JP2019170467A - アブレーションデバイス - Google Patents

Abstract

【課題】利便性を向上させることが可能なアブレーションデバイスを提供する。【解決手段】アブレーションデバイス１は、体内の患部９０に対して経皮的に穿刺されると共に、アブレーションを行うための電力Ｐoutが供給される電極針１１と、この電極針１１の先端側に位置する電極領域（露出領域Ａｅ）を露出させつつ、電極針１１の軸方向（Ｚ軸方向）に沿って電極針１１の周囲を被覆する絶縁性チューブ１２と、電極針１１の基端側に装着されたハンドル１３とを備えている。絶縁性チューブ１２は、上記軸方向に沿った一部領域に、摩擦抵抗が相対的に高い高抵抗領域１２Ｈを有している。【選択図】図２

Description

本発明は、体内の患部に対して経皮的に穿刺される電極針を備えた、アブレーションデバイスに関する。

患者体内の患部（例えば癌などの腫瘍を有する患部）を治療するための医療機器の１つとして、そのような患部に対してアブレーション（焼灼）を行う、アブレーションシステムが提案されている（例えば、特許文献１参照）。このアブレーションシステムは、体内の患部に対して経皮的に穿刺される電極針を有するアブレーションデバイスと、患部に対するアブレーションを行うための電力を供給する電源装置とを備えている。

特許第５９０７５４５号公報

ところで、上記したアブレーションデバイスでは一般に、例えば、使用する際の利便性を向上することが求められている。したがって、利便性を向上させることが可能なアブレーションデバイスを提供することが望ましい。

本発明の一実施の形態に係るアブレーションデバイスは、体内の患部に対して経皮的に穿刺されると共に、アブレーションを行うための電力が供給される電極針と、この電極針の先端側に位置する電極領域を露出させつつ、電極針の軸方向に沿って電極針の周囲を被覆する絶縁性チューブと、電極針の基端側に装着されたハンドルとを備えたものである。上記絶縁性チューブは、上記軸方向に沿った一部領域に、摩擦抵抗が相対的に高い高抵抗領域を有している。

本発明の一実施の形態に係るアブレーションデバイスでは、電極針の先端側に位置する電極領域を露出させつつ電極針の周囲を被覆する絶縁性チューブにおいて、電極針の軸方向に沿った一部領域に、摩擦抵抗が相対的に高い高抵抗領域が設けられている。これにより、電極針が患部に対して経皮的に穿刺された状態で上記アブレーションが行われる際に、絶縁性チューブとともに電極針が上記軸方向に沿って変位してしまうことが抑えられ、上記電極領域に対応するアブレーション範囲の変動が抑制される。その結果、効果的なアブレーションが実施できるようになる。

本発明の一実施の形態に係るアブレーションデバイスでは、上記高抵抗領域を、上記絶縁性チューブにおける先端から離れた領域に設けるようにしてもよい。このようにした場合、電極針がその先端側から経皮的に穿刺される際に、絶縁性チューブでは、上記高抵抗領域以外の領域（摩擦抵抗が相対的に低い領域）側から穿刺されるため、穿刺時には絶縁性チューブの滑り易さが確保されることになる。その結果、アブレーションデバイスを使用する際の利便性が、更に向上する。

また、本発明の一実施の形態に係るアブレーションデバイスでは、上記ハンドルに対する所定の操作に応じて、上記絶縁性チューブが上記軸方向に沿ってスライド可能に構成されていると共に、上記絶縁性チューブにおける上記軸方向に沿ったスライド動作に伴って、上記高抵抗領域も上記軸方向に沿ってスライド可能となっていてもよい。このようにした場合、電極針がその先端側から経皮的に穿刺された状態で、例えば、上記軸方向に沿った上記高抵抗領域の位置の微調整ができるようになる。その結果、電極針が穿刺された後においても、上記アブレーション範囲の微調整ができるようになるため、アブレーションデバイスを使用する際の利便性が、更に向上する。

更に、本発明の一実施の形態に係るアブレーションデバイスでは、上記高抵抗領域を、上記軸方向に沿って互いに分離した位置に、複数設けるようにしてもよい。このようにした場合、電極針の上記軸方向に沿った変位が更に抑えられ、上記アブレーション範囲の変動が更に抑制されることから、更に効果的なアブレーションが実施できるようになる。その結果、アブレーションデバイスを使用する際の利便性が、更に向上する。

また、本発明の一実施の形態に係るアブレーションデバイスでは、上記高抵抗領域内における基端から先端へ向けて、摩擦抵抗が段階的に増加しているようにしてもよい。このようにした場合も、電極針の上記軸方向に沿った変位が更に抑えられ、上記アブレーション範囲の変動が更に抑制されることから、更に効果的なアブレーションが実施できるようになる。その結果、アブレーションデバイスを使用する際の利便性が、更に向上する。

