JP2019142164A - Layered body including cyclic olefin-based resin base material, and method for producing layered body including cyclic olefin-based resin base material - Google Patents

Layered body including cyclic olefin-based resin base material, and method for producing layered body including cyclic olefin-based resin base material Download PDF

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Abstract

To provide a layered body obtained by successively layering a cured coating layer of a curable resin composition and an inorganic substance layer on a cyclic olefin resin base material, the layered body having excellent interlaminar adhesiveness and exhibiting characteristics such as transparency, scratch resistance, hardness, and curl resistance.SOLUTION: In the layered body obtained by successively layering a cured coating layer (II) with an active energy ray curable composition and an inorganic substance layer (III) on a cyclic olefin-based resin base material (I), the active energy ray curable composition includes silica fine particles (A) having an average primary particle diameter within a range of 1 to 100 nm, a polymerizable unsaturated compound (B), and a photopolymerization initiator (C), and the content of the silica fine particles (A) is 30 to 85 mass% based on all the cured coating formation components of the active energy ray curable composition.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、環状オレフィン系樹脂基材を含む積層体に関するものであり、より具体的には、環状オレフィン樹脂基材上に、同基材に対して優れた密着性を有し、かつ、耐擦傷性等の特性を付与することができる活性エネルギー線硬化型組成物の硬化被膜層と、無機物質層とが順次積層されてなる積層体、及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a laminate comprising a cyclic olefin resin substrate, and more specifically, has excellent adhesion to the cyclic olefin resin substrate and is resistant to the substrate. The present invention relates to a laminate obtained by sequentially laminating a cured coating layer of an active energy ray-curable composition capable of imparting characteristics such as scratch resistance and an inorganic material layer, and a method for producing the same.

近年、環状オレフィン系樹脂フィルムは、その高透明性や低吸湿性等の機能性から、携帯電話、スマートフォン、液晶ディスプレイ等の光学部材として使用される機会が多くなっている。環状オレフィン系樹脂フィルムは、表面硬度が比較的低いために傷が付き易い。そのため、該フィルム表面にはハードコート層が設けられている。しかしながら、環状オレフィン系樹脂フィルムとハードコート層との密着性が必ずしも十分ではなかった。そのため、ハードコート層を形成する前に環状オレフィン系樹脂フィルム表面に対して予めコロナ放電処理、プラズマ処理やオゾン処理、易接着プライマー組成物を塗布する等の易接着処理工程が必要であった(特許文献1)。   In recent years, cyclic olefin-based resin films have been increasingly used as optical members for mobile phones, smartphones, liquid crystal displays and the like due to their high transparency and low hygroscopic functionality. Since the cyclic olefin resin film has a relatively low surface hardness, it is easily damaged. Therefore, a hard coat layer is provided on the film surface. However, the adhesion between the cyclic olefin resin film and the hard coat layer is not always sufficient. Therefore, before forming the hard coat layer, an easy adhesion treatment step such as applying a corona discharge treatment, a plasma treatment or an ozone treatment, an easy adhesion primer composition to the cyclic olefin resin film surface in advance was necessary ( Patent Document 1).

また、特許文献2において、特定の分子量範囲のポリエーテルジオール、芳香族基を有しないポリイソシアネート及び水酸基含有(メタ)アクリレートの反応生成物である特定の分子量範囲のウレタン(メタ)アクリレート、特定のジ(メタ)アクリレート、2個のフェニル骨格を有し1個の(メタ)アクリロイル基を有する化合物、1個のメタクリロイル基を有する化合物を含有する活性エネルギー線硬化型光学材料用組成物が提案されているが、該組成物から得られたハードコート層は、塗膜硬度、耐擦傷性及び環状オレフィン系樹脂フィルムに対する密着性が十分ではない場合があった。   Further, in Patent Document 2, a specific molecular weight range polyether diol, a polyisocyanate having no aromatic group and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate reaction product of a specific molecular weight range urethane (meth) acrylate, a specific molecular weight range A composition for an active energy ray-curable optical material comprising a di (meth) acrylate, a compound having two phenyl skeletons and one (meth) acryloyl group, and a compound having one methacryloyl group has been proposed. However, the hard coat layer obtained from the composition sometimes has insufficient coating film hardness, scratch resistance, and adhesion to the cyclic olefin resin film.

さらに、特許文献3において、環状オレフィン系樹脂からなる層、並びに、ジフェニルスルフィド系化合物、ベンゾフェノン系化合物及び(メタ)アクリロイル基を有する化合物を含む硬化性組成物からなる層、からなる積層体が提案されているが、塗膜硬度、耐擦傷性及び層間密着性が十分ではない場合があった。   Furthermore, Patent Document 3 proposes a laminate comprising a layer made of a cyclic olefin resin and a layer made of a curable composition containing a diphenyl sulfide compound, a benzophenone compound, and a compound having a (meth) acryloyl group. However, the coating film hardness, scratch resistance, and interlayer adhesion may not be sufficient.

一方、プラスチック基材上に無機物質層を形成して、機械的、電気的、光学的、あるいは化学的な機能を付与することが従来行われており、この場合に、プラスチック基材と無機物質層との十分な層間密着性を確保するために、硬化性樹脂組成物による樹脂硬化層を介在させた積層構造とすることが提案されている。例えば、特許文献4においては、プラスチック板状に活性エネルギー線硬化性プライマー組成物の硬化膜が形成され、その上に無機物質層が形成されてなる、窓用表面改質プラスチック板が記載されている。しかし、基材が環状オレフィン系樹脂である場合は、基材と樹脂硬化層との層間密着性、及び/又は樹脂硬化層と無機物質層との層間密着性が十分ではない場合があり、さらに得られた積層体特性、例えば耐摩擦性や透明性等の面でも、なお十分ではない場合があった。   On the other hand, an inorganic material layer is formed on a plastic substrate to impart mechanical, electrical, optical, or chemical functions. In this case, the plastic substrate and the inorganic material are provided. In order to ensure sufficient interlayer adhesion with a layer, it has been proposed to have a laminated structure in which a cured resin layer of a curable resin composition is interposed. For example, Patent Document 4 describes a surface-modified plastic plate for windows in which a cured film of an active energy ray-curable primer composition is formed on a plastic plate and an inorganic material layer is formed thereon. Yes. However, when the substrate is a cyclic olefin-based resin, the interlayer adhesion between the substrate and the cured resin layer and / or the interlayer adhesion between the resin cured layer and the inorganic material layer may not be sufficient. In some cases, the obtained laminate characteristics such as friction resistance and transparency are still not sufficient.

特表2008−518280号公報Special table 2008-518280 gazette 特開2008−249972号公報JP 2008-249972 A 特開2015−127102号公報JP2015-127102A 特開平4−202240号公報JP-A-4-202240

本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、環状オレフィン樹脂基材上に硬化性樹脂組成物の硬化被膜層と無機物質層とが順次積層されてなる積層体であって、環状オレフィン樹脂基材上と樹脂組成物の硬化被膜層との層間密着性に優れる積層体を提供することであり、さらには、樹脂組成物の硬化被膜層と無機物質層との層間密着性にも優れる積層体を提供することである。また、本発明のさらなる目的は、透明性や対擦傷性、硬度、耐カール性等の面でも優れた特性を示し得る積層体を提供することである。さらに本発明は、そのような積層体の製造方法にも関する。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is a laminate in which a cured coating layer and an inorganic material layer of a curable resin composition are sequentially laminated on a cyclic olefin resin substrate. And providing a laminate excellent in interlayer adhesion between the cyclic olefin resin substrate and the cured coating layer of the resin composition, and further, an interlayer between the cured coating layer of the resin composition and the inorganic substance layer. It is providing the laminated body which is excellent also in adhesiveness. A further object of the present invention is to provide a laminate that can exhibit excellent properties in terms of transparency, scratch resistance, hardness, curl resistance, and the like. The present invention further relates to a method for producing such a laminate.

このような状況の下、本発明者らは鋭意研究した結果、環状オレフィン系樹脂基材上に硬化被膜を形成するための硬化性樹脂組成物として、特定の組成を有する活性エネルギー線硬化型組成物を用いることによって、上記課題を解決できることを見出した。   Under such circumstances, the present inventors have intensively studied, and as a result, an active energy ray-curable composition having a specific composition as a curable resin composition for forming a cured film on a cyclic olefin-based resin substrate. It has been found that the above problems can be solved by using a product.

本発明は、以下の項に示す態様を含むものである:
項1
環状オレフィン系樹脂基材(I)上に、活性エネルギー線硬化型組成物による硬化被膜層(II)、及び無機物質層(III)が順次積層されてなる積層体であって、
前記活性エネルギー線硬化型組成物が、平均一次粒子径が1〜100nmの範囲内であるシリカ微粒子(A)、重合性不飽和化合物(B)、及び光重合開始剤(C)を含み、前記シリカ微粒子(A)の含有量が、前記活性エネルギー線硬化型組成物の全硬化被膜形成成分を基準として、30〜85質量%である、積層体。
項2
前記シリカ微粒子(A)が、不飽和基を有する有機物変性シリカ微粒子を含むものである、請求項1に記載の積層体。
項3
前記重合性不飽和化合物(B)が、ウレタン結合を有する重合性不飽和化合物(b1)を含有する、請求項1又は2に記載の積層体。
項4
前記、活性エネルギー線硬化型組成物による硬化被膜層(II)の膜厚が、0.5〜8μmの範囲内である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の積層体。
項5
前記環状オレフィン系樹脂基材(I)が、易接着処理をしていないものである、請求項1〜4のいずれか1項に記載の積層体。
項6
積層体の製造方法であって、
易接着処理をしていない環状オレフィン系樹脂基材(I)上に、活性エネルギー線硬化型組成物を塗装して、活性エネルギー線硬化型組成物による被膜層を形成する工程と、
前記活性エネルギー線硬化型組成物による被膜層に活性エネルギー線を照射して、活性エネルギー線硬化型組成物による硬化被膜層(II)を形成する工程と、
前記硬化被膜層(II)上に、乾式成膜工法によって無機物質層(III)を少なくとも1層形成する工程と、
を含み、前記活性エネルギー線硬化型組成物が、平均一次粒子径が1〜100nmの範囲内であるシリカ微粒子(A)、重合性不飽和化合物(B)、及び光重合開始剤(C)を含み、前記シリカ微粒子(A)の含有量が、前記活性エネルギー線硬化型組成物の全硬化被膜形成成分を基準として、30〜85質量%である、積層体の製造方法。
The present invention includes the embodiments shown in the following sections:
Item 1
On the cyclic olefin-based resin substrate (I), a laminate comprising a cured coating layer (II) made of an active energy ray-curable composition and an inorganic substance layer (III) sequentially laminated,
The active energy ray-curable composition includes silica fine particles (A) having an average primary particle diameter in the range of 1 to 100 nm, a polymerizable unsaturated compound (B), and a photopolymerization initiator (C), The laminated body whose content of a silica fine particle (A) is 30-85 mass% on the basis of the total cured film formation component of the said active energy ray hardening-type composition.
Item 2
The laminate according to claim 1, wherein the silica fine particles (A) contain organic-modified silica fine particles having an unsaturated group.
Item 3
The laminate according to claim 1 or 2, wherein the polymerizable unsaturated compound (B) contains a polymerizable unsaturated compound (b1) having a urethane bond.
Item 4
The laminate according to any one of claims 1 to 3, wherein the film thickness of the cured coating layer (II) of the active energy ray-curable composition is in the range of 0.5 to 8 µm.
Item 5
The laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein the cyclic olefin-based resin substrate (I) is not subjected to easy adhesion treatment.
Item 6
A method for producing a laminate,
Coating the active energy ray-curable composition on the cyclic olefin-based resin substrate (I) that has not been subjected to easy adhesion treatment, and forming a coating layer with the active energy ray-curable composition;
Irradiating the active energy ray curable composition with an active energy ray to form a cured coating layer (II) with the active energy ray curable composition;
Forming at least one inorganic substance layer (III) on the cured coating layer (II) by a dry film-forming method;
The active energy ray-curable composition comprises silica fine particles (A) having an average primary particle size in the range of 1 to 100 nm, a polymerizable unsaturated compound (B), and a photopolymerization initiator (C). A method for producing a laminate, wherein the content of the silica fine particles (A) is 30 to 85% by mass based on the total cured film forming component of the active energy ray-curable composition.

本発明によれば、環状オレフィン樹脂基材上に樹脂組成物の硬化被膜層と無機物質層とが順次積層されてなる積層体であって、十分な層間密着性を有し、さらには透明性や耐擦傷性、硬度、耐カール性等の面でも優れた特性を示し得る積層体を提供することができる。   According to the present invention, a laminate in which a cured film layer and an inorganic material layer of a resin composition are sequentially laminated on a cyclic olefin resin substrate, having sufficient interlayer adhesion, and further transparent In addition, it is possible to provide a laminate that can exhibit excellent properties in terms of scratch resistance, hardness, curl resistance, and the like.

本発明の積層体は、環状オレフィン樹脂基材上に、特定の活性エネルギー線硬化型組成物の硬化被膜層を形成し、さらにその上に無機物質層を積層させた構造を有するものである。   The laminate of the present invention has a structure in which a cured coating layer of a specific active energy ray-curable composition is formed on a cyclic olefin resin substrate, and an inorganic material layer is further laminated thereon.

<環状オレフィン系樹脂基材(I)>
本発明に係る積層体は、環状オレフィン系樹脂を基材とするものである。前記基材としては各種環状オレフィン樹脂成形品を用いることができるが、特に環状オレフィン樹脂フィルムが好ましい。
<Cyclic olefin resin substrate (I)>
The laminate according to the present invention is based on a cyclic olefin resin. Although various cyclic olefin resin molded products can be used as the substrate, a cyclic olefin resin film is particularly preferable.

