JP2016212146A - Optical film and method for manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical film having a high surface hardness, excellent scratch resistance and a low haze, and a method for manufacturing the optical film.SOLUTION: The optical film is an optical film 1 having a hard coat layer 3 on a resin layer 2 comprising a cycloolefin resin. The resin layer 2 contains a low molecular weight compound having a weight average molecular weight Mw ranging from 100 to 10000 within a range from 0.1 to 5.0 mass% with respect to the cycloolefin resin; and the hard coat layer 3 comprises a UV curing resin and silica particles.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、表面硬度が高く耐傷性に優れヘイズが低い光学フィルム、及びその製造方法に関する。   The present invention relates to an optical film having high surface hardness, excellent scratch resistance and low haze, and a method for producing the same.

近年、表示装置において、大型化、薄膜化やフレキシブル化等の要求が強く、偏光板を含む各部材の高機能化が進んでいる。   In recent years, there has been a strong demand for display devices that are large in size, thinned, flexible, and the like.

有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、有機EL素子ともいう。)を搭載する画像表示装置に組み合わせる偏光板は、一般的に二つの保護フィルム間に偏光子が配置された構成を有し、偏光板に反射防止機能を付加するために、有機EL素子側に位相差を付与した保護フィルムが用いられている。また、液晶表示装置(LCD)は、液晶セルと、それを挟持する一対の偏光板とを有している。これらの表示装置に用いられている偏光板のうち、特に視認側の偏光板は、表面の傷付きを防止するため、高い耐擦傷性を有することが求められている。   A polarizing plate to be combined with an image display device equipped with an organic electroluminescence element (hereinafter also referred to as an organic EL element) generally has a configuration in which a polarizer is disposed between two protective films, and is reflected by the polarizing plate. In order to add a prevention function, a protective film provided with a phase difference on the organic EL element side is used. A liquid crystal display (LCD) includes a liquid crystal cell and a pair of polarizing plates that sandwich the liquid crystal cell. Among the polarizing plates used in these display devices, in particular, the polarizing plate on the viewing side is required to have high scratch resistance in order to prevent the surface from being scratched.

基材フィルムとして、従来セルロースアセテートフィルムが広く用いられていた。しかし、このフィルムは吸湿性や透湿性を有するという欠点を有している。シクロオレフィン系樹脂は、この欠点が少なく、耐水性、耐熱性、透明性や寸法安定性などが良好なため、保護フィルム用の優れた熱可塑性樹脂として注目されている。しかしながら、シクロオレフィン系樹脂を光学フィルムとして用いた場合、表面硬度が十分ではなく傷がつきやすいという問題があった。   Conventionally, a cellulose acetate film has been widely used as a base film. However, this film has a drawback of having hygroscopicity and moisture permeability. Cycloolefin-based resins are notable for these disadvantages and have good water resistance, heat resistance, transparency, dimensional stability, and the like, and thus are attracting attention as excellent thermoplastic resins for protective films. However, when a cycloolefin resin is used as an optical film, there is a problem that the surface hardness is not sufficient and the surface is easily scratched.

この対策として、視認側の偏光板に用いられる光学フィルムの表面硬度を高めることが検討されている。光学フィルムの表面硬度を高めるために、基材フィルム上にハードコート層を積層する技術として、例えば、特許文献1には、シクロオレフィンフィルム上のハードコート層に、微粒子を含有させることで、耐ブロッキング性や耐擦傷性を向上させる技術が開示されている。また、特許文献2には、ハードコート層の塗布前に特定の条件を満たす溶剤との接触工程経てシクロオレフィン系高分子フィルムを製造する製造方法が開示されている。   As a countermeasure, it has been studied to increase the surface hardness of the optical film used for the polarizing plate on the viewing side. In order to increase the surface hardness of the optical film, as a technique for laminating a hard coat layer on a base film, for example, in Patent Document 1, a hard coat layer on a cycloolefin film is allowed to contain fine particles, whereby Techniques for improving blocking properties and scratch resistance are disclosed. Patent Document 2 discloses a production method for producing a cycloolefin polymer film through a contact process with a solvent that satisfies a specific condition before application of a hard coat layer.

しかしながら、これらの技術は、シクロオレフィン系樹脂からなる基材上にハードコート層を設けた光学フィルムの表面硬度を高め耐傷性を改善するには十分ではなかった。   However, these techniques have not been sufficient for increasing the surface hardness and improving the scratch resistance of an optical film in which a hard coat layer is provided on a substrate made of a cycloolefin resin.

特開2013−186236号公報JP 2013-186236 A 特開2014−70211号公報JP 2014-70211 A

本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、表面硬度が高く耐傷性に優れヘイズが低い光学フィルムを提供することである。また、その製造方法を提供することである。   The present invention has been made in view of the above-described problems and circumstances, and a problem to be solved is to provide an optical film having high surface hardness, excellent scratch resistance, and low haze. Moreover, it is providing the manufacturing method.

本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、ハードコート層に紫外線硬化樹脂とシリカ粒子とを含有させ、さらに、基材フィルムのシクロオレフィン系樹脂に特定量の低分子化合物を含有させることにより、光学フィルム
の表面硬度を高め耐傷性を大きく向上できることを見いだし本発明に至った。
In order to solve the above-mentioned problems, the inventor made the hard coat layer contain an ultraviolet curable resin and silica particles in the course of examining the cause of the above-mentioned problem, and further specified the cycloolefin resin of the base film. It has been found that the inclusion of an amount of a low molecular weight compound can increase the surface hardness of the optical film and greatly improve the scratch resistance, leading to the present invention.

すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。   That is, the said subject which concerns on this invention is solved by the following means.

1.シクロオレフィン系樹脂を含有する樹脂層の上にハードコート層を有する光学フィルムであって、前記樹脂層が、重量平均分子量Mwが100〜10000の範囲内の低分子量化合物を前記シクロオレフィン系樹脂に対して0.1〜5.0質量%の範囲内で含有し、かつ前記ハードコート層が、紫外線硬化樹脂とシリカ粒子とを含有することを特徴とする光学フィルム。   1. An optical film having a hard coat layer on a resin layer containing a cycloolefin resin, wherein the resin layer is a low molecular weight compound having a weight average molecular weight Mw in the range of 100 to 10,000. On the other hand, the optical film is contained within a range of 0.1 to 5.0% by mass, and the hard coat layer contains an ultraviolet curable resin and silica particles.

2.前記樹脂層に含まれる前記低分子量化合物が、紫外線吸収剤であることを特徴とする第1項に記載の光学フィルム。   2. 2. The optical film as set forth in claim 1, wherein the low molecular weight compound contained in the resin layer is an ultraviolet absorber.

3.前記ハードコート層中に含まれる、前記シリカ粒子の前記紫外線硬化樹脂に対する質量比の値(シリカ粒子/紫外線硬化樹脂)が、10/90〜50/50の範囲内であることを特徴とする第1項又は第2項に記載の光学フィルム。
4.前記シリカ粒子の平均一次粒径が、200nm以下であることを特徴とする第1項から第3項までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
3. The mass ratio of the silica particles to the ultraviolet curable resin (silica particles / ultraviolet curable resin) contained in the hard coat layer is in the range of 10/90 to 50/50. Item 3. The optical film according to Item 1 or Item 2.
4). The average primary particle size of the silica particles is 200 nm or less, The optical film according to any one of items 1 to 3, wherein

5.前記ハードコート層の厚さが、2〜15μmの範囲内であることを特徴とする第1項から第4項までのいずれか一項に記載の光学フィルム。   5. The thickness of the said hard-coat layer exists in the range of 2-15 micrometers, The optical film as described in any one of Claim 1 to 4 characterized by the above-mentioned.

6.23℃・55%RHの環境下、光波長550nmにおける面内方向のリターデーション値(Ro(550))が、下記式(1)を満たすことを特徴とする第1項から第5項までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
式(1):100nm≦Ro(550)≦170nm
7.シクロオレフィン系樹脂を含有する樹脂層の上にハードコート層を有する光学フィルムを製造する製造方法であって、前記樹脂層が、重量平均分子量Mwが100〜10000の範囲内の低分子量化合物を前記シクロオレフィン系樹脂に対して0.1〜5.0質量%の範囲内で含有し、前記ハードコート層が紫外線硬化樹脂とシリカ粒子とを含有し、かつ、前記紫外線硬化樹脂と前記シリカ粒子を含有する塗布液の溶剤としてアルコール、エステル、エーテル又はケトンのうちの少なくとも2種の溶剤を用いて調製した塗布液を塗布する工程を経てハードコート層を形成することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
In the environment of 6.23 ° C. and 55% RH, the retardation value (Ro (550)) in the in-plane direction at a light wavelength of 550 nm satisfies the following formula (1): The optical film as described in any one of the above.
Formula (1): 100 nm ≦ Ro (550) ≦ 170 nm
7). A production method for producing an optical film having a hard coat layer on a resin layer containing a cycloolefin resin, wherein the resin layer contains a low molecular weight compound having a weight average molecular weight Mw in the range of 100 to 10,000. It contains in the range of 0.1-5.0 mass% with respect to cycloolefin type resin, the said hard-coat layer contains a ultraviolet curable resin and a silica particle, and the said ultraviolet curable resin and the said silica particle are included. Production of an optical film characterized by forming a hard coat layer through a step of applying a coating solution prepared using at least two solvents of alcohol, ester, ether or ketone as a solvent for the coating solution to be contained Method.

8.シクロオレフィン系樹脂を含有する樹脂層の上にハードコート層を有する光学フィルムを製造する製造方法であって、前記樹脂層が、重量平均分子量Mwが100〜10000の範囲内の低分子量化合物を前記シクロオレフィン系樹脂に対して0.1〜5.0質量%の範囲内で含有し、前記ハードコート層が紫外線硬化樹脂とシリカ粒子とを含有し、かつ、前記シクロオレフィン系樹脂を含有する樹脂を溶解した溶液を基体上に流延する工程を経て製膜し、前記樹脂層を形成することを特徴とする光学フィルムの製造方法。   8). A production method for producing an optical film having a hard coat layer on a resin layer containing a cycloolefin resin, wherein the resin layer contains a low molecular weight compound having a weight average molecular weight Mw in the range of 100 to 10,000. Resin which contains in the range of 0.1-5.0 mass% with respect to cycloolefin type resin, the said hard-coat layer contains ultraviolet curing resin and a silica particle, and contains the said cycloolefin type resin A method for producing an optical film, wherein the resin layer is formed by casting a solution in which the solution is dissolved on a substrate to form a film.

9.前記製膜後に巻き取られたフィルム原反を巻き出して、斜め方向に延伸する工程を経て、前記樹脂層を形成することを特徴とする第8項に記載の光学フィルムの製造方法。   9. 9. The method for producing an optical film according to item 8, wherein the resin layer is formed through a step of unwinding the original film wound after the film formation and stretching it in an oblique direction.

本発明の上記手段により、表面硬度が高く耐傷性に優れヘイズが低い光学フィルムを提供することができる。また、その製造方法を提供することができる。   By the above means of the present invention, an optical film having high surface hardness, excellent scratch resistance and low haze can be provided. Moreover, the manufacturing method can be provided.

本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。   The expression mechanism or action mechanism of the effect of the present invention is not clear, but is presumed as follows.

基材フィルムのシクロオレフィン系樹脂に特定量の低分子化合物を含有させることで表面硬度を大きく増加できるのは、シクロオレフィン系樹脂に低分子量化合物を添加することにより、シクロオレフィン樹脂の自由体積をこの添加剤が相溶良く埋めることができ、樹脂層の密度が増加するためであると考えられる。さらに、ハードコート層に紫外線硬化樹脂とシリカ粒子とを含有させることにより、表面硬度が高く耐傷性に優れた光学フィルムを実現できるものと推定している。   The surface hardness can be greatly increased by adding a specific amount of a low molecular weight compound to the cycloolefin resin of the base film. By adding a low molecular weight compound to the cycloolefin resin, the free volume of the cycloolefin resin can be increased. This is because this additive can be filled with good compatibility and the density of the resin layer increases. Furthermore, it is presumed that an optical film having high surface hardness and excellent scratch resistance can be realized by containing an ultraviolet curable resin and silica particles in the hard coat layer.

光学フィルムの構成の一例Example of optical film configuration 斜め延伸可能なテンターの一例An example of a tenter that can be stretched diagonally 液晶表示装置の構成の一例Example of configuration of liquid crystal display device

本発明の光学フィルムは、シクロオレフィン系樹脂を含有する樹脂層の上にハードコート層を有する光学フィルムであって、前記樹脂層が、重量平均分子量Mwが100〜10000の範囲内の低分子量化合物を前記シクロオレフィン系樹脂に対して0.1〜5.0質量%の範囲内で含有し、かつ前記ハードコート層が、紫外線硬化樹脂とシリカ粒子とを含有することを特徴とする。この特徴は、請求項1から請求項9までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。   The optical film of the present invention is an optical film having a hard coat layer on a resin layer containing a cycloolefin resin, and the resin layer has a low molecular weight compound having a weight average molecular weight Mw in the range of 100 to 10,000. In the range of 0.1 to 5.0% by mass with respect to the cycloolefin-based resin, and the hard coat layer contains an ultraviolet curable resin and silica particles. This feature is a technical feature common to the inventions according to claims 1 to 9.

本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記樹脂層に含まれる前記低分子量化合物が、紫外線吸収剤であることが好ましい。また、ハードコート層中に含まれる、前記シリカ粒子の前記紫外線硬化樹脂に対する質量比の値(シリカ粒子/紫外線硬化樹脂)が、10/90〜50/50の範囲内であることが、高い表面硬度と低いヘイズを両立させる上で好ましい。また、前記シリカ粒子の平均一次粒径が、200nm以下であることがヘイズと耐傷性を両立させる観点から好ましい。   As an embodiment of the present invention, it is preferable that the low molecular weight compound contained in the resin layer is an ultraviolet absorber from the viewpoint of manifesting the effects of the present invention. Moreover, it is high surface that the value (silica particle / ultraviolet curable resin) of the mass ratio of the said silica particle with respect to the said ultraviolet curable resin contained in a hard-coat layer exists in the range of 10 / 90-50 / 50. This is preferable for achieving both hardness and low haze. In addition, the average primary particle size of the silica particles is preferably 200 nm or less from the viewpoint of achieving both haze and scratch resistance.

さらに前記ハードコート層の厚さが、2〜15μmの範囲内であることが偏光板を薄膜化する傾向であることから好ましい。   Furthermore, it is preferable that the thickness of the hard coat layer is in the range of 2 to 15 μm because the polarizing plate tends to be thinned.

また、23℃・55%RHの環境下、光波長550nmにおける面内方向のリターデーション値(Ro(550))が、前記式(1)を満たすことが、有機エレクトロルミネッセンス素子の反射防止用途の保護フィルムとして用いるために好ましい。   In addition, in an environment of 23 ° C. and 55% RH, the in-plane retardation value (Ro (550)) at an optical wavelength of 550 nm satisfies the above formula (1) for antireflection applications of organic electroluminescence elements. It is preferable for use as a protective film.

さらに本発明の光学フィルムを製造する光学フィルムの製造方法としては、シクロオレフィン系樹脂を含有する樹脂層の上にハードコート層を有する光学フィルムを製造する製造方法であって、前記樹脂層が、重量平均分子量Mwが100〜10000の範囲内の低分子量化合物を前記シクロオレフィン系樹脂に対して0.1〜5.0質量%の範囲内で含有し、前記ハードコート層が紫外線硬化樹脂とシリカ粒子とを含有し、かつ、前記紫外線硬化樹脂と前記シリカ粒子を含有する塗布液の溶剤としてアルコール、エステル、エーテル又はケトンのうちの少なくとも2種の溶剤を用いて調製した塗布液を塗布する工程を経てハードコート層を形成することが好ましい。   Furthermore, as a method for producing an optical film for producing the optical film of the present invention, a method for producing an optical film having a hard coat layer on a resin layer containing a cycloolefin resin, wherein the resin layer is A low molecular weight compound having a weight average molecular weight Mw in the range of 100 to 10,000 is contained in a range of 0.1 to 5.0% by mass with respect to the cycloolefin resin, and the hard coat layer is an ultraviolet curable resin and silica. And a step of applying a coating solution prepared using at least two solvents of alcohol, ester, ether or ketone as a solvent for the coating solution containing particles and the ultraviolet curable resin and the silica particles. It is preferable to form a hard coat layer through this.

