JP2019148176A

JP2019148176A - Vacuum pump system, and control method for vacuum pump system

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Publication number: JP2019148176A
Application number: JP2018031812A
Authority: JP
Inventors: 弘一岩崎; Koichi Iwasaki
Original assignee: Ebara Corp
Current assignee: Ebara Corp
Priority date: 2018-02-26
Filing date: 2018-02-26
Publication date: 2019-09-05
Anticipated expiration: 2038-02-26
Also published as: JP7014636B2

Abstract

To detect an abnormality of a sensor of in vacuum pump system.SOLUTION: The vacuum pump system comprises: a first sensor group provided in a first vacuum pump; a second sensor group being a sensor gear pump which is the same as the first sensor group, and provided in a second vacuum pump; and a third sensor group being a sensor group which is the same as the first and second sensor groups, and provided in a third vacuum pump. The vacuum pump system further comprises a control part for controlling operations of the first, second and third vacuum pumps on the basis of at least a part of measurement values of the first, second and third sensor groups. Then, the control part calculates an estimated measurement value of the first sensor in the first sensor group on the basis of at least a part of the measurement values of the first, second and third sensor groups, and detects an abnormality of the first sensor in the first sensor group by comparing the measurement value and the estimated measurement value of the first sensor in the first sensor group with each other.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、真空ポンプシステム、および真空ポンプシステムの制御方法に関するものである。 The present invention relates to a vacuum pump system and a method for controlling the vacuum pump system.

真空ポンプシステムは、例えば、半導体、液晶ディスプレイ、太陽光パネル、およびＬＥＤ等の製造設備の一つとして広く使用されている。また、従来、真空ポンプシステムでは、複数の対象物を並列して処理できるように、複数の処理チャンバに複数の真空ポンプがそれぞれに接続された構成が採用される（例えば特許文献１参照）。 The vacuum pump system is widely used as one of manufacturing equipment for semiconductors, liquid crystal displays, solar panels, LEDs, and the like. Conventionally, a vacuum pump system employs a configuration in which a plurality of vacuum pumps are connected to a plurality of processing chambers so that a plurality of objects can be processed in parallel (see, for example, Patent Document 1).

一般的に、それぞれの真空ポンプには各種センサが具備され、各種センサによって測定された測定値を制御部が監視する。制御部は、各種センサによる測定値に異常が認められた場合には、表示または信号等によって異常を外部に報知し、さらに、測定値の異常が真空ポンプの運転を停止すべきものと判断したときには、真空ポンプを強制停止させる。 Generally, each vacuum pump is provided with various sensors, and a control unit monitors measured values measured by the various sensors. When an abnormality is recognized in the measured values by various sensors, the control unit notifies the abnormality to the outside by a display or a signal, and further, when it is determined that the abnormality in the measured value should stop the operation of the vacuum pump The vacuum pump is forcibly stopped.

特開２０１５−２２７６１８号公報Japanese Patent Laying-Open No. 2015-227618

上記したように、真空ポンプの異常は、各種センサによる測定値に基づいて判断される。このため、センサ、またはセンサから制御部への配線等に異常が生じた場合には、真空ポンプが適正に運転されていても、真空ポンプの異常が報知されたり、真空ポンプの運転が強制停止されたりしてしまう。真空ポンプは、製造設備の一部として構成されており、真空ポンプが強制停止して排気が停止してしまうと、製造製品に損傷が生じ、莫大な費用と時間の損失となる。 As described above, the abnormality of the vacuum pump is determined based on the measurement values obtained by various sensors. For this reason, if an abnormality occurs in the sensor or wiring from the sensor to the control unit, even if the vacuum pump is operating properly, the abnormality of the vacuum pump is reported or the operation of the vacuum pump is forcibly stopped. It will be. The vacuum pump is configured as a part of the manufacturing equipment. If the vacuum pump is forcibly stopped and the exhaust is stopped, the manufactured product is damaged, resulting in enormous cost and time loss.

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、真空ポンプシステムにおけるセンサの異常を検出することを目的の１つとする。また、本発明は、センサの異常が検出された場合にも真空ポンプの運転を適切に継続させることを目的の１つとする。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to detect an abnormality of a sensor in a vacuum pump system. Another object of the present invention is to appropriately continue the operation of the vacuum pump even when a sensor abnormality is detected.

（形態１）形態１によれば、真空ポンプシステムが提案され、前記真空ポンプシステムは、第１の真空チャンバに接続された第１の真空ポンプと、第２の真空チャンバに接続された第２の真空ポンプと、第３の真空チャンバに接続された第３の真空ポンプと、前記第１の真空ポンプに設けられた第１のセンサ群と、前記第１のセンサ群と同一のセンサ群であって前記第２の真空ポンプに設けられた第２のセンサ群と、前記第１及び第２のセンサ群と同一のセンサ群であって前記第３の真空ポンプに設けられた第３のセンサ群と、前記第１、第２、及び第３のセンサ群による測定値の少なくとも一部に基づいて前記第１、第２、及び第３の真空ポンプのそれぞれの運転を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記第１、第２、及び第３のセンサ群による測定値の少なくとも一部に基づいて、前記第１のセンサ群における第１センサの推定測定値を算出し、前記第１のセンサ群における前記第１センサによる測定値と前記推定測定値とを比較することにより、前記第１のセンサ群における前記第１センサの異常を検出。形態１によれば、複数の真空ポンプのそれぞれに設けられた複数のセンサ群による測定値に基づいて第１センサの異常を検出することができる。 (Embodiment 1) According to Embodiment 1, a vacuum pump system is proposed, and the vacuum pump system includes a first vacuum pump connected to the first vacuum chamber and a second vacuum pump connected to the second vacuum chamber. A vacuum pump, a third vacuum pump connected to a third vacuum chamber, a first sensor group provided in the first vacuum pump, and a sensor group identical to the first sensor group A third sensor provided in the third vacuum pump, the second sensor group provided in the second vacuum pump, and the same sensor group as the first and second sensor groups. A controller that controls the operation of each of the first, second, and third vacuum pumps based on at least a portion of the measured values of the group and the first, second, and third sensor groups; The control unit includes the first, second, and third An estimated measurement value of the first sensor in the first sensor group is calculated based on at least a part of the measurement value by the sensor group, and the measurement value by the first sensor in the first sensor group and the estimated measurement value are calculated. And detecting an abnormality of the first sensor in the first sensor group. According to the first aspect, the abnormality of the first sensor can be detected based on the measurement values obtained by the plurality of sensor groups provided in each of the plurality of vacuum pumps.

（形態２）形態２によれば、形態１による真空ポンプシステムにおいて、前記制御部は、前記第１のセンサ群における前記第１センサの異常を検出したときには、前記第１の真空ポンプの運転を前記推定測定値に基づいて制御する。形態２によれば、第１センサの異常が検出された場合にも、真空ポンプの運転を適切に継続させることができる。 (Embodiment 2) According to Embodiment 2, in the vacuum pump system according to Embodiment 1, when the control unit detects an abnormality of the first sensor in the first sensor group, the operation of the first vacuum pump is performed. Control based on the estimated measurement value. According to the form 2, even when the abnormality of the first sensor is detected, the operation of the vacuum pump can be appropriately continued.

（形態３）形態３によれば、形態１または２による真空ポンプシステムにおいて、前記第１、第２、及び第３のセンサ群のそれぞれは、前記第１、第２、及び第３の真空ポンプの第１状態値を測定する第１センサと、当該第１、第２、及び第３の真空ポンプの第２状態値を測定する第２センサと、を含み、前記制御部は、前記第１、第２、及び第３のセンサ群による測定値の少なくとも一部に基づいて、前記第１のセンサ群における前記第１センサの推定測定値と前記第２センサの推定測定値とを算出し、前記第１のセンサ群における前記第１センサによる測定値と当該第１センサの推定測定値との差が第１閾値以上であり、且つ、前記第１センサ群における前記第２センサによる測定値と当該第２センサの推定測定値との差が第２閾値未満であるときに、前記第１センサ群における前記第１センサの異常を検出する。 (Mode 3) According to mode 3, in the vacuum pump system according to mode 1 or 2, each of the first, second, and third sensor groups may be the first, second, and third vacuum pumps. A first sensor that measures a first state value of the first vacuum sensor, and a second sensor that measures a second state value of the first, second, and third vacuum pumps. Calculating an estimated measurement value of the first sensor and an estimated measurement value of the second sensor in the first sensor group based on at least a part of the measurement values obtained by the second and third sensor groups; A difference between a measured value of the first sensor in the first sensor group and an estimated measured value of the first sensor is not less than a first threshold value, and a measured value of the second sensor in the first sensor group; The difference from the estimated measurement value of the second sensor is less than the second threshold value In some case, to detect the abnormality of the first sensor in the first sensor group.

（形態４）形態４によれば、形態１から３の何れか１つによる真空ポンプシステムにおいて、前記第１、第２、及び第３のセンサ群のそれぞれは、前記第１、第２、及び第３の真空ポンプの第１状態値を測定する第１センサと、当該第１、第２、及び第３の真空ポンプの第２状態値を測定する第２センサと、を含み、前記制御部は、前記第１、第２、及び第３のセンサ群における前記第１センサによる測定値に基づいて前記第１のセンサ群における前記第１センサの推定測定値を算出するとともに、前記第１、第２、及び第３のセンサ群における前記第２センサによる測定値に基づいて前記第１センサ群における前記第１センサの推定測定値を補正する。形態４によれば、第１センサの推定測定値をより適正に算出することができ、第１センサの異常をより適正に検出することができる。 (Embodiment 4) According to Embodiment 4, in the vacuum pump system according to any one of Embodiments 1 to 3, each of the first, second, and third sensor groups includes the first, second, and A first sensor that measures a first state value of a third vacuum pump; and a second sensor that measures a second state value of the first, second, and third vacuum pumps, and the controller Calculates an estimated measurement value of the first sensor in the first sensor group based on a measurement value by the first sensor in the first, second, and third sensor groups, and the first, The estimated measurement value of the first sensor in the first sensor group is corrected based on the measurement value by the second sensor in the second and third sensor groups. According to the fourth aspect, the estimated measurement value of the first sensor can be calculated more appropriately, and the abnormality of the first sensor can be detected more appropriately.

