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- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 12
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims abstract description 167
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 56
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 56
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 50
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000003672 processing method Methods 0.000 claims description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 10
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 5
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-pyrazole-3-carboxylic acid Chemical compound CC1=CC(C(O)=O)=NN1 WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N lithium niobate Chemical compound [Li+].[O-][Nb](=O)=O GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Images
Abstract
Description
本発明は、板状物の加工方法に関する。 The present invention relates to a method for processing a plate-like object.
ウェーハなどの板状のワークを切削ブレードによって切削加工すると、切削ブレードの刃部に目詰まりや目潰れが生じて切れ味が悪くなる。そのため、切削ブレードをドレッサーボード等のドレス部材に切り込むことで切れ味を復活させる目立てドレスを所定のタイミングで行っていた。しかし、切削加工とは別の工程として目立てドレスを行うと時間や手間がかかってしまう。また、ワークの材質がシリコンウェーハと比較して硬度が高いガラス等であると、切削ブレードの目詰まりの頻度が高くなり、切削後に目立てドレスを行うだけでは十分な切れ味を得られない場合があった。これらを解消する技術として、目立て用のドレス部材と一緒にワークを切削して、目詰まりを解消するドレッシングを行いながらワークの加工を行う加工方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。 When a plate-like workpiece such as a wafer is cut by a cutting blade, the cutting portion of the cutting blade is clogged or crushed, resulting in poor sharpness. Therefore, a dressing dress that restores the sharpness by cutting the cutting blade into a dress member such as a dresser board is performed at a predetermined timing. However, when dressing dressing is performed as a separate process from the cutting process, it takes time and labor. Also, if the material of the workpiece is glass, etc., which is harder than silicon wafers, the cutting blade will become clogged more frequently and sufficient sharpness may not be obtained simply by dressing after cutting. It was. As a technique for solving these problems, there has been proposed a machining method in which a workpiece is machined while dressing to eliminate clogging by cutting the workpiece together with a dressing member for dressing (see, for example, Patent Document 1). .
しかし、ボード状やテープ(シート)状のドレス部材をワークの表面に形成すると、切削ブレードによる切削対象の肉厚が増大するため、切削ブレードの刃先出し量(切削ブレードの切り込み可能な深さ)が小さい場合に加工できなくなるおそれがあった。例えば、切削ブレードは剛性が不足すると高速回転時に回転軸方向の振れが生じて切削不良を生じるおそれがあるため、所要の剛性を確保するための幅(回転軸方向の厚み)と刃先出し量の相関関係が定められており、切削ブレードの幅が小さくなれば刃先出し量が小さくなる。故に、刃先出し量が小さくなりがちな薄型の切削ブレードでは、既存のドレス部材をワークと一緒に加工できないという問題があった。 However, if a board or tape (sheet) dress member is formed on the surface of the workpiece, the thickness of the object to be cut by the cutting blade increases. Therefore, the cutting edge of the cutting blade (depth at which the cutting blade can be cut) There is a possibility that the processing cannot be performed when the is small. For example, if the cutting blade has insufficient rigidity, it may cause a vibration in the direction of the rotation axis during high-speed rotation, resulting in cutting failure. Therefore, the width (thickness in the direction of the rotation axis) and the cutting edge amount to ensure the required rigidity A correlation is defined, and the cutting edge amount decreases as the width of the cutting blade decreases. Therefore, there is a problem that the existing dressing member cannot be processed together with the workpiece with a thin cutting blade that tends to have a small blade tip protruding amount.
本発明は、このような問題に鑑みてなされたものであり、切削ブレードの刃先出し量に制約がある場合でも、切削を行いながら切削ブレードの目立てが可能で加工性に優れる加工方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such problems, and provides a machining method that is capable of sharpening the cutting blade while performing cutting and having excellent workability even when the cutting edge amount of the cutting blade is limited. For the purpose.
