JP2019174630A - 液晶パネル及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】微細スリットの線幅ばらつきによる輝度ムラが抑制された液晶パネルを提供する。【解決手段】複数の画素電極３５と第一の配向膜とを有する第一基板、液晶層、及び、共通電極と第二の配向膜とを有する第二基板を順に備える液晶パネルであって、行方向に連続する少なくとも３０画素において、ドメイン配列が同一であり、第ｎ行に位置する表示単位領域におけるドメイン配置順は、第一のドメイン１０ａ、第二のドメイン１０ｂ、第三のドメイン１０ｃ、及び、第四のドメイン１０ｄの順であり、複数の画素電極３５は、第一のドメインと重畳する領域、第二のドメインと重畳する領域、第三のドメインと重畳する領域及び第四のドメインと重畳する領域のうち、少なくとも１つの領域において、対応するドメインの配向ベクトルと平行な微細スリット３６が設けられ、かつ、残りの領域において、微細スリットが設けられない構成を有する第一の画素電極３５Ａを含む。【選択図】図４

Description

本発明は、液晶パネル及びその製造方法に関する。より詳しくは、一画素を複数の配向領域（ドメイン）に分割した構成を有する液晶パネル、及び、該液晶パネルの製造に好適な液晶パネルの製造方法に関するものである。

液晶表示装置は、表示のために液晶組成物を利用する表示装置であり、その代表的な表示方式は、一対の基板間に液晶組成物を封入した液晶パネルに対してバックライトから光を照射し、液晶組成物に電圧を印加して液晶分子の配向を変化させることにより、液晶パネルを透過する光の量を制御するものである。このような液晶表示装置は、薄型、軽量及び低消費電力といった特長を有することから、スマートフォン、タブレットＰＣ、カーナビゲーション等の電子機器に利用されている。

従来、一画素を複数の配向領域（ドメイン）に分割し、配向領域ごとに液晶分子を異なる方位に配向させることで、視野角特性を向上させる配向分割技術が検討されている。配向分割技術を開示した先行技術文献としては、例えば、特許文献１が挙げられる。

特許文献１には、複数の画素領域を有し、第１方向にしたがって曲がった曲面形状を有する表示基板と、前記表示基板と対向し、前記表示基板と結合されて前記表示基板と共に曲面形状を有する対向基板と、前記表示基板及び前記対向基板の間に配置された液晶層と、を含み、前記複数の画素領域の各々に複数のドメインが定義され、前記複数のドメインの中の少なくとも２つのドメインにおいて前記液晶層の液晶分子が配向される方向は、互いに異なり、前記複数のドメインは、前記第１方向と交差する第２方向に配列されることを特徴とする液晶表示装置が開示されている。

特開２０１５−３１９６１号公報

ところで、配向分割技術が用いられた液晶パネルには、画素電極に微細スリットを形成することがある。しかしながら、微細スリットの線幅を高精度に制御することが難しく、線幅のばらつきによって輝度ムラ（透過率のムラ）が発生することがあった。

本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、微細スリットの線幅ばらつきによる輝度ムラが抑制された液晶パネル、及び、該液晶パネルの製造に好適な液晶パネルの製造方法を提供することを目的とするものである。

本発明者らは、画素電極に形成した微細スリットの線幅ばらつきのために輝度ムラが発生することを見出した。これに対して、画素電極内に微細スリットが設けられた領域と設けられない領域とを共存させることによって輝度ムラが低減され、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達した。

すなわち、本発明の一態様は、マトリクス状に配置された複数の画素電極と第一の配向膜とを有する第一基板、液晶分子を含有する液晶層、及び、共通電極と第二の配向膜とを有する第二基板を順に備える液晶パネルであって、上記液晶分子の上記第一基板側の長軸端部を始点とし、上記第二基板側の長軸端部を終点とする配向ベクトルを定義したときに、上記第一の配向膜及び上記第二の配向膜は、単一の上記画素電極と重畳する表示単位領域の各々において、上記配向ベクトルの向きが第一の方向である第一のドメイン、上記配向ベクトルの向きが第二の方向である第二のドメイン、上記配向ベクトルの向きが第三の方向である第三のドメイン、及び、上記配向ベクトルの向きが第四の方向である第四のドメインが列方向に並ぶように配向処理されており、行方向に連続する少なくとも３０画素において、上記複数のドメインの配列が同一であり、第ｎ行（ｎは、１以上の任意の整数）に位置する上記表示単位領域におけるドメイン配置順は、第一のドメイン、第二のドメイン、第三のドメイン、及び、第四のドメインの順であり、上記複数の画素電極は、上記第一のドメインと重畳する領域、上記第二のドメインと重畳する領域、上記第三のドメインと重畳する領域及び上記第四のドメインと重畳する領域のうち、少なくとも１つの領域において、対応するドメインの上記配向ベクトルと平行な微細スリットが設けられ、かつ、残りの領域において、上記微細スリットが設けられない構成を有する第一の画素電極を含む液晶パネルである。

本発明の別の一態様は、上記態様の液晶パネルを製造する方法であって、上記微細スリットをフォトリソグラフィにより形成する工程を含み、上記フォトリソグラフィは、上記微細スリットに対応するパターンが形成されたマスク、及び、複数のレンズを介して、導電膜上に形成した感光性樹脂に対して光を照射することを含む液晶パネルの製造方法である。

本発明によれば、微細スリットの線幅ばらつきによる輝度ムラが抑制された液晶パネル、及び、該液晶パネルの製造に好適な液晶パネルの製造方法を提供することができる。

実施形態１の液晶表示装置の一例を模式的に示した断面図である。 実施形態１の液晶層中の液晶分子の傾斜方位と第二基板のカラーフィルタとの配置関係を模式的に示した平面図である。 液晶分子の傾斜方位と配向ベクトルとの関係を説明する図である。 実施形態１の第一基板の電極・配線構造の一例を、液晶層中の液晶分子の傾斜方位と重ねて示した平面模式図である。 マルチレンズを用いたフォトリソグラフィを示した図である。 （ａ）は、マルチレンズにおける各レンズの配置関係を示した断面模式図であり、（ｂ）は、（ａ）に示したマルチレンズを用いた走査露光によって、微細スリットを有する画素電極を形成したときに発生する輝度ムラのパターンを示した概念図である。 実施形態１の液晶パネルにおける液晶表示の階調と透過率との関係を、微細スリット領域、ベタ領域、及び、微細スリット領域及びベタ領域の合計についてそれぞれ示したグラフである。 微細スリット領域及びベタ領域の合計の透過率に対する微細スリット領域の透過率の割合（微細スリット寄与率）を、液晶表示の階調ごとに示したグラフである。 光配向処理装置の一例を示した概要図である。 光配向処理装置を用いた光配向処理工程の一例を示した図である。 （ａ）は、ＴＦＴ基板（第一基板）の光配向処理を説明する図であり、（ｂ）は、ＣＦ基板（第二基板）の光配向処理を説明する図であり、（ｃ）は、光配向処理されたＴＦＴ基板及びＣＦ基板の貼合わせ後の状態を説明する図である。 変形例１の第一基板の電極・配線構造の一例を、液晶層中の液晶分子の傾斜方位と重ねて示した平面模式図である。 変形例２の第一基板の電極・配線構造の一例を、液晶層中の液晶分子の傾斜方位と重ねて示した平面模式図である。 変形例３の第一基板の電極・配線構造の一例を、液晶層中の液晶分子の傾斜方位と重ねて示した平面模式図である。 変形例４の第一基板の電極・配線構造の一例を、液晶層中の液晶分子の傾斜方位と重ねて示した平面模式図である。 変形例５の第一基板の電極・配線構造の一例を、液晶層中の液晶分子の傾斜方位と重ねて示した平面模式図である。 変形例６の第一基板の電極・配線構造の一例を、液晶層中の液晶分子の傾斜方位と重ねて示した平面模式図である。 微細スリットの配置パターンの例を示した平面模式図である。 微細スリットの配置パターンの例を示した平面模式図である。 実施形態の液晶パネルが撓んだ場合について説明する図であり、（ａ）は、液晶パネルが撓んでいない状態を示し、（ｂ）は、液晶パネルが撓んだ状態を示している。 実施形態の液晶パネルの嵌合ズレが生じていない部分の暗線の状態について説明する図であり、（ａ）は、画素の平面図であり、（ｂ）は、Ａ−Ａ’線断面図である。 実施形態の液晶パネルの第一の形態の嵌合ズレが生じた部分の暗線の状態について説明する図であり、（ａ）は、画素の平面図であり、（ｂ）は、Ａ−Ａ’線断面図である。 実施形態の液晶パネルの第二の形態の嵌合ズレが生じた部分の暗線の状態について説明する図であり、（ａ）は、画素の平面図であり、（ｂ）は、Ａ−Ａ’線断面図である。 第一の従来の液晶パネルが撓んだ場合について説明する図であり、（ａ）は、第一の従来の液晶パネルが撓んでいない状態を示し、（ｂ）は、第一の従来の液晶パネルが撓んだ状態を示している。 第一の従来の液晶パネルの嵌合ズレが生じていない部分の暗線の状態について説明する図であり、（ａ）は、画素の平面図であり、（ｂ）は、Ａ−Ａ’線断面図である。 第一の従来の液晶パネルの第一の形態の嵌合ズレが生じた部分の暗線の状態について説明する図であり、（ａ）は、画素の平面図であり、（ｂ）は、Ａ−Ａ’線断面図である。 第一の従来の液晶パネルの第二の形態の嵌合ズレが生じた部分の暗線の状態について説明する図であり、（ａ）は、画素の平面図であり、（ｂ）は、Ａ−Ａ’線断面図である。 第二の従来の液晶パネルが撓んだ場合について説明する図であり、（ａ）は、第二の従来の液晶パネルが撓んでいない状態を示し、（ｂ）は、第二の従来の液晶パネルが撓んだ状態を示している。 第二の従来の液晶パネルの嵌合ズレが生じていない部分の暗線の状態について説明する図であり、（ａ）は、画素の平面図であり、（ｂ）は、Ａ−Ａ’線断面図である。 第二の従来の液晶パネルの第一の形態の嵌合ズレが生じた部分の暗線の状態について説明する図であり、（ａ）は、画素の平面図であり、（ｂ）は、Ａ−Ａ’線断面図である。 第二の従来の液晶パネルの第二の形態の嵌合ズレが生じた部分の暗線の状態について説明する図であり、（ａ）は、画素の平面図であり、（ｂ）は、Ａ−Ａ’線断面図である。 第三の従来の液晶パネルが撓んだ場合について説明する図であり、（ａ）は、第三の従来の液晶パネルが撓んでいない状態を示し、（ｂ）は、第三の従来の液晶パネルが撓んだ状態を示している。 第三の従来の液晶パネルの嵌合ズレが生じていない部分の暗線の状態について説明する図であり、（ａ）は、画素の平面図であり、（ｂ）は、Ａ−Ａ’線断面図である。 第三の従来の液晶パネルの第一の形態の嵌合ズレが生じた部分の暗線の状態について説明する図であり、（ａ）は、画素の平面図であり、（ｂ）は、Ａ−Ａ’線断面図である。 第三の従来の液晶パネルの第二の形態の嵌合ズレが生じた部分の暗線の状態について説明する図であり、（ａ）は、画素の平面図であり、（ｂ）は、Ａ−Ａ’線断面図である。

以下、本発明の実施形態について説明する。本発明は、以下の実施形態に記載された内容に限定されるものではなく、本発明の構成を充足する範囲内で、適宜設計変更を行うことが可能である。

（実施形態１）
図１は、実施形態１の液晶表示装置の一例を模式的に示した断面図である。図１に示したように、本実施形態の液晶表示装置は、液晶パネル１００と、液晶パネル１００の背面側に配置されたバックライト１１０を有する。液晶パネル１００は、背面側偏光板２０と、複数の画素電極３５及び第一の配向膜７１を有する第一基板３０と、液晶分子４１を含有する液晶層４０と、第二の配向膜７２及び対向電極（共通電極）５１を有する第二基板５０と、表示面側偏光板６０とを順に有する。また、液晶パネル１００は、液晶層４０の周囲にシール材８０を有する。

まず、本実施形態の液晶表示装置の表示方式について説明する。本実施形態の液晶表示装置では、バックライト１１０から液晶パネル１００に光が入射し、液晶層４０の液晶分子４１の配向を切り換えることによって、液晶パネル１００を透過する光の量が制御される。液晶分子４１の配向の切り替えは、複数の画素電極３５及び対向電極５１によって液晶層４０に電圧を印加することによって行われる。液晶層４０への印加電圧が閾値未満のとき（電圧無印加時）には、第一の配向膜７１及び第二の配向膜７２によって、液晶分子４１の初期配向が規制される。

