JP2019191127A - Foreign matter inspection method, foreign matter inspection device and slitter - Google Patents

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Abstract

To provide a foreign matter inspection method, foreign matter inspection device and slitter that can identify a location suspicious about a foreign matter of metal species in a film-like inspected object.SOLUTION: A foreign matter inspection method is configured to inspect a foreign matter likely to be contained with respect to a first film serving a film-like inspected object to be conveyed from upstream to downstream. The foreign matter inspection method has: a magnetic detection step of detecting a signal of a magnetic detection unit plurally lined in a width direction orthogonal to a conveyance direction; and a first foreign matter coordinate map preparation step of preparing a first foreign matter coordinate map MAP1 indicative of a location of a first foreign matter Me in the first film on the basis of a location of the magnetic detection unit in which a signal value is a prescribed threshold in the magnetic detection step and a feed coordinate in which the signal of the magnetic detection unit outputs the threshold in a conveyance direction of the first film.SELECTED DRAWING: Figure 7

Description

本発明は、異物検査方法、異物検査装置及びスリッターに関する。   The present invention relates to a foreign matter inspection method, a foreign matter inspection device, and a slitter.

反射率の違いをもとに金属種の異物を検出する異物検出工程の技術が特許文献1に記載されている。フラックスゲートセンサを用いて、被検査物に混入する微細な磁性体の金属異物を検知することができる微細金属検出装置が特許文献2に記載されている。上流側から下流側に向かう移動方向に沿って進む被検査物に含まれた磁性金属異物を永久磁石と検出コイルとを使用して検出する磁気検出装置が特許文献3に記載されている。   Patent Document 1 discloses a technique of a foreign matter detection process for detecting a foreign matter of a metal type based on a difference in reflectance. Patent Document 2 discloses a fine metal detection device that can detect fine metal foreign metal particles mixed into an object to be inspected using a fluxgate sensor. Patent Document 3 discloses a magnetic detection device that uses a permanent magnet and a detection coil to detect a magnetic metal foreign object contained in an object to be inspected that travels along a moving direction from the upstream side toward the downstream side.

特開2003−215051号公報JP 2003-215051 A 特開2011−237181号公報JP 2011-237181 A 特開2014−224811号公報JP 2014-224811 A

ところで、フィルム状の被検査対象の生産設備は、金属でできていることが多く、金属種の異物の混入箇所の特定が予測しにくい。金属種の異物が小さくなると、反射率の差が小さくなり、特許文献1の技術によっても、金属種の異物の区別がつきにくく、金属種の異物があっても、正常なフィルム状の被検査対象として判別されてしまう可能性がある。また、特許文献1の技術では、フィルム状の被検査対象自体の色によって、判別精度が影響を受けてしまう可能性がある。   By the way, film-like production equipment to be inspected is often made of metal, and it is difficult to predict the location of contamination of metal species. When the metal type foreign material becomes small, the difference in reflectance becomes small, and even with the technique of Patent Document 1, it is difficult to distinguish the metal type foreign material, and even if there is a metal type foreign material, a normal film-like inspection is performed. There is a possibility of being identified as a target. Moreover, in the technique of Patent Document 1, the discrimination accuracy may be affected by the color of the film-like object to be inspected.

そこで、フィルム状の被検査対象に対して、特許文献2に記載されたフラックスゲートセンサなどの磁気検出装置により、金属種の異物を検出することが考えられる。しかしながら、磁気検出装置が金属種の異物を検出すると、フィルム状の被検査対象の生産を止めて、異物のフィルム状の被検査対象の全体を破棄せざるを得ず、フィルム状の被検査対象の歩留まりが低下してしまう可能性がある。   Therefore, it is conceivable to detect a foreign substance of a metal type with respect to a film-like object to be inspected by a magnetic detection device such as a fluxgate sensor described in Patent Document 2. However, if the magnetic detection device detects a foreign substance of a metal type, the production of the film-like object to be inspected must be stopped, and the entire film-like object to be inspected of foreign matter must be discarded. The yield may be reduced.

本発明の目的は、フィルム状の被検査対象内において、金属種の異物の疑いがある位置を特定できる異物検査方法、異物検査装置及びスリッターを提供することにある。   An object of the present invention is to provide a foreign substance inspection method, a foreign substance inspection apparatus, and a slitter capable of specifying a position where a metal type foreign substance is suspected in a film-like object to be inspected.

第1の態様の異物検査方法は、上流から下流へ搬送方向に搬送されるフィルム状の被検査対象である第1フィルムに対し、含まれる可能性のある異物を検査する異物検査方法であって、前記搬送方向に直交する幅方向に複数並べられた磁気検出部の信号を検出する磁気検出ステップと、前記磁気検出ステップにおいて、信号値が所定の閾値となった磁気検出部の前記幅方向の位置と、当該磁気検出部の信号が閾値を出力した前記第1フィルムの前記搬送方向の送り座標とに基づいて、前記第1フィルムにおける第1種異物の位置を示す第1異物座標マップを作成する第1異物座標マップ作成ステップと、を有する。この態様によれば、フィルム状の被検査対象内において、金属種の異物の疑いがある位置を特定できる。   A foreign matter inspection method according to a first aspect is a foreign matter inspection method for inspecting foreign matter that may be contained in a first film that is a film-like object to be inspected in a transport direction from upstream to downstream. A magnetic detection step for detecting a plurality of magnetic detection unit signals arranged in a width direction orthogonal to the transport direction; and in the magnetic detection step, in the width direction of the magnetic detection unit whose signal value has become a predetermined threshold value. Based on the position and the feed coordinates in the transport direction of the first film at which the signal of the magnetic detection unit outputs a threshold value, a first foreign matter coordinate map indicating the position of the first kind foreign matter on the first film is created. First foreign matter coordinate map creation step. According to this aspect, it is possible to specify a position where there is a suspicion of a foreign metal species in the film-like object to be inspected.

望ましい態様として、前記第1フィルムに、検査光を照射し、前記第1フィルムの画像を検出する画像検出ステップと、前記第1フィルムの画像から輝度差に基づいて、第2種異物を特定し、前記第1フィルムの画像を撮像した前記第1フィルムの前記搬送方向の送り座標と、当該画像における当該第2種異物の位置に基づいて、前記第1フィルムにおける当該第2種異物の位置を示す第2異物座標マップを作成する第2異物座標マップ作成ステップと、をさらに有し、前記第1異物座標マップにおいて、前記第1種異物がある領域を、第2異物座標マップに重ね、前記第1種異物がある領域と重なる第2種異物を第1種異物と判断する。これにより、位置精度の高い第2異物座標マップと同じ精度で、第1種異物を特定できる。   As a desirable mode, an image detection step of irradiating the first film with inspection light and detecting an image of the first film, and specifying a second type foreign matter based on a luminance difference from the image of the first film. The position of the second type foreign matter in the first film is determined based on the feed coordinates in the transport direction of the first film obtained by capturing an image of the first film and the position of the second type foreign matter in the image. A second foreign matter coordinate map creating step for creating a second foreign matter coordinate map to be shown, wherein in the first foreign matter coordinate map, the region containing the first kind foreign matter is overlaid on the second foreign matter coordinate map, The second type foreign matter that overlaps the region where the first type foreign matter is present is determined as the first type foreign matter. Thereby, the first type foreign matter can be specified with the same accuracy as the second foreign matter coordinate map with high positional accuracy.

望ましい態様として、前記第1フィルムに、検査光を照射し、前記第1フィルムの画像を検出する画像検出ステップと、前記第1フィルムの画像から輝度差に基づいて、第2種異物を特定し、前記第1フィルムの画像を撮像した前記第1フィルムの前記搬送方向の送り座標と、当該画像における当該第2種異物の位置に基づいて、前記第1フィルムにおける当該第2種異物の位置を示す第2異物座標マップを作成する第2異物座標マップ作成ステップと、前記第1異物座標マップにおいて、前記第1種異物がある領域を、第2異物座標マップに重ね、前記第1種異物がある領域と重なる第2種異物を第1種異物と置き換えた第3異物座標マップを作成する第3異物座標マップ作成ステップと、をさらに有する。これにより、第1種異物が存在すると疑われる領域については、第2種異物が全て第1種異物として扱われるので、第1種異物の見逃しが抑制される。   As a desirable mode, an image detection step of irradiating the first film with inspection light and detecting an image of the first film, and specifying a second type foreign matter based on a luminance difference from the image of the first film. The position of the second type foreign matter in the first film is determined based on the feed coordinates in the transport direction of the first film obtained by capturing an image of the first film and the position of the second type foreign matter in the image. A second foreign matter coordinate map creating step for creating a second foreign matter coordinate map to be shown; and in the first foreign matter coordinate map, an area containing the first foreign matter is overlaid on the second foreign matter coordinate map, and the first foreign matter is And a third foreign matter coordinate map creating step of creating a third foreign matter coordinate map in which the second kind foreign matter overlapping with a certain region is replaced with the first kind foreign matter. Thereby, since the second type foreign matter is all handled as the first type foreign matter in the region where the first type foreign matter is suspected, the oversight of the first type foreign matter is suppressed.

望ましい態様として、前記第1フィルムに、検査光を照射し、前記第1フィルムの画像を検出する画像検出ステップと、前記第1フィルムの画像から輝度差に基づいて、第2種異物を特定し、前記第1フィルムの画像を撮像した前記第1フィルムの前記搬送方向の送り座標と、当該画像における当該第2種異物の位置に基づいて、前記第1フィルムにおける当該第2種異物の位置を示す第2異物座標マップを作成する第2異物座標マップ作成ステップと、前記第1異物座標マップと、前記第2異物座標マップとを、同じ送り座標で比較し、前記第2異物座標マップにおいて、各前記第2種異物を中心にして前記幅方向に並べられた隣り合う前記磁気検出部の距離の1/2以下の範囲に、前記第1異物座標マップの前記第1種異物がある第2種異物を、第1種異物に置き換えた第3異物座標マップを作成する第3異物座標マップ作成ステップと、をさらに有する。これにより、精度の高い第2異物座標に基づいて、第1種異物か第2種異物かの判定が行われるので、誤判定が抑制される。   As a desirable mode, an image detection step of irradiating the first film with inspection light and detecting an image of the first film, and specifying a second type foreign matter based on a luminance difference from the image of the first film. The position of the second type foreign matter in the first film is determined based on the feed coordinates in the transport direction of the first film obtained by capturing an image of the first film and the position of the second type foreign matter in the image. A second foreign matter coordinate map creating step for creating a second foreign matter coordinate map to be shown, the first foreign matter coordinate map and the second foreign matter coordinate map are compared with the same feed coordinates, and in the second foreign matter coordinate map, The second foreign matter in the first foreign matter coordinate map is in the second range within a half or less of the distance between the adjacent magnetic detection units arranged in the width direction with the second foreign matter as the center. seed Objects and further includes third and foreign matter coordinates map creation step of creating a third foreign matter coordinates map obtained by replacing the first type foreign matter, the. Thereby, since it is determined based on the highly accurate second foreign material coordinates whether the foreign material is the first type foreign material or the second type foreign material, erroneous determination is suppressed.

望ましい態様として、前記第1フィルムが前記幅方向に設けられた複数のスリットで分割された複数の第2フィルムとされ、前記幅方向に設けられた複数のスリットの位置と、前記第3異物座標マップとに基づいて、前記第1種異物が含まれる第2フィルムを、前記第1種異物が含まれない第2フィルムよりも品質の等級を下げて評価する。これにより、第1種異物が含まれる第2フィルムが判明しているので、第1フィルム全体を破棄せず、製品の歩留まりが向上する。   As a desirable mode, the first film is a plurality of second films divided by a plurality of slits provided in the width direction, the positions of the plurality of slits provided in the width direction, and the third foreign matter coordinates. Based on the map, the second film containing the first type foreign matter is evaluated with a quality grade lower than that of the second film not containing the first type foreign matter. Thereby, since the 2nd film containing a 1st type foreign material is known, the yield of a product improves without discarding the whole 1st film.

