JP2019163886A - Sintering unit - Google Patents

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正俊 仁木
Masatoshi Niki
正俊 仁木
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Abstract

To provide a sintering unit suppressed in deformation of a sintering dish and usable over a long period.SOLUTION: A sintering unit comprises: a first sintering dish having a first face for placing a sintering object and a second face on the opposite side; and a support body supporting the first sintering dish. The support body abuts on the second face and supports at least a part of an outer peripheral part of the second face. The support body may be cylindrical, and an end facing the second face of the support body may abut on the outer peripheral part of the second face.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、焼結用ユニットに関し、詳細には、電解コンデンサに用いられる多孔質焼結体を製造するのに適する焼結用ユニットに関する。   The present invention relates to a sintering unit, and more particularly to a sintering unit suitable for manufacturing a porous sintered body used for an electrolytic capacitor.

近年、電子機器の小型化および軽量化に伴って、小型かつ大容量の高周波用コンデンサが求められている。このようなコンデンサとして、等価直列抵抗(ESR)が小さく、周波数特性に優れている固体電解コンデンサの開発が進められている。固体電解コンデンサは、陽極体と、陽極体の表面に形成された誘電体層と、誘電体層の表面に形成された固体電解質層と、固体電解質層上に形成された陰極層と、を具備する。陽極体としては、タンタル、ニオブ、チタンなどの弁作用金属粒子を焼結した多孔質焼結体が用いられる。   In recent years, along with the reduction in size and weight of electronic devices, there has been a demand for small-sized and large-capacity high-frequency capacitors. As such a capacitor, development of a solid electrolytic capacitor having a small equivalent series resistance (ESR) and excellent frequency characteristics is being promoted. The solid electrolytic capacitor includes an anode body, a dielectric layer formed on the surface of the anode body, a solid electrolyte layer formed on the surface of the dielectric layer, and a cathode layer formed on the solid electrolyte layer. To do. As the anode body, a porous sintered body obtained by sintering valve action metal particles such as tantalum, niobium, and titanium is used.

多孔質焼結体は、通常、弁作用金属粒子およびバインダを加圧成形して多孔質成型体を得た後、この多孔質成型体を焼結皿に載置した状態で、減圧下で焼結することにより製造される。焼結は、例えば1000℃以上で行われる。そのため、焼結皿は、熱によって変形し易い。そこで、特許文献1は、焼結皿に同心円状の複数のひも出しリブを設けるとともに、十字型の仕切壁を設置することを提案している。   In general, a porous sintered body is obtained by pressure-molding valve action metal particles and a binder to obtain a porous molded body, and then firing the porous molded body under reduced pressure while the porous molded body is placed on a sintering dish. Manufactured by tying. Sintering is performed at 1000 ° C. or higher, for example. Therefore, the sintered dish is easily deformed by heat. Therefore, Patent Document 1 proposes that a plurality of concentric stringing ribs are provided on the sintering dish and a cross-shaped partition wall is provided.

特開2003−13109号公報JP 2003-13109 A

特許文献1によれば、焼結皿の熱分布差が小さくなって、熱変形が抑制される。
本発明は、焼結皿の熱変形をさらに抑制することを目的とする。
According to Patent Document 1, the difference in the heat distribution of the sintering pan is reduced, and thermal deformation is suppressed.
An object of the present invention is to further suppress thermal deformation of a sintered dish.

本発明の第一の局面は、焼結対象物が載置される第1面およびその反対側の第2面を有する第1焼結皿と、前記第1焼結皿を支持する支持体と、を備え、前記支持体は、前記第2面に当接して、前記第2面の外周部の少なくとも一部を支持する、焼結用ユニットに関する。   A first aspect of the present invention includes a first sintering plate having a first surface on which a sintered object is placed and a second surface opposite to the first surface, and a support that supports the first sintering plate. , And the support is in contact with the second surface and supports at least a part of the outer peripheral portion of the second surface.

本発明によれば、焼結皿の変形が抑制されて、長期間の使用が可能となる。   According to the present invention, deformation of the sintered dish is suppressed, and long-term use is possible.

本発明の一実施形態に係る焼結用ユニットを展開して示す斜視図である。It is a perspective view which expands and shows a unit for sintering concerning one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係る焼結用ユニットの支持体および第1焼結皿を第2面の法線方向から見た平面図である。It is the top view which looked at the support body of the unit for sintering which concerns on one Embodiment of this invention, and the 1st sintering pan from the normal line direction of the 2nd surface. 本発明の他の一実施形態に係る支持体の斜視図である。It is a perspective view of the support body concerning other one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係る焼結用ユニットの断面図である。It is sectional drawing of the unit for sintering which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る焼結用ユニットの使用態様を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the usage condition of the unit for sintering which concerns on one Embodiment of this invention.

