JP2019164992A - Porous insulator, electrode, and non-aqueous storage element - Google Patents

Porous insulator, electrode, and non-aqueous storage element Download PDF

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美玖 大木本
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啓吾 鷹氏
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正弘 升澤
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Abstract

To provide a porous insulator, having high communication, a shape maintenance function, and a shutdown function and an electrode in which the porous insulator is formed on an electrode mixture.SOLUTION: A porous insulator 10 includes: a porous structure 11 formed of a polymer compound and having pores communicating with each other; and a solid 12 having a melting point or glass transition point lower than that of the polymer compound. Further, an electrode is configured so that an electrode mixture containing an active material is formed on an electrode substrate and the porous insulator is formed on the electrode mixture.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、多孔質絶縁体、電極および非水系蓄電素子に関する。   The present invention relates to a porous insulator, an electrode, and a nonaqueous storage element.

リチウムイオン二次電池は、破損等により、正極と負極が短絡した場合に、熱暴走反応が起こり、異常発熱することがある。このような熱暴走反応を防止するためには、熱収縮を抑制することで正極と負極の短絡を妨げる形状維持機能と、熱変形することで電池反応を妨げるシャットダウン機能を有するセパレータを設けることが効果的である。   In a lithium ion secondary battery, when the positive electrode and the negative electrode are short-circuited due to damage or the like, a thermal runaway reaction may occur and abnormal heat may be generated. In order to prevent such a thermal runaway reaction, it is necessary to provide a separator having a shape maintaining function that prevents a short circuit between the positive electrode and the negative electrode by suppressing thermal contraction and a shutdown function that prevents a battery reaction by thermal deformation. It is effective.

従来、セパレータとしては、融点が150℃付近であるポリオレフィン微多孔膜が主として使用されている。   Conventionally, as the separator, a polyolefin microporous film having a melting point near 150 ° C. is mainly used.

しかしながら、ポリオレフィン微多孔膜の空孔を形成する時のひずみが原因となって、ポリオレフィン微多孔膜が熱変形する時に熱収縮しやすく、正極と負極が短絡しやすい。   However, due to the strain at the time of forming the pores of the polyolefin microporous membrane, the polyolefin microporous membrane tends to shrink when thermally deformed, and the positive electrode and the negative electrode are easily short-circuited.

特許文献1には、多孔質基体と、樹脂とを含む多孔質膜からなる電気化学素子用セパレータが開示されている。ここで、多孔質基体は、150℃以上の耐熱温度を有し、かつフィラー粒子を含む。また、樹脂は、融点が80〜130℃の範囲にある。   Patent Document 1 discloses a separator for an electrochemical element comprising a porous film containing a porous substrate and a resin. Here, the porous substrate has a heat resistant temperature of 150 ° C. or higher and includes filler particles. The resin has a melting point in the range of 80 to 130 ° C.

しかしながら、特許文献1のセパレータは、フィラー粒子と、樹脂を含む。一般的に、最密充填構造をとりやすいフィラー粒子と、空孔を閉塞させる樹脂を使用すると、セパレータの連通性が低下する傾向がある。その結果、セパレータのイオン透過性が低下するため、リチウムイオン二次電池は、入出力特性が低下したり、過電圧等の要因によって耐久性が低下したりする。   However, the separator of Patent Document 1 includes filler particles and a resin. In general, when filler particles that are likely to have a close-packed structure and a resin that closes the pores are used, the separator's communication tends to decrease. As a result, the ion permeability of the separator is lowered, so that the input / output characteristics of the lithium ion secondary battery are lowered or the durability is lowered due to factors such as overvoltage.

本発明の一態様は、連通性が高く、形状維持機能と、シャットダウン機能を有する多孔質絶縁体を提供することを目的とする。   An object of one embodiment of the present invention is to provide a porous insulator having high communication performance and a shape maintaining function and a shutdown function.

本発明の一態様は、多孔質絶縁体であって、高分子化合物によって形成されており、連通している空孔を有する多孔質構造と、前記高分子化合物よりも融点またはガラス転移点が低い固体を有する。   One embodiment of the present invention is a porous insulator which is formed using a polymer compound and has a porous structure having pores that communicate with each other and a melting point or glass transition point lower than that of the polymer compound. Have a solid.

本発明の一態様によれば、連通性が高く、形状維持機能と、シャットダウン機能を有する多孔質絶縁体を提供することができる。   According to one embodiment of the present invention, it is possible to provide a porous insulator having high communication performance and having a shape maintaining function and a shutdown function.

本実施形態の多孔質絶縁体の一例を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows an example of the porous insulator of this embodiment. 本実施形態の電極の一例を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows an example of the electrode of this embodiment. 図1の多孔質絶縁体の形状維持機能とシャットダウン機能を説明する模式図である。It is a schematic diagram explaining the shape maintenance function and shutdown function of the porous insulator of FIG. 本実施形態の非水系蓄電素子の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the non-aqueous electrical storage element of this embodiment. 実施例のデバイスAを示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the device A of an Example. 実施例1の多孔質絶縁体のSEM写真である。2 is a SEM photograph of the porous insulator of Example 1. 実施例のデバイスBを示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the device B of an Example.

以下、本発明を実施するための形態を説明する。ただし、以下の実施形態は、本発明における好適な実施形態であり、本発明は、実施形態に限定されるものではない。   Hereinafter, modes for carrying out the present invention will be described. However, the following embodiments are preferred embodiments of the present invention, and the present invention is not limited to the embodiments.

<多孔質絶縁体および電極>
図1に、本実施形態の多孔質絶縁体の一例を示す。
<Porous insulator and electrode>
FIG. 1 shows an example of the porous insulator of the present embodiment.

多孔質絶縁体10は、高分子化合物によって形成されており、連通している空孔を有する多孔質構造11と、高分子化合物よりも融点またはガラス転移点が低い固体12を含む。ここで、多孔質構造11は、フィラー粒子を使用せず、高分子化合物によって形成されているため、空隙率が高い構造を形成しやすく、その結果、多孔質絶縁体10は、連通性が高くなる。さらに、多孔質絶縁体10が固体12の融点(またはガラス転移点)まで加熱されると、高分子化合物と固体12の融点またはガラス転移点の差によって、固体12は、液体(またはゴム状態)に変化するが、高分子化合物は、液体(またはゴム状態)に変化せず、多孔質構造11は、形状を維持する。このため、多孔質絶縁体10は、形状維持機能と、シャットダウン機能を有する。ここで、多孔質絶縁体10内に存在する空孔は、連通しているため、液体(またはゴム状態)に変化した固体12が空孔内を移動することができ、多孔質絶縁体10のシャットダウン機能が向上する。   The porous insulator 10 is formed of a polymer compound, and includes a porous structure 11 having pores communicating with each other and a solid 12 having a melting point or a glass transition point lower than that of the polymer compound. Here, since the porous structure 11 is formed of a polymer compound without using filler particles, it is easy to form a structure with a high porosity. As a result, the porous insulator 10 has high communication properties. Become. Furthermore, when the porous insulator 10 is heated to the melting point (or glass transition point) of the solid 12, the solid 12 becomes a liquid (or rubber state) due to the difference between the melting point or glass transition point of the polymer compound and the solid 12. However, the polymer compound does not change to a liquid (or rubber state), and the porous structure 11 maintains its shape. For this reason, the porous insulator 10 has a shape maintaining function and a shutdown function. Here, since the void | hole which exists in the porous insulator 10 is connected, the solid 12 which changed into the liquid (or rubber state) can move in the void | hole, The shutdown function is improved.

なお、多孔質絶縁体10は、リチウムイオン二次電池、ニッケル水素二次電池等の非水系蓄電素子、燃料電池、太陽電池等の発電素子等の電極に適用することができる。   The porous insulator 10 can be applied to electrodes such as non-aqueous storage elements such as lithium ion secondary batteries and nickel hydride secondary batteries, and power generation elements such as fuel cells and solar cells.

図2に、本実施形態の電極の一例として、多孔質絶縁体10を有する電極を示す。   FIG. 2 shows an electrode having a porous insulator 10 as an example of the electrode of the present embodiment.

電極20は、電極基体21上に、活物質22を含む電極合材23が形成されており、電極合材23上に多孔質絶縁体10が形成されている。ここで、多孔質絶縁体10の一部が電極合材23の一部に存在しているため、電極合材23と多孔質絶縁体10の接合強度が向上する。これにより、外部から振動等の衝撃が与えられた際に、活物質22が剥離しにくくなるため、電極20を有する非水系蓄電素子の耐久性が向上する。また、電極20を有する非水系蓄電素子を釘等の導電体が貫通した際に、正極と負極の間の短絡が生じにくくなるため、非水系蓄電素子の安全性が向上する。   In the electrode 20, an electrode mixture 23 including an active material 22 is formed on an electrode substrate 21, and the porous insulator 10 is formed on the electrode mixture 23. Here, since a part of the porous insulator 10 exists in a part of the electrode mixture 23, the bonding strength between the electrode mixture 23 and the porous insulator 10 is improved. Thereby, when an impact such as vibration is applied from the outside, the active material 22 becomes difficult to peel off, so that the durability of the non-aqueous storage element having the electrode 20 is improved. Further, when a conductor such as a nail penetrates the non-aqueous storage element having the electrode 20, it is difficult for a short circuit between the positive electrode and the negative electrode to occur, so that the safety of the non-aqueous storage element is improved.

多孔質絶縁体10が電極合材23に存在している領域(電極合材23の表面からの深さ)は、0.5%以上であることが好ましく、1.0%以上であることがより好ましい。   The region where the porous insulator 10 is present in the electrode mixture 23 (depth from the surface of the electrode mixture 23) is preferably 0.5% or more, and more preferably 1.0% or more. More preferred.

なお、多孔質絶縁体10の一部が電極合材23の一部に存在していなくてもよい。   Note that a part of the porous insulator 10 may not be present in a part of the electrode mixture 23.

次に、多孔質絶縁体10の形状維持機能とシャットダウン機能を、図3を用いて、説明する。   Next, the shape maintaining function and the shutdown function of the porous insulator 10 will be described with reference to FIG.

一般に、異常充放電等により、非水系蓄電素子に過剰な電流が流れ、異常発熱する場合がある。このような場合に、電極20を用いると、異常発熱を抑制することができる。   In general, due to abnormal charging / discharging or the like, an excessive current may flow through the non-aqueous power storage element to cause abnormal heat generation. In such a case, when the electrode 20 is used, abnormal heat generation can be suppressed.

具体的には、多孔質構造11の孔径が固体12の粒径よりも小さい場合(図3(a)参照)、加熱により、固体12が液体12'に変化することで、空孔31が閉塞する(図3(b)参照)。その結果、非水電解液内に存在するイオンが、連通している空孔31内を移動することを妨げ、非水系蓄電素子内における電気化学反応の進行が抑制される。これにより、電流の流れが遮断され、温度上昇が抑制される。次に、固体12が液体12'に変化した後も、温度上昇が一定時間緩やかに進行するため、液体12'が連通している空孔31内を移動することで、液体12'が互いに連結し、より効果的なシャットダウン機能を発現することができる。さらに、多孔質絶縁体10内に存在している活物質22の周囲に、液体12'が付着することも考えられる(図3(c)参照)。その結果、非水電解液が活物質22に接触することを妨げ、温度上昇が抑制される。一方、高温環境等の周囲の環境によって、非水系蓄電素子の内部温度が160℃以上の温度になると、SEI被膜の分解に起因する、負極と非水電解液の電気化学反応が進行する。その後、180℃以上の温度になると、正極と非水電解液の電気化学反応が進行する。このような熱暴走反応が進行すると、急激な温度上昇を伴い、200℃以上の温度になる。しかしながら、多孔質構造11は、固体12が液体12'に変化する温度においても、液体に変化せず、即ち、熱収縮せず、形状を維持するため、正極と負極の間の短絡を防止することができる。   Specifically, when the pore size of the porous structure 11 is smaller than the particle size of the solid 12 (see FIG. 3A), the pores 31 are blocked by the solid 12 being changed to the liquid 12 ′ by heating. (See FIG. 3B). As a result, ions existing in the non-aqueous electrolyte are prevented from moving through the communicating holes 31, and the progress of the electrochemical reaction in the non-aqueous storage element is suppressed. As a result, the current flow is interrupted, and the temperature rise is suppressed. Next, even after the solid 12 is changed to the liquid 12 ′, the temperature rises gradually for a certain period of time, so the liquid 12 ′ is connected to each other by moving in the holes 31 through which the liquid 12 ′ communicates. In addition, a more effective shutdown function can be exhibited. Furthermore, it is also conceivable that the liquid 12 ′ adheres around the active material 22 present in the porous insulator 10 (see FIG. 3C). As a result, the non-aqueous electrolyte is prevented from coming into contact with the active material 22, and the temperature rise is suppressed. On the other hand, when the internal temperature of the non-aqueous energy storage device reaches 160 ° C. or higher due to the surrounding environment such as a high temperature environment, the electrochemical reaction between the negative electrode and the non-aqueous electrolyte proceeds due to the decomposition of the SEI film. Thereafter, when the temperature reaches 180 ° C. or higher, the electrochemical reaction between the positive electrode and the non-aqueous electrolyte proceeds. When such a thermal runaway reaction proceeds, the temperature rises to 200 ° C. or more with a rapid temperature rise. However, the porous structure 11 does not change to a liquid even at a temperature at which the solid 12 changes to the liquid 12 ′, that is, does not thermally contract, and maintains its shape, thus preventing a short circuit between the positive electrode and the negative electrode. be able to.

また、多孔質構造11の孔径が固体12の粒径よりも大きい場合(図3(d)参照)、加熱により、固体12が液体12'に変化して、連通している空孔31内を移動することで、多孔質絶縁体10内に存在している活物質22の周囲に付着する(図3(c)参照)。その結果、非水電解液が活物質22に接触することを妨げ、温度上昇が抑制される。   Further, when the pore diameter of the porous structure 11 is larger than the particle diameter of the solid 12 (see FIG. 3D), the solid 12 is changed into the liquid 12 ′ by heating, and the inside of the communicating pores 31 is changed. By moving, it adheres to the periphery of the active material 22 present in the porous insulator 10 (see FIG. 3C). As a result, the non-aqueous electrolyte is prevented from coming into contact with the active material 22, and the temperature rise is suppressed.

高分子化合物の融点またはガラス転移点は、多孔質絶縁体10の形状維持機能の点で、160℃以上であることが好ましく、200℃以上であることがより好ましい。   The melting point or glass transition point of the polymer compound is preferably 160 ° C. or higher, and more preferably 200 ° C. or higher, from the viewpoint of the shape maintaining function of the porous insulator 10.

多孔質絶縁体10における多孔質構造11と固体12の存在分布としては、特に制限はなく、要求される非水系蓄電素子の特性に応じて適宜設計することができる。例えば、図1に示すように、多孔質構造11中に、固体12が均一に分散していてもよい。また、多孔質構造11中に、固体12が局所的に存在し、固体12の分布が偏っていてもよい。   The presence distribution of the porous structure 11 and the solid 12 in the porous insulator 10 is not particularly limited and can be appropriately designed according to the required characteristics of the nonaqueous storage element. For example, as shown in FIG. 1, the solid 12 may be uniformly dispersed in the porous structure 11. Moreover, the solid 12 may exist locally in the porous structure 11 and the distribution of the solid 12 may be biased.

次に、高分子化合物と固体12の融点またはガラス転移点の差に関して記述する。   Next, a difference in melting point or glass transition point between the polymer compound and the solid 12 will be described.

異常充放電等により、過剰な電流が流れることによって、非水系蓄電素子が発熱する場合、多孔質絶縁体10では、固体12が液体12'に変化することで、連通している空孔31が閉塞される。その結果、電流の流れが遮断されることで、温度上昇が抑制される。しかしながら、固体12が液体12'に変化した後、非水系蓄電素子の内部の温度上昇は一定時間緩やかに進行し、その間も多孔質構造11の形状を維持して、正極と負極の間の短絡を防止する必要がある。ここで、高分子化合物と固体12の融点またはガラス転移点の差が小さすぎると、正極と負極の間の短絡を防止することが困難になる。以上のことから、高分子化合物と固体12の融点またはガラス転移点の差は、20℃以上であることが好ましく、50℃以上であることがより好ましい。   When the non-aqueous power storage element generates heat due to an excessive current flow due to abnormal charging / discharging or the like, in the porous insulator 10, the solid 12 changes to the liquid 12 ′, so that the communicating holes 31 are formed. Blocked. As a result, the current flow is interrupted, thereby suppressing the temperature rise. However, after the solid 12 is changed to the liquid 12 ′, the temperature rise inside the nonaqueous storage element gradually proceeds for a certain period of time, and the shape of the porous structure 11 is maintained during this time, and the short circuit between the positive electrode and the negative electrode is performed. Need to prevent. Here, if the difference in melting point or glass transition point between the polymer compound and the solid 12 is too small, it is difficult to prevent a short circuit between the positive electrode and the negative electrode. From the above, the difference between the melting point or the glass transition point of the polymer compound and the solid 12 is preferably 20 ° C. or higher, and more preferably 50 ° C. or higher.