本発明の一実施の形態に係るアブレーションデバイスによれば、上記絶縁性チューブにおける上記軸方向に沿った一部領域に、摩擦抵抗が相対的に高い高抵抗領域を設けるようにしたので、効果的なアブレーションを実施することができる。よって、アブレーションデバイスを使用する際の利便性を向上させることが可能となる。

本発明の一実施の形態に係るアブレーションデバイスを備えたアブレーションシステムの全体構成例を模式的に表すブロック図である。 図１に示したアブレーションデバイスの詳細構成例を表す模式側面図である。 アブレーションによる患部での焼灼具合の一例を表す模式図である。 図２に示したアブレーションデバイスにおけるスライド動作の一例を表す模式側面図である。 比較例に係るアブレーションデバイスを用いたアブレーションの際の動作例を表す模式図である。 実施の形態に係るアブレーションデバイスを用いたアブレーションの際の動作例を表す模式図である。 変形例１，２に係るアブレーションデバイスの構成例を表す模式側面図である。

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
１．実施の形態（先端から離れた領域の一部に高抵抗領域を有する絶縁性チューブの例）
２．変形例
変形例１（互いに分離した位置に複数の高抵抗領域を有する絶縁性チューブの例）
変形例２（高抵抗領域内で摩擦抵抗が段階的に増加する絶縁性チューブの例）
３．その他の変形例

＜１．実施の形態＞
［アブレーションシステム５の全体構成］
図１は、本発明の一実施の形態に係るアブレーションデバイス（アブレーションデバイス１）を備えたアブレーションシステム５の全体構成例を、模式的にブロック図で表したものである。このアブレーションシステム５は、例えば図１に示したように、患者９の体内における患部９０を治療する際に用いられるシステムであり、そのような患部９０に対して所定のアブレーション（焼灼）を行うようになっている。

なお、上記した患部９０としては、例えば、癌（肝癌，肺癌，乳癌，腎臓癌，甲状腺癌など）等の腫瘍を有する患部が挙げられる。

アブレーションシステム５は、図１に示したように、アブレーションデバイス１、液体供給装置２および電源装置３を備えている。また、このアブレーションシステム５を用いたアブレーションの際には、例えば図１に示した対極板４も、適宜使用されるようになっている。

（アブレーションデバイス１）
アブレーションデバイス１は、上記したアブレーションの際に使用されるデバイスであり、詳細は後述するが、電極針１１および絶縁性チューブ１２を主に備えている。

電極針１１は、例えば図１中の矢印Ｐ１で示したように、患者９の体内における患部９０に対して経皮的に穿刺される針である。なお、このような電極針１１の内部には、後述する液体供給装置２から供給される液体Ｌが、循環して流れるようになっている（図１参照）。

絶縁性チューブ１２は、電極針１１の先端側に位置する電極領域（後述する露出領域Ａｅ）を露出させつつ、この電極針１１の軸方向に沿って電極針１１の周囲を被覆する部材である。

なお、このようなアブレーションデバイス１の詳細構成例については、後述する（図２参照）。

（液体供給装置２）
液体供給装置２は、アブレーションデバイス１（電極針１１の内部）に対して冷却用の液体Ｌを供給する装置であり、例えば図１に示したように、液体供給部２１を有している。なお、この冷却用の液体Ｌとしては、例えば、滅菌水や、滅菌した生理食塩水などが挙げられる。

液体供給部２１は、後述する制御信号ＣＴＬ２による制御に従って、上記した液体Ｌをアブレーションデバイス１に対して随時供給するものである。具体的には、例えば図１に示したように、液体供給部２１は、液体供給装置２の内部と電極針１１の内部との間（所定の流路内）を液体Ｌが循環するようにして、液体Ｌの供給動作を行う。また、上記した制御信号ＣＴＬ２による制御に従って、このような液体Ｌの供給動作が実行されたり、停止されたりするようになっている。なお、このような液体供給部２１は、例えば、液体ポンプ等を含んで構成されている。

（電源装置３）
電源装置３は、電極針１１と対極板４との間にアブレーションを行うための電力Ｐout（例えば高周波（ＲＦ；Radio Frequency）の電力）を供給すると共に、上記した液体供給装置２における液体Ｌの供給動作を制御する装置である。この電源装置３は、図１に示したように、入力部３１、電源部３２、制御部３３および表示部３４を有している。

入力部３１は、各種の設定値や、後述する所定の動作を指示するための指示信号（操作信号Ｓｍ）を入力する部分である。このような操作信号Ｓｍは、電源装置３の操作者（例えば技師等）による操作に応じて、入力部３１から入力されるようになっている。ただし、これらの各種の設定値が、操作者による操作に応じて入力されるのではなく、例えば、製品の出荷時等に予め電源装置３内で設定されているようにしてもよい。また、入力部３１により入力された設定値は、後述する制御部３３へ供給されるようになっている。なお、このような入力部３１は、例えば所定のダイヤルやボタン、タッチパネル等を用いて構成されている。