電圧無印加時に、液晶分子４１は、第一基板３０及び第二基板５０に対して実質的に垂直に配向する。ここで、「実質的に垂直」であるとは、第一の配向膜７１及び第二の配向膜７２に施された配向処理によって、液晶分子４１が、第一基板３０及び第二基板５０に対してわずかに傾斜して配向していることを意味する。電圧無印加時における液晶分子４１の第一基板３０及び第二基板５０に対するプレチルト角は、８５°以上９０°未満であることが好ましい。画素電極３５及び対向電極５１間に電圧が印加されると液晶層４０内に縦電界が発生し、液晶分子４１は、電圧無印加時から傾斜方位を維持しつつ、更に大きく傾斜配向する。

本明細書では、液晶分子４１の傾斜方位について、適宜、液晶パネル１００を平面視して、液晶分子４１の第一基板３０側の長軸端部を始点（以下、「液晶ダイレクタのテール」ともいう）４１Ｓとし、第二基板５０側の長軸端部を終点（以下、「液晶ダイレクタのヘッド」ともいう）４１Ｔとしたときの配向ベクトルを用いて説明する。なお、配向ベクトルは、第一基板３０側の第一の配向膜７１に対する液晶分子４１の傾斜方位と同一方向となり、第二基板５０側の第二の配向膜７２に対する液晶分子４１の傾斜方位とは逆方向となる。本明細書中、「方位」とは、基板面に投影して見たときの向きをいい、基板面の法線方向からの傾斜角（極角、プレチルト角）は考慮されない。また、液晶分子４１は、電圧無印加時には実質的に垂直に配向（わずかに傾斜配向）しており、電圧印加時に、電圧無印加時の傾斜方位を維持しつつ大きく傾斜配向することから、配向ベクトルの始点４１Ｓ及び終点４１Ｔは、液晶層４０に電圧を印加した状態で確認すればよい。

第一の配向膜７１及び第二の配向膜７２は、光配向膜材料を成膜し、光配向処理を行うことによって液晶分子４１を特定方向に配向させる機能を発現させた光配向膜であることが好ましい。光配向膜材料は、紫外光、可視光等の光（電磁波）が照射されることによって構造変化を生じ、その近傍に存在する液晶分子４１の配向を規制する性質（配向規制力）を発現する材料や、配向規制力の大きさ及び／又は向きが変化する材料全般を意味する。光配向膜材料は、例えば、二量化（二量体形成）、異性化、光フリース転移、分解等の反応が光照射によって起こる光反応部位を含む。光照射によって二量化及び異性化する光反応部位（官能基）としては、例えば、シンナメート、シンナモイル、４−カルコン、クマリン、スチルベン等が挙げられる。光照射によって異性化する光反応部位（官能基）としては、例えば、アゾベンゼン等が挙げられる。光照射によって光フリース転移する光反応部位としては、例えば、フェノールエステル構造等が挙げられる。光照射によって分解する光反応部位としては、例えば、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸−１，２：３，４−二無水物（ＣＢＤＡ）等のシクロブタン環を含む二無水物等が挙げられる。また、光配向膜材料は、垂直配向（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モードで使用可能な垂直配向性を示すものが好ましい。光配向膜材料としては、例えば、光反応部位を含むポリアミド（ポリアミック酸）、ポリイミド、ポリシロキサン誘導体、メタクリル酸メチル、ポリビニルアルコール等が挙げられる。

図２は、実施形態１の液晶層４０中の液晶分子４１の傾斜方位と第二基板５０のカラーフィルタとの配置関係を示した平面模式図である。図２に示したように、本実施形態の液晶パネル１００は、複数の画素１０がＮ行Ｍ列（Ｎ及びＭは、１以上の整数）のマトリクス状に配列されている。ここで、画素１０とは、単一の画素電極３５と重畳する表示単位領域を意味し、Ｒ（赤）のカラーフィルタと重畳する画素、Ｇ（緑）のカラーフィルタと重畳する画素、及び、Ｂ（青）のカラーフィルタと重畳する画素がそれぞれ設けられている。図２中、一点鎖線で囲んだ部分が一画素である。第二基板５０には、列方向に延びるストライプ状のカラーフィルタが、行方向にＲ、Ｇ、Ｂの順並んで配置されている。すなわち、行方向における画素１０の配置順は、Ｒ画素、Ｇ画素、及び、Ｂ画素の繰り返しであり、同一色の画素１０が列方向に連続して配置されている。

画素１０内には、配向ベクトルが互いに異なる４つのドメインが設けられている。これらのドメインは、第一の配向膜７１及び第二の配向膜７２に対する配向処理を互いに異ならせることによって形成できる。液晶層４０への電圧印加時に、液晶分子４１は、複数のドメインの各配向ベクトルと一致するように傾斜配向する。

図２では、液晶分子４１の傾斜方位を分かりやすく示すために、ピン（円錐体）によって液晶分子４１を表しており、円錐の底面が第二基板５０側（観察者側）を表し、円錐の頂点が第一基板３０側を表す。図３は、液晶分子の傾斜方位と配向ベクトルとの関係を説明する図である。

第ｎ行（ｎは、１以上の任意の整数）に位置する画素（第ｎ行画素）におけるドメイン配置順は、配向ベクトルの向きが第一の方向である第一のドメイン１０ａ、配向ベクトルの向きが第二の方向である第二のドメイン１０ｂ、配向ベクトルの向きが第三の方向である第三のドメイン１０ｃ、及び、配向ベクトルの向きが第四の方向である第四のドメイン１０ｄの順である。また、列方向に連続する同一色の画素群は、４つのドメインの配置順が異なる画素１０を含んでいてもよい。具体的には、第ｎ行に隣接する第ｎ＋１行に位置する画素（第ｎ＋１行画素）におけるドメイン配置順は、第二のドメイン１０ｂ及び第三のドメイン１０ｃの間に、第一のドメイン１０ａ及び第四のドメイン１０ｄが位置する関係を満たすことが好ましい。第ｎ＋１行画素におけるドメイン配置順は、図２に示すように、第三のドメイン１０ｃ、第四のドメイン１０ｄ、第一のドメイン１０ａ、及び、第二のドメイン１０ｂの順であることがより好ましい。列方向に連続する同一色の画素群において、４つのドメインの配置順が異なる２種類の画素が、交互に繰り返し配置されてもよい。言い換えれば、ドメイン配置順が異なる画素が２行周期で配置されてもよい。この場合、第ｎ＋２行に位置する画素におけるドメイン配置順は、図２に示すように、第一のドメイン１０ａ、第二のドメイン１０ｂ、第三のドメイン１０ｃ、第四のドメイン１０ｄの順となる。

良好な視野角特性を得る観点から、第一のドメイン１０ａの配向ベクトル、第二のドメイン１０ｂの配向ベクトル、第三のドメイン１０ｃの配向ベクトル及び第四のドメイン１０ｄの配向ベクトルは、９０°ずつ異なる方向を向いた４つの配向ベクトルの組み合わせとされている。なお、各ドメインの配向ベクトルは、平面視でドメイン内の中央に位置し、かつ断面視で液晶層の中央に位置する液晶分子４１の向きによって決めることができる。

図２に示すドメイン配置では、第ｎ行画素では、第一のドメイン１０ａ及び第四のドメイン１０ｄが画素の端側に位置し、第二のドメイン１０ｂ及び第三のドメイン１０ｃが画素の中央側に位置する。また、第ｎ＋１行画素では、第二のドメイン１０ｂ及び第三のドメイン１０ｃが画素の端側に位置し、第一のドメイン１０ａ及び第四のドメイン１０ｄが画素の中央側に位置する。したがって、図２に示すドメイン配置では、画素の中央側に位置するドメイン群、及び、画素の端側に位置するドメイン群の各々が、９０°ずつ異なる方向を向いた第一のドメイン１０ａ、第二のドメイン１０ｂ、第三のドメイン１０ｃ及び第四のドメイン１０ｄの組み合わせにより構成されている。

ドメイン間に発生する暗線を抑制する観点から、第ｎ行画素を平面視したときに、第一のドメイン１０ａの配向ベクトル、第二のドメイン１０ｂの配向ベクトル、第三のドメイン１０ｃの配向ベクトル及び第四のドメイン１０ｄは、下記（１）〜（３）の関係を有することが好ましい。
（１）第一のドメイン１０ａの配向ベクトルと第二のドメイン１０ｂの配向ベクトルとは、終点同士が向かい合い、かつ互いに直交する（略９０°の角度をなす）関係（以下、「ドメイン境界条件Ａ」ともいう）を有する。
（２）第二のドメイン１０ｂの配向ベクトルと第三のドメイン１０ｃの配向ベクトルとは、始点同士が向かい合い、かつ互いに平行な（約１８０°の角度をなす）関係（以下、「ドメイン境界条件Ｂ」ともいう）を有する。
（３）第三のドメイン１０ｃの配向ベクトルと第四のドメイン１０ｄの配向ベクトルとは、終点同士が向かい合い、かつ互いに直交する（略９０°の角度をなす）関係（ドメイン境界条件Ａ）を有する。
なお、本明細書において、「直交する（略９０°の角度をなす）」とは、本発明の効果が得られる範囲内において実質的に直交していればよく、具体的には、７５〜１０５°の角度をなし、好ましくは、８０°〜１００°の角度をなし、より好ましくは、８５°〜９５°の角度をなすことを意味する。本明細書において、「平行な（約１８０°の角度をなす）」とは、本発明の効果が得られる範囲内において実質的に平行であればよく、具体的には、−１５〜＋１５°の角度をなし、好ましくは、−１０°〜＋１０°の角度をなし、より好ましくは、−５°〜＋５°の角度をなすことを意味する。

上記暗線は、液晶分子４１の配向方位が異なるドメインの境界で、液晶分子４１の配向が不連続となることに起因して形成されるものである。液晶分子４１の配向が不連続となった領域では、液晶分子４１を意図した方向に配向させることができないことから、表示時に光を充分に透過させることができず、暗部として認識されてしまう。線状に形成された暗部が、暗線と呼ばれる。暗線が発生すると、画素１０の透過率（コントラスト比）が低下するので、液晶パネル１００の光利用効率が低下することになる。近年では画素１０の高精細化が進展し、一画素あたりの面積が小さくなっているが、暗線の面積は画素１０を小さくしても変わらないため、画素１０内での暗線の占める面積割合が増加し、光利用効率の低下を防止することがより重要になっている。また、暗線が画素１０ごとに異なる位置に発生すると、表示の均一性についても低下する。これに対して、本発明者は、ドメインの配列に応じて暗線の発生状況が変わることについて検討し、上記（１）〜（３）の関係をすべて満たすドメイン境界条件Ａ−Ｂ−Ａの配列が暗線の抑制に効果的であることを見出した。

なお、第一のドメイン１０ａ、第二のドメイン１０ｂ、第三のドメイン１０ｃ及び第四のドメイン１０ｄにおいて、液晶分子４１の基板間ツイスト角は、４５°以下であることが好ましく、より好ましくは略０°である。すなわち、第一のドメイン１０ａ、第二のドメイン１０ｂ、第三のドメイン１０ｃ及び第四のドメイン１０ｄにおいて、第一基板３０側の第一の配向膜７１に対する液晶分子４１の傾斜方位と、第二基板５０側の第二の配向膜７２に対する液晶分子４１の傾斜方位とがなす角度は、４５°以下であることが好ましく、より好ましくは略０°である。

本実施形態の液晶パネル１００では、図２に示したように、行方向に連続する少なくとも３０個の画素において、第一のドメイン１０ａ、第二のドメイン１０ｂ、第三のドメイン１０ｃ及び第四のドメイン１０ｄの並び順（ドメイン配列）が同一である。行方向に連続して配置されるドメイン配列が同一の画素は、表示領域の行方向の画素総数に対して１／２以上の割合であることが好ましく、表示領域の行方向の画素総数に対して９０％以上の割合であることがより好ましい。また、表示領域全体で行方向に並ぶ画素が同じドメイン配列であることが更に好ましい。第一の配向膜７１及び第二の配向膜７２に対する配向処理をスキャン露光によって行うことにより、行方向に並ぶ画素を同じドメイン配列にすることができる。スキャン露光は、例えば、図９に示すような光配向処理装置を用いて実施すればよい。

行方向に連続して配置される画素のドメイン配列を同一にすることで、液晶パネル１００の横方向（行方向）の嵌合ズレによる不具合の発生を抑制できる。具体的には、液晶パネル１００撓みによる表示ムラ等の表示不具合の発生を抑制でき、その効果は、より付加価値の高い、大型、高精細の液晶パネルで顕著に現れる。これにより、本実施形態の液晶パネル１００は、優れた表示品を求められる、高付加価値の大型、高精細液晶ディスプレイに好適に用いることができる。さらに、デザイン性の高い、大型、高精細の曲面（非平面）ディスプレイにも用いることができる。なお、上記表示ムラを改善する別の方法として、遮光体を太くする方法があるが、この方法では透過率が低下してしまう。とりわけ、高精細液晶パネルはそれ自体透過率が低いため、更なる透過率の低下は商品性が失われる等、大きな問題となる。

