 2 O system, SiO 2 —B 2 O 3 —Li 2 O—BaO system, and the like can be given.

第1導電性ガラス24及び第2導電性ガラス25に含まれる金属は、例えばZn,Sb,Sn,Ag,Ni,Fe及びCuが挙げられる。第1導電性ガラス24及び第2導電性ガラス25は、無定形カーボン(カーボンブラック)、グラファイト、SiC,TiC,TiN,WC及びZrC等の導電材料、ZnO,TiO等の半導性の無機化合物粉末、絶縁性粉末等を含有しても良い。 Examples of the metal contained in the first conductive glass 24 and the second conductive glass 25 include Zn, Sb, Sn, Ag, Ni, Fe, and Cu. The first conductive glass 24 and the second conductive glass 25 are made of conductive materials such as amorphous carbon (carbon black), graphite, SiC, TiC, TiN, WC and ZrC, and semiconductive inorganic materials such as ZnO and TiO 2. You may contain a compound powder, insulating powder, etc.

導電体20の側面20cと絶縁体11の内周面12との間に絶縁性ガラス26が配置されている。絶縁性ガラス26は、第1導電性ガラス24と第2導電性ガラス25との間に介在する。絶縁性ガラス26の体積抵抗率は、導電体20の体積抵抗率よりも高いので、絶縁性ガラス26を介して第1導電性ガラス24と第2導電性ガラス25との間が短絡しないようにできる。導電体20と絶縁体11との間に絶縁性ガラス26が介在することにより、振動によって導電体20が破損しないようにできる。   An insulating glass 26 is disposed between the side surface 20 c of the conductor 20 and the inner peripheral surface 12 of the insulator 11. The insulating glass 26 is interposed between the first conductive glass 24 and the second conductive glass 25. Since the volume resistivity of the insulating glass 26 is higher than the volume resistivity of the conductor 20, the first conductive glass 24 and the second conductive glass 25 are not short-circuited via the insulating glass 26. it can. By interposing the insulating glass 26 between the conductor 20 and the insulator 11, the conductor 20 can be prevented from being damaged by vibration.

絶縁性ガラス26の材料としては、融点が絶縁体11の融点よりも低いもの、例えばB−SiO系、BaO−B系、SiO−B−CaO−BaO系、SiO−ZnO−B系、SiO−B−LiO系およびSiO−B−LiO−BaO系などが挙げられる。これらは1種のみを用いても良いし、2種以上を併用しても良い。絶縁性ガラス26は、アルミナ、窒化ケイ素、ムライト及びステアタイト等の無機化合物を含有しても良い。 Examples of the material of the insulating glass 26 include those having a melting point lower than that of the insulator 11, such as B 2 O 3 —SiO 2 type, BaO—B 2 O 3 type, SiO 2 —B 2 O 3 —CaO—BaO. System, SiO 2 —ZnO—B 2 O 3 system, SiO 2 —B 2 O 3 —Li 2 O system, and SiO 2 —B 2 O 3 —Li 2 O—BaO system. These may use only 1 type and may use 2 or more types together. The insulating glass 26 may contain an inorganic compound such as alumina, silicon nitride, mullite, and steatite.

スパークプラグ10は、導電体20の軸線方向の先端側の端面20a(第1相22)に第1導電性ガラス24が接触し、導電体20の後端側の端面20b(第2相23)に第2導電性ガラス25が接触する。第1相22は主相21と第1導電性ガラス24とを離間し、第2相23は主相21と第2導電性ガラス25とを離間する。第1相22の軸線方向の厚さT1の最小値および第2相23の軸線方向の厚さT2の最小値は、それぞれ5μm以上である。厚さT1,T2の最大値は5mm以下である。厚さT1,T2は、SEM等の顕微鏡を用いてスパークプラグ10の軸線Oを含む断面を観察して、最も薄い部分の厚さ(最小値)及び最も厚い部分の厚さ(最大値)が測定される。   In the spark plug 10, the first conductive glass 24 is in contact with the end surface 20 a (first phase 22) in the axial direction of the conductor 20, and the end surface 20 b (second phase 23) on the rear end side of the conductor 20. The second conductive glass 25 comes into contact. The first phase 22 separates the main phase 21 and the first conductive glass 24, and the second phase 23 separates the main phase 21 and the second conductive glass 25. The minimum value of the thickness T1 in the axial direction of the first phase 22 and the minimum value of the thickness T2 in the axial direction of the second phase 23 are each 5 μm or more. The maximum value of the thicknesses T1 and T2 is 5 mm or less. The thicknesses T1 and T2 are obtained by observing a cross section including the axis O of the spark plug 10 using a microscope such as SEM, and the thickness of the thinnest part (minimum value) and the thickness of the thickest part (maximum value). Measured.

具体的には、スパークプラグ10の軸線Oを交線とするような略垂直に交わる2つの仮想平面に沿ってスパークプラグ10を4分割し、得られる断面をSEM等の顕微鏡で観察する。上述の方法で製造される第1相22及び第2相23は、厚さをほぼ均一にできる。従って、断面で観測される第1相22及び第2相23の厚さの最小値および最大値は、厚さT1,T2の最小値および最大値と推定される。   Specifically, the spark plug 10 is divided into four along two virtual planes that intersect substantially perpendicularly such that the axis O of the spark plug 10 intersects, and the obtained cross section is observed with a microscope such as SEM. The first phase 22 and the second phase 23 manufactured by the above-described method can have a substantially uniform thickness. Therefore, the minimum value and the maximum value of the thickness of the first phase 22 and the second phase 23 observed in the cross section are estimated as the minimum value and the maximum value of the thicknesses T1 and T2.

スパークプラグ10は、例えば以下のような方法によって製造される。まず、絶縁体11の軸孔に中心電極14を挿入し、中心電極14を後端向き面13で係止する。次に、第1導電性ガラス24の原料粉末を軸孔から入れて、中心電極14の周りに充填する。圧縮用棒材(図示せず)を用いて、中心電極14の周りに充填した第1導電性ガラス24の原料粉末を予備圧縮する。   The spark plug 10 is manufactured by the following method, for example. First, the center electrode 14 is inserted into the shaft hole of the insulator 11, and the center electrode 14 is locked by the rear end facing surface 13. Next, the raw material powder of the first conductive glass 24 is put through the shaft hole and filled around the center electrode 14. The raw material powder of the first conductive glass 24 filled around the center electrode 14 is pre-compressed using a compression rod (not shown).

次に、絶縁性ガラス26の材料でできたガラス管の中に導電体20(焼結体)を入れたものを、第1相22を下にして軸孔に挿入し、第1導電性ガラス24の原料粉末の上に置く。次いで、導電体20及びガラス管の上に、第2導電性ガラス25の原料粉末をペレット状に成形した成形体を置く。絶縁体11を炉内に移送し、例えば第1導電性ガラス24及び第2導電性ガラス25の原料粉末や絶縁性ガラス26の材料に含まれるガラス成分の軟化点より高い温度まで加熱する。   Next, a glass tube made of the material of the insulating glass 26 with the conductor 20 (sintered body) placed therein is inserted into the shaft hole with the first phase 22 facing down, and the first conductive glass Place on 24 raw powders. Next, a molded body in which the raw material powder of the second conductive glass 25 is formed into a pellet shape is placed on the conductor 20 and the glass tube. The insulator 11 is transferred into the furnace and heated to a temperature higher than the softening point of the glass component contained in the raw material powder of the first conductive glass 24 and the second conductive glass 25 and the material of the insulating glass 26, for example.

加熱後、絶縁体11の軸孔に端子金具15を挿入し、端子金具15の先端によって第1導電性ガラス24及び第2導電性ガラス25の原料粉末および絶縁性ガラス26の材料を軸方向へ圧縮する。この結果、それらが圧縮・焼結され、絶縁体11の内部に第1導電性ガラス24、導電体20、絶縁性ガラス26及び第2導電性ガラス25が一体化される。   After the heating, the terminal fitting 15 is inserted into the shaft hole of the insulator 11, and the raw material powder of the first conductive glass 24 and the second conductive glass 25 and the material of the insulating glass 26 are axially moved by the tip of the terminal fitting 15. Compress. As a result, they are compressed and sintered, and the first conductive glass 24, the conductor 20, the insulating glass 26, and the second conductive glass 25 are integrated into the insulator 11.

