JP2019019303A - Resin composition and optical compensation film using the same - Google Patents

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To provide a resin composition suitable for an optical compensation film, and an optical compensation film excellent in phase difference characteristics using the same.SOLUTION: The resin composition comprises: a resin with a residue unit represented by general formula (1) in the figure; and a resin with positive intrinsic birefringence.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、樹脂組成物およびそれを用いた光学補償フィルムに関するものであり、より詳しくは、位相差特性に優れた液晶ディスプレイ用の光学補償フィルムに関するものである。   The present invention relates to a resin composition and an optical compensation film using the same, and more particularly to an optical compensation film for a liquid crystal display excellent in retardation characteristics.

液晶ディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、携帯電話、コンピューター用モニター、ノートパソコン、テレビまで幅広く使用されている。液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられている。特に光学補償フィルムは、正面や斜めから見た場合のコントラスト向上、色調の補償など大きな役割を果たしている。   Liquid crystal displays are widely used as the most important display devices in the multimedia society, including cellular phones, computer monitors, laptop computers, and televisions. Many optical films are used in liquid crystal displays to improve display characteristics. In particular, the optical compensation film plays a major role in improving contrast and compensating for color tone when viewed from the front or obliquely.

液晶ディスプレイには、垂直配向型(VA−LCD)、面内配向型液晶(IPS−LCD)、スーパーツイストネマチック型液晶(STN−LCD)、反射型液晶ディスプレイ、半透過型液晶ディスプレイなどの多くの方式が有り、ディスプレイにあわせた光学補償フィルムが必要となっている。   There are many liquid crystal displays such as vertical alignment type (VA-LCD), in-plane alignment type liquid crystal (IPS-LCD), super twist nematic type liquid crystal (STN-LCD), reflection type liquid crystal display, and transflective type liquid crystal display. There is a method, and an optical compensation film suitable for the display is required.

従来の光学補償フィルムとしては、セルロース系樹脂、ポリカーボネートや環状ポリオレフィンなどの延伸フィルムが用いられている。特にトリアセチルセルロースフィルムなどのセルロース系樹脂からなるフィルムは、偏光子であるポリビニルアルコールとの接着性も良好なことから幅広く使用されている。   As a conventional optical compensation film, a stretched film made of cellulose resin, polycarbonate, cyclic polyolefin, or the like is used. In particular, a film made of a cellulose-based resin such as a triacetyl cellulose film is widely used because it has good adhesion to polyvinyl alcohol as a polarizer.

しかしながら、セルロース系樹脂からなる光学補償フィルムはいくつかの課題がある。例えば、セルロース系樹脂フィルムは延伸条件を調整することで各種ディスプレイにあわせた位相差値を持つ光学補償フィルムに加工されるが、セルロース系樹脂フィルムの一軸または二軸延伸により得られるフィルムの3次元屈折率は、nx≧ny>nzであり、それ以外の3次元屈折率、例えば、nx>nz>nyや、nx=nz>nyなどの3次元屈折率を有する光学補償フィルムを製造するためには、フィルムの片面または両面に熱収縮性フィルムを接着し、その積層体を加熱延伸処理して、高分子フィルムの厚み方向に収縮力をかけるなど特殊な延伸方法が必要であり、屈折率(位相差値)の制御も困難である(例えば、特許文献1〜3参照)。   However, an optical compensation film made of a cellulose resin has several problems. For example, a cellulose resin film is processed into an optical compensation film having retardation values suitable for various displays by adjusting stretching conditions, but the three-dimensional film obtained by uniaxial or biaxial stretching of the cellulose resin film. In order to produce an optical compensation film having a refractive index of nx ≧ ny> nz and other three-dimensional refractive indexes, for example, a three-dimensional refractive index such as nx> nz> ny or nx = nz> ny. Requires a special stretching method such as bonding a heat-shrinkable film to one or both sides of the film, heat-stretching the laminate, and applying a shrinkage force in the thickness direction of the polymer film, and a refractive index ( It is also difficult to control the phase difference value (see, for example, Patent Documents 1 to 3).

ここで、nxはフィルム面内の延伸軸方向の屈折率を示し、nyはフィルム面内の延伸軸に直交する方向の屈折率を示し、nzはフィルム面外(厚み方向)の屈折率を示す。   Here, nx represents the refractive index in the direction of the stretching axis in the film plane, ny represents the refractive index in the direction perpendicular to the stretching axis in the film plane, and nz represents the refractive index outside the film plane (thickness direction). .

また、セルロース系樹脂フィルムは一般に溶剤キャスト法により製造されるが、キャスト法により成膜したセルロース系樹脂フィルムはフィルム厚み方向に40nm程度の面外位相差(Rth)を有するため、IPSモードの液晶ディスプレイなどではカラーシフトが起こるなどの問題がある。ここで、面外位相差(Rth)は以下の式で示される位相差値である。   Cellulosic resin films are generally produced by a solvent casting method. Since a cellulose resin film formed by a casting method has an out-of-plane retardation (Rth) of about 40 nm in the film thickness direction, IPS mode liquid crystal There are problems such as color shift in displays. Here, the out-of-plane phase difference (Rth) is a phase difference value represented by the following equation.

Rth=[(nx+ny)/2−nz]×d
(式中、nxはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、nyはフィルム面内の延伸軸に直交する方向の屈折率、nzはフィルム面外(厚み方向)の屈折率を示し、dはフィルム厚みを示す。)
また、フマル酸エステル系樹脂からなる位相差フィルムが提案されている(例えば、特許文献4参照)。
Rth = [(nx + ny) / 2−nz] × d
(Where nx is the refractive index in the slow axis direction in the film plane, ny is the refractive index in the direction perpendicular to the stretching axis in the film plane, nz is the refractive index outside the film plane (thickness direction), d Indicates film thickness.)
Moreover, the retardation film which consists of a fumarate-type resin is proposed (for example, refer patent document 4).

しかしながら、フマル酸エステル系樹脂からなる延伸フィルムの3次元屈折率は、nz>ny>nxであり、nx>nz>nyや、nx=nz>nyなどの3次元屈折率を示す光学補償フィルムを得るためには他の光学補償フィルム等との積層などが必要である。   However, the stretched film made of a fumarate ester resin has a three-dimensional refractive index of nz> ny> nx, and an optical compensation film having a three-dimensional refractive index such as nx> nz> ny or nx = nz> ny. In order to obtain it, lamination with another optical compensation film or the like is necessary.

特許2818983号公報Japanese Patent No. 2818983 特開平5−297223号公報JP-A-5-297223 特開平5−323120号公報JP-A-5-323120 特開2008−64817号公報JP 2008-64817 A

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、光学補償フィルムに適する樹脂組成物およびそれを用いた位相差特性に優れた光学補償フィルムを提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a resin composition suitable for an optical compensation film and an optical compensation film having excellent retardation characteristics using the resin composition.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムが、上記課題を解決することを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、下記一般式(1)で示される残基単位を有する樹脂および正の固有複屈折を有する樹脂を含有することを特徴とする樹脂組成物およびそれを用いた光学補償フィルムに関するものである。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that an optical compensation film using a specific resin composition can solve the above problems, and have completed the present invention. That is, the present invention relates to a resin composition comprising a resin having a residue unit represented by the following general formula (1) and a resin having positive intrinsic birefringence, and an optical compensation film using the resin composition Is.

Figure 2019019303
(1)
Figure 2019019303
(1)

(ここで、R、Rはそれぞれ独立して水素(ただし、R、Rが共に水素である場合を除く。)、シアノ基、エステル基(−C(=O)OX)、アミド基(−C(=O)N(X)(X)または−NXC(=O)X)、またはアシル基(−C(=O)X)(ここで、X〜Xはそれぞれ独立して炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜14の環状基を示す。)を示す。R〜Rはそれぞれ独立して水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、炭素数3〜14の環状基、ハロゲン、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、スルホン酸基、アルコキシ基(−OX)、エステル基(−C(=O)OX)、スルホニル基(−SOOX)、アミド基(−C(=O)N(X10)(X11)または−NX12C(=O)X13)、アシル基(−C(=O)X14)、アミノ基(−N(X15)(X16))、またはアシルオキシ基(−OC(=O)X17)(ここで、X〜Xは、それぞれ独立して炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜14の環状基を示し、X10〜X17はそれぞれ独立して水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜14の環状基を示す。)を示す。また、R〜Rは隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。)
本発明の樹脂組成物は、一般式(1)で示される残基単位を有する樹脂および正の固有複屈折を有する樹脂を含有することを特徴とする樹脂組成物である。そして、本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムは、特定の位相差特性を示すことから、液晶ディスプレイ用光学補償フィルムや反射防止用フィルムとして有用である。
(Here, R 1 and R 2 are each independently hydrogen (except when R 1 and R 2 are both hydrogen), a cyano group, an ester group (—C (═O) OX 1 ), An amide group (—C (═O) N (X 2 ) (X 3 ) or —NX 4 C (═O) X 5 ), or an acyl group (—C (═O) X 6 ) (where X 1 ˜X 6 each independently represents a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms. R 7 is independently hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms, a halogen, a hydroxy group, a carboxy group, or a nitro group. Group, cyano group, thiol group, sulfonic acid group, alkoxy group (—OX 7 ), ester group (—C (= O) OX 8 ), sulfonyl group (—SOOX 9 ), amide group (—C (═O) N (X 10 ) (X 11 ) or —NX 12 C (═O) X 13 ), acyl group (—C (═O) X 14 ), an amino group (—N (X 15 ) (X 16 )), or an acyloxy group (—OC (═O) X 17 ) (where X 7 to X 9 are each independently A linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms, and X 10 to X 17 are each independently hydrogen, carbon number A linear alkyl group having 1 to 12, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms.) And R 3 to R 7 are adjacent substituents. And a condensed ring structure may be formed.
The resin composition of the present invention is a resin composition comprising a resin having a residue unit represented by the general formula (1) and a resin having positive intrinsic birefringence. And since the optical compensation film using the resin composition of this invention shows a specific phase difference characteristic, it is useful as an optical compensation film for liquid crystal displays or an antireflection film.

以下、本発明について詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明の樹脂組成物は、一般式(1)で示される残基単位を有する樹脂および正の固有複屈折を有する樹脂を含む。   The resin composition of the present invention includes a resin having a residue unit represented by the general formula (1) and a resin having positive intrinsic birefringence.

本発明の一般式(1)におけるR、Rはそれぞれ独立して水素(ただし、R、Rが共に水素である場合を除く。)、シアノ基、エステル基(−C(=O)OX)、アミド基(−C(=O)N(X)(X)または−NXC(=O)X)、またはアシル基(−C(=O)X)(ここで、X〜Xはそれぞれ独立して炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜14の環状基を示す。)を示す。 In the general formula (1) of the present invention, R 1 and R 2 are each independently hydrogen (except when R 1 and R 2 are both hydrogen), a cyano group, an ester group (—C (═O ) OX 1 ), an amide group (—C (═O) N (X 2 ) (X 3 ) or —NX 4 C (═O) X 5 ), or an acyl group (—C (═O) X 6 ) ( Here, X 1 to X 6 each independently represent a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms. Show.

〜Xにおける炭素数1〜12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数1〜12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、炭素数3〜14の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。 Examples of the linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in X 1 to X 6 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, and an n-hexyl group. Examples of the branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include isopropyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, isobutyl group and the like, and examples of the cyclic group having 3 to 14 carbon atoms include: A cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group, a naphthyl group, etc. are mentioned.

本発明の一般式(1)におけるR、Rとしては、位相差特性および透明性により優れることから、いずれか一方がシアノ基;メチルエステル基、エチルエステル基、n−プロピルエステル基、イソプロピルエステル基、n−ブチルエステル基、sec−ブチルエステル基、イソブチルエステル基、tert−ブチルエステル基等のエステル基;ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジn−プロピルアミド基、ジイソプロピルアミド基等のアミド基;アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等のアシル基からなる群より選択され、他方が水素またはシアノ基であることが好ましく、いずれか一方がシアノ基、エステル基、アミド基、アシル基からなる群より選択され、他方がシアノ基であることがさらに好ましく、いずれか一方がシアノ基またはエステル基であり、他方がシアノ基であることが特に好ましい。 As R 1 and R 2 in the general formula (1) of the present invention, one of them is a cyano group because it is more excellent in retardation characteristics and transparency, methyl ester group, ethyl ester group, n-propyl ester group, isopropyl Ester groups such as ester groups, n-butyl ester groups, sec-butyl ester groups, isobutyl ester groups, tert-butyl ester groups; amide groups such as dimethylamide groups, diethylamide groups, di-n-propylamide groups, diisopropylamide groups Selected from the group consisting of acyl groups such as acetyl group, propionyl group, benzoyl group, etc., preferably the other is hydrogen or cyano group, any one of which consists of cyano group, ester group, amide group, acyl group; More preferably, the other is a cyano group, and either one is An anode group or an ester group, and particularly preferably the other is a cyano group.

本発明の一般式(1)におけるR〜Rはそれぞれ独立して水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、炭素数3〜14の環状基、ハロゲン、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、スルホン酸基、アルコキシ基(−OX)、エステル基(−C(=O)OX)、スルホニル基(−SOOX)、アミド基(−C(=O)N(X10)(X11)または−NX12C(=O)X13)、アシル基(−C(=O)X14)、アミノ基(−N(X15)(X16))、またはアシルオキシ基(−OC(=O)X17)(ここで、X〜Xは、それぞれ独立して炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜14の環状基を示し、X10〜X17はそれぞれ独立して水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜14の環状基を示す。)を示す。また、R〜Rは隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。 R 3 to R 7 in the general formula (1) of the present invention are each independently hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or 3 to 14 carbon atoms. Cyclic group, halogen, hydroxy group, carboxy group, nitro group, cyano group, thiol group, sulfonic acid group, alkoxy group (—OX 7 ), ester group (—C (═O) OX 8 ), sulfonyl group (—SOOX) 9 ), an amide group (—C (═O) N (X 10 ) (X 11 ) or —NX 12 C (═O) X 13 ), an acyl group (—C (═O) X 14 ), an amino group ( —N (X 15 ) (X 16 )) or an acyloxy group (—OC (═O) X 17 ) (where X 7 to X 9 are each independently a linear alkyl having 1 to 12 carbon atoms) Group, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or 3 to 1 carbon atoms 4 represents a cyclic group, and X 10 to X 17 each independently represent hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms. Group). R 3 to R 7 may form a condensed ring structure with adjacent substituents.

〜Rにおける炭素数1〜12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数1〜12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基等が挙げられ、炭素数3〜14の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。 Examples of the linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in R 3 to R 7 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, and an n-hexyl group. Examples of the branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group and the like, and examples of the cyclic group having 3 to 14 carbon atoms include: A cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group, a naphthyl group, etc. are mentioned.

〜Rにおけるハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素等が挙げられる。 Examples of the halogen in R 3 to R 7 include fluorine, chlorine, bromine and the like.

〜X17における炭素数1〜12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数1〜12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基等が挙げられ、炭素数3〜14の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。 Examples of the linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in X 7 to X 17 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, and an n-hexyl group. Examples of the branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group and the like, and examples of the cyclic group having 3 to 14 carbon atoms include: A cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group, a naphthyl group, etc. are mentioned.

本発明の一般式(1)におけるR〜Rとしては、位相差特性および透明性により優れることから、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基、シクロヘキシル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、スルホン酸基、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、メチルエステル基、エチルエステル基、n―プロピルエステル基、イソプロピルエステル基、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、n−プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、アミド基、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジn−プロピルアミド基、ジイソプロピルアミド基、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジn−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基が好ましく、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、スルホン酸基、メチルエステル基、エチルエステル基、n−プロピルエステル基、イソプロピルエステル基、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、n−プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、アミド基、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジn−プロピルアミド基、ジイソプロピルアミド基、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジn−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基が好ましく、ヒドロキシ基、カルボキシ基がさらに好ましい。 R 3 to R 7 in the general formula (1) of the present invention are excellent in retardation characteristics and transparency, and thus are methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl. Group, tert-butyl group, isobutyl group, cyclohexyl group, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, hydroxy group, carboxy group, nitro group, cyano group, thiol group, sulfonic acid group, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy Group, isopropoxy group, methyl ester group, ethyl ester group, n-propyl ester group, isopropyl ester group, methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, n-propylsulfonyl group, isopropylsulfonyl group, amide group, dimethylamide group, diethylamide Group, di-n-propylamide group, diisopropylamide group, Rumyl group, acetyl group, propionyl group, butyryl group, isobutyryl group, amino group, dimethylamino group, diethylamino group, di-n-propylamino group, diisopropylamino group, formyloxy group, acetyloxy group, propionyloxy group are preferred, Hydroxy group, carboxy group, thiol group, sulfonic acid group, methyl ester group, ethyl ester group, n-propyl ester group, isopropyl ester group, methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, n-propylsulfonyl group, isopropylsulfonyl group, amide Group, dimethylamide group, diethylamide group, di-n-propylamide group, diisopropylamide group, formyl group, acetyl group, propionyl group, butyryl group, isobutyryl group, amino group, dimethylamino group, diethylamino group Di n- propylamino group, diisopropylamino group, formyloxy group, acetyloxy group, propionyloxy group preferably a hydroxy group, a carboxy group more preferred.

そして、本発明において、R、Rのいずれか一方がシアノ基、エステル基、アミド基、アシル基からなる群より選択され、他方がシアノ基であり、かつ、R〜Rのうち少なくとも1以上が、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、スルホン酸基、エステル基、アミド基、アシル基、アミノ基、スルホニル基、アシルオキシ基からなる群より選択される1種以上の水素結合性置換基であることが特に好ましい。 In the present invention, any one of R 1 and R 2 is selected from the group consisting of a cyano group, an ester group, an amide group, and an acyl group, the other is a cyano group, and R 3 to R 7 1 or more types of hydrogen bond substitution by which at least 1 or more is selected from the group which consists of a hydroxy group, a carboxy group, a thiol group, a sulfonic acid group, an ester group, an amide group, an acyl group, an amino group, a sulfonyl group, and an acyloxy group Particularly preferred is a group.

