JP2018523016A - Plating method for plastic surface - Google Patents

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Abstract

本発明は、プラスチック表面、特にアクリロニトリル/ブタジエン/スチレンコポリマー(ABS)から構成されるプラスチック表面およびこれらのコポリマーとその他のプラスチックとの混合物(ABSブレンド)から構成されるプラスチック表面を、少なくとも1種のイオン性液体ILを含むエッチング液(組成物C)を使用して金属で被覆する方法であって、前記プラスチック表面をエッチング後に、超音波をかけながら水性リンス溶液RSで処理することを含む方法に関する。The present invention relates to plastic surfaces, in particular plastic surfaces composed of acrylonitrile / butadiene / styrene copolymers (ABS) and plastic surfaces composed of mixtures of these copolymers with other plastics (ABS blends). A method for coating a metal with an etching solution (composition C) containing an ionic liquid IL, which comprises treating the plastic surface with an aqueous rinse solution RS while applying ultrasonic waves after etching. .

Description

本発明は、プラスチック表面、特にアクリロニトリル/ブタジエン/スチレンコポリマー(ABS)から構成されるプラスチック表面およびこれらのコポリマーとその他のプラスチックとの混合物(ABSブレンド)から構成されるプラスチック表面を、少なくとも1種のイオン性液体ILを含むエッチング液(組成物C)を使用して金属で被覆する方法であって、前記プラスチック表面をエッチング後に、超音波をかけながら水性リンス溶液RSで処理することを含む方法に関する。   The present invention relates to plastic surfaces, in particular plastic surfaces composed of acrylonitrile / butadiene / styrene copolymers (ABS) and plastic surfaces composed of mixtures of these copolymers with other plastics (ABS blends). A method for coating a metal with an etching solution (composition C) containing an ionic liquid IL, which comprises treating the plastic surface with an aqueous rinse solution RS while applying ultrasonic waves after etching. .

プラスチック部品の表面の金属による被覆(プラスチックめっきとも呼ばれる)は、ますます重要性を増している。プラスチックめっき方法によって、プラスチックと金属の利点を兼ね備えた複合材料が得られる。プラスチックは、射出成形または押出のような単純な加工方法によって事実上あらゆる所望の形状に変換することができる。さらに、プラスチック構成要素の使用は、金属部品と比較して明らかな減量を実現することができる。得られたプラスチック成形品の引き続いてのめっきは、しばしば装飾目的のために、あるいは遮蔽効果を得るために実施される。   The coating of metal on the surface of plastic parts (also called plastic plating) is becoming increasingly important. By the plastic plating method, a composite material having the advantages of plastic and metal can be obtained. Plastic can be converted into virtually any desired shape by simple processing methods such as injection molding or extrusion. Furthermore, the use of plastic components can achieve a clear weight loss compared to metal parts. Subsequent plating of the resulting plastic molding is often carried out for decorative purposes or to obtain a shielding effect.

例えば、衛生器具、自動車装備品、建具金物、装身具およびボタン/ノブは、それらの部品に魅力的な外観を与えるために、全面あるいは部分的のいずれかでめっきされる。さらに、プラスチックは、機能的理由のためにめっきされることもある。例えば、電子機器のハウジングは、電磁線の放出または曝露からそれらを遮蔽するためにめっきされる。さらに、プラスチック部品の表面特性は、金属被覆を介して制御された様式で変更され得る。非常に多くの場合には、アクリロニトリル、ブタジエンおよびスチレンのコポリマー(ABSコポリマー)ならびにこれらのコポリマーとその他のポリマーとの混合物、例えばABSおよびポリカーボネートのブレンド(ABS/PCブレンド)が使用される。   For example, sanitary wares, automotive equipment, joinery hardware, jewelry and buttons / knobs are plated either in whole or in part to give the parts an attractive appearance. In addition, plastics may be plated for functional reasons. For example, electronics housings are plated to shield them from the emission or exposure of electromagnetic radiation. Furthermore, the surface properties of the plastic part can be altered in a controlled manner through the metal coating. Very often, copolymers of acrylonitrile, butadiene and styrene (ABS copolymers) and mixtures of these copolymers with other polymers, such as blends of ABS and polycarbonate (ABS / PC blends) are used.

プラスチック部品上に金属被覆を生成するために、該プラスチック部品は、通常はフレームに固定され、特定のプロセス順序において複数の異なる処理液と接触される。最初のステップにおいては、この目的のために、プラスチックは、油脂のような不純物を表面から除去するために一般的に前処理される。引き続き、通常、後の金属層が十分に固着するように表面を粗面化するためにエッチング法が使用される。エッチング作業において、プラスチック表面上に凹部形状の規定の均質構造が形成されることが、特に重要である。   In order to produce a metal coating on a plastic part, the plastic part is usually fixed to a frame and contacted with a plurality of different processing liquids in a specific process sequence. In the first step, for this purpose, the plastic is generally pretreated to remove impurities such as fats and oils from the surface. Subsequently, an etching method is usually used to roughen the surface so that the subsequent metal layer is sufficiently fixed. In the etching operation, it is particularly important that a defined homogeneous structure with a concave shape is formed on the plastic surface.

その後に、粗面化された表面は、後続の化学めっきのための触媒表面を形成するために、活性化剤と呼ばれるもので処理される。この目的のためには、しばしば、いわゆるイオノゲン活性化剤またはコロイド系のいずれかが使用されることとなる。「プラスチックめっき(Kunststoffmetallisierung)」,理論と実践のためのハンドブック「Handbuch fuer Theorie und Praxis」[「Plastic Metallization」,Handbook for Theory and Practice](Eugen G.Leuze Verlag,Saulgau,1991,第46頁〜第47頁)は、例えば、イオノゲン系による活性化のためのプラスチック表面が、最初にスズ(II)イオンで処理され、該処理および水ですすいだ後に、酸化スズ水和物のゲルの固着がもたらされることを述べている。パラジウム塩溶液での後続の処理において、スズ(II)化学種との酸化還元反応を通じて表面上にパラジウム核が形成され、これらが化学めっきのための触媒として作用する。コロイド系による活性化のためには、一般的に、塩化パラジウムと塩化スズ(II)とを過剰の塩酸の存在下で反応させることによって形成されるコロイド状パラジウム溶液が使用される(Annual Book of ASTM Standard,Vol.02.05「Metallic and Inorganic Coatings;Metal Powders,Sintered P/M Structural Parts」,Designation:B727−83,Standard Practice for Preparation of Plastic Materials for Electroplating,1995,第446頁〜第450頁)。   Thereafter, the roughened surface is treated with what is called an activator to form a catalytic surface for subsequent chemical plating. For this purpose, often so-called ionogen activators or colloidal systems will be used. “Plastic Plating (Kunststoffmetallisung)”, Handbook for theory and practice “Handbuch the Theory und Praxis” [“Plastic Metallization”, Handbook for Thel. 47)), for example, a plastic surface for activation by an ionogenic system is first treated with tin (II) ions, and after the treatment and rinsing with water, the gelation of tin oxide hydrate is brought about. It states that In subsequent treatment with a palladium salt solution, palladium nuclei are formed on the surface through redox reactions with tin (II) species, which act as catalysts for chemical plating. For activation by colloidal systems, a colloidal palladium solution formed by reacting palladium chloride and tin (II) chloride in the presence of excess hydrochloric acid is generally used (Annual Book of). ASTM Standard, Vol. 02.05 “Metallic and Inorganic Coatings; Metal Powders, Sintered P / M Structural Partners”, Designed by B727-83, Standard Practicing. ).

活性化後に、プラスチック部品は、一般的に最初に、めっき浴の準安定溶液を使用して化学めっきされる。これらの浴は、一般的に、析出されるべき金属を水溶液中の塩の形で含み、かつ該金属塩のための還元剤を含む。化学めっき浴がプラスチック表面上の金属核、例えばパラジウムシードと接触した場合にだけ、還元により金属が形成され、その金属はその表面上に固着層として析出される。化学めっきステップにおいてしばしば析出されるのは、銅、ニッケルまたはリンおよび/またはホウ素とのニッケル合金である。   After activation, plastic parts are generally first chemically plated using a metastable solution of a plating bath. These baths generally contain the metal to be deposited in the form of a salt in an aqueous solution and a reducing agent for the metal salt. Only when the chemical plating bath is in contact with a metal nucleus on the plastic surface, such as a palladium seed, a metal is formed by reduction, and the metal is deposited on the surface as a pinned layer. Often deposited during the chemical plating step is a nickel alloy with copper, nickel or phosphorus and / or boron.

そしてさらに、被覆されたプラスチック表面上に化学めっき浴を用いることで、さらなる金属層を電解析出させることが可能である。しばしば、所望の装飾用クロム層が電気化学的に適用される前に、銅層またはさらなるニッケル層が最初に電解析出される場合が当てはまる。   Furthermore, further metal layers can be electrolytically deposited by using a chemical plating bath on the coated plastic surface. Often it is the case that a copper layer or a further nickel layer is first electrodeposited before the desired decorative chromium layer is applied electrochemically.

プラスチックめっきにおける重要な方法工程は、プラスチック表面の前処理である。前処理が必要となる一つの理由は、プラスチック表面への金属の付着性を改善して、一般的にそれを実際に可能にするためである。この目的のために、プラスチック表面は粗面化され、より親水性の特性を獲得すべきである。この関連において、プラスチック表面上に凹部形状の規定の均質構造が形成されることが、特に重要である。これらの凹部は、後のめっき工程で、金属核の成長のための出発点として働く。   An important process step in plastic plating is pretreatment of the plastic surface. One reason that pre-treatment is necessary is to improve the adhesion of the metal to the plastic surface and generally make it possible. For this purpose, the plastic surface should be roughened to obtain more hydrophilic properties. In this connection, it is particularly important that a defined homogeneous structure of a concave shape is formed on the plastic surface. These recesses serve as starting points for the growth of metal nuclei in later plating processes.

粗面化は、もっと以前の段階では機械的方法によっても行われていたので、プラスチック表面の化学薬品による膨潤およびエッチングは、この目的のために近頃になって定着してきた。最も一般的に使用されるエッチング剤は、特にABS(アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンコポリマー)またはポリカーボネートのための、クロム−硫酸エッチング剤(硫酸中の三酸化クロム)である。クロム−硫酸エッチング剤は、非常に毒性が強く、プロセスの進行、後処理および廃棄において特別な対策を必要とする。エッチングプロセスにおける化学的過程、例えば使用されるクロム化合物の還元のため、クロム−硫酸エッチング剤は、使い切りであり、一般的に再利用されない。   Since roughening has also been performed by mechanical methods in earlier stages, chemical swelling and etching of plastic surfaces has recently become established for this purpose. The most commonly used etchant is a chromium-sulfuric acid etchant (chromium trioxide in sulfuric acid), especially for ABS (acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer) or polycarbonate. Chromium-sulfuric acid etchants are very toxic and require special measures in process progression, post-treatment and disposal. Due to chemical processes in the etching process, such as reduction of the chromium compounds used, the chromium-sulfuric acid etchants are used up and are not generally reused.

プラスチック表面のクロム含有エッチング液を用いた化学めっきのための方法は、例えば独国特許出願公開第10054544号公報に記載されている。
さらに知られていることは、めっきに関連したプラスチック表面の前処理(エッチング)のためにイオン性液体を使用することである。国際公開第2010/142567号は、プラスチックを金属で被覆するための方法であって、該プラスチックが、1barで100℃未満の融点を有する少なくとも1種の塩(イオン性液体)を含む組成物で前処理される方法を記載している。様々な熱可塑性樹脂、例えばポリアミド、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリエーテル、ポリスチレンおよびスチレンのコポリマー、例えばアクリロニトリル/ブタジエン/スチレンコポリマー(ABS)の前処理が記載されている。
A method for chemical plating using a chromium-containing etching solution on a plastic surface is described in, for example, German Patent Application Publication No. 10054544.
Further known is the use of ionic liquids for the pretreatment (etching) of plastic surfaces in connection with plating. WO 2010/142567 is a method for coating a plastic with a metal, wherein the plastic comprises at least one salt (ionic liquid) having a melting point of less than 100 ° C. at 1 bar. Describes the preprocessed method. The pretreatment of various thermoplastic resins such as polyamides, polyolefins, polyesters, polyethers, polystyrene and styrene copolymers such as acrylonitrile / butadiene / styrene copolymer (ABS) has been described.

イオン性液体は、1940年代の終わりから知られている。イオン性液体は、100℃未満、好ましくは室温(25℃、1bar)で、特に室温を下回る温度で液状である流体溶融塩である。イオン性液体は、非分子性でイオン性の特徴を有する新たな部類の溶媒である。   Ionic liquids have been known since the end of the 1940s. The ionic liquid is a fluid molten salt that is liquid at temperatures below 100 ° C., preferably at room temperature (25 ° C., 1 bar), especially below room temperature. Ionic liquids are a new class of solvents that are non-molecular and have ionic characteristics.

イオン性液体をもたらす典型的なカチオン/アニオンの組み合わせは、例えば、ジアルキルイミダゾリウムカチオン、ピリジニウムカチオン、アンモニウムカチオンおよびホスホニウムカチオンと、ハロゲン化物アニオン、テトラフルオロホウ酸アニオン、メチル硫酸アニオンとの組み合わせである。さらに、低融点塩をもたらす多くのさらに考えられるカチオンとアニオンの組み合わせが存在する。   Typical cation / anion combinations resulting in ionic liquids are, for example, combinations of dialkylimidazolium, pyridinium, ammonium and phosphonium cations with halide anions, tetrafluoroborate anions, methylsulfate anions . In addition, there are many more possible cation and anion combinations that result in low melting salts.

多種多様な異なる技術分野でイオン性液体が使用されることが知られている。ポリマーとの関連では、帯電防止剤または可塑剤としてのイオン性液体の使用が、先行技術において、例えば国際公開第2004/005391号、国際公開第2007/090755号および国際公開第2008/006422号において記載されている。独国特許出願公開第102009003011号公報の文献は、ポリマー用の接着剤としてのイオン性液体の使用を開示している。   It is known that ionic liquids are used in a wide variety of different technical fields. In the context of polymers, the use of ionic liquids as antistatic agents or plasticizers has been described in the prior art, for example in WO 2004/005391, WO 2007/090755 and WO 2008/006422. Have been described. The document DE 102009003011 discloses the use of ionic liquids as adhesives for polymers.

本発明の課題は、プラスチック表面を金属で被覆するための改善された方法であって、プラスチック部品の前処理においてイオン性液体が使用される方法を提供することである。これまでの慣例的であった毒性があり不利なクロム含有エッチング液の使用を省くことが可能である。被覆法における一つの改善点は、第一に、金属層表面での改善された強度/付着性および金属層表面の性質にあり、さらにエッチング液のより低い連行(取り込み)のようなプロセス技術的観点からの改善にもある。該プロセスは、非常に簡単にかつ費用をかけずに実行可能であるべきであり、かつ該エッチング液の回収および/またはリサイクルは、非常に効率的に実行可能であるべきである。   The object of the present invention is to provide an improved method for coating plastic surfaces with metal, wherein an ionic liquid is used in the pretreatment of plastic parts. It is possible to eliminate the use of toxic and disadvantageous chromium-containing etchants that have been conventional. One improvement in the coating process is firstly the improved strength / adhesion on the surface of the metal layer and the nature of the surface of the metal layer, as well as process engineering such as lower entrainment of the etchant. There is also improvement from the viewpoint. The process should be very simple and inexpensive to perform, and the recovery and / or recycling of the etchant should be very efficient.

驚くべきことに、プラスチック表面を少なくとも1種のイオン性液体を含むエッチング液で処理した後に超音波を使用したすすぎ工程により、改善された金属被覆を達成することができることが判明した。本発明の水性すすぎ溶液による超音波すすぎ工程は、均質で光沢のある、欠陥不含でかつ非常によい付着性を示す金属表面を与えることができる。より具体的には、本発明の方法によって、化学的に析出されたニッケル、銅、ニッケル、クロムの層順序を有する有利な金属被覆を得ることが可能である。   Surprisingly, it has been found that an improved metal coating can be achieved by a rinsing process using ultrasound after treating the plastic surface with an etchant containing at least one ionic liquid. The ultrasonic rinsing process with the aqueous rinsing solution of the present invention can provide a metal surface that is homogeneous, glossy, defect free and exhibits very good adhesion. More specifically, the process according to the invention makes it possible to obtain advantageous metal coatings having a layer sequence of chemically deposited nickel, copper, nickel, chromium.

本発明は、プラスチック表面、特にプラスチック成形品を金属で被覆するための方法であって、
a)プラスチック表面、特にプラスチック成形品を、少なくとも1種のイオン性液体ILを含有する組成物C(エッチング液)で前処理する工程、
b)工程a)からのプラスチック表面、特にプラスチック成形品を、超音波をかけながら水性すすぎ溶液RSで処理する工程、
c)工程b)からのプラスチック表面、特にプラスチック成形品を、少なくとも1種のイオノゲン活性化剤および/またはコロイド状活性化剤、特に少なくとも1種のパラジウム成分P、好ましくは少なくとも1種のコロイド状パラジウム成分Pを含む活性化剤組成物Aで処理する工程、
d)工程c)からのプラスチック表面、特にプラスチック成形品を、酸および/または還元剤を含む促進剤組成物Bで処理する工程、
e)工程d)からの表面を、少なくとも1種の金属塩、好ましくはニッケル塩、銅塩およびクロム塩から選択される少なくとも1種の金属塩および少なくとも1種の還元剤、好ましくはインサイチュー還元剤を含む被覆組成物M1で処理することによって、金属層、好ましくは本質的にニッケル、銅、クロムまたはそれらの合金からなる金属層を化学的に析出させる工程、
f)工程e)からの表面、特にプラスチック成形品を、少なくとも1種の金属化合物、特に少なくとも1種の金属塩、好ましくは少なくとも1種の銅塩、クロム塩および/またはクロム酸を含む少なくとも1種の被覆組成物M’で電気化学的に処理することによって、工程e)からの表面、特にプラスチック成形品を、少なくとも1つのさらなる金属層、好ましくは本質的に銅からなる金属層および/または本質的にクロムからなる金属層で電気化学的に被覆する工程
を含む方法に関する。
The present invention is a method for coating a plastic surface, in particular a plastic molding, with a metal,
a) pretreating a plastic surface, in particular a plastic molded article, with a composition C (etching liquid) containing at least one ionic liquid IL;
b) treating the plastic surface from step a), in particular a plastic molding, with an aqueous rinse solution RS while applying ultrasound;
c) The plastic surface from step b), in particular a plastic molding, is subjected to at least one ionogen activator and / or colloidal activator, in particular at least one palladium component P, preferably at least one colloidal. Treating with activator composition A comprising palladium component P;
d) treating the plastic surface from step c), in particular a plastic molding, with an accelerator composition B comprising an acid and / or a reducing agent;
e) The surface from step d) is subjected to at least one metal salt, preferably at least one metal salt selected from nickel, copper and chromium salts and at least one reducing agent, preferably in situ reduction. Chemically depositing a metal layer, preferably a metal layer consisting essentially of nickel, copper, chromium or an alloy thereof, by treatment with a coating composition M1 containing an agent;
f) The surface from step e), in particular the plastic molding, is at least one comprising at least one metal compound, in particular at least one metal salt, preferably at least one copper salt, chromium salt and / or chromic acid. By electrochemical treatment with the seed coating composition M ′, the surface from step e), in particular the plastic molding, is treated with at least one further metal layer, preferably a metal layer consisting essentially of copper and / or It relates to a method comprising the step of electrochemically coating with a metal layer consisting essentially of chromium.

イオン性液体の公知の使用と比較して、被覆成果におけるさらなる歴然とした改善、例えばプラスチック表面上の後続の金属層のより良好な付着性を達成することが可能である。超音波すすぎ工程は、部分的に溶解されたプラスチック粒子をその表面から特に有利に剥離することができ、こうしてより均質な表面構造化および改善された後続の金属被覆がもたらされることが判明した。   Compared to the known use of ionic liquids, it is possible to achieve a further noticeable improvement in the coating results, for example better adhesion of the subsequent metal layer on the plastic surface. It has been found that the ultrasonic rinsing process can particularly advantageously exfoliate partially dissolved plastic particles from its surface, thus resulting in a more homogeneous surface structuring and an improved subsequent metal coating.

イオン性液体の標準的な定義は、イオン性液体と既知の溶融塩とを、100℃未満、好ましくは80℃未満、またはさらに室温未満の融点によって区別している。本出願の文脈では、イオン性液体とは、純粋な状態で1barにおいて100℃未満の融点を有するこれらの塩を意味すると理解されるものとする。   The standard definition of ionic liquids distinguishes ionic liquids from known molten salts by melting points below 100 ° C, preferably below 80 ° C, or even below room temperature. In the context of the present application, ionic liquids shall be understood to mean those salts which have a melting point of less than 100 ° C. at 1 bar in the pure state.

従来の水でのすすぎ工程と比較して、より均質でかつより良好な付着性を有する金属被覆が得られることが、本発明の方法の一つの特徴である。好ましくは、あらゆる金属層、特に化学的に析出されたニッケル、銅、ニッケルおよびクロムの層順序の金属層が、有利な特性を有する。さらに、すすぎ工程における水の消費量を減らすことができる。   It is a feature of the method of the present invention that a more uniform and better adherence metal coating is obtained compared to a conventional water rinsing step. Preferably, any metal layer, in particular a metal layer in the layer sequence of nickel, copper, nickel and chromium, which is chemically deposited, has advantageous properties. Furthermore, water consumption in the rinsing process can be reduced.

さらに有利には、本発明の方法においては、プラスチック表面は、金属塩を用いずにエッチングされ、毒性があり不利なクロム含有エッチング液の使用を省くことが可能である。   More advantageously, in the method according to the invention, the plastic surface is etched without the use of metal salts, and it is possible to dispense with the use of toxic and disadvantageous chromium-containing etchants.

比較例C1により得られたABS(アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン)表面(上方の図)と、本発明の実施例I1により得られたABS(アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン)表面(下方の図)である。It is the ABS (acrylonitrile / butadiene / styrene) surface (upper figure) obtained by Comparative Example C1, and the ABS (acrylonitrile / butadiene / styrene) surface (lower figure) obtained by Example I1 of the present invention. 本発明による工程a)及び工程b)の可能な構成である。This is a possible configuration of steps a) and b) according to the invention.

プラスチックおよび金属
本発明の文脈においては、成形品またはプラスチック成形品とは、一次成形法から作製された物品、例えば一次成形法、例えば注型、ダイカスト、射出成形、押出ブロー成形、押出成形、焼結と、任意に後続の成形法によって作製された本質的にプラスチックからなる物品を指す。この成形品は、特に加工品および半完成品、例えば成形された加工品、射出成形された加工品、フィルムまたはフォイルを含む。
Plastics and metals In the context of the present invention, molded articles or plastic molded articles are articles made from primary molding processes, such as primary molding processes such as casting, die casting, injection molding, extrusion blow molding, extrusion molding, firing. Conclusion and optionally an article made of essentially plastic made by a subsequent molding process. This molded product includes in particular processed products and semi-finished products, such as molded processed products, injection molded processed products, films or foils.

本発明の方法においては、プラスチック、特に非導電性表面を有するプラスチックは、複数の工程で、金属で被覆される。該プラスチックは、好ましくは熱可塑性樹脂である。熱可塑性樹脂は、溶融させ、種々の方法によって、例えば射出成形、押出成形、熱成形またはブロー成形によって所望の形状に変換することができる。   In the method according to the invention, plastics, in particular plastics with a non-conductive surface, are coated with metal in several steps. The plastic is preferably a thermoplastic resin. The thermoplastic resin can be melted and converted into the desired shape by various methods, for example, by injection molding, extrusion molding, thermoforming or blow molding.

適切な熱可塑性樹脂には、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリエーテル、ポリアセタール、特にポリオキシメチレン、ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリアクリレート、ポリスチレンまたはスチレンのコポリマー、特にスチレン/アクリロニトリルコポリマー(SAN)、アクリルエステル/スチレン/アクリロニトリルコポリマー(ASA)およびアクリロニトリル/ブタジエン/スチレンコポリマー(ABS)が含まれる。   Suitable thermoplastic resins include polyamides, polyolefins, polyesters, polyethers, polyacetals, especially polyoxymethylene, polycarbonates, polyurethanes, polyacrylates, polystyrene or styrene copolymers, especially styrene / acrylonitrile copolymers (SAN), acrylic esters / styrene. / Acrylonitrile copolymer (ASA) and acrylonitrile / butadiene / styrene copolymer (ABS).

ポリアミドには、アミノカルボン酸、例えば6−アミノカルボン酸もしくはε−カプロラクタムの重縮合物、またはジアミノ化合物およびジカルボン酸、例えばヘキサン−1,6−ジアミンおよびアジピン酸の重縮合物が含まれる。   Polyamides include polycondensates of aminocarboxylic acids such as 6-aminocarboxylic acid or ε-caprolactam, or polycondensates of diamino compounds and dicarboxylic acids such as hexane-1,6-diamine and adipic acid.

適切なポリオレフィンは、ポリエチレン、ポリプロピレンおよびエチレンまたはプロピレンのコポリマーである。   Suitable polyolefins are polyethylene, polypropylene and copolymers of ethylene or propylene.

適切なポリエステルは、多価アルコール、例えばブタンジオール、ヘキサンジオール、グリセロールまたはトリメチロールプロパンおよび多塩基カルボン酸、特にフタル酸およびその異性体、アジピン酸またはトリメリト酸無水物の重縮合生成物である。   Suitable polyesters are polycondensation products of polyhydric alcohols such as butanediol, hexanediol, glycerol or trimethylolpropane and polybasic carboxylic acids, in particular phthalic acid and its isomers, adipic acid or trimellitic anhydride.

1つの具体的なポリアセタールは、ポリオキシメチレン(POM)である。   One specific polyacetal is polyoxymethylene (POM).

ポリカーボネートは、カルボン酸および多価アルコール、例えばビスフェノールAのエステルであり、また構成成分としてさらなる多塩基カルボン酸を含むポリエステルカーボネートも挙げられる。   Polycarbonates are esters of carboxylic acids and polyhydric alcohols, such as bisphenol A, and also include polyester carbonates that contain additional polybasic carboxylic acids as constituents.

一般的に、ポリエーテルは、反復エーテル基を含む。特に工業的に重要なものは、例えば、特に反復エーテル基を介して結合された芳香族環系およびイミド基を含むポリエーテルイミド、特に反復エーテルによって結合されたフェニレン基およびケトン基を含むポリエーテルケトン、ポリマー骨格中にエーテル基およびチオエーテル基を含むポリエーテルスルフィド、ならびにポリマー主鎖中に反復エーテル基およびスルホン基を含むポリエーテルスルホンである。   Generally, polyethers contain repeating ether groups. Of particular industrial importance are, for example, polyetherimides containing aromatic ring systems and imide groups, especially linked via repeating ether groups, in particular polyethers containing phenylene and ketone groups linked by repeating ethers. Ketones, polyether sulfides containing ether and thioether groups in the polymer backbone, and polyether sulfones containing repeating ether and sulfone groups in the polymer backbone.

