JP2019094286A - Acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) and manufacturing method therefor - Google Patents

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Abstract

To provide acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) useful as an electronic material and having higher purity compared to prior art, and a manufacturing method therefor.SOLUTION: There are provided acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) having content of 2,2,2-trifluoroethanol of 0.01 area% or less in analysis by a gas chromatograph equipped with a hydrogen flame ionization detector, content of 2-halo-1,1,1-trifluoroethane represented by the following formula (1) CFCHX (1), wherein X represents a chlorine atom or a bromine atom, of 0.01 area% or less, and content of carboxylic acid represented by the following formula (2) R-COOH (2), wherein R represents an unsubstituted or substituted carbon chain having 1 to 10 carbon atoms, of 0.01 area% or less, or a manufacturing method therefor.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)及びその製造方法に関する。   The present invention relates to acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) and a method of producing the same.

酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)は、フッ素原子を3個有する部分フッ素化溶媒である。部分フッ素化溶媒は、電子材料、蓄電池用電解液等の用途で頻繁に用いられるが、これらの用途では、塩素含有化合物、臭素含有化合物やプロトン性化合物等(例えば有機酸化合物やアルコール化合物等)の含有量の極めて少ない高純度品が求められる。   Acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) is a partially fluorinated solvent having 3 fluorine atoms. Partially fluorinated solvents are frequently used in applications such as electronic materials and storage battery electrolytes, but chlorine-containing compounds, bromine-containing compounds, protic compounds etc. (eg organic acid compounds, alcohol compounds etc.) in these applications A high purity product is required which has an extremely low content of

酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)の合成法としては、2,2,2−トリフルオロエタノールを用いる方法、又は2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンを用いる方法が知られている。   As a synthesis method of acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl), a method using 2,2,2-trifluoroethanol or a method using 2-halo-1,1,1-trifluoroethane is known. It is done.

2,2,2−トリフルオロエタノールを用いる方法として、非特許文献1には2,2,2−トリフルオロエタノールと酢酸をイオン交換樹脂触媒下、副生する水をシリカゲルで吸着させながら反応させることで、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)を合成することが記載されている。しかしこの方法では、反応後に大量の廃シリカゲルが発生し、さらに2,2,2−トリフルオロエタノールの反応性が低いために、反応を進行させるために酢酸を大量に用いる必要があり、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)中への酢酸の混入や酸性廃棄物の処理が必要となる。
また、非特許文献2には、2,2,2−トリフルオロエタノールと塩化アセチルを反応させることによって酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)を合成する方法が示されている。しかしこの方法では、毒性及び腐食性の高い塩化水素が等モル副生するため、反応の際に等モル以上の塩基を用いる必要があり、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)中への塩基及び塩基塩酸塩の混入が懸念される。
また、非特許文献3には、2,2,2−トリフルオロエタノールと無水酢酸を反応させることによって、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)を合成する方法が示されている。しかしこの方法でも、等モル以上の塩基が必要であり、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)中への塩基の混入が懸念される。さらに等モルの酢酸が副生するため、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)中への酢酸の混入が懸念される。
As a method of using 2,2,2-trifluoroethanol, Non-Patent Document 1 makes 2,2,2-trifluoroethanol and acetic acid react while adsorbing by-produced water with silica gel under an ion exchange resin catalyst. Particularly, it is described that acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) is synthesized. However, in this method, a large amount of waste silica gel is generated after the reaction, and furthermore, since the reactivity of 2,2,2-trifluoroethanol is low, it is necessary to use a large amount of acetic acid to advance the reaction. It is necessary to mix acetic acid into 2,2,2-trifluoroethyl) and treat the acidic waste.
In addition, Non-Patent Document 2 shows a method of synthesizing acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) by reacting 2,2,2-trifluoroethanol with acetyl chloride. However, in this method, since the highly toxic and corrosive hydrogen chloride is by-produced equimolarly, it is necessary to use an equimolar or more base in the reaction, and it is necessary to use acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl). There are concerns about the contamination of the base and base hydrochloride of
Further, Non-Patent Document 3 shows a method of synthesizing acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) by reacting 2,2,2-trifluoroethanol with acetic anhydride. However, even in this method, equimolar or more bases are required, and there is a concern that the base may be mixed in acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl). Furthermore, since equimolar acetic acid is by-produced, it is feared that acetic acid is mixed in acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl).

また、これら2,2,2−トリフルオロエタノールを原料として用いる方法の場合、2,2,2−トリフルオロエタノールは、2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンを原料として工業的に合成されるため(例えば特許文献1)、2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンを原料とする方法に比べ、二段反応故に明らかに経済性の面でも不利になる。   Moreover, in the case of the method using these 2,2,2- trifluoroethanols as a raw material, 2,2,2- trifluoroethanol is industrially made from 2-halo- 1,1,1- trifluoroethane as a raw material. Because it is synthesized (for example, Patent Document 1), the two-step reaction is obviously disadvantageous in terms of economy as compared with the method using 2-halo-1,1,1-trifluoroethane as a raw material.

一方、2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンを用いる方法としては、特許文献2及び特許文献3に、アルカリ金属酢酸塩と2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンを反応させ、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)を合成する方法が示されている。この方法では、原料のアルカリ金属酢酸塩や溶媒に含まれる水分によって、反応中に酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)の一部が加水分解し、2,2,2−トリフルオロエタノールが副生するという問題がある。2,2,2−トリフルオロエタノールと酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)の沸点は近いため、蒸留で分離するのは困難である。   On the other hand, as a method of using 2-halo-1,1,1-trifluoroethane, alkali metal acetate and 2-halo-1,1,1-trifluoroethane are reacted with each other in Patent Document 2 and Patent Document 3 And a method of synthesizing acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) is shown. In this method, a portion of acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) is hydrolyzed during the reaction by the alkali metal acetate salt of the raw material and the water contained in the solvent, and 2,2,2-trifluoroethanol Has a problem of byproduct. Because the boiling points of 2,2,2-trifluoroethanol and acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) are close, it is difficult to separate by distillation.

またこのような課題に対し、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)のような部分フッ素化合物から、アルコールや有機酸を除去する技術も検討されている。例えば、特許文献4には、モレキュラーシーブスを用いて、有機液体から2,2,2−トリフルオロエタノールを除去する方法が記載されているが、除去効率が十分ではない。また特許文献5には、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)中に含まれる遊離酸を、シリカゲル等の担体に施されたポリアルキレンイミンを用いることによって除去する方法が記載されているが、除去効率が十分ではない。   Moreover, with respect to such a subject, the technique which removes alcohol and an organic acid from partial fluorine compounds like an acetic acid (2,2,2- trifluoroethyl) is also examined. For example, Patent Document 4 describes a method of removing 2,2,2-trifluoroethanol from an organic liquid using molecular sieves, but the removal efficiency is not sufficient. Further, Patent Document 5 describes a method of removing a free acid contained in acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) by using a polyalkyleneimine applied to a carrier such as silica gel. However, the removal efficiency is not sufficient.

特開2004−203816号公報JP 2004-203816 A 特開2000−264858号公報JP 2000-264858 A 特開昭61−012645号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-012645 特開2005−501892号公報JP, 2005-501893, A 特開2005−501891号公報JP 2005-501891 A

Journal of Fluorine Chemistry;vol.161,p.110−119(2014)Journal of Fluorine Chemistry; vol. 161, p. 110-119 (2014) Biochemistry, 44(16), 6371−6382; 2005(Supporting Information)Biochemistry, 44 (16), 6371-6382; 2005 (Supporting Information) Canadian Journal of Chemistry;vol.74,Nb.4,p.544−558(1996)Canadian Journal of Chemistry; vol. 74, Nb. 4, p. 544-558 (1996).

本発明は、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)について、不純物である2,2,2−トリフルオロエタノール、2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタン及びカルボン酸の含有量を低減できる新規な技術を提供することにある。   The present invention relates to the contents of impurities 2,2,2-trifluoroethanol, 2-halo-1,1,1-trifluoroethane and carboxylic acid which are impurities with respect to acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) To provide new technologies that can reduce

本発明者は従来よりも純度を高めた酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)を提供することを着想した。このような酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)とその製造方法について、発明者が知る限りで言及された記載はない。
本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、2,2,2−トリフルオロエタノール、2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタン及びカルボン酸を低減できる新規な酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)の製造方法を見出し、本発明を完成させた。即ち、本発明は下記の要旨に係るものである。
The inventor has conceived of providing acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) of higher purity than before. There is no description mentioned to such an acetic acid (2,2,2- trifluoro ethyl) and its manufacturing method as far as the inventor knows.
As a result of intensive studies, the present inventors have found that a novel acetic acid (2,2,2 capable of reducing 2,2,2-trifluoroethanol, 2-halo-1,1,1-trifluoroethane and carboxylic acid) The present invention has been accomplished by finding a method for producing 2-trifluoroethyl). That is, the present invention relates to the following gist.