望ましい態様として、1つの前記磁気検出部が磁気を検出可能な前記幅方向の磁気検出幅が、当該磁気検出部と隣り合う磁気検出部の磁気検出幅とオーバーラップしており、前記搬送方向において、前記送り座標の所定範囲内で、隣り合う前記磁気検出部が前記閾値以上の信号を検出した場合に、大きい信号を出力した磁気検出部側の前記幅方向の位置座標を付与した前記第1種異物を前記第1異物座標マップにプロットする。これにより、隣り合う磁気検出部の間にある第1種異物の検知精度を確保することができる。   As a desirable mode, the magnetic detection width in the width direction in which one magnetic detection unit can detect magnetism overlaps the magnetic detection width of the magnetic detection unit adjacent to the magnetic detection unit, and in the transport direction, In the predetermined range of the feed coordinates, when the adjacent magnetic detection unit detects a signal equal to or greater than the threshold value, the first position coordinate in the width direction on the side of the magnetic detection unit that outputs a large signal is given. The seed foreign matter is plotted on the first foreign matter coordinate map. Thereby, the detection precision of the 1st type foreign material between adjacent magnetism detection parts is securable.

望ましい態様として、前記磁気検出部は、フラックスゲートセンサである。これにより、磁化された第1種異物が精度よく検出される。   As a desirable mode, the magnetic detection part is a fluxgate sensor. Thereby, the magnetized first type foreign matter is detected with high accuracy.

望ましい態様として、0.05mm以上の前記第1種異物に対して、1つの前記磁気検出部が前記閾値以上の信号を出力する。これにより、0.05mm以上の第1種異物が精度よく検出できる。 As a desirable mode, one magnetic detection unit outputs a signal equal to or higher than the threshold for the first type foreign matter of 0.05 mm 2 or more. Thereby, 0.05 mm < 2 > or more type 1 foreign material can be detected accurately.

望ましい態様として、前記第1フィルムは、前記磁気検出部の上流側において、帯磁器の磁界を通過する。これにより、磁気検出部は、磁化された第1種異物を検知できる。   As a desirable mode, the first film passes through the magnetic field of the magnetic porcelain on the upstream side of the magnetic detection unit. Thereby, the magnetic detection part can detect the magnetized 1st type foreign material.

望ましい態様として、前記第1フィルムは、前記磁気検出部の上流側かつ前記帯磁器の下流において、静電除去装置の処理を通過する。これにより、磁気検出部の信号ノイズが低減する。   As a desirable mode, the first film passes through the process of the electrostatic removal device on the upstream side of the magnetic detection unit and on the downstream side of the magnet. Thereby, the signal noise of a magnetic detection part reduces.

第2の態様の異物検査装置は、上流から下流へ搬送方向に搬送されるフィルム状の被検査対象である第1フィルムに対し、含まれる可能性のある異物を検査する異物検査装置であって、前記第1フィルムの搬送方向の送り座標を検出する位置検出装置と、前記搬送方向に直交する幅方向に複数並べられた磁気検出部の信号を検出する磁気検出装置と、信号値が所定の閾値となった磁気検出部の前記幅方向の位置と、当該磁気検出部の信号が閾値を出力した前記第1フィルムの前記搬送方向の送り座標とに基づいて、前記第1フィルムにおける第1種異物の位置を示す第1異物座標マップを作成する解析装置と、を有する。この態様によれば、フィルム状の被検査対象内において、金属種の異物の疑いがある位置を特定できる。   The foreign matter inspection apparatus according to the second aspect is a foreign matter inspection device that inspects a foreign matter that may be contained in a first film that is a film-like object to be inspected in the transport direction from upstream to downstream. A position detection device that detects feed coordinates in the transport direction of the first film, a magnetic detection device that detects signals from a plurality of magnetic detectors arranged in a width direction orthogonal to the transport direction, and a signal value is a predetermined value Based on the position in the width direction of the magnetic detection unit that has become the threshold value and the feed coordinates in the transport direction of the first film from which the signal of the magnetic detection unit has output the threshold value, the first type in the first film And an analysis device that creates a first foreign matter coordinate map indicating the position of the foreign matter. According to this aspect, it is possible to specify a position where there is a suspicion of a foreign metal species in the film-like object to be inspected.

望ましい態様として、前記第1フィルムに、検査光を照射し、前記第1フィルムの画像を検出する画像検出装置をさらに有し、前記解析装置は、前記第1フィルムの画像から輝度差に基づいて、第2種異物を特定し、前記第1フィルムの画像を撮像した前記第1フィルムの前記搬送方向の送り座標と、当該画像における当該第2種異物の位置に基づいて、前記第1フィルムにおける当該第2種異物の位置を示す第2異物座標マップを作成し、前記第1異物座標マップにおいて、前記第1種異物がある領域を、第2異物座標マップに重ね、前記第1種異物がある領域と重なる第2種異物を第1種異物と判断する。これにより、位置精度の高い第2異物座標マップと同じ精度で、第1種異物を特定できる。   As a desirable mode, the first film is further irradiated with inspection light to detect an image of the first film, and the analysis device is based on a luminance difference from the image of the first film. Based on the feed coordinates in the transport direction of the first film, in which the second type foreign matter is identified and the image of the first film is captured, and the position of the second type foreign matter in the image, A second foreign matter coordinate map indicating the position of the second foreign matter is created, and an area where the first foreign matter is overlapped on the second foreign matter coordinate map in the first foreign matter coordinate map, The second type foreign matter that overlaps a certain area is determined as the first type foreign matter. Thereby, the first type foreign matter can be specified with the same accuracy as the second foreign matter coordinate map with high positional accuracy.

第3の態様のスリッターは、上流から下流へ搬送方向に第1フィルムを搬送する走行ロールと、前記第1フィルムにスリットを入れて、複数の第2フィルムに分割するカッターロールと、前記カッターロールの上流側において、前記第1フィルムを検査対象とし、前記第1フィルムに含まれる可能性のある異物を検査する異物検査装置と、を有し、前記異物検査装置は、前記第1フィルムの搬送方向の送り座標を検出する位置検出装置と、前記搬送方向に直交する幅方向に複数並べられた磁気検出部の信号を検出する磁気検出装置と、信号値が所定の閾値となった磁気検出部の前記幅方向の位置と、当該磁気検出部の信号が閾値を出力した前記第1フィルムの前記搬送方向の送り座標とに基づいて、前記第1フィルムにおける第1種異物の位置を示す第1異物座標マップを作成する解析装置と、を有する。この態様によれば、フィルム状の被検査対象内において、金属種の異物の疑いがある位置を特定できる。   The slitter according to the third aspect includes a travel roll that transports the first film in the transport direction from upstream to downstream, a cutter roll that divides the first film into a plurality of second films, and the cutter roll. And a foreign matter inspection device for inspecting foreign matter that may be contained in the first film, the foreign matter inspection device transporting the first film. A position detection device for detecting a feed coordinate in the direction, a magnetic detection device for detecting a plurality of magnetic detection unit signals arranged in a width direction orthogonal to the transport direction, and a magnetic detection unit having a signal value at a predetermined threshold value The position of the first foreign matter in the first film based on the position in the width direction and the feed coordinates in the transport direction of the first film from which the signal of the magnetic detection unit outputs a threshold value Having an analysis device for creating a first foreign matter coordinate map showing the. According to this aspect, it is possible to specify a position where there is a suspicion of a foreign metal species in the film-like object to be inspected.

望ましい態様として、前記異物検査装置は、前記第1フィルムに、検査光を照射し、前記第1フィルムの画像を検出する画像検出装置をさらに有し、前記解析装置は、前記第1フィルムの画像から輝度差に基づいて、第2種異物を特定し、前記第1フィルムの画像を撮像した前記第1フィルムの前記搬送方向の送り座標と、当該画像における当該第2種異物の位置に基づいて、前記第1フィルムにおける当該第2種異物の位置を示す第2異物座標マップを作成し、前記第1異物座標マップにおいて、前記第1種異物がある領域を、第2異物座標マップに重ね、前記第1種異物がある領域と重なる第2種異物を第1種異物と判断する。これにより、位置精度の高い第2異物座標マップと同じ精度で、第1種異物を特定できる。   As a desirable mode, the foreign object inspection device further includes an image detection device that irradiates the first film with inspection light and detects an image of the first film, and the analysis device includes an image of the first film. Based on the difference in brightness from the second type foreign matter, based on the feed coordinates in the transport direction of the first film that captured the image of the first film, and the position of the second type foreign matter in the image , Creating a second foreign matter coordinate map indicating the position of the second type foreign matter on the first film, and in the first foreign matter coordinate map, superimposing a region with the first type foreign matter on the second foreign matter coordinate map, The second type foreign matter that overlaps the region with the first type foreign matter is determined as the first type foreign matter. Thereby, the first type foreign matter can be specified with the same accuracy as the second foreign matter coordinate map with high positional accuracy.

上述した第1の態様から第3の態様によれば、フィルム状の被検査対象内において、金属種の異物の疑いがある位置が特定される。   According to the first to third aspects described above, a position where there is a suspicion of a foreign metal species is specified in the film-like object to be inspected.

図1は、本実施形態の異物検査装置を備えたスリッターの全体構成を示す模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing the overall configuration of a slitter equipped with the foreign substance inspection apparatus of the present embodiment. 図2は、本実施形態の画像検出装置の模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram of the image detection apparatus of the present embodiment. 図3は、本実施形態の磁気検出装置の位置と磁気検出領域を説明するための模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram for explaining the position and the magnetic detection region of the magnetic detection device of the present embodiment. 図4は、本実施形態において、隣り合う3つの磁気検出部の検出例を説明するための説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram for explaining a detection example of three adjacent magnetic detection units in the present embodiment. 図5は、本実施形態の異物検査方法のフローチャートを説明するための説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram for explaining a flowchart of the foreign matter inspection method of the present embodiment. 図6は、本実施形態の異物検査方法において、第3異物座標マップ作成を説明するフローチャートである。FIG. 6 is a flowchart for explaining the creation of the third foreign matter coordinate map in the foreign matter inspection method of the present embodiment. 図7は、本実施形態の第1異物座標マップの一例を示す説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram showing an example of the first foreign object coordinate map of the present embodiment. 図8は、本実施形態の第2異物座標マップの一例を示す説明図である。FIG. 8 is an explanatory diagram showing an example of the second foreign object coordinate map of the present embodiment. 図9は、本実施形態の第3異物座標マップの一例を示す説明図である。FIG. 9 is an explanatory diagram showing an example of the third foreign object coordinate map of the present embodiment. 図10は、本実施形態の変形例において、第1種異物に置き換える第2種異物を説明するための説明図である。FIG. 10 is an explanatory diagram for explaining the second type foreign matter that is replaced with the first type foreign matter in the modification of the present embodiment. 図11は、本実施形態の変形例において、第1種異物に置き換える複数の第2種異物を説明するための説明図である。FIG. 11 is an explanatory diagram for explaining a plurality of second type foreign substances that are replaced with the first type foreign substances in a modification of the present embodiment.

以下、本発明を実施するための形態(以下、実施形態という)につき、図面を参照しつつ説明する。なお、下記の実施形態により本発明が限定されるものではない。また、下記実施形態における構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のもの、いわゆる均等の範囲のものが含まれる。さらに、下記実施形態で開示した構成要素は適宜組み合わせることが可能である。   Hereinafter, modes for carrying out the present invention (hereinafter referred to as embodiments) will be described with reference to the drawings. In addition, this invention is not limited by the following embodiment. In addition, constituent elements in the following embodiments include those that can be easily assumed by those skilled in the art, those that are substantially the same, and those in a so-called equivalent range. Furthermore, the constituent elements disclosed in the following embodiments can be appropriately combined.