電解コンデンサに用いられる多孔質焼結体は、通常、弁作用金属粒子を加圧成形して多孔質成型体を得た後、この多孔質成型体を焼結皿に載置した状態で焼結することにより製造される。焼結は、例えば、複数の焼結皿をスタックした状態で行われる。上方の焼結皿は、例えば特許文献1に記載されているように、下方の焼結皿の中心付近に設けられた円筒体で支持される。このとき、支持されていない上方の焼結皿の外周部は、多孔質成型体による荷重および熱によって下方にダレて、変形する。変形が進むと、焼結皿が割れる場合もある。   A porous sintered body used for an electrolytic capacitor is usually sintered in a state in which the porous molded body is placed on a sintering dish after pressure forming metal particles for pressure action to obtain a porous molded body. It is manufactured by doing. Sintering is performed, for example, in a state where a plurality of sintering dishes are stacked. The upper sintering plate is supported by a cylindrical body provided near the center of the lower sintering plate, as described in Patent Document 1, for example. At this time, the outer peripheral part of the upper sintering pan which is not supported is deformed by sagging downward by the load and heat generated by the porous molded body. As the deformation progresses, the sintered dish may break.

また、後述するように、焼結皿の中央部には通常、開口が設けられている。この開口には棒状の棒状部材が挿入されて、焼結皿は位置決めされる。そのため、多孔質成型体は焼結皿の外周部に多く配置されることになり、外周部はさらに変形し易い。   Further, as will be described later, an opening is usually provided in the central portion of the sintering dish. A rod-shaped rod-shaped member is inserted into this opening, and the sintering dish is positioned. Therefore, many porous molded bodies will be arrange | positioned in the outer peripheral part of a sintering dish, and an outer peripheral part will deform | transform further easily.

そこで、本実施形態では、焼結皿の外周部を、焼結皿とは別部材である支持体によって下方から支持する。すなわち、本実施形態に係る焼結用ユニットは、焼結対象物が載置される第1面およびその反対側の第2面を有する第1焼結皿と、第1焼結皿を支持する支持体とを備えており、支持体は、第2面に当接して、第2面の外周部の少なくとも一部を支持する。このように、焼結皿の外周部を下方から支えることにより、焼結対象物からの荷重および加熱による焼結皿の変形が抑制される。さらに、支持体を焼結皿とは別部材にすることにより、その形状の自由度が高まる。さらに、焼結皿のクリーニング時に支持体を取り外すことにより、クリーニング作業も容易となる。焼結皿には、焼結対象物に含まれるバインダに由来するカーボンが付着しやすい。焼結皿に付着したカーボンは、焼結対象物への再汚染を引き起こすとともに、焼結皿を脆化させる原因になり得る。そのため、焼結皿を定期的にクリーニングする必要がある。   So, in this embodiment, the outer peripheral part of a sintering pan is supported from the downward direction by the support body which is a member different from a sintering pan. That is, the sintering unit according to the present embodiment supports a first sintering dish having a first surface on which a sintered object is placed and a second surface opposite to the first surface. A support body, and the support body abuts on the second surface and supports at least a part of the outer peripheral portion of the second surface. In this way, by supporting the outer peripheral portion of the sintering dish from below, deformation of the sintering dish due to the load from the object to be sintered and heating is suppressed. Furthermore, the freedom degree of the shape increases by making a support body a separate member from a sintering pan. Furthermore, the cleaning operation is facilitated by removing the support during cleaning of the sintered dish. Carbon derived from the binder contained in the object to be sintered is likely to adhere to the sintering dish. The carbon adhering to the sintering pan may cause recontamination of the object to be sintered and cause embrittlement of the sintering pan. Therefore, it is necessary to periodically clean the sintered dish.

第2面の外周部は、第2面の外縁から、第2面の中心点Cと外縁とを結ぶ複数の任意の直線を引き、これら直線上にあって、中心点Cからの距離が当該直線の1/2である複数の地点を繋いで形成される(第2面の外形と相似形の)環状の線までの領域である。中心点Cは、第2面が円形の場合、円の直径の中点であり、第2面が楕円形の場合、長径および短径の中点である。第2面が円および楕円以外の点対称な形状(例えば、矩形)である場合、中心点Cは複数の対角線の交点である。   The outer peripheral portion of the second surface draws a plurality of arbitrary straight lines connecting the center point C and the outer edge of the second surface from the outer edge of the second surface, is on these straight lines, and the distance from the center point C is This is a region up to an annular line (similar to the outer shape of the second surface) formed by connecting a plurality of points that are ½ of a straight line. The center point C is the midpoint of the diameter of the circle when the second surface is circular, and the midpoint of the long and short diameters when the second surface is elliptical. When the second surface has a point-symmetric shape (for example, a rectangle) other than a circle and an ellipse, the center point C is an intersection of a plurality of diagonal lines.

