JP2019181491A - Hybrid laser processing device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明はウェーハ等のワークに好適に穿孔加工や切断加工を施すことのできるハイブリッドレーザー加工装置に関する。 The present invention relates to a hybrid laser processing apparatus capable of suitably performing drilling or cutting on a workpiece such as a wafer.
半導体ウェーハ等のワークに穿孔加工や切断加工を施す装置として、支持テーブルに保持したワークに、加工ヘッドからワークに向けて液体を液体ビームとして噴射すると共に、該液体ビーム中に導入したレーザービームを照射するハイブリッドレーザー加工装置が知られている(特許文献1:特開2007−222897号公報)。
このハイブリッドレーザー加工装置は、液体ビーム内にレーザービームを導入してワークに照射するようにしているので、ワークの温度上昇を防ぎ、精度よく、穿孔加工や切断加工を行える利点がある。
As a device for drilling or cutting a workpiece such as a semiconductor wafer, a liquid is ejected from the machining head to the workpiece as a liquid beam onto the workpiece held on a support table, and a laser beam introduced into the liquid beam is applied to the workpiece. A hybrid laser processing apparatus for irradiation is known (Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-222897).
Since this hybrid laser processing apparatus introduces a laser beam into the liquid beam and irradiates the workpiece, there is an advantage that the temperature of the workpiece can be prevented from being increased and drilling and cutting can be performed with high accuracy.
ところで、上記特許文献1に示されるハイブリッドレーザー加工装置では、支持テーブルとして、多数の貫通孔を備えたハニカム状の支持テーブルを用いている。そして、この支持テーブルに、粘着シートに貼り付けたワークを該粘着シートを介して保持するようにしている。 By the way, in the hybrid laser processing apparatus disclosed in Patent Document 1, a honeycomb-shaped support table having a large number of through holes is used as the support table. And it is made to hold | maintain the workpiece | work affixed on the adhesive sheet on this support table via this adhesive sheet.
特許文献1に示される装置における上記支持テーブルとしては、レーザー光が透過する材料のものを使用する必要がある。
例えば、支持テーブルとして、石英製のものとすることができるが、石英は高価であるという難点がある。
また、ハニカム状の支持テーブルを用いた場合、液体ビームが支持テーブルに触れると、液体(水)を跳ね上げ、一緒に小さな加工物を跳ね上げ、位置ずれが生じ、加工不良を招いたり、最悪、紛失したりする不具合がある。また液体が跳ね上げられることによって霧化し、視界不良、作業環境の悪化を招く不具合がある。
As the support table in the apparatus disclosed in Patent Document 1, it is necessary to use a material that transmits laser light.
For example, the support table can be made of quartz, but quartz has a drawback that it is expensive.
In addition, when a honeycomb-shaped support table is used, when the liquid beam touches the support table, the liquid (water) jumps up, and a small workpiece is spun up together, resulting in misalignment, leading to processing defects, , There is a problem of losing. In addition, there is a problem that the liquid is atomized by splashing up, resulting in poor visibility and deterioration of the working environment.
本発明は、上記課題を解決すべくなされ、その目的とするところは、コストの低減化が図れ、また液体の跳ね上げ、霧化を防止し、精度よくワークの加工が行えるハイブリッドレーザー加工装置を提供することにある。 The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a hybrid laser processing apparatus capable of reducing costs, preventing liquid splashing and atomization, and processing a workpiece with high accuracy. It is to provide.
上記の目的を達成するため、本発明は次の構成を備える。
すなわち、本発明に係るハイブリッドレーザー加工装置は、ワークを保持する保持台と、該保持台上に保持されたワークに向けて、液体ビームを噴射すると共に前記液体ビーム内に導入されたレーザービームを照射する加工ヘッドを有するハイブリッドレーザー加工装置において、前記保持台は、上面側が開口された有底容器の台本体と、該台本体の開口凹部内に収容され、上面に加工すべきワークが保持される、合成樹脂製であって、弾性を有し連続気孔のスポンジ状をなす台座部とを有することを特徴とする。
In order to achieve the above object, the present invention comprises the following arrangement.
