JP2019211385A - Magnetic detection device and magnetic bias device - Google Patents

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Abstract

To provide a magnetic detection device capable of correctly applying a bias magnetic field while suppressing enlarging of the device, and a magnetic bias device thereof.SOLUTION: A magnetic detection device 1 includes an MI element 21, an upper conduction member 33A, and a lower conduction member 33B. The MI element 21 detects an external magnetic field. The upper conduction member 33A is formed in a planar shape and stacked on one side of the stacking direction of the MI element 21. The lower conduction member 33B is formed in a planar shape, stacked on the other side of the stacking direction of the MI element 21, and faces the upper conduction member 33A along the stacking direction. A current is applied to the upper conduction member 33A and the lower conduction member 33B, and a bias magnetic field is applied to the MI element 21.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、磁気検出装置及び磁気バイアス装置に関する。   The present invention relates to a magnetic detection device and a magnetic bias device.

従来、磁気検出装置として、例えば、特許文献1には、外部磁界を検出する磁気センサが開示されている。磁気センサは、磁気検出素子としての磁気コアと、当該磁気コアにバイアス磁界を印加するソレノイドコイルとを備えている。   Conventionally, as a magnetic detection device, for example, Patent Document 1 discloses a magnetic sensor that detects an external magnetic field. The magnetic sensor includes a magnetic core as a magnetic detection element and a solenoid coil that applies a bias magnetic field to the magnetic core.

特開2008−275578号公報JP 2008-275578 A

ところで、上述の特許文献1に記載の磁気センサは、例えば、ソレノイドコイルの大型化を抑制した上で、所定のバイアス磁界を磁気コアに印加するすることが望まれている。   Incidentally, the magnetic sensor described in Patent Document 1 described above is desired to apply a predetermined bias magnetic field to the magnetic core, for example, while suppressing an increase in the size of the solenoid coil.

そこで、本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、装置の大型化を抑制した上でバイアス磁界を適正に印加することができる磁気検出装置及び磁気バイアス装置を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention has been made in view of the above, and an object thereof is to provide a magnetic detection device and a magnetic bias device that can appropriately apply a bias magnetic field while suppressing an increase in size of the device. To do.

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明に係る磁気検出装置は、外部磁界を検出する磁気検出素子と、平面状に形成され前記磁気検出素子の積層方向の一方側に積層される第1導電部材と、平面状に形成され前記磁気検出素子の前記積層方向の他方側に積層され前記積層方向に沿って前記第1導電部材に対向する第2導電部材と、を備え、前記第1導電部材及び前記第2導電部材は、電流が印加され前記磁気検出素子にバイアス磁界を印加することを特徴とする。   In order to solve the above-described problems and achieve the object, a magnetic detection device according to the present invention includes a magnetic detection element that detects an external magnetic field, and is laminated on one side in the stacking direction of the magnetic detection element. And a second conductive member formed in a planar shape and stacked on the other side in the stacking direction of the magnetic sensing element and facing the first conductive member along the stacking direction, A current is applied to the first conductive member and the second conductive member to apply a bias magnetic field to the magnetic detection element.

上記磁気検出装置において、前記第1導電部材及び前記第2導電部材は、前記磁気検出素子が前記外部磁界を検出する磁界検出方向と交差する方向に沿って電流が流れ、且つ、それぞれ逆向きに電流が流れることが好ましい。   In the magnetic detection device, the first conductive member and the second conductive member have a current flowing in a direction intersecting with a magnetic field detection direction in which the magnetic detection element detects the external magnetic field, and in the opposite directions. It is preferable that a current flows.

上記磁気検出装置において、前記第1導電部材及び前記第2導電部材は、前記磁気検出素子が前記外部磁界を検出する磁界検出方向に沿って電流が流れ、且つ、それぞれ逆向きに電流が流れることが好ましい。   In the magnetic detection device, the first conductive member and the second conductive member have a current flowing along a magnetic field detection direction in which the magnetic detection element detects the external magnetic field, and a current flows in the opposite direction. Is preferred.

上記磁気検出装置において、前記磁気検出素子は、第1延在方向に沿って延在して形成され、前記磁気検出素子が前記外部磁界を検出する磁界検出方向が前記第1延在方向に沿った方向であり、前記第1導電部材及び前記第2導電部材は、前記第1延在方向と交差する方向に沿って電流が流れることが好ましい。   In the magnetic detection device, the magnetic detection element is formed to extend along a first extending direction, and a magnetic field detection direction in which the magnetic detection element detects the external magnetic field is along the first extending direction. It is preferable that a current flows through the first conductive member and the second conductive member along a direction intersecting the first extending direction.

上記磁気検出装置において、前記磁気検出素子は、第2延在方向に沿って延在して形成され、前記磁気検出素子が前記外部磁界を検出する磁界検出方向が前記第2延在方向に交差する方向であり、前記第1導電部材及び前記第2導電部材は、前記第2延在方向に沿って電流が流れることが好ましい。   In the magnetic detection device, the magnetic detection element extends along a second extending direction, and a magnetic field detection direction in which the magnetic detection element detects the external magnetic field intersects the second extending direction. It is preferable that a current flows through the first conductive member and the second conductive member along the second extending direction.

上記磁気検出装置において、前記第1導電部材が第1外面に形成された第1基材と、前記第2導電部材が第2外面に形成された第2基材と、を備え、前記第1基材及び前記第2基材は、前記第1基材の前記第1外面側とは反対側の面である第1内面、又は、前記第2基材の前記第2外面側とは反対側の面である第2内面の少なくとも一方に凹部が形成され、前記磁気検出素子は、前記第1内面及び前記第2内面を前記積層方向に沿って組み合わせた状態で前記凹部に収容されることが好ましい。   In the magnetic detection apparatus, the first conductive member includes a first base material formed on a first outer surface, and a second base member formed on the second outer surface of the second conductive member, The base material and the second base material are a first inner surface that is a surface opposite to the first outer surface side of the first base material, or a side opposite to the second outer surface side of the second base material. A recess is formed in at least one of the second inner surfaces, which is a surface of the magnetic detection element, and the magnetic detection element is accommodated in the recess in a state where the first inner surface and the second inner surface are combined along the stacking direction. preferable.

上記磁気検出装置において、電力供給用の配線パターンが形成された第3基材を備え、前記第2基材は、前記第3基材に積層され、前記第2導電部材は、前記配線パターンに直接接続されることが好ましい。   The magnetic detection device includes a third base material on which a power supply wiring pattern is formed, the second base material is laminated on the third base material, and the second conductive member is formed on the wiring pattern. A direct connection is preferred.

本発明に係る磁気バイアス装置は、平面状に形成された導電部材であり外部磁界を検出する磁気検出素子の積層方向の一方側に積層される第1導電部材と、平面状に形成された導電部材であり前記磁気検出素子の前記積層方向の他方側に積層され前記積層方向に沿って前記第1導電部材に対向する第2導電部材と、を備え、前記第1導電部材及び前記第2導電部材は、電流が印加され前記磁気検出素子にバイアス磁界を印加することを特徴とする。   A magnetic bias device according to the present invention is a conductive member formed in a planar shape and is laminated on one side in the stacking direction of a magnetic detection element that detects an external magnetic field, and a conductive material formed in a planar shape. A second conductive member that is a member and is laminated on the other side of the lamination direction of the magnetic detection element and faces the first conductive member along the lamination direction, and includes the first conductive member and the second conductive member. The member is characterized in that a current is applied to apply a bias magnetic field to the magnetic detection element.

本発明に係る磁気検出装置及び磁気バイアス装置において、平面状の第1導電部材及び平面状の第2導電部材は、電流が印加され磁気検出素子にバイアス磁界を印加する。この構成により、磁気検出装置及び磁気バイアス装置は、疑似的なソレノイドコイルを形成することができ、バイアス磁界を印加する部材を小型化することができる。この結果、磁気検出装置及び磁気バイアス装置は、バイアス磁界を適正に印加することができる。   In the magnetic detection device and the magnetic bias device according to the present invention, the planar first conductive member and the planar second conductive member are applied with a current to apply a bias magnetic field to the magnetic detection element. With this configuration, the magnetic detection device and the magnetic bias device can form a pseudo solenoid coil, and the member to which the bias magnetic field is applied can be reduced in size. As a result, the magnetic detection device and the magnetic bias device can appropriately apply the bias magnetic field.

図1は、第1実施形態に係る磁気検出装置の要部の構成例を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view illustrating a configuration example of a main part of the magnetic detection device according to the first embodiment. 図2は、第1実施形態に係る磁気検出装置の要部の構成例を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view illustrating a configuration example of a main part of the magnetic detection device according to the first embodiment. 図3は、第1実施形態に係る磁気バイアス装置によるバイアス磁界を示す平面図である。FIG. 3 is a plan view showing a bias magnetic field by the magnetic bias device according to the first embodiment. 図4は、比較例に係るソレノイドコイルの電流の流れ方を示す図である。FIG. 4 is a diagram illustrating how current flows in the solenoid coil according to the comparative example. 図5は、第1実施形態に係る疑似ソレノイドコイルの電流の流れ方を示す図である。FIG. 5 is a diagram illustrating a current flow of the pseudo solenoid coil according to the first embodiment. 図6は、比較例に係るソレノイドコイルの磁界強度を示す図である。FIG. 6 is a diagram illustrating the magnetic field strength of the solenoid coil according to the comparative example. 図7は、第1実施形態に係る疑似ソレノイドコイルの磁界強度を示す図である。FIG. 7 is a diagram illustrating the magnetic field strength of the pseudo solenoid coil according to the first embodiment. 図8は、比較例に係るソレノイドコイルの磁界分布を示す図である。FIG. 8 is a diagram illustrating a magnetic field distribution of the solenoid coil according to the comparative example. 図9は、比較例に係るソレノイドコイルの磁界分布を示す図である。FIG. 9 is a diagram illustrating a magnetic field distribution of the solenoid coil according to the comparative example. 図10は、第1実施形態の変形例に係る磁気検出装置の構成例を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating a configuration example of a magnetic detection device according to a modification of the first embodiment. 図11は、第1実施形態の変形例に係る磁気検出装置の構成例を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view illustrating a configuration example of a magnetic detection device according to a modification of the first embodiment. 図12は、第1実施形態の変形例に係る磁気検出装置の構成例を示す断面図である。FIG. 12 is a cross-sectional view illustrating a configuration example of a magnetic detection device according to a modification of the first embodiment. 図13は、第2実施形態に係る磁気バイアス装置によるバイアス磁界を示す平面図である。FIG. 13 is a plan view showing a bias magnetic field by the magnetic bias device according to the second embodiment. 図14は、第3実施形態に係る磁界検出方向とバイアス磁界との関係を示す図である。FIG. 14 is a diagram illustrating the relationship between the magnetic field detection direction and the bias magnetic field according to the third embodiment. 図15は、第3実施形態に係る磁界検出方向とバイアス磁界と外部磁界との関係を示す図である。FIG. 15 is a diagram illustrating a relationship among the magnetic field detection direction, the bias magnetic field, and the external magnetic field according to the third embodiment. 図16は、第3実施形態に係る磁界検出方向と合成磁界との関係を示す図である。FIG. 16 is a diagram illustrating a relationship between the magnetic field detection direction and the combined magnetic field according to the third embodiment. 図17は、第3実施形態に係るMR素子の磁界強度(合成磁界角度)と抵抗値との関係を示す図である。FIG. 17 is a diagram showing the relationship between the magnetic field strength (synthetic magnetic field angle) and the resistance value of the MR element according to the third embodiment.

