JP2018189800A - Hard coat film for curved surface display, transparent substrate with hard coat film, and display device - Google Patents

Hard coat film for curved surface display, transparent substrate with hard coat film, and display device Download PDF

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慎二 菊地
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a hard coat film for a curved surface display which has a hard coat layer that has high surface hardness while having scattering prevention, has excellent scratch resistance, is soft and is excellent in flexibility and workability, and is easily bent and can be stuck to a display surface having a curved shape.SOLUTION: A hard coat film for a curved surface display includes a hard coat layer, a base material and an adhesive layer, has the hard coat layer adjacent to one surface of the base material, has the adhesive layer at the other surface side of the base material, the hard coat layer is a cured product layer of a curable composition containing at least one additive selected from the group consisting of polyorganosilsesquioxane, silica particles having a group containing a (meth)acryloyl group thereon and silicon acrylate. The polyorganosilsesquioxane is described in the present specification.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、曲面ディスプレイ用ハードコートフィルム、ハードコートフィルム付き透明基板及びディスプレイ装置に関する。   The present invention relates to a hard coat film for curved display, a transparent substrate with a hard coat film, and a display device.

従来、スマートフォン、タブレット端末、カーナビゲーションシステムなどのタッチパネルディスプレイを備えた装置の最表面には、主にカバーガラスなどのガラス材料が用いられている。近年、スマートフォンなどのディスプレイを備えた装置では、一部ないし全体に曲面形状を有するものがあり、最表面のガラス材料も曲面形状を有している。ガラス材料は、一般的に外部からの衝撃などで割れたときに飛散することがあり、曲面形状を有するガラス材料は、平面であるときに比べて割れやすく、ガラスが飛散するリスクが特に高くなっている。このようなガラスが割れたときの飛散を防止し、さらにディスプレイ表面をキズなどから保護するために、ガラス材料の上にハードコート層を有するハードコートフィルム(飛散防止フィルム)を貼り付けることがある。   Conventionally, a glass material such as a cover glass is mainly used on the outermost surface of a device including a touch panel display such as a smartphone, a tablet terminal, or a car navigation system. In recent years, some devices equipped with a display such as a smartphone have a curved shape in part or in whole, and the outermost glass material also has a curved shape. Glass materials are generally scattered when broken by impacts from the outside. Glass materials with curved surfaces are more likely to break than when they are flat, and the risk of glass scattering is particularly high. ing. In order to prevent such scattering when the glass is broken and to protect the display surface from scratches, a hard coat film (scattering prevention film) having a hard coat layer may be applied on the glass material. .

このようなハードコートフィルムにおけるハードコート層を形成するための材料としては、主に、UVアクリルモノマーが使用されている(例えば、特許文献1参照)。   As a material for forming a hard coat layer in such a hard coat film, a UV acrylic monomer is mainly used (for example, see Patent Document 1).

特開2009−279840号公報JP 2009-279840 A

しかしながら、上述の従来のUVアクリルモノマーを使用したハードコート層は、2H程度の鉛筆硬度であり、未だ十分な表面硬度を有するものとは言えなかった。4H程度の鉛筆硬度を有し、より表面硬度が高いハードコート層が求められている。また、ハードコートフィルムは、表面に傷が付きにくいことも求められている。さらに、上述の従来のハードコートフィルムは、曲面形状を有するディスプレイ表面に従来のハードコートフィルムを貼り付けようとしても、ハードコート層に柔軟性がなく、硬いため容易に曲げることができず、ハードコートフィルムを曲面形状に合わせて貼り付けることができないことがある。また、従来のハードコートフィルムを曲面形状を有するディスプレイ表面に貼り付けても、ハードコート層がディスプレイの曲面形状に追従できず、ハードコート層が壊れてしまうことがある。近年では、曲面のR(半径)が小さい形状のディスプレイも求められてきており、従来のハードコートフィルムでは、ディスプレイの曲面形状に追従することがさらに困難となっている。   However, the hard coat layer using the above-mentioned conventional UV acrylic monomer has a pencil hardness of about 2H, and has not yet been said to have a sufficient surface hardness. There is a demand for a hard coat layer having a pencil hardness of about 4H and a higher surface hardness. In addition, the hard coat film is also required to be hard to be scratched on the surface. Furthermore, the above-mentioned conventional hard coat film cannot be easily bent because the hard coat layer is inflexible and hard even if the conventional hard coat film is applied to a curved display surface. The coat film may not be attached in accordance with the curved shape. Moreover, even if a conventional hard coat film is attached to a display surface having a curved shape, the hard coat layer may not follow the curved shape of the display, and the hard coat layer may be broken. In recent years, a display having a curved surface with a small R (radius) has been demanded, and it has become more difficult to follow the curved surface shape of a display with a conventional hard coat film.

従って、本発明の目的は、飛散防止性を有しつつ、表面硬度が高く、優れた耐擦傷性を有し、且つ柔軟であり、可撓性及び加工性に優れたハードコート層を有し、容易に曲げて曲面形状を有するディスプレイ表面に貼り付けることができる曲面ディスプレイ用ハードコートフィルムを提供することにある。   Therefore, an object of the present invention is to have a hard coat layer having anti-scattering properties, high surface hardness, excellent scratch resistance and softness, and excellent flexibility and workability. An object of the present invention is to provide a hard coat film for curved display that can be easily bent and attached to a display surface having a curved shape.

本発明者は、エポキシ基を含むシルセスキオキサン構成単位(単位構造)を有するポリオルガノシルセスキオキサンを含む硬化性組成物を用いてハードコート層を形成することにより、飛散防止性を有しつつ、表面硬度が高く、且つ柔軟であり、可撓性及び加工性に優れたハードコート層を有する曲面ディスプレイ用ハードコートフィルムが得られることを見出した。   The inventor has anti-scattering properties by forming a hard coat layer using a curable composition containing a polyorganosilsesquioxane having a silsesquioxane structural unit (unit structure) containing an epoxy group. However, the present inventors have found that a hard coat film for curved display having a hard coat layer having a high surface hardness and softness and excellent flexibility and workability can be obtained.

すなわち、本発明は、ハードコート層、基材、及び粘着層を含む曲面ディスプレイ用ハードコートフィルムであって、前記基材の一方の面に隣接する前記ハードコート層を有し、且つ前記基材の他方の面側に前記粘着層を有し、前記ハードコート層は、下記ポリオルガノシルセスキオキサンと、表面に(メタ)アクリロイル基を含む基を有するシリカ粒子、及びシリコンアクリレートからなる群より選択される少なくとも1つの添加剤とを含む硬化性組成物の硬化物層である曲面ディスプレイ用ハードコートフィルムを提供する。
ポリオルガノシルセスキオキサン:下記式(1)で表される構成単位を有し、下記式(I)で表される構成単位と、下記式(II)で表される構成単位のモル比[式(I)で表される構成単位/式(II)で表される構成単位]が5以上であり、シロキサン構成単位の全量に対する、下記式(1)で表される構成単位及び下記式(4)で表される構成単位の合計の割合が55〜100モル%であり、数平均分子量が1000〜3000、分子量分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.0〜3.0である曲面ディスプレイ用ハードコートフィルムを提供する。

Figure 2018189800
[式(1)中、R1は、エポキシ基を含有する基を示す。]
Figure 2018189800
[式(I)中、Raは、エポキシ基を含有する基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、又は水素原子を示す。]
Figure 2018189800
[式(II)中、Rbは、エポキシ基を含有する基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、又は水素原子を示す。Rcは、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示す。]
Figure 2018189800
[式(4)中、R1は、式(1)におけるものと同じ。Rcは、式(II)におけるものと同じ。] That is, the present invention is a hard coat film for curved display including a hard coat layer, a base material, and an adhesive layer, the hard coat layer adjacent to one surface of the base material, and the base material The other side of the adhesive layer has the adhesive layer, and the hard coat layer comprises the following polyorganosilsesquioxane, silica particles having a group containing a (meth) acryloyl group on the surface, and silicon acrylate. Provided is a hard coat film for curved display, which is a cured layer of a curable composition containing at least one additive selected.
Polyorganosilsesquioxane: having a structural unit represented by the following formula (1), a molar ratio of the structural unit represented by the following formula (I) and the structural unit represented by the following formula (II) [ The structural unit represented by the formula (I) / the structural unit represented by the formula (II)] is 5 or more, and the structural unit represented by the following formula (1) and the following formula ( 4) The total proportion of the structural units represented by 55) is from 55 to 100 mol%, the number average molecular weight is 1000 to 3000, and the molecular weight dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.0 to 3.0. A hard coat film for a curved display is provided.
Figure 2018189800
[In Formula (1), R < 1 > shows group containing an epoxy group. ]
Figure 2018189800
[In the formula (I), R a is a group containing an epoxy group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group. Represents a substituted or unsubstituted alkenyl group or a hydrogen atom. ]
Figure 2018189800
[In the formula (II), R b represents an epoxy group-containing group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group. Represents a substituted or unsubstituted alkenyl group or a hydrogen atom. R c represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. ]
Figure 2018189800
[In formula (4), R 1 is the same as that in formula (1). R c is the same as in formula (II). ]

また、本発明は、前記ポリオルガノシルセスキオキサンは、さらに、下記式(2)で表される構成単位を有することが好ましい。

Figure 2018189800
[式(2)中、R2は、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、又は、置換若しくは無置換のアルケニル基を示す。] In the present invention, it is preferable that the polyorganosilsesquioxane further has a structural unit represented by the following formula (2).
Figure 2018189800
[In the formula (2), R 2 represents a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted group. An alkenyl group of ]

また、本発明は、前記ポリオルガノシルセスキオキサンは、R2が、置換若しくは無置換のアリール基であることが好ましい。 In the present invention, it is preferable that in the polyorganosilsesquioxane, R 2 is a substituted or unsubstituted aryl group.

また、本発明は、前記ポリオルガノシルセスキオキサンは、R1が、下記式(1a)で表される基、下記式(1b)で表される基、下記式(1c)で表される基、又は、下記式(1d)で表される基であることが好ましい。

Figure 2018189800
[式(1a)中、R1aは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
Figure 2018189800
[式(1b)中、R1bは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
Figure 2018189800
[式(1c)中、R1cは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
Figure 2018189800
[式(1d)中、R1dは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。] Further, in the present invention, in the polyorganosilsesquioxane, R 1 is represented by a group represented by the following formula (1a), a group represented by the following formula (1b), or the following formula (1c). It is preferably a group or a group represented by the following formula (1d).
Figure 2018189800
[In Formula (1a), R 1a represents a linear or branched alkylene group. ]
Figure 2018189800
[In formula (1b), R 1b represents a linear or branched alkylene group. ]
Figure 2018189800
[In Formula (1c), R 1c represents a linear or branched alkylene group. ]
Figure 2018189800
[In formula (1d), R 1d represents a linear or branched alkylene group. ]

また、本発明は、前記ポリオルガノシルセスキオキサン以外のエポキシ化合物を含むことが好ましい。   Moreover, it is preferable that this invention contains epoxy compounds other than the said polyorgano silsesquioxane.

また、本発明は、光カチオン重合開始剤を含むことが好ましい。   Moreover, it is preferable that this invention contains a photocationic polymerization initiator.

また、本発明は、前記ハードコート層の厚みは、1〜100μmであることが好ましい。   In the present invention, the thickness of the hard coat layer is preferably 1 to 100 μm.

また、本発明は、総厚みは、10〜1000μmであることが好ましい。   In the present invention, the total thickness is preferably 10 to 1000 μm.

また、本発明は、前記曲面ディスプレイ用ハードコートフィルムと、前記曲面ディスプレイ用ハードコートフィルムの粘着層側の面に貼着された、曲面を有する透明基板とを含むハードコートフィルム付き透明基板を提供する。   The present invention also provides a transparent substrate with a hard coat film, comprising the hard coat film for curved display, and a transparent substrate having a curved surface, which is attached to the adhesive layer side surface of the hard coat film for curved display. To do.

また、本発明は、前記曲面ディスプレイ用ハードコートフィルムと、曲面を有する透明基板と、ディスプレイパネル構成部材とを備えるディスプレイ装置を提供する。   Moreover, this invention provides the display apparatus provided with the said hard coat film for curved displays, the transparent substrate which has a curved surface, and a display panel structural member.

本発明の曲面ディスプレイ用ハードコートフィルムは、飛散防止性を有しつつ、表面硬度が高く、優れた耐擦傷性を有し、且つ柔軟であり、可撓性及び加工性に優れたハードコート層を有するため、容易に曲げて曲面形状を有するディスプレイ表面に貼り付けることができる。また、本発明の曲面ディスプレイ用ハードコートフィルムは、ハードコート層表面の平滑性(厚みの均一性)などの外観が良く、屈曲部(曲面)の耐擦傷性にも優れる。また、本発明の曲面ディスプレイ用ハードコートフィルムは、可撓性及び加工性に優れたハードコート層を有するため、ロールトゥロールでの製造や加工が可能であり、コスト面においても優れる。   The hard coat film for curved display according to the present invention has a hard coat layer having high surface hardness, excellent scratch resistance, and softness while having anti-scattering properties and excellent flexibility and workability. Therefore, it can be easily bent and attached to a display surface having a curved surface shape. Further, the hard coat film for curved display of the present invention has good appearance such as smoothness (thickness uniformity) on the surface of the hard coat layer, and is excellent in scratch resistance of the bent portion (curved surface). Moreover, since the hard coat film for curved displays of the present invention has a hard coat layer excellent in flexibility and processability, it can be manufactured and processed by roll-to-roll, and is excellent in cost.

本発明の曲面ディスプレイ用ハードコートフィルムの好ましい態様の一例を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows an example of the preferable aspect of the hard coat film for curved surface displays of this invention. 本発明のハードコートフィルム付き透明基板の好ましい態様の一例を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows an example of the preferable aspect of the transparent substrate with a hard coat film of this invention. 本発明のディスプレイ装置の好ましい態様の一例を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows an example of the preferable aspect of the display apparatus of this invention.

本発明の曲面ディスプレイ用ハードコートフィルム(以下、「本発明のハードコートフィルム」、又は「本発明」と称する場合もある)は、ハードコート層、基材、及び粘着層を含む曲面ディスプレイ用ハードコートフィルムであって、前記基材の一方の面に隣接する前記ハードコート層を有し、且つ前記基材の他方の面側に前記粘着層を有し、前記ハードコート層は、後記のポリオルガノシルセスキオキサンと、表面に(メタ)アクリロイル基を含む基を有するシリカ粒子、及びシリコンアクリレートからなる群より選択される少なくとも1つの添加剤とを含む硬化性組成物の硬化物層であることを特徴とする。本発明の曲面ディスプレイ用ハードコートフィルムの好ましい態様の一例である断面模式図(ハードコート層4/基材5/粘着層6)を図1に示す。   The hard coat film for curved display of the present invention (hereinafter also referred to as “hard coat film of the present invention” or “present invention”) includes a hard coat layer, a substrate, and an adhesive layer. A coated film having the hard coat layer adjacent to one surface of the substrate and the adhesive layer on the other surface side of the substrate; A cured product layer of a curable composition comprising an organosilsesquioxane, silica particles having a group containing a (meth) acryloyl group on the surface, and at least one additive selected from the group consisting of silicon acrylate It is characterized by that. FIG. 1 shows a schematic cross-sectional view (hard coat layer 4 / base material 5 / adhesive layer 6) as an example of a preferred embodiment of the hard coat film for curved display of the present invention.

(硬化性組成物)
前記硬化性組成物は、後記のポリオルガノシルセスキオキサンと、表面に(メタ)アクリロイル基を含む基を有するシリカ粒子、及びシリコンアクリレートからなる群より選択される少なくとも1つの添加剤とを含む。後記のように硬化性組成物は、さらに、光カチオン重合開始剤、レベリング剤及びポリオルガノシルセスキオキサン以外のカチオン硬化性化合物等のその他の成分を含んでいてもよい。
(Curable composition)
The curable composition includes polyorganosilsesquioxane described later, silica particles having a group containing a (meth) acryloyl group on the surface, and at least one additive selected from the group consisting of silicon acrylate. . As described later, the curable composition may further contain other components such as a cationic photopolymerization initiator, a leveling agent, and a cationically curable compound other than polyorganosilsesquioxane.

