JP2019028228A - 表示装置及び表示装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】より表示品位に優れる表示装置を提供する。【解決手段】本発明の一実施形態に係る表示装置は、第１基板と、前記第１基板に対向して配置された第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間の前記第１基板側に配置される第１透明電極と、前記第１基板と前記第２基板との間の前記第２基板側に配置される第２透明電極と、前記第１基板と前記第１透明電極との間の反射層と、前記第１透明電極と前記第２透明電極との間に配置され、調光機能を有する液晶層と、前記第１透明電極と前記反射層との間に配置される発色層と、を有し、前記第２基板側から入射する入射光の色と、前記反射層で反射され前記第２基板側から出射される出射光の色とは、互いに異なる。【選択図】図１

Description

本発明は、表示装置及び表示装置の製造方法に関する。

従来、蛍光体と、ゲストホスト型の液晶層を用いる液晶表示装置が提案されている（例えば、特許文献１）。

特開平８−２９７８７号公報

しかしながら、従来技術のように蛍光体を用いる場合には、スペクトルの半値幅が比較的広いため、色がぼやけてしまい、表示品位に優れていないといった問題がある。

本発明の一実施形態は、上記のような従来技術に伴う課題を解決しようとするものであって、その目的とするところは、より表示品位に優れる表示装置を提供するところにある。

本発明の一実施形態によれば、第１基板と、前記第１基板に対向して配置された第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間の前記第１基板側に配置される第１透明電極と、前記第１基板と前記第２基板との間の前記第２基板側に配置される第２透明電極と、前記第１基板と前記第１透明電極との間の反射層と、前記第１透明電極と前記第２透明電極との間に配置され、調光機能を有する液晶層と、前記第１透明電極と前記反射層との間に配置される発色層と、を有し、前記第２基板側から入射する入射光の色と、前記反射層で反射され前記第２基板側から出射される出射光の色とは、互いに異なる、表示装置が提供される。

前記液晶層は、液晶分子と二色性色素とを含むゲストホスト型の液晶層であってもよい。

前記ゲストホスト型の液晶層は、ハイルマイヤー型の液晶層、カイラル成分を含む垂直配向型の液晶層、コレステリックブルー相を有する液晶層及び高分子分散型の液晶層のうちの一つであってもよい。

前記発色層は、量子ドットを含んでもよい。

前記反射層と前記発色層との間に配置され、入射した光を散乱する散乱層をさらに備えてもよい。

前記発色層は、青色発色層、赤色発色層及び緑色発色層を含み、前記青色発色層は、青色量子ドットを含み、前記赤色発色層は、赤色量子ドットを含み、前記緑色発色層は、緑色量子ドットを含み、前記青色発色層と前記反射層との間の前記散乱層は、緑色吸収剤及び赤色吸収剤を含み、前記赤色発色層と前記反射層との間の前記散乱層は、青色吸収剤及び緑色吸収剤を含み、前記緑色発色層と前記反射層との間の前記散乱層は、青色吸収剤及び緑色吸収剤を含んでもよい。

前記青色吸収剤は、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １５０、同２１３、同２１５、同１８５、同１３８、同１３９、Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ ２１、同８２、同８３：１、同３３、同１６２からなる群より選ばれる少なくとも１種の黄色有機染顔料であってもよい。

前記発色層は、青色発色層、赤色発色層及び緑色発色層を含んでもよい。

前記赤色発色層は、量子ドットを含み、前記緑色発色層は、量子ドット及び赤色吸収剤を含み、前記青色発色層は、緑色吸収剤及び赤色吸収剤を含んでもよい。

前記青色発色層は、散乱粒子をさらに含んでもよい。

前記赤色発色層及び前記緑色発色層は、それぞれ散乱粒子をさらに含んでもよい。

前記第１基板と前記液晶層との間に配置され、開口部を有するバンク層をさらに備え、前記反射層は、前記バンク層の前記開口部側の側壁に配置されてもよい。

前記側壁は、断面視においてテーパ形状であってもよい。

本発明によれば、表示品位に優れる表示装置を提供することができる。

本発明の一実施形態に係る表示装置の構成を示す模式的な平面図である。 本発明の一実施形態に係る表示装置の構成を示す模式的な断面図である。 本発明の一実施形態に係る表示装置の製造方法の一工程を説明するための模式的な断面図である。 本発明の一実施形態に係る表示装置の製造方法の一工程を説明するための模式的な断面図である。 本発明の一実施形態に係る表示装置の製造方法の一工程を説明するための模式的な断面図である。 本発明の一実施形態に係る表示装置の製造方法の一工程を説明するための模式的な断面図である。 本発明の一実施形態に係る表示装置の製造方法の一工程を説明するための模式的な断面図である。 本発明の一実施形態に係る表示装置の製造方法の一工程を説明するための模式的な断面図である。 本発明の一実施形態に係る表示装置の製造方法の一工程を説明するための模式的な断面図である。 本発明の一実施形態に係る表示装置の製造方法の一工程を説明するための模式的な断面図である。 本発明の他の実施形態に係る表示装置の構成を示す模式的な断面図である。

以下、本発明の一実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。以下に示す実施形態は本発明の実施形態の一例であって、本発明はこれらの実施形態に限定されるものではない。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合がある。しかしながら、模式的な図面はあくまでも一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。

また、本実施形態で参照する図面において、同一部分または同様な機能を有する部分には同一の符号または類似の符号（数字の後にＡ、Ｂなどを付しただけの符号）を付し、その繰り返しの説明は省略する場合がある。

本明細書において、「上」とは、ある物体又は領域の上に直に接するように配置される場合だけでなく、他の物体又は領域を間に挟んで配置される場合をも含む。「下」という用語についても同様である。また、「上」、「下」といった用語は、物体又は領域間の相対的な上下関係を示すものであり、絶対的な上下関係を意味するものではない。

＜第１実施形態＞
［表示装置の構成］
図１及び図２を用いて、本発明の一実施形態に係る表示装置について説明する。図１は、本発明の一実施形態に係る表示装置の構成を示す模式的な平面図である。

表示装置１は、第１基板１１、画素領域１０４、ゲート側駆動回路１０８及び１０９、ソース側駆動回路１１２、コネクタ１１４及び集積回路（ＩＣ）１１６を有する。

第１基板１１上に、画素領域１０４、ゲート側駆動回路１０８及び１０９、ソース側駆動回路１１２が形成される。コネクタ１１４は第１基板１１に接続される。集積回路（ＩＣ）１１６はコネクタ１１４上に設けられる。