支持体は筒状であってもよい。筒状の支持体の第2面に対向する端部の少なくとも一部は、第2面の外周部に当接する。これにより、第2面の外周部が均等に支持されやすくなる。筒状の支持体の第2面に対向する端部を第1面の法線方向からみたとき、その形状は、第2面の外形と相似形であってもよい。例えば第2面の外形が円形である場合、支持体は円筒形状である。筒状とは、完全に閉じられている場合に限定されず、隙間があってもよいし、渦巻き状であってもよい。   The support may be cylindrical. At least a part of the end portion facing the second surface of the cylindrical support is in contact with the outer peripheral portion of the second surface. Thereby, it becomes easy to support the outer peripheral part of a 2nd surface equally. When the end portion facing the second surface of the cylindrical support is viewed from the normal direction of the first surface, the shape may be similar to the outer shape of the second surface. For example, when the outer shape of the second surface is circular, the support is cylindrical. The cylindrical shape is not limited to the case of being completely closed, and there may be a gap or a spiral shape.

第1焼結皿の第1面における焼結対象物が載置される領域は平坦であってもよい。本実施形態によれば、第1面にひも出しリブ等の凹凸を設けることなく、焼結皿の変形を抑制することができる。第1面が平坦であると、クリーニング作業はさらに容易になる。第1面が平坦であるとは、第1面に、目視できる凹凸が存在しないことを意味する。   The region where the object to be sintered is placed on the first surface of the first sintering pan may be flat. According to this embodiment, it is possible to suppress the deformation of the sintered dish without providing irregularities such as a stringed rib on the first surface. When the first surface is flat, the cleaning operation is further facilitated. That the first surface is flat means that there are no visible irregularities on the first surface.

焼結対象物が、主成分として第1弁作用金属を含む場合、第1焼結皿の主成分も第1弁作用金属であることが好ましい。焼結対象物の汚染を抑制するためである。主成分とは、全質量の50質量%以上を占める成分である。   When the object to be sintered contains the first valve metal as a main component, it is preferable that the main component of the first sintering dish is also the first valve metal. This is to prevent contamination of the sintered object. A main component is a component which occupies 50 mass% or more of the total mass.

焼結用ユニットは、さらに第2焼結皿を備えてもよい。第2焼結皿は、支持体を介して第1焼結皿の第2面に対向するように配置される。第2焼結皿は、2つ以上あってもよい。この場合、第2焼結皿同士の間にも支持体を介在させる。第2焼結皿は、第1焼結皿と同型であってもよいし、異なっていてもよい。焼結用ユニットは、他の支持体を介して、第1焼結皿の第1面に対向するように配置される第3焼結皿を備えてもよい。   The sintering unit may further include a second sintering pan. The second sintering dish is disposed so as to face the second surface of the first sintering dish via the support. There may be two or more second sintering dishes. In this case, a support is also interposed between the second sintered dishes. The second sintered dish may be the same type as or different from the first sintered dish. The unit for sintering may include a third sintering pan arranged to face the first surface of the first sintering pan via another support.

以下、本発明の一実施形態に係る焼結用ユニットについて、図面を参照しながら説明する。本実施形態では、焼結用ユニットが第1焼結皿と同型の第2焼結皿を備える場合を例示しているが、これに限定されない。図1は、本実施形態に係る焼結用ユニットを展開して示す斜視図である。図2は、本実施形態に係る焼結用ユニットの支持体および第2焼結皿を第2面の法線方向から見た平面図である。図3は、他の一実施形態に係る支持体の斜視図である。図4は、本実施形態に係る焼結用ユニットの断面図である。図示例では、便宜上、焼結対象物を省略するとともに、立上り部を誇張している。   Hereinafter, a sintering unit according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In this embodiment, although the case where the unit for sintering is provided with the 2nd sintering pan of the same type as the 1st sintering pan is illustrated, it is not limited to this. FIG. 1 is an exploded perspective view showing a unit for sintering according to the present embodiment. FIG. 2 is a plan view of the support for the sintering unit and the second sintering pan according to the present embodiment as viewed from the normal direction of the second surface. FIG. 3 is a perspective view of a support according to another embodiment. FIG. 4 is a cross-sectional view of the sintering unit according to the present embodiment. In the illustrated example, the object to be sintered is omitted and the rising portion is exaggerated for convenience.

焼結用ユニット100は、第1焼結皿10と、第2焼結皿30と、これらの間に介在する支持体20と、を備える。   The sintering unit 100 includes a first sintering tray 10, a second sintering tray 30, and a support 20 interposed therebetween.

(第1焼結皿)
第1焼結皿10は、焼結対象物(図示せず)が載置される第1面10Xおよびその反対側の第2面10Yを有する。第1面10Xの中央付近には開口11が設けられている。焼結工程において、開口11には棒状の棒状部材が挿入されて、第1焼結皿10は位置決めされる。開口11の周囲には、開口11を補強するための略円筒形の補強部材12が配置されている。補強部材12は、リベット等により第1面10Xに接合されている。
(First sintering dish)
The 1st sintering pan 10 has the 1st surface 10X in which a sintering target object (not shown) is mounted, and the 2nd surface 10Y on the opposite side. An opening 11 is provided near the center of the first surface 10X. In the sintering step, a rod-shaped rod-shaped member is inserted into the opening 11 and the first sintering dish 10 is positioned. A substantially cylindrical reinforcing member 12 for reinforcing the opening 11 is disposed around the opening 11. The reinforcing member 12 is joined to the first surface 10X by a rivet or the like.

