JP2019111794A - Coating plastic molded body and manufacturing method therefor - Google Patents

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考平 本村
Kohei Motomura
考平 本村
照之 山崎
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照之 山崎
堀田 篤
Atsushi Hotta
篤 堀田
良洋 牧
Yoshihiro Maki
良洋 牧
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Abstract

To provide a coating plastic molded body improved gas barrier property compared to conventional ones, and a manufacturing method therefor.SOLUTION: The coating plastic molded body 90 has a plastic molded body 91, a gas barrier thin film 93 coating a surface of the plastic molded body 91, and a curing layer 92 coating a surface of the gas barrier thin film 93 and consisting of a condensation polymer of a compound represented by the general formula (Chemical 1). (Chemical 1) R-M-(CH)(OR'). In the general formula (Chemical 1), M represents silicon or a metal, R represents a hydrocarbon chain having an amino group, R' represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and n represents 0, 1 or 2.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本開示は、ガスバリア薄膜と組合せ可能な被覆プラスチック成形体及びその製造方法に関する。   The present disclosure relates to coated plastic moldings that can be combined with gas barrier films and methods of making the same.

プラスチックは、透明性、軽量性、耐衝撃性、耐食性及び加工成形性に優れ、価格が安価で、多品種少量生産に対応できるという長所を有するため、食品、飲料、医薬品又は化粧品などを包装する包装材料として適している。しかし、プラスチックは、他の包装材料である金属又はガラスと比べて、ガスバリア性が低く、酸化を嫌う内容物又はビールなどのガスを含有する内容物の包装材料としては適さないという問題があった。   Plastics is excellent in transparency, lightness, impact resistance, corrosion resistance, processing and moldability, and has the advantages of being inexpensive and being able to cope with high-mix low-volume production, so packaging food, beverages, medicines, cosmetics, etc. Suitable as packaging material. However, plastic has lower gas barrier properties compared to other packaging materials, such as metal or glass, and has a problem that it is not suitable as a packaging material for contents that are resistant to oxidation or contents containing gas such as beer. .

そこで、ガスバリア性を有する薄膜(以降、ガスバリア薄膜ということもある。)を備える被覆プラスチック成形体が提案されている。例えば、プラスチック基材上に、非水溶性樹脂微粒子とシリカ、ジルコニア、アルミナ、チタニアからなる群から選ばれる1種以上の金属酸化物とからなるコーティング膜を形成したガスバリア性に優れるガスバリア性フィルムが提案されている(例えば、特許文献1を参照。)。また、基材フィルムと珪素、アルミニウム、マグネシウム、チタン、ジルコニア、錫などの金属又はそれらの酸化物の薄膜層との間に厚さ0.5〜5.0nmの金属酸化物のアンカーコート層を積層したガスバリア性フィルムが提案されている(例えば、特許文献2を参照。)。   Therefore, a coated plastic molded body provided with a thin film having gas barrier properties (hereinafter also referred to as a gas barrier thin film) has been proposed. For example, a gas barrier film having excellent gas barrier properties is obtained by forming a coating film comprising non-water-soluble resin fine particles and one or more metal oxides selected from the group consisting of silica, zirconia, alumina and titania on a plastic substrate. It is proposed (for example, refer to patent documents 1). In addition, an anchor coat layer of a metal oxide having a thickness of 0.5 to 5.0 nm is formed between a base film and a thin film layer of a metal such as silicon, aluminum, magnesium, titanium, zirconia, tin, or their oxides. A laminated gas barrier film has been proposed (see, for example, Patent Document 2).

近年、プラスチック容器にガスバリア性を付与する手段として、プラスチック容器の表面をDLC(Diamond Like Carbon)膜で被覆することが提案されている(例えば、特許文献3又は4を参照。)。DLC膜は、炭素原子及び水素原子による非晶性の三次元構造からなる膜で、硬く、絶縁性に優れ、高屈折率で、非常に滑らかなモルフォロジを有する硬質炭素膜である。特許文献3では、プラズマ化学蒸着(CVD)法によってプラスチック容器の表面に膜厚5〜35nmのダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜を形成している。特許文献4では、高分子基材の表面にメタン‐アルゴン混合ガスを用いるCVDプラズマ処理に供して、炭素中間層膜を形成させ、炭素中間層膜上に更に炭化水素含有ガスを用いるCVDプラズマ処理に供して、ダイヤモンドライクカーボン膜を形成することで、高分子基材表面に密着性に優れたDLC膜を形成する技術を開示している。   In recent years, it has been proposed to coat the surface of a plastic container with a DLC (Diamond Like Carbon) film as a means for imparting gas barrier properties to a plastic container (see, for example, Patent Documents 3 and 4). The DLC film is a film having an amorphous three-dimensional structure of carbon atoms and hydrogen atoms, and is a hard carbon film which is hard and has excellent insulation, a high refractive index, and a very smooth morphology. In Patent Document 3, a diamond like carbon (DLC) film having a thickness of 5 to 35 nm is formed on the surface of a plastic container by a plasma chemical vapor deposition (CVD) method. In Patent Document 4, the surface of a polymer substrate is subjected to CVD plasma treatment using a mixed gas of methane and argon to form a carbon interlayer film, and CVD plasma treatment using a hydrocarbon-containing gas is further formed on the carbon interlayer film. Patent Document 1 discloses a technique of forming a DLC film excellent in adhesion on the surface of a polymer substrate by forming a diamond-like carbon film.

しかし、これらのガスバリア薄膜技術は、現在、主として、ポリエチレンテレフタレート(PET)基材で実用化されている一方で、包装容器に限らず産業界全般にわたって使用量が多く、用途の広いポリプロプレン基材、ポリエチレン基材などのポリオレフィン基材では実用化が進んでいない。その理由は、例えば、これらのポリオレフィン基材が、化学的に不活性な高分子からなり、かつ、球晶の性質及び成形性の影響によって、表面が粗くなる傾向にあるためである。そこで、表面の活性化のために、ポリプロピレンフィルムの表面に、プラズマ処理を行う技術が開示されている(例えば、特許文献5を参照。)。表面を平滑化するために、イオンプレーティング法によって酸化ケイ素の蒸着膜を形成する前に、ポリプロピレンフィルムの表面に、樹脂の1種ないし2種をビヒクルの主成分とし、これに、硬化剤を添加してなる硬化性樹脂組成物による耐プラズマ保護層を設ける技術が開示されている(例えば、特許文献6を参照。)。また、ポリオレフィンを主成分とするプラスチック基材上に、アルカリ金属ポリシリケートを主成分とするガスバリア性被膜を形成し、ガスバリア性被膜とプラスチック基材との密着性を向上させるために、アルカリ金属ポリシリケートに、さらに窒素化合物または/及び水溶性高分子を配合させる技術が開示されている(例えば、特許文献7を参照。)。オレフィン系樹脂による基材シートとオレフィン系樹脂による熱可塑性樹脂層との接着強度を強化させるために、シランカップリング剤を添加する技術が開示されている(例えば、特許文献8を参照。)。密着性向上のために、ポリプロピレンフィルム基材の表面にシランカップリング剤とアクリルポリオール及びイソシアネートとの化合物との複合物からなる透明プライマー層を設け、その上に無機酸化物からなる蒸着薄膜層を設ける技術が開示されている(例えば、特許文献9を参照。)。   However, while these gas barrier thin film technologies are currently put into practical use mainly with polyethylene terephthalate (PET) substrates, they are used in large quantities throughout the industry, not only in packaging containers, and are versatile polypropylene substrates. Commercialization has not been progressed with polyolefin substrates such as polyethylene substrates. The reason is that, for example, these polyolefin substrates are made of a chemically inert polymer, and the surface tends to be rough due to the influence of the nature and formability of spherulites. Then, the technique of performing a plasma processing on the surface of a polypropylene film for surface activation is disclosed (for example, refer patent document 5). In order to smooth the surface, before forming a vapor-deposited film of silicon oxide by the ion plating method, on the surface of the polypropylene film, one or two kinds of resins are the main components of the vehicle, to which a curing agent is added The technique which provides the plasma-resistant protective layer by the curable resin composition formed by adding is disclosed (for example, refer patent document 6). In addition, on a plastic base mainly composed of polyolefin, a gas barrier coating mainly composed of an alkali metal polysilicate is formed, and in order to improve the adhesion between the gas barrier coating and the plastic base, an alkali metal poly A technique is disclosed in which a nitrogen compound and / or a water-soluble polymer is further incorporated into a silicate (see, for example, Patent Document 7). There has been disclosed a technique of adding a silane coupling agent in order to enhance the adhesive strength between a substrate sheet of olefin resin and a thermoplastic resin layer of olefin resin (see, for example, Patent Document 8). In order to improve adhesion, a transparent primer layer consisting of a compound of a silane coupling agent, an acrylic polyol and an isocyanate compound is provided on the surface of a polypropylene film substrate, and a vapor deposition thin film layer consisting of an inorganic oxide is formed thereon. A technology to provide is disclosed (see, for example, Patent Document 9).

さらに、アミノ基を有するカップリング剤を、カップリング剤として使用するのではなく、プラスチック成形体の表面を被覆する硬化層の原料として縮合反応させることで硬化層を形成し、その硬化層が、密着層としての役割と薄膜の性能を良好に発現させる下地層としての役割とを果たし、しかも、硬化層自体がガスバリア性を有するという技術がある(例えば特許文献12を参照。)。   Furthermore, a hardened layer is formed by condensation reaction as a raw material of a hardened layer covering the surface of a plastic molded body, instead of using a coupling agent having an amino group as a coupling agent, and the hardened layer is There is a technology that plays a role as an adhesion layer and a role as a base layer that favorably expresses the performance of a thin film, and further, the cured layer itself has gas barrier properties (see, for example, Patent Document 12).

特開2009−269217号公報JP, 2009-269217, A 特開2010−605号公報JP, 2010-605, A 特開2008−230648号公報JP 2008-230648 A 特開2005−2377号公報JP 2005-2377 A 特開2008−248374号公報JP 2008-248374 A 特開平11−105218号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-105218 特開2002−113826号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-113826 特開平8−230113号公報JP-A-8-230113 特開2000−254994号公報Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-254994 特開平08−53116公報Japanese Patent Application Publication No. 08-53116 WO2006/126677号公報WO 2006/126677 特開2012−193303号公報JP 2012-193303 A

特許文献1に記載のガスバリア性フィルムは、ガスバリア性の向上を目的として、金属アルコキシドを加水分解・重縮合反応させて、ガスバリア性のコーティング膜を構成する金属酸化物の構造体を形成している。この加水分解・重縮合反応には、例えば、110℃で1.5時間の反応時間が必要であるため、処理に時間がかかり、また、基材への熱によるダメージが懸念される。また、ガスバリア性のコーティング膜を、塗工溶液を基材フィルムに塗布・乾燥する、所謂湿式法によって形成するものであり、プラスチックフィルムのような平面形状の対象に成膜するのに適するが、ボトルのような立体形状の対象に成膜するのには適さない。特許文献2又は特許文献6に記載のガスバリア性フィルムでは、薄膜を物理蒸着法を用いて形成されているが、物理蒸着法は、製造装置が高価であり、また成膜速度が遅いため、包装用途としてのプラスチック成形体の製造方法として有効な手段とはいい難い。   In the gas barrier film described in Patent Document 1, for the purpose of improving the gas barrier property, a metal alkoxide is subjected to a hydrolysis / polycondensation reaction to form a metal oxide structure forming a coating film of the gas barrier property. . Since this hydrolysis / polycondensation reaction requires, for example, a reaction time of 1.5 hours at 110 ° C., processing takes time, and there is a concern that the substrate may be damaged by heat. Also, a gas barrier coating film is formed by a so-called wet method in which a coating solution is applied to a substrate film and dried, which is suitable for forming a film on a planar object such as a plastic film, It is not suitable for forming a film on a three-dimensional object such as a bottle. In the gas barrier film described in Patent Document 2 or Patent Document 6, the thin film is formed using a physical vapor deposition method, but the physical vapor deposition method is expensive because the manufacturing apparatus is expensive and the film forming rate is slow. It can not be said that it is an effective means as a manufacturing method of the plastic molding as a use.