電源部３２は、後述する制御信号ＣＴＬ１に従って、上記した電力Ｐoutを電極針１１と対極板４との間に供給する部分である。このような電源部３２は、所定の電源回路（例えばスイッチングレギュレータ等）を用いて構成されている。なお、電力Ｐoutが高周波電力からなる場合、その周波数は、例えば４５０ｋＨｚ〜５５０ｋＨｚ程度（例えば５００ｋＨｚ）である。

制御部３３は、電源装置３全体を制御すると共に所定の演算処理を行う部分であり、例えばマイクロコンピュータ等を用いて構成されている。具体的には、制御部３３は、まず、制御信号ＣＴＬ１を用いて、電源部３２における電力Ｐoutの供給動作を制御する機能（電力供給制御機能）を有している。また、制御部３３は、制御信号ＣＴＬ２を用いて、液体供給装置２（液体供給部２１）における液体Ｌの供給動作を制御する機能（液体供給制御機能）を有している。

このような制御部３３にはまた、例えば図１に示したように、アブレーションデバイス１（電極針１１の内部に配置された熱電対等の温度センサ）において測定された温度情報Ｉｔが、随時供給されるようになっている。また、例えば図１に示したように、制御部３３には、上記した電源部３２から、インピーダンス値Ｚｍの測定値が随時供給されるようになっている。

表示部３４は、各種の情報を表示して外部へと出力する部分（モニター）である。表示対象の情報としては、例えば、入力部３１から入力される前述の各種の設定値や、制御部３３から供給される各種パラメータ、アブレーションデバイス１から供給される温度情報Ｉｔなどが挙げられる。ただし、表示対象の情報としてはこれらの情報には限られず、他の情報を代わりに、あるいは他の情報を加えて表示するようにしてもよい。このような表示部３４は、各種の方式によるディスプレイ（例えば、液晶ディスプレイやＣＲＴ（Cathode Ray Tube）ディスプレイ、有機ＥＬ（Electro Luminescence）ディスプレイなど）を用いて構成されている。

（対極板４）
対極板４は、例えば図１に示したように、アブレーションの際に患者９の体表に装着された状態で用いられるものである。詳細は後述するが、アブレーションの際に、アブレーションデバイス１における電極針１１（前述した電極領域）とこの対極板４との間で、高周波通電がなされる（電力Ｐoutが供給される）ようになっている。また、詳細は後述するが、このようなアブレーションの際に、図１に示したように、電極針１１と対極板４との間のインピーダンス値Ｚｍが随時測定され、測定されたインピーダンス値Ｚｍが、電源装置３内において電源部３２から制御部３３へと供給されるようになっている。

［アブレーションデバイス１の詳細構成］
続いて、図２を参照して、前述したアブレーションデバイス１の詳細構成例について説明する。図２は、図１に示したアブレーションデバイス１の詳細構成例を、模式的に側面図（Ｙ−Ｚ側面図）で表したものである。なお、この図２では、符号Ｐ２で示した部分（電極針１１および絶縁性チューブ１２の一部領域）を、矢印で示したように、図２中の下方において拡大して示している。

（電極針１１）
電極針１１は、図２に示したようにＺ軸方向に沿って設けられており、このＺ軸方向に沿った長さ（軸方向長）は、例えば、３０ｍｍ〜３５０ｍｍ程度である。また、電極針１１はその軸方向（Ｚ軸方向）に沿って、絶縁性チューブ１２により被覆されていない先端側の露出領域Ａｅ（アブレーションの際に電極として機能する電極領域）と、絶縁性チューブ１２により被覆されている領域（基端側の被覆領域）とを有している。この電極針１１の露出領域Ａｅと対極板４との間に、前述したように、アブレーションを行うための電力Ｐoutが供給されるようになっている。なお、このような電極針１１は、例えば、ステンレス鋼，ニッケルチタン合金，チタン合金，白金等の金属材料により構成されている。

（絶縁性チューブ１２）
絶縁性チューブ１２は、上記したように、電極針１１の先端側（露出領域Ａｅ）を部分的に露出させつつ、Ｚ軸方向に沿って電極針１１の周囲を被覆する部材である。また、この絶縁性チューブ１２は、後述するハンドル１３に対する所定の操作に応じて、例えば図２中の矢印ｄ２で示したように、その軸方向（Ｚ軸方向）に沿って、電極針１１に対して相対的にスライド可能に構成されている。これにより、電極針１１の露出領域ＡｅにおけるＺ軸方向に沿った長さ（軸方向長）を、調節可能となっている。

なお、このような絶縁性チューブ１２の軸方向長（Ｚ軸方向に沿った長さ）は、例えば、３０ｍｍ〜３４７ｍｍ程度である。また、この絶縁性チューブ１２によって調節可能な、電極針１１の露出領域ＡｅにおけるＺ軸方向に沿った長さ（軸方向長）は、例えば、３ｍｍ〜５０ｍｍ程度である。