画素領域１０４は、複数の画素１０を含んでいる。複数の画素１０は、一方向及び一方向に交差する方向に沿って、配置される。複数の画素１０の配列数は任意である。例えば、Ｘ方向にｍ個、Ｙ方向にｎ個の画素１０が配列される。ｍとｎはそれぞれ独立に、１よりも大きい自然数である。画素領域１０４が、表示領域となる。画素１０の各々は、表示素子を有し、表示素子は液晶素子を含む。

例えば、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、及び青色（Ｂ）の三原色に対応する表示素子を三つの画素の各々に設けることができる。各画素に２５６段階の電圧あるいは電流を供給することで、フルカラーの液晶表示装置を提供することができる。また、複数の画素１０の配列に制限はない。例えば、ストライプ配列やデルタ配列などを採用してもよい。

コネクタ１１４は、映像信号、回路の動作を制御するタイミング信号、電源などを、ゲート側駆動回路１０８及び１０９、ソース側駆動回路１１２に供給する役割を有する。コネクタ１１４は、フレキシブルプリント回路（ＦＰＣ）を用いてもよい。映像信号、回路の動作を制御するタイミング信号、電源などが、外部回路からコネクタ１１４を介して、ゲート側駆動回路１０８及び１０９、ソース側駆動回路１１２に供給される。

ゲート側駆動回路１０８及び１０９、ソース側駆動回路１１２は、供給された映像信号、回路の動作を制御するタイミング信号、電源などを用いて、各画素１０を駆動し、画素領域１０４に映像を表示する役割を有する。

ゲート側駆動回路１０８及び１０９、ソース側駆動回路１１２のすべてが、第１基板１１上に形成されなくてもよい。例えば、ゲート側駆動回路、ソース側駆動回路の一部又はすべての機能を含む集積回路（ＩＣ）が、第１基板１１上、或いはコネクタ１１４上に配置されてもよい。なお、図１の、集積回路（ＩＣ）１１６は、ゲート側駆動回路、ソース側駆動回路の一部の機能を有している。

次に、図２を用いて、表示装置の構成について説明する。図２は、本発明の一実施形態に係る表示装置の構成を示す模式的な断面図である。

表示装置１は、第１基板１１、ゲート絶縁膜１５、薄膜トランジスタ２０、パッシベーション層２３、バンク層２５、反射層２７、配線層２９、発色層３３、オーバーコート層３４、第１透明電極３５、ブラックマトリックス・スペーサ３７、第１配向膜３９、液晶層４６、第２配向膜４１、第２透明電極４３及び第２基板４５を備える。

第１基板１１及び第２基板４５は、ガラス基板である。第１基板１１及び第２基板４５の材料としては、アルミノケイ酸ガラス、アルミノホウケイ酸ガラスなどである。第２基板４５は、第１基板１１に対向して配置される。薄膜トランジスタ２０は、ゲート電極１３、ソースドレイン電極１９及び２１、半導体層１７を含む。ここで、ゲート電極１３の材料は、タンタル（Ｔａ）、モリブデン（Ｍｏ）、モリブデンタンタル（ＭｏＴａ）、モリブデンタングステン（ＭｏＷ）、アルミニウム（Ａｌ）などである。半導体層１３の材料は、不純物（ｎ⁺：リン）をドープしたａ−Ｓｉ（ｎ⁺）である。ソースドレイン電極１９及び２１の材料は、例えば、低抵抗なＡｌ系の合金である。ゲート電極１３と半導体層１７との間には、ゲート絶縁膜１５が配置される。ゲート絶縁膜１５の材料は、例えば、酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）や窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）などである。

薄膜トランジスタ２０及びゲート絶縁膜１５の上には、パッシベーション（保護）層２３が配置される。パッシベーション層２３の材料は、例えば、窒化ケイ素などである。

バンク層２５は、パッシベーション層２３の上に配置される。バンク層２５には、開口部があり、開口部側の側壁２６には、反射層２７が配置される。側壁２６は、断面視においてテーパ形状である。バンク層２５は、感光性樹脂組成物により塗布膜を形成し、露光、現像、硬化によって形成することができる。バンク層２５には精密なパターンを形成する必要がある。そのため、バンク層２５を形成するための感光性樹脂組成物は、解像性が高く、露光、現像後のパターン形状が、その後の熱処理工程おいても変化しにくい材料が好ましい。このような材料としては、耐熱性の高い樹脂を含む組成物であることが好ましく、例えば環状脂肪族基や芳香族基を含む樹脂、高いガラス転移温度を与えることができる単量体成分を含む樹脂等があげられる。樹脂としては、アクリル系樹脂、シロキサン系樹脂、ポリイミド樹脂、ノボラック樹脂、ポリエーテル系樹脂から選ばれることが好ましい。このような感光性樹脂組成物としては、特許３２４１３９９号公報、特許４２０７６０４号公報、特許４７８４２８３号公報、特許４７８４２８３号公報、特許４６３７２０９号公報、特許４６３７２２１号公報、特許４２３２５２７号公報、特許５１７６７６８号公報等に記載の感光性樹脂組成物を適用することができる。このような材料を用いることで、バンク層２５の硬化時に、現像時に残存するパターンが維持され、精密なパターンを有するバンク層２５を得ることができる。

反射層２７は、第２基板４５側から入射する光を反射する。反射層２７の材料は、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）などの金属である。反射層２７による反射を効率的にする（光取り出し効率を向上させる）ために、バンク層２５の開口部側の側壁２６は、断面視においてテーパ形状となっている。反射層２７は、この開口部の側壁２６に沿った傾斜面と、開口部の底面で露呈するパッシベーションベーション層２３に沿った平面を有する。

バンク層２５には、反射層２７が配置される開口部とは別の開口部がある。この開口部には、配線層２９が形成される。後述の第１透明電極３５が、配線層２９を介してトランジスタ２０に電気的に接続されている。そのため、反射層２７が配置される開口部とは別の開口部は、コンタクトホールといえる。

発色層３３は、反射層２７の上に配置される。発色層３３は、反射層２７の傾斜面及び平面を被覆するように配置される。発色層３３の詳細な構成、材料については後述する。

オーバーコート層３４は、発色層３３、反射層２７の一部及び配線層２９の一部の上に配置される。オーバーコート層３４は、平坦化のために配置される。オーバーコート層３４の材料は、例えば、透明のエポキシアクリレート系など強固な材料である。オーバーコート層３４には、配線層２９を露出するように開口部が設けられている。

第１透明電極３５は、オーバーコート層３４の上、オーバーコート層３４の開口部側の側壁、オーバーコート層３４の開口部によって露出された配線層２９の上に配置される。第１透明電極３５の材料は、例えば、酸化インジウムスズ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ：ＩＴＯ）やＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）である。第１透明電極３５は、いわゆる画素電極である。