具体的な一般式(1)で表される残基単位としては、例えば、α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、2−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、3−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、2,3−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、3,4−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、2−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、3−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、4−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、2,3−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、3,4−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、2−カルボキシ−3−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、3−カルボキシ−2−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、3−カルボキシ−4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、4−カルボキシ−3−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、2−スルファニル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、3−スルファニル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、4−スルファニル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、2−スルホン酸−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、3−スルホン酸−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、4−スルホン酸−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、2−メトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、3−メトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、4−メトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、2−エトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、3−エトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、4−エトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、2−ホルミル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、3−ホルミル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、4−ホルミル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、2−アセチル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、3−アセチル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、4−アセチル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、2−アミノ−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、3−アミノ−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、4−アミノ−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、2−メチルスルホニル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、3−メチルスルホニル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、4−メチルスルホニル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、2−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、3−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、2,3−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、3,4−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、2−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、3−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、4−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、2,3−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、3,4−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、2−カルボキシ−3−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、3−カルボキシ−2−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、3−カルボキシ−4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、4−カルボキシ−3−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、2−カルボキシ−4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、4−カルボキシ−2−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、2−スルファニル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、3−スルファニル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、4−スルファニル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、2−スルホン酸−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、3−スルホン酸−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、4−スルホン酸−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、2−メトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、3−メトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、4−メトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、2−エトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、3−エトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、4−エトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、2−ホルミル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、3−ホルミル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、4−ホルミル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、2−アセチル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、3−アセチル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、4−アセチル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、2−アミノ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、3−アミノ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、4−アミノ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、2−メチルスルホニル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、3−メチルスルホニル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、4−メチルスルホニル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、2−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、3−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、2−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、3−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、2−カルボキシ−3−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、3−カルボキシ−2−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、3−カルボキシ−4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−カルボキシ−3−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、2−カルボキシ−4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−カルボキシ−2−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、2−スルファニル−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、3−スルファニル−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−スルファニル−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、2−スルホン酸−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、3−スルホン酸−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−スルホン酸−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、2−メトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、3−メトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−メトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、2−エトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、3−エトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−エトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、2−ホルミル−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、3−ホルミル−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−ホルミル−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、2−アセチル−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、3−アセチル−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−アセチル−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、2−アミノ−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、3−アミノ−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−アミノ−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、2−メチルスルホニル−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、3−メチルスルホニル−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−メチルスルホニル−α−シアノケイ皮酸n−プロピル残基単位、α−シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、2−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、3−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、2−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、3−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、4−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、2−カルボキシ−3−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、3−カルボキシ−2−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、3−カルボキシ−4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、4−カルボキシ−3−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、2−カルボキシ−4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、4−カルボキシ−2−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノケイ皮酸n−ブチル残基単位、2−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸n−ブチル残基単位、3−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸n−ブチル残基単位、4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸n−ブチル残基単位、2−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸n−ブチル残基単位、3−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸n−ブチル残基単位、4−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸n−ブチル残基単位、2−カルボキシ−3−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸n−ブチル残基単位、3−カルボキシ−2−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸n−ブチル残基単位、3−カルボキシ−4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸n−ブチル残基単位、4−カルボキシ−3−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸n−ブチル残基単位、α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、2−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、3−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、2,3−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、3,4−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、2−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、3−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、4−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、2,3−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、3,4−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、2−カルボキシ−3−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、3−カルボキシ−2−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、3−カルボキシ−4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、4−カルボキシ−3−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、2−カルボキシ−4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、4−カルボキシ−2−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、ベンザルマロノニトリル残基単位、2−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、3−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、2,3−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、3,4−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、2−カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、3−カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、4−カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、2,3−ジカルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、3,4−ジカルボキシベンザルマロノニトリ
ル残基単位、2−カルボキシ−3−ヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル残基単位、3−カルボキシ−2−ヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル残基単位、3−カルボキシ−4−ヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル残基単位、4−カルボキシ−3−ヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル残基単位、2−スルファニル−ベンザルマロノニトリル残基単位、3−スルファニルベンザルマロノニトリル残基単位、4−スルファニルベンザルマロノニトリル残基単位、2−スルホン酸ベンザルマロノニトリル残基単位、3−スルホン酸ベンザルマロノニトリル残基単位、4−スルホン酸ベンザルマロノニトリル残基単位、2−メトキシカルボニルベンザルマロノニトリル残基単位、3−メトキシカルボニルベンザルマロノニトリル残基単位、4−メトキシカルボニルベンザルマロノニトリル残基単位、2−エトキシカルボニルベンザルマロノニトリル残基単位、3−エトキシカルボニルベンザルマロノニトリル残基単位、4−エトキシカルボニルベンザルマロノニトリル残基単位、2−ホルミルベンザルマロノニトリル残基単位、3−ホルミルベンザルマロノニトリル残基単位、4−ホルミルベンザルマロノニトリル残基単位、2−アセチルベンザルマロノニトリル残基単位、3−アセチルベンザルマロノニトリル残基単位、4−アセチルベンザルマロノニトリル残基単位、2−アミノベンザルマロノニトリル残基単位、3−アミノベンザルマロノニトリル残基単位、4−アミノベンザルマロノニトリル残基単位、2−メチルスルホニルベンザルマロノニトリル残基単位、3−メチルスルホニルベンザルマロノニトリル残基単位、4−メチルスルホニルベンザルマロノニトリル残基単位、シンナモニトリル残基単位、2−ヒドロキシシンナモニトリル残基単位、3−ヒドロキシシンナモニトリル残基単位、4−ヒドロキシシンナモニトリル残基単位、2,3−ジヒドロキシシンナモニトリル残基単位、3,4−ジヒドロキシシンナモニトリル残基単位、2−カルボキシシンナモニトリル残基単位、3−カルボキシシンナモニトリル残基単位、4−カルボキシシンナモニトリル残基単位、2,3−ジカルボキシシンナモニトリル残基単位、3,4−ジカルボキシシンナモニトリル残基単位、2−カルボキシシンナモニトリル残基単位、3−カルボキシ−2−ヒドロキシ−シンナモニトリル残基単位、3−カルボキシ−4−ヒドロキシ−シンナモニトリル残基単位、4−カルボキシ−3−ヒドロキシ−シンナモニトリル残基単位、2−カルボキシ−4−ヒドロキシ−シンナモニトリル残基単位、4−カルボキシ−3−ヒドロキシ−シンナモニトリル残基単位、カルコン残基単位、2−ヒドロキシカルコン残基単位、4−ヒドロキシカルコン残基単位、4−ヒドロキシカルコン残基単位、2,3−ジヒドロキシカルコン残基単位、3,4−ジヒドロキシカルコン残基単位、2−カルボキシカルコン残基単位、3−カルボキシカルコン残基単位、4−カルボキシカルコン残基単位、2,3−ジカルボキシカルコン残基単位、3,4−ジカルボキシカルコン残基単位、2−カルボキシカルコン残基単位、3−カルボキシ−2−ヒドロキシ−カルコン残基単位、3−カルボキシ−4−ヒドロキシ−カルコン残基単位、4−カルボキシ−3−ヒドロキシ−カルコン残基単位、2−カルボキシ−4−ヒドロキシ−カルコン残基単位、4−カルボキシ−2−ヒドロキシ−カルコン残基単位からなる群より選択される1種以上が挙げられる。
Specific examples of the residue unit represented by the general formula (1) include α-cyanocinnamate methyl residue unit, 2-hydroxy-α-cyanocinnamate methyl residue unit, and 3-hydroxy-α-. Cyanocinnamate methyl residue units, 4-hydroxy-α-cyanocinnamate methyl residue units, 2,3-dihydroxy-α-cyanocinnamate methyl residue units, 3,4-dihydroxy-α-cyanocinnamate methyl units Residue unit, 2-carboxy-α-cyanocinnamate methyl residue unit, 3-carboxy-α-cyanocinnamate methyl residue unit, 4-carboxy-α-cyanocinnamate methyl residue unit, 2,3- Dicarboxy-α-cyanocinnamic acid methyl residue unit, 3,4-dicarboxy-α-cyanocinnamic acid methyl residue unit, 2-carboxy-3-hydroxy-α-cyanocinnamic acid methyl residue unit Position, 3-carboxy-2-hydroxy-α-cyanocinnamate methyl residue unit, 3-carboxy-4-hydroxy-α-cyanocinnamate methyl residue unit, 4-carboxy-3-hydroxy-α-cyanocinnamate Acid methyl residue unit, 2-sulfanyl-α-cyanocinnamic acid methyl residue unit, 3-sulfanyl-α-cyanocinnamic acid methyl residue unit, 4-sulfanyl-α-cyanocinnamic acid methyl residue unit, 2- Sulfonic acid-α-cyanocinnamic acid methyl residue unit, 3-sulfonic acid-α-cyanocinnamic acid methyl residue unit, 4-sulfonic acid-α-cyanocinnamic acid methyl residue unit, 2-methoxycarbonyl-α- Cyanocinnamate methyl residue units, 3-methoxycarbonyl-α-cyanocinnamate methyl residue units, 4-methoxycarbonyl-α-cyanocinnamate methyl units Group unit, 2-ethoxycarbonyl-α-cyanocinnamic acid methyl residue unit, 3-ethoxycarbonyl-α-cyanocinnamic acid methyl residue unit, 4-ethoxycarbonyl-α-cyanocinnamic acid methyl residue unit, 2- Formyl-α-cyanocinnamic acid methyl residue units, 3-formyl-α-cyanocinnamic acid methyl residue units, 4-formyl-α-cyanocinnamic acid methyl residue units, 2-acetyl-α-cyanocinnamic acid methyl units Residue unit, 3-acetyl-α-cyanocinnamate methyl residue unit, 4-acetyl-α-cyanocinnamate methyl residue unit, 2-amino-α-cyanocinnamate methyl residue unit, 3-amino- α-cyanocinnamate methyl residue unit, 4-amino-α-cyanocinnamate methyl residue unit, 2-methylsulfonyl-α-cyanocinnamate methyl residue unit, 3-methyl Sulfonyl-α-cyanocinnamate methyl residue unit, 4-methylsulfonyl-α-cyanocinnamate methyl residue unit, α-cyanocyanocinnamate residue unit, 2-hydroxy-α-cyanocinnamate ethyl residue unit 3-hydroxy-α-cyanocinnamic acid ethyl residue unit, 4-hydroxy-α-cyanocyanocinnamic acid residue unit, 2,3-dihydroxy-α-cyanocinnamic acid ethyl residue unit, 3,4-dihydroxy -Α-ethyl cyanocinnamate residue unit, 2-carboxy-α-cyanocinnamic acid ethyl residue unit, 3-carboxy-α-cyanocinnamic acid ethyl residue unit, 4-carboxy-α-cyanocinnamic acid ethyl residue Group unit, 2,3-dicarboxy-α-cyanocyanocinnamate residue unit, 3,4-dicarboxy-α-cyanocinnamate ethyl residue unit, 2-carboxy- 3-hydroxy-α-cyanocyanocinnamic acid residue units, 3-carboxy-2-hydroxy-α-cyanocyanocinnamic acid residue units, 3-carboxy-4-hydroxy-α-cyanocinnamic acid ethyl residue units, 4-carboxy-3-hydroxy-α-cyanocyanocinnamic acid residue units, 2-carboxy-4-hydroxy-α-cyanocinnamic acid ethyl residue units, 4-carboxy-2-hydroxy-α-cyanocinnamic acid ethyl units Residue unit, 2-sulfanyl-α-cyanocinnamic acid ethyl residue unit, 3-sulfanyl-α-cyanocinnamic acid ethyl residue unit, 4-sulfanyl-α-cyanocinnamic acid ethyl residue unit, 2-sulfonic acid -Ethyl α-cyanocinnamate residue unit, 3-sulfonic acid-ethyl α-cyanocinnamate residue unit, 4-sulfonic acid-α-cyanocinnamic acid ethyl ester Residue unit, 2-methoxycarbonyl-α-cyanocinnamic acid ethyl residue unit, 3-methoxycarbonyl-α-cyanocinnamic acid ethyl residue unit, 4-methoxycarbonyl-α-cyanocinnamic acid ethyl residue unit, 2 -Ethoxycarbonyl-α-cyanocinnamic acid ethyl residue unit, 3-ethoxycarbonyl-α-cyanocinnamic acid ethyl residue unit, 4-ethoxycarbonyl-α-cyanocinnamic acid ethyl residue unit, 2-formyl-α- Ethyl cyanocinnamate residue units, 3-formyl-α-ethyl cyanocinnamate residue units, 4-formyl-α-ethyl cyanocinnamate residue units, 2-acetyl-α-cyanoethyl cinnamate residue units, 3-acetyl-α-cyanocinnamic acid ethyl residue unit, 4-acetyl-α-cyanocinnamic acid ethyl residue unit, 2-amino-α-cyanocinnamic leather unit Ethyl residue unit, 3-amino-α-cyanocinnamic acid ethyl residue unit, 4-amino-α-cyanocinnamic acid ethyl residue unit, 2-methylsulfonyl-α-cyanocinnamic acid ethyl residue unit, 3 -Methylsulfonyl-α-cyanocinnamic acid ethyl residue unit, 4-methylsulfonyl-α-cyanocinnamic acid ethyl residue unit, α-cyanocinnamic acid n-propyl residue unit, 2-hydroxy-α-cyanocinnamic acid unit n-propyl residue unit, 3-hydroxy-α-cyanocinnamic acid n-propyl residue unit, 4-hydroxy-α-cyanocinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3-dihydroxy-α-cyanocinnamic acid n-propyl residue unit, 3,4-dihydroxy-α-cyanocinnamic acid n-propyl residue unit, 2-carboxy-α-cyanocinnamic acid n-propyl residue unit, 3-cal Xyl-α-cyanocinnamic acid n-propyl residue unit, 4-carboxy-α-cyanocinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3-dicarboxy-α-cyanocinnamic acid n-propyl residue unit, 3 , 4-Dicarboxy-α-cyanocinnamic acid n-propyl residue unit, 2-carboxy-3-hydroxy-α-cyanocinnamic acid n-propyl residue unit, 3-carboxy-2-hydroxy-α-cyanocinnamic acid unit Acid n-propyl residue unit, 3-carboxy-4-hydroxy-α-cyanocinnamic acid n-propyl residue unit, 4-carboxy-3-hydroxy-α-cyanocinnamic acid n-propyl residue unit, 2- Carboxy-4-hydroxy-α-cyanocinnamic acid n-propyl residue unit, 4-carboxy-2-hydroxy-α-cyanocinnamic acid n-propyl residue unit, 2-sulfani Ru-α-cyanocinnamic acid n-propyl residue unit, 3-sulfanyl-α-cyanocinnamic acid n-propyl residue unit, 4-sulfanyl-α-cyanocinnamic acid n-propyl residue unit, 2-sulfonic acid -Α-cyanocinnamic acid n-propyl residue unit, 3-sulfonic acid-α-cyanocinnamic acid n-propyl residue unit, 4-sulfonic acid-α-cyanocinnamic acid n-propyl residue unit, 2-methoxy Carbonyl-α-cyanocinnamic acid n-propyl residue unit, 3-methoxycarbonyl-α-cyanocinnamic acid n-propyl residue unit, 4-methoxycarbonyl-α-cyanocinnamic acid n-propyl residue unit, 2- Ethoxycarbonyl-α-cyanocinnamic acid n-propyl residue unit, 3-ethoxycarbonyl-α-cyanocinnamic acid n-propyl residue unit, 4-ethoxycarbonyl-α Cyanocinnamate n-propyl residue unit, 2-formyl-α-cyanocinnamic acid n-propyl residue unit, 3-formyl-α-cyanocinnamic acid n-propyl residue unit, 4-formyl-α-cyanocinnamic unit Acid n-propyl residue unit, 2-acetyl-α-cyanocinnamic acid n-propyl residue unit, 3-acetyl-α-cyanocinnamic acid n-propyl residue unit, 4-acetyl-α-cyanocinnamic acid n -Propyl residue unit, 2-amino-α-cyanocinnamic acid n-propyl residue unit, 3-amino-α-cyanocinnamic acid n-propyl residue unit, 4-amino-α-cyanocinnamic acid n-propyl Residue unit, 2-methylsulfonyl-α-cyanocinnamic acid n-propyl residue unit, 3-methylsulfonyl-α-cyanocinnamic acid n-propyl residue unit, 4-methylsulfonyl-α-cyano N-propyl cinnamate residue unit, isopropyl residue of α-cyanocinnamic acid residue unit, 2-hydroxy-α-cyanocinnamic acid isopropyl residue unit, 3-hydroxy-α-cyanocinnamic acid isopropyl residue unit, 4- Hydroxy-α-cyanocinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3-dihydroxy-α-cyanocinnamic acid isopropyl residue unit, 3,4-dihydroxy-α-cyanocinnamic acid isopropyl residue unit, 2-carboxy-α- Isopropyl cyanocinnamate residue unit, 3-carboxy-α-cyanocinnamate isopropyl residue unit, 4-carboxy-α-cyanocinnamate isopropyl residue unit, 2,3-dicarboxy-α-cyanocinnamate isopropyl residue Group unit, 3,4-dicarboxy-α-cyanocinnamate isopropyl residue unit, 2-carboxy-3- Droxy-α-cyanocinnamic acid isopropyl residue unit, 3-carboxy-2-hydroxy-α-cyanocinnamic acid isopropyl residue unit, 3-carboxy-4-hydroxy-α-cyanocinnamic acid isopropyl residue unit, 4- Carboxy-3-hydroxy-α-cyanocinnamic acid isopropyl residue unit, 2-carboxy-4-hydroxy-α-cyanocinnamic acid isopropyl residue unit, 4-carboxy-2-hydroxy-α-cyanocinnamic acid isopropyl residue unit Unit, α-cyanocinnamic acid n-butyl residue unit, 2-hydroxy-α-cyanocinnamic acid n-butyl residue unit, 3-hydroxy-α-cyanocinnamic acid n-butyl residue unit, 4-hydroxy- α-cyanocinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3-dihydroxy-α-cyanocinnamic acid n-butyl residue unit, 3 4-dihydroxy-α-cyanocinnamic acid n-butyl residue unit, 2-carboxy-α-cyanocinnamic acid n-butyl residue unit, 3-carboxy-α-cyanocinnamic acid n-butyl residue unit, 4- Carboxy-α-cyanocinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3-dicarboxy-α-cyanocinnamic acid n-butyl residue unit, 3,4-dicarboxy-α-cyanocinnamic acid n-butyl residue unit Unit, 2-carboxy-3-hydroxy-α-cyanocinnamic acid n-butyl residue unit, 3-carboxy-2-hydroxy-α-cyanocinnamic acid n-butyl residue unit, 3-carboxy-4-hydroxy- α-cyanocinnamic acid n-butyl residue unit, 4-carboxy-3-hydroxy-α-cyanocinnamic acid n-butyl residue unit, α-cyanocinnamic acid isobutyl residue unit, 2-hydroxy-α -Cyanocinnamate isobutyl residue unit, 3-hydroxy-α-cyanocinnamic acid isobutyl residue unit, 4-hydroxy-α-cyanocinnamic acid isobutyl residue unit, 2,3-dihydroxy-α-cyanocinnamic acid isobutyl residue Group unit, 3,4-dihydroxy-α-cyanocinnamic acid isobutyl residue unit, 2-carboxy-α-cyanocinnamic acid isobutyl residue unit, 3-carboxy-α-cyanocinnamic acid isobutyl residue unit, 4-carboxy -Α-cyanocinnamic acid isobutyl residue unit, 2,3-dicarboxy-α-cyanocinnamic acid isobutyl residue unit, 3,4-dicarboxy-α-cyanocinnamic acid isobutyl residue unit, 2-carboxy-3 -Hydroxy-α-cyanocinnamic acid isobutyl residue unit, 3-carboxy-2-hydroxy-α-cyanocinnamic acid isobutyric acid Residue unit, 3-carboxy-4-hydroxy-α-cyanocinnamic acid isobutyl residue unit, 4-carboxy-3-hydroxy-α-cyanocinnamic acid isobutyl residue unit, 2-carboxy-4-hydroxy-α -Cyanocinnamate isobutyl residue unit, 4-carboxy-2-hydroxy-α-cyanocinnamic acid isobutyl residue unit, benzalmalononitrile residue unit, 2-hydroxybenzalmalononitrile residue unit, 3-hydroxyben Zalmalononitrile residue unit, 4-hydroxybenzalmalononitrile residue unit, 2,3-dihydroxybenzalmalononitrile residue unit, 3,4-dihydroxybenzalmalononitrile residue unit, 2-carboxybenzalmalono Nitrile residue unit, 3-carboxybenzalmalononitrile residue unit, 4-carbo Cybenzalmalononitrile residue unit, 2,3-dicarboxybenzalmalononitrile residue unit, 3,4-dicarboxybenzalmalononitrile residue unit, 2-carboxy-3-hydroxy-benzalmalononitrile residue Group unit, 3-carboxy-2-hydroxy-benzalmalononitrile residue unit, 3-carboxy-4-hydroxy-benzalmalononitrile residue unit, 4-carboxy-3-hydroxy-benzalmalononitrile residue unit 2-sulfanyl-benzalmalononitrile residue unit, 3-sulfanylbenzalmalononitrile residue unit, 4-sulfanylbenzalmalononitrile residue unit, 2-sulfonic acid benzalmalononitrile residue unit, 3-sulfone Acid benzalmalononitrile residue unit, 4-sulfonic acid benzalmalononitrile Residue unit, 2-methoxycarbonylbenzalmalononitrile residue unit, 3-methoxycarbonylbenzalmalononitrile residue unit, 4-methoxycarbonylbenzalmalononitrile residue unit, 2-ethoxycarbonylbenzalmalononitrile residue Group unit, 3-ethoxycarbonylbenzalmalononitrile residue unit, 4-ethoxycarbonylbenzalmalononitrile residue unit, 2-formylbenzalmalononitrile residue unit, 3-formylbenzalmalononitrile residue unit, 4 -Formylbenzalmalononitrile residue unit, 2-acetylbenzalmalononitrile residue unit, 3-acetylbenzalmalononitrile residue unit, 4-acetylbenzalmalononitrile residue unit, 2-aminobenzalmalononitrile residue unit Residue unit, 3-aminobenzalmalono Tolyl residue unit, 4-aminobenzalmalononitrile residue unit, 2-methylsulfonylbenzalmalononitrile residue unit, 3-methylsulfonylbenzalmalononitrile residue unit, 4-methylsulfonylbenzalmalononitrile residue Units, cinnamonitrile residue units, 2-hydroxycinnamonitrile residue units, 3-hydroxycinnamonitrile residue units, 4-hydroxycinnamonitrile residue units, 2,3-dihydroxycinnamonitrile residue units 3,4-dihydroxycinnamonitrile residue unit, 2-carboxycinnamonitrile residue unit, 3-carboxycinnamonitrile residue unit, 4-carboxycinnamonitrile residue unit, 2,3-dicarboxycin A nitronitrile residue unit, a 3,4-dicarboxycinnamonitrile residue unit, -Carboxycinnamonitrile residue unit, 3-carboxy-2-hydroxy-cinnamonitrile residue unit, 3-carboxy-4-hydroxy-cinnamonitrile residue unit, 4-carboxy-3-hydroxy-cinnamonitrile Residue unit, 2-carboxy-4-hydroxy-cinnamonitrile residue unit, 4-carboxy-3-hydroxy-cinnamonitrile residue unit, chalcone residue unit, 2-hydroxychalcone residue unit, 4-hydroxy Chalcone residue unit, 4-hydroxychalcone residue unit, 2,3-dihydroxychalcone residue unit, 3,4-dihydroxychalcone residue unit, 2-carboxychalcone residue unit, 3-carboxychalcone residue unit, 4 -Carboxychalcone residue unit, 2,3-dicarboxychalcone residue unit, 3,4-dicar Boxychalcone residue unit, 2-carboxychalcone residue unit, 3-carboxy-2-hydroxy-chalcone residue unit, 3-carboxy-4-hydroxy-chalcone residue unit, 4-carboxy-3-hydroxy-chalcone residue One or more selected from the group consisting of a unit, a 2-carboxy-4-hydroxy-chalcone residue unit, and a 4-carboxy-2-hydroxy-chalcone residue unit may be mentioned.