また、シクロオレフィン系樹脂を含有する樹脂を溶解した溶液を基体上に流延する工程を経て製膜し、前記樹脂層を形成する製造方法であることが好ましい。さらに、製膜後に巻き取られたフィルム原反を巻き出して、斜め方向に延伸する工程を経て、樹脂層を形成する製造方法であることが好ましい。   Moreover, it is preferable that it is a manufacturing method which forms the said resin layer by forming into a film through the process of casting the solution which melt | dissolved resin containing cycloolefin type resin on a base | substrate. Furthermore, it is preferable that it is a manufacturing method which forms the resin layer through the process of unwinding the film raw material wound up after film forming, and extending | stretching in the diagonal direction.

以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。   Hereinafter, the present invention, its components, and modes and modes for carrying out the present invention will be described in detail. In addition, in this application, "-" is used in the meaning which includes the numerical value described before and behind that as a lower limit and an upper limit.

《光学フィルムの概要》
本発明の光学フィルムは、シクロオレフィン系樹脂を含有する樹脂層の上にハードコート層を有する光学フィルムであって、前記樹脂層が、重量平均分子量Mwが100〜10000の範囲内の低分子量化合物を前記シクロオレフィン系樹脂に対して0.1〜5.0質量%の範囲内で含有し、かつ前記ハードコート層が、紫外線硬化樹脂とシリカ粒子とを含有することを特徴とする。
<Outline of optical film>
The optical film of the present invention is an optical film having a hard coat layer on a resin layer containing a cycloolefin resin, and the resin layer has a low molecular weight compound having a weight average molecular weight Mw in the range of 100 to 10,000. In the range of 0.1 to 5.0% by mass with respect to the cycloolefin-based resin, and the hard coat layer contains an ultraviolet curable resin and silica particles.

図1は、本発明の光学フィルムの一例である。本発明の光学フィルム1は、樹脂層2を基材フィルムとして、樹脂層2の上にハードコート層3を有している。   FIG. 1 is an example of the optical film of the present invention. The optical film 1 of the present invention has a hard coat layer 3 on the resin layer 2 using the resin layer 2 as a base film.

光学フィルム1の厚さは、10〜100μmの範囲内であることが好ましい。より好ましくは、15〜50μmの範囲内である。また、ハードコート層の厚さは2〜15μmの範囲内であることが好ましく、2〜8μmの範囲内であることがより好ましい。   The thickness of the optical film 1 is preferably in the range of 10 to 100 μm. More preferably, it exists in the range of 15-50 micrometers. Moreover, it is preferable that the thickness of a hard-coat layer exists in the range of 2-15 micrometers, and it is more preferable that it exists in the range of 2-8 micrometers.

本発明者は、シクロオレフィン系樹脂に、低分子量化合物を含有させることにより、シクロオレフィンフィルムの表面硬度が増加する現象を見いだした。このような現象は、セルロースエステル系樹脂には見られないもので、シクロオレフィン系樹脂の特徴である。このように、表面硬度が増加する現象は、明確ではないが樹脂の自由体積をこれらの添加剤が相溶良く埋めることで基材密度が増加することによるものと推定される。このためハードコート層を有する本発明の光学フィルムの耐傷性が改善されるものと推察される。   The present inventor has found a phenomenon that the surface hardness of the cycloolefin film is increased by incorporating a low molecular weight compound into the cycloolefin resin. Such a phenomenon is not observed in the cellulose ester resin and is a characteristic of the cycloolefin resin. Thus, although the phenomenon that the surface hardness increases is not clear, it is presumed that the density of the base material is increased by filling the free volume of the resin with these additives with good compatibility. For this reason, it is guessed that the scratch resistance of the optical film of the present invention having a hard coat layer is improved.

《低分子量化合物》
本発明の光学フィルムは、シクロオレフィン系樹脂を含有する樹脂層の上にハードコート層を有する光学フィルムであって、前記樹脂層が、重量平均分子量Mwが100〜10000の範囲内の低分子量化合物を前記シクロオレフィン系樹脂に対して0.1〜5.0質量%の範囲内で含有している。
<Low molecular weight compound>
The optical film of the present invention is an optical film having a hard coat layer on a resin layer containing a cycloolefin resin, and the resin layer has a low molecular weight compound having a weight average molecular weight Mw in the range of 100 to 10,000. In the range of 0.1 to 5.0% by mass with respect to the cycloolefin-based resin.

シクロオレフィン系樹脂に添加する低分子量化合物の重量平均分子量Mwが100未満であると表面硬度を高くすることができない。また、重量平均分子量Mw10000を超える場合、ヘイズが高くなってしまう。好ましくは低分子量化合物の重量平均分子量Mwが300〜2500の範囲内である。なお、本発明において、低分子量化合物が、重合体でない場合、重量平均分子量は、低分子量化合物の分子量を表す。   When the weight average molecular weight Mw of the low molecular weight compound added to the cycloolefin-based resin is less than 100, the surface hardness cannot be increased. Moreover, when it exceeds the weight average molecular weight Mw10000, haze will become high. Preferably, the weight average molecular weight Mw of the low molecular weight compound is in the range of 300-2500. In the present invention, when the low molecular weight compound is not a polymer, the weight average molecular weight represents the molecular weight of the low molecular weight compound.

これらの低分子量化合物を前記シクロオレフィン系樹脂に対して0.1質量%以上添加することでシクロオレフィン系樹脂の表面硬度を増加させることができる。添加量が5.0質量%を超えても、表面硬度は低下し、さらにヘイズも上昇するので好ましくない。好ましくは、低分子量化合物をシクロオレフィン系樹脂に対して0.5〜3質量%の範囲内で添加することである。   By adding 0.1% by mass or more of these low molecular weight compounds to the cycloolefin resin, the surface hardness of the cycloolefin resin can be increased. Even if the addition amount exceeds 5.0% by mass, the surface hardness decreases and haze also increases, which is not preferable. Preferably, the low molecular weight compound is added within a range of 0.5 to 3% by mass with respect to the cycloolefin-based resin.

重量平均分子量Mwが100〜10000の範囲内の低分子量化合物に特に制限はないが、紫外線吸収剤、ポリエステル系化合物及びフラノース構造又はピラノース構造を有する化合物の群から選ばれることが好ましい。好ましくは、低分子量化合物が紫外線吸収剤であることである。   Although there is no restriction | limiting in particular in the low molecular weight compound in the range whose weight average molecular weight Mw is 100-10000, It is preferable to be chosen from the group of the compound which has a ultraviolet absorber, a polyester-type compound, and a furanose structure or a pyranose structure. Preferably, the low molecular weight compound is an ultraviolet absorber.

〈紫外線吸収剤〉
本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物及びニッケル錯塩系化合物などが挙げられ、特にこれらに限定されるものではなく、これ以外の紫外線吸収剤も用いられる。これらの中ではベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。
<Ultraviolet absorber>
Specific examples of ultraviolet absorbers preferably used in the present invention include, for example, oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, triazine compounds, nickel complex compounds, and the like. However, it is not particularly limited to these, and other ultraviolet absorbers are also used. Of these, benzotriazole compounds are preferred.

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては下記一般式(1)で示される化合物を用いることができる。   As the benzotriazole ultraviolet absorber, a compound represented by the following general formula (1) can be used.

Figure 2016212146
Figure 2016212146

式中、R1、R2、R3、R4及びR5は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシ基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、モノ若しくはジアルキルアミノ基、アシルアミノ基又は5〜6員の複素環基を表し、R4とR5は閉環して5〜6員の炭素環を形成してもよい。 In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 may be the same or different, and are a hydrogen atom, halogen atom, nitro group, hydroxy group, alkyl group, alkenyl group, aryl group, alkoxy group, acyloxy. Represents a group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, mono- or dialkylamino group, acylamino group or 5- to 6-membered heterocyclic group, and R 4 and R 5 are closed to form a 5- to 6-membered carbocyclic ring May be.

以下に一般式(1)で表されるベンゾトリアゾール系化合物の紫外線吸収剤の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。   Although the specific example of the ultraviolet absorber of the benzotriazole type compound represented by General formula (1) below is given, this invention is not limited to these.

2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−(3″,4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2,2−メチレンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール)、2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、市販品では、BASFジャパン社製のチヌビン928、チヌビン109及びチヌビン171等が挙げられる。   2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3) '-Tert-butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3', 5'-di-tert-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy -3 '-(3 ", 4", 5 ", 6" -tetrahydrophthalimidomethyl) -5'-methylphenyl) benzotriazole, 2,2-methylenebis (4- (1,1,3,3-tetramethyl) Butyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol), 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl)- - chlorobenzotriazole, in commercially available products, BASF Japan Ltd. TINUVIN 928, TINUVIN 109 and TINUVIN 171, and the like.

また本発明に係る紫外線吸収剤のひとつであるベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては下記一般式(2)で表される化合物を用いることができる。   Moreover, as a benzophenone type ultraviolet absorber which is one of the ultraviolet absorbers concerning this invention, the compound represented by following General formula (2) can be used.

Figure 2016212146
Figure 2016212146

式中、Yは水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、及びフェニル基を表し、これらのアルキル基、アルケニル基及びフェニル基は置換基を有していてもよい。Aは水素原子、アルキル基、アルケニル基、フェニル基、シクロアルキル基、アルキルカルボニル基、アルキルスルホニル基又は−CO(NH)n-1−D基を表し、Dはアルキル基、アルケニル基又は置換基を有していてもよいフェニル基を表す。m及びnは1又は2を表す。 In the formula, Y represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, and a phenyl group, and these alkyl group, alkenyl group, and phenyl group may have a substituent. A represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, a phenyl group, a cycloalkyl group, an alkylcarbonyl group, an alkylsulfonyl group or a —CO (NH) n−1 -D group, and D represents an alkyl group, an alkenyl group or a substituent. Represents a phenyl group which may have m and n represent 1 or 2.

上記において、アルキル基としては例えば、炭素数24までの直鎖又は分岐の脂肪族基を表し、アルコキシ基としては例えば、炭素数18までのアルコキシ基で、アルケニル基としては例えば、炭素数16までのアルケニル基で例えばアリル基、2−ブテニル基などを表す。又、アルキル基、アルケニル基、フェニル基への置換分としてはハロゲン原子、例えばクロル、ブロム、フッ素原子など、ヒドロキシ基、フェニル基、(このフェニル基にはアルキル基又はハロゲン原子などを置換していてもよい)などが挙げられる。   In the above, the alkyl group represents, for example, a linear or branched aliphatic group having up to 24 carbon atoms, the alkoxy group has, for example, an alkoxy group having up to 18 carbon atoms, and the alkenyl group has, for example, up to 16 carbon atoms. Represents an allyl group, a 2-butenyl group, or the like. In addition, as substituents for alkyl groups, alkenyl groups, and phenyl groups, halogen atoms such as chloro, bromo, fluorine atoms, hydroxy groups, phenyl groups (this phenyl group is substituted with alkyl groups or halogen atoms, etc.). May be included).

以下に一般式(2)で表されるベンゾフェノン系化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。   Specific examples of the benzophenone-based compound represented by the general formula (2) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン、ビス(2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルフェニルメタン)
本発明では、特に分子内に3個以上の芳香族環(例えば、ベンゼン環等)又はシクロアルキル環(例えば、シクロヘキサン環等)を有する紫外線吸収剤であることが好ましい。
2,4-dihydroxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone, bis (2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoylphenylmethane)
In the present invention, an ultraviolet absorber having three or more aromatic rings (for example, benzene ring) or cycloalkyl rings (for example, cyclohexane ring) in the molecule is particularly preferable.

トリアジン系紫外線吸収剤としては、特に制限されないが、例えば、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−エトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−(2−ヒドロキシ−4−プロポキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ベンジルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、〔2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−(ヘキシル)オキシフェノール〕(チヌビン1577FF、BASFジャパン社製)、〔2−[4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]−5−(オクチルオキシ)フェノール〕(CYASORB UV−1164、サイテックインダストリーズ製)、チヌビン405(BASFジャパン社製)等が挙げられる。   Although it does not restrict | limit especially as a triazine type ultraviolet absorber, For example, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-ethoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl- (2-hydroxy-4-propoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl- (2-hydroxy-4-butoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-butoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4- Diphenyl-6- (2-hydroxy-4-hexyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-octyloxyphene) ) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-dodecyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2- Hydroxy-4-benzyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, [2- (4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl) -5- (hexyl) oxyphenol] (tinuvin 1577FF, manufactured by BASF Japan Ltd.), [2- [4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazin-2-yl] -5- (octyloxy) phenol] (CYASORB UV -1164, manufactured by Cytec Industries), Tinuvin 405 (manufactured by BASF Japan), and the like.

〈ポリエステル系化合物〉
本発明に用いられるポリエステル系化合物としては、少なくとも1種のベンゼンモノカルボン酸及び少なくとも1種の炭素数2〜12のアルキレングリコールとの縮合重合で得たポリエステル系化合物であることが好ましい。より好ましくは、フタル酸、アジピン酸、少なくとも1種のベンゼンモノカルボン酸及び少なくとも1種の炭素数2〜12のアルキレングリコールとの縮合重合で得たポリエステル系化合物である
ポリエステル系化合物におけるベンゼンモノカルボン酸成分としては、例えば、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等があり、これらはそれぞれ1種又は2種以上の混合物として使用することができる。安息香酸であることが最も好ましい。
<Polyester compound>
The polyester compound used in the present invention is preferably a polyester compound obtained by condensation polymerization with at least one benzene monocarboxylic acid and at least one alkylene glycol having 2 to 12 carbon atoms. More preferably, it is a polyester compound obtained by condensation polymerization of phthalic acid, adipic acid, at least one benzene monocarboxylic acid and at least one alkylene glycol having 2 to 12 carbon atoms. Examples of the acid component include benzoic acid, para-tert-butylbenzoic acid, orthotoluic acid, metatoluic acid, p-toluic acid, dimethylbenzoic acid, ethylbenzoic acid, normal propylbenzoic acid, aminobenzoic acid, acetoxybenzoic acid, and the like. Each of these can be used as one kind or a mixture of two or more kinds. Most preferred is benzoic acid.

炭素数2〜12のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレングリコール、トリメチロールエタン、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,2−プロパンジオール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール(ネオペンチルグリコール)、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオール(3,3−ジメチロールペンタン)、2−n−ブチル−2−エチル−1,3プロパンジオール(3,3−ジメチロールヘプタン)、3−メチル−1,5−ペンタンジオール1,6−ヘキサンジオール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、1,10−デカンジオール、1,12−オクタデカンジオール等があり、これらのグリコールは、1種又は2種以上の混合物として使用される。特に1,2−プロピレングリコールが好ましい。   Examples of the alkylene glycol component having 2 to 12 carbon atoms include ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, trimethylolethane, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,2 -Propanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol (neopentyl glycol), 2,2 -Diethyl-1,3-propanediol (3,3-dimethylolpentane), 2-n-butyl-2-ethyl-1,3propanediol (3,3-dimethylolheptane), 3-methyl-1, 5-pentanediol 1,6-hexanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 2-ethyl There are 1,3-hexanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, 1,10-decanediol, 1,12-octadecanediol, and the like. Used as a mixture of two or more. 1,2-propylene glycol is particularly preferable.

これらのポリエステル系化合物は、最終的な化合物の構造としてアジピン酸残基及びフタル酸残基を有していることが好ましい。このようなポリエステル系化合物を製造する際には、ジカルボン酸の酸無水物又はエステル化物として反応させてもよい。このようなポリエステル系化合物は、特開2008−69225号公報、特開2008−88292号公報及び特開2008−115221号公報等を参考にして合成することができる。   These polyester compounds preferably have an adipic acid residue and a phthalic acid residue as the final compound structure. When manufacturing such a polyester-type compound, you may make it react as an acid anhydride or esterified substance of dicarboxylic acid. Such polyester compounds can be synthesized with reference to JP-A-2008-69225, JP-A-2008-88292, JP-A-2008-115221, and the like.

〈フラノース構造又はピラノース構造を有する化合物〉
本発明に係るフラノース構造又はピラノース構造を有する化合物としては、フラノース構造又はピラノース構造を少なくとも1個有し、該フラノース構造又はピラノース構造が1〜12個結合した化合物中のヒドロキシ基の全て又は一部をエステル化した糖エステルを含む。好ましくはヒドロキシ基の全てをエステル化した糖エステルである。
<Compound having furanose structure or pyranose structure>
The compound having a furanose structure or pyranose structure according to the present invention has at least one furanose structure or pyranose structure, and all or part of the hydroxy groups in the compound having 1 to 12 furanose structures or pyranose structures bonded thereto. A sugar ester obtained by esterification of A sugar ester obtained by esterifying all of the hydroxy groups is preferable.

好ましい「フラノース構造又はピラノース構造を少なくとも1個有し、該フラノース構造又はピラノース構造が1〜12個結合した化合物」の例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Examples of preferable “compounds having at least one furanose structure or pyranose structure and having 1 to 12 furanose structures or pyranose structures bonded to each other” include the following, for example. It is not limited to these.

グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、キシロース、アラビノース、ラクトース、スクロース、セロビオース、セロトリオース、マルトトリオース、ラフィノースなどが挙げられるが、特にフラノース構造とピラノース構造を両方有するものが好ましい。例としてはスクロースが挙げられる。   Glucose, galactose, mannose, fructose, xylose, arabinose, lactose, sucrose, cellobiose, cellotriose, maltotriose, raffinose and the like can be mentioned, and those having both a furanose structure and a pyranose structure are particularly preferable. An example is sucrose.

《シクロオレフィン系樹脂》
本発明の光学フィルムは、シクロオレフィン系樹脂を含有する樹脂層を有する。本発明に係るシクロオレフィン系樹脂としては、次のような構造を有する(共)重合体が挙げられる。
《Cycloolefin resin》
The optical film of the present invention has a resin layer containing a cycloolefin resin. Examples of the cycloolefin resin according to the present invention include (co) polymers having the following structure.

Figure 2016212146
Figure 2016212146

(式中、R〜Rは、それぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、エステル基、アルコキシ基、シアノ基、アミド基、イミド基、シリル基、又は極性基(すなわち、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、エステル基、アルコキシ基、シアノ基、アミド基、イミド基、又はシリル基)で置換された炭化水素基である。ただし、R〜Rは、二つ以上が互いに結合して、不飽和結合、単環又は多環を形成していてもよく、この単環又は多環は、二重結合を有していても、芳香環を形成してもよい。RとRとで、又はRとRとで、アルキリデン基を形成していてもよい。p、mは0以上の整数である。)
上記一般式(3)中、R及びRが水素原子又は炭素数1〜10、さらに好ましくは1〜4、特に好ましくは1〜2の炭化水素基を表す。R及びRが水素原子又は1価の有機基であって、R及びRの少なくとも一つは水素原子及び炭化水素基以外の極性を有する極性基を表す。mは0〜3の整数、pは0〜3の整数であり、より好ましくはm+p=0〜4、さらに好ましくは0〜2、特に好ましくはm=1、p=0であるものである。m=1、p=0である特定単量体は、得られるシクロオレフィン系樹脂のガラス転移温度が高くかつ機械的強度も優れたものとなる点で好ましい。
(In the formula, R 1 to R 4 are each independently a hydrogen atom, a hydrocarbon group, a halogen atom, a hydroxy group, an ester group, an alkoxy group, a cyano group, an amide group, an imide group, a silyl group, or a polar group ( That is, it is a hydrocarbon group substituted with a halogen atom, a hydroxy group, an ester group, an alkoxy group, a cyano group, an amide group, an imide group, or a silyl group, provided that two or more of R 1 to R 4 are They may be bonded to each other to form an unsaturated bond, a monocycle or a polycycle, and this monocycle or polycycle may have a double bond or an aromatic ring. 1 and R 2 , or R 3 and R 4 may form an alkylidene group, and p and m are integers of 0 or more.)
In the general formula (3), R 1 and R 3 represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10, more preferably 1 to 4, and particularly preferably 1 to 2 carbon atoms. R 2 and R 4 are a hydrogen atom or a monovalent organic group, and at least one of R 2 and R 4 represents a polar group having a polarity other than a hydrogen atom and a hydrocarbon group. m is an integer of 0 to 3, p is an integer of 0 to 3, more preferably m + p = 0 to 4, more preferably 0 to 2, particularly preferably m = 1 and p = 0. The specific monomer with m = 1 and p = 0 is preferable in that the cycloolefin resin obtained has a high glass transition temperature and excellent mechanical strength.

上記特定単量体の極性基としては、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、アミノ基、アミド基、シアノ基などが挙げられ、これら極性基はメチレン基などの連結基を介して結合していてもよい。また、カルボニル基、エーテル基、シリルエーテル基、チオエーテル基、イミノ基など極性を有する2価の有機基が連結基となって結合している炭化水素基なども極性基として挙げられる。これらの中では、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基又はアリロキシカルボニル基が好ましく、特にアルコキシカルボニル基又はアリロキシカルボニル基が好ましい。   Examples of the polar group of the specific monomer include a carboxy group, a hydroxy group, an alkoxycarbonyl group, an allyloxycarbonyl group, an amino group, an amide group, and a cyano group. These polar groups have a linking group such as a methylene group. It may be bonded via. In addition, a hydrocarbon group in which a divalent organic group having a polarity such as a carbonyl group, an ether group, a silyl ether group, a thioether group, or an imino group is bonded as a linking group can also be exemplified. Among these, a carboxy group, a hydroxy group, an alkoxycarbonyl group or an allyloxycarbonyl group is preferable, and an alkoxycarbonyl group or an allyloxycarbonyl group is particularly preferable.

さらに、R及びRの少なくとも一つが式−(CHCOORで表される極性基である単量体は、得られるシクロオレフィン系樹脂が高いガラス転移温度と低い吸湿性及び各種材料との優れた密着性を有するものとなる点で好ましい。上記の特定の極性基にかかる式において、Rは炭素原子数1〜12、さらに好ましくは1〜4、特に好ましくは1〜2の炭化水素基、好ましくはアルキル基である。 Furthermore, the monomer in which at least one of R 2 and R 4 is a polar group represented by the formula — (CH 2 ) n COOR is a cycloolefin-based resin that has a high glass transition temperature, low hygroscopicity, and various materials. It is preferable at the point from which it has the outstanding adhesiveness. In the formula relating to the specific polar group, R is a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 4, particularly preferably 1 to 2, and preferably an alkyl group.

共重合性単量体の具体例としては、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロオクテン、ジシクロペンタジエン、ノルボルネンなどのシクロオレフィンを挙げることができる。   Specific examples of the copolymerizable monomer include cycloolefins such as cyclobutene, cyclopentene, cycloheptene, cyclooctene, dicyclopentadiene and norbornene.

シクロオレフィンの炭素数としては、4〜20が好ましく、さらに好ましいのは5〜12である。   The number of carbon atoms of the cycloolefin is preferably 4-20, and more preferably 5-12.

本発明において、シクロオレフィン系樹脂は1種単独で、又は2種以上を併用することができる。   In this invention, cycloolefin type resin can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

本発明に係るシクロオレフィン系樹脂の好ましい分子量は、固有粘度〔η〕inhで0.2〜5dL/g、さらに好ましくは0.3〜3dL/g、特に好ましくは0.4〜1.5dL/gであり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定したポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)は8000〜100000、さらに好ましくは10000〜80000、特に好ましくは12000〜50000であり、重量平均分子量(Mw)は20000〜300000、さらに好ましくは30000〜250000、特に好ましくは40000〜200000の範囲のものが好適である。 The preferred molecular weight of the cycloolefin resin according to the present invention is 0.2 to 5 dL / g, more preferably 0.3 to 3 dL / g, particularly preferably 0.4 to 1.5 dL / g in terms of intrinsic viscosity [η] inh. The number average molecular weight (Mn) in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) is 8000 to 100,000, more preferably 10,000 to 80,000, particularly preferably 12,000 to 50,000, and the weight average molecular weight (Mw). ) Is preferably 20000 to 300000, more preferably 30000 to 250,000, and particularly preferably 40000 to 200000.

固有粘度〔η〕inh、数平均分子量及び重量平均分子量が上記範囲にあることによって、シクロオレフィン系樹脂の耐熱性、耐水性、耐薬品性、機械的特性と、シクロオレフィンフィルムとしての成形加工性が良好となる。 Inherent viscosity [η] inh , number average molecular weight and weight average molecular weight are within the above ranges, so that heat resistance, water resistance, chemical resistance, mechanical properties of cycloolefin resin, and molding processability as cycloolefin film Becomes better.

本発明に係るシクロオレフィン系樹脂のガラス転移温度(Tg)としては、通常、110℃以上、好ましくは110〜350℃、さらに好ましくは120〜250℃、特に好ましくは120〜220℃である。Tgが110℃未満の場合は、高温条件下での使用、又はコーティング、印刷などの二次加工により変形するので好ましくない。一方、Tgが350℃を超えると、成形加工が困難になり、また成形加工時の熱によって樹脂が劣化する可能性が高くなる。   The glass transition temperature (Tg) of the cycloolefin resin according to the present invention is usually 110 ° C. or higher, preferably 110 to 350 ° C., more preferably 120 to 250 ° C., and particularly preferably 120 to 220 ° C. When Tg is less than 110 ° C., it is not preferable because it is deformed by use under a high temperature condition or by secondary processing such as coating or printing. On the other hand, when Tg exceeds 350 ° C., the molding process becomes difficult, and the possibility that the resin deteriorates due to heat during the molding process increases.

光学フィルムは、シクロオレフィン系樹脂を含有する樹脂層を基材フィルムとして有する。樹脂層中の50質量%以上がシクロオレフィン系樹脂であることが好ましく、より好ましくは80〜99質量%の範囲内である。   The optical film has a resin layer containing a cycloolefin-based resin as a base film. It is preferable that 50 mass% or more in a resin layer is a cycloolefin type resin, More preferably, it exists in the range of 80-99 mass%.

シクロオレフィン系樹脂には、本発明の効果を損なわない範囲で、例えば特開平9−221577号公報、特開平10−287732号公報に記載されている特定の炭化水素系樹脂、又は、公知の熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマー、ゴム質重合体、ゴム粒子などの添加剤を含んでも良い。   For the cycloolefin resin, a specific hydrocarbon resin described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 9-221777 and 10-287732, or a known heat can be used as long as the effects of the present invention are not impaired. An additive such as a plastic resin, a thermoplastic elastomer, a rubbery polymer, or rubber particles may be included.

以上説明したシクロオレフィン系樹脂は、市販品を好ましく用いることができ、市販品の例としては、JSR(株)からアートン(ARTON)G、アートンF、アートンR、及びアートンRXという商品名で発売されており、また日本ゼオン(株)からゼオノア(ZEONOR)ZF14、ZF16、ゼオネックス(ZEONEX)250又はゼオネックス280という商品名で市販されており、これらを使用することができる。   Commercially available products can be preferably used as the cycloolefin resin described above. Examples of commercially available products are commercially available from JSR Corporation under the trade names Arton G, Arton F, Arton R, and Arton RX. These are commercially available from ZEON Corporation under the trade names of ZEONOR ZF14, ZF16, ZEONEX 250 or ZEONEX 280, and these can be used.

〈微粒子〉
基材フィルムである樹脂層に、表面の滑り性等を付与するために、本発明の効果を損なわない範囲で微粒子(マット剤)を含有させることもできる。微粒子は、無機化合物で構成されてもよいし、樹脂で構成されてもよい。
<Fine particles>
In order to impart surface slipperiness and the like to the resin layer that is the base film, fine particles (mat agent) can be contained within a range that does not impair the effects of the present invention. The fine particles may be composed of an inorganic compound or a resin.

無機化合物の例には、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等が挙げられる。   Examples of inorganic compounds include silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate, calcium phosphate, etc. Is mentioned.

樹脂の例には、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂が含まれる。中でもシリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール103、同105、同108、同120、同145、同3120及び同240(以上東芝シリコーン(株)製)の商品名で市販されているものが挙げられる。   Examples of the resin include a silicone resin, a fluororesin, and an acrylic resin. Among them, silicone resins are preferable, and those having a three-dimensional network structure are particularly preferable. For example, Tospearl 103, 105, 108, 120, 145, 3120 and 240 (manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) What is marketed with a brand name is mentioned.

これらの中でも、フィルムの濁度を低くしうる点で、二酸化ケイ素の微粒子が好ましい。二酸化ケイ素の微粒子の例には、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600(以上日本アエロジル(株)製)が挙げられ、フィルムのヘイズを低く保ちながら摩擦係数を下げる効果が大きいことから、好ましくはアエロジル200V、アエロジルR972Vである。   Among these, fine particles of silicon dioxide are preferable in that the turbidity of the film can be lowered. Examples of fine particles of silicon dioxide include Aerosil R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, TT600 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) and friction while keeping the film haze low. Aerosil 200V and Aerosil R972V are preferred because the effect of lowering the coefficient is great.

《ハードコート層》
本発明の光学フィルムは、シクロオレフィン系樹脂を含有する樹脂層の上にハードコート層を有し、かつ前記ハードコート層が、紫外線硬化樹脂とシリカ粒子とを含有する。高い表面硬度を有する樹脂層上にハードコート層を有することで、光学フィルムの耐衝撃性や取扱い容易性等を向上させることができる。
《Hard coat layer》
The optical film of the present invention has a hard coat layer on a resin layer containing a cycloolefin-based resin, and the hard coat layer contains an ultraviolet curable resin and silica particles. By having a hard coat layer on a resin layer having a high surface hardness, it is possible to improve the impact resistance and ease of handling of the optical film.

〈紫外線硬化樹脂〉
紫外線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられる。紫外線照射により、機械的膜強度(耐擦傷性、鉛筆硬度)に優れるハードコート層を形成することができる。
<UV curable resin>
As the ultraviolet curable resin, a component containing a monomer having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used. By irradiating with ultraviolet rays, a hard coat layer having excellent mechanical film strength (abrasion resistance, pencil hardness) can be formed.

例えば、有機シリコーン系、メラミン系、エポキシ系、アクリレート系、多官能(メタ)アクリル系化合物等の有機系ハードコート材料;二酸化ケイ素等の無機系ハードコート材料等が挙げられる。中でも、接着力が良好であり、生産性に優れる観点から、(メタ)アクリレート系及び多官能(メタ)アクリル系化合物のハードコート形成材料の使用が好ましい。ここで(メタ)アクリルとはアクリル及びメタクリルを示す。   Examples thereof include organic hard coat materials such as organic silicone, melamine, epoxy, acrylate, and polyfunctional (meth) acrylic compounds; inorganic hard coat materials such as silicon dioxide, and the like. Among these, from the viewpoint of good adhesive force and excellent productivity, it is preferable to use a hard coat forming material of (meth) acrylate-based and polyfunctional (meth) acrylic-based compounds. Here, (meth) acryl means acryl and methacryl.

(メタ)アクリレートは、重合性不飽和基を分子内に一つ有するもの、二つ有するもの、三つ以上有するもの、重合性不飽和基を分子内に三つ以上含有する(メタ)アクリレートオリゴマーを挙げることができる。例えば、多官能アクリレートとして、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、及びジペンタエリスリトール多官能メタクリレート等を用いることができる。(メタ)アクリレートは、単独で用いられても良く、2種類以上のものを用いても良い。   (Meth) acrylates have one polymerizable unsaturated group in the molecule, two have, two or more, (meth) acrylate oligomers containing three or more polymerizable unsaturated groups in the molecule Can be mentioned. For example, pentaerythritol polyfunctional acrylate, dipentaerythritol polyfunctional acrylate, pentaerythritol polyfunctional methacrylate, dipentaerythritol polyfunctional methacrylate, or the like can be used as the polyfunctional acrylate. (Meth) acrylates may be used alone or in combination of two or more.

また、本発明に係るハードコート層中には、本発明の効果が損なわれない範囲で、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、紫外線安定剤、紫外線吸収剤、界面活性剤、レベリング剤、帯電防止剤などを用いることができる。   Moreover, in the hard-coat layer which concerns on this invention, various additives can be further mix | blended as needed in the range which does not impair the effect of this invention. For example, an antioxidant, an ultraviolet stabilizer, an ultraviolet absorber, a surfactant, a leveling agent, an antistatic agent and the like can be used.

レベリング剤は、特に、ハードコート層を塗工する際、表面凹凸低減に効果的である。レネリング剤としては、例えば、シリコーン系レベリング剤として、ジメチルポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合体が好適である。   The leveling agent is particularly effective in reducing surface irregularities when a hard coat layer is applied. As the leveling agent, for example, a dimethylpolysiloxane-polyoxyalkylene copolymer is suitable as a silicone leveling agent.

上記紫外線安定剤としては、例えば、紫外線に対する安定性が高いヒンダードアミン系紫外線安定剤が好適に用いられる。ハードコート層が紫外線安定剤を含有することにより、紫外線によって発生するラジカル、活性酸素等が不活性化され、紫外線安定性、耐候性等を向上させることができる。   As the ultraviolet stabilizer, for example, a hindered amine ultraviolet stabilizer having high stability against ultraviolet rays is preferably used. When the hard coat layer contains an ultraviolet stabilizer, radicals, active oxygen and the like generated by ultraviolet rays are inactivated, and ultraviolet stability, weather resistance, and the like can be improved.

