JP2018189920A - Color filter and method of manufacturing color filter - Google Patents

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豊治 寺田
新井 義之
Yoshiyuki Arai
義之 新井
岩出 卓
Taku Iwade
卓 岩出
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a color filter and a method of manufacturing a color filter with reduced manufacturing cost.SOLUTION: A color filter 10 comprises a translucent substrate 11, a black matrix part 12 laminated on the substrate 11 and having a plurality of penetration holes 121R, 121G and 121B penetrating in a thickness direction, a red coloring part 131R selectively transmitting light of a red wavelength band different from a wavelength band of blue light made incident, a green coloring part 131G selectively transmitting light of a green wavelength band different from a wavelength band of blue light made incident, and a color conversion part 132 provided on the inner side of the penetration holes 121R and 121G where the red coloring part 131R and the green coloring part 131G are provided, on the substrate 11, and including red quantum dots converting blue light made incident to light of a red wavelength band and green quantum dots converting blue light made incident to light of a green wavelength band.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、カラーフィルタおよびカラーフィルタの製造方法に関する。   The present invention relates to a color filter and a method for manufacturing a color filter.

表示装置のバックライト装置から放射される光を着色部で赤色、緑色、青色の光に変換するカラーフィルタが提案されている(例えば特許文献1参照)。この種のカラーフィルタは、バックライト装置から放射される光の損失をできるだけ低減するために、着色部の比率をできるだけ大きくしカラーフィルタでの光の損失を低減しているものが一般的である。   There has been proposed a color filter that converts light emitted from a backlight device of a display device into red, green, and blue light at a colored portion (see, for example, Patent Document 1). In general, this type of color filter reduces the loss of light in the color filter by increasing the ratio of the colored portions as much as possible in order to reduce the loss of light emitted from the backlight device as much as possible. .

ところが、着色部の比率が大きくなると、外部からカラーフィルタに入射し着色部で反射される光の割合が増大する。そうすると、コントラスト比が低下し、表示画像の品質が低下してしまう。従って、表示画像のコントラストを向上させるためには、カラーフィルタにおける着色部の占める割合を小さくすることが望まれる。但し、単にカラーフィルタにおける着色部の占める割合を小さくしただけでは、バックライト装置から放射され、カラーフィルタを透過する光の量が減少するため、表示画像の輝度が低下してしまう。   However, as the ratio of the colored portion increases, the proportion of light that enters the color filter from the outside and is reflected by the colored portion increases. If it does so, contrast ratio will fall and the quality of a display image will fall. Therefore, in order to improve the contrast of the display image, it is desired to reduce the proportion of the colored portion in the color filter. However, simply reducing the proportion of the colored portion in the color filter reduces the amount of light emitted from the backlight device and passing through the color filter, thereby reducing the brightness of the display image.

これに対して、LED等を光源に用いて着色部を透過する光の量を増加させることにより、カラーフィルタにおける着色部の占める割合を小さくしつつ表示画像の輝度の低下を抑制した表示装置が提案されている。この種の表示装置として、着色部の色に応じて異なる色の光を放射する色変換部が着色部に積層されたカラーフィルタを備えたものが提案されている。即ち、緑色の光を放射する緑色量子ドットを含む色変換部が緑色着色部に積層され、赤色の光を放射する赤色量子ドットを含む色変換部が赤色着色部に積層されている。   On the other hand, by increasing the amount of light transmitted through the colored portion using an LED or the like as a light source, a display device that suppresses a decrease in luminance of the display image while reducing the proportion of the colored portion in the color filter. Proposed. As this type of display device, a display device has been proposed that includes a color filter in which a color conversion unit that emits light of different colors according to the color of the coloring unit is stacked on the coloring unit. That is, a color conversion unit including green quantum dots that emit green light is stacked on the green coloring unit, and a color conversion unit including red quantum dots that emit red light is stacked on the red coloring unit.

特開2009−236982号公報JP 2009-236982 A

しかしながら、前述のような色変換部を有するカラーフィルタを製造する場合、着色部の色に応じて異なる色の光を放射する色変換部を積層する必要がある。そして、特にフォトリソグラフィ法を利用して色変換部を作製する場合、異なる色の光を放射する色変換部の種類の数に相当する回数だけ、組成物塗布工程、露光工程、現像工程を繰り返す必要がある。ここで、組成物塗布工程では、量子ドットを含む組成物をカラーフィルタの基となる基板の全面に塗布する。この場合、作製しようとするカラーフィルタの大きさが大きくなると、その分、組成物を多量に消費することとなり製造コストが増大してしまう。   However, when manufacturing a color filter having a color conversion unit as described above, it is necessary to stack color conversion units that emit light of different colors depending on the color of the coloring unit. In particular, when a color conversion part is manufactured using a photolithography method, the composition coating process, the exposure process, and the development process are repeated as many times as the number of types of color conversion parts that emit light of different colors. There is a need. Here, in the composition application step, a composition containing quantum dots is applied to the entire surface of the substrate that is the basis of the color filter. In this case, when the size of the color filter to be manufactured is increased, a large amount of the composition is consumed and the manufacturing cost is increased.

本発明は、上記事由に鑑みてなされたものであり、製造コストを低減できるカラーフィルタおよびカラーフィルタの製造方法を提供することを目的とする。   This invention is made | formed in view of the said reason, and it aims at providing the manufacturing method of the color filter which can reduce manufacturing cost, and a color filter.

上記目的を達成するために、本発明に係るカラーフィルタは、
透光性の基板と、
前記基板に積層され厚さ方向に貫通する複数の貫通孔を有する隔壁部と、
前記基板上における前記隔壁部に設けられた前記貫通孔の総数以下の複数の貫通孔の内側に設けられ、入射する光の波長帯域と異なる複数種類の波長帯域のうちのいずれか1つの波長帯域の光を選択的に透過させる着色部と、
前記基板上における、前記着色部が設けられた貫通孔の内側に設けられ、入射する光を、前記複数種類の波長帯域の光のうちのいずれか1つの波長帯域の光に変換する色変換物質を複数種類含む色変換部と、を備える。
In order to achieve the above object, the color filter according to the present invention comprises:
A translucent substrate;
A partition wall having a plurality of through holes stacked in the substrate and penetrating in the thickness direction,
One wavelength band of a plurality of types of wavelength bands different from a wavelength band of incident light provided inside a plurality of through holes equal to or less than the total number of the through holes provided in the partition wall on the substrate. A colored portion that selectively transmits light of
A color conversion material that is provided inside the through-hole provided with the coloring portion on the substrate and converts incident light into light in any one of the plurality of types of wavelength bands. A color conversion unit including a plurality of types.

本発明に係るカラーフィルタの製造方法は、
透光性を有する基板と、前記基板に積層され厚さ方向に貫通する複数の貫通孔を有する隔壁部と、前記基板上における前記隔壁部に設けられた前記貫通孔の総数以下の複数の貫通孔の内側に設けられ、入射する光の波長帯域と異なる複数種類の波長帯域のうちのいずれか1つの波長帯域の光を選択的に透過させる着色部と、色変換部とを備えるカラーフィルタの製造方法であって、
入射する光を前記入射する光の波長帯域と異なる複数種類の波長帯域の光のうちのいずれか1つの波長帯域の光に変換する色変換物質を複数種類含む組成物を塗布ヘッドの吐出口より吐出して、前記着色部が設けられた貫通孔の内側に塗布する組成物塗布工程を含む。
The method for producing a color filter according to the present invention includes:
A light-transmitting substrate, a partition wall portion having a plurality of through holes stacked on the substrate and penetrating in a thickness direction, and a plurality of through holes less than or equal to the total number of the through holes provided in the partition wall portion on the substrate A color filter that is provided inside a hole and includes a coloring unit that selectively transmits light in any one of a plurality of types of wavelength bands different from the wavelength band of incident light, and a color conversion unit A manufacturing method comprising:
A composition containing a plurality of types of color conversion substances for converting incident light into light of any one of a plurality of types of wavelength bands different from the wavelength band of the incident light is applied from an ejection port of the coating head. It includes a composition application step of discharging and applying the inside of the through hole provided with the colored portion.

本発明によれば、色変換部が、入射する光を、複数種類の波長帯域の光のうちのいずれか1つの波長帯域の光に変換する色変換物質を複数種類含む。これにより、互いに色が異なる複数種類の着色部が設けられた貫通孔の全てに同じ種類の色変換部を設けることができる。従って、各貫通孔に着色部を設けた後、同じ種類の色変換部の基となる組成物を一度塗布するだけでよいので、その分、使用する組成物の量が低減され製造コストが低減されるという利点がある。   According to the present invention, the color conversion unit includes a plurality of types of color conversion substances that convert incident light into light of any one of a plurality of types of wavelength bands. Thereby, the same kind of color conversion part can be provided in all of the through holes provided with a plurality of kinds of coloring parts having different colors. Therefore, after providing a colored portion in each through-hole, it is only necessary to apply a composition that is the basis of the same type of color conversion portion, so that the amount of the composition to be used is reduced and the manufacturing cost is reduced accordingly. There is an advantage of being.

本発明の実施の形態に係る表示装置の概略構成図である。1 is a schematic configuration diagram of a display device according to an embodiment of the present invention. 実施の形態に係る表示装置の図1のA−A線における断面矢視図である。It is a cross-sectional arrow line view in the AA line of FIG. 1 of the display apparatus which concerns on embodiment. 実施の形態に係るカラーフィルタの製造方法の流れの一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the flow of the manufacturing method of the color filter which concerns on embodiment. 実施の形態に係るカラーフィルタの製造方法を説明するための図であり、(A)は撥液層形成工程、(B)は露光工程、(C)は現像工程、(D)は着色部形成工程後、におけるカラーフィルタの断面図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the color filter which concerns on embodiment, (A) is a liquid repellent layer formation process, (B) is an exposure process, (C) is a image development process, (D) is colored part formation. It is sectional drawing of the color filter in after a process. (A)は実施の形態に係る塗布の様子を示す図であり、(B)は(A)のB−B線における断面矢視図であり、(C)は(A)のC−C線における断面矢視図である。(A) is a figure which shows the mode of application | coating which concerns on embodiment, (B) is a cross-sectional arrow view in the BB line of (A), (C) is the CC line of (A). FIG. 比較例に係る表示装置の断面図である。It is sectional drawing of the display apparatus which concerns on a comparative example. 比較例に係るカラーフィルタの製造方法の流れの一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the flow of the manufacturing method of the color filter which concerns on a comparative example. (A)は変形例に係る塗布ヘッドの塗布状態を示す図であり、(B)は(A)の一点鎖線で囲んだ部分の拡大図である。(A) is a figure which shows the application | coating state of the application | coating head which concerns on a modification, (B) is an enlarged view of the part enclosed with the dashed-dotted line of (A). 変形例に係る色変換部形成工程におけるカラーフィルタの断面図である。It is sectional drawing of the color filter in the color conversion part formation process which concerns on a modification. 変形例に係る表示装置の断面図である。It is sectional drawing of the display apparatus which concerns on a modification. 変形例に係るカラーフィルタの製造方法の流れの一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the flow of the manufacturing method of the color filter which concerns on a modification. 変形例に係るに係るカラーフィルタの製造方法を説明するための図であり、(A)は着色部形成工程後、(B)色変換部形成工程におけるカラーフィルタの断面図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the color filter which concerns on a modification, (A) is sectional drawing of the color filter in a (B) color conversion part formation process after a coloring part formation process. 変形例に係る表示装置の断面図である。It is sectional drawing of the display apparatus which concerns on a modification. 変形例に係る色変換部形成工程におけるカラーフィルタの断面図である。It is sectional drawing of the color filter in the color conversion part formation process which concerns on a modification. 変形例に係る表示装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the display apparatus which concerns on a modification. 変形例に係る表示装置の断面図である。It is sectional drawing of the display apparatus which concerns on a modification.

以下、本発明の一実施の形態に係る表示装置について、図面を参照しながら説明する。   Hereinafter, a display device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

本実施の形態に係る表示装置は、カラーフィルタと、複数の発光素子が実装され、カラーフィルタの後面側に配置される発光モジュールと、を備える。発光モジュールは、回路パターンが形成された基板と、基板に実装された複数の発光部と、を有する。カラーフィルタは、透光性の基板と、基板に積層され厚さ方向に貫通する複数の貫通孔を有する隔壁部であるブラックマトリクス部と、基板上における貫通孔の内側に設けられた赤色着色部、緑色着色部および青色着色部と、色変換部と、を有する。カラーフィルタは、色変換部を発光モジュールに対向させた状態で配置される。色変換部は、基板上における、赤色着色部、緑色着色部が設けられた貫通孔の内側に設けられ、入射する青色光を赤色の波長帯域に変換する色変換物質と、入射する青色光を緑色の波長帯域の光に変換する色変換物質と、を含む。この色変換物質としては、例えば、青色の波長帯域の光で励起されることにより赤色の波長帯域の光を放射する赤色量子ドットと、青色の波長帯域の光で励起されることにより緑色の波長帯域の光を放射する緑色量子ドットと、が挙げられる。   The display device according to the present embodiment includes a color filter and a light emitting module on which a plurality of light emitting elements are mounted and disposed on the rear surface side of the color filter. The light emitting module includes a substrate on which a circuit pattern is formed and a plurality of light emitting units mounted on the substrate. The color filter includes a translucent substrate, a black matrix portion that is a partition portion having a plurality of through holes stacked on the substrate and penetrating in the thickness direction, and a red colored portion provided inside the through holes on the substrate. , A green coloring portion and a blue coloring portion, and a color conversion portion. The color filter is arranged with the color conversion unit facing the light emitting module. The color conversion part is provided inside the through hole provided with the red coloring part and the green coloring part on the substrate, and converts the incident blue light into the red wavelength band and the incident blue light. And a color conversion material that converts light into a green wavelength band. As this color conversion substance, for example, red quantum dots that emit light in the red wavelength band by being excited by light in the blue wavelength band, and green wavelengths that are excited by the light in the blue wavelength band are used. And green quantum dots that emit light in a band.

