JP2019163404A - Flame-retardant resin composition - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、樹脂組成物、特に、難燃性樹脂組成物に関する。 The present invention relates to a resin composition, in particular, a flame retardant resin composition.
自動車、ITS(Intelligent Transport Systems:高度道路交通システム関連)、IoT(Internet of Things)、M2M(Machine to Machine)、D2D(Device to Device)および第五世代移動通信システム(5G)等の産業分野において、高周波信号を扱うシステムの実用化およびより発展的な実用計画が進行している。これに伴い、これらの産業分野において不可欠な電気・電子機器、例えば、半導体に代表される電子部品やこれらを搭載したプリント配線基板などについて、伝送信号の高周波化が要求されている。 Automotive, ITS (Intelligent Transport Systems), IoT (Internet of Things), M2M (Machine to Machine), D2D (Device to Device) and 5th generation mobile communication systems (5G) Practical use of high-frequency signal handling systems and more advanced practical plans are in progress. Accordingly, high frequency transmission signals are required for electrical and electronic devices indispensable in these industrial fields, for example, electronic components typified by semiconductors and printed wiring boards on which these are mounted.
この要求を受け、高周波帯での伝送損失が少なく、誘電特性に優れた基板を実現するための樹脂材料が要望されており、この要望に応えた樹脂材料の開発および実用化も進んでいる。このような樹脂材料は、上述の電気的特性が求められるものであるのと同時に、それ自体の、或いは、基板に適した薄膜状に加工した場合の難燃性が求められており、必要により難燃剤の使用が検討される。 In response to this demand, there is a demand for a resin material for realizing a substrate with low transmission loss in the high frequency band and excellent dielectric characteristics, and development and practical application of the resin material in response to this demand are also progressing. Such a resin material is required to have the above-described electrical characteristics, and at the same time, is required to have flame retardancy when processed into a thin film suitable for itself or a substrate. Consider the use of flame retardants.
樹脂材料に対して使用される難燃剤は、一般に、無機系難燃剤と有機系難燃剤とに大別される。無機系難燃剤としては、例えば、水酸化アルミニウムおよび水酸化マグネシウム等の金属水酸化物、メラミンシアヌレート等の窒素化合物、赤リン、リン酸アミド、ポリリン酸アンモニウムおよびホスフィン酸アルミニウム系等のリン化合物、三酸化アンチモンおよび五酸化アンチモン等のアンチモン化合物、並びに、ホウ素化合物が挙げられる。一方、有機系難燃剤としては、例えば、塩素化パラフィン、ビス(ペンタブロモフェニル)エタン、臭素化ポリスチレンおよびテトラブロモビスフェノールA等のハロゲン系化合物、トリフェニルホスフェート(TPP)、トリクレジルホスフェート(TCP)およびビスフェノールAビス−ジフェニルホスフェート(BDP)等のリン系化合物、並びに、トリス(クロロエチル)ホスフェート(TCEP)およびトリス(β-クロロプロピル)ホスフェート(TCPP)等のハロゲン化リン系化合物が挙げられる。 In general, flame retardants used for resin materials are roughly classified into inorganic flame retardants and organic flame retardants. Examples of the inorganic flame retardant include metal hydroxides such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide, nitrogen compounds such as melamine cyanurate, phosphorus compounds such as red phosphorus, phosphoric acid amide, ammonium polyphosphate, and aluminum phosphinate. , Antimony compounds such as antimony trioxide and antimony pentoxide, and boron compounds. On the other hand, examples of the organic flame retardant include halogenated compounds such as chlorinated paraffin, bis (pentabromophenyl) ethane, brominated polystyrene and tetrabromobisphenol A, triphenyl phosphate (TPP), tricresyl phosphate (TCP ) And bisphenol A bis-diphenyl phosphate (BDP), and phosphorus halide compounds such as tris (chloroethyl) phosphate (TCEP) and tris (β-chloropropyl) phosphate (TCPP).
無機系難燃剤は、誘電特性に優れており、樹脂材料の電気的特性を損ないにくいものであるが、吸水性や加水分解性を示すことから、その使用により樹脂成形体の機械的特性および電気的特性の経時劣化を招きやすく、長期的な信頼性が要求される電気・電子機器用として用いられる樹脂材料への難燃剤として不具合がある。一方、有機系難燃剤は、ハロゲン系化合物についはハロゲンフリーによる環境対応が要請される観点において使用が制限されつつあり、また、リン系化合物は、可塑性を有することから樹脂材料に対する添加量を増やして難燃性を高めると樹脂成形体の機械的強度を損なう可能性があり、また、加水分解性を示すことから、やはり、その使用が樹脂成形体の機械的特性および電気的特性の経時劣化を招きやすい。 Inorganic flame retardants have excellent dielectric properties and are not likely to impair the electrical properties of the resin material. However, since they exhibit water absorption and hydrolyzability, the mechanical properties and electrical properties of the resin molded products can be reduced by their use. As a flame retardant for resin materials used for electrical and electronic equipment that require long-term reliability, it is liable to cause deterioration of mechanical characteristics over time. On the other hand, the use of organic flame retardants is being restricted from the viewpoint that halogen-based compounds are required to be environmentally friendly with halogen-free, and phosphorous compounds have plasticity, so the amount added to resin materials is increased. If the flame retardancy is increased, the mechanical strength of the resin molded body may be impaired. Also, since it shows hydrolyzability, its use will deteriorate over time in the mechanical and electrical characteristics of the resin molded body. It is easy to invite.
そこで、樹脂材料に対して使用される難燃剤として、有機・無機ハイブリッド材料であるホスファゼン系化合物が注目されている。ホスファゼン系化合物は、リン含有化合物であって有機リン系化合物に比べてリン含有率が高いことから、樹脂材料に対する添加量を抑えて樹脂成形体に所要の難燃性を付与可能であるとともに、可塑性および加水分解性が小さいことから、樹脂成形体の機械的特性および電気的特性の経時劣化を招きにくい。 Thus, phosphazene compounds, which are organic / inorganic hybrid materials, have attracted attention as flame retardants used for resin materials. Since the phosphazene compound is a phosphorus-containing compound and has a higher phosphorus content than the organic phosphorus compound, the amount of addition to the resin material can be suppressed, and the required flame retardancy can be imparted to the resin molded body. Since the plasticity and hydrolyzability are small, the mechanical properties and electrical properties of the resin molded body are unlikely to deteriorate over time.
特許文献1は、フェノキシホスファゼン化合物を含む組成物を有効成分とする難燃剤を開示しており、そのような難燃剤を用いることで高周波領域における電気特性安定性に優れた樹脂成形体が得られるとしている。しかし、この難燃剤は、上記組成物がTGAによる不活性ガス雰囲気下、昇温温度10℃/分で常温から600℃まで加熱した時の500℃における重量保持率が15重量%以下であることから、それを用いた樹脂成形体は高温下での熱安定性を欠く。 Patent Document 1 discloses a flame retardant containing a composition containing a phenoxyphosphazene compound as an active ingredient, and by using such a flame retardant, a resin molded article having excellent electrical property stability in a high frequency region can be obtained. It is said. However, this flame retardant has a weight retention of not more than 15% by weight at 500 ° C. when the composition is heated from room temperature to 600 ° C. at a temperature rising temperature of 10 ° C./min in an inert gas atmosphere by TGA. Therefore, a resin molded body using the same lacks thermal stability at high temperatures.
本発明は、良好な誘電特性を示すとともに難燃性および熱安定性に優れた樹脂成形体の実現を課題とする。 This invention makes it a subject to implement | achieve the resin molding which shows a favorable dielectric characteristic, and was excellent in the flame retardance and thermal stability.
本発明に係る難燃性樹脂組成物は、特定のアリールオキシ環状ホスファゼン化合物と樹脂成分とを含む。ここで、特定のアリールオキシ環状ホスファゼン化合物は、下記の式(1)で表されるとともに、熱重量分析において不活性ガス雰囲気下で常温から600℃まで昇温速度10℃/分で加熱したときの500℃における重量保持率が50%以上、温度25℃で周波数1GHzでの比誘電率が2.6以下でありかつ誘電損失が0.002以下の条件を満足するものである。 The flame retardant resin composition according to the present invention includes a specific aryloxy cyclic phosphazene compound and a resin component. Here, the specific aryloxy cyclic phosphazene compound is represented by the following formula (1), and when heated at a heating rate of 10 ° C./min from normal temperature to 600 ° C. in an inert gas atmosphere in thermogravimetric analysis. The weight retention at 500 ° C. is 50% or more, the relative dielectric constant at a frequency of 1 GHz at a temperature of 25 ° C. is 2.6 or less, and the dielectric loss is 0.002 or less.
式(1)中、nは3〜8の整数を示し、Rはそれぞれ独立して下記のR−1基またはR−2基を示しかつ少なくとも一つがR−2基である。
R−1基:炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数が6〜20のアリールオキシ基。
R−2基:下記の式(2)で示される置換アリールオキシ基。
In formula (1), n shows the integer of 3-8, R shows the following R-1 group or R-2 group each independently, and at least one is R-2 group.
R-1 group: An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms in which at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.
R-2 group: a substituted aryloxy group represented by the following formula (2).
式(2)中、R1は単結合、酸素原子、硫黄原子、メチレン基、オキシメチレン基またはスルホニル基を示し、R2はモル体積当たりのモル分極が0.4以下の水素原子または特性基を示し、R3はそれぞれ独立して水素原子、炭素数が1〜6のアルキル基若しくはアルケニル基または置換基を有していてもよい炭素数が6〜10のアリール基を示し、pおよびqはそれぞれ独立して1〜4の整数を示し、rは0または1を示す。但し、rが0のときのR2は水素原子またはメチル基とはならない。 In the formula (2), R 1 represents a single bond, an oxygen atom, a sulfur atom, a methylene group, an oxymethylene group or a sulfonyl group, and R 2 represents a hydrogen atom or a characteristic group having a molar polarization per molar volume of 0.4 or less. Each of R 3 independently represents a hydrogen atom, an alkyl or alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms which may have a substituent, p and q Each independently represents an integer of 1 to 4, and r represents 0 or 1. However, R 2 when r is 0 is not a hydrogen atom or a methyl group.
本発明において用いられるアリールオキシ環状ホスファゼン化合物は、通常、式(1)のnが3若しくは4のもの、または、式(1)のnが3のものと4のものとを重量比率で95%以上含むアリールオキシ環状ホスファゼン化合物混合物である。 The aryloxy cyclic phosphazene compound used in the present invention is usually 95% by weight in which n in the formula (1) is 3 or 4 or n in the formula (1) is 3 and 4 An aryloxy cyclic phosphazene compound mixture containing the above.
また、本発明において用いられるアリールオキシ環状ホスファゼン化合物は、酸価が0.05mgKOH/g以下のものが好ましい。 The aryloxy cyclic phosphazene compound used in the present invention preferably has an acid value of 0.05 mgKOH / g or less.
さらに、本発明において用いられるアリールオキシ環状ホスファゼン化合物は、カールフィッシャー法により測定した含有水分量が100mg/kg以下のものが好ましい。 Furthermore, the aryloxy cyclic phosphazene compound used in the present invention preferably has a water content of 100 mg / kg or less as measured by the Karl Fischer method.
本発明において用いられる樹脂成分は、例えば、ポリアリレート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ビスマレイミド樹脂、ポリフェニルスルホン樹脂、ポリフタルアミド樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、シアン酸エステル樹脂、ビスマレイミド−シアン酸エステル樹脂、スチレン−ブタジエン樹脂、スチレン−マレイン酸樹脂およびそれらの変性樹脂からなる群から選ばれたものである。 The resin component used in the present invention includes, for example, polyarylate resin, polyamide resin, polyamideimide resin, polyetherimide resin, polyethersulfone resin, polyimide resin, polyetheretherketone resin, polyphenylene ether resin, bismaleimide resin, It is selected from the group consisting of phenyl sulfone resin, polyphthalamide resin, polyphenylene sulfide resin, cyanate ester resin, bismaleimide-cyanate ester resin, styrene-butadiene resin, styrene-maleic acid resin and their modified resins. is there.
本発明の一形態において用いられるアリールオキシ環状ホスファゼン化合物は、式(2)中のR2としてモル体積当たりのモル分極が0.4以下の重合反応性特性基を有するものである。この形態に係る本発明の難燃性樹脂組成物は、アリールオキシ環状ホスファゼン化合物の重合反応性特性基と重合反応可能な重合性材料をさらに含んでいてもよい。この形態の難燃性樹脂組成物は、アリールオキシ環状ホスファゼン化合物として重合反応性特性基がアルケニル基のものを用い、重合性材料としてビニル系化合物、ビニリデン系化合物、ジエン化合物、アクリル系化合物、エポキシ系化合物並びにラクトン、ラクタムおよび環状エーテルからなる群から選択された環状化合物からなる群から選ばれた少なくとも一つのものを用いたものが好ましい。 The aryloxy cyclic phosphazene compound used in one embodiment of the present invention has a polymerization-reactive characteristic group having a molar polarization per molar volume of 0.4 or less as R 2 in the formula (2). The flame retardant resin composition of the present invention according to this embodiment may further contain a polymerizable material capable of undergoing a polymerization reaction with the polymerizable reactive characteristic group of the aryloxy cyclic phosphazene compound. The flame retardant resin composition of this form uses an aryloxy cyclic phosphazene compound having an alkenyl group as the polymerizable reactive characteristic group, and a vinyl compound, vinylidene compound, diene compound, acrylic compound, epoxy as the polymerizable material. A compound using at least one selected from the group consisting of a series compound and a cyclic compound selected from the group consisting of lactones, lactams and cyclic ethers is preferred.
他の観点に係る本発明は、樹脂成形体に関するものであり、この樹脂成形体は、本発明の難燃性樹脂組成物からなる。 This invention which concerns on another viewpoint is related with the resin molding, and this resin molding consists of the flame-retardant resin composition of this invention.
さらに他の観点に係る本発明は、電気・電子部品に関するものであり、この電気・電子部品は、本発明の樹脂成形体を含む。 The present invention according to still another aspect relates to an electric / electronic component, and the electric / electronic component includes the resin molded body of the present invention.
本発明に係る難燃性樹脂組成物は、特定のアリールオキシ環状ホスファゼン化合物を用いていることから、良好な誘電特性を示すとともに難燃性および熱安定性に優れた樹脂成形体を形成可能である。 Since the flame-retardant resin composition according to the present invention uses a specific aryloxy cyclic phosphazene compound, it is possible to form a resin molded article that exhibits good dielectric properties and is excellent in flame retardancy and thermal stability. is there.
本発明に係る樹脂成形体は、本発明の難燃性樹脂組成物からなるため、良好な誘電特性を示すとともに難燃性および熱安定性に優れている。 Since the resin molded body according to the present invention is composed of the flame retardant resin composition of the present invention, it exhibits good dielectric properties and is excellent in flame retardancy and thermal stability.
本発明に係る電気・電子部品は、本発明の樹脂成形体を含むものであることから、良好な誘電特性を示すとともに難燃性および熱安定性に優れている。 Since the electrical / electronic component according to the present invention includes the resin molded body of the present invention, it exhibits good dielectric properties and is excellent in flame retardancy and thermal stability.
本発明の難燃性樹脂組成物は、特定のアリールオキシ環状ホスファゼン化合物と樹脂成分とを含む。 The flame retardant resin composition of the present invention contains a specific aryloxy cyclic phosphazene compound and a resin component.
本発明の組成物において用いられるアリールオキシ環状ホスファゼン化合物の構造は、下記の式(1)で表される。 The structure of the aryloxy cyclic phosphazene compound used in the composition of the present invention is represented by the following formula (1).
式(1)中、nは3〜8の整数を示す。したがって、式(1)で表されるアリールオキシ環状ホスファゼン化合物は、nが3であるアリールオキシシクロトリホスファゼン化合物(3量体)、nが4であるアリールオキシシクロテトラホスファゼン化合物(4量体)、nが5であるアリールオキシシクロペンタホスファゼン化合物(5量体)、nが6であるアリールオキシシクロヘキサホスファゼン化合物(6量体)、nが7であるアリールオキシシクロヘプタホスファゼン化合物(7量体)またはnが8であるアリールオキシシクロオクタホスファゼン化合物(8量体)である。 In formula (1), n shows the integer of 3-8. Therefore, the aryloxy cyclic phosphazene compound represented by the formula (1) includes an aryloxycyclotriphosphazene compound (trimer) in which n is 3 and an aryloxycyclotetraphosphazene compound (tetramer) in which n is 4 , N is 5 aryloxycyclopentaphosphazene compound (pentamer), n is 6 aryloxycyclohexaphosphazene compound (hexamer), n is 7 aryloxycycloheptaphosphazene compound (7mer) Or an aryloxycyclooctaphosphazene compound (octamer) in which n is 8.
これらのアリールオキシ環状ホスファゼン化合物は、nが小さいものの方が本発明の組成物に用いられた場合において誘電特性の優れた樹脂成形体を実現しやすいことから、nが3から6の整数のものが好ましく、nが3若しくは4のものが特に好ましい。また、アリールオキシ環状ホスファゼン化合物は、nが異なる二種以上のものの混合物であってもよいが、この混合物は、nが小さいアリールオキシ環状ホスファゼン化合物の含有量の多いものの方が本発明の組成物に用いられた場合において、誘電特性の優れた樹脂成形体を実現しやすい。したがって、nが異なるアリールオキシ環状ホスファゼン化合物の混合物としては、nが3から6の環状ホスファゼン化合物を重量比率で95%以上含む混合物が好ましく、nが3および4の環状ホスファゼン化合物を重量比率で95%以上含む混合物が特に好ましい。 When these aryloxy cyclic phosphazene compounds are used in the composition of the present invention, those having a small n are easy to realize a resin molded article having excellent dielectric properties. And those having n of 3 or 4 are particularly preferred. In addition, the aryloxy cyclic phosphazene compound may be a mixture of two or more kinds having different n, but this mixture has a higher content of the aryloxy cyclic phosphazene compound having a small n. When used in the above, it is easy to realize a resin molded article having excellent dielectric characteristics. Accordingly, the mixture of aryloxy cyclic phosphazene compounds having different n is preferably a mixture containing 95% or more by weight of cyclic phosphazene compounds having n of 3 to 6, and 95% by weight of cyclic phosphazene compounds having n of 3 and 4. A mixture containing at least% is particularly preferred.
式(1)中のRは、下記のR−1基またはR−2基を示し、少なくとも一つがR−2基である。 R in Formula (1) represents the following R-1 group or R-2 group, at least one of which is an R-2 group.
R−1基:
炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数が6〜20のアリールオキシ基。
R-1 group:
An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms, wherein at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.
このようなアリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、エチルメチルフェノキシ基、ジエチルフェノキシ基、n−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、イソプロピルメチルフェノキシ基、イソプロピルエチルフェノキシ基、ジイソプロピルフェノキシ基、n−ブチルフェノキシ基、sec−ブチルフェノキシ基、tert−ブチルフェノキシ基、n−ペンチルフェノキシ基、n−ヘキシルフェノキシ基、メトキシフェノキシ基、エトキシフェノキシ基、n−プロポキシフェノキシ基、iso−プロポキシフェノキシ基、n−ブトキシフェノキシ基、tert−ブトキシフェノキシ基、4−メトキシ−3−メチルフェノキシ基、4−エトキシ−3−メチルフェノキシ基、4−n−プロポキシフェノキシ基、4−iso−プロポキシ−3−メチルフェノキシ基、4−n−ブトキシ−3−メチルフェノキシ基、4−tert−ブトキシ−3−メチルフェノキシ基、フェニルフェノキシ基、ナフチルオキシ基、アントリルオキシ基およびフェナントリルオキシ基等を挙げることができる。このうち、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基、ジエチルフェノキシ基、メトキシフェノキシ基、フェニルフェノキシ基およびナフチルオキシ基が好ましく、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基およびナフチルオキシ基が特に好ましい。 Examples of such aryloxy groups include phenoxy group, methylphenoxy group, dimethylphenoxy group, ethylphenoxy group, ethylmethylphenoxy group, diethylphenoxy group, n-propylphenoxy group, isopropylphenoxy group, isopropylmethylphenoxy group, Isopropylethylphenoxy group, diisopropylphenoxy group, n-butylphenoxy group, sec-butylphenoxy group, tert-butylphenoxy group, n-pentylphenoxy group, n-hexylphenoxy group, methoxyphenoxy group, ethoxyphenoxy group, n-propoxy group Phenoxy group, iso-propoxyphenoxy group, n-butoxyphenoxy group, tert-butoxyphenoxy group, 4-methoxy-3-methylphenoxy group, 4-ethoxy-3-methyl Ruphenoxy group, 4-n-propoxyphenoxy group, 4-iso-propoxy-3-methylphenoxy group, 4-n-butoxy-3-methylphenoxy group, 4-tert-butoxy-3-methylphenoxy group, phenylphenoxy Group, naphthyloxy group, anthryloxy group, phenanthryloxy group and the like. Of these, phenoxy group, methylphenoxy group, dimethylphenoxy group, diethylphenoxy group, methoxyphenoxy group, phenylphenoxy group and naphthyloxy group are preferable, and phenoxy group, methylphenoxy group, dimethylphenoxy group and naphthyloxy group are particularly preferable.
