JP2019069620A - Anti-glare film - Google Patents
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Images
Landscapes
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Abstract
Description
本発明は、金型に関する。 The present invention relates to a mold.
液晶ディスプレイやプラズマディスプレイパネル、ブラウン管（陰極線管：ＣＲＴ）ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイなどの画像表示装置は、その表示面に外光が映り込むと視認性が著しく損なわれてしまう。このような外光の映り込みを防止するために、画質を重視するテレビやパーソナルコンピュータ、外光の強い屋外で使用されるビデオカメラやデジタルカメラ、反射光を利用して表示を行う携帯電話などにおいては、従来から画像表示装置の表面に外光の映り込みを防止するために防眩フィルムが使用されている。 In an image display apparatus such as a liquid crystal display, a plasma display panel, a Braun tube (Cathode Ray Tube (CRT)) display, an organic electroluminescence (EL) display and the like, visibility is extremely impaired when external light is reflected on the display surface. In order to prevent such external light from being projected, televisions and personal computers that emphasize image quality, video cameras and digital cameras used outdoors where the external light is strong, mobile phones that perform display using reflected light, etc. In the prior art, an antiglare film is conventionally used to prevent the reflection of external light on the surface of an image display device.
このような防眩フィルムは、例えば、基材フィルム上に形成された光硬化性樹脂層に、エンボスロールを押し付けながら、当該光硬化性樹脂層を硬化することによって製造することができる。当該エンボスロールとしては、銅めっき表面を有する基材ロールの表面に、感光性樹脂膜を形成し、当該感光性樹脂膜をパターン状に現像し、銅めっき表面をエッチングし、その後パターン状に現像された感光性樹脂膜を除去し、さらにクロムめっきを施したもの（特許文献１）等が知られている。 Such an antiglare film can be produced, for example, by curing the photocurable resin layer while pressing the embossing roll against the photocurable resin layer formed on the base film. As the embossing roll, a photosensitive resin film is formed on the surface of a base material roll having a copper plating surface, the photosensitive resin film is developed in a pattern, the copper plating surface is etched, and then developed in a pattern What removed the photosensitive resin film | membrane which was carried out, and also chrome-plated (patent document 1) etc. is known.
しかしながら、従来のエンボスロールを使用することで製造される防眩フィルムは、ディスプレイに用いられた場合に、表示画像にムラが認められることがあった。 However, the antiglare film manufactured by using the conventional embossing roll had a case where a nonuniformity was recognized by the display image, when it used for a display.
本発明は、以下の発明を含む。
［１］ 表面に微細凹凸形状が形成されている金型であって、
前記金型の表面の顕微鏡画像を、白黒２５６階調に変換したときの、全画素の合計面積に対する、平均階調＋２σ（標準偏差）以上の画素の合計面積が１．７％以下である金型。
［２］ 表面の算術平均粗さＲaが０.０３μｍ以上０.５μｍ以下である［１］に記載の金型。
［３］ 表面が金属めっき層である［１］又は［２］に記載の金型。
［４］ 表面がクロムめっき層である［１］又は［２］に記載の金型。
［５］ ［１］〜［４］のいずれかに記載の金型を硬化性樹脂に押し当て、前記硬化性樹脂を硬化した後に、硬化した硬化性樹脂から前記金型を剥がすことによって得られる防眩フィルム。
［６］ 透明支持体上に、微細凹凸表面を有する防眩層が形成された防眩フィルムであって、
前記微細凹凸表面の顕微鏡画像を、白黒２５６階調に変換したときの、全画素の合計面積に対する、平均階調＋２σ（標準偏差）以上の画素の合計面積が０．８％以下である防眩フィルム。
［７］ 前記防眩層の表面の算術平均粗さＲaが０.０３μｍ以上０.５μｍ以下である［６］に記載の防眩フィルム。
［８］ 防眩層が微細凹凸表面を形成するための粒子を含有しない［６］又は［７］に記載の防眩フィルム。
［９］ ［５］〜［８］のいずれかに記載の防眩フィルムを備える画像表示装置。
The present invention includes the following inventions.
[1] A mold having a fine uneven shape formed on the surface,
Gold in which the total area of pixels with an average gradation of + 2σ (standard deviation) or less is 1.7% or less with respect to the total area of all pixels when a microscopic image of the surface of the mold is converted into 256 levels of black and white Type.
[2] The mold according to [1], wherein the arithmetic mean roughness Ra of the surface is not less than 0.03 μm and not more than 0.5 μm.
[3] The mold according to [1] or [2], wherein the surface is a metal plating layer.
[4] The mold according to [1] or [2], wherein the surface is a chromium plating layer.
[5] A mold according to any one of [1] to [4] is pressed against a curable resin, and after curing the curable resin, it is obtained by peeling the mold from the cured curable resin Antiglare film.
[6] An antiglare film having an antiglare layer having a fine uneven surface formed on a transparent support,
Antiglare in which the total area of pixels having an average gradation of + 2σ (standard deviation) or less is 0.8% or less with respect to the total area of all pixels when the microscopic image of the fine uneven surface is converted to black and white 256 gradations the film.
[7] The antiglare film according to [6], wherein the arithmetic average roughness Ra of the surface of the antiglare layer is 0.03 μm or more and 0.5 μm or less.
[8] The antiglare film according to [6] or [7], wherein the antiglare layer does not contain particles for forming a fine uneven surface.
[9] An image display device comprising the antiglare film according to any one of [5] to [8].
本発明の金型によれば、ディスプレイに用いた場合にムラが少ない表示画像が得られる、防眩フィルムを得ることができる。 According to the mold of the present invention, it is possible to obtain an antiglare film capable of obtaining a display image with less unevenness when used in a display.
本発明の金型（以下、本金型ということがある）は、表面に微細凹凸形状を有する金型であり、その表面の顕微鏡画像を、白黒２５６階調に変換したときの、全画素の合計面積に対する、平均階調＋２σ（標準偏差）以上の画素の合計面積の割合が１．７％以下のものである。 The mold according to the present invention (hereinafter sometimes referred to as the present mold) is a mold having a fine concavo-convex shape on the surface, and when a microscopic image of the surface is converted to black and white 256 gradations, The ratio of the total area of pixels having an average gradation of + 2σ (standard deviation) or more to the total area is 1.7% or less.
本金型表面に形成されている微細凹凸形状は、算術平均粗さＲａ、最大断面高さＲｔ及び平均長さＲＳｍによって評価することができる。当該Ｒａ、Ｒｔ及びＲＳｍは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１の規定に準拠して求めることができる。 The fine concavo-convex shape formed on the surface of the present mold can be evaluated by the arithmetic average roughness Ra, the maximum cross sectional height Rt and the average length RSm. The said Ra, Rt, and RSm can be calculated | required based on the prescription | regulation of JISB0601.
前記微細凹凸形状の算術平均粗さＲａは、好ましくは０．０３μｍ以上０．５μｍ以下であり、より好ましくは０．０３μｍ以上０．３μｍ以下であり、さらに好ましくは０．０３μｍ以上０．１μｍ以下である。当該算術平均粗さＲａが０．０３μｍ以上であると本金型を用いて得られる防眩フィルムの防眩性が十分となる傾向がある。また、０．５μｍ以下であると本金型を用いて得られる防眩フィルムを用いたディスプレイの表示画像における白ちゃけの発生が抑制される傾向がある。 Arithmetic mean roughness Ra of the said fine uneven | corrugated shape becomes like this. Preferably it is 0.03 to 0.5 micrometer, More preferably, it is 0.03 to 0.3 micrometer, More preferably, it is 0.03 to 0.1 micrometer. It is. When the arithmetic mean roughness Ra is 0.03 μm or more, the antiglare property of the antiglare film obtained using the present mold tends to be sufficient. When the thickness is 0.5 μm or less, the occurrence of whitening in a display image of a display using an antiglare film obtained using the present mold tends to be suppressed.
前記微細凹凸形状の最大断面高さＲｔは、好ましくは０．３μｍ以上３μｍ以下であり、より好ましくは０．３μｍ以上１μｍ以下である。当該最大断面高さＲｔが０．３μｍ以上であると本金型を用いて得られる防眩フィルムの防眩性が十分となる傾向がある。また、３μｍ以下であると本金型を用いて得られる防眩フィルムを用いたディスプレイの表示画像における白ちゃけの発生が抑制される傾向があり、また、表面凹凸形状の均一性が十分に高くなるためギラツキが低下する傾向がある。 The maximum cross-sectional height Rt of the fine asperity shape is preferably 0.3 μm or more and 3 μm or less, and more preferably 0.3 μm or more and 1 μm or less. If the maximum cross-sectional height Rt is 0.3 μm or more, the antiglare property of the antiglare film obtained using the present mold tends to be sufficient. In addition, if it is 3 μm or less, the occurrence of whitening tends to be suppressed in the display image of the display using the antiglare film obtained using the present mold, and the uniformity of the surface asperity shape is sufficiently sufficient. There is a tendency for glare to decrease because it becomes higher.
前記微細凹凸形状の平均長さＲＳｍは、好ましくは３０μｍ以上２００μｍ以下であり、より好ましくは３０μｍ以上１５０μｍ以下である。当該平均長さＲＳｍが３０μｍ以上であると本金型を用いて得られる防眩フィルムの防眩性が十分となる傾向があり、また、２００μｍ以下であると本金型を用いて得られる防眩フィルムの防眩性が十分となる傾向がある。 The average length RSm of the fine asperity shape is preferably 30 μm or more and 200 μm or less, and more preferably 30 μm or more and 150 μm or less. If the average length RSm is 30 μm or more, the antiglare property of the antiglare film obtained using the present mold tends to be sufficient, and if 200 μm or less, the protection obtained using the present mold The antiglare property of the glare film tends to be sufficient.
前記微細凹凸形状は、通常、パターンを有する。当該パターンは、規則的なパターンであってもよいし、ランダムパターンであってもよいし、特定サイズの１種類以上のランダムパターンを敷き詰めた、擬似ランダムパターンであってもよい。本金型を用いて得られる防眩フィルムにおいて、表面形状に起因する反射光の干渉によって、反射像が虹色に色づくことを防止する観点から、好ましくは、ランダムパターン及び擬似ランダムパターンである。 The fine asperity shape usually has a pattern. The pattern may be a regular pattern, a random pattern, or a pseudo-random pattern in which one or more types of random patterns of a specific size are spread. In the antiglare film obtained by using the present mold, a random pattern and a pseudo random pattern are preferable from the viewpoint of preventing the reflected image from becoming iridescent due to the interference of the reflected light caused by the surface shape.
本金型の、外形形状は特に制限されるものではなく、平板状であってもよいし、円柱状又は円筒状のロール状であってもよいが、防眩フィルムの連続生産性の観点から、円柱状又は円筒状の表面に微細凹凸形状を有する金型ロールであることが好ましい。より好ましくは、円柱状又は円筒状の表面に、パターンを有する微細凹凸形状を有する金型ロールである。 The external shape of the present mold is not particularly limited, and may be flat, or may be cylindrical or cylindrical, but from the viewpoint of continuous production of the antiglare film. It is preferable that it is a mold roll which has a micro uneven | corrugated shape in the cylindrical or cylindrical surface. More preferably, it is a mold roll having a fine uneven shape having a pattern on a cylindrical or cylindrical surface.