液晶パネル１００は、大型化、軽量化（ガラス基板の薄型化）、高精細化の傾向にある。大型化や軽量化された液晶パネル１００は撓み易く、特に長辺方向（行方向）に撓み易い。液晶パネル１００が撓むと、部分的に、且つ不規則に第一基板３０と第二基板５０の嵌合がズレてしまう。マルチドメイン構造を有する従来の液晶パネルの場合、嵌合がズレてしまうと、ドメイン境界の暗線の幅、形状が変化し、透過率が変化するため、表示ムラが発生する。この表示ムラは、液晶パネルの上端から下端まで伸びる帯状のムラで、不規則な位置に発生することがあり、液晶パネル全体の表示品位を著しく悪化させることがある。また、この表示ムラは、比較的高価な大型で高精細の液晶パネル程発生しやすい傾向にあった。これに対して、本実施形態の液晶パネル１００は、マルチドメイン構造を有していながら、横方向（行方向）の嵌合ズレによる暗線の幅、形状の変化が生じない。その理由は、本実施形態の液晶パネル１００は横方向（行方向）のドメイン配列が同一であるため、横方向にはドメイン境界、及び、暗線が存在しないからであり、上記表示ムラに対する本質的な対策となる。

液晶パネル１００が撓んだ場合の表示ムラの発生状況について、図面を参照して説明する。
図２０は、実施形態の液晶パネル１００が撓んだ場合について説明する図であり、（ａ）は、液晶パネル１００が撓んでいない状態を示し、（ｂ）は、液晶パネル１００が撓んだ状態を示している。図２０（ｂ）に示したように、第一の形態の嵌合ズレが生じた部分、嵌合ズレが生じていない部分、及び、第二の形態の嵌合ズレが生じた部分のいずれにおいても表示不良は発生しない。図２１は、実施形態の液晶パネル１００の嵌合ズレが生じていない部分の暗線の状態について説明する図であり、（ａ）は、画素の平面図であり、（ｂ）は、Ａ−Ａ’線断面図である。図２１に示すように、ドメイン境界領域には、異なる配向を有する隣接ドメインの影響により配向が連続的に変化する領域で発生するタイプＡの暗線が発生する。図２２は、実施形態の液晶パネル１００の第一の形態の嵌合ズレが生じた部分の暗線の状態について説明する図であり、（ａ）は、画素の平面図であり、（ｂ）は、Ａ−Ａ’線断面図である。図２２に示すように、液晶パネル１００が撓んだ状態では、例えば、ＴＦＴ基板が左側に、ＣＦ基板が右側にズレて、嵌合ズレが生じるが、横方向のズレは液晶配向に影響せず、ドメイン境界領域のみに、タイプＡの暗線が発生する。図２３は、実施形態の液晶パネル１００の第二の形態の嵌合ズレが生じた部分の暗線の状態について説明する図であり、（ａ）は、画素の平面図であり、（ｂ）は、Ａ−Ａ’線断面図である。図２３に示すように、横方向のズレは液晶配向に影響せず、ドメイン境界領域のみに、タイプＡの暗線が発生する。

図２４は、第一の従来の液晶パネルが撓んだ場合について説明する図であり、（ａ）は、第一の従来の液晶パネルが撓んでいない状態を示し、（ｂ）は、第一の従来の液晶パネルが撓んだ状態を示している。図２４（ｂ）に示したように、第一の形態の嵌合ズレが生じた部分、及び、第二の形態の嵌合ズレが生じた部分において表示不良が発生する。図２５は、第一の従来の液晶パネルの嵌合ズレが生じていない部分の暗線の状態について説明する図であり、（ａ）は、画素の平面図であり、（ｂ）は、Ａ−Ａ’線断面図である。図２５に示すように、ドメイン境界領域のみに、タイプＡの暗線が発生する。図２６は、第一の従来の液晶パネルの第一の形態の嵌合ズレが生じた部分の暗線の状態について説明する図であり、（ａ）は、画素の平面図であり、（ｂ）は、Ａ−Ａ’線断面図である。図２６に示すように、第一の従来の液晶パネルが撓んでＴＦＴ基板が左側に、ＣＦ基板が右側にズレて、第一の形態の嵌合ズレが生じた箇所では、ドメイン境界領域にタイプＡの暗線が発生するだけでなく、上下基板の嵌合ズレにより、ＴＦＴ基板側とＣＦ基板側の配向規制領域が整合せず、液晶の配向が異常になる領域で発生するタイプＢの暗線が発生する。その結果、嵌合ズレが生じていない部分よりも輝度が低下する。図２７は、第一の従来の液晶パネルの第二の形態の嵌合ズレが生じた部分の暗線の状態について説明する図であり、（ａ）は、画素の平面図であり、（ｂ）は、Ａ−Ａ’線断面図である。図２７に示すように、第一の従来の液晶パネルが撓んでＴＦＴ基板が右側に、ＣＦ基板が左側にズレて、第二の形態の嵌合ズレが生じた箇所では、ドメイン境界領域にタイプＡの暗線が発生するだけでなく、上下基板の嵌合ズレにより、ＴＦＴ基板側とＣＦ基板側の配向規制領域が整合せず、液晶の配向が異常になる領域で発生するタイプＢの暗線が発生する。その結果、嵌合ズレが生じていない部分よりも輝度が低下する。

図２８は、第二の従来の液晶パネルが撓んだ場合について説明する図であり、（ａ）は、第二の従来の液晶パネルが撓んでいない状態を示し、（ｂ）は、第二の従来の液晶パネルが撓んだ状態を示している。図２８（ｂ）に示したように、第一の形態の嵌合ズレが生じた部分、及び、第二の形態の嵌合ズレが生じた部分において表示不良が発生する。図２９は、第二の従来の液晶パネルの嵌合ズレが生じていない部分の暗線の状態について説明する図であり、（ａ）は、画素の平面図であり、（ｂ）は、Ａ−Ａ’線断面図である。図２９に示すように、ドメイン境界領域のみに、タイプＡの暗線が発生する。図３０は、第二の従来の液晶パネルの第一の形態の嵌合ズレが生じた部分の暗線の状態について説明する図であり、（ａ）は、画素の平面図であり、（ｂ）は、Ａ−Ａ’線断面図である。図３０に示すように、第二の従来の液晶パネルが撓んでＴＦＴ基板が左側に、ＣＦ基板が右側にズレて、第一の形態の嵌合ズレが生じた箇所では、ドメイン境界領域にタイプＡの暗線が発生するだけでなく、上下基板の嵌合ズレにより、ＴＦＴ基板側とＣＦ基板側の配向規制領域が整合せず、液晶の配向が異常になる領域で発生するタイプＢの暗線が発生する。その結果、嵌合ズレが無い状態ではブラックマトリックス（遮光体）と重なって隠れていたタイプＡの暗線が遮光体の外に現れ、嵌合ズレが生じていない部分よりも輝度が低下する。図３１は、第二の従来の液晶パネルの第二の形態の嵌合ズレが生じた部分の暗線の状態について説明する図であり、（ａ）は、画素の平面図であり、（ｂ）は、Ａ−Ａ’線断面図である。図３１に示すように、第二の従来の液晶パネルが撓んでＴＦＴ基板が右側に、ＣＦ基板が左側にズレて、第二の形態の嵌合ズレが生じた箇所では、ドメイン境界領域にタイプＡの暗線が発生するだけでなく、上下基板の嵌合ズレにより、ＴＦＴ基板側とＣＦ基板側の配向規制領域が整合せず、液晶の配向が異常になる領域で発生するタイプＢの暗線が発生する。その結果、嵌合ズレが無い状態ではブラックマトリックス（遮光体）と重なって隠れていたタイプＡの暗線が遮光体の外に現れ、嵌合ズレが生じていない部分よりも輝度が低下する。

図３２は、第三の従来の液晶パネルが撓んだ場合について説明する図であり、（ａ）は、第三の従来の液晶パネルが撓んでいない状態を示し、（ｂ）は、第三の従来の液晶パネルが撓んだ状態を示している。図３２（ｂ）に示したように、第一の形態の嵌合ズレが生じた部分、及び、第二の形態の嵌合ズレが生じた部分において表示不良が発生する。図３３は、第三の従来の液晶パネルの嵌合ズレが生じていない部分の暗線の状態について説明する図であり、（ａ）は、画素の平面図であり、（ｂ）は、Ａ−Ａ’線断面図である。図３３に示すように、ドメイン境界領域のみに、タイプＡの暗線が発生する。図３４は、第三の従来の液晶パネルの第一の形態の嵌合ズレが生じた部分の暗線の状態について説明する図であり、（ａ）は、画素の平面図であり、（ｂ）は、Ａ−Ａ’線断面図である。図３４に示すように、第三の従来の液晶パネルが撓んでＴＦＴ基板が左側に、ＣＦ基板が右側にズレて、第一の形態の嵌合ズレが生じた箇所では、ドメイン境界領域にタイプＡの暗線が発生するだけでなく、上下基板の嵌合ズレにより、ＴＦＴ基板側とＣＦ基板側の配向規制領域が整合せず、液晶の配向が異常になる領域で発生するタイプＢの暗線が発生する。その結果、嵌合ズレが無い状態ではブラックマトリックス（遮光体）と重なって隠れていたタイプＡの暗線が遮光体の外に現れる。タイプＡの暗線が現れるのは、特定の色の画素であることから、嵌合ズレが生じていない部分と比べて色ずれが生じる。図３５は、第三の従来の液晶パネルの第二の形態の嵌合ズレが生じた部分の暗線の状態について説明する図であり、（ａ）は、画素の平面図であり、（ｂ）は、Ａ−Ａ’線断面図である。図３５に示すように、第三の従来の液晶パネルが撓んでＴＦＴ基板が右側に、ＣＦ基板が左側にズレて、第二の形態の嵌合ズレが生じた箇所では、ドメイン境界領域にタイプＡの暗線が発生するだけでなく、上下基板の嵌合ズレにより、ＴＦＴ基板側とＣＦ基板側の配向規制領域が整合せず、液晶の配向が異常になる領域で発生するタイプＢの暗線が発生する。その結果、嵌合ズレが無い状態ではブラックマトリックス（遮光体）と重なって隠れていたタイプＡの暗線が遮光体の外に現れる。タイプＡの暗線が現れるのは、特定の色の画素であることから、嵌合ズレが生じていない部分と比べて色ずれが生じる。

次に、本実施形態の液晶表示装置の構成の概要について説明する。第一基板３０は、アクティブマトリクス基板（ＴＦＴ基板）であり、液晶パネルの分野において通常使用されるものを用いることができる。図４は、実施形態１の第一基板３０の電極・配線構造の一例を、液晶層４０中の液晶分子４１の傾斜方位と重ねて示した平面模式図である。第一基板３０を平面視したときの構成としては、透明基板３１上に、複数本の平行なゲート配線Ｇ；ゲート配線Ｇに対して直交する方向に伸び、かつ互いに平行に形成された複数本のソース配線Ｓ；ゲート配線Ｇとソース配線Ｓとの交点に対応して配置されたＴＦＴ１３等のアクティブ素子；ゲート配線Ｇとソース配線Ｓとによって区画された領域に配置された複数のドレイン配線Ｄ及び画素電極３５等が設けられた構成が挙げられる。ゲート配線Ｇと平行に、容量配線Ｃｓが配置されてもよい。また、第一基板３０の断面においては、ゲート配線Ｇと画素電極３５との間には、ゲート絶縁膜や層間絶縁膜等の絶縁膜３２が設けられる。

ＴＦＴ１３としては、酸化物半導体を用いてチャネルを形成したものが好適に用いられる。上記酸化物半導体としては、例えば、インジウム（Ｉｎ）、ガリウム（Ｇａ）、亜鉛（Ｚｎ）、及び、酸素（Ｏ）から構成される化合物（Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｔｉｎ）、亜鉛（Ｚｎ）、及び、酸素（Ｏ）から構成される化合物（Ｉｎ−Ｔｉｎ−Ｚｎ−Ｏ）、又は、インジウム（Ｉｎ）、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、及び、酸素（Ｏ）から構成される化合物（Ｉｎ−Ａｌ−Ｚｎ−Ｏ）等を用いることができる。

画素電極３５は、透明導電材料により形成されることが好ましい。透明導電材料としては、例えば、インジウム酸化錫（ＩＴＯ）、インジウム酸化亜鉛（ＩＺＯ）等が挙げられる。

