JP2019172650A - (meth)acrylic acid ester and manufacturing method therefor - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、疎水性に優れる新規(メタ)アクリル酸エステルおよびその製造方法に関する。 The present invention relates to a novel (meth) acrylic acid ester having excellent hydrophobicity and a method for producing the same.
一般に(メタ)アクリル酸エステルは、プラスチック、塗料、粘着剤、紙加工処理剤、繊維油剤、潤滑油添加剤、建築用シーラント、インキなどの多岐にわたる用途において有用である。また、ArFエキシマレーザーリソグラフィーにおいて用いられるレジスト用重合体として、波長193nmの光に対して透明なアクリル系重合体が注目されている。近年、照射光の短波長化およびパターンの微細化に好適に対応できるレジスト組成物として、酸の作用により酸脱離性基が脱離してアルカリ可溶性となる重合体と、光酸発生剤とを含有する、いわゆる化学増幅型レジスト組成物が提唱され、その開発および改良が進められている。酸脱離性基を有する単量体として有用である第三級(メタ)アクリル酸エステルとしては、シクロアルキル(メタ)アクリレートが知られている(特許文献1、2)。 In general, (meth) acrylic acid esters are useful in a wide variety of applications such as plastics, paints, pressure-sensitive adhesives, paper processing agents, textile oils, lubricating oil additives, architectural sealants, and inks. Further, as a resist polymer used in ArF excimer laser lithography, an acrylic polymer that is transparent to light having a wavelength of 193 nm has attracted attention. In recent years, as a resist composition that can be suitably used for shortening the wavelength of irradiation light and miniaturizing patterns, a polymer in which an acid-eliminable group is eliminated by the action of an acid and becomes alkali-soluble, and a photoacid generator A so-called chemically amplified resist composition is proposed, and its development and improvement are underway. Cycloalkyl (meth) acrylate is known as a tertiary (meth) acrylic ester useful as a monomer having an acid leaving group (Patent Documents 1 and 2).
近年、リソグラフィーによるパターン形成の微細化が急速に進んでおり、パターン形成性およびラインウィドゥスラフネス(LWR)等の種々のリソグラフィー特性をこれまで以上に改善できるレジスト材料の開発が切望されている。レジスト材料の疎水性を高めることで、リソグラフィーによるレジストパターンの形成時におけるパターン形成性やLWRを改善でき、そのためには、より疎水性の大きな単量体が有用である。
本発明は、疎水性に優れる(メタ)アクリル酸エステルおよびその製造方法の提供を目的とする。
In recent years, pattern formation by lithography has been rapidly miniaturized, and development of a resist material that can improve various lithography characteristics such as pattern formability and line width roughness (LWR) more than ever is eagerly desired. By increasing the hydrophobicity of the resist material, it is possible to improve pattern formability and LWR at the time of forming a resist pattern by lithography. For this purpose, a monomer having higher hydrophobicity is useful.
An object of this invention is to provide the (meth) acrylic acid ester excellent in hydrophobicity, and its manufacturing method.
本発明は、以下の態様を有する。
[1]下記式(1)で表される(メタ)アクリル酸エステル。
The present invention has the following aspects.
[1] A (meth) acrylic acid ester represented by the following formula (1).
[式(1)中、R1は水素原子またはメチル基、R3は直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基またはアラルキル基、R21、R22、R23はそれぞれ独立に、水素原子、直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、またはシクロアルキル基であり、少なくとも2つは直鎖状もしくは分岐状のアルキル基またはシクロアルキル基であり、Z1は、炭素数1〜20の、置換もしくは無置換の2価の鎖式炭化水素基、炭素数1〜20の、置換もしくは無置換の、ヘテロ原子を有していてもよい2価の環式炭化水素基、または単結合、Z2は、炭素数1〜12の2価の鎖式炭化水素基、Z3は、(R21R22R23)C−が結合している炭素原子とともに炭素数3〜10のヘテロ原子を有していてもよい環式炭化水素基を形成する原子団、nは0〜3の整数、mは1〜18の整数である。]
[2]下記式(2)で表されるケトン化合物に、下記式(3)で表されるアルキル金属化合物を反応させて、下記式(4)で表されるヒドロキシ化合物を得て、
前記ヒドロキシ化合物と(メタ)アクリル酸塩化物とを反応させて、下記式(5)で表される(メタ)アクリル酸エステルを得る、(メタ)アクリル酸エステルの製造方法。
[In the formula (1), R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, R 3 is a linear or branched alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group, R 21 , R 22 and R 23 are each independently And a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group, or a cycloalkyl group, at least two are a linear or branched alkyl group or a cycloalkyl group, and Z 1 has 1 to 20 substituted or unsubstituted divalent chain hydrocarbon groups, 1 to 20 carbon atoms, substituted or unsubstituted divalent cyclic hydrocarbon groups optionally having heteroatoms, or A bond, Z 2 is a divalent chain hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and Z 3 is a hetero atom having 3 to 10 carbon atoms together with the carbon atom to which (R 21 R 22 R 23 ) C— is bonded. Cyclic charcoal which may have atoms An atomic group forming a hydrogen fluoride group, n is an integer of 0 to 3, and m is an integer of 1 to 18. ]
[2] A ketone compound represented by the following formula (2) is reacted with an alkyl metal compound represented by the following formula (3) to obtain a hydroxy compound represented by the following formula (4).
The manufacturing method of (meth) acrylic acid ester which makes the said hydroxy compound and (meth) acrylic acid chloride react, and obtains the (meth) acrylic acid ester represented by following formula (5).
式(2)中、R3は直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基またはアラルキル基、Z3は、酸素原子が結合している炭素原子とともに炭素数3〜10のヘテロ原子を有していてもよい環式炭化水素基を形成する原子団、mは1〜18の整数である。
式(3)中、R21、R22、R23はそれぞれ独立に、水素原子、直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、またはシクロアルキル基であり、少なくとも2つは直鎖状もしくは分岐状のアルキル基またはシクロアルキル基であり、M1はLiまたはMgX(Xはハロゲン原子)である。
式(4)中、R3、Z3、mは式(2)と同じであり、R21、R22、R23は式(3)と同じである。
式(5)中、R1は水素原子またはメチル基であり、R3、Z3、mは式(2)と同じであり、R21、R22、R23は式(3)と同じである。
[3]下記式(6)で表されるエステル化合物に、下記式(7)で表される化合物を反応させて、下記式(4)で表されるヒドロキシ化合物を得て、
前記ヒドロキシ化合物と(メタ)アクリル酸塩化物とを反応させて、下記式(5)で表される(メタ)アクリル酸エステルを得る、(メタ)アクリル酸エステルの製造方法。
In the formula (2), R 3 is a linear or branched alkyl group, cycloalkyl group, aryl group or aralkyl group, and Z 3 is a heterocycle having 3 to 10 carbon atoms together with the carbon atom to which the oxygen atom is bonded. An atomic group forming a cyclic hydrocarbon group which may have an atom, m is an integer of 1 to 18.
In formula (3), R 21 , R 22 and R 23 are each independently a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group, or a cycloalkyl group, at least two of which are linear or branched An alkyl group or a cycloalkyl group, and M 1 is Li or MgX (X is a halogen atom);
In formula (4), R 3 , Z 3 and m are the same as in formula (2), and R 21 , R 22 and R 23 are the same as in formula (3).
In Formula (5), R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, R 3 , Z 3 and m are the same as in Formula (2), and R 21 , R 22 and R 23 are the same as in Formula (3). is there.
[3] An ester compound represented by the following formula (6) is reacted with a compound represented by the following formula (7) to obtain a hydroxy compound represented by the following formula (4).
The manufacturing method of (meth) acrylic acid ester which makes the said hydroxy compound and (meth) acrylic acid chloride react, and obtains the (meth) acrylic acid ester represented by following formula (5).
