JP2019040188A - Transparent conductive film for light control films, and light control film - Google Patents

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Abstract

To provide a transparent conductive film for light control films that can improve adhesion between a conductive layer and a light control layer.SOLUTION: A transparent conductive film for light control films is used for a light control film. The transparent conductive film has a substrate film, and a conductive layer disposed on one surface side of the substrate film. One surface of the conductive layer, not the other surface on which the substrate film is disposed, has a contact angle to a methyl methacrylate monomer of 9° or less.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、調光フィルムに用いられる透明導電フィルムに関する。また、本発明は、上記透明導電フィルムを用いた調光フィルムに関する。   The present invention relates to a transparent conductive film used for a light control film. Moreover, this invention relates to the light control film using the said transparent conductive film.

調光フィルム等に調光材料等が用いられている。調光材料は、特定の波長の光を遮断することにより透過率を調整したり、色調を調整したりすることを目的として利用されている。調光フィルムは、室内部材、建築部材及び電子部品等の様々な分野において利用されている。   A light control material or the like is used for the light control film. The light modulating material is used for the purpose of adjusting the transmittance or adjusting the color tone by blocking light of a specific wavelength. The light control film is utilized in various fields, such as an indoor member, a building member, and an electronic component.

上記調光フィルムは、例えば、2つの透明導電フィルム間に、調光層が配置された構造を有する。上記調光フィルムに用いられる透明導電フィルムは、基材フィルムと、該基材フィルムの表面上に導電層とを有する。上記調光フィルムにおいて、上記導電層は、上記調光層を介して対向した状態になる。上記調光フィルムでは、2つの透明導電フィルムの導電層間に、電界が印加される。電界が印加されている状態と、電界が印加されていない状態とで、上記調光フィルムを通過する光量を変化させることができる。   For example, the light control film has a structure in which a light control layer is disposed between two transparent conductive films. The transparent conductive film used for the said light control film has a base film and a conductive layer on the surface of this base film. In the light control film, the conductive layer is opposed to the light control layer. In the light control film, an electric field is applied between the conductive layers of the two transparent conductive films. The amount of light passing through the light control film can be changed between a state where an electric field is applied and a state where no electric field is applied.

上記調光フィルムに用いられる透明導電フィルムの一例が、下記の特許文献1に開示されている。   An example of the transparent conductive film used for the light control film is disclosed in Patent Document 1 below.

WO2008/075772A1WO2008 / 075752A1

特許文献1に記載のような従来の透明導電フィルムでは、導電層と調光層との密着性が低くなることがある。結果として、調光フィルムの調光性能が低下したり、調光フィルムを長期間使用し続けた場合に、導電層と調光層とが剥離し、調光性能が失われたりすることがある。   In the conventional transparent conductive film as described in Patent Document 1, the adhesion between the conductive layer and the light control layer may be lowered. As a result, the light control performance of the light control film may deteriorate, or when the light control film is used for a long period of time, the conductive layer and the light control layer may peel off and the light control performance may be lost. .

本発明の目的は、導電層と調光層との密着性を高めることができる調光フィルム用透明導電フィルムを提供することである。また、本発明は、上記調光フィルム用透明導電フィルムを用いた調光フィルムを提供することも目的とする。   The objective of this invention is providing the transparent conductive film for light control films which can improve the adhesiveness of a conductive layer and a light control layer. Another object of the present invention is to provide a light control film using the transparent conductive film for light control film.

本発明の広い局面によれば、調光フィルムに用いられる透明導電フィルムであって、基材フィルムと、該基材フィルムの一方の表面側に配置されている導電層とを有し、前記導電層の前記基材フィルム側とは反対の表面のメタクリル酸メチルモノマーに対する接触角が9°以下である、調光フィルム用透明導電フィルムが提供される。   According to a wide aspect of the present invention, there is provided a transparent conductive film used for a light control film, comprising a base film and a conductive layer disposed on one surface side of the base film, and the conductive film There is provided a transparent conductive film for a light control film having a contact angle of 9 ° or less with respect to methyl methacrylate monomer on the surface opposite to the base film side of the layer.

本発明に係る調光フィルム用透明導電フィルムのある特定の局面では、前記導電層の前記基材フィルム側とは反対の表面のメタクリル酸2−エチルヘキシルモノマーに対する接触角が9°以下である。   On the specific situation with the transparent conductive film for light control films which concerns on this invention, the contact angle with respect to the 2-ethylhexyl methacrylate monomer of the surface on the opposite side to the said base film side of the said conductive layer is 9 degrees or less.

本発明の広い局面によれば、第1の透明導電フィルムと、第2の透明導電フィルムと、前記第1の透明導電フィルムと前記第2の透明導電フィルムとの間に配置された調光層とを備え、前記第1の透明導電フィルム及び前記第2の透明導電フィルムの内の少なくとも一方が、上述した調光フィルム用透明導電フィルムである、調光フィルムが提供される。   According to a wide aspect of the present invention, the first transparent conductive film, the second transparent conductive film, and the light control layer disposed between the first transparent conductive film and the second transparent conductive film. A light control film is provided, wherein at least one of the first transparent conductive film and the second transparent conductive film is the above-described transparent conductive film for a light control film.

本発明に係る調光フィルムのある特定の局面では、前記調光層がアクリル樹脂を含む。   On the specific situation with the light control film which concerns on this invention, the said light control layer contains an acrylic resin.

本発明によれば、導電層と調光層との密着性を高めることができる調光フィルム用透明導電フィルムを提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the transparent conductive film for light control films which can improve the adhesiveness of a conductive layer and a light control layer can be provided.

図1は、本発明の一実施形態に係る調光フィルム用透明導電フィルムを示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a transparent conductive film for a light control film according to an embodiment of the present invention. 図2は、図1に示す調光フィルム用透明導電フィルムを用いた調光フィルムの一例を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of a light control film using the transparent conductive film for light control film shown in FIG. 図3は、本発明の一実施形態に係る調光フィルム用透明導電フィルムの導電層の基材フィルム側とは反対の表面のメタクリル酸メチルモノマーに対する接触角の測定時の写真である。FIG. 3 is a photograph at the time of measurement of the contact angle with respect to methyl methacrylate monomer on the surface opposite to the base film side of the conductive layer of the transparent conductive film for light control film according to one embodiment of the present invention. 図4は、従来の調光フィルム用透明導電フィルムの導電層の基材フィルム側とは反対の表面のメタクリル酸メチルモノマーに対する接触角の測定時の写真である。FIG. 4 is a photograph at the time of measuring a contact angle with respect to methyl methacrylate monomer on the surface opposite to the base film side of the conductive layer of the conventional transparent conductive film for light control film.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明に係る調光フィルム用透明導電フィルム(以下、透明導電フィルムと記載することがある)は、調光フィルムに用いられる。透明導電フィルムは、透明である。透明には半透明も含まれる。透明導電フィルムは、透明であるので、光透過性を有する。透明導電フィルムは、導電性を有する。   The transparent conductive film for light control films according to the present invention (hereinafter sometimes referred to as a transparent conductive film) is used as a light control film. The transparent conductive film is transparent. Translucent includes translucent. Since the transparent conductive film is transparent, it has optical transparency. The transparent conductive film has conductivity.