本実施の形態に係る表示装置では、発光モジュールの発光部から色変換部に照射される光が、高い変換効率で、赤色の波長帯域の光と緑色の波長帯域の光に変換される。このような表示装置として、例えば図1に示すようなカラーフィルタ10と、図2に示すように、カラーフィルタ10の後面側(−Z方向側)に配置された発光モジュール20と、を備える表示装置1が挙げられる。発光モジュール20は、回路パターン(図示せず)が形成された回路基板21と、回路基板21に実装された複数の発光部22と、複数の発光部22それぞれの周囲を囲繞する隔壁23と、を有する。   In the display device according to the present embodiment, light emitted from the light emitting unit of the light emitting module to the color conversion unit is converted into light in the red wavelength band and light in the green wavelength band with high conversion efficiency. As such a display device, for example, a display including a color filter 10 as illustrated in FIG. 1 and a light emitting module 20 disposed on the rear surface side (−Z direction side) of the color filter 10 as illustrated in FIG. 2. An apparatus 1 is mentioned. The light emitting module 20 includes a circuit board 21 on which a circuit pattern (not shown) is formed, a plurality of light emitting units 22 mounted on the circuit board 21, a partition wall 23 surrounding each of the plurality of light emitting units 22, Have

回路基板21は、例えば複数のTFT(thin film transistor)が格子状に配設されたTFT基板から構成される。複数の発光部22は、例えば回路基板21上に格子状に配設されている。発光部22は、青色LED(Light Emitting Diode)や青色OLED(Organic Light Emitting Diode)を有する。青色LEDとしては、例えば窒化物系半導体を用いたものを採用することができる。発光部22は、例えば表面実装型の発光装置から構成される。隔壁23は、例えば黒色色素を含む感光性樹脂または熱硬化性樹脂から形成されている。黒色色素としては、赤色顔料と青色またはバイオレット顔料の混合物やチタンブラック、カーボンブラック、金属酸化物からなる微粒子等が挙げられる。   The circuit board 21 is composed of, for example, a TFT substrate in which a plurality of TFTs (thin film transistors) are arranged in a lattice pattern. The plurality of light emitting units 22 are arranged in a grid pattern on the circuit board 21, for example. The light emitting unit 22 includes a blue LED (Light Emitting Diode) and a blue OLED (Organic Light Emitting Diode). As the blue LED, for example, one using a nitride-based semiconductor can be adopted. The light emitting unit 22 is constituted by, for example, a surface mount type light emitting device. The partition wall 23 is made of, for example, a photosensitive resin or a thermosetting resin containing a black pigment. Examples of the black pigment include a mixture of a red pigment and a blue or violet pigment, fine particles composed of titanium black, carbon black, metal oxide, and the like.

カラーフィルタ10は、透光性の基板11と、赤色着色部131R、緑色着色部131Gおよび青色着色部131Bと、ブラックマトリクス部12と、色変換部132と、を備える。基板11は、透明なガラスまたは透明な樹脂から形成されている。ガラスとしては、ソーダガラス、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス等が挙げられる。なお、基板11は、透光性を有するフレキシブル基板であってもよい。   The color filter 10 includes a translucent substrate 11, a red coloring portion 131R, a green coloring portion 131G, and a blue coloring portion 131B, a black matrix portion 12, and a color conversion portion 132. The substrate 11 is made of transparent glass or transparent resin. Examples of the glass include soda glass, alkali-free glass, and borosilicate glass. The substrate 11 may be a flexible substrate having translucency.

ブラックマトリクス部12は、基板11の第1主面11aに積層されており、厚さ方向に貫通する複数の貫通孔121R、121G、121Bを有する。複数の貫通孔121R、121G、121Bは、図1に示すように、ブラックマトリクス部12における複数の画素領域Gそれぞれに設けられている。ブラックマトリクス部12は、遮光機能を有する遮光部122と撥液性を有する撥液部123とから構成される2層構造を有する。遮光部122は、例えば黒色色素を含む感光性樹脂または熱硬化性樹脂から形成されている。黒色色素としては、隔壁23と同様に、赤色顔料と青色またはバイオレット顔料の混合物やチタンブラック、カーボンブラック、金属酸化物からなる微粒子等が挙げられる。ブラックマトリクス部12の厚さT2は、赤色着色部131R、緑色着色部131Gおよび青色着色部131Bの厚さT1よりも厚い。ブラックマトリクス部12の厚さT2は、例えば10μm程度に設定される。撥液部123は、ブラックマトリクス部12における基板11側とは反対側の面に露出した状態で設けられている。   The black matrix portion 12 is stacked on the first main surface 11a of the substrate 11, and has a plurality of through holes 121R, 121G, and 121B that penetrate in the thickness direction. The plurality of through holes 121R, 121G, and 121B are provided in each of the plurality of pixel regions G in the black matrix portion 12, as shown in FIG. The black matrix portion 12 has a two-layer structure including a light shielding portion 122 having a light shielding function and a liquid repellent portion 123 having liquid repellency. The light shielding part 122 is made of, for example, a photosensitive resin or a thermosetting resin containing a black pigment. Examples of the black pigment include a mixture of a red pigment and a blue or violet pigment, fine particles composed of titanium black, carbon black, metal oxide, and the like, as in the partition wall 23. The thickness T2 of the black matrix portion 12 is thicker than the thickness T1 of the red coloring portion 131R, the green coloring portion 131G, and the blue coloring portion 131B. The thickness T2 of the black matrix portion 12 is set to about 10 μm, for example. The liquid repellent portion 123 is provided in a state of being exposed on the surface of the black matrix portion 12 opposite to the substrate 11 side.

赤色着色部131Rは、図2に示すように、基板11上におけるブラックマトリクス部12の貫通孔121Rの内側に設けられている。赤色着色部131Rは、赤色の波長帯域の光を選択的に透過させる。赤色着色部131Rは、例えば550nm以下の波長帯域の光を透過しない特性を有する。赤色着色部131Rは、赤色色素を含む熱硬化性樹脂から形成されている。赤色色素としては、赤色染料または赤色顔料を用いることができる。赤色顔料としては、例えばピグメントレッド9、97、122、123、144、149、166、168、177、190、192、209、215、216、224、254等が挙げられる。熱硬化性樹脂としては、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、オキセタン樹脂、シロキサン樹脂、ベンゾオキサジン樹脂等が挙げられる。   As shown in FIG. 2, the red coloring portion 131 </ b> R is provided inside the through hole 121 </ b> R of the black matrix portion 12 on the substrate 11. The red colored portion 131R selectively transmits light in the red wavelength band. The red colored portion 131R has a characteristic of not transmitting light in a wavelength band of 550 nm or less, for example. The red colored portion 131R is formed from a thermosetting resin containing a red pigment. As the red pigment, a red dye or a red pigment can be used. Examples of the red pigment include Pigment Red 9, 97, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 177, 190, 192, 209, 215, 216, 224, and 254. Examples of the thermosetting resin include polyimide resin, epoxy resin, acrylic resin, melamine resin, phenol resin, oxetane resin, siloxane resin, and benzoxazine resin.

緑色着色部131Gは、基板11上におけるブラックマトリクス部12の貫通孔121Gの内側に設けられている。緑色着色部131Gは、緑色の波長帯域の光を選択的に透過させる。緑色着色部131Gは、例えば475nm乃至600nmの波長帯域の光を透過させる特性を有する。緑色着色部131Gは、緑色色素を含む緑色熱硬化性樹脂から形成されている。緑色色素としては、緑色染料または緑色顔料を用いることができる。緑色顔料としては、例えばピグメントグリーン7、10、36、47等が挙げられる。赤色着色部131Rおよび緑色着色部131Gは、ブラックマトリクス部12に設けられた貫通孔121R、121G、121Bの総数以下の複数の貫通孔の内側に設けられている。貫通孔121Rの総数と貫通孔121Gの総数との和は、ブラックマトリクス部12に設けられた貫通孔121R、121G、121Bの総数の2/3に相当する。   The green coloring portion 131G is provided inside the through hole 121G of the black matrix portion 12 on the substrate 11. The green coloring portion 131G selectively transmits light in the green wavelength band. The green colored portion 131G has a characteristic of transmitting light in a wavelength band of 475 nm to 600 nm, for example. The green coloring part 131G is formed from a green thermosetting resin containing a green pigment. As the green pigment, a green dye or a green pigment can be used. Examples of the green pigment include Pigment Green 7, 10, 36, 47, and the like. The red colored portion 131R and the green colored portion 131G are provided inside a plurality of through holes equal to or less than the total number of through holes 121R, 121G, and 121B provided in the black matrix portion 12. The sum of the total number of through holes 121R and the total number of through holes 121G corresponds to 2/3 of the total number of through holes 121R, 121G, and 121B provided in the black matrix portion 12.

青色着色部131Bは、基板11上におけるブラックマトリクス部12の貫通孔121Bの内側に設けられている。青色着色部131Bは、青色の波長帯域の光を選択的に透過させる。青色着色部131Bは、例えば550nm以上の波長帯域の光を透過しない特性を有する。青色着色部131Bは、青色色素を含む熱硬化性樹脂から形成されている。青色色素としては、青色染料または青色顔料を用いることができる。青色顔料としては、例えばピグメントブルー15:3、15:4、15:6、21、22、60、64等が挙げられる。ここにおいて、赤色着色部131Rと緑色着色部131Gとは、入射する光の波長帯域と異なる波長帯域の光を選択的に透過させる着色部(以下、適宜「異色着色部」と称する。)である。一方、青色着色部131Bは、入射する光の波長帯域と同一の波長帯域の光を選択的に透過させる着色部(以下、適宜「同色着色部」と称する。)である。赤色着色部131R、緑色着色部131Gおよび青色着色部131Bの厚さT1は、例えば2乃至3μm程度に設定される。基板11における複数の画素領域Gそれぞれは、3つの領域SBGから構成され、各領域SBGに赤色着色部131Rと緑色着色部131Gと青色着色部131Bが配置されている。また、列方向(Y軸方向)に配列した複数の領域SBGそれぞれに設けられた貫通孔の内側に、同じ色の着色部131R(131G、131B)が設けられている。   The blue coloring portion 131 </ b> B is provided inside the through hole 121 </ b> B of the black matrix portion 12 on the substrate 11. The blue coloring portion 131B selectively transmits light in the blue wavelength band. The blue colored portion 131B has a characteristic of not transmitting light having a wavelength band of, for example, 550 nm or more. The blue coloring portion 131B is formed from a thermosetting resin containing a blue pigment. As the blue pigment, a blue dye or a blue pigment can be used. Examples of the blue pigment include pigment blue 15: 3, 15: 4, 15: 6, 21, 22, 60, 64, and the like. Here, the red colored portion 131R and the green colored portion 131G are colored portions that selectively transmit light having a wavelength band different from the wavelength band of incident light (hereinafter, appropriately referred to as “different colored portions”). . On the other hand, the blue coloring portion 131B is a coloring portion that selectively transmits light in the same wavelength band as the wavelength band of incident light (hereinafter referred to as “same color coloring portion” as appropriate). The thickness T1 of the red colored portion 131R, the green colored portion 131G, and the blue colored portion 131B is set to about 2 to 3 μm, for example. Each of the plurality of pixel regions G on the substrate 11 includes three regions SBG, and a red coloring portion 131R, a green coloring portion 131G, and a blue coloring portion 131B are arranged in each region SBG. In addition, colored portions 131R (131G, 131B) of the same color are provided inside through holes provided in each of the plurality of regions SBG arranged in the column direction (Y-axis direction).