本金型は、その本体となる基材と、凹凸形状のパターンが形成されている表面とが異なる材質からなるのが好ましい。
本金型の基材の材質は、金属、ガラス、カーボン、樹脂、及びそれらの複合体から適宜選択でき、加工性等の点から、好ましくは金属である。当該金属としては、アルミニウムを含む合金、鉄を含む合金、アルミニウム、及び鉄等が挙げられる。前記アルミニウム又は鉄を含む合金は、アルミニウム又は鉄を主体とする合金であると好ましく、また、アルミニウム又は鉄を５０質量％以上含む合金であると好ましい。
It is preferable that the present mold be made of different materials from the base material which is the main body thereof and the surface on which the pattern of the concavo-convex shape is formed.
The material of the substrate of the present mold can be appropriately selected from metal, glass, carbon, resin, and a composite thereof, and is preferably metal from the viewpoint of processability and the like. Examples of the metal include alloys containing aluminum, alloys containing iron, aluminum, and iron. The alloy containing aluminum or iron is preferably an alloy mainly composed of aluminum or iron, and is preferably an alloy containing 50% by mass or more of aluminum or iron.
本金型の表面の材質は金属であり、当該表面は好ましくは、めっきによって形成された金属めっき層である。当該表面に用いられる金属としては、銅、ニッケル、及びクロム等が挙げられ、好ましくはクロムである。つまり、本金型は、好ましくは表面にクロムめっき層を有する。クロムは、硬度が高く、摩擦係数が小さいため良好な離型性を本金型に与え得る。すなわち、表面にクロムめっき層を有する本金型は、耐久性が高く、使用中に凹凸パターンが磨り減ったり、損傷したりする虞が低い。このような金型から得られた防眩フィルムは、十分な防眩機能が得られ易く、また、防眩フィルム上に欠陥が発生し難い。 The material of the surface of the present mold is metal, and the surface is preferably a metal plating layer formed by plating. As a metal used for the said surface, copper, nickel, chromium, etc. are mentioned, Preferably it is chromium. That is, the present mold preferably has a chromium plating layer on the surface. Chromium has high hardness and a low coefficient of friction and can provide good mold releasability to the mold. That is, the present mold having a chromium plating layer on its surface has high durability, and is less likely to cause abrasion and damage of the uneven pattern during use. With the antiglare film obtained from such a mold, a sufficient antiglare function is easily obtained, and defects are less likely to occur on the antiglare film.
めっきの種類は特に制限されないが、いわゆる光沢めっき、又は装飾用めっき等と呼ばれる、良好な光沢を発現するめっきであることが好ましい。 The type of plating is not particularly limited, but is preferably plating that exhibits good gloss, so-called bright plating or decorative plating.
表面に微細凹凸形状が形成されている金型の表面には、当該微細凹凸形状よりもさらに細かな盛り上がり（以下、微細突起ということがある）が存在する。当該微細突起がわずかに光を散乱させるため、当該金型の表面をマイクロスコープ（例えば、ＤＳ−３ＵＸ、マイクロスクェア社製）で撮影したときに、撮影された画像（以下「顕微鏡画像」と記す場合がある）が白く観察されることがあり、また、微細突起に密度差がある場合には、散乱光量も異なるため、金型表面の顕微鏡画像に明暗のムラが観察され、このような明暗のムラが観察される金型を用いて作製された防眩フィルムを備えるディスプレイの表示画像にはムラが認められることがある。 On the surface of the mold in which the fine asperity shape is formed on the surface, a bulge (hereinafter, sometimes referred to as a fine protrusion) smaller than the fine asperity shape is present. When the surface of the mold is photographed with a microscope (for example, DS-3UX, manufactured by Microsquare Co., Ltd.), the image is recorded as a photographed image (hereinafter referred to as “microscopic image”) because the fine projections slightly scatter light. In some cases, white may be observed, and if there are differences in density among the fine protrusions, the amount of scattered light will also differ, so unevenness in brightness and brightness is observed in the microscopic image of the mold surface. Unevenness may be recognized in the display image of the display provided with the antiglare film produced using the metal mold | die in which the nonuniformity of is observed.
前記の明暗のムラの程度は、表面に微細凹凸形状が形成されている金型の表面の顕微鏡画像を、白黒２５６階調化することにより評価することができる。具体的には、顕微鏡画像を白黒２５６階調（０〜２５５）に変換し、白黒２５６階調化された全画素の合計面積(画素数)に対する平均階調＋２σ以上の階調の合計画素面積（画素数）の割合（％）を算出する。これが、微細突起に起因する明暗のムラが観察されるかどうかの指標となる。この時の全画素の合計面積に対する平均階調＋２σ以上の階調の合計画素面積の割合（以下、「平均階調＋２σ以上の画素面積」ということがある）が１．７％以下であると、明暗のムラは観察され難く、１．７％を超えると明暗のムラが観察され易い傾向がある。平均階調＋２σ以上の画素面積の割合は、明暗のムラは観察され難いという観点から、好ましくは１．４％以下であり、さらに好ましくは１．０％以下である。また、通常０．０１％以上であり、０．１％以上であってもよい。 The degree of the unevenness in brightness and darkness can be evaluated by converting the microscopic image of the surface of the mold having the fine uneven shape on the surface into black and white 256 gradations. Specifically, the microscope image is converted into 256 gray levels (0 to 255), and the total pixel area of gray levels of average gray level + 2σ or more with respect to the total area (number of pixels) of all pixels converted into black and white 256 levels Calculate the ratio (%) of (number of pixels). This is an indicator of whether or not unevenness in brightness due to the fine projections is observed. At this time, the ratio of the total pixel area of average gradation + 2σ or more to the total area of all pixels (hereinafter sometimes referred to as "average gradation + 2σ or more pixel area") is 1.7% or less The unevenness of light and dark is hard to be observed, and when it exceeds 1.7%, the unevenness of light and dark tends to be observed easily. The ratio of the pixel area of the average gradation + 2σ or more is preferably 1.4% or less, more preferably 1.0% or less, from the viewpoint that it is difficult to observe unevenness of light and dark. Moreover, it is usually 0.01% or more, and may be 0.1% or more.
前記平均階調＋２σ以上の画素面積の割合は、表面に微細凹凸形状を有する金型の表面に存在する微細突起を研磨することで調整することができ、微細突起を研磨することで、平均階調＋２σ以上の画素面積を小さくすることができる。しかしながら、研磨処理によって、金型表面に形成されている微細凹凸形状も研磨されてしまうと、防眩フィルムを得るための金型としての機能を失うことがある。 The ratio of the pixel area of the average gradation + 2σ or more can be adjusted by polishing the fine projections present on the surface of the mold having the fine concavo-convex shape on the surface, and the average floor can be adjusted by polishing the fine projections. The pixel area of tone + 2σ or more can be reduced. However, if the fine concavo-convex shape formed on the mold surface is also polished by the polishing process, the function as the mold for obtaining the antiglare film may be lost.
特に、クロムめっきによって得られる未研磨のクロムめっき層には、マイクロクラックとよばれる細かな盛り上がり（微細突起）が多く存在するため、その表面には多くの明暗のムラが観察される。 In particular, in the unpolished chromium plating layer obtained by chromium plating, many fine bumps (micro-protrusions) called micro cracks are present, so many unevenness in brightness and darkness is observed on the surface.
前記金属めっき層の厚みは、好ましくは０．５〜２０μｍであり、より好ましくは１〜１０μｍである。金属めっき層の厚みが０．５μｍよりも厚いと、基材が有する微細凹凸形状を鈍らせる効果が十分であり、その微細凹凸形状を転写することによって得られる防眩フィルムの光学特性が良好になる傾向がある。一方、金属めっき厚みが２０μｍよりも薄いと、生産性が高く、ノジュールと呼ばれる突起状のめっき欠陥の発生が少なくなる傾向がある。
なお、表面に微細凹凸形状を有する基材の上に、金属めっきを施すことにより、当該微細凹凸形状が鈍らせられ、また、その表面硬度が高められた金型を得ることができる。この際の凹凸の鈍り具合は、基材の上に形成された凹凸形状の材質、大きさ、深さ等によって異なり、また、金属めっきの材質、厚み等によっても異なるが、鈍り具合を制御する上で最も大きな因子は、金属めっきの厚みである。
The thickness of the metal plating layer is preferably 0.5 to 20 μm, and more preferably 1 to 10 μm. When the thickness of the metal plating layer is thicker than 0.5 μm, the effect of dulling the fine uneven shape of the substrate is sufficient, and the optical properties of the antiglare film obtained by transferring the fine uneven shape are excellent. Tend to be On the other hand, when the metal plating thickness is smaller than 20 μm, the productivity is high, and the occurrence of protruding plating defects called nodules tends to be reduced.
In addition, by metal-plating on the base material which has fine uneven | corrugated shape on the surface, the said fine uneven | corrugated shape can be made dull and the metal mold | die with which the surface hardness was raised can be obtained. The degree of dullness of the unevenness at this time varies depending on the material, size, depth, etc. of the concavo-convex shape formed on the base material, and also varies depending on the material of metal plating, thickness, etc. The biggest factor above is the thickness of the metal plating.
本金型は、従来の表面に微細な凹凸形状を有する金型の表面を特定の方法で研磨することによって得ることができる。 The present mold can be obtained by polishing the surface of a mold having a fine uneven shape on the conventional surface by a specific method.
従来の表面に微細な凹凸形状を有する金型の製造方法としては、例えば、基材に銅めっきまたはニッケルめっきを施した後、研磨し、サンドブラスト加工を施した後、クロムめっきを施す方法（特開２００７−１８７９５２号公報）；銅めっきまたはニッケルめっきを施した後、研磨し、サンドブラスト加工を施した後、エッチング工程または銅めっき工程を施し、ついでクロムめっきを施す方法（特開２００７−２３７５４１号公報）；基材の表面に銅めっきまたはニッケルめっきを施した後、研磨し、研磨された面に感光性樹脂膜を塗布形成し、該感光性樹脂膜上にパターンを露光した後、現像し、現像された感光性樹脂膜をマスクとして用いてエッチング処理を行ない、感光性樹脂膜を剥離し、さらにエッチング処理を行ない、凹凸面を鈍らせた後、形成された凹凸面にクロムめっきを施す方法；および旋盤等の工作機械を用いて、切削工具により金型となる基材を切削する方法（国際公開第２００７／０７７８９２号パンフレット）等が挙げられる。その他、形状を付与する下地に好適に用いられる方法として、再加工のしやすさ観点から、基材めっき層の上に銀等で構成される剥離層を設け、剥離層の上に形状を付与するめっき層を設ける方法がある。 As a conventional method of manufacturing a mold having a fine uneven shape on the surface, for example, a method of applying copper plating or nickel plating to a substrate, then polishing, sandblasting, and applying chromium plating (special Open 2007-187952); after copper plating or nickel plating, polishing, sand blasting, etching process or copper plating process, then chromium plating (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-237541) Gazette) After applying copper plating or nickel plating to the surface of the substrate, polish and coat a photosensitive resin film on the polished surface, expose the pattern on the photosensitive resin film, and develop Then, etching is performed using the developed photosensitive resin film as a mask, the photosensitive resin film is peeled off, and etching is further performed to form an uneven surface. A method of applying chromium plating to the formed uneven surface after dulling; and a method of cutting a substrate to be a mold with a cutting tool using a machine tool such as a lathe (WO 2007/077892 pamphlet) Etc. In addition, as a method suitably used for the base giving the shape, from the viewpoint of ease of rework, a peeling layer composed of silver or the like is provided on the base material plating layer, and the shape is given on the peeling layer There is a method of providing a plating layer to be used.