ブラックマトリックス・スペーサ（柱状スペーサ）３７は、オーバーコート層３４の開口部がある第１透明電極３５の上に配置される。ブラックマトリックス・スペーサ３７は、ブラックマトリックスとしての機能と、液晶層４６の厚みを制御するスペーサとしての機能を有する。ブラックマトリックス・スペーサ３７の材料としては、公知（例えば、特開２０１４−１４６０２９号公報）の着色感光性樹脂組成物を用いることができる。

第２透明電極４３は、図面において、第２基板４５の下側に配置される。第２透明電極４３の材料は、第１透明電極３５の材料と同じである。第２透明電極４３は、いわゆる共通電極である。

第１配向膜３９は、ブラックマトリックス・スペーサ３７、第１透明電極３５及びオーバーコート層３４の上に配置される。他方、第２配向膜４１は、図面において、第２透明電極４３の下側に配置される。

第１配向膜３９及び第２配向膜４１は、液晶配向剤として、重合体成分として、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリアミック酸エステル、ポリ（メタ）アクリレート及びポリシロキサンよりなる群から選ばれる少なくとも一種の重合体（Ａ）を含み、当該重合体（Ａ）が溶剤に分散又は溶解してなる液状の組成物を用いて形成することができる。当該液晶配向剤は、低温で塗膜を形成する観点で、重合体成分としてポリ（メタ）アクリレートまたはポリシロキサンを含有することが好ましい。なお、本明細書において「ポリ（メタ）アクリレート」は、ポリアクリレート及びポリメタクリレートを含むものとし、（メタ）アクリル系単量体を用いた重合により得られる重合体であることが好ましい。

液晶配向剤中のポリ（メタ）アクリレートの含有割合は、低沸点溶媒を用いた場合の塗工性の改善効果を十分に得るとともに、透明性を十分に高い液晶素子を得る観点から、液晶配向剤の重合体成分の合計量に対して３質量％〜９９質量％であることが好ましい。当該含有割合の下限について、より好ましくは５質量％以上であり、さらに好ましくは２０質量％であり、特に好ましくは５０質量％である。また、上限については、ポリ（メタ）アクリレートとは異なる重合体による各種特性の改善効果を得る場合、より好ましくは９５質量％以下であり、さらに好ましくは９０質量％以下である。なお、ポリ（メタ）アクリレートは、１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

液晶配向剤に用いられるポリアミック酸は、テトラカルボン酸二無水物とジアミンとを反応させることにより得られるものが用いられる。ポリアミック酸の合成反応に供されるテトラカルボン酸二無水物とジアミンとの使用割合は、ジアミンのアミノ基１当量に対して、テトラカルボン酸二無水物の酸無水物基が０．２当量〜２当量となる割合が好ましく、０．３当量〜１．２当量となる割合がより好ましい。

液晶配向剤に用いられるポリイミドは、上記の如くして合成されたポリアミック酸を脱水閉環してイミド化することにより得ることができる。ポリイミドは、その前駆体であるポリアミック酸が有していたアミック酸構造のすべてを脱水閉環した完全イミド化物であってもよく、アミック酸構造の一部のみを脱水閉環し、アミック酸構造とイミド環構造が併存する部分イミド化物であってもよい。液晶配向剤に用いられるポリイミドは、そのイミド化率が３０％以上であることが好ましく、４０％〜９９％であることがより好ましく、５０％〜９９％であることが更に好ましい。このイミド化率は、ポリイミドのアミック酸構造の数とイミド環構造の数との合計に対するイミド環構造の数の占める割合を百分率で表したものである。ここで、イミド環の一部がイソイミド環であってもよい。

液晶配向剤に含有されるポリアミック酸エステルは、例えば、（１）上記合成反応により得られたポリアミック酸と、水酸基含有化合物、ハロゲン化物、エポキシ基含有化合物等とを反応させることにより合成する方法、（２）テトラカルボン酸ジエステルとジアミンとを反応させる方法、（３）テトラカルボン酸ジエステルジハロゲン化物とジアミンとを反応させる方法、によって得ることができる。ポリアミック酸、ポリイミド及びポリアミック酸エステルは、これを濃度１０重量％の溶液としたときに、１０ｍＰａ・ｓ〜８００ｍＰａ・ｓの溶液粘度を持つものであることが好ましく、１５ｍＰａ・ｓ〜５００ｍＰａ・ｓの溶液粘度を持つものであることがより好ましい。なお、上記重合体の溶液粘度（ｍＰａ・ｓ）は、当該重合体の良溶媒（例えばγ−ブチロラクトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなど）を用いて調製した濃度１０重量％の重合体溶液につき、Ｅ型回転粘度計を用いて２５℃において測定した値である。還元粘度は、均一な塗膜を形成することができる範囲であれば特に限定されないが、０．０５ｄｌ／ｇ〜３．０ｄｌ／ｇであることが好ましく、０．１ｄｌ／ｇ〜２．５ｄｌ／ｇであることがより好ましく、０．３ｄｌ／ｇ〜１．５ｄｌ／ｇであることが更に好ましい。

ポリシロキサンは、例えば加水分解性のシラン化合物を加水分解・縮合することにより得ることができる。光配向性基やプレチルト角付与基（例えば、以下に示す垂直配向性基など）等の機能性基を側鎖に有するポリシロキサンを液晶配向剤に含有させてもよい。こうした機能性基を有するポリシロキサンは、例えば、原料の少なくとも一部に、エポキシ基含有の加水分解性シラン化合物を用いた重合により、エポキシ基を側鎖に有するポリシロキサンを合成し、次いでエポキシ基を有するポリシロキサンと、機能性基を有するカルボン酸とを反応させることにより得ることができる。あるいは、機能性基を有する加水分解性のシラン化合物をモノマーに用いた重合による方法を採用してもよい。

液晶配向剤に用いられる有機溶媒の好ましい具体例としては、２−ブタノン、２−ヘキサノン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン及び酢酸ブチル等が挙げられる。有機溶媒は、固形分濃度が５質量％〜５０質量％となる割合で使用することが好ましい。上記反応における反応温度は、好ましくは０℃〜２００℃であり、反応時間は、好ましくは０．１時間〜５０時間である。反応終了後においては、反応液から分取した有機溶媒層を、必要に応じて乾燥剤で乾燥した後、溶媒を除去することにより、機能性基を有するポリシロキサンを得ることができる。