前記環状オレフィン樹脂フィルムとしては、環状オレフィンを重合したものであれば、単独重合体であっても、共重合体であっても特に制限なく用いることができる。環状オレフィン樹脂フィルムの市販品としては、例えば、日本ゼオン株式会社製の「ZEONOR」;JSR株式会社製の「ARTON」;ポリプラスチックス株式会社製の「TOPAS」、三井化学株式会社製の「アペル」、グンゼ株式会社製の「Fフィルム」等が挙げられる。   The cyclic olefin resin film may be a homopolymer or a copolymer as long as it is a polymer of cyclic olefin, and can be used without any particular limitation. Examples of commercially available cyclic olefin resin films include “ZEONOR” manufactured by Zeon Corporation; “ARTON” manufactured by JSR Corporation; “TOPAS” manufactured by Polyplastics Corporation; “Appel” manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. ”,“ F film ”manufactured by Gunze Co., Ltd., and the like.

また、環状オレフィン樹脂フィルムの表面は、通常、活性エネルギー線硬化型組成物の硬化被膜との密着性を向上させるため、サンドブラスト法、溶剤処理法等による表面の凹凸化処理、電気的処理(コロナ放電処理、大気圧プラズマ処理)、クロム酸処理、オゾン・紫外線・電子線照射処理、酸化処理、プライマー組成物による塗装処理等の易接着処理をすることが一般的であるが、本発明の活性エネルギー線硬化型組成物は、これらの易接着処理をせずとも環状オレフィン樹脂フィルムに対して高い密着性を有する。
前記環状オレフィン樹脂フィルムの厚さは、50〜200μmの範囲が好ましく、80〜150μmの範囲がより好ましく、90〜130μmの範囲がさらに好ましい。フィルム基材の厚さを当該範囲とすることで、環状オレフィン樹脂フィルムの片面に、本発明の活性エネルギー線硬化型組成物によるハードコート層を設けた場合にもカールを抑制しやすくなる。
In addition, the surface of the cyclic olefin resin film is usually subjected to surface roughening treatment by a sandblasting method, a solvent treatment method, etc. in order to improve the adhesion with the cured film of the active energy ray-curable composition, an electrical treatment (corona It is common to perform easy adhesion treatment such as discharge treatment, atmospheric pressure plasma treatment), chromic acid treatment, ozone / ultraviolet ray / electron beam irradiation treatment, oxidation treatment, and coating treatment with a primer composition. The energy ray curable composition has high adhesion to the cyclic olefin resin film without performing such easy adhesion treatment.
The thickness of the cyclic olefin resin film is preferably in the range of 50 to 200 μm, more preferably in the range of 80 to 150 μm, and still more preferably in the range of 90 to 130 μm. By setting the thickness of the film substrate within the above range, curling can be easily suppressed even when a hard coat layer made of the active energy ray-curable composition of the present invention is provided on one side of the cyclic olefin resin film.

<硬化被膜層(II)>
本発明に係る積層体は、環状オレフィン系樹脂基材(I)上に、特定の組成を有する活性エネルギー線硬化型組成物による硬化被膜層(II)を備えたものである。環状オレフィン系樹脂基材(I)と無機物質層(III)との間に前記硬化被膜層(II)を配置した積層構造とすることにより、環状オレフィン樹脂基材(I)と硬化被膜層(II)との層間密着性のみならず、硬化被膜層(II)と無機物質層(III)との間でも十分な層間密着性を有し、さらには耐摩擦性や透明性等の面でも優れた特性を示し得る積層体を提供することができる。以下、硬化被膜層(II)を形成する活性エネルギー線硬化型組成物につき説明する。
<Hardened coating layer (II)>
The laminate according to the present invention comprises a cured coating layer (II) made of an active energy ray-curable composition having a specific composition on a cyclic olefin-based resin substrate (I). By adopting a laminated structure in which the cured coating layer (II) is disposed between the cyclic olefin-based resin substrate (I) and the inorganic substance layer (III), the cyclic olefin resin substrate (I) and the cured coating layer ( II) Adhesiveness between the cured coating layer (II) and the inorganic material layer (III) as well as interlayer adhesion with II), and also excellent in terms of friction resistance and transparency It is possible to provide a laminate that can exhibit the above characteristics. Hereinafter, the active energy ray-curable composition for forming the cured coating layer (II) will be described.

<<活性エネルギー線硬化型組成物>>
本発明において用いられる活性エネルギー線硬化型組成物は、平均一次粒子径が1〜100nmの範囲内であるシリカ微粒子(A)、重合性不飽和化合物(B)、及び光重合開始剤(C)を含む。
<< Active energy ray-curable composition >>
The active energy ray-curable composition used in the present invention comprises silica fine particles (A) having an average primary particle diameter in the range of 1 to 100 nm, a polymerizable unsaturated compound (B), and a photopolymerization initiator (C). including.

シリカ粒子(A)
本発明に用いるシリカ粒子(A)は、平均一次粒子径が1〜100nmの範囲内であり、具体的には、乾式シリカ、湿式シリカ、シリカゲル、カルシウムイオン交換シリカ微粒子、コロイダルシリカ等を挙げることができる。
シリカ粒子(A)の平均一次粒子径は、1〜100nmであり、中でも硬化被膜の耐擦傷性の点からは、平均一次粒子径が比較的大きいものを用いることが有利であるが、耐擦傷性と硬化被膜の透明性の両立の観点から、5nm〜100nmの範囲内が好ましい。
平均一次粒子径が1nm未満であると、シリカ粒子(A)を他の有機材料と混合して使用した場合に被膜の耐擦傷性及び基材との密着性等の改良効果が小さくなるときがある。平均一次粒子径が100nmを超えるものであると、上記材料の透明性が損なわれる場合がある。
Silica particles (A)
The silica particles (A) used in the present invention have an average primary particle diameter in the range of 1 to 100 nm, and specifically include dry silica, wet silica, silica gel, calcium ion exchanged silica fine particles, colloidal silica, and the like. Can do.
The average primary particle diameter of the silica particles (A) is 1 to 100 nm, and from the viewpoint of the scratch resistance of the cured film, it is advantageous to use those having a relatively large average primary particle diameter. From the viewpoint of compatibility between the transparency and the transparency of the cured film, the range of 5 nm to 100 nm is preferable.
When the average primary particle size is less than 1 nm, when the silica particles (A) are mixed with other organic materials, the effect of improving the scratch resistance of the coating and the adhesion to the substrate may be reduced. is there. If the average primary particle diameter exceeds 100 nm, the transparency of the material may be impaired.

シリカ粒子の平均一次粒子径は、例えば、透過型電子顕微鏡(TEM)等の電子顕微鏡により観察される粒子によって測定することができる。あるいは、特定の粒子径が表示された市販品を用いてもよい。本発明においては、シリカ粒子の平均一次粒子径は、透過型電子顕微鏡で撮影し、無作為に引いた直線上にある粒子20個を一次粒子として観察し、画像解析により最大径の数平均径として測定値を算出して得られた値である。この時、シリカ粒子が円形でない場合には、同一面積の円相当の直径を求め、これをシリカ粒子の直径とした。   The average primary particle diameter of the silica particles can be measured by particles observed with an electron microscope such as a transmission electron microscope (TEM). Or you may use the commercial item by which the specific particle diameter was displayed. In the present invention, the average primary particle diameter of the silica particles is taken with a transmission electron microscope, 20 particles on a straight line drawn at random are observed as primary particles, and the number average diameter of the maximum diameter is determined by image analysis. As a value obtained by calculating a measured value. At this time, when the silica particles were not circular, a diameter corresponding to a circle having the same area was obtained and used as the diameter of the silica particles.

前記シリカ粒子(A)は、表面が有機物により変性されていないものでもよいが、透明性と耐擦傷性のバランスの観点から、粒子表面を有機物で変性した有機物変性シリカ粒子を含むもの、中でも不飽和基を有する有機物変性シリカを含むものが好ましい。ここでの表面の有機物変性とは、シリカ粒子表面に、有機化合物又は有機基を物理的又は化学的(好ましくは、化学的)に導入した複合体の形態となることを意味する。導入される有機化合物又は有機基としては、当該分野で公知のものが挙げられるが、活性エネルギー線硬化により得られる被膜の透明性を維持しつつ、シリカ粒子含有率を向上させ耐擦傷性に優れる被膜得ることができる点から、不飽和基を有することが好ましい。   The silica particles (A) may be those whose surfaces are not modified with organic substances, but those containing organic substance-modified silica particles whose particle surfaces are modified with organic substances from the viewpoint of a balance between transparency and scratch resistance. What contains the organic substance modified silica which has a saturated group is preferable. The organic modification of the surface here means to be in the form of a complex in which an organic compound or an organic group is physically or chemically (preferably chemically) introduced to the surface of the silica particles. Examples of the organic compound or organic group to be introduced include those known in the art, and while maintaining the transparency of the coating obtained by active energy ray curing, the silica particle content is improved and the scratch resistance is excellent. It is preferable that it has an unsaturated group from the point which can obtain a film.

前記、不飽和基とは、ラジカル重合しうる不飽和基を意味し、後述する重合性不飽和化合物(B)と反応しうるものである。ラジカル重合しうる不飽和基としては、炭素−炭素間二重結合をもつ官能基であり(重合性二重結合ともいう)、例えば、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、(メタ)アクリルアミド基、ビニルエーテル基、アリル基等を挙げることができ、本発明においては、中でも(メタ)アクリロイル基が好ましい。
本明細書において、「(メタ)アクリレート」は、アクリレート又はメタクリレートを意味し、「(メタ)アクリロイル」は、アクリロイル又はメタクリロイルを意味し、「(メタ)アクリルアミド」は、「アクリルアミド又はメタクリルアミド」を意味する。
The unsaturated group means an unsaturated group capable of radical polymerization, and can react with the polymerizable unsaturated compound (B) described later. The unsaturated group capable of radical polymerization is a functional group having a carbon-carbon double bond (also called a polymerizable double bond), for example, vinyl group, (meth) acryloyl group, (meth) acrylamide group, A vinyl ether group, an allyl group, etc. can be mentioned, In this invention, a (meth) acryloyl group is especially preferable.
In the present specification, “(meth) acrylate” means acrylate or methacrylate, “(meth) acryloyl” means acryloyl or methacryloyl, and “(meth) acrylamide” means “acrylamide or methacrylamide”. means.

シリカ粒子(A)は分散媒に分散した状態であっても良く、分散媒としては、例えば、水;メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−プロパノール、イソブタノール、n−ブタノール等のアルコール系溶媒;エチレングリコール等の多価アルコール系溶媒;エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル等の多価アルコール誘導体;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール等のケトン系溶媒等が挙げられる。上記分散媒としては、水及び/又は炭素数3以下の低級アルコール系溶媒が好ましい。   The silica particles (A) may be dispersed in a dispersion medium. Examples of the dispersion medium include water; alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropanol, n-propanol, isobutanol, and n-butanol; ethylene Examples thereof include polyhydric alcohol solvents such as glycol; polyhydric alcohol derivatives such as ethylene glycol monoethyl ether and ethylene glycol monobutyl ether; ketone solvents such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and diacetone alcohol. As the dispersion medium, water and / or a lower alcohol solvent having 3 or less carbon atoms are preferable.

コロイダルシリカの市販品としては、メタノールシリカゾル(平均粒子径10〜15nm)、MA−ST−M(平均粒子径20〜25nm)、IPA−ST(平均粒子径10〜15nm)、IPA−ST−L(平均粒子径40〜50nm)、IPA−ST−ZL(平均粒子径70〜100nm)、MEK−ST−40(平均粒子径10〜15nm)、MEK−ST−L(平均粒子径40〜50nm)、MEK−ST−ZL(平均粒子径70〜100nm)、DMAC−ST(平均粒子径10〜15nm)、NPC−ST−30(平均粒子径10〜15nm)、PGM−ST(平均粒子径10〜15nm)、EAC−ST(平均粒子径10〜15nm)、IPA−ST−UP(平均粒子径9〜15nm)、ST−UP(平均粒子径40〜100nm)、ST−OUP(平均粒子径40〜100nm)、ST−20L(平均粒子径40〜50nm)、ST−30(平均粒子径10〜15nm)、MEK−ST−40(平均粒子径10〜15nm)、ST−O−40(平均粒子径20〜25nm)、ST−N−40(平均粒子径20〜25nm)、ST−C(平均粒子径10〜15nm)、ST−NS(平均粒子径8〜11nm)、ST−O(平均粒子径10〜15nm)、ST−50(平均粒子径20〜25nm)、ST−OL(平均粒子径40〜50nm)、MEK−AC−2140Z(平均粒子径10〜15nm)、PGM−AC−2140Y(平均粒子径10〜15nm)、MEK−AC−4130Y(平均粒子径40〜50nm)、MEK−AC−5140Z(平均粒子径70〜100nm)(いずれも商品名、日産化学工業社製)等が挙げられる。   Commercially available colloidal silica includes methanol silica sol (average particle size 10-15 nm), MA-ST-M (average particle size 20-25 nm), IPA-ST (average particle size 10-15 nm), IPA-ST-L. (Average particle size 40-50 nm), IPA-ST-ZL (average particle size 70-100 nm), MEK-ST-40 (average particle size 10-15 nm), MEK-ST-L (average particle size 40-50 nm) MEK-ST-ZL (average particle size 70-100 nm), DMAC-ST (average particle size 10-15 nm), NPC-ST-30 (average particle size 10-15 nm), PGM-ST (average particle size 10-10 nm) 15 nm), EAC-ST (average particle size 10-15 nm), IPA-ST-UP (average particle size 9-15 nm), ST-UP (average particle size 40-100) m), ST-OUP (average particle size 40 to 100 nm), ST-20L (average particle size 40 to 50 nm), ST-30 (average particle size 10 to 15 nm), MEK-ST-40 (average particle size 10 to 10 nm) 15 nm), ST-O-40 (average particle size 20-25 nm), ST-N-40 (average particle size 20-25 nm), ST-C (average particle size 10-15 nm), ST-NS (average particle size) 8-11 nm), ST-O (average particle size 10-15 nm), ST-50 (average particle size 20-25 nm), ST-OL (average particle size 40-50 nm), MEK-AC-2140Z (average particle size) 10-15 nm), PGM-AC-2140Y (average particle size 10-15 nm), MEK-AC-4130Y (average particle size 40-50 nm), MEK-AC-5140Z (average particle size 70) 100nm) (all trade names, and the like is manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), and the like.