1).水素炎イオン化検出器を備えたガスクロマトグラフでの分析において、2,2,2−トリフルオロエタノールの含有量が0.01面積%以下であり、且つ下記式(1)
CFCHX (1)
(式中、Xは塩素原子又は臭素原子を示す)
で表される2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンの含有量が0.01面積%以下であり、且つ下記式(2)
R−COOH (2)
(式中、Rは炭素数1〜10の無置換、又は置換された炭素鎖を示す)
で表されるカルボン酸の含有量が0.01面積%以下であることを特徴とする、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)。
2).水素炎イオン化検出器を備えたガスクロマトグラフでの分析において、2,2,2−トリフルオロエタノールの含有量が0.003面積%以下であり、且つ下記式(1)
CFCHX (1)
(式中、Xは塩素原子又は臭素原子を示す)
で表される2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンの含有量が0.003面積%以下であり、且つ下記式(2)
R−COOH (2)
(式中、Rは炭素数1〜10の無置換、又は置換された炭素鎖を示す)
で表されるカルボン酸の含有量が0.003面積%以下であることを特徴とする、1)項に記載の酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)。
3).下記式(1)
CFCHX (1)
(式中、Xは塩素原子又は臭素原子を示す)
で表される2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンと、下記式(3)
CHCOM (3)
(式中、Mはアルカリ金属イオンを示す)
で表わされるアルカリ金属酢酸塩を反応させた後、得られた生成物に、アミド系溶媒存在下、下記式(4)
(R−C=O)O (4)
(式中、Rは炭素数1〜10の無置換、又は置換された炭素鎖を示す)
で表されるカルボン酸無水物を添加し、蒸留精製を行うことにより得られることを特徴とする、1)項又は2)項に記載の酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)。
4).カルボン酸無水物が、無水酢酸である3)項に記載の酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)。
5).アミド系溶媒が、N−メチルピロリドンである、3)項または4)項に記載の酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)。
6).下記式(1)
CFCHX (1)
(式中、Xは塩素原子又は臭素原子を示す)
で表される2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンと、下記式(3)
CHCOM (3)
(式中、Mはアルカリ金属イオンを示す)
で表わされるアルカリ金属酢酸塩を反応させた後、得られた生成物に、アミド系溶媒存在下、下記式(4)
(R−C=O)O (4)
(式中、Rは炭素数1〜10の無置換、又は置換された炭素鎖を示す)
で表されるカルボン酸無水物を添加し、蒸留精製を行うことを特徴とする、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)の製造方法。
7).無水カルボン酸が、無水酢酸である6)項に記載の酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)の製造方法。
8).アミド系溶媒が、N−メチルピロリドンである、6)項又は7)項に記載の酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)の製造方法。
9).2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンに対して、アルカリ金属酢酸塩を0.80〜2.00のモル比で使用することを特徴とする、6)項乃至8)項に記載の酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)の製造方法。
10).2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンに対して、カルボン酸無水物を0.05〜0.2のモル比で使用することを特徴とする、6)項乃至9)項に記載の酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)の製造方法。
11).蒸留精製を蒸留塔を用いて行い、該蒸留塔内にイナートガスを連続的に供給しながら蒸留することを特徴とする6)項乃至10)項に記載の酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)の製造方法。
12).蒸留精製を、連続式精密蒸留にて行うことを特徴とする6)項乃至11)項に記載の酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)の製造方法。
1). In the analysis by a gas chromatograph equipped with a hydrogen flame ionization detector, the content of 2,2,2-trifluoroethanol is 0.01 area% or less, and the following formula (1)
CF 3 CH 2 X (1)
(Wherein, X represents a chlorine atom or a bromine atom)
The content of 2-halo-1,1,1-trifluoroethane represented by is 0.01 area% or less, and the following formula (2)
R-COOH (2)
(Wherein, R represents a C1-C10 unsubstituted or substituted carbon chain)
The acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) characterized in that the content of the carboxylic acid represented by is 0.01 area% or less.
2). In a gas chromatograph analysis equipped with a hydrogen flame ionization detector, the content of 2,2,2-trifluoroethanol is 0.003 area% or less, and the following formula (1):
CF 3 CH 2 X (1)
(Wherein, X represents a chlorine atom or a bromine atom)
The content of 2-halo-1,1,1-trifluoroethane represented by is 0.003 area% or less, and the following formula (2)
R-COOH (2)
(Wherein, R represents a C1-C10 unsubstituted or substituted carbon chain)
The acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) described in 1), wherein the content of the carboxylic acid represented by is 0.003 area% or less.
3). Following formula (1)
CF 3 CH 2 X (1)
(Wherein, X represents a chlorine atom or a bromine atom)
And 2-halo-1,1,1-trifluoroethane represented by the following formula (3)
CH 3 CO 2 M (3)
(Wherein, M represents an alkali metal ion)
The reaction product is reacted with an alkali metal acetate represented by the following formula (4) in the presence of an amide-based solvent:
(R-C = O) 2 O (4)
(Wherein, R represents a C1-C10 unsubstituted or substituted carbon chain)
The acetic acid (2,2,2- trifluoroethyl) as described in 1) or 2) characterized by being obtained by adding the carboxylic anhydride represented by these, and performing distillation refinement | purification.
4). The acetic acid (2,2,2- trifluoroethyl) as described in 3) term whose carboxylic acid anhydride is an acetic anhydride.
5). The acetic acid (2,2,2- trifluoroethyl) as described in the item 3) or 4), wherein the amide solvent is N-methyl pyrrolidone.
6). Following formula (1)
CF 3 CH 2 X (1)
(Wherein, X represents a chlorine atom or a bromine atom)
And 2-halo-1,1,1-trifluoroethane represented by the following formula (3)
CH 3 CO 2 M (3)
(Wherein, M represents an alkali metal ion)
The reaction product is reacted with an alkali metal acetate represented by the following formula (4) in the presence of an amide-based solvent:
(R-C = O) 2 O (4)
(Wherein, R represents a C1-C10 unsubstituted or substituted carbon chain)
A method for producing acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl), which comprises adding a carboxylic acid anhydride represented by and performing distillation purification.
7). The method for producing acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) according to 6), wherein the carboxylic acid anhydride is acetic anhydride.
8). The manufacturing method of the acetic acid (2, 2, 2- trifluoro ethyl) as described in 6) or 7 term whose amide system solvent is N- methyl pyrrolidone.
9). An alkaline metal acetate is used in a molar ratio of 0.80 to 2.00 with respect to 2-halo-1,1,1-trifluoroethane as described in 6) to 8). Process for producing acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl).
10). The carboxylic acid anhydride is used in a molar ratio of 0.05 to 0.2 with respect to 2-halo-1,1,1-trifluoroethane, as described in 6) to 9). Process for producing acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl).
11). The acetic acid (2,2,2-trifluoro) according to any one of items 6) to 10), characterized in that distillation purification is performed using a distillation column and distillation is carried out while continuously feeding inert gas into the distillation column. Ethyl) production method.
12). 12. The method for producing acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) according to the items 6) to 11), wherein the distillation purification is performed by continuous precision distillation.

本発明によれば、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)について、不純物である2,2,2−トリフルオロエタノール、2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタン及びカルボン酸の含有量を低減できる新規な技術が提供される。   According to the invention, for acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl), the impurities 2,2,2-trifluoroethanol, 2-halo-1,1,1-trifluoroethane and carboxylic acids Novel technologies are provided that can reduce the content.

以下に本発明の1つの実施形態について詳細に説明する。   Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described in detail.

