JP2019165023A - レーザー維持プラズマ光源向けプラズマ・セル - Google Patents
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Abstract
Description
(1)選択された放射波長に対して実質上透明なガラス材料で形成された、プラズマ電球と、
前記電球内に設けられ、前記電球内でプラズマ発生を開始するように構成された、1つまたは複数の電極と、
前記1つまたは複数の電極と熱交換を行い、さらに、熱交換器と熱交換を行うヒート・パイプであって、前記熱交換器が、前記プラズマ電球内から、前記プラズマ電球の外部の媒体に熱エネルギーを伝達するように構成された、ヒート・パイプとを備える、レーザー維持プラズマ光源での使用に適したヒート・パイプを備えたプラズマ・セル。
(2)前記ヒート・パイプが、前記プラズマ電球の1つまたは複数の電極から、前記プラズマ電球の外部の媒体に熱エネルギーを伝達するように構成された、(1)に記載のプラズマ・セル。
(3)前記ヒート・パイプが、前記プラズマ電球内のプラズマ領域から、前記プラズマ電球の外部の媒体に、ガスによって生成されたプルームからの熱を伝達するように構成された、(1)に記載のプラズマ・セル。
(4)前記ヒート・パイプが、前記ヒート・パイプの外面内に溶融物質の塊を含む、(1)に記載のプラズマ・セル。
(5)前記ヒート・パイプが、前記ヒート・パイプの前記外面内にガス物質の塊を含む、(2)に記載のプラズマ・セル。
(6)前記ヒート・パイプが、相転移ベースのヒート・パイプを備える、(2)に記載のプラズマ・セル。
(7)前記電球が、実質上円筒形、実質上球状、および実質上カージオイド形状の少なくとも1つを有する、(1)に記載のプラズマ・セル。
(8)前記1つまたは複数の電極が、前記プラズマ電球内の対流プルームの捕獲および方向変更を行うように構成された凹状の電極を備える、(1)に記載のプラズマ・セル。
(9)前記1つまたは複数の電極が、前記電球の上部を保護するように構成された実質上平坦な電極を備える、(1)に記載のプラズマ・セル。
(10)前記1つまたは複数の電極が、前記プラズマ電球の縦方向に沿って動作するフィラメント状の電極を備える、(1)に記載のプラズマ・セル。
(11)前記1つまたは複数の電極が、前記プラズマ電球の中心に関して、中心から外れて配置された電極を備える、(1)に記載のプラズマ・セル。
(12)前記ガスが、Ar、Kr、N2、H2O、O2、H2、CH4、1つまたは複数の金属ハロゲン化物、Ar/Xe混合物、ArHg、KrHg、およびXeHgの少なくとも1つを含む、(1)に記載のプラズマ・セル。
(13)前記プラズマ電球の前記ガラス材料が、OH低含有人工溶融水晶ガラス材料およびOH高含有人工溶融シリカ・ガラス材料の少なくとも1つを含む、(1)に記載のプラズマ・セル。
(14)前記プラズマ電球の前記ガラス材料が、SUPRASIL 1、SUPRASIL 2、SUPRASIL 300、SUPRASIL 310、HERALUX PLUS、およびHERALUX−VUVの少なくとも1つを含む、(1)に記載のプラズマ・セル。
(15)選択された放射波長に対して実質上透明なガラス材料で形成され、プラズマ発生に適したガスを含むように構成された、プラズマ電球と、
前記電球内に設けられ、前記電球内でプラズマ発生を開始するように構成された、1つまたは複数の電極と、
前記1つまたは複数の電極に設けられた1つまたは複数の放射線遮蔽であって、前記1つまたは複数の放射線遮蔽が、前記電球の前記ガラス材料を、プラズマ電球内のプラズマ領域によって放出された放射線から、保護するように構成された、放射線遮蔽とを備える、レーザー維持プラズマ光源での使用に適した1つまたは複数の放射線遮蔽を備えたプラズマ・セル。
(16)前記1つまたは複数の電極が、前記プラズマ電球の上部に設けられた上電極と、
前記プラズマ電球の下部に設けられた下電極とを備える、(15)に記載のプラズマ・セル。
(17)前記1つまたは複数の放射線遮蔽が、前記上電極に連結された上放射線遮蔽および前記下電極に連結された下放射線遮蔽の少なくとも1つを備える、(16)に記載のプラズマ・セル。
(18)前記1つまたは複数の放射線遮蔽が、前記プラズマ電球内の前記プラズマ領域からの対流電流の向きを変更するよう、さらに構成された、(15)に記載のプラズマ・セル。
(19)前記電球が、実質上円筒形、実質上球状、および実質上カージオイド形状の少なくとも1つを有する、(15)に記載のプラズマ・セル。
(20)前記1つまたは複数の電極が、前記プラズマ電球内の対流プルームの捕獲および方向変更を行うように構成された凹状の電極を備える、(15)に記載のプラズマ・セル。
(21)前記1つまたは複数の電極が、前記電球の上部を保護するように構成された実質上平坦な電極を備える、(15)に記載のプラズマ・セル。
(22)前記1つまたは複数の電極が、前記プラズマ電球の縦方向に沿って動作するフィラメント状の電極を備える、(15)に記載のプラズマ・セル。
(23)前記1つまたは複数の電極が、前記プラズマ電球の中心に関して、中心から外れて配置された電極を備える、(15)に記載のプラズマ・セル。
(24)前記ガスが、Ar、Kr、N2、H2O、O2、H2、CH4、1つまたは複数の金属ハロゲン化物、Ar/Xe混合物、ArHg、KrHg、およびXeHgの少なくとも1つを含む、(15)に記載のプラズマ・セル。
(25)前記プラズマ電球の前記ガラス材料が、OH低含有人工溶融水晶ガラス材料およびOH高含有人工溶融シリカ・ガラス材料の少なくとも1つを含む、(15)に記載のプラズマ・セル。