一般式(1)で表される残基単位としては、位相差特性および透明性により優れることから、2−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、3−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、2,3−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、2,4−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、3,4−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、2−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、3−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、4−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、2,3−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、2,4−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、3,4−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、2−カルボキシ−3−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、3−カルボキシ−2−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、3−カルボキシ−4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、4−カルボキシ−3−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、2−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、3−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、2,3−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、2,4−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、3,4−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、2−カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、3−カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、4−カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、2,3−ジカルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、2,4−ジカルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、3,4−ジカルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、2−カルボキシ−3−ヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル残基単位、3−カルボキシ−2−ヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル残基単位、3−カルボキシ−4−ヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル残基単位、4−カルボキシ−3−ヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル残基単位からなる群より選択される1種以上が好ましい。   As the residue unit represented by the general formula (1), 2-hydroxy-α-cyanocinnamic acid ester residue unit and 3-hydroxy-α-cyanocinnamic acid ester are excellent because of the retardation property and transparency. Residue unit, 4-hydroxy-α-cyanocinnamic acid ester residue unit, 2,3-dihydroxy-α-cyanocinnamic acid ester residue unit, 2,4-dihydroxy-α-cyanocinnamic acid ester residue unit, 3,4-dihydroxy-α-cyanocinnamic acid ester residue unit, 2-carboxy-α-cyanocinnamic acid ester residue unit, 3-carboxy-α-cyanocinnamic acid ester residue unit, 4-carboxy-α- Cyanocinnamate residue units, 2,3-dicarboxy-α-cyanocinnamic acid ester residue units, 2,4-dicarboxy-α-cyanocinnamic acid ester Residue unit, 3,4-dicarboxy-α-cyanocinnamic acid ester residue unit, 2-carboxy-3-hydroxy-α-cyanocinnamic acid ester residue unit, 3-carboxy-2-hydroxy-α- Cyanocinnamate residue units, 3-carboxy-4-hydroxy-α-cyanocinnamate residue units, 4-carboxy-3-hydroxy-α-cyanocinnamate residue units, 2-hydroxybenzalmalono Nitrile residue unit, 3-hydroxybenzalmalononitrile residue unit, 4-hydroxybenzalmalononitrile residue unit, 2,3-dihydroxybenzalmalononitrile residue unit, 2,4-dihydroxybenzalmalononitrile residue Base unit, 3,4-dihydroxybenzalmalononitrile residue unit, 2-carboxybenzalmalonontri Residue unit, 3-carboxybenzalmalononitrile residue unit, 4-carboxybenzalmalononitrile residue unit, 2,3-dicarboxybenzalmalononitrile residue unit, 2,4-dicarboxybenzalmalono Nitrile residue unit, 3,4-dicarboxybenzalmalononitrile residue unit, 2-carboxy-3-hydroxy-benzalmalononitrile residue unit, 3-carboxy-2-hydroxy-benzalmalononitrile residue unit 1 or more types selected from the group which consists of 3-carboxy-4-hydroxy-benzalmalononitrile residue unit and 4-carboxy-3-hydroxy-benzalmalononitrile residue unit are preferable.

本発明の一般式(1)で示される残基単位を有する樹脂は、さらに下記一般式(2)で示される残基単位または下記一般式(3)で示される残基単位を有することが好ましい。   The resin having a residue unit represented by the general formula (1) of the present invention preferably further has a residue unit represented by the following general formula (2) or a residue unit represented by the following general formula (3). .

Figure 2019019303
(2)
Figure 2019019303
(2)

(ここで、Rは水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基または炭素数3〜14の環状基を示し、Rは水素、カルボキシ基またはエステル基(−C(=O)OX18)を示し、R10〜R14はそれぞれ独立して水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、炭素数3〜14の環状基、ハロゲン、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、スルホン酸基、アルコキシ基(−OX19)、エステル基(−C(=O)OX20)、スルホニル基(−SOOX21)、アミド基(−C(=O)N(X22)(X23)または−NX24C(=O)X25)、アシル基(−C(=O)X26)、アミノ基(−N(X27)(X28))、またはアシルオキシ基(−OC(=O)X29)(ここで、X18〜X21は、それぞれ独立して炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜14の環状基を示し、X22〜X29はそれぞれ独立して水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜14の環状基を示す。)を示す。また、R10〜R14は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。) (Here, R 8 represents hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms, and R 9 represents hydrogen or a carboxy group. Or an ester group (—C (═O) OX 18 ), wherein R 10 to R 14 are each independently hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. , C 3-14 cyclic group, halogen, hydroxy group, carboxy group, nitro group, cyano group, thiol group, sulfonic acid group, alkoxy group (—OX 19 ), ester group (—C (═O) OX 20 ), Sulfonyl group (—SOOX 21 ), amide group (—C (═O) N (X 22 ) (X 23 ) or —NX 24 C (═O) X 25 ), acyl group (—C (═O) X 26), an amino group (-N (X 27) (X 2 )), Or an acyloxy group (-OC (= O) X 29 ) ( wherein, X 18 to X 21 are each independently a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, branched having 1 to 12 carbon atoms An alkyl group or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms, wherein X 22 to X 29 are each independently hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. Or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms.) And R 10 to R 14 may form a condensed ring structure with adjacent substituents.

Figure 2019019303
(3)
Figure 2019019303
(3)

(ここで、R15はヘテロ原子を1つ以上含むm員環複素環残基またはヘテロ原子を含まない5員環残基を示し、mは5〜10の整数を示す。前記m員環複素環残基および前記5員環残基は縮合環構造を形成してもよい。)
及びR10〜R14における炭素数1〜12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数1〜12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基等が挙げられ、炭素数3〜14の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
(Here, R 15 represents an m-membered ring heterocyclic residue containing one or more heteroatoms or a 5-membered ring residue containing no heteroatoms, and m represents an integer of 5 to 10. The ring residue and the 5-membered ring residue may form a condensed ring structure.)
Examples of the linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in R 8 and R 10 to R 14 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, and an n-hexyl group. Examples of the branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group and the like, and examples of the cyclic group having 3 to 14 carbon atoms include Examples thereof include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group, and a naphthyl group.

10〜R14におけるハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素等が挙げられる。 Examples of the halogen in R 10 to R 14 include fluorine, chlorine, bromine and the like.

18〜X29における炭素数1〜12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数1〜12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基等が挙げられ、炭素数3〜14の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。 Examples of the linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in X 18 to X 29, for example, mentioned a methyl group, an ethyl group, n- propyl group, n- butyl group, n- pentyl group, n- hexyl and the like Examples of the branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group and the like, and examples of the cyclic group having 3 to 14 carbon atoms include: A cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group, a naphthyl group, etc. are mentioned.

15におけるヘテロ原子としては、例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子等が挙げられる。 Examples of the hetero atom in R 15 include an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom.

一般式(2)で示される残基単位としては、例えば、スチレン残基単位、α−メチルスチレン残基単位、p−ヒドロキシスチレン残基単位、p−カルボキシスチレン残基単位等のスチレン類残基単位;2−ビニルナフタレン残基等のビニルナフタレン類残基単位;ケイ皮酸残基単位;ケイ皮酸メチル残基単位、ケイ皮酸エチル残基単位、ケイ皮酸イソプロピル残基単位などのケイ皮酸エステル残基単位等およびその置換基付加物等が挙げられる。   Examples of the residue unit represented by the general formula (2) include styrene residues such as a styrene residue unit, an α-methylstyrene residue unit, a p-hydroxystyrene residue unit, and a p-carboxystyrene residue unit. Unit: vinylnaphthalene residue unit such as 2-vinylnaphthalene residue; cinnamic acid residue unit; silicic acid methyl residue unit, ethyl cinnamate residue unit, cinnamate isopropyl residue unit, etc. Examples thereof include cinnamate residue units and the like, and substituents thereof.

一般式(3)で示される残基単位としては、例えば、1−ビニルピロール残基単位等のビニルピロール類残基単位;1−ビニルインドール残基単位;9−ビニルカルバゾール残基単位;2−ビニルキノリン残基単位等のビニルキノリン類残基単位;1−ビニルイソキノリン残基単位;2−ビニルピリジン残基単位等のビニルピリジン類残基単位;1−ビニルイミダゾール残基単位等のビニルイミダゾール類残基単位;5−ビニル−2−ピラゾリン残基単位;2−ビニルピラジン残基単位;ビニル−s−トリアジン残基単位;10−ビニル−9−ヒドロアクリジン残基単位;1−ビニルテトラゾール残基単位等のビニルテトラゾール類残基単位;N−ビニルピロリドン残基単位;N−ビニル−ε−カプロラクタム残基単位;N−ビニルスクシンイミド残基単位;N−ビニルフタルイミド残基単位;N−ビニルサッカリン残基単位;2−ビニルフラン残基単位等のビニルフラン類残基単位;2-ビニルベンゾフラン残基単位;2−ビニルチオフェン残基単位等のビニルチオフェン類残基単位;2−ビニルベンゾオキサゾール残基単位;N−ビニルオキサゾリドン残基単位;2−ビニルチアゾール残基単位;2−ビニルベンゾチアゾール残基単位等およびその置換基付加物等が挙げられる。   Examples of the residue unit represented by formula (3) include vinylpyrrole residue units such as 1-vinylpyrrole residue units; 1-vinylindole residue units; 9-vinylcarbazole residue units; Vinylquinoline residue units such as vinylquinoline residue units; 1-vinylisoquinoline residue units; vinylpyridine residue units such as 2-vinylpyridine residue units; vinylimidazoles such as 1-vinylimidazole residue units 5-vinyl-2-pyrazolin residue unit; 2-vinylpyrazine residue unit; vinyl-s-triazine residue unit; 10-vinyl-9-hydroacridine residue unit; 1-vinyltetrazole residue Vinyltetrazole residue units; N-vinylpyrrolidone residue units; N-vinyl-ε-caprolactam residue units; N-vinylsuccin N-vinylphthalimide residue unit; N-vinylsaccharin residue unit; vinylfuran residue unit such as 2-vinylfuran residue unit; 2-vinylbenzofuran residue unit; 2-vinylthiophene residue Vinylthiophene residue units such as group units; 2-vinylbenzoxazole residue units; N-vinyloxazolidone residue units; 2-vinylthiazole residue units; 2-vinylbenzothiazole residue units and their substituent additions Thing etc. are mentioned.

一般式(2)で示される残基単位及び一般式(3)で示される残基単位の中でも、位相差特性および透明性により優れることから、スチレン残基単位、α−メチルスチレン、p−ヒドロキシスチレン残基単位、p−カルボキシスチレン残基単位等のスチレン類残基単位;2−ビニルナフタレン残基等のビニルナフタレン類残基単位;1−ビニルインドール残基単位;9−ビニルカルバゾール残基単位;N−ビニルスクシンイミド残基単位;N−ビニルフタルイミド残基単位;2−ビニルフラン残基単位等のビニルフラン類残基単位;2-ビニルベンゾフラン残基単位;ケイ皮酸残基単位;ケイ皮酸メチル残基単位、ケイ皮酸エチル残基単位、ケイ皮酸イソプロピル残基単位などのケイ皮酸エステル残基単位等およびその置換基付加物等が好ましく、スチレン残基単位、1−ビニルナフタレン残基単位、2−ビニルナフタレン残基単位、1−ビニルインドール残基単位、9−ビニルカルバゾール残基単位、N−ビニルスクシンイミド残基単位、N−ビニルフタルイミド残基単位、2−ビニルフラン残基単位、2-ビニルベンゾフラン残基単位(これらの残基単位は環状基上の水素が任意の置換基で置換されていてもよい。)からなる群より選択される1種以上がさらに好ましい。   Among the residue unit represented by the general formula (2) and the residue unit represented by the general formula (3), the styrene residue unit, α-methylstyrene, p-hydroxy are excellent because of their retardation characteristics and transparency. Styrene residue units such as styrene residue units and p-carboxystyrene residue units; Vinylnaphthalene residue units such as 2-vinylnaphthalene residues; 1-vinylindole residue units; 9-vinylcarbazole residue units N-vinylsuccinimide residue unit; N-vinylphthalimide residue unit; vinylfuran residue unit such as 2-vinylfuran residue unit; 2-vinylbenzofuran residue unit; cinnamic acid residue unit; Cinnamic acid ester residue units such as methyl acrylate residue units, ethyl cinnamate residue units, and isopropyl cinnamate residue units, etc., and their substituent addition products are preferred. Styrene residue unit, 1-vinylnaphthalene residue unit, 2-vinylnaphthalene residue unit, 1-vinylindole residue unit, 9-vinylcarbazole residue unit, N-vinylsuccinimide residue unit, N-vinylphthalimide Residual unit, 2-vinylfuran residue unit, 2-vinylbenzofuran residue unit (these residue units may be selected from the group consisting of hydrogen on the cyclic group optionally substituted with any substituent). One or more selected from the above are more preferable.

