JP2019173134A - MANUFACTURING METHOD OF Sn - Google Patents

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Takuma Takei
琢真 武井
瑛基 小野
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瑛基 小野
正治郎 薄井
Shojiro Usui
正治郎 薄井
政彦 安斎
Masahiko Anzai
政彦 安斎
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Abstract

To provide a manufacturing method of Sn capable of reducing Sn concentration in Sn.SOLUTION: A manufacturing method of Sn includes an Sb deposition process for adding Sn metal to a Sn electrolyte obtained by conducting exudation and purification on Sn scum containing Sb, and depositing the Sb by a cementation reaction, and Sn deposition process for depositing Sn by conducting electrolytic extraction on the Sn electrolyte after the Sb deposition process.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本件は、Snの製造方法に関する。   This case relates to a manufacturing method of Sn.

例えば、銅製錬などで発生する鉛(Pb)滓などの鉛原料から製品Pbを製造する鉛製錬において、錫(Sn)スカムが発生する。Snスカムを浸出工程に供すると、浸出液にSnが溶出する。得られた浸出後液に対して電解採取を行うことで得られる電着SnからSnインゴットを製造することができる(例えば、特許文献1参照)。   For example, tin (Sn) scum is generated in lead smelting for producing a product Pb from a lead raw material such as lead (Pb) soot generated in copper smelting or the like. When Sn scum is subjected to the leaching step, Sn elutes in the leaching solution. A Sn ingot can be manufactured from electrodeposited Sn obtained by performing electrowinning on the obtained liquid after leaching (see, for example, Patent Document 1).

特開2013−234356号公報JP 2013-234356 A

しかしながら、Snスカムにアンチモン(Sb)が含まれると、Snインゴット中のSb濃度が高くなるおそれがある。   However, when antimony (Sb) is contained in the Sn scum, the Sb concentration in the Sn ingot may be increased.

本件は上記の課題に鑑み、Sn中のSb濃度を低下させることができるSnの製造方法を提供することを目的とする。   In view of the above-described problems, an object of the present invention is to provide a method for producing Sn that can reduce the Sb concentration in Sn.

1つの態様では、Snの製造方法は、Sbを含むSnスカムに対して浸出および浄液を行うことで得られるSn電解溶液に、Snメタルを添加し、セメンテーション反応によって前記Sbを析出させるSb析出工程と、前記Sb析出工程後の前記Sn電解溶液に対して電解採取を行うことでSnを析出させるSn析出工程と、を含むことを特徴とする。   In one aspect, the manufacturing method of Sn adds Sn metal to Sn electrolytic solution obtained by leaching and purifying Sn scum containing Sb, and deposits Sb by a cementation reaction. It includes a precipitation step and a Sn precipitation step of depositing Sn by performing electrowinning on the Sn electrolytic solution after the Sb precipitation step.

Sn中のSb濃度を低下させることができる。   The Sb concentration in Sn can be reduced.

SnおよびPbを製造する工程の一例について説明する図である。It is a figure explaining an example of the process of manufacturing Sn and Pb. セメンテーションを例示する図である。It is a figure which illustrates cementation. Sn電解溶液中のSb濃度の時間変化の測定結果を示す図である。It is a figure which shows the measurement result of the time change of Sb density | concentration in Sn electrolyte solution. Snを製造する工程の一例について説明する図である。It is a figure explaining an example of the process of manufacturing Sn. Snメタルを添加してからの経過時間と、Sn電解溶液中のSb濃度との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the elapsed time after adding Sn metal, and Sb density | concentration in Sn electrolyte solution.

以下、本発明を実施するための実施形態について説明する。   Hereinafter, an embodiment for carrying out the present invention will be described.