また、シリカ粒子(A)の総含有量は、耐擦傷性、耐カール性及び付着性の点から、前記活性エネルギー線硬化型組成物中の全硬化被膜形成成分に対して、30質量%以上であり、40質量%以上が好ましく、50質量%以上がさらに好ましく、55質量%以上が特に好ましい。また、透明性の点から、85質量%以下であり、80質量%以下が好ましく、70質量%以下がさらに好ましい。本発明において用いられる活性エネルギー線硬化型組成物から得られる被膜は、シリカ粒子(A)の含有率が高くても、透明性に非常に優れ、かつ、基材との密着性及び耐擦傷性にも優れる。   The total content of the silica particles (A) is 30% by mass or more based on the total cured film forming component in the active energy ray-curable composition from the viewpoint of scratch resistance, curl resistance and adhesion. 40 mass% or more is preferable, 50 mass% or more is more preferable, and 55 mass% or more is particularly preferable. Moreover, from a transparency point, it is 85 mass% or less, 80 mass% or less is preferable and 70 mass% or less is more preferable. The film obtained from the active energy ray-curable composition used in the present invention is very excellent in transparency even when the content of the silica particles (A) is high, and has good adhesion to the substrate and scratch resistance. Also excellent.

重合性不飽和化合物(B)
重合性不飽和化合物(B)は、分子内に1個以上の重合性不飽和基を有する化合物である。前記重合性不飽和基はラジカル重合しうる不飽和基であって、具体的には、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、マレイミド基、ビニルエーテル基等を挙げることができる。これらの重合性不飽和基のうち、反応性に優れる観点から、アクリロイル基及びメタクリロイル基が好ましく、アクリロイル基が特に好ましい。
Polymerizable unsaturated compound (B)
The polymerizable unsaturated compound (B) is a compound having one or more polymerizable unsaturated groups in the molecule. The polymerizable unsaturated group is an unsaturated group capable of radical polymerization, and specifically includes, for example, an acryloyl group, a methacryloyl group, a vinyl group, an allyl group, a propenyl group, an isopropenyl group, a maleimide group, and a vinyl ether group. Can be mentioned. Of these polymerizable unsaturated groups, an acryloyl group and a methacryloyl group are preferable, and an acryloyl group is particularly preferable from the viewpoint of excellent reactivity.

また、前記重合性不飽和化合物(B)としては、分子内にエステル結合、ウレタン結合、尿素結合及びチオウレタン結合等を有していても良く、特に、耐擦傷性やカール性の観点から、ウレタン結合を有する重合性不飽和化合物(b1)を好適に用いることができ、前記ウレタン結合を有する重合性不飽和化合物(b1)の例としては、ウレタン(メタ)アクリレート化合物を挙げることができる。   The polymerizable unsaturated compound (B) may have an ester bond, a urethane bond, a urea bond, a thiourethane bond, or the like in the molecule, particularly from the viewpoint of scratch resistance and curling property. A polymerizable unsaturated compound (b1) having a urethane bond can be suitably used, and examples of the polymerizable unsaturated compound (b1) having a urethane bond include a urethane (meth) acrylate compound.

本発明の活性エネルギー線硬化型組成物において特に好適に用いられるウレタン(メタ)アクリレート化合物としては、不飽和基当量が110以上600未満、重量平均分子量が600〜6,000の範囲内のものであることが好ましい。前記ウレタン(メタ)アクリレートは、1分子中に少なくとも1個のウレタン結合と少なくとも1個の(メタ)アクリロイル基とを有する化合物であり、該(メタ)アクリロイル基のうち、反応性に優れる観点から、アクリロイル基が特に好ましい。   The urethane (meth) acrylate compound particularly preferably used in the active energy ray-curable composition of the present invention has an unsaturated group equivalent of 110 or more and less than 600 and a weight average molecular weight of 600 to 6,000. Preferably there is. The urethane (meth) acrylate is a compound having at least one urethane bond and at least one (meth) acryloyl group in one molecule. From the viewpoint of excellent reactivity among the (meth) acryloyl groups. An acryloyl group is particularly preferred.

本明細書において、不飽和基を有する化合物の分子量をM、その分子量あたりに含まれる不飽和基の数をσとすると、不飽和基当量はM/σで表される値である。   In this specification, when the molecular weight of the compound having an unsaturated group is M and the number of unsaturated groups contained per molecular weight is σ, the unsaturated group equivalent is a value represented by M / σ.

ウレタン(メタ)アクリレートの重量平均分子量は、被膜外観、被膜の硬度及び可とう性の観点から600〜6,000の範囲内であることが好ましく、1,000〜5,800の範囲内であることが特に好適である。
なお、本明細書において、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフ(GPC)を用いて測定した保持時間(保持容量)を、同一条件で測定した分子量既知の標準ポリスチレンの保持時間(保持容量)によりポリスチレンの分子量に換算して求めた値である。具体的には、ゲルパーミエーションクロマトグラフ装置として、「HLC−8120GPC」(商品名、東ソー社製)を使用し、カラムとして、「TSKgel G4000HXL」、「TSKgel G3000HXL」、「TSKgel G2500HXL」及び「TSKgel G2000HXL」(商品名、いずれも東ソー社製)の計4本を使用し、検出器として、示差屈折率計を使用し、移動相:テトラヒドロフラン、測定温度:40℃、流速:1mL/minの条件下で測定することができる。
The weight average molecular weight of the urethane (meth) acrylate is preferably in the range of 600 to 6,000, preferably in the range of 1,000 to 5,800, from the viewpoint of coating appearance, coating hardness, and flexibility. It is particularly preferred.
In this specification, the weight average molecular weight is the retention time (retention capacity) of a standard polystyrene having a known molecular weight measured under the same conditions as the retention time (retention capacity) measured using a gel permeation chromatograph (GPC). Is a value obtained by converting to a molecular weight of polystyrene. Specifically, “HLC-8120GPC” (trade name, manufactured by Tosoh Corporation) is used as a gel permeation chromatograph apparatus, and “TSKgel G4000HXL”, “TSKgel G3000HXL”, “TSKgel G2500HXL” and “TSKgel” are used as columns. G2000HXL "(trade name, all manufactured by Tosoh Corporation), using a differential refractometer as the detector, mobile phase: tetrahydrofuran, measurement temperature: 40 ° C, flow rate: 1 mL / min Can be measured below.

上記ウレタン(メタ)アクリレートとしては、例えば、
(1)ポリイソシアネート化合物と水酸基及び(メタ)アクリロイル基を有する化合物とを反応させる、
(2)ポリイソシアネート化合物とポリオールとを反応させて得られるポリウレタンポリオールにイソシアネート基含有(メタ)アクリレートモノマーを反応させる、
等の方法により製造される反応生成物が挙げられる。
As the urethane (meth) acrylate, for example,
(1) reacting a polyisocyanate compound with a compound having a hydroxyl group and a (meth) acryloyl group;
(2) reacting an isocyanate group-containing (meth) acrylate monomer with a polyurethane polyol obtained by reacting a polyisocyanate compound and a polyol;
The reaction product manufactured by methods, such as these, are mentioned.

ウレタン(メタ)アクリレートの製造に使用されるポリイソシアネート化合物としては、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチレンジイソシアネート、1,4−テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート化合物、イソホロンジイソシアネート、4,4'−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)等の脂環族ジイソシアネート化合物、トリレンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、4,4'−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート化合物、これらのジイソシアネートの2量体又は3量体(ビウレット付加物又はイソシアヌレート環タイプ付加物等)等が挙げられる。   Examples of the polyisocyanate compound used for the production of urethane (meth) acrylate include aliphatic diisocyanate compounds such as hexamethylene diisocyanate, trimethylene diisocyanate, 1,4-tetramethylene diisocyanate, pentamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, and isophorone diisocyanate. Arocyclic diisocyanate compounds such as 4,4′-methylenebis (cyclohexyl isocyanate), aromatics such as tolylene diisocyanate, phenylene diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, tetramethylxylylene diisocyanate, naphthalene diisocyanate Diisocyanate compounds, dimers or trimers of these diisocyanates (Biu Tsu DOO adducts or isocyanurate ring type adducts and the like) and the like.

ウレタン(メタ)アクリレートの製造に使用される水酸基及び(メタ)アクリロイル基を有する化合物としては、例えば、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、グリセロールジ(メタ)アクリレート、及び、これらにエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン等を付加して得られるアルキレンオキサイド変性又はラクトン変性の化合物等や、これらの化合物にポリイソシアネートを付加した化合物等を挙げることができる。   Examples of the compound having a hydroxyl group and a (meth) acryloyl group used for the production of urethane (meth) acrylate include pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and 2-hydroxyethyl (meth). Acrylate, glycerol di (meth) acrylate, and alkylene oxide modified or lactone modified compounds obtained by adding ethylene oxide, propylene oxide, ε-caprolactone, γ-butyrolactone, etc. to these, and polyisocyanates to these compounds And the like can be mentioned.

ウレタン(メタ)アクリレートの製造に使用されるポリオールとしては、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール、ポリカプロラクトンジオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール等が挙げられる。   Examples of polyols used in the production of urethane (meth) acrylate include ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, neopentyl glycol, 1,6-hexanediol, trimethylolpropane, glycerin, pentaerythritol, polycaprolactone diol, and polyester. Examples include polyols and polyether polyols.

上記イソシアネート基含有(メタ)アクリレートモノマーとしては、例えばイソシアネートエチル(メタ)アクリレート、イソシアネートプロピル(メタ)アクリレート、さらにヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等の活性水素含有重合性モノマーにヘキサメチレンジイソシアネート等のポリイソシアネート化合物を付加してなる不飽和化合物等が挙げられる。   Examples of the isocyanate group-containing (meth) acrylate monomer include polyisocyanates such as hexamethylene diisocyanate and active hydrogen-containing polymerizable monomers such as isocyanate ethyl (meth) acrylate, isocyanate propyl (meth) acrylate, and hydroxyethyl (meth) acrylate. Examples include unsaturated compounds obtained by adding compounds.

また、ウレタン(メタ)アクリレートとしては、市販品を使用することもできる。例えば、日本合成化学工業株式会社製紫光シリーズのUV−1700B、UV−6300B、UV−7600B、UV−7605B、UV−7610B、UV−7620EA、UV−7630B、UV−7640B、UV−7650Bや根上工業株式会社製アートレジンシリーズのUN−3320HA、UN−3320HC、UN−3320HS、UN−904、UN−906S、UN−901T、UN−905、UN−952、ダイセル・オルネクス株式会社製EBECRYLシリーズのEBECRYL4666、EBECRYL4680、EBECRYL8210、EBECRYL1290、EBECRYL8254、KRMシリーズのKRM8528、KRM8200、KRM8200AE、KRM8904を挙げることができる。
ウレタン(メタ)アクリレートは、単独でもしくは2種以上を組み合わせて使用することができる。
Moreover, a commercial item can also be used as urethane (meth) acrylate. For example, the purple light series UV-1700B, UV-6300B, UV-7600B, UV-7605B, UV-7610B, UV-7620EA, UV-7630B, UV-7640B, UV-7650B of Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. Art resin series UN-3320HA, UN-3320HC, UN-3320HS, UN-904, UN-906S, UN-901T, UN-905, UN-952, EBECRYL series EBECRYL 4666, manufactured by Daicel Ornex Co., Ltd. EBECRYL4680, EBECRYL8210, EBECRYL1290, EBECRYL8254, KRM series KRM8528, KRM8200, KRM8200AE, KRM8904 can be mentioned.
Urethane (meth) acrylates can be used alone or in combination of two or more.

本発明で重合性不飽和化合物(B)として用いられる、ウレタン結合を有する重合性不飽和化合物(b1)以外の重合性不飽和化合物(b2)としては、その化学構造中に重合性不飽和二重結合を少なくとも1つ有する化合物であって、本願課題である密着性を阻害しない限りその種類としては特に限定されず、単官能重合性不飽和化合物、多官能重合性不飽和化合物が挙げられる。   As the polymerizable unsaturated compound (b2) other than the polymerizable unsaturated compound (b1) having a urethane bond, which is used as the polymerizable unsaturated compound (B) in the present invention, the polymerizable unsaturated compound (B2) is included in its chemical structure. It is a compound having at least one heavy bond, and the type thereof is not particularly limited as long as it does not inhibit the adhesion which is the subject of the present application, and examples thereof include monofunctional polymerizable unsaturated compounds and polyfunctional polymerizable unsaturated compounds.