多孔質絶縁体10の孔径は、0.1〜10μmであることが好ましく、0.1〜1.0μmであることがより好ましい。多孔質絶縁体10の孔径が0.1μm以上であると、多孔質絶縁体10の非水電解液の浸透性やイオン透過性が向上し、非水系蓄電素子の内部の反応が効率的に進行する。一方、多孔質絶縁体10の孔径が10μm以下であると、非水系蓄電素子の内部で発生するリチウムデンドライドによる正極と負極の間の短絡を防止することができ、非水系蓄電素子の安全性が向上する。   The pore diameter of the porous insulator 10 is preferably 0.1 to 10 μm, and more preferably 0.1 to 1.0 μm. When the pore diameter of the porous insulator 10 is 0.1 μm or more, the permeability and ion permeability of the non-aqueous electrolyte of the porous insulator 10 are improved, and the reaction inside the non-aqueous power storage element proceeds efficiently. To do. On the other hand, when the pore diameter of the porous insulator 10 is 10 μm or less, it is possible to prevent a short circuit between the positive electrode and the negative electrode due to lithium dendride generated inside the nonaqueous storage element, and the safety of the nonaqueous storage element. Will improve.

多孔質絶縁体10の空隙率は30〜90%であることが好ましく、50〜85%であることがより好ましい。多孔質絶縁体10の空隙率が30%以上であると、多孔質絶縁体10の連通性が向上するため、非水電解液の浸透性やイオン透過性が向上し、非水系蓄電素子の内部の反応が効率的に進行する。一方、多孔質絶縁体10の空隙率が85%以下であると、多孔質絶縁体10の強度が向上するため、外部から振動等の衝撃が与えられた際に、多孔質絶縁体10が破断しにくくなる。   The porosity of the porous insulator 10 is preferably 30 to 90%, and more preferably 50 to 85%. When the porosity of the porous insulator 10 is 30% or more, the porosity of the porous insulator 10 is improved, so that the permeability and ion permeability of the non-aqueous electrolyte are improved, and the inside of the non-aqueous storage element is increased. The reaction proceeds efficiently. On the other hand, when the porosity of the porous insulator 10 is 85% or less, the strength of the porous insulator 10 is improved, so that the porous insulator 10 is broken when an impact such as vibration is applied from the outside. It becomes difficult to do.

高分子化合物としては、固体12よりも融点またはガラス転移点が高ければ、特に制限はなく、アラミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、セルロース等が挙げられる。   The polymer compound is not particularly limited as long as it has a melting point or glass transition point higher than that of the solid 12, and examples thereof include aramid, polyamideimide, polyimide, and cellulose.

なお、高分子化合物は、単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。   In addition, a high molecular compound may be used independently and may use 2 or more types together.

また、高分子化合物は、多孔質絶縁体10の形状維持機能の点で、架橋していることが好ましい。高分子化合物が架橋している場合は、架橋密度を制御することにより、耐薬品性や強度を制御することができる。   The polymer compound is preferably cross-linked from the viewpoint of the shape maintaining function of the porous insulator 10. When the polymer compound is crosslinked, the chemical resistance and strength can be controlled by controlling the crosslinking density.

高分子化合物が架橋している場合の多孔質構造11は、特に制限はなく、シャットダウン機能の点で、高分子化合物の三次元分岐網目構造を骨格とする共連続構造であることが好ましい。   The porous structure 11 when the polymer compound is crosslinked is not particularly limited, and is preferably a co-continuous structure having a three-dimensional branched network structure of the polymer compound as a skeleton from the viewpoint of a shutdown function.

このような多孔質構造11としては、例えば、共連続構造において、炭素骨格が三次元網目構造をなす形態をとるモノリス構造が挙げられる。   Examples of such a porous structure 11 include a monolith structure in which a carbon skeleton forms a three-dimensional network structure in a co-continuous structure.

なお、本願明細書および特許請求の範囲において、架橋している高分子化合物が融点またはガラス転移点を有しない場合、固体12よりも融点またはガラス転移点が高いものとする。   In the present specification and claims, when the polymer compound that is crosslinked does not have a melting point or glass transition point, the melting point or glass transition point is higher than that of the solid 12.

固体12は、電気的絶縁性を有し、非水電解液に対して安定であり、非水系蓄電素子に組み込んだ際に印加する電圧の範囲で酸化還元されにくい電気化学的に安定な材料で構成されていることが好ましい。   The solid 12 is an electrochemically stable material that has electrical insulation, is stable with respect to a non-aqueous electrolyte, and is not easily oxidized or reduced within a voltage range applied when incorporated in a non-aqueous storage element. It is preferable to be configured.

固体12としては、高分子化合物よりも融点またはガラス転移点が低ければ、特に制限はなく、高分子化合物および低分子化合物(例えば、エチレンカーボネート)のいずれであってもよい。   The solid 12 is not particularly limited as long as it has a melting point or glass transition point lower than that of the polymer compound, and may be any of a polymer compound and a low molecular compound (for example, ethylene carbonate).

固体12の融点またはガラス転移点は、80〜200℃であることが好ましく、110〜160℃であることがより好ましい。固体12の融点またはガラス転移点が80℃以上であると、外部環境によって、非水系蓄電素子の内部が異常温度に達しない限り、シャットダウン機能が発現しないため、使用環境に依存せず、非水系蓄電素子を使用することができる、一方、固体12の融点またはガラス転移点が200℃以下であると、非水系蓄電素子が異常発熱したときの初期段階において、シャットダウン機能を発現することができ、非水系蓄電素子の安全性が向上する。   The melting point or glass transition point of the solid 12 is preferably 80 to 200 ° C, and more preferably 110 to 160 ° C. When the melting point or glass transition point of the solid 12 is 80 ° C. or higher, the shutdown function does not appear unless the inside of the non-aqueous power storage element reaches an abnormal temperature due to the external environment. On the other hand, when the melting point or glass transition point of the solid 12 is 200 ° C. or less, a shutdown function can be expressed in the initial stage when the non-aqueous storage element abnormally generates heat, The safety of the non-aqueous storage element is improved.

固体12の形状としては、多孔質絶縁体10の空孔31の連通性を著しく妨げるものでなければ、特に制限はない。   The shape of the solid 12 is not particularly limited as long as it does not significantly hinder the communication of the pores 31 of the porous insulator 10.

固体12は、分子構造により、融点またはガラス転移点を制御しやすい点から、樹脂粒子であることが好ましい。これにより、非水系蓄電素子の安全性を考慮して、固体12の融点またはガラス転移点を最適化することができ、多孔質絶縁体10のシャットダウン機能が向上する。   The solid 12 is preferably resin particles because the melting point or the glass transition point can be easily controlled by the molecular structure. Accordingly, the melting point or glass transition point of the solid 12 can be optimized in consideration of the safety of the nonaqueous storage element, and the shutdown function of the porous insulator 10 is improved.

樹脂粒子を構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレン(PE)、変性ポリエチレン、ポリプロピレン、パラフィン、共重合ポリオレフィン、ポリオレフィン誘導体(例えば、塩素化ポリエチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、フッ素樹脂)、ポリオレフィンワックス、石油ワックス、カルナバワックス等が挙げられる。   Examples of the resin constituting the resin particles include polyethylene (PE), modified polyethylene, polypropylene, paraffin, copolymerized polyolefin, polyolefin derivatives (for example, chlorinated polyethylene, polyvinylidene chloride, polyvinyl chloride, fluororesin), and polyolefin wax. Petroleum wax, carnauba wax and the like.

共重合ポリオレフィンとしては、例えば、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)、エチレン−メチルアクリレート共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体等のエチレン−ビニルモノマー共重合体が挙げられる。   Examples of the copolymer polyolefin include an ethylene-propylene copolymer, an ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), an ethylene-methyl acrylate copolymer, an ethylene-acrylic acid copolymer, an ethylene-methacrylic acid copolymer, An ethylene-vinyl monomer copolymer such as an ethylene-vinyl alcohol copolymer may be mentioned.

なお、樹脂粒子は、単独で使用してもよく、二種以上を併用してもよい。   In addition, a resin particle may be used independently and may use 2 or more types together.

また、樹脂粒子は、表面改質されていてもよい。これにより、多孔質絶縁体10に用いられる塗布液中における樹脂粒子の分散性を向上させることができる。その結果、多孔質絶縁体10中における樹脂粒子の分布が均一になり、多孔質絶縁体10の形状維持機能とシャットダウン機能が向上する。   The resin particles may be surface-modified. Thereby, the dispersibility of the resin particle in the coating liquid used for the porous insulator 10 can be improved. As a result, the distribution of the resin particles in the porous insulator 10 becomes uniform, and the shape maintaining function and the shutdown function of the porous insulator 10 are improved.

樹脂粒子の表面改質方法としては、例えば、エチレン性の不飽和基、エポキシ基等の反応性基を利用して、アルコキシ基、アミド基、カルボキシル基、スルホン酸基等の極性基を表面に導入する方法が挙げられる。   As a method for modifying the surface of the resin particles, for example, using a reactive group such as an ethylenically unsaturated group or an epoxy group, a polar group such as an alkoxy group, an amide group, a carboxyl group or a sulfonic acid group is provided on the surface The method to introduce is mentioned.

樹脂粒子の粒径は、0.01〜100μmであることが好ましく、0.1〜1μm以下であることがより好ましい。樹脂粒子の粒径が0.01μm以上であると、多孔質絶縁体10のシャットダウン機能が向上し、100μm以下であると、多孔質絶縁体10の空孔31の連通性が向上する。   The particle size of the resin particles is preferably 0.01 to 100 μm, and more preferably 0.1 to 1 μm. When the particle size of the resin particles is 0.01 μm or more, the shutdown function of the porous insulator 10 is improved, and when it is 100 μm or less, the continuity of the pores 31 of the porous insulator 10 is improved.

<多孔質絶縁体の製造方法>
高分子化合物が架橋していない場合の多孔質絶縁体10の製造方法としては、例えば、熱誘起相分離法、貧溶媒誘起相分離法等の相分離現象を利用する方法が挙げられる。
<Method for producing porous insulator>
Examples of the method for producing the porous insulator 10 in the case where the polymer compound is not crosslinked include a method utilizing a phase separation phenomenon such as a heat-induced phase separation method and a poor solvent-induced phase separation method.

この場合、多孔質絶縁体10の製造に用いられる塗布液に使用する溶媒としては、特に制限はなく、所定の多孔質構造が形成されるように、溶解度パラメータに着目して、適宜選択することができる。   In this case, the solvent used for the coating solution used for the production of the porous insulator 10 is not particularly limited, and is appropriately selected by paying attention to the solubility parameter so that a predetermined porous structure is formed. Can do.

上記以外の多孔質絶縁体10の製造方法としては、例えば、重合開始剤と、重合性化合物と、固体12を含み、重合性化合物が溶解している塗布液を塗布した後に、非電離放射線、電離放射線または赤外線を照射する方法が挙げられる。   As a manufacturing method of the porous insulator 10 other than the above, for example, after applying a coating liquid containing a polymerization initiator, a polymerizable compound, and a solid 12 and dissolving the polymerizable compound, non-ionizing radiation, The method of irradiating with ionizing radiation or infrared rays is mentioned.

高分子化合物が架橋している場合、高分子化合物は、一般に、難溶性であるため、多孔質絶縁体10を製造する際に、一種以上の多官能の重合性化合物(例えば、架橋性モノマー、架橋性オリゴマー)を含む塗布液を用いる。   When the polymer compound is crosslinked, the polymer compound is generally poorly soluble, and therefore, when the porous insulator 10 is manufactured, one or more polyfunctional polymerizable compounds (for example, a crosslinking monomer, A coating solution containing a crosslinkable oligomer) is used.

なお、多官能の重合性化合物とは、重合性基を2個以上有する化合物を意味する。   The polyfunctional polymerizable compound means a compound having two or more polymerizable groups.

この場合、重合誘起相分離法等を利用して、多孔質絶縁体10を形成することができる。   In this case, the porous insulator 10 can be formed using a polymerization-induced phase separation method or the like.

多官能の重合性化合物としては、非電離放射線、電離放射線または赤外線を照射することによって架橋することが可能であれば、特に制限はなく、例えば、アクリレート樹脂、メタアクリレート樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、ビニルエステル樹脂、不飽和ポリエステル、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、ビニルエーテル、エン−チオール反応を活用した樹脂等が挙げられる。これらの中でも、生産性の観点から、アクリレート樹脂、メタアクリレート樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、ビニルエステル樹脂が好ましい。   The polyfunctional polymerizable compound is not particularly limited as long as it can be crosslinked by irradiation with non-ionizing radiation, ionizing radiation, or infrared rays. For example, acrylate resin, methacrylate resin, urethane acrylate resin, vinyl Examples include ester resins, unsaturated polyesters, epoxy resins, oxetane resins, vinyl ethers, resins utilizing ene-thiol reaction, and the like. Among these, from the viewpoint of productivity, acrylate resins, methacrylate resins, urethane acrylate resins, and vinyl ester resins are preferable.

ラジカル重合性のモノマーとしては、例えば、ミルセン、カレン、オシメン、ピネン、リモネン、カンフェン、テルピノレン、トリシクレン、テルピネン、フェンチェン、フェランドレン、シルベストレン、サビネン、ジペンテン、ボルネン、イソプレゴール、カルボン等の不飽和結合を有するテルペンの2重結合をエポキシ化し、アクリル酸またはメタクリル酸を付加させたエステル化合物;シトロネロール、ピノカンフェオール、ゲラニオール、フェンチルアルコール、ネロール、ボルネオール、リナロール、メントール、テルピネオール、ツイルアルコール、シトロネラール、ヨノン、イロン、シネロール、シトラール、ピノール、シクロシトラール、カルボメントン、アスカリドール、サフラナール、ピペリトール、メンテンモノオール、ジヒドロカルボン、カルベオール、スクラレオール、マノール、ヒノキオール、フェルギノール、トタロール、スギオール、ファルネソール、パチュリアルコール、ネロリドール、カロトール、カジノール、ランセオール、オイデスモール、フィトール等のテルペン由来のアルコールと、アクリル酸またはメタクリル酸のエステル化合物;シトロネロル酸、ヒノキ酸、サンタル酸、エステル側鎖にメントン、カルボタナセトン、フェランドラール、ピメリテノン、ペリルアルデヒド、ツヨン、カロン、ダゲトン、ショウノウ、ビサボレン、サンタレン、ジンギベレン、カリオフィレン、クルクメン、セドレン、カジネン、ロンギホレン、セスキベニヘン、セドロール、グアヨール、ケッソグリコール、シペロン、エレモフィロン、ゼルンボン、カンホレン、ポドカルプレン、ミレン、フィロクラデン、トタレン、ケトマノイルオキシド、マノイルオキシド、アビエチン酸、ピマル酸、ネオアビエチン酸、レボピマル酸、イソ−d−ピマル酸、アガテンジカルボン酸、ルベニン酸、カロチノイド、ペラリアルデヒド、ピペリトン、アスカリドール、ピメン、フェンケン、セスキテルペン類、ジテルペン類、トリテルペン類等の骨格をエステル側鎖に有するアクリレートまたはメタクリレート化合物等が挙げられる。   Examples of the radical polymerizable monomer include unsaturated compounds such as myrcene, carene, osymene, pinene, limonene, camphene, terpinolene, tricyclene, terpinene, fenchen, ferrandrene, sylbestrene, sabinene, dipentene, bornene, isopulegol, and carvone. An ester compound in which a double bond of a terpene having a bond is epoxidized and acrylic acid or methacrylic acid is added; citronellol, pinocampheol, geraniol, fentil alcohol, nerol, borneol, linalool, menthol, terpineol, twill alcohol, Citronellal, Yonon, Iron, Cinerol, Citral, Pinol, Cyclocitral, Carbomenton, Ascaridol, Safranal, Piperitol, Mentenmono Alcohols derived from terpenes such as ru, dihydrocarvone, carbeol, sclareol, manol, hinokiol, ferruginol, totarol, sugiol, farnesol, patchouliol, nerolidol, carotol, casinomol, lanseol, eudesmol, phytol, and acrylic acid or methacrylic acid Ester compounds of acids; citronellolic acid, hinokic acid, santalic acid, menthone, carbotanaseton, ferrandral, pimelicenone, perillaldehyde, tsuyon, caron, daggerton, camphor, bisabolene, santalen, gingiveren, caryophyllene, curcumen, cedrene, Kazinen, Longifolene, Sesquibenien, Cedrol, Guayool, Kessoglycol, Ciperon, Eremofilon, Zel Bonn, camphorene, podocarprene, mylene, phyllocladene, totalene, ketomanoyl oxide, manoyl oxide, abietic acid, pimaric acid, neoabietic acid, levopimaric acid, iso-d-pimalic acid, agatendicarboxylic acid, rubenic acid, carotenoid, Examples thereof include acrylate or methacrylate compounds having a skeleton such as peralaldehyde, piperitone, ascaridol, pymene, fenken, sesquiterpenes, diterpenes, and triterpenes in the ester side chain.