(ポリオルガノシルセスキオキサン)
前記ポリオルガノシルセスキオキサン(シルセスキオキサン)は、下記式(1)で表される構成単位を有し、下記式(I)で表される構成単位(「T3体」と称する場合がある)と、下記式(II)で表される構成単位(「T2体」と称する場合がある)のモル比[式(I)で表される構成単位/式(II)で表される構成単位;「T3体/T2体」と記載する場合がある]が5以上であり、シロキサン構成単位の全量(100モル%)に対する、下記式(1)で表される構成単位及び後記の式(4)で表される構成単位の合計の割合(総量)が55〜100モル%であり、数平均分子量が1000〜3000、分子量分散度[重量平均分子量/数平均分子量]が1.0〜3.0であることを特徴とする。

Figure 2018189800
Figure 2018189800
Figure 2018189800
(Polyorganosilsesquioxane)
The polyorganosilsesquioxane (silsesquioxane) has a structural unit represented by the following formula (1), and is represented by a structural unit represented by the following formula (I) (sometimes referred to as “T3 body”). And the molar ratio of the structural unit represented by the following formula (II) (sometimes referred to as “T2 form”) [the structural unit represented by the formula (I) / the structure represented by the formula (II) The unit: “may be described as“ T3 body / T2 body ”] is 5 or more, and the structural unit represented by the following formula (1) and the following formula (with respect to the total amount (100 mol%) of the siloxane structural unit ( 4) The total ratio (total amount) of the structural units represented by 55 to 100 mol%, the number average molecular weight is 1000 to 3000, and the molecular weight dispersity [weight average molecular weight / number average molecular weight] is 1.0 to 3 0.0.
Figure 2018189800
Figure 2018189800
Figure 2018189800

上記式(1)で表される構成単位は、一般に[RSiO3/2]で表されるシルセスキオキサン構成単位(いわゆるT単位)である。なお、上記式中のRは、水素原子又は一価の有機基を示し、以下においても同じである。上記式(1)で表される構成単位は、対応する加水分解性三官能シラン化合物(具体的には、例えば、後記の式(a)で表される化合物)の加水分解及び縮合反応により形成される。 The structural unit represented by the above formula (1) is a silsesquioxane structural unit (so-called T unit) generally represented by [RSiO 3/2 ]. In the above formula, R represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, and the same applies to the following. The structural unit represented by the above formula (1) is formed by hydrolysis and condensation reaction of a corresponding hydrolyzable trifunctional silane compound (specifically, for example, a compound represented by the following formula (a)). Is done.

式(1)中のR1は、エポキシ基を含有する基(一価の基)を示す。即ち、前記ポリオルガノシルセスキオキサンは、分子内にエポキシ基を少なくとも有するカチオン硬化性化合物(カチオン重合性化合物)である。上記エポキシ基を含有する基としては、オキシラン環を有する公知乃至慣用の基が挙げられ、特に限定されないが、硬化性組成物の硬化性、ハードコート層の表面硬度や耐熱性の観点で、下記式(1a)で表される基、下記式(1b)で表される基、下記式(1c)で表される基、下記式(1d)で表される基が好ましく、より好ましくは下記式(1a)で表される基、下記式(1c)で表される基、さらに好ましくは下記式(1a)で表される基である。

Figure 2018189800
Figure 2018189800
Figure 2018189800
Figure 2018189800
R 1 in the formula (1) represents a group (monovalent group) containing an epoxy group. That is, the polyorganosilsesquioxane is a cationic curable compound (cationic polymerizable compound) having at least an epoxy group in the molecule. Examples of the group containing an epoxy group include known or conventional groups having an oxirane ring, and are not particularly limited, but in terms of curability of the curable composition, surface hardness and heat resistance of the hard coat layer, A group represented by the formula (1a), a group represented by the following formula (1b), a group represented by the following formula (1c), and a group represented by the following formula (1d) are preferred, and more preferably the following formula: A group represented by (1a), a group represented by the following formula (1c), more preferably a group represented by the following formula (1a).
Figure 2018189800
Figure 2018189800
Figure 2018189800
Figure 2018189800

上記式(1a)中、R1aは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、デカメチレン基等の炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基が挙げられる。中でも、R1aとしては、ハードコート層の表面硬度や硬化性の観点で、炭素数1〜4の直鎖状のアルキレン基、炭素数3又は4の分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、より好ましくはエチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、さらに好ましくはエチレン基、トリメチレン基である。 In the above formula (1a), R 1a represents a linear or branched alkylene group. Examples of the linear or branched alkylene group include a methylene group, a methylmethylene group, a dimethylmethylene group, an ethylene group, a propylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a pentamethylene group, a hexamethylene group, and a decamethylene group. Examples thereof include a linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms. Among these, R 1a is preferably a linear alkylene group having 1 to 4 carbon atoms or a branched alkylene group having 3 or 4 carbon atoms, and more preferably, from the viewpoint of the surface hardness and curability of the hard coat layer. Is an ethylene group, trimethylene group, propylene group, more preferably an ethylene group or trimethylene group.

上記式(1b)中、R1bは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示し、R1aと同様の基が例示される。中でも、R1bとしては、ハードコート層の表面硬度や硬化性の観点で、炭素数1〜4の直鎖状のアルキレン基、炭素数3又は4の分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、より好ましくはエチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、さらに好ましくはエチレン基、トリメチレン基である。 In the above formula (1b), R 1b represents a linear or branched alkylene group, and examples thereof include the same groups as R 1a . Among these, R 1b is preferably a linear alkylene group having 1 to 4 carbon atoms or a branched alkylene group having 3 or 4 carbon atoms, more preferably, from the viewpoint of the surface hardness or curability of the hard coat layer. Is an ethylene group, trimethylene group, propylene group, more preferably an ethylene group or trimethylene group.

上記式(1c)中、R1cは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示し、R1aと同様の基が例示される。中でも、R1cとしては、ハードコート層の表面硬度や硬化性の観点で、炭素数1〜4の直鎖状のアルキレン基、炭素数3又は4の分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、より好ましくはエチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、さらに好ましくはエチレン基、トリメチレン基である。 In said formula (1c), R <1c> shows a linear or branched alkylene group, and the group similar to R <1a> is illustrated. Among these, R 1c is preferably a linear alkylene group having 1 to 4 carbon atoms or a branched alkylene group having 3 or 4 carbon atoms, more preferably from the viewpoint of the surface hardness or curability of the hard coat layer. Is an ethylene group, trimethylene group, propylene group, more preferably an ethylene group or trimethylene group.

上記式(1d)中、R1dは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示し、R1aと同様の基が例示される。中でも、R1dとしては、ハードコート層の表面硬度や硬化性の観点で、炭素数1〜4の直鎖状のアルキレン基、炭素数3又は4の分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、より好ましくはエチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、さらに好ましくはエチレン基、トリメチレン基である。 In the above formula (1d), R 1d represents a linear or branched alkylene group, and examples thereof include the same groups as R 1a . Among these, R 1d is preferably a linear alkylene group having 1 to 4 carbon atoms or a branched alkylene group having 3 or 4 carbon atoms, and more preferably, from the viewpoint of the surface hardness and curability of the hard coat layer. Is an ethylene group, trimethylene group, propylene group, more preferably an ethylene group or trimethylene group.

式(1)中のR1としては、特に、上記式(1a)で表される基であって、R1aがエチレン基である基[中でも、2−(3',4'−エポキシシクロヘキシル)エチル基]が好ましい。 R 1 in formula (1) is particularly a group represented by the above formula (1a), wherein R 1a is an ethylene group [in particular, 2- (3 ′, 4′-epoxycyclohexyl) Ethyl group] is preferable.

前記ポリオルガノシルセスキオキサンは、上記式(1)で表される構成単位を1種のみ有するものであってもよいし、上記式(1)で表される構成単位を2種以上有するものであってもよい。   The polyorganosilsesquioxane may have only one type of structural unit represented by the above formula (1), or may have two or more types of structural units represented by the above formula (1). It may be.

前記ポリオルガノシルセスキオキサンは、シルセスキオキサン構成単位[RSiO3/2]として、上記式(1)で表される構成単位以外にも、下記式(2)で表される構成単位を有していてもよい。

Figure 2018189800
The polyorganosilsesquioxane includes a structural unit represented by the following formula (2) in addition to the structural unit represented by the above formula (1) as a silsesquioxane structural unit [RSiO 3/2 ]. You may have.
Figure 2018189800

上記式(2)で表される構成単位は、一般に[RSiO3/2]で表されるシルセスキオキサン構成単位(T単位)である。即ち、上記式(2)で表される構成単位は、対応する加水分解性三官能シラン化合物(具体的には、例えば、後記の式(b)で表される化合物)の加水分解及び縮合反応により形成される。 The structural unit represented by the above formula (2) is a silsesquioxane structural unit (T unit) generally represented by [RSiO 3/2 ]. That is, the structural unit represented by the above formula (2) is a hydrolysis and condensation reaction of a corresponding hydrolyzable trifunctional silane compound (specifically, for example, a compound represented by the following formula (b)). It is formed by.

上記式(2)中のR2は、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、又は、置換若しくは無置換のアルケニル基を示す。上記アリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基、ナフチル基等が挙げられる。上記アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。上記シクロアルキル基としては、例えば、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。上記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基等の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基が挙げられる。上記アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基等の直鎖又は分岐鎖状のアルケニル基が挙げられる。 R 2 in the above formula (2) is a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted group An alkenyl group of As said aryl group, a phenyl group, a tolyl group, a naphthyl group etc. are mentioned, for example. Examples of the aralkyl group include a benzyl group and a phenethyl group. Examples of the cycloalkyl group include a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and the like. Examples of the alkyl group include linear or branched alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, n-butyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, and isopentyl group. Groups. As said alkenyl group, linear or branched alkenyl groups, such as a vinyl group, an allyl group, and an isopropenyl group, are mentioned, for example.

上述の置換アリール基、置換アラルキル基、置換シクロアルキル基、置換アルキル基、置換アルケニル基としては、上述のアリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルキル基、アルケニル基のそれぞれにおける水素原子又は主鎖骨格の一部若しくは全部が、エーテル基、エステル基、カルボニル基、シロキサン基、ハロゲン原子(フッ素原子等)、アクリル基、メタクリル基、メルカプト基、アミノ基、及びヒドロキシ基(水酸基)からなる群より選択された少なくとも1種で置換された基が挙げられる。   As the above-mentioned substituted aryl group, substituted aralkyl group, substituted cycloalkyl group, substituted alkyl group, and substituted alkenyl group, the above-mentioned aryl group, aralkyl group, cycloalkyl group, alkyl group, and alkenyl group are each a hydrogen atom or main chain. Part or all of the case is an ether group, ester group, carbonyl group, siloxane group, halogen atom (fluorine atom, etc.), acrylic group, methacryl group, mercapto group, amino group, and hydroxy group (hydroxyl group). And a group substituted with at least one selected.

中でも、R2としては、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基が好ましく、より好ましくは置換若しくは無置換のアリール基、さらに好ましくはフェニル基である。 Among them, R 2 is preferably a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, more preferably a substituted or unsubstituted aryl group, more preferably a phenyl group. is there.

前記ポリオルガノシルセスキオキサンにおける上述の各シルセスキオキサン構成単位(式(1)で表される構成単位、式(2)で表される構成単位)の割合は、これらの構成単位を形成するための原料(加水分解性三官能シラン)の組成により適宜調整することが可能である。   The proportion of each silsesquioxane structural unit (the structural unit represented by formula (1) and the structural unit represented by formula (2)) in the polyorganosilsesquioxane forms these structural units. It is possible to adjust appropriately according to the composition of the raw material (hydrolyzable trifunctional silane) for

前記ポリオルガノシルセスキオキサンは、上記式(1)で表される構成単位及び式(2)で表される構成単位以外にも、さらに、上記式(1)で表される構成単位及び式(2)で表される構成単位以外のシルセスキオキサン構成単位[RSiO3/2]、[R3SiO1/2]で表される構成単位(いわゆるM単位)、[R2SiO]で表される構成単位(いわゆるD単位)、及び[SiO2]で表される構成単位(いわゆるQ単位)からなる群より選択される少なくとも1種のシロキサン構成単位を有していてもよい。なお、上記式(1)で表される構成単位及び式(2)で表される構成単位以外のシルセスキオキサン構成単位としては、例えば、下記式(3)で表される構成単位等が挙げられる。

Figure 2018189800
In addition to the structural unit represented by the formula (1) and the structural unit represented by the formula (2), the polyorganosilsesquioxane is further represented by the structural unit and formula represented by the formula (1). Other than the structural unit represented by (2), the structural unit represented by [RSiO 3/2 ], [R 3 SiO 1/2 ] (so-called M unit), [R 2 SiO] It may have at least one siloxane structural unit selected from the group consisting of a structural unit represented (so-called D unit) and a structural unit represented by [SiO 2 ] (so-called Q unit). In addition, as a silsesquioxane structural unit other than the structural unit represented by the said Formula (1) and the structural unit represented by Formula (2), the structural unit etc. which are represented by following formula (3) etc. are mentioned, for example. Can be mentioned.
Figure 2018189800

前記ポリオルガノシルセスキオキサンにおける上記式(I)で表される構成単位(T3体)と、上記式(II)で表される構成単位(T2体)の割合[T3体/T2体]は、5以上(例えば、5〜500)であり、上記割合の下限は、好ましくは6、より好ましくは7、さらに好ましくは8、特に好ましくは10である。また、上記割合の上限は、好ましくは50、より好ましくは20、さらに好ましくは18、特に好ましくは16である。上記割合[T3体/T2体]を5以上とすることにより、ハードコート層としたときの表面硬度が著しく向上する。   The ratio [T3 body / T2 body] of the structural unit (T3 body) represented by the above formula (I) and the structural unit (T2 body) represented by the above formula (II) in the polyorganosilsesquioxane is 5 or more (for example, 5 to 500), and the lower limit of the ratio is preferably 6, more preferably 7, even more preferably 8, and particularly preferably 10. The upper limit of the above ratio is preferably 50, more preferably 20, still more preferably 18, and particularly preferably 16. By setting the ratio [T3 body / T2 body] to 5 or more, the surface hardness of the hard coat layer is remarkably improved.

なお、上記式(I)で表される構成単位をより詳細に記載すると、下記式(I')で表される。また、上記式(II)で表される構成単位をより詳細に記載すると、下記式(II')で表される。下記式(I')で表される構造中に示されるケイ素原子に結合した3つの酸素原子はそれぞれ、他のケイ素原子(式(I')に示されていないケイ素原子)と結合している。一方、下記式(II')で表される構造中に示されるケイ素原子の上と下に位置する2つの酸素原子はそれぞれ、他のケイ素原子(式(II')に示されていないケイ素原子)に結合している。即ち、上記T3体及びT2体は、いずれも対応する加水分解性三官能シラン化合物の加水分解及び縮合反応により形成される構成単位(T単位)である。

Figure 2018189800
Figure 2018189800
When the structural unit represented by the above formula (I) is described in more detail, it is represented by the following formula (I ′). Moreover, when the structural unit represented by the above formula (II) is described in more detail, it is represented by the following formula (II ′). Each of the three oxygen atoms bonded to the silicon atom shown in the structure represented by the following formula (I ′) is bonded to another silicon atom (a silicon atom not shown in the formula (I ′)). . On the other hand, two oxygen atoms located above and below the silicon atom shown in the structure represented by the following formula (II ′) are each replaced with another silicon atom (a silicon atom not shown in the formula (II ′)). Are connected. That is, the T3 body and the T2 body are structural units (T units) formed by hydrolysis and condensation reaction of the corresponding hydrolyzable trifunctional silane compound.
Figure 2018189800
Figure 2018189800

上記式(I)中のRa(式(I')中のRaも同じ)及び式(II)中のRb(式(II')中のRbも同じ)は、それぞれ、エポキシ基を含有する基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、又は水素原子を示す。Ra及びRbの具体例としては、上記式(1)におけるR1、上記式(2)におけるR2と同様のものが例示される。なお、式(I)中のRa及び式(II)中のRbは、それぞれ、前記ポリオルガノシルセスキオキサンの原料として使用した加水分解性三官能シラン化合物におけるケイ素原子に結合した基(アルコキシ基及びハロゲン原子以外の基;例えば、後記の式(a)〜(c)におけるR1、R2、水素原子等)に由来する。 R a in the above formula (I) (formula (I ') in the R a same) and formula (II) in the R b (wherein (II') in the R b versa), respectively, an epoxy group A group containing, substituted or unsubstituted aryl group, substituted or unsubstituted aralkyl group, substituted or unsubstituted cycloalkyl group, substituted or unsubstituted alkyl group, substituted or unsubstituted alkenyl group, or hydrogen atom Show. Specific examples of R a and R b are the same as R 1 in the above formula (1) and R 2 in the above formula (2). In addition, R a in the formula (I) and R b in the formula (II) are groups bonded to silicon atoms in the hydrolyzable trifunctional silane compound used as a raw material for the polyorganosilsesquioxane ( A group other than an alkoxy group and a halogen atom; for example, R 1 , R 2 and a hydrogen atom in the following formulas (a) to (c).