次に絶縁体11を炉外へ移送し、絶縁体11の外周に主体金具16を組み付ける。接地電極19を主体金具16に接合した後、接地電極19の先端が中心電極14と対向するように接地電極19を屈曲して、スパークプラグ10を得る。   Next, the insulator 11 is transferred to the outside of the furnace, and the metal shell 16 is assembled to the outer periphery of the insulator 11. After joining the ground electrode 19 to the metal shell 16, the ground electrode 19 is bent so that the tip of the ground electrode 19 faces the center electrode 14 to obtain the spark plug 10.

この製造方法において、導電体20を入れたガラス管を軸孔に挿入する代わりに、導電体20(焼結体)を軸孔に入れた後、導電体20の周りに絶縁性ガラス26の原料粉末を充填することは当然可能である。さらに、第2導電性ガラス25の原料粉末の成形体を軸孔に挿入する代わりに、第2導電性ガラス25の原料粉末を軸孔に充填することは当然可能である。   In this manufacturing method, instead of inserting the glass tube containing the conductor 20 into the shaft hole, the conductor 20 (sintered body) is put into the shaft hole, and then the raw material of the insulating glass 26 around the conductor 20. It is of course possible to fill with powder. Furthermore, instead of inserting the compact of the raw material powder of the second conductive glass 25 into the shaft hole, it is naturally possible to fill the raw material powder of the second conductive glass 25 into the shaft hole.

スパークプラグ10によれば、導電性酸化物からなる主相21は、導電性酸化物からなる第1相22及び第2相23に接触し、第1導電性ガラス24及び第2導電性ガラス25と離間する。第1相22及び第2相23の体積抵抗率は主相21の体積抵抗率よりも低い。これにより、第1相22の体積抵抗率と、第1相22に接する第1導電性ガラス24に含まれる金属の体積抵抗率との差を小さくできる。第2相23の体積抵抗率と、第2相23に接する第2導電性ガラス25に含まれる金属の体積抵抗率との差を小さくできる。第1導電性ガラス24に含まれる金属と第1相22との間、第2導電性ガラス25に含まれる金属と第2相23との間で、それぞれオーミック接触またはオーミック接触に近い接触を実現できる。   According to the spark plug 10, the main phase 21 made of a conductive oxide is in contact with the first phase 22 and the second phase 23 made of a conductive oxide, and the first conductive glass 24 and the second conductive glass 25. And away. The volume resistivity of the first phase 22 and the second phase 23 is lower than the volume resistivity of the main phase 21. Thereby, the difference between the volume resistivity of the first phase 22 and the volume resistivity of the metal contained in the first conductive glass 24 in contact with the first phase 22 can be reduced. The difference between the volume resistivity of the second phase 23 and the volume resistivity of the metal contained in the second conductive glass 25 in contact with the second phase 23 can be reduced. Achieves ohmic contact or contact close to ohmic contact between the metal contained in the first conductive glass 24 and the first phase 22 and between the metal contained in the second conductive glass 25 and the second phase 23, respectively. it can.

これにより、第1相22と第1導電性ガラス24との間の接触抵抗、及び、第2相23と第2導電性ガラス25との間の接触抵抗を低減できる。よって、放電時にこれらの界面に電界が集中するのを緩和できる。さらに、主相21、第1相22及び第2相23はそれぞれ導電性酸化物の焼結体からなるので、酸化による劣化を防止できる。その結果、スパークプラグ10の耐久性を向上できる。なお、主相21によって導電体20に必要な特性は確保できる。   Thereby, the contact resistance between the 1st phase 22 and the 1st conductive glass 24 and the contact resistance between the 2nd phase 23 and the 2nd conductive glass 25 can be reduced. Therefore, it is possible to reduce the concentration of the electric field at these interfaces during discharge. Furthermore, since the main phase 21, the first phase 22 and the second phase 23 are each made of a sintered body of a conductive oxide, deterioration due to oxidation can be prevented. As a result, the durability of the spark plug 10 can be improved. The main phase 21 can ensure the necessary characteristics for the conductor 20.

導電性ガラスに含まれる金属と導電体20に含まれる導電性酸化物との関係によるが、第1導電性ガラス24と第1相22との界面や第2導電性ガラス25と第2相23との界面のショットキー障壁が高くなることがある。しかし、第1相22の20℃における体積抵抗率および第2相23の20℃における体積抵抗率が1.0×10−1Ω・m以下なので、ショットキー障壁ができても空乏層幅を小さくすることができ、界面に電流を流れ易くできる。これにより、第1導電性ガラス24と第1相22との間、及び、第2導電性ガラス25と第2相23との間の接触抵抗をさらに低減し、これらの界面の電界集中を抑制し易くできる。 Depending on the relationship between the metal contained in the conductive glass and the conductive oxide contained in the conductor 20, the interface between the first conductive glass 24 and the first phase 22 or the second conductive glass 25 and the second phase 23. May increase the Schottky barrier at the interface. However, since the volume resistivity at 20 ° C. of the first phase 22 and the volume resistivity at 20 ° C. of the second phase 23 are 1.0 × 10 −1 Ω · m or less, the depletion layer width is reduced even if a Schottky barrier is formed. It can be made small, and current can easily flow through the interface. Thereby, the contact resistance between the first conductive glass 24 and the first phase 22 and between the second conductive glass 25 and the second phase 23 is further reduced, and the electric field concentration at these interfaces is suppressed. Easy to do.

第1相22及び第2相23の厚さT1,T2の最小値は5μm以上なので、焼結に伴う物質移動が生じても、第1相22及び第2相23の特性をそれぞれ確保し易くできる。その結果、第1相22及び第2相23による接触抵抗の低減効果を発現し易くできる。また、厚さT1,T2の最大値は5mm以下なので、相対的に主相21を長くすることができる。その結果、電波ノイズを抑制するための主相21の電気特性を発現し易くできる。   Since the minimum values of the thicknesses T1 and T2 of the first phase 22 and the second phase 23 are 5 μm or more, it is easy to secure the characteristics of the first phase 22 and the second phase 23, respectively, even if mass transfer occurs during sintering. it can. As a result, the effect of reducing the contact resistance by the first phase 22 and the second phase 23 can be easily developed. Moreover, since the maximum value of thickness T1, T2 is 5 mm or less, the main phase 21 can be lengthened relatively. As a result, the electrical characteristics of the main phase 21 for suppressing radio noise can be easily developed.

図3を参照して第2実施の形態について説明する。第1実施形態では、導電体20の第1相22が第1導電性ガラス24に接触し、第2相23が第2導電性ガラス25に接触する場合について説明した。これに対し第2実施形態では、第1相22と第1導電性ガラス31との間に第1緩衝層33が介在し、第2相23と第2導電性ガラス32との間に第2緩衝層34が介在する場合について説明する。なお、第1実施形態で説明した部分と同一の部分については、同一の符号を付して以下の説明を省略する。図3は第2実施形態におけるスパークプラグ30の一部(導電体20の付近)を拡大して示した軸線Oを含む断面図である。スパークプラグ30は、第1実施形態のスパークプラグ10の一部を図3に示す部分に代えたものである。   A second embodiment will be described with reference to FIG. In the first embodiment, the case where the first phase 22 of the conductor 20 is in contact with the first conductive glass 24 and the second phase 23 is in contact with the second conductive glass 25 has been described. In contrast, in the second embodiment, the first buffer layer 33 is interposed between the first phase 22 and the first conductive glass 31, and the second phase 23 is interposed between the second conductive glass 32 and the second phase. A case where the buffer layer 34 is interposed will be described. In addition, about the part same as the part demonstrated in 1st Embodiment, the same code | symbol is attached | subjected and the following description is abbreviate | omitted. FIG. 3 is a cross-sectional view including an axis O showing an enlarged part of the spark plug 30 (in the vicinity of the conductor 20) in the second embodiment. The spark plug 30 is obtained by replacing a part of the spark plug 10 of the first embodiment with the portion shown in FIG.

スパークプラグ30は、導電体20の先端側の端面20aと第1導電性ガラス31との間に第1緩衝層33が配置されている。第1緩衝層33は、第1導電性ガラス31と第1相22とに接触する。第1緩衝層33によって導電体20と第1導電性ガラス31とは離間する。また、導電体20の後端側の端面20bと第2導電性ガラス32との間に第2緩衝層34が配置されている。第2緩衝層34は第2相23と第2導電性ガラス32とに接触する。第2緩衝層34によって導電体20と第2導電性ガラス32とは離間する。なお、本実施形態では、第1緩衝層33及び第2緩衝層34は、絶縁体11の内周面12にも接触している。   In the spark plug 30, the first buffer layer 33 is disposed between the end surface 20 a on the front end side of the conductor 20 and the first conductive glass 31. The first buffer layer 33 is in contact with the first conductive glass 31 and the first phase 22. The first buffer layer 33 separates the conductor 20 and the first conductive glass 31 from each other. A second buffer layer 34 is disposed between the end surface 20 b on the rear end side of the conductor 20 and the second conductive glass 32. The second buffer layer 34 is in contact with the second phase 23 and the second conductive glass 32. The conductor 20 and the second conductive glass 32 are separated by the second buffer layer 34. In the present embodiment, the first buffer layer 33 and the second buffer layer 34 are also in contact with the inner peripheral surface 12 of the insulator 11.