色変換部132は、基板11上におけるブラックマトリクス部12の貫通孔121R、121G、121Bの内側に設けられている。色変換部132は、赤色着色部131R、緑色着色部131Gおよび青色着色部131Bに積層され、青色の波長帯域の光を、青色の波長帯域とは異なる緑色の波長帯域の光および赤色の波長帯域の光に変換する。色変換部132は、青色の波長帯域の光で励起されることにより赤色の波長帯域の光を放射する赤色量子ドットと、青色の波長帯域の光で励起されることにより緑色の波長帯域の光を放射する緑色量子ドットと、を含んでいる。ここで、色変換部132に含まれる赤色量子ドットと緑色量子ドットとは、入射する青色の波長帯域の光を、赤色の波長帯域の光および緑色の波長帯域の光に変換する色変換物質に相当する。色変換部132は、発光モジュール20の発光部22から入射する青色の波長帯域の光を、赤色の波長帯域の光と緑色の波長帯域の光に変換して、基板11の第2主面11bへ放射する。   The color conversion unit 132 is provided inside the through holes 121R, 121G, and 121B of the black matrix unit 12 on the substrate 11. The color conversion unit 132 is stacked on the red coloring unit 131R, the green coloring unit 131G, and the blue coloring unit 131B, and converts the blue wavelength band light into the green wavelength band light and the red wavelength band different from the blue wavelength band. Convert to light. The color conversion unit 132 includes red quantum dots that emit light in the red wavelength band when excited by light in the blue wavelength band, and light in the green wavelength band that is excited by light in the blue wavelength band. A green quantum dot that emits light. Here, the red quantum dots and the green quantum dots included in the color conversion unit 132 are color conversion substances that convert incident blue wavelength band light into red wavelength band light and green wavelength band light. Equivalent to. The color conversion unit 132 converts light in the blue wavelength band incident from the light emitting unit 22 of the light emitting module 20 into light in the red wavelength band and light in the green wavelength band, and thereby the second main surface 11b of the substrate 11. Radiates to.

赤色量子ドットは、発光部22から入射する青色の波長帯域の光で励起されることにより、600nm乃至650nmの波長帯域の赤色光を放射する半導体微粒子である。赤色量子ドットは、例えば化合物半導体から形成されたコア部と、コア部とは異なる化合物半導体から形成されたシェル部と、を含む構造を有する。コア部を形成する化合半導体としては、MgSやMgSe、MgTe、CaS、CaSe、SrS、SrSe、SrTe、BaS、BaSe、BaTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、CdS、CdSe、CdTe、HgS、HgSe、HgTe等のII−VI族化合物半導体、またはAlNやAlP、AlAs、AlSb、GaAs、GaP、GaN、GaSb、InN、InP、InSb、TiN、TiP、TiAs、TiSb等のIII−V族化合物半導体が挙げられる。また、コア部は、InGaPのような3元素以上を含んだ化合物半導体から形成されていてもよい。   The red quantum dots are semiconductor fine particles that emit red light having a wavelength band of 600 nm to 650 nm when excited by light having a blue wavelength band incident from the light emitting unit 22. The red quantum dots have a structure including, for example, a core portion formed from a compound semiconductor and a shell portion formed from a compound semiconductor different from the core portion. Examples of compound semiconductors that form the core include MgS, MgSe, MgTe, CaS, CaSe, SrS, SrSe, SrTe, BaS, BaSe, BaTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, CdS, CdSe, CdTe, HgSe, HgTe, etc. II-VI group compound semiconductors, or III-V group compound semiconductors such as AlN, AlP, AlAs, AlSb, GaAs, GaP, GaN, GaSb, InN, InP, InSb, TiN, TiP, TiAs, and TiSb. Moreover, the core part may be formed from the compound semiconductor containing 3 or more elements like InGaP.

また、シェル部は、コア部を形成する化合物半導体よりもバンドギャップの大きい半導体から形成されている。コア部とシェル部との化合物半導体の組み合わせとしては、例えばCdSe/ZnS、CdSe/ZnSe、CdSe/CdS、CdTe/CdS、InP/ZnS、GaP/ZnS、Si/ZnS、InN/GaN、InP/CdSSe、InP/ZnSeTe、InGaP/ZnSe、InGaP/ZnS、Si/AlP、InP/ZnSTe、InGaP/ZnSTe、InGaP/ZnSSe等が挙げられる。赤色量子ドットのコア部の平均粒径は、例えば5.0nm乃至8.0nmである。   The shell part is formed of a semiconductor having a larger band gap than the compound semiconductor that forms the core part. Examples of the combination of the compound semiconductor of the core part and the shell part include CdSe / ZnS, CdSe / ZnSe, CdSe / CdS, CdTe / CdS, InP / ZnS, GaP / ZnS, Si / ZnS, InN / GaN, InP / CdSSe. InP / ZnSeTe, InGaP / ZnSe, InGaP / ZnS, Si / AlP, InP / ZnSTe, InGaP / ZnSTe, InGaP / ZnSSe, and the like. The average particle size of the core portion of the red quantum dots is, for example, 5.0 nm to 8.0 nm.

緑色量子ドットは、発光部22から入射する青色の波長帯域の光で励起されることにより、520nm乃至545nmの波長帯域の緑色光を放射する半導体微粒子である。緑色量子ドットも、赤色量子ドットと同様に、例えば化合物半導体から形成されたコア部と、コア部とは異なる化合物半導体から形成されたシェル部と、を含む構造を有する。緑色量子ドットのコア部とシェル部とを形成する材料は、赤色量子ドットのそれらと同様である。緑色量子ドットのコア部の平均粒径は、例えば1.0nm乃至4.0nmである。   The green quantum dots are semiconductor fine particles that emit green light having a wavelength band of 520 nm to 545 nm when excited by light having a blue wavelength band incident from the light emitting unit 22. Similarly to the red quantum dots, the green quantum dots also have a structure including, for example, a core portion formed from a compound semiconductor and a shell portion formed from a compound semiconductor different from the core portion. The material forming the core part and the shell part of the green quantum dot is the same as that of the red quantum dot. The average particle size of the core portion of the green quantum dots is, for example, 1.0 nm to 4.0 nm.

次に、本実施の形態に係るカラーフィルタ10の製造方法について、図3乃至図5を参照しながら説明する。このカラーフィルタ10の製造方法では、図3に示すように、遮光部形成工程、撥液部形成工程、着色部形成工程、量子ドットを含む熱硬化性樹脂組成物を塗布する組成物塗布工程および除去工程が順に実行される。ここで、遮光部形成工程と撥液部形成工程とが、ブラックマトリクス部を形成するブラックマトリクス部形成工程に相当する。また、組成物塗布工程と熱硬化性樹脂組成物に含まれる有機溶剤を除去する除去工程とが、色変換部を形成する色変換部形成工程に相当する。   Next, a method for manufacturing the color filter 10 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. In the manufacturing method of this color filter 10, as shown in FIG. 3, the light-shielding part formation process, the liquid repellent part formation process, the coloring part formation process, the composition application | coating process which apply | coats the thermosetting resin composition containing a quantum dot, and A removal process is performed in order. Here, the light shielding portion forming step and the liquid repellent portion forming step correspond to a black matrix portion forming step for forming a black matrix portion. Moreover, the composition application process and the removal process for removing the organic solvent contained in the thermosetting resin composition correspond to a color conversion part forming process for forming a color conversion part.

まず、遮光部形成工程を行う(ステップS101)。この遮光部形成工程では、まず、黒色感光性樹脂組成物を、乾燥および焼成後の膜厚が10μm程度となるように基板11に塗布する。黒色感光性樹脂組成物を基板11に塗布する方法としては、スピンコータ、バーコータ、ブレードコータ、ロールコータまたはダイコータを用いて塗布する方法やキャピラリーコータを用いて塗布する方法やスクリーン印刷法を利用して塗布する方法、基板11を黒色感光性樹脂組成物に浸漬させる方法、黒色感光性樹脂組成物を基板11に噴霧する方法等が挙げられる。   First, a light shielding part forming step is performed (step S101). In this light shielding part forming step, first, the black photosensitive resin composition is applied to the substrate 11 so that the film thickness after drying and baking becomes about 10 μm. As a method for applying the black photosensitive resin composition to the substrate 11, a method using a spin coater, bar coater, blade coater, roll coater or die coater, a method using a capillary coater, or a screen printing method is used. The method of apply | coating, the method of immersing the board | substrate 11 in a black photosensitive resin composition, the method of spraying the black photosensitive resin composition on the board | substrate 11, etc. are mentioned.

次に、基板11に塗布された黒色感光性樹脂組成物に含まれる有機溶剤を除去する除去処理を行うことにより黒色感光性樹脂層を形成する。除去処理の方法としては、例えば風乾燥、減圧乾燥または加熱乾燥が挙げられる。次に、黒色感光性樹脂層上にフォトマスクを配置した状態で、露光装置を用いて紫外線を照射する。続いて、例えばアルカリ性現像液を用いて現像を行った後、除去処理を行うことにより遮光部122を形成する。   Next, a black photosensitive resin layer is formed by performing a removal process for removing the organic solvent contained in the black photosensitive resin composition applied to the substrate 11. Examples of the removal treatment method include air drying, reduced pressure drying, and heat drying. Next, ultraviolet light is irradiated using an exposure apparatus in a state where a photomask is disposed on the black photosensitive resin layer. Subsequently, for example, after developing using an alkaline developer, the light shielding part 122 is formed by performing a removal process.

次に、遮光部122上に撥液部を形成する撥液部形成工程を行う(ステップS102)。この撥液部形成工程では、まず、基板11に撥液部の基となる感光性樹脂組成物を塗布する。撥液部の基となる感光性樹脂組成物としては、ネガ型レジストまたはポジ型レジストが挙げられる。ポジ型レジストとしては、少なくともバインダ樹脂と感光剤と有機溶剤とフッ素系界面活性剤とを含むものが挙げられる。バインダ樹脂としては、ポリアミド酸、ポリイミドまたはその前駆体、ポリアミドイミド、アクリル樹脂、ノボラック樹脂およびこれらの混合物が挙げられる。感光剤としては、ナフトキノンジアジド化合物が挙げられる。また、有機溶剤としては、ケトン系溶剤、脂肪族アルコール系溶剤、脂肪族エステル系溶剤、アルキレングリコールエーテル系溶剤、アミド系極性溶剤、芳香族炭化水素類等が挙げられる。   Next, a liquid repellent part forming step for forming a liquid repellent part on the light shielding part 122 is performed (step S102). In this liquid repellent portion forming step, first, a photosensitive resin composition that is a base of the liquid repellent portion is applied to the substrate 11. Examples of the photosensitive resin composition on which the liquid repellent part is based include negative resists and positive resists. Examples of the positive resist include those containing at least a binder resin, a photosensitive agent, an organic solvent, and a fluorosurfactant. Examples of the binder resin include polyamic acid, polyimide or a precursor thereof, polyamideimide, acrylic resin, novolac resin, and a mixture thereof. Examples of the photosensitive agent include naphthoquinone diazide compounds. Examples of the organic solvent include ketone solvents, aliphatic alcohol solvents, aliphatic ester solvents, alkylene glycol ether solvents, amide polar solvents, and aromatic hydrocarbons.

フッ素系界面活性剤としては、パーフルオロアルキルポリアルキレンオキサイド、パーフルオロアルキルアミンオキサイド等の非イオン性フッ素系界面活性剤、パーフルオロアルキルカルボン酸アンモニウム塩、パーフルオロアルキルカルボン酸ナトリウム塩、パーフルオロアルキルリン酸エステル等の陰イオン性フッ素系界面活性剤、パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩のような陽イオン性フッ素系界面活性剤、パーフルオロアルキルベタインのような両性フッ素系界面活性剤等が挙げられる。   Fluorosurfactants include nonionic fluorosurfactants such as perfluoroalkyl polyalkylene oxide and perfluoroalkylamine oxide, perfluoroalkyl carboxylic acid ammonium salt, perfluoroalkyl carboxylic acid sodium salt, and perfluoroalkyl. Examples include anionic fluorine-based surfactants such as phosphate esters, cationic fluorine-based surfactants such as perfluoroalkyltrimethylammonium salts, and amphoteric fluorine-based surfactants such as perfluoroalkylbetaine.

また、基板11に感光性樹脂組成物を塗布する方法としては、スピンコータ、バーコータ、ブレードコータ、ロールコータまたはダイコータを用いて塗布する方法やキャピラリーコータを用いて塗布する方法やスクリーン印刷法を利用して塗布する方法、基板11を撥液部の基となる感光性樹脂組成物に浸漬させる方法、撥液部の基となる感光性樹脂組成物を基板11に噴霧する方法等が挙げられる。   As a method for applying the photosensitive resin composition to the substrate 11, a method using a spin coater, a bar coater, a blade coater, a roll coater or a die coater, a method using a capillary coater, or a screen printing method is used. For example, a method of immersing the substrate 11 in a photosensitive resin composition serving as a base of the liquid repellent portion, and a method of spraying the photosensitive resin composition serving as a base of the liquid repellent portion onto the substrate 11.

次に、基板11上に塗布された感光性樹脂組成物を乾燥させて感光性樹脂組成物に含まれる有機溶剤を除去することにより図4(A)に示すような撥液部の基となる感光性樹脂層1123を形成する。感光性樹脂組成物を乾燥させる方法としては、風乾燥、減圧乾燥または加熱乾燥が挙げられる。   Next, the photosensitive resin composition applied on the substrate 11 is dried to remove the organic solvent contained in the photosensitive resin composition, thereby forming a base of the liquid repellent portion as shown in FIG. A photosensitive resin layer 1123 is formed. Examples of the method for drying the photosensitive resin composition include air drying, reduced pressure drying, and heat drying.

続いて、図4(B)に示すように、基板11における感光性樹脂層3121とは反対側から、露光装置を用いて撥液部の基となる感光性樹脂層1123に紫外線UVLを照射する。   Subsequently, as shown in FIG. 4B, ultraviolet light UVL is irradiated to the photosensitive resin layer 1123 that is the base of the liquid repellent portion from the side opposite to the photosensitive resin layer 3121 in the substrate 11 using an exposure device. .

