JP2019014089A - Nozzle plate, ink jet print head, ink jet device and method for manufacture of nozzle plate - Google Patents

Nozzle plate, ink jet print head, ink jet device and method for manufacture of nozzle plate

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JP2019014089A
JP2019014089A JP2017131466A JP2017131466A JP2019014089A JP 2019014089 A JP2019014089 A JP 2019014089A JP 2017131466 A JP2017131466 A JP 2017131466A JP 2017131466 A JP2017131466 A JP 2017131466A JP 2019014089 A JP2019014089 A JP 2019014089A
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福田 敏生
Toshio Fukuda
敏生 福田
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Abstract

To remove unnecessary ink adhered to an ink ejection face of an ink jet head.SOLUTION: An ink jet device having: an ink jet head; a wiper blade; and a move part which moves the wiper blade so that the wiper blade relatively moves in a direction parallel to an ejection face in the state that a tip of the wiper blade and the ejection face contact each other. The ink jet head comprises: a nozzle plate which comprises a plate-like body on which plural nozzle holes are opened in a row form and which contains a metal as a main component, and in which when one surface of the plate-like body is a principal plane, a surface of a circumferential part of the nozzle holes in the principal plane of the plate-like body projects with respect to a surface other than the circumferential part of the nozzle holes; a substrate which is so provided as to face a rear face of the nozzle plate; plural partition walls which partition a space between the nozzle plate and the substrate for each nozzle hole and form a cavity corresponding to each nozzle hole; and a driving element which is provided on each cavity, and individually makes a pressure in each cavity variable.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本開示は、ノズルプレート、インクジェットプリントヘッド、インクジェット装置及びノズルプレートの製造方法に関し、特に、有機EL素子の製造に用いられるインクジェットプリントヘッド、インクジェット装置、それに用いるノズルプレート、及びノズルプレートの製造方法に関する。   The present disclosure relates to a nozzle plate, an ink jet print head, an ink jet apparatus, and a method for manufacturing a nozzle plate, and in particular, relates to an ink jet print head, an ink jet apparatus used for manufacturing an organic EL element, a nozzle plate used therefor, and a method for manufacturing a nozzle plate. .

近年、表示装置として基板上に有機EL素子を配設した有機EL表示パネルが普及しつつある。有機EL表示パネルは、自己発光を行う有機EL素子を利用するため視認性が高く、さらに完全固体素子であるため耐衝撃性に優れるなどの特徴を有する。
有機EL素子は電流駆動型の発光素子であり、陽極及び陰極の電極対の間に、キャリアの再結合による電界発光現象を行う有機発光層等を積層して構成される。また、有機EL表示パネルでは、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の各色に対応する有機EL素子をそれぞれサブピクセルとし、R、G、Bの3つのサブピクセルの組み合わせが1ピクセル(1画素)に相当する。
In recent years, organic EL display panels in which organic EL elements are arranged on a substrate as a display device are becoming widespread. The organic EL display panel has characteristics such as high visibility because it uses an organic EL element that performs self-emission, and excellent impact resistance because it is a complete solid element.
The organic EL element is a current-driven light-emitting element and is configured by laminating an organic light-emitting layer or the like that performs an electroluminescence phenomenon by recombination of carriers between an anode and a cathode electrode pair. In the organic EL display panel, the organic EL element corresponding to each color of red (R), green (G), and blue (B) is a subpixel, and the combination of three subpixels of R, G, and B is 1. It corresponds to a pixel (one pixel).

このような有機EL表示パネルとして、有機EL素子の有機発光層をインクジェット方式等のウエットプロセス(塗布工程)で形成したものが知られている(例えば、特許文献1)。インクジェット方式では、基板上の隔壁層に行列状に設けられた開口部(有機発光層形成領域に対応する。)に対してインクジェットヘッドを走査させる。そして、インクジェットヘッドが備える複数のノズルのノズル孔から、各開口部に対し有機発光層を構成する有機材料および溶媒を含有したインクの液滴を吐出させる。   As such an organic EL display panel, one in which an organic light emitting layer of an organic EL element is formed by a wet process (application process) such as an ink jet method is known (for example, Patent Document 1). In the ink jet method, the ink jet head is scanned with respect to openings (corresponding to the organic light emitting layer forming region) provided in a matrix in the partition layer on the substrate. And the droplet of the ink containing the organic material and solvent which comprise an organic light emitting layer with respect to each opening part is discharged from the nozzle hole of the some nozzle with which an inkjet head is equipped.

このとき、インクジェットヘッドのインク吐出面においてノズル孔の周囲に不要なインクが付着することがある。このような不要なインクがノズル孔の周囲に付着すると、インクの出射方向が曲げられインクの着弾位置が狙った位置からずれたり、所望の量とは異なる量のインクが吐出されたりといったインクの不正吐出が発生する原因となる。また、インクが付着したまま放置されると、やがて付着したインクが乾燥してノズル孔を詰まらせ、インクが全く吐出されないインクの不吐出が発生する原因となる。このような不正吐出や不吐出が発生したノズル(以下、「不吐出ノズル」という。)がインクジェットヘッドに存在すると、インクが全く塗布されない開口部や、インク塗布量が他の開口部とは著しく異なる開口部が生じることとなる。その結果、表示画像に抜けや色の濃さが著しく異なる部分が発生して画質不良が生じることとなる。   At this time, unnecessary ink may adhere around the nozzle holes on the ink ejection surface of the inkjet head. When such unnecessary ink adheres to the periphery of the nozzle hole, the ink ejection direction is bent, the ink landing position deviates from the target position, or an amount of ink different from the desired amount is ejected. This may cause unauthorized discharge. In addition, if the ink is left as it is, the ink that has finally adhered will dry and clog the nozzle holes, which may cause non-ejection of ink where no ink is ejected. When nozzles in which such improper ejection or non-ejection has occurred (hereinafter referred to as “non-ejection nozzles”) are present in the inkjet head, the openings where ink is not applied at all and the amount of ink applied are significantly different from other openings. Different openings will result. As a result, a portion of the display image that is missing or has a significantly different color density occurs, resulting in poor image quality.

これに対し、例えば、特許文献2には、洗浄液塗布ユニット、ワイピングユニット、液体吸収ユニット、及び吸引ユニットを有するクリーニングユニットにより、ノズル孔の周囲に付着したインクを除去する構成が開示されている。   On the other hand, for example, Patent Document 2 discloses a configuration in which ink adhering to the periphery of a nozzle hole is removed by a cleaning unit having a cleaning liquid application unit, a wiping unit, a liquid absorption unit, and a suction unit.

特開2006−223954号公報JP 2006-223594 A 特開2005−1327号公報JP 2005-1327 A

ところが、特許文献2のように、インクジェットヘッドのインク吐出面をゴムブレード等のワイパでノズル孔列に沿って擦る場合に、上流側のノズル孔列の周囲に付着していた不要なインクが下流側のノズル孔付近のインク吐出面に移動して再付着するという問題があった。これに対し、インク吐出面に不要なインクが付着しにくくするために、インク吐出面に撥液性の樹脂被膜が形成されている場合があるが、樹脂被膜は比較的やわらかいために傷がつきやすい。微細な傷が生じると、そこにインクが付着しやすくなるため、上述の問題がより発生しやすくなる。   However, as in Patent Document 2, when the ink discharge surface of the inkjet head is rubbed along the nozzle hole array with a wiper such as a rubber blade, unnecessary ink attached around the upstream nozzle hole array is downstream. There is a problem that the ink moves to the ink ejection surface near the nozzle hole on the side and reattaches. On the other hand, a liquid-repellent resin film may be formed on the ink discharge surface to make it difficult for unnecessary ink to adhere to the ink discharge surface. However, the resin film is relatively soft and is scratched. Cheap. When fine scratches occur, the ink tends to adhere to the scratches, so that the above-described problem is more likely to occur.

本開示は上記の問題点に鑑みてなされたものであり、インクジェットヘッドのインク吐出面に不要なインクが付着させることなく、インク吐出面に付着した不要なインクを除去可能な、インクジェットプリントヘッド、インクジェット装置、それに用いるノズルプレート、及びノズルプレートの製造方法を提供することを目的とする。   The present disclosure has been made in view of the above problems, and an inkjet printhead capable of removing unnecessary ink adhering to the ink ejection surface without causing unnecessary ink to adhere to the ink ejection surface of the inkjet head, An object is to provide an inkjet apparatus, a nozzle plate used therefor, and a method for manufacturing the nozzle plate.

本開示の一態様であるインクジェット装置は、複数のノズル孔が列状に開設された金属を主成分とする板状体からなり、前記板状体の一方の表面を主面とするとき、前記板状体の主面におけるノズル孔周囲部分の表面は、当該ノズル孔周囲部分以外の表面に対し突出しているノズルプレートと、前記ノズルプレートの裏面に対向して配された振動板と、前記ノズルプレートと前記振動板との間隙をノズル孔毎に区切り、ノズル孔各々に対応するキャビティを形成する複数の隔壁と、各キャビティに設けられ各キャビティ内の圧力を個別に可変する駆動素子とを備えたインクジェットヘッドと、ゴムからなるワイパーブレードと、前記ワイパーブレードの先端と前記吐出面とが接触した状態で、前記ワイパーブレードが吐出面に平行な方向に相対的に移動するように、前記ワイパーブレード及び前記インクジェットヘッドの少なくとも一方を移動させる移動部とを有することを特徴とする。   An ink jet device according to an aspect of the present disclosure is formed of a plate-shaped body mainly composed of a metal in which a plurality of nozzle holes are formed in a row, and when one surface of the plate-shaped body is a main surface, The surface of the peripheral portion of the nozzle hole in the main surface of the plate-like body has a nozzle plate protruding with respect to the surface other than the peripheral portion of the nozzle hole, a diaphragm disposed to face the back surface of the nozzle plate, and the nozzle A plurality of partition walls that divide the gap between the plate and the diaphragm for each nozzle hole and form a cavity corresponding to each nozzle hole, and a drive element that is provided in each cavity and individually varies the pressure in each cavity. In the state where the inkjet head, the rubber wiper blade, the tip of the wiper blade and the discharge surface are in contact with each other, the wiper blade is aligned in a direction parallel to the discharge surface. Manner to move, and having a moving unit for moving at least one of the wiper blades and the ink jet head.

本開示の一態様に係るインクジェット装置においては、インクジェットヘッドのインク吐出面をゴムブレード等のワイパでノズル孔列に沿って擦る場合に、インクジェットヘッドのインク吐出面に不要なインクが付着させることなく、インク吐出面に付着した不要なインクを除去することができる。   In the ink jet apparatus according to one aspect of the present disclosure, when the ink discharge surface of the ink jet head is rubbed along the nozzle hole array with a wiper such as a rubber blade, unnecessary ink does not adhere to the ink discharge surface of the ink jet head. Unnecessary ink adhering to the ink ejection surface can be removed.

実施形態に係るインクジェット装置1000の主要構成を示す図である。It is a figure which shows the main structures of the inkjet apparatus 1000 which concerns on embodiment. インクジェット装置の機能ブロック図である。It is a functional block diagram of an inkjet apparatus. インクジェット装置のインクジェットヘッド301におけるノズルの概略構成を示す一部拡大断面図である。2 is a partially enlarged cross-sectional view illustrating a schematic configuration of a nozzle in an inkjet head 301 of the inkjet apparatus. FIG. インクジェット装置1000におけるインクジェットヘッド301の拭き取り動作の手順を示す図であって、(a)は、インクジェットヘッドの吐出面とワイパーブレードとが接触する前の状態を示す模式側面図であり、(b)は、吐出面とワイパーブレードとが接触した状態を示す模式側面図であり、(c)は、拭き取り動作途中の状態を示す模式側断面図である。It is a figure which shows the procedure of the wiping operation | movement of the inkjet head 301 in the inkjet apparatus 1000, Comprising: (a) is a model side view which shows the state before the discharge surface and wiper blade of an inkjet head contact, (b) These are a schematic side view which shows the state which the discharge surface and the wiper blade contacted, (c) is a schematic sectional side view which shows the state in the middle of wiping operation | movement. (a)から(c)は、ノズルプレート301iの製造における各工程での状態を示す図3と同じ位置で切断した模式断面図である。(A) to (c) is a schematic cross-sectional view cut at the same position as FIG. 3 showing the state in each step in the manufacture of the nozzle plate 301i. (a)から(c)は、ノズルプレート301iの製造における各工程での状態を示す図3と同じ位置で切断した模式断面図である。(A) to (c) is a schematic cross-sectional view cut at the same position as FIG. 3 showing the state in each step in the manufacture of the nozzle plate 301i. (a)から(c)は、ノズルプレート301iの製造における各工程での状態を示す図3と同じ位置で切断した模式断面図である。(A) to (c) is a schematic cross-sectional view cut at the same position as FIG. 3 showing the state in each step in the manufacture of the nozzle plate 301i. (a)から(c)は、ノズルプレート301iの製造における各工程での状態を示す模式平面図であり、(a)は図5(c)の上面図、(b)は図7(a)の上面図、(c)は図7(c)の下面図である。(A) to (c) is a schematic plan view showing a state in each step in manufacturing the nozzle plate 301i, (a) is a top view of FIG. 5 (c), and (b) is FIG. 7 (a). Fig. 7C is a bottom view of Fig. 7C. (a)(b)は、ノズルプレート301iのインク吐出面301aにおけるノズル孔3031周辺を撮像した電子顕微鏡写真である。(A) and (b) are the electron micrographs which imaged the nozzle hole 3031 periphery in the ink discharge surface 301a of the nozzle plate 301i. (a)から(c)は、インクジェットヘッド301における拭き取り動作途中の状態を示す模式側断面図である。FIGS. 3A to 3C are schematic side cross-sectional views illustrating a state during the wiping operation in the inkjet head 301. FIG. (a)から(c)は、インクジェットヘッドの比較例における拭き取り動作途中の状態を示す模式側断面図である。(A) to (c) is a schematic side sectional view showing a state during the wiping operation in a comparative example of an inkjet head. 本開示の実施形態に係る表示装置の構成を示す模式ブロック図である。3 is a schematic block diagram illustrating a configuration of a display device according to an embodiment of the present disclosure. FIG. 表示装置における表示パネルの構成を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the structure of the display panel in a display apparatus. 表示パネルの製造過程の一部を示す模式断面図である。(a)は、基板にTFT層及び給電電極が形成された状態を示す模式断面図である。(b)は、その上に絶縁層が形成された状態を示す模式断面図である。(c)は、その上に画素電極及び正孔注入層が形成された状態を示す模式断面図である。(d)は、その上に隔壁層が形成された状態を示す模式断面図である。(e)は、隔壁層で規定された領域に正孔輸送層用インクの液滴が吐出されている状態を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows a part of manufacturing process of a display panel. (A) is a schematic cross section which shows the state in which the TFT layer and the electric power feeding electrode were formed in the board | substrate. (B) is a schematic cross section which shows the state by which the insulating layer was formed on it. (C) is a schematic cross-sectional view showing a state in which a pixel electrode and a hole injection layer are formed thereon. (D) is a schematic cross section which shows the state in which the partition layer was formed on it. (E) is a schematic cross-sectional view showing a state in which droplets of hole transport layer ink are ejected to a region defined by the partition wall layer. (a)は、正孔輸送層が形成された状態を示す模式断面図である。(b)は、隔壁層で規定された領域に、正孔輸送層の上から有機発光層用インクの液滴が吐出されている状態を示す模式断面図である。(c)は、有機発光層が形成された状態を示す模式断面図である。(d)は、その上に、電子輸送層、電子注入層、及び対向電極が形成された状態を示す模式断面図である。(A) is a schematic cross section which shows the state in which the positive hole transport layer was formed. (B) is a schematic cross-sectional view showing a state where ink droplets for an organic light emitting layer are ejected from above the hole transport layer into the region defined by the partition layer. (C) is a schematic cross section which shows the state in which the organic light emitting layer was formed. (D) is a schematic cross section which shows the state in which the electron carrying layer, the electron injection layer, and the counter electrode were formed on it. 有機EL表示パネル100の製造方法において、基板上の隣接する隔壁107間の堀状の開口部117に発光層形成用のインクを塗布する工程を示す模式平面図である。FIG. 11 is a schematic plan view showing a step of applying a light emitting layer forming ink to a moat-shaped opening 117 between adjacent partition walls 107 on a substrate in the method of manufacturing the organic EL display panel 100. 変形例に係るインクジェットヘッド301Aにおけるノズルの概略構成を示す一部拡大断面図である。It is a partially expanded sectional view which shows schematic structure of the nozzle in the inkjet head 301A which concerns on a modification. (a)から(c)は、インクジェットヘッド301Aの製造における各工程での状態を示す図17と同じ位置で切断した模式断面図である。(A)-(c) is the schematic cross section cut | disconnected in the same position as FIG. 17 which shows the state in each process in manufacture of the inkjet head 301A.

≪本発明を実施するための形態の概要≫
本開示の一態様に係るノズルプレートは、複数のノズル孔が列状に開設された金属を主成分とする板状体からなり、前記板状体の一方の表面を主面とするとき、前記板状体の主面におけるノズル孔周囲部分の表面は、当該ノズル孔周囲部分以外の表面に対し突出していることを特徴とする。また、本開示の一態様に係るインクジェットヘッドは、上記何れかの態様に係るノズルプレートと、前記ノズルプレートの裏面に対向して配された振動板と、前記ノズルプレートと前記振動板との間隙をノズル孔毎に区切り、ノズル孔各々に対応するキャビティを形成する複数の隔壁と、各キャビティに設けられ各キャビティ内の圧力を個別に可変する駆動素子とを備えたことを特徴とする。
<< Outline of Embodiment for Implementing the Present Invention >>
The nozzle plate according to one aspect of the present disclosure is composed of a plate-shaped body mainly composed of metal in which a plurality of nozzle holes are formed in a row, and when one surface of the plate-shaped body is a main surface, The surface of the peripheral portion of the nozzle hole on the main surface of the plate-like body is characterized by protruding relative to the surface other than the peripheral portion of the nozzle hole. An inkjet head according to an aspect of the present disclosure includes a nozzle plate according to any one of the above aspects, a diaphragm disposed to face the back surface of the nozzle plate, and a gap between the nozzle plate and the diaphragm. And a plurality of partition walls that form cavities corresponding to the respective nozzle holes, and drive elements that are provided in the respective cavities and individually change the pressure in each of the cavities.

係る構成により、インクジェットヘッドのインク吐出面をゴムブレード等のワイパでノズル孔列に沿って擦る場合に、インクジェットヘッドのインク吐出面に不要なインクが付着させることなく、インク吐出面に付着した不要なインクを除去することができる。
また、別の態様では、上記何れかに記載の態様において、前記板状体の主面における前記ノズル孔がある面をノズル面とするとき、前記板状体の主面におけるノズル孔周囲部分表面の突出量は、前記ノズル面において最大であり、前記ノズル面の周縁に近付くにしたがい連続的に増加している構成としてもよい。また、別の態様では、上記何れかに記載の態様において、前記板状体の主面におけるノズル孔周囲部分表面の当該部分以外の表面に対する傾斜角は、前記ノズル面の周縁外方から前記ノズル面の周縁に近付くにしたがい連続的に増加している構成としてもよい。
With this configuration, when the ink discharge surface of the ink jet head is rubbed along a nozzle hole array with a wiper such as a rubber blade, unnecessary ink does not adhere to the ink discharge surface of the ink jet head, and the ink discharge surface is unnecessary. Ink can be removed.
In another aspect, in any one of the above aspects, when the surface having the nozzle holes in the main surface of the plate-like body is a nozzle surface, the surface surrounding the nozzle holes in the main surface of the plate-like body The amount of protrusion of the nozzle surface may be the maximum on the nozzle surface, and may continuously increase as it approaches the periphery of the nozzle surface. In another aspect, in any one of the above aspects, the inclination angle of the surface around the nozzle hole on the main surface of the plate-like body with respect to the surface other than the portion is from the outer peripheral edge of the nozzle surface to the nozzle. It is good also as a structure which is increasing continuously as it approaches the periphery of a surface.