第１配向膜３９及び第２配向膜４１の形成に用いる液晶配向剤は、光配向性基を有する重合体を含有していることが好ましい。ここで、「光配向性基」とは、光照射による光異性化反応や光二量化反応、光分解反応、光フリース転位反応によって膜に異方性を付与する官能基を意味する。光配向性基の具体例としては、例えばアゾベンゼン又はその誘導体を基本骨格として含むアゾベンゼン含有基、桂皮酸又はその誘導体を基本骨格として含む桂皮酸構造含有基、カルコン又はその誘導体を基本骨格として含むカルコン含有基、ベンゾフェノン又はその誘導体を基本骨格として含むベンゾフェノン含有基、クマリン又はその誘導体を基本骨格として含むクマリン含有基、ポリイミド又はその誘導体を基本骨格として含むポリイミド含有構造等が挙げられる。

光配向性基は、ポリ（メタ）アクリレートが有していてもよいが、ポリ（メタ）アクリレートとは異なる重合体が有していても構わない。かかる重合体の主骨格としては、例えば、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミド、ポリシロキサン、ポリアミド等が挙げられる。液晶素子１０の信頼性及び耐候性を確保する観点で、光配向性基を有するポリシロキサンを好ましく用いることができる。

液晶配向剤が、光配向性基を有する重合体と光配向性基を有さない重合体とを含有する場合、光配向性基を有する重合体の含有割合は、液晶配向剤を用いて形成した塗膜に対し放射線照射によって十分な配向能を付与する観点から、液晶配向剤中の重合体成分の合計量に対して、１質量％以上とすることが好ましく、５質量％〜９９質量％とすることがより好ましい。

液晶配向剤に含有される重合体成分は、上述したポリ（メタ）アクリレート及びポリシロキサンに限定されず、その他の重合体を含んでいてもよい。その他の重合体としては、例えば、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリアミック酸エステル、ポリアミド、ポリエステル、セルロース誘導体、ポリアセタール、ポリスチレン誘導体、ポリ（スチレン−フェニルマレイミド）誘導体等が挙げられる。これらのその他の重合体のうち、ポリアミック酸及びポリアミック酸エステルよりなる群から選ばれる少なくとも一種が好ましく、ポリアミック酸がより好ましい。

上記その他の重合体の配合割合は、液晶配向剤中の重合体成分の合計量に対して、２０質量％以下とすることが好ましく、１０質量％以下とすることがより好ましく、５質量％以下とすることがさらに好ましい。なお、その他の重合体は、１種を単独で又は２種以上を併用することができる。

液晶配向剤は、その他の成分として、架橋性基を有する化合物（以下、架橋剤ともいう。）を含有することが好ましい。架橋性基は、光や熱によって同一又は異なる分子間に共有結合を形成可能な基であり、例えば（メタ）アクリロイル基、ビニル基を有する基（アルケニル基、ビニルフェニル基など）、エチニル基、エポキシ基（オキシラニル基、オキセタニル基）、カルボキシル基、（保護）イソシアネート基等が挙げられる。これらの中でも、反応性が高い点で、（メタ）アクリロイル基が特に好ましい。なお、「（メタ）アクリロ」は、アクリロ及びメタクリロを含む意味である。架橋剤が有する架橋性基の数は、１個でも複数個でもよい。液晶素子の信頼性を十分に高くする点で、好ましくは２個以上であり、２個〜６個がより好ましい。

液晶配向剤に含有されるその他の成分としては、例えば、酸化防止剤、金属キレート化合物、硬化促進剤、界面活性剤、充填剤、分散剤、光増感剤などが挙げられる。これらその他の成分の配合割合は、各化合物に応じて適宜選択することができる。

液晶配向剤の調製に使用する有機溶媒は、低温で塗膜を形成する観点で、中でも、沸点が１６０℃以下の化合物を、溶剤の合計量に対して４０質量％以上含むことが好ましく、５０質量％以上含むことがより好ましく、７０質量％以上含むことがさらに好ましい。

液晶配向剤における固形分濃度（液晶配向剤の溶媒以外の成分の合計質量が液晶配向剤の全質量に占める割合）は、粘性、揮発性などを考慮して適宜に選択されるが、好ましくは１質量％〜１０質量％の範囲である。固形分濃度が１質量％未満である場合には、塗膜の膜厚が過小となって良好な液晶配向膜が得にくくなる。一方、固形分濃度が１０質量％を超える場合には、塗膜の膜厚が過大となって良好な液晶配向膜が得にくく、また、液晶配向剤の粘性が増大して塗布性が低下する傾向にある。

上記で調製した液晶配向剤を、第１透明電極３５、オーバーコート層３４及びブラックマトリックス・スペーサ３７上にバーコーターを用いて塗布し、８０℃のホットプレートで１分間プレベークを行った後、庫内を窒素置換した１２０℃のオーブンで２分間加熱（ポストベーク）することにより、平均膜厚０．１μｍの塗膜を形成することができる。そして、作製された塗膜表面に、Ｈｇ−Ｘｅランプ及びグランテーラープリズムを用いて３１３ｎｍの輝線を含む偏光紫外線２０ｍＪ／ｃｍ²を、基板法線から２０°傾いた方向から照射して第１配向膜３９を形成することができる。第２配向膜４１も同様にして作製することができる。

液晶層４６は、第１透明電極３５と第２透明電極４３との間に配置される。液晶層４６は、第１配向膜３９と第２配向膜４１との間に配置される。液晶層４６は、調光機能を有する。後述のとおり、本実施形態では、各発色層は、量子ドットを含む。ところで、量子ドットの励起光に対する発光は、偏光状態を保存しない。言い換えれば、量子ドットに偏光を入射させても発光は無偏光である。したがって、調光機能を有する液晶層４６は、偏光板が不要な液晶層であることが好ましい。具体的には、液晶層４６は、カイラルネマチックタイプ（ポジ型液晶）のゲストホスト型の液晶層である。ゲストホスト型の液晶層であるため、液晶層４６は、液晶分子４７と二色性色素４９とを含む。二色性色素４９は、アゾ系、アントラキノン系、ナフトキノン系、ペリレン系などの二色性色素を用いることができる。

［発色層の構成］
ここで、図２に示す発色層３３の構造は、青色を発色する青色発色層、赤色を発色する赤色発色層、緑色を発色する緑色発色層のすべてに共通する。そのため、図面上は、いずれか一色のサブ画素しか示していない。なお、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の３色一組で一画素である。もっとも、それぞれの発色層は、以下に説明するとおり発色層を構成する物質が異なる。