式(6)中、R21、R22、R23はそれぞれ独立に、水素原子、直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、またはシクロアルキル基であり、少なくとも2つは直鎖状もしくは分岐状のアルキル基またはシクロアルキル基であり、R11は直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、またはシクロアルキル基である。
式(7)中、R3は直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基またはアラルキル基、Y1は炭素数2〜9の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、またはシクロアルキレン基、M2、M3はそれぞれ独立にMgX(Xはハロゲン原子)、mは1〜18の整数である。
式(4)中、R21、R22、R23は式(6)と同じであり、R3、mは式(7)と同じであり、Z3は、(R21R22R23)C−が結合している炭素原子とともに炭素数3〜10のヘテロ原子を有していてもよい環式炭化水素基を形成する原子団である。
式(5)中、R1は水素原子またはメチル基であり、R21、R22、R23は式(6)と同じであり、R3、mは式(7)と同じであり、Z3は式(4)と同じである。
In formula (6), R 21 , R 22 and R 23 are each independently a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group, or a cycloalkyl group, at least two of which are linear or branched An alkyl group or a cycloalkyl group, and R 11 is a linear or branched alkyl group or a cycloalkyl group;
In Formula (7), R 3 is a linear or branched alkyl group, cycloalkyl group, aryl group or aralkyl group, Y 1 is a linear or branched alkylene group having 2 to 9 carbon atoms, or cyclo The alkylene group, M 2 and M 3 are each independently MgX (X is a halogen atom), and m is an integer of 1 to 18.
In formula (4), R 21 , R 22 and R 23 are the same as in formula (6), R 3 and m are the same as in formula (7), and Z 3 is (R 21 R 22 R 23 ). It is an atomic group that forms a cyclic hydrocarbon group that may have a heteroatom having 3 to 10 carbon atoms together with the carbon atom to which C- is bonded.
In Formula (5), R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, R 21 , R 22 and R 23 are the same as in Formula (6), R 3 and m are the same as in Formula (7), Z 3 is the same as equation (4).
本発明によれば、疎水性に優れる(メタ)アクリル酸エステルが得られる。 According to the present invention, a (meth) acrylic acid ester having excellent hydrophobicity can be obtained.
以下の用語の定義は、本明細書および特許請求の範囲にわたって適用される。
本明細書において、「(メタ)アクリル酸」は、アクリル酸またはメタクリル酸を意味する。
本明細書において、式(1)で表される化合物を、化合物(1)と記す。他の式で表される化合物も同様に記す。
The following definitions of terms apply throughout this specification and the claims.
In this specification, “(meth) acrylic acid” means acrylic acid or methacrylic acid.
In this specification, a compound represented by the formula (1) is referred to as a compound (1). The same applies to compounds represented by other formulas.
<(メタ)アクリル酸エステル>
本発明の(メタ)アクリル酸エステルは下記式(1)で表される化合物(1)である。化合物(1)は、酸脱離性基を有する単量体として有用である。
<(Meth) acrylic acid ester>
The (meth) acrylic acid ester of the present invention is a compound (1) represented by the following formula (1). The compound (1) is useful as a monomer having an acid leaving group.
式(1)において、R1は、水素原子またはメチル基である。
R3は、直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基またはアラルキル基である。mは1〜18の整数である。
R3はZ3を構成する炭素原子と結合している置換基であり、mはZ3に結合している置換基(R3)の数である。mが2以上である場合、Z3に結合している複数のR3は互いに同一でもよく、異なってもよい。2個のR3が同一の炭素原子に結合していてもよい。
R3としての直鎖状もしくは分岐状のアルキル基は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基などが挙げられる。シクロアルキル基は、シクロペンチル基、シクロへキシル基などが挙げられる。アリール基は、フェニル基、4−メチルフェニル基などのアルキルフェニル基、ジメチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。アラルキル基は、ベンジル基、フェネチル基などが挙げられる。これらの中でも合成容易性の観点から、R3はメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基が好ましい。
mは、合成容易性の観点から1〜10が好ましく、1〜4がより好ましい。
In the formula (1), R 1 is a hydrogen atom or a methyl group.
R 3 is a linear or branched alkyl group, cycloalkyl group, aryl group or aralkyl group. m is an integer of 1-18.
R 3 is a substituent bonded to the carbon atom constituting Z 3 , and m is the number of substituents (R 3 ) bonded to Z 3 . when m is 2 or more, plural R 3 bonded to Z 3 may be mutually the same or different. Two R 3 may be bonded to the same carbon atom.
Examples of the linear or branched alkyl group as R 3 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an s-butyl group, and a t-butyl group. Examples of the cycloalkyl group include a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Examples of the aryl group include a phenyl group, an alkylphenyl group such as a 4-methylphenyl group, a dimethylphenyl group, and a naphthyl group. Examples of the aralkyl group include a benzyl group and a phenethyl group. Among these, from the viewpoint of ease of synthesis, R 3 is preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or an isopropyl group.
m is preferably 1 to 10 and more preferably 1 to 4 from the viewpoint of ease of synthesis.
R21、R22、R23はそれぞれ独立に、水素原子、直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、またはシクロアルキル基であり、少なくとも2つは直鎖状もしくは分岐状のアルキル基またはシクロアルキル基である。
直鎖状もしくは分岐状のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基などが挙げられる。
シクロアルキル基としてはシクロペンチル基、シクロへキシル基などが挙げられる。
これらの中でも、合成容易性の観点からR21、R22、R23のうちの1つが水素原子で残りの2つがメチル基、またはR21、R22、R23の全部がメチル基であることが好ましい。
R 21 , R 22 and R 23 are each independently a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group, or a cycloalkyl group, and at least two are a linear or branched alkyl group or cycloalkyl group. It is.
Examples of the linear or branched alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an s-butyl group, and a t-butyl group.
Examples of the cycloalkyl group include a cyclopentyl group and a cyclohexyl group.
Among these, from the viewpoint of ease of synthesis, one of R 21 , R 22 and R 23 is a hydrogen atom and the remaining two are methyl groups, or all of R 21 , R 22 and R 23 are methyl groups. Is preferred.
Z1は、炭素数1〜20の、置換もしくは無置換の、2価の鎖式炭化水素基、炭素数1〜20の、置換もしくは無置換の、ヘテロ原子を有していてもよい2価の環式炭化水素基、または単結合である。
Z1が2価の鎖式炭化水素基であるとき、直鎖状でもよく、分岐状でもよい。2価の鎖式炭化水素基としてはアルキレン基が好ましい。置換基としては−O−、−S−、−NH−、−PH−が挙げられる。炭素数は1〜10が好ましく、1〜6がより好ましい。
Z1が2価の環式炭化水素基であるとき、単環式でもよく、多環式でもよい。環式炭化水素基としては環式の飽和炭化水素基が好ましい。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子が挙げられる。環を構成する炭素原子に置換基が結合していてもよい。置換基としては、炭素数1〜10の、直鎖状または分岐状のアルキル基が挙げられる。
Z1は、レジスト溶媒に用いられる有機溶剤への良好な溶解性を確保しつつ疎水性を高める点で単結合が好ましい。
Z 1 is a substituted or unsubstituted divalent chain hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted hetero atom having 1 to 20 carbon atoms, and optionally having a hetero atom. A cyclic hydrocarbon group, or a single bond.
When Z 1 is a divalent chain hydrocarbon group, it may be linear or branched. The divalent chain hydrocarbon group is preferably an alkylene group. Examples of the substituent include -O-, -S-, -NH-, and -PH-. 1-10 are preferable and, as for carbon number, 1-6 are more preferable.
When Z 1 is a divalent cyclic hydrocarbon group, it may be monocyclic or polycyclic. As the cyclic hydrocarbon group, a cyclic saturated hydrocarbon group is preferable. Examples of the hetero atom include a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, and a phosphorus atom. A substituent may be bonded to a carbon atom constituting the ring. Examples of the substituent include a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
Z 1 is preferably a single bond from the viewpoint of enhancing hydrophobicity while ensuring good solubility in an organic solvent used as a resist solvent.
Z2は、炭素数1〜12の2価の鎖式炭化水素基である。直鎖状でもよく、分岐状でもよい。鎖式炭化水素基としてはアルキレン基が好ましい。炭素数は1〜6が好ましく、1〜3がより好ましい。
nは0〜3の整数であり、0〜2が好ましく、0または1がより好ましい。
Z 2 is a divalent chain hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. It may be linear or branched. As the chain hydrocarbon group, an alkylene group is preferred. 1-6 are preferable and, as for carbon number, 1-3 are more preferable.
n is an integer of 0 to 3, preferably 0 to 2, and more preferably 0 or 1.