That is, the hybrid laser processing apparatus according to the present invention includes a holding table that holds a workpiece, and a laser beam that is injected into the liquid beam while ejecting a liquid beam toward the workpiece held on the holding table. In the hybrid laser processing apparatus having a processing head for irradiating, the holding table is accommodated in a base body of a bottomed container whose upper surface is opened and an opening recess of the base body, and a work to be processed is held on the upper surface. And a base portion having elasticity and a continuous pore-like sponge shape.
前記台座部が、比重が0.2〜0.33で、気孔径が0.2〜0.4mmのスポンジ状をなすと好適である。
また、前記台座部の厚さを50〜60mmとすることができる。
前記台座部をポリウレタン樹脂製とすると好適である。
It is preferable that the pedestal has a sponge shape with a specific gravity of 0.2 to 0.33 and a pore diameter of 0.2 to 0.4 mm.
Moreover, the thickness of the said base part can be 50-60 mm.
The pedestal is preferably made of polyurethane resin.
前記台本体に2段の開口凹部を形成し、前記台座部を上段側の第1の開口凹部内に収容し、下段側の第2の開口凹部を、前記液体ビームとして噴出される液体が貯留される貯留槽に形成し、前記台本体の側壁の前記第2の開口凹部の底面よりも高い位置に液抜き孔を設けると好適である。
また、前記台本体の側壁に、前記台本体内の空気を吸引して、前記台座部の表面に負圧吸引力を形成する吸引機構を設けるようにすることができる。
前記台本体の開口凹部底面に設けた支持孔に、前記台座部を貫通してワークの外周の位置決めをする位置決めピンを抜き差し自在に嵌入すると好適である。
A two-stage opening recess is formed in the base body, the pedestal is accommodated in the first opening recess on the upper stage side, and liquid ejected as the liquid beam is stored in the second opening recess on the lower stage side. It is preferable that the drainage hole is provided in a position higher than the bottom surface of the second opening recess in the side wall of the base body.
A suction mechanism may be provided on the side wall of the base body for sucking air in the base body to form a negative pressure suction force on the surface of the pedestal portion.
It is preferable that a positioning pin that passes through the pedestal portion and positions the outer periphery of the work is detachably fitted into a support hole provided in the bottom of the opening recess of the pedestal body.
本発明によれば、次のような有利な作用効果を奏する。
すなわち、本発明によれば、コストの低減化が図れ、また液体の跳ね上げ、霧化を防止し、精度よくワークの加工が行えるハイブリッドレーザー加工装置を提供することができる。
According to the present invention, the following advantageous effects are obtained.
That is, according to the present invention, it is possible to provide a hybrid laser processing apparatus capable of reducing costs, preventing liquid splashing and atomization, and processing a workpiece with high accuracy.
以下、本発明の好適な実施の形態について、添付図面に基づいて詳細に説明する。
図1はハイブリッドレーザー加工装置10の全体の概要を示す説明図、図2は保持台12の斜視図、図3は保持台12の断面図である。
ハイブリッドレーザー加工装置10は、ワーク14を保持する保持台12と、該保持台12上に保持したワーク14に向けて、液体ビームを噴射すると共に液体ビーム内に導入されたレーザービームを照射する加工ヘッド16を有する。
DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
FIG. 1 is an explanatory diagram showing an overview of the entire hybrid laser processing apparatus 10, FIG. 2 is a perspective view of the holding table 12, and FIG. 3 is a sectional view of the holding table 12.
The hybrid laser processing apparatus 10 ejects a liquid beam and irradiates a laser beam introduced into the liquid beam toward the holding table 12 that holds the workpiece 14 and the workpiece 14 held on the holding table 12. It has a head 16.