第1面10Xおよび第2面10Yは、概ね円形である。ただし、第1面10Xおよび第2面10Yの形状はこれに限定されず、矩形であってもよいし、その他の任意の形状であればよい。第1面10Xおよび第2面10Yの直径は、例えば、10cm〜25cmである。第1面10Xと第2面10Yとの間の距離(第1焼結皿10の厚み)は、例えば、0.3mm〜2mmである。   The first surface 10X and the second surface 10Y are substantially circular. However, the shape of the first surface 10X and the second surface 10Y is not limited to this, and may be a rectangle or any other shape. The diameters of the first surface 10X and the second surface 10Y are, for example, 10 cm to 25 cm. The distance between the first surface 10X and the second surface 10Y (the thickness of the first sintering pan 10) is, for example, 0.3 mm to 2 mm.

第1面10Xの外縁には、第2面10Yから第1面10Xに向かって立ち上がる立上り部10Zが設けられている。これにより、焼結対象物の転落が防止されるとともに、第1焼結皿10の変形はさらに抑制される。立上り部10Zの第1面10Xからの高さは、例えば、3mm〜10mmである。立上り部10Zは、第1面10Xより大きめに打ち抜かれた板材を、例えばプレス加工することにより形成される。このとき、板材の外縁を折り返しながらプレス加工を行って、立上り部10Zの板材を二重にしてもよい。   A rising portion 10Z that rises from the second surface 10Y toward the first surface 10X is provided at the outer edge of the first surface 10X. Thereby, falling of a sintering target object is prevented and deformation | transformation of the 1st sintering pan 10 is further suppressed. The height of the rising portion 10Z from the first surface 10X is, for example, 3 mm to 10 mm. The rising portion 10Z is formed by, for example, pressing a plate material punched larger than the first surface 10X. At this time, the plate material of the rising portion 10Z may be doubled by pressing while folding the outer edge of the plate material.

第1面10Xの開口11、補強部材12および立上り部10Z以外の領域に、焼結対象物が載置される。焼結対象物が載置される上記領域(載置領域)は平坦であり、リブ等の目視できる凹凸を有さない。   The object to be sintered is placed in a region other than the opening 11, the reinforcing member 12, and the rising portion 10Z of the first surface 10X. The said area | region (mounting area | region) in which a sintering target object is mounted is flat, and does not have visible unevenness | corrugations, such as a rib.

後述するように、弁作用金属を主成分とする焼結皿は、一般に、粉末冶金法によって製造された板材を加工することにより得られる。粉末冶金法は、金属粒子を金型に入れて加圧成形した後、焼結させる方法である。そのため、得られる板材は、微視的には粒界を有する。ひも出しリブは、例えば、上記板材を焼結皿と同程度の大きさに打ち抜いた後、さらにプレス加工することにより形成される。板材は、プレス加工により機械的に屈曲されるため、粒界が広がりやすい。大きな粒界を有するリブでは、熱等によって粒界破断が生じ易い。さらに、この大きな粒界にカーボンが入り込むと、リブの脆化はさらに進行する。本実施形態によれば、第1面10Xの載置領域に、このような機械的に凹凸が形成されていないため、焼結皿の変形を抑制することができる。   As will be described later, a sintered dish mainly containing a valve metal is generally obtained by processing a plate material manufactured by a powder metallurgy method. The powder metallurgy method is a method in which metal particles are put into a mold and press-molded, and then sintered. Therefore, the obtained plate material has a grain boundary microscopically. The stringing rib is formed, for example, by punching the plate material to the same size as the sintered dish and further pressing. Since the plate material is mechanically bent by press working, the grain boundary is likely to spread. In a rib having a large grain boundary, grain boundary breakage is likely to occur due to heat or the like. Furthermore, when carbon enters the large grain boundaries, the brittleness of the ribs further proceeds. According to this embodiment, since such unevenness is not mechanically formed in the placement region of the first surface 10X, deformation of the sintered dish can be suppressed.

第1焼結皿10の材質は特に限定されず、焼結対象物に含まれる成分に応じて適宜選択すればよい。焼結対象物が主成分(全質量の50%以上を占める成分)として第1弁作用金属を含む場合、汚染を防止するため、第1焼結皿10の主成分も第1弁作用金属であることが好ましい。第1弁作用金属としては、チタン(Ti)、タンタル(Ta)、ニオブ(Nb)等が挙げられる。   The material of the 1st sintering pan 10 is not specifically limited, What is necessary is just to select suitably according to the component contained in a sintering target object. When the object to be sintered contains the first valve metal as a main component (a component occupying 50% or more of the total mass), the main component of the first sintering dish 10 is also the first valve metal in order to prevent contamination. Preferably there is. Examples of the first valve action metal include titanium (Ti), tantalum (Ta), niobium (Nb), and the like.