Z3は、(R21R22R23)C−が結合している炭素原子とともに炭素数3〜10のヘテロ原子を有していてもよい環式炭化水素基を形成している原子団である。環式炭化水素基は単環式でもよく、多環式でもよい。環式炭化水素基は、炭化水素からなる(ヘテロ原子を有さない)環式炭化水素基が好ましい。
環式炭化水素基の炭素数には(R21R22R23)C−が結合している炭素原子も含まれる。
炭素数3〜10の単環の炭化水素からなる環式炭化水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロオクタジエニル基等が挙げられる。これらの中でも入手容易性の観点からシクロペンチル基、シクロヘキシル基が好ましい。
炭素数3〜10の多環の炭化水素からなる環式炭化水素基としては、例えばビシクロ[4.3.0]ノナニル基、ナフタレニル基、デカヒドロナフタレニル基、ボルニル基、イソボルニル基、ノルボルニル基、アダマンチル基、ノルアダマンチル基等が挙げられる。これらの中でも入手容易性の観点からノルボルニル基、アダマンチル基が好ましい。
Z 3 is an atomic group forming a cyclic hydrocarbon group which may have a heteroatom having 3 to 10 carbon atoms together with the carbon atom to which (R 21 R 22 R 23 ) C— is bonded. is there. The cyclic hydrocarbon group may be monocyclic or polycyclic. The cyclic hydrocarbon group is preferably a cyclic hydrocarbon group comprising a hydrocarbon (having no heteroatoms).
The carbon number of the cyclic hydrocarbon group includes a carbon atom to which (R 21 R 22 R 23 ) C— is bonded.
Examples of the cyclic hydrocarbon group comprising a monocyclic hydrocarbon having 3 to 10 carbon atoms include cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group, cyclononyl group, cyclodecyl group, cyclopentenyl Group, cyclohexenyl group, cyclooctadienyl group and the like. Among these, a cyclopentyl group and a cyclohexyl group are preferable from the viewpoint of availability.
Examples of the cyclic hydrocarbon group comprising a polycyclic hydrocarbon having 3 to 10 carbon atoms include bicyclo [4.3.0] nonanyl group, naphthalenyl group, decahydronaphthalenyl group, bornyl group, isobornyl group, norbornyl. Group, adamantyl group, noradamantyl group and the like. Among these, a norbornyl group and an adamantyl group are preferable from the viewpoint of availability.
化合物(1)の好ましい態様として以下が挙げられる。
R1は水素原子またはメチル基であり、Z3は(R21R22R23)C−が結合している炭素原子とともに、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基またはアダマンチル基を形成する原子団であり、R3はメチル基、エチル基、プロピル基およびイソプロピル基からなる群から選ばれる1種以上であり、mは1〜4の整数であり、R21、R22、R23のうちの1つが水素原子で残りの2つがメチル基、またはR21、R22、R23の全部がメチル基であり、Z1が単結合であり、n=0である化合物。
The following is mentioned as a preferable aspect of a compound (1).
R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, and Z 3 is an atomic group that forms a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a norbornyl group or an adamantyl group together with the carbon atom to which (R 21 R 22 R 23 ) C— is bonded. R 3 is one or more selected from the group consisting of a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group, m is an integer of 1 to 4, and one of R 21 , R 22 , and R 23 A compound in which one is a hydrogen atom and the remaining two are methyl groups, or all of R 21 , R 22 , and R 23 are methyl groups, Z 1 is a single bond, and n = 0.
<(メタ)アクリル酸エステルの製造方法>
[第1の態様]
下記式(2)で表されるケトン化合物(2)に、下記式(3)で表されるアルキル金属化合物(3)を反応させて、下記式(4)で表されるヒドロキシ化合物(4)を得て、ヒドロキシ化合物(4)と(メタ)アクリル酸塩化物とを反応させて、下記式(5)で表される(メタ)アクリル酸エステル(5)を得る、(メタ)アクリル酸エステルの製造方法。
<Method for producing (meth) acrylic acid ester>
[First embodiment]
The ketone compound (2) represented by the following formula (2) is reacted with an alkyl metal compound (3) represented by the following formula (3) to obtain a hydroxy compound (4) represented by the following formula (4). (Meth) acrylic acid ester obtained by reacting hydroxy compound (4) with (meth) acrylic acid chloride to obtain (meth) acrylic acid ester (5) represented by the following formula (5) Manufacturing method.
式(2)〜(5)において、R1、R3、R21、R22、R23、Z3、mは、好ましい態様も含めて式(1)におけるR1、R3、R21、R22、R23、Z3、mと同じである。
式(2)、(4)において、酸素原子と結合している炭素原子は、式(1)において、(R21R22R23)C−が結合している炭素原子に相当する。
式(3)において、M1はLiまたはMgX(Xはハロゲン原子)である。
式(5)は式(1)において、Z1が単結合であり、n=0である化合物に相当する。
In the formulas (2) to (5), R 1 , R 3 , R 21 , R 22 , R 23 , Z 3 , m include R 1 , R 3 , R 21 , The same as R 22 , R 23 , Z 3 and m.
In the formulas (2) and (4), the carbon atom bonded to the oxygen atom corresponds to the carbon atom bonded to (R 21 R 22 R 23 ) C— in the formula (1).
In Formula (3), M 1 is Li or MgX (X is a halogen atom).
Formula (5) corresponds to a compound in which Z 1 is a single bond and n = 0 in Formula (1).
化合物(2)と化合物(3)との反応において、化合物(3)の使用量は、特に限定されないが、化合物(4)を収率よく得る点から、化合物(2)の1モル当たり0.5モル以上が好ましく、0.8モル以上がより好ましく、1.0モル以上がさらに好ましい。また、副反応や反応後の処理工程への負荷を抑制する点から、化合物(2)の1モル当たり2モル以下が好ましく、1.8モル以下がより好ましく、1.5モル以下がさらに好ましい。 In the reaction of the compound (2) and the compound (3), the amount of the compound (3) used is not particularly limited. 5 mol or more is preferable, 0.8 mol or more is more preferable, and 1.0 mol or more is more preferable. Moreover, 2 mol or less per 1 mol of compound (2) is preferable, 1.8 mol or less is more preferable, and 1.5 mol or less is further more preferable from the point which suppresses the load to the processing process after a side reaction or reaction. .
化合物(2)と化合物(3)との反応において、化合物(4)を収率よく得る点から、無機化合物を添加してもよい。無機化合物の例としては、塩化リチウム、塩化亜鉛、塩化セリウム、塩化鉄、ランタントリクロリドビスリチウムクロリド錯体等が挙げられる。
無機化合物の使用量としては、反応収率の点から、ケトン化合物(2)の1モル当たり、0.01モル以上が好ましく、0.1モル以上がより好ましい。また反応後の処理工程への負荷を抑制する点から、2.0モル以下が好ましく、1.5モル以下がより好ましい。
In the reaction of the compound (2) and the compound (3), an inorganic compound may be added from the viewpoint of obtaining the compound (4) with good yield. Examples of the inorganic compound include lithium chloride, zinc chloride, cerium chloride, iron chloride, lanthanum trichloride bislithium chloride complex, and the like.
The amount of the inorganic compound used is preferably 0.01 mol or more, more preferably 0.1 mol or more per mol of the ketone compound (2) from the viewpoint of reaction yield. Moreover, from the point which suppresses the load to the process process after reaction, 2.0 mol or less is preferable and 1.5 mol or less is more preferable.
化合物(2)と化合物(3)との反応において、溶媒を用いることが好ましい。溶媒は化合物(3)と反応しない溶媒であればよく、特に限定されない。例えば、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒:ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒:ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、t−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。溶媒の使用量は適宜設定できる。
化合物(2)と化合物(3)との反応温度は、アルキル金属化合物を用いる通常の反応における反応温度でよい。反応時間を短縮する点から、−100℃以上が好ましく、−80℃以上がより好ましい。副反応等の問題を抑制する点から、65℃以下が好ましく、45℃以下がより好ましい。
反応時間は、反応温度等によって異なるため適宜決めればよい。例えば、0.5〜20時間程度が好ましい。
In the reaction of compound (2) and compound (3), it is preferable to use a solvent. The solvent is not particularly limited as long as it does not react with the compound (3). For example, aromatic solvents such as toluene and xylene: hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, octane and cyclohexane: ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, t-butyl methyl ether, tetrahydrofuran and dioxane . These solvents may be used alone or in combination of two or more. The usage-amount of a solvent can be set suitably.
The reaction temperature between the compound (2) and the compound (3) may be the reaction temperature in a normal reaction using an alkyl metal compound. From the viewpoint of shortening the reaction time, -100 ° C or higher is preferable, and -80 ° C or higher is more preferable. 65 degreeC or less is preferable from the point which suppresses problems, such as a side reaction, and 45 degrees C or less is more preferable.