絶縁体11の内周面12と導電体20の側面20cとの間に絶縁性ガラス35が配置されている。第1緩衝層33及び第2緩衝層34によって第1導電性ガラス31及び第2導電性ガラス32は絶縁性ガラス35と離間する。   An insulating glass 35 is disposed between the inner peripheral surface 12 of the insulator 11 and the side surface 20 c of the conductor 20. The first conductive glass 31 and the second conductive glass 32 are separated from the insulating glass 35 by the first buffer layer 33 and the second buffer layer 34.

第1緩衝層33及び第2緩衝層34は、金属と導電性酸化物とを含む混合物または金属からなる。第1緩衝層33や第2緩衝層34に含まれる金属としては、例えばCu,Ni,Co,Pt,Rh,Pd等が挙げられる。第1緩衝層33や第2緩衝層34に含まれる導電性酸化物としては、導電体20に含まれる導電性酸化物と同じものが例示される。   The first buffer layer 33 and the second buffer layer 34 are made of a mixture or metal containing a metal and a conductive oxide. Examples of the metal contained in the first buffer layer 33 and the second buffer layer 34 include Cu, Ni, Co, Pt, Rh, and Pd. Examples of the conductive oxide contained in the first buffer layer 33 and the second buffer layer 34 are the same as the conductive oxide contained in the conductor 20.

第1緩衝層33や第2緩衝層34は、本実施形態では、金属からなる板材を用いて形成される。しかし、これに限られるものではない。例えば第1緩衝層33や第2緩衝層34は、金属と導電性酸化物とを含む混合物からなる板材、金属粉末と導電性酸化物の粉末とを含む混合物の堆積物、金属粉末の堆積物などから適宜形成できる。   In the present embodiment, the first buffer layer 33 and the second buffer layer 34 are formed using a plate material made of metal. However, it is not limited to this. For example, the first buffer layer 33 and the second buffer layer 34 are a plate made of a mixture containing a metal and a conductive oxide, a deposit of a mixture containing a metal powder and a conductive oxide powder, and a deposit of a metal powder. It can form suitably from these.

本実施形態では、軸線Oを含む断面において、第1導電性ガラス31と第1緩衝層33との界面36の軸線Oに直交する方向の長さL1、及び、第2導電性ガラス32と第2緩衝層34との界面37の軸線Oに直交する方向の長さL3は、導電体20の端面20a,20bの軸線Oの直交する方向の長さL2,L4よりも長い。   In the present embodiment, in the cross section including the axis O, the length L1 in the direction orthogonal to the axis O of the interface 36 between the first conductive glass 31 and the first buffer layer 33, and the second conductive glass 32 and the first The length L3 in the direction perpendicular to the axis O of the interface 37 with the two buffer layers 34 is longer than the lengths L2 and L4 in the direction perpendicular to the axis O of the end faces 20a and 20b of the conductor 20.

スパークプラグ30は、例えば第1実施形態で説明した方法と同様に製造される。但し、第1導電性ガラス31の原料粉末の上に、第1緩衝層33を形成するための金属製の板材を配置する。また、導電体20及びガラス管の上に、第2緩衝層34を形成するための金属製の板材を置いた後、その上に、第2導電性ガラス32の原料粉末をペレット状に成形した成形体を置く。なお、金属粉末等の堆積物によって第1緩衝層33や第2緩衝層34を形成する場合には、板材を軸孔に配置するのに代えて、第1導電性ガラス31や第2導電性ガラス32と同様に、それらの原料粉末を軸孔に充填したり原料粉末の成形体を軸孔に挿入したりする。   For example, the spark plug 30 is manufactured in the same manner as the method described in the first embodiment. However, a metal plate material for forming the first buffer layer 33 is disposed on the raw material powder of the first conductive glass 31. Further, after placing a metal plate for forming the second buffer layer 34 on the conductor 20 and the glass tube, the raw material powder of the second conductive glass 32 was formed into a pellet shape thereon. Place the compact. In addition, when forming the 1st buffer layer 33 and the 2nd buffer layer 34 with deposits, such as a metal powder, it replaces with arrange | positioning a board | plate material to a shaft hole, and the 1st conductive glass 31 and a 2nd conductive layer. Similar to the glass 32, these raw material powders are filled into the shaft holes, or a compact of the raw material powders is inserted into the shaft holes.

スパークプラグ30によれば、導電体20の第1相22は第1導電性ガラス31と離間し、第1緩衝層33は第1相22及び第1導電性ガラス31に接触する。また、導電体20の第2相23は第2導電性ガラス32と離間し、第2緩衝層34は第2相23及び第2導電性ガラス32に接触する。そのため、第1導電性ガラス31や第2導電性ガラス32に含まれる金属(粉末や粒子)が第1相22や第2相23に接触する場合に比べ、第1緩衝層33や第2緩衝層34に含まれる導電性物質(金属や導電性酸化物)と第1相22や第2相23との接触面積を大きくできる。第1緩衝層33及び第2緩衝層34はそれぞれ第1導電性ガラス31及び第2導電性ガラス32に接触して導通するが、この導通は第1緩衝層33及び第2緩衝層34に含まれる金属によってもなされる。その結果、第1緩衝層33と第1導電性ガラス31との間、第2緩衝層34と第2導電性ガラス32との間で、それぞれオーミック接触またはオーミック接触に近い接触を実現できる。   According to the spark plug 30, the first phase 22 of the conductor 20 is separated from the first conductive glass 31, and the first buffer layer 33 is in contact with the first phase 22 and the first conductive glass 31. Further, the second phase 23 of the conductor 20 is separated from the second conductive glass 32, and the second buffer layer 34 is in contact with the second phase 23 and the second conductive glass 32. Therefore, compared to the case where the metal (powder or particles) contained in the first conductive glass 31 or the second conductive glass 32 is in contact with the first phase 22 or the second phase 23, the first buffer layer 33 or the second buffer layer. The contact area between the conductive material (metal or conductive oxide) contained in the layer 34 and the first phase 22 or the second phase 23 can be increased. The first buffer layer 33 and the second buffer layer 34 are brought into contact with the first conductive glass 31 and the second conductive glass 32, respectively. The conduction is included in the first buffer layer 33 and the second buffer layer 34. It is also made by metal. As a result, ohmic contact or contact close to ohmic contact can be realized between the first buffer layer 33 and the first conductive glass 31, and between the second buffer layer 34 and the second conductive glass 32, respectively.

これにより、第1緩衝層33と第1相22との間の接触抵抗、第2緩衝層34と第2相23との間の接触抵抗、第1緩衝層33と第1導電性ガラス31との間の接触抵抗、及び、第2緩衝層34と第2導電性ガラス32との間の接触抵抗をさらに低減できる。よって、放電時にこれらの界面に電界が集中するのをさらに緩和できる。その結果、スパークプラグ30の耐久性をさらに向上できる。   Thereby, the contact resistance between the first buffer layer 33 and the first phase 22, the contact resistance between the second buffer layer 34 and the second phase 23, the first buffer layer 33 and the first conductive glass 31 And the contact resistance between the second buffer layer 34 and the second conductive glass 32 can be further reduced. Therefore, it is possible to further alleviate the concentration of the electric field at these interfaces during discharge. As a result, the durability of the spark plug 30 can be further improved.

