JP2018524582A - 統合計算要素構造を用いた光スペクトルの再構成 - Google Patents

統合計算要素構造を用いた光スペクトルの再構成 Download PDF

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Abstract

2つ以上の統合計算要素(ICE)構造が、光コンピューティングデバイスにおいて設計されて利用され、サンプルのスペクトルパターンを組み合わせて再構成する。ICE構造を設計するために、主成分分析(「PCA」)ロードベクトルは、トレーニングスペクトルから導出される。その後、PCAロードベクトルと一致するスペクトルパターンを有する2つ以上のICE構造が選択される。次いで、選択されたICE構造を製造し、光コンピューティングデバイスに組み込むことができる。動作中、ICE構造は、様々なサンプル特性を決定するために利用されるサンプルの高分解能スペクトルデータを再構成するのに使用される。
【選択図】図3

Description

本開示は、一般に、統合計算要素(「ICE」)構造に関し、より具体的には、サンプルの光学スペクトルを組み合わせて再構成するスペクトル関数を有するICE構造に関する。
近年、石油及びガス産業におけるアプリケーションのために光学計算技術が開発されている。そのような技術の1つは、ダウンホール流体の光学密度(すなわち、吸光度)の決定を含み、ダウンホール流体の様々な特性をオペレータに知らせることができる。しかし、主に2つの理由により、400〜1100nmのスペクトル領域にダウンホール流体の高分解能光学スペクトルを記録することは非常に困難である。第1に、過酷な高温高圧のダウンホール条件は、高分解能スペクトルを提供することができる高度な回折格子ベースまたはフーリエ変換ベースの機器のダウンホール使用を阻止する。第2に、可視及び短距離近赤外スペクトル領域の油の光学密度が高い(非常に不透明な)ため、スペクトルを解像するために高出力光源及び高感度検出器が必要とされ、ダウンホール電力要求が増大し、ツールの頑丈性及び堅牢性をより少なくする。
これまでこれらの問題に対処するために、石油ガス産業は、ダウンホール環境における狭帯域光フィルタの適応力のために、狭帯域光フィルタの使用に頼ってきた。しかしながら、これらの狭帯域光フィルタは、非常に低い分解能のスペクトル(すなわち、スペクトルにわたって4つ以下の光チャネル)のみ記録することができる。そのような低分解能データスペクトルは、ダウンホール環境の高精度測定を行うのに必要なデータ量を提供することができない。
本開示の実施形態に従って製造され得る例示的なICE構造を示す。 本開示の例示的な実施形態によるICE構造設計システムのブロック図を示す。 本開示の特定の例示的な方法による、ICE構造を設計する方法のフローチャートである。 0〜650nmの帯域幅に沿った様々なトレーニングスペクトルに対する透過率をプロットしたグラフである。 本開示の特定の例示的な方法による、ICE構造を設計するために利用される3つのPCAロードベクトルA、B及びCをプロットしたグラフである。 本明細書に記載のICE構造を使用して再構成された透過スペクトルパターンに対するサンプルの元の透過スペクトルパターンの正規化された比較を示すグラフである。 本開示の特定の例示的な実施形態による、サンプルを監視するのに使用される光コンピューティングデバイスのブロック図を示す。 掘削中のロギングアプリケーション及び有線アプリケーションで利用される光コンピューティングデバイスを示す。 掘削中のロギングアプリケーション及び有線アプリケーションで利用される光コンピューティングデバイスを示す。 本開示の特定の例示的な方法による光学計算方法のフローチャートである。 本開示の特定の他の例示的な方法による代替の光学計算方法のフローチャートである。
本開示の例示的な実施形態及び関連する方法論は、ICEの設計、製造及び使用のための方法で使用され得るので、以下で説明する。明確化のために、実際の実装または方法のすべての特徴が本明細書に記載されてはない。任意のそのような実際の実施形態の開発においては、1つの実装から別の実装に変化する、システム関連及びビジネス関連の制約の遵守など、開発者の特定の目標を達成するための多数の具体的な決定が行われなければならないことはもちろんである。さらに、このような開発努力は複雑で時間がかかるが、本開示の利益を受ける当業者にとって日常的な仕事であることは理解されよう。本開示の様々な実施形態及び関連する方法論のさらなる態様及び利点は、以下の説明及び図面の考察から明らかになるであろう。
本開示の例示的な実施形態は、所定の送信スペクトルパターンを有する広帯域ICE構造の設計技術に関する。設計されたICE構造のうちの2つ以上が光コンピューティングデバイスにおいて利用され、サンプルのスペクトルパターンを組み合わせて再構成する。一般化された設計方法を要約すると、1つまたは複数のサンプルの光学トレーニングスペクトルが得られる。次いで、トレーニングスペクトルに対応する主成分分析(「PCA」)ロードベクトルが導出される。その後、PCAロードベクトルと一致するスペクトルパターンを有する2つ以上のICE構造が選択される。次いで、選択されたICE構造を製造し、様々な用途に有用な光コンピューティングデバイスに統合することができる。動作中、2つ以上のICE構造を使用してサンプルの高分解能スペクトルデータを再構成し、次いで光学密度またはサンプル組成データとして出力することができる。