(26)前記プラズマ電球の前記ガラス材料が、SUPRASIL 1、SUPRASIL 2、SUPRASIL 300、SUPRASIL 310、HERALUX PLUS、およびHERALUX−VUVの少なくとも1つを含む、(15)に記載のプラズマ・セル。
Claims (14)
- 選択された放射波長に対して実質上透明なガラス材料で形成された、プラズマ電球と、
前記電球内に設けられ、前記電球内でプラズマ発生を開始するように構成された、1つまたは複数の電極と、
受入キャップ及び供給キャップを有し、前記受入キャップは、ガス源と前記プラズマ電球の内部領域との間でガスが双方向に移動できるように前記供給キャップに連結可能であり、前記供給キャップ及び前記受入キャップを機械的に連結するように構成されたクランプを備える、ガス・ポート組立体と、
前記1つまたは複数の電極と熱交換を行い、さらに、熱交換器と熱交換を行うヒート・パイプであって、前記熱交換器が、前記プラズマ電球内から、前記プラズマ電球の外部の媒体に熱エネルギーを伝達するように構成された、ヒート・パイプとを備える、レーザー維持プラズマ光源での使用に適したヒート・パイプを備えたプラズマ・セル。 - 前記ヒート・パイプが、前記プラズマ電球の1つまたは複数の電極から、前記プラズマ電球の外部の媒体に熱エネルギーを伝達するように構成された、請求項1に記載のプラズマ・セル。
- 前記ヒート・パイプが、前記プラズマ電球内のプラズマ領域から、前記プラズマ電球の外部の媒体に、ガスによって生成されたプルームからの熱を伝達するように構成された、請求項1に記載のプラズマ・セル。
- 前記ヒート・パイプが、前記ヒート・パイプの外面内に溶融物質の塊を含む、請求項1に記載のプラズマ・セル。
- 前記ヒート・パイプが、前記ヒート・パイプの外面内にガス物質の塊を含む、請求項2に記載のプラズマ・セル。
- 前記ヒート・パイプが、相転移ベースのヒート・パイプを備える、請求項2に記載のプラズマ・セル。
- 前記電球が、実質上円筒形、実質上球状、および実質上カージオイド形状の少なくとも1つを有する、請求項1に記載のプラズマ・セル。
- 前記1つまたは複数の電極が、前記プラズマ電球内の対流プルームの捕獲および方向変更を行うように構成された凹状の電極を備える、請求項1に記載のプラズマ・セル。
- 前記1つまたは複数の電極が、前記電球の上部を保護するように構成された実質上平坦な電極を備える、請求項1に記載のプラズマ・セル。
- 前記1つまたは複数の電極が、前記プラズマ電球の縦方向に沿って動作するフィラメント状の電極を備える、請求項1に記載のプラズマ・セル。
- 前記1つまたは複数の電極が、前記プラズマ電球の中心に関して、中心から外れて配置された電極を備える、請求項1に記載のプラズマ・セル。
- 前記ガスが、Ar、Kr、N2、H2O、O2、H2、CH4、1つまたは複数の金属ハロゲン化物、Ar/Xe混合物、ArHg、KrHg、およびXeHgの少なくとも1つを含む、請求項1に記載のプラズマ・セル。
- 前記プラズマ電球の前記ガラス材料が、OH低含有人工溶融水晶ガラス材料およびOH高含有人工溶融シリカ・ガラス材料の少なくとも1つを含む、請求項1に記載のプラズマ・セル。
- 前記プラズマ電球の前記ガラス材料が、SUPRASIL 1、SUPRASIL 2、SUPRASIL 300、SUPRASIL 310、HERALUX PLUS、およびHERALUX−VUVの少なくとも1つを含む、請求項1に記載のプラズマ・セル。
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US10008378B2 (en) * | 2015-05-14 | 2018-06-26 | Excelitas Technologies Corp. | Laser driven sealed beam lamp with improved stability |
US10616987B2 (en) * | 2015-08-28 | 2020-04-07 | Kla-Tencor Corporation | System and method for imaging a sample with an illumination source modified by a spatial selective wavelength filter |
US10887974B2 (en) | 2015-06-22 | 2021-01-05 | Kla Corporation | High efficiency laser-sustained plasma light source |
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US10244613B2 (en) * | 2015-10-04 | 2019-03-26 | Kla-Tencor Corporation | System and method for electrodeless plasma ignition in laser-sustained plasma light source |
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US9899205B2 (en) | 2016-05-25 | 2018-02-20 | Kla-Tencor Corporation | System and method for inhibiting VUV radiative emission of a laser-sustained plasma source |