特許文献5では、プラズマ処理によってポリプロピレン表面に、いわゆる、弱境界層が生成し、これによりポリプロピレンフィルムと薄膜との密着強度が不足する恐れがある。特許文献7〜特許文献9では、シランカップリング剤は、本来の役割、すなわち、その両端に有するそれぞれ性質の異なる官能基によって、化学的性質の異なる表面に結合することで、両者を結びつける役割で利用されている。しかし、いずれも、ガスバリア薄膜を中間層として用いるものであり、食品又は飲料に直接接触する用途には適用できることには言及していない。   In Patent Document 5, a so-called weak boundary layer is formed on the surface of the polypropylene by plasma treatment, which may result in insufficient adhesion strength between the polypropylene film and the thin film. In Patent Documents 7 to 9, the silane coupling agent has an intrinsic role, that is, a role of linking the two by bonding to surfaces having different chemical properties by functional groups having different properties respectively at both ends thereof. It's being used. However, none of them mentions that the gas barrier thin film is used as an intermediate layer and is applicable to applications in direct contact with food or beverages.

前述の問題点はありながらも、プラスチックボトル表面に塗工溶液を用いて塗布・乾燥する、所謂湿式法は、上述したポリオレフィン基材の表面の不活性さ又は/及び粗さに対して、活性及び平滑性(レベリング)の付与を同時に達成可能な観点で、また、容器の成形性に影響を与えないという観点で、ポリプロプレン基材又はポリエチレン基材にガスバリア薄膜を形成する際に有望な手段となりうる。ただし、用いる塗工溶液は、ポリプロプレン又はポリエチレン及びガスバリア薄膜の両方に密着性があるとともに、薄膜のガスバリア性を発現させる下地層としての性質及び容器生産の速度に追従できる高速処理を可能とできる性質が求められる。さらに、飲料、食品向けの容器に用いるためには、人体に対する安全性が求められる。本発明者らが知る限り、容器のような立体物に応用できる塗工溶液、ガスバリア薄膜の下地層を用いた処理方法及びその結果得られたガスバリア容器は知られていない。   Although there are the aforementioned problems, the so-called wet method of applying and drying using a coating solution on the surface of a plastic bottle is active against the inertness or / and the roughness of the surface of the polyolefin substrate described above. And a promising means for forming a gas barrier thin film on a polypropylene substrate or a polyethylene substrate from the viewpoint of simultaneously achieving application of smoothness and leveling and from the viewpoint of not affecting the formability of the container It can be However, the coating solution used has adhesion to both polypropylene and polyethylene and the gas barrier thin film, and can perform high-speed processing capable of following the property of the thin film as an underlayer to develop gas barrier properties and the rate of container production Nature is required. Furthermore, in order to use for containers for drinks and food, safety for the human body is required. As far as the present inventors know, a coating solution applicable to a three-dimensional object such as a container, a treatment method using an underlayer of a gas barrier thin film, and a gas barrier container obtained as a result thereof are not known.

特許文献12には、ポリプロピレン基板にDLC膜を直接形成するのではなく、ポリプロピレン基板上に中間層を形成した後、DLC膜を形成する成形体が開示されている。中間層を設けることで、DLC膜のクラックの発生を抑制することができるものの、クラックが消失するには至らずに、残存する場合がある。したがって、ガスバリア性が十分に向上しきらないという問題があった。   Patent Document 12 discloses a molded body in which a DLC film is formed after an intermediate layer is formed on a polypropylene substrate, instead of directly forming a DLC film on a polypropylene substrate. By providing the intermediate layer, although the occurrence of cracks in the DLC film can be suppressed, the cracks may remain without disappearing. Therefore, there is a problem that the gas barrier properties can not be sufficiently improved.

本開示の目的は、従来よりもさらにガスバリア性を向上させた被覆プラスチック成形体及びその製造方法を提供することである。   An object of the present disclosure is to provide a coated plastic molded body having further improved gas barrier properties than conventional and a method for producing the same.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討したところ、アミノ基を有するカップリング剤を、カップリング剤として使用するのではなく、またそれを用いて中間層ではなくトップコートとして硬化層を形成することでガスバリア性をより向上させることができることを見出し、本発明を完成させた。すなわち、本発明に係る被覆プラスチック成形体は、プラスチック成形体と、該プラスチック成形体の表面を被覆するガスバリア薄膜と、該ガスバリア薄膜の表面を被覆する、一般式(化1)で表される化合物の縮合重合体からなる硬化層と、を備えることを特徴とする。
(化1)R−M−(CH(OR´)3−n
一般式(化1)において、Mは珪素又は金属を表す。Rはアミノ基を有する炭化水素鎖を表す。R´は炭素数1〜4のアルキル基を表す。また、nは、0,1又は2を表す。
The inventors of the present invention conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems and found that the coupling agent having an amino group is not used as a coupling agent, and is used as a top coat instead of an intermediate layer. The inventors have found that gas barrier properties can be further improved by forming a layer, and the present invention has been completed. That is, the coated plastic molded body according to the present invention comprises a plastic molded body, a gas barrier thin film which covers the surface of the plastic molded body, and a compound represented by the general formula (Chem. 1) which covers the surface of the gas barrier thin film And a cured layer comprising a condensation polymer of
(Formula 1) R-M- (CH 3 ) n (OR ') 3-n
In the general formula (Formula 1), M represents silicon or a metal. R represents a hydrocarbon chain having an amino group. R 'represents a C1-C4 alkyl group. Also, n represents 0, 1 or 2.

本発明に係る被覆プラスチック成形体では、前記硬化層が塗布層であり、前記ガスバリア薄膜のクラックに前記縮合重合体が入り込んでいることが好ましい。シランカップリング剤をトップコートすることによりDLC膜などのガスバリア薄膜のクラックにシランカップリング剤が浸透し、クラックをふさぐことが可能となり、クラック部分からの酸素透過が毛細管流れ機構から活性化拡散流れ機構に変化し、高いガスバリア性を発揮することができる。   In the coated plastic molded article according to the present invention, it is preferable that the hardened layer is an applied layer, and the condensation polymer intrudes into cracks of the gas barrier thin film. The top coating of the silane coupling agent allows the silane coupling agent to penetrate the cracks in the gas barrier thin film such as a DLC film, making it possible to close the cracks, and oxygen permeation from the cracked part is activated diffusion flow from the capillary flow mechanism It changes to a mechanism and can exhibit high gas barrier properties.

本発明に係る被覆プラスチック成形体では、一般式(化1)で表される化合物が、N‐2‐(アミノエチル)‐3‐アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N‐2‐(アミノエチル)‐3‐アミノプロピルトリメトキシシラン、3‐アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N‐フェニル‐3‐アミノプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、又は2‐(3,4‐エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランである形態を包含する。   In the coated plastic molding according to the present invention, the compound represented by the general formula (Formula 1) is N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3. -Aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane Included are forms that are silanes or 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane.

本発明に係る被覆プラスチック成形体では、前記硬化層は、前記Mの元素濃度を1とした場合に、元素濃度比で、Oを2.0〜10.2、Cを4.0〜15.6、Nを0.6〜5.1含有する層であることが好ましい。実質無色で、かつ、高いバリア性及び弱酸性〜中性域における水溶液中の物理化学的安定性(以降、本明細書では、耐内容物性ということもある。)を有する層とすることができる。   In the coated plastic molded product according to the present invention, when the element concentration of M is 1, the hardened layer has an element concentration ratio of 2.0 to 10.2, and C of 4.0 to 15. It is preferable that it is a layer containing 0.6 and 5.1, 6 and N. The layer may be substantially colorless and have high barrier properties and physicochemical stability in an aqueous solution in a weakly acidic to neutral region (hereinafter sometimes referred to as content resistance). .

本発明に係る被覆プラスチック成形体では、前記プラスチック成形体が、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート又はこれらの混合物からなる形態を包含する。プラスチック成形体が、化学的に不活性で、かつ、比較的粗い表面を有する材料であっても、ガスバリア性を付与することができる。   In the coated plastic molded body according to the present invention, the plastic molded body includes a form formed of polypropylene, polyethylene, polyethylene terephthalate or a mixture thereof. Even if the plastic molding is a material that is chemically inert and has a relatively rough surface, gas barrier properties can be imparted.

本発明に係る被覆プラスチック成形体では、前記ガスバリア薄膜が、DLC膜、SiC膜又は酸化物膜である形態を包含する。   In the coated plastic molding according to the present invention, the gas barrier thin film includes a form in which it is a DLC film, a SiC film or an oxide film.

本発明に係る被覆プラスチック成形体では、前記プラスチック成形体の表面が表面親水化処理面であることが好ましい。ガスバリア性をさらに高めることができる。   In the coated plastic molding according to the present invention, the surface of the plastic molding is preferably a surface hydrophilized surface. Gas barrier properties can be further enhanced.

本発明に係る被覆プラスチック成形体では、前記プラスチック成形体が、容器である形態を包含する。容器の内壁面又は外壁面の少なくとも一方を被覆することで、内容物の保存性に優れる容器とすることができる。   In the coated plastic molded body according to the present invention, the plastic molded body includes a form which is a container. By covering at least one of the inner wall surface or the outer wall surface of the container, it is possible to make the container excellent in the preservation property of the contents.

本発明に係る被覆プラスチック成形体の製造方法は、プラスチック成形体の表面に、ガスバリア薄膜を形成する成膜工程と、縮合反応をする反応物として一般式(化1)で表される化合物だけを用い、溶剤を用いない塗布液を、前記ガスバリア薄膜の上に塗布して塗布層を形成する塗布工程と、前記化合物の縮合反応を進めて、前記塗布層を硬化して硬化層を形成する硬化工程と、を順に有することを特徴とする。
(化1)R−M−(CH(OR´)3−n
一般式(化1)において、Mは珪素又は金属を表す。Rはアミノ基を有する炭化水素鎖を表す。R´は炭素数1〜4のアルキル基を表す。また、nは、0,1又は2を表す。
The method for producing a coated plastic molded body according to the present invention comprises the steps of: forming a gas barrier thin film on the surface of the plastic molded body; and only the compound represented by the general formula (Chem. 1) as a reactant which undergoes a condensation reaction. A coating step of using a solvent-free coating solution on the gas barrier thin film to form a coating layer, and promoting a condensation reaction of the compound to cure the coating layer to form a cured layer And a process in order.
(Formula 1) R-M- (CH 3 ) n (OR ') 3-n
In the general formula (Formula 1), M represents silicon or a metal. R represents a hydrocarbon chain having an amino group. R 'represents a C1-C4 alkyl group. Also, n represents 0, 1 or 2.

本発明に係る被覆プラスチック成形体の製造方法では、前記成膜工程を行う前に、前記プラスチック成形体の表面に、表面親水化処理を行う事前処理工程を有することが好ましい。さらにガスバリア性を高めた被覆プラスチック成形体を製造することができる。   In the method for producing a coated plastic molding according to the present invention, it is preferable to have a pre-treatment step of subjecting the surface of the plastic molding to a surface hydrophilization treatment before the film forming step is performed. Furthermore, a coated plastic molded article with improved gas barrier properties can be produced.

本発明に係る被覆プラスチック成形体の製造方法では、前記硬化工程は、0℃以上40℃以下で行う工程であることが好ましい。この温度範囲内であれば、縮合反応が、急速に起こるのを防止して、クラックのない硬化層を形成することができ、また、実用的な時間内に縮合反応を完了させることができる。   In the method for producing a coated plastic molding according to the present invention, the curing step is preferably a step performed at 0 ° C. or more and 40 ° C. or less. Within this temperature range, the condensation reaction can be prevented from occurring rapidly to form a crack-free cured layer, and the condensation reaction can be completed within a practical time.