(支持体)
支持体20は、第1焼結皿10の第2面10Yに対向するように配置される。支持体20は、第2面10Yに当接しており、第2面10Yの外周部の少なくとも一部を支持する。
(Support)
The support 20 is disposed so as to face the second surface 10Y of the first sintering pan 10. The support body 20 is in contact with the second surface 10Y and supports at least a part of the outer peripheral portion of the second surface 10Y.

支持体20は、円筒状である。ただし、支持体の形状はこれに限定されず、柱状、壁状、円筒以外の筒状(例えば、角筒等)であってもよい。柱状または壁状の支持体を使用する場合、2つ以上の支持体を、第2面10Yの外周部に対応する位置に配置する。   The support 20 is cylindrical. However, the shape of the support is not limited to this, and may be a columnar shape, a wall shape, or a cylindrical shape other than a cylindrical shape (for example, a square tube). When using columnar or wall-shaped supports, two or more supports are arranged at positions corresponding to the outer peripheral portion of the second surface 10Y.

支持体20の外径D20(図2参照)は、第2面10Yの半径D10b以上であり、第2面10Yの直径D10a以下である。これにより、支持体20の第2面10Yに対向する端部(第1端部)20Xは、第2面10Yの外周部10Yaに当接する。第1焼結皿10の変形抑制効果が高い点で、支持体20の外径D20は、第2面10Yの直径D10aの75%以上、100%以下であってもよい。なお、開口11は、第2面10Yの中央部10Ybに設けられる。 The outer diameter D 20 (see FIG. 2) of the support 20 is not less than the radius D 10b of the second surface 10Y and not more than the diameter D 10a of the second surface 10Y. Thereby, the edge part (1st edge part) 20X which opposes the 2nd surface 10Y of the support body 20 contact | abuts to outer peripheral part 10Ya of the 2nd surface 10Y. In terms deformation suppressing effect is high in the first Shoyuisara 10, the outer diameter D 20 of the support 20, 75% of the diameter D 10a of the second surface 10Y or more, may be not more than 100%. The opening 11 is provided in the central portion 10Yb of the second surface 10Y.

支持体20は、支持体20と第2面10Yと第2焼結皿30の第3面30Xとにより形成された空間S(図4参照)と、支持体20の外側とを連結する孔(連結孔)を備えてもよい。これにより、空間Sを減圧する際の排気抵抗が小さくなる。連結孔の形状は特に限定されず、円形であってもよいし矩形であってもよい。例えば、図3に示すように、連結孔21の一部は開放されていてもよい。連結孔21が支持体20の外側の表面(外表面)に形成する開口の総面積は、例えば、当該外表面の面積の0.1%〜25%である。   The support 20 has a hole (see FIG. 4) formed by the support 20, the second surface 10 </ b> Y, and the third surface 30 </ b> X of the second sintering dish 30, and a hole (see FIG. 4). A connecting hole). Thereby, the exhaust resistance at the time of decompressing the space S is reduced. The shape of the connecting hole is not particularly limited, and may be circular or rectangular. For example, as shown in FIG. 3, a part of the connection hole 21 may be opened. The total area of the openings formed by the connecting holes 21 on the outer surface (outer surface) of the support 20 is, for example, 0.1% to 25% of the area of the outer surface.

支持体20の材質も特に限定されず、焼結対象物に含まれる成分に応じて適宜選択すればよい。焼結対象物が主成分として第1弁作用金属を含む場合、支持体20の主成分も第1弁作用金属であることが好ましい。支持体20の外表面と内表面との間の距離(支持体20の厚み)は、例えば、0.3mm〜2mmである。   The material of the support 20 is not particularly limited, and may be appropriately selected according to the components contained in the sintered object. When the sintered object includes the first valve action metal as a main component, the main component of the support 20 is also preferably the first valve action metal. The distance between the outer surface and the inner surface of the support 20 (the thickness of the support 20) is, for example, 0.3 mm to 2 mm.

(第2焼結皿)
第2焼結皿30は、支持体20を介して、第1焼結皿10の第2面10Yに対向するように配置される。
第2焼結皿30は、第1焼結皿10と同型である。ただし、第2焼結皿30の形状は、第1焼結皿10と異なってもよいし、第2焼結皿30は、第1焼結皿10より大きくてもよいし、小さくてもよい。
(Second sintering plate)
The second sintering dish 30 is disposed so as to face the second surface 10Y of the first sintering dish 10 with the support 20 interposed therebetween.
The second sintering dish 30 is the same type as the first sintering dish 10. However, the shape of the second sintering dish 30 may be different from that of the first sintering dish 10, and the second sintering dish 30 may be larger or smaller than the first sintering dish 10. .

第2焼結皿30は、焼結対象物が載置される第3面30Xおよびその反対側の第4面30Yを有する。第3面30Xの中央付近には開口31が設けられており、開口31の周囲に補強部材32が配置されている。支持体20の第1端部20Xの反対側の端部(第2端部20Y)は、第3面30Xの外周部に当接する。第3面30Xの外周部は、第2面10Yの外周部10Yaと同様に定義できる。   The 2nd sintering pan 30 has the 3rd surface 30X in which a sintering target object is mounted, and the 4th surface 30Y on the opposite side. An opening 31 is provided near the center of the third surface 30 </ b> X, and a reinforcing member 32 is disposed around the opening 31. An end portion (second end portion 20Y) opposite to the first end portion 20X of the support body 20 abuts on the outer peripheral portion of the third surface 30X. The outer peripheral portion of the third surface 30X can be defined similarly to the outer peripheral portion 10Ya of the second surface 10Y.