図1は、製品Snおよび製品Pbを製造する製造工程の一例について説明する図である。図1で例示するように、銅製錬工程などで発生する鉛滓、排バッテリー等の鉛原料に対して脱銅および炭酸化が行われる。脱銅および炭酸化によって得られた炭酸鉛は、Pb原料としてPb電気炉に投入される。炭酸鉛は、鉛電気炉で1000℃〜1200℃で溶融することによって、粗Pbメタルとスラグとに分離する。   FIG. 1 is a diagram illustrating an example of a manufacturing process for manufacturing the product Sn and the product Pb. As illustrated in FIG. 1, copper removal and carbonation are performed on lead raw materials such as lead soot generated in a copper smelting process and the like, and an exhaust battery. Lead carbonate obtained by copper removal and carbonation is put into a Pb electric furnace as a Pb raw material. Lead carbonate is separated into crude Pb metal and slag by melting at 1000 ° C. to 1200 ° C. in a lead electric furnace.

粗Pbメタルには、不純物としてSnが含まれている。そこで、冷却した粗Pbメタルは、ハリス炉に投入される。ハリス炉では、粗Pbメタルがソーダ処理される。ソーダ処理とは、500℃程度に加熱して溶融した粗Pbメタルに、例えば苛性ソーダを添加し、さらに場合により追加の苛性ソーダおよび硝酸ソーダを添加して、Snをソーダ塩(NaSnO)化して、溶湯表面において固形化させる処理のことである。固形化したSnのソーダ塩は、一般にSnスカムと呼ばれる。Snスカムは、一例として、乾燥した状態で、Snを10mass%〜30mass%含み、Pbを5.0mass%〜20mass%含み、Sbを2mass%〜15mass%含み、Cuを0.5mass%〜5.0mass%含み、Asを1.0mass%〜10mass%含み、Biを0.5mass%〜7.0mass%含む。 The crude Pb metal contains Sn as an impurity. Therefore, the cooled crude Pb metal is put into a Harris furnace. In the Harris furnace, the crude Pb metal is soda-treated. In the soda treatment, for example, caustic soda is added to the crude Pb metal heated to about 500 ° C. and melted, and additional caustic soda and sodium nitrate are optionally added to convert Sn into a soda salt (Na 2 SnO 3 ). This is a treatment for solidifying the molten metal surface. Solidified soda salt of Sn is generally called Sn scum. As an example, Sn scum contains 10 mass% to 30 mass% of Sn, 5.0 mass% to 20 mass% of Pb, 2 mass% to 15 mass% of Sb, and 0.5 mass% to 5 mass% of Cu in a dry state. 0 mass% is contained, As is contained 1.0 mass% to 10 mass%, and Bi is contained 0.5 mass% to 7.0 mass%.

Snスカムは、製品Snを製造するためのSn原料として利用される。具体的には、Snスカムは、Snを浸出するSn浸出工程に供される。得られた浸出後液をろ過して得られる浸出ろ液は、Snの電解採取工程に供されてSn電解溶液として用いられる。Sn電解溶液中のSn濃度は、例えば、10g/L〜70g/Lである。また、Sn電解溶液中のSb濃度は、例えば、10mg/L〜200mg/Lである。Sn電解採取工程においてSn電解溶液から得られる電着SnからSnインゴットが製造される。Sn浸出工程の浸出残渣は、鉛電気炉または炭酸化工程に繰り返される。一方、ハリス炉で粗Pbメタルをソーダ処理することによって、Pbメタルが得られる。このPbメタルは、電解精製工程に供され、製品Pbが製造される。   Sn scum is used as a Sn raw material for producing product Sn. Specifically, the Sn scum is subjected to a Sn leaching process for leaching Sn. The leached filtrate obtained by filtering the obtained leached solution is subjected to the Sn electrowinning step and used as the Sn electrolytic solution. The Sn concentration in the Sn electrolytic solution is, for example, 10 g / L to 70 g / L. Moreover, Sb density | concentration in Sn electrolyte solution is 10 mg / L-200 mg / L, for example. A Sn ingot is produced from electrodeposited Sn obtained from the Sn electrolytic solution in the Sn electrowinning step. The leaching residue of the Sn leaching process is repeated in the lead electric furnace or the carbonation process. On the other hand, Pb metal is obtained by soda processing the crude Pb metal in a Harris furnace. This Pb metal is subjected to an electrolytic purification process to produce a product Pb.