本発明に係る被覆プラスチック成形体の製造方法では、前記ガスバリア薄膜は化学気相成長法又は物理気相成長法で形成されることが好ましい。これらの成膜方法は、立体的な各種容器形状に対して応用可能で、かつ、他の手法と比較して低コストに成膜することができる。   In the method of producing a coated plastic molding according to the present invention, the gas barrier thin film is preferably formed by a chemical vapor deposition method or a physical vapor deposition method. These film forming methods can be applied to various three-dimensional container shapes, and can be formed at low cost as compared with other methods.

本開示によれば、従来よりもさらにガスバリア性を向上させた被覆プラスチック成形体及びその製造方法を提供することができる。すなわち、アミノ基を有するカップリング剤を、カップリング剤として使用するのではなく、またそれを用いて中間層ではなくトップコートとして硬化層を形成することでガスバリア性をより向上させることができる。   According to the present disclosure, it is possible to provide a coated plastic molded body with further improved gas barrier properties than conventional and a method for producing the same. That is, the gas barrier properties can be further improved by forming a cured layer as a top coat instead of an intermediate layer using the coupling agent having an amino group as a coupling agent, instead of using the coupling agent.

本実施形態に係る被覆プラスチック成形体の一例を示す断面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which shows an example of the coating plastic molded object which concerns on this embodiment. 実施例1〜6及び比較例1〜8について、DLC薄膜の膜厚と酸素透過度との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the film thickness of a DLC thin film, and oxygen permeability about Examples 1-6 and Comparative Examples 1-8. 実施例4のレーザ顕微鏡による表面観察画像である。21 is a surface observation image by a laser microscope of Example 4. 比較例3のレーザ顕微鏡による表面観察画像である。It is a surface observation image by the laser microscope of comparative example 3. 実施例4のAFMによる表面観察画像である。21 is a surface observation image by AFM of Example 4. 比較例3のAFMによる表面観察画像である。It is a surface observation image by AFM of comparative example 3.

次に、本発明について実施形態を示して詳細に説明するが本発明はこれらの記載に限定して解釈されない。本発明の効果を奏する限り、実施形態は種々の変形をしてもよい。   EXAMPLES The present invention will next be described in detail by way of embodiments, which should not be construed as limiting the present invention. The embodiment may be variously modified as long as the effects of the present invention are exhibited.

図1は、本実施形態に係る被覆プラスチック成形体の一例を示す断面図である。本実施形態に係る被覆プラスチック成形体90は、プラスチック成形体91と、プラスチック成形体91の表面を被覆するガスバリア薄膜93と、ガスバリア薄膜93の表面を被覆する、一般式(化1)で表される化合物の縮合重合体からなる硬化層92と、を備える。ガスバリア薄膜93は中間層となる。
(化1)R−M−(CH(OR´)3−n
一般式(化1)において、Mは珪素又は金属を表す。Rはアミノ基を有する炭化水素鎖を表す。R´は炭素数1〜4のアルキル基を表す。また、nは、0,1又は2を表す。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a coated plastic molding according to the present embodiment. The coated plastic molded body 90 according to the present embodiment is represented by a general formula (Chem. 1), which covers the surface of the plastic molded body 91, the gas barrier thin film 93 covering the surface of the plastic molded body 91, and the gas barrier thin film 93. And a hardened layer 92 made of a condensation polymer of The gas barrier thin film 93 serves as an intermediate layer.
(Formula 1) R-M- (CH 3 ) n (OR ') 3-n
In the general formula (Formula 1), M represents silicon or a metal. R represents a hydrocarbon chain having an amino group. R 'represents a C1-C4 alkyl group. Also, n represents 0, 1 or 2.

プラスチック成形体91を構成する樹脂は、例えば、ポリエチレンテレフタレート樹脂(PET)、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シクロオレフィンコポリマー樹脂(COC、環状オレフィン共重合)、アイオノマー樹脂、ポリ‐4‐メチルペンテン‐1樹脂、ポリメタクリル酸メチル樹脂、ポリスチレン樹脂、エチレン‐ビニルアルコール共重合樹脂、アクリロニトリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、又は、4弗化エチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン樹脂、アクリロニトリル‐ブタジエン‐スチレン樹脂である。これらは、1種を単層で、又は2種以上を積層して用いることができる。   The resin constituting the plastic molded body 91 is, for example, polyethylene terephthalate resin (PET), polybutylene terephthalate resin, polyethylene naphthalate resin, polyethylene resin, polypropylene resin, cycloolefin copolymer resin (COC, cyclic olefin copolymerization), ionomer resin , Poly-4-methylpentene-1 resin, polymethyl methacrylate resin, polystyrene resin, ethylene-vinyl alcohol copolymer resin, acrylonitrile resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polyamide resin, polyamideimide resin, polyacetal resin Polycarbonate resin, polysulfone resin, or tetrafluorinated ethylene resin, acrylonitrile-styrene resin, acrylonitrile-butadiene-styrene resin. These can be used in a single layer or in a stack of two or more.

本実施形態に係る被覆プラスチック成形体90では、プラスチック成形体91が、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート又はこれらの混合物からなることがより好ましい。ポリプロピレンは、例えば、ホモポリマー、ランダム重合ポリマー、ブロック重合ポリマーを包含する。ポリエチレンは、例えば、高密度ポリエチレン(HDPE)、低密度ポリエチレン(LDPE)、直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)である。また、ポリプロピレン、ポリエチレン又はこれらの混合物は、ポリプロピレン、ポリエチレンを主成分としていれば、特に限定されない。例えば、ポリプロピレン若しくはポリエチレンと前記したポリプロピレン若しくはポリエチレン以外の樹脂とのポリマーアロイ又はポリプロピレン若しくはポリエチレンに酸化防止剤、滑剤、アンチブロッキング剤、可塑剤、軟化剤などの各種助剤を添加したものである。   In the coated plastic molded body 90 according to the present embodiment, the plastic molded body 91 is more preferably made of polypropylene, polyethylene, polyethylene terephthalate or a mixture thereof. Polypropylene includes, for example, homopolymers, random polymers, block polymers. Polyethylene is, for example, high density polyethylene (HDPE), low density polyethylene (LDPE), linear low density polyethylene (LLDPE). In addition, polypropylene, polyethylene, or a mixture thereof is not particularly limited as long as it is mainly composed of polypropylene and polyethylene. For example, the polymer alloy of polypropylene or polyethylene and a resin other than the above-described polypropylene or polyethylene, or polypropylene or polyethylene is obtained by adding various assistants such as an antioxidant, a lubricant, an antiblocking agent, a plasticizer, and a softener.

本実施形態に係る被覆プラスチック成形体90では、プラスチック成形体91が、容器又はフィルムである形態を包含する。容器としては、蓋、栓若しくはシールして使用する容器、又はそれらを使用せず開口状態で使用する容器を含む。開口部の大きさは、内容物に応じて適宜設定することができる。容器は、剛性を適度に有する所定の肉厚を有する容器と剛性を有さないシート材によって形成された容器とを含む。内容物としては、例えば、水、お茶、清涼飲料、炭酸飲料又は果汁飲料などの飲料、液体、粘性体、粉末又は固体状の食品である。また、容器は、リターナブル容器又はワンウェイ容器のどちらであってもよい。また、フィルムとしては、長尺なシート状物、カットシートを含む。フィルムは、延伸又は未延伸であるかを問わない。本実施形態では、プラスチック成形体91の形状は、目的及び用途に応じて適宜設定をすることができ、特に限定されない。また、本発明は、プラスチック成形体91の製造方法に制限されない。   In the coated plastic molded body 90 according to the present embodiment, the plastic molded body 91 includes a form that is a container or a film. The container includes a container used in a lid, a stopper or a seal, or a container used in an open state without using them. The size of the opening can be appropriately set according to the contents. The container includes a container having a predetermined thickness having a suitable degree of rigidity and a container formed of a non-rigid sheet material. The contents are, for example, beverages such as water, tea, soft drinks, carbonated beverages or fruit juices, liquids, viscous substances, powders or solid foods. Also, the container may be either a returnable container or a one-way container. Moreover, as a film, a long sheet-like thing and a cut sheet are included. The film may or may not be stretched. In the present embodiment, the shape of the plastic molded body 91 can be appropriately set according to the purpose and application, and is not particularly limited. Further, the present invention is not limited to the method of manufacturing the plastic molded body 91.

プラスチック成形体91の厚さは、目的及び用途に応じて適宜設定することができ、特に限定されない。プラスチック成形体91が、例えば、飲料用ボトルなどの容器であるには、ボトルの肉厚は、100〜500μmであることが好ましく、より好ましくは、150〜300μmである。また、プラスチック成形体91が、包装袋を構成するフィルムである場合には、フィルムの厚さは、3〜200μmであることが好ましく、より好ましくは、10〜100μmである。   The thickness of the plastic molded body 91 can be appropriately set according to the purpose and application, and is not particularly limited. For the plastic molded body 91 to be, for example, a container such as a beverage bottle, the thickness of the bottle is preferably 100 to 500 μm, more preferably 150 to 300 μm. Moreover, when the plastic molded body 91 is a film which comprises a packaging bag, it is preferable that the thickness of a film is 3-200 micrometers, More preferably, it is 10-100 micrometers.

本実施形態に係る被覆プラスチック成形体90では、プラスチック成形体91の表面が表面親水化処理面であることが好ましい。ガスバリア薄膜93とプラスチック成形体91との密着性が高まる。さらに、一般式(化1)で表される化合物をガスバリア薄膜93の表面に塗布したとき、前記化合物はガスバリア薄膜93のクラック内に浸透するが、さらに、ガスバリア薄膜93の下地であるプラスチック成形体91の表面、より具体的には、ガスバリア薄膜93とプラスチック成形体91との間に隙間があるときにはその隙間にまで浸透し、より確実にクラックを埋めることができる。   In the coated plastic molded body 90 according to the present embodiment, the surface of the plastic molded body 91 is preferably a surface hydrophilized surface. The adhesion between the gas barrier thin film 93 and the plastic molded body 91 is enhanced. Furthermore, when the compound represented by the general formula (Chem. 1) is applied to the surface of the gas barrier thin film 93, the compound penetrates into the cracks of the gas barrier thin film 93, and furthermore, a plastic molded body which is a base of the gas barrier thin film 93 When there is a gap on the surface 91, more specifically, between the gas barrier thin film 93 and the plastic molded body 91, it penetrates to the gap, and the crack can be filled more reliably.

プラスチック成形体91が、容器である場合には、ガスバリア薄膜93及び硬化層92は、その内壁面若しくは外壁面のいずれか一方又は両方に設ける。また、プラスチック成形体91が、フィルムである場合には、ガスバリア薄膜93及び硬化層92は、片面又は両面に設ける。特に、プラスチック成形体91が飲料又は食品向けの容器である場合、ガスバリア薄膜93及び硬化層92を容器の内壁面に形成すると、容器壁に溶存する酸素等と内容物との反応、内容物から容器壁への内容物香気成分の収着など、内容物の品質劣化を効果的に抑制できる。一方、ガスバリア薄膜93及び硬化層92を容器の外壁面に形成すると、より簡易にガスバリア薄膜93及び硬化層92を形成することができる。特に、容器材質がポリプロピレンなどの耐熱性の樹脂からなる場合、煮沸殺菌などの熱処理を可能にする耐熱性容器とすることができ、特にガスバリア性向上を行う意義が高い。   When the plastic molded body 91 is a container, the gas barrier thin film 93 and the hardened layer 92 are provided on either or both of the inner wall surface and the outer wall surface. When the plastic molded body 91 is a film, the gas barrier thin film 93 and the hardened layer 92 are provided on one side or both sides. In particular, when the plastic molded body 91 is a container for beverage or food, if the gas barrier thin film 93 and the hardened layer 92 are formed on the inner wall surface of the container, the reaction between oxygen etc. dissolved in the container wall and the contents It is possible to effectively suppress the quality deterioration of the contents, such as the sorption of the aroma components to the container wall. On the other hand, when the gas barrier thin film 93 and the hardened layer 92 are formed on the outer wall surface of the container, the gas barrier thin film 93 and the hardened layer 92 can be formed more easily. In particular, when the container material is made of a heat-resistant resin such as polypropylene, it can be a heat-resistant container that enables heat treatment such as boiling sterilization, and it is particularly significant to improve the gas barrier property.