本発明は、表面に複数の分割予定ラインが形成された板状物を切削ブレードを使用して分割予定ラインに沿って加工を行う加工方法であって、板状物の表面に切削ブレードの目立てを行う目立て用砥粒を含有した液状樹脂を均一に塗布して硬化させてドレス層を形成するドレス層形成ステップと、ドレス層形成ステップを実施した後に、切削水を供給しながら分割予定ラインに沿って切削ブレードで切削加工を行う切削加工ステップと、切削加工ステップを実施した後にドレス層を除去するドレス層除去ステップと、を有することを特徴とする。 The present invention relates to a machining method for machining a plate-like object having a plurality of division lines formed on the surface along the division line using a cutting blade, wherein the cutting blade is sharpened on the surface of the plate-like object. After applying the dressing layer forming step to form a dressing layer by uniformly applying and curing a liquid resin containing sharpening abrasive grains for performing the dressing layer forming step, the cutting line is supplied while cutting water is supplied. A cutting step that performs cutting with a cutting blade along the cutting step, and a dress layer removal step that removes the dress layer after performing the cutting step.
以上の加工方法によれば、目立てドレス用砥粒を含有した液状樹脂を塗布してドレス層を形成するので、塗布量等の条件を柔軟に変更して、ドレス層を切削ブレードの刃先出し量に応じた適切な厚みに形成できる。そのため、薄くて刃先出し量が少ない切削ブレードを用いる場合でも適切にドレスを行いつつ加工を行うことが可能となる。 According to the above processing method, since the dressing layer is formed by applying the liquid resin containing the abrasive for dressing dressing, the conditions such as the coating amount are changed flexibly, and the amount of the tip of the cutting blade is extended to the dressing layer. Can be formed to an appropriate thickness according to the thickness. For this reason, even when a thin cutting blade with a small blade tip amount is used, it is possible to perform processing while appropriately dressing.
ドレス層形成ステップにおいては、ドレス層を分割予定ライン上のみに形成してもよい。これにより、液状樹脂の使用量を削減することができる。また、板状物の表面にアライメントターゲット等が形成されている場合に、ドレス層に遮られることなく確実に識別可能となる。 In the dress layer forming step, the dress layer may be formed only on the planned division line. Thereby, the usage-amount of liquid resin can be reduced. Further, when an alignment target or the like is formed on the surface of the plate-like object, it can be reliably identified without being blocked by the dress layer.
ドレス層形成ステップにおいては、ドレス層を切削ブレードの幅と同等又は細い範囲で分割予定ラインに沿って形成し、切削加工ステップにおいて、切削ブレードで分割予定ラインに沿って切削加工を行うと共にドレス層も除去するようにしてもよい。これにより、ドレス層の除去に手間がかからず加工の効率を向上させることができる。 In the dress layer forming step, the dress layer is formed along the planned division line within a range equal to or narrower than the width of the cutting blade. In the cutting step, the cutting layer is cut along the planned division line and the dress layer is formed. May also be removed. Thereby, it takes less time to remove the dress layer, and the processing efficiency can be improved.
以上のように、本発明の加工方法によれば、切削ブレードの刃先出し量に制約がある場合でも、切削を行いながら切削ブレードの目立てが可能であり、切削の加工性を向上させることができる。 As described above, according to the processing method of the present invention, even when the cutting edge amount of the cutting blade is limited, the cutting blade can be sharpened while cutting, and the workability of cutting can be improved. .
以下、添付図面を参照して、本実施の形態について説明する。図1と図2は第1の形態の加工方法を示し、図3と図4は第2の形態の加工方法を示している。 Hereinafter, the present embodiment will be described with reference to the accompanying drawings. 1 and 2 show a processing method of the first embodiment, and FIGS. 3 and 4 show a processing method of the second embodiment.