本金型の基材、及び表面の微細凹凸形状は、例えば、ＦＭスクリーン法、ＤＬＤＳ（Ｄｙｎａｍｉｃ °Ｌｏｗ−Ｄｉｓｃｒｅｐａｎｃｙ °Ｓｅｑｕｅｎｃｅ）法、ブロック共重合体のミクロ相分離パターンを利用する方法、又はバンドパスフィルター法等によって生成された微細凹凸形状を感光性樹脂膜上に露光、現像し、現像された感光性樹脂膜をマスクとして用いてエッチング処理を行なうこと等により形成することができる。凹凸形状のパターンも同様の方法によって形成することができる。 The base material of the present mold and the fine uneven shape of the surface may be, for example, an FM screen method, a DLDS (Dynamic Low-Discrepancy ° Sequence) method, a method using a microphase separation pattern of a block copolymer, or a band pass It can form by performing an etching process etc. using the photosensitive resin film which exposed and developed the fine concavo-convex shape produced | generated by the filter method etc. on the photosensitive resin film, and was developed as a mask. The uneven pattern can also be formed by the same method.
図１は、本金型を作製するために用いられるパターンの画像データの一部を表わした図である。図１に示した画像データは３３ｍｍ×３３ｍｍの大きさで、１２８００ｄｐｉで作成した。 FIG. 1 is a view showing a part of image data of a pattern used to produce the present mold. The image data shown in FIG. 1 has a size of 33 mm × 33 mm and was created at 12800 dpi.
研磨の方法としては、粉体ないし粒子からなる研磨材を用いた方法が挙げられる。具体的には、サンドブラスト法、及びウェットブラスト法等のブラスト研磨法、ラッピング加工法等のラッピング研磨法、バレル加工法、並びに磁気研磨方法等が挙げられる。好ましくは、ブラスト研磨法及びラッピング研磨法である。 Examples of the method of polishing include a method using an abrasive made of powder or particles. Specific examples thereof include sandblasting and blasting such as wet blasting, lapping and polishing such as lapping, barreling, and magnetic polishing. Preferably, a blasting method and a lapping method are used.
ブラスト研磨法には、特開２００５−２０５５１３号公報、及び特開２００２−１１４９６８号公報等に記載の公知の方法を用いることができる。ブラスト研磨法に用いられる研磨材に特に制限はないが、研磨材が金型表面に衝突した際の形状変化が小さい弾性研磨材が好ましい。 As the blasting method, known methods described in JP-A-2005-205513 and JP-A-2002-114968 can be used. The abrasive used in the blasting method is not particularly limited, but an elastic abrasive having a small shape change when the abrasive collides with the mold surface is preferable.
ラッピング研磨法には、特開２０１０−９４７５２号公報等に記載の公知の方法を用いることができる。ラッピング研磨に用いられる研磨材に特に制限はないが、表面形状の変化や研磨キズの発生を少なくするために、研磨材の平均粒径は1．０μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは０．５μｍ以下であり、さらに好ましくは０．１μｍ以下である。 As the lapping method, a known method described in JP-A-2010-94752 can be used. The abrasive used in lapping polishing is not particularly limited, but the average particle diameter of the abrasive is preferably 1.0 μm or less, more preferably 0, in order to reduce the change in surface shape and the occurrence of polishing flaws. 0.5 μm or less, more preferably 0.1 μm or less.
以下では、本金型を製造する方法の一形態について説明する。本金型の製造方法は、特に制限されないが、微細凹凸形状を有する表面を精度よく、かつ、再現性よく製造するために、〔１〕第１めっき工程、〔２〕研磨工程、〔３〕感光性樹脂膜形成工程、〔４〕露光工程、〔５〕現像工程、〔６〕第１エッチング工程、〔７〕感光性樹脂膜剥離工程、〔８〕第２エッチング工程、〔９〕第２めっき工程、及び〔１０〕研磨処理工程を含むことが好ましい。 Below, one form of a method of manufacturing this mold is explained. The manufacturing method of the present mold is not particularly limited, but in order to manufacture the surface having the fine concavo-convex shape accurately and reproducibly, [1] first plating step, [2] polishing step, [3] Photosensitive resin film formation process, [4] exposure process, [5] development process, [6] first etching process, [7] photosensitive resin film peeling process, [8] second etching process, [9] second It is preferable to include a plating step and [10] polishing treatment step.
図２は、本金型の製造方法の前半部分の一例を模式的に示す図であり、各工程における金型の断面を模式的に示している。以下、図２を参照しながら、本金型の製造方法について説明する。 FIG. 2: is a figure which shows typically an example of the first half part of the manufacturing method of this metal mold | die, and has shown typically the cross section of the metal mold | die in each process. Hereinafter, the manufacturing method of this metal mold | die is demonstrated, referring FIG.
〔１〕第１めっき工程
まず、基材の表面に第一のめっきを施す。基材の表面に第一のめっきを施すことにより、後の第２めっき工程における金属めっきの密着性や光沢性を向上させることができる。
第一のめっきとしては、銅めっきが好ましい。これは、銅めっきは、被覆性が高く、また平滑化作用が強いことから、基材表面の凹凸や鬆などを埋めて平坦で光沢のある基材表面を形成するためである。これらの銅めっきの特性によって、後述する第２めっき工程において金属めっきを施したとしても、基材に存在していた凹凸や鬆に起因すると思われる金属めっき表面の荒れが解消され、また、銅めっきの被覆性の高さから、細かいクラックの発生が低減される。
[1] First Plating Step First, the surface of the base is subjected to the first plating. By performing the first plating on the surface of the substrate, the adhesion and gloss of metal plating in the second plating step to be performed later can be improved.
Copper plating is preferable as the first plating. This is because copper plating has a high covering property and a strong smoothing action, and thereby fills irregularities and wrinkles on the substrate surface to form a flat and glossy substrate surface. Due to the characteristics of these copper platings, even if metal plating is performed in the second plating step to be described later, the roughness of the metal plating surface, which is considered to be caused by the unevenness and wrinkles present in the substrate, is eliminated. The high coverage of the plating reduces the occurrence of fine cracks.
第１めっき工程において用いられる銅は、銅の純金属であることができるほか、銅を主体とする合金であってもよい。つまり、本明細書でいう「銅」とは、銅および銅合金を含む意味である。銅めっきは、電解めっきで行っても無電解めっきで行ってもよいが、通常は電解めっきが採用される。 The copper used in the first plating step can be a pure metal of copper, or may be an alloy based on copper. That is, the term "copper" as used herein is meant to include copper and copper alloys. Copper plating may be performed by electrolytic plating or electroless plating, but electrolytic plating is usually employed.
第一のめっきの厚みは、下地（基材）表面の影響を十分に排除するために、５０μｍ以上であるのが好ましい。第一のめっきの厚みの上限は臨界的でないが、コスト等の観点から５００μｍ以下が好ましい。 The thickness of the first plating is preferably 50 μm or more in order to sufficiently eliminate the influence of the underlying (substrate) surface. The upper limit of the thickness of the first plating is not critical, but is preferably 500 μm or less from the viewpoint of cost and the like.
〔２〕研磨工程
続く研磨工程では、第１のめっきが施された基材表面を研磨する。研磨工程を経ることで、第１のめっきが施された基材表面を鏡面に近い状態に研磨することが好ましい。これは、基材となる金属板や金属ロールには、所望の精度にするために、切削や研削などの機械加工が施されていることが多く、それにより基材表面に加工目が残っており、第一のめっきが施された状態でも、それらの加工目が残ることがあるためである。このような加工目などが残った表面に、後述する工程を施したとしても、各工程を施した後に形成される凹凸よりも加工目などの凹凸の方が深いことがあり、加工目などの影響が残る可能性があり、そのような金型を用いて防眩フィルムを製造した場合には、光学特性に予期できない影響を及ぼすことがある。
図２（ａ）は、平板状の基材７が、第１めっき工程において銅めっきをその表面に施され（当該工程で形成した銅めっきの層については図示せず）、さらに研磨工程によって鏡面研磨された表面８を有するようにされた状態を模式的に示している。
[2] Polishing Step In the subsequent polishing step, the surface of the substrate to which the first plating has been applied is polished. It is preferable to polish the base material surface to which the 1st plating was given in the state near a mirror surface by passing through a grinding process. This is because the metal plate or metal roll to be the substrate is often machined such as cutting or grinding in order to achieve the desired accuracy, whereby the machined surface remains on the substrate surface. Even if the first plating is applied, those processed points may remain. Even if the surface on which such processing marks and the like are left is subjected to the steps described later, the unevenness such as the processing marks may be deeper than the unevenness formed after each processing step. The influence may remain, and if such a mold is used to produce an antiglare film, the optical properties may be unexpectedly affected.