画素電極３５の各々は、第一のドメイン１０ａ、第二のドメイン１０ｂ、第三のドメイン１０ｃ及び第四のドメイン１０ｄと重畳する。よって、液晶層４０への電圧印加時には、第一のドメイン１０ａ、第二のドメイン１０ｂ、第三のドメイン１０ｃ及び第四のドメイン１０ｄにおいて液晶層４０の厚み方向に同じ大きさの電界が印加される。

また、画素電極３５は、第一のドメイン１０ａと重畳する領域、第二のドメイン１０ｂと重畳する領域、第三のドメイン１０ｃと重畳する領域及び第四のドメイン１０ｄと重畳する領域のうち、少なくとも１つの領域において、対応するドメインの配向ベクトルと平行な微細スリット（ファインスリット）３６が設けられ、かつ、残りの領域において、微細スリット３６が設けられない構成を有する第一の画素電極３５Ａを含む。本明細書において、微細スリットとは、所望の液晶の配向方向（配向ベクトル）と平行な方向に延びるスリット部分と電極部分を一組として、複数組連ねたものである。微細スリット３６は、スリット部分の延伸方向と平行な溝状の等電位面を有する電界歪を生じさせる。微細スリット３６により形成される電界は、基板表面に平行で、スリット部分の延伸方向に垂直な横電界成分を有している。この横電界成分により液晶分子４１の配向方向が変化し、液晶分子４１はスリット部分と平行な方向に配向する。

微細スリット３６の幅（Ｓｐａｃｅ）及びピッチ（Ｌｉｎｅ＋Ｓｐａｃｅ）は、下記条件を満たすことが好ましい。
微細スリット３６の幅（Ｓｐａｃｅ）≦５．１μｍ
微細スリット３６のピッチ（Ｌｉｎｅ＋Ｓｐａｃｅ）≦１１μｍ

微細スリット３６の幅（Ｓｐａｃｅ）及びピッチ（Ｌｉｎｅ＋Ｓｐａｃｅ）は、下記条件を満たすことがより好ましい。
微細スリット３６の幅（Ｓｐａｃｅ）≦４．３μｍ
微細スリット３６のピッチ（Ｌｉｎｅ＋Ｓｐａｃｅ）≦８．３μｍ

画素電極３５は、列方向側の両端に、複数本の微細スリット３６が設けられていないことが好ましい。すなわち、図４に示すように、複数本の微細スリット３６のスリット部分により区分された線状の電極部分は、列方向側の両端において、連結部（べた電極）によって互いに電気的に接続されていることが好ましい。

また、複数本の微細スリット３６は、画素電極３５の端まで設けられていないことが好ましい。微細スリット３６により、配向規制力が向上し、応答速度が速くなるというメリットがある反面、生産効率の低下や、スキャン露光のムラ等による線幅ばらつきが生じ得るというデメリットもあることから、微細スリット３６の配置領域を限定してもよい。例えば、微細スリット３６の配置パターンは、図１８（ａ）〜（ｅ）及び１９（ａ）、（ｂ）に示したものであってもよい。図示したように、第二のドメイン１０ｂと第三のドメイン１０ｃとの境界には、スリット（以下、「センタースリット」ともいう）３７を配置してもよい。第二のドメイン１０ｂと第三のドメイン１０ｃとの境界においては、互いに隣接するドメインの配向ベクトルの角度差が１８０°であるため、液晶分子４１を意図した方向に配向させられず、表示時に光が充分に透過しない線状の暗部（暗線）が発生しやすい。そこで、センタースリット３７を配置して電界歪みを発生させることにより、暗線を抑制することができる。センタースリット３７の幅は、好ましくは１〜８μｍ、より好ましくは２．５〜６μｍである。

第一の画素電極３５Ａは、図４に示すように、第一のドメイン１０ａと重畳する領域、第二のドメイン１０ｂと重畳する領域、第三のドメイン１０ｃと重畳する領域及び第四のドメイン１０ｄと重畳する領域のうち、いずれか２つの領域において、微細スリット３６が設けられ、かつ、残り２つの領域において、微細スリット３６が設けられない構成を有することが好ましい。

第一基板３０において、画素電極３５は画素１０ごとに配置される。微細スリット３６は、個々の画素電極３５ごとに異なる領域に配置されてもよい。画素電極３５は、好ましくは、下記（１）〜（４）の組み合わせの少なくとも１つを含むものである。
（１）第一のドメイン１０ａと重畳する領域に微細スリット３６が設けられた画素電極と、第一のドメイン１０ａと重畳する領域に微細スリット３６が設けられない画素電極との組み合わせ
（２）第二のドメイン１０ｂと重畳する領域に微細スリット３６が設けられた画素電極と、第二のドメイン１０ｂと重畳する領域に微細スリット３６が設けられない画素電極との組み合わせ
（３）第三のドメイン１０ｃと重畳する領域に微細スリット３６が設けられた画素電極と、第三のドメイン１０ｃと重畳する領域に微細スリット３６が設けられない画素電極との組み合わせ
（４）第四のドメイン１０ｄと重畳する領域に微細スリット３６が設けられた画素電極と、第四のドメイン１０ｄと重畳する領域に微細スリット３６が設けられない画素電極との組み合わせ

図４に示すように、画素電極３５は、第一の画素電極３５Ａに隣接配置され、かつ、第一の画素電極３５Ａにおいて微細スリット３６が設けられなかった２種のドメイン（第二のドメイン１０ｂ及び第三のドメイン１０ｃ）と重畳する２つの領域に、微細スリット３６が設けられ、残り２つの領域において、微細スリット３６が設けられない構成を有する第二の画素電極３５Ｂ及び３５Ｃを含むことが好ましい。第二の画素電極３５Ｂは、第一の画素電極３５Ａの列方向に隣接配置されている。第二の画素電極３５Ｃは、第一の画素電極３５Ａの行方向に隣接配置されている。

第一の画素電極３５Ａと第二の画素電極３５Ｂ及び３５Ｃの好ましい組み合わせとしては、第一のドメイン１０ａと重畳する領域及び第四のドメイン１０ｄと重畳する領域に、微細スリット３６が設けられ、第二のドメイン１０ｂと重畳する領域及び第三のドメイン１０ｃと重畳する領域には、微細スリット３６が設けられない構成を有する第一の画素電極３５Ａと、第二のドメイン１０ｂと重畳する領域及び第三のドメイン１０ｃと重畳する領域に、微細スリット３６が設けられ、第一のドメイン１０ａと重畳する領域及び第四のドメイン１０ｄと重畳する領域には、微細スリット３６が設けられない構成を有する第二の画素電極３５Ｂ及び３５Ｃとの組み合わせが挙げられる。

第二基板５０としては、カラーフィルタ基板（ＣＦ基板）を用いることができる。カラーフィルタ基板の構成としては、透明基板上に、格子状に形成されたブラックマトリクス、格子すなわち画素１０の内側に形成されたカラーフィルタ等が設けられた構成が挙げられる。上記ブラックマトリクスは、画素１０の境界と重なるように一画素ごとに格子状に形成されてもよく、更に、一画素の中央を短手方向に沿って横切るように、半画素ごとに格子状に形成されてもよい。暗線の発生領域に重なるようにブラックマトリクスを形成することで、暗線が観察され難くすることができ、暗線が表示に及ぼす影響を最小化できる。

対向電極５１は、液晶層４０を介して、画素電極３５と向かい合うように配置されている。対向電極５１と画素電極３５との間で縦電界を形成して、液晶分子４１を傾けることで、表示を行うことができる。カラーフィルタは、例えば、列ごとに、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の順で配置されてもよいし、黄色（Ｙ）、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の順で配置されてもよいし、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）、緑色（Ｇ）順で配置されてもよい。

対向電極５１は、面状電極であることが好ましい。対向電極５１は、透明電極であってもよく、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ）等の透明導電材料、又は、それらの合金で形成することができる。

本実施形態の液晶パネル１００は、液晶層４０の周囲を囲むように設けられたシール材８０によって第一基板３０及び第二基板５０が貼り合わされ、液晶層４０が所定の領域に保持される。シール材８０としては、例えば、無機フィラー又は有機フィラー及び硬化剤を含有するエポキシ樹脂等を用いることができる。

また、本実施形態において、ポリマー支持配向（ＰＳＡ：Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）技術が用いられてもよい。ＰＳＡ技術は、光重合性モノマーを含有させた液晶組成物を第一基板３０及び第二基板５０の間に封入し、その後に液晶層４０に光を照射して光重合性モノマーを重合させることにより、第一の配向膜７１及び第二の配向膜７２の表面に重合体（ポリマー）を形成し、この重合体により液晶の初期傾斜（プレチルト）を固定化するものである。

図２に示したように、背面側偏光板２０の偏光軸と表示面側偏光板６０の偏光軸は、互いに直交してもよい。なお、偏光軸は、偏光板の吸収軸であってもよく、偏光板の透過軸であってもよい。背面側偏光板２０及び表示面側偏光板６０は、典型的には、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムに、二色性を有するヨウ素錯体等の異方性材料を、吸着配向させたものが挙げられる。通常は、ＰＶＡフィルムの両面にトリアセチルセルロースフィルム等の保護フィルムをラミネートして実用に供される。なお、背面側偏光板２０と第一基板３０との間、及び、表示面側偏光板６０と第二基板５０との間には、位相差フィルム等の光学フィルムが配置されていてもよい。

バックライト１１０としては、可視光を含む光を発するものであれば特に限定されず、可視光のみを含む光を発するものであってもよく、可視光及び紫外光の両方を含む光を発するものであってもよい。液晶表示装置によるカラー表示を可能とするためには、白色光を発するバックライトが好適に用いられる。バックライト１１０の種類としては、例えば、発光ダイオード（ＬＥＤ）が好適に用いられる。なお、本明細書において、「可視光」とは、波長３８０ｎｍ以上、８００ｎｍ未満の光（電磁波）を意味する。

本実施形態の液晶表示装置は、液晶パネル１００及びバックライト１１０の他、ＴＣＰ（テープ・キャリア・パッケージ）、ＰＣＢ（プリント配線基板）等の外部回路；視野角拡大フィルム、輝度向上フィルム等の光学フィルム；ベゼル（フレーム）等の複数の部材により構成されるものであり、部材によっては、他の部材に組み込まれていてもよい。既に説明した部材以外の部材については特に限定されず、液晶表示装置の分野において通常使用されるものを用いることができるので、説明を省略する。

次に、本実施形態の液晶パネル１００の製造方法について説明する。本実施形態の液晶パネル１００の製造方法は特に限定されず、液晶パネルの分野において通常使用される方法を用いることができる。第一基板３０に設けられるゲート配線Ｇ、画素電極３５や、第二基板５０に設けられるカラーフィルタは、フォトリソグラフィ等を用いて形成することができる。

微細スリット３６を有する画素電極３５を形成する方法としては、パターニングの精度、生産性等の観点から、フォトリソグラフィが好適に用いられる。微細スリット３６をフォトリソグラフィにより形成する場合には、画素電極３５の材料となる導電膜の上に形成した感光性樹脂（フォトレジスト）に対して、微細スリット３６に対応するパターンが形成されたマスクを介して光を照射する。上記光は、複数のレンズ（マルチレンズ）を介して照射されてもよい。

ここで、微細スリット３６のパターニングに用いられる光がマルチレンズを介して照射される場合について、図面を参照して説明する。図５は、マルチレンズを用いたフォトリソグラフィを示した図である。図５に示したように、微細スリット３６に対応する遮光パターン又は透光パターンが形成されたパターン形成領域１５１を有するマスク１５０と、複数のレンズを含むマルチレンズ１６０とを介して、基板１７０に対する露光が行われる。基板１７０には、画素電極３５の材料となる導電膜１７１の上に、フォトレジスト１７２が形成されたものが用いられる。露光方式は、マスク１５０及びマルチレンズ１６０を含む露光部、及び、基板１７０の少なくとも一方を移動させながら行う走査露光（スキャン露光）であることが好ましい。露光後には、フォトレジスト１７２の現像、導電膜１７１のエッチング、フォトレジスト１７２の剥離が順に行われる。