Since the reaction time varies depending on the reaction temperature and the like, it may be determined appropriately. For example, about 0.5 to 20 hours is preferable.
化合物(2)と化合物(3)との反応で得た化合物(4)を精製してもよい。化合物(4)の精製方法は、生成物の物性、原料、アルキル金属化合物(3)および無機化合物の種類及び量、溶剤の種類等を考慮して、アルカリ水洗、水洗、蒸留、晶析、濾過等の公知の精製方法を、適宜組み合わせることができる。 You may refine | purify the compound (4) obtained by reaction of a compound (2) and a compound (3). The purification method of the compound (4) takes into account the physical properties of the product, the raw materials, the type and amount of the alkyl metal compound (3) and inorganic compound, the type of solvent, etc., washing with alkaline water, washing with water, distillation, crystallization, filtration The known purification methods such as can be combined as appropriate.
化合物(4)と、(メタ)アクリル酸塩化物とを反応させて化合物(5)が得られる。
(メタ)アクリル酸塩化物は、市販品でも別途合成したものを使用してもよい。(メタ)アクリル酸塩化物の使用量は、特に限定されないが、化合物(5)を収率よく得る点から、化合物(4)の1モル当たり0.5モル以上が好ましく、0.7モル以上がより好ましく、0.9モル以上がさらに好ましい。また、(メタ)アクリル酸塩化物由来の重合を防止する点では、化合物(4)の1モル当たり3モル以下が好ましく、2.5モル以下がより好ましく、2モル以下がさらに好ましい。
Compound (5) is obtained by reacting compound (4) with (meth) acrylic acid chloride.
The (meth) acrylic acid chloride may be a commercially available product or a separately synthesized product. Although the usage-amount of (meth) acrylic acid chloride is not specifically limited, From the point which obtains a compound (5) with a sufficient yield, 0.5 mol or more per 1 mol of compound (4) is preferable, and 0.7 mol or more Is more preferable, and 0.9 mol or more is more preferable. Further, in terms of preventing polymerization derived from (meth) acrylic acid chloride, it is preferably 3 mol or less, more preferably 2.5 mol or less, further preferably 2 mol or less, per mol of the compound (4).
化合物(4)と、(メタ)アクリル酸塩化物との反応において、化合物(5)を収率よく得る点から、塩基を添加してもよい。塩基の例としては、n−ブチルリチウム、s−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム、メチルマグネシウムブロミド、t−ブチルマグネシウムクロリド、トリエチルアミン、4−ジメチルアミノピリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等が挙げられる。
塩基の使用量としては、反応収率の点から、化合物(4)の1モル当たり0.1モル以上が好ましく、0.5モル以上がより好ましい。また反応後の処理工程への負荷を抑制する点から、化合物(4)の1モル当たり3モル以下が好ましく、2モル以下がより好ましい。
In the reaction between the compound (4) and (meth) acrylic acid chloride, a base may be added from the viewpoint of obtaining the compound (5) with good yield. Examples of bases include n-butyllithium, s-butyllithium, t-butyllithium, methylmagnesium bromide, t-butylmagnesium chloride, triethylamine, 4-dimethylaminopyridine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0. ] -7-undecene and the like.
As the usage-amount of a base, 0.1 mol or more is preferable with respect to 1 mol of compounds (4) from the point of reaction yield, and 0.5 mol or more is more preferable. Moreover, from the point which suppresses the load to the process process after reaction, 3 mol or less is preferable with respect to 1 mol of compound (4), and 2 mol or less is more preferable.
化合物(4)と、(メタ)アクリル酸塩化物との反応において、溶媒を用いてもよい。溶媒は、(メタ)アクリル酸塩化物と反応しない溶媒であれば特に限定されない。例えば、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒:ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒:ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、t−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。溶媒の使用量は適宜設定できる。 In the reaction between the compound (4) and (meth) acrylic acid chloride, a solvent may be used. The solvent is not particularly limited as long as it does not react with (meth) acrylic acid chloride. For example, aromatic solvents such as toluene and xylene: hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, octane, and cyclohexane: ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, t-butyl methyl ether, tetrahydrofuran, and dioxane. . These solvents may be used alone or in combination of two or more. The usage-amount of a solvent can be set suitably.
化合物(4)と、(メタ)アクリル酸塩化物との反応において、重合を抑制するため、反応系内に重合禁止剤を存在させてもよい。重合禁止剤としては、特に限定されないが、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ハイドロキノン、4−ヒドロキシ−2,2,6,6,−テトラメチルピペリジン−N−オキシル、フェノチアジン、銅塩等が挙げられる。これらは1種を用いても2種以上を併用してもよい。 In order to suppress polymerization in the reaction between the compound (4) and (meth) acrylic acid chloride, a polymerization inhibitor may be present in the reaction system. The polymerization inhibitor is not particularly limited, and examples thereof include hydroquinone monomethyl ether, hydroquinone, 4-hydroxy-2,2,6,6, -tetramethylpiperidine-N-oxyl, phenothiazine, and a copper salt. These may be used alone or in combination of two or more.
化合物(4)と、(メタ)アクリル酸塩化物とを反応させる工程における反応温度は、通常のエステル化で用いられる温度であればよい。反応時間を短縮する点で、−100℃以上が好ましく、−80℃以上がより好ましい。また副反応や重合等の問題を抑制する点で、65℃以下が好ましく、45℃以下がより好ましい。
反応時間は、反応温度等によって異なるため適宜決めればよい。例えば、0.5〜20時間程度が好ましい。
The reaction temperature in the step of reacting compound (4) with (meth) acrylic acid chloride may be any temperature used in ordinary esterification. In terms of shortening the reaction time, −100 ° C. or higher is preferable, and −80 ° C. or higher is more preferable. Moreover, 65 degreeC or less is preferable and 45 degrees C or less is more preferable at the point which suppresses problems, such as a side reaction and superposition | polymerization.
Since the reaction time varies depending on the reaction temperature and the like, it may be determined appropriately. For example, about 0.5 to 20 hours is preferable.
化合物(4)と、(メタ)アクリル酸塩化物との反応で得られた化合物(5)を精製することが好ましい。化合物(5)の精製方法は、生成物の物性、原料、塩基の種類及び量、溶剤の種類等を考慮して、アルカリ水洗、水洗、蒸留、晶析、濾過等の公知の精製方法を、適宜組み合わせることができる。 It is preferable to purify the compound (5) obtained by the reaction between the compound (4) and (meth) acrylic acid chloride. The purification method of the compound (5) is a known purification method such as alkaline water washing, water washing, distillation, crystallization, filtration, etc. in consideration of the physical properties of the product, the raw material, the type and amount of base, the type of solvent, etc. They can be combined as appropriate.
[第2の態様]
下記式(6)で表されるエステル化合物(6)に、下記式(7)で表される化合物(7)を反応させて、前記式(4)で表されるヒドロキシ化合物(4)を得て、ヒドロキシ化合物(4)と(メタ)アクリル酸塩化物とを反応させて、前記式(5)で表される(メタ)アクリル酸エステル(5)を得る、(メタ)アクリル酸エステルの製造方法。
[Second embodiment]
The ester compound (6) represented by the following formula (6) is reacted with the compound (7) represented by the following formula (7) to obtain the hydroxy compound (4) represented by the above formula (4). Then, the hydroxy compound (4) and (meth) acrylic acid chloride are reacted to obtain the (meth) acrylic acid ester (5) represented by the formula (5). Method.
式(6)、(7)において、R3、R21、R22、R23、mは、好ましい態様も含めて式(1)におけるR3、R21、R22、R23、mと同じである。
式(6)において、R11は直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、またはシクロアルキル基である。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基等が挙げられる。シクロアルキル基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基等が挙げられる。これらの中でも入手容易性の点からメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基が好ましい。
Equation (6), in (7), R 3, R 21, R 22, R 23, m is, R 3 a preferred embodiment be included in the formula (1), the same as R 21, R 22, R 23 , m It is.
In the formula (6), R 11 is a linear or branched alkyl group or a cycloalkyl group. Examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, s-butyl group, t-butyl group and the like. Examples of the cycloalkyl group include a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Among these, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group are preferable from the viewpoint of easy availability.