単官能重合性不飽和化合物としては、例えば、一価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル化物等が挙げられる。具体的には、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ネオペンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、N−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド等が挙げられる。また、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、2−カルボキシエチル(メタ)アクリレート、2−カルボキシプロピル(メタ)アクリレート、5−カルボキシペンチル(メタ)アクリレート等のカルボキシル基含有(メタ)アクリレート;グリシジル(メタ)アクリレート、アリルグリシジルエーテル等のグリシジル基含有重合性不飽和化合物;スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、α−クロルスチレン等のビニル芳香族化合物;N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N−t−ブチルアミノエチル(メタ)アクリレート等の含窒素アルキル(メタ)アクリレート;アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−エチル(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N−メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド等の重合性アミド化合物;N−(2−メタクリロイルオキシエチル)エチレンウレア、ヒドロキシエチルエチレンウレア(メタ)アクリレート等のアルコキシル化ウレア(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Examples of the monofunctional polymerizable unsaturated compound include esterified products of monohydric alcohol and (meth) acrylic acid. Specifically, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (Meth) acrylate, neopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, N-acryloyloxyethylhexahydro Examples include phthalimide. Moreover, for example, acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, 2-carboxyethyl (meth) acrylate, 2-carboxypropyl (meth) acrylate, 5-carboxypentyl (meth) acrylate, etc. Carboxyl group-containing (meth) acrylate; Glycidyl group-containing polymerizable unsaturated compounds such as glycidyl (meth) acrylate and allyl glycidyl ether; Vinyl aromatic compounds such as styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene, α-chlorostyrene; N , N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-diethylaminoethyl (meth) acrylate, nitrogen-containing alkyl (meth) acrylates such as Nt-butylaminoethyl (meth) acrylate; acrylamide, methacrylamide, N- Me Chill (meth) acrylamide, N-ethyl (meth) acrylamide, N-methylol (meth) acrylamide, N-methoxymethyl (meth) acrylamide, N-butoxymethyl (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, Polymerizable amide compounds such as N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylamide and N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylamide; N- (2-methacryloyloxyethyl) ethyleneurea, hydroxyethylethyleneurea (meth) acrylate And alkoxylated urea (meth) acrylates.

多官能重合性不飽和化合物としては、例えば、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル化物(エステル結合を分子内に少なくとも2つ以上有する重合性不飽和化合物;ポリエステル(メタ)アクリレートと呼ぶことがある)等が挙げられる。具体的には、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、シクロヘキサンジメタノールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデンカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、水素化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、水素化ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、水素化ヘキサフルオロビスフェノールAジ(メタ)アクリレート等のジ(メタ)アクリレート化合物;グリセリントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキサイド変性トリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリ(メタ)アクリレート、ε−カプロラクトン変性トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート等のトリ(メタ)アクリレート化合物;ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート等のテトラ(メタ)アクリレート化合物;ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート;チオール化合物とイソシアナト(メタ)アクリレートとを反応させた(ポリ)チオウレタン(メタ)アクリレート化合物等が挙げられる。これら重合性不飽和化合物は単独で又は2種以上組合せて使用することができる。   Examples of the polyfunctional polymerizable unsaturated compound include esterified products of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid (polymerizable unsaturated compound having at least two ester bonds in the molecule; polyester (meth) acrylate). In some cases). Specifically, for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, 1,3-butanediol di (meth) Acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, cyclohexanedimethanol di (meth) acrylate, tricycloden Di (meth) acrylates such as candimethanol di (meth) acrylate, hydrogenated bisphenol A di (meth) acrylate, hydrogenated bisphenol F di (meth) acrylate, hydrogenated hexafluorobisphenol A di (meth) acrylate, etc. Compound: glycerin tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane propylene oxide modified tri (meth) acrylate, trimethylolpropane ethylene oxide modified tri (meth) acrylate, ε-caprolactone modified tris (acrylic) Roxyethyl) isocyanurate and other tri (meth) acrylate compounds; pentaerythritol tetra (meth) acrylate and other tetra (meth) acrylate compounds; dipentaerythritol hexa (meth) acrylate; thiol compounds and isocyanato (meth) acrylates And (poly) thiourethane (meth) acrylate compounds and the like that have been used. These polymerizable unsaturated compounds can be used alone or in combination of two or more.

本発明で用いる活性エネルギー線硬化型組成物が、重合性不飽和化合物(B)として、ウレタン結合を有する重合性不飽和化合物(b1)を含有する場合、その含有率は、耐カール性、密着性、耐擦傷性、透明性及び耐候性等を考慮する場合には、活性エネルギー線硬化型組成物中の全硬化被膜形成成分に対して15質量%以上であることが好ましい。
本発明で用いる活性エネルギー線硬化型組成物が、ウレタン結合を有する重合性不飽和化合物(b1)以外の重合性不飽和化合物(b2)を含有する場合、その含有率は、耐カール性を考慮する場合には、活性エネルギー線硬化型組成物中の全硬化被膜形成成分に対して40質量%未満であることが好ましい。
すなわち、ウレタン結合を有する重合性不飽和化合物(b1)及びその他の重合性不飽和化合物(b2)を、100/0〜0/100、耐カール性の点から、15/85〜70/30の範囲内で適宜調整することができる。
最も好ましくは、本発明で用いる活性エネルギー線硬化型組成物に含まれる全硬化被膜形成成分に対して、シリカ粒子(A)、ウレタン結合を有する重合性不飽和化合物(b1)及び光重合開始剤(C)の合計質量が、80質量%以上であることが好ましい。
ここで、本明細書において、本発明で用いる活性エネルギー線硬化型組成物中の全硬化被膜形成成分とは、該組成物から、水、有機溶媒等の溶媒を除いた残渣(固形分)の合計質量を意味する。
When the active energy ray-curable composition used in the present invention contains a polymerizable unsaturated compound (b1) having a urethane bond as the polymerizable unsaturated compound (B), the content is curl resistance and adhesion. When considering properties, scratch resistance, transparency, weather resistance, etc., the content is preferably 15% by mass or more based on the total cured film forming component in the active energy ray-curable composition.
When the active energy ray-curable composition used in the present invention contains a polymerizable unsaturated compound (b2) other than the polymerizable unsaturated compound (b1) having a urethane bond, its content takes into consideration curl resistance. When it does, it is preferable that it is less than 40 mass% with respect to all the cured film formation components in an active energy ray hardening-type composition.
That is, the polymerizable unsaturated compound (b1) having a urethane bond and the other polymerizable unsaturated compound (b2) are 100/0 to 0/100, in terms of curl resistance, 15/85 to 70/30. It can adjust suitably within the range.
Most preferably, the silica particle (A), the polymerizable unsaturated compound (b1) having a urethane bond, and a photopolymerization initiator are used for all the cured film forming components contained in the active energy ray-curable composition used in the present invention. The total mass of (C) is preferably 80% by mass or more.
Here, in this specification, the total cured film forming component in the active energy ray-curable composition used in the present invention is a residue (solid content) obtained by removing a solvent such as water or an organic solvent from the composition. It means the total mass.

光重合開始剤(C)
光重合開始剤(C)は、活性エネルギー線を吸収して、フリーラジカル(中間体の形態でも)を発生する化合物であり、2種以上の化合物の混合物であってもよい。光重合開始剤(C)としては、光化学的に活性化可能な化合物(たとえばベンゾイン)、発色団と共開始剤(たとえばベンゾフェノン及び第三級アミン)との組合せ及びこれらの混合物、増感剤と、共開始剤との(たとえばチオキサントンと第三級アミン)又は発色団との(たとえばチオキサントンとアミノケトン)の組合せ、Hと鉄(II)塩との組合せ等のレドックス系、染料及びホウ酸塩及び/又はアミン等の電子輸送ペアー等を挙げることができる。
Photopolymerization initiator (C)
The photopolymerization initiator (C) is a compound that absorbs active energy rays and generates free radicals (even in the form of an intermediate), and may be a mixture of two or more compounds. Photoinitiators (C) include photochemically activatable compounds (for example, benzoin), combinations of chromophores and coinitiators (for example, benzophenone and tertiary amines), mixtures thereof, sensitizers, Redox systems such as combinations of coinitiators (eg thioxanthone and tertiary amine) or chromophores (eg thioxanthone and aminoketone), combinations of H 2 O 2 and iron (II) salts, dyes and boron Examples thereof include electron transport pairs such as acid salts and / or amines.

光重合開始剤(C)として具体的には、例えば、ベンジル、ジアセチル等のα−ジケトン化合物;ベンゾイン等のアシロイン化合物;ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のアシロインエーテル化合物;チオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、チオキサントン−4−スルホン酸等のチオキサントン化合物;ベンゾフェノン、o−メチルベンゾイルベンゾエート、4−メチルベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物;ミヒラーケトン化合物;アセトフェノン、2−(4−トルエンスルホニルオキシ)−2−フェニルアセトフェノン、p−ジメチルアミノアセトフェノン、α,α’−ジメトキシアセトキシベンゾフェノン、2,2’−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、p−メトキシアセトフェノン、2−メチル〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノ−1−プロパノン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン、α−イソヒドロキシイソブチルフェノン、α,α’−ジクロル−4−フェノキシアセトフェノン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン等のアセトフェノン化合物;2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス(アシル)フォスフィンオキサイド等のアシルフォスフィンオキサイド化合物;アントラキノン、1,4−ナフトキノン等のキノン;フェナシルクロライド、トリハロメチルフェニルスルホン、トリス(トリハロメチル)−s−トリアジン等のハロゲン化合物;ジ−t−ブチルパーオキサイド等の過酸化物等を挙げることができる。   Specific examples of the photopolymerization initiator (C) include α-diketone compounds such as benzyl and diacetyl; acyloin compounds such as benzoin; acyloin ether compounds such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl ether; Thioxanthone compounds such as 2,4-diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, thioxanthone-4-sulfonic acid; benzophenone, o-methylbenzoylbenzoate, 4-methylbenzophenone, 4-phenylbenzophenone, 4,4′-bis (dimethyl) Benzophenone compounds such as amino) benzophenone and 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone; Michler's ketone compound; acetophenone, 2- (4-toluenesulfonyloxy) 2-phenylacetophenone, p-dimethylaminoacetophenone, α, α′-dimethoxyacetoxybenzophenone, 2,2′-dimethoxy-2-phenylacetophenone, p-methoxyacetophenone, 2-methyl [4- (methylthio) phenyl] -2 -Morpholino-1-propanone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, α-isohydroxyisobutylphenone, α, α'-dichloro-4-phenoxyacetophenone Acetophenone compounds such as 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone; acylphosphine oxide compounds such as 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and bis (acyl) phosphine oxide; anthraquinone, 1 Quinones 4- naphthoquinone; phenacyl chloride, trihalomethyl phenyl sulfone, tris (trihalomethyl) -s-halogen compounds such as triazine; can be exemplified peroxides such as di -t- butyl peroxide.

光重合開始剤(C)の市販品としては、例えば、イルガキュア(IRGACURE)−127、イルガキュア−184、イルガキュア−261、イルガキュア−369、イルガキュア−500、イルガキュア−651、イルガキュア−754、イルガキュア−819、イルガキュア−907、イルガキュア−CGI−1700、イルガキュア−2959、イルガキュア−TPO、ダロキュア(Darocur)−1173(以上、BASF社製、商品名);カヤキュアー(KAYACURE)−MBP、カヤキュアー−DETX−S、カヤキュアー−DMBI、カヤキュアー−EPA、カヤキュアー−OA(以上、日本化薬社製、商品名);ビキュア(VICURE)−10、ビキュア−55(以上、ストウファー社(STAUFFER Co.,LTD.)製、商品名);トリゴナル(Trigonal)P1(アクゾ社(AKZO Co.,LTD.)製、商品名);サンドレイ(SANDORAY)1000(サンドズ社(SANDOZ Co.,LTD.)製、商品名);ディープ(DEAP)(アプジョン社(APJOHN Co.,LTD.)製、商品名);カンタキュア(QUANTACURE)−PDO、カンタキュア−ITX、カンタキュア−EPD(以上、ウォードブレキンソプ社(WARD BLEKINSOP Co., LTD.)製、商品名)、ESACURE KIP 150、ESACURE ONE(LAMBERTI社製、商品名)等を挙げることができる。
上記光重合開始剤(C)は、それぞれ単独でもしくは2種以上を組み合わせて使用することができる。
Examples of commercially available photopolymerization initiators (C) include IRGACURE-127, IRGACURE-184, IRGACURE-261, IRGACURE-369, IRGACURE-500, IRGACURE-651, IRGACURE-754, IRGACURE-819, Irgacure-907, Irgacure-CGI-1700, Irgacure-2959, Irgacure-TPO, Darocur-1173 (above, trade name, manufactured by BASF); Kayacure-MBP, Kayacure-DETX-S, Kayacure- DMBI, Kayacure-EPA, Kayacure-OA (above, Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name); Vicure-10, Vicure-55 (above, STAUFER Co Trigonal P1 (manufactured by Akzo Co., Ltd., trade name); Sandray 1000 (SANDORZ Co., LTD.) , Product name); Deep (DEAP) (manufactured by APJOHN Co., LTD., Product name); CantaCure-PDO, CantaCure-ITX, CantaCure-EPD (above, Ward Brekinsop (WARD) BLEKINSSOP Co., LTD., Trade name), ESACURE KIP 150, ESACURE ONE (LABMERTI, trade name), and the like.
The said photoinitiator (C) can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.

これらの光重合開始剤(C)のうち特に好ましいものとしては、ベンゾフェノン系開始剤及び/又はチオキサントン系開始剤(c1)、並びに、ベンゾイン系、α−ヒドロキシアセトフェノン系及びアシルフォスフィンオサイド系から選ばれる少なくとも1種(c2)、を挙げることができる。また、開始剤(c1)と(c2)は組み合わせても好適に使用することができ、両者を組み合わせる場合は、c1/c2の質量比率で100/0〜99/1の範囲で用いることが好適であり、99/1〜70/30の範囲がさらに好適である。これらの開始剤を含有することにより、活性エネルギー線硬化型組成物から得られる被膜は、環状オレフィン系樹脂基材との密着性及び耐擦傷性の面で特に優れたものとなる。   Among these photopolymerization initiators (C), particularly preferred are benzophenone-based initiators and / or thioxanthone-based initiators (c1), benzoin-based, α-hydroxyacetophenone-based and acylphosphinesides. There may be mentioned at least one selected from (c2). In addition, initiators (c1) and (c2) can be suitably used even when combined, and when both are combined, it is preferable to use them in the range of 100/0 to 99/1 at a mass ratio of c1 / c2. The range of 99/1 to 70/30 is more preferable. By containing these initiators, the coating film obtained from the active energy ray-curable composition is particularly excellent in terms of adhesion to the cyclic olefin-based resin substrate and scratch resistance.