重合開始剤としては、例えば、光重合開始剤、熱重合開始剤を用いることができる。   As the polymerization initiator, for example, a photopolymerization initiator or a thermal polymerization initiator can be used.

光重合開始剤としては、光ラジカル発生剤を用いることができる。   As the photopolymerization initiator, a photo radical generator can be used.

光ラジカル発生剤としては、例えば、α−ヒドロキシアセトフェノン、α−アミノアセトフェノン、4−アロイル−1,3−ジオキソラン、ベンジルケタール、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアミノアセトフェン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4,4'−ジクロロベンゾフェン、4,4'−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサンソン、2−クロロチオキサンソン、2−メチルチオキサンソン、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾインパーオキシド、ジ−tert−ブチルパーオキシド、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、メチルベンゾイルフォーメート、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインn−ブチルエーテル、ベンゾインn−プロピル等のベンゾインアルキルエ−テルやエステル、(1−ヒドロキシシクロヘキシル)フェニルケトン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、(1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニル)ケトン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、ビス(η−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)フェニル)チタニウム、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン(ダロキュア1173)、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オンモノアシルホスフィンオキシド、ビスアシルホスフィンオキシド、チタノセン、フルオレセン、アントラキノン、チオキサントンまたはキサントン、ロフィンダイマー、トリハロメチル化合物またはジハロメチル化合物、活性エステル化合物、有機ホウ素化合物等が挙げられる。 Examples of the photo radical generator include α-hydroxyacetophenone, α-aminoacetophenone, 4-aroyl-1,3-dioxolane, benzyl ketal, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylaminoacetophene, p-dimethyl. Aminopropiophenone, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4,4′-dichlorobenzophene, 4,4′-bisdiethylaminobenzophenone, Michler's ketone, benzyl, benzoin, benzyldimethyl ketal, tetramethylthiuram monosulfide, thioxanthone, 2- Chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, azobisisobutyronitrile, benzoin peroxide, di-tert-butyl peroxide, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy Roxy-2-methyl-1-phenyl-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, methylbenzoyl formate, benzoin isopropyl ether, benzoin methyl ether, benzoin Benzoin alkyl ethers and esters such as ethyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin n-butyl ether, benzoin n-propyl, (1-hydroxycyclohexyl) phenyl ketone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morphol Linophenyl) -butanone-1, (1-hydroxycyclohexylphenyl) ketone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, bis (η 5 -2,4-cyclopentadien-1-yl) -Bis (2,6-di Fluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) phenyl) titanium, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino Propan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one (Darocur 1173), bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one monoacylphosphine oxide, bisacylphosphine oxide, titanocene, fluorescene, anthraquinone, thioxanthone or xanthone, lophine dimer, Trihalomethyl compound or dihalo Chill compounds, active ester compounds, organic boron compounds, and the like.

なお、ビスアジド化合物等の光架橋型ラジカル発生剤を光ラジカル発生剤と併用してもよい。   A photocrosslinking radical generator such as a bisazide compound may be used in combination with the photoradical generator.

熱重合開始剤としては、例えば、アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)等が挙げられる。   Examples of the thermal polymerization initiator include azobisisobutyronitrile (AIBN).

重合開始剤として、光酸発生剤を用いてもよい。この場合、塗布された塗布液に光を照射すると、光酸発生剤が酸を発生し、多官能の重合性化合物が架橋する。   A photoacid generator may be used as the polymerization initiator. In this case, when the applied coating solution is irradiated with light, the photoacid generator generates an acid and the polyfunctional polymerizable compound is crosslinked.

酸の存在下で架橋する多官能の重合性化合物としては、例えば、エポキシ基、オキセタン基、オキソラン基等の環状エーテル基を有する化合物、上述した置換基を側鎖に有するアクリル化合物またはビニル化合物、カーボネート系化合物、低分子のメラミン化合物、ビニルエーテル類やビニルカルバゾール類、スチレン誘導体、α−メチルスチレン誘導体、ビニルアルコールと、アクリル酸、メタクリル酸等とのエステル化合物等のビニルアルコールエステル類等のカチオン重合することが可能なビニル結合を有するモノマー等が挙げられる。   Examples of the polyfunctional polymerizable compound that crosslinks in the presence of an acid include a compound having a cyclic ether group such as an epoxy group, an oxetane group, and an oxolane group, an acrylic compound or a vinyl compound having the above-described substituent in the side chain, Cationic polymerization of carbonate compounds, low molecular weight melamine compounds, vinyl ethers and vinyl carbazoles, styrene derivatives, α-methylstyrene derivatives, vinyl alcohol esters such as ester compounds of vinyl alcohol with acrylic acid, methacrylic acid, etc. And monomers having a vinyl bond that can be used.

光酸発生剤としては、例えば、オニウム塩、ジアゾニウム塩、キノンジアジド化合物、有機ハロゲン化物、芳香族スルホネート化合物、バイスルホン化合物、スルホニル化合物、スルホネート化合物、スルホニウム化合物、スルファミド化合物、ヨードニウム化合物、スルホニルジアゾメタン化合物等が挙げられる。これらの中でも、オニウム塩が好ましい。   Examples of photoacid generators include onium salts, diazonium salts, quinonediazide compounds, organic halides, aromatic sulfonate compounds, bisulfone compounds, sulfonyl compounds, sulfonate compounds, sulfonium compounds, sulfamide compounds, iodonium compounds, sulfonyldiazomethane compounds, and the like. Is mentioned. Of these, onium salts are preferred.

オニウム塩としては、例えば、フルオロホウ酸アニオン、ヘキサフルオロアンチモン酸アニオン、ヘキサフルオロヒ素酸アニオン、トリフルオロメタンスルホネートアニオン、p−トルエンスルホネートアニオン、p−トロトルエンスルホネートアニオンを対イオンとするジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩等が挙げられる。   Examples of the onium salt include a diazonium salt and a phosphonium salt having a counter ion of a fluoroborate anion, a hexafluoroantimonate anion, a hexafluoroarsenate anion, a trifluoromethanesulfonate anion, a p-toluenesulfonate anion, and a p-toluenesulfonate anion. And sulfonium salts.

上記以外の光酸発生剤としては、ハロゲン化トリアジン化合物も使用することができる。   As other photoacid generators, halogenated triazine compounds can also be used.

なお、光酸発生剤は、単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。   In addition, a photo-acid generator may be used independently and may use 2 or more types together.

光酸発生剤を用いる場合は、増感色素を併用してもよい。   When a photoacid generator is used, a sensitizing dye may be used in combination.

増感色素としては、例えば、アクリジン化合物、ベンゾフラビン類、ペリレン、アントラセン、レーザ色素類等が挙げられる。   Examples of the sensitizing dye include acridine compounds, benzoflavins, perylene, anthracene, and laser dyes.

多孔質絶縁体10の製造に用いられる塗布液は、ポロジェンをさらに含むことが好ましい。ここで、ポロジェンは、多孔質絶縁体10中に空孔31を形成するために用いられる。   The coating solution used for manufacturing the porous insulator 10 preferably further contains a porogen. Here, the porogen is used to form the holes 31 in the porous insulator 10.

ポロジェンとしては、重合性化合物および重合開始剤を溶解することが可能であり、かつ、重合性化合物が重合の進行に伴い、重合体が相分離することが可能な液状物質であれば、特に制限はなく、例えば、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル等のエチレングリコール類、γ−ブチロラクトン、炭酸プロピレン等のエステル類、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類等が挙げられる。   The porogen is not particularly limited as long as the polymerizable compound and the polymerization initiator can be dissolved, and the polymerizable compound is a liquid substance that can be phase-separated as the polymerization proceeds. For example, ethylene glycols such as diethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, esters such as γ-butyrolactone and propylene carbonate, amides such as N, N-dimethylacetamide, etc. .

また、テトラデカン酸メチル、デカン酸メチル、ミリスチン酸メチル、テトラデカン等の分子量が比較的大きい液状物質も、ポロジェンとして機能する傾向がある。   Also, liquid substances having a relatively high molecular weight such as methyl tetradecanoate, methyl decanoate, methyl myristate, tetradecane, etc. tend to function as porogens.

これらの中でも、沸点が高く、多孔質絶縁体10の製造安定性が向上するため、エチレングリコール類が好ましい。   Among these, ethylene glycols are preferable because they have a high boiling point and improve the production stability of the porous insulator 10.

なお、ポロジェンは単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。   In addition, a porogen may be used independently and may use 2 or more types together.

多孔質絶縁体10の製造に用いられる塗布液の25℃における粘度は、1〜150mPa・sであることが好ましく、5〜20mPa・sであることがより好ましい。これにより、塗布液が活物質22の隙間に浸み込むため、多孔質絶縁体10の一部を電極合材23の一部に存在させることができる。   The viscosity at 25 ° C. of the coating solution used for the production of the porous insulator 10 is preferably 1 to 150 mPa · s, and more preferably 5 to 20 mPa · s. Thereby, since the coating liquid penetrates into the gaps of the active material 22, a part of the porous insulator 10 can be present in a part of the electrode mixture 23.

また、塗布液中の重合性化合物の含有量は、10〜70質量%であることが好ましく、10〜50質量%であることがより好ましい。塗布液中の重合性化合物の含有量が10質量%以上であると、多孔質絶縁体10の強度が向上し、70質量%以下であると、塗布液が活物質22の隙間に浸み込むため、多孔質絶縁体10の一部を電極合材23の一部に存在させることができる。   Moreover, it is preferable that it is 10-70 mass%, and, as for content of the polymeric compound in a coating liquid, it is more preferable that it is 10-50 mass%. When the content of the polymerizable compound in the coating solution is 10% by mass or more, the strength of the porous insulator 10 is improved, and when it is 70% by mass or less, the coating solution soaks into the gaps of the active material 22. Therefore, a part of the porous insulator 10 can be present in a part of the electrode mixture 23.

塗布液に含まれる、重合性化合物と、固体12の体積比は、多孔質絶縁体10に適用することが可能であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、1:1〜1:15であることが好ましく、1:1〜1:10であることがより好ましい。これにより、多孔質絶縁体10のシャットダウン機能が向上する。   The volume ratio of the polymerizable compound and the solid 12 contained in the coating solution is not particularly limited as long as it can be applied to the porous insulator 10, and can be appropriately selected according to the purpose. The ratio is preferably 1: 1 to 1:15, more preferably 1: 1 to 1:10. Thereby, the shutdown function of the porous insulator 10 is improved.

塗布液の塗布方法としては、特に制限はなく、例えば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スリットコート法、キャピラリーコート法、スプレーコート法、ノズルコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、反転印刷法、インクジェット印刷法等の各種印刷法を用いることができる。   The coating method for the coating solution is not particularly limited. For example, spin coating method, casting method, micro gravure coating method, gravure coating method, bar coating method, roll coating method, wire bar coating method, dip coating method, slit coating method. Various printing methods such as a method, a capillary coating method, a spray coating method, a nozzle coating method, a gravure printing method, a screen printing method, a flexographic printing method, an offset printing method, a reverse printing method, and an inkjet printing method can be used.

非水系蓄電素子用の電極合材23は、例えば、粉体状の活物質が分散媒中に分散している塗布液を電極基体21上に塗布した後、乾燥させることによって形成することができる。   The electrode mixture 23 for a non-aqueous storage element can be formed, for example, by applying a coating liquid in which a powdery active material is dispersed in a dispersion medium, and then drying the coating liquid. .

塗布液の塗布方法としては、例えば、スプレー、ディスペンサー、ダイコーター、引き上げ塗工を用いる印刷法を用いることができる。   As a coating method of the coating liquid, for example, a printing method using spraying, a dispenser, a die coater, or a lift coating can be used.

リチウムイオン二次電池用の正極活物質としては、アルカリ金属イオンを可逆的に吸蔵および放出することが可能であれば、特に制限はなく、アルカリ金属含有遷移金属化合物を使用することができる。   The positive electrode active material for the lithium ion secondary battery is not particularly limited as long as it can reversibly occlude and release alkali metal ions, and an alkali metal-containing transition metal compound can be used.

なお、正極活物質は、単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。   In addition, a positive electrode active material may be used independently and may use 2 or more types together.

リチウム含有遷移金属化合物としては、例えば、コバルト、マンガン、ニッケル、クロム、鉄およびバナジウムからなる群より選択される一種以上の元素と、リチウムを含む複合酸化物が挙げられる。   Examples of the lithium-containing transition metal compound include a composite oxide containing lithium and one or more elements selected from the group consisting of cobalt, manganese, nickel, chromium, iron, and vanadium.

正極活物質の具体例としては、コバルト酸リチウム、ニッケル酸リチウム、マンガン酸リチウム等のリチウム含有遷移金属酸化物、LiFePO等のオリビン型リチウム塩、二硫化チタン、二硫化モリブデン等のカルコゲン化合物、二酸化マンガン等が挙げられる。 Specific examples of the positive electrode active material include lithium-containing transition metal oxides such as lithium cobaltate, lithium nickelate, and lithium manganate, olivine-type lithium salts such as LiFePO 4 , chalcogen compounds such as titanium disulfide and molybdenum disulfide, Examples include manganese dioxide.

リチウム含有遷移金属酸化物は、リチウムと遷移金属とを含む金属酸化物、または、これらの金属酸化物中の遷移金属の一部が異種元素によって置換された金属酸化物である。   The lithium-containing transition metal oxide is a metal oxide containing lithium and a transition metal, or a metal oxide in which a part of the transition metal in these metal oxides is substituted with a different element.

異種元素としては、例えば、Na、Mg、Sc、Y、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Al、Cr、Pb、Sb、B等が挙げられる。これらの中でも、Mn、Al、Co、Ni、Mgが好ましい。   Examples of the different elements include Na, Mg, Sc, Y, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Al, Cr, Pb, Sb, and B. Among these, Mn, Al, Co, Ni, and Mg are preferable.

なお、異種元素は、単独で使用してもよいしい、二種以上を併用してもよい。   In addition, a different element may be used independently and may use 2 or more types together.

リチウムイオン二次電池用の負極活物質としては、アルカリ金属イオンを可逆的に吸蔵および放出することが可能であれば、特に制限はなく、黒鉛型結晶構造を有するグラファイトを含む炭素材料を使用することができる。   The negative electrode active material for the lithium ion secondary battery is not particularly limited as long as it can reversibly occlude and release alkali metal ions, and a carbon material containing graphite having a graphite-type crystal structure is used. be able to.

上記炭素材料としては、例えば、天然黒鉛、球状または繊維状の人造黒鉛、難黒鉛化性炭素(ハードカーボン)、易黒鉛化性炭素(ソフトカーボン)等が挙げられる。   Examples of the carbon material include natural graphite, spherical or fibrous artificial graphite, non-graphitizable carbon (hard carbon), graphitizable carbon (soft carbon), and the like.

上記炭素材料以外の負極活物質としては、チタン酸リチウムが挙げられる。   Examples of the negative electrode active material other than the carbon material include lithium titanate.

また、リチウムイオン二次電池のエネルギー密度の点から、シリコン、スズ、シリコン合金、スズ合金、酸化シリコン、窒化シリコン、酸化スズ等の高容量材料も、負極活物質として、使用することができる。   Further, from the viewpoint of the energy density of the lithium ion secondary battery, a high capacity material such as silicon, tin, silicon alloy, tin alloy, silicon oxide, silicon nitride, and tin oxide can also be used as the negative electrode active material.

ニッケル水素二次電池用の正極活物質としては、例えば、水酸化ニッケル等が挙げられる。   Examples of the positive electrode active material for a nickel metal hydride secondary battery include nickel hydroxide.

ニッケル水素二次電池用の負極活物質としては、例えば、Zr−Ti−Mn−Fe−Ag−V−Al−W合金、Ti15Zr2115Ni29CrCoFeMn合金等のAB系あるいはAB系の水素吸蔵合金が挙げられる。 Examples of the negative electrode active material for a nickel-hydrogen secondary battery include a Zr—Ti—Mn—Fe—Ag—V—Al—W alloy, a Ti 15 Zr 21 V 15 Ni 29 Cr 5 Co 5 Fe 1 Mn 8 alloy, and the like. AB 2 type or A 2 B type hydrogen storage alloy.