青色発色層は、この例では、青色ＱＤ（Ｑｕａｎｔｕｍ Ｄｏｔ；量子ドット）、散乱粒子、緑色吸収剤及び赤色吸収剤を含む。青色ＱＤとしては、例えば、ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＲＩＣＨ製の青色ＱＤ（製品ナンバー：７５３７４２、製品名：ＣｄＳｅＳ／ＺｎＳ ａｌｌｏｙｅｄ ｑｕａｎｔｍ ｄｏｔｓ）を用いることができる。また、散乱粒子としては、デンカ株式会社製の球状アルミナ（製品名：ＤＡＭ−０３、ＤＡＭ−０７）、株式会社日本触媒性シリカ粒子（製品名：ＫＥ−Ｐ２５０、ＭＭ−Ｐ）、東ソー株式会社製ジルコニア粒子（製品名：ＴＺ−３ＹＳ−Ｅ）、堺化学工業株式会社製チタニア粒子（製品名：Ｒ−３８Ｌ）などを用いることができる。緑色吸収剤としては、山田化学株式会社製可視光吸収剤（製品名：ＦＤＧ−０２、吸収波長：５２５ｎｍ）や色素タンパクであるフィコエリトリンを用いることができる。赤色吸収剤としては、色素タンパクであるフィコシアニンなどを用いることができる。

緑色発色層は、この例では、緑色ＱＤ、散乱粒子及び赤色吸収剤を含む。緑色ＱＤとしては、例えば、ＮＮ−ラボズ社製の緑色ＱＤ（製品名：ＣＺ５２０−１００）、ＮＡＮＯＣＯ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＩＥＳ製のＱＤ（製品名：ＧＲＥＥＮ−ＣＦＱＤ−Ｇ３−５２５）、ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＲＩＣＨ製の緑色ＱＤ（製品ナンバー：７５３８３１、製品名：ＣｄＳｅＳ／ＺｎＳ ａｌｌｏｙｅｄ ｑｕａｎｔｍ ｄｏｔｓ）、ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＲＩＣＨ製の緑色ＱＤ（製品ナンバー：７７６７５０、製品名：ＩｎＰ／ＺｎＳ ｑｕａｎｔｕｍ ｄｏｔｓ）などを用いることができる。散乱粒子としては、青色発色層で用いることができる散乱粒子と同じ散乱粒子を用いることができる。

赤色発色層は、赤色ＱＤ及び散乱粒子を含む。赤色ＱＤとしては、ＮＮ−ラボズ社製の赤色ＱＤ（製品名：ＣＺ６２０−１００）、ＮＡＮＯＣＯ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＩＥＳ製のＱＤ（製品名：ＲＥＤ−ＣＦＱＤ−Ｇ２−６０４）、ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＲＩＣＨ製の赤色ＱＤ（製品ナンバー：７５３８８２、製品名：ＣｄＳｅｓ／ＺｎＳ ａｌｌｏｙｅｄ ｑｕａｎｔｍ ｄｏｔｓ）、ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＲＩＣＨ製の赤色ＱＤ（製品ナンバー：７７６７７７、製品名：ＩｎＰ／ＺｎＳ ｑｕａｎｔｕｍ ｄｏｔｓ）などである。散乱粒子としては、青色発色で用いることができる散乱粒子と同じ散乱粒子を用いることができる。

第２基板４５側から入射する入射光Ｌ_iの色と、第２基板４５側から出射される出射光Ｌ_oの色とは、互いに異なる。言い換えれば、第２基板４５側から入射する入射光Ｌ_iに含まれる波長成分と、第２基板４５側から出射される出射光Ｌ_oに含まれる波長成分とは、互いに異なる。この例では、入射光Ｌ_iの色は、白色である。他方、出射光Ｌ_oの色は、青色発色層を通過して第２基板４５側から出射される場合は、青色で、緑色発色層を通過して第２基板４５側から出射される場合は、緑色で、赤色発色層を通過して第２基板４５側から出射される場合は、赤色である。

本実施形態では、従来技術よりもスペクトルの半値幅が狭くなるため、色純度が高くなる。したがって、本実施形態では、より表示品位の優れた表示装置を提供することができる。

本実施形態では、各発色層に散乱粒子を含む。そのため、色の視角依存性を低減させることが可能になる。また、各ＱＤからの発光は、全方位になる。そのため、散乱粒子がなければ、全反射して表示装置内部に閉じ込められてしまう光もあるところ、散乱粒子があることによって、これを防ぐことができる。また、本実施形態では、液晶層４６は、カイラルネマチックタイプ（ポジ型液晶）のゲストホスト型の液晶層である。そのため、偏光板を要することなく、調光機能を実現することが可能である。

本実施形態では、表示装置１は、反射層２７に加えて、薄膜トランジスタ２０を有する。そのため、電子書籍や電子教科書などの電子ペーパー、屋外用途のデジタルサイネージに適用することが可能になる。

［表示装置の製造方法］
次に、図３から図１０を用いて、本発明の一実施形態に係る表示装置の製造方法について説明する。図３から図１０は、それぞれ本発明の一実施形態に係る表示装置の製造方法の一工程を説明するための模式的な断面図である。

まず、マザーガラス基板（第１基板）１１を洗浄した後、金属膜をスパッタリングで第１基板１１全体に堆積する。次に、リソグラフィー技術を用いて、図３に示すようなゲート電極１３と蓄積容量電極（図示せず）をパターン形成する。次に、図４に示すように、ゲート絶縁膜１５を化学気相成長（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ：ＣＶＤ）法で、第１基板１１全面に形成する。さらに、不純物をドープした半導体層１７を堆積し、Ａｌなどの金属膜を形成する。そして、リソグラフィー技術を用いて、所望の領域をパターン形成して、ソースドレイン電極１９及び２１を形成する。続いて、ＣＶＤを用いて、パッシベーション層２３を第１基板１１全面、つまり、ゲート絶縁膜１５、ソースドレイン電極１９及び２１、半導体層１７の上に形成する。

次に、感光性樹脂組成物を湿式成膜法を用いて塗布膜形成したのち、フォトマスクを介して露光を行う。以下、感光性樹組成物はポジ型であるとして説明を行う。フォトマスクとして、いわゆるハーフトーンマスクやグレートーンマスクと呼ばれる多諧調マスクを使用することが好ましい。露光部が現像で除去され、未露光部に残った塗布膜を硬化することで、バンク層を形成する。硬化温度は１２０℃から２５０℃の範囲で行うのが好ましい。バンク層の所望の領域にパッシベーション層２３を露出するように開口部を形成し、バンク層２５を形成する。さらに、ソースドレイン電極２１の一部を露出するために、所望の領域のパッシベーション層２３をエッチングして、コンタクトホールを形成する。続いて、第１基板１１の全面、つまり、バンク層２５（側壁２６を含む）、パッシベーション層２３、ソースドレイン電極２１の上に、銀やアルミニウムの金属膜を形成し、不要な部分を選択的にエッチングすることによって、反射層２７及び配線層２９を形成する（図５）。