本発明を実施するための形態(実施形態)につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。   DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Embodiments (embodiments) for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited by the contents described in the following embodiments. The constituent elements described below include those that can be easily assumed by those skilled in the art and those that are substantially the same. Furthermore, the structures described below can be combined as appropriate. Various omissions, substitutions, or changes in the configuration can be made without departing from the scope of the present invention.

〔第1実施形態〕
図面を参照しながら第1実施形態に係る磁気検出装置1及び磁気バイアス装置30について説明する。磁気検出装置1は、磁気バイアス装置30を含んで構成され、外部磁界を検出する装置である。磁気バイアス装置30は、磁気検出素子であるMI素子21(Magneto−Impedance element)にバイアス磁界を印加する装置である。以下、磁気検出装置1及び磁気バイアス装置30について詳細に説明する。磁気検出装置1は、例えば、図1、図2、図3に示すように、基材10と、磁気検出部20と、磁気バイアス装置30とを備える。
[First Embodiment]
The magnetic detection device 1 and the magnetic bias device 30 according to the first embodiment will be described with reference to the drawings. The magnetic detection device 1 is configured to include a magnetic bias device 30 and detects an external magnetic field. The magnetic bias device 30 is a device that applies a bias magnetic field to an MI element 21 (Magneto-Impedance element) that is a magnetic detection element. Hereinafter, the magnetic detection device 1 and the magnetic bias device 30 will be described in detail. For example, as shown in FIGS. 1, 2, and 3, the magnetic detection device 1 includes a base material 10, a magnetic detection unit 20, and a magnetic bias device 30.

ここで、図1では、磁気検出装置1の要部の構成例を示しており、基材10や疑似ソレノイドコイル33の配線等の構成要素を一部省略して図示している。図2では、磁気検出装置1の要部の構成例を示しており、MI素子21の電極22等を省略して図示している。図3では、複数のMI素子21をミアンダ状に接続した構成を図示している。   Here, FIG. 1 shows a configuration example of a main part of the magnetic detection device 1, and some components such as the wiring of the base material 10 and the pseudo solenoid coil 33 are omitted. In FIG. 2, the structural example of the principal part of the magnetic detection apparatus 1 is shown, and the electrode 22 and the like of the MI element 21 are omitted. FIG. 3 illustrates a configuration in which a plurality of MI elements 21 are connected in a meander shape.

以下の説明では、MI素子21が延在する方向を第1延在方向と称する。磁気バイアス装置30の上側導電部材33A(下側導電部材33B)とMI素子21とを積層する方向を積層方向と称する。上側導電部材33A及び下側導電部材33Bに電流が流れる方向を通電方向と称する。典型的には、第1延在方向、積層方向、及び、通電方向は、それぞれ直交するが、これに限定されない。   In the following description, the direction in which the MI element 21 extends is referred to as a first extending direction. A direction in which the upper conductive member 33A (lower conductive member 33B) of the magnetic bias device 30 and the MI element 21 are stacked is referred to as a stacking direction. A direction in which a current flows through the upper conductive member 33A and the lower conductive member 33B is referred to as an energization direction. Typically, the first extending direction, the stacking direction, and the energizing direction are orthogonal to each other, but are not limited thereto.

基材10は、絶縁性の材料から構成され、矩形状に形成されている。基材10は、実装面10aを有し、当該実装面10aにMI素子21が形成されている。   The base material 10 is made of an insulating material and is formed in a rectangular shape. The base material 10 has a mounting surface 10a, and the MI element 21 is formed on the mounting surface 10a.

磁気検出部20は、外部磁界を検出するものである。磁気検出部20は、複数のMI素子21と、電極22と、バイパス配線23(図3参照)とを含んで構成される。MI素子21は、薄膜状に形成された素子である。MI素子21は、外部磁界によりインピーダンスが変化する。MI素子21は、高周波電流が印加され、外部磁界により変化したインピーダンスを出力する。MI素子21は、第1延在方向に沿って延在して形成されている。MI素子21は、或る一定の方向(磁界検出方向)の外部磁界を検出する。つまり、MI素子21は、外部磁界に反応する感度方向(磁界検出方向)が一定の方向である。MI素子21の磁界検出方向は、当該MI素子21が延在する第1延在方向に沿った方向である。MI素子21は、磁界検出方向における外部磁界の大きさ及び向きを検出する。MI素子21は、検出した外部磁界の大きさ及び向きをインピーダンスの変化として出力する。   The magnetic detection unit 20 detects an external magnetic field. The magnetic detection unit 20 includes a plurality of MI elements 21, electrodes 22, and bypass wirings 23 (see FIG. 3). The MI element 21 is an element formed in a thin film shape. The impedance of the MI element 21 is changed by an external magnetic field. The MI element 21 is applied with a high frequency current and outputs an impedance changed by an external magnetic field. The MI element 21 is formed extending along the first extending direction. The MI element 21 detects an external magnetic field in a certain direction (magnetic field detection direction). That is, the MI element 21 has a constant direction of sensitivity (magnetic field detection direction) that reacts to an external magnetic field. The magnetic field detection direction of the MI element 21 is a direction along the first extending direction in which the MI element 21 extends. The MI element 21 detects the magnitude and direction of the external magnetic field in the magnetic field detection direction. The MI element 21 outputs the detected magnitude and direction of the external magnetic field as a change in impedance.

電極22は、高周波電流が印加されるものである。電極22は、ミアンダ状に接続された一方側のMI素子21の端子に接続される電極22Aと、ミアンダ状に接続された他方側のMI素子21の端子に接続される電極22Bとを含んで構成される。電極22A、22Bは、高周波電源(図示省略)に接続され、当該高周波電源により高周波電流が印加され、MI素子21に高周波電流を流す。   The electrode 22 is applied with a high-frequency current. The electrode 22 includes an electrode 22A connected to a terminal of one MI element 21 connected in a meander shape and an electrode 22B connected to a terminal of the other MI element 21 connected in a meander shape. Composed. The electrodes 22 </ b> A and 22 </ b> B are connected to a high frequency power source (not shown), and a high frequency current is applied from the high frequency power source to cause the MI element 21 to flow.

バイパス配線23は、MI素子21同士を電気的に接続するものである(図3参照)。バイパス配線23は、例えば、隣り合うMI素子21同士を接続し、各MI素子21をミアンダ状に接続する。   The bypass wiring 23 is for electrically connecting the MI elements 21 to each other (see FIG. 3). The bypass wiring 23 connects, for example, adjacent MI elements 21 and connects each MI element 21 in a meander shape.

磁気バイアス装置30は、MI素子21にバイアス磁界を印加するものである。磁気バイアス装置30は、図1及び図2に示すように、第1配線パターン群31Aと、第2配線パターン群31Bと、第1ワイヤ群32Aと、第2ワイヤ群32Bと、疑似ソレノイドコイル33とを含んで構成される。   The magnetic bias device 30 applies a bias magnetic field to the MI element 21. 1 and 2, the magnetic bias device 30 includes a first wiring pattern group 31A, a second wiring pattern group 31B, a first wire group 32A, a second wire group 32B, and a pseudo solenoid coil 33. It is comprised including.

第1配線パターン群31Aは、疑似ソレノイドコイル33(上側導電部材33A)の通電方向の一方側に設けられている。第1配線パターン群31Aは、例えば、3つの配線パターン31a〜31cを含んで構成される。各配線パターン31a〜31cは、通電方向に直交する幅方向(第1延在方向)に沿って一定の間隔をあけて配列されている。各配線パターン31a〜31cは、それぞれ第1ワイヤ群32A(ボンディングワイヤ)を介して上側導電部材33Aの通電方向の一方側に電気的に接続される。例えば、配線パターン31aは、ワイヤ32aを介して上側導電部材33Aの通電方向の一方側に接続される。配線パターン31bは、ワイヤ32bを介して上側導電部材33Aの通電方向の一方側に接続される。配線パターン31cは、ワイヤ32cを介して上側導電部材33Aの通電方向の一方側に接続される。   The first wiring pattern group 31A is provided on one side of the energizing direction of the pseudo solenoid coil 33 (upper conductive member 33A). The first wiring pattern group 31A includes, for example, three wiring patterns 31a to 31c. Each of the wiring patterns 31a to 31c is arranged at a constant interval along the width direction (first extending direction) orthogonal to the energization direction. Each of the wiring patterns 31a to 31c is electrically connected to one side in the energizing direction of the upper conductive member 33A via a first wire group 32A (bonding wire). For example, the wiring pattern 31a is connected to one side in the energization direction of the upper conductive member 33A via the wire 32a. The wiring pattern 31b is connected to one side in the energization direction of the upper conductive member 33A via the wire 32b. The wiring pattern 31c is connected to one side in the energization direction of the upper conductive member 33A via the wire 32c.