電極合材23は、結着剤、導電剤をさらに含んでいてもよい。   The electrode mixture 23 may further contain a binder and a conductive agent.

結着剤としては、例えば、PVDF、PTFE、ポリエチレン、ポリプロピレン、アラミド樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアクリルニトリル、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸メチルエステル、ポリアクリル酸エチルエステル、ポリアクリル酸ヘキシルエステル、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸メチルエステル、ポリメタクリル酸エチルエステル、ポリメタクリル酸ヘキシルエステル、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルピロリドン、ポリエーテル、ポリエーテルスルホン、ヘキサフルオロポリプロピレン、スチレンブタジエンゴム、カルボキシメチルセルロース等が挙げられる。   Examples of the binder include PVDF, PTFE, polyethylene, polypropylene, aramid resin, polyamide, polyimide, polyamideimide, polyacrylonitrile, polyacrylic acid, polyacrylic acid methyl ester, polyacrylic acid ethyl ester, and polyacrylic hexyl. Esters, polymethacrylic acid, polymethacrylic acid methyl ester, polymethacrylic acid ethyl ester, polymethacrylic acid hexyl ester, polyvinyl acetate, polyvinylpyrrolidone, polyether, polyethersulfone, hexafluoropolypropylene, styrene butadiene rubber, carboxymethylcellulose, etc. Can be mentioned.

上記以外の結着剤としては、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロアルキルビニルエーテル、フッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエチレン、エチレン、プロピレン、ペンタフルオロプロピレン、フルオロメチルビニルエーテル、アクリル酸、ヘキサジエンからなる群より選択される二種以上のモノマーの共重合体等が挙げられる。   As binders other than the above, tetrafluoroethylene, hexafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoroalkyl vinyl ether, vinylidene fluoride, chlorotrifluoroethylene, ethylene, propylene, pentafluoropropylene, fluoromethyl vinyl ether, acrylic acid, And a copolymer of two or more monomers selected from the group consisting of hexadiene.

なお、結着剤は、単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。   In addition, a binder may be used independently and may use 2 or more types together.

導電剤としては、例えば、天然黒鉛、人造黒鉛のグラファイト類、アセチレンブラック、ケッチェンブラック、チャンネルブラック、ファーネスブラック、ランプブラック、サーマルブラック等のカーボンブラック類、炭素繊維、金属繊維等の導電性繊維類、フッ化カーボン、アルミニウム等の金属粉末類、酸化亜鉛やチタン酸カリウム等の導電性ウィスカー類、酸化チタン等の導電性金属酸化物、フェニレン誘導体、グラフェン誘導体等の導電性材料等を用いることができる。   Examples of the conductive agent include natural graphite, artificial graphite graphite, acetylene black, ketjen black, channel black, furnace black, lamp black, thermal black, and other carbon blacks, and conductive fibers such as carbon fibers and metal fibers. , Metal powders such as carbon fluoride and aluminum, conductive whiskers such as zinc oxide and potassium titanate, conductive metal oxides such as titanium oxide, conductive materials such as phenylene derivatives and graphene derivatives, etc. Can do.

非水系蓄電素子用の電極基体21としては、平面性および導電性を有する基体であれば、特に制限はなく、二次電池、キャパシターで用いられる、アルミ箔、銅箔、ステンレス箔、チタニウム箔、または、これらをエッチングして微細な穴を開けたエッチド箔、リチウムイオンキャパシターで用いられる穴開き電極基体等を用いることができる。   The electrode substrate 21 for the non-aqueous storage element is not particularly limited as long as it is a substrate having planarity and conductivity, and is used for secondary batteries and capacitors. Aluminum foil, copper foil, stainless steel foil, titanium foil, Alternatively, an etched foil in which fine holes are formed by etching these, a holed electrode base used in a lithium ion capacitor, or the like can be used.

燃料電池用の活物質としては、一般に、白金粒子、ルテニウム粒子、白金合金粒子等の触媒粒子を、カーボン等の触媒担体の表面に担持させたものが用いられる。   As an active material for a fuel cell, a material in which catalyst particles such as platinum particles, ruthenium particles and platinum alloy particles are supported on the surface of a catalyst carrier such as carbon is generally used.

燃料電池用の電極合材23は、例えば、電極基体21上に、触媒粒子の前駆体が担持されている触媒担体を含む塗布液を塗布した後、水素雰囲気下等で還元することによって形成することができる。   The electrode mixture 23 for a fuel cell is formed, for example, by applying a coating solution containing a catalyst carrier on which a catalyst particle precursor is supported on the electrode base 21 and then reducing the coating under a hydrogen atmosphere or the like. be able to.

触媒担体の表面に触媒粒子の前駆体を担持する方法としては、例えば、触媒担体が水中に懸濁している懸濁液に、触媒粒子の前駆体を添加して、溶解させた後、アルカリを加え、金属の水酸化物を生成させると共に、触媒担体の表面に担持させる方法が挙げられる。   As a method of supporting the catalyst particle precursor on the surface of the catalyst carrier, for example, the catalyst particle precursor is added to and dissolved in a suspension in which the catalyst carrier is suspended in water. In addition, there is a method in which a metal hydroxide is generated and supported on the surface of a catalyst carrier.

触媒粒子の前駆体としては、塩化白金酸、ジニトロジアミノ白金、塩化第二白金、塩化第一白金、ビスアセチルアセトナート白金、ジクロロジアンミン白金、ジクロロテトラミン白金、硫酸第二白金塩化ルテニウム酸、塩化イリジウム酸、塩化ロジウム酸、塩化第二鉄、塩化コバルト、塩化クロム、塩化金、硝酸銀、硝酸ロジウム、塩化パラジウム、硝酸ニッケル、硫酸鉄、塩化銅等が挙げられる。   Catalyst particle precursors include chloroplatinic acid, dinitrodiaminoplatinum, diplatinum chloride, diplatinum chloride, bisacetylacetonatoplatinum, dichlorodiammineplatinum, dichlorotetramineplatinum, diplatinum sulfate ruthenium acid, iridium chloride Examples thereof include acid, rhodium chloride, ferric chloride, cobalt chloride, chromium chloride, gold chloride, silver nitrate, rhodium nitrate, palladium chloride, nickel nitrate, iron sulfate, and copper chloride.

燃料電池用の電極基体21としては、燃料電池で用いられる、カーボンペーパーの繊維状の電極を不織状または織状で平面にしたもの、上記穴あき電極基体のうち微細な穴を有するもの等を用いることができる。   Examples of the electrode base 21 for the fuel cell include a non-woven or woven flat electrode made of carbon paper used in a fuel cell, and one having fine holes among the perforated electrode base. Can be used.

太陽電池用の活物質としては、例えば、WO粉末、TiO粉末、SnO粉末、ZnO粉末、ZrO粉末、Nb粉末、CeO粉末、SiO粉末、Al粉末等の酸化物半導体粉末が挙げられる。 Examples of active materials for solar cells include WO 3 powder, TiO 2 powder, SnO 2 powder, ZnO powder, ZrO 2 powder, Nb 2 O 5 powder, CeO 2 powder, SiO 2 powder, Al 2 O 3 powder, and the like. The oxide semiconductor powder is mentioned.

太陽電池用の電極合材23は、例えば、電極基体21上に、色素が担持されている酸化物半導体粉末を含む塗布液を塗布することによって形成することができる。   The electrode mixture 23 for a solar cell can be formed, for example, by applying a coating solution containing an oxide semiconductor powder carrying a dye on the electrode substrate 21.

色素としては、例えば、ルテニウム・トリス型の遷移金属錯体、ルテニウム−ビス型の遷移金属錯体、オスミウム−トリス型の遷移金属錯体、オスミウム−ビス型の遷移金属錯体、ルテニウム−シス−ジアクア−ビピリジル錯体、フタロシアニンおよびポルフィリン、有機−無機のペロブスカイト結晶等が挙げられる。   Examples of the dye include a ruthenium-tris transition metal complex, a ruthenium-bis transition metal complex, an osmium-tris transition metal complex, an osmium-bis transition metal complex, and a ruthenium-cis-diaqua-bipyridyl complex. Phthalocyanine and porphyrin, organic-inorganic perovskite crystals, and the like.

太陽電池用の電極基体21としては、太陽電池で用いられる、ガラス、プラスチック等の平面基体上に、インジウム・チタン系の酸化物、酸化亜鉛等の透明半導体膜が形成されているもの、導電性電極膜が蒸着されているもの等を用いることができる。   As the electrode substrate 21 for a solar cell, a transparent substrate such as an indium / titanium oxide or zinc oxide formed on a flat substrate such as glass or plastic used in a solar cell, conductive A material on which an electrode film is deposited can be used.

<非水系蓄電素子>
本実施形態の非水系蓄電素子は、本実施形態の電極を有する。このとき、本実施形態の電極は、正極および/または負極である。
<Non-aqueous storage element>
The non-aqueous storage element of this embodiment has the electrode of this embodiment. At this time, the electrode of this embodiment is a positive electrode and / or a negative electrode.

本実施形態の非水系蓄電素子は、セパレータを介して、正極と負極が配置されているが、セパレータを介して、正極と負極が交互に積層されていることが好ましい。このとき、正極と負極の積層数は、任意に決定することができる。   Although the positive electrode and the negative electrode are arrange | positioned through the separator as for the non-aqueous electrical storage element of this embodiment, it is preferable that the positive electrode and the negative electrode are laminated | stacked alternately via the separator. At this time, the number of stacked positive electrodes and negative electrodes can be arbitrarily determined.

なお、本実施形態の電極は、本実施形態の多孔質絶縁体を有するため、必要に応じて、セパレータを省略することができる。   In addition, since the electrode of this embodiment has the porous insulator of this embodiment, a separator can be omitted as necessary.

本実施形態の非水系蓄電素子は、非水電解液が注入されており、外装で封止されていることが好ましい。このとき、外装と絶縁するために、両側の電極と外装の間に、セパレータが設けられていることが好ましい。   The non-aqueous storage element of this embodiment is preferably filled with a non-aqueous electrolyte and sealed with an exterior. At this time, in order to insulate from the exterior, it is preferable that a separator is provided between the electrodes on both sides and the exterior.

非水系蓄電素子としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、非水系二次電池、非水系キャパシタ等が挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as a non-aqueous electrical storage element, Although it can select suitably according to the objective, For example, a non-aqueous secondary battery, a non-aqueous capacitor, etc. are mentioned.

非水系蓄電素子の形状としては、特に制限はなく、公知の形状の中から、その用途に応じて適宜選択することができるが、例えば、ラミネートタイプ、シート電極およびセパレータをスパイラル状にしたシリンダタイプ、ペレット電極およびセパレータを組み合わせたインサイドアウト構造のシリンダタイプ、ペレット電極およびセパレータを積層したコインタイプ等が挙げられる。   The shape of the non-aqueous storage element is not particularly limited and can be appropriately selected from known shapes according to its use. For example, a laminate type, a cylinder type in which a sheet electrode and a separator are spiraled And a cylinder type having an inside-out structure in which a pellet electrode and a separator are combined, a coin type in which a pellet electrode and a separator are stacked, and the like.

図4に、本実施形態の非水系蓄電素子の一例を示す。   FIG. 4 shows an example of the non-aqueous storage element of this embodiment.

非水系蓄電素子40は、正極41と、負極42と、非水電解液を保持しているセパレータ43と、外装缶44と、正極41の引き出し線45と、負極42の引き出し線46とを有する。   The non-aqueous storage element 40 includes a positive electrode 41, a negative electrode 42, a separator 43 that holds a non-aqueous electrolyte, an outer can 44, a lead wire 45 of the positive electrode 41, and a lead wire 46 of the negative electrode 42. .

<セパレータ>
セパレータは、負極と正極の短絡を防ぐために、負極と正極との間に設けられる。
<Separator>
The separator is provided between the negative electrode and the positive electrode in order to prevent a short circuit between the negative electrode and the positive electrode.

セパレータは、イオン透過性を有し、かつ、電子伝導性を有しない。   The separator has ion permeability and does not have electronic conductivity.

セパレータとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、クラフト紙、ビニロン混抄紙、合成パルプ混抄紙等の紙、セロハン、ポリエチレングラフト膜、ポリプロピレンメルトフロー不織布等のポリオレフィン不織布、ポリアミド不織布、ガラス繊維不織布、ポリエチレン系微多孔膜、ポリプロピレン系微多孔膜等が挙げられる。   The separator is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose.For example, paper such as kraft paper, vinylon mixed paper, synthetic pulp mixed paper, cellophane, polyethylene graft membrane, polypropylene melt flow nonwoven fabric, etc. Examples thereof include a polyolefin nonwoven fabric, a polyamide nonwoven fabric, a glass fiber nonwoven fabric, a polyethylene microporous membrane, and a polypropylene microporous membrane.

セパレータは、非水電解液を保持する観点から、気孔率が50%以上であることが好ましい。   The separator preferably has a porosity of 50% or more from the viewpoint of holding the non-aqueous electrolyte.

セパレータの平均厚さは、3〜50μmであることが好ましく、5〜30μmであることがより好ましい。セパレータの平均厚さが3μm以上であると、負極と正極び短絡を防止しやすくなり、50μm以下であると、負極と正極の間の電気抵抗が増加しにくくなる。   The average thickness of the separator is preferably 3 to 50 μm, and more preferably 5 to 30 μm. When the average thickness of the separator is 3 μm or more, it becomes easy to prevent a short circuit between the negative electrode and the positive electrode, and when it is 50 μm or less, the electrical resistance between the negative electrode and the positive electrode is difficult to increase.

セパレータの形状としては、非水系蓄電素子に適用することが可能であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、シート状等が挙げられる。   The shape of the separator is not particularly limited as long as it can be applied to a non-aqueous energy storage device, and can be appropriately selected according to the purpose. Examples thereof include a sheet shape.

セパレータの大きさは、非水系蓄電素子に適用することが可能であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。   The size of the separator is not particularly limited as long as it can be applied to a non-aqueous storage element, and can be appropriately selected according to the purpose.

セパレータは、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよい。   The separator may have a single layer structure or a laminated structure.

<非水電解液>
非水電解液は、電解質塩が非水溶媒に溶解している電解液である。
<Non-aqueous electrolyte>
The nonaqueous electrolytic solution is an electrolytic solution in which an electrolyte salt is dissolved in a nonaqueous solvent.

<非水溶媒>
非水溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、非プロトン性有機溶剤が好ましい。
<Nonaqueous solvent>
There is no restriction | limiting in particular as a non-aqueous solvent, Although it can select suitably according to the objective, An aprotic organic solvent is preferable.

非プロトン性有機溶剤としては、鎖状カーボネート、環状カーボネート等のカーボネート系有機溶剤を用いることができる。   As the aprotic organic solvent, carbonate-based organic solvents such as chain carbonates and cyclic carbonates can be used.

鎖状カーボネートとしては、例えば、ジメチルカーボネート(DMC)、ジエチルカーボネート(DEC)、メチルエチルカーボネート(EMC)、メチルプロピオネート(MP)等が挙げられる。   Examples of the chain carbonate include dimethyl carbonate (DMC), diethyl carbonate (DEC), methyl ethyl carbonate (EMC), and methyl propionate (MP).

環状カーボネートとしては、例えば、プロピレンカーボネート(PC)、エチレンカーボネート(EC)、ブチレンカーボネート(BC)、ビニレンカーボネート(VC)等が挙げられる。   Examples of the cyclic carbonate include propylene carbonate (PC), ethylene carbonate (EC), butylene carbonate (BC), vinylene carbonate (VC), and the like.

これらの中でも、エチレンカーボネート(EC)と、ジメチルカーボネート(DMC)を併用することが好ましい。このとき、エチレンカーボネート(EC)と、ジメチルカーボネート(DMC)の比率は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。   Among these, it is preferable to use ethylene carbonate (EC) and dimethyl carbonate (DMC) in combination. At this time, the ratio of ethylene carbonate (EC) and dimethyl carbonate (DMC) is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose.

本実施形態においては、必要に応じて、カーボネート系有機溶剤以外の非水溶媒を用いてもよい。   In this embodiment, you may use nonaqueous solvents other than a carbonate type organic solvent as needed.

カーボネート系有機溶剤以外の非水溶媒としては、環状エステル、鎖状エステル等のエステル系有機溶剤、環状エーテル、鎖状エーテル等のエーテル系有機溶剤等を用いることができる。   As the non-aqueous solvent other than the carbonate organic solvent, an ester organic solvent such as a cyclic ester or a chain ester, an ether organic solvent such as a cyclic ether or a chain ether, or the like can be used.

環状エステルとしては、例えば、γ−ブチロラクトン(γBL)、2−メチル−γ−ブチロラクトン、アセチル−γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン等が挙げられる。   Examples of the cyclic ester include γ-butyrolactone (γBL), 2-methyl-γ-butyrolactone, acetyl-γ-butyrolactone, and γ-valerolactone.