（形態５）形態５によれば、形態１から４の何れか１つによる真空ポンプシステムにおいて、前記第１、第２、及び第３の真空ポンプは、所定の繰り返しパターンでそれぞれに運転し、前記制御部は、前記第１、第２、及び第３のセンサ群による測定値の少なくとも一部に基づいて前記第１、第２、及び第３の真空ポンプごとの前記繰り返しパターンにおける特定タイミングを特定し、前記第１、第２、及び第３のセンサ群のそれぞれによる前記特定タイミングからの測定値の少なくとも一部に基づいて、前記第１のセンサ群における前記第１センサの前記特定タイミングからの推定測定値を算出する。形態５によれば、複数の真空ポンプが独立して運転されている場合に、より適正に特定センサの異常を検出することができる。 (Embodiment 5) According to Embodiment 5, in the vacuum pump system according to any one of Embodiments 1 to 4, the first, second, and third vacuum pumps are respectively operated in a predetermined repeating pattern, The control unit determines a specific timing in the repetitive pattern for each of the first, second, and third vacuum pumps based on at least a part of the measurement values by the first, second, and third sensor groups. From the specific timing of the first sensor in the first sensor group, based on at least part of the measured value from the specific timing by each of the first, second and third sensor groups Calculate an estimated measurement of. According to the form 5, when a plurality of vacuum pumps are operated independently, an abnormality of the specific sensor can be detected more appropriately.

（形態６）形態６によれば、形態１から５の何れか１つによる真空ポンプシステムにおいて、前記第１、第２、及び第３のセンサ群のそれぞれは、真空ポンプの本体を駆動するモータに流れる電流を測定する電流センサと、前記真空ポンプまたは当該真空ポンプに接続される配管の振動を測定する振動センサと、前記真空ポンプの本体、前記モータ、または前記真空ポンプを冷却する冷却媒体の温度を測定する第１温度センサと、前記真空ポンプに吸い込まれる流体の温度を測定する第２温度センサと、前記真空ポンプに吸い込まれる流体の流量を測定する第１流量センサと、前記真空ポンプに吸い込まれる流体の圧力を測定する圧力センサと、前記冷却媒体の温度を測定する第３温度センサと、前記冷却媒体の流量を測定する第２流量センサと、前記制御部または前記モータに印加される電圧を測定する電圧センサと、の少なくとも１つを含む。 (Mode 6) According to Mode 6, in the vacuum pump system according to any one of Modes 1 to 5, each of the first, second, and third sensor groups is a motor that drives a main body of the vacuum pump. A current sensor that measures a current flowing through the vacuum pump, a vibration sensor that measures vibration of the vacuum pump or piping connected to the vacuum pump, a body of the vacuum pump, the motor, or a cooling medium that cools the vacuum pump. A first temperature sensor for measuring the temperature, a second temperature sensor for measuring the temperature of the fluid sucked into the vacuum pump, a first flow rate sensor for measuring the flow rate of the fluid sucked into the vacuum pump, and the vacuum pump. A pressure sensor for measuring the pressure of the sucked fluid; a third temperature sensor for measuring the temperature of the cooling medium; and a second flow rate sensor for measuring the flow rate of the cooling medium. If, comprising a voltage sensor measuring the voltage applied to the control unit or the motor, at least one of.

（形態７）形態７によれば、形態１から６の何れか１つによる真空ポンプシステムにおいて、前記第１、第２、及び第３の真空ポンプのそれぞれは、封止のために窒素が供給され
るドライ真空ポンプであり、前記第１、第２、及び第３のセンサ群のそれぞれは、前記窒素の供給流量を測定する窒素流量センサと、前記窒素の圧力を測定する窒素圧力センサと、の少なくとも１つを含む。 (Embodiment 7) According to Embodiment 7, in the vacuum pump system according to any one of Embodiments 1 to 6, each of the first, second, and third vacuum pumps is supplied with nitrogen for sealing. Each of the first, second, and third sensor groups includes a nitrogen flow sensor that measures the nitrogen supply flow rate, a nitrogen pressure sensor that measures the nitrogen pressure, At least one of the following.

（形態８）形態８によれば、形態１から７の何れか１つによる真空ポンプシステムにおいて、前記制御部は、前記第１、第２、及び第３の真空ポンプのそれぞれに対応して設けられている第１、第２、及び第３の制御ユニットと、前記第１、第２、及び第３の制御ユニットと通信可能に構成された制御装置と、を備える。 (Embodiment 8) According to Embodiment 8, in the vacuum pump system according to any one of Embodiments 1 to 7, the control unit is provided corresponding to each of the first, second, and third vacuum pumps. First, second, and third control units, and a control device configured to be communicable with the first, second, and third control units.

（形態９）形態９によれば、形態１から８の何れか１つによる真空ポンプシステムにおいて、前記制御部は、前記第１センサの異常を検出したときに報知する。 (Embodiment 9) According to Embodiment 9, in the vacuum pump system according to any one of Embodiments 1 to 8, the control unit notifies when an abnormality of the first sensor is detected.

（形態１０）請求項１０によれば、真空ポンプシステムにおける制御方法が提案され、前記真空ポンプシステムは、第１の真空チャンバに接続された第１の真空ポンプと、第２の真空チャンバに接続された第２の真空ポンプと、第３の真空チャンバに接続された第３の真空ポンプと、前記第１の真空ポンプに設けられた第１のセンサ群と、前記第１のセンサ群と同一のセンサ群であって前記第２の真空ポンプに設けられた第２のセンサ群と、前記第１及び第２のセンサ群と同一のセンサ群であって前記第３の真空ポンプに設けられた第３のセンサ群と、を備えており、前記制御方法は、前記第１、第２、及び第３のセンサ群による測定値の少なくとも一部に基づいて前記第１、第２、及び第３の真空ポンプのそれぞれの運転を制御する制御ステップと、前記第１、第２、及び第３のセンサ群による測定値の少なくとも一部に基づいて、前記第１のセンサ群における第１センサの推定測定値を算出し、前記第１のセンサ群における前記第１センサによる測定値と前記推定測定値とを比較することにより、前記第１のセンサ群における前記第１センサの異常を検出する異常検出ステップと、を含む。形態１０によれば、形態１による真空ポンプシステムと同様の効果を奏することができる。 (Mode 10) According to claim 10, a control method in a vacuum pump system is proposed, and the vacuum pump system is connected to a first vacuum pump connected to the first vacuum chamber and to the second vacuum chamber. Second vacuum pump, a third vacuum pump connected to a third vacuum chamber, a first sensor group provided in the first vacuum pump, and the same as the first sensor group A second sensor group provided in the second vacuum pump, and the same sensor group as the first and second sensor groups, provided in the third vacuum pump. A third sensor group, wherein the control method is based on at least a part of the measured values by the first, second, and third sensor groups. Controls that control the operation of each vacuum pump And an estimated measured value of the first sensor in the first sensor group based on at least a part of the measured value by the first, second, and third sensor groups, and the first sensor An abnormality detection step of detecting an abnormality of the first sensor in the first sensor group by comparing the measured value of the first sensor in the sensor group with the estimated measurement value. According to the tenth aspect, the same effect as that of the vacuum pump system according to the first aspect can be obtained.

本発明の一実施形態に係る真空ポンプシステムの構成の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a structure of the vacuum pump system which concerns on one Embodiment of this invention. 図１の真空ポンプ装置の具体的な構成の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a specific structure of the vacuum pump apparatus of FIG. 制御部によって実行される真空ポンプ制御処理の一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the vacuum pump control process performed by the control part. 製造装置によって処理チャンバに供給されるガス（ＧＡＳ１〜ＧＡＳ３）、モータに流れる電流（Ｃ１）、モータ温度（Ｔ２）、及び、真空ポンプ本体温度（Ｔ３）の変化の一例を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows an example of change of gas (GAS1-GAS3) supplied to a processing chamber by a manufacturing device, current (C1) which flows into a motor, motor temperature (T2), and vacuum pump body temperature (T3). 変形例における制御部によって実行される第１センサアラーム判定処理の一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the 1st sensor alarm determination process performed by the control part in a modification.

以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。以下で説明する図面において、同一の又は相当する構成要素には、同一の符号を付して重複した説明を省略する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the drawings described below, the same or corresponding components are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.

図１は、本発明の一実施形態に係る真空ポンプシステムの構成の一例を示す図である。この真空ポンプシステムは、一例として、ＣＶＤ装置、エッチング装置などの半導体デバイス製造装置に使用される複数（図１の例では３つ）の処理チャンバ２０Ａ〜２０Ｃ（第１〜第３の真空チャンバに相当する。）から処理ガスを排気するために使用される。処理チャンバ２０Ａ〜２０Ｃのそれぞれは、独立した空間を画定しており、それぞれ異なる処理を施すことができるように構成されている。 FIG. 1 is a diagram illustrating an example of a configuration of a vacuum pump system according to an embodiment of the present invention. As an example, this vacuum pump system includes a plurality (three in the example of FIG. 1) of processing chambers 20A to 20C (in the first to third vacuum chambers) used in semiconductor device manufacturing apparatuses such as a CVD apparatus and an etching apparatus. It is used to exhaust the processing gas from Each of the processing chambers 20A to 20C defines an independent space, and is configured to be able to perform different processes.

本実施形態では、真空ポンプ装置１０Ａ〜１０Ｃのそれぞれは、処理チャンバ２０Ａ〜２０Ｃに接続された真空ポンプ１２Ａ〜１２Ｃ（第１〜第３の真空ポンプに相当する。）を備えている。また、真空ポンプ装置１０Ａ〜１０Ｃは、真空ポンプ１２Ａ〜１２Ｃのそれぞれの状態を測定するセンサ群１４Ａ〜１４Ｃ（第１〜第３のセンサ群に相当する。）、及び、真空ポンプ１２Ａ〜１２Ｃのそれぞれの運転を制御する制御ユニット１６Ａ〜１６Ｃ（第１〜第３の制御ユニットに相当する。）を備える。また、真空ポンプシステム１００は、制御ユニット１６Ａ〜１６Ｃのそれぞれに無線または有線によって通信可能に接続された制御装置３０を備える。なお、本実施形態では、制御ユニット１６Ａ〜１６Ｃ、及び制御装置３０が、制御部４０を構成する。 In the present embodiment, each of the vacuum pump devices 10A to 10C includes vacuum pumps 12A to 12C (corresponding to first to third vacuum pumps) connected to the processing chambers 20A to 20C. Further, the vacuum pump devices 10A to 10C include sensor groups 14A to 14C (corresponding to first to third sensor groups) that measure the respective states of the vacuum pumps 12A to 12C, and the vacuum pumps 12A to 12C. Control units 16A to 16C (corresponding to first to third control units) for controlling the respective operations are provided. Moreover, the vacuum pump system 100 includes a control device 30 that is connected to each of the control units 16A to 16C so as to be communicable wirelessly or by wire. In the present embodiment, the control units 16 A to 16 C and the control device 30 constitute the control unit 40.