ポリウレタンは、多官能性イソシアネートおよび多価アルコールから形成される典型的な重付加物であり、有用な例は、脂肪族化合物と芳香族化合物の両方である。ポリアクリレートは、アクリル酸モノマーまたはメタクリル酸モノマーのホモポリマーまたはコポリマーであり、1つの具体的な例は、ポリメチルメタクリレート(PMMA)である。   Polyurethanes are typical polyadducts formed from polyfunctional isocyanates and polyhydric alcohols, and useful examples are both aliphatic and aromatic compounds. The polyacrylate is a homopolymer or copolymer of acrylic acid or methacrylic acid monomers, one specific example being polymethyl methacrylate (PMMA).

プラスチックが炭素繊維強化エポキシ樹脂を含む(または炭素繊維強化エポキシ樹脂からなる)本発明の方法を実施することも可能である。炭素繊維強化エポキシ樹脂は、通常知られており、一般的に10容量%〜90容量%の、好ましくは約50容量%〜70容量%の強化炭素繊維を含む。適切なエポキシ樹脂は、ヒドロキシル基を有する化合物、例えばビスフェノールと、エポキシ化合物、例えばエピクロロヒドリンとの反応によって得られるポリエーテルである。一般的に、エポキシ樹脂は、硬化剤、例えばアミン、酸、酸無水物、チオールとの反応によって硬化させることができる。   It is also possible to carry out the method of the invention where the plastic comprises a carbon fiber reinforced epoxy resin (or consists of a carbon fiber reinforced epoxy resin). Carbon fiber reinforced epoxy resins are generally known and generally contain 10% to 90% by volume, preferably about 50% to 70% by volume, of reinforced carbon fibers. Suitable epoxy resins are polyethers obtained by reaction of compounds having hydroxyl groups, such as bisphenol, with epoxy compounds, such as epichlorohydrin. In general, epoxy resins can be cured by reaction with curing agents such as amines, acids, acid anhydrides, and thiols.

好ましいポリマーは、スチレンのホモポリマーおよびコポリマー、例えばポリスチレン、スチレン/アクリロニトリルコポリマーおよび特にアクリロニトリル/ブタジエン/スチレンコポリマー(ABS)である。   Preferred polymers are styrene homopolymers and copolymers such as polystyrene, styrene / acrylonitrile copolymers and especially acrylonitrile / butadiene / styrene copolymers (ABS).

好ましい一実施形態は、前記の本発明の方法であって、前記プラスチック表面が、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリエーテル、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリアクリレート、ポリスチレンまたはスチレン/アクリロニトリルコポリマー(SAN)、アクリルエステル/スチレン/アクリロニトリルコポリマー(ASA)およびアクリロニトリル/ブタジエン/スチレンコポリマー(ABS)から選択されるスチレンのコポリマーからなる表面またはそれらを含む表面である方法に関する。被覆されるプラスチックは、上述のプラスチックの2種以上からなるブレンド、および/または上述のプラスチックの2種以上からなるプラスチック部品(2成分形プラスチック)を含んでもよい。   A preferred embodiment is the method of the present invention, wherein the plastic surface is polyamide, polyolefin, polyester, polyether, polyacetal, polycarbonate, polyurethane, polyacrylate, polystyrene or styrene / acrylonitrile copolymer (SAN), acrylic. It relates to a process which is a surface comprising or comprising a copolymer of styrene selected from ester / styrene / acrylonitrile copolymers (ASA) and acrylonitrile / butadiene / styrene copolymers (ABS). The plastic to be coated may comprise a blend of two or more of the above-mentioned plastics and / or a plastic part (two-component plastic) of two or more of the above-mentioned plastics.

さらなる好ましい一実施形態は、前記の本発明の方法であって、前記プラスチックが、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリエーテル、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリアクリレート、ポリスチレンまたはスチレン/アクリロニトリルコポリマー(SAN)、アクリルエステル/スチレン/アクリロニトリルコポリマー(ASA)、アクリロニトリル/ブタジエン/スチレンコポリマー(ABS)から選択されるスチレンのコポリマーおよび炭素繊維強化エポキシ樹脂から選択されるプラスチックの1種以上を含む(または該プラスチックの1種以上からなる)方法に関する。   A further preferred embodiment is the method of the invention as described above, wherein the plastic is a polyamide, polyolefin, polyester, polyether, polyacetal, polycarbonate, polyurethane, polyacrylate, polystyrene or styrene / acrylonitrile copolymer (SAN), acrylic. Comprising (or one or more plastics selected from ester / styrene / acrylonitrile copolymers (ASA), copolymers of styrene selected from acrylonitrile / butadiene / styrene copolymers (ABS) and carbon fiber reinforced epoxy resins (Consisting of the above).

好ましい一実施形態は、前記の本発明の方法であって、前記プラスチック表面が、ポリアミド、ポリスチレンもしくはスチレン/アクリロニトリルコポリマー(SAN)、アクリルエステル/スチレン/アクリロニトリルコポリマー(ASA)およびアクリロニトリル/ブタジエン/スチレンコポリマー(ABS)から選択されるスチレンのコポリマー、または上述のプラスチックの少なくとも1種、好ましくは少なくとも2種を含むブレンドおよび/もしくは多成分プラスチックからなる表面またはそれらを含む表面である方法に関する。   One preferred embodiment is the method of the present invention as described above, wherein the plastic surface is polyamide, polystyrene or styrene / acrylonitrile copolymer (SAN), acrylic ester / styrene / acrylonitrile copolymer (ASA) and acrylonitrile / butadiene / styrene copolymer. It relates to a process which is a surface comprising a copolymer of styrene selected from (ABS) or a blend and / or a multicomponent plastic comprising at least one, preferably at least two of the above-mentioned plastics.

特に好ましいプラスチックは、ポリアミドおよびABSである。最も好ましくは、該プラスチックは、アクリロニトリル/ブタジエン/スチレンコポリマー(ABS)もしくはブレンド、例えばABS/PC(アクリロニトリル/ブタジエン/スチレンコポリマーおよびポリカーボネート)および/またはABSを含む多成分プラスチックを含む。ABSは、例えばStyrolution社によりTerluran(登録商標)という商品名で供給されている。   Particularly preferred plastics are polyamide and ABS. Most preferably, the plastic comprises a multicomponent plastic comprising acrylonitrile / butadiene / styrene copolymer (ABS) or blend, such as ABS / PC (acrylonitrile / butadiene / styrene copolymer and polycarbonate) and / or ABS. ABS is supplied, for example, under the trade name Terluran (registered trademark) by Styrolution.

被覆される物品は、その全体が前記プラスチックの1種以上からなっていてよい。この種の物品は、任意の所望の形状を有してよく、かつ例えば熱可塑性成形法、例えば射出成形、押出成形、熱成形およびブロー成形によって得ることができる。あるいは該物品は、種々の材料からなっていてもよい。必須であるのは、被覆される表面がプラスチックからなることである。   The article to be coated may consist entirely of one or more of the plastics. Such articles may have any desired shape and can be obtained, for example, by thermoplastic molding methods such as injection molding, extrusion molding, thermoforming and blow molding. Alternatively, the article may be made of various materials. It is essential that the surface to be coated is made of plastic.

本発明の方法においては、前記プラスチックまたはプラスチック表面は、金属で被覆される。有用な金属は、特に、ニッケル、アルミニウム、銅、クロム、スズまたは亜鉛およびそれらの合金である。該金属は、1つの層もしくは操作で、または好ましくは1つより多くの層もしくは操作で適用され得る。好ましくは、異なる複数の金属の層、特に少なくとも3種の異なる金属層を適用することが可能である。   In the method of the invention, the plastic or plastic surface is coated with metal. Useful metals are in particular nickel, aluminum, copper, chromium, tin or zinc and their alloys. The metal can be applied in one layer or operation, or preferably in more than one layer or operation. Preferably, it is possible to apply different metal layers, in particular at least three different metal layers.

好ましい一実施形態は、前記の本発明の方法であって、金属が、ニッケル、アルミニウム、銅、クロム、スズ、亜鉛およびそれらの合金から選択される少なくとも1種の金属を含む方法に関する。   A preferred embodiment relates to the method of the invention as described above, wherein the metal comprises at least one metal selected from nickel, aluminum, copper, chromium, tin, zinc and alloys thereof.

イオン性液体IL
本発明の方法で使用される組成物Cは、1barで100℃未満の融点を有する少なくとも1種の塩(以下、イオン性液体ILと呼ぶ)を含む。
Ionic liquid IL
Composition C used in the method of the invention comprises at least one salt (hereinafter referred to as ionic liquid IL) having a melting point of less than 100 ° C. at 1 bar.

好ましくは、該イオン性液体ILは、それぞれの場合に1bar(標準条件)において、100℃未満、より好ましくは85℃未満、最も好ましくは60℃未満の融点を有する。   Preferably, the ionic liquid IL has a melting point of less than 100 ° C., more preferably less than 85 ° C., most preferably less than 60 ° C. in each case at 1 bar (standard conditions).

イオン性液体ILのモル質量は、好ましくは、2000g/mol未満、より好ましくは1500g/mol未満、より好ましくは1000g/mol未満、最も好ましくは750g/mol未満であり、具体的な一実施形態においては、そのモル質量は、100g/molから750g/molの間、または100g/molから500g/molの間である。   The molar mass of the ionic liquid IL is preferably less than 2000 g / mol, more preferably less than 1500 g / mol, more preferably less than 1000 g / mol, most preferably less than 750 g / mol, and in one specific embodiment Has a molar mass between 100 g / mol and 750 g / mol, or between 100 g / mol and 500 g / mol.

好ましいイオン性液体ILは、カチオンとして少なくとも1種の有機化合物を含み、最も好ましくは、該イオン性液体ILは、カチオンとして有機化合物のみを含む。適切な有機カチオンは、特に、ヘテロ原子、例えば窒素、硫黄またはリンを有する有機化合物であり、特に好ましいのは、アンモニウム基、スルホニウム基およびホスホニウム基から選択されるカチオン性基を有する有機化合物である。該イオン性液体ILは、特に、一般式[A]n +[X]n-の塩を含んでよく、その式中、nは、1、2、3または4であり、[A]+は、アンモニウムカチオン、スルホニウムカチオンまたはホスホニウムカチオンであり、かつ[X]n-は、一価アニオン、二価アニオン、三価アニオンまたは四価アニオンである。 Preferred ionic liquids IL include at least one organic compound as a cation, and most preferably, the ionic liquid IL includes only an organic compound as a cation. Suitable organic cations are in particular organic compounds having heteroatoms such as nitrogen, sulfur or phosphorus, particularly preferred are organic compounds having a cationic group selected from ammonium, sulfonium and phosphonium groups. . The ionic liquid IL may in particular comprise a salt of the general formula [A] n + [X] n- , where n is 1, 2, 3 or 4 and [A] + is , Ammonium cation, sulfonium cation or phosphonium cation, and [X] n− is a monovalent anion, a divalent anion, a trivalent anion or a tetravalent anion.

該イオン性液体ILはまた、少なくとも2種の異なる有機カチオン[A]+を含む混合塩または少なくとも1種の有機カチオン[A]+および1種または2種の異なる一価、二価、三価または四価の金属カチオン[M]n+を含む混合塩も含み得る。 The ionic liquid IL is also a mixed salt comprising at least two different organic cations [A] + or at least one organic cation [A] + and one or two different monovalent, divalent, trivalent. Alternatively, a mixed salt containing a tetravalent metal cation [M] n + may also be included.

好ましい一実施形態においては、前記少なくとも1種のイオン性液体ILは、イミダゾリウムカチオン、ピリジニウムカチオン、ピラゾリウムカチオンおよびアルキルアンモニウムカチオンから選択されるカチオンを有する少なくとも1種の塩である。   In a preferred embodiment, the at least one ionic liquid IL is at least one salt having a cation selected from an imidazolium cation, a pyridinium cation, a pyrazolium cation and an alkylammonium cation.

好ましい一実施形態においては、前記イオン性液体ILは、少なくとも1種の第一のイオン性液体IL1および少なくとも1種の第二のイオン性液体IL2の組み合わせであって、前記第一のイオン性液体IL1が、カチオンとして少なくとも1個のアルキルアンモニウムカチオンを含み、かつ前記第二のイオン性液体IL2が、カチオンとして非局在化カチオン電荷を有するとともに、少なくとも1個の窒素原子を含む少なくとも1個の芳香族複素環を含む、当該組み合わせである。好ましくは、前記組成物は、少なくとも2種の異なるイオン性液体IL1およびIL2を、1から20までの範囲の、好ましくは1.5から10までの範囲の、より好ましくは2から6までの範囲の、特に好ましくは3から5までの範囲の、例えば4の、IL1のIL2に対する質量比の値で含む。   In a preferred embodiment, the ionic liquid IL is a combination of at least one first ionic liquid IL1 and at least one second ionic liquid IL2, and includes the first ionic liquid IL1. IL1 includes at least one alkylammonium cation as a cation, and the second ionic liquid IL2 has a delocalized cation charge as a cation and at least one nitrogen atom including at least one nitrogen atom. This combination includes an aromatic heterocycle. Preferably, the composition comprises at least two different ionic liquids IL1 and IL2 in the range of 1 to 20, preferably in the range of 1.5 to 10, more preferably in the range of 2 to 6. Particularly preferably in the range of 3 to 5, for example 4, with a mass ratio value of IL1 to IL2.

好ましくは、前記組成物は、少なくとも2種の異なるイオン性液体IL1およびIL2を、1から20までの範囲の、好ましくは3から18までの範囲の、より好ましくは5から20までの範囲の、特に好ましくは7から15までの範囲の、例えば7.5または15の、IL1のIL2に対する質量比の値で含む。   Preferably, the composition comprises at least two different ionic liquids IL1 and IL2 in the range of 1 to 20, preferably in the range of 3 to 18, more preferably in the range of 5 to 20. Particularly preferred is a mass ratio value of IL1 to IL2 in the range 7 to 15, for example 7.5 or 15.

好ましくは、前記イオン性液体IL、特にイオン性液体IL1は、カチオンとして、少なくとも1個の、好ましくはちょうど1個のアルキルアンモニウムカチオンを含む。本発明の文脈においては、アルキルアンモニウムカチオンは、少なくとも1個のC1〜C20−アルキル基、好ましくはC1〜C18−アルキル基を有し、かつ窒素原子上に局在化された正電荷を有するアンモニウム化合物を意味するものと理解される。該化合物は、四価の窒素を有する化合物(第四級アンモニウム化合物)であってよく、または三価窒素を有し、1個の結合が二重結合である化合物であってよい。好ましくは、イオン性液体IL1のアルキルアンモニウムカチオンは、非芳香族化合物である。 Preferably, said ionic liquid IL, in particular ionic liquid IL1, comprises at least one, preferably just one, alkylammonium cation as a cation. In the context of the present invention, the alkyl ammonium cation, at least one C 1 -C 20 - alkyl group, preferably a C 1 -C 18 - having an alkyl group, and localized on the nitrogen atom positive It is understood to mean an ammonium compound having a charge. The compound may be a compound having a tetravalent nitrogen (a quaternary ammonium compound) or a compound having a trivalent nitrogen and one bond being a double bond. Preferably, the alkyl ammonium cation of the ionic liquid IL1 is a non-aromatic compound.

有用な環系には、単環式、二環式、非芳香族性の環系が含まれる。例としては、国際公開第2008/043837号に記載される二環式系が挙げられる。国際公開第2008/043837号の二環式系は、ジアザビシクロ誘導体、好ましくは1個の7員環および1個の6員環から構成されて1個のアミジニウム基を有するジアザビシクロ誘導体であり、具体的な一例は、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウムカチオンである。   Useful ring systems include monocyclic, bicyclic, non-aromatic ring systems. Examples include the bicyclic system described in WO 2008/043837. The bicyclic system of WO 2008/043837 is a diazabicyclo derivative, preferably a diazabicyclo derivative composed of one 7-membered ring and one 6-membered ring and having one amidinium group, An example is the 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-enium cation.

好ましくは、前記イオン性液体IL、特にイオン性液体IL1は、単独のカチオンとして、ちょうど1個のアルキルアンモニウムカチオンを含む。あるいはまた前記イオン性液体ILは、少なくとも1個のアルキルアンモニウムカチオンならびに少なくとも1個のさらなる有機カチオン[A]+および/または少なくとも1個のさらなる金属カチオン[M]n+を含む混合塩であってよい。特に好ましい有機カチオンは、窒素原子上の置換基として、好ましくは4個のC1〜C12−アルキル基を有する第四級アンモニウムカチオンである。 Preferably, the ionic liquid IL, in particular the ionic liquid IL1, contains exactly one alkyl ammonium cation as the sole cation. Alternatively, the ionic liquid IL may be a mixed salt comprising at least one alkylammonium cation and at least one further organic cation [A] + and / or at least one further metal cation [M] n +. . Particularly preferred organic cations are quaternary ammonium cations which preferably have four C 1 -C 12 -alkyl groups as substituents on the nitrogen atom.

好ましいのは、カチオンとして、少なくとも1個の、好ましくはちょうど1個のアルキルアンモニウムカチオンを含む、一般式(I):

Figure 2018523016
[式中、
Rは、1個〜20個の、好ましくは1個〜18個の、より好ましくは1個〜12個の、特に好ましくは1個〜6個の炭素原子を含む有機基であり、ここで、前記有機基は、飽和または不飽和の非環式または環式の脂肪族基であり、該脂肪族基は、非置換であっても、または1個〜5個のヘテロ原子もしくは官能基によって中断もしくは置換されていてよく、
1、R2およびR3は、それぞれ独立して、
水素、
ハロゲン、特にフッ素、塩素、臭素およびヨウ素、好ましくは塩素、
1〜C18−アルキル基であって、任意にC1〜C6−アルキル、C1〜C6−アルキルオキシ、C1〜C6−アルコキシカルボニル、ヒドロキシル、ハロゲン、アミノ、シアノおよびスルホから選択される官能基によって置換されていてよく、かつ/または1個以上の酸素原子および/もしくは硫黄原子および/もしくは1個以上の置換もしくは非置換のイミノ基によって中断されていてよいアルキル基、
2〜C18−アルケニル基であって、任意にC1〜C6−アルキル、C1〜C6−アルキルオキシ、C1〜C6−アルコキシカルボニル、ヒドロキシル、ハロゲン、アミノ、シアノおよびスルホから選択される官能基によって置換されていてよく、かつ/または1個以上の酸素原子および/もしくは硫黄原子および/もしくは1個以上の置換もしくは非置換のイミノ基によって中断されていてよいアルケニル基、
5〜C12−シクロアルキル基であって、任意にC1〜C6−アルキル、C1〜C6−アルキルオキシ、C1〜C6−アルコキシカルボニル、ヒドロキシル、ハロゲン、アミノ、シアノおよびスルホから選択される官能基によって置換されていてよいシクロアルキル基、
5〜C12−シクロアルケニル基であって、任意にC1〜C6−アルキル、C1〜C6−アルキルオキシ、C1〜C6−アルコキシカルボニル、ヒドロキシル、ハロゲン、アミノ、シアノおよびスルホから選択される官能基によって置換されていてよいシクロアルケニル基、あるいは
5員ないし6員の複素環であって、酸素原子、窒素原子および/または硫黄原子を含み、かつ任意にC1〜C6−アルキル、C1〜C6−アルキルオキシ、C1〜C6−アルコキシカルボニル、ヒドロキシル、ハロゲン、アミノ、シアノおよびスルホから選択される官能基によって置換されていてよい複素環
であるか、あるいは2個の隣接するR1基、R2基およびR3基は、式(I)中の窒素原子と一緒になって、不飽和または飽和の5員ないし7員の環であって、任意にC1〜C6−アルキル、C1〜C6−アルキルオキシ、C1〜C6−アルコキシカルボニル、ヒドロキシル、ハロゲン、アミノ、シアノおよびスルホから選択される官能基によって置換されていてよく、かつ1個以上の酸素原子および/もしくは硫黄原子および/もしくは1個以上の置換もしくは非置換のイミノ基によって中断されていてよい環であり、
Xは、アニオンであり、かつ
nは、1、2または3である]のイオン性液体ILである。 Preference is given to general formula (I) comprising at least one, preferably just one alkylammonium cation as cation:
Figure 2018523016
[Where:
R is an organic group containing 1 to 20, preferably 1 to 18, more preferably 1 to 12, particularly preferably 1 to 6 carbon atoms, wherein The organic group is a saturated or unsaturated acyclic or cyclic aliphatic group, which may be unsubstituted or interrupted by 1 to 5 heteroatoms or functional groups Or it may be replaced,
R 1 , R 2 and R 3 are each independently
hydrogen,
Halogen, in particular fluorine, chlorine, bromine and iodine, preferably chlorine,
An alkyl group, C 1 -C 6 optionally - - C 1 ~C 18 alkyl, C 1 -C 6 - alkyloxy, C 1 -C 6 - alkoxycarbonyl, hydroxyl, halogen, amino, cyano and sulfo An alkyl group which may be substituted by selected functional groups and / or may be interrupted by one or more oxygen and / or sulfur atoms and / or one or more substituted or unsubstituted imino groups,
An alkenyl group, C 1 -C 6 optionally - - C 2 ~C 18 alkyl, C 1 -C 6 - alkyloxy, C 1 -C 6 - alkoxycarbonyl, hydroxyl, halogen, amino, cyano and sulfo An alkenyl group which may be substituted by selected functional groups and / or may be interrupted by one or more oxygen and / or sulfur atoms and / or one or more substituted or unsubstituted imino groups,
C 5 -C 12 - a cycloalkyl group, C 1 -C 6 optionally - alkyl, C 1 -C 6 - alkyloxy, C 1 -C 6 - alkoxycarbonyl, hydroxyl, halogen, amino, cyano and sulfo A cycloalkyl group optionally substituted by a functional group selected from
C 5 -C 12 - a cycloalkenyl group, C 1 -C 6 optionally - alkyl, C 1 -C 6 - alkyloxy, C 1 -C 6 - alkoxycarbonyl, hydroxyl, halogen, amino, cyano and sulfo A cycloalkenyl group which may be substituted by a functional group selected from the above, or a 5- to 6-membered heterocyclic ring, containing an oxygen atom, a nitrogen atom and / or a sulfur atom, and optionally C 1 -C 6 - alkyl, C 1 -C 6 - alkyloxy, C 1 -C 6 - alkoxycarbonyl, hydroxyl, halogen, amino, or cyano and may heterocycle substituted by functional group selected from sulfo, or 2 Adjacent R 1 , R 2 and R 3 groups together with the nitrogen atom in formula (I) are unsaturated or saturated 5- to 7-membered rings. What, C 1 -C 6 optionally - alkyl, C 1 -C 6 - alkyloxy, C 1 -C 6 - alkoxycarbonyl, hydroxyl, halogen, amino, optionally substituted by functional groups selected from cyano and sulfo A ring which may be interrupted by one or more oxygen and / or sulfur atoms and / or one or more substituted or unsubstituted imino groups,
X is an anion, and n is 1, 2 or 3].

R基およびR1基ないしR3基の定義において可能なヘテロ原子は、原則的に、形式的な意味で−CH2−、−CH=基、−C≡基または=C=基と置き換えることが可能なあらゆるヘテロ原子である。炭素含有基がヘテロ原子を含む場合に、好ましいのは、酸素、窒素、硫黄、リンおよびケイ素である。好ましい基として、特に−O−、−S−、−SO−、−SO2−、−NR’−、−N=、−PR’−、−POR’−および−SiR’2−が挙げられ、その式中、R’基は、炭素含有基の残存部分である。上述の式(I)におけるR1基ないしR3基が炭素原子に結合されていて、ヘテロ原子に結合されていない場合には、それらは、ヘテロ原子を介して直接的に結合されていてもよい。 Possible heteroatoms in the definition of R and R 1 or R 3 are in principle replaced by —CH 2 —, —CH═groups, —C≡groups or ═C═groups in a formal sense. Is any possible heteroatom. Preferred when the carbon-containing group contains a heteroatom are oxygen, nitrogen, sulfur, phosphorus and silicon. Preferred groups include in particular —O—, —S—, —SO—, —SO 2 —, —NR′—, —N═, —PR′—, —POR′— and —SiR ′ 2 —, In the formula, the R ′ group is the remaining part of the carbon-containing group. When the R 1 to R 3 groups in the above formula (I) are bonded to a carbon atom and are not bonded to a heteroatom, they may be directly bonded via a heteroatom. Good.

可能な官能基は、原則的に、炭素原子またはヘテロ原子に結合され得るあらゆる官能基である。適切な例として、−OH(ヒドロキシル)、=O(特にカルボニル基の形で)、−NH2(アミノ)、=NH(イミノ)、−COOH(カルボキシル)、−CONH2(カルボキサミド)、−SO3H(スルホ)および−CN(シアノ)が挙げられる。官能基およびヘテロ原子は、直接的に隣接していてもよく、こうして複数の隣接原子の組み合わせ、例えば−O−(エーテル)、−S−(チオエーテル)、−COO−(エステル)、−CONH−(第二級アミド)または−CONR’−(第三級アミド)、例えばジ(C1〜C4−アルキル)アミノ、C1〜C4−アルキルオキシカルボニルもしくはC1〜C4−アルキルオキシも同様に含まれる。 Possible functional groups are in principle any functional group that can be bonded to a carbon atom or a heteroatom. Suitable examples include —OH (hydroxyl), ═O (particularly in the form of a carbonyl group), —NH 2 (amino), ═NH (imino), —COOH (carboxyl), —CONH 2 (carboxamide), —SO 3 H (sulfo) and -CN (cyano). Functional groups and heteroatoms may be directly adjacent, thus combinations of multiple adjacent atoms such as -O- (ether), -S- (thioether), -COO- (ester), -CONH- (Secondary amide) or —CONR ′-(tertiary amide), such as di (C 1 -C 4 -alkyl) amino, C 1 -C 4 -alkyloxycarbonyl or C 1 -C 4 -alkyloxy Included as well.

ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素である。   Halogen is fluorine, chlorine, bromine and iodine.