R−2基:
下記の式(2)で示される置換アリールオキシ基。
R-2 group:
A substituted aryloxy group represented by the following formula (2).
式(2)中、R1は、単結合、酸素原子(O)、硫黄原子(S)、メチレン基(CH2)、オキシメチレン基(OCH2)またはスルホニル基(SO2)を示す。R2は、モル体積当たりのモル分極が0.4以下の水素原子または特性基を示す。R3は、それぞれ独立して水素原子、炭素数が1〜6のアルキル基若しくはアルケニル基または置換基を有していてもよい炭素数が6〜10のアリール基を示す。pおよびqは、それぞれ独立して1〜4の整数を示し、rは0または1を示す。但し、式(2)においてrが0のときのR2は、水素原子またはメチル基とはならない。 In the formula (2), R 1 represents a single bond, an oxygen atom (O), a sulfur atom (S), a methylene group (CH 2 ), an oxymethylene group (OCH 2 ) or a sulfonyl group (SO 2 ). R 2 represents a hydrogen atom or a characteristic group having a molar polarization per molar volume of 0.4 or less. R 3 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group or alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms which may have a substituent. p and q each independently represent an integer of 1 to 4, and r represents 0 or 1. However, when r is 0 in the formula (2), R 2 is not a hydrogen atom or a methyl group.
R2の選択肢であるモル体積当たりのモル分極が0.4以下の特性基(以下、「R2特性基」ということがある。)において、「モル体積当たりのモル分極」は、次のClausius-Mossottiの式により定義される。 Molar polarization 0.4 following characteristics groups per molar volume is an option of R 2 (hereinafter, sometimes referred to as "R 2 Characteristics group".) "Molar polarization per mole volume", the following Clausius -Defined by the Mossotti equation.
式中、PLLはモル分極であり、Vはモル体積である。εはR2特性基を構成する原子団(分子)の比誘電率である。 Where P LL is molar polarization and V is molar volume. ε is a relative dielectric constant of an atomic group (molecule) constituting the R 2 characteristic group.
上記特性基のPLLおよびVは、特性基を構成する原子団のPLLおよびVの和で求められる。本発明の組成物からなる樹脂成形体において低誘電率を実現するためには、R2特性基としてモル体積当たりのモル分極がより小さな原子団のものを用いるのが好ましい。 The above-mentioned characteristic groups P LL and V are obtained by the sum of P LL and V of atomic groups constituting the characteristic group. In order to achieve a low dielectric constant in the resin molded body made of the composition of the present invention, it is preferable to use an atomic group having a smaller molar polarization per molar volume as the R 2 characteristic group.
特性基のモル体積あたりのモル分極の数値および計算の方法は、例えば、次の文献1から4に記載されている。 The numerical value of molar polarization per molar volume of the characteristic group and the calculation method are described in, for example, the following documents 1 to 4.
文献1:高分子電気物性、金丸競著、共立出版社
文献2:電子材料、31[10]84−87(1992)
文献3:サーキットテクノロジ、 Vol8、 No.2(1993)
文献4:Properties of Polymers、D.W. Van Krevelen著、2009年刊、Elsevier社
Reference 1: Electrical properties of polymer, Kanamaru K., Kyoritsu Publishing Co., Ltd. Reference 2: Electronic materials, 31 [10] 84-87 (1992)
Reference 3: Circuit Technology, Vol8, No. 2 (1993)
Reference 4: Properties of Polymers, D.M. W. Van Krevelen, 2009, Elsevier
R2特性基は、重合活性等の反応性を持たない非反応型のものと、重合活性の反応性を有する反応型のものとに分類することができる。 The R 2 characteristic group can be classified into a non-reactive type having no reactivity such as polymerization activity and a reactive type having a polymerization activity reactivity.
非反応型のR2特性基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基およびn−ブチル基などのアルキル基、フルオロ基、モノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基およびヘプタフルオロプロピル基などのフルオロアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基およびn−ブトキシ基などのアルコキシ基、並びに、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基およびブチルチオ基などのアルキルチオ基を挙げることができるが、モル体積あたりのモル分極率が0.4以下の条件を満足するものであれば、これらに限定されるものではない。 Non-reactive R 2 characteristic groups include, for example, alkyl groups such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group and n-butyl group, fluoro group, monofluoromethyl group, difluoromethyl group, trifluoro group. Fluoroalkyl groups such as methyl group, pentafluoroethyl group and heptafluoropropyl group, alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group and n-butoxy group, and methylthio group, ethylthio group, Examples thereof include alkylthio groups such as propylthio group, isopropylthio group and butylthio group, but are not limited to these as long as the molar polarizability per molar volume satisfies the condition of 0.4 or less. .
反応型のR2特性基としては、例えば、エテニル基、メチルエテニル基、エチルエテニル基、プロピルエテニル基、イソプロピルエテニル基、ブチルエテニル基、1−プロぺニル基およびアリル基等のアルケニル基、並びに、メトキシエテニル基、エトキシエテニル基、プロポキシエテニル基、イソプロポキシエテニル基およびブトキシエテニル基等のアルコキシエテニル基を挙げることができるが、モル体積あたりのモル分極率が0.4以下の条件を満足するものであれば、これらに限定されるものではない。反応型のR2特性基として好ましいものは、反応性が良好なことからエテニル基、メチルエテニル基およびエチルエテニル基である。 Examples of the reactive R 2 characteristic group include alkenyl groups such as ethenyl group, methylethenyl group, ethylethenyl group, propylethenyl group, isopropylethenyl group, butylethenyl group, 1-propenyl group and allyl group, and Examples thereof include alkoxyethenyl groups such as methoxyethenyl group, ethoxyethenyl group, propoxyethenyl group, isopropoxyethenyl group and butoxyethenyl group, provided that the molar polarizability per molar volume is 0.4 or less. However, the present invention is not limited to these as long as the above is satisfied. Preferred as the reactive R 2 characteristic group are ethenyl group, methylethenyl group and ethylethenyl group because of good reactivity.
R2が水素であるR−2基の具体例としては、フェニルフェノキシ基、フェノキシフェノキシ基およびベンジルフェノキシ基を挙げることができる。 Specific examples of the R-2 group in which R 2 is hydrogen include a phenylphenoxy group, a phenoxyphenoxy group, and a benzylphenoxy group.
R2が非反応型の特性基であるR−2基の具体例としては、4−メチルフェニルフェノキシ基、3−メチルフェニルフェノキシ基、2−メチルフェニルフェノキシ基、4−エチルフェニルフェノキシ基、3−エチルフェニルフェノキシ基、2−エチルフェニルフェノキシ基、4−(n−プロピル)フェニルフェノキシ基、3−(n−プロピル)フェニルフェノキシ基、2−(n−プロピル)フェニルフェノキシ基、4−イソプロピルフェニルフェノキシ基、3−イソプロピルフェニルフェノキシ基、2−イソプロピルフェニルフェノキシ基、4−(n−ブチル)フェニルフェノキシ基、3−(n−ブチル)フェニルフェノキシ基、2−(n−ブチル)フェニルフェノキシ基、4−フルオロフェニルフェノキシ基、3−フルオロフェニルフェノキシ基、2−フルオロフェニルフェノキシ基、4−(モノフルオロメチル)フェニルフェノキシ基、3−(モノフルオロメチル)フェニルフェノキシ基、2−(モノフルオロメチル)フェニルフェノキシ基、4−(ジフルオロメチル)フェニルフェノキシ基、3−(ジフルオロメチル)フェニルフェノキシ基、2−(ジフルオロメチル)フェニルフェノキシ基、4−(トリフルオロメチル)フェニルフェノキシ基、3−(トリフルオロメチル)フェニルフェノキシ基、2−(トリフルオロメチル)フェニルフェノキシ基、4−(ペンタフルオロエチル)フェニルフェノキシ基、3−(ペンタフルオロエチル)フェニルフェノキシ基、2−(ペンタフルオロエチル)フェニルフェノキシ基、4−(ヘプタフルオロプロピル)フェニルフェノキシ基、3−(ヘプタフルオロプロピル)フェニルフェノキシ基、2−(ヘプタフルオロプロピル)フェニルフェノキシ基、4−メトキシフェニルフェノキシ基、3−メトキシフェニルフェノキシ基、2−メトキシフェニルフェノキシ基、4−エトキシフェニルフェノキシ基、3−エトキシフェニルフェノキシ基、2−エトキシフェニルフェノキシ基、4−(n−プロポキシ)フェニルフェノキシ基、3−(n−プロポキシ)フェニルフェノキシ基、2−(n−プロポキシ)フェニルフェノキシ基、4−(イソプロポキシ)フェニルフェノキシ基、3−(イソプロポキシ)フェニルフェノキシ基、2−(イソプロポキシ)フェニルフェノキシ基、4−(n−ブトキシ)フェニルフェノキシ基、3−(n−ブトキシ)フェニルフェノキシ基、2−(n−ブトキシ)フェニルフェノキシ基、4−メチルチオフェニルフェノキシ基、3−メチルチオフェニルフェノキシ基、2−メチルチオフェニルフェノキシ基、4−エチルチオフェニルフェノキシ基、3−エチルチオフェニルフェノキシ基、2−エチルチオフェニルフェノキシ基、4−(n−プロピルチオ)フェニルフェノキシ基、3−(n−プロピルチオ)フェニルフェノキシ基、2−(n−プロピルチオ)フェニルフェノキシ基、4−(イソプロピルチオ)フェニルフェノキシ基、3−(イソプロピルチオ)フェニルフェノキシ基、2−(イソプロピルチオ)フェニルフェノキシ基、4−(n−ブチルチオ)フェニルフェノキシ基、3−(n−ブチルチオ)フェニルフェノキシ基、2−(n−ブチルチオ)フェニルフェノキシ基、4−メチルフェノキシフェノキシ基、3−メチルフェノキシフェノキシ基、2−メチルフェノキシフェノキシ基、4−エチルフェノキシフェノキシ基、3−エチルフェノキシフェノキシ基、2−エチルフェノキシフェノキシ基、4−(n−プロピル)フェノキシフェノキシ基、3−(n−プロピル)フェノキシフェノキシ基、2−(n−プロピル)フェノキシフェノキシ基、4−イソプロピルフェノキシフェノキシ基、3−イソプロピルフェノキシフェノキシ基、2−イソプロピルフェノキシフェノキシ基、4−(n−ブチル)フェノキシフェノキシ基、3−(n−ブチル)フェノキシフェノキシ基、2−(n−ブチル)フェノキシフェノキシ基、4−フルオロフェノキシフェノキシ基、3−フルオロフェノキシフェノキシ基、2−フルオロフェノキシフェノキシ基、4−(モノフルオロメチル)フェノキシフェノキシ基、3−(モノフルオロメチル)フェノキシフェノキシ基、2−(モノフルオロメチル)フェノキシフェノキシ基、4−(ジフルオロメチル)フェノキシフェノキシ基、3−(ジフルオロメチル)フェノキシフェノキシ基、2−(ジフルオロメチル)フェノキシフェノキシ基、4−(トリフルオロメチル)フェノキシフェノキシ基、3−(トリフルオロメチル)フェノキシフェノキシ基、2−(トリフルオロメチル)フェノキシフェノキシ基、4−(ペンタフルオロエチル)フェノキシフェノキシ基、3−(ペンタフルオロエチル)フェノキシフェノキシ基、2−(ペンタフルオロエチル)フェノキシフェノキシ基、4−(ヘプタフルオロプロピル)フェノキシフェノキシ基、3−(ヘプタフルオロプロピル)フェノキシフェノキシ基、2−(ヘプタフルオロプロピル)フェノキシフェノキシ基、4−メトキシフェノキシフェノキシ基、3−メトキシフェノキシフェノキシ基、2−メトキシフェノキシフェノキシ基、4−エトキシフェノキシフェノキシ基、3−エトキシフェノキシフェノキシ基、2−エトキシフェノキシフェノキシ基、4−(n−プロポキシ)フェノキシフェノキシ基、3−(n−プロポキシ)フェノキシフェノキシ基、2−(n−プロポキシ)フェノキシフェノキシ基、4−(イソプロポキシ)フェノキシフェノキシ基、3−(イソプロポキシ)フェノキシフェノキシ基、2−(イソプロポキシ)フェノキシフェノキシ基、4−(n−ブトキシ)フェノキシフェノキシ基、3−(n−ブトキシ)フェノキシフェノキシ基、2−(n−ブトキシ)フェノキシフェノキシ基、4−メチルチオフェノキシフェノキシ基、3−メチルチオフェノキシフェノキシ基、2−メチルチオフェノキシフェノキシ基、4−エチルチオフェノキシフェノキシ基、3−エチルチオフェノキシフェノキシ基、2−エチルチオフェノキシフェノキシ基、4−(n−プロピルチオ)フェノキシフェノキシ基、3−(n−プロピルチオ)フェノキシフェノキシ基、2−(n−プロピルチオ)フェノキシフェノキシ基、4−(イソプロピルチオ)フェノキシフェノキシ基、3−(イソプロピルチオ)フェノキシフェノキシ基、2−(イソプロピルチオ)フェノキシフェノキシ基、4−(n−ブチルチオ)フェノキシフェノキシ基、3−(n−ブチルチオ)フェノキシフェノキシ基、2−(n−ブチルチオ)フェノキシフェノキシ基、4−メチルベンジルフェノキシ基、3−メチルベンジルフェノキシ基、2−メチルベンジルフェノキシ基、4−エチルベンジルフェノキシ基、3−エチルベンジルフェノキシ基、2−エチルベンジルフェノキシ基、4−(n−プロピル)ベンジルフェノキシ基、3−(n−プロピル)ベンジルフェノキシ基、2−(n−プロピル)ベンジルフェノキシ基、4−イソプロピルベンジルフェノキシ基、3−イソプロピルベンジルフェノキシ基、2−イソプロピルベンジルフェノキシ基、4−(n−ブチル)ベンジルフェノキシ基、3−(n−ブチル)ベンジルフェノキシ基、2−(n−ブチル)ベンジルフェノキシ基、4−フルオロベンジルフェノキシ基、3−フルオロベンジルフェノキシ基、2−フルオロベンジルフェノキシ基、4−(モノフルオロメチル)ベンジルフェノキシ基、3−(モノフルオロメチル)ベンジルフェノキシ基、2−(モノフルオロメチル)ベンジルフェノキシ基、4−(ジフルオロメチル)ベンジルフェノキシ基、3−(ジフルオロメチル)ベンジルフェノキシ基、2−(ジフルオロメチル)ベンジルフェノキシ基、4−(トリフルオロメチル)ベンジルフェノキシ基、3−(トリフルオロメチル)ベンジルフェノキシ基、2−(トリフルオロメチル)ベンジルフェノキシ基、4−(ペンタフルオロエチル)ベンジルフェノキシ基、3−(ペンタフルオロエチル)ベンジルフェノキシ基、2−(ペンタフルオロエチル)ベンジルフェノキシ基、4−(ヘプタフルオロプロピル)ベンジルフェノキシ基、3−(ヘプタフルオロプロピル)ベンジルフェノキシ基、2−(ヘプタフルオロプロピル)ベンジルフェノキシ基、4−メトキシベンジルフェノキシ基、3−メトキシベンジルフェノキシ基、2−メトキシベンジルフェノキシ基、4−エトキシベンジルフェノキシ基、3−エトキシベンジルフェノキシ基、2−エトキシベンジルフェノキシ基、4−(n−プロポキシ)ベンジルフェノキシ基、3−(n−プロポキシ)ベンジルフェノキシ基、2−(n−プロポキシ)ベンジルフェノキシ基、4−(イソプロポキシ)ベンジルフェノキシ基、3−(イソプロポキシ)ベンジルフェノキシ基、2−(イソプロポキシ)ベンジルフェノキシ基、4−(n−ブトキシ)ベンジルフェノキシ基、3−(n−ブトキシ)ベンジルフェノキシ基、2−(n−ブトキシ)ベンジルフェノキシ基、4−メチルチオベンジルフェノキシ基、3−メチルチオベンジルフェノキシ基、2−メチルチオベンジルフェノキシ基、4−エチルチオベンジルフェノキシ基、3−エチルチオベンジルフェノキシ基、2−エチルチオベンジルフェノキシ基、4−(n−プロピルチオ)ベンジルフェノキシ基、3−(n−プロピルチオ)ベンジルフェノキシ基、2−(n−プロピルチオ)ベンジルフェノキシ基、4−(イソプロピルチオ)ベンジルフェノキシ基、3−(イソプロピルチオ)ベンジルフェノキシ基、2−(イソプロピルチオ)ベンジルフェノキシ基、4−(n−ブチルチオ)ベンジルフェノキシ基、3−(n−ブチルチオ)ベンジルフェノキシ基および2−(n−ブチルチオ)ベンジルフェノキシ基を挙げることができる。 Specific examples of the R-2 group in which R 2 is a non-reactive characteristic group include 4-methylphenylphenoxy group, 3-methylphenylphenoxy group, 2-methylphenylphenoxy group, 4-ethylphenylphenoxy group, 3 -Ethylphenylphenoxy group, 2-ethylphenylphenoxy group, 4- (n-propyl) phenylphenoxy group, 3- (n-propyl) phenylphenoxy group, 2- (n-propyl) phenylphenoxy group, 4-isopropylphenyl Phenoxy group, 3-isopropylphenylphenoxy group, 2-isopropylphenylphenoxy group, 4- (n-butyl) phenylphenoxy group, 3- (n-butyl) phenylphenoxy group, 2- (n-butyl) phenylphenoxy group, 4-fluorophenylphenoxy group, 3-fluorophenylpheno group Xyl group, 2-fluorophenylphenoxy group, 4- (monofluoromethyl) phenylphenoxy group, 3- (monofluoromethyl) phenylphenoxy group, 2- (monofluoromethyl) phenylphenoxy group, 4- (difluoromethyl) phenyl Phenoxy group, 3- (difluoromethyl) phenylphenoxy group, 2- (difluoromethyl) phenylphenoxy group, 4- (trifluoromethyl) phenylphenoxy group, 3- (trifluoromethyl) phenylphenoxy group, 2- (trifluoro Methyl) phenylphenoxy group, 4- (pentafluoroethyl) phenylphenoxy group, 3- (pentafluoroethyl) phenylphenoxy group, 2- (pentafluoroethyl) phenylphenoxy group, 4- (heptafluoropropyl) phenylphenoxy 3- (heptafluoropropyl) phenylphenoxy group, 2- (heptafluoropropyl) phenylphenoxy group, 4-methoxyphenylphenoxy group, 3-methoxyphenylphenoxy group, 2-methoxyphenylphenoxy group, 4-ethoxyphenylphenoxy group 3-ethoxyphenylphenoxy group, 2-ethoxyphenylphenoxy group, 4- (n-propoxy) phenylphenoxy group, 3- (n-propoxy) phenylphenoxy group, 2- (n-propoxy) phenylphenoxy group, 4- (Isopropoxy) phenylphenoxy group, 3- (isopropoxy) phenylphenoxy group, 2- (isopropoxy) phenylphenoxy group, 4- (n-butoxy) phenylphenoxy group, 3- (n-butoxy) phenylphenoxy group, 2- ( -Butoxy) phenylphenoxy group, 4-methylthiophenylphenoxy group, 3-methylthiophenylphenoxy group, 2-methylthiophenylphenoxy group, 4-ethylthiophenylphenoxy group, 3-ethylthiophenylphenoxy group, 2-ethylthiophenylphenoxy group Group, 4- (n-propylthio) phenylphenoxy group, 3- (n-propylthio) phenylphenoxy group, 2- (n-propylthio) phenylphenoxy group, 4- (isopropylthio) phenylphenoxy group, 3- (isopropylthio) ) Phenylphenoxy group, 2- (isopropylthio) phenylphenoxy group, 4- (n-butylthio) phenylphenoxy group, 3- (n-butylthio) phenylphenoxy group, 2- (n-butylthio) phenylphenoxy group, 4- Mechi Ruphenoxyphenoxy group, 3-methylphenoxyphenoxy group, 2-methylphenoxyphenoxy group, 4-ethylphenoxyphenoxy group, 3-ethylphenoxyphenoxy group, 2-ethylphenoxyphenoxy group, 4- (n-propyl) phenoxyphenoxy group 3- (n-propyl) phenoxyphenoxy group, 2- (n-propyl) phenoxyphenoxy group, 4-isopropylphenoxyphenoxy group, 3-isopropylphenoxyphenoxy group, 2-isopropylphenoxyphenoxy group, 4- (n-butyl) ) Phenoxyphenoxy group, 3- (n-butyl) phenoxyphenoxy group, 2- (n-butyl) phenoxyphenoxy group, 4-fluorophenoxyphenoxy group, 3-fluorophenoxyphenoxy group, 2-fluorophenoxy group Phenoxy group, 4- (monofluoromethyl) phenoxyphenoxy group, 3- (monofluoromethyl) phenoxyphenoxy group, 2- (monofluoromethyl) phenoxyphenoxy group, 4- (difluoromethyl) phenoxyphenoxy group, 3- (difluoro Methyl) phenoxyphenoxy group, 2- (difluoromethyl) phenoxyphenoxy group, 4- (trifluoromethyl) phenoxyphenoxy group, 3- (trifluoromethyl) phenoxyphenoxy group, 2- (trifluoromethyl) phenoxyphenoxy group, 4 -(Pentafluoroethyl) phenoxyphenoxy group, 3- (pentafluoroethyl) phenoxyphenoxy group, 2- (pentafluoroethyl) phenoxyphenoxy group, 4- (heptafluoropropyl) phenoxyphenoxy group 3- (heptafluoropropyl) phenoxyphenoxy group, 2- (heptafluoropropyl) phenoxyphenoxy group, 4-methoxyphenoxyphenoxy group, 3-methoxyphenoxyphenoxy group, 2-methoxyphenoxyphenoxy group, 4-ethoxyphenoxyphenoxy group 3-ethoxyphenoxyphenoxy group, 2-ethoxyphenoxyphenoxy group, 4- (n-propoxy) phenoxyphenoxy group, 3- (n-propoxy) phenoxyphenoxy group, 2- (n-propoxy) phenoxyphenoxy group, 4- (Isopropoxy) phenoxyphenoxy group, 3- (isopropoxy) phenoxyphenoxy group, 2- (isopropoxy) phenoxyphenoxy group, 4- (n-butoxy) phenoxyphenoxy group, 3- (n-butoxy) Phenoxyphenoxy group, 2- (n-butoxy) phenoxyphenoxy group, 4-methylthiophenoxyphenoxy group, 3-methylthiophenoxyphenoxy group, 2-methylthiophenoxyphenoxy group, 4-ethylthiophenoxyphenoxy group, 3-ethylthiophenoxyphenoxy group Group, 2-ethylthiophenoxyphenoxy group, 4- (n-propylthio) phenoxyphenoxy group, 3- (n-propylthio) phenoxyphenoxy group, 2- (n-propylthio) phenoxyphenoxy group, 4- (isopropylthio) phenoxy Phenoxy group, 3- (isopropylthio) phenoxyphenoxy group, 2- (isopropylthio) phenoxyphenoxy group, 4- (n-butylthio) phenoxyphenoxy group, 3- (n-butylthio) phenoxyphe Xyl group, 2- (n-butylthio) phenoxyphenoxy group, 4-methylbenzylphenoxy group, 3-methylbenzylphenoxy group, 2-methylbenzylphenoxy group, 4-ethylbenzylphenoxy group, 3-ethylbenzylphenoxy group, 2 -Ethylbenzylphenoxy group, 4- (n-propyl) benzylphenoxy group, 3- (n-propyl) benzylphenoxy group, 2- (n-propyl) benzylphenoxy group, 4-isopropylbenzylphenoxy group, 3-isopropylbenzyl Phenoxy group, 2-isopropylbenzylphenoxy group, 4- (n-butyl) benzylphenoxy group, 3- (n-butyl) benzylphenoxy group, 2- (n-butyl) benzylphenoxy group, 4-fluorobenzylphenoxy group, 3-Fluorobenzyl Fe Xyl group, 2-fluorobenzylphenoxy group, 4- (monofluoromethyl) benzylphenoxy group, 3- (monofluoromethyl) benzylphenoxy group, 2- (monofluoromethyl) benzylphenoxy group, 4- (difluoromethyl) benzyl Phenoxy group, 3- (difluoromethyl) benzylphenoxy group, 2- (difluoromethyl) benzylphenoxy group, 4- (trifluoromethyl) benzylphenoxy group, 3- (trifluoromethyl) benzylphenoxy group, 2- (trifluoro Methyl) benzylphenoxy group, 4- (pentafluoroethyl) benzylphenoxy group, 3- (pentafluoroethyl) benzylphenoxy group, 2- (pentafluoroethyl) benzylphenoxy group, 4- (heptafluoropropyl) benzylphenoxy group Group, 3- (heptafluoropropyl) benzylphenoxy group, 2- (heptafluoropropyl) benzylphenoxy group, 4-methoxybenzylphenoxy group, 3-methoxybenzylphenoxy group, 2-methoxybenzylphenoxy group, 4-ethoxybenzylphenoxy group Group, 3-ethoxybenzylphenoxy group, 2-ethoxybenzylphenoxy group, 4- (n-propoxy) benzylphenoxy group, 3- (n-propoxy) benzylphenoxy group, 2- (n-propoxy) benzylphenoxy group, 4 -(Isopropoxy) benzylphenoxy group, 3- (isopropoxy) benzylphenoxy group, 2- (isopropoxy) benzylphenoxy group, 4- (n-butoxy) benzylphenoxy group, 3- (n-butoxy) benzylphenoxy group , 2- ( -Butoxy) benzylphenoxy group, 4-methylthiobenzylphenoxy group, 3-methylthiobenzylphenoxy group, 2-methylthiobenzylphenoxy group, 4-ethylthiobenzylphenoxy group, 3-ethylthiobenzylphenoxy group, 2-ethylthiobenzylphenoxy group Group, 4- (n-propylthio) benzylphenoxy group, 3- (n-propylthio) benzylphenoxy group, 2- (n-propylthio) benzylphenoxy group, 4- (isopropylthio) benzylphenoxy group, 3- (isopropylthio) ) Benzylphenoxy group, 2- (isopropylthio) benzylphenoxy group, 4- (n-butylthio) benzylphenoxy group, 3- (n-butylthio) benzylphenoxy group and 2- (n-butylthio) benzylphenoxy group. Rukoto can.