式(7)において、Y1は炭素数2〜9の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、またはシクロアルキレン基であり、M2、M3はそれぞれ独立にMgX(Xはハロゲン原子)である。
Y1のアルキレン基としては、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基等が挙げられる。シクロアルキレン基としては、シクロヘキシレン基等が挙げられる。これらの中でも入手容易性の点からブチレン基、ペンチレン基が好ましい。
In Formula (7), Y 1 is a linear or branched alkylene group having 2 to 9 carbon atoms or a cycloalkylene group, and M 2 and M 3 are each independently MgX (X is a halogen atom). .
Examples of the alkylene group for Y 1 include an ethylene group, a propylene group, an isopropylene group, a butylene group, a pentylene group, and a hexylene group. Examples of the cycloalkylene group include a cyclohexylene group. Among these, a butylene group and a pentylene group are preferable from the viewpoint of availability.
化合物(6)と化合物(7)との反応において、化合物(7)の使用量は、特に限定されないが、化合物(4)を収率よく得る点から、化合物(6)の1モル当たり0.5モル以上が好ましく、0.8モル以上がより好ましく、1.0モル以上がさらに好ましい。また、副反応や反応後の処理工程への負荷を抑制する点から、化合物(6)の1モル当たり5モル以下が好ましく、4モル以下がより好ましく、3モル以下がさらに好ましい。 In the reaction of the compound (6) and the compound (7), the amount of the compound (7) used is not particularly limited. 5 mol or more is preferable, 0.8 mol or more is more preferable, and 1.0 mol or more is more preferable. Moreover, 5 mol or less per 1 mol of compound (6) is preferable, 4 mol or less is more preferable, and 3 mol or less is further more preferable from the point which suppresses the load to the side reaction or the processing process after reaction.
化合物(6)と化合物(7)との反応において、溶媒を用いてもよい。溶媒は、化合物(7)と反応しない溶媒であれば特に限定されない。例えば、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒:ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒:ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、t−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。溶媒の使用量は適宜設定できる。 In the reaction between the compound (6) and the compound (7), a solvent may be used. A solvent will not be specifically limited if it is a solvent which does not react with a compound (7). For example, aromatic solvents such as toluene and xylene: hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, octane, and cyclohexane: ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, t-butyl methyl ether, tetrahydrofuran, and dioxane. . These solvents may be used alone or in combination of two or more. The usage-amount of a solvent can be set suitably.
化合物(6)と化合物(7)との反応温度は、化合物(7)を用いる通常の環化反応における温度でよい。反応時間を短縮する点で、−100℃以上が好ましく、−80℃以上がより好ましい。また副反応等の問題を抑制する点で、100℃以下が好ましく、80℃以下がより好ましい。
反応時間は、反応温度等によって異なるため適宜決めればよい。例えば0.5〜30時間程度が好ましい。
The reaction temperature between the compound (6) and the compound (7) may be a temperature in a normal cyclization reaction using the compound (7). In terms of shortening the reaction time, −100 ° C. or higher is preferable, and −80 ° C. or higher is more preferable. Moreover, 100 degrees C or less is preferable and 80 degrees C or less is more preferable at the point which suppresses problems, such as a side reaction.
Since the reaction time varies depending on the reaction temperature and the like, it may be determined appropriately. For example, about 0.5 to 30 hours is preferable.
化合物(6)と化合物(7)との反応で得た化合物(4)を精製してもよい。
精製方法は、生成物の物性、原料の種類及び量、溶剤の種類等を考慮して、アルカリ水洗、水洗、蒸留、晶析、濾過等の公知の精製方法を、適宜組み合わせることができる。
化合物(4)と(メタ)アクリル酸塩化物とを反応させて、化合物(5)を得る工程は第1の態様と同様に行うことができる。
You may refine | purify the compound (4) obtained by reaction of a compound (6) and a compound (7).
The purification method can be appropriately combined with known purification methods such as alkaline water washing, water washing, distillation, crystallization, and filtration in consideration of the physical properties of the product, the kind and amount of raw materials, the kind of solvent, and the like.
The step of reacting compound (4) and (meth) acrylic acid chloride to obtain compound (5) can be carried out in the same manner as in the first embodiment.
以下に実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。反応追跡はガスクロマトグラフィーにより実施した。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail using examples, but the present invention is not limited to these examples. The reaction was traced by gas chromatography.
<合成例1:化合物(4)の合成>
本例では、化合物(3)としてt−ブチルマグネシウムクロリドを用い、化合物(2)と反応させて化合物(4)を合成した。
ガラス製のフラスコに、塩化セリウム5.4684g(22mmol)とテトラヒドロフラン12.2mLを加え、窒素フロー下、室温にて1.8時間撹拌した。0℃に冷却し、t−ブチルマグネシウムクロリド12.2mL(23質量%テトラヒドロフラン溶液、24mmol)を加え、1時間撹拌した。続いて−40℃に冷却し、2−メチルシクロペンタノン2.1815g(22mmol)を滴下し、2.5時間撹拌した後、−25℃で21時間撹拌した。反応収率は48%であった。飽和塩化アンモニウム水溶液20mL、酢酸エチル20mLを加え分液した後、水層を酢酸エチル20mLで2回抽出した。有機層に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液20mL、続いて飽和食塩水10mLを加え洗浄した。硫酸マグネシウムを用いて乾燥させたのち、溶媒を留去した。得られた粗生成物を蒸留し、2−メチル−t−ブチルシクロペンタノール399.3mgを得た。
<Synthesis Example 1: Synthesis of Compound (4)>
In this example, t-butylmagnesium chloride was used as compound (3) and reacted with compound (2) to synthesize compound (4).
To a glass flask were added 5.4684 g (22 mmol) of cerium chloride and 12.2 mL of tetrahydrofuran, and the mixture was stirred at room temperature for 1.8 hours under a nitrogen flow. The mixture was cooled to 0 ° C., 12.2 mL of t-butylmagnesium chloride (23 mass% tetrahydrofuran solution, 24 mmol) was added, and the mixture was stirred for 1 hour. Subsequently, the mixture was cooled to −40 ° C., and 2.1815 g (22 mmol) of 2-methylcyclopentanone was added dropwise, stirred for 2.5 hours, and then stirred at −25 ° C. for 21 hours. The reaction yield was 48%. Saturated aqueous ammonium chloride solution (20 mL) and ethyl acetate (20 mL) were added for liquid separation, and the aqueous layer was extracted twice with ethyl acetate (20 mL). The organic layer was washed by adding 20 mL of a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and then 10 mL of saturated brine. After drying with magnesium sulfate, the solvent was distilled off. The obtained crude product was distilled to obtain 399.3 mg of 2-methyl-t-butylcyclopentanol.
<合成例2:化合物(4)の合成>
本例では、化合物(3)としてt−ブチルリチウムを用い、化合物(2)と反応させて化合物(4)を合成した。
ガラス製のフラスコに、t−ブチルリチウム8.0mL(18質量%ペンタン溶液、15mmmol)、テトラヒドロフラン5mLを加え、窒素フロー下、−50℃に冷却した。続いてテトラヒドロフラン2.5mLに溶解させた2−メチルシクロペンタノン504.2mg(5.1mmol)を滴下し、1時間撹拌した。2−メチル−t−ブチルシクロペンタノールの収率は30%であった。
<Synthesis Example 2: Synthesis of Compound (4)>
In this example, t-butyllithium was used as compound (3) and reacted with compound (2) to synthesize compound (4).
To a glass flask, 8.0 mL of t-butyllithium (18 mass% pentane solution, 15 mmol) and 5 mL of tetrahydrofuran were added and cooled to −50 ° C. under a nitrogen flow. Subsequently, 504.2 mg (5.1 mmol) of 2-methylcyclopentanone dissolved in 2.5 mL of tetrahydrofuran was added dropwise and stirred for 1 hour. The yield of 2-methyl-t-butylcyclopentanol was 30%.
<合成例3:化合物(4)の合成>
本例では、化合物(6)と化合物(7)を反応させて化合物(4)を合成した。
ガラス製のフラスコに、削り状マグネシウム6.0290g(248mmol)、テトラヒドロフラン100mLを加え、室温にて、テトラヒドロフラン100mLに溶解させた1,4−ジブロモペンタン12.5mL(92mmol)を1.2時間で滴下した。その後、2.8時間撹拌した。−5℃に冷却し、テトラヒドロフラン84mLに溶解させたピバル酸メチル10.9mL(82mmol)を1時間で滴下した。続いて0℃に昇温し、0.6時間撹拌した後、室温にて終夜撹拌した。2−メチル−t−ブチルシクロペンタノールの収率は72%であった。
<Synthesis Example 3: Synthesis of Compound (4)>
In this example, compound (4) was synthesized by reacting compound (6) with compound (7).