マルチレンズ１６０を用いて露光する場合、レンズごとの焦点や照度がばらつくおそれがある。図６（ａ）は、マルチレンズ１６０における各レンズ１６０Ａ、１６０Ｂ、１６０Ｃ、１６０Ｄ、１６０Ｅの配置関係を示した断面模式図であり、図６（ｂ）は、図６（ａ）に示したマルチレンズ１６０を用いた走査露光によって、微細スリット３６を有する画素電極３５を形成したときに発生する輝度ムラのパターンを示した概念図である。図６（ａ）に示したレンズ１６０Ａ、１６０Ｂ、１６０Ｃ、１６０Ｄ、１６０Ｅの配置で走査露光が行われたときにレンズ１６０Ａ、１６０Ｂ、１６０Ｃ、１６０Ｄ、１６０Ｅごとの焦点や照度に差があると、図６（ｂ）に示したように、レンズ１６０Ａ、１６０Ｂ、１６０Ｃ、１６０Ｄ、１６０Ｅにそれぞれ対応する露光領域１７２Ａ、１７２Ｂ、１７２Ｃ、１７２Ｄ、１７２Ｅにおいて、微細スリット３６の線幅がばらついてしまう。その結果、液晶パネル１００の輝度が露光領域１７２Ａ、１７２Ｂ、１７２Ｃ、１７２Ｄ、１７２Ｅごとに異なり、表示ムラとして認識されることがある。特に隣接する露光領域１７２Ａ、１７２Ｂ、１７２Ｃ、１７２Ｄ、１７２Ｅの境界は、微細スリット３６の線幅が変化する部分であることから、継ぎ目状の表示ムラとして認識され、液晶パネル１００の表示品位を損なってしまう。

これに対して、本実施形態の液晶パネル１００は、画素電極３５に、対応するドメインの配向ベクトルと平行な微細スリット３６が設けられる領域（「微細スリット領域」ともいう）と、微細スリット３６が設けられない領域（「ベタ領域」ともいう）とを設けている。ベタ領域が設けられることにより、微細スリット３６の線幅が異なる領域の境界が直線状に連続することを防止し、継ぎ目状の表示ムラとして認識され難くすることができる。

なお、微細スリット領域とベタ領域とでは、画素電極３５への印加電圧（液晶表示の階調）に対して得られる輝度（透過率）において差がある。図７は、実施形態１の液晶パネル１００における液晶表示の階調と透過率との関係を、微細スリット領域、ベタ領域、及び、微細スリット領域及びベタ領域の合計についてそれぞれ示したグラフである。図７に示したように、最大階調（２５５階調付近）では微細スリット領域の方がベタ領域よりも透過率が高いが、低階調（１６階調付近）ではベタ領域の方が微細スリット領域よりも透過率が高い。図８は、微細スリット領域及びベタ領域の合計の透過率に対する微細スリット領域の透過率の割合（微細スリット寄与率）を、液晶表示の階調ごとに示したグラフである。低階調ではベタ領域の方が微細スリット領域よりも透過率が高いことから、図８に示したように、低階調では微細スリット領域の透過率の割合が１０％程度になる。これにより、微細スリットの線幅ばらつきによってドメインごとの透過率のムラ（輝度ムラ）が生じるとしても、特に低階調では目立ちにくくなる。本発明者の検討によれば、微細スリットの線幅ばらつきによって生じる透過率の変化は、特に本実施形態の液晶パネル１００の表示モードでは、低階調において顕著であることを見出している。したがって、微細スリット領域とベタ領域とを混在させれば、効果的に低階調における輝度ムラを防止できる。

また、本実施形態の液晶パネル１００には、配向ベクトルの向きが異なる４つのドメイン１０ａ、１０ｂ、１０ｃ及び１０ｄを備える画素１０が複数設けられることから、ドメインごとにそれぞれ微細スリット領域及びベタ領域を設けることで、表示ムラが視野角依存性を持つことを防止できる。すなわち、第一のドメイン１０ａと重畳する領域に微細スリット３６が設けられた画素電極（第一の画素電極３５Ａ）と、第一のドメイン１０ａと重畳する領域に微細スリット３６が設けられない画素電極（第二の画素電極３５Ｂ及び３５Ｃ）とを組み合わせて配置することにより、第一の方向から見たときの輝度が、他の方向から見たときの輝度と異なることを防止することができる。同様に、第二のドメイン１０ｂと重畳する領域に微細スリット３６が設けられた画素電極（第二の画素電極３５Ｂ及び３５Ｃ）と、第二のドメイン１０ｂと重畳する領域に微細スリット３６が設けられない画素電極（第一の画素電極３５Ａ）とを組み合わせて配置することにより、第二の方向から見たときの輝度が、他の方向から見たときの輝度と異なることを防止することができる。また、第三のドメイン１０ｃと重畳する領域に微細スリット３６が設けられた画素電極（第二の画素電極３５Ｂ及び３５Ｃ）と、第三のドメイン１０ｃと重畳する領域に微細スリット３６が設けられない画素電極（第一の画素電極３５Ａ）とを組み合わせて配置することにより、第三の方向から見たときの輝度が、他の方向から見たときの輝度と異なることを防止することができる。更に、第四のドメイン１０ｄと重畳する領域に微細スリット３６が設けられた画素電極（第一の画素電極３５Ａ）と、第四のドメイン１０ｄと重畳する領域に微細スリット３６が設けられない画素電極（第二の画素電極３５Ｂ及び３５Ｃ）とを組み合わせて配置することにより、第四の方向から見たときの輝度が、他の方向から見たときの輝度と異なることを防止することができる。

更に、第一の画素電極３５Ａと第二の画素電極３５Ｂ及び３５Ｃとを組み合わせて用いれば、同一種のドメインに対応する微細スリット領域及びベタ領域の組が、隣接する２画素に設けられるので、視野角依存性を持つ表示ムラをより効果的に防止することができる。

なお、本実施形態の液晶パネル１００では、第ｎ行画素におけるドメイン配列と第ｎ＋１行画素におけるドメイン配列とを異ならせていることによって、ドメイン配列の繰り返し単位が１行（４ドメイン）ではなく、２行（８ドメイン）とされている。これによっても、各行のドメイン配列が同じとされる一般的な形態と比べて、露光領域１７２Ａ、１７２Ｂ、１７２Ｃ、１７２Ｄ、１７２Ｅの境界が継ぎ目状の表示ムラとして認識されにくいという効果が得られる。

また、第一の配向膜７１及び第二の配向膜７２の何れか一方、または両方の配向膜には光配向膜を用いることもできる。この場合、光配向膜に対する配向処理は、紫外光、可視光等の光（電磁波）を照射する光配向処理により行うことができる。光配向処理は、例えば、第一の配向膜７１及び第二の配向膜７２に対して光を照射する光源を持ち、複数の画素にわたる連続的なスキャン露光を行うことができる機能を持つ装置を用いて行うことができる。スキャン露光の具体的態様としては、例えば、基板を移動させながら光源から発せられる光線を基板面上に照射する態様、及び、光源を移動させながら該光源から発せられる光線を基板面上に照射する態様、光源及び基板を移動させながら光源から発せられる光線を基板面上に照射する態様が挙げられる。

以下に配向処理の具体例を説明する。図９は、光配向処理装置の一例を示した概要図である。図９に示した光配向処理装置２００は、液晶パネル用基板上に形成された光配向膜を光配向処理するものである。図９中では、第一基板（液晶パネル用基板）３０に形成された第一の配向膜７１を示しているが、第二の配向膜７２についても処理可能である。光配向処理装置２００は、光照射機構２８０と、液晶パネル用基板３０を載置するステージ２５０とを含む。

光照射機構２８０は、光源２２０と、偏光子２３０と、回転調整機構２６０とを有する。光源２２０及び偏光子２３０は、ランプボックス２７０内に配置されてもよい。光源２２０の種類は特に限定されず、光配向処理装置の分野において通常使用されるものを用いることができる。例えば、低圧水銀ランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ等を用いることができる。

光源２２０から照射される光２２１は、紫外光、可視光等の光（電磁波）等であってもよいが、波長が２８０〜４００ｎｍであることが好ましい。

偏光子２３０は、例えば、光源２２０から液晶パネル用基板３０に向かって射出された光から、直線偏光を取り出すものである。なお、偏光軸とは、上記偏光子の透過軸又は吸収軸をいう。偏光子２３０としては、例えば、有機樹脂系偏光子、ワイヤグリッド偏光子、偏光ビームスプリッター（ＰＢＳ：Ｐｏｌａｒｉｚｉｎｇ ｂｅａｍ ｓｐｌｉｔｔｅｒ）等が挙げられる。

上記有機樹脂系偏光子としては、たとえば、ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、シート状に延伸した偏光子等が挙げられる。

上記ワイヤグリッド偏光子としては、例えば、光透過性基材と、上記光透過性基材上に形成された複数の金属細線を有し、上記複数の金属細線はワイヤグリッド偏光子に入射される光の波長よりも短い周期で配置されているものが挙げられる。上記金属細線は、例えば、クロム等の光吸収性の金属材料により形成される。液晶パネル用基板３０に上記ワイヤグリッド偏光子を重ねて光照射を行うと、液晶分子は、上記金属細線の延伸方位と直交する方位に配向する。偏光子２３０が上記ワイヤグリッド偏光子である場合には、上記偏光軸は、上記金属細線の延伸方位と直交する方位である。金属細線の延伸方位が異なるワイヤグリッド偏光子を用いることで、配向分割処理を効率的に行うことができる。

偏光ビームスプリッターとしては、例えば、キューブ型、プレート型のものが挙げられる。キューブ型のＰＢＳとしては、例えば、２個のプリズムの斜面同士が接合されその一方の斜面に光学薄膜が蒸着されたものが挙げられる。

偏光子２３０は、上記光の照射軸に対して垂直に配置されてもよい。偏光子２３０を上記光の照射軸に対して垂直に配置しない場合、偏光子２３０内での導波路効果等により液晶分子の配向に影響を及ぼすことがある。上記光の照射軸とは、光源２２０から液晶パネル用基板３０に向かって照射される光２２１の直進方向である。上記偏光子が上記光の照射軸に対して垂直に配置されるとは、偏光子の法線方向から液晶パネル用基板に向かって光が照射されるように配置することを意味し、「垂直」とは、上記偏光子の法線と上記光の照射軸とのなす角が０．５°未満の範囲をいう。

光源２２０と偏光子２３０との間に波長選択フィルター２３５を有してもよい。波長選択フィルター２３５を介して照射される光の主波長は、２８０〜４００ｎｍであってもよい。選択波長が２８０〜４００ｎｍであることで、第一の配向膜７１を構成する光配向性を示す材料に構造変化を生じさせ、配向規制力を発現させることができる。上記光源から照射される光の強度は、１０〜１００ｍＪ／ｃｍ^２であってもよい。

波長選択フィルター２３５は特に限定されず、光配向処理装置の分野において通常使用されるものを用いることができる。波長選択フィルター２３５としては、例えば、フィルター中に透過波長以外の波長を吸収する物質を分散させたもの、フィルターの表面に透過波長以外を反射する物質をコーティングしたもの等が挙げられる。

液晶パネル用基板３０に対する上記光の照射角は、３０°〜６０°であってもよい。上記照射角は図１３のθ１で表され、液晶パネル用基板３０の表面を０°、液晶パネル用基板３０の法線を９０°とした場合に、液晶パネル用基板３０の平面と上記光の照射軸との成す角である。

上記偏光子の消光比は、５０：１〜５００：１であってもよい。上記消光比は、偏光子に光を照射した場合の最大透過率をＴｍａｘ、その偏光子を９０°回転させた最小透過率をＴｍｉｎとし、Ｔｍａｘ：Ｔｍｉｎで表す。上記消光比（Ｔｍｉｎを１とした場合のＴｍａｘの値）が高いほど、所望の偏光軸方向の光を取り出せるため、液晶分子の傾斜方位のバラツキを低減することができる。

回転調整機構２６０は、偏光子２３０の偏光軸２３１を回転させ、液晶パネル用基板３０面での露光方向２５３を光の照射方向２５２に対して、実質的に４５°となるように調整する。露光方向２５３を光の照射方向２５２に対して実質的に４５°とすることで、液晶パネル用基板３０の移動方向２５１と光の照射方向２５２とを平行としたまま、液晶パネル用基板３０に対して生産性に優れたスキャン露光により光配向処理を行うことができる。光の照射方向２５２とは、図９に示したように、光源２２０から照射される光２２１を液晶パネル用基板３０面に投影した場合の光の進行方向である。露光方向２５３とは、光源２２０から、偏光子２３０を介して、液晶パネル用基板３０面に照射された偏光の振動方向をいう。露光方向２５３によって、液晶パネル用基板３０の表面に形成された配向膜が液晶分子に付与するプレチルトの方位が定まる。

回転調整機構２６０による偏光軸２３１の調整は、例えば、以下の方法により行われる。まず、光源の照射方向２５２に対して偏光軸２３１が４５°となるように、偏光子２３０を設定する。上記回転調整機構により調整される前の偏光軸の方位を「４５°方位」ともいう。次に、液晶パネル用基板に対する光の照射角、配向膜材料の屈折率等を考慮して、幾何学計算により算出されたデータに基づき、回転調整機構２６０が偏光子２３０を４５°方位から回転させて偏光軸２３１の方位を調整する。回転調整機構２６０により、光の照射方向に対する偏光子の偏光軸の方位と上記基板面での露光方向とを一致させ、液晶パネルにおける液晶分子の傾斜方位を所望の角度にすることができる。なお、回転調整機構２６０を有さず、偏光軸２３１を４５°方位に固定したまま光配向処理を行うと、液晶分子の傾斜方位は４５°から１０°程度ずれることがある。