Sn電解溶液にはSbが含まれているため、Snインゴット中にもSbが含有されることがある。Snインゴットをより高純度化するためには、Snインゴット中のSb濃度は低いことが好ましい。例えば、Snインゴットの製品規格として500ppm以下といった濃度が望まれている。そこで、本発明者らは、Snの電解採取工程におけるセメンテーション反応に着目した。   Since the Sn electrolytic solution contains Sb, the Sn ingot may also contain Sb. In order to further purify the Sn ingot, the Sb concentration in the Sn ingot is preferably low. For example, a concentration of 500 ppm or less is desired as a product standard for Sn ingots. Therefore, the present inventors paid attention to a cementation reaction in the Sn electrowinning process.

Snの電解採取工程においては、電着Snが析出する。この析出した電着Snは、Sn電解溶液と接触することになる。SnスカムにはSbが含有されているため、Sn電解溶液にはSbのイオン(Sb3+)が含まれている。Sbのイオン化傾向よりもSnのイオン化傾向の方が高いため、図2で例示するように、Sb3+を含むSn電解溶液に電着Snが接触すると、下記式(1)のように、電着SnがSn2+として溶解し、Sb3+がSbとして電着Snに析出することになる。
3Sn+2Sb3+=3Sn2++2Sb (1)
In the Sn electrowinning process, electrodeposited Sn is deposited. The deposited electrodeposited Sn comes into contact with the Sn electrolytic solution. Since Sn scum contains Sb, the Sn electrolytic solution contains Sb ions (Sb 3+ ). Since the ionization tendency of Sn is higher than the ionization tendency of Sb, as shown in FIG. 2, when electrodeposited Sn comes into contact with the Sn electrolytic solution containing Sb 3+ , the electrodeposition is represented by the following formula (1). Sn is dissolved as Sn 2+ , and Sb 3+ is precipitated as electrodeposited Sn as Sb.
3Sn + 2Sb 3+ = 3Sn 2+ + 2Sb (1)

本発明者らは、ビーカー試験を行った。Sb3+を含むSn電解溶液に板状のSnメタルを浸し、Sn電解溶液中のSb濃度の時間変化を測定した。図3は、測定結果を示す図である。図3に示すように、Snメタルを浸す前はSn電解溶液中のSbの濃度が120mg/Lを上回っていたのに対して、時間経過とともにSb濃度が低下した。以上の結果から、Sb3+を含むSn電解溶液にSnメタルが接触するとSbがSnメタルに析出することが確認された。 The inventors conducted a beaker test. Plate-shaped Sn metal was immersed in an Sn electrolytic solution containing Sb 3+, and the change with time in the Sb concentration in the Sn electrolytic solution was measured. FIG. 3 is a diagram showing the measurement results. As shown in FIG. 3, the Sb concentration in the Sn electrolytic solution was higher than 120 mg / L before the Sn metal was immersed, whereas the Sb concentration decreased with time. From the above results, it was confirmed that when Sn metal comes into contact with the Sn electrolytic solution containing Sb 3+ , Sb precipitates on the Sn metal.

そこで、本実施形態においては、図4で例示するように、電解採取工程において通電する前のSn電解溶液に対して、Snメタルを添加する。それにより、セメンテーション反応が生じてSnメタルにSbが析出し、Sn電解溶液中のSb3+を除去することができる。Sbが析出したSnメタルを除去してからSn電解採取工程を行うことで、Sb濃度の低い電着Snが得られ、Sb濃度の低いSnインゴットを製造することができる。 Therefore, in this embodiment, as illustrated in FIG. 4, Sn metal is added to the Sn electrolytic solution before being energized in the electrowinning process. Thereby, a cementation reaction occurs, Sb precipitates on the Sn metal, and Sb 3+ in the Sn electrolytic solution can be removed. By performing the Sn electrowinning process after removing the Sn metal on which Sb is deposited, electrodeposited Sn with a low Sb concentration can be obtained, and an Sn ingot with a low Sb concentration can be produced.