本実施形態では真空ポンプ装置１０Ａ〜１０Ｃのそれぞれは同一の構成である。以下、代表として真空ポンプ装置１０Ａについて詳細に説明する。図２は、図１の真空ポンプ装置１０Ａの具体的な構成の一例を模式的に示す図である。真空ポンプ装置１０Ａは、処理チャンバ２０Ａに接続された真空ポンプ１２Ａを備えている。真空ポンプ１２Ａは、真空ポンプ本体１２２と、真空ポンプ本体１２２に動力を提供するモータ１２４と、を備える。真空ポンプ装置１０Ａは、モータ１２４を制御するモータドライバ１８と、真空ポンプ装置１０Ａ全体を制御する制御ユニット１６Ａと、を備える。モータドライバ１８、及び制御ユニット１６Ａには、商用電源などの外部電源５０から電力が供給される（図２中、太い破線参照）。モータドライバ１８は、制御ユニット１６Ａからの制御指令に応じてモータ１２４に流れる電流を制御する。つまり、制御ユニット１６Ａは、モータドライバ１８を介して真空ポンプ１２Ａの運転を制御する。真空ポンプ１２Ａが運転されることによって処理チャンバ２０Ａから処理ガスが排気される（図２中、太線矢印）。 In this embodiment, each of the vacuum pump devices 10A to 10C has the same configuration. Hereinafter, the vacuum pump device 10A will be described in detail as a representative. FIG. 2 is a diagram schematically showing an example of a specific configuration of the vacuum pump device 10A of FIG. The vacuum pump device 10A includes a vacuum pump 12A connected to the processing chamber 20A. The vacuum pump 12 A includes a vacuum pump main body 122 and a motor 124 that provides power to the vacuum pump main body 122. The vacuum pump apparatus 10A includes a motor driver 18 that controls the motor 124, and a control unit 16A that controls the entire vacuum pump apparatus 10A. Electric power is supplied to the motor driver 18 and the control unit 16A from an external power source 50 such as a commercial power source (see a thick broken line in FIG. 2). The motor driver 18 controls the current flowing through the motor 124 in accordance with a control command from the control unit 16A. That is, the control unit 16 A controls the operation of the vacuum pump 12 A via the motor driver 18. By operating the vacuum pump 12A, the processing gas is exhausted from the processing chamber 20A (indicated by a thick arrow in FIG. 2).

真空ポンプ１２Ａには、真空ポンプ１２Ａの冷却のために、外部の冷却媒体供給部５２から冷却媒体が供給されている（図２中、太線一点鎖線）。また、本実施形態では真空ポンプ１２Ａとしてドライ真空ポンプが採用されており、真空ポンプ１２Ａには、軸受け等の封止を確保するために、外部の窒素ガス供給部５４から窒素ガスが供給されている（図２中、太線二点鎖線）。ただし、こうした例に限定されず、真空ポンプ１２Ａとして種々の真空ポンプが採用されればよい。 A cooling medium is supplied to the vacuum pump 12A from an external cooling medium supply unit 52 for cooling the vacuum pump 12A (indicated by a thick dashed line in FIG. 2). In this embodiment, a dry vacuum pump is adopted as the vacuum pump 12A. Nitrogen gas is supplied to the vacuum pump 12A from an external nitrogen gas supply unit 54 in order to ensure sealing of a bearing or the like. (In FIG. 2, a thick two-dot chain line). However, the present invention is not limited to this example, and various vacuum pumps may be adopted as the vacuum pump 12A.

真空ポンプ装置１０Ａには、真空ポンプ１２Ａの状態を測定するためのセンサ群（図１中、センサ群１４Ａ）が設けられている。本実施形態では、図２に示すように、真空ポンプ装置１０Ａは、真空ポンプ１２Ａのモータ１２４に流れる電流を測定する電流センサ１４１、及び真空ポンプ１２Ａに接続される配管（不図示）の振動を測定する振動センサ１４２、１４５を備えている。なお、振動センサ１４２、１４５は、真空ポンプ１２Ａの吸気側および排気側に接続される配管の振動を測定するものとしたが、真空ポンプ１２Ａの振動を測定するものでもよい。また、真空ポンプ装置１０Ａは、真空ポンプ本体１２２の温度を測定する温度センサ（第１温度センサ）１４３、モータ１２４の温度を測定する温度センサ（第１温度センサ）１４４、及び冷却媒体の温度を測定する温度センサ（第１温度センサ）１４９を備えている。さらに、真空ポンプ装置１０Ａは、真空ポンプ１２Ａに吸い込まれる気体（流体）の温度を測定する温度センサ（第２温度センサ）１４６、真空ポンプ１２Ａに吸い込まれる気体の流量を測定する流量センサ（第１流量センサ）１４７、及び真空ポンプ１２Ａに吸い込まれる気体の圧力を測定する圧力センサ１４８を備えている。また、真空ポンプ装置１０Ａは、冷却媒体の流量を測定する流量センサ（第２流量センサ）１５０、及び、制御ユニット１６Ａ又はモータ１２４に供給される電圧を測定する電圧センサ１５１を備える。さらに、真空ポンプ装置１０Ａは、窒素ガス供給部５２からの窒素ガスの供給流量を測定する流量センサ（窒素流量センサ）１５２、及び窒素ガスの圧力を測定する圧力センサ（窒素圧力センサ）１５３を備えている。これらのセンサ１４１〜１５３（センサ群１４Ａ）としては、公知のセンサが用いられればよい。センサ１
４１〜１５３による測定値は、制御ユニット１６Ａに入力される。 The vacuum pump device 10A is provided with a sensor group (sensor group 14A in FIG. 1) for measuring the state of the vacuum pump 12A. In the present embodiment, as shown in FIG. 2, the vacuum pump device 10A causes vibrations of a current sensor 141 that measures a current flowing through the motor 124 of the vacuum pump 12A and a pipe (not shown) connected to the vacuum pump 12A. Vibration sensors 142 and 145 for measuring are provided. The vibration sensors 142 and 145 measure the vibration of the pipes connected to the intake side and the exhaust side of the vacuum pump 12A, but may measure the vibration of the vacuum pump 12A. Further, the vacuum pump device 10A includes a temperature sensor (first temperature sensor) 143 that measures the temperature of the vacuum pump main body 122, a temperature sensor (first temperature sensor) 144 that measures the temperature of the motor 124, and the temperature of the cooling medium. A temperature sensor (first temperature sensor) 149 to be measured is provided. Furthermore, the vacuum pump device 10A includes a temperature sensor (second temperature sensor) 146 that measures the temperature of the gas (fluid) sucked into the vacuum pump 12A, and a flow rate sensor (first sensor) that measures the flow rate of the gas sucked into the vacuum pump 12A. And a pressure sensor 148 for measuring the pressure of the gas sucked into the vacuum pump 12A. Further, the vacuum pump device 10A includes a flow rate sensor (second flow rate sensor) 150 that measures the flow rate of the cooling medium, and a voltage sensor 151 that measures a voltage supplied to the control unit 16A or the motor 124. Furthermore, the vacuum pump device 10A includes a flow sensor (nitrogen flow sensor) 152 that measures the supply flow rate of nitrogen gas from the nitrogen gas supply unit 52, and a pressure sensor (nitrogen pressure sensor) 153 that measures the pressure of nitrogen gas. ing. As these sensors 141 to 153 (sensor group 14A), known sensors may be used. Sensor 1
Measurement values from 41 to 153 are input to the control unit 16A.

なお、図２に示すセンサ１４１〜１５３は一例であり、真空ポンプ１２Ａの状態を測定するセンサであれば如何なるものでもよい。つまり、真空ポンプ装置１０Ａは、センサ１４１〜１５３のうち、一部のセンサのみを有してもよいし、センサ１４１〜１５３に代えて、または加えて、他のセンサを備えていてもよい。 The sensors 141 to 153 shown in FIG. 2 are merely examples, and any sensors may be used as long as they measure the state of the vacuum pump 12A. That is, the vacuum pump device 10A may include only some of the sensors 141 to 153, or may include other sensors instead of or in addition to the sensors 141 to 153.

こうした真空ポンプシステム１００は、真空ポンプ１２Ａ〜１２Ｃを運転させることにより、処理チャンバ２０Ａ〜２０Ｃに負圧を提供して真空引きを行う。一例として、処理チャンバ２０Ａ〜２０Ｃが、図示しないＬＰ−ＣＶＤ装置にて使用される場合について説明する。この場合、ＬＰ−ＣＶＤ装置によって、ウエハ投入、真空引き、昇温、成膜（プロセスガス供給）、降温、大気圧復帰、ウエハ取り出しの各運転工程が処理チャンバ２０Ａ〜２０Ｃのそれぞれにおいて順次行われ、これらの運転工程が繰り返される。また、ＬＰ−ＣＶＤ装置は、処理チャンバ２０Ａ〜２０Ｃ内に付着した固形物を除去するために、定期的にクリーニングガスを処理チャンバ２０Ａ〜２０Ｃに供給する。ＬＰ−ＣＶＤ装置は、各運転工程の所定のタイミングで処理チャンバ２０Ａ〜２０Ｃに対応する制御ユニット１６Ａ〜１６Ｃ、又は制御装置３０に信号を送信する。そして、制御ユニット１６Ａ〜１６Ｃは、ＬＰ−ＣＶＤ装置、又は制御装置３０から信号が入力されると、真空ポンプ１２Ａ〜１２Ｃを起動し、センサ群１４Ａ〜１４Ｃ（センサ１４１〜１５３）による測定値に基づいて、真空ポンプ１２Ａ〜１２Ｃの運転を制御する。 In such a vacuum pump system 100, the vacuum pumps 12A to 12C are operated to provide a negative pressure to the processing chambers 20A to 20C to perform evacuation. As an example, a case where the processing chambers 20A to 20C are used in an LP-CVD apparatus (not shown) will be described. In this case, the LP-CVD apparatus sequentially performs wafer operation, evacuation, temperature increase, film formation (process gas supply), temperature decrease, return to atmospheric pressure, and wafer removal in each of the processing chambers 20A to 20C. These operation steps are repeated. Further, the LP-CVD apparatus periodically supplies a cleaning gas to the processing chambers 20A to 20C in order to remove the solid matter attached in the processing chambers 20A to 20C. The LP-CVD apparatus transmits a signal to the control units 16A to 16C or the control device 30 corresponding to the processing chambers 20A to 20C at a predetermined timing of each operation process. And control unit 16A-16C will start the vacuum pumps 12A-12C, if a signal is input from LP-CVD apparatus or the control apparatus 30, and it becomes a measured value by sensor group 14A-14C (sensor 141-153). Based on this, the operation of the vacuum pumps 12A to 12C is controlled.

