JP2019114378A - 基板の局所加熱装置、流動物が付与された基板の前記流動物の端部膜厚の制御装置、流動物のコーティング装置、基板上に付与された流動物の乾燥装置および流動物の端部厚みの制御方法 - Google Patents
基板の局所加熱装置、流動物が付与された基板の前記流動物の端部膜厚の制御装置、流動物のコーティング装置、基板上に付与された流動物の乾燥装置および流動物の端部厚みの制御方法 Download PDFInfo
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Abstract
Description
6 装置基台 7 位置決めブロック
10 加熱温度調整装置 11 加熱ユニット
12 金属製プレート 13 温度センサ
14、14’ 温度コントローラー
15、15R、15L 加熱接触部材
15s、15sR、15sL 加熱接触部材の接触面
15g 加熱接触部材のガイド面
16 温度調整装置 17 温度調整ユニット
18 温度調整用接触部材
18s、18sL、18sR 温度調整用接触部材の接触面
19 弾性体 20 移動手段
21 レール 22 水平可動部
23 リニアアクチュエータ 24 移動制御装置
25 昇降アクチュエータ 26 上下可動部
41 コーティング装置 42 乾燥装置
43 ロール 61 スリットノズル
62 スリットノズルから吐出された塗布液
71 薄膜部 72 厚膜部
73 塗布膜の端面 74 塗布膜の上面
81 位置決めポール F 塗布膜
F1 膜厚形状制御後の塗布膜形状
L 温度変化が生じる長さ L1 吐出幅
L2 塗布幅 T0 塗布膜中央部側の温度
T1 加熱部分の温度 W1 ガラス基板
W2 円形の基板 W3 シート状基材
X 幅方向
X0 端部不均一部長さ
X1 端部厚膜部長さ
Y0 端部膜厚の制御を行わなかった場合の膜厚増加分
Y1 端部膜厚の制御を行った場合の膜厚増加分
Claims (7)
- 基板の上に付与された流動物の端部近傍の温度をその周囲よりも高い温度に加熱する手段、前記端部近傍の温度を所定の温度に制御する制御手段を具備する基板の局所加熱装置。
- 前記端部近傍の周囲部分の温度を所定の温度に調節する手段を更に具備する請求項1記載の基板の局所加熱装置。
- 請求項1または2記載の局所加熱装置が具備されたことを特徴とする流動物が付与された基板の前記流動物の端部膜厚の制御装置。
- 請求項3に記載の端部膜厚の調整装置を具備する流動物のコーティング装置。
- 請求項3に記載の端部膜厚の調整装置を具備する基板上に付与された流動物の乾燥装置。
- 基板の上に流動物を付与する工程、前記流動物が付与された基板の前記流動物の端部をその周囲よりも高い所定の温度に加熱する工程を有する流動物の端部厚みの制御方法。
- 前記流動物が付与された基板の前記流動物の端部近傍をその周囲よりも高い所定の温度に加熱する工程が、前記流動物の端部近傍をその周囲よりも高い所定の温度に加熱するとともに前記端部近傍の周囲部分の温度を所定の温度に制御することを特徴とする請求項6に記載の流動物の端部厚みの制御方法。
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---|---|---|---|---|
JP2003013260A (ja) * | 2001-07-03 | 2003-01-15 | Toppan Printing Co Ltd | エッチング部品の製造方法及び製造装置 |
JP2011023178A (ja) * | 2009-07-14 | 2011-02-03 | Sharp Corp | 加熱ヒータ、加熱ヒータの製造方法、定着装置および画像形成装置 |
JP2011230051A (ja) * | 2010-04-27 | 2011-11-17 | Tokyo Electron Ltd | レジスト塗布装置、これを備える塗布現像システム、およびレジスト塗布方法 |
JP2011235442A (ja) * | 2010-04-30 | 2011-11-24 | Nisshinbo Mechatronics Inc | ラミネート装置用熱板およびその熱板を用いたラミネート装置 |
US20140209596A1 (en) * | 2013-01-25 | 2014-07-31 | Applied Materials, Inc. | Electrostatic chuck with concentric cooling base |
-
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003013260A (ja) * | 2001-07-03 | 2003-01-15 | Toppan Printing Co Ltd | エッチング部品の製造方法及び製造装置 |
JP2011023178A (ja) * | 2009-07-14 | 2011-02-03 | Sharp Corp | 加熱ヒータ、加熱ヒータの製造方法、定着装置および画像形成装置 |
JP2011230051A (ja) * | 2010-04-27 | 2011-11-17 | Tokyo Electron Ltd | レジスト塗布装置、これを備える塗布現像システム、およびレジスト塗布方法 |
JP2011235442A (ja) * | 2010-04-30 | 2011-11-24 | Nisshinbo Mechatronics Inc | ラミネート装置用熱板およびその熱板を用いたラミネート装置 |
US20140209596A1 (en) * | 2013-01-25 | 2014-07-31 | Applied Materials, Inc. | Electrostatic chuck with concentric cooling base |
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