鎖状エステルとしては、例えば、プロピオン酸アルキルエステル、マロン酸ジアルキルエステル、酢酸アルキルエステル(酢酸メチル(MA)、酢酸エチル等)、ギ酸アルキルエステル(ギ酸メチル(MF)、ギ酸エチル等)等が挙げられる。   Examples of the chain ester include propionic acid alkyl ester, malonic acid dialkyl ester, acetic acid alkyl ester (methyl acetate (MA), ethyl acetate, etc.), formic acid alkyl ester (methyl formate (MF), ethyl formate, etc.) and the like. It is done.

環状エーテルとしては、例えば、テトラヒドロフラン、アルキルテトラヒドロフラン、アルコキシテトラヒドロフラン、ジアルコキシテトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、アルキル−1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキソラン等が挙げられる。   Examples of the cyclic ether include tetrahydrofuran, alkyltetrahydrofuran, alkoxytetrahydrofuran, dialkoxytetrahydrofuran, 1,3-dioxolane, alkyl-1,3-dioxolane, 1,4-dioxolane and the like.

鎖状エーテルとしては、例えば、1,2−ジメトシキエタン(DME)、ジエチルエーテル、エチレングリコールジアルキルエーテル、ジエチレングリコールジアルキルエーテル、トリエチレングリコールジアルキルエーテル、テトラエチレングリコールジアルキルエーテル等が挙げられる。   Examples of the chain ether include 1,2-dimethoxyethane (DME), diethyl ether, ethylene glycol dialkyl ether, diethylene glycol dialkyl ether, triethylene glycol dialkyl ether, tetraethylene glycol dialkyl ether, and the like.

<電解質塩>
電解質塩としては、イオン伝導度が高く、非水溶媒に溶解することが可能であれば、特に制限はないが、リチウム塩が好ましい。
<Electrolyte salt>
The electrolyte salt is not particularly limited as long as it has high ionic conductivity and can be dissolved in a non-aqueous solvent, but a lithium salt is preferable.

リチウム塩としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ヘキサフルオロリン酸リチウム(LiPF)、過塩素酸リチウム(LiClO)、塩化リチウム(LiCl)、ホウフッ化リチウム(LiBF)、六フッ化ヒ素リチウム(LiAsF)、トリフルオロメタスルホン酸リチウム(LiCFSO)、リチムビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミド(LiN(CFSO)、リチウムビス(パーフルオロエチルスルホニル)イミド(LiN(CSO)等が挙げられる。これらの中でも、炭素電極中へのアニオンの吸蔵量の観点から、LiPFが特に好ましい。 The lithium salt is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose. For example, lithium hexafluorophosphate (LiPF 6 ), lithium perchlorate (LiClO 4 ), lithium chloride (LiCl), borofluoride Lithium (LiBF 4 ), lithium hexafluoroarsenide (LiAsF 6 ), lithium trifluorometasulfonate (LiCF 3 SO 3 ), lithium bis (trifluoromethylsulfonyl) imide (LiN (CF 3 SO 2 ) 2 ), lithium bis (Perfluoroethylsulfonyl) imide (LiN (C 2 F 5 SO 2 ) 2 ) and the like. Among these, LiPF 6 is particularly preferable from the viewpoint of the amount of anion stored in the carbon electrode.

なお、電解質塩は、単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。   In addition, electrolyte salt may be used independently and may use 2 or more types together.

非水電解液中の電解質塩の含有量は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、0.7〜4mol/Lであることが好ましく、1.0〜3mol/Lであることがより好ましく、1.0〜2.5mol/Lであることがさらに好ましい。   The content of the electrolyte salt in the nonaqueous electrolytic solution is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose, but is preferably 0.7 to 4 mol / L, and preferably 1.0 to 3 mol / L. It is more preferable that it is 1.0-2.5 mol / L.

<非水系蓄電素子の用途>
本実施形態の非水系蓄電素子の用途としては、特に制限はなく、各種用途に用いることができるが、例えば、ノートパソコン、ペン入力パソコン、モバイルパソコン、電子ブックプレーヤー、携帯電話、携帯ファックス、携帯コピー、携帯プリンター、ヘッドホンステレオ、ビデオムービー、液晶テレビ、ハンディークリーナー、ポータブルCD、ミニディスク、トランシーバー、電子手帳、電卓、メモリーカード、携帯テープレコーダー、ラジオ、バックアップ電源、モーター、照明器具、玩具、ゲーム機器、時計、ストロボ、カメラ等が挙げられる。
<Applications of non-aqueous energy storage devices>
The application of the non-aqueous storage element of the present embodiment is not particularly limited and can be used for various applications. For example, a notebook computer, a pen input personal computer, a mobile personal computer, an electronic book player, a mobile phone, a mobile fax machine, a mobile phone Copy, portable printer, headphone stereo, video movie, LCD TV, handy cleaner, portable CD, minidisc, walkie-talkie, electronic notebook, calculator, memory card, portable tape recorder, radio, backup power supply, motor, lighting equipment, toy, game Equipment, watches, strobes, cameras, etc.

以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。   Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples.

後述する方法により作製したデバイスA、B(図5、図7参照)を用いて、以下の方法により、加熱時の絶縁性、多孔質絶縁体の空隙率、加熱時の多孔質絶縁体の空隙率の変化を評価した。   By using the devices A and B (see FIGS. 5 and 7) produced by the method described later, the following methods are used for insulation, porosity of the porous insulator, and porosity of the porous insulator during heating. Rate change was evaluated.

<加熱時の絶縁性>
デバイスA、Bを用いて、加熱時の絶縁性を評価した。具体的には、デバイスA、Bを200℃に加熱した時の負極基体間の直流抵抗値を測定した。なお、加熱時の絶縁性は、下記の基準で判定した。
<Insulation during heating>
Using devices A and B, the insulating properties during heating were evaluated. Specifically, the DC resistance value between the negative electrode substrates when the devices A and B were heated to 200 ° C. was measured. Insulating properties during heating were determined according to the following criteria.

〇:負極基体間の直流抵抗値が1MΩ以上である場合
△:負極基体間の直流抵抗値が1KΩ以上1MΩ未満である場合
×:負極基体間の直流抵抗値が1KΩ未満である場合
<多孔質絶縁体の空隙率>
デバイスAを用いて、室温(25℃)における多孔質絶縁体の空隙率を評価した。具体的には、まず、デバイスAに不飽和脂肪酸(市販のバター)を充填した後、オスミウム染色を施した。次に、集束イオンビーム(FIB)を用いて、デバイスAの内部の多孔質絶縁体の断面構造を切り出した後、走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて、多孔質絶縁体の空隙率を測定した。なお、多孔質絶縁体の空隙率は、下記の基準で判定した。
◯: When the DC resistance value between the negative electrode substrates is 1 MΩ or more Δ: When the DC resistance value between the negative electrode substrates is 1 KΩ or more and less than 1 MΩ ×: When the DC resistance value between the negative electrode substrates is less than 1 KΩ <Porous Porosity of insulator>
Using device A, the porosity of the porous insulator at room temperature (25 ° C.) was evaluated. Specifically, first, the device A was filled with unsaturated fatty acid (commercially available butter) and then subjected to osmium staining. Next, after cutting out the cross-sectional structure of the porous insulator inside the device A using a focused ion beam (FIB), the porosity of the porous insulator is measured using a scanning electron microscope (SEM). did. The porosity of the porous insulator was determined according to the following criteria.

◎:空隙率が50%以上である場合
〇:空隙率が30%以上50%未満である場合
×:空隙率が30%未満である場合
<加熱時の多孔質絶縁体の空隙率の変化>
デバイスAを用いて、加熱時の多孔質絶縁体の空隙率の変化を評価した。具体的には、まず、ホットプレートを用いて、デバイスAを200℃で15分間加熱した。次に、デバイスAに不飽和脂肪酸(市販のバター)を充填した後、オスミウム染色を施した。次に、集束イオンビーム(FIB)を用いて、デバイスAの内部の多孔質絶縁体の断面構造を切り出した後、SEMを用いて、加熱時の多孔質絶縁体の空隙率を測定し、室温における多孔質絶縁体の空隙率との差を求めた。なお、加熱時の多孔質絶縁体の空隙率の変化は、下記の基準で判定した。
A: When the porosity is 50% or more O: When the porosity is 30% or more and less than 50% X: When the porosity is less than 30% <Change in porosity of the porous insulator during heating>
Using device A, the change in the porosity of the porous insulator during heating was evaluated. Specifically, first, device A was heated at 200 ° C. for 15 minutes using a hot plate. Next, after filling device A with unsaturated fatty acid (commercially available butter), osmium staining was performed. Next, after cutting out the cross-sectional structure of the porous insulator inside the device A using a focused ion beam (FIB), the porosity of the porous insulator during heating is measured using SEM, The difference from the porosity of the porous insulator was determined. The change in the porosity of the porous insulator during heating was determined according to the following criteria.

◎:空隙率の低下が30%以上である場合
〇:空隙率の低下が5%以上30%未満である場合
△:空隙率の低下が1%以上5%未満である場合
×:空隙率の低下が1%未満である場合
<実施例1>
〔1〕〜〔3〕に示す工程により、図5に示すデバイスAを作製した。
◎: When the porosity reduction is 30% or more ◯: When the porosity reduction is 5% or more and less than 30% △: When the porosity reduction is 1% or more and less than 5% ×: Porosity When the decrease is less than 1% <Example 1>
Device A shown in FIG. 5 was manufactured by the steps shown in [1] to [3].

〔1〕多孔質絶縁体用インクの調製
架橋性モノマーとしての、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート(ダイセル・オルネクス社製)14質量部、ポロジェンとしての、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル(関東化学工業社製)32質量部、光重合開始剤としての、Irgacure184(BASF社製)0.7質量部、樹脂粒子としての、融点140℃のポリプロピレン(PP)ワックス粒子(三井化学社製)54質量部を混合し、多孔質絶縁体用インクを調製した。
[1] Preparation of ink for porous insulator 14 parts by mass of tricyclodecane dimethanol diacrylate (manufactured by Daicel Ornex) as a crosslinkable monomer, dipropylene glycol monomethyl ether (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) as a porogen ) 32 parts by mass, 0.7 part by mass of Irgacure 184 (manufactured by BASF) as a photopolymerization initiator, and 54 parts by mass of polypropylene (PP) wax particles having a melting point of 140 ° C. (manufactured by Mitsui Chemicals) as resin particles Then, an ink for a porous insulator was prepared.

ここで、多孔質絶縁体用インクに含まれる、架橋性モノマーと、樹脂粒子の体積比は、1:4である。   Here, the volume ratio of the crosslinkable monomer to the resin particles contained in the porous insulator ink is 1: 4.

〔2〕多孔質絶縁体の形成
ディスペンサーを用いて、負極基体としての、厚さ8μmの銅箔上に、多孔質絶縁体用インクを塗布した後、N雰囲気下でUVを照射することで、架橋性モノマーを架橋した。次に、ホットプレートを用いて、100℃で1分間加熱することで、溶媒を除去し、多孔質絶縁体を形成した。
[2] Formation of porous insulator After applying ink for porous insulator on a copper foil having a thickness of 8 μm as a negative electrode substrate using a dispenser, UV irradiation is performed in an N 2 atmosphere. The crosslinkable monomer was crosslinked. Next, the solvent was removed by heating at 100 ° C. for 1 minute using a hot plate to form a porous insulator.

SEMを用いて、多孔質絶縁体の表面を観察した結果、孔径0.1〜10μm程度のマクロ孔が形成されていることがわかった(図6参照)。   As a result of observing the surface of the porous insulator using SEM, it was found that macropores having a pore diameter of about 0.1 to 10 μm were formed (see FIG. 6).

〔3〕デバイスAの作製
多孔質絶縁体が形成されている負極基体の上に、負極基体としての、厚さ8μmの銅箔を重ね合わせて、デバイスAを作製した。
[3] Fabrication of Device A Device A was fabricated by superposing an 8 μm-thick copper foil as a negative electrode substrate on the negative electrode substrate on which a porous insulator was formed.

次に、デバイスAを用いて、加熱時の絶縁性、多孔質絶縁体の空隙率、加熱時の多孔質絶縁体の空隙率の変化を評価した(表2参照)。   Next, device A was used to evaluate changes in insulation during heating, porosity of the porous insulator, and porosity of the porous insulator during heating (see Table 2).

なお、デバイスAの負極基体間の直流抵抗値を室温で測定したところ、20MΩ以上の高い絶縁性を示した。   In addition, when the direct current resistance value between the negative electrode base | substrates of the device A was measured at room temperature, the high insulation of 20 Mohm or more was shown.

次に、〔4〕〜〔6〕に示す工程により、図7に示すデバイスBを作製した。   Next, the device B shown in FIG. 7 was manufactured by the steps shown in [4] to [6].

〔4〕負極合材の形成
負極活物質としての、平均粒径10μmのグラファイト粒子97質量部と、増粘剤としての、セルロース1質量部と、結着剤としての、アクリル樹脂2質量部を、水中に均一に分散させて、負極合材用インクを得た。
[4] Formation of negative electrode mixture 97 parts by mass of graphite particles having an average particle diameter of 10 μm as a negative electrode active material, 1 part by mass of cellulose as a thickener, and 2 parts by mass of acrylic resin as a binder The negative electrode mixture ink was obtained by uniformly dispersing in water.

負極基体としての、厚さ8μmの銅箔上に、負極合材用インクをディスペンサーを用いて塗布した後、120℃で10分間乾燥させ、プレスして、厚さ60μmの負極合材を形成した。   The negative electrode mixture ink was applied on a copper foil having a thickness of 8 μm as a negative electrode substrate using a dispenser, dried at 120 ° C. for 10 minutes, and pressed to form a negative electrode mixture having a thickness of 60 μm. .

最後に、負極合材が形成されている電極基体を50mm×33mmに切り出した。   Finally, the electrode base on which the negative electrode mixture was formed was cut out to 50 mm × 33 mm.

〔5〕多孔質絶縁体の形成
ディスペンサーを用いて、負極合材が形成されている電極基体上に、多孔質絶縁体用インクを塗布した後、N雰囲気下でUVを照射することで、架橋性モノマーを架橋した。次に、ホットプレートを用いて、100℃で1分間加熱することで、溶媒を除去し、多孔質絶縁体を形成した。
[5] Formation of porous insulator After applying the ink for porous insulator on the electrode substrate on which the negative electrode mixture is formed, using a dispenser, UV irradiation is performed in an N 2 atmosphere. The crosslinkable monomer was crosslinked. Next, the solvent was removed by heating at 100 ° C. for 1 minute using a hot plate to form a porous insulator.

SEMを用いて、多孔質絶縁体の表面を観察した結果、孔径0.1〜10μm程度のマクロ孔が形成されていることがわかった。   As a result of observing the surface of the porous insulator using SEM, it was found that macropores having a pore diameter of about 0.1 to 10 μm were formed.

〔6〕デバイスBの作製
多孔質絶縁体が形成されている電極基体の上に、負極基体としての、厚さ8μmの銅箔を重ね合わせて、デバイスBを作製した。
[6] Production of Device B Device B was produced by superposing an 8 μm-thick copper foil as a negative electrode substrate on an electrode substrate on which a porous insulator was formed.

次に、デバイスBを用いて、加熱時の絶縁性を評価した(表2参照)。   Next, using device B, the insulation during heating was evaluated (see Table 2).

<実施例2>
〔1〕多孔質絶縁体用インクの調製
架橋性モノマーとしての、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート(ダイセル・オルネクス社製)14質量部、ポロジェンとしての、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル(関東化学工業社製)32質量部、光重合開始剤としての、Irgacure184(BASF社製)0.7質量部、樹脂粒子としての、融点110℃のポリエチレン(PE)ワックス粒子(三井化学社製)54質量部を混合し、多孔質絶縁体用インクを調製した。
<Example 2>
[1] Preparation of ink for porous insulator 14 parts by mass of tricyclodecane dimethanol diacrylate (manufactured by Daicel Ornex) as a crosslinkable monomer, dipropylene glycol monomethyl ether (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) as a porogen ) 32 parts by mass, 0.7 part by mass of Irgacure 184 (manufactured by BASF) as a photopolymerization initiator, and 54 parts by mass of polyethylene (PE) wax particles (manufactured by Mitsui Chemicals) having a melting point of 110 ° C. as resin particles Then, an ink for a porous insulator was prepared.

ここで、多孔質絶縁体用インクに含まれる、架橋性モノマーと、樹脂粒子の体積比は、1:4である。   Here, the volume ratio of the crosslinkable monomer to the resin particles contained in the porous insulator ink is 1: 4.