次に、制御部４０（制御ユニット１６Ａ〜１６Ｃ、及び制御装置３０）による真空ポンプ１２Ａ〜１２Ｃの運転制御についてより詳細に説明する。図３は、制御部４０によって実行される真空ポンプ制御処理の一例を示すフローチャートである。この真空ポンプ制御処理は、所定時間（例えば数秒など）ごとに繰り返し実行される。なお、図３では、代表として真空ポンプ１２Ａの運転を制御する場合の処理について示しているが、真空ポンプ１２Ｂ，１２Ｃの運転を制御する場合についても同様の処理が行われる。また、図３では、代表として、真空ポンプ１２Ａに設けられている或るセンサ（第１センサ）に異常が生じていないか否かが判定されているが、同様の処理によって任意のセンサに対して異常が生じていないか否かが判定されればよい。以下の説明では、真空ポンプ１２Ａを「第１の真空ポンプ」とし、第１の真空ポンプに設けられているセンサ群を「第１のセンサ群」として説明する。 Next, operation control of the vacuum pumps 12A to 12C by the control unit 40 (the control units 16A to 16C and the control device 30) will be described in more detail. FIG. 3 is a flowchart illustrating an example of the vacuum pump control process executed by the control unit 40. This vacuum pump control process is repeatedly executed every predetermined time (for example, several seconds). Note that FIG. 3 shows the processing when the operation of the vacuum pump 12A is controlled as a representative, but the same processing is also performed when the operation of the vacuum pumps 12B and 12C is controlled. Further, in FIG. 3, as a representative, it is determined whether or not an abnormality has occurred in a certain sensor (first sensor) provided in the vacuum pump 12A. It may be determined whether or not an abnormality has occurred. In the following description, the vacuum pump 12A is referred to as a “first vacuum pump”, and a sensor group provided in the first vacuum pump is referred to as a “first sensor group”.

真空ポンプ制御処理では、まず、制御装置３０が、複数の真空ポンプ１２Ａ〜１２Ｃのそれぞれに設けられたセンサ群１４Ａ〜１４Ｃによる測定値ＭｖＡ〜ＭｖＣを取得する（Ｓ１０）。ここで、本実施形態では各センサ群１４Ａ〜１４Ｃは、複数のセンサ１４１〜１５３を備えており、測定値ＭｖＡのそれぞれは、複数のセンサ１４１〜１５３による測定値を含むものとする。つまり、例えば測定値ＭｖＡには、複数の測定値ＭｖＡ１，ＭｖＡ２…が含まれる。ただし、測定値ＭｖＡ〜ＭｖＣには、真空ポンプ１２Ａ〜１２Ｃに設けられたセンサ群１４Ａ〜１４Ｃによる測定値がすべて含まれなくてもよく、一部のセンサによる測定値のみが含まれてもよい。Ｓ１０の処理は、一例として、制御装置３０が制御ユニット１６Ａ〜１６Ｃへ測定値ＭｖＡ〜ＭｖＣを送信するように要求信号を送信し、要求信号を受信した制御ユニット１６Ａ〜１６Ｃが制御装置３０へ測定値ＭｖＡ〜ＭｖＣを送信することにより実現することができる。ただし、こうした例に限定されず、制御装置３０は、制御ユニット１６Ａ〜１６Ｃの図示しない記憶部にアクセスすることにより測定値ＭｖＡ〜ＭｖＣを取得するものとしてもよい。また、制御ユニット１６Ａ〜１６Ｃが所定期間（例えば数秒など）ごとに制御装置３０へ測定値ＭｖＡ〜ＭｖＣを送信するものとしてもよい。 In the vacuum pump control process, first, the control device 30 acquires measurement values MvA to MvC by the sensor groups 14A to 14C provided in the plurality of vacuum pumps 12A to 12C (S10). Here, in the present embodiment, each of the sensor groups 14A to 14C includes a plurality of sensors 141 to 153, and each of the measurement values MvA includes measurement values from the plurality of sensors 141 to 153. That is, for example, the measurement value MvA includes a plurality of measurement values MvA1, MvA2,. However, the measurement values MvA to MvC may not include all the measurement values obtained by the sensor groups 14A to 14C provided in the vacuum pumps 12A to 12C, and may include only the measurement values obtained by some sensors. . As an example, the processing of S10 transmits a request signal so that the control device 30 transmits the measurement values MvA to MvC to the control units 16A to 16C, and the control units 16A to 16C that have received the request signal perform measurement to the control device 30. This can be realized by transmitting the values MvA to MvC. However, it is not limited to such an example, The control apparatus 30 is good also as what acquires the measured values MvA-MvC by accessing the memory | storage part which is not illustrated of control unit 16A-16C. Further, the control units 16A to 16C may transmit the measurement values MvA to MvC to the control device 30 every predetermined period (for example, several seconds).

続いて、制御装置３０は、取得した測定値ＭｖＡ〜ＭｖＣに基づいて、真空ポンプ１２
Ａ（第１の真空ポンプ）のセンサ群１４Ａ（第１のセンサ群）における推定測定値ＥＭｖＡを算出する（Ｓ１２）。ここで、上記したように、センサ群１４Ａは複数のセンサ１４１〜１５３を含んでおり、Ｓ１２の処理では、センサ群１４Ａの少なくとも１つのセンサにおける推定測定値が算出される。ただし、本実施形態では、センサ１４Ａのうちの第１センサに異常が生じているか否かを判定するために、センサ１４Ａのうちの第１センサの推定測定値ＥＭｖ１と、センサ１４Ａのうちの第２センサの推定測定値とが算出される。 Subsequently, the control device 30 determines the vacuum pump 12 based on the acquired measurement values MvA to MvC.
An estimated measurement value EMvA in the sensor group 14A (first sensor group) of A (first vacuum pump) is calculated (S12). Here, as described above, the sensor group 14A includes a plurality of sensors 141 to 153, and in the process of S12, an estimated measurement value in at least one sensor of the sensor group 14A is calculated. However, in this embodiment, in order to determine whether or not an abnormality has occurred in the first sensor of the sensors 14A, the estimated measurement value EMv1 of the first sensor of the sensors 14A and the first of the sensors 14A. An estimated measurement value of two sensors is calculated.

一例として、真空ポンプ１２Ａに設けられた電流センサ１４１における推定測定値を算出する場合について説明する。本実施形態では、複数の処理チャンバ２０Ａ〜２０Ｃにて同様の製造装置による運転工程が行われることが想定されている。この場合、処理チャンバ２０Ａ〜２０Ｃに接続されている真空ポンプ１２Ａ〜１２Ｃは、同様の運転状態で運転される。つまり、第１の真空ポンプ１２Ａにおける第１のセンサ群１４Ａによる測定値ＭｖＡは、他の真空ポンプ１２Ｂ，１２Ｃのセンサ群１４Ｂ，１４Ｃによる測定値ＭｖＢ，ＭｖＣによる測定値と近い値を示す。このため、Ｓ１２の処理では、制御装置３０は、センサ群１４Ａ〜１４Ｃによる測定値ＭｖＡ〜ＭｖＣに基づいて、第１のセンサ群１４Ａの推定測定値ＥＭｖＡを算出するのである。 As an example, a case where an estimated measurement value in the current sensor 141 provided in the vacuum pump 12A is calculated will be described. In this embodiment, it is assumed that the operation process by the same manufacturing apparatus is performed in the plurality of processing chambers 20A to 20C. In this case, the vacuum pumps 12A to 12C connected to the processing chambers 20A to 20C are operated in the same operation state. That is, the measured value MvA by the first sensor group 14A in the first vacuum pump 12A shows a value close to the measured values by the measured values MvB and MvC by the sensor groups 14B and 14C of the other vacuum pumps 12B and 12C. For this reason, in the process of S12, the control device 30 calculates the estimated measurement value EMvA of the first sensor group 14A based on the measurement values MvA to MvC of the sensor groups 14A to 14C.

第１のセンサ群１４Ａにおける第１センサとして、真空ポンプ１２Ａに設けられた電流センサ１４１の推定測定値ＥＭｖＡ１を算出する例を説明する。この場合には、一例として、真空ポンプ１２Ｂ，１２Ｃに設けられている電流センサ１４１による測定値ＭｖＢ１，ＭｖＣ１の平均値を、推定測定値ＥＭｖＡ１とすることができる。このように、第１のセンサ群１４Ａを除いたセンサ群１４Ｂ，１４Ｃによる測定値ＭｖＢ，ＭｖＣに基づいて第１のセンサ群１４Ａの推定測定値ＥＭｖＡを算出することにより、第１のセンサ群１４Ａに異常が生じている場合に異常な検出値が算出に反映されるのを防止することができ、適正に推定測定値ＥＭｖＡを算出することができる。ただし、こうした例に限定されず、第１のセンサ群１４Ａによる測定値ＭｖＡ１を含めて推定測定値ＥＭｖＡ１を算出してもよい。なお、推定測定値ＥＭｖＡ１の算出としては、ある時刻におけるセンサ群１４Ｂ，１４Ｃによる測定値ＭｖＢ，ＭｖＣを平均するものに限定されず、所定期間（例えば数秒など）の測定値ＭｖＢ，ＭｖＣの平均値を平均するなどとしてもよい。 An example in which the estimated measurement value EMvA1 of the current sensor 141 provided in the vacuum pump 12A is calculated as the first sensor in the first sensor group 14A will be described. In this case, as an example, an average value of the measurement values MvB1 and MvC1 obtained by the current sensor 141 provided in the vacuum pumps 12B and 12C can be used as the estimated measurement value EMvA1. Thus, by calculating the estimated measurement value EMvA of the first sensor group 14A based on the measurement values MvB and MvC obtained by the sensor groups 14B and 14C excluding the first sensor group 14A, the first sensor group 14A Therefore, when an abnormality occurs, an abnormal detection value can be prevented from being reflected in the calculation, and the estimated measurement value EMvA can be calculated appropriately. However, the present invention is not limited to this example, and the estimated measurement value EMvA1 may be calculated including the measurement value MvA1 obtained by the first sensor group 14A. The calculation of the estimated measurement value EMvA1 is not limited to averaging the measurement values MvB and MvC by the sensor groups 14B and 14C at a certain time, and the average value of the measurement values MvB and MvC in a predetermined period (for example, several seconds). May be averaged.