本実施形態の酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)とは、水素炎イオン化検出器を備えたガスクロマトグラフでの分析において、2,2,2−トリフルオロエタノールの含有量が0.01面積%以下であり、且つ一般式(1)
CFCHX (1)
(式中、Xは塩素原子又は臭素原子を示す)
で表される2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンの含有量が0.01面積%以下であり、且つ一般式(2)
R−COOH (2)
(式中、Rは炭素数1〜10の無置換、又は置換された炭素鎖を示す)
で表されるカルボン酸の含有量が0.01面積%以下である酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)を示す。
The acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) of the present embodiment means that the content of 2,2,2-trifluoroethanol is 0.01 in analysis by gas chromatograph equipped with a hydrogen flame ionization detector. Area% or less, and the general formula (1)
CF 3 CH 2 X (1)
(Wherein, X represents a chlorine atom or a bromine atom)
The content of 2-halo-1,1,1-trifluoroethane represented by is 0.01 area% or less, and the general formula (2)
R-COOH (2)
(Wherein, R represents a C1-C10 unsubstituted or substituted carbon chain)
The acetic acid (2,2,2- trifluoroethyl) whose content of the carboxylic acid represented by these is 0.01 area% or less is shown.

第1の不純物である2,2,2−トリフルオロエタノールは、原料のアルカリ金属酢酸塩及び反応に使用される有機溶媒中に含まれる水により、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)が加水分解されることによって副生する。第2の不純物である一般式(1)で表される2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンは、原料の未反応残存物である。一般式(1)中のXは、塩素、臭素原子を表し、一般式(1)の2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンの例としては、2−クロロ−1,1,1−トリフルオロエタン、2−ブロモ−1,1,1−トリフルオロエタンを挙げることができる。第3の不純物である一般式(2)で表されるカルボン酸は、原料のアルカリ金属酢酸塩及び反応に使用される有機溶媒中に含まれる水により、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)が加水分解されることによって副生する酢酸と、一般式(4)で表されるカルボン酸無水物と副生2,2,2−トリフルオロエタノールが反応した際に副生するカルボン酸の場合がある。一般式(2)中のRは、炭素数1〜10の無置換、又は置換された炭素鎖を示す。Rとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、secブチル基、tertブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、フェニル基等が挙げられる。一般式(2)で表されるカルボン酸の例としては、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、2−メチルプロパン酸、ペンタン酸、イソ吉草酸、ピバル酸、ヘキサン酸、ペンタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、ウンデカン酸、安息香酸等を挙げることができる。   The first impurity 2,2,2-trifluoroethanol is acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) by the alkali metal acetate salt of the raw material and water contained in the organic solvent used for the reaction. Is by-produced by hydrolysis. The second impurity, 2-halo-1,1,1-trifluoroethane represented by the general formula (1) is an unreacted residue of the raw material. X in the general formula (1) represents a chlorine or bromine atom, and as an example of 2-halo-1,1,1-trifluoroethane of the general formula (1), 2-chloro-1,1,1. -Trifluoroethane, 2-bromo-1,1,1-trifluoroethane can be mentioned. The carboxylic acid represented by the general formula (2), which is the third impurity, is acetic acid (2,2,2-trifluoro) by the alkali metal acetate salt of the raw material and water contained in the organic solvent used for the reaction. The acetic acid by-produced by hydrolysis of ethyl), the carboxylic acid by-produced when the carboxylic anhydride represented by the general formula (4) and the by-product 2,2,2-trifluoroethanol react There is a case. R in General formula (2) shows a C1-C10 unsubstituted or substituted carbon chain. As R, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec butyl group, tert butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, phenyl group Etc. Examples of the carboxylic acid represented by the general formula (2) include acetic acid, propionic acid, butanoic acid, 2-methylpropanoic acid, pentanoic acid, isovaleric acid, pivalic acid, hexanoic acid, pentanoic acid, octanoic acid, nonane Acid, decanoic acid, undecanoic acid, benzoic acid and the like can be mentioned.

上記の3つの不純物は、汎用の水素炎イオン化検出器を備えたガスクロマトグラフによる分析で含有量を把握することができる。その含有量は、各0.01面積%以下であり、好ましくは各0.003面積%以下である。
次に本実施形態の酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)の製造方法について説明する。
The contents of the above three impurities can be grasped by analysis by gas chromatograph equipped with a general-purpose hydrogen flame ionization detector. The content thereof is 0.01 area% or less each, preferably 0.003 area% or less each.
Next, the method for producing acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) of the present embodiment will be described.

本実施形態において、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)は、一般式(1)で表される2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンと一般式(3)
CHCOM (3)
(式中、Mはアルカリ金属イオンを示す)
で表されるアルカリ金属酢酸塩を反応させた後、得られた生成物に、アミド系溶媒存在下、一般式(4)
(R−C=O)O (4)
(式中、Rは炭素数1〜10の無置換、又は置換された炭素鎖を示す)
で表されるカルボン酸無水物を添加し、蒸留精製することによって得ることができる。
ここで本反応液中では、アミド系溶媒存在下、副生2,2,2−トリフルオロエタノールと一般式(4)で表されるカルボン酸無水物の反応が極めて容易に進行するため、蒸留精製前の段階で2,2,2-トリフルオロエタノールのより高度な低減が可能となる。一般式(2)で表されるカルボン酸は、アミド系溶媒存在下で蒸留を行うことにより、より高度な低減が可能となる。一般式(1)で表される2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンは、蒸留によって分離することが可能であるが、蒸留中にイナートガスを供給することで、さらなる高度な分離が可能となる。
In the present embodiment, acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) is 2-halo-1,1,1-trifluoroethane represented by the general formula (1) and the general formula (3)
CH 3 CO 2 M (3)
(Wherein, M represents an alkali metal ion)
After reaction with an alkali metal acetate represented by formula (I), the resulting product is reacted with an amide solvent to give a compound of the general formula (4)
(R-C = O) 2 O (4)
(Wherein, R represents a C1-C10 unsubstituted or substituted carbon chain)
Can be obtained by adding and purifying the carboxylic acid anhydride represented by
Here, in the reaction solution, the reaction of the by-product 2,2,2-trifluoroethanol and the carboxylic acid anhydride represented by the general formula (4) in the presence of an amide-based solvent proceeds extremely easily, so distillation is caused. Higher reduction of 2,2,2-trifluoroethanol is possible at the stage before purification. The carboxylic acid represented by the general formula (2) can be more highly reduced by performing distillation in the presence of an amide solvent. The 2-halo-1,1,1-trifluoroethane represented by the general formula (1) can be separated by distillation, but by supplying an inert gas during the distillation, a further high degree of separation can be achieved. It becomes possible.

一般式(1)で表される2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンは、当業者のよく知る一般的な合成法に従って製造することができる。また、市販品を用いてもよい。   The 2-halo-1,1,1-trifluoroethane represented by the general formula (1) can be produced according to a general synthesis method well known to those skilled in the art. Alternatively, commercially available products may be used.

一般式(1)中のXは、塩素、臭素原子を表す。一般式(1)で表される2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンの例として、2−クロロ−1,1,1−トリフルオロエタン、2−ブロモ−1,1,1−トリフルオロエタンを挙げることができる。これらの2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンは、2種を混合して使用することもできる。
一般式(3)で表されるアルカリ金属酢酸塩は、当業者のよく知る一般的な合成法に従って製造することができる。また、市販品を用いてもよい。
X in the general formula (1) represents a chlorine or bromine atom. Examples of 2-halo-1,1,1-trifluoroethane represented by the general formula (1) include 2-chloro-1,1,1-trifluoroethane and 2-bromo-1,1,1- Trifluoroethane can be mentioned. These 2-halo-1,1,1-trifluoroethanes can be used as a mixture of two.
The alkali metal acetate represented by the general formula (3) can be produced according to a general synthesis method well known to those skilled in the art. Alternatively, commercially available products may be used.

一般式(3)中のMは、アルカリ金属イオンを表す。Mとしては、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、セシウムイオンが挙げられる。一般式(3)で表されるアルカリ金属酢酸塩の例としては、酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウムを挙げることができる。さらにこれらの塩は、2種以上を混合して使用することもできる。   M in the general formula (3) represents an alkali metal ion. Examples of M include lithium ion, sodium ion, potassium ion and cesium ion. Examples of the alkali metal acetate represented by the general formula (3) include lithium acetate, sodium acetate, potassium acetate and cesium acetate. Furthermore, these salts can also be used in mixture of 2 or more types.