好適なベンゾフェノン系開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル−4−フェニルベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチル−ジフェニルスルフィド、アクリル化ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン等が挙げられる。
好適なチオキサントン系開始剤としては、例えば、2−イソプロピルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントンが挙げられる。
Suitable benzophenone initiators include, for example, benzophenone, methyl-4-phenylbenzophenone o-benzoylbenzoate, 4,4′-dichlorobenzophenone, hydroxybenzophenone, 4-benzoyl-4′-methyl-diphenyl sulfide, acrylated Benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3′-dimethyl-4-methoxybenzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 4, 4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone and the like can be mentioned.
Suitable examples of the thioxanthone initiator include 2-isopropylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, and 2,4-dichlorothioxanthone.

好適なベンゾイン系開始剤としては、ベンゾイン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、ベンゾインメチルエーテル(2−メトキシ−2−フェニルアセトフェノン)、ベンゾインエチルエーテル(2−エトキシ−2−フェニルアセトフェノン)、ベンゾインイソプロピルエーテル(2−イソプロポキシ−2−フェニルアセトフェノン)、ベンゾインイソブチルエーテル(2−イソブトキシ−2−フェニルアセトフェノン)等のベンゾイン誘導体が挙げられる。
好適なα−ヒドロキシアセトフェノン系開始剤としては1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノンが、また好適なアシルフォスフィンオキサイド系開始剤としては、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、SpeedCure XKm(商品名:Lambson社製)が、それぞれ例示される。
Suitable benzoin initiators include benzoin, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, benzoin methyl ether (2-methoxy-2-phenylacetophenone), benzoin ethyl ether (2-ethoxy- Examples thereof include benzoin derivatives such as 2-phenylacetophenone), benzoin isopropyl ether (2-isopropoxy-2-phenylacetophenone), and benzoin isobutyl ether (2-isobutoxy-2-phenylacetophenone).
Preferred α-hydroxyacetophenone initiators are 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone and 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, and preferred acylphosphine oxide initiators are 2,4,6-trimethyl. Examples thereof include benzoyl-diphenyl-phosphine oxide and SpeedCure XKm (trade name: manufactured by Lambson).

また、本発明で用いる活性エネルギー線硬化型組成物における光重合開始剤(C)の固形分含有量は、硬化性、被膜硬度及び基材との密着性確保の観点から、シリカ粒子(A)及び重合性不飽和化合物(B)の合計固形分100質量部に対して、好ましくは0.01〜30質量部の範囲内であり、より好ましくは1〜15質量部の範囲内である。
活性エネルギー線の積算照射量が200mJ/cm2以下である場合には、前記光重合開始剤(C)の固形分含有量は、シリカ粒子(A)及び重合性不飽和化合物(B)の合計固形分100質量部に対して、10〜30質量部の範囲内が好ましい。
In addition, the solid content of the photopolymerization initiator (C) in the active energy ray-curable composition used in the present invention is the silica particles (A) from the viewpoint of ensuring curability, coating hardness, and adhesion to the substrate. And it is in the range of 0.01-30 mass parts with respect to 100 mass parts of total solid content of the polymerizable unsaturated compound (B), More preferably, it exists in the range of 1-15 mass parts.
When the integrated irradiation amount of the active energy ray is 200 mJ / cm 2 or less, the solid content of the photopolymerization initiator (C) is the sum of the silica particles (A) and the polymerizable unsaturated compound (B). The inside of the range of 10-30 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of solid content.

その他の成分
本発明で用いる活性エネルギー線硬化型組成物は、さらに必要に応じて各種添加剤を配合してもよく、所望により溶媒で希釈してもよい。添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、レオロジーコントロール剤、表面調整剤(シリコン系表面調整剤、アクリル系表面調整剤、フッ素系表面調整剤、ビニル系表面調整剤等)、界面活性剤、樹脂粒子、易滑剤、脱泡剤、離型剤、シランカップリング剤、帯電防止剤、防曇剤、着色剤等が使用できる。本発明の活性エネルギー線硬化型組成物は、耐光性が求められる用途に関しては、さらに紫外線吸収剤及び/又は光安定剤を含有していても良い。
Other Components The active energy ray-curable composition used in the present invention may further contain various additives as necessary, and may be diluted with a solvent as required. Additives include, for example, ultraviolet absorbers, light stabilizers, antioxidants, rheology control agents, surface conditioners (silicon-based surface conditioners, acrylic-based surface conditioners, fluorine-based surface conditioners, vinyl-based surface conditioners. Etc.), surfactants, resin particles, lubricants, defoamers, mold release agents, silane coupling agents, antistatic agents, antifogging agents, colorants, and the like. The active energy ray-curable composition of the present invention may further contain an ultraviolet absorber and / or a light stabilizer for applications requiring light resistance.

紫外線吸収剤
上記紫外線吸収剤としては、従来から公知の有機系紫外線吸収剤及び無機系紫外線吸収剤が使用でき、例えば、ベンゾトリアゾール系吸収剤、トリアジン系吸収剤、サリチル酸誘導体系吸収剤、ベンゾフェノン系吸収剤及びその他(ヒドロキシフェニルトリアジン系、シュウ酸アニリド、シアノアクリレート等)の化合物等が挙げられる。無機系紫外線吸収剤としては、例えば微粒子酸化チタン、微粒子酸化亜鉛、微粒子酸化鉄等が挙げられる。また、上記紫外線吸収剤は、重合性不飽和基を有するものであっても良い。前記紫外線吸収剤を含有する場合、該紫外線吸収剤の含有量は、全硬化被膜形成成分に対して、0.01〜10質量%、好ましくは0.05〜9質量%の範囲内であることが好適である。
Ultraviolet absorber As the above-mentioned ultraviolet absorber, conventionally known organic ultraviolet absorbers and inorganic ultraviolet absorbers can be used. For example, benzotriazole absorbers, triazine absorbers, salicylic acid derivative absorbers, benzophenone Examples include absorbents and other compounds (hydroxyphenyltriazine, oxalic anilide, cyanoacrylate, etc.). Examples of the inorganic ultraviolet absorber include fine particle titanium oxide, fine particle zinc oxide, and fine particle iron oxide. Moreover, the said ultraviolet absorber may have a polymerizable unsaturated group. When it contains the said ultraviolet absorber, content of this ultraviolet absorber is 0.01-10 mass% with respect to all the cured film formation components, Preferably it exists in the range of 0.05-9 mass%. Is preferred.

光安定剤
上記光安定剤としては、特に限定されず、従来公知のものを広く使用することができるが、好ましくはヒンダードピペリジン化合物が挙げられる。ヒンダードピペリジン化合物は、一分子中に少なくとも一個のヒンダードピペリジン基を有する化合物である。
ヒンダードピペリジン化合物としては、例えば、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)セバケート、4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル){[3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニル]メチル}ブチルマロネート等のモノマータイプのもの;ポリ{[6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)イミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル][(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ]ヘキサメチレン[(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノール]}等のオリゴマータイプのもの;4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジンエタノールとコハク酸とのポリエステル化物等のポリエステル結合タイプのもの等が挙げられるが、これらに限ったものではない。光安定剤としては、また、公知の重合性光安定剤も使用することが可能である。
Light Stabilizer The light stabilizer is not particularly limited, and conventionally known light stabilizers can be widely used, and a hindered piperidine compound is preferable. A hindered piperidine compound is a compound having at least one hindered piperidine group in one molecule.
Examples of the hindered piperidine compound include bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl) sebacate, 4- Benzoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) {[3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4 Monomer type such as -hydroxyphenyl] methyl} butylmalonate; poly {[6- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) imino-1,3,5-triazine-2,4-diyl] Oligomeric tie such as [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino] hexamethylene [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) iminol]} Ones; 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethyl-1, but things like the polyester bond type such as a polyester product of piperidine ethanol and succinic acid, not limited thereto. A known polymerizable light stabilizer can also be used as the light stabilizer.

上記光安定剤の市販品としては、例えば、TINUVIN123、TINUVIN 152、TINUVIN292(商品名、BASF社製)、HOSTAVIN3050、HOSTAVIN3052、HOSTAVIN3058(商品名、クラリアント社製)、アデカスタブLA−82(商品名、株式会社ADEKA製)等が挙げられる。
これらは単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
また、前記光安定剤を含有する場合、その含有量は、全硬化被膜形成成分に対して、0.01〜10質量%、好ましくは0.05〜9質量%の範囲内であることが好適である。
Commercially available products of the light stabilizer include, for example, TINUVIN 123, TINUVIN 152, TINUVIN 292 (trade name, manufactured by BASF), HOSTAVIN 3050, HOSTAVIN 3052, HOSTAVIN 3058 (trade name, manufactured by Clariant), Adeka Stab LA-82 (trade name, stock) The company ADEKA).
These can be used alone or in combination of two or more.
Moreover, when it contains the said light stabilizer, the content is 0.01-10 mass% with respect to all the cured film formation components, Preferably it is in the range of 0.05-9 mass%. It is.

前記溶媒は、本発明の活性エネルギー線硬化型組成物の溶液粘度を適宜調整し、特に薄膜コーティングを行う際に膜厚を調整することができるため適宜選択することが好ましい。ここで使用できる有機溶媒としては、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物を溶解又は分散せしめうるものであれば、特に制限されないが、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;メタノール、エタノール、イソプロパノール、t−ブタノール等のアルコール類;酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で用いることも、2種以上を併用することもできる。   It is preferable to select the solvent as appropriate because it can adjust the solution viscosity of the active energy ray-curable composition of the present invention as appropriate, and can adjust the film thickness particularly when performing thin film coating. The organic solvent that can be used here is not particularly limited as long as it can dissolve or disperse the active energy ray-curable composition of the present invention. For example, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; methanol and ethanol And alcohols such as isopropanol and t-butanol; esters such as ethyl acetate, butyl acetate and propylene glycol monomethyl ether acetate; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone. These solvents can be used alone or in combination of two or more.

活性エネルギー線硬化型組成物の調製方法
本発明で用いる活性エネルギー線硬化型組成物は、以上に述べたシリカ粒子(A)、重合性不飽和化合物(B)、及び光重合開始剤(C)を必須として主成分として含むものであり、さらに必要に応じて使用される添加成分を溶媒中に混合し、溶解又は分散せしめることができる。
Method for preparing active energy ray-curable composition The active energy ray-curable composition used in the present invention comprises the silica particles (A), polymerizable unsaturated compound (B), and photopolymerization initiator (C) described above. As an essential component, and additional components used as necessary can be mixed in a solvent and dissolved or dispersed.

<無機物質層(III)>
本発明における無機物質層(III)としては、乾式成膜工法で形成されたものであれば特に制限されるものではなく、積層体に付与しようとする特性に応じて選択可能であり、例えば、Si、Ti、Zn、Al、Ga、In、Ce、Bi、Sb、B、Zr、Sn、及びTa等の元素を有する少なくとも1種以上の各種金属又は金属酸化物、窒化物及び硫化物等を主成分とする層が挙げられる。また、例えば、高硬度で絶縁性に優れたダイヤモンドライクカーボン(以下DLC)膜層も挙げられる。DLC膜は、炭素間のSP3結合を主体としたアモルファス構造の炭素膜で、非常に硬く、低摩擦係数、耐摩耗性、耐食性、ガスバリア性を有し、絶縁性に優れたダイヤモンド状炭素膜である。
<Inorganic substance layer (III)>
The inorganic substance layer (III) in the present invention is not particularly limited as long as it is formed by a dry film forming method, and can be selected according to the characteristics to be imparted to the laminate, for example, At least one or more kinds of various metals or metal oxides, nitrides and sulfides having elements such as Si, Ti, Zn, Al, Ga, In, Ce, Bi, Sb, B, Zr, Sn, and Ta. A layer having a main component can be mentioned. In addition, for example, a diamond-like carbon (hereinafter referred to as DLC) film layer having high hardness and excellent insulating properties may be used. The DLC film is a carbon film with an amorphous structure mainly composed of carbon-to-carbon SP3 bonds. It is a diamond-like carbon film that is extremely hard, has a low coefficient of friction, wear resistance, corrosion resistance, and gas barrier properties, and is excellent in insulation. is there.

本発明における無機物質層(III)としては、少なくとも1層以上であればよく、複層でも構わない。無機物質層(III)が複層である場合、それらの積層順や無機物質層(III)の種類も特に限定されない。また、無機物質層(III)としては、紫外線吸収層や機能性層等の種々の機能層であっても良い。   The inorganic material layer (III) in the present invention may be at least one or more layers. When the inorganic material layer (III) is a multilayer, the stacking order thereof and the type of the inorganic material layer (III) are not particularly limited. Further, the inorganic material layer (III) may be various functional layers such as an ultraviolet absorbing layer and a functional layer.

これらの中でも、最表層の無機物質層(III)は、高い硬度、硬化被膜層との層間密着性、積層膜の透明性及び優れた耐化学安定性を備えた表面層が得られる観点から金属酸化物、特に酸化珪素化合物からなる層であることが、特に好ましい。   Among these, the outermost inorganic substance layer (III) is a metal from the viewpoint of obtaining a surface layer having high hardness, interlayer adhesion with a cured coating layer, transparency of a laminated film, and excellent chemical stability. A layer made of an oxide, particularly a silicon oxide compound, is particularly preferable.