加工ヘッド16は公知のものでよいので、以下簡単に説明する。
符号18はレーザー発振器18であり、レーザー発振器18から放出されるレーザー光は集光レンズ20で集光されてレーザービームとして加工ヘッド16に入射される。
符号22は液体供給装置であり、図示しない加圧ポンプを備え、高圧液体(水)を加工ヘッド16に供給する。
加工ヘッド16内には、液体供給装置22から供給される液体を、例えば、ビーム径が50μm程度の液体ビームに絞るノズル(図示せず)を備える。液体ビームのビーム径は、10μm〜70μm程度の径に調整可能になっている。また液体ビームの圧力は、20MPa〜50MPa程度が好適である。
Since the processing head 16 may be a known one, it will be briefly described below.
Reference numeral 18 denotes a laser oscillator 18, and laser light emitted from the laser oscillator 18 is collected by a condenser lens 20 and is incident on the machining head 16 as a laser beam.
Reference numeral 22 denotes a liquid supply device that includes a pressure pump (not shown) and supplies high-pressure liquid (water) to the processing head 16.
The processing head 16 includes a nozzle (not shown) that narrows the liquid supplied from the liquid supply device 22 into, for example, a liquid beam having a beam diameter of about 50 μm. The beam diameter of the liquid beam can be adjusted to a diameter of about 10 μm to 70 μm. The pressure of the liquid beam is preferably about 20 MPa to 50 MPa.
加工ヘッド16に入射されたレーザービームは、上記ノズルに導入され、液体ビーム内に導入される。
液体ビーム内に導入されたレーザービームは、液体ビームが恰も光ファイバーのような作用をすることから、液体ビーム外に漏出することなく、液体ビームと共に、ワーク14に向けて照射、噴出される。
なお、レーザー光は特に限定されることはないが、YAGレーザー、グリーンレーザー等を好適に用いることができる。
加工ヘッド16は、XY駆動装置(図示せず)により水平面内で任意の方向に移動可能となっている。
The laser beam incident on the processing head 16 is introduced into the nozzle and introduced into the liquid beam.
The laser beam introduced into the liquid beam is irradiated and ejected toward the work 14 together with the liquid beam without leaking out of the liquid beam because the liquid beam acts like an optical fiber.
The laser light is not particularly limited, but a YAG laser, a green laser, or the like can be preferably used.
The processing head 16 can be moved in an arbitrary direction within a horizontal plane by an XY driving device (not shown).
レーザー単独のドライレーザーの場合は、加工すべきワークにレーザー光の焦点を合わせる必要があるが、液体ビームにレーザービームが導入され、該液体ビームにレーザービームがガイドされるハイブリッド式のレーザー加工の場合は、レーザービームが拡散しにくいことから、焦点震度を気にする必要がなく、深いところまでレーザービームが届くので、精度のよい穿孔加工や切断加工が行える。また、ワークを液体により冷却しつつ加工することから、熱による歪が極力抑えられ、また切り口が盛り上がることなく、精度のよい加工が行える。 In the case of a laser alone dry laser, it is necessary to focus the laser beam on the workpiece to be machined. However, the laser beam is introduced into the liquid beam and the laser beam is guided to the liquid beam. In this case, since the laser beam is difficult to diffuse, there is no need to worry about the focal seismic intensity, and the laser beam reaches deeper, so that drilling and cutting can be performed with high accuracy. In addition, since the workpiece is processed while being cooled with a liquid, distortion due to heat is suppressed as much as possible, and high-precision processing can be performed without raising the cut edge.
次に、保持台12は、上面側が開口された有底筒状をなす有底容器の台本体24と、該台本体24の開口凹部内に収容され、上面に加工すべきワーク14が保持される、合成樹脂製であって、弾性を有し連続気孔のスポンジ状をなす台座部26とを有する。
保持台12は支持台28上に載置されている。
なお、加工ヘッド16に替えて、支持台28をXY駆動装置に構成して、保持台12側を水平面内で任意の方向に移動可能に構成してもよい。
Next, the holding table 12 is housed in a bottomed container base body 24 having a bottomed cylindrical shape whose upper surface is opened, and an opening recess of the base body 24, and the work 14 to be processed is held on the upper surface. And a pedestal portion 26 that is made of a synthetic resin and has elasticity and has a continuous pore-like sponge shape.