上記紫外線吸収剤としては、例えば、サリチル酸系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾオキサジノン系紫外線吸収剤等を挙げることができ、これらの群より選択される1種又は2種以上のものを用いることができる。中でも、分散性の点から、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾオキサジノン系紫外線吸収剤が好ましい。また、上記紫外線吸収剤としては、分子鎖に紫外線吸収基を有するポリマーも好適に使用される。かかる分子鎖に紫外線吸収基を有するポリマーを用いることで、紫外線吸収剤のブリードアウト等による紫外線吸収機能の劣化を防止することができる。この紫外線吸収基としては、ベンゾトリアゾール基、ベンゾフェノン基、シアノアクリレート基、トリアジン基、サリシレート基、ベンジリデンマロネート基等が挙げられる。中でも、ベンゾトリアゾール基、ベンゾフェノン基、トリアジン基が特に好ましい。   Examples of the UV absorber include salicylic acid UV absorbers, benzophenone UV absorbers, benzotriazole UV absorbers, cyanoacrylate UV absorbers, triazine UV absorbers, and benzoxazinone UV absorbers. 1 type or 2 types or more selected from these groups can be used. Among these, from the viewpoint of dispersibility, triazine-based UV absorbers and benzoxazinone-based UV absorbers are preferable. Moreover, as the ultraviolet absorber, a polymer having an ultraviolet absorbing group in the molecular chain is also preferably used. By using a polymer having an ultraviolet absorbing group in such a molecular chain, it is possible to prevent deterioration of the ultraviolet absorbing function due to bleeding out of the ultraviolet absorbent. Examples of the ultraviolet absorbing group include a benzotriazole group, a benzophenone group, a cyanoacrylate group, a triazine group, a salicylate group, and a benzylidene malonate group. Among these, a benzotriazole group, a benzophenone group, and a triazine group are particularly preferable.

〈シリカ粒子〉
本発明の光学フィルムは、ハードコート層がシリカ粒子を含有する。ハードコート層中に含まれる、シリカ粒子の紫外線硬化樹脂に対する質量比の値(シリカ粒子/紫外線硬化樹脂)は、10/90〜50/50の範囲内であることが好ましい。この比の値が10/90以上であることが、ハードコート層の硬度を高める点で好ましく、50/50以下であることにより、ヘイズや耐傷性を劣化させることがない点で好ましい。
<Silica particles>
In the optical film of the present invention, the hard coat layer contains silica particles. The mass ratio of the silica particles to the ultraviolet curable resin (silica particles / ultraviolet curable resin) contained in the hard coat layer is preferably in the range of 10/90 to 50/50. A value of this ratio is preferably 10/90 or more from the viewpoint of increasing the hardness of the hard coat layer, and is preferably 50/50 or less from the viewpoint that haze and scratch resistance are not deteriorated.

シリカ粒子は、平均一次粒径が200nm以下であることが、ヘイズと表面硬度を両立させる上で好ましい。好ましくは5〜100nm、より好ましくは10〜50nmの範囲内である。   The silica particles preferably have an average primary particle size of 200 nm or less in order to achieve both haze and surface hardness. Preferably it is 5-100 nm, More preferably, it exists in the range of 10-50 nm.

また、シリカ粒子は、粒子表面が未処理のものでも表面硬度は上昇するが、表面の一部に有機成分が被覆され、当該有機成分により導入された反応性の重合性不飽和基を表面に有するシリカ粒子であることが好ましい。   Silica particles also have an increased surface hardness even when the particle surface is untreated, but the surface is coated with an organic component and a reactive polymerizable unsaturated group introduced by the organic component on the surface. It is preferable that it is the silica particle which has.

(重合性不飽和基含有化合物により被覆された反応性シリカ粒子)
本実施形態において好ましく用いられる平均一次粒径5〜200nmのシリカ粒子としては、少なくとも表面の一部に有機成分が被覆され、当該有機成分により導入された反応性の重合性不飽和基を表面に有するシリカ粒子が挙げられる。
(Reactive silica particles coated with a polymerizable unsaturated group-containing compound)
As silica particles having an average primary particle size of 5 to 200 nm preferably used in the present embodiment, at least a part of the surface is coated with an organic component, and a reactive polymerizable unsaturated group introduced by the organic component is formed on the surface. The silica particle which has is mentioned.

表面修飾剤されていないシリカ粒子としては、公知のものを使用することができる。また、その形状は、球状でも不定形のものでもよく、通常のコロイダルシリカに限らず中空粒子、多孔質粒子、コア/シェル型粒子等であっても構わないが、コロイダルシリカが好ましい。   Known silica particles that are not surface-modified can be used. The shape may be spherical or indefinite, and is not limited to normal colloidal silica, and may be hollow particles, porous particles, core / shell particles, or the like, but colloidal silica is preferred.

シリカ粒子の分散媒は、水又は有機溶媒が好ましい。有機溶媒としては、メタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、ブタノール、エチレングリコールモノプロピルエーテル等のアルコール類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類;酢酸エチル、酢酸ブチル、γ−ブチロラクトン等のエステル類;テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエーテル類等の有機溶剤を挙げることができ、これらの中で、アルコール類及びケトン類が好ましい。これら有機溶剤は、単独又は2種以上混合して分散媒として使用することもできる。   The dispersion medium of silica particles is preferably water or an organic solvent. Examples of organic solvents include alcohols such as methanol, isopropyl alcohol, ethylene glycol, butanol and ethylene glycol monopropyl ether; ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; dimethylformamide and dimethyl Examples include amides such as acetamide and N-methylpyrrolidone; esters such as ethyl acetate, butyl acetate and γ-butyrolactone; and organic solvents such as ethers such as tetrahydrofuran and 1,4-dioxane. Alcohols and ketones are preferred. These organic solvents can be used alone or in combination as a dispersion medium.

市販品としては、例えば、コロイダルシリカとして、日産化学工業(株)製IPA−ST、IPA−ST−L、IPA−ST−ZL、MEK−ST−L、MEK−ST−MS等を挙げることができる。   Examples of commercially available products include, for example, IPA-ST, IPA-ST-L, IPA-ST-ZL, MEK-ST-L, MEK-ST-MS manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., as colloidal silica. it can.

反応性シリカ粒子は、上述したようなコロイダルシリカを、反応性の重合性不飽和基を有する有機化合物で表面処理することによって得られる。すなわち、ここでは、シリカ粒子の表面を被覆する有機成分とは、表面処理に用いる、反応性の重合性不飽和基を有する有機化合物由来の有機成分を指す。   Reactive silica particles are obtained by surface-treating colloidal silica as described above with an organic compound having a reactive polymerizable unsaturated group. That is, here, the organic component covering the surface of the silica particles refers to an organic component derived from an organic compound having a reactive polymerizable unsaturated group used for the surface treatment.

シリカ粒子の表面を有機成分で被覆するために表面処理に用いる有機化合物としては、重合性不飽和基を有する有機化合物である。重合性不飽和基としては、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、エポキシ基、イソシアネート基、(メタ)アクリロイル、ビニル基のうちいずれか2種以上であることが好ましく、ヒドロキシ基、カルボキシ基、イソシアネート基のいずれかと(メタ)アクリロイル基とであることが特に好ましい。   The organic compound used for the surface treatment to coat the surface of the silica particles with an organic component is an organic compound having a polymerizable unsaturated group. The polymerizable unsaturated group is preferably at least two of hydroxy group, carboxy group, amino group, epoxy group, isocyanate group, (meth) acryloyl, and vinyl group, hydroxy group, carboxy group, and isocyanate group. Particularly preferred are any group and a (meth) acryloyl group.

なお、本発明において、(メタ)アクリレートとは、メタクリレート又はアクリレートを意味する。   In the present invention, (meth) acrylate means methacrylate or acrylate.

さらに、重合性不飽和基を有する有機化合物の具体例としては、例えば、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクロロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等のカップリング剤;アクリル酸メチル、アクリル酸−2−エチルヘキシル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ブトキシエチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸メトキシブチル、アクリル酸フェニル等のアクリル酸エステル類、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸メトキシエチル、メタクリル酸エトキシメチル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ラウリル等のメタクリル酸エステル類、アクリル酸−2−(N,N−ジエチルアミノ)エチル、メタクリル酸−2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル、アクリル酸−2−(N,N−ジベンジルアミノ)メチル、アクリル酸−2−(N,N−ジエチルアミノ)プロピル等の不飽和置換酸の置換アミノアルコールエステル類;アクリルアミド、メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミド;エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,6ヘキサンジオールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート等の化合物;ジプロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート等の多官能性化合物;及び/又は、分枝中に2個以上のチオール基を有するポリチオール化合物(例えばトリメチロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコール等)が挙げられる。   Further, specific examples of the organic compound having a polymerizable unsaturated group include, for example, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyldiethoxysilane, and 3-methacryloxy. Coupling agents such as propyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane; methyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, methoxyethyl acrylate, acrylic Acrylic acid esters such as butoxyethyl acrylate, butyl acrylate, methoxybutyl acrylate, and phenyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, methoxyethyl methacrylate , Methacrylic acid esters such as ethoxymethyl methacrylate, phenyl methacrylate, lauryl methacrylate, 2- (N, N-diethylamino) ethyl acrylate, 2- (N, N-dimethylamino) ethyl methacrylate, acrylic 2-amino acid esters of unsaturated substituted acids such as 2- (N, N-dibenzylamino) methyl acrylate and 2- (N, N-diethylamino) propyl acrylate; unsaturated carboxylic acids such as acrylamide and methacrylamide Acid amides; ethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6 hexanediol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, etc .; dipropylene glycol Polyfunctional compounds such as diacrylate, ethylene glycol diacrylate, propylene glycol dimethacrylate, and diethylene glycol dimethacrylate; and / or polythiol compounds having two or more thiol groups in the branch (for example, trimethylolpropane trithioglycolate) , Trimethylolpropane trithiopropylate, pentaerythritol tetrathioglycol, etc.).

このように重合性不飽和基を有する反応性シリカ粒子を使用することで、バインダー樹脂とシリカ粒子の架橋、シリカ粒子同士の架橋が生じ、硬度の向上、粒子の脱落を防ぐ、という効果が得られる。また、修飾されたシリカ粒子を用いることで耐薬品性の向上も図ることができる。   By using reactive silica particles having a polymerizable unsaturated group in this way, the binder resin and the silica particles are cross-linked, and the silica particles are cross-linked, thereby improving the hardness and preventing the particles from falling off. It is done. In addition, chemical resistance can be improved by using modified silica particles.

前記有機成分は、シリカ粒子の凝集を抑制し、かつシリカ粒子表面へ反応性官能基を多く導入してハードコート層の硬度を向上させる点から、粒子表面のほぼ全体を被覆していることが好ましい。このような観点から、シリカ粒子を被覆している前記有機成分は、反応性シリカ粒子中に1.00×10−3g/m以上含まれることが好ましい。 The organic component covers almost the entire particle surface from the viewpoint of suppressing aggregation of the silica particles and improving the hardness of the hard coat layer by introducing many reactive functional groups to the surface of the silica particles. preferable. From such a viewpoint, the organic component covering the silica particles is preferably contained in the reactive silica particles at 1.00 × 10 −3 g / m 2 or more.

当該被覆している有機成分の割合は、通常、乾燥粉体を空気中で完全に燃焼させた場合の質量減少の恒量値として、例えば、空気中で室温から通常800℃までの熱質量分析により求めることができる。なお、単位面積当りの有機化合物量は、以下の方法により求めることができる。まず、示差熱質量分析(DTG)により、有機成分質量を無機成分質量で割った値(有機成分質量/無機成分質量)を測定する。次に、無機成分質量と用いたシリカの比重から無機成分全体の体積を計算する。また、被覆前のシリカ粒子が真球状であると仮定し、被覆前のシリカ粒子の平均粒径から被覆前のシリカ1個当りの体積、及び表面積を計算する。次に、無機成分全体の体積を被覆前のシリカ粒子1個当たりの体積で割ることにより、反応性シリカ粒子の個数を求める。更に、有機成分質量を反応性シリカ粒子の個数で割ることにより、反応性シリカ粒子1個当たりの有機成分量を求める。最後に、反応性シリカ粒子1個当りの有機成分質量を、被覆前のシリカ粒子1個当りの表面積で割ることにより、単位面積当たりの有機成分量を求めることができる。   The ratio of the organic component that is coated is usually a constant value of mass reduction when the dry powder is completely burned in air, for example, by thermal mass analysis from room temperature to usually 800 ° C. in air. Can be sought. The amount of organic compound per unit area can be determined by the following method. First, the value (organic component mass / inorganic component mass) obtained by dividing the organic component mass by the inorganic component mass is measured by differential thermal mass spectrometry (DTG). Next, the volume of the whole inorganic component is calculated from the mass of the inorganic component and the specific gravity of the silica used. Further, assuming that the silica particles before coating are spherical, the volume per silica before coating and the surface area are calculated from the average particle size of the silica particles before coating. Next, the number of reactive silica particles is determined by dividing the volume of the entire inorganic component by the volume per silica particle before coating. Furthermore, the amount of organic components per reactive silica particle is determined by dividing the mass of the organic component by the number of reactive silica particles. Finally, the amount of organic component per unit area can be determined by dividing the mass of the organic component per reactive silica particle by the surface area per silica particle before coating.

少なくとも表面の一部に有機成分が被覆され、当該有機成分により導入された重合性不飽和基を表面に有する反応性シリカ粒子を調製する方法としては、当該シリカ粒子に導入したい重合性不飽和基の種類などによって、従来公知の方法を適宜用いることができる。具体的には、例えば、後述の実施例に記載した方法などによって反応性シリカ粒子を調製することが可能である。   As a method for preparing reactive silica particles having at least a part of the surface coated with an organic component and having a polymerizable unsaturated group introduced by the organic component on the surface, there is a polymerizable unsaturated group to be introduced into the silica particle. A conventionally known method can be appropriately used depending on the type of the above. Specifically, for example, reactive silica particles can be prepared by the method described in Examples described later.

なお、反応性シリカ粒子としては、分散媒を含有しない粉末状を用いてもよいが、分散工程を省略でき、生産性が高い点から微粒子を溶剤分散ゾルとしたものを用いることが好ましい。   The reactive silica particles may be in the form of a powder that does not contain a dispersion medium. However, it is preferable to use particles in which fine particles are used as a solvent-dispersed sol because the dispersion step can be omitted and productivity is high.

上記反応性シリカ粒子の市販品としては、日産化学工業(株)製:MIBK−SD、MIBK−SDMS,MIBK−SDL,IPA−ST,IPA−SDMS等を挙げることができる。   As a commercial item of the said reactive silica particle, Nissan Chemical Industries Ltd. make: MIBK-SD, MIBK-SDMS, MIBK-SDL, IPA-ST, IPA-SDMS etc. can be mentioned.

なお、平均一次粒径は、レーザー回折・散乱法などにより、測定することができる。例えば、粒度分布計Microtrac(日機装(株)製)などを用いてd55を用いることができる。シリカ粒子が表面修飾された場合は、表面修飾を含めた粒子の粒径を本発明における粒径とする。 The average primary particle size can be measured by a laser diffraction / scattering method or the like. For example, it is possible to use a d 55 by using a particle size distribution meter Microtrac (manufactured by Nikkiso Co., Ltd.). When the silica particles are surface-modified, the particle size of the particles including the surface modification is the particle size in the present invention.

《樹脂層の製造方法》
基材フィルムとして、樹脂層は任意の方法で製造されうるが、比較的分子量の大きな樹脂でも製膜しやすい、また添加剤を樹脂層中に均一に添加しやすい等の点から、シクロオレフィン系樹脂を含有する樹脂を溶解した溶液を基体上に流延する工程を経て製膜し、前記樹脂層を形成することが好ましい。すなわち、溶液流延法で製造されることが好ましい。
<Method for producing resin layer>
As the base film, the resin layer can be produced by any method, but it is easy to form a resin having a relatively large molecular weight, and it is easy to uniformly add the additive into the resin layer. It is preferable to form the resin layer by forming a film through a step of casting a solution containing a resin-containing resin on a substrate. That is, it is preferably produced by a solution casting method.

また、前記製膜後に巻き取られたフィルム原反を巻き出して、斜め方向に延伸する工程を経て、前記樹脂層を形成することが、有機エレクトロルミネッセンス素子の反射防止用途の保護フィルムとして用いるために好ましい。   Moreover, in order to use as a protective film for the anti-reflection use of an organic electroluminescent element, forming the said resin layer through the process which unwinds the film raw material wound up after the said film forming, and extends | stretches it diagonally. Is preferable.

樹脂層は、1)前述の各成分を溶剤に溶解させてドープ液を調製する工程、2)ドープ液を無端の基体上に流延する工程、3)流延したドープを乾燥した後、剥離して膜状物(原反)を得る工程、4)膜状物を乾燥及び延伸する工程を経て製造されうる。   The resin layer includes 1) a step of preparing the dope solution by dissolving the above-described components in a solvent, 2) a step of casting the dope solution on an endless substrate, and 3) drying the cast dope and then peeling it off. And a film-like product (raw material) is obtained, and 4) a film-like product is dried and stretched.