具体的な一般式(1)で示される残基単位を有する樹脂としては、光学特性に優れるフィルムが得られるため、4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−2−ビニルナフタレン共重合体、4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−1−ビニルインドール共重合体、4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−9−ビニルカルバゾール共重合体、4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−N−ビニルスクシンイミド共重合体、4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−N−ビニルフタルイミド共重合体、4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−2−ビニルフラン共重合体、4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−2−ビニルベンゾフラン共重合体、2,3−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−スチレン共重合体、2,3−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−2−ビニルナフタレン共重合体、2,3−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−1−ビニルインドール共重合体、2,3−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−9−ビニルカルバゾール共重合体、2,3−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−N−ビニルスクシンイミド共重合体、2,3−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−N−ビニルフタルイミド共重合体、2,3−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−2−ビニルフラン共重合体、2,3−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−2−ビニルベンゾフラン共重合体、2,4−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−スチレン共重合体、2,4−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−2−ビニルナフタレン共重合体、2,4−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−1−ビニルインドール共重合体、2,4−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−9−ビニルカルバゾール共重合体、2,4−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−N−ビニルスクシンイミド共重合体、2,4−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−N−ビニルフタルイミド共重合体、2,4−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−2−ビニルフラン共重合体、2,4−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−2−ビニルベンゾフラン共重合体、3,4−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−スチレン共重合体、3,4−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−2−ビニルナフタレン共重合体、3,4−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−1−ビニルインドール共重合体、3,4−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−9−ビニルカルバゾール共重合体、3,4−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−N−ビニルスクシンイミド共重合体、3,4−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−N−ビニルフタルイミド共重合体、3,4−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−2−ビニルフラン共重合体、3,4−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−2−ビニルベンゾフラン共重合体、4−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−スチレン共重合体、4−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−2−ビニルナフタレン共重合体、4−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−1−ビニルインドール共重合体、4−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−9−ビニルカルバゾール共重合体、4−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−N−ビニルスクシンイミド共重合体、4−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−N−ビニルフタルイミド共重合体、4−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−2−ビニルフラン共重合体、4−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−2−ビニルベンゾフラン共重合体、2,3−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−スチレン共重合体、2,3−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−2−ビニルナフタレン共重合体、2,3−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−1−ビニルインドール共重合体、2,3−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−9−ビニルカルバゾール共重合体、2,3−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−N−ビニルスクシンイミド共重合体、2,3−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−N−ビニルフタルイミド共重合体、2,3−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−2−ビニルフラン共重合体、2,3−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−2−ビニルベンゾフラン共重合体、2,4−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−スチレン共重合体、2,4−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−2−ビニルナフタレン共重合体、2,4−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−1−ビニルインドール共重合体、2,4−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−9−ビニルカルバゾール共重合体、2,4−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−N−ビニルスクシンイミド共重合体、2,4−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−N−ビニルフタルイミド共重合体、2,4−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−2−ビニルフラン共重合体、2,4−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−2−ビニルベンゾフラン共重合体、3,4−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−スチレン共重合体、3,4−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−2−ビニルナフタレン共重合体、3,4−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−1−ビニルインドール共重合体、3,4−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−9−ビニルカルバゾール共重合体、3,4−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−N−ビニルスクシンイミド共重合体、3,4−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−N−ビニルフタルイミド共重合体、3,4−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−2−ビニルフラン共重合体、3,4−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−2−ビニルベンゾフラン共重合体、4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−スチレン共重合体、4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルナフタレン共重合体、4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−1−ビニルインドール共重合体、4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−9−ビニルカルバゾール共重合体、4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−N−ビニルスクシンイミド共重合体、4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−N−ビニルフタルイミド共重合体、4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルフラン共重合体、4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルベンゾフラン共重合体、2,3−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−スチレン共重合体、2,3−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルナフタレン共重合体、2,3−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−1−ビニルインドール共重合体、2,3−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−9−ビニルカルバゾール共重合体、2,3−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−N−ビニルスクシンイミド共重合体、2,3−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−N−ビニルフタルイミド共重合体、2,3−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルフラン共重合体、2,3−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルベンゾフラン共重合体、2,4−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−スチレン共重合体、2,4−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルナフタレン共重合体、2,4−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−1−ビニルインドール共重合体、2,4−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−9−ビニルカルバゾール共重合体、2,4−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−N−ビニルスクシンイミド共重合体、2,4−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−N−ビニルフタルイミド共重合体、2,4−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルフラン共重合体、2,4−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルベンゾフラン共重合体、3,4−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−スチレン共重合体、3,4−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルナフタレン共重合体、3,4−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−1−ビニルインドール共重合体、3,4−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−9−ビニルカルバゾール共重合体、3,4−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−N−ビニルスクシンイミド共重合体、3,4−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−N−ビニルフタルイミド共重合体、3,4−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルフラン共重合体、3,4−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルベンゾフラン共重合体、4−カルボキシベンザルマロノニトリル−スチレン共重合体、4−カルボキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルナフタレン共重合体、4−カルボキシベンザルマロノニトリル−1−ビニルインドール共重合体、4−カルボキシベンザルマロノニトリル−9−ビニルカルバゾール共重合体、4−カルボキシベンザルマロノニトリル−N−ビニルスクシンイミド共重合体、4−カルボキシベンザルマロノニトリル−N−ビニルフタルイミド共重合体、4−カルボキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルフラン共重合体、4−カルボキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルベンゾフラン共重合体、2,3−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−スチレン共重合体、2,3−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルナフタレン共重合体、2,3−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−1−ビニルインドール共重合体、2,3−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−9−ビニルカルバゾール共重合体、2,3−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−N−ビニルスクシンイミド共重合体、2,3−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−N−ビニルフタルイミド共重合体、2,3−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルフラン共重合体、2,3−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルベンゾフラン共重合体、2,4−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−スチレン共重合体、2,4−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルナフタレン共重合体、2,4−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−1−ビニルインドール共重合体、2,4−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−9−ビニルカルバゾール共重合体、2,4−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−N−ビニルスクシンイミド共重合体、2,4−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−N−ビニルフタルイミド共重合体、2,4−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルフラン共重合体、2,4−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルベンゾフラン共重合体、3,4−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−スチレン共重合体、3,4−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルナフタレン共重合体、3,4−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−1−ビニルインドール共重合体、3,4−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−9−ビニルカルバゾール共重合体、3,4−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−N−ビニルスクシンイミド共重合体、3,4−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−N−ビニルフタルイミド共重合体、3,4−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルフラン共重合体、3,4−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−2−ビニルベンゾフラン共重合体が好ましい。   As a resin having a residue unit represented by the general formula (1), since a film having excellent optical properties can be obtained, a 4-hydroxy-α-cyanocinnamic acid ester-2-vinylnaphthalene copolymer, 4 -Hydroxy-α-cyanocinnamic acid ester-1-vinylindole copolymer, 4-hydroxy-α-cyanocinnamic acid ester-9-vinylcarbazole copolymer, 4-hydroxy-α-cyanocinnamic acid ester-N- Vinylsuccinimide copolymer, 4-hydroxy-α-cyanocinnamic acid ester-N-vinylphthalimide copolymer, 4-hydroxy-α-cyanocinnamic acid ester-2-vinylfuran copolymer, 4-hydroxy-α- Cyanocinnamate-2-vinylbenzofuran copolymer, 2,3-dihydroxy-α-cyanocinnamate Styrene copolymer, 2,3-dihydroxy-α-cyanocinnamic acid ester-2-vinylnaphthalene copolymer, 2,3-dihydroxy-α-cyanocinnamic acid ester-1-vinylindole copolymer, 2, 3-dihydroxy-α-cyanocinnamic acid ester-9-vinylcarbazole copolymer, 2,3-dihydroxy-α-cyanocinnamic acid ester-N-vinylsuccinimide copolymer, 2,3-dihydroxy-α-cyanocinnamic leather Acid ester-N-vinylphthalimide copolymer, 2,3-dihydroxy-α-cyanocinnamic acid ester-2-vinylfuran copolymer, 2,3-dihydroxy-α-cyanocinnamic acid ester-2-vinylbenzofuran copolymer Polymer, 2,4-dihydroxy-α-cyanocinnamic acid ester-styrene copolymer, 2,4-dihydroxy Si-α-cyanocinnamic acid ester-2-vinylnaphthalene copolymer, 2,4-dihydroxy-α-cyanocinnamic acid ester-1-vinylindole copolymer, 2,4-dihydroxy-α-cyanocinnamic acid ester -9-vinylcarbazole copolymer, 2,4-dihydroxy-α-cyanocinnamic acid ester-N-vinylsuccinimide copolymer, 2,4-dihydroxy-α-cyanocinnamic acid ester-N-vinylphthalimide copolymer 2,4-dihydroxy-α-cyanocinnamic acid ester-2-vinylfuran copolymer, 2,4-dihydroxy-α-cyanocinnamic acid ester-2-vinylbenzofuran copolymer, 3,4-dihydroxy-α -Cyanocinnamate-styrene copolymer, 3,4-dihydroxy-α-cyanocinnamate-2-bi Lunaphthalene copolymer, 3,4-dihydroxy-α-cyanocinnamic acid ester-1-vinylindole copolymer, 3,4-dihydroxy-α-cyanocinnamic acid ester-9-vinylcarbazole copolymer, 3, 4-dihydroxy-α-cyanocinnamic acid ester-N-vinylsuccinimide copolymer, 3,4-dihydroxy-α-cyanocinnamic acid ester-N-vinylphthalimide copolymer, 3,4-dihydroxy-α-cyanocinnamic leather Acid ester-2-vinylfuran copolymer, 3,4-dihydroxy-α-cyanocinnamic acid ester-2-vinylbenzofuran copolymer, 4-carboxy-α-cyanocinnamic acid ester-styrene copolymer, 4- Carboxy-α-cyanocinnamic acid ester-2-vinylnaphthalene copolymer, 4-carboxy-α-cyano Cinnamic acid ester-1-vinylindole copolymer, 4-carboxy-α-cyanocinnamic acid ester-9-vinylcarbazole copolymer, 4-carboxy-α-cyanocinnamic acid ester-N-vinylsuccinimide copolymer 4-carboxy-α-cyanocinnamic acid ester-N-vinylphthalimide copolymer, 4-carboxy-α-cyanocinnamic acid ester-2-vinylfuran copolymer, 4-carboxy-α-cyanocinnamic acid ester- 2-vinylbenzofuran copolymer, 2,3-dicarboxy-α-cyanocinnamic acid ester-styrene copolymer, 2,3-dicarboxy-α-cyanocinnamic acid ester-2-vinylnaphthalene copolymer, 2 , 3-Dicarboxy-α-cyanocinnamic acid ester-1-vinylindole copolymer, 2,3-dicarboxy α-cyanocinnamic acid ester-9-vinylcarbazole copolymer, 2,3-dicarboxy-α-cyanocinnamic acid ester-N-vinylsuccinimide copolymer, 2,3-dicarboxy-α-cyanocinnamic acid ester -N-vinylphthalimide copolymer, 2,3-dicarboxy-α-cyanocinnamic acid ester-2-vinylfuran copolymer, 2,3-dicarboxy-α-cyanocinnamic acid ester-2-vinylbenzofuran copolymer Polymer, 2,4-dicarboxy-α-cyanocinnamic acid ester-styrene copolymer, 2,4-dicarboxy-α-cyanocinnamic acid ester-2-vinylnaphthalene copolymer, 2,4-dicarboxy -Α-cyanocinnamic acid ester-1-vinylindole copolymer, 2,4-dicarboxy-α-cyanocinnamic acid ester-9-vinyl Carbazole copolymer, 2,4-dicarboxy-α-cyanocinnamic acid ester-N-vinylsuccinimide copolymer, 2,4-dicarboxy-α-cyanocinnamic acid ester-N-vinylphthalimide copolymer, 2 , 4-dicarboxy-α-cyanocinnamic acid ester-2-vinylfuran copolymer, 2,4-dicarboxy-α-cyanocinnamic acid ester-2-vinylbenzofuran copolymer, 3,4-dicarboxy- α-cyanocinnamic acid ester-styrene copolymer, 3,4-dicarboxy-α-cyanocinnamic acid ester-2-vinylnaphthalene copolymer, 3,4-dicarboxy-α-cyanocinnamic acid ester-1- Vinyl indole copolymer, 3,4-dicarboxy-α-cyanocinnamic acid ester-9-vinyl carbazole copolymer, 3,4-dicarbo Xi-α-cyanocinnamic acid ester-N-vinylsuccinimide copolymer, 3,4-dicarboxy-α-cyanocinnamic acid ester-N-vinylphthalimide copolymer, 3,4-dicarboxy-α-cyanocinnamic leather Acid ester-2-vinylfuran copolymer, 3,4-dicarboxy-α-cyanocinnamic acid ester-2-vinylbenzofuran copolymer, 4-hydroxybenzalmalononitrile-styrene copolymer, 4-hydroxyben Zalmalononitrile-2-vinylnaphthalene copolymer, 4-hydroxybenzalmalononitrile-1-vinylindole copolymer, 4-hydroxybenzalmalononitrile-9-vinylcarbazole copolymer, 4-hydroxybenzalmalono Nitrile-N-vinylsuccinimide copolymer, 4-hydroxybenzalmalo Nitrile-N-vinylphthalimide copolymer, 4-hydroxybenzalmalononitrile-2-vinylfuran copolymer, 4-hydroxybenzalmalononitrile-2-vinylbenzofuran copolymer, 2,3-dihydroxybenzalmalono Nitrile-styrene copolymer, 2,3-dihydroxybenzalmalononitrile-2-vinylnaphthalene copolymer, 2,3-dihydroxybenzalmalononitrile-1-vinylindole copolymer, 2,3-dihydroxybenzal Malononitrile-9-vinylcarbazole copolymer, 2,3-dihydroxybenzalmalononitrile-N-vinylsuccinimide copolymer, 2,3-dihydroxybenzalmalononitrile-N-vinylphthalimide copolymer, 2,3 -Dihydroxybenzalmalononitrile-2-bi Nylfuran copolymer, 2,3-dihydroxybenzalmalononitrile-2-vinylbenzofuran copolymer, 2,4-dihydroxybenzalmalononitrile-styrene copolymer, 2,4-dihydroxybenzalmalononitrile-2- Vinylnaphthalene copolymer, 2,4-dihydroxybenzalmalononitrile-1-vinylindole copolymer, 2,4-dihydroxybenzalmalononitrile-9-vinylcarbazole copolymer, 2,4-dihydroxybenzalmalono Nitrile-N-vinylsuccinimide copolymer, 2,4-dihydroxybenzalmalononitrile-N-vinylphthalimide copolymer, 2,4-dihydroxybenzalmalononitrile-2-vinylfuran copolymer, 2,4- Dihydroxybenzalmalononitrile-2-vinylbenzo Run copolymer, 3,4-dihydroxybenzalmalononitrile-styrene copolymer, 3,4-dihydroxybenzalmalononitrile-2-vinylnaphthalene copolymer, 3,4-dihydroxybenzalmalononitrile-1- Vinyl indole copolymer, 3,4-dihydroxybenzalmalononitrile-9-vinylcarbazole copolymer, 3,4-dihydroxybenzalmalononitrile-N-vinylsuccinimide copolymer, 3,4-dihydroxybenzalmalono Nitrile-N-vinylphthalimide copolymer, 3,4-dihydroxybenzalmalononitrile-2-vinylfuran copolymer, 3,4-dihydroxybenzalmalononitrile-2-vinylbenzofuran copolymer, 4-carboxyben Zalmalononitrile-styrene copolymer, 4-cal Xibenzalmalononitrile-2-vinylnaphthalene copolymer, 4-carboxybenzalmalononitrile-1-vinylindole copolymer, 4-carboxybenzalmalononitrile-9-vinylcarbazole copolymer, 4-carboxyben Zalmalononitrile-N-vinylsuccinimide copolymer, 4-carboxybenzalmalononitrile-N-vinylphthalimide copolymer, 4-carboxybenzalmalononitrile-2-vinylfuran copolymer, 4-carboxybenzalmalono Nitrile-2-vinylbenzofuran copolymer, 2,3-dicarboxybenzalmalononitrile-styrene copolymer, 2,3-dicarboxybenzalmalononitrile-2-vinylnaphthalene copolymer, 2,3-di Carboxybenzalmalononitrile-1-vinylin Dole copolymer, 2,3-dicarboxybenzalmalononitrile-9-vinylcarbazole copolymer, 2,3-dicarboxybenzalmalononitrile-N-vinylsuccinimide copolymer, 2,3-dicarboxyben Zalmalononitrile-N-vinylphthalimide copolymer, 2,3-dicarboxybenzalmalononitrile-2-vinylfuran copolymer, 2,3-dicarboxybenzalmalononitrile-2-vinylbenzofuran copolymer, 2,4-dicarboxybenzalmalononitrile-styrene copolymer, 2,4-dicarboxybenzalmalononitrile-2-vinylnaphthalene copolymer, 2,4-dicarboxybenzalmalononitrile-1-vinylindole Copolymer, 2,4-dicarboxybenzalmalononitrile-9-vinylcarbazo Copolymer, 2,4-dicarboxybenzalmalononitrile-N-vinylsuccinimide copolymer, 2,4-dicarboxybenzalmalononitrile-N-vinylphthalimide copolymer, 2,4-dicarboxybenzal Malononitrile-2-vinylfuran copolymer, 2,4-dicarboxybenzalmalononitrile-2-vinylbenzofuran copolymer, 3,4-dicarboxybenzalmalononitrile-styrene copolymer, 3,4- Dicarboxybenzalmalononitrile-2-vinylnaphthalene copolymer, 3,4-dicarboxybenzalmalononitrile-1-vinylindole copolymer, 3,4-dicarboxybenzalmalononitrile-9-vinylcarbazole copolymer Polymer, 3,4-dicarboxybenzalmalononitrile-N-vinylsuccinimide Polymer, 3,4-dicarboxybenzalmalononitrile-N-vinylphthalimide copolymer, 3,4-dicarboxybenzalmalononitrile-2-vinylfuran copolymer, 3,4-dicarboxybenzalmalono Nitrile-2-vinylbenzofuran copolymers are preferred.

本発明の一般式(1)で示される残基単位を有する樹脂は、本発明の範囲を超えない限り、前述した残基単位以外の他の単量体残基単位を含有していてもよく、他の単量体残基単位としては、アクリル酸残基単位;アクリル酸メチル残基単位、アクリル酸エチル残基単位、アクリル酸ブチル残基単位などのアクリル酸エステル類残基単位;メタクリル酸残基単位;メタクリル酸メチル残基単位、メタクリル酸エチル残基単位、メタクリル酸ブチル残基単位などのメタクリル酸エステル類残基単位;アクリル酸2−ヒドロキシメチル残基単位等のアクリル酸ヒドロキシエステル残基単位;メタクリル酸2−ヒドロキシメチル残基単位等のメタクリル酸ヒドロキシエステル残基単位;酢酸ビニル残基単位、プロピオン酸ビニル残基単位などのビニルエステル類残基単位;アクリロニトリル残基単位;メタクリロニトリル残基単位;メチルビニルエーテル残基単位、エチルビニルエーテル残基単位、ブチルビニルエーテル残基単位などのビニルエーテル残基単位;フマル酸ジエチル残基単位等のフマル酸エステル類残基単位; N−メチルマレイミド残基単位、N−シクロヘキシルマレイミド残基単位、N−フェニルマレイミド残基単位等のN−置換マレイミド類残基単位;エチレン残基単位、プロピレン残基単位などのオレフィン類残基単位より選ばれる1種または2種以上を挙げることができる。   The resin having the residue unit represented by the general formula (1) of the present invention may contain other monomer residue units other than the residue units described above, as long as it does not exceed the scope of the present invention. Other monomer residue units include acrylic acid residue units; acrylate residue units such as methyl acrylate residue units, ethyl acrylate residue units, and butyl acrylate residue units; methacrylic acid Residue unit; Methacrylic acid ester residue unit such as methyl methacrylate residue unit, ethyl methacrylate residue unit and butyl methacrylate residue unit; Acrylic acid hydroxy ester residue such as 2-hydroxymethyl acrylate residue unit Base unit; methacrylic acid hydroxy ester residue unit such as 2-hydroxymethyl methacrylate unit; vinyl acetate residue unit, vinyl propionate residue unit, etc. Ester residue units; Acrylonitrile residue units; Methacrylonitrile residue units; Vinyl ether residue units such as methyl vinyl ether residue units, ethyl vinyl ether residue units, butyl vinyl ether residue units; Diethyl fumarate residue units, etc. Fumarate residue units; N-methylmaleimide residue units, N-cyclohexylmaleimide residue units, N-phenylmaleimide residue units and other N-substituted maleimide residue units; ethylene residue units, propylene residues One type or two or more types selected from olefin residue units such as units can be mentioned.

本発明の一般式(1)で示される残基単位を有する樹脂は、機械特性に優れたものとなることから、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー(GPC)により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量が3,000〜500,000であることが好ましく、5,000〜300,000であることがさらに好ましく、5,000〜200,000であることが特に好ましい。   Since the resin having a residue unit represented by the general formula (1) of the present invention has excellent mechanical properties, a standard obtained from an elution curve measured by gel permeation chromatography (GPC). The number average molecular weight in terms of polystyrene is preferably 3,000 to 500,000, more preferably 5,000 to 300,000, and particularly preferably 5,000 to 200,000.

本発明の一般式(1)で示される残基単位を有する樹脂の組成は、光学補償フィルムとしたときに位相差特性および透明性がより優れたものとなることから、一般式(1)で示される残基単位20モル%以上が好ましく、一般式(1)で示される残基単位30モル%以上がさらに好ましく、一般式(1)で示される残基単位35モル%以上が特に好ましい。   The composition of the resin having a residue unit represented by the general formula (1) of the present invention is more excellent in retardation characteristics and transparency when used as an optical compensation film. 20 mol% or more of the residue unit shown is preferable, 30 mol% or more of the residue unit shown by the general formula (1) is more preferable, and 35 mol% or more of the residue unit shown by the general formula (1) is particularly preferable.

一般式(1)で示される残基単位を有する樹脂の製造方法としては、該樹脂が得られる限りにおいて如何なる方法により製造してもよい。例えば、一般式(1)で示される残基単位に係る単量体とこれと共重合可能な単量体を併用し、ラジカル重合を行うことにより製造することができる。ラジカル重合の方法としては、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法等のいずれもが採用可能である。   As a method for producing a resin having a residue unit represented by the general formula (1), it may be produced by any method as long as the resin is obtained. For example, it can be produced by performing radical polymerization using a monomer related to the residue unit represented by the general formula (1) and a monomer copolymerizable therewith. As the radical polymerization method, for example, any of a bulk polymerization method, a solution polymerization method, a suspension polymerization method, a precipitation polymerization method, an emulsion polymerization method and the like can be employed.

ラジカル重合を行う際の重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシアセテート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン等の有機過酸化物;2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2−ブチロニトリル)、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル−2’−アゾビスイソブチレート、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)等のアゾ系開始剤等が挙げられる。   Examples of the polymerization initiator used for radical polymerization include benzoyl peroxide, lauryl peroxide, octanoyl peroxide, acetyl peroxide, di-t-butyl peroxide, t-butylcumyl peroxide, and dicumyl peroxide. , Organic peroxides such as t-butylperoxyacetate, t-butylperoxybenzoate, 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane; 2,2′-azobis ( 2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis (2-butyronitrile), 2,2′-azobisisobutyronitrile, dimethyl-2′-azobisisobutyrate, 1,1′-azobis And azo initiators such as (cyclohexane-1-carbonitrile).

そして、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法を採用する場合において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族溶媒;メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶媒;シクロヘキサン;ジオキサン;テトラヒドロフラン;アセトン;メチルエチルケトン;N,N−ジメチルホルムアミド;ジメチルスルホキシド;酢酸イソプロピル;水等が挙げられ、これらの混合溶媒も挙げられる。   And there is no restriction | limiting in particular as a solvent which can be used when employ | adopting solution polymerization method, suspension polymerization method, precipitation polymerization method, and emulsion polymerization method, For example, aromatic solvents, such as benzene, toluene, xylene; methanol, ethanol, Alcohol solvents such as propanol and butanol; cyclohexane; dioxane; tetrahydrofuran; acetone; methyl ethyl ketone; N, N-dimethylformamide; dimethyl sulfoxide; isopropyl acetate; water and the like.

また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、反応の制御が容易であることから、一般的には30〜150℃の範囲で行うことが好ましい。   Moreover, since the polymerization temperature at the time of performing radical polymerization can be suitably set according to the decomposition temperature of the polymerization initiator and the control of the reaction is easy, it is generally performed in the range of 30 to 150 ° C. It is preferable.

また、一般式(1)で示される残基単位を有する樹脂は、前駆体を介して得られたものでもよい。   The resin having a residue unit represented by the general formula (1) may be obtained via a precursor.

本発明において、正の固有複屈折を有する樹脂としては、該樹脂を用いて位相差特性に優れる光学補償フィルムが得られる限り特に制限はなく、例えば、セルロース系樹脂、ポリカーボネート、環状ポリオレフィン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミド、ポリウレタン等が挙げられ、より位相差特性に優れる光学補償フィルムが得られることから、セルロース系樹脂が好ましい。   In the present invention, the resin having positive intrinsic birefringence is not particularly limited as long as an optical compensation film excellent in retardation characteristics can be obtained using the resin. For example, cellulose resin, polycarbonate, cyclic polyolefin, polyethylene, Examples thereof include polypropylene, polyester, polyimide, polyamide, polyurethane, and the like. Cellulosic resins are preferred because an optical compensation film having more excellent retardation characteristics can be obtained.

本発明において、正の固有複屈折を有する樹脂としてセルロース系樹脂が用いられる場合、光学補償フィルムとした際に位相差特性および透明性により優れ、かつ面内位相差Reが大きく、更に延伸加工性に優れるものとなることから、下記一般式(4)で示されるセルロース系樹脂であることが好ましい。   In the present invention, when a cellulosic resin is used as a resin having positive intrinsic birefringence, when it is used as an optical compensation film, it is excellent in retardation characteristics and transparency, has a large in-plane retardation Re, and has a stretch processability Therefore, the cellulose resin represented by the following general formula (4) is preferable.

Figure 2019019303
(4)
Figure 2019019303
(4)

(式中、R16〜R18はそれぞれ独立して水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、炭素数3〜14の環状基、またはアシル基(−C(=O)X30)(ここで、X30は炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、炭素数3〜14の環状基を示す。)を示す。)
ここで、一般式(4)で示されるセルロース系樹脂は、β−グルコース単位が直鎖状に重合した高分子であり、グルコース単位の2位、3位および6位の水酸基の一部または全部を置換したポリマーである。
Wherein R 16 to R 18 are each independently hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms, or acyl. Group (—C (═O) X 30 ) (where X 30 is a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms). Show.)
Here, the cellulose resin represented by the general formula (4) is a polymer in which β-glucose units are linearly polymerized, and part or all of hydroxyl groups at the 2nd, 3rd and 6th positions of the glucose unit. Is a polymer substituted.