一般式(1)で表される2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンと一般式(3)で表されるアルカリ金属酢酸塩の反応は、有機溶媒中で行うことができる。反応に用いられる有機溶媒の例としては、アセトン、2−ブタノン等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル系、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルイミダゾリジノン等のアミド系、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄系溶媒を挙げることができる。有機溶媒は、反応や生成物に影響を及ぼさない限り特に制限はないが、一般式(3)で表されるアルカリ金属酢酸塩を良く溶かすという点で、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルイミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、スルホランが好ましく、一般式(1)で表される2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンと一般式(3)で表されるアルカリ金属酢酸塩を反応させた後に副生する2,2,2−トリフルオロエタノールと一般式(4)で表されるカルボン酸無水物との反応が速いという点で、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドンがさらに好ましい。   The reaction of 2-halo-1,1,1-trifluoroethane represented by the general formula (1) and an alkali metal acetate represented by the general formula (3) can be carried out in an organic solvent. Examples of the organic solvent used for the reaction include ketone solvents such as acetone and 2-butanone, ethers such as tetrahydrofuran and cyclopentyl methyl ether, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and N-methylpyrrolidone And amide solvents such as N, N-dimethylimidazolidinone, and sulfur solvents such as dimethyl sulfoxide and sulfolane. The organic solvent is not particularly limited as long as it does not affect the reaction or the product, but in terms of well dissolving the alkali metal acetate represented by the general formula (3), N, N-dimethylformamide, N, N Dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylimidazolidinone, dimethylsulfoxide and sulfolane are preferred, and 2-halo-1,1,1-trifluoroethane represented by the general formula (1) and the general formula In that the reaction of the 2,2,2-trifluoroethanol by-produced after reacting the alkali metal acetate represented by (3) with the carboxylic acid anhydride represented by the general formula (4) is fast , N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and N-methylpyrrolidone are more preferable.

一般式(1)で表される2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンと、一般式(3)で表されるアルカリ金属酢酸塩のモル比は、1:0.8〜1:2.0から適宜選ばれた比が好ましく、1:1.00〜1:1.5から適宜選ばれた比が、不純物の副生量がより少ないという点からさらに好ましい。一般式(1)で表される2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンに対して、一般式(3)で表されるアルカリ金属酢酸塩のモル比が、0.8より小さくなると、範囲内にある場合と比較して、未反応の2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンが残存し、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)との蒸留による分離が難しくなる。また、一般式(1)で表される2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンに対して、一般式(3)で表されるアルカリ金属酢酸塩のモル比が、2.0より大きくなると、範囲内にある場合と比較して、アルカリ金属酢酸塩から持ち込まれる水分が増加し、2,2,2−トリフルオロエタノールの副生量が増加し、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)との分離が困難となる。   The molar ratio of 2-halo-1,1,1-trifluoroethane represented by the general formula (1) and the alkali metal acetate represented by the general formula (3) is 1: 0.8 to 1: 2. A ratio appropriately selected from 2.0 is preferable, and a ratio appropriately selected from 1: 1.00 to 1: 1.5 is more preferable from the viewpoint that the amount of by-product impurities is smaller. When the molar ratio of the alkali metal acetate represented by the general formula (3) to the 2-halo-1,1,1-trifluoroethane represented by the general formula (1) is smaller than 0.8 The unreacted 2-halo-1,1,1-trifluoroethane remains, making it difficult to separate by distillation with acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl), as compared to when it is in the range Become. In addition, the molar ratio of alkali metal acetate represented by the general formula (3) to 2-halo-1,1,1-trifluoroethane represented by the general formula (1) is from 2.0 When it becomes larger, the water brought in from the alkali metal acetate increases, and the by-product amount of 2,2,2-trifluoroethanol increases, as compared with the case of being within the range, and acetic acid (2,2,2- Separation with trifluoroethyl is difficult.

一般式(1)で表される2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンと、一般式(3)で表されるアルカリ金属酢酸塩の反応温度は、特に制限されないが100〜250℃から適宜選択された温度で実施することが好ましく、収率が良い点で、150〜230℃から適宜選択された温度にて実施することがさらに好ましく、不純物の副生量の点で170〜220℃から適宜選択された温度にて実施することがよりさらに好ましい。   The reaction temperature of the 2-halo-1,1,1-trifluoroethane represented by the general formula (1) and the alkali metal acetate represented by the general formula (3) is not particularly limited but is 100 to 250 ° C. It is preferable to carry out at a temperature appropriately selected from the above, and it is more preferable to carry out at a temperature suitably selected from 150 to 230 ° C. in terms of a good yield, and 170 to 220 in terms of the amount of byproduct of impurities. It is even more preferable to carry out at a temperature appropriately selected from ° C.

一般式(4)で表されるカルボン酸無水物は、一般式(1)で表される2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンと、一般式(3)で表されるアルカリ金属酢酸塩との反応後に、生成物に対し、アミド系溶媒存在下において添加される。
一般式(4)で表されるカルボン酸無水物は、当業者のよく知る一般的な合成法に従って製造することができる。また、市販品を用いてもよい。
The carboxylic acid anhydride represented by the general formula (4) comprises 2-halo-1,1,1-trifluoroethane represented by the general formula (1) and an alkali metal represented by the general formula (3) After reaction with the acetate salt, the product is added in the presence of an amide solvent.
The carboxylic acid anhydride represented by General formula (4) can be manufactured according to the general synthetic method which those skilled in the art are familiar. Alternatively, commercially available products may be used.

一般式(4)のRは、炭素数1〜10の無置換、又は置換された炭素鎖を示す。Rとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、secブチル基、tertブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、フェニル基等が挙げられる。一般式(4)で表されるカルボン酸無水物の例としては、無水酢酸、プロピオン酸無水物、ブタン酸無水物、2−メチルプロパン酸無水物、ペンタン酸無水物、イソ吉草酸無水物、ピバル酸無水物、ヘキサン酸無水物、ペンタン酸無水物、オクタン酸無水物、ノナン酸無水物、デカン酸無水物、ウンデカン酸無水物、無水安息香酸を挙げることができる。さらにこれらのカルボン酸無水物は、2種以上を混合して使用することもできる。副生2,2,2−トリフルオロエタノールとの反応で生成した化合物と酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)との分離性の点から、無水酢酸、ペンタン酸無水物、イソ吉草酸無水物、ピバル酸無水物、ヘキサン酸無水物、ペンタン酸無水物、オクタン酸無水物、ノナン酸無水物、デカン酸無水物、ウンデカン酸無水物、無水安息香酸が好ましく、収率の点で無水酢酸がさらに好ましい。   R of General formula (4) shows a C1-C10 unsubstituted or substituted carbon chain. As R, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec butyl group, tert butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, phenyl group Etc. Examples of the carboxylic acid anhydride represented by the general formula (4) include acetic anhydride, propionic acid anhydride, butanoic acid anhydride, 2-methylpropanoic acid anhydride, pentanoic acid anhydride, isovaleric acid anhydride, Pivalic anhydride, hexanoic acid anhydride, pentanoic acid anhydride, octanoic acid anhydride, nonanoic acid anhydride, decanoic acid anhydride, undecanoic acid anhydride, benzoic acid anhydride can be mentioned. Furthermore, these carboxylic acid anhydrides can also be used in mixture of 2 or more types. Acetic anhydride, pentanoic acid anhydride, isovaleric acid from the point of separation of the compound formed by the reaction with by-product 2,2,2-trifluoroethanol and acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) Anhydride, pivalic anhydride, hexanoic acid anhydride, pentanoic acid anhydride, octanoic acid anhydride, nonanoic acid anhydride, decanoic acid anhydride, undecanoic acid anhydride, benzoic acid anhydride are preferred, and in view of yield Acetic acid is more preferred.