好ましくは、前記R基は、
非分枝鎖状または分枝鎖状のC1〜C20−アルキル基であって、非置換であるか、またはヒドロキシル、ハロゲン、シアノ、C1〜C6−アルコキシカルボニルおよび/またはスルホによって一置換ないし多置換されており、かつ好ましくは全体で1個〜20個の炭素原子を有するアルキル基、例えばメチル、エチル、1−プロピル、2−プロピル、1−ブチル、2−ブチル、2−メチル−1−プロピル(イソブチル)、2−メチル−2−プロピル(t−ブチル)、1−ペンチル、2−ペンチル、3−ペンチル、2−メチル−1−ブチル、3−メチル−1−ブチル、2−メチル−2−ブチル、3−メチル−2−ブチル、2,2−ジメチル−1−プロピル、1−ヘキシル、2−ヘキシル、3−ヘキシル、2−メチル−1−ペンチル、3−メチル−1−ペンチル、4−メチル−1−ペンチル、2−メチル−2−ペンチル、3−メチル−2−ペンチル、4−メチル−2−ペンチル、2−メチル−3−ペンチル、3−メチル−3−ペンチル、2,2−ジメチル−1−ブチル、2,3−ジメチル−1−ブチル、3,3−ジメチル−1−ブチル、2−エチル−1−ブチル、2,3−ジメチル−2−ブチル、3,3−ジメチル−2−ブチル、1−ヘプチル、1−オクチル、1−ノニル、1−デシル、1−ウンデシル、1−ドデシル、1−テトラデシル、1−ヘキサデシル、1−オクタデシル、2−ヒドロキシエチル、2−シアノエチル、2−(メトキシカルボニル)エチル、2−(エトキシカルボニル)エチル、2−(n−ブトキシカルボニル)エチル、6−ヒドロキシヘキシルおよびプロピルスルホ、
グリコール、ブチレングリコールおよび1個〜100個の、好ましくは1個〜6個の、特に好ましくは1個〜3個の単位を有し、かつ末端基として水素またはC1〜C6−アルキルを有するそれらのオリゴマー、例えばRAO−(CHRB−CH2−O)p−CHRB−CH2−またはRAO−(CH2CH2CH2CH2O)p−CH2CH2CH2CH2O−[その式中、RAおよびRBは、好ましくは、水素、メチルまたはエチルであり、かつpは、好ましくは0〜3である]、特に3−オキサブチル、3−オキサペンチル、3,6−ジオキサヘプチル、3,6−ジオキサオクチル、3,6,9−トリオキサデシル、3,6,9−トリオキサウンデシル、3,6,9,12−テトラオキサトリデシルおよび3,6,9,12−テトラオキサテトラデシル、
ビニル、あるいは
非置換のC5〜C12−シクロアルケニル基
である。
Preferably, the R group is
An unbranched or branched C 1 -C 20 -alkyl group which is unsubstituted or monovalent by hydroxyl, halogen, cyano, C 1 -C 6 -alkoxycarbonyl and / or sulfo. Alkyl groups which are substituted or polysubstituted and preferably have 1 to 20 carbon atoms in total, for example methyl, ethyl, 1-propyl, 2-propyl, 1-butyl, 2-butyl, 2-methyl -1-propyl (isobutyl), 2-methyl-2-propyl (t-butyl), 1-pentyl, 2-pentyl, 3-pentyl, 2-methyl-1-butyl, 3-methyl-1-butyl, 2 -Methyl-2-butyl, 3-methyl-2-butyl, 2,2-dimethyl-1-propyl, 1-hexyl, 2-hexyl, 3-hexyl, 2-methyl-1-pentyl, 3-methyl -1-pentyl, 4-methyl-1-pentyl, 2-methyl-2-pentyl, 3-methyl-2-pentyl, 4-methyl-2-pentyl, 2-methyl-3-pentyl, 3-methyl-3 -Pentyl, 2,2-dimethyl-1-butyl, 2,3-dimethyl-1-butyl, 3,3-dimethyl-1-butyl, 2-ethyl-1-butyl, 2,3-dimethyl-2-butyl 3,3-dimethyl-2-butyl, 1-heptyl, 1-octyl, 1-nonyl, 1-decyl, 1-undecyl, 1-dodecyl, 1-tetradecyl, 1-hexadecyl, 1-octadecyl, 2-hydroxy Ethyl, 2-cyanoethyl, 2- (methoxycarbonyl) ethyl, 2- (ethoxycarbonyl) ethyl, 2- (n-butoxycarbonyl) ethyl, 6-hydroxyhexyl and propyls Ho,
Glycol, butylene glycol and 1 to 100, preferably 1 to 6, particularly preferably 1 to 3 units and having hydrogen or C 1 -C 6 -alkyl as terminal groups Those oligomers, for example R A O— (CHR B —CH 2 —O) p —CHR B —CH 2 — or R A O— (CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 O) p —CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 O— [wherein R A and R B are preferably hydrogen, methyl or ethyl and p is preferably 0-3], in particular 3-oxabutyl, 3-oxapentyl, 3,6-dioxaheptyl, 3,6-dioxaoctyl, 3,6,9-trioxadecyl, 3,6,9-trioxaundecyl, 3,6,9,12-tetraoxatridecyl and 3,6,9,12-tetraoxy Satetradecyl,
Vinyl, or unsubstituted C 5 -C 12 - cycloalkenyl group.

より好ましくは、前記R基は、非分枝鎖状もしくは非置換のC1〜C18−アルキル、好ましくはC1〜C12−アルキル、例えばメチル、エチル、1−プロピル、1−ブチル、1−ペンチル、1−ヘキシル、1−ヘプチル、1−オクチルであるか、またはCH3O−(CH2CH2O)p−CH2CH2−およびCH3CH2O−(CH2CH2O)p−CH2CH2−であり、ここでpは、0〜3である。 More preferably, the R groups are unbranched or unsubstituted C 1 -C 18 - alkyl, preferably C 1 -C 12 - alkyl, for example methyl, ethyl, 1-propyl, 1-butyl, 1 - pentyl, 1-hexyl, 1-heptyl or 1-octyl, or CH 3 O- (CH 2 CH 2 O) p -CH 2 CH 2 - and CH 3 CH 2 O- (CH 2 CH 2 O ) p -CH 2 CH 2 - and are, where p is 0-3.

好ましくは、R1基、R2基およびR3基は、それぞれ独立して、
水素、
1〜C18−アルキル基であって、任意にC1〜C6−アルキル、C1〜C6−アルキルオキシ、C1〜C6−アルコキシカルボニル、ヒドロキシル、ハロゲン、アミノ、シアノおよびスルホから選択される官能基によって一置換または多置換されていてよいアルキル基、例えばメチル、エチル、1−プロピル、2−プロピル、1−ブチル、2−ブチル、2−メチル−1−プロピル(イソブチル)、2−メチル−2−プロピル(t−ブチル)、1−ペンチル、2−ペンチル、3−ペンチル、2−メチル−1−ブチル、3−メチル−1−ブチル、2−メチル−2−ブチル、3−メチル−2−ブチル、2,2−ジメチル−1−プロピル、1−ヘキシル、2−ヘキシル、3−ヘキシル、2−メチル−1−ペンチル、3−メチル−1−ペンチル、4−メチル−1−ペンチル、2−メチル−2−ペンチル、3−メチル−2−ペンチル、4−メチル−2−ペンチル、2−メチル−3−ペンチル、3−メチル−3−ペンチル、2,2−ジメチル−1−ブチル、2,3−ジメチル−1−ブチル、3,3−ジメチル−1−ブチル、2−エチル−1−ブチル、2,3−ジメチル−2−ブチル、3,3−ジメチル−2−ブチル、1−ヘプチル、1−オクチル、1−ノニル、1−デシル、1−ウンデシル、1−ドデシル、1−テトラデシル、1−ヘキサデシル、1−オクタデシル、2−ヒドロキシエチル、2−シアノエチル、2−シアノプロピル、2−(メトキシカルボニル)エチル、2−(エトキシカルボニル)エチル、2−(n−ブトキシカルボニル)エチル、2−ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシプロピル、3−ヒドロキシプロピル、4−ヒドロキシブチル、6−ヒドロキシヘキシル、2−アミノエチル、2−アミノプロピル、3−アミノプロピル、4−アミノブチル、6−アミノヘキシル、2−メチルアミノエチル、2−メチルアミノプロピル、3−メチルアミノプロピル、4−メチルアミノブチル、6−メチルアミノヘキシル、2−ジメチルアミノエチル、2−ジメチルアミノプロピル、3−ジメチルアミノプロピル、4−ジメチルアミノブチル、6−ジメチルアミノヘキシル、2−ヒドロキシ−2,2−ジメチルエチル、2−メトキシエチル、2−メトキシプロピル、3−メトキシプロピル、4−メトキシブチル、6−メトキシヘキシル、2−エトキシエチル、2−エトキシプロピル、3−エトキシプロピル、4−エトキシブチル、6−エトキシヘキシル、クロロメチル、2−クロロエチル、トリクロロメチル、1,1−ジメチル−2−クロロエチル、メトキシメチル、2−ブトキシエチル、ジエトキシメチル、ジエトキシエチル、2−イソプロポキシエチル、2−ブトキシプロピル、2−オクチルオキシエチル、2−メトキシイソプロピルおよびプロピルスルホ、
5〜C12−シクロアルキル基であって、任意にC1〜C6−アルキルによって置換されていてよいシクロアルキル基、例えばシクロペンチルおよびシクロヘキシル、
グリコール、ブチレングリコールおよび1個〜100個の、好ましくは1個〜6個の、特に好ましくは1個〜3個の単位を有し、かつ末端基として水素またはC1〜C6−アルキルを有するそれらのオリゴマー、例えばRAO−(CHRB−CH2−O)p−CHRB−CH2−またはRAO−(CH2CH2CH2CH2O)p−CH2CH2CH2CH2O−[その式中、RAおよびRBは、好ましくは、水素、メチルまたはエチルであり、かつpは、好ましくは0〜3である]、特に3−オキサブチル、3−オキサペンチル、3,6−ジオキサヘプチル、3,6−ジオキサオクチル、3,6,9−トリオキサデシル、3,6,9−トリオキサウンデシル、3,6,9,12−テトラオキサトリデシル、3,6,9,12−テトラオキサテトラデシル、5−ヒドロキシ−3−オキサペンチル、8−ヒドロキシ−3,6−ジオキサオクチル、11−ヒドロキシ−3,6,9−トリオキサウンデシル、7−ヒドロキシ−4−オキサヘプチル、11−ヒドロキシ−4,8−ジオキサウンデシル、15−ヒドロキシ−4,8,12−トリオキサペンタデシル、9−ヒドロキシ−5−オキサノニル、14−ヒドロキシ−5,10−ジオキサテトラデシル、5−メトキシ−3−オキサペンチル、8−メトキシ−3,6−ジオキサオクチル、11−メトキシ−3,6,9−トリオキサウンデシル、7−メトキシ−4−オキサヘプチル、11−メトキシ−4,8−ジオキサウンデシル、15−メトキシ−4,8,12−トリオキサペンタデシル、9−メトキシ−5−オキサノニル、14−メトキシ−5,10−ジオキサテトラデシル、5−エトキシ−3−オキサペンチル、8−エトキシ−3,6−ジオキサオクチル、11−エトキシ−3,6,9−トリオキサウンデシル、7−エトキシ−4−オキサヘプチル、11−エトキシ−4,8−ジオキサウンデシル、15−エトキシ−4,8,12−トリオキサペンタデシル、9−エトキシ−5−オキサノニルまたは14−エトキシ−5,10−オキサテトラデシル
であるか、あるいは2個の隣接するR1基、R2基およびR3基は、式(I)中の窒素原子と一緒になって、飽和の非置換の5員ないし7員の環であり、例えば、2個の隣接するR1基、R2基およびR3基は、1,4−ブチレン、1,5−ペンチレンまたは3−オキサ−1,5−ペンチレンである。
Preferably, the R 1 group, R 2 group and R 3 group are each independently
hydrogen,
An alkyl group, C 1 -C 6 optionally - - C 1 ~C 18 alkyl, C 1 -C 6 - alkyloxy, C 1 -C 6 - alkoxycarbonyl, hydroxyl, halogen, amino, cyano and sulfo Alkyl groups which may be mono- or polysubstituted by selected functional groups such as methyl, ethyl, 1-propyl, 2-propyl, 1-butyl, 2-butyl, 2-methyl-1-propyl (isobutyl), 2-methyl-2-propyl (t-butyl), 1-pentyl, 2-pentyl, 3-pentyl, 2-methyl-1-butyl, 3-methyl-1-butyl, 2-methyl-2-butyl, 3 -Methyl-2-butyl, 2,2-dimethyl-1-propyl, 1-hexyl, 2-hexyl, 3-hexyl, 2-methyl-1-pentyl, 3-methyl-1-pentyl, 4- Methyl-1-pentyl, 2-methyl-2-pentyl, 3-methyl-2-pentyl, 4-methyl-2-pentyl, 2-methyl-3-pentyl, 3-methyl-3-pentyl, 2,2- Dimethyl-1-butyl, 2,3-dimethyl-1-butyl, 3,3-dimethyl-1-butyl, 2-ethyl-1-butyl, 2,3-dimethyl-2-butyl, 3,3-dimethyl- 2-butyl, 1-heptyl, 1-octyl, 1-nonyl, 1-decyl, 1-undecyl, 1-dodecyl, 1-tetradecyl, 1-hexadecyl, 1-octadecyl, 2-hydroxyethyl, 2-cyanoethyl, 2 -Cyanopropyl, 2- (methoxycarbonyl) ethyl, 2- (ethoxycarbonyl) ethyl, 2- (n-butoxycarbonyl) ethyl, 2-hydroxyethyl, 2-hydroxypropyl Pill, 3-hydroxypropyl, 4-hydroxybutyl, 6-hydroxyhexyl, 2-aminoethyl, 2-aminopropyl, 3-aminopropyl, 4-aminobutyl, 6-aminohexyl, 2-methylaminoethyl, 2- Methylaminopropyl, 3-methylaminopropyl, 4-methylaminobutyl, 6-methylaminohexyl, 2-dimethylaminoethyl, 2-dimethylaminopropyl, 3-dimethylaminopropyl, 4-dimethylaminobutyl, 6-dimethylamino Hexyl, 2-hydroxy-2,2-dimethylethyl, 2-methoxyethyl, 2-methoxypropyl, 3-methoxypropyl, 4-methoxybutyl, 6-methoxyhexyl, 2-ethoxyethyl, 2-ethoxypropyl, 3- Ethoxypropyl, 4-ethoxybutyl, -Ethoxyhexyl, chloromethyl, 2-chloroethyl, trichloromethyl, 1,1-dimethyl-2-chloroethyl, methoxymethyl, 2-butoxyethyl, diethoxymethyl, diethoxyethyl, 2-isopropoxyethyl, 2-butoxypropyl 2-octyloxyethyl, 2-methoxyisopropyl and propylsulfo,
C 5 -C 12 - a cycloalkyl group, an optionally C 1 -C 6 - or cycloalkyl group optionally substituted by alkyl, such as cyclopentyl and cyclohexyl,
Glycol, butylene glycol and 1 to 100, preferably 1 to 6, particularly preferably 1 to 3 units and having hydrogen or C 1 -C 6 -alkyl as terminal groups Those oligomers, for example R A O— (CHR B —CH 2 —O) p —CHR B —CH 2 — or R A O— (CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 O) p —CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 O— [wherein R A and R B are preferably hydrogen, methyl or ethyl and p is preferably 0-3], in particular 3-oxabutyl, 3-oxapentyl, 3,6-dioxaheptyl, 3,6-dioxaoctyl, 3,6,9-trioxadecyl, 3,6,9-trioxaundecyl, 3,6,9,12-tetraoxatridecyl, 3,6,9,12-tetraoxate Tradecyl, 5-hydroxy-3-oxapentyl, 8-hydroxy-3,6-dioxaoctyl, 11-hydroxy-3,6,9-trioxaundecyl, 7-hydroxy-4-oxaheptyl, 11-hydroxy -4,8-dioxaundecyl, 15-hydroxy-4,8,12-trioxapentadecyl, 9-hydroxy-5-oxanonyl, 14-hydroxy-5,10-dioxatetradecyl, 5-methoxy- 3-oxapentyl, 8-methoxy-3,6-dioxaoctyl, 11-methoxy-3,6,9-trioxaundecyl, 7-methoxy-4-oxaheptyl, 11-methoxy-4,8-di Oxaundecyl, 15-methoxy-4,8,12-trioxapentadecyl, 9-methoxy-5-oxanonyl, 14-methoxy 5,10-dioxatetradecyl, 5-ethoxy-3-oxapentyl, 8-ethoxy-3,6-dioxaoctyl, 11-ethoxy-3,6,9-trioxaundecyl, 7-ethoxy-4 -Oxaheptyl, 11-ethoxy-4,8-dioxaundecyl, 15-ethoxy-4,8,12-trioxapentadecyl, 9-ethoxy-5-oxanonyl or 14-ethoxy-5,10-oxatetra The decyl or two adjacent R 1 , R 2 and R 3 groups, together with the nitrogen atom in formula (I), are a saturated unsubstituted 5- to 7-membered ring For example, two adjacent R 1 , R 2 and R 3 groups are 1,4-butylene, 1,5-pentylene or 3-oxa-1,5-pentylene.

一実施形態においては、2個の隣接するR1基、R2基およびR3基は、式(I)中の窒素原子と一緒になって、不飽和または飽和の5員ないし7員の環であって、任意にC1〜C6−アルキル、C1〜C6−アルキルオキシ、C1〜C6−アルコキシカルボニル、ヒドロキシル、ハロゲン、アミノ、シアノおよびスルホから選択される官能基によって置換されていてよく、かつ1個以上の酸素原子および/もしくは硫黄原子および/もしくは1個以上の置換もしくは非置換のイミノ基によって中断されていてよい環であってよい。好ましくは、2個の隣接するR1基、R2基およびR3基は、式(I)中の窒素原子と一緒になって、飽和の5員ないし7員の環を形成し、かつ2個の隣接するR1基、R2基およびR3基は、1,4−ブチレン、1,5−ペンチレンまたは3−オキサ−1,5−ペンチレンである。 In one embodiment, two adjacent R 1 , R 2, and R 3 groups are taken together with the nitrogen atom in formula (I) to form an unsaturated or saturated 5- to 7-membered ring. Optionally substituted by a functional group selected from C 1 -C 6 -alkyl, C 1 -C 6 -alkyloxy, C 1 -C 6 -alkoxycarbonyl, hydroxyl, halogen, amino, cyano and sulfo It may be a ring which may be interrupted by one or more oxygen and / or sulfur atoms and / or one or more substituted or unsubstituted imino groups. Preferably, two adjacent R 1 , R 2 and R 3 groups together with the nitrogen atom in formula (I) form a saturated 5- to 7-membered ring, and 2 The adjacent R 1 , R 2 and R 3 groups are 1,4-butylene, 1,5-pentylene or 3-oxa-1,5-pentylene.

最も好ましくは、R1基、R2基およびR3基は、それぞれ独立して、水素、非置換のC1〜C18−アルキル、好ましくはC1〜C12−アルキル(例えば、メチル、エチル、1−ブチル、1−ペンチル、1−ヘキシル、1−ヘプチル、1−オクチル)、2−ヒドロキシエチル、2−シアノエチル、2−(メトキシカルボニル)エチル、2−(エトキシカルボニル)エチル、2−(n−ブトキシカルボニル)エチル、塩素、CH3O−(CH2CH2O)p−CH2CH2−もしくはCH3CH2O−(CH2CH2O)p−CH2CH2−であり、ここで、pは、0〜3であるか、または2個の隣接するR1基、R2基およびR3基は、1,4−ブチレン、1,5−ペンチレンもしくは3−オキサ−1,5−ペンチレンである。 Most preferably, the R 1 , R 2 and R 3 groups are each independently hydrogen, unsubstituted C 1 -C 18 -alkyl, preferably C 1 -C 12 -alkyl (eg methyl, ethyl 1-butyl, 1-pentyl, 1-hexyl, 1-heptyl, 1-octyl), 2-hydroxyethyl, 2-cyanoethyl, 2- (methoxycarbonyl) ethyl, 2- (ethoxycarbonyl) ethyl, 2- ( n- butoxycarbonyl) ethyl, chlorine, CH 3 O- (CH 2 CH 2 O) p -CH 2 CH 2 - or CH 3 CH 2 O- (CH 2 CH 2 O) p -CH 2 CH 2 - and are Where p is 0 to 3, or two adjacent R 1 , R 2 and R 3 groups are 1,4-butylene, 1,5-pentylene or 3-oxa-1 , 5-pentylene.

より好ましくは、R1、R2およびR3は、水素原子、または前記の炭化水素基であってさらなるヘテロ原子を有さない基である。最も好ましくは、R1、R2およびR3は、水素原子、または非置換のC1〜C18−アルキル基、より好ましくはC1〜C6−アルキル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基もしくはn−ブチル基である。 More preferably, R 1 , R 2 and R 3 are a hydrogen atom or a group having the above-mentioned hydrocarbon group and no further heteroatoms. Most preferably R 1 , R 2 and R 3 are hydrogen atoms or unsubstituted C 1 -C 18 -alkyl groups, more preferably C 1 -C 6 -alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl Group, isopropyl group or n-butyl group.

より好ましくは、前記少なくとも1種のイオン性液体IL1は、式(I):

Figure 2018523016
[式中、
Rは、非分枝鎖状および非置換のC1〜C18−アルキル(例えば、メチル、エチル、1−プロピル、1−ブチル、1−ペンチル、1−ヘキシル、1−ヘプチル、1−オクチル、1−デシル、1−ドデシル、1−テトラデシル、1−ヘキサデシル、1−オクタデシル、特にメチル、エチル、1−ブチルおよび1−オクチル)、CH3O−(CH2CH2O)p−CH2CH2−またはCH3CH2O−(CH2CH2O)p−CH2CH2−であり、ここで、pは、0〜3であり、
1、R2およびR3は、それぞれ独立して、水素原子、非置換のC1〜C18−アルキル(例えば、メチル、エチル、1−ブチル、1−ペンチル、1−ヘキシル、1−ヘプチル、1−オクチル)、2−ヒドロキシエチル、2−シアノエチル、2−(メトキシカルボニル)エチル、2−(エトキシカルボニル)エチル、2−(n−ブトキシカルボニル)エチル、塩素、CH3O−(CH2CH2O)p−CH2CH2−もしくはCH3CH2O−(CH2CH2O)p−CH2CH2−(前記式中、pは、0〜3である)であるか、あるいは2個の隣接するR1基、R2基およびR3基は、式(I)中の窒素原子と一緒になって、飽和の非置換の5員ないし7員の環、例えば、1,4−ブチレン、1,5−ペンチレンまたは3−オキサ−1,5−ペンチレンであり、
Xは、アニオンであり、かつ
nは、1、2または3である]の、アルキルアンモニウムカチオンを含むイオン性液体である。 More preferably, the at least one ionic liquid IL1 has the formula (I):
Figure 2018523016
[Where:
R is an unbranched and unsubstituted C 1 -C 18 -alkyl (eg, methyl, ethyl, 1-propyl, 1-butyl, 1-pentyl, 1-hexyl, 1-heptyl, 1-octyl, 1-decyl, 1-dodecyl, 1-tetradecyl, 1-hexadecyl, 1-octadecyl, in particular methyl, ethyl, 1-butyl and 1-octyl), CH 3 O- (CH 2 CH 2 O) p -CH 2 CH 2 - or CH 3 CH 2 O- (CH 2 CH 2 O) p -CH 2 CH 2 - and is, where, p is 0-3,
R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, unsubstituted C 1 -C 18 -alkyl (eg, methyl, ethyl, 1-butyl, 1-pentyl, 1-hexyl, 1-heptyl 1-octyl), 2-hydroxyethyl, 2-cyanoethyl, 2- (methoxycarbonyl) ethyl, 2- (ethoxycarbonyl) ethyl, 2- (n-butoxycarbonyl) ethyl, chlorine, CH 3 O— (CH 2 CH 2 O) p —CH 2 CH 2 — or CH 3 CH 2 O— (CH 2 CH 2 O) p —CH 2 CH 2 — (wherein p is 0 to 3), Alternatively, two adjacent R 1 , R 2 and R 3 groups together with the nitrogen atom in formula (I) can be combined with a saturated unsubstituted 5- to 7-membered ring, for example 1, 4-butylene, 1,5-pentylene or 3-oxa-1,5- Is Nchiren,
X is an anion, and n is 1, 2 or 3.] is an ionic liquid containing an alkylammonium cation.

より好ましくは、前記イオン性液体IL1は、式(I)で示され、その式中、
Rは、C1〜C18−アルキル、好ましくはC1〜C6−アルキルであり、かつR1、R2およびR3は、それぞれ独立して、水素原子もしくはC1〜C18−アルキル、好ましくはC1〜C6−アルキルであるか、または
Rは、C1〜C18−アルキル、好ましくはC1〜C6−アルキルであり、R1およびR2は、一緒になって1,5−ペンチレンもしくは3−オキサ−1,5−ペンチレンであり、かつR3は、水素原子もしくはC1〜C18−アルキル、好ましくはC1〜C6−アルキルである、アルキルアンモニウムカチオンを含む。
More preferably, the ionic liquid IL1 is represented by formula (I), wherein
R is C 1 -C 18 -alkyl, preferably C 1 -C 6 -alkyl, and R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom or C 1 -C 18 -alkyl, Preferably it is C 1 -C 6 -alkyl or R is C 1 -C 18 -alkyl, preferably C 1 -C 6 -alkyl, R 1 and R 2 taken together are 1, 5-pentylene or 3-oxa-1,5-pentylene and R 3 comprises an alkylammonium cation which is a hydrogen atom or C 1 -C 18 -alkyl, preferably C 1 -C 6 -alkyl.

前記イオン性液体IL1における最も好ましいアルキルアンモニウムカチオンは、メチルトリ(1−ブチル)アンモニウム、1−ブチル−1−メチルピロリジニウム、N,N−ジメチルピペリジニウムおよびN,N−ジメチルモルホリニウムである。   Most preferred alkylammonium cations in the ionic liquid IL1 are methyltri (1-butyl) ammonium, 1-butyl-1-methylpyrrolidinium, N, N-dimethylpiperidinium and N, N-dimethylmorpholinium. is there.

式(I)による好ましいアニオン、特に好ましいXn-アニオンを、以下に記載する。 Preferred anions according to formula (I), particularly preferred X n- anions, are described below.

カチオンとしてメチルトリ(1−ブチル)アンモニウムを含み、かつアニオンとして塩化物イオン、臭化物イオン、硫酸水素イオン、テトラクロロアルミン酸イオン、チオシアン酸イオン、メチル硫酸イオン、エチル硫酸イオン、メタンスルホン酸イオン、ギ酸イオン、酢酸イオン、ジメチルリン酸イオン、ジエチルリン酸イオン、p−トリルスルホン酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオンおよびヘキサフルオロリン酸イオンから選択されるアニオンを含むイオン性液体ILが、特に好ましい。   It contains methyltri (1-butyl) ammonium as a cation, and chloride ion, bromide ion, hydrogen sulfate ion, tetrachloroaluminate ion, thiocyanate ion, methyl sulfate ion, ethyl sulfate ion, methanesulfonate ion, formic acid as anions An ionic liquid IL containing an anion selected from ions, acetate ions, dimethyl phosphate ions, diethyl phosphate ions, p-tolyl sulfonate ions, tetrafluoroborate ions and hexafluorophosphate ions is particularly preferred.