絶縁体11の内周面12と導電体20の側面20cとの間に絶縁性ガラス35が配置されているので、絶縁体11の内周面12の内側の導電体20の移動を抑制できる。これにより、導電体20の端面20aと第1緩衝層33との接触、及び、導電体20の端面20bと第2緩衝層34との接触を強固にできる。よって、導電体20の端面20aと第1緩衝層33との間の接触抵抗、及び、導電体20の端面20bと第2緩衝層34との間の接触抵抗の振動等による上昇を抑制できる。   Since the insulating glass 35 is disposed between the inner peripheral surface 12 of the insulator 11 and the side surface 20c of the conductor 20, the movement of the conductor 20 inside the inner peripheral surface 12 of the insulator 11 can be suppressed. Thereby, the contact between the end surface 20a of the conductor 20 and the first buffer layer 33 and the contact between the end surface 20b of the conductor 20 and the second buffer layer 34 can be strengthened. Therefore, the contact resistance between the end surface 20a of the conductor 20 and the first buffer layer 33 and the increase due to the vibration of the contact resistance between the end surface 20b of the conductor 20 and the second buffer layer 34 can be suppressed.

なお、図3に示すように、絶縁性ガラス35を導電体20だけでなく第1緩衝層33及び第2緩衝層34に接触させると、これらの一体性を一層高めることができる。これにより、導電体20の端面20aと第1緩衝層33との接触、及び、導電体20の端面20bと第2緩衝層34との接触をさらに強固にできる。   As shown in FIG. 3, when the insulating glass 35 is brought into contact with not only the conductor 20 but also the first buffer layer 33 and the second buffer layer 34, their integrity can be further enhanced. Thereby, the contact between the end surface 20a of the conductor 20 and the first buffer layer 33 and the contact between the end surface 20b of the conductor 20 and the second buffer layer 34 can be further strengthened.

界面36の軸線Oに直交する方向の長さL1及び界面37の軸線Oに直交する方向の長さL3は、導電体20の端面20a,20bの軸線Oに直交する方向の長さL2,L4よりも長いので、第1導電性ガラス31と第1緩衝層33との接触面積(界面36の面積)及び第2導電性ガラス32と第2緩衝層34との接触面積(界面37の面積)を、絶縁体11の内周面12の内側においてより大きくできる。即ち、界面36の軸線Oに直交する方向の長さL1が導電体20の端面20aの軸線Oに直交する方向の長さL2と等しい場合に比べて、界面36の面積を大きくできる。界面37の軸線Oに直交する方向の長さL3が導電体20の端面20bの軸線Oに直交する方向の長さL4と等しい場合に比べて、界面37の面積を大きくできる。その結果、界面36,37の抵抗を低減できるので、界面36,37の電界集中を緩和し、耐久性をさらに向上できる。   The length L1 in the direction perpendicular to the axis O of the interface 36 and the length L3 in the direction perpendicular to the axis O of the interface 37 are the lengths L2 and L4 in the direction perpendicular to the axis O of the end faces 20a and 20b of the conductor 20. The contact area between the first conductive glass 31 and the first buffer layer 33 (area of the interface 36) and the contact area between the second conductive glass 32 and the second buffer layer 34 (area of the interface 37). Can be made larger inside the inner peripheral surface 12 of the insulator 11. That is, the area of the interface 36 can be increased as compared with the case where the length L1 of the interface 36 in the direction orthogonal to the axis O is equal to the length L2 of the end face 20a of the conductor 20 in the direction orthogonal to the axis O. The area of the interface 37 can be increased as compared with the case where the length L3 of the interface 37 in the direction orthogonal to the axis O is equal to the length L4 of the end face 20b of the conductor 20 in the direction orthogonal to the axis O. As a result, since the resistance of the interfaces 36 and 37 can be reduced, electric field concentration at the interfaces 36 and 37 can be relaxed, and the durability can be further improved.

第1緩衝層33は導電体20の先端側のみに配置され、第2緩衝層34は導電体20の後端側のみに配置されるので、第1緩衝層33及び第2緩衝層34は導電体20の側面20cに接触しないで端面20a,20bにそれぞれ接触する。これにより、導電体20の抵抗値を、第1緩衝層33及び第2緩衝層34が接触する導電体20の端面20a,20bの面積、及び、端面20a,20b間の長さに依存させることができる。その結果、第1緩衝層33や第2緩衝層34の一部が主相21の側面20cに回り込んで第1緩衝層33と第2緩衝層34との間の距離にばらつきが生じることによる、導電体20の電気特性のばらつきを抑制できる。   Since the first buffer layer 33 is disposed only on the front end side of the conductor 20, and the second buffer layer 34 is disposed only on the rear end side of the conductor 20, the first buffer layer 33 and the second buffer layer 34 are electrically conductive. The body 20 contacts the end surfaces 20a and 20b without contacting the side surface 20c. Thereby, the resistance value of the conductor 20 is made to depend on the area of the end surfaces 20a and 20b of the conductor 20 that the first buffer layer 33 and the second buffer layer 34 are in contact with, and the length between the end surfaces 20a and 20b. Can do. As a result, a part of the first buffer layer 33 and the second buffer layer 34 wraps around the side surface 20c of the main phase 21 and the distance between the first buffer layer 33 and the second buffer layer 34 varies. The variation in the electrical characteristics of the conductor 20 can be suppressed.

図4を参照して第3実施の形態について説明する。第2実施形態では、第1導電性ガラス31及び第2導電性ガラス32が絶縁性ガラス35と離間する場合について説明した。これに対し第3実施形態では、第1導電性ガラス41及び第2導電性ガラス42が絶縁性ガラス45に接触する場合について説明する。なお、第1実施形態で説明した部分と同一の部分については、同一の符号を付して以下の説明を省略する。図4は第3実施形態におけるスパークプラグ40の一部(導電体20の付近)を拡大して示した軸線Oを含む断面図である。スパークプラグ40は、第1実施形態のスパークプラグ10の一部を図4に示す部分に代えたものである。   A third embodiment will be described with reference to FIG. In the second embodiment, the case where the first conductive glass 31 and the second conductive glass 32 are separated from the insulating glass 35 has been described. On the other hand, 3rd Embodiment demonstrates the case where the 1st conductive glass 41 and the 2nd conductive glass 42 contact the insulating glass 45. FIG. In addition, about the part same as the part demonstrated in 1st Embodiment, the same code | symbol is attached | subjected and the following description is abbreviate | omitted. FIG. 4 is a cross-sectional view including an axis O showing a part of the spark plug 40 (in the vicinity of the conductor 20) in the third embodiment in an enlarged manner. The spark plug 40 is obtained by replacing a part of the spark plug 10 of the first embodiment with the part shown in FIG.

図4に示すようにスパークプラグ40は、導電体20の第1相22に接触する第1緩衝層43が配置されている。導電体20の側面20cと絶縁体11の内周面12との間に絶縁性ガラス45が配置されている。第1導電性ガラス41は第1緩衝層43及び絶縁性ガラス45に接触する。第1緩衝層43によって導電体20と第1導電性ガラス41とは離間する。第2緩衝層44は導電体20の第2相23に接触する。第2導電性ガラス42は第2緩衝層44及び絶縁性ガラス45に接触する。第2緩衝層44によって導電体20と第2導電性ガラス42とは離間する。   As shown in FIG. 4, the spark plug 40 has a first buffer layer 43 that contacts the first phase 22 of the conductor 20. An insulating glass 45 is disposed between the side surface 20 c of the conductor 20 and the inner peripheral surface 12 of the insulator 11. The first conductive glass 41 is in contact with the first buffer layer 43 and the insulating glass 45. The conductor 20 and the first conductive glass 41 are separated by the first buffer layer 43. The second buffer layer 44 contacts the second phase 23 of the conductor 20. The second conductive glass 42 contacts the second buffer layer 44 and the insulating glass 45. The conductor 20 and the second conductive glass 42 are separated by the second buffer layer 44.

第1緩衝層43及び第2緩衝層44は、例えばめっき、焼き付け塗膜、物理蒸着、化学蒸着等によって、導電体20の端面20a,20bに形成される。これらの処理によって導電体20と第1緩衝層43及び第2緩衝層44とが一体化されるので、第1導電性ガラス41等を絶縁体11に一体化するときに、第2実施形態で説明したような、第1緩衝層33や第2緩衝層34を形成するための板材等を導電体20とは別に絶縁体11の軸孔に挿入する作業を省略できる。   The first buffer layer 43 and the second buffer layer 44 are formed on the end surfaces 20a and 20b of the conductor 20 by, for example, plating, baking coating, physical vapor deposition, chemical vapor deposition, or the like. Since the conductor 20 and the first buffer layer 43 and the second buffer layer 44 are integrated by these treatments, when the first conductive glass 41 and the like are integrated with the insulator 11, the second embodiment The work of inserting the plate material or the like for forming the first buffer layer 33 and the second buffer layer 34 into the shaft hole of the insulator 11 separately from the conductor 20 as described can be omitted.