一般式(4)で表されるカルボン酸無水物の添加量は、一般式(1)で表される2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンと、一般式(4)で表されるカルボン酸無水物のモル比で1:0.05〜1:0.2から適宜選ばれた比が好ましい。一般式(1)で表される2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンに対して、一般式(4)で表されるカルボン酸無水物のモル比が、0.05より小さくなると、範囲内にある場合と比較して、副生2,2,2−トリフルオロエタノールの残存量が増加し、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)との蒸留による分離が難しくなる。また、一般式(1)で表される2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンに対して、一般式(4)で表されるカルボン酸無水物のモル比が、0.2より大きくなると、範囲内にある場合と比較して、一般式(2)で表されるカルボン酸の副生量が増加し、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)との分離が困難となる。   The addition amount of the carboxylic acid anhydride represented by the general formula (4) is represented by the 2-halo-1,1,1-trifluoroethane represented by the general formula (1) and the general formula (4) Preferably, a ratio appropriately selected from 1: 0.05 to 1: 0.2 in terms of molar ratio of carboxylic acid anhydride. When the molar ratio of the carboxylic anhydride represented by the general formula (4) to the 2-halo-1,1,1-trifluoroethane represented by the general formula (1) is smaller than 0.05 The residual amount of by-product 2,2,2-trifluoroethanol is increased as compared with the case where it is within the range, and the separation by distillation with acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) becomes difficult. In addition, the molar ratio of the carboxylic anhydride represented by the general formula (4) to the 2-halo-1,1,1-trifluoroethane represented by the general formula (1) is 0.2 When it becomes larger, the by-product amount of the carboxylic acid represented by the general formula (2) is increased as compared with the case of being in the range, and separation with acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) is difficult. Become.

一般式(4)で表されるカルボン酸無水物を添加する際の温度は、特に制限されないが0〜100℃の範囲で適宜選択された温度にて実施することが好ましく、不純物の副生量の点で30〜80℃の範囲で適宜選択された温度にて実施することがさらに好ましい。   The temperature at which the carboxylic acid anhydride represented by the general formula (4) is added is not particularly limited, but it is preferable to carry out at a temperature appropriately selected in the range of 0 to 100 ° C. It is further preferable to carry out at a temperature appropriately selected in the range of 30 to 80 ° C.

アミド系溶媒の例としては、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルイミダゾリジノン等を挙げることができる。副生2,2,2−トリフルオロエタノールと一般式(4)で表されるカルボン酸無水物の反応速度の点から、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドンが好ましく、カルボン酸との分離性の点で、N−メチルピロリドンがさらに好ましい。アミド系溶媒は、一般式(1)で表される2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンと一般式(3)で表されるアルカリ金属酢酸塩の反応溶媒として用いることもでき、一般式(4)で表されるカルボン酸無水物を添加する前であれば、投入のタイミングは特に制限はない。   Examples of amide solvents include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylimidazolidinone and the like. From the point of the reaction rate of the by-product 2,2,2-trifluoroethanol and the carboxylic acid anhydride represented by the general formula (4), N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone Is preferred, and N-methyl pyrrolidone is more preferred from the viewpoint of separation with carboxylic acid. The amide solvent can also be used as a reaction solvent of 2-halo-1,1,1-trifluoroethane represented by the general formula (1) and an alkali metal acetate represented by the general formula (3). Before the addition of the carboxylic acid anhydride represented by the general formula (4), the timing of introduction is not particularly limited.

アミド系溶媒の投入量としては特に制限はないが、一般式(3)で表されるカルボン酸無水物に対して、重量比(=アミド系溶媒/アルカリ金属酢酸塩)で0.5〜20の範囲で適宜選ばれた比で行うのが好ましい。   Although there is no restriction | limiting in particular as input amount of an amide system solvent, 0.5-20 by weight ratio (= amide system solvent / alkali metal acetate) with respect to the carboxylic anhydride represented by General formula (3) It is preferable to carry out at a ratio appropriately selected in the range of

一般式(4)で表されるカルボン酸無水物処理後に得られる、未精製の酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)は、アミド系溶媒存在下、蒸留精製を行うことによって、より高純度の酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)に変換することができる。
蒸留精製は、蒸留塔を使用して行うことができる。
蒸留精製は、例えば、スルーザーパッキン、マクマホンパッキン、ポールリング、ラッシヒリング等の充填材を充填した充填塔やオルダーショウ等の塔内部に一定間隔で棚段を設けた棚段塔などの蒸留塔を備えていてもよい、回分式又は連続式の、単蒸留又は精密蒸留が挙げられ、それぞれを組み合わせて蒸留精製を行ってもよい。
ここで、本明細書において、精密蒸留とは、充填材を充填した充填塔や塔内部に一定間隔で棚段を設けた棚段塔などの蒸留塔を備え、還流を伴う蒸留を示す。
また、回分式蒸留とは、一定量の蒸留前の粗生成物を、1バッチ毎に行う蒸留である。
また、連続式蒸留とは、蒸留前の粗生成物を、蒸留塔に連続的に供給しながら行う蒸留である。
このうち、より高純度の酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)が得られ、収率も向上することから、連続式精密蒸留によって蒸留精製処理が行われることが好ましい。
Crude acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) obtained after the carboxylic acid anhydride treatment represented by the general formula (4) can be made higher by performing distillation purification in the presence of an amide-based solvent It can be converted to acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) of purity.
Distillation purification can be performed using a distillation column.
For distillation and purification, for example, it is equipped with a packed column packed with packing materials such as Throughzer packing, McMahon packing, pole ring, lashing ring, etc. The distillation may be batch or continuous, and may be simple distillation or precision distillation, and each may be combined to carry out distillation purification.
Here, in the present specification, the term "precision distillation" refers to a distillation column such as a packed column filled with packing material or a distillation column such as a plate column provided with trays at regular intervals inside the column, and indicates distillation accompanied by reflux.
In addition, batch distillation is distillation in which a certain amount of crude product before distillation is carried out batch by batch.
Moreover, continuous distillation is distillation which performs the crude product before distillation continuously supplying to a distillation column.
Among these, acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) having higher purity is obtained, and the yield is also improved. Therefore, it is preferable that distillation purification treatment be performed by continuous precision distillation.

また蒸留精製は、蒸留塔内にイナートガスを供給しながら蒸留精製を行うことが、より高純度の酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)が得られ、収率も向上することから、好ましい。イナートガスの例としては、窒素、希ガス(ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン)が挙げられる。イナートガスは、単独または2種以上を混合して使用してもよい。窒素、アルゴンが入手性の点で好ましく、窒素が経済的にさらに好ましい。また蒸留塔内へ供給するイナートガス量は、特に制限されないが、蒸留塔径に合わせて線速度0.01〜0.5m/分で行うのが好ましい。線速度0.01m/分より小さいと、範囲内にある場合と比較して、2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンとの分離が悪く、線速度0.5m/分より大きいと、範囲内にある場合と比較して、イナートガスに酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)に同伴されてトラップできず、収率が低下する。   In addition, it is preferable to carry out distillation purification while supplying inert gas into the distillation column, since acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) of higher purity is obtained and the yield is also improved. . Examples of inert gases include nitrogen and noble gases (helium, neon, argon, krypton, xenon). The inert gas may be used alone or in combination of two or more. Nitrogen and argon are preferable in terms of availability, and nitrogen is economically more preferable. The amount of inert gas supplied into the distillation column is not particularly limited, but it is preferable to carry out at a linear velocity of 0.01 to 0.5 m / min according to the diameter of the distillation column. When the linear velocity is less than 0.01 m / min, the separation from 2-halo-1,1,1-trifluoroethane is worse than when it is in the range, and when the linear velocity is more than 0.5 m / min Compared to being within the range, the inert gas is entrained in acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) and can not be trapped, which reduces the yield.

以上の操作で得られた酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)は、水素炎イオン化検出器を備えたガスクロマトグラフによって分析することで、確認することができる。なお、分析は、例えば実施例において記載する条件を用いて行うことができる。   The acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) obtained by the above operation can be confirmed by analysis by gas chromatograph equipped with a hydrogen flame ionization detector. The analysis can be performed, for example, using the conditions described in the examples.

以上、本実施形態によれば、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)について、2,2,2−トリフルオロエタノール、2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタン及びカルボン酸の含有量を低減できる新規な技術を提供することができる。
酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)は、非フッ素化溶媒と比較して、フッ素化合物及び非フッ素化合物との相溶性に優れており、より低粘度、且つより高耐酸化性という特性を有しているため、例えば半導体向けレジスト用ポリマーや、反射防止膜用ポリマーなどの希釈液、畜電池用電解液の溶媒として非常に有用である。本実施形態の酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)は従来の製法で得られる酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)と比較して問題となる不純物の含有量が高度に低減されているため、これら用途で懸念される装置の腐食や蓄電池性能の低下等の課題解決に寄与することができる。
As described above, according to the present embodiment, with regard to acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl), 2,2,2-trifluoroethanol, 2-halo-1,1,1-trifluoroethane and carboxylic acid It is possible to provide a novel technology that can reduce the content.
Acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) is superior to non-fluorinated solvents in compatibility with fluorine compounds and non-fluorinated compounds, and has lower viscosity and higher oxidation resistance. For example, it is very useful as a solvent for a polymer for resists for semiconductors, a dilution liquid such as a polymer for antireflective films, and a solvent for an electrolytic solution for storage batteries. The acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) of the present embodiment is highly reduced in the content of the problematic impurities as compared with the acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) obtained by the conventional production method Therefore, it is possible to contribute to the solution of problems such as corrosion of the device and deterioration of the storage battery performance which are concerned in these applications.