To a glass flask, 6.090 g (248 mmol) of shaved magnesium and 100 mL of tetrahydrofuran were added, and 12.5 mL (92 mmol) of 1,4-dibromopentane dissolved in 100 mL of tetrahydrofuran was added dropwise at room temperature over 1.2 hours. did. Thereafter, the mixture was stirred for 2.8 hours. After cooling to −5 ° C., 10.9 mL (82 mmol) of methyl pivalate dissolved in 84 mL of tetrahydrofuran was added dropwise over 1 hour. Subsequently, the temperature was raised to 0 ° C., stirred for 0.6 hours, and then stirred overnight at room temperature. The yield of 2-methyl-t-butylcyclopentanol was 72%.
<合成例4:化合物(4)の合成>
合成例1において、2−メチルシクロペンタノンの代わりに3−メチルシクロペンタノンを用いた以外は合成例1と同様に実施し、3−メチル−t−ブチルシクロペンタノールを得た。
<Synthesis Example 4: Synthesis of Compound (4)>
The synthesis was performed in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 3-methylcyclopentanone was used instead of 2-methylcyclopentanone to obtain 3-methyl-t-butylcyclopentanol.
<合成例5:1,4−ジブロモ−2−メチルブタンの合成>
2−メチル−1,4−ブタンジオールは特開2011−111399号公報の段落0032〜0033に記載の方法で合成した。
ガラス製のフラスコに、メチルコハク酸101.2g(766mmol)を加え、塩化アセチル400mLを滴下した。2時間撹拌した後、濃縮後減圧蒸留にて精製し、メチルコハク酸無水物83.6gを得た。
ガラス製のフラスコに、水素化リチウムアルミニウム26.3g(705mmol)、テトラヒドロフラン800mLを加え、テトラヒドロフラン200mLに溶解させたメチルコハク酸無水物41.0g(359mmol)を1時間かけて滴下した。2日間撹拌した後、テトラヒドロフラン100mLと水100mLの混合物を滴下し、得られたスラリーにテトラヒドロフラン500mLを加えた。硫酸ナトリウムを用いて乾燥させたのち、溶媒を留去した。得られた粗生成物を蒸留し、2−メチル−1,4−ブタンジオール28.5gを得た。
ガラス製のフラスコに、2−メチル−1,4−ブタンジオール5.5698g(53.5mmol)、48%臭化水素酸72.18g(428mmol)を加え、90℃で5時間撹拌した。トルエン100mLを加え分液した後、水層をトルエン100mLで1回抽出した。有機層に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液50mL、続いて飽和食塩水25mLを加え洗浄した。硫酸マグネシウムを用いて乾燥させたのち、溶媒を留去し、1,4−ジブロモ−2−メチルブタン8.2690gを得た。
<Synthesis Example 5: Synthesis of 1,4-dibromo-2-methylbutane>
2-methyl-1,4-butanediol was synthesized by the method described in paragraphs 0032 to 0033 of JP2011-111399A.
To a glass flask, 101.2 g (766 mmol) of methyl succinic acid was added, and 400 mL of acetyl chloride was added dropwise. After stirring for 2 hours, the solution was concentrated and then purified by distillation under reduced pressure to obtain 83.6 g of methyl succinic anhydride.
To a glass flask, 26.3 g (705 mmol) of lithium aluminum hydride and 800 mL of tetrahydrofuran were added, and 41.0 g (359 mmol) of methyl succinic anhydride dissolved in 200 mL of tetrahydrofuran was added dropwise over 1 hour. After stirring for 2 days, a mixture of 100 mL of tetrahydrofuran and 100 mL of water was added dropwise, and 500 mL of tetrahydrofuran was added to the resulting slurry. After drying with sodium sulfate, the solvent was distilled off. The obtained crude product was distilled to obtain 28.5 g of 2-methyl-1,4-butanediol.
To a glass flask, 5.568 g (53.5 mmol) of 2-methyl-1,4-butanediol and 72.18 g (428 mmol) of 48% hydrobromic acid were added and stirred at 90 ° C. for 5 hours. After adding toluene 100mL and liquid-separating, the aqueous layer was extracted once with 100mL toluene. The organic layer was washed by adding 50 mL of a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and then 25 mL of saturated brine. After drying with magnesium sulfate, the solvent was distilled off to obtain 8.2690 g of 1,4-dibromo-2-methylbutane.
<合成例6:化合物(4)の合成>
合成例3において、1,4−ジブロモペンタンの代わりに1,4−ジブロモ−2−メチルブタンを用いた以外は合成例3と同様に実施し、3−メチル−t−ブチルシクロペンタノールを得た。
<Synthesis Example 6: Synthesis of Compound (4)>
The synthesis was performed in the same manner as in Synthesis Example 3 except that 1,4-dibromo-2-methylbutane was used in place of 1,4-dibromopentane to obtain 3-methyl-t-butylcyclopentanol. .
<合成例7:化合物(4)の合成>
合成例3において、ピバル酸メチルの代わりにイソ酪酸メチルを用いた以外は合成例3と同様に実施し、2−メチル−イソプロピルシクロペンタノールを得た。
<Synthesis Example 7: Synthesis of Compound (4)>
The synthesis was performed in the same manner as in Synthesis Example 3 except that methyl isobutyrate was used instead of methyl pivalate in Synthesis Example 3 to obtain 2-methyl-isopropylcyclopentanol.
<実施例1:化合物(5)の製造>
本例では、化合物(4)とメタクリル酸塩化物とを反応させて化合物(5)を製造した。
ガラス製のフラスコに、合成例3で得た2−メチル−t−ブチルシクロペンタノール199.3mg(1.3mmol)、テトラヒドロフラン2.6mLを加え、窒素フロー下、−40℃に冷却した。n−ブチルリチウム1.12mL(15質量%ヘキサン溶液、1.8mmol)を滴下し、0℃で1時間撹拌した。再び−40℃に冷却し、メタクリル酸クロライド225μL(2.3mmol)を滴下した後、0℃で2時間撹拌した。10質量%水酸化リチウム水溶液1.1gを加え50℃で1時間撹拌した後、分液した。水層を酢酸エチル5mLで2回抽出し、有機層に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液5mL、続いて飽和食塩水5mLを加え洗浄した。硫酸マグネシウムを用いて乾燥させたのち、溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、目的の化合物234.0mgを得た。
1H−NMR分析により得られた化合物が2−メチル−t−ブチルシクロペンチルメタクリレート(表1に構造式を示す。)であることを確認した。
1H NMR(270MHz、CDCl3)(cis+trans):δ6.05ppm(m、1H)、5.48ppm(m、1H)、1.94ppm(s、3H)、2.68−1.30ppm(m、7H)、1.01ppm(s、9H)、0.98ppm(d、3H)。
<Example 1: Production of compound (5)>
In this example, compound (5) was produced by reacting compound (4) with methacrylic acid chloride.
To a glass flask, 199.3 mg (1.3 mmol) of 2-methyl-t-butylcyclopentanol obtained in Synthesis Example 3 and 2.6 mL of tetrahydrofuran were added and cooled to −40 ° C. under a nitrogen flow. n-Butyllithium 1.12mL (15 mass% hexane solution, 1.8mmol) was dripped, and it stirred at 0 degreeC for 1 hour. The mixture was again cooled to −40 ° C., 225 μL (2.3 mmol) of methacrylic acid chloride was added dropwise, and the mixture was stirred at 0 ° C. for 2 hours. After adding 1.1 g of 10 mass% lithium hydroxide aqueous solution and stirring at 50 degreeC for 1 hour, it liquid-separated. The aqueous layer was extracted twice with 5 mL of ethyl acetate, and the organic layer was washed with 5 mL of saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and then 5 mL of saturated brine. After drying with magnesium sulfate, the solvent was distilled off. The resulting crude product was purified by silica gel column chromatography to obtain 234.0 mg of the target compound.
It was confirmed that the compound obtained by 1 H-NMR analysis was 2-methyl-t-butylcyclopentyl methacrylate (the structural formula is shown in Table 1).
1 H NMR (270 MHz, CDCl 3 ) (cis + trans): δ 6.05 ppm (m, 1H), 5.48 ppm (m, 1H), 1.94 ppm (s, 3H), 2.68-1.30 ppm (m, 7H), 1.01 ppm (s, 9H), 0.98 ppm (d, 3H).