図1及び図2を参照して第1の形態の加工方法について説明する。加工対象となるワーク10は略円板状の板状物であり、表面に格子状の分割予定ライン11が形成されている。分割予定ライン11で区画された各領域にはデバイス(図示略)が形成されている。図示を省略するが、ワーク10の表面には、分割予定ライン11で区画されたデバイス形成領域以外の部分に、アライメントターゲットが形成されている。アライメントターゲットは、後述する切削加工ステップにおけるワーク10の位置合わせの指標となるものである。
The processing method of the first embodiment will be described with reference to FIGS. The
ワーク10の材質は限定されないが、ガラスウェーハのような難切削材であると、本発明の適用対象として特に好適である。難切削材とは、シリコンウェーハ等よりも硬度が高く、切削時に切削ブレードの目詰まりが生じやすい材質をいう。但し、ワーク10はガラスウェーハ以外のワークでもよく、ワーク上に形成されるデバイスの種類も限定されない。例えば、半導体デバイスウェーハ、光デバイスウェーハ、パッケージ基板、半導体基板、無機材料基板、酸化物ウェーハ、生セラミックス基板、圧電基板等の各種ワークが用いられてもよい。半導体デバイスウェーハとしては、デバイス形成後のシリコンウェーハや化合物半導体ウェーハが用いられてもよい。光デバイスウェーハとしては、デバイス形成後のサファイアウェーハやシリコンカーバイドウェーハが用いられてもよい。また、パッケージ基板としてはCSP(Chip Size Package)基板、半導体基板としてはシリコンやガリウム砒素等、無機材料基板としてはサファイア、セラミックス、ガラス等が用いられてもよい。さらに、酸化物ウェーハとしては、デバイス形成後又はデバイス形成前のリチウムタンタレート、リチウムナイオベートが用いられてもよい。
Although the material of the workpiece |
まず、ドレス層形成ステップを実施する。図1は、ドレス層形成ステップにおけるワーク10への液状樹脂の塗布にスピンコート用の装置を用いる場合を示したものである。該装置はスピンナテーブル20を有している。スピンナテーブル20の上面にはポーラスセラミック材により保持面が形成されており、吸引源(図示略)を駆動して保持面に負圧を作用させてワーク10を吸引保持することができる。ワーク10は、分割予定ライン11が形成されている表面を上方に向けて、スピンナテーブル20の保持面上に保持される。スピンナテーブル20の中央下部にはモータ(図示略)によって回転駆動される回転軸21が連結されており、モータを駆動するとZ軸方向(鉛直方向)の軸心回りにスピンナテーブル20が回転する。スピンナテーブル20に保持されたワーク10は、スピンナテーブル20と共に回転する。
First, a dress layer forming step is performed. FIG. 1 shows a case where an apparatus for spin coating is used to apply a liquid resin to the
図1に示すように、スピンナテーブル20の上方には供給ノズル22が設けられ、液状樹脂供給源23から供給ノズル22に液状樹脂P1が供給される。供給ノズル22は、回転するスピンナテーブル20上のワーク10の表面中央に液状樹脂P1を滴下する。滴下された液状樹脂P1は、スピンナテーブル20上のワーク10の高速回転によって遠心力を受けてワーク10の中心から外縁部までの表面全体に広がり、均一な厚みの膜状の層(塗液膜)を形成する。
As shown in FIG. 1, a
ドレス層形成ステップでは、図1に示すスピンコートに代えて、スプレーコートによってワーク10への液状樹脂の塗布を行ってもよい。図示を省略するが、スプレーコート用の装置は、ワーク10を保持する保持テーブルと、液状樹脂を霧状にして噴射可能なスプレーノズルとを有している。保持テーブルとスプレーノズルは水平方向に相対移動可能であり、保持テーブル上に保持されたワーク10の表面に対してスプレーノズルから液状樹脂を噴射しながら、スプレーノズルと保持テーブルを相対的に動かすことによって、ワーク10の表面上に均一な厚みで液状樹脂を塗布することができる。
In the dress layer forming step, the liquid resin may be applied to the
液状樹脂P1は常態で液状であり、所定の硬化工程を実施することによって硬化される性質を有する。例えば、液状樹脂P1の材質として、紫外線照射によって効果する紫外線硬化樹脂や、熱を加えることで硬化する熱硬化樹脂等を用いることができる。また、液状樹脂P1は目立て用砥粒を含有している。液状樹脂P1に含まれる目立て用砥粒は、アルミナ系砥粒(例えば、ホワイトアランダム)、炭化ケイ素系砥粒(例えば、グリーンカーボン)等であり、後述する切削ブレードに対応する砥粒径や砥粒の含有率が選択される。 The liquid resin P1 is normally in a liquid state and has a property of being cured by performing a predetermined curing process. For example, as the material of the liquid resin P1, an ultraviolet curable resin that is effective by ultraviolet irradiation, a thermosetting resin that is cured by applying heat, or the like can be used. The liquid resin P1 contains sharpening abrasive grains. The sharpening abrasive grains contained in the liquid resin P1 are alumina-based abrasive grains (for example, white alundum), silicon carbide-based abrasive grains (for example, green carbon), and the like. The abrasive content is selected.