In FIG. 2A, the
研磨方法は特に制限されるものではなく、機械研磨法、電解研磨法、化学研磨法のいずれも使用できる。機械研磨法としては、超仕上げ法、ラッピング、流体研磨法、バフ研磨法などが例示される。また、研磨工程においては、切削工具を用いて鏡面切削することにより、基材７の表面８を鏡面としてもよい。その際の切削工具の材質や形状などは特に制限されるものではなく、超硬バイト、ＣＢＮバイト、セラミックバイト、ダイヤモンドバイトなどを使用することができるが、加工精度の観点からダイヤモンドバイトを用いることが好ましい。研磨後の表面粗度は、ＪＩＳ Ｂ ０６０１の規定に準拠した中心線平均粗さＲａが０．１μｍ以下であることが好ましく、０．０５μｍ以下であることがより好ましい。研磨後の中心線平均粗さＲａが０．１μｍより大きいと、最終的な金型表面の凹凸形状に研磨後の表面粗度の影響が残る可能性があるので好ましくない。また、中心線平均粗さＲａの下限については特に制限されず、加工時間や加工コストの観点から、おのずと限界があるので、特に指定する必要性はない。
The polishing method is not particularly limited, and any of mechanical polishing, electrolytic polishing and chemical polishing can be used. The mechanical polishing method may, for example, be a superfinishing method, lapping, fluid polishing method or buff polishing method. Further, in the polishing step, the surface 8 of the
〔３〕感光性樹脂膜形成工程
続く感光性樹脂膜形成工程では、研磨工程によって鏡面研磨を施した基材７の表面８に、感光性樹脂を溶媒に溶解した溶液を塗布し、加熱・乾燥することにより、感光性樹脂膜を形成する。図２（ｂ）は、基材７の表面８に感光性樹脂膜９が形成された状態を模式的に示している。
[3] Photosensitive Resin Film Forming Step In the subsequent photosensitive resin film forming step, a solution in which a photosensitive resin is dissolved in a solvent is applied to the surface 8 of the
感光性樹脂としては従来公知の感光性樹脂を用いることができる。たとえば、感光部分が硬化する性質をもったネガ型の感光性樹脂としては分子中にアクリル基またはメタアクリル基を有するアクリル酸エステルの単量体やプレポリマー、ビスアジドとジエンゴムとの混合物、ポリビニルシンナマート系化合物などを用いることができる。また、現像により感光部分が溶出し、未感光部分だけが残る性質をもったポジ型の感光性樹脂としてはフェノール樹脂系やノボラック樹脂系などを用いることができる。また、感光性樹脂には、必要に応じて、増感剤、現像促進剤、密着性改質剤、又は塗布性改良剤などの各種添加剤を配合してもよい。 As the photosensitive resin, conventionally known photosensitive resins can be used. For example, as a negative photosensitive resin having the property of curing the photosensitive portion, monomers and prepolymers of acrylic esters having acrylic or methacrylic groups in the molecule, mixtures of bisazide and diene rubber, polyvinyl cinna Mart compounds and the like can be used. In addition, as a positive photosensitive resin having a property that the photosensitive portion is eluted by development and only the non-photosensitive portion remains, a phenol resin type, a novolac resin type or the like can be used. In addition, various additives such as a sensitizer, a development accelerator, an adhesion modifier, or a coatability improver may be added to the photosensitive resin, as necessary.
これらの感光性樹脂を基材７の表面８に塗布する際には、良好な塗膜を形成するために、適当な溶媒に希釈して塗布することが好ましく、当該溶媒としてはセロソルブ系溶媒、プロピレングリコール系溶媒、エステル系溶媒、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、及び高極性溶媒などを使用することができる。
When these photosensitive resins are applied to the surface 8 of the
感光性樹脂溶液を塗布する方法としては、メニスカスコート、ファウンティンコート、ディップコート、回転塗布、ロール塗布、ワイヤーバー塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、カーテン塗布、及びリングコート等の公知の方法を用いることができる。塗布膜の厚さは乾燥後で１〜１０μｍの範囲とすることが好ましい。 The photosensitive resin solution may be applied by known methods such as meniscus coating, fountain coating, dip coating, spin coating, roll coating, wire bar coating, air knife coating, blade coating, curtain coating, and ring coating. It can be used. The thickness of the coating film is preferably in the range of 1 to 10 μm after drying.
〔４〕露光工程
続く露光工程では、凹凸形状のパターンを、上述した感光性樹脂膜形成工程で形成された感光性樹脂膜９上に露光する。露光工程に用いる光源は塗布された感光性樹脂の感光波長や感度等に合わせて適宜選択すればよく、高圧水銀灯のｇ線（波長：４３６ｎｍ）、高圧水銀灯のｈ線（波長：４０５ｎｍ）、高圧水銀灯のｉ線（波長：３６５ｎｍ）、半導体レーザ（波長：８３０ｎｍ、５３２ｎｍ、４８８ｎｍ、４０５ｎｍなど）、ＹＡＧレーザ（波長：１０６４ｎｍ）、ＫｒＦエキシマーレーザ（波長：２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマーレーザ（波長：１９３ｎｍ）、Ｆ２エキシマーレーザ（波長：１５７ｎｍ）等を用いることができる。
[4] Exposure Step In the subsequent exposure step, the uneven pattern is exposed on the
凹凸形状のパターンを精度良く形成するためには、露光工程において、上述したパターンを感光性樹脂膜上に精密に制御された状態で露光することが好ましい。上述したパターンを感光性樹脂膜上に精度良く露光するためには、コンピュータでパターンを画像データとして作成し、その画像データに基づいたパターンを、コンピュータ制御されたレーザヘッドから発するレーザ光によって描画することが好ましい。レーザ描画を行うに際しては印刷版作成用のレーザ描画装置を使用することができる。このようなレーザ描画装置としては、たとえばＬａｓｅｒ Ｓｔｒｅａｍ ＦＸ（（株）シンク・ラボラトリー製）などが挙げられる。 In order to form a pattern of concavo-convex shape with high accuracy, in the exposure step, it is preferable to expose the pattern described above in a precisely controlled state on the photosensitive resin film. In order to expose the pattern described above onto the photosensitive resin film with high accuracy, a computer creates a pattern as image data, and draws a pattern based on the image data with a laser beam emitted from a computer-controlled laser head. Is preferred. When performing laser drawing, a laser drawing apparatus for producing a printing plate can be used. As such a laser drawing apparatus, for example, Laser Stream FX (manufactured by Think Laboratory Co., Ltd.) and the like can be mentioned.
図２（ｃ）は、感光性樹脂膜９にパターンが露光された状態を模式的に示している。感光性樹脂膜をネガ型の感光性樹脂で形成した場合には、露光された領域１０は露光によって樹脂の架橋反応が進行し、後述する現像液に対する溶解性が低下する。そのため、現像工程において露光されていない領域１１が現像液によって溶解され、露光された領域１０のみ基材表面上に残りマスクとなる。一方、感光性樹脂膜をポジ型の感光性樹脂で形成した場合には、露光された領域１０は露光によって樹脂の結合が切断され、後述する現像液に対する溶解性が増加する。そのため、現像工程において露光された領域１０が現像液によって溶解され、露光されていない領域１１のみ基材表面上に残りマスクとなる。
FIG. 2C schematically shows a state in which the
〔５〕現像工程
現像工程においては、感光性樹脂膜９にネガ型の感光性樹脂を用いた場合には、露光されていない領域１１は現像液によって溶解され、露光された領域１０のみ金型用基材上に残存し、続く第１エッチング工程においてマスクとして作用する。一方、感光性樹脂膜９にポジ型の感光性樹脂を用いた場合には、露光された領域１０のみ現像液によって溶解され、露光されていない領域１１が金型用基材上に残存して、続く第１エッチング工程におけるマスクとして作用する。
[5] Development Step In the development step, when a negative photosensitive resin is used for the
現像工程に用いる現像液には従来公知のものを使用することができる。現像液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、及びアンモニア水等の無機アルカリ類；エチルアミン、及びｎ−プロピルアミン等の第一アミン類；ジエチルアミン、及びジ−ｎ−ブチルアミン等の第二アミン類；トリエチルアミン、及びメチルジエチルアミン等の第三アミン類；ジメチルエタノールアミン、及びトリエタノールアミン等のアルコールアミン類；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、及びトリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド等の第四級アンモニウム塩；ピロール、及びピヘリジン等の環状アミン類；等のアルカリ性水溶液、並びに、キシレン、及びトルエン等の有機溶剤等を挙げることができる。 A conventionally known developer can be used as a developer used in the development step. As a developing solution, inorganic alkalis such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium silicate, sodium metasilicate and aqueous ammonia; primary amines such as ethylamine and n-propylamine; diethylamine Secondary amines such as di-n-butylamine; tertiary amines such as triethylamine and methyldiethylamine; alcohol amines such as dimethylethanolamine and triethanolamine; tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, Quaternary ammonium salts such as trimethylhydroxyethyl ammonium hydroxide; cyclic amines such as pyrrole and piheridine; alkaline aqueous solutions such as, and organic solvents such as xylene and toluene Kill.
現像工程における現像方法は特に制限されず、浸漬現像、スプレー現像、ブラシ現像、及び超音波現像等の方法を用いることができる。 The development method in the development step is not particularly limited, and methods such as immersion development, spray development, brush development and ultrasonic development can be used.
図２（ｄ）は、感光性樹脂膜９にネガ型の感光性樹脂を用いて、現像処理を行った状態を模式的に示している。図２（ｃ）において、露光されていない領域１１が現像液によって溶解され、露光された領域１０のみ基材表面上に残りマスク１２となる。図２（ｅ）には、感光性樹脂膜９にポジ型の感光性樹脂を用いて、現像処理を行った状態を模式的に示している。図２（ｃ）において、露光された領域１０が現像液によって溶解され、露光されていない領域１１のみ基材表面上に残りマスク１２となる。
FIG. 2D schematically shows a state in which the
〔６〕第１エッチング工程
続く第１エッチング工程では、現像工程後に基材表面上に残存した感光性樹脂膜をマスクとして用いて、主にマスクの無い箇所の基材の第１めっきが施された表面をエッチングする。
[6] First Etching Step In the subsequent first etching step, the first plating of the base material of the portion without the mask is mainly performed using the photosensitive resin film remaining on the surface of the base material as the mask after the developing step. Etch the rough surface.
図３は、本金型の製造方法の後半部分の好ましい一例を模式的に示す図である。図３（ａ）には第１エッチング工程によって、主にマスクの無い領域１３の基材７がエッチングされる状態を模式的に示している。マスク１２の下部の基材７は金型用基材表面からはエッチングされないが、エッチングの進行とともにマスクの無い領域１３からのエッチングが進行する。よって、マスク１２とマスクの無い領域１３の境界付近では、マスク１２の下部の基材７もエッチングされる。このようなマスク１２とマスクの無い領域１３の境界付近において、マスク１２の下部の基材７もエッチングされることを、以下ではサイドエッチングと呼ぶ。
FIG. 3: is a figure which shows typically a preferable example of the latter half part of the manufacturing method of this metal mold | die. FIG. 3A schematically shows a state in which the
第１エッチング工程におけるエッチング処理は、通常、塩化第二鉄（ＦｅＣｌ３）液、塩化第二銅（ＣｕＣｌ２）液、アルカリエッチング液（Ｃｕ（ＮＨ３）４Ｃｌ２）などを用いて、金属表面を腐食させることによって行われるが、塩酸や硫酸などの強酸を用いることもできるし、電解めっき時と逆の電位をかけることによる逆電解エッチングを用いることもできる。エッチング処理を施した際の基材に形成される凹凸形状は、下地金属の材質、感光性樹脂膜の種類およびエッチング手法などによって異なるため、一概にはいえないが、エッチング量が１０μｍ以下である場合には、エッチング液に触れている金属表面から略等方的にエッチングされる。ここでいうエッチング量とは、エッチングにより削られる基材の厚みである。 The etching process in the first etching step is usually carried out using a ferric chloride (FeCl 3 ) solution, a cupric chloride (CuCl 2 ) solution, an alkaline etching solution (Cu (NH 3 ) 4 Cl 2 ), etc. It is carried out by corroding the surface, but a strong acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid can also be used, or reverse electrolytic etching by applying a potential reverse to that during electrolytic plating can also be used. Although the uneven shape formed on the base when the etching process is performed varies depending on the material of the base metal, the type of the photosensitive resin film, the etching method, and the like, the etching amount is 10 μm or less. In the case, it is etched substantially isotropically from the metal surface in contact with the etching solution. The etching amount referred to herein is the thickness of the substrate to be scraped off by the etching.