上記式(II)中のRc(式(II')中のRcも同じ)は、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示す。炭素数1〜4のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基等の炭素数1〜4の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基が挙げられる。式(II)中のRcにおけるアルキル基は、一般的には、前記ポリオルガノシルセスキオキサンの原料として使用した加水分解性シラン化合物におけるアルコキシ基(例えば、後記のX1〜X3としてのアルコキシ基等)を形成するアルキル基に由来する。 R c in the formula (II) (Formula (II ') in the R c versa) is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms include linear or branched alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, and an isobutyl group. . In general, the alkyl group in R c in the formula (II) is generally an alkoxy group in the hydrolyzable silane compound used as a raw material of the polyorganosilsesquioxane (for example, as X 1 to X 3 described later). Derived from an alkyl group forming an alkoxy group or the like.

前記ポリオルガノシルセスキオキサンにおける上記割合[T3体/T2体]は、例えば、29Si−NMRスペクトル測定により求めることができる。29Si−NMRスペクトルにおいて、上記式(I)で表される構成単位(T3体)におけるケイ素原子と、上記式(II)で表される構成単位(T2体)におけるケイ素原子とは、異なる位置(化学シフト)にシグナル(ピーク)を示すため、これらそれぞれのピークの積分比を算出することにより、上記割合[T3体/T2体]が求められる。具体的には、例えば、前記ポリオルガノシルセスキオキサンが、上記式(1)で表され、R1が2−(3',4'−エポキシシクロヘキシル)エチル基である構成単位を有する場合には、上記式(I)で表される構造(T3体)におけるケイ素原子のシグナルは−64〜−70ppmに現れ、上記式(II)で表される構造(T2体)におけるケイ素原子のシグナルは−54〜−60ppmに現れる。従って、この場合、−64〜−70ppmのシグナル(T3体)と−54〜−60ppmのシグナル(T2体)の積分比を算出することによって、上記割合[T3体/T2体]を求めることができる。 The said ratio [T3 body / T2 body] in the said polyorgano silsesquioxane can be calculated | required by 29 Si-NMR spectrum measurement, for example. 29 In the Si-NMR spectrum, the silicon atom in the structural unit (T3 form) represented by the above formula (I) is different from the silicon atom in the structural unit (T2 form) represented by the above formula (II). In order to show a signal (peak) in (chemical shift), the ratio [T3 body / T2 body] can be obtained by calculating the integration ratio of these respective peaks. Specifically, for example, when the polyorganosilsesquioxane has a structural unit represented by the above formula (1) and R 1 is a 2- (3 ′, 4′-epoxycyclohexyl) ethyl group. The silicon atom signal in the structure (T3 form) represented by the above formula (I) appears at −64 to −70 ppm, and the silicon atom signal in the structure (T2 form) represented by the above formula (II) is Appears at -54 to -60 ppm. Therefore, in this case, the ratio [T3 body / T2 body] can be obtained by calculating the integral ratio of the signal (T3 body) of −64 to −70 ppm and the signal (T2 body) of −54 to −60 ppm. it can.

前記ポリオルガノシルセスキオキサンの29Si−NMRスペクトルは、例えば、下記の装置及び条件により測定することができる。
測定装置:商品名「JNM−ECA500NMR」(日本電子(株)製)
溶媒:重クロロホルム
積算回数:1800回
測定温度:25℃
The 29 Si-NMR spectrum of the polyorganosilsesquioxane can be measured, for example, with the following apparatus and conditions.
Measuring apparatus: Trade name “JNM-ECA500NMR” (manufactured by JEOL Ltd.)
Solvent: Deuterated chloroform Accumulated times: 1800 times Measurement temperature: 25 ° C

前記ポリオルガノシルセスキオキサンの上記割合[T3体/T2体]が5以上であることは、前記ポリオルガノシルセスキオキサンにおいてT3体に対し一定以上のT2体が存在していることを意味する。このようなT2体としては、例えば、下記式(4)で表される構成単位、下記式(5)で表される構成単位、下記式(6)で表される構成単位等が挙げられる。下記式(4)におけるR1及び下記式(5)におけるR2は、それぞれ上記式(1)におけるR1及び上記式(2)におけるR2と同じである。下記式(4)〜(6)におけるRcは、式(II)におけるRcと同じく、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示す。

Figure 2018189800
Figure 2018189800
Figure 2018189800
The ratio [T3 body / T2 body] of the polyorganosilsesquioxane being 5 or more means that the polyorganosilsesquioxane has a certain amount of T2 body with respect to the T3 body. To do. Examples of such a T2 body include a structural unit represented by the following formula (4), a structural unit represented by the following formula (5), a structural unit represented by the following formula (6), and the like. R 2 in R 1 and the following formula (5) in the following equation (4) is the same as R 2 in R 1 and the formula in the formula (1) (2). R c in the formula (4) to (6), like the R c in Formula (II), a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
Figure 2018189800
Figure 2018189800
Figure 2018189800

一般に、完全カゴ型シルセスキオキサンは、T3体のみにより構成されたポリオルガノシルセスキオキサンであり、分子中にT2体が存在しない。即ち、上記割合[T3体/T2体]が5以上であって、数平均分子量が1000〜3000、分子量分散度が1.0〜3.0であり、さらに後記のようにFT−IRスペクトルにおいて1100cm-1付近に一つの固有吸収ピークを有する場合の前記ポリオルガノシルセスキオキサンは、不完全カゴ型シルセスキオキサン構造を有することが示唆される。 In general, a complete cage silsesquioxane is a polyorganosilsesquioxane composed only of a T3 form, and no T2 form exists in the molecule. That is, the ratio [T3 body / T2 body] is 5 or more, the number average molecular weight is 1000 to 3000, the molecular weight dispersity is 1.0 to 3.0, and in the FT-IR spectrum as described later. It is suggested that the polyorganosilsesquioxane having one intrinsic absorption peak near 1100 cm −1 has an incomplete cage silsesquioxane structure.

前記ポリオルガノシルセスキオキサンがカゴ型(不完全カゴ型)シルセスキオキサン構造を有することは、前記ポリオルガノシルセスキオキサンが、FT−IRスペクトルにおいて1050cm-1付近と1150cm-1付近にそれぞれ固有吸収ピークを有せず、1100cm-1付近に一つの固有吸収ピークを有することから確認される[参考文献:R.H.Raney, M.Itoh, A.Sakakibara and T.Suzuki, Chem. Rev. 95, 1409(1995)]。これに対して、一般に、FT−IRスペクトルにおいて1050cm-1付近と1150cm-1付近にそれぞれ固有吸収ピークを有する場合には、ラダー型シルセスキオキサン構造を有すると同定される。なお、ポリオルガノシルセスキオキサンのFT−IRスペクトルは、例えば、下記の装置及び条件により測定することができる。
測定装置:商品名「FT−720」((株)堀場製作所製)
測定方法:透過法
分解能:4cm-1
測定波数域:400〜4000cm-1
積算回数:16回
To have the polyorganosilsesquioxane cage (incomplete cage) silsesquioxane structure, it said polyorganosilsesquioxane, the FT-IR spectrum in the vicinity of 1050 cm -1 and around 1150 cm -1 Each has no intrinsic absorption peak, and is confirmed by having one intrinsic absorption peak in the vicinity of 1100 cm −1 [reference: R.R. H. Raney, M.M. Itoh, A.D. Sakakibara and T. Suzuki, Chem. Rev. 95, 1409 (1995)]. On the other hand, in general, when the FT-IR spectrum has intrinsic absorption peaks near 1050 cm −1 and 1150 cm −1 , it is identified as having a ladder-type silsesquioxane structure. In addition, the FT-IR spectrum of polyorganosilsesquioxane can be measured with the following apparatus and conditions, for example.
Measuring device: Trade name “FT-720” (manufactured by Horiba, Ltd.)
Measurement method: Transmission method Resolution: 4 cm -1
Measurement wavenumber range: 400 to 4000 cm −1
Integration count: 16 times

前記ポリオルガノシルセスキオキサンにおけるシロキサン構成単位の全量[全シロキサン構成単位;M単位、D単位、T単位、及びQ単位の全量](100モル%)に対する、上記式(1)で表される構成単位及び上記式(4)で表される構成単位の割合(総量)は、上述のように、55〜100モル%であり、好ましくは65〜100モル%、さらに好ましくは80〜99モル%である。上記割合を55モル%以上とすることにより、硬化性組成物の硬化性が向上し、また、ハードコート層の表面硬度が著しく高くなる。なお、前記ポリオルガノシルセスキオキサンにおける各シロキサン構成単位の割合は、例えば、原料の組成やNMRスペクトル測定等により算出できる。   The total amount of siloxane structural units in the polyorganosilsesquioxane [total siloxane structural units; total amount of M units, D units, T units, and Q units] (100 mol%) is represented by the above formula (1). The proportion (total amount) of the structural unit and the structural unit represented by the above formula (4) is 55 to 100 mol%, preferably 65 to 100 mol%, more preferably 80 to 99 mol%, as described above. It is. When the ratio is 55 mol% or more, the curability of the curable composition is improved and the surface hardness of the hard coat layer is remarkably increased. In addition, the ratio of each siloxane structural unit in the said polyorgano silsesquioxane is computable by the composition of a raw material, NMR spectrum measurement, etc., for example.

前記ポリオルガノシルセスキオキサンにおけるシロキサン構成単位の全量[全シロキサン構成単位;M単位、D単位、T単位、及びQ単位の全量](100モル%)に対する、上記式(2)で表される構成単位及び上記式(5)で表される構成単位の割合(総量)は、特に限定されないが、0〜70モル%が好ましく、より好ましくは0〜60モル%、さらに好ましくは0〜40モル%、特に好ましくは1〜15モル%である。上記割合を70モル%以下とすることにより、相対的に式(1)で表される構成単位及び式(4)で表される構成単位の割合を多くすることができるため、硬化性組成物の硬化性が向上し、ハードコート層としたときの表面硬度がより高くなる傾向がある。一方、上記割合を1モル%以上とすることにより、ハードコート層としたときのガスバリア性が向上する傾向がある。   The total amount of siloxane structural units in the polyorganosilsesquioxane [total siloxane structural units; total amount of M units, D units, T units, and Q units] (100 mol%) is represented by the above formula (2). The proportion (total amount) of the structural unit and the structural unit represented by the above formula (5) is not particularly limited, but is preferably 0 to 70 mol%, more preferably 0 to 60 mol%, and still more preferably 0 to 40 mol. %, Particularly preferably 1 to 15 mol%. Since the ratio of the structural unit represented by the formula (1) and the structural unit represented by the formula (4) can be relatively increased by setting the ratio to 70 mol% or less, the curable composition There is a tendency that the surface hardness when the hard coat layer is made higher is improved. On the other hand, by setting the above ratio to 1 mol% or more, gas barrier properties when used as a hard coat layer tend to be improved.

前記ポリオルガノシルセスキオキサンにおけるシロキサン構成単位の全量[全シロキサン構成単位;M単位、D単位、T単位、及びQ単位の全量](100モル%)に対する、上記式(1)で表される構成単位、上記式(2)で表される構成単位、上記式(4)で表される構成単位、及び上記式(5)で表される構成単位の割合(総量)は、特に限定されないが、60〜100モル%が好ましく、より好ましくは70〜100モル%、さらに好ましくは80〜100モル%である。上記割合を60モル%以上とすることにより、ハードコート層としたときの表面硬度がより高くなる傾向がある。   The total amount of siloxane structural units in the polyorganosilsesquioxane [total siloxane structural units; total amount of M units, D units, T units, and Q units] (100 mol%) is represented by the above formula (1). The proportion (total amount) of the structural unit, the structural unit represented by the formula (2), the structural unit represented by the formula (4), and the structural unit represented by the formula (5) is not particularly limited. 60-100 mol% is preferable, More preferably, it is 70-100 mol%, More preferably, it is 80-100 mol%. When the ratio is 60 mol% or more, the surface hardness when the hard coat layer is formed tends to be higher.

前記ポリオルガノシルセスキオキサンのゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる標準ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)は、上述のように、1000〜3000であり、好ましくは1000〜2800、より好ましくは1100〜2600である。数平均分子量を1000以上とすることにより、ハードコート層の耐熱性、耐擦傷性、接着性がより向上する。一方、数平均分子量を3000以下とすることにより、硬化性組成物における他の成分との相溶性が向上し、ハードコート層としたときの耐熱性がより向上する。   The number average molecular weight (Mn) in terms of standard polystyrene by gel permeation chromatography of the polyorganosilsesquioxane is 1000 to 3000 as described above, preferably 1000 to 2800, more preferably 1100 to 2600. is there. By setting the number average molecular weight to 1000 or more, the heat resistance, scratch resistance and adhesion of the hard coat layer are further improved. On the other hand, by setting the number average molecular weight to 3000 or less, compatibility with other components in the curable composition is improved, and heat resistance when the hard coat layer is obtained is further improved.

前記ポリオルガノシルセスキオキサンのゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる標準ポリスチレン換算の分子量分散度(Mw/Mn)は、上述のように、1.0〜3.0であり、好ましくは1.1〜2.0、より好ましくは1.2〜1.9である。分子量分散度を3.0以下とすることにより、ハードコート層としたときの表面硬度がより高くなる。一方、分子量分散度を1.1以上とすることにより、液状となりやすく、取り扱い性が向上する傾向がある。   As described above, the molecular weight dispersity (Mw / Mn) in terms of standard polystyrene by gel permeation chromatography of the polyorganosilsesquioxane is 1.0 to 3.0, preferably 1.1 to 2. 0.0, more preferably 1.2 to 1.9. By setting the molecular weight dispersity to 3.0 or less, the surface hardness when the hard coat layer is formed becomes higher. On the other hand, when the molecular weight dispersity is 1.1 or more, it tends to be liquid, and the handleability tends to be improved.