係る構成により、インク飛沫のノズル面から傾斜面上への移動が容易になるとともに、移動したインク飛沫が、さらに、傾斜面上を傾斜面の麓に向かって移動しやすくなる。
また、別の態様では、上記何れかに記載の態様において、前記板状体の主面と背向する裏面の平面視における前記ノズル孔周囲部分に含まれる表面部分は、当該部分以外の表面に対し陥没しており、陥没量は、前記ノズル孔に近付くにしたがい連続的に増加している構成としてもよい。また、別の態様では、上記何れかに記載の態様において、前記板状体の裏面の平面視における前記ノズル孔周囲部分に含まれる表面部分の当該部分以外の表面部分に対する傾斜角は、前記ノズル孔に近付くにしたがい連続的に増加している構成としてもよい。
With such a configuration, the ink droplets can be easily moved from the nozzle surface to the inclined surface, and the moved ink droplets can further easily move on the inclined surface toward the edge of the inclined surface.
In another aspect, in any one of the aspects described above, the surface portion included in the nozzle hole surrounding portion in a plan view of the back surface opposite to the main surface of the plate-like body is a surface other than the portion. It is good also as a structure which is depressed, and the amount of depressions is increasing continuously as it approaches the said nozzle hole. In another aspect, in any one of the aspects described above, an inclination angle of a surface portion included in a portion around the nozzle hole in a plan view of the back surface of the plate-like body with respect to a surface portion other than the portion is the nozzle. It is good also as a structure which is increasing continuously as it approaches a hole.

係る構成により、インクを吐出するときに、インクと裏面との抵抗を低減して、インクの吐出効率を高めるとともに着弾精度を向上することができる。
また、別の態様では、上記何れかに記載の態様において、前記金属は、ニッケル、クロム、鉄、アルミニウム、銀、金、コバルト、銅、パラジウム、スズ、亜鉛などの金属又はそれらの合金から選択される1以上である構成としてもよい。
With this configuration, when ink is ejected, the resistance between the ink and the back surface can be reduced to increase the ink ejection efficiency and improve the landing accuracy.
In another embodiment, in any of the above embodiments, the metal is selected from metals such as nickel, chromium, iron, aluminum, silver, gold, cobalt, copper, palladium, tin, and zinc, or alloys thereof. It is good also as composition which is one or more done.

係る構成により、インク吐出面に不要なインクが付着させることなく、インク吐出面に付着した不要なインクを容易に除去できる構成を各種金属を用いて実現できる。
また、別の態様では、上記何れかに記載の態様において、前記板状体は、前記主面表面から所定深さの範囲にポリテトラフルオロエチレン(PTFE)を含む構成としてもよい。
With such a configuration, it is possible to realize a configuration in which unnecessary ink attached to the ink ejection surface can be easily removed without attaching unnecessary ink to the ink ejection surface using various metals.
In another aspect, in any of the aspects described above, the plate-like body may include polytetrafluoroethylene (PTFE) in a range of a predetermined depth from the surface of the main surface.

係る構成により、ノズル面に付着していた不要なインク飛沫は表面張力により傾斜面上への移動が容易になる。さらに、移動したインク飛沫が、傾斜面上を傾斜面の麓に向かって移動しやすくなる。その結果、インク飛沫が下流側のノズル孔付近のノズル面に移動し、インク不正吐出発生の要因となることを防止できる。
また、本開示の一態様に係るインクジェット装置は、上記何れかの態様に係るインクジェットヘッドと、ゴムからなるワイパーブレードと、前記ワイパーブレードの先端と前記吐出面とが接触した状態で、前記ワイパーブレードが吐出面に平行な方向に相対的に移動するように、前記ワイパーブレード及び前記インクジェットヘッドの少なくとも一方を移動させる移動部とを有することを特徴とする。また、別の態様では、上記何れかに記載の態様において、前記ワイパーブレードは、前記移動部による移動の際に、前記主面に対し押圧されている構成としてもよい。
With such a configuration, unnecessary ink splashes adhering to the nozzle surface can be easily moved onto the inclined surface due to surface tension. Furthermore, the ink splash that has moved becomes easy to move on the inclined surface toward the edge of the inclined surface. As a result, it is possible to prevent ink splashes from moving to the nozzle surface near the downstream nozzle hole and causing an incorrect ink discharge.
In addition, an inkjet apparatus according to an aspect of the present disclosure includes the inkjet head according to any one of the aspects described above, a wiper blade made of rubber, and the wiper blade in a state where the tip of the wiper blade and the discharge surface are in contact with each other. And a moving unit that moves at least one of the wiper blade and the ink jet head so that the nozzle moves relatively in a direction parallel to the ejection surface. In another aspect, in any one of the aspects described above, the wiper blade may be configured to be pressed against the main surface when moved by the moving unit.

係る構成により、インクジェットヘッドのインク吐出面に不要なインクが付着させることなく、インク吐出面に付着した不要なインクを除去するインクジェット装置を実現できる。
また、本開示の一態様に係る有機EL素子の製造装置は、陽極と陰極との間に、有機発光層を含む機能層を複数有する有機EL素子の製造装置であって、前記インクは、前記機能層を形成するための機能性材料を含み、上記何れかの態様に係るインクジェット装置を有することを特徴とする。また、本開示の一態様に係る有機EL素子の製造方法は、機能性物質が溶媒に溶解されてなるインクを下地基板上に吐出し、溶媒を乾燥させて前記機能性物質の薄膜を形成する工程を含み、前記インクの吐出を、上記何れかの態様に係る有機EL素子の製造装置により行うことを特徴とする。
With this configuration, it is possible to realize an ink jet apparatus that removes unnecessary ink adhering to the ink discharge surface without causing unnecessary ink to adhere to the ink discharge surface of the ink jet head.
An organic EL element manufacturing apparatus according to an aspect of the present disclosure is an organic EL element manufacturing apparatus having a plurality of functional layers including an organic light emitting layer between an anode and a cathode, wherein the ink includes the ink It includes a functional material for forming a functional layer, and has an ink jet device according to any one of the above aspects. In addition, in a method for manufacturing an organic EL element according to one embodiment of the present disclosure, a thin film of the functional substance is formed by discharging ink formed by dissolving a functional substance in a solvent onto a base substrate and drying the solvent. A step of discharging the ink by the organic EL element manufacturing apparatus according to any one of the above aspects.

インクジェット装置では、不吐出ノズルの発生を防止して、有機機能層の塗布が正常に行われた有機EL素子を提供することができる。また、そのような有機EL素子を備え、抜けや色の濃さが著しく異なる部分の無い、良好な画質を備えた有機EL表示パネルおよび、そのような有機EL表示パネルを備えた有機EL表示装置を提供することができる。
また、本開示の一態様に係るノズルプレートの製造方法は、導電性材料からなり上面が平板状の母型を準備する工程と、前記母型の上面に絶縁性のフォトレジストを塗布する工程と、前記フォトレジストをマスクを介して露光した後現像して、ノズル孔を形成する領域より所定寸法だけ大きく当該領域を含むフォトレジスト層を形成する工程と、前記母型の上面の前記フォトレジスト層の不存在領域にストライク金属めっきを付着させて前記フォトレジスト層に対応する第1部分が開口した密着層を形成する工程と、前記母型に電圧を印加して前記密着層上及び前記第1部分の周縁近傍の前記フォトレジスト層上に電界金属めっきを積層して、前記第1部分より小さい第2部分が開口した型層を形成する工程と、加熱処理を施し前記型層表面に前記金属の酸化物層を形成する工程と、前記母型に電圧を印加して前記酸化物層上及び前記第2部分の周縁近傍の前記フォトレジスト層上に電界金属めっきを積層して、前記フォトレジスト層上の電界金属めっきが形成されない前記第2部分より小さい第3部分をノズル孔としたノズルプレートを形成する工程と、前記ノズルプレートを前記酸化物層との界面において前記酸化物層以下の層から剥離して前記ノズルプレートを取り出す工程とを有することを特徴とする。また、別の態様では、上記何れかに記載の態様において、前記金属は、ニッケル、クロム、鉄、アルミニウム、銀、金、コバルト、銅、パラジウム、スズ、亜鉛などの金属又はそれらの合金から選択される1以上である構成としてもよい。
In the inkjet apparatus, it is possible to provide an organic EL element in which the organic functional layer is normally applied by preventing the occurrence of non-ejection nozzles. Further, an organic EL display panel having such an organic EL element and having good image quality with no omission and no significant difference in color density, and an organic EL display device having such an organic EL display panel Can be provided.
In addition, a method for manufacturing a nozzle plate according to one aspect of the present disclosure includes a step of preparing a mother die made of a conductive material and having a flat upper surface, and a step of applying an insulating photoresist on the upper surface of the mother die. The photoresist is exposed to light through a mask and developed to form a photoresist layer including a region larger than the region for forming the nozzle hole by a predetermined dimension, and the photoresist layer on the upper surface of the mother die Forming an adhesion layer having a first portion corresponding to the photoresist layer opened by applying strike metal plating to the absence region, and applying a voltage to the matrix to form the adhesion layer on the first layer and the first layer. A step of laminating electric field metal plating on the photoresist layer in the vicinity of the periphery of the part to form a mold layer having an opening of a second part smaller than the first part; Forming a metal oxide layer, applying a voltage to the matrix and laminating electric field metal plating on the oxide layer and on the photoresist layer in the vicinity of the periphery of the second portion, Forming a nozzle plate having a third portion smaller than the second portion on which a metal field plating on the photoresist layer is not formed as a nozzle hole, and the nozzle plate below the oxide layer at the interface with the oxide layer And removing the nozzle plate from the layer. In another embodiment, in any of the above embodiments, the metal is selected from metals such as nickel, chromium, iron, aluminum, silver, gold, cobalt, copper, palladium, tin, and zinc, or alloys thereof. It is good also as composition which is one or more done.

係る構成により、母型に電圧を印加して酸化物層上及び第2部分の周縁近傍のフォトレジスト層上に電界金属めっきを積層することにより、フォトレジスト層上にあって電界金属めっきが形成されなかった第3部分に対応する範囲にノズル孔が形成されているとともに、型層の厚みに起因して、インク吐出面におけるノズル孔周囲部分の表面(ノズル面301f及び傾斜面301h)は、当該ノズル孔周囲部分以外の表面に対し突出しているノズルプレートを形成することができる。   With such a configuration, an electric field metal plating is formed on the photoresist layer by applying a voltage to the matrix and laminating the electric field metal plating on the oxide layer and on the photoresist layer near the periphery of the second portion. Nozzle holes are formed in a range corresponding to the third portion that has not been performed, and due to the thickness of the mold layer, the surface of the ink discharge surface surrounding the nozzle holes (nozzle surface 301f and inclined surface 301h) A nozzle plate protruding from the surface other than the peripheral portion of the nozzle hole can be formed.

また、別の態様では、上記何れかに記載の態様において、前記ノズルプレートを形成する工程は、前記金属及びポリテトラフルオロエチレン(PTFE)の共析電界めっきを積層する工程を含む構成としてもよい。
係る構成により、ノズル面に付着していた不要なインク飛沫は表面張力により傾斜面上への移動が容易になる。さらに、移動したインク飛沫が、傾斜面上を傾斜面の麓に向かって移動しやすくなる。
In another aspect, in any one of the above aspects, the step of forming the nozzle plate may include a step of laminating the eutectoid electroplating of the metal and polytetrafluoroethylene (PTFE). .
With such a configuration, unnecessary ink splashes adhering to the nozzle surface can be easily moved onto the inclined surface due to surface tension. Furthermore, the ink splash that has moved becomes easy to move on the inclined surface toward the edge of the inclined surface.

≪実施の形態≫
1.インクジェット装置の構成
先ず、本実施形態の液滴吐出方法が用いられるインクジェット装置について説明する。
なお、各図面における部材の縮尺は必ずしも実際のものと同じであるとは限らない。また、本願において、数値範囲を示す際に用いる符号「〜」は、その両端の数値を含む。また、本実施形態で記載している、材料、数値等は好ましいものを例示しているだけであり、それに限定されることはない。また、本開示の技術的思想の範囲を逸脱しない範囲で、適宜変更は可能である。また、他の実施形態との構成の一部同士の組み合わせは、矛盾が生じない範囲で可能である。
<< Embodiment >>
1. Configuration of Inkjet Device First, an inkjet device that uses the droplet discharge method of the present embodiment will be described.
In addition, the scale of the member in each drawing is not necessarily the same as an actual thing. In the present application, the sign “˜” used to indicate a numerical range includes numerical values at both ends. In addition, the materials, numerical values, and the like described in this embodiment are merely preferable examples, and are not limited thereto. In addition, changes can be made as appropriate without departing from the scope of the technical idea of the present disclosure. Further, some combinations of configurations with other embodiments are possible within a range where no contradiction occurs.

1.1 全体構成
図1は、実施形態に係るインクジェット装置1000の主要構成を示す図である。図2は、インクジェット装置1000の機能ブロック図である。
図13に示すように、インクジェット装置1000は、インクジェットテーブル200、ヘッド部300、制御装置15(図1では、不図示)で構成される。インクジェットテーブル200には、固定ステージSTに固定された塗布対象基板に対してヘッド部300を移動させるための移動部230が含まれる。移動部230は、リニアモータ204及び205、サーボモータ221、制御部213を有する。
1.1 Overall Configuration FIG. 1 is a diagram illustrating a main configuration of an inkjet apparatus 1000 according to an embodiment. FIG. 2 is a functional block diagram of the ink jet apparatus 1000.
As shown in FIG. 13, the ink jet apparatus 1000 includes an ink jet table 200, a head unit 300, and a control device 15 (not shown in FIG. 1). The ink jet table 200 includes a moving unit 230 for moving the head unit 300 with respect to the application target substrate fixed to the fixed stage ST. The moving unit 230 includes linear motors 204 and 205, a servo motor 221, and a control unit 213.

図2に示すように、制御装置15は、CPU150、記憶手段151(HDD等の大容量記憶手段を含む)、表示手段(ディスプレイ)153、入力手段152で構成される。当該制御装置15は具体的にはパーソナルコンピューター(PC)を用いることができる。記憶手段151には、制御装置15に接続されたインクジェットテーブル200、ヘッド部300を駆動するための制御プログラム等が格納されている。インクジェット装置1000の駆動時には、CPU150が入力手段152を通じてオペレータにより入力された指示と、前記記憶手段151に格納された各制御プログラムに基づいて所定の制御を行う。   As shown in FIG. 2, the control device 15 includes a CPU 150, a storage unit 151 (including a large-capacity storage unit such as an HDD), a display unit (display) 153, and an input unit 152. Specifically, the control device 15 can be a personal computer (PC). The storage unit 151 stores a control program for driving the inkjet table 200 and the head unit 300 connected to the control device 15. When the ink jet apparatus 1000 is driven, the CPU 150 performs predetermined control based on an instruction input by the operator through the input unit 152 and each control program stored in the storage unit 151.

1.2 インクジェットテーブル
図1に示すように、インクジェットテーブル200はいわゆるガントリー式の動作テーブルであり、基台のテーブルの上をガントリー部(移動架台)が一対のガイドシャフトに沿って移動可能に配されている。
具体的構成として、板状の基台201には、その上面の四隅に柱状のスタンド202A、202B、203A、203Bが配設されている。これらのスタンド202A、202B、203A、203Bに囲まれた内側領域には、塗布対象となる基板を載置するための固定ステージSTと、塗布直前にインクを吐出させることにより吐出特性を安定化させるために用いるインクパン(皿状容器)IPがそれぞれ配設されている。
1.2 Inkjet Table As shown in FIG. 1, the inkjet table 200 is a so-called gantry-type operation table, and is arranged on a base table so that a gantry section (moving stand) can move along a pair of guide shafts. Has been.
As a specific configuration, columnar stands 202A, 202B, 203A, and 203B are disposed at four corners of the upper surface of the plate-like base 201. In the inner region surrounded by the stands 202A, 202B, 203A, and 203B, the ejection characteristics are stabilized by ejecting ink immediately before the application and the stationary stage ST for placing the substrate to be applied. For this purpose, an ink pan (dish container) IP is provided.

また、スタンド202A、202B、203A、203Bには、基台201の長手(Y)方向に沿って、ガイドシャフト204A、204Bが平行軸支されている。ガイドシャフト204A、204Bにはリニアモータ205、206が挿通されており、リニアモータ205、206に対してガイドシャフト204A、204Bを架け渡すように、ガントリー部210が搭載されている。この構成により、インクジェット装置1000の駆動時において、一対のリニアモータ205、206が駆動されることで、ガントリー部210がガイドシャフト204A、204Bの長手方向(Y軸方向)に沿ってスライド自在に往復運動する。   Further, guide shafts 204A and 204B are supported in parallel on the stands 202A, 202B, 203A, and 203B along the longitudinal (Y) direction of the base 201. Linear motors 205 and 206 are inserted through the guide shafts 204A and 204B, and a gantry unit 210 is mounted so as to bridge the guide shafts 204A and 204B with respect to the linear motors 205 and 206. With this configuration, when the inkjet apparatus 1000 is driven, the pair of linear motors 205 and 206 are driven, so that the gantry unit 210 reciprocates freely along the longitudinal direction (Y-axis direction) of the guide shafts 204A and 204B. Exercise.

ガントリー部210には、L字型の台座からなる移動体(キャリッジ)220が配設される。移動体220にはサーボモータ(移動体モータ)221が配設され、各モータの軸の先端に不図示のギヤが配されている。ギヤはガントリー部210の長手方向(X方向)に沿って形成されたガイド溝211に嵌合される。ガイド溝211の内部にはそれぞれ長手方向に沿って微細なラックが形成されている。ギヤはラックと噛合しているので、サーボモータ221が駆動すると、移動体220はいわゆるピニオンラック機構によって、X軸方向に沿って往復自在に精密に移動する。   The gantry unit 210 is provided with a moving body (carriage) 220 made of an L-shaped pedestal. The moving body 220 is provided with a servo motor (moving body motor) 221, and a gear (not shown) is disposed at the tip of the shaft of each motor. The gear is fitted in a guide groove 211 formed along the longitudinal direction (X direction) of the gantry unit 210. Inside the guide groove 211, a fine rack is formed along the longitudinal direction. Since the gear meshes with the rack, when the servo motor 221 is driven, the moving body 220 moves precisely and reciprocally along the X-axis direction by a so-called pinion rack mechanism.

ここで、移動体220にはヘッド部300が装備されるので、移動体220をガントリー部210に対して固定した状態でガントリー部210をガイドシャフト204A、204Bの長手方向に沿って移動させることによって、また、ガントリー部210を停止させた状態で移動体220をガントリー部210の長手方向に沿って移動させることによって、塗布対象基板に対してヘッド部300を走査させることができる。ヘッド部300の主走査方向は行(Y軸)方向であり、副走査方向は列(X軸)方向である。   Here, since the moving body 220 is equipped with the head unit 300, the gantry unit 210 is moved along the longitudinal direction of the guide shafts 204A and 204B while the moving body 220 is fixed to the gantry unit 210. In addition, by moving the moving body 220 along the longitudinal direction of the gantry unit 210 while the gantry unit 210 is stopped, the head unit 300 can be scanned with respect to the application target substrate. The main scanning direction of the head unit 300 is the row (Y-axis) direction, and the sub-scanning direction is the column (X-axis) direction.

なお、リニアモータ205、206、サーボモータ221はそれぞれ直接駆動を制御するための制御部213に接続され、当該制御部213は制御装置15内のCPU150に接続されている。インクジェット装置1000の駆動時には、制御プログラムを読み込んだCPU150により、制御部213を介してリニアモータ205、206、サーボモータ221の各駆動が制御される(図2参照)。   The linear motors 205 and 206 and the servo motor 221 are each connected to a control unit 213 for directly controlling driving, and the control unit 213 is connected to the CPU 150 in the control device 15. When the ink jet apparatus 1000 is driven, the CPU 150 that reads the control program controls each drive of the linear motors 205 and 206 and the servo motor 221 via the control unit 213 (see FIG. 2).

1.3 インクジェットヘッド
ヘッド部300は公知のピエゾ方式を採用し、インクジェットヘッド301及び本体部302で構成されている。インクジェットヘッド301は本体部302を介して移動体220に固定されている。本体部302はサーボモータ304(図2参照)を内蔵しており、サーボモータ304を回転させることにより、インクジェットヘッド301の長手方向と固定ステージSTのX軸とのなす角度が調節される。また、サーボモータ304は、インクジェットヘッド301を上下方向(Z軸方向)に移動させる。
1.3 Inkjet Head The head unit 300 employs a known piezo method and includes an inkjet head 301 and a main body 302. The ink jet head 301 is fixed to the moving body 220 via the main body 302. The main body 302 has a built-in servo motor 304 (see FIG. 2). By rotating the servo motor 304, the angle formed by the longitudinal direction of the inkjet head 301 and the X axis of the fixed stage ST is adjusted. The servo motor 304 moves the inkjet head 301 in the vertical direction (Z-axis direction).