なお、Sn電解溶液中のSb3+の除去に要する時間は短いことが好ましい。また、そこで、Snメタルの添加量を多くすることが考えられる。しかしながら、Snメタルの添加量が多いと、Sb析出工程の反応槽への装入が困難になることも生じ得る。したがって、Snメタルの添加量は少ないことが好ましい。そこで、切粉状のSnメタルのように、比表面積が高いSnメタルを添加することが好ましい。比表面積が高いSnメタルを用いることで、Snメタルの表面積が高くなる。それにより、セメンテーション反応が促進され、Sn電解溶液中のSb3+の除去に要する時間を短くすることができる。また、比較的少量のSnメタルを用いても十分な表面積が確保されることから、Snメタルの添加量を抑制することができる。例えば、20cm/g以上の比表面積を有するSnメタルを用いることが好ましい。 In addition, it is preferable that the time required for removal of Sb 3+ in the Sn electrolytic solution is short. Therefore, it is conceivable to increase the amount of Sn metal added. However, when the amount of Sn metal added is large, it may be difficult to charge the reaction vessel in the Sb deposition step. Therefore, it is preferable that the amount of Sn metal added is small. Therefore, it is preferable to add Sn metal having a high specific surface area such as chip-like Sn metal. By using Sn metal having a high specific surface area, the surface area of Sn metal is increased. Thereby, the cementation reaction is promoted, and the time required for the removal of Sb 3+ in the Sn electrolyte solution can be shortened. Moreover, since a sufficient surface area is ensured even if a relatively small amount of Sn metal is used, the amount of Sn metal added can be suppressed. For example, it is preferable to use Sn metal having a specific surface area of 20 cm 2 / g or more.

ここで、異なる表面積のSnメタルを用いて、Sb析出除去試験を行った結果、Sb析出速度=33.2mg/min/mという結果が得られた。実機を想定して、液量60m、Sb濃度120mg/Lの電解溶液からSbを十分に除去すると、反応時間2時間では1800mの表面積を持つSnメタルの添加が必要である。一方で10時間では360mの表面積を持つSnメタルの添加が必要である。大量のSnメタルの添加が可能であれば、短時間でSbを除去できる。少量のSnメタル添加でSb除去を行う場合は、反応時間を長くすればよい。 Here, as a result of conducting an Sb precipitation removal test using Sn metals having different surface areas, a result of Sb precipitation rate = 33.2 mg / min / m 2 was obtained. Assuming an actual machine, if Sb is sufficiently removed from the electrolytic solution having a liquid volume of 60 m 3 and an Sb concentration of 120 mg / L, it is necessary to add Sn metal having a surface area of 1800 m 2 in a reaction time of 2 hours. On the other hand, in 10 hours, it is necessary to add Sn metal having a surface area of 360 m 2 . If a large amount of Sn metal can be added, Sb can be removed in a short time. When removing Sb with addition of a small amount of Sn metal, the reaction time may be lengthened.

(実施例1,2)
Sn電解溶液にSnメタルを添加してSn電解溶液中のSb濃度の時間変化を測定した。実施例1,2のいずれにおいても、Sn電解溶液の液量は、400mlとした。Sn電解溶液の温度は、65℃〜70℃に維持した。実施例1では、Sn濃度68.6g/L、Sb濃度115.3mg/LのSn電解溶液、実施例2では、Sn濃度51.7g/L、Sb濃度124.5mg/LのSn電解溶液を使用した。実施例1では、Snメタルとして、板状のSn(重量:33.4g、表面積:49.7cm、比表面積:1.5cm/g)を用いた。実施例2では、Snメタルとして、切粉状のSn(重量:7.0g、表面積:142.9cm、比表面積:20.4cm/g)を用いた。
(Examples 1 and 2)
Sn metal was added to the Sn electrolytic solution, and the time change of the Sb concentration in the Sn electrolytic solution was measured. In both Examples 1 and 2, the amount of the Sn electrolytic solution was 400 ml. The temperature of the Sn electrolytic solution was maintained at 65 ° C to 70 ° C. In Example 1, an Sn electrolytic solution having an Sn concentration of 68.6 g / L and an Sb concentration of 115.3 mg / L was used. In Example 2, an Sn electrolytic solution having an Sn concentration of 51.7 g / L and an Sb concentration of 124.5 mg / L was used. used. In Example 1, as Sn metal, plate-like Sn (weight: 33.4 g, surface area: 49.7cm 2, specific surface area: 1.5cm 2 / g) was used. In Example 2, as the Sn metal, chip-like Sn (weight: 7.0 g, surface area: 142.9 cm 2 , specific surface area: 20.4 cm 2 / g) was used.