また、複数の処理チャンバ２０Ａ〜２０Ｃにて同様の製造装置による運転工程が行われているものの、処理チャンバ２０Ａ〜２０Ｃによって開始時間がずらされて運転工程が行われる場合がある。こうした場合には、制御装置３０は、第１のセンサ群１４Ａの推定測定値ＥＭｖＡを算出するために、他のセンサ群１４Ａ〜１４Ｃによる測定値ＭｖＡ，ＭｖＢ，ＭｖＣのうち、それぞれの運転工程における同一タイミングの測定値を用いてもよい。たとえば、製造装置からの外部入力によって真空ポンプ１２Ａの運転・停止が制御されるような場合には、制御装置３０は、製造装置からの外部入力がなされるタイミングに基づいて、推定測定値ＥＭｖＡを算出するのに用いるタイミングを特定してもよい。 Moreover, although the operation process by the same manufacturing apparatus is performed in the plurality of processing chambers 20A to 20C, the operation process may be performed with the start time shifted by the processing chambers 20A to 20C. In such a case, in order to calculate the estimated measurement value EMvA of the first sensor group 14A, the control device 30 uses the measurement values MvA, MvB, and MvC of the other sensor groups 14A to 14C in the respective operation steps. You may use the measured value of the same timing. For example, when the operation / stop of the vacuum pump 12A is controlled by an external input from the manufacturing apparatus, the control device 30 calculates the estimated measurement value EMvA based on the timing at which the external input from the manufacturing apparatus is made. You may specify the timing used for calculating.

さらに、複数の処理チャンバ２０Ａ〜２０Ｃのそれぞれにて、同一の運転工程が繰り返し行われる場合には、真空ポンプ１２Ａ〜１２Ｃそれぞれ所定の繰り返しパターンで運転されることになる。こうした場合には、制御装置３０は、センサ群１４Ａ〜１４Ｃによる測定値ＭｖＡ〜ＭｖＣに基づいて、繰り返しパターンにおける特定タイミングを特定してもよい。そして、特定したタイミングからのセンサ群１４Ａ〜１４Ｃによる測定値ＭｖＡ〜ＭｖＣに基づいて、第１のセンサ群１４Ａによる特定タイミングからの推定測定値ＥＭｖＡを算出してもよい。 Furthermore, when the same operation process is repeatedly performed in each of the plurality of processing chambers 20A to 20C, the vacuum pumps 12A to 12C are operated in a predetermined repetition pattern. In such a case, the control device 30 may specify the specific timing in the repetitive pattern based on the measurement values MvA to MvC by the sensor groups 14A to 14C. Then, the estimated measurement value EMvA from the specific timing by the first sensor group 14A may be calculated based on the measurement values MvA to MvC by the sensor groups 14A to 14C from the specified timing.

具体的な一例を説明する。図４は、製造装置によって処理チャンバに供給されるガス（ＧＡＳ１〜ＧＡＳ３）、モータに流れる電流（Ｃ１）、モータ温度（Ｔ２）、及び、真空ポンプ本体温度（Ｔ３）の変化の一例を示すタイムチャートである。なお、図４では、処
理チャンバ２０Ａ及び真空ポンプ１２Ａにおけるデータが上段に示され、処理チャンバ２０Ｂ及び真空ポンプ１２Ｂにおけるデータが中断に示され、処理チャンバ２０Ｃ及び真空ポンプ１２Ｃにおけるデータが下段に示されている。図示するように、処理チャンバ２０Ａ〜２０Ｃには、所定の繰り返しパターンでガスＧＡＳ１〜ＧＡＳ３が供給され、真空ポンプ１２Ａ〜１２Ｃの運転も所定の繰り返しパターンとなっている。ただし、処理チャンバ２０Ａ〜２０Ｃでは、所定の繰り返しパターンの開始タイミングが異なっている。こうした場合には、制御装置３０は、センサ群１４Ａ〜１４Ｃのそれぞれによる測定値ＭｖＡ〜ＭｖＣ（Ｃ１，Ｔ２）に基づいて、繰り返しパターンにおける特定タイミングを特定する（図４に示す例では、時刻ｔｍＡ，ｔｍＢ，ｔｍＣ）。特定タイミングの特定としては、種々の方法が採用されればよく、例えば、何れかの測定値が所定値を超える、または下回るタイミングとすることができる。また、測定値に代えて、測定値の導関数が所定値を超える、または下回るタイミングを特定タイミングとして特定してもよい。さらに、２つ以上の測定値に基づいて特定タイミングを特定してもよい。なお、繰り返しパターンにおける特定タイミングを特定する場合、処理チャンバ２０Ａ〜２０Ｃに供給されるガスの流量に応じて、真空ポンプ１２Ａに吸い込まれる気体の流量が変化するため、流量センサ１４７による測定値に基づいて特定タイミングを特定することが好ましい。また、同様に、流量センサ１４７による測定値に代えて、または加えて、モータ１２４に流れる電流を測定する電流センサ１４１による測定値に基づいて特定タイミングを特定することが好ましい。 A specific example will be described. FIG. 4 is a time chart showing an example of changes in gas (GAS1 to GAS3) supplied to the processing chamber by the manufacturing apparatus, current (C1) flowing through the motor, motor temperature (T2), and vacuum pump body temperature (T3). It is a chart. In FIG. 4, data in the processing chamber 20A and the vacuum pump 12A are shown in the upper stage, data in the processing chamber 20B and the vacuum pump 12B are shown in interruption, and data in the processing chamber 20C and the vacuum pump 12C are shown in the lower stage. ing. As shown in the figure, the gases GAS1 to GAS3 are supplied to the processing chambers 20A to 20C in a predetermined repeating pattern, and the vacuum pumps 12A to 12C are also operated in a predetermined repeating pattern. However, in the processing chambers 20A to 20C, the start timing of the predetermined repeating pattern is different. In such a case, the control device 30 specifies the specific timing in the repetitive pattern based on the measurement values MvA to MvC (C1, T2) by the sensor groups 14A to 14C (in the example illustrated in FIG. 4, the time tmA). , TmB, tmC). For specifying the specific timing, various methods may be employed. For example, any measurement value may be a timing at which the measured value exceeds or falls below a predetermined value. Further, instead of the measurement value, the timing at which the derivative of the measurement value exceeds or falls below a predetermined value may be specified as the specific timing. Further, the specific timing may be specified based on two or more measured values. In addition, when specifying the specific timing in a repeating pattern, since the flow volume of the gas sucked into the vacuum pump 12A changes according to the flow volume of the gas supplied to the processing chambers 20A to 20C, it is based on the measurement value by the flow sensor 147. It is preferable to specify the specific timing. Similarly, it is preferable to specify the specific timing based on the measurement value obtained by the current sensor 141 that measures the current flowing through the motor 124 instead of or in addition to the measurement value obtained by the flow sensor 147.

さらに、第１センサの推定測定値ＥＭｖＡ１を算出する際には、第１の真空ポンプ１２Ａのセンサ群１４Ａにおける他のセンサ（例えば、第２センサ）による測定値に基づいて推定測定値ＥＭｖＡ１を補正してもよい。これは、第１の真空ポンプ１２Ａの第１センサによる測定値ＭｖＡ１と第２センサによる測定値ＭｖＡ２とに相関が認められる場合に特に有効と考えられる。たとえば、窒素ガス５４から供給される窒素ガスは、圧力が小さいほど流量が小さくなり、圧力が大きいほど流量が大きくなる傾向がある。このため、真空ポンプ１２Ａの窒素ガス流量センサ１５２（第１センサ）の推定測定値ＥＭｖＡ１を算出する場合、制御装置３０は、まず、真空ポンプ１２Ｂ，１２Ｃの流量センサ１５２（第１センサ）による測定値ＭｖＢ１，ＭｖＣ１に基づいて、推定測定値ＥＭｖＡ１を算出する。そして、制御装置３０は、真空ポンプ１２Ａ〜１２Ｃの窒素ガス圧力センサ１５３（第２センサ）による測定値ＭｖＡ２〜ＭｖＣ２に基づいて、流量センサ１５２の推定測定値ＥＭｖＡ１を補正する。このときには、ＭｖＡ２が、ＭｖＢ２及びＭｖＣ２より小さいほど、推定測定値ＥＭｖＡ１が小さくなるように補正し、ＭｖＡ２が、ＭｖＢ２及びＭｖＣ２より大きいほど、推定測定値ＥＭｖＡ１が大きくなるように補正すればよい。この推定測定値ＥＭｖＡ１の補正については、予め実験等により定められた関係式などに基づいて行われればよい。また、第１センサの推定測定値ＥＭｖＡ１は、第２センサの推定測定値ＥＭｖＡ２と第１の真空ポンプ１２Ａの第２センサによる測定値との差に基づいて行われてもよい。このように、第１センサの推定測定値ＥＭｖＡ１を、第２センサによる測定値に基づいて補正することにより、第１センサの推定測定値ＥＭｖＡ１をより正確に算出することができる。 Further, when the estimated measurement value EMvA1 of the first sensor is calculated, the estimated measurement value EMvA1 is corrected based on the measurement value of another sensor (for example, the second sensor) in the sensor group 14A of the first vacuum pump 12A. May be. This is considered to be particularly effective when there is a correlation between the measured value MvA1 measured by the first sensor of the first vacuum pump 12A and the measured value MvA2 measured by the second sensor. For example, the flow rate of nitrogen gas supplied from the nitrogen gas 54 tends to decrease as the pressure decreases, and increase as the pressure increases. For this reason, when calculating the estimated measurement value EMvA1 of the nitrogen gas flow sensor 152 (first sensor) of the vacuum pump 12A, the control device 30 first measures by the flow sensor 152 (first sensor) of the vacuum pumps 12B and 12C. Based on the values MvB1 and MvC1, the estimated measurement value EMvA1 is calculated. And the control apparatus 30 correct | amends the estimated measured value EMvA1 of the flow sensor 152 based on measured value MvA2-MvC2 by the nitrogen gas pressure sensor 153 (2nd sensor) of vacuum pump 12A-12C. At this time, the estimated measurement value EMvA1 may be corrected to be smaller as MvA2 is smaller than MvB2 and MvC2, and the estimated measurement value EMvA1 may be corrected to be larger as MvA2 is larger than MvB2 and MvC2. The correction of the estimated measurement value EMvA1 may be performed based on a relational expression or the like determined in advance by experiments or the like. In addition, the estimated measurement value EMvA1 of the first sensor may be performed based on a difference between the estimated measurement value EMvA2 of the second sensor and the measurement value of the first sensor of the first vacuum pump 12A. Thus, the estimated measured value EMvA1 of the first sensor can be calculated more accurately by correcting the estimated measured value EMvA1 of the first sensor based on the measured value by the second sensor.