図1は、本実施形態の異物検査装置を備えたスリッターの全体構成を示す模式図である。図2は、本実施形態の画像検出装置の模式図である。図3は、本実施形態の磁気検出装置の位置と磁気検出領域を説明するための模式図である。以下、図1から図3を適宜参照して、第1フィルムFMLの異物検査装置20を説明する。   FIG. 1 is a schematic diagram showing the overall configuration of a slitter equipped with the foreign substance inspection apparatus of the present embodiment. FIG. 2 is a schematic diagram of the image detection apparatus of the present embodiment. FIG. 3 is a schematic diagram for explaining the position and the magnetic detection region of the magnetic detection device of the present embodiment. Hereinafter, the foreign matter inspection apparatus 20 for the first film FML will be described with reference to FIGS. 1 to 3 as appropriate.

(異物検査装置)
図1に示すように、異物検査装置20は、走行ロールRRにより搬送されている第1フィルムFMLの異物を検出する装置である。異物検査装置20は、位置検出装置8と、画像検出装置5と、磁気検出装置1と、解析装置10とを備えている。
(Foreign substance inspection device)
As shown in FIG. 1, the foreign matter inspection device 20 is a device that detects foreign matter on the first film FML conveyed by the traveling roll RR. The foreign substance inspection device 20 includes a position detection device 8, an image detection device 5, a magnetic detection device 1, and an analysis device 10.

スリッター100は、異物検査装置20を備えている。スリッター100は、走行ロールRRと、カッターロールCRとを少なくとも備えている。スリッター100は、カッターロールCRで、巻き取った原反MRにスリットCL(図3参照)を入れて、巻き取り複数の第2フィルムQAからQHを得る。第1フィルムFMLが分割され、複数の第2フィルムQAからQHとなる。複数の第2フィルムQAからQHが製品ロールRLになる。図3において、カッターロールCRがスリットCLを入れる位置が位置SLTである。   The slitter 100 includes a foreign matter inspection apparatus 20. The slitter 100 includes at least a traveling roll RR and a cutter roll CR. The slitter 100 uses the cutter roll CR to insert a slit CL (see FIG. 3) in the wound raw fabric MR, and obtains QH from the plurality of second films QA wound up. The first film FML is divided into a plurality of second films QA to QH. A plurality of second films QA to QH become product rolls RL. In FIG. 3, the position where the cutter roll CR enters the slit CL is a position SLT.

第1フィルムFMLは、フィルムの幅方向の両端の厚みが中央部に比して厚くなりやすいため、フィルムの幅方向の両端部QQをそれぞれ、成膜時の幅FMLWから所定量だけ削除する耳取り加工を行った上で、巻き取る。なお、耳取り加工は、しなくてもよい。   In the first film FML, since the thickness at both ends in the width direction of the film is likely to be thicker than that at the center portion, the both ends QQ in the width direction of the film are respectively deleted from the width FMLW at the time of film formation by a predetermined amount. Wind up after processing. In addition, it is not necessary to perform the ear removal processing.

第1フィルムFMLは、本実施形態に係る異物検査装置20または異物検査方法のフィルム状の被検査対象である。第1フィルムFMLは、熱可塑性樹脂で形成されている。例えば、第1フィルムFMLは、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン樹脂(ABS)、アクリロニトリル・エチレン−プロピレン−ジエン・スチレン樹脂(AES)、アクリロニトリル・スチレン・アクリレート樹脂(ASA)、塩化ビニル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂や、これらを2種類以上組み合わせた樹脂、これらを2種類以上積層した樹脂、またはこれらの樹脂に繊維や微粒子を加えて形成されている。   The first film FML is a film-like object to be inspected by the foreign matter inspection apparatus 20 or the foreign matter inspection method according to the present embodiment. The first film FML is formed of a thermoplastic resin. For example, the first film FML is made of polycarbonate resin, acrylic resin, polyester resin, acrylonitrile / butadiene / styrene resin (ABS), acrylonitrile / ethylene-propylene / diene / styrene resin (AES), acrylonitrile / styrene / acrylate resin. (ASA), polyolefin resin such as vinyl chloride resin, polyethylene, polypropylene, etc., a resin in which two or more of these are combined, a resin in which two or more of these are laminated, or a fiber or fine particles added to these resins. Yes.

位置検出装置8は、走行ロールRRを回転させるモータ回転量を計測し、第1フィルムFMLの送り座標を検出するエンコーダである。位置検出装置8は、送り座標の情報を解析装置10へ伝送する。位置検出装置8は、走行ロールRRの回転量を計測し、第1フィルムFMLの送り座標を検出するエンコーダであってもよい。あるいは、位置検出装置8は、光学的に第1フィルムFML自体の送り量を検出し、送り座標を検出するエンコーダであってもよい。   The position detection device 8 is an encoder that measures the amount of motor rotation that rotates the traveling roll RR and detects the feed coordinates of the first film FML. The position detection device 8 transmits information on the feed coordinates to the analysis device 10. The position detection device 8 may be an encoder that measures the rotation amount of the traveling roll RR and detects the feed coordinates of the first film FML. Alternatively, the position detection device 8 may be an encoder that optically detects the feed amount of the first film FML itself and detects feed coordinates.

画像検出装置5は、撮像装置6と、照射装置7を備える。図2に示すように、照射装置7は、撮像装置6の光軸上に配置されている。第1フィルムFMLは、照射装置7と撮像装置6との間を通過する。   The image detection device 5 includes an imaging device 6 and an irradiation device 7. As shown in FIG. 2, the irradiation device 7 is disposed on the optical axis of the imaging device 6. The first film FML passes between the irradiation device 7 and the imaging device 6.

図2に示すように、撮像装置6は、搬送方向Fに移動する第1フィルムFMLの表面に焦点が合うように、配置されている。撮像装置6は、ラインカメラとも呼ばれる。撮像装置6は、図2に示すように、搬送方向F(図1参照)と直交する撮像領域PBにおいて、第1フィルムFMLの幅方向の長さが一括して画像として撮像可能なように、画角を有している。このため、撮像装置6は、第1フィルムFMLの表面の全幅を撮像領域PBとした画像を撮像できる。撮像装置6は、例えば、CCD(Charge Coupled Device)を用いた固体撮像素子、相補性金属酸化膜半導体(CMOS:Complementary Metal Oxide Semiconductor)を用いた固体撮像素子、または金属酸化膜半導体(MOS:Metal Oxide Semiconductor)を用いた固体撮像素子のいずれかを有している。   As shown in FIG. 2, the imaging device 6 is arranged so that the surface of the first film FML moving in the transport direction F is in focus. The imaging device 6 is also called a line camera. As shown in FIG. 2, the imaging device 6 can capture the image in the width direction of the first film FML as a single image in the imaging region PB orthogonal to the transport direction F (see FIG. 1). Has an angle of view. For this reason, the imaging device 6 can capture an image in which the entire width of the surface of the first film FML is the imaging region PB. The imaging device 6 is, for example, a solid-state imaging device using a CCD (Charge Coupled Device), a solid-state imaging device using a complementary metal oxide semiconductor (CMOS), or a metal oxide semiconductor (MOS). One of the solid-state imaging devices using Oxide Semiconductor).

図2に示すように、照射装置7の幅方向の長さが第1フィルムFMLの幅方向の長さFMLWよりも大きい。このため、照射装置7が第1フィルムFMLの幅方向に渡って第1フィルムFMLの裏面(第1面)を均一に照らすことができるので、第1フィルムFMLの表面(第2面)から透過する透過光の強度むらが抑制される。   As shown in FIG. 2, the length in the width direction of the irradiation device 7 is larger than the length FMLW in the width direction of the first film FML. For this reason, since the irradiation apparatus 7 can illuminate the back surface (1st surface) of the 1st film FML uniformly over the width direction of the 1st film FML, it permeate | transmits from the surface (2nd surface) of the 1st film FML. The intensity unevenness of the transmitted light is suppressed.

図2に示すように、照射装置7は、筐体内に、例えば発光ダイオード(LED:Light Emitting Diode)、蛍光灯、またはハロゲンランプなどの光源体と、光源体からの光が照射される。   As shown in FIG. 2, the irradiation device 7 irradiates a light source body such as a light emitting diode (LED), a fluorescent lamp, or a halogen lamp, and light from the light source body, in a housing.

照射装置7が第1フィルムFMLに、検査光を透過させると、内部の異物、気泡などの内部欠陥が撮像装置6に輝度差(明度差)として感度よく検出される。   When the irradiation device 7 transmits the inspection light to the first film FML, internal defects such as internal foreign matter and bubbles are detected by the imaging device 6 as a luminance difference (brightness difference) with high sensitivity.

図2に示すように、照射装置7から照射された検査光は、例えば拡散光であり、第1フィルムFMLの撮像領域PBを少なくとも透過し、透過光が撮像装置6に画像として検出される。撮像装置6は、撮像領域PBを撮像した画像の情報を解析装置10へ伝送する。   As shown in FIG. 2, the inspection light emitted from the irradiation device 7 is, for example, diffused light, which passes through at least the imaging region PB of the first film FML, and the transmitted light is detected by the imaging device 6 as an image. The imaging device 6 transmits information on an image obtained by imaging the imaging region PB to the analysis device 10.

帯磁器2は、第1フィルムFMLの一方側に、S極を向けた第1永久磁石と、第1フィルムFMLの他方側に、N極を向けた第2永久磁石を備える。第1フィルムFMLが帯磁器2を通過する。万が一、磁化可能な金属種の異物が第1フィルムFMLに混入している場合、一対の第1永久磁石と第2永久磁石との間の磁場で金属種の異物が磁化される。   The magnetic porcelain 2 includes a first permanent magnet having an S pole facing one side of the first film FML and a second permanent magnet having an N pole facing the other side of the first film FML. The first film FML passes through the magnetic porcelain 2. In the unlikely event that a magnetizable metal foreign matter is mixed in the first film FML, the metal foreign matter is magnetized by a magnetic field between the pair of first permanent magnets and the second permanent magnet.

図1に示すように、磁気検出装置1は、帯磁器2よりも搬送方向Fの後方の磁気検出位置PAにおいて、磁界の変化を検出している。図3に示すように、磁気検出装置1は、複数の磁気検出部SE1からSEnを備えている。複数の磁気検出部SE1からSEnは、第1フィルムFMLの搬送方向Fに直交する幅方向に並べられている。   As shown in FIG. 1, the magnetic detection device 1 detects a change in the magnetic field at a magnetic detection position PA that is behind the magnetizing device 2 in the transport direction F. As shown in FIG. 3, the magnetic detection device 1 includes a plurality of magnetic detection units SE1 to SEn. The plurality of magnetic detection units SE1 to SEn are arranged in the width direction orthogonal to the transport direction F of the first film FML.

磁気検出部SE1からSEnは、それぞれフラックスゲートセンサである。これにより、磁化された第1種異物を精度よく検出することができる。フラックスゲートセンサは、特許文献2に記載されている構成を用いればよいので、詳細な説明は省略する。なお、磁気検出部SE1からSEnは、フラックスゲートセンサの代わりに、異方性磁気抵抗効果、巨大磁気抵抗効果またはトンネル磁気抵抗効果などを応用した磁気抵抗効果素子、あるいは、磁気インピーダンスセンサを用いてもよい。   Each of the magnetic detection units SE1 to SEn is a fluxgate sensor. Thereby, the magnetized first type foreign matter can be detected with high accuracy. Since the configuration described in Patent Document 2 may be used for the fluxgate sensor, detailed description thereof is omitted. The magnetic detection units SE1 to SEn use magnetoresistive elements or anisotropic magnetoresistive elements applying anisotropic magnetoresistive effect, giant magnetoresistive effect or tunnel magnetoresistive effect instead of fluxgate sensors. Also good.