なお、第1導電性ガラス41と絶縁性ガラス45との界面の形状、及び、第2導電性ガラス42と絶縁性ガラス45との界面の形状は、第1導電性ガラス41等を絶縁体11に一体化するときの端子金具15による軸方向の荷重の大きさ、絶縁体11を加熱する温度、絶縁性ガラス45の軸線方向の長さ等によって適宜設定できる。   Note that the shape of the interface between the first conductive glass 41 and the insulating glass 45 and the shape of the interface between the second conductive glass 42 and the insulating glass 45 are the same as those of the first conductive glass 41 and the insulator 11. Can be set as appropriate depending on the magnitude of the axial load caused by the terminal fitting 15 when it is integrated with the metal, the temperature at which the insulator 11 is heated, the length of the insulating glass 45 in the axial direction, and the like.

本実施形態では、軸線Oを含む断面において、第1導電性ガラス41と第1緩衝層43との界面46の軸線Oに直交する方向の長さL1、及び、第2導電性ガラス42と第2緩衝層44との界面47の軸線Oに直交する方向の長さL3は、導電体20の端面20a,20bの軸線Oの直交する方向の長さL2,L4とほぼ等しい。これにより第3実施形態では、第2実施形態で説明したL1=L3>L2=L4による作用効果を除く、第2実施形態と同様の作用効果を実現できる。   In the present embodiment, in the cross section including the axis O, the length L1 in the direction orthogonal to the axis O of the interface 46 between the first conductive glass 41 and the first buffer layer 43, and the second conductive glass 42 and the first The length L3 in the direction orthogonal to the axis O of the interface 47 with the two buffer layers 44 is substantially equal to the lengths L2 and L4 in the direction orthogonal to the axis O of the end faces 20a and 20b of the conductor 20. Thereby, in 3rd Embodiment, the effect similar to 2nd Embodiment except the effect by L1 = L3> L2 = L4 demonstrated in 2nd Embodiment is realizable.

図5を参照して第4実施の形態について説明する。第2実施形態および第3実施形態では、第1緩衝層33,43及び第2緩衝層34,44が導電体20の端面20a,20bに接触し側面20cに接触しない場合について説明した。これに対し第4実施形態では、第1緩衝層53及び第2緩衝層54が、導電体20の端面20a,20b及び側面20cに接触する場合について説明する。なお、第1実施形態で説明した部分と同一の部分については、同一の符号を付して以下の説明を省略する。図5は第4実施形態におけるスパークプラグ50の一部(導電体20の付近)を拡大して示した軸線Oを含む断面図である。スパークプラグ50は、第1実施形態のスパークプラグ10の一部を図5に示す部分に代えたものである。   A fourth embodiment will be described with reference to FIG. In the second embodiment and the third embodiment, the case where the first buffer layers 33 and 43 and the second buffer layers 34 and 44 are in contact with the end surfaces 20a and 20b of the conductor 20 but not the side surface 20c has been described. In contrast, in the fourth embodiment, a case where the first buffer layer 53 and the second buffer layer 54 are in contact with the end surfaces 20a and 20b and the side surface 20c of the conductor 20 will be described. In addition, about the part same as the part demonstrated in 1st Embodiment, the same code | symbol is attached | subjected and the following description is abbreviate | omitted. FIG. 5 is a cross-sectional view including an axis O showing a part of the spark plug 50 (in the vicinity of the conductor 20) in the fourth embodiment in an enlarged manner. The spark plug 50 is obtained by replacing a part of the spark plug 10 of the first embodiment with the part shown in FIG.

図5に示すようにスパークプラグ50は、導電体20の端面20a及び側面20cに接触する第1緩衝層53が配置されている。導電体20の側面20cと絶縁体11の内周面12との間に絶縁性ガラス55が配置されている。第1導電性ガラス51は第1緩衝層53及び絶縁性ガラス55に接触する。第1緩衝層53によって導電体20と第1導電性ガラス51とは離間する。第2緩衝層54は導電体20の端面20b及び側面20cに接触する。第2導電性ガラス52は第2緩衝層54及び絶縁性ガラス55に接触する。第2緩衝層54によって導電体20と第2導電性ガラス52とは離間する。なお、図5では第1緩衝層53及び第2緩衝層54と絶縁体11の内周面12とは離間しているが、これらは接触していても良い。   As shown in FIG. 5, the spark plug 50 includes a first buffer layer 53 that contacts the end surface 20 a and the side surface 20 c of the conductor 20. An insulating glass 55 is disposed between the side surface 20 c of the conductor 20 and the inner peripheral surface 12 of the insulator 11. The first conductive glass 51 contacts the first buffer layer 53 and the insulating glass 55. The conductor 20 and the first conductive glass 51 are separated by the first buffer layer 53. The second buffer layer 54 is in contact with the end surface 20 b and the side surface 20 c of the conductor 20. The second conductive glass 52 is in contact with the second buffer layer 54 and the insulating glass 55. The conductor 20 and the second conductive glass 52 are separated by the second buffer layer 54. In FIG. 5, the first buffer layer 53 and the second buffer layer 54 are separated from the inner peripheral surface 12 of the insulator 11, but they may be in contact with each other.

スパークプラグ50の第1緩衝層53及び第2緩衝層54は、例えばめっき、塗膜の焼き付け、物理蒸着、化学蒸着等によって、導電体20の端面20a,20bに形成される。また、第1緩衝層53及び第2緩衝層54は、金属からなる板材、金属と導電性酸化物とを含む混合物からなる板材等によって形成することもできる。板材を用いて第1緩衝層53及び第2緩衝層54を形成する場合、第1緩衝層53及び第2緩衝層54の縁が屈曲した形状は、第1導電性ガラス51等を絶縁体11に一体化するときの端子金具15による軸方向の荷重の大きさ、絶縁体11を加熱する温度、絶縁性ガラス55の軸線方向の長さ等によって適宜設定できる。   The first buffer layer 53 and the second buffer layer 54 of the spark plug 50 are formed on the end surfaces 20a and 20b of the conductor 20 by plating, coating film baking, physical vapor deposition, chemical vapor deposition, or the like, for example. The first buffer layer 53 and the second buffer layer 54 can also be formed of a plate material made of metal, a plate material made of a mixture containing a metal and a conductive oxide, or the like. When forming the 1st buffer layer 53 and the 2nd buffer layer 54 using a board material, the shape in which the edge of the 1st buffer layer 53 and the 2nd buffer layer 54 bent bent the 1st conductive glass 51 grade | etc., To the insulator 11. Can be set as appropriate depending on the magnitude of the axial load caused by the terminal fitting 15 when it is integrated with the metal, the temperature at which the insulator 11 is heated, the length of the insulating glass 55 in the axial direction, and the like.

本実施形態では、軸線Oを含む断面において、第1導電性ガラス51と第1緩衝層53との界面56の軸線Oに直交する方向の長さL1、及び、第2導電性ガラス52と第2緩衝層54との界面57の軸線Oに直交する方向の長さL3は、導電体20の端面20a,20bの軸線Oの直交する方向の長さL2,L4よりも長い。   In the present embodiment, in the cross section including the axis O, the length L1 in the direction perpendicular to the axis O of the interface 56 between the first conductive glass 51 and the first buffer layer 53, and the second conductive glass 52 and the first The length L3 in the direction perpendicular to the axis O of the interface 57 with the two buffer layers 54 is longer than the lengths L2 and L4 in the direction perpendicular to the axis O of the end faces 20a and 20b of the conductor 20.

第4実施形態では、導電体20の端面20a,20b及び側面20cに第1緩衝層53及び第2緩衝層54が接触するので、緩衝層が導電体20の端面20a,20bのみに接触する場合に比べ、第1緩衝層53と導電体20との接触面積、及び、第2緩衝層54と導電体20との接触面積を大きくできる。これにより、導電体20の側面20cに緩衝層が接触する分だけ、第1緩衝層53と導電体20との界面の抵抗、及び、第2緩衝層54と導電体20との界面の抵抗を低減できる。よって、第1緩衝層53と導電体20との界面、及び、第2緩衝層54と導電体20との界面の電界集中を緩和し、耐久性をさらに向上できる。   In the fourth embodiment, since the first buffer layer 53 and the second buffer layer 54 are in contact with the end surfaces 20a and 20b and the side surface 20c of the conductor 20, the buffer layer is in contact only with the end surfaces 20a and 20b of the conductor 20. As compared with the above, the contact area between the first buffer layer 53 and the conductor 20 and the contact area between the second buffer layer 54 and the conductor 20 can be increased. Thus, the resistance of the interface between the first buffer layer 53 and the conductor 20 and the resistance of the interface between the second buffer layer 54 and the conductor 20 are equivalent to the amount of contact of the buffer layer with the side surface 20c of the conductor 20. Can be reduced. Therefore, the electric field concentration at the interface between the first buffer layer 53 and the conductor 20 and the interface between the second buffer layer 54 and the conductor 20 can be reduced, and the durability can be further improved.