本発明に係る透明導電フィルムは、基材フィルムと、導電層とを備える。上記導電層は、上記基材フィルムの一方の表面側に配置されている。   The transparent conductive film according to the present invention includes a base film and a conductive layer. The conductive layer is disposed on one surface side of the base film.

本発明に係る透明導電フィルムでは、上記導電層の上記基材フィルム側とは反対の表面のメタクリル酸メチルモノマーに対する接触角が9°以下である。上記導電層の上記基材フィルム側とは反対の表面は、調光層に接する側の表面である。   In the transparent conductive film according to the present invention, the contact angle with respect to the methyl methacrylate monomer on the surface opposite to the base film side of the conductive layer is 9 ° or less. The surface opposite to the base film side of the conductive layer is the surface in contact with the light control layer.

本発明に係る透明導電フィルムでは、上記の構成が備えられているので、導電層と調光層との密着性を高めることができる。結果として、導電層と調光層との剥離による不具合を抑制できる。また、調光性能にむらが生じにくくなり、良好な調光性能を得ることができる。   In the transparent conductive film which concerns on this invention, since said structure is provided, the adhesiveness of a conductive layer and a light control layer can be improved. As a result, problems due to peeling between the conductive layer and the light control layer can be suppressed. In addition, unevenness in light control performance is less likely to occur, and good light control performance can be obtained.

導電層と調光層との密着性をより一層高める観点からは、上記導電層の上記基材フィルム側とは反対の表面のメタクリル酸メチルモノマーに対する接触角は9°以下であり、好ましくは7°以下、より好ましくは5°以下、更に好ましくは3°以下、特に好ましくは2°以下、最も好ましくは1°以下である。上記導電層の上記基材フィルム側とは反対の表面のメタクリル酸メチルモノマーに対する接触角は、通常0°以上である。   From the viewpoint of further improving the adhesion between the conductive layer and the light control layer, the contact angle of the conductive layer with respect to the methyl methacrylate monomer on the surface opposite to the base film side is 9 ° or less, preferably 7 Or less, more preferably 5 ° or less, even more preferably 3 ° or less, particularly preferably 2 ° or less, and most preferably 1 ° or less. The contact angle with respect to the methyl methacrylate monomer on the surface opposite to the base film side of the conductive layer is usually 0 ° or more.

導電層と調光層との密着性をより一層高める観点からは、上記導電層の上記基材フィルム側とは反対の表面のメタクリル酸2−エチルヘキシルモノマーに対する接触角は好ましくは9°以下、より好ましくは7°以下、更に好ましくは6°以下、特に好ましくは4°以下である。上記導電層の上記基材フィルム側とは反対の表面のメタクリル酸2−エチルヘキシルモノマーに対する接触角は、通常0°以上である。   From the viewpoint of further improving the adhesion between the conductive layer and the light control layer, the contact angle of the surface of the conductive layer opposite to the base film side with respect to the 2-ethylhexyl methacrylate monomer is preferably 9 ° or less, more The angle is preferably 7 ° or less, more preferably 6 ° or less, and particularly preferably 4 ° or less. The contact angle with respect to the 2-ethylhexyl methacrylate monomer on the surface opposite to the base film side of the conductive layer is usually 0 ° or more.

上記メタクリル酸メチルモノマー、及び上記メタクリル酸2−エチルヘキシルモノマーのそれぞれに対する接触角は、接触角計(例えば、協和界面科学社製「DM500」、又はその同等品)を用いて測定することができる。具体的には透明導電フィルムの導電層の上記基材フィルム側とは反対の表面に、メタクリル酸メチルモノマー、又はメタクリル酸2−エチルヘキシルモノマー1μLを滴下する。滴下してから1秒後のメタクリル酸メチルモノマーと導電層の表面とのなす角度をメタクリル酸メチルモノマーに対する接触角とする。また、滴下してから1秒後のメタクリル酸2−エチルヘキシルモノマーと導電層の表面とのなす角度をメタクリル酸2−エチルヘキシルモノマーに対する接触角とする。   The contact angle for each of the methyl methacrylate monomer and the 2-ethylhexyl methacrylate monomer can be measured using a contact angle meter (for example, “DM500” manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. or an equivalent thereof). Specifically, 1 μL of methyl methacrylate monomer or 2-ethylhexyl methacrylate monomer is dropped onto the surface of the transparent conductive film opposite to the base film side of the conductive layer. The angle formed by the methyl methacrylate monomer one second after the dropping and the surface of the conductive layer is defined as the contact angle with respect to the methyl methacrylate monomer. Further, an angle formed by the 2-ethylhexyl methacrylate monomer and the surface of the conductive layer one second after the dropping is defined as a contact angle with respect to the 2-ethylhexyl methacrylate monomer.

上記メタクリル酸メチルモノマー、及び上記メタクリル酸2−エチルヘキシルモノマーのそれぞれに対する接触角を上記範囲に制御する方法としては、例えば、以下の(1)〜(4)の方法が挙げられる。(1)導電層の形成時の基板温度を制御する方法。(2)スパッタリングにより導電層を形成する場合に、HO圧力を制御する方法。(3)導電層の形成後のアニール処理条件を制御する方法。(4)導電層の表面にコロナ処理及びプラズマ処理等の表面処理を行う方法。 Examples of the method for controlling the contact angle with respect to each of the methyl methacrylate monomer and the 2-ethylhexyl methacrylate monomer within the above range include the following methods (1) to (4). (1) A method for controlling the substrate temperature during formation of the conductive layer. (2) A method of controlling the H 2 O pressure when the conductive layer is formed by sputtering. (3) A method of controlling the annealing conditions after the formation of the conductive layer. (4) A method of performing surface treatment such as corona treatment and plasma treatment on the surface of the conductive layer.

上記透明導電フィルムは、アクリル樹脂を含む調光層に上記導電層が接するように用いられることが好ましい。本発明では、導電層がアクリル樹脂を含む調光層に接したとしても、透明導電フィルムの導電層と調光層との密着性を高めることができる。   The transparent conductive film is preferably used such that the conductive layer is in contact with a light control layer containing an acrylic resin. In this invention, even if a conductive layer touches the light control layer containing an acrylic resin, the adhesiveness of the conductive layer of a transparent conductive film and a light control layer can be improved.

上記透明導電フィルムは、アニール処理された透明導電フィルムであることが好ましい。   The transparent conductive film is preferably an annealed transparent conductive film.

以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施形態を説明する。   Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は、本発明の一実施形態に係る調光フィルム用透明導電フィルムを示す断面図である。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing a transparent conductive film for a light control film according to an embodiment of the present invention.

図1に示す透明導電フィルム1は、調光フィルムに用いられる。   The transparent conductive film 1 shown in FIG. 1 is used for a light control film.

透明導電フィルム1は、基材フィルム11と、導電層12とを備える。   The transparent conductive film 1 includes a base film 11 and a conductive layer 12.