その後、例えばアルカリ性現像液を用いて現像を行った後、除去処理を行う。除去処理は、前述の遮光部形成工程における除去処理と同様である。これにより、図4(C)に示すように、基板11に設けられた遮光部122と、遮光部122に積層され撥液性を有する撥液部123と、を有するブラックマトリクス部12が形成される。ブラックマトリクス部12には、貫通孔121R、121G、121Bが形成されている。   Thereafter, for example, development is performed using an alkaline developer, and then removal treatment is performed. The removal process is the same as the removal process in the above-described light shielding part forming step. As a result, as shown in FIG. 4C, the black matrix portion 12 having the light shielding portion 122 provided on the substrate 11 and the liquid repellent portion 123 laminated on the light shielding portion 122 and having liquid repellency is formed. The In the black matrix portion 12, through holes 121R, 121G, and 121B are formed.

図3に戻って、続いて、赤色着色部131R、緑色着色部131Gおよび青色着色部131Bを形成する着色部形成工程が行われる(ステップS103)。この着色部形成工程では、例えば一例として、フォトリソグラフィ法を利用して、図4(D)に示すように、貫通孔121R、121G、121Bそれぞれの内側に赤色着色部131R、緑色着色部131Gおよび青色着色部131Bを形成する。具体的には、まず、基板11およびブラックマトリクス部12に青色感光性樹脂組成物を塗布する。この青色感光性樹脂組成物は、青色の色素と、感光性樹脂と、有機溶剤と、を含む。次に、塗布された青色感光性樹脂組成物に含まれる有機溶剤を除去する除去処理を行うことにより、青色感光性樹脂層を形成する。除去処理は、前述の遮光部形成工程における除去処理と同様である。続いて、青色感光性樹脂層のうち貫通孔121Bに対応する部分のみを覆うフォトマスクを配置した状態で、露光装置を用いて紫外線UVLを照射する。続いて、例えばアルカリ性現像液を用いて現像を行った後、除去処理を行うことにより、青色着色部131Bを形成する。   Returning to FIG. 3, subsequently, a colored portion forming step for forming the red colored portion 131R, the green colored portion 131G, and the blue colored portion 131B is performed (step S103). In this colored portion forming step, for example, as shown in FIG. 4D, by using a photolithography method, a red colored portion 131R, a green colored portion 131G, and an inner portion of each of the through holes 121R, 121G, and 121B A blue colored portion 131B is formed. Specifically, first, a blue photosensitive resin composition is applied to the substrate 11 and the black matrix portion 12. This blue photosensitive resin composition contains a blue pigment, a photosensitive resin, and an organic solvent. Next, a blue photosensitive resin layer is formed by performing a removal treatment for removing the organic solvent contained in the applied blue photosensitive resin composition. The removal process is the same as the removal process in the above-described light shielding part forming step. Subsequently, ultraviolet light UVL is irradiated using an exposure apparatus in a state where a photomask that covers only a portion corresponding to the through hole 121B in the blue photosensitive resin layer is disposed. Subsequently, for example, development is performed using an alkaline developer, and then a removal process is performed to form the blue colored portion 131B.

次に、基板11、ブラックマトリクス部12および青色着色部131Bに、緑色感光性樹脂組成物を塗布する。この緑色感光性樹脂組成物は、緑色の色素と、感光性樹脂と、有機溶剤と、を含む。続いて、塗布された緑色感光性樹脂組成物に含まれる有機溶剤を除去する除去処理を行うことにより、緑色感光性樹脂層を形成する。その後、緑色感光性樹脂層のうち貫通孔121Gに対応する部分のみを覆うフォトマスクを配置した状態で、露光装置を用いて紫外線UVLを照射する。次に、例えばアルカリ性現像液を用いて現像を行った後、除去処理を行うことにより、緑色着色部131Gを形成する。   Next, the green photosensitive resin composition is applied to the substrate 11, the black matrix portion 12, and the blue coloring portion 131B. This green photosensitive resin composition contains a green pigment, a photosensitive resin, and an organic solvent. Then, the green photosensitive resin layer is formed by performing the removal process which removes the organic solvent contained in the apply | coated green photosensitive resin composition. Thereafter, ultraviolet light UVL is irradiated using an exposure apparatus in a state in which a photomask covering only a portion corresponding to the through hole 121G in the green photosensitive resin layer is disposed. Next, for example, development is performed using an alkaline developer, and then removal processing is performed to form the green colored portion 131G.

続いて、基板11、ブラックマトリクス部12、青色着色部131Bおよび緑色着色部131Gに、赤色感光性樹脂組成物を塗布する。この赤色感光性樹脂組成物は、赤色の色素と、感光性樹脂と、有機溶剤と、を含む。次に、塗布された赤色感光性樹脂組成物に含まれる有機溶剤を除去することにより赤色感光性樹脂層を形成する。その後、赤色感光性樹脂層のうち貫通孔121Rに対応する部分のみを覆うフォトマスクを配置した状態で、露光装置を用いて紫外線UVLを照射する。次に、例えばアルカリ性現像液を用いて現像を行った後、除去処理を行うことにより、赤色着色部131Rを形成する。   Subsequently, a red photosensitive resin composition is applied to the substrate 11, the black matrix portion 12, the blue coloring portion 131B, and the green coloring portion 131G. This red photosensitive resin composition contains a red pigment, a photosensitive resin, and an organic solvent. Next, a red photosensitive resin layer is formed by removing the organic solvent contained in the applied red photosensitive resin composition. Thereafter, ultraviolet light UVL is irradiated using an exposure apparatus in a state where a photomask that covers only the portion corresponding to the through hole 121R in the red photosensitive resin layer is disposed. Next, for example, after developing using an alkaline developer, a removal process is performed to form the red colored portion 131R.

図3に戻って、その後、赤色量子ドットおよび緑色量子ドットを含む熱硬化性樹脂組成物を、ブラックマトリクス部12に塗布する組成物塗布工程を行う(ステップS104)。この組成物塗布工程では、例えば図5(A)に示すような、長尺の塗布ヘッド1050を備えるダイコータを使用して、量子ドットを含む熱硬化性樹脂組成物をブラックマトリクス部12に塗布する。塗布ヘッド1050から熱硬化性樹脂組成物を流出させつつ基板11を塗布ヘッド1050に対して塗布ヘッド1050の長手方向に直交する方向へ相対的に移動させることにより、ブラックマトリクス部12上に熱硬化性樹脂組成物が塗布される。   Returning to FIG. 3, thereafter, a composition application step of applying a thermosetting resin composition including red quantum dots and green quantum dots to the black matrix portion 12 is performed (step S <b> 104). In this composition application process, for example, a thermosetting resin composition containing quantum dots is applied to the black matrix portion 12 using a die coater having a long application head 1050 as shown in FIG. . The substrate 11 is moved relative to the coating head 1050 in the direction perpendicular to the longitudinal direction of the coating head 1050 while the thermosetting resin composition is allowed to flow out from the coating head 1050, thereby thermosetting the black matrix portion 12. A functional resin composition is applied.

塗布ヘッド1050は、長尺のフロントリップ1051と長尺のリアリップ1052とを備える。塗布ヘッド1050の内部には、図5(B)に示すように、熱硬化性樹脂組成物を塗布ヘッド1050の長手方向へ供給するためのマニホールド1053が形成されている。また、リアリップ1052には、マニホールド1053に連通しリアリップ1052の短手方向における端縁まで延長されたスリット1054が形成されている。そして、スリット1054の下端部が、熱硬化性樹脂組成物を吐出する吐出口1055を構成している。吐出口1055は、基板11の移動方向(Y軸方向)に直交する方向に延長されている。   The coating head 1050 includes a long front lip 1051 and a long rear lip 1052. A manifold 1053 for supplying a thermosetting resin composition in the longitudinal direction of the coating head 1050 is formed inside the coating head 1050 as shown in FIG. The rear lip 1052 is formed with a slit 1054 that communicates with the manifold 1053 and extends to the edge of the rear lip 1052 in the lateral direction. And the lower end part of the slit 1054 comprises the discharge outlet 1055 which discharges a thermosetting resin composition. The discharge port 1055 is extended in a direction orthogonal to the moving direction (Y-axis direction) of the substrate 11.

組成物塗布工程では、ブラックマトリクス部12から予め設定された距離だけ離間した状態で保持された塗布ヘッド1050の吐出口1055より、赤色量子ドットと緑色量子ドットとを含む熱硬化性樹脂組成物を吐出する。そして、塗布ヘッド1050の吐出口1055より、熱硬化性樹脂組成物を吐出しながら、基板11を予め設定された一方向(図5(B)の矢印AR1参照)へ相対的に移動させる。そうすると、図5(B)に示すような熱硬化性樹脂組成物からなる塗布ビードB1が、ブラックマトリクス部12と塗布ヘッド1050との間に形成され、熱硬化性樹脂組成物が、ブラックマトリクス部12における基板11側とは反対側の面に塗布される。このとき、図5(C)に示すように、塗布ビードB1の一部が、ブラックマトリクス部12の貫通孔121R、121G、121B内に侵入する。そして、この塗布ビードB1を介して、ブラックマトリクス部12の貫通孔121R、121G、121B内に熱硬化性樹脂組成物が設けられる。このとき、熱硬化性樹脂組成物は、撥液部123が存在することにより、撥液部123上に残らずに、ブラックマトリクス部12の貫通孔121R、121G、121Bの内側へ流入する。   In the composition coating step, a thermosetting resin composition containing red quantum dots and green quantum dots is ejected from the discharge port 1055 of the coating head 1050 held in a state separated from the black matrix portion 12 by a preset distance. Discharge. Then, the substrate 11 is relatively moved in one preset direction (see arrow AR1 in FIG. 5B) while discharging the thermosetting resin composition from the discharge port 1055 of the coating head 1050. Then, a coating bead B1 made of a thermosetting resin composition as shown in FIG. 5 (B) is formed between the black matrix portion 12 and the coating head 1050, and the thermosetting resin composition becomes a black matrix portion. 12 is applied to the surface opposite to the substrate 11 side. At this time, as shown in FIG. 5C, a part of the coating bead B <b> 1 enters the through holes 121 </ b> R, 121 </ b> G, 121 </ b> B of the black matrix portion 12. Then, the thermosetting resin composition is provided in the through holes 121R, 121G, and 121B of the black matrix portion 12 through the coating bead B1. At this time, the thermosetting resin composition flows into the through holes 121R, 121G, and 121B of the black matrix portion 12 without remaining on the liquid repellent portion 123 due to the presence of the liquid repellent portion 123.

図3に戻って、次に、量子ドットを含む熱硬化性樹脂組成物に含まれる有機溶剤を除去する除去工程を行う(ステップS105)。これにより、量子ドットを含む熱硬化性樹脂組成物に含まれる有機溶剤が除去され、図2に示すような色変換部132が形成される。   Returning to FIG. 3, next, the removal process which removes the organic solvent contained in the thermosetting resin composition containing a quantum dot is performed (step S105). Thereby, the organic solvent contained in the thermosetting resin composition containing a quantum dot is removed, and the color conversion part 132 as shown in FIG. 2 is formed.

次に、本実施の形態に係るカラーフィルタ10の製造方法の特徴について、比較例に係るカラーフィルタの製造方法と比較しながら説明する。図6に示すように、比較例に係る表示装置9001は、カラーフィルタ9010の構造が本実施の形態に係る構造と相違する。なお、図6において、本実施の形態に係る構成と同様の構成については同一の符号を付している。比較例に係るカラーフィルタ9010は、緑色量子ドットのみを含む緑色色変換部9132Gが緑色着色部131Gに積層され、赤色量子ドットのみを含む赤色色変換部9132Rが赤色着色部131Rに積層された構造を有する。そして、カラーフィルタ9010は、発光部22から放射される青色光を拡散させる光拡散部9132Bと、を有する。光拡散部9132Bは、例えば透明な樹脂基材中に樹脂基材とは屈折率の異なる透明な微粒子が分散されたものからなる。   Next, features of the method for manufacturing the color filter 10 according to the present embodiment will be described in comparison with the method for manufacturing the color filter according to the comparative example. As shown in FIG. 6, the display device 9001 according to the comparative example is different in the structure of the color filter 9010 from the structure according to this embodiment. In FIG. 6, the same reference numerals are given to the same configurations as the configurations according to the present embodiment. The color filter 9010 according to the comparative example has a structure in which a green color conversion unit 9132G including only green quantum dots is stacked on the green coloring unit 131G, and a red color conversion unit 9132R including only red quantum dots is stacked on the red coloring unit 131R. Have The color filter 9010 includes a light diffusing unit 9132B that diffuses blue light emitted from the light emitting unit 22. The light diffusion portion 9132B is made of, for example, a transparent resin base material in which transparent fine particles having a refractive index different from that of the resin base material are dispersed.