図6を参照して第5実施の形態について説明する。第2実施形態から第4実施形態では、第1導電性ガラス31,41,51及び第2導電性ガラス32,42,52が導電体20と離間する場合について説明した。これに対し第5実施形態では、第1導電性ガラス61及び第2導電性ガラス62は主相21と離間するが、第1導電性ガラス61及び第2導電性ガラス62が第1相22及び第2相23にそれぞれ接触する場合について説明する。なお、第1実施形態で説明した部分と同一の部分については、同一の符号を付して以下の説明を省略する。図6は第5実施形態におけるスパークプラグ60の一部(導電体20の付近)を拡大して示した軸線Oを含む断面図である。スパークプラグ60は、第1実施形態のスパークプラグ10の一部を図6に示す部分に代えたものである。   A fifth embodiment will be described with reference to FIG. In the second to fourth embodiments, the case where the first conductive glasses 31, 41, 51 and the second conductive glasses 32, 42, 52 are separated from the conductor 20 has been described. On the other hand, in the fifth embodiment, the first conductive glass 61 and the second conductive glass 62 are separated from the main phase 21, but the first conductive glass 61 and the second conductive glass 62 are separated from the first phase 22 and The case where it contacts each of the second phase 23 will be described. In addition, about the part same as the part demonstrated in 1st Embodiment, the same code | symbol is attached | subjected and the following description is abbreviate | omitted. FIG. 6 is a cross-sectional view including an axis O showing a part of the spark plug 60 (in the vicinity of the conductor 20) in the fifth embodiment in an enlarged manner. The spark plug 60 is obtained by replacing a part of the spark plug 10 of the first embodiment with the part shown in FIG.

図6に示すようにスパークプラグ60は、導電体20の第1相22に接触する第1緩衝層63が配置されている。導電体20の側面20cと絶縁体11の内周面12との間に絶縁性ガラス65が配置されている。第1導電性ガラス61は第1緩衝層63、第1相22及び絶縁性ガラス65に接触し、主相21と第1導電性ガラス61とは離間する。第2緩衝層64は導電体20の第2相23に接触する。第2導電性ガラス62は第2緩衝層64、第2相23及び絶縁性ガラス65に接触し、主相21と第2導電性ガラス62とは離間する。   As shown in FIG. 6, the first plug layer 63 that contacts the first phase 22 of the conductor 20 is disposed in the spark plug 60. An insulating glass 65 is disposed between the side surface 20 c of the conductor 20 and the inner peripheral surface 12 of the insulator 11. The first conductive glass 61 contacts the first buffer layer 63, the first phase 22, and the insulating glass 65, and the main phase 21 and the first conductive glass 61 are separated from each other. The second buffer layer 64 is in contact with the second phase 23 of the conductor 20. The second conductive glass 62 is in contact with the second buffer layer 64, the second phase 23 and the insulating glass 65, and the main phase 21 and the second conductive glass 62 are separated from each other.

第1緩衝層63及び第2緩衝層64は、例えばめっき、焼き付け塗膜、物理蒸着、化学蒸着等によって、導電体20の端面20a,20bに形成される。第1導電性ガラス61と絶縁性ガラス65との界面の形状、及び、第2導電性ガラス62と絶縁性ガラス65との界面の形状は、第1導電性ガラス61等を絶縁体11に一体化するときの端子金具15による軸方向の荷重の大きさ、絶縁体11を加熱する温度、絶縁性ガラス65の軸線方向の長さ等によって適宜設定できる。   The first buffer layer 63 and the second buffer layer 64 are formed on the end surfaces 20a and 20b of the conductor 20 by, for example, plating, baking coating, physical vapor deposition, chemical vapor deposition, or the like. The shape of the interface between the first conductive glass 61 and the insulating glass 65 and the shape of the interface between the second conductive glass 62 and the insulating glass 65 are such that the first conductive glass 61 and the like are integrated with the insulator 11. It can be set as appropriate depending on the magnitude of the axial load caused by the terminal fitting 15 when heated, the temperature at which the insulator 11 is heated, the length of the insulating glass 65 in the axial direction, and the like.

本実施形態では、軸線Oを含む断面において、第1導電性ガラス61と第1緩衝層63との界面66の軸線Oに直交する方向の長さL1、及び、第2導電性ガラス62と第2緩衝層64との界面67の軸線Oに直交する方向の長さL3は、導電体20の端面20a,20bの軸線Oの直交する方向の長さL2,L4とほぼ等しい。これにより第5実施形態では、第2実施形態で説明したL1=L3>L2=L4による作用効果を除く、第2実施形態と同様の作用効果を実現できる。   In the present embodiment, in the cross section including the axis O, the length L1 in the direction perpendicular to the axis O of the interface 66 between the first conductive glass 61 and the first buffer layer 63, and the second conductive glass 62 and the first The length L3 in the direction orthogonal to the axis O of the interface 67 with the two buffer layers 64 is substantially equal to the lengths L2 and L4 in the direction orthogonal to the axis O of the end faces 20a and 20b of the conductor 20. Thereby, in 5th Embodiment, the effect similar to 2nd Embodiment except the effect by L1 = L3> L2 = L4 demonstrated in 2nd Embodiment is realizable.

本発明を実施例によりさらに詳しく説明するが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。   The present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

第1実施形態および第2実施形態におけるスパークプラグのサンプルを作成して放電試験を行った。表1及び表2に、サンプル1〜13の形態、導電体(主相、第1相および第2相)を構成する導電性酸化物の化学式、各導電性酸化物の20℃における体積抵抗率、第1相および第2相の厚さT1,T2の最小値、第1緩衝層および第2緩衝層を構成する物質、及び、放電試験の判定を一覧にして示す。   A spark plug sample in the first embodiment and the second embodiment was prepared and a discharge test was performed. Tables 1 and 2 show the forms of Samples 1 to 13, the chemical formulas of the conductive oxides constituting the conductors (main phase, first phase and second phase), and the volume resistivity at 20 ° C. of each conductive oxide. The minimum values of the thicknesses T1 and T2 of the first phase and the second phase, the substances constituting the first buffer layer and the second buffer layer, and the determination of the discharge test are shown in a list.

Figure 2019212388
Figure 2019212388

Figure 2019212388
なお、サンプル1〜13は、緩衝層の有無、導電体および緩衝層の材質の違いによる特性を評価するため、それらの違い以外の、導電体の寸法、第1導電性ガラス、第2導電性ガラス及び絶縁性ガラスの材質、スパークプラグの各部の寸法や形状等は一定にした。
Figure 2019212388
In addition, since samples 1 to 13 evaluate the characteristics depending on the presence or absence of the buffer layer and the difference in the materials of the conductor and the buffer layer, the dimensions of the conductor, the first conductive glass, and the second conductivity other than those differences. The material of glass and insulating glass, the size and shape of each part of the spark plug, etc. were made constant.

サンプル1〜5,8〜10は、導電体を製造するときに、第1相、主相および第2相の各原料粉末を重ねて成形し焼結体を得た。サンプル6,7,11は、導電体を製造するときに、主相の焼結体を得た後、第1相22の原料粉末を含むペースト及び第2相の原料粉末を含むペーストを焼結体(主相)の端面にそれぞれ塗布し、焼き付けて焼結体を得た。   Samples 1 to 5 and 8 to 10 were formed by stacking raw material powders of the first phase, the main phase, and the second phase when manufacturing the conductors, thereby obtaining sintered bodies. When samples 6, 7, and 11 were manufactured, the main phase sintered body was obtained and then the paste containing the first phase 22 raw material powder and the second phase raw material powder were sintered. Each was applied to the end face of the body (main phase) and baked to obtain a sintered body.

サンプル1,3〜11は第1実施形態におけるスパークプラグのサンプルである。サンプル2は第2実施形態におけるスパークプラグのサンプルである。サンプル2の第1緩衝層および第2緩衝層は、Pt製の板材によって形成された。   Samples 1 and 3 to 11 are spark plug samples according to the first embodiment. Sample 2 is a sample of a spark plug in the second embodiment. The first buffer layer and the second buffer layer of sample 2 were formed of a plate material made of Pt.