第１エッチング工程におけるエッチング量は、好ましくは１〜５０μｍであり、より好ましくは２〜１０μｍである。エッチング量が１μｍ未満である場合には、基材表面に凹凸形状が十分ではなく、ほぼ平坦な金型となるため、防眩性が十分に得られない虞がある。また、エッチング量が５０μｍを超える場合には、基材表面に形成される凹凸形状の高低差が大きくなり、得られた金型を使用して作製した防眩フィルムが白ちゃける虞がある。第１エッチング工程におけるエッチング処理は１回のエッチング処理によって行ってもよいし、エッチング処理を２回以上に分けて行ってもよい。ここでエッチング処理を２回以上に分けて行う場合には、２回以上のエッチング処理におけるエッチング量の合計が１〜５０μｍであることが好ましい。 The etching amount in the first etching step is preferably 1 to 50 μm, more preferably 2 to 10 μm. If the etching amount is less than 1 μm, the surface of the substrate is not sufficiently uneven, and a substantially flat mold is formed, so that the antiglare property may not be sufficiently obtained. In addition, when the etching amount exceeds 50 μm, the height difference of the concavo-convex shape formed on the surface of the base material becomes large, and there is a possibility that the antiglare film produced using the obtained mold may be whitened. The etching process in the first etching step may be performed by one etching process, or the etching process may be divided into two or more times. Here, in the case where the etching treatment is performed twice or more, the total etching amount in the two or more etching treatments is preferably 1 to 50 μm.
〔７〕感光性樹脂膜剥離工程
続く感光性樹脂膜剥離工程では、第１エッチング工程でマスクとして使用した残存する感光性樹脂膜を全て除去する。感光性樹脂膜剥離工程では、通常、剥離液を用いて感光性樹脂膜を溶解除去する。剥離液としては、上述した現像液と同様のものを用いることができ、ｐＨ、温度、濃度、及び浸漬時間などを変化させることによって、ネガ型の感光性樹脂膜を用いた場合には露光部の、ポジ型の感光性樹脂膜を用いた場合には非露光部の感光性樹脂膜を全て除去する。感光性樹脂膜剥離工程における剥離方法についても特に制限されず、浸漬現像、スプレー現像、ブラシ現像、又は超音波現像等の方法を用いることができる。
[7] Photosensitive Resin Film Peeling Step In the subsequent photosensitive resin film peeling step, all the remaining photosensitive resin film used as a mask in the first etching step is removed. In the photosensitive resin film peeling step, usually, the photosensitive resin film is dissolved and removed using a peeling solution. As the peeling solution, the same one as the developing solution described above can be used, and when the negative photosensitive resin film is used by changing the pH, temperature, concentration, immersion time, etc., the exposed portion When the positive photosensitive resin film is used, the photosensitive resin film in the non-exposed area is completely removed. The peeling method in the photosensitive resin film peeling step is not particularly limited, and methods such as immersion development, spray development, brush development, ultrasonic development and the like can be used.
図３（ｂ）は、感光性樹脂膜剥離工程によって、第１エッチング工程でマスクとして使用した感光性樹脂膜を完全に溶解し除去した状態を模式的に示している。感光性樹脂膜によるマスク１２とエッチングによって、第１の表面凹凸形状１５が基材表面に形成される。
FIG. 3B schematically shows a state in which the photosensitive resin film used as a mask in the first etching step is completely dissolved and removed in the photosensitive resin film peeling step. The first
〔８〕第２エッチング工程
第２エッチング工程では、感光性樹脂膜をマスクとして用いた第１エッチング工程によって形成された第１の表面凹凸形状１５を、エッチング処理によって鈍らせる。この第２エッチング処理によって、第１エッチング処理で形成された第１の表面凹凸形状１５における表面傾斜が急峻な部分がなくなり、得られた金型を用いて製造される防眩フィルムの光学特性が好ましい方向へと変化する。図３（ｃ）には、第２エッチング処理によって基材７の第１の表面凹凸形状１５が鈍化し、表面傾斜が急峻な部分が鈍らされ、緩やかな表面傾斜を有する第２の表面凹凸形状１６が形成された状態が示されている。
[8] Second Etching Step In the second etching step, the first
第２エッチング工程のエッチング処理も、第１エッチング工程と同様に、通常、塩化第二鉄（ＦｅＣｌ３）液、塩化第二銅（ＣｕＣｌ２）液、又はアルカリエッチング液（Ｃｕ（ＮＨ３）４Ｃｌ２）等を用い、表面を腐食させることによって行われるが、塩酸や硫酸などの強酸を用いることもできるし、電解めっき時と逆の電位をかけることによる逆電解エッチングを用いることもできる。エッチング処理を施した後の凹凸の鈍り具合は、エッチングにより削られる基材の厚みである、エッチング量によって制御することができる。 Similarly to the first etching step, the etching treatment in the second etching step is usually ferric chloride (FeCl 3 ) solution, cupric chloride (CuCl 2 ) solution, or alkali etching solution (Cu (NH 3 ) 4 The reaction is performed by corroding the surface using Cl 2 ) or the like, but a strong acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid can also be used, or reverse electrolytic etching by applying a potential reverse to that during electrolytic plating can be used. The bluntness of the unevenness after the etching process can be controlled by the etching amount, which is the thickness of the substrate to be scraped off by the etching.
第２エッチング工程におけるエッチング量は、好ましくは１〜５０μｍであり、より好ましくは４〜２０μｍである。エッチング量が１μｍ未満であると、第１エッチング工程により得られた凹凸の表面形状を鈍らせる効果が不十分であり、その凹凸形状を透明フィルムに転写して得られる防眩フィルムの光学特性が低くなる虞がある。一方で、エッチング量が５０μｍを超えると、凹凸形状がほとんどなくなってしまい、ほぼ平坦な金型となってしまうため、防眩性を示さなくなる虞がある。第２エッチング工程におけるエッチング処理についても、第１エッチング工程と同様に、１回のエッチング処理によって行ってもよいし、エッチング処理を２回以上に分けて行ってもよい。ここでエッチング処理を２回以上に分けて行う場合には、２回以上のエッチング処理におけるエッチング量の合計が１〜５０μｍであることが好ましい。 The etching amount in the second etching step is preferably 1 to 50 μm, more preferably 4 to 20 μm. If the etching amount is less than 1 μm, the effect of blunting the surface shape of the unevenness obtained in the first etching step is insufficient, and the optical properties of the antiglare film obtained by transferring the unevenness shape to a transparent film are There is a risk that it will be lowered. On the other hand, when the etching amount exceeds 50 μm, the uneven shape is almost eliminated and the mold becomes a substantially flat mold, so that the antiglare property may not be exhibited. The etching process in the second etching process may be performed by one etching process as in the first etching process, or the etching process may be divided into two or more times. Here, in the case where the etching treatment is performed twice or more, the total etching amount in the two or more etching treatments is preferably 1 to 50 μm.
〔９〕第２めっき工程
第２のめっきを施すことによって、第２の表面凹凸形状１６を鈍らせるとともに、金型表面を保護する。図３（ｄ）には、上述したように第２エッチング工程のエッチング処理によって形成された第２の表面凹凸形状１６に金属めっき層１７を形成し、金属めっき層の表面１８を鈍らせた状態が示されている。
[9] Second Plating Step By applying the second plating, the second
金属めっきは通常、電解によって行われる。電流密度と電解時間を調節することにより、金属めっきの厚みを制御することができる。
金属めっきは好ましくは、クロムめっきである。クロムめっきに使用されるクロムめっき浴としては、例えば、無水クロム酸（ＣｒＯ３）と少量の硫酸を含む水溶液が挙げられる。
Metal plating is usually performed by electrolysis. The thickness of metal plating can be controlled by adjusting the current density and the electrolysis time.
Metal plating is preferably chromium plating. The chromium plating bath used for chromium plating includes, for example, an aqueous solution containing chromic anhydride (CrO 3 ) and a small amount of sulfuric acid.
金属めっきが施された金型の表面には、通常、凹凸形状のパターンに加え、凹凸形状のパターンよりもさらに微細な盛り上がりである微細突起が存在する。 On the surface of the metal-plated mold, in addition to the concavo-convex pattern, there are usually fine projections that are more finely raised than the concavo-convex pattern.
〔１０〕研磨処理工程
金属めっきが施された表面に微細な凹凸形状を有する金型の表面を研磨処理することで、微細突起を研磨する。研磨処理工程における研磨は、通常、ブラスト研磨又はラッピング研磨によって行なう。研磨処理の方法によっては、微細突起と共に、金型の表面に存在する凹凸形状のパターンも共に研磨してしまい、表面に微細な凹凸形状を有する金型としての機能を失う虞があるが、特に、ブラスト研磨又はラッピング研磨によって研磨することによって、容易に、凹凸形状のパターンを維持しつつ微小突起を研磨することができる。
[10] Polishing Step The fine projections are polished by polishing the surface of the mold having a fine uneven shape on the surface to which the metal plating has been applied. Polishing in the polishing process is usually performed by blast polishing or lapping polishing. Depending on the method of polishing treatment, along with the fine protrusions, the uneven pattern existing on the surface of the mold may be polished together, and there is a risk that the function as the mold having the fine uneven shape on the surface may be lost. By polishing by blasting or lapping, the microprotrusions can be easily polished while maintaining the pattern of the concavo-convex shape.
＜防眩フィルムの製造方法＞
本金型の表面の微細凹凸形状を硬化性樹脂に押し当て、前記硬化性樹脂を硬化した後に、微細凹凸形状が転写された硬化した硬化性樹脂（防眩層）を、本金型から剥がすエンボス法によって防眩フィルムを製造することができる。
<Method of producing antiglare film>
The fine asperity shape on the surface of the present mold is pressed against the curable resin, and after curing the curable resin, the cured curable resin (antiglare layer) to which the fine asperity shape has been transferred is peeled off from the present mold. An antiglare film can be manufactured by the embossing method.
ここで、エンボス法としては、光硬化性樹脂を用いるＵＶエンボス法、及び、熱可塑性樹脂を用いるホットエンボス法が例示され、中でも、生産性の観点から、ＵＶエンボス法が好ましい。 Here, as the embossing method, a UV embossing method using a photocurable resin and a hot embossing method using a thermoplastic resin are exemplified. Among them, the UV embossing method is preferable from the viewpoint of productivity.