上述のように、本明細書に記載の例示的なICE構造は、光コンピューティングデバイスで利用され得る。光コンピューティングデバイスは、物質または物質のサンプルから電磁放射の入力を受け取り、処理要素から電磁放射の出力を生成するように構成されたデバイスである。処理要素は、例えば、ICE構造であってもよい。基本的に、光コンピューティングデバイスは、従来の電子プロセッサの配線回路とは対照的に、光学素子を利用して計算を実行する。電磁放射が物質と相互作用する場合、物質に関する固有の物理的及び化学的情報が、サンプルから反射され、サンプルを通って透過され、またはサンプルから放射される電磁放射にコード化される。この情報は物質のスペクトル「フィンガープリント」と呼ばれることが多い。したがって、光コンピューティングデバイスは、ICE構造の使用を通じて、物質内の複数の特性または分析対象のスペクトルフィンガープリントの情報を抽出し、その情報をサンプルの全体的な特性に関する検出可能な出力に変換することができる。
図1を参照すると、本明細書に記載の例示的な設計プロセスを利用して製造され得る例示的なICE構造100が示されている。ICE構造100は、例えば、それぞれ、シリコン(Si)及び石英(SiO2)などの複数の交互層102及び104を含むことができる。層状物質の他の非限定的な例としては、ニオブ、ゲルマニウム及びゲルマニア、MgF、SiO並びに他の高及び低屈折率材料が挙げられるが、本開示の利益を有する当業者は、これらの層が屈折率がそれぞれ高い及び低い材料からなることを理解するであろう。層102、104を、光学基板106上に戦略的に堆積させることができる。いくつかの実施形態では、光学基板106は、BK−7光学ガラスである。他の実施形態では、光学基板106は、当技術分野で公知の、石英、サファイア、シリコン、ゲルマニウム、セレン化亜鉛、硫化亜鉛、またはポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)、ポリ塩化ビニル(PVC)などの様々なプラスチック、ダイヤモンド、セラミック、等などの他のタイプの光学基板を含むことができる。反対側の端部(例えば、光学基板106の反対側)に、ICE構造100は、デバイスまたは設備を取り囲む環境空気に一般に露出される層108を含むことができる。層102、104の数及び各層102、104の厚さは、従来の分光機器を用いてサンプル物質の特性の分光分析から得られるスペクトル属性から決定することができる。
サンプルの所与の特性の対象のスペクトルは、典型的には、任意の数の異なる波長を含む。図1の例示的なICE構造100は、実際には、与えられたサンプルの特定の特性を表すものではなく、例示のためにのみ提供されていることが理解されるべきである。その結果、図1に示すように、層102、104の数及びそれの相対的な厚さは、所与のサンプルの任意の特定の特性と相関しない。層102、104及びそれらの相対的な厚さは必然的に一定の縮尺で描かれていないので、本開示を限定すると見なされるべきではない。さらに、本開示の利益を受ける当業者は、各層102、104を構成する材料が、用途、材料コスト、及び/または材料のサンプル物質への適用性に応じて変化し得ることを容易に認識するであろう。例えば、層102、104を、シリコン、石英、ゲルマニウム、水、それらの組み合わせ、または他の関心のある材料で作ることができるが、これらに限定されない。さらに、層102の物理的厚さは本質的に例示的であり、したがって、所望に応じて変更され得ることを、当業者は理解するであろう。
多重層102、104は異なる屈折率を示す。例示的なICE構造100は、層102、104の材料及びそれらの相対的な厚さ及び間隔を適切に選択することによって、異なる波長で所定の分光光(すなわち、電磁放射線)を選択的に通過/反射/屈折させるように構成され得、本明細書ではICE構造のスペクトルパターンとも呼ばれる。本明細書で説明するように、ICE構造の層数及び層厚さは、それらが組み合わされてサンプルのスペクトルパターンを再構成する透過スペクトルパターンを有するように設計され、したがってサンプルスペクトル密度(吸光度、透過率、など)または組成を決定するのに有用な高分解能データを提供する。したがって、層数、層厚及び間隔の選択は、ICE設計プロセスにとって非常に重要である。
以上を考慮して、図2は、本開示の例示的な実施形態によるICE設計システムのブロック図を示す。本明細書で説明するように、ICE設計システム200は、所望のスペクトルパターンを有する2つ以上のICE構造の迅速かつ効率的な選択を容易にするICE設計及び解析のためのプラットフォームを提供する。本明細書で説明するICE設計システム200の例示的な実施形態は、PCAロードベクトルに一致するスペクトルパターンを有するICE構造を設計する基礎として、サンプルトレーニングスペクトルのPCA分解を利用する。選択されたICE構造が設計され、光コンピューティングデバイスに組み込まれ、統合された後、未知サンプルのスペクトルパターンは、各ICE構造の対応する検出器の応答によって重み付けされたICE構造スペクトル出力の線形結合を用いて再構成される。したがって、本明細書に記載されるように、本開示は、単純で頑丈な光学設計を使用して流体サンプルの高分解能測定を提供する。
図2を参照すると、ICE設計システム200は、少なくとも1つのプロセッサ202、非一時的なコンピュータ可読記憶装置204、トランシーバ/ネットワーク通信モジュール205、任意選択のI/O装置206、及び任意選択のディスプレイ208(例えば、ユーザインタフェース)を含み、すべてシステムバス209を介して相互接続されている。一実施形態では、ネットワーク通信モジュール205はネットワークインタフェースカード(NIC)であり、イーサネットプロトコルを使用して通信する。他の実施形態では、ネットワーク通信モジュール105は、光ファイバインタフェースなどの別のタイプの通信インタフェースであってもよく、複数の異なる通信プロトコルを使用して通信してもよい。本明細書で説明する例示的な実施形態に従ってICE設計モジュール210内に記憶されたソフトウェア命令を実装するためのプロセッサ202によって実行可能なソフトウェア命令は、記憶装置204または他のコンピュータ可読媒体に記憶されてもよい。