ガスバリア薄膜93の種類は、特に限定はないが、ガスバリア性以外に、耐熱性及び非収着性を有し、プラスチック成形体91の長所を生かし、また、不足する性能を補うことができる点で、DLC膜、SiC膜、SiCO膜、SiCN膜、SiCNO膜であることが好ましい。また、本実施形態に係る被覆プラスチック成形体90では、より高いガスバリア性を有する点で、ガスバリア薄膜が、DLC膜、SiC膜又は酸化物膜であることが好ましい。   The type of the gas barrier thin film 93 is not particularly limited, but in addition to the gas barrier property, it has heat resistance and non-sorption, and can utilize the advantages of the plastic molded body 91 and can compensate for the insufficient performance. Preferably, the film is a DLC film, a SiC film, a SiCO film, a SiCN film, or a SiCNO film. Further, in the coated plastic molded body 90 according to the present embodiment, the gas barrier thin film is preferably a DLC film, a SiC film or an oxide film in that it has higher gas barrier properties.

ガスバリア薄膜93の厚さは、1〜100nmであることが好ましい。より好ましくは、5〜80nmである。0.5nm未満であると、ガスバリア性又はその他の機能が得られない場合がある。100nmを超えると、内部応力によりクラックが生じ、ガスバリア性又はその他の機能が低下する場合がある。   The thickness of the gas barrier thin film 93 is preferably 1 to 100 nm. More preferably, it is 5-80 nm. If it is less than 0.5 nm, gas barrier properties or other functions may not be obtained. If it exceeds 100 nm, internal stress may cause cracks, and the gas barrier properties or other functions may be degraded.

ガスバリア薄膜93は、各種公知の手法で形成することができる。公知の手法は、例えば、プラズマCVD法、発熱体CVD法などの化学気相成長(CVD)法、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの物理気相成長(PVD)法である。なお、本明細書では、発熱体CVD法は、発熱体CVD法、Cat‐CVD法又はホットワイヤーCVD法と呼ばれるCVD法をいう。プラスチック成形体91が、飲料又は食品向け容器である場合には、プラズマCVD法又は発熱体CVD法であることがより好ましい。これらは、立体的な各種容器形状に対して応用可能で、かつ、他の手法と比較して低コストに成膜することができる。   The gas barrier thin film 93 can be formed by various known methods. A known method is, for example, a chemical vapor deposition (CVD) method such as a plasma CVD method or a heating element CVD method, a physical vapor deposition (PVD) method such as a vacuum evaporation method, a sputtering method, or an ion plating method. In the present specification, the heating element CVD method refers to a CVD method called a heating element CVD method, a Cat-CVD method or a hot wire CVD method. When the plastic molded body 91 is a container for beverages or food, it is more preferable that it is a plasma CVD method or a heating element CVD method. These can be applied to various three-dimensional container shapes, and can be deposited at low cost as compared with other methods.

硬化層92は、ガスバリア薄膜93の表面を被覆する、一般式(化1)で表される化合物の縮合重合体からなる。一般式(化1)で表される化合物について説明する。   The cured layer 92 is made of a condensation polymer of a compound represented by the general formula (Chem. 1), which covers the surface of the gas barrier thin film 93. The compound represented by General formula (Formula 1) is demonstrated.

一般式(化1)において、Mは、珪素(Si)又は金属である。金属は、チタン(Ti)、ジルニウム(Zr)であることが好ましい。本実施形態では、Mが、珪素であることが、特に好ましい。安価な化合物とすることができ、また、得られる硬化層92を安全、かつ、比較的柔軟な構造にすることができる。   In the general formula (Formula 1), M is silicon (Si) or a metal. The metal is preferably titanium (Ti) or dilnium (Zr). In the present embodiment, M is particularly preferably silicon. An inexpensive compound can be obtained, and the resulting cured layer 92 can be made into a safe and relatively flexible structure.

一般式(化1)において、Rは、アミノ基を有する炭化水素鎖である。アミノ基は、−NH,=NH又は−NH−である。アミノ基は、炭化水素鎖の末端にあることがより好ましい。Rは、直鎖状で、炭素数が3〜5であることが好ましい。これによって、得られる硬化層92を比較的緻密、かつ、柔軟な構造にすることができる。 In the general formula (Formula 1), R is a hydrocarbon chain having an amino group. Amino group, -NH 2, = NH or -NH-. The amino group is more preferably at the end of the hydrocarbon chain. R is preferably linear and has 3 to 5 carbon atoms. As a result, the resulting hardened layer 92 can be made relatively dense and flexible.

一般式(化1)において、R´は炭素数1〜4のアルキル基である。R´は、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基である。この中で、R´がメチル基であることがより好ましい。すなわち、OR´が、メトキシ基であることが好ましい。なお、R′として、アセチル基又はアシル基を有する構造にすることもできるが、硬化速度の観点から、アルキル基とすることが好ましい。   In general formula (Formula 1), R 'is a C1-C4 alkyl group. Specifically, R 'is a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group. Among these, R 'is more preferably a methyl group. That is, it is preferable that OR 'is a methoxy group. In addition, although it can also be set as the structure which has an acetyl group or an acyl group as R ', it is preferable to set it as an alkyl group from a viewpoint of hardening speed.

一般式(化1)において、nは、0,1又は2を表す。nは、1であることが好ましく、0であることがさらに好ましい。   In the general formula (Formula 1), n represents 0, 1 or 2. n is preferably 1, and more preferably 0.

一般式(化1)で表される化合物は、公知のアミン系カップリング剤を利用することができる。例えば、N‐2‐(アミノエチル)‐3‐アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N‐2‐(アミノエチル)‐3‐アミノプロピルトリメトキシシラン、N‐2‐(アミノエチル)‐3‐アミノプロピルトリエトキシシラン、3‐アミノプロピルトリメトキシシラン、3‐アミノプロピルトリエトキシシラン、N‐フェニル‐3‐アミノプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3‐アミノプロピルトリメトキシチタン、3‐アミノプロピルトリメトキシジルコニウム、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン又は2‐(3,4‐エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランである。この中で、Mが珪素であり、かつ、OR´がメトキシ基である点で、N‐2‐(アミノエチル)‐3‐アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N‐2‐(アミノエチル)‐3‐アミノプロピルトリメトキシシラン、3‐アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N‐フェニル‐3‐アミノプロピルトリメトキシシラン、3‐メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン又は3−メルカプトプロピルトリメトキシシランが好ましい。また、Mが珪素であり、かつ、OR´がメトキシ基であり、かつ、nが0である点で、3‐アミノプロピルトリメトキシシランが特に好ましい。   The compound represented by General formula (Formula 1) can utilize a well-known amine coupling agent. For example, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltriol. Ethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxytitanium, 3-amino Propyltrimethoxyzirconium, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane or 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane. Among these, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-3 in that M is silicon and OR ′ is a methoxy group. Aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane or 3-mercaptopropyltrimethoxysilane Is preferred. In addition, 3-aminopropyltrimethoxysilane is particularly preferable in that M is silicon, OR ′ is a methoxy group, and n is 0.

一般式(化1)で表される化合物が、3‐アミノプロピルトリメトキシシランなどのように、Mが珪素であり、かつ、OR´がメトキシ基であり、かつ、nが0であると、硬化層92をガスバリア性が高く、かつ、緻密な構造にすることができる。一方で、比較的硬質でクラックが生じやすい構造となる傾向はあるが、前述した通り、炭化水素鎖の構造を適切にすることで、ガスバリア薄膜93の上に形成されるトップコートとしての硬化層92の柔軟性を確保し、かつ、硬化時のクラック発生を抑制することができる。   When the compound represented by the general formula (Chem. 1) is such that 3-aminopropyltrimethoxysilane, M is silicon, OR 'is a methoxy group, and n is 0, The hardened layer 92 has a high gas barrier property and can have a dense structure. On the other hand, although there is a tendency that the structure is relatively hard and easily cracked, as described above, the hardened layer as the top coat formed on the gas barrier thin film 93 by making the structure of the hydrocarbon chain appropriate. The flexibility of 92 can be secured, and the occurrence of cracks at the time of curing can be suppressed.

総合して、一般式(化1)で表される化合物は、一般的にアミン系カップリング剤として用いられるものであり、安全で、かつ、比較的安価に入手することができる。あわせて、一定のガスバリア性向上効果を期待できる。また、アミノ基を含有することで、ガスバリア薄膜93との密着性を確保することができる。さらに、一般式(化1)において、OR´をメトキシ基とし、nを0とし、Rを前記の炭素数を有する炭化水素鎖を含有することで、アミノ基を含有する化合物全体を常温・常圧下で安定に保存可能な構造とできる。そして、ガスバリア薄膜93の表面に、一般式(化1)で表される化合物からなる塗布液を塗布すると、一般式(化1)で表される化合物は、常温・常圧下で特別な硬化開始剤なしに縮合反応が進行して、塗布層が硬化し、トップコートとして硬化層92を形成することができる。これらの諸物性に関連して、硬化層92は、高価な機材を用いることなく安価に、かつ、高速で形成することができる。   Collectively, the compounds represented by the general formula (Formula 1) are generally used as amine coupling agents, and can be obtained safely and at relatively low cost. At the same time, a certain gas barrier property improvement effect can be expected. Moreover, adhesiveness with the gas barrier thin film 93 can be secured by containing an amino group. Furthermore, in the general formula (Chem. 1), by containing a hydrocarbon chain having OR ′ as a methoxy group, n as 0, and R as the above-mentioned carbon number, the entire compound having an amino group can be subjected to normal temperature and ordinary temperature. The structure can be stably stored under pressure. Then, when a coating liquid comprising the compound represented by the general formula (Chem. 1) is applied to the surface of the gas barrier thin film 93, the compound represented by the general formula (Chem. 1) starts special curing at normal temperature and normal pressure. The condensation reaction proceeds without the agent, and the coating layer can be cured to form the cured layer 92 as a top coat. In relation to these physical properties, the hardened layer 92 can be formed inexpensively and at high speed without using expensive equipment.