ＵＶエンボス法は、透明支持体の表面に光硬化性樹脂層を形成し、その光硬化性樹脂層を金型の凹凸面に押し付けながら硬化させることで、金型の凹凸面が、硬化した光硬化性樹脂層に転写される方法である。具体的には、透明支持体上に紫外線硬化型樹脂を塗工し、塗工した紫外線硬化型樹脂を金型の凹凸面に密着させた状態で透明支持体側から紫外線を照射して紫外線硬化型樹脂を硬化させ、その後金型から、硬化後の紫外線硬化型樹脂層が形成された透明支持体を剥離することにより、表面に微細な凹凸形状を有する金型の形状を紫外線硬化型樹脂に転写する。 In the UV embossing method, a light curable resin layer is formed on the surface of a transparent support, and the light curable resin layer is cured while pressed against the uneven surface of the mold, whereby the uneven surface of the mold is cured. It is a method of being transferred to the curable resin layer. Specifically, an ultraviolet ray curable resin is coated on a transparent support, and the ultraviolet ray curable resin is irradiated with ultraviolet rays from the transparent support side in a state in which the applied ultraviolet ray curable resin is in close contact with the uneven surface of the mold. By curing the resin and then peeling the transparent support on which the UV curable resin layer after curing is formed from the mold, the shape of the mold having a fine uneven shape on the surface is transferred to the UV curable resin. Do.
ＵＶエンボス法を用いる場合、透明支持体は、実質的に光学的に透明なフィルムであればよい。当該フィルムとしては、トリアセチルセルロースフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系化合物をモノマーとする非晶性環状ポリオレフィン等の熱可塑性樹脂の溶剤キャストフィルム、又は、押出フィルム等の樹脂フィルムが挙げられる。 When UV embossing is used, the transparent support may be a substantially optically transparent film. The film may be a triacetyl cellulose film, a polyethylene terephthalate film, a polymethyl methacrylate film, a polycarbonate film, a solvent cast film of a thermoplastic resin such as amorphous cyclic polyolefin having a norbornene compound as a monomer, or an extruded film. A resin film is mentioned.
また、ＵＶエンボス法を用いる場合における紫外線硬化型樹脂の種類は特に限定されないが、市販のものを用いることができる。また、紫外線硬化型樹脂に適宜選択された光開始剤を組み合わせて、紫外線より波長の長い可視光でも硬化が可能な樹脂を用いることも可能である。具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートなどの多官能アクリレートをそれぞれ単独で、あるいはそれら２種以上を混合して用い、それと、イルガキュアー９０７、イルガキュアー１８４、ルシリンＴＰＯ（以上、いずれもＢＡＳＦ社製）などの光重合開始剤とを混合したものを好適に用いることができる。 Moreover, the kind of ultraviolet curable resin in the case of using the UV embossing method is not particularly limited, but a commercially available one can be used. In addition, it is also possible to use a resin that can be cured even by visible light having a wavelength longer than that of ultraviolet light by combining an ultraviolet curable resin and a photo initiator that is appropriately selected. Specifically, polyfunctional acrylates such as trimethylolpropane triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate are used alone or in combination of two or more thereof, and IRGACURE 907, IRGACURE 184, LUCIRIN TPO ( A mixture of any of them with a photopolymerization initiator such as BASF can be suitably used.
ホットエンボス法は、熱可塑性樹脂で形成された透明支持体を加熱状態で金型に押し付け、金型の表面形状を透明支持体に転写する方法である。ホットエンボス法に用いる透明支持体としては、実質的に透明なものであればよい。当該支持体としては、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、及び、ノルボルネン系化合物をモノマーとする非晶性環状ポリオレフィン等の熱可塑性樹脂の溶剤キャストフィルム、又は、押出フィルム等を用いることができる。これらの透明樹脂フィルムはまた、上で説明したＵＶエンボス法における紫外線硬化型樹脂を塗工するための透明支持体としても好適に用いることができる。 The hot embossing method is a method in which a transparent support formed of a thermoplastic resin is pressed against a mold in a heated state, and the surface shape of the mold is transferred to the transparent support. The transparent support used in the hot embossing method may be substantially transparent. As the support, a solvent cast film or an extruded film of a thermoplastic resin such as polymethyl methacrylate, polycarbonate, polyethylene terephthalate, triacetyl cellulose, and amorphous cyclic polyolefin having a norbornene-based compound as a monomer is used. be able to. These transparent resin films can also be suitably used as a transparent support for applying the ultraviolet curable resin in the UV embossing method described above.
＜防眩フィルム＞
本発明における透明支持体上に、微細凹凸表面を有する防眩層が形成された防眩フィルムの、前記微細凹凸表面の顕微鏡画像を、白黒２５６階調に変換したときの、全画素の合計面積に対する、平均階調＋２σ（標準偏差）以上の画素の合計面積の割合は、通常０．８％以下であり、好ましくは０．６％以下である。また、通常０．００１％以上であり、０．１％以上であってもよい。
<Anti-glare film>
The total area of all pixels when the microscopic image of the fine uneven surface of the antiglare film in which the antiglare layer having the fine uneven surface is formed on the transparent support in the present invention is converted into 256 gray levels The ratio of the total area of pixels having an average gradation of 2σ (standard deviation) or more to the above is usually 0.8% or less, preferably 0.6% or less. Also, it is usually 0.001% or more, and may be 0.1% or more.
前記防眩フィルムは、通常、本金型の表面の微細凹凸形状を硬化性樹脂に押し当てることによって得られるものであり、好ましくは、防眩層に微細凹凸表面を形成するための微粒子を含有しない。当該微粒子としては、具体的には、数平均粒径が０．４μｍ以上の微粒子が挙げられる。従来の防眩フィルムは微細凹凸表面を形成するための微粒子を分散させた樹脂溶液を基材シート上に塗布し、塗布膜厚を調整して微粒子を塗布膜表面に露出させることでランダムな凹凸をシート上に形成する方法などによって製造されている。このような微粒子を分散させることにより製造された防眩フィルムは、ギラツキを解消するために、バインダー樹脂と微粒子との間に屈折率差を設けて光を散乱させていることが多い。そのような防眩フィルムをディスプレイの表面に配置した際には、微粒子とバインダー樹脂界面における光の散乱によって、コントラストが低下することがある。 The antiglare film is usually obtained by pressing the fine asperity shape of the surface of the present mold against a curable resin, and preferably contains fine particles for forming the fine asperity surface in the antiglare layer. do not do. Specific examples of the fine particles include fine particles having a number average particle diameter of 0.4 μm or more. A conventional antiglare film is coated with a resin solution in which fine particles for forming a fine uneven surface are dispersed on a substrate sheet, and the film thickness is adjusted to expose fine particles on the surface of the coated film, thereby providing random unevenness. Are manufactured by the method of forming on a sheet. In order to eliminate glare, the antiglare film produced by dispersing such fine particles often scatters light by providing a difference in refractive index between the binder resin and the fine particles. When such an antiglare film is disposed on the surface of a display, the scattering of light at the interface between the fine particles and the binder resin may lower the contrast.
微細凹凸表面を形成するための微粒子についてより具体的に説明する。前記微粒子の数平均粒径は、通常０．４μｍ以上であり、しばしば３〜１０μｍ程度であり、５〜１０μｍ程度であることもある。前記微粒子の含有量は、防眩層を構成するバインダ樹脂１００重量部に対して、通常５〜５０重量部程度であり、しばしば１０〜５０重量部程度である。前記微粒子としては、樹脂ビーズ、それもほぼ球形のものが挙げられる。具体的には、メラミンビーズ（屈折率１.５７）、ポリメタクリル酸メチルビーズ（屈折率１.４９）、メタクリル酸メチル／スチレン共重合体樹脂ビーズ（屈折率１.５０〜１.５９）、ポリカーボネートビーズ（屈折率１.５５）、ポリエチレンビーズ（屈折率１.５３）、ポリスチレンビーズ（屈折率１.６）、ポリ塩化ビニルビーズ（屈折率１.４６）、及びシリコーン樹脂ビーズ（屈折率１.４６）などが挙げられる。 The fine particles for forming the fine uneven surface will be described more specifically. The number average particle diameter of the fine particles is usually 0.4 μm or more, often about 3 to 10 μm, and may be about 5 to 10 μm. The content of the fine particles is usually about 5 to 50 parts by weight and often about 10 to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the binder resin constituting the antiglare layer. Examples of the fine particles include resin beads, which are also approximately spherical. Specifically, melamine beads (refractive index 1.57), polymethyl methacrylate beads (refractive index 1.49), methyl methacrylate / styrene copolymer resin beads (refractive index 1.50 to 1.59), Polycarbonate beads (refractive index 1.55), polyethylene beads (refractive index 1.53), polystyrene beads (refractive index 1.6), polyvinyl chloride beads (refractive index 1.46), and silicone resin beads (refractive index 1) .46) and the like.
（微細凹凸表面の表面粗さパラメータ）
防眩フィルムが有する防眩層の表面に形成されている微細凹凸は、算術平均粗さＲａ、最大断面高さＲｔ及び平均長さＲＳｍによって評価することができる。当該Ｒａ、Ｒｔ及びＲＳｍは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１の規定に準拠して求めることができる。
(Surface roughness parameter of fine uneven surface)
The fine unevenness formed on the surface of the antiglare layer of the antiglare film can be evaluated by the arithmetic average roughness Ra, the maximum cross sectional height Rt, and the average length RSm. The said Ra, Rt, and RSm can be calculated | required based on the prescription | regulation of JISB0601.
前記微細凹凸の算術平均粗さＲａは、好ましくは０．０３μｍ以上０．５μｍ以下であり、より好ましくは０．０３μｍ以上０．３μｍ以下であり、さらに好ましくは０．０３μｍ以上０．１μｍ以下である。当該算術平均粗さＲａが０．０３μｍ以上であると防眩フィルムの防眩性が十分になる傾向がある。また、０．５μｍ以下であると当該防眩フィルムを用いたディスプレイの表示画像における白ちゃけの発生が抑制される傾向がある。 Arithmetic mean roughness Ra of the said fine unevenness | corrugation becomes like this. Preferably it is 0.03 to 0.5 micrometer, More preferably, it is 0.03 to 0.3 micrometer, More preferably, it is 0.03 to 0.1 micrometer. is there. When the arithmetic mean roughness Ra is 0.03 μm or more, the antiglare property of the antiglare film tends to be sufficient. When the thickness is 0.5 μm or less, the occurrence of whitening in the display image of the display using the antiglare film tends to be suppressed.
前記微細凹凸の最大断面高さＲｔは、好ましくは０．３μｍ以上３μｍ以下であり、より好ましくは０．３μｍ以上１μｍ以下である。当該最大断面高さＲｔが０．３μｍ以上であると防眩フィルムの防眩性が十分となる傾向が有る。また、３μｍ以下であると当該防眩フィルムを用いたディスプレイの表示画像における白ちゃけの発生が抑制される傾向があり、また、表面凹凸形状の均一性が十分に高くなるためギラツキが低下する傾向がある。 The maximum cross-sectional height Rt of the fine irregularities is preferably 0.3 μm or more and 3 μm or less, and more preferably 0.3 μm or more and 1 μm or less. When the maximum cross-sectional height Rt is 0.3 μm or more, the antiglare property of the antiglare film tends to be sufficient. When the thickness is 3 μm or less, the occurrence of whitening in the display image of the display using the antiglare film tends to be suppressed, and the uniformity of the surface asperity shape is sufficiently high, so that the glare is reduced. Tend.