図2には明示されていないが、ICE設計システム200は、1つ以上の適切なネットワーク接続を介して1つ以上のパブリック(例えば、インターネット)及び/またはプライベートネットワークに接続され得ることが認識されるであろう。ICE設計最適化モジュール210を含むソフトウェア命令は、有線または無線の方法を介してCD−ROMまたは他の適切な記憶媒体から記憶装置204にロードされ得ることも認識されるであろう。
さらに、本開示の方法及び実施形態は、ハンドヘルドデバイス、マルチプロセッサシステム、マイクロプロセッサベースまたはプログラマブルコンシューマエレクトロニクス、ミニコンピュータ、メインフレームコンピュータなどを含む様々なコンピュータシステム構成で実施され得る。任意の数のコンピュータシステム及びコンピュータネットワークが、本開示と共に使用するのに許容される。本開示の方法及び実施形態は、通信ネットワークを介してリンクされた遠隔処理デバイスによってタスクが実行される分散コンピューティング環境で実施するされ得る。分散コンピューティング環境では、プログラムモジュールは、メモリ記憶装置を含むローカル及びリモートコンピュータ記憶媒体の両方に配置することができる。したがって、本開示は、コンピュータシステムまたは他の処理システムにおける様々なハードウェア、ソフトウェア、またはそれらの組み合わせと関連して実装されてもよい。
図3を参照して、ここで本開示の例示的な方法300について説明する。前述のように、ICE設計方法300の例示的な実施形態は、その送信スペクトルパターンが、例えばPCAロードベクトルなどの所定のスペクトルパターンと一致するICE構造のセットを設計するために利用される。動作中、未知サンプルの高分解能スペクトルデータを組み合わせて再構成するために、少なくとも2つのICE構造が使用され、それにより、例えばサンプルの光学密度または組成を決定するために高分解能スペクトルデータが利用される。
ブロック302において、ICE設計システム200は、実験室分光計システムを使用して、製造されたICE構造によって測定されるサンプルに類似する1つ以上のサンプルの高分解能トレーニングスペクトルを得る。図4は、450〜1100nmの帯域幅に沿った様々なトレーニングスペクトルに対する透過率をプロットしたグラフである。本明細書で定義される場合、サンプルのトレーニングスペクトルは、スペクトル再構成に利用される光学分光計を使用して流体サンプルで取得された光学スペクトルデータである。ブロック300で得られたサンプルトレーニングスペクトルは、例えばUV−Vis(紫外線−可視)分光計またはNIR(近赤外線)分光計などの実験室の高分解能装置を用いて得ることができる。可視スペクトルのみが図4に示されているが、トレーニングスペクトルは、赤外線スペクトル領域(すなわち、約1100〜5000nm)において得られてもよい。本明細書で使用される場合、「高分解能」は、1nm以上のスペクトル分解能を有するスペクトルを指す。
ブロック304において、トレーニングスペクトルを用いて、ICE設計システム200は、次いでトレーニングスペクトルを記述する2つ以上のスペクトルパターンを導出する。この例示的な方法では、スペクトルパターンは、PCAを用いて導出されたPCAローディングベクトルである。そのような値を計算するために、ICE設計システム200は、以下を使用して、すべてのスペクトルの主成分スコア及びロードベクトルを得るために、トレーニングスペクトルに関するPCA分析を実行する。
X=S・T+e 式(1)、
式中、Xはトレーニングスペクトルデータ行列であり、SはPCAスコアであり、TはPCA負荷ベクトルであり、eはPCA分解によるトレーニングスペクトルにおける各スペクトルの残差である。SとTが同時に得られ、それによってPCAロードベクトル(T)が得られる。
図5は、式1を用いて計算された最良の3つのPCAロードベクトルA、B及びCをプロットしたグラフである。X軸はナノメートル単位の波長であり、Y軸は透過率%である。3つのロードベクトルは、トレーニングスペクトルデータの最大変動を捕捉する最初の3つの主成分であるため、この例では上位3つのロードベクトルが選択された。しかし、代替の方法では、所望のICE構造の数(したがって、ダウンホールセンサで利用可能な光チャネルの分解能レベル/数)に応じて、3つより多いまたは少ないPCAロードベクトルが選択され得る。
さらに、図5の例では、1つの付加的なICE構造が、PCAロードベクトルBの負の部分を模倣するために必要とされるので、4つのICE構造が設計される。この場合、1つのICE構造が、PCAロードベクトルBの正の部分を模倣するために使用され、別のICE構造が、PCAロードベクトルBの負の部分を模倣するために使用される。すべてのICEスペクトルパターンは正であるので、第2のICE構造は実際に負の部分のフリップパターンを模倣する(すなわち、負のパターンを正のパターンにするために反転される)。