16〜R18における炭素数1〜12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数1〜12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、炭素数3〜14の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
30における炭素数1〜12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数1〜12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、炭素数3〜14の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
本発明の一般式(4)におけるR16〜R18としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、イソプロピル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、イソブチリル基、tert−ブチリル基、シクロヘキサノイル基、ベンゾイル基、ナフトイル基等を挙げることができる。また、これらの中でも、溶解性、相溶性がより優れたものになることから、メチル基、エチル基、プロピル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基が好ましい。
Examples of the linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in R 16 to R 18 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, and an n-hexyl group. Examples of the branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include isopropyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, isobutyl group and the like, and examples of the cyclic group having 3 to 14 carbon atoms include: A cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group, a naphthyl group, etc. are mentioned.
Examples of the linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in X 30, for example, a methyl group, an ethyl group, n- propyl group, n- butyl group, n- pentyl group, n- hexyl, and the like, carbon Examples of the branched alkyl group having 1 to 12 include isopropyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, isobutyl group and the like, and examples of the cyclic group having 3 to 14 carbon atoms include cyclopropyl group. , Cyclobutyl group, cyclohexyl group, phenyl group, naphthyl group and the like.
Examples of R 16 to R 18 in the general formula (4) of the present invention include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an isopropyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, and an isobutyl group. , Cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclohexyl group, phenyl group, naphthyl group, acetyl group, propionyl group, butyryl group, pentanoyl group, hexanoyl group, heptanoyl group, isobutyryl group, tert-butyryl group, cyclohexanoyl group, benzoyl group And a naphthoyl group. Among these, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an acetyl group, a propionyl group, and a butyryl group are preferable because solubility and compatibility are further improved.

本発明のセルロース系樹脂におけるセルロースの水酸基の酸素原子を介して置換している置換度は、2位、3位および6位のそれぞれについて、セルロースの水酸基が置換されている割合(100%の置換は置換度3)を意味し、溶解性、相溶性、延伸加工性の点から、置換度は、好ましくは1.5〜3.0であり、さらに好ましくは1.8〜2.8である。   The substitution degree of substitution through the oxygen atom of the hydroxyl group of cellulose in the cellulose resin of the present invention is the ratio of substitution of the hydroxyl group of cellulose for each of the 2-position, 3-position and 6-position (100% substitution) Means the degree of substitution 3), and the degree of substitution is preferably 1.5 to 3.0, more preferably 1.8 to 2.8 from the viewpoint of solubility, compatibility and stretch processability. .

具体的な本発明のセルロース系樹脂としては、例えば、メチルセルロース、エチルセルロース、トリアセチルセルロース、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート等が挙げられ、位相差特性および透明性により優れた光学補償フィルムが得られることから、エチルセルロース、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましい。   Specific examples of the cellulose resin of the present invention include methyl cellulose, ethyl cellulose, triacetyl cellulose, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate, and the like. Since a compensation film is obtained, ethyl cellulose, cellulose acetate butyrate, and cellulose acetate propionate are preferable.

本発明のセルロース系樹脂は、機械特性に優れ、製膜時の成形加工性に優れたものとなることから、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー(GPC)により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)が1,000〜1,000,000であることが好ましく、5,000〜200,000であることがさらに好ましい。   Since the cellulose resin of the present invention has excellent mechanical properties and excellent moldability during film formation, standard polystyrene obtained from an elution curve measured by gel permeation chromatography (GPC). The converted number average molecular weight (Mn) is preferably 1,000 to 1,000,000, and more preferably 5,000 to 200,000.

本発明の樹脂組成物は、一般式(1)で示される残基単位を有する樹脂と正の固有複屈折を有する樹脂とをブレンドすることによって得られるものであり、光学補償フィルムとして用いるとき、該光学補償フィルムが目的の位相差特性を発現することを特徴とするものである。すなわち、一般式(1)で示される残基単位を有する樹脂が負の複屈折を示し、かつ、一般式(1)で示される残基単位を有する樹脂と、正の固有複屈折を有する樹脂が優れた相溶性を示すことから、これらをブレンドして得られる本発明に係る樹脂組成物を用いるとき、実用的な透明性を有し、かつ位相差特性に優れる光学補償フィルムを得ることができるものである。   The resin composition of the present invention is obtained by blending a resin having a residue unit represented by the general formula (1) and a resin having positive intrinsic birefringence, and when used as an optical compensation film, The optical compensation film is characterized by exhibiting a target retardation characteristic. That is, a resin having a residue unit represented by general formula (1) exhibits negative birefringence, and a resin having a residue unit represented by general formula (1) and a resin having positive intrinsic birefringence Exhibiting excellent compatibility, it is possible to obtain an optical compensation film having practical transparency and excellent retardation characteristics when using the resin composition according to the present invention obtained by blending them. It can be done.

本発明の樹脂組成物における一般式(1)で示される残基単位を有する樹脂と正の固有複屈折を有する樹脂の組成の割合は、位相差フィルムとする際の位相差の制御に好適なため、一般式(1)で示される残基単位を有する樹脂1〜90重量%および正の固有複屈折を有する樹脂99〜10重量%であることが好ましい。さらに好ましくは一般式(1)で示される残基単位を有する樹脂10〜85重量%および正の固有複屈折を有する樹脂90〜15重量%であり、特に好ましくは一般式(1)で示される残基単位を有する樹脂20〜80重量%および正の固有複屈折を有する樹脂80〜20重量%である。   The ratio of the composition of the resin having the residue unit represented by the general formula (1) and the resin having positive intrinsic birefringence in the resin composition of the present invention is suitable for controlling the retardation when the retardation film is used. Therefore, it is preferably 1 to 90% by weight of the resin having the residue unit represented by the general formula (1) and 99 to 10% by weight of the resin having positive intrinsic birefringence. More preferably, it is 10 to 85% by weight of the resin having the residue unit represented by the general formula (1) and 90 to 15% by weight of the resin having a positive intrinsic birefringence, and particularly preferably the general formula (1). 20 to 80% by weight of resin having a residue unit and 80 to 20% by weight of resin having positive intrinsic birefringence.

ブレンドの方法としては、溶融ブレンド、溶液ブレンド等の方法を用いることができる。溶融ブレンド法とは加熱により樹脂を溶融させて混練することにより製造する方法である。溶液ブレンド法とは樹脂を溶剤に溶解しブレンドする方法である。溶液ブレンドに用いる溶剤としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルムなどの塩素系溶剤;トルエン、キシレンなどの芳香族溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル溶剤;メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール溶剤;ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル溶剤;ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等を用いることができる。各樹脂および添加剤を溶剤に溶解したのちブレンドすることも可能であり、各樹脂の粉体、ペレット等を混練後、溶剤に溶解させることも可能である。   As a blending method, methods such as melt blending and solution blending can be used. The melt blending method is a method of manufacturing by melting and kneading a resin by heating. The solution blending method is a method in which a resin is dissolved in a solvent and blended. Solvents used for solution blending include, for example, chlorinated solvents such as methylene chloride and chloroform; aromatic solvents such as toluene and xylene; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, and cyclohexanone; ethyl acetate, An ester solvent such as butyl acetate; an alcohol solvent such as methanol, ethanol, or propanol; an ether solvent such as dioxane or tetrahydrofuran; dimethylformamide, N-methylpyrrolidone, or the like can be used. Each resin and additive can be dissolved in a solvent and then blended. The powder, pellets, etc. of each resin can be kneaded and then dissolved in the solvent.

本発明の樹脂組成物は、光学フィルムとする際の熱安定性を向上させるために酸化防止剤を含有していても良い。酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、ラクトン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、ヒドロキシルアミン系酸化防止剤、ビタミンE系酸化防止剤、その他酸化防止剤等が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独でもよく、2種以上を組み合わせてもよい。   The resin composition of the present invention may contain an antioxidant in order to improve the thermal stability when making an optical film. Antioxidants include, for example, hindered phenol antioxidants, phosphorus antioxidants, sulfur antioxidants, lactone antioxidants, amine antioxidants, hydroxylamine antioxidants, vitamin E series An antioxidant, other antioxidants, etc. are mentioned, and these antioxidants may be used alone or in combination of two or more.

本発明の樹脂組成物は、光学フィルムとする際の耐候性を高めるためヒンダードアミン系光安定剤や紫外線吸収剤を含有していてもよい。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエート等が挙げられる。   The resin composition of the present invention may contain a hindered amine light stabilizer or an ultraviolet absorber in order to enhance the weather resistance when making an optical film. Examples of the ultraviolet absorber include benzotriazole, benzophenone, triazine, benzoate and the like.

本発明の樹脂組成物は、いわゆる可塑剤として知られる化合物を、光学フィルムとする際の機械的性質向上、柔軟性を付与、耐吸水性付与、水蒸気透過率低減、レターデーション調整等の目的で添加してもよく、可塑剤としては、例えば、リン酸エステルやカルボン酸エステル等が挙げられる。また、アクリル系ポリマーなども用いられる。   The resin composition of the present invention is a compound known as a so-called plasticizer, for the purpose of improving mechanical properties, imparting flexibility, imparting water absorption resistance, reducing water vapor transmission rate, adjusting retardation, etc. when used as an optical film. The plasticizer may be added, and examples of the plasticizer include phosphoric acid esters and carboxylic acid esters. Acrylic polymers are also used.

リン酸エステルとしては、例えば、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、フェニルジフェニルホスフェート等を挙げることが出来る。   Examples of phosphate esters include triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, phenyl diphenyl phosphate, and the like.

カルボン酸エステルとしては、例えば、フタル酸エステル、クエン酸エステル、脂肪酸エステル、グリセロールエステル、アルキルフタリルアルキルグリコレート等を挙げることができる。フタル酸エステルとしては、例えば、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート及びジエチルヘキシルフタレート等が挙げられ、またクエン酸エステルとしては、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等を挙げることが出来る。また、脂肪酸エステルとしては、例えば、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバチン酸ジブチル等が挙げられ、グリセロールエステルとしては、例えば、トリアセチン、トリメチロールプロパントリベンゾエート等が挙げられ、アルキルフタリルアルキルグリコレートとしては、例えば、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、プロピルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等を挙げることが出来る。これら可塑剤は単独でもよく、2種以上混合して使用してもよい。   Examples of the carboxylic acid ester include phthalic acid ester, citric acid ester, fatty acid ester, glycerol ester, and alkylphthalyl alkyl glycolate. Examples of the phthalate ester include dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dicyclohexyl phthalate, dioctyl phthalate, and diethyl hexyl phthalate. Examples of the citrate ester include acetyl triethyl citrate and acetyl tributyl citrate. . Examples of the fatty acid ester include butyl oleate, methylacetyl ricinoleate, dibutyl sebacate, and the like, and examples of the glycerol ester include triacetin, trimethylolpropane tribenzoate, and the like. Examples of the rate include methyl phthalyl methyl glycolate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, propyl phthalyl propyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, octyl phthalyl octyl glycolate, methyl phthalyl ethyl glycolate, ethyl phthalate Methyl methacrylate, ethyl phthalyl propyl glycolate, propyl phthalyl ethyl glycolate, methyl phthalyl propyl glycolate, methyl phthalyl butyl glycolate, ethyl Phthalyl butyl glycolate, butyl phthalyl methyl glycolate, butyl phthalyl ethyl glycolate, propyl phthalyl butyl glycolate, butyl phthalyl propyl glycolate, methyl phthalyl octyl glycolate, ethyl phthalyl octyl glycolate, octyl phthalate Examples include rumethyl glycolate and octyl phthalyl ethyl glycolate. These plasticizers may be used alone or in combination of two or more.

本発明の樹脂組成物は、光学補償フィルムとする際の位相差を調整する目的で、芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤を含有していてもよい。位相差を調整する目的で使用される添加剤の下記式(A)で示される複屈折Δnについては、特に制限はないが、より光学特性に優れた光学補償フィルムとなることから、好ましくは0.05以上であり、さらに好ましくは0.05〜0.5、特に好ましくは0.1〜0.5である。添加剤のΔnは分子軌道計算によって求めることができる。   The resin composition of the present invention may contain an additive having an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocycle for the purpose of adjusting the phase difference in forming an optical compensation film. The birefringence Δn represented by the following formula (A) of the additive used for the purpose of adjusting the phase difference is not particularly limited, but is preferably 0 because it becomes an optical compensation film with more excellent optical characteristics. 0.05 or more, more preferably 0.05 to 0.5, and particularly preferably 0.1 to 0.5. The Δn of the additive can be obtained by molecular orbital calculation.

Δn=nx−ny (A)
(式中、nxは添加剤分子の遅相軸方向の屈折率を示し、nyは添加剤分子の進相軸方向の屈折率を示す。)
本発明の樹脂組成物に芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤が含有される場合、該添加剤において、芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環の分子内の個数については特に制限はないが、光学特性に優れた光学補償フィルムとなることから、好ましくは1〜12個であり、さらに好ましくは1〜8個である。芳香族炭化水素環としては、例えば、5員環、6員環、7員環または二つ以上の芳香族環からなる縮合環等が挙げられ、芳香族性ヘテロ環としては、例えば、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環、1,3,5−トリアジン環等が挙げられる。
Δn = nx−ny (A)
(In the formula, nx represents the refractive index in the slow axis direction of the additive molecule, and ny represents the refractive index in the fast axis direction of the additive molecule.)
When an additive having an aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocycle is contained in the resin composition of the present invention, the number of the aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocycle in the molecule in the additive Although there is no restriction | limiting in particular, Since it becomes an optical compensation film excellent in the optical characteristic, Preferably it is 1-12 pieces, More preferably, it is 1-8 pieces. Examples of the aromatic hydrocarbon ring include a 5-membered ring, a 6-membered ring, a 7-membered ring, or a condensed ring composed of two or more aromatic rings. Examples of the aromatic heterocycle include a furan ring. Thiophene ring, pyrrole ring, oxazole ring, thiazole ring, imidazole ring, triazole ring, pyridine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, 1,3,5-triazine ring and the like.

芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環は置換基を有していてもよく、置換基としては、例えば、水酸基、エーテル基、カルボニル基、エステル基、カルボン酸残基、アミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、ニトロ基、スルホニル基、スルホン酸残基、ホスホニル基、ホスホン酸残基等が挙げられる。   The aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocycle may have a substituent. Examples of the substituent include a hydroxyl group, an ether group, a carbonyl group, an ester group, a carboxylic acid residue, an amino group, and an imino group. Amide group, imide group, cyano group, nitro group, sulfonyl group, sulfonic acid residue, phosphonyl group, phosphonic acid residue and the like.

本発明で用いられる芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤としては、例えば、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、トリフェニルホスフェート、2−エチルヘキシルジフェニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、ビスフェノールAビス(ジフェニルホスフェート)等のリン酸エステル系化合物;ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジヘキシルフタレート、ジノルマルオクチルフタレート、2−エチルヘキシルフタレート、ジイソオクチルフタレート、ジカプリルフタレート、ジノニルフタレート、ジイソノニルフタレート、ジデシルフタレート、ジイソデシルフタレート等のフタル酸エステル系化合物;トリブチルトリメリテート、トリ−ノルマルヘキシルトリメリテート、トリ(2−エチルヘキシル)トリメリテート、トリ−ノルマルオクチルトリメリテート、トリ−イソクチルトリメリテート、トリ−イソデシルトリメリテート等のトリメリット酸エステル系化合物;トリ(2−エチルヘキシル)ピロメリテート、テトラブチルピロメリテート、テトラ−ノルマルヘキシルピロメリテート、テトラ(2−エチルヘキシル)ピロメリテート、テトラ−ノルマルオクチルピロメリテート、テトラ−イソクチルピロメリテート、テトラ−イソデシルピロメリテート等のピロメリット酸エステル系化合物;安息香酸エチル、安息香酸イソプロピル、パラオキシ安息香酸エチル等の安息香酸エステル系化合物;フェニルサリシレート、p−オクチルフェニルサリシレート、p−tert−ブチルフェニルサリシレート等のサリチル酸エステル系化合物;メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等のグリコール酸エステル系化合物;2−(2’−ヒドロキシ−5’−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系化合物;2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物、N−ベンゼンスルホンアミド等のスルホンアミド系化合物、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−エトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−(2−ヒドロキシ−4−プロポキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン等のトリアジン系化合物等が挙げられ、より位相差特性に優れた光学補償フィルムが得られるため、トリクレジルホスフェート、2−エチルヘキシルジフェニルホスフェート、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノンが好ましく、これらは必要に応じて1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of the additive having an aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocycle used in the present invention include tricresyl phosphate, trixylenyl phosphate, triphenyl phosphate, 2-ethylhexyl diphenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, Phosphate ester compounds such as bisphenol A bis (diphenyl phosphate); dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dinormal octyl phthalate, 2-ethylhexyl phthalate, diisooctyl phthalate, dicapryl phthalate, dinonyl phthalate, diisononyl Phthalate compounds such as phthalate, didecyl phthalate, diisodecyl phthalate; tributyl trimellitate, tri-normal hex Trimellitic acid ester-based compounds such as rutrimellitate, tri (2-ethylhexyl) trimellitate, tri-normal octyl trimellitate, tri-isoctyl trimellitate, tri-isodecyl trimellitate; tri (2-ethylhexyl) pyromellitate, Pyromellitic acid such as tetrabutyl pyromellitate, tetra-normal hexyl pyromellitate, tetra (2-ethylhexyl) pyromellitate, tetra-normal octyl pyromellitate, tetra-isooctyl pyromellitate, tetra-isodecyl pyromellitate Ester compounds; benzoic acid ester compounds such as ethyl benzoate, isopropyl benzoate, ethyl paraoxybenzoate; phenyl salicylate, p-octylphenyl salicylate, p-tert-butylphenol Salicylic acid ester compounds such as rusalicylate; Glycolic acid ester compounds such as methylphthalylethyl glycolate, ethylphthalylethyl glycolate, butylphthalylbutyl glycolate; 2- (2′-hydroxy-5′-t- Benzotriazole compounds such as butylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-t-butylphenyl) benzotriazole; 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2′- Benzophenone compounds such as dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,4-dihydroxybenzophenone, 2,2 ′, 4,4′-tetrahydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone, N-benzenesulfone Sulfons such as amides Mido compounds, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-ethoxyphenyl)- 1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl- (2-hydroxy-4-propoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl- (2-hydroxy-4-butoxyphenyl)- Triazine compounds such as 1,3,5-triazine and the like are mentioned, and since an optical compensation film having more excellent retardation characteristics can be obtained, tricresyl phosphate, 2-ethylhexyl diphenyl phosphate, 2-hydroxy-4-methoxy Benzophenone and 2,2 ′, 4,4′-tetrahydroxybenzophenone are preferred, and these may be one or more as required. It can be used in combination.

本発明の樹脂組成物に芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤が含有される場合、光学特性及び機械的特性の観点から、好ましくは芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤の割合は0.01〜30重量%であり、さらに好ましくは0.01〜20重量%、特に好ましくは0.01〜15重量%である。   When the resin composition of the present invention contains an additive having an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocycle, it is preferably an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocycle from the viewpoint of optical properties and mechanical properties. The ratio of the additive having a ring is 0.01 to 30% by weight, more preferably 0.01 to 20% by weight, and particularly preferably 0.01 to 15% by weight.

本発明の樹脂組成物は、発明の主旨を超えない範囲で、その他ポリマー、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、顔料、染料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等を含有していてもよい。   The resin composition of the present invention contains other polymers, surfactants, polymer electrolytes, conductive complexes, pigments, dyes, antistatic agents, antiblocking agents, lubricants and the like within the scope of the invention. May be.

本発明の樹脂組成物は光学フィルムとして好適であり、該樹脂組成物を用いてなる光学フィルムは、光学補償フィルムとして特に好適である。   The resin composition of the present invention is suitable as an optical film, and an optical film using the resin composition is particularly suitable as an optical compensation film.

本発明の光学フィルムは、フィルムの取扱い性及び光学部材の薄膜化への適合性の観点から、厚みが5〜200μmであることが好ましく、5〜150μmがさらに好ましく、5〜120μmが特に好ましい。   The thickness of the optical film of the present invention is preferably from 5 to 200 μm, more preferably from 5 to 150 μm, particularly preferably from 5 to 120 μm, from the viewpoints of handleability of the film and suitability for thinning of the optical member.

本発明の光学フィルムは、画質の特性が良好なものとなることから、光線透過率が80%以上であることが好ましく、85%以上であることがさらに好ましい。   Since the optical film of the present invention has good image quality characteristics, the light transmittance is preferably 80% or more, and more preferably 85% or more.

本発明の光学フィルムは、画質の特性が良好なものとなることから、フィルムのヘーズ(曇り度)が2%以下であることが好ましく、1%以下であることがさらに好ましい。   Since the optical film of the present invention has good image quality characteristics, the haze (cloudiness) of the film is preferably 2% or less, and more preferably 1% or less.