液状樹脂P1が所定の厚みでワーク10の表面全体に塗布されたら、液状樹脂P1を硬化させる。上述のように、液状樹脂P1は紫外線照射や加熱処理によって硬化される性質を有しており、液状樹脂P1の性質に応じて紫外線照射装置や加熱装置を用いて硬化させる。なお、液状樹脂P1は紫外線や熱以外の条件によって硬化するものであってもよい。
When the liquid resin P1 is applied to the entire surface of the
液状樹脂P1の硬化が完了すると、ワーク10の表面全体に、目立て用砥粒を含有したドレス層15が形成された状態となる(図2参照)。硬化した状態のドレス層15はワーク10の表面に密着しており、意図せず剥離することがない。ドレス層15の厚みは、次の切削加工ステップでワーク10と一緒に切削可能となるように設定される。別言すれば、後述する切削ブレードの刃先出し量に対応してドレス層15の厚みが選択される。上記のスピンコート(図1)でドレス層形成ステップを実施する場合は、供給ノズル22からの液状樹脂P1の滴下量等に応じて、ドレス層15の厚みを設定可能である。上記のスプレーコートでドレス層形成ステップを実施する場合は、スプレーノズル(図示略)からの液状樹脂の噴射量等に応じて、ドレス層15の厚みを設定可能である。また、ドレス層15はワーク10の表面全体を覆っているが、ドレス層15は所定の透明度(光透過性)を有しており、ワーク10上に形成されたアライメントターゲットはドレス層15を通して光学的に識別可能である。
When the curing of the liquid resin P1 is completed, the
以上のようにしてドレス層15の形成が完了したら、図2に示す切削加工ステップを実施する。切削加工ステップでは、ダイシングテープ13を介してリングフレーム14に支持させた状態でワーク10が切削装置に搬送される。より詳しくは、ダイシングテープ13の中央部分にワーク10の裏面が貼着され、ダイシングテープ13の外周部に環状のリングフレーム14が貼着され、リングフレーム14の開口部の内側にワーク10が位置する状態で搬送される。なお、先に説明したドレス層形成ステップ(図1)を、ダイシングテープ13とリングフレーム14を介してワーク10を支持した状態で実施してもよい。
When the formation of the
切削装置では、チャックテーブル30上にダイシングテープ13を介してワーク10が吸引保持され、ワーク10の周囲のリングフレーム14が環状テーブル31上にクランプ部32で保持される。保持されたワーク10を、切削装置に設けた切削ブレード33によって分割予定ライン11に沿って切削する。
In the cutting apparatus, the
切削装置は、Y軸方向(図2参照)に向く軸心で回転可能なスピンドル(図示略)を有し、スピンドルの先端に切削ブレード33が装着されている。切削ブレード33は、スピンドルに固定される基台の外周部に切れ刃が形成されたハブブレードと、円環状の切れ刃のみからなりマウンタを介してスピンドルに固定されるハブレスブレード(ワッシャブレード)のいずれでも良い。スピンドルに装着される切削ブレード33は、ハブやマウンタに対する切れ刃の外径方向の突出量、すなわち刃先出し量が、切削対象であるワーク10の厚みよりも大きいものが選択される。
The cutting device has a spindle (not shown) that can rotate around an axis that faces in the Y-axis direction (see FIG. 2), and a
先に実施したドレス層形成ステップでワーク10の表面に形成したドレス層15は、ワーク10と共に切削ブレード33によって切削可能である厚みに設定されている。別言すれば、ワーク10の厚みとドレス層15の厚みの合計値が、切削ブレード33の刃先出し量よりも小さくなるように、ドレス層15が形成されている。
The
スピンドルを所定の回転速度で回転させることにより、切削ブレード33がY軸方向の軸心回りに回転する。切削ブレード33はチャックテーブル30に対して図2に示すZ軸方向に移動可能に支持されており、切削ブレード33をZ軸方向で下方に移動させることで、ワーク10に対する切り込み深さが大きくなる。また、切削ブレード33とチャックテーブル30はY軸方向に対して直交する加工送り方向(図2の紙面に対して垂直な方向)に相対移動可能であり、加工送り方向への相対移動によって、分割予定ライン11に沿う切削ブレード33の移動を行うことができる。