なお、以下の記載において、本発明に係る樹脂層のみのフィルムを樹脂フィルムともいう。   In the following description, a film having only a resin layer according to the present invention is also referred to as a resin film.

上記1)の工程用いられる溶剤としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタンなどの塩素系溶剤;トルエン、キシレン、ベンゼン、及びこれらの混合溶剤などの芳香族系溶剤;メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、2−ブタノールなどのアルコール系溶剤;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、酢酸エチル、ジエチルエーテル;などが挙げられる。   Examples of the solvent used in the step 1) include, for example, chlorinated solvents such as chloroform and dichloromethane; aromatic solvents such as toluene, xylene, benzene, and mixed solvents thereof; methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, Examples include alcohol solvents such as 2-butanol; methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, ethylene glycol monomethyl ether, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, dioxane, cyclohexanone, tetrahydrofuran, acetone, methyl ethyl ketone (MEK), ethyl acetate, diethyl ether; It is done.

溶液流延法では、ドープ中のシクロオレフィン系樹脂の濃度は、濃度が高い方が基体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、シクロオレフィン系樹脂の濃度が高すぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、10〜35質量%が好ましく、さらに好ましくは、15〜25質量%の範囲内である。流延(キャスト)工程における基体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、ステンレススティールベルト又は鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。   In the solution casting method, it is preferable that the concentration of the cycloolefin resin in the dope is higher because the drying load after casting on the substrate can be reduced. The load increases, and the filtration accuracy deteriorates. The concentration that makes these compatible is preferably 10 to 35% by mass, and more preferably 15 to 25% by mass. The substrate in the casting (casting) step preferably has a mirror-finished surface, and a stainless steel belt or a drum whose surface is plated with a casting is preferably used.

キャストの幅は1〜4mの範囲内とすることができる。流延工程の基体の表面温度は−50℃から溶媒が沸騰して発泡しない温度以下に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましい。またこの温度範囲内であると、ウェブが発泡したり、平面性が劣化したりする懸念がない。   The width of the cast can be in the range of 1-4 m. The surface temperature of the substrate in the casting step is set from −50 ° C. to a temperature at which the solvent does not boil and foam. Higher temperatures are preferred because the web can be dried faster. Moreover, there is no concern that the web is foamed or the flatness is deteriorated within this temperature range.

好ましい基体温度としては0〜100℃の範囲内で適宜決定され、5〜30℃の範囲内がさらに好ましい。又は、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶剤を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。基体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風又は冷風を吹きかける方法や、温水を基体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、基体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。   A preferable substrate temperature is appropriately determined within a range of 0 to 100 ° C, and more preferably within a range of 5 to 30 ° C. Alternatively, it is also a preferable method that the web is gelled by cooling and peeled from the drum in a state containing a large amount of residual solvent. The method for controlling the temperature of the substrate is not particularly limited, and there are a method of blowing warm air or cold air, and a method of bringing hot water into contact with the back side of the substrate. It is preferable to use hot water because heat is efficiently transmitted, and the time until the temperature of the substrate becomes constant is short.

温風を用いる場合は溶剤の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶剤の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。   When using hot air, considering the temperature drop of the web due to the latent heat of vaporization of the solvent, hot air above the boiling point of the solvent may be used, and air at a temperature higher than the target temperature may be used while preventing foaming. .

特に、流延から剥離するまでの間で基体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。   In particular, it is preferable to perform drying efficiently by changing the temperature of the substrate and the temperature of the drying air during the period from casting to peeling.

樹脂フィルムが良好な平面性を示すためには、基体からウェブを剥離する際の残留溶剤量は10〜150質量%の範囲内が好ましく、さらに好ましくは20〜40質量%又は60〜130質量%の範囲内であり、特に好ましくは、20〜30質量%又は70〜120質量%の範囲内である。   In order for the resin film to exhibit good flatness, the amount of residual solvent when peeling the web from the substrate is preferably in the range of 10 to 150% by mass, more preferably 20 to 40% by mass or 60 to 130% by mass. And particularly preferably within the range of 20 to 30% by mass or 70 to 120% by mass.

残留溶剤量は下記式で定義される。   The amount of residual solvent is defined by the following formula.

残留溶剤量(質量%)={(M−N)/N}×100
なお、Mはウェブ又はフィルムを製造中又は製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、NはMを115℃で1時間の加熱後の質量である。
Residual solvent amount (% by mass) = {(MN) / N} × 100
Note that M is the mass of a sample collected during or after the production of the web or film, and N is the mass after heating M at 115 ° C. for 1 hour.

また、樹脂フィルムの乾燥工程においては、ウェブを基体より剥離し、さらに乾燥し、残留溶剤量を1質量%以下にすることが好ましく、さらに好ましくは0.1質量%以下であり、特に好ましくは0〜0.01質量%の範囲内である。   Further, in the resin film drying step, the web is peeled off from the substrate, and further dried, so that the residual solvent amount is preferably 1% by mass or less, more preferably 0.1% by mass or less, and particularly preferably. It is in the range of 0 to 0.01% by mass.

フィルム乾燥工程では一般にローラー乾燥方式(上下に配置した多数のローラーにウェブを交互に通し乾燥させる方式)やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。   In the film drying process, a roller drying method (a method in which webs are alternately passed through a plurality of rollers arranged above and below) and a method of drying while transporting the web by a tenter method are adopted.

延伸工程では、最大延伸方向(延伸率が最大となる方向)の延伸率は、好ましくは5〜80%、より好ましくは12〜60%の範囲内としうる。例えば、互いに直交する2軸方向に延伸する場合、搬送方向(MD方向)に0〜60%、幅方向(TD方向)に5〜70%としうる。延伸率(%)は、下記式で定義される。   In the stretching step, the stretching ratio in the maximum stretching direction (direction in which the stretching ratio becomes maximum) can be preferably in the range of 5 to 80%, more preferably 12 to 60%. For example, when extending | stretching to the biaxial direction orthogonal to each other, it can be set to 0 to 60% in a conveyance direction (MD direction) and 5 to 70% in a width direction (TD direction). The stretch ratio (%) is defined by the following formula.

延伸率(%)={(延伸後のフィルムの(延伸方向)長さ−延伸前のフィルムの(延伸方向)長さ)/延伸前のフィルムの(延伸方向)長さ)}×100
延伸温度は、120〜180℃、好ましくは140〜180℃、より好ましくは145〜165℃の範囲内としうる。
Stretching rate (%) = {((stretching direction) length of stretched film− (stretching direction) length of stretched film) / (stretching direction) length of stretched film)} × 100
The stretching temperature can be in the range of 120 to 180 ° C, preferably 140 to 180 ° C, more preferably 145 to 165 ° C.

延伸開始時の膜状物(フィルム原反ともいう。)の残留溶媒は、ヘイズの上昇を抑制する観点から、好ましくは5質量%未満、より好ましくは4質量%以下、さらに好ましくは2質量%以下としうる。延伸開始時の残留溶媒を5質量%未満に保持するには、流延したドープを基体から剥離し、搬送する過程において前記乾燥工程を設け溶媒を蒸発させることが好ましい。   From the viewpoint of suppressing an increase in haze, the residual solvent of the film-like product (also referred to as a film original fabric) at the start of stretching is preferably less than 5% by mass, more preferably 4% by mass or less, and further preferably 2% by mass. It can be as follows. In order to keep the residual solvent at the start of stretching at less than 5% by mass, it is preferable to provide the drying step in the process of peeling the cast dope from the substrate and transporting it to evaporate the solvent.

膜状物を延伸する方法は、特に限定されず、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用してMD方向に延伸する方法や;テンターにより膜状物の両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔をTD方向に広げて延伸する方法等であってよい。中でも、TD方向の延伸は、テンターによって行うことが好ましく、ピンテンターでもクリップテンターでもよい。   The method of stretching the film-like material is not particularly limited, and a method of stretching a difference in peripheral speed between a plurality of rolls and using the difference in the peripheral speed of the roll between them in the MD direction; It may be a method of fixing with a clip or a pin and extending the gap between the clip or the pin in the TD direction. Among them, the stretching in the TD direction is preferably performed by a tenter, and may be a pin tenter or a clip tenter.

また、製膜後に巻き取られたフィルム原反を巻き出して、斜め延伸可能なテンターを用いて、斜め方向に延伸する工程を経て樹脂層を形成することもできる。   Moreover, the film raw film wound up after film forming can be unwound, and the resin layer can also be formed through the process of extending | stretching diagonally using the tenter which can be extended diagonally.

斜め延伸可能なテンターは、長尺フィルム原反を、オーブンによる加熱環境下で、その進行方向(フィルム幅方向の中点の移動方向)に対して斜め方向に拡幅する装置である。このテンターは、オーブンと、フィルムを搬送するための把持具が走行する左右で一対のレールと、該レール上を走行する多数の把持具とを備えている。フィルムロールから繰り出され、テンターの入口部に順次供給されるフィルムの両端を、把持具で把持し、オーブン内にフィルムを導き、テンターの出口部で把持具からフィルムを開放する。把持具から開放されたフィルムは巻芯に巻き取られる。一対のレールは、それぞれ無端状の連続軌道を有し、テンターの出口部でフィルムの把持を開放した把持具は、外側を走行して順次入口部に戻されるようになっている。   An obliquely stretchable tenter is a device that widens a long original film in an oblique direction with respect to its traveling direction (moving direction of the middle point in the film width direction) in an oven heating environment. The tenter includes an oven, a pair of rails on the left and right on which a gripping tool for transporting the film travels, and a number of gripping tools that travel on the rails. Both ends of the film fed out from the film roll and sequentially supplied to the entrance portion of the tenter are gripped by a gripping tool, the film is guided into the oven, and the film is released from the gripping tool at the exit portion of the tenter. The film released from the gripping tool is wound around the core. Each of the pair of rails has an endless continuous track, and the gripping tool which has released the grip of the film at the exit portion of the tenter travels outside and is sequentially returned to the entrance portion.

図2は、斜め延伸可能なテンターの一例である。図2(A)で代表されるように、延伸装置入口側のガイドロール12−1によって方向を制御されたフィルム原反4は、外側のフィルム保持開始点8−1、内側のフィルム保持開始点8−2の位置で把持具によって把持される。
左右一対の把持具は互いに等速度で、斜め延伸装置6にて外側のフィルム把持具の軌跡7−1、内側のフィルム把持具の軌跡7−2で示される斜め方向に搬送、延伸され、外側のフィルム把持終了点9−1、内側のフィルム把持終了点9−2によって把持を解放され、延伸装置出口側のガイドロール12−2によって搬送が制御され、斜め延伸フィルム5が形成される。延伸時のフィルムの加熱温度、把持具の走行速度及びトータル延伸倍率は、上記した範囲と同じ範囲を採用することができる。図中、フィルム原反は、フィルムの送り方向14−1に対して、フィルムの延伸方向14−2の角度14(繰出し角度θi)で斜め延伸される。
FIG. 2 is an example of a tenter that can be stretched obliquely. As shown in FIG. 2 (A), the raw film 4 whose direction is controlled by the guide roll 12-1 on the drawing apparatus entrance side is an outer film holding start point 8-1 and an inner film holding start point. It is gripped by the gripping tool at the position 8-2.
The pair of left and right grippers are transported and stretched at an equal speed with each other in the oblique direction indicated by the outer film gripper track 7-1 and the inner film gripper track 7-2 by the oblique stretching device 6. The gripping is released by the film gripping end point 9-1 and the inner film gripping end point 9-2, and the conveyance is controlled by the guide roll 12-2 on the stretching device outlet side, whereby the obliquely stretched film 5 is formed. The same range as described above can be adopted for the heating temperature of the film during stretching, the traveling speed of the gripping tool, and the total stretching ratio. In the figure, the original film is stretched obliquely at an angle 14 (feeding angle θi) in the film stretching direction 14-2 with respect to the film feeding direction 14-1.

本発明の実施形態に係る製造方法で用いられる斜め延伸テンターにおいて、特に図2(A)、図2(B)のようにテンター内部において、把持具の軌跡を規制するレールには、しばしば大きい屈曲率が求められる。急激な屈曲による把持具同士の干渉、または局所的な応力集中を避ける目的から、屈曲部では把持具の軌跡が円弧を描くようにすることが望ましい。   In the obliquely stretched tenter used in the manufacturing method according to the embodiment of the present invention, especially in the inside of the tenter as shown in FIGS. A rate is required. In order to avoid interference between gripping tools due to sudden bending or local stress concentration, it is desirable that the trajectory of the gripping tool draws an arc at the bent portion.

図2(A)で示される斜め延伸テンターにおいては、長尺フィルム原反のテンター入口での進行方向14−1は、延伸後のフィルムのテンター出側での進行方向と異なっている。繰出し角度θiは、テンター入口での進行方向14−1と延伸後のフィルムの延伸方向14−2とのなす角度である。   In the oblique stretching tenter shown in FIG. 2A, the traveling direction 14-1 at the tenter entrance of the long film original is different from the traveling direction at the tenter exit side of the stretched film. The feeding angle θi is an angle formed between the traveling direction 14-1 at the tenter inlet and the stretching direction 14-2 of the stretched film.

図2(B)で示される斜め延伸テンターにおいては、長尺フィルム原反のテンター入口での進行方向14−1は、テンター内で繰出し角度θiにてテンター入口での進行方向とは異なる方向に転換され搬送される。その後さらに搬送方向が転換され、最終的には延伸後のフィルムのテンター出側での進行方向一致するような軌跡をとる。本発明においては、上述のように好ましくは10〜80°の配向角θを持つフィルムを製造するため、繰出し角度θiは、10°<θi<60°、好ましくは15°<θi<50°で設定される。繰出し角度θiを前記範囲とすることにより、得られるフィルムの幅方向の光学特性のバラツキが良好となる(小さくなる)。   In the obliquely stretched tenter shown in FIG. 2B, the traveling direction 14-1 at the tenter entrance of the long film original is different from the traveling direction at the feeding angle θi in the tenter. Converted and transported. Thereafter, the transport direction is further changed, and finally, a trajectory that matches the traveling direction on the tenter exit side of the stretched film is taken. In the present invention, in order to produce a film having an orientation angle θ of preferably 10 to 80 ° as described above, the feeding angle θi is 10 ° <θi <60 °, preferably 15 ° <θi <50 °. Is set. By setting the feeding angle θi in the above range, the variation in the optical characteristics in the width direction of the obtained film becomes good (smaller).

その他の工程については、公知の溶液流延法;例えば特開2012−48214号の段落0109〜0140と同様としうる。   Other steps may be the same as those of a known solution casting method; for example, paragraphs 0109 to 0140 of JP2012-48214A.

〈ハードコート層を有する光学フィルムの製造方法〉
ハードコート層を有する光学フィルムは、1)前述の樹脂フィルムを準備する工程と、2)当該樹脂フィルム上にハードコート用塗布液(活性エネルギー線硬化物層用塗布液)を塗布した後、乾燥及び硬化させて活性エネルギー線硬化物層であるハードコート層を得る工程とを経て製造されうる。
<Method for producing optical film having hard coat layer>
The optical film having a hard coat layer is dried after 1) preparing the above-mentioned resin film and 2) applying a hard coat coating solution (active energy ray cured product coating solution) on the resin film. And a step of curing to obtain a hard coat layer which is an active energy ray cured product layer.

上記1)の樹脂フィルムを準備する工程は前述したとおりである。上記2)の工程では、前記紫外線硬化樹脂と前記シリカ粒子を含有する塗布液の溶剤としてアルコール、エステル、エーテル又はケトンのうちの少なくとも2種の溶剤を用いて調製した塗布液を塗布することが乾燥ムラを軽減する上で好ましい。   The step of preparing the resin film of 1) is as described above. In the step 2), a coating solution prepared by using at least two solvents of alcohol, ester, ether or ketone as the solvent of the coating solution containing the ultraviolet curable resin and the silica particles may be applied. It is preferable in reducing drying unevenness.

上記2)の工程用いられる溶剤としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタンなどの塩素系溶剤;トルエン、キシレン、ベンゼン、及びこれらの混合溶剤などの芳香族系溶剤;メタノール、エタノール、イソプロパノール(IPA)、n−ブタノール、2−ブタノールなどのアルコール系溶剤;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、酢酸エチル、ジエチルエーテル;などが挙げられる。   Examples of the solvent used in the step 2) include, for example, chlorinated solvents such as chloroform and dichloromethane; aromatic solvents such as toluene, xylene, benzene, and mixed solvents thereof; methanol, ethanol, isopropanol (IPA), n -Alcohol solvents such as butanol and 2-butanol; methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether (PGME), dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, dioxane, cyclohexanone, tetrahydrofuran, acetone, methyl ethyl ketone (MEK) ), Ethyl acetate, diethyl ether; and the like.

アルコール、エステル、エーテル又はケトンのうちの少なくとも2種の溶剤を用いて溶解した溶液を基体上に流延する際、1種類はケトン類であることが好ましく、ケトン類の中でもメチルエチルケトン(MEK)がUV硬化樹脂の溶解性の観点から好ましい。また、もう1種類はエーテル類であることが好ましく、エーテル類の中でも、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)が高沸点で乾燥が遅くムラ抑制効果の観点から好ましい。   When casting a solution dissolved using at least two solvents of alcohol, ester, ether or ketone onto a substrate, one type is preferably a ketone, and among the ketones, methyl ethyl ketone (MEK) is preferred. It is preferable from the viewpoint of solubility of the UV curable resin. The other type is preferably an ether, and among the ethers, propylene glycol monomethyl ether (PGME) is preferable from the viewpoint of a high boiling point, slow drying, and unevenness suppressing effect.

上記2)の活性エネルギー線硬化層用塗布液の塗布は、例えばディッピング法、ダイコーター法、ワイヤーバー法、スプレー法等の任意の手段にて行うことができる。塗布後の乾燥は公知の方法で行うことができる。   The application of the coating solution for the active energy ray cured layer of 2) can be performed by any means such as a dipping method, a die coater method, a wire bar method, and a spray method. Drying after coating can be performed by a known method.

上記2)の活性エネルギー線硬化層用塗布液の塗膜の硬化は、活性エネルギー線を照射して行うことができる。活性エネルギー線(好ましくは紫外線)を照射する光源の例には、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等が挙げられる。照射光量は20〜10000mJ/cm程度あればよく、好ましくは50〜2000mJ/cmである。照射時間は、好ましくは0.5秒〜5分、作業効率等の観点からより好ましくは3秒〜2分としうる。 Curing of the coating film of the coating solution for active energy ray cured layer of 2) can be performed by irradiating active energy rays. Examples of the light source that irradiates active energy rays (preferably ultraviolet rays) include a low-pressure mercury lamp, a medium-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, and a xenon lamp. Irradiation light amount is sufficient if degree 20~10000mJ / cm 2, preferably 50~2000mJ / cm 2. The irradiation time is preferably 0.5 seconds to 5 minutes, and more preferably 3 seconds to 2 minutes from the viewpoint of work efficiency.

ハードコート層のドライ層厚としては、層厚が2〜15μmの範囲内が好ましく、より好ましくは3〜8μmの範囲内である。   The dry thickness of the hard coat layer is preferably in the range of 2 to 15 μm, more preferably in the range of 3 to 8 μm.

〈偏光子〉
偏光子は、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光子は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムである。ポリビニルアルコール系偏光フィルムには、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと、二色性染料を染色させたものとがある。
<Polarizer>
A polarizer is an element that passes only light having a plane of polarization in a certain direction, and a typical polarizer known at present is a polyvinyl alcohol polarizing film. The polyvinyl alcohol polarizing film includes those obtained by dyeing iodine on a polyvinyl alcohol film and those obtained by dyeing a dichroic dye.

ポリビニルアルコール系偏光フィルムは、ポリビニルアルコール系フィルムを一軸延伸した後、ヨウ素又は二色性染料で染色したフィルム(好ましくはさらにホウ素化合物で耐久性処理を施したフィルム)であってもよいし;ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素又は二色性染料で染色した後、一軸延伸したフィルム(好ましくは、さらにホウ素化合物で耐久性処理を施したフィルム)であってもよい。偏光子の吸収軸は、フィルムの延伸方向と平行である。   The polyvinyl alcohol polarizing film may be a film (preferably a film further subjected to durability treatment with a boron compound) dyed with iodine or a dichroic dye after uniaxially stretching the polyvinyl alcohol film; After the alcohol film is dyed with iodine or a dichroic dye, it may be a uniaxially stretched film (preferably a film further subjected to a durability treatment with a boron compound). The absorption axis of the polarizer is parallel to the stretching direction of the film.

例えば、特開2003−248123号公報、特開2003−342322号公報等に記載のエチレン単位の含有量1〜4モル%、重合度2000〜4000、ケン化度99.0〜99.99モル%のエチレン変性ポリビニルアルコール等が用いられる。中でも、熱水切断温度が66〜73℃であるエチレン変性ポリビニルアルコールフィルムが好ましく用いられる。   For example, the content of ethylene units described in JP-A-2003-248123, JP-A-2003-342322, etc. is 1 to 4 mol%, the degree of polymerization is 2000 to 4000, and the degree of saponification is 99.0 to 99.99 mol%. Ethylene-modified polyvinyl alcohol or the like is used. Among these, an ethylene-modified polyvinyl alcohol film having a hot water cutting temperature of 66 to 73 ° C. is preferably used.

偏光子の厚さは、5〜30μmであることが好ましく、偏光板を薄型化するためなどから、10〜20μmであることがより好ましい。   The thickness of the polarizer is preferably 5 to 30 μm, and more preferably 10 to 20 μm in order to reduce the thickness of the polarizing plate.

〈偏光板〉
本発明においては、本発明の光学フィルムを保護フィルムとして用い、偏光子を介して他の基材フィルムと貼合して用いることもできるが、偏光子を介して位相差フィルムを貼合した偏光板として用いることが好ましい。さらには、本発明の光学フィルムに位相差を持たせ偏光子と貼合することにより偏光板とすることも好ましい。
<Polarizer>
In the present invention, the optical film of the present invention can be used as a protective film and can be used by being bonded to another base film through a polarizer, but the polarized light having a retardation film bonded through a polarizer. It is preferable to use it as a plate. Furthermore, it is also preferable to make a polarizing plate by giving a retardation to the optical film of the present invention and pasting it with a polarizer.

本発明に係る偏光板は、有機EL表示装置や液晶表示装置に好ましく適用できる。本発明の光学フィルムは、23℃・55%RHの環境下、光波長550nmにおける面内方向のリターデーション値(Ro(550))が、下記式(1)を満たすことが好ましい。   The polarizing plate according to the present invention can be preferably applied to an organic EL display device and a liquid crystal display device. In the optical film of the present invention, the retardation value (Ro (550)) in the in-plane direction at a light wavelength of 550 nm preferably satisfies the following formula (1) in an environment of 23 ° C. and 55% RH.

式(1):100nm≦Ro(550)≦170nm
Ro(550)が式(1)を満たすことにより、位相差フィルムはλ/4位相差フィルムとして機能する。偏光子の吸収軸とλ/4位相差フィルムの遅相軸とのなす角を45°に貼合した円偏光板を用いることにより外光の反射を抑制する機能を付与することができる。これを有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いることにより、電極による反射光が防止され、優れた有機EL表示装置を作製することができる。
Formula (1): 100 nm ≦ Ro (550) ≦ 170 nm
When Ro (550) satisfies the formula (1), the retardation film functions as a λ / 4 retardation film. By using a circularly polarizing plate in which the angle formed by the absorption axis of the polarizer and the slow axis of the λ / 4 retardation film is 45 °, a function of suppressing reflection of external light can be imparted. By using this for an organic electroluminescence display device, reflected light from the electrodes is prevented, and an excellent organic EL display device can be manufactured.

好ましくは、波長550nmで測定した面内の位相差値Ro(550)が120〜160nmの範囲内であることであり、Ro(550)が130〜150nmであることがさらに好ましい。   Preferably, the in-plane retardation value Ro (550) measured at a wavelength of 550 nm is in the range of 120 to 160 nm, and Ro (550) is more preferably 130 to 150 nm.

また、液晶表示装置に用いる場合は、本発明の光学フィルムを偏光板保護フィルムとして用い、これを偏光子を介して他の位相差フィルムと貼合した偏光板を用いることが好ましい。位相差フィルムのリターデーションは、組み合わされる液晶セルの種類にもよるが、例えば23℃・55%RHの条件下、波長550nmで測定される面内方向のリターデーションRo(550)は20〜100nmであることが好ましく、厚さ方向のリターデーションRth(550)は70〜300nmであることが好ましい。リターデーションが上記範囲である場合、例えばVA型液晶セル等の位相差フィルムとして適している。   Moreover, when using for a liquid crystal display device, it is preferable to use the polarizing plate which used the optical film of this invention as a polarizing plate protective film, and bonded this with the other retardation film through the polarizer. The retardation of the retardation film depends on the type of the liquid crystal cell to be combined. For example, the retardation Ro (550) in the in-plane direction measured at a wavelength of 550 nm under the conditions of 23 ° C. and 55% RH is 20 to 100 nm. It is preferable that the retardation Rth (550) in the thickness direction is 70 to 300 nm. When the retardation is in the above range, it is suitable as a retardation film such as a VA liquid crystal cell.

面内方向のリターデーション値Ro及び厚さ方向のリターデーション値Rthは、それぞれ以下の式で定義される。   The retardation value Ro in the in-plane direction and the retardation value Rth in the thickness direction are defined by the following equations, respectively.

式(I):Ro=(n−n)×d(nm)
式(II):Rth={(n+n)/2−n}×d(nm)
(式(I)及び(II)において、
は、フィルムの面内方向において屈折率が最大になる遅相軸方向xにおける屈折率を表し;
は、フィルムの面内方向において前記遅相軸方向xと直交する方向yにおける屈折率を表し;
は、フィルムの厚さ方向zにおける屈折率を表し;
d(nm)は、フィルムの厚さを表す)
リターデーション値Ro及びRthは、例えば以下の方法によって求めることができる。
Formula (I): Ro = (n x -n y) × d (nm)
Formula (II): Rth = {(n x + n y ) / 2−n z } × d (nm)
(In the formulas (I) and (II),
n x represents a refractive index in the slow axis direction x in which the refractive index is maximized in the plane direction of the film;
n y represents a refractive index in a direction y orthogonal to the slow axis direction x in the in-plane direction of the film;
nz represents the refractive index in the thickness direction z of the film;
d (nm) represents the thickness of the film)
The retardation values Ro and Rth can be obtained, for example, by the following method.

1)光学フィルムを、23℃・55%RHで調湿する。調湿後の光学フィルムの平均屈折率をアッベ屈折計などで測定する。   1) Condition the optical film at 23 ° C. and 55% RH. The average refractive index of the optical film after humidity adjustment is measured with an Abbe refractometer or the like.

2)調湿後の光学フィルムに、当該フィルム表面の法線に平行に測定波長550nmの光を入射させたときのRoを、KOBRA−21DH、王子計測機器(株)にて測定する。   2) Ro is measured with KOBRA-21DH, Oji Scientific Instruments Co., Ltd., when light having a measurement wavelength of 550 nm is incident on the optical film after humidity adjustment in parallel to the normal line of the film surface.

3)KOBRA−21ADHにより、光学フィルムの面内の遅相軸を傾斜軸(回転軸)として、当該フィルムの表面の法線に対してθの角度(入射角(θ))から測定波長550nmの光を入射させたときのリターデーション値R(θ)を測定する。リターデーション値R(θ)の測定は、θが0〜50°の範囲で、10°毎に6点行うことができる。面内遅相軸とは、フィルム面内のうち屈折率が最大となる軸をいい、KOBRA−21ADHにより確認することができる。   3) With KOBRA-21ADH, the slow axis in the plane of the optical film is set as the tilt axis (rotation axis), and the measurement wavelength is 550 nm from the angle θ (incident angle (θ)) with respect to the normal of the film surface. The retardation value R (θ) when light is incident is measured. The retardation value R (θ) can be measured at 6 points every 10 ° in the range of 0 to 50 °. The in-plane slow axis refers to an axis having the maximum refractive index in the film plane, and can be confirmed by KOBRA-21ADH.

4)測定されたRo及びR(θ)と、前述の平均屈折率と膜厚とから、KOBRA−21ADHにより、n、n及びnを算出して、測定波長550nmでのRthを算出する。リターデーションの測定は、23℃・55%RH条件下で行うことができる。 4) the measured Ro and R (theta), calculated from the average refractive index and film thickness of the above, the KOBRA-21ADH, n x, calculates the n y and n z, and Rth at a measurement wavelength of 550nm To do. The retardation can be measured under conditions of 23 ° C. and 55% RH.

リターデーション値は延伸倍率を変える等により調整することができる。   The retardation value can be adjusted by changing the draw ratio.

偏光板は、偏光子と本発明の光学フィルムとを接着剤を介して貼り合わせる工程と;貼り合わせた積層物を所定の大きさに裁断する工程とを経て得ることができる。貼り合わせに用いられる接着剤は、完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液(水糊)であってもよいし、活性エネルギー線硬化性接着剤を用いて行ってもよい。水糊を用いる場合は、シクロオレフィンフィルムをコロナ放電処理装置を用いてコロナ処理することが、接着性を向上させる上で好ましい。   The polarizing plate can be obtained through a step of bonding the polarizer and the optical film of the present invention through an adhesive; and a step of cutting the bonded laminate into a predetermined size. The adhesive used for the bonding may be a completely saponified polyvinyl alcohol aqueous solution (water glue) or an active energy ray-curable adhesive. When water paste is used, it is preferable to corona-treat the cycloolefin film using a corona discharge treatment apparatus in order to improve the adhesiveness.

《液晶表示装置》
液晶表示装置は、液晶セルと、それを挟持する一対の偏光板とを含む。
<Liquid crystal display device>
The liquid crystal display device includes a liquid crystal cell and a pair of polarizing plates that sandwich the liquid crystal cell.

図3は、液晶表示装置の基本的な構成の一例を示す模式図である。図3に示されるように、液晶表示装置100は、液晶セル30と、それを挟持する第一の偏光板50及び第二の偏光板70と、バックライト90とを含む。   FIG. 3 is a schematic diagram illustrating an example of a basic configuration of the liquid crystal display device. As shown in FIG. 3, the liquid crystal display device 100 includes a liquid crystal cell 30, a first polarizing plate 50 and a second polarizing plate 70 that sandwich the liquid crystal cell 30, and a backlight 90.

液晶セル30の表示モードは、例えばSTN、TN、OCB、HAN、VA(MVA、PVA)、IPS等の種々の表示モードであってよく、高いコントラストを得るためにはVA(MVA、PVA)モードであることが好ましい。   The display mode of the liquid crystal cell 30 may be various display modes such as STN, TN, OCB, HAN, VA (MVA, PVA), and IPS. For obtaining high contrast, the VA (MVA, PVA) mode is used. It is preferable that

第一の偏光板50は、第一の偏光子51と、第一の偏光子51の液晶セルとは反対側の面に配置された光学フィルム53(F1)と、第一の偏光子51の液晶セル側の面に配置された光学フィルム55(F2)とを含む。   The first polarizing plate 50 includes a first polarizer 51, an optical film 53 (F 1) disposed on the surface opposite to the liquid crystal cell of the first polarizer 51, and the first polarizer 51. And an optical film 55 (F2) disposed on the surface on the liquid crystal cell side.

第二の偏光板70は、第二の偏光子71と、第二の偏光子71の液晶セル側の面に配置された光学フィルム73(F3)と、第二の偏光子71の液晶セルとは反対側の面に配置された光学フィルム75(F4)とを含む。光学フィルム55(F2)と73(F3)の一方は、必要に応じて省略されうる。   The second polarizing plate 70 includes a second polarizer 71, an optical film 73 (F3) disposed on the surface of the second polarizer 71 on the liquid crystal cell side, and a liquid crystal cell of the second polarizer 71. Includes an optical film 75 (F4) disposed on the opposite surface. One of the optical films 55 (F2) and 73 (F3) may be omitted as necessary.

そして、光学フィルム53(F1)と75(F4)の少なくとも一方;好ましくは光学フィルム53(F1)が、本発明の光学フィルムでありうる。光学フィルム53(F1)は、基材フィルム53Aと、ハードコート層として活性エネルギー線硬化物層53Bとを有し、かつ基材フィルム53Aが第一の偏光子51と接している。光学フィルム53(F1)が本発明の光学フィルムである液晶表示装置は、表面の耐擦傷性が高いので、表示画面に傷を付きにくくしうる。   And at least one of the optical films 53 (F1) and 75 (F4); preferably the optical film 53 (F1) may be the optical film of the present invention. The optical film 53 (F1) has a base film 53A and an active energy ray cured product layer 53B as a hard coat layer, and the base film 53A is in contact with the first polarizer 51. Since the liquid crystal display device in which the optical film 53 (F1) is the optical film of the present invention has high surface scratch resistance, the display screen can be hardly damaged.

《有機エレクトロルミネッセンス表示装置》
有機エレクトロルミネッセンス表示装置においては、本発明の光学フィルムを具備することができる。
《Organic electroluminescence display device》
An organic electroluminescence display device can include the optical film of the present invention.

有機エレクトロルミネッセンス表示装置に適用可能な有機EL素子の概要については、例えば、特開2013−157634号公報、特開2013−168552号公報、特開2013−177361号公報、特開2013−187211号公報、特開2013−191644号公報、特開2013−191804号公報、特開2013−225678号公報、特開2013−235994号公報、特開2013−243234号公報、特開2013−243236号公報、特開2013−242366号公報、特開2013−243371号公報、特開2013−245179号公報、特開2014−003249号公報、特開2014−003299号公報、特開2014−013910号公報、特開2014−017493号公報、特開2014−017494号公報等に記載されている構成を挙げることができる。   For the outline of the organic EL element applicable to the organic electroluminescence display device, for example, JP2013-157634A, JP2013-168552A, JP2013-177361A, JP2013-187221A. JP, 2013-191644, JP, 2013-191804, JP, 2013-225678, JP, 2013-235994, JP, 2013-243234, JP, 2013-243236, special JP 2013-242366, JP 2013-243371, JP 2013-245179, JP 2014-003249, JP 2014-003299, JP 2014-013910, JP 2014. -014933, Special It can be exemplified configuration described in 2014-017494 Patent Publication.

本発明の光学フィルムは、液晶表示装置や有機EL表示装置としてだけでなく、タッチパネルを備えた画像表示装置や、やプラズマディスプレイ等の画像表示装置等の保護フィルムとしても好ましく用いることができる。   The optical film of the present invention can be preferably used not only as a liquid crystal display device or an organic EL display device but also as a protective film for an image display device provided with a touch panel, an image display device such as a plasma display.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」又は「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」又は「質量%」を表す。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, although the display of "part" or "%" is used in an Example, unless otherwise indicated, "mass part" or "mass%" is represented.

〔実施例1〕
以下の実施例で使用した化合物をその略号とともに示す。
低分子量化合物
L1:4−ヒドロキシスチレン
UV1:チヌビン928(BASFジャパン株式会社製)
L3:下記PE1のn=10、m=1の化合物
L4:下記PE2のn=45の化合物
L5:エチレングリコール
L6:メチルメタクリレート/アクリロイルモルフォリン(モル比8/2)の共重合体
紫外線吸収剤
UV1:チヌビン928(BASFジャパン株式会社製)
UV2:チヌビン109(BASFジャパン株式会社製)
UV3:チヌビン171(BASFジャパン株式会社製)
UV4:チヌビン405(BASFジャパン株式会社製)
フラノース構造又はピラノース構造を有する化合物
FP1:スクロースベンゾエート
FP2:アセチルスクロース
FP3:スクロースジアセテート(ヘキサブチレート)
なお、上記FP1〜3は、ヒドロキシ基を全てエステル化した糖エステルである。
ポリエステル系化合物

Figure 2016212146
樹脂(シクロオレフィン樹脂)
COP1:シクロオレフィン樹脂(ARTON G7810、JSR(株)製)
COP2:シクロオレフィン樹脂(ARTON RX4500、JSR(株)製)
COP3:シクロオレフィン樹脂(ARTON R5000、JSR(株)製)
シリカ粒子
A:下記製造例Aで調製した反応性無機微粒子A(平均一次粒径13nmのシリカ粒子)
B:下記製造例Bで調製した反応性無機微粒子B(平均一次粒径46nmのシリカ粒子)
C:下記製造例Cで調製した反応性無機微粒子C(平均一次粒径87nmのシリカ粒子)
D:平均粒径12nmのシリカ粒子(日産化学工業(株)製、スノーテックN)
〔シリカ粒子の調製〕
(反応性無機微粒子Aの調製)
(1)表面吸着イオン除去
水分散コロイダルシリカ(日産化学工業(株)製、スノーテックN、平均粒径12nm、pH9.0〜10.0)を、陽イオン交換樹脂(三菱化学(株)製、ダイヤイオンSK1B)500gを用いて3時間イオン交換を行った。次に、陰イオン交換樹脂(三菱化学(株)製、SA20A)300gを用いて3時間イオン交換を行った。その後、イオン交換水を用いて洗浄することで、固形分濃度20質量%のシリカ微粒子水分散体を得た。Na2O含有量は、5ppmであった。 [Example 1]
The compounds used in the following examples are shown with their abbreviations.
Low molecular weight compound L1: 4-hydroxystyrene UV1: Tinuvin 928 (manufactured by BASF Japan Ltd.)
L3: Compound of n = 10 and m = 1 of PE1 below L4: Compound of n = 45 of PE2 below L5: Ethylene glycol L6: Copolymer ultraviolet absorber of methyl methacrylate / acryloyl morpholine (molar ratio 8/2) UV1: Tinuvin 928 (manufactured by BASF Japan Ltd.)
UV2: Tinuvin 109 (manufactured by BASF Japan Ltd.)
UV3: Tinuvin 171 (manufactured by BASF Japan Ltd.)
UV4: Tinuvin 405 (manufactured by BASF Japan Ltd.)
Compound having furanose structure or pyranose structure FP1: Sucrose benzoate FP2: Acetyl sucrose FP3: Sucrose diacetate (hexabutyrate)
Note that FP1 to FP3 are sugar esters obtained by esterifying all hydroxy groups.
Polyester compound
Figure 2016212146
Resin (cycloolefin resin)
COP1: cycloolefin resin (ARTON G7810, manufactured by JSR Corporation)
COP2: cycloolefin resin (ARTON RX4500, manufactured by JSR Corporation)
COP3: cycloolefin resin (ARTON R5000, manufactured by JSR Corporation)
Silica particles A: Reactive inorganic fine particles A prepared in Production Example A below (silica particles having an average primary particle size of 13 nm)
B: Reactive inorganic fine particles B prepared in the following Production Example B (silica particles having an average primary particle size of 46 nm)
C: Reactive inorganic fine particles C prepared in the following Production Example C (silica particles having an average primary particle size of 87 nm)
D: Silica particles with an average particle size of 12 nm (Nissan Chemical Industry Co., Ltd., Snowtech N)
(Preparation of silica particles)
(Preparation of reactive inorganic fine particles A)
(1) Surface adsorbed ion removal Water-dispersed colloidal silica (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., Snowtech N, average particle size 12 nm, pH 9.0-10.0) was converted to cation exchange resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation). Ion exchange was performed using 500 g of Diaion SK1B) for 3 hours. Next, ion exchange was performed for 3 hours using 300 g of an anion exchange resin (SA20A, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation). Then, the silica fine particle water dispersion with a solid content concentration of 20 mass% was obtained by washing with ion exchange water. The Na2O content was 5 ppm.

(2)表面処理(モノマーの導入)
上記(1)の処理を行った無機微粒子の水分散体20gに300mlのイソプロパノール、4.0gの3,6,9−トリオキサデカン酸、及び4.0gのメタクリル酸を加えて、1時間撹拌した。得られた混合液を60℃で6時間加熱しながら撹拌することで、無機微粒子にメタクリロイル基が導入された無機微粒子分散体を得た。得られた無機微粒子分散体をロータリーエバポレーターを用いて蒸留水、及びイソプロパノール、メタクリル酸を留去させ、乾固させないようにメチルエチルケトンを加え、表面処理で使用されたメタクリル酸と同量(100%)を加えて、固形分50質量%のシリカ分散メチルエチルケトン溶液を得た。残留する水やイソプロパノールは0.1質量%以下とした。得られた反応性無機微粒子Aは、粒度分析計(日機装(株)製 Microtrac)により測定し、平均一次粒径は、d55=13nmであった。
(2) Surface treatment (introduction of monomer)
300 ml of isopropanol, 4.0 g of 3,6,9-trioxadecanoic acid, and 4.0 g of methacrylic acid are added to 20 g of the aqueous dispersion of inorganic fine particles subjected to the treatment of (1) above and stirred for 1 hour. did. The obtained mixed liquid was stirred while heating at 60 ° C. for 6 hours to obtain an inorganic fine particle dispersion in which methacryloyl groups were introduced into the inorganic fine particles. Distilled water, isopropanol and methacrylic acid are distilled off from the resulting inorganic fine particle dispersion using a rotary evaporator, methyl ethyl ketone is added so as not to dry, and the same amount as methacrylic acid used in the surface treatment (100%) Was added to obtain a silica-dispersed methyl ethyl ketone solution having a solid content of 50% by mass. Residual water and isopropanol were made 0.1 mass% or less. The obtained reactive inorganic fine particles A were measured with a particle size analyzer (Microtrac manufactured by Nikkiso Co., Ltd.), and the average primary particle size was d 55 = 13 nm.

(反応性無機微粒子Bの調製)
(1)表面吸着イオン除去
水分散コロイダルシリカ(日産化学工業(株)製、スノーテックOL、平均一次粒径44nm、pH2.0〜4.0)を用いて、製造例1と同様に表面吸着イオンを除去した無機微粒子の水分散液を得た。
(Preparation of reactive inorganic fine particles B)
(1) Surface adsorbed ion removal Surface adsorbed in the same manner as in Production Example 1 using water-dispersed colloidal silica (Nissan Chemical Industry Co., Ltd., Snowtech OL, average primary particle size 44 nm, pH 2.0 to 4.0). An aqueous dispersion of inorganic fine particles from which ions were removed was obtained.

(2)表面処理(モノマーの導入)
製造例1において、メタクリル酸をジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー(株)製、SR399)に変更して、製造例1と同様の手法で表面処理を行った。後添加したジペンタエリスリトールペンタアクリレートは、50%とした。
(2) Surface treatment (introduction of monomer)
In Production Example 1, methacrylic acid was changed to dipentaerythritol pentaacrylate (manufactured by Sartomer Co., Ltd., SR399), and surface treatment was performed in the same manner as in Production Example 1. Post-added dipentaerythritol pentaacrylate was 50%.

得られた反応性無機微粒子Bは、上記粒度分析計により測定した結果、d55=46nmの平均一次粒径であった。 As a result of measuring the obtained reactive inorganic fine particle B with the particle size analyzer, the average primary particle size of d 55 = 46 nm was obtained.

(反応性無機微粒子Cの調製)
水分散コロイダルシリカ(日産化学工業(株)製、スノーテックZL、平均粒径85nm、pH9.0〜10.0)をロータリーエバポレーターを用いて水からメチルイソブチルケトンに溶媒置換を行い、シリカ微粒子20質量%の分散液を得た。このメチルイソブチルケトン分散液100質量部に3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシランを20質量部添加し、50℃で1時間加熱処理した。エバポレーターを用いてメチルイソブチルケトン、及び3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシランを留去させ、乾固させないようにメチルエチルケトンをすることにより、表面処理された固形分150質量%のメチルイソブチルケトン分散液Cを得た。
(Preparation of reactive inorganic fine particles C)
Water-dispersed colloidal silica (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., Snow Tech ZL, average particle size 85 nm, pH 9.0-10.0) was subjected to solvent substitution from water to methyl isobutyl ketone using a rotary evaporator to obtain silica fine particles 20 A mass% dispersion was obtained. 20 parts by mass of 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane was added to 100 parts by mass of this methyl isobutyl ketone dispersion, followed by heat treatment at 50 ° C. for 1 hour. Methyl isobutyl ketone and 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane are distilled off by using an evaporator, and methyl ethyl ketone is distilled off so as not to dry, so that a surface-treated methyl isobutyl ketone dispersion C having a solid content of 150% by mass is obtained. Obtained.

得られた反応性無機微粒子Cは、上記粒度分析計により測定した結果、d55=87nmの平均一次粒径であった。 The obtained reactive inorganic fine particles C were measured by the particle size analyzer and found to have an average primary particle size of d 55 = 87 nm.

〔ハードコート層塗布液〕
(ハードコート層塗布液1(HC1))の調製)
下記組成のハードコート層塗布液1を調製した。紫外線硬化型樹脂と界面活性剤とプロピレングリコールモノメチルエーテルを混合した後、当該混合液を30分間撹拌し、ハードコート層塗布液1を調製した。
[Hard coat layer coating solution]
(Preparation of hard coat layer coating solution 1 (HC1))
A hard coat layer coating solution 1 having the following composition was prepared. After mixing an ultraviolet curable resin, a surfactant, and propylene glycol monomethyl ether, the mixed solution was stirred for 30 minutes to prepare a hard coat layer coating solution 1.

紫外線硬化型樹脂(A−DPH、新中村化学製) 60質量部
界面活性剤(サーフロンS−651、AGCセイミケミカル社製) 0.1質量部
シリカ粒子A(メチルエチルケトン40%分散品) 100質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME) 40質量部
《光学フィルム1の作製》
〔主ドープの調製〕
下記組成の主ドープを調製した。まず加圧溶解タンクにジクロロメタンとエタノールを添加した。ジクロロメタンとエタノールの混合溶液の入った加圧溶解タンクにシクロオレフィン樹脂を撹拌しながら投入した。これを加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し。これを安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を使用してろ過し、主ドープを調製した。
UV curable resin (A-DPH, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 60 parts by mass Surfactant (Surflon S-651, manufactured by AGC Seimi Chemical Co., Ltd.) 0.1 part by mass Silica particles A (40% methyl ethyl ketone dispersion) 100 parts by mass 40 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether (PGME) << Preparation of optical film 1 >>
[Preparation of main dope]
A main dope having the following composition was prepared. First, dichloromethane and ethanol were added to the pressure dissolution tank. The cycloolefin resin was added to a pressure dissolution tank containing a mixed solution of dichloromethane and ethanol with stirring. This is completely dissolved with heating and stirring. This was designated as Azumi Filter Paper No. The main dope was prepared by filtration using 244.

(主ドープ)
COP1 100質量部
ジクロロメタン 200質量部
エタノール 10質量部
以上の成分を密閉容器に投入し、撹拌しながら溶解して主ドープを調製した。次いで、無端ベルト流延装置を用い、ドープを温度31℃、1800mm幅でステンレスベルト基体上に均一に流延した。ステンレスベルトの温度は28℃に制御した。
(Main dope)
COP1 100 parts by mass Dichloromethane 200 parts by mass Ethanol 10 parts by mass The above components were put into a sealed container and dissolved while stirring to prepare a main dope. Next, using an endless belt casting apparatus, the dope was uniformly cast on a stainless steel belt substrate at a temperature of 31 ° C. and a width of 1800 mm. The temperature of the stainless steel belt was controlled at 28 ° C.

ステンレスベルト基体上で、流延(キャスト)したフィルム中の残留溶剤量が30%になるまで溶剤を蒸発させた。次いで、剥離張力128N/mで、ステンレスベルト基体上から剥離した。剥離したフィルム原反を、延伸開始時の残留溶剤は5質量%であった。次いで、乾燥ゾーンを多数のローラーで搬送させながら乾燥を終了させ、テンタークリップで挟んだ端部をレーザーカッターでスリットし、その後、巻き取り、厚さ30μmの樹脂フィルム1を作製した。   On the stainless steel belt substrate, the solvent was evaporated until the residual solvent amount in the cast (cast) film was 30%. Subsequently, it peeled from the stainless steel belt base | substrate with peeling tension 128N / m. The residual film at the start of stretching of the peeled film original was 5% by mass. Next, drying was completed while transporting the drying zone with a large number of rollers, the ends sandwiched between tenter clips were slit with a laser cutter, and then wound up to prepare a resin film 1 having a thickness of 30 μm.

上記で得られた樹脂フィルム1の片面に、マイクログラビアを用いてハードコート層塗布液1を、ドライ膜厚5μmになるように塗布し、乾燥した。   The hard coat layer coating solution 1 was applied to one side of the resin film 1 obtained above using a micro gravure so as to have a dry film thickness of 5 μm and dried.

次いで、高圧水銀ランプを使用して、大気下で当該塗膜に光量270mJ/cmで紫外線照射して硬化し、樹脂フィルム1にハードコート層が形成された光学フィルム1を作製した。 Next, using a high-pressure mercury lamp, the coating film was cured by irradiation with ultraviolet light at a light amount of 270 mJ / cm 2 in the atmosphere to produce an optical film 1 in which a hard coat layer was formed on the resin film 1.

《光学フィルム2の作製》
光学フィルム1の作製において主ドープを以下のように変えた他は、光学フィルム1の作製と同様にして樹脂フィルム2及び光学フィルム2を作製した。
<< Preparation of optical film 2 >>
A resin film 2 and an optical film 2 were produced in the same manner as in the production of the optical film 1 except that the main dope was changed as follows in the production of the optical film 1.

(主ドープ)
COP1 100質量部
ジクロロメタン 200質量部
L1 5質量部
エタノール 10質量部
その他は光学フィルム1の作製と同様にして樹脂フィルム2及び光学フィルム2を作製した。
(Main dope)
COP1 100 parts by mass Dichloromethane 200 parts by mass L1 5 parts by mass Ethanol 10 parts by mass The resin film 2 and the optical film 2 were produced in the same manner as in the production of the optical film 1.

《光学フィルム3〜40の作製》
光学フィルム2の作製において、主ドープに含まれるシクロオレフィン系樹脂(表1、2では樹脂と略記した。)の種類、添加剤の種類とその量、及びハードコート層中のシリカ粒子と紫外線硬化樹脂(UV樹脂)の比率、シリカ粒子の種類、ハードコート層塗布液に用いた溶媒、ハードコート層の厚さを表1及び表2のように変えて、光学フィルム2の作製と同様にして樹脂フィルム3〜40及び光学フィルム3〜40を作製した。なお、ハードコート層塗布液に用いた溶媒は100質量部となるように調製した。
<< Preparation of optical films 3-40 >>
In the production of the optical film 2, the type of cycloolefin resin (abbreviated as “resin” in Tables 1 and 2) contained in the main dope, the type and amount of additives, and silica particles in the hard coat layer and UV curing The ratio of the resin (UV resin), the type of silica particles, the solvent used in the hard coat layer coating solution, and the thickness of the hard coat layer were changed as shown in Tables 1 and 2, and the same as the production of the optical film 2 Resin films 3 to 40 and optical films 3 to 40 were produced. The solvent used for the hard coat layer coating solution was prepared to be 100 parts by mass.

《光学フィルムの評価》
作製した光学フィルム1〜40に対して、鉛筆硬度、耐傷性、ヘイズ及び乾燥ムラの評価を行った。
<< Evaluation of optical film >>
The produced optical films 1 to 40 were evaluated for pencil hardness, scratch resistance, haze, and drying unevenness.

〈鉛筆硬度〉
JIS K 5600の規格(引っかき硬度(鉛筆法))に従って実施した。鉛筆を45度の角度として、750gの荷重をかけて、各ハードコートフィルム試料表面の引っ掻き試験を行った。「H」以上であれば実用に供することができる。
<Pencil hardness>
It was carried out according to the standard of JIS K 5600 (scratch hardness (pencil method)). A scratch test was performed on the surface of each hard coat film sample with a pencil of 45 degrees and a load of 750 g. If it is “H” or more, it can be put to practical use.

〈耐傷性〉
以下の条件でこすりテストを行うことで、耐傷性を評価した。23℃・55%RHの環境下ハードコート層表面を500g/cmの荷重を掛けたスチールウール(日本スチールウール(株)製、#0000)で10往復させて、傷の発生有無を目視にて観察し、以下のランク付けを行い評価した。○以上であれば実用に供することができる。
◎:1本未満の傷
○:2本以上4本未満の傷
△:5本以上8本未満の傷
×:8本以上の傷
〈ヘイズ〉
JIS K 7165に従って実施した。サンプルをD65光源を用いてヘイズメーター(商品名NDH2000、日本電色工業株式会社製)にて測定し、以下のランク付けを行い評価した。○以上であれば実用に供することができる。
◎:0.2%未満
○:0.2%以上0.5%未満
△:0.5%以上1.0%未満
×:1.0%以上
〈乾燥ムラ〉
光学フィルムの表面を観察してムラを以下のようにして評価した。粘着剤付の黒PETフィルムを光学フィルムの裏面に貼付け、蛍光灯の下で目視評価により評価した。その結果を以下のようにランク付けを行い評価した。
◎:注意深く見てもムラは見えない
○:注意深く見るとムラが部分的に認められる
△:弱いムラがある
×:ムラが認められる
以上の結果を表1及び表2に示す。
<Scratch resistance>
The scratch resistance was evaluated by conducting a rubbing test under the following conditions. The surface of the hard coat layer in an environment of 23 ° C. and 55% RH was reciprocated 10 times with steel wool applied with a load of 500 g / cm 2 (# 0000, manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd.), and the presence or absence of scratches was visually observed. The following ranking was performed and evaluated. O If it is more than, it can use for practical use.
◎: Less than 1 scratch ○: 2 or more and less than 4 scratches △: 5 or more and less than 8 scratches ×: 8 or more scratches <Haze>
It carried out according to JIS K 7165. Samples were measured with a haze meter (trade name NDH2000, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.) using a D65 light source, and the following ranking was performed for evaluation. O If it is more than, it can use for practical use.
A: Less than 0.2% B: 0.2% or more and less than 0.5% Δ: 0.5% or more and less than 1.0% x: 1.0% or more <Drying unevenness>
The surface of the optical film was observed and unevenness was evaluated as follows. A black PET film with an adhesive was attached to the back surface of the optical film and evaluated by visual evaluation under a fluorescent lamp. The results were ranked and evaluated as follows.
A: Unevenness is not seen even when viewed carefully. O: Unevenness is partially recognized when carefully viewed. Δ: There is weak unevenness. X: Unevenness is observed Tables 1 and 2 show the above results.

なお表中、IPAはイソプロパノール、酢エチは酢酸エチルを表す。また、分子量の欄は、低分子量化合物の重量平均分子量を表し、低分子量化合物が、重合物でない場合は、化合物の分子量を記載した。   In the table, IPA represents isopropanol and ethyl acetate represents ethyl acetate. The column of molecular weight represents the weight average molecular weight of the low molecular weight compound, and when the low molecular weight compound is not a polymer, the molecular weight of the compound is described.

Figure 2016212146
Figure 2016212146

Figure 2016212146
Figure 2016212146

表1及び表2から本発明の光学フィルムは、表面硬度が高く耐傷性に優れヘイズが低いことがわかる。また、2種の溶剤を用いて調製した塗布液を塗布する工程を経てハードコート層を形成した場合乾燥ムラが良いことがわかる。   Tables 1 and 2 show that the optical film of the present invention has high surface hardness, excellent scratch resistance, and low haze. Moreover, when a hard-coat layer is formed through the process of apply | coating the coating liquid prepared using 2 types of solvents, it turns out that drying unevenness is good.

〔実施例2〕
《光学フィルム101の作製》
光学フィルムフィルム12の作製において、フィルム原反を剥離後、剥離したフィルム原反を、160℃の条件下で幅方向に40%一軸延伸した。その他は偏光板保護フィルム12の作製と同様にして樹脂フィルム101及び光学フィルム101を作製した。
[Example 2]
<< Production of Optical Film 101 >>
In production of the optical film film 12, after peeling off the film original fabric, the peeled film original fabric was uniaxially stretched 40% in the width direction at 160 ° C. Otherwise, the resin film 101 and the optical film 101 were produced in the same manner as the production of the polarizing plate protective film 12.

《光学フィルム102の作製》
光学フィルム12の作製において、フィルム原反を剥離後、剥離したフィルム原反を、160℃の条件下で図2(A)に示したテンターを用いて、延伸の方向を長手方向に対して45度の方向で60%斜め延伸した。その他は偏光板保護フィルム11の作製と同様にして樹脂フィルム102及び光学フィルム102を作製した。
<< Production of Optical Film 102 >>
In the production of the optical film 12, after peeling the film original fabric, the peeled film original fabric is stretched at a temperature of 160 ° C. using the tenter shown in FIG. The film was obliquely stretched 60% in the direction of the degree. Otherwise, the resin film 102 and the optical film 102 were produced in the same manner as the production of the polarizing plate protective film 11.

《光学フィルム12、101、102の評価》
(リターデーションの測定)
作製した光学フィルム101、102及び実施例1で作製した光学フィルム12について、エリプソメーター(M−150、日本分光(株)製)を用いて、それぞれ波長550nmにおける面内方向のリターデーション値Roと厚さ方向のリターデーション値Rthを測定した。各々の測定は幅方向10点で行い平均値を求めた。
<< Evaluation of optical films 12, 101, 102 >>
(Measurement of retardation)
About the produced optical films 101 and 102 and the optical film 12 produced in Example 1, using an ellipsometer (M-150, manufactured by JASCO Corporation), the retardation value Ro in the in-plane direction at a wavelength of 550 nm, respectively. The retardation value Rth in the thickness direction was measured. Each measurement was performed at 10 points in the width direction, and an average value was obtained.

また、実施例1の同様にして、作製した光学フィルム101、102及び12を、実施例1と同様な方法、及び同じ評価基準で、鉛筆硬度、耐傷性、ヘイズ及び乾燥ムラの評価を行った。
結果を表3に示す。
Also, the optical films 101, 102, and 12 produced in the same manner as in Example 1 were evaluated for pencil hardness, scratch resistance, haze, and drying unevenness using the same method and the same evaluation criteria as in Example 1. .
The results are shown in Table 3.

Figure 2016212146
Figure 2016212146

表3より、本発明の光学フィルムは、表面硬度が高く耐傷性に優れヘイズが低いことがわかる。また、光学フィルム101、102は位相差フィルムとして液晶表示装置、有機EL表示装置に有用であることが分かる。   From Table 3, it can be seen that the optical film of the present invention has high surface hardness, excellent scratch resistance, and low haze. Moreover, it turns out that the optical films 101 and 102 are useful for a liquid crystal display device and an organic EL display device as a retardation film.

1 光学フィルム
2 樹脂層
3 ハードコート層
4 長尺フィルム原反
5 延伸フィルム
6 斜め延伸テンター
7−1 外側のフィルム把持手段の軌跡
7−2 内側のフィルム把持手段の軌跡
8−1 外側のフィルム把持開始点
8−2 内側のフィルム把持開始点
9−1 外側のフィルム把持終了点
9−2 内側のフィルム把持終了点
10−1 外側斜め延伸開始点
10−2 内側斜め延伸開始点
11−1 外側斜め延伸終了点
11−2 内側斜め延伸終了点
11−3 外側横延伸ゾーン終点
12−1 テンター入口側のガイドロール
12−2 テンター出口側のガイドロール
13 フィルムの延伸方向
14−1 斜め延伸前のフィルムの搬送方向
14−2 斜め延伸後のフィルムの搬送方向
15 左右把持具同士の搬送速度が異なる部分
W0 斜め延伸前のフィルム幅手長さ
W 斜め延伸後のフィルム幅手長さ
30 液晶セル
50 第一の偏光板
51 第一の偏光子
53 保護フィルム(F1)
55 保護フィルム(F2)
70 第二の偏光板
71 第二の偏光子
73 保護フィルム(F3)
75 保護フィルム(F4)
90 バックライト
100 液晶表示装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Optical film 2 Resin layer 3 Hard coat layer 4 Long film original fabric 5 Stretched film 6 Diagonal stretch tenter 7-1 Trajectory of outer film gripping means 7-2 Trajectory of inner film gripping means 8-1 Outer film gripping Start point 8-2 Inner film grip start point 9-1 Outer film grip end point 9-2 Inner film grip end point 10-1 Outer oblique stretching start point 10-2 Inner oblique stretching start point 11-1 Outer oblique Stretching end point 11-2 Inner diagonal stretching end point 11-3 Outer lateral stretching zone end point 12-1 Guide roll on the tenter inlet side 12-2 Guide roll on the tenter outlet side 13 Film stretching direction 14-1 Film before diagonal stretching 14-2 Conveying direction of film after oblique stretching 15 Portion where conveyance speeds of left and right gripping tools are different W0 Before oblique stretching Irumu the width length W film width hands after oblique stretching length 30 liquid crystal cell 50 first polarizer 51 first polarizer 53 protective film (F1)
55 Protective film (F2)
70 Second polarizing plate 71 Second polarizer 73 Protective film (F3)
75 Protective film (F4)
90 Backlight 100 Liquid crystal display device

Claims (9)

シクロオレフィン系樹脂を含有する樹脂層の上にハードコート層を有する光学フィルムであって、前記樹脂層が、重量平均分子量Mwが100〜10000の範囲内の低分子量化合物を前記シクロオレフィン系樹脂に対して0.1〜5.0質量%の範囲内で含有し、かつ前記ハードコート層が、紫外線硬化樹脂とシリカ粒子とを含有することを特徴とする光学フィルム。   An optical film having a hard coat layer on a resin layer containing a cycloolefin resin, wherein the resin layer is a low molecular weight compound having a weight average molecular weight Mw in the range of 100 to 10,000. On the other hand, the optical film is contained within a range of 0.1 to 5.0% by mass, and the hard coat layer contains an ultraviolet curable resin and silica particles. 前記樹脂層に含まれる前記低分子量化合物が、紫外線吸収剤であることを特徴とする請求項1に記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 1, wherein the low molecular weight compound contained in the resin layer is an ultraviolet absorber. 前記ハードコート層中に含まれる、前記シリカ粒子の前記紫外線硬化樹脂に対する質量比の値(シリカ粒子/紫外線硬化樹脂)が、10/90〜50/50の範囲内であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の光学フィルム。   The mass ratio value of the silica particles to the ultraviolet curable resin (silica particles / ultraviolet curable resin) contained in the hard coat layer is in the range of 10/90 to 50/50. Item 3. The optical film according to Item 1 or Item 2. 前記シリカ粒子の平均一次粒径が、200nm以下であることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載の光学フィルム。   The average primary particle diameter of the silica particles is 200 nm or less, and the optical film according to any one of claims 1 to 3. 前記ハードコート層の厚さが、2〜15μmの範囲内であることを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれか一項に記載の光学フィルム。   The thickness of the said hard-coat layer exists in the range of 2-15 micrometers, The optical film as described in any one of Claim 1- Claim 4 characterized by the above-mentioned. 23℃・55%RHの環境下、光波長550nmにおける面内方向のリターデーション値(Ro(550))が、下記式(1)を満たすことを特徴とする請求項1から請求項5までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
式(1):100nm≦Ro(550)≦170nm
The retardation value (Ro (550)) in the in-plane direction at an optical wavelength of 550 nm in an environment of 23 ° C. and 55% RH satisfies the following formula (1): The optical film as described in any one.
Formula (1): 100 nm ≦ Ro (550) ≦ 170 nm
シクロオレフィン系樹脂を含有する樹脂層の上にハードコート層を有する光学フィルムを製造する製造方法であって、前記樹脂層が、重量平均分子量Mwが100〜10000の範囲内の低分子量化合物を前記シクロオレフィン系樹脂に対して0.1〜5.0質量%の範囲内で含有し、前記ハードコート層が紫外線硬化樹脂とシリカ粒子とを含有し、かつ、前記紫外線硬化樹脂と前記シリカ粒子を含有する塗布液の溶剤としてアルコール、エステル、エーテル又はケトンのうちの少なくとも2種の溶剤を用いて調製した塗布液を塗布する工程を経てハードコート層を形成することを特徴とする光学フィルムの製造方法。   A production method for producing an optical film having a hard coat layer on a resin layer containing a cycloolefin resin, wherein the resin layer contains a low molecular weight compound having a weight average molecular weight Mw in the range of 100 to 10,000. It contains in the range of 0.1-5.0 mass% with respect to cycloolefin type resin, the said hard-coat layer contains a ultraviolet curable resin and a silica particle, and the said ultraviolet curable resin and the said silica particle are included. Production of an optical film characterized by forming a hard coat layer through a step of applying a coating solution prepared using at least two solvents of alcohol, ester, ether or ketone as a solvent for the coating solution to be contained Method. シクロオレフィン系樹脂を含有する樹脂層の上にハードコート層を有する光学フィルムを製造する製造方法であって、前記樹脂層が、重量平均分子量Mwが100〜10000の範囲内の低分子量化合物を前記シクロオレフィン系樹脂に対して0.1〜5.0質量%の範囲内で含有し、前記ハードコート層が紫外線硬化樹脂とシリカ粒子とを含有し、かつ、前記シクロオレフィン系樹脂を含有する樹脂を溶解した溶液を基体上に流延する工程を経て製膜し、前記樹脂層を形成することを特徴とする光学フィルムの製造方法。   A production method for producing an optical film having a hard coat layer on a resin layer containing a cycloolefin resin, wherein the resin layer contains a low molecular weight compound having a weight average molecular weight Mw in the range of 100 to 10,000. Resin which contains in the range of 0.1-5.0 mass% with respect to cycloolefin type resin, the said hard-coat layer contains ultraviolet curing resin and a silica particle, and contains the said cycloolefin type resin A method for producing an optical film, wherein the resin layer is formed by casting a solution in which the solution is dissolved on a substrate to form a film. 前記製膜後に巻き取られたフィルム原反を巻き出して、斜め方向に延伸する工程を経て、前記樹脂層を形成することを特徴とする請求項8に記載の光学フィルムの製造方法。   The method for producing an optical film according to claim 8, wherein the resin layer is formed through a step of unwinding the original film wound after the film formation and stretching the film in an oblique direction.
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