R2が反応型の特性基であるR−2基の具体例としては、4−エテニルフェノキシ基、3−エテニルフェノキシ基、2−エテニルフェノキシ基、4−(メチルエテニル)フェノキシ基、3−(メチルエテニル)フェノキシ基、2−(メチルエテニル)フェノキシ基、4−(エチルエテニル)フェノキシ基、3−(エチルエテニル)フェノキシ基、2−(エチルエテニル)フェノキシ基、4−(n−プロピルエテニル)フェノキシ基、3−(n−プロピルエテニル)フェノキシ基、2−(n−プロピルエテニル)フェノキシ基、4−(イソプロピルエテニル)フェノキシ基、3−(イソプロピルエテニル)フェノキシ基、2−(イソプロピルエテニル)フェノキシ基、4−(n−ブチルエテニル)フェノキシ基、3−(n−ブチルエテニル)フェノキシ基、2−(n−ブチルエテニル)フェノキシ基、4−(メトキシエテニル)フェノキシ基、3−(メトキシエテニル)フェノキシ基、2−(メトキシエテニル)フェノキシ基、4−(エトキシエテニル)フェノキシ基、3−(エトキシエテニル)フェノキシ基、2−(エトキシエテニル)フェノキシ基、4−(n−プロポキシエテニル)フェノキシ基、3−(n−プロポキシエテニル)フェノキシ基、2−(n−プロポキシエテニル)フェノキシ基、4−(イソプロポキシエテニル)フェノキシ基、3−(イソプロポキシエテニル)フェノキシ基、2−(イソプロポキシエテニル)フェノキシ基、4−(n−ブトキシエテニル)フェノキシ基、3−(n−ブトキシエテニル)フェノキシ基、2−(n−ブトキシエテニル)フェノキシ基、4−(1−プロぺニル)フェノキシ基、3−(1−プロぺニル)フェノキシ基、2−(1−プロぺニル)フェノキシ基、4−エテニルフェニルフェノキシ基、3−エテニルフェニルフェノキシ基、2−エテニルフェニルフェノキシ基、4−(メチルエテニル)フェニルフェノキシ基、3−(メチルエテニル)フェニルフェノキシ基、2−(メチルエテニル)フェニルフェノキシ基、4−(エチルエテニル)フェニルフェノキシ基、3−(エチルエテニル)フェニルフェノキシ基、2−(エチルエテニル)フェニルフェノキシ基、4−(n−プロピルエテニル)フェニルフェノキシ基、3−(n−プロピルエテニル)フェニルフェノキシ基、2−(n−プロピルエテニル)フェニルフェノキシ基、4−(イソプロピルエテニル)フェニルフェノキシ基、3−(イソプロピルエテニル)フェニルフェノキシ基、2−(イソプロピルエテニル)フェニルフェノキシ基、4−(n−ブチルエテニル)フェニルフェノキシ基、3−(n−ブチルエテニル)フェニルフェノキシ基、2−(n−ブチルエテニル)フェニルフェノキシ基、4−(メトキシエテニル)フェニルフェノキシ基、3−(メトキシエテニル)フェニルフェノキシ基、2−(メトキシエテニル)フェニルフェノキシ基、4−(エトキシエテニル)フェニルフェノキシ基、3−(エトキシエテニル)フェニルフェノキシ基、2−(エトキシエテニル)フェニルフェノキシ基、4−(n−プロポキシエテニル)フェニルフェノキシ基、3−(n−プロポキシエテニル)フェニルフェノキシ基、2−(n−プロポキシエテニル)フェニルフェノキシ基、4−(イソプロポキシエテニル)フェニルフェノキシ基、3−(イソプロポキシエテニル)フェニルフェノキシ基、2−(イソプロポキシエテニル)フェニルフェノキシ基、4−(n−ブトキシエテニル)フェニルフェノキシ基、3−(n−ブトキシエテニル)フェニルフェノキシ基、2−(n−ブトキシエテニル)フェニルフェノキシ基、4−(1−プロペニル)フェニルフェノキシ基、3−(1−プロペニル)フェニルフェノキシ基、2−(1−プロペニル)フェニルフェノキシ基、4−エテニルフェノキシフェノキシ基、3−エテニルフェノキシフェノキシ基、2−エテニルフェノキシフェノキシ基、4−(メチルエテニル)フェノキシフェノキシ基、3−(メチルエテニル)フェノキシフェノキシ基、2−(メチルエテニル)フェノキシフェノキシ基、4−(エチルエテニル)フェノキシフェノキシ基、3−(エチルエテニル)フェノキシフェノキシ基、2−(エチルエテニル)フェノキシフェノキシ基、4−(n−プロピルエテニル)フェノキシフェノキシ基、3−(n−プロピルエテニル)フェノキシフェノキシ基、2−(n−プロピルエテニル)フェノキシフェノキシ基、4−(イソプロピルエテニル)フェノキシフェノキシ基、3−(イソプロピルエテニル)フェノキシフェノキシ基、2−(イソプロピルエテニル)フェノキシフェノキシ基、4−(n−ブチルエテニル)フェノキシフェノキシ基、3−(n−ブチルエテニル)フェノキシフェノキシ基、2−(n−ブチルエテニル)フェノキシフェノキシ基、4−(メトキシエテニル)フェノキシフェノキシ基、3−(メトキシエテニル)フェノキシフェノキシ基、2−(メトキシエテニル)フェノキシフェノキシ基、4−(エトキシエテニル)フェノキシフェノキシ基、3−(エトキシエテニル)フェノキシフェノキシ基、2−(エトキシエテニル)フェノキシフェノキシ基、4−(n−プロポキシエテニル)フェノキシフェノキシ基、3−(n−プロポキシエテニル)フェノキシフェノキシ基、2−(n−プロポキシエテニル)フェノキシフェノキシ基、4−(イソプロポキシエテニル)フェノキシフェノキシ基、3−(イソプロポキシエテニル)フェノキシフェノキシ基、2−(イソプロポキシエテニル)フェノキシフェノキシ基、4−(n−ブトキシエテニル)フェノキシフェノキシ基、3−(n−ブトキシエテニル)フェノキシフェノキシ基、2−(n−ブトキシエテニル)フェノキシフェノキシ基、4−(1−プロペニル)フェノキシフェノキシ基、3−(1−プロペニル)フェノキシフェノキシ基、2−(1−プロペニル)フェノキシフェノキシ基、4−エテニルベンジルフェノキシ基、3−エテニルベンジルフェノキシ基、2−エテニルベンジルフェノキシ基、4−(メチルエテニル)ベンジルフェノキシ基、3−(メチルエテニル)ベンジルフェノキシ基、2−(メチルエテニル)ベンジルフェノキシ基、4−(エチルエテニル)ベンジルフェノキシ基、3−(エチルエテニル)ベンジルフェノキシ基、2−(エチルエテニル)ベンジルフェノキシ基、4−(n−プロピルエテニル)ベンジルフェノキシ基、3−(n−プロピルエテニル)ベンジルフェノキシ基、2−(n−プロピルエテニル)ベンジルフェノキシ基、4−(イソプロピルエテニル)ベンジルフェノキシ基、3−(イソプロピルエテニル)ベンジルフェノキシ基、2−(イソプロピルエテニル)ベンジルフェノキシ基、4−(n−ブチルエテニル)ベンジルフェノキシ基、3−(n−ブチルエテニル)ベンジルフェノキシ基、2−(n−ブチルエテニル)ベンジルフェノキシ基、4−(メトキシエテニル)ベンジルフェノキシ基、3−(メトキシエテニル)ベンジルフェノキシ基、2−(メトキシエテニル)ベンジルフェノキシ基、4−(エトキシエテニル)ベンジルフェノキシ基、3−(エトキシエテニル)ベンジルフェノキシ基、2−(エトキシエテニル)ベンジルフェノキシ基、4−(n−プロポキシエテニル)ベンジルフェノキシ基、3−(n−プロポキシエテニル)ベンジルフェノキシ基、2−(n−プロポキシエテニル)ベンジルフェノキシ基、4−(イソプロポキシエテニル)ベンジルフェノキシ基、3−(イソプロポキシエテニル)ベンジルフェノキシ基、2−(イソプロポキシエテニル)ベンジルフェノキシ基、4−(n−ブトキシエテニル)ベンジルフェノキシ基、3−(n−ブトキシエテニル)ベンジルフェノキシ基、2−(n−ブトキシエテニル)ベンジルフェノキシ基、4−(1−プロペニル)ベンジルフェノキシ基、3−(1−プロペニル)ベンジルフェノキシ基および2−(1−プロペニル)ベンジルフェノキシ基を挙げることができる。 Specific examples of the R-2 group in which R 2 is a reactive characteristic group include 4-ethenylphenoxy group, 3-ethenylphenoxy group, 2-ethenylphenoxy group, 4- (methylethenyl) phenoxy group, 3 -(Methylethenyl) phenoxy group, 2- (methylethenyl) phenoxy group, 4- (ethylethenyl) phenoxy group, 3- (ethylethenyl) phenoxy group, 2- (ethylethenyl) phenoxy group, 4- (n-propylethenyl) phenoxy group 3- (n-propylethenyl) phenoxy group, 2- (n-propylethenyl) phenoxy group, 4- (isopropylethenyl) phenoxy group, 3- (isopropylethenyl) phenoxy group, 2- (isopropylethene) Tenenyl) phenoxy, 4- (n-butylethenyl) phenoxy, 3- (n-butylethenyl) Enoxy group, 2- (n-butylethenyl) phenoxy group, 4- (methoxyethenyl) phenoxy group, 3- (methoxyethenyl) phenoxy group, 2- (methoxyethenyl) phenoxy group, 4- (ethoxyethenyl) Phenoxy group, 3- (ethoxyethenyl) phenoxy group, 2- (ethoxyethenyl) phenoxy group, 4- (n-propoxyethenyl) phenoxy group, 3- (n-propoxyethenyl) phenoxy group, 2- ( n-propoxyethenyl) phenoxy group, 4- (isopropoxyethenyl) phenoxy group, 3- (isopropoxyethenyl) phenoxy group, 2- (isopropoxyethenyl) phenoxy group, 4- (n-butoxyethenyl) phenoxy group Group, 3- (n-butoxyethenyl) phenoxy group, 2- (n-butoxyethenyl) phenoxy group 4- (1-propenyl) phenoxy group, 3- (1-propenyl) phenoxy group, 2- (1-propenyl) phenoxy group, 4-ethenylphenylphenoxy group, 3-ethenylphenyl Phenoxy group, 2-ethenylphenylphenoxy group, 4- (methylethenyl) phenylphenoxy group, 3- (methylethenyl) phenylphenoxy group, 2- (methylethenyl) phenylphenoxy group, 4- (ethylethenyl) phenylphenoxy group, 3- ( Ethylethenyl) phenylphenoxy group, 2- (ethylethenyl) phenylphenoxy group, 4- (n-propylethenyl) phenylphenoxy group, 3- (n-propylethenyl) phenylphenoxy group, 2- (n-propylethenyl) Phenylphenoxy group, 4- (isopropylethenyl) phenyl Nonoxy group, 3- (isopropylethenyl) phenylphenoxy group, 2- (isopropylethenyl) phenylphenoxy group, 4- (n-butylethenyl) phenylphenoxy group, 3- (n-butylethenyl) phenylphenoxy group, 2- ( n-butylethenyl) phenylphenoxy group, 4- (methoxyethenyl) phenylphenoxy group, 3- (methoxyethenyl) phenylphenoxy group, 2- (methoxyethenyl) phenylphenoxy group, 4- (ethoxyethenyl) phenylphenoxy group Group, 3- (ethoxyethenyl) phenylphenoxy group, 2- (ethoxyethenyl) phenylphenoxy group, 4- (n-propoxyethenyl) phenylphenoxy group, 3- (n-propoxyethenyl) phenylphenoxy group, 2- (n-propoxyethenyl) fur Enylphenoxy group, 4- (isopropoxyethenyl) phenylphenoxy group, 3- (isopropoxyethenyl) phenylphenoxy group, 2- (isopropoxyethenyl) phenylphenoxy group, 4- (n-butoxyethenyl) phenylphenoxy group , 3- (n-butoxyethenyl) phenylphenoxy group, 2- (n-butoxyethenyl) phenylphenoxy group, 4- (1-propenyl) phenylphenoxy group, 3- (1-propenyl) phenylphenoxy group, 2- (1- Propenyl) phenylphenoxy group, 4-ethenylphenoxyphenoxy group, 3-ethenylphenoxyphenoxy group, 2-ethenylphenoxyphenoxy group, 4- (methylethenyl) phenoxyphenoxy group, 3- (methylethenyl) phenoxyphenoxy group, 2- (Me Ruethenyl) phenoxyphenoxy group, 4- (ethylethenyl) phenoxyphenoxy group, 3- (ethylethenyl) phenoxyphenoxy group, 2- (ethylethenyl) phenoxyphenoxy group, 4- (n-propylethenyl) phenoxyphenoxy group, 3- (n -Propylethenyl) phenoxyphenoxy group, 2- (n-propylethenyl) phenoxyphenoxy group, 4- (isopropylethenyl) phenoxyphenoxy group, 3- (isopropylethenyl) phenoxyphenoxy group, 2- (isopropylethenyl) ) Phenoxyphenoxy group, 4- (n-butylethenyl) phenoxyphenoxy group, 3- (n-butylethenyl) phenoxyphenoxy group, 2- (n-butylethenyl) phenoxyphenoxy group, 4- (methoxyethenyl) phene Xyphenoxy group, 3- (methoxyethenyl) phenoxyphenoxy group, 2- (methoxyethenyl) phenoxyphenoxy group, 4- (ethoxyethenyl) phenoxyphenoxy group, 3- (ethoxyethenyl) phenoxyphenoxy group, 2- (Ethoxyethenyl) phenoxyphenoxy group, 4- (n-propoxyethenyl) phenoxyphenoxy group, 3- (n-propoxyethenyl) phenoxyphenoxy group, 2- (n-propoxyethenyl) phenoxyphenoxy group, 4- (Isopropoxyethenyl) phenoxyphenoxy group, 3- (isopropoxyethenyl) phenoxyphenoxy group, 2- (isopropoxyethenyl) phenoxyphenoxy group, 4- (n-butoxyethenyl) phenoxyphenoxy group, 3- (n- Butoxyethenyl) fe Noxyphenoxy group, 2- (n-butoxyethenyl) phenoxyphenoxy group, 4- (1-propenyl) phenoxyphenoxy group, 3- (1-propenyl) phenoxyphenoxy group, 2- (1-propenyl) phenoxyphenoxy group, 4 -Ethenylbenzylphenoxy group, 3-ethenylbenzylphenoxy group, 2-ethenylbenzylphenoxy group, 4- (methylethenyl) benzylphenoxy group, 3- (methylethenyl) benzylphenoxy group, 2- (methylethenyl) benzylphenoxy group, 4- (ethylethenyl) benzylphenoxy group, 3- (ethylethenyl) benzylphenoxy group, 2- (ethylethenyl) benzylphenoxy group, 4- (n-propylethenyl) benzylphenoxy group, 3- (n-propylethenyl) benzylphenoxy group Xyl group, 2- (n-propylethenyl) benzylphenoxy group, 4- (isopropylethenyl) benzylphenoxy group, 3- (isopropylethenyl) benzylphenoxy group, 2- (isopropylethenyl) benzylphenoxy group, 4 -(N-butylethenyl) benzylphenoxy group, 3- (n-butylethenyl) benzylphenoxy group, 2- (n-butylethenyl) benzylphenoxy group, 4- (methoxyethenyl) benzylphenoxy group, 3- (methoxyethenyl) Benzylphenoxy group, 2- (methoxyethenyl) benzylphenoxy group, 4- (ethoxyethenyl) benzylphenoxy group, 3- (ethoxyethenyl) benzylphenoxy group, 2- (ethoxyethenyl) benzylphenoxy group, 4- (N-propoxyethenyl) benzi Phenoxy group, 3- (n-propoxyethenyl) benzylphenoxy group, 2- (n-propoxyethenyl) benzylphenoxy group, 4- (isopropoxyethenyl) benzylphenoxy group, 3- (isopropoxyethenyl) benzyl Phenoxy group, 2- (isopropoxyethenyl) benzylphenoxy group, 4- (n-butoxyethenyl) benzylphenoxy group, 3- (n-butoxyethenyl) benzylphenoxy group, 2- (n-butoxyethenyl) benzylphenoxy group, 4- Mention may be made of (1-propenyl) benzylphenoxy, 3- (1-propenyl) benzylphenoxy and 2- (1-propenyl) benzylphenoxy.