By rotating the spindle at a predetermined rotation speed, the
切削装置は、ワーク10の表面上に設けたアライメントターゲット(図示略)を撮像する撮像部(図示略)を有し、撮像したアライメントターゲットを基準として分割予定ライン11に対して切削ブレード33を位置合わせし、ワーク10の表面上に形成されたドレス層15を切り込みながらワーク10を切削する(図2参照)。ドレス層15は透過性を有しているため、ワーク10の表面全体を覆うドレス層15を通してアライメントターゲットを撮像することができる。
The cutting apparatus has an imaging unit (not shown) that images an alignment target (not shown) provided on the surface of the
図2に示した3つの拡大部分L1、L2、L3のうち、右側の拡大部分L1は切削ブレード33による切削前の状態、中央の拡大部分L2は切削ブレード33により切削している最中の状態、左側の拡大部分L3は切削ブレード33による切削が完了して分割予定ライン11に沿う切削溝Mが形成された状態を示している。拡大部分L2に示す切削時には切削ブレード33はワーク10と共にドレス層15を切削し、ドレス層15に含まれる目立て用砥粒の作用によって切削ブレード33の目詰まりを軽減して切れ味を保ちながら切削を進めることができる。特にワーク10が切削ブレード33の目詰まりを生じさせやすいガラスウェーハ等である場合に効果が高い。
Of the three enlarged portions L1, L2, and L3 shown in FIG. 2, the right enlarged portion L1 is in a state before cutting by the
切削ブレード33による切削時には、切削水ノズル34から切削水Wが噴射される。切削水Wによって加工熱が冷却されると共に、切削に伴って生じる切削屑が洗い流される。また、ドレス層15を親水性樹脂で形成し、切削水Wとの接触によってドレス層15を軟化させて、次に実施するドレス層除去ステップでワーク10から除去しやすくさせてもよい。
When cutting with the
1つの分割予定ライン11に沿う切削ブレード33による切削が完了したら、切削ブレード33とチャックテーブル30をY軸方向に相対移動させて、次の分割予定ライン11に切削ブレード33を位置合わせして切削を行う。このようにして全ての分割予定ライン11に対して切削ブレード33による切削を行って切削加工ステップが完了したら、ドレス層除去ステップを実施する。図2の拡大部分L3に示すように、切削加工ステップの完了段階では、切削溝Mに沿う領域ではドレス層15がワーク10と共に除去されている一方で、切削溝M以外の領域ではワーク10の表面上にドレス層15が残っている。ドレス層除去ステップでは、この残余分のドレス層15をワーク10から除去する。
When the cutting by the
ドレス層除去ステップでは、所定の剥離手段によってワーク10からドレス層15を剥離させる。剥離手段は、ドレス層15を物理的に保持して剥離方向に引っ張るような治具を用いても良いし、ドレス層15に対して所定の処理を行うことで粘着性を弱めたり分解させたりして剥離を促すような手段を用いても良い。例えば、紫外線により硬化する水膨張性の紫外線硬化樹脂によってドレス層15を形成し、水を供給してドレス層15に水膨張を生じさせてドレス層15の除去を行うことが可能である。また、所定以上の温度で液化する水溶性の熱可塑性樹脂によってドレス層15を形成し、当該温度以上の温水をドレス層15に接触させてドレス層15を除去することもできる。このようにドレス層15を硬化状態から形態変化させる手段を用いることで、残留接着力によるワーク10へのダメージや糊残りによるワーク10の汚染を生じさせることなく、容易且つ確実にドレス層15を除去することができる。
In the dress layer removing step, the
また、上述したように、ドレス層15が親水性樹脂からなる場合には、先の切削加工ステップで供給される切削水W(図2参照)に接触することで、既にドレス層15が軟化して除去しやすい状態になっており、ドレス層除去ステップでの除去の作業性がさらに向上する。
Further, as described above, when the