第１センサによる測定値ＭｖＡ１と第２センサによる測定値ＭｖＡ２とに相関が認められる例としては、窒素ガスの流量センサ１５２及び圧力センサ１５３に限定されるものではない。例えば、冷却媒体についても窒素ガスと同様に、圧力が小さいほど流量が小さくなり、圧力が大きいほど流量が大きくなる傾向がある。また、モータ１２４に流れる電流が大きいほど、冷却媒体、真空ポンプ本体１２２、及びモータ１２４の温度は高くなる傾向がある。さらに、真空ポンプ１２Ａが真空引きする気体の流量、真空ポンプ１２Ａの吸気側の振動、および、真空ポンプ１２Ａの吸気側の圧力は、何れか１つが小さいほど他の２つも小さく、何れか１つが大きいほど他の２つも大きい傾向がある。また、真空ポンプ１２Ａが真空引きする気体の流量が大きいほど、モータ１２４に流れる電流が大きくなる
傾向がある。ただし、こうした例に限定されず、第１センサの推定測定値ＥＭｖＡ１が、第２センサによる測定値に基づいて補正されればよい。 Examples of the correlation between the measurement value MvA1 measured by the first sensor and the measurement value MvA2 measured by the second sensor are not limited to the nitrogen gas flow sensor 152 and the pressure sensor 153. For example, similarly to nitrogen gas, the flow rate of the cooling medium tends to decrease as the pressure decreases, and the flow rate tends to increase as the pressure increases. Moreover, the temperature of the cooling medium, the vacuum pump main body 122, and the motor 124 tends to increase as the current flowing through the motor 124 increases. Further, the flow rate of the gas evacuated by the vacuum pump 12A, the vibration on the intake side of the vacuum pump 12A, and the pressure on the intake side of the vacuum pump 12A are smaller, and the other two are smaller. The larger the two, the larger the other two tend to be. Moreover, the current flowing through the motor 124 tends to increase as the flow rate of the gas evacuated by the vacuum pump 12A increases. However, the present invention is not limited to this example, and the estimated measurement value EMvA1 of the first sensor may be corrected based on the measurement value of the second sensor.

制御装置３０は、第１のセンサ群１４Ａの推定測定値ＥＭｖＡを算出すると、次に推定測定値ＥＭｖＡと第１のセンサ群１４Ａによる測定値とを比較することにより、第１のセンサ群１４Ａに異常が生じているか否かを判定する（Ｓ１４、Ｓ１５）。具体的には、第１のセンサ群１４Ａのうち、第１センサについて推定測定値ＥＭｖＡ１と測定値ＭｖＡ１との差が第１閾値α１未満であるときには（Ｓ１４：Ｙｅｓ）、制御装置３０は、第１センサが正常であると判断する。この場合には、制御ユニット１６Ａは、測定値ＭｖＡ１を含めた第１のセンサ群１４による測定値ＭｖＡに基づいて第１の真空ポンプ１２Ａの運転を制御する（Ｓ１６）。ここで、第１閾値α１は、第１センサとして採用されたセンサごとに定められればよく、実験等により予め定めた値が用いられればよい。 After calculating the estimated measurement value EMvA of the first sensor group 14A, the control device 30 compares the estimated measurement value EMvA with the measurement value obtained by the first sensor group 14A, thereby obtaining the first sensor group 14A. It is determined whether or not an abnormality has occurred (S14, S15). Specifically, when the difference between the estimated measurement value EMvA1 and the measurement value MvA1 for the first sensor in the first sensor group 14A is less than the first threshold value α1 (S14: Yes), the control device 30 It is determined that one sensor is normal. In this case, the control unit 16A controls the operation of the first vacuum pump 12A based on the measurement value MvA obtained by the first sensor group 14 including the measurement value MvA1 (S16). Here, the first threshold value α1 may be determined for each sensor employed as the first sensor, and a value determined in advance through experiments or the like may be used.

一方、第１センサについて推定測定値ＥＭｖＡ１と測定値ＭｖＡ１との差が第１閾値α１以上であるときには（Ｓ１４：Ｎｏ）、続いて第２センサの推定測定値ＥＭｖＡ２と測定値ＭｖＡ２とを比較する（Ｓ１５）。ここで、第２センサは、第１センサと測定値に相関が認められるセンサなど、予め定められたセンサが採用されることが好ましい。また、第２閾値α２についても、第１閾値α１と同様に、第２センサとして採用されたセンサごとに定められればよく、実験などにより予め定められた値が用いられればよい。そして、第２センサの推定測定値ＥＭｖＡ２と測定値ＭｖＡとの差が第２閾値α２以上であるときには（Ｓ１５：Ｙｅｓ）、制御装置３０は、第１センサが正常であると判断する。この場合にも、制御ユニット１６Ａは、測定値ＭｖＡ１を含めた第１のセンサ群１４Ａによる測定値ＭｖＡに基づいて第１の真空ポンプ１２Ａの運転を制御する（Ｓ１６）。ただし、いまは、第１の真空ポンプ１２Ａの第１センサ及び第２センサにて推定測定値と異なる測定値が得られているため、制御ユニット１６Ａは、処理チャンバ２０Ａまたは真空ポンプ装置１０Ａの異常を報知し、必要に応じて真空ポンプ１２Ａの運転を強制停止することが好ましい。 On the other hand, when the difference between the estimated measurement value EMvA1 and the measurement value MvA1 for the first sensor is greater than or equal to the first threshold value α1 (S14: No), the estimated measurement value EMvA2 of the second sensor and the measurement value MvA2 are subsequently compared. (S15). Here, it is preferable that a predetermined sensor such as a sensor in which a correlation between the first sensor and the measurement value is recognized is adopted as the second sensor. Similarly to the first threshold value α1, the second threshold value α2 may be determined for each sensor employed as the second sensor, and a value determined in advance by an experiment or the like may be used. When the difference between the estimated measurement value EMvA2 of the second sensor and the measurement value MvA is equal to or greater than the second threshold value α2 (S15: Yes), the control device 30 determines that the first sensor is normal. Also in this case, the control unit 16A controls the operation of the first vacuum pump 12A based on the measured value MvA obtained by the first sensor group 14A including the measured value MvA1 (S16). However, since the measured value different from the estimated measured value is obtained by the first sensor and the second sensor of the first vacuum pump 12A now, the control unit 16A detects that the processing chamber 20A or the vacuum pump device 10A is abnormal. It is preferable to forcibly stop the operation of the vacuum pump 12A as necessary.

第１センサについて推定測定値ＥＭｖＡ１と測定値ＭｖＡ１との差が第１閾値α１以上であり（Ｓ１４：Ｎｏ）、且つ、第２センサについて推定測定値ＥＭｖＡ２と測定値ＭｖＡ２との差が第２閾値α２未満であるときには（Ｓ１５：Ｙｅｓ）、制御装置３０は、第１のセンサ群１４Ａにおける第１センサの異常を検出する。このときには、制御装置３０は、第１センサに異常が生じていることを、図示しない画面への表示、ブザーの吹鳴、または、外部に信号を送信することなどによって外部に報知する（Ｓ１８）。これにより、ユーザーは、真空ポンプ装置１０Ａのセンサ群１４Ａ（第１センサ）に異常が生じていることを認識できる。そして、この場合には、制御ユニット１６Ａは、第１センサについては測定値ＭｖＡ１に代えて推定測定値ＥＭｖＡ１を用いて、第１の真空ポンプ１２Ａの運転を制御する。なお、この場合には、第１のセンサ群１４Ａのうち第１センサ以外の他のセンサについても推定測定値ＥＭｖＡを使用して、第１の真空ポンプ１２Ａの運転を制御してもよい。 The difference between the estimated measurement value EMvA1 and the measurement value MvA1 for the first sensor is greater than or equal to the first threshold value α1 (S14: No), and the difference between the estimated measurement value EMvA2 and the measurement value MvA2 for the second sensor is the second threshold value. When it is less than α2 (S15: Yes), the control device 30 detects an abnormality of the first sensor in the first sensor group 14A. At this time, the control device 30 notifies the outside that an abnormality has occurred in the first sensor by displaying on a screen (not shown), blowing a buzzer, or transmitting a signal to the outside (S18). Accordingly, the user can recognize that an abnormality has occurred in the sensor group 14A (first sensor) of the vacuum pump device 10A. In this case, the control unit 16A controls the operation of the first vacuum pump 12A using the estimated measurement value EMvA1 instead of the measurement value MvA1 for the first sensor. In this case, the operation of the first vacuum pump 12A may be controlled by using the estimated measurement value EMvA for sensors other than the first sensor in the first sensor group 14A.