それにもかかわらず、ブロック304でPCAロードベクトルが計算されると、それらは、次いで、ブロック306でそのスペクトルパターンがPCAロードベクトルと一致する2つ以上のICE構造を選択/設計するために使用される。図5では、4つのPCAロードベクトル(ベクトルBの反転された負の成分を含む)が選択されたので、ブロック306において4つのICE構造が選択される。ここで、ICE設計システム200は、PCAロードベクトルのスペクトルパターンに一致する透過スペクトルパターンを有する4つのICE構造設計を選択し、設計結果を所望通りに出力され得る。
特定の方法では、スペクトルマッチングプロセスは、以下を含む:第1に、多数のランダム設計がシード設計として提供される。重要な設計パラメータには、薄膜層の数及び各層の厚さが含まれる。各層の層数及び厚さを最適化することにより、設計パターンと目標パターンのスペクトルパターン(PCAロード)の差が最小限に抑えられる。次いで、最適化された設計は、製造されるように選択された設計である。スペクトルパターンは、パターンの小さな偏差はスペクトル再構成結果に影響を与えないので、正確に一致する必要はない。
主成分は互いに直交しているので、各主成分によって取り込まれる分散の量は減少する。結果として、PCAは、スペクトルデータを正確に記述する最小の構成要素を提供する。物理的には、ICE設計の観点からは、サンプルを測定し、そのスペクトルパターンを正確に再構成するのに必要なICE構造がより少なくなる。それにもかかわらず、一旦ICE構造が設計されると、選択されたICE構造が製造され、光コンピューティングデバイスに統合され得る。広帯域ICE構造の製造は、前述のように、様々な堆積技術を用いて薄膜材料を堆積させることによって達成され得る。一旦製造されると、ICE構造は、次いで光コンピューティングデバイスに統合され得る。
光コンピューティングデバイスの動作中、未知サンプルの再構成スペクトルパターンは、以下を使用して、各ICE構造の検出器応答によって重み付けされた2つ以上のICE構造のスペクトルパターンの線形結合を使用して得ることができる:
Z=D・T 式(2)、
式中、Zは再構成されたサンプルスペクトルパターン、TはICE構造の透過スペクトルパターン(PCAロードベクトルと一致する)、Dは各ICE構造の検出器応答である。図6は、サンプルの元の透過スペクトルパターン対可視及び短距離近赤外スペクトル範囲に沿って図5の主成分を用いて再構成された透過スペクトルパターンの正規化された比較を示すグラフである。理解され得るように、開示された設計方法には高度の精度がある。
図7は、本開示の特定の例示的な実施形態による、サンプルを監視するために使用される光コンピューティングデバイス700のブロック図を示す。電磁放射線源708は、電磁放射線710を放射するか、または生成するように構成され得る。当技術分野で理解されているように、電磁放射線源708は、電磁放射線を放射または生成することができる任意のデバイスであってもよい。例えば、電磁放射線源708は、電球、発光デバイス、レーザ、黒体、フォトニック結晶、またはX線源などであってもよい。一実施形態では、電磁放射線710は、サンプル706(例えば、坑井内または坑井の一部を流れる坑井流体)と光学的に相互作用し、サンプル相互作用光712を生成するように構成され得る。
サンプル706は、例えば、坑井ツール構成要素、管状物、岩石形成物、スラリ、砂、泥、掘削物、コンクリート、他の固体表面などの任意の流体(液体または気体)、固体物質または材料であってもよい。しかしながら、他の実施形態では、サンプル706は、元素腐食性副生成物、サンプルの材料損失によって生成される元素、C1−C4及び高級炭化水素、そのような要素のグループ、並びに生理食塩水などの様々な流体特性からなる多相坑井内流体(例えば、油、ガス、水、固体を含む)である。サンプル706は、例えばサンプル706を含むフローパイプまたはサンプルセルを介して光コンピューティングデバイス700に提供され、それによって電磁放射線710に導入される。図7は、サンプル相互作用光712を生成するためにサンプル706を通過またはそれに入射する電磁放射線710を示しているが、本明細書では、半透明、不透明、または固体であるサンプル706の場合のように、サンプル706の電磁放射線710を反射し(すなわち、反射モード)、サンプル相互作用光712を等しく生成することも考えられる。
電磁放射線710で照射された後、対象のサンプル(例えば、ある特徴のサンプル)を含むサンプル706は、電磁放射線の出力(例えば、サンプル相互作用光712)を生成する。前述のように、サンプル相互作用光712は、サンプルの特性(例えば、密度または組成)を反映するスペクトルパターンを含む。最終的に、搭載デバイス700またはその遠隔の処理回路は、このスペクトル情報を分析してサンプル特性を決定する。特に示されていないが、システムの光学波長及び/または帯域幅を制限し、それによって、重要性のない波長領域に存在する望ましくない電磁放射を除去するために、1つ以上のスペクトル素子を光コンピューティングデバイス700に用いることができる。そのようなスペクトル素子は、光学系に沿った任意の位置に配置され得るが、典型的には、初期電磁放射線を提供する光源の直後に使用される。
光コンピューティングデバイス700は、少なくとも2つのICE構造704を有する可動アセンブリ702を含むことができる。この例では、3つのICE構造704A、B及びCが示されている。図示のように、可動アセンブリ702は、1つの実施形態において少なくとも、例えばチョッパホイールなどの回転ディスク703として特徴付けられてもよく、ICE構造704A、B、Cは、それと共に回転するように放射状に配置されている。図7は、可動アセンブリ702の対応する正面図も示しており、これについては以下により詳細に説明する。しかしながら、他の実施形態では、可動アセンブリ702は、少なくとも1つの検出器を光学的に相互作用する光及び/または2つ以上のICE構造704A、704B、704Cと順次に整列させるように構成された任意のタイプの可動アセンブリとして特徴付けられてもよい。各ICE構造704A、B、Cは、本明細書で設計されたもののいずれかであってもよく、サンプル706のスペクトルパターンを組み合わせて再構成するように構成されてもよい。3つのICE構造704A、B、Cが記載されているが、所望に応じて可動アセンブリ702に沿って2つ以上が使用されてもよい。