第3面30Xの外縁には、第4面30Yから第3面30Xに向かって、つまり、第1焼結皿10に向かって立ち上がる立上り部30Zが設けられている。図4に示すように、支持体20の第3面30Xからの高さH20は、立上り部30Zの第3面30Xからの高さH30よりも大きい。これにより、第1焼結皿10の外周部10Yaは、第2焼結皿30ではなく支持体20によって支持される。そのため、第2焼結皿30(特に、立上り部30Z)が変形した場合にも、第1焼結皿10の外周部10Yaの変形は抑制される。立上り部30Zは、通常、プレス加工により形成される。そのため、立上り部30Zは、第1焼結皿10に向かって僅かに外側に広がっている場合がある。この場合、立上り部30Zは、さらに外側に広がるように変形し易い。 An outer edge of the third surface 30X is provided with a rising portion 30Z that rises from the fourth surface 30Y toward the third surface 30X, that is, toward the first sintering plate 10. As shown in FIG. 4, the height H 20 of the third surface 30X of the support 20 is greater than the height H 30 of the third surface 30X of the rising portion 30Z. Accordingly, the outer peripheral portion 10Ya of the first sintering pan 10 is supported by the support body 20 instead of the second sintering pan 30. Therefore, even when the second sintering tray 30 (particularly the rising portion 30Z) is deformed, the deformation of the outer peripheral portion 10Ya of the first sintering tray 10 is suppressed. The rising portion 30Z is usually formed by press working. Therefore, the rising portion 30 </ b> Z may slightly spread outward toward the first sintering dish 10. In this case, the rising portion 30Z is easily deformed so as to spread further outward.

支持体20の高さH20は特に限定されない。支持体20の高さH20は、例えば、立上り部30Zの高さH30の110%以上であってもよいし、120%以上であってもよい。生産性の観点から、第1焼結皿10と第2焼結皿30との間隔は過度に広くない方が好ましい。この点で、支持体20の高さH20は、立上り部30Zの高さH30の200%以下であってもよいし、170%以下であってもよい。 The height H20 of the support 20 is not particularly limited. The height H 20 of the support 20, for example, may be more than 110% of the height H 30 of the rising portion 30Z, may be 120% or more. From the viewpoint of productivity, it is preferable that the distance between the first sintering dish 10 and the second sintering dish 30 is not excessively wide. In this regard, the height H 20 of the support 20, may be 200% or less of the height H 30 of the rising portion 30Z, may be not more than 170%.

(焼結対象物)
焼結対象物は、例えば、弁作用金属粒子を加圧成形して得られた多孔質成型体である。多孔質成型体には、陽極ワイヤの一部が埋設されている。陽極ワイヤの残部は、多孔質成型体から外部に導出されている。多孔質成型体は焼結された後、電解コンデンサの陽極体として用いられる。焼結対象物の形状および大きさは特に限定されず、例えば、一辺が2mm以下の直方体である。
(Sintering object)
The object to be sintered is, for example, a porous molded body obtained by pressure-molding valve action metal particles. A part of the anode wire is embedded in the porous molded body. The remainder of the anode wire is led out from the porous molded body. After the porous molded body is sintered, it is used as an anode body of an electrolytic capacitor. The shape and size of the object to be sintered are not particularly limited, and are, for example, a rectangular parallelepiped having a side of 2 mm or less.

焼結対象物は、1種または2種以上の弁作用金属粒子およびバインダを含む。弁作用金属粒子は、2種以上の金属からなる合金であってもよい。例えば、弁作用金属と、ケイ素、バナジウム、ホウ素等とを含む合金を用いることができる。また、弁作用金属と窒素等の典型元素とを含む化合物を用いてもよい。焼結対象物は、一種の弁作用金属(第1弁作用金属)を主成分として含んでもよい。バインダは特に限定されず、例えば、アクリル樹脂等が挙げられる。   The object to be sintered contains one or more valve action metal particles and a binder. The valve action metal particles may be an alloy composed of two or more metals. For example, an alloy containing a valve action metal and silicon, vanadium, boron, or the like can be used. A compound containing a valve metal and a typical element such as nitrogen may be used. The object to be sintered may contain a kind of valve metal (first valve metal) as a main component. A binder is not specifically limited, For example, an acrylic resin etc. are mentioned.