本発明の光学補償フィルムの位相差特性は、下記式(a)で示される面内位相差(Re)が好ましくは50〜500nm、さらに好ましくは100〜450nm、特に好ましくは100〜400nmであって、下記式(b)で示されるNz係数が好ましくは0≦Nz≦1.0、さらに好ましくは0.30≦Nz≦0.65、特に好ましくは0.35≦Nz≦0.60であるものが好ましい。このときの位相差特性は全自動複屈折計(AXOMETRICS製、商品名AxoScan)を用い、測定波長589nmの条件で測定されるものである。   The retardation characteristics of the optical compensation film of the present invention are preferably such that the in-plane retardation (Re) represented by the following formula (a) is 50 to 500 nm, more preferably 100 to 450 nm, and particularly preferably 100 to 400 nm. The Nz coefficient represented by the following formula (b) is preferably 0 ≦ Nz ≦ 1.0, more preferably 0.30 ≦ Nz ≦ 0.65, and particularly preferably 0.35 ≦ Nz ≦ 0.60. Is preferred. The phase difference characteristic at this time is measured using a fully automatic birefringence meter (manufactured by AXOMETRICS, trade name: AxoScan) under a measurement wavelength of 589 nm.

これらは、従来の光学補償フィルムでは発現が困難な位相差特性である。   These are retardation characteristics that are difficult to develop with conventional optical compensation films.

Re=(nx−ny)×d (a)
Nz=(nx−nz)/(nx−ny) (b)
(式中、nxはフィルム面内の延伸軸方向の屈折率を示し、nyはフィルム面内の延伸軸に直交する方向の屈折率を示し、nzはフィルム面外(厚み方向)の屈折率を示し、dはフィルム厚みを示す。)
本発明の光学補償フィルムの波長分散特性としては、色ずれ抑制のため、450nmにおけるレターデーションと550nmにおけるレターデーションの比Re(450)/Re(550)が好ましくは0.60<Re(450)/Re(550)<1.10であり、さらに好ましくは0.70<Re(450)/Re(550)<1.02であり、特に好ましくは0.75<Re(450)/Re(550)<1.00である。
Re = (nx−ny) × d (a)
Nz = (nx-nz) / (nx-ny) (b)
(Where nx represents the refractive index in the direction of the stretching axis in the film plane, ny represents the refractive index in the direction perpendicular to the stretching axis in the film plane, and nz represents the refractive index outside the film plane (thickness direction). D indicates the film thickness.)
As the wavelength dispersion characteristic of the optical compensation film of the present invention, the ratio Re (450) / Re (550) of the retardation at 450 nm to the retardation at 550 nm is preferably 0.60 <Re (450) in order to suppress color misregistration. /Re(550)<1.10, more preferably 0.70 <Re (450) / Re (550) <1.02, and particularly preferably 0.75 <Re (450) / Re (550). ) <1.00.

本発明の光学フィルムの製造方法としては、本発明の光学フィルムの製造が可能であれば如何なる方法を用いてもよいが、光学特性、耐熱性、表面特性などに優れる光学フィルムが得られることから、溶液キャスト法により製造することが好ましい。ここで、溶液キャスト法とは、樹脂溶液(一般にはドープと称する。)を支持基板上に流延した後、加熱することにより溶媒を蒸発させて光学フィルムを得る方法である。流延する方法としては、例えば、Tダイ法、ドクターブレード法、バーコーター法、ロールコーター法、リップコーター法等が用いられ、工業的には、ダイからドープをベルト状またはドラム状の支持基板に連続的に押し出す方法が一般的に用いられている。また、用いられる支持基板としては、例えば、ガラス基板、ステンレスやフェロタイプ等の金属基板、ポリエチレンテレフタレート等のプラスチック基板などがある。高度に表面性、光学均質性の優れた基板を工業的に連続製膜するには、表面を鏡面仕上げした金属基板が好ましく用いられる。溶液キャスト法において、厚み精度、表面平滑性に優れた光学フィルムを製造する際には、樹脂溶液の粘度は極めて重要な因子であり、樹脂溶液の粘度は樹脂の濃度、分子量、溶媒の種類に依存するものである。   As a method for producing the optical film of the present invention, any method may be used as long as the optical film of the present invention can be produced, because an optical film excellent in optical properties, heat resistance, surface properties and the like can be obtained. It is preferable to produce by a solution casting method. Here, the solution casting method is a method of obtaining an optical film by casting a resin solution (generally referred to as a dope) on a support substrate and then evaporating the solvent by heating. As a casting method, for example, a T-die method, a doctor blade method, a bar coater method, a roll coater method, a lip coater method or the like is used. In general, a method of continuously extruding is used. Examples of the support substrate used include a glass substrate, a metal substrate such as stainless steel and ferrotype, and a plastic substrate such as polyethylene terephthalate. In order to industrially continuously form a substrate having high surface properties and optical homogeneity, a metal substrate having a mirror-finished surface is preferably used. In the solution casting method, the viscosity of the resin solution is an extremely important factor when producing an optical film with excellent thickness accuracy and surface smoothness. The viscosity of the resin solution depends on the resin concentration, molecular weight, and type of solvent. It depends.

本発明の光学フィルムを製造する際の樹脂溶液の粘度は、重合体の分子量、重合体の濃度、溶媒の種類で調整可能である。樹脂溶液の粘度としては、特に制限はないが、フィルム塗工性をより容易にするため、好ましくは100〜10000cps、さらに好ましくは300〜5000cps、特に好ましくは500〜3000cpsである。   The viscosity of the resin solution when producing the optical film of the present invention can be adjusted by the molecular weight of the polymer, the concentration of the polymer, and the type of solvent. The viscosity of the resin solution is not particularly limited, but is preferably 100 to 10000 cps, more preferably 300 to 5000 cps, and particularly preferably 500 to 3000 cps in order to make film coating easier.

本発明の光学補償フィルムの製造方法としては、例えば、一般式(1)で示される残基単位を有する樹脂、および正の固有複屈折を有する樹脂を含む樹脂組成物を溶剤に溶解し、得られた樹脂溶液を基材にキャストし、乾燥後、基材より剥離することが挙げられる。   As a method for producing the optical compensation film of the present invention, for example, a resin composition containing a resin having a residue unit represented by the general formula (1) and a resin having positive intrinsic birefringence is dissolved in a solvent. The obtained resin solution is cast on a substrate, and after drying, it is peeled off from the substrate.

本発明では、樹脂組成物に含まれる樹脂の濃度、樹脂の分子量、溶媒の種類、成膜乾燥温度によって面外位相差(Rth)を制御することができる。   In the present invention, the out-of-plane retardation (Rth) can be controlled by the concentration of the resin contained in the resin composition, the molecular weight of the resin, the type of solvent, and the film-forming drying temperature.

本発明の光学補償フィルムは、面内位相差(Re)を発現するために一軸延伸またはアンバランス二軸延伸することが好ましい。光学補償フィルムを延伸する方法としては、ロール延伸による縦一軸延伸法やテンター延伸による横一軸延伸法、これらの組み合わせによるアンバランス逐次二軸延伸法やアンバランス同時二軸延伸法等を用いることができる。また本発明では、熱収縮性フィルムの収縮力の作用下に延伸を行う特殊延伸法を用いずに位相差特性を発現させることができる。   The optical compensation film of the present invention is preferably uniaxially stretched or unbalanced biaxially stretched to develop in-plane retardation (Re). As a method of stretching the optical compensation film, it is possible to use a longitudinal uniaxial stretching method by roll stretching, a transverse uniaxial stretching method by tenter stretching, an unbalanced sequential biaxial stretching method or an unbalanced simultaneous biaxial stretching method by combining these it can. Moreover, in this invention, a phase difference characteristic can be expressed, without using the special extending | stretching method which extends | stretches under the effect | action of the shrinkage force of a heat-shrinkable film.

延伸する際の光学補償フィルムの厚みは、延伸処理のし易さおよび光学部材の薄膜化への適合性の観点から、10〜200μmが好ましく、30〜150μmがさらに好ましく、30〜120μmが特に好ましい。   The thickness of the optical compensation film at the time of stretching is preferably from 10 to 200 μm, more preferably from 30 to 150 μm, particularly preferably from 30 to 120 μm, from the viewpoint of easiness of stretching treatment and suitability for thinning of the optical member. .

延伸の温度は特に制限はないが、良好な位相差特性が得られることから、好ましくは50〜200℃、さらに好ましくは100〜180℃である。一軸延伸の延伸倍率は良好な位相差特性が得られることから、1.05〜3.5倍が好ましく、1.1〜3.0倍がさらに好ましい。アンバランス二軸延伸の延伸倍率は良好な位相差特性が得られることから、長さ方向には1.05〜3.5倍が好ましく、1.1〜3.0倍がさらに好ましく、幅方向には1.0〜1.2倍が好ましく、1.0〜1.1倍がさらに好ましい。延伸温度、延伸倍率により面内位相差(Re)を制御することができる。   The stretching temperature is not particularly limited, but is preferably 50 to 200 ° C., more preferably 100 to 180 ° C., because good retardation characteristics can be obtained. The stretching ratio of uniaxial stretching is preferably 1.05 to 3.5 times, and more preferably 1.1 to 3.0 times because good retardation characteristics can be obtained. Since the stretch ratio of unbalanced biaxial stretching can provide good retardation characteristics, 1.05 to 3.5 times are preferable in the length direction, 1.1 to 3.0 times are more preferable, and the width direction 1.0 to 1.2 times is preferable, and 1.0 to 1.1 times is more preferable. The in-plane retardation (Re) can be controlled by the stretching temperature and the stretching ratio.

本発明の光学フィルムは、必要に応じて他樹脂を含むフィルムと積層することができる。他樹脂としては、例えば、ポリエーテルサルフォン、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリナフタレンテレフタレート、ポリカーボネート、環状ポリオレフィン、マレイミド系樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド等が挙げられる。また、ハードコート層やガスバリア層を積層することも可能である。   The optical film of this invention can be laminated | stacked with the film containing other resin as needed. Examples of other resins include polyether sulfone, polyarylate, polyethylene terephthalate, polynaphthalene terephthalate, polycarbonate, cyclic polyolefin, maleimide resin, fluorine resin, polyimide, and the like. It is also possible to laminate a hard coat layer or a gas barrier layer.

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, this invention is not limited to these Examples.

なお、実施例により示す諸物性は、以下の方法により測定した。   In addition, the various physical properties shown by an Example were measured with the following method.

<重合体の解析>
核磁気共鳴測定装置(日本電子製、商品名JNM−ECZ400S/L1)を用い、プロトン核磁気共鳴分光(H−NMR)スペクトル分析より求めた。また、H−NMRスペクトル分析により求めることが困難であるものについては、元素分析装置(Perkin Elmer製、商品名2400II)を用い、CHN元素分析により求めた。
<Analysis of polymer>
Using a nuclear magnetic resonance measuring apparatus (manufactured by JEOL, trade name JNM-ECZ400S / L1), it was obtained by proton nuclear magnetic resonance spectroscopy ( 1 H-NMR) spectrum analysis. Also, for those be determined by 1 H-NMR spectrum analysis is difficult, elemental analyzer (Perkin Elmer Ltd., trade name 2400II) used was determined by CHN elemental analysis.

<数平均分子量の測定>
ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー(GPC)装置(東ソー製、商品名HLC8320GPC(カラムGMHHR―Hを装着))を用い、テトラヒドロフランまたはN,N―ジメチルホルムアミドを溶媒として、40℃で測定し、標準ポリスチレン換算値として求めた。
<Measurement of number average molecular weight>
Using a gel permeation chromatography (GPC) apparatus (trade name HLC8320GPC (equipped with column GMHHR-H) manufactured by Tosoh Corporation) using tetrahydrofuran or N, N-dimethylformamide as a solvent at 40 ° C., standard It calculated | required as a polystyrene conversion value.

<透明性の評価方法>
ヘーズメーター(日本電色工業製、商品名NDH5000)を使用して、フィルムの全光線透過率およびヘーズを測定した。
<Transparency evaluation method>
The total light transmittance and haze of the film were measured using a haze meter (trade name NDH5000, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).

<屈折率の測定>
アッベ屈折率計(アタゴ製)を用い、JIS K 7142(1981年版)に準拠して測定した。
<位相差特性の測定>
試料傾斜型自動複屈折計(AXOMETRICS製、商品名:AxoScan)を用いて波長589nmの光を用いて光学補償フィルムの面内位相差Re、面外位相差Rth、Nz係数を測定した。
<波長分散特性の測定>
試料傾斜型自動複屈折計(AXOMETRICS製、商品名:AxoScan)を用い、波長450nmの光による位相差Re(450)と波長550nmの光による位相差Re(550)の比として光学補償フィルムの波長分散特性を測定した。
<Measurement of refractive index>
An Abbe refractometer (manufactured by Atago) was used and measured according to JIS K 7142 (1981 version).
<Measurement of phase difference characteristics>
An in-plane retardation Re, an out-of-plane retardation Rth, and an Nz coefficient of the optical compensation film were measured using a sample tilt type automatic birefringence meter (manufactured by AXOMETRICS, trade name: AxoScan) using light having a wavelength of 589 nm.
<Measurement of wavelength dispersion characteristics>
Using a sample tilt type automatic birefringence meter (manufactured by AXOMETRICS, trade name: AxoScan), the wavelength of the optical compensation film as a ratio of the phase difference Re (450) due to light having a wavelength of 450 nm and the phase difference Re (550) due to light having a wavelength of 550 nm Dispersion characteristics were measured.

合成例1(4−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エチル/スチレン共重合体の重合)
容量50mLのガラスアンプルに4−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エチル15g、スチレン6.4g、重合開始剤である2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.44gおよびN,N−ジメチルホルムアミド45gを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン75gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのメタノール中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、4−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エチル/スチレン共重合体13.8gを得た(収率:65%)。
Synthesis Example 1 (Polymerization of 4-carboxy-α-ethyl cyanocinnamate / styrene copolymer)
Glass ampoule with a capacity of 50 mL, 15 g of ethyl 4-carboxy-α-cyanocinnamate, 6.4 g of styrene, 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane 0 as a polymerization initiator .44 g and N, N-dimethylformamide 45 g were added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure. The ampoule was placed in a constant temperature bath at 62 ° C. and kept for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 75 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 500 mL of methanol and precipitated, and then vacuum-dried at 60 ° C. for 10 hours to obtain 13.8 g of a 4-carboxy-α-ethyl cyanocinnamate / styrene copolymer ( Yield: 65%).

得られた4−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エチル/スチレン共重合体の数平均分子量は29,000であった。   The number average molecular weight of the obtained 4-carboxy-α-ethyl cyanocinnamate / styrene copolymer was 29,000.

また、H−NMR測定により、共重合体組成は4−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位/スチレン残基単位=35/65(モル%)であることを確認した。 The copolymer composition was confirmed by 1 H-NMR measurement to be 4-carboxy-α-cyanocyanocinnamate residue unit / styrene residue unit = 35/65 (mol%).

合成例2(4−カルボキシベンザルマロノニトリル/1−ビニルインドール共重合体の重合)
容量50mLのガラスアンプルに4−カルボキシベンザルマロノニトリル5.0g、1−ビニルインドール3.6g、重合開始剤である2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.18gおよびN,N−ジメチルホルムアミド8.5gを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン25gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのメタノール中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、4−カルボキシベンザルマロノニトリル/1−ビニルインドール共重合体5.0gを得た(収率:58%)。
Synthesis Example 2 (Polymerization of 4-carboxybenzalmalononitrile / 1-vinylindole copolymer)
In a 50 mL glass ampule, 5.0 g of 4-carboxybenzalmalononitrile, 3.6 g of 1-vinylindole, 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoylperoxy) as a polymerization initiator 0.18 g of hexane and 8.5 g of N, N-dimethylformamide were added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure. The ampoule was placed in a constant temperature bath at 62 ° C. and kept for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 25 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 500 mL of methanol and precipitated, and then vacuum-dried at 60 ° C. for 10 hours to obtain 5.0 g of 4-carboxybenzalmalononitrile / 1-vinylindole copolymer ( Yield: 58%).

得られた4−カルボキシベンザルマロノニトリル/1−ビニルインドール共重合体の数平均分子量は23,000であった。   The number average molecular weight of the obtained 4-carboxybenzalmalononitrile / 1-vinylindole copolymer was 23,000.

また、CHN元素分析により、共重合体組成は4−カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位/1−ビニルインドール残基単位=33/67(モル%)であることを確認した。   Moreover, it was confirmed by CHN elemental analysis that the copolymer composition was 4-carboxybenzalmalononitrile residue unit / 1-vinylindole residue unit = 33/67 (mol%).

合成例3(4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル/9−ビニルカルバゾール共重合体の重合)
容量50mLのガラスアンプルに4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル5.0g、9−ビニルカルバゾール4.4g、重合開始剤である2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.17gおよびテトラヒドロフラン8.5gを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン25gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのメタノール中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル/9−ビニルカルバゾール共重合体7.7gを得た(収率:82%)。
Synthesis Example 3 (Polymerization of 4-hydroxy-α-ethyl cyanocinnamate / 9-vinylcarbazole copolymer)
In a glass ampule with a capacity of 50 mL, 5.0 g of ethyl 4-hydroxy-α-cyanocinnamate, 4.4 g of 9-vinylcarbazole, 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoyl) which is a polymerization initiator Peroxy) hexane (0.17 g) and tetrahydrofuran (8.5 g) were added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure. The ampoule was placed in a constant temperature bath at 62 ° C. and kept for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 25 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 500 mL of methanol and precipitated, and then vacuum-dried at 60 ° C. for 10 hours to obtain 7.7 g of 4-hydroxy-α-ethyl cyanocinnamate / 9-vinylcarbazole copolymer. Obtained (yield: 82%).

得られた4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル/9−ビニルカルバゾール共重合体の数平均分子量は22,000であった。   The number average molecular weight of the obtained 4-hydroxy-α-cyanocyanocinnamate / 9-vinylcarbazole copolymer was 22,000.

また、H−NMR測定により、共重合体組成は4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位/9−ビニルカルバゾール残基単位=42/58(モル%)であることを確認した。 The copolymer composition was confirmed by 1 H-NMR measurement to be 4-hydroxy-α-cyanocyanocinnamate residue unit / 9-vinylcarbazole residue unit = 42/58 (mol%).

合成例4(4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル/2−ビニルナフタレン共重合体の重合)
容量50mLのガラスアンプルに4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル5.0g、2−ビニルナフタレン4.5g、重合開始剤である2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.21gおよびテトラヒドロフラン10gを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン25gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのメタノール中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル/2−ビニルナフタレン共重合体6.2gを得た(収率:65%)。
Synthesis Example 4 (polymerization of 4-hydroxybenzalmalononitrile / 2-vinylnaphthalene copolymer)
In a glass ampoule with a capacity of 50 mL, 5.0 g of 4-hydroxybenzalmalononitrile, 4.5 g of 2-vinylnaphthalene, and 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoylperoxy) as a polymerization initiator After adding 0.21 g of hexane and 10 g of tetrahydrofuran, repeating nitrogen substitution and depressurization, the mixture was sealed under reduced pressure. The ampoule was placed in a constant temperature bath at 62 ° C. and kept for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 25 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 500 mL of methanol and precipitated, and then vacuum-dried at 60 ° C. for 10 hours to obtain 6.2 g of 4-hydroxybenzalmalononitrile / 2-vinylnaphthalene copolymer ( Yield: 65%).

得られた4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル/2−ビニルナフタレン共重合体の数平均分子量は12,000であった。   The number average molecular weight of the obtained 4-hydroxybenzalmalononitrile / 2-vinylnaphthalene copolymer was 12,000.

また、CHN元素分析測定により、共重合体組成は4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位/2−ビニルナフタレン残基単位=43/57(モル%)であることを確認した。   The copolymer composition was confirmed to be 4-hydroxybenzalmalononitrile residue unit / 2-vinylnaphthalene residue unit = 43/57 (mol%) by CHN elemental analysis.