第2配線パターン群31Bは、疑似ソレノイドコイル33(上側導電部材33A)の通電方向の他方側に設けられている。第2配線パターン群31Bは、例えば、3つの配線パターン31d〜31fを含んで構成される。各配線パターン31d〜31fは、通電方向に直交する幅方向(第1延在方向)に沿って一定の間隔をあけて配列されている。各配線パターン31d〜31fは、それぞれ第2ワイヤ群32B(ボンディングワイヤ)を介して上側導電部材33Aの通電方向の他方側に電気的に接続される。例えば、配線パターン31dは、ワイヤ32dを介して上側導電部材33Aの通電方向の他方側に接続される。配線パターン31eは、ワイヤ32eを介して上側導電部材33Aの通電方向の他方側に接続される。配線パターン31fは、ワイヤ32fを介して上側導電部材33Aの通電方向の他方側に接続される。   The second wiring pattern group 31B is provided on the other side of the energizing direction of the pseudo solenoid coil 33 (upper conductive member 33A). The second wiring pattern group 31B includes, for example, three wiring patterns 31d to 31f. Each of the wiring patterns 31d to 31f is arranged at a constant interval along the width direction (first extending direction) orthogonal to the energization direction. Each of the wiring patterns 31d to 31f is electrically connected to the other side in the energizing direction of the upper conductive member 33A via the second wire group 32B (bonding wire). For example, the wiring pattern 31d is connected to the other side in the energization direction of the upper conductive member 33A via the wire 32d. The wiring pattern 31e is connected to the other side in the energization direction of the upper conductive member 33A via the wire 32e. The wiring pattern 31f is connected to the other side in the energization direction of the upper conductive member 33A via the wire 32f.

第1ワイヤ群32Aは、上側導電部材33Aの一方側と第1配線パターン群31Aとを電気的に接続するものである。第1ワイヤ群32Aは、例えば、3つのワイヤ32a〜32cを含んで構成される。各ワイヤ32a〜32cは、それぞれ上側導電部材33Aの通電方向の一方側と各配線パターン31a〜31cとを電気的に接続する。各ワイヤ32a〜32cは、上側導電部材33Aの通電方向の一方側において、それぞれが通電方向に直交する幅方向(第1延在方向)に沿って一定の間隔をあけて接続されている。   The first wire group 32A electrically connects one side of the upper conductive member 33A and the first wiring pattern group 31A. The first wire group 32A includes, for example, three wires 32a to 32c. Each of the wires 32a to 32c electrically connects one side of the upper conductive member 33A in the energization direction to each of the wiring patterns 31a to 31c. The wires 32a to 32c are connected to each other on the one side in the energizing direction of the upper conductive member 33A with a certain interval along the width direction (first extending direction) orthogonal to the energizing direction.

第2ワイヤ群32Bは、上側導電部材33Aの他方側と第2配線パターン群31Bとを電気的に接続するものである。第2ワイヤ群32Bは、例えば、3つのワイヤ32d〜32fを含んで構成される。各ワイヤ32d〜32fは、それぞれ上側導電部材33Aの通電方向の他方側と各配線パターン31d〜31fとを電気的に接続する。各ワイヤ32d〜32fは、上側導電部材33Aの通電方向の他方側において、それぞれが通電方向に直交する幅方向(第1延在方向)に沿って一定の間隔をあけて接続されている。   The second wire group 32B is for electrically connecting the other side of the upper conductive member 33A and the second wiring pattern group 31B. The second wire group 32B includes, for example, three wires 32d to 32f. The wires 32d to 32f electrically connect the other side in the energizing direction of the upper conductive member 33A and the wiring patterns 31d to 31f, respectively. The wires 32d to 32f are connected to each other on the other side in the energizing direction of the upper conductive member 33A with a certain interval along the width direction (first extending direction) orthogonal to the energizing direction.

第1ワイヤ群32A及び上側導電部材33Aの接続点と、第2ワイヤ群32B及び上側導電部材33Aの接続点とは、通電方向において略同一直線上に位置する。すなわち、ワイヤ32a及び上側導電部材33Aの接続点と、ワイヤ32d及び上側導電部材33Aの接続点とは、通電方向において略同一直線上に位置する。また、ワイヤ32b及び上側導電部材33Aの接続点と、ワイヤ32e及び上側導電部材33Aの接続点とは、通電方向において略同一直線上に位置する。さらに、ワイヤ32c及び上側導電部材33Aの接続点と、ワイヤ32f及び上側導電部材33Aの接続点とは、通電方向において略同一直線上に位置する。この構成により、磁気バイアス装置30は、上側導電部材33Aの通電方向の一方側から他方側に向けて平行な電流I1を流すことができる。なお、磁気バイアス装置30は、下側導電部材33Bも上側導電部材33Aと同様に構成されている。   The connection point between the first wire group 32A and the upper conductive member 33A and the connection point between the second wire group 32B and the upper conductive member 33A are located on substantially the same straight line in the energization direction. That is, the connection point between the wire 32a and the upper conductive member 33A and the connection point between the wire 32d and the upper conductive member 33A are located on substantially the same straight line in the energization direction. Further, the connection point between the wire 32b and the upper conductive member 33A and the connection point between the wire 32e and the upper conductive member 33A are located on substantially the same straight line in the energization direction. Further, the connection point between the wire 32c and the upper conductive member 33A and the connection point between the wire 32f and the upper conductive member 33A are located on substantially the same straight line in the energization direction. With this configuration, the magnetic bias device 30 can flow a parallel current I1 from one side to the other side in the energization direction of the upper conductive member 33A. In the magnetic bias device 30, the lower conductive member 33B is configured similarly to the upper conductive member 33A.

疑似ソレノイドコイル33は、MI素子21にバイアス磁界を印加するものである。疑似ソレノイドコイル33は、線状導体101が螺旋状に巻き回されて形成されたソレノイドコイル100(図4参照)を疑似的に構成するものである。疑似ソレノイドコイル33は、上側導電部材33A及び下側導電部材33Bを含んで構成される。上側導電部材33Aは、平面状(シート状)に形成された導電性の部材である。上側導電部材33Aは、例えば、薄膜状に形成された配線パターンである。上側導電部材33Aは、矩形状に形成され、MI素子21の積層方向の一方側に積層される。上側導電部材33Aは、MI素子21が外部磁界を検出する磁界検出方向(第1延在方向)と交差する方向に沿って電流が流れる。典型的には、上側導電部材33Aは、磁界検出方向(第1延在方向)と直交する方向に沿って電流が流れる。   The pseudo solenoid coil 33 applies a bias magnetic field to the MI element 21. The pseudo solenoid coil 33 is a pseudo configuration of the solenoid coil 100 (see FIG. 4) formed by spirally winding the linear conductor 101. The pseudo solenoid coil 33 includes an upper conductive member 33A and a lower conductive member 33B. The upper conductive member 33A is a conductive member formed in a planar shape (sheet shape). The upper conductive member 33A is, for example, a wiring pattern formed in a thin film shape. The upper conductive member 33 </ b> A is formed in a rectangular shape and is stacked on one side of the MI element 21 in the stacking direction. In the upper conductive member 33A, a current flows along a direction intersecting the magnetic field detection direction (first extending direction) in which the MI element 21 detects an external magnetic field. Typically, current flows in the upper conductive member 33A along a direction orthogonal to the magnetic field detection direction (first extending direction).

下側導電部材33Bは、平面状(シート状)に形成された導電性の部材である。下側導電部材33Bは、例えば、薄膜状に形成された配線パターンである。下側導電部材33Bは、上側導電部材33Aと同等の大きさの矩形状に形成される。下側導電部材33Bは、MI素子21の積層方向の他方側に積層され、当該積層方向に沿って上側導電部材33Aに対向する。下側導電部材33Bは、MI素子21が外部磁界を検出する磁界検出方向(第1延在方向)と交差する方向に沿って電流が流れる。典型的には、下側導電部材33Bは、磁界検出方向(第1延在方向)と直交する方向に沿って電流が流れる。   The lower conductive member 33B is a conductive member formed in a planar shape (sheet shape). The lower conductive member 33B is, for example, a wiring pattern formed in a thin film shape. The lower conductive member 33B is formed in a rectangular shape having the same size as the upper conductive member 33A. The lower conductive member 33B is stacked on the other side of the MI element 21 in the stacking direction, and faces the upper conductive member 33A along the stacking direction. In the lower conductive member 33B, a current flows along a direction intersecting the magnetic field detection direction (first extending direction) in which the MI element 21 detects an external magnetic field. Typically, in the lower conductive member 33B, a current flows along a direction orthogonal to the magnetic field detection direction (first extending direction).

上側導電部材33A及び下側導電部材33Bは、それぞれ逆向きに電流が流れる。例えば、上側導電部材33Aは、通電方向の一方側から他方側に向けて電流が流れ、下側導電部材33Bは、通電方向の他方側から一方側に向けて電流が流れる。すなわち、上側導電部材33Aは、通電方向において第1配線パターン群31A側から第2配線パターン群31B側に向けて電流が流れ、下側導電部材33Bは、第2配線パターン群31B側から第1配線パターン群31A側に向けて電流が流れる。これにより、上側導電部材33A及び下側導電部材33Bは、線状導体101が螺旋状に巻き回されて形成されたソレノイドコイル100を疑似的に構成することができる。つまり、上側導電部材33A及び下側導電部材33Bは、は、MI素子21が薄膜状であることから、上側導電部材33Aと下側導電部材33Bとの間隔をμmオーダーまで短くすることができ、ソレノイドコイル100を疑似的に構成することができる。この結果、磁気バイアス装置30は、図3に示すように、MI素子21の磁界検出方向に沿ってバイアス磁界H1を印加することができる。このバイアス磁界H1により、磁気検出装置1は、MI素子21の出力インピーダンスを所定の範囲に設定できるので、正方向及び負方向の外部磁界を適正に検出することができる。   The upper conductive member 33A and the lower conductive member 33B flow in opposite directions. For example, in the upper conductive member 33A, a current flows from one side in the energizing direction to the other side, and in the lower conductive member 33B, a current flows from the other side in the energizing direction toward the one side. That is, the upper conductive member 33A has a current flowing from the first wiring pattern group 31A side to the second wiring pattern group 31B side in the energization direction, and the lower conductive member 33B is first from the second wiring pattern group 31B side. A current flows toward the wiring pattern group 31A. Thus, the upper conductive member 33A and the lower conductive member 33B can pseudo-configure the solenoid coil 100 formed by winding the linear conductor 101 in a spiral. That is, the upper conductive member 33A and the lower conductive member 33B can reduce the interval between the upper conductive member 33A and the lower conductive member 33B to the order of μm because the MI element 21 is in a thin film shape. The solenoid coil 100 can be configured in a pseudo manner. As a result, the magnetic bias device 30 can apply the bias magnetic field H1 along the magnetic field detection direction of the MI element 21, as shown in FIG. With this bias magnetic field H1, the magnetic detection device 1 can set the output impedance of the MI element 21 within a predetermined range, and thus can properly detect the external magnetic field in the positive and negative directions.