硬化層92は、ガスバリア薄膜93の保護層としての役割だけでなく、ガスバリア薄膜93に生じたクラックに縮合重合体が入り込んで、クラックを塞ぐ補修層しての役割をもつ。すなわち、シランカップリング剤をトップコートすることによりDLC膜などのガスバリア薄膜93のクラックにシランカップリング剤が浸透し、クラックをふさぐことが可能となり、クラック部分からの酸素透過が毛細管流れ機構から活性化拡散流れ機構に変化し、高いガスバリア性を発揮することができる。硬化層92において、一般式(化1)からなる化合物の分子中のアルコキシシラン構造(−Si−OR´)が、例えば、空気中の水分によって、加水分解して、シラノール基(−Si−OH)を形成すると、分子間で縮合反応によってシロキサン結合(Si−O−Si)が形成される。このシロキサン結合が三次元のネットワークを形成することで、理由は定かではないが、硬化層92が、ガスバリア薄膜93との高い密着性及び高いガスバリア性を発揮するとともにガスバリア薄膜93のクラックを塞ぐ。このときガスバリア薄膜上に硬化層92が形成されることによって、クラックを塞きつつ、より表面を平滑化する。一般式(化1)で表される化合物は、一般的にアミン系カップリング剤として用いられるものであるが、カップリング剤は、一般的に、分子構造の両端にそれぞれ性質の異なる官能基を有し、それぞれの官能基が、化学的な性質の異なる表面(例えば、有機物の表面と無機物の表面)に結合することで、両者を結びつける役割をもつ。よって、主としてガスバリア薄膜を形成するためのプライマー層又はアンカーコート層として利用されることが多い。そして、このような一般的な利用方法では、例えば、有機物がポリプロピレン又はポリエチレンである場合には、これらに結合しやすい官能基としてビニル基又はメタクリロキシ基を有するカップリング剤が適していることが知られている。しかし、本発明では、アミノ基を有するカップリング剤を選択することから、このアミノ基を有するカップリング剤をカップリング剤としての一般的な利用方法で使用するものではないといえる。本発明では、アミノ基を有するカップリング剤を使用してガスバリア薄膜93の上にトップコートとしての硬化層92を形成することで、ガスバリア薄膜93の保護層としての役割だけでなく、ガスバリア薄膜93に生じたクラックに縮合重合体が入り込んで、クラックを塞ぐ補修層して作用する。   The hardened layer 92 not only plays a role as a protective layer for the gas barrier thin film 93, but also has a role as a repair layer for closing the crack when the condensation polymer enters the crack produced in the gas barrier thin film 93. That is, when the silane coupling agent is top-coated, the silane coupling agent penetrates the cracks of the gas barrier thin film 93 such as a DLC film, and the crack can be closed, and oxygen permeation from the cracked part is activated from the capillary flow mechanism. It can be changed to a chemical diffusion flow mechanism and can exhibit high gas barrier properties. In the hardened layer 92, the alkoxysilane structure (-Si-OR ') in the molecule of the compound represented by the general formula (Chem. 1) is hydrolyzed, for example, by moisture in the air to form a silanol group (-Si-OH). ) Forms a siloxane bond (Si-O-Si) by condensation reaction between molecules. The siloxane bond forms a three-dimensional network, and although the reason is not clear, the cured layer 92 exerts high adhesion with the gas barrier thin film 93 and high gas barrier properties and blocks cracks in the gas barrier thin film 93. At this time, the hardened layer 92 is formed on the gas barrier thin film, thereby smoothing the surface while closing the crack. The compounds represented by the general formula (Formula 1) are generally used as amine coupling agents, but the coupling agents generally have functional groups each having different properties at both ends of the molecular structure. Each functional group has a role of connecting the two by bonding to surfaces having different chemical properties (for example, the surface of an organic substance and the surface of an inorganic substance). Therefore, it is often used mainly as a primer layer or an anchor coat layer for forming a gas barrier thin film. And, in such a general usage method, for example, when the organic substance is polypropylene or polyethylene, it is known that a coupling agent having a vinyl group or a methacryloxy group as a functional group that easily bonds to these is suitable. It is done. However, in the present invention, since a coupling agent having an amino group is selected, it can be said that the coupling agent having an amino group is not used in a general usage method as a coupling agent. In the present invention, by forming the cured layer 92 as a top coat on the gas barrier thin film 93 using a coupling agent having an amino group, the gas barrier thin film 93 is used not only as a protective layer for the gas barrier thin film 93. The condensation polymer intrudes into the crack produced and acts as a repair layer for closing the crack.

硬化層92は、構成元素として、M(珪素又は金属)、O(酸素)、C(炭素)、N(窒素)及びH(水素)を含む。本実施形態に係る被覆プラスチック成形体90では、硬化層92は、Mの元素濃度を1とした場合に、元素濃度比で、Oを2.0〜10.2、Cを4.0〜15.6、Nを0.6〜5.1含有する層であることが好ましい。より好ましくは、Mの元素濃度を1とした場合に、元素濃度比で、Oを2.3〜6.8、Cを4.3〜8.7、Nを0.8〜2.8含有する。Oの元素濃度及びCの元素濃度を前記範囲とすることで、飲料又は食品に多い弱酸性〜中性域の内容物に直接又は間接に接触しても物理化学的に安定な層とすることができる。また、Nの元素濃度を前記範囲とすることで、硬化層92自体のガスバリア性向上効果を得ることができる。ガスバリア薄膜93と硬化層92との密着性を確保することができる。M、O、C及びN元素濃度の測定は、エネルギー分散型蛍光X線分析(EDX)装置を用いる方法が好ましい。   The hardened layer 92 contains M (silicon or metal), O (oxygen), C (carbon), N (nitrogen) and H (hydrogen) as constituent elements. In the coated plastic molded body 90 according to the present embodiment, when the element concentration of M is 1, the hardened layer 92 has O at 2.0 to 10.2, C at 4.0 to 15 at the element concentration ratio. It is preferable that it is a layer containing 0.6 to 5.1 and N. More preferably, when the element concentration of M is 1, the element concentration ratio contains 2.3 to 6.8 O, 4.3 to 8.7 C, and 0.8 to 2.8 N. Do. By making the element concentration of O and the element concentration of C within the above ranges, a physicochemically stable layer can be obtained, even if it is directly or indirectly in contact with the content of weakly acidic to neutral regions rich in beverages or foods. Can. Moreover, the gas barrier property improvement effect of hardened | cured layer 92 itself can be acquired by making element concentration of N into the said range. The adhesion between the gas barrier thin film 93 and the hardened layer 92 can be secured. The measurement of the M, O, C and N element concentrations is preferably performed by using an energy dispersive X-ray fluorescence (EDX) analyzer.

次に、ガスバリア薄膜93及びその表面に形成する硬化層92を形成する方法について説明する。   Next, a method of forming the gas barrier thin film 93 and the hardened layer 92 formed on the surface thereof will be described.

本実施形態に係る被覆プラスチック成形体の製造方法は、プラスチック成形体91の表面に、ガスバリア薄膜93を形成する成膜工程と、縮合反応をする反応物として一般式(化1)で表される化合物だけを用い、溶剤を用いない塗布液を、ガスバリア薄膜93の上に塗布して塗布層を形成する塗布工程と、化合物の縮合反応を進めて、塗布層を硬化して硬化層92を形成する硬化工程と、を順に有する。
(化1)R−M−(CH(OR´)3−n
一般式(化1)において、Mは珪素又は金属を表す。Rはアミノ基を有する炭化水素鎖を表す。R´は炭素数1〜4のアルキル基を表す。また、nは、0,1又は2を表す。
The method for producing a coated plastic molded body according to the present embodiment is represented by a film forming step of forming a gas barrier thin film 93 on the surface of the plastic molded body 91, and a reaction product having a condensation reaction represented by the general formula A coating step of applying only a compound but not using a solvent on the gas barrier thin film 93 to form a coating layer, and promoting a condensation reaction of the compound to cure the coating layer to form a cured layer 92 And curing steps in order.
(Formula 1) R-M- (CH 3 ) n (OR ') 3-n
In the general formula (Formula 1), M represents silicon or a metal. R represents a hydrocarbon chain having an amino group. R 'represents a C1-C4 alkyl group. Also, n represents 0, 1 or 2.

(成膜工程)
本実施形態では、薄膜93を成膜する方法は、特に限定されず、ガスバリア薄膜93の種類に応じて、適宜選択することができる。例えば、ガスバリア薄膜93が、DLC膜である場合には、主としてプラズマCVD法によって成膜することができ、例えば、特開平8−53116号公報、特開平8−53117号公報、特開平9−272567号公報又は特開平10−226884号公報がある。また、ガスバリア薄膜が、SiC膜又は酸化物膜である場合には、発熱体CVD法によって成膜することができ、例えば、WO2006/126677号公報、特開2008−127053号公報、特開2008−127054号公報がある。
(Deposition process)
In the present embodiment, the method for forming the thin film 93 is not particularly limited, and can be appropriately selected according to the type of the gas barrier thin film 93. For example, in the case where the gas barrier thin film 93 is a DLC film, the film can be formed mainly by plasma CVD. For example, JP-A-8-53116, JP-A-8-53117 and JP-A-9-272567 And JP 10-226884. In the case where the gas barrier thin film is a SiC film or an oxide film, the film can be formed by a heat generating body CVD method. For example, WO2006 / 126677, JP2008-127053, JP2008- No.127054.

(塗布工程)
一般式(化1)で表される化合物は、安定で適度な粘性を有する化合物であることから、溶剤を用いずに、一般式(化1)で表される化合物からなる塗布液を、ガスバリア薄膜93の表面上に塗布することができる。そして、溶媒を用いないので、塗布後の乾燥において、溶媒が揮発する際に形成される空孔によって、ガスバリア性が低下することがない。塗布工程は、常圧又は減圧下において、ガスバリア薄膜93の表面に層形成できる手法であることが好ましい。その塗布方法は、特に限定されず、塗布又は噴霧と呼ばれる各種手法を用いることができる。具体例としては、バーコートによる塗布、スピンコートによる塗布、スプレーコートによる塗布、真空中での蒸発又は噴霧、塗布液に浸漬する方法である。塗布層の厚さは、特に限定はないが、塗布層を硬化して得られる硬化層92の厚さが、0.5nm〜100μmとなるようにすることが好ましい。より好ましくは、5nm〜30μmである。特に好ましくは50nm〜2μmである。0.5nm未満では、均一な硬化層92が得られない場合がある。100μmを超えると、硬化時間が増加して、不経済である。
(Coating process)
Since the compound represented by the general formula (Formula 1) is a compound having a stable and appropriate viscosity, the coating liquid comprising the compound represented by the general formula (Formula 1) can be used as a gas barrier without using a solvent. It can be applied on the surface of the thin film 93. And since a solvent is not used, in the drying after application | coating, gas-barrier property does not fall with the void | hole formed when a solvent volatilizes. The coating step is preferably a method capable of forming a layer on the surface of the gas barrier thin film 93 under normal pressure or reduced pressure. The application method is not particularly limited, and various methods called application or spraying can be used. Specific examples are coating by bar coating, coating by spin coating, coating by spray coating, evaporation or spraying in vacuum, and a method of immersion in a coating solution. The thickness of the coating layer is not particularly limited, but it is preferable that the thickness of the cured layer 92 obtained by curing the coating layer be 0.5 nm to 100 μm. More preferably, it is 5 nm to 30 μm. Particularly preferably, it is 50 nm to 2 μm. If it is less than 0.5 nm, a uniform cured layer 92 may not be obtained. When it exceeds 100 μm, the curing time increases, which is uneconomical.

(事前処理工程)
ガスバリア薄膜93の成膜工程を行う前に、プラスチック成形体91の表面上に、濡れ性を高める処理を行うことが好ましい。具体例としては、窒素、酸素又はアルゴンによるプラズマ処理、コロナ放電、オゾン処理、その他各種薬剤処理である。このなかで、窒素プラズマ処理がより好ましい。プラスチック成形体91の表面を粗くすることなく、濡れ性及びガスバリア薄膜93の密着性の向上効果が得られやすい。また、プラスチック成形体91の表面の濡れ性が向上することで、ガスバリア薄膜93のクラックから流れ込んだ塗布液が、プラスチック成形体91とガスバリア薄膜93との間に隙間があるときには、当該隙間まで入り込むことが容易となる。
(Pre-treatment process)
Before performing the film forming process of the gas barrier thin film 93, it is preferable to perform a process of enhancing the wettability on the surface of the plastic molded body 91. Specific examples are plasma treatment with nitrogen, oxygen or argon, corona discharge, ozone treatment, and other various drug treatments. Among these, nitrogen plasma treatment is more preferable. The effect of improving the wettability and the adhesion of the gas barrier thin film 93 can be easily obtained without making the surface of the plastic molded body 91 rough. In addition, when the wettability of the surface of the plastic molded body 91 is improved, the coating liquid flowing in from the crack of the gas barrier thin film 93 penetrates to the gap when there is a gap between the plastic molded body 91 and the gas barrier thin film 93 Becomes easy.