比較例に係るカラーフィルタ9010の製造方法では、図7に示すように、遮光部形成工程、撥液部形成工程、光拡散部・着色部形成工程、緑色色変換部形成工程および赤色色変換部形成工程が順に実行される。そして、色変換部形成工程では、緑色色変換部9132Gを形成するため組成物塗布工程、赤色色変換部9132Rを形成するための組成物塗布工程および除去工程が順に実行される。まず、基板11に遮光部122を形成する遮光部形成工程を行い(ステップS901)、次に、遮光部122上に撥液部123を形成する撥液部形成工程を行う(ステップS902)。遮光部形成工程と撥液部形成工程とは、前述の遮光部形成工程、撥液部形成工程と同様である。次に、フォトリソグラフィ法を利用して、光拡散部9132Bと緑色着色部131Gと赤色着色部131Rとを形成する光拡散部・着色部形成工程が行われる(ステップS903)。光拡散部・着色部形成工程は、前述の着色部形成工程と同様である。   In the manufacturing method of the color filter 9010 according to the comparative example, as shown in FIG. 7, the light shielding part forming step, the liquid repellent part forming step, the light diffusing part / coloring part forming process, the green color converting part forming process, and the red color converting part A formation process is performed in order. And in a color conversion part formation process, the composition application | coating process for forming the green color conversion part 9132G, the composition application | coating process for forming the red color conversion part 9132R, and a removal process are performed in order. First, a light shielding part forming process for forming the light shielding part 122 on the substrate 11 is performed (step S901), and then a liquid repellent part forming process for forming the liquid repellent part 123 on the light shielding part 122 is performed (step S902). The light shielding part forming process and the liquid repellent part forming process are the same as the above-described light shielding part forming process and the liquid repellent part forming process. Next, a light diffusing portion / colored portion forming step for forming the light diffusing portion 9132B, the green colored portion 131G, and the red colored portion 131R is performed using a photolithography method (step S903). The light diffusion portion / colored portion forming step is the same as the above-described colored portion forming step.

次に、フォトリソグラフィ法を利用して、緑色量子ドットのみを含む緑色色変換部9132Gを、緑色着色部131Gに対応する貫通孔121G内に形成する緑色色変換部形成工程が行われる(ステップS904)。この緑色色変換部形成工程では、緑色量子ドットのみを含む樹脂組成物をブラックマトリクス部12の基板11側とは反対側の面に塗布し、緑色量子ドットのみを含む樹脂組成物を貫通孔121R、121Gの内側に流入させた後、現像露光を行う。   Next, using the photolithography method, a green color conversion portion forming process is performed in which the green color conversion portion 9132G including only the green quantum dots is formed in the through hole 121G corresponding to the green coloring portion 131G (step S904). ). In this green color conversion portion forming step, a resin composition containing only green quantum dots is applied to the surface of the black matrix portion 12 opposite to the substrate 11 side, and the resin composition containing only green quantum dots is passed through the through-hole 121R. , 121 G is flown into the inside of the substrate, and then development exposure is performed.

続いて、フォトリソグラフィ法を利用して、赤色量子ドットのみを含む赤色色変換部9132Rを、赤色着色部131Rに対応する貫通孔121R内に形成する赤色色変換部形成工程が行われる(ステップS905)。この赤色色変換部形成工程では、赤色量子ドットのみを含む樹脂組成物をブラックマトリクス部12の基板11側とは反対側の面に塗布し、赤色量子ドットのみを含む樹脂組成物を貫通孔121Rの内側に流入させた後、現像露光を行う。これにより、図6に示す赤色色変換部9132Rと緑色色変換部9132Gとが形成される。   Subsequently, using the photolithography method, a red color conversion portion forming process is performed in which the red color conversion portion 9132R including only the red quantum dots is formed in the through hole 121R corresponding to the red coloring portion 131R (step S905). ). In this red color conversion portion forming step, a resin composition containing only red quantum dots is applied to the surface of the black matrix portion 12 opposite to the substrate 11 side, and the resin composition containing only red quantum dots is applied to the through holes 121R. Then, development exposure is performed. Thereby, the red color conversion unit 9132R and the green color conversion unit 9132G shown in FIG. 6 are formed.

このように、比較例に係るカラーフィルタ9010の製造方法では、緑色量子ドットのみを含む樹脂組成物を、ブラックマトリクス部12の基板11側とは反対側の面に塗布し、緑色量子ドットのみを含む樹脂組成物を貫通孔121R、121Gの内側に流入させた後、現像露光を行う。そして、赤色量子ドットのみを含む樹脂組成物を、ブラックマトリクス部12の基板11側とは反対側の面に塗布し、赤色量子ドットのみを含む樹脂組成物を貫通孔121Rの内側に流入させた後、現像露光を行う。このように、赤色量子ドットのみを含む樹脂組成物および緑色量子ドットのみを含む樹脂組成物のそれぞれをブラックマトリクス部12の基板11側とは反対側の面に塗布する必要がある分、各樹脂組成物の使用量が増大してしまう。これに対して、本実施の形態に係るカラーフィルタ10の製造方法では、赤色量子ドットと緑色量子ドットとを含む樹脂組成物を、ブラックマトリクス部12の基板11側とは反対側の面に一度で塗布できるので、比較例に係るカラーフィルタ9010を、フォトリソグラフィ法を利用して作製する場合に比べて、使用する樹脂組成物の量を低減できる。   As described above, in the method of manufacturing the color filter 9010 according to the comparative example, the resin composition containing only the green quantum dots is applied to the surface of the black matrix portion 12 opposite to the substrate 11 side, and only the green quantum dots are applied. After allowing the resin composition to be contained to flow inside the through holes 121R and 121G, development exposure is performed. And the resin composition containing only red quantum dots was applied to the surface opposite to the substrate 11 side of the black matrix portion 12, and the resin composition containing only red quantum dots was allowed to flow inside the through-hole 121R. Thereafter, development exposure is performed. Thus, it is necessary to apply each of the resin composition containing only red quantum dots and the resin composition containing only green quantum dots to the surface of the black matrix portion 12 opposite to the substrate 11 side. The usage-amount of a composition will increase. On the other hand, in the manufacturing method of the color filter 10 according to the present embodiment, the resin composition containing the red quantum dots and the green quantum dots is once applied to the surface opposite to the substrate 11 side of the black matrix portion 12. Therefore, the amount of the resin composition to be used can be reduced as compared with the case where the color filter 9010 according to the comparative example is manufactured using a photolithography method.

以上説明したように、本実施の形態に係るカラーフィルタ10によれば、色変換部132が、入射する青色の光を、赤色の波長帯域の光に変換する赤色量子ドットと、緑色の波長帯域の光に変換する緑色量子ドットと、を含む。これにより、互いに色が異なる赤色着色部131R、緑色着色部131Gが設けられた貫通孔121R、121Gの全てに同じ種類の色変換部132を設けることができる。従って、各貫通孔121R、121Gに赤色着色部131R、緑色着色部131Gを設けた後、色変換部132の基となる赤色量子ドットと緑色量子ドットとを含む樹脂組成物を一度塗布するだけでよい。そのため、使用する樹脂組成物の量を低減できるとともに、製造工程が削減され、それに伴う製造時間と製造装置のコストが低減されるので、製造コストが低減されるという利点がある。   As described above, according to the color filter 10 according to the present embodiment, the color conversion unit 132 converts the incident blue light into the red wavelength band light, and the green wavelength band. A green quantum dot that converts the light into the light. Thereby, the same kind of color conversion part 132 can be provided in all of the through holes 121R and 121G provided with the red coloring part 131R and the green coloring part 131G having different colors. Therefore, after providing the red coloring portion 131R and the green coloring portion 131G in each of the through holes 121R and 121G, the resin composition containing the red quantum dots and the green quantum dots that form the basis of the color conversion portion 132 is simply applied once. Good. Therefore, the amount of the resin composition to be used can be reduced, the manufacturing process is reduced, and the manufacturing time and the cost of the manufacturing apparatus are reduced, so that there is an advantage that the manufacturing cost is reduced.

ところで、本実施の形態に係るカラーフィルタ10は、インクジェット装置を使用しても製造することができる。但し、インクジェット装置で使用できる樹脂組成物の種類は、その粘性等により制限される。また、インクジェット装置は、そのインクジェットノズルから吐出される樹脂組成物の量が一定となるようにインクジェットヘッドをメンテナンスしておく必要がある。これに対して、本実施の形態に係るカラーフィルタ10の製造方法では、インクジェット装置に換えてダイコータを使用する。ダイコータで使用できる樹脂組成物の種類は、インクジェット装置で使用できる樹脂組成物に比べて多い。従って、使用する樹脂組成物の種類の選択の余地が広がる。更に、ダイコータは、インクジェット装置に比べてメンテナンス費用を低くできる。即ち、本実施の形態に係るカラーフィルタ10の製造方法は、比較例に係るカラーフィルタ9010の製造方法に比べて、製造に使用する装置のメンテナンス費用を低減できるという利点もある。   By the way, the color filter 10 according to the present embodiment can be manufactured even if an ink jet apparatus is used. However, the type of resin composition that can be used in an inkjet apparatus is limited by its viscosity and the like. Moreover, the inkjet head needs to maintain an inkjet head so that the quantity of the resin composition discharged from the inkjet nozzle may become constant. On the other hand, in the manufacturing method of the color filter 10 according to the present embodiment, a die coater is used instead of the ink jet apparatus. There are many types of resin compositions that can be used in a die coater compared to resin compositions that can be used in an inkjet apparatus. Therefore, the room for selection of the type of resin composition to be used is expanded. Further, the die coater can reduce the maintenance cost as compared with the ink jet apparatus. That is, the manufacturing method of the color filter 10 according to the present embodiment has an advantage that the maintenance cost of the apparatus used for manufacturing can be reduced as compared with the manufacturing method of the color filter 9010 according to the comparative example.

更に、本実施の形態に係るブラックマトリクス部12の厚さT2は、赤色着色部131R、緑色着色部131Gおよび青色着色部131Bの厚さT1よりも厚い。これにより、各画素領域Gに対応する発光部22から放射される青色光の隣接する他の画素領域Gへの漏れが抑制される。   Furthermore, the thickness T2 of the black matrix portion 12 according to the present embodiment is thicker than the thickness T1 of the red coloring portion 131R, the green coloring portion 131G, and the blue coloring portion 131B. Thereby, the leakage of the blue light emitted from the light emitting unit 22 corresponding to each pixel region G to other adjacent pixel regions G is suppressed.

(変形例)
以上、本発明の実施の形態について説明したが、本発明は前述の実施の形態の構成に限定されるものではない。例えば、実施の形態のカラーフィルタ10の製造方法における組成物塗布工程において、吐出口における、塗布ヘッドから見て基板11が移動する方向側とは反対側、即ち、吐出口の上流側を減圧する減圧部を有する塗布ヘッドを備えるダイコータを使用してもよい。例えば図8(A)に示すように、本変形例に係る塗布ヘッド2050は、吐出口1055における、塗布ヘッド2050から見て基板11が移動する方向(図8(A)および(B)の矢印AR1参照)側とは反対側の領域A1を減圧する機能を有するリアリップ(減圧部)2052を備える。なお、図8(A)において、実施の形態に係るダイコータと同様の構成については図5(B)と同一の符号を付している。リアリップ2052は、真空ポンプ(図示せず)に接続された吸引口2056を有する。そして、リアリップ2052は、吐出口1055の上流側の領域A1に存在する空気を、吸引口2056を通じて吸引することにより、領域A1を減圧雰囲気にする。これにより、塗布ビードB2が吐出口1055の上流側へ引き寄せられ、図8(B)の矢印AR3に示すように、塗布ビードB2がブラックマトリクス部12の貫通孔(例えば貫通孔121G)の内側へ流入し易くなる。
(Modification)
Although the embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to the configuration of the above-described embodiment. For example, in the composition coating process in the method for manufacturing the color filter 10 according to the embodiment, the discharge port is depressurized on the side opposite to the direction in which the substrate 11 moves as viewed from the coating head, that is, on the upstream side of the discharge port. You may use the die-coater provided with the coating head which has a pressure reduction part. For example, as shown in FIG. 8A, the coating head 2050 according to this modification is configured so that the substrate 11 moves in the ejection port 1055 when viewed from the coating head 2050 (arrows in FIGS. 8A and 8B). A rear lip (decompression unit) 2052 having a function of depressurizing the region A1 on the side opposite to the AR1 side) is provided. Note that in FIG. 8A, the same reference numerals as those in FIG. 5B are assigned to the same configurations as those of the die coater according to the embodiment. The rear lip 2052 has a suction port 2056 connected to a vacuum pump (not shown). The rear lip 2052 draws air existing in the region A1 upstream of the discharge port 1055 through the suction port 2056, thereby making the region A1 a reduced pressure atmosphere. As a result, the application bead B2 is drawn to the upstream side of the discharge port 1055, and as shown by an arrow AR3 in FIG. 8B, the application bead B2 moves to the inside of the through hole (for example, the through hole 121G) of the black matrix portion 12. It becomes easy to flow in.

本構成によれば、塗布ビードB2がブラックマトリクス部12の貫通孔(例えば貫通孔121G)の内側へ流入し易くなるので、熱硬化性樹組成物の塗布欠陥が生じにくくなる。従って、カラーフィルタ10の品質が向上する。   According to this configuration, the coating bead B2 is likely to flow into the inside of the through hole (for example, the through hole 121G) of the black matrix portion 12, so that a coating defect of the thermosetting resin composition is less likely to occur. Therefore, the quality of the color filter 10 is improved.