サンプル1〜8の主相、第1相および第2相、サンプル10,11の第1相および第2相、サンプル12の主相は、それぞれ複合酸化物からなる。サンプル9の主相、第1相および第2相、並びに、サンプル10,11,13の主相は、複合酸化物と絶縁粉末(Y)との混合物からなる。サンプル9,10,11,13の混合物における括弧内の数値は、複合酸化物と絶縁粉末との体積の割合である。サンプル1〜11は、主相が、第1相が含有する金属元素と同じ金属元素を1種以上含有し、第2相が含有する金属元素と同じ金属元素を1種以上含有する。 The main phase of Samples 1 to 8, the first phase and the second phase, the first phase and the second phase of Samples 10 and 11, and the main phase of Sample 12 are each composed of a complex oxide. The main phase of sample 9, the first phase and the second phase, and the main phases of samples 10, 11, and 13 are made of a mixture of a composite oxide and insulating powder (Y 2 O 3 ). The numerical value in parentheses in the mixture of Samples 9, 10, 11, and 13 is a volume ratio of the composite oxide and the insulating powder. In Samples 1 to 11, the main phase contains one or more metal elements that are the same as the metal elements contained in the first phase, and contains one or more metal elements that are the same as the metal elements contained in the second phase.

サンプル12,13は比較例である。比較例におけるスパークプラグ70は、サンプル1〜11と異なり、導電体の第1相および第2相が省略されている。図7は比較例におけるスパークプラグ70(サンプル12,13)の一部を拡大して示した軸線Oを含む断面図である。なお、第1実施の形態で説明した部分と同一の部分については、同一の符号を付して以下の説明を省略する。   Samples 12 and 13 are comparative examples. In the spark plug 70 in the comparative example, unlike the samples 1 to 11, the first phase and the second phase of the conductor are omitted. FIG. 7 is a cross-sectional view including an axis O showing an enlarged part of the spark plug 70 (samples 12 and 13) in the comparative example. In addition, about the part same as the part demonstrated in 1st Embodiment, the same code | symbol is attached | subjected and the following description is abbreviate | omitted.

図7に示すようにスパークプラグ70は、絶縁体11の内周面12の内側に導電体71、第1導電性ガラス72、第2導電性ガラス73及び絶縁性ガラス74が配置されている。第1導電性ガラス72は導電体71の端面71a及び絶縁性ガラス74に接触し、第2導電性ガラス73は導電体71の端面71b及び絶縁性ガラス74に接触する。   As shown in FIG. 7, in the spark plug 70, a conductor 71, a first conductive glass 72, a second conductive glass 73, and an insulating glass 74 are disposed inside the inner peripheral surface 12 of the insulator 11. The first conductive glass 72 is in contact with the end surface 71 a of the conductor 71 and the insulating glass 74, and the second conductive glass 73 is in contact with the end surface 71 b of the conductor 71 and the insulating glass 74.

1〜13の各サンプルについて、端子金具15と中心電極14との間に5Vの直流電圧を加えて抵抗値を測定し、予め測定した抵抗温度特性を用いて、そのときの測定値を20℃のときの抵抗値に補正した。このときの抵抗値は各サンプルとも1kΩであった。   About each sample of 1-13, a DC voltage of 5V was applied between the terminal metal fitting 15 and the center electrode 14, the resistance value was measured, and the measured value at that time was 20 degreeC using the resistance temperature characteristic measured beforehand. It was corrected to the resistance value at. The resistance value at this time was 1 kΩ for each sample.

次いで、各サンプルを425℃の環境下におき、放電電圧を45kVに設定し、1秒間に100回の割合で500時間、中心電極14と接地電極19との間に火花を飛ばす試験を行った。試験後、1時間放置し、試験前と同様にして抵抗値を測定し、そのときの測定値を20℃のときの抵抗値に補正した。試験前後の抵抗値の変化率が±10%未満のサンプルはA、その変化率が±10%以上±20%未満のサンプルはB、その変化率が±20%以上±30%未満のサンプルはC、その変化率が±30%以上のサンプルはDと判定した。結果は表2に記した。   Next, each sample was placed in an environment of 425 ° C., a discharge voltage was set to 45 kV, and a test was performed in which a spark was blown between the center electrode 14 and the ground electrode 19 at a rate of 100 times per second for 500 hours. . After the test, it was left for 1 hour, and the resistance value was measured in the same manner as before the test, and the measured value at that time was corrected to the resistance value at 20 ° C. Samples with a resistance change rate of less than ± 10% before and after the test are A, samples with a change rate of ± 10% or more and less than ± 20% are B, and samples with a change rate of ± 20% or more and less than ± 30% C, and samples having a change rate of ± 30% or more were determined as D. The results are shown in Table 2.

表2に示すようにサンプル1〜11(実施例)は判定がA〜Cであったのに対し、サンプル12,13(比較例)は判定がDであった。主相と第1導電性ガラスとの間に第1相が介在し、主相と第2導電性ガラスとの間に第2相が介在するサンプル1〜11は、第1相および第2相が存在しない比較例に比べ、試験前後の抵抗変化率を小さくすることができた。サンプル1〜11は、導電体と導電性ガラスとの界面の電界集中を緩和できたからであると推察される。   As shown in Table 2, the determinations of Samples 1 to 11 (Examples) were A to C, whereas the determinations of Samples 12 and 13 (Comparative Example) were D. Samples 1 to 11 in which the first phase is interposed between the main phase and the first conductive glass and the second phase is interposed between the main phase and the second conductive glass are the first phase and the second phase. The resistance change rate before and after the test could be reduced as compared with the comparative example in which no exists. It is inferred that Samples 1 to 11 were able to relax the electric field concentration at the interface between the conductor and the conductive glass.

特にサンプル1,3,6,9,10,11は、サンプル4,5,7,8に比べ、さらに試験前後の抵抗変化率を小さくすることができた。サンプル1,3,6,9,10,11は、サンプル4,8と異なり、主相、第1相および第2相が、構成元素が同じ複合酸化物の焼結体であった。これらのサンプルは第1相や第2相と主相との相互作用をさらに生じ難くすることができ、抵抗変化率をより小さくすることができたと推察される。   In particular, Samples 1, 3, 6, 9, 10, and 11 were able to further reduce the rate of change in resistance before and after the test compared to Samples 4, 5, 7, and 8. Unlike Samples 4 and 8, Samples 1, 3, 6, 9, 10, and 11 were composite oxide sintered bodies having the same constituent elements in the main phase, the first phase, and the second phase. It is inferred that these samples can further reduce the interaction between the first phase and the second phase and the main phase, and can further reduce the resistance change rate.

サンプル1,3,6,9,10は、サンプル5と異なり、第1相の体積抵抗率および第2相の体積抵抗率が1.0×10−1Ω・m以下であった。これらのサンプルは、第1相と第1導電性ガラスとの間の接触抵抗、及び、第2相と第2導電性ガラスとの間の接触抵抗をさらに小さくすることができ、抵抗変化率をより小さくすることができたと推察される。 Unlike Sample 5, Samples 1, 3, 6, 9, and 10 had a volume resistivity of the first phase and a volume resistivity of the second phase of 1.0 × 10 −1 Ω · m or less. These samples can further reduce the contact resistance between the first phase and the first conductive glass and the contact resistance between the second phase and the second conductive glass. It is inferred that it could be made smaller.

サンプル1,3,6,9,10,11は、サンプル7と異なり、第1相および第2相の厚さT1,T2の最小値は5μm以上であった。これらのサンプルは、焼結に伴う物質移動が生じても第1相および第2相の特性をそれぞれ確保できたので、第1相と第1導電性ガラスとの間の接触抵抗、及び、第2相と第2導電性ガラスとの間の接触抵抗をさらに小さくすることができ、抵抗変化率をより小さくすることができたと推察される。   Samples 1, 3, 6, 9, 10, and 11 were different from sample 7 in that the minimum values of the thicknesses T1 and T2 of the first phase and the second phase were 5 μm or more. Since these samples were able to secure the characteristics of the first phase and the second phase even when mass transfer accompanied by sintering occurred, the contact resistance between the first phase and the first conductive glass, and It is presumed that the contact resistance between the two phases and the second conductive glass could be further reduced, and the rate of change in resistance could be further reduced.