図3は、インクジェットヘッド301のノズル3030の概略構成を示す断面図である。図3に示すように、インクジェットヘッド301は、液滴Dが吐出される複数のノズル孔3031を有するノズルプレート301iと、複数のノズル孔3031がそれぞれ連通するキャビティ301eを区画する隔壁301dと、各キャビティ301eに対応する駆動手段としての駆動素子3010を有する振動板301bとが、順に積層され接合された構造となっている。   FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a schematic configuration of the nozzle 3030 of the inkjet head 301. As shown in FIG. 3, the inkjet head 301 includes a nozzle plate 301 i having a plurality of nozzle holes 3031 through which droplets D are discharged, a partition wall 301 d that defines a cavity 301 e through which the plurality of nozzle holes 3031 communicate with each other, A diaphragm 301b having a driving element 3010 as driving means corresponding to the cavity 301e is laminated and joined in order.

振動板301bは、半導体製造プロセスにより、半導体ウエハ上に、キャビティ301eの圧力を可変する駆動素子である駆動素子3010が一体に形成され、この半導体ウエハが所定形状により切り出されて形成される。
駆動素子3010は、一対の電極3011、3012によりピエゾ素子本体部3013が挟まれてなる圧電素子である。外部から一対の電極3011、3012に駆動電圧パルス(駆動信号)が印加されることにより、接合された振動板301bを変形させる。これにより隔壁301dで仕切られたキャビティ301eの体積が減少し、キャビティ301eに充填されたインクを加圧して、ノズル孔3031からインクを液滴Dとして吐出できる構造となっている。そして、駆動電圧パルスの印加が終了すると、振動板301bは元に戻り、キャビティ301eの体積が復元することにより、インクが不図示のリザーバからキャビティ301eに吸引される。駆動素子3010に印加される駆動電圧パルスを制御することにより、それぞれのノズル3030から吐出されるインクの量や吐出タイミング等の吐出制御を行うことができる。これによりこのインクジェットヘッド301では、駆動素子である駆動素子3010によりキャビティ301eの圧力を可変し、このキャビティ301eに保持した液体であるインクの液滴をノズル孔3031より飛び出させ、印刷対象に付着させるようになされている。
The diaphragm 301b is formed by integrally forming a driving element 3010, which is a driving element that changes the pressure of the cavity 301e, on a semiconductor wafer by a semiconductor manufacturing process, and cutting the semiconductor wafer into a predetermined shape.
The drive element 3010 is a piezoelectric element in which a piezo element body 3013 is sandwiched between a pair of electrodes 3011 and 3012. When a drive voltage pulse (drive signal) is applied to the pair of electrodes 3011 and 3012 from the outside, the bonded diaphragm 301b is deformed. As a result, the volume of the cavity 301e partitioned by the partition wall 301d is reduced, and the ink filled in the cavity 301e is pressurized so that the ink can be ejected as droplets D from the nozzle holes 3031. When the application of the drive voltage pulse is completed, the diaphragm 301b returns to its original state, and the volume of the cavity 301e is restored, so that ink is sucked into the cavity 301e from a reservoir (not shown). By controlling the drive voltage pulse applied to the drive element 3010, it is possible to perform ejection control such as the amount of ink ejected from each nozzle 3030 and the ejection timing. As a result, in the inkjet head 301, the pressure of the cavity 301e is varied by the drive element 3010 which is a drive element, and the ink droplets which are the liquid held in the cavity 301e are ejected from the nozzle hole 3031 and attached to the print target. It is made like that.

隔壁301dは、感光性を有する樹脂により形成され、スピンコート、バーコート、カーテンコート等の各種塗布手法により振動板301bに塗布した後、フォトマスクによる露光、現像の処理により形成される。この処理において、隔壁301dは、半硬化状態によりノズルプレート301iが配置された後、後述するインクジェットヘッド301の組立工程において完全に硬化される。   The partition wall 301d is formed of photosensitive resin, and is formed by exposure and development processes using a photomask after being applied to the vibration plate 301b by various application methods such as spin coating, bar coating, and curtain coating. In this process, the partition wall 301d is completely cured in an assembly process of the inkjet head 301 described later after the nozzle plate 301i is arranged in a semi-cured state.

ノズルプレート301iには、複数のノズル孔3031が列状に開設された金属の板状体からなり、例えば、ニッケル、クロム、鉄、アルミニウム、銀、金、チタンなどの金属又はそれらの合金からなり、電鋳処理により作成される。ノズルプレート301iの製造方法については後述する。ノズルプレート301iの肉厚tは、数μmから数十μmであり、本例では、例えば、約5μmであり、ノズル孔3031の直径は、例えば、10μm以上15μm以下としてもよい。また、プレート301iは、301h側、隔壁301dの端面に、ノズルプレート301iを保持し、ノズルプレート301iを隔壁301dの端面に密着させて保持するようになされている。   The nozzle plate 301i is made of a metal plate-like body in which a plurality of nozzle holes 3031 are opened in a row, for example, a metal such as nickel, chromium, iron, aluminum, silver, gold, titanium, or an alloy thereof. , Created by electroforming. A method for manufacturing the nozzle plate 301i will be described later. The wall thickness t of the nozzle plate 301i is several μm to several tens of μm, and in this example, for example, is about 5 μm, and the diameter of the nozzle hole 3031 may be, for example, 10 μm or more and 15 μm or less. The plate 301i holds the nozzle plate 301i on the end face of the partition wall 301d on the 301h side, and holds the nozzle plate 301i in close contact with the end face of the partition wall 301d.

ノズルプレート301iは、図3(a)の下方を向いた表面をインク吐出面301aとする。ノズルプレート301iは、インク吐出面301aにおけるノズル孔周囲部分301gの表面(301h、301f)は、当該ノズル孔周囲部分以外の表面301kに対し突出している。板状体のインク吐出面301aにおけるノズル孔3031がある面をノズル面301f、その周囲の傾斜面を301hとするとき、傾斜面301h及びノズル面301fがノズル孔周囲部分301gに相当する。ノズル孔周囲部分301gから拭き出されたインク飛沫41がノズル孔3031に自然に戻るか、ブレードにより効率良く排除するために、ノズル孔周囲部分301gのインク吐出面301a方向の長さは、ノズル孔3031の直径に対して、0.5倍以上1.5倍以下であることが好ましく、0.7倍以上1.2倍以下であることがより一層好ましい。本実施の形態では、例えば、9μm以上15μm以下とした。またブレードすることによるノズル孔の変形を防止するためにノズル孔周囲部の長さは、3μm以上が必要であり、より好ましくは5μm以上となる。ノズルプレート301iのインク吐出面301aにおけるノズル孔周囲部分301gの表面の突出量δhは、ノズル面301fで最大であり、傾斜面を301hではノズル面301fの周縁に近付くにしたがい連続的に増加している構成としてもよい。本例では、突出量δの最大値は約2から4μmである。また、インク吐出面301aにおけるノズル孔周囲部分表面301gの当該部分以外の表面301kに対する傾斜角は、ノズル面301fに近付くにしたがい連続的に増加している構成としてもよい。   The nozzle plate 301i has a surface facing downward in FIG. 3A as an ink ejection surface 301a. In the nozzle plate 301i, the surface (301h, 301f) of the nozzle hole surrounding portion 301g on the ink discharge surface 301a protrudes from the surface 301k other than the nozzle hole surrounding portion. When the surface having the nozzle holes 3031 on the ink discharge surface 301a of the plate-like body is the nozzle surface 301f and the surrounding inclined surface is 301h, the inclined surface 301h and the nozzle surface 301f correspond to the nozzle hole surrounding portion 301g. In order for the ink droplets 41 wiped from the nozzle hole peripheral portion 301g to naturally return to the nozzle hole 3031 or to be efficiently removed by the blade, the length of the nozzle hole peripheral portion 301g in the direction of the ink ejection surface 301a is determined as follows. The diameter of 3031 is preferably from 0.5 times to 1.5 times, and more preferably from 0.7 times to 1.2 times. In this embodiment, for example, the thickness is 9 μm or more and 15 μm or less. Further, in order to prevent the deformation of the nozzle hole due to the blade, the length of the peripheral portion of the nozzle hole is required to be 3 μm or more, more preferably 5 μm or more. The protrusion amount δh of the surface of the nozzle hole peripheral portion 301g on the ink discharge surface 301a of the nozzle plate 301i is the maximum at the nozzle surface 301f, and continuously increases as the inclined surface is closer to the periphery of the nozzle surface 301f at 301h. It is good also as composition which has. In this example, the maximum value of the protrusion amount δ is about 2 to 4 μm. In addition, the inclination angle of the nozzle hole surrounding portion surface 301g on the ink discharge surface 301a with respect to the surface 301k other than the portion may be continuously increased as it approaches the nozzle surface 301f.

また、ノズルプレート301iのインク吐出面301aと背向する裏面301mの平面視におけるノズル孔周囲部分301gに含まれる表面部分は、当該部分以外の表面301lに対し陥没している。このとき、ノズルプレート301iの裏面301mのノズル孔周囲部分301gに含まれる表面部分の陥没量は、ノズル孔3031に近付くにしたがい連続的に増加している構成としてもよい。また、ノズルプレート301iの裏面301mのノズル孔周囲部分301gに含まれる表面部分の当該表面部分以外の表面301lに対する傾斜角は、ノズル孔3031に近付くにしたがい連続的に増加している構成としてもよい。   Further, the surface portion included in the nozzle hole peripheral portion 301g in the plan view of the back surface 301m facing away from the ink discharge surface 301a of the nozzle plate 301i is depressed with respect to the surface 301l other than the portion. At this time, the amount of depression of the front surface portion included in the nozzle hole surrounding portion 301g on the back surface 301m of the nozzle plate 301i may be configured to continuously increase as the nozzle hole 3031 is approached. Further, the inclination angle of the surface portion included in the nozzle hole surrounding portion 301g of the back surface 301m of the nozzle plate 301i with respect to the surface 301l other than the surface portion may continuously increase as the nozzle hole 3031 is approached. .

インクジェットヘッド301の組立工程は、基台にノズルプレート301iを保持したまま、隔壁301dが形成されてなる振動板301bにノズルプレート301iの裏面を押し付けた状態で、全体を所定温度に加熱することにより、隔壁301dを完全に硬化させ、この硬化の際に、ノズルプレート301iの裏面と隔壁301dの端面とを接着する。また硬化の後、基台を取り外す。   The assembly process of the inkjet head 301 is performed by heating the whole to a predetermined temperature while pressing the back surface of the nozzle plate 301i against the diaphragm 301b formed with the partition wall 301d while holding the nozzle plate 301i on the base. The partition wall 301d is completely cured, and the back surface of the nozzle plate 301i and the end surface of the partition wall 301d are bonded during the curing. After curing, the base is removed.

なお、図3において、破線で囲んで示す部分がひとつのノズル3030である。すなわち、キャビティ301eおよびキャビティ301eを形成している隔壁301d、振動板301b、ノズルプレート301i、並びに、駆動素子3010、ノズル孔3031によりノズル3030が構成される。
インクジェットヘッド301は固定ステージSTに対向する面(吐出面)に複数のノズル3030を備えており、これらのノズル3030はインクジェットヘッド301の長手方向に沿って列状に配置されている。インクジェットヘッド301に供給されたインク(インク)は、各ノズル3030から液滴として塗布対象基板に対して吐出される。
In FIG. 3, a portion surrounded by a broken line is one nozzle 3030. That is, the cavity 301e and the partition wall 301d forming the cavity 301e, the vibration plate 301b, the nozzle plate 301i, the drive element 3010, and the nozzle hole 3031 constitute a nozzle 3030.
The inkjet head 301 is provided with a plurality of nozzles 3030 on the surface (ejection surface) facing the fixed stage ST, and these nozzles 3030 are arranged in a row along the longitudinal direction of the inkjet head 301. Ink (ink) supplied to the inkjet head 301 is ejected from each nozzle 3030 as droplets onto the application target substrate.

上述したように、各ノズル3030における液滴の吐出動作は、各ノズル3030が備えるピエゾ素子(圧電素子)3010に与えられる駆動電圧によって制御される。吐出制御部303は、各駆動素子3010に与える駆動信号を制御することにより、各ノズル3030からそれぞれ液滴吐出を行わせる。具体的には、図2に示すように、CPU150が所定の制御プログラムを記憶手段151から読み出し、吐出制御部303に対して、所定の電圧を対象の駆動素子3010に印加するように指示する。   As described above, the droplet discharge operation at each nozzle 3030 is controlled by the drive voltage applied to the piezo element (piezoelectric element) 3010 provided in each nozzle 3030. The ejection control unit 303 controls the drive signal given to each drive element 3010 to cause each nozzle 3030 to eject droplets. Specifically, as shown in FIG. 2, the CPU 150 reads a predetermined control program from the storage unit 151 and instructs the ejection control unit 303 to apply a predetermined voltage to the target drive element 3010.

1.4 クリーニング部
図1に示すように、インクジェット装置1000は、クリーニング部400を備える。クリーニング部400は、ゴムブレード等の弾性体からなる板状のワイパーブレード410(以後、「ブレード」とする)、ブレード410を支持する支持部材420、及び支持部材420が固定されるベース430を有する。支持部材420は、板状のブレード410の一方の面に連設され、ブレード410の端縁411を上方に向けた状態でブレード410を支持している。即ち、ブレード410及び支持部材420は、ベース430を介して基台201に固定されている。支持部材420は、ブレード410を吐出面に接触させたときにたわんで吐出面との接触が不均一にならない程度の強度が必要である。
1.4 Cleaning Unit As illustrated in FIG. 1, the inkjet apparatus 1000 includes a cleaning unit 400. The cleaning unit 400 includes a plate-like wiper blade 410 (hereinafter referred to as “blade”) made of an elastic body such as a rubber blade, a support member 420 that supports the blade 410, and a base 430 to which the support member 420 is fixed. . The support member 420 is connected to one surface of the plate-like blade 410 and supports the blade 410 with the edge 411 of the blade 410 facing upward. That is, the blade 410 and the support member 420 are fixed to the base 201 via the base 430. The support member 420 needs to be strong enough not to be bent when the blade 410 is brought into contact with the discharge surface and to be non-uniform in contact with the discharge surface.

ブレード410の列垂直方向長さ(Y方向の長さ)は、インクジェットヘッド301の列垂直方向の幅に合わせて適宜決定することができるが、例えば、10〜30mm程度が妥当である。
以上の構成を有するインクジェット装置1000を用い、インクジェット方式による塗布工程を行う。
The length of the blade 410 in the column vertical direction (the length in the Y direction) can be appropriately determined in accordance with the width of the inkjet head 301 in the column vertical direction, and for example, about 10 to 30 mm is appropriate.
Using the inkjet apparatus 1000 having the above-described configuration, a coating process using an inkjet method is performed.

次に、本実施形態の液滴吐出方法において行われるインクの拭き取り動作について説明する。
2.インクジェットヘッドの拭き取り動作
図4は、インクジェット装置1000におけるインクジェットヘッド301の拭き取り動作の手順を示す図であって、(a)は、インクジェットヘッドの吐出面とワイパーブレードとが接触する前の状態を示す模式側面図であり、(b)は、吐出面とワイパーブレードとが接触した状態を示す模式側面図であり、(c)は、拭き取り動作途中の状態を示す模式側断面図である
先ず、図4(a)に示すように、インクジェットヘッド301のインク吐出面301aの吐出方向側にブレード410が位置するように、インクジェットヘッド301を移動させる。このとき、ブレード410の端縁411の稜線に平行な方向と、インクジェットヘッド301の列垂直方向とが一致する態様でインクジェットヘッド301とブレード410とを対向配置させる。インクジェットヘッド301の移動は、移動部230(図2参照)により行われる。
Next, an ink wiping operation performed in the droplet discharge method of the present embodiment will be described.
2. Inkjet Head Wiping Operation FIG. 4 is a diagram showing a procedure of the wiping operation of the inkjet head 301 in the inkjet apparatus 1000, wherein (a) shows a state before the ejection surface of the inkjet head and the wiper blade come into contact with each other. It is a schematic side view, (b) is a schematic side view showing a state in which the ejection surface and the wiper blade are in contact, and (c) is a schematic side sectional view showing a state during the wiping operation. 4A, the inkjet head 301 is moved so that the blade 410 is positioned on the ejection direction side of the ink ejection surface 301a of the inkjet head 301. At this time, the inkjet head 301 and the blade 410 are arranged to face each other in a manner in which the direction parallel to the ridgeline of the edge 411 of the blade 410 and the column vertical direction of the inkjet head 301 coincide. The ink jet head 301 is moved by the moving unit 230 (see FIG. 2).

次に、インクジェットヘッド301のインク吐出面301aをブレード410に近づく方向(この場合は、鉛直下方)に移動させて、図4(b)に示すように、インク吐出面301aをブレード410に接触させる。このとき、ブレード410の端縁411をインク吐出面301aが軽く押圧する程度に接触させる。
そして、インク吐出面301aとブレード410とが接触した状態で、インクジェットヘッド301を図4(b)、(c)に示す白抜き矢印の方向に移動させる。すると、インク吐出面301aの不要な付着インク10が、インク吐出面301aからブレード410の端縁411により拭き取られて除去される。
Next, the ink discharge surface 301a of the inkjet head 301 is moved in a direction approaching the blade 410 (in this case, vertically downward), and the ink discharge surface 301a is brought into contact with the blade 410 as shown in FIG. . At this time, the edge 411 of the blade 410 is brought into contact with the ink ejection surface 301a so as to be lightly pressed.
Then, in a state where the ink ejection surface 301a and the blade 410 are in contact, the inkjet head 301 is moved in the direction of the white arrow shown in FIGS. 4 (b) and 4 (c). Then, unnecessary adhering ink 10 on the ink discharge surface 301a is wiped and removed from the ink discharge surface 301a by the edge 411 of the blade 410.

また、このとき、ブレード410は、ブレード410の端縁411をインク吐出面301aが軽く押圧する程度に接触させる程度に支持されているので、端縁411がインク吐出面301aに傷を付けることなく、インク吐出面301aの付着インク10を除去することができる。
3.ノズルプレート301iの製造方法
次に、ノズルプレート301iの製造方法について、図面を用いて説明する。図5(a)から(c)、図6(a)から(c)、図7(a)から(c)は、における各図は、ノズルプレート301iの製造における各工程での状態を示す図3と同じ位置で切断した模式断面図である。図8(a)から(c)は、ノズルプレート301iの製造における各工程での状態を示す模式平面図であり、(a)は図5(c)の上面図、(b)は図7(a)の上面図、(c)は図7(c)の下面図である。
At this time, the blade 410 is supported to such an extent that the edge 411 of the blade 410 is brought into contact with the ink ejection surface 301a so that the ink ejection surface 301a is lightly pressed, so that the edge 411 does not damage the ink ejection surface 301a. The ink 10 attached to the ink discharge surface 301a can be removed.
3. Method for Manufacturing Nozzle Plate 301i Next, a method for manufacturing the nozzle plate 301i will be described with reference to the drawings. FIGS. 5A to 5C, FIGS. 6A to 6C, and FIGS. 7A to 7C are diagrams showing states in respective steps in manufacturing the nozzle plate 301i. 3 is a schematic cross-sectional view cut at the same position as FIG. FIGS. 8A to 8C are schematic plan views showing states in each process in manufacturing the nozzle plate 301i, FIG. 8A is a top view of FIG. 5C, and FIG. FIG. 7A is a top view of FIG. 7C and FIG. 7C is a bottom view of FIG.