磁気検出部SE1からSEnは、第1フィルムFMLに対する距離は、10mm以内である。これにより、磁気検出部SE1からSEnは、必要な感度を確保できる。磁気検出部SE1からSEnは、外乱磁界の影響を低減する金属製のシールドボックスに収容されている。   The distance between the magnetic detection units SE1 to SEn and the first film FML is within 10 mm. Thereby, the magnetic detection units SE1 to SEn can ensure the necessary sensitivity. The magnetic detection units SE1 to SEn are accommodated in a metal shield box that reduces the influence of a disturbance magnetic field.

図3に示すように、1つの磁気検出領域は、px×pyの単位で区画される。ここで、幅方向の長さpyは、幅方向に並べられた磁気検出部SE1からSEnのうち、隣り合う磁気検出部の距離と同じである。搬送方向Fの長さpxは、幅方向に並べられた磁気検出部SE1からSEnのうち、隣り合う磁気検出部の距離と同じである。   As shown in FIG. 3, one magnetic detection region is partitioned in units of px × py. Here, the length py in the width direction is the same as the distance between adjacent magnetic detection units among the magnetic detection units SE1 to SEn arranged in the width direction. The length px in the transport direction F is the same as the distance between adjacent magnetic detection units among the magnetic detection units SE1 to SEn arranged in the width direction.

磁気検出部SE1は、磁気検出領域P11から磁気検出領域Pm1を検出する。磁気検出部SE2は、磁気検出領域P12から磁気検出領域Pm2を検出する。磁気検出部SE3は、磁気検出領域P13から磁気検出領域Pm3を検出する。磁気検出部SE4は、磁気検出領域P14から磁気検出領域Pm4を検出する。以下同様であり、磁気検出部SEnは、磁気検出領域P1nから磁気検出領域Pmnを検出する。そして、各区画が磁気検出領域P11から磁気検出領域Pmnとして識別された状態で、記憶部15に記憶される。   The magnetic detection unit SE1 detects the magnetic detection region Pm1 from the magnetic detection region P11. The magnetic detection unit SE2 detects the magnetic detection region Pm2 from the magnetic detection region P12. The magnetic detection unit SE3 detects the magnetic detection region Pm3 from the magnetic detection region P13. The magnetic detection unit SE4 detects the magnetic detection region Pm4 from the magnetic detection region P14. The same applies to the following, and the magnetic detection unit SEn detects the magnetic detection region Pmn from the magnetic detection region P1n. Each section is stored in the storage unit 15 in a state where each section is identified as the magnetic detection area Pmn from the magnetic detection area P11.

本実施形態において、異物検査装置20は、帯磁器2と、磁気検出装置1との間に、静電除去装置3を備えている。静電除去装置3は、イオナイザーとも呼ばれ、コロナ放電を発生させ、イオン化した空気で第1フィルムFMLの静電気を除去する。これにより静電気による磁気検出部SE1からSEnの信号ノイズが抑制される。   In the present embodiment, the foreign matter inspection device 20 includes an electrostatic removal device 3 between the magnetic porcelain 2 and the magnetic detection device 1. The static eliminator 3 is also called an ionizer, generates corona discharge, and removes static electricity from the first film FML with ionized air. Thereby, signal noise of the magnetic detection units SE1 to SEn due to static electricity is suppressed.

解析装置10は、いわゆるコンピュータであり、入力インターフェースと、出力インターフェースと、CPU(Central Processing Unit)と、ROM(Read Only Memory)と、RAM(Random Access Memory)と、記憶部15と、を有している。入力インターフェースには、位置検出装置8と、撮像装置6、磁気検出装置1が接続されており、出力インターフェースには、表示装置19が接続されている。CPU、ROM、RAM及び記憶部15は、バスで接続されている。ROMには、BIOS(Basic Input Output System)等のプログラムが記憶されている。記憶部15は、例えばHDD(Hard Disk Drive)やフラッシュメモリ等であり、オペレーティングシステムプログラムやアプリケーションプログラムを記憶している。CPUは、演算手段であり、RAMをワークエリアとして使用しながらROMや記憶部15に記憶されているプログラムを実行することにより、位置取得部11、磁気検出分析部12、画像処理部13、種別分析部14の機能を実現する。記憶部15は、内蔵であっても外付けであってもよく、RAMを一時記憶として使ってもよく、あるいは、ネットワーク上の記憶装置やサーバ等であってもよい。   The analysis device 10 is a so-called computer, and includes an input interface, an output interface, a CPU (Central Processing Unit), a ROM (Read Only Memory), a RAM (Random Access Memory), and a storage unit 15. ing. The position detection device 8, the imaging device 6, and the magnetic detection device 1 are connected to the input interface, and the display device 19 is connected to the output interface. The CPU, ROM, RAM, and storage unit 15 are connected by a bus. The ROM stores a program such as BIOS (Basic Input Output System). The storage unit 15 is, for example, an HDD (Hard Disk Drive), a flash memory, or the like, and stores an operating system program and an application program. The CPU is a calculation means, and executes a program stored in the ROM or the storage unit 15 while using the RAM as a work area, thereby obtaining a position acquisition unit 11, a magnetic detection analysis unit 12, an image processing unit 13, and a type. The function of the analysis unit 14 is realized. The storage unit 15 may be internal or external, may use a RAM as a temporary storage, or may be a storage device or server on a network.

本実施形態において、磁化可能な金属種の異物は、第1種異物とし、第1種異物以外の磁化不能な異物、内部欠陥は、第2種異物という。磁化可能な金属種としては、鉄、ニッケル、コバルト、フェライト系ステンレスのみならず、オーステナイト系ステンレスを含む。オーステナイト系ステンレスは、応力が加えられると、磁化される性質があるため、磁化可能な金属種となる。   In this embodiment, the magnetizable metal type foreign matter is a first type foreign matter, and the non-magnetizable foreign matter other than the first type foreign matter and the internal defect are called second type foreign matters. Magnetizable metal species include not only iron, nickel, cobalt, and ferrite stainless steel, but also austenitic stainless steel. Since austenitic stainless steel has a property of being magnetized when stress is applied, it becomes a magnetizable metal species.

位置取得部11は、位置検出装置8で検出した第1フィルムFMLの送り座標と、磁気検出位置PAの位置とを関連付けて、第1フィルムFMLの第1異物座標を記憶部15に保存する。磁気検出分析部12は、第1異物座標において、磁気検出装置1が検出した第1種異物としてプロットした第1異物座標マップを記憶部15に保存する。   The position acquisition unit 11 stores the first foreign substance coordinates of the first film FML in the storage unit 15 in association with the feed coordinates of the first film FML detected by the position detection device 8 and the position of the magnetic detection position PA. The magnetic detection analysis unit 12 stores, in the storage unit 15, the first foreign matter coordinate map plotted as the first type foreign matter detected by the magnetic detection device 1 in the first foreign matter coordinates.

位置取得部11は、位置検出装置8で検出した第1フィルムFMLの送り座標と、撮像領域PBの位置とを関連付けて、第1フィルムFMLの第2異物座標を記憶部15に保存する。画像処理部13は、第2異物座標において、撮像装置6が検出した異物、内部欠陥を全て第2種異物としてプロットした第2異物座標マップを記憶部15に保存する。   The position acquisition unit 11 stores the second foreign matter coordinates of the first film FML in the storage unit 15 in association with the feed coordinates of the first film FML detected by the position detection device 8 and the position of the imaging region PB. The image processing unit 13 stores, in the storage unit 15, a second foreign object coordinate map in which all the foreign objects and internal defects detected by the imaging device 6 are plotted as second type foreign objects in the second foreign object coordinates.

磁気検出位置PAと、撮像領域PBとの間の距離は、第1フィルムFML上の搬送方向Fの距離として既知である。磁気検出位置PAと、撮像領域PBとの間の距離は、記憶部15に記憶されている。このため、解析装置10は、第1フィルムFMLの送り座標を基準として、磁気検出位置PAの位置及び撮像領域PBの位置とを関連付けることができる。   The distance between the magnetic detection position PA and the imaging region PB is known as the distance in the transport direction F on the first film FML. The distance between the magnetic detection position PA and the imaging region PB is stored in the storage unit 15. For this reason, the analysis apparatus 10 can relate the position of the magnetic detection position PA and the position of the imaging region PB with reference to the feed coordinates of the first film FML.

種別分析部14は、第2異物座標マップにおいて、第1種異物として置き換えるべき第2種異物を特定する。   The type analysis unit 14 specifies the second type foreign matter to be replaced as the first type foreign matter in the second foreign matter coordinate map.

(異物検査方法)
図1に示すように、スリッター100により、第1フィルムFMLから複数の第2フィルムQAからQHが製造される。第1フィルムFMLは、異物検査装置20により、異物検査方法が実行される。
(Foreign matter inspection method)
As shown in FIG. 1, the slitter 100 manufactures QH from a plurality of second films QA from the first film FML. The first film FML is subjected to a foreign matter inspection method by the foreign matter inspection apparatus 20.

図4は、本実施形態において、隣り合う3つの磁気検出部の検出例を説明するための説明図である。図4においては、図3に示す複数の磁気検出部SE1からSEnのうち、複数の磁気検出部SE1からSE3を例示して具体的に説明する。図5は、本実施形態の異物検査方法のフローチャートを説明するための説明図である。図6は、本実施形態の異物検査方法において、第3異物座標マップ作成を説明するフローチャートである。図7は、本実施形態の第1異物座標マップの一例を示す説明図である。図8は、本実施形態の第2異物座標マップの一例を示す説明図である。図9は、本実施形態の第3異物座標マップの一例を示す説明図である。   FIG. 4 is an explanatory diagram for explaining a detection example of three adjacent magnetic detection units in the present embodiment. In FIG. 4, a plurality of magnetic detection units SE1 to SE3 among the plurality of magnetic detection units SE1 to SEn shown in FIG. FIG. 5 is an explanatory diagram for explaining a flowchart of the foreign matter inspection method of the present embodiment. FIG. 6 is a flowchart for explaining the creation of the third foreign matter coordinate map in the foreign matter inspection method of the present embodiment. FIG. 7 is an explanatory diagram showing an example of the first foreign object coordinate map of the present embodiment. FIG. 8 is an explanatory diagram showing an example of the second foreign object coordinate map of the present embodiment. FIG. 9 is an explanatory diagram showing an example of the third foreign object coordinate map of the present embodiment.

図5に示すように、異物検査装置20は、搬送方向Fに移動する第1フィルムFMLに対して、磁気検出を行う磁気検出ステップを処理する(ステップST1)。図3に示すように、磁気検出部SE2の磁気を検出可能な磁気検出幅SAは、幅方向に隣り合う磁気検出部SE1及び磁気検出部SE2の磁気検出部領域とオーバーラップしている。複数の磁気検出部SE1からSE3が、例えば30mm間隔で配置されている場合、磁気検出部SE2の磁気を検出可能な磁気検出幅SAは、60mmである。複数の磁気検出部SE1からSE3が、例えば25mm間隔で配置されている場合、磁気検出部SE2の磁気を検出可能な磁気検出幅SAは、50mmである。   As shown in FIG. 5, the foreign matter inspection apparatus 20 processes a magnetic detection step for performing magnetic detection on the first film FML moving in the transport direction F (step ST1). As shown in FIG. 3, the magnetic detection width SA that can detect the magnetism of the magnetic detection unit SE2 overlaps the magnetic detection units SE1 and SE2 adjacent to each other in the width direction. When the plurality of magnetic detection units SE1 to SE3 are arranged, for example, at intervals of 30 mm, the magnetic detection width SA capable of detecting the magnetism of the magnetic detection unit SE2 is 60 mm. When the plurality of magnetic detection units SE1 to SE3 are arranged, for example, at intervals of 25 mm, the magnetic detection width SA capable of detecting the magnetism of the magnetic detection unit SE2 is 50 mm.