以下、本発明を実施例、比較例、参考例にて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
また、実施例1と実施例17において、各操作時のガスクロマトグラフィー分析結果を示しているが、以下の式を用いて、溶媒を抜いた換算値を示した。
各成分のガスクロマトグラフィー換算値(面積%)= A/(100−B)×100
A:各成分のガスクロマトグラフィー値(面積%)
B:N−メチルピロリドンのガスクロマトグラフィー値(面積%)
水素炎イオン化検出器を備えるガスクロマトグラフィーによる分析は以下の条件に基づき行った(他の実施例も同様に分析を行った)。
装置:SHIMADZU GC−2014
カラム:Varian Capillary Column CP−SiL 8 CB
50m × 0.32mm,膜厚 5μm
温度プログラム:100℃(ホールド時間 0分)⇒昇温速度 10℃/分⇒280℃((ホールド時間 12分)
気化室温度:220℃、検出器温度:280℃、キャリアガス:ヘリウム、制御モード:圧力、圧力:132.8kPa、全流量:110.1mL/min、線速度:33.3cm/sec、パージ流量:3.0mL/min、カラム流量:2.10mL/min、スプリット比:50.0
Hereinafter, the present invention will be described by way of examples, comparative examples, and reference examples, but the present invention is not limited thereto.
Moreover, in Example 1 and Example 17, although the gas chromatography analysis result at the time of each operation is shown, the conversion value which remove | eliminated the solvent was shown using the following formula | equation.
Gas chromatography equivalent of each component (area%) = A / (100-B) x 100
A: Gas chromatography value of each component (area%)
B: Gas chromatography value (area%) of N-methylpyrrolidone
Analysis by gas chromatography equipped with a flame ionization detector was performed under the following conditions (analyzed in the other examples as well).
Device: SHIMADZU GC-2014
Column: Varian Capillary Column CP-SiL 8 CB
50 m × 0.32 mm, film thickness 5 μm
Temperature program: 100 ° C (hold time 0 minutes) 昇温 heating rate 10 ° C / min 280 280 ° C ((hold time 12 minutes)
Vaporization chamber temperature: 220 ° C, detector temperature: 280 ° C, carrier gas: helium, control mode: pressure, pressure: 132.8 kPa, total flow rate: 110.1 mL / min, linear velocity: 33.3 cm / sec, purge flow rate : 3.0 mL / min, column flow rate: 2.10 mL / min, split ratio: 50.0

[実施例1]
10Lオートクレーブに、酢酸カリウム(1226g,12.49mol)及びN−メチルピロリドン(4372g)を加え、オートクレーブを密閉した。真空ポンプを使ってオートクレーブ内を減圧し、2−クロロ−1,1,1−トリフルオロエタン(1397g,11.79mol)加え、180℃で21.5時間撹拌を行った。反応終了後、上澄み液のガスクロマトグラフィー分析を行い、溶媒を抜いた換算値は、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル) 80.78面積%、2−クロロ−1,1,1−トリフルオロエタン 1.003面積%、2,2,2−トリフルオロエタノール 6.713面積%、酢酸 6.038面積%であった。
Example 1
In a 10 L autoclave, potassium acetate (1226 g, 12.49 mol) and N-methylpyrrolidone (4372 g) were added, and the autoclave was sealed. The pressure in the autoclave was depressurized using a vacuum pump, 2-chloro-1,1,1-trifluoroethane (1397 g, 11.79 mol) was added, and stirring was performed at 180 ° C. for 21.5 hours. After completion of the reaction, the supernatant was subjected to gas chromatography analysis, and the solvent was removed. The converted value was 80.78 area% of acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl), 2-chloro-1,1,1- The trifluoroethane was 1.003 area%, 2,2,2-trifluoroethanol was 6.713 area%, and the acetic acid was 6.038 area%.

次に、反応液に無水酢酸(92.1g,0.902mol)を35〜40℃で滴下し、さらに40℃で3時間撹拌を行った。この時の上澄み液のガスクロマトグラフィー分析を行い、溶媒を抜いた換算値は、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル) 82.30面積%、2−クロロ−1,1,1−トリフルオロエタン 0.8529面積%、2,2,2−トリフルオロエタノール 未検出、酢酸 12.72面積%であった。   Next, acetic anhydride (92.1 g, 0.902 mol) was added dropwise to the reaction solution at 35 to 40 ° C., and stirring was further performed at 40 ° C. for 3 hours. The supernatant liquid at this time was subjected to gas chromatography analysis, and the solvent was removed. The converted value was 82.30 area% of acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl), 2-chloro-1,1,1-trile. The fluoroethane was 0.8529 area%, 2,2,2-trifluoroethanol not detected, and the acetic acid was 12.72 area%.

無水酢酸との反応終了後、減圧下において単蒸留を行い、粗生成物を得た。この時の粗生成物のガスクロマトグラフィー分析を行い、溶媒を抜いた換算値は、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル) 98.42面積%、2−クロロ−1,1,1−トリフルオロエタン 0.8698面積%、2,2,2−トリフルオロエタノール 0.0027面積%、酢酸 未検出であった。   After completion of the reaction with acetic anhydride, simple distillation was performed under reduced pressure to obtain a crude product. The crude product at this time was subjected to gas chromatography analysis, and the solvent was removed. The converted value was 98.42 area% of acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl), 2-chloro-1,1,1- Trifluoroethane 0.8698 area%, 2,2,2- trifluoroethanol 0.0027 area%, acetic acid undetected.

粗生成物を、常圧で回分式精密蒸留(棚段塔:オルダーショウ、段数:30段、目皿:直径32mm、全長:1010mm)を行うことにより、目的とする酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)を無色透明液体として得た(収量 1212g、収率 72.3%)。得られた酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)のガスクロマトグラフィーによる分析結果は、溶媒のN−メチルピロリドンを含んでおらず、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル) 99.96面積%、2,2,2−トリフルオロエタノール 0.0024面積%、2−クロロ−1,1,1−トリフルオロエタン 0.0023面積%、酢酸 未検出であった。   The crude product is subjected to batch-type precision distillation (plate column: Ordershaw, number of plates: 30 plates, plate: diameter 32 mm, total length: 1010 mm) at normal pressure to obtain the target acetic acid (2, 2, 2- 2- Trifluoroethyl) was obtained as a colorless transparent liquid (yield 1212 g, 72.3% yield). The analysis result by gas chromatography of the obtained acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) does not contain the solvent N-methylpyrrolidone, and acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) 99. 96 area%, 0.0024 area% of 2,2,2-trifluoroethanol, 0.0023 area% of 2-chloro-1,1,1-trifluoroethane, acetic acid not detected.

[実施例2]〜[実施例16]及び[比較例1]〜[比較例4]は、表1に示す条件で合成を行った。   [Example 2] to [Example 16] and [Comparative Example 1] to [Comparative Example 4] were synthesized under the conditions shown in Table 1.

[実施例17]
10Lオートクレーブに、酢酸カリウム(1228g,12.52mol)及びN−メチルピロリドン(4402g)を加え、オートクレーブを密閉した。真空ポンプを使ってオートクレーブ内を減圧し、2−クロロ−1,1,1−トリフルオロエタン(1397g,11.79mol)を加え、180℃で23時間撹拌を行った。反応終了後の上澄み液のガスクロマトグラフィー分析を行い、溶媒を抜いた換算値は、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル) 81.12面積%、2−クロロ−1,1,1−トリフルオロエタン 1.007面積%、2,2,2−トリフルオロエタノール 6.742面積%、酢酸 6.065面積%であった。
[Example 17]
In a 10 L autoclave, potassium acetate (1228 g, 12.52 mol) and N-methylpyrrolidone (4402 g) were added, and the autoclave was sealed. The pressure in the autoclave was reduced using a vacuum pump, 2-chloro-1,1,1-trifluoroethane (1397 g, 11.79 mol) was added, and stirring was performed at 180 ° C. for 23 hours. After completion of the reaction, the supernatant was subjected to gas chromatography analysis, and the solvent was removed. The converted value was acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) 81.12 area%, 2-chloro-1,1,1- The trifluoroethane was 1.007 area%, 2,2,2-trifluoroethanol 6.742 area%, and acetic acid 6.065 area%.