金属からなる基板を母型800として準備し表面801aを研磨する(図5(a))。母型800は、導電性を有する部材であればよく、例えば、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、ニッケル−鉄合金、黄銅等、ノズルプレートの離型のよい金属材料により形成される。好ましくは、ステンレスである。次に、母型800の表面801aに感光性絶縁材料からなるフォトレジスト層810を印刷法、スピンコート法、インクジェット法などの湿式成膜プロセスを用い塗布(図5(b))した後、ノズル孔3031を含む範囲であってノズル孔3031よりも所定寸法だけ大きい範囲に対応する開口部が施されたフォトマスクを重ね、その上から紫外線照射を行いフォトレジスト層810を露光し、フォトマスクが有するパターンを転写する。その後、現像によって、ノズル孔3031を形成する領域より所定寸法だけ大きくノズル孔を形成する領域を含むようにパターニングされたフォトレジスト層810を形成する(図5(c))。フォトレジスト層810が除去された領域をフォトレジスト層の不存在領域810aとする。母型800を平面視したとき、図8(a)に示すように、ノズル孔3031を形成する領域を含む複数の領域からなるフォトレジスト層810が形成される。   A substrate made of metal is prepared as a matrix 800, and the surface 801a is polished (FIG. 5A). The mother die 800 may be any member having conductivity, and is formed of a metal material with good release of the nozzle plate, such as stainless steel, aluminum, nickel, nickel-iron alloy, brass or the like. Preferably, it is stainless steel. Next, a photoresist layer 810 made of a photosensitive insulating material is applied to the surface 801a of the matrix 800 using a wet film forming process such as a printing method, a spin coating method, or an ink jet method (FIG. 5B), and then a nozzle A photomask provided with an opening corresponding to a range including the hole 3031 and larger than the nozzle hole 3031 by a predetermined dimension is overlaid, and the photoresist layer 810 is exposed by irradiating ultraviolet rays from the photomask. The pattern having it is transferred. Thereafter, a photoresist layer 810 patterned so as to include a region for forming the nozzle hole larger than the region for forming the nozzle hole 3031 by a predetermined dimension is formed by development (FIG. 5C). The region from which the photoresist layer 810 has been removed is referred to as a non-existing region 810a of the photoresist layer. When the mother die 800 is viewed in plan, as shown in FIG. 8A, a photoresist layer 810 composed of a plurality of regions including a region where the nozzle hole 3031 is formed is formed.

次に、金属、例えば、ニッケルの塩化物浴によりストライクニッケルめっき処理を行う(図6(a))。これにより、母型800の上面のフォトレジスト層810の不存在領域810aにストライクニッケルめっきを付着させてフォトレジスト層810に対応する第1部分820aが開口した密着層820が形成される。これにより、母型800の表面801aの不動態皮膜を除去して活性なストライクニッケルめっきによる密着層820を形成し、上層に対する接着性を向上することができる。ここで、ストライクニッケルめっきを構成するニッケルの他、めっきを構成する金属は、電鋳処理により皮膜を形成できるものであればよく、例えば、クロム、鉄、アルミニウム、銀、金、コバルト、銅、パラジウム、スズ、亜鉛などの金属又はそれらの合金を用いる構成としてもよい。   Next, a strike nickel plating process is performed using a metal, for example, a nickel chloride bath (FIG. 6A). Thereby, strike nickel plating is attached to the non-existing region 810a of the photoresist layer 810 on the upper surface of the mother die 800 to form an adhesion layer 820 in which the first portion 820a corresponding to the photoresist layer 810 is opened. As a result, the passive film on the surface 801a of the matrix 800 can be removed to form the adhesion layer 820 by active strike nickel plating, and the adhesion to the upper layer can be improved. Here, in addition to nickel constituting the strike nickel plating, the metal constituting the plating may be any metal that can form a film by electroforming, for example, chromium, iron, aluminum, silver, gold, cobalt, copper, It is good also as a structure using metals, such as palladium, tin, zinc, or those alloys.

次に、母型800を負極として電界ニッケルめっき処理を行う(図6(b))。電界ニッケルめっきからなる型層830は、絶縁性のフォトレジスト層810の不存在領域810a内において密着層820上に不存在領域810aから等方的に積層される。すなわち、図6(b)に示すように、電界ニッケルめっき処理においては、型層830は、不存在領域810a内の導電性を有するストライクニッケルめっきからなる密着層820の表面から、フォトレジスト層810中心を通る任意の断面内において電界の強さに応じ等方的に堆積する。したがって、フォトレジスト層810の周縁810bよりも内方においては、フォトレジスト層810中心を通る任意の断面内において周縁810bを円弧の中心とする扇型形状の侵入部830aが形成される。これにより、母型800に電圧を印加して密着層820上及び第1部分820aの周縁近傍のフォトレジスト層810上に電界ニッケルめっきを積層することにより、第1部分820a内に第1部分820aより小さい第2部分830bが開口した型層830が形成される。ここで、型層830の厚みの最大値は約2〜3μmとすることが好ましい。型層830の厚みは、形成されるノズルプレート301iのインク吐出面301aにおけるノズル孔周囲部分301g表面の突出量δh(図3)に相当する。   Next, electrolytic nickel plating is performed using the matrix 800 as a negative electrode (FIG. 6B). The mold layer 830 made of electrolytic nickel plating is isotropically stacked on the adhesion layer 820 from the non-existing region 810a in the non-existing region 810a of the insulating photoresist layer 810. That is, as shown in FIG. 6B, in the electric field nickel plating process, the mold layer 830 is formed from the surface of the adhesion layer 820 made of strike nickel plating having conductivity in the non-existing region 810a from the surface of the photoresist layer 810. It is deposited isotropically depending on the strength of the electric field in an arbitrary cross section passing through the center. Therefore, a fan-shaped intrusion portion 830a having the peripheral edge 810b as the center of the arc is formed in an arbitrary cross section passing through the center of the photoresist layer 810 inward of the peripheral edge 810b of the photoresist layer 810. As a result, a voltage is applied to the mother die 800 to deposit a field nickel plating on the adhesion layer 820 and on the photoresist layer 810 in the vicinity of the periphery of the first portion 820a, whereby the first portion 820a is placed in the first portion 820a. A mold layer 830 having an opening in the smaller second portion 830b is formed. Here, the maximum thickness of the mold layer 830 is preferably about 2 to 3 μm. The thickness of the mold layer 830 corresponds to the protrusion amount δh (FIG. 3) of the surface of the nozzle hole surrounding portion 301g on the ink discharge surface 301a of the nozzle plate 301i to be formed.

次に、成膜した型層830に対して焼成工程を実施して表面を酸化し酸化物層831を形成する(図6(c))。すなわち、型層830成膜後に所定条件の焼成工程(加熱温度200℃以上600℃以内、加熱時間5分以上120分以内の条件で大気焼成する工程)で酸化処理を図る。型層830と上層との間に酸化物層831を介在させることにより上層との密着性を低め、上層に対する剥離性を向上することができる。十分な剥離性を得るために酸化物層831の厚みは約0.5μmとすることが好ましい。   Next, a baking process is performed on the formed mold layer 830 to oxidize the surface to form an oxide layer 831 (FIG. 6C). That is, after the mold layer 830 is formed, an oxidation treatment is performed in a firing step under a predetermined condition (a step of firing in the atmosphere under a heating temperature of 200 ° C. to 600 ° C. and a heating time of 5 minutes to 120 minutes). By interposing the oxide layer 831 between the mold layer 830 and the upper layer, the adhesion with the upper layer can be lowered and the peelability to the upper layer can be improved. In order to obtain sufficient peelability, the thickness of the oxide layer 831 is preferably about 0.5 μm.

次に、母型800を負極として電界ニッケルめっき処理を行う(図7(a))。ここでも、電界ニッケルめっきからなるノズルプレート層301iXは、絶縁性のフォトレジスト層810の不存在領域810a内において酸化物層831上に不存在領域810aから等方的に積層される。すなわち、図7(a)に示すように、ノズルプレート層301iXは、不存在領域810a内のストライクニッケルめっきからなる密着層820の表面から、フォトレジスト層810中心を通る任意の断面内において電界の強さに応じ等方的に堆積する。したがって、フォトレジスト層810の周縁810bよりも内方においては、フォトレジスト層810中心を通る任意の断面内において周縁810bを円弧の中心とする中空扇型形状の侵入部301iXaが形成される。これにより、母型800に電圧を印加して酸化物層831上及び第2部分830bの周縁830c近傍のフォトレジスト層810上に電界ニッケルめっきを積層することにより、フォトレジスト層810上の電界ニッケルめっきが形成されない第3部分301iXbをノズル孔3031としたノズルプレート層301iXが形成される(図8(b))。第3部分301iXbの開口径は第2部分830bよりノズルプレート層301iXの厚みの2倍に相当する距離だけ小さい。ノズルプレート層301iXの厚みは、形成されるノズルプレート層301iXの肉厚t(図3)に相当し、数μmから数十μmであり、本例では、例えば、約5μmとしている。なお、めっきを構成する金属は、電鋳処理により皮膜を形成できるものであればよく、例えば、ニッケル、クロム、鉄、アルミニウム、銀、金、コバルト、銅、パラジウム、スズ、亜鉛などの金属又はそれらの合金を用いる構成としてもよい。   Next, electrolytic nickel plating is performed using the matrix 800 as a negative electrode (FIG. 7A). Again, the nozzle plate layer 301iX made of electrolytic nickel plating is isotropically stacked on the oxide layer 831 from the non-existing region 810a in the non-existing region 810a of the insulating photoresist layer 810. That is, as shown in FIG. 7A, the nozzle plate layer 301iX has an electric field within an arbitrary cross section passing through the center of the photoresist layer 810 from the surface of the adhesion layer 820 made of strike nickel plating in the absence region 810a. Isotropically deposited according to strength. Accordingly, a hollow fan-shaped intrusion portion 301iXa having the peripheral edge 810b as the center of the arc is formed in an arbitrary cross section passing through the center of the photoresist layer 810 inward of the peripheral edge 810b of the photoresist layer 810. As a result, by applying a voltage to the master block 800 and depositing electrolytic nickel plating on the oxide layer 831 and on the photoresist layer 810 in the vicinity of the periphery 830c of the second portion 830b, electrolytic nickel on the photoresist layer 810 is obtained. A nozzle plate layer 301iX is formed with the third portion 301iXb on which no plating is formed as the nozzle hole 3031 (FIG. 8B). The opening diameter of the third portion 301iXb is smaller than the second portion 830b by a distance corresponding to twice the thickness of the nozzle plate layer 301iX. The thickness of the nozzle plate layer 301iX corresponds to the thickness t (FIG. 3) of the nozzle plate layer 301iX to be formed, and is several μm to several tens of μm. In this example, for example, it is about 5 μm. In addition, the metal which comprises plating should just be what can form a film | membrane by an electroforming process, for example, metals, such as nickel, chromium, iron, aluminum, silver, gold | metal | money, cobalt, copper, palladium, tin, zinc, or It is good also as a structure using those alloys.

次に、成膜したノズルプレート層301iXを酸化物層831との界面において酸化物層831以下の層から剥離して(図7(b))、ノズルプレート層301iXを取り出し、ノズルプレート301iを完成する(図7(c))。完成したノズルプレート301iでは、図7(c)に示すように、フォトレジスト層810上にあって電界ニッケルめっきが形成されなかった第3部分301iXbに対応する範囲にノズル孔3031が形成されているとともに、型層830の厚みに起因して、インク吐出面301aにおけるノズル孔周囲部分301gの表面(ノズル面301f及び傾斜面301h)は、当該ノズル孔周囲部分以外の表面301kに対し突出している。また、ノズルプレート301iのインク吐出面301aにおけるノズル孔3031がある面をノズル面301fとするとき、ノズルプレート301iのインク吐出面301aにおけるノズル孔周囲部分301g表面の突出量δhは、ノズル面301fで最大であり、型層830の上縁の形状に沿うように、ノズル面301fに近付くにしたがい連続的に増加している。   Next, the deposited nozzle plate layer 301iX is peeled off from the oxide layer 831 and lower layers at the interface with the oxide layer 831 (FIG. 7B), and the nozzle plate layer 301iX is taken out to complete the nozzle plate 301i. (FIG. 7C). In the completed nozzle plate 301i, as shown in FIG. 7C, the nozzle hole 3031 is formed in a range corresponding to the third portion 301iXb on the photoresist layer 810 where the electro nickel plating was not formed. In addition, due to the thickness of the mold layer 830, the surface (nozzle surface 301f and the inclined surface 301h) of the nozzle hole surrounding portion 301g on the ink discharge surface 301a protrudes from the surface 301k other than the nozzle hole surrounding portion. Further, when the surface having the nozzle holes 3031 on the ink discharge surface 301a of the nozzle plate 301i is defined as the nozzle surface 301f, the protrusion amount δh of the surface of the nozzle hole surrounding portion 301g on the ink discharge surface 301a of the nozzle plate 301i is the nozzle surface 301f. It is the largest, and continuously increases as it approaches the nozzle surface 301f so as to follow the shape of the upper edge of the mold layer 830.

4.実施例
ノズルプレート301iの実施例についてインク吐出面301aの表面状態を観察した。
図9(a)(b)は、完成したノズルプレート301iのインク吐出面301aにおけるノズル孔3031周辺を写した電子顕微鏡写真であり、(a)はインク吐出面301aに垂直な法線方向から、(b)はインク吐出面301aの法線から20°傾斜した方向から撮像したものである。ノズル孔3031に対しノズル孔周囲部分301gを構成する、ノズル孔3031があるノズル面301fと、その周囲の傾斜面301hは、当該ノズル孔周囲部分301g以外の表面301kに対し突出していることがわかる。また、ノズル孔周囲部分301g表面の突出量δhは、ノズル面301fで最大であり、傾斜面を301hではノズル面301fに近付くにしたがい連続的に増加していることがわかる。
4). Example The surface state of the ink ejection surface 301a was observed for an example of the nozzle plate 301i.
FIGS. 9A and 9B are electron micrographs showing the periphery of the nozzle hole 3031 in the ink ejection surface 301a of the completed nozzle plate 301i. FIG. 9A is a normal direction perpendicular to the ink ejection surface 301a. (B) is an image taken from a direction inclined by 20 ° from the normal line of the ink discharge surface 301a. It can be seen that the nozzle surface 301f having the nozzle hole 3031 and the surrounding inclined surface 301h constituting the nozzle hole peripheral portion 301g with respect to the nozzle hole 3031 protrude from the surface 301k other than the nozzle hole peripheral portion 301g. . Further, it can be seen that the protrusion amount δh on the surface of the nozzle hole surrounding portion 301g is the maximum at the nozzle surface 301f, and continuously increases as the inclined surface is closer to the nozzle surface 301f at 301h.

5.効果確認試験
ノズルプレート301iの実施例と比較例とを用いてインクジェットヘッドを作成し、インク拭き取り試験を行った。
図10(a)から(c)は、インクジェットヘッド301における拭き取り動作途中の状態を示す模式側断面図である。図11(a)から(c)は、インクジェットヘッドの比較例における拭き取り動作途中の状態を示す模式側断面図である。比較例は、インク吐出面301aXが平坦なノズルプレート301iXのインク吐出面を実施例と同じブレード410でノズル孔列に沿って擦る構成としている。
5. Effect Confirmation Test An ink jet head was prepared using the example and comparative example of the nozzle plate 301i, and an ink wiping test was performed.
FIGS. 10A to 10C are schematic cross-sectional side views showing a state during the wiping operation in the inkjet head 301. FIGS. 11A to 11C are schematic side sectional views showing a state during the wiping operation in the comparative example of the ink jet head. In the comparative example, the ink ejection surface of the nozzle plate 301iX having a flat ink ejection surface 301aX is rubbed along the nozzle hole row with the same blade 410 as in the embodiment.

図11(a)から(c)に示すように、比較例では、上流側のノズル孔3031aの周囲に付着していた不要なインク飛沫41が下流側のノズル孔3031b付近のインク吐出面に移動するという問題があった。この場合、ノズル孔列の途中にインク飛沫41が付着した状態では、上述のとおり、インクの出射方向が曲げられインクの着弾位置が狙った位置からずれたり、所望の量とは異なる量のインクが吐出されたりといったインクの不正吐出が発生する原因となる。そのため、インクの不正吐出を防止するためには、ノズル孔列の最下流までインク飛沫41を移動させることが必要となる。   As shown in FIGS. 11A to 11C, in the comparative example, unnecessary ink droplets 41 attached to the periphery of the upstream nozzle hole 3031a move to the ink discharge surface near the downstream nozzle hole 3031b. There was a problem to do. In this case, in a state where the ink droplets 41 are attached in the middle of the nozzle hole row, as described above, the ink ejection direction is bent, the ink landing position is deviated from the target position, or the amount of ink different from the desired amount is used. Cause the ink to be illegally ejected. Therefore, in order to prevent improper ejection of ink, it is necessary to move the ink splash 41 to the most downstream side of the nozzle hole row.

これに対し、実施例では、図10(a)から(c)に示すように、上流側のノズル孔3031aがあるノズル面301fに付着していた不要なインク飛沫41はブレード410で擦り採られ表面張力により傾斜面301h上に移動する。ノズルプレート301iのインク吐出面301aにおいて、ノズル孔周囲部分301g表面の突出量δhは、ノズル面301fで最大であり、傾斜面を301hではノズル面301fに近付くにしたがい連続的に増加している。そのため、傾斜面301h上に移動したインク飛沫41はブレード410の端縁411から離間し、インク飛沫41が下流側のノズル孔3031b付近のノズル面301fに移動するという問題は改善される。その結果、インクの不正吐出が発生する原因となるノズル面301fに付着したインク飛沫41を確実に除去することができる。   On the other hand, in the embodiment, as shown in FIGS. 10A to 10C, unnecessary ink splashes 41 adhering to the nozzle surface 301f having the upstream nozzle hole 3031a are scraped off by the blade 410. It moves on the inclined surface 301h by surface tension. On the ink ejection surface 301a of the nozzle plate 301i, the protrusion amount δh of the surface of the nozzle hole surrounding portion 301g is the largest at the nozzle surface 301f, and continuously increases as the inclined surface is closer to the nozzle surface 301f at 301h. Therefore, the problem that the ink splash 41 moved on the inclined surface 301h is separated from the edge 411 of the blade 410 and the ink splash 41 moves to the nozzle surface 301f near the downstream nozzle hole 3031b is improved. As a result, it is possible to surely remove the ink splashes 41 adhering to the nozzle surface 301f, which cause the illegal ejection of ink.

6.インクジェット装置の応用
6.1 表示装置の全体構成
次に、インクジェット装置1000を用いて製造される有機EL表示パネル(以下、単に「表示パネル」と称する。)100の構成および製造方法、並びに表示パネル100を含む表示装置1の構成について説明する。
6). 6. Application of Inkjet Device 6.1 Overall Configuration of Display Device Next, the configuration and manufacturing method of an organic EL display panel (hereinafter simply referred to as “display panel”) 100 manufactured using the inkjet device 1000, and the display panel. A configuration of the display device 1 including 100 will be described.

図12は、本開示の実施形態に係る液滴吐出方法を含む製造方法により製造された有機EL素子を含む表示装置1の構成を示すブロック図である。図12に示すように、表示装置1は、表示パネル100と、これに接続された駆動制御部20とを有し構成されている。表示パネル100は、有機材料の電界発光現象を利用したパネルであり、複数の有機EL素子が、例えば、マトリクス状に配列され構成されている。駆動制御部20は、4つの駆動回路21〜24と制御回路25とから構成されている。   FIG. 12 is a block diagram illustrating a configuration of the display device 1 including an organic EL element manufactured by a manufacturing method including a droplet discharge method according to an embodiment of the present disclosure. As shown in FIG. 12, the display device 1 includes a display panel 100 and a drive control unit 20 connected thereto. The display panel 100 is a panel using an electroluminescence phenomenon of an organic material, and a plurality of organic EL elements are arranged in a matrix, for example. The drive control unit 20 includes four drive circuits 21 to 24 and a control circuit 25.

なお、実際の表示装置1では、表示パネル100に対する駆動制御部20の配置については、これに限られない。
6.2 表示パネルの構成
(1)各層の構成
表示パネル100の構成について、図13を用い説明する。
In the actual display device 1, the arrangement of the drive control unit 20 with respect to the display panel 100 is not limited to this.
6.2 Configuration of Display Panel (1) Configuration of Each Layer The configuration of the display panel 100 will be described with reference to FIG.

図13は、表示パネル100の構成の一部の断面図である。表示パネル100は、同図上側を表示面とする、いわゆるトップエミッション型である。図13に示すように、表示パネル100は、基板101をベースとして形成されている。そして、基板101上には、TFT(薄膜トランジスタ)層102および給電電極(配線部)103が形成されており、その上を覆うように層間絶縁膜104が積層形成されている。   FIG. 13 is a partial cross-sectional view of the configuration of the display panel 100. The display panel 100 is a so-called top emission type in which the upper side of FIG. As shown in FIG. 13, the display panel 100 is formed with a substrate 101 as a base. On the substrate 101, a TFT (thin film transistor) layer 102 and a feeding electrode (wiring portion) 103 are formed, and an interlayer insulating film 104 is laminated so as to cover it.