The holding table 12 is placed on the support table 28.
Instead of the processing head 16, the support base 28 may be configured as an XY driving device, and the holding base 12 side may be configured to be movable in an arbitrary direction within a horizontal plane.
台座部26は、発泡ポリウレタン樹脂製のものを好適に用いることができる。あるいは台座部26をPVA製のものとすることもできる。
台座部26は、比重が0.2〜0.33で、気孔径が0.2〜0.4mmのスポンジ状とするのが好適である。このように、台座部26を、比重が0.2〜0.33のスポンジ状とすることにより、柔軟性を有し、かつ弾性を有するものとすることができる。
As the pedestal portion 26, a foamed polyurethane resin can be suitably used. Alternatively, the pedestal 26 can be made of PVA.
The pedestal 26 is preferably a sponge having a specific gravity of 0.2 to 0.33 and a pore diameter of 0.2 to 0.4 mm. Thus, by making the base part 26 into a sponge shape having a specific gravity of 0.2 to 0.33, the base part 26 can have flexibility and elasticity.
また、台座部26を、気孔径が0.2〜0.4mmの比較的大きな連続気孔のスポンジ状とすることによって、加工ヘッド16から噴射される液体ビームを通過させることができ、また、加工ヘッドから照射されるレーザービームも透過させることができる。また、台座部26は、その気孔内に水を保持することができ、これによりレーザービームが照射されても燃えてしまうことがない。
前記のように、液体ビームおよびレーザービームが比較的深いところまで届くことから、台座部26の厚さは50〜60mmとすることが好ましい。
Further, by making the pedestal portion 26 into a sponge shape with a relatively large continuous pore having a pore diameter of 0.2 to 0.4 mm, the liquid beam ejected from the machining head 16 can be passed, A laser beam emitted from the head can also be transmitted. In addition, the pedestal portion 26 can retain water in the pores, so that it does not burn even when irradiated with a laser beam.
As described above, since the liquid beam and the laser beam reach a relatively deep place, the thickness of the pedestal portion 26 is preferably 50 to 60 mm.
台本体24には、2段の開口凹部が形成され、前記スポンジ状をなす台座部26が上段側の第1の開口凹部30a内に収容され、下段側の第2の開口凹部30bが、液体ビームとして噴出される液体が貯留される貯留槽に形成されている。台本体24の側壁の第2の開口凹部30bの底面よりも高い位置に液抜き孔32が形成されている。 The base body 24 is formed with a two-stage opening recess, the sponge-like pedestal portion 26 is accommodated in the first opening recess 30a on the upper stage side, and the second opening recess 30b on the lower stage side is liquid. It is formed in the storage tank in which the liquid ejected as a beam is stored. A liquid drain hole 32 is formed at a position higher than the bottom surface of the second opening recess 30 b on the side wall of the base body 24.
液抜き孔32が形成されていることによって、加工ヘッド16から噴射される液体ビームの液体は、第2の開口凹部30b内に所要量貯留されるが、大部分の液体はワークの加工残渣と共に液抜き孔32から外部へ自然排出される。
上記のように、台座部26を厚さが50〜60mm程度の厚いものにすること、および、貯留槽となる第2の開口凹部30b内に液体が所要量貯留されることにより、レーザービームが拡散、吸収され、レーザービームにより台本体24が損傷されるのを防止できる。
Since the liquid drainage hole 32 is formed, a required amount of the liquid of the liquid beam ejected from the machining head 16 is stored in the second opening recess 30b. Naturally discharged from the drain hole 32 to the outside.
As described above, by making the pedestal portion 26 as thick as about 50 to 60 mm, and by storing a required amount of liquid in the second opening concave portion 30b serving as a storage tank, the laser beam is generated. It is possible to prevent the pedestal body 24 from being damaged by the laser beam being diffused and absorbed.