このように本実施形態の真空ポンプシステム１０では、複数の真空ポンプ１２Ａ〜１２Ｃのそれぞれに設けられているセンサ群１４Ａ〜１４Ｃの測定値ＭｖＡ〜ＭｖＣに基づいて、第１の真空ポンプの第１センサの推定測定値を算出する。そして、第１センサによる測定値と推定測定値とが比較されることにより第１センサの異常が検出されるため、第１センサに異常が生じたために真空ポンプが強制停止されることを抑制できる。しかも、実施形態の真空ポンプシステム１０は、第１センサの異常を検出したときには第１の真空ポンプの運転を推定測定値に基づいて制御する。これにより、対象真空ポンプの運転をより適性に制御することができる。 As described above, in the vacuum pump system 10 of the present embodiment, the first of the first vacuum pump is based on the measured values MvA to MvC of the sensor groups 14A to 14C provided in each of the plurality of vacuum pumps 12A to 12C. Calculate the estimated measured value of the sensor. And since the abnormality of the 1st sensor is detected by comparing the measurement value by the 1st sensor with the presumed measurement value, it can control that a vacuum pump is forcibly stopped because abnormality occurred in the 1st sensor. . Moreover, the vacuum pump system 10 according to the embodiment controls the operation of the first vacuum pump based on the estimated measurement value when the abnormality of the first sensor is detected. Thereby, the operation of the target vacuum pump can be controlled more appropriately.

また、本実施形態では、複数のドライ真空ポンプより、実測定値と、他のセンサ測定値からの推定値を算出し、この差異が大きいポンプを発見することで異常と判定するが、この判定は、ポンプが２台である場合いずれのデータが正であるか判断できない。そこで３台以上のポンプにより判定を行っている。これにより、対象真空ポンプの運転をより適性に制御することができる。

お手数ですが、添付の図を参考に実施例を一つ増やしてください。
これは、本システムでは各センサがそれぞれアラーム値を持っており、そのアラーム値を超えた場合にポンプまたはセンサの異常と判断するものです。 Further, in this embodiment, an actual measurement value and an estimated value from other sensor measurement values are calculated from a plurality of dry vacuum pumps, and an abnormality is determined by finding a pump having a large difference. When there are two pumps, it cannot be determined which data is positive. Therefore, determination is performed by three or more pumps. Thereby, the operation of the target vacuum pump can be controlled more appropriately.

Please increase one example referring to the attached figure.
In this system, each sensor has an alarm value, and when the alarm value is exceeded, it is judged that the pump or sensor is abnormal.

（変形例）
図５は、変形例における制御部によって実行される第１センサアラーム判定処理の一例を示すフローチャートである。この処理は、実施形態で説明した真空ポンプ制御処理に代えて制御部４０により所定時間毎に実行される。第１センサアラーム判定処理は、第１の真空ポンプにおける第１センサのアラーム（異常）を判定する処理であり、当該判定に基づいた第１の真空ポンプの制御については省略している。なお、図５では、代表として、真空ポンプ１２Ａ（第１の真空ポンプ）に設けられている或るセンサ（第１センサ）のアラームが判定されているが、同様の処理によって任意のセンサのアラームが判定されればよい。 (Modification)
FIG. 5 is a flowchart illustrating an example of a first sensor alarm determination process executed by the control unit according to the modification. This process is executed every predetermined time by the control unit 40 instead of the vacuum pump control process described in the embodiment. The first sensor alarm determination process is a process of determining an alarm (abnormality) of the first sensor in the first vacuum pump, and the control of the first vacuum pump based on the determination is omitted. In FIG. 5, as an example, an alarm of a certain sensor (first sensor) provided in the vacuum pump 12A (first vacuum pump) is determined. May be determined.

第１センサアラーム判定処理では、制御部４０は、まず、上記した図３の真空ポンプ制御処理と同様に、センサ群１４Ａ〜１４Ｃによる測定値ＭｖＡ〜ＭｖＣを取得し（Ｓ１０）、測定値ＭｖＡ〜ＭｖＣに基づいて第１のセンサ群１４Ａにおけるセンサの推定測定値ＭｖＡを算出する（Ｓ１２）。続いて、制御部４０は、第１センサによる測定値ＭｖＡ１をアラーム閾値ＳｖＡ１と比較する（Ｓ２４）。ここで、アラーム閾値ＳｖＡ１は、第１の真空ポンプ装置１０Ａの運転における不具合を判定するために予め定められた閾値であり、第１センサとして採用されたセンサごとに実験等により予め定めた値が用いられればよい。 In the first sensor alarm determination process, the control unit 40 first obtains the measured values MvA to MvC by the sensor groups 14A to 14C (S10), similarly to the above-described vacuum pump control process of FIG. Based on MvC, an estimated measurement value MvA of the sensor in the first sensor group 14A is calculated (S12). Subsequently, the control unit 40 compares the measurement value MvA1 measured by the first sensor with the alarm threshold value SvA1 (S24). Here, the alarm threshold value SvA1 is a predetermined threshold value for determining a malfunction in the operation of the first vacuum pump device 10A, and a value predetermined by an experiment or the like for each sensor employed as the first sensor. It may be used.

第１センサによる測定値ＭｖＡ１がアラーム閾値ＳｖＡ１より大きいときには（Ｓ２４：Ｙｅｓ）、制御部４０は、第１センサによる測定に異常が生じていると判断し、第１センサのアラームを検出して、（Ｓ２６）、第１センサアラーム判定処理を終了する。このときには、制御部４０は、第１センサのアラームを図示しない画面への表示、ブザーの吹鳴、または、外部に信号を送信することなどによって外部に報知してもよい。なお、図５に示す例では、第１センサによる測定値ＭｖＡ１がアラーム閾値ＳｖＡ１より大きいときに、第１センサのアラームが検出されるものとしているが、こうした例には限定されない。つまり、第１センサとして採用されたセンサによっては、測定値ＭｖＡ１がアラーム閾値ＳｖＡ１より小さいときに第１センサのアラームが検出されるものとしてもよいし、測定値ＭｖＡ１が所定の領域に含まれていない場合に第１センサのアラームが検出されるものとしてもよい。 When the measured value MvA1 by the first sensor is larger than the alarm threshold value SvA1 (S24: Yes), the control unit 40 determines that an abnormality has occurred in the measurement by the first sensor, detects the alarm of the first sensor, (S26), the first sensor alarm determination process is terminated. At this time, the control unit 40 may notify the outside of the alarm of the first sensor by displaying the alarm on a screen (not shown), blowing a buzzer, or transmitting a signal to the outside. In the example shown in FIG. 5, the alarm of the first sensor is detected when the measured value MvA1 by the first sensor is larger than the alarm threshold value SvA1, but the present invention is not limited to this example. That is, depending on the sensor employed as the first sensor, the alarm of the first sensor may be detected when the measured value MvA1 is smaller than the alarm threshold value SvA1, or the measured value MvA1 is included in a predetermined area. If there is no alarm, the alarm of the first sensor may be detected.

第１センサによる測定値ＭｖＡ１がアラーム閾値ＳｖＡ１以下であるときには（Ｓ２４：Ｎｏ）、制御部４０は、第１センサの推定測定値ＥＭｖＡ１をアラーム閾値ＳｖＡ１ａと比較する（Ｓ２５）。なお、アラーム閾値ＳｖＡ１ａは、アラーム閾値ＳｖＡ１と同一としてもよいし、アラーム閾値Ｓｖａ１よりも若干大きいまたは小さい値を用いてもよい。 When the measurement value MvA1 measured by the first sensor is equal to or less than the alarm threshold value SvA1 (S24: No), the control unit 40 compares the estimated measurement value EMvA1 of the first sensor with the alarm threshold value SvA1a (S25). The alarm threshold value SvA1a may be the same as the alarm threshold value SvA1, or a value slightly larger or smaller than the alarm threshold value Sva1 may be used.

第１センサの推定測定値ＥＭｖＡ１がアラーム閾値ＳｖＡ１ａよりも大きいときには（Ｓ２５：Ｙｅｓ）、制御部４０は、第１センサによる測定に異常が生じていると判断し、第１センサのアラームを検出して（Ｓ２６）、第１センサアラーム判定処理を終了する。
このときには、Ｓ２４，Ｓ２５のどちらの処理によって第１センサのアラームが判定されるか認識できるように、第１センサのアラームを図示しない画面への表示、ブザーの吹鳴、または、外部に信号を送信することなどによって外部に報知してもよい。 When the estimated measurement value EMvA1 of the first sensor is larger than the alarm threshold value SvA1a (S25: Yes), the control unit 40 determines that an abnormality has occurred in the measurement by the first sensor, and detects the alarm of the first sensor. (S26), and the first sensor alarm determination process is terminated.
At this time, the alarm of the first sensor is displayed on a screen (not shown), the buzzer sounds, or the signal is transmitted to the outside so that it can be recognized which of the processes of S24 and S25 determines the alarm of the first sensor. You may notify outside by doing.

第１センサによる測定値ＭｖＡ１がアラーム閾値ＳｖＡ１以下であり（Ｓ２４：Ｎｏ）、且つ、第１センサの推定測定値ＥＭｖＡ１がアラーム閾値ＳｖＡ１ａ以下であるときには（Ｓ２５：Ｎｏ）、制御部４０は、第１センサのアラームを報知することなく（Ｓ２８）、第１センサアラーム判定処理を終了する。 When the measurement value MvA1 measured by the first sensor is equal to or less than the alarm threshold value SvA1 (S24: No) and the estimated measurement value EMvA1 of the first sensor is equal to or less than the alarm threshold value SvA1a (S25: No), the control unit 40 Without notifying the alarm of one sensor (S28), the first sensor alarm determination process is terminated.

以上説明したように、第１センサアラーム判定処理では、制御部４０は、第１センサの測定値ＭｖＡ１と推定測定値ＥＭｖＡ１との双方を用いて第１センサのアラームを判定する。これにより、第１センサのアラームをより確実に判定することができる。 As described above, in the first sensor alarm determination process, the control unit 40 determines the alarm of the first sensor using both the measurement value MvA1 of the first sensor and the estimated measurement value EMvA1. Thereby, the alarm of a 1st sensor can be determined more reliably.

（その他の変形例）
上記した真空ポンプシステム１００は、３つの独立した処理チャンバ２０Ａ〜２０Ｃのそれぞれに対応して３つの真空ポンプ装置１０Ａ〜１０Ｃを備えるものとした。しかし、真空ポンプシステム１００は、３台以上の真空ポンプを備えるものであればよく、たとえば４つ以上の真空ポンプ装置を備えてもよい。また、複数の真空ポンプは、独立した処理チャンバのそれぞれに対応して接続されるものに限定されず、１つの処理チャンバに対して２以上の真空ポンプが接続されてもよい。 (Other variations)
The vacuum pump system 100 described above includes three vacuum pump devices 10A to 10C corresponding to the three independent processing chambers 20A to 20C, respectively. However, the vacuum pump system 100 only needs to include three or more vacuum pumps, and may include, for example, four or more vacuum pump devices. Further, the plurality of vacuum pumps are not limited to those connected to the independent processing chambers, and two or more vacuum pumps may be connected to one processing chamber.