以上の加工方法によれば、ワーク10の表面にドレス層15を形成して、ワーク10と一緒にドレス層15に対する切り込みを行うことで、ワーク10を切削しながら切削ブレード33の目立てが可能であり、切削時に切削ブレード33の切れ味を維持できる。そして、ワーク10の表面に液状樹脂P1を塗布してから硬化させてドレス層15を形成しているため、ドレス層15の厚みの柔軟な設定が可能であり(厚みの設定自由度が高く)、切削ブレード33の刃先出し量に応じた最適な厚みのドレス層15を得ることができる。例えば、ドレッサーボードのような板状のドレス部材やテープ(シート)状のドレス部材をワーク10の表面に設ける場合に比べて、液状樹脂P1を硬化させて形成したドレス層15は、均一な厚みで非常に薄く形成することが可能である。従って、切削装置で用いる切削ブレード33が薄型で刃先出し量が小さいものであっても、刃先出し量の小ささに対応した薄さのドレス層15をワーク10上に設けて加工可能にさせることができる。
According to the above processing method, the
また、ワーク10において切削ブレード33が切り込む側の面(表面)全体にドレス層15が形成されているため(図2参照)、切削加工ステップにおいて生じる切削屑等がワーク10の表面に付着しにくくなる。すなわち、ドレス層15がワーク10に対する切削時の保護膜としても機能する。
In addition, since the
続いて、図3及び図4を参照して第2の形態の加工方法について説明する。図3及び図4において図1及び図2と共通する符号で示している箇所は、先に説明した第1の形態と共通のものであり、重複した説明を省略する。 Subsequently, a processing method of the second embodiment will be described with reference to FIGS. 3 and 4. In FIGS. 3 and 4, the portions denoted by the same reference numerals as those in FIGS. 1 and 2 are the same as those in the first embodiment described above, and redundant description is omitted.
第2の形態の加工方法では、図3に示すように、ドレス層形成ステップにおいてワーク10の表面のうち分割予定ライン11上にのみ、目立てドレス用砥粒を含有した液状樹脂P2を塗布する。より詳しくは、図3の拡大部分L4に示すように、分割予定ライン11の幅に対応する細幅の開口部を下端に有する供給ノズル24を備える。そして、供給ノズル24を分割予定ライン11上に位置合わせした状態で、液状樹脂供給源25より供給された液状樹脂P2を供給ノズル24から滴下させる。液状樹脂P2を滴下させつつ、分割予定ライン11の延設方向(図3の紙面に対して垂直な方向)にワーク10と供給ノズル24を相対移動させる。すると、図3の拡大部分L5のように、分割予定ライン11に沿う線状の範囲で液状樹脂P2が塗布される。各分割予定ライン11に沿う液状樹脂P2の厚みは均等に設定される。
In the processing method of the second embodiment, as shown in FIG. 3, in the dress layer forming step, the liquid resin P2 containing the dressing dressing abrasive grains is applied only on the division planned
液状樹脂P2の塗布を行う手段として、図3のように供給ノズル24を用いて個々の分割予定ライン11に沿って液状樹脂P2を塗布するのではなく、分割予定ライン11に対応する格子形状の開口部を有するマスク(図示略)を用いることも可能である。格子形状の開口部が分割予定ライン11に重なるようにしてマスクをワーク10の表面上に設置し、マスク上から液状樹脂P2を塗布する。すると、ワーク10のうちマスクに覆われた領域には液状樹脂P2が塗布されず、マスクが覆わない格子形状の開口部(すなわち分割予定ライン11に対応する部分)のみに液状樹脂P2が塗布される。このようなマスクを用いると、迅速且つ容易に液状樹脂P2を塗布できる。