基材フィルム11は、光透過性を有する。基材フィルム11は、光透過性を有する材料により構成されている。基材フィルム11は、第1の表面11a及び第2の表面11bを有する。第1の表面11aと、第2の表面11bとは、互いに対向している。   The base film 11 has light transmittance. The base film 11 is made of a light transmissive material. The base film 11 has a first surface 11a and a second surface 11b. The first surface 11a and the second surface 11b are opposed to each other.

基材フィルム11の第1の表面11a側に、導電層12が配置されている。導電層12は、光透過性を有する。導電層12は、光透過性が高く、かつ導電性を有する材料により構成されている。導電層12は、基材フィルム11の第1の表面11a上に直接積層されている。導電層は、基材フィルムの第1の表面上に直接積層されていなくてもよい。例えば、導電層と基材フィルムの間に、アンダーコート層が配置されてもよい。   A conductive layer 12 is disposed on the first surface 11 a side of the base film 11. The conductive layer 12 is light transmissive. The conductive layer 12 is made of a material having high light transmittance and conductivity. The conductive layer 12 is directly laminated on the first surface 11 a of the base film 11. The conductive layer may not be directly laminated on the first surface of the base film. For example, an undercoat layer may be disposed between the conductive layer and the base film.

本実施形態では、導電層12の基材フィルム11側とは反対の表面のメタクリル酸メチルモノマーに対する接触角が上述した範囲を満足する。   In this embodiment, the contact angle with respect to the methyl methacrylate monomer on the surface opposite to the base film 11 side of the conductive layer 12 satisfies the above-described range.

また、図1に示す透明導電フィルム1は、ロール状に巻かれていてもよい。   Moreover, the transparent conductive film 1 shown in FIG. 1 may be wound in roll shape.

光透過性をより一層高める観点からは、上記透明導電フィルムの波長550nmにおける全光線透過率は、好ましくは85%以上、より好ましくは88%以上、更に好ましくは89%以上、特に好ましくは90%以上である。なお、上記透明導電フィルムの上記全光線透過率は、通常100%以下である。上記透明導電フィルムの波長550nmにおける全光線透過率が、85%以上であると、透明導電フィルムは良好な光透過性を有するといえる。   From the viewpoint of further increasing the light transmittance, the total light transmittance of the transparent conductive film at a wavelength of 550 nm is preferably 85% or more, more preferably 88% or more, still more preferably 89% or more, and particularly preferably 90%. That's it. In addition, the said total light transmittance of the said transparent conductive film is 100% or less normally. It can be said that a transparent conductive film has favorable light transmittance as the total light transmittance in wavelength 550nm of the said transparent conductive film is 85% or more.

上記全光線透過率は、例えば、ヘーズメーター(日本電色工業社製「NDH−2000」、又はその同等品)を用いて、JIS K7105に基づいて、測定される。   The total light transmittance is measured based on JIS K7105, for example, using a haze meter (“NDH-2000” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. or equivalent).

光透過性をより一層高める観点からは、上記透明導電フィルムのヘイズ値は、好ましくは1.3%以下、より好ましくは0.8%以下、更に好ましくは0.6%以下、特に好ましくは0.4%以下である。なお、上記透明導電フィルムのヘイズ値は、通常0%以上である。   From the viewpoint of further increasing the light transmittance, the haze value of the transparent conductive film is preferably 1.3% or less, more preferably 0.8% or less, still more preferably 0.6% or less, and particularly preferably 0. .4% or less. In addition, the haze value of the said transparent conductive film is 0% or more normally.

上記ヘイズ値は、ヘーズメーター(日本電色工業社製「NDH−2000」、又はその同等品)を用いて、JIS K7136に基づいて、測定される。   The haze value is measured based on JIS K7136 using a haze meter (“NDH-2000” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. or equivalent).

以下、透明導電フィルムを構成する各層の詳細を説明する。   Hereinafter, the detail of each layer which comprises a transparent conductive film is demonstrated.

(基材フィルム)
本発明に係る透明導電フィルムでは、上記基材フィルムは、基材フィルム本体と、ハードコート層とを有してもよい。上記基材フィルムが上記ハードコート層を有する場合、上記ハードコート層は、上記基材フィルム本体の第1の表面上、及び上記第1の表面とは反対の第2の表面上に積層されていることが好ましい。
(Base film)
In the transparent conductive film according to the present invention, the base film may have a base film body and a hard coat layer. When the base film has the hard coat layer, the hard coat layer is laminated on the first surface of the base film body and the second surface opposite to the first surface. Preferably it is.

基材フィルムは、高い光透過性を有することが好ましい。従って、上記基材フィルムの材料及び上記基材フィルム本体の材料としては、特に限定されないが、例えば、ポリオレフィン、ポリエーテルサルフォン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリスルホン、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー、ポリアリレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース、及びセルロースナノファイバー等が挙げられる。上記基材フィルムの材料及び上記基材フィルム本体の材料は、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。   The base film preferably has high light transmittance. Accordingly, the material for the base film and the material for the base film body are not particularly limited. For example, polyolefin, polyether sulfone, polyether ether ketone, polysulfone, polycarbonate, cycloolefin polymer, cycloolefin copolymer, Examples include polyarylate, polyamide, polyimide, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, triacetyl cellulose, and cellulose nanofiber. The material of the base film and the material of the base film body may be used alone or in combination.

基材フィルムの厚みは、好ましくは5μm以上、より好ましくは20μm以上、更に好ましくは35μm以上、好ましくは190μm以下、より好ましくは125μm以下、更に好ましくは60μm以下である。基材フィルムの厚みが上記下限以上及び上記上限以下であると、調光フィルムの窓などへの施工性が良好になる。また、基材フィルムの厚みが上記下限以上及び上記上限以下であると、ハンドリング性を高めながら、透明導電フィルム及び調光フィルムを薄くすることができる。   The thickness of the base film is preferably 5 μm or more, more preferably 20 μm or more, still more preferably 35 μm or more, preferably 190 μm or less, more preferably 125 μm or less, and even more preferably 60 μm or less. When the thickness of the substrate film is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the workability of the light control film to the window and the like becomes good. Moreover, a transparent conductive film and a light control film can be made thin, improving handleability as the thickness of a base film is more than the said minimum and below the said upper limit.

上記基材フィルムが上記基材フィルム本体と上記ハードコート層とを有する場合には、上記基材フィルム本体の厚みは、好ましくは5μm以上、より好ましくは20μm以上、更に好ましくは35μm以上、好ましくは190μm以下、より好ましくは125μm以下、更に好ましくは60μm以下である。基材フィルム本体の厚みが上記下限以上及び上記上限以下であると、調光フィルムの窓などへの施工性が良好になる。また、基材フィルム本体の厚みが上記下限以上及び上記上限以下であると、ハンドリング性を高めながら、透明導電フィルム及び調光フィルムを薄くすることができる。   When the base film has the base film body and the hard coat layer, the thickness of the base film body is preferably 5 μm or more, more preferably 20 μm or more, still more preferably 35 μm or more, preferably It is 190 micrometers or less, More preferably, it is 125 micrometers or less, More preferably, it is 60 micrometers or less. When the thickness of the base film body is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the workability of the light control film to the window or the like becomes good. Moreover, a transparent conductive film and a light control film can be made thin, improving handling property as the thickness of a base film main body is more than the said minimum and below the said upper limit.