特に好ましくは、前記イオン性液体IL1は、メチルトリ(1−ブチル)アンモニウムメチルスルフェート(MTBS)または1−ブチル−1−メチルピロリジニウムジメチルホスフェート、より好ましくはメチルトリ(1−ブチル)アンモニウムメチルスルフェート(MTBS)である。   Particularly preferably, the ionic liquid IL1 is methyltri (1-butyl) ammonium methylsulfate (MTBS) or 1-butyl-1-methylpyrrolidinium dimethylphosphate, more preferably methyltri (1-butyl) ammonium methylsulfate. Fate (MTBS).

前記イオン性液体ILのアルキルアンモニウムカチオンは、少なくとも1個の、好ましくは1個または2個の四価および/または三価の窒素を含み、1個の結合が二重結合である複素環式の環系であってもよい。例えば、イオン性液体IL、特にイオン性液体IL1のカチオンは、ピペリジニウムカチオン、ピラゾリウムカチオン、ピラゾリニウムカチオン、イミダゾリニウムカチオン、ピロリジニウムカチオン、イミダゾリジニウムカチオン、グアニジニウムカチオンおよびコリニウムカチオンからなる群から選択される環式の非芳香族性のアルキルアンモニウムカチオンであってよい。   The alkyl ammonium cation of the ionic liquid IL is a heterocyclic ring containing at least one, preferably one or two tetravalent and / or trivalent nitrogen, one bond being a double bond. It may be a ring system. For example, the cation of the ionic liquid IL, particularly the ionic liquid IL1, is piperidinium cation, pyrazolium cation, pyrazolinium cation, imidazolinium cation, pyrrolidinium cation, imidazolidinium cation, guanidinium cation. And a cyclic non-aromatic alkylammonium cation selected from the group consisting of corinium cations.

前記少なくとも1種のイオン性液体IL、特にイオン性液体IL1の適切なカチオンは、例えば、一般式(IIa)ないし(IIj):

Figure 2018523016
[式中、Rは、前記定義の通りであり、かつR4基、R5基、R6基、R7基、R8基、R9基、R10基、R11基およびR12基は、それぞれR1基、R2基およびR3基について前記定義の通りである]のカチオンである。 Suitable cations of said at least one ionic liquid IL, in particular ionic liquid IL1, are, for example, general formulas (IIa) to (IIj):
Figure 2018523016
[Wherein, R is as defined above, and R 4 group, R 5 group, R 6 group, R 7 group, R 8 group, R 9 group, R 10 group, R 11 group and R 12 group] Are as defined above for the R 1 , R 2 and R 3 groups, respectively].

好ましい一実施形態においては、前記組成物Cは、カチオンとして非局在化カチオン電荷を有するとともに、少なくとも1個の窒素原子、好ましくは1個、2個または3個の窒素原子を含む少なくとも1個の芳香族複素環を含むイオン性液体IL(イオン性液体IL2とも呼ぶ)を含み得る。より具体的には、前記少なくとも1個の窒素原子、好ましくは1個、2個または3個の窒素原子が、前記複素環の環系中にある。好ましくは、前記イオン性液体IL2は、カチオンとして非局在化カチオン電荷を有するとともに、少なくとも1個の窒素原子を含むちょうど1個の芳香族複素環を含む。あるいはまた前記イオン性液体IL2は、少なくとも1個の芳香族複素環ならびに少なくとも1個のさらなる有機カチオン[A]+および/または少なくとも1個のさらなる金属カチオン[M]n+を含む混合塩であってよい。 In a preferred embodiment, the composition C has at least one nitrogen atom, preferably one, two or three nitrogen atoms, with a delocalized cationic charge as cation. An ionic liquid IL (also referred to as ionic liquid IL2) containing an aromatic heterocycle of More specifically, the at least one nitrogen atom, preferably one, two or three nitrogen atoms are in the heterocyclic ring system. Preferably, the ionic liquid IL2 contains exactly one aromatic heterocycle having a delocalized cationic charge as a cation and containing at least one nitrogen atom. Alternatively, the ionic liquid IL2 is a mixed salt comprising at least one aromatic heterocycle and at least one further organic cation [A] + and / or at least one further metal cation [M] n +. Good.

前記組成物Cは、イオン性液体IL2を、単独のイオン性液体として、またはその他のイオン性液体と組み合わせて、特にカチオンとして少なくとも1個のアルキルアンモニウムカチオンを含む前記のイオン性液体(イオン性液体IL1)と組み合わせて含んでよい。   The composition C contains the ionic liquid IL2 as a single ionic liquid or in combination with other ionic liquids, in particular containing at least one alkylammonium cation as a cation (ionic liquid). IL1) may be included in combination.

最も好ましくは、前記イオン性液体ILは、カチオンとして、1個、2個または3個の、好ましくは1個または2個の窒素原子を環系の一部として有する5員または6員の複素環式の芳香族性の環系を含む。原則的に、前記5員または6員の複素環式の芳香族性の環系は、1個または2個のさらなるヘテロ原子、特に酸素原子および/または硫黄原子を含んでよい。芳香族性の環系の炭素原子は、一般に20個以下の炭素原子を有する有機基、好ましくは炭化水素基、特にC1〜C16−アルキル基、特にC1〜C10−アルキル基、より好ましくはC1〜C4−アルキル基によって置換されていてよい。 Most preferably, the ionic liquid IL is a 5- or 6-membered heterocyclic ring having 1, 2 or 3, preferably 1 or 2 nitrogen atoms as part of the ring system as a cation. Including aromatic ring systems of the formula In principle, the 5-membered or 6-membered heterocyclic aromatic ring system may comprise one or two further heteroatoms, in particular oxygen and / or sulfur atoms. The carbon atoms of the aromatic ring system are generally organic groups having up to 20 carbon atoms, preferably hydrocarbon groups, in particular C 1 -C 16 -alkyl groups, in particular C 1 -C 10 -alkyl groups, and more preferably C 1 -C 4 - may be substituted by an alkyl group.

前記少なくとも1種のイオン性液体ILの適切なカチオンは、例えば、一般式(IIk)ないし(IIs’’):

Figure 2018523016
[式中、Rは、前記定義の通りであり、かつR4基、R5基、R6基、R7基およびR8基は、それぞれR1基、R2基およびR3基について前記定義の通りである]のカチオンである。好ましくは、R4基、R5基、R6基、R7基およびR8基は、それぞれ独立して、水素、メチル、エチル、1−プロピル、1−ブチルおよび塩素から選択される。 Suitable cations of the at least one ionic liquid IL are, for example, general formulas (IIk) to (IIs ″):
Figure 2018523016
[Wherein, R is as defined above, and R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are the same as defined above for R 1 , R 2 and R 3 , respectively] As defined]. Preferably, the R 4 group, R 5 group, R 6 group, R 7 group and R 8 group are each independently selected from hydrogen, methyl, ethyl, 1-propyl, 1-butyl and chlorine.

好ましくは、前記少なくとも1種のイオン性液体IL2のカチオンは、上述の式(IIk)、(IIo)、(IIp)、(IIq)、(IIq’)および(IIr)のカチオン、最も好ましくは式(IIo)のカチオンである。   Preferably, the cation of said at least one ionic liquid IL2 is a cation of formula (IIk), (IIo), (IIp), (IIq), (IIq ′) and (IIr) as described above, most preferably It is a cation of (IIo).

イオン性液体ILであって、そのカチオンが式(IIk)のピリジニウムカチオンであり、その式中、
4基、R5基、R6基、R7基およびR8基のうちの1個は、メチル、エチルもしくは塩素であり、かつ残りのR4基、R5基、R6基、R7基およびR8基は、水素であるか、または
6は、ジメチルアミノであり、かつ残りのR4基、R5基、R7基およびR8基は、水素であるか、または
全てのR4基、R5基、R6基、R7基およびR8基は、水素であるか、または
5は、カルボキシルもしくはカルボキサミドであり、かつ残りのR4基、R6基、R7基およびR8基は、水素であるか、または
4基およびR5基またはR5基およびR6基は、1,4−ブタ−1,3−ジエニレンであり、かつ残りのR4基、R5基、R6基、R7基およびR8基は、水素である、イオン性液体ILがさらに特に好ましい。
An ionic liquid IL, the cation of which is a pyridinium cation of formula (IIk),
One of R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 is methyl, ethyl or chlorine and the remaining R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 groups are hydrogen or R 6 is dimethylamino and the remaining R 4 , R 5 , R 7 and R 8 groups are hydrogen or all R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are hydrogen or R 5 is carboxyl or carboxamide and the remaining R 4 , R 6 , R The 7 and R 8 groups are hydrogen, or the R 4 and R 5 groups or the R 5 and R 6 groups are 1,4-buta-1,3-dienylene, and the remaining R 4 Particularly preferred is ionic liquid IL, wherein the group, R 5 group, R 6 group, R 7 group and R 8 group are hydrogen.

イオン性液体ILであって、そのカチオンが式(IIk)のピリジニウムカチオンであり、その式中、
全てのR4基、R5基、R6基、R7基およびR8基は、水素であるか、または
4基、R5基、R6基、R7基およびR8基のうちの1個は、メチルもしくはエチルであり、かつ残りのR4基、R5基、R6基、R7基およびR8基は、水素である、イオン性液体ILが特に好ましい。
An ionic liquid IL, the cation of which is a pyridinium cation of formula (IIk),
All R 4 groups, R 5 groups, R 6 groups, R 7 groups and R 8 groups are hydrogen or out of R 4 groups, R 5 groups, R 6 groups, R 7 groups and R 8 groups Particularly preferred is ionic liquid IL, one of which is methyl or ethyl and the remaining R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 groups are hydrogen.

さらに具体的に好ましいピリジニウムカチオン(IIk)には、1−メチルピリジニウム、1−エチルピリジニウム、1−(1−ブチル)ピリジニウム、1−(1−オクチル)ピリジニウム、1−(1−ヘキシル)ピリジニウム、1−(1−オクチル)ピリジニウム,1−(1−ドデシル)ピリジニウム、1−(1−テトラデシル)ピリジニウム、1−(1−ヘキサデシル)ピリジニウム、1,2−ジメチルピリジニウム、1−エチル−2−メチルピリジニウム、1−(1−ブチル)−2−メチルピリジニウム、1−(1−ヘキシル)−2−メチルピリジニウム、1−(1−オクチル)−2−メチルピリジニウム、1−(1−ドデシル)−2−メチルピリジニウム、1−(1−テトラデシル)−2−メチルピリジニウム、1−(1−ヘキサデシル)−2−メチルピリジニウム、1−メチル−2−エチルピリジニウム、1,2−ジエチルピリジニウム、1−(1−ブチル)−2−エチルピリジニウム、1−(1−ヘキシル)−2−エチルピリジニウム、1−(1−オクチル)−2−エチルピリジニウム、1−(1−ドデシル)−2−エチルピリジニウム、1−(1−テトラデシル)−2−エチルピリジニウム、1−(1−ヘキサデシル)−2−エチルピリジニウム、1,2−ジメチル−5−エチルピリジニウム、1,5−ジエチル−2−メチルピリジニウム、1−(1−ブチル)−2−メチル−3−エチルピリジニウム、1−(1−ヘキシル)−2−メチル−3−エチルピリジニウムおよび1−(1−オクチル)−2−メチル−3−エチルピリジニウム、1−(1−ドデシル)−2−メチル−3−エチルピリジニウム、1−(1−テトラデシル)−2−メチル−3−エチルピリジニウムおよび1−(1−ヘキサデシル)−2−メチル−3−エチルピリジニウムが挙げられる。   More specifically preferred pyridinium cations (IIk) include 1-methylpyridinium, 1-ethylpyridinium, 1- (1-butyl) pyridinium, 1- (1-octyl) pyridinium, 1- (1-hexyl) pyridinium, 1- (1-octyl) pyridinium, 1- (1-dodecyl) pyridinium, 1- (1-tetradecyl) pyridinium, 1- (1-hexadecyl) pyridinium, 1,2-dimethylpyridinium, 1-ethyl-2-methyl Pyridinium, 1- (1-butyl) -2-methylpyridinium, 1- (1-hexyl) -2-methylpyridinium, 1- (1-octyl) -2-methylpyridinium, 1- (1-dodecyl) -2 -Methylpyridinium, 1- (1-tetradecyl) -2-methylpyridinium, 1- (1-hexadec L) -2-methylpyridinium, 1-methyl-2-ethylpyridinium, 1,2-diethylpyridinium, 1- (1-butyl) -2-ethylpyridinium, 1- (1-hexyl) -2-ethylpyridinium, 1- (1-octyl) -2-ethylpyridinium, 1- (1-dodecyl) -2-ethylpyridinium, 1- (1-tetradecyl) -2-ethylpyridinium, 1- (1-hexadecyl) -2-ethyl Pyridinium, 1,2-dimethyl-5-ethylpyridinium, 1,5-diethyl-2-methylpyridinium, 1- (1-butyl) -2-methyl-3-ethylpyridinium, 1- (1-hexyl) -2 -Methyl-3-ethylpyridinium and 1- (1-octyl) -2-methyl-3-ethylpyridinium, 1- (1-dodecyl) -2- Chill-3-ethyl-pyridinium, 1- (1-tetradecyl) -2-methyl-3-ethyl pyridinium and 1- (1-hexadecyl) -2-methyl-3-ethyl pyridinium and the like.

イオン性液体ILであって、そのカチオンが式(IIl)のピリダジニウムカチオンであり、その式中、
全てのR4基、R5基、R6基およびR7基は、水素であるか、または
4基、R5基、R6基およびR7基のうちの1個は、メチルもしくはエチルであり、かつ残りのR4基、R5基、R6基およびR7基は、水素である、イオン性液体ILが特に好ましい。
An ionic liquid IL, the cation of which is a pyridazinium cation of formula (IIl),
All R 4 groups, R 5 groups, R 6 groups and R 7 groups are hydrogen or one of R 4 groups, R 5 groups, R 6 groups and R 7 groups is methyl or ethyl Especially preferred is ionic liquid IL, wherein the remaining R 4 , R 5 , R 6 and R 7 groups are hydrogen.

イオン性液体ILであって、そのカチオンが式(IIm)のピリミジニウムカチオンであり、その式中、
4は、水素、メチルもしくはエチルであり、かつR5、R6およびR7は、それぞれ独立して、水素もしくはメチルであるか、または
4は、水素、メチルもしくはエチルであり、R5およびR6は、メチルであり、かつR7は、水素である、イオン性液体ILが特に好ましい。
An ionic liquid IL, the cation of which is a pyrimidinium cation of the formula (IIm),
R 4 is hydrogen, methyl or ethyl, and R 5 , R 6 and R 7 are each independently hydrogen or methyl, or R 4 is hydrogen, methyl or ethyl, R 5 Particularly preferred is an ionic liquid IL, wherein R 6 is methyl and R 7 is hydrogen.

イオン性液体ILであって、そのカチオンが式(IIn)のピラジニウムカチオンであり、その式中、
4は、水素、メチルもしくはエチルであり、かつR5、R6およびR7は、それぞれ独立して、水素もしくはメチルであるか、または
4は、水素、メチルもしくはエチルであり、R5およびR6は、メチルであり、かつR7は、水素であるか、または
4、R5、R6およびR7は、メチルであるか、または
4、R5、R6およびR7は、水素である、イオン性液体ILが特に好ましい。
An ionic liquid IL, the cation of which is a pyrazinium cation of the formula (IIn),
R 4 is hydrogen, methyl or ethyl, and R 5 , R 6 and R 7 are each independently hydrogen or methyl, or R 4 is hydrogen, methyl or ethyl, R 5 And R 6 is methyl and R 7 is hydrogen or R 4 , R 5 , R 6 and R 7 are methyl or R 4 , R 5 , R 6 and R 7 Is particularly preferably ionic liquid IL, which is hydrogen.

イオン性液体ILであって、そのカチオンが式(IIo)のイミダゾリウムカチオンであり、その式中、
4は、水素、メチル、エチル、1−プロピル、1−ブチル、1−ペンチル、1−ヘキシル、1−オクチル、2−ヒドロキシエチルまたは2−シアノエチルであり、かつR5、R6およびR7は、それぞれ独立して、水素、メチルまたはエチルである、イオン性液体ILが特に好ましい。
An ionic liquid IL, the cation of which is an imidazolium cation of formula (IIo),
R 4 is hydrogen, methyl, ethyl, 1-propyl, 1-butyl, 1-pentyl, 1-hexyl, 1-octyl, 2-hydroxyethyl or 2-cyanoethyl, and R 5 , R 6 and R 7 Particularly preferred are ionic liquids IL, each independently of hydrogen, methyl or ethyl.

さらに特に好ましいイミダゾリウムカチオン(IIo)には、1−メチルイミダゾリウム、1−エチルイミダゾリウム、1−(1−ブチル)イミダゾリウム、1−(1−オクチル)イミダゾリウム、1−(1−ドデシル)イミダゾリウム、1−(1−テトラデシル)イミダゾリウム、1−(1−ヘキサデシル)イミダゾリウム、1,3−ジメチルイミダゾリウム、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム、1−(1−ブチル)−3−メチルイミダゾリウム、1−(1−ブチル)−3−エチルイミダゾリウム、1−(1−ヘキシル)−3−メチルイミダゾリウム、1−(1−ヘキシル)−3−エチルイミダゾリウム、1−(1−ヘキシル)−3−ブチルイミダゾリウム、1−(1−オクチル)−3−メチルイミダゾリウム、1−(1−オクチル)−3−エチルイミダゾリウム、1−(1−オクチル)−3−ブチルイミダゾリウム、1−(1−ドデシル)−3−メチルイミダゾリウム、1−(1−ドデシル)−3−エチルイミダゾリウム、1−(1−ドデシル)−3−オクチルイミダゾリウム、1−(1−テトラデシル)−3−メチルイミダゾリウム、1−(1−テトラデシル)−3−エチルイミダゾリウム、1−(1−テトラデシル)−3−ブチルイミダゾリウム、1−(1−テトラデシル)−3−オクチルイミダゾリウム、1−(1−ヘキサデシル)−3−メチルイミダゾリウム、1−(1−ヘキサデシル)−3−エチルイミダゾリウム、1−(1−ヘキサデシル)−3−ブチルイミダゾリウム、1−(1−ヘキサデシル)−3−オクチルイミダゾリウム、1,2−ジメチルイミダゾリウム、1,2,3−トリメチルイミダゾリウム、1−エチル−2,3−ジメチルイミダゾリウム、1−(1−ブチル)−2,3−ジメチルイミダゾリウム、1−(1−ヘキシル)−2,3−ジメチルイミダゾリウム、1,4−ジメチルイミダゾリウム、1,3,4−トリメチルイミダゾリウム、1,4−ジメチル−3−エチルイミダゾリウム、3−ブチルイミダゾリウム、1,4−ジメチル−3−オクチルイミダゾリウム、1,4,5−トリメチルイミダゾリウム、1,3,4,5−テトラメチルイミダゾリウム、1,4,5−トリメチル−3−エチルイミダゾリウム、1,4,5−トリメチル−3−ブチルイミダゾリウムおよび1,4,5−トリメチル−3−オクチルイミダゾリウムが挙げられる。   Further particularly preferred imidazolium cations (IIo) include 1-methylimidazolium, 1-ethylimidazolium, 1- (1-butyl) imidazolium, 1- (1-octyl) imidazolium, 1- (1-dodecyl). ) Imidazolium, 1- (1-tetradecyl) imidazolium, 1- (1-hexadecyl) imidazolium, 1,3-dimethylimidazolium, 1-ethyl-3-methylimidazolium, 1- (1-butyl)- 3-methylimidazolium, 1- (1-butyl) -3-ethylimidazolium, 1- (1-hexyl) -3-methylimidazolium, 1- (1-hexyl) -3-ethylimidazolium, 1- (1-hexyl) -3-butylimidazolium, 1- (1-octyl) -3-methylimidazolium, 1- (1-octyl) -3-ethylimidazolium, 1- (1-octyl) -3-butylimidazolium, 1- (1-dodecyl) -3-methylimidazolium, 1- (1-dodecyl) -3-ethylimidazolium, 1 -(1-dodecyl) -3-octylimidazolium, 1- (1-tetradecyl) -3-methylimidazolium, 1- (1-tetradecyl) -3-ethylimidazolium, 1- (1-tetradecyl) -3 -Butylimidazolium, 1- (1-tetradecyl) -3-octylimidazolium, 1- (1-hexadecyl) -3-methylimidazolium, 1- (1-hexadecyl) -3-ethylimidazolium, 1- ( 1-hexadecyl) -3-butylimidazolium, 1- (1-hexadecyl) -3-octylimidazolium, 1,2-dimethylimidazole 1,2-3-trimethylimidazolium, 1-ethyl-2,3-dimethylimidazolium, 1- (1-butyl) -2,3-dimethylimidazolium, 1- (1-hexyl) -2, 3-dimethylimidazolium, 1,4-dimethylimidazolium, 1,3,4-trimethylimidazolium, 1,4-dimethyl-3-ethylimidazolium, 3-butylimidazolium, 1,4-dimethyl-3- Octylimidazolium, 1,4,5-trimethylimidazolium, 1,3,4,5-tetramethylimidazolium, 1,4,5-trimethyl-3-ethylimidazolium, 1,4,5-trimethyl-3 -Butylimidazolium and 1,4,5-trimethyl-3-octylimidazolium.

イオン性液体ILであって、そのカチオンが式(IIp)のピラゾリウムカチオンであり、その式中、
4は、水素、メチルまたはエチルであり、かつR5、R6およびR7は、それぞれ独立して、水素またはメチルである、イオン性液体ILが特に好ましい。
An ionic liquid IL, the cation of which is a pyrazolium cation of formula (IIp),
Particularly preferred is ionic liquid IL, wherein R 4 is hydrogen, methyl or ethyl, and R 5 , R 6 and R 7 are each independently hydrogen or methyl.

イオン性液体ILであって、そのカチオンが式(IIq)もしくは(IIq’)のチアゾリウムカチオンまたは式(IIr)のオキサゾリウムカチオンであり、その式中、
4は、水素、メチル、エチルまたはフェニルであり、かつR5、R6およびR7は、それぞれ独立して、水素またはメチルである、イオン性液体ILが特に好ましい。
An ionic liquid IL, the cation of which is a thiazolium cation of formula (IIq) or (IIq ′) or an oxazolium cation of formula (IIr),
Particular preference is given to ionic liquids IL, wherein R 4 is hydrogen, methyl, ethyl or phenyl and R 5 , R 6 and R 7 are each independently hydrogen or methyl.

イオン性液体ILであって、そのカチオンが式(IIs)、(IIs’)または(IIs’’)の1,2,4−トリアゾリウムカチオンであり、その式中、
4およびR5は、それぞれ独立して、水素、メチル、エチルまたはフェニルであり、かつR6は、水素、メチルまたはフェニルである、イオン性液体ILが特に好ましい。
An ionic liquid IL, the cation of which is a 1,2,4-triazolium cation of formula (IIs), (IIs ′) or (IIs ″),
Particularly preferred are ionic liquids IL, wherein R 4 and R 5 are each independently hydrogen, methyl, ethyl or phenyl, and R 6 is hydrogen, methyl or phenyl.

好ましい一実施形態においては、前記イオン性液体IL、特に前記少なくとも1種のイオン性液体IL2は、カチオンとして、ピリジニウムカチオン、ピリダジニウムカチオン、ピリミジニウムカチオン、ピラジニウムカチオン、イミダゾリウムカチオン、ピラゾリウムカチオン、チアゾリウムカチオンおよびトリアゾリウムカチオンからなる群から選択される少なくとも1個の、好ましくはちょうど1個のカチオンを含む。   In a preferred embodiment, the ionic liquid IL, in particular the at least one ionic liquid IL2, has as its cation a pyridinium cation, pyridazinium cation, pyrimidinium cation, pyrazinium cation, imidazolium cation. , Pyrazolium cations, thiazolium cations and triazolium cations.

これらのカチオンは、例えば国際公開第2005/113702号に列挙されている。窒素原子上または芳香族性の環系中の正電荷のために必要であれば、該窒素原子は、それぞれ、一般に20個以下の炭素原子を有する有機基、好ましくは炭化水素基、特にC1〜C16−アルキル基、特にC1〜C10−アルキル基、より好ましくはC1〜C4−アルキル基によって置換される。 These cations are listed, for example, in WO 2005/113702. If necessary for a positive charge on the nitrogen atom or in the aromatic ring system, each of the nitrogen atoms is generally an organic group, preferably a hydrocarbon group, in particular a C 1 , generally having no more than 20 carbon atoms. -C 16 - alkyl group, in particular C 1 -C 10 - alkyl groups, more preferably C 1 -C 4 - is replaced by an alkyl group.

ILの特に好ましいカチオンは、イミダゾリウムカチオン、ピリミジニウムカチオンおよびピラゾリウムカチオンであり、それらのカチオンは、イミダゾリウム環系、ピリミジニウム環系またはピラゾリウム環系を有し、かつ任意に前記環系の炭素原子および/または窒素原子上に任意の所望の置換基を有する化合物を意味するものと理解される。   Particularly preferred cations of IL are imidazolium cations, pyrimidinium cations and pyrazolium cations, which cations have an imidazolium ring system, a pyrimidinium ring system or a pyrazolium ring system, and optionally said ring system Are understood to mean compounds having any desired substituents on the carbon and / or nitrogen atoms.

IL2の特に好ましいカチオンは、イミダゾリウムカチオン、ピリジニウムカチオンおよびピラゾリウムカチオンであり、それらのカチオンは、イミダゾリウム環系、ピリジニウム環系またはピラゾリウム環系を有し、かつ任意に前記環系の炭素原子および/または窒素原子上に任意の所望の置換基を有する化合物を意味するものと理解される。   Particularly preferred cations of IL2 are imidazolium cations, pyridinium cations and pyrazolium cations, which cations have an imidazolium ring system, a pyridinium ring system or a pyrazolium ring system, and optionally carbons of said ring system It is understood to mean a compound having any desired substituent on the atom and / or nitrogen atom.

好ましくは、前記イオン性液体IL、特に前記少なくとも1種のイオン性液体IL2は、少なくとも1個の、好ましくはちょうど1個のイミダゾリウムカチオンをカチオンとして含む。より好ましくは、前記イオン性液体ILは、単独のカチオンとして、少なくとも1個の、好ましくはちょうど1個のイミダゾリウムカチオンを含む。   Preferably, said ionic liquid IL, in particular said at least one ionic liquid IL2, comprises at least one, preferably just one imidazolium cation as a cation. More preferably, the ionic liquid IL comprises at least one, preferably just one imidazolium cation, as a single cation.

特に好ましい一実施形態においては、前記イオン性液体ILは、イミダゾリウムカチオンを含む、式(III):

Figure 2018523016
[式中、
R、R4、R5、R6およびR7は、それぞれ前記定義の通りであり、
Xは、アニオンであり、かつ
nは、1、2または3である]の化合物である。 In one particularly preferred embodiment, the ionic liquid IL comprises an imidazolium cation, formula (III):
Figure 2018523016
[Where:
R, R 4 , R 5 , R 6 and R 7 are each as defined above;
X is an anion, and n is 1, 2 or 3.]