図5は、焼結用ユニット100の使用態様を示す断面図である。
図5では、第1焼結皿10の第2焼結皿30とは反対側に、さらに第3焼結皿40が配置されており、各焼結皿の間に支持体20が配置されている。第3焼結皿40の第1焼結皿10とは反対側には蓋50が配置されており、第3焼結皿40と蓋50との間にも支持体20が配置されている。複数の支持体20は、同型であってもよいし、異なってもよい。第3焼結皿40および蓋50の中央付近には、それぞれ開口が設けられており、各開口は補強部材42、52によりそれぞれ補強されている。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing how the sintering unit 100 is used.
In FIG. 5, a third sintering dish 40 is further arranged on the opposite side of the first sintering dish 10 from the second sintering dish 30, and the support 20 is arranged between the sintering dishes. Yes. A lid 50 is disposed on the opposite side of the third sintering dish 40 from the first sintering dish 10, and the support 20 is also disposed between the third sintering dish 40 and the lid 50. The plurality of supports 20 may be the same type or different. Openings are provided in the vicinity of the center of the third sintering plate 40 and the lid 50, and the openings are reinforced by reinforcing members 42 and 52, respectively.

第3焼結皿40は、第1焼結皿10と同型、同素材であってもよい。蓋50は、少なくとも支持体20を覆う程度の大きさを備え、例えば、第3焼結皿40の蓋50に対向する面と同程度の大きさである。蓋50は、第1焼結皿10と同素材であってもよい。   The third sintering dish 40 may be the same type and the same material as the first sintering dish 10. The lid 50 has a size that covers at least the support 20 and is, for example, the same size as the surface of the third sintering plate 40 that faces the lid 50. The lid 50 may be made of the same material as the first sintering pan 10.

本実施形態に係る焼結用ユニット100を用いた焼結工程の一例を説明する。
まず、第1焼結皿10の第1面10Xに、支持体20を配置する。次いで、第1面10Xに焼結対象物を載置する。焼結対象物は、支持体20と立上り部10Zとの間にも載置されてよい。焼結対象物は、一度に複数が載置される。第2焼結皿30および第3焼結皿40にも同様に、支持体20を配置し、焼結対象物を載置する。
An example of a sintering process using the sintering unit 100 according to the present embodiment will be described.
First, the support 20 is disposed on the first surface 10 </ b> X of the first sintering dish 10. Next, the sintering object is placed on the first surface 10X. The object to be sintered may be placed between the support 20 and the rising portion 10Z. A plurality of objects to be sintered are placed at a time. Similarly, the support body 20 is arranged on the second sintering plate 30 and the third sintering plate 40, and the object to be sintered is placed thereon.

焼結対象物が載置された各焼結皿をスタックする。これにより、3枚の焼結皿を備える焼結用ユニット100が組み上がる。各焼結皿の間隔は、各焼結皿の間に介在する支持体20によって規定される。最上部の焼結皿(第3焼結皿40)に蓋50を被せた後、各焼結皿および蓋50に形成された開口に、棒状部材60が差し込まれる。棒状部材60により、各焼結皿の位置が決定される。   Each sintering pan on which the object to be sintered is placed is stacked. As a result, the sintering unit 100 including the three sintering dishes is assembled. The interval between the sintering dishes is defined by the support 20 interposed between the sintering dishes. After covering the uppermost sintering dish (third sintering dish 40) with the lid 50, the rod-shaped member 60 is inserted into the openings formed in the respective sintering dishes and the lid 50. The position of each sintering dish is determined by the rod-shaped member 60.

焼結用ユニット100は、例えば台座70に載置された状態で、焼結炉内に搬送される。焼結炉は、例えば、脱バインダ室、焼結室および冷却室等を備えており、焼結用ユニット100は、まず脱バインダ室に搬送される。脱バインダ室において、焼結用ユニット100は減圧下、300℃〜500℃で加熱される。これにより、焼結対象物に含まれる少なくとも一部のバインダが除去される。ついで、焼結用ユニット100は焼結室に搬送される。焼結室において、焼結用ユニット100は、減圧下、1000〜1500℃で加熱される。これにより、焼結対象物に含まれる弁作用金属粒子同士が焼結される。その後、焼結用ユニット100は搬送されて冷却された後、焼結炉外に搬出される。
以上の方法により、多孔質焼結体が得られる。
The unit 100 for sintering is conveyed in a sintering furnace, for example in the state mounted in the base 70. FIG. The sintering furnace includes, for example, a binder removal chamber, a sintering chamber, a cooling chamber, and the like, and the sintering unit 100 is first transported to the binder removal chamber. In the binder removal chamber, the sintering unit 100 is heated at 300 to 500 ° C. under reduced pressure. Thereby, at least a part of the binder contained in the sintered object is removed. Next, the sintering unit 100 is transported to the sintering chamber. In the sintering chamber, the sintering unit 100 is heated at 1000 to 1500 ° C. under reduced pressure. Thereby, the valve action metal particles contained in a sintered object are sintered. Thereafter, the sintering unit 100 is transported and cooled, and then carried out of the sintering furnace.
By the above method, a porous sintered body is obtained.

本発明に係る焼結用ユニットは、例えば、電解コンデンサの陽極体として使用される多孔質焼結体の製造に用いられる。   The unit for sintering according to the present invention is used, for example, for producing a porous sintered body used as an anode body of an electrolytic capacitor.