また、基材フィルムの波長380〜780nmの可視光線領域における平均透過率は、好ましくは85%以上、より好ましくは90%以上である。なお、波長380〜780nmの可視光線領域における平均透過率は、通常100%以下である。上記基材フィルムの波長380〜780nmの可視光線領域における平均透過率が85%以上であると、基材フィルムは良好な光透過性を有するといえる。   Moreover, the average transmittance | permeability in the visible light region of wavelength 380-780 nm of a base film becomes like this. Preferably it is 85% or more, More preferably, it is 90% or more. The average transmittance in the visible light region with a wavelength of 380 to 780 nm is usually 100% or less. It can be said that a base film has favorable light transmittance as the average transmittance | permeability in the visible light region with a wavelength of 380-780 nm of the said base film is 85% or more.

基材フィルム、又は上記基材フィルムが上記基材フィルム本体と上記ハードコート層とを有する場合には基材フィルム本体は、各種安定剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤又は着色剤等の添加剤を含んでいてもよい。上記添加剤はそれぞれ、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。   When the base film or the base film has the base film main body and the hard coat layer, the base film main body is added with various stabilizers, ultraviolet absorbers, plasticizers, lubricants, or coloring agents. An agent may be included. Each of the above additives may be used alone or in combination.

(導電層)
導電層は、光透過性を有する導電性材料により形成されている。上記導電性材料としては、特に限定されないが、例えば、IZO(インジウム亜鉛酸化物)及びITO(インジウムスズ酸化物)等のIn系酸化物、SnO及びFTO(フッ素ドープ酸化スズ)等のSn系酸化物、AZO(アルミニウム亜鉛酸化物)及びGZO(ガリウム亜鉛酸化物)等のZn系酸化物、アルミニウム、マグネシウム−銀混合物、マグネシウム−インジウム混合物、アルミニウム−リチウム合金、Al/Al混合物、Al/LiF混合物及び金等の金属、CuI、Agナノワイヤー(AgNW)、カーボンナノチューブ(CNT)並びに導電性透明ポリマー等が挙げられる。上記導電性材料は、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。
(Conductive layer)
The conductive layer is made of a light-transmitting conductive material. As the conductive material is not particularly limited, for example, IZO (indium zinc oxide) and ITO an In-based oxide (indium tin oxide) or the like, Sn-based, such as SnO 2 and FTO (fluorine-doped tin oxide) Oxides, Zn-based oxides such as AZO (aluminum zinc oxide) and GZO (gallium zinc oxide), aluminum, magnesium-silver mixture, magnesium-indium mixture, aluminum-lithium alloy, Al / Al 2 O 3 mixture, Examples include Al / LiF mixtures and metals such as gold, CuI, Ag nanowires (AgNW), carbon nanotubes (CNT), and conductive transparent polymers. The said electroconductive material may be used independently and may use multiple together.

上記導電性材料は、Inを含有する金属酸化物、Snを含有する金属酸化物又はZnを含有する金属酸化物であることが好ましい。上記導電性材料は、Inを含有する金属酸化物であることがより好ましく、ITO(インジウムスズ酸化物)であることが更に好ましい。これらの導電性材料の使用によって、導電性をより一層高め、かつ、光透過性をより一層高めることができる。   The conductive material is preferably a metal oxide containing In, a metal oxide containing Sn, or a metal oxide containing Zn. The conductive material is more preferably a metal oxide containing In, and more preferably ITO (indium tin oxide). By using these conductive materials, the conductivity can be further enhanced and the light transmittance can be further enhanced.

導電層の形成方法は、特に限定されず、物理気相成長法(例えば蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等)及び化学気相成長法(例えばプラズマCVD法等)等が挙げられる。本発明においては、導電層の形成方法はスパッタリング法が好ましい。   The method for forming the conductive layer is not particularly limited, and examples thereof include physical vapor deposition (for example, vapor deposition, ion plating, sputtering) and chemical vapor deposition (for example, plasma CVD). In the present invention, the method for forming the conductive layer is preferably a sputtering method.

スパッタリング法により導電層を形成する方法としては、例えば、基材フィルムの一方の表面上に、酸化ケイ素を含む層を成膜し、続いて上記酸化ケイ素を含む層上に導電性材料を積層し、その後、加熱処理(アニール処理)する方法が挙げられる。上記酸化ケイ素を含む層の成膜方法としては、上記基材フィルムを真空装置内に設置し、真空度を、例えば、1.0×10−6〜1.0×10−4Paとした後に、基材フィルムの一方の表面上にスパッタリングする方法が挙げられる。また、上記導電性材料の積層方法は、特に限定されないが、例えば、アルゴンガスと酸素ガスとの混合ガスをチャンバー圧力(全圧)が3.0×10−1〜9.0×10−1Paになるように真空装置内に導入しながら、スパッタリング法にて導電性材料を積層する方法が挙げられる。 As a method for forming a conductive layer by sputtering, for example, a layer containing silicon oxide is formed on one surface of a base film, and then a conductive material is laminated on the layer containing silicon oxide. Then, the method of heat-processing (annealing) is mentioned. As a film forming method of the layer containing silicon oxide, the base film is placed in a vacuum apparatus, and the degree of vacuum is, for example, 1.0 × 10 −6 to 1.0 × 10 −4 Pa. The method of sputtering on one surface of a base film is mentioned. The method for laminating the conductive material is not particularly limited. For example, the chamber pressure (total pressure) of a mixed gas of argon gas and oxygen gas is 3.0 × 10 −1 to 9.0 × 10 −1. A method of laminating a conductive material by a sputtering method while introducing into a vacuum apparatus so as to be Pa can be mentioned.

この際、HO分圧は、1.0×10−4Pa以上であることが好ましく、1.0×10−3Pa以下であることが好ましく、4.0×10−4Pa以下であることがより好ましい。HO分圧が上記下限以上及び上記上限以下であると、上記アニール処理後の導電層の結晶性を高めることができる。この結果、上記メタクリル酸メチルモノマー、及び上記メタクリル酸2−エチルヘキシルモノマーのそれぞれに対する接触角を上記範囲に容易に調整することができる。また、HO分圧が上記下限以上及び上記上限以下であると、透明導電フィルムのシート抵抗値を低くすることができる。導電性材料としてITOを用いる場合、HO分圧が上記下限以上及び上記上限以下であると、上記アニール処理後のITO層の結晶性を高めることができる。この結果、上記メタクリル酸メチルモノマー、及び上記メタクリル酸2−エチルヘキシルモノマーのそれぞれに対する接触角を上記範囲に容易に調整することができる。また、HO分圧が上記下限以上及び上記上限以下であると、透明導電フィルムのシート抵抗値を低くすることができる。 At this time, the H 2 O partial pressure is preferably 1.0 × 10 −4 Pa or more, preferably 1.0 × 10 −3 Pa or less, and 4.0 × 10 −4 Pa or less. More preferably. When the H 2 O partial pressure is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the crystallinity of the conductive layer after the annealing treatment can be improved. As a result, the contact angle with respect to each of the methyl methacrylate monomer and the 2-ethylhexyl methacrylate monomer can be easily adjusted to the above range. Further, when the H 2 O partial pressure is less than the lower limit or more and the upper limit, it is possible to lower the sheet resistance of the transparent conductive film. When ITO is used as the conductive material, the crystallinity of the ITO layer after the annealing treatment can be enhanced when the H 2 O partial pressure is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit. As a result, the contact angle with respect to each of the methyl methacrylate monomer and the 2-ethylhexyl methacrylate monomer can be easily adjusted to the above range. Further, when the H 2 O partial pressure is less than the lower limit or more and the upper limit, it is possible to lower the sheet resistance of the transparent conductive film.