なお、前記ポリオルガノシルセスキオキサンの数平均分子量、分子量分散度は、下記の装置及び条件により測定することができる。
測定装置:商品名「LC−20AD」((株)島津製作所製)
カラム:Shodex KF−801×2本、KF−802、及びKF−803(昭和電工(株)製)
測定温度:40℃
溶離液:THF、試料濃度0.1〜0.2重量%
流量:1mL/分
検出器:UV−VIS検出器(商品名「SPD−20A」、(株)島津製作所製)
分子量:標準ポリスチレン換算
The number average molecular weight and molecular weight dispersity of the polyorganosilsesquioxane can be measured by the following apparatus and conditions.
Measuring device: Product name “LC-20AD” (manufactured by Shimadzu Corporation)
Columns: Shodex KF-801 × 2, KF-802, and KF-803 (manufactured by Showa Denko KK)
Measurement temperature: 40 ° C
Eluent: THF, sample concentration 0.1-0.2% by weight
Flow rate: 1 mL / min Detector: UV-VIS detector (trade name “SPD-20A”, manufactured by Shimadzu Corporation)
Molecular weight: Standard polystyrene conversion

前記ポリオルガノシルセスキオキサンの空気雰囲気下における5%重量減少温度(Td5)は、330℃以上(例えば、330〜450℃)が好ましく、より好ましくは340℃以上、さらに好ましくは350℃以上である。5%重量減少温度が330℃以上であることにより、ハードコート層の耐熱性がより向上する傾向がある。特に、前記ポリオルガノシルセスキオキサンが、上記割合[T3体/T2体]が5以上であって、数平均分子量が1000〜3000、分子量分散度が1.0〜3.0であり、FT−IRスペクトルにおいて1100cm-1付近に一つの固有ピークを有するものであることにより、その5%重量減少温度は330℃以上に制御される。なお、5%重量減少温度は、一定の昇温速度で加熱した時に加熱前の重量の5%が減少した時点での温度であり、耐熱性の指標となる。上記5%重量減少温度は、TGA(熱重量分析)により、空気雰囲気下、昇温速度5℃/分の条件で測定することができる。 The 5% weight loss temperature (T d5 ) in the air atmosphere of the polyorganosilsesquioxane is preferably 330 ° C. or higher (for example, 330 to 450 ° C.), more preferably 340 ° C. or higher, further preferably 350 ° C. or higher. It is. When the 5% weight loss temperature is 330 ° C. or higher, the heat resistance of the hard coat layer tends to be further improved. In particular, the polyorganosilsesquioxane has a ratio [T3 / T2] of 5 or more, a number average molecular weight of 1000 to 3000, a molecular weight dispersity of 1.0 to 3.0, FT By having one intrinsic peak in the vicinity of 1100 cm −1 in the -IR spectrum, the 5% weight loss temperature is controlled to 330 ° C. or higher. The 5% weight reduction temperature is a temperature at the time when 5% of the weight before heating is reduced when heated at a constant rate of temperature increase, and serves as an index of heat resistance. The 5% weight loss temperature can be measured by TGA (thermogravimetric analysis) under an air atmosphere at a temperature rising rate of 5 ° C./min.

前記ポリオルガノシルセスキオキサンは、公知乃至慣用のポリシロキサンの製造方法により製造することができ、例えば、1種又は2種以上の加水分解性シラン化合物を加水分解及び縮合させる方法により製造できる。但し、上記加水分解性シラン化合物としては、上述の式(1)で表される構成単位を形成するための加水分解性三官能シラン化合物(下記式(a)で表される化合物)を必須の加水分解性シラン化合物として使用する必要がある。   The polyorganosilsesquioxane can be produced by a known or commonly used production method of polysiloxane, for example, by a method of hydrolyzing and condensing one or more hydrolyzable silane compounds. However, as the hydrolyzable silane compound, a hydrolyzable trifunctional silane compound (compound represented by the following formula (a)) for forming the structural unit represented by the above formula (1) is essential. It is necessary to use it as a hydrolyzable silane compound.

より具体的には、例えば、前記ポリオルガノシルセスキオキサンにおけるシルセスキオキサン構成単位(T単位)を形成するための加水分解性シラン化合物である下記式(a)で表される化合物、必要に応じてさらに、下記式(b)で表される化合物、下記式(c)で表される化合物を、加水分解及び縮合させる方法により、前記ポリオルガノシルセスキオキサンを製造できる。

Figure 2018189800
Figure 2018189800
Figure 2018189800
More specifically, for example, a compound represented by the following formula (a) which is a hydrolyzable silane compound for forming a silsesquioxane structural unit (T unit) in the polyorganosilsesquioxane, Depending on the above, the polyorganosilsesquioxane can be produced by a method of hydrolyzing and condensing the compound represented by the following formula (b) and the compound represented by the following formula (c).
Figure 2018189800
Figure 2018189800
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上記式(a)で表される化合物は、前記ポリオルガノシルセスキオキサンにおける式(1)で表される構成単位を形成する化合物である。式(a)中のR1は、上記式(1)におけるR1と同じく、エポキシ基を含有する基を示す。即ち、式(a)中のR1としては、上記式(1a)で表される基、上記式(1b)で表される基、上記式(1c)で表される基、上記式(1d)で表される基が好ましく、より好ましくは上記式(1a)で表される基、上記式(1c)で表される基、さらに好ましくは上記式(1a)で表される基、特に好ましくは上記式(1a)で表される基であって、R1aがエチレン基である基[中でも、2−(3',4'−エポキシシクロヘキシル)エチル基]である。 The compound represented by the formula (a) is a compound that forms the structural unit represented by the formula (1) in the polyorganosilsesquioxane. R 1 in the formula (a), like that of R 1 in the formula (1), a group containing an epoxy group. That is, R 1 in the formula (a) is a group represented by the above formula (1a), a group represented by the above formula (1b), a group represented by the above formula (1c), or the above formula (1d). The group represented by the above formula (1a), the group represented by the above formula (1c), more preferably the group represented by the above formula (1a), particularly preferably Is a group represented by the above formula (1a), wherein R 1a is an ethylene group [in particular, a 2- (3 ′, 4′-epoxycyclohexyl) ethyl group].

上記式(a)中のX1は、アルコキシ基又はハロゲン原子を示す。X1におけるアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブチルオキシ基等の炭素数1〜4のアルコキシ基等が挙げられる。また、X1におけるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。中でもX1としては、アルコキシ基が好ましく、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基である。なお、3つのX1は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。 X 1 in the above formula (a) represents an alkoxy group or a halogen atom. The alkoxy group in X 1, for example, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, isopropyloxy group, a butoxy group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms such as isobutyl group and the like. As the halogen atom in X 1, for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Among these, X 1 is preferably an alkoxy group, more preferably a methoxy group or an ethoxy group. The three X 1 may be the same or different.

上記式(b)で表される化合物は、前記ポリオルガノシルセスキオキサンにおける式(2)で表される構成単位を形成する化合物である。式(b)中のR2は、上記式(2)におけるR2と同じく、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、又は、置換若しくは無置換のアルケニル基を示す。即ち、式(b)中のR2としては、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基が好ましく、より好ましくは置換若しくは無置換のアリール基、さらに好ましくはフェニル基である。 The compound represented by the said Formula (b) is a compound which forms the structural unit represented by Formula (2) in the said polyorgano silsesquioxane. R 2 in formula (b), like the R 2 in the formula (2), a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted An alkyl group, or a substituted or unsubstituted alkenyl group. That is, R 2 in formula (b) is preferably a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, more preferably a substituted or unsubstituted aryl group, More preferred is a phenyl group.

上記式(b)中のX2は、アルコキシ基又はハロゲン原子を示す。X2の具体例としては、X1として例示したものが挙げられる。中でも、X2としては、アルコキシ基が好ましく、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基である。なお、3つのX2は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。 X 2 in the above formula (b) represents an alkoxy group or a halogen atom. Specific examples of X 2 include those exemplified as X 1 . Among them, X 2 is preferably an alkoxy group, more preferably a methoxy group or an ethoxy group. The three X 2 may be the same or different.

上記式(c)で表される化合物は、前記ポリオルガノシルセスキオキサンにおける式(3)で表される構成単位を形成する化合物である。上記式(c)中のX3は、アルコキシ基又はハロゲン原子を示す。X3の具体例としては、X1として例示したものが挙げられる。中でも、X3としては、アルコキシ基が好ましく、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基である。なお、3つのX3は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。 The compound represented by the above formula (c) is a compound that forms the structural unit represented by the formula (3) in the polyorganosilsesquioxane. X 3 in the above formula (c) represents an alkoxy group or a halogen atom. Specific examples of X 3 include those exemplified as X 1 . Among them, X 3 is preferably an alkoxy group, more preferably a methoxy group or an ethoxy group. The three X 3 may be the same or different.

上記加水分解性シラン化合物としては、上記式(a)〜(c)で表される化合物以外の加水分解性シラン化合物を併用してもよい。例えば、上記式(a)〜(c)で表される化合物以外の加水分解性三官能シラン化合物、M単位を形成する加水分解性単官能シラン化合物、D単位を形成する加水分解性二官能シラン化合物、Q単位を形成する加水分解性四官能シラン化合物等が挙げられる。   As said hydrolysable silane compound, you may use together hydrolysable silane compounds other than the compound represented by said formula (a)-(c). For example, hydrolyzable trifunctional silane compounds other than the compounds represented by the above formulas (a) to (c), hydrolyzable monofunctional silane compounds that form M units, and hydrolyzable bifunctional silanes that form D units Examples thereof include hydrolyzable tetrafunctional silane compounds that form compounds and Q units.

上記加水分解性シラン化合物の使用量や組成は、所望するポリオルガノシルセスキオキサンの構造に応じて適宜調整できる。例えば、上記式(a)で表される化合物の使用量は、特に限定されないが、使用する加水分解性シラン化合物の全量(100モル%)に対して、55〜100モル%が好ましく、より好ましくは65〜100モル%、さらに好ましくは80〜99モル%である。   The amount and composition of the hydrolyzable silane compound can be adjusted as appropriate according to the desired polyorganosilsesquioxane structure. For example, although the usage-amount of the compound represented by the said formula (a) is not specifically limited, 55-100 mol% is preferable with respect to the whole quantity (100 mol%) of the hydrolysable silane compound to be used, More preferably Is 65 to 100 mol%, more preferably 80 to 99 mol%.

また、上記式(b)で表される化合物の使用量は、使用する加水分解性シラン化合物の全量(100モル%)に対して、0〜70モル%が好ましく、より好ましくは0〜60モル%、さらに好ましくは0〜40モル%、特に好ましくは1〜15モル%である。   The amount of the compound represented by the formula (b) is preferably 0 to 70 mol%, more preferably 0 to 60 mol, based on the total amount (100 mol%) of the hydrolyzable silane compound used. %, More preferably 0 to 40 mol%, particularly preferably 1 to 15 mol%.

さらに、使用する加水分解性シラン化合物の全量(100モル%)に対する式(a)で表される化合物と式(b)で表される化合物の割合(総量の割合)は、60〜100モル%が好ましく、より好ましくは70〜100モル%、さらに好ましくは80〜100モル%である。   Furthermore, the ratio (total ratio) of the compound represented by the formula (a) and the compound represented by the formula (b) to the total amount (100 mol%) of the hydrolyzable silane compound used is 60 to 100 mol%. Is more preferable, 70-100 mol% is more preferable, More preferably, it is 80-100 mol%.

また、上記加水分解性シラン化合物として2種以上を併用する場合、これらの加水分解性シラン化合物の加水分解及び縮合反応は、同時に行うこともできるし、逐次行うこともできる。上記反応を逐次行う場合、反応を行う順序は特に限定されない。   Moreover, when using together 2 or more types as said hydrolysable silane compound, the hydrolysis and condensation reaction of these hydrolysable silane compounds can also be performed simultaneously, and can also be performed sequentially. When performing the said reaction sequentially, the order which performs reaction is not specifically limited.

上記加水分解性シラン化合物の加水分解及び縮合反応は、溶媒の存在下で行うこともできるし、非存在下で行うこともできる。中でも溶媒の存在下で行うことが好ましい。上記溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素;ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド;アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール等が挙げられる。上記溶媒としては、中でも、ケトン、エーテルが好ましい。なお、溶媒は1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。   The hydrolysis and condensation reaction of the hydrolyzable silane compound can be performed in the presence of a solvent or in the absence. Among these, it is preferable to perform in the presence of a solvent. Examples of the solvent include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and ethylbenzene; ethers such as diethyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; methyl acetate and ethyl acetate. , Esters such as isopropyl acetate and butyl acetate; amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; nitriles such as acetonitrile, propionitrile and benzonitrile; alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol and butanol Etc. Among them, ketone and ether are preferable. In addition, a solvent can also be used individually by 1 type and can also be used in combination of 2 or more type.

溶媒の使用量は、特に限定されず、加水分解性シラン化合物の全量100重量部に対して、0〜2000重量部の範囲内で、所望の反応時間等に応じて、適宜調整することができる。   The usage-amount of a solvent is not specifically limited, It can adjust suitably according to desired reaction time etc. within the range of 0-2000 weight part with respect to 100 weight part of whole quantity of a hydrolysable silane compound. .

上記加水分解性シラン化合物の加水分解及び縮合反応は、触媒及び水の存在下で進行させることが好ましい。上記触媒は、酸触媒であってもアルカリ触媒であってもよい。上記酸触媒としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、ホウ酸等の鉱酸;リン酸エステル;酢酸、蟻酸、トリフルオロ酢酸等のカルボン酸;メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸等のスルホン酸;活性白土等の固体酸;塩化鉄等のルイス酸等が挙げられる。上記アルカリ触媒としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等のアルカリ金属の水酸化物;水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム等のアルカリ土類金属の水酸化物;炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属の炭酸塩;炭酸マグネシウム等のアルカリ土類金属の炭酸塩;炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素セシウム等のアルカリ金属の炭酸水素塩;酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウム等のアルカリ金属の有機酸塩(例えば、酢酸塩);酢酸マグネシウム等のアルカリ土類金属の有機酸塩(例えば、酢酸塩);リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムイソプロポキシド、カリウムエトキシド、カリウムt−ブトキシド等のアルカリ金属のアルコキシド;ナトリウムフェノキシド等のアルカリ金属のフェノキシド;トリエチルアミン、N−メチルピペリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン等のアミン類(第3級アミン等);ピリジン、2,2'−ビピリジル、1,10−フェナントロリン等の含窒素芳香族複素環化合物等が挙げられる。なお、触媒は1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。また、触媒は、水や溶媒等に溶解又は分散させた状態で使用することもできる。   The hydrolysis and condensation reaction of the hydrolyzable silane compound is preferably allowed to proceed in the presence of a catalyst and water. The catalyst may be an acid catalyst or an alkali catalyst. Examples of the acid catalyst include mineral acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid and boric acid; phosphoric acid esters; carboxylic acids such as acetic acid, formic acid and trifluoroacetic acid; methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, p -Sulfonic acids such as toluenesulfonic acid; solid acids such as activated clay; Lewis acids such as iron chloride. Examples of the alkali catalyst include alkali metal hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, and cesium hydroxide; alkaline earth metals such as magnesium hydroxide, calcium hydroxide, and barium hydroxide. Hydroxides; carbonates of alkali metals such as lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate; carbonates of alkaline earth metals such as magnesium carbonate; lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, cesium hydrogen carbonate Alkali metal bicarbonates such as lithium acetate, sodium acetate, potassium acetate, cesium acetate, etc. (for example, acetate); alkaline earth metal organic acid salts, such as magnesium acetate (for example, Acetate); lithium methoxide, sodium methoxide, sodium ethoxide Alkali metal alkoxides such as sodium phenoxide, sodium isopropoxide, potassium ethoxide, potassium t-butoxide; alkali metal phenoxides such as sodium phenoxide; triethylamine, N-methylpiperidine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] Amines such as undec-7-ene and 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene (tertiary amine and the like); pyridine, 2,2′-bipyridyl, 1,10-phenanthroline and the like And nitrogen-containing aromatic heterocyclic compounds. In addition, a catalyst can also be used individually by 1 type and can also be used in combination of 2 or more type. Further, the catalyst can be used in a state dissolved or dispersed in water, a solvent or the like.

上記触媒の使用量は、特に限定されず、加水分解性シラン化合物の全量1モルに対して、0.002〜0.200モルの範囲内で、適宜調整することができる。   The usage-amount of the said catalyst is not specifically limited, It can adjust suitably in the range of 0.002-0.200 mol with respect to 1 mol of whole quantity of a hydrolysable silane compound.

上記加水分解及び縮合反応に際しての水の使用量は、特に限定されず、加水分解性シラン化合物の全量1モルに対して、0.5〜20モルの範囲内で、適宜調整することができる。   The amount of water used in the hydrolysis and condensation reaction is not particularly limited, and can be appropriately adjusted within a range of 0.5 to 20 mol with respect to 1 mol of the total amount of the hydrolyzable silane compound.

上記水の添加方法は、特に限定されず、使用する水の全量(全使用量)を一括で添加してもよいし、逐次的に添加してもよい。逐次的に添加する際には、連続的に添加してもよいし、間欠的に添加してもよい。   The method for adding water is not particularly limited, and the total amount of water to be used (total amount used) may be added all at once or sequentially. When adding sequentially, you may add continuously and may add intermittently.