無機物質層(III)の一層をDLC層とする場合には、前記性能を有している点から、上記金属酸化物層を積層した上に、最表層として積層することが好ましい。   When one layer of the inorganic material layer (III) is a DLC layer, it is preferable that the above metal oxide layer is laminated and then laminated as the outermost layer from the viewpoint of having the above performance.

本発明における無機物質層(III)の積層方法は、乾式成膜工法であれば特に限定されず、例えば、抵抗加熱蒸着、電子ビーム蒸着、分子線エピタキシー法、イオンビームデポジション、イオンプレーティング、スパッタリング等の物理気相成長法(以下、「PVD」ともいう)や、熱CVD、プラズマCVD、光CVD、エピタキシャルCVD、アトミックレイヤーCVD、catCVD等の化学気相成長法(以下、「CVD」ともいう)等の乾式成膜工法があるが、特にこの中でも成膜温度や成膜速度の点からプラズマCVD(Chemical Vapor Deposition)が好ましい。ここでいう、乾式成膜工法とは材料表面を気相又は融解状態を用いて処理することで、一般にドライプロセスと呼ばれることもある。   The method for laminating the inorganic material layer (III) in the present invention is not particularly limited as long as it is a dry film forming method. For example, resistance heating evaporation, electron beam evaporation, molecular beam epitaxy, ion beam deposition, ion plating, Physical vapor deposition methods such as sputtering (hereinafter also referred to as “PVD”) and chemical vapor deposition methods such as thermal CVD, plasma CVD, photo CVD, epitaxial CVD, atomic layer CVD, and catCVD (hereinafter also referred to as “CVD”). Among them, plasma CVD (Chemical Vapor Deposition) is particularly preferable from the viewpoint of film forming temperature and film forming speed. Here, the dry film-forming method is generally called a dry process by treating the material surface using a gas phase or a molten state.

無機物質層(III)として、酸化珪素層をプラズマCVDで形成する際には、原料として有機珪素化合物を好適に使用できる。具体的な例としては、テトラエトキシシラン、ヘキサメチルジシロキサン、トリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、テトラメトキシシラン、メトキシトリメチルシラン、テトラメチルシラン、ヘキサメチルトリシロキサン、テトラクロロシラン、トリクロロメチルシラン、トリメチルクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、ジメチルクロロシラン等を挙げることができる。   As the inorganic material layer (III), when a silicon oxide layer is formed by plasma CVD, an organic silicon compound can be suitably used as a raw material. Specific examples include tetraethoxysilane, hexamethyldisiloxane, trimethoxysilane, methyltriethoxysilane, 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, tetramethoxysilane, methoxytrimethylsilane, tetramethylsilane, Examples include hexamethyltrisiloxane, tetrachlorosilane, trichloromethylsilane, trimethylchlorosilane, dimethyldichlorosilane, and dimethylchlorosilane.

また、DLC層をプラズマCVDで形成する際には、原料として炭化水素系化合物を用いる。具体的な例としては、トルエン、アセチレン、メタン、ヘキサン等が挙げられる。
無機物質層(III)をプラズマCVD法で形成する際に、原料の有機珪素化合物や炭化水素系化合物のほかに、分解ガスとして、水素ガス、メタンガス、オゾンガス、酸素ガス、一酸化炭素ガス、二酸化炭素ガス、窒素ガス、二酸化窒素ガス、一酸化二窒素ガス、等を用いる。この中でも、酸素ガス、オゾンガス、二酸化窒素ガス、一酸化二窒素ガス、二酸化ガス、一酸化ガス等のいずれか又は2種以上の組合せ等を好適に用いることができる。
Further, when the DLC layer is formed by plasma CVD, a hydrocarbon compound is used as a raw material. Specific examples include toluene, acetylene, methane, hexane and the like.
When the inorganic material layer (III) is formed by the plasma CVD method, in addition to the raw material organic silicon compound and hydrocarbon compound, as a decomposition gas, hydrogen gas, methane gas, ozone gas, oxygen gas, carbon monoxide gas, carbon dioxide Carbon gas, nitrogen gas, nitrogen dioxide gas, dinitrogen monoxide gas, or the like is used. Among these, any one of oxygen gas, ozone gas, nitrogen dioxide gas, dinitrogen monoxide gas, dioxide gas, monoxide gas, or a combination of two or more thereof can be suitably used.

このように、種々の金属原料を含む原料と、分解ガスを適宜選択することで、様々な無機物質層(III)を形成することができ、無機物質層(III)を形成するための原料等は、1種又は2種以上併用しても構わない。   Thus, various inorganic material layers (III) can be formed by appropriately selecting a raw material containing various metal raw materials and a decomposition gas, and raw materials for forming the inorganic material layer (III). May be used alone or in combination of two or more.

また、無機物質層(III)の厚みは10nm以上であることが、耐擦傷性の点から好ましく、十分な耐摩耗性を保持するうえで、20nm以上であることがより好ましい。無機物質層(III)の一層あたりの厚みの上限は特に限定されないが、好ましくは5μm以下、特に好ましくは2μm以下である。無機物質層(III)の厚みが10nm未満では、十分な耐擦傷性を発現させることができないことがある。無機物質層(III)の厚みを調整するには、例えば、プラズマCVD等の装置の設定条件において、処理時間等を調整すればよい。また、無機物質層は複数層であっても良い。   In addition, the thickness of the inorganic material layer (III) is preferably 10 nm or more from the viewpoint of scratch resistance, and more preferably 20 nm or more for maintaining sufficient wear resistance. The upper limit of the thickness per layer of the inorganic material layer (III) is not particularly limited, but is preferably 5 μm or less, particularly preferably 2 μm or less. If the thickness of the inorganic material layer (III) is less than 10 nm, sufficient scratch resistance may not be exhibited. In order to adjust the thickness of the inorganic material layer (III), for example, the processing time or the like may be adjusted under the setting conditions of an apparatus such as plasma CVD. The inorganic material layer may be a plurality of layers.

本発明による積層体は、上記のようにして積層した無機物質層が無機物であることから、有機物被膜にない優れた外観、耐候性、耐擦傷性等の特性を有しており、また活性エネルギー線硬化型組成物による硬化被膜層(II)との層間密着性に優れ、耐候性、耐水性及び耐擦傷性に非常に優れたものであることができる。
<積層体の製造方法>
本発明に係る積層体は、環状オレフィン系樹脂基材(I)上に、活性エネルギー線硬化型組成物を塗装して活性エネルギー線硬化型組成物による被膜層を形成する工程と、前記活性エネルギー線硬化型組成物による被膜層に活性エネルギー線を照射して、活性エネルギー線硬化型組成物による硬化被膜層(II)を形成する工程と、前記硬化被膜層(II)上に、乾式成膜工法によって無機物質層(III)を少なくとも1層形成する工程と、を含む方法により製造することができる。ここで活性エネルギー線硬化型組成物は、平均一次粒子径が1〜100nmの範囲内であるシリカ微粒子(A)、重合性不飽和化合物(B)、及び光重合開始剤(C)を含み、前記シリカ微粒子(A)の含有量は、前記活性エネルギー線硬化型組成物の全硬化被膜形成成分を基準として、30〜85質量%である。
本発明で用いる活性エネルギー線硬化型組成物によれば、高濃度にシリカ微粒子を含有し、層中に緻密にシリカ微粒子が充填されているにもかかわらず、透明性の低下及びワレなどの不具合を発生させることなく、無機物質層(III)及び環状オレフィン樹脂系基材(I)の双方に対して密着性に優れた硬化被膜を得ることができ、しかも、易接着処理をしていない環状オレフィン系樹脂基材を用いても、優れた層間密着性を有する積層構造を形成することができる。
The laminate according to the present invention has an excellent appearance, weather resistance, scratch resistance, and other properties not found in organic coatings, since the inorganic material layer laminated as described above is an inorganic substance, and also has an active energy. It can be excellent in interlayer adhesion with the cured coating layer (II) by the wire curable composition, and extremely excellent in weather resistance, water resistance and scratch resistance.
<Method for producing laminate>
The laminate according to the present invention comprises a step of coating an active energy ray-curable composition on the cyclic olefin-based resin substrate (I) to form a coating layer of the active energy ray-curable composition, and the active energy. A step of irradiating a coating layer made of a linear curable composition with active energy rays to form a cured coating layer (II) made of the active energy ray curable composition, and a dry film formation on the cured coating layer (II) And a step of forming at least one inorganic substance layer (III) by a construction method. Here, the active energy ray-curable composition includes silica fine particles (A) having an average primary particle diameter in the range of 1 to 100 nm, a polymerizable unsaturated compound (B), and a photopolymerization initiator (C). Content of the said silica fine particle (A) is 30-85 mass% on the basis of the total cured film formation component of the said active energy ray hardening-type composition.
According to the active energy ray-curable composition used in the present invention, although the silica fine particles are contained at a high concentration and the silica fine particles are densely packed in the layer, problems such as a decrease in transparency and cracking are caused. A cured film having excellent adhesion to both the inorganic material layer (III) and the cyclic olefin resin-based substrate (I) without causing any problems, and is not subjected to easy adhesion treatment. Even when an olefin-based resin base material is used, a laminated structure having excellent interlayer adhesion can be formed.

塗装工程
本発明の活性エネルギー線硬化型組成物を塗装する方法は、特に限定されるものではない。例えば、スプレー、回転霧化塗装機、浸漬塗装、ダイコート、マイクログラビアコート、グラビアコート、ロールコート、コンマコート、エアナイフコート、キスコート、スプレーコート、かけ渡しコート、ディップコート、スピンナーコート、ホイーラーコート、刷毛塗り、シルクスクリーンによるベタコート、ワイヤーバーコート、フローコート等により塗装することができる。塗装の際、静電印加を行ってもよい。
Coating process The method for coating the active energy ray-curable composition of the present invention is not particularly limited. For example, spray, rotary atomizer, dip coating, die coating, micro gravure coating, gravure coating, roll coating, comma coating, air knife coating, kiss coating, spray coating, transfer coating, dip coating, spinner coating, wheeler coating, brush It can be applied by painting, solid coating by silk screen, wire bar coating, flow coating or the like. Electrostatic application may be performed during coating.

塗装膜厚
塗装膜厚は、硬化膜厚で通常0.5〜100μm、好ましくは0.5〜8μmの範囲内、さらに好ましくは1〜7.8μmの範囲内とすることができる。本発明の活性エネルギー線硬化型組成物は、特に10μm以下の薄膜において、基材との十分な密着性、透明性及び耐擦傷性に優れた硬化被膜を形成することができる。
Coating thickness The coating thickness is usually 0.5 to 100 µm, preferably 0.5 to 8 µm, more preferably 1 to 7.8 µm in terms of cured thickness. The active energy ray-curable composition of the present invention can form a cured film excellent in sufficient adhesion with a substrate, transparency and scratch resistance, particularly in a thin film of 10 μm or less.

本発明において硬化被膜層(II)を形成するにあたっては、基材上に、活性エネルギー線硬化型組成物を塗装して、セッティング及び/又は予備加熱を施した後、活性エネルギー線を照射してもよい。この、セッティング及び/又は予備加熱を施す工程は、塗装直後の被膜中の揮発分を減少させ又は揮発分を除去するために行なわれ、エアブロー、IR炉等で行うことができる。セッティングは、通常、塗装された被塗物をほこりのない雰囲気に室温で30秒〜600秒放置することにより行うことができる。予備加熱(プレヒート)は、通常、塗装された被塗物を乾燥炉内で、40〜110℃、好ましくは50〜100℃の温度で30秒〜30分間加熱することにより行うことができる。また、エアブローを行う場合には、通常、被塗物の塗装面に常温又は25℃〜80℃の温度に加熱された空気を吹き付けることにより行うことができる。予備加熱時間は、好ましくは、30秒〜600秒行うことができる。また、加熱と後述する活性エネルギー線照射とを併せて行う際には、光線の照射源からの熱(例えばランプが発する熱)を熱源としてもよい。さらに、加熱の後に光照射を行う際には、被塗物が熱を帯びた状態(余熱を持った状態)で光照射を行なってもよい。   In forming the cured coating layer (II) in the present invention, the active energy ray-curable composition is applied onto the substrate, and after setting and / or preheating, the active energy ray is irradiated. Also good. This step of setting and / or preheating is performed in order to reduce or remove volatile components in the coating immediately after coating, and can be performed by an air blow, an IR furnace, or the like. The setting can be usually performed by leaving the coated article to stand in a dust-free atmosphere for 30 seconds to 600 seconds at room temperature. Preheating (preheating) can be usually performed by heating the coated article in a drying furnace at a temperature of 40 to 110 ° C., preferably 50 to 100 ° C. for 30 seconds to 30 minutes. Moreover, when performing an air blow, it can carry out by spraying the air heated to normal temperature or the temperature of 25 to 80 degreeC normally to the coating surface of a to-be-coated article. The preheating time can be preferably 30 seconds to 600 seconds. Moreover, when performing heating and active energy ray irradiation mentioned later together, it is good also considering the heat (for example, the heat | fever which a lamp | ramp emits) from the irradiation source of a light ray as a heat source. Further, when light irradiation is performed after heating, the light irradiation may be performed in a state where the object to be coated is heated (a state having residual heat).

活性エネルギー線照射
上記基材に塗布された被膜は、活性エネルギー線を照射することにより重合させ、硬化被膜とすることができる。照射される活性エネルギー線としては、公知のものを使用することができる。具体的には、紫外線、可視光線、レーザー光(近赤外線レーザー、可視光レーザー、紫外線レーザー等)、マイクロ波、電子ビーム、電磁波等を挙げることができる。これらの活性エネルギー線のうち、経済性の観点から、紫外線を好適に使用することができる。
Active energy ray irradiation The coating applied to the substrate can be polymerized by irradiation with active energy rays to form a cured coating. A well-known thing can be used as an active energy ray irradiated. Specific examples include ultraviolet light, visible light, laser light (near infrared laser, visible light laser, ultraviolet laser, etc.), microwave, electron beam, electromagnetic wave, and the like. Of these active energy rays, ultraviolet rays can be suitably used from the viewpoint of economy.