R−2基として好ましいものとしては、R2が水素である基、特に、フェニルフェノキシ基、フェノキシフェノキシ基およびベンジルフェノキシ基、R2がメチル基、エチル基、フルオロ基、モノフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基およびエトキシ基からなる群から選ばれた非反応型の特性基であるである基、特に、4−メチルフェニルフェノキシ基、3−メチルフェニルフェノキシ基、2−メチルフェニルフェノキシ基、4−エチルフェニルフェノキシ基、3−エチルフェニルフェノキシ基、2−エチルフェニルフェノキシ基、4−フルオロフェニルフェノキシ基、3−フルオロフェニルフェノキシ基、2−フルオロフェニルフェノキシ基、4−(モノフルオロメチル)フェニルフェノキシ基、3−(モノフルオロメチル)フェニルフェノキシ基、2−(モノフルオロメチル)フェニルフェノキシ基、4−(トリフルオロメチル)フェニルフェノキシ基、3−(トリフルオロメチル)フェニルフェノキシ基、2−(トリフルオロメチル)フェニルフェノキシ基、4−メトキシフェニルフェノキシ基、3−メトキシフェニルフェノキシ基、2−メトキシフェニルフェノキシ基、4−エトキシフェニルフェノキシ基、3−エトキシフェニルフェノキシ基、2−エトキシフェニルフェノキシ基、4−メチルフェノキシフェノキシ基、3−メチルフェノキシフェノキシ基、2−メチルフェノキシフェノキシ基、4−エチルフェノキシフェノキシ基、3−エチルフェノキシフェノキシ基、2−エチルフェノキシフェノキシ基、4−フルオロフェノキシフェノキシ基、3−フルオロフェノキシフェノキシ基、2−フルオロフェノキシフェノキシ基、4−(モノフルオロメチル)フェノキシフェノキシ基、3−(モノフルオロメチル)フェノキシフェノキシ基、2−(モノフルオロメチル)フェノキシフェノキシ基、4−(トリフルオロメチル)フェノキシフェノキシ基、3−(トリフルオロメチル)フェノキシフェノキシ基、2−(トリフルオロメチル)フェノキシフェノキシ基、4−メトキシフェノキシフェノキシ基、3−メトキシフェノキシフェノキシ基、2−メトキシフェノキシフェノキシ基、4−エトキシフェノキシフェノキシ基、3−エトキシフェノキシフェノキシ基、2−エトキシフェノキシフェノキシ基、4−メチルベンジルフェノキシ基、3−メチルベンジルフェノキシ基、2−メチルベンジルフェノキシ基、4−エチルベンジルフェノキシ基、3−エチルベンジルフェノキシ基、2−エチルベンジルフェノキシ基、4−フルオロベンジルフェノキシ基、3−フルオロベンジルフェノキシ基、2−フルオロベンジルフェノキシ基、4−(モノフルオロメチル)ベンジルフェノキシ基、3−(モノフルオロメチル)ベンジルフェノキシ基、2−(モノフルオロメチル)ベンジルフェノキシ基、4−(トリフルオロメチル)ベンジルフェノキシ基、3−(トリフルオロメチル)ベンジルフェノキシ基、2−(トリフルオロメチル)ベンジルフェノキシ基、4−メトキシベンジルフェノキシ基、3−メトキシベンジルフェノキシ基、2−メトキシベンジルフェノキシ基、4−エトキシベンジルフェノキシ基、3−エトキシベンジルフェノキシ基および2−エトキシベンジルフェノキシ基、殊に、4−フルオロフェニルフェノキシ基、3−フルオロフェニルフェノキシ基、2−フルオロフェニルフェノキシ基、4−メトキシフェニルフェノキシ基、3−メトキシフェニルフェノキシ基、2−メトキシフェニルフェノキシ基、4−フルオロフェノキシフェノキシ基、3−フルオロフェノキシフェノキシ基、2−フルオロフェノキシフェノキシ基、4−メトキシフェノキシフェノキシ基、3−メトキシフェノキシフェノキシ基、2−メトキシフェノキシフェノキシ基、4−フルオロベンジルフェノキシ基、3−フルオロベンジルフェノキシ基、2−フルオロベンジルフェノキシ基、4−メトキシベンジルフェノキシ基、3−メトキシベンジルフェノキシ基および2−メトキシベンジルフェノキシ基、R2がエテニル基、メチルエテニル基、メトキシエテニル基およびエトキシエテニル基からなる群から選ばれた反応型の特性基であるである基、特に、4−エテニルフェノキシ基、3−エテニルフェノキシ基、2−エテニルフェノキシ基、4−(メチルエテニル)フェノキシ基、3−(メチルエテニル)フェノキシ基、2−(メチルエテニル)フェノキシ基、4−(メトキシエテニル)フェノキシ基、3−(メトキシエテニル)フェノキシ基、2−(メトキシエテニル)フェノキシ基、4−(エトキシエテニル)フェノキシ基、3−(エトキシエテニル)フェノキシ基、2−(エトキシエテニル)フェノキシ基、4−エテニルフェニルフェノキシ基、3−エテニルフェニルフェノキシ基、2−エテニルフェニルフェノキシ基、4−(メチルエテニル)フェニルフェノキシ基、3−(メチルエテニル)フェニルフェノキシ基、2−(メチルエテニル)フェニルフェノキシ基、4−(メトキシエテニル)フェニルフェノキシ基、3−(メトキシエテニル)フェニルフェノキシ基、2−(メトキシエテニル)フェニルフェノキシ基、4−(エトキシエテニル)フェニルフェノキシ基、3−(エトキシエテニル)フェニルフェノキシ基、2−(エトキシエテニル)フェニルフェノキシ基、4−エテニルフェノキシフェノキシ基、3−エテニルフェノキシフェノキシ基、2−エテニルフェノキシフェノキシ基、4−(メチルエテニル)フェノキシフェノキシ基、3−(メチルエテニル)フェノキシフェノキシ基、2−(メチルエテニル)フェノキシフェノキシ基、4−(メトキシエテニル)フェノキシフェノキシ基、3−(メトキシエテニル)フェノキシフェノキシ基、2−(メトキシエテニル)フェノキシフェノキシ基、4−(エトキシエテニル)フェノキシフェノキシ基、3−(エトキシエテニル)フェノキシフェノキシ基、2−(エトキシエテニル)フェノキシフェノキシ基、4−エテニルべンジルフェノキシ基、3−エテニルべンジルフェノキシ基、2−エテニルべンジルフェノキシ基、4−(メチルエテニル)べンジルフェノキシ基、3−(メチルエテニル)べンジルフェノキシ基、2−(メチルエテニル)べンジルフェノキシ基、4−(メトキシエテニル)べンジルフェノキシ基、3−(メトキシエテニル)べンジルフェノキシ基、2−(メトキシエテニル)べンジルフェノキシ基、4−(エトキシエテニル)ベンジルフェノキシ基、3−(エトキシエテニル)ベンジルフェノキシ基および2−(エトキシエテニル)ベンジルフェノキシ基、殊に、4−エテニルフェノキシ基、3−エテニルフェノキシ基、2−エテニルフェノキシ基、4−エテニルフェニルフェノキシ基、3−エテニルフェニルフェノキシ基、2−エテニルフェニルフェノキシ基、4−エテニルフェノキシフェノキシ基、3−エテニルフェノキシフェノキシ基、2−エテニルフェノキシフェノキシ基、4−エテニルベンジルフェノキシ基、3−エテニルベンジルフェノキシ基、2−エテニルベンジルフェノキシ基、4−(メチルエテニル)フェノキシ基、3−(メチルエテニル)フェノキシ基、2−(メチルエテニル)フェノキシ基、4−(メチルエテニル)フェニルフェノキシ基、3−(メチルエテニル)フェニルフェノキシ基、2−(メチルエテニル)フェニルフェノキシ基、4−(メチルエテニル)フェノキシフェノキシ基、3−(メチルエテニル)フェノキシフェノキシ基、2−(メチルエテニル)フェノキシフェノキシ基、4−(メチルエテニル)ベンジルフェノキシ基、3−(メチルエテニル)ベンジルフェノキシ基および2−(メチルエテニル)ベンジルフェノキシ基を挙げることができる。 Preferred as the R-2 group are groups in which R 2 is hydrogen, particularly phenylphenoxy group, phenoxyphenoxy group and benzylphenoxy group, R 2 is methyl group, ethyl group, fluoro group, monofluoromethyl group, Groups that are non-reactive characteristic groups selected from the group consisting of a fluoromethyl group, a methoxy group, and an ethoxy group, in particular, a 4-methylphenylphenoxy group, a 3-methylphenylphenoxy group, and a 2-methylphenylphenoxy group 4-ethylphenylphenoxy group, 3-ethylphenylphenoxy group, 2-ethylphenylphenoxy group, 4-fluorophenylphenoxy group, 3-fluorophenylphenoxy group, 2-fluorophenylphenoxy group, 4- (monofluoromethyl) Phenylphenoxy group, 3- (monofluoromethyl L) phenylphenoxy group, 2- (monofluoromethyl) phenylphenoxy group, 4- (trifluoromethyl) phenylphenoxy group, 3- (trifluoromethyl) phenylphenoxy group, 2- (trifluoromethyl) phenylphenoxy group, 4-methoxyphenylphenoxy group, 3-methoxyphenylphenoxy group, 2-methoxyphenylphenoxy group, 4-ethoxyphenylphenoxy group, 3-ethoxyphenylphenoxy group, 2-ethoxyphenylphenoxy group, 4-methylphenoxyphenoxy group, 3 -Methylphenoxyphenoxy group, 2-methylphenoxyphenoxy group, 4-ethylphenoxyphenoxy group, 3-ethylphenoxyphenoxy group, 2-ethylphenoxyphenoxy group, 4-fluorophenoxyphenoxy group, 3- Fluorophenoxyphenoxy group, 2-fluorophenoxyphenoxy group, 4- (monofluoromethyl) phenoxyphenoxy group, 3- (monofluoromethyl) phenoxyphenoxy group, 2- (monofluoromethyl) phenoxyphenoxy group, 4- (trifluoro Methyl) phenoxyphenoxy group, 3- (trifluoromethyl) phenoxyphenoxy group, 2- (trifluoromethyl) phenoxyphenoxy group, 4-methoxyphenoxyphenoxy group, 3-methoxyphenoxyphenoxy group, 2-methoxyphenoxyphenoxy group, 4 -Ethoxyphenoxyphenoxy group, 3-ethoxyphenoxyphenoxy group, 2-ethoxyphenoxyphenoxy group, 4-methylbenzylphenoxy group, 3-methylbenzylphenoxy group, 2-methylbenzyl Enoxy group, 4-ethylbenzylphenoxy group, 3-ethylbenzylphenoxy group, 2-ethylbenzylphenoxy group, 4-fluorobenzylphenoxy group, 3-fluorobenzylphenoxy group, 2-fluorobenzylphenoxy group, 4- (monofluoro Methyl) benzylphenoxy group, 3- (monofluoromethyl) benzylphenoxy group, 2- (monofluoromethyl) benzylphenoxy group, 4- (trifluoromethyl) benzylphenoxy group, 3- (trifluoromethyl) benzylphenoxy group, 2- (trifluoromethyl) benzylphenoxy group, 4-methoxybenzylphenoxy group, 3-methoxybenzylphenoxy group, 2-methoxybenzylphenoxy group, 4-ethoxybenzylphenoxy group, 3-ethoxybenzylphenoxy group And 2-ethoxybenzylphenoxy group, especially 4-fluorophenylphenoxy group, 3-fluorophenylphenoxy group, 2-fluorophenylphenoxy group, 4-methoxyphenylphenoxy group, 3-methoxyphenylphenoxy group, 2-methoxyphenyl Phenoxy group, 4-fluorophenoxyphenoxy group, 3-fluorophenoxyphenoxy group, 2-fluorophenoxyphenoxy group, 4-methoxyphenoxyphenoxy group, 3-methoxyphenoxyphenoxy group, 2-methoxyphenoxyphenoxy group, 4-fluorobenzylphenoxy group Group, 3-fluorobenzylphenoxy group, 2-fluorobenzylphenoxy group, 4-methoxybenzylphenoxy group, 3-methoxybenzylphenoxy group and 2-methoxybenzylpheno group A group in which R 2 is a reactive characteristic group selected from the group consisting of an ethenyl group, a methylethenyl group, a methoxyethenyl group and an ethoxyethenyl group, in particular, a 4-ethenylphenoxy group, a 3- Ethenylphenoxy group, 2-ethenylphenoxy group, 4- (methylethenyl) phenoxy group, 3- (methylethenyl) phenoxy group, 2- (methylethenyl) phenoxy group, 4- (methoxyethenyl) phenoxy group, 3- (methoxy Ethenyl) phenoxy group, 2- (methoxyethenyl) phenoxy group, 4- (ethoxyethenyl) phenoxy group, 3- (ethoxyethenyl) phenoxy group, 2- (ethoxyethenyl) phenoxy group, 4-ethenyl Phenylphenoxy group, 3-ethenylphenylphenoxy group, 2-ethenylphenylphenoxy group, 4- ( Methylethenyl) phenylphenoxy group, 3- (methylethenyl) phenylphenoxy group, 2- (methylethenyl) phenylphenoxy group, 4- (methoxyethenyl) phenylphenoxy group, 3- (methoxyethenyl) phenylphenoxy group, 2- (methoxy) Ethenyl) phenylphenoxy group, 4- (ethoxyethenyl) phenylphenoxy group, 3- (ethoxyethenyl) phenylphenoxy group, 2- (ethoxyethenyl) phenylphenoxy group, 4-ethenylphenoxyphenoxy group, 3- Ethenylphenoxyphenoxy group, 2-ethenylphenoxyphenoxy group, 4- (methylethenyl) phenoxyphenoxy group, 3- (methylethenyl) phenoxyphenoxy group, 2- (methylethenyl) phenoxyphenoxy group, 4- (methoxyethene) L) Phenoxyphenoxy group, 3- (methoxyethenyl) phenoxyphenoxy group, 2- (methoxyethenyl) phenoxyphenoxy group, 4- (ethoxyethenyl) phenoxyphenoxy group, 3- (ethoxyethenyl) phenoxyphenoxy group, 2- (ethoxyethenyl) phenoxyphenoxy group, 4-ethenylbenzylphenoxy group, 3-ethenylbenzylphenoxy group, 2-ethenylbenzylphenoxy group, 4- (methylethenyl) benzylphenoxy group, 3 -(Methylethenyl) benzylphenoxy group, 2- (methylethenyl) benzylphenoxy group, 4- (methoxyethenyl) benzylphenoxy group, 3- (methoxyethenyl) benzylphenoxy group, 2- ( Methoxyethenyl) benzylphenoxy group, 4- (ethoxyethenyl) Benzylphenoxy group, 3- (ethoxyethenyl) benzylphenoxy group and 2- (ethoxyethenyl) benzylphenoxy group, especially 4-ethenylphenoxy group, 3-ethenylphenoxy group, 2-ethenylphenoxy group 4-ethenylphenylphenoxy group, 3-ethenylphenylphenoxy group, 2-ethenylphenylphenoxy group, 4-ethenylphenoxyphenoxy group, 3-ethenylphenoxyphenoxy group, 2-ethenylphenoxyphenoxy group, 4 -Ethenylbenzylphenoxy group, 3-ethenylbenzylphenoxy group, 2-ethenylbenzylphenoxy group, 4- (methylethenyl) phenoxy group, 3- (methylethenyl) phenoxy group, 2- (methylethenyl) phenoxy group, 4- ( Methylethenyl) phenylphenoxy group, 3 -(Methylethenyl) phenylphenoxy group, 2- (methylethenyl) phenylphenoxy group, 4- (methylethenyl) phenoxyphenoxy group, 3- (methylethenyl) phenoxyphenoxy group, 2- (methylethenyl) phenoxyphenoxy group, 4- (methylethenyl) benzyl Mention may be made of phenoxy, 3- (methylethenyl) benzylphenoxy and 2- (methylethenyl) benzylphenoxy.
式(1)において、Rは2n個含まれているが、このうちの少なくとも一つがR−2基である。R−2基の観点において、式(1)で示されるアリールオキシ環状ホスファゼン化合物は次の形態に分類することができる。 In the formula (1), 2n of R are contained, at least one of which is an R-2 group. In view of the R-2 group, the aryloxy cyclic phosphazene compound represented by the formula (1) can be classified into the following forms.
[形態1]
2n個の全てのRがR−2基のものである。この場合、Rは、全てが同じR−2基であってもよいし、2種以上のR−2基であってもよい。この形態のもので好ましいものは、式(1)のnが3であるアリールオキシシクロトリホスファゼン化合物、式(1)のnが4であるアリールオキシシクロテトラホスファゼン化合物、式(1)のnが5であるアリールオキシシクロペンタホスファゼン化合物若しくは式(1)のnが6であるアリールオキシシクロヘキサホスファゼン化合物またはこれらの任意の混合物である。
[Form 1]
All 2n R's are R-2 groups. In this case, all R may be the same R-2 group, or two or more R-2 groups. Preferred in this form are aryloxycyclotriphosphazene compounds in which n in formula (1) is 3, aryloxycyclotetraphosphazene compounds in which n in formula (1) is 4, n in formula (1) is An aryloxycyclopentaphosphazene compound of 5 or an aryloxycyclohexaphosphazene compound of formula (1) in which n is 6, or any mixture thereof.
この形態の環状ホスファゼン化合物におけるR−2基は、R2が水素原子であるものとしてフェニルフェノキシ基、フェノキシフェノキシ基またはベンジルフェノキシ基が好ましく、非反応型のR2特性基を有するものとして4−フルオロフェニルフェノキシ基、3−フルオロフェニルフェノキシ基、2−フルオロフェニルフェノキシ基、4−メトキシフェニルフェノキシ基、3−メトキシフェニルフェノキシ基、2−メトキシフェニルフェノキシ基、4−フルオロフェノキシフェノキシ基、3−フルオロフェノキシフェノキシ基、2−フルオロフェノキシフェノキシ基、4−メトキシフェノキシフェノキシ基、3−メトキシフェノキシフェノキシ基、2−メトキシフェノキシフェノキシ基、4−フルオロベンジルフェノキシ基、3−フルオロベンジルフェノキシ基、2−フルオロベンジルフェノキシ基、4−メトキシベンジルフェノキシ基、3−メトキシベンジルフェノキシ基または2−メトキシベンジルフェノキシ基が好ましく、反応型のR2特性基を有するものとして4−エテニルフェノキシ基、3−エテニルフェノキシ基、2−エテニルフェノキシ基、4−エテニルフェニルフェノキシ基、3−エテニルフェニルフェノキシ基、2−エテニルフェニルフェノキシ基、4−エテニルフェノキシフェノキシ基、3−エテニルフェノキシフェノキシ基、2−エテニルフェノキシフェノキシ基、4−エテニルベンジルフェノキシ基、3−エテニルベンジルフェノキシ基、2−エテニルベンジルフェノキシ基、4−(メチルエテニル)フェノキシ基、3−(メチルエテニル)フェノキシ基、2−(メチルエテニル)フェノキシ基、4−(メチルエテニル)フェニルフェノキシ基、3−(メチルエテニル)フェニルフェノキシ基、2−(メチルエテニル)フェニルフェノキシ基、4−(メチルエテニル)フェノキシフェノキシ基、3−(メチルエテニル)フェノキシフェノキシ基、2−(メチルエテニル)フェノキシフェノキシ基、4−(メチルエテニル)ベンジルフェノキシ基、3−(メチルエテニル)ベンジルフェノキシ基または2−(メチルエテニル)ベンジルフェノキシ基が好ましい。このような好ましいR−2基を有する本形態のアリールオキシ環状ホスファゼン化合物は、他のR−2基を有する本形態のアリールオキシ環状ホスファゼン化合物に比べ、熱安定性および誘電特性においてより優れた樹脂成形体を実現可能な点において有利である。 The R-2 group in the cyclic phosphazene compound of this form is preferably a phenylphenoxy group, a phenoxyphenoxy group or a benzylphenoxy group as R 2 is a hydrogen atom, and has a non-reactive R 2 characteristic group as 4- Fluorophenylphenoxy group, 3-fluorophenylphenoxy group, 2-fluorophenylphenoxy group, 4-methoxyphenylphenoxy group, 3-methoxyphenylphenoxy group, 2-methoxyphenylphenoxy group, 4-fluorophenoxyphenoxy group, 3-fluoro Phenoxyphenoxy group, 2-fluorophenoxyphenoxy group, 4-methoxyphenoxyphenoxy group, 3-methoxyphenoxyphenoxy group, 2-methoxyphenoxyphenoxy group, 4-fluorobenzylphenoxy group, 3-full B benzyl phenoxy group, 2-fluorobenzyl phenoxy group, 4-methoxybenzyl phenoxy group, 3-methoxybenzyl phenoxy group or a 2-methoxybenzyl phenoxy groups are preferred, 4-ethenyl as having a reaction type R 2 characteristic groups Phenoxy group, 3-ethenylphenoxy group, 2-ethenylphenoxy group, 4-ethenylphenylphenoxy group, 3-ethenylphenylphenoxy group, 2-ethenylphenylphenoxy group, 4-ethenylphenoxyphenoxy group, 3 -Ethenylphenoxyphenoxy group, 2-ethenylphenoxyphenoxy group, 4-ethenylbenzylphenoxy group, 3-ethenylbenzylphenoxy group, 2-ethenylbenzylphenoxy group, 4- (methylethenyl) phenoxy group, 3- ( Methylethenyl) pheno Si group, 2- (methylethenyl) phenoxy group, 4- (methylethenyl) phenylphenoxy group, 3- (methylethenyl) phenylphenoxy group, 2- (methylethenyl) phenylphenoxy group, 4- (methylethenyl) phenoxyphenoxy group, 3- ( A methylethenyl) phenoxyphenoxy group, 2- (methylethenyl) phenoxyphenoxy group, 4- (methylethenyl) benzylphenoxy group, 3- (methylethenyl) benzylphenoxy group or 2- (methylethenyl) benzylphenoxy group is preferred. The aryloxy cyclic phosphazene compound of this embodiment having such a preferred R-2 group is a resin that is more excellent in thermal stability and dielectric properties than the aryloxy cyclic phosphazene compound of this embodiment having another R-2 group. This is advantageous in that a molded body can be realized.