100:焼結用ユニット
10:第1焼結皿
10X:第1面
10Y:第2面
10Ya:外周部
10Yb:中央部
10Z:立上り部
11:開口
12:補強部材
20:支持体
20X:第1端部
20Y:第2端部
21:連結孔
30:第2焼結皿
30X:第3面
30Y:第4面
30Z:立上り部
31:開口
32:補強部材
40:第3焼結皿
40Z:立上り部
41:開口
42:補強部材
50:蓋
52:補強部材
60:棒状部材
70:台座
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100: Unit for sintering 10: 1st sintering pan 10X: 1st surface 10Y: 2nd surface 10Ya: Outer peripheral part 10Yb: Center part 10Z: Rising part 11: Opening 12: Reinforcement member 20: Support body 20X: 1st End 20Y: Second end 21: Connection hole 30: Second sintering plate 30X: Third surface 30Y: Fourth surface 30Z: Rising portion 31: Opening 32: Reinforcement member 40: Third sintering plate 40Z: Rising Portion 41: Opening 42: Reinforcement member 50: Lid 52: Reinforcement member 60: Bar-shaped member 70: Base

Claims (7)

焼結対象物が載置される第1面およびその反対側の第2面を有する第1焼結皿と、
前記第1焼結皿を支持する支持体と、を備え、
前記支持体は、前記第2面に当接して、前記第2面の外周部の少なくとも一部を支持する、焼結用ユニット。
A first sintering dish having a first surface on which the object to be sintered is placed and a second surface opposite to the first surface;
A support for supporting the first sintering pan,
The support unit is a sintering unit that abuts on the second surface and supports at least a part of an outer peripheral portion of the second surface.
前記支持体は筒状であり、
前記支持体の前記第2面に対向する端部は、前記第2面の前記外周部に当接する、請求項1に記載の焼結用ユニット。
The support is cylindrical,
2. The sintering unit according to claim 1, wherein an end portion of the support body facing the second surface is in contact with the outer peripheral portion of the second surface.
前記第1面における前記焼結対象物が載置される領域は、平坦である、請求項1または2に記載の焼結用ユニット。   The unit for sintering according to claim 1 or 2, wherein a region where the object to be sintered is placed on the first surface is flat. 前記焼結対象物は、主成分として第1弁作用金属を含み、
前記第1焼結皿は、主成分として前記第1弁作用金属を含む、請求項1〜3のいずれか一項に記載の焼結用ユニット。
The sintered object includes a first valve metal as a main component,
The unit for sintering according to any one of claims 1 to 3, wherein the first sintering pan includes the first valve metal as a main component.
前記支持体を介して、前記第1焼結皿に対向するように配置される第2焼結皿を備え、
前記第2焼結皿は、前記第1焼結皿に対向する第3面およびその反対側の第4面を備え、
前記支持体は、前記第3面に当接する、請求項1〜4のいずれか一項に記載の焼結用ユニット。
A second sintering dish disposed to face the first sintering dish via the support;
The second sintering dish includes a third surface facing the first sintering dish and a fourth surface on the opposite side.
The unit for sintering according to claim 1, wherein the support is in contact with the third surface.
前記第3面の外縁には、前記第1焼結皿に向かって立ち上がる立上り部が設けられており、
前記支持体の前記第3面からの高さは、前記立上り部の前記第3面からの高さよりも大きい、請求項5に記載の焼結用ユニット。
The outer edge of the third surface is provided with a rising portion that rises toward the first sintering pan,
The unit for sintering according to claim 5, wherein a height of the support from the third surface is larger than a height of the rising portion from the third surface.
前記支持体は、前記支持体と前記第2面と前記第3面とにより形成された空間と、前記支持体の外側とを連結する孔を備える、請求項5または6に記載の焼結用ユニット。   The said support body is provided with the hole which connects the space formed by the said support body, the said 2nd surface, and the said 3rd surface, and the outer side of the said support body, For sintering of Claim 5 or 6 unit.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5148155U (en) * 1974-10-07 1976-04-10
JPS59178329U (en) * 1983-05-12 1984-11-29 日本電気株式会社 Transport platform
JPH11211363A (en) * 1998-01-29 1999-08-06 Ngk Spark Plug Co Ltd Sheath supporting structure used for continuous heat treatment furnace, and continuous heat treatment method
JP2019123647A (en) * 2018-01-17 2019-07-25 日本碍子株式会社 Manufacturing method for ceramic firing body

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5148155U (en) * 1974-10-07 1976-04-10
JPS59178329U (en) * 1983-05-12 1984-11-29 日本電気株式会社 Transport platform
JPH11211363A (en) * 1998-01-29 1999-08-06 Ngk Spark Plug Co Ltd Sheath supporting structure used for continuous heat treatment furnace, and continuous heat treatment method
JP2019123647A (en) * 2018-01-17 2019-07-25 日本碍子株式会社 Manufacturing method for ceramic firing body

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