上記加水分解性シラン化合物の加水分解及び縮合反応を行う際の反応条件としては、特に、前記ポリオルガノシルセスキオキサンにおける上記割合[T3体/T2体]が5以上となるような反応条件を選択することが重要である。上記加水分解及び縮合反応の反応温度は、特に限定されないが、40〜100℃が好ましく、より好ましくは45〜80℃である。反応温度を上記範囲に制御することにより、上記割合[T3体/T2体]をより効率的に5以上に制御できる傾向がある。また、上記加水分解及び縮合反応の反応時間は、特に限定されないが、0.1〜10時間が好ましく、より好ましくは1.5〜8時間である。また、上記加水分解及び縮合反応は、常圧下で行うこともできるし、加圧下又は減圧下で行うこともできる。なお、上記加水分解及び縮合反応を行う際の雰囲気は、特に限定されず、例えば、窒素雰囲気、アルゴン雰囲気等の不活性ガス雰囲気下、空気下等の酸素存在下等のいずれであってもよいが、不活性ガス雰囲気下が好ましい。   The reaction conditions for the hydrolysis and condensation reaction of the hydrolyzable silane compound are, in particular, the reaction conditions such that the ratio [T3 / T2] in the polyorganosilsesquioxane is 5 or more. It is important to choose. Although the reaction temperature of the said hydrolysis and condensation reaction is not specifically limited, 40-100 degreeC is preferable, More preferably, it is 45-80 degreeC. By controlling the reaction temperature within the above range, the ratio [T3 / T2] tends to be more efficiently controlled to 5 or more. Moreover, the reaction time of the said hydrolysis and condensation reaction is although it does not specifically limit, 0.1 to 10 hours are preferable, More preferably, it is 1.5 to 8 hours. The hydrolysis and condensation reaction can be performed under normal pressure, or can be performed under pressure or under reduced pressure. In addition, the atmosphere at the time of performing the hydrolysis and condensation reaction is not particularly limited, and may be any of, for example, in an inert gas atmosphere such as a nitrogen atmosphere or an argon atmosphere, or in the presence of oxygen such as in the air. However, an inert gas atmosphere is preferred.

上記加水分解性シラン化合物の加水分解及び縮合反応により、ポリオルガノシルセスキオキサンが得られる。上記加水分解及び縮合反応の終了後には、エポキシ基の開環を抑制するために触媒を中和することが好ましい。また、前記ポリオルガノシルセスキオキサンを、例えば、水洗、酸洗浄、アルカリ洗浄、濾過、濃縮、蒸留、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の分離手段や、これらを組み合わせた分離手段等により分離精製してもよい。   A polyorganosilsesquioxane is obtained by hydrolysis and condensation reaction of the hydrolyzable silane compound. After completion of the hydrolysis and condensation reaction, it is preferable to neutralize the catalyst in order to suppress the ring opening of the epoxy group. In addition, the polyorganosilsesquioxane is separated into, for example, water washing, acid washing, alkali washing, filtration, concentration, distillation, extraction, crystallization, recrystallization, column chromatography, or a combination of these. It may be separated and purified by, for example.

前記ポリオルガノシルセスキオキサンの含有量(配合量)は、溶媒を除く硬化性組成物の全量(100重量%)に対して、70重量%以上、100重量%未満が好ましく、より好ましくは80〜99.8重量%、さらに好ましくは90〜99.5重量%である。前記ポリオルガノシルセスキオキサンの含有量を70重量%以上とすることにより、ハードコート層の表面硬度や接着性がより向上する傾向がある。一方、前記ポリオルガノシルセスキオキサンの含有量を100重量%未満とすることにより、硬化触媒を含有させることができ、これにより硬化性組成物の硬化をより効率的に進行させることができる傾向がある。   The content (blending amount) of the polyorganosilsesquioxane is preferably 70% by weight or more and less than 100% by weight, more preferably 80%, based on the total amount (100% by weight) of the curable composition excluding the solvent. To 99.8% by weight, more preferably 90 to 99.5% by weight. By setting the content of the polyorganosilsesquioxane to 70% by weight or more, the surface hardness and adhesiveness of the hard coat layer tend to be further improved. On the other hand, by setting the content of the polyorganosilsesquioxane to less than 100% by weight, a curing catalyst can be contained, whereby the curing of the curable composition tends to proceed more efficiently. There is.

カチオン硬化性化合物の全量(100重量%)に対する前記ポリオルガノシルセスキオキサンの割合は、70〜100重量%が好ましく、より好ましくは75〜98重量%、さらに好ましくは80〜95重量%である。前記ポリオルガノシルセスキオキサンの含有量を70重量%以上とすることにより、ハードコート層としたときの表面硬度がより向上する傾向がある。   The ratio of the polyorganosilsesquioxane to the total amount (100% by weight) of the cationic curable compound is preferably 70 to 100% by weight, more preferably 75 to 98% by weight, and still more preferably 80 to 95% by weight. . By setting the content of the polyorganosilsesquioxane to 70% by weight or more, the surface hardness of the hard coat layer tends to be further improved.

前記ポリオルガノシルセスキオキサンは、当該ポリオルガノシルセスキオキサンを必須成分として含む硬化性組成物を硬化させることにより、高い表面硬度かつ耐熱性を有し、可撓性及び加工性に優れたハードコート層を形成できる。   The polyorganosilsesquioxane has high surface hardness and heat resistance by curing a curable composition containing the polyorganosilsesquioxane as an essential component, and has excellent flexibility and workability. A hard coat layer can be formed.

(表面に(メタ)アクリロイル基を含む基を有するシリカ粒子)
表面に(メタ)アクリロイル基を含む基を有するシリカ粒子は、シリカ粒子の表面に無数の水酸基(Si−OH基)が存在し、硬化時に当該水酸基と前記ポリオルガノシルセスキオキサンとが反応することで、ポリオルガノシルセスキオキサンの硬化後の架橋密度が向上する。また、硬化時に複数の前記シリカ粒子における(メタ)アクリロイル基どうしが結合することで、硬化後の架橋密度が向上する。このように硬化後の架橋密度が向上することで、ハードコート層における耐擦傷性が向上する。また、ハードコート層の上に防汚性や低反射性などの機能を有する層(機能層)を設けると、ハードコート層と機能層の密着性が弱く、機能層の剥がれが発生する場合があり、いわゆるリコート性がないということがある。しかし、前記シリカ粒子を用いると、リコート性を付与することができ、また、ハードコート層表面に対する上記の機能層を設ける際の加工性(加工適性)も良くすることができる。
(Silica particles having a group containing a (meth) acryloyl group on the surface)
Silica particles having a group containing a (meth) acryloyl group on the surface have innumerable hydroxyl groups (Si-OH groups) on the surface of the silica particles, and the hydroxyl groups react with the polyorganosilsesquioxane during curing. Thereby, the crosslinking density after hardening of polyorganosilsesquioxane improves. Moreover, the crosslink density after hardening improves because the (meth) acryloyl group in the said several silica particle couple | bonds at the time of hardening. Thus, the abrasion resistance in a hard-coat layer improves because the crosslinking density after hardening improves. Also, if a layer (functional layer) having functions such as antifouling property and low reflectivity is provided on the hard coat layer, the adhesion between the hard coat layer and the functional layer is weak, and the functional layer may peel off. Yes, there is no so-called recoatability. However, when the silica particles are used, recoatability can be imparted, and processability (workability) when the functional layer is provided on the hardcoat layer surface can be improved.

さらに、前記シリカ粒子は、表面に(メタ)アクリロイル基を有することで、硬化性組成物における安定性を付与できると考えられる。前記の安定性とは、硬化前の硬化性組成物の調製段階において、前記シリカ粒子とポリオルガノシルセスキオキサンとが反応して、硬化性組成物の粘度が著しく上昇(ゲル化)したり、固化したりしないことを言う。(メタ)アクリロイル基を含む基などの官能基を表面に有さない通常のシリカ粒子(SiO2粒子)を用いた場合、シリカ粒子どうしが凝集し、硬化性組成物がゲル化するおそれがある。前記シリカ粒子は、(メタ)アクリロイル基以外の官能基(例えば、シリコーン変性基)を有していてもよい。なお、(メタ)アクリロイル基は、アクリロイル基(アクリル基)及びメタアクリロイル基(メタクリル基)の総称である。 Furthermore, it is thought that the said silica particle can provide the stability in a curable composition by having a (meth) acryloyl group on the surface. The above-mentioned stability means that in the preparation stage of a curable composition before curing, the silica particles and polyorganosilsesquioxane react to increase the viscosity of the curable composition (gelation). Say, don't solidify. When normal silica particles (SiO 2 particles) having no functional group such as a group containing a (meth) acryloyl group are used, the silica particles may aggregate and the curable composition may be gelled. . The silica particles may have a functional group other than the (meth) acryloyl group (for example, a silicone-modified group). The (meth) acryloyl group is a general term for an acryloyl group (acrylic group) and a methacryloyl group (methacrylic group).

前記シリカ粒子は、水や有機溶媒などの公知乃至慣用の一般的な分散媒に分散させた状態の分散液(ディスパージョン)を用いてもよい。また、シリカ粒子に(メタ)アクリロイル基を含む基を有するシランカップリング剤を反応させたものを前記シリカ粒子として用いてもよい。前記シリカ粒子としては、例えば、商品名「BYK−LPX 22699」、「NANOBYK−3650」、「NANOBYK−3651」、「NANOBYK−3652」(以上、ビックケミー・ジャパン(株)製)を用いることができる。   As the silica particles, a dispersion liquid (dispersion) in a state of being dispersed in a known or commonly used general dispersion medium such as water or an organic solvent may be used. Moreover, you may use what made the silica particle react with the silane coupling agent which has group containing a (meth) acryloyl group as said silica particle. As the silica particles, for example, trade names “BYK-LPX 22699”, “NANOBYK-3650”, “NANOBYK-3651”, “NANOBYK-3652” (above, manufactured by BYK Japan Japan Co., Ltd.) can be used. .

前記シリカ粒子の粒径は、例えば、1〜100nm、好ましくは3〜50nm、より好ましくは5〜30nmである。   The particle size of the silica particles is, for example, 1 to 100 nm, preferably 3 to 50 nm, more preferably 5 to 30 nm.

表面に(メタ)アクリロイル基を含む基を有するシリカ粒子の割合は、前記ポリオルガノシルセスキオキサン100重量部に対して、例えば0.01〜20重量部、好ましくは0.05〜15重量部、より好ましくは0.01〜10重量部、さらに好ましくは0.2〜5重量部である。前記シリカ粒子の割合を0.01重量部以上とすることにより、ハードコート層表面の外観を良くすることができ、十分なリコート性を付与できる。また、シリカ粒子の割合を20重量部以下とすることにより、ハードコート層の表面硬度を高くすることができる。   The ratio of the silica particles having a group containing a (meth) acryloyl group on the surface is, for example, 0.01 to 20 parts by weight, preferably 0.05 to 15 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyorganosilsesquioxane. More preferably, it is 0.01-10 weight part, More preferably, it is 0.2-5 weight part. By making the ratio of the silica particles 0.01 parts by weight or more, the appearance of the hard coat layer surface can be improved and sufficient recoatability can be imparted. Moreover, the surface hardness of a hard-coat layer can be made high by the ratio of a silica particle being 20 weight part or less.

(シリコンアクリレート)
前記シリコンアクリレート(シリコーンアクリレート)は、ケイ素原子と(メタ)アクリロイル基とを少なくとも有する添加剤の一種である。前記シリコンアクリレートは、(メタ)アクリロイル基以外の官能基(例えば、ヒドロキシル基)を有していてもよい。前記シリコンアクリレートは、シリコンジアクリレート、シリコントリアクリレート、シリコンテトラアクリレート、シリコンペンタアクリレート、シリコンヘキサアクリレート、シリコンヘプタアクリレート、シリコンオクタアクリレートであってもよい。前記シリコンアクリレートは、前記ポリオルガノシルセスキオキサンとともに硬化性組成物に用いることで、ハードコート層としたときのハードコート層表面の架橋密度を効果的に高めることができ、ハードコート層の表面の平滑性などの外観を向上させ、表面硬度、耐擦傷性及び防汚性を向上させる性質を有する。なお、(メタ)アクリロイル基は、アクリロイル基(アクリル基)及びメタアクリロイル基(メタクリル基)の総称である。
(Silicon acrylate)
The silicon acrylate (silicone acrylate) is a kind of additive having at least a silicon atom and a (meth) acryloyl group. The silicon acrylate may have a functional group (for example, a hydroxyl group) other than the (meth) acryloyl group. The silicon acrylate may be silicon diacrylate, silicon triacrylate, silicon tetraacrylate, silicon pentaacrylate, silicon hexaacrylate, silicon heptaacrylate, or silicon octaacrylate. By using the silicon acrylate together with the polyorganosilsesquioxane in the curable composition, it is possible to effectively increase the crosslink density of the hard coat layer surface when the hard coat layer is formed. It has the property of improving the appearance such as smoothness and improving the surface hardness, scratch resistance and antifouling property. The (meth) acryloyl group is a general term for an acryloyl group (acrylic group) and a methacryloyl group (methacrylic group).

前記シリコンアクリレートは、有機溶媒(例えば、アセトン、トルエン、メタノール、エタノール)などの公知乃至慣用の一般的な分散媒に分散させた状態の分散液(ディスパージョン)を用いてもよい。シリコンアクリレートとしては、例えば、商品名「KRM8479」、「EBECRYL 350」、「EBECRYL 1360」(ダイセル・オルネクス(株)製)を用いることができる。   As the silicon acrylate, a dispersion (dispersion) in a state of being dispersed in a known or common general dispersion medium such as an organic solvent (for example, acetone, toluene, methanol, ethanol) may be used. As the silicon acrylate, for example, trade names “KRM8479”, “EBECRYL 350”, “EBECRYL 1360” (manufactured by Daicel Ornex Co., Ltd.) can be used.

前記シリコンアクリレートの割合は、前記ポリオルガノシルセスキオキサン100重量部に対して、例えば0.01〜15重量部、好ましくは0.05〜10重量部、より好ましくは0.01〜5重量部、さらに好ましくは0.2〜3重量部である。前記シリコンアクリレートの割合を0.01重量部以上とすることにより、ハードコート層としたときの耐擦傷性と防汚性を向上することができる。また、シリコンアクリレートの割合を15重量部以下とすることにより、ハードコート層としたときの表面硬度をより高くすることができる。   The ratio of the silicon acrylate is, for example, 0.01 to 15 parts by weight, preferably 0.05 to 10 parts by weight, more preferably 0.01 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyorganosilsesquioxane. More preferably, it is 0.2 to 3 parts by weight. By setting the ratio of the silicon acrylate to 0.01 parts by weight or more, it is possible to improve the scratch resistance and antifouling property when the hard coat layer is formed. Moreover, the surface hardness when it is set as a hard-coat layer can be made higher by making the ratio of silicon acrylate 15 weight part or less.

ハードコート層の外観をさらに向上させ、表面硬度を高くし、耐擦傷性を向上させる点で、シリコンアクリレートと、表面に(メタ)アクリロイル基を含む基を有するシリカ粒子とを両方を用いることが好ましい。シリコンアクリレートと前記シリカ粒子を両方含む場合のシリコンアクリレートと前記シリカ粒子の合計の割合は、前記ポリオルガノシルセスキオキサン100重量部に対して、例えば0.01〜20重量部、好ましくは0.05〜15重量部、より好ましくは0.01〜10重量部、さらに好ましくは0.2〜5重量部である。前記割合を0.01重量部以上とすることにより、ハードコート層としたときの耐擦傷性を向上することができる。また、前記割合を20重量部以下とすることにより、ハードコート層としたときの表面硬度をより高くすることができる。   It is possible to use both silicon acrylate and silica particles having a group containing a (meth) acryloyl group on the surface in terms of further improving the appearance of the hard coat layer, increasing the surface hardness, and improving the scratch resistance. preferable. When the silicon acrylate and the silica particles are both included, the total ratio of the silicon acrylate and the silica particles is, for example, 0.01 to 20 parts by weight, preferably 0. 0 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyorganosilsesquioxane. It is 05-15 weight part, More preferably, it is 0.01-10 weight part, More preferably, it is 0.2-5 weight part. By setting the ratio to 0.01 parts by weight or more, the scratch resistance when the hard coat layer is formed can be improved. Moreover, the surface hardness when it is set as a hard-coat layer can be made higher by making the said ratio into 20 weight part or less.