[形態2]
2n個のRのうちの一部(すなわち、少なくとも一つ)がR−2基であり、他のRがR−1基のものである。ここで、R−2基が二つ以上の場合、R−2基は、全てが同じR−2基であってもよいし、二種以上のR−2基が混在したものであってもよい。また、R−1基が二つ以上の場合、R−1基は、全てが同じR−1基であってもよいし、二種以上のR−1基が混在したものであってもよい。
[Form 2]
A part (that is, at least one) of 2n Rs is an R-2 group, and the other Rs are R-1 groups. Here, when there are two or more R-2 groups, all the R-2 groups may be the same R-2 group, or two or more R-2 groups may be mixed. Good. Moreover, when there are two or more R-1 groups, all of the R-1 groups may be the same R-1 group, or two or more R-1 groups may be mixed. .
この形態のもので好ましいものは、2n個のRのうちの1個〜(2n−1)個がR−2基のものである、式(1)のnが3であるアリールオキシシクロトリホスファゼン化合物、式(1)のnが4であるアリールオキシシクロテトラホスファゼン化合物、式(1)のnが5であるアリールオキシシクロペンタホスファゼン化合物若しくは式(1)のnが6であるアリールオキシシクロヘキサホスファゼン化合物またはこれらの任意の混合物である。 Preferred in this form is aryloxycyclotriphosphazene wherein n in formula (1) is 3 wherein 1 to (2n-1) of 2n R are R-2 groups Compound, aryloxycyclotetraphosphazene compound in which n in formula (1) is 4, aryloxycyclopentaphosphazene compound in which n is 5 in formula (1), or aryloxycyclohexahexane in which n in formula (1) is 6 A phosphazene compound or any mixture thereof.
なお、2n個のRのうちの1個〜(2n−1)個がR−2基であるか否かは、アリールオキシ環状ホスファゼン化合物またはその製造過程における中間体のTOF−MS分析により確認することが出来る。 In addition, it is confirmed by TOF-MS analysis of an aryloxy cyclic phosphazene compound or an intermediate in its production process whether 1 to (2n-1) of 2n R are R-2 groups or not. I can do it.
この形態のアリールオキシ環状ホスファゼン化合物の具体例としては、式(1)のnが3であるアリールオキシシクロトリホスファゼン化合物、式(1)のnが4であるアリールオキシシクロテトラホスファゼン化合物、式(1)のnが5であるアリールオキシシクロペンタホスファゼン化合物または式(1)のnが6であるアリールオキシシクロヘキサホスファゼン化合物であって、次のものを挙げることができる。 Specific examples of the aryloxy cyclic phosphazene compound of this form include an aryloxycyclotriphosphazene compound in which n is 3 in the formula (1), an aryloxycyclotetraphosphazene compound in which n in the formula (1) is 4, An aryloxycyclopentaphosphazene compound in which n of 1) is 5 or an aryloxycyclohexaphosphazene compound in which n of formula (1) is 6, and the following can be mentioned.
Rが、R−1基であるフェノキシ基とR−2基であるフェニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるフェノキシ基とR−2基である3−フルオロフェニルフェノキシ基とのの組み合わせのもの、R−1基であるフェノキシ基とR−2基である4−メトキシフェニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるフェノキシ基とR−2基である2−メトキシフェニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるフェノキシ基とR−2基である4−フルオロ−2メチルフェニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるフェノキシ基とR−2基であるフェノキシフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるフェノキシ基とR−2基である4−フルオロフェノキシフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるフェノキシ基とR−2基である3−メトキシフェノキシフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるフェノキシ基とR−2基である2−メトキシフェノキシフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるフェノキシ基とR−2基である3−エチル−5−フルオロフェニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるフェノキシ基とベンジルフェノキシ基との組み合わせであるもの、R−1基であるフェノキシ基とR−2基である3−フルオロベンジルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるフェノキシ基とR−2基である4−メトキシベンジルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるフェノキシ基とR−2基である2−メトキシベンジルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるフェノキシ基とR−2基である4−エチル−2−フルオロベンジルフェノキシ基との組み合わせのもの。 R is a combination of a phenoxy group that is an R-1 group and a phenylphenoxy group that is an R-2 group, and a phenoxy group that is an R-1 group and a 3-fluorophenylphenoxy group that is an R-2 group. A combination of R-1 group phenoxy group and R-2 group 4-methoxyphenylphenoxy group, R-1 group phenoxy group and R-2 group 2-methoxy A combination of phenylphenoxy group, a combination of R-1 group phenoxy group and R-2 group 4-fluoro-2methylphenylphenoxy group, R-1 group phenoxy group and R- A combination of two phenoxyphenoxy groups, a combination of R-1 phenoxy and R-2 4-fluorophenoxyphenoxy. A combination of a phenoxy group that is an R-1 group and a 3-methoxyphenoxyphenoxy group that is an R-2 group, a phenoxy group that is an R-1 group, and a 2-methoxyphenoxyphenoxy group that is an R-2 group; A combination of R-1 group phenoxy group and R-2 group 3-ethyl-5-fluorophenylphenoxy group, R-1 group phenoxy group and benzylphenoxy group Combination, R-1 group phenoxy group and R-2 group 3-fluorobenzylphenoxy group combination, R-1 group phenoxy group and R-2 group 4-methoxy Combination of benzylphenoxy group and combination of R-1 group phenoxy group and R-2 group 2-methoxybenzylphenoxy group Those of the combination of 4-ethyl-2-fluorobenzyl phenoxy group is phenoxy group and R-2 group is R-1 group.
Rが、R−1基であるメチルフェノキシ基とR−2基であるフェニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるメチルフェノキシ基とR−2基である4−フルオロフェニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるメチルフェノキシ基とR−2基である3−メトキシフェニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるメチルフェノキシ基とR−2基である2−メトキシフェニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるメチルフェノキシ基とR−2基である3−メチル−4−メトキシフェニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるメチルフェノキシ基とR−2基であるフェノキシフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるメチルフェノキシ基とR−2基である3−フルオロフェノキシフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるメチルフェノキシ基とR−2基である4−メトキシフェノキシフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるメチルフェノキシ基とR−2基である2−メトキシフェノキシフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるメチルフェノキシ基とR−2基である2−エチル−5−メトキシフェノキシフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるメチルフェノキシ基とR−2基であるベンジルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるメチルフェノキシ基とR−2基である4−フルオロベンジルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるメチルフェノキシ基とR−2基である3−メトキシベンジルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるメチルフェノキシ基とR−2基である2−メトキシベンジルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるメチルフェノキシ基とR−2基である2−フルオロ−3−メチルベンジルフェノキシ基との組み合わせのもの。 R is a combination of a methylphenoxy group which is an R-1 group and a phenylphenoxy group which is an R-2 group, a 4-fluorophenylphenoxy group which is a methylphenoxy group which is an R-1 group and an R-2 group A combination of a methylphenoxy group which is an R-1 group and a 3-methoxyphenylphenoxy group which is an R-2 group, a methylphenoxy group which is an R-1 group and an R-2 group A combination of 2-methoxyphenylphenoxy group, a combination of methylphenoxy group as R-1 group and 3-methyl-4-methoxyphenylphenoxy group as R-2 group, R-1 group Combination of methylphenoxy group and R-2 group phenoxyphenoxy group, R-1 group methylphenoxy group and R-2 group 3-fluoro Combination of phenoxyphenoxy group, combination of R-1 group methylphenoxy group and R-2 group 4-methoxyphenoxyphenoxy group, R-1 group methylphenoxy group and R-2 In combination with 2-methoxyphenoxyphenoxy group which is a group, in combination with methylphenoxy group which is R-1 group and 2-ethyl-5-methoxyphenoxyphenoxy group which is R-2 group, R-1 A combination of a methylphenoxy group as a group and a benzylphenoxy group as an R-2 group, a combination of a methylphenoxy group as an R-1 group and a 4-fluorobenzylphenoxy group as an R-2 group, A combination of a methylphenoxy group which is an R-1 group and a 3-methoxybenzylphenoxy group which is an R-2 group, R A combination of a methylphenoxy group that is one group and a 2-methoxybenzylphenoxy group that is an R-2 group, a methylphenoxy group that is an R-1 group, and a 2-fluoro-3-methylbenzyl that is an R-2 group Combination with phenoxy group.
Rが、R−1基であるジメチルフェノキシ基とR−2基であるフェニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるジメチルフェノキシ基とR−2基である3−フルオロフェニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるジメチルフェノキシ基とR−2基である4−メトキシフェニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるジメチルフェノキシ基とR−2基である2−メトキシフェニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるジメチルフェノキシ基とR−2基である3−エチル−4−フルオロフェニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるジメチルフェノキシ基とR−2基であるフェノキシフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるジメチルフェノキシ基とR−2基である4−フルオロフェノキシフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるジメチルフェノキシ基とR−2基である3−メトキシフェノキシフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるジメチルフェノキシ基とR−2基である2−メトキシフェノキシフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるジメチルフェノキシ基とR−2基である2−メチル−5−フルオロフェノキシフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるジメチルフェノキシ基とR−2基であるベンジルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるジメチルフェノキシ基とR−2基である3−フルオロベンジルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるジメチルフェノキシ基とR−2基である4−メトキシベンジルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるジメチルフェノキシ基とR−2基である2−メトキシベンジルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるジメチルフェノキシ基とR−2基である2−フルオロ−4−メチルベンジルフェノキシ基との組み合わせのもの。 R is a combination of a dimethylphenoxy group which is an R-1 group and a phenylphenoxy group which is an R-2 group, a dimethylphenoxy group which is an R-1 group and a 3-fluorophenylphenoxy group which is an R-2 group A combination of dimethylphenoxy group which is R-1 group and 4-methoxyphenylphenoxy group which is R-2 group, dimethylphenoxy group and R-2 group which are R-1 groups A combination of 2-methoxyphenylphenoxy group, a combination of R-1 group dimethylphenoxy group and R-2 group 3-ethyl-4-fluorophenylphenoxy group, R-1 group Combination of dimethylphenoxy group and R-2 group phenoxyphenoxy group, R-1 group dimethylphenoxy group and R-2 group In combination with 4-fluorophenoxyphenoxy group, in combination with dimethylphenoxy group as R-1 group and 3-methoxyphenoxyphenoxy group as R-2 group, dimethylphenoxy group as R-1 group In combination with 2-methoxyphenoxyphenoxy group as R-2 group, in combination with dimethylphenoxy group as R-1 group and 2-methyl-5-fluorophenoxyphenoxy group as R-2 group A combination of a dimethylphenoxy group that is an R-1 group and a benzylphenoxy group that is an R-2 group, a dimethylphenoxy group that is an R-1 group, and a 3-fluorobenzylphenoxy group that is an R-2 group Combination, dimethylphenoxy group which is R-1 group and 4-methoxybenzylphenoxy which is R-2 group A combination of dimethylphenoxy group which is R-1 group and 2-methoxybenzylphenoxy group which is R-2 group, dimethylphenoxy group and R-2 group which are R-1 groups Combination with 2-fluoro-4-methylbenzylphenoxy group.
Rが、R−1基であるナフチルオキシ基とR−2基であるフェニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるナフチルオキシ基とR−2基である4−フルオロフェニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるナフチルオキシ基とR−2基である3−メトキシフェニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるナフチルオキシ基とR−2基である2−メトキシフェニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるナフチルオキシ基とR−2基である2−エチル−4−メトキシメトキシフェニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるナフチルオキシ基とR−2基であるフェノキシフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるナフチルオキシ基とR−2基である3−フルオロフェノキシフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるナフチルオキシ基とR−2基である4−メトキシフェノキシフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるナフチルオキシ基とR−2基である2−メトキシフェノキシフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるナフチルオキシ基とR−2基である5−メチル−3−メトキシフェノキシフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるナフチルオキシ基とR−2基であるベンジルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるナフチルオキシ基とR−2基である4−フルオロベンジルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるナフチルオキシ基とR−2基である3−メトキシベンジルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるナフチルオキシ基とR−2基である2−メトキシベンジルフェノキシ基との組み合わせのもの。 R is a combination of a naphthyloxy group which is an R-1 group and a phenylphenoxy group which is an R-2 group, a 4-naphthyloxy group which is an R-1 group and a 4-fluorophenylphenoxy group which is an R-2 group A combination of a naphthyloxy group that is an R-1 group and a 3-methoxyphenylphenoxy group that is an R-2 group, a naphthyloxy group that is an R-1 group, and an R-2 group. In combination with 2-methoxyphenylphenoxy group, in combination with naphthyloxy group as R-1 group and 2-ethyl-4-methoxymethoxyphenylphenoxy group as R-2 group, in R-1 group A combination of a certain naphthyloxy group and an R-2 group phenoxyphenoxy group, an R-1 group naphthyloxy group and an R-2 group 3-fluorophene A combination with a xyphenoxy group, a combination of a naphthyloxy group which is an R-1 group and a 4-methoxyphenoxyphenoxy group which is an R-2 group, a naphthyloxy group which is an R-1 group and an R-2 group A combination with a 2-methoxyphenoxyphenoxy group which is a group, a combination of a naphthyloxy group which is an R-1 group and a 5-methyl-3-methoxyphenoxyphenoxy group which is an R-2 group, R-1 A combination of a naphthyloxy group as a group and a benzylphenoxy group as an R-2 group, a combination of a naphthyloxy group as an R-1 group and a 4-fluorobenzylphenoxy group as an R-2 group, Combination of naphthyloxy group as R-1 group and 3-methoxybenzylphenoxy group as R-2 group, naphthy as R-1 group Those of the combination of 2-methoxybenzyl phenoxy an oxy group and R-2 group.
Rが、R−1基であるフェノキシ基とR−2基である4−エテニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるフェノキシ基とR−2基である3−エテニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるフェノキシ基とR−2基である2−エテニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるフェノキシ基とR−2基である2−メチル−4−エテニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるフェノキシ基とR−2基である6−メチル−2−エテニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるフェノキシ基とR−2基である4−エテニルフェニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるフェノキシ基とR−2基である3−エテニルフェノキシフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるフェノキシ基とR−2基である2−エテニルべンジルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるフェノキシ基とR−2基である4−(メチルエテニル)フェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるフェノキシ基とR−2基である3−(メチルエテニル)フェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるフェノキシ基とR−2基である2−(メチルエテニル)フェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるフェノキシ基とR−2基である1−メチル−4−(メチルエテニル)フェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるフェノキシ基とR−2基である3−(メチルエテニル)フェニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるフェノキシ基とR−2基である4−(メチルエテニル)フェノキシフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるフェノキシ基とR−2基である2−(メチルエテニル)ベンジルフェノキシ基との組み合わせのもの。 R is a combination of a phenoxy group that is an R-1 group and a 4-ethenylphenoxy group that is an R-2 group, a 3-phenenylphenoxy that is a phenoxy group that is an R-1 group and an R-2 group A combination of a phenoxy group as an R-1 group and a 2-ethenylphenoxy group as an R-2 group, a phenoxy group as an R-1 group, and an R-2 group. -In combination with methyl-4-ethenylphenoxy group, in combination with phenoxy group as R-1 group and 6-methyl-2-ethenylphenoxy group as R-2 group, R-1 group A combination of a phenoxy group that is R-2 and a 4-ethenylphenylphenoxy group that is an R-2 group, a combination of a phenoxy group that is an R-1 group and a 3-ethenylphenoxyphenoxy group that is an R-2 group Things, R A combination of a phenoxy group as one group and a 2-ethenylbenzyl phenoxy group as a R-2 group, a phenoxy group as a R-1 group and a 4- (methylethenyl) phenoxy group as a R-2 group; A combination of R-1 group phenoxy group and R-2 group 3- (methylethenyl) phenoxy group, R-1 group phenoxy group and R-2 group 2- Combination of (methylethenyl) phenoxy group, combination of phenoxy group as R-1 group and 1-methyl-4- (methylethenyl) phenoxy group as R-2 group, phenoxy as R-1 group In combination with a 3- (methylethenyl) phenylphenoxy group which is an R-2 group, 4- (methylethenyl) which is a phenoxy group which is an R-1 group and an R-2 group Those combinations of phenoxyphenoxybenzoic group, a phenoxy group and the R-2 group is R-1 group 2 (methylethenyl) that in combination with benzyl phenoxy group.
Rが、R−1基であるメチルフェノキシ基とR−2基である4−エテニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるメチルフェノキシ基とR−2基である3−エテニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるメチルフェノキシ基とR−2基である2−エテニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるメチルフェノキシ基とR−2基である3−エテニルフェニルフェノキシ基の組み合わせのもの、R−1基であるメチルフェノキシ基とR−2基である4−エテニルフェノキシフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるメチルフェノキシ基とR−2基である2−エテニルべンジルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるメチルフェノキシ基とR−2基である4−(メチルエテニル)フェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるメチルフェノキシ基とR−2基である3−(メチルエテニル)フェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるメチルフェノキシ基とR−2基である2−(メチルエテニル)フェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるメチルフェノキシ基とR−2基である2−(メチルエテニル)フェニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるメチルフェノキシ基とR−2基である3−(メチルエテニル)フェノキシフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるメチルフェノキシ基とR−2基である4−(メチルエテニル)ベンジルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるメチルフェノキシ基とR−2基である3−メチル−4−(メチルエテニル)フェニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるメチルフェノキシ基とR−2基である4−メチル−3−エテニルフェノキシフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるメチルフェノキシ基とR−2基である4−メチル−2−エテニルフェノキシフェノキシ基との組み合わせのもの。 R is a combination of a methylphenoxy group that is an R-1 group and a 4-ethenylphenoxy group that is an R-2 group, or a 3-phenone that is a methylphenoxy group that is an R-1 group and an R-2 group. A combination of a tenenylphenoxy group, a combination of a methylphenoxy group as an R-1 group and a 2-ethenylphenoxy group as an R-2 group, a methylphenoxy group and an R-2 as an R-1 group A combination of a 3-ethenylphenylphenoxy group that is a group, a combination of a methylphenoxy group that is an R-1 group and a 4-ethenylphenoxyphenoxy group that is an R-2 group, and an R-1 group Combination of methylphenoxy group and R-2 group 2-ethenylbenzyl phenoxy group, R-1 group methylphenoxy group and R-2 group 4- (methylethenyl) A combination with a nonoxy group, a combination of a methylphenoxy group that is an R-1 group and a 3- (methylethenyl) phenoxy group that is an R-2 group, a methylphenoxy group that is an R-1 group and an R-2 group In combination with 2- (methylethenyl) phenoxy group being a group, in combination with methylphenoxy group being R-1 group and 2- (methylethenyl) phenylphenoxy group being R-2 group, R-1 group A combination of a methylphenoxy group which is R and a 3- (methylethenyl) phenoxyphenoxy group which is an R-2 group, a methylphenoxy group which is an R-1 group and a 4- (methylethenyl) benzylphenoxy group which is an R-2 group In combination with R-1 group methylphenoxy group and R-2 group 3-methyl-4- (methylethenyl) pheny Combination of phenoxy group, combination of methylphenoxy group as R-1 group and 4-methyl-3-ethenylphenoxyphenoxy group as R-2 group, methylphenoxy group as R-1 group In combination with 4-methyl-2-ethenylphenoxyphenoxy group which is R-2 group.