好ましくは、R4基、R5基、R6基およびR7基およびR8基は、それぞれ独立して、水素、C1〜C12−アルキル、好ましくはC1〜C6−アルキルおよびハロゲンから選択され、特に水素、メチル、エチル、1−プロピル、1−ブチルおよび塩素から選択される。 Preferably, R 4 , R 5 , R 6 and R 7 and R 8 are each independently hydrogen, C 1 -C 12 -alkyl, preferably C 1 -C 6 -alkyl and halogen. And in particular selected from hydrogen, methyl, ethyl, 1-propyl, 1-butyl and chlorine.

変数nは、好ましくは1である。   The variable n is preferably 1.

式(I)および(III)による有用なアニオン、特にアニオンXn-として有用なアニオンは、原則的に、カチオンと組み合わせて、イオン性液体となるあらゆるアニオンである。 Useful anions according to formulas (I) and (III), in particular as anions X n− , are in principle any anions which in combination with cations become ionic liquids.

前記アニオン、特にアニオンXn-は、有機アニオンまたは無機アニオンであってよい。特に好ましいイオン性液体は、有機カチオンと以下で特定されるアニオンの1つとの塩のみからなる。 Said anions, in particular the anions X n− , may be organic or inorganic anions. Particularly preferred ionic liquids consist only of a salt of an organic cation and one of the anions specified below.

イオン性液体ILの、式(I)および(III)によるアニオン、特にアニオンXn-は、例えば、
式:F-、Cl-、Br-、I-、BF4 -、PF6 -、AlCl4 -、Al2Cl7 -、Al3Cl10 -、AlBr4 -、CF3SO3 -、(CF3SO32-、CF3CO2 -、CCl3CO2 -、CN-、SCN-、OCN-、NO2 -、NO3 -のハロゲン化物イオンおよびハロゲン化合物の群、
式:SO4 2-、HSO4 -、SO3 2-、HSO3 -、RaOSO3 -、RaSO3 -の硫酸イオン、亜硫酸イオンおよびスルホン酸イオンの群、
式:PO4 3-、HPO4 2-、H2PO4 -、RaPO4 2-、HRaPO4-、RabPO4 -のリン酸イオンの群、
式:RaHPO3 -、RabPO2 -、RabPO3 -のホスホン酸イオンおよびホスフィン酸イオンの群、
一般式:RaCOO-のカルボン酸イオンの群、
一般式:BO3 3-、HBO3 2-、H2BO3 -、RabBO3 -、RaHBO3 -、RaBO3 2-、B(ORa)(ORb)(ORc)(ORd-、B(HSO4-、B(RaSO4-のホウ酸イオンの群、
一般式:RaBO2 2-、RabBO-のボロン酸イオンの群、
一般式:HCO3 -、CO3 2-、RaCO3 -の炭酸イオンおよび炭酸エステルの群、
一般式:

Figure 2018523016
のカルボキシイミド、ビス(スルホニル)イミドおよびスルホニルイミドの群、
一般式:Ra-のアルコキシドおよびアリールオキシドの群
から選択され、ここで、上記アニオン中のRa、Rb、RcおよびRdは、それぞれ独立して、水素またはC1〜C12−アルキルおよび該アルキルのシクロアルキル置換、ハロゲン置換、ヒドロキシル置換、アミノ置換、カルボキシル置換、ホルミル置換、−O−置換、−CO−置換、−CO−O−置換もしくは−CO−N<置換された成分、例えばメチル、エチル、1−プロピル、2−プロピル、1−ブチル、2−ブチル、2−メチル−1−プロピル(イソブチル)、2−メチル−2−プロピル(t−ブチル)、1−ペンチル、2−ペンチル、3−ペンチル、2−メチル−1−ブチル、3−メチル−1−ブチル、2−メチル−2−ブチル、3−メチル−2−ブチル、2,2−ジメチル−1−プロピル、1−ヘキシル、2−ヘキシル、3−ヘキシル、2−メチル−1−ペンチル、3−メチル−1−ペンチル、4−メチル−1−ペンチル、2−メチル−2−ペンチル、3−メチル−2−ペンチル、4−メチル−2−ペンチル、2−メチル−3−ペンチル、3−メチル−3−ペンチル、2,2−ジメチル−1−ブチル、2,3−ジメチル−1−ブチル、3,3−ジメチル−1−ブチル、2−エチル−1−ブチル、2,3−ジメチル−2−ブチル、3,3−ジメチル−2−ブチル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、メトキシ、エトキシ、ホルミル、アセチルまたはCF3から選択される。 The anions according to formulas (I) and (III), in particular the anion X n− , of the ionic liquid IL are
Formula: F -, Cl -, Br -, I -, BF 4 -, PF 6 -, AlCl 4 -, Al 2 Cl 7 -, Al 3 Cl 10 -, AlBr 4 -, CF 3 SO 3 -, (CF 3 SO 3 ) 2 N , CF 3 CO 2 , CCl 3 CO 2 , CN , SCN , OCN , NO 2 , NO 3 halide ions and halogen compounds,
A group of sulfate ions, sulfite ions and sulfonate ions of the formulas: SO 4 2− , HSO 4 , SO 3 2− , HSO 3 , R a OSO 3 , R a SO 3 ;
A group of phosphate ions of the formulas PO 4 3− , HPO 4 2− , H 2 PO 4 , R a PO 4 2− , HR a PO 4 −, R a R b PO 4 ;
A group of phosphonate ions and phosphinate ions of the formulas R a HPO 3 , R a R b PO 2 , R a R b PO 3 ;
General formula: R a COO - group of carboxylate ions,
General formula: BO 3 3− , HBO 3 2− , H 2 BO 3 , R a R b BO 3 , R a HBO 3 , R a BO 3 2− , B (OR a ) (OR b ) (OR b ) ( OR c ) (OR d ) , B (HSO 4 ) , B (R a SO 4 )
A group of boronic acid ions of the general formulas: R a BO 2 2− , R a R b BO ;
A group of carbonates and carbonates of the general formula: HCO 3 , CO 3 2− , R a CO 3 ;
General formula:
Figure 2018523016
Carboximide, bis (sulfonyl) imide and sulfonylimide group of
Selected from the group of alkoxides and aryloxides of the general formula: R a O , wherein R a , R b , R c and R d in the anion are each independently hydrogen or C 1 -C 12 -Alkyl and cycloalkyl substitution of the alkyl, halogen substitution, hydroxyl substitution, amino substitution, carboxyl substitution, formyl substitution, -O-substitution, -CO-substitution, -CO-O-substitution or -CO-N <substitution Ingredients such as methyl, ethyl, 1-propyl, 2-propyl, 1-butyl, 2-butyl, 2-methyl-1-propyl (isobutyl), 2-methyl-2-propyl (t-butyl), 1-pentyl 2-pentyl, 3-pentyl, 2-methyl-1-butyl, 3-methyl-1-butyl, 2-methyl-2-butyl, 3-methyl-2-butyl, 2,2-dimethyl Til-1-propyl, 1-hexyl, 2-hexyl, 3-hexyl, 2-methyl-1-pentyl, 3-methyl-1-pentyl, 4-methyl-1-pentyl, 2-methyl-2-pentyl, 3-methyl-2-pentyl, 4-methyl-2-pentyl, 2-methyl-3-pentyl, 3-methyl-3-pentyl, 2,2-dimethyl-1-butyl, 2,3-dimethyl-1- Butyl, 3,3-dimethyl-1-butyl, 2-ethyl-1-butyl, 2,3-dimethyl-2-butyl, 3,3-dimethyl-2-butyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, Selected from dodecyl, methoxy, ethoxy, formyl, acetyl or CF 3 .

より好ましくは、上記アニオン中のRa、Rb、RcおよびRdは、それぞれ独立して、水素原子または非置換のC1〜C12−アルキル基、好ましくはC1〜C6−アルキル基である。 More preferably, R a , R b , R c and R d in the anion are each independently a hydrogen atom or an unsubstituted C 1 -C 12 -alkyl group, preferably C 1 -C 6 -alkyl. It is a group.

特に好ましいアニオン、一層さらに特に好ましいアニオンXn-は、塩化物イオン、臭化物イオン、硫酸水素イオン、テトラクロロアルミン酸イオン、チオシアン酸イオン、メチル炭酸イオン、メチル硫酸イオン、エチル硫酸イオン、メタンスルホン酸イオン、ギ酸イオン、酢酸イオン、ジメチルリン酸イオン、ジエチルリン酸イオン、p−トリルスルホン酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミドおよびビス(メチルスルホニル)イミドである。 Particularly preferred anions, and even more particularly preferred anions X n− are chloride ion, bromide ion, hydrogen sulfate ion, tetrachloroaluminate ion, thiocyanate ion, methyl carbonate ion, methyl sulfate ion, ethyl sulfate ion, methanesulfonic acid. Ion, formate ion, acetate ion, dimethyl phosphate ion, diethyl phosphate ion, p-tolyl sulfonate ion, tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, bis (trifluoromethylsulfonyl) imide and bis (methylsulfonyl) ) Imido.

さらに特に好ましいアニオン、一層さらに特に好ましいアニオンXn-は、塩化物イオン、硫酸水素イオン、メチル硫酸イオン、エチル硫酸イオン、メタンスルホン酸イオン、ギ酸イオンおよび酢酸イオンである。 More particularly preferred anions, and even more particularly preferred anions X n− are chloride ion, hydrogen sulfate ion, methyl sulfate ion, ethyl sulfate ion, methanesulfonate ion, formate ion and acetate ion.

カチオンとして、
1−メチルイミダゾリウム、1−エチルイミダゾリウム、1−(1−ブチル)イミダゾリウム、1−(1−オクチル)イミダゾリウム、1−(1−ドデシル)イミダゾリウム、1−(1−テトラデシル)イミダゾリウム、1−(1−ヘキサデシル)イミダゾリウム、1,3−ジメチルイミダゾリウム、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム、1−(1−ブチル)−3−メチルイミダゾリウム、1−(1−ブチル)−3−エチルイミダゾリウム、1−(1−ヘキシル)−3−メチルイミダゾリウム、1−(1−ヘキシル)−3−エチルイミダゾリウム、1−(1−ヘキシル)−3−ブチルイミダゾリウム、1−(1−オクチル)−3−メチルイミダゾリウム、1−(1−オクチル)−3−エチルイミダゾリウム、1−(1−オクチル)−3−ブチルイミダゾリウム、1−(1−ドデシル)−3−メチルイミダゾリウム、1−(1−ドデシル)−3−エチルイミダゾリウム、1−(1−ドデシル)−3−ブチルイミダゾリウム、1−(1−ドデシル)−3−オクチルイミダゾリウム、1−(1−テトラデシル)−3−メチルイミダゾリウム、1−(1−テトラデシル)−3−エチルイミダゾリウム、1−(1−テトラデシル)−3−ブチルイミダゾリウム、1−(1−テトラデシル)−3−オクチルイミダゾリウム、1−(1−ヘキサデシル)−3−メチルイミダゾリウム、1−(1−ヘキサデシル)−3−エチルイミダゾリウム、1−(1−ヘキサデシル)−3−ブチルイミダゾリウム、1−(1−ヘキサデシル)−3−オクチルイミダゾリウム、1,2−ジメチルイミダゾリウム、1,2,3−トリメチルイミダゾリウム、1−エチル−2,3−ジメチルイミダゾリウム、1−(1−ブチル)−2,3−ジメチルイミダゾリウム、1−(1−ヘキシル)−2,3−ジメチルイミダゾリウム、1−(1−オクチル)−2,3−ジメチルイミダゾリウム、1,4−ジメチルイミダゾリウム、1,3,4−トリメチルイミダゾリウム、1,4−ジメチル−3−エチルイミダゾリウム、3−ブチルイミダゾリウム、1,4−ジメチル−3−オクチルイミダゾリウム、1,4,5−トリメチルイミダゾリウム、1,3,4,5−テトラメチルイミダゾリウム、1,4,5−トリメチル−3−エチルイミダゾリウム、1,4,5−トリメチル−3−ブチルイミダゾリウム、1,4,5−トリメチル−3−オクチルイミダゾリウムおよび1−ブチル−1−メチルピロリジニウムからなる群から選択される、少なくとも1個のカチオン、好ましくはちょうど1個のカチオンを含み、かつ
アニオンとして、塩化物イオン、臭化物イオン、硫酸水素イオン、テトラクロロアルミン酸イオン、チオシアン酸イオン、メチル硫酸イオン、エチル硫酸イオン、メタンスルホン酸イオン、ギ酸イオン、酢酸イオン、ジメチルリン酸イオン、ジエチルリン酸イオン、p−トリルスルホン酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオンおよびヘキサフルオロリン酸イオンからなる群から選択される、少なくとも1個のアニオン、好ましくはちょうど1個のアニオンを含む、イオン性液体が、特に好ましい。
As a cation,
1-methylimidazolium, 1-ethylimidazolium, 1- (1-butyl) imidazolium, 1- (1-octyl) imidazolium, 1- (1-dodecyl) imidazolium, 1- (1-tetradecyl) imidazole 1- (1-hexadecyl) imidazolium, 1,3-dimethylimidazolium, 1-ethyl-3-methylimidazolium, 1- (1-butyl) -3-methylimidazolium, 1- (1-butyl) ) -3-ethylimidazolium, 1- (1-hexyl) -3-methylimidazolium, 1- (1-hexyl) -3-ethylimidazolium, 1- (1-hexyl) -3-butylimidazolium, 1- (1-octyl) -3-methylimidazolium, 1- (1-octyl) -3-ethylimidazolium, 1- (1-octyl) -3- Tyrimidazolium, 1- (1-dodecyl) -3-methylimidazolium, 1- (1-dodecyl) -3-ethylimidazolium, 1- (1-dodecyl) -3-butylimidazolium, 1- (1 -Dodecyl) -3-octylimidazolium, 1- (1-tetradecyl) -3-methylimidazolium, 1- (1-tetradecyl) -3-ethylimidazolium, 1- (1-tetradecyl) -3-butylimidazolium 1- (1-tetradecyl) -3-octylimidazolium, 1- (1-hexadecyl) -3-methylimidazolium, 1- (1-hexadecyl) -3-ethylimidazolium, 1- (1-hexadecyl) ) -3-Butylimidazolium, 1- (1-hexadecyl) -3-octylimidazolium, 1,2-dimethylimidazolium 1,2,3-trimethylimidazolium, 1-ethyl-2,3-dimethylimidazolium, 1- (1-butyl) -2,3-dimethylimidazolium, 1- (1-hexyl) -2,3- Dimethylimidazolium, 1- (1-octyl) -2,3-dimethylimidazolium, 1,4-dimethylimidazolium, 1,3,4-trimethylimidazolium, 1,4-dimethyl-3-ethylimidazolium, 3-butylimidazolium, 1,4-dimethyl-3-octylimidazolium, 1,4,5-trimethylimidazolium, 1,3,4,5-tetramethylimidazolium, 1,4,5-trimethyl-3 -Ethylimidazolium, 1,4,5-trimethyl-3-butylimidazolium, 1,4,5-trimethyl-3-octylimidazolium and At least one cation selected from the group consisting of 1-butyl-1-methylpyrrolidinium, preferably containing exactly one cation, and as anions chloride, bromide, hydrogen sulfate, tetra Chloroaluminate ion, thiocyanate ion, methyl sulfate ion, ethyl sulfate ion, methanesulfonate ion, formate ion, acetate ion, dimethylphosphate ion, diethylphosphate ion, p-tolylsulfonate ion, tetrafluoroborate ion Particularly preferred are ionic liquids comprising at least one anion, preferably just one anion, selected from the group consisting of and hexafluorophosphate ions.

さらに、1,3−ジメチルイミダゾリウムメチルスルフェート、1,3−ジメチルイミダゾリウムハイドロジェンスルフェート、1,3−ジメチルイミダゾリウムジメチルホスフェート、1,3−ジメチルイミダゾリウムアセテート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムメチルスルフェート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムエチルスルフェート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムハイドロジェンスルフェート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムチオシアネート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムアセテート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムメタンスルホネート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムジエチルホスフェート、1−(1−ブチル)−3−メチルイミダゾリウムメチルスルフェート、1−(1−ブチル)−3−メチルイミダゾリウムハイドロジェンスルフェート、1−(1−ブチル)−3−メチルイミダゾリウムチオシアネート、1−(1−ブチル)−3−メチルイミダゾリウムアセテート、1−(1−ブチル)−3−メチルイミダゾリウムメタンスルホネート、メチルトリ(1−ブチル)アンモニウムメチルスルフェート、1−ブチル−1−メチルピロリジニウムジメチルホスフェート、N,N−ジメチルピペリジニウムおよびN,N−ジメチルモルホリニウムからなる群から選択されるイオン性液体ILが、特に好ましい。   Further, 1,3-dimethylimidazolium methyl sulfate, 1,3-dimethylimidazolium hydrogen sulfate, 1,3-dimethylimidazolium dimethyl phosphate, 1,3-dimethylimidazolium acetate, 1-ethyl-3- Methyl imidazolium methyl sulfate, 1-ethyl-3-methyl imidazolium ethyl sulfate, 1-ethyl-3-methyl imidazolium hydrogen sulfate, 1-ethyl-3-methyl imidazolium thiocyanate, 1-ethyl-3 -Methyl imidazolium acetate, 1-ethyl-3-methylimidazolium methanesulfonate, 1-ethyl-3-methylimidazolium diethyl phosphate, 1- (1-butyl) -3-methylimidazolium methyl sulfate, 1 (1-butyl) -3-methylimidazolium hydrogen sulfate, 1- (1-butyl) -3-methylimidazolium thiocyanate, 1- (1-butyl) -3-methylimidazolium acetate, 1- (1 -Butyl) -3-methylimidazolium methanesulfonate, methyl tri (1-butyl) ammonium methyl sulfate, 1-butyl-1-methylpyrrolidinium dimethyl phosphate, N, N-dimethylpiperidinium and N, N-dimethyl An ionic liquid IL selected from the group consisting of morpholinium is particularly preferred.

特に好ましい一実施形態においては、組成物Cは、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムメチルスルフェート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムエチルスルフェート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムハイドロジェンスルフェート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムアセテート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムメチルスルホネート、メチルトリ(1−ブチル)アンモニウムメチルスルフェート(MTBS)および1−ブチル−1−メチルピロリジニウムジメチルホスフェートからなる群から選択される少なくとも1種のイオン性液体ILを含む。   In one particularly preferred embodiment, composition C comprises 1-ethyl-3-methylimidazolium methyl sulfate, 1-ethyl-3-methylimidazolium ethyl sulfate, 1-ethyl-3-methylimidazolium hydrogen Rufate, 1-ethyl-3-methylimidazolium acetate, 1-ethyl-3-methylimidazolium methylsulfonate, methyltri (1-butyl) ammonium methylsulfate (MTBS) and 1-butyl-1-methylpyrrolidinium At least one ionic liquid IL selected from the group consisting of dimethyl phosphate.

一実施形態においては、前記組成物Cは、第一のイオン性液体IL1として、メチルトリ(1−ブチル)アンモニウムメチルスルフェート(MTBS)を含み、かつ第二のイオン性液体IL2として、1,3−ジメチルイミダゾリウムメチルスルフェート、1,3−ジメチルイミダゾリウムハイドロジェンスルフェート、1,3−ジメチルイミダゾリウムジメチルホスフェート、1,3−ジメチルイミダゾリウムアセテート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムメチルスルフェート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムハイドロジェンスルフェート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムチオシアネート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムアセテート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムメタンスルホネート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムジエチルホスフェート、1−(1−ブチル)−3−メチルイミダゾリウムメチルスルフェート、1−(1−ブチル)−3−メチルイミダゾリウムハイドロジェンスルフェート、1−(1−ブチル)−3−メチルイミダゾリウムチオシアネート、1−(1−ブチル)−3−メチルイミダゾリウムアセテート、1−(1−ブチル)−3−メチルイミダゾリウムメタンスルホネート、1−(1−ドデシル)−3−メチルイミダゾリウムメチルスルフェート、1−(1−ドデシル)−3−メチルイミダゾリウムハイドロジェンスルフェート、1−(1−テトラデシル)−3−メチルイミダゾリウムメチルスルフェート、1−(1−テトラデシル)−3−メチルイミダゾリウムハイドロジェンスルフェート、1−(1−ヘキサデシル)−3−メチルイミダゾリウムメチルスルフェートおよび1−(1−ヘキサデシル)−3−メチルイミダゾリウムハイドロジェンスルフェートからなる群から選択され、好ましくは、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムメチルスルフェート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムハイドロジェンスルフェート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムアセテートおよび1−エチル−3−メチルイミダゾリウムメタンスルホネートから選択される化合物を含む。   In one embodiment, the composition C comprises methyltri (1-butyl) ammonium methylsulfate (MTBS) as the first ionic liquid IL1, and 1,3 as the second ionic liquid IL2. -Dimethylimidazolium methyl sulfate, 1,3-dimethylimidazolium hydrogen sulfate, 1,3-dimethylimidazolium dimethyl phosphate, 1,3-dimethylimidazolium acetate, 1-ethyl-3-methylimidazolium methylsulfate 1-ethyl-3-methylimidazolium hydrogen sulfate, 1-ethyl-3-methylimidazolium thiocyanate, 1-ethyl-3-methylimidazolium acetate, 1-ethyl-3-methylimidazolium methanesulfonate, 1-Echi -3-methylimidazolium diethyl phosphate, 1- (1-butyl) -3-methylimidazolium methyl sulfate, 1- (1-butyl) -3-methylimidazolium hydrogen sulfate, 1- (1-butyl ) -3-Methylimidazolium thiocyanate, 1- (1-butyl) -3-methylimidazolium acetate, 1- (1-butyl) -3-methylimidazolium methanesulfonate, 1- (1-dodecyl) -3- Methyl imidazolium methyl sulfate, 1- (1-dodecyl) -3-methyl imidazolium hydrogen sulfate, 1- (1-tetradecyl) -3-methyl imidazolium methyl sulfate, 1- (1-tetradecyl)- 3-methylimidazolium hydrogen sulfate, 1- (1-he Sadecyl) -3-methylimidazolium methylsulfate and 1- (1-hexadecyl) -3-methylimidazolium hydrogen sulfate, preferably 1-ethyl-3-methylimidazolium methylsulfate And a compound selected from 1-ethyl-3-methylimidazolium hydrogen sulfate, 1-ethyl-3-methylimidazolium acetate and 1-ethyl-3-methylimidazolium methanesulfonate.

組成物Cのさらなる成分
本発明の組成物および本発明の方法で使用される組成物Cは、前記少なくとも1種のイオン性液体ILに加えて、さらなる成分を含んでよい。
Additional Components of Composition C The composition of the present invention and the composition C used in the method of the present invention may comprise further components in addition to the at least one ionic liquid IL.

これらの可能な例として、それにより所望の粘度および/または所望の融点が達成される添加剤が挙げられる。これらには、例えば、溶剤、特に水および/またはイオン性液体と混和可能な有機溶剤が含まれる。   These possible examples include additives by which the desired viscosity and / or the desired melting point is achieved. These include, for example, solvents, in particular organic solvents that are miscible with water and / or ionic liquids.

好ましい一実施形態においては、前記組成物Cは、
組成物C全体に対して、0質量%〜100質量%の、好ましくは60質量%〜90質量%の、より好ましくは60質量%〜80質量%の前記少なくとも1種のイオン性液体IL、
組成物C全体に対して、0質量%〜45質量%の、好ましくは0質量%〜30質量%の、より好ましくは1質量%〜30質量%の、最も好ましくは5質量%〜20質量%の少なくとも1種の溶剤S
を含む。
In a preferred embodiment, the composition C is
0% to 100%, preferably 60% to 90%, more preferably 60% to 80% by weight of the at least one ionic liquid IL, relative to the total composition C,
0% to 45% by weight, preferably 0% to 30% by weight, more preferably 1% to 30% by weight, most preferably 5% to 20% by weight, based on the entire composition C. At least one solvent S
including.

好ましい一実施形態においては、前記組成物Cは、上述の成分からなる。すなわち、上述の成分を足し合わせて100質量%となる。   In a preferred embodiment, the composition C consists of the components described above. That is, the above-mentioned components are added to make 100% by mass.

好ましくは、前記組成物Cは溶液であり、より具体的には、前記組成物Cの成分は、互いに均質に混和可能であるか、または前記組成物Cの成分は、均質に分配された形で存在する。より具体的には、前記組成物Cは、分子分散を有する溶液である。   Preferably, the composition C is a solution, more specifically, the components of the composition C are homogeneously miscible with each other, or the components of the composition C are in a homogeneously distributed form. Exists. More specifically, the composition C is a solution having molecular dispersion.

該組成物Cは、特に水、もしくは水およびイオン性液体ILと混和可能な有機溶剤、またはそれらの混合物を溶剤Sとして含んでよい。   The composition C may comprise as solvent S, in particular water or an organic solvent miscible with water and ionic liquid IL, or a mixture thereof.

前記組成物C(エッチング組成物)の粘度は、好ましくは、20mPasから200mPasまでの範囲、好ましくは30mPasから100mPasまでの範囲、より好ましくは30mPasから70mPasまでの範囲である(それぞれの場合に、60℃で動的手段により測定される粘度である)。   The viscosity of the composition C (etching composition) is preferably in the range from 20 mPas to 200 mPas, preferably in the range from 30 mPas to 100 mPas, more preferably in the range from 30 mPas to 70 mPas (in each case 60 Viscosity measured by dynamic means at ° C).

前記組成物Cの融点は、一般的に100℃未満であり、好ましくは室温(25℃)未満であり、特に好ましくは10℃未満であり、より好ましくは0℃未満である。   The melting point of the composition C is generally less than 100 ° C., preferably less than room temperature (25 ° C.), particularly preferably less than 10 ° C., and more preferably less than 0 ° C.

好ましくは、前記組成物Cは、水、プロピレンカーボネート、ポリエチレングリコール、グリコールおよびC1〜C6−カルボン酸のモノエステル、ジエステルもしくはトリエステル、特にジアセチン(グリセリルジアセテート)およびトリアセチン(グリセリルトリアセテート)、グリコール、特にエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコールおよびテトラエチレングリコールから選択される少なくとも1種の溶剤Sを含む。200g/mol〜4000g/molの、好ましくは200g/mol〜1000g/molの、より好ましくは200g/mol〜600g/molの範囲の分子量を有するポリエチレングリコールが好ましい。 Preferably, said composition C comprises water, propylene carbonate, polyethylene glycol, glycol and mono-esters, diesters or triesters of C 1 -C 6 -carboxylic acids, in particular diacetin (glyceryl diacetate) and triacetin (glyceryl triacetate), It contains at least one solvent S selected from glycols, in particular ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol and tetraethylene glycol. Polyethylene glycol having a molecular weight in the range of 200 g / mol to 4000 g / mol, preferably 200 g / mol to 1000 g / mol, more preferably 200 g / mol to 600 g / mol is preferred.