図4において、磁気検出部SE1からSE3のそれぞれの検出電圧と、第1フィルムFMLの送り座標Fxとの関係が示されている。例えば、図3に示す磁気検出部SE1が、磁気検出領域P11を検出している。磁気検出部SE2が、磁気検出領域P12を検出している。磁気検出部SE3が、磁気検出領域P13を検出している。検出電圧Vse1、検出電圧Vse2、検出電圧Vse3は、本実施形態の磁気検出部SE1からSE3の信号値である。   In FIG. 4, the relationship between each detection voltage of magnetic detection part SE1 to SE3 and the feed coordinate Fx of the 1st film FML is shown. For example, the magnetic detection unit SE1 shown in FIG. 3 detects the magnetic detection region P11. The magnetic detection unit SE2 detects the magnetic detection region P12. The magnetic detection unit SE3 detects the magnetic detection region P13. The detection voltage Vse1, the detection voltage Vse2, and the detection voltage Vse3 are signal values of the magnetic detection units SE1 to SE3 of this embodiment.

図4に示すように、磁気検出部SE1の検出電圧Vse1と磁気検出部SE2の検出電圧Vse2とを比較すると、同じ送り座標Fxにおいて、磁気検出部SE1と磁気検出部SE2は、閾値Th以上となる検出電圧Th1、Th2を出力する。一方、磁気検出部SE2の検出電圧Vse2と磁気検出部SE3の検出電圧Vse3とを比較すると、同じ送り座標Fxにおいて、磁気検出部SE2のみが、閾値Th以上となる検出電圧Th2を出力する。   As shown in FIG. 4, when the detection voltage Vse1 of the magnetic detection unit SE1 and the detection voltage Vse2 of the magnetic detection unit SE2 are compared, the magnetic detection unit SE1 and the magnetic detection unit SE2 are equal to or higher than the threshold Th at the same feed coordinate Fx. The detection voltages Th1 and Th2 are output. On the other hand, when the detection voltage Vse2 of the magnetic detection unit SE2 is compared with the detection voltage Vse3 of the magnetic detection unit SE3, only the magnetic detection unit SE2 outputs a detection voltage Th2 that is equal to or higher than the threshold Th at the same feed coordinate Fx.

次に、磁気検出部SE1の検出電圧Vse1の最高値と、磁気検出部SE2の検出電圧Vse2の最高値と、が比較される。ここで、磁気検出部SE1の検出電圧Vse1の最高値が磁気検出部SE2の検出電圧Vse2の最高値よりも大きい場合、磁気検出分析部12は、図3に示す磁気検出領域P11に第1種異物があることを分析できる。   Next, the maximum value of the detection voltage Vse1 of the magnetic detection unit SE1 is compared with the maximum value of the detection voltage Vse2 of the magnetic detection unit SE2. Here, when the maximum value of the detection voltage Vse1 of the magnetic detection unit SE1 is larger than the maximum value of the detection voltage Vse2 of the magnetic detection unit SE2, the magnetic detection analysis unit 12 enters the first type in the magnetic detection region P11 shown in FIG. Analyzes the presence of foreign objects.

または、磁気検出部SE1の検出電圧Vse1の最高値が磁気検出部SE2の検出電圧Vse2の最高値よりも小さい場合、磁気検出分析部12は、図3に示す磁気検出領域P12に第1種異物があることを分析できる。   Alternatively, when the maximum value of the detection voltage Vse1 of the magnetic detection unit SE1 is smaller than the maximum value of the detection voltage Vse2 of the magnetic detection unit SE2, the magnetic detection analysis unit 12 has the first type foreign matter in the magnetic detection region P12 shown in FIG. You can analyze that there is.

あるいは、磁気検出部SE1の検出電圧Vse1の最高値が磁気検出部SE2の検出電圧Vse2の最高値と同じ場合、磁気検出分析部12は、図3に示す磁気検出領域P11と磁気検出領域P12との境界に、第1種異物があることを分析できる。   Alternatively, when the maximum value of the detection voltage Vse1 of the magnetic detection unit SE1 is the same as the maximum value of the detection voltage Vse2 of the magnetic detection unit SE2, the magnetic detection analysis unit 12 includes the magnetic detection region P11 and the magnetic detection region P12 illustrated in FIG. It can be analyzed that there is a first type foreign matter at the boundary.

図4に示すように、磁気検出部SE1の検出電圧Vse1と磁気検出部SE2の検出電圧Vse2とを比較すると、送り座標Fxの所定範囲内(図3に示す1つの磁気検出領域分の長さpxの範囲内)において、磁気検出部SE2が磁気検出部SE1よりも先に、閾値Th以上となる検出電圧Th21を出力する場合がある。一方、磁気検出部SE2の検出電圧Vse2と磁気検出部SE3の検出電圧Vse3とを比較すると、送り座標Fxの所定範囲内(図3に示す1つの磁気検出領域分の長さpxの範囲内)において、磁気検出部SE2のみが、閾値Th以上となる検出電圧Th21を出力する。これにより、磁気検出分析部12は、例えば図3に示す磁気検出領域P12内において、磁気検出領域P11側に、第1種異物があることが分析できる。磁気検出分析部12は、第1異物座標マップMAP1(図7参照)において、磁気検出領域P11に第1種異物Meの座標をプロットする。なお、送り座標Fxの所定範囲は、図3における長さpxである。   As shown in FIG. 4, when the detection voltage Vse1 of the magnetic detection unit SE1 and the detection voltage Vse2 of the magnetic detection unit SE2 are compared, a predetermined range of the feed coordinate Fx (the length corresponding to one magnetic detection region shown in FIG. 3) is obtained. In the range of px), the magnetic detection unit SE2 may output the detection voltage Th21 that is equal to or higher than the threshold Th before the magnetic detection unit SE1. On the other hand, when the detection voltage Vse2 of the magnetic detection unit SE2 and the detection voltage Vse3 of the magnetic detection unit SE3 are compared, within a predetermined range of the feed coordinate Fx (within the length px for one magnetic detection region shown in FIG. 3). , Only the magnetic detection unit SE2 outputs a detection voltage Th21 that is equal to or higher than the threshold Th. Thereby, the magnetic detection analysis part 12 can analyze that there exists a 1st type foreign material in the magnetic detection area P11 side, for example in the magnetic detection area P12 shown in FIG. The magnetic detection analysis unit 12 plots the coordinates of the first type foreign matter Me in the magnetic detection region P11 in the first foreign matter coordinate map MAP1 (see FIG. 7). The predetermined range of the feed coordinate Fx is the length px in FIG.

なお、送り座標Fxの所定範囲内(図3に示す1つの磁気検出領域分の長さpxの範囲内)において、1つの磁気検出部が、閾値Th以上となる検出電圧を有する2つの波形を捉えた場合、1つ目の波形に基づいて、処理を行えばよい。1つの磁気検出領域に、第1異物があることに変わりがないからである。   Note that, within a predetermined range of the feed coordinate Fx (within the range of the length px corresponding to one magnetic detection region shown in FIG. 3), one magnetic detection unit has two waveforms having a detection voltage that is equal to or greater than the threshold Th. If captured, the process may be performed based on the first waveform. This is because there is no change in the presence of the first foreign substance in one magnetic detection region.

磁気検出分析部12は、分析の結果、図7に示すような第1異物座標マップMAP1を作成する第1異物座標マップMAP1作成ステップを処理する(ステップST2)。第1異物座標マップMAP1の第1座標は、図3及び図7に示すpx×pyの単位で区画されるm行n列の磁気検出領域で定義される。図7に示すように、隣り合う磁気検出部SE1からSE3のそれぞれの検出電圧を比較し、閾値Th以上となる検出電圧を超えた磁気検出部と、閾値Th以上となる検出電圧を超えた第1フィルムFMLの送り座標とから、第1種異物Meの座標が、第1異物座標マップMAP1の第1異物座標にプロットされる。つまり、第1異物座標マップMAP1は、第1種異物Meの位置を示すためのマップである。   As a result of the analysis, the magnetic detection analysis unit 12 processes a first foreign matter coordinate map MAP1 creation step for creating a first foreign matter coordinate map MAP1 as shown in FIG. 7 (step ST2). The first coordinates of the first foreign object coordinate map MAP1 are defined by m rows and n columns of magnetic detection areas partitioned in units of px × py shown in FIGS. As shown in FIG. 7, the detection voltages of the adjacent magnetic detection units SE1 to SE3 are compared, and the magnetic detection unit exceeding the detection voltage exceeding the threshold Th and the detection voltage exceeding the detection voltage Th From the feed coordinates of one film FML, the coordinates of the first foreign matter Me are plotted on the first foreign matter coordinates of the first foreign matter coordinate map MAP1. That is, the first foreign object coordinate map MAP1 is a map for indicating the position of the first type foreign object Me.

搬送方向Fにおいて、送り座標Fxの所定範囲内(図3に示す1つの磁気検出領域分の長さpxの範囲内)で、隣り合う磁気検出部が閾値Th以上の信号を検出した場合、大きい信号を出力した磁気検出部側の幅方向の位置座標を付与した第1種異物Meを第1異物座標マップMAP1にプロットする。   Large in the conveyance direction F, when the adjacent magnetic detection unit detects a signal equal to or greater than the threshold value Th within a predetermined range of the feed coordinate Fx (within the length px corresponding to one magnetic detection region shown in FIG. 3). The first type foreign object Me to which the position coordinate in the width direction on the magnetic detection unit side that outputs the signal is plotted on the first foreign object coordinate map MAP1.

図5に示すように、異物検査装置20は、搬送方向Fに移動する第1フィルムFMLに対して、画像検出を行う画像検出ステップを処理する(ステップST11)。撮像装置6は、撮像領域PBを撮像した画像の情報を解析装置10へ伝送する。   As shown in FIG. 5, the foreign matter inspection apparatus 20 processes an image detection step of performing image detection on the first film FML moving in the transport direction F (step ST11). The imaging device 6 transmits information on an image obtained by imaging the imaging region PB to the analysis device 10.

画像処理部13は、図8に示すような第2異物座標マップMAP2を作成する第2異物座標マップMAP2作成ステップを処理する(ステップST12)。第2異物座標マップMAP2の座標は、図8に示すgx×gyの単位で区画されるM行N列の画像検出領域で定義される。長さgxは、長さpx(図7参照)よりも小さく、長さgyは、長さpy(図7参照)よりも小さい。gx×gyは、1mm×1mm以下である。このため、画像検出領域は、上述した磁気検出領域よりも小さい。その結果、画像検出による異物の位置精度は、磁気検出による異物の位置精度よりも高い。そして、画像処理部13は、第2異物座標において、撮像装置6が検出した異物、内部欠陥を全て第2種異物Cとしてプロットした第2異物座標マップMAP2を記憶部15に保存する。つまり、第2異物座標マップMAP2は、第2種異物Cの位置を示すためのマップである。   The image processing unit 13 processes a second foreign matter coordinate map MAP2 creation step for creating a second foreign matter coordinate map MAP2 as shown in FIG. 8 (step ST12). The coordinates of the second foreign object coordinate map MAP2 are defined in an image detection area of M rows and N columns divided in units of gx × gy shown in FIG. The length gx is smaller than the length px (see FIG. 7), and the length gy is smaller than the length py (see FIG. 7). gx × gy is 1 mm × 1 mm or less. For this reason, the image detection area is smaller than the above-described magnetic detection area. As a result, the positional accuracy of the foreign matter by image detection is higher than the positional accuracy of the foreign matter by magnetic detection. Then, the image processing unit 13 stores, in the storage unit 15, the second foreign object coordinate map MAP2 in which all the foreign objects and internal defects detected by the imaging device 6 are plotted as the second type foreign object C in the second foreign object coordinates. That is, the second foreign object coordinate map MAP2 is a map for indicating the position of the second type foreign object C.