次に、図６に示すように、反射層２７の上で、バンク層２５の開口部に発色層３３を形成する。ところで、発色層３３は、青色発色層、赤色発色層、緑色発色層を含む。各発色層は、各ＱＤを含む。そして、各ＱＤの組成物の調製は、以下のとおりである。すなわち、まず、以下の重合体を合成する。具体的には、冷却管と撹拌機を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０質量部を仕込んで窒素置換する。そして、８０℃に加熱して、同温度で、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５０質量部、２−メタクリロイロキシエチルコハク酸３０質量部、ベンジンメタクリレート１０質量部、２−エチルヘキシルメタクリレート６０質量部および２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）６質量部の混合溶液を２時間かけて滴下し、この温度を保持して１時間重合する。その後、反応溶液の温度を９０℃に昇温させ、さらに１時間重合することにより、重合体を得る。重合体は、重合体溶液（固形分濃度＝３３質量％）の状態で得られる。

この重合体溶液９０質量部にメチルシクロヘキサン４０質量部を加えて溶解させた後、ＱＤを１０質量部混合して均一な溶液を作成する。例えば、上記の青色発色層の場合には、重合体溶液９０質量部にメチルシクロヘキサン４０質量部を加えて溶解させた後、青色ＱＤを１０質量部混合して均一な溶液を作成し、その後、散乱粒子、赤色吸収剤、緑色吸収剤の順に混合する。この混合溶液に、１，２−オクタンジオン−１−［４−（フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（ＢＳＦジャパン社製 イルガキュア（登録商標）ＯＸＥ０１）１０質量部、１，９−ノナンジオールジアクリレート７０質量部を混合し、ＱＤを含む組成物を調製する。調製した各ＱＤを含む組成物を、反射層２７の上で、バンク層２５の開口部に塗布することによって、発色層３３を形成する。

次に、図７に示すように、第１基板１１の全面にオーバーコート層３４を形成し、配線層２９の一部を露出するように、オーバーコート層３４の一部をエッチングする。次に、図８に示すように、オーバーコート層３４の一部及び配線層２９の一部に第１透明電極３５を形成する。第１透明電極３５の形成方法は、公知の直流スパッタリング法、高周波スパッタリング法、プラズマイオンプレーティング法などのうちのいずれかである。続いて、公知（例えば、特開２０１４−１４６０２９号公報）の方法によって、ブラックマトリックス・スペーサ３７を形成する。

次に、図９に示すように、第１基板１１の全面、つまり、オーバーコート層３４の一部、第１透明電極３５の一部及びブラックマトリックス・スペーサ３７の上に、第１配向膜３９を形成する。具体的には、前述の第１配向膜３９を形成するための材料を、第１基板１１に塗布し、焼成して所望の膜厚を得ることによって第１配向膜３９を形成する。なお、この例では、第１配向膜３９は、水平配向膜である。また、第１配向膜３９の焼成温度は、発色層３３に含まれる量子ドットの耐熱性を考慮して、低い方が好ましい。当該焼成温度は、１８０℃以下が望ましく、１６０℃以下がさらに望ましい。より望ましくは、第１配向膜３９の焼成温度は、１４０℃以下である。

第１配向膜３９を形成した後に、液晶分子４７と二色性色素４９を一定方向に配列させるために、ラビング処理をする。なお、ラビング方向は、液晶分子４７及び二色性色素４９の配向ねじれが１８０°から３６０°程度になる方位が望ましい。

続いて、別途製造した対向基板（第２基板４５に第２透明電極４３、第２配向膜４１を順に積層したもの）を、第１基板１１側に、つまり、ブラックマトリックス・スペーサ３７上に配置する。具体的には、あらかじめ正の誘電異方性を有する液晶（ポジ液晶）に、二色性色素４９、自発的なねじれを誘起するカイラル材を適量添加した液晶材を用意する。そして、当該液晶材を第１基板１１の表示エリア内にディスペンサにて所定量を滴下する。対向基板の表示エリア外にシールを描画する。なお、接着強度の観点から望ましくは第２配向膜４１が無い部分に描画する。ただし、表示エリア外の第２配向膜４１が存在する部分にシールを描画して、表示装置の額縁幅を狭くすることも可能である。そして、第１基板１１と対向基板の両基板をチャンバー内を真空にして、位置合わせをした後、貼りわせる。次に、シール部に紫外線を照射して硬化させる。さらに、常圧にしてオーブン内で１３０℃に加熱し、シールを十分に硬化させる。

＜第１実施形態の変形例＞
以上の実施形態においては、青色発色層は、青色ＱＤ、散乱粒子、緑色吸収剤及び赤色吸収剤を含むこと、緑色発色層は、緑色ＱＤ、散乱粒子、赤色吸収剤を含むこと、赤色発色層は、赤色ＱＤ及び散乱粒子を含むことを前提に説明した。もっとも、各発色層は、これに限定されるものではない。以上の実施形態と異なり、例えば、青色発色層は、青色ＱＤを含まず、散乱粒子、緑色吸収剤及び赤色吸収剤を含むものであってもよい。緑色発色層は、散乱粒子を含まず、緑色ＱＤ及び赤色吸収剤を含むものであってもよい。赤色発色層は、散乱粒子を含まず、赤色ＱＤを含むものであってもよい。

なお、第１実施形態の各発色層と本変形例における各発色層を組み合わせてもよい。例えば、青色発色層は、第１実施形態のように、青色ＱＤ、散乱粒子、緑色吸収剤及び赤色吸収剤を含み、他方、緑色発色層は、本変形例のように、散乱粒子を含まず、緑色ＱＤ及び赤色吸収剤を含み、赤色発色層は、本変形例のように、散乱粒子を含まず、赤色ＱＤを含むものであってもよい。各発色層の組み合わせは適宜に変更可能である。

＜第２実施形態＞
図１１を用いて、本発明の他の実施形態に係る表示装置について説明する。本実施形態の表示装置は、第１実施形態の表示装置と概ね同じである。そこで、異なる点について詳細に説明し、重複する箇所については、説明を省略する。

第２実施形態の表示装置は、第１実施形態の表示装置と異なり、散乱層３１を有する。この例では、図１１に示すように、散乱層３１は、反射層２７と発色層３３との間に配置される。散乱層３１は、散乱層３１に入射した光を散乱する機能を有する。

また、本実施形態では、発色層３３も第１実施形態の発色層３３とは異なる。具体的には、本実施形態では、青色発色層は、青色ＱＤを含むが、緑色吸収剤と赤色吸収剤は含まない。同様に、本実施形態の緑色発色層は、緑色ＱＤを含むが、赤色吸収剤は含まない。その代わり、本実施形態の青色発色層の下側に配置される散乱層３１は、緑色吸収剤及び赤色吸収剤を含む。また、本実施形態の緑色発色層の下側に配置される散乱層３１は、赤色吸収剤を含む。つまり、本実施形態は、第１実施形態における発色層３３において、散乱粒子濃度や吸収剤の濃度が単一層にするには高くなりすぎた場合に、これらを分離して別の層（散乱層３１）を設けたものである。本実施形態でも、第１実施形態と同様の効果を奏する。