上記した真空ポンプシステム１００は、制御部４０として、真空ポンプ１２Ａ〜１２Ｃの運転をそれぞれに制御する制御ユニット１６Ａ〜１６Ｃと、制御ユニット１６Ａ〜１６Ｃと通信可能に構成された制御装置３０と、を備えるものとした。しかし、制御部４０は、制御ユニット１６Ａ〜１６Ｃが無線または有線によって互いに通信可能に接続されることにより構成されてもよく、制御装置３０を備えないものとしてもよい。この場合には、各制御ユニット１６Ａ〜１６Ｃのそれぞれが、対応する真空ポンプ１２Ａ〜１２Ｃの図３に例示する真空ポンプ制御処理を実行するものとしてもよいし、一部の制御ユニット１６Ａ〜１６Ｃが代表して制御装置３０の機能を果たすものとしてもよい。さらに、制御ユニット１６Ａ〜１６Ｃを備えずに、制御装置３０がセンサ１４Ａ〜１４Ｃによる測定値を直接に受信し、制御装置３０が真空ポンプ１２Ａ〜１２Ｃの運転を直接に制御するものとしてもよい。この場合には、制御装置３０が、制御部４０として、各真空ポンプ１２Ａ〜１２Ｃに対して図３に例示する真空ポンプ制御処理を実行すればよい。 The vacuum pump system 100 described above includes, as the control unit 40, the control units 16A to 16C that respectively control the operation of the vacuum pumps 12A to 12C, and the control device 30 configured to be able to communicate with the control units 16A to 16C. It was supposed to be prepared. However, the control unit 40 may be configured by connecting the control units 16 A to 16 C so that they can communicate with each other wirelessly or by wire, and may not include the control device 30. In this case, each of the control units 16A to 16C may execute the vacuum pump control process illustrated in FIG. 3 of the corresponding vacuum pumps 12A to 12C, or some of the control units 16A to 16C may As a representative, the function of the control device 30 may be achieved. Furthermore, without providing the control units 16A to 16C, the control device 30 may directly receive the measurement values from the sensors 14A to 14C, and the control device 30 may directly control the operation of the vacuum pumps 12A to 12C. In this case, the control apparatus 30 should just perform the vacuum pump control process illustrated in FIG. 3 with respect to each vacuum pump 12A-12C as the control part 40. FIG.

以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、上記した発明の実施の形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定するものではない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、変更、改良され得るとともに、本発明にはその均等物が含まれることはもちろんである。また、上述した課題の少なくとも一部を解決できる範囲、または、効果の少なくとも一部を奏する範囲において、実施形態および変形例の任意の組み合わせが可能であり、特許請求の範囲および明細書に記載された各構成要素の任意の組み合わせ、または、省略が可能である。 Although the embodiments of the present invention have been described above, the above-described embodiments of the present invention are for facilitating the understanding of the present invention and are not intended to limit the present invention. The present invention can be changed and improved without departing from the gist thereof, and the present invention includes the equivalents thereof. In addition, any combination of the embodiment and the modified example is possible within a range where at least a part of the above-described problems can be solved or a range where at least a part of the effect can be achieved, and is described in the claims and the specification. Any combination or omission of each component is possible.

１０Ａ〜１０Ｃ…真空ポンプ装置
１２Ａ〜１２Ｃ…真空ポンプ
１４Ａ〜１４Ｃ…センサ群
１６Ａ〜１６Ｃ…制御ユニット
２０Ａ〜２０Ｃ…処理チャンバ
３０…制御装置
４０…制御部
１４１…電流センサ
１４２…振動センサ
１４３…温度センサ（第１温度センサ）
１４４…温度センサ（第１温度センサ）
１４５…振動センサ
１４６…温度センサ（第２温度センサ）
１４７…流量センサ（第１流量センサ）
１４８…圧力センサ
１５０…流量センサ（第２流量センサ）
１５１…電圧センサ
１５２…流量センサ（窒素流量センサ）
１５３…圧力センサ（窒素圧力センサ） DESCRIPTION OF SYMBOLS 10A-10C ... Vacuum pump apparatus 12A-12C ... Vacuum pump 14A-14C ... Sensor group 16A-16C ... Control unit 20A-20C ... Processing chamber 30 ... Control apparatus 40 ... Control part 141 ... Current sensor 142 ... Vibration sensor 143 ... Temperature Sensor (first temperature sensor)
144 ... Temperature sensor (first temperature sensor)
145 ... Vibration sensor 146 ... Temperature sensor (second temperature sensor)
147 ... Flow sensor (first flow sensor)
148 ... Pressure sensor 150 ... Flow rate sensor (second flow rate sensor)
151 ... Voltage sensor 152 ... Flow sensor (nitrogen flow sensor)
153 ... Pressure sensor (nitrogen pressure sensor)

Claims

A first vacuum pump connected to the first vacuum chamber;
A second vacuum pump connected to the second vacuum chamber;
A third vacuum pump connected to the third vacuum chamber;
A first sensor group provided in the first vacuum pump;
A second sensor group that is the same sensor group as the first sensor group and is provided in the second vacuum pump;
A third sensor group that is the same sensor group as the first and second sensor groups and is provided in the third vacuum pump;
A control unit for controlling the operation of each of the first, second, and third vacuum pumps based on at least a part of the measurement values obtained by the first, second, and third sensor groups,
The control unit calculates an estimated measurement value of the first sensor in the first sensor group based on at least a part of the measurement value by the first, second, and third sensor groups, and Detecting an abnormality of the first sensor in the first sensor group by comparing the measured value by the first sensor in the sensor group and the estimated measured value;
Vacuum pump system.

When the controller detects an abnormality of the first sensor in the first sensor group, the controller controls the operation of the first vacuum pump based on the estimated measurement value.
The vacuum pump system according to claim 1.

Each of the first, second, and third sensor groups includes a first sensor that measures a first state value of the first, second, and third vacuum pumps, and the first, second, And a second sensor for measuring a second state value of the third vacuum pump,
The control unit is configured to determine an estimated measurement value of the first sensor in the first sensor group and the second sensor based on at least a part of the measurement values from the first, second, and third sensor groups. An estimated measurement value is calculated, a difference between the measurement value of the first sensor in the first sensor group and the estimated measurement value of the first sensor is equal to or greater than a first threshold, and in the first sensor group Detecting an abnormality of the first sensor in the first sensor group when a difference between a measured value by the second sensor and an estimated measured value of the second sensor is less than a second threshold;
The vacuum pump system according to claim 1 or 2.

Each of the first, second, and third sensor groups includes a first sensor that measures a first state value of the first, second, and third vacuum pumps, and the first, second, And a second sensor for measuring a second state value of the third vacuum pump,
The control unit calculates an estimated measurement value of the first sensor in the first sensor group based on a measurement value by the first sensor in the first, second, and third sensor groups, and Correcting the estimated measured value of the first sensor in the first sensor group based on the measured value by the second sensor in the first, second and third sensor groups;
The vacuum pump system according to any one of claims 1 to 3.

The first, second, and third vacuum pumps each operate in a predetermined repeating pattern,
The control unit determines a specific timing in the repetitive pattern for each of the first, second, and third vacuum pumps based on at least a part of the measurement values by the first, second, and third sensor groups. From the specific timing of the first sensor in the first sensor group, based on at least part of the measured value from the specific timing by each of the first, second and third sensor groups Calculate an estimated measurement of
The vacuum pump system according to any one of claims 1 to 4.

Each of the first, second, and third sensor groups includes a current sensor that measures a current flowing in a motor that drives a main body of the vacuum pump, and vibrations of the vacuum pump or a pipe connected to the vacuum pump. A vibration sensor to be measured, a first temperature sensor that measures the temperature of the vacuum pump body, the motor, or a cooling medium that cools the vacuum pump, and a second temperature that measures the temperature of the fluid sucked into the vacuum pump A first flow sensor for measuring a flow rate of the fluid sucked into the vacuum pump, a pressure sensor for measuring a pressure of the fluid sucked into the vacuum pump, and a third temperature sensor for measuring a temperature of the cooling medium; A second flow sensor for measuring the flow rate of the cooling medium, and a voltage sensor for measuring a voltage applied to the control unit or the motor. One including,
The vacuum pump system according to any one of claims 1 to 5.

Each of the first, second, and third vacuum pumps is a dry vacuum pump that is supplied with nitrogen for sealing,
Each of the first, second, and third sensor groups includes at least one of a nitrogen flow sensor that measures the nitrogen supply flow rate and a nitrogen pressure sensor that measures the nitrogen pressure.
The vacuum pump system according to any one of claims 1 to 6.

The control unit includes first, second, and third control units provided corresponding to the first, second, and third vacuum pumps, and the first, second, and third control units, respectively. A control device configured to be communicable with the third control unit,
The vacuum pump system according to any one of claims 1 to 7.

The control unit notifies the abnormality to the outside when the abnormality of the first sensor is detected.
The vacuum pump system according to any one of claims 1 to 8.

A control method in a vacuum pump system,
The vacuum pump system is
A first vacuum pump connected to the first vacuum chamber;
A second vacuum pump connected to the second vacuum chamber;
A third vacuum pump connected to the third vacuum chamber;
A first sensor group provided in the first vacuum pump;
A second sensor group that is the same sensor group as the first sensor group and is provided in the second vacuum pump;
A third sensor group that is the same sensor group as the first and second sensor groups and is provided in the third vacuum pump, and
The control method is:
A control step for controlling the operation of each of the first, second, and third vacuum pumps based on at least part of the measurement values obtained by the first, second, and third sensor groups;
Based on at least part of the measured values by the first, second, and third sensor groups, an estimated measured value of the first sensor in the first sensor group is calculated, and the first sensor group An abnormality detection step of detecting an abnormality of the first sensor in the first sensor group by comparing the measurement value by the first sensor and the estimated measurement value;
A method of controlling a vacuum pump system including: