JP2019119795A - Resin composition used for flux for solder, and flux for solder - Google Patents

Resin composition used for flux for solder, and flux for solder Download PDF

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Abstract

To provide a resin composition capable of suppressing cracks of a residue and a flux for solder.SOLUTION: A resin composition contains one of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimer triamine, or 2 more kinds of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimer triamine and rosin, and a ratio of rosin amount and amount of one of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimer triamine or total amount of 2 or more kinds of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimer triamine is 0.35 to 1.00 based on rosin. A flux for solder is one by diluting the resin composition with a solvent.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、樹脂組成物及びこの樹脂組成物を用いたはんだ付け用フラックスに関する。   The present invention relates to a resin composition and a flux for soldering using the resin composition.

一般的に、はんだ付けに用いられるフラックスは、はんだ及びはんだ付けの対象となる接合対象物の金属表面に存在する金属酸化物を化学的に除去し、両者の境界で金属元素の移動を可能にする効能を持つ。このため、フラックスを使用してはんだ付けを行うことで、はんだと接合対象物の金属表面との間に金属間化合物が形成できるようになり、強固な接合が得られる。   In general, the flux used for soldering chemically removes the metal oxides present on the metal surface of the soldering object to be soldered and allows the movement of metal elements at the boundary between the two. Have the effect of For this reason, by soldering using a flux, an intermetallic compound can be formed between the solder and the metal surface of the bonding object, and a strong bonding can be obtained.

ロジン等の樹脂を含むフラックスでは、はんだ付け後にロジンを主とした残渣が残存する。しかし、ロジンを主とした残渣はひび割れが発生しやすい。残渣にひび割れがあると、時間の経過に伴う吸湿の影響で水分が吸着されやすくなる。これにより、マイグレーション等の信頼性低下が発生するため、ひび割れが発生している残渣は好ましくない。このため、ロジンに含まれるアビエチン酸型樹脂酸の含有率を調整して、ひび割れの目視検査の視認性を確保できるようにしたはんだ付け用フラックスが提案されている(例えば、特許文献1参照)。   In a flux containing a resin such as rosin, a residue mainly composed of rosin remains after soldering. However, residues mainly containing rosin are susceptible to cracking. If the residue is cracked, moisture is likely to be adsorbed due to the influence of moisture absorption over time. Since this causes a decrease in reliability such as migration, the residue in which a crack is generated is not preferable. Therefore, a soldering flux has been proposed in which the content of the abietic acid type resin acid contained in the rosin is adjusted to ensure the visibility of the visual inspection of the crack (for example, see Patent Document 1). .

特開2013−163221号公報JP, 2013-163221, A

しかし、アビエチン酸型樹脂酸の含有率を低下させるようにロジンを調製するには、コストが掛かり、簡便な手法で残渣のひび割れを抑制できるようにすることが望まれる。   However, in order to prepare rosin so as to reduce the content of abietic acid type resin acid, it is costly and it is desirable to be able to suppress cracking of the residue by a simple method.

本発明は、このような課題を解決するためなされたもので、残渣のひび割れを抑制できるようにした樹脂組成物及びはんだ付け用フラックスを提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve such problems, and an object of the present invention is to provide a resin composition and a flux for soldering, which can suppress cracking of the residue.

ダイマー酸を変性させた反応物であるダイマージアミン、トリマー酸を変性させた反応物であるトリマートリアミンは、ロジンに柔軟性を持たせて残渣のひび割れを抑制できることを見出した。   It has been found that dimer diamine which is a reaction product obtained by modifying dimer acid and trimer triamine which is a reaction product obtained by modifying trimer acid can make rosin flexible and suppress cracking of the residue.

そこで、本発明は、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミンまたは水添トリマートリアミンのいずれか、あるいは、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの2種以上とロジンとを含み、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミンまたは水添トリマートリアミンのいずれかの量、あるいは、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの2種以上の合計の量と、ロジンの量の比率が。ロジンを基準として0.35以上1.00以下である樹脂組成物である。   Therefore, in the present invention, one or more of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimmer triamine, or dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine, and rosin The amount of any of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimer triamine, or the total amount of two or more of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine; The ratio of the amount of rosin. It is a resin composition which is 0.35 or more and 1.00 or less based on rosin.

ダイマージアミンは、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であり、トリマートリアミンは、オレイン酸とリノール酸の反応物であるトリマー酸を変性させた反応物であることが好ましい。   The dimer diamine is a reaction product obtained by modifying dimer acid which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid, and the trimer triamine is a reaction product obtained by modifying trimer acid which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid. Is preferred.

また、本発明は、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミンまたは水添トリマートリアミンのいずれか、あるいは、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの2種以上とロジンと溶剤とを含み、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミンまたは水添トリマートリアミンのいずれかの量、あるいは、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの2種以上の合計の量と、ロジンの量の比率が、ロジンを基準として0.35以上1.00以下であるはんだ付け用フラックスである。   In the present invention, any of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimer triamine, or two or more of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine, rosin and solvent And any amount of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimmer triamine, or total amount of two or more of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimmer triamine And the ratio of the amount of rosin is a soldering flux having a ratio of 0.35 or more and 1.00 or less based on rosin.

ダイマージアミンは、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であり、トリマートリアミンは、オレイン酸とリノール酸の反応物であるトリマー酸を変性させた反応物であることが好ましい。   The dimer diamine is a reaction product obtained by modifying dimer acid which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid, and the trimer triamine is a reaction product obtained by modifying trimer acid which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid. Is preferred.

また、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミンまたは水添トリマートリアミンのいずれか、あるいは、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの2種以上を、合計で3.5wt%以上10.0wt%以下含むことが好ましい。   In addition, any of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimer triamine, or dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine in total of 3.5 wt% It is preferable to contain 10.0 wt% or less.

更に、ロジンを5.0wt%以上10.0wt%以下、溶剤を70.0wt%以上91.5wt%以下含むことが好ましい。また、活性剤としてさらに有機酸を0wt%以上5.0wt%以下、有機ハロゲン化合物を0wt%以上1.0wt%以下、アミンハロゲン化水素酸塩を0wt%以上1.0wt%以下含むことが好ましく、活性剤としてさらに他のアミンを0wt%以上1.0wt%以下含むことが好ましい。   Furthermore, it is preferable to contain 5.0 wt% or more and 10.0 wt% or less of rosin and 70.0 wt% or more and 91.5 wt% or less of a solvent. In addition, it is preferable to further contain 0 wt% to 5.0 wt% of an organic acid, 0 wt% to 1.0 wt% of an organic halogen compound, and 0 wt% to 1.0 wt% of an amine hydrohalide as an activator. It is preferable to further include 0 wt% or more and 1.0 wt% or less of another amine as an activator.

本発明の樹脂組成物は、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミンまたは水添トリマートリアミンのいずれか、あるいは、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの2種以上とロジンとを含み、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミンまたは水添トリマートリアミンのいずれかの量、あるいは、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの2種以上の合計の量と、ロジンの量の比率が、ロジンを基準として0.35以上1.00以下である。   The resin composition of the present invention comprises either a dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimmer triamine, or a dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine and rosin And any amount of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimmer triamine, or total amount of two or more of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimmer triamine The ratio of the amount of rosin is 0.35 or more and 1.00 or less based on rosin.

本発明のはんだ付け用フラックスは、本発明の樹脂組成物が溶剤で希釈されたもので、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミンまたは水添トリマートリアミンのいずれか、あるいは、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの2種以上とロジンと溶剤とを含み、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミンまたは水添トリマートリアミンのいずれかの量、あるいは、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの2種以上の合計の量と、ロジンの量の比率が、ロジンを基準として0.35以上1.00以下であることで、析出を抑制することができ、また、はんだ付け後の残渣のひび割れを抑制することができる。   The soldering flux of the present invention is obtained by diluting the resin composition of the present invention with a solvent, and any one of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimer triamine, or dimer diamine, trimer triamine Or hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimer triamine, rosin and a solvent, wherein any amount of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimer triamine, or dimer diamine, trimer triamine The ratio of the total amount of two or more of hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimmer triamine to the amount of rosin is 0.35 or more and 1.00 or less based on rosin, thereby suppressing precipitation. Can also suppress cracking of residue after soldering Rukoto can.

<本実施の形態の樹脂組成物及びはんだ付け用フラックスの一例>
本実施の形態の樹脂組成物は、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミンまたは水添トリマートリアミンのいずれか、あるいは、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの2種以上とロジンとを含む。
<Example of resin composition and flux for soldering of the present embodiment>
The resin composition of the present embodiment is any one of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimmer triamine, or two or more of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine. And rosin.

樹脂組成物は、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミンまたは水添トリマートリアミンのいずれかの量、あるいは、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの2種以上の合計の量と、ロジンの量の比率が、ロジンを基準として0.35以上1.00以下である。   The resin composition may be any of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimmer triamine, or a total of two or more of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine. The ratio of the amount to the amount of rosin is 0.35 or more and 1.00 or less based on rosin.

本実施の形態のはんだ付け用フラックスは、この樹脂組成物を溶剤で希釈したものであり、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミンまたは水添トリマートリアミンのいずれか、あるいは、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの2種以上とロジンと溶剤とを含む。   The soldering flux of the present embodiment is obtained by diluting this resin composition with a solvent, and any one of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimer triamine, or dimer diamine, trimer triamine And 2 or more of hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimmer triamine, rosin and solvent.

はんだ付け用フラックスは、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミンまたは水添トリマートリアミンのいずれかの量、あるいは、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの2種以上の合計の量と、ロジンの量の比率が、ロジンを基準として0.35以上1.00以下である。   Soldering flux may be any of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimmer triamine, or a total of two or more of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine. The ratio of the amount of and the amount of rosin is 0.35 or more and 1.00 or less based on rosin.

本実施の形態のダイマージアミンの原料となるダイマー酸は、オレイン酸とリノール酸の反応物で、炭素数が36の2量体である。また、本実施の形態のトリマートリアミンの原料となるトリマー酸は、オレイン酸とリノール酸の反応物で、炭素数が54の3量体である。オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物である本実施の形態のダイマージアミン及びオレイン酸とリノール酸の反応物であるトリマー酸を変性させた反応物である本実施の形態のトリマートリアミンは、はんだ付けで想定される温度域での難揮発性を有し、はんだ付け時に活性剤として機能する。また、残渣中でロジンに柔軟性を持たせてロジンのひび割れを抑制する。   The dimer acid used as the raw material of the dimer diamine of this embodiment is a reactant of oleic acid and linoleic acid, and is a dimer having 36 carbon atoms. Moreover, trimer acid which is a raw material of trimer triamine of this embodiment is a reaction product of oleic acid and linoleic acid, and is a trimer having 54 carbon atoms. This embodiment is a reaction product obtained by modifying dimer acid which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid, and a reaction product obtained by modifying a trimer acid which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid according to the embodiment. The trimer triamine in the form of has a low volatility in the temperature range assumed for soldering and functions as an activator during soldering. In addition, the rosin is given flexibility in the residue to suppress cracking of the rosin.

ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンは、活性剤として機能することで、量が減少する。このため、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンを添加する量が少ないと、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンが残渣中に残る量が少なくなる。これにより、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンのロジンに対する比率が低くなり、残渣中でロジンのひび割れを抑制する効果が得られない。   The amount of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine decreases by functioning as an activator. Therefore, when the amount of addition of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimmer triamine is small, the amount of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimmer triamine remaining in the residue decreases. . As a result, the ratio of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine to rosin decreases, and the effect of suppressing the cracking of rosin in the residue can not be obtained.

そこで、はんだ付け用フラックスは、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミンまたは水添トリマートリアミンのいずれか、あるいは、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの2種以上を、合計で3.5wt%以上10.0wt%以下含む。   Therefore, the soldering flux comprises two or more of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimmer triamine, or dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine. It contains 3.5 wt% or more and 10.0 wt% or less in total.

本実施の形態のはんだ付け用フラックスは、ロジンを5.0wt%以上10.0wt%以下、溶剤を70.0wt%以上91.5wt%以下含む。また、本実施の形態のはんだ付け用フラックスは、活性剤としてさらに有機酸を0wt%以上5.0wt%以下、有機ハロゲン化合物を0wt%以上1.0wt%以下、アミンハロゲン化水素酸塩を0wt%以上1.0wt%以下含む。本実施の形態のはんだ付け用フラックスは、活性剤としてさらに他のアミンを0wt%以上1.0wt%以下含む。   The soldering flux of the present embodiment contains 5.0 wt% or more and 10.0 wt% or less of rosin and 70.0 wt% or more and 91.5 wt% or less of a solvent. Further, the flux for soldering according to the present embodiment further contains 0 wt% or more and 5.0 wt% or less of an organic acid, 0 wt% or more and 1.0 wt% or less of an organic halogen compound as an activator, and 0 wt% of amine hydrohalide % Or more and 1.0 wt% or less. The soldering flux of the present embodiment further includes 0 wt% or more and 1.0 wt% or less of another amine as an activator.

ロジンとしては、例えば、ガムロジン、ウッドロジン及びトール油ロジン等の原料ロジン、並びに該原料ロジンから得られる誘導体が挙げられる。該誘導体としては、例えば、精製ロジン、水添ロジン、不均化ロジン、重合ロジン、酸変性ロジン、フェノール変性ロジン及びα,β不飽和カルボン酸変性物(アクリル化ロジン、マレイン化ロジン、フマル化ロジン等)、並びに該重合ロジンの精製物、水素化物及び不均化物、並びに該α,β不飽和カルボン酸変性物の精製物、水素化物及び不均化物等が挙げられ、これらの1種または2種以上を使用することができる。   Examples of the rosin include raw material rosins such as gum rosin, wood rosin and tall oil rosin, and derivatives obtained from the raw material rosin. Examples of such derivatives include purified rosin, hydrogenated rosin, disproportionated rosin, polymerized rosin, acid modified rosin, phenol modified rosin and α, β unsaturated carboxylic acid modified product (acrylated rosin, maleated rosin, fumarized Rosins, etc.), and purified products, hydrides and disproportionates of the polymerized rosins, and purified products, hydrides and disproportionates of the α, β-unsaturated carboxylic acid modified products, etc. Two or more types can be used.

本実施の形態のはんだ付け用フラックスは、ロジンに加えてさらに他の樹脂を含んでも良く、他の樹脂としては、テルペン樹脂、変性テルペン樹脂、テルペンフェノール樹脂、変性テルペンフェノール樹脂、スチレン樹脂、変性スチレン樹脂、キシレン樹脂、及び変性キシレン樹脂から選択される少なくとも一種以上の樹脂をさらに含むことができる。変性テルペン樹脂としては、芳香族変性テルペン樹脂、水添テルペン樹脂、水添芳香族変性テルペン樹脂等を使用することができる。変性テルペンフェノール樹脂としては、水添テルペンフェノール樹脂等を使用することができる。変性スチレン樹脂としては、スチレンアクリル樹脂、スチレンマレイン酸樹脂等を使用することができる。変性キシレン樹脂としては、フェノール変性キシレン樹脂、アルキルフェノール変性キシレン樹脂、フェノール変性レゾール型キシレン樹脂、ポリオール変性キシレン樹脂、ポリオキシエチレン付加キシレン樹脂等を使用することができる。なお、ロジンの全量を100とした場合、他の樹脂の量は40wt%以下であることが好ましく、より好ましくは20wt%以下である。   The soldering flux of the present embodiment may further contain other resins in addition to rosin, and as the other resins, terpene resin, modified terpene resin, terpene phenol resin, modified terpene phenol resin, styrene resin, modified resin It may further contain at least one or more resins selected from styrene resins, xylene resins, and modified xylene resins. As a modified terpene resin, aromatic modified terpene resin, hydrogenated terpene resin, hydrogenated aromatic modified terpene resin etc. can be used. A hydrogenated terpene phenol resin etc. can be used as a modified terpene phenol resin. As the modified styrene resin, styrene acrylic resin, styrene maleic acid resin and the like can be used. As the modified xylene resin, a phenol modified xylene resin, an alkylphenol modified xylene resin, a phenol modified resol type xylene resin, a polyol modified xylene resin, a polyoxyethylene addition xylene resin, and the like can be used. When the total amount of rosin is 100, the amount of other resins is preferably 40 wt% or less, more preferably 20 wt% or less.

有機酸としては、グルタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、エイコサン二酸、クエン酸、グリコール酸、コハク酸、サリチル酸、ジグリコール酸、ジピコリン酸、ジブチルアニリンジグリコール酸、スベリン酸、セバシン酸、チオグリコール酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ドデカン二酸、パラヒドロキシフェニル酢酸、ピコリン酸、フェニルコハク酸、フマル酸、マレイン酸、マロン酸、ラウリン酸、安息香酸、酒石酸、イソシアヌル酸トリス(2−カルボキシエチル)、グリシン、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)ブタン酸、4−tert−ブチル安息香酸、2,3−ジヒドロキシ安息香酸、2,4−ジエチルグルタル酸、2−キノリンカルボン酸、3−ヒドロキシ安息香酸、リンゴ酸、p−アニス酸、パルミチン酸、ステアリン酸、12−ヒドロキシステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸等が挙げられる。   As organic acids, glutaric acid, adipic acid, azelaic acid, eicosan diacid, citric acid, glycolic acid, succinic acid, salicylic acid, diglycolic acid, dipicolinic acid, dibutyl aniline diglycolic acid, suberic acid, sebacic acid, thioglycol Acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, dodecanedioic acid, parahydroxyphenylacetic acid, picolinic acid, phenylsuccinic acid, fumaric acid, maleic acid, malonic acid, lauric acid, benzoic acid, tartaric acid, trisocyanate isocyanurate Carboxyethyl), glycine, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid, 2,2-bis (hydroxymethyl) butanoic acid, 4-tert-butylbenzoic acid, 2,3- Dihydroxybenzoic acid, 2,4-diethyl glutaric acid, 2-quinoline Bon acid, 3-hydroxybenzoic acid, malic acid, p- anisic acid, palmitic acid, stearic acid, 12-hydroxystearic acid, oleic acid, linoleic acid, and linolenic acid.

また、有機酸としては、ダイマー酸、トリマー酸、ダイマー酸に水素を添加した水添物である水添ダイマー酸、トリマー酸に水素を添加した水添物である水添トリマー酸が挙げられる。   Further, examples of the organic acid include dimer acid, trimer acid, hydrogenated dimer acid which is a hydrogenated product obtained by adding hydrogen to dimer acid, and hydrogenated trimer acid which is a hydrogenated product obtained by adding hydrogen to trimer acid.

例えば、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸、オレイン酸とリノール酸の反応物であるトリマー酸、アクリル酸の反応物であるダイマー酸、アクリル酸の反応物であるトリマー酸、メタクリル酸の反応物であるダイマー酸、メタクリル酸の反応物であるトリマー酸、アクリル酸とメタクリル酸の反応物であるダイマー酸、アクリル酸とメタクリル酸の反応物であるトリマー酸、オレイン酸の反応物であるダイマー酸、オレイン酸の反応物であるトリマー酸、リノール酸の反応物であるダイマー酸、リノール酸の反応物であるトリマー酸、リノレン酸の反応物であるダイマー酸、リノレン酸の反応物であるトリマー酸、アクリル酸とオレイン酸の反応物であるダイマー酸、アクリル酸とオレイン酸の反応物であるトリマー酸、アクリル酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸、アクリル酸とリノール酸の反応物であるトリマー酸、アクリル酸とリノレン酸の反応物であるダイマー酸、アクリル酸とリノレン酸の反応物であるトリマー酸、メタクリル酸とオレイン酸の反応物であるダイマー酸、メタクリル酸とオレイン酸の反応物であるトリマー酸、メタクリル酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸、メタクリル酸とリノール酸の反応物であるトリマー酸、メタクリル酸とリノレン酸の反応物であるダイマー酸、メタクリル酸とリノレン酸の反応物であるトリマー酸、オレイン酸とリノレン酸の反応物であるダイマー酸、オレイン酸とリノレン酸の反応物であるトリマー酸、リノール酸とリノレン酸の反応物であるダイマー酸、リノール酸とリノレン酸の反応物であるトリマー酸、上述した各ダイマー酸の水添物である水添ダイマー酸、上述した各トリマー酸の水添物である水添トリマー酸等が挙げられる。   For example, dimer acid which is a reactant of oleic acid and linoleic acid, trimer acid which is a reactant of oleic acid and linoleic acid, dimer acid which is a reactant of acrylic acid, trimer acid which is a reactant of acrylic acid, methacrylic acid The dimer acid which is a reactant of this, the trimer acid which is a reactant of methacrylic acid, the dimer acid which is a reactant of acrylic acid and methacrylic acid, the reactant of trimer acid which is a reactant of acrylic acid and methacrylic acid, and oleic acid Reactant of a dimer acid, trimer acid which is a reactant of oleic acid, dimer acid which is a reactant of linoleic acid, trimer acid which is a reactant of linoleic acid, dimer acid which is a reactant of linolenic acid, linolenic acid Some trimer acids, dimer acid which is a reaction product of acrylic acid and oleic acid, trimer acid which is a reaction product of acrylic acid and oleic acid, Dimer acid which is a reaction product of luric acid and linoleic acid, trimer acid which is a reaction product of acrylic acid and linoleic acid, dimer acid which is a reaction product of acrylic acid and linolenic acid, trimer which is a reaction product of acrylic acid and linolenic acid Acid, dimer acid which is a reaction product of methacrylic acid and oleic acid, trimer acid which is a reaction product of methacrylic acid and oleic acid, dimer acid which is a reaction product of methacrylic acid and linoleic acid, reaction product of methacrylic acid and linoleic acid Some trimer acids, dimer acid which is a reaction product of methacrylic acid and linolenic acid, trimer acid which is a reaction product of methacrylic acid and linolenic acid, dimer acid which is a reaction product of oleic acid and linolenic acid, reaction of oleic acid and linolenic acid Products of trimer acid, a reaction product of linoleic acid and linolenic acid, a reaction product of linoleic acid and linolenic acid Trimer acid that, hydrogenated dimer acid which is a hydrogenation product of the dimer acid as described above, hydrogenated trimer acid, and the like are hydrogenated products of the trimer acid described above.

他のアミンとしては、モノエタノールアミン、ジフェニルグアニジン、エチルアミン、トリエチルアミン、エチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、2−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイト、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテイト、2,4−ジアミノ−6−[2′−メチルイミダゾリル−(1′)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2′−ウンデシルイミダゾリル−(1′)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2′−エチル−4′−メチルイミダゾリル−(1′)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2′−メチルイミダゾリル−(1′)]−エチル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2,3−ジヒドロ−1H−ピロロ[1,2−a]ベンズイミダゾール、1−ドデシル−2−メチル−3−ベンジルイミダゾリウムクロライド、2−メチルイミダゾリン、2−フェニルイミダゾリン、2,4−ジアミノ−6−ビニル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−ビニル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物、2,4−ジアミノ−6−メタクリロイルオキシエチル−s−トリアジン、エポキシ−イミダゾールアダクト、2−メチルベンゾイミダゾール、2−オクチルベンゾイミダゾール、2−ペンチルベンゾイミダゾール、2−(1−エチルペンチル)ベンゾイミダゾール、2−ノニルベンゾイミダゾール、2−(4−チアゾリル)ベンゾイミダゾール、ベンゾイミダゾール、2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−アミルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−5′−tert−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2,2′−メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−tert−オクチルフェノール]、6−(2−ベンゾトリアゾリル)−4−tert−オクチル−6′−tert−ブチル−4′−メチル−2,2′−メチレンビスフェノール、1,2,3−ベンゾトリアゾール、1−[N,N−ビス(2−エチルヘキシル)アミノメチル]ベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、1−[N,N−ビス(2−エチルヘキシル)アミノメチル]メチルベンゾトリアゾール、2,2′−[[(メチル−1H−ベンゾトリアゾール−1−イル)メチル]イミノ]ビスエタノール、1−(1′,2′−ジカルボキシエチル)ベンゾトリアゾール、1−(2,3−ジカルボキシプロピル)ベンゾトリアゾール、1−[(2−エチルヘキシルアミノ)メチル]ベンゾトリアゾール、2,6−ビス[(1H−ベンゾトリアゾール−1−イル)メチル]−4−メチルフェノール、5−メチルベンゾトリアゾール、5−フェニルテトラゾール等が挙げられる。   Other amines include monoethanolamine, diphenylguanidine, ethylamine, triethylamine, ethylenediamine, triethylenetetramine, 2-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2-ethyl -4-Methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl -2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimeme Tate, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-undecylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-ethyl-4'-methylimidazolyl- (1')]-ethyl-s- Triazine, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine isocyanuric acid adduct, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-4,5- Dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2,3-dihydro-1H-pyrrolo [1,2-a] benzimido Zole, 1-dodecyl-2-methyl-3-benzylimidazolium chloride, 2-methylimidazoline, 2-phenylimidazoline, 2,4-diamino-6-vinyl-s-triazine, 2,4-diamino-6-vinyl -S-Triazine isocyanuric acid adduct, 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-s-triazine, epoxy-imidazole adduct, 2-methylbenzimidazole, 2-octylbenzimidazole, 2-pentylbenzimidazole, 2- (1-ethyl pentyl) benzimidazole, 2-nonyl benzimidazole, 2- (4-thiazolyl) benzimidazole, benzimidazole, 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2 ') -Hydroxy-3'-ter t-Butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-amylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5) '-Tert-octylphenyl) benzotriazole, 2,2'-methylenebis [6- (2H-benzotriazol-2-yl) -4-tert-octylphenol], 6- (2-benzotriazolyl) -4- tert-Octyl-6'-tert-butyl-4'-methyl-2,2'-methylenebisphenol, 1,2,3-benzotriazole, 1- [N, N-bis (2-ethylhexyl) aminomethyl] benzo Triazole, carboxybenzotriazole, 1- [N, N-bis (2-ethylhexyl) aminomethyl] methyl benzoto Azole, 2,2 '-[[(methyl-1H-benzotriazol-1-yl) methyl] imino] bisethanol, 1- (1', 2'-dicarboxyethyl) benzotriazole, 1- (2,3 -Dicarboxypropyl) benzotriazole, 1-[(2-ethylhexylamino) methyl] benzotriazole, 2,6-bis [(1H-benzotriazol-1-yl) methyl] -4-methylphenol, 5-methylbenzo Triazole, 5-phenyl tetrazole etc. are mentioned.

有機ハロゲン化合物としては、有機ブロモ化合物であるtrans−2,3−ジブロモ−1,4−ブテンジオール、トリアリルイソシアヌレート6臭化物、1−ブロモ−2−ブタノール、1−ブロモ−2−プロパノール、3−ブロモ−1−プロパノール、3−ブロモ−1,2−プロパンジオール、1,4−ジブロモ−2−ブタノール、1,3−ジブロモ−2−プロパノール、2,3−ジブロモ−1−プロパノール、2,3−ジブロモ−1,4−ブタンジオール、2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4−ジオール、trans−2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4−ジオール、cis−2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4−ジオール、テトラブロモフタル酸、ブロモコハク酸等が挙げられる。また、有機クロロ化合物であるクロロアルカン、塩素化脂肪酸エステル、ヘット酸、ヘット酸無水物等が挙げられる。   Examples of the organic halogen compounds include trans-2,3-dibromo-1,4-butenediol which is an organic bromo compound, triallyl isocyanurate hexabromide, 1-bromo-2-butanol, 1-bromo-2-propanol, 3 -Bromo-1-propanol, 3-bromo-1,2-propanediol, 1,4-dibromo-2-butanol, 1,3-dibromo-2-propanol, 2,3-dibromo-1-propanol, 2, 3-dibromo-1,4-butanediol, 2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol, trans-2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol, cis-2,3 -Dibromo-2-butene-1,4-diol, tetrabromophthalic acid, bromosuccinic acid and the like. In addition, chlorochloroalkanes which are organic chloro compounds, chlorinated fatty acid esters, hetic acid, hetic acid anhydride and the like can be mentioned.

アミンハロゲン化水素酸塩は、アミンとハロゲン化水素を反応させた化合物であり、アニリン塩化水素、アニリン臭化水素等が挙げられる。アミンハロゲン化水素酸塩のアミンとしては、上述したアミンを用いることができ、エチルアミン、エチレンジアミン、トリエチルアミン、メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール等が挙げられ、ハロゲン化水素としては、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素の水素化物(塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素、フッ化水素)が挙げられる。また、アミンハロゲン化水素酸塩に代えて、あるいはアミンハロゲン化水素酸塩と合わせてホウフッ化物を含んでも良く、ホウフッ化物としてホウフッ化水素酸等が挙げられる。   The amine hydrohalide is a compound obtained by reacting an amine with a hydrogen halide, and includes aniline hydrogen chloride, aniline hydrogen bromide and the like. As the amine of the amine hydrohalide salt, the above-mentioned amine can be used, and ethylamine, ethylenediamine, triethylamine, methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole and the like can be mentioned, and as the hydrogen halide, chlorine, Examples thereof include bromine, iodine and hydrides of fluorine (hydrogen chloride, hydrogen bromide, hydrogen iodide, hydrogen fluoride). Moreover, it may replace with an amine hydrohalide salt, or it may combine with an amine hydrohalide salt, and a borofluoride may be included, and boro hydrofluoric acid etc. are mentioned as a borofluoride.

溶剤としては、水、アルコール系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、テルピネオール類等が挙げられる。アルコール系溶剤としてはエタノール、工業用エタノール(エタノールにメタノール及び/またはイソプロピルアルコールを添加した混合溶剤)、イソプロピルアルコール、1,2−ブタンジオール、イソボルニルシクロヘキサノール、2,4−ジエチル−1,5−ペンタンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール、2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジオール、2,5−ジメチル−3−ヘキシン−2,5−ジオール、2,3−ジメチル−2,3−ブタンジオール、1,1,1−トリス(ヒドロキシメチル)エタン、2−エチル−2−ヒドロキシメチル−1,3−プロパンジオール、2,2′−オキシビス(メチレン)ビス(2−エチル−1,3−プロパンジオール)、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1,3−プロパンジオール、1,2,6−トリヒドロキシヘキサン、ビス[2,2,2−トリス(ヒドロキシメチル)エチル]エーテル、1−エチニル−1−シクロヘキサノール、1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、エリトリトール、トレイトール、グアヤコールグリセロールエーテル、3,6−ジメチル−4−オクチン−3,6−ジオール、2,4,7,9−テトラメチル−5−デシン−4,7−ジオール等が挙げられる。グリコールエーテル系溶剤としては、ヘキシルジグリコール、ジエチレングリコールモノ−2−エチルヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、2−メチルペンタン−2,4−ジオール、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル等が挙げられる。溶剤は、好ましくはアルコール系溶剤であるエタノール、工業用エタノール(エタノールにメタノール及び/またはイソプロピルアルコールを添加した混合溶剤)、イソプロピルアルコールである。   Examples of the solvent include water, alcohol solvents, glycol ether solvents, terpineols and the like. As alcohol solvents, ethanol, industrial ethanol (a mixed solvent obtained by adding methanol and / or isopropyl alcohol to ethanol), isopropyl alcohol, 1,2-butanediol, isobornylcyclohexanol, 2,4-diethyl-1, 5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol, 2,5-dimethyl-2,5-hexanediol, 2,5-dimethyl-3-hexyne-2,5-diol, 2,3 -Dimethyl-2,3-butanediol, 1,1,1-tris (hydroxymethyl) ethane, 2-ethyl-2-hydroxymethyl-1,3-propanediol, 2,2'-oxybis (methylene) bis ( 2-ethyl-1,3-propanediol), 2,2-bis (hydroxymethyl) -1,3-pro Diol, 1,2,6-trihydroxyhexane, bis [2,2,2-tris (hydroxymethyl) ethyl] ether, 1-ethynyl-1-cyclohexanol, 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexane Dimethanol, erythritol, threitol, guaiacol glycerol ether, 3,6-dimethyl-4-octin-3,6-diol, 2,4,7,9-tetramethyl-5-decyne-4,7-diol etc. It can be mentioned. Examples of glycol ether solvents include hexyl diglycol, diethylene glycol mono-2-ethyl hexyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, 2-methylpentane-2,4-diol, diethylene glycol monohexyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, triethylene glycol monobutyl ether Etc. The solvent is preferably ethanol which is an alcohol solvent, industrial ethanol (a mixed solvent obtained by adding methanol and / or isopropyl alcohol to ethanol), and isopropyl alcohol.

<本実施の形態の樹脂組成物及びはんだ付け用フラックスの作用効果例>
ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミンまたは水添トリマートリアミンのいずれか、あるいは、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの2種以上を含み、ロジンとの比率が所定の範囲内の樹脂組成物を溶剤で希釈したはんだ付け用フラックスでは、はんだ付け後の残渣のひび割れを抑制することができる。また、析出の発生を抑制することができる。
<Example of Effect of Resin Composition and Soldering Flux of This Embodiment>
Any one of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimer triamine, or two or more of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine, and the ratio to rosin is predetermined In the soldering flux prepared by diluting the resin composition within the range with a solvent, cracking of the residue after soldering can be suppressed. In addition, the occurrence of precipitation can be suppressed.

以下の表1、表2に示す組成で実施例と比較例の樹脂組成物を調合し、表1に示す実施例の樹脂組成物を溶剤で希釈して表3に示す組成で実施例のはんだ付け用フラックスを調合し、表2に示す比較例の樹脂組成物を溶剤で希釈して表4に示す組成で比較例のはんだ付け用フラックスを調合して、各実施例及び各比較例のはんだ付け用フラックスで析出の有無、残渣のひび割れの有無について検証した。なお、表1、表2における組成率は、樹脂組成物の全量を100とした場合のwt(重量)%であり、表3、表4における組成率は、フラックスの全量を100とした場合のwt(重量)%である。   The resin compositions of the examples and comparative examples are prepared with the compositions shown in Table 1 and Table 2 below, and the resin compositions of the examples shown in Table 1 are diluted with a solvent and the solders of the examples are prepared with the compositions shown in Table 3. The flux for setting is prepared, the resin composition of the comparative example shown in Table 2 is diluted with a solvent, the flux for soldering of the comparative example is prepared with the composition shown in Table 4, and the solder of each example and each comparative example It was verified about the presence or absence of precipitation and the presence or absence of cracking of the residue with a setting flux. The composition ratio in Table 1 and Table 2 is wt (wt)% when the total amount of the resin composition is 100, and the composition ratio in Table 3 and Table 4 is when the total amount of flux is 100. It is wt (weight)%.

<析出の評価>
(1)検証方法
実施例、比較例に記載のはんだ付け用フラックスを、Cu板に塗布する。Cu板のサイズは、30×30×0.3mmである。はんだ付け用フラックスの量は、0.05mlである。Cu板に塗布されたはんだ付け用フラックスにおける析出の有無を目視により確認した。
(2)判定基準
〇:析出が確認されなかった
×:析出が確認された
<Evaluation of precipitation>
(1) Verification method The flux for soldering of an example and a comparative example is applied to Cu board. The size of the Cu plate is 30 × 30 × 0.3 mm. The amount of soldering flux is 0.05 ml. The presence or absence of precipitation in the soldering flux applied to the Cu plate was visually confirmed.
(2) Judgment criteria :: Precipitation was not confirmed x: Precipitation was confirmed

<はんだ付け後の残渣のひび割れの評価>
(1)検証方法
実施例、比較例に記載のはんだ付け用フラックスを、Cu板に塗布する。Cu板のサイズは、30×30×0.3mmである。はんだ付け用フラックスの量は、0.05mlである。Cu板に塗布されたはんだ付け用フラックスにはんだ試料を載せ、試験片とする。はんだ試料は、Sn−3Ag−0.5Cuと表記される組成であり、Agを3.0wt%、Cuを0.5wt%含み、残部がSnである。このはんだを環状としたはんだリング0.3gを用いた。試験片をホットプレートに載せ、250℃まで加熱し、はんだ溶融後、20秒間保持し、その後、室温まで冷却する。そして、残渣のひび割れの有無を実体顕微鏡で倍率を40倍として確認した。
<Evaluation of cracking of residue after soldering>
(1) Verification method The flux for soldering of an example and a comparative example is applied to Cu board. The size of the Cu plate is 30 × 30 × 0.3 mm. The amount of soldering flux is 0.05 ml. Place a solder sample on a soldering flux applied to a Cu plate and use it as a test piece. The solder sample has a composition represented as Sn-3Ag-0.5Cu, containing 3.0 wt% of Ag, 0.5 wt% of Cu, and the balance being Sn. A 0.3 g solder ring was used to make this solder annular. The test piece is placed on a hot plate, heated to 250 ° C., held for 20 seconds after melting the solder, and then cooled to room temperature. And the presence or absence of the crack of the residue was confirmed by making the magnification | multiplying_factor 40 times with the stereomicroscope.

(2)判定基準
〇:ひび割れが確認されなかった
×:ひび割れが確認された
(2) Judgment standard :: Crack was not confirmed x: Crack was confirmed

Figure 2019119795
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Figure 2019119795

実施例1aに示すように、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であるダイマージアミンを25wt%、ロジンを50wt%含み、ロジンに対するダイマージアミンの比率が0.5であり、さらに有機酸としてアジピン酸を含む樹脂組成物を溶剤で希釈したはんだ付け用フラックスは、実施例1bに示すように、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であるダイマージアミンを5wt%、ロジンを10wt%含み、ロジンに対するダイマージアミンの比率が0.5であり、さらに有機酸としてアジピン酸を含み、残部が溶剤である。実施例1bのはんだ付け用フラックスでは、析出の抑制に対して十分な効果が得られた。また、はんだ付け後の残渣のひび割れの抑制に対しても十分な効果が得られた。   As shown in Example 1a, it contains 25 wt% of dimer diamine which is a reactant obtained by modifying dimer acid which is a reactant of oleic acid and linoleic acid, 50 wt% of rosin, and the ratio of dimer diamine to rosin is 0.5 Furthermore, a soldering flux prepared by diluting a resin composition containing adipic acid as an organic acid with a solvent is a reaction in which a dimer acid, which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid, is modified as shown in Example 1b. The composition contains 5 wt% of dimer diamine and 10 wt% of rosin, the ratio of dimer diamine to rosin is 0.5, adipic acid as an organic acid, and the balance is a solvent. In the soldering flux of Example 1b, a sufficient effect on suppression of precipitation was obtained. In addition, a sufficient effect was obtained to suppress cracking of the residue after soldering.

実施例2aに示すように、オレイン酸とリノール酸の反応物であるトリマー酸を変性させた反応物であるトリマートリアミンを25wt%、ロジンを50wt%含み、ロジンに対するトリマートリアミンの比率が0.5であり、さらに有機酸としてアジピン酸を含む樹脂組成物を溶剤で希釈したはんだ付け用フラックスは、実施例2bに示すように、オレイン酸とリノール酸の反応物であるトリマー酸を変性させた反応物であるトリマートリアミンを5wt%、ロジンを10wt%含み、ロジンに対するトリマートリアミンの比率が0.5であり、さらに有機酸としてアジピン酸を含み、残部が溶剤である。実施例2bのはんだ付け用フラックスでも、析出の抑制に対して十分な効果が得られた。また、はんだ付け後の残渣のひび割れの抑制に対しても十分な効果が得られた。   As shown in Example 2a, the reaction product of trimer acid which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid is 25 wt% of trimer triamine, 50 wt% of rosin, and the ratio of trimer triamine to rosin is 0.5 Furthermore, a soldering flux prepared by diluting a resin composition containing adipic acid as an organic acid with a solvent is, as shown in Example 2b, a reaction obtained by modifying trimer acid, which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid. The product contains 5 wt% of trimer triamine, 10 wt% of rosin, the ratio of trimer triamine to rosin is 0.5, adipic acid as an organic acid, and the balance is a solvent. Even with the soldering flux of Example 2b, a sufficient effect on suppression of precipitation was obtained. In addition, a sufficient effect was obtained to suppress cracking of the residue after soldering.

実施例3aに示すように、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であるダイマージアミンを12.5wt%、オレイン酸とリノール酸の反応物であるトリマー酸を変性させた反応物であるトリマートリアミンを12.5wt%、ロジンを50wt%含み、ロジンに対するダイマージアミン及びトリマートリアミンの比率が0.5であり、さらに有機酸としてアジピン酸を含む樹脂組成物を溶剤で希釈したはんだ付け用フラックスは、実施例3bに示すように、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であるダイマージアミンを2.5wt%、オレイン酸とリノール酸の反応物であるトリマー酸を変性させた反応物であるトリマートリアミンを2.5wt%、ロジンを10wt%含み、ロジンに対するダイマージアミン及びトリマートリアミンの比率が0.5であり、さらに有機酸としてアジピン酸を本発明で規定された範囲内で含み、残部が溶剤である。実施例3bのはんだ付け用フラックスでも、析出の抑制に対して十分な効果が得られた。また、はんだ付け後の残渣のひび割れの抑制に対しても十分な効果が得られた。   As shown in Example 3a, 12.5 wt% of a dimer diamine which is a reaction product of a dimer acid which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid, and a trimer acid which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid are modified. Resin, containing 12.5 wt% of trimer triamine, 50 wt% of rosin, a ratio of dimer diamine and trimer triamine to rosin of 0.5, and further containing adipic acid as an organic acid with a solvent As shown in Example 3b, the diluted soldering flux contains 2.5 wt% of dimer diamine which is a reaction product of a reaction product of oleic acid and linoleic acid, and is a reaction product of oleic acid and linoleic acid. 2.5 wt% of trimer triamine, which is a reactant obtained by modifying the reactant trimer acid, and 10 wt% of rosin See, dimer diamine for rosin and the ratio of trimer triamine 0.5, further comprises adipic acid in a defined range in the present invention as the organic acid, the remainder being solvent. Even with the soldering flux of Example 3b, a sufficient effect on suppression of precipitation was obtained. In addition, a sufficient effect was obtained to suppress cracking of the residue after soldering.

実施例4aに示すように、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であるダイマージアミンを18.9wt%、ロジンを54.1wt%含み、ロジンに対するダイマージアミンの比率が0.35であり、さらに有機酸としてアジピン酸を含む樹脂組成物を溶剤で希釈したはんだ付け用フラックスは、実施例4bに示すように、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であるダイマージアミンを3.5wt%、ロジンを10wt%含み、ロジンに対するダイマージアミンの比率が0.35であり、さらに有機酸としてアジピン酸を本発明で規定された範囲内で含み、残部が溶剤である。実施例4bのはんだ付け用フラックスでも、析出の抑制に対して十分な効果が得られた。また、はんだ付け後の残渣のひび割れの抑制に対しても十分な効果が得られた。   As shown in Example 4a, it contains 18.9 wt% of dimer diamine which is a reactant obtained by modifying dimer acid which is a reactant of oleic acid and linoleic acid, 54.1 wt% of rosin, and the ratio of dimer diamine to rosin Further, a soldering flux prepared by diluting a resin composition containing adipic acid as an organic acid with a solvent and diluting it with a solvent has a dimer acid, which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid, as shown in Example 4b. 3.5 wt% of the modified reactant dimer diamine, 10 wt% of rosin, the ratio of dimer diamine to rosin is 0.35, and further adipic acid as an organic acid within the range defined in the present invention The remainder is solvent. Even with the soldering flux of Example 4b, a sufficient effect on suppression of precipitation was obtained. In addition, a sufficient effect was obtained to suppress cracking of the residue after soldering.

実施例5aに示すように、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であるダイマージアミンを31.8wt%、ロジンを45.5wt%含み、ロジンに対するダイマージアミンの比率が0.7であり、さらに有機酸としてアジピン酸を含む樹脂組成物を溶剤で希釈したはんだ付け用フラックスは、実施例5bに示すように、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であるダイマージアミンを7wt%、ロジンを10wt%含み、ロジンに対するダイマージアミンの比率が0.7であり、さらに有機酸としてアジピン酸を本発明で規定された範囲内で含み、残部が溶剤である。実施例5bのはんだ付け用フラックスでも、析出の抑制に対して十分な効果が得られた。また、はんだ付け後の残渣のひび割れの抑制に対しても十分な効果が得られた。   As shown in Example 5a, it contains 31.8 wt% of dimer diamine which is a reactant obtained by modifying dimer acid which is a reactant of oleic acid and linoleic acid, 45.5 wt% of rosin, and the ratio of dimer diamine to rosin Further, a soldering flux prepared by diluting a resin composition containing adipic acid as an organic acid with a solvent and diluting it with a solvent has a dimer acid, which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid, as shown in Example 5b. 7 wt% of modified reactant dimer diamine, 10 wt% of rosin, the ratio of dimer diamine to rosin is 0.7, and further adipic acid as an organic acid within the range defined in the present invention, The balance is solvent. Even with the soldering flux of Example 5b, a sufficient effect on suppression of precipitation was obtained. In addition, a sufficient effect was obtained to suppress cracking of the residue after soldering.

実施例6aに示すように、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であるダイマージアミンを40wt%、ロジンを40wt%含み、ロジンに対するダイマージアミンの比率が1.0であり、さらに有機酸としてアジピン酸を含む樹脂組成物を溶剤で希釈したはんだ付け用フラックスは、実施例6bに示すように、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であるダイマージアミンを10wt%、ロジンを10wt%含み、ロジンに対するダイマージアミンの比率が1.0であり、さらに有機酸としてアジピン酸を本発明で規定された範囲内で含み、残部が溶剤である。実施例6bのはんだ付け用フラックスでも、析出の抑制に対して十分な効果が得られた。また、はんだ付け後の残渣のひび割れの抑制に対しても十分な効果が得られた。   As shown in Example 6a, it contains 40 wt% of dimer diamine which is a reactant obtained by modifying dimer acid which is a reactant of oleic acid and linoleic acid, 40 wt% of rosin, and the ratio of dimer diamine to rosin is 1.0. Furthermore, a soldering flux prepared by diluting a resin composition containing adipic acid as an organic acid with a solvent is a reaction obtained by modifying a dimer acid which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid as shown in Example 6b. 10% by weight of dimer diamine, 10% by weight of rosin, the ratio of dimer diamine to rosin is 1.0, and further adipic acid as an organic acid within the range specified in the present invention, the balance being solvent is there. Also in the soldering flux of Example 6b, a sufficient effect on suppression of precipitation was obtained. In addition, a sufficient effect was obtained to suppress cracking of the residue after soldering.

実施例7aに示すように、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であるダイマージアミンを29.4wt%、ロジンを58.8wt%含み、ロジンに対するダイマージアミンの比率が0.5であり、さらに有機酸に代えてアミンハロゲン化水素酸塩と有機ハロゲン化合物を含む樹脂組成物を溶剤で希釈したはんだ付け用フラックスは、実施例7bに示すように、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であるダイマージアミンを5wt%、ロジンを10wt%含み、ロジンに対するダイマージアミンの比率が0.5であり、さらに有機酸に代えてアミンハロゲン化水素酸塩と有機ハロゲン化合物を本発明で規定された範囲内で含み、残部が溶剤である。実施例7bのはんだ付け用フラックスでも、析出の抑制に対して十分な効果が得られた。また、はんだ付け後の残渣のひび割れの抑制に対しても十分な効果が得られた。   As shown in Example 7a, it contains 29.4 wt% of a dimer diamine which is a reaction product of dimer acid which is a reactant of oleic acid and linoleic acid, 58.8 wt% of rosin, and the ratio of dimer diamine to rosin A soldering flux prepared by diluting a resin composition containing an amine hydrohalide and an organic halogen compound with an organic acid instead of an organic acid and diluting it with a solvent is, as shown in Example 7b, oleic acid and 5 wt% of dimer diamine which is a reaction product of dimer acid which is a reactant of linoleic acid, 10 wt% of rosin, the ratio of dimer diamine to rosin is 0.5, and further, an amine halogen is substituted for the organic acid The hydrochloric acid salt and the organic halogen compound are contained in the range specified in the present invention, and the balance is a solvent. Also in the soldering flux of Example 7b, a sufficient effect on suppression of precipitation was obtained. In addition, a sufficient effect was obtained to suppress cracking of the residue after soldering.

実施例8aに示すように、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であるダイマージアミンを23.8wt%、ロジンを47.6wt%含み、ロジンに対するダイマージアミンの比率が0.5であり、さらに他のアミンとしてモノエタノールアミンを含み、さらに有機酸としてアジピン酸を含む樹脂組成物を溶剤で希釈したはんだ付け用フラックスは、実施例8bに示すように、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であるダイマージアミンを5wt%、ロジンを10wt%含み、ロジンに対するダイマージアミンの比率が0.5であり、さらに他のアミンとしてモノエタノールアミンを本発明で規定された範囲内で含み、さらに有機酸としてアジピン酸を本発明で規定された範囲内で含み、残部が溶剤である。実施例8bのはんだ付け用フラックスでも、析出の抑制に対して十分な効果が得られた。また、はんだ付け後の残渣のひび割れの抑制に対しても十分な効果が得られた。   As shown in Example 8a, it contains 23.8 wt% of dimer diamine which is a reactant obtained by modifying dimer acid which is a reactant of oleic acid and linoleic acid, 47.6 wt% of rosin, and the ratio of dimer diamine to rosin A soldering flux prepared by diluting a resin composition having an amino acid of 0.5 and further containing monoethanolamine as an amine and further containing adipic acid as an organic acid with a solvent is oleic acid as shown in Example 8b. Containing 5 wt% of dimer diamine, 10 wt% of rosin, which is a reactant of denatured dimer acid which is a reactant of linoleic acid and linoleic acid, the ratio of dimer diamine to rosin being 0.5, and monoethanol as another amine An amine is included within the scope defined in the present invention, and further an adipic acid is defined in the present invention as an organic acid. Wherein at 囲内, the remainder being solvent. Also in the soldering flux of Example 8b, a sufficient effect on suppression of precipitation was obtained. In addition, a sufficient effect was obtained to suppress cracking of the residue after soldering.

実施例9aに示すように、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であるダイマージアミンを23.8wt%、ロジンを47.6wt%含み、ロジンに対するダイマージアミンの比率が0.5であり、さらに他のアミンとして2−フェニルイミダゾールを含み、さらに有機酸としてアジピン酸を含む樹脂組成物を溶剤で希釈したはんだ付け用フラックスは、実施例9bに示すように、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であるダイマージアミンを5wt%、ロジンを10wt%含み、ロジンに対するダイマージアミンの比率が0.5であり、さらに他のアミンとして2−フェニルイミダゾールを本発明で規定された範囲内で含み、さらに有機酸としてアジピン酸を本発明で規定された範囲内で含み、残部が溶剤である。実施例9bのはんだ付け用フラックスでも、析出の抑制に対して十分な効果が得られた。また、はんだ付け後の残渣のひび割れの抑制に対しても十分な効果が得られた。   As shown in Example 9a, it contains 23.8 wt% of dimer diamine which is a reactant obtained by modifying dimer acid which is a reactant of oleic acid and linoleic acid, 47.6 wt% of rosin, and the ratio of dimer diamine to rosin A soldering flux prepared by diluting a resin composition having an acidity of 0.5 and further containing 2-phenylimidazole as another amine and further containing adipic acid as an organic acid with a solvent is olein as shown in Example 9b. The reaction product of dimer acid which is a reaction product of acid and linoleic acid: 5 wt% of dimer diamine, 10 wt% of rosin, the ratio of dimer diamine to rosin is 0.5, and 2 as other amines -Phenylimidazole is included within the scope defined in the present invention, and further adipic acid is specified as an organic acid in the present invention. Wherein within a scope that is, the remainder being solvent. Also in the soldering flux of Example 9b, a sufficient effect on suppression of precipitation was obtained. In addition, a sufficient effect was obtained to suppress cracking of the residue after soldering.

実施例10aに示すように、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であるダイマージアミンを24.9wt%、ロジンを49.8wt%含み、ロジンに対するダイマージアミンの比率が0.5であり、さらに他のアミンとしてジフェニルグアニジンを含み、さらに有機酸としてアジピン酸を含む樹脂組成物を溶剤で希釈したはんだ付け用フラックスは、実施例10bに示すように、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であるダイマージアミンを5wt%、ロジンを10wt%含み、ロジンに対するダイマージアミンの比率が0.5であり、さらに他のアミンとしてジフェニルグアニジンを本発明で規定された範囲内で含み、さらに有機酸としてアジピン酸を本発明で規定された範囲内で含み、残部が溶剤である。実施例10bのはんだ付け用フラックスでも、析出の抑制に対して十分な効果が得られた。また、はんだ付け後の残渣のひび割れの抑制に対しても十分な効果が得られた。   As shown in Example 10a, 24.9 wt% of dimer diamine which is a reactant obtained by modifying dimer acid which is a reactant of oleic acid and linoleic acid, 49.8 wt% of rosin, and the ratio of dimer diamine to rosin A soldering flux prepared by diluting a resin composition having an acidity of 0.5, further containing diphenyl guanidine as another amine, and further containing adipic acid as an organic acid with a solvent, as shown in Example 10b, 5 wt% of dimer diamine which is a reaction product of dimer acid which is a reactant of linoleic acid, 10 wt% of rosin, the ratio of dimer diamine to rosin is 0.5, and diphenylguanidine as another amine It is included within the scope defined in the present invention, and adipic acid is further defined in the present invention as an organic acid. And wherein in the range, the remainder being solvent. Also in the soldering flux of Example 10b, a sufficient effect on suppression of precipitation was obtained. In addition, a sufficient effect was obtained to suppress cracking of the residue after soldering.

実施例11aに示すように、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であるダイマージアミンを25wt%、ロジンを50wt%含み、ロジンに対するダイマージアミンの比率が0.5であり、さらに有機酸としてグルタル酸を含む樹脂組成物を溶剤で希釈したはんだ付け用フラックスは、実施例11bに示すように、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であるダイマージアミンを5wt%、ロジンを10wt%含み、ロジンに対するダイマージアミンの比率が0.5であり、さらに有機酸としてグルタル酸を本発明で規定された範囲内で含み、残部が溶剤である。実施例11bのはんだ付け用フラックスでも、析出の抑制に対して十分な効果が得られた。また、はんだ付け後の残渣のひび割れの抑制に対しても十分な効果が得られた。   As shown in Example 11a, it contains 25 wt% of dimer diamine which is a reactant obtained by modifying dimer acid which is a reactant of oleic acid and linoleic acid, 50 wt% of rosin, and the ratio of dimer diamine to rosin is 0.5 Furthermore, a soldering flux prepared by diluting a resin composition containing glutaric acid as an organic acid with a solvent is a reaction obtained by modifying dimer acid which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid as shown in Example 11b. The composition contains 5 wt% of dimer diamine, 10 wt% of rosin, the ratio of dimer diamine to rosin is 0.5, and further contains glutaric acid as an organic acid within the range specified in the present invention, with the balance being solvent. is there. Also in the soldering flux of Example 11b, a sufficient effect on suppression of precipitation was obtained. In addition, a sufficient effect was obtained to suppress cracking of the residue after soldering.

実施例12aに示すように、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であるダイマージアミンを25wt%、ロジンを50wt%含み、ロジンに対するダイマージアミンの比率が0.5であり、さらに有機酸としてダイマー酸を含む樹脂組成物を溶剤で希釈したはんだ付け用フラックスは、実施例12bに示すように、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であるダイマージアミンを5wt%、ロジンを10wt%含み、ロジンに対するダイマージアミンの比率が0.5であり、さらに有機酸としてダイマー酸を本発明で規定された範囲内で含み、残部が溶剤である。実施例12bのはんだ付け用フラックスでも、析出の抑制に対して十分な効果が得られた。また、はんだ付け後の残渣のひび割れの抑制に対しても十分な効果が得られた。   As shown in Example 12a, it contains 25 wt% of dimer diamine which is a reactant obtained by modifying dimer acid which is a reactant of oleic acid and linoleic acid, 50 wt% of rosin, and the ratio of dimer diamine to rosin is 0.5 Further, the soldering flux prepared by diluting the resin composition containing dimer acid as an organic acid with a solvent is a reaction obtained by modifying dimer acid which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid as shown in Example 12b. The composition contains 5 wt% of dimer diamine, 10 wt% of rosin, the ratio of dimer diamine to rosin is 0.5, and further contains a dimer acid as an organic acid within the range specified in the present invention, with the balance being solvent. is there. Also in the soldering flux of Example 12b, a sufficient effect on suppression of precipitation was obtained. In addition, a sufficient effect was obtained to suppress cracking of the residue after soldering.

実施例13aに示すように、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であるダイマージアミンを23.8wt%、ロジンを47.6wt%含み、ロジンに対するダイマージアミンの比率が0.5であり、さらにハロゲンとしてアミンハロゲン化水素酸塩を含み、さらに有機酸としてアジピン酸を含む樹脂組成物を溶剤で希釈したはんだ付け用フラックスは、実施例13bに示すように、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であるダイマージアミンを5wt%、ロジンを10wt%含み、ロジンに対するダイマージアミンの比率が0.5であり、さらにハロゲンとしてアミンハロゲン化水素酸塩を本発明で規定された範囲内で含み、さらに有機酸としてアジピン酸を本発明で規定された範囲内で含み、残部が溶剤である。実施例13bのはんだ付け用フラックスでも、析出の抑制に対して十分な効果が得られた。また、はんだ付け後の残渣のひび割れの抑制に対しても十分な効果が得られた。   As shown in Example 13a, it contains 23.8 wt% of dimer diamine which is a reactant obtained by modifying dimer acid which is a reactant of oleic acid and linoleic acid, 47.6 wt% of rosin, and the ratio of dimer diamine to rosin A soldering flux prepared by diluting a resin composition containing a hydrohalic acid salt of amine as a halogen and an adipic acid as a further organic acid with a solvent is olein as shown in Example 13b. The reaction product of dimer acid which is a reaction product of acid and linoleic acid: 5 wt% of dimer diamine, 10 wt% of rosin, the ratio of dimer diamine to rosin is 0.5, and further, amine halogenation as halogen The hydrogen salt is contained in the range specified in the present invention, and further, as an organic acid, adipic acid is specified in the present invention. Wherein within a scope that is, the remainder being solvent. Also with the soldering flux of Example 13b, a sufficient effect on suppression of precipitation was obtained. In addition, a sufficient effect was obtained to suppress cracking of the residue after soldering.

実施例14aに示すように、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であるダイマージアミンを23.8wt%、ロジンを47.6wt%含み、ロジンに対するダイマージアミンの比率が0.5であり、さらにハロゲンとして有機ハロゲン化合物を含み、さらに有機酸としてアジピン酸を含む樹脂組成物を溶剤で希釈したはんだ付け用フラックスは、実施例14bに示すように、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であるダイマージアミンを5wt%、ロジンを10wt%含み、ロジンに対するダイマージアミンの比率が0.5であり、さらにハロゲンとして有機ハロゲン化合物を本発明で規定された範囲内で含み、さらに有機酸としてアジピン酸を本発明で規定された範囲内で含み、残部が溶剤である。実施例14bのはんだ付け用フラックスでも、析出の抑制に対して十分な効果が得られた。また、はんだ付け後の残渣のひび割れの抑制に対しても十分な効果が得られた。   As shown in Example 14a, it contains 23.8 wt% of dimer diamine which is a reactant obtained by modifying dimer acid which is a reactant of oleic acid and linoleic acid, 47.6 wt% of rosin, and the ratio of dimer diamine to rosin A soldering flux prepared by diluting a resin composition containing an organic halogen compound as a halogen and further containing adipic acid as an organic acid with a solvent, as shown in Example 14b, comprises oleic acid and linole The present invention contains 5 wt% of dimer diamine which is a reaction product of dimer acid which is a reactant of acid, 10 wt% of rosin, a ratio of dimer diamine to rosin of 0.5, and further, an organic halogen compound as a halogen And adipic acid as the organic acid in the range defined in the present invention. Wherein, the remainder being solvent. Also with the soldering flux of Example 14b, a sufficient effect on suppression of precipitation was obtained. In addition, a sufficient effect was obtained to suppress cracking of the residue after soldering.

なお、ロジンとの比率が本発明で規定された範囲内であれば、水添ダイマージアミンと水添トリマートリアミンの何れか、または、水添ダイマージアミンと水添トリマートリアミンの両方を含む場合でも同様の効果が得られた。また、各実施例では、溶剤としてイソプロピルアルコールを使用したが、工業用エタノール(エタノールにメタノール及び/またはイソプロピルアルコールを添加した混合溶剤)を使用しても同様の効果が得られた。   If the ratio to the rosin is within the range defined in the present invention, the same applies in the case of containing either hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimmer triamine, or both hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimmer triamine. The effect of was obtained. Moreover, although isopropyl alcohol was used as a solvent in each Example, the same effect was acquired, even if it uses industrial ethanol (Methanol and / or the mixed solvent which added isopropyl alcohol to ethanol).

これに対し、比較例1aに示すように、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの何れも含まず、他のアミンとしてエチレンジアミンを含み、さらにロジンと有機酸を含む樹脂組成物を溶剤で希釈したはんだ付け用フラックスは、比較例1bに示すように、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの何れも含まず、他のアミンとしてエチレンジアミンを本発明で規定された範囲を超えて含み、さらにロジンと有機酸を本発明で規定された範囲内で含み、残部が溶剤である。比較例1bのはんだ付け用フラックスでは、フラックスの析出が見られ、析出の抑制に対して十分な効果が得られなかった。また、はんだ付け後の残渣のひび割れが見られ、残渣のひび割れの抑制に対して十分な効果が得られなかった。   On the other hand, as shown in Comparative Example 1a, the resin composition does not contain any of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine, contains ethylene diamine as another amine, and further contains rosin and an organic acid. As shown in Comparative Example 1b, the soldering flux prepared by diluting the product with a solvent does not contain any of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine, and ethylene diamine is used as the other amine in the present invention. In addition to the range specified above, rosin and an organic acid are further included within the range specified in the present invention, and the balance is a solvent. In the soldering flux of Comparative Example 1b, precipitation of the flux was observed, and a sufficient effect on suppression of precipitation was not obtained. In addition, cracking of the residue after soldering was observed, and a sufficient effect on suppression of cracking of the residue was not obtained.

比較例2aに示すように、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの何れも含まず、他のアミンとして1,3−プロパンジアミンを含み、さらにロジンと有機酸を含む樹脂組成物を溶剤で希釈したはんだ付け用フラックスは、比較例2bに示すように、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの何れも含まず、他のアミンとして1,3−プロパンジアミンを本発明で規定された範囲を超えて含み、さらにロジンと有機酸を本発明で規定された範囲内で含み、残部が溶剤である。比較例2bのはんだ付け用フラックスでも、フラックスの析出が見られ、析出の抑制に対して十分な効果が得られなかった。また、はんだ付け後の残渣のひび割れが見られ、残渣のひび割れの抑制に対して十分な効果が得られなかった。   As shown in Comparative Example 2a, a resin which does not contain any of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine, contains 1,3-propanediamine as another amine, and further contains rosin and an organic acid As shown in Comparative Example 2b, the soldering flux prepared by diluting the composition with a solvent does not contain any of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine, and hydrogenated trimer triamine, and as the other amine, it is 1,3-butadiene. The propane diamine is contained beyond the range specified in the present invention, and further, the rosin and the organic acid are contained within the range specified in the present invention, and the balance is a solvent. Also in the soldering flux of Comparative Example 2b, precipitation of the flux was observed, and a sufficient effect on suppression of precipitation was not obtained. In addition, cracking of the residue after soldering was observed, and a sufficient effect on suppression of cracking of the residue was not obtained.

比較例3aに示すように、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの何れも含まず、他のアミンとしてヘキサメチレンジアミンを含み、さらにロジンと有機酸を含む樹脂組成物を溶剤で希釈したはんだ付け用フラックスは、比較例3bに示すように、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの何れも含まず、他のアミンとしてヘキサメチレンジアミンを本発明で規定された範囲を超えて含み、さらにロジンと有機酸を本発明で規定された範囲内で含み、残部が溶剤である。比較例3bのはんだ付け用フラックスでも、フラックスの析出が見られ、析出の抑制に対して十分な効果が得られなかった。また、はんだ付け後の残渣のひび割れが見られ、残渣のひび割れの抑制に対して十分な効果が得られなかった。   As shown in Comparative Example 3a, a resin composition containing none of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine, containing hexamethylene diamine as another amine, and further containing rosin and an organic acid As shown in Comparative Example 3b, the soldering flux diluted with a solvent does not contain any of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine, and hexamethylene diamine is used as another amine in the present invention. In addition to the range specified above, rosin and an organic acid are further included within the range specified in the present invention, and the balance is a solvent. Also in the soldering flux of Comparative Example 3b, precipitation of the flux was observed, and a sufficient effect on suppression of precipitation was not obtained. In addition, cracking of the residue after soldering was observed, and a sufficient effect on suppression of cracking of the residue was not obtained.

比較例4aに示すように、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの何れも含まず、他のアミンとしてドデカメチレンジアミンを含み、さらにロジンと有機酸を含む樹脂組成物を溶剤で希釈したはんだ付け用フラックスは、比較例4bに示すように、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの何れも含まず、他のアミンとしてドデカメチレンジアミンを本発明で規定された範囲を超えて含み、さらにロジンと有機酸を本発明で規定された範囲内で含み、残部が溶剤である。比較例4bのはんだ付け用フラックスでも、フラックスの析出が見られ、析出の抑制に対して十分な効果が得られなかった。また、はんだ付け後の残渣のひび割れが見られ、残渣のひび割れの抑制に対して十分な効果が得られなかった。   As shown in Comparative Example 4a, a resin composition containing none of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimmer triamine, containing dodecamethylene diamine as another amine, and further containing rosin and an organic acid As shown in Comparative Example 4b, the soldering flux diluted with a solvent does not contain any of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine, and dodecamethylene diamine is used as the other amine in the present invention. In addition to the range specified above, rosin and an organic acid are further included within the range specified in the present invention, and the balance is a solvent. Also in the soldering flux of Comparative Example 4b, precipitation of the flux was observed, and a sufficient effect on suppression of precipitation was not obtained. In addition, cracking of the residue after soldering was observed, and a sufficient effect on suppression of cracking of the residue was not obtained.

比較例5aに示すように、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの何れも含まず、他のアミンとしてオレイルアミンを含み、さらにロジンと有機酸を含む樹脂組成物を溶剤で希釈したはんだ付け用フラックスは、比較例5bに示すように、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの何れも含まず、他のアミンとしてオレイルアミンを本発明で規定された範囲を超えて含み、さらにロジンと有機酸を本発明で規定された範囲内で含み、残部が溶剤である。比較例5bのはんだ付け用フラックスでは、フラックスの析出は見られなかったが、はんだ付け後の残渣のひび割れが見られ、残渣のひび割れの抑制に対して十分な効果が得られなかった。   As shown in Comparative Example 5a, a resin composition containing neither oleylamine as another amine but also rosin and an organic acid as a solvent is used as a solvent without any of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine. As shown in Comparative Example 5b, the diluted soldering flux does not contain any of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine, and the range specified in the present invention for oleylamine as another amine And rosin and an organic acid within the range specified in the present invention, with the balance being solvent. In the soldering flux of Comparative Example 5b, although precipitation of the flux was not observed, cracking of the residue after soldering was observed, and a sufficient effect on suppression of cracking of the residue was not obtained.

比較例6aに示すように、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの何れも含まず、他のアミンとしてステアリルアミンを含み、さらにロジンと有機酸を含む樹脂組成物を溶剤で希釈したはんだ付け用フラックスは、比較例6bに示すように、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの何れも含まず、他のアミンとしてステアリルアミンを本発明で規定された範囲を超えて含み、さらにロジンと有機酸を本発明で規定された範囲内で含み、残部が溶剤である。比較例6bのはんだ付け用フラックスでは、フラックスの析出が見られ、析出の抑制に対して十分な効果が得られなかった。また、はんだ付け後の残渣のひび割れが見られ、残渣のひび割れの抑制に対して十分な効果が得られなかった。   As shown in Comparative Example 6a, the resin composition does not contain any of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine, contains stearylamine as another amine, and further contains a rosin and an organic acid as a solvent As shown in Comparative Example 6b, the soldering flux diluted with is not contained in any of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine, and stearyl amine is specified in the present invention as another amine. In addition, rosin and an organic acid are contained within the range specified in the present invention, and the balance is a solvent. In the soldering flux of Comparative Example 6b, precipitation of the flux was observed, and a sufficient effect on suppression of precipitation was not obtained. In addition, cracking of the residue after soldering was observed, and a sufficient effect on suppression of cracking of the residue was not obtained.

比較例7aに示すように、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であるダイマージアミンを含む場合でも、ダイマージアミンを0.7wt%、ロジンを66.2wt%含み、ロジンに対するダイマージアミンの比率が0.01である樹脂組成物を溶剤で希釈したはんだ付け用フラックスは、比較例7bに示すように、ダイマージアミンを0.1wt%、ロジンを10wt%含み、ダイマージアミンの量が本発明で規定された範囲を下回り、ダイマージアミンのロジンに対するダイマージアミンの比率が0.01で、本発明で規定された範囲を下回り、さらに有機酸としてアジピン酸を本発明で規定された範囲内で含み、残部が溶剤である。比較例7bのはんだ付け用フラックスでは、フラックスの析出は見られなかったが、はんだ付け後の残渣のひび割れが見られ、残渣のひび割れの抑制に対して十分な効果が得られなかった。   As shown in Comparative Example 7a, 0.7 wt% of dimer diamine and 66.2 wt% of rosin are contained even when the dimer diamine which is a reactant obtained by modifying dimer acid which is a reactant of oleic acid and linoleic acid is included. The soldering flux prepared by diluting a resin composition having a ratio of dimer diamine to rosin of 0.01 with a solvent contains 0.1 wt% of dimer diamine and 10 wt% of rosin, as shown in Comparative Example 7b. The amount of diamine is less than the range defined in the present invention, the ratio of dimer diamine to rosin of dimer diamine is 0.01, less than the range defined in the present invention, and further adipic acid as the organic acid is defined in the present invention And the remainder is the solvent. In the soldering flux of Comparative Example 7b, although precipitation of the flux was not observed, cracking of the residue after soldering was observed, and a sufficient effect on suppression of cracking of the residue was not obtained.

比較例8aに示すように、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であるダイマージアミンを3.2wt%、ロジンを64.5wt%含み、ロジンに対するダイマージアミンの比率が0.05である樹脂組成物を溶剤で希釈したはんだ付け用フラックスは、比較例8bに示すように、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であるダイマージアミンを0.5wt%、ロジンを10wt%含み、ダイマージアミンの量が本発明で規定された範囲を下回り、ロジンに対するダイマージアミンの比率が0.05で、本発明で規定された範囲を下回りあり、さらに有機酸としてアジピン酸を本発明で規定された範囲内で含み、残部が溶剤である。比較例8bのはんだ付け用フラックスでも、フラックスの析出は見られなかったが、はんだ付け後の残渣のひび割れが見られ、残渣のひび割れの抑制に対して十分な効果が得られなかった。   As shown in Comparative Example 8a, the composition contains 3.2 wt% of dimer diamine which is a reactant obtained by modifying dimer acid which is a reactant of oleic acid and linoleic acid, 64.5 wt% of rosin, and the ratio of dimer diamine to rosin The soldering flux prepared by diluting the resin composition having a pH of 0.05 with a solvent is a dimer diamine which is a reaction product obtained by modifying a dimer acid which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid as shown in Comparative Example 8b. Containing 0.5 wt% of rosin and 10 wt% of rosin, the amount of dimer diamine being below the range specified in the present invention, the ratio of dimer diamine to rosin being 0.05, being below the range specified in the present invention, Furthermore, adipic acid is contained as an organic acid within the range specified in the present invention, and the balance is a solvent. Even in the soldering flux of Comparative Example 8b, precipitation of the flux was not observed, but cracking of the residue after soldering was observed, and a sufficient effect on suppression of cracking of the residue was not obtained.

比較例9aに示すように、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であるダイマージアミンを6.3wt%、ロジンを62.5wt%含み、ロジンに対するダイマージアミンの比率が0.1である樹脂組成物を溶剤で希釈したはんだ付け用フラックスは、比較例9bに示すように、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であるダイマージアミンを1wt%、ロジンを10wt%含み、ダイマージアミンの量が本発明で規定された範囲を下回り、ロジンに対するダイマージアミンの比率が0.1で、本発明で規定された範囲を下回り、さらに有機酸としてアジピン酸を本発明で規定された範囲内で含み、残部が溶剤である。比較例9bのはんだ付け用フラックスでも、フラックスの析出は見られなかったが、はんだ付け後の残渣のひび割れが見られ、残渣のひび割れの抑制に対して十分な効果が得られなかった。   As shown in Comparative Example 9a, 6.3 wt% of dimer diamine which is a reactant obtained by modifying dimer acid which is a reactant of oleic acid and linoleic acid, 62.5 wt% of rosin, and the ratio of dimer diamine to rosin The soldering flux prepared by diluting the resin composition having a concentration of 0.1 with a solvent is a dimer diamine which is a reaction product obtained by modifying a dimer acid which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid as shown in Comparative Example 9b. Containing 1 wt% of rosin and 10 wt% of rosin, the amount of dimer diamine being less than the range defined in the present invention, the ratio of dimer diamine to rosin being 0.1, less than the range defined in the present invention, further organic acid As adipic acid within the range specified in the present invention, the balance being solvent. Even in the soldering flux of Comparative Example 9b, precipitation of the flux was not observed, but cracking of the residue after soldering was observed, and a sufficient effect on suppression of cracking of the residue was not obtained.

比較例10aに示すように、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの何れも含まず、他のアミンとしてヘキサメチレンジアミンを含み、さらにロジンを含み、さらに有機酸としてグルタル酸とアジピン酸を含む樹脂組成物を溶剤で希釈したはんだ付け用フラックスは、比較例10bに示すように、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの何れも含まず、他のアミンとしてヘキサメチレンジアミンを本発明で規定された範囲内で含み、さらにロジンを本発明で規定された範囲内で含み、さらに有機酸としてグルタル酸とアジピン酸を本発明で規定された範囲を超えて含み、残部が溶剤である。比較例10bのはんだ付け用フラックスでは、フラックスの析出は見られなかったが、はんだ付け後の残渣のひび割れが見られ、残渣のひび割れの抑制に対して十分な効果が得られなかった。   As shown in Comparative Example 10a, none of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimmer triamine is contained, hexamethylene diamine is contained as another amine, rosin is further contained, and further, glutaric acid as an organic acid As shown in Comparative Example 10b, the soldering flux prepared by diluting the resin composition containing alanine and adipic acid with a solvent does not contain any of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine, It contains hexamethylenediamine as an amine within the range specified in the present invention, further contains a rosin within the range specified in the present invention, and further contains glutaric acid and adipic acid as organic acids beyond the range specified in the present invention And the rest is the solvent. In the soldering flux of Comparative Example 10b, although precipitation of the flux was not observed, cracking of the residue after soldering was observed, and a sufficient effect on suppression of cracking of the residue was not obtained.

比較例11a、比較例12aに示すように、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの何れも含まず、他のアミンとしてヘキサメチレンジアミンを含み、さらにロジンを含み、さらに有機酸としてグルタル酸とアジピン酸を含む樹脂組成物を溶剤で希釈したはんだ付け用フラックスは、比較例11b、12bに示すように、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの何れも含まず、他のアミンとしてヘキサメチレンジアミンを本発明で規定された範囲内で含み、さらにロジンを本発明で規定された範囲内で含み、さらに有機酸としてグルタル酸とアジピン酸を本発明で規定された範囲を超えて含み、残部が溶剤である。比較例11b、12bのはんだ付け用フラックスでは、他のアミンの量が本発明で規定された範囲内で増やしていくことで、フラックスの析出が見られ、析出の抑制に対して十分な効果が得られなかった。また、はんだ付け後の残渣のひび割れが見られ、残渣のひび割れの抑制に対して十分な効果が得られなかった。   As shown in Comparative Examples 11a and 12a, none of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine is contained, hexamethylene diamine is contained as another amine, rosin is further contained, and further organic A soldering flux prepared by diluting a resin composition containing glutaric acid and adipic acid as an acid with a solvent is any of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine as shown in Comparative Examples 11b and 12b. Also, other amines including hexamethylenediamine as defined in the present invention, rosin as defined in the present invention, and organic acids such as glutaric acid and adipic acid as the present invention It is contained beyond the specified range, and the remainder is the solvent. In the soldering fluxes of Comparative Examples 11b and 12b, precipitation of the flux is observed by increasing the amount of other amines within the range specified in the present invention, and a sufficient effect on suppression of the precipitation is obtained. It was not obtained. In addition, cracking of the residue after soldering was observed, and a sufficient effect on suppression of cracking of the residue was not obtained.

比較例13a〜比較例15aに示すように、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの何れも含まず、他のアミンとしてヘキサメチレンジアミンを含み、さらにロジンを含み、さらに有機酸としてグルタル酸とアジピン酸を含む樹脂組成物を溶剤で希釈したはんだ付け用フラックスは、比較例13b〜比較例15bに示すように、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの何れも含まず、他のアミンとしてヘキサメチレンジアミンを本発明で規定された範囲を超えて含み、さらにロジンを本発明で規定された範囲内で含み、さらに有機酸としてグルタル酸とアジピン酸を本発明で規定された範囲を超えて含み、残部が溶剤である。比較例13b〜比較例15bはんだ付け用フラックスでも、フラックスの析出が見られ、析出の抑制に対して十分な効果が得られなかった。また、はんだ付け後の残渣のひび割れが見られ、残渣のひび割れの抑制に対して十分な効果が得られなかった。   As shown in Comparative Examples 13a to 15a, none of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine is contained, hexamethylene diamine is contained as another amine, rosin is further contained, and further organic As shown in Comparative Example 13b to Comparative Example 15b, a soldering flux prepared by diluting a resin composition containing glutaric acid and adipic acid as an acid with a solvent includes dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine, and hydrogenated trimer triamine. Not containing any of the above, containing hexamethylenediamine as the other amine beyond the range specified in the present invention, further containing rosin within the range specified in the present invention, and further containing glutaric acid and adipic acid as the organic acids The remainder is the solvent which is included beyond the range defined in the present invention. Even in the soldering flux of Comparative Example 13b to Comparative Example 15b, precipitation of the flux was observed, and a sufficient effect on suppression of the precipitation was not obtained. In addition, cracking of the residue after soldering was observed, and a sufficient effect on suppression of cracking of the residue was not obtained.

以上のことから、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミンまたは水添トリマートリアミンのいずれか、あるいは、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの2種以上とロジンと溶剤とを含み、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミンまたは水添トリマートリアミンのいずれかの量、あるいは、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの2種以上の合計の量と、ロジンの量の比率が、ロジンを基準として0.35以上1.00以下であるはんだ付け用フラックスでは、析出が抑制され、また、はんだ付け後の残渣のひび割れが抑制された。   From the above, any of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimmer triamine, or two or more of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine, rosin and solvent And any amount of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimer triamine, or the total amount of two or more of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine In the soldering flux in which the ratio of the amount of rosin is 0.35 or more and 1.00 or less on the basis of rosin, precipitation is suppressed, and cracking of the residue after soldering is suppressed.

以上の効果は、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミンまたは水添トリマートリアミンのいずれか、あるいは、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの2種以上とロジンとを含み、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミンまたは水添トリマートリアミンのいずれかの量、あるいは、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの2種以上の合計の量と、ロジンの量の比率が、ロジンを基準として0.35以上1.00以下である樹脂組成物を溶剤で希釈したはんだ付け用フラックスで得られた。   The above effects include one or more of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimmer triamine, or dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine, and rosin. , The amount of either dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimmer triamine, or the total amount of two or more of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine, and rosin The flux for soldering was obtained by diluting a resin composition having a ratio of the amount of at least 0.35 and not more than 1.00 based on rosin with a solvent.

これにより、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミンまたは水添トリマートリアミンのいずれかの量、あるいは、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの2種以上の合計の量と、ロジンの量の比率に、発明の効果が起因することが判った。   Thereby, the amount of any of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimer triamine, or the total amount of two or more of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine It has been found that the effect of the invention is attributed to the ratio of the amount of rosin.

本発明は、はんだ付け用フラックスに用いられる樹脂組成物及びこの樹脂組成物を用いたはんだ付け用フラックスに関する。 The present invention relates to a resin composition used for a soldering flux and a soldering flux using the resin composition.

本発明は、このような課題を解決するためなされたもので、残渣のひび割れを抑制できるようにしたはんだ付け用フラックスに用いられる樹脂組成物及びはんだ付け用フラックスを提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve such problems, and it is an object of the present invention to provide a resin composition and a soldering flux used for a soldering flux which can suppress cracking of a residue.

そこで、本発明は、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミンまたは水添トリマートリアミンのいずれか、あるいは、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの2種以上とロジンとを含み、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミンまたは水添トリマートリアミンのいずれかの量、あるいは、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの2種以上の合計の量と、ロジンの量の比率が。ロジンを基準として0.35以上1.00以下であるはんだ付け用フラックスに用いられる樹脂組成物である。 Therefore, in the present invention, one or more of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimmer triamine, or dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine, and rosin The amount of any of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimer triamine, or the total amount of two or more of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine; The ratio of the amount of rosin. It is a resin composition used for the flux for soldering which is 0.35 or more and 1.00 or less on the basis of rosin.

また、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミンまたは水添トリマートリアミンのいずれか、あるいは、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの2種以上合計を、3.5wt%以上10.0wt%以下含むことが好ましい。 Furthermore, dimer diamine, trimer triamine, either hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimer triamine, or a dimer diamine, trimer triamine, a total of two or more hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine, 3.5 wt% It is preferable to contain 10.0 wt% or less.

本発明のはんだ付け用フラックスに用いられる樹脂組成物は、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミンまたは水添トリマートリアミンのいずれか、あるいは、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの2種以上とロジンとを含み、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミンまたは水添トリマートリアミンのいずれかの量、あるいは、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの2種以上の合計の量と、ロジンの量の比率が、ロジンを基準として0.35以上1.00以下である。 The resin composition used for the soldering flux of the present invention may be any of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimmer triamine, or dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer. Containing two or more kinds of triamines and rosin, and any amount of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimer triamine, or dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimmer triamine The ratio of the total amount of two or more types to the amount of rosin is 0.35 or more and 1.00 or less based on rosin.

<本実施の形態のはんだ付け用フラックスに用いられる樹脂組成物及びはんだ付け用フラックスの一例>
本実施の形態のはんだ付け用フラックスに用いられる樹脂組成物は、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミンまたは水添トリマートリアミンのいずれか、あるいは、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの2種以上とロジンとを含む。
<Example of Resin Composition and Soldering Flux Used for Soldering Flux of This Embodiment>
The resin composition used for the soldering flux of the present embodiment is any of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimmer triamine, or dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and water. It contains two or more kinds of added trimer triamine and rosin.

Claims (8)

ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミンまたは水添トリマートリアミンのいずれか、あるいは、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの2種以上とロジンとを含み、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミンまたは水添トリマートリアミンのいずれかの量、あるいは、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの2種以上の合計の量と、ロジンの量の比率が、ロジンを基準として0.35以上1.00以下である
ことを特徴とする樹脂組成物。
Dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimer triamine, or dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine, and rosin and dimer diamine, trimer The ratio of either the amount of triamine, hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimmer triamine, or the total of two or more of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimmer triamine to the amount of rosin A resin composition characterized by being 0.35 or more and 1.00 or less based on rosin.
ダイマージアミンは、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であり、トリマートリアミンは、オレイン酸とリノール酸の反応物であるトリマー酸を変性させた反応物である
ことを特徴とする請求項1に記載の樹脂組成物。
The dimer diamine is a reaction product obtained by modifying dimer acid which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid, and the trimer triamine is a reaction product obtained by modifying trimer acid which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid. The resin composition according to claim 1, characterized in that
ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミンまたは水添トリマートリアミンのいずれか、あるいは、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの2種以上とロジンと溶剤とを含み、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミンまたは水添トリマートリアミンのいずれかの量、あるいは、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの2種以上の合計の量と、ロジンの量の比率が、ロジンを基準として0.35以上1.00以下である
ことを特徴とするはんだ付け用フラックス。
Dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimer triamine, or dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine, hydrogenated trimer triamine, rosin and solvent, and dimer diamine The amount of either trimer triamine, hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimmer triamine, or the total of two or more of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine, and the amount of rosin The flux for soldering characterized in that the ratio is 0.35 or more and 1.00 or less based on rosin.
ダイマージアミンは、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸を変性させた反応物であり、トリマートリアミンは、オレイン酸とリノール酸の反応物であるトリマー酸を変性させた反応物である
ことを特徴とする請求項3に記載のはんだ付け用フラックス。
The dimer diamine is a reaction product obtained by modifying dimer acid which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid, and the trimer triamine is a reaction product obtained by modifying trimer acid which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid. The soldering flux according to claim 3, characterized in that
ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミンまたは水添トリマートリアミンのいずれか、あるいは、ダイマージアミン、トリマートリアミン、水添ダイマージアミン及び水添トリマートリアミンの2種以上を、合計で3.5wt%以上10.0wt%以下含む
ことを特徴とする請求項3または請求項4に記載のはんだ付け用フラックス。
Any of dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine or hydrogenated trimer triamine, or dimer diamine, trimer triamine, hydrogenated dimer diamine and hydrogenated trimer triamine in total of 3.5 wt% or more in total 10 The flux for soldering according to claim 3 or 4 containing less than 0wt%.
ロジンを5.0wt%以上10.0wt%以下、
溶剤を70.0wt%以上91.5wt%以下含む
ことを特徴とする請求項3〜請求項5の何れか1項に記載のはんだ付け用フラックス。
5.0 wt% or more and 10.0 wt% or less of rosin,
The flux for soldering according to any one of claims 3 to 5, comprising 70.0 wt% or more and 91.5 wt% or less of a solvent.
活性剤としてさらに有機酸を0wt%以上5.0wt%以下、
有機ハロゲン化合物を0wt%以上1.0wt%以下、
アミンハロゲン化水素酸塩を0wt%以上1.0wt%以下含む
ことを特徴とする請求項3〜請求項6の何れか1項に記載のはんだ付け用フラックス。
0 wt% or more and 5.0 wt% or less of an organic acid as an activator
Organic halogen compound 0 wt% or more and 1.0 wt% or less,
The flux for soldering according to any one of claims 3 to 6, containing 0 wt% or more and 1.0 wt% or less of an amine hydrohalide salt.
活性剤としてさらに他のアミンを0wt%以上1.0wt%以下含む
ことを特徴とする請求項3〜請求項7の何れか1項に記載のはんだ付け用フラックス。
The flux for soldering according to any one of claims 3 to 7, further comprising 0 wt% or more and 1.0 wt% or less of another amine as an activator.
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