図5は、Snメタルを添加してからの経過時間と、Sn電解溶液中のSb濃度との関係を示す図である。図5に示すように、実施例1,2のいずれにおいても、時間が経過するにつれて、Sn電解溶液中のSb濃度が徐々に低下した。この結果から、Sb3+を含むSn電解溶液にSnメタルを添加することによって、Sn電解溶液中からSbが除去されることが確認された。Sbが除去されたSn電解溶液を用いてSn電解採取を行なえば、Sb濃度の低いSnを製造することができるようになる。 FIG. 5 is a diagram showing the relationship between the elapsed time since the addition of Sn metal and the Sb concentration in the Sn electrolyte solution. As shown in FIG. 5, in both Examples 1 and 2, the Sb concentration in the Sn electrolytic solution gradually decreased with time. From this result, it was confirmed that Sb was removed from the Sn electrolytic solution by adding Sn metal to the Sn electrolytic solution containing Sb 3+ . If Sn electrolysis is performed using the Sn electrolytic solution from which Sb has been removed, Sn having a low Sb concentration can be produced.

また、図5の結果から、Snメタルの表面積を高くすることで、セメンテーション反応を促進できることが確認された。また、比表面積が高い切粉状のSnメタルを用いることで、Snメタルの添加量を低減できることが確認された。実施例1と実施例2との比較結果から、Snメタルの比表面積は、20cm/g以上であることが好ましいことが確認された。 Moreover, from the result of FIG. 5, it was confirmed that the cementation reaction can be promoted by increasing the surface area of the Sn metal. In addition, it was confirmed that the amount of Sn metal added can be reduced by using a chopped Sn metal having a high specific surface area. From the comparison result between Example 1 and Example 2, it was confirmed that the specific surface area of Sn metal is preferably 20 cm 2 / g or more.

以上、本発明の実施例について詳述したが、本発明は係る特定の実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。   Although the embodiments of the present invention have been described in detail above, the present invention is not limited to such specific embodiments, and various modifications and changes can be made within the scope of the gist of the present invention described in the claims. It can be changed.

Claims (5)

Sbを含むSnスカムに対して浸出および浄液を行うことで得られるSn電解溶液に、Snメタルを添加し、セメンテーション反応によって前記Sbを析出させるSb析出工程と、
前記Sb析出工程後の前記Sn電解溶液に対して電解採取を行うことでSnを析出させるSn析出工程と、を含むことを特徴とするSnの製造方法。
An Sb precipitation step of adding Sn metal to a Sn electrolytic solution obtained by leaching and purifying Sn scum containing Sb and precipitating the Sb by a cementation reaction;
And a Sn deposition step of depositing Sn by performing electrowinning on the Sn electrolyte solution after the Sb deposition step.
前記Snメタルは、切粉Snであることを特徴とする請求項1記載のSnの製造方法。   The method for producing Sn according to claim 1, wherein the Sn metal is chip Sn. 前記Snメタルの比表面積は、20cm/g以上であること特徴とする請求項1または2に記載のSnの製造方法。 The method for producing Sn according to claim 1 or 2, wherein a specific surface area of the Sn metal is 20 cm 2 / g or more. 前記Sb析出工程前の前記Sn電解溶液中のSn濃度は、10g/L〜70g/Lであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のSnの製造方法。   The Sn manufacturing method according to any one of claims 1 to 3, wherein a Sn concentration in the Sn electrolytic solution before the Sb deposition step is 10 g / L to 70 g / L. 前記Sb析出工程前の前記Sn電解溶液中のSb濃度は、10mg/L〜200mg/Lであることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載のSnの製造方法。   The method for producing Sn according to any one of claims 1 to 4, wherein an Sb concentration in the Sn electrolytic solution before the Sb deposition step is 10 mg / L to 200 mg / L.
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