上記の多孔質絶縁体用インクを用いた以外は、実施例1と同様にして、〔2〕〜〔7〕の工程を実施して、デバイスA、Bを作製し、加熱時の絶縁性、多孔質絶縁体の空隙率、加熱時の多孔質絶縁体の空隙率の変化を評価した(表2参照)。   Except for using the above porous insulator ink, the steps [2] to [7] were carried out in the same manner as in Example 1 to produce devices A and B. Changes in the porosity of the porous insulator and the porosity of the porous insulator during heating were evaluated (see Table 2).

SEMを用いて、デバイスA、Bの多孔質絶縁体の表面を観察した結果、孔径0.1〜10μm程度のマクロ孔が形成されていることがわかった。   As a result of observing the surfaces of the porous insulators of devices A and B using SEM, it was found that macropores having a pore diameter of about 0.1 to 10 μm were formed.

また、デバイスAの負極基体間の直流抵抗値を室温で測定したところ、20MΩ以上の高い絶縁性を示した。   Moreover, when the direct-current resistance value between the negative electrode base | substrates of the device A was measured at room temperature, the high insulation property of 20 Mohm or more was shown.

<実施例3>
〔1〕多孔質絶縁体用インクの調製
架橋性モノマーとしての、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート(ダイセル・オルネクス社製)9質量部、ポロジェンとしての、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル(関東化学工業社製)20質量部、光重合開始剤としての、Irgacure184(BASF社製)0.4質量部、樹脂粒子としての、融点151℃のポリフッ化ビニリデン(PVDF)粒子トレパール(東レ社製)70質量部を混合し、多孔質絶縁体用インクを調製した。
<Example 3>
[1] Preparation of ink for porous insulator 9 parts by mass of tricyclodecane dimethanol diacrylate (manufactured by Daicel Ornex) as a crosslinkable monomer, dipropylene glycol monomethyl ether (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) as a porogen ) 20 parts by mass, 0.4 part by mass of Irgacure 184 (manufactured by BASF) as a photopolymerization initiator, 70 parts by mass of polyvinylidene fluoride (PVDF) particles Trepearl (manufactured by Toray Industries, Inc.) having a melting point of 151 ° C. as resin particles By mixing, an ink for porous insulator was prepared.

ここで、多孔質絶縁体用インクに含まれる、架橋性モノマーと、樹脂粒子の体積比は、1:4である。   Here, the volume ratio of the crosslinkable monomer to the resin particles contained in the porous insulator ink is 1: 4.

上記の多孔質絶縁体用インクを用いた以外は、実施例1と同様にして、〔2〕〜〔7〕の工程を実施して、デバイスA、Bを作製し、加熱時の絶縁性、多孔質絶縁体の空隙率、加熱時の多孔質絶縁体の空隙率の変化を評価した(表2参照)。   Except for using the above porous insulator ink, the steps [2] to [7] were carried out in the same manner as in Example 1 to produce devices A and B. Changes in the porosity of the porous insulator and the porosity of the porous insulator during heating were evaluated (see Table 2).

SEMを用いて、デバイスA、Bの多孔質絶縁体の表面を観察した結果、孔径0.1〜10μm程度のマクロ孔が形成されていることがわかった。   As a result of observing the surfaces of the porous insulators of devices A and B using SEM, it was found that macropores having a pore diameter of about 0.1 to 10 μm were formed.

また、デバイスAの負極基体間の直流抵抗値を室温で測定したところ、20MΩ以上の高い絶縁性を示した。   Moreover, when the direct-current resistance value between the negative electrode base | substrates of the device A was measured at room temperature, the high insulation property of 20 Mohm or more was shown.

<実施例4>
〔1〕多孔質絶縁体用インクの調製
架橋性モノマーとしての、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート(ダイセル・オルネクス社製)23質量部、ポロジェンとしての、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル(関東化学工業社製)53質量部、光重合開始剤としての、Irgacure184(BASF社製)1.1質量部、樹脂粒子としての、融点140℃のポリプロピレンワックス粒子(三井化学社製)23質量部を混合し、多孔質絶縁体用インクを調製した。
<Example 4>
[1] Preparation of ink for porous insulator 23 parts by mass of tricyclodecane dimethanol diacrylate (manufactured by Daicel Ornex) as a crosslinkable monomer, dipropylene glycol monomethyl ether (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) as a porogen ) 53 parts by mass, 1.1 parts by mass of Irgacure 184 (manufactured by BASF) as a photopolymerization initiator, 23 parts by mass of polypropylene wax particles having a melting point of 140 ° C. (manufactured by Mitsui Chemicals) as resin particles are mixed and porous An insulating insulator ink was prepared.

ここで、多孔質絶縁体用インクに含まれる、架橋性モノマーと、樹脂粒子の体積比は、1:1である。   Here, the volume ratio of the crosslinkable monomer and the resin particles contained in the porous insulator ink is 1: 1.

上記の多孔質絶縁体用インクを用いた以外は、実施例1と同様にして、〔2〕〜〔7〕の工程を実施して、デバイスA、Bを作製し、加熱時の絶縁性、多孔質絶縁体の空隙率、加熱時の多孔質絶縁体の空隙率の変化を評価した(表2参照)。   Except for using the above porous insulator ink, the steps [2] to [7] were carried out in the same manner as in Example 1 to produce devices A and B. Changes in the porosity of the porous insulator and the porosity of the porous insulator during heating were evaluated (see Table 2).

SEMを用いて、デバイスA、Bの多孔質絶縁体の表面を観察した結果、孔径0.1〜10μm程度のマクロ孔が形成されていることがわかった。   As a result of observing the surfaces of the porous insulators of devices A and B using SEM, it was found that macropores having a pore diameter of about 0.1 to 10 μm were formed.

また、デバイスAの負極基体間の直流抵抗値を室温で測定したところ、20MΩ以上の高い絶縁性を示した。   Moreover, when the direct-current resistance value between the negative electrode base | substrates of the device A was measured at room temperature, the high insulation property of 20 Mohm or more was shown.

<実施例5>
架橋性モノマーとしての、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート(ダイセル・オルネクス社製)23質量部、ポロジェンとしての、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル(関東化学工業社製)53質量部、光重合開始剤としての、Irgacure184(BASF社製)1.1質量部、樹脂粒子としての、融点110℃のポリエチレンワックス粒子(三井化学社製)23質量部を混合し、多孔質絶縁体用インクを調製した。
<Example 5>
As a crosslinkable monomer, 23 parts by mass of tricyclodecane dimethanol diacrylate (manufactured by Daicel Ornex), 53 parts by mass of dipropylene glycol monomethyl ether (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) as a porogen, as a photopolymerization initiator Irgacure 184 (manufactured by BASF) 1.1 parts by mass and 23 parts by mass of polyethylene wax particles having a melting point of 110 ° C. (manufactured by Mitsui Chemicals) as resin particles were mixed to prepare an ink for porous insulator.

ここで、多孔質絶縁体用インクに含まれる、架橋性モノマーと、樹脂粒子の体積比は、1:1である。   Here, the volume ratio of the crosslinkable monomer and the resin particles contained in the porous insulator ink is 1: 1.

上記の多孔質絶縁体用インクを用いた以外は、実施例1と同様にして、〔2〕〜〔7〕の工程を実施して、デバイスA、Bを作製し、加熱時の絶縁性、多孔質絶縁体の空隙率、加熱時の多孔質絶縁体の空隙率の変化を評価した(表2参照)。   Except for using the above porous insulator ink, the steps [2] to [7] were carried out in the same manner as in Example 1 to produce devices A and B. Changes in the porosity of the porous insulator and the porosity of the porous insulator during heating were evaluated (see Table 2).

SEMを用いて、デバイスA、Bの多孔質絶縁体の表面を観察した結果、孔径0.1〜10μm程度のマクロ孔が形成されていることがわかった。   As a result of observing the surfaces of the porous insulators of devices A and B using SEM, it was found that macropores having a pore diameter of about 0.1 to 10 μm were formed.

また、デバイスAの負極基体間の直流抵抗値を室温で測定したところ、20MΩ以上の高い絶縁性を示した。   Moreover, when the direct-current resistance value between the negative electrode base | substrates of the device A was measured at room temperature, the high insulation property of 20 Mohm or more was shown.

<実施例6>
架橋性モノマーとしての、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート(ダイセル・オルネクス社製)19質量部、ポロジェンとしての、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル(関東化学工業社製)43質量部、光重合開始剤としての、Irgacure184(BASF社製)0.9質量部、樹脂粒子としての、融点151℃のポリフッ化ビニリデン粒子トレパール(東レ社製)37質量部を混合し、多孔質絶縁体用インクを調製した。
<Example 6>
19 parts by mass of tricyclodecane dimethanol diacrylate (manufactured by Daicel Ornex) as a crosslinkable monomer, 43 parts by mass of dipropylene glycol monomethyl ether (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) as a porogen, as a photopolymerization initiator Irgacure 184 (manufactured by BASF) 0.9 parts by mass and 37 parts by mass of polyvinylidene fluoride particle trepal (manufactured by Toray Industries, Inc.) having a melting point of 151 ° C. as resin particles were mixed to prepare a porous insulator ink.

ここで、多孔質絶縁体用インクに含まれる、架橋性モノマーと、樹脂粒子の体積比は、1:1である。   Here, the volume ratio of the crosslinkable monomer and the resin particles contained in the porous insulator ink is 1: 1.

上記の多孔質絶縁体用インクを用いた以外は、実施例1と同様にして、〔2〕〜〔7〕の工程を実施して、デバイスA、Bを作製し、加熱時の絶縁性、多孔質絶縁体の空隙率、加熱時の多孔質絶縁体の空隙率の変化を評価した(表2参照)。   Except for using the above porous insulator ink, the steps [2] to [7] were carried out in the same manner as in Example 1 to produce devices A and B. Changes in the porosity of the porous insulator and the porosity of the porous insulator during heating were evaluated (see Table 2).

SEMを用いて、デバイスA、Bの多孔質絶縁体の表面を観察した結果、孔径0.1〜10μm程度のマクロ孔が形成されていることがわかった。   As a result of observing the surfaces of the porous insulators of devices A and B using SEM, it was found that macropores having a pore diameter of about 0.1 to 10 μm were formed.

また、デバイスAの負極基体間の直流抵抗値を室温で測定したところ、20MΩ以上の高い絶縁性を示した。   Moreover, when the direct-current resistance value between the negative electrode base | substrates of the device A was measured at room temperature, the high insulation property of 20 Mohm or more was shown.

<実施例7>
多孔質絶縁体用インクを調製する際に、光重合開始剤の代わりに、熱重合開始剤としての、AIBN(和光純薬工業社製)を用い、多孔質絶縁体を形成する際に、UVを照射する代わりに、70℃に加熱した以外は、実施例1と同様にして、デバイスA、Bを作製し、加熱時の絶縁性、多孔質絶縁体の空隙率、加熱時の多孔質絶縁体の空隙率の変化を評価した(表2参照)。
<Example 7>
When preparing an ink for porous insulator, AIBN (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as a thermal polymerization initiator is used instead of a photopolymerization initiator, and when forming a porous insulator, UV is used. The devices A and B were prepared in the same manner as in Example 1 except that the material was heated to 70 ° C. instead of irradiating the film, and the insulation during heating, the porosity of the porous insulator, the porous insulation during heating Changes in body porosity were evaluated (see Table 2).

SEMを用いて、デバイスA、Bの多孔質絶縁体の表面を観察した結果、孔径0.1〜10μm程度のマクロ孔が形成されていることがわかった。   As a result of observing the surfaces of the porous insulators of devices A and B using SEM, it was found that macropores having a pore diameter of about 0.1 to 10 μm were formed.

また、デバイスAの負極基体間の直流抵抗値を室温で測定したところ、20MΩ以上の高い絶縁性を示した。   Moreover, when the direct-current resistance value between the negative electrode base | substrates of the device A was measured at room temperature, the high insulation property of 20 Mohm or more was shown.

<実施例8>
多孔質絶縁体用インクを調製する際に、光重合開始剤の代わりに、熱重合開始剤としての、AIBN(和光純薬工業社製)を用い、多孔質絶縁体を形成する際に、UVを照射する代わりに、70℃に加熱した以外は、実施例2と同様にして、デバイスA、Bを作製し、加熱時の絶縁性、多孔質絶縁体の空隙率、加熱時の多孔質絶縁体の空隙率の変化を評価した(表2参照)。
<Example 8>
When preparing an ink for porous insulator, AIBN (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as a thermal polymerization initiator is used instead of a photopolymerization initiator, and when forming a porous insulator, UV is used. The devices A and B were prepared in the same manner as in Example 2 except that the material was heated to 70 ° C. instead of irradiating, and the insulation during heating, the porosity of the porous insulator, the porous insulation during heating Changes in body porosity were evaluated (see Table 2).

SEMを用いて、デバイスA、Bの多孔質絶縁体の表面を観察した結果、孔径0.1〜10μm程度のマクロ孔が形成されていることがわかった。   As a result of observing the surfaces of the porous insulators of devices A and B using SEM, it was found that macropores having a pore diameter of about 0.1 to 10 μm were formed.

また、デバイスAの負極基体間の直流抵抗値を室温で測定したところ、20MΩ以上の高い絶縁性を示した。   Moreover, when the direct-current resistance value between the negative electrode base | substrates of the device A was measured at room temperature, the high insulation property of 20 Mohm or more was shown.

<実施例9>
多孔質絶縁体用インクを調製する際に、光重合開始剤の代わりに、熱重合開始剤としての、AIBN(和光純薬工業社製)を用い、多孔質絶縁体を形成する際に、UVを照射する代わりに、70℃に加熱した以外は、実施例3と同様にして、デバイスA、Bを作製し、加熱時の絶縁性、多孔質絶縁体の空隙率、加熱時の多孔質絶縁体の空隙率の変化を評価した(表2参照)。
<Example 9>
When preparing an ink for porous insulator, AIBN (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as a thermal polymerization initiator is used instead of a photopolymerization initiator, and when forming a porous insulator, UV is used. The devices A and B were prepared in the same manner as in Example 3 except that the material was heated to 70 ° C. instead of irradiating, and the insulation during heating, the porosity of the porous insulator, the porous insulation during heating Changes in body porosity were evaluated (see Table 2).

SEMを用いて、デバイスA、Bの多孔質絶縁体の表面を観察した結果、孔径0.1〜10μm程度のマクロ孔が形成されていることがわかった。   As a result of observing the surfaces of the porous insulators of devices A and B using SEM, it was found that macropores having a pore diameter of about 0.1 to 10 μm were formed.

また、デバイスAの負極基体間の直流抵抗値を室温で測定したところ、20MΩ以上の高い絶縁性を示した。   Moreover, when the direct-current resistance value between the negative electrode base | substrates of the device A was measured at room temperature, the high insulation property of 20 Mohm or more was shown.

<実施例10>
架橋性モノマーとしての、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート(ダイセル・オルネクス社製)26質量部、ポロジェンとしての、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル(関東化学工業社製)60質量部、光重合開始剤としての、Irgacure184(BASF社製)1.0質量部、樹脂粒子としての、融点140℃のポリプロピレンワックス粒子(三井化学社製)13質量部を混合し、多孔質絶縁体用インクを調製した。
<Example 10>
As a crosslinkable monomer, 26 parts by mass of tricyclodecane dimethanol diacrylate (manufactured by Daicel Ornex), 60 parts by mass of dipropylene glycol monomethyl ether (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) as a porogen, as a photopolymerization initiator Ink for porous insulator was prepared by mixing 1.0 part by mass of Irgacure 184 (manufactured by BASF) and 13 parts by mass of polypropylene wax particles having a melting point of 140 ° C. (manufactured by Mitsui Chemicals) as resin particles.

ここで、多孔質絶縁体用インクに含まれる、架橋性モノマーと、樹脂粒子の体積比は、2:1である。   Here, the volume ratio of the crosslinkable monomer to the resin particles contained in the porous insulator ink is 2: 1.

上記の多孔質絶縁体用インクを用いた以外は、実施例1と同様にして、〔2〕〜〔7〕の工程を実施して、デバイスA、Bを作製し、加熱時の絶縁性、多孔質絶縁体の空隙率、加熱時の多孔質絶縁体の空隙率の変化を評価した(表2参照)。   Except for using the above porous insulator ink, the steps [2] to [7] were carried out in the same manner as in Example 1 to produce devices A and B. Changes in the porosity of the porous insulator and the porosity of the porous insulator during heating were evaluated (see Table 2).

SEMを用いて、デバイスA、Bの多孔質絶縁体の表面を観察した結果、孔径0.1〜10μm程度のマクロ孔が形成されていることがわかった。   As a result of observing the surfaces of the porous insulators of devices A and B using SEM, it was found that macropores having a pore diameter of about 0.1 to 10 μm were formed.