O分圧は真空装置に対応した質量分析計(例えばアルバック製「Qulee CGM−051」、又はその同等品)を用いて測定することができる。 The H 2 O partial pressure can be measured using a mass spectrometer (for example, “Qulee CGM-051” manufactured by ULVAC, or an equivalent thereof) corresponding to a vacuum apparatus.

上記加熱処理(アニール処理)は、熱風循環式オーブン、熱ロール、熱プレス、又はIR加熱式オーブン等を用いて、例えば120〜200℃において1〜60分程度の熱処理を行うことによって実施することができる。   The heat treatment (annealing treatment) is performed by performing a heat treatment at 120 to 200 ° C. for about 1 to 60 minutes using a hot air circulating oven, a hot roll, a hot press, an IR heating oven, or the like. Can do.

上記導電性材料として、ITOを用いる場合は、加熱処理(アニール処理)によってITOを結晶化させることによりITO層(導電層)を形成することが好ましい。上記加熱処理(アニール処理)には、熱風循環式オーブン、熱ロール、熱プレス、及びIR加熱式オーブン等を用いることができる。より短時間でITO層を形成する観点からは、IR加熱式オーブンを用いることが好ましい。この場合、ITO層表面の酸化による酸素欠損の減少や基材フィルムの劣化などを効果的に抑制することができる。なお、上記加熱処理(アニール処理)は、例えば160〜200℃において1〜10分程度の熱処理を行うことによって実施することができる。   When ITO is used as the conductive material, it is preferable to form the ITO layer (conductive layer) by crystallizing ITO by heat treatment (annealing treatment). For the heat treatment (annealing treatment), a hot air circulation oven, a hot roll, a hot press, an IR heating oven, or the like can be used. From the viewpoint of forming the ITO layer in a shorter time, it is preferable to use an IR heating oven. In this case, reduction of oxygen deficiency due to oxidation of the ITO layer surface, deterioration of the base film, and the like can be effectively suppressed. In addition, the said heat processing (annealing process) can be implemented by performing the heat processing for about 1 to 10 minutes at 160-200 degreeC, for example.

導電層の厚みは、好ましくは12nm以上、より好ましくは16nm以上、更に好ましくは17nm以上、好ましくは50nm以下、より好ましくは30nm以下、更に好ましくは20nm以下、特に好ましくは19nm以下である。導電層の厚みが上記下限以上であると、透明導電フィルムのシート抵抗値を効果的に低くすることができ、導電性をより一層高めることができる。導電層の厚みが上記上限以下であると、より透明な透明導電フィルムを得ることができる。導電層の厚みが上記上限以下であると、調光層が良好に硬化しやすくなり、調光フィルムの透明度をより一層高めることができる。   The thickness of the conductive layer is preferably 12 nm or more, more preferably 16 nm or more, still more preferably 17 nm or more, preferably 50 nm or less, more preferably 30 nm or less, still more preferably 20 nm or less, and particularly preferably 19 nm or less. When the thickness of the conductive layer is not less than the above lower limit, the sheet resistance value of the transparent conductive film can be effectively reduced, and the conductivity can be further increased. When the thickness of the conductive layer is not more than the above upper limit, a more transparent transparent conductive film can be obtained. When the thickness of the conductive layer is not more than the above upper limit, the light control layer is easily cured well, and the transparency of the light control film can be further increased.

導電層の波長380〜780nmの可視光線領域における平均透過率は、好ましくは85%以上、より好ましくは90%以上である。なお、波長380〜780nmの可視光線領域における平均透過率は、通常100%以下である。上記導電層の波長380〜780nmの可視光線領域における平均透過率が85%以上であると、導電層は良好な光透過性を有するといえる。   The average transmittance in the visible light region having a wavelength of 380 to 780 nm of the conductive layer is preferably 85% or more, more preferably 90% or more. The average transmittance in the visible light region with a wavelength of 380 to 780 nm is usually 100% or less. It can be said that the conductive layer has good light transmittance when the average transmittance in the visible light region having a wavelength of 380 to 780 nm of the conductive layer is 85% or more.

(保護フィルム)
上記基材フィルムの上記導電層側とは反対の表面上(他方の表面上)に保護フィルムが配置されていてもよい。
(Protective film)
The protective film may be arrange | positioned on the surface (on the other surface) opposite to the said conductive layer side of the said base film.

保護フィルムは、基材フィルムシート及び粘着剤層により構成されていることが好ましい。   The protective film is preferably composed of a base film sheet and an adhesive layer.

上記基材フィルムシートは、高い光透過性を有することが好ましい。上記基材フィルムシートの材料としては、特に限定されないが、例えば、ポリオレフィン、ポリエーテルサルフォン、ポリスルホン、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリアリレート、ポリアミド、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース、及びセルロースナノファイバー等が挙げられる。上記基材フィルムシートの材料は、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。   The base film sheet preferably has high light transmittance. The material of the base film sheet is not particularly limited. For example, polyolefin, polyethersulfone, polysulfone, polycarbonate, cycloolefin polymer, polyarylate, polyamide, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate. Examples include phthalate, triacetylcellulose, and cellulose nanofiber. The material of the said base film sheet may be used independently and may use multiple together.

上記粘着剤層は、(メタ)アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ウレタン系接着剤又はエポキシ系接着剤により構成することができる。熱処理による粘着力の上昇を抑制する観点から、上記粘着剤層は、(メタ)アクリル系粘着剤により構成されていることが好ましい。   The pressure-sensitive adhesive layer can be composed of a (meth) acrylic pressure-sensitive adhesive, a rubber-based pressure-sensitive adhesive, a urethane-based adhesive, or an epoxy-based adhesive. From the viewpoint of suppressing an increase in adhesive force due to heat treatment, the adhesive layer is preferably composed of a (meth) acrylic adhesive.

上記(メタ)アクリル系粘着剤は、(メタ)アクリル重合体に、必要に応じて架橋剤、粘着付与樹脂及び各種安定剤などを添加した粘着剤である。   The (meth) acrylic pressure-sensitive adhesive is a pressure-sensitive adhesive in which a crosslinking agent, a tackifier resin, various stabilizers, and the like are added to a (meth) acrylic polymer as necessary.