台本体24の側壁に、台本体24内の空気を吸引して、台座部26表面に負圧吸引力を形成する吸引機構(図示せず)が接続されている。符号34a、34b、34c、34dは、その吸引機構からの吸引パイプが接続される継手である。
吸引機構によって、台座部26表面に均等に負圧吸引力が形成されるから、台座部26上に載置されたワーク14がその負圧吸引力によって台座部26表面に良好に保持される。また、ワーク14が、複数の個片に切断分離された場合にも、切断された各個片が台座部26表面に吸引保持され、液体ビームにより跳ね飛ばされることはない。
なお、台座部26自体が、保水機能を備えているので、ワーク14は、台座部26に保持される液体の表面張力によっても台座部26上に保持可能であるので、上記吸引機構は必ずしも設けなくともよい。
A suction mechanism (not shown) that sucks air in the base body 24 and forms a negative pressure suction force on the surface of the base portion 26 is connected to the side wall of the base body 24. Reference numerals 34a, 34b, 34c, and 34d are joints to which suction pipes from the suction mechanism are connected.
Since the negative pressure suction force is uniformly formed on the surface of the pedestal portion 26 by the suction mechanism, the work 14 placed on the pedestal portion 26 is favorably held on the surface of the pedestal portion 26 by the negative pressure suction force. Further, even when the work 14 is cut and separated into a plurality of pieces, each cut piece is sucked and held on the surface of the pedestal portion 26 and is not splashed off by the liquid beam.
Since the pedestal portion 26 itself has a water retention function, the work 14 can be held on the pedestal portion 26 by the surface tension of the liquid held by the pedestal portion 26, so the suction mechanism is not necessarily provided. Not necessary.
符号36は保持台12の台座部26上に保持されるワーク14の位置決めをする位置決めピンである。
位置決めピン36は、予め台座部26の所要位置に設けられている貫通孔を貫通して、第2の開口凹部30bの底面に設けられている支持孔(図示せず)にその下端部が抜き差し自在に嵌入されることにより、固定して使用される。
図2および図3には複数の位置決めピン36が図示されているが、保持すべきワーク14の大きさによって、適宜選択して用いられる。位置決めピン36は、ワーク14の外周(ノッチ部やオリエンテーションフラットも含む)に当接するように固定され、これにより、ワーク14の位置決めをする。
Reference numeral 36 denotes a positioning pin for positioning the work 14 held on the base portion 26 of the holding base 12.
The positioning pin 36 passes through a through hole provided in a required position of the pedestal portion 26 in advance, and its lower end portion is inserted into and removed from a support hole (not shown) provided in the bottom surface of the second opening recess 30b. By being freely inserted, it is used in a fixed manner.
Although a plurality of positioning pins 36 are shown in FIGS. 2 and 3, they are appropriately selected and used depending on the size of the work 14 to be held. The positioning pin 36 is fixed so as to come into contact with the outer periphery (including the notch portion and the orientation flat) of the work 14, thereby positioning the work 14.
台座部26の周縁部および中心部には、貫通孔38が設けられている。この各貫通孔38内に位置して、頭部が台座部26の表面に突出しない高さの支持ピン(図示せず)が第2の開口凹部30bの底面に固定されている。
各支持ピンは一定の高さを有していて、ワーク14を水平に支持するようになっている。すなわち、台座部26上に載置されたワーク14が、吸引機構により台座部26に負圧吸引力が作用して、台座部26に吸引され、台座部26内に沈み込む際に、ワーク14に当接して、ワーク14を水平に維持するように作用する。
なお、台座部26が所要の硬さを有している場合には、ワーク14がほとんど台座部26内に沈み込まず、台座部26の表面によって水平に維持されるので、上記支持ピンは必ずしも設けなくともよい。
A through hole 38 is provided at the peripheral edge and the center of the pedestal 26. A support pin (not shown) having a height that does not protrude from the surface of the pedestal portion 26 and is positioned in each through hole 38 is fixed to the bottom surface of the second opening recess 30b.