(光カチオン重合開始剤)
前記硬化性組成物は、タックフリーとなるまでの硬化時間が短縮できる点で、硬化触媒として光カチオン重合開始剤を含むことが好ましい。
(Photocationic polymerization initiator)
The curable composition preferably contains a cationic photopolymerization initiator as a curing catalyst in that the curing time until tack-free can be shortened.

上記光カチオン重合開始剤としては、公知乃至慣用の光カチオン重合開始剤を使用することができ、例えば、スルホニウム塩(スルホニウムイオンとアニオンとの塩)、ヨードニウム塩(ヨードニウムイオンとアニオンとの塩)、セレニウム塩(セレニウムイオンとアニオンとの塩)、アンモニウム塩(アンモニウムイオンとアニオンとの塩)、ホスホニウム塩(ホスホニウムイオンとアニオンとの塩)、遷移金属錯体イオンとアニオンとの塩等が挙げられる。これらは1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   As the photocationic polymerization initiator, known or commonly used photocationic polymerization initiators can be used. For example, sulfonium salts (salts of sulfonium ions and anions), iodonium salts (salts of iodonium ions and anions). Selenium salt (selenium ion and anion salt), ammonium salt (ammonium ion and anion salt), phosphonium salt (phosphonium ion and anion salt), transition metal complex ion and anion salt, etc. . These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

上記スルホニウム塩としては、例えば、商品名「HS−1PC」(サンアプロ(株)製)、商品名「LW−S1」(サンアプロ(株)製)、トリフェニルスルホニウム塩、トリ−p−トリルスルホニウム塩、トリ−o−トリルスルホニウム塩、トリス(4−メトキシフェニル)スルホニウム塩、1−ナフチルジフェニルスルホニウム塩、2−ナフチルジフェニルスルホニウム塩、トリス(4−フルオロフェニル)スルホニウム塩、トリ−1−ナフチルスルホニウム塩、トリ−2−ナフチルスルホニウム塩、トリス(4−ヒドロキシフェニル)スルホニウム塩、ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム塩、4−(p−トリルチオ)フェニルジ−(p−フェニル)スルホニウム塩等のトリアリールスルホニウム塩;ジフェニルフェナシルスルホニウム塩、ジフェニル4−ニトロフェナシルスルホニウム塩、ジフェニルベンジルスルホニウム塩、ジフェニルメチルスルホニウム塩等のジアリールスルホニウム塩;フェニルメチルベンジルスルホニウム塩、4−ヒドロキシフェニルメチルベンジルスルホニウム塩、4−メトキシフェニルメチルベンジルスルホニウム塩等のモノアリールスルホニウム塩;ジメチルフェナシルスルホニウム塩、フェナシルテトラヒドロチオフェニウム塩、ジメチルベンジルスルホニウム塩等のトリアルキルスルホニウム塩等が挙げられる。   Examples of the sulfonium salt include trade name “HS-1PC” (manufactured by San Apro Co., Ltd.), trade name “LW-S1” (manufactured by San Apro Co., Ltd.), triphenylsulfonium salt, and tri-p-tolylsulfonium salt. , Tri-o-tolylsulfonium salt, tris (4-methoxyphenyl) sulfonium salt, 1-naphthyldiphenylsulfonium salt, 2-naphthyldiphenylsulfonium salt, tris (4-fluorophenyl) sulfonium salt, tri-1-naphthylsulfonium salt , Tri-2-naphthylsulfonium salt, tris (4-hydroxyphenyl) sulfonium salt, diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium salt, 4- (p-tolylthio) phenyldi- (p-phenyl) sulfonium salt Reel sulfonium salt; diphenyl Diarylsulfonium salts such as enacilsulfonium salt, diphenyl 4-nitrophenacylsulfonium salt, diphenylbenzylsulfonium salt, diphenylmethylsulfonium salt; phenylmethylbenzylsulfonium salt, 4-hydroxyphenylmethylbenzylsulfonium salt, 4-methoxyphenylmethylbenzyl Examples thereof include monoarylsulfonium salts such as sulfonium salts; trialkylsulfonium salts such as dimethylphenacylsulfonium salts, phenacyltetrahydrothiophenium salts, and dimethylbenzylsulfonium salts.

上記ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム塩としては、例えば、商品名「CPI−101A」(サンアプロ(株)製、ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート50%炭酸プロピレン溶液)、商品名「CPI−100P」(サンアプロ(株)製、ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウムヘキサフルオロホスファート50%炭酸プロピレン溶液)等の市販品を使用できる。また、上記トリアリールスルホニウム塩としては、例えば、商品名「K1−S」(サンアプロ(株)製、非アンチモン系トリアリールスルホニウム塩)等の市販品を使用してもよい。   Examples of the diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium salt include a trade name “CPI-101A” (manufactured by San Apro Co., Ltd., diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium hexafluoroantimonate 50% propylene carbonate solution). ), Trade name “CPI-100P” (manufactured by San Apro Co., Ltd., diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium hexafluorophosphate 50% propylene carbonate solution) and the like can be used. Moreover, as said triarylsulfonium salt, you may use commercial items, such as a brand name "K1-S" (San Apro Co., Ltd. product, non-antimony type triarylsulfonium salt), for example.

上記ヨードニウム塩としては、例えば、商品名「UV9380C」(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ビス(4−ドデシルフェニル)ヨードニウム=ヘキサフルオロアンチモネート45%アルキルグリシジルエーテル溶液)、商品名「RHODORSIL PHOTOINITIATOR 2074」(ローディア・ジャパン(株)製、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート=[(1−メチルエチル)フェニル](メチルフェニル)ヨードニウム)、商品名「WPI−124」(和光純薬工業(株)製)、ジフェニルヨードニウム塩、ジ−p−トリルヨードニウム塩、ビス(4−ドデシルフェニル)ヨードニウム塩、ビス(4−メトキシフェニル)ヨードニウム塩等が挙げられる。   Examples of the iodonium salt include, for example, trade name “UV9380C” (Momentive Performance Materials Japan GK, bis (4-dodecylphenyl) iodonium = hexafluoroantimonate 45% alkyl glycidyl ether solution), trade name “ RHODORSIL PHOTOINITIATOR 2074 "(manufactured by Rhodia Japan Ltd., tetrakis (pentafluorophenyl) borate = [(1-methylethyl) phenyl] (methylphenyl) iodonium), trade name" WPI-124 "(Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) Co., Ltd.), diphenyliodonium salt, di-p-tolyliodonium salt, bis (4-dodecylphenyl) iodonium salt, bis (4-methoxyphenyl) iodonium salt, and the like.

上記セレニウム塩としては、例えば、トリフェニルセレニウム塩、トリ−p−トリルセレニウム塩、トリ−o−トリルセレニウム塩、トリス(4−メトキシフェニル)セレニウム塩、1−ナフチルジフェニルセレニウム塩等のトリアリールセレニウム塩;ジフェニルフェナシルセレニウム塩、ジフェニルベンジルセレニウム塩、ジフェニルメチルセレニウム塩等のジアリールセレニウム塩;フェニルメチルベンジルセレニウム塩等のモノアリールセレニウム塩;ジメチルフェナシルセレニウム塩等のトリアルキルセレニウム塩等が挙げられる。   Examples of the selenium salt include triaryl selenium such as triphenyl selenium salt, tri-p-tolyl selenium salt, tri-o-tolyl selenium salt, tris (4-methoxyphenyl) selenium salt, and 1-naphthyldiphenyl selenium salt. Salts: Diaryl phenacyl selenium salts, diphenyl benzyl selenium salts, diaryl selenium salts such as diphenyl methyl selenium salts; monoaryl selenium salts such as phenyl methyl benzyl selenium salts; .

上記アンモニウム塩としては、例えば、テトラメチルアンモニウム塩、エチルトリメチルアンモニウム塩、ジエチルジメチルアンモニウム塩、トリエチルメチルアンモニウム塩、テトラエチルアンモニウム塩、トリメチル−n−プロピルアンモニウム塩、トリメチル−n−ブチルアンモニウム塩等のテトラアルキルアンモニウム塩;N,N−ジメチルピロリジウム塩、N−エチル−N−メチルピロリジウム塩等のピロリジウム塩;N,N'−ジメチルイミダゾリニウム塩、N,N'−ジエチルイミダゾリニウム塩等のイミダゾリニウム塩;N,N'−ジメチルテトラヒドロピリミジウム塩、N,N'−ジエチルテトラヒドロピリミジウム塩等のテトラヒドロピリミジウム塩;N,N−ジメチルモルホリニウム塩、N,N−ジエチルモルホリニウム塩等のモルホリニウム塩;N,N−ジメチルピペリジニウム塩、N,N−ジエチルピペリジニウム塩等のピペリジニウム塩;N−メチルピリジニウム塩、N−エチルピリジニウム塩等のピリジニウム塩;N,N'−ジメチルイミダゾリウム塩等のイミダゾリウム塩;N−メチルキノリウム塩等のキノリウム塩;N−メチルイソキノリウム塩等のイソキノリウム塩;ベンジルベンゾチアゾニウム塩等のチアゾニウム塩;ベンジルアクリジウム塩等のアクリジウム塩等が挙げられる。   Examples of the ammonium salt include tetramethylammonium salt, ethyltrimethylammonium salt, diethyldimethylammonium salt, triethylmethylammonium salt, tetraethylammonium salt, trimethyl-n-propylammonium salt, and trimethyl-n-butylammonium salt. Pyrrolium salts such as alkyl ammonium salts; N, N-dimethylpyrrolidinium salts, N-ethyl-N-methylpyrrolidinium salts; N, N′-dimethylimidazolinium salts, N, N′-diethylimidazolinium salts, etc. Imidazolinium salts; tetrahydropyrimidinium salts such as N, N′-dimethyltetrahydropyrimidinium salt, N, N′-diethyltetrahydropyrimidinium salt; N, N-dimethylmorpholinium salt, N, N -Diethylmorpholinium salt Morpholinium salts such as N, N-dimethylpiperidinium salt, piperidinium salts such as N, N-diethylpiperidinium salt; pyridinium salts such as N-methylpyridinium salt and N-ethylpyridinium salt; N, N′- Imidazolium salts such as dimethylimidazolium salt; quinolinium salts such as N-methylquinolium salt; isoquinolium salts such as N-methylisoquinolium salt; thiazonium salts such as benzylbenzothiazonium salt; Examples include an acridium salt.

上記ホスホニウム塩としては、例えば、テトラフェニルホスホニウム塩、テトラ−p−トリルホスホニウム塩、テトラキス(2−メトキシフェニル)ホスホニウム塩等のテトラアリールホスホニウム塩;トリフェニルベンジルホスホニウム塩等のトリアリールホスホニウム塩;トリエチルベンジルホスホニウム塩、トリブチルベンジルホスホニウム塩、テトラエチルホスホニウム塩、テトラブチルホスホニウム塩、トリエチルフェナシルホスホニウム塩等のテトラアルキルホスホニウム塩等が挙げられる。   Examples of the phosphonium salt include tetraarylphosphonium salts such as tetraphenylphosphonium salt, tetra-p-tolylphosphonium salt and tetrakis (2-methoxyphenyl) phosphonium salt; triarylphosphonium salts such as triphenylbenzylphosphonium salt; Examples thereof include tetraalkylphosphonium salts such as benzylphosphonium salt, tributylbenzylphosphonium salt, tetraethylphosphonium salt, tetrabutylphosphonium salt, and triethylphenacylphosphonium salt.

上記遷移金属錯体イオンの塩としては、例えば、(η5−シクロペンタジエニル)(η6−トルエン)Cr+、(η5−シクロペンタジエニル)(η6−キシレン)Cr+等のクロム錯体カチオンの塩;(η5−シクロペンタジエニル)(η6−トルエン)Fe+、(η5−シクロペンタジエニル)(η6−キシレン)Fe+等の鉄錯体カチオンの塩等が挙げられる。 Examples of the salt of the transition metal complex ion include salts of chromium complex cations such as (η5-cyclopentadienyl) (η6-toluene) Cr + and (η5-cyclopentadienyl) (η6-xylene) Cr +. And salts of iron complex cations such as (η5-cyclopentadienyl) (η6-toluene) Fe + and (η5-cyclopentadienyl) (η6-xylene) Fe + .

上述の塩を構成するアニオンとしては、例えば、SbF6 -、PF6 -、BF4 -、(CF3CF23PF3 -、(CF3CF2CF23PF3 -、(C654-、(C654Ga-、スルホン酸アニオン(トリフルオロメタンスルホン酸アニオン、ペンタフルオロエタンスルホン酸アニオン、ノナフルオロブタンスルホン酸アニオン、メタンスルホン酸アニオン、ベンゼンスルホン酸アニオン、p−トルエンスルホン酸アニオン等)、(CF3SO23-、(CF3SO22-、過ハロゲン酸イオン、ハロゲン化スルホン酸イオン、硫酸イオン、炭酸イオン、アルミン酸イオン、ヘキサフルオロビスマス酸イオン、カルボン酸イオン、アリールホウ酸イオン、チオシアン酸イオン、硝酸イオン等が挙げられる。 Examples of the anion constituting the above-described salt include SbF 6 , PF 6 , BF 4 , (CF 3 CF 2 ) 3 PF 3 , (CF 3 CF 2 CF 2 ) 3 PF 3 , (C 6 F 5 ) 4 B , (C 6 F 5 ) 4 Ga , sulfonate anion (trifluoromethanesulfonate anion, pentafluoroethanesulfonate anion, nonafluorobutanesulfonate anion, methanesulfonate anion, benzenesulfonate Anion, p-toluenesulfonic acid anion, etc.), (CF 3 SO 2 ) 3 C , (CF 3 SO 2 ) 2 N , perhalogenate ion, halogenated sulfonate ion, sulfate ion, carbonate ion, aluminate Ion, hexafluorobismuth acid ion, carboxylate ion, arylborate ion, thiocyanate ion, nitrate ion and the like.

光カチオン重合開始剤の含有量(配合量)は、前記ポリオルガノシルセスキオキサン100重量部に対して、0.01〜3.0重量部が好ましく、より好ましくは0.05〜3.0重量部、さらに好ましくは0.1〜1.0重量部(例えば、0.3〜1.0重量部)である。硬化触媒の含有量を0.01重量部以上とすることにより、硬化反応を効率的に十分に進行させることができ、ハードコート層としたときの表面硬度がより向上する傾向がある。一方、光カチオン重合開始剤の含有量を3.0重量部以下とすることにより、硬化性組成物の保存性がいっそう向上したり、ハードコート層としたときの着色が抑制される傾向がある。   The content (blending amount) of the cationic photopolymerization initiator is preferably 0.01 to 3.0 parts by weight, more preferably 0.05 to 3.0 parts with respect to 100 parts by weight of the polyorganosilsesquioxane. Parts by weight, more preferably 0.1 to 1.0 parts by weight (for example, 0.3 to 1.0 parts by weight). By setting the content of the curing catalyst to 0.01 parts by weight or more, the curing reaction can be efficiently and sufficiently advanced, and the surface hardness of the hard coat layer tends to be further improved. On the other hand, when the content of the cationic photopolymerization initiator is 3.0 parts by weight or less, the storability of the curable composition is further improved, or coloring when the hard coat layer is formed tends to be suppressed. .

前記硬化性組成物は、さらに、前記ポリオルガノシルセスキオキサン以外のカチオン硬化性化合物(「その他のカチオン硬化性化合物」と称する場合がある)を含んでいてもよい。その他のカチオン硬化性化合物としては、公知乃至慣用のカチオン硬化性化合物を使用することができ、特に限定されないが、例えば、前記ポリオルガノシルセスキオキサン以外のエポキシ化合物(「その他のエポキシ化合物」と称する場合がある)、オキセタン化合物、ビニルエーテル化合物等が挙げられる。なお、前記硬化性組成物においてその他のカチオン硬化性化合物は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。   The curable composition may further contain a cationic curable compound other than the polyorganosilsesquioxane (sometimes referred to as “other cationic curable compounds”). As other cationic curable compounds, known or commonly used cationic curable compounds can be used, and are not particularly limited. For example, epoxy compounds other than the polyorganosilsesquioxane ("other epoxy compounds" and Oxetane compounds, vinyl ether compounds, and the like. In addition, in the said curable composition, another cationic curable compound can also be used individually by 1 type, and can also be used in combination of 2 or more type.

