JP2019166408A - Decontamination method using chlorine oxide gas - Google Patents

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Abstract

To provide a decontamination method capable of decontaminating a large space safely and in a short time compared with conventional methods without corroding contents in the space necessary to be decontaminated.SOLUTION: A decontamination method for removing contaminants by providing gas-phase chlorine dioxide to a closed space and reducing chemical corrosion of contents in the closed space includes a step for generating the chlorine oxide gas in the closed space under an environment of steam of 10 g/mor less and a step for introducing the chlorine oxide gas to the closed space at a chlorine oxide gas concentration of 230 ppm or less and a CT value of 50-2,000 ppm hr.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、二酸化塩素の気相付与による閉鎖空間の除染方法に関する。   The present invention relates to a decontamination method for a closed space by applying vapor phase of chlorine dioxide.

ホルマリンによる除染方法は、ホルムアルデヒドの優れた浸透力から医薬品製造施設等における除染方法の主流として活用されてきた。しかし、発がん性の懸念から各国においてホルマリンの使用規制が強化されたため、除染作業における過酸化水素や過酢酸等のホルマリン代替薬品の検討が進んでいる。   The decontamination method using formalin has been utilized as a mainstream decontamination method in pharmaceutical manufacturing facilities and the like because of the excellent permeability of formaldehyde. However, due to concerns about carcinogenicity, regulations on the use of formalin have been strengthened in each country, so studies on alternatives to formalin such as hydrogen peroxide and peracetic acid in decontamination work are proceeding.

過酸化水素は、凝縮による生産装置や内装建材の腐食が懸念されること、また残留ガスの除去に時間がかかることから、特に異物の混入が厳しく制限される無菌室の除染においては使用が困難となる場合がある。また、過酢酸製剤は通常霧状で使用されることから、気中拡散性に劣り、広い空間の除染には適していないという問題がある。   Hydrogen peroxide is used in decontamination of aseptic rooms, where contamination of foreign substances is severely restricted, because there is a concern about the corrosion of production equipment and interior building materials due to condensation and the removal of residual gas. It can be difficult. In addition, since a peracetic acid preparation is usually used in the form of a mist, there is a problem that it is inferior in air diffusibility and is not suitable for decontamination over a wide space.

二酸化塩素ガスは、アメリカ環境保護局(Environmental Protection Agency,EPA)において燻蒸の滅菌剤として1988年より認可されている。また、環境消毒や無菌操作が求められるバイオセイフティキャビネット内を二酸化塩素ガスで滅菌する方法は、米国国家規格協会(ANSI)によって規格化されている。   Chlorine dioxide gas has been approved since 1988 by the United States Environmental Protection Agency (EPA) as a fumigant sterilant. A method for sterilizing biosafety cabinets that require environmental disinfection and aseptic operation with chlorine dioxide gas is standardized by the American National Standards Institute (ANSI).

特許文献1には、閉鎖空間に環境制御下で所定のCT値の二酸化塩素ガスを導入することによる除染方法が開示されている。   Patent Document 1 discloses a decontamination method by introducing chlorine dioxide gas having a predetermined CT value into a closed space under environmental control.

特許第5823957号公報Japanese Patent No. 5823957

本発明は、防菌、防カビ対策が必要な施設を対象として、除染を必要とする空間内の内容物を腐食することなく、従来に比べ安全かつ短時間に大空間の除染が可能な除染方法を提供するものである。   The present invention is intended for facilities that require antibacterial and antifungal measures, and can decontaminate large spaces in a safer and shorter time than conventional methods without corroding the contents in the space that requires decontamination. A decontamination method is provided.

本発明者らは、上記課題解決のため鋭意検討した結果、閉鎖空間に、所定の水蒸気量以下の環境下、二酸化塩素ガスを導入することにより、空間内の内容物を腐食することなく、従来に比べ安全かつ短時間に除染を実施できることを見出し、本発明を完成させた。   As a result of diligent investigations for solving the above problems, the present inventors have introduced a chlorine dioxide gas into an enclosed space under an environment with a predetermined amount of water vapor or less, thereby preventing the contents in the space from corroding. As a result, the present inventors have found that decontamination can be carried out safely and in a shorter time than the above.

すなわち、本発明は、
〔1〕閉鎖空間内での二酸化塩素の気相付与によって汚染物質を除去し、かつ前記閉鎖空間内にある内容物の化学腐食を低減する方法であって:
水蒸気量10g/m3以下の環境下とした前記閉鎖空間において;
二酸化塩素ガスを発生させる工程と;
二酸化塩素ガス濃度10〜230ppm、かつCT値50〜2000ppm・時で二酸化塩素ガスを前記閉鎖空間へ導入する工程とを含む方法、
That is, the present invention
[1] A method of removing contaminants by applying a gaseous phase of chlorine dioxide in a closed space and reducing chemical corrosion of contents in the closed space:
In the enclosed space in an environment with a water vapor volume of 10 g / m 3 or less;
Generating chlorine dioxide gas;
A step of introducing chlorine dioxide gas into the enclosed space at a chlorine dioxide gas concentration of 10 to 230 ppm and a CT value of 50 to 2000 ppm.

〔2〕閉鎖空間内での二酸化塩素の気相付与によって汚染物質を除去し、かつ前記閉鎖空間内にある内容物の化学腐食を低減する方法であって:
水蒸気量10g/m3以下の環境下とした前記閉鎖空間において;
二酸化塩素ガスを発生させる工程と;
二酸化塩素ガス濃度20〜230ppm、かつCT値60〜2000ppm・時で二酸化塩素ガスを前記閉鎖空間へ導入する工程とを含む、〔1〕記載の方法、
[2] A method of removing contaminants by applying a gaseous phase of chlorine dioxide in a closed space and reducing chemical corrosion of the contents in the closed space:
In the enclosed space in an environment with a water vapor volume of 10 g / m 3 or less;
Generating chlorine dioxide gas;
A step of introducing chlorine dioxide gas into the enclosed space at a chlorine dioxide gas concentration of 20 to 230 ppm and a CT value of 60 to 2000 ppm · hour,

〔3〕汚染物質を3log低減するのに有効な二酸化塩素ガス濃度10〜100ppm、かつCT値50〜200ppm・時で二酸化塩素ガスを閉鎖空間へ導入する工程を含む、〔1〕または〔2〕記載の方法、 [3] including a step of introducing chlorine dioxide gas into a closed space at a chlorine dioxide gas concentration of 10 to 100 ppm and CT value of 50 to 200 ppm · hour effective to reduce pollutants by 3 logs, [1] or [2] Described method,

〔4〕汚染物質を3log低減するのに有効な二酸化塩素ガス濃度20〜100ppm、かつCT値60〜150ppm・時で二酸化塩素ガスを閉鎖空間へ導入する工程を含む、〔1〕または〔2〕記載の方法、 [4] including a step of introducing chlorine dioxide gas into a closed space at a chlorine dioxide gas concentration of 20 to 100 ppm and a CT value of 60 to 150 ppm · hour which is effective in reducing pollutants by 3 logs, [1] or [2] Described method,

〔5〕汚染物質を4log低減するのに有効な二酸化塩素ガス濃度20〜150ppm、かつCT値100〜330ppm・時で二酸化塩素ガスを閉鎖空間へ導入する工程を含む、〔1〕または〔2〕記載の方法、 [5] including a step of introducing chlorine dioxide gas into a closed space at a chlorine dioxide gas concentration of 20 to 150 ppm and a CT value of 100 to 330 ppm · hour effective to reduce pollutants by 4 logs, [1] or [2] Described method,

〔6〕汚染物質を4log低減するのに有効な二酸化塩素ガス濃度50〜150ppm、かつCT値150〜330ppm・時で二酸化塩素ガスを閉鎖空間へ導入する工程を含む、〔1〕または〔2〕記載の方法、 [6] including a step of introducing chlorine dioxide gas into a closed space at a chlorine dioxide gas concentration of 50 to 150 ppm and CT value of 150 to 330 ppm · hour effective to reduce pollutants by 4 logs, [1] or [2] Described method,

〔7〕汚染物質を5log低減するのに有効な二酸化塩素ガス濃度40〜200ppm、かつCT値130〜600ppm・時で二酸化塩素ガスを閉鎖空間へ導入する工程を含む、〔1〕または〔2〕記載の方法、 [7] including a step of introducing chlorine dioxide gas into a closed space at a chlorine dioxide gas concentration of 40 to 200 ppm and CT value of 130 to 600 ppm, which is effective in reducing pollutants by 5 logs, [1] or [2] Described method,

〔8〕汚染物質を5log低減するのに有効な二酸化塩素ガス濃度80〜200ppm、かつCT値300〜600ppm・時で二酸化塩素ガスを閉鎖空間へ導入する工程を含む、〔1〕または〔2〕記載の方法、 [8] including a step of introducing chlorine dioxide gas into the closed space at a chlorine dioxide gas concentration of 80 to 200 ppm effective for reducing the pollutants by 5 log and a CT value of 300 to 600 ppm, [1] or [2] Described method,