As a means for applying the liquid resin P2, as shown in FIG. 3, instead of applying the liquid resin P2 along the individual division lines 11 using the
各分割予定ライン11上への液状樹脂P2の塗布が完了したら、液状樹脂P2を硬化させる。液状樹脂P2の硬化は、第1の形態と同様に、紫外線の照射や加熱等の任意の手段によって実施する。液状樹脂P2が硬化すると、分割予定ライン11に沿う格子状の領域に形成されたドレス層16(図4参照)になる。図4の拡大部分L6に示すように、分割予定ライン11上以外の領域では、ドレス層16が存在せずワーク10の表面が露出している。
When the application of the liquid resin P2 on each division planned
ドレス層16の形成が完了したら、図4に示す切削加工ステップを実施する。切削加工ステップでは、第1の形態と同様に、分割予定ライン11上のドレス層16を切り込みながらワーク10を切削する。図4の拡大部分L7に示すように、切削ブレード33はワーク10と共にドレス層16を切削し、ドレス層16に含まれる目立て用砥粒の作用によって切削ブレード33の目詰まりを軽減して切れ味を保ちながら切削を進めることができる。
When the formation of the
第2の形態では、ワーク10の表面には分割予定ライン11上にのみドレス層16が形成されており、分割予定ライン11以外の領域はドレス層16によって覆われていない。従って、ドレス層16の厚みが大きく透過光量が低くなりやすい場合や、目立て用砥粒の含有率が高くドレス層16の透明度が低い場合でも、ワーク10の表面に形成されているアライメントターゲットがドレス層16により遮られることなく鮮明に撮像することができる。
In the second embodiment, the
また、分割予定ライン11上の狭い範囲にのみドレス層16を形成しているので、ワーク10の表面全体に塗布するよりも液状樹脂P2の使用量が少なくて済み、コスト的に有利である。さらに、細い線状の領域に形成されたドレス層16は、平面的に広く形成したドレス層に比してワーク10への密着状態のコントロールを行いやすく、切削加工ステップの実施前に意図せずにワーク10から剥離してしまうおそれが少ない。
Further, since the
図4に示すように、本実施の形態では、Y軸方向におけるドレス層16の幅を、切削ブレード33の幅(回転軸方向の厚み)と同等又は細くなるように設定している。このように設定すると、切削ブレード33でワーク10を切削する際に、ドレス層16の幅全体の領域に切削ブレード33が切り込まれるため(図4の拡大部分L7参照)、切削溝Mが形成された段階で切削ドレス層16も完全に除去される(図4の拡大部分L8参照)。すなわち、ワーク10に対する切削加工ステップとドレス層16の除去ステップが同時に行われる。従って、切削完了後にドレス層を除去する工程を省略することができ、加工作業の効率を向上させることができる。
As shown in FIG. 4, in the present embodiment, the width of the
以上の本実施の形態におけるドレス層(液状樹脂)の成分や、ドレス層の形状等は一例であり、これに限定されるものではない。また、ドレス層形成ステップ、切削加工ステップ、ドレス層除去ステップの各ステップで用いる装置や治具に関しても、本実施の形態とは異なるものを用いることが可能である。 The components of the dress layer (liquid resin), the shape of the dress layer, and the like in the present embodiment described above are merely examples, and the present invention is not limited thereto. Further, regarding the apparatus and jig used in each step of the dress layer forming step, the cutting step, and the dress layer removing step, it is possible to use different ones from the present embodiment.