絶縁層である層間絶縁膜104上には、画素電極106が形成されており、その上を覆うように正孔注入層109が積層形成されている。
正孔注入層109の上には、有機発光層111の形成領域となる複数の開口部117(図4参照)が形成された隔壁層107が設けられている。開口部117の内部には、正孔輸送層110および有機発光層111が順次積層形成されている。
A pixel electrode 106 is formed on the interlayer insulating film 104 which is an insulating layer, and a hole injection layer 109 is stacked so as to cover the pixel electrode 106.
On the hole injection layer 109, a partition layer 107 is provided in which a plurality of openings 117 (see FIG. 4), which are regions where the organic light emitting layer 111 is formed, are formed. A hole transport layer 110 and an organic light emitting layer 111 are sequentially stacked in the opening 117.

そして、有機発光層111および隔壁層107の上に、電子輸送層112、電子注入層113、対向電極114、封止層118が順次積層されている。
基板101は表示パネル100における背面基板であり、その表面には、表示パネル100をアクティブマトリクス方式で駆動するためのTFT(薄膜トランジスタ)を含むTFT層102が形成されている。TFT層102には、各TFTに対して外部から電力を供給するための配線部である給電電極103が含まれるが、本実施形態においては、説明をわかりやすくするために、別の符号を付して説明する。また、本実施形態においては、給電電極103は、モリブデン(Mo)を用いて形成されている。
An electron transport layer 112, an electron injection layer 113, a counter electrode 114, and a sealing layer 118 are sequentially stacked on the organic light emitting layer 111 and the partition wall layer 107.
A substrate 101 is a rear substrate in the display panel 100, and a TFT layer 102 including a TFT (thin film transistor) for driving the display panel 100 by an active matrix method is formed on the surface thereof. The TFT layer 102 includes a power supply electrode 103 that is a wiring portion for supplying electric power to each TFT from the outside. In the present embodiment, another reference numeral is assigned to make the description easy to understand. To explain. In the present embodiment, the power supply electrode 103 is formed using molybdenum (Mo).

層間絶縁膜104は、TFT層102および給電電極103が配設されていることにより生じる表面段差を平坦に調整するために設けられており、絶縁性に優れる有機材料で構成されている。
コンタクトホール(コンタクト部)105は、給電電極103と画素電極106とを電気的に接続するために設けられ、層間絶縁膜104の表面から裏面にわたって形成されている。コンタクトホール105は、列方向に配列されている開口部117(図4参照)の間に位置するように形成されており、隔壁層107により覆われた構成となっている。コンタクトホール105が隔壁層107により覆われていない場合には、コンタクトホール105の存在により、有機発光層111が平坦な層とはならず、発光ムラ等の原因となる。これを避けるため、上記のような構成としている。
The interlayer insulating film 104 is provided in order to adjust the level difference generated by the TFT layer 102 and the power supply electrode 103 to be flat, and is made of an organic material having excellent insulating properties.
The contact hole (contact part) 105 is provided to electrically connect the power supply electrode 103 and the pixel electrode 106, and is formed from the front surface to the back surface of the interlayer insulating film 104. The contact holes 105 are formed so as to be positioned between the openings 117 (see FIG. 4) arranged in the column direction, and are configured to be covered with the partition wall layer 107. When the contact hole 105 is not covered with the partition wall layer 107, the presence of the contact hole 105 causes the organic light emitting layer 111 not to be a flat layer and causes uneven light emission. In order to avoid this, the above configuration is adopted.

画素電極106は陽極であり、開口部117に形成される一の有機発光層111毎に形成されている。表示パネル100はトップエミッション型であるため、画素電極106の材料としては光反射性材料が選択されている。光反射性材料としては、例えば、アルミニウム(Al)を主成分とする金属から構成された金属膜とニッケル(Ni)膜との積層膜である。   The pixel electrode 106 is an anode and is formed for each organic light emitting layer 111 formed in the opening 117. Since the display panel 100 is a top emission type, a light reflective material is selected as the material of the pixel electrode 106. The light reflective material is, for example, a laminated film of a metal film made of a metal mainly composed of aluminum (Al) and a nickel (Ni) film.

正孔注入層109は、画素電極106から有機発光層111への正孔の注入を促進させる目的で設けられている。
隔壁層107は、有機発光層111を形成する際、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の各色に対応する有機発光層材料と溶媒を含むインク(インク)が互いに混入することを防止する機能を果たす。
The hole injection layer 109 is provided for the purpose of promoting the injection of holes from the pixel electrode 106 to the organic light emitting layer 111.
When the organic light emitting layer 111 is formed, the partition layer 107 is mixed with an organic light emitting layer material corresponding to each color of red (R), green (G), and blue (B) and an ink (ink) containing a solvent. Fulfills the function of preventing.

コンタクトホール105の上方を覆うように設けられている隔壁層107は、全体的にはXZ平面またはYZ平面に沿った断面が台形の断面形状を有しているが、コンタクトホール105に対応する位置では、隔壁層材料が収縮して落ち込んだ形状となっている。
正孔輸送層110は、画素電極106から注入された正孔を有機発光層111へ輸送する機能を有する。
The partition layer 107 provided so as to cover the contact hole 105 has a trapezoidal cross section along the XZ plane or the YZ plane as a whole, but the position corresponding to the contact hole 105 Then, the shape of the partition wall layer material is contracted and depressed.
The hole transport layer 110 has a function of transporting holes injected from the pixel electrode 106 to the organic light emitting layer 111.

有機発光層111は、キャリア(ホールと電子)の再結合による発光を行う部位であり、R、G、Bのいずれかの色に対応する有機材料を含むように構成され、開口部117内に形成されている。また、有機EL素子を用いた表示パネルでは、R、G、Bの各色に対応する有機EL素子をそれぞれサブピクセルとし、R、G、Bの3つのサブピクセルの組み合わせが1ピクセル(1画素)に相当する。   The organic light emitting layer 111 is a portion that emits light by recombination of carriers (holes and electrons), and is configured to include an organic material corresponding to any of R, G, and B colors. Is formed. In a display panel using organic EL elements, the organic EL elements corresponding to the colors R, G, and B are subpixels, and the combination of the three subpixels R, G, and B is one pixel (one pixel). It corresponds to.

なお、各開口部117に形成される有機発光層111を、すべて同色の有機発光層とすることもできる。
電子輸送層112は、対向電極114から注入された電子を有機発光層111へ輸送する機能を有する。
電子注入層113は、対向電極114から有機発光層111への電子の注入を促進させる機能を有する。
In addition, all the organic light emitting layers 111 formed in each opening part 117 can also be made into the organic light emitting layer of the same color.
The electron transport layer 112 has a function of transporting electrons injected from the counter electrode 114 to the organic light emitting layer 111.
The electron injection layer 113 has a function of promoting the injection of electrons from the counter electrode 114 to the organic light emitting layer 111.

対向電極114は陰極である。表示パネル100はトップエミッション型であるため、対向電極114の材料としては光透過性材料が選択されている。
対向電極114の上には、有機発光層111が水分や空気等に触れて劣化することを抑制する目的で封止層が設けられている。表示パネル100はトップエミッション型であるため、封止層の材料としては、例えばSiN(窒化シリコン)、SiON(酸窒化シリコン)等の光透過性材料を選択する。
The counter electrode 114 is a cathode. Since the display panel 100 is a top emission type, a light transmissive material is selected as the material of the counter electrode 114.
A sealing layer is provided on the counter electrode 114 for the purpose of preventing the organic light emitting layer 111 from being deteriorated by contact with moisture or air. Since the display panel 100 is a top emission type, a light transmissive material such as SiN (silicon nitride) or SiON (silicon oxynitride) is selected as the material of the sealing layer.

なお、図13には図示しないが、封止層118の上にカラーフィルターや上部基板を載置し、接合してもよい。上部基板の載置・接合により、水分および空気などから、有機層(正孔輸送層110、有機発光層111、電子輸送層112)の保護が図られる。
(2)各層の材料
次に、上記で説明した各層の材料を例示する。言うまでもなく、以下に記載した材料以外の材料を用いて各層を形成することも可能である。
Although not shown in FIG. 13, a color filter or an upper substrate may be placed on the sealing layer 118 and bonded. By placing and bonding the upper substrate, the organic layers (the hole transport layer 110, the organic light emitting layer 111, and the electron transport layer 112) are protected from moisture and air.
(2) Material of each layer Next, the material of each layer demonstrated above is illustrated. Needless to say, each layer can be formed using materials other than those described below.

基板101:無アルカリガラス、ソーダガラス、無蛍光ガラス、燐酸系ガラス、硼酸系ガラス、石英、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエチレン、ポリエステル、シリコーン系樹脂、アルミナ等の絶縁性材料
層間絶縁膜104:ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂
画素電極106:Ag(銀)、Al(アルミニウム)、銀とパラジウムと銅との合金、銀とルビジウムと金との合金、アルミニウム合金、Mo(モリブデン)、MoCr(モリブデンとクロムの合金)、MoW(モリブデンとタングステンの合金)、NiCr(ニッケルとクロムの合金)
なお、画素電極106の表面には公知の透明導電膜を設けてもよい。透明導電膜の材料としては、例えば酸化インジウムスズ(ITO)や酸化インジウム亜鉛(IZO)を用いることができる。
Substrate 101: alkali-free glass, soda glass, non-fluorescent glass, phosphate glass, borate glass, quartz, acrylic resin, styrene resin, polycarbonate resin, epoxy resin, polyethylene, polyester, silicone resin, alumina, etc. Interlayer insulating film 104: polyimide resin, acrylic resin Pixel electrode 106: Ag (silver), Al (aluminum), an alloy of silver, palladium and copper, an alloy of silver, rubidium and gold, an aluminum alloy , Mo (molybdenum), MoCr (alloy of molybdenum and chromium), MoW (alloy of molybdenum and tungsten), NiCr (alloy of nickel and chromium)
Note that a known transparent conductive film may be provided on the surface of the pixel electrode 106. As a material of the transparent conductive film, for example, indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO) can be used.

隔壁層107:アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂
有機発光層111:オキシノイド化合物、ペリレン化合物、クマリン化合物、アザクマリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ペリノン化合物、ピロロピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラセン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン化合物及びアザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合物、ブタジエン化合物、ジシアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、オリゴフェニレン化合物、チオキサンテン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、8−ヒドロキシキノリン化合物の金属錯体、2−ビピリジン化合物の金属錯体、シッフ塩とIII族金属との錯体、オキシン金属錯体、希土類錯体等の蛍光物質(いずれも特開平5−163488号公報に記載)
正孔注入層109:トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、ポリフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、ブタジエン化合物、ポリスチレン誘導体、ヒドラゾン誘導体、トリフェニルメタン誘導体、テトラフェニルベンジン誘導体(いずれも特開平5−163488号公報に記載)、MoOx(酸化モリブデン)、WOx(酸化タングステン)又はMoxWyOz(モリブデン−タングステン酸化物)等の金属酸化物、金属窒化物又は金属酸窒化物
正孔輸送層110:トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、ポリフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、ブタジエン化合物、ポリスチレン誘導体、ヒドラゾン誘導体、トリフェニルメタン誘導体、テトラフェニルベンジン誘導体(いずれも特開平5−163488号公報に記載)
電子輸送層112: ニトロ置換フルオレノン誘導体、チオピランジオキサイド誘導体、ジフェキノン誘導体、ペリレンテトラカルボキシル誘導体、アントラキノジメタン誘導体、フレオレニリデンメタン誘導体、アントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ペリノン誘導体、キノリン錯体誘導体(いずれも特開平5−163488号公報に記載)、リンオキサイド誘導体、トリアゾール誘導体、トジアジン誘導体、シロール誘導体、ジメシチルボロン誘導体、トリアリールボロン誘導体
電子注入層113:リチウム、バリウム、カルシウム、カリウム、セシウム、ナトリウム、ルビジウム等の低仕事関数金属、及びフッ化リチウム等の低仕事関数金属塩、酸化バリウム等の低仕事関数金属酸化物
対向電極114:ITO(酸化インジウムスズ)、IZO(酸化インジウム亜鉛)
以上、表示パネル100の構成等について説明した。次に、表示パネル100の製造方法を例示する。
Partition layer 107: acrylic resin, polyimide resin, novolak type phenol resin Organic light emitting layer 111: oxinoid compound, perylene compound, coumarin compound, azacoumarin compound, oxazole compound, oxadiazole compound, perinone compound, pyrrolopyrrole compound, naphthalene compound , Anthracene compound, fluorene compound, fluoranthene compound, tetracene compound, pyrene compound, coronene compound, quinolone compound and azaquinolone compound, pyrazoline derivative and pyrazolone derivative, rhodamine compound, chrysene compound, phenanthrene compound, cyclopentadiene compound, stilbene compound, diphenylquinone compound , Styryl compound, butadiene compound, dicyanomethylenepyran compound, dicyanomethylenethiopyran compound Product, fluorescein compound, pyrylium compound, thiapyrylium compound, serenapyrylium compound, telluropyrylium compound, aromatic ardadiene compound, oligophenylene compound, thioxanthene compound, cyanine compound, acridine compound, metal complex of 8-hydroxyquinoline compound, 2-bipyridine Fluorescent substances such as compound metal complexes, Schiff salts and group III metal complexes, oxine metal complexes, rare earth complexes (all described in JP-A-5-163488)
Hole injection layer 109: triazole derivative, oxadiazole derivative, imidazole derivative, polyarylalkane derivative, pyrazoline derivative and pyrazolone derivative, phenylenediamine derivative, arylamine derivative, amino-substituted chalcone derivative, oxazole derivative, styrylanthracene derivative, fluorenone derivative , Hydrazone derivatives, stilbene derivatives, porphyrin compounds, aromatic tertiary amine compounds, styrylamine compounds, butadiene compounds, polystyrene derivatives, hydrazone derivatives, triphenylmethane derivatives, tetraphenylbenzine derivatives (all disclosed in JP-A-5-163488) Metal such as MoOx (molybdenum oxide), WOx (tungsten oxide) or MoxWyOz (molybdenum-tungsten oxide). Hole transport layer 110: triazole derivative, oxadiazole derivative, imidazole derivative, polyarylalkane derivative, pyrazoline derivative and pyrazolone derivative, phenylenediamine derivative, arylamine derivative, amino-substituted chalcone derivative , Oxazole derivatives, styrylanthracene derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, stilbene derivatives, porphyrin compounds, aromatic tertiary amine compounds, styrylamine compounds, butadiene compounds, polystyrene derivatives, hydrazone derivatives, triphenylmethane derivatives, tetraphenylbenzine derivatives (All are described in JP-A-5-163488)
Electron transport layer 112: nitro-substituted fluorenone derivative, thiopyrandioxide derivative, difequinone derivative, perylenetetracarboxyl derivative, anthraquinodimethane derivative, fluorenylidenemethane derivative, anthrone derivative, oxadiazole derivative, perinone derivative, quinoline complex derivative (All described in JP-A-5-163488), phosphorus oxide derivatives, triazole derivatives, todiazine derivatives, silole derivatives, dimesityl boron derivatives, triaryl boron derivatives Electron injection layer 113: lithium, barium, calcium, potassium, cesium, sodium Low work function metals such as rubidium, low work function metal salts such as lithium fluoride, and low work function metal oxides such as barium oxide Counter electrode 114: ITO (indium oxide) 'S), IZO (indium zinc oxide)
The configuration of the display panel 100 has been described above. Next, a method for manufacturing the display panel 100 is illustrated.

6.3 表示パネルの製造方法
ここで、実施形態に係る表示パネル100の製造方法について図14(a)〜(e)および図15(a)〜(d)を用いて説明する。なお、図14(a)〜(e)、図15(a)〜(d)は、表示パネル100の製造過程を模式的に示す一部拡大断面図である。
まず、TFT層102及び給電電極103が形成された基板101を準備する(図14(a))。
6.3 Method for Manufacturing Display Panel Here, a method for manufacturing the display panel 100 according to the embodiment will be described with reference to FIGS. 14 (a) to 14 (e) and FIGS. 15 (a) to 15 (d). 14A to 14E and 15A to 15D are partially enlarged cross-sectional views schematically showing the manufacturing process of the display panel 100. FIG.
First, the substrate 101 on which the TFT layer 102 and the feeding electrode 103 are formed is prepared (FIG. 14A).

その後、フォトレジスト法に基づき、TFT層102及び給電電極103の上に絶縁性に優れる有機材料を用いて、厚み約4[μm]の層間絶縁膜104を形成する。このとき、コンタクトホール105を列方向に隣接する各開口部117の間の位置に合わせて形成する(図14(b))。このとき、所望のパターンマスクを用いたフォトレジスト法を行うことで、層間絶縁膜104とコンタクトホール105を同時に形成することができる。なお、当然ながらコンタクトホール105の形成方法はこれに限定されない。例えば、一様に層間絶縁膜104を形成した後、所定の位置の層間絶縁膜104を除去して、コンタクトホール105を形成することもできる。   Thereafter, an interlayer insulating film 104 having a thickness of about 4 [μm] is formed on the TFT layer 102 and the feeding electrode 103 using an organic material having excellent insulating properties based on a photoresist method. At this time, the contact holes 105 are formed in accordance with the positions between the openings 117 adjacent in the column direction (FIG. 14B). At this time, by performing a photoresist method using a desired pattern mask, the interlayer insulating film 104 and the contact hole 105 can be formed at the same time. Of course, the method of forming the contact hole 105 is not limited to this. For example, after the interlayer insulating film 104 is uniformly formed, the interlayer insulating film 104 at a predetermined position can be removed to form the contact hole 105.

続いて、真空蒸着法またはスパッタ法に基づき、厚み150[nm]程度の金属材料からなる画素電極106を、給電電極103と電気接続させながら、サブピクセル毎に形成する。つづいて、反応性スパッタ法に基づき、正孔注入層109を形成する(図14(c))。
次に、隔壁層107をフォトリソグラフィー法に基づいて形成する。まず隔壁層材料として、感光性レジストを含むペースト状の隔壁層材料を用意する。この隔壁層材料を正孔注入層109上に一様に塗布する。この上に、開口部117のパターンに形成されたマスクを重ねる。続いてマスクの上から感光させ、隔壁層パターンを形成する。その後は、余分な隔壁層材料を水系もしくは非水系エッチング液(現像液)で洗い出す。これにより、隔壁層材料のパターニングが完了する。以上で有機発光層形成領域となる開口部117が規定されるとともに、表面が少なくとも撥水性の隔壁層107が完成する(図14(d))。
Subsequently, the pixel electrode 106 made of a metal material having a thickness of about 150 [nm] is formed for each subpixel while being electrically connected to the power supply electrode 103 based on a vacuum deposition method or a sputtering method. Subsequently, the hole injection layer 109 is formed based on the reactive sputtering method (FIG. 14C).
Next, the partition layer 107 is formed based on a photolithography method. First, as the partition layer material, a pasty partition layer material containing a photosensitive resist is prepared. This partition wall layer material is uniformly applied on the hole injection layer 109. A mask formed in the pattern of the opening 117 is overlaid thereon. Subsequently, exposure is performed on the mask to form a partition wall layer pattern. Thereafter, excess partition wall layer material is washed out with an aqueous or non-aqueous etching solution (developer). Thereby, patterning of the partition wall layer material is completed. Thus, the opening 117 serving as the organic light emitting layer forming region is defined, and the partition wall layer 107 whose surface is at least water-repellent is completed (FIG. 14D).

なお、隔壁層107の形成工程においては、さらに、開口部117に塗布するインクに対する隔壁層107の接触角を調節する、もしくは、表面に撥水性を付与するために隔壁層107の表面を所定のアルカリ性溶液や水、有機溶媒等によって表面処理するか、プラズマ処理を施すこととしてもよい。
次に、正孔輸送層110を構成する有機材料と溶媒を所定比率で混合し、正孔輸送層用インクを調製する。このインクを各インクジェットヘッド301に供給し、塗布工程に基づき、各開口部117に対応するノズル3030から、正孔輸送層用インクよりなる液滴18を吐出する(図14(e))。その後、インクに含まれる溶媒を蒸発乾燥させ、必要に応じて加熱焼成すると正孔輸送層110が形成される(図15(a))。
In the step of forming the partition layer 107, the surface of the partition layer 107 is further subjected to a predetermined surface in order to adjust the contact angle of the partition layer 107 with respect to the ink applied to the opening 117 or to impart water repellency to the surface. Surface treatment may be performed with an alkaline solution, water, an organic solvent, or the like, or plasma treatment may be performed.
Next, an organic material constituting the hole transport layer 110 and a solvent are mixed at a predetermined ratio to prepare a hole transport layer ink. This ink is supplied to each inkjet head 301, and droplets 18 made of hole transport layer ink are ejected from the nozzle 3030 corresponding to each opening 117 based on the coating process (FIG. 14E). Thereafter, the solvent contained in the ink is evaporated and dried, and heated and fired as necessary to form the hole transport layer 110 (FIG. 15A).