上記その他のエポキシ化合物としては、分子内に1以上のエポキシ基(オキシラン環)を有する公知乃至慣用の化合物を使用することができ、特に限定されないが、例えば、脂環式エポキシ化合物(脂環式エポキシ樹脂)、芳香族エポキシ化合物(芳香族エポキシ樹脂)、脂肪族エポキシ化合物(脂肪族エポキシ樹脂)等が挙げられる。   As said other epoxy compound, the well-known thru | or usual compound which has one or more epoxy groups (oxirane ring) in a molecule | numerator can be used, Although it does not specifically limit, For example, an alicyclic epoxy compound (alicyclic) Epoxy resin), aromatic epoxy compounds (aromatic epoxy resins), aliphatic epoxy compounds (aliphatic epoxy resins), and the like.

上記脂環式エポキシ化合物としては、分子内に1個以上の脂環と1個以上のエポキシ基とを有する公知乃至慣用の化合物が挙げられ、特に限定されないが、例えば、(1)分子内に脂環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基(「脂環エポキシ基」と称する)を有する化合物;(2)脂環にエポキシ基が直接単結合で結合している化合物;(3)分子内に脂環及びグリシジルエーテル基を有する化合物(グリシジルエーテル型エポキシ化合物)等が挙げられる。   Examples of the alicyclic epoxy compound include known or conventional compounds having one or more alicyclic rings and one or more epoxy groups in the molecule, and are not particularly limited. For example, (1) A compound having an epoxy group (referred to as “alicyclic epoxy group”) composed of two adjacent carbon atoms and oxygen atoms constituting the alicyclic ring; (2) the epoxy group is directly bonded to the alicyclic ring by a single bond. (3) compounds having an alicyclic ring and a glycidyl ether group in the molecule (glycidyl ether type epoxy compound) and the like.

上記(1)分子内に脂環エポキシ基を有する化合物としては、下記式(i)で表される化合物が挙げられる。

Figure 2018189800
As said (1) compound which has an alicyclic epoxy group in a molecule | numerator, the compound represented by following formula (i) is mentioned.
Figure 2018189800

上記式(i)中、Yは単結合又は連結基(1以上の原子を有する二価の基)を示す。上記連結基としては、例えば、二価の炭化水素基、炭素−炭素二重結合の一部又は全部がエポキシ化されたアルケニレン基、カルボニル基、エーテル結合、エステル結合、カーボネート基、アミド基、これらが複数個連結した基等が挙げられる。   In the above formula (i), Y represents a single bond or a linking group (a divalent group having one or more atoms). Examples of the linking group include divalent hydrocarbon groups, alkenylene groups in which part or all of carbon-carbon double bonds are epoxidized, carbonyl groups, ether bonds, ester bonds, carbonate groups, amide groups, and the like. And a group in which a plurality of are connected.

上記二価の炭化水素基としては、炭素数が1〜18の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基、二価の脂環式炭化水素基等が挙げられる。炭素数が1〜18の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基等が挙げられる。上記二価の脂環式炭化水素基としては、例えば、1,2−シクロペンチレン基、1,3−シクロペンチレン基、シクロペンチリデン基、1,2−シクロヘキシレン基、1,3−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキシレン基、シクロヘキシリデン基等の二価のシクロアルキレン基(シクロアルキリデン基を含む)等が挙げられる。   As said bivalent hydrocarbon group, a C1-C18 linear or branched alkylene group, a bivalent alicyclic hydrocarbon group, etc. are mentioned. Examples of the linear or branched alkylene group having 1 to 18 carbon atoms include a methylene group, a methylmethylene group, a dimethylmethylene group, an ethylene group, a propylene group, and a trimethylene group. Examples of the divalent alicyclic hydrocarbon group include 1,2-cyclopentylene group, 1,3-cyclopentylene group, cyclopentylidene group, 1,2-cyclohexylene group, 1,3-cyclopentylene group, And divalent cycloalkylene groups (including cycloalkylidene groups) such as cyclohexylene group, 1,4-cyclohexylene group, and cyclohexylidene group.

上記炭素−炭素二重結合の一部又は全部がエポキシ化されたアルケニレン基(「エポキシ化アルケニレン基」と称する場合がある)におけるアルケニレン基としては、例えば、ビニレン基、プロペニレン基、1−ブテニレン基、2−ブテニレン基、ブタジエニレン基、ペンテニレン基、ヘキセニレン基、ヘプテニレン基、オクテニレン基等の炭素数2〜8の直鎖又は分岐鎖状のアルケニレン基等が挙げられる。特に、上記エポキシ化アルケニレン基としては、炭素−炭素二重結合の全部がエポキシ化されたアルケニレン基が好ましく、より好ましくは炭素−炭素二重結合の全部がエポキシ化された炭素数2〜4のアルケニレン基である。   Examples of the alkenylene group in the alkenylene group in which part or all of the carbon-carbon double bond is epoxidized (sometimes referred to as “epoxidized alkenylene group”) include, for example, a vinylene group, a propenylene group, and a 1-butenylene group. , A 2-butenylene group, a butadienylene group, a pentenylene group, a hexenylene group, a heptenylene group, an octenylene group, etc., and a linear or branched alkenylene group having 2 to 8 carbon atoms. In particular, the epoxidized alkenylene group is preferably an alkenylene group in which all of the carbon-carbon double bonds are epoxidized, more preferably 2 to 4 carbon atoms in which all of the carbon-carbon double bonds are epoxidized. Alkenylene group.

上記式(i)で表される脂環式エポキシ化合物の代表的な例としては、(3,4,3',4'−ジエポキシ)ビシクロヘキシル、下記式(i−1)〜(i−10)で表される化合物等が挙げられる。なお、下記式(i−5)、(i−7)中のl、mは、それぞれ1〜30の整数を表す。下記式(i−5)中のR'は炭素数1〜8のアルキレン基であり、中でも、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基等の炭素数1〜3の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。下記式(i−9)、(i−10)中のn1〜n6は、それぞれ1〜30の整数を示す。また、上記式(i)で表される脂環式エポキシ化合物としては、その他、例えば、2,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロパン、1,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)エタン、2,3−ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)オキシラン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル等が挙げられる。

Figure 2018189800
Figure 2018189800
Representative examples of the alicyclic epoxy compound represented by the above formula (i) include (3,4,3 ′, 4′-diepoxy) bicyclohexyl, the following formulas (i-1) to (i-10). ) And the like. In the following formulas (i-5) and (i-7), l and m each represent an integer of 1 to 30. R ′ in the following formula (i-5) is an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, and among them, a linear or branched chain having 1 to 3 carbon atoms such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group, and an isopropylene group. -Like alkylene groups are preferred. N1-n6 in following formula (i-9) and (i-10) show the integer of 1-30, respectively. Other examples of the alicyclic epoxy compound represented by the above formula (i) include 2,2-bis (3,4-epoxycyclohexyl) propane and 1,2-bis (3,4-epoxycyclohexyl). ) Ethane, 2,3-bis (3,4-epoxycyclohexyl) oxirane, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ether and the like.
Figure 2018189800
Figure 2018189800

上述の(2)脂環にエポキシ基が直接単結合で結合している化合物としては、例えば、下記式(ii)で表される化合物等が挙げられる。

Figure 2018189800
Examples of the compound (2) in which the epoxy group is directly bonded to the alicyclic ring with a single bond include compounds represented by the following formula (ii).
Figure 2018189800

式(ii)中、R"は、p価のアルコールの構造式からp個の水酸基(−OH)を除いた基(p価の有機基)であり、p、nはそれぞれ自然数を表す。p価のアルコール[R"(OH)p]としては、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノール等の多価アルコール(炭素数1〜15のアルコール等)等が挙げられる。pは1〜6が好ましく、nは1〜30が好ましい。pが2以上の場合、それぞれの( )内(外側の括弧内)の基におけるnは同一でもよく異なっていてもよい。上記式(ii)で表される化合物としては、具体的には、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物[例えば、商品名「EHPE3150」((株)ダイセル製)等]等が挙げられる。 In formula (ii), R ″ is a group obtained by removing p hydroxyl groups (—OH) from the structural formula of p-valent alcohol (p-valent organic group), and p and n each represent a natural number. P Examples of the valent alcohol [R ″ (OH) p ] include polyhydric alcohols (such as alcohols having 1 to 15 carbon atoms) such as 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol. p is preferably 1 to 6, and n is preferably 1 to 30. When p is 2 or more, n in each group in () (inside the outer parenthesis) may be the same or different. Specific examples of the compound represented by the above formula (ii) include 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adduct of 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol [for example, , Trade name “EHPE3150” (manufactured by Daicel Corporation), etc.].

上述の(3)分子内に脂環及びグリシジルエーテル基を有する化合物としては、例えば、脂環式アルコール(特に、脂環式多価アルコール)のグリシジルエーテルが挙げられる。より詳しくは、例えば、2,2−ビス[4−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]プロパン、2,2−ビス[3,5−ジメチル−4−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]プロパンなどのビスフェノールA型エポキシ化合物を水素化した化合物(水素化ビスフェノールA型エポキシ化合物);ビス[o,o−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン、ビス[o,p−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン、ビス[p,p−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン、ビス[3,5−ジメチル−4−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタンなどのビスフェノールF型エポキシ化合物を水素化した化合物(水素化ビスフェノールF型エポキシ化合物);水素化ビフェノール型エポキシ化合物;水素化フェノールノボラック型エポキシ化合物;水素化クレゾールノボラック型エポキシ化合物;ビスフェノールAの水素化クレゾールノボラック型エポキシ化合物;水素化ナフタレン型エポキシ化合物;トリスフェノールメタンから得られるエポキシ化合物の水素化エポキシ化合物;下記芳香族エポキシ化合物の水素化エポキシ化合物等が挙げられる。   Examples of the compound (3) having an alicyclic ring and a glycidyl ether group in the molecule include glycidyl ethers of alicyclic alcohols (particularly alicyclic polyhydric alcohols). More specifically, for example, 2,2-bis [4- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] propane, 2,2-bis [3,5-dimethyl-4- (2,3-epoxypropoxy) Compound obtained by hydrogenating bisphenol A type epoxy compound such as cyclohexyl] propane (hydrogenated bisphenol A type epoxy compound); bis [o, o- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] methane, bis [o , P- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] methane, bis [p, p- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] methane, bis [3,5-dimethyl-4- (2, 3-epoxypropoxy) cyclohexyl] Compound obtained by hydrogenating bisphenol F-type epoxy compound such as methane (hydrogenated bisphenol F-type epoxy compound) Hydrogenated biphenol type epoxy compound; hydrogenated phenol novolak type epoxy compound; hydrogenated cresol novolak type epoxy compound; hydrogenated cresol novolak type epoxy compound of bisphenol A; hydrogenated naphthalene type epoxy compound; epoxy compound obtained from trisphenolmethane And hydrogenated epoxy compounds of the following aromatic epoxy compounds.

上記芳香族エポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノール類[例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール等]と、エピハロヒドリンとの縮合反応により得られるエピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;これらのエピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂を上記ビスフェノール類とさらに付加反応させることにより得られる高分子量エピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;フェノール類[例えば、フェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS等]とアルデヒド[例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等]とを縮合反応させて得られる多価アルコール類を、さらにエピハロヒドリンと縮合反応させることにより得られるノボラック・アルキルタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;フルオレン環の9位に2つのフェノール骨格が結合し、かつこれらフェノール骨格のヒドロキシ基から水素原子を除いた酸素原子に、それぞれ、直接又はアルキレンオキシ基を介してグリシジル基が結合しているエポキシ化合物等が挙げられる。   Examples of the aromatic epoxy compound include epibis type glycidyl ether type epoxy resins obtained by condensation reaction of bisphenols [for example, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol and the like] and epihalohydrin; High molecular weight epibis type glycidyl ether type epoxy resin obtained by addition reaction of bis type glycidyl ether type epoxy resin with the above bisphenols; phenols [eg, phenol, cresol, xylenol, resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, etc.] and aldehyde [eg, formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, hydroxybenzaldehyde, salicy A novolak alkyl type glycidyl ether type epoxy resin obtained by further condensing a polyhydric alcohol obtained by a condensation reaction with an aldehyde etc. with an epihalohydrin; two phenol skeletons are bonded to the 9-position of the fluorene ring. In addition, an epoxy compound in which a glycidyl group is bonded to an oxygen atom obtained by removing a hydrogen atom from the hydroxy group of the phenol skeleton, either directly or via an alkyleneoxy group.

上記脂肪族エポキシ化合物としては、例えば、環状構造を有しないq価のアルコール(qは自然数である)のグリシジルエーテル;一価又は多価カルボン酸[例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ステアリン酸、アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸、イタコン酸等]のグリシジルエステル;エポキシ化亜麻仁油、エポキシ化大豆油、エポキシ化ひまし油等の二重結合を有する油脂のエポキシ化物;エポキシ化ポリブタジエン等のポリオレフィン(ポリアルカジエンを含む)のエポキシ化物等が挙げられる。なお、上記環状構造を有しないq価のアルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、1−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、1−ブタノール等の一価のアルコール;エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等の二価のアルコール;グリセリン、ジグリセリン、エリスリトール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ソルビトール等の三価以上の多価アルコール等が挙げられる。また、q価のアルコールは、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリオレフィンポリオール等であってもよい。   Examples of the aliphatic epoxy compound include glycidyl ether of q-valent alcohol (q is a natural number) having no cyclic structure; monovalent or polyvalent carboxylic acid [for example, acetic acid, propionic acid, butyric acid, stearic acid, Adipic acid, sebacic acid, maleic acid, itaconic acid, etc.] glycidyl ester; epoxidized oils and fats having double bonds such as epoxidized linseed oil, epoxidized soybean oil, epoxidized castor oil; polyolefins such as epoxidized polybutadiene (poly Epoxidized product of alkadiene). Examples of the q-valent alcohol having no cyclic structure include monohydric alcohols such as methanol, ethanol, 1-propyl alcohol, isopropyl alcohol, and 1-butanol; ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1 , 3-propanediol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, 1,6-hexanediol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, and other dihydric alcohols; Examples include trihydric or higher polyhydric alcohols such as glycerin, diglycerin, erythritol, trimethylolethane, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, and sorbitol. That. The q-valent alcohol may be polyether polyol, polyester polyol, polycarbonate polyol, polyolefin polyol, or the like.

上記オキセタン化合物としては、分子内に1以上のオキセタン環を有する公知乃至慣用の化合物が挙げられ、特に限定されないが、例えば、3,3−ビス(ビニルオキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(ヒドロキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(2−エチルヘキシルオキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−[(フェノキシ)メチル]オキセタン、3−エチル−3−(ヘキシルオキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(クロロメチル)オキセタン、3,3−ビス(クロロメチル)オキセタン、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、ビス{[1−エチル(3−オキセタニル)]メチル}エーテル、4,4'−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]ビシクロヘキシル、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]シクロヘキサン、1,4−ビス{〔(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ〕メチル}ベンゼン、3−エチル−3−{〔(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ〕メチル}オキセタン、キシリレンビスオキセタン、3−エチル−3−{[3−(トリエトキシシリル)プロポキシ]メチル}オキセタン、オキセタニルシルセスキオキサン、フェノールノボラックオキセタン等が挙げられる。   Examples of the oxetane compound include known or commonly used compounds having one or more oxetane rings in the molecule, and are not particularly limited. For example, 3,3-bis (vinyloxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3- (Hydroxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3- (2-ethylhexyloxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3-[(phenoxy) methyl] oxetane, 3-ethyl-3- (hexyloxymethyl) oxetane, 3- Ethyl-3- (chloromethyl) oxetane, 3,3-bis (chloromethyl) oxetane, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, bis {[1-ethyl (3- Oxetanyl)] methyl} ether, 4,4′-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] bisi Chlohexyl, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] cyclohexane, 1,4-bis {[(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxy] methyl} benzene, 3-ethyl-3- {[(3-ethyloxetane-3-yl) methoxy] methyl} oxetane, xylylenebisoxetane, 3-ethyl-3-{[3- (triethoxysilyl) propoxy] methyl} oxetane, oxetanylsilsesquioxane, Phenol novolac oxetane etc. are mentioned.