ここで、比較例のソレノイドコイル100は、図4に示すように、線状導体101が螺旋状に巻き回されて形成されるので、隣接する線状導体101の間に絶縁部を設ける必要がある。これに対して、第1実施形態に係る疑似ソレノイドコイル33は、図5に示すように、ソレノイドコイル100のように隣接する線状導体101の間に絶縁部を設ける必要がない。このため、疑似ソレノイドコイル33は、断面積を大きくすることができ、ソレノイドコイル100に流れる電流I2の電流値よりも電流I1の電流値を大きくすることができる。ソレノイドコイル100は、断面積を大きくする場合、線状導体101の巻き数を増やす必要があるが、この場合には抵抗値が増加し消費電力及び発熱が大きくなる問題がある。   Here, as shown in FIG. 4, the solenoid coil 100 of the comparative example is formed by spirally winding the linear conductor 101, so it is necessary to provide an insulating portion between the adjacent linear conductors 101. is there. In contrast, the pseudo solenoid coil 33 according to the first embodiment does not need to provide an insulating portion between the adjacent linear conductors 101 unlike the solenoid coil 100 as shown in FIG. For this reason, the pseudo solenoid coil 33 can have a larger cross-sectional area, and the current value of the current I1 can be made larger than the current value of the current I2 flowing through the solenoid coil 100. When the solenoid coil 100 has a large cross-sectional area, it is necessary to increase the number of turns of the linear conductor 101. However, in this case, there is a problem in that the resistance value increases and power consumption and heat generation increase.

図6には、比較例に係る薄型状のソレノイドコイル100における磁界強度を図示している。ソレノイドコイル100は、電流I2が流れることにより長辺側及び短辺側からソレノイドコイル100の内部にバイアス磁界H2を印加している。ソレノイドコイル100の短辺側により印加されるバイアス磁界H2は、ソレノイドコイル100の長辺側により印加されるバイアス磁界H2よりも小さく、ソレノイドコイル100の内部の磁界強度に与える影響は微小である。   FIG. 6 illustrates the magnetic field strength in the thin solenoid coil 100 according to the comparative example. The solenoid coil 100 applies a bias magnetic field H2 to the inside of the solenoid coil 100 from the long side and the short side when the current I2 flows. The bias magnetic field H2 applied by the short side of the solenoid coil 100 is smaller than the bias magnetic field H2 applied by the long side of the solenoid coil 100, and the influence on the magnetic field strength inside the solenoid coil 100 is very small.

図7には、第1実施形態に係る疑似ソレノイドコイル33における磁界強度を図示している。疑似ソレノイドコイル33は、電流I1が流れることにより上側導電部材33A及び下側導電部材33Bによりソレノイドコイル100の内部にバイアス磁界H1を印加している。疑似ソレノイドコイル33は、ソレノイドコイル100の短辺側により印加されるバイアス磁界H2を含まない。しかしながら、上述したように、ソレノイドコイル100の短辺側により印加されるバイアス磁界H2は、ソレノイドコイル100の内部の磁界強度に与える影響が微小である。この結果、疑似ソレノイドコイル33は、ソレノイドコイル100のバイアス磁界H2と同等のバイアス磁界H1を印加することができる。   FIG. 7 illustrates the magnetic field strength in the pseudo solenoid coil 33 according to the first embodiment. The pseudo solenoid coil 33 applies a bias magnetic field H1 to the inside of the solenoid coil 100 by the upper conductive member 33A and the lower conductive member 33B when the current I1 flows. The pseudo solenoid coil 33 does not include the bias magnetic field H <b> 2 applied by the short side of the solenoid coil 100. However, as described above, the bias magnetic field H2 applied from the short side of the solenoid coil 100 has a small influence on the magnetic field strength inside the solenoid coil 100. As a result, the pseudo solenoid coil 33 can apply a bias magnetic field H 1 equivalent to the bias magnetic field H 2 of the solenoid coil 100.

図8には、比較例に係るソレノイドコイル103の磁界分布を図示している。ソレノイドコイル103は、開口部が正方向に形成されている。ソレノイドコイル103は、磁界が同心円状に分布している。   FIG. 8 illustrates a magnetic field distribution of the solenoid coil 103 according to the comparative example. The solenoid coil 103 has an opening formed in the positive direction. The solenoid coil 103 has a magnetic field distributed concentrically.

図9には、比較例に係るソレノイドコイル100の磁界分布を図示している。ソレノイドコイル100は、開口部が長方形(縦横比が1対2の長方形)に形成されている。ソレノイドコイル100は、同心円状の磁界を上下に押しつぶしたように磁界が分布している。長方形のソレノイドコイル100と正方形のソレノイドコイル103とは、中心部における磁界の強度に差異がほとんど見られない。第1実施形態に係る疑似ソレノイドコイル33は、長方形のソレノイドコイル100と同様に磁界が分布すると推測できる(図6及び図7参照)。   FIG. 9 illustrates the magnetic field distribution of the solenoid coil 100 according to the comparative example. The solenoid coil 100 has an opening formed in a rectangular shape (a rectangle having an aspect ratio of 1: 2). In the solenoid coil 100, the magnetic field is distributed as if the concentric magnetic field was crushed up and down. The rectangular solenoid coil 100 and the square solenoid coil 103 show almost no difference in the strength of the magnetic field at the center. It can be estimated that the pseudo solenoid coil 33 according to the first embodiment distributes a magnetic field in the same manner as the rectangular solenoid coil 100 (see FIGS. 6 and 7).

以上のように、第1実施形態に係る磁気検出装置1は、MI素子21と、上側導電部材33Aと、下側導電部材33Bとを備える。MI素子21は、外部磁界を検出する。上側導電部材33Aは、平面状に形成され、MI素子21の積層方向の一方側に積層される。下側導電部材33Bは、平面状に形成され、MI素子21の積層方向の他方側に積層され、積層方向に沿って上側導電部材33Aに対向する。上側導電部材33A及び下側導電部材33Bは、電流が印加されMI素子21にバイアス磁界を印加する。   As described above, the magnetic detection device 1 according to the first embodiment includes the MI element 21, the upper conductive member 33A, and the lower conductive member 33B. The MI element 21 detects an external magnetic field. The upper conductive member 33 </ b> A is formed in a planar shape and is stacked on one side of the MI element 21 in the stacking direction. The lower conductive member 33B is formed in a planar shape, is stacked on the other side of the MI element 21 in the stacking direction, and opposes the upper conductive member 33A along the stacking direction. The upper conductive member 33A and the lower conductive member 33B apply a bias magnetic field to the MI element 21 by applying a current.

この構成により、磁気検出装置1は、上側導電部材33A及び下側導電部材33Bにより疑似ソレノイドコイル33を形成することができ、MI素子21にバイアス磁界を印加することができる。このバイアス磁界により、磁気検出装置1は、MI素子21から出力されるインピーダンスの変化に基づいて外部磁界の大きさ及び向きを判別することができる。   With this configuration, the magnetic detection device 1 can form the pseudo solenoid coil 33 by the upper conductive member 33 </ b> A and the lower conductive member 33 </ b> B, and can apply a bias magnetic field to the MI element 21. With this bias magnetic field, the magnetic detection device 1 can determine the magnitude and direction of the external magnetic field based on the change in impedance output from the MI element 21.

磁気検出装置1は、平面状の上側導電部材33A及び下側導電部材33Bにより疑似ソレノイドコイル33を形成するので、例えば線状導体101により形成したソレノイドコイル100よりも電流値を大きくすることができる。これにより、磁気検出装置1は、バイアス磁界を印加する部材を小型化することができる。この結果、磁気検出装置1は、バイアス磁界を適正に印加することができる。   In the magnetic detection device 1, the pseudo solenoid coil 33 is formed by the planar upper conductive member 33 </ b> A and the lower conductive member 33 </ b> B, so that the current value can be made larger than that of the solenoid coil 100 formed by the linear conductor 101, for example. . Thereby, the magnetic detection apparatus 1 can reduce the size of the member to which the bias magnetic field is applied. As a result, the magnetic detection device 1 can appropriately apply a bias magnetic field.

磁気検出装置1は、例えば、微細加工技術によって集積化したMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)として実装される。MEMSにおいて、積層プロセスを用いる3次元構造では、従来の線状導体101の厚膜化や段差処理の難しさ等により線状導体101の多層巻形状が困難であり、ソレノイドコイル100により発生可能なバイアス磁界に限界があった。これに対して、第1実施形態に係る磁気検出装置1は、上側導電部材33A及び下側導電部材33Bにより疑似ソレノイドコイル33を構成するので、多層巻形状を不要とすることで製造プロセスを簡素化できる。さらに、磁気検出装置1は、隣接する線状導体101の間に絶縁部を設ける必要がないので断面積を大きくすることができ、装置の大型化を抑制した上で所定のバイアス磁界を得ることができる。また、磁気検出装置1は、上側導電部材33A及び下側導電部材33Bを積層方向に沿ってそれぞれ複数枚積層することで積層構造を形成することができ、バイアス磁界の強化を容易に実現できる。   The magnetic detection device 1 is mounted as, for example, a MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) integrated by a fine processing technique. In a MEMS, in a three-dimensional structure using a lamination process, it is difficult to form a multi-layer winding shape of the linear conductor 101 due to the thickness increase of the conventional linear conductor 101 or difficulty in step processing. There was a limit to the bias magnetic field. In contrast, in the magnetic detection device 1 according to the first embodiment, since the pseudo solenoid coil 33 is configured by the upper conductive member 33A and the lower conductive member 33B, the manufacturing process is simplified by eliminating the need for a multilayer winding shape. Can be Further, since the magnetic detection device 1 does not need to provide an insulating portion between the adjacent linear conductors 101, the cross-sectional area can be increased, and a predetermined bias magnetic field can be obtained while suppressing an increase in size of the device. Can do. Further, the magnetic detection device 1 can form a laminated structure by laminating a plurality of upper conductive members 33A and lower conductive members 33B in the laminating direction, and the bias magnetic field can be easily strengthened.