次に、図5に示すように、種別分析部14は、第3異物座標マップMAP3を作成する第3異物座標マップMAP3作成ステップを処理する(ステップST3)。以下、図6を参照しつつ、ステップST3について説明する。   Next, as shown in FIG. 5, the type analysis unit 14 processes a third foreign matter coordinate map MAP3 creation step for creating a third foreign matter coordinate map MAP3 (step ST3). Hereinafter, step ST3 will be described with reference to FIG.

種別分析部14は、記憶部15に保存されている、ステップST2で作成した第1異物座標マップMAP1を読み込む。そして、図6に示すように、種別分析部14は、第1異物座標マップMAP1において、第1種異物Meがある領域AM1及び領域AM2を特定する(ステップST31)。   The type analysis unit 14 reads the first foreign object coordinate map MAP1 created in step ST2 and stored in the storage unit 15. Then, as shown in FIG. 6, the type analysis unit 14 identifies the region AM1 and the region AM2 where the first type foreign matter Me is present in the first foreign matter coordinate map MAP1 (step ST31).

ここで、図7に示すように、第1種異物Meがある領域AM1は、4つの磁気検出領域に跨がる位置に、第1種異物Meがある。このため、第1種異物Meがある領域AM1は、1つの磁気検出領域の4倍となる。図示は省略するが、第1種異物Meがある位置が2つの磁気検出領域に跨がる場合、第1種異物Meがある領域は、1つの磁気検出領域の2倍となる。   Here, as shown in FIG. 7, the region AM1 where the first type foreign matter Me is present has the first type foreign matter Me at a position straddling the four magnetic detection regions. Therefore, the area AM1 where the first type foreign matter Me is present is four times as large as one magnetic detection area. Although illustration is omitted, when the position where the first type foreign material Me is located extends over two magnetic detection areas, the area where the first type foreign material Me exists is twice as large as one magnetic detection area.

第1種異物Meがある領域AM2は、1つの磁気検出領域内に第1種異物Meがある。このため、第1種異物Meがある領域AM2は、1つの磁気検出領域となる。   In the area AM2 where the first type foreign matter Me is present, the first type foreign matter Me exists in one magnetic detection region. For this reason, the area AM2 where the first type foreign matter Me is provided becomes one magnetic detection area.

次に、種別分析部14は、ステップST12で作成した第2異物座標マップMAP2を読み込む。図8に示すように、種別分析部14は、第1種異物Meがある領域AM1、AM2と重なる第2異物座標マップMAP2の第2種異物Cを第1種異物Meと特定する(ステップST32)。   Next, the type analysis unit 14 reads the second foreign object coordinate map MAP2 created in step ST12. As illustrated in FIG. 8, the type analysis unit 14 identifies the second type foreign matter C in the second foreign matter coordinate map MAP2 that overlaps the areas AM1 and AM2 where the first type foreign matter Me is present as the first type foreign matter Me (step ST32). ).

図7に示すように、第1種異物Meがある領域AM1には、1つの第2種異物Cがある。第1種異物Meがある領域AM2には、2つの第2種異物Cがある。本実施形態において、第1種異物Meがある領域AM1と重なる2つの第2種異物Cは、両方とも第1種異物Meに置き換えられる。これにより、第1種異物Meとして疑いのある異物が全て第1種異物Meとされ、第1種異物Meの見逃しが抑制される。   As shown in FIG. 7, there is one second-type foreign matter C in the area AM1 where the first-type foreign matter Me is present. There are two second-type foreign matter C in the area AM2 where the first-type foreign matter Me is present. In the present embodiment, the two second type foreign matter C overlapping the region AM1 where the first type foreign matter Me is present are both replaced with the first type foreign matter Me. Thereby, all the foreign substances suspected as the first type foreign matter Me are set as the first type foreign matter Me, and the oversight of the first type foreign matter Me is suppressed.

次に、種別分析部14は、図9に示すように、ステップST32で特定された第2種異物Cを第1種異物Meに置き換えた第3異物座標マップMAP3を作成する(ステップST33)。種別分析部14は、作成した第3異物座標マップMAP3を記憶部15に保存する。   Next, as shown in FIG. 9, the type analysis unit 14 creates a third foreign object coordinate map MAP3 in which the second type foreign object C identified in step ST32 is replaced with the first type foreign object Me (step ST33). The type analysis unit 14 stores the created third foreign object coordinate map MAP3 in the storage unit 15.

第1種異物Meがある領域AM1と重なる第2種異物Cは、第2異物座標マップMAP2の座標で第2種異物Cがあった位置のまま、第1種異物Meに置き換えられる。これにより、第3異物座標マップMAP3では、位置精度の高い第2異物座標マップMAP2と同じ精度で、第1種異物Meの位置が特定される。   The second type foreign matter C that overlaps the area AM1 where the first type foreign matter Me is present is replaced with the first type foreign matter Me at the position where the second type foreign matter C exists in the coordinates of the second foreign matter coordinate map MAP2. Thereby, in the 3rd foreign material coordinate map MAP3, the position of the 1st type foreign material Me is specified with the same accuracy as the 2nd foreign material coordinate map MAP2 with high position accuracy.

次に、種別分析部14は、図5に示すように製品ロールRLの評価を行う(ステップST4)。図3に示す位置SLTにおいて、第1フィルムFMLの幅方向のスリットCLの位置は、予め記憶部15に記憶されている。このため、図9に示す第3異物座標マップMAP3における第1種異物Meが、図3に示す第2フィルムQAからQHのいずれか、あるいは、両端部QQに含まれるかを、種別分析部14が、演算により特定する。   Next, the type analysis unit 14 evaluates the product roll RL as shown in FIG. 5 (step ST4). In the position SLT shown in FIG. 3, the position of the slit CL in the width direction of the first film FML is stored in the storage unit 15 in advance. Therefore, the type analysis unit 14 determines whether the first type foreign material Me in the third foreign material coordinate map MAP3 shown in FIG. 9 is included in any one of the second films QA to QH shown in FIG. Is specified by calculation.

種別分析部14は、図3に示す第2フィルムQAからQHのうち、第1種異物Meが含まれる第2フィルムを、第1種異物Meが含まれない第2フィルムよりも品質の等級を下げて、評価する。   The type analysis unit 14 sets the second film QA to QH shown in FIG. 3 that includes the first type foreign matter Me to a quality grade higher than the second film that does not include the first type foreign matter Me. Lower and evaluate.

以上説明したように、異物検査装置20は、上流から下流へ搬送方向Fに搬送されるフィルム状の被検査対象である第1フィルムFMLに対し、含まれる可能性のある異物を検査する。   As described above, the foreign matter inspection apparatus 20 inspects a foreign matter that may be contained in the first film FML that is a film-like object to be inspected that is transported in the transport direction F from upstream to downstream.

例えば、食品業界や医療業界において、内臓等が傷つけられる可能性があるため、金属種の異物は重大欠点に位置付けられている。金属種の異物の大きさとしては、0.05mm以上の金属種の異物の混入が抑制されることが求められている。金属種の異物は、生産設備に起因する粉塵などが混入することによると考えられる。生産設備は、耐久性の観点から鉄やステンレスが用いられることが多い。生産設備に起因する磁化可能な金属種の異物は、重大欠点と認識されていることから、炭化異物に比べて品質の等級を下げて判断する必要がある。本実施形態の異物検査装置20、スリッター100及び異物検査方法は、生産設備に起因する磁化可能な金属種の異物と、それ以外の炭化異物を区別することができる。 For example, in the food industry and the medical industry, the internal organs and the like may be damaged, so that the foreign substance of the metal species is positioned as a serious defect. As the size of the foreign substance of the metal species, it is required that the contamination of the foreign substance of the metal species of 0.05 mm 2 or more is suppressed. It is considered that the metal type foreign matter is caused by dust or the like resulting from the production facility. Production equipment often uses iron or stainless steel from the viewpoint of durability. Since the magnetized metal species foreign matter caused by the production facility is recognized as a serious defect, it is necessary to judge the quality grade lower than that of the carbonized foreign matter. The foreign substance inspection apparatus 20, the slitter 100, and the foreign substance inspection method of this embodiment can distinguish the magnetized metal type foreign substance resulting from production facilities from other carbonized foreign substances.

異物検査装置20は、少なくとも、位置検出装置8と、磁気検出装置1と、解析装置10とを備えている。磁気検出装置1は、搬送方向Fに直交する幅方向に複数並べられた磁気検出部SE1からSEnを備える。解析装置10は、磁気検出部SE1からSEnのうち、信号値が所定の閾値Thとなった磁気検出部の位置と、当該磁気検出部の信号が閾値Thを出力した第1フィルムFMLの搬送方向Fの送り座標とに基づいて、第1フィルムFMLにおける第1種異物Meの位置を示す第1異物座標マップMAP1を作成する。これにより、異物検査装置20は、第1フィルムFML内において、金属種の異物の疑いがある位置を特定できる。スリッター100において、異物検査装置20は、カッターロールCRの上流側の第1フィルムFMLを検査対象とし、第1フィルムFMLに含まれる可能性のある異物を検査する。これにより、第1種異物Meが、図3に示す第2フィルムQAからQHのいずれか、あるいは、両端部QQに含まれるかの判断は、より精度が高くなる。   The foreign substance inspection device 20 includes at least a position detection device 8, a magnetic detection device 1, and an analysis device 10. The magnetic detection device 1 includes magnetic detection units SE1 to SEn arranged in a plurality in the width direction orthogonal to the transport direction F. The analysis device 10 includes the position of the magnetic detection unit in which the signal value is a predetermined threshold Th among the magnetic detection units SE1 to SEn, and the transport direction of the first film FML in which the signal of the magnetic detection unit outputs the threshold Th. Based on the feed coordinates of F, a first foreign matter coordinate map MAP1 indicating the position of the first type foreign matter Me on the first film FML is created. Thereby, the foreign material test | inspection apparatus 20 can pinpoint the position with the suspected metal type foreign material in the 1st film FML. In the slitter 100, the foreign matter inspection apparatus 20 uses the first film FML on the upstream side of the cutter roll CR as an inspection target, and inspects the foreign matter that may be included in the first film FML. Accordingly, the determination as to whether the first type foreign material Me is included in any one of the second films QA to QH shown in FIG. 3 or in both end portions QQ is more accurate.

ここで磁気検出装置1は、0.05mm以上の第1種異物Meに対して、1つの磁気検出部が閾値Th以上の信号を出力するように設定している。これにより、0.05mm以上の金属種の異物が精度よく検出できる。 Here, the magnetic detection device 1 is set such that one magnetic detection unit outputs a signal equal to or greater than the threshold value Th for a first type foreign material Me of 0.05 mm 2 or greater. Thereby, the foreign material of the metal seed | species of 0.05 mm < 2 > or more can be detected accurately.

なお、第1異物座標マップMAP1、第2異物座標マップMAP2、第3異物座標マップMAP3は、表示装置19に表示される。   The first foreign object coordinate map MAP1, the second foreign object coordinate map MAP2, and the third foreign object coordinate map MAP3 are displayed on the display device 19.

(変形例)
図10は、本実施形態の変形例において、第1種異物に置き換える第2種異物を説明するための説明図である。変形例において、同じ構成要素については、同じ符号を付して詳細な説明を省略する。図10において、左側の第2異物座標マップMAP2の座標原点と、右側の第1異物座標マップMAP1とが、第1フィルムFMLの同じ送り座標で比較されている。
(Modification)
FIG. 10 is an explanatory diagram for explaining the second type foreign matter that is replaced with the first type foreign matter in the modification of the present embodiment. In the modified example, the same components are denoted by the same reference numerals and detailed description thereof is omitted. In FIG. 10, the coordinate origin of the second foreign object coordinate map MAP2 on the left side and the first foreign object coordinate map MAP1 on the right side are compared with the same feed coordinates of the first film FML.