また、デバイスAの負極基体間の直流抵抗値を室温で測定したところ、20MΩ以上の高い絶縁性を示した。   Moreover, when the direct-current resistance value between the negative electrode base | substrates of the device A was measured at room temperature, the high insulation property of 20 Mohm or more was shown.

<実施例11>
架橋性モノマーとしての、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート(ダイセル・オルネクス社製)26質量部、ポロジェンとしての、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル(関東化学工業社製)60質量部、光重合開始剤としての、Irgacure184(BASF社製)1.0質量部、樹脂粒子としての、融点110℃のポリエチレンワックス粒子(三井化学社製)13質量部を混合し、多孔質絶縁体用インクを調製した。
<Example 11>
As a crosslinkable monomer, 26 parts by mass of tricyclodecane dimethanol diacrylate (manufactured by Daicel Ornex), 60 parts by mass of dipropylene glycol monomethyl ether (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) as a porogen, as a photopolymerization initiator Ink for porous insulator was prepared by mixing 1.0 part by mass of Irgacure 184 (manufactured by BASF) and 13 parts by mass of polyethylene wax particles having a melting point of 110 ° C. (manufactured by Mitsui Chemicals) as resin particles.

ここで、多孔質絶縁体用インクに含まれる、架橋性モノマーと、樹脂粒子の体積比は、2:1である。   Here, the volume ratio of the crosslinkable monomer to the resin particles contained in the porous insulator ink is 2: 1.

上記の多孔質絶縁体用インクを用いた以外は、実施例1と同様にして、〔2〕〜〔7〕の工程を実施して、デバイスA、Bを作製し、加熱時の絶縁性、多孔質絶縁体の空隙率、加熱時の多孔質絶縁体の空隙率の変化を評価した(表2参照)。   Except for using the above porous insulator ink, the steps [2] to [7] were carried out in the same manner as in Example 1 to produce devices A and B. Changes in the porosity of the porous insulator and the porosity of the porous insulator during heating were evaluated (see Table 2).

SEMを用いて、デバイスA、Bの多孔質絶縁体の表面を観察した結果、孔径0.1〜10μm程度のマクロ孔が形成されていることがわかった。   As a result of observing the surfaces of the porous insulators of devices A and B using SEM, it was found that macropores having a pore diameter of about 0.1 to 10 μm were formed.

また、デバイスAの負極基体間の直流抵抗値を室温で測定したところ、20MΩ以上の高い絶縁性を示した。   Moreover, when the direct-current resistance value between the negative electrode base | substrates of the device A was measured at room temperature, the high insulation property of 20 Mohm or more was shown.

<実施例12>
架橋性モノマーとしての、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート(ダイセル・オルネクス社製)23質量部、ポロジェンとしての、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル(関東化学工業社製)53質量部、光重合開始剤としての、Irgacure184(BASF社製)1.0質量部、樹脂粒子としての、融点151℃のポリフッ化ビニリデン粒子トレパール(東レ社製)23質量部を混合し、多孔質絶縁体用インクを調製した。
<Example 12>
As a crosslinkable monomer, 23 parts by mass of tricyclodecane dimethanol diacrylate (manufactured by Daicel Ornex), 53 parts by mass of dipropylene glycol monomethyl ether (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) as a porogen, as a photopolymerization initiator Then, 1.0 part by mass of Irgacure 184 (manufactured by BASF) and 23 parts by mass of polyvinylidene fluoride particle trepar (manufactured by Toray Industries, Inc.) having a melting point of 151 ° C. as resin particles were mixed to prepare a porous insulator ink.

ここで、多孔質絶縁体用インクに含まれる、架橋性モノマーと、樹脂粒子の体積比は、2:1である。   Here, the volume ratio of the crosslinkable monomer to the resin particles contained in the porous insulator ink is 2: 1.

上記の多孔質絶縁体用インクを用いた以外は、実施例1と同様にして、〔2〕〜〔7〕の工程を実施して、デバイスA、Bを作製し、加熱時の絶縁性、多孔質絶縁体の空隙率、加熱時の多孔質絶縁体の空隙率の変化を評価した(表2参照)。   Except for using the above porous insulator ink, the steps [2] to [7] were carried out in the same manner as in Example 1 to produce devices A and B. Changes in the porosity of the porous insulator and the porosity of the porous insulator during heating were evaluated (see Table 2).

SEMを用いて、デバイスA、Bの多孔質絶縁体の表面を観察した結果、孔径0.1〜10μm程度のマクロ孔が形成されていることがわかった。   As a result of observing the surfaces of the porous insulators of devices A and B using SEM, it was found that macropores having a pore diameter of about 0.1 to 10 μm were formed.

また、デバイスAの負極基体間の直流抵抗値を室温で測定したところ、20MΩ以上の高い絶縁性を示した。   Moreover, when the direct-current resistance value between the negative electrode base | substrates of the device A was measured at room temperature, the high insulation property of 20 Mohm or more was shown.

<実施例13>
架橋性モノマーとしての、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート(ダイセル・オルネクス社製)6質量部、ポロジェンとしての、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル(関東化学工業社製)13質量部、光重合開始剤としての、Irgacure184(BASF社製)0.3質量部、樹脂粒子としての、融点140℃のポリプロピレンワックス粒子(三井化学社製)81質量部を混合し、多孔質絶縁体用インクを調製した。
<Example 13>
As a crosslinkable monomer, 6 parts by mass of tricyclodecane dimethanol diacrylate (manufactured by Daicel Ornex), 13 parts by mass of dipropylene glycol monomethyl ether (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) as a porogen, as a photopolymerization initiator Irgacure 184 (manufactured by BASF) 0.3 parts by mass and 81 parts by mass of polypropylene wax particles having a melting point of 140 ° C. (manufactured by Mitsui Chemicals) as resin particles were mixed to prepare a porous insulator ink.

ここで、多孔質絶縁体用インクに含まれる、架橋性モノマーと、樹脂粒子の体積比は、1:14である。   Here, the volume ratio of the crosslinkable monomer to the resin particles contained in the porous insulator ink is 1:14.

上記の多孔質絶縁体用インクを用いた以外は、実施例1と同様にして、〔2〕〜〔7〕の工程を実施して、デバイスA、Bを作製し、加熱時の絶縁性、多孔質絶縁体の空隙率、加熱時の多孔質絶縁体の空隙率の変化を評価した(表2参照)。   Except for using the above porous insulator ink, the steps [2] to [7] were carried out in the same manner as in Example 1 to produce devices A and B. Changes in the porosity of the porous insulator and the porosity of the porous insulator during heating were evaluated (see Table 2).

SEMを用いて、デバイスA、Bの多孔質絶縁体の表面を観察した結果、孔径0.1〜10μm程度のマクロ孔が形成されていることがわかった。   As a result of observing the surfaces of the porous insulators of devices A and B using SEM, it was found that macropores having a pore diameter of about 0.1 to 10 μm were formed.

また、デバイスAの負極基体間の直流抵抗値を室温で測定したところ、20MΩ以上の高い絶縁性を示した。   Moreover, when the direct-current resistance value between the negative electrode base | substrates of the device A was measured at room temperature, the high insulation property of 20 Mohm or more was shown.

<実施例14>
架橋性モノマーとしての、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート(ダイセル・オルネクス社製)6質量部、ポロジェンとしての、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル(関東化学工業社製)13質量部、光重合開始剤としての、Irgacure184(BASF社製)0.3質量部、樹脂粒子としての、融点110℃のポリエチレンワックス粒子(三井化学社製)81質量部を混合し、多孔質絶縁体用インクを調製した。
<Example 14>
As a crosslinkable monomer, 6 parts by mass of tricyclodecane dimethanol diacrylate (manufactured by Daicel Ornex), 13 parts by mass of dipropylene glycol monomethyl ether (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) as a porogen, as a photopolymerization initiator Irgacure 184 (manufactured by BASF) 0.3 parts by mass and 81 parts by mass of polyethylene wax particles having a melting point of 110 ° C. (manufactured by Mitsui Chemicals) as resin particles were mixed to prepare a porous insulator ink.

ここで、多孔質絶縁体用インクに含まれる、架橋性モノマーと、樹脂粒子の体積比は、1:14である。   Here, the volume ratio of the crosslinkable monomer to the resin particles contained in the porous insulator ink is 1:14.

上記の多孔質絶縁体用インクを用いた以外は、実施例1と同様にして、〔2〕〜〔7〕の工程を実施して、デバイスA、Bを作製し、加熱時の絶縁性、多孔質絶縁体の空隙率、加熱時の多孔質絶縁体の空隙率の変化を評価した(表2参照)。   Except for using the above porous insulator ink, the steps [2] to [7] were carried out in the same manner as in Example 1 to produce devices A and B. Changes in the porosity of the porous insulator and the porosity of the porous insulator during heating were evaluated (see Table 2).

SEMを用いて、デバイスA、Bの多孔質絶縁体の表面を観察した結果、孔径0.1〜10μm程度のマクロ孔が形成されていることがわかった。   As a result of observing the surfaces of the porous insulators of devices A and B using SEM, it was found that macropores having a pore diameter of about 0.1 to 10 μm were formed.

また、デバイスAの負極基体間の直流抵抗値を室温で測定したところ、20MΩ以上の高い絶縁性を示した。   Moreover, when the direct-current resistance value between the negative electrode base | substrates of the device A was measured at room temperature, the high insulation property of 20 Mohm or more was shown.

<実施例15>
架橋性モノマーとしての、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート(ダイセル・オルネクス社製)3質量部、ポロジェンとしての、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル(関東化学工業社製)7質量部、光重合開始剤としての、Irgacure184(BASF社製)0.2質量部、樹脂粒子としての、融点151℃のポリフッ化ビニリデン粒子トレパール(東レ社製)89質量部を混合し、多孔質絶縁体用インクを調製した。
<Example 15>
As a crosslinkable monomer, 3 parts by mass of tricyclodecane dimethanol diacrylate (manufactured by Daicel Ornex), 7 parts by mass of dipropylene glycol monomethyl ether (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) as a porogen, as a photopolymerization initiator Irgacure 184 (manufactured by BASF), 0.2 parts by mass, and 89 parts by mass of polyvinylidene fluoride particle trepar (manufactured by Toray Industries, Inc.) having a melting point of 151 ° C. as resin particles were mixed to prepare a porous insulator ink.

ここで、多孔質絶縁体用インクに含まれる、架橋性モノマーと、樹脂粒子の体積比は、1:14である。   Here, the volume ratio of the crosslinkable monomer to the resin particles contained in the porous insulator ink is 1:14.

上記の多孔質絶縁体用インクを用いた以外は、実施例1と同様にして、〔2〕〜〔7〕の工程を実施して、デバイスA、Bを作製し、加熱時の絶縁性、多孔質絶縁体の空隙率、加熱時の多孔質絶縁体の空隙率の変化を評価した(表2参照)。   Except for using the above porous insulator ink, the steps [2] to [7] were carried out in the same manner as in Example 1 to produce devices A and B. Changes in the porosity of the porous insulator and the porosity of the porous insulator during heating were evaluated (see Table 2).

SEMを用いて、デバイスA、Bの多孔質絶縁体の表面を観察した結果、孔径0.1〜10μm程度のマクロ孔が形成されていることがわかった。   As a result of observing the surfaces of the porous insulators of devices A and B using SEM, it was found that macropores having a pore diameter of about 0.1 to 10 μm were formed.

また、デバイスAの負極基体間の直流抵抗値を室温で測定したところ、20MΩ以上の高い絶縁性を示した。   Moreover, when the direct-current resistance value between the negative electrode base | substrates of the device A was measured at room temperature, the high insulation property of 20 Mohm or more was shown.

<比較例1>
〔1〕多孔質絶縁体用インクの調製
樹脂粒子としての、融点140℃のポリプロピレンワックス粒子(三井化学社製)20質量部、バインダーとしての、ポリフッ化ビニリデンW#9100(クレハ社製)1質量部、溶媒としての、シクロヘキサノン(関東化学工業社製)79質量部を混合し、多孔質絶縁体用インクを調製した。
<Comparative Example 1>
[1] Preparation of ink for porous insulator 20 parts by mass of polypropylene wax particles having a melting point of 140 ° C. (made by Mitsui Chemicals) as resin particles, 1 mass of polyvinylidene fluoride W # 9100 (made by Kureha) as a binder Part and 79 parts by mass of cyclohexanone (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) as a solvent were mixed to prepare a porous insulator ink.

多孔質絶縁体を形成する際に、得られた多孔質絶縁体用インクを用い、N雰囲気下でUVを照射することを省略した以外は、実施例1と同様にして、デバイスA、Bを作製し、加熱時の絶縁性、多孔質絶縁体の空隙率、加熱時の多孔質絶縁体の空隙率の変化を評価した(表2参照)。 When forming the porous insulator, devices A and B were used in the same manner as in Example 1 except that the obtained porous insulator ink was used and UV irradiation was omitted in an N 2 atmosphere. And the change in the insulating property during heating, the porosity of the porous insulator, and the porosity of the porous insulator during heating were evaluated (see Table 2).

SEMを用いて、デバイスA、Bの多孔質絶縁体の表面を観察した結果、孔径0.1〜10μm程度のマクロ孔が形成されていることがわかった。   As a result of observing the surfaces of the porous insulators of devices A and B using SEM, it was found that macropores having a pore diameter of about 0.1 to 10 μm were formed.

また、デバイスAの負極基体間の直流抵抗値を室温で測定したところ、20MΩ以上の高い絶縁性を示した。   Moreover, when the direct-current resistance value between the negative electrode base | substrates of the device A was measured at room temperature, the high insulation property of 20 Mohm or more was shown.

<比較例2>
多孔質絶縁体用インクを調製する際に、ポリプロピレンワックス粒子の代わりに、融点110℃のポリエチレンワックス粒子(三井化学社製)を用いた以外は、比較例1と同様にして、デバイスA、Bを作製し、加熱時の絶縁性、多孔質絶縁体の空隙率、加熱時の多孔質絶縁体の空隙率の変化を評価した(表2参照)。
<Comparative example 2>
Devices A and B were prepared in the same manner as in Comparative Example 1 except that polyethylene wax particles (manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) having a melting point of 110 ° C. were used instead of polypropylene wax particles when preparing the porous insulator ink. And the change in the insulating property during heating, the porosity of the porous insulator, and the porosity of the porous insulator during heating were evaluated (see Table 2).

SEMを用いて、デバイスA、Bの多孔質絶縁体の表面を観察した結果、孔径0.1〜10μm程度のマクロ孔が形成されていることがわかった。   As a result of observing the surfaces of the porous insulators of devices A and B using SEM, it was found that macropores having a pore diameter of about 0.1 to 10 μm were formed.

<比較例3>
多孔質絶縁体用インクを調製する際に、ポリプロピレンワックス粒子の代わりに、融点151℃のポリフッ化ビニリデン粒子トレパール(東レ社製)を用いた以外は、比較例1と同様にして、デバイスA、Bを作製し、加熱時の絶縁性、多孔質絶縁体の空隙率、加熱時の多孔質絶縁体の空隙率の変化を評価した(表2参照)。
<Comparative Example 3>
In preparing the porous insulator ink, instead of polypropylene wax particles, the same procedure as in Comparative Example 1, except that polyvinylidene fluoride particle trepal (manufactured by Toray Industries, Inc.) having a melting point of 151 ° C. was used. B was prepared, and the insulation during heating, the porosity of the porous insulator, and the change in the porosity of the porous insulator during heating were evaluated (see Table 2).

SEMを用いて、デバイスA、Bの多孔質絶縁体の表面を観察した結果、孔径0.1〜10μm程度のマクロ孔が形成されていることがわかった。   As a result of observing the surfaces of the porous insulators of devices A and B using SEM, it was found that macropores having a pore diameter of about 0.1 to 10 μm were formed.

<比較例4>
多孔質絶縁体用インクを調製する際に、ポリプロピレンワックス粒子の代わりに、熱耐性が高いシリカ粒子(日揮触媒化成社製)を用いた以外は、比較例1と同様にして、デバイスA、Bを作製し、加熱時の絶縁性、多孔質絶縁体の空隙率、加熱時の多孔質絶縁体の空隙率の変化を評価した(表2参照)。
<Comparative example 4>
Devices A and B were prepared in the same manner as in Comparative Example 1 except that silica particles having high heat resistance (manufactured by JGC Catalysts and Chemicals Co., Ltd.) were used instead of polypropylene wax particles when preparing the porous insulator ink. And the change in the insulating property during heating, the porosity of the porous insulator, and the porosity of the porous insulator during heating were evaluated (see Table 2).

SEMを用いて、デバイスA、Bの多孔質絶縁体の表面を観察した結果、孔径0.1〜10μm程度のマクロ孔が形成されていることがわかった。   As a result of observing the surfaces of the porous insulators of devices A and B using SEM, it was found that macropores having a pore diameter of about 0.1 to 10 μm were formed.