(硬化工程)
一般式(化1)で表される化合物は、ガスバリア薄膜93の表面に塗布して、常温・常圧の環境下に放置すると、特別な硬化開始剤の添加なしに、縮合反応が進行して、硬化していく。本実施形態に係る被覆プラスチック成形体の製造方法では、硬化工程は、0℃以上40℃以下で行う工程であることが好ましい。より好ましくは、10℃以上30℃以下である。0℃未満では、硬化に時間がかかりすぎて、現実的な生産方法となりにくい。特に、包装容器用途では現実的でなくなる。40℃を超えると、硬化が急速に進むため、得られる層にクラックが生じやすくなり、ガスバリア性向上効果、その他の機能が低下する場合がある。よって、縮合反応を促進させるために、高温で保持するなどの促進工程を行わないことが好ましい。硬化に必要な時間は、硬化工程を行う温度に応じて異なるが、例えば、30〜500分であることが好ましい。
(Curing process)
When the compound represented by the general formula (Chem 1) is applied to the surface of the gas barrier thin film 93 and left under an environment of normal temperature and pressure, the condensation reaction proceeds without the addition of a special curing initiator. , Will be cured. In the method for producing a coated plastic molded product according to the present embodiment, the curing step is preferably a step performed at 0 ° C. or more and 40 ° C. or less. More preferably, it is 10 ° C. or more and 30 ° C. or less. If it is less than 0 ° C., curing takes too much time, and it is difficult to be a practical production method. In particular, it is not practical for packaging applications. If the temperature is higher than 40 ° C., the curing proceeds rapidly, so that the layer obtained is likely to be cracked, and the gas barrier property improving effect and other functions may be deteriorated. Therefore, in order to accelerate the condensation reaction, it is preferable not to perform the acceleration step such as holding at high temperature. The time required for curing varies depending on the temperature at which the curing step is carried out, but is preferably, for example, 30 to 500 minutes.

次に、実施例を示しながら本発明についてさらに詳細に説明するが、本発明は実施例に限定して解釈されない。   Next, the present invention will be described in more detail by way of examples, but the present invention is not construed as being limited to the examples.

(実施例1)
(プラスチック成形体の作製工程)
プラスチック成形体として、100μm厚のポリプロピレン製フィルムを用いた。ポリプロピレン製フィルムは、シグマアルドリッチ社製ポリプロピレン(分子量19万)を0.25g、市販のプレス機(As One Corporation社製 AH‐2003)を用いて、まずステンレス板の間の型に180℃、5分の条件で弱めに挟んだ後、挟み込む圧力を8MPaに増加させて180℃、5分の条件で0.1mmの厚さのフィルムに成形した。
(事前処理工程)
得られたフィルムの片面を、まずは、プラズマイオンボンバードメント装置(真空デバイス社製 PIB‐10)内で、出力についてハードモードを選択して窒素プラズマにより90秒間処理し、親水化した。その際の電流表示値は10mAであった。
(成膜工程)
親水化したフィルムを、平行平板型のプラズマCVD装置(hirano Koh−on社製Custom‐built)を用いて、厚さ100nmのDLC薄膜を成膜した。その際、チャンバ内が0.8Paになるまで減圧した。次いで、アセチレンガスを200ml/minの流量で供給し、13.56MHzの高周波電力200Wを36秒間印加した。成膜後、チャンバから成膜したフィルムを取り出した。
(塗布工程)
DLC薄膜の表面に、スピンコーター(mikasa社製 MS‐A100)を用いて、3000rpm、1分の条件で、塗布液として、一般式(化1)で表される化合物である3‐アミノプロピルトリメトキシシラン(以降、APTMSとも表記する。)(信越シリコーン社製KBM903)200μlを用いてスピンコートして塗布層を形成した。
(硬化工程)
塗布層を23℃の室内で8時間硬化させて、ポリプロピレン製フィルムの表面にDLC膜を形成し、さらにその上に硬化層を形成した被覆プラスチック成形体を得た。乾燥後の硬化層の膜厚は1μmであった。
Example 1
(Production process of plastic molding)
A 100 μm thick polypropylene film was used as the plastic molding. Using a commercially available press machine (AH-2003 manufactured by As One Corporation), 0.25 g of polypropylene (molecular weight 190,000) manufactured by Sigma Aldrich is used as a polypropylene film first at 180 ° C. for 5 minutes in a mold between stainless steel plates After sandwiching under the conditions weakly, the sandwiching pressure was increased to 8 MPa to form a film of 0.1 mm thickness under the conditions of 180 ° C. for 5 minutes.
(Pre-treatment process)
First, one side of the obtained film was treated with nitrogen plasma for 90 seconds in a plasma ion bombardment apparatus (PIB-10 manufactured by Vacuum Device) to select a hard mode for the output to make it hydrophilic. The current display value at that time was 10 mA.
(Deposition process)
The hydrophilic film was formed into a DLC thin film with a thickness of 100 nm using a parallel plate type plasma CVD apparatus (Custom-built manufactured by Hirano Koh-on). At that time, the pressure in the chamber was reduced to 0.8 Pa. Next, acetylene gas was supplied at a flow rate of 200 ml / min, and a 13.56 MHz high frequency power of 200 W was applied for 36 seconds. After film formation, the formed film was taken out of the chamber.
(Coating process)
Using a spin coater (MS-A100 manufactured by mikasa) on the surface of a DLC thin film, under conditions of 3000 rpm for 1 minute, 3-aminopropyltritri, which is a compound represented by the general formula (Chem. 1) as a coating liquid A coating layer was formed by spin coating using 200 μl of methoxysilane (hereinafter also referred to as APTMS) (KBM 903 manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.).
(Curing process)
The coated layer was cured in a room at 23 ° C. for 8 hours to form a DLC film on the surface of a polypropylene film, and a coated plastic molded body having a cured layer formed thereon was obtained. The film thickness of the hardened layer after drying was 1 μm.

(実施例2)
実施例1において、DLC薄膜の膜厚を5nm、高周波印可時間を2秒とした以外は、実施例1と同様にして、被覆プラスチック成形体を得た。
(Example 2)
A coated plastic molding was obtained in the same manner as in Example 1 except that the film thickness of the DLC thin film was 5 nm and the high frequency application time was 2 seconds in Example 1.

(実施例3)
実施例1において、DLC薄膜の膜厚を1nm、高周波印可時間を0.5秒とした以外は、実施例1と同様にして、被覆プラスチック成形体を得た。
(Example 3)
A coated plastic molded body was obtained in the same manner as in Example 1 except that the film thickness of the DLC thin film was 1 nm and the high frequency application time was 0.5 seconds in Example 1.

(実施例4)
実施例1において、事前処理工程を行わなかった以外は、実施例1と同様にして、被覆プラスチック成形体を得た。
(Example 4)
A coated plastic molding was obtained in the same manner as in Example 1 except that the pretreatment step was not performed in Example 1.

(実施例5)
実施例2において、事前処理工程を行わなかった以外は、実施例2と同様にして、被覆プラスチック成形体を得た。
(Example 5)
A coated plastic molding was obtained in the same manner as in Example 2 except that the pretreatment step was not performed in Example 2.

(実施例6)
実施例3において、事前処理工程を行わなかった以外は、実施例3と同様にして、被覆プラスチック成形体を得た。
(Example 6)
A coated plastic molding was obtained in the same manner as in Example 3 except that the pretreatment step was not performed in Example 3.

(実施例7)
実施例4において、APTMSの代わりに3−アミノプロピルトリエトキシシラン(以降、APTESとも表記する。)(信越シリコーン社製KBE903)を用いた以外は、実施例4と同様にして、被覆プラスチック成形体を得た。
(Example 7)
A coated plastic molding was carried out in the same manner as in Example 4 except that 3-aminopropyltriethoxysilane (hereinafter also referred to as APTES) (KBE 903 manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) was used instead of APTMS in Example 4. I got

(実施例8)
実施例4において、APTMSの代わりに3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越シリコーン社製KBM503)を用いた以外は、実施例4と同様にして、被覆プラスチック成形体を得た。
(Example 8)
A coated plastic molding was obtained in the same manner as in Example 4 except that 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (KBM 503 manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) was used instead of APTMS.

(実施例9)
実施例4において、APTMSの代わりにN−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン(信越シリコーン社製KBM603)を用いた以外は、実施例4と同様にして、被覆プラスチック成形体を得た。
(Example 9)
A coated plastic molding was carried out in the same manner as in Example 4, except that N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane (KBM603 manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) was used instead of APTMS. I got

(実施例10)
実施例4において、APTMSの代わりに3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(信越シリコーン社製KBM803)を用いた以外は、実施例4と同様にして、被覆プラスチック成形体を得た。
(Example 10)
A coated plastic molding was obtained in the same manner as in Example 4 except that 3-mercaptopropyltrimethoxysilane (KBM 803 manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) was used in place of APTMS.

(実施例11)
実施例4において、APTMSの代わりに2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン(信越シリコーン社製KBM303)を用いた以外は、実施例4と同様にして、被覆プラスチック成形体を得た。
(Example 11)
A coated plastic molded body is obtained in the same manner as in Example 4 except that 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane (KBM303 manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) is used in place of APTMS. The

(実施例12)
プラスチック成形体として、100μm厚の高密度ポリエチレン製フィルムを用いた。高密度ポリエチレン製フィルムは、シグマアルドリッチ社製ポリプロピレン(melt index 12g/10min、190℃/2.16kg)を0.25g、市販のプレス機(As One Corporation社製 AH‐2003)を用いて、まずステンレス板の間の型に150℃、5分の条件で弱めに挟んだ後、挟み込む圧力を8MPaに増加させて150℃、5分の条件で0.1mmの厚さのフィルムに成形した。実施例4において、ポリプロピレン製フィルムの代わりに上記の高密度ポリエチレン製フィルムを用いた以外は、実施例4と同様にして、被覆プラスチック成形体を得た。
(Example 12)
A 100 μm thick high density polyethylene film was used as a plastic molding. The high density polyethylene film was prepared by first using 0.25 g of Sigma-Aldrich polypropylene (melt index 12 g / 10 min, 190 ° C./2.16 kg) and a commercially available press (AH-2003 manufactured by As One Corporation). After sandwiching weakly in a mold between stainless steel plates at 150 ° C. for 5 minutes, the sandwiching pressure was increased to 8 MPa to form a film of 0.1 mm thickness at 150 ° C. for 5 minutes. A coated plastic molding was obtained in the same manner as in Example 4 except that the above-mentioned high density polyethylene film was used in place of the polypropylene film in Example 4.

(比較例1)
実施例1で作製したポリプロピレン製フィルムを親水化処理せずにそのままを測定サンプルとした。
(Comparative example 1)
The polypropylene film produced in Example 1 was used as a measurement sample as it was without hydrophilization treatment.

(比較例2)
実施例1で作製した高密度ポリエチレン製フィルムを親水化処理せずにそのままを測定サンプルとした。
(Comparative example 2)
The high density polyethylene film produced in Example 1 was used as a measurement sample as it was without hydrophilization treatment.

(比較例3)
実施例4において、硬化層を設けなかった以外は、実施例4と同様にして、測定サンプルを得た。
(Comparative example 3)
A measurement sample was obtained in the same manner as in Example 4 except that the cured layer was not provided in Example 4.

(比較例4)
実施例5において、硬化層を設けなかった以外は、実施例5と同様にして、測定サンプルを得た。
(Comparative example 4)
A measurement sample was obtained in the same manner as in Example 5 except that the hardened layer was not provided in Example 5.

(比較例5)
実施例6において、硬化層を設けなかった以外は、実施例6と同様にして、測定サンプルを得た。
(Comparative example 5)
A measurement sample was obtained in the same manner as in Example 6 except that the cured layer was not provided in Example 6.

(比較例6)
実施例1において、硬化層を設けなかった以外は、実施例1と同様にして、測定サンプルを得た。
(Comparative example 6)
A measurement sample was obtained in the same manner as in Example 1 except that the cured layer was not provided in Example 1.