次に、反応液に無水酢酸(92.1g,0.902mol)を35〜40℃で滴下し、さらに40℃で3時間撹拌を行った。この時の上澄み液のガスクロマトグラフィー分析を行い、溶媒を抜いた換算値は、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル) 82.72面積%、2−クロロ−1,1,1−トリフルオロエタン 0.8567面積%、2,2,2−トリフルオロエタノール 未検出、酢酸 12.77面積%であった。   Next, acetic anhydride (92.1 g, 0.902 mol) was added dropwise to the reaction solution at 35 to 40 ° C., and stirring was further performed at 40 ° C. for 3 hours. The supernatant liquid at this time was subjected to gas chromatography analysis, and the solvent was removed and the converted value was 82.72 area% of acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl), 2-chloro-1,1,1-trile. It was 0.8567 area% of fluoroethane, no 2,2,2-trifluoroethanol detected, and 12.77 area% of acetic acid.

無水酢酸との反応終了後、減圧下において単蒸留を行い、粗生成物を得た。この時の粗生成物のガスクロマトグラフィー分析を行い、溶媒を抜いた換算値は、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル) 98.29面積%、2−クロロ−1,1,1−トリフルオロエタン 0.8681面積%、2,2,2−トリフルオロエタノール 0.0027面積%、酢酸 未検出であった。   After completion of the reaction with acetic anhydride, simple distillation was performed under reduced pressure to obtain a crude product. The crude product at this time was subjected to gas chromatography analysis, and the solvent was removed. The converted value was 98.29 area% of acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl), 2-chloro-1,1,1- 0.8681 area% of trifluoroethane, 0.0027 area% of 2,2,2-trifluoroethanol, and acetic acid were not detected.

粗生成物は、蒸留塔(充填材:スルーザーパッキン Φ25×54mm、20個、全長:1360mm)2本を用いて連続式精密蒸留にて精製を行った。1本目の蒸留塔の中段に粗生成物を連続的に投入し、塔頂より低沸点不純物を分離し、塔底から得られた低沸点不純物を分離した粗生成物を、2本目の蒸留塔の中段に投入し、塔頂から目的とする酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)を無色透明液体として得た(収量 1449g、収率 86.5%)。得られた酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)のガスクロマトグラフィーによる分析結果は、溶媒のN−メチルピロリドンを含んでおらず、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル) 99.99面積%、2,2,2−トリフルオロエタノール 0.0002面積%、2−クロロ−1,1,1−トリフルオロエタン 未検出、酢酸 未検出であった。   The crude product was purified by continuous precision distillation using two distillation columns (filler: through-sizer packing 25 × 54 mm, 20 pieces, total length: 1360 mm). The crude product is continuously introduced into the middle stage of the first distillation column, the low boiling impurities are separated from the column top, and the crude product obtained by separating the low boiling impurities obtained from the column bottom is the second distillation column The reaction mixture was poured into the middle stage of the column, and the target acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) was obtained as a colorless and transparent liquid from the top of the column (yield 1449 g, 86.5%). The analysis result by gas chromatography of the obtained acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) does not contain the solvent N-methylpyrrolidone, and acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) 99. 99% by area, 0.002% by area of 2,2,2-trifluoroethanol, 2-chloro-1,1,1-trifluoroethane not detected, acetic acid not detected.

実施例1と比較例1との比較から、カルボン酸無水物の添加により、蒸留にて副生2,2,2−トリフルオロエタノールを分離しやすくなることが理解できる。原因は、2つの化合物の沸点が近いためである。   From the comparison between Example 1 and Comparative Example 1, it can be understood that the addition of the carboxylic anhydride makes it easy to separate the byproduct 2,2,2-trifluoroethanol by distillation. The cause is that the boiling points of the two compounds are close.

実施例1と比較例2〜3の比較から、蒸留時の溶媒をアミド系とする場合、カルボン酸が蒸留で留出し難くなることが分かる。詳細な理由はわからないが、酢酸とアミド系溶媒が何らかの相互作用により、蒸留で留出し難くなったのではないかと考えられる。   From the comparison of Example 1 and Comparative Examples 2 to 3, it is understood that when the solvent at the time of distillation is an amide type, it becomes difficult to distill off the carboxylic acid. Although the detailed reason is not known, it is considered that the interaction between acetic acid and the amide solvent makes it difficult to distill off by distillation.

副生2,2,2−トリフルオロエタノールの処理のため、実施例8では無水安息香酸、実施例9ではヘキサン酸無水物を用いたが、無水酢酸を用いたときと同様に、より高純度の酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)を合成することが可能であった。   For the treatment of by-product 2,2,2-trifluoroethanol, benzoic acid anhydride was used in Example 8 and hexanoic acid anhydride was used in Example 9, but the purity is higher as in the case of using acetic anhydride. It is possible to synthesize acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) of

実施例1及び実施例12と実施例16から、アルカリ金属酢酸塩の2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンに対するモル比が0.8以上となると、未反応の2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンが減少し、蒸留による収量が増加するので、収率が向上することが理解できる。   From Examples 1 and 12 and Example 16, when the molar ratio of alkali metal acetate to 2-halo-1,1,1-trifluoroethane is 0.8 or more, unreacted 2-halo-1 is not reacted. It can be understood that the yield is improved since the 1,1,1-trifluoroethane decreases and the yield by distillation increases.

実施例10では、精密蒸留時にイナートガスとして窒素ガス(N)を連続的に供給しながら蒸留を行ったところ、実施例1に比べて収率が向上し、2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンの含有量が低下した。詳細な理由はわからないが、Nを供給しながら精密蒸留を行うことによって、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)への2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンの溶解度が低下したのではないかと考えられる。 In Example 10, when distillation was performed while continuously supplying nitrogen gas (N 2 ) as the inert gas at the time of precision distillation, the yield was improved compared to Example 1, and 2-halo-1, 1 and 1 were obtained. The content of trifluoroethane is reduced. Although the detailed reason is not known, the solubility of 2-halo-1,1,1-trifluoroethane in acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) can be increased by performing precision distillation while supplying N 2. It is thought that it has fallen.

実施例17では、連続式精密蒸留を行ったところ、実施例1に比べて収率が向上し、2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタン及び2,2,2−トリフルオロエタノールの含有量が大幅に低下した。詳細な理由はわからないが、回分式より連続式精密蒸留の分離能が高いためであると考えられる。   In Example 17, when the continuous precision distillation was performed, the yield was improved compared to Example 1, and 2-halo-1,1,1-trifluoroethane and 2,2,2-trifluoroethanol were obtained. The content decreased significantly. Although the detailed reason is not known, it is thought that it is because the resolution of continuous precision distillation is higher than batch type.

[参考例1]
2Lのフラスコに、2,2,2−トリフルオロエタノール 200g(2.00mol)、酢酸 601g(10.0mol)及び濃硫酸 58.8g(0.6mol)加え、24時間加熱還流を行った。反応後、反応液を冷却し、ジエチルーテル 500mlを加えた。次に、溶液に5%炭酸水素ナトリウム水溶液 250gで3回洗浄した後、さらに水 250gで3回洗浄し、得られた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ過し、得られた有機層を常圧で精密蒸留(充填塔:オルダーショウ、段数:30段、目皿:直径32mm、全長:1010mm)を行い、目的とする酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)を無色透明液体として得た(収量 93.5g、収率 32.6%)。
[Reference Example 1]
In a 2 L flask, 200 g (2.00 mol) of 2,2,2-trifluoroethanol, 601 g (10.0 mol) of acetic acid and 58.8 g (0.6 mol) of concentrated sulfuric acid were added, and the mixture was heated under reflux for 24 hours. After the reaction, the reaction solution was cooled and 500 ml of diethyl ether was added. Next, the solution was washed three times with 250 g of a 5% aqueous sodium hydrogen carbonate solution, and further washed three times with 250 g of water, and the obtained organic layer was dried over sodium sulfate. Sodium sulfate is filtered, and the obtained organic layer is subjected to precision distillation at normal pressure (packed column: Aldershaw, plate number: 30 plates, plate: diameter 32 mm, total length: 1010 mm) to obtain the target acetic acid (2,2, 2-trifluoroethyl) was obtained as a colorless and transparent liquid (yield 93.5 g, 32.6%).