Each support pin has a certain height and supports the workpiece 14 horizontally. That is, when the workpiece 14 placed on the pedestal portion 26 is sucked into the pedestal portion 26 by a negative pressure suction force acting on the pedestal portion 26 by the suction mechanism, the workpiece 14 is sinked into the pedestal portion 26. The workpiece 14 is kept in a horizontal position.
When the pedestal portion 26 has a required hardness, the work 14 is hardly submerged in the pedestal portion 26 and is maintained horizontally by the surface of the pedestal portion 26. It is not necessary to provide it.
本実施の形態に係るハイブリッドレーザー加工装置10は上記のように構成されている。
ワーク14の加工は次のようにしてなされる。
まず、位置決めピン36を用いて、ワーク14を台座部26の所定位置に位置決めして載置、保持する。
次いで、加工ヘッド16より、台座部26上に保持されているワーク14に向けて、液体ビームを噴射すると共にレーザービームを照射する。
The hybrid laser processing apparatus 10 according to the present embodiment is configured as described above.
The workpiece 14 is processed as follows.
First, the workpiece 14 is positioned at a predetermined position of the pedestal portion 26 using the positioning pins 36 and is placed and held.
Next, the processing head 16 ejects a liquid beam and a laser beam toward the work 14 held on the pedestal portion 26.
また、液体ビームの噴射とレーザービームの照射と同時に、加工ヘッド16、もしくは支持台28、従って保持台12を、駆動装置(図示せず)により水平面内で任意の方向に移動することによって、ワーク14に、所要の穿孔加工、あるいは切断加工を施すことができる。
この一連の動作は、制御部(図示せず)により、所要のプログラムに従って行うことができる。
Simultaneously with the ejection of the liquid beam and the irradiation of the laser beam, the processing head 16 or the support table 28, and thus the holding table 12 is moved in an arbitrary direction within a horizontal plane by a driving device (not shown), thereby 14 can be subjected to required drilling or cutting.
This series of operations can be performed by a control unit (not shown) according to a required program.
上記のように、台座部26を、比重が0.2〜0.33で、気孔径が0.2〜0.4mmのスポンジ状のものとすることにより、柔軟性を有し、かつ弾性を有するものとすることができ、これにより、液体ビームが跳ね返されることがなく、ワークの位置ずれを防止でき、ワークの精密な加工ができる。また液体ビームが跳ね返されることがないので、霧化を防止でき、視野が良好で、好適な作業環境とすることができる。 As described above, the pedestal portion 26 is made sponge-like with a specific gravity of 0.2 to 0.33 and a pore diameter of 0.2 to 0.4 mm, thereby having flexibility and elasticity. Accordingly, the liquid beam is not rebounded, the workpiece can be prevented from being displaced, and the workpiece can be precisely processed. Further, since the liquid beam is not rebounded, atomization can be prevented, the visual field is good, and a suitable working environment can be obtained.
また、台座部26を、気孔径が0.2〜0.4mmの比較的大きな連続気孔のスポンジ状とすることによって、加工ヘッド16から噴射される液体ビームを通過させることができ、また、加工ヘッドから照射されるレーザービームも透過させることができ、ワーク14に所要の加工を施すことができる。また、台座部26は、その気孔内に水を保持することができ、これによりレーザービームが照射されても燃えてしまうことがない。
台座部26は、合成樹脂製の安価なものとすることができ、コストの低減が図れる。
Further, by making the pedestal portion 26 into a sponge shape with a relatively large continuous pore having a pore diameter of 0.2 to 0.4 mm, the liquid beam ejected from the machining head 16 can be passed, The laser beam irradiated from the head can also be transmitted, and the workpiece 14 can be processed as required. In addition, the pedestal portion 26 can retain water in the pores, so that it does not burn even when irradiated with a laser beam.
The pedestal portion 26 can be made of a synthetic resin and inexpensive, and the cost can be reduced.