上記(メタ)アクリル重合体は、特に限定されないが、(メタ)アクリル酸エステルモノマーと、他の共重合可能な重合性モノマーとを含む混合モノマーを共重合して得られた(メタ)アクリル共重合体であることが好ましい。   The (meth) acrylic polymer is not particularly limited, but (meth) acrylic copolymer obtained by copolymerizing a mixed monomer containing a (meth) acrylic acid ester monomer and another copolymerizable monomer. A polymer is preferred.

上記(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、特に限定されないが、アルキル基の炭素数が1〜12の1級又は2級のアルキルアルコールと、(メタ)アクリル酸とのエステル化反応により得られる(メタ)アクリル酸エステルモノマーが好ましい。上記(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、具体的には、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、及び(メタ)アクリル酸−2−エチルヘキシル等が挙げられる。上記(メタ)アクリル酸エステルモノマーは、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。   Although it does not specifically limit as said (meth) acrylic acid ester monomer, It is obtained by esterification reaction of the primary or secondary alkyl alcohol whose carbon number of an alkyl group is 1-12, and (meth) acrylic acid ( A meth) acrylic acid ester monomer is preferred. Specific examples of the (meth) acrylic acid ester monomers include ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic acid-2-ethylhexyl. The said (meth) acrylic acid ester monomer may be used independently and may use multiple together.

上記他の共重合可能な重合性モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシブチル等の(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキル;(メタ)アクリル酸イソボルニル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキル、グリセリンジメタクリレート、(メタ)アクリル酸グリシジル、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、(メタ)アクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸、クロトン酸、マレイン酸及びフマル酸等の官能性モノマーが挙げられる。上記他の共重合可能な重合性モノマーは、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。   Examples of other copolymerizable polymerizable monomers include hydroxyalkyl (meth) acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, and hydroxybutyl (meth) acrylate; Isobornyl (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, glycerin dimethacrylate, glycidyl (meth) acrylate, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate, (meth) acrylic acid, itaconic acid, maleic anhydride, crotonic acid, malein Examples thereof include functional monomers such as acid and fumaric acid. The other copolymerizable polymerizable monomers may be used alone or in combination.

上記架橋剤としては、特に限定されず、例えば、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、メラミン系架橋剤、過酸化物系架橋剤、尿素系架橋剤、金属アルコキシド系架橋剤、金属キレート系架橋剤、金属塩系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、アミン系架橋剤、及び多官能アクリレート等が挙げられる。上記架橋剤は、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。   The crosslinking agent is not particularly limited, and for example, an isocyanate crosslinking agent, an epoxy crosslinking agent, a melamine crosslinking agent, a peroxide crosslinking agent, a urea crosslinking agent, a metal alkoxide crosslinking agent, a metal chelate crosslinking agent. Agents, metal salt crosslinking agents, carbodiimide crosslinking agents, oxazoline crosslinking agents, aziridine crosslinking agents, amine crosslinking agents, and polyfunctional acrylates. The above crosslinking agents may be used alone or in combination.

上記粘着付与樹脂としては、特に限定されないが、例えば、脂肪族系共重合体、芳香族系共重合体、脂肪族・芳香族系共重合体及び脂環式系共重合体等の石油系樹脂;クマロン−インデン系樹脂;テルペン系樹脂;テルペンフェノール系樹脂;重合ロジン等のロジン系樹脂;フェノール系樹脂;キシレン系樹脂等が挙げられる。上記粘着付与樹脂は、水素添加された樹脂であってもよい。上記粘着付与樹脂は、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。   The tackifying resin is not particularly limited, and examples thereof include petroleum resins such as aliphatic copolymers, aromatic copolymers, aliphatic / aromatic copolymers, and alicyclic copolymers. Coumarone-indene resin; terpene resin; terpene phenol resin; rosin resin such as polymerized rosin; phenol resin; xylene resin. The tackifying resin may be a hydrogenated resin. The tackifying resins may be used alone or in combination.

保護フィルムの厚みは、好ましくは25μm以上、より好ましくは50μm以上、好ましくは300μm以下、より好ましくは200μm以下である。保護フィルムの厚みが上記下限以上及び上記上限以下であると、調光フィルムの作製時のハンドリング性に優れ、不良発生を低減することができる。   The thickness of the protective film is preferably 25 μm or more, more preferably 50 μm or more, preferably 300 μm or less, more preferably 200 μm or less. When the thickness of the protective film is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the handling property at the time of producing the light control film is excellent, and the occurrence of defects can be reduced.

(調光フィルム)
本発明に係る調光フィルムは、第1の透明導電フィルムと、第2の透明導電フィルムと、調光層とを備える。上記調光層は、上記第1の透明導電フィルムと上記第2の透明導電フィルムとの間に配置されている。本発明に係る調光フィルムでは、上記第1の透明導電フィルム及び上記第2の透明導電フィルムの内の少なくとも一方が、本発明に係る透明導電フィルムである。上記第1の透明導電フィルム及び上記第2の透明導電フィルムの一方が、本発明に係る透明導電フィルムであってもよく、上記第1の透明導電フィルム及び上記第2の透明導電フィルムの双方が、本発明に係る透明導電フィルムであってもよい。
(Light control film)
The light control film which concerns on this invention is equipped with a 1st transparent conductive film, a 2nd transparent conductive film, and a light control layer. The light control layer is disposed between the first transparent conductive film and the second transparent conductive film. In the light control film according to the present invention, at least one of the first transparent conductive film and the second transparent conductive film is the transparent conductive film according to the present invention. One of the first transparent conductive film and the second transparent conductive film may be the transparent conductive film according to the present invention, and both the first transparent conductive film and the second transparent conductive film are The transparent conductive film according to the present invention may be used.

図2は、図1に示す調光フィルム用透明導電フィルムを用いた調光フィルムの一例を示す断面図である。   FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of a light control film using the transparent conductive film for light control film shown in FIG.

調光フィルム21は、2つの透明導電フィルム1と、調光層31とを備える。2つの透明導電フィルム1の間に、調光層31が配置されている。透明導電フィルム1における導電層12は、調光層31に接している。   The light control film 21 includes two transparent conductive films 1 and a light control layer 31. A light control layer 31 is disposed between the two transparent conductive films 1. The conductive layer 12 in the transparent conductive film 1 is in contact with the light control layer 31.

調光フィルム21では、2つの透明導電フィルム1の導電層12間に、電界が印加される。電界が印加されている状態と、電界が印加されていない状態とで、調光フィルム21を通過する光量を変化させることができる。   In the light control film 21, an electric field is applied between the conductive layers 12 of the two transparent conductive films 1. The amount of light passing through the light control film 21 can be changed between a state where an electric field is applied and a state where no electric field is applied.

上記調光層の方式としては、液晶分散ポリマーの方式、エレクトロクロミック方式、及びSPD方式等が挙げられる。   Examples of the light control layer method include a liquid crystal dispersion polymer method, an electrochromic method, and an SPD method.

上記調光層は、アクリル樹脂を含んでいてもよい。上記調光層は、アクリル樹脂を含むことが好ましい。上記調光層は、アクリル樹脂中に液晶分子を含んでいてもよい。   The light control layer may contain an acrylic resin. The light control layer preferably contains an acrylic resin. The light control layer may contain liquid crystal molecules in the acrylic resin.