EP3533079A1 (en) * | 2016-10-25 | 2019-09-04 | Excelitas Technologies Corp. | Apparatus and a method for operating a variable pressure sealed beam lamp |
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US10714327B2 (en) | 2018-03-19 | 2020-07-14 | Kla-Tencor Corporation | System and method for pumping laser sustained plasma and enhancing selected wavelengths of output illumination |
US10568195B2 (en) | 2018-05-30 | 2020-02-18 | Kla-Tencor Corporation | System and method for pumping laser sustained plasma with a frequency converted illumination source |
US11262591B2 (en) | 2018-11-09 | 2022-03-01 | Kla Corporation | System and method for pumping laser sustained plasma with an illumination source having modified pupil power distribution |
US11121521B2 (en) | 2019-02-25 | 2021-09-14 | Kla Corporation | System and method for pumping laser sustained plasma with interlaced pulsed illumination sources |
US11596048B2 (en) | 2019-09-23 | 2023-02-28 | Kla Corporation | Rotating lamp for laser-sustained plasma illumination source |
US11844172B2 (en) | 2019-10-16 | 2023-12-12 | Kla Corporation | System and method for vacuum ultraviolet lamp assisted ignition of oxygen-containing laser sustained plasma sources |
US11690162B2 (en) | 2020-04-13 | 2023-06-27 | Kla Corporation | Laser-sustained plasma light source with gas vortex flow |
US11862922B2 (en) * | 2020-12-21 | 2024-01-02 | Energetiq Technology, Inc. | Light emitting sealed body and light source device |
US11776804B2 (en) | 2021-04-23 | 2023-10-03 | Kla Corporation | Laser-sustained plasma light source with reverse vortex flow |
US11887835B2 (en) | 2021-08-10 | 2024-01-30 | Kla Corporation | Laser-sustained plasma lamps with graded concentration of hydroxyl radical |
US11978620B2 (en) | 2021-08-12 | 2024-05-07 | Kla Corporation | Swirler for laser-sustained plasma light source with reverse vortex flow |
US12033845B2 (en) | 2022-04-18 | 2024-07-09 | Kla Corporation | Laser-sustained plasma source based on colliding liquid jets |
US11637008B1 (en) * | 2022-05-20 | 2023-04-25 | Kla Corporation | Conical pocket laser-sustained plasma lamp |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5131082A (ja) * | 1974-07-11 | 1976-03-16 | Philips Nv | |
JPS60188464U (ja) * | 1984-05-24 | 1985-12-13 | 三菱電機株式会社 | 金属蒸気放電灯 |
JPH01122586A (ja) * | 1987-11-06 | 1989-05-15 | Toshiba Corp | 放電管 |
JPH07215731A (ja) * | 1994-01-28 | 1995-08-15 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | 紫外線ランプ用高純度シリカガラスおよびその製造方法 |