より好ましくは、前記組成物Cは、組成物C全体に対して、1質量%〜30質量%の、好ましくは5質量%〜20質量%の、より好ましくは7質量%〜15質量%の、プロピレンカーボネート、ポリエチレングリコール、特にPEG200、トリアセチンおよび水から選択される少なくとも1種の溶剤Sを含む。   More preferably, the composition C is 1% by mass to 30% by mass, preferably 5% by mass to 20% by mass, more preferably 7% by mass to 15% by mass, based on the entire composition C. At least one solvent S selected from propylene carbonate, polyethylene glycol, in particular PEG 200, triacetin and water.

好ましい一実施形態においては、前記組成物Cは、
組成物C全体に対して、49質量%〜94質量%の、好ましくは55質量%〜85質量%の、より好ましくは60質量%〜80質量%の、少なくとも1個のアルキルアンモニウムカチオンを含む、少なくとも1種の前記イオン性液体IL1、
組成物C全体に対して、5質量%〜50質量%の、好ましくは5質量%〜40質量%の、好ましくは10質量%〜40質量%の、また好ましくは5質量%〜20質量%の、より好ましくは10質量%〜20質量%の、カチオンとして非局在化カチオン電荷を有するとともに、少なくとも1個の窒素原子を含む少なくとも1個の芳香族複素環を含む、少なくとも1種の前記イオン性液体IL2、
組成物C全体に対して、1質量%〜30質量%の、好ましくは5質量%〜20質量%の、水、プロピレンカーボネート、ポリエチレングリコール、グリコールおよびC1〜C6−カルボン酸のモノエステル、ジエステルもしくはトリエステル、ならびにグリコールからなる群から選択され、好ましくは水、プロピレンカーボネート、ポリエチレングリコール、ジアセチン(グリセリルジアセテート)、トリアセチン(グリセリルトリアセテート)、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコールおよびテトラエチレングリコールからなる群から選択される少なくとも1種の溶剤S
を含む。
In a preferred embodiment, the composition C is
49% to 94%, preferably 55% to 85%, more preferably 60% to 80% by weight of at least one alkylammonium cation, based on the total composition C, At least one ionic liquid IL1,
5% to 50% by weight, preferably 5% to 40% by weight, preferably 10% to 40% by weight, and preferably 5% to 20% by weight, based on the total composition C More preferably 10% to 20% by weight of at least one of said ions having a delocalized cationic charge as a cation and comprising at least one aromatic heterocycle containing at least one nitrogen atom Liquid IL2,
1% to 30% by weight, preferably 5% to 20% by weight of water, propylene carbonate, polyethylene glycol, glycol and monoester of C 1 -C 6 -carboxylic acid, based on the total composition C, Selected from the group consisting of diesters or triesters and glycols, preferably from water, propylene carbonate, polyethylene glycol, diacetin (glyceryl diacetate), triacetin (glyceryl triacetate), ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol and tetraethylene glycol At least one solvent S selected from the group consisting of
including.

もう一つの好ましい実施形態においては、前記組成物Cは、
組成物C全体に対して、49質量%〜94質量%の、好ましくは55質量%〜85質量%の、より好ましくは60質量%〜80質量%の前記少なくとも1種のイオン性液体IL1、
組成物C全体に対して、5質量%〜50質量%の、好ましくは5質量%〜30質量%の、より好ましくは5質量%〜20質量%の前記少なくとも1種のイオン性液体IL2、
組成物C全体に対して、1質量%〜30質量%の、好ましくは10質量%〜30質量%の、前記の少なくとも1種の溶剤S
を含む。
In another preferred embodiment, the composition C comprises
49% by weight to 94% by weight, preferably 55% by weight to 85% by weight, more preferably 60% by weight to 80% by weight of the at least one ionic liquid IL1, based on the entire composition C,
5% by weight to 50% by weight, preferably 5% by weight to 30% by weight, more preferably 5% by weight to 20% by weight of the at least one ionic liquid IL2, based on the entire composition C,
1% by weight to 30% by weight, preferably 10% by weight to 30% by weight, of said at least one solvent S relative to the whole composition C
including.

好ましい一実施形態においては、前記組成物Cは、溶剤Sとしてプロピレンカーボネートのみを含む。さらに、該組成物が、溶剤Sとしてプロピレンカーボネートおよび水の混合物を含み、その場合に、溶剤S全体に対するプロピレンカーボネートの割合は、少なくとも30質量%、好ましくは少なくとも50質量%、より好ましくは少なくとも90質量%であることが可能である。   In a preferred embodiment, the composition C contains only propylene carbonate as the solvent S. Furthermore, the composition comprises a mixture of propylene carbonate and water as solvent S, in which case the proportion of propylene carbonate with respect to the total solvent S is at least 30% by weight, preferably at least 50% by weight, more preferably at least 90%. It can be mass%.

前記組成物は、好ましくは、10質量%を上回る範囲、特に30質量%を上回る範囲、より好ましくは50質量%を上回る範囲、最も好ましくは80質量%を上回る範囲が前記少なくとも1種のイオン性液体ILからなる。特に好ましい一実施形態においては、前記組成物は、90質量%を上回る範囲、特に95質量%を上回る範囲が前記少なくとも1種のイオン性液体ILからなる。さらなる一実施形態においては、前記組成物は、前記イオン性液体の、好ましくは前記イオン性液体IL1およびIL2のうちの1種以上のみからなる。   The composition preferably has a range of greater than 10% by weight, in particular greater than 30% by weight, more preferably greater than 50% by weight, most preferably greater than 80% by weight of the at least one ionic. It consists of liquid IL. In a particularly preferred embodiment, the composition consists of the at least one ionic liquid IL in a range of more than 90% by weight, in particular more than 95% by weight. In a further embodiment, the composition consists of only one or more of the ionic liquids, preferably the ionic liquids IL1 and IL2.

前記イオン性液体および該イオン性液体を含むまたはそれからなる組成物Cは、好ましくは、20℃から100℃までの全温度範囲(常圧、1bar)にわたり液体である。   The ionic liquid and the composition C comprising or consisting of the ionic liquid are preferably liquid over the entire temperature range from 20 ° C. to 100 ° C. (normal pressure, 1 bar).

方法
本発明の方法の必須の要素は、特許請求の範囲に記載される、プラスチックまたはプラスチック表面の前処理である。金属による化学的被覆および電解被覆のための様々な方法工程、ならびにその目的のために必要または望ましい性能、調製および仕上げのためのさらなる措置は、多種多様な異なる実施形態において、先行技術、例えば独国特許出願公開第10054544号公報、Schlesingerら著の「現代の電気めっき(Modern Electroplating)」チャプター18,第450頁〜第457頁(第5版,2010,John Wiley&Sons Inc.,ISBN 978−0−470−16778−6)またはKanani著の「電気めっき技術(Galvanotechnik)」[Electroplating Technology](Carl Hanser出版,2000,ISBN 3−446−21024−5)に記載されている。
Method An essential element of the method of the invention is the pretreatment of plastics or plastic surfaces as claimed. Various process steps for chemical and electrolytic coating with metals, as well as further measures for the necessary or desirable performance, preparation and finishing for that purpose, are described in a wide variety of different embodiments in the prior art, e.g. Japanese Patent Application Publication No. 10054544, “Modern Electroplating” Chapter 18, pages 450 to 457 (5th edition, 2010, John Wiley & Sons Inc., ISBN 978-0-) by Schlesinger et al. 470-16778-6) or Kanani's “Galvanotechnik” [Electroplating Technology] (Carl Hanser Publishing, 2000, ISBN 3-446-21024). -5).

本発明の工程a)における前処理の前であっても、被覆されるプラスチック表面の清浄化および/または脱脂は、望ましいことがある。この種の清浄化および脱脂は、通常の清浄化組成物または洗浄剤を用いて行われる。   Even before the pretreatment in step a) of the present invention, it may be desirable to clean and / or degrease the plastic surface to be coated. This type of cleaning and degreasing is performed using conventional cleaning compositions or cleaning agents.

工程a)
本発明の方法は、工程a)において、プラスチック表面の、少なくとも1種のイオン性液体ILを含む組成物C(エッチング液)での前処理を含む。組成物Cの好ましいイオン性液体および任意のさらなる成分は、先に記載されている。
Step a)
The method according to the invention comprises in step a) a pretreatment of the plastic surface with a composition C (etching liquid) comprising at least one ionic liquid IL. Preferred ionic liquids and optional additional components of composition C are described above.

驚くべきことに、前記前処理の最適化された処理条件、特に温度および時間を遵守することで、特に有利な金属被覆が得られることが判明した。   Surprisingly, it has been found that adherence to the optimized processing conditions of the pretreatment, in particular temperature and time, results in a particularly advantageous metal coating.

好ましくは、工程a)におけるプラスチック表面の組成物Cによる前処理は、30℃〜120℃で、より好ましくは40℃〜120℃で、特に好ましくは50℃〜65℃で、最も好ましくは50℃〜60℃で行われる。好ましくは、前記組成物Cは、その目的のための前記の温度を有する。しばしば、被覆されるプラスチック表面、または被覆されるプラスチック成形品の先行する個別の加熱は必要とされない。   Preferably, the pretreatment of the plastic surface with composition C in step a) is at 30 ° C. to 120 ° C., more preferably at 40 ° C. to 120 ° C., particularly preferably at 50 ° C. to 65 ° C., most preferably at 50 ° C. Performed at ~ 60 ° C. Preferably, said composition C has the said temperature for that purpose. Often, prior individual heating of the plastic surface to be coated or the plastic molding to be coated is not required.

好ましくは、工程a)におけるプラスチック表面の組成物Cによる前処理は、1分〜60分、好ましくは1分〜30分、特に好ましくは2分〜20分、より好ましくは5分〜10分の時間にわたって行われる。   Preferably, the pretreatment of the plastic surface with composition C in step a) is from 1 minute to 60 minutes, preferably from 1 minute to 30 minutes, particularly preferably from 2 minutes to 20 minutes, more preferably from 5 minutes to 10 minutes. Done over time.

好ましくは、工程a)におけるプラスチック表面の組成物Cによる前処理は、50℃から65℃までの範囲の温度で、かつ5分〜20分の時間にわたって行われる。より好ましくは、工程a)におけるプラスチック表面の組成物Cによる前処理は、50℃から60℃までの範囲の温度で、かつ5分〜15分の時間にわたって行われる。   Preferably, the pretreatment of the plastic surface with composition C in step a) is carried out at a temperature in the range from 50 ° C. to 65 ° C. and for a period of from 5 minutes to 20 minutes. More preferably, the pretreatment of the plastic surface with composition C in step a) is carried out at a temperature in the range from 50 ° C. to 60 ° C. and for a period of from 5 minutes to 15 minutes.

好ましい一実施形態においては、本発明は、アクリロニトリル/ブタジエン/スチレンコポリマーABSからなるまたはそれを含むプラスチック表面、特にプラスチック成形品を被覆するための方法であって、工程a)における組成物Cによるプラスチック表面、特にプラスチック成形品の前処理が、50℃から60℃まで、好ましくは50℃から55℃までの範囲の温度で、かつ5分〜15分の、好ましくは5分〜10分の時間にわたって行われる方法に関する。アクリロニトリル/ブタジエン/スチレンコポリマー(ABS)からなるプラスチック表面またはそれを含むプラスチック表面は、本質的にABS、ABSを含むブレンド、例えばABS/PC(アクリロニトリル/ブタジエン/スチレンコポリマーおよびポリカーボネート)および/またはABSを含む多成分プラスチックからなるプラスチック成形品であってよい。   In a preferred embodiment, the present invention is a method for coating a plastic surface, in particular a plastic molding consisting of or comprising acrylonitrile / butadiene / styrene copolymer ABS, the plastic according to composition C in step a) The pretreatment of the surface, in particular the plastic molding, is carried out at a temperature in the range from 50 ° C. to 60 ° C., preferably in the range from 50 ° C. to 55 ° C. Relates to the method to be performed. A plastic surface comprising or containing acrylonitrile / butadiene / styrene copolymer (ABS) essentially comprises ABS, a blend comprising ABS, such as ABS / PC (acrylonitrile / butadiene / styrene copolymer and polycarbonate) and / or ABS. It may be a plastic molded product made of a multicomponent plastic.

好ましい一実施形態においては、被覆されるプラスチック表面、特に被覆されるプラスチック成形品は、好ましくは前記温度を有する組成物C中に浸される。この場合に、該組成物Cは、より良好な物質移動のためにかきまぜられてよく、それは、撹拌、ポンプ操作、空気吹込み等によって行うことができる。あるいはプラスチック表面自体が、組成物C中で電気めっきにおいて公知の特定の装置によって揺り動かされてもよい。当業者は、この目的のために適した方法を認識している。   In a preferred embodiment, the plastic surface to be coated, in particular the plastic molding to be coated, is preferably immersed in the composition C having said temperature. In this case, the composition C may be agitated for better mass transfer, which can be done by stirring, pumping, air blowing and the like. Alternatively, the plastic surface itself may be rocked by specific equipment known in electroplating in composition C. Those skilled in the art are aware of suitable methods for this purpose.

組成物Cの必要とされる量は、プラスチック表面が所望の程度で濡らされるように調節される。プラスチック表面またはプラスチック成形品は、完全にまたは部分的に浸漬させてもよい。   The required amount of composition C is adjusted so that the plastic surface is wetted to the desired degree. The plastic surface or plastic molding may be completely or partially immersed.

前記組成物C(エッチング液)の粘度は、好ましくは、20mPasから200mPasまでの範囲、好ましくは30mPasから100mPasまでの範囲、より好ましくは30mPasから70mPasまでの範囲である(動的、60℃)。   The viscosity of the composition C (etching solution) is preferably in the range of 20 mPas to 200 mPas, preferably in the range of 30 mPas to 100 mPas, more preferably in the range of 30 mPas to 70 mPas (dynamic, 60 ° C.).

工程b)
本発明の方法は、工程b)において、工程a)からのプラスチック表面を、超音波をかけながら水性すすぎ溶液RSで処理することを含む。工程b)における処理は、特に付着している組成物Cを除去することができるが、部分的に溶解されたプラスチック粒子を表面から、特にプラスチック成形品の表面から除去することもできる。
Step b)
The method of the invention comprises in step b) treating the plastic surface from step a) with an aqueous rinse solution RS while applying ultrasound. The treatment in step b) can in particular remove the adhering composition C, but it is also possible to remove partially dissolved plastic particles from the surface, in particular from the surface of the plastic molding.

好ましい一実施形態においては、工程b)における、超音波をかけながらのプラスチック表面の水性すすぎ溶液RSでの処理は、工程a)からのプラスチック表面を、水性すすぎ溶液RSを含む超音波浴中に、1分〜30分の、好ましくは2分〜20分の、より好ましくは5分〜15分の時間にわたり浸すことによって行われる。特に、十分なすすぎは、1分〜2分後に、特に約90秒の時点で得ることが可能である。好ましくは、工程b)は、工程a)からのプラスチック表面を、水性すすぎ溶液RSを含む超音波浴中に、1分〜2分の時間にわたり、40℃から60℃までの範囲の温度で浸すことによって行われる。   In a preferred embodiment, the treatment of the plastic surface with an aqueous rinsing solution RS while applying ultrasonic waves in step b) is performed by placing the plastic surface from step a) in an ultrasonic bath containing the aqueous rinsing solution RS. It is carried out by soaking for a period of 1 minute to 30 minutes, preferably 2 minutes to 20 minutes, more preferably 5 minutes to 15 minutes. In particular, sufficient rinsing can be obtained after 1 to 2 minutes, especially at about 90 seconds. Preferably, step b) immerses the plastic surface from step a) in an ultrasonic bath containing an aqueous rinse solution RS for a period of 1 minute to 2 minutes at a temperature ranging from 40 ° C to 60 ° C. Is done by.

好ましい一実施形態においては、工程b)における、超音波をかけながらのプラスチック表面の、特にプラスチック成形品の水性すすぎ溶液RSでの処理は、工程a)からのプラスチック表面、特にプラスチック成形品を、水性すすぎ溶液RSを含む超音波浴中に、40ワット/Lから60ワット/Lまでの範囲の出力で、1分〜30分の時間にわたり、かつ40℃〜60℃の温度で浸すことによって行われ、ここで、前記水性すすぎ溶液RSは、少なくとも85質量%の、好ましくは少なくとも95質量%の水を含む。   In a preferred embodiment, the treatment of the plastic surface in step b) with ultrasonic treatment, in particular with an aqueous rinsing solution RS of the plastic molded article, gives the plastic surface from step a), in particular the plastic molded article, By immersing in an ultrasonic bath containing an aqueous rinse solution RS at a power in the range of 40 watts / L to 60 watts / L for a period of 1 minute to 30 minutes and at a temperature of 40 ° C. to 60 ° C. Here, said aqueous rinse solution RS comprises at least 85% by weight, preferably at least 95% by weight of water.

水性すすぎ溶液RSは、好ましくは、水、または水と1種以上の水混和性の有機溶剤との混合物を含み、ここで、水の割合は、それぞれの場合にすすぎ溶液全体に対して、一般に少なくとも85質量%、好ましくは少なくとも95質量%、より好ましくは少なくとも98質量%である。使用される有機溶剤は、公知の極性水混和性溶剤、例えばアルコールまたはジメチルスルホキシド(DMSO)であってよい。使用される有機溶剤は、特に、水混和性アルコール、例えばメタノール、エタノールまたはプロパノールであってよい。好ましい一実施形態においては、前記すすぎ溶液RSは、水のみからなる。   The aqueous rinse solution RS preferably comprises water or a mixture of water and one or more water-miscible organic solvents, wherein the proportion of water is generally in each case relative to the total rinse solution. At least 85% by weight, preferably at least 95% by weight, more preferably at least 98% by weight. The organic solvent used may be a known polar water-miscible solvent such as alcohol or dimethyl sulfoxide (DMSO). The organic solvent used may in particular be a water miscible alcohol such as methanol, ethanol or propanol. In a preferred embodiment, the rinsing solution RS consists only of water.

前記すすぎ溶液RSは、任意に、当業者に公知の添加物、例えば界面活性剤を含んでよい。   The rinse solution RS may optionally contain additives known to those skilled in the art, such as surfactants.

前記すすぎ溶液RSのpHは、好ましくは5から8までの範囲内、特に6から7までの範囲内である。好ましくは、複数の工程からなってもよい前記すすぎ工程b)は、10℃から80℃までの範囲内、好ましくは20℃から70℃までの範囲内、より好ましくは40℃〜60℃で行われる。   The pH of the rinsing solution RS is preferably in the range from 5 to 8, in particular in the range from 6 to 7. Preferably, said rinsing step b), which may consist of a plurality of steps, is carried out in the range from 10 ° C. to 80 ° C., preferably in the range from 20 ° C. to 70 ° C., more preferably from 40 ° C. to 60 ° C. Is called.

超音波処理は、好ましくは、20kHzから400kHzまでの、好ましくは30kHzから50kHzまでの範囲の周波数で行われる。超音波処理は、好ましくは、10ワット/Lから100ワット/Lまでの、好ましくは40ワット/Lから60ワット/Lまでの範囲の出力で行われる。特に好ましくは、超音波処理は、40ワット/Lから60ワット/Lまでの範囲の出力で、5分〜15分の時間にわたり、かつ40℃〜60℃の温度で行われる。さらに好ましくは、超音波処理は、40ワット/Lから60ワット/Lまでの範囲の出力で、1分〜2分の時間にわたり、かつ40℃〜60℃の温度で行われる。   Sonication is preferably performed at a frequency in the range of 20 kHz to 400 kHz, preferably 30 kHz to 50 kHz. Sonication is preferably performed at an output in the range of 10 watts / L to 100 watts / L, preferably 40 watts / L to 60 watts / L. Particularly preferably, the sonication is performed at a power in the range of 40 watts / L to 60 watts / L for a period of 5 minutes to 15 minutes and at a temperature of 40 ° C. to 60 ° C. More preferably, the sonication is performed at a power ranging from 40 watts / L to 60 watts / L for a time of 1 minute to 2 minutes and at a temperature of 40 ° C to 60 ° C.

好ましくは、工程b)は、複数のすすぎ工程、特に超音波をかけないさらなるすすぎ工程を含んでよい。好ましくは、工程b)におけるプラスチック表面の水性すすぎ溶液RSでの処理は、追加の工程として、該プラスチック表面を少なくとも1種のさらなる水性すすぎ溶液RS、特に水で処理することを含んでよく、その処理は、例えば前記プラスチック表面に吹き付けるか、または該表面を浸すことによって行われてよい。   Preferably, step b) may comprise a plurality of rinsing steps, in particular further rinsing steps without applying ultrasonic waves. Preferably, the treatment of the plastic surface with an aqueous rinse solution RS in step b) may comprise, as an additional step, treating the plastic surface with at least one further aqueous rinse solution RS, in particular with water, The treatment may be performed, for example, by spraying on or immersing the plastic surface.

好ましい一実施形態は、前記の方法であって、工程b)が、以下の工程:
b1)プラスチック表面、特にプラスチック成形品に第一の水性すすぎ溶液RS1を吹き付けるか、またはプラスチック表面、特にプラスチック成形品を第一の水性すすぎ溶液RS1中に浸すことによって、工程a)からのプラスチック表面、特にプラスチック成形品を第一の水性すすぎ溶液RS1で処理する工程、
b2)工程b1)からのプラスチック表面、特にプラスチック成形品を、超音波をかけながら第二の水性すすぎ溶液RS2で処理する工程
を含む(好ましくは該工程からなる)方法に関する。
One preferred embodiment is the method as described above, wherein step b) comprises the following steps:
b1) Plastic surface from step a) by spraying the first aqueous rinse solution RS1 on the plastic surface, in particular plastic molding, or by immersing the plastic surface, in particular plastic molding, in the first aqueous rinse solution RS1 , In particular the process of treating the plastic molding with the first aqueous rinsing solution RS1,
b2) relates to a method comprising (preferably consisting of) the step of treating the plastic surface from step b1), in particular a plastic molding, with a second aqueous rinse solution RS2 while applying ultrasound.

本発明の方法、特に工程a)および/またはb)は、部分的にまたは完全に、連続的にまたは準連続的に行われ得る。   The process according to the invention, in particular steps a) and / or b), can be carried out partially or completely, continuously or semi-continuously.

一実施形態においては、前記組成物Cは、工程a)の後に回収され、完全にまたは部分的にエッチング工程a)の元へと供給される(再循環)。組成物Cの再循環は、例えば溶解されたプラスチックを水または有機溶剤により沈殿させた後に、溶解されたプラスチックを濾過により除去することによって行うことができる。沈殿のために利用された媒質/媒体は、引き続き蒸留によって回収され得る。溶解されたプラスチックの揮発性成分は該組成物から直接的な蒸留によって除去することも可能である。このようにして、精製された再利用可能な組成物Cを得ることが可能である。   In one embodiment, the composition C is recovered after step a) and fed completely or partially into the etching step a) (recirculation). The recycling of the composition C can be carried out, for example, by precipitating the dissolved plastic with water or an organic solvent and then removing the dissolved plastic by filtration. The medium / medium utilized for precipitation can subsequently be recovered by distillation. The dissolved plastic volatile components can also be removed from the composition by direct distillation. In this way it is possible to obtain a purified reusable composition C.

好ましい一実施形態においては、すすぎ溶液RSは、工程b)の後に、特に工程b1)および/またはb2)の後に回収され、完全にまたは部分的に、すすぎ工程b)、特にすすぎ工程b1)および/またはb2)の元へと供給される(再循環)。好ましくは、その使用済みすすぎ溶液は、例えば濾過によって事前に清浄化される。   In a preferred embodiment, the rinsing solution RS is recovered after step b), in particular after step b1) and / or b2) and completely or partly, rinsing step b), in particular rinsing step b1) and And / or to b2) (recirculation). Preferably, the spent rinsing solution is pre-cleaned, for example by filtration.

すすぎ溶液RSの再循環は、例えばその中に存在するプラスチックを、好ましくは濾過によって除去することによって行うことができる。このようにして、清浄化された再利用可能なすすぎ溶液(一般的に、水およびイオン性液体ILの混合物である)を得ることが可能であり、そのすすぎ溶液は、その後に完全にまたは部分的にすすぎ工程b1)および/またはb2)へと再循環され得る。好ましくは、回収されたすすぎ溶液の一部は、特にその回路内において、すすぎ溶液RS中でイオン性液体が濃縮されることを防ぐために排出される。   Recirculation of the rinsing solution RS can be effected, for example, by removing the plastic present therein, preferably by filtration. In this way, it is possible to obtain a cleaned and reusable rinse solution (generally a mixture of water and ionic liquid IL), which is then completely or partially Thus, it may be recycled to the rinsing step b1) and / or b2). Preferably, a portion of the collected rinsing solution is drained to prevent the ionic liquid from being concentrated in the rinsing solution RS, particularly in the circuit.

工程c)
本発明の方法は、工程c)において、工程b)からのプラスチック表面を、少なくとも1種のイオノゲン活性化剤および/またはコロイド状活性化剤、特に少なくとも1種のパラジウム成分P、好ましくは少なくとも1種のコロイド状パラジウム成分Pを含む活性化剤組成物Aで処理することを含む。
Step c)
The process according to the invention comprises in step c) that the plastic surface from step b) is subjected to at least one ionogen activator and / or colloidal activator, in particular at least one palladium component P, preferably at least one. Treatment with activator composition A comprising a seed colloidal palladium component P.

一般的に、工程c)は、特に工程d)との組み合わせにおいて、金属核、好ましくはパラジウム、銀または金の、より好ましくはパラジウムの金属核を適用することを含む。工程b)は、一般的に活性化と呼ばれる。好ましくは、活性化の様式と工程e)における第一の金属被覆とは、互いに適合される。   In general, step c) comprises applying a metal core, preferably of palladium, silver or gold, more preferably of palladium, particularly in combination with step d). Step b) is generally called activation. Preferably, the mode of activation and the first metal coating in step e) are adapted to each other.

活性化のために知られる方法は、例えば慣用のコロイド活性化(パラジウム/スズコロイドの適用)、イオノゲン活性化(パラジウムカチオンの適用)、直接金属化またはUdique Plato(登録商標)、Enplate MID selectまたはLDS Processの名称で知られる方法である。   Known methods for activation include, for example, conventional colloidal activation (application of palladium / tin colloid), ionogen activation (application of palladium cation), direct metallization or Udique Plate®, Enplate MID select or LDS. It is a method known by the name of Process.

例えば、イオノゲン系による活性化は、まずプラスチック表面をスズ(II)イオンで処理することによって達成でき、その際、一般的に、該スズ(II)イオンで処理した後に水ですすぐことで、酸化スズ水和物の固着したゲルが形成される。パラジウム塩溶液での後続の処理において、スズ(II)化学種による還元を通じてプラスチック表面上に、通常はパラジウム核が形成され、これらが一般的に、後の化学めっき(工程(e))のための触媒/金属核として作用する。   For example, ionogen-based activation can be achieved by first treating the plastic surface with tin (II) ions, generally by rinsing with water after treatment with the tin (II) ions. A solid gel of tin hydrate is formed. In subsequent treatment with a palladium salt solution, palladium nuclei are usually formed on the plastic surface through reduction with tin (II) species, which are generally due to subsequent chemical plating (step (e)). Acting as a catalyst / metal nucleus.