回転調整機構２６０は、偏光子２３０の偏光軸を４５°方位から−１５°〜＋１５°の範囲で回転させてもよい。回転調整機構により、偏光軸を−１５°〜＋１５°の範囲で回転させることで、液晶パネル用基板３０に対する光の照射角を変えても、上記露光方向２５３を調整し、液晶分子の傾斜方位を所望の角度とすることができる。液晶パネル用基板面での露光方向２５３を光の照射方向２５２に対して、実質的に４５°となるように調整するためには、例えば、偏光軸２３１を上記４５°方位から、＋７．５５°回転させて、５２．５５°とする。

光配向処理装置２００は、更に、回転機構２６４を有してもよい。回転機構２６４は、偏光子２３０の偏光軸２３１を４５°方位から実質的に４５°及び実質的に９０°のいずれかを選択して回転できるものである。光源の照射方向２５２に対して時計回りに４５°の方位を＋４５°方位とした場合に、偏光子２３０の偏光軸２３１を上記＋４５°方位から９０°回転させると、回転後の偏光軸２３１は、上記光の照射方向に対して−４５°方位となる。偏光軸２３１を上記＋４５°方位から９０°回転させ、更に回転調整機構２６０により調整することで、回転の前後において、露光方向２５３を光の照射方向２５２に対して実質的に４５°としたまま光照射を行うことができる。そのため、図２に示したような、液晶分子の傾斜方位が互いに異なる４つの配向領域を画素の長手方向に沿って配置するという配向制御モードの液晶パネルの製造に好適である。更に、上記新たな配向制御モードの液晶パネルをスキャン露光により製造することができるため、生産効率を大幅に向上させることができる。上記４５°方位から実質的に４５°又は実質的に９０°であるとは、上記４５°方位に対して、４５°又は９０°からそれぞれ、時計回り、又は、反時計回りに１５°の角度をなす範囲を意味する。上記４５°方位、９０°方位とは、４５°、９０°からそれぞれ±０．５°の範囲をいう。

回転機構２６４は、偏光子２３０の偏光軸２３１を上記４５°方位から実質的に４５°にも回転させることができる。偏光軸２３１を上記４５°方位から４５°回転させると、回転後の偏光軸２３１は上記光の照射方向と平行になるため、偏光子の偏光軸と光の照射方向とを一致させる従来の光配向処理も行うことができる。

ステージ２５０は、液晶パネル用基板３０を載置するステージであり、ステージ２５０上に液晶パネル用基板３０を固定し、液晶パネル用基板３０を移動させながら、又は、液晶パネル用基板３０に対して光源を移動させながら光を照射する。このような走査露光（スキャン露光）をすることで、効率よく光配向処理を行うことができる。また、液晶パネル用基板３０に対する光の照射方向と、液晶パネル用基板３０の移動方向又は光源２２０の移動方向が平行であるため、一つの光源の光照射エリア内において、基板に対する光源からの光の入射角度がほぼ同じであるため、液晶分子に付与するプレチルト角（極角）の角度もほぼ同じになる。そのため、光照射エリア内でのプレチルト角のバラツキを抑え、表示品位に優れた液晶パネルを製造することができる。光配向処理装置２００は、ステージ２５０を移動させるステージ走査機構及び／又は光源２２０を移動させる光源走査機構を有してもよい。上記「平行」とは、上記光の照射方向と、液晶パネル用基板３０の移動方向又は光源２２０の移動方向とのなす角が５°未満の範囲を含む。

光配向処理装置２００は、上記機構の他に、遮光部材２４０等を備えてもよい。遮光部材２４０により光を照射しない部分を遮光しながら光配向処理を行うことで、配向分割処理を行うことができる。

上記光配向処理装置を用いれば、光の照射方向に対する偏光子の偏光軸の方位と上記液晶パネル用基板面での露光方向とを一致させ、液晶パネル１００における液晶分子４１の傾斜方位を所望の角度にすることができる。

以下に図１４を用いて光配向処理装置２００を用いた光配向処理工程の一例を説明する。図１０は、光配向処理装置を用いた光配向処理工程の一例を示した図である。図１０に示した光配向処理工程は、一つの偏光子２３０を有する光照射機構２８０を用いて、回転機構２６４により偏光子２３０の偏光軸２３１を回転させて、光配向処理を行う例である。図１０では、液晶パネル用基板３０の向きを説明するために、一角に切欠き部を示したが、実際の液晶パネル用基板３０は切欠き部を有さなくてよい。

図１０に示したように、液晶パネル用基板３０の移動方向２５１を第一方向とし、光の照射方向２５２を第二方向とし、光照射機構２８０を用い、波長選択フィルター２３５（図示せず）及び偏光子２３０を介して１回目の光照射を行う。第一方向と第二方向とは、平行である。光照射を行わない領域は、遮光部材２４０で遮光する。偏光子２３０の偏光軸２３１は、光の照射方向２５２に対して時計回りに＋４５°方位に設定され、その後、回転調整機構２６０により、液晶パネル用基板３０面での露光方向２５３を光の照射方向２５２に対して、実質的に４５°となるように調整した後、１回目の光照射を行う。次に、遮光部材２４０を移動させ、偏光子２３０の偏光軸２３１を、回転機構２６４により上記＋４５°方位から９０°回転させ、光の照射方向２５２に対して反時計回りに−４５°方位とした後、回転調整機構２６０により偏光軸２３１を調整し、２回目の光照射を行う。その後、基板を１８０°回転させ、更に、遮光部材２４０を移動させ、偏光子２３０を回転機構２６４により上記−４５°方位から９０°回転させて、＋４５°方位とした後、回転調整機構２６０により偏光軸２３１を調整し、３回目の光照射を行う。最後に、遮光部材２４０を移動させ、回転機構２６４により偏光子２３０を上記＋４５°方位から９０°回転させて、−４５°方位とした後、回転調整機構２６０により偏光軸２３１を調整し、４回目の光照射を行う。上記光照射工程を行った液晶パネル用基板３０は、一画素に形成される４つの配向領域に対応する領域ごとにプレチルトの方位２５３が異なる。液晶パネル用基板３０の移動方向２５１及び光の照射方向２５２は、１〜４回目の光照射で全て同じである。また、１〜４回目の光照射の全てで、偏光軸２３１は、回転調整機構２６０により、液晶パネル用基板３０面での露光方向２５３を光の照射方向２５２に対して、実質的に４５°となるように調整される。

図１１（ａ）は、ＴＦＴ基板（第一基板）の光配向処理を説明する図であり、図１１（ｂ）は、ＣＦ基板（第二基板）の光配向処理を説明する図であり、図１１（ｃ）は、光配向処理されたＴＦＴ基板及びＣＦ基板の貼合わせ後の状態を説明する図である。ＴＦＴ基板（第一基板）３０は、図１１（ａ）に示したように、１〜４回目の光照射でドメインごとにプレチルトの方位２５３を変えて光配向処理が行われる。また、ＣＦ基板（第二基板）５０もＴＦＴ基板と同様に、図１１（ｂ）に示したように、１〜４回目の光照射でドメインごとにプレチルトの方位２５４を変えて光配向処理を行う。図１１（ａ）及び（ｂ）に示したように光配向処理されたＴＦＴ基板３０及びＣＦ基板５０を貼り合わせると、実施形態の液晶パネル１００が備える第一のドメイン１０ａ、第二のドメイン１０ｂ、第三のドメイン１０ｃ及び第四のドメイン１０ｄが完成する。

（変形例）
ドメイン配列と画素電極３５に設けられる微細スリットの配置関係は、図１２〜１８に示したものであってもよい。図１２は、変形例１の第一基板３０の電極・配線構造の一例を、液晶層４０中の液晶分子４１の傾斜方位と重ねて示した平面模式図である。変形例１における画素電極３５は、４つのドメインと重畳する領域のうち、一方の電極端から２番目及び３番目に位置する２つの領域に微細スリット３６が設けられ、１番目及び４番目に位置する２つの領域に微細スリット３６が設けられない電極構造を有する。配線との関係では、微細スリット３６は、容量配線Ｃｓ沿いに位置するドメインに設けられている。ドメインとの関係では、変形例１における画素電極３５は、第二のドメイン１０ｂと重畳する領域及び第三のドメイン１０ｃと重畳する領域に微細スリット３６が設けられ、かつ、第一のドメイン１０ａと重畳する領域及び第四のドメイン１０ｄと重畳する領域に微細スリット３６が設けられない構成を有する第一の画素電極３５Ｄと、第一の画素電極３５Ｄにおいて微細スリット３６が設けられなかった２種のドメイン（第一のドメイン１０ａ及び第四のドメイン１０ｄ）と重畳する２つの領域に、微細スリット３６が設けられ、残り２つの領域に、微細スリット３６が設けられない構成を有する第二の画素電極３５Ｅと、を含むものである。第一の画素電極３５Ｄと第二の画素電極３５Ｅとは、列方向において交互に配置されている。また、第一の画素電極３５Ｄが繰り返し配置された行と、第二の画素電極３５Ｅが繰り返し配置された行とが存在する。

図４に示す実施形態１の液晶表示装置は、比較的離れた位置から見ると、ムラ改善効果が高く良好だが、至近距離で見ると、画像によっては表示に違和感があった。例えば、中間調べた表示を斜めから見ると、２行周期の横筋様の物が見えたり、粒状感を感じたりする場合があり、中間調の背景にボックス（ＢＯＸ）状の画像の表示では、ボックスのエッジがギザギザ状に見える場合があった。これに比べ、図１２に示す変形例１の液晶表示装置は、至近距離での粒状感、ボックスのエッジのギザギザ感が改善され、スッキリとした表示が得られた。

図１３は、変形例２の第一基板３０の電極・配線構造の一例を、液晶層４０中の液晶分子４１の傾斜方位と重ねて示した平面模式図である。変形例２における画素電極３５は、４つのドメインと重畳する領域のうち、一方の電極端から１番目及び４番目に位置する２つの領域に微細スリット３６が設けられ、２番目及び３番目に位置する２つの領域に微細スリット３６が設けられない電極構造を有する。配線との関係では、微細スリット３６は、ゲート配線Ｇ沿いに位置するドメインに設けられている。ドメインとの関係では、変形例２における画素電極３５は、第一のドメイン１０ａと重畳する領域及び第四のドメイン１０ｄに微細スリット３６が設けられ、かつ、第二のドメイン１０ｂと重畳する領域及び第三のドメイン１０ｃと重畳する領域に微細スリット３６が設けられない構成を有する第一の画素電極３５Ｆと、第一の画素電極３５Ｆにおいて微細スリット３６が設けられなかった２種のドメイン（第二のドメイン１０ｂ及び第三のドメイン１０ｃ）と重畳する２つの領域に、微細スリット３６が設けられ、残り２つの領域に、微細スリット３６が設けられない構成を有する第二の画素電極３５Ｇと、を含むものである。第一の画素電極３５Ｆと第二の画素電極３５Ｇとは、列方向において交互に配置されている。また、第一の画素電極３５Ｆが繰り返し配置された行と、第二の画素電極３５Ｇが繰り返し配置された行とが存在する。

図１３に示す変形例２の液晶表示装置によれば、図１２に示す変形例１の液晶表示装置と同様に、実施形態１の液晶表示装置に比べて、至近距離での粒状感、ボックスのエッジのギザギザ感が改善され、スッキリとした表示が得られた。また、ボックスの水平エッジの部分を、更に近づいて詳細に見ると、変形例１の液晶表示装置ではエッジが２重線状に見えることがあったが、変形例２の液晶表示装置ではその点も改善される。

図１４は、変形例３の第一基板３０の電極・配線構造の一例を、液晶層４０中の液晶分子４１の傾斜方位と重ねて示した平面模式図である。変形例３における画素電極３５は、４つのドメインと重畳する領域のうち、一方の電極端から１番目及び３番目に位置する２つの領域に微細スリット３６が設けられ、２番目及び４番目に位置する２つの領域に微細スリット３６が設けられない電極構造を有する第一の画素電極３５Ｈ及び３５Ｉと、一方の電極端から２番目及び４番目に位置する２つの領域に微細スリット３６が設けられ、１番目及び３番目に位置する２つの領域に微細スリット３６が設けられない電極構造を有する第三の画素電極３５Ｊと、を含むものである。ドメインとの関係では、変形例３における画素電極３５は、第一のドメイン１０ａと重畳する領域及び第三のドメイン１０ｃに微細スリット３６が設けられ、かつ、第二のドメイン１０ｂと重畳する領域及び第四のドメイン１０ｄと重畳する領域に微細スリット３６が設けられない構成を有する第一の画素電極３５Ｈ及び３５Ｉと、第一の画素電極３５Ｈ及び３５Ｉにおいて微細スリット３６が設けられなかった２種のドメイン（第二のドメイン１０ｂ及び第四のドメイン１０ｄ）と重畳する２つの領域に、微細スリット３６が設けられ、残り２つの領域に、微細スリット３６が設けられない構成を有する第三の画素電極３５Ｊと、を含むものである。