活性エネルギー線の照射源としては、公知のものを使用することができる。具体的には、例えば、超高圧、高圧、中圧、低圧の水銀灯、無電極ランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライド灯、蛍光灯、タングステン灯、LED(Light Emitting Diode、発光ダイオード)、太陽光等を使用することができる。また、パルス発光型の活性エネルギー線照射装置も使用することができる。
また、活性エネルギー線の照射は、全領域及び/又は一部を、例えば、マスクを介して行っても、レーザービームを用いて行ってもよい。その手段によって特定の領域だけの被膜の硬化を行うことも可能である。
活性エネルギー線の照射量は、照射源によって異なるが、活性エネルギー線硬化型組成物の重合を行なうことができる範囲であればよく、例えば、高圧水銀灯を使用した場合、積算照射量で100〜500mJ/cm2、特に200〜500mJ/cm2の範囲内が好ましい。
無機物質層(III)の形成
無機物質層(III)の形成は、上記<無機物質層(III)>において説明したとおり、乾式成膜工法で形成することができる。
A well-known thing can be used as an irradiation source of an active energy ray. Specifically, for example, ultra high pressure, high pressure, medium pressure, low pressure mercury lamp, electrodeless lamp, chemical lamp, carbon arc lamp, xenon lamp, metal halide lamp, fluorescent lamp, tungsten lamp, LED (Light Emitting Diode), light emitting diode ), Sunlight, etc. can be used. In addition, a pulsed emission type active energy ray irradiation apparatus can also be used.
In addition, the irradiation with active energy rays may be performed on the entire region and / or part of the region through, for example, a mask or a laser beam. It is also possible to cure the coating only in a specific area by the means.
The irradiation amount of the active energy ray varies depending on the irradiation source, but may be within a range where the active energy ray-curable composition can be polymerized. For example, when a high-pressure mercury lamp is used, the integrated irradiation amount is 100 to 500 mJ. / Cm 2 , particularly preferably in the range of 200 to 500 mJ / cm 2 .
Formation of Inorganic Material Layer (III) The inorganic material layer (III) can be formed by a dry film forming method as described in <Inorganic material layer (III)>.

本発明に係る積層体は、環状オレフィン樹脂基材上に特定の活性エネルギー線硬化型組成物の硬化被膜層と無機物質層とが順次積層されてなる積層構造を有することから、十分な層間密着性を有し、さらには耐摩擦性や透明性等の面でも優れた特性を示すことができる。また、積層した無機物質層により、有機物被膜にない優れた外観、耐候性、耐擦傷性等の諸特性を付与することができる。   Since the laminate according to the present invention has a laminated structure in which a cured coating layer and an inorganic material layer of a specific active energy ray-curable composition are sequentially laminated on a cyclic olefin resin substrate, sufficient interlayer adhesion is achieved. And can exhibit excellent properties in terms of friction resistance and transparency. In addition, the laminated inorganic material layer can impart various properties such as excellent appearance, weather resistance, and scratch resistance that are not found in organic coatings.

以下、製造例、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。ただし、本発明はこれらにより限定されるものではない。各例において、「部」及び「%」は、別記しない限り「質量部」及び「質量%」を示す。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to production examples and examples. However, the present invention is not limited to these. In each example, “parts” and “%” indicate “parts by mass” and “mass%” unless otherwise specified.

(製造例1)活性エネルギー線硬化型組成物No.1
シリカ微粒子No.1(*1)を150部(固形分60部)、重合性不飽和化合物No.1を40部(固形分40部)(*5)、光重合開始剤としてDETX(*10)を6.0部、DAROCURE 1173(*14)を固形分で0.8部、BYK−354(*15)(商品名、アクリル系表面調整剤)を固形分で0.10部、紫外線吸収剤としてTINUVIN 1130(*16)を固形分で0.20部、及び光安定剤としてHOSTAVIN 3052(*17)を固形分で0.20部配合し、酢酸エチルで固形分含有率40%まで希釈し攪拌し、活性エネルギー線硬化型組成物No.1を製造した。表1−1に各成分の配合量を固形分質量比で示した。また、表中のシリカ粒子含有量は、活性エネルギー線硬化型組成物の全硬化被膜形成成分を基準とした質量%である。
(Production Example 1) Active energy ray-curable composition No. 1
Silica fine particles No. 1 (* 1) 150 parts (solid content 60 parts), polymerizable unsaturated compound No. 1 40 parts (solid content 40 parts) (* 5), DETX (* 10) 6.0 parts as photopolymerization initiator, DAROCURE 1173 (* 14) 0.8 parts in solids, BYK-354 ( * 15) (trade name, acrylic surface conditioning agent) 0.10 parts by solid content, TINUVIN 1130 (* 16) as solid UV absorber 0.20 parts by solid content, and HOSTAVIN 3052 as light stabilizer (* 17) is mixed with 0.20 part of solid content, diluted with ethyl acetate to a solid content of 40% and stirred. 1 was produced. Table 1-1 shows the blending amount of each component in terms of solid content mass ratio. The silica particle content in the table is mass% based on the total cured film forming component of the active energy ray-curable composition.

(製造例2〜28)活性エネルギー線硬化型組成物No.2〜28
製造例1において、各成分の配合を表1−1〜1−3に示すものとする以外は製造例1と同様にして、製造例2〜28の固形分含有率40%の活性エネルギー線硬化型組成物No.2〜28を得た。表1−1〜1−3に示す各組成物の配合は、各成分の固形分質量比である。
(Production Examples 2-28) Active energy ray-curable composition No. 2-28
In Production Example 1, active energy ray curing with a solid content of 40% in Production Examples 2 to 28 is the same as Production Example 1 except that the composition of each component is shown in Tables 1-1 to 1-3. Mold composition No. 2 to 28 were obtained. The composition of each composition shown in Tables 1-1 to 1-3 is the solid content mass ratio of each component.

Figure 2019142164
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表1−1〜表1−3中における(*1)〜(*17)は下記を意味する。
(*1)シリカ微粒子No.1:MEK−ST−40、商品名、日産化学社製、MEK−ST40、商品名、日産化学社製、コロイダルシリカ、平均一次粒子径13nm、メチルエチルケトン分散液、固形分含有率40質量%
(*2)シリカ微粒子No.2:下記製造方法にて得られた不飽和基を有する有機物変性シリカ微粒子分散液、平均一次粒子径23nm、固形分40質量%;<シリカ微粒子No.2の製造方法>還流冷却器、温度計及び攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコにコロイダルシリカ(スノーテックスST−O−40;商品名、分散媒;水、シリカ濃度;40質量%、平均一次粒子径;23nm、日産化学工業社製)を250部(シリカ微粒子量は100部)、3−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランを10部、p−メトキシフェノールを0.2部及びイソプロパノールを143部配合した後、攪拌しながら昇温した。揮発成分の還流が始まったところで、プロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出させ、反応系内の溶媒を置換した。続いて、95℃で2時間攪拌しながら反応を行った後、60℃に温度を下げて4級アンモニウム塩を0.03部加えて更に1時間攪拌しながら反応させた。反応終了後、減圧状態で揮発成分を留出させ、さらにプロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出させた。プロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて共沸留出する操作を数回行うことで溶媒を置換し、不飽和基を有する有機物変性シリカ微粒子No.2を得た。得られたシリカ微粒子No.2の平均一次粒子径は23nm、該シリカ微粒子No.2の分散液の固形分含有率は40質量%であった。
(* 1) to (* 17) in Table 1-1 to Table 1-3 mean the following.
(* 1) Silica fine particles No. 1: MEK-ST-40, trade name, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd., MEK-ST40, trade name, manufactured by Nissan Chemical Industries, colloidal silica, average primary particle size 13 nm, methyl ethyl ketone dispersion, solid content 40% by mass
(* 2) Silica fine particles No. 2: Organic matter-modified silica fine particle dispersion having an unsaturated group obtained by the following production method, average primary particle size 23 nm, solid content 40% by mass; Production method 2> Colloidal silica (Snowtex ST-O-40; trade name, dispersion medium; water, silica concentration; 40% by mass, average primary particle diameter) in a separable flask equipped with a reflux condenser, a thermometer and a stirrer 23 parts, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) 250 parts (silica fine particle amount is 100 parts), 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane 10 parts, p-methoxyphenol 0.2 parts and isopropanol 143 parts The temperature was increased while stirring. When the reflux of volatile components began, propylene glycol monomethyl ether was added and azeotropically distilled to replace the solvent in the reaction system. Subsequently, the reaction was carried out with stirring at 95 ° C. for 2 hours, then the temperature was lowered to 60 ° C., 0.03 part of a quaternary ammonium salt was added, and the reaction was further carried out with stirring for 1 hour. After completion of the reaction, volatile components were distilled off under reduced pressure, and propylene glycol monomethyl ether was further added for azeotropic distillation. The operation of adding propylene glycol monomethyl ether and performing azeotropic distillation several times was performed to replace the solvent. 2 was obtained. The obtained silica fine particles No. 2 has an average primary particle size of 23 nm, The solid content of the dispersion liquid 2 was 40% by mass.

(*3)シリカ微粒子No.3:MEK−ST−ZL、商品名、日産化学社製、コロイダルシリカ、平均一次粒子径85nm、メチルエチルケトン分散液、固形分含有率30質、
(*4)シリカ微粒子No.4:前記<シリカ微粒子No.2の製造方法>において、コロイダルシリカをスノーテックスMP−2040(商品名、分散媒;水、シリカ濃度;40質量%、平均一次粒子径;200nm、日産化学工業社製)にする以外は同様にして不飽和基を有する有機物変性シリカ微粒子分散液、平均一次粒子径200nm、固形分40質量%を得た。
(*5)重合性不飽和化合物No.1:KARAYAD−DPHA、商品名、日本化薬株式会社製、平均重合性不飽和基数6個、分子量524、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、
(*6)重合性不飽和化合物No.2:EBECRYL 884、商品名、ダイセル・オルネクス株式会社性、平均重合性不飽和基数3個、重量平均分子量1,250、多価アルコールとアクリル酸のエステル化物(ポリエステルアクリレート)、
(*7)重合性不飽和化合物No.3:アロニックス M−325、商品名、東亞合成社製、平均重合性不飽和基数3個、重量平均分子量538、ε−カプロラクトン変性トリス(アクリロキシエチルイソシアヌレート、ウレタンアクリレート
(*8)重合性不飽和化合物No.4:ウレタンアクリレート、平均重合性不飽和基数9個、重量平均分子量3,700、
(*9)重合性不飽和化合物No.5:ウレタンアクリレート、平均重合性不飽和基数10個、重量平均分子量4,900、
(*10)DETX:光重合開始剤(a1)、2,4−ジエチルチオキサンテン−9−オン、チオキサントン系開始剤、
(* 3) Silica fine particles No. 3: MEK-ST-ZL, trade name, manufactured by Nissan Chemical Industries, colloidal silica, average primary particle size 85 nm, methyl ethyl ketone dispersion, solid content 30 quality,
(* 4) Silica fine particles No. 4: <Silica fine particle No. 2), except that the colloidal silica is Snowtex MP-2040 (trade name, dispersion medium: water, silica concentration: 40 mass%, average primary particle size: 200 nm, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.). An organic-modified silica fine particle dispersion having an unsaturated group, an average primary particle size of 200 nm, and a solid content of 40% by mass were obtained.
(* 5) Polymerizable unsaturated compound No. 1: KARAYAD-DPHA, trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., average polymerizable unsaturated group number 6, molecular weight 524, dipentaerythritol hexaacrylate,
(* 6) Polymerizable unsaturated compound No. 2: EBECRYL 884, trade name, Daicel Ornex Co., Ltd., average polymerizable unsaturated group number 3, weight average molecular weight 1,250, esterified product of polyhydric alcohol and acrylic acid (polyester acrylate),
(* 7) Polymerizable unsaturated compound No. 3: Aronix M-325, trade name, manufactured by Toagosei Co., Ltd., 3 average polymerizable unsaturated groups, weight average molecular weight 538, ε-caprolactone-modified tris (acryloxyethyl isocyanurate, urethane acrylate (* 8) non-polymerizable Saturated compound No. 4: urethane acrylate, average number of polymerizable unsaturated groups of 9, weight average molecular weight of 3,700,
(* 9) Polymerizable unsaturated compound No. 5: Urethane acrylate, average number of polymerizable unsaturated groups of 10, weight average molecular weight 4,900,
(* 10) DETX: photopolymerization initiator (a1), 2,4-diethylthioxanthen-9-one, thioxanthone-based initiator,

(*11)IRGACURE 651:光重合開始剤(a2)、商品名、BASF社製、ベンゾイン系開始剤、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン
(*12)IRGACURE TPO:光重合開始剤(a2)、商品名、BASF社製、アシルフォスフィンオキサイド系開始剤、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド。
(*13)IRGACURE 184:光重合開始剤(a2)、商品名、BASF社製、α−ヒドロキシアセトフェノン系開始剤、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、
(*14)DAROCURE 1173:光重合開始剤(a2)、商品名、BASF社製、α−ヒドロキシアセトフェノン系開始剤、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、
(*15)BYK−354:BYK−354:商品名、ビックケミー・ジャパン社製、アクリル系表面調整剤、固形分含有率51質量%
(*16)TINUVINE 1130:商品名、BASF社製、紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系、固形分含有率88質量%、
(*17)HOSTAVINE 3052:商品名、クラリアントジャパン社製、ヒンダードピペリジン系光安定剤。
(* 11) IRGACURE 651: Photopolymerization initiator (a2), trade name, manufactured by BASF, benzoin-based initiator, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one (* 12) IRGACURE TPO: Photopolymerization initiator (a2), trade name, manufactured by BASF, acylphosphine oxide-based initiator, 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide.
(* 13) IRGACURE 184: Photopolymerization initiator (a2), trade name, manufactured by BASF, α-hydroxyacetophenone-based initiator, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone,
(* 14) DAROCURE 1173: Photopolymerization initiator (a2), trade name, manufactured by BASF, α-hydroxyacetophenone initiator, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone,
(* 15) BYK-354: BYK-354: trade name, manufactured by Big Chemie Japan, acrylic surface conditioner, solid content 51% by mass
(* 16) TINUVINE 1130: trade name, manufactured by BASF, ultraviolet absorber, benzotriazole, solid content 88% by mass,
(* 17) HOSTAVINE 3052: trade name, manufactured by Clariant Japan, a hindered piperidine light stabilizer.