前記微細凹凸の平均長さＲＳｍは、好ましくは３０μｍ以上２００μｍ以下であり、より好ましくは３０μｍ以上１５０μｍ以下である。当該平均長さＲＳｍが３０μｍ以上であると防眩フィルムの防眩性が十分になる傾向があり、また、２００μｍ以下であると当該防眩フィルムを用いたディスプレイの表示画像におけるギラツキが十分に低くなる傾向がある。 The average length RSm of the fine irregularities is preferably 30 μm or more and 200 μm or less, and more preferably 30 μm or more and 150 μm or less. When the average length RSm is 30 μm or more, the antiglare property of the antiglare film tends to be sufficient, and when it is 200 μm or less, glare in the display image of the display using the antiglare film is sufficiently low. Tend to be
本発明における防眩フィルムは、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイパネル、ブラウン管（陰極線管：ＣＲＴ）ディスプレイ、及び有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ等の画像表示装置に採用することができる。本発明における防眩フィルムを備える画像表示装置は、通常、画像表示素子の視認側に本発明における防眩フィルムを備える。 The antiglare film in the present invention can be employed in image display devices such as a liquid crystal display, a plasma display panel, a cathode ray tube (cathode ray tube: CRT) display, and an organic electroluminescence (EL) display. The image display apparatus provided with the antiglare film in the present invention usually comprises the antiglare film in the present invention on the viewing side of the image display element.
以下に実施例を挙げて、本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be described in more detail by way of the following examples, but the present invention is not limited to these examples.
＜実施例１＞
（光学フィルム製造用の金型作製）
直径２００ｍｍのアルミロール（ＪＩＳによるＡ５０５６）の表面に銅バラードめっきが施されたものを用意した。銅バラードめっきは、銅めっき層／薄い銀めっき層／表面銅めっき層からなるものであり、めっき層全体の厚みは、約２００μｍとなるように設定した。その銅めっき表面を鏡面研磨し、研磨された銅めっき表面に感光性樹脂を塗布、乾燥して感光性樹脂膜を形成した。ついで、図１に示すパターン(ランダムな明度分布を有するパターンから、特定の空間周波数範囲の成分を除去するバンドパスフィルターを通過させて作成した)を繰り返し並べたパターンを感光性樹脂膜上にレーザ光によって露光し、現像した。レーザ光による露光、および現像はＬａｓｅｒ Ｓｔｒｅａｍ ＦＸ（（株）シンク・ラボラトリー製）を用いて行った。感光性樹脂膜にはポジ型の感光性樹脂を使用した。図１は、本発明の防眩フィルムを作製するために用いたパターンである画像データの一部（１ｍｍ×１ｍｍ）を表わした図である。図１に示したパターンである画像データは３３ｍｍ×３３ｍｍの大きさで、１２８００ｄｐｉで作成した。
Example 1
(Mold production for optical film production)
An aluminum roll having a diameter of 200 mm (A5056 according to JIS) was prepared by performing copper ballad plating on the surface. The copper ballard plating is composed of a copper plating layer / thin silver plating layer / surface copper plating layer, and the thickness of the entire plating layer is set to be about 200 μm. The copper-plated surface was mirror-polished, a photosensitive resin was applied to the polished copper-plated surface, and dried to form a photosensitive resin film. Then, a pattern in which a pattern shown in FIG. 1 (made by passing a band pass filter for removing components in a specific spatial frequency range from a pattern having a random lightness distribution) is repeatedly arranged on the photosensitive resin film It was exposed by light and developed. Exposure to laser light and development were carried out using Laser Stream FX (manufactured by Think Laboratory Co., Ltd.). A positive photosensitive resin was used for the photosensitive resin film. FIG. 1 is a view showing a part (1 mm × 1 mm) of image data which is a pattern used to produce the antiglare film of the present invention. The image data, which is the pattern shown in FIG. 1, has a size of 33 mm × 33 mm and is created at 12800 dpi.
その後、塩化第二銅液で第１のエッチング処理を行なった。その際のエッチング量は４．５μｍとなるように設定した。第１のエッチング処理後のロールから感光性樹脂膜を除去し、再度、塩化第二銅液で第２のエッチング処理を行なった。その際のエッチング量は１１μｍとなるように設定した。その後、クロムめっき加工（クロムめっき層の厚み４μｍ）を行った。最後にクロムめっき加工された表面に弾性研磨材によるブラスト研磨を実施し、ロール形状の金型１を作製した。 Thereafter, a first etching process was performed with a cupric chloride solution. The etching amount at that time was set to be 4.5 μm. The photosensitive resin film was removed from the roll after the first etching treatment, and the second etching treatment was performed again with cupric chloride solution. The etching amount at that time was set to be 11 μm. Thereafter, chromium plating (a thickness of 4 μm of the chromium plating layer) was performed. Finally, the chromium-plated surface was subjected to blast polishing with an elastic abrasive to produce a roll-shaped mold 1.
（光学フィルムの形成）
以下の各成分が酢酸エチルに固形分濃度６０％で溶解されており、硬化後に１.５３の屈折率を示す紫外線硬化性樹脂組成物Ａを入手した。
(Formation of optical film)
The following components were dissolved in ethyl acetate at a solid concentration of 60%, and a UV curable resin composition A having a refractive index of 1.53 after curing was obtained.
ペンタエリスリトールトリアクリレート ６０部
多官能ウレタン化アクリレート ４０部
（ヘキサメチレンジイソシアネートとペンタエリスリトールトリアクリレートの反応生成物）
ジフェニル（２，４，６−トリメトキシベンゾイル）ホスフィンオキシド ５部。
60 parts of pentaerythritol triacrylate
40 parts of polyfunctional urethane acrylate
(Reaction product of hexamethylene diisocyanate and pentaerythritol triacrylate)
5 parts of diphenyl (2,4,6-trimethoxybenzoyl) phosphine oxide.
紫外線硬化性樹脂組成物Ａを厚み６０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム上に、乾燥後の塗布厚みが７μｍとなるように塗布し、６０℃に設定した乾燥機中で３分間乾燥させた。乾燥後のフィルムを、先に得られた金型１の凹凸面に、光硬化性樹脂組成物層が金型側となるようにゴムロールで押し付けて密着させた。この状態でＴＡＣフィルム側より、強度２０ｍＷ／ｃｍ２の高圧水銀灯からの光をｈ線換算光量で２００ｍＪ／ｃｍ２となるように照射して、光硬化性樹脂組成物層を硬化させた。この後、ＴＡＣフィルムを硬化樹脂ごと金型から剥離して、表面に凹凸を有する硬化樹脂とＴＡＣフィルムとの積層体からなる、透明な光学フィルム１を作製した。 The ultraviolet curable resin composition A was applied on a 60 μm thick triacetyl cellulose (TAC) film so that the applied thickness after drying was 7 μm, and dried in a dryer set at 60 ° C. for 3 minutes. The dried film was brought into close contact with the uneven surface of the previously obtained mold 1 with a rubber roll so that the photocurable resin composition layer was on the mold side. In this state, light from a high-pressure mercury lamp with an intensity of 20 mW / cm 2 was irradiated from the TAC film side to a light quantity of 200 mJ / cm 2 in h-line conversion to cure the photocurable resin composition layer. After that, the TAC film together with the cured resin was peeled off from the mold to produce a transparent optical film 1 composed of a laminate of the cured resin having a surface asperity and the TAC film.
＜実施例２＞
金型のクロムめっき表面を、弾性研磨材によるブラスト研磨を行わず、平均粒子直径が８０ｎｍのコロイダルシリカ（コンポール８０；フジミインコーポレーテッド社製）を水に分散させてスラリーを作製し、得られたスラリーを用いてラッピング研磨したこと以外は実施例１と同様にして金型２および光学フィルム２を作製した。
Example 2
The slurry was prepared by dispersing colloidal silica (Compol 80; manufactured by Fujimi Incorporated) in water with an average particle diameter of 80 nm without blast polishing the chrome plating surface of the mold with an elastic abrasive. A mold 2 and an optical film 2 were produced in the same manner as in Example 1 except that lapping was performed using a slurry.
＜比較例１＞
金型のクロムめっき表面を、弾性研磨材によるブラスト研磨を行わなかったこと以外は実施例１と同様にして金型３および光学フィルム３を作製した。
Comparative Example 1
A mold 3 and an optical film 3 were produced in the same manner as in Example 1 except that the chromium plating surface of the mold was not subjected to the blast polishing with an elastic abrasive.
＜金型及び光学フィルムの評価＞
以上のようにして得られた金型１〜３及び光学フィルム１〜３を以下の方法で評価した。結果を表１に示す。
<Evaluation of mold and optical film>
The molds 1 to 3 and the optical films 1 to 3 obtained as described above were evaluated by the following methods. The results are shown in Table 1.
（顕微鏡画像解析）
各金型の表面をマイクロスコープ（ＤＳ−３ＵＸ、マイクロスクェア社製）で、倍率２００倍にて撮影した。また、各光学フィルムの裏面からの反射を防止するために、凹凸面が表面となるように黒色アクリル樹脂板にフィルムを貼合し、各光学フィルムの表面をマイクロスコープ（ＤＳ−３ＵＸ、マイクロスクェア社製）で、倍率２００倍にて撮影した。
この際の画像ビュワーソフト（ＣａｍＶｉｅｗＬＴ）の設定は、以下のとおりである。
(Microscopic image analysis)
The surface of each mold was photographed with a microscope (DS-3UX, manufactured by MICRO SQUARE) at a magnification of 200 times. Moreover, in order to prevent reflection from the back surface of each optical film, the film is pasted to a black acrylic resin plate so that the uneven surface is the surface, and the surface of each optical film is a microscope (DS-3UX, microsquare Taken at a magnification of 200 ×.
The settings of the image viewer software (CamView LT) at this time are as follows.
画像表示サイズ設定
画質調整
これらの写真のＪＰＥＧ画像を、画像解析ソフト「ＩｍａｇｅＪ（Ｖｅｒ．１．３４Ｓ：フリーソフト）を使用し、白黒２５６階調（０〜２５５）に変換し、白黒２５６階調化された全画素の合計面積に対する平均階調＋２σ（標準偏差）以上の階調の合計画素面積割合（％）を算出した。白黒２５６階調（０〜２５５）に変換する方法は、ＲＧＢ値の平均をとる方法を使用した。 The JPEG images of these photographs are converted to black and white 256 gradations (0 to 255) using image analysis software “ImageJ (Ver. 1.34S: free software), and all pixels converted to black and white 256 gradations We calculated the total pixel area ratio (%) of gradations of average gradation + 2σ (standard deviation) or more to the total area.The method of converting into 256 gradations of black and white (0-255) is the method of taking the average of RGB values used.