図１４に示す変形例３の液晶表示装置によれば、実施形態１の液晶表示装置に比べて、至近距離で見える粒の密度が高く、粒状感、ボックスのエッジのギザギザ感が改善され、比較的スッキリとした表示が得られた。また、画素エッジの粒状感が改善され、比較的スッキリとした表示が得られた。

図１５は、変形例４の第一基板３０の電極・配線構造の一例を、液晶層４０中の液晶分子４１の傾斜方位と重ねて示した平面模式図である。変形例４は、ドメイン配列が１行周期である点で２行周期の変形例３と異なる。すなわち、第ｎ行画素におけるドメイン配置順が、第一のドメイン１０ａ、第二のドメイン１０ｂ、第三のドメイン１０ｃ、及び、第四のドメイン１０ｄの順であるとともに、第ｎ＋１行画素におけるドメイン配置順が、第一のドメイン１０ａ、第二のドメイン１０ｂ、第三のドメイン１０ｃ、及び、第四のドメイン１０ｄの順である。変形例４における画素電極３５は、４つのドメインと重畳する領域のうち、一方の電極端から１番目及び３番目に位置する２つの領域に微細スリット３６が設けられ、２番目及び４番目に位置する２つの領域に微細スリット３６が設けられない電極構造を有する第一の画素電極３５Ｎと、一方の電極端から２番目及び４番目に位置する２つの領域に微細スリット３６が設けられ、１番目及び３番目に位置する２つの領域に微細スリット３６が設けられない電極構造を有する第二の画素電極３５Ｐと、を含むものである。ドメインとの関係では、変形例４における画素電極３５は、第一のドメイン１０ａと重畳する領域及び第三のドメイン１０ｃに微細スリット３６が設けられ、かつ、第二のドメイン１０ｂと重畳する領域及び第四のドメイン１０ｄと重畳する領域に微細スリット３６が設けられない構成を有する第一の画素電極３５Ｎと、第一の画素電極３５Ｎにおいて微細スリット３６が設けられなかった２種のドメイン（第二のドメイン１０ｂ及び第四のドメイン１０ｄ）と重畳する２つの領域に、微細スリット３６が設けられ、残り２つの領域に、微細スリット３６が設けられない構成を有する第二の画素電極３５Ｐと、を含むものである。

図１５に示す変形例４の液晶表示装置によれば、実施形態１の液晶表示装置に比べて、至近距離での粒状感、ボックスのエッジのギザギザ感が改善され、比較的スッキリとした表示が得られた。また、実施形態１及び変形例１〜３の液晶表示装置に比べて、至近距離で斜めから見えていた２行周期の横筋も改善された。一方、比較的離れた距離から見ると、ムラ改善効果は実施形態１及び変形例１〜３よりも若干劣る。

図１６は、変形例５の第一基板３０の電極・配線構造の一例を、液晶層４０中の液晶分子４１の傾斜方位と重ねて示した平面模式図である。変形例５は、光が透過する領域に位置するドメイン境界部にべた電極領域が無く、隣接列の画素電極３５の微細スリット３６の端が一致している点のみで実施形態１と異なる。すなわち、隣接列の画素電極３５を平行移動して重ね合わせたとき、画素電極端から１番目の領域と２番目の領域の境界部分に微細スリット３６のない領域が存在せず、かつ、画素電極端から３番目の領域と４番目の領域の境界部分に微細スリット３６のない領域が存在しない。

図１６に示す変形例５の液晶表示装置によれば、実施形態１及び変形例１〜４の液晶表示装置に比べて、輝度が向上する傾向であった。一方、嵌合ズレが生じた場合には、輝度が低下しやすかった。

図４及び１４〜１６に示したように、隣接列の２つの画素電極３５の内、一方の画素電極３５が電極の端から１番目の領域に微細スリット３６を有し、２番目の領域に微細スリット３６が無く、他方の画素電極３５が電極の端から１番目の領域に微細スリット３６が無く、２番目の領域に微細スリット３６を有する場合、及び／又は、隣接列の２つの画素電極３５の内、一方の画素電極３５が電極の端から３番目の領域に微細スリット３６を有し、４番目の領域に微細スリット３６が無く、他方の画素電極３５が電極の端から３番目の領域に微細スリット３６が無く、４番目の領域に微細スリット３６を有する場合において、微細スリット３６の配置は、下記特徴を有していてもよい。
・隣接列の画素電極３５の微細スリット３６の端が一致しない。
・隣接列の画素電極３５を平行移動して重ね合わせたとき、画素電極端から１番目の領域と２番目の領域の境界部分に微細スリット３６のない領域が存在する。
・隣接列の画素電極３５を平行移動して重ね合わせたとき、画素電極端から３番目の領域と４番目の領域の境界部分に微細スリット３６のない領域が存在する。

図４及び１４〜１６に示したように、隣接列の２つの画素電極３５の内、一方の画素電極３５が電極の端から１番目の領域に微細スリット３６を有し、２番目の領域に微細スリット３６が無く、他方の画素電極３５が電極の端から１番目の領域に微細スリット３６が無く、２番目の領域に微細スリット３６を有する場合、及び／又は、隣接列の２つの画素電極３５の内、一方の画素電極３５が電極の端から３番目の領域に微細スリット３６を有し、４番目の領域に微細スリット３６が無く、他方の画素電極３５が電極の端から３番目の領域に微細スリット３６が無く、４番目の領域に微細スリット３６を有する場合において、微細スリット３６の配置は、下記特徴を有していてもよく、例えば、図１６に示した第一基板３０は、下記特徴を全て満たすものである。
・隣接列の画素電極３５の微細スリット３６の端が一致する。
・隣接列の画素電極３５を平行移動して重ね合わせたとき、画素電極端から１番目の領域と２番目の領域の境界部分に微細スリット３６のない領域が存在しない。
・隣接列の画素電極３５を平行移動して重ね合わせたとき、画素電極端から３番目の領域と４番目の領域の境界部分に微細スリット３６のない領域が存在しない。

図１７は、変形例６の第一基板３０の電極・配線構造の一例を、液晶層４０中の液晶分子４１の傾斜方位と重ねて示した平面模式図である。変形例６は、微細スリット３６の端が直線状に並んで配置されておらず、微細スリットが間引かれた形態となっている点のみで実施形態１と異なる。

図１７に示す変形例６の液晶表示装置によれば、実施形態１及び変形例１〜５の液晶表示装置に比べて、比較的離れた距離から見ると、ムラ改善効果は若干良好な傾向であった。一方、若干輝度が低下する傾向にあった。

本発明において、微細スリット３６の配置は、下記特徴を有していてもよく、例えば、図１７に示した第一基板３０は、下記特徴を全て満たすものである。
・一部の微細スリット３６が途中で切れている。
・微細スリット３６のピッチが画素電極内で変化している。
・・微細スリット３６のピッチが密の領域が画素電極端にある。
・・微細スリット３６のピッチが密の領域がＬ字型で、画素電極端の二つの部分にある。

下記表１に、実施形態１及び変形例１〜６の特徴を示す。下記表１に示したように、実施形態１及び変形例１〜３、５は、比較的遠距離で見た場合のスキャンムラ改善効果は同等であるが、比較的近距離で見た場合の表示品位に差がある。変形例１〜３は、実施形態１に比べて良好で、特に変形例２は、エッジのギザギザ感が解消され、スッキリとした表示が得られる。変形例４は、スキャンムラ改善効果は若干劣るものの近距離での表示品位は良好なため、製造プロセス等の改善でスキャンムラを改善できる場合には、好適に用いられる。逆に、製造プロセス等の問題が大きく、スキャンムラの改善が望めない場合は、変形例６を選択するのが良い。

下記表２に、要素別の特徴を示す。

［付記］
本発明の一態様は、マトリクス状に配置された複数の画素電極と第一の配向膜とを有する第一基板、液晶分子を含有する液晶層、及び、共通電極と第二の配向膜とを有する第二基板を順に備える液晶パネルであって、上記液晶分子の上記第一基板側の長軸端部を始点とし、上記第二基板側の長軸端部を終点とする配向ベクトルを定義したときに、上記第一の配向膜及び上記第二の配向膜は、単一の上記画素電極と重畳する表示単位領域の各々において、上記配向ベクトルの向きが第一の方向である第一のドメイン、上記配向ベクトルの向きが第二の方向である第二のドメイン、上記配向ベクトルの向きが第三の方向である第三のドメイン、及び、上記配向ベクトルの向きが第四の方向である第四のドメインが列方向に並ぶように配向処理されており、行方向に連続する少なくとも３０画素において、上記複数のドメインの配列が同一であり、第ｎ行（ｎは、１以上の任意の整数）に位置する上記表示単位領域におけるドメイン配置順は、第一のドメイン、第二のドメイン、第三のドメイン、及び、第四のドメインの順であり、上記複数の画素電極は、上記第一のドメインと重畳する領域、上記第二のドメインと重畳する領域、上記第三のドメインと重畳する領域及び上記第四のドメインと重畳する領域のうち、少なくとも１つの領域において、対応するドメインの上記配向ベクトルと平行な微細スリットが設けられ、かつ、残りの領域において、上記微細スリットが設けられない構成を有する第一の画素電極を含む液晶パネルである。

上記態様において、上記複数の画素電極は、上記列方向側の両端に、上記複数本の微細スリットが設けられていなくてもよい。

上記態様において、上記複数本の微細スリットは、上記複数の画素電極の端まで設けられていなくてもよい。

上記複数の画素電極は、下記（１）〜（４）の組み合わせの少なくとも１つを含んでもよい。
（１）上記第一のドメインと重畳する領域に上記微細スリットが設けられた画素電極と、上記第一のドメインと重畳する領域に上記微細スリットが設けられない画素電極との組み合わせ
（２）上記第二のドメインと重畳する領域に上記微細スリットが設けられた画素電極と、上記第二のドメインと重畳する領域に上記微細スリットが設けられない画素電極との組み合わせ
（３）上記第三のドメインと重畳する領域に上記微細スリットが設けられた画素電極と、上記第三のドメインと重畳する領域に上記微細スリットが設けられない画素電極との組み合わせ
（４）上記第四のドメインと重畳する領域に上記微細スリットが設けられた画素電極と、上記第四のドメインと重畳する領域に上記微細スリットが設けられない画素電極との組み合わせ

上記第一の画素電極は、上記第一のドメインと重畳する領域、上記第二のドメインと重畳する領域、上記第三のドメインと重畳する領域及び上記第四のドメインと重畳する領域のうち、いずれか２つの領域において、上記微細スリットが設けられ、かつ、残り２つの領域において、上記微細スリットが設けられない構成を有してもよい。

上記複数の画素電極は、上記第一の画素電極に隣接配置され、かつ、上記第一の画素電極において微細スリットが設けられなかった２種のドメインと重畳する２つの領域に、上記微細スリットが設けられ、残り２つの領域において、上記微細スリットが設けられない構成を有する第二の画素電極を含んでもよい。

上記態様において、上記第一の画素電極は、上記第一のドメインと重畳する領域及び上記第三のドメインと重畳する領域に、上記微細スリットが設けられ、上記第二のドメインと重畳する領域及び上記第四のドメインと重畳する領域には、上記微細スリットが設けられない構成を有し、上記第二の画素電極は、上記第二のドメインと重畳する領域及び上記第四のドメインと重畳する領域に、上記微細スリットが設けられ、上記第一のドメインと重畳する領域及び上記第三のドメインと重畳する領域には、上記微細スリットが設けられない構成を有してもよい。

上記態様において、上記表示単位領域を平面視したときに、上記第一のドメインの配向ベクトルと上記第二のドメインの配向ベクトルとは、終点同士が向かい合い、かつ互いに直交する関係を有し、上記第二のドメインの配向ベクトルと上記第三のドメインの配向ベクトルとは、始点同士が向かい合い、かつ互いに平行な関係を有し、上記第三のドメインの配向ベクトルと上記第四のドメインの配向ベクトルとは、終点同士が向かい合い、かつ互いに直交する関係を有してもよい。

第ｎ＋１行に位置する上記表示単位領域におけるドメイン配置順は、上記第二のドメイン及び上記第三のドメインの間に、上記第一のドメイン及び上記第四のドメインが位置する関係を満たしてもよい。

第ｎ＋１行に位置する上記表示単位領域におけるドメイン配置順は、上記第三のドメイン、第四のドメイン、上記第一のドメイン、及び、上記第二のドメインの順であってもよい。