Rが、R−1基であるジメチルフェノキシ基とR−2基である4−エテニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるジメチルフェノキシ基とR−2基である3−エテニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるジメチルフェノキシ基とR−2基である2−エテニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるジメチルフェノキシ基とR−2基である4−エテニルフェニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるジメチルフェノキシ基とR−2基である2−エテニルフェノキシフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるジメチルフェノキシ基とR−2基である3−エテニルべンジルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるジメチルフェノキシ基とR−2基である4−(メチルエテニル)フェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるジメチルフェノキシ基とR−2基である3−(メチルエテニル)フェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるジメチルフェノキシ基とR−2基である2−(メチルエテニル)フェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるジメチルフェノキシ基とR−2基である4−(メチルエテニル)フェニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるジメチルフェノキシ基とR−2基である2−(メチルエテニル)フェノキシフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるジメチルフェノキシ基とR−2基である3−(メチルエテニル)ベンジルフェノキシ基との組み合わせのもの。 R is a combination of a dimethylphenoxy group that is an R-1 group and a 4-ethenylphenoxy group that is an R-2 group, a 3-dimethyl group that is a dimethylphenoxy group that is an R-1 group, and an R-2 group. A combination with a tenenylphenoxy group, a combination of a dimethylphenoxy group which is an R-1 group and a 2-ethenylphenoxy group which is an R-2 group, a dimethylphenoxy group which is an R-1 group and an R-2 group In combination with 4-ethenylphenylphenoxy group which is a group, in combination with dimethylphenoxy group which is R-1 group and 2-ethenylphenoxyphenoxy group which is R-2 group, in R-1 group A combination of a certain dimethylphenoxy group and an R-2 group, 3-ethenylbenzyloxy group, an R-1, dimethylphenoxy group and an R-2 group, 4- (me Ruethenyl) in combination with phenoxy group, R-1 group in combination with dimethylphenoxy group and R-2 group in 3- (methylethenyl) phenoxy group, R-1 group in dimethylphenoxy group and R-1 A combination of 2- (methylethenyl) phenoxy group which is -2 group, a combination of dimethylphenoxy group which is R-1 group and 4- (methylethenyl) phenylphenoxy group which is R-2 group, R- Combination of dimethylphenoxy group as one group and 2- (methylethenyl) phenoxyphenoxy group as R-2 group, dimethylphenoxy group as R-1 group and 3- (methylethenyl) benzyl as R-2 group Combination with phenoxy group.
Rが、R−1基であるナフチルオキシ基とR−2基である4−エテニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるナフチルオキシ基とR−2基である3−エテニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるナフチルオキシ基とR−2基である2−エテニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるナフチルオキシ基とR−2基である4−エテニルフェニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるナフチルオキシ基とR−2基である3−エテニルフェノキシフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるナフチルオキシ基とR−2基である2−エテニルべンジルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるナフチルオキシ基とR−2基である4−(メチルエテニル)フェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるナフチルオキシ基とR−2基である3−(メチルエテニル)フェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるナフチルオキシ基とR−2基である2−(メチルエテニル)フェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるナフチルオキシ基とR−2基である3−(メチルエテニル)フェニルフェノキシ基との組み合わせのもの、R−1基であるナフチルオキシ基とR−2基である4−(メチルエテニル)フェノキシフェノキシ基との組み合わせのものおよびR−1基であるナフチルオキシ基とR−2基である2−(メチルエテニル)べンジルフェノキシ基との組み合わせのもの。 R is a combination of a naphthyloxy group which is an R-1 group and a 4-ethenylphenoxy group which is an R-2 group, or a 3-naphthyloxy group which is an R-1 group and an R-2 group. A combination with a tenenylphenoxy group, a combination of a naphthyloxy group as an R-1 group and a 2-ethenylphenoxy group as an R-2 group, a naphthyloxy group and an R-2 as an R-1 group In combination with 4-ethenylphenylphenoxy group which is a group, in combination with naphthyloxy group which is R-1 group and 3-ethenylphenoxyphenoxy group which is R-2 group, in R-1 group A combination of a certain naphthyloxy group and an R-2 group 2-ethenylbenzyl phenoxy group, an R-1 group naphthyloxy group and an R-2 group 4- (methylethenyl) phenoxy group; Combination, naphthyloxy group as R-1 group and 3- (methylethenyl) phenoxy group as R-2 group, naphthyloxy group as R-1 group and 2 as R-2 group -In combination with-(methylethenyl) phenoxy group, in combination with naphthyloxy group which is R-1 group and 3- (methylethenyl) phenylphenoxy group which is R-2 group, naphthyloxy which is R-1 group In combination with a 4- (methylethenyl) phenoxyphenoxy group that is an R-2 group and a 2- (methylethenyl) benzylphenoxy group that is an R-2 group with a naphthyloxy group that is an R-1 group A combination.
以上の具体例に係るアリールオキシ環状ホスファゼン化合物から選択した任意のものの混合物。 A mixture of any selected from aryloxy cyclic phosphazene compounds according to the above specific examples.
本発明の組成物において用いられるアリールオキシ環状ホスファゼン化合物は、式(1)で表される構造のもののうち、特定の特性条件を満足するもの、すなわち、熱重量分析において不活性ガス雰囲気下で常温から600℃まで昇温速度10℃/分で加熱したときの500℃における重量保持率が50%以上、温度25℃で周波数1GHzでの比誘電率が2.6以下でありかつ誘電損失が0.002以下の条件を満足するものである。各特性の測定方法は、後記の実施例に記載のとおりである。 The aryloxy cyclic phosphazene compound used in the composition of the present invention satisfies a specific characteristic condition among the structures represented by the formula (1), that is, normal temperature in an inert gas atmosphere in thermogravimetric analysis. When heated from 10 to 600 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min, the weight retention at 500 ° C. is 50% or more, the relative dielectric constant at a frequency of 1 GHz at a temperature of 25 ° C. is 2.6 or less, and the dielectric loss is 0. It satisfies the condition of 0.002 or less. The measuring method of each characteristic is as described in the examples described later.
本発明の組成物において用いられるアリールオキシ環状ホスファゼン化合物の酸価は、0.05mgKOH/g以下が好ましく、0.03mgKOH/g以下がより好ましく、0.01mgKOH/g以下が特に好ましい。式(1)で表されるアリールオキシ環状ホスファゼン化合物は、所要の特性条件を満足するものであっても、酸価が0.05mgKOH/gを超えると誘電特性、特に誘電損失が損なわれる可能性がある。 The acid value of the aryloxy cyclic phosphazene compound used in the composition of the present invention is preferably 0.05 mgKOH / g or less, more preferably 0.03 mgKOH / g or less, and particularly preferably 0.01 mgKOH / g or less. Even if the aryloxy cyclic phosphazene compound represented by the formula (1) satisfies the required characteristic conditions, if the acid value exceeds 0.05 mgKOH / g, the dielectric characteristics, particularly the dielectric loss may be impaired. There is.
アリールオキシ環状ホスファゼン化合物の上記酸価は、JIS K0070「化学製品の酸価、けん化価、エステル化、よう素価、水酸基価および不けん化物の試験方法」に従って測定した場合のものであり、例えば次の式(3)で表される単位を含む環状ホスファゼン化合物が測定対象の酸価成分となるものである。式(3)中、Rは式(1)と同じである。 The above acid value of the aryloxy cyclic phosphazene compound is measured according to JIS K0070 “Testing method of acid value, saponification value, esterification, iodine value, hydroxyl value and unsaponified product of chemical products”, for example, A cyclic phosphazene compound containing a unit represented by the following formula (3) is an acid value component to be measured. In Formula (3), R is the same as Formula (1).
また、本発明の組成物において用いられるアリールオキシ環状ホスファゼン化合物の含有水分量は、100mg/kg以下が好ましく、50mg/kg以下がより好ましく、30mg/kg以下が特に好ましい。式(1)で表されるアリールオキシ環状ホスファゼン化合物は、所要の特性条件を満足するものであっても、含有水分量が100mg/kgを超えると誘電特性、特に誘電損失が損なわれる可能性がある。 The water content of the aryloxy cyclic phosphazene compound used in the composition of the present invention is preferably 100 mg / kg or less, more preferably 50 mg / kg or less, and particularly preferably 30 mg / kg or less. Even if the aryloxy cyclic phosphazene compound represented by the formula (1) satisfies the required characteristic conditions, if the water content exceeds 100 mg / kg, the dielectric characteristics, particularly the dielectric loss may be impaired. is there.
アリールオキシ環状ホスファゼン化合物の上記含有水分量は、JIS K0068「化学製品の水分測定方法」に従ってカールフィッシャー法により測定した場合のものである。 The above-mentioned water content of the aryloxy cyclic phosphazene compound is measured by the Karl Fischer method according to JIS K0068 “Method of measuring water content of chemical products”.
本発明の組成物において、上述のアリールオキシ環状ホスファゼン化合物は、二種以上のものが併用されてもよい。 In the composition of the present invention, two or more of the above-mentioned aryloxy cyclic phosphazene compounds may be used in combination.
本発明の組成物において用いられる樹脂成分は、樹脂成形体の製造材料として通常用いられるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、ポリアリレート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ビスマレイミド樹脂、ポリフェニルスルホン樹脂、ポリフタルアミド樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、シアン酸エステル樹脂、ビスマレイミド−シアン酸エステル樹脂、スチレン−ブタジエン樹脂、スチレン−マレイン酸樹脂またはこれらの変性樹脂などである。これらの樹脂成分は、二種以上のものを併用してもよい。また、これらの樹脂成分は、以下の熱可塑性樹脂または熱硬化性樹脂を混合して使用することもできる。この際、熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂とは併用してもよい。 The resin component used in the composition of the present invention is not particularly limited as long as it is usually used as a material for producing a resin molded body. For example, polyarylate resin, polyamide resin, polyamideimide resin, polyetherimide Resins, polyethersulfone resins, polyimide resins, polyetheretherketone resins, polyphenylene ether resins, bismaleimide resins, polyphenylsulfone resins, polyphthalamide resins, polyphenylene sulfide resins, cyanate ester resins, bismaleimide-cyanate ester resins Styrene-butadiene resin, styrene-maleic acid resin or modified resins thereof. Two or more of these resin components may be used in combination. Moreover, these resin components can also be used by mixing the following thermoplastic resins or thermosetting resins. At this time, the thermoplastic resin and the thermosetting resin may be used in combination.
混合使用可能な熱可塑性樹脂の具体例としては、ポリエチレン樹脂、ポリイソプレン樹脂、ポリブタジエン樹脂、塩素化ポリエチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、耐衝撃性ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン樹脂(AS樹脂)、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂(ABS樹脂)、メチルメタクリレート−ブタジエン−スチレン樹脂(MBS樹脂)、メチルメタクリレート−アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂(MABS樹脂)、アクリロニトリル−アクリルゴム−スチレン樹脂(AAS樹脂)、ポリメチルアクリレート樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、変性ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルニトリル樹脂、ポリチオエーテルスルホン樹脂並びに液晶ポリマーを挙げることができる。変性ポリフェニレンエーテル樹脂としては、例えば、ポリフェニレンエーテルの一部または全部に、カルボキシル基、エポキシ基、アミノ基、水酸基、無水ジカルボキシル基などの反応性官能基をグラフト反応や共重合などの何らかの方法により導入したものが用いられる。ポリエステル樹脂の例としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)樹脂、ポリプロピレンテレフタレート樹脂、ポリトリメチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂およびポリエチレンナフタレート樹脂を挙げることができる。熱可塑性樹脂は、二種以上のものを併用してもよい。 Specific examples of thermoplastic resins that can be mixed are polyethylene resin, polyisoprene resin, polybutadiene resin, chlorinated polyethylene resin, polyvinyl chloride resin, polystyrene resin, high impact polystyrene resin, acrylonitrile-styrene resin (AS resin). , Acrylonitrile-butadiene-styrene resin (ABS resin), methyl methacrylate-butadiene-styrene resin (MBS resin), methyl methacrylate-acrylonitrile-butadiene-styrene resin (MABS resin), acrylonitrile-acrylic rubber-styrene resin (AAS resin), Polymethyl acrylate resin, polymethyl methacrylate resin, polyketone resin, polycarbonate resin, modified polyphenylene ether resin, polyester resin, polysulfone resin, polyester Terunitoriru resins, polythioether sulfone resin and liquid crystal polymer. As the modified polyphenylene ether resin, for example, a reactive functional group such as a carboxyl group, an epoxy group, an amino group, a hydroxyl group, and an anhydrous dicarboxyl group may be added to some or all of the polyphenylene ether by some method such as graft reaction or copolymerization. The introduced one is used. Examples of polyester resins include polyethylene terephthalate (PET) resin, polypropylene terephthalate resin, polytrimethylene terephthalate resin, polybutylene terephthalate resin, and polyethylene naphthalate resin. Two or more thermoplastic resins may be used in combination.
本発明の組成物を電子機器において用いられる成形体材料として用いる場合、熱可塑性樹脂としては、ポリエステル樹脂、ABS樹脂、ポリカーボネート樹脂、変性ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリブタジエン樹脂またはポリイソプレン樹脂を用いるのが好ましい。 When the composition of the present invention is used as a molding material used in an electronic device, it is preferable to use a polyester resin, an ABS resin, a polycarbonate resin, a modified polyphenylene ether resin, a polybutadiene resin, or a polyisoprene resin as the thermoplastic resin.
混合使用可能な熱硬化性樹脂の具体例としては、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、シリコーン樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、ポリベンズイミダゾール樹脂、ポリエステルイミド樹脂、ポリカルボジイミド樹脂およびマレイミド樹脂を挙げることができる。これらのうち、ポリエステルイミド樹脂、ポリカルボジイミド樹脂およびマレイミド樹脂等のポリイミド系樹脂は、その取り扱い加工性および接着性を高めるために熱可塑性や溶媒可溶性が付与されたものであってもよい。熱硬化性樹脂は、二種以上のものを併用してもよい。 Specific examples of thermosetting resins that can be mixed include polyurethane resin, phenol resin, melamine resin, urea resin, unsaturated polyester resin, diallyl phthalate resin, silicone resin, benzoxazine resin, polybenzimidazole resin, polyesterimide resin And polycarbodiimide resins and maleimide resins. Among these, polyimide resins such as polyesterimide resin, polycarbodiimide resin, and maleimide resin may be provided with thermoplasticity and solvent solubility in order to improve their handling processability and adhesiveness. Two or more thermosetting resins may be used in combination.
本発明の組成物は、上述のアリールオキシ環状ホスファゼン化合物と上述の樹脂成分とを均一に混合することで調製することができる。本発明の組成物におけるアリールオキシ環状ホスファゼン化合物の含有量は、樹脂成分の種類や本発明の組成物の用途などの各種条件に応じて適宜設定することができるが、通常、固形分換算での樹脂成分100重量部に対し、0.1〜200重量部に設定するのが好ましく、0.5〜100重量部に設定するのがより好ましく、1〜50重量部に設定するのが特に好ましい。アリールオキシ環状ホスファゼン化合物の含有量が0.1重量部未満の場合は、十分な難燃性を示す樹脂成形体が得られ難くなる可能性がある。逆に、アリールオキシ環状ホスファゼン化合物の含有量が200重量部を超えると、樹脂成分本来の特性が損なわれ、樹脂成分による当該特性を示す樹脂成形体が得られ難くなる可能性がある。 The composition of the present invention can be prepared by uniformly mixing the above aryloxy cyclic phosphazene compound and the above resin component. The content of the aryloxy cyclic phosphazene compound in the composition of the present invention can be appropriately set according to various conditions such as the type of the resin component and the use of the composition of the present invention. It is preferable to set to 0.1-200 weight part with respect to 100 weight part of resin components, it is more preferable to set to 0.5-100 weight part, and it is especially preferable to set to 1-50 weight part. When the content of the aryloxy cyclic phosphazene compound is less than 0.1 parts by weight, it may be difficult to obtain a resin molded article exhibiting sufficient flame retardancy. Conversely, if the content of the aryloxy cyclic phosphazene compound exceeds 200 parts by weight, the original properties of the resin component are impaired, and it may be difficult to obtain a resin molded product exhibiting the properties due to the resin component.
本発明の組成物は、上述のアリールオキシ環状ホスファゼン化合物として反応型のR2特性基を有するものを用いる場合、当該特性基と重合反応可能な重合性材料をさらに含んでいてもよい。重合性材料としては、例えば、ビニル系化合物、ビニリデン系化合物、ジエン化合物、アクリル系化合物、エポキシ系化合物並びにラクトン、ラクタムおよび環状エーテルからなる群から選ばれた環状化合物を挙げることができる。 The composition of the present invention may further contain a polymerizable material capable of undergoing a polymerization reaction with the characteristic group when the aryloxy cyclic phosphazene compound having a reactive R 2 characteristic group is used. Examples of the polymerizable material include vinyl compounds, vinylidene compounds, diene compounds, acrylic compounds, epoxy compounds, and cyclic compounds selected from the group consisting of lactones, lactams, and cyclic ethers.
このような重合性材料の具体例としては、塩化ビニル、ブタジエン、イソプレン、スチレン、耐衝撃性ポリスチレン前駆体、アクリロニトリル−スチレン樹脂(AS樹脂)前駆体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂(ABS樹脂)前駆体、メチルメタクリレート−ブタジエン−スチレン樹脂(MBS樹脂)前駆体、メチルメタクリレート−アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂(MABS樹脂)前駆体、アクリロニトリル−アクリルゴム−スチレン樹脂(AAS樹脂)前駆体、メチル(メタ)アクリレート、エポキシアクリレート樹脂前駆体、エポキシ化油アクリレート樹脂前駆体、ウレタンアクリレート樹脂前駆体、ポリエステルアクリレート樹脂前駆体、ポリエーテルアクリレート樹脂前駆体、アクリルアクリレート樹脂前駆体、不飽和ポリエステル樹脂前駆体、ビニル/アクリレート樹脂前駆体、ビニルエーテル系樹脂前駆体、ポリエン/チオール樹脂前駆体、シリコンアクリレート樹脂前駆体、ポリブタジエンアクリレート樹脂前駆体、ポリスチリル(エチル)メタクリレート樹脂前駆体、ポリカーボネートアクリレート樹脂前駆体、光硬化性または熱硬化性のポリイミド樹脂前駆体、光硬化性または熱硬化性のポリフェニレンエーテル樹脂前駆体、光硬化性または熱硬化性のケイ素含有樹脂前駆体、光硬化性または熱硬化性のエポキシ樹脂前駆体、脂環式エポキシ樹脂前駆体およびグリシジルエーテルエポキシ樹脂前駆体を挙げることができる。このうち、ブタジエン、イソプレン、スチレン、エポキシアクリレート樹脂前駆体、ウレタンアクリレート樹脂前駆体およびポリエステルアクリレート樹脂前駆体が好ましい。 Specific examples of such polymerizable materials include vinyl chloride, butadiene, isoprene, styrene, high impact polystyrene precursor, acrylonitrile-styrene resin (AS resin) precursor, acrylonitrile-butadiene-styrene resin (ABS resin) precursor. Body, methyl methacrylate-butadiene-styrene resin (MBS resin) precursor, methyl methacrylate-acrylonitrile-butadiene-styrene resin (MABS resin) precursor, acrylonitrile-acrylic rubber-styrene resin (AAS resin) precursor, methyl (meth) Acrylate, epoxy acrylate resin precursor, epoxidized oil acrylate resin precursor, urethane acrylate resin precursor, polyester acrylate resin precursor, polyether acrylate resin precursor, acrylic acrylate Resin precursor, unsaturated polyester resin precursor, vinyl / acrylate resin precursor, vinyl ether resin precursor, polyene / thiol resin precursor, silicon acrylate resin precursor, polybutadiene acrylate resin precursor, polystyryl (ethyl) methacrylate resin precursor Body, polycarbonate acrylate resin precursor, photocurable or thermosetting polyimide resin precursor, photocurable or thermosetting polyphenylene ether resin precursor, photocurable or thermosetting silicon-containing resin precursor, light Examples thereof include curable or thermosetting epoxy resin precursors, alicyclic epoxy resin precursors, and glycidyl ether epoxy resin precursors. Of these, butadiene, isoprene, styrene, epoxy acrylate resin precursor, urethane acrylate resin precursor and polyester acrylate resin precursor are preferred.
重合性材料は二種以上のものを併用してもよい。 Two or more kinds of polymerizable materials may be used in combination.
重合性材料を含む本発明の組成物は、重合開始剤をさらに含むのが好ましい。重合開始剤の種類は、反応型のR2特性基を有するアリールオキシ環状ホスファゼン化合物と重合性材料とを重合反応させる方法により選択することができる。加熱により重合させる場合、使用可能な重合開始剤の例として、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイドおよびジイソプロピルパーオキシジカーボネート等の過酸化物、2,2−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)、アゾビス−2,4−ジメチルバレロニトリル、アゾビスシクロヘキシルニトリル、アゾビスシアノ吉草酸および2,2−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)等のアゾ系化合物並びに芳香族スルホン酸塩等の酸発生剤を挙げることができる。 It is preferable that the composition of the present invention containing a polymerizable material further contains a polymerization initiator. The kind of the polymerization initiator can be selected by a method in which an aryloxy cyclic phosphazene compound having a reactive R 2 characteristic group and a polymerizable material are subjected to a polymerization reaction. When polymerizing by heating, examples of usable polymerization initiators include peroxides such as benzoyl peroxide, dicumyl peroxide and diisopropyl peroxydicarbonate, 2,2-azobisisobutyronitrile (AIBN), Azo compounds such as azobis-2,4-dimethylvaleronitrile, azobiscyclohexylnitrile, azobiscyanovaleric acid and 2,2-azobis (2-methylbutyronitrile), and acid generators such as aromatic sulfonates be able to.