JP2001332217A (ja) * | 2000-05-25 | 2001-11-30 | Hamamatsu Photonics Kk | 光 源 |
JPWO2005059949A1 (ja) * | 2003-12-17 | 2007-07-12 | 学校法人日本大学 | フィールドエミッション点光源ランプ |
JP2009532829A (ja) * | 2006-03-31 | 2009-09-10 | エナジェティック・テクノロジー・インコーポレーテッド | レーザ駆動の光源 |
JP2010170994A (ja) * | 2008-12-27 | 2010-08-05 | Ushio Inc | 光源装置 |
JP2011119200A (ja) * | 2009-04-15 | 2011-06-16 | Ushio Inc | レーザー駆動光源 |
JP6224599B2 (ja) * | 2011-10-11 | 2017-11-01 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | レーザー維持プラズマ光源向けプラズマ・セル |
Family Cites Families (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3636395A (en) * | 1970-02-19 | 1972-01-18 | Sperry Rand Corp | Light source |
JPS5131378U (ja) * | 1974-08-24 | 1976-03-06 | ||
US4152625A (en) | 1978-05-08 | 1979-05-01 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Plasma generation and confinement with continuous wave lasers |
JPH07105911A (ja) * | 1993-09-30 | 1995-04-21 | Toshiba Lighting & Technol Corp | 低圧水銀蒸気放電灯、該放電灯の点灯方法並びに点灯回路および該放電灯を用いた紫外線照射装置 |
GB9323601D0 (en) | 1993-11-16 | 1994-01-05 | Atomic Energy Authority Uk | Plasma light source |
JPH09274893A (ja) * | 1996-04-04 | 1997-10-21 | Ushio Inc | 誘電体バリア放電ランプ |
US6747419B2 (en) * | 2002-07-03 | 2004-06-08 | Ushio America, Inc. | Method and apparatus for heat pipe cooling of an excimer lamp |
US20070132408A1 (en) * | 2003-08-05 | 2007-06-14 | Manfred Salvemoser | High frequency driven high pressure micro discharge |
JP4535732B2 (ja) * | 2004-01-07 | 2010-09-01 | 株式会社小松製作所 | 光源装置及びそれを用いた露光装置 |
CN1560898A (zh) * | 2004-03-02 | 2005-01-05 | 福建源光亚明电器有限公司 | 无极荧光灯 |
US7605385B2 (en) | 2004-07-28 | 2009-10-20 | Board of Regents of the University and Community College System of Nevada, on behlaf of the University of Nevada | Electro-less discharge extreme ultraviolet light source |
US20090134761A1 (en) * | 2004-10-26 | 2009-05-28 | Koninklijke Philips Electronics, N.V. | Gas discharge lamp having a cold spot outside its translucent envelope |
KR101177707B1 (ko) | 2005-02-25 | 2012-08-29 | 사이머 인코포레이티드 | Euv 광원의 타겟 물질 핸들링을 위한 방법 및 장치 |
US7989786B2 (en) * | 2006-03-31 | 2011-08-02 | Energetiq Technology, Inc. | Laser-driven light source |
US7705331B1 (en) | 2006-06-29 | 2010-04-27 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Methods and systems for providing illumination of a specimen for a process performed on the specimen |
CN201007982Y (zh) * | 2006-12-22 | 2008-01-16 | 厦门市东林电子有限公司 | 一种多管式节能灯管 |