〔9〕汚染物質を6log低減するのに有効な二酸化塩素ガス濃度50〜230ppm、かつCT値400〜2000ppm・時で二酸化塩素ガスを閉鎖空間へ導入する工程を含む、〔1〕または〔2〕記載の方法、 [9] including a step of introducing chlorine dioxide gas into a closed space at a chlorine dioxide gas concentration of 50 to 230 ppm and a CT value of 400 to 2000 ppm effective for reducing 6 logs of contaminants, [1] or [2] Described method,

〔10〕汚染物質を6log低減するのに有効な二酸化塩素ガス濃度100〜230ppm、かつCT値500〜2000ppm・時で二酸化塩素ガスを閉鎖空間へ導入する工程を含む、〔1〕または〔2〕記載の方法、 [10] including a step of introducing chlorine dioxide gas into a closed space at a chlorine dioxide gas concentration of 100 to 230 ppm and a CT value of 500 to 2000 ppm effective for reducing 6 logs of contaminants, [1] or [2] Described method,

〔11〕閉鎖空間内の相対湿度が60%以下である、〔1〕〜〔10〕のいずれかに記載の方法、 [11] The method according to any one of [1] to [10], wherein the relative humidity in the enclosed space is 60% or less,

〔12〕閉鎖空間内の相対湿度が45%以下である、〔1〕〜〔10〕のいずれかに記載の方法、 [12] The method according to any one of [1] to [10], wherein the relative humidity in the enclosed space is 45% or less,

〔13〕汚染物質が、細菌、真菌、およびウイルスからなる群から選ばれる1種以上である、〔1〕〜〔12〕のいずれかに記載の方法、 [13] The method according to any one of [1] to [12], wherein the contaminant is one or more selected from the group consisting of bacteria, fungi, and viruses.

〔14〕汚染物質が、芽胞形成菌である、〔1〕〜〔12〕のいずれかに記載の方法、に関する。 [14] The method according to any one of [1] to [12], wherein the contaminant is a spore-forming bacterium.

本発明によれば、防菌、防カビ対策が必要な施設を対象として、除染を必要とする空間内の内容物を腐食することなく、従来に比べ安全で短時間に大空間の除染を行うことができる。したがって、本発明は、特に異物の混入が厳しく制限される医薬品工場や食品工場等における除染の際に非常に有用な手法となり得る。   According to the present invention, for facilities requiring antibacterial and antifungal measures, the decontamination of a large space is safer and quicker than before without corroding the contents in the space requiring decontamination. It can be performed. Therefore, the present invention can be a very useful technique especially in decontamination in pharmaceutical factories, food factories, etc., where the contamination of foreign substances is severely restricted.

本実施形態において使用される除染システムの模式図である。It is a schematic diagram of the decontamination system used in this embodiment. 高濃度曝露試験における二酸化塩素ガス濃度の経時変化を表す概略的なグラフである。It is a schematic graph showing the time-dependent change of the chlorine dioxide gas density | concentration in a high concentration exposure test. 低濃度曝露試験における二酸化塩素ガス濃度の経時変化を表す概略的なグラフである。It is a schematic graph showing the time-dependent change of the chlorine dioxide gas density | concentration in a low concentration exposure test. 実施例32の、閉鎖空間内の二酸化塩素ガス濃度の経時変化を示すグラフである。It is a graph which shows the time-dependent change of the chlorine dioxide gas density | concentration in closed space of Example 32. 相対湿度と乾球温度より求めた水蒸気量換算表である。It is the water vapor amount conversion table | surface calculated | required from relative humidity and dry-bulb temperature. 実施例1〜7の二酸化塩素ガスCT値と残存菌数との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the chlorine dioxide gas CT value of Examples 1-7 and the number of residual bacteria.

以下、本発明の構成について詳述する。   Hereinafter, the configuration of the present invention will be described in detail.

<二酸化塩素ガスの特徴>
二酸化塩素ガスは、解放系では揮散しやすいという特徴を有し、汚染物質の除去に有効な濃度まで迅速に濃度を上昇させることができる。また、狭隘な空間にも進入しやすいことから、狭隘な空間に存在する汚染物質に対しても十分に除去効果を発揮することができる。
<Characteristics of chlorine dioxide gas>
Chlorine dioxide gas is characterized by being easily volatilized in an open system, and can quickly increase its concentration to a concentration effective for removing contaminants. In addition, since it easily enters a narrow space, it is possible to exert a sufficient removal effect on contaminants present in the narrow space.

二酸化塩素は、殺菌力が非常に優れており、殺菌消毒液として一般に使用されている無水エタノールの約50万倍、グルコン酸クロルヘキシジンの約100倍、塩化ベンザルコニウムの約100倍、次亜塩素酸ナトリウムの約10倍の殺菌力を有している。また、二酸化塩素は、塩素のようにpH値の上昇による殺菌力の低下が見られず、広範囲なpH領域での有効性が認められている。   Chlorine dioxide has very good sterilizing power, approximately 500,000 times that of anhydrous ethanol generally used as a disinfectant, about 100 times that of chlorhexidine gluconate, about 100 times that of benzalkonium chloride, hypochlorous acid It has about 10 times the bactericidal power of sodium acid. Chlorine dioxide does not show a decrease in sterilizing power due to an increase in pH value unlike chlorine, and its effectiveness in a wide pH range is recognized.

二酸化塩素は、抗菌スペクトルが幅広く、細菌、真菌、ウイルス等の汚染物質に対し優れた滅菌および殺菌効果を示す。例えば、大腸菌やサルモネラ菌の他、レジオネラ菌、緑膿菌、腸炎ビブリオ、乳酸球菌、乳酸桿菌、セレウス菌、クロストリジウム、カンピロバクター、クラドスポリウム、フザリウム、クモノスカビ、青カビ、白癬菌等に対する殺菌試験でその効果が確認されている。また、インフルエンザウイルス、ノロウイルス、HIV、B型肝炎ウイルス、ロタウイルス、イヌパルボウイルス等のウイルスに対する不活化も確認されている。   Chlorine dioxide has a broad antibacterial spectrum and exhibits excellent sterilization and bactericidal effects against contaminants such as bacteria, fungi and viruses. For example, in addition to Escherichia coli, Salmonella, Legionella, Pseudomonas aeruginosa, Vibrio parahaemolyticus, Lactococcus, Lactobacillus, Bacillus cereus, Clostridium, Campylobacter, Cladosporium, Fusarium, Kumonskabi, Blue mold, Ringworm, etc. Has been confirmed. Inactivation of viruses such as influenza virus, norovirus, HIV, hepatitis B virus, rotavirus and canine parvovirus has also been confirmed.

二酸化塩素は化学構造的に安定であり、発がん性物質を生成せず、かつ人体に対する毒性も少なく安全性が高い等の利点もある。   Chlorine dioxide is advantageous in that it is chemically structurally stable, does not produce carcinogenic substances, has low toxicity to the human body, and is highly safe.

二酸化塩素ガスは、比較的短時間で分解される。そのため、除染処理後の後処理の手間や労力が省かれる。   Chlorine dioxide gas is decomposed in a relatively short time. Therefore, the labor and labor of post-processing after decontamination processing are saved.

<汚染物質の除去について>
本実施形態に係る除染方法によれば、閉鎖空間内での二酸化塩素の気相付与によって汚染物質を短時間で効果的に除去することができる。
<Removal of pollutants>
According to the decontamination method according to the present embodiment, contaminants can be effectively removed in a short time by applying a gaseous phase of chlorine dioxide in a closed space.

本実施形態において「閉鎖空間」とは、完全に密閉された空間である必要はなく、二酸化塩素ガスが空間内において充満されるような空間であればよい。このような空間であれば、本発明の効果を十分に得ることができる。「閉鎖空間」は特に制限されないが、異物の混入が厳しく制限される、医薬品工場、食品工場、病院、研究所等の施設おける製造ライン、作業室、実験室、手術室等において好適に実施され、これらは密閉された空間であることがより好ましい。   In the present embodiment, the “closed space” does not have to be a completely sealed space, but may be a space in which chlorine dioxide gas is filled in the space. With such a space, the effects of the present invention can be sufficiently obtained. The “closed space” is not particularly limited, but it is preferably implemented in production lines, work rooms, laboratories, operating rooms, etc. in facilities such as pharmaceutical factories, food factories, hospitals, laboratories, etc., where contamination by foreign substances is severely restricted. More preferably, these are sealed spaces.

「閉鎖空間」には、金属製物体、非金属製物体、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される内容物を含むことができる。閉鎖空間内の金属製物体は、鋼、アルミニウム、鉄、銅、クロム、鉛、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される金属から形成されることができる。非金属製物体は、木材、れんが、石材、シンダーコンクリート、セラミックタイル、天井タイル、カーペット、織物、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される材料から形成されることができる。内容物の具体例としては、例えば、生産装置、製造機械、空調機、除湿機、計測器、分析機器、電子機器(例えば、電話機器、コンピューター、コピー機および他の電子オフィス機器)、照明機器、音響機器、内部建材および配管、実験器具、手術用具、工具、その他の備品等が挙げられる。   The “closed space” can include contents selected from the group consisting of metallic objects, non-metallic objects, and combinations thereof. The metallic object in the enclosed space can be formed from a metal selected from the group consisting of steel, aluminum, iron, copper, chromium, lead, and combinations thereof. The non-metallic object can be formed from a material selected from the group consisting of wood, brick, stone, cinder concrete, ceramic tile, ceiling tile, carpet, textile, and combinations thereof. Specific examples of contents include, for example, production equipment, manufacturing machines, air conditioners, dehumidifiers, measuring instruments, analytical equipment, electronic equipment (for example, telephone equipment, computers, copiers and other electronic office equipment), lighting equipment, and the like. , Acoustic equipment, internal building materials and piping, laboratory instruments, surgical tools, tools, and other equipment.