また、エネルギー線の照射により重合させる場合、使用可能な重合開始剤の例として、アセトフェノン系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤、スルホニウム系光重合開始剤およびヨードニウム系光重合開始剤等を挙げることができる。この場合、必要に応じて第三級アミン等の増感剤を併用することもできる。 Examples of usable polymerization initiators when polymerizing by irradiation with energy rays include acetophenone photopolymerization initiators, benzophenone photopolymerization initiators, benzoin photopolymerization initiators, thioxanthone photopolymerization initiators, sulfoniums. -Based photopolymerization initiators and iodonium-based photopolymerization initiators. In this case, a sensitizer such as a tertiary amine can be used in combination as necessary.
本発明の組成物は、必要に応じて反応性希釈剤を含んでいてもよい。利用可能な反応性希釈剤は、特に限定されるものではないが、例えば、ブチルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテルまたはアリルグリシジルエーテル等の脂肪族アルキルグリシジルエーテル、グリシジルメタクリレートまたは3級カルボン酸グリシジルエステル等のアルキルグリシジルエステル、スチレンオキサイド、フェニルグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル、p−s−ブチルフェニルグリシジルエーテルまたはノニルフェニルグリシジルエーテル等の芳香族アルキルグリシジルエーテル等である。反応性希釈剤は、二種以上のものが併用されてもよい。 The composition of this invention may contain the reactive diluent as needed. The reactive diluent that can be used is not particularly limited. For example, an aliphatic alkyl glycidyl ether such as butyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, or allyl glycidyl ether, glycidyl methacrylate, or tertiary carboxylic acid glycidyl ester. And alkyl glycidyl esters such as styrene oxide, phenyl glycidyl ether, cresyl glycidyl ether, ps-butylphenyl glycidyl ether and nonylphenyl glycidyl ether. Two or more reactive diluents may be used in combination.
本発明の組成物は、その用途や樹脂成分の種類等に応じ、目的とする物性を損なわない範囲で各種の添加剤を配合することができる。利用可能な添加剤の例としては、天然シリカ、焼成シリカ、合成シリカ、アモルファスシリカ、ホワイトカーボン、アルミナ、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、ホウ酸亜鉛、錫酸亜鉛、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化モリブデン、モリブデン酸亜鉛、天然マイカ、合成マイカ、アエロジル、カオリン、クレー、タルク、焼成カオリン、焼成クレー、焼成タルク、ウオラストナイト、ガラス短繊維、ガラス微粉末、中空ガラスおよびチタン酸カリウム繊維等の無機充填剤、ナノカーボンチューブ、グラフェンおよびフラーレン等のナノカーボン類、アラミド繊維およびポリパラフェニレンベンズビスオキサゾール繊維等の有機繊維、シランカップリング剤等の充填材の表面処理剤、ワックス類、脂肪酸およびその金属塩、酸アミド類およびパラフィン等の離型剤、塩素化パラフィン、リン酸エステル、縮合リン酸エステル、リン酸アミド、リン酸アミドエステル、ホスフィネート、ホスフィネート塩、リン酸アンモニウムおよび赤リン等のリン系難燃剤、メラミン、メラミンシアヌレート、メラム、メレム、メロンおよびサクシノグアナミン等の窒素系難燃剤、シリコーン系難燃剤並びに臭素系難燃剤等の難燃剤、三酸化アンチモン等の難燃助剤、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)等のドリッピング防止剤、ベンゾトリアゾール等の紫外線吸収剤、ヒンダートフェノールおよびスチレン化フェノールなどの酸化防止剤、チオキサントン系等の光重合開始剤、スチルベン誘導体等の蛍光増白剤、硬化剤、染料、顔料、着色剤、光安定剤、光増感剤、増粘剤、滑剤、消泡剤、レベリング剤、光沢剤、重合禁止剤、チクソ性付与剤、可塑剤並びに帯電防止剤等を挙げることができる。 The composition of the present invention can be blended with various additives in a range that does not impair the intended physical properties, depending on the application, the type of resin component, and the like. Examples of available additives include natural silica, calcined silica, synthetic silica, amorphous silica, white carbon, alumina, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium silicate, calcium carbonate, zinc borate, zinc stannate, oxidation Titanium, zinc oxide, molybdenum oxide, zinc molybdate, natural mica, synthetic mica, aerosil, kaolin, clay, talc, calcined kaolin, calcined clay, calcined talc, wollastonite, short glass fiber, glass fine powder, hollow glass and Surface treatment agent for fillers such as inorganic fillers such as potassium titanate fiber, nanocarbon tubes, nanocarbons such as graphene and fullerene, organic fibers such as aramid fiber and polyparaphenylenebenzbisoxazole fiber, silane coupling agent , Waxes, fat And metal salts thereof, release agents such as acid amides and paraffin, chlorinated paraffin, phosphate ester, condensed phosphate ester, phosphate amide, phosphate amide ester, phosphinate, phosphinate salt, ammonium phosphate and red phosphorus Phosphorus flame retardant, melamine, melamine cyanurate, nitrogen flame retardant such as melam, melem, melon and succinoguanamine, flame retardant such as silicone flame retardant and bromine flame retardant, flame retardant aid such as antimony trioxide Agents, anti-dripping agents such as polytetrafluoroethylene (PTFE), ultraviolet absorbers such as benzotriazole, antioxidants such as hindered phenol and styrenated phenol, photopolymerization initiators such as thioxanthone, stilbene derivatives, etc. Optical brightener, curing agent, dye, pigment, colorant, light stability , Photosensitizers, thickeners, lubricants, defoamers, leveling agents, gloss agents, polymerization inhibitors, thixotropic agents, may be mentioned plasticizers and antistatic agents.
本発明の組成物は、各種の成形方法により成形可能であり、樹脂成形体の製造用材料として用いることができる。ここで、本発明の組成物は、反応型のR2特性基を有するアリールオキシ環状ホスファゼン化合物と重合性材料とを含むものである場合、成形時に加熱することで、或いは、光や放射線等のエネルギー線を照射することで、アリールオキシ環状ホスファゼン化合物と重合性材料との重合反応を進行させることができる。 The composition of the present invention can be molded by various molding methods, and can be used as a material for producing a resin molded body. Here, when the composition of the present invention includes an aryloxy cyclic phosphazene compound having a reactive R 2 characteristic group and a polymerizable material, it is heated during molding, or energy rays such as light and radiation. , The polymerization reaction between the aryloxy cyclic phosphazene compound and the polymerizable material can be advanced.
本発明の組成物を用いて形成された樹脂成形体は、難燃性および高温下での熱安定性に優れていることから、各種の産業分野において多様な用途・目的のために使用することができる。特に、この樹脂成形体は、比誘電率および誘電損失が低いことから誘電特性に優れており、電気・電子部品において有用である。例えば、この樹脂成形体を半導体封止用途や回路基板用途(特に、金属張積層板、プリント配線基板用基板、プリント配線基板用接着剤、プリント配線基板用接着剤シート、プリント配線基板用絶縁性回路保護膜、プリント配線基板用導電ペースト、多層プリント配線基板用封止剤、回路保護剤、カバーレイフィルムまたはカバーインク)として含む電気・電子部品は、比誘電率および誘電損失が低く、伝送信号の高周波化に対応可能である。 The resin molded body formed using the composition of the present invention is excellent in flame retardancy and thermal stability at high temperatures, and therefore used for various applications and purposes in various industrial fields. Can do. In particular, this resin molded article has excellent dielectric characteristics because of its low relative dielectric constant and dielectric loss, and is useful in electrical and electronic parts. For example, this resin molding is used for semiconductor sealing and circuit board applications (particularly metal-clad laminates, printed wiring board substrates, printed wiring board adhesives, printed wiring board adhesive sheets, printed wiring board insulating properties). Electrical / electronic components including circuit protective film, conductive paste for printed wiring board, sealing agent for multilayer printed wiring board, circuit protective agent, coverlay film or cover ink) have low relative permittivity and dielectric loss, and transmission signal It is possible to cope with higher frequency.
以下に実施例や比較例等を挙げ、本発明を具体的に説明するが、本発明は、これらによってなんら限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples.
以下において、「unit mol」の「unit」は、環状ホスファゼン化合物の最小構成単位、例えば、式(1)については(NPR2)を意味する。なお、クロロシクロホスファゼン化合物の場合、その「unit」は(NPCl2)であり、その1unit molは115.87gである。また、以下においては、特に断りがない限り、「%」および「部」とあるのは、それぞれ「重量%」および「重量部」を意味する。 In the following, “unit” in “unit mol” means the smallest structural unit of a cyclic phosphazene compound, for example, (NPR 2 ) for formula (1). In the case of a chlorocyclophosphazene compound, “unit” is (NPCl 2 ), and 1 unit mol thereof is 115.87 g. In the following, unless otherwise specified, “%” and “parts” mean “% by weight” and “parts by weight”, respectively.
実施例等で使用したリン系難燃剤
実施例等で使用したリン系難燃剤は以下のとおりである。実施例等のために製造したリン系難燃剤としての各種の環状ホスファゼン化合物は、1H−NMRおよび31P−NMR並びにTOF-MSの結果に基づいて同定した。
Phosphorus flame retardants used in Examples etc. Phosphorus flame retardants used in Examples etc. are as follows. Various cyclic phosphazene compounds as phosphorus-based flame retardants produced for Examples and the like were identified based on the results of 1 H-NMR, 31 P-NMR and TOF-MS.
各リン系難燃剤について測定した誘電特性および熱安定性を表1に示す。誘電特性は、株式会社AET製の粉体測定用空洞共振器を用い、温度25℃で周波数1GHzでの比誘電率および誘電損失を測定した。また、熱安定性は、示差熱熱重量同時測定装置(株式会社日立ハイテクノロジーの型番「STA7200」)を用い、窒素雰囲気下において常温から600℃の温度範囲を10℃/分で加熱したときの500℃における重量保持率(%)を測定した。重量保持率が高いほど、熱安定性に優れていることを示している。 Table 1 shows the dielectric properties and thermal stability measured for each phosphorus-based flame retardant. The dielectric characteristics were measured by using a powder measurement cavity resonator manufactured by AET Co., Ltd., and measuring the relative dielectric constant and dielectric loss at a temperature of 25 ° C. and a frequency of 1 GHz. In addition, the thermal stability is measured when a temperature range from room temperature to 600 ° C. is heated at 10 ° C./min in a nitrogen atmosphere using a differential thermothermal gravimetric simultaneous measurement device (model number “STA7200” manufactured by Hitachi High-Technology Corporation). The weight retention (%) at 500 ° C. was measured. The higher the weight retention, the better the thermal stability.
<リン系難燃剤A:フェノキシ基全置換環状ホスファゼン化合物>
PHOSPHORUS−NITROGEN COMPOUNDS、H.R.ALLCOCK著、1972年刊、151頁、ACADEMIC PRESS社に記載されている方法に従ってヘキサクロロシクロトリホスファゼンから白色固体のヘキサフェノキシシクロトリホスファゼン([N=P(OC6H5)2]3)を製造し、これをリン系難燃剤Aとして使用した。
<Phosphorus flame retardant A: Phenoxy group fully substituted cyclic phosphazene compound>
PHOSPHORUS-NITROGEN COMPOUNDS, H.P. R. A white solid hexaphenoxycyclotriphosphazene ([N = P (OC 6 H 5 ) 2 ] 3 ) is produced from hexachlorocyclotriphosphazene according to the method described in ALLCOCK, 1972, page 151, ACADEMIC PRESS. This was used as phosphorus flame retardant A.
<リン系難燃剤B:アリルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物>
温度計、撹拌機、冷却管および滴下ロートを備え付けた1リットルの四つ口フラスコに、窒素気流下でテトラヒドロフラン200mL、水素化ナトリウム(60%、流動パラフィン分散粉末)52.8g(1.32mol)およびヘキサクロロシクロトリホスファゼン69.5g(0.60unit mol)を仕込み、フェノール溶液(テトラヒドロフラン60mLにフェノール62.1g(0.66mol)を溶解したもの)を滴下した。50℃で1時間熟成後、この反応液に2−アリルフェノール溶液(テトラヒドロフラン80mLに2−アリルフェノール80.5g(0.6mol)を溶解したもの)を滴下し、50℃で24時間熟成した。この反応混合物を室温に冷却後にトルエン500mLを加えて希釈し、この希釈液を500mLのイオン交換水を用いて2回水洗した後に希硝酸で中和してさらに水洗した。水洗後の溶液のトルエン層を減圧濃縮し、154.0gの生成物を得た(収率:94.6%)。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
<Phosphorus flame retardant B: Cyclic phosphazene compound containing allylphenoxy group>
In a 1-liter four-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, condenser and dropping funnel, 200 mL of tetrahydrofuran and 52.8 g (1.32 mol) of sodium hydride (60%, liquid paraffin-dispersed powder) under a nitrogen stream Then, 69.5 g (0.60 unit mol) of hexachlorocyclotriphosphazene was charged, and a phenol solution (dissolved in 62.1 g (0.66 mol) of phenol in 60 mL of tetrahydrofuran) was added dropwise. After aging at 50 ° C. for 1 hour, a 2-allylphenol solution (80.5 g (0.6 mol) of 2-allylphenol dissolved in 80 mL of tetrahydrofuran) was added dropwise to the reaction solution, followed by aging at 50 ° C. for 24 hours. The reaction mixture was cooled to room temperature and diluted with 500 mL of toluene. The diluted solution was washed twice with 500 mL of ion-exchanged water, neutralized with dilute nitric acid, and further washed with water. The toluene layer of the solution after washing with water was concentrated under reduced pressure to obtain 154.0 g of product (yield: 94.6%). The analysis result of this product was as follows.
◎1H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
3.3(6H),4.8〜5.1(6H),5.7〜6.0(3H),6.8〜7.3(27H)
◎31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
9.0〜9.3 三量体(P=N)3
◎TOF−MS:
774,814,854
◎ 1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
3.3 (6H), 4.8 to 5.1 (6H), 5.7 to 6.0 (3H), 6.8 to 7.3 (27H)
◎ 31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
9.0-9.3 Trimer (P = N) 3
◎ TOF-MS:
774, 814, 854
以上の分析結果から、この生成物は[N3P3(OC6H4CH2CH=CH2)2(OC6H5)4]、[[N3P3(OC6H4CH2CH=CH2)3(OC6H5)3]および[N3P3(OC6H4CH2CH=CH2)4(OC6H5)2]の混合物であり、その平均組成が[[N3P3(OC6H4CH2CH=CH2)3(OC6H5)3]のアリルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。この生成物をリン系難燃剤Bとして使用した。 From the above analysis results, the product [N 3 P 3 (OC 6 H 4 CH 2 CH = CH 2) 2 (OC 6 H 5) 4], [[N 3 P 3 (OC 6 H 4 CH 2 CH = CH 2 ) 3 (OC 6 H 5 ) 3 ] and [N 3 P 3 (OC 6 H 4 CH 2 CH═CH 2 ) 4 (OC 6 H 5 ) 2 ], the average composition of which is It was confirmed to be an allylphenoxy group-containing cyclic phosphazene compound of [[N 3 P 3 (OC 6 H 4 CH 2 CH═CH 2 ) 3 (OC 6 H 5 ) 3 ]. This product was used as phosphorus flame retardant B.
<リン系難燃剤C:ホスフィン酸金属塩>
ホスフィン酸金属塩であるClariant社の商品名「Exolit OP935」を入手し、これをリン系難燃剤Cとして使用した。
<Phosphorus flame retardant C: Phosphinic acid metal salt>
A trade name “Exolit OP935” of Clariant, which is a metal salt of phosphinic acid, was obtained and used as phosphorus flame retardant C.
<リン系難燃剤D:フェノキシフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物>
温度計、撹拌機、冷却管および滴下ロートを備え付けた3リットルの四つ口フラスコに、窒素気流下でヘキサクロロシクロトリホスファゼン溶液(テトラヒドロフラン700mLにヘキサクロロシクロトリホスファゼン173.8g(1.50unit mol)を溶解したもの)を仕込み、これに、予め調製したフェノキシフェノールのナトリウム塩溶液(テトラヒドロフラン1,000mLにフェノキシフェノールのナトリウム塩725.9g(3.47mol)を溶解したもの)を1時間かけて滴下し、3時間還流した。この反応混合物を室温に冷却後、溶媒を留去することで濃縮し、これにトルエン1,000mLおよび5%水酸化ナトリウム水溶液500mLを加えて分液ロートに移した。水層から分離したトルエン層を5%水酸化ナトリウム水溶液500mLで洗浄し、希硝酸で中和した後にさらに水洗した。トルエン層を減圧濃縮し、560.7gの生成物を得た(収率:90.0%)。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
<Phosphorus flame retardant D: Cyclic phosphazene compound containing phenoxyphenoxy group>
In a 3 liter four-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, condenser and dropping funnel, under a nitrogen stream, hexachlorocyclotriphosphazene solution (700 mL of tetrahydrofuran, 173.8 g of hexachlorocyclotriphosphazene (1.50 unit mol)) was added. In this solution, a sodium salt solution of phenoxyphenol prepared in advance (dissolved 725.9 g (3.47 mol) of sodium salt of phenoxyphenol in 1,000 mL of tetrahydrofuran) was added dropwise over 1 hour. Refluxed for 3 hours. The reaction mixture was cooled to room temperature and concentrated by distilling off the solvent. Toluene (1,000 mL) and 5% aqueous sodium hydroxide solution (500 mL) were added, and the mixture was transferred to a separatory funnel. The toluene layer separated from the aqueous layer was washed with 500 mL of 5% aqueous sodium hydroxide solution, neutralized with dilute nitric acid, and further washed with water. The toluene layer was concentrated under reduced pressure to obtain 560.7 g of product (yield: 90.0%). The analysis result of this product was as follows.
◎1H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
6.9〜7.2(54H)
◎31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
10.0 三量体(P=N)3
◎TOF-MS(m/z):
1245
◎ 1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
6.9-7.2 (54H)
◎ 31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
10.0 Trimer (P = N) 3
◎ TOF-MS (m / z):
1245
以上の分析結果から、この生成物は、構造が[N3P3(OC6H4OC6H5)6]のフェノキシフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。この生成物をリン系難燃剤Dとして使用した。 From the above analysis results, this product was confirmed to be a phenoxyphenoxy group-containing cyclic phosphazene compound having a structure of [N 3 P 3 (OC 6 H 4 OC 6 H 5 ) 6 ]. This product was used as phosphorus flame retardant D.
<リン系難燃剤E:ベンジルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物>
温度計、撹拌機、冷却管および滴下ロートを備え付けた3リットルの四つ口フラスコに、窒素気流下でヘキサクロロシクロトリホスファゼン溶液(テトラヒドロフラン700mLにヘキサクロロシクロトリホスファゼン173.8g(1.50unit mol)を溶解したもの)を仕込み、これに、予め調製したベンジルフェノールのナトリウム塩溶液(テトラヒドロフラン1,000mLにベンジルフェノールのナトリウム塩715.6g(3.47mol)を溶解したもの)を1時間かけて滴下し、3時間還流した。この反応混合物を室温に冷却後、溶媒を留去することで濃縮し、これにトルエン1,000mLおよび5%水酸化ナトリウム水溶液500mLを加えて分液ロートに移した。水層から分離したトルエン層を5%水酸化ナトリウム水溶液500mLで洗浄し、希硝酸で中和した後にさらに水洗した。トルエン層を減圧濃縮し、570.9gの生成物を得た(収率:92.5%)。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
<Phosphorus flame retardant E: benzylphenoxy group-containing cyclic phosphazene compound>
In a 3 liter four-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, condenser and dropping funnel, under a nitrogen stream, hexachlorocyclotriphosphazene solution (700 mL of tetrahydrofuran, 173.8 g of hexachlorocyclotriphosphazene (1.50 unit mol)) was added. A sodium salt solution of benzylphenol (715.6 g (3.47 mol) of sodium benzylphenol dissolved in 1,000 mL of tetrahydrofuran) was added dropwise to the solution over 1 hour. Refluxed for 3 hours. The reaction mixture was cooled to room temperature and concentrated by distilling off the solvent. Toluene (1,000 mL) and 5% aqueous sodium hydroxide solution (500 mL) were added, and the mixture was transferred to a separatory funnel. The toluene layer separated from the aqueous layer was washed with 500 mL of 5% aqueous sodium hydroxide solution, neutralized with dilute nitric acid, and further washed with water. The toluene layer was concentrated under reduced pressure to obtain 570.9 g of product (yield: 92.5%). The analysis result of this product was as follows.
◎1H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
3.8(12H)、6.7〜7.4(54H)
◎31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
9.3 三量体(P=N)3
◎TOF-MS(m/z):
1234
◎ 1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
3.8 (12H), 6.7 to 7.4 (54H)
◎ 31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
9.3 Trimer (P = N) 3
◎ TOF-MS (m / z):
1234
以上の分析結果から、この生成物は、構造が[N3P3(OC6H4CH2C6H5)6]のベンジルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。この生成物をリン系難燃剤Eとして使用した。 From the above analysis results, this product was confirmed to be a benzylphenoxy group-containing cyclic phosphazene compound having a structure of [N 3 P 3 (OC 6 H 4 CH 2 C 6 H 5 ) 6 ]. This product was used as phosphorus flame retardant E.