実施の形態では、組成物塗布工程においてダイコータを使用する例について説明したが、これに限定されるものではなく、ダイコータの代わりに例えばストライプ塗布ノズルを備えるストライプコータを使用して樹脂組成物を塗布してもよい。   In the embodiment, the example in which the die coater is used in the composition coating process has been described. However, the present invention is not limited to this, and the resin composition is applied using, for example, a stripe coater having a stripe coating nozzle instead of the die coater. May be.

本変形例に係るカラーフィルタ10の製造方法では、例えば図9に示すような、長尺の塗布ヘッド3050を備えるストライプコータを使用して、量子ドットを含む樹脂組成物をブラックマトリクス12の貫通孔121R、121G、121Bの内側に塗布する。塗布ヘッド3050の内部には、熱硬化性樹脂組成物を塗布ヘッド3050の長手方向へ供給するためのマニホールド3053と、マニホールド3053に連通する複数の溝3054と、が形成されている。そして、複数の溝3054の下端部が、樹脂組成物を吐出する吐出口3055を構成している。複数の吐出口3055は、基板11の移動方向(Y軸方向)に直交する方向に配列している。   In the method for manufacturing the color filter 10 according to the present modification, for example, a stripe coater having a long coating head 3050 as shown in FIG. It apply | coats inside 121R, 121G, 121B. A manifold 3053 for supplying the thermosetting resin composition in the longitudinal direction of the coating head 3050 and a plurality of grooves 3054 communicating with the manifold 3053 are formed inside the coating head 3050. And the lower end part of the some groove | channel 3054 comprises the discharge outlet 3055 which discharges a resin composition. The plurality of ejection ports 3055 are arranged in a direction orthogonal to the moving direction (Y-axis direction) of the substrate 11.

本構成によれば、組成物塗布工程において、ストライプコータを使用する。これにより、溝形状の貫通孔の場合、撥液部を有していなくても樹脂組成物を貫通孔121R、121G、121Bの内側に塗布することができる。   According to this configuration, a stripe coater is used in the composition coating process. Thereby, in the case of a groove-shaped through-hole, the resin composition can be applied to the inside of the through-holes 121R, 121G, and 121B without having a liquid repellent portion.

実施の形態では、ブラックマトリクス部12の貫通孔121R、121G、121Bの全てに、赤色量子ドットと緑色量子ドットとの両方を含む色変換部132が設けられたカラーフィルタ10の例について説明した。但し、ブラックマトリクス部12の貫通孔121R、121G、121Bの全てに色変換部132が設けられた構成に限定されるものではない。例えば、図10に示す表示装置2が備えるカラーフィルタ2010のように、赤色着色部131R、緑色着色部131Gが設けられた貫通孔121R、121Gのみに色変換部132が設けられ、貫通孔121Bには、光拡散部2132が設けられた構成であってもよい。光拡散部2132は、例えば透明な樹脂基材中に樹脂基材とは屈折率の異なる透明な微粒子が分散されたものからなる。   In the embodiment, the example of the color filter 10 in which the color conversion unit 132 including both the red quantum dots and the green quantum dots is provided in all the through holes 121R, 121G, and 121B of the black matrix unit 12 has been described. However, the present invention is not limited to the configuration in which the color conversion unit 132 is provided in all the through holes 121R, 121G, and 121B of the black matrix unit 12. For example, as in the color filter 2010 provided in the display device 2 illustrated in FIG. 10, the color conversion unit 132 is provided only in the through holes 121R and 121G provided with the red coloring unit 131R and the green coloring unit 131G, and the through hole 121B is provided. May have a configuration in which a light diffusion portion 2132 is provided. The light diffusion part 2132 is made of, for example, a transparent resin base material in which transparent fine particles having a refractive index different from that of the resin base material are dispersed.

ここで、本変形例に係るカラーフィルタ2010の製造方法について、図11および図12を参照しながら説明する。このカラーフィルタ2010の製造方法では、図11に示すように、光拡散部形成工程が含まれる点が実施の形態に係る製造方法と相違する。   Here, a manufacturing method of the color filter 2010 according to the present modification will be described with reference to FIGS. As shown in FIG. 11, the manufacturing method of the color filter 2010 is different from the manufacturing method according to the embodiment in that a light diffusion portion forming step is included.

まず、遮光部形成工程を行った後(ステップS201)、遮光部122上に撥液部を形成する撥液部形成工程を行う(ステップS202)。この遮光部形成工程および撥液部形成工程は、実施の形態で説明した遮光部形成工程および撥液部形成工程と同様である。   First, after performing a light shielding part forming step (step S201), a liquid repellent part forming step of forming a liquid repellent part on the light shielding part 122 is performed (step S202). The light shielding part forming process and the liquid repellent part forming process are the same as the light shielding part forming process and the liquid repellent part forming process described in the embodiment.

次に、赤色着色部131Rおよび緑色着色部131Gを形成する着色部形成工程が行われる(ステップS203)。この着色部形成工程では、実施の形態と同様に、フォトリソグラフィ法を利用して、図12(A)に示すように、貫通孔121R、121Gそれぞれの内側に赤色着色部131Rおよび緑色着色部131Gを形成する。   Next, a colored part forming step for forming the red colored part 131R and the green colored part 131G is performed (step S203). In this colored portion forming step, as in the embodiment, using the photolithography method, as shown in FIG. 12A, the red colored portion 131R and the green colored portion 131G are placed inside the through holes 121R and 121G, respectively. Form.

図11に戻って、続いて、光拡散部2132を形成する光拡散部形成工程が行われる(ステップS204)。この光拡散部形成工程では、例えば一例として、フォトリソグラフィ法を利用して、図12(A)に示すように、貫通孔121Bの内側に光拡散部2132を形成する。具体的には、まず、基板11、ブラックマトリクス部12、赤色着色部131Rおよび緑色着色部131Gに、光拡散部2132の基となる感光性樹脂組成物を塗布する。この感光性樹脂組成物は、透明な粒子と、感光性樹脂と、有機溶剤と、を含む。感光性樹脂としては、例えば実施の形態で説明した撥液部123の基となる感光性樹脂組成物に含まれる感光性樹脂と同様のものを採用できる。次に、塗布された感光性樹脂組成物に含まれる有機溶剤を除去する除去処理を行うことにより、感光性樹脂層を形成する。除去処理は、実施の形態で説明した除去処理と同様である。続いて、感光性樹脂層のうち貫通孔121Bに対応する部分のみを覆うフォトマスクを配置した状態で、露光装置を用いて紫外線UVLを照射する。続いて、例えばアルカリ性現像液を用いて現像を行った後、除去処理を行うことにより、光拡散部2132を形成する。   Returning to FIG. 11, subsequently, a light diffusion portion forming step for forming the light diffusion portion 2132 is performed (step S <b> 204). In this light diffusing portion forming step, for example, as shown in FIG. 12A, the light diffusing portion 2132 is formed inside the through hole 121B by using photolithography. Specifically, first, a photosensitive resin composition serving as a base of the light diffusion portion 2132 is applied to the substrate 11, the black matrix portion 12, the red coloring portion 131R, and the green coloring portion 131G. This photosensitive resin composition contains transparent particles, a photosensitive resin, and an organic solvent. As a photosensitive resin, the thing similar to the photosensitive resin contained in the photosensitive resin composition used as the base of the liquid-repellent part 123 demonstrated in embodiment, for example can be employ | adopted. Next, the photosensitive resin layer is formed by performing the removal process which removes the organic solvent contained in the apply | coated photosensitive resin composition. The removal process is the same as the removal process described in the embodiment. Subsequently, ultraviolet light UVL is irradiated using an exposure apparatus in a state where a photomask covering only a portion corresponding to the through hole 121B in the photosensitive resin layer is disposed. Subsequently, for example, development is performed using an alkaline developer, and then a removal process is performed to form the light diffusion portion 2132.

図11に戻って、その後、赤色量子ドットおよび緑色量子ドットを含む熱硬化性樹脂組成物を、ブラックマトリクス部12に塗布する組成物塗布工程を行う(ステップS205)。この組成物塗布工程では、例えば図12(B)に示すような、塗布ヘッド1050を備えるダイコータを使用して、量子ドットを含む熱硬化性樹脂組成物をブラックマトリクス部12に塗布する。なお、図12(B)において実施の形態と同様の構成については図5(C)と同一の符号を付している。このとき、塗布ビードB1の一部が、ブラックマトリクス部12の貫通孔121R、121G内に侵入する。そして、この塗布ビードB1を介して、ブラックマトリクス部12の貫通孔121R、121G内に熱硬化性樹脂組成物が設けられる。このとき、熱硬化性樹脂組成物は、撥液部123および撥液性を有する光拡散部2132が存在することにより、撥液部123上および光拡散部2132上に残らずに、ブラックマトリクス部12の貫通孔121R、121Gの内側へ流入する。   Returning to FIG. 11, thereafter, a composition application step of applying a thermosetting resin composition including red quantum dots and green quantum dots to the black matrix portion 12 is performed (step S <b> 205). In this composition application process, for example, a thermosetting resin composition including quantum dots is applied to the black matrix portion 12 using a die coater including an application head 1050 as shown in FIG. Note that in FIG. 12B, components similar to those in the embodiment are denoted with the same reference numerals as in FIG. At this time, a part of the coating bead B1 enters the through holes 121R and 121G of the black matrix portion 12. And a thermosetting resin composition is provided in the through-holes 121R and 121G of the black matrix portion 12 through the coating bead B1. At this time, the thermosetting resin composition is not left on the liquid repellent part 123 and the light diffusing part 2132 due to the presence of the liquid repellent part 123 and the light diffusing part 2132 having liquid repellency. It flows into the 12 through holes 121R and 121G.

図12に戻って、次に、量子ドットを含む熱硬化性樹脂組成物に含まれる有機溶剤を除去する除去工程を行う(ステップS206)。これにより、図10に示すような色変換部132が形成される。   Returning to FIG. 12, next, the removal process which removes the organic solvent contained in the thermosetting resin composition containing a quantum dot is performed (step S206). As a result, a color conversion unit 132 as shown in FIG. 10 is formed.

本構成によれば、色変換部132を形成するために必要な熱硬化性樹脂組成物の量を低減することができるので、その分、カラーフィルタ2010の製造に必要な材料コストを低減できる。   According to this configuration, since the amount of the thermosetting resin composition necessary for forming the color conversion unit 132 can be reduced, the material cost necessary for manufacturing the color filter 2010 can be reduced accordingly.

実施の形態では、ブラックマトリクス部12が撥液性を有する撥液部123を有する構成について説明したが、ブラックマトリクス部12の構成は撥液性を有する構成に限定されるものではない。例えば図13に示す表示装置3が備えるカラーフィルタ3010のように、撥液性の低い材料から形成されたブラックマトリクス部3012を備える構成であってもよい。なお、図13において、実施の形態と同様の構成については図2と同一の符号を付している。このカラーフィルタ3010の製造方法では、組成物塗布工程において、樹脂組成物としてインクジェット装置を使用できる種類のものを選択した場合、図14に示すように、インクジェット装置を使用して色変換部132を形成すればよい。インクジェット装置は、例えば図14に示すような、ヘッド本体51と、ヘッド本体51に固定された振動板52と、振動板52に接合されたピエゾ素子53と、を有するインクジェットヘッド50を備える。ヘッド本体51は、インク液滴が吐出される複数のインクジェットノズル51bと、インクジェットノズル51bに連通するインク収容部51aと、を有する。ここにおいて、インク収容部51aに充填された量子ドットを含む組成物を、インクジェットノズル51bから吐出することにより、赤色着色部131R、緑色着色部131Gおよび青色着色部131Bに塗布する。   In the embodiment, the configuration in which the black matrix portion 12 includes the liquid repellent portion 123 having liquid repellency has been described, but the configuration of the black matrix portion 12 is not limited to the configuration having liquid repellency. For example, a configuration including a black matrix portion 3012 formed of a material having low liquid repellency, such as a color filter 3010 included in the display device 3 illustrated in FIG. In FIG. 13, the same reference numerals as those in FIG. In the method for manufacturing the color filter 3010, when a resin composition that can use an ink jet device is selected in the composition application step, the color conversion unit 132 is formed using the ink jet device as shown in FIG. What is necessary is just to form. The ink jet apparatus includes an ink jet head 50 having a head main body 51, a vibration plate 52 fixed to the head main body 51, and a piezo element 53 joined to the vibration plate 52, for example, as shown in FIG. 14. The head main body 51 includes a plurality of inkjet nozzles 51b from which ink droplets are ejected, and an ink containing portion 51a that communicates with the inkjet nozzles 51b. Here, the composition containing the quantum dots filled in the ink containing portion 51a is applied to the red colored portion 131R, the green colored portion 131G, and the blue colored portion 131B by discharging from the inkjet nozzle 51b.

本構成にインクジェット装置を使用できる樹脂組成物を選択することにより、撥液部を有していなくても樹脂組成物を貫通孔121R、121G、121Bの内側に塗布することができる。   By selecting a resin composition that can use an ink jet device for this configuration, the resin composition can be applied to the inside of the through holes 121R, 121G, and 121B without having a liquid repellent portion.