ここで本実施の形態では、図２に示したように、絶縁性チューブ１２は、軸方向（Ｚ軸方向）に沿った一部領域に、摩擦抵抗が相対的に高い高抵抗領域１２Ｈを有している。具体的には、この図２の例では、絶縁性チューブ１２は、このような高抵抗領域１２Ｈと、摩擦抵抗が相対的に低い低抵抗領域１２Ｌとを有している。つまり、図２中に示したように、高抵抗領域１２Ｈにおける摩擦抵抗ＲｆＨは、低抵抗領域１２Ｌにおける摩擦抵抗ＲｆＬよりも高い値となっている（ＲｆＨ＞ＲｆＬ）。なお、摩擦抵抗ＲｆＨの値は、摩擦抵抗ＲｆＬの値に対して１．５倍以上大きくなっている（ＲｆＨ≧（１．５×ＲｆＬ））のが好ましい。

また、この図２の例では、このような高抵抗領域１２Ｈが、絶縁性チューブ１２における先端から離れた領域に設けられており、絶縁性チューブ１２の先端付近は、低抵抗領域１２Ｌとなっている。すなわち、絶縁性チューブ１２ではその先端から基端側へ向けて、低抵抗領域１２Ｌ、高抵抗領域１２Ｈおよび低抵抗領域１２Ｌの順に、配置されている。

なお、この図２の例において、先端側に位置する低抵抗領域１２Ｌの軸方向長（Ｚ軸方向に沿った長さ）は、例えば、１ｍｍ〜２５０ｍｍ、好ましくは、１０ｍｍ〜３０ｍｍである。また、高抵抗領域１２Ｈの軸方向長（Ｚ軸方向に沿った長さ）は、３ｍｍ〜２３０ｍｍ、好ましくは、１０ｍｍ〜３０ｍｍである。

このような高抵抗領域１２Ｈは、詳細は後述するが、アブレーションの際の絶縁性チューブ１２の滑りを抑制（防止）する機能を有している。この高抵抗領域１２Ｈは、例えば、低抵抗領域１２Ｌを構成する、絶縁性チューブ１２における基材の周囲に、摩擦抵抗が相対的に高い膜（塗布膜）を塗布することによって、形成することが可能である。

ここで、上記した絶縁性チューブ１２の基材（低抵抗領域１２Ｌを構成する部材）は、例えば、ＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン），ＰＩ（ポリイミド），フッ素系樹脂，ポリエーテルブロックアミド等の、硬度が相対的に高い合成樹脂により構成されている。また、上記した塗布膜（高抵抗領域１２Ｈを構成する部材）は、例えば、ポリウレタン，シリコーンゴム，ナイロン系エラストマー，スチレン系エラストマー等の、硬度が相対的に低い合成樹脂により構成されている。これは、硬度が高くなるのに従って、絶縁性チューブ１２の表面が滑り易くなる（摩擦抵抗が低くなる）一方、硬度が低くなるのに従って、絶縁性チューブ１２の表面が滑りにくくなる（摩擦抵抗が高くなる）からである。

（ハンドル１３）
ハンドル１３は、アブレーションデバイス１の使用時に操作者（医師）が掴む（握る）部分である。このハンドル１３は、図２に示したように、電極針１１の基端側に装着されたハンドル本体（ハンドル部材）１３０と、操作部１３１とを主に有している。

ハンドル本体１３０は、操作者が実際に握る部分（把持部）に相当し、ハンドル１３における外装としても機能する部分である。なお、このハンドル本体１３０は、例えば、ポリカーボネート、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ）、アクリル、ポリオレフィン、ポリオキシメチレン等の合成樹脂により構成されている。

操作部１３１は、絶縁性チューブ１２をその軸方向（Ｚ軸方向）に沿って、電極針１１に対して相対的にスライド動作させるための所定の操作（スライド操作）の際に用いられる部分であり、ハンドル本体１３０の外側（Ｙ軸方向）に突出している。操作部１３１は、例えば、前述したハンドル本体１３０と同様の材料（合成樹脂等）により構成されている。この操作部１３１は、ハンドル１３の軸方向（Ｚ軸方向）に沿って、ハンドル本体１３０に対して相対的にスライド可能に構成されている。

詳細は後述するが、操作部１３１に対してこのようなスライド操作が行われることで（例えば図２中の矢印ｄ１参照）、絶縁性チューブ１２がＺ軸方向に沿って、電極針１１に対して相対的にスライド動作するようになっている（例えば図２中の矢印ｄ２参照）。これにより、電極針１１の露出領域ＡｅにおけるＺ軸方向に沿った長さ（軸方向長）を、調整することが可能となっている。また、このような絶縁性チューブ１２におけるスライド動作に伴って、前述した高抵抗領域１２Ｈもまた、Ｚ軸方向に沿って、電極針１１に対して相対的にスライド可能となっている（例えば図２中の矢印ｄ３参照）。

［動作および作用・効果］
（Ａ．基本動作）
このアブレーションシステム５では、例えば癌等の腫瘍を有する患部９０を治療する際に、そのような患部９０に対して所定のアブレーションが行われる（図１参照）。このようなアブレーションでは、まず、例えば図１中の矢印Ｐ１で示したように、患者９の体内の患部９０に対し、アブレーションデバイス１における電極針１１が、その先端側（露出領域Ａｅ側）から経皮的に穿刺される。そして、この電極針１１と対極板４との間に、電源装置３（電源部３２）から電力Ｐout（例えば高周波電力）が供給されることで、患部９０に対して、ジュール発熱によるアブレーションが行われる。

また、このようなアブレーションの際には、液体供給装置２の内部と電極針１１の内部（所定の流路内）との間を冷却用の液体Ｌが循環するように、液体供給装置２（液体供給部２１）から電極針１１に対して液体Ｌが供給される（図１参照）。これにより、アブレーションの際に、電極針１１に対する冷却動作（クーリング）が行われる。なお、アブレーションの終了後には、このような冷却動作も停止された後、電極針１１において測定された温度情報Ｉｔを基に、患部９０の組織温度が十分に上昇しているのかなど、患部の焼灼具合が確認される。

図３は、このようなアブレーションによる患部９０での焼灼具合の一例を、模式的に表したものである。この図３に示したように、患部９０に穿刺された電極針１１を用いて上記したアブレーションがなされると、例えば、当初のラグビボール状（楕円球状）の熱凝固領域Ａｈ１が、徐々に拡がっていくことで、ほぼ球状の熱凝固領域Ａｈ２が得られる（図３中の破線の矢印を参照）。これにより、患部９０全体への等方的なアブレーションが行われる結果、患部９０への効果的な治療がなされることになる。

また、例えば図２，図４（Ａ），図４（Ｂ）に示したように、このようなアブレーションの際には、アブレーションデバイス１のハンドル１３において、操作部１３１に対する前述したスライド操作が、事前に行われる。具体的には、操作部１３１に対してＺ軸方向に沿ったスライド操作が行われると（例えば図２，図４（Ｂ）中の矢印ｄ１参照）、この操作部１３１のスライド操作に連動して、ハンドル本体１３０内のスライド機構１３２がＺ軸方向に沿ってスライド動作を行う（図４（Ａ），図４（Ｂ）参照）。そして、このスライド機構１３２のスライド動作に連動して、絶縁性チューブ１２もまた、Ｚ軸方向に沿ってスライド動作を行う（例えば図２，図４（Ｂ）中の矢印ｄ２参照）。これにより、例えば図４（Ａ），図４（Ｂ）に示したように、電極針１１における先端側の露出領域Ａｅの大きさ（Ｚ軸方向に沿った長さ）が任意に調整され、アブレーションの際のアブレーション範囲（露出領域Ａｅに対応する範囲）も、任意に調整されることとなる。

これにより、例えば、肝臓における奥深い一部の領域に小さな腫瘍が形成されている場合には、露出領域Ａｅ（アブレーション範囲）を小さく設定して、患部９０まで電極針１１の先端を差し込んでアブレーションを行うことで、患部９０のみを選択的に焼灼することができる。すなわち、患部９０以外の部分は焼灼されず、元の機能を保つことができる。一方、例えば、大きな腫瘍が形成されている場合には、露出領域Ａｅ（アブレーション範囲）を大きく設定することで、その大きな腫瘍をまとめて（一括して）焼灼することができる。

なお、このような操作部１３１に対するスライド操作や、このスライド操作に連動したスライド機構１３２および絶縁性チューブ１２のスライド動作はそれぞれ、電極針１１の軸方向（Ｚ軸方向）に沿って、段階的（断続的）に調節可能となっていてもよい。言い換えると、操作部１３１、スライド機構１３２および絶縁性チューブ１２がそれぞれスライドする際の位置が、Ｚ軸方向に沿った所定の距離ごとに、軽度に固定されるようにしてもよい。

（Ｂ．比較例）
ここで、図５は、比較例に係るアブレーションデバイス（アブレーションデバイス１０１）を用いたアブレーションの際の動作例を、模式図で表したものである。具体的には、この図５は、比較例のアブレーションデバイス１０１における電極針１１が、アブレーションの際に、患部９０に対して経皮的に（皮膚表面Ｓｋを介して）穿刺された状態を示している。なお、この点は、本実施の形態のアブレーションデバイス１を用いたアブレーションの際の動作例を模式的に示した、後述する図６においても同様である。

この図５に示した比較例のアブレーションデバイス１０１は、図２，図４に示した本実施の形態のアブレーションデバイス１において、絶縁性チューブ１２の代わりに、絶縁性チューブ１０２を設けたものに対応している。また、この絶縁性チューブ１０２は、絶縁性チューブ１２において、高抵抗領域１２Ｈを設けないようにした（省いた）ものに対応している。すなわち、絶縁性チューブ１０２には、図５に示したように、低抵抗領域１２Ｌ（前述した絶縁性チューブ１２の基材）のみが設けられている。

このような比較例のアブレーションデバイス１０１を使用した場合、穿刺時には、絶縁性チューブ１０２全体が滑り易いことから、皮膚表面Ｓｋへの穿刺が容易となる。しかしながら、図５に示したように、その後、電極針１１が患部９０に対して経皮的に穿刺された状態でアブレーションが行われる際に、以下のような問題が生じるおそれがある。すなわち、このアブレーションデバイス１０１では、患者９の呼吸などによる皮膚表面Ｓｋの動きに同期して、絶縁性チューブ１０２とともに電極針１１が軸方向（Ｚ軸方向）に沿って滑り、変位してしまうおそれがある（図５中の矢印ｄ１０１参照）。その結果、露出領域Ａｅに対応するアブレーション範囲が、Ｚ軸方向に沿って変動してしまい、効果的なアブレーションの実施が困難となってしまうおそれがある。

このようにして、比較例のアブレーションデバイス１０１を用いた場合、効果的なアブレーションの実施が困難となる結果、アブレーションデバイス１０１を使用する際の利便性が、損なわれてしまうおそれがある。

（Ｃ．本実施の形態）
これに対して、本実施の形態のアブレーションデバイス１では、図２，図４に示したように、以下の構成となっている。すなわち、電極針１１の先端側に位置する露出領域Ａｅ（電極領域）を露出させつつ電極針１１の周囲を被覆する絶縁性チューブ１２において、電極針１１の軸方向（Ｚ軸方向）に沿った一部領域に、摩擦抵抗が相対的に高い高抵抗領域１２Ｈが設けられている。

このような構成により、本実施の形態のアブレーションデバイス１では、上記した比較例のアブレーションデバイス１０１とは異なり、以下のようになる。

すなわち、例えば図６に模式的に示したように、電極針１１が患部９０に対して経皮的に穿刺された状態でアブレーションが行われる際に、絶縁性チューブ１２とともに電極針１１が軸方向（Ｚ軸方向）に沿って変位してしまうことが抑えられ、望ましくは防止される（図６中の矢印ｄ１０１に示した「×（バツ）」印参照）。したがって、露出領域Ａｅに対応するアブレーション範囲の変動が抑制される（望ましくは防止される）結果、効果的なアブレーションが実施できるようになる。なお、このように、電極針１１が患部９０に対して経皮的に穿刺されている際には、例えば図６に示したように、高抵抗領域１２Ｈが、患部９０と皮膚表面Ｓｋとの間に位置するようにするのが望ましい。これは、高抵抗領域１２Ｈが皮膚表面Ｓｋに触れている場合、前述したように、患者９の呼吸の影響を受けて電極針１１が変位してしまうおそれがあるためである。

このようにして、本実施の形態のアブレーションデバイス１では、絶縁性チューブ１２における軸方向に沿った一部領域に、高抵抗領域１２Ｈを設けるようにしたので、効果的なアブレーションを実施することができる。よって、このアブレーションデバイス１では、例えば、上記比較例のアブレーションデバイス１０１と比べ、使用する際の利便性を向上させることが可能となる。

また、本実施の形態では、図２，図４，図６に示したように、このような高抵抗領域１２Ｈが、絶縁性チューブ１２における先端から離れた領域に設けられている。すなわち、絶縁性チューブ１２の先端付近は、摩擦抵抗が相対的に低い低抵抗領域１２Ｌとなっている。これにより、電極針１１がその先端側から経皮的に穿刺される際に、絶縁性チューブ１２では、高抵抗領域１２Ｈ以外の領域（低抵抗領域１２Ｌ）側から穿刺されるため、穿刺時には絶縁性チューブ１２の滑り易さが確保されることになる。その結果、アブレーションデバイス１を使用する際の利便性を、更に向上させることが可能となる。

更に、本実施の形態では、図２，図４，図６に示したように、ハンドル１３（操作部１３１）に対する所定の操作（前述したスライド操作：矢印ｄ１参照）に応じて、絶縁性チューブ１２が軸方向（Ｚ軸方向）に沿ってスライド可能に構成されている（矢印ｄ２参照）。また、このような絶縁性チューブ１２における軸方向に沿ったスライド動作に伴って、上記した高抵抗領域１２Ｈもまた、軸方向に沿ってスライド可能となっている（矢印ｄ３参照）。これにより、例えば図６に示したように、電極針１１がその先端側から経皮的に穿刺された状態で、例えば、軸方向（Ｚ軸方向）に沿った高抵抗領域１２Ｈの位置の微調整ができるようになる（図６中の括弧内の矢印ｄ２，ｄ３参照）。その結果、このように電極針１１が穿刺された後においても、露出領域Ａｅに対応するアブレーション範囲の微調整ができるようになるため、アブレーションデバイス１を使用する際の利便性を、更に向上させることが可能となる。

＜２．変形例＞
続いて、上記実施の形態の変形例（変形例１，２）について説明する。なお、実施の形態における構成要素と同一のものには同一の符号を付し、適宜説明を省略する。

図７は、変形例１，２に係るアブレーションデバイスの構成例を、模式的に側面図で表したものである。具体的には、図７（Ａ）は、変形例１に係るアブレーションデバイス（アブレーションデバイス１Ａ）における電極針１１等の先端側の構成例を、模式的に側面図で示している。また、図７（Ｂ）は、変形例２に係るアブレーションデバイス（アブレーションデバイス１Ｂ）における電極針１１等の先端側の構成例を、模式的に側面図で示している。

［変形例１］
図７（Ａ）に示した変形例１のアブレーションデバイス１Ａは、実施の形態のアブレーションデバイス１において、絶縁性チューブ１２の代わりに絶縁性チューブ１２Ａを設けたものに対応しており、他の構成は同様となっている。この絶縁性チューブ１２Ａでは、高抵抗領域１２Ｈが１つだけ設けられていた絶縁性チューブ１２とは異なり、軸方向（Ｚ軸方向）に沿って互いに分離した位置に、複数（この例では３つ）の高抵抗領域１２Ｈが設けられている。なお、この絶縁性チューブ１２Ａにおいても、絶縁性チューブ１２と同様に、これら複数の高抵抗領域１２Ｈはそれぞれ、絶縁性チューブ１２Ａにおける先端から離れた領域に設けられている。

このようにして変形例１のアブレーションデバイス１Ａでは、絶縁性チューブ１２Ａの軸方向に沿って互いに分離した位置に、複数の高抵抗領域１２Ｈを設けるようにしたので、以下のようになる。すなわち、電極針１１の軸方向（Ｚ軸方向）に沿った変位が更に抑えられ、前述したアブレーション範囲の変動が更に抑制されることから、更に効果的なアブレーションが実施できるようになる。その結果、この変形例１では、アブレーションデバイスを使用する際の利便性を、更に向上させることが可能となる。

［変形例２］
一方、図７（Ｂ）に示した変形例２のアブレーションデバイス１Ｂは、実施の形態のアブレーションデバイス１において、絶縁性チューブ１２の代わりに絶縁性チューブ１２Ｂを設けたものに対応しており、他の構成は同様となっている。この絶縁性チューブ１２Ｂでは、高抵抗領域１２Ｈ内における基端から先端へ向けて、摩擦抵抗が段階的に増加している。具体的には、この図７（Ｂ）に示した例では、高抵抗領域１２Ｈはその基端から先端へ向けて、３種類の高抵抗領域１２Ｈａ，１２Ｈｂ，１２Ｈｃを有している。そして、これらの高抵抗領域１２Ｈａ，１２Ｈｂ，１２Ｈｃにおける摩擦抵抗ＲｆＨａ，ＲｆＨｂ，ＲｆＨｃ同士が、低抵抗領域１２Ｌの摩擦抵抗ＲｆＬを含め、以下のような段階的な大小関係となっている。すなわち、図７（Ｂ）中にも示したように、（ＲｆＨａ＞ＲｆＨｂ＞ＲｆＨｃ＞ＲｆＬ）という、段階的な大小関係となっている。

このようにして変形例２のアブレーションデバイス１Ｂでは、絶縁性チューブ１２Ｂの高抵抗領域１２Ｈ内における基端から先端へ向けて、摩擦抵抗が段階的に増加しているようにしたので、以下のようになる。すなわち、この場合も上記した変形例１と同様に、電極針１１の軸方向（Ｚ軸方向）に沿った変位が更に抑えられ、前述したアブレーション範囲の変動が更に抑制されることから、更に効果的なアブレーションが実施できるようになる。その結果、この変形例２においても、アブレーションデバイスを使用する際の利便性を、更に向上させることが可能となる。

＜３．その他の変形例＞
以上、実施の形態および変形例をいくつか挙げて本発明を説明したが、本発明はこれらの実施の形態等に限定されず、種々の変形が可能である。

例えば、上記実施の形態等において説明した各部材の材料等は限定されるものではなく、他の材料としてもよい。また、上記実施の形態等では、アブレーションデバイス等の構成を具体的に挙げて説明したが、必ずしも全ての部材を備える必要はなく、また、他の部材を更に備えていてもよい。更に、上記実施の形態等で説明した各種パラメータの値や範囲、大小関係等についても、上記実施の形態等で説明したものには限られず、他の値や範囲、大小関係等であってもよい。