得られた酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)のガスクロマトグラフィーによる分析結果は、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル) 99.12面積%、2,2,2−トリフルオロエタノール 0.6032面積%、酢酸 0.2747面積%であった。   The analysis result of the obtained acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) by gas chromatography is: acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) 99.12 area%, 2,2,2-trifluoro It was 0.6032 area% of ethanol and 0.2747 area% of acetic acid.

以上、本発明で規定する製造方法により、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)を従来と比較して高純度で得ることができた。   As mentioned above, acetic acid (2,2,2- trifluoro ethyl) was able to be obtained by high purity compared with the former by the manufacturing method specified by the present invention.

本発明で得られる酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)は、従来と比較して高純度であり、例えば半導体向けレジスト用ポリマーの希釈液、反射防止膜用ポリマーなどの希釈液、電池用電解液の溶媒等の電子材料用途として有望である。   The acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) obtained in the present invention has high purity as compared with the prior art, and it is, for example, a diluting solution of a polymer for resist for semiconductor, a diluting solution of a polymer for antireflective film, etc. It is promising as an electronic material application such as a solvent of an electrolytic solution for use.

Claims (12)

水素炎イオン化検出器を備えたガスクロマトグラフでの分析において、2,2,2−トリフルオロエタノールの含有量が0.01面積%以下であり、且つ下記式(1)
CFCHX (1)
(式中、Xは塩素原子又は臭素原子を示す)
で表される2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンの含有量が0.01面積%以下であり、且つ下記式(2)
R−COOH (2)
(式中、Rは炭素数1〜10の無置換、又は置換された炭素鎖を示す)
で表されるカルボン酸の含有量が0.01面積%以下であることを特徴とする、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)。
In the analysis by a gas chromatograph equipped with a hydrogen flame ionization detector, the content of 2,2,2-trifluoroethanol is 0.01 area% or less, and the following formula (1)
CF 3 CH 2 X (1)
(Wherein, X represents a chlorine atom or a bromine atom)
The content of 2-halo-1,1,1-trifluoroethane represented by is 0.01 area% or less, and the following formula (2)
R-COOH (2)
(Wherein, R represents a C1-C10 unsubstituted or substituted carbon chain)
The acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) characterized in that the content of the carboxylic acid represented by is 0.01 area% or less.
水素炎イオン化検出器を備えたガスクロマトグラフでの分析において、2,2,2−トリフルオロエタノールの含有量が0.003面積%以下であり、且つ下記式(1)
CFCHX (1)
(式中、Xは塩素原子又は臭素原子を示す)
で表される2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンの含有量が0.003面積%以下であり、且つ下記式(2)
R−COOH (2)
(式中、Rは炭素数1〜10の無置換、又は置換された炭素鎖を示す)
で表されるカルボン酸の含有量が0.003面積%以下であることを特徴とする、請求項1に記載の酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)。
In a gas chromatograph analysis equipped with a hydrogen flame ionization detector, the content of 2,2,2-trifluoroethanol is 0.003 area% or less, and the following formula (1):
CF 3 CH 2 X (1)
(Wherein, X represents a chlorine atom or a bromine atom)
The content of 2-halo-1,1,1-trifluoroethane represented by is 0.003 area% or less, and the following formula (2)
R-COOH (2)
(Wherein, R represents a C1-C10 unsubstituted or substituted carbon chain)
The acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) according to claim 1, wherein the content of the carboxylic acid represented by is 0.003 area% or less.
下記式(1)
CFCHX (1)
(式中、Xは塩素原子又は臭素原子を示す)
で表される2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンと、下記式(3)
CHCOM (3)
(式中、Mはアルカリ金属イオンを示す)
で表わされるアルカリ金属酢酸塩を反応させた後、得られた生成物に、アミド系溶媒存在下、下記式(4)
(R−C=O)O (4)
(式中、Rは炭素数1〜10の無置換、又は置換された炭素鎖を示す)
で表されるカルボン酸無水物を添加し、蒸留精製を行うことにより得られることを特徴とする、請求項1又は請求項2に記載の酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)。
Following formula (1)
CF 3 CH 2 X (1)
(Wherein, X represents a chlorine atom or a bromine atom)
And 2-halo-1,1,1-trifluoroethane represented by the following formula (3)
CH 3 CO 2 M (3)
(Wherein, M represents an alkali metal ion)
The reaction product is reacted with an alkali metal acetate represented by the following formula (4) in the presence of an amide-based solvent:
(R-C = O) 2 O (4)
(Wherein, R represents a C1-C10 unsubstituted or substituted carbon chain)
The acetic acid (2,2,2- trifluoroethyl) of Claim 1 or 2 characterized by being obtained by adding the carboxylic anhydride represented by these, and performing distillation refinement | purification.
カルボン酸無水物が、無水酢酸である請求項3に記載の酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)。   The acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) according to claim 3, wherein the carboxylic acid anhydride is acetic anhydride. アミド系溶媒が、N−メチルピロリドンである、請求項3または4に記載の酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)。   The acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) according to claim 3 or 4, wherein the amide solvent is N-methyl pyrrolidone. 下記式(1)
CFCHX (1)
(式中、Xは塩素原子又は臭素原子を示す)
で表される2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンと、下記式(3)
CHCOM (3)
(式中、Mはアルカリ金属イオンを示す)
で表わされるアルカリ金属酢酸塩を反応させた後、得られた生成物に、アミド系溶媒存在下、下記式(4)
(R−C=O)O (4)
(式中、Rは炭素数1〜10の無置換、又は置換された炭素鎖を示す)
で表されるカルボン酸無水物を添加し、蒸留精製を行うことを特徴とする、酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)の製造方法。
Following formula (1)
CF 3 CH 2 X (1)
(Wherein, X represents a chlorine atom or a bromine atom)
And 2-halo-1,1,1-trifluoroethane represented by the following formula (3)
CH 3 CO 2 M (3)
(Wherein, M represents an alkali metal ion)
The reaction product is reacted with an alkali metal acetate represented by the following formula (4) in the presence of an amide-based solvent:
(R-C = O) 2 O (4)
(Wherein, R represents a C1-C10 unsubstituted or substituted carbon chain)
A method for producing acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl), which comprises adding a carboxylic acid anhydride represented by and performing distillation purification.
無水カルボン酸が、無水酢酸である請求項6に記載の酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)の製造方法。   The method for producing acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) according to claim 6, wherein the carboxylic acid anhydride is acetic anhydride. アミド系溶媒が、N−メチルピロリドンである、請求項6又は請求項7に記載の酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)の製造方法。   The method for producing acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) according to claim 6 or 7, wherein the amide solvent is N-methyl pyrrolidone. 2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンに対して、アルカリ金属酢酸塩を0.80〜2.00のモル比で使用することを特徴とする、請求項6乃至請求項8のいずれか一つに記載の酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)の製造方法。   9. An alkali metal acetate salt is used in a molar ratio of 0.80 to 2.00 with respect to 2-halo-1,1,1-trifluoroethane. The manufacturing method of the acetic acid (2, 2, 2- trifluoro ethyl) as described in any one. 2−ハロ−1,1,1−トリフルオロエタンに対して、カルボン酸無水物を0.05〜0.2のモル比で使用することを特徴とする、請求項6乃至請求項9に記載の酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)の製造方法。   10. A method according to any of claims 6 to 9, characterized in that the carboxylic anhydride is used in a molar ratio of 0.05 to 0.2 relative to 2-halo-1,1,1-trifluoroethane. Process for producing acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl). 蒸留精製を蒸留塔を用いて行い、該蒸留塔内にイナートガスを連続的に供給しながら蒸留することを特徴とする請求項6乃至請求項10のいずれか一つに記載の酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)の製造方法。   11. The acetic acid (2, 2 according to any one of claims 6 to 10, wherein distillation purification is performed using a distillation column, and the inert gas is continuously supplied into the distillation column while being continuously supplied. , 2-trifluoroethyl). 蒸留精製を、連続式精密蒸留にて行うことを特徴とする請求項6乃至請求項11のいずれか一つに記載の酢酸(2,2,2−トリフルオロエチル)の製造方法。
The method for producing acetic acid (2,2,2-trifluoroethyl) according to any one of claims 6 to 11, wherein distillation purification is performed by continuous precision distillation.
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