コロイド系による活性化のために、貴金属コロイド組成物、特に周期律表の金族(第I遷移族)および白金族のコロイドを使用することが可能である。パラジウム、銀または金のコロイド溶液、特に好ましくはパラジウムのコロイド溶液を使用することが好ましい。該コロイド溶液中では、金属核、例えばパラジウム核は、一般的に保護コロイドのシェルによって取り囲まれている。好ましくは、塩化パラジウムと塩化スズ(II)との過剰の塩酸の存在下での反応により形成するパラジウムコロイド溶液を使用することが可能である。   For activation by colloidal systems, it is possible to use noble metal colloid compositions, in particular colloids of the metals of the periodic table (transition group I) and of the platinum group. It is preferred to use a colloidal solution of palladium, silver or gold, particularly preferably a colloidal solution of palladium. In the colloidal solution, metal nuclei, for example palladium nuclei, are generally surrounded by a shell of protective colloid. Preferably, it is possible to use a colloidal palladium solution formed by the reaction of palladium chloride and tin (II) chloride in the presence of excess hydrochloric acid.

活性化剤組成物A中の少なくとも1種のイオノゲン活性化剤および/またはコロイド状活性化剤Pの濃度は、一般的に20mg/L〜150mg/Lである。   The concentration of at least one ionogen activator and / or colloidal activator P in activator composition A is generally 20 mg / L to 150 mg / L.

一般的なパラジウム含有活性化剤および活性化工程のさらなる詳細は、Annual Book of ASTM Standard,Vol.02.05「Metallic and Inorganic Coatings;Metal Powders,Sintered P/M Structural Parts」,Standard Practice for Preparation of Plastic Materials for Electroplating,1995,第446頁〜第450頁に記載されている。   For further details of general palladium-containing activators and activation processes, see Annual Book of ASTM Standard, Vol. 02.05 “Metallic and Inorganic Coatings; Metal Powders, Sintered P / M Structural Parts”, Standard Practical for Preparation of Plastic Materials for Electron, No. 4 to No.

一般的に、使用される活性化剤Pは、標準的な市販のパラジウム活性化剤、例えばHSO社製の「Activator U」またはSurtec社製の「Surtec 961 Pd」であってよい。   In general, the activator P used may be a standard commercially available palladium activator, such as “Activator U” from HSO or “Surtec 961 Pd” from Surtec.

工程d)
本発明の方法は、工程d)において、工程c)からのプラスチック表面を、酸および/または還元剤を含む促進剤組成物Bで処理することを含む。
Step d)
The method of the present invention comprises in step d) treating the plastic surface from step c) with an accelerator composition B comprising an acid and / or a reducing agent.

プラスチック表面の促進剤組成物Bによる処理は、特に表面上に(特に窪みに)吸着された金属核、特にパラジウム核、銀核または金核から保護コロイドのシェルを除去し、および/または該吸着された金属塩を金属へと還元する。プラスチック表面の促進剤組成物Bによる処理は、一般的に、プラスチック表面上の金属核、好ましくはパラジウム、銀または金の金属核、より好ましくはパラジウムの金属核をもたらす。これらの金属核は、一般的に、工程e)における後続の化学的金属析出のための出発点(触媒)として働く。   The treatment of the plastic surface with the promoter composition B removes the protective colloid shell from the metal nuclei, in particular palladium nuclei, silver nuclei or gold nuclei adsorbed on the surface (especially in the depressions) and / or the adsorption. The reduced metal salt is reduced to a metal. Treatment of the plastic surface with accelerator composition B generally results in metal nuclei on the plastic surface, preferably palladium, silver or gold metal nuclei, more preferably palladium metal nuclei. These metal nuclei generally serve as starting points (catalysts) for subsequent chemical metal deposition in step e).

本発明によれば、促進剤組成物B)は、保護金属コロイドのシェルを除去し、および/または表面に存在する金属塩を金属へと還元するために特に適している少なくとも1種の還元剤および/または酸を含む。好ましくは、前記少なくとも1種の還元剤は、アルカリ金属、アンモニウムまたはアルカリ土類金属のフルオロホウ酸塩、例えばテトラフルオロホウ酸ナトリウム(NaBF4)、過酸化物、亜硫酸塩、亜硫酸水素塩、ヒドラジンおよびそれらの塩、ヒドロキシルアミンおよびそれらの塩から選択される。好ましくは、前記少なくとも1種の酸は、塩酸、メタンスルホン酸、クエン酸、アスコルビン酸、酒石酸、テトラフルオロホウ酸(HBF4)から選択される。 According to the invention, the promoter composition B) is at least one reducing agent which is particularly suitable for removing the protective metal colloid shell and / or for reducing the metal salts present on the surface to metal. And / or an acid. Preferably, said at least one reducing agent is an alkali metal, ammonium or alkaline earth metal fluoroborate such as sodium tetrafluoroborate (NaBF 4 ), peroxide, sulfite, bisulfite, hydrazine and Selected from their salts, hydroxylamine and their salts. Preferably, the at least one acid is selected from hydrochloric acid, methanesulfonic acid, citric acid, ascorbic acid, tartaric acid, tetrafluoroboric acid (HBF 4 ).

促進剤組成物BのpHは、特に0から7までの範囲内、好ましくは1から2までの範囲内に設定され得る。   The pH of the accelerator composition B can be set in particular in the range from 0 to 7, preferably in the range from 1 to 2.

促進剤組成物B中の酸および/または還元剤の濃度は、一般的に、0.4N〜0.5Nであり、その濃度は、特に0.45N(pH1.5)である。   The concentration of the acid and / or reducing agent in the accelerator composition B is generally 0.4N to 0.5N, and the concentration is in particular 0.45N (pH 1.5).

一般的な促進剤組成物および促進工程のさらなる詳細は、Annual Book of ASTM Standard,Vol.02.05「Metallic and Inorganic Coatings;Metal Powders,Sintered P/M Structural Parts」,Standard Practice for Preparation of Plastic Materials for Electroplating,1995,第446頁〜第450頁に記載されている。   For further details of general accelerator compositions and acceleration processes, see Annual Book of ASTM Standard, Vol. 02.05 “Metallic and Inorganic Coatings; Metal Powders, Sintered P / M Structural Parts”, Standard Practical for Preparation of Plastic Materials for Electron, No. 4 to No.

一般的に、使用される促進剤組成物Bは、標準的な市販の促進剤、例えばHSO社製の「HSO Accelerator」またはSurtec社製の「Surtec 961 A」であってよい。   In general, the accelerator composition B used may be a standard commercial accelerator, such as “HSO Accelerator” from HSO or “Surtec 961 A” from Surtec.

工程e)
本発明の方法のさらなる要素は、一般的に無電解手段により行われる、第一の金属被覆と呼ばれる被覆(化学的金属析出)の適用である。一般的に、無電解手段によって適用される第一の層(シード層)は、ニッケル、銅、クロムまたはそれらの合金の層である。ニッケルおよび/または銅の1層以上の層が好ましい。本質的にニッケルからなるちょうど1層が特に好ましい。
Step e)
A further element of the method of the present invention is the application of a coating (chemical metal deposition), referred to as the first metal coating, generally performed by electroless means. Generally, the first layer (seed layer) applied by electroless means is a layer of nickel, copper, chromium or their alloys. One or more layers of nickel and / or copper are preferred. Particularly preferred is just one layer consisting essentially of nickel.

本発明の方法は、工程e)において、工程d)からのプラスチック表面、特にプラスチック成形品を、少なくとも1種の金属塩、好ましくはニッケル(II)塩および少なくとも1種の還元剤、好ましくはインサイチュー還元剤を含む被覆組成物M1で処理することによって、金属層、好ましくは本質的にニッケルからなる金属層を化学的に析出させることを含む。   The process according to the invention comprises in step e) the plastic surface from step d), in particular a plastic molded article, at least one metal salt, preferably a nickel (II) salt and at least one reducing agent, preferably in situ. It involves chemically depositing a metal layer, preferably a metal layer consisting essentially of nickel, by treatment with a coating composition M1 containing a chew reducing agent.

さらに好ましくは、工程e)は、工程d)からの表面を、少なくとも1種のニッケル(II)塩および/または少なくとも1種の銅(II)塩ならびに少なくとも1種の還元剤、好ましくはインサイチュー還元剤を含む被覆組成物M1で処理することによって、本質的にニッケルおよび/または銅からなる金属層を化学的に析出させることを含む。   More preferably, step e) comprises at least one nickel (II) salt and / or at least one copper (II) salt and at least one reducing agent, preferably in situ. It involves chemically depositing a metal layer consisting essentially of nickel and / or copper by treatment with a coating composition M1 containing a reducing agent.

一般的な被覆組成物M1は、例えばSchlesingerら著の「現代の電気めっき(Modern Electroplating)」(第5版、2010,John Wiley&Sons Inc.,ISBN 978−0−470−16778−6)の第451頁に記載されている。   A typical coating composition M1 is, for example, 451 of “Modern Electroplating” by Schlesinger et al. (5th edition, 2010, John Wiley & Sons Inc., ISBN 978-0-470-16778-6). Page.

好ましくは、工程d)からのプラスチック表面またはプラスチック成形品は、ニッケル、銅、クロムまたはそれらの合金、より好ましくはニッケルまたはニッケル合金からなる金属層で被覆される。   Preferably, the plastic surface or plastic molding from step d) is coated with a metal layer consisting of nickel, copper, chromium or their alloys, more preferably nickel or nickel alloys.

好ましくは、該金属塩は、ニッケル塩、銅塩およびクロム塩、例えばハロゲン化物または硫酸塩から選択される。好ましくは、前記被覆組成物M1は、少なくとも1種のニッケル塩、例えば硫酸ニッケルを含む。   Preferably, the metal salt is selected from nickel salts, copper salts and chromium salts such as halides or sulfates. Preferably, the coating composition M1 comprises at least one nickel salt, such as nickel sulfate.

前記被覆組成物M1中の少なくとも1種の金属塩、特に少なくとも1種のニッケル塩の濃度は、一般的に15g/Lから35g/Lまでの範囲内である。   The concentration of at least one metal salt, in particular at least one nickel salt, in the coating composition M1 is generally in the range from 15 g / L to 35 g / L.

該被覆組成物M1のpHは、一般的に4から11までの範囲内である。原則的に、緩衝剤系の種類に応じて、酸性組成物またはアルカリ性組成物の間で区別され得る。酸性の方法の場合には、該被覆組成物M1のpHは、一般的に4から7まで、好ましくは4から6までの範囲内である。アルカリ性の方法の場合には、そのpHは、一般的に7より高く11まで、好ましくは8から10までの範囲内である。好ましくは、該pHは、約9に設定される。   The pH of the coating composition M1 is generally in the range of 4 to 11. In principle, depending on the type of buffer system, a distinction can be made between acidic or alkaline compositions. In the case of an acidic process, the pH of the coating composition M1 is generally in the range from 4 to 7, preferably from 4 to 6. In the case of alkaline processes, the pH is generally higher than 7 and up to 11, preferably 8 to 10. Preferably, the pH is set to about 9.

好ましくは、前記被覆組成物M1は、過酸化水素、過酸化物、次亜リン酸塩、次リン酸塩(次リン酸ナトリウム)、ボランおよびボラン誘導体(例えば、アミノボラン、例えばジメチルアミノボラン、ホウ水素化ナトリウム)およびヒドラジンからなる群から選択される、少なくとも1種の還元剤、特にインサイチュー還元剤を含む。   Preferably, the coating composition M1 comprises hydrogen peroxide, peroxide, hypophosphite, hypophosphate (sodium hypophosphate), borane and borane derivatives (eg aminoborane such as dimethylaminoborane, boron At least one reducing agent selected from the group consisting of sodium hydride) and hydrazine, in particular in situ reducing agents.

被覆組成物M1中の還元剤の濃度は、一般的に15g/L〜30g/Lである。   The concentration of the reducing agent in the coating composition M1 is generally 15 g / L to 30 g / L.

一般的に、化学的ニッケル浴のための被覆組成物M1は、例えばSchlesingerら著の「現代の電気めっき(Modern Electroplating)」(第5版、2010,John Wiley&Sons Inc.,ISBN 978−0−470−16778−6)のチャプター18.3に記載される当業者に公知の一般的な、さらなる成分および添加剤を含んでよい。一般的に、前記被覆組成物M1は、ニッケルイオンのための錯化剤、好ましくはカルボン酸およびヒドロキシカルボン酸、例えばコハク酸、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸および/または乳酸、ならびに酢酸、プロピオン酸、マレイン酸、フマル酸および/またはイタコン酸を含んでよい。使用される緩衝剤は、一般的に、クエン酸塩、酢酸塩、リン酸塩およびアンモニウム塩であってよい。   In general, coating compositions M1 for chemical nickel baths are described in, for example, “Modern Electroplating” by Schlesinger et al. (5th edition, 2010, John Wiley & Sons Inc., ISBN 978-0-470). General components and additives known to those skilled in the art described in chapter 18.3 of -16778-6) may be included. In general, the coating composition M1 is a complexing agent for nickel ions, preferably carboxylic acids and hydroxycarboxylic acids such as succinic acid, citric acid, malic acid, tartaric acid and / or lactic acid, and acetic acid, propionic acid. , Maleic acid, fumaric acid and / or itaconic acid. The buffering agents used can generally be citrate, acetate, phosphate and ammonium salts.

一般的に、使用される被覆組成物M1は、無電解ニッケル析出のための標準的な市販の被覆浴、例えばHSO社製の「Electroless Nickel 601KB」またはSurtec社製の「Surtec 3/11D」であってよい。   In general, the coating composition M1 used is a standard commercial coating bath for electroless nickel deposition, such as “Electroless Nickel 601KB” from HSO or “Surtec 3 / 11D” from Surtec. It may be.

工程d)の実施の間の被覆組成物M1の酸性の方法の場合の温度は、一般的に60℃〜100℃であり、アルカリ性の方法の場合の温度は、一般的に25℃から50℃までの範囲内である。   The temperature in the case of the acidic method of the coating composition M1 during the implementation of step d) is generally between 60 ° C. and 100 ° C., and the temperature in the case of the alkaline method is generally between 25 ° C. and 50 ° C. Within the range.

工程f)
本発明の方法の工程f)は、最終的に、金属層、好ましくは本質的にニッケル、銅および/またはクロムからなる1層以上の層の電気化学的析出を含む。工程f)は、特に、1層、2層または2層より多くの異なる電気化学的な被覆を含んでよい。
Step f)
Step f) of the method of the invention finally comprises an electrochemical deposition of one or more layers of metal, preferably consisting essentially of nickel, copper and / or chromium. Step f) may comprise in particular one layer, two layers or more than two different electrochemical coatings.

本発明の方法によって、金属層、特に前記の化学的に析出されたニッケル層に続いて電気化学的に析出されるニッケル層、銅層およびクロム層の、例えばABSからできたプラスチック表面への付着性を改善することができるか、または前記付着性をともかく多くのプラスチックに関して事実上可能にすることができる。前記金属層の達成される付着性は、機械的応力がかかっていても、または高い温度の場合にさえも非常に良好である。さらに、本発明の方法により得られる金属表面は、特に有利には、一様な構造を有する。   By the method according to the invention, the deposition of metal layers, in particular nickel, copper and chromium layers which are electrochemically deposited following said chemically deposited nickel layer, for example on plastic surfaces made of ABS Can be improved, or the adhesion can be made practical for many plastics anyway. The adhesion achieved of the metal layer is very good even under mechanical stress or even at high temperatures. Furthermore, the metal surface obtained by the method of the invention has a particularly uniform structure.

本発明の方法は、工程f)において、工程e)からのプラスチック表面、特にプラスチック成形品を、少なくとも1種の金属化合物を含む少なくとも1種の被覆組成物M’で電気化学的に処理することによって、工程e)からのプラスチック表面、特にプラスチック成形品を、少なくとも1層のさらなる金属層で電気化学的に被覆することを含む。   The method of the invention electrochemically treats in step f) the plastic surface from step e), in particular a plastic molding, with at least one coating composition M ′ comprising at least one metal compound. By electrochemically coating the plastic surface from step e), in particular a plastic molding, with at least one further metal layer.

好ましくは、工程f)は、プラスチック表面、特にプラスチック成形品を、本質的に銅からなる少なくとも1層の金属層で電気化学的に被覆することを含む。この目的のために、該プラスチック表面、特にプラスチック成形品は、少なくとも1種の銅化合物、好ましくは少なくとも1種の銅(II)塩を含む被覆組成物M2による電気化学的電解に供される。   Preferably step f) comprises electrochemically coating a plastic surface, in particular a plastic molding, with at least one metal layer consisting essentially of copper. For this purpose, the plastic surface, in particular a plastic molding, is subjected to electrochemical electrolysis with a coating composition M2 comprising at least one copper compound, preferably at least one copper (II) salt.

好ましくは、工程f)は、プラスチック表面、特にプラスチック成形品を、本質的にクロムからなる少なくとも1層の金属層で電気化学的に被覆することを含む。この目的のために、該プラスチック表面、特にプラスチック成形品は、好ましくは、少なくとも1種のクロム化合物、好ましくはクロム酸、クロム酸誘導体、クロム(VI)塩およびクロム(III)塩から選択される少なくとも1種のクロム化合物を含む被覆組成物M3と接触され、そして電気化学的電解に供される。   Preferably step f) comprises electrochemically coating a plastic surface, in particular a plastic molding, with at least one metal layer consisting essentially of chromium. For this purpose, the plastic surface, in particular a plastic molding, is preferably selected from at least one chromium compound, preferably chromic acid, a chromic acid derivative, a chromium (VI) salt and a chromium (III) salt. Contacted with a coating composition M3 comprising at least one chromium compound and subjected to electrochemical electrolysis.

好ましくは、本発明は、前記の方法であって、工程f)における電気化学的な被覆が、以下の工程:
f1)工程e)からの表面、特にプラスチック成形品を、少なくとも1種の銅化合物、特にCu(II)塩および/または少なくとも1種のニッケル化合物、特にNi(II)塩を含む被覆組成物M2で処理することによって、工程e)からの表面、特にプラスチック成形品を、本質的に銅および/またはニッケルからなる層で電気化学的に被覆する工程と、
f2)工程f1)からの表面、特にプラスチック成形品を、少なくとも1種のクロム化合物を含む、特にクロム酸、クロム酸誘導体、クロム(VI)塩およびクロム(III)塩から選択される少なくとも1種のクロム化合物を含む被覆組成物M3で処理することによって、工程f1)からの表面、特にプラスチック成形品を、本質的にクロムからなる層で電気化学的に被覆する工程と
を含む(好ましくは該工程からなる)。
Preferably, the present invention is the method as described above, wherein the electrochemical coating in step f) comprises the following steps:
f1) A coating composition M2 comprising at least one copper compound, in particular a Cu (II) salt and / or at least one nickel compound, in particular a Ni (II) salt, on the surface from step e), in particular a plastic molding. Electrochemically coating the surface from step e), in particular the plastic molding, with a layer consisting essentially of copper and / or nickel;
f2) The surface from step f1), in particular the plastic molding, contains at least one chromium compound, in particular at least one selected from chromic acid, chromic acid derivatives, chromium (VI) salts and chromium (III) salts Electrochemically coating the surface from step f1), in particular a plastic molding, with a layer consisting essentially of chromium by treatment with a coating composition M3 comprising a chromium compound of Process).

好ましくは、工程f1)において、工程e)からの表面は、工程e)からの表面を、少なくとも1種の銅化合物を含む、特に少なくとも1種のCu(II)塩を含む被覆組成物M2で処理することによって、本質的に銅からなる層で電気化学的に被覆される。さらに好ましくは、工程f1)において、工程e)からの表面は、本質的に銅からなる1層以上の層および本質的にクロムからなる1層以上の層で電気化学的に被覆される。好ましい被覆順序(工程(e)、工程(f1)および工程(f2))は、以下の通りであってよい:
Ni(化学)→SB−Ni→B−Ni→CrまたはNi(化学)→Cu→SB−Ni→B−Ni→CrまたはCu(化学)→SB−Ni→B−Ni→CrまたはCu(化学)→Cu→SB−Ni→B−Ni→Cr(ここで、SB−Niは、半光沢ニッケル層であり、かつB−Niは、光沢ニッケル層である。)
Preferably, in step f1), the surface from step e) is the surface from step e) with a coating composition M2 comprising at least one copper compound, in particular comprising at least one Cu (II) salt. By treatment, it is electrochemically coated with a layer consisting essentially of copper. More preferably, in step f1), the surface from step e) is electrochemically coated with one or more layers consisting essentially of copper and one or more layers consisting essentially of chromium. A preferred coating sequence (step (e), step (f1) and step (f2)) may be as follows:
Ni (chemical)->SB-Ni->B-Ni-> Cr or Ni (chemical)->Cu->SB-Ni->B-Ni-> Cr or Cu (chemical)->SB-Ni->B-Ni-> Cr or Cu (chemical) ) → Cu → SB—Ni → B—Ni → Cr (where SB—Ni is a semi-bright nickel layer and B—Ni is a bright nickel layer.)

一般的に、前記被覆組成物M2は、少なくとも1種の銅塩、好ましくは少なくとも1種の銅(II)塩、例えば硫酸銅(CuSO4)を含む。一般的に、前記被覆組成物M2は、少なくとも1種の銅塩、水および酸、例えば硫酸、アルキルスルホン酸、例えばメタンスルホン酸を含む。一般的に、前記被覆組成物M2は、さらなる添加剤として、この用途のために慣用の添加剤、例えば界面活性剤、光沢剤、抑制剤またはレベラーを含んでよい。 Generally, the coating composition M2 comprises at least one copper salt, preferably at least one copper (II) salt, such as copper sulfate (CuSO 4 ). Generally, the coating composition M2 comprises at least one copper salt, water and an acid such as sulfuric acid, alkyl sulfonic acid such as methane sulfonic acid. In general, the coating composition M2 may contain, as further additives, additives customary for this application, such as surfactants, brighteners, inhibitors or levelers.

一般的に、使用される被覆組成物M2は、標準的な市販の銅電解浴、例えばHSO社製の「Copper HD 500」またはSurtec社製の「Surtec 867」であってよい。   In general, the coating composition M2 used may be a standard commercially available copper electrolytic bath, such as “Copper HD 500” from HSO or “Surtec 867” from Surtec.

一般的に、前記被覆組成物M3は、少なくとも1種のクロム塩および/またはクロム酸、好ましくは少なくとも1種のクロム(III)塩および/またはクロム(VI)塩、より好ましくはクロム酸H2CrO4および/または三酸化クロムCrO3を含む。一般的に、前記被覆組成物M3は、少なくとも1種のクロム化合物、特にクロム酸、水および触媒としての酸、例えば硫酸(H2SO4)、フッ化水素酸(HF)、ヘキサフルオロケイ酸(H2SiF6)、アルキルスルホン酸、例えばメタンスルホン酸から選択される少なくとも1種の酸を含む。一般的に、前記被覆組成物M3は、さらなる添加剤として、この用途のために公知の界面活性剤を含んでよい。 Generally, the coating composition M3 comprises at least one chromium salt and / or chromic acid, preferably at least one chromium (III) salt and / or chromium (VI) salt, more preferably chromic acid H 2. CrO 4 and / or chromium trioxide CrO 3 is included. In general, the coating composition M3 comprises at least one chromium compound, in particular chromic acid, water and an acid as a catalyst, such as sulfuric acid (H 2 SO 4 ), hydrofluoric acid (HF), hexafluorosilicic acid. (H 2 SiF 6 ), at least one acid selected from alkyl sulfonic acids such as methane sulfonic acid. In general, the coating composition M3 may contain surfactants known for this application as further additives.

本発明の方法は、1回以上のすすぎ工程を、それぞれの場合に前記の工程a)〜f)の前および/または後に含んでよい。特に工程f)の後には、プラスチック表面、特にプラスチック成形品は、すすがれ、好ましくは水ですすがれ、および/または乾燥され得る。   The method according to the invention may comprise one or more rinsing steps in each case before and / or after the above-mentioned steps a) to f). In particular, after step f), the plastic surface, in particular the plastic molding, can be rinsed, preferably rinsed with water and / or dried.