合成例5(4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル/N−ビニルスクシンイミド共重合体の重合)
容量50mLのガラスアンプルに4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル5.0g、N−ビニルスクシンイミド2.6g、重合開始剤である2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.15gおよびテトラヒドロフラン8.5gを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、N,N−ジメチルホルムアミド25gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのメタノール中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル/N−ビニルスクシンイミド共重合体5.5gを得た(収率:73%)。
Synthesis Example 5 (polymerization of 4-hydroxy-α-cyanocyanocinnamate / N-vinylsuccinimide copolymer)
In a glass ampule with a capacity of 50 mL, 5.0 g of isobutyl 4-hydroxy-α-cyanocinnamate, 2.6 g of N-vinylsuccinimide, and 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoyl) as a polymerization initiator Peroxy) hexane (0.15 g) and tetrahydrofuran (8.5 g) were added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure. The ampoule was placed in a constant temperature bath at 62 ° C. and kept for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved with 25 g of N, N-dimethylformamide. This polymer solution was dropped into 500 mL of methanol and precipitated, and then vacuum dried at 60 ° C. for 10 hours to obtain 5.5 g of 4-hydroxy-α-cyanocinnamic acid isobutyl / N-vinylsuccinimide copolymer. Obtained (yield: 73%).

得られた4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル/N−ビニルスクシンイミド共重合体の数平均分子量は16,000であった。   The number average molecular weight of the obtained 4-hydroxy-α-cyanocyanocinnamate / N-vinylsuccinimide copolymer was 16,000.

また、H−NMR測定により、共重合体組成は4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位/N−ビニルスクシンイミド残基単位=46/54(モル%)であることを確認した。 The copolymer composition was confirmed to be 4-hydroxy-α-cyanocinnamic acid isobutyl residue unit / N-vinylsuccinimide residue unit = 46/54 (mol%) by 1 H-NMR measurement.

合成例6(3,4−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル/N−ビニルフタルイミド共重合体の重合)
容量50mLのガラスアンプルに3,4−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル5.0g、N−ビニルフタルイミド3.7g、重合開始剤である2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.15gおよびテトラヒドロフラン8.5gを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、N,N−ジメチルホルムアミド25gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのメタノール中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、3,4−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル/N−ビニルフタルイミド共重合体6.4gを得た(収率:73%)。
Synthesis Example 6 (polymerization of ethyl 3,4-dihydroxy-α-cyanocinnamate / N-vinylphthalimide copolymer)
In a glass ampule with a capacity of 50 mL, 5.0 g of ethyl 3,4-dihydroxy-α-cyanocinnamate, 3.7 g of N-vinylphthalimide, and 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethyl) as a polymerization initiator Hexanoylperoxy) hexane (0.15 g) and tetrahydrofuran (8.5 g) were added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure. The ampoule was placed in a constant temperature bath at 62 ° C. and kept for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved with 25 g of N, N-dimethylformamide. This polymer solution was dropped into 500 mL of methanol and precipitated, and then vacuum-dried at 60 ° C. for 10 hours to obtain a 3,4-dihydroxy-α-cyanocyanocinnamate / N-vinylphthalimide copolymer. 4 g was obtained (yield: 73%).

得られた3,4−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル/N−ビニルフタルイミド共重合体の数平均分子量は21,000であった。   The number average molecular weight of the obtained 3,4-dihydroxy-α-cyanocyanocinnamic acid / N-vinylphthalimide copolymer was 21,000.

また、H−NMR測定により、共重合体組成は3,4−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位/N−ビニルフタルイミド残基単位=41/59(モル%)であることを確認した。 Moreover, it is confirmed by 1 H-NMR measurement that the copolymer composition is 3,4-dihydroxy-α-cyanocyanocinnamate residue unit / N-vinylphthalimide residue unit = 41/59 (mol%). did.

合成例7(4−カルボキシ−3−ヒドロキシベンザルマロノニトリル/2−ビニルフラン共重合体の重合)
容量75mLのガラスアンプルに4−カルボキシ−3−ヒドロキシベンザルマロノニトリル15g、2−ビニルフラン6.6g、重合開始剤である2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.50gおよびテトラヒドロフラン30gを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン75gで溶解させた。このポリマー溶液を1500mLのメタノール中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、4−カルボキシ−3−ヒドロキシベンザルマロノニトリル/2−ビニルフラン共重合体12.6gを得た(収率:58%)。
Synthesis Example 7 (polymerization of 4-carboxy-3-hydroxybenzalmalononitrile / 2-vinylfuran copolymer)
In a glass ampoule with a capacity of 75 mL, 15 g of 4-carboxy-3-hydroxybenzalmalononitrile, 6.6 g of 2-vinylfuran, 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoyl parper as a polymerization initiator) Oxy) 0.50 g of hexane and 30 g of tetrahydrofuran were added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure. The ampoule was placed in a constant temperature bath at 62 ° C. and kept for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 75 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 1500 mL of methanol and precipitated, and then vacuum-dried at 60 ° C. for 10 hours to obtain 12.6 g of 4-carboxy-3-hydroxybenzalmalononitrile / 2-vinylfuran copolymer. (Yield: 58%) was obtained.

得られた4−カルボキシ−3−ヒドロキシベンザルマロノニトリル/2−ビニルフラン共重合体の数平均分子量は15,000であった。   The number average molecular weight of the obtained 4-carboxy-3-hydroxybenzalmalononitrile / 2-vinylfuran copolymer was 15,000.

また、CHN元素分析により、共重合体組成は4−カルボキシ−3−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位/2−ビニルフラン残基単位=36/64(モル%)であることを確認した。   Moreover, it was confirmed by CHN elemental analysis that the copolymer composition was 4-carboxy-3-hydroxybenzalmalononitrile residue unit / 2-vinylfuran residue unit = 36/64 (mol%).

合成例8(4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル/9−ビニルカルバゾール共重合体の重合)
容量50mLのガラスアンプルに4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル5.0g、9−ビニルカルバゾール3.9g、重合開始剤である2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.14gおよびテトラヒドロフラン8.0gを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン25gで溶解させた。このポリマー溶液を500mLのメタノール中に滴下して析出させた後、60℃で10時間真空乾燥することにより、4−ヒドロキシ−α−ケイ皮酸イソブチル/9−ビニルカルバゾール共重合体7.5gを得た(収率:85%)。
Synthesis Example 8 (polymerization of 4-butyl-α-cyanocyanocinnamate / 9-vinylcarbazole copolymer)
In a glass ampule with a capacity of 50 mL, 5.0 g of isobutyl 4-hydroxy-α-cyanocinnamate, 3.9 g of 9-vinylcarbazole, and 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoyl) as a polymerization initiator Peroxy) hexane (0.14 g) and tetrahydrofuran (8.0 g) were added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure. The ampoule was placed in a constant temperature bath at 62 ° C. and kept for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 25 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 500 mL of methanol and precipitated, and then vacuum-dried at 60 ° C. for 10 hours to obtain 7.5 g of 4-hydroxy-α-isobutyl cinnamate / 9-vinylcarbazole copolymer. Obtained (yield: 85%).

得られた4−ヒドロキシ−α−ケイ皮酸イソブチル/9−ビニルカルバゾール共重合体の数平均分子量は12,000であった。   The number average molecular weight of the obtained 4-hydroxy-α-isobutyl cinnamate / 9-vinylcarbazole copolymer was 12,000.

また、CHN元素分析により、共重合体組成は4−ヒドロキシ−α−ケイ皮酸イソブチル残基単位/9−ビニルカルバゾール残基単位=46/54(モル%)であることを確認した。   Moreover, it was confirmed by CHN elemental analysis that the copolymer composition was 4-hydroxy-α-isobutyl cinnamate residue unit / 9-vinylcarbazole residue unit = 46/54 (mol%).

実施例1
合成例1により得られた4−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エチル/スチレン共重合体2.0g、正の固有複屈折を有する樹脂としてエチルセルロース(ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード(ETHOCEL standard)100、分子量Mn=55,000、分子量Mw=176,000、Mw/Mn=3.2、全置換度DS=2.5)10gをトルエン/メチルエチルケトン=6/4(重量比)溶液に溶解して15重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度40℃の後150℃にて2段乾燥した後、幅150mmのフィルムを得た(エチルセルロース:83重量%、4−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エチル/スチレン共重合体:17重量%)。得られたフィルムを50mm角に切り出し、140℃で1.3倍に一軸延伸した(延伸後の厚み40μm)。
Example 1
2.0 g of ethyl 4-carboxy-α-cyanocinnamate / styrene copolymer obtained in Synthesis Example 1, ethyl cellulose (ETHOCEL standard 100 manufactured by Dow Chemical Co., Ltd.) as a resin having positive intrinsic birefringence, 10 g of molecular weight Mn = 55,000, molecular weight Mw = 176,000, Mw / Mn = 3.2, total substitution degree DS = 2.5) was dissolved in a toluene / methyl ethyl ketone = 6/4 (weight ratio) solution and 15 It was made into a weight% resin solution, poured on a polyethylene terephthalate film with a coater, dried at 40 ° C. and then dried at 150 ° C. to obtain a film having a width of 150 mm (ethyl cellulose: 83% by weight, 4-carboxyl). -Ethyl α-cyanocinnamate / styrene copolymer: 17% by weight). The obtained film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 1.3 times at 140 ° C. (thickness after stretching: 40 μm).

得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に示す。   The total optical transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the obtained optical compensation film were measured. The results are shown in Table 1.

Figure 2019019303
Figure 2019019303

得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差(Re)、波長分散特性(Re(450)/Re(550))、Nz係数が目的とする光学特性を有するものであった。   The obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re), wavelength dispersion characteristics (Re (450) / Re (550)), and Nz coefficient. It has the optical characteristic to do.

実施例2
合成例2により得られた4−カルボキシベンザルマロノニトリル/1−ビニルインドール共重合体1.5g、正の固有複屈折を有する樹脂としてセルロースアセテートブチレート(分子量Mn=72,000、アセチル基=15モル%、ブチリル基=70モル%、全置換度DS=2.55)10gをトルエン/メチルエチルケトン=6/4(重量比)溶液に溶解して15重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度40℃の後150℃にて2段乾燥した後、幅150mmのフィルムを得た(エチルセルロース:87重量%、4−カルボキシベンザルマロノニトリル/1−ビニルインドール共重合体:13重量%)。得られたフィルムを50mm角に切り出し、140℃で1.8倍に一軸延伸した(延伸後の厚み80μm)。
Example 2
1.5 g of 4-carboxybenzalmalononitrile / 1-vinylindole copolymer obtained in Synthesis Example 2, cellulose acetate butyrate (molecular weight Mn = 72,000, acetyl group = 15 mol%, butyryl group = 70 mol%, total substitution degree DS = 2.55) 10 g was dissolved in a toluene / methyl ethyl ketone = 6/4 (weight ratio) solution to give a 15 wt% resin solution, and polyethylene terephthalate was coated by a coater. After flowing on the film and drying in two stages at a drying temperature of 40 ° C. and 150 ° C., a film having a width of 150 mm was obtained (ethylcellulose: 87 wt%, 4-carboxybenzalmalononitrile / 1-vinylindole copolymer) Combined: 13% by weight). The obtained film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 1.8 times at 140 ° C. (thickness after stretching 80 μm).

得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。   The total optical transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the obtained optical compensation film were measured. The results are also shown in Table 1.

得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差(Re)、波長分散特性(Re(450)/Re(550))、Nz係数が目的とする光学特性を有するものであった。   The obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re), wavelength dispersion characteristics (Re (450) / Re (550)), and Nz coefficient. It has the optical characteristic to do.

実施例3
合成例3により得られた4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル/9−ビニルカルバゾール共重合体1.5g、正の固有複屈折を有する樹脂としてエチルセルロース(ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード(ETHOCEL standard)100、分子量Mn=55,000、分子量Mw=176,000、Mw/Mn=3.2、全置換度DS=2.5)10gをトルエン/酢酸エチル=4/6(重量比)溶液に溶解して15重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度40℃の後150℃にて2段乾燥した後、幅150mmのフィルムを得た(エチルセルロース:87重量%、4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル/9−ビニルカルバゾール共重合体:13重量%)。得られたフィルムを50mm角に切り出し、145℃で1.5倍に一軸延伸した(延伸後の厚み40μm)。
Example 3
1.5 g of ethyl 4-hydroxy-α-cyanocinnamate / 9-vinylcarbazole obtained in Synthesis Example 3 and ethyl cellulose (ETHOCEL standard manufactured by Dow Chemical Co., Ltd.) as a resin having positive intrinsic birefringence ) 100, molecular weight Mn = 55,000, molecular weight Mw = 176,000, Mw / Mn = 3.2, total substitution degree DS = 2.5) 10 g in toluene / ethyl acetate = 4/6 (weight ratio) solution A 15% by weight resin solution was dissolved and poured onto a polyethylene terephthalate film with a coater. After drying at a drying temperature of 40 ° C. and two steps at 150 ° C., a film with a width of 150 mm was obtained (ethyl cellulose: 87% by weight) , 4-hydroxy-α-cyanocyanocinnamate / 9-vinylcarbazole copolymer: 13% by weight ). The obtained film was cut into 50 mm squares and uniaxially stretched 1.5 times at 145 ° C. (thickness after stretching: 40 μm).

得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。   The total optical transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the obtained optical compensation film were measured. The results are also shown in Table 1.

得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差(Re)、波長分散特性(Re(450)/Re(550))、Nz係数が目的とする光学特性を有するものであった。   The obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re), wavelength dispersion characteristics (Re (450) / Re (550)), and Nz coefficient. It has the optical characteristic to do.

実施例4
合成例4により得られた4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル/2−ビニルナフタレン共重合体2.0g、正の固有複屈折を有する樹脂としてエチルセルロース(ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード(ETHOCEL standard)100、分子量Mn=55,000、分子量Mw=176,000、Mw/Mn=3.2、全置換度DS=2.5)10gをトルエン/酢酸エチル=4/6(重量比)溶液に溶解して15重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度40℃の後150℃にて2段乾燥した後、幅150mmのフィルムを得た(エチルセルロース:83重量%、4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル/2−ビニルナフタレン共重合体:17重量%)。得られたフィルムを50mm角に切り出し、140℃で1.3倍に一軸延伸した(延伸後の厚み40μm)。
Example 4
2.0 g of 4-hydroxybenzalmalononitrile / 2-vinylnaphthalene copolymer obtained by Synthesis Example 4, ethyl cellulose (ETHOCEL standard 100 manufactured by Dow Chemical Co.) as a resin having positive intrinsic birefringence, 10 g of molecular weight Mn = 55,000, molecular weight Mw = 176,000, Mw / Mn = 3.2, total substitution degree DS = 2.5) was dissolved in a toluene / ethyl acetate = 4/6 (weight ratio) solution. A 15% by weight resin solution was poured on a polyethylene terephthalate film with a coater and dried in two stages at a drying temperature of 40 ° C. and then at 150 ° C. to obtain a film having a width of 150 mm (ethyl cellulose: 83% by weight, 4- Hydroxybenzalmalononitrile / 2-vinylnaphthalene copolymer: 17% by weight). The obtained film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 1.3 times at 140 ° C. (thickness after stretching: 40 μm).

得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。   The total optical transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the obtained optical compensation film were measured. The results are also shown in Table 1.

得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差(Re)、波長分散特性(Re(450)/Re(550))、Nz係数が目的とする光学特性を有するものであった。   The obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re), wavelength dispersion characteristics (Re (450) / Re (550)), and Nz coefficient. It has the optical characteristic to do.

実施例5
合成例5により得られた4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル/N−ビニルスクシンイミド共重合体2.0g、正の固有複屈折を有する樹脂としてセルロースアセテートプロピオネート(分子量Mn=75,000、アセチル基=5モル%、プロピオニル基=80モル%、全置換度DS=2.55)10gをトルエン/メチルエチルケトン=6/4(重量比)溶液に溶解して15重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度40℃の後150℃にて2段乾燥した後、幅150mmのフィルムを得た(エチルセルロース:83重量%、4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル/N−ビニルスクシンイミド共重合体:17重量%)。得られたフィルムを50mm角に切り出し、140℃で1.7倍に一軸延伸した(延伸後の厚み60μm)。
Example 5
2.0 g of 4-hydroxy-α-cyanocyanocinnamate / N-vinylsuccinimide copolymer obtained in Synthesis Example 5, cellulose acetate propionate (molecular weight Mn = 75,000 as a resin having positive intrinsic birefringence) , Acetyl group = 5 mol%, propionyl group = 80 mol%, total substitution degree DS = 2.55) 10 g was dissolved in a toluene / methyl ethyl ketone = 6/4 (weight ratio) solution to obtain a 15 wt% resin solution. After flowing on a polyethylene terephthalate film with a coater and drying in two stages at a drying temperature of 40 ° C. and 150 ° C., a film having a width of 150 mm was obtained (ethylcellulose: 83% by weight, isobutyl 4-hydroxy-α-cyanocinnamate) / N-vinylsuccinimide copolymer: 17% by weight). The obtained film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 1.7 times at 140 ° C. (thickness after stretching 60 μm).

得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。   The total optical transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the obtained optical compensation film were measured. The results are also shown in Table 1.

得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差(Re)、波長分散特性(Re(450)/Re(550))、Nz係数が目的とする光学特性を有するものであった。   The obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re), wavelength dispersion characteristics (Re (450) / Re (550)), and Nz coefficient. It has the optical characteristic to do.

実施例6
合成例6により得られた3,4−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル/N−ビニルフタルイミド共重合体1.5g、正の固有複屈折を有する樹脂としてエチルセルロース(ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード(ETHOCEL standard)100、分子量Mn=55,000、分子量Mw=176,000、Mw/Mn=3.2、全置換度DS=2.5)10gをトルエン/酢酸エチル=6/4(重量比)溶液に溶解して15重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度40℃の後150℃にて2段乾燥した後、幅150mmのフィルムを得た(エチルセルロース:87重量%、3,4−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル/N−ビニルフタルイミド共重合体:13重量%)。得られたフィルムを50mm角に切り出し、145℃で1.5倍に一軸延伸した(延伸後の厚み40μm)。
Example 6
1.5 g of ethyl 3,4-dihydroxy-α-cyanocinnamate / N-vinylphthalimide copolymer obtained in Synthesis Example 6 and ethyl cellulose (Ethocel Standard manufactured by Dow Chemical Co., Ltd.) as a resin having positive intrinsic birefringence ( ETHOCEL standard) 100, molecular weight Mn = 55,000, molecular weight Mw = 176,000, Mw / Mn = 3.2, total substitution degree DS = 2.5) 10 g of toluene / ethyl acetate = 6/4 (weight ratio) A 15% by weight resin solution was dissolved in the solution, poured onto a polyethylene terephthalate film with a coater, dried in two stages at a drying temperature of 40 ° C. and then 150 ° C., and then a film with a width of 150 mm was obtained (ethyl cellulose: 87 % By weight, 3,4-dihydroxy-α-cyanocinnamic acid ethyl / N-vinylphthalimide copolymer : 13% by weight). The obtained film was cut into 50 mm squares and uniaxially stretched 1.5 times at 145 ° C. (thickness after stretching: 40 μm).

得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。   The total optical transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the obtained optical compensation film were measured. The results are also shown in Table 1.

得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差(Re)、波長分散特性(Re(450)/Re(550))、Nz係数が目的とする光学特性を有するものであった。
実施例7
合成例7により得られた4−カルボキシ−3−ヒドロキシベンザルマロノニトリル/2−ビニルフラン共重合体2.0g、正の固有複屈折を有する樹脂としてエチルセルロース(ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード(ETHOCEL standard)100、分子量Mn=55,000、分子量Mw=176,000、Mw/Mn=3.2、全置換度DS=2.5)10gをトルエン/酢酸エチル=6/4(重量比)溶液に溶解して15重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度40℃の後150℃にて2段乾燥した後、幅150mmのフィルムを得た(エチルセルロース:83重量%、4−カルボキシ−3−ヒドロキシベンザルマロノニトリル/2−ビニルフラン共重合体:17重量%)。得られたフィルムを50mm角に切り出し、140℃で1.2倍に一軸延伸した(延伸後の厚み40μm)。
The obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re), wavelength dispersion characteristics (Re (450) / Re (550)), and Nz coefficient. It has the optical characteristic to do.
Example 7
2.0 g of 4-carboxy-3-hydroxybenzalmalononitrile / 2-vinylfuran copolymer obtained according to Synthesis Example 7, ethyl cellulose (ETHOCEL manufactured by Dow Chemical Co., Ltd.) as a resin having positive intrinsic birefringence standard) 100, molecular weight Mn = 55,000, molecular weight Mw = 176,000, Mw / Mn = 3.2, total substitution degree DS = 2.5) 10 g in toluene / ethyl acetate = 6/4 (weight ratio) solution A 15% by weight resin solution was dissolved into a polyethylene terephthalate film by a coater, dried at a drying temperature of 40 ° C. and then dried at 150 ° C. in two steps to obtain a film having a width of 150 mm (ethyl cellulose: 83 wt. %, 4-carboxy-3-hydroxybenzalmalononitrile / 2-vinylfuran copolymer : 17 wt%). The obtained film was cut into 50 mm square and uniaxially stretched 1.2 times at 140 ° C. (thickness after stretching: 40 μm).