図10に示す領域AM11の幅方向の長さpyは、幅方向に並べられた磁気検出部SE1からSEnのうち、隣り合う磁気検出部の距離と同じである。領域AM11の搬送方向Fの長さpxは、幅方向に並べられた磁気検出部SE1からSEnのうち、隣り合う磁気検出部の距離と同じである。   The length py in the width direction of the region AM11 shown in FIG. 10 is the same as the distance between adjacent magnetic detection units among the magnetic detection units SE1 to SEn arranged in the width direction. The length px in the transport direction F of the region AM11 is the same as the distance between adjacent magnetic detection units among the magnetic detection units SE1 to SEn arranged in the width direction.

本変形例では、第2異物座標マップMAP2の第2種異物Cと、領域AM11の中心を合わせる。第1異物座標マップMAP1の領域AM11内に、第1種異物Meがある場合、第2種異物Cを第1種異物Meに置き換える。   In the present modification, the second type foreign matter C of the second foreign matter coordinate map MAP2 is aligned with the center of the area AM11. When the first type foreign matter Me exists in the area AM11 of the first foreign matter coordinate map MAP1, the second type foreign matter C is replaced with the first type foreign matter Me.

図11は、本実施形態の変形例において、第1種異物に置き換える複数の第2種異物を説明するための説明図である。図11において、左側の第2異物座標マップMAP2の座標原点と、右側の第1異物座標マップMAP1とが、第1フィルムFMLの同じ送り座標で比較されている。   FIG. 11 is an explanatory diagram for explaining a plurality of second type foreign substances that are replaced with the first type foreign substances in a modification of the present embodiment. In FIG. 11, the coordinate origin of the second foreign object coordinate map MAP2 on the left side and the first foreign object coordinate map MAP1 on the right side are compared with the same feed coordinates of the first film FML.

図11に示す領域AM12の幅方向の長さpyは、幅方向に並べられた磁気検出部SE1からSEnのうち、隣り合う磁気検出部の距離と同じである。領域AM11の搬送方向Fの長さpxは、幅方向に並べられた磁気検出部SE1からSEnのうち、隣り合う磁気検出部の距離と同じである。領域AM13は、領域AM12と同じ大きさである。   The length py in the width direction of the region AM12 shown in FIG. 11 is the same as the distance between adjacent magnetic detection units among the magnetic detection units SE1 to SEn arranged in the width direction. The length px in the transport direction F of the region AM11 is the same as the distance between adjacent magnetic detection units among the magnetic detection units SE1 to SEn arranged in the width direction. The region AM13 is the same size as the region AM12.

第2異物座標マップMAP2の1つ目の第2種異物Cと、領域AM12の中心を合わせる。第1異物座標マップMAP1の領域AM12内に、第1種異物Meがある場合、当該第2種異物Cを第1種異物Meに置き換える。   The first type 2 foreign matter C of the second foreign matter coordinate map MAP2 is aligned with the center of the area AM12. When the first type foreign matter Me exists in the area AM12 of the first foreign matter coordinate map MAP1, the second type foreign matter C is replaced with the first type foreign matter Me.

第2異物座標マップMAP2の2つ目の第2種異物Cと、領域AM13の中心を合わせる。第1異物座標マップMAP1の領域AM13内に、第1種異物Meがある場合、当該第2種異物Cを第1種異物Meに置き換える。   The second type second foreign matter C of the second foreign matter coordinate map MAP2 is aligned with the center of the area AM13. When the first type foreign matter Me exists in the area AM13 of the first foreign matter coordinate map MAP1, the second type foreign matter C is replaced with the first type foreign matter Me.

以上説明したように、図5に示すステップST3において、種別分析部14は、第1異物座標マップMAP1と、第2異物座標マップMAP2とを、同じ送り座標で比較する。そして、種別分析部14は、第2異物座標マップMAP2において、各第2種異物Cを中心にして幅方向に並べられた隣り合う磁気検出部の距離の1/2以下の範囲である領域AM11内に、第1異物座標マップMAP1の第1種異物Meがある第2種異物Cを、第1種異物Meに置き換えて、第3異物座標マップMAP3を作成する。   As described above, in step ST3 shown in FIG. 5, the type analysis unit 14 compares the first foreign object coordinate map MAP1 and the second foreign object coordinate map MAP2 with the same feed coordinates. Then, the type analysis unit 14 in the second foreign matter coordinate map MAP2 is an area AM11 that is a range of ½ or less of the distance between adjacent magnetic detection units arranged in the width direction with the second foreign matter C as the center. The second type foreign matter C having the first type foreign matter Me in the first foreign matter coordinate map MAP1 is replaced with the first type foreign matter Me to create a third foreign matter coordinate map MAP3.

本実施形態の変形例において、以下のように種別分析部14は、演算してもよい。種別分析部14は、第1異物座標マップMAP1において、各第1種異物Meを中心にして幅方向に並べられた隣り合う磁気検出部の距離の1/2以下の範囲である特定領域を演算する。種別分析部14は、この特定領域を第2異物座標マップMAP2の位置に重ね合わせ、特定領域内にある第2異物座標マップMAP2の第2種異物Cを、第1種異物Meに置き換えて、第3異物座標マップMAP3を作成する。これにより、精度の高い第2異物座標マップMAP2に基づいて、第1種異物か第2種異物かの判定が行われるので、誤判定が抑制される。   In the modification of the present embodiment, the type analysis unit 14 may calculate as follows. The type analysis unit 14 calculates a specific area in the first foreign object coordinate map MAP1 that is a range of ½ or less of the distance between adjacent magnetic detection units arranged in the width direction around each first type foreign object Me. To do. The type analysis unit 14 superimposes this specific area on the position of the second foreign object coordinate map MAP2, and replaces the second type foreign object C in the second foreign object coordinate map MAP2 in the specific area with the first type foreign object Me, A third foreign object coordinate map MAP3 is created. Thereby, since it is determined based on the highly accurate second foreign matter coordinate map MAP2 whether the first type foreign matter or the second type foreign matter, erroneous determination is suppressed.

以上、好適な実施形態を説明したが、本発明はこのような実施形態に限定されるものではない。実施の形態で開示された内容はあくまで一例にすぎず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。本発明の趣旨を逸脱しない範囲で行われた適宜の変更についても、当然に本発明の技術的範囲に属する。上述した発明を基にして当業者が適宜設計変更して実施しうる全ての発明も、本発明の要旨を包含する限り、本発明の技術的範囲に属する。   The preferred embodiments have been described above, but the present invention is not limited to such embodiments. The content disclosed in the embodiment is merely an example, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. Appropriate changes made without departing from the spirit of the present invention naturally belong to the technical scope of the present invention. All the inventions that can be implemented by those skilled in the art based on the above-mentioned inventions as appropriate are included in the technical scope of the present invention as long as they include the gist of the present invention.

例えば、磁気検出部SE1からSEnは、特許文献3に記載したような、検出コイルであってもよい。   For example, the magnetic detection units SE1 to SEn may be detection coils as described in Patent Document 3.

一般的に「シート」とは、JISにおける定義上、薄く、一般にその厚みが長さと幅のわりには小さく平らな製品をいい、一般的に「フィルム」とは、長さ及び幅に比べて厚みが極めて小さく、最大厚みが任意に限定されている薄い平らな製品で、通常、ロールの形で供給されるものをいい(日本工業規格JISK6900)、しかし、シートとフィルムの境界は定かでなく、本実施形態においては両者を同義として用い、統一して「フィルム」と記す。   “Sheet” is generally a thin product as defined by JIS and generally has a thickness that is small and flat instead of length and width, and “film” is generally thicker than length and width. Is a thin flat product with an extremely small maximum thickness, and is usually supplied in the form of a roll (Japanese Industrial Standard JISK6900), but the boundary between the sheet and film is not clear, In the present embodiment, both are used synonymously and are collectively referred to as “film”.

1 磁気検出装置
2 帯磁器
3 静電除去装置
5 画像検出装置
6 撮像装置
7 照射装置
8 位置検出装置
10 解析装置
11 位置取得部
12 磁気検出分析部
13 画像処理部
14 種別分析部
15 記憶部
19 表示装置
20 異物検査装置
100 スリッター
C 第2種異物
CL スリット
CR カッターロール
F 搬送方向
FML 第1フィルム
MAP1 第1異物座標マップ
MAP2 第2異物座標マップ
MAP3 第3異物座標マップ
Me 第1種異物
MR 原反
SE1、SE2、SE3、SE4・・・SEn 磁気検出部
Th 閾値
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Magnetic detection apparatus 2 Magnetizer 3 Static elimination apparatus 5 Image detection apparatus 6 Imaging apparatus 7 Irradiation apparatus 8 Position detection apparatus 10 Analysis apparatus 11 Position acquisition part 12 Magnetic detection analysis part 13 Image processing part 14 Type analysis part 15 Storage part 19 Display device 20 Foreign matter inspection device 100 Slitter C Second type foreign matter CL Slit CR Cutter roll F Transport direction FML First film MAP1 First foreign matter coordinate map MAP2 Second foreign matter coordinate map MAP3 Third foreign matter coordinate map Me First type foreign matter MR Original Anti-SE1, SE2, SE3, SE4... SEn Magnetic detector Th threshold value

Claims (14)