次に、有機発光層111を構成する有機材料と溶媒を所定比率で混合し、有機発光層用インクを調製する。このインクをインクジェットヘッド301に供給し、塗布工程に基づき、開口部117に対応するノズル3030から、有機発光層用インクよりなる液滴19を吐出する(図15(b))。その後、インクに含まれる溶媒を蒸発乾燥させ、必要に応じて加熱焼成すると有機発光層111が形成される(図15(c))。   Next, an organic material constituting the organic light emitting layer 111 and a solvent are mixed at a predetermined ratio to prepare an organic light emitting layer ink. This ink is supplied to the inkjet head 301, and droplets 19 made of the organic light emitting layer ink are ejected from the nozzle 3030 corresponding to the opening 117 based on the coating process (FIG. 15B). Thereafter, the solvent contained in the ink is evaporated and dried, and the organic light emitting layer 111 is formed by heating and baking as necessary (FIG. 15C).

次に、インクジェット法を用いて、有機発光層111のインクを開口部117内に塗布する方法の詳細について説明する。図16は、基板に対して発光層形成用のインクを塗布する工程を示す図であって、隣接する隔壁107間の堀状の開口部117に一様に発光層形成用のインクを塗布する工程を示す模式平面図である。有機発光層111の形成時には、有機発光層111を形成するための溶液であるインクを用いて、赤色サブピクセル用の開口部117R内に赤色用の有機発光層111、緑色サブピクセル用の開口部117G内に緑色用の有機発光層111、及び青色サブピクセル用の開口部117B内に青色用の有機発光層111を、複数のラインバンク間の各領域に形成する。   Next, details of a method of applying the ink of the organic light emitting layer 111 in the opening 117 using the ink jet method will be described. FIG. 16 is a diagram illustrating a process of applying the light emitting layer forming ink to the substrate, and uniformly applying the light emitting layer forming ink to the moat-shaped opening 117 between the adjacent partition walls 107. It is a schematic plan view which shows a process. At the time of forming the organic light emitting layer 111, the red organic light emitting layer 111 and the green subpixel opening are formed in the red subpixel opening 117 </ b> R using ink that is a solution for forming the organic light emitting layer 111. The organic light emitting layer 111 for green is formed in 117G, and the organic light emitting layer 111 for blue is formed in the opening 117B for blue subpixels in each region between a plurality of line banks.

説明を簡略にするため、ここでは、ノズルから吐出するインクの量を第1の条件に設定して基板上の複数の第1色目の間隙にインクを塗布し、次に、ノズルから吐出するインクの量を第2の条件に設定してその基板上の複数の第2色目の間隙にインクを塗布し、次にノズルから吐出するインクの量を第3の条件に設定してその基板上の複数の第3色目の間隙にインクを塗布する方法で、3色全部の間隙にインクを順次塗布する。基板101に対して第1色目の間隙へのインクの塗布が終わると、次に、その基板の第2色目の間隙にインクを塗布し、さらに、その基板の第3色目の間隙にインクを塗布する工程が繰り返し行われ、3色の間隙用のインクを順次塗布する。   In order to simplify the description, here, the amount of ink ejected from the nozzle is set to the first condition, the ink is applied to the plurality of first color gaps on the substrate, and then the ink ejected from the nozzle Is set to the second condition, ink is applied to the plurality of second color gaps on the substrate, and then the amount of ink ejected from the nozzle is set to the third condition to set the amount of ink on the substrate. Ink is sequentially applied to all three color gaps by a method of applying ink to a plurality of third color gaps. When application of ink to the gap of the first color is finished on the substrate 101, ink is then applied to the gap of the second color of the substrate, and then ink is applied to the gap of the third color of the substrate. This process is repeated, and the inks for the three colors are sequentially applied.

上記において、複数の基板に対して第1色目の間隙へのインクの塗布が終わると、次に、その複数の基板に第2色目の間隙にインクを塗布し、次にその複数の基板の第3色目の間隙にインクを塗布する工程を繰り返し行って、3色の間隙用のインクを順次塗布してもよい。
他方、ノズルから吐出するインクの量を第1の条件に設定して1枚の基板上の第1色目の間隙にインクを塗布した後、インクの量を第2の条件に変更して隣接する第2色目の間隙にインクを塗布し、さらに、インクの量を第3の条件に変更して隣接する第3色目の間隙にインクを塗布し、インクの量を第1の条件に戻して隣接する第1色目の間隙にインクを塗布し、この動作を繰り返して1枚の基板上の3色の間隙全部にインクを連続して塗布してもよい。
In the above, when the application of the ink to the gaps of the first color is finished on the plurality of substrates, the ink is then applied to the gaps of the second color on the plurality of substrates, and then The step of applying the ink to the gaps of the third color may be repeated to sequentially apply the inks for the gaps of the three colors.
On the other hand, after the amount of ink ejected from the nozzle is set to the first condition and ink is applied to the gap of the first color on one substrate, the amount of ink is changed to the second condition and adjacent. Ink is applied to the gap of the second color, and the amount of ink is changed to the third condition, ink is applied to the gap of the adjacent third color, and the amount of ink is returned to the first condition to be adjacent. Alternatively, ink may be applied to the first color gap, and this operation may be repeated to continuously apply ink to all three color gaps on one substrate.

(隔壁層107間の開口部117に一様に塗布する方法)
次に、1色の間隙中にインク(例えば、赤色間隙用のインク)を塗布する方法について説明する。
有機発光層111は、発光領域だけでなく、隣接する非自己発光領域まで連続して延伸されている。このようにすると、有機発光層111の形成時に、発光領域に塗布されたインクが、非自己発光領域に塗布されたインクを通じて列方向に流動でき、後述する本実施の形態に係るインク乾燥工程を実施することにより列方向の画素間でその有機発光層111の膜厚を平準化することができる。但し、非自己発光領域では、X方向に延伸した低い隔壁によって、インクの流動が程良く抑制される。よって、列方向に大きな膜厚むらが発生しにくく画素毎の輝度むらや寿命低下が改善される。
(Method of uniformly applying to openings 117 between partition walls 107)
Next, a method of applying ink (for example, ink for red gap) in one color gap will be described.
The organic light emitting layer 111 is continuously extended not only to the light emitting region but also to the adjacent non-self light emitting region. In this way, when the organic light emitting layer 111 is formed, the ink applied to the light emitting region can flow in the column direction through the ink applied to the non-self light emitting region, and the ink drying process according to this embodiment described later is performed. By implementing, the film thickness of the organic light emitting layer 111 can be leveled between the pixels in the column direction. However, in the non-self-luminous region, the flow of ink is moderately suppressed by the low partition extending in the X direction. Therefore, large film thickness unevenness in the column direction is less likely to occur, and brightness unevenness and lifetime reduction for each pixel are improved.

本塗布方法では、図16に示すように、基板101は、隔壁層107がY方向に沿った状態で液滴吐出装置の動作テーブル上に載置され、Y方向に沿って複数のノズル孔3031がライン状に配置されたインクジェットヘッド301をX方向に走査しながら、各ノズル孔3031から隔壁層107同士の開口部117内に設定された着弾目標を狙ってインクを着弾させることによって行う。   In this coating method, as shown in FIG. 16, the substrate 101 is placed on the operation table of the droplet discharge device with the partition layer 107 along the Y direction, and a plurality of nozzle holes 3031 along the Y direction. While the inkjet head 301 arranged in a line is scanned in the X direction, ink is landed by aiming at a landing target set in the opening 117 between the partition wall layers 107 from each nozzle hole 3031.

なお、同一の塗布量にて有機発光層111のインクを塗布する領域は、x方向に隣接して並ぶ3つの領域の中の1つである。
有機発光層111の形成方法はこれに限定されず、インクジェット法やグラビア印刷法以外の方法、例えばディスペンサー法、ノズルコート法、スピンコート法、凹版印刷、凸版印刷等の公知の方法によりインクを滴下・塗布しても良い。
In addition, the area | region which apply | coats the ink of the organic light emitting layer 111 with the same application | coating amount is one of the three area | regions lined up adjacent to ax direction.
The method for forming the organic light emitting layer 111 is not limited to this, and the ink is dropped by a known method such as a dispenser method, a nozzle coating method, a spin coating method, an intaglio printing, a relief printing, or the like, other than the inkjet method or the gravure printing method. -It may be applied.

次に、有機発光層111の表面に、電子輸送層112を構成する材料を真空蒸着法に基づいて成膜する。これにより、電子輸送層112が形成される。つづいて、電子注入層113を構成する材料を蒸着法、スピンコート法、キャスト法などの方法により成膜し、電子注入層113が形成される。そして、ITO、IZO等の材料を用い、真空蒸着法、スパッタ法等で成膜する。これにより対向電極114が形成される(図15(d))。   Next, a material constituting the electron transport layer 112 is formed on the surface of the organic light emitting layer 111 based on a vacuum deposition method. Thereby, the electron transport layer 112 is formed. Subsequently, the material for forming the electron injection layer 113 is formed by a method such as a vapor deposition method, a spin coating method, or a casting method, whereby the electron injection layer 113 is formed. Then, using a material such as ITO or IZO, a film is formed by vacuum deposition, sputtering, or the like. Thereby, the counter electrode 114 is formed (FIG. 15D).

なお、図示しないが、対向電極114の表面には、SiN、SiON等の光透過性材料をスパッタ法、CVD法等で成膜することで、封止層を形成する。
以上の工程を経ることにより表示パネル100が完成する。そして、図14(e)及び図15(b)に示すインクジェットヘッド301のノズル3030からインク液滴を吐出する工程の前後に、図4(a)〜(c)に示す付着インクの拭き取り除去動作を行う。
Although not shown, a sealing layer is formed on the surface of the counter electrode 114 by forming a light transmissive material such as SiN or SiON by a sputtering method, a CVD method, or the like.
The display panel 100 is completed through the above steps. Then, before and after the step of ejecting ink droplets from the nozzle 3030 of the inkjet head 301 shown in FIGS. 14 (e) and 15 (b), the wiping and removing operation of the adhered ink shown in FIGS. 4 (a) to 4 (c). I do.

7.まとめ
以上、説明したように、本実施形態のインクジェット装置1000は、複数のノズル孔3031が列状に開設された金属を主成分とする板状体からなり、板状体の一方の表面をインク吐出面301aとするとき、板状体のインク吐出面301aにおけるノズル孔周囲部分301gの表面は、当該ノズル孔周囲部分301g以外の表面301kに対し突出しているノズルプレート301iと、ノズルプレート301iの裏面301mに対向して配された振動板301bと、ノズルプレート301iと振動板301bとの間隙をノズル孔3031毎に区切り、ノズル孔3031各々に対応するキャビティ301eを形成する複数の隔壁301dと、各キャビティ301eに設けられ各キャビティ301e内の圧力を個別に可変する駆動素子3010とを備えたインクジェットヘッド301を有する構成を採る。
7). Summary As described above, the inkjet apparatus 1000 according to the present embodiment is composed of a plate-shaped body mainly composed of a metal in which a plurality of nozzle holes 3031 are formed in a row, and one surface of the plate-shaped body is inked. When the ejection surface 301a is used, the surface of the nozzle hole surrounding portion 301g on the ink ejection surface 301a of the plate-like body has a nozzle plate 301i protruding from the surface 301k other than the nozzle hole surrounding portion 301g, and the back surface of the nozzle plate 301i. A plurality of partition walls 301d that divide a gap between the diaphragm 301b facing the nozzle 301m, the nozzle plate 301i and the diaphragm 301b for each nozzle hole 3031 and form a cavity 301e corresponding to each nozzle hole 3031; Drive element that is provided in the cavity 301e and individually varies the pressure in each cavity 301e 3010 is employed.

係る構成により、インクジェットヘッドのインク吐出面をゴムブレード等のワイパでノズル孔列に沿って擦る場合に、インクジェットヘッドのインク吐出面に不要なインクが付着させることなく、インク吐出面に付着した不要なインクを除去することができる。具体的には、クリーニング動作において、インクジェットヘッドのインク吐出面をゴムブレード等のワイパでノズル孔列に沿って擦る場合に、上流側のノズル孔3031aがあるノズル面301fに付着していた不要なインク飛沫41はブレード410で擦り採られ表面張力によりノズル面301f以外の表面に移動する。インクジェットヘッド301では、インク吐出面301aにおけるノズル孔周囲部分301gの表面は、当該ノズル孔周囲部分301g以外の表面301kに対し突出しているノズルプレート301iを用いているので、ノズル面301f以外の表面に移動したインク飛沫41はブレード410の端縁411から離間し、インク飛沫41が下流側のノズル孔3031b付近のノズル面301fに移動するという問題は改善される。その結果、インクの不正吐出が発生する原因となるノズル面301fに付着したインク飛沫41を確実に除去することができる。   With this configuration, when the ink discharge surface of the ink jet head is rubbed along a nozzle hole array with a wiper such as a rubber blade, unnecessary ink does not adhere to the ink discharge surface of the ink jet head, and the ink discharge surface is unnecessary. Ink can be removed. Specifically, in the cleaning operation, when the ink discharge surface of the ink jet head is rubbed along the nozzle hole row with a wiper such as a rubber blade, the unnecessary nozzle surface 3031a attached to the nozzle surface 301f with the upstream nozzle hole is unnecessary. The ink splash 41 is scraped off by the blade 410 and moves to a surface other than the nozzle surface 301f by surface tension. In the ink jet head 301, the surface of the nozzle hole surrounding portion 301g on the ink discharge surface 301a uses the nozzle plate 301i that protrudes from the surface 301k other than the nozzle hole surrounding portion 301g. The moved ink splash 41 is separated from the edge 411 of the blade 410, and the problem that the ink splash 41 moves to the nozzle surface 301f near the nozzle hole 3031b on the downstream side is improved. As a result, it is possible to surely remove the ink splashes 41 adhering to the nozzle surface 301f, which cause the illegal ejection of ink.

さらに、ゴムからなるワイパーブレード410と、ワイパーブレード410の先端411とインク吐出面301aとが接触した状態で、ワイパーブレード410がインク吐出面301aに平行な方向に相対的に移動するように、ワイパーブレード410及びインクジェットヘッド301の少なくとも一方を移動させる移動部230とを有する構成を採る。
係る構成により、インクジェットヘッドのインク吐出面に不要なインクが付着させることなく、インク吐出面に付着した不要なインクを除去するインクジェット装置1000を実現できる。インクジェット装置1000では、不吐出ノズルの発生を防止して、有機機能層の塗布が正常に行われた有機EL素子を提供することができる。また、そのような有機EL素子を備え、抜けや色の濃さが著しく異なる部分の無い、良好な画質を備えた有機EL表示パネルおよび、そのような有機EL表示パネルを備えた有機EL表示装置を提供することができる。
Further, the wiper blade 410 made of rubber, the wiper blade 410 so that the wiper blade 410 relatively moves in a direction parallel to the ink discharge surface 301a in a state where the tip 411 of the wiper blade 410 and the ink discharge surface 301a are in contact with each other. A configuration having a moving unit 230 that moves at least one of the blade 410 and the inkjet head 301 is employed.
With this configuration, it is possible to realize the ink jet apparatus 1000 that removes unnecessary ink attached to the ink discharge surface without causing unnecessary ink to adhere to the ink discharge surface of the ink jet head. The inkjet apparatus 1000 can provide an organic EL element in which the organic functional layer is normally applied by preventing the occurrence of non-ejection nozzles. Further, an organic EL display panel having such an organic EL element and having good image quality with no omission and no significant difference in color density, and an organic EL display device having such an organic EL display panel Can be provided.

また、ノズルプレート301iにおいて、板状体のインク吐出面301aにおけるノズル孔3031がある面をノズル面301fとするとき、板状体のインク吐出面301aにおけるノズル孔周囲部分301g表面の突出量δhは、ノズル面301fにおいて最大であり、ノズル面301fの周縁に近付くにしたがい連続的に増加している構成としてもよい。   Further, in the nozzle plate 301i, when the surface having the nozzle holes 3031 on the ink ejection surface 301a of the plate-like body is the nozzle surface 301f, the protrusion amount δh of the surface of the nozzle hole surrounding portion 301g on the ink ejection surface 301a of the plate-like body is The nozzle surface 301f may be the largest and continuously increase as it approaches the periphery of the nozzle surface 301f.

さらに、ノズルプレート301iにおいて、板状体のインク吐出面301aにおけるノズル孔周囲部分301g表面の当該部分以外の表面301kに対する傾斜角は、ノズル面301fの周縁外方からノズル面301fの周縁に近付くにしたがい連続的に増加している構成としてもよい。
係る構成により、クリーニング動作において、インクジェットヘッドのインク吐出面をゴムブレード等のワイパでノズル孔列に沿って擦る場合に、インクジェットヘッドのノズル孔付近のインク吐出面に付着した不要なインク飛沫をノズル孔付近のインク吐出面から容易に除去することができる。具体的には、上流側のノズル孔3031aがあるノズル面301fに付着していた不要なインク飛沫41はブレード410で擦り採られ表面張力により傾斜面301h上に移動する。この際に、インク飛沫41のノズル面301fから傾斜面301h上への移動が容易になるとともに、移動したインク飛沫41が、さらに、傾斜面301h上を傾斜面301hの麓に向かって移動しやすくなる。その結果、傾斜面301hの麓に移動したインク飛沫41はブレード410の端縁411から確実にて離間し、インク飛沫41が下流側のノズル孔3031b付近のノズル面301fに移動するという問題はより一層改善される。
Further, in the nozzle plate 301i, the inclination angle of the surface of the nozzle hole surrounding portion 301g on the ink ejection surface 301a of the plate-like body with respect to the surface 301k other than the portion approaches the periphery of the nozzle surface 301f from the outer periphery of the nozzle surface 301f. Therefore, it is good also as a structure which is increasing continuously.
With this configuration, when the ink discharge surface of the inkjet head is rubbed along the nozzle hole array with a wiper such as a rubber blade in the cleaning operation, unnecessary ink splashes adhering to the ink discharge surface near the nozzle holes of the inkjet head are nozzles. It can be easily removed from the ink ejection surface near the hole. Specifically, unnecessary ink droplets 41 adhering to the nozzle surface 301f having the upstream nozzle hole 3031a are scraped by the blade 410 and move onto the inclined surface 301h by surface tension. At this time, the ink droplet 41 can easily move from the nozzle surface 301f to the inclined surface 301h, and the moved ink droplet 41 can easily move on the inclined surface 301h toward the edge of the inclined surface 301h. Become. As a result, the ink splash 41 moved to the edge of the inclined surface 301h is surely separated from the edge 411 of the blade 410, and the ink splash 41 moves to the nozzle surface 301f near the nozzle hole 3031b on the downstream side. It is further improved.

あるいは、ノズルプレート301iにおいて、板状体のインク吐出面301aと背向する裏面301mの平面視におけるノズル孔周囲部分301gに含まれる表面部分は、当該部分以外の表面301lに対し陥没しており、陥没量は、ノズル孔3031に近付くにしたがい連続的に増加している構成としてもよい。
また、板状体の裏面301mの平面視におけるノズル孔周囲部分301gに含まれる表面部分301jの当該部分以外の表面部分301lに対する傾斜角は、ノズル孔3031に近付くにしたがい連続的に増加している構成としてもよい。
Alternatively, in the nozzle plate 301i, the surface portion included in the nozzle hole peripheral portion 301g in a plan view of the back surface 301m facing the plate-shaped ink ejection surface 301a is depressed with respect to the surface 301l other than the portion. The amount of depression may be continuously increased as the nozzle hole 3031 is approached.
In addition, the inclination angle of the surface portion 301j included in the nozzle hole peripheral portion 301g in the plan view of the back surface 301m of the plate-like body with respect to the surface portion 301l other than the portion increases continuously as the nozzle hole 3031 is approached. It is good also as a structure.