特定の例示的な実施形態では、回転ディスク703は、所望の周波数で回転され得る。動作中、回転ディスク703は、ICE構造704A、B、Cはそれぞれ、明白な短時間期間、サンプル相互作用光712に露出されるか、またはそれと光学的に相互作用するように、回転することができる。サンプル相互作用光712と光学的に相互作用すると、ICE構造704Aは光学的相互作用光706aを生成し、ICE構造704Bは第2の光学的相互作用光706bを生成するように構成され、光学要素726bは第3の光学的相互作用光706cを生成するように構成され、ここで、光学的相互作用光706a、b、cのそれぞれは、本明細書に記載されるように、PCAロードベクトルに一致するスペクトルパターンを有する。次いで、検出器716は、各ビーム706a〜cを受け取り、それによって、それぞれ第1、第2及び第3の出力信号を生成する(出力信号728は、第1、第2及び第3の信号を含む)。したがって、検出器716に通信可能に結合された信号プロセッサ(図示せず)は、サンプル706のスペクトルパターンを再構成するために、3つの出力信号のすべてを重み付けし、結合する。次いで、信号プロセッサは、再構成されたスペクトルパターンを利用して、例えば、サンプルの光学密度または流体組成を含む様々なサンプル特性を決定することができる。
この開示の利益を受ける当業者は、前述の光コンピューティングデバイスは本質的に例示であり、利用され得る様々な他の光学構成が存在することを理解する。これらの光学的構成は、本明細書に記載の反射、吸収または透過方法を含むだけでなく、散乱(例えば、Raleigh&Raman)及び放射(例えば、蛍光、X線励起など)を含み得る。さらに、光コンピューティングデバイスは、サンプル相互作用光が複数のビームに分割される並列処理構成を含むことができる。複数のビームは、2つ以上の対応するICE構造を同時に通過することができ、それによって、各ICE構造の透過スペクトルパターンが結合されて、サンプルのスペクトルパターンが再構成される。並列処理構成は、非常に低消費電力であるかまたは可動部品がないアプリケーションで特に有用である。
本明細書に記載の光コンピューティングデバイスの例示的な実施形態及び関連する方法は、様々な環境で利用され得る。そのような環境は、例えば、ダウンホールの坑井または完成アプリケーションを含むことができる。他の環境には、地表及び海底の監視、衛星またはドローン監視、パイプライン監視、またはさらに消化管のような体腔を通過するセンサなどの多様なものが含まれ得る。それらの環境内では、コンピューティングデバイス及び温度センサは、環境内の様々なサンプル特性を検出/監視するために利用される。
図8Aは、掘削中ロギング(「LWD」)アプリケーションで利用される光コンピューティングデバイスを示す。図8Aは、ドリルストリング808を持ち上げたり降ろしたりするためのホイスト806を支持するデリック804を備えたドリルプラットフォーム802を示す。ホイスト806は、ドリルストリング808を回転させ、それを坑井ヘッド812に通すのに適した上部駆動装置810を懸架する。ドリルビット814は、ドリルストリング808の下端部に接続されている。ドリルビット814が回転すると、ドリルビット814は、地層818の様々な層を通過する坑井816を生成する。ポンプ820は、掘削流体を供給管822を介して上部駆動装置810に循環させ、ドリルストリング808の内部を通して加工させ、ドリルビット814のオリフィスを通して、ドリルストリング808の周りの環を介して地表に戻し、保持ピット824に入れる。掘削流体は、掘削物をボアホールからピット824に運び、坑井816の完全性を維持する助けとなる。塩水ベースの導電性泥水を含むが、これに限定されない様々な材料を掘削流体810に使用することができる。
リザーバ監視システム826(例えば、光コンピューティングデバイス)は、ビット814の近傍のボトムホールアセンブリに組み込まれる。この例示的な実施形態では、リザーバ監視システム826はLWDツールである;しかしながら、他の例示的な実施形態では、リザーバ監視システム826は、有線または配管搬送ロキングアプリケーションで利用されてもよい。それにもかかわらず、ドリルビット814が地層818を通して坑井816を伸長するとき、リザーバ監視システム826は、本明細書に記載のサンプル特性に関するデータを収集する。特定の実施形態では、リザーバ監視システム826は、ドリルカラー、すなわち、穿孔プロセスを助けるための重量及び剛性を提供する厚肉チューブ状の形態をとることができる。遠隔測定サブ828は、画像及び測定データ/信号を地表レシーバ830に転送し、地表からのコマンドを受信するために含まれてもよい。いくつかの実施形態では、遠隔測定サブ828は、地表と通信しないが、ロギングアセンブリが回収されたときに、後で地表で回収するためのデータを格納する。