＜第２実施形態の変形例＞
以上の第２実施形態では、青色発色層は、散乱粒子を含まず、青色ＱＤを含むこと、緑色発色層は、散乱粒子を含まず、緑色ＱＤを含むこと、赤色発色層は、散乱粒子を含まず、赤色ＱＤを含むことを前提に説明した。もっとも、各発色層は、これに限定されるものではない。各発色層に散乱粒子を含んでもよい。なお、この場合の散乱粒子の濃度は、各発色層が単一層として成り立ちうる範囲の濃度である。本変形例においても、第２実施形態と同様の効果を奏する。さらに、本変形例においては、各発色層にさらに散乱粒子を含むことによって、第２実施形態よりもさらに光が散乱され、色の視覚依存性をより低減することが可能になる。

＜第３実施形態＞
第３実施形態の表示装置は、第１実施形態の表示装置と異なり、散乱層３１を有する。この例では、第２実施形態（図１１参照）と同様に、散乱層３１は、反射層２７と発色層３３との間に配置される。散乱層３１は、散乱層３１に入射した光を散乱する機能を有する。

また、本実施形態では、発色層３３も第１実施形態の発色層３３とは異なる。具体的には、本実施形態では、各色発色層は、各色ＱＤを含むが、色吸収剤は含まない。また本実施形態の発色層の下側に配置される散乱層３１は、発色層により発色される色以外の光を吸収する色吸収剤を含む。具体的には、本実施形態の青色発色層の下側に配置される散乱層３１は、緑色吸収剤及び赤色吸収剤を含む。緑色発色層の下側に配置される散乱層３１は、青色吸収剤及び赤色吸収剤を含む。赤色発色層の下側に配置される散乱層３１は、青色吸収剤及び緑色吸収剤を含む。なお、赤色吸収剤ならびに緑色吸収剤については、第１実施形態の説明において説明した化合物が好適に用いられる。そして、青色吸収剤については、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １５０、同２１３、同２１５、同１８５、同１３８、同１３９、Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ ２１、同８２、同８３：１、同３３、同１６２からなる群より選ばれる少なくとも１種の黄色有機染顔料が好適に用いられる。つまり、本実施形態は、第１実施形態における発色層３３において、各色のＱＤが吸収しなかった青色光及び緑色光を下層の散乱層３１で吸収することによりそれらの光が再び画素から射出されることを防ぎ、各画素の色純度が低下することを防ぐ効果を奏する。また同時に第１実施形態における発色層３３において、散乱粒子濃度や吸収剤の濃度が単一層にするには高くなりすぎた場合に、これらを分離して別の層（散乱層３１）を設けたものであり、本実施形態でも、第１実施形態と同様の効果を奏する。

＜第３実施形態の変形例＞
以上の第３実施形態では、青色発色層は、散乱粒子を含まず、青色ＱＤを含むこと、緑色発色層は、散乱粒子を含まず、緑色ＱＤを含むこと、赤色発色層は、散乱粒子を含まず、赤色ＱＤを含むことを前提に説明した。もっとも、各発色層は、これに限定されるものではない。各発色層に散乱粒子を含んでもよい。なお、この場合の散乱粒子の濃度は、各発色層が単一層として成り立ちうる範囲の濃度である。本変形例においても、第３実施形態と同様の効果を奏する。さらに、本変形例においては、各発色層にさらに散乱粒子を含むことによって、第３実施形態よりもさらに光が散乱され、色の視覚依存性をより低減することが可能になる。

＜両実施形態に共通の変形例１＞
以上の実施形態及び変形例においては、調製した各ＱＤを含む組成物を、反射層２７の上で、バンク層２５の開口部に塗布することによって発色層３３を形成すると説明をした。もっとも、発色層３３の形成方法は、これに限定されるものではない。例えば、インクジェットによって塗布することによって、発色層３３を形成してもよい。インクジェット用組成物としては、公知（例えば、特開２０１０−９９９５号公報、特開２００９−７６２８２号公報など）のＱＤ組成物を用いることができる。本変形例においても、以上の実施形態と同様の効果を奏する。

＜両実施形態に共通の変形例２＞
以上の実施形態及び変形例においては、ゲストホスト型の液晶層４６がカイラルネマチックタイプ（ポジ型液晶）の液晶層であることを前提に説明した。もっとも、ゲストホスト型の液晶層４６は、これに限定されるものではない。以下に詳細に説明する、カイラルネマチックタイプ（ネガ型液晶）、相転移ゲストホストモード、高分子分散型及び高分子安定型コレステリックブルー相であってもよい。なお、以下の説明では、カイラルネマチックタイプ（ポジ型液晶）を用いたゲストホスト型の液晶層４６と相違する点のみを詳細に説明し、重複する部分については、詳細な説明を省略する。

［カイラルネマチックタイプ（ネガ型液晶）］
カイラルネマチックタイプ（ネガ型液晶）の場合、準備する液晶が、負の誘電異方性を有する液晶（ネガ型液晶）である。例えば、メルク株式会社製のＭＬＣ−６６０９を用いることができる。また、用いる配向膜は、垂直配向膜である。本変形例においても、以上の実施形態と同じ効果を奏する。また、カイラルネマチックタイプ（ネガ型液晶）は、電圧オフで白表示、電圧オンで黒表示（ノーマリホワイト）である。電子書籍や電子タグの用途では、白表示の領域が支配的になることが多いため、より消費電力化を可能にし、焼き付きや信頼性の観点から優位になる。

［相転移ゲストホストモード］
カイラルネマチックタイプ（ポジ型液晶）の場合よりもカイラル材の添加量を増加させる。具体的には、カイラル材の添加量を１０％以上にして、コレステリック層を誘発させる。本変形例においても、以上の実施形態と同じ効果を奏する。また、本変形例の場合、駆動波形によりプレーナー、フォーカルコニック、ホメオトロピックの安定配向状態を存在させることができるため、表示保持特性（メモリ性）を有する。そのため、アクティブマトリクスを用いず、単純マトリクスやセグメント駆動による表示を可能にする。また、メモリ性は、消費電力を重視する電子書籍や電子タグの用途に適している。