サンプル2は、サンプル1,3,6,9,10,11に比べ、さらに試験前後の抵抗変化率を小さくすることができた。サンプル2は、第1相に第1緩衝層を接触させ、第2相に第2導電性ガラスを接触させることにより、第1相と第1導電性ガラスとの界面、及び、第2相と第2導電性ガラスとの界面の電界集中をさらに緩和できたからであると推察される。   Compared with samples 1, 3, 6, 9, 10, and 11, sample 2 was able to further reduce the rate of resistance change before and after the test. In sample 2, the first buffer layer is brought into contact with the first phase, and the second conductive glass is brought into contact with the second phase, whereby the interface between the first phase and the first conductive glass, and the second phase This is presumably because the electric field concentration at the interface with the second conductive glass could be further relaxed.

以上、実施形態および実施例に基づき本発明を説明したが、本発明はこれらに何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で種々の改良変形が可能であることは容易に推察できるものである。   The present invention has been described based on the embodiments and examples. However, the present invention is not limited to these embodiments, and various modifications can be easily made without departing from the spirit of the present invention. Can be inferred.

実施例では、第1緩衝層および第2緩衝層をそれぞれ同一種類の部材で形成したサンプルについて説明したが、必ずしもこれに限られるものではない。第1緩衝層および第2緩衝層の材質や第1緩衝層および第2緩衝層の作り方を異ならせることは当然可能である。   In the embodiment, the sample in which the first buffer layer and the second buffer layer are formed of the same type of member has been described, but the present invention is not necessarily limited thereto. Of course, it is possible to vary the materials of the first buffer layer and the second buffer layer and the method of forming the first buffer layer and the second buffer layer.

実施形態では、導電体20が円柱状に形成される場合について説明したが、必ずしもこれに限られるものではない。導電体20は絶縁体11の内周面12の内側に配置できる大きさ及び形状であれば良いので、例えば直方体状に形成された導電体20を採用することは当然可能である。   In the embodiment, the case where the conductor 20 is formed in a columnar shape has been described, but the present invention is not necessarily limited thereto. Since the conductor 20 may be any size and shape that can be arranged inside the inner peripheral surface 12 of the insulator 11, it is naturally possible to employ the conductor 20 formed in a rectangular parallelepiped shape, for example.

実施形態では、絶縁体11の内周面12と導電体20との間に絶縁性ガラス26,35,45,55,65が配置される場合について説明したが、必ずしもこれに限られるものではない。絶縁体11の内周面12と導電体20との隙間の大きさを管理して、絶縁性ガラスを省略することは当然可能である。   In the embodiment, the case where the insulating glasses 26, 35, 45, 55, and 65 are disposed between the inner peripheral surface 12 of the insulator 11 and the conductor 20 has been described. However, the present invention is not necessarily limited thereto. . It is naturally possible to omit the insulating glass by managing the size of the gap between the inner peripheral surface 12 of the insulator 11 and the conductor 20.

実施形態では、中心電極14の先端に接地電極19が対向するスパークプラグ10,30,40について説明したが、スパークプラグの構造は必ずしもこれに限られるものではない。スパークプラグの他の構造としては、例えば、中心電極14の側面に接地電極19が対向するスパークプラグ、主体金具16に複数の接地電極19を接合した多極のスパークプラグが挙げられる。   In the embodiment, the spark plugs 10, 30, and 40 in which the ground electrode 19 faces the tip of the center electrode 14 have been described. However, the structure of the spark plug is not necessarily limited thereto. Examples of other structures of the spark plug include a spark plug in which the ground electrode 19 faces the side surface of the center electrode 14 and a multipolar spark plug in which a plurality of ground electrodes 19 are joined to the metal shell 16.

10,30,40,50,60 スパークプラグ
11 絶縁体
14 中心電極
15 端子金具
20 導電体
21 主相
22 第1相
23 第2相
24,31,41,51,61 第1導電性ガラス
25,32,42,52,62 第2導電性ガラス
33,43,53,63 第1緩衝層
34,44,54,64 第2緩衝層
O 軸線
T1,T2 厚さ
10, 30, 40, 50, 60 Spark plug 11 Insulator 14 Center electrode 15 Terminal fitting 20 Conductor 21 Main phase 22 First phase 23 Second phase 24, 31, 41, 51, 61 First conductive glass 25, 32, 42, 52, 62 Second conductive glass 33, 43, 53, 63 First buffer layer 34, 44, 54, 64 Second buffer layer O Axis T1, T2 Thickness

Claims (6)

先端側から後端側へと軸線の方向に延びる軸孔を有する絶縁体と、
前記軸孔の先端側に配置された中心電極と、
前記軸孔の後端側に配置された端子金具と、
前記軸孔内の前記中心電極と前記端子金具との間に配置される導電体と、
前記中心電極と前記導電体とを電気的に接続する第1導電性ガラスと、
前記端子金具と前記導電体とを電気的に接続する第2導電性ガラスと、を備えるスパークプラグであって、
前記第1導電性ガラス及び前記第2導電性ガラスは、絶縁性のガラスと金属とを含む混合物からなり、
前記導電体は、主相、前記主相の先端側に接触する第1相、及び、前記主相の後端側に接触する第2相を有し、前記主相、前記第1相および前記第2相はそれぞれ導電性酸化物の焼結体からなり、
前記主相は、前記第1相を介して前記第1導電性ガラスと電気的に接続され、前記第2相を介して前記第2導電性ガラスと電気的に接続され、
前記第1相および前記第2相の体積抵抗率は、前記主相の体積抵抗率よりも低いスパークプラグ。
An insulator having an axial hole extending in the direction of the axis from the front end side to the rear end side;
A center electrode disposed on the tip side of the shaft hole;
A terminal fitting disposed on the rear end side of the shaft hole;
A conductor disposed between the center electrode in the shaft hole and the terminal fitting;
A first conductive glass electrically connecting the center electrode and the conductor;
A spark plug comprising: a second conductive glass that electrically connects the terminal fitting and the conductor;
The first conductive glass and the second conductive glass are made of a mixture containing insulating glass and metal,
The conductor has a main phase, a first phase in contact with a leading end side of the main phase, and a second phase in contact with a rear end side of the main phase, and the main phase, the first phase, and the Each second phase consists of a sintered body of conductive oxide,
The main phase is electrically connected to the first conductive glass via the first phase, and electrically connected to the second conductive glass via the second phase;
A spark plug in which the volume resistivity of the first phase and the second phase is lower than the volume resistivity of the main phase.
前記第1相の体積抵抗率および前記第2相の体積抵抗率は、1.0×10−1Ω・m以下である請求項1記載のスパークプラグ。 2. The spark plug according to claim 1, wherein the volume resistivity of the first phase and the volume resistivity of the second phase are 1.0 × 10 −1 Ω · m or less. 前記第1相および前記第2相の前記軸線の方向の厚さの最小値は5μm以上であり、前記厚さの最大値は5mm以下である請求項1又は2に記載のスパークプラグ。   3. The spark plug according to claim 1, wherein a minimum value of a thickness in the direction of the axis of the first phase and the second phase is 5 μm or more, and a maximum value of the thickness is 5 mm or less. 前記主相は、前記第1相が含有する金属元素と同じ金属元素を1種以上含有し、前記第2相が含有する金属元素と同じ金属元素を1種以上含有する請求項1から3のいずれかに記載のスパークプラグ。   The main phase contains at least one metal element the same as the metal element contained in the first phase, and contains at least one metal element the same as the metal element contained in the second phase. The spark plug according to any one of the above. 前記主相、前記第1相および前記第2相は、構成元素が同じ複合酸化物の焼結体からなる請求項4記載のスパークプラグ。   The spark plug according to claim 4, wherein the main phase, the first phase, and the second phase are composed of a sintered body of complex oxides having the same constituent elements. 前記第1導電性ガラスと前記導電体との間に配置され前記第1導電性ガラスと前記第1相とに接触する第1緩衝層と、
前記第2導電性ガラスと前記導電体との間に配置され前記第2導電性ガラスと前記第2相とに接触する第2緩衝層と、を備え、
前記第1緩衝層および前記第2緩衝層は、金属と導電性酸化物との混合物または金属からなる請求項1から5のいずれかに記載のスパークプラグ。
A first buffer layer disposed between the first conductive glass and the conductor and in contact with the first conductive glass and the first phase;
A second buffer layer disposed between the second conductive glass and the conductor and in contact with the second conductive glass and the second phase;
The spark plug according to any one of claims 1 to 5, wherein the first buffer layer and the second buffer layer are made of a mixture of a metal and a conductive oxide or a metal.
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