(比較例7)
実施例2において、硬化層を設けなかった以外は、実施例2と同様にして、測定サンプルを得た。
(Comparative example 7)
A measurement sample was obtained in the same manner as in Example 2 except that the hardened layer was not provided in Example 2.

(比較例8)
実施例3において、硬化層を設けなかった以外は、実施例3と同様にして、測定サンプルを得た。
(Comparative example 8)
A measurement sample was obtained in the same manner as in Example 3 except that the cured layer was not provided in Example 3.

(比較例9)
実施例1において、DLC薄膜を設けなかった以外は、実施例1と同様にして、測定サンプルを得た。このサンプルはプラスチック成形体の表面に硬化層が設けられている。
(Comparative example 9)
A measurement sample was obtained in the same manner as in Example 1 except that the DLC thin film was not provided in Example 1. This sample is provided with a hardened layer on the surface of a plastic molding.

(比較例10)
(プラスチック成形体の作製工程)
プラスチック成形体として、100μm厚のポリプロピレン製フィルムを用いた。ポリプロピレン製フィルムは、シグマアルドリッチ社製ポリプロピレン(分子量19万)を0.25g、市販のプレス機(As One Corporation社製 AH‐2003)を用いて、まずステンレス板の間の型に180℃、5分の条件で弱めに挟んだ後、挟み込む圧力を8MPaに増加させて180℃、5分の条件で0.1mmの厚さのフィルムに成形した。
(事前処理工程)
得られたフィルムの片面を、まずは、プラズマイオンボンバードメント装置(真空デバイス社製 PIB‐10)内で、出力についてハードモードを選択して窒素プラズマにより90秒間処理し、親水化した。その際の電流表示値は10mAであった。
(塗布工程)
ガスバリア薄膜の成膜工程を行わずに親水化処理したポリプロピレン製フィルムの表面に、スピンコーター(mikasa社製 MS‐A100)を用いて、3000rpm、1分の条件で、塗布液として、一般式(化1)で表される化合物である3−アミノプロピルトリエトキシシラン(信越シリコーン社製KBE903)200μlを用いてスピンコートして塗布層を形成した。
(硬化工程)
塗布層を23℃の室内で8時間硬化させて、ポリプロピレン製フィルムの表面に硬化層を形成した被覆プラスチック成形体を得た。硬化層の膜厚は1μmであった。
(Comparative example 10)
(Production process of plastic molding)
A 100 μm thick polypropylene film was used as the plastic molding. Using a commercially available press machine (AH-2003 manufactured by As One Corporation), 0.25 g of polypropylene (molecular weight 190,000) manufactured by Sigma Aldrich is used as a polypropylene film first at 180 ° C. for 5 minutes in a mold between stainless steel plates After sandwiching under the conditions weakly, the sandwiching pressure was increased to 8 MPa to form a film of 0.1 mm thickness under the conditions of 180 ° C. for 5 minutes.
(Pre-treatment process)
First, one side of the obtained film was treated with nitrogen plasma for 90 seconds in a plasma ion bombardment apparatus (PIB-10 manufactured by Vacuum Device) to select a hard mode for the output to make it hydrophilic. The current display value at that time was 10 mA.
(Coating process)
Using a spin coater (MS-A100 manufactured by mikasa) on the surface of a polypropylene film which has been subjected to a hydrophilization treatment without performing the film forming step of the gas barrier thin film, a general formula ((coating solution) under the conditions of 3000 rpm for 1 minute The coating layer was formed by spin coating using 200 μl of 3-aminopropyltriethoxysilane (KBE 903 manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.), which is a compound represented by Chemical Formula 1).
(Curing process)
The coated layer was cured in a room at 23 ° C. for 8 hours to obtain a coated plastic molding having a cured layer formed on the surface of a polypropylene film. The film thickness of the hardened layer was 1 μm.

(比較例11)
(プラスチック成形体の作製工程)
プラスチック成形体として、100μm厚のポリプロピレン製フィルムを用いた。ポリプロピレン製フィルムは、シグマアルドリッチ社製ポリプロピレン(分子量19万)を0.25g、市販のプレス機(As One Corporation社製 AH‐2003)を用いて、まずステンレス板の間の型に180℃、5分の条件で弱めに挟んだ後、挟み込む圧力を8MPaに増加させて180℃、5分の条件で0.1mmの厚さのフィルムに成形した。
(事前処理工程)
得られたフィルムの片面を、まずは、プラズマイオンボンバードメント装置(真空デバイス社製 PIB‐10)内で、出力についてハードモードを選択して窒素プラズマにより90秒間処理し、親水化した。その際の電流表示値は10mAであった。
(塗布工程)
親水化したフィルムの表面に、スピンコーター(mikasa社製 MS‐A100)を用いて、3000rpm、1分の条件で、塗布液として、一般式(化1)で表される化合物である3‐アミノプロピルトリメトキシシラン(信越シリコーン社製KBM903)200μlを用いてスピンコートして塗布層を形成した。
(硬化工程)
塗布層を23℃の室内で8時間硬化させた。硬化層の膜厚は1μmであった。
(成膜工程)
平行平板型のプラズマCVD装置(hirano Koh‐on社製Custom‐built)にフィルムを真空チャンバ内に収容し、0.8Paに到達するまで減圧した。次いで、アセチレンガスを200ml/minの流量で供給し、13.56MHzの高周波電力200Wを32秒間印加した。成膜後、真空チャンバからDLC薄膜を成膜したフィルムを取り出した。
(Comparative example 11)
(Production process of plastic molding)
A 100 μm thick polypropylene film was used as the plastic molding. Using a commercially available press machine (AH-2003 manufactured by As One Corporation), 0.25 g of polypropylene (molecular weight 190,000) manufactured by Sigma Aldrich is used as a polypropylene film first at 180 ° C. for 5 minutes in a mold between stainless steel plates After sandwiching under the conditions weakly, the sandwiching pressure was increased to 8 MPa to form a film of 0.1 mm thickness under the conditions of 180 ° C. for 5 minutes.
(Pre-treatment process)
First, one side of the obtained film was treated with nitrogen plasma for 90 seconds in a plasma ion bombardment apparatus (PIB-10 manufactured by Vacuum Device) to select a hard mode for the output to make it hydrophilic. The current display value at that time was 10 mA.
(Coating process)
Using a spin coater (MS-A100 manufactured by mikasa) on the surface of a hydrophilized film, 3-amino which is a compound represented by the general formula (Chem. 1) as a coating solution under conditions of 3000 rpm and 1 minute A coated layer was formed by spin coating using 200 μl of propyltrimethoxysilane (KBM 903 manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.).
(Curing process)
The coated layer was cured in a room at 23 ° C. for 8 hours. The film thickness of the hardened layer was 1 μm.
(Deposition process)
The film was placed in a vacuum chamber in a parallel plate plasma CVD apparatus (Hirano Koh-on Custom-built), and the pressure was reduced until it reached 0.8 Pa. Next, acetylene gas was supplied at a flow rate of 200 ml / min, and 200 W of 13.56 MHz high frequency power was applied for 32 seconds. After film formation, the film on which the DLC thin film was formed was taken out from the vacuum chamber.

(比較例12)
比較例11において、塗布工程で3‐アミノプロピルトリメトキシシランの代わりに3−アミノプロピルトリエトキシシラン(信越シリコーン社製KBE903)を塗布した以外は、比較例12と同様にして、測定サンプルを得た。
(Comparative example 12)
A measurement sample is obtained in the same manner as in Comparative Example 12 except that 3-aminopropyltriethoxysilane (KBE 903 manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) is coated in place of 3-aminopropyltrimethoxysilane in Comparative Example 11 in the coating step. The

(比較例13)
実施例12で作製した高密度ポリエチレン製フィルムを親水化処理せずにそのままを測定サンプルとした。
(Comparative example 13)
The high density polyethylene film produced in Example 12 was used as a measurement sample as it was without hydrophilization treatment.

実施例及び比較例について、サンプルの作製条件と酸素透過度を表1に示す。   The sample preparation conditions and the oxygen permeability are shown in Table 1 for Examples and Comparative Examples.

図2に、実施例1〜6及び比較例1〜8について、DLC薄膜の膜厚と酸素透過度との関係を示した。図2において、親水化処理していないポリプロピレン製フィルムをPP、親水化処理したポリプロピレン製フィルムをpt−PPと表記した。層の関係は上層から順に記載し、/で区分けして表記した。   FIG. 2 shows the relationship between the film thickness of the DLC thin film and the oxygen permeability in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 8. In FIG. 2, a polypropylene film not subjected to hydrophilic treatment is denoted as PP, and a polypropylene film subjected to hydrophilic treatment as pt-PP. The layer relationship is described in order from the upper layer and divided by /.

(ガスバリア性)
酸素透過度は、酸素透過度測定装置(型式:Oxtran 2/21、Modern Control社製)を用いて、23℃、90%RHの条件にて測定し、測定開始から5時間コンディションし、測定開始から6時間経過後の値とした。
(Gas barrier property)
The oxygen permeability is measured using an oxygen permeability measuring device (model: Oxtran 2/21, manufactured by Modern Control) under conditions of 23 ° C., 90% RH, conditioned for 5 hours from the start of measurement, and the measurement started The value after 6 hours from

(元素濃度)
実施例1、実施例4、実施例7及び実施例12について、硬化層の元素濃度を測定した。元素濃度は、硬化層の表面を走査電子顕微鏡(日立ハイテクノロジーズ社製 SU1510)で1000倍に拡大した視野(100μm四方)において、EDX装置(堀場製作所社製 EMAX X‐Max)を用いてEDX解析を行った。EDX解析の条件は次のとおりである。解析は、観察する部分を変えて3箇所について行った。Mの元素濃度を1としたときのO,C及びNの元素濃度の比を表2に示す。
加速電圧:8.0kV
測定圧:60Pa
プローブ電流:67.0μA
(Element concentration)
The element concentration of the hardened layer was measured for Example 1, Example 4, Example 7 and Example 12. The element concentration is EDX analysis using an EDX apparatus (EMAX X-Max manufactured by Horiba, Ltd.) in a field of view (100 μm square) where the surface of the hardened layer is magnified 1000 times with a scanning electron microscope (SU1510 manufactured by Hitachi High-Technologies Corp.) Did. The conditions for EDX analysis are as follows. The analysis was performed on three places while changing the part to be observed. Table 2 shows the ratio of the element concentration of O, C and N when the element concentration of M is 1.
Acceleration voltage: 8.0kV
Measurement pressure: 60Pa
Probe current: 67.0 μA

(表面観察1)
図3に実施例4のレーザ顕微鏡による表面観察画像を示す。図4に比較例3のレーザ顕微鏡による表面観察画像を示す。
(Surface observation 1)
The surface observation image by the laser microscope of Example 4 is shown in FIG. The surface observation image by the laser microscope of the comparative example 3 is shown in FIG.

(表面観察2)
図5に実施例4のAFMによる表面観察画像を示す。図6に比較例3のAFMによる表面観察画像を示す。
(Surface observation 2)
The surface observation image by AFM of Example 4 is shown in FIG. The surface observation image by AFM of the comparative example 3 is shown in FIG.

(濡れ性)
比較例1の試料(試料1という)、比較例1の試料に実施例1と同様の事前処理工程を行って親水化処理した試料(試料2と表記する)及び比較例3(試料3という)に対して、APTMSの接触角測定(液滴法)を行った。APTMSは、実施例1の塗布工程で用いたAPTMSを液滴として使用した。接触角の測定はJIS R3257に準拠した液滴法により行った。結果を表3に示す。表3に示した結果から、APTMSは親水化処理したポリプロピレン製フィルム及びDLC薄膜に対して高い濡れ性を有することがわかった。XPSによるDLC薄膜の表面の構造解析を行ったところ、DLC薄膜の表面に親水基の存在が示唆された。
(Wetability)
The sample of Comparative Example 1 (referred to as Sample 1), the sample of Comparative Example 1 subjected to the pre-treatment step similar to Example 1 and subjected to hydrophilic treatment (referred to as Sample 2) and Comparative Example 3 (referred to as Sample 3) The contact angle measurement (droplet method) of APTMS was performed. APTMS used the APTMS used in the application step of Example 1 as a droplet. The contact angle was measured by the droplet method in accordance with JIS R3257. The results are shown in Table 3. The results shown in Table 3 indicate that APTMS has high wettability to the hydrophilized polypropylene film and DLC thin film. Structural analysis of the surface of the DLC thin film by XPS suggested the presence of hydrophilic groups on the surface of the DLC thin film.