上記磁気検出装置1において、上側導電部材33A及び下側導電部材33Bは、MI素子21が外部磁界を検出する磁界検出方向と交差する方向に沿って電流が流れ、且つ、それぞれ逆向きに電流が流れる。この構成により、磁気検出装置1は、磁界検出方向に沿ってMI素子21にバイアス磁界H1を印加することができる。   In the magnetic detection device 1, the upper conductive member 33 </ b> A and the lower conductive member 33 </ b> B have a current flowing along the direction intersecting the magnetic field detection direction in which the MI element 21 detects the external magnetic field, and the currents flow in opposite directions. Flowing. With this configuration, the magnetic detection device 1 can apply the bias magnetic field H1 to the MI element 21 along the magnetic field detection direction.

上記磁気検出装置1において、MI素子21は、第1延在方向に沿って延在して形成され、磁界検出方向が第1延在方向に沿った方向である。上側導電部材33A及び下側導電部材33Bは、第1延在方向と交差する方向に沿って電流が流れる。この構成により、磁気検出装置1は、疑似ソレノイドコイル33によりMI素子21にバイアス磁界を印加することができる。   In the magnetic detection device 1, the MI element 21 is formed extending along the first extending direction, and the magnetic field detection direction is a direction along the first extending direction. In the upper conductive member 33A and the lower conductive member 33B, a current flows along a direction intersecting the first extending direction. With this configuration, the magnetic detection device 1 can apply a bias magnetic field to the MI element 21 by the pseudo solenoid coil 33.

第1実施形態に係る磁気バイアス装置30は、上側導電部材33Aと、下側導電部材33Bとを備える。上側導電部材33Aは、平面状に形成された導電部材であり、外部磁界を検出するMI素子21の積層方向の一方側に積層される。下側導電部材33Bは、平面状に形成された導電部材であり、MI素子21の積層方向の他方側に積層され、積層方向に沿って上側導電部材33Aに対向する。上側導電部材33A及び下側導電部材33Bは、電流が印加されMI素子21にバイアス磁界を印加する。この構成により、磁気バイアス装置30は、上述した磁気検出装置1と同等の効果を奏することができる。   The magnetic bias device 30 according to the first embodiment includes an upper conductive member 33A and a lower conductive member 33B. The upper conductive member 33A is a conductive member formed in a planar shape, and is stacked on one side in the stacking direction of the MI element 21 that detects an external magnetic field. The lower conductive member 33B is a conductive member formed in a planar shape, is stacked on the other side of the MI element 21 in the stacking direction, and opposes the upper conductive member 33A along the stacking direction. The upper conductive member 33A and the lower conductive member 33B apply a bias magnetic field to the MI element 21 by applying a current. With this configuration, the magnetic bias device 30 can achieve the same effects as the magnetic detection device 1 described above.

〔第1実施形態の変形例〕
次に、第1実施形態の変形例に係る磁気検出装置1Aについて説明する。磁気検出装置1Aは、下側導電部材33Bをボンディングワイヤではなく配線基板50(図12参照)に積層して電力供給部(図示省略)と電気的に接続する点で第1実施形態の磁気検出装置1と異なる。なお、第1実施形態の変形例では、第1実施形態と同等の構成要素には同じ符号を付し、その詳細な説明を省略する。
[Modification of First Embodiment]
Next, a magnetic detection device 1A according to a modification of the first embodiment will be described. The magnetic detection device 1A has the magnetic detection according to the first embodiment in that the lower conductive member 33B is stacked not on the bonding wire but on the wiring board 50 (see FIG. 12) and electrically connected to the power supply unit (not shown). Different from device 1. In addition, in the modification of 1st Embodiment, the same code | symbol is attached | subjected to the component equivalent to 1st Embodiment, and the detailed description is abbreviate | omitted.

変形例に係る磁気検出装置1Aは、図10、図11、図12に示すように、磁気検出部20と、磁気バイアス装置30と、第2基材としての下側基材41と、第1基材としての上側基材42とを備える。上側基材42は、絶縁性の材料から形成され、積層方向から視た場合、矩形状に形成されている。上側基材42は、本体部42aと、当該本体部42aにおいて積層方向の一方側(上側)に形成された上側基材外面(第1外面)42gと、本体部42aにおいて積層方向の他方側(下側)に形成された上側基材内面(第1内面)42hとを含んで構成される。上側基材42は、上側基材外面42gに上側導電部材33Aが形成されている。上側基材42は、上側基材内面42hに凹部(ザグリ)42bが形成されている。凹部42bは、例えば、溝状に形成されている。凹部42bは、本体部42aの両側に設けられた各立設部42cにより挟まれた収容空間部を形成している。各立設部42cは、それぞれ下側基材内面(第2内面)41aに接合される接合面42dを有している。各接合面42dは、例えば、接着剤42e等により下側基材内面41aに接着され固定される。   As shown in FIGS. 10, 11, and 12, the magnetic detection device 1 </ b> A according to the modification includes a magnetic detection unit 20, a magnetic bias device 30, a lower base material 41 as a second base material, And an upper substrate 42 as a substrate. The upper base material 42 is formed of an insulating material, and is formed in a rectangular shape when viewed from the stacking direction. The upper base material 42 includes a main body portion 42a, an upper base material outer surface (first outer surface) 42g formed on one side (upper side) in the stacking direction of the main body portion 42a, and the other side of the main body portion 42a in the stacking direction ( And the upper base material inner surface (first inner surface) 42h formed on the lower side. The upper base member 42 has an upper conductive member 33A formed on the upper base member outer surface 42g. The upper base member 42 has a recess (bowl) 42b formed on the upper base member inner surface 42h. The recess 42b is formed in a groove shape, for example. The concave portion 42b forms an accommodating space portion sandwiched between the standing portions 42c provided on both sides of the main body portion 42a. Each standing portion 42c has a joint surface 42d that is joined to the lower base material inner surface (second inner surface) 41a. Each bonding surface 42d is bonded and fixed to the lower base material inner surface 41a with, for example, an adhesive 42e.

下側基材41は、絶縁性の材料から形成され、積層方向から視た場合、上側基材42と同等の大きさの矩形状に形成されている。下側基材41は、本体部41cと、当該本体部41cにおいて積層方向の一方側(下側)に形成された下側基材外面(第2外面)41bと、本体部41cにおいて積層方向の他方側(上側)に形成された下側基材内面41aとを含んで構成される。下側基材41は、下側基材外面41bに下側導電部材33Bが形成されている。また、下側基材41は、下側基材外面41b側とは反対側の下側基材内面41aにMI素子21が形成されている。MI素子21は、図11に示すように、上側基材内面42h及び下側基材内面41aを積層方向に沿って組み合わせた状態で凹部42bに収容される。つまり、MI素子21は、上側基材内面42h及び下側基材内面41aを組み合わせた状態で、凹部42bの各立設部42c及び下側基材内面41aにより囲まれる収容空間部に収容される。上側導電部材33A及び下側導電部材33Bは、上側基材内面42h及び下側基材内面41aを組み合わせた状態で、疑似ソレノイドコイル33を構成する。   The lower base material 41 is formed of an insulating material, and is formed in a rectangular shape having the same size as the upper base material 42 when viewed from the stacking direction. The lower base 41 includes a main body 41c, a lower base outer surface (second outer surface) 41b formed on one side (lower side) in the stacking direction of the main body 41c, and a stacking direction of the main body 41c. And a lower substrate inner surface 41a formed on the other side (upper side). In the lower base material 41, a lower conductive member 33B is formed on the lower base material outer surface 41b. In the lower base 41, the MI element 21 is formed on the lower base inner surface 41a opposite to the lower base outer surface 41b. As shown in FIG. 11, the MI element 21 is accommodated in the recess 42b in a state where the upper base material inner surface 42h and the lower base material inner surface 41a are combined along the stacking direction. That is, the MI element 21 is accommodated in an accommodation space surrounded by the standing portions 42c of the recess 42b and the lower base inner surface 41a in a state where the upper base inner surface 42h and the lower base inner surface 41a are combined. . The upper conductive member 33A and the lower conductive member 33B constitute the pseudo solenoid coil 33 in a state where the upper base material inner surface 42h and the lower base material inner surface 41a are combined.

疑似ソレノイドコイル33(33A、33B)は、図12に示すように、下側導電部材33Bをボンディングワイヤではなく配線基板50に積層して電力供給部と電気的に接続する。配線基板50は、電力供給用の配線パターン51、52、55、56、59と、ベース基材53と、基材54a、54bと、ワイヤ57、58とを含んで構成される。配線基板50は、ベース基材53上に配線パターン51、52が形成されている。配線基板50は、配線パターン51の上には基材54aが立設され、配線パターン52の上には基材54bが立設されている。配線基板50は、基材54aの配線パターン51側とは反対側に配線パターン55が形成され、基材54bの配線パターン52側とは反対側に配線パターン56が形成されている。配線パターン51及び配線パターン55は、配線パターン59を介して電気的に接続されている。そして、配線基板50は、配線パターン52に電力供給部の正極側が接続され、配線パターン56に電力供給部の負極側が接続される。   As shown in FIG. 12, the pseudo solenoid coil 33 (33 </ b> A, 33 </ b> B) stacks the lower conductive member 33 </ b> B on the wiring board 50 instead of the bonding wire and electrically connects to the power supply unit. The wiring board 50 includes power supply wiring patterns 51, 52, 55, 56, 59, a base substrate 53, substrates 54 a, 54 b, and wires 57, 58. In the wiring substrate 50, wiring patterns 51 and 52 are formed on a base substrate 53. In the wiring board 50, a base material 54 a is erected on the wiring pattern 51, and a base material 54 b is erected on the wiring pattern 52. In the wiring board 50, a wiring pattern 55 is formed on the side opposite to the wiring pattern 51 side of the base material 54a, and a wiring pattern 56 is formed on the side opposite to the wiring pattern 52 side of the base material 54b. The wiring pattern 51 and the wiring pattern 55 are electrically connected via the wiring pattern 59. In the wiring board 50, the positive electrode side of the power supply unit is connected to the wiring pattern 52, and the negative electrode side of the power supply unit is connected to the wiring pattern 56.