係る構成により、インクを吐出するときに、インクと裏面301mとの抵抗を低減して、インクの吐出効率を高めるとともに着弾精度を向上することができる。
また、金属は、ニッケル、クロム、鉄、アルミニウム、銀、金、コバルト、銅、パラジウム、スズ、亜鉛などの金属又はそれらの合金から選択される1以上である構成としてもよい。
With such a configuration, when ink is ejected, the resistance between the ink and the back surface 301 m can be reduced to increase the ink ejection efficiency and improve the landing accuracy.
Further, the metal may be configured to be one or more selected from metals such as nickel, chromium, iron, aluminum, silver, gold, cobalt, copper, palladium, tin, and zinc, or alloys thereof.

係る構成により、インク吐出面に不要なインクが付着させることなく、インク吐出面に付着した不要なインクを容易に除去できる構成を各種金属を用いて実現できる。
また、本実施形態のノズルプレート301iの製造方法は、導電性材料からなり上面が平板状の母型を準備する工程と、母型800の上面に絶縁性のフォトレジストを塗布する工程と、フォトレジストをマスクを介して露光した後現像して、ノズル孔3031を形成する領域より所定寸法だけ大きく当該領域を含むフォトレジスト層810を形成する工程と、母型800の上面800aのフォトレジスト層810の不存在領域810aにストライク金属めっきを付着させてフォトレジスト層810に対応する第1部分820aが開口した密着層820を形成する工程と、母型800に電圧を印加して密着層820上及び第1部分820aの周縁近傍のフォトレジスト層810上に電界ニッケルめっきを積層して、第1部分820aより小さい第2部分830bが開口した型層830を形成する工程と、加熱処理を施し型層830表面に金属の酸化物層831を形成する工程と、母型800に電圧を印加して酸化物層上831及び第2部分830bの周縁近傍のフォトレジスト層810上に電界ニッケルめっきを積層して、フォトレジスト層810上の電界ニッケルめっきが形成されない第2部分830bより小さい第3部分301iXbをノズル孔3031としたノズルプレート301iを形成する工程と、ノズルプレート301iを酸化物層831との界面において酸化物層831以下の層から剥離してノズルプレート301iを取り出す工程とを有する構成としてもよい。
With such a configuration, it is possible to realize a configuration in which unnecessary ink attached to the ink ejection surface can be easily removed without attaching unnecessary ink to the ink ejection surface using various metals.
Further, the manufacturing method of the nozzle plate 301i of the present embodiment includes a step of preparing a mother die made of a conductive material and having a flat top surface, a step of applying an insulating photoresist on the upper surface of the mother die 800, and a photo The resist is exposed through a mask and then developed to form a photoresist layer 810 that includes a region that is larger than the region where the nozzle hole 3031 is formed, and includes the photoresist layer 810 on the upper surface 800a of the mother die 800. Forming a contact metal layer 820 having a first portion 820a corresponding to the photoresist layer 810 opened by applying strike metal plating to the non-existing region 810a, and applying a voltage to the mother die 800 to Electroless nickel plating is laminated on the photoresist layer 810 in the vicinity of the periphery of the first portion 820a, and is smaller than the first portion 820a. A step of forming a mold layer 830 having an opening in two portions 830b; a step of performing heat treatment to form a metal oxide layer 831 on the surface of the mold layer 830; In addition, the electrolytic nickel plating is laminated on the photoresist layer 810 near the periphery of the second portion 830b, and the third portion 301iXb smaller than the second portion 830b on which the electrolytic nickel plating is not formed on the photoresist layer 810 is formed with the nozzle hole 3031. The nozzle plate 301i may be formed, and the nozzle plate 301i may be separated from the oxide layer 831 and lower layers at the interface with the oxide layer 831 to take out the nozzle plate 301i.

係る構成により、インク吐出面に不要なインクが付着させることなく、インク吐出面に付着した不要なインクを容易に除去できる構成を実現できるインクジェットヘッド301に用いるノズルプレート301iを製造することができる。具体的には、上記製造方法では、母型800に電圧を印加して酸化物層831上及び第2部分830bの周縁830c近傍のフォトレジスト層810上に電界金属めっきを積層する。これより、電界金属めっきからなるノズルプレート層301iXは、絶縁性のフォトレジスト層810の不存在領域810a内の密着層820の表面から、フォトレジスト層810中心を通る任意の断面内において電界の強さに応じ等方的に堆積する。したがって、フォトレジスト層810の周縁810bよりも内方においては、フォトレジスト層810中心を通る任意の断面内において周縁810bを円弧の中心とする中空扇型形状の侵入部301iXaが形成される。その結果、フォトレジスト層810上にあって電界金属めっきが形成されなかった第3部分301iXbに対応する範囲にノズル孔3031が形成されているとともに、型層830の厚みに起因して、インク吐出面301aにおけるノズル孔周囲部分301gの表面(ノズル面301f及び傾斜面301h)は、当該ノズル孔周囲部分以外の表面301kに対し突出しているノズルプレート301iが形成される。   With such a configuration, it is possible to manufacture the nozzle plate 301i used in the inkjet head 301 that can realize a configuration in which unnecessary ink attached to the ink ejection surface can be easily removed without causing unnecessary ink to adhere to the ink ejection surface. Specifically, in the above manufacturing method, an electric field metal plating is laminated on the oxide layer 831 and the photoresist layer 810 in the vicinity of the periphery 830c of the second portion 830b by applying a voltage to the matrix 800. Thus, the nozzle plate layer 301iX made of electric field metal plating has a strong electric field in an arbitrary cross section passing through the center of the photoresist layer 810 from the surface of the adhesion layer 820 in the absence region 810a of the insulating photoresist layer 810. Isotropically deposited accordingly. Accordingly, a hollow fan-shaped intrusion portion 301iXa having the peripheral edge 810b as the center of the arc is formed in an arbitrary cross section passing through the center of the photoresist layer 810 inward of the peripheral edge 810b of the photoresist layer 810. As a result, the nozzle hole 3031 is formed in a range corresponding to the third portion 301 iXb on the photoresist layer 810 where the electric field metal plating is not formed, and the ink ejection is caused by the thickness of the mold layer 830. A nozzle plate 301i that protrudes from the surface 301k other than the nozzle hole peripheral portion is formed on the surface (nozzle surface 301f and inclined surface 301h) of the nozzle hole peripheral portion 301g on the surface 301a.

≪変形例1≫
実施の形態に係るインクジェット装置1000、インクジェットヘッド301、ノズルプレート301iを説明したが、本開示は、その本質的な特徴的構成要素を除き、以上の実施の形態に何ら限定を受けるものではない。例えば、実施の形態に対して当業者が思いつく各種変形を施して得られる形態や、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で各実施の形態における構成要素及び機能を任意に組み合わせることで実現される形態も本開示に含まれる。以下では、そのような形態の一例として、変形例を説明する。
<< Modification 1 >>
Although the inkjet apparatus 1000, the inkjet head 301, and the nozzle plate 301i according to the embodiments have been described, the present disclosure is not limited to the above embodiments except for the essential characteristic components. For example, embodiments obtained by subjecting the embodiments to various modifications conceived by those skilled in the art, and embodiments realized by arbitrarily combining the components and functions in each embodiment without departing from the spirit of the present invention Are also included in this disclosure. Below, a modification is demonstrated as an example of such a form.

(1) 構成
変形例1に係るインクジェットヘッド301Aではノズルプレート301iAにおいて、インク吐出面301aA表面から所定深さの範囲にポリテトラフルオロエチレン (Polytetrafluoroethylene:PTFE)を含む板状体から構成されている点で、実施の形態に係るインクジェットヘッド301と相違し、他の構成についてはインクジェットヘッド301と同じであるため説明を省略する。
(1) Configuration In the inkjet head 301A according to the first modification, the nozzle plate 301iA includes a plate-like body including polytetrafluoroethylene (PTFE) in a predetermined depth range from the surface of the ink ejection surface 301aA. Thus, unlike the inkjet head 301 according to the embodiment, the other configurations are the same as those of the inkjet head 301, and thus the description thereof is omitted.

図17は、変形例1に係るインクジェットヘッド301Aにおけるノズルの概略構成を示す一部拡大断面図である。インクジェットヘッド301Aではノズルプレート301iAは、ノズルプレート301i同様、複数のノズル孔3031が列状に開設さている金属の板状体からなり、例えば、ニッケル、クロム、鉄、アルミニウム、銀、金、コバルト、銅、パラジウム、スズ、亜鉛などの金属からなり、電鋳処理により作成される。本例では、ニッケルを用いる構成とした。さらに、ノズルプレート301iAは、インク吐出面301aA表面から所定深さの範囲にポリテトラフルオロエチレンを含む。すなわち、図17に示すように、ノズルプレート下地層301iA2上のポリテトラフルオロエチレン含有層301iA1を備えた構成を有する。   FIG. 17 is a partially enlarged cross-sectional view illustrating a schematic configuration of nozzles in the inkjet head 301A according to the first modification. In the inkjet head 301A, like the nozzle plate 301i, the nozzle plate 301iA is made of a metal plate body in which a plurality of nozzle holes 3031 are opened in a row. For example, nickel, chromium, iron, aluminum, silver, gold, cobalt, It consists of metals such as copper, palladium, tin, and zinc, and is made by electroforming. In this example, nickel is used. Further, the nozzle plate 301iA contains polytetrafluoroethylene in a range of a predetermined depth from the surface of the ink ejection surface 301aA. That is, as shown in FIG. 17, it has the structure provided with the polytetrafluoroethylene containing layer 301iA1 on the nozzle plate base layer 301iA2.

(2) 製造方法
インクジェットヘッド301Aの製造方法について説明する。図18(a)から(c)は、インクジェットヘッド301Aの製造における各工程での状態を示す図17と同じ位置で切断した模式断面図である。図18(a)より前段の製造工程については、図5(a)から(c)、及び図6(a)から(c)に示したインクジェットヘッド301の各工程における製造方法と同じである。
(2) Manufacturing Method A manufacturing method of the inkjet head 301A will be described. 18A to 18C are schematic cross-sectional views cut at the same positions as those in FIG. 17 showing the states in the respective steps in manufacturing the inkjet head 301A. The manufacturing process before the stage shown in FIG. 18A is the same as the manufacturing method in each process of the inkjet head 301 shown in FIGS. 5A to 5C and FIGS. 6A to 6C.

図6(c)に示したインクジェットヘッド301と同様に、上層に対する剥離性を向上するために、成膜した型層830に対して焼成工程を実施して表面を酸化し酸化物層831を形成した後、母型800を負極としてニッケル・ポリテトラフルオロエチレン共析電界ニッケルめっき処理を行う(図7(a))。ここでも、インクジェットヘッド301と同様に、ニッケル・ポリテトラフルオロエチレン共析電界ニッケルめっきからなるポリテトラフルオロエチレン含有層301iA1は、絶縁性のフォトレジスト層810の不存在領域810a内において酸化物層831上に不存在領域810aから等方的に積層される。   As with the ink jet head 301 shown in FIG. 6C, in order to improve the peelability from the upper layer, a baking process is performed on the formed mold layer 830 to oxidize the surface to form an oxide layer 831. After that, nickel / polytetrafluoroethylene eutectoid electroplating with nickel as the mother die 800 is performed (FIG. 7A). Here, similarly to the inkjet head 301, the polytetrafluoroethylene-containing layer 301iA1 made of nickel / polytetrafluoroethylene eutectoid electrolytic nickel plating is formed in the oxide layer 831 in the absence region 810a of the insulating photoresist layer 810. Isotropically stacked from the nonexistent region 810a.

次に、母型800を負極として電界ニッケルめっき処理を行う(図7(a))。ここでも、電界ニッケルめっきからなるノズルプレート下地層301iA2は、絶縁性のフォトレジスト層810の不存在領域810a内においてポリテトラフルオロエチレン含有層301iA1に不存在領域810aから等方的に積層される。すなわち、ポリテトラフルオロエチレン含有層301iA1及びノズルプレート下地層301iA2は、それぞれ、不存在領域810a内の導電性を有するストライクニッケルめっきからなる密着層820の表面から、フォトレジスト層810中心を通る任意の断面内において電界の強さに応じ等方的に堆積する。したがって、ポリテトラフルオロエチレン含有層301iA1及びノズルプレート下地層301iA2には、フォトレジスト層810の周縁810bよりも内方において、フォトレジスト層810中心を通る任意の断面内において周縁810bを円弧の中心とする中空扇型形状の侵入部301iAaが形成される。   Next, electrolytic nickel plating is performed using the matrix 800 as a negative electrode (FIG. 7A). Here again, the nozzle plate base layer 301iA2 made of electrolytic nickel plating is isotropically stacked on the polytetrafluoroethylene-containing layer 301iA1 from the absence region 810a in the absence region 810a of the insulating photoresist layer 810. That is, each of the polytetrafluoroethylene-containing layer 301iA1 and the nozzle plate base layer 301iA2 can be passed through the center of the photoresist layer 810 from the surface of the adhesion layer 820 made of conductive strike nickel plating in the non-existing region 810a. In the cross section, it isotropically deposited according to the strength of the electric field. Therefore, in the polytetrafluoroethylene-containing layer 301iA1 and the nozzle plate base layer 301iA2, the peripheral edge 810b is defined as the center of the arc in an arbitrary cross section passing through the center of the photoresist layer 810, inward of the peripheral edge 810b of the photoresist layer 810. A hollow fan-shaped intrusion portion 301iAa is formed.

次に、成膜したポリテトラフルオロエチレン含有層301iA1及びノズルプレート下地層301iA2を酸化物層831との界面において酸化物層831以下の層から剥離して取り出し、ノズルプレート301iAを完成する(図18(c))。
完成したノズルプレート301iAでは、図18(c)に示すように、インクジェットヘッド301と同様に、フォトレジスト層810上にあって電界ニッケルめっきが形成されなかった第3部分301iXbに対応する範囲にノズル孔3031が形成されているとともに、型層830の厚みに起因して、インク吐出面301aにおけるノズル孔周囲部分301g(ノズル面301f及び傾斜面301h)は、当該ノズル孔周囲部分以外の表面301kに対し突出している。また、板状体のインク吐出面301aにおけるノズル孔3031がある面をノズル面301fとするとき、ノズルプレート301iのインク吐出面301aにおけるノズル孔周囲部分301g表面の突出量δhは、ノズル面301fで最大であり、型層830の上縁の形状に沿うように、ノズル面301fに近付くにしたがい連続的に増加している。
Next, the deposited polytetrafluoroethylene-containing layer 301iA1 and nozzle plate base layer 301iA2 are peeled off from the oxide layer 831 and below at the interface with the oxide layer 831 to complete the nozzle plate 301iA (FIG. 18). (C)).
In the completed nozzle plate 301iA, as shown in FIG. 18C, in the same manner as the ink-jet head 301, the nozzle is placed in a range corresponding to the third portion 301iXb on the photoresist layer 810 where the electric field nickel plating was not formed. In addition to the formation of the hole 3031, due to the thickness of the mold layer 830, the nozzle hole surrounding portion 301 g (the nozzle surface 301 f and the inclined surface 301 h) on the ink discharge surface 301 a is formed on the surface 301 k other than the nozzle hole surrounding portion. It protrudes. Further, when the surface having the nozzle holes 3031 on the ink discharge surface 301a of the plate-like body is defined as the nozzle surface 301f, the protrusion amount δh of the surface of the nozzle hole surrounding portion 301g on the ink discharge surface 301a of the nozzle plate 301i is the nozzle surface 301f. It is the largest, and continuously increases as it approaches the nozzle surface 301f so as to follow the shape of the upper edge of the mold layer 830.

以上説明したように、変形例1に係るノズルプレート301iAは、インク吐出面301a表面から所定深さの範囲301iA1にポリテトラフルオロエチレンを含む構成を採る。
係る構成により、ノズルプレート301iAのインク吐出面301aAとインクに対する撥液性を向上することができる。その結果、インクジェットヘッド301Aでは、フリーニング動作において、図10(a)から(c)に示す場合と同様、上流側のノズル孔3031aがあるノズル面301fに付着していた不要なインク飛沫41はブレード410で擦り採られ表面張力により傾斜面301h上に移動する際に、インク飛沫41がポリテトラフルオロエチレン含有層301iA1を移動しやすくなり、インク飛沫41の傾斜面301h上への移動が容易になる。さらに、移動したインク飛沫41が、傾斜面301h上を傾斜面301hの麓に向かって移動しやすくなる。その結果、傾斜面301hの麓に移動したインク飛沫41はブレード410の端縁411から確実に離間し、インク飛沫41が下流側のノズル孔3031b付近のノズル面301fに移動し、インク不正吐出発生の要因となることを防止できる。
As described above, the nozzle plate 301iA according to the first modification employs a configuration including polytetrafluoroethylene in the range 301iA1 having a predetermined depth from the surface of the ink ejection surface 301a.
With this configuration, it is possible to improve the liquid repellency with respect to the ink discharge surface 301aA of the nozzle plate 301iA and the ink. As a result, in the inkjet head 301A, in the freening operation, as in the case shown in FIGS. 10A to 10C, the unnecessary ink splashes 41 attached to the nozzle surface 301f having the upstream nozzle hole 3031a are removed. When the ink droplet 41 is scraped off by the blade 410 and moves on the inclined surface 301h due to surface tension, the ink droplet 41 easily moves on the polytetrafluoroethylene-containing layer 301iA1, and the ink droplet 41 easily moves on the inclined surface 301h. Become. Furthermore, the ink splash 41 that has moved becomes easy to move on the inclined surface 301h toward the edge of the inclined surface 301h. As a result, the ink splash 41 that has moved to the edge of the inclined surface 301h is surely separated from the edge 411 of the blade 410, and the ink splash 41 moves to the nozzle surface 301f near the nozzle hole 3031b on the downstream side, causing incorrect ink ejection. Can be prevented.

また、製造工程において、金属及びポリテトラフルオロエチレンの共析電界めっきを積層する工程を含むことにより、ノズルプレート301iAを製造することができる。
≪その他の変形例≫
以上、本開示の具体的な構成について、実施形態を例に説明したが、本開示は実施形態の構成に限られない。さらに、例えば、以下のような変形例が考えられる。
Moreover, the nozzle plate 301iA can be manufactured by including the process of laminating | stacking the eutectoid electroplating of a metal and polytetrafluoroethylene in a manufacturing process.
≪Other variations≫
The specific configuration of the present disclosure has been described above using the embodiment as an example, but the present disclosure is not limited to the configuration of the embodiment. Further, for example, the following modifications can be considered.

(1)上記実施の形態では、ノズルプレート301iを構成する金属には、ニッケルを用いる構成とした。しかしながら、ノズルプレート301iを構成する金属は、電鋳処理により皮膜を形成できるものであればよく、例えば、ニッケル、クロム、鉄、アルミニウム、銀、金、コバルト、銅、パラジウム、スズ、亜鉛などの金属又はそれらの合金を用いる構成としてもよい。   (1) In the above embodiment, nickel is used as the metal constituting the nozzle plate 301i. However, the metal constituting the nozzle plate 301i may be any metal that can form a film by electroforming, such as nickel, chromium, iron, aluminum, silver, gold, cobalt, copper, palladium, tin, zinc, and the like. It is good also as a structure using a metal or those alloys.

(2)上記実施の形態では、ノズルプレート301iには、複数のノズル孔3031からなる列が一列に開設さている構成とした。しかしながら、ノズルプレート301iは、列状に開設された複数のノズル孔3031列を有する構成であればよく、例えば、複数のノズル孔3031からなる列が二列等、複数列開設さている構成、複数列のそれぞれに含まれるノズル孔3031の位相が互いにずれた、いわゆる千鳥配列を採る構成であってもよい。   (2) In the above embodiment, the nozzle plate 301i has a structure in which a plurality of nozzle holes 3031 are arranged in a line. However, the nozzle plate 301i only needs to have a configuration having a plurality of nozzle holes 3031 arranged in a row, for example, a configuration in which a plurality of nozzle holes 3031 are arranged in a plurality of rows, such as two rows, a plurality of The nozzle holes 3031 included in each row may have a so-called staggered arrangement in which the phases of the nozzle holes 3031 are shifted from each other.

(3)上記実施の形態に係るインクジェットヘッド301では、各ノズル3030における液滴の吐出動作は、各ノズル3030が備える駆動素子(圧電素子)3010に与えられる駆動電圧によって制御される構成とした。しかしながら、駆動素子3010は、圧電素子には限られないことは言うまでもなく、例えば、発熱素子等、キャビティ301e内のインク圧力を可変することができる他の素子を用いることができる。   (3) In the inkjet head 301 according to the above-described embodiment, the droplet discharge operation at each nozzle 3030 is controlled by a drive voltage applied to a drive element (piezoelectric element) 3010 provided in each nozzle 3030. However, it goes without saying that the drive element 3010 is not limited to a piezoelectric element, and other elements capable of varying the ink pressure in the cavity 301e, such as a heating element, can be used.