実施の形態では、ブラックマトリクス部12の複数の貫通孔121R、121G、121Bが、各画素領域Gに設けられ、図1に示すように、各画素領域Gを構成する3つの領域SBGそれぞれの略中央部に位置しているカラーフィルタ10の例について説明した。カラーフィルタ10では、Y軸方向に配列した複数の画素領域Gそれぞれに設けられた3つの貫通孔121R、121G、121Bの内側に、着色部131R、131G、131Bが設けられている。但し、貫通孔121R、121G、121Bの配置は、必ずしも図1に示す配置に限定されるものではない。例えば図15に示す表示装置4のように、Y軸方向で隣接する2つの画素領域Gそれぞれにおける同じ色の着色部131R(131G、131B)が設けられた貫通孔121R(121G、121B)が、X軸方向(第2方向)において互いにずれている構成であってもよい。つまり、複数の貫通孔121R(121G、121B)は、ブラックマトリクス部12の厚さ方向に直交する方向で少なくとも一方向(例えばY軸方向)に略直線状に、且つ当該直線方向と直交する方向(例えばX軸方向)にばらつきを有するように配列されている。   In the embodiment, a plurality of through holes 121R, 121G, and 121B of the black matrix portion 12 are provided in each pixel region G. As shown in FIG. 1, each of the three regions SBG that constitute each pixel region G is an abbreviation. The example of the color filter 10 located in the center has been described. In the color filter 10, coloring portions 131 </ b> R, 131 </ b> G, and 131 </ b> B are provided inside the three through holes 121 </ b> R, 121 </ b> G, and 121 </ b> B provided in each of the plurality of pixel regions G arranged in the Y-axis direction. However, the arrangement of the through holes 121R, 121G, and 121B is not necessarily limited to the arrangement shown in FIG. For example, as in the display device 4 shown in FIG. 15, through-holes 121 </ b> R (121 </ b> G, 121 </ b> B) provided with colored portions 131 </ b> R (131 </ b> G, 131 </ b> B) of the same color in each of two pixel regions G adjacent in the Y-axis direction are The configuration may be shifted from each other in the X-axis direction (second direction). That is, the plurality of through holes 121R (121G, 121B) are substantially linear in at least one direction (for example, the Y-axis direction) in a direction orthogonal to the thickness direction of the black matrix portion 12, and a direction orthogonal to the linear direction. They are arranged so as to vary (for example, in the X-axis direction).

ここにおいて、少なくともY軸方向に略直線状に並ぶ、同じ色の着色部131R(131G、131B)が設けられている貫通孔121R(121G、121B)同士が、X軸方向にばらつきを有するように配列されていればよい。そして、X軸方向に略直線状に並ぶ、異なる色の着色部が設けられている貫通孔121R、121G、121B同士が、Y軸方向にばらつきを有するように配列されていればなお良い。なお、図15では、Y軸方向に並ぶ複数の貫通孔121R(121G、121B)が、X軸方向にばらつきを有するように配列され、X軸方向に並ぶ複数の貫通孔121R、121G、121Bが、X軸方向に延びる直線状に配列されている例について説明した。但し、これに限らず、例えば、Y軸方向に並ぶ複数の貫通孔121R(121G、121B)が、Y軸方向に延びる直線状に配列され、X軸方向に並ぶ複数の貫通孔121R、121G、121Bが、Y軸方向にばらつきを有するように配列されていてもよい。   Here, at least through-holes 121R (121G, 121B) provided with colored portions 131R (131G, 131B) of the same color arranged in a substantially straight line in the Y-axis direction have variations in the X-axis direction. It only has to be arranged. The through holes 121R, 121G, and 121B provided with colored portions of different colors arranged in a substantially straight line in the X-axis direction may be arranged so as to have variations in the Y-axis direction. In FIG. 15, a plurality of through holes 121R (121G, 121B) arranged in the Y-axis direction are arranged so as to vary in the X-axis direction, and a plurality of through holes 121R, 121G, 121B arranged in the X-axis direction are arranged. In the above description, the linear arrangement extending in the X-axis direction has been described. However, not limited to this, for example, a plurality of through holes 121R (121G, 121B) arranged in the Y-axis direction are arranged in a straight line extending in the Y-axis direction, and a plurality of through-holes 121R, 121G, arranged in the X-axis direction. 121B may be arranged so as to have variations in the Y-axis direction.

また、Y軸方向に略直線状に配列されている貫通孔121R(121G、121B)同士が、X軸方向にばらつきを有するように配列されていれば色斑防止の効果を有する。また、X軸方向に略直線状に配列されている貫通孔121R、121G、121B同士が、Y軸方向にばらつきを有するように配列されていても色斑防止の効果を有する。なお、複数の貫通孔121R、121G、121Bは、いわゆる千鳥状に配置されている場合であっても、Y軸方向(X軸方向)に略直線状に配列されている貫通孔121R(121G、121B)同士で上記特徴を有することにより色斑防止の効果を有する。また、実施の形態および変形例では、画素領域Gが矩形状である場合について説明したが、画素領域Gの形状は矩形状に限定されない。   Further, if the through holes 121R (121G, 121B) arranged in a substantially straight line in the Y-axis direction are arranged so as to have variations in the X-axis direction, it has an effect of preventing color spots. Further, even if the through holes 121R, 121G, and 121B arranged in a substantially linear shape in the X-axis direction are arranged so as to have variations in the Y-axis direction, it has an effect of preventing color spots. Even though the plurality of through holes 121R, 121G, and 121B are arranged in a so-called staggered pattern, the through holes 121R (121G, 121G, 121B) having the above-mentioned characteristics has the effect of preventing color spots. In the embodiment and the modification, the case where the pixel region G is rectangular has been described, but the shape of the pixel region G is not limited to the rectangular shape.

本構成によれば、貫通孔121R、121G、121Bの内側に設けられる赤色着色部131R、緑色着色部131G、青色着色部131Bの位置ずれさせることによって色斑が目立ちにくくなるので、表示装置4に表示される画像の品質が向上する。   According to this configuration, the color spots are less noticeable by shifting the positions of the red coloring portion 131R, the green coloring portion 131G, and the blue coloring portion 131B provided inside the through holes 121R, 121G, and 121B. The quality of the displayed image is improved.

なお、ブラックマトリクス部12は、貫通孔121R、121G、121Bの大きさが全て同じ大きさである構成に限定されるものではない。ブラックマトリクス部は、例えばその貫通孔に設けられる着色部の色によって貫通孔の大きさが異なる構成であってもよい。また、貫通孔121R、121G、121Bの各数量は必ずしも同じでなくてもよい。   The black matrix portion 12 is not limited to a configuration in which the sizes of the through holes 121R, 121G, and 121B are all the same. The black matrix portion may have a configuration in which the size of the through hole is different depending on the color of the colored portion provided in the through hole, for example. Further, the quantities of the through holes 121R, 121G, and 121B are not necessarily the same.

実施の形態では、色変換部132が赤色着色部131R、緑色着色部131Gおよび青色着色部131Bに積層された構造を有するカラーフィルタ10の例について説明した。但し、これに限らず、例えば図16に示す表示装置5が備えるカラーフィルタ5010のように、赤色量子ドット、緑色量子ドットおよび赤色の色素が分散された樹脂から形成された色変換部5132Rと、赤色量子ドット、緑色量子ドットおよび緑色の色素が分散された樹脂から形成された色変換部5132Gと、を備える構成であってもよい。なお、図16において図10を用いて説明した変形例と同様の構成については図10と同一の符号を付している。この場合、色変換部5132Rは、緑色量子ドットから発する緑色の波長帯域の光を吸収する赤色着色部と同様の機能を有する。また、色変換部5132Gは、赤色量子ドットから発する赤色の波長帯域の光を吸収する緑色着色部と同様の機能を有する。   In the embodiment, an example of the color filter 10 having a structure in which the color conversion unit 132 is stacked on the red coloring unit 131R, the green coloring unit 131G, and the blue coloring unit 131B has been described. However, the present invention is not limited to this, for example, a color conversion unit 5132R formed of a resin in which red quantum dots, green quantum dots, and red pigments are dispersed, such as a color filter 5010 provided in the display device 5 illustrated in FIG. The color conversion part 5132G formed from resin in which a red quantum dot, a green quantum dot, and a green pigment | dye were disperse | distributed may be sufficient. In FIG. 16, the same reference numerals as those in FIG. 10 are assigned to configurations similar to those of the modification described with reference to FIG. 10. In this case, the color conversion unit 5132R has the same function as the red coloring unit that absorbs light in the green wavelength band emitted from the green quantum dots. The color conversion unit 5132G has the same function as the green coloring unit that absorbs light in the red wavelength band emitted from the red quantum dots.

実施の形態において、発光部22を囲繞する隔壁23の高さを、発光部22から放射される光の他の画素領域Gへの漏れ量が予め設定されたレベル以下に低減できるような高さに設定してもよい。   In the embodiment, the height of the partition wall 23 surrounding the light emitting unit 22 is high enough to reduce the amount of light emitted from the light emitting unit 22 to other pixel regions G to a predetermined level or less. May be set.

実施の形態では、赤色着色部131R、緑色着色部131Gおよび青色着色部131Bの厚さが等しい例について説明したが、これに限らず、赤色着色部131R、緑色着色部131Gおよび青色着色部131Bの厚さが互いに異なる構成であってもよい。或いは、赤色着色部131R、緑色着色部131Gおよび青色着色部131Bのうちの2つの厚さは互いに等しく、残りの1つの厚さとは異なる構成であってもよい。   In the embodiment, an example has been described in which the red coloring portion 131R, the green coloring portion 131G, and the blue coloring portion 131B have the same thickness. However, the present invention is not limited thereto, and the red coloring portion 131R, the green coloring portion 131G, and the blue coloring portion 131B The thickness may be different from each other. Alternatively, the thicknesses of the red coloring portion 131R, the green coloring portion 131G, and the blue coloring portion 131B may be equal to each other and different from the remaining one.

実施の形態に係るカラーフィルタ10の製造方法では、熱硬化性樹脂を含む熱硬化性樹脂組成物を用いる例について説明したが、これに限らず、例えば熱硬化性樹脂の代わりに、例えば紫外線が照射されることで硬化するような感光性樹脂を含む感光性樹脂組成物を用いてもよい。   In the manufacturing method of the color filter 10 according to the embodiment, the example using the thermosetting resin composition containing the thermosetting resin has been described. However, the present invention is not limited thereto, and for example, instead of the thermosetting resin, for example, ultraviolet rays are used. A photosensitive resin composition containing a photosensitive resin that cures when irradiated may be used.

実施の形態では、赤色着色部131R、緑色着色部131Gおよび青色着色部131Bそれぞれが列状に配置されたいわゆるストライプ型のカラーフィルタ10を備える例について説明した。但し、カラーフィルタの構造はこれに限定されるものではなく、例えば赤色着色部、緑色着色部および青色着色部がいわゆる千鳥形状に配置されたカラーフィルタを備えるものであってもよい。   In the embodiment, an example in which the red colored portion 131R, the green colored portion 131G, and the blue colored portion 131B are each provided with a so-called stripe-type color filter 10 arranged in a row has been described. However, the structure of the color filter is not limited to this. For example, the color filter may include a color filter in which a red colored portion, a green colored portion, and a blue colored portion are arranged in a so-called staggered shape.

実施の形態では、ブラックマトリクス部12が、遮光機能を有する遮光部122と撥液性を有する撥液部123とから構成される2層構造を有する例について説明した。但し、ブラックマトリクス部12は、2層構造を有するものに限定されるものではなく、例えば遮光性および撥液性を兼ね備えた単層構造を有するものであってもよい。   In the embodiment, an example in which the black matrix portion 12 has a two-layer structure including a light shielding portion 122 having a light shielding function and a liquid repellent portion 123 having liquid repellency has been described. However, the black matrix portion 12 is not limited to one having a two-layer structure, and may have a single-layer structure having both light-shielding properties and liquid repellency, for example.

実施の形態では、色変換部132が、赤色量子ドットと緑色量子ドットとを含む例について説明したが、色変換部132に含まれる色変換物質は量子ドットに限定されるものではない。例えば、色変換部132が、量子ドットの代わりに、入射光の波長帯域と異なる波長帯域の光に変換する有機材料(例えば青色の波長帯域の光を赤色の波長帯域の光または緑色の波長帯域の光に変換する有機材料)を含むものであってもよい。或いは、色変換部132が、量子ドットの代わりに、蛍光体(例えば青色の波長帯域の光で励起されることにより赤色の波長帯域の光を発する蛍光体、または、青色の波長帯域の光で励起されることにより緑色の波長帯域の光を発する蛍光体)を含むものであってもよい。   In the embodiment, the example in which the color conversion unit 132 includes red quantum dots and green quantum dots has been described. However, the color conversion material included in the color conversion unit 132 is not limited to quantum dots. For example, instead of quantum dots, the color conversion unit 132 converts an organic material into light having a wavelength band different from the wavelength band of incident light (for example, light in the blue wavelength band to light in the red wavelength band or green wavelength band). The organic material that converts the light into the light may be included. Alternatively, instead of the quantum dots, the color conversion unit 132 may be a phosphor (for example, a phosphor that emits light in the red wavelength band when excited by light in the blue wavelength band, or light in the blue wavelength band). And a phosphor that emits light in a green wavelength band when excited.