［高分子分散型］
高分子分散型液晶（Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｄｉｓｐｅｒｓｅｄ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ；ＰＤＬＣ）の場合、カイラルネマチックタイプ（ポジ型液晶）の場合よりもカイラル材の添加量を増加させ、さらに重合性モノマーも添加し、液晶封入後に紫外線照射する。例えば、液晶としてメルク株式会社製の「ＢＬ００７」（商品名）を９０ｗｔ％、カイラル成分としてメルク株式会社製の「ＣＢ１５」（商品名）を３ｗｔ％、高分子前駆体としてビフェニルメタクリレートを７ｗｔ％混合してなる溶液を作成し、この溶液を基板間ギャップが５ミクロン程度の空セル内に注入し、封止してから、紫外線を照射して液晶中に高分子粒子を相分離させる。本変形例においても、以上の実施形態と同じ効果を奏する。また、配向方位の依存性がほとんどないため、製造時の配向不良による歩留まり低下がない。

［高分子安定型コレステリックブルー相］
この場合、カイラルネマチックタイプ（ポジ型液晶）の場合よりもカイラル材の添加量を増加させ、さらに重合性モノマーも添加し、液晶封入後に紫外線照射する。ただし、紫外線照射は、コレステリックブルー相の温度域で実施する。例えば、「ＪＣ−１０１４ＸＸ」（商品名、チッソ株式会社製のネマティック液晶混合体）、４−シアノ−４’−ペンチルビフェニル（ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＲＩＣＨ社製）、カイラルドーパント（メルク株式会社製の「ＺＬＩ−４５７２」（商品名））を、各々、５０．０重量％、３８．５重量％、１１．１重量％の割合で混合してなる混合物を準備する。この混合物を８７．１重量％、ＴＭＰＴＡ（ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｏｌｐｒｏｐａｎｅ ｔｒｉａｃｒｙｌａｔｅ、ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＲＩＣＨ社製）を５．４重量％、ＲＭ２５７を７．１重量％、ＤＭＰＡ（２，２−ｄｉｍｅｔｈｏｘｙ−２−ｐｈｅｎｙｌ−ａｃｅｔｏｐｈｅｎｏｎｅ）を０．４重量％の割合で混合し、コレステリック−コレステリックブルー相転移温度近傍においてコレステリックブルー相に保ちながら紫外線を照射して、光反応性モノマーを重合する。本変形例においても、以上の実施形態と同じ効果を奏する。また、配向方位の依存性がほとんどないため、製造時の配向不良による歩留まり低下がない。

＜両実施形態に共通の変形例２＞
以上の実施形態及び変形例においては、トランジスタ層があること、すなわち、アクティブマトリックス駆動方式を前提として説明した。もっとも、駆動方式は、これに限定されるものではなく、目的に応じて適宜に変更することが可能である。例えば、安価な表示装置を提供するために、公知の単純マトリックス方式を用いてもよい。また、公知のセグメント駆動方式を用いてもよい。これによって、従来は単色表示であった電子タグを高品位なカラー電子タグにすることが可能になる。さらに、以上の実施形態及び変形例においては、トランジスタは、いわゆる逆スタガ型であることを前提に説明した。もっとも、これに限定されるものではなく、スタガ型であってもよい。本変形によれば、第１実施形態と同様の効果を奏する。

なお、本発明は上記の実施形態に限られたものではなく、趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更することが可能である。

１：表示装置 １１：第１基板 １５：ゲート絶縁膜
２０：薄膜トランジスタ ２３：パッシベーション層 ２５：バンク層
２７：反射層 ２９：配線層 ３３：発色層 ３４：オーバーコート層
３５：第１透明電極 ３７：ブラックマトリックス・スペーサ
３９：第１配向膜 ４１：第２配向膜 ４３：第２透明電極 ４５：第２基板
４６：液晶層

Claims (13)

1. 第１基板と、
   前記第１基板に対向して配置された第２基板と、
   前記第１基板と前記第２基板との間の前記第１基板側に配置される第１透明電極と、
   前記第１基板と前記第２基板との間の前記第２基板側に配置される第２透明電極と、
   前記第１基板と前記第１透明電極との間の反射層と、
   前記第１透明電極と前記第２透明電極との間に配置され、調光機能を有する液晶層と、
   前記第１透明電極と前記反射層との間に配置される発色層と、
   を有し、
   前記第２基板側から入射する入射光の色と、前記反射層で反射され前記第２基板側から出射される出射光の色とは、互いに異なる、表示装置。
2. 前記液晶層は、液晶分子と二色性色素とを含むゲストホスト型の液晶層であることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
3. 前記ゲストホスト型の液晶層は、ハイルマイヤー型の液晶層、カイラル成分を含む垂直配向型の液晶層、コレステリックブルー相を有する液晶層及び高分子分散型の液晶層のうちの一つであることを特徴とする請求項２に記載の表示装置。
4. 前記発色層は、量子ドットを含むことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
5. 前記反射層と前記発色層との間に配置され、入射した光を散乱する散乱層をさらに備えることを特徴とする請求項４に記載の表示装置。
6. 前記発色層は、青色発色層、赤色発色層及び緑色発色層を含み、
   前記青色発色層は、青色量子ドットを含み、
   前記赤色発色層は、赤色量子ドットを含み、
   前記緑色発色層は、緑色量子ドットを含み、
   前記青色発色層と前記反射層との間の前記散乱層は、緑色吸収剤及び赤色吸収剤を含み、
   前記赤色発色層と前記反射層との間の前記散乱層は、青色吸収剤及び緑色吸収剤を含み、
   前記緑色発色層と前記反射層との間の前記散乱層は、青色吸収剤及び緑色吸収剤を含むことを特徴とする請求項５に記載の表示装置。
7. 前記青色吸収剤は、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １５０、同２１３、同２１５、同１８５、同１３８、同１３９、Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ ２１、同８２、同８３：１、同３３、同１６２からなる群より選ばれる少なくとも１種の黄色有機染顔料であることを特徴とする請求項６に記載の表示装置。
8. 前記発色層は、青色発色層、赤色発色層及び緑色発色層を含むことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
9. 前記赤色発色層は、量子ドットを含み、
   前記緑色発色層は、量子ドット及び赤色吸収剤を含み、
   前記青色発色層は、緑色吸収剤及び赤色吸収剤を含むことを特徴とする請求項８に記載の表示装置。
10. 前記青色発色層は、散乱粒子をさらに含むことを特徴とする請求項８に記載の表示装置。
11. 前記赤色発色層及び前記緑色発色層は、それぞれ散乱粒子をさらに含むことを特徴とする請求項１０に記載の表示装置。
12. 前記第１基板と前記液晶層との間に配置され、開口部を有するバンク層をさらに備え、
    前記反射層は、前記バンク層の前記開口部側の側壁に配置されることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
13. 前記側壁は、断面視においてテーパ形状であることを特徴とする請求項１２に記載の表示装置。

Images