上記アクリル樹脂としては、特に限定されず、例えば、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸t−ブチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、及び(メタ)アクリル酸プロピル等のモノマーの重合体が挙げられる。上記アクリル樹脂は、上記モノマーの単独重合体であってもよく、上記モノマーの共重合体であってもよく、上記モノマーとその他のモノマーとの共重合体であってもよい。上記アクリル樹脂は、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。なお、「(メタ)アクリル」とは、アクリル又はメタクリルを意味する。   The acrylic resin is not particularly limited, and examples thereof include (meth) acrylic acid, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, ( Examples thereof include polymers of monomers such as 2-ethylhexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, and propyl (meth) acrylate. The acrylic resin may be a homopolymer of the monomer, may be a copolymer of the monomer, or may be a copolymer of the monomer and another monomer. The above acrylic resins may be used alone or in combination. “(Meth) acryl” means acrylic or methacrylic.

導電層と調光層との密着性を高める観点からは、上記調光層に対する上記透明導電フィルムのピール強度は好ましくは3.0N/inch以上、より好ましくは3.3N/inch以上、更に好ましくは3.5N/inch以上である。   From the viewpoint of enhancing the adhesion between the conductive layer and the light control layer, the peel strength of the transparent conductive film with respect to the light control layer is preferably 3.0 N / inch or more, more preferably 3.3 N / inch or more, and still more preferably. Is 3.5 N / inch or more.

以下、本発明について、具体的な実施例及び比較例に基づき、更に詳しく説明する。なお、本発明は以下の実施例に限定されない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on specific examples and comparative examples. The present invention is not limited to the following examples.

(実施例1)
透明導電フィルムの作製:
基材フィルム本体として、厚み50μmのPETフィルムを用意した。PETフィルムの一方の面にジルコニア粒子を分散したアクリル系ハードコート樹脂(東洋インキ社製「リオデュラスTYZ」)を塗布した後、UVを照射することで硬化させ、厚み0.8μmの第1のハードコート層を形成した。PETフィルムの他方の面に、アクリル系ハードコート樹脂(東洋インキ社製「リオデュラスTYAB」)を塗布した後、UVを照射することで硬化させ、厚み2.0μmの第2のハードコート層を形成した。このようにして、基材フィルムを得た。
Example 1
Production of transparent conductive film:
A PET film having a thickness of 50 μm was prepared as the base film body. After applying an acrylic hard coat resin in which zirconia particles are dispersed ("Rioduras TYZ" manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.) on one side of the PET film, it is cured by irradiating with UV, and the first hard having a thickness of 0.8 μm A coat layer was formed. On the other side of the PET film, an acrylic hard coat resin (“Rioduras TYAB” manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.) is applied and then cured by UV irradiation to form a second hard coat layer having a thickness of 2.0 μm. did. In this way, a base film was obtained.

この基材フィルムを真空装置内に設置し、真空排気を実施した。真空度が9.0×10−4Paまで到達した後、アルゴンガスを導入して、DCマグネトロンスパッタリング法によりアルゴンガス雰囲気下で、第1のハードコート層の表面上にSiO層、SiO層、SiO層を第1のハードコート層側からこの順で成膜し、その上にインジウムスズ酸化物(ITO)層を積層した。具体的には、SnOが7重量%のITO焼結体ターゲットと、ターゲット表面の最大水平磁束密度が1000ガウスとなるカソードとを用いて、チャンバー圧力3.5×10−1Pa、HO分圧2.72×10−4Pa、ArガスとOガスとの比を100:1として真空装置に導入しながら、厚み18nmの導電層(ITO層)を形成した。その後、IR加熱式オーブン(ミノグループ社製)にて170℃で5分アニール処理を行うことで、透明導電フィルムを得た。 This base film was placed in a vacuum apparatus and evacuated. After the degree of vacuum reaches 9.0 × 10 −4 Pa, argon gas is introduced, and an SiO x layer, SiO 2 layer is formed on the surface of the first hard coat layer in an argon gas atmosphere by a DC magnetron sputtering method. A layer and a SiO x layer were formed in this order from the first hard coat layer side, and an indium tin oxide (ITO) layer was laminated thereon. Specifically, a chamber pressure of 3.5 × 10 −1 Pa, H 2 using an ITO sintered body target of 7 wt% SnO 2 and a cathode having a maximum horizontal magnetic flux density of 1000 gauss on the target surface. A conductive layer (ITO layer) having a thickness of 18 nm was formed while being introduced into a vacuum apparatus with an O partial pressure of 2.72 × 10 −4 Pa and a ratio of Ar gas to O 2 gas of 100: 1. Then, the transparent conductive film was obtained by performing an annealing process at 170 degreeC for 5 minute (s) with IR heating type oven (Mino group company make).

調光フィルムの作製:
以下の成分を混合し、調光層材料を得た。
Preparation of light control film:
The following components were mixed to obtain a light control layer material.

液晶成分として4−ブチルビフェニル−4’−カルボニトリル75重量部及び4’−ヒドロキシ−4−ビフェニルカルボニトリル75重量部
バインダー樹脂としてメタクリル酸−2−エチルヘキシル20重量部及びアクリル酸−2−エチルヘキシル130重量部
光重合開始剤(BASF社製「Irgacure 184」)3重量部
調光層の厚みを調整するギャップ材として粒径20μmのアクリル樹脂粒子(積水化学工業社製、ミクロパール)1重量部
75 parts by weight of 4-butylbiphenyl-4′-carbonitrile and 75 parts by weight of 4′-hydroxy-4-biphenylcarbonitrile as liquid crystal components 20 parts by weight of 2-ethylhexyl methacrylate and 2-ethylhexyl acrylate 130 as binder resins 3 parts by weight of photopolymerization initiator (“Irgacure 184” manufactured by BASF) 1 part by weight of acrylic resin particles having a particle size of 20 μm (Micropearl, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) as a gap material for adjusting the thickness of the light control layer

上記透明導電フィルムを導電層側が向かい合うように2枚重ねラミネーター(テスター産業社製、小型ラミネーター)にセットし、調光層材料を間に流し込んで貼り合わせを行った。得られた積層フィルムをUVランプにて、150W/m及び5分の条件で調光層材料を硬化させることで調光層を形成して、調光フィルムを得た。 Two layers of the transparent conductive film were set on a laminator (a small laminator manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd.) so that the conductive layer sides face each other, and the light control layer material was poured between them to perform bonding. A light control layer was formed by curing the light control layer material on the obtained laminated film with a UV lamp under conditions of 150 W / m 2 and 5 minutes to obtain a light control film.

(実施例2〜5及び比較例1,2)
基材フィルム本体の厚み、導電層の形成条件(HO分圧)、導電層の厚み、及びアニール処理条件(加熱方法、加熱温度、及び加熱時間)を下記の表1に示すように設定したこと以外は実施例1と同様にして、透明導電フィルム及び調光フィルムを得た。
(Examples 2 to 5 and Comparative Examples 1 and 2)
The thickness of the base film body, the formation conditions of the conductive layer (H 2 O partial pressure), the thickness of the conductive layer, and the annealing treatment conditions (heating method, heating temperature, and heating time) are set as shown in Table 1 below. Except having done, it carried out similarly to Example 1, and obtained the transparent conductive film and the light control film.