<積層体の製造方法>
(実施例及び比較例)
基材1(環状オレフィン樹脂基材:COP基材(I)表中COPと表記)に、易接着処理せずそのまま前記活性エネルギー線硬化型組成物No.1をバーコーターで硬化後の膜厚が4μmとなる条件で塗装し、100℃で30秒プレヒートして溶媒を除去した後、紫外線照射装置で、紫外線(ピークトップ波長365nm)を照度150mW/cmで積算照射量500mJ/cmとなる条件で照射し、被膜を硬化させて硬化被膜層(II)を作製した。次いでその上に、表2−1に示す無機物質層(III)を膜厚が1.5μmとなるようプラズマCVD装置を用いて積層させた(実施例1)。同様にして、表2−1〜表2−3、及び表3に示す実施例2〜31、比較例1〜4の試験積層体を得た。得られた各試験積層体について、下記評価試験に供した。評価結果を表2−1〜表2−3及び表3に示す。
<Method for producing laminate>
(Examples and Comparative Examples)
In the base material 1 (cyclic olefin resin base material: COP base material (I), indicated as COP in the table), the active energy ray-curable composition No. 1 was coated with a bar coater under the condition that the film thickness was 4 μm, preheated at 100 ° C. for 30 seconds to remove the solvent, and then irradiated with ultraviolet rays (peak top wavelength 365 nm) with an irradiance of 150 mW / cm with an ultraviolet irradiation device. 2 was applied under the condition that the cumulative irradiation amount was 500 mJ / cm 2, and the coating was cured to produce a cured coating layer (II). Next, an inorganic material layer (III) shown in Table 2-1 was laminated thereon using a plasma CVD apparatus so as to have a film thickness of 1.5 μm (Example 1). Similarly, the test laminated bodies of Examples 2-31 and Comparative Examples 1-4 shown in Table 2-1 to Table 2-3 and Table 3 were obtained. About each obtained test laminated body, it used for the following evaluation test. The evaluation results are shown in Tables 2-1 to 2-3 and Table 3.

基材1は下記のものを使用した。
基材1:A4サイズの厚さ100μmの環状オレフィン樹脂基材〔「ゼオノアフィルム、ZF16−100」商品名、日本ゼオン(株)社製、ヘーズ値0.1%未満、全光線透過率92%以上、鉛筆硬度HB〕。
また、前記基材1にかえて、基材2(ポリエチレンテレフタレート樹脂基材:PET基材、表中PETと表記)にして、非易接着処理面に塗装したものを参考例1として、易接着処理面に塗装したものを参考例2として、各々積層体を作製した。得られた各積層体を試験板として、実施例1と同じく各種試験に供した。
基材2は下記のものを使用した。
基材2:A4サイズの厚さ100μmのポリエチレンテレフタレート製フィルム(「コスモシャインA4100」商品名、東洋紡(株)社製、ヘーズ値0.9%、全光線透過率92.0%」)。
The substrate 1 used the following.
Base material 1: A4 size 100 μm thick cyclic olefin resin base material (“ZEONOR FILM, ZF16-100”, trade name, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., haze value less than 0.1%, total light transmittance 92% Above, pencil hardness HB].
Further, instead of the base material 1, a base material 2 (polyethylene terephthalate resin base material: PET base material, expressed as PET in the table) and coated on a non-easy-adhesion treated surface is referred to as Reference Example 1 and is easy to adhere. Laminated bodies were respectively prepared as Reference Example 2 by coating the treated surface. Each obtained laminate was used as a test plate for various tests as in Example 1.
The base material 2 used the following.
Base material 2: A4 size polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 μm (“Cosmo Shine A4100” trade name, manufactured by Toyobo Co., Ltd., haze value 0.9%, total light transmittance 92.0%).

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試験項目1.透明性
JIS K7361−1(1997)に準拠して、各得られた積層体の全光線透過率を無機層(III)側から測定を行った。また、JIS K7136(2000)に準拠して、同様に積層体のヘーズ値を無機層(III)側から測定を行った。下記基準にて評価を行った。全光線透過率は91.0%以上、ヘーズ値は5%以下であれば透明性が良好である。
<全光線透過率>
3:91%以上、
2:90%以上91%未満
1:90%未満、
<ヘーズ値>
3:0.5%未満
2:0.5%以上5%未満
1:5%以上
Test item 1. Transparency Based on JIS K7361-1 (1997), the total light transmittance of each obtained laminate was measured from the inorganic layer (III) side. Moreover, based on JISK7136 (2000), the haze value of the laminated body was similarly measured from the inorganic layer (III) side. Evaluation was performed according to the following criteria. If the total light transmittance is 91.0% or more and the haze value is 5% or less, the transparency is good.
<Total light transmittance>
3: 91% or more,
2: 90% or more and less than 91% 1: less than 90%,
<Haze value>
3: Less than 0.5% 2: More than 0.5% and less than 5% 1: More than 5%

試験項目2.付着性
各試験板の無機層(III)面にJIS K 5600−5−6(1990)に準じて1mm×1mmのゴバン目100個を素地に到達するまで作り、その面に粘着テープを貼着し、急激に剥がした後のゴバン目被膜の残存状態と剥離界面を調べ、下記基準で付着性を評価した。
5:残存個数/全体個数=100個/100個で縁欠けなし、
4:残存個数/全体個数=95〜100個/100個で縁欠けあり、
3:残存個数/全体個数=90〜95個未満/100個で、縁欠けあり、
2:残存個数/全体個数=80〜90個未満/100個縁欠けあり、
1:残存個数/全体個数=79個以下/100個縁欠けあり。
Test item 2. Adhesiveness Make 100 1mm x 1mm goby meshes according to JIS K 5600-5-6 (1990) on the inorganic layer (III) surface of each test plate until it reaches the substrate, and attach adhesive tape to the surface Then, the remaining state and peeling interface of the goby eye coating after abrupt peeling were examined, and the adhesion was evaluated according to the following criteria.
5: Remaining number / total number = 100/100, no missing edges,
4: Remaining number / total number = 95 to 100/100, and there is a lack of edges,
3: Remaining number / total number = 90 to less than 95/100, with missing edges,
2: Remaining number / total number = 80 to less than 90/100 with missing edges,
1: Remaining number / total number = 79 or less / 100 missing edges.

試験項目3.鉛筆硬度
JIS K 5600−5−4に準拠し、各積層体の無機層(III)面に、該面に対して角度45度、荷重750gで、次第に硬度を増して鉛筆を押し付け、キズ跡を生じなかった最も硬い鉛筆の硬度を鉛筆硬度として評価する。鉛筆硬度F以上を良好とする。
Test item 3. Pencil hardness In accordance with JIS K 5600-5-4, the surface of the inorganic layer (III) of each laminate was gradually increased in hardness at a 45 degree angle and a load of 750 g with respect to the surface. The hardness of the hardest pencil that did not occur is evaluated as the pencil hardness. A pencil hardness F or higher is considered good.

試験項目4.耐擦傷性
スチールウール法:各試験板の無機層(III)面に、市販のスチールウール(#0000)を荷重1000gで50往復擦り、積層体表面を目視で観察し下記の基準に従って評価した。耐擦傷性がよいため、傷の個数で評価した。
5:ワレ、剥がれがない、若しくは傷がまったくない、
4:ワレ、剥がれがない、若しくは傷の数が5個未満である、
3:ワレ、剥がれがない、若しくは傷が5個以上10個未満認められるが実用上問題ない
2:ワレ、剥がれがない、若しくは傷が10個以上20個未満認められる、
1:ワレ、剥がれ、若しくは著しい傷等が認められる。
Test item 4. Scratch resistance Steel wool method: Commercial steel wool (# 0000) was rubbed 50 times with a load of 1000 g on the inorganic layer (III) surface of each test plate, and the surface of the laminate was visually observed and evaluated according to the following criteria. Since scratch resistance is good, the number of scratches was evaluated.
5: No crack, no peeling, or no scratch,
4: There is no crack, no peeling, or the number of scratches is less than 5.
3: No cracking or peeling, or 5 or more and less than 10 scratches are recognized, but no problem in practical use 2: No cracking, peeling, or 10 or more but less than 20 scratches are recognized,
1: Cracking, peeling, or significant scratches are observed.

試験項目5.耐カール性
各積層体の中央部分を10cm角に切り出して試験サンプルとした。評価は4隅の反りを定規で計測し、その4点の合計を試験サンプルにおけるカール値とした。
4:5mm未満、
3:5mm以上20mm未満、
2:20mm以上50mm未満、
1:50mm以上。
Test item 5. Curl resistance The center part of each laminate was cut into 10 cm squares to prepare test samples. In the evaluation, the warpage of the four corners was measured with a ruler, and the total of the four points was taken as the curl value in the test sample.
4: less than 5 mm,
3: 5 mm or more and less than 20 mm,
2: 20 mm or more and less than 50 mm,
1: 50 mm or more.

Claims (6)

環状オレフィン系樹脂基材(I)上に、活性エネルギー線硬化型組成物による硬化被膜層(II)、及び無機物質層(III)が順次積層されてなる積層体であって、
前記活性エネルギー線硬化型組成物が、平均一次粒子径が1〜100nmの範囲内であるシリカ微粒子(A)、重合性不飽和化合物(B)、及び光重合開始剤(C)を含み、前記シリカ微粒子(A)の含有量が、前記活性エネルギー線硬化型組成物の全硬化被膜形成成分を基準として、30〜85質量%である、積層体。
On the cyclic olefin-based resin substrate (I), a laminate comprising a cured coating layer (II) made of an active energy ray-curable composition and an inorganic substance layer (III) sequentially laminated,
The active energy ray-curable composition includes silica fine particles (A) having an average primary particle diameter in the range of 1 to 100 nm, a polymerizable unsaturated compound (B), and a photopolymerization initiator (C), The laminated body whose content of a silica fine particle (A) is 30-85 mass% on the basis of the total cured film formation component of the said active energy ray hardening-type composition.
前記シリカ微粒子(A)が、不飽和基を有する有機物変性シリカ微粒子を含むものである、請求項1に記載の積層体。   The laminate according to claim 1, wherein the silica fine particles (A) contain organic-modified silica fine particles having an unsaturated group. 前記重合性不飽和化合物(B)が、ウレタン結合を有する重合性不飽和化合物(b1)を含有する、請求項1又は2に記載の積層体。   The laminate according to claim 1 or 2, wherein the polymerizable unsaturated compound (B) contains a polymerizable unsaturated compound (b1) having a urethane bond. 前記、活性エネルギー線硬化型組成物による硬化被膜層(II)の膜厚が、0.5〜8μmの範囲内である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の積層体。   The laminate according to any one of claims 1 to 3, wherein the film thickness of the cured coating layer (II) of the active energy ray-curable composition is in the range of 0.5 to 8 µm. 前記環状オレフィン系樹脂基材(I)が、易接着処理をしていないものである、請求項1〜4のいずれか1項に記載の積層体。   The laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein the cyclic olefin-based resin substrate (I) is not subjected to easy adhesion treatment. 積層体の製造方法であって、
易接着処理をしていない環状オレフィン系樹脂基材(I)上に、活性エネルギー線硬化型組成物を塗装して、活性エネルギー線硬化型組成物による被膜層を形成する工程と、
前記活性エネルギー線硬化型組成物による被膜層に活性エネルギー線を照射して、活性エネルギー線硬化型組成物による硬化被膜層(II)を形成する工程と、
前記硬化被膜層(II)上に、乾式成膜工法によって無機物質層(III)を少なくとも1層形成する工程と、
を含み、
前記活性エネルギー線硬化型組成物が、平均一次粒子径が1〜100nmの範囲内であるシリカ微粒子(A)、重合性不飽和化合物(B)、及び光重合開始剤(C)を含み、前記シリカ微粒子(A)の含有量が、前記活性エネルギー線硬化型組成物の全硬化被膜形成成分を基準として、30〜85質量%である、
積層体の製造方法。
A method for producing a laminate,
Coating the active energy ray-curable composition on the cyclic olefin-based resin substrate (I) that has not been subjected to easy adhesion treatment, and forming a coating layer with the active energy ray-curable composition;
Irradiating the active energy ray curable composition with an active energy ray to form a cured coating layer (II) with the active energy ray curable composition;
Forming at least one inorganic substance layer (III) on the cured coating layer (II) by a dry film-forming method;
Including
The active energy ray-curable composition includes silica fine particles (A) having an average primary particle diameter in the range of 1 to 100 nm, a polymerizable unsaturated compound (B), and a photopolymerization initiator (C), The content of the silica fine particles (A) is 30 to 85% by mass based on the total cured film forming component of the active energy ray-curable composition,
A manufacturing method of a layered product.
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