本実施形態における「汚染物質」としては、例えば、細菌、真菌、ウイルス等が挙げられる。また、本実施形態における「汚染物質の除去方法」とは、前記汚染物質を、消毒、殺菌および/または滅菌する方法を意味する。   Examples of the “contaminant” in the present embodiment include bacteria, fungi, viruses, and the like. The “pollutant removal method” in the present embodiment means a method of disinfecting, sterilizing and / or sterilizing the contaminant.

「細菌」とは、ウイルスよりも大きく、硬い細胞壁を持つ単細胞の微生物である。細菌としては、例えば、ボツリヌス菌、ウェルシュ菌、セレウス菌、枯草菌、破傷風菌、炭疽菌等の芽胞形成菌や、ブドウ球菌、大腸菌、サルモネラ菌、レジオネラ菌、緑膿菌、コレラ菌、結核菌、レンサ球菌、腸炎ビブリオ等が挙げられる。本実施形態においては、乾燥、高温、薬品等に強い抵抗性を示し除去が困難とされる、前記に例示される芽胞形成菌に対しても高い除去効果を発揮する。芽胞形成菌としては、例えば、バシラス属(Bacillus)、クロストリジウム属(Clostridium)等が挙げられる。   “Bacteria” are unicellular microorganisms that are larger than viruses and have a hard cell wall. Examples of bacteria include spore-forming bacteria such as Clostridium botulinum, Clostridium perfringens, Bacillus cereus, Bacillus subtilis, Tetanus, Bacillus anthracis, Staphylococcus, Escherichia coli, Salmonella, Legionella, Pseudomonas aeruginosa, Vibrio cholerae, Mycobacterium tuberculosis, Examples include streptococci and Vibrio parahaemolyticus. In the present embodiment, a high removal effect is exerted even against the spore-forming bacteria exemplified above, which are resistant to drying, high temperature, chemicals and the like and are difficult to remove. Examples of spore-forming bacteria include the genus Bacillus and the genus Clostridium.

「真菌」とは、菌類のうち、細菌および変形菌(粘菌)を除くものの総称であって、カビ類、キノコ類、酵母類等が含まれる。   “Fungus” is a general term for fungi, excluding bacteria and deformed bacteria (slime mold), and includes molds, mushrooms, yeasts and the like.

「ウイルス」とは、中心の核酸(DNAもしくはRNAのいずれか)がカプシドと呼ばれる殻に包まれた単純な構造を有している構造体のことをいう。ウイルスとしては、例えば、エボラウイルス、ノロウイルス、ロタウイルス、インフルエンザウイルス、アデノウイルス、コロナウイルス、麻疹ウイルス、風疹ウイルス、肝炎ウイルス、ヘルペスウイルス、HIV等が挙げられる。   A “virus” refers to a structure having a simple structure in which a central nucleic acid (either DNA or RNA) is wrapped in a shell called a capsid. Examples of the virus include Ebola virus, Norovirus, Rotavirus, Influenza virus, Adenovirus, Coronavirus, Measles virus, Rubella virus, Hepatitis virus, Herpes virus, HIV and the like.

本実施形態において、3log低減、4log低減、5log低減、6log低減とは、それぞれ、バイオロジカルインジケーター(BI)に担持された初期菌数に対して、殺菌操作により残存した菌数がどの位のオーダーまで低減したかを表す指標である。具体的には、例えば、初期菌数が2.8×106 c.f.u.の場合、3log低減は菌数が2.8×103 c.f.u.以下、4log低減は菌数が2.8×102 c.f.u.以下、5log低減は菌数が2.8×10 c.f.u.以下、6log低減は菌数が2.8c.f.u.以下となることを示す。 In the present embodiment, 3 log reduction, 4 log reduction, 5 log reduction, and 6 log reduction are the order of the number of bacteria remaining by the sterilization operation with respect to the initial number of bacteria carried on the biological indicator (BI), respectively. It is an index showing whether it has been reduced. Specifically, for example, when the initial number of bacteria is 2.8 × 10 6 cfu, 3 log reduction is 2.8 × 10 3 cfu or less, 4 log reduction is 2.8 × 10 2 cfu or less, and 5 log reduction is the number of bacteria. Is 2.8 × 10 cfu or less, and 6 log reduction indicates that the number of bacteria is 2.8 cfu or less.

本実施形態において「消毒する」とは、閉鎖空間および閉鎖空間の内容物を清浄化するプロセスを指し、一般的には、生菌の3log低減、すなわち99.9%以上の減少を指す。   In the present embodiment, “disinfect” refers to a process of cleaning the enclosed space and the contents of the enclosed space, and generally refers to a 3 log reduction of viable bacteria, that is, a reduction of 99.9% or more.

本実施形態において「殺菌する」とは、閉鎖空間および閉鎖空間の内容物上にある病原体を除去するまたはこれらを不活性化させるプロセス、例えば、病原菌および/または細菌を殺作用するまたは無害化するプロセスを指し、一般的には、生菌の4log低減、すなわち99.99%以上の減少を指す。   In the present embodiment, “sterilize” means a process of removing or inactivating pathogens on the enclosed space and the contents of the enclosed space, for example, killing or detoxifying the pathogenic bacteria and / or bacteria. Refers to the process and generally refers to a 4 log reduction of viable bacteria, ie a reduction of 99.99% or more.

本実施形態において「滅菌する」とは、微生物の生存能力を完全に除去するプロセス、例えば、非病原性および病原性の胞子、真菌、細菌、およびウイルスを全て殺作用することを指し、一般的には、生菌の6log低減、すなわち99.9999%以上の減少を指す。これは、統計学的には、微生物およびそれらの胞子を全て破壊すること、すなわち生菌生存率が0であるものと当業者に理解される。   In this embodiment, “sterilize” refers to a process that completely eliminates the viability of microorganisms, such as killing all non-pathogenic and pathogenic spores, fungi, bacteria, and viruses. Refers to a 6 log reduction of viable bacteria, ie a reduction of 99.9999% or more. This is statistically understood by those skilled in the art as destroying all the microorganisms and their spores, i.e. having zero viability.

<環境条件の設定>
本実施形態では、除染される閉鎖空間内の水蒸気量が10g/m3以下に調整されることを特徴とする。閉鎖空間内の相対湿度が低い場合であっても、水蒸気量が10g/m3以上となった場合、特に表面処理が施されていない鉄、アルミニウム、銅などは腐食の発生リスクが高くなり、従来から除染時に実施されている相対湿度による室内管理(例えば、特許文献1)では、内容物の腐食を防止するのに不十分であった。また、閉鎖空間内の水蒸気量を10g/m3以下とすることにより、二酸化塩素ガスの拡散がより良好となる利点がある。閉鎖空間内の水蒸気量が、二酸化塩素発生時から除染終了時まで10g/m3以下に維持されていれば、本発明の効果を十分に得ることができる。好ましくは9.5g/m3以下であり、より好ましくは9.0g/m3以下であり、さらに好ましくは8.5g/m3以下であり、特に好ましくは8.0g/m3以下である。閉鎖空間内の水蒸気量の下限値は特に制限されないが、例えば、0.1g/m3以上、0.5g/m3以上、1.0g/m3以上、2.0g/m3以上、3.0g/m3以上、4.0g/m3以上とすることができる。
<Setting environmental conditions>
In this embodiment, the amount of water vapor in the decontaminated closed space is adjusted to 10 g / m 3 or less. Even when the relative humidity in the enclosed space is low, when the water vapor amount is 10 g / m 3 or more, iron, aluminum, copper, etc., which are not particularly surface-treated, have a higher risk of corrosion. Conventional indoor management (for example, Patent Document 1) based on relative humidity, which has been performed at the time of decontamination, has been insufficient to prevent corrosion of contents. Moreover, there exists an advantage by which the spreading | diffusion of chlorine dioxide gas becomes more favorable by making the amount of water vapor | steam in closed space into 10 g / m < 3 > or less. If the amount of water vapor in the closed space is maintained at 10 g / m 3 or less from the time of chlorine dioxide generation to the end of decontamination, the effect of the present invention can be sufficiently obtained. Preferably at 9.5 g / m 3 or less, more preferably 9.0 g / m 3 or less, more preferably 8.5 g / m 3 or less, particularly preferably at 8.0 g / m 3 or less . The lower limit of the amount of water vapor in the enclosed space is not particularly limited, but for example, 0.1 g / m 3 or more, 0.5 g / m 3 or more, 1.0 g / m 3 or more, 2.0 g / m 3 or more, 3 .0g / m 3 or more, it may be 4.0 g / m 3 or more.

閉鎖空間内の温度(乾球温度)は、31℃以下に調整されることが好ましい。この範囲内であれば、相対湿度が31%以下において常に水蒸気量が10g/m3以下となる(図5参照)。閉鎖空間内の室温は、好ましくは5〜31℃であり、より好ましくは16〜30℃であり、さらに好ましくは18〜28℃であり、特に好ましくは20〜26℃である。 The temperature in the enclosed space (dry bulb temperature) is preferably adjusted to 31 ° C. or lower. Within this range, the amount of water vapor is always 10 g / m 3 or less when the relative humidity is 31% or less (see FIG. 5). The room temperature in the closed space is preferably 5 to 31 ° C, more preferably 16 to 30 ° C, still more preferably 18 to 28 ° C, and particularly preferably 20 to 26 ° C.

閉鎖空間内の相対湿度は、好ましくは60%以下であり、より好ましくは45%以下であり、より好ましくは37%以下であり、より好ましくは31%以下であり、さらに好ましくは30%以下であり、特に好ましくは28%以下である。閉鎖空間内の相対湿度の下限値は特に制限されないが、例えば、0.1%以上、0.5%以上、1.0%以上、5.0%以上、10%以上、15%以上、20%以上とすることができる。   The relative humidity in the enclosed space is preferably 60% or less, more preferably 45% or less, more preferably 37% or less, more preferably 31% or less, and further preferably 30% or less. Yes, particularly preferably 28% or less. The lower limit value of the relative humidity in the enclosed space is not particularly limited. For example, 0.1% or more, 0.5% or more, 1.0% or more, 5.0% or more, 10% or more, 15% or more, 20 % Or more.

水蒸気量(g/m3)は、気体の状態方程式に水蒸気分圧(hPa)および乾球温度(℃)を代入することにより求めることができる。水蒸気分圧(hPa)は、飽和水蒸気圧(hPa)に相対湿度(%)を掛けることにより求めることができる。飽和水蒸気圧(hPa)は、Telens(1930)の式に乾球温度(℃)を代入することにより求めることができる。図5に、相対湿度(%)と乾球温度(℃)より求めた水蒸気量換算表を示す。 The amount of water vapor (g / m 3 ) can be obtained by substituting the water vapor partial pressure (hPa) and the dry bulb temperature (° C.) into the gas equation of state. The water vapor partial pressure (hPa) can be determined by multiplying the saturated water vapor pressure (hPa) by the relative humidity (%). The saturated water vapor pressure (hPa) can be obtained by substituting the dry bulb temperature (° C.) into the Telens (1930) equation. FIG. 5 shows a water vapor amount conversion table obtained from relative humidity (%) and dry bulb temperature (° C.).

なお、本実施形態では、閉鎖空間内の水蒸気量が10g/m3以下であることが管理されていれば、除染中において空調機および/または除湿機を稼働することを必ずしも要しない。 In the present embodiment, it is not always necessary to operate the air conditioner and / or the dehumidifier during decontamination if it is managed that the amount of water vapor in the closed space is 10 g / m 3 or less.

<二酸化塩素の発生>
二酸化塩素ガスを発生させる発生源としては特に限定されないが、例えば、二酸化塩素が溶存された二酸化塩素水が挙げられる。このような二酸化塩素水からは、溶存された二酸化塩素ガスが遊離される。二酸化塩素水に溶存される二酸化塩素の濃度としては特に限定されず、衛生管理すべき空間の容積や、目的とする二酸化塩素ガス濃度に応じて適宜調整される。二酸化塩素は、例えば0.01〜0.8質量%となるように溶存されていればよい。本実施形態では、二酸化塩素水に対して、溶液中に空気を送り込む方法(エアレーション)、減圧する方法、送風する方法等を採用して、二酸化塩素ガスの遊離が促されてもよい。これらの中でも、二酸化塩素水に対してエアレーションを行うことにより、二酸化塩素ガスの遊離が促されやすく、除染される閉鎖空間の二酸化塩素ガス濃度は高められやすい。その結果、除染の所要時間は短縮化されやすい。
<Generation of chlorine dioxide>
Although it does not specifically limit as a generation source which generate | occur | produces chlorine dioxide gas, For example, the chlorine dioxide water in which chlorine dioxide was dissolved is mentioned. From such chlorine dioxide water, dissolved chlorine dioxide gas is liberated. It does not specifically limit as a density | concentration of the chlorine dioxide dissolved in chlorine dioxide water, It adjusts suitably according to the volume of the space which should be sanitized, and the target chlorine dioxide gas density | concentration. Chlorine dioxide should just be dissolved so that it may become 0.01-0.8 mass%, for example. In this embodiment, a method of sending air into the solution (aeration), a method of reducing pressure, a method of blowing air, or the like may be adopted for chlorine dioxide water to promote liberation of chlorine dioxide gas. Among these, by performing aeration on the chlorine dioxide water, liberation of the chlorine dioxide gas is easily promoted, and the chlorine dioxide gas concentration in the closed space to be decontaminated is easily increased. As a result, the time required for decontamination is likely to be shortened.

上記の他に、二酸化塩素ガスを発生させる発生源としては、例えば、亜塩素酸ナトリウム水溶液と、塩素、無機酸または有機酸とを製剤化した製剤が挙げられる。無機酸としては、塩酸、硫酸等が例示される。有機酸としては、クエン酸、乳酸、ピルビン酸、リンゴ酸、酒石酸、グルコン酸、グリコール酸、フマル酸、マロン酸、マレイン酸、シュウ酸、コハク酸、アクリル酸等が例示される。亜塩素酸ナトリウム水溶液と、これら塩素、無機酸または有機酸との反応により、二酸化塩素ガスが簡便に生成される。また、これら簡便な反応系は、わずか2種類の原料を適切に混合するだけであるため、製剤化されやすく、かつ、利用者が利用しやすい。製剤としては、亜塩素酸ナトリウムと、塩素、無機酸または有機酸とが適宜反応し得るように調整されたスプレー剤、くん煙剤、ゲル剤、シート剤、スティック剤等が例示される。   In addition to the above, the generation source for generating chlorine dioxide gas includes, for example, a preparation in which a sodium chlorite aqueous solution and chlorine, an inorganic acid or an organic acid are formulated. Examples of the inorganic acid include hydrochloric acid and sulfuric acid. Examples of the organic acid include citric acid, lactic acid, pyruvic acid, malic acid, tartaric acid, gluconic acid, glycolic acid, fumaric acid, malonic acid, maleic acid, oxalic acid, succinic acid, acrylic acid and the like. Chlorine dioxide gas is easily produced by the reaction between the aqueous sodium chlorite solution and these chlorine, inorganic acid or organic acid. In addition, these simple reaction systems simply mix two kinds of raw materials appropriately, so that they can be easily formulated and used by users. Examples of the preparation include sprays, smokes, gels, sheets, sticks, and the like that are adjusted so that sodium chlorite can react with chlorine, inorganic acid, or organic acid as appropriate.

亜塩素酸ナトリウム水溶液と、塩素、無機酸または有機酸とを反応させる際の配合割合としては特に限定されず、使用する原料の種類により適宜選択される。例えば、亜塩素酸ナトリウム水溶液と塩酸とが選択される場合には、亜塩素酸ナトリウム1〜25質量%に対して、塩酸が0.3〜15質量%配合されればよい。この場合において、亜塩素酸ナトリウム5〜25質量%に対して塩酸が1.5〜12質量%配合されることが好ましく、亜塩素酸ナトリウム10〜25質量%に対して塩酸が3〜12質量%配合されることがより好ましい。亜塩素酸ナトリウムの配合量が1質量%未満の場合、必要とされる亜塩素酸ナトリウム水溶液の量が増え、利便性が低下する傾向がある。一方、亜塩素酸ナトリウムの配合量が25質量%を超える場合、毒物劇物取締法に規定される劇物に該当し、取扱いが制限され、製剤化が困難となる傾向がある。   The mixing ratio when the aqueous sodium chlorite solution is reacted with chlorine, an inorganic acid or an organic acid is not particularly limited, and is appropriately selected depending on the type of raw material used. For example, when a sodium chlorite aqueous solution and hydrochloric acid are selected, hydrochloric acid may be blended in an amount of 0.3 to 15% by mass with respect to 1 to 25% by mass of sodium chlorite. In this case, it is preferable to mix 1.5 to 12% by mass of hydrochloric acid with respect to 5 to 25% by mass of sodium chlorite, and 3 to 12% by mass of hydrochloric acid with respect to 10 to 25% by mass of sodium chlorite. % Is more preferable. When the blending amount of sodium chlorite is less than 1% by mass, the amount of sodium chlorite aqueous solution required increases and convenience tends to decrease. On the other hand, when the blending amount of sodium chlorite exceeds 25% by mass, it corresponds to a deleterious substance stipulated in the Poisonous and Deleterious Substances Control Law, and the handling tends to be restricted, and the formulation tends to be difficult.

<二酸化塩素の導入>
閉鎖空間に導入する二酸化塩素ガス濃度は、汚染物質を除去する効果を高める観点から、10ppm以上となるように使用されることが好ましく、15ppm以上がより好ましく、20ppm以上がさらに好ましい。また、二酸化塩素の気相付与による内容物の腐食を防止する観点から、230ppm以下であることが好ましい。
<Introduction of chlorine dioxide>
The concentration of chlorine dioxide gas introduced into the closed space is preferably 10 ppm or more, more preferably 15 ppm or more, and further preferably 20 ppm or more from the viewpoint of enhancing the effect of removing contaminants. Moreover, it is preferable that it is 230 ppm or less from a viewpoint of preventing the corrosion of the content by gaseous-phase provision of chlorine dioxide.

図2および図3は、それぞれ、80ppm以上の高濃度曝露試験および80ppm未満の低濃度曝露試験における二酸化塩素ガス濃度の経時変化を表す概略的なグラフである。縦軸は二酸化塩素ガス濃度(ppm)を示し、横軸は時間(時)を示している。すなわち、例えば二酸化塩素ガスを発生する発生源から放出される場合には、時間の経過とともに徐々に空間内の濃度が高められる。その後、二酸化塩素ガスの濃度は、発生量よりも分解量が上回ることにより、最大濃度を示した後に減少する。本実施形態では、二酸化塩素ガスは、除染の過程において最大濃度が所定の濃度(例えば10ppm)以上となるように使用されることにより、除染効果を好適に発揮する。なお、本実施形態によれば、2種類の反応液(亜塩素酸ナトリウム水および塩酸)の反応量を薬液ポンプ吐出量で自動調整させ、必要な二酸化塩素ガスを閉鎖空間へ供給することにより、所定の二酸化塩素目標濃度まで高め、以降はほぼ一定の二酸化塩素ガス濃度となるように自動制御することができる。   FIG. 2 and FIG. 3 are schematic graphs showing changes in chlorine dioxide gas concentration over time in a high concentration exposure test of 80 ppm or more and a low concentration exposure test of less than 80 ppm, respectively. The vertical axis represents chlorine dioxide gas concentration (ppm), and the horizontal axis represents time (hours). That is, for example, when released from a generation source that generates chlorine dioxide gas, the concentration in the space is gradually increased over time. Thereafter, the concentration of chlorine dioxide gas decreases after the maximum concentration is exhibited due to the decomposition amount exceeding the generation amount. In the present embodiment, the chlorine dioxide gas suitably exhibits a decontamination effect by being used so that the maximum concentration becomes a predetermined concentration (for example, 10 ppm) or more in the process of decontamination. In addition, according to this embodiment, the reaction amount of two types of reaction liquids (sodium chlorite water and hydrochloric acid) is automatically adjusted by the discharge amount of the chemical pump, and the necessary chlorine dioxide gas is supplied to the closed space, It can be automatically controlled so as to increase to a predetermined chlorine dioxide target concentration and thereafter reach a substantially constant chlorine dioxide gas concentration.

本実施形態において「CT値」とは、「二酸化塩素ガスの濃度(ppm)」と「時間(時)」との積分値である。例えば、図2および図3において、CT値は、横軸とグラフとにより画定される領域の面積として表される。濃度積算値と表現されることもある。   In this embodiment, the “CT value” is an integrated value of “chlorine dioxide gas concentration (ppm)” and “time (hour)”. For example, in FIGS. 2 and 3, the CT value is expressed as the area of a region defined by the horizontal axis and the graph. Sometimes expressed as a concentration integrated value.

3logないし4log低減のためには、二酸化塩素ガスが80ppm未満の低濃度曝露では少なくとも50ppm・時、80ppm以上の高濃度曝露では少なくとも140ppm・時のCT値を要する。高濃度曝露は、必要とする薬液が多くなること、また閉鎖空間内の内容物の腐食リスクを最小限にするため、3logないし4log低減のためには、80ppm未満の低濃度曝露が好ましい。一方、5logないし6log低減のためには、低濃度曝露では除染に長時間を要し非効率であり、高濃度曝露の方が効率的に菌数を低減できる。図6に、実施例1〜7の二酸化塩素ガスCT値と残存菌数との関係を表すグラフを示す。低濃度曝露の条件で3logと4logを達成しているCT値は、高濃度曝露の条件で3logと4logを達成しているCT値よりも低い傾向であること、また高濃度曝露の条件で5logと6logを達成しているCT値は、低濃度曝露の条件で5logと6logを達成しているCT値よりも低い傾向であることがわかる。   In order to reduce 3 to 4 logs, a CT value of at least 50 ppm · hour is required for low concentration exposure of chlorine dioxide gas of less than 80 ppm, and at least 140 ppm · hour for high concentration exposure of 80 ppm or more. Because high concentration exposure requires more chemicals and minimizes the risk of corrosion of the contents in the enclosed space, a low concentration exposure of less than 80 ppm is preferred for 3 log to 4 log reduction. On the other hand, in order to reduce 5 to 6 logs, low concentration exposure requires a long time for decontamination and is inefficient, and high concentration exposure can reduce the number of bacteria more efficiently. In FIG. 6, the graph showing the relationship between the chlorine dioxide gas CT value of Examples 1-7 and the number of residual bacteria is shown. CT values achieving 3 log and 4 log under low exposure conditions tend to be lower than CT values achieving 3 log and 4 log under high exposure conditions, and 5 log under high exposure conditions. It can be seen that the CT values achieving 6 and 6 log tend to be lower than the CT values achieving 5 log and 6 log under the condition of low concentration exposure.

より具体的には、3log低減のためには、二酸化塩素ガス濃度は10〜100ppmが好ましく;15〜100ppmがより好ましく;20〜100ppmがより好ましく;30〜80ppmがさらに好ましく;30〜60ppmが特に好ましい。CT値は、50〜150ppm・時が好ましく;55〜150ppm・時がより好ましく;60〜150ppm・時がより好ましく;90〜120ppm・時がさらに好ましく;100〜110ppm・時が特に好ましい。   More specifically, for 3 log reduction, the chlorine dioxide gas concentration is preferably 10 to 100 ppm; more preferably 15 to 100 ppm; more preferably 20 to 100 ppm; still more preferably 30 to 80 ppm; particularly preferably 30 to 60 ppm. preferable. The CT value is preferably 50 to 150 ppm · hour; more preferably 55 to 150 ppm · hour; more preferably 60 to 150 ppm · hour; still more preferably 90 to 120 ppm · hour; particularly preferably 100 to 110 ppm · hour.

4log低減のためには、二酸化塩素ガス濃度は20〜150ppmが好ましく;25〜150ppmがより好ましく;50〜150ppmがより好ましく;50〜100ppmがさらに好ましく;50〜80ppmが特に好ましい。CT値は、100〜330ppm・時が好ましく;110〜330ppm・時がより好ましく;150〜330ppm・時がより好ましく;180〜250ppm・時がさらに好ましく;190〜240ppm・時が特に好ましい。   For reducing 4 logs, the chlorine dioxide gas concentration is preferably 20 to 150 ppm; more preferably 25 to 150 ppm; more preferably 50 to 150 ppm; still more preferably 50 to 100 ppm; and particularly preferably 50 to 80 ppm. The CT value is preferably from 100 to 330 ppm · hour; more preferably from 110 to 330 ppm · hour; more preferably from 150 to 330 ppm · hour; even more preferably from 180 to 250 ppm · hour; particularly preferably from 190 to 240 ppm · hour.

5log低減のためには、二酸化塩素ガス濃度は40〜200ppmが好ましく;60〜200ppmがより好ましく;80〜200ppmがより好ましく;80〜180ppmがさらに好ましく;100〜150ppmが特に好ましい。CT値は、130〜600ppm・時が好ましく;200〜600ppm・時がより好ましく;300〜600ppm・時がより好ましく;330〜400ppm・時がさらに好ましく;350〜380ppm・時が特に好ましい。   For a 5 log reduction, the chlorine dioxide gas concentration is preferably 40 to 200 ppm; more preferably 60 to 200 ppm; more preferably 80 to 200 ppm; still more preferably 80 to 180 ppm; and particularly preferably 100 to 150 ppm. The CT value is preferably 130 to 600 ppm · hour; more preferably 200 to 600 ppm · hour; more preferably 300 to 600 ppm · hour; even more preferably 330 to 400 ppm · hour; particularly preferably 350 to 380 ppm · hour.

6log低減のためには、二酸化塩素ガス濃度は50〜230ppmが好ましく;70〜230ppmがより好ましく;100〜230ppmがより好ましく;130〜200ppmがさらに好ましく;160〜190ppmが特に好ましい。CT値は、400〜2000ppm・時が好ましく;450〜2000ppm・時がより好ましく;500〜2000ppm・時がより好ましく;550〜1500ppm・時がさらに好ましく;580〜1000ppm・時が特に好ましい。   For 6 log reduction, the chlorine dioxide gas concentration is preferably 50 to 230 ppm; more preferably 70 to 230 ppm; more preferably 100 to 230 ppm; still more preferably 130 to 200 ppm; particularly preferably 160 to 190 ppm. The CT value is preferably 400 to 2000 ppm · hour; more preferably 450 to 2000 ppm · hour; more preferably 500 to 2000 ppm · hour; even more preferably 550 to 1500 ppm · hour; particularly preferably 580 to 1000 ppm · hour.

本実施形態では、所定のCT値は、二酸化塩素ガスの使用開始時から二酸化塩素ガスが分解されるまでの時間において達成されればよい。所定のCT値は、二酸化塩素ガスの使用開始時から4時間以内に達成されることが好ましく、3時間以内に達成されることがより好ましく、2時間以内に達成されることがさらに好ましく、1.5時間以内に達成されることが特に好ましい。所定のCT値が短時間で達成されることにより、除染の所要時間が短縮されることから、種々の施設(例えば製薬工場)において、除染のために休止されていたライン(例えば医薬品の生産ライン)を早期に再開することができ、業務効率の低下が抑えられる。   In the present embodiment, the predetermined CT value may be achieved in the time from the start of use of the chlorine dioxide gas to the decomposition of the chlorine dioxide gas. The predetermined CT value is preferably achieved within 4 hours from the start of use of chlorine dioxide gas, more preferably within 3 hours, even more preferably within 2 hours. It is particularly preferred to be achieved within 5 hours. Since a predetermined CT value is achieved in a short time, the time required for decontamination is shortened. Therefore, in various facilities (for example, pharmaceutical factories), lines that have been suspended for decontamination (for example, pharmaceuticals) Production line) can be restarted at an early stage, and the decline in operational efficiency can be suppressed.

また、本実施形態において、所定の空間における二酸化塩素ガスの最大濃度は、二酸化塩素ガスの使用開始時から60分以内に達成されることが好ましく、40分以内に達成されることがより好ましく、30分以内に達成されることがさらに好ましい。短時間で最大濃度に到達すると除染効率が高くなり、また濃度上昇速度に対して分解による濃度低下速度によるロスが少なくなる。また、空間内の二酸化塩素ガスの濃度は、最大濃度を示した後に低下する(例えば、図3参照)。そのため、60分という早い段階で最大濃度を示すことにより、例えばヒトが立ち入ることができる濃度である0.1ppm未満までの所要時間は、短縮化される。その結果、種々の施設(例えば製薬工場)において、除染のために休止されていたライン(例えば医薬品の生産ライン)が早期に再開され、業務効率の低下が抑えられる。   In the present embodiment, the maximum concentration of chlorine dioxide gas in a predetermined space is preferably achieved within 60 minutes from the start of use of chlorine dioxide gas, more preferably within 40 minutes, More preferably, it is achieved within 30 minutes. When the maximum concentration is reached in a short time, the decontamination efficiency is increased, and the loss due to the concentration reduction rate due to decomposition is reduced with respect to the concentration increase rate. Moreover, the density | concentration of the chlorine dioxide gas in space falls, after showing the maximum density | concentration (for example, refer FIG. 3). Therefore, by showing the maximum concentration at an early stage of 60 minutes, for example, the time required to reach less than 0.1 ppm, which is the concentration that humans can enter, is shortened. As a result, in various facilities (for example, pharmaceutical factories), lines that have been suspended for decontamination (for example, pharmaceutical production lines) are restarted at an early stage, and a reduction in work efficiency is suppressed.

本発明を実施例に基づいて説明するが、本発明は、実施例にのみ限定されるものではない。   The present invention will be described based on examples, but the present invention is not limited to the examples.

<殺菌試験>
図1に示される除染システムを用いて、除染効果を確認した。閉鎖空間12(無菌対応室:空間容積約33m3)内にバイオロジカルインジケーター7(MesaLabs社製Mesa Strip,SPORE STRIP BIOLOGICAL INDICATOR(BI)、品番ACD/6、二酸化塩素ガス用、菌種 Bacillus atrophaeus、初期菌数 2.5〜2.8×106 c.f.u.)を時間毎に必要枚数だけをサンプリングできるよう吊り下げた。除湿機5、空調機13、および温度湿度指示計14(VAISALA社製)により室内の温度および湿度制御を行い、空間の水蒸気量10g/m3以下とした。
<Sterilization test>
The decontamination effect was confirmed using the decontamination system shown in FIG. Biological indicator 7 (Mesa Labs Mesa Strip, SPORE STRIP BIOLOGICAL INDICATOR (BI), product number ACD / 6, for chlorine dioxide gas, bacterial species Bacillus atrophaeus, in a closed space 12 (sterility-compatible room: space volume about 33 m 3 )) The initial number of bacteria 2.5 to 2.8 × 10 6 cfu) was suspended so that only the required number of samples could be sampled every hour. The room temperature and humidity were controlled by the dehumidifier 5, the air conditioner 13, and the temperature / humidity indicator 14 (manufactured by VAISALA), and the amount of water vapor in the space was 10 g / m 3 or less.

室内の二酸化塩素ガス濃度を計測するため、二酸化塩素ガス濃度計測器3(アース製薬(株)製CDM−5)の吸引装置に接続したテフロン(登録商標)チューブ11(外径φ6mm×長さ20m)を室内の所定場所に固定させた。二酸化塩素ガス発生機1(アース製薬(株)製CD−700)および二酸化塩素ガス濃度計測器2並びに3を、空間外部の機械設置室にセットし、ガス供給配管9を通じて無菌対応室へ所定量の二酸化塩素ガスを供給した。空間で希釈された二酸化塩素ガスは、室内空気を還元する配管10を通じてガス発生機に戻す循環式とした。   In order to measure the chlorine dioxide gas concentration in the room, a Teflon (registered trademark) tube 11 (outer diameter φ6 mm × length 20 m) connected to a suction device of a chlorine dioxide gas concentration meter 3 (CDM-5 manufactured by Earth Pharmaceutical Co., Ltd.) ) Was fixed in place in the room. Chlorine dioxide gas generator 1 (CD-700 manufactured by Earth Pharmaceutical Co., Ltd.) and chlorine dioxide gas concentration measuring devices 2 and 3 are set in the machine installation room outside the space, and a predetermined amount is passed through the gas supply pipe 9 to the sterilization-compatible room. Of chlorine dioxide gas. The chlorine dioxide gas diluted in the space is a circulation type that returns the indoor air to the gas generator through the pipe 10 for reducing the indoor air.

二酸化塩素ガス目標濃度に対して2種類の反応液8aおよび8b(25%亜塩素酸ナトリウム水および9%塩酸)の反応量を薬液ポンプ吐出量で自動調整させ、必要な二酸化塩素ガスを無菌対応室へ供給した。室内濃度の計測間隔は2分間に1回とした。約30分間かけて目標濃度まで高め、以降はほぼ一定の二酸化塩素ガス濃度となるよう自動制御した。二酸化塩素ガス濃度を経時的に測定し、CT値を算出した。   The amount of reaction of the two types of reaction liquids 8a and 8b (25% sodium chlorite water and 9% hydrochloric acid) is automatically adjusted by the chemical pump discharge amount for the target chlorine dioxide gas concentration, and the required chlorine dioxide gas is aseptically handled. It was supplied to the room. The indoor concentration measurement interval was once every 2 minutes. The concentration was increased to the target concentration over about 30 minutes, and thereafter it was automatically controlled so that the chlorine dioxide gas concentration was almost constant. The chlorine dioxide gas concentration was measured over time, and the CT value was calculated.

曝露終了後、不要となった空間中の二酸化塩素ガスを除去するため、活性炭吸着型二酸化塩素ガス回収機4を作動させた。ガスの拡散を補助するため、常時サーキュレーター6を作動させた。   After the exposure, the activated carbon adsorption type chlorine dioxide gas recovery machine 4 was operated in order to remove the chlorine dioxide gas in the space which became unnecessary. In order to assist gas diffusion, the circulator 6 was always operated.

閉鎖空間内に設置したバイオロジカルインジケーター7を時間経過毎にサンプリングし、クリーンベンチ内で包装紙から滅菌ピンセットを用いて取り出し、生理食塩水2mL中に浸漬してガラスビーズ3個を加えた後、ボルテクスミキサーで20〜30分BIを粉砕した。得られた粉砕液全量をSCDLP寒天培地に混釈し、約37℃、約2日間インキュベーターで培養し発生したコロニー数を計測した。   The biological indicator 7 installed in the enclosed space is sampled at every elapse of time, taken out from the wrapping paper in a clean bench using sterilized tweezers, immersed in 2 mL of physiological saline and added with 3 glass beads, BI was crushed with a vortex mixer for 20-30 minutes. The total amount of the pulverized liquid obtained was mixed in an SCDLP agar medium and cultured in an incubator at about 37 ° C. for about 2 days, and the number of colonies generated was counted.

なお、二酸化塩素ガスの標準濃度計測器として、ATi社製二酸化塩素ガス濃度計測器を使用することもできる。アース製薬(株)製二酸化塩素ガス濃度計測器CDM−5との濃度校正方法は以下のとおりである。   In addition, the chlorine dioxide gas concentration measuring device made from ATi can also be used as a standard concentration measuring device of chlorine dioxide gas. The concentration calibration method with the chlorine dioxide gas concentration measuring instrument CDM-5 manufactured by Earth Pharmaceutical Co., Ltd. is as follows.

テドラーバッグ(登録商標)を用いて、二酸化塩素ガス発生機1から二酸化塩素ガスを捕集し、アルミホイルで遮光したシリンジに二酸化塩素ガスを10mL採取した。50ppmエチレンジアミン水溶液2mLを入れた別の容器に、採取した二酸化塩素ガスをシリンジで注入し、二酸化塩素ガスがエチレンジアミン水溶液に溶け込むよう、入念に振りながら混合させた。混合液を試料溶液とし、イオンクロマトグラフィーによりエチレンジアミンと二酸化塩素との反応生成物を定量分析し、得られた定量結果から、反応した二酸化塩素ガス量を算出した。ATi社製二酸化塩素ガス濃度計測器の表示値と二酸化塩素ガスの定量結果から検量線を作成した。ATi社製二酸化塩素ガス濃度計測器を基準として、計測器のモニターに表示される濃度が真の二酸化塩素ガス濃度と同等となるよう、補正係数を計測器のプログラムに予め入力した。   Using a Tedlar bag (registered trademark), chlorine dioxide gas was collected from the chlorine dioxide gas generator 1, and 10 mL of chlorine dioxide gas was collected in a syringe shielded from light with aluminum foil. The collected chlorine dioxide gas was injected with a syringe into another container containing 2 mL of 50 ppm ethylenediamine aqueous solution, and mixed with careful shaking so that the chlorine dioxide gas was dissolved in the ethylenediamine aqueous solution. Using the mixed solution as a sample solution, the reaction product of ethylenediamine and chlorine dioxide was quantitatively analyzed by ion chromatography, and the amount of reacted chlorine dioxide gas was calculated from the obtained quantitative results. A calibration curve was created from the display value of the chlorine dioxide gas concentration measuring instrument manufactured by ATi and the quantitative result of chlorine dioxide gas. A correction coefficient was input in advance into the program of the measuring instrument so that the concentration displayed on the monitor of the measuring instrument was equivalent to the true chlorine dioxide gas concentration, based on the chlorine dioxide gas concentration measuring instrument manufactured by ATi.

(高濃度曝露試験)
80ppm以上の高濃度の二酸化塩素ガスを閉鎖空間12に曝露した。閉鎖空間内は、空調機13および除湿機5により、温度を19〜26℃、水蒸気量を5〜10g/m3、相対湿度を25〜42%に調整した。所定の曝露時間ごとにバイオロジカルインジケーター7を5個ずつ回収し、それぞれの残存菌数を評価した(表1)。
(High concentration exposure test)
A high concentration of chlorine dioxide gas of 80 ppm or more was exposed to the enclosed space 12. In the enclosed space, the air conditioner 13 and the dehumidifier 5 adjusted the temperature to 19 to 26 ° C., the water vapor amount to 5 to 10 g / m 3 , and the relative humidity to 25 to 42%. Five biological indicators 7 were collected every predetermined exposure time, and the number of remaining bacteria was evaluated (Table 1).

(低濃度曝露試験)
80ppm未満の低濃度の二酸化塩素ガスを閉鎖空間12に曝露した。閉鎖空間内は、空調機13および除湿機5により、温度を19〜26℃、水蒸気量を5〜10g/m3、相対湿度を25〜42%に調整した。所定の曝露時間ごとにバイオロジカルインジケーター7を5個ずつ回収し、それぞれの残存菌数を評価した(表2)。
(Low concentration exposure test)
A low concentration of chlorine dioxide gas of less than 80 ppm was exposed to the enclosed space 12. In the enclosed space, the air conditioner 13 and the dehumidifier 5 adjusted the temperature to 19 to 26 ° C., the water vapor amount to 5 to 10 g / m 3 , and the relative humidity to 25 to 42%. Five biological indicators 7 were collected every predetermined exposure time, and the number of remaining bacteria was evaluated (Table 2).

(3log低減試験)
3log低減を達成した実施例8〜13−2の結果を表3に示す。
(3 log reduction test)
Table 3 shows the results of Examples 8 to 13-2 that achieved 3 log reduction.

(4log低減試験)
4log低減を達成した実施例14〜19−2の結果を表4に示す。
(4 log reduction test)
Table 4 shows the results of Examples 14 to 19-2 that achieved 4 log reduction.

(5log低減試験)
5log低減を達成した実施例20〜25−2の結果を表5に示す。
(5 log reduction test)
The results of Examples 20-25-2 that achieved a 5 log reduction are shown in Table 5.

(6log低減試験)
6log低減を達成した実施例26〜31−2の結果を表6に示す。
(6 log reduction test)
Table 6 shows the results of Examples 26 to 31-2 that achieved 6 log reduction.

<二酸化塩素ガスの分解性(残留性)>
(実施例32)
図1に示される除染システムを用いて、二酸化塩素ガスの使用開始時(0分)から11.5時間、二酸化塩素ガス濃度を経時的に測定し、二酸化塩素ガスの分解性(残留性)について評価した。閉鎖空間内の二酸化塩素ガス濃度の経時変化を表7および図4に示す。
<Decomposability of chlorine dioxide gas (residual)>
(Example 32)
Using the decontamination system shown in FIG. 1, the chlorine dioxide gas concentration was measured over time for 11.5 hours from the start of use of chlorine dioxide gas (0 minutes), and the decomposability (residuality) of chlorine dioxide gas. Was evaluated. Table 7 and FIG. 4 show changes with time of the chlorine dioxide gas concentration in the enclosed space.

閉鎖空間12(無菌対応室:空間容積約33m3)に対し、25%亜塩素酸ナトリウム水溶液約170mLと9%塩酸約170mLとを17mL/分でそれぞれ吐出して反応させた。約18分後の空間内の二酸化塩素ガス濃度は200ppmまで到達し、濃度はほぼ安定した。以降、空間内の二酸化塩素ガス濃度が安定するように、所定量の反応液を供給および停止しながら濃度制御を行い、約10時間曝露させた。空間内は、空調機13および除湿機5により、温度を19〜26℃、水蒸気量を5〜10g/m3、相対湿度を25〜42%に調整した。除染終了後、不要となった空間中の二酸化塩素ガスを、活性炭吸着型二酸化塩素ガス回収機4を作動させて回収した。約43分後には閉鎖空間12の二酸化塩素濃度が0ppmとなり、二酸化塩素ガスの回収が終了した。 About 170 mL of 25% sodium chlorite aqueous solution and about 170 mL of 9% hydrochloric acid were respectively discharged at a rate of 17 mL / min to the closed space 12 (sterility-compatible chamber: space volume: about 33 m 3 ). The chlorine dioxide gas concentration in the space after about 18 minutes reached 200 ppm, and the concentration was almost stable. Thereafter, the concentration was controlled while supplying and stopping a predetermined amount of the reaction solution so that the chlorine dioxide gas concentration in the space was stabilized, and the exposure was performed for about 10 hours. In the space, the air conditioner 13 and the dehumidifier 5 adjusted the temperature to 19 to 26 ° C., the water vapor amount to 5 to 10 g / m 3 , and the relative humidity to 25 to 42%. After the decontamination, the chlorine dioxide gas in the space which became unnecessary was recovered by operating the activated carbon adsorption type chlorine dioxide gas recovery machine 4. After about 43 minutes, the chlorine dioxide concentration in the enclosed space 12 became 0 ppm, and the recovery of chlorine dioxide gas was completed.

二酸化塩素ガスの空間供給の立上げ速度および拡散性は、過酸化水素などとは異なり迅速に行えること;また、二酸化塩素ガスの回収は、ホルマリンとは異なり、材料への吸着や吸着による再蒸散がほとんどなく、短時間で空間のガス濃度が0ppmとなり、除染終了後、作業者が安全に閉鎖空間に入室可能であることが確認された。   The startup rate and diffusivity of the space supply of chlorine dioxide gas can be performed quickly unlike hydrogen peroxide, etc .; recovery of chlorine dioxide gas is different from formalin, and adsorption to the material and re-transpiration by adsorption The gas concentration in the space became 0 ppm in a short time, and it was confirmed that the worker can safely enter the closed space after decontamination.

<内容物の腐食試験>
図1に示される除染システム(除染対象空間は約33m3)において、ポンプ軸受、コンプレッサー軸受、造粒機、打錠機、充填機に使用された鉄製ベアリングを除染終了後に観察した。
<Corrosion test of contents>
In the decontamination system shown in FIG. 1 (decontamination target space is about 33 m 3 ), iron bearings used in pump bearings, compressor bearings, granulators, tableting machines, and filling machines were observed after decontamination.