図2を参照すると、比較例1〜8と比べて、実施例4〜6(APTMS/DLC/PPと表記している。)は、DLC薄膜の膜厚が同じものに対して、ガスバリア性が向上していた。さらに、ポリプロピレン製フィルムを親水化処理した実施例1〜3(APTMS/DLC/pt−PPと表記している。)は、実施例4〜6よりもさらにガスバリア性が向上していた。実施例1〜6は、DLC薄膜の膜厚が厚いほどガスバリア性が向上した。実施例3及び実施例6のように1nmの薄いDLC薄膜でもガスバリア性の発揮が可能であり、DLC薄膜に起因する呈色を低減できる。   Referring to FIG. 2, in comparison with Comparative Examples 1 to 8, Examples 4 to 6 (denoted as APTMS / DLC / PP) have gas barrier properties to those having the same DLC thin film thickness. It was improving. Furthermore, in Examples 1 to 3 (expressed as APTMS / DLC / pt-PP) in which a polypropylene film was subjected to a hydrophilization treatment, the gas barrier properties were further improved as compared with Examples 4 to 6. In Examples 1 to 6, as the film thickness of the DLC thin film is larger, the gas barrier property is improved. As in Example 3 and Example 6, even a thin DLC film of 1 nm can exhibit gas barrier properties, and can reduce coloration due to the DLC thin film.

比較例1と比較例9を比較すると、厚さ1μmの硬化層を設けても、ガスバリア性の向上にはほとんど寄与しないことがわかる。一方、実施例4と比較例3とを比較すると、厚さ1nmの硬化層をトップコートとして設けることによって、ガスバリア性が大きく向上している。このようにAPTMSをトップコートとして使用することで中間層として使用するよりもバリア性が向上することがわかった。   When Comparative Example 1 and Comparative Example 9 are compared, it can be seen that providing a 1 μm thick cured layer hardly contributes to the improvement of the gas barrier properties. On the other hand, when Example 4 and Comparative Example 3 are compared, the gas barrier property is greatly improved by providing a 1 nm thick cured layer as a top coat. Thus, it has been found that using APTMS as a top coat improves barrier properties more than using it as an intermediate layer.

さらに、図3と図4とを比較すると、硬化層を設けることで、DLC薄膜のクラックの中に硬化層が入り込み、さらにクラック部分以外のところを含んだ硬化層の表面全体が平滑化されたことがわかった。図5と図6とを比較すると、硬化層を設けることで、DLC薄膜の凹凸を硬化層が埋めて、表面粗さを低減していることがわかった。このように、硬化層が1μm程度の薄い層であったとしてもDLC薄膜のクラックの中に硬化層が入り込むことで、ガスバリア性が向上すると考えられる。   Furthermore, when FIG. 3 and FIG. 4 are compared, the hardened layer entered the crack of the DLC thin film by providing the hardened layer, and the entire surface of the hardened layer including the portion other than the crack portion was smoothed. I understood it. When FIG. 5 and FIG. 6 were compared, it turned out that the hardened layer fills the unevenness | corrugation of a DLC thin film, and surface roughness is reduced by providing a hardened layer. Thus, even if the hardened layer is a thin layer of about 1 μm, it is considered that the gas barrier property is improved by the hardened layer entering the cracks of the DLC thin film.

そして、表3を参照すると、APTMSは親水化処理したポリプロピレン製フィルム及びDLC薄膜に対して高い濡れ性を有するため、実施例1はガスバリア性が非常に高いと考えられる。すなわち、ポリプロピレン製フィルムの表面の濡れ性が向上することで、塗布液がガスバリア薄膜93のクラックに流れ込むだけでなく、さらに塗布液がプラスチック成形体91とガスバリア薄膜93との間に隙間があるときには、当該隙間まで入り込むため、より一層ガスバリア性が向上すると考えられる。   Then, referring to Table 3, since APTMS has high wettability to the hydrophilized polypropylene film and DLC thin film, it is considered that Example 1 has very high gas barrier properties. That is, when the wettability of the surface of the polypropylene film is improved, not only the coating solution flows into the cracks of the gas barrier thin film 93, but also when there is a gap between the plastic molded body 91 and the gas barrier thin film 93 It is considered that the gas barrier property is further improved because the gas enters the gap.

実施例1、4、12は基板に関わらず元素濃度比に大きな差が見られなかった。このことからAPTMSの最表面の組成は基材に関わらずほぼ一定になると考えられる。   In Examples 1, 4 and 12, no significant difference was found in the element concentration ratio regardless of the substrate. From this, it is considered that the composition of the outermost surface of APTMS becomes almost constant regardless of the substrate.

実施例12に示すように、高密度ポリエチレン製フィルムを基板とした場合においてもガスバリア性の向上が確認できた。   As shown in Example 12, even when a high density polyethylene film was used as a substrate, improvement in the gas barrier properties could be confirmed.

本発明に係る被覆プラスチック成形体は、ガスバリア性及び弱酸性〜中性域における耐内容物性を有するから、特に、水、お茶、清涼飲料、炭酸飲料、果汁飲料などの飲料用容器や、錠剤その他の固形物の医薬品容器、食品容器を構成する包装材料として適している。   The coated plastic molding according to the present invention has gas barrier properties and resistance to content in the weakly acidic to neutral region, and in particular, containers for beverages such as water, tea, soft drinks, carbonated beverages, fruit juices, tablets and the like It is suitable as a packaging material for solid pharmaceutical containers and food containers.

90 被覆プラスチック成形体
91 プラスチック成形体
92 硬化層
93 ガスバリア薄膜
90 Coated plastic molded body 91 Plastic molded body 92 Hardened layer 93 Gas barrier thin film

Claims (12)

プラスチック成形体と、
該プラスチック成形体の表面を被覆するガスバリア薄膜と、
該ガスバリア薄膜の表面を被覆する、一般式(化1)で表される化合物の縮合重合体からなる硬化層と、を備えることを特徴とする被覆プラスチック成形体。
(化1)R−M−(CH(OR´)3−n
一般式(化1)において、Mは珪素又は金属を表す。Rはアミノ基を有する炭化水素鎖を表す。R´は炭素数1〜4のアルキル基を表す。また、nは、0,1又は2を表す。
Plastic molded body,
A gas barrier thin film for covering the surface of the plastic molded body,
What is claimed is: 1. A coated plastic molded article comprising: a cured layer formed of a condensation polymer of a compound represented by the general formula (Chem. 1), which covers the surface of the gas barrier thin film.
(Formula 1) R-M- (CH 3 ) n (OR ') 3-n
In the general formula (Formula 1), M represents silicon or a metal. R represents a hydrocarbon chain having an amino group. R 'represents a C1-C4 alkyl group. Also, n represents 0, 1 or 2.
前記硬化層が塗布層であり、前記ガスバリア薄膜のクラックに前記縮合重合体が入り込んでいることを特徴とする請求項1に記載の被覆プラスチック成形体。   The coated plastic molding according to claim 1, wherein the cured layer is a coating layer, and the condensation polymer is intruded in the crack of the gas barrier thin film. 一般式(化1)で表される化合物が、N‐2‐(アミノエチル)‐3‐アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N‐2‐(アミノエチル)‐3‐アミノプロピルトリメトキシシラン、3‐アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N‐フェニル‐3‐アミノプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン又は2‐(3,4‐エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランであることを特徴とする請求項1又は2に記載の被覆プラスチック成形体。   The compound represented by the general formula (Formula 1) is N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-amino Propyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane or 2- (3,4-epoxy) The coated plastic molding according to claim 1 or 2, which is cyclohexyl) ethyltrimethoxysilane. 前記硬化層は、前記Mの元素濃度を1とした場合に、元素濃度比で、Oを2.0〜10.2、Cを4.0〜15.6、Nを0.6〜5.1含有する層であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載の被覆プラスチック成形体。   When the element concentration of M is 1, the hardened layer has an element concentration ratio of 2.0 to 10.2, O of 4.0 to 15.6, C of 0.6 to 5. The coated plastic molded body according to any one of claims 1 to 3, which is a layer containing one. 前記プラスチック成形体が、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート又はこれらの混合物からなることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の被覆プラスチック成形体。   The coated plastic molded body according to any one of claims 1 to 4, wherein the plastic molded body is made of polypropylene, polyethylene, polyethylene terephthalate or a mixture thereof. 前記ガスバリア薄膜が、DLC膜、SiC膜又は酸化物膜であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一つに記載の被覆プラスチック成形体。   The coated gas-barrier molded article according to any one of claims 1 to 5, wherein the gas barrier thin film is a DLC film, a SiC film or an oxide film. 前記プラスチック成形体の表面が表面親水化処理面であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一つに記載の被覆プラスチック成形体。   The coated plastic molded body according to any one of claims 1 to 6, wherein the surface of the plastic molded body is a surface hydrophilized surface. 前記プラスチック成形体が、容器であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一つに記載の被覆プラスチック成形体。   The coated plastic molded body according to any one of claims 1 to 6, wherein the plastic molded body is a container. プラスチック成形体の表面に、ガスバリア薄膜を形成する成膜工程と、
縮合反応をする反応物として一般式(化1)で表される化合物だけを用い、溶剤を用いない塗布液を、前記ガスバリア薄膜の上に塗布して塗布層を形成する塗布工程と、
前記化合物の縮合反応を進めて、前記塗布層を硬化して硬化層を形成する硬化工程と、を順に有することを特徴とする被覆プラスチック成形体の製造方法。
(化1)R−M−(CH(OR´)3−n
一般式(化1)において、Mは珪素又は金属を表す。Rはアミノ基を有する炭化水素鎖を表す。R´は炭素数1〜4のアルキル基を表す。また、nは、0,1又は2を表す。
A film forming step of forming a gas barrier thin film on the surface of the molded plastic;
Applying a coating solution using no solvent, using only the compound represented by the general formula (Chem. 1) as a reactant to undergo a condensation reaction, on the gas barrier thin film to form a coating layer;
A curing step of promoting the condensation reaction of the compound and curing the coated layer to form a cured layer, and the method further comprises the steps of:
(Formula 1) R-M- (CH 3 ) n (OR ') 3-n
In the general formula (Formula 1), M represents silicon or a metal. R represents a hydrocarbon chain having an amino group. R 'represents a C1-C4 alkyl group. Also, n represents 0, 1 or 2.
前記成膜工程を行う前に、前記プラスチック成形体の表面に、表面親水化処理を行う事前処理工程を有することを特徴とする請求項9に記載の被覆プラスチック成形体の製造方法。   The method for producing a coated plastic molded body according to claim 9, further comprising a pretreatment step of subjecting the surface of the plastic molded body to a surface hydrophilization treatment before the film forming step is performed. 前記硬化工程は、0℃以上40℃以下で行う工程であることを特徴とする請求項9に記載の被覆プラスチック成形体の製造方法。   The method for producing a coated plastic molding according to claim 9, wherein the curing step is a step performed at 0 ° C or more and 40 ° C or less. 前記ガスバリア薄膜は化学気相成長法又は物理気相成長法で形成されることを特徴とする請求項9又は10に記載の被覆プラスチック成形体の製造方法。   The method according to claim 9 or 10, wherein the gas barrier thin film is formed by a chemical vapor deposition method or a physical vapor deposition method.
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