上流から下流へ搬送方向に搬送されるフィルム状の被検査対象である第1フィルムに対し、含まれる可能性のある異物を検査する異物検査方法であって、
前記搬送方向に直交する幅方向に複数並べられた磁気検出部の信号を検出する磁気検出ステップと、
前記磁気検出ステップにおいて、信号値が所定の閾値となった磁気検出部の前記幅方向の位置と、当該磁気検出部の信号が閾値を出力した前記第1フィルムの前記搬送方向の送り座標とに基づいて、前記第1フィルムにおける第1種異物の位置を示す第1異物座標マップを作成する第1異物座標マップ作成ステップとを有する異物検査方法。
A foreign matter inspection method for inspecting a foreign matter that may be included for a first film that is a film-like object to be inspected in the transport direction from upstream to downstream,
A magnetic detection step of detecting a plurality of magnetic detection unit signals arranged in a width direction orthogonal to the transport direction;
In the magnetic detection step, the position in the width direction of the magnetic detection unit where the signal value becomes a predetermined threshold value, and the feed coordinates in the transport direction of the first film from which the signal of the magnetic detection unit outputs the threshold value A foreign matter inspection method comprising: a first foreign matter coordinate map creating step for creating a first foreign matter coordinate map indicating a position of the first kind foreign matter on the first film.
前記第1フィルムに、検査光を照射し、前記第1フィルムの画像を検出する画像検出ステップと、
前記第1フィルムの画像から輝度差に基づいて、第2種異物を特定し、前記第1フィルムの画像を撮像した前記第1フィルムの前記搬送方向の送り座標と、当該画像における当該第2種異物の位置に基づいて、前記第1フィルムにおける当該第2種異物の位置を示す第2異物座標マップを作成する第2異物座標マップ作成ステップと、をさらに有し、
前記第1異物座標マップにおいて前記第1種異物がある領域と重なる第2種異物を第1種異物と判断する、請求項1に記載の異物検査方法。
An image detecting step of irradiating the first film with inspection light and detecting an image of the first film;
Based on the brightness difference from the image of the first film, the second type foreign matter is specified, the feed coordinates in the transport direction of the first film that has captured the image of the first film, and the second type in the image A second foreign matter coordinate map creating step of creating a second foreign matter coordinate map indicating the position of the second kind foreign matter on the first film based on the position of the foreign matter,
The foreign matter inspection method according to claim 1, wherein a second type foreign matter that overlaps a region where the first type foreign matter is present in the first foreign matter coordinate map is determined as a first type foreign matter.
前記第1フィルムに、検査光を照射し、前記第1フィルムの画像を検出する画像検出ステップと、
前記第1フィルムの画像から輝度差に基づいて、第2種異物を特定し、前記第1フィルムの画像を撮像した前記第1フィルムの前記搬送方向の送り座標と、当該画像における当該第2種異物の位置に基づいて、前記第1フィルムにおける当該第2種異物の位置を示す第2異物座標マップを作成する第2異物座標マップ作成ステップと、
前記第1異物座標マップにおいて、前記第1種異物がある領域を、第2異物座標マップに重ね、前記第1種異物がある領域と重なる第2種異物を第1種異物と置き換えた第3異物座標マップを作成する第3異物座標マップ作成ステップと、
をさらに有する、請求項1に記載の異物検査方法。
An image detecting step of irradiating the first film with inspection light and detecting an image of the first film;
Based on the brightness difference from the image of the first film, the second type foreign matter is specified, the feed coordinates in the transport direction of the first film that has captured the image of the first film, and the second type in the image A second foreign matter coordinate map creating step for creating a second foreign matter coordinate map indicating the position of the second kind foreign matter on the first film based on the position of the foreign matter;
In the first foreign matter coordinate map, a region where the first type foreign matter is superimposed on the second foreign matter coordinate map, and a second type foreign matter overlapping the region containing the first type foreign matter is replaced with a first type foreign matter. A third foreign matter coordinate map creating step for creating a foreign matter coordinate map;
The foreign matter inspection method according to claim 1, further comprising:
前記第1フィルムに、検査光を照射し、前記第1フィルムの画像を検出する画像検出ステップと、
前記第1フィルムの画像から輝度差に基づいて、第2種異物を特定し、前記第1フィルムの画像を撮像した前記第1フィルムの前記搬送方向の送り座標と、当該画像における当該第2種異物の位置に基づいて、前記第1フィルムにおける当該第2種異物の位置を示す第2異物座標マップを作成する第2異物座標マップ作成ステップと、
前記第1異物座標マップと、前記第2異物座標マップとを、同じ送り座標で比較し、前記第2異物座標マップにおいて、各前記第2種異物を中心にして前記幅方向に並べられた隣り合う前記磁気検出部の距離の1/2以下の範囲に、前記第1異物座標マップの前記第1種異物がある第2種異物を、第1種異物に置き換えた第3異物座標マップを作成する第3異物座標マップ作成ステップと、
をさらに有する、請求項1に記載の異物検査方法。
An image detecting step of irradiating the first film with inspection light and detecting an image of the first film;
Based on the brightness difference from the image of the first film, the second type foreign matter is specified, the feed coordinates in the transport direction of the first film that has captured the image of the first film, and the second type in the image A second foreign matter coordinate map creating step for creating a second foreign matter coordinate map indicating the position of the second kind foreign matter on the first film based on the position of the foreign matter;
The first foreign matter coordinate map and the second foreign matter coordinate map are compared with the same feed coordinates, and the second foreign matter coordinate map is arranged adjacent to each other in the width direction with the second type foreign matter as a center. A third foreign matter coordinate map is created by replacing the second type foreign matter with the first type foreign matter in the first foreign matter coordinate map with a first type foreign matter within a range of ½ or less of the distance of the matching magnetic detection unit. A third foreign matter coordinate map creating step,
The foreign matter inspection method according to claim 1, further comprising:
前記第1フィルムが前記幅方向に設けられた複数のスリットで分割された複数の第2フィルムとされ、
前記幅方向に設けられた複数のスリットの位置と、前記第3異物座標マップとに基づいて、前記第1種異物が含まれる第2フィルムを、前記第1種異物が含まれない第2フィルムよりも品質の等級を下げて評価する、請求項3または4に記載の異物検査方法。
The first film is a plurality of second films divided by a plurality of slits provided in the width direction,
Based on the positions of the plurality of slits provided in the width direction and the third foreign matter coordinate map, the second film containing the first type foreign matter is changed to the second film not containing the first type foreign matter. The foreign matter inspection method according to claim 3, wherein the evaluation is performed with a quality grade lower than that of the evaluation.
1つの前記磁気検出部が磁気を検出可能な前記幅方向の磁気検出幅が、当該磁気検出部と隣り合う磁気検出部の磁気検出幅とオーバーラップしており、
前記搬送方向において、前記送り座標の所定範囲内で、隣り合う前記磁気検出部が前記閾値以上の信号を検出した場合に、大きい信号を出力した磁気検出部側の前記幅方向の位置座標を付与した前記第1種異物を前記第1異物座標マップにプロットする請求項1から5のいずれか1項に記載の異物検査方法。
The magnetic detection width in the width direction in which one magnetic detection unit can detect magnetism overlaps the magnetic detection width of a magnetic detection unit adjacent to the magnetic detection unit,
In the transport direction, within the predetermined range of the feed coordinates, when the adjacent magnetic detection unit detects a signal equal to or greater than the threshold value, the position coordinate in the width direction on the side of the magnetic detection unit that outputs a large signal is given. The foreign matter inspection method according to claim 1, wherein the first kind foreign matter is plotted on the first foreign matter coordinate map.
前記磁気検出部は、フラックスゲートセンサである、請求項1から6のいずれか1項に記載の異物検査方法。   The foreign matter inspection method according to claim 1, wherein the magnetic detection unit is a fluxgate sensor. 0.05mm以上の前記第1種異物に対して、1つの前記磁気検出部が前記閾値以上の信号を出力する、請求項1から7のいずれか1項に記載の異物検査方法。 The foreign matter inspection method according to claim 1, wherein one magnetic detection unit outputs a signal equal to or greater than the threshold value with respect to the first kind foreign matter of 0.05 mm 2 or more. 前記第1フィルムは、前記磁気検出部の上流側において、帯磁器の磁界を通過する、請求項1から8のいずれか1項に記載の異物検査方法。   9. The foreign matter inspection method according to claim 1, wherein the first film passes through a magnetic field of a porcelain on the upstream side of the magnetic detection unit. 前記第1フィルムは、前記磁気検出部の上流側かつ前記帯磁器の下流において、静電除去装置の処理を通過する、請求項9に記載の異物検査方法。   The foreign matter inspection method according to claim 9, wherein the first film passes through a process of an electrostatic removal device on the upstream side of the magnetic detection unit and on the downstream side of the magnetic porcelain. 上流から下流へ搬送方向に搬送されるフィルム状の被検査対象である第1フィルムに対し、含まれる可能性のある異物を検査する異物検査装置であって、
前記第1フィルムの搬送方向の送り座標を検出する位置検出装置と、
前記搬送方向に直交する幅方向に複数並べられた磁気検出部の信号を検出する磁気検出装置と、
信号値が所定の閾値となった磁気検出部の前記幅方向の位置と、当該磁気検出部の信号が閾値を出力した前記第1フィルムの前記搬送方向の送り座標とに基づいて、前記第1フィルムにおける第1種異物の位置を示す第1異物座標マップを作成する解析装置と、
を有する異物検査装置。
A foreign matter inspection apparatus that inspects foreign matter that may be included for a first film that is an object to be inspected in a transport direction from upstream to downstream,
A position detection device for detecting a feed coordinate in the transport direction of the first film;
A magnetic detection device that detects a plurality of magnetic detection unit signals arranged in a width direction orthogonal to the transport direction;
Based on the position in the width direction of the magnetic detection unit at which the signal value has reached a predetermined threshold, and the feed coordinates in the transport direction of the first film from which the signal from the magnetic detection unit has output the threshold, the first An analyzer for creating a first foreign matter coordinate map indicating the position of the first foreign matter on the film;
Foreign matter inspection apparatus having
前記第1フィルムに、検査光を照射し、前記第1フィルムの画像を検出する画像検出装置をさらに有し、
前記解析装置は、
前記第1フィルムの画像から輝度差に基づいて、第2種異物を特定し、前記第1フィルムの画像を撮像した前記第1フィルムの前記搬送方向の送り座標と、当該画像における当該第2種異物の位置に基づいて、前記第1フィルムにおける当該第2種異物の位置を示す第2異物座標マップを作成し、
前記第1異物座標マップにおいて前記第1種異物がある領域と重なる第2種異物を第1種異物と判断する、
請求項11に記載の異物検査装置。
The first film further includes an image detection device that irradiates inspection light and detects an image of the first film,
The analysis device includes:
Based on the brightness difference from the image of the first film, the second type foreign matter is specified, the feed coordinates in the transport direction of the first film that has captured the image of the first film, and the second type in the image Based on the position of the foreign matter, create a second foreign matter coordinate map indicating the position of the second type foreign matter in the first film,
In the first foreign matter coordinate map, a second type foreign matter that overlaps a region where the first type foreign matter is present is determined as a first type foreign matter.
The foreign matter inspection apparatus according to claim 11.
上流から下流へ搬送方向に第1フィルムを搬送する走行ロールと、
前記第1フィルムにスリットを入れて、複数の第2フィルムに分割するカッターロールと、
前記カッターロールの上流側において、前記第1フィルムを検査対象とし、前記第1フィルムに含まれる可能性のある異物を検査する異物検査装置と、を有し、
前記異物検査装置は、
前記第1フィルムの搬送方向の送り座標を検出する位置検出装置と、
前記搬送方向に直交する幅方向に複数並べられた磁気検出部の信号を検出する磁気検出装置と、
信号値が所定の閾値となった磁気検出部の前記幅方向の位置と、当該磁気検出部の信号が閾値を出力した前記第1フィルムの前記搬送方向の送り座標とに基づいて、前記第1フィルムにおける第1種異物の位置を示す第1異物座標マップを作成する解析装置と、
を有するスリッター。
A traveling roll for transporting the first film in the transport direction from upstream to downstream;
A cutter roll for slitting the first film and dividing it into a plurality of second films;
On the upstream side of the cutter roll, the first film is an inspection object, and has a foreign matter inspection device that inspects foreign matter that may be contained in the first film,
The foreign matter inspection apparatus
A position detection device for detecting a feed coordinate in the transport direction of the first film;
A magnetic detection device that detects a plurality of magnetic detection unit signals arranged in a width direction orthogonal to the transport direction;
Based on the position in the width direction of the magnetic detection unit at which the signal value has reached a predetermined threshold, and the feed coordinates in the transport direction of the first film from which the signal from the magnetic detection unit has output the threshold, the first An analyzer for creating a first foreign matter coordinate map indicating the position of the first foreign matter on the film;
Slitter with.
前記異物検査装置は、
前記第1フィルムに、検査光を照射し、前記第1フィルムの画像を検出する画像検出装置をさらに有し、
前記解析装置は、
前記第1フィルムの画像から輝度差に基づいて、第2種異物を特定し、前記第1フィルムの画像を撮像した前記第1フィルムの前記搬送方向の送り座標と、当該画像における当該第2種異物の位置に基づいて、前記第1フィルムにおける当該第2種異物の位置を示す第2異物座標マップを作成し、
前記第1異物座標マップにおいて前記第1種異物がある領域と重なる第2種異物を第1種異物と判断する、
請求項13に記載のスリッター。
The foreign matter inspection apparatus
The first film further includes an image detection device that irradiates inspection light and detects an image of the first film,
The analysis device includes:
Based on the brightness difference from the image of the first film, the second type foreign matter is specified, the feed coordinates in the transport direction of the first film that has captured the image of the first film, and the second type in the image Based on the position of the foreign matter, create a second foreign matter coordinate map indicating the position of the second type foreign matter in the first film,
In the first foreign matter coordinate map, a second type foreign matter that overlaps a region where the first type foreign matter is present is determined as a first type foreign matter.
The slitter according to claim 13.
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