図4は、ワーク14の切断加工例を示す。
大口径(例えば200mm)ウェーハ14aから小口径(例えば12.5mm:1/2インチ)のウェーハ14bを多数切り出す加工を行った。
まず、大口径ウェーハ14aを保持台12の台座部26上に上記のように位置決めピン36を用いて位置決めして保持した。また、吸引機構(図示せず)を作動して、大口径ウェーハ14aを、台座部26の表面に吸着するようにした。
なお、42はノッチ部である。
FIG. 4 shows an example of cutting the workpiece 14.
A large number of wafers 14b having a small diameter (for example, 12.5 mm: 1/2 inch) were cut out from a large diameter (for example, 200 mm) wafer 14a.
First, the large-diameter wafer 14a was positioned and held on the pedestal portion 26 of the holding table 12 using the positioning pins 36 as described above. Further, a suction mechanism (not shown) is operated so that the large-diameter wafer 14 a is adsorbed on the surface of the pedestal portion 26.
Reference numeral 42 denotes a notch portion.
次いで、加工ヘッド16より、台座部26上に保持されている大口径ワーク14aに向けて、液体ビームを噴射すると共にレーザービームを照射し、またこれと同時に、加工ヘッド16を、駆動装置(図示せず)により水平面内で任意の方向に移動することによって、大口径ワーク14aに、所要の加工を行った。 Next, the processing head 16 ejects a liquid beam and irradiates the laser beam toward the large-diameter workpiece 14a held on the pedestal portion 26. At the same time, the processing head 16 is driven by a driving device (FIG. The large-diameter workpiece 14a was processed as required by moving in any direction within the horizontal plane.
本実施の形態では、小口径ウェーハ14bに切り出す前に、図4の破線で示すように、まず、大口径ウェーハ14aに、得るべき小口径ウェーハ14bの所要位置となるように、直線溝状のオリフラ線(オリエンテーションフラット)40の加工を行った。
図4における実線は切り出す小口径ウェーハ14bの仮想位置を示している。
オリフラ線40は、図4に示すように、大口径ウェーハ14aにおいて、小口径ウェーハ14bの切出位置が特定の方向に列をなし、各列の各小口径ウェーハ14bを横切るようにして、各列ごとに一括して形成した。すなわち、加工ヘッド16を、列方向に走行させて、各列ごとにオリフラ線40を一括して形成した。
In the present embodiment, before cutting into the small-diameter wafer 14b, as shown by a broken line in FIG. 4, first, the large-diameter wafer 14a is formed in a linear groove shape so as to be a required position of the small-diameter wafer 14b to be obtained. The orientation flat wire (orientation flat) 40 was processed.
A solid line in FIG. 4 indicates a virtual position of the small-diameter wafer 14b to be cut out.
As shown in FIG. 4, the orientation flat wire 40 has a large-diameter wafer 14 a in which the cut-out positions of the small-diameter wafer 14 b are arranged in a specific direction, and each small-diameter wafer 14 b in each row is crossed. Each column was formed in a lump. That is, the machining head 16 was caused to travel in the column direction, and the orientation flat wires 40 were collectively formed for each column.
オリフラ線40を形成した後、加工ヘッド16を駆動して、大口径ウェーハ14aから小口径ウェーハ14bを切り出すようにした。小口径ウェーハ14bは円形に切り出した。
小口径ウェーハ14bは、個片に切断されるが、吸引機構によって台座部26表面上に吸着保持されるので、切り出される個片が位置ずれすることなく保持され、これにより精度よく切断加工することができた。
After the orientation flat wire 40 was formed, the processing head 16 was driven to cut out the small diameter wafer 14b from the large diameter wafer 14a. The small diameter wafer 14b was cut into a circle.
The small-diameter wafer 14b is cut into individual pieces, but is sucked and held on the surface of the pedestal portion 26 by the suction mechanism, so that the cut-out pieces are held without being displaced, and thus can be cut accurately. I was able to.