US8072146B2 (en) * | 2007-03-01 | 2011-12-06 | Stanley Electric Co., Ltd. | Fluorescent lamp |
JP2008218071A (ja) * | 2007-03-01 | 2008-09-18 | Stanley Electric Co Ltd | 蛍光管 |
JP2009170154A (ja) * | 2008-01-11 | 2009-07-30 | Stanley Electric Co Ltd | 蛍光ランプ |
CN201156520Y (zh) * | 2008-01-16 | 2008-11-26 | 厦门市东林电子有限公司 | 一种反射式节能灯管 |
US7830092B2 (en) | 2008-06-25 | 2010-11-09 | Topanga Technologies, Inc. | Electrodeless lamps with externally-grounded probes and improved bulb assemblies |
EP2146368A1 (en) * | 2008-07-15 | 2010-01-20 | Barco N.V. | Gas discharge lamp system |
US20100097808A1 (en) | 2008-10-20 | 2010-04-22 | Robe Lighting S.R.O. | Plasma light source automated luminaire |
US20120120980A1 (en) | 2009-08-05 | 2012-05-17 | Mills Randell L | Molecular hydrino laser |
EP2534672B1 (en) * | 2010-02-09 | 2016-06-01 | Energetiq Technology Inc. | Laser-driven light source |
-
2012
- 2012-10-09 US US13/647,680 patent/US9318311B2/en active Active
- 2012-10-10 WO PCT/US2012/059448 patent/WO2013066576A2/en active Application Filing
- 2012-10-10 EP EP12846194.4A patent/EP2766919A4/en not_active Withdrawn
- 2012-10-10 JP JP2014535805A patent/JP6224599B2/ja active Active
-
2017
- 2017-10-05 JP JP2017194792A patent/JP6553146B2/ja active Active
-
2019
- 2019-07-03 JP JP2019124765A patent/JP6864717B2/ja active Active
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5131082A (ja) * | 1974-07-11 | 1976-03-16 | Philips Nv | |
JPS60188464U (ja) * | 1984-05-24 | 1985-12-13 | 三菱電機株式会社 | 金属蒸気放電灯 |
JPH01122586A (ja) * | 1987-11-06 | 1989-05-15 | Toshiba Corp | 放電管 |
JPH07215731A (ja) * | 1994-01-28 | 1995-08-15 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | 紫外線ランプ用高純度シリカガラスおよびその製造方法 |
JP2001332217A (ja) * | 2000-05-25 | 2001-11-30 | Hamamatsu Photonics Kk | 光 源 |
JPWO2005059949A1 (ja) * | 2003-12-17 | 2007-07-12 | 学校法人日本大学 | フィールドエミッション点光源ランプ |
JP2009532829A (ja) * | 2006-03-31 | 2009-09-10 | エナジェティック・テクノロジー・インコーポレーテッド | レーザ駆動の光源 |
JP2010170994A (ja) * | 2008-12-27 | 2010-08-05 | Ushio Inc | 光源装置 |
JP2011119200A (ja) * | 2009-04-15 | 2011-06-16 | Ushio Inc | レーザー駆動光源 |
JP6224599B2 (ja) * | 2011-10-11 | 2017-11-01 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | レーザー維持プラズマ光源向けプラズマ・セル |
JP6553146B2 (ja) * | 2011-10-11 | 2019-07-31 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | レーザー維持プラズマ光源向けプラズマ・セル |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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