得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。   The total optical transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the obtained optical compensation film were measured. The results are also shown in Table 1.

得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差(Re)、波長分散特性(Re(450)/Re(550))、Nz係数が目的とする光学特性を有するものであった。   The obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re), wavelength dispersion characteristics (Re (450) / Re (550)), and Nz coefficient. It has the optical characteristic to do.

実施例8
合成例8により得られた4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル/9−ビニルカルバゾール共重合体2.0g、正の固有複屈折を有する樹脂としてエチルセルロース(ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード(ETHOCEL standard)100、分子量Mn=55,000、分子量Mw=176,000、Mw/Mn=3.2、全置換度DS=2.5)10gをトルエン/酢酸エチル=6/4(重量比)溶液に溶解して15重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度40℃の後150℃にて2段乾燥した後、幅150mmのフィルムを得た(エチルセルロース:83重量%、4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル/9−ビニルカルバゾール共重合体:17重量%)。得られたフィルムを50mm角に切り出し、150℃で1.5倍に一軸延伸した(延伸後の厚み40μm)。
Example 8
2.0 g of 4-hydroxy-α-cyanocyanocinnamate / 9-vinylcarbazole copolymer obtained in Synthesis Example 8 and ethyl cellulose (ETHOCEL standard manufactured by Dow Chemical Co., Ltd.) as a resin having positive intrinsic birefringence ) 100, molecular weight Mn = 55,000, molecular weight Mw = 176,000, Mw / Mn = 3.2, total substitution degree DS = 2.5) 10 g in a toluene / ethyl acetate = 6/4 (weight ratio) solution A 15% by weight resin solution was dissolved and poured onto a polyethylene terephthalate film with a coater. After drying at a drying temperature of 40 ° C. and two steps at 150 ° C., a film with a width of 150 mm was obtained (ethyl cellulose: 83% by weight) 4-hydroxy-α-cyanocyanocinnamate / 9-vinylcarbazole copolymer: 1 7% by weight). The obtained film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 1.5 times at 150 ° C. (thickness after stretching: 40 μm).

得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。   The total optical transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the obtained optical compensation film were measured. The results are also shown in Table 1.

得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差(Re)、波長分散特性(Re(450)/Re(550))、Nz係数が目的とする光学特性を有するものであった。   The obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re), wavelength dispersion characteristics (Re (450) / Re (550)), and Nz coefficient. It has the optical characteristic to do.

比較例1
エチルセルロース(ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード(ETHOCEL standard)100、分子量Mn=55,000、分子量Mw=176,000、Mw/Mn=3.2、全置換度DS=2.5)10gをトルエン/酢酸エチル=8/2(重量比)溶液に溶解して15重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度40℃の後150℃にて2段乾燥した後、幅150mmのフィルムを得た。得られたフィルムを50mm角に切り出し、140℃で1.5倍に一軸延伸した(延伸後の厚み40μm)。
Comparative Example 1
Ethyl cellulose (ETHOCEL standard 100 manufactured by Dow Chemical Co., Ltd.), molecular weight Mn = 55,000, molecular weight Mw = 176,000, Mw / Mn = 3.2, total substitution degree DS = 2.5) 10 g with toluene / Dissolve in ethyl acetate = 8/2 (weight ratio) solution to make a 15 wt% resin solution, pour it onto a polyethylene terephthalate film with a coater, and dry it twice at 150 ° C after drying temperature 40 ° C, A 150 mm film was obtained. The obtained film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 1.5 times at 140 ° C. (thickness after stretching: 40 μm).

得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。   The total optical transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the obtained optical compensation film were measured. The results are also shown in Table 1.

得られたフィルムは、Nz係数が目的とする光学特性を有していなかった。   The obtained film did not have the desired optical characteristics of the Nz coefficient.

比較例2
セルロースアセテートブチレート(分子量Mn=72,000、アセチル基=15モル%、ブチリル基=70モル%、全置換度DS=2.55)10gをトルエン/メチルエチルケトン=6/4(重量比)溶液に溶解して15重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度40℃の後150℃にて2段乾燥した後、幅150mmのフィルムを得た。得られたフィルムを50mm角に切り出し、140℃で1.8倍に一軸延伸した(延伸後の厚み80μm)。
Comparative Example 2
10 g of cellulose acetate butyrate (molecular weight Mn = 72,000, acetyl group = 15 mol%, butyryl group = 70 mol%, total substitution degree DS = 2.55) in a toluene / methyl ethyl ketone = 6/4 (weight ratio) solution A 15% by weight resin solution was dissolved and poured onto a polyethylene terephthalate film with a coater. After drying at a drying temperature of 40 ° C. and then at 150 ° C., a film having a width of 150 mm was obtained. The obtained film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 1.8 times at 140 ° C. (thickness after stretching 80 μm).

得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。   The total optical transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the obtained optical compensation film were measured. The results are also shown in Table 1.

得られたフィルムは、Nz係数が目的とする光学特性を有していなかった。   The obtained film did not have the desired optical characteristics of the Nz coefficient.

比較例3
合成例1により得られた4−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エチル/スチレン共重合体10gをトルエン/メチルエチルケトン=6/4(重量比)溶液に溶解して20重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度40℃の後150℃にて2段乾燥した後、幅150mmのフィルムを得た。得られたフィルムを50mm角に切り出し、180℃で1.1倍に一軸延伸した(延伸後の厚み15μm)。
Comparative Example 3
10 g of the 4-carboxy-α-cyanocyanocinnamate / styrene copolymer obtained in Synthesis Example 1 was dissolved in a toluene / methyl ethyl ketone = 6/4 (weight ratio) solution to form a 20 wt% resin solution. After flowing on a polyethylene terephthalate film and drying twice at 150 ° C. after a drying temperature of 40 ° C., a film having a width of 150 mm was obtained. The obtained film was cut into 50 mm squares and uniaxially stretched 1.1 times at 180 ° C. (thickness after stretching: 15 μm).

得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。   The total optical transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the obtained optical compensation film were measured. The results are also shown in Table 1.

得られたフィルムは、面内位相差(Re)およびNz係数が目的とする光学特性を有していなかった。   The obtained film did not have the optical characteristics intended for the in-plane retardation (Re) and the Nz coefficient.

比較例4
合成例7により得られた4−カルボキシ−3−ヒドロキシベンザルマロノニトリル/2−ビニルフラン共重合体10gをトルエン/酢酸エチル=6/4(重量比)溶液に溶解して20重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度40℃の後150℃にて2段乾燥した後、幅150mmのフィルムを得た。得られたフィルムを50mm角に切り出し、180℃で1.1倍に一軸延伸した(延伸後の厚み15μm)。
Comparative Example 4
10% of 4-carboxy-3-hydroxybenzalmalononitrile / 2-vinylfuran copolymer obtained in Synthesis Example 7 was dissolved in a toluene / ethyl acetate = 6/4 (weight ratio) solution to give a 20% by weight resin. The resulting solution was poured onto a polyethylene terephthalate film with a coater and dried in two stages at 150 ° C. after a drying temperature of 40 ° C. to obtain a film having a width of 150 mm. The obtained film was cut into 50 mm squares and uniaxially stretched 1.1 times at 180 ° C. (thickness after stretching: 15 μm).

得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表1に合わせて示す。   The total optical transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the obtained optical compensation film were measured. The results are also shown in Table 1.

得られたフィルムは、面内位相差(Re)およびNz係数が目的とする光学特性を有していなかった。   The obtained film did not have the optical characteristics intended for the in-plane retardation (Re) and the Nz coefficient.

Claims (8)

下記一般式(1)で示される残基単位を有する樹脂および正の固有複屈折を有する樹脂を含有することを特徴とする樹脂組成物。
Figure 2019019303
(1)
(ここで、R、Rはそれぞれ独立して水素(ただし、R、Rが共に水素である場合を除く。)、シアノ基、エステル基(−C(=O)OX)、アミド基(−C(=O)N(X)(X)または−NXC(=O)X)、またはアシル基(−C(=O)X)(ここで、X〜Xはそれぞれ独立して炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜14の環状基を示す。)を示す。R〜Rはそれぞれ独立して水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、炭素数3〜14の環状基、ハロゲン、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、スルホン酸基、アルコキシ基(−OX)、エステル基(−C(=O)OX)、スルホニル基(−SOOX)、アミド基(−C(=O)N(X10)(X11)または−NX12C(=O)X13)、アシル基(−C(=O)X14)、アミノ基(−N(X15)(X16))、またはアシルオキシ基(−OC(=O)X17)(ここで、X〜Xは、それぞれ独立して炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜14の環状基を示し、X10〜X17はそれぞれ独立して水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜14の環状基を示す。)を示す。また、R〜Rは隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。)
A resin composition comprising a resin having a residue unit represented by the following general formula (1) and a resin having positive intrinsic birefringence.
Figure 2019019303
(1)
(Here, R 1 and R 2 are each independently hydrogen (except when R 1 and R 2 are both hydrogen), a cyano group, an ester group (—C (═O) OX 1 ), An amide group (—C (═O) N (X 2 ) (X 3 ) or —NX 4 C (═O) X 5 ), or an acyl group (—C (═O) X 6 ) (where X 1 ˜X 6 each independently represents a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms. R 7 is independently hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms, a halogen, a hydroxy group, a carboxy group, or a nitro group. Group, cyano group, thiol group, sulfonic acid group, alkoxy group (—OX 7 ), ester group (—C (= O) OX 8 ), sulfonyl group (—SOOX 9 ), amide group (—C (═O) N (X 10 ) (X 11 ) or —NX 12 C (═O) X 13 ), acyl group (—C (═O) X 14 ), an amino group (—N (X 15 ) (X 16 )), or an acyloxy group (—OC (═O) X 17 ) (where X 7 to X 9 are each independently A linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms, and X 10 to X 17 are each independently hydrogen, carbon number A linear alkyl group having 1 to 12, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms.) And R 3 to R 7 are adjacent substituents. And a condensed ring structure may be formed.
、Rのいずれか一方がシアノ基、エステル基、アミド基、アシル基からなる群より選択され、他方が水素またはシアノ基であることを特徴とする請求項1に記載の樹脂組成物。 2. The resin composition according to claim 1, wherein one of R 1 and R 2 is selected from the group consisting of a cyano group, an ester group, an amide group, and an acyl group, and the other is hydrogen or a cyano group. . 、Rのいずれか一方がシアノ基、エステル基、アミド基、アシル基からなる群より選択され、他方がシアノ基であり、かつ、R〜Rのうち少なくとも1以上が、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、スルホン酸基、エステル基、アミド基、アシル基、アミノ基、スルホニル基、アシルオキシ基からなる群より選択される1種以上の水素結合性置換基であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の樹脂組成物。 One of R 1 and R 2 is selected from the group consisting of a cyano group, an ester group, an amide group, and an acyl group, the other is a cyano group, and at least one of R 3 to R 7 is a hydroxy group It is one or more hydrogen-bonding substituents selected from the group consisting of a group, a carboxy group, a thiol group, a sulfonic acid group, an ester group, an amide group, an acyl group, an amino group, a sulfonyl group, and an acyloxy group. The resin composition according to claim 1 or 2. 一般式(1)で示される残基単位が2−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、3−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、2,3−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、2,4−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、3,4−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、2−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、3−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、4−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、2,3−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、2,4−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、3,4−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、
2−カルボキシ−3−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、3−カルボキシ−2−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、3−カルボキシ−4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、4−カルボキシ−3−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、2−カルボキシ−4−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、4−カルボキシ−2−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、2−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、3−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、4−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、2,3−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、2,4−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、3,4−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、2−カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、3−カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、4−カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、2,3−ジカルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、2,4−ジカルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、3,4−ジカルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、2−カルボキシ−3−ヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル残基単位、3−カルボキシ−2−ヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル残基単位、3−カルボキシ−4−ヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル残基単位、4−カルボキシ−3−ヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル残基単位、2−カルボキシ−4−ヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル残基単位、4−カルボキシ−2−ヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル残基単位からなる群より選択される1種以上であることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載の樹脂組成物。
The residue unit represented by the general formula (1) is 2-hydroxy-α-cyanocinnamic acid ester residue unit, 3-hydroxy-α-cyanocinnamic acid ester residue unit, 4-hydroxy-α-cyanocinnamic acid ester Residue unit, 2,3-dihydroxy-α-cyanocinnamic acid ester residue unit, 2,4-dihydroxy-α-cyanocinnamic acid ester residue unit, 3,4-dihydroxy-α-cyanocinnamic acid ester residue unit Unit, 2-carboxy-α-cyanocinnamic acid ester residue unit, 3-carboxy-α-cyanocinnamic acid ester residue unit, 4-carboxy-α-cyanocinnamic acid ester residue unit, 2,3-dicarboxy -Α-cyanocinnamic acid ester residue unit, 2,4-dicarboxy-α-cyanocinnamic acid ester residue unit, 3,4-dicarboxy-α-cyanocinnamic acid Ester residue unit,
2-carboxy-3-hydroxy-α-cyanocinnamic acid ester residue unit, 3-carboxy-2-hydroxy-α-cyanocinnamic acid ester residue unit, 3-carboxy-4-hydroxy-α-cyanocinnamic acid ester unit Residue unit, 4-carboxy-3-hydroxy-α-cyanocinnamic acid ester residue unit, 2-carboxy-4-hydroxy-α-cyanocinnamic acid ester residue unit, 4-carboxy-2-hydroxy-α- Cyanocinnamate residue units, 2-hydroxybenzalmalononitrile residue units, 3-hydroxybenzalmalononitrile residue units, 4-hydroxybenzalmalononitrile residue units, 2,3-dihydroxybenzalmalononitrile Residue unit, 2,4-dihydroxybenzalmalononitrile residue unit, 3,4-dihydroxy Nzarmalononitrile residue unit, 2-carboxybenzalmalononitrile residue unit, 3-carboxybenzalmalononitrile residue unit, 4-carboxybenzalmalononitrile residue unit, 2,3-dicarboxybenzalmalono Nitrile residue unit, 2,4-dicarboxybenzalmalononitrile residue unit, 3,4-dicarboxybenzalmalononitrile residue unit, 2-carboxy-3-hydroxy-benzalmalononitrile residue unit, 3 -Carboxy-2-hydroxy-benzalmalononitrile residue unit, 3-carboxy-4-hydroxy-benzalmalononitrile residue unit, 4-carboxy-3-hydroxy-benzalmalononitrile residue unit, 2-carboxy -4-hydroxy-benzalmalononitrile residue unit, 4-carboxy-2- Dorokishi - resin composition according to any one of claims 1 to 3, characterized in that benzal Marono least one selected from the group consisting of nitrile residue unit.
一般式(1)で示される残基単位を有する樹脂が、さらに下記一般式(2)で示される残基単位または下記一般式(3)で示される残基単位を有することを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれかに記載の樹脂組成物。
Figure 2019019303
(2)
(ここで、Rは水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基または炭素数3〜14の環状基を示し、Rは水素、カルボキシ基またはエステル基(−C(=O)OX18)を示し、R10〜R14はそれぞれ独立して水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、炭素数3〜14の環状基、ハロゲン、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、スルホン酸基、アルコキシ基(−OX19)、エステル基(−C(=O)OX20)、スルホニル基(−SOOX21)、アミド基(−C(=O)N(X22)(X23)または−NX24C(=O)X25)、アシル基(−C(=O)X26)、アミノ基(−N(X27)(X28))、またはアシルオキシ基(−OC(=O)X29)(ここで、X18〜X21は、それぞれ独立して炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜14の環状基を示し、X22〜X29はそれぞれ独立して水素、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、炭素数1〜12の分岐状アルキル基、または炭素数3〜14の環状基を示す。)を示す。また、R10〜R14は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。)
Figure 2019019303
(3)
(ここで、R15はヘテロ原子を1つ以上含むm員環複素環残基またはヘテロ原子を含まない5員環残基を示し、mは5〜10の整数を示す。前記m員環複素環残基および前記5員環残基は縮合環構造を形成してもよい。)
The resin having a residue unit represented by the general formula (1) further has a residue unit represented by the following general formula (2) or a residue unit represented by the following general formula (3): The resin composition in any one of Claims 1-4.
Figure 2019019303
(2)
(Here, R 8 represents hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms, and R 9 represents hydrogen or a carboxy group. Or an ester group (—C (═O) OX 18 ), wherein R 10 to R 14 are each independently hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. , C 3-14 cyclic group, halogen, hydroxy group, carboxy group, nitro group, cyano group, thiol group, sulfonic acid group, alkoxy group (—OX 19 ), ester group (—C (═O) OX 20 ), Sulfonyl group (—SOOX 21 ), amide group (—C (═O) N (X 22 ) (X 23 ) or —NX 24 C (═O) X 25 ), acyl group (—C (═O) X 26), an amino group (-N (X 27) (X 2 )), Or an acyloxy group (-OC (= O) X 29 ) ( wherein, X 18 to X 21 are each independently a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, branched having 1 to 12 carbon atoms An alkyl group or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms, wherein X 22 to X 29 are each independently hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. Or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms.) And R 10 to R 14 may form a condensed ring structure with adjacent substituents.
Figure 2019019303
(3)
(Here, R 15 represents an m-membered ring heterocyclic residue containing one or more heteroatoms or a 5-membered ring residue containing no heteroatoms, and m represents an integer of 5 to 10. The ring residue and the 5-membered ring residue may form a condensed ring structure.)
一般式(1)で示される残基単位を有する樹脂が、さらにスチレン残基単位、ビニルナフタレン残基単位、1−ビニルインドール残基単位、9−ビニルカルバゾール残基単位、N−ビニルスクシンイミド残基単位、N−ビニルフタルイミド残基単位、2−ビニルフラン残基単位、2-ビニルベンゾフラン残基単位、ケイ皮酸残基単位、ケイ皮酸メチル残基単位、ケイ皮酸エチル残基単位、ケイ皮酸イソプロピル残基単位(また、これらの残基単位は環状基上の水素が任意の置換基で置換されていてもよい。)からなる群より選択される1種以上の残基単位を有することを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれかに記載の樹脂組成物。 The resin having the residue unit represented by the general formula (1) further includes a styrene residue unit, a vinylnaphthalene residue unit, a 1-vinylindole residue unit, a 9-vinylcarbazole residue unit, and an N-vinylsuccinimide residue. Unit, N-vinylphthalimide residue unit, 2-vinylfuran residue unit, 2-vinylbenzofuran residue unit, cinnamic acid residue unit, methyl cinnamate residue unit, ethyl cinnamate residue unit, cinnamon Isopropyl cinnamate residue units (and these residue units have one or more residue units selected from the group consisting of hydrogen on the cyclic group may be substituted with any substituent) The resin composition according to any one of claims 1 to 5, wherein: 請求項1〜請求項6のいずれかに記載の樹脂組成物を用いてなることを特徴とする光学フィルム。 An optical film comprising the resin composition according to any one of claims 1 to 6. 請求項1〜請求項6のいずれかに記載の樹脂組成物を用いてなり、下記式(a)で示される面内位相差(Re)が50〜500nmで、下記式(b)で示されるNz係数が0≦Nz≦1.0であり、かつ、光の波長450nmにおける面内位相差(Re)と光の波長550nmにおける面内位相差(Re)の比Re(450)/Re(550)が0.60<Re(450)/Re(550)<1.10であることを特徴とする光学補償フィルム。
Re=(nx−ny)×d (a)
Nz=(nx−nz)/(nx−ny) (b)
(式中、nxはフィルム面内の延伸軸方向の屈折率を示し、nyはフィルム面内の延伸軸に直交する方向の屈折率を示し、nzはフィルム面外(厚み方向)の屈折率を示し、dはフィルム厚みを示す。)
An in-plane retardation (Re) represented by the following formula (a) is 50 to 500 nm, using the resin composition according to any one of claims 1 to 6, and represented by the following formula (b). The Nz coefficient is 0 ≦ Nz ≦ 1.0, and the ratio Re (450) / Re (550) of the in-plane retardation (Re) at the light wavelength of 450 nm and the in-plane retardation (Re) at the light wavelength of 550 nm. ) Is 0.60 <Re (450) / Re (550) <1.10.
Re = (nx−ny) × d (a)
Nz = (nx-nz) / (nx-ny) (b)
(Where nx represents the refractive index in the direction of the stretching axis in the film plane, ny represents the refractive index in the direction perpendicular to the stretching axis in the film plane, and nz represents the refractive index outside the film plane (thickness direction). D indicates the film thickness.)
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