図面の説明
図1における電子顕微鏡写真は、比較例C1(単純なすすぎ工程による)により得られたABS表面(上方の図)および本発明による超音波処理を伴う本発明の実施例I1により得られたABS表面(下方の図)を示している。例C1およびI1において、MTBS:EMIM−OAc(95:5)から構成されるエッチング剤を使用した。それらのABS表面は、70℃で10分間にわたりエッチングした。
図2は、本発明の工程a)およびb)の1つの可能な構成を示す。ここでの符号は、以下の意味を有する:
(I)前処理浴(工程(a))
(II)吹き付け装置の回収容器(工程(b1))
(III)吹き付けノズル(工程(b1))
(IV)超音波すすぎ浴(工程(b2))
(V)、(VI)フィルタ
(1)成形品の(II)への進行経路
(2)成形品の(IV)への進行経路
(3)吹き付け溶液、つまり第一の吹き付け溶液の除去
(4)超音波浴すすぎ溶液、つまり第二のすすぎ溶液の除去
(5)清浄化されたすすぎ溶液の進行経路
(5.1)、(5.2)清浄化されたすすぎ溶液の(II)/(IV)への再循環
(6.1)、(6.2)除去されたプラスチックの排出
(7)清浄化されたすすぎ溶液の一部の排出
DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The electron micrograph in FIG. 1 is obtained by the ABS surface (upper view) obtained by Comparative Example C1 (by a simple rinsing process) and Example I1 of the present invention with sonication according to the present invention. The ABS surface (bottom view) is shown. In Examples C1 and I1, an etchant composed of MTBS: EMIM-OAc (95: 5) was used. Their ABS surfaces were etched at 70 ° C. for 10 minutes.
FIG. 2 shows one possible configuration of steps a) and b) of the present invention. The symbols here have the following meanings:
(I) Pretreatment bath (step (a))
(II) Spraying device collection container (step (b1))
(III) Spray nozzle (step (b1))
(IV) Ultrasonic rinse bath (step (b2))
(V), (VI) Filter (1) Progress path to molded article (II) (2) Progress path to molded article (IV) (3) Removal of spray solution, that is, first spray solution (4) ) Removal of the ultrasonic bath rinse solution, i.e. the second rinse solution (5) Progress path of the cleaned rinse solution (5.1), (5.2) (II) / ( IV) Recirculation to (6.1), (6.2) Discharge of the removed plastic (7) Discharge of a part of the cleaned rinse solution

図2は、方法工程a)、b1)およびb2)の一実施形態を示す。成形品は、少なくとも1種のイオン性液体ILを含む処理浴(I)中に浸漬される(工程(a))。該成形品が(1)を介して吹き付けステップ((II)および(III)からなる吹き付け装置)へと進行方向に移動するときに、該成形品の表面上にあるイオン性液体および部分的に溶解されたプラスチック粒子の一部はそれと一緒に連行される(取り込まれる)。該吹き付け装置(回収容器(II)および吹き付けノズル(III))において、成形品に第一のすすぎ溶液RSを吹き付けることによって、該成形品から付着している組成物Cがすすぎ落とされる(工程b1)。使用済みのすすぎ溶液は、回収容器中に回収され、(3)を介してフィルタ(VI)へと送達される。該成形品が(2)を介して、第二のすすぎ溶液RSを含む超音波すすぎ浴(IV)へと進行方向に移動する(工程(b2))ときに、該成形品の表面上にあるイオン性液体および第一のすすぎ溶液および部分的に溶解されたプラスチック粒子の一部は再びそれと一緒に連行される。該成形品は超音波浴中に浸漬され、滞留時間後にその浴から取り出され、さらなる方法工程に送られる。超音波浴(IV)においては、連続的な方式で、第二のすすぎ溶液はその浴から(4)を介して取り出され、フィルタ(V)へと供給される。さらに、清浄化されたすすぎ溶液は(5)、(5.1)および(5.2)を介して(II)および(IV)へと供給される。該フィルタ(V)および(VI)において、ポリマーは使用済みのすすぎ溶液から濾別され、排出される。清浄化されたすすぎ溶液は(5)を介してプロセスへと再循環され、一部は(7)を介して排出される。   FIG. 2 shows an embodiment of the method steps a), b1) and b2). The molded article is immersed in a treatment bath (I) containing at least one ionic liquid IL (step (a)). The ionic liquid and partly on the surface of the molded product as it moves in the direction of travel through (1) to the spraying step (the spraying device consisting of (II) and (III)) Some of the dissolved plastic particles are entrained (incorporated) with it. In the spraying device (collection container (II) and spray nozzle (III)), the first rinsing solution RS is sprayed on the molded product, so that the composition C adhering to the molded product is rinsed off (step b1). ). The spent rinse solution is collected in a collection container and delivered via (3) to the filter (VI). The molded article is on the surface of the molded article as it moves in the direction of travel through (2) to the ultrasonic rinse bath (IV) containing the second rinse solution RS (step (b2)). The ionic liquid and the first rinse solution and part of the partially dissolved plastic particles are again entrained with it. The shaped article is immersed in an ultrasonic bath, removed from the bath after a residence time and sent to further process steps. In the ultrasonic bath (IV), in a continuous manner, the second rinse solution is removed from the bath via (4) and supplied to the filter (V). Further, the cleaned rinse solution is fed to (II) and (IV) via (5), (5.1) and (5.2). In the filters (V) and (VI), the polymer is filtered off from the spent rinse solution and discharged. The cleaned rinse solution is recycled to the process via (5) and a portion is discharged via (7).

本発明を、以下の実施例により詳細に説明する。   The invention is illustrated in detail by the following examples.

実施例1
1.1 エッチング作用の試験のための一般的試験方法
ABS(Styrolution社製のアクリロニトリル/ブタジエン/スチレンターポリマーTerluran(登録商標)GP 35)の60mm×30mm×2mmの寸法のプラークを、70℃で2Lの撹拌されたイオン性液体(組成物C)中に10分間にわたり浸漬させる。エッチングが完了した後に、その基材を水ですすぐ。本発明による実施例では、そのプラークは、引き続き超音波水浴中で処理される。
Example 1
1.1 General Test Method for Testing Etching Action Plaques of 60 mm × 30 mm × 2 mm in ABS (acrylonitrile / butadiene / styrene terpolymer Terluran® GP 35 from Styrolution) at 70 ° C. Immerse in 2 L of stirred ionic liquid (Composition C) for 10 minutes. After etching is complete, the substrate is rinsed with water. In an embodiment according to the invention, the plaque is subsequently processed in an ultrasonic water bath.

エッチング作用をSEM分析によって確認すると、新しい表面構造を呈している(図1を参照)。   When the etching action is confirmed by SEM analysis, it shows a new surface structure (see FIG. 1).

1.2 超音波すすぎ工程の有無におけるエッチング成果の比較
エッチング工程を、前記の通りにABS試験プラークにおいて、MTBS/EMIMの質量比95:5において、メチルトリ(1−ブチル)アンモニウムメチルスルフェート(MTBS)および1−エチル−3−メチルイミダゾリウムアセテート(EMIM−OAc)から構成されるエッチング液を使用して行った。
1.2 Comparison of etching results with and without ultrasonic rinsing process The etching process was carried out in the ABS test plaque as described above, at an MTBS / EMIM mass ratio of 95: 5, with methyltri (1-butyl) ammonium methylsulfate (MTBS). ) And 1-ethyl-3-methylimidazolium acetate (EMIM-OAc).

エッチング工程(工程(a))の後に、該ABS試験プラークを、50℃の水浴中に10分間にわたって浸漬する(C1)か、または50℃で10分間にわたり超音波(6Lの水、280W、つまり約50W/Lに相当、35kHz)で処理する(I1)か、のいずれかを行った。   After the etching step (step (a)), the ABS test plaque is immersed in a 50 ° C. water bath for 10 minutes (C1) or ultrasonically (6 L of water, 280 W, ie, 10 minutes at 50 ° C. Either (I1) was performed at 35 kHz) corresponding to about 50 W / L.

図1におけるSEM画像は、比較例C1(単純なすすぎ工程による)により得られたABS表面(上方の図)および本発明による超音波処理を伴う本発明による実施例I1により得られたABS表面(下方の図)を示している。   The SEM image in FIG. 1 shows the ABS surface obtained by Comparative Example C1 (by a simple rinsing process) (upper figure) and the ABS surface obtained by Example I1 according to the invention with sonication according to the invention ( The lower figure).

そのSEM画像において、超音波すすぎ工程により、エッチング液によって部分的に溶解された、その部分的に溶解されたプラスチック粒子のより大幅な除去がもたらされたことが分かる。超音波処理を行わなかったSEM画像C1においては、多量の多孔質プラスチック残分が、はっきりと見られる。超音波処理を行ったSEM画像I1においては、そのような残分は、全体的に存在しない。超音波処理を行ったSEM画像は、後続のめっき(メタライゼーション)工程の実行のために特に良好な適性を有する形態を有する均質にエッチングされたABS表面を呈している。   In the SEM image, it can be seen that the ultrasonic rinsing process resulted in a greater removal of the partially dissolved plastic particles that were partially dissolved by the etchant. In the SEM image C1 that was not subjected to sonication, a large amount of porous plastic residue is clearly seen. In the SEM image I1 subjected to the ultrasonic treatment, such a residue does not exist as a whole. The sonicated SEM image exhibits a homogeneously etched ABS surface with a morphology that has particularly good suitability for performing subsequent plating (metallization) steps.

実施例2 − エッチング条件の変動
ABS試験プラークを、エッチング作用の試験のために先に記載された一般的試験法によって処理した。
Example 2-Variation of etching conditions ABS test plaques were processed by the general test method described above for testing of etching action.

全ての場合に使用されるエッチング液(組成物C)は、MTBS/EMIM−ETSO4/PCの質量比80:10:10における、メチルトリ(1−ブチル)アンモニウムメチルスルフェート(MTBS)、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムエチルスルフェート(EMIM−EtSO4)およびプロピレンカーボネート(PC)の混合物であった。以下の第1表に記載される様々なエッチング条件(温度および時間)が確立された。 The etchant (Composition C) used in all cases was methyltri (1-butyl) ammonium methyl sulfate (MTBS), 1- 1 at a mass ratio of MTBS / EMIM-ETSO 4 / PC of 80:10:10. It was a mixture of ethyl-3-methyl imidazolium ethyl sulfate (EMIM-EtSO 4) and propylene carbonate (PC). Various etching conditions (temperature and time) described in Table 1 below were established.

エッチング作用をSEM分析によって確認すると、新しい表面構造を呈していた。   When the etching action was confirmed by SEM analysis, it exhibited a new surface structure.

エッチングおよびすすぎの後に、その試験プラークをめっきした(メタライゼーション)。この目的のために、以下の処理工程を行った:
活性化剤組成物Aでの処理→促進剤組成物Bでの処理→被覆組成物M1を使用するニッケルの化学的無電解析出→被覆組成物M’を使用する銅の電解析出。
After etching and rinsing, the test plaque was plated (metallization). For this purpose, the following processing steps were performed:
Treatment with activator composition A → treatment with accelerator composition B → chemical electroless deposition of nickel using coating composition M1 → electrolytic deposition of copper using coating composition M ′.

以下の製品を使用した:
活性化剤組成物A
HSO社製の「Activator U」またはSurtec社製の「Surtec 961 Pd」
促進剤組成物B
HSO社製の「HSO Accelerator」またはSurtec社製の「Surtec 961 A」
被覆組成物M1
HSO社製の「Electroless Nickel 601KB」またはSurtec社製の「Surtec 3/11D」
被覆組成物M’
HSO社製の「Copper HD 500」またはSurtec社製の「Surtec 867」
The following products were used:
Activator composition A
"Activator U" made by HSO or "Surtec 961 Pd" made by Surtec
Accelerator composition B
"HSO Accelerator" manufactured by HSO or "Surtec 961 A" manufactured by Surtec
Coating composition M1
"Electroless Nickel 601KB" manufactured by HSO or "Surtec 3 / 11D" manufactured by Surtec
Coating composition M ′
"Copper HD 500" from HSO or "Surtec 867" from Surtec

金属被覆の品質は、ISO 2409:2007によるクロスカット試験と呼ばれる試験を用いて測定される。結果を、第1表にまとめる。   The quality of the metal coating is measured using a test called the cross cut test according to ISO 2409: 2007. The results are summarized in Table 1.

第1表:エッチング条件(工程(a))

Figure 2018523016
Table 1: Etching conditions (step (a))
Figure 2018523016

ABS表面を工程a)において45℃の温度で処理することによって、15分間のエッチング時間であっても、表面の均質な構造化を得ることができないことが分かる(P1)。エッチング温度が低すぎ、および/または処理時間が短すぎる場合には、その表面は不十分にしか粗面化されない。後続工程におけるめっき(メタライゼーション)のために必要とされる核生成は、不適当である。プラスチック表面と金属層との間の適当な付着性を有する層を生成することはできない(不十分な「押しボタン効果(push-button effect)」)。   It can be seen that by treating the ABS surface at a temperature of 45 ° C. in step a), a homogeneous structuring of the surface cannot be obtained even with an etching time of 15 minutes (P1). If the etching temperature is too low and / or the processing time is too short, the surface is only roughened. The nucleation required for plating (metallization) in the subsequent process is inappropriate. It is not possible to produce a layer with adequate adhesion between the plastic surface and the metal layer (insufficient “push-button effect”).

65℃のより高いエッチング温度で、および/または過度に長いエッチング時間によっては、プラスチック表面は過度に攻撃される(P5およびP6)。すなわち、その表面には裂け目が生じすぎて、不均質な構造化を呈する。   At higher etch temperatures of 65 ° C. and / or with excessively long etch times, the plastic surface is over attacked (P5 and P6). That is, the surface has too many crevices and exhibits a heterogeneous structure.

この実施例においては、50℃から60℃までの、より好ましくは50℃から55℃までの範囲内の温度で、かつ5分〜15分の時間で、ABS表面の特に有利な均質な表面構造化が得られた(P2ないしP4を参照)。最適なエッチングパラメータの場合には、「押しボタン効果」のために必要とされる窪み(空洞とも呼ばれる)が形成され、後続の金属層は良好な付着性を示す。最適なエッチング条件、例えば時間および温度は、プラスチックの種類、幾何学形状、射出成形パラメータまたは基材の古さにより変動し得る。   In this example, a particularly advantageous homogeneous surface structure of the ABS surface at a temperature in the range of 50 ° C. to 60 ° C., more preferably in the range of 50 ° C. to 55 ° C. and for a time of 5 to 15 minutes. Was obtained (see P2 to P4). For optimal etching parameters, the depressions (also called cavities) required for the “push button effect” are formed and the subsequent metal layer shows good adhesion. Optimal etching conditions, such as time and temperature, can vary depending on the type of plastic, geometry, injection molding parameters or the age of the substrate.

I 前処理浴(工程a)、 II 吹き付け装置の回収容器(工程b1)、 III 吹き付けノズル(工程b1)、 IV 超音波すすぎ浴(工程b2)、 V、VI フィルタ、 1 成形品のIIへの進行経路、 2 成形品のIVへの進行経路、 3 吹き付け溶液(第一の吹き付け溶液)の除去、 4 超音波浴すすぎ溶液(第二のすすぎ溶液)の除去、 5 清浄化されたすすぎ溶液の進行経路、 5.1、5.2 清浄化されたすすぎ溶液のII/IVへの再循環、 6.1、6.2 除去されたプラスチックの排出、 7 清浄化されたすすぎ溶液の一部の排出   I Pretreatment bath (step a), II Blowing device collection container (step b1), III Spray nozzle (step b1), IV Ultrasonic rinsing bath (step b2), V, VI filter, 1 Molded product to II Progression path, 2 progression path to the IV, 3 removal of spray solution (first spray solution), 4 removal of ultrasonic bath rinse solution (second rinse solution), 5 of cleaned rinse solution Path of travel 5.1, 5.2 Recirculation of the cleaned rinse solution to II / IV, 6.1, 6.2 Discharge of the removed plastic, 7 Part of the cleaned rinse solution Discharge

Claims (15)

プラスチック表面を金属で被覆するための方法であって、
a)プラスチック表面を、少なくとも1種のイオン性液体ILを含有する組成物C(エッチング液)で前処理する工程、
b)工程a)からのプラスチック表面を、超音波をかけながら水性すすぎ溶液RSで処理する工程、
c)工程b)からのプラスチック表面を、少なくとも1種のイオノゲン活性化剤および/またはコロイド状活性化剤を含む活性化剤組成物Aで処理する工程、
d)工程c)からのプラスチック表面を、酸および/または還元剤を含む促進剤組成物Bで処理する工程、
e)工程d)からのプラスチック表面を、少なくとも1種の金属塩および少なくとも1種の還元剤を含む被覆組成物M1で処理することによって、金属層を化学的に析出させる工程、
f)工程e)からの表面を、少なくとも1種の金属化合物を含む少なくとも1種の被覆組成物M’で電気化学的に処理することによって、工程e)からの表面を、少なくとも1層のさらなる金属層で電気化学的に被覆する工程
を含む方法。
A method for coating a plastic surface with metal,
a) pretreating a plastic surface with a composition C (etching liquid) containing at least one ionic liquid IL;
b) treating the plastic surface from step a) with an aqueous rinse solution RS while applying ultrasound;
c) treating the plastic surface from step b) with an activator composition A comprising at least one ionogen activator and / or colloidal activator;
d) treating the plastic surface from step c) with an accelerator composition B comprising an acid and / or a reducing agent;
e) chemically depositing the metal layer by treating the plastic surface from step d) with a coating composition M1 comprising at least one metal salt and at least one reducing agent;
f) Electrochemically treating the surface from step e) with at least one coating composition M ′ comprising at least one metal compound, thereby treating the surface from step e) with at least one further layer. Electrochemically coating with a metal layer.
前記イオン性液体ILは、100℃、1barで液状である塩である、請求項1に記載の方法。   The method of claim 1, wherein the ionic liquid IL is a salt that is liquid at 100 ° C. and 1 bar. 前記少なくとも1種のイオン性液体ILは、イミダゾリウムカチオン、ピリジニウムカチオン、ピラゾリウムカチオンおよびアルキルアンモニウムカチオンから選択されるカチオンを有する少なくとも1種の塩である、請求項1または2に記載の方法。   The method of claim 1 or 2, wherein the at least one ionic liquid IL is at least one salt having a cation selected from an imidazolium cation, a pyridinium cation, a pyrazolium cation and an alkylammonium cation. . 少なくとも1種のイオン性液体ILは、式(I):
Figure 2018523016
[式中、
Rは、非分枝鎖状および非置換のC1〜C18−アルキル、CH3O−(CH2CH2O)p−CH2CH2−またはCH3CH2O−(CH2CH2O)p−CH2CH2−であり、ここで、pは、0〜3であり、
1、R2およびR3は、それぞれ独立して、水素原子、非置換のC1〜C18−アルキル、2−ヒドロキシエチル、2−シアノエチル、2−(メトキシカルボニル)エチル、2−(エトキシカルボニル)エチル、2−(n−ブトキシカルボニル)エチル、塩素、CH3O−(CH2CH2O)p−CH2CH2−もしくはCH3CH2O−(CH2CH2O)p−CH2CH2−(前記式中、pは、0〜3である)であるか、
あるいは2個の隣接するR1基、R2基およびR3基は、式(I)中の窒素原子と一緒になって、飽和の非置換の5員ないし7員の環であり、
Xは、アニオンであり、かつ
nは、1、2または3である]のアルキルアンモニウムカチオンを有する塩である、請求項1から3までのいずれか1項に記載の方法。
The at least one ionic liquid IL has the formula (I):
Figure 2018523016
[Where:
R is unbranched and unsubstituted C 1 -C 18 - alkyl, CH 3 O- (CH 2 CH 2 O) p -CH 2 CH 2 - or CH 3 CH 2 O- (CH 2 CH 2 O) p -CH 2 CH 2 - and is, where, p is 0-3,
R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, unsubstituted C 1 -C 18 -alkyl, 2-hydroxyethyl, 2-cyanoethyl, 2- (methoxycarbonyl) ethyl, 2- (ethoxy carbonyl) ethyl, 2-(n-butoxycarbonyl) ethyl, chlorine, CH 3 O- (CH 2 CH 2 O) p -CH 2 CH 2 - or CH 3 CH 2 O- (CH 2 CH 2 O) p - CH 2 CH 2 — (wherein p is 0 to 3),
Or two adjacent R 1 , R 2 and R 3 groups, together with the nitrogen atom in formula (I), are saturated unsubstituted 5 to 7 membered rings;
The method according to any one of claims 1 to 3, wherein X is an anion, and n is 1, 2 or 3.
少なくとも1種のイオン性液体ILは、メチルトリ(1−ブチル)アンモニウムメチルスルフェート(MTBS)である、請求項1から4までのいずれか1項に記載の方法。   The method according to any one of claims 1 to 4, wherein the at least one ionic liquid IL is methyltri (1-butyl) ammonium methylsulfate (MTBS). 前記イオン性液体ILは、少なくとも1種の第一のイオン性液体IL1および少なくとも1種の第二のイオン性液体IL2の組み合わせであって、前記第一のイオン性液体IL1が、カチオンとして少なくとも1個のアルキルアンモニウムカチオンを含み、かつ前記第二のイオン性液体IL2が、カチオンとして非局在化カチオン電荷を有するとともに、少なくとも1個の窒素原子を含む少なくとも1個の芳香族複素環を含む、請求項1から5までのいずれか1項に記載の方法。   The ionic liquid IL is a combination of at least one first ionic liquid IL1 and at least one second ionic liquid IL2, wherein the first ionic liquid IL1 is at least 1 as a cation. Wherein the second ionic liquid IL2 has a delocalized cationic charge as a cation and includes at least one aromatic heterocycle containing at least one nitrogen atom. 6. A method according to any one of claims 1-5. 前記組成物Cは、メチルトリ(1−ブチル)アンモニウムメチルスルフェート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムメチルスルフェート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムエチルスルフェート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムハイドロジェンスルフェート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムチオシアネート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムアセテート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムメタンスルホネートおよび1−エチル−3−メチルイミダゾリウムジエチルホスフェートからなる群から選択される少なくとも1種のイオン性液体ILを含む、請求項1から6までのいずれか1項に記載の方法。   The composition C comprises methyl tri (1-butyl) ammonium methyl sulfate, 1-ethyl-3-methylimidazolium methyl sulfate, 1-ethyl-3-methylimidazolium ethyl sulfate, 1-ethyl-3-methyl Imidazolium hydrogen sulfate, 1-ethyl-3-methylimidazolium thiocyanate, 1-ethyl-3-methylimidazolium acetate, 1-ethyl-3-methylimidazolium methanesulfonate and 1-ethyl-3-methylimidazolium 7. The method according to any one of claims 1 to 6, comprising at least one ionic liquid IL selected from the group consisting of diethyl phosphate. 前記組成物Cは、組成物C全体に対して、1質量%〜30質量%の、水、プロピレンカーボネート、ポリエチレングリコール、ジアセチン、トリアセチン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコールおよびテトラエチレングリコールからなる群から選択される少なくとも1種の溶剤Sを含む、請求項1から7までのいずれか1項に記載の方法。   The composition C is composed of 1% to 30% by mass of water, propylene carbonate, polyethylene glycol, diacetin, triacetin, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, and tetraethylene glycol with respect to the entire composition C. The process according to claim 1, comprising at least one solvent S selected from: 前記組成物Cは、
組成物C全体に対して、49質量%〜94質量%の、少なくとも1個のアルキルアンモニウムカチオンを含む、少なくとも1種の前記イオン性液体IL1と、
組成物C全体に対して、5質量%〜50質量%の、カチオンとして非局在化カチオン電荷を有するとともに、少なくとも1個の窒素原子を含む少なくとも1個の芳香族複素環を含む、少なくとも1種のイオン性液体IL2と、
組成物C全体に対して、1質量%〜30質量%の、水、プロピレンカーボネート、ポリエチレングリコール、ジアセチン、トリアセチン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコールおよびテトラエチレングリコールからなる群から選択される少なくとも1種の溶剤Sと
を含む、請求項1から8までのいずれか1項に記載の方法。
The composition C is
At least one ionic liquid IL1 comprising 49% to 94% by weight of at least one alkylammonium cation, based on the total composition C;
5% by weight to 50% by weight, based on the total composition C, having at least one aromatic heterocycle having a delocalized cationic charge as a cation and containing at least one nitrogen atom A seed ionic liquid IL2, and
At least 1 selected from the group consisting of 1% to 30% by weight of water, propylene carbonate, polyethylene glycol, diacetin, triacetin, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, and tetraethylene glycol with respect to the entire composition C The process according to claim 1, comprising a seed solvent S.
前記プラスチック表面は、ポリアミド、ポリスチレンもしくはスチレン/アクリロニトリルコポリマー、アクリルエステル/スチレン/アクリロニトリルコポリマーおよびアクリロニトリル/ブタジエン/スチレンコポリマーから選択されるスチレンのコポリマー、または上述のプラスチックの少なくとも1種を含むブレンドおよび/または多成分プラスチックからなる表面またはそれらを含む表面である、請求項1から9までのいずれか1項に記載の方法。   Said plastic surface is a polyamide, polystyrene or a copolymer of styrene selected from styrene / acrylonitrile copolymers, acrylic esters / styrene / acrylonitrile copolymers and acrylonitrile / butadiene / styrene copolymers, or a blend comprising at least one of the aforementioned plastics and / or 10. A method according to any one of claims 1 to 9, which is a surface comprising or comprising a multicomponent plastic. 前記金属は、ニッケル、アルミニウム、銅、クロム、スズ、亜鉛およびそれらの合金から選択される少なくとも1種の金属を含む、請求項1から10までのいずれか1項に記載の方法。   The method according to any one of claims 1 to 10, wherein the metal includes at least one metal selected from nickel, aluminum, copper, chromium, tin, zinc, and alloys thereof. 前記プラスチック表面は、アクリロニトリル/ブタジエン/スチレンコポリマーからなるプラスチック表面またはそれを含むプラスチック表面であり、その場合に、工程a)における組成物Cによるプラスチック表面の前処理が、50℃から60℃までの範囲の温度で、かつ5分〜15分の時間にわたって行われる、請求項1から11までのいずれか1項に記載の方法。   Said plastic surface is a plastic surface consisting of acrylonitrile / butadiene / styrene copolymer or a plastic surface comprising it, in which case the pretreatment of the plastic surface with composition C in step a) is carried out at 50 ° C. to 60 ° C. 12. A process according to any one of claims 1 to 11, which is carried out at a temperature in the range and over a period of 5 to 15 minutes. 工程b)における、超音波をかけながらのプラスチック表面の水性すすぎ溶液RSでの処理は、工程a)からのプラスチック表面を、水性すすぎ溶液RSを含む超音波浴中に、40ワット/Lから60ワット/Lまでの範囲の出力で、1分〜30分の時間にわたり、かつ40℃〜60℃の温度で浸すことによって行われ、ここで、前記水性すすぎ溶液RSは、少なくとも85質量%の水を含む、請求項1から12までのいずれか1項に記載の方法。   In step b), the treatment of the plastic surface with an aqueous rinsing solution RS while applying ultrasound is carried out by applying the plastic surface from step a) in an ultrasonic bath containing the aqueous rinsing solution RS from 40 Watts / L to 60. At a power in the range of Watts / L for a period of 1 to 30 minutes and at a temperature of 40 ° C. to 60 ° C., wherein the aqueous rinse solution RS is at least 85% by weight of water The method according to claim 1, comprising: 工程b)は、以下の工程:
b1)プラスチック表面に第一の水性すすぎ溶液RS1を吹き付けるか、またはプラスチック表面を第一の水性すすぎ溶液RS1中に浸すことによって、工程a)からのプラスチック表面を第一の水性すすぎ溶液RS1で処理する工程、
b2)工程b1)からのプラスチック表面を、超音波をかけながら第二の水性すすぎ溶液RS2で処理する工程
を含む、請求項1から13までのいずれか1項に記載の方法。
Step b) comprises the following steps:
b1) Treating the plastic surface from step a) with the first aqueous rinse solution RS1 by spraying the plastic surface with the first aqueous rinse solution RS1 or immersing the plastic surface in the first aqueous rinse solution RS1 The process of
14. The method according to any one of claims 1 to 13, comprising the step of b2) treating the plastic surface from step b1) with a second aqueous rinse solution RS2 while applying ultrasound.
工程f)における電気化学的被覆は、以下の工程:
f1)工程e)からの表面を、少なくとも1種の銅化合物および/または少なくとも1種のニッケル化合物を含む被覆組成物M2で処理することによって、工程e)からの表面を、本質的に銅および/またはニッケルからなる層で電気化学的に被覆する工程と、
f2)工程f1)からの表面を、少なくとも1種のクロム化合物を含む被覆組成物M3で処理することによって、工程f1)からの表面を、本質的にクロムからなる層で電気化学的に被覆する工程と
を含む、請求項1から14までのいずれか1項に記載の方法。
The electrochemical coating in step f) comprises the following steps:
f1) By treating the surface from step e) with a coating composition M2 comprising at least one copper compound and / or at least one nickel compound, the surface from step e) is essentially treated with copper and And / or electrochemically coating with a layer of nickel;
f2) Electrochemically coating the surface from step f1) with a layer consisting essentially of chromium by treating the surface from step f1) with a coating composition M3 comprising at least one chromium compound. 15. The method according to any one of claims 1 to 14, comprising a step.
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