上記態様において、上記第一の画素電極は、４つのドメインと重畳する領域のうち、一方の電極端から１番目及び３番目に位置する２つの領域に上記微細スリットが設けられ、２番目及び４番目に位置する２つの領域に上記微細スリットが設けられない構成を有し、上記液晶パネルは、上記第一の画素電極に隣接配置され、かつ、４つのドメインと重畳する領域のうち、上記一方の電極端と同じ側から２番目及び４番目に位置する２つの領域に上記微細スリットが設けられ、１番目及び３番目に位置する２つの領域に上記微細スリットが設けられない構成を有する第三の画素電極を含んでもよい。

上記態様において、上記第一の画素電極は、４つのドメインと重畳する領域のうち、一方の電極端から２番目及び３番目に位置する２つの領域に上記微細スリットが設けられ、１番目及び４番目に位置する２つの領域に上記微細スリットが設けられない構成を有し、上記液晶パネルは、上記第一の画素電極に隣接配置され、かつ、４つのドメインと重畳する領域のうち、上記一方の電極端と同じ側から１番目及び４番目に位置する２つの領域に上記微細スリットが設けられ、２番目及び３番目に位置する２つの領域に上記微細スリットが設けられない構成を有する第四の画素電極を含んでもよい。

上記液晶分子は、上記液晶層への電圧無印加時には、上記第一基板及び上記第二基板に対して実質的に垂直に配向し、上記液晶層への電圧印加時には、上記第一のドメイン、上記第二のドメイン、上記第三のドメイン、及び、上記第四のドメインの各配向ベクトルと一致するように傾斜配向してもよい。

上記第一のドメイン、上記第二のドメイン、上記第三のドメイン、及び、上記第四のドメインにおいて、上記液晶分子の基板間ツイスト角が４５°以下であってもよい。

上記第一の配向膜及び上記第二の配向膜の少なくとも一方が、光配向膜であってもよい。

上記第一の配向膜及び上記第二の配向膜の両方が、光配向膜であることが好ましい。

本発明の別の一態様は、上記態様の液晶パネルを製造する方法であって、上記微細スリットをフォトリソグラフィにより形成する工程を含み、上記フォトリソグラフィは、上記微細スリットに対応するパターンが形成されたマスク、及び、複数のレンズを介して、導電膜上に形成した感光性樹脂に対して光を照射することを含む液晶パネルの製造方法である。

本発明の更に別の一態様は、上記態様の液晶パネルを製造する方法であって、上記光配向膜に対する上記配向処理は、光源から偏光子を介して斜め方向から偏光を照射することを含み、上記偏光子の偏光軸を４５°方位から−１５°〜＋１５°の範囲で回転させ、上記光配向膜の表面での露光方向を光の照射方向に対して、実質的に４５°方位に調整する液晶パネルの製造方法である。

１０：画素
１０ａ：第一のドメイン
１０ｂ：第二のドメイン
１０ｃ：第三のドメイン
１０ｄ：第四のドメイン
１３：ＴＦＴ
２０：背面側偏光板
３０：第一基板（液晶パネル用基板）
３１：透明基板
３２：絶縁膜
３５：画素電極
３５Ａ、３５Ｄ、３５Ｆ、３５Ｈ、３５Ｉ、３５Ｎ：第一の画素電極
３５Ｂ、３５Ｃ、３５Ｅ、３５Ｇ、３５Ｐ：第二の画素電極
３５Ｊ：第三の画素電極
３６：微細スリット（ファインスリット）
３７：センタースリット
４０：液晶層
４１：液晶分子
４１Ｓ：始点（液晶ダイレクタのテール）
４１Ｔ：終点（液晶ダイレクタのヘッド）
５０：第二基板
５１：対向電極
６０：表示面側偏光板
７１：第一の配向膜
７２：第二の配向膜
８０：シール材
１００：液晶パネル
１１０：バックライト
１５０：マスク
１５１：パターン形成領域
１６０：マルチレンズ
１６０Ａ、１６０Ｂ、１６０Ｃ、１６０Ｄ、１６０Ｅ：レンズ
１７０：基板
１７１：導電膜
１７２：フォトレジスト
１７２Ａ、１７２Ｂ、１７２Ｃ、１７２Ｄ、１７２Ｅ：露光領域
２００：光配向処理装置
２２０：光源
２２１：光
２３０：偏光子
２３１：偏光軸
２３５：波長選択フィルター
２４０：遮光部材
２５０：ステージ
２５１：基板の移動方向
２５２：光の照射方向
２５３、２５４：露光方向（プレチルトの方位）
２６０：回転調整機構
２６４：回転機構
２７０：ランプボックス
２８０：光照射機構
Ｃｓ：容量配線
Ｄ：ドレイン配線
Ｇ：ゲート配線
Ｓ：ソース配線

Claims (18)

1. マトリクス状に配置された複数の画素電極と第一の配向膜とを有する第一基板、
   液晶分子を含有する液晶層、及び、
   共通電極と第二の配向膜とを有する第二基板を順に備える液晶パネルであって、
   前記液晶分子の前記第一基板側の長軸端部を始点とし、前記第二基板側の長軸端部を終点とする配向ベクトルを定義したときに、前記第一の配向膜及び前記第二の配向膜は、単一の前記画素電極と重畳する表示単位領域の各々において、前記配向ベクトルの向きが第一の方向である第一のドメイン、前記配向ベクトルの向きが第二の方向である第二のドメイン、前記配向ベクトルの向きが第三の方向である第三のドメイン、及び、前記配向ベクトルの向きが第四の方向である第四のドメインが列方向に並ぶように配向処理されており、
   行方向に連続する少なくとも３０画素において、前記複数のドメインの配列が同一であり、
   第ｎ行（ｎは、１以上の任意の整数）に位置する前記表示単位領域におけるドメイン配置順は、第一のドメイン、第二のドメイン、第三のドメイン、及び、第四のドメインの順であり、
   前記複数の画素電極は、前記第一のドメインと重畳する領域、前記第二のドメインと重畳する領域、前記第三のドメインと重畳する領域及び前記第四のドメインと重畳する領域のうち、少なくとも１つの領域において、対応するドメインの前記配向ベクトルと平行な微細スリットが設けられ、かつ、残りの領域において、前記微細スリットが設けられない構成を有する第一の画素電極を含む
   ことを特徴とする液晶パネル。
2. 前記複数の画素電極は、前記列方向側の両端に、前記複数本の微細スリットが設けられていないことを特徴とする請求項１に記載の液晶パネル。
3. 前記複数本の微細スリットは、前記複数の画素電極の端まで設けられていないことを特徴とする請求項１に記載の液晶パネル。
4. 前記複数の画素電極は、下記（１）〜（４）の組み合わせの少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の液晶パネル。
   （１）前記第一のドメインと重畳する領域に前記微細スリットが設けられた画素電極と、前記第一のドメインと重畳する領域に前記微細スリットが設けられない画素電極との組み合わせ
   （２）前記第二のドメインと重畳する領域に前記微細スリットが設けられた画素電極と、前記第二のドメインと重畳する領域に前記微細スリットが設けられない画素電極との組み合わせ
   （３）前記第三のドメインと重畳する領域に前記微細スリットが設けられた画素電極と、前記第三のドメインと重畳する領域に前記微細スリットが設けられない画素電極との組み合わせ
   （４）前記第四のドメインと重畳する領域に前記微細スリットが設けられた画素電極と、前記第四のドメインと重畳する領域に前記微細スリットが設けられない画素電極との組み合わせ
5. 前記第一の画素電極は、前記第一のドメインと重畳する領域、前記第二のドメインと重畳する領域、前記第三のドメインと重畳する領域及び前記第四のドメインと重畳する領域のうち、いずれか２つの領域において、前記微細スリットが設けられ、かつ、残り２つの領域において、前記微細スリットが設けられない構成を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の液晶パネル。
6. 前記複数の画素電極は、前記第一の画素電極に隣接配置され、かつ、前記第一の画素電極において微細スリットが設けられなかった２種のドメインと重畳する２つの領域に、前記微細スリットが設けられ、残り２つの領域において、前記微細スリットが設けられない構成を有する第二の画素電極を含むことを特徴とする請求項５に記載の液晶パネル。
7. 前記第一の画素電極は、前記第一のドメインと重畳する領域及び前記第三のドメインと重畳する領域に、前記微細スリットが設けられ、前記第二のドメインと重畳する領域及び前記第四のドメインと重畳する領域には、前記微細スリットが設けられない構成を有し、
   前記第二の画素電極は、前記第二のドメインと重畳する領域及び前記第四のドメインと重畳する領域に、前記微細スリットが設けられ、前記第一のドメインと重畳する領域及び前記第三のドメインと重畳する領域には、前記微細スリットが設けられない構成を有する
   ことを特徴とする請求項６に記載の液晶パネル。
8. 前記表示単位領域を平面視したときに、前記第一のドメインの配向ベクトルと前記第二のドメインの配向ベクトルとは、終点同士が向かい合い、かつ互いに直交する関係を有し、前記第二のドメインの配向ベクトルと前記第三のドメインの配向ベクトルとは、始点同士が向かい合い、かつ互いに平行な関係を有し、前記第三のドメインの配向ベクトルと前記第四のドメインの配向ベクトルとは、終点同士が向かい合い、かつ互いに直交する関係を有することを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の液晶パネル。
9. 第ｎ＋１行に位置する前記表示単位領域におけるドメイン配置順は、前記第二のドメイン及び前記第三のドメインの間に、前記第一のドメイン及び前記第四のドメインが位置する関係を満たすことを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の液晶パネル。
10. 第ｎ＋１行に位置する前記表示単位領域におけるドメイン配置順は、前記第三のドメイン、第四のドメイン、前記第一のドメイン、及び、前記第二のドメインの順であることを特徴とする請求項９に記載の液晶パネル。
11. 前記第一の画素電極は、４つのドメインと重畳する領域のうち、一方の電極端から１番目及び３番目に位置する２つの領域に前記微細スリットが設けられ、２番目及び４番目に位置する２つの領域に前記微細スリットが設けられない構成を有し、
    前記第一の画素電極に隣接配置され、かつ、４つのドメインと重畳する領域のうち、前記一方の電極端と同じ側から２番目及び４番目に位置する２つの領域に前記微細スリットが設けられ、１番目及び３番目に位置する２つの領域に前記微細スリットが設けられない構成を有する第三の画素電極を含むことを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の液晶パネル。
12. 前記第一の画素電極は、４つのドメインと重畳する領域のうち、一方の電極端から２番目及び３番目に位置する２つの領域に前記微細スリットが設けられ、１番目及び４番目に位置する２つの領域に前記微細スリットが設けられない構成を有し、
    前記第一の画素電極に隣接配置され、かつ、４つのドメインと重畳する領域のうち、前記一方の電極端と同じ側から１番目及び４番目に位置する２つの領域に前記微細スリットが設けられ、２番目及び３番目に位置する２つの領域に前記微細スリットが設けられない構成を有する第四の画素電極を含むことを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の液晶パネル。
13. 前記液晶分子は、前記液晶層への電圧無印加時には、前記第一基板及び前記第二基板に対して実質的に垂直に配向し、前記液晶層への電圧印加時には、前記第一のドメイン、前記第二のドメイン、前記第三のドメイン、及び、前記第四のドメインの各配向ベクトルと一致するように傾斜配向することを特徴とする請求項１〜１２のいずれかに記載の液晶パネル。
14. 前記第一のドメイン、前記第二のドメイン、前記第三のドメイン、及び、前記第四のドメインにおいて、前記液晶分子の基板間ツイスト角が４５°以下であることを特徴とする請求項１〜１３のいずれかに記載の液晶パネル。
15. 前記第一の配向膜及び前記第二の配向膜の少なくとも一方が、光配向膜であることを特徴とする請求項１〜１４のいずれかに記載の液晶パネル。
16. 前記第一の配向膜及び前記第二の配向膜の両方が、光配向膜であることを特徴とする請求項１５に記載の液晶パネル。
17. 請求項１〜１６のいずれかに記載の液晶パネルを製造する方法であって、
    前記微細スリットをフォトリソグラフィにより形成する工程を含み、
    前記フォトリソグラフィは、前記微細スリットに対応するパターンが形成されたマスク、及び、複数のレンズを介して、導電膜上に形成した感光性樹脂に対して光を照射することを含む
    ことを特徴とする液晶パネルの製造方法。
18. 請求項１５又は１６に記載の液晶パネルを製造する方法であって、
    前記光配向膜に対する前記配向処理は、光源から偏光子を介して斜め方向から偏光を照射することを含み、
    前記偏光子の偏光軸を４５°方位から−１５°〜＋１５°の範囲で回転させ、前記光配向膜の表面での露光方向を光の照射方向に対して、実質的に４５°方位に調整することを特徴とする液晶パネルの製造方法。

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