(4)上記実施の形態に係るインクジェットヘッド301は、ノズルプレート301iと、ノズルプレート301iの裏面301mに対向して配された振動板301bと、ノズルプレート301iと振動板301bとの間隙をノズル孔3031毎に区切り、ノズル孔3031各々に対応するキャビティ301eを形成する複数の隔壁301dと、各キャビティ301eに設けられ各キャビティ301e内の圧力を個別に可変する駆動素子3010とを備えた構成とした。しかしながら、ノズルプレート301iと振動板301bとが対向して配されている構成に限定されず、ノズルプレート301iと振動板301bとの位置関係は適宜変更してもよい。例えば、ノズルプレート301iと振動板301bのそれぞれの平面が垂直に交わる配置としてもよい。   (4) The inkjet head 301 according to the above embodiment includes a nozzle plate 301i, a vibration plate 301b disposed to face the back surface 301m of the nozzle plate 301i, and a gap between the nozzle plate 301i and the vibration plate 301b. Each of the partitions 301d is divided into a plurality of partition walls 301d that form cavities 301e corresponding to the respective nozzle holes 3031 and drive elements 3010 that are provided in the cavities 301e and individually change the pressure in the cavities 301e. . However, the configuration is not limited to the configuration in which the nozzle plate 301i and the diaphragm 301b are arranged to face each other, and the positional relationship between the nozzle plate 301i and the diaphragm 301b may be changed as appropriate. For example, the respective planes of the nozzle plate 301i and the vibration plate 301b may be arranged to intersect perpendicularly.

(5)上記実施形態においては、ブレード410は移動せずに、インクジェットヘッド301が移動する場合について説明したが、これに限られない。インク吐出面301aの付着インク拭き取りの際に、インクジェットヘッド301を移動させずに、ブレード410を移動させてもよい。その場合、移動部は、ブレード410又はクリーニング部400全体をインクジェットヘッド301に対して移動させる。或いは、インクジェットヘッド301とブレード410の両方を移動させてもよい。即ち、インク吐出面301aとブレード410とが接触した状態でインク吐出面301aに対してブレード410が相対的に移動する構成であれば、何れを移動させてもよい。   (5) In the above embodiment, the case where the inkjet head 301 moves without moving the blade 410 has been described, but the present invention is not limited to this. The blade 410 may be moved without moving the inkjet head 301 when wiping off the ink adhering to the ink ejection surface 301a. In that case, the moving unit moves the blade 410 or the entire cleaning unit 400 relative to the inkjet head 301. Alternatively, both the inkjet head 301 and the blade 410 may be moved. That is, any configuration may be used as long as the blade 410 moves relative to the ink ejection surface 301a in a state where the ink ejection surface 301a and the blade 410 are in contact with each other.

(6)図13には図示していないが、対向電極114の上方に、各有機発光層111の位置に合わせて、各々の色に対応するカラーフィルターが配設されていてもよい。カラーフィルターは、R、G、Bに対応する波長の可視光を透過させるために設けられる透明層である。
カラーフィルターは、具体的には、複数の開口部をピクセル単位に行列状に形成した隔壁層が設けられたカラーフィルター形成用の基板に対し、カラーフィルター材料および溶媒を含有したインクを塗布する工程により形成される。本開示は、このカラーフィルターを形成する際の塗布工程にも適用することが可能である。
(6) Although not shown in FIG. 13, color filters corresponding to the respective colors may be disposed above the counter electrode 114 in accordance with the position of each organic light emitting layer 111. The color filter is a transparent layer provided to transmit visible light having wavelengths corresponding to R, G, and B.
Specifically, the color filter is a step of applying an ink containing a color filter material and a solvent to a substrate for forming a color filter provided with a partition layer in which a plurality of openings are formed in a matrix in pixel units. It is formed by. The present disclosure can also be applied to a coating process when forming the color filter.

なお、カラーフィルター材料としては、例えば、JSR株式会社製のカラーレジスト等を用いることができる。
(7)図13において、基板101上にTFT層102〜対向電極114の各層が積層形成されてなる構成を示した。本開示においては、各層のうちの何れかの層を欠いている、もしくは、例えば透明導電層などの他の層をさらに含む構成とすることもできる。
As a color filter material, for example, a color resist manufactured by JSR Corporation can be used.
(7) FIG. 13 shows a configuration in which the layers of the TFT layer 102 to the counter electrode 114 are stacked on the substrate 101. In the present disclosure, any one of the layers may be omitted, or another layer such as a transparent conductive layer may be further included.

(8)上記実施形態において、リニアモータ205、206、サーボモータ221はそれぞれガントリー部210、移動体220の移動手段の例示にすぎず、これらの利用は必須ではない。例えば、タイミングベルト機構やボールネジ機構を利用することにより、ガントリー部または移動体の少なくともいずれかを移動させることしてもよい。
(9)上記の実施形態においては、塗布対象基板に対してヘッド部側を走査させる方法を示したが、本開示はこれに限定されない。ノズルが複数配列されたヘッド部に対して塗布対象基板側を移動させてもよい。
(8) In the above embodiment, the linear motors 205 and 206 and the servo motor 221 are merely examples of moving means for the gantry unit 210 and the moving body 220, respectively, and their use is not essential. For example, at least one of the gantry unit and the moving body may be moved by using a timing belt mechanism or a ball screw mechanism.
(9) In the above embodiment, the method of scanning the head portion side with respect to the application target substrate has been described, but the present disclosure is not limited to this. The application target substrate side may be moved with respect to the head portion in which a plurality of nozzles are arranged.

(10)実施形態においては、ブレード410の軸方向がインクジェットヘッド301の短手方向と一致する向きでブレード410とインク吐出面301aとを接触させ、インクジェットヘッド301の長手方向にブレード410を相対的に移動させたが、これに限られない。例えば、インクジェットヘッドの長手方向とブレード410の軸とが一致する向きでブレード410とインク吐出面301aとを接触させ、インクジェットヘッド301の短手方向にブレード410を相対的に移動させてもよい。さらには、インクジェットヘッド301の長手方向に対して斜めにブレード410を相対的に移動させてもよい。   (10) In the embodiment, the blade 410 and the ink ejection surface 301 a are brought into contact with each other in such a direction that the axial direction of the blade 410 coincides with the short direction of the inkjet head 301, and the blade 410 is relative to the longitudinal direction of the inkjet head 301. However, this is not a limitation. For example, the blade 410 and the ink discharge surface 301 a may be brought into contact with each other in a direction in which the longitudinal direction of the inkjet head and the axis of the blade 410 coincide with each other, and the blade 410 may be relatively moved in the short direction of the inkjet head 301. Furthermore, the blade 410 may be moved relative to the longitudinal direction of the inkjet head 301 in an oblique manner.

≪補足≫
以上で説明した実施の形態は、いずれも本発明の好ましい一具体例を示すものである。実施の形態で示される数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置位置及び接続形態、工程、工程の順序などは一例であり、本発明を限定する主旨ではない。また、実施の形態における構成要素のうち、本発明の最上位概念を示す独立請求項に記載されていない工程については、より好ましい形態を構成する任意の構成要素として説明される。
<Supplement>
Each of the embodiments described above shows a preferred specific example of the present invention. The numerical values, shapes, materials, constituent elements, arrangement positions and connection forms of the constituent elements, steps, order of steps, and the like shown in the embodiments are merely examples, and are not intended to limit the present invention. In addition, among the constituent elements in the embodiment, steps that are not described in the independent claims indicating the highest concept of the present invention are described as arbitrary constituent elements constituting a more preferable form.

また、上記の工程が実行される順序は、本発明を具体的に説明するために例示するためのものであり、上記以外の順序であってもよい。また、上記工程の一部が、他の工程と同時(並列)に実行されてもよい。
また、発明の理解の容易のため、上記各実施の形態で挙げた各図の構成要素の縮尺は実際のものと異なる場合がある。また本発明は上記各実施の形態の記載によって限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。
In addition, the order in which the above steps are performed is for illustration in order to specifically describe the present invention, and may be in an order other than the above. Moreover, a part of said process may be performed simultaneously with another process (parallel).
Further, for easy understanding of the invention, the scales of the components shown in the above-described embodiments may be different from actual ones. The present invention is not limited by the description of each of the above embodiments, and can be appropriately changed without departing from the gist of the present invention.

また、各実施の形態及びその変形例の機能のうち少なくとも一部を組み合わせてもよい。
さらに、本実施の形態に対して当業者が思いつく範囲内の変更を施した各種変形例も本発明に含まれる。
Moreover, you may combine at least one part among the functions of each embodiment and its modification.
Furthermore, various modifications in which the present embodiment is modified within the range conceivable by those skilled in the art are also included in the present invention.

本開示のインクジェット装置等は、情報記録用、又は産業用印刷に用いられるインクジェット方式の画像形成装置に好適に利用可能である。また、電子デバイス、例えば、家庭用もしくは公共施設、あるいは業務用の各種表示装置、テレビジョン装置、携帯型電子機器用ディスプレイ等として用いられる有機EL表示パネルの製造等に好適に利用可能である。   The ink jet apparatus and the like of the present disclosure can be suitably used for an ink jet image forming apparatus used for information recording or industrial printing. Further, it can be suitably used for manufacturing an organic EL display panel used as an electronic device such as a home or public facility, various display devices for business use, a television device, a display for a portable electronic device, or the like.

1 表示装置
100 有機EL表示パネル
230 移動部
301 インクジェットヘッド
301a インク吐出面(主面)
301b 振動板
301a 吐出面
301d 隔壁
301e キャビティ
301f ノズル面
301gノズル孔周囲部分
301h 傾斜面
301i ノズルプレート
301j 裏面の表面
301k ノズル孔周囲部分以外の表面
301m 裏面
400 クリーニング部
410 ワイパーブレード
800 母型
810 フォトレジスト層
810a フォトレジスト層の不存在領域
810b フォトレジスト層810の周縁
820 密着層
820a 第1部分
830 型層
830a 侵入部
830b 第2部分
830c 第2部分830cの周縁
831 酸化物層
301iX ノズルプレート層
301iXa 侵入部
301iXb 第3部分
1000 インクジェット装置
3030 ノズル
3031 ノズル孔
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Display apparatus 100 Organic electroluminescent display panel 230 Moving part 301 Inkjet head 301a Ink discharge surface (main surface)
301b Diaphragm 301a Discharge surface 301d Partition wall 301e Cavity 301f Nozzle surface 301g Nozzle hole surrounding portion 301h Inclined surface 301i Nozzle plate 301j Back surface 301k Surface other than nozzle hole surrounding portion 301m Back surface 400 Cleaning unit 410 Wiper blade 800 Master mold 810 Photoresist Layer 810a Photoresist layer absent region 810b Photoresist layer 810 peripheral edge 820 Adhesion layer 820a First part 830 Mold layer 830a Intrusion part 830b Second part 830c Periphery of second part 830c 831 Oxide layer 301iX Nozzle plate layer 301iXa Intrusion Part 301iXb Third part 1000 Inkjet device 3030 Nozzle 3031 Nozzle hole

Claims (15)

複数のノズル孔が列状に開設された金属を主成分とする板状体からなり、
前記板状体の一方の表面を主面とするとき、
前記板状体の主面におけるノズル孔周囲部分の表面は、当該ノズル孔周囲部分以外の表面に対し突出している
ノズルプレート。
It consists of a plate-shaped body whose main component is a metal with a plurality of nozzle holes opened in a row,
When one surface of the plate-like body is a main surface,
The surface of the nozzle hole surrounding part in the main surface of the plate-like body protrudes from the surface other than the nozzle hole surrounding part.
前記板状体の主面における前記ノズル孔が存在する面をノズル面とするとき、
前記板状体の主面におけるノズル孔周囲部分表面の突出量は、前記ノズル面において最大であり、前記ノズル面の周縁に近付くにしたがい連続的に増加している
請求項1に記載のノズルプレート。
When the surface where the nozzle hole is present in the main surface of the plate-like body is a nozzle surface,
2. The nozzle plate according to claim 1, wherein the protrusion amount of the peripheral surface of the nozzle hole on the main surface of the plate-like body is the maximum on the nozzle surface and continuously increases as the peripheral edge of the nozzle surface is approached. .
前記板状体の主面におけるノズル孔周囲部分表面の当該部分以外の表面に対する傾斜角は、前記ノズル面の周縁外方から前記ノズル面の周縁に近付くにしたがい連続的に増加している
請求項2に記載のノズルプレート。
The inclination angle of the peripheral surface of the nozzle hole on the main surface of the plate-like body with respect to the surface other than the portion continuously increases from the outer periphery of the nozzle surface toward the periphery of the nozzle surface. 2. The nozzle plate according to 2.
前記板状体の主面と背向する裏面の平面視における前記ノズル孔周囲部分に含まれる表面部分は、当該部分以外の表面に対し陥没しており、陥没量は、前記ノズル孔に近付くにしたがい連続的に増加している
請求項1に記載のノズルプレート。
The surface portion included in the portion around the nozzle hole in a plan view of the main surface and the back surface facing away from the plate-like body is depressed with respect to the surface other than the portion, and the amount of depression is close to the nozzle hole. The nozzle plate according to claim 1, wherein the nozzle plate continuously increases accordingly.
前記板状体の裏面の平面視における前記ノズル孔周囲部分に含まれる表面部分の当該部分以外の表面部分に対する傾斜角は、前記ノズル孔に近付くにしたがい連続的に増加している
請求項4に記載のノズルプレート。
The inclination angle of the surface portion included in the peripheral portion of the nozzle hole in the plan view of the back surface of the plate-like body with respect to the surface portion other than the portion is continuously increased as the nozzle hole approaches the nozzle hole. The described nozzle plate.
前記金属は、ニッケル、クロム、鉄、アルミニウム、銀、金、コバルト、銅、パラジウム、スズ、亜鉛などの金属又はそれらの合金から選択される1以上である
請求項1から5の何れか1項に記載のノズルプレート。
The said metal is 1 or more selected from metals, such as nickel, chromium, iron, aluminum, silver, gold | metal | money, cobalt, copper, palladium, tin, zinc, or those alloys, The any one of Claim 1-5 The nozzle plate described in 1.
前記板状体は、前記主面表面から所定深さの範囲にポリテトラフルオロエチレン(PTFE)を含む
請求項6に記載のノズルプレート。
The nozzle plate according to claim 6, wherein the plate-like body includes polytetrafluoroethylene (PTFE) in a range of a predetermined depth from the surface of the main surface.
請求項1から7に記載のノズルプレートと、
前記ノズルプレートの裏面に対向して配された振動板と、
前記ノズルプレートと前記振動板との間隙をノズル孔毎に区切り、ノズル孔各々に対応するキャビティを形成する複数の隔壁と、
各キャビティに設けられ各キャビティ内の圧力を個別に可変する駆動素子と
を備えたインクジェットヘッド。
A nozzle plate according to claim 1;
A diaphragm disposed to face the back surface of the nozzle plate;
A plurality of partition walls that divide a gap between the nozzle plate and the diaphragm for each nozzle hole and form a cavity corresponding to each nozzle hole;
An ink-jet head comprising: a drive element provided in each cavity and capable of individually varying the pressure in each cavity.
請求項8に記載のインクジェットヘッドと、
ゴムからなるワイパーブレードと、
前記ワイパーブレードの先端と前記吐出面とが接触した状態で、前記ワイパーブレードが吐出面に平行な方向に相対的に移動するように、前記ワイパーブレード及び前記インクジェットヘッドの少なくとも一方を移動させる移動部とを有する
インクジェット装置。
An inkjet head according to claim 8;
A wiper blade made of rubber,
A moving unit that moves at least one of the wiper blade and the inkjet head so that the wiper blade relatively moves in a direction parallel to the discharge surface in a state where the tip of the wiper blade and the discharge surface are in contact with each other. An inkjet apparatus.
前記ワイパーブレードは、前記移動部による移動の際に前記主面に対し押圧されている
請求項9に記載のインクジェット装置。
The inkjet device according to claim 9, wherein the wiper blade is pressed against the main surface during movement by the moving unit.
陽極と陰極との間に、有機発光層を含む機能層を複数有する有機EL素子の製造装置であって、
前記インクは、前記機能層を形成するための機能性材料を含み、
請求項9又は10に記載のインクジェット装置を有する
有機EL素子の製造装置。
An organic EL device manufacturing apparatus having a plurality of functional layers including an organic light emitting layer between an anode and a cathode,
The ink includes a functional material for forming the functional layer,
The manufacturing apparatus of the organic EL element which has the inkjet apparatus of Claim 9 or 10.
機能性物質が溶媒に溶解されてなるインクを下地基板上に吐出し、溶媒を乾燥させて前記機能性物質の薄膜を形成する工程を含み、
前記インクの吐出を、請求項11に記載の有機EL素子の製造装置により行う
有機EL素子の製造方法。
Discharging the ink in which the functional substance is dissolved in the solvent onto the base substrate, and drying the solvent to form a thin film of the functional substance;
The method for producing an organic EL element, wherein the ink is discharged by the organic EL element production apparatus according to claim 11.
導電性材料からなり上面が平板状の母型を準備する工程と、
前記母型の上面に絶縁性のフォトレジストを塗布する工程と、
前記フォトレジストをマスクを介して露光した後現像して、ノズル孔を形成する領域より所定寸法だけ大きく当該領域を含むフォトレジスト層を形成する工程と、
前記母型の上面の前記フォトレジスト層の不存在領域にストライク金属めっきを付着させて前記フォトレジスト層に対応する第1部分が開口した密着層を形成する工程と、
前記母型に電圧を印加して前記密着層上及び前記第1部分の周縁近傍の前記フォトレジスト層上に電界金属めっきを積層して、前記第1部分より小さい第2部分が開口した型層を形成する工程と、
加熱処理を施し前記型層表面に前記金属の酸化物層を形成する工程と、
前記母型に電圧を印加して前記酸化物層上及び前記第2部分の周縁近傍の前記フォトレジスト層上に電界金属めっきを積層して、前記フォトレジスト層上の電界金属めっきが形成されない前記第2部分より小さい第3部分をノズル孔としたノズルプレートを形成する工程と、
前記ノズルプレートを前記酸化物層との界面において前記酸化物層以下の層から剥離して前記ノズルプレートを取り出す工程とを有する
ノズルプレートの製造方法。
A step of preparing a matrix made of a conductive material and having a flat upper surface;
Applying an insulating photoresist to the upper surface of the matrix;
Developing after exposing the photoresist through a mask and forming a photoresist layer including the region larger than a region for forming the nozzle hole by a predetermined dimension;
A step of attaching strike metal plating to a non-existing region of the photoresist layer on the upper surface of the matrix to form an adhesion layer having an opening corresponding to the photoresist layer;
A mold layer in which a voltage is applied to the mother die to deposit electric field metal plating on the adhesion layer and on the photoresist layer near the periphery of the first portion, and a second portion smaller than the first portion is opened. Forming a step;
Applying heat treatment to form an oxide layer of the metal on the mold layer surface;
A voltage is applied to the matrix to deposit electric field metal plating on the oxide layer and the photoresist layer in the vicinity of the periphery of the second portion, and the electric field metal plating on the photoresist layer is not formed Forming a nozzle plate having a third portion smaller than the second portion as a nozzle hole;
A step of peeling the nozzle plate from the layer below the oxide layer at the interface with the oxide layer and taking out the nozzle plate.
前記ノズルプレートを形成する工程は、前記金属及びポリテトラフルオロエチレン(PTFE)の共析電界めっきを積層する工程を含む
請求項13に記載のノズルプレートの製造方法。
The method for producing a nozzle plate according to claim 13, wherein the step of forming the nozzle plate includes a step of laminating eutectoid electroplating of the metal and polytetrafluoroethylene (PTFE).
前記金属は、ニッケル、クロム、鉄、アルミニウム、銀、金、コバルト、銅、パラジウム、スズ、亜鉛などの金属又はそれらの合金から選択される1以上である
請求項13又は14に記載のノズルプレートの製造方法。
The nozzle plate according to claim 13 or 14, wherein the metal is one or more selected from metals such as nickel, chromium, iron, aluminum, silver, gold, cobalt, copper, palladium, tin, and zinc, or alloys thereof. Manufacturing method.
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