10 ハイブリッドレーザー加工装置、12 保持台、14 ワーク、16 加工ヘッド、18 レーザー発振器、20 集光レンズ、22 液体供給装置、24 台本体、26 台座部、28 支持台、30a 第1の開口凹部、30b 第2の 開口凹部、32 液抜き孔、34a〜34d 継手、36 位置決めピン、38 貫通孔、40 オリフラ線、42 ノッチ部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Hybrid laser processing apparatus, 12 Holding stand, 14 Workpiece, 16 Processing head, 18 Laser oscillator, 20 Condensing lens, 22 Liquid supply apparatus, 24 main body, 26 base part, 28 Support base, 30a 1st opening recessed part, 30b 2nd opening recessed part, 32 liquid drainage hole, 34a-34d joint, 36 positioning pin, 38 through-hole, 40 orientation flat wire, 42 notch part
Claims (7)
前記保持台は、
上面側が開口された有底容器の台本体と、
該台本体の開口凹部内に収容され、上面に加工すべきワークが保持される、合成樹脂製であって、弾性を有し連続気孔のスポンジ状をなす台座部とを有することを特徴とするハイブリッドレーザー加工装置。 In a hybrid laser processing apparatus having a holding table for holding a workpiece, and a processing head for irradiating a laser beam introduced into the liquid beam while ejecting a liquid beam toward the workpiece held on the holding table,
The holding table is
The base body of the bottomed container whose upper surface side is opened,
It is made of a synthetic resin, accommodated in an opening recess of the base body, and holds a work to be processed on the upper surface, and has a base part that is elastic and has a sponge shape with continuous pores. Hybrid laser processing equipment.
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---|---|---|---|---|
CN117038553A (en) * | 2023-09-28 | 2023-11-10 | 江苏希太芯科技有限公司 | Wafer thickness measuring device convenient to location |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02130103A (en) * | 1988-11-11 | 1990-05-18 | Toshiba Corp | Dicing jig |
JP2003173988A (en) * | 2001-12-04 | 2003-06-20 | Furukawa Electric Co Ltd:The | Method for dicing semiconductor wafer |
JP2007245571A (en) * | 2006-03-16 | 2007-09-27 | Toyo Tire & Rubber Co Ltd | Laminated sheet and its manufacturing method |
JP3188320U (en) * | 2013-01-17 | 2014-01-16 | “ペルコム・ドゥブナ・マシーン−ビルディング・ファクトリー”・リミテッド | Table for processing non-metallic transparent material by laser radiation |
JP2014113626A (en) * | 2012-12-11 | 2014-06-26 | Disco Abrasive Syst Ltd | Laser processing device |
JP2017123400A (en) * | 2016-01-07 | 2017-07-13 | 株式会社ディスコ | Chuck table |
-
2018
- 2018-04-04 JP JP2018072387A patent/JP7072846B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02130103A (en) * | 1988-11-11 | 1990-05-18 | Toshiba Corp | Dicing jig |
JP2003173988A (en) * | 2001-12-04 | 2003-06-20 | Furukawa Electric Co Ltd:The | Method for dicing semiconductor wafer |
JP2007245571A (en) * | 2006-03-16 | 2007-09-27 | Toyo Tire & Rubber Co Ltd | Laminated sheet and its manufacturing method |
JP2014113626A (en) * | 2012-12-11 | 2014-06-26 | Disco Abrasive Syst Ltd | Laser processing device |
JP3188320U (en) * | 2013-01-17 | 2014-01-16 | “ペルコム・ドゥブナ・マシーン−ビルディング・ファクトリー”・リミテッド | Table for processing non-metallic transparent material by laser radiation |
JP2017123400A (en) * | 2016-01-07 | 2017-07-13 | 株式会社ディスコ | Chuck table |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN117038553A (en) * | 2023-09-28 | 2023-11-10 | 江苏希太芯科技有限公司 | Wafer thickness measuring device convenient to location |
CN117038553B (en) * | 2023-09-28 | 2023-12-12 | 江苏希太芯科技有限公司 | Wafer thickness measuring device convenient to location |
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