疑似ソレノイドコイル33は、下側基材41がベース基材53に積層されることで下側導電部材33Bが配線パターン51、52に電気的に直接接続される。疑似ソレノイドコイル33は、例えば、下側導電部材33Bの通電方向の一方側が配線パターン51に直接接続され、下側導電部材33Bの通電方向の他方側が配線パターン52に直接接続される。疑似ソレノイドコイル33は、上側導電部材33Aがワイヤ57、58を介して配線パターン55、56に接続される。疑似ソレノイドコイル33は、例えば、上側基材42の通電方向の一方側がワイヤ57を介して配線パターン55に接続され、上側基材42の通電方向の他方側がワイヤ58を介して配線パターン56に接続される。疑似ソレノイドコイル33は、電力供給部により配線パターン52に電流が印加されると、下側導電部材33B及び上側導電部材33Aにそれぞれ逆向きの電流が流れる。疑似ソレノイドコイル33は、例えば、下側導電部材33Bの配線パターン52側から配線パターン51側に電流が流れ、上側導電部材33Aのワイヤ57側からワイヤ58側に電流が流れる。つまり、電流は、配線パターン52、下側導電部材33B、配線パターン51、配線パターン59、配線パターン55、ワイヤ57、上側導電部材33A、ワイヤ58、配線パターン56の順に流れる。   In the pseudo solenoid coil 33, the lower base member 41 is laminated on the base base member 53, whereby the lower conductive member 33 </ b> B is electrically connected directly to the wiring patterns 51 and 52. In the pseudo solenoid coil 33, for example, one side in the energization direction of the lower conductive member 33B is directly connected to the wiring pattern 51, and the other side in the energization direction of the lower conductive member 33B is directly connected to the wiring pattern 52. In the pseudo solenoid coil 33, the upper conductive member 33 </ b> A is connected to the wiring patterns 55 and 56 via the wires 57 and 58. In the pseudo solenoid coil 33, for example, one side in the energization direction of the upper base material 42 is connected to the wiring pattern 55 through the wire 57, and the other side in the energization direction of the upper base material 42 is connected to the wiring pattern 56 through the wire 58. Is done. In the pseudo solenoid coil 33, when a current is applied to the wiring pattern 52 by the power supply unit, reverse currents flow through the lower conductive member 33B and the upper conductive member 33A, respectively. In the pseudo solenoid coil 33, for example, a current flows from the wiring pattern 52 side of the lower conductive member 33B to the wiring pattern 51 side, and a current flows from the wire 57 side of the upper conductive member 33A to the wire 58 side. That is, the current flows in the order of the wiring pattern 52, the lower conductive member 33B, the wiring pattern 51, the wiring pattern 59, the wiring pattern 55, the wire 57, the upper conductive member 33A, the wire 58, and the wiring pattern 56.

以上のように、第1実施形態の変形例に係る磁気検出装置1Aは、上側基材42と、下側基材41とを備える。上側基材42は、上側導電部材33Aが上側基材外面42gに形成されている。下側基材41は、下側導電部材33Bが下側基材外面41bに形成されている。上側基材42及び下側基材41は、上側基材42の上側基材外面42g側とは反対側の面である上側基材内面42h、又は、下側基材41の下側基材外面41b側とは反対側の面である下側基材内面41aの少なくとも一方に凹部42bが形成される。第1実施形態では、凹部42bは、上側基材42の上側基材内面42hに形成されている。MI素子21は、上側基材内面42h及び下側基材内面41aを積層方向に沿って組み合わせた状態で凹部42bに収容される。この構成により、磁気検出装置1Aは、上側導電部材33A及び下側導電部材33BによりMI素子21を積層方向に沿って挟むことができる。磁気検出装置1Aは、上側導電部材33A及び下側導電部材33Bにより疑似ソレノイドコイル33を構成することができるので、疑似ソレノイドコイル33によりMI素子21にバイアス磁界を印加することができる。   As described above, the magnetic detection device 1 </ b> A according to the modification of the first embodiment includes the upper base material 42 and the lower base material 41. The upper base member 42 has an upper conductive member 33A formed on the upper base member outer surface 42g. In the lower base material 41, the lower conductive member 33B is formed on the lower base material outer surface 41b. The upper base material 42 and the lower base material 41 are the upper base material inner surface 42h that is the surface opposite to the upper base material outer surface 42g side of the upper base material 42, or the lower base material outer surface of the lower base material 41. A recess 42b is formed on at least one of the lower substrate inner surface 41a, which is the surface opposite to the 41b side. In the first embodiment, the recess 42 b is formed on the upper base inner surface 42 h of the upper base 42. The MI element 21 is accommodated in the recess 42b in a state where the upper base material inner surface 42h and the lower base material inner surface 41a are combined in the stacking direction. With this configuration, the magnetic detection device 1A can sandwich the MI element 21 along the stacking direction between the upper conductive member 33A and the lower conductive member 33B. In the magnetic detection device 1A, the pseudo solenoid coil 33 can be constituted by the upper conductive member 33A and the lower conductive member 33B, so that the bias magnetic field can be applied to the MI element 21 by the pseudo solenoid coil 33.

上記磁気検出装置1Aは、電力供給用の配線パターン51、52が形成されたベース基材53を備える。下側基材41は、ベース基材53に積層される。下側導電部材33Bは、配線パターン51、52に直接接続される。この構成により、磁気検出装置1Aは、配線パターン51、52を介して下側導電部材33Bに電力を供給することができる。   The magnetic detection device 1A includes a base substrate 53 on which wiring patterns 51 and 52 for supplying power are formed. The lower base material 41 is laminated on the base base material 53. The lower conductive member 33B is directly connected to the wiring patterns 51 and 52. With this configuration, the magnetic detection device 1 </ b> A can supply power to the lower conductive member 33 </ b> B via the wiring patterns 51 and 52.

〔第2実施形態〕
次に、第2実施形態に係る磁気検出装置1Bについて説明する。磁気検出装置1Bは、MI素子21の代わりにMR素子61を用いて外部磁界を検出する点で第1実施形態に係る磁気検出装置1と異なる。なお、第2実施形態では、第1実施形態と同等の構成要素には同じ符号を付し、その詳細な説明を省略する。
[Second Embodiment]
Next, a magnetic detection device 1B according to the second embodiment will be described. The magnetic detection device 1B is different from the magnetic detection device 1 according to the first embodiment in that an external magnetic field is detected using an MR element 61 instead of the MI element 21. In the second embodiment, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

第2実施形態に係る磁気検出装置1Bは、図13に示すように、磁気検出部60と、磁気バイアス装置70とを備える。   As shown in FIG. 13, the magnetic detection device 1 </ b> B according to the second embodiment includes a magnetic detection unit 60 and a magnetic bias device 70.

磁気検出部60は、外部磁界を検出するものである。磁気検出部60は、磁気検出素子としての複数のMR(Magneto Resistive)素子61と、電極62と、バイパス配線63とを含んで構成される。MR素子61は、外部磁界により抵抗が変化する素子であり、例えば、AMR(異方性磁気抵抗素子;Anisotropic Magneto Resistive)素子等がある。MR素子61は、電流が印加され、外部磁界により変化した抵抗値を出力する。MR素子61は、第2延在方向に沿って延在して形成されている。MR素子61は、或る一定の方向(磁界検出方向)の外部磁界を検出する。つまり、MR素子61は、外部磁界に反応する感度方向(磁界検出方向)が一定の方向である。MR素子61の磁界検出方向は、当該MR素子61が延在する第2延在方向に交差(例えば直交)する方向である。MR素子61は、磁界検出方向における外部磁界の大きさ及び向きを検出する。MR素子61は、検出した外部磁界の大きさ及び向きを抵抗値の変化として出力する。   The magnetic detection unit 60 detects an external magnetic field. The magnetic detection unit 60 includes a plurality of MR (Magneto Resistive) elements 61 serving as magnetic detection elements, an electrode 62, and a bypass wiring 63. The MR element 61 is an element whose resistance is changed by an external magnetic field, such as an AMR (anisotropic magnetoresistive element) element. The MR element 61 is applied with a current and outputs a resistance value changed by an external magnetic field. The MR element 61 is formed extending along the second extending direction. The MR element 61 detects an external magnetic field in a certain direction (magnetic field detection direction). That is, the MR element 61 has a constant sensitivity direction (magnetic field detection direction) that reacts to an external magnetic field. The magnetic field detection direction of the MR element 61 is a direction that intersects (for example, is orthogonal to) the second extending direction in which the MR element 61 extends. The MR element 61 detects the magnitude and direction of the external magnetic field in the magnetic field detection direction. The MR element 61 outputs the detected magnitude and direction of the external magnetic field as a change in resistance value.

電極62は、電流が印加されるものである。電極62は、ミアンダ状に接続された一方側のMR素子61の端子に接続される電極62Aと、ミアンダ状に接続された他方側のMR素子61の端子に接続される電極62Bとを含んで構成される。電極62A、62Bは、疑似ソレノイドコイル71の上側導電部材71A及び下側導電部材(図示省略)と重ならないことが好ましい。この構成により、電極62A、62Bは、疑似ソレノイドコイル71に干渉することを抑制できる。電極62A、62Bは、電源(図示省略)に接続され、当該電源により電流が印加され、MR素子61に電流を流す。   The electrode 62 is applied with a current. The electrode 62 includes an electrode 62A connected to a terminal of one MR element 61 connected in a meander shape and an electrode 62B connected to a terminal of the other MR element 61 connected in a meander shape. Composed. The electrodes 62A and 62B preferably do not overlap the upper conductive member 71A and the lower conductive member (not shown) of the pseudo solenoid coil 71. With this configuration, the electrodes 62 </ b> A and 62 </ b> B can suppress interference with the pseudo solenoid coil 71. The electrodes 62 </ b> A and 62 </ b> B are connected to a power source (not shown), and a current is applied from the power source to flow the current through the MR element 61.