また、上記実施の形態等では、アブレーションデバイスにおける電極針や絶縁性チューブ、ハンドル等の構成を具体的に挙げて説明したが、これらの各部材の構成は、上記実施の形態等で説明したものには限られず、他の構成としてもよい。具体的には、例えば場合によっては、電極針が、上記実施の形態等で説明したモノポーラ型ではなく、バイポーラ型であってもよい。また、絶縁性チューブや高抵抗領域はそれぞれ、電極針の軸方向に沿ってスライド可能となっていなくてもよい。また、絶縁性チューブにおける高抵抗領域の大きさや形状、個数、ならびに、高抵抗領域における摩擦抵抗の大きさ（固定値あるいは領域に応じて変化する値）等については、上記実施の形態等で説明したものには限られず、他の大きさや形状、個数等となっていてもよい。更に、上記実施の形態等では、高抵抗領域が絶縁性チューブにおける先端から離れた領域に設けられている場合を例に挙げて説明したが、この場合には限られない。すなわち、例えば高抵抗領域が、絶縁性チューブにおける先端の領域に設けられているようにしてもよい。

更に、上記実施の形態等では、液体供給装置２および電源装置３のブロック構成を具体的に挙げて説明したが、上記実施の形態等で説明した各ブロックを必ずしも全て備える必要はなく、また、他のブロックを更に備えていてもよい。また、アブレーションシステム５全体としても、上記実施の形態等で説明した各装置に加えて、他の装置を更に備えていてもよい。

また、上記実施の形態等では、アブレーションの際に、電極針１１と対極板４との間で高周波通電がなされるアブレーションデバイスを具体的に挙げて説明したが、上記実施の形態等には限らない。具体的には、例えば、ラジオ波やマイクロ波などの他の電磁波を使用したアブレーションを行うアブレーションデバイスであってもよい。

加えて、上記実施の形態等では、電力供給制御機能および液体供給制御機能を含む制御部３３における制御動作（アブレーションの手法）について具体的に説明した。しかしながら、これらの電力供給制御機能および液体供給制御機能等における制御手法（アブレーションの手法）については、上記実施の形態等で挙げた手法には限られない。

また、上記実施の形態等で説明した一連の処理は、ハードウェア（回路）で行われるようにしてもよいし、ソフトウェア（プログラム）で行われるようにしてもよい。ソフトウェアで行われるようにした場合、そのソフトウェアは、各機能をコンピュータにより実行させるためのプログラム群で構成される。各プログラムは、例えば、上記コンピュータに予め組み込まれて用いられてもよいし、ネットワークや記録媒体から上記コンピュータにインストールして用いられてもよい。

更に、これまでに説明した各種の例を、任意の組み合わせで適用させるようにしてもよい。

１，１Ａ，１Ｂ…アブレーションデバイス、１１…電極針、１２，１２Ａ，１２Ｂ…絶縁性チューブ、１２Ｈ，１２Ｈａ，１２Ｈｂ，１２Ｈｃ…高抵抗領域、１２Ｌ…低抵抗領域、１３…ハンドル、１３０…ハンドル本体、１３１…操作部、１３２…スライド機構、２…液体供給装置、２１…液体供給部、３…電源装置、３１…入力部、３２…電源部、３３…制御部、３４…表示部、４…対極板、５…アブレーションシステム、９…患者、９０…患部、Ｌ…液体、ＣＴＬ１，ＣＴＬ２…制御信号、Ｓｍ…操作信号、Ｐout…電力、Ｉｔ…温度情報、Ｚｍ…インピーダンス値、Ａｅ…露出領域（電極領域）、Ａｈ１，Ａｈ２…熱凝固領域、Ｓｋ…皮膚表面、ＲｆＨ，ＲｆＨａ，ＲｆＨｂ，ＲｆＨｃ，ＲｆＬ…摩擦抵抗。

Claims (5)

1. 体内の患部に対して経皮的に穿刺されると共に、アブレーションを行うための電力が供給される電極針と、
   前記電極針の先端側に位置する電極領域を露出させつつ、前記電極針の軸方向に沿って前記電極針の周囲を被覆する絶縁性チューブと、
   前記電極針の基端側に装着されたハンドルと
   を備え、
   前記絶縁性チューブは、前記軸方向に沿った一部領域に、摩擦抵抗が相対的に高い高抵抗領域を有する
   アブレーションデバイス。
2. 前記高抵抗領域が、前記絶縁性チューブにおける先端から離れた領域に設けられている
   請求項１に記載のアブレーションデバイス。
3. 前記ハンドルに対する所定の操作に応じて、前記絶縁性チューブが前記軸方向に沿ってスライド可能に構成されていると共に、
   前記絶縁性チューブにおける前記軸方向に沿ったスライド動作に伴って、前記高抵抗領域も、前記軸方向に沿ってスライド可能となっている
   請求項１または請求項２に記載のアブレーションデバイス。
4. 前記高抵抗領域が、前記軸方向に沿って互いに分離した位置に、複数設けられている
   請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載のアブレーションデバイス。
5. 前記高抵抗領域内における基端から先端へ向けて、摩擦抵抗が段階的に増加している
   請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載のアブレーションデバイス。

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