実施の形態では、組成物塗布工程において、量子ドットを含む熱硬化性樹脂組成物を塗布する例について説明したが、量子ドットを含む組成物は樹脂を含む組成物に限定されない。   In the embodiment, an example in which a thermosetting resin composition including quantum dots is applied in the composition application step has been described, but the composition including quantum dots is not limited to a composition including a resin.

実施の形態では、赤色着色部131R、緑色着色部131Gおよび青色着色部131Bが平面視円形である例について説明したが、赤色着色部131R、緑色着色部131Gおよび青色着色部131Bの平面視形状は円形に限定されない。例えば、赤色着色部131R、緑色着色部131Gおよび青色着色部131Bが平面視矩形であってもよいし、楕円であってもよい。   In the embodiment, the example in which the red coloring portion 131R, the green coloring portion 131G, and the blue coloring portion 131B are circular in plan view has been described. However, the planar shape of the red coloring portion 131R, the green coloring portion 131G, and the blue coloring portion 131B is as follows. It is not limited to a circle. For example, the red coloring portion 131R, the green coloring portion 131G, and the blue coloring portion 131B may be rectangular in plan view or may be oval.

実施の形態では、発光部22が青色光を放射し、異色着色部が赤色光を選択的に透過させる赤色着色部131Rまたは緑色光を選択的に透過させる緑色着色部131Gであり、同色着色部が青色光を選択的に透過させる青色着色部131Bである例について説明した。但し、異色着色部が選択的に透過させる光は、赤色光または緑色光に限定されるものではない。また、同色着色部が選択的に透過させる光も、青色光に限定されるものではない。例えば、発光部22から紫色光である場合、異色着色部が、赤色、緑色、黄色の波長帯域の光を選択的に透過し、同色着色部が紫色の波長帯域の光を選択的に透過させるものであってもよい。また、発光部22の光源は、LEDに限らない。例えば、発光部22の光源に紫外光源(以下、「UV光源」と称する。)を使用し、UV光源から放射される紫外光を赤色光、緑色光、青色光に変換する色変換部を有してもよい。   In the embodiment, the light emitting unit 22 emits blue light, and the different colored portion is a red colored portion 131R that selectively transmits red light or a green colored portion 131G that selectively transmits green light, and the same colored portion The example in which is the blue coloring portion 131B that selectively transmits blue light has been described. However, the light selectively transmitted by the different colored portions is not limited to red light or green light. Further, the light selectively transmitted by the colored portion of the same color is not limited to blue light. For example, in the case of violet light from the light emitting unit 22, the different colored portion selectively transmits light in the red, green, and yellow wavelength bands, and the same colored portion selectively transmits light in the purple wavelength band. It may be a thing. Moreover, the light source of the light emission part 22 is not restricted to LED. For example, an ultraviolet light source (hereinafter referred to as “UV light source”) is used as the light source of the light emitting unit 22, and a color conversion unit that converts ultraviolet light emitted from the UV light source into red light, green light, and blue light is provided. May be.

実施の形態では、ブラックマトリクス部12が黒色色素を含む感光性樹脂または熱硬化性樹脂から形成されている例について説明したが、ブラックマトリクス部12を形成する材料はこれらに限定されない。ブラックマトリクス部12が、例えばクロムやチタン、アルミニウム等の金属簿膜または酸化物簿膜やそれらの積層膜から構成されていてもよい。   In the embodiment, the example in which the black matrix portion 12 is formed of a photosensitive resin or a thermosetting resin containing a black pigment has been described. However, the material forming the black matrix portion 12 is not limited thereto. The black matrix part 12 may be comprised from metal book films or oxide book films, such as chromium, titanium, aluminum, etc., and those laminated films, for example.

実施の形態では、着色部形成工程にフォトリソグラフィ法を利用したが、着色部形成工程に利用できる方法はこれに限定されない。例えば、スピンコータ、バーコータ、ブレードコータ、ロールコータ、ダイコータ、ストライプコータ、キャピラリーコータまたはインクジェット装置を用いてもよいし、スクリーン印刷法を用いて着色部を形成してもよい。   In the embodiment, the photolithography method is used for the colored portion forming step, but the method that can be used for the colored portion forming step is not limited thereto. For example, a spin coater, a bar coater, a blade coater, a roll coater, a die coater, a stripe coater, a capillary coater, or an ink jet apparatus may be used, or a colored portion may be formed by a screen printing method.

また、変形例では、光拡散部形成工程にフォトリソグラフィ法を利用したが、光拡散部形成工程に利用できる方法はこれに限定されない。例えば、スピンコータ、バーコータ、ブレードコータ、ロールコータ、ダイコータ、ストライプコータ、キャピラリーコータまたはインクジェット装置を用いて光拡散部を形成してもよい。   In the modification, the photolithography method is used for the light diffusion portion forming step, but the method that can be used for the light diffusion portion forming step is not limited to this. For example, the light diffusing portion may be formed using a spin coater, bar coater, blade coater, roll coater, die coater, stripe coater, capillary coater, or ink jet apparatus.

以上、本発明の実施の形態および変形例(なお書きに記載したものを含む。以下、同様。)について説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。本発明は、実施の形態および変形例が適宜組み合わされたもの、それに適宜変更が加えられたものを含む。   As mentioned above, although embodiment of this invention and the modification (Including what was written in the description, the following is the same) were demonstrated, this invention is not limited to these. The present invention includes a combination of the embodiments and modifications as appropriate, and a modification appropriately added thereto.

本発明は、ディスプレイ用のカラーフィルタの製造に広く利用可能である。   The present invention can be widely used for manufacturing color filters for displays.

1,2,3,4,5,9001:表示装置、10,2010,3010,4010,5010,9010:カラーフィルタ、11:基板、11a:第1主面、11b:第2主面、12,3012:ブラックマトリクス部、20:発光モジュール、21:回路基板、22:発光部、23:隔壁、50:インクジェットヘッド、51:ヘッド本体、51a:インク収容部、51b:ノズル、52:振動板、53:ピエゾ素子、121B,121G,121R,3121B,3121G,3121R:貫通孔、122:遮光部、123:撥液部、131B:青色着色部、131G:緑色着色部、131R:赤色着色部、132,5132R,5132G:色変換部、1050,2050,3050:塗布ヘッド、1051:フロントリップ、1052,2052:リアリップ、1053,3053:マニホールド、1054:スリット、1055,3055:吐出口、1123:感光性樹脂層、2056:吸引口、2132,9132B:光拡散部、3054:溝、9132G:緑色色変換部、9132R:赤色色変換部、UVL:紫外線 1, 2, 3, 4, 5, 9001: display device 10, 2010, 3010, 4010, 5010, 9010: color filter, 11: substrate, 11a: first main surface, 11b: second main surface, 12, 3012: Black matrix part, 20: Light emitting module, 21: Circuit board, 22: Light emitting part, 23: Partition, 50: Inkjet head, 51: Head body, 51a: Ink containing part, 51b: Nozzle, 52: Diaphragm, 53: Piezo element, 121B, 121G, 121R, 3121B, 3121G, 3121R: Through hole, 122: Light shielding part, 123: Liquid repellent part, 131B: Blue colored part, 131G: Green colored part, 131R: Red colored part, 132 , 5132R, 5132G: color conversion unit, 1050, 2050, 3050: coating head, 1051: front lip, 105 , 2052: rear lip, 1053, 3053: manifold, 1054: slit, 1055, 3055: discharge port, 1123: photosensitive resin layer, 2056: suction port, 2132, 9132B: light diffusion portion, 3054: groove, 9132G: green color Conversion unit, 9132R: red color conversion unit, UVL: ultraviolet ray

Claims (8)

透光性の基板と、
前記基板に積層され厚さ方向に貫通する複数の貫通孔を有する隔壁部と、
前記基板上における前記隔壁部に設けられた前記貫通孔の総数以下の複数の貫通孔の内側に設けられ、入射する光の波長帯域と異なる複数種類の波長帯域のうちのいずれか1つの波長帯域の光を選択的に透過させる着色部と、
前記基板上における、前記着色部が設けられた貫通孔の内側に設けられ、入射する光を、前記複数種類の波長帯域の光のうちのいずれか1つの波長帯域の光に変換する色変換物質を複数種類含む色変換部と、を備える、
カラーフィルタ。
A translucent substrate;
A partition wall having a plurality of through holes stacked in the substrate and penetrating in the thickness direction,
One wavelength band of a plurality of types of wavelength bands different from a wavelength band of incident light provided inside a plurality of through holes equal to or less than the total number of the through holes provided in the partition wall on the substrate. A colored portion that selectively transmits light of
A color conversion material that is provided inside the through-hole provided with the coloring portion on the substrate and converts incident light into light in any one of the plurality of types of wavelength bands. A color conversion unit including a plurality of types,
Color filter.
前記複数の貫通孔は、前記隔壁部の厚さ方向に直交する方向で少なくとも一方向に略直線状に、且つ当該直線方向と直交する方向にばらつきを有するように配列されている、
請求項1に記載のカラーフィルタ。
The plurality of through holes are arranged so as to be substantially linear in at least one direction in a direction orthogonal to the thickness direction of the partition wall and to have a variation in a direction orthogonal to the linear direction.
The color filter according to claim 1.
前記隔壁部の厚さは、前記着色部の厚さよりも厚い、
請求項1または2に記載のカラーフィルタ。
The partition wall is thicker than the colored part,
The color filter according to claim 1.
前記隔壁部は、撥液性を有し少なくとも前記隔壁部における前記基板側とは反対側の面に露出した状態で設けられた撥液部を有する、
請求項1乃至3のいずれか1項に記載のカラーフィルタ。
The partition wall portion has a liquid repellency, and has a liquid repellent portion provided in a state exposed at least on the surface of the partition wall portion opposite to the substrate side.
The color filter according to claim 1.
前記色変換部は、
青色の波長帯域の光で励起されることにより赤色の波長帯域の光を放射する赤色量子ドットと、
青色の波長帯域の光で励起されることにより緑色の波長帯域の光を放射する緑色量子ドットと、を含む、
請求項1乃至4のいずれか1項に記載のカラーフィルタ。
The color converter is
Red quantum dots that emit light in the red wavelength band by being excited with light in the blue wavelength band;
A green quantum dot that emits light in the green wavelength band by being excited with light in the blue wavelength band,
The color filter of any one of Claims 1 thru | or 4.
透光性を有する基板と、前記基板に積層され厚さ方向に貫通する複数の貫通孔を有する隔壁部と、前記基板上における前記隔壁部に設けられた前記貫通孔の総数以下の複数の貫通孔の内側に設けられ、入射する光の波長帯域と異なる複数種類の波長帯域のうちのいずれか1つの波長帯域の光を選択的に透過させる着色部と、色変換部とを備えるカラーフィルタの製造方法であって、
入射する光を前記入射する光の波長帯域と異なる複数種類の波長帯域の光のうちのいずれか1つの波長帯域の光に変換する色変換物質を複数種類含む組成物を塗布ヘッドの吐出口より吐出して、前記着色部が設けられた貫通孔の内側に塗布する組成物塗布工程を含む、
カラーフィルタの製造方法。
A light-transmitting substrate, a partition wall portion having a plurality of through holes stacked on the substrate and penetrating in a thickness direction, and a plurality of through holes less than or equal to the total number of the through holes provided in the partition wall portion on the substrate A color filter that is provided inside a hole and includes a coloring unit that selectively transmits light in any one of a plurality of types of wavelength bands different from the wavelength band of incident light, and a color conversion unit A manufacturing method comprising:
A composition containing a plurality of types of color conversion substances for converting incident light into light of any one of a plurality of types of wavelength bands different from the wavelength band of the incident light is applied from an ejection port of the coating head. Including a composition application step of discharging and applying to the inside of the through hole provided with the colored portion,
A method for producing a color filter.
前記隔壁部は、撥液性を有し少なくとも前記隔壁部における前記基板側とは反対側の面に露出した状態で設けられた撥液部を有し、
前記組成物塗布工程において、前記隔壁部から予め設定された距離だけ離間した状態で保持された塗布ヘッドの吐出口より、前記組成物を吐出しながら、前記塗布ヘッドまたは前記基板を予め設定された一方向へ相対的に移動させることにより、前記組成物を、前記隔壁部における前記基板側とは反対側の面に塗布する、
請求項6に記載のカラーフィルタの製造方法。
The partition wall has liquid repellency, and has at least a liquid repellent portion provided exposed on the surface of the partition wall opposite to the substrate side,
In the composition application step, the application head or the substrate is set in advance while discharging the composition from the discharge port of the application head held in a state separated from the partition wall by a predetermined distance. By relatively moving in one direction, the composition is applied to the surface of the partition wall portion opposite to the substrate side.
The manufacturing method of the color filter of Claim 6.
前記塗布ヘッドは、前記吐出口における、前記塗布ヘッドから見て前記基板が移動する方向側とは反対側の領域を減圧する減圧部を有する、
請求項6または7に記載のカラーフィルタの製造方法。
The coating head has a decompression unit that decompresses a region on the opposite side to the direction in which the substrate moves as viewed from the coating head at the discharge port.
The manufacturing method of the color filter of Claim 6 or 7.
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