バイパス配線63は、MR素子61同士を電気的に接続するものである(図13参照)。バイパス配線63は、例えば、隣り合うMR素子61同士を接続し、各MR素子61をミアンダ状に接続する。   The bypass wiring 63 is for electrically connecting the MR elements 61 to each other (see FIG. 13). The bypass wiring 63 connects, for example, adjacent MR elements 61 and connects each MR element 61 in a meander shape.

磁気バイアス装置70は、MR素子61にバイアス磁界を印加するものである。磁気バイアス装置70は、疑似ソレノイドコイル71を含んで構成される。疑似ソレノイドコイル71は、MR素子61にバイアス磁界を印加するものである。疑似ソレノイドコイル71は、ソレノイドコイル100(図4参照)を疑似的に構成するものである。疑似ソレノイドコイル71は、上側導電部材71A及び下側導電部材を含んで構成される。上側導電部材71Aは、平面状(シート状)に形成された導電性の部材である。上側導電部材71Aは、例えば、薄膜状に形成された配線パターンである。上側導電部材71Aは、矩形状に形成され、MR素子61の積層方向の一方側に積層される。上側導電部材71Aは、MR素子61が外部磁界を検出する磁界検出方向と交差する方向に沿って電流が流れる。典型的には、上側導電部材71Aは、磁界検出方向と直交する方向に沿って電流が流れる。   The magnetic bias device 70 applies a bias magnetic field to the MR element 61. The magnetic bias device 70 includes a pseudo solenoid coil 71. The pseudo solenoid coil 71 applies a bias magnetic field to the MR element 61. The pseudo solenoid coil 71 is a pseudo configuration of the solenoid coil 100 (see FIG. 4). The pseudo solenoid coil 71 includes an upper conductive member 71A and a lower conductive member. The upper conductive member 71A is a conductive member formed in a planar shape (sheet shape). The upper conductive member 71A is, for example, a wiring pattern formed in a thin film shape. The upper conductive member 71A is formed in a rectangular shape, and is laminated on one side of the MR element 61 in the lamination direction. In the upper conductive member 71A, a current flows along the direction intersecting the magnetic field detection direction in which the MR element 61 detects an external magnetic field. Typically, current flows through upper conductive member 71A along a direction orthogonal to the magnetic field detection direction.

下側導電部材は、平面状(シート状)に形成された導電性の部材である。下側導電部材は、例えば、薄膜状に形成された配線パターンである。下側導電部材は、上側導電部材71Aと同等の大きさの矩形状に形成される。下側導電部材は、MR素子61の積層方向の他方側に積層され、当該積層方向に沿って上側導電部材71Aに対向する。下側導電部材は、MR素子61が外部磁界を検出する磁界検出方向と交差する方向に沿って電流が流れる。典型的には、下側導電部材は、磁界検出方向と直交する方向に沿って電流が流れる。   The lower conductive member is a conductive member formed in a planar shape (sheet shape). The lower conductive member is, for example, a wiring pattern formed in a thin film shape. The lower conductive member is formed in a rectangular shape having the same size as the upper conductive member 71A. The lower conductive member is stacked on the other side of the MR element 61 in the stacking direction, and faces the upper conductive member 71A along the stacking direction. In the lower conductive member, a current flows along the direction intersecting the magnetic field detection direction in which the MR element 61 detects the external magnetic field. Typically, a current flows through the lower conductive member along a direction orthogonal to the magnetic field detection direction.

上側導電部材71A及び下側導電部材は、それぞれ逆向きに電流が流れる。例えば、上側導電部材71Aは、通電方向の一方側から他方側に向けて電流が流れ、下側導電部材は、通電方向の他方側から一方側に向けて電流が流れる。これにより、上側導電部材71A及び下側導電部材は、線状導体101が螺旋状に巻き回されて形成されたソレノイドコイル100を疑似的に構成することができる。この結果、磁気バイアス装置70は、図13に示すように、MR素子61の磁界検出方向に沿ってバイアス磁界H3を印加することができる。このバイアス磁界H3により、磁気検出装置1Bは、MR素子61の出力抵抗値を所定の範囲に設定できるので、正方向及び負方向の外部磁界を適正に検出することができる。   A current flows through the upper conductive member 71A and the lower conductive member in opposite directions. For example, in the upper conductive member 71A, a current flows from one side in the energizing direction to the other side, and in the lower conductive member, a current flows from the other side in the energizing direction toward the one side. Thus, the upper conductive member 71A and the lower conductive member can pseudo-configure the solenoid coil 100 formed by winding the linear conductor 101 in a spiral. As a result, the magnetic bias device 70 can apply the bias magnetic field H3 along the magnetic field detection direction of the MR element 61 as shown in FIG. With this bias magnetic field H3, the magnetic detection device 1B can set the output resistance value of the MR element 61 within a predetermined range, so that it can properly detect the external magnetic field in the positive and negative directions.

以上のように、第2実施形態に係る磁気検出装置1Bにおいて、MR素子61は、第2延在方向に沿って延在して形成され、磁界検出方向が第2延在方向に交差する方向である。上側導電部材71A及び下側電部材は、第2延在方向に沿って電流が流れる。この構成により、磁気検出装置1Bは、疑似ソレノイドコイル71によりMR素子61にバイアス磁界を印加することができる。   As described above, in the magnetic detection device 1B according to the second embodiment, the MR element 61 is formed to extend along the second extending direction, and the direction in which the magnetic field detection direction intersects the second extending direction. It is. Current flows through the upper conductive member 71A and the lower electric member along the second extending direction. With this configuration, the magnetic detection device 1 </ b> B can apply a bias magnetic field to the MR element 61 by the pseudo solenoid coil 71.

〔第3実施形態〕
次に、第3実施形態に係る磁気検出装置1Cについて説明する。磁気検出装置1Cは、MR素子61Aの磁界検出方向(感度方向)Pに対して直交する方向にバイアス磁界H4を印加する点で第1及び第2実施形態と異なる。なお、第3実施形態では、第1及び第2実施形態と同等の構成要素には同じ符号を付し、その詳細な説明を省略する。
[Third Embodiment]
Next, a magnetic detection apparatus 1C according to the third embodiment will be described. The magnetic detection device 1C is different from the first and second embodiments in that a bias magnetic field H4 is applied in a direction orthogonal to the magnetic field detection direction (sensitivity direction) P of the MR element 61A. Note that, in the third embodiment, the same components as those in the first and second embodiments are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

MR素子61Aは、例えば、スピンバルブGMR(Giant Magnetic Resistance)素子、スピンバルブTMR(Tunnnel Magneto Resistance)素子である。MR素子61Aは、図17に示すように、磁界強度(合成磁界角度)に対して或る閾値を境に抵抗値が変わる特性を持っており、例えば、メモリの読み取り素子として利用されている。ここで、図17は、MR素子61Aの磁界強度(合成磁界角度)と抵抗値との関係を示す図であり、縦軸が磁界強度(合成磁界角度)及び抵抗値の各パラメータ値を表し、横軸が外部磁界の強さを表す。MR素子61Aは、バイアス磁界H4を用いて磁界の角度を検出することにより外部磁界(検出磁界)Qの大きさを検出する。MR素子61Aは、固定層の磁化の向きと自由層の磁化の向きとの関係によって抵抗値が変化する。固定層は、外部磁界Qによって磁化の向きが変化しない層であり、自由層は、外部磁界Qによって磁化の向きが変化する層である。自由層の磁化の向きの変化は、固定層の磁化の向きと同じ方向の磁界の強さに対しては或る閾値で急激に変化し、一方、或る閾値を超えた磁界の強さでは磁界の向きに対しては連続的に変化する。   The MR element 61A is, for example, a spin valve GMR (Giant Magnetic Resistance) element or a spin valve TMR (Tunnel Magneto Resistance) element. As shown in FIG. 17, the MR element 61A has a characteristic that the resistance value changes with respect to the magnetic field strength (synthetic magnetic field angle) at a certain threshold, and is used as, for example, a memory reading element. Here, FIG. 17 is a diagram showing the relationship between the magnetic field strength (synthetic magnetic field angle) and the resistance value of the MR element 61A, and the vertical axis represents each parameter value of the magnetic field strength (synthetic magnetic field angle) and the resistance value. The horizontal axis represents the strength of the external magnetic field. The MR element 61A detects the magnitude of the external magnetic field (detected magnetic field) Q by detecting the angle of the magnetic field using the bias magnetic field H4. The resistance value of the MR element 61A varies depending on the relationship between the magnetization direction of the fixed layer and the magnetization direction of the free layer. The fixed layer is a layer whose magnetization direction is not changed by the external magnetic field Q, and the free layer is a layer whose magnetization direction is changed by the external magnetic field Q. The change in the magnetization direction of the free layer changes abruptly at a certain threshold with respect to the magnetic field strength in the same direction as the magnetization direction of the fixed layer, while the magnetic field strength exceeding a certain threshold value changes. It changes continuously with the direction of the magnetic field.

ここで、磁気検出装置1Cにおいて、上側導電部材33A及び下側導電部材33Bは、MR素子61Aが外部磁界Qを検出する磁界検出方向(感度方向)Pに沿って電流が流れ、且つ、それぞれ逆向きに電流が流れる。これにより、磁気検出装置1Cは、図14に示すように、磁界検出方向(感度方向)Pに対して交差方向(直交方向)に沿ってバイアス磁界H4を印加する。磁気検出装置1Cは、図15に示すように、磁界検出方向(感度方向)Pに沿って外部磁界Qを検出した場合、図16に示すように、MR素子61Aにかかる磁界が、バイアス磁界H4及び外部磁界Qを合成した合成磁界H5となる。MR素子61Aは、外部磁界Qが大きくなるにつれて合成磁界H5も大きくなり、合成磁界H5の強さに応じた抵抗値に基づいて外部磁界Qを検出することができる。なお、MR素子61A以外のAMR素子やMI素子においても、合成磁界H5による角度依存性を有しているので適用することができる。   Here, in the magnetic detection device 1 </ b> C, the upper conductive member 33 </ b> A and the lower conductive member 33 </ b> B have a current flowing along the magnetic field detection direction (sensitivity direction) P in which the MR element 61 </ b> A detects the external magnetic field Q and vice versa. Current flows in the direction. Thereby, the magnetic detection device 1C applies a bias magnetic field H4 along the crossing direction (orthogonal direction) with respect to the magnetic field detection direction (sensitivity direction) P as shown in FIG. As shown in FIG. 15, when the external magnetic field Q is detected along the magnetic field detection direction (sensitivity direction) P as shown in FIG. 15, the magnetic detection device 1C generates a bias magnetic field H4 as shown in FIG. And the combined magnetic field H5 obtained by combining the external magnetic field Q. The MR element 61A increases the composite magnetic field H5 as the external magnetic field Q increases, and can detect the external magnetic field Q based on a resistance value corresponding to the strength of the composite magnetic field H5. It should be noted that AMR elements and MI elements other than the MR element 61A can also be applied because they have angle dependency due to the composite magnetic field H5.