さらに図8Aを参照すると、リザーバ監視システム826は、サンプル特性及び/または温度測定信号を取得するために使用される、必要な処理/記憶/通信回路とともにシステム制御センタ(図示せず)を備える。特定の実施形態では、測定信号が取得されると、システム制御センタは、測定信号を較正し、遠隔測定サブ828を介してデータを伝達してアップホール及び/または他のアセンブリ構成要素に戻す。代替の実施形態では、システム制御センタは、地表などのリザーバ監視システム826から離れた遠隔地にまたは異なるボアホールに配置されてもよく、それに応じて処理を実行する。
図8Bは、本開示の代替の実施形態を示し、それにより、光コンピューティングデバイスが有線アプリケーションに配備される。掘削プロセス中の様々なときに、図8Bに示すように、ドリルストリング808をボアホールから除去することができる。ドリルストリング808が除去されると、有線ロギングゾンデ834、すなわちゾンデに電力を輸送し、ゾンデから地表まで遠隔測定するための導体を有するケーブル841によって吊り下げられたプローブ(リザーバ監視システムの一部を形成する)を使用して、ロギング操作を行うことができる。有線ゾンデ834は、本明細書に記載のように、光コンピューティングデバイスを備えることができる。有線ロギングゾンデ834は、ツールがアップホールに引っ張られると、ツールをボアホールの軸の近傍に維持するためのパッド及び/または集中スプリングを有してもよい。ロギングゾンデ834は、地層抵抗率を測定するためのツールを含む様々な他のセンサを含むことができる。ロギングファシリティ843はロギングゾンデ834からサンプル特性測定値を収集し、センサによって集められた測定値を処理して記憶するためのコンピュータシステム845を備える。
上記を考慮して、図9は、本開示の特定の例示的な方法による光学計算方法900のフローチャートである。ブロック902において、本明細書で設計された2つ以上のICE構造を有する光コンピューティングデバイスが、坑井内に配備される。ブロック904において、光コンピューティングデバイスは、ダウンホールスペクトルを監視するために起動される。ブロック906において、2つ以上のICE構造の合成されたスペクトルパターンを使用して、光コンピューティングデバイスは、サンプルのスペクトルパターンを再構成する。ブロック908において、これらの再構成されたスペクトルパターン(複数可)は、処理回路によって利用されて、例えばサンプルの光学密度または組成などの1つ以上のサンプル特性を決定する。
図10は、本開示の特定の他の例示的な方法による、光学計算方法1000の別のフローチャートである。ここで、ブロック1002において、2つ以上のICE構造を有する光コンピューティングデバイスが、本明細書で展開された任意の配備方法を使用して坑井内に再び配備される。ブロック1004において、光コンピューティングデバイスは、坑内サンプルのその場高分解能スペクトルデータを再構成する。ここでは、低分解能データのみが可能な従来技術のデバイスとは異なり、本明細書に記載される例示的な実施形態は、1nm以上のスペクトル分解能を有する高分解能スペクトルデータを提供する。
サンプル相互作用光が2つ以上のICE構造と光学的に相互作用すると、図5に示すように、PCAロードベクトルを反映する2つ以上の光学的相互作用光が生成される。次いで、光学的に相互作用した光が検出器によって検出され、出力信号が処理回路に伝達され、そこで出力信号が合成されて、図6に示されるようにサンプルのスペクトルパターンが再構成される。図6に示すように、再構成されたスペクトルは、高分解能ロードベクトルから再構成されるので高分解能であり、本明細書に記載されるような様々なサンプル特性を決定するために利用され得る。
図6は、「高分解能」スペクトルデータの定義をより完全に説明するためにも有用である。図6では、1つの流体の再構成スペクトルが示されており、X軸はそのナノメートルの波長である。スペクトルは、450nm〜1100nm(651波長点)の波長領域にわたって651個のデータ点(透過率値)を含む。この場合、スペクトル分解能は1ナノメートル(すなわち、1nmのスペクトル空間当たり1つのデータ点がある)である。同じ領域に651を超えるデータ点がある場合、スペクトル分解能は1nmより優れている(1ナノメートル内に複数の透過率値があることを意味する)。例えば、651nmのスペクトル領域内に1301個のデータ点がある場合、スペクトル分解能を0.5nmと定義する。これは1nmなどのスペクトル分解能より優れたスペクトル分解能である。
しかしながら、図6とは対照的に、従来のダウンホールツールは、分解能の低いスペクトルデータのみを提供しており、これは高分解能のスペクトルデータとは全く異なる。例えば、図6に示すように、スペクトル(高分解能)は非常に滑らかな曲線である。対照的に、低分解能スペクトルは、典型的には、同じスペクトル領域内の限られた数のデータ点のために非常に粗い。分解能は、基本的に分解能力を意味し、すなわち、同じスペクトル領域内の多数のデータ点は、低いデータ点数を有するスペクトルよりも高い分解能を有する。
したがって、本明細書に記載される例示的な方法及び実施形態は、ダウンホール光学デバイスを使用して高分解能の可視及び近赤外スペクトルを記録することを可能にする。そのようなスペクトルデータは、例えばアスファルテン及び色などの複雑な組成及び物理的特性の決定を可能にする。さらに、400〜1100nmの任意のスペクトル波長における光学密度データを得て、他のツールデータと比較することができる。また、得られた光学密度データは、リザーバ接続性情報を決定することを可能にする。
本明細書に記載の実施形態は、任意の1つ以上の以下のパラグラフにさらに関連する:
1.統合計算要素(ICE)構造を設計する方法であって:1つ以上のサンプルの光学トレーニングスペクトルを取得することと;トレーニングスペクトルを記述する2つ以上の主成分分析(「PCA」)ロードベクトルを導出することと;及びPCAロードベクトルと実質的に一致するスペクトルパターンを有する2つ以上のICE構造を選択することと、を含む方法。
2.光学トレーニングスペクトルを取得することは、分光計を使用して高分解能スペクトルを取得することを含む、パラグラフ1に記載の方法。
3.光学トレーニングスペクトルを取得することは、可視スペクトル領域または赤外線スペクトル領域の少なくとも1つにおいて光学トレーニングスペクトルを取得することを含む、パラグラフ1または2に記載の方法。
4.選択されたICE構造を製造することをさらに含む、パラグラフ1〜3のいずれか1つに記載の方法。
5.製造されたICE構造を光コンピューティングデバイスに統合することをさらに含む、パラグラフ1〜4のいずれか1つに記載の方法。
6.パラグラフ1〜5のいずれかの方法を使用して製造された複数の統合計算要素(「ICE」)構造を備えた光コンピューティングデバイス。
7.光学計算方法であって、光コンピューティングデバイスを坑井に配置することと;及び光コンピューティングデバイスを用いてダウンホールサンプルのその場高分解能スペクトルデータを取得することと、を含む方法。
8.電磁放射線をサンプルと光学的に相互作用させてサンプル相互作用光を生成することと;サンプル相互作用光を2つ以上の統合計算要素(「ICE」)構造と光学的に相互作用させて所定の主成分分析(「PCA」)ロードベクトルに実質的に一致するスペクトルパターンを有する2つ以上の光相互作用光を生成することと;及び光相互作用光を2つ以上の検出器と相互作用させ、それによってサンプルのスペクトルパターンを組み合わせて再構成するために利用される2つ以上の信号を生成することとを含み、再構成スペクトルパターンは、高分解能スペクトルデータを含む、パラグラフ7に記載の光学計算方法。
9.サンプルの高分解能スペクトルデータを取得することは、各ICE構造に関連する検出器応答によって重み付けされた統合計算要素(「ICE」)構造の高分解能スペクトルデータの線形結合を使用して達成される、パラグラフ7または8に記載の光学計算方法。
10.サンプルの高分解能スペクトルデータを得ることは、主成分分析(「PCA」)ロードベクトルに実質的に一致するスペクトルパターンを有する2つ以上の統合計算要素(「ICE」)構造を使用することを含む、パラグラフ7〜9のいずれか1つに記載の光学計算方法。
11.高分解能スペクトルデータは、サンプルの光密度を決定するために利用される、パラグラフ7〜10のいずれか1つに記載の光学計算方法。
12.高分解能スペクトルデータは、サンプルの組成を決定するために利用される、パラグラフ7〜11のいずれか1つに記載の光学計算方法。
13.光コンピューティングデバイスは、有線または穿孔アセンブリを使用して配置される、パラグラフ7〜12のいずれか1つに記載の光学計算方法。
14.光学計算方法であって、2つ以上の統合計算要素(ICE)構造を含む、光コンピューティングデバイスを坑井に配置することと;サンプルを照会することと;及びICE構造を利用してサンプルのスペクトルパターンを組み合わせて再構成することとを含み、スペクトルパターンのデータは、サンプル特性を決定するために利用され得る、光学計算方法。
15.データは、サンプルの光学密度を決定するために利用される、パラグラフ14に記載の光学計算方法。
16.データは、サンプルの組成を決定するために利用される、パラグラフ14または15に記載の光学計算方法。
17.光コンピューティングデバイスは、有線または穿孔アセンブリを使用して配置される、パラグラフ14〜16いずれか1つに記載の光学計算方法。
18.光コンピューティングデバイスであって:サンプル相互作用光を生成するためにサンプルと光学的に相互作用する電磁放射線と;主成分分析(「PCA」)ロードベクトルに実質的に一致するスペクトルパターンを含み、光学的に相互作用した光を生成するためにサンプル相互作用光と光学的に相互作用する複数の統合計算要素(「ICE」)構造と;及び光学的に相互作用した光と光学的に相互作用するように配置され、それによってサンプルのスペクトルパターンを組み合わせて再構成する信号を生成する複数の検出器と、を含む光コンピューティングデバイス。
19.サンプルの再構成されたスペクトルパターンは、可視スペクトル領域または赤外線スペクトル領域の少なくとも1つにある、パラグラフ18に記載の光コンピューティングデバイス。
20.サンプルのスペクトルパターンを生成するために検出器に通信可能に結合された信号プロセッサをさらに備える、パラグラフ18または19に記載の光コンピューティングデバイス。
21.光コンピューティングデバイスは、有線または穿孔アセンブリの一部を形成する、パラグラフ18〜20のいずれか1つに記載の光コンピューティングデバイス。
さらに、本明細書で説明される例示的な方法論は、少なくとも1つのプロセッサによって実行される場合、プロセッサに本明細書に記載の方法のいずれかを実行させる命令を含む処理回路またはコンピュータプログラム製品を備えたシステムによって実施され得る。
様々な実施形態及び方法論が図示及び説明されたが、本開示はそのような実施形態及び方法論に限定されず、当業者には明らかであるようなすべての修正及び変形を含むと理解される。したがって、本開示は、開示された特定の形態に限定されることを意図しないことを理解されたい。むしろ、添付の特許請求の範囲によって規定される本開示の趣旨及び範囲内に入るすべての修正、均等物代替物を網羅することが意図される。

Claims (24)

  1. 統合計算要素(ICE)構造を設計する方法であって:
    1つ以上のサンプルの光学トレーニングスペクトルを取得することと;
    前記トレーニングスペクトルを記述する2つ以上の主成分分析(「PCA」)ロードベクトルを導出することと;及び
    前記PCAロードベクトルと実質的に一致するスペクトルパターンを有する2つ以上のICE構造を選択することと、を含む前記方法。
  2. 前記光学トレーニングスペクトルを取得することは、分光計を使用して高分解能スペクトルを取得することを含む、請求項1に記載の方法。
  3. 前記光学トレーニングスペクトルを取得することは、可視スペクトル領域または赤外線スペクトル領域の少なくとも1つにおいて前記光学トレーニングスペクトルを取得することを含む、請求項1に記載の方法。
  4. 前記選択されたICE構造を製造することをさらに含む、請求項1に記載の方法。
  5. 前記製造されたICE構造を光コンピューティングデバイスに統合することをさらに含む、請求項8に記載の方法。
  6. 請求項1〜5に記載のいずれかの方法を実施する処理回路を備えたシステム。
  7. 少なくとも1つのプロセッサによって実行されるとき、前記プロセッサに請求項1〜5のいずれかの方法を実行させる命令を含むコンピュータプログラム製品。
  8. 請求項1〜5のいずれかの方法を使用して製造された複数の統合計算要素(「ICE」)構造を備えた光コンピューティングデバイス。
  9. 光学計算方法であって:
    光コンピューティングデバイスを坑井に配置することと;及び
    前記光コンピューティングデバイスを用いてダウンホールサンプルのその場高分解能スペクトルデータを取得することと、を含む方法。
  10. 前記高分解能スペクトルデータを取得することは:
    電磁放射線をサンプルと光学的に相互作用させてサンプル相互作用光を生成することと;
    前記サンプル相互作用光を2つ以上の統合計算要素(「ICE」)構造と光学的に相互作用させて所定の主成分分析(「PCA」)ロードベクトルに実質的に一致するスペクトルパターンを有する2つ以上の光相互作用光を生成することと;及び
    前記光相互作用光を2つ以上の検出器と相互作用させ、それによって前記サンプルのスペクトルパターンを組み合わせて再構成するために利用される2つ以上の信号を生成することとを含み、前記再構成スペクトルパターンは、前記高分解能スペクトルデータを含む、請求項9に記載の光学計算方法。
  11. 前記サンプルの前記高分解能スペクトルデータを取得することは、各ICE構造に関連する検出器応答によって重み付けされた統合計算要素(「ICE」)構造の高分解能スペクトルデータの線形結合を使用して達成される、請求項9に記載の光学計算方法。
  12. 前記サンプルの前記高分解能スペクトルデータを得ることは、主成分分析(「PCA」)ロードベクトルに実質的に一致するスペクトルパターンを有する2つ以上の統合計算要素(「ICE」)構造を使用することを含む、請求項9に記載の光学計算方法。
  13. 前記高分解能スペクトルデータは、前記サンプルの光密度を決定するために利用される、請求項9に記載の光学計算方法。
  14. 前記高分解能スペクトルデータは、前記サンプルの組成を決定するために利用される、請求項9に記載の光学計算方法。
  15. 前記光コンピューティングデバイスは、有線または穿孔アセンブリを使用して配置される、請求項9に記載の光学計算方法。
  16. 光学計算方法であって:
    2つ以上の統合計算要素(ICE)構造を含む、光コンピューティングデバイスを坑井に配置することと;
    サンプルを照会することと;及び
    前記ICE構造を利用して前記サンプルのスペクトルパターンを組み合わせて再構成することと、を含み、前記スペクトルパターンのデータは、サンプル特性を決定するために利用され得る、前記光学計算方法。
  17. 前記データは、前記サンプルの光学密度を決定するために利用される、請求項16に記載の光学計算方法。
  18. 前記データは、前記サンプルの組成を決定するために利用される、請求項16に記載の光学計算方法。
  19. 前記光コンピューティングデバイスは、有線または穿孔アセンブリを使用して配置される、請求項16に記載の光学計算方法。
  20. 請求項9〜19のいずれか1項に記載の方法を実施するための処理回路を備えるシステム。
  21. 光コンピューティングデバイスであって:
    サンプル相互作用光を生成するためにサンプルと光学的に相互作用する電磁放射線と;
    主成分分析(「PCA」)ロードベクトルに実質的に一致するスペクトルパターンを含み、光学的に相互作用した光を生成するために前記サンプル相互作用光と光学的に相互作用する複数の統合計算要素(「ICE」)構造と;及び
    前記光学的に相互作用した光と光学的に相互作用するように配置され、それによって前記サンプルのスペクトルパターンを組み合わせて再構成する信号を生成する複数の検出器と、を含む前記光コンピューティングデバイス。
  22. 前記サンプルの前記再構成されたスペクトルパターンは、可視スペクトル領域または赤外線スペクトル領域の少なくとも1つにある、請求項21に記載の光コンピューティングデバイス。
  23. 前記サンプルの前記スペクトルパターンを生成するために前記検出器に通信可能に結合された信号プロセッサをさらに備える、請求項21に記載の光コンピューティングデバイス。
  24. 前記光コンピューティングデバイスは、有線または穿孔アセンブリの一部を形成する、請求項21に記載の光コンピューティングデバイス。
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