<実施例2:化合物(5)の製造>
実施例1において、2−メチル−t−ブチルシクロペンタノールの代わりに、合成例4で得た3−メチル−t−ブチルシクロペンタノールを用いた以外は実施例1と同様に実施し、目的の化合物を得た。
1H−NMR分析により得られた化合物が3−メチル−t−ブチルシクロペンチルメタクリレート(表1に構造式を示す。)であることを確認した。
1H NMR(270MHz、CDCl3)(cis+trans):δ6.02ppm(m、1H)、5.47ppm(m、1H)、1.92ppm(s、3H)、2.78−1.41ppm(m、7H)、0.99ppm(s、9H)、1.06、0.98ppm(d、3H)。
<Example 2: Production of compound (5)>
The same procedure as in Example 1 was performed except that 3-methyl-t-butylcyclopentanol obtained in Synthesis Example 4 was used instead of 2-methyl-t-butylcyclopentanol in Example 1. To give a compound.
It was confirmed that the compound obtained by 1 H-NMR analysis was 3-methyl-t-butylcyclopentyl methacrylate (the structural formula is shown in Table 1).
1 H NMR (270 MHz, CDCl 3 ) (cis + trans): δ 6.02 ppm (m, 1H), 5.47 ppm (m, 1H), 1.92 ppm (s, 3H), 2.78-1.41 ppm (m, 7H), 0.99 ppm (s, 9H), 1.06, 0.98 ppm (d, 3H).
<実施例3:化合物(5)の製造>
実施例1において、2−メチル−t−ブチルシクロペンタノールの代わりに、合成例7で得た2−メチル−イソプロピルシクロペンタノールを用いた以外は実施例1と同様に実施し、目的の化合物を得た。
1H−NMR分析により得られた化合物が2−メチル−イソプロピルシクロペンチルメタクリレート(表1に構造式を示す。)であることを確認した。
1H NMR(270MHz、CDCl3)(cis+trans):δ5.60ppm(m、1H)、5.45ppm(m、1H)、1.90ppm(s、3H)、2.57−1.23ppm(m、8H)、1.03ppm(d、3H)、0.98(d、3H)、0.95ppm(d、3H)。
<Example 3: Production of compound (5)>
Example 1 Example 1 was carried out in the same manner as in Example 1 except that 2-methyl-isopropylcyclopentanol obtained in Synthesis Example 7 was used instead of 2-methyl-t-butylcyclopentanol. Got.
It was confirmed that the compound obtained by 1 H-NMR analysis was 2-methyl-isopropylcyclopentyl methacrylate (the structural formula is shown in Table 1).
1 H NMR (270 MHz, CDCl 3 ) (cis + trans): δ 5.60 ppm (m, 1H), 5.45 ppm (m, 1H), 1.90 ppm (s, 3H), 2.57-1.23 ppm (m, 8H), 1.03 ppm (d, 3H), 0.98 (d, 3H), 0.95 ppm (d, 3H).
<比較例1>
特開2015−141353号公報の段落0405〜0409に記載の方法で、t−ブチルシクロペンチルメタクリレート(表1に構造式を示す。)を合成した。
三口フラスコにシクロペンタノン(8.4g)、テトラヒドロフラン(200mL)を加え0℃に冷却した。ランタントリクロリドビスリチウムクロリド錯体(0.6mol/Lテトラヒドロフラン溶液)166mLを0℃で滴下し、30分時間攪拌した。次いでt−ブチルマグネシウムブロミド(1.0mol/Lテトラヒドロフラン溶液)100mLを0℃で滴下し2時間攪拌した。続いて、飽和塩化アンモニウム水溶液100mLを添加し、水相を酢酸エチル200mLで2回抽出し、有機相をまとめ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した後、溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、1−t−ブチルシクロペンタノール12.6g得た(収率88%)。
1−t−ブチルシクロペンタノール(12.6g)をテトラヒドロフラン200mLに加え、−40℃に冷却した。ノルマルブチルリチウム(1.6mol/Lヘキサン溶液)55mLを−40℃で滴下し、0℃で1時間攪拌した。反応液を再び−40℃に冷却した後、メタクリル酸クロライド8.4gを滴下し、室温まで昇温した。1時間攪拌後、0℃まで冷却し、水100mLを添加した。水相を酢酸エチル200mLで2回抽出し、有機相をまとめ、水、飽和食塩水で洗浄した後、溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、t−ブチルシクロペンチルメタクリレート(13.2g)を得た(収率86%)。
<Comparative Example 1>
T-Butylcyclopentyl methacrylate (the structural formula is shown in Table 1) was synthesized by the method described in paragraphs 0405 to 0409 of JP-A-2015-141353.
Cyclopentanone (8.4 g) and tetrahydrofuran (200 mL) were added to a three-necked flask and cooled to 0 ° C. 166 mL of lanthanum trichloride bislithium chloride complex (0.6 mol / L tetrahydrofuran solution) was added dropwise at 0 ° C., and the mixture was stirred for 30 minutes. Next, 100 mL of t-butylmagnesium bromide (1.0 mol / L tetrahydrofuran solution) was added dropwise at 0 ° C. and stirred for 2 hours. Subsequently, 100 mL of a saturated aqueous ammonium chloride solution was added, the aqueous phase was extracted twice with 200 mL of ethyl acetate, the organic phases were combined, washed with a saturated aqueous sodium bicarbonate solution and saturated brine, and then the solvent was distilled off. The obtained crude product was purified by silica gel chromatography to obtain 12.6 g of 1-t-butylcyclopentanol (yield 88%).
1-t-butylcyclopentanol (12.6 g) was added to 200 mL of tetrahydrofuran and cooled to −40 ° C. Normal butyl lithium (1.6 mol / L hexane solution) 55mL was dripped at -40 degreeC, and it stirred at 0 degreeC for 1 hour. After the reaction solution was cooled again to −40 ° C., 8.4 g of methacrylic acid chloride was added dropwise, and the temperature was raised to room temperature. After stirring for 1 hour, it was cooled to 0 ° C. and 100 mL of water was added. The aqueous phase was extracted twice with 200 mL of ethyl acetate, the organic phases were combined, washed with water and saturated brine, and then the solvent was distilled off. The obtained crude product was purified by silica gel chromatography to obtain t-butylcyclopentyl methacrylate (13.2 g) (yield 86%).
<比較例2>
比較例1において、t−ブチルマグネシウムブロミドの代わりに、イソプロピルマグネシウムブロミドを用いた以外は比較例1と同様に実施し、イソプロピルシクロペンチルメタクリレート(表1に構造式を示す。)を得た。
<Comparative example 2>
In Comparative Example 1, the same procedure as in Comparative Example 1 was performed except that isopropyl magnesium bromide was used instead of t-butylmagnesium bromide to obtain isopropylcyclopentyl methacrylate (shown by the structural formula in Table 1).
<試験例:疎水性の評価>
上記実施例および比較例で得たメタクリル酸エステルを試料とし、炭素数18の炭化水素基で表面処理したシリカゲルをカラム充填材として用いて、逆相液体クロマトグラフィー測定を、下記の条件で行った。
[測定条件]
装置:ウォーターズ社製、液体クロマトグラフィーシステム ACQUITY UPLC H−Class(製品名)。
カラム:ウォーターズ社製、ACQUITY UPLC BEH C18(製品名)、1.7μm(粒径)。
移動層:アセトニトリル/水=3/1。
流量:0.5mL/min。
UV検出波長:220nm。
<Test example: Evaluation of hydrophobicity>
Using the methacrylic acid ester obtained in the above Examples and Comparative Examples as a sample, silica gel surface-treated with a hydrocarbon group having 18 carbon atoms was used as a column filler, and reverse phase liquid chromatography measurement was performed under the following conditions. .
[Measurement condition]
Apparatus: Liquid chromatography system ACQUITY UPLC H-Class (product name) manufactured by Waters.
Column: manufactured by Waters, ACQUITY UPLC BEH C18 (product name), 1.7 μm (particle size).
Moving bed: acetonitrile / water = 3/1.
Flow rate: 0.5 mL / min.
UV detection wavelength: 220 nm.