以上のように、磁気検出装置1Cにおいて、上側導電部材33A及び下側導電部材33Bは、MR素子61Aが外部磁界Qを検出する磁界検出方向Pに沿って電流が流れ、且つ、それぞれ逆向きに電流が流れる。この構成により、磁気検出装置1Cは、磁界検出方向Pに交差(直交)する方向に沿ってMR素子61Aにバイアス磁界H4を印加することができる。これにより、磁気検出装置1Cは、バイアス磁界H4及び外部磁界Qにより形成される合成磁界H5の強さに応じた抵抗値に基づいて外部磁界Qを検出することができる。   As described above, in the magnetic detection device 1C, the upper conductive member 33A and the lower conductive member 33B have a current flowing along the magnetic field detection direction P in which the MR element 61A detects the external magnetic field Q, and in the opposite directions. Current flows. With this configuration, the magnetic detection device 1 </ b> C can apply the bias magnetic field H <b> 4 to the MR element 61 </ b> A along the direction intersecting (orthogonal) with the magnetic field detection direction P. As a result, the magnetic detection device 1C can detect the external magnetic field Q based on the resistance value corresponding to the strength of the combined magnetic field H5 formed by the bias magnetic field H4 and the external magnetic field Q.

〔第1〜第3実施形態の変形例〕
次に、第1〜第3実施形態の変形例について説明する。磁気検出素子は、MI素子21又はMR素子61等を用いて説明したが、これに限定されず、外部磁界を検出可能な素子であれば、その他の素子であってもよい。
[Modification of the first to third embodiments]
Next, modified examples of the first to third embodiments will be described. The magnetic detection element has been described using the MI element 21 or the MR element 61. However, the present invention is not limited to this, and other elements may be used as long as they can detect an external magnetic field.

凹部42bは、上側基材42の上側基材内面42hに形成されている例について説明したが、これに限定されない。凹部42bは、下側基材41の下側基材内面41aに形成されてもよいし、下側基材41の下側基材内面41a及び上側基材外面42gの上側基材内面42hの両方に形成されてもよい。   Although the recessed part 42b demonstrated the example formed in 42 h of upper base material inner surfaces of the upper base material 42, it is not limited to this. The recess 42b may be formed on the lower base material inner surface 41a of the lower base material 41, or both the lower base material inner surface 41a of the lower base material 41 and the upper base material inner surface 42h of the upper base material outer surface 42g. May be formed.

下側導電部材33Bは、下側基材41をベース基材53に積層することで配線パターン51、52に電気的に直接接続される例について説明したが、これに限定されない。上側導電部材33Aは、上側基材42をベース基材53に積層することで配線パターン51、52に電気的に直接接続されてもよい。この場合、下側導電部材33Bは、ワイヤ57、58を介して配線パターン55、56に接続される。   Although the lower conductive member 33 </ b> B has been described with respect to the example in which the lower base 41 is laminated on the base base 53 and electrically connected to the wiring patterns 51 and 52, the present invention is not limited thereto. The upper conductive member 33 </ b> A may be electrically connected directly to the wiring patterns 51 and 52 by laminating the upper substrate 42 on the base substrate 53. In this case, the lower conductive member 33 </ b> B is connected to the wiring patterns 55 and 56 via the wires 57 and 58.

1、1A、1B 磁気検出装置
21 MI素子(磁気検出素子)
33A 上側導電部材(第1導電部材)
33B 下側導電部材(第2導電部材)
30、70 磁気バイアス装置
61、61A MR素子(磁気検出素子)
41 下側基材(第2基材)
42 上側基材(第1基材)
42g 上側基材外面(第1外面)
42h 上側基材内面(第1内面)
41b 下側基材外面(第2外面)
41a 下側基材内面(第2内面)
42b 凹部
53 ベース基材(第3基材)
51、52 配線パターン
1, 1A, 1B Magnetic detection device 21 MI element (magnetic detection element)
33A Upper conductive member (first conductive member)
33B Lower conductive member (second conductive member)
30, 70 Magnetic bias device 61, 61A MR element (magnetic detection element)
41 Lower substrate (second substrate)
42 Upper substrate (first substrate)
42g Upper base material outer surface (first outer surface)
42h Upper base material inner surface (first inner surface)
41b Lower substrate outer surface (second outer surface)
41a Lower base inner surface (second inner surface)
42b Recess 53 Base base material (third base material)
51, 52 Wiring pattern

Claims (8)

外部磁界を検出する磁気検出素子と、
平面状に形成され前記磁気検出素子の積層方向の一方側に積層される第1導電部材と、
平面状に形成され前記磁気検出素子の前記積層方向の他方側に積層され前記積層方向に沿って前記第1導電部材に対向する第2導電部材と、を備え、
前記第1導電部材及び前記第2導電部材は、電流が印加され前記磁気検出素子にバイアス磁界を印加することを特徴とする磁気検出装置。
A magnetic detection element for detecting an external magnetic field;
A first conductive member formed in a planar shape and stacked on one side in the stacking direction of the magnetic detection elements;
A second conductive member formed in a planar shape and stacked on the other side of the stacking direction of the magnetic detection element and facing the first conductive member along the stacking direction,
The magnetic detection device according to claim 1, wherein a current is applied to the first conductive member and the second conductive member to apply a bias magnetic field to the magnetic detection element.
前記第1導電部材及び前記第2導電部材は、前記磁気検出素子が前記外部磁界を検出する磁界検出方向と交差する方向に沿って電流が流れ、且つ、それぞれ逆向きに電流が流れる請求項1に記載の磁気検出装置。   The current flows through the first conductive member and the second conductive member along a direction intersecting a magnetic field detection direction in which the magnetic detection element detects the external magnetic field, and a current flows in the opposite direction. The magnetic detection apparatus described in 1. 前記第1導電部材及び前記第2導電部材は、前記磁気検出素子が前記外部磁界を検出する磁界検出方向に沿って電流が流れ、且つ、それぞれ逆向きに電流が流れる請求項1に記載の磁気検出装置。   2. The magnetism according to claim 1, wherein a current flows in the first conductive member and the second conductive member along a magnetic field detection direction in which the magnetic detection element detects the external magnetic field, and a current flows in the opposite direction. Detection device. 前記磁気検出素子は、第1延在方向に沿って延在して形成され、前記磁気検出素子が前記外部磁界を検出する磁界検出方向が前記第1延在方向に沿った方向であり、
前記第1導電部材及び前記第2導電部材は、前記第1延在方向と交差する方向に沿って電流が流れる請求項1又は2に記載の磁気検出装置。
The magnetic detection element is formed extending along a first extending direction, and a magnetic field detection direction in which the magnetic detection element detects the external magnetic field is a direction along the first extending direction,
The magnetic detection device according to claim 1, wherein a current flows through the first conductive member and the second conductive member along a direction intersecting the first extending direction.
前記磁気検出素子は、第2延在方向に沿って延在して形成され、前記磁気検出素子が前記外部磁界を検出する磁界検出方向が前記第2延在方向に交差する方向であり、
前記第1導電部材及び前記第2導電部材は、前記第2延在方向に沿って電流が流れる請求項1又は2に記載の磁気検出装置。
The magnetic detection element is formed to extend along a second extending direction, and a magnetic field detection direction in which the magnetic detection element detects the external magnetic field intersects the second extending direction,
3. The magnetic detection device according to claim 1, wherein current flows through the first conductive member and the second conductive member along the second extending direction.
前記第1導電部材が第1外面に形成された第1基材と、
前記第2導電部材が第2外面に形成された第2基材と、を備え、
前記第1基材及び前記第2基材は、前記第1基材の前記第1外面側とは反対側の面である第1内面、又は、前記第2基材の前記第2外面側とは反対側の面である第2内面の少なくとも一方に凹部が形成され、
前記磁気検出素子は、前記第1内面及び前記第2内面を前記積層方向に沿って組み合わせた状態で前記凹部に収容される請求項1〜5のいずれか1項に記載の磁気検出装置。
A first base material having the first conductive member formed on a first outer surface;
A second base member formed on the second outer surface of the second conductive member,
The first base material and the second base material are a first inner surface that is a surface opposite to the first outer surface side of the first base material, or the second outer surface side of the second base material. Is formed with a recess in at least one of the second inner surface, which is the opposite surface,
The magnetic detection device according to claim 1, wherein the magnetic detection element is housed in the recess in a state where the first inner surface and the second inner surface are combined along the stacking direction.
電力供給用の配線パターンが形成された第3基材を備え、
前記第2基材は、前記第3基材に積層され、
前記第2導電部材は、前記配線パターンに直接接続される請求項6に記載の磁気検出装置。
A third substrate on which a wiring pattern for power supply is formed;
The second base material is laminated on the third base material,
The magnetic detection device according to claim 6, wherein the second conductive member is directly connected to the wiring pattern.
平面状に形成された導電部材であり外部磁界を検出する磁気検出素子の積層方向の一方側に積層される第1導電部材と、
平面状に形成された導電部材であり前記磁気検出素子の前記積層方向の他方側に積層され前記積層方向に沿って前記第1導電部材に対向する第2導電部材と、を備え、
前記第1導電部材及び前記第2導電部材は、電流が印加され前記磁気検出素子にバイアス磁界を印加することを特徴とする磁気バイアス装置。
A first conductive member that is laminated on one side in the laminating direction of a magnetic sensing element that is a planar conductive member that detects an external magnetic field;
A conductive member formed in a planar shape and stacked on the other side of the stacking direction of the magnetic sensing element and facing the first conductive member along the stacking direction,
A magnetic bias device, wherein a current is applied to the first conductive member and the second conductive member to apply a bias magnetic field to the magnetic detection element.
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