(実施例33)
以下の条件で二酸化塩素ガスを2回曝露した。2回の総CT値は2280ppm・時であった。二酸化塩素ガス導入中の室内の平均温度、平均相対湿度、および平均水蒸気量は以下のとおりである。
1回目 平均温度:20℃、平均相対湿度:41%、平均水蒸気量:7.10g/m3
2回目 平均温度:22℃、平均相対湿度:41%、平均水蒸気量:7.97g/m3
2回曝露後の鉄製ベアリングに錆は確認されず、軸回転にも影響がないことが確認された。
(Example 33)
Chlorine dioxide gas was exposed twice under the following conditions. The total CT value of 2 times was 2280 ppm · hour. The average room temperature, average relative humidity, and average water vapor amount during introduction of chlorine dioxide gas are as follows.
First time Average temperature: 20 ° C., average relative humidity: 41%, average water vapor amount: 7.10 g / m 3
Second time Average temperature: 22 ° C., average relative humidity: 41%, average water vapor amount: 7.97 g / m 3
Rust was not confirmed on the iron bearing after the second exposure, and it was confirmed that the shaft rotation was not affected.

(比較例1)
平均温度29℃、平均相対湿度39.4%の条件下で二酸化塩素ガスを曝露した。水蒸気量換算表(図5)より、平均水蒸気量は約11.4g/m3と推定される。CT値は196ppm・時であった。曝露後の鉄製ベアリングには錆が確認された。
(Comparative Example 1)
Chlorine dioxide gas was exposed under conditions of an average temperature of 29 ° C. and an average relative humidity of 39.4%. From the water vapor conversion table (FIG. 5), the average water vapor is estimated to be about 11.4 g / m 3 . The CT value was 196 ppm · hour. Rust was confirmed on the iron bearing after exposure.

本発明によれば、防菌、防カビ対策が必要な施設を対象として、除染を必要とする空間内の内容物を腐食することなく、従来に比べ安全かつ短時間に大空間の除染を行うことができる。したがって、本発明は、特に異物の混入が厳しく制限される医薬品工場や食品工場等における除染の際に非常に有用な手法となり得る。   According to the present invention, for facilities requiring antibacterial and antifungal measures, the decontamination of a large space can be performed safely and in a short period of time without corroding the contents in the space requiring decontamination. It can be performed. Therefore, the present invention can be a very useful technique especially in decontamination in pharmaceutical factories, food factories, etc., where the contamination of foreign substances is severely restricted.

1:二酸化塩素ガス発生機
2:二酸化塩素ガス濃度計測器(計測部)
3:二酸化塩素ガス濃度計測器(吸引部)
4:二酸化塩素ガス回収機
5:除湿機
6:サーキュレーター
7:バイオロジカルインジケーター(BI)
8a、8b:反応液2種類(亜塩素酸ナトリウム水および塩酸)
9:ガス供給配管
10:ガス吸入配管
11:ガス吸引用テフロン(登録商標)チューブ
12:閉鎖空間
13:空調機
14:温度湿度指示計
1: Chlorine dioxide gas generator 2: Chlorine dioxide gas concentration meter (measurement unit)
3: Chlorine dioxide gas concentration meter (suction unit)
4: Chlorine dioxide gas recovery machine 5: Dehumidifier 6: Circulator 7: Biological indicator (BI)
8a, 8b: 2 types of reaction liquid (sodium chlorite water and hydrochloric acid)
9: Gas supply pipe 10: Gas suction pipe 11: Teflon (registered trademark) tube for gas suction 12: Closed space 13: Air conditioner 14: Temperature / humidity indicator

Claims (10)

閉鎖空間内での二酸化塩素の気相付与によって汚染物質を除去し、かつ前記閉鎖空間内にある内容物の化学腐食を低減する方法であって:
水蒸気量10g/m3以下の環境下とした前記閉鎖空間において;
二酸化塩素ガスを発生させる工程と;
二酸化塩素ガス濃度230ppm以下、かつCT値50〜2000ppm・時で二酸化塩素ガスを前記閉鎖空間へ導入する工程とを含む方法。
A method of removing contaminants by applying a vapor phase of chlorine dioxide in a closed space and reducing chemical corrosion of the contents in the closed space:
In the enclosed space in an environment with a water vapor volume of 10 g / m 3 or less;
Generating chlorine dioxide gas;
Introducing chlorine dioxide gas into the enclosed space at a chlorine dioxide gas concentration of 230 ppm or less and a CT value of 50 to 2000 ppm · hour.
閉鎖空間内の相対湿度が31%以下である、請求項1記載の方法。 The method according to claim 1, wherein the relative humidity in the enclosed space is 31% or less. 二酸化塩素ガスを、二酸化塩素ガス濃度10〜230ppm、曝露時間6.0時間以内、かつCT値50〜1000ppm・時で前記閉鎖空間へ導入する、請求項1または2記載の方法。 The method according to claim 1 or 2, wherein chlorine dioxide gas is introduced into the enclosed space at a chlorine dioxide gas concentration of 10 to 230 ppm, an exposure time of 6.0 hours or less, and a CT value of 50 to 1000 ppm · hour. CT値が50〜953ppm・時である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。 The method according to claim 1, wherein the CT value is 50 to 953 ppm · hour. CT値が50〜149ppm・時である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。 The method according to claim 1, wherein the CT value is 50 to 149 ppm · hour. 閉鎖空間内での二酸化塩素の気相付与によって汚染物質を3log低減し、かつ前記閉鎖空間内にある内容物の化学腐食を低減する方法であって:
水蒸気量10g/m3以下、かつ相対湿度31%以下の環境下とした前記閉鎖空間において;
二酸化塩素ガスを発生させる工程と;
二酸化塩素ガス濃度230ppm以下、かつCT値50〜2000ppm・時で二酸化塩素ガスを前記閉鎖空間へ導入する工程とを含む、請求項1記載の方法。
A method of reducing contaminants by 3 logs by applying a vapor phase of chlorine dioxide in a closed space and reducing chemical corrosion of the contents in the closed space:
In the enclosed space where the water vapor amount is 10 g / m 3 or less and the relative humidity is 31% or less;
Generating chlorine dioxide gas;
And introducing the chlorine dioxide gas into the enclosed space at a chlorine dioxide gas concentration of 230 ppm or less and a CT value of 50 to 2000 ppm · hour.
閉鎖空間内での二酸化塩素の気相付与によって汚染物質を4log低減し、かつ前記閉鎖空間内にある内容物の化学腐食を低減する方法であって:
水蒸気量10g/m3以下、かつ相対湿度31%以下の環境下とした前記閉鎖空間において;
二酸化塩素ガスを発生させる工程と;
二酸化塩素ガス濃度230ppm以下、かつCT値100〜2000ppm・時で二酸化塩素ガスを前記閉鎖空間へ導入する工程とを含む、請求項6記載の方法。
A method of reducing contaminants by 4 logs by applying a gaseous phase of chlorine dioxide in a closed space and reducing chemical corrosion of the contents in the closed space:
In the enclosed space where the water vapor amount is 10 g / m 3 or less and the relative humidity is 31% or less;
Generating chlorine dioxide gas;
And introducing chlorine dioxide gas into the enclosed space at a chlorine dioxide gas concentration of 230 ppm or less and a CT value of 100 to 2000 ppm · hour.
閉鎖空間内での二酸化塩素の気相付与によって汚染物質を5log低減し、かつ前記閉鎖空間内にある内容物の化学腐食を低減する方法であって:
水蒸気量10g/m3以下、かつ相対湿度31%以下の環境下とした前記閉鎖空間において;
二酸化塩素ガスを発生させる工程と;
二酸化塩素ガス濃度230ppm以下、かつCT値130〜2000ppm・時で二酸化塩素ガスを前記閉鎖空間へ導入する工程とを含む、請求項6または7記載の方法。
A method of reducing contaminants by 5 logs by applying a gaseous phase of chlorine dioxide in a closed space and reducing chemical corrosion of the contents in the closed space:
In the enclosed space where the water vapor amount is 10 g / m 3 or less and the relative humidity is 31% or less;
Generating chlorine dioxide gas;
And introducing a chlorine dioxide gas into the enclosed space at a chlorine dioxide gas concentration of 230 ppm or less and a CT value of 130 to 2000 ppm · hour.
閉鎖空間内での二酸化塩素の気相付与によって汚染物質を6log低減し、かつ前記閉鎖空間内にある内容物の化学腐食を低減する方法であって:
水蒸気量10g/m3以下、かつ相対湿度31%以下の環境下とした前記閉鎖空間において;
二酸化塩素ガスを発生させる工程と;
二酸化塩素ガス濃度230ppm以下、かつCT値400〜2000ppm・時で二酸化塩素ガスを前記閉鎖空間へ導入する工程とを含む、請求項6〜8のいずれか一項に記載の方法。
A method of reducing contaminants by 6 logs by applying a vapor phase of chlorine dioxide in a closed space and reducing chemical corrosion of the contents in the closed space:
In the enclosed space where the water vapor amount is 10 g / m 3 or less and the relative humidity is 31% or less;
Generating chlorine dioxide gas;
And introducing the chlorine dioxide gas into the enclosed space at a chlorine dioxide gas concentration of 230 ppm or less and a CT value of 400 to 2000 ppm · hour.
汚染物質が芽胞形成菌である、請求項1〜9のいずれか一項に記載の方法。 The method according to any one of claims 1 to 9, wherein the contaminant is a spore-forming bacterium.
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