OECD Guidelines for the Testing of Chemicals,Section 1(Test No.117)によると、長鎖炭化水素基(例えばC8、C18)で表面処理したシリカゲルを充填材として用いる逆相液体クロマトグラフィーでは、試料は移動相の溶媒によって炭化水素シリカゲル(固定相)上を移動する。試料は固定相(炭化水素基)と移動相(水)との分配係数によって固定相上に保持される。したがって、親水性化合物ほど早く溶出し、疎水性化合物ほど遅く溶出する。すなわち、保持時間がより長い試料の方が疎水性に優れると判定できる。
保持時間の測定結果を表2に示す。
According to OECD Guidelines for the Testing of Chemicals, Section 1 (Test No. 117), in reverse-phase liquid chromatography using silica gel surface-treated with long-chain hydrocarbon groups (eg C8, C18) as a packing material, the sample moves. Moves on hydrocarbon silica gel (stationary phase) by phase solvent. The sample is held on the stationary phase by the partition coefficient between the stationary phase (hydrocarbon group) and the mobile phase (water). Therefore, the hydrophilic compound elutes earlier and the hydrophobic compound elutes later. That is, it can be determined that a sample having a longer holding time is superior in hydrophobicity.
Table 2 shows the measurement results of the retention time.
表2に示すように、実施例1で得られた2−メチル−t−ブチルシクロペンチルメタクリレートを試料とする液体クロマトグラフィーでは、2つの異性体(表には(i)(ii)と記載する)が分離し、保持時間はそれぞれ1.79分、1.93分であった。
実施例1、2で得た2−メチル−t−ブチルシクロペンチルメタクリレート、3−メチル−t−ブチルシクロペンチルメタクリレートは、比較例1で得たt−ブチルシクロペンチルメタクリレートより保持時間が長く、疎水性に優れることが認められた。
同様に、実施例3で得た2−メチル−イソプロピルシクロペンチルメタクリレートは、比較例2で得たイソプロピルシクロペンチルメタクリレートより保持時間が長く、疎水性に優れることが認められた。
As shown in Table 2, in liquid chromatography using 2-methyl-t-butylcyclopentyl methacrylate obtained in Example 1 as a sample, two isomers (denoted as (i) (ii) in the table) Separated and the retention times were 1.79 minutes and 1.93 minutes, respectively.
The 2-methyl-t-butylcyclopentyl methacrylate and 3-methyl-t-butylcyclopentyl methacrylate obtained in Examples 1 and 2 have a longer retention time and excellent hydrophobicity than the t-butylcyclopentyl methacrylate obtained in Comparative Example 1. It was recognized that
Similarly, it was confirmed that 2-methyl-isopropylcyclopentyl methacrylate obtained in Example 3 has a longer retention time than isopropylcyclopentyl methacrylate obtained in Comparative Example 2 and is excellent in hydrophobicity.
本発明にて提供される(メタ)アクリル酸エステルは疎水性に優れ、プラスチック、塗料等多岐に渡る用途に有用である。また、半導体レジスト用の原料としてリソグラフィー特性の改善に有用である。 The (meth) acrylic acid ester provided in the present invention is excellent in hydrophobicity and is useful for a wide variety of uses such as plastics and paints. Moreover, it is useful for improving lithography properties as a raw material for semiconductor resist.
Claims (3)
前記ヒドロキシ化合物と(メタ)アクリル酸塩化物とを反応させて、下記式(5)で表される(メタ)アクリル酸エステルを得る、(メタ)アクリル酸エステルの製造方法。
The manufacturing method of (meth) acrylic acid ester which makes the said hydroxy compound and (meth) acrylic acid chloride react, and obtains the (meth) acrylic acid ester represented by following formula (5).
前記ヒドロキシ化合物と(メタ)アクリル酸塩化物とを反応させて、下記式(5)で表される(メタ)アクリル酸エステルを得る、(メタ)アクリル酸エステルの製造方法。
The manufacturing method of (meth) acrylic acid ester which makes the said hydroxy compound and (meth) acrylic acid chloride react, and obtains the (meth) acrylic acid ester represented by following formula (5).
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20210108009A1 (en) * | 2019-10-14 | 2021-04-15 | Songwon Industrial Co., Ltd. | Method for producing alicyclic acrylate derivative |
JP7028037B2 (en) | 2018-04-13 | 2022-03-02 | 三菱ケミカル株式会社 | Resist composition |
TWI807224B (en) * | 2019-10-14 | 2023-07-01 | 南韓商松原產業股份有限公司 | Method for producing alicyclic acrylate derivative |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000319226A (en) * | 1999-05-07 | 2000-11-21 | Yasuhara Chemical Co Ltd | Preparation of tertiary alcohol organic carboxylate |
JP2001158808A (en) * | 1999-12-01 | 2001-06-12 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Polymer compound, resist material and method for forming pattern |
JP2005054142A (en) * | 2003-08-07 | 2005-03-03 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Polymer for resist, resist material and pattern-forming method |
JP2010185987A (en) * | 2009-02-10 | 2010-08-26 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | Positive resist composition, method for forming resist pattern, and polymer compound |
WO2012074025A1 (en) * | 2010-12-01 | 2012-06-07 | Jsr株式会社 | Radiation-sensitive resin composition, method for forming pattern using same, polymer, and compound |
JP2014026265A (en) * | 2012-06-19 | 2014-02-06 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Pattern forming method and resist composition |
JP2014178671A (en) * | 2013-02-14 | 2014-09-25 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Pattern forming process |
JP2015141353A (en) * | 2014-01-29 | 2015-08-03 | 富士フイルム株式会社 | Pattern formation method, active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, method for producing electronic device and electronic device |
WO2015141504A1 (en) * | 2014-03-19 | 2015-09-24 | Jsr株式会社 | Radiation-sensitive resin composition, resist pattern formation method, radiation-sensitive acid generator, and compound |
JP2015169838A (en) * | 2014-03-07 | 2015-09-28 | 富士フイルム株式会社 | Actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern formation method, electronic device manufacturing method, and electronic device |
WO2016136538A1 (en) * | 2015-02-26 | 2016-09-01 | 富士フイルム株式会社 | Pattern forming method, production method for electronic device, and actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition for organic solvent development |
-
2018
- 2018-07-17 JP JP2018134474A patent/JP7052612B2/en active Active
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000319226A (en) * | 1999-05-07 | 2000-11-21 | Yasuhara Chemical Co Ltd | Preparation of tertiary alcohol organic carboxylate |
JP2001158808A (en) * | 1999-12-01 | 2001-06-12 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Polymer compound, resist material and method for forming pattern |
JP2005054142A (en) * | 2003-08-07 | 2005-03-03 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Polymer for resist, resist material and pattern-forming method |
JP2010185987A (en) * | 2009-02-10 | 2010-08-26 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | Positive resist composition, method for forming resist pattern, and polymer compound |
WO2012074025A1 (en) * | 2010-12-01 | 2012-06-07 | Jsr株式会社 | Radiation-sensitive resin composition, method for forming pattern using same, polymer, and compound |
JP2014026265A (en) * | 2012-06-19 | 2014-02-06 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Pattern forming method and resist composition |
JP2014178671A (en) * | 2013-02-14 | 2014-09-25 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Pattern forming process |
JP2015141353A (en) * | 2014-01-29 | 2015-08-03 | 富士フイルム株式会社 | Pattern formation method, active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, method for producing electronic device and electronic device |
JP2015169838A (en) * | 2014-03-07 | 2015-09-28 | 富士フイルム株式会社 | Actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern formation method, electronic device manufacturing method, and electronic device |
WO2015141504A1 (en) * | 2014-03-19 | 2015-09-24 | Jsr株式会社 | Radiation-sensitive resin composition, resist pattern formation method, radiation-sensitive acid generator, and compound |
WO2016136538A1 (en) * | 2015-02-26 | 2016-09-01 | 富士フイルム株式会社 | Pattern forming method, production method for electronic device, and actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition for organic solvent development |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7028037B2 (en) | 2018-04-13 | 2022-03-02 | 三菱ケミカル株式会社 | Resist composition |
US20210108009A1 (en) * | 2019-10-14 | 2021-04-15 | Songwon Industrial Co., Ltd. | Method for producing alicyclic acrylate derivative |
JP2021063073A (en) * | 2019-10-14 | 2021-04-22 | ソンウォン インダストリアル カンパニー リミテッドSongwon Industrial Co., Ltd. | Method for producing alicyclic acrylate derivative |
JP7183509B2 (en) | 2019-10-14 | 2022-12-06 | ソンウォン インダストリアル カンパニー リミテッド | Method for producing alicyclic acrylic derivative |
TWI807224B (en) * | 2019-10-14 | 2023-07-01 | 南韓商松原產業股份有限公司 | Method for producing alicyclic acrylate derivative |
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