(測定)
(1)メタクリル酸メチルモノマーに対する接触角
得られた透明導電フィルムにおいて、接触角計(協和界面科学社製「DM500」)を用いて、メタクリル酸メチルモノマーに対する接触角を測定した。具体的には透明導電フィルムの導電層の上記基材フィルム側とは反対の表面へメタクリル酸メチルモノマー1μLを滴下した。滴下してから1秒後のメタクリル酸メチルモノマーと導電層の表面とのなす角度をメタクリル酸メチルモノマーに対する接触角とした。
(Measurement)
(1) Contact angle with respect to methyl methacrylate monomer In the obtained transparent conductive film, the contact angle with respect to methyl methacrylate monomer was measured using a contact angle meter ("DM500" manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.). Specifically, 1 μL of methyl methacrylate monomer was dropped onto the surface of the transparent conductive film opposite to the base film side of the conductive layer. The angle formed by the methyl methacrylate monomer and the surface of the conductive layer one second after the dropping was defined as the contact angle with respect to the methyl methacrylate monomer.

(2)メタクリル酸2−エチルヘキシルモノマーに対する接触角
得られた透明導電フィルムにおいて、接触角計(協和界面科学社製「DM500」)を用いて、メタクリル酸2−エチルヘキシルモノマーに対する接触角を測定した。具体的には透明導電フィルムの導電層の上記基材フィルム側とは反対の表面へメタクリル酸2−エチルヘキシルモノマー1μLを滴下した。滴下してから1秒後のメタクリル酸2−エチルヘキシルモノマーと導電層の表面とのなす角度をメタクリル酸2−エチルヘキシルモノマーに対する接触角とした。
(2) Contact angle with respect to 2-ethylhexyl methacrylate monomer In the obtained transparent conductive film, the contact angle with respect to 2-ethylhexyl methacrylate monomer was measured using a contact angle meter ("DM500" manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.). Specifically, 1 μL of 2-ethylhexyl methacrylate monomer was dropped onto the surface of the transparent conductive film opposite to the base film side of the conductive layer. The angle formed by 2-ethylhexyl methacrylate monomer and the surface of the conductive layer 1 second after the dropping was defined as the contact angle with respect to the 2-ethylhexyl methacrylate monomer.

(3)全光線透過率
得られた透明導電フィルムの波長550nmにおける全光線透過率を、ヘーズメーター(日本電色工業社製「NDH−2000」)を用いて、JIS K7105に基づいて、測定した。
(3) Total light transmittance The total light transmittance at a wavelength of 550 nm of the obtained transparent conductive film was measured based on JIS K7105 using a haze meter (“NDH-2000” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.). .

(4)ヘイズ値
得られた透明導電フィルムのヘイズ値をヘーズメーター(日本電色工業社製「NDH−2000」)を用いて、JIS K7136に基づいて、測定した。
(4) Haze value The haze value of the obtained transparent conductive film was measured based on JIS K7136 using a haze meter ("NDH-2000" manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).

(評価)
(1)ピール強度
得られた調光フィルムを構成する透明導電フィルム2枚を180°方向に引き剥がしたときの剥離時の強度をピール強度とした。ピール強度は引っ張り試験機で測定することにより求めた。引っ張り試験機として、島津製作所社製「EZ Test」を用いた。調光フィルムを1inchの幅にカットして測定を行った。剥離速度は100mm/minとした。
(Evaluation)
(1) Peel strength The peel strength when two transparent conductive films constituting the obtained light control film were peeled in the 180 ° direction was defined as peel strength. The peel strength was determined by measuring with a tensile tester. As a tensile tester, “EZ Test” manufactured by Shimadzu Corporation was used. The light control film was cut to a width of 1 inch and measured. The peeling speed was 100 mm / min.

透明導電フィルムの構成、アニール処理条件及び結果を下記の表1に示す。   The composition of the transparent conductive film, the annealing conditions and the results are shown in Table 1 below.

実施例1〜5で得られた透明導電フィルムのメタクリル酸メチルモノマーに対する接触角の測定時において、図3に示す写真と類似した観察結果が得られた。   At the time of measuring the contact angle of the transparent conductive films obtained in Examples 1 to 5 with respect to the methyl methacrylate monomer, an observation result similar to the photograph shown in FIG. 3 was obtained.

また、比較例1,2で得られた透明導電フィルムのメタクリル酸メチルモノマーに対する接触角の測定時において、図4に示す写真と類似した観察結果が得られた。   Moreover, the observation result similar to the photograph shown in FIG. 4 was obtained at the time of the measurement of the contact angle with respect to the methyl methacrylate monomer of the transparent conductive film obtained in Comparative Examples 1 and 2.

1…透明導電フィルム
11…基材フィルム
11a…第1の表面
11b…第2の表面
12…導電層
21…調光フィルム
31…調光層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Transparent conductive film 11 ... Base film 11a ... 1st surface 11b ... 2nd surface 12 ... Conductive layer 21 ... Light control film 31 ... Light control layer

Claims (4)

調光フィルムに用いられる透明導電フィルムであって、
基材フィルムと、該基材フィルムの一方の表面側に配置されている導電層とを有し、
前記導電層の前記基材フィルム側とは反対の表面のメタクリル酸メチルモノマーに対する接触角が9°以下である、調光フィルム用透明導電フィルム。
A transparent conductive film used for a light control film,
A base film, and a conductive layer disposed on one surface side of the base film,
The transparent conductive film for light control films whose contact angle with respect to the methyl methacrylate monomer of the surface on the opposite side to the said base film side of the said conductive layer is 9 degrees or less.
前記導電層の前記基材フィルム側とは反対の表面のメタクリル酸2−エチルヘキシルモノマーに対する接触角が9°以下である、請求項1に記載の調光フィルム用透明導電フィルム。   The transparent conductive film for light control films of Claim 1 whose contact angle with respect to the 2-ethylhexyl methacrylate monomer of the surface on the opposite side to the said base film side of the said conductive layer is 9 degrees or less. 第1の透明導電フィルムと、
第2の透明導電フィルムと、
前記第1の透明導電フィルムと前記第2の透明導電フィルムとの間に配置された調光層とを備え、
前記第1の透明導電フィルム及び前記第2の透明導電フィルムの内の少なくとも一方が、請求項1又は2に記載の調光フィルム用透明導電フィルムである、調光フィルム。
A first transparent conductive film;
A second transparent conductive film;
A light control layer disposed between the first transparent conductive film and the second transparent conductive film;
The light control film whose at least one of a said 1st transparent conductive film and a said 2nd transparent conductive film is the transparent conductive film for light control films of Claim 1 or 2.
前記調光層がアクリル樹脂を含む、請求項3に記載の調光フィルム。


The light control film of Claim 3 in which the said light control layer contains an acrylic resin.


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