図４は、実施例１の金型の顕微鏡画像である。図５は図４の画像を白黒２５６階調化（０〜２５５）した画像である。全画素の合計面積（全画素数）に対する、平均階調＋２σ以上の階調の合計面積（画素数）は、０．８％であった。
図６は、実施例２の金型の顕微鏡画像である。図７は図６の画像を白黒２５６階調化（０〜２５５）した画像である。全画素の合計面積（全画素数）に対する、平均階調＋２σ以上の階調の合計面積（画素数）は、１．１％であった。
図８は比較例１の金型の顕微鏡画像である。図９は図８の画像を白黒２５６階調化（０〜２５５）した画像である。全画素の合計面積（全画素数）に対する、平均階調＋２σ以上の階調の合計面積（画素数）は、１．８％であった。
FIG. 4 is a microscope image of the mold of Example 1. FIG. 5 shows an image obtained by converting the image of FIG. 4 into black and white 256 gradation (0 to 255). The total area (number of pixels) of gradations of average gradation + 2σ or more with respect to the total area of all pixels (total number of pixels) was 0.8%.
FIG. 6 is a microscope image of the mold of Example 2. FIG. 7 is an image obtained by converting the image of FIG. 6 into black and white 256 gradation (0 to 255). The total area (number of pixels) of gradations of average gradation + 2σ or more to the total area of all pixels (total number of pixels) was 1.1%.
FIG. 8 is a microscope image of the mold of Comparative Example 1. FIG. 9 shows an image obtained by converting the image of FIG. 8 into black and white 256 gradations (0 to 255). The total area (number of pixels) of gradations of average gradation + 2σ or more was 1.8% with respect to the total area of all pixels (total number of pixels).
図１０は、実施例１の光学フィルムの顕微鏡画像である。図１１は図１０の画像を白黒２５６階調化（０〜２５５）した画像である。全画素の合計面積（全画素数）に対する、平均階調＋２σ以上の階調の合計面積（画素数）は、０．４％であった。
図１２は、実施例２の光学フィルムの顕微鏡画像である。図１３は図１２の画像を白黒２５６階調化（０〜２５５）した画像である。全画素の合計面積（全画素数）に対する、平均階調＋２σ以上の階調の合計面積（画素数）は、０．５％であった。
図１４は比較例１の光学フィルムの顕微鏡画像である。図１５は図１４の画像を白黒２５６階調化（０〜２５５）した画像である。全画素の合計面積（全画素数）に対する、平均階調＋２σ以上の階調の合計面積（画素数）は、０．９％であった。
FIG. 10 is a microscope image of the optical film of Example 1. FIG. 11 is an image obtained by converting the image of FIG. 10 into black and white 256 gradations (0 to 255). The total area (number of pixels) of gradations of average gradation + 2σ or more with respect to the total area of all pixels (total number of pixels) was 0.4%.
FIG. 12 is a microscope image of the optical film of Example 2. FIG. 13 is an image obtained by converting the image of FIG. 12 into black and white 256 tones (0 to 255). The total area (number of pixels) of gradations of average gradation + 2σ or more was 0.5% with respect to the total area of all pixels (total number of pixels).
FIG. 14 is a microscope image of the optical film of Comparative Example 1. FIG. 15 is an image obtained by converting the image of FIG. 14 into black and white 256 gradation (0 to 255). The total area (number of pixels) of gradations of average gradation + 2σ or more to the total area of all pixels (total number of pixels) was 0.9%.
（金型のムラ目視評価）
サーチライト（ポラリオン社製ＰＳ−Ｘ１）を用い、金型表面の凹凸面のムラを目視にて観察し、以下の基準で評価した。ムラがほぼ確認されない場合をＡ、ムラがわずかに確認される場合をＢ、ムラが多く確認される場合をＣとした。
(Uneven visual evaluation of mold)
The unevenness of the uneven surface of the mold surface was visually observed using a searchlight (PS-X1 manufactured by Polarion), and evaluated according to the following criteria. The case where the unevenness was hardly confirmed was A, the case where the unevenness was slightly confirmed was B, and the case where the unevenness was frequently confirmed was C.
（光学フィルムのムラ目視評価）
光学フィルムの裏面からの反射を防止するために、凹凸面が表面となるように黒色アクリル樹脂板にフィルムを貼合し、サーチライト（ポラリオン社製ＰＳ−Ｘ１）を用いムラを目視にて観察し、以下の基準で評価した。ムラがほぼ確認されない場合をＡ、ムラがわずかに確認される場合をＢ、ムラが多く確認される場合をＣとした。
(Uneven visual evaluation of optical film)
In order to prevent reflection from the back surface of the optical film, the film is bonded to a black acrylic resin plate so that the uneven surface is on the surface, and unevenness is visually observed using a searchlight (PS-X1 manufactured by Polarion Corporation) And rated according to the following criteria. The case where the unevenness was hardly confirmed was A, the case where the unevenness was slightly confirmed was B, and the case where the unevenness was frequently confirmed was C.
（表面形状の測定）
ＪＩＳ Ｂ ０６０１に準拠した（株）ミツトヨ製の表面粗さ測定機サーフテストＳＪ−３０１を用いて、金型１〜３及び光学フィルム１〜３の算術平均粗さＲａを測定した。
光学フィルム１〜３については、サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて凹凸面が表面となるようにガラス基板に貼合してから、測定に供した。
(Measurement of surface shape)
Arithmetic mean roughness Ra of the molds 1 to 3 and the optical films 1 to 3 was measured using a surface roughness measuring apparatus Surf Test SJ-301 manufactured by Mitutoyo Corporation in accordance with JIS B 0601.
The optical films 1 to 3 were bonded to a glass substrate using an optically transparent pressure-sensitive adhesive to prevent warpage of the sample, and then used for measurement.
表１からわかるように、顕微鏡画像を白黒２５６階調に変換したときの、全画素の合計面積に対する平均階調＋２σ以上の合計画素面積の割合が、１．７％以下である金型表面では、微細突起に起因するムラは、わずかにしか確認されなかった。これに対し、比較例１ではムラが多く確認された。 As can be seen from Table 1, in the mold surface, the ratio of the total pixel area of average gradation + 2σ or more to the total area of all pixels when converting the microscope image to black and white 256 gradations is 1.7% or less The unevenness due to the fine protrusions was only slightly confirmed. On the other hand, in the comparative example 1, many unevenness was confirmed.
表２からわかるように、顕微鏡画像を白黒２５６階調に変換したときの、全画素の合計面積に対する平均階調＋２σ以上の合計画素面積の割合が、０．８％以下である光学フィルム（防眩フイルム）では、ムラはわずかにしか確認されなかった。これに対し、比較例１ではムラが多く確認された。 As can be seen from Table 2, when a microscopic image is converted to black and white 256 gradations, the ratio of the total pixel area of average gradation + 2σ or more to the total area of all pixels is 0.8% or less In the case of the glare film), slight unevenness was observed. On the other hand, in the comparative example 1, many unevenness was confirmed.
本発明の金型によれば、ディスプレイに用いた場合にムラが少ない表示画像が得られる、防眩フィルムを得ることができる。よって本発明の金型は有用である。 According to the mold of the present invention, it is possible to obtain an antiglare film capable of obtaining a display image with less unevenness when used in a display. Thus, the mold of the present invention is useful.
７ 基材
８ 研磨工程によって研磨された基材の表面
９ 感光性樹脂膜
１０ 露光された領域
１１ 露光されていない領域
１２ マスク
１３ マスクの無い領域
１５ 第１の表面凹凸形状（第１エッチング工程後の金型用基材表面の凹凸形状）
１６ 第２の表面凹凸形状（第２エッチング工程後の金型用基材表面の凹凸形状）
１７ クロムめっき層
１８ クロムめっき層の表面
7 base material 8
16 Second surface asperity shape (concave and convex shape of mold substrate surface after second etching process)
17 Chrome plated
本発明は、防眩フィルムに関する。The present invention relates to an antiglare film .
本発明は、以下の発明を含む。
［１］ 透明支持体上に、微細凹凸表面を有する防眩層が形成された防眩フィルムであって、
前記微細凹凸表面の顕微鏡画像を、白黒２５６階調に変換したときの、全画素の合計面積に対する、平均階調＋２σ（標準偏差）以上の画素の合計面積が０．８％以下である防眩フィルム。
［２］ 前記防眩層の表面の算術平均粗さＲaが０.０３μｍ以上０.５μｍ以下である［ １］に記載の防眩フィルム。
［３］ 防眩層が微細凹凸表面を形成するための粒子を含有しない［１］又は［２］に記載の防眩フィルム。
［４］ ［１］〜［３］のいずれかに記載の防眩フィルムを備える画像表示装置。 The present inventionIncluding.
[1] It is an antiglare film in which an antiglare layer having a fine uneven surface is formed on a transparent support,
Antiglare in which the total area of pixels having an average gradation of + 2σ (standard deviation) or less is 0.8% or less with respect to the total area of all pixels when the microscopic image of the fine uneven surface is converted into 256 gray levels the film.
[2The arithmetic mean roughness Ra of the surface of the antiglare layer is not less than 0.03 μm and not more than 0.5 μm [ 1] The antiglare film as described in [].
[3] The antiglare layer does not contain particles for forming a fine uneven surface [1] Or [2] The antiglare film as described in [].
[4] [1] ~ [3] The image display apparatus provided with the glare-proof film in any one of these.
本発明の防眩フィルムによれば、ディスプレイに用いた場合にムラが少ない表示画像が得られる。 According to the antiglare film of the present invention, Ru display image unevenness is small can be obtained when used in display.
本発明の防眩フィルムによれば、ディスプレイに用いた場合にムラが少ない表示画像が得られる。 According to the antiglare film of the present invention, Ru display image unevenness is small can be obtained when used in display.
Claims (9)
前記金型の表面の顕微鏡画像を、白黒２５６階調に変換したときの、全画素の合計面積に対する、平均階調＋２σ（標準偏差）以上の画素の合計面積が１．７％以下である金型。 A mold in which fine asperities are formed on the surface,
Gold in which the total area of pixels with an average gradation of + 2σ (standard deviation) or less is 1.7% or less with respect to the total area of all pixels when a microscopic image of the surface of the mold is converted into 256 levels of black and white Type.
前記微細凹凸表面の顕微鏡画像を、白黒２５６階調に変換したときの、全画素の合計面積に対する、平均階調＋２σ（標準偏差）以上の画素の合計面積が０．８％以下である防眩フィルム。 It is an antiglare film in which an antiglare layer having a fine uneven surface is formed on a transparent support,
Antiglare in which the total area of pixels having an average gradation of + 2σ (standard deviation) or less is 0.8% or less with respect to the total area of all pixels when the microscopic image of the fine uneven surface is converted to black and white 256 gradations the film.
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