<リン系難燃剤F:エテニルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物>
温度計、撹拌機、冷却管および滴下ロートを備え付けた5リットルの四つ口フラスコに、窒素気流下でテトラヒドロフラン750mL、水素化ナトリウム(60%、流動パラフィン分散粉末)158.3g(3.96mol)およびヘキサクロロシクロトリホスファゼン208.6g(1.80unit mol)を仕込んだ。これを0〜5℃に冷却し、4−(メチルエテニル)フェノール溶液(テトラヒドロフラン750mLに4−(メチルエテニル)フェノール523.3g(3.9mol)を溶解したもの)を滴下した後に50℃に昇温して24時間熟成した。反応終了を確認後、反応液にトルエン2,000mLを加えて希釈し、この希釈液を2,000mLのイオン交換水に加えた。これをイオン交換水2,000mLを用いて2回水洗した後に飽和食塩水1,000mLを用いてさらに洗浄した。そして、有機層を濃縮後、残渣をジエチルエーテルで希釈してシリカゲルカラムクロマトグラフに適用した。得られたフラクションを濃縮し、411.5gの生成物を得た(収率85.7%)。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
<Phosphorus Flame Retardant F: Cyclic Phosphazene Compound Containing Ethenylphenoxy Group>
In a 5-liter four-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, condenser and dropping funnel, 750 mL of tetrahydrofuran and sodium hydride (60%, liquid paraffin dispersion powder) 158.3 g (3.96 mol) under a nitrogen stream And 208.6 g (1.80 unit mol) of hexachlorocyclotriphosphazene were charged. The solution was cooled to 0 to 5 ° C., a 4- (methylethenyl) phenol solution (523.3 g (3.9 mol) of 4- (methylethenyl) phenol dissolved in 750 mL of tetrahydrofuran) was added dropwise, and the temperature was raised to 50 ° C. For 24 hours. After confirming the completion of the reaction, 2,000 mL of toluene was added to the reaction solution for dilution, and this diluted solution was added to 2,000 mL of ion-exchanged water. This was washed twice with 2,000 mL of ion-exchanged water and then further washed with 1,000 mL of saturated saline. Then, after the organic layer was concentrated, the residue was diluted with diethyl ether and applied to a silica gel column chromatograph. The obtained fraction was concentrated to obtain 411.5 g of a product (yield 85.7%). The analysis result of this product was as follows.
◎1H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.1(18H),5.1(6H),5.3(6H),6.8〜7.3(24H)
◎31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
9.5〜10.5 三量体(P=N)3
◎TOF−MS:
933
◎ 1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.1 (18H), 5.1 (6H), 5.3 (6H), 6.8 to 7.3 (24H)
◎ 31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
9.5 to 10.5 Trimer (P = N) 3
◎ TOF-MS:
933
以上の分析結果から、この生成物は、構造が[N3P3(OC6H4C(CH3)=CH2)6]のエテニルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。この生成物をリン系難燃剤Fとして使用した。 From the above analysis results, this product was confirmed to be an ethenylphenoxy group-containing cyclic phosphazene compound having a structure of [N 3 P 3 (OC 6 H 4 C (CH 3 ) ═CH 2 ) 6 ]. This product was used as phosphorus flame retardant F.
<リン系難燃剤G:エテニルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物>
温度計、撹拌機、冷却管および滴下ロートを備え付けた1リットルの四つ口フラスコに、窒素気流下でテトラヒドロフラン200mL、水素化ナトリウム(60%、流動パラフィン分散粉末)52.8g(1.32mol)およびヘキサクロロシクロトリホスファゼン69.5g(0.60unit mol)を仕込んだ。これにフェノール溶液(テトラヒドロフラン60mLにフェノール56.5g(0.60mol)を溶解したもの)を滴下し、50℃で1時間熟成した。その後、この反応液に4−(メチルエテニル)フェノール溶液(テトラヒドロフラン100mLに4−(メチルエテニル)フェノール93.9g(0.7mol)を溶解したもの)を滴下し、50℃で24時間熟成した。反応混合物を室温に冷却後、トルエン500mLを加えて希釈した。この希釈液を500mLのイオン交換水を用いて2回水洗した後に希硝酸で中和し、さらに水洗した。そして、トルエン層を減圧濃縮し、159.6gの生成物を得た(収率:98.1%)。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
<Phosphorus flame retardant G: Cyclic phosphazene compound containing ethenylphenoxy group>
In a 1-liter four-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, condenser and dropping funnel, 200 mL of tetrahydrofuran and 52.8 g (1.32 mol) of sodium hydride (60%, liquid paraffin-dispersed powder) under a nitrogen stream And 69.5 g (0.60 unit mol) of hexachlorocyclotriphosphazene were charged. To this was added dropwise a phenol solution (dissolved in 56.5 g (0.60 mol) of phenol in 60 mL of tetrahydrofuran) and aged at 50 ° C. for 1 hour. Thereafter, a 4- (methylethenyl) phenol solution (93.9 g (0.7 mol) of 4- (methylethenyl) phenol dissolved in 100 mL of tetrahydrofuran) was added dropwise to the reaction solution, followed by aging at 50 ° C. for 24 hours. The reaction mixture was cooled to room temperature and diluted with 500 mL of toluene. The diluted solution was washed twice with 500 mL of ion exchange water, neutralized with dilute nitric acid, and further washed with water. The toluene layer was concentrated under reduced pressure to obtain 159.6 g of product (yield: 98.1%). The analysis result of this product was as follows.
◎1H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.1(9H),5.0〜5.3(6H),6.8〜7.4(27H)
◎31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
9.5〜10.5 三量体(P=N)3
◎TOF−MS:
774、814、853
◎ 1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.1 (9H), 5.0 to 5.3 (6H), 6.8 to 7.4 (27H)
◎ 31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
9.5 to 10.5 Trimer (P = N) 3
◎ TOF-MS:
774, 814, 853
以上の分析結果から、この生成物は[N3P3(OC6H4CH(CH3)=CH2)2(OC6H5)4]、[N3P3(OC6H4CH(CH3)=CH2)3(OC6H5)3]および[N3P3(OC6H4CH(CH3)=CH2)4(OC6H5)2]の混合物であり、その平均組成が[N3P3(OC6H4CH(CH3)=CH2)3(OC6H5)3]のエテニルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。この生成物をリン系難燃剤Gとして使用した。 From the above analysis results, this product is [N 3 P 3 (OC 6 H 4 CH (CH 3 ) ═CH 2 ) 2 (OC 6 H 5 ) 4 ], [N 3 P 3 (OC 6 H 4 CH (CH 3 ) ═CH 2 ) 3 (OC 6 H 5 ) 3 ] and [N 3 P 3 (OC 6 H 4 CH (CH 3 ) ═CH 2 ) 4 (OC 6 H 5 ) 2 ] The average composition was confirmed to be an ethenylphenoxy group-containing cyclic phosphazene compound of [N 3 P 3 (OC 6 H 4 CH (CH 3 ) ═CH 2 ) 3 (OC 6 H 5 ) 3 ]. This product was used as phosphorus flame retardant G.
<リン系難燃剤H:エテニルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物>
温度計、撹拌機、冷却管および滴下ロートを備え付けた1リットルの四つ口フラスコに、窒素気流下でテトラヒドロフラン200mL、水素化ナトリウム(60%、流動パラフィン分散粉末)55.5g(1.39mol)およびヘキサクロロシクロトリホスファゼン73.0g(0.63unit mol)を仕込んだ。これにフェノール溶液(テトラヒドロフラン100mLにフェノール98.8g(1.05mol)を溶解したもの)を滴下し、50℃で1時間熟成した。この反応液に4−(メチルエテニル)フェノール溶液(テトラヒドロフラン100mLに4−(メチルエテニル)フェノール42.3g(0.32mol)を溶解したもの)を滴下し、50℃で24時間熟成した。反応混合物を室温に冷却後、トルエン500mLを加えて希釈した。この希釈液を500mLのイオン交換水で2回水洗した後に希硝酸で中和し、さらに水洗した。そして、トルエン層を減圧濃縮し、146.6gの生成物を得た(収率:95.2%)。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
<Phosphorus Flame Retardant H: Cyclic Phosphazene Compound Containing Ethenylphenoxy Group>
In a 1 liter four-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, condenser, and dropping funnel, 200 mL of tetrahydrofuran and sodium hydride (60%, liquid paraffin dispersion powder) 55.5 g (1.39 mol) under a nitrogen stream And 73.0 g (0.63 unit mol) of hexachlorocyclotriphosphazene were charged. To this was added dropwise a phenol solution (98.8 g (1.05 mol) of phenol dissolved in 100 mL of tetrahydrofuran), and aged at 50 ° C. for 1 hour. To this reaction solution, a 4- (methylethenyl) phenol solution (42.3 g (0.32 mol) of 4- (methylethenyl) phenol dissolved in 100 mL of tetrahydrofuran) was added dropwise and aged at 50 ° C. for 24 hours. The reaction mixture was cooled to room temperature and diluted with 500 mL of toluene. This diluted solution was washed with 500 mL of ion exchange water twice, neutralized with dilute nitric acid, and further washed with water. Then, the toluene layer was concentrated under reduced pressure to obtain 146.6 g of a product (yield: 95.2%). The analysis result of this product was as follows.
◎1H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.1(3H),4.9〜5.4(2H),6.7〜7.4(29H)
◎31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
9.5〜10.5 三量体(P=N)3
◎TOF−MS:
734,774
◎ 1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.1 (3H), 4.9 to 5.4 (2H), 6.7 to 7.4 (29H)
◎ 31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
9.5 to 10.5 Trimer (P = N) 3
◎ TOF-MS:
734,774
以上の分析結果から、この生成物は[N3P3(OC6H4CH(CH3)=CH2)1(OC6H5)5]と[N3P3(OC6H4CH(CH3)=CH2)2(OC6H5)4]との混合物であり、その平均組成が[N3P3(OC6H4CH(CH3)=CH2)1(OC6H5)5]のエテニルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。この生成物をリン系難燃剤Hとして使用した。 From the above analysis results, this product is obtained from [N 3 P 3 (OC 6 H 4 CH (CH 3 ) ═CH 2 ) 1 (OC 6 H 5 ) 5 ] and [N 3 P 3 (OC 6 H 4 CH (CH 3 ) ═CH 2 ) 2 (OC 6 H 5 ) 4 ], the average composition of which is [N 3 P 3 (OC 6 H 4 CH (CH 3 ) ═CH 2 ) 1 (OC 6 ) It was confirmed to be a cyclic phosphazene compound containing an ethenylphenoxy group of H 5 ) 5 ]. This product was used as phosphorus flame retardant H.
実験例1〜6
リン系難燃剤DおよびEのそれぞれについて、酸価成分(先に記載した式(3)で表される単位を含むもの。)およびイオン交換水を適宜添加することで表2に示すように酸価および含有水分量を調整し、誘電特性を測定した。誘電特性の測定項目および測定方法は、[実施例等で使用したリン系難燃剤]に関して説明したとおりである。結果を表2に示す。
Experimental Examples 1-6
For each of the phosphorus-based flame retardants D and E, an acid value component (containing a unit represented by the above-described formula (3)) and ion-exchanged water are appropriately added to add acid as shown in Table 2. The dielectric properties were measured by adjusting the value and water content. The measurement items and measurement methods of the dielectric properties are as described for [Phosphorus flame retardant used in Examples and the like]. The results are shown in Table 2.
実施例1〜5
リン系難燃剤D〜H、ビニル末端変性ポリフェニレンエーテルオリゴマー(SABIC社の商品名「SA−9000」)、スチレン−ブタジエン共重合体(TOTAL社の商品名「RICON184」)、重合開始剤(東京化成株式会社の試薬「t−Butyl Peroxide」)およびメチルエチルケトン(MEK)を表1に示す割合で加えて撹拌し、ワニスを調製した。このワニスをポリエチレンテレフタレート樹脂フィルム上に塗布して室温で1時間放置した後、90℃で30分さらに乾燥処理した。乾燥後の塗膜を剥離してポリテトラフルオロエチレン樹脂製のスペーサー内に入れ、真空下、120℃で30分、150℃で30分、180℃で100分の順に段階的に加熱、加圧して硬化させることで後記の評価に適した大きさの成形体を得た。
Examples 1-5
Phosphorus flame retardants D to H, vinyl-terminated polyphenylene ether oligomer (trade name “SA-9000” from SABIC), styrene-butadiene copolymer (trade name “RICON 184” from TOTAL), polymerization initiator (Tokyo Kasei) Reagent “t-Butyl Peroxide”) and methyl ethyl ketone (MEK) were added at a ratio shown in Table 1 and stirred to prepare a varnish. This varnish was applied on a polyethylene terephthalate resin film and allowed to stand at room temperature for 1 hour, and then further dried at 90 ° C. for 30 minutes. The dried coating is peeled off and placed in a spacer made of polytetrafluoroethylene resin, and heated and pressurized stepwise in order of 120 minutes at 120 ° C, 30 minutes at 150 ° C, and 100 minutes at 180 ° C. A molded body having a size suitable for the evaluation described later was obtained by curing.
比較例1〜3
リン系難燃剤D〜Hに代えてリン系難燃剤A〜Cを使用した点を除いて実施例1〜5と同様に操作し、後記の評価に適した大きさの成形体を得た。
Comparative Examples 1-3
Except for using the phosphorus flame retardants A to C instead of the phosphorus flame retardants D to H, the same operation as in Examples 1 to 5 was performed to obtain a molded article having a size suitable for the evaluation described below.
実施例6〜11
リン系難燃剤D、Eと、予め100℃で8時間乾燥処理した熱可塑性樹脂(ポリフタルアミド:SOLVAY社の商品名「アモデルAE−1133」)とを二軸混練押出装置(東洋精機株式会社製)に対して表3に示す割合で供給し、310℃にて混練して樹脂ペレットを得た。射出成形機(デジタルファクトリー株式会社製)を用い、得られた樹脂ペレットを樹脂温度300℃、金型温度120℃の条件で成形し、後記の評価に適した大きさの成形体を得た。
Examples 6-11
A twin-screw kneading extruder (Toyo Seiki Co., Ltd.) and phosphorus-based flame retardants D and E and a thermoplastic resin (polyphthalamide: trade name “Amodel AE-1133” of SOLVAY) previously dried at 100 ° C. for 8 hours. Manufactured at a rate shown in Table 3, and kneaded at 310 ° C. to obtain resin pellets. Using an injection molding machine (manufactured by Digital Factory Co., Ltd.), the obtained resin pellets were molded under conditions of a resin temperature of 300 ° C. and a mold temperature of 120 ° C. to obtain a molded body having a size suitable for the evaluation described later.
比較例4、5
リン系難燃剤D、Eに代えてリン系難燃剤A、Cを使用した点を除いて実施例6〜11と同様に操作し、後記の評価に適した大きさの成形体を作製した。
Comparative Examples 4 and 5
Except that the phosphorus flame retardants A and C were used in place of the phosphorus flame retardants D and E, operations were carried out in the same manner as in Examples 6 to 11, and molded articles having a size suitable for the evaluation described later were prepared.
実施例および比較例で得られた成形体の評価
実施例1〜11および比較例1〜5で得られた成形体について、難燃性、誘電特性および耐熱性を評価した。評価方法は次のとおりである。結果を表3、4に示す。
Evaluation of molded bodies obtained in Examples and Comparative Examples Flame retardancy, dielectric properties and heat resistance of the molded bodies obtained in Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 to 5 were evaluated. The evaluation method is as follows. The results are shown in Tables 3 and 4.
<難燃性>
長さ125mm、幅12.5mmおよび厚み1.5mmの成形体について、アンダーライターラボラトリーズ(Underwriter’s Laboratories Inc.)のUL−94規格垂直燃焼試験に基づき、10回接炎時の合計燃焼時間と燃焼時の滴下物による綿着火の有無により、V−0、V−1、V−2および規格外の四段階の難燃性クラスに分類判定した。V−0が最高評価であり、V−1、V−2、規格外の順に評価が下がる。
<Flame retardance>
Based on the UL-94 standard vertical combustion test of Underwriters' Laboratories Inc. for a molded body having a length of 125 mm, a width of 12.5 mm and a thickness of 1.5 mm, It was classified into V-0, V-1, V-2 and non-standard four-stage flame retardant classes depending on whether or not cotton was ignited by drops during combustion. V-0 is the highest evaluation, and the evaluation decreases in the order of V-1, V-2, and non-standard.
<誘電特性>
長さ80mm、幅3mmおよび厚さ1.0mmの成形体について、JIS R1641「ファインセラミックス基板のマイクロ波誘電特性の測定方法」に従い温度25℃で周波数1GHzでの比誘電率および誘電損失を測定した。
<Dielectric properties>
For a molded body having a length of 80 mm, a width of 3 mm, and a thickness of 1.0 mm, the relative dielectric constant and dielectric loss at a temperature of 25 ° C. and a frequency of 1 GHz were measured in accordance with JIS R1641 “Method for Measuring Microwave Dielectric Properties of Fine Ceramic Substrate”. .
<耐熱性>
成形体の耐熱性を、以下のブリードアウト性で評価した。
成形体を160℃で100時間加熱し、成形体表面でのブリードアウト状態(成形体内
部からのブリードアウト状態)を目視により観察した。評価の基準は次の通りである。
◎:ブリードアウトが全く見られない。
〇:ブリードアウトがほとんど見られない。
△:若干のブリードアウトが見られる。
×:著しいブリードアウトが見られる。
<Heat resistance>
The heat resistance of the molded body was evaluated by the following bleed-out property.
The molded body was heated at 160 ° C. for 100 hours, and the bleed-out state (bleed-out state from the inside of the molded body) on the surface of the molded body was visually observed. The criteria for evaluation are as follows.
A: No bleed out is observed.
○: Almost no bleed out is observed.
Δ: Some bleed out is observed.
X: Significant bleeding out is observed.
Claims (7)
樹脂成分と、
を含む難燃性樹脂組成物。
R−1基:炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数が6〜20のアリールオキシ基。
R−2基:下記の式(2)で示される置換アリールオキシ基。
A resin component;
A flame retardant resin composition.
R-1 group: An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms in which at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.
R-2 group: a substituted aryloxy group represented by the following formula (2).
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114213759A (en) * | 2022-01-04 | 2022-03-22 | 深圳中塑化工高性能材料有限公司 | Preparation method and application of polyphosphate grafted graphene flame-retardant modified polypropylene |
CN115537969A (en) * | 2022-08-19 | 2022-12-30 | 邵阳深镁科技时尚有限公司 | Flame-retardant wig and preparation method thereof |
CN116285087A (en) * | 2023-04-13 | 2023-06-23 | 南通长盈复合材料有限公司 | EVA foaming material and preparation process thereof |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08225714A (en) * | 1994-10-07 | 1996-09-03 | Minnesota Mining & Mfg Co <3M> | Flame-retardant thermosetting resin composition |
WO2002020664A1 (en) * | 2000-09-04 | 2002-03-14 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Polyphenylene ether resin composition |
WO2004024844A1 (en) * | 2002-09-13 | 2004-03-25 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | Phosphazene composition |
JP2011026513A (en) * | 2009-07-28 | 2011-02-10 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | Curable cyclic phosphazene-based compound and method for producing the same |
JP2013075942A (en) * | 2011-09-29 | 2013-04-25 | Fushimi Pharm Co Ltd | Flame retardant resin composition |
-
2018
- 2018-03-20 JP JP2018052692A patent/JP2019163404A/en active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08225714A (en) * | 1994-10-07 | 1996-09-03 | Minnesota Mining & Mfg Co <3M> | Flame-retardant thermosetting resin composition |
WO2002020664A1 (en) * | 2000-09-04 | 2002-03-14 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Polyphenylene ether resin composition |
WO2004024844A1 (en) * | 2002-09-13 | 2004-03-25 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | Phosphazene composition |
JP2011026513A (en) * | 2009-07-28 | 2011-02-10 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | Curable cyclic phosphazene-based compound and method for producing the same |
JP2013075942A (en) * | 2011-09-29 | 2013-04-25 | Fushimi Pharm Co Ltd | Flame retardant resin composition |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114213759A (en) * | 2022-01-04 | 2022-03-22 | 深圳中塑化工高性能材料有限公司 | Preparation method and application of polyphosphate grafted graphene flame-retardant modified polypropylene |
CN114213759B (en) * | 2022-01-04 | 2023-11-07 | 深圳中塑化工高性能材料有限公司 | Preparation method and application of polyphosphonate grafted graphene flame-retardant modified polypropylene |
CN115537969A (en) * | 2022-08-19 | 2022-12-30 | 邵阳深镁科技时尚有限公司 | Flame-retardant wig and preparation method thereof |
CN115537969B (en) * | 2022-08-19 | 2024-03-29 | 邵阳深镁科技时尚有限公司 | Flame-retardant wig and preparation method thereof |
CN116285087A (en) * | 2023-04-13 | 2023-06-23 | 南通长盈复合材料有限公司 | EVA foaming material and preparation process thereof |
CN116285087B (en) * | 2023-04-13 | 2023-10-03 | 南通长盈复合材料有限公司 | EVA foaming material and preparation process thereof |
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