本発明の加工方法は、単独の切削装置で行う切削加工に適用しても良いし、切削装置を含む複数の加工装置を組み合わせて構成されるクラスターモジュールシステムで行う切削加工に適用しても良い。 The processing method of the present invention may be applied to cutting performed by a single cutting device, or may be applied to cutting performed by a cluster module system configured by combining a plurality of processing devices including a cutting device. .
また、本発明の各実施の形態を説明したが、本発明の他の実施の形態として、上記実施の形態及び変形例を全体的又は部分的に組み合わせたものでもよい。 Moreover, although each embodiment of the present invention has been described, as the other embodiment of the present invention, the above embodiment and modifications may be combined in whole or in part.
また、本発明の実施の形態は上記の実施の形態及び変形例に限定されるものではなく、本発明の技術的思想の趣旨を逸脱しない範囲において様々に変更、置換、変形されてもよい。さらには、技術の進歩又は派生する別技術によって、本発明の技術的思想を別の仕方で実現することができれば、その方法を用いて実施されてもよい。したがって、特許請求の範囲は、本発明の技術的思想の範囲内に含まれ得る全ての実施形態をカバーしている。 The embodiments of the present invention are not limited to the above-described embodiments and modifications, and various changes, substitutions, and modifications may be made without departing from the spirit of the technical idea of the present invention. Furthermore, if the technical idea of the present invention can be realized in another way by technological advancement or another derived technique, the method may be used. Accordingly, the claims cover all embodiments that can be included within the scope of the technical idea of the present invention.
以上説明したように、本発明の加工方法によれば、切削ブレードの刃先出し量に応じた適切な厚みのドレス層を板状物の表面に形成可能であり、切削ブレードの刃先出し量が制約される場合であっても、切削を行いながら切削ブレードの目立てを行うことができる。従って、板状物を切削する際の加工性を向上させることができる。 As described above, according to the processing method of the present invention, a dress layer having an appropriate thickness according to the cutting edge amount of the cutting blade can be formed on the surface of the plate-like object, and the cutting edge amount of the cutting blade is limited. Even in this case, the cutting blade can be sharpened while cutting. Therefore, workability when cutting a plate-like object can be improved.
10 ワーク(板状物)
11 分割予定ライン
13 ダイシングテープ
14 リングフレーム
15 ドレス層
16 ドレス層
20 スピンナテーブル
22 供給ノズル
24 供給ノズル
30 チャックテーブル
31 環状テーブル
32 クランプ部
33 切削ブレード
34 切削水ノズル
M 切削溝
P1 液状樹脂
P2 液状樹脂
W 切削水
10 Workpiece (plate)
DESCRIPTION OF
P1 Liquid resin
P2 Liquid resin W Cutting water
Claims (3)
該板状物の表面に該切削ブレードの目立てを行う目立て用砥粒を含有した液状樹脂を均一に塗布して硬化させてドレス層を形成するドレス層形成ステップと、
該ドレス層形成ステップを実施した後に、切削水を供給しながら該分割予定ラインに沿って該切削ブレードで切削加工を行う切削加工ステップと、
該切削加工ステップを実施した後に、該ドレス層を除去するドレス層除去ステップと、
を有することを特徴とする加工方法。 A processing method of processing a plate-like object having a plurality of division lines formed on the surface along the division lines using a cutting blade,
A dress layer forming step for uniformly applying a liquid resin containing abrasive grains for sharpening the cutting blade on the surface of the plate-like material and curing the resin,
After performing the dress layer forming step, a cutting step of performing cutting with the cutting blade along the division schedule line while supplying cutting water;
A dress layer removing step for removing the dress layer after performing the cutting step;
A processing method characterized by comprising:
該切削加工ステップにおいて、該切削ブレードで該分割予定ラインに沿って切削加工を行うと共に該ドレス層も除去すること、を特徴とする請求項1記載の加工方法。
In the dress layer forming step, the dress layer is formed along the planned dividing line within a range equal to or narrower than the width of the cutting blade,
2. The processing method according to claim 1, wherein, in the cutting step, the cutting blade performs cutting along the planned dividing line and removes the dress layer.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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