<比較例5>
多孔質絶縁体用インクを調製する際に、ポリプロピレンワックス粒子を添加しないこと以外は、実施例1と同様にして、デバイスA、Bを作製し、加熱時の絶縁性、多孔質絶縁体の空隙率、加熱時の多孔質絶縁体の空隙率の変化を評価した(表2参照)。
<Comparative Example 5>
Devices A and B were prepared in the same manner as in Example 1 except that polypropylene wax particles were not added when preparing the porous insulator ink, and the insulation during heating and the voids in the porous insulator were performed. The change in porosity and the porosity of the porous insulator during heating was evaluated (see Table 2).

SEMを用いて、デバイスA、Bの多孔質絶縁体の表面を観察した結果、孔径0.1〜10μm程度のマクロ孔が形成されていることがわかった。   As a result of observing the surfaces of the porous insulators of devices A and B using SEM, it was found that macropores having a pore diameter of about 0.1 to 10 μm were formed.

また、デバイスAの負極基体間の直流抵抗値を室温で測定したところ、20MΩ以上の高い絶縁性を示した。   Moreover, when the direct-current resistance value between the negative electrode base | substrates of the device A was measured at room temperature, the high insulation property of 20 Mohm or more was shown.

<比較例6>
多孔質絶縁体用インクを調製する際に、ポリプロピレンワックス粒子の代わりに、熱耐性が高いシリカ粒子(日揮触媒化成社製)を用いた以外は、実施例1と同様にして、デバイスA、Bを作製し、加熱時の絶縁性、多孔質絶縁体の空隙率、加熱時の多孔質絶縁体の空隙率の変化を評価した(表2参照)。
<Comparative Example 6>
Devices A and B were prepared in the same manner as in Example 1 except that silica particles having high heat resistance (manufactured by JGC Catalysts and Chemicals Co., Ltd.) were used instead of polypropylene wax particles when preparing the porous insulator ink. And the change in the insulating property during heating, the porosity of the porous insulator, and the porosity of the porous insulator during heating were evaluated (see Table 2).

SEMを用いて、デバイスA、Bの多孔質絶縁体の表面を観察した結果、孔径0.1〜10μm程度のマクロ孔が形成されていることがわかった。   As a result of observing the surfaces of the porous insulators of devices A and B using SEM, it was found that macropores having a pore diameter of about 0.1 to 10 μm were formed.

また、デバイスAの負極基体間の直流抵抗値を室温で測定したところ、20MΩ以上の高い絶縁性を示した。   Moreover, when the direct-current resistance value between the negative electrode base | substrates of the device A was measured at room temperature, the high insulation property of 20 Mohm or more was shown.

<比較例7>
多孔質絶縁体用インクを調製する際に、ポロジェンの代わりに、架橋性モノマーの重合体に対する溶解性が高いシクロヘキサノンを用いた以外は、実施例1と同様にして、デバイスA、Bを作製し、加熱時の絶縁性、多孔質絶縁体の空隙率、加熱時の多孔質絶縁体の空隙率の変化を評価した(表2参照)。
<Comparative Example 7>
Devices A and B were prepared in the same manner as in Example 1 except that cyclohexanone having high solubility in the polymer of the crosslinkable monomer was used instead of porogen when preparing the porous insulator ink. In addition, the insulating property during heating, the porosity of the porous insulator, and the change in the porosity of the porous insulator during heating were evaluated (see Table 2).

SEMを用いて、デバイスA、Bの多孔質絶縁体の表面を観察した結果、孔径0.1〜10μm程度のマクロ孔が形成されていないことがわかった。   As a result of observing the surfaces of the porous insulators of devices A and B using SEM, it was found that macropores having a pore diameter of about 0.1 to 10 μm were not formed.

また、デバイスAの負極基体間の直流抵抗値を室温で測定したところ、20MΩ以上の高い絶縁性を示した。   Moreover, when the direct-current resistance value between the negative electrode base | substrates of the device A was measured at room temperature, the high insulation property of 20 Mohm or more was shown.

<比較例8>
多孔質絶縁体用インクを調製する際に、ポロジェンの代わりに、架橋性モノマーに対する溶解性が高いシクロヘキサノンを用いた以外は、比較例5と同様にして、デバイスA、Bを作製し、加熱時の絶縁性、多孔質絶縁体の空隙率、加熱時の多孔質絶縁体の空隙率の変化を評価した(表2参照)。
<Comparative Example 8>
Devices A and B were prepared in the same manner as in Comparative Example 5 except that cyclohexanone having high solubility in a crosslinkable monomer was used instead of porogen when preparing the porous insulator ink. Insulation properties, porosity of the porous insulator, and changes in porosity of the porous insulator during heating were evaluated (see Table 2).

SEMを用いて、デバイスA、Bの多孔質絶縁体の表面を観察した結果、孔径0.1〜10μm程度のマクロ孔が形成されていないことがわかった。   As a result of observing the surfaces of the porous insulators of devices A and B using SEM, it was found that macropores having a pore diameter of about 0.1 to 10 μm were not formed.

また、デバイスAの負極基体間の直流抵抗値を室温で測定したところ、20MΩ以上の高い絶縁性を示した。   Moreover, when the direct-current resistance value between the negative electrode base | substrates of the device A was measured at room temperature, the high insulation property of 20 Mohm or more was shown.

表1に、多孔質絶縁体用インクの構成を示す。   Table 1 shows the configuration of the porous insulator ink.

ここで、体積比は、多孔質絶縁体用インクに含まれる、架橋性モノマーと、樹脂粒子の体積比である。 Here, the volume ratio is a volume ratio of the crosslinkable monomer and the resin particles contained in the porous insulator ink.

<比較例9>
〔1〕に示す工程により、図5に示すデバイスAを作製した。
<Comparative Example 9>
The device A shown in FIG. 5 was produced by the process shown in [1].

〔1〕デバイスAの作製
負極基体としての、厚さ8μmの銅箔上に、孔径0.1〜10μm程度のマクロ孔を有するポリオレフィン多孔フィルムのユーポア(宇部興産社製)、厚さ8μmの銅箔を重ね合わせて、デバイスAを作製し、加熱時の絶縁性を評価した(表2参照)。
[1] Fabrication of device A A polyolefin porous film, UPORE (manufactured by Ube Industries Co., Ltd.) having macropores with a pore diameter of 0.1 to 10 μm on a copper foil having a thickness of 8 μm as a negative electrode substrate, copper having a thickness of 8 μm The device A was produced by superimposing the foils, and the insulation during heating was evaluated (see Table 2).

なお、デバイスAの負極基体間の直流抵抗値を室温で測定したところ、20MΩ以上の高い絶縁性を示した。   In addition, when the direct current resistance value between the negative electrode base | substrates of the device A was measured at room temperature, the high insulation of 20 Mohm or more was shown.

次に、〔2〕に示す工程により、図7に示すデバイスBを作製した。   Next, the device B shown in FIG. 7 was manufactured by the process shown in [2].

〔2〕デバイスBの作製
負極合材が形成されている電極基体上に、孔径0.1〜10μm程度のマクロ孔を有するポリオレフィン多孔フィルムのユーポア(宇部興産社製)、厚さ8μmの銅箔を重ね合わせた以外は、実施例1と同様にして、デバイスBを作製し、加熱時の絶縁性を評価した(表2参照)。
[2] Fabrication of device B Polyolefin porous film Upore (manufactured by Ube Industries Co., Ltd.) having macropores with a pore diameter of about 0.1 to 10 μm on the electrode substrate on which the negative electrode composite is formed, and a copper foil having a thickness of 8 μm A device B was produced in the same manner as in Example 1 except that the two layers were superposed, and the insulation during heating was evaluated (see Table 2).

デバイスA、Bを用いて、加熱時の絶縁性、多孔質絶縁体の空隙率、加熱時の多孔質絶縁体の空隙率の変化を評価した(表2参照)。   Using devices A and B, the insulating properties during heating, the porosity of the porous insulator, and changes in the porosity of the porous insulator during heating were evaluated (see Table 2).

表2に、加熱時の絶縁性、多孔質絶縁体の空隙率、加熱時の多孔質絶縁体の空隙率の変化の評価結果を示す。   Table 2 shows the evaluation results of the insulating property during heating, the porosity of the porous insulator, and the change in the porosity of the porous insulator during heating.

表2から、実施例1〜15の多孔質絶縁体は、空隙率が高いことがわかる。また、実施例1〜15の多孔質絶縁体は、加熱時の絶縁性および加熱時の空隙率の変化が大きいことから、形状維持機能と、シャットダウン機能が高いことがわかる。これは、適切な架橋性モノマーと、ポロジェンと、樹脂粒子を含む多孔質絶縁体用インクを用いることで、熱耐性が高い架橋している高分子化合物によって多孔質構造が形成され、多孔質絶縁体の絶縁性が維持されたためであると考えられる。また、多孔質絶縁体は、高分子化合物よりも融点が低い樹脂粒子を有していることから、加熱時に高分子化合物の形状が変化する前に、樹脂粒子が融解して多孔質構造の空孔を閉塞するため、シャットダウン機能が高いと考えられる。 From Table 2, it can be seen that the porous insulators of Examples 1 to 15 have a high porosity. Moreover, since the porous insulator of Examples 1-15 has the big change of the insulation at the time of a heating, and the porosity at the time of a heating, it turns out that a shape maintenance function and a shutdown function are high. This is because a porous structure is formed by a cross-linked polymer compound having high heat resistance by using an ink for porous insulator containing an appropriate cross-linking monomer, porogen, and resin particles. This is considered to be because the insulation of the body was maintained. In addition, since the porous insulator has resin particles having a melting point lower than that of the polymer compound, the resin particles melt before the shape of the polymer compound changes during heating, and the porous structure has an empty space. Since the hole is closed, the shutdown function is considered to be high.

実施例1の多孔質絶縁体は、実施例4の多孔質絶縁体と比べて、樹脂粒子の含有量が多いため、加熱時の多孔質絶縁体の空隙率の変化が大きく、シャットダウン機能が高いと考えられる。   Since the porous insulator of Example 1 has a higher resin particle content than the porous insulator of Example 4, the porosity of the porous insulator during heating is large, and the shutdown function is high. it is conceivable that.

実施例2、3、5、6の多孔質絶縁体は、実施例1の多孔質絶縁体とは融点が異なる樹脂粒子を含んでいるが、樹脂粒子は、高分子化合物よりも融点が低いため、実施例1の多孔質絶縁体と同様の効果が得られる。   The porous insulators of Examples 2, 3, 5, and 6 include resin particles having a melting point different from that of Example 1, but the resin particles have a lower melting point than the polymer compound. The same effect as the porous insulator of Example 1 is obtained.

実施例7〜9の多孔質絶縁体は、熱重合開始剤を用いて、架橋性モノマーを架橋させているが、実施例1〜6の多孔質絶縁体と同様の効果が得られ、適切な架橋性モノマーと、ポロジェンと、樹脂粒子を含む多孔質絶縁体用インクを用いることで、形状維持機能と、シャットダウン機能が高く、空隙率が高い多孔質絶縁体を形成できることを示している。   The porous insulators of Examples 7 to 9 are obtained by crosslinking the crosslinkable monomer using a thermal polymerization initiator, but the same effects as those of the porous insulators of Examples 1 to 6 are obtained and appropriate. It shows that a porous insulator having a high shape maintaining function, a shutdown function, and a high porosity can be formed by using an ink for a porous insulator containing a crosslinkable monomer, a porogen, and resin particles.

実施例10〜12の多孔質絶縁体は、樹脂粒子の含有量が少ないため、実施例1〜9の多孔質絶縁体よりも、加熱時の空隙率の変化が小さい。   Since the porous insulators of Examples 10 to 12 have a small resin particle content, the change in porosity during heating is smaller than that of the porous insulators of Examples 1 to 9.

実施例13〜15の多孔質絶縁体は、樹脂粒子の含有量が多いため、実施例1〜9の多孔質絶縁体よりも、空隙率が低い。   Since the porous insulators of Examples 13 to 15 have a high content of resin particles, the porosity is lower than that of the porous insulators of Examples 1 to 9.

比較例1〜3の多孔質絶縁体は、樹脂粒子と、バインダーで構成されているため、シャットダウン機能を有するが、空隙率が低い。これは、樹脂粒子が最密充填に近い構造となることが原因であると考えられる。また、比較例1〜3の多孔質絶縁体は、所定の温度に達すると、多孔質構造を構成する樹脂粒子が液体に変化し、急激に形状が変化するため、形状維持機能が低い。   Since the porous insulators of Comparative Examples 1 to 3 are composed of resin particles and a binder, they have a shutdown function, but have a low porosity. This is considered to be because the resin particles have a structure close to the closest packing. Moreover, since the resin particle which comprises a porous structure will change to a liquid and the shape will change rapidly when the porous insulator of Comparative Examples 1-3 reaches predetermined | prescribed temperature, a shape maintenance function is low.

比較例4の多孔質絶縁体は、熱耐性が高いシリカ粒子を有することから、形状維持機能が高いものの、比較例1〜3の多孔質絶縁体と同様の構造を有するため、空隙率が低い。また、シリカ粒子は、200℃に達しても、融解しないため、比較例4の多孔質絶縁体は、加熱時の空隙率の変化が小さく、シャットダウン機能が低い。   Since the porous insulator of Comparative Example 4 has silica particles with high heat resistance, the shape maintaining function is high, but it has the same structure as the porous insulators of Comparative Examples 1 to 3, so the porosity is low. . Further, since the silica particles do not melt even when the temperature reaches 200 ° C., the porous insulator of Comparative Example 4 has a small change in porosity during heating and a low shutdown function.

比較例5、6の多孔質絶縁体は、空隙率が確保されるが、樹脂粒子を含まないため、加熱時の空隙率の変化が小さく、シャットダウン機能が低い。   The porous insulators of Comparative Examples 5 and 6 have a porosity, but do not contain resin particles, so the change in the porosity during heating is small and the shutdown function is low.

比較例7、8の多孔質絶縁体は、加熱時の絶縁性が高いものの、空隙率が低い。これは、架橋性モノマーの溶媒に対する溶解性が高いため、架橋性モノマーの重合が進行しても、相分離が進行しにくいことが原因であると考えられる。   The porous insulators of Comparative Examples 7 and 8 have a high porosity but a low porosity. This is considered to be due to the fact that the phase separation hardly proceeds even when the polymerization of the crosslinkable monomer proceeds because the solubility of the crosslinkable monomer in the solvent is high.

比較例9の多孔質絶縁体は、空隙率が高く、シャットダウン機能を有するが、加熱時の絶縁性が低い。これは、多孔質絶縁体の製造時のひずみが原因で熱収縮したことが原因であると考えられる。   The porous insulator of Comparative Example 9 has a high porosity and a shutdown function, but has a low insulating property during heating. This is considered to be caused by heat shrinkage due to distortion during the production of the porous insulator.

10 多孔質絶縁体
11 多孔質構造
12 固体
12' 液体
20 電極
21 電極基体
22 活物質
23 電極合材
31 空孔
40 非水系蓄電素子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Porous insulator 11 Porous structure 12 Solid 12 'Liquid 20 Electrode 21 Electrode base 22 Active material 23 Electrode compound 31 Hole 40 Nonaqueous storage element

国際公開第2006/062153号International Publication No. 2006/062153

Claims (6)

高分子化合物によって形成されており、連通している空孔を有する多孔質構造と、
前記高分子化合物よりも融点またはガラス転移点が低い固体を有することを特徴とする多孔質絶縁体。
A porous structure formed of a polymer compound and having pores communicating with each other;
A porous insulator having a solid having a melting point or a glass transition point lower than that of the polymer compound.
前記固体は、樹脂粒子であることを特徴とする請求項1に記載の多孔質絶縁体。   The porous insulator according to claim 1, wherein the solid is resin particles. 前記高分子化合物は、架橋していることを特徴とする請求項1または2に記載の多孔質絶縁体。   The porous insulator according to claim 1, wherein the polymer compound is crosslinked. 電極基体上に、活物質を含む電極合材が形成されており、
請求項1乃至3のいずれか一項に記載の多孔質絶縁体が前記電極合材上に形成されていることを特徴とする電極。
An electrode mixture containing an active material is formed on the electrode substrate,
An electrode, wherein the porous insulator according to any one of claims 1 to 3 is formed on the electrode mixture.
前記多孔質絶縁体の一部が前記電極合材の一部に存在していることを特徴とする請求項4に記載の電極。   The electrode according to claim 4, wherein a part of the porous insulator is present in a part of the electrode mixture. 請求項4または5に記載の電極を有することを特徴とする非水系蓄電素子。   A non-aqueous storage element comprising the electrode according to claim 4.
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