上記ビニルエーテル化合物としては、分子内に1以上のビニルエーテル基を有する公知乃至慣用の化合物を使用することができ、特に限定されないが、例えば、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル(エチレングリコールモノビニルエーテル)、3−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシイソプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、3−ヒドロキシブチルビニルエーテル、2−ヒドロキシブチルビニルエーテル、3−ヒドロキシイソブチルビニルエーテル、2−ヒドロキシイソブチルビニルエーテル、1−メチル−3−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、1−メチル−2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、1−ヒドロキシメチルプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシシクロヘキシルビニルエーテル、1,6−ヘキサンジオールモノビニルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジビニルエーテル、1,8−オクタンジオールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、1,3−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,3−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、1,2−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,2−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、p−キシレングリコールモノビニルエーテル、p−キシレングリコールジビニルエーテル、m−キシレングリコールモノビニルエーテル、m−キシレングリコールジビニルエーテル、o−キシレングリコールモノビニルエーテル、o−キシレングリコールジビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、テトラエチレングリコールモノビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエチレングリコールモノビニルエーテル、ペンタエチレングリコールジビニルエーテル、オリゴエチレングリコールモノビニルエーテル、オリゴエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールモノビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、トリプロピレングリコールモノビニルエーテル、トリプロピレングリコールジビニルエーテル、テトラプロピレングリコールモノビニルエーテル、テトラプロピレングリコールジビニルエーテル、ペンタプロピレングリコールモノビニルエーテル、ペンタプロピレングリコールジビニルエーテル、オリゴプロピレングリコールモノビニルエーテル、オリゴプロピレングリコールジビニルエーテル、ポリプロピレングリコールモノビニルエーテル、ポリプロピレングリコールジビニルエーテル、イソソルバイドジビニルエーテル、オキサノルボルネンジビニルエーテル、フェニルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ハイドロキノンジビニルエーテル、1,4−ブタンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ビスフェノールAジビニルエーテル、ビスフェノールFジビニルエーテル、ヒドロキシオキサノルボルナンメタノールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジオールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ジペンタエリスリトールペンタビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル等が挙げられる。   The vinyl ether compound may be a known or conventional compound having one or more vinyl ether groups in the molecule, and is not particularly limited. For example, 2-hydroxyethyl vinyl ether (ethylene glycol monovinyl ether), 3-hydroxy Propyl vinyl ether, 2-hydroxypropyl vinyl ether, 2-hydroxyisopropyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, 3-hydroxybutyl vinyl ether, 2-hydroxybutyl vinyl ether, 3-hydroxyisobutyl vinyl ether, 2-hydroxyisobutyl vinyl ether, 1-methyl-3 -Hydroxypropyl vinyl ether, 1-methyl-2-hydroxypropyl vinyl ether, 1-hydroxymethylpropyl vinyl ether 4-hydroxycyclohexyl vinyl ether, 1,6-hexanediol monovinyl ether, 1,6-hexanediol divinyl ether, 1,8-octanediol divinyl ether, 1,4-cyclohexanedimethanol monovinyl ether, 1,4-cyclohexanedi Methanol divinyl ether, 1,3-cyclohexanedimethanol monovinyl ether, 1,3-cyclohexanedimethanol divinyl ether, 1,2-cyclohexanedimethanol monovinyl ether, 1,2-cyclohexanedimethanol divinyl ether, p-xylene glycol monovinyl ether P-xylene glycol divinyl ether, m-xylene glycol monovinyl ether, m-xylene glycol divinyl ether, o-xy Glycol monovinyl ether, o-xylene glycol divinyl ether, ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol monovinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, tetraethylene glycol monovinyl ether, tetraethylene glycol divinyl ether, penta Ethylene glycol monovinyl ether, pentaethylene glycol divinyl ether, oligoethylene glycol monovinyl ether, oligoethylene glycol divinyl ether, polyethylene glycol monovinyl ether, polyethylene glycol divinyl ether, dipropylene glycol monovinyl ether, dipropylene glycol Coal divinyl ether, tripropylene glycol monovinyl ether, tripropylene glycol divinyl ether, tetrapropylene glycol monovinyl ether, tetrapropylene glycol divinyl ether, pentapropylene glycol monovinyl ether, pentapropylene glycol divinyl ether, oligopropylene glycol monovinyl ether, oligopropylene glycol di Vinyl ether, polypropylene glycol monovinyl ether, polypropylene glycol divinyl ether, isosorbide divinyl ether, oxanorbornene divinyl ether, phenyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, octyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, ha Droquinone divinyl ether, 1,4-butanediol divinyl ether, cyclohexane dimethanol divinyl ether, trimethylolpropane divinyl ether, trimethylolpropane trivinyl ether, bisphenol A divinyl ether, bisphenol F divinyl ether, hydroxyoxanorbornane methanol divinyl ether, 1, Examples include 4-cyclohexanediol divinyl ether, pentaerythritol trivinyl ether, pentaerythritol tetravinyl ether, dipentaerythritol pentavinyl ether, and dipentaerythritol hexavinyl ether.

その他のエポキシ化合物(特に、上記脂環式エポキシ化合物)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、前記ポリオルガノシルセスキオキサンとその他のカチオン硬化性化合物の総量(100重量%;カチオン硬化性化合物の全量)に対して、0.01〜10重量%が好ましく、より好ましくは0.05〜9重量%、さらに好ましくは1〜8重量%である。なお、上記その他のエポキシ化合物には、前記ポリオルガノシルセスキオキサンは含まれない。   The content (blending amount) of other epoxy compounds (especially the alicyclic epoxy compound) is not particularly limited, but is the total amount (100% by weight; cation) of the polyorganosilsesquioxane and other cation curable compounds. The total amount of the curable compound is preferably 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.05 to 9% by weight, and still more preferably 1 to 8% by weight. In addition, the said polyorgano silsesquioxane is not contained in the said other epoxy compound.

その他のカチオン硬化性化合物の含有量(配合量)は、特に限定されないが、前記ポリオルガノシルセスキオキサンとその他のカチオン硬化性化合物の総量(100重量%;カチオン硬化性化合物の全量)に対して、50重量%以下(例えば、0〜50重量%)が好ましく、より好ましくは30重量%以下(例えば、0〜30重量%)、さらに好ましくは10重量%以下である。その他のカチオン硬化性化合物の含有量を50重量%以下(特に10重量%以下)とすることにより、ハードコート層の耐擦傷性がより向上する傾向がある。一方、その他のカチオン硬化性化合物の含有量を10重量%以上とすることにより、硬化性組成物に対して所望の性能(例えば、硬化性組成物に対する速硬化性や粘度調整等)を付与することができる場合がある。   The content (blending amount) of the other cationic curable compound is not particularly limited, but is based on the total amount of the polyorganosilsesquioxane and the other cationic curable compound (100% by weight; the total amount of the cationic curable compound). 50% by weight or less (for example, 0 to 50% by weight) is preferable, more preferably 30% by weight or less (for example, 0 to 30% by weight), and still more preferably 10% by weight or less. By setting the content of the other cationic curable compound to 50% by weight or less (particularly 10% by weight or less), the scratch resistance of the hard coat layer tends to be further improved. On the other hand, by setting the content of other cationic curable compounds to 10% by weight or more, desired performance (for example, rapid curability and viscosity adjustment for the curable composition) is imparted to the curable composition. There are cases where it is possible.

前記硬化性組成物は、レベリング剤を有していてもよい。上記レベリング剤としては、例えば、シリコーン系レベリング剤、フッ素系レベリング剤、ヒドロキシル基を有するシリコーン系レベリング剤等が挙げられる。   The curable composition may have a leveling agent. Examples of the leveling agent include silicone leveling agents, fluorine leveling agents, and silicone leveling agents having a hydroxyl group.

上記シリコーン系レベリング剤としては、市販のシリコーン系レベリング剤を使用でき、例えば、商品名「BYK−300」、「BYK−301/302」、「BYK−306」、「BYK−307」、「BYK−310」、「BYK−315」、「BYK−313」、「BYK−320」、「BYK−322」、「BYK−323」、「BYK−325」、「BYK−330」、「BYK−331」、「BYK−333」、「BYK−337」、「BYK−341」、「BYK−344」、「BYK−345/346」、「BYK−347」、「BYK−348」、「BYK−349」、「BYK−370」、「BYK−375」、「BYK−377」、「BYK−378」、「BYK−UV3500」、「BYK−UV3510」、「BYK−UV3570」、「BYK−3550」、「BYK−SILCLEAN3700」、「BYK−SILCLEAN3720」(以上、ビックケミー・ジャパン(株)製);商品名「AC FS 180」、「AC FS 360」、「AC S 20」(以上、Algin Chemie製);商品名「ポリフローKL−400X」、「ポリフローKL−400HF」、「ポリフローKL−401」、「ポリフローKL−402」、「ポリフローKL−403」、「ポリフローKL−404」(以上、共栄社化学(株)製);商品名「KP−323」、「KP−326」、「KP−341」、「KP−104」、「KP−110」、「KP−112」(以上、信越化学工業(株)製);商品名「LP−7001」、「LP−7002」、「8032 ADDITIVE」、「57 ADDITIVE」、「L−7604」、「FZ−2110」、「FZ−2105」、「67 ADDITIVE」、「8618 ADDITIVE」、「3 ADDITIVE」、「56 ADDITIVE」(以上、東レ・ダウコーニング(株)製)等の市販品を使用することができる。   As the silicone leveling agent, commercially available silicone leveling agents can be used. For example, trade names “BYK-300”, “BYK-301 / 302”, “BYK-306”, “BYK-307”, “BYK” -310 "," BYK-315 "," BYK-313 "," BYK-320 "," BYK-322 "," BYK-323 "," BYK-325 "," BYK-330 "," BYK-331 " ”,“ BYK-333 ”,“ BYK-337 ”,“ BYK-341 ”,“ BYK-344 ”,“ BYK-345 / 346 ”,“ BYK-347 ”,“ BYK-348 ”,“ BYK-349 ” ”,“ BYK-370 ”,“ BYK-375 ”,“ BYK-377 ”,“ BYK-378 ”,“ BYK-UV3500 ”,“ BYK-UV3510 ”,“ B "K-UV3570", "BYK-3550", "BYK-SILCLEAN3700", "BYK-SILCLEAN3720" (above, manufactured by Big Chemie Japan); trade names "AC FS 180", "AC FS 360", "AC S 20 ”(manufactured by Algin Chemie); trade names“ Polyflow KL-400X ”,“ Polyflow KL-400HF ”,“ Polyflow KL-401 ”,“ Polyflow KL-402 ”,“ Polyflow KL-403 ”,“ Polyflow ” KL-404 "(manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.); trade names" KP-323 "," KP-326 "," KP-341 "," KP-104 "," KP-110 "," KP- " 112 ”(above, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.); trade names“ LP-7001 ”,“ LP-7002 ”,“ 803 ” ADDITIVE, 57 ADDITIVE, L-7604, FZ-2110, FZ-2105, 67 ADDITIVE, 8618 ADDITIVE, 3 ADDITIVE, 56 ADDITIVE (above, Toray Commercial products such as Dow Corning Co., Ltd. can be used.

上記フッ素系レベリング剤としては、市販のフッ素系レベリング剤を使用でき、例えば、商品名「オプツールDSX」、「オプツールDAC−HP」(以上、ダイキン工業(株)製);商品名「サーフロンS−242」、「サーフロンS−243」、「サーフロンS−420」、「サーフロンS−611」、「サーフロンS−651」、「サーフロンS−386」(以上、AGCセイミケミカル(株)製);商品名「BYK−340」(ビックケミー・ジャパン(株)製);商品名「AC 110a」、「AC 100a」(以上、Algin Chemie製);商品名「メガファックF−114」、「メガファックF−410」、「メガファックF−444」、「メガファックEXP TP−2066」、「メガファックF−430」、「メガファックF−472SF」、「メガファックF−477」、「メガファックF−552」、「メガファックF−553」、「メガファックF−554」、「メガファックF−555」、「メガファックR−94」、「メガファックRS−72−K」、「メガファックRS−75」、「メガファックF−556」、「メガファックEXP TF−1367」、「メガファックEXP TF−1437」、「メガファックF−558」、「メガファックEXP TF−1537」(以上、DIC(株)製);商品名「FC−4430」、「FC−4432」(以上、住友スリーエム(株)製);商品名「フタージェント 100」、「フタージェント 100C」、「フタージェント 110」、「フタージェント 150」、「フタージェント 150CH」、「フタージェント A−K」、「フタージェント 501」、「フタージェント 250」、「フタージェント 251」、「フタージェント 222F」、「フタージェント 208G」、「フタージェント 300」、「フタージェント 310」、「フタージェント 400SW」(以上、(株)ネオス製);商品名「PF−136A」、「PF−156A」、「PF−151N」、「PF−636」、「PF−6320」、「PF−656」、「PF−6520」、「PF−651」、「PF−652」、「PF−3320」(以上、北村化学産業(株)製)等の市販品を使用することができる。   As the fluorine leveling agent, commercially available fluorine leveling agents can be used. For example, trade names “OPTOOL DSX” and “OPTOOL DAC-HP” (manufactured by Daikin Industries, Ltd.); trade names “Surflon S-” 242 ”,“ Surflon S-243 ”,“ Surflon S-420 ”,“ Surflon S-611 ”,“ Surflon S-651 ”,“ Surflon S-386 ”(above, manufactured by AGC Seimi Chemical Co., Ltd.); Name “BYK-340” (BIC Chemie Japan Co., Ltd.); Trade names “AC 110a”, “AC 100a” (above, made by Algin Chemie); Trade names “Mega Fuck F-114”, “Mega Fuck F-” "410", "Megafuck F-444", "Megafuck EXP TP-2066", "Megafuck F-430", "Mega Fuck F-472SF, Mega Fuck F-477, Mega Fuck F-552, Mega Fuck F-553, Mega Fuck F-554, Mega Fuck F-555, Mega Fuck R -94 "," Megafuck RS-72-K "," Megafuck RS-75 "," Megafuck F-556 "," Megafuck EXP TF-1367 "," Megafuck EXP TF-1437 "," Mega "Fuck F-558", "Megafuck EXP TF-1537" (manufactured by DIC Corporation); product names "FC-4430", "FC-4432" (manufactured by Sumitomo 3M Corporation); “Furgent 100”, “Furgent 100C”, “Furgent 110”, “Furgent 150”, “Furgent 150C” "," Factent AK "," Factent 501 "," Factent 250 "," Factent 251 "," Factent 222F "," Factent 208G "," Factent 300 "," Factent 310 " ”,“ Factent 400SW ”(manufactured by Neos Co., Ltd.); trade names“ PF-136A ”,“ PF-156A ”,“ PF-151N ”,“ PF-636 ”,“ PF-6320 ”,“ Commercial products such as “PF-656”, “PF-6520”, “PF-651”, “PF-652”, and “PF-3320” (above, manufactured by Kitamura Chemical Industry Co., Ltd.) can be used.

上記ヒドロキシル基を有するシリコーン系レベリング剤としては、例えば、ポリオルガノシロキサン骨格(ポリジメチルシロキサン等)の主鎖又は側鎖にポリエーテル基を導入したポリエーテル変性ポリオルガノシロキサン、ポリオルガノシロキサン骨格の主鎖又は側鎖にポリエステル基を導入したポリエステル変性ポリオルガノシロキサン、(メタ)アクリル系樹脂にポリオルガノシロキサンを導入したシリコーン変性(メタ)アクリル系樹脂等を挙げることができる。これらのレベリング剤において、ヒドロキシル基は、ポリオルガノシロキサン骨格を有していてもよく、ポリエーテル基、ポリエステル基を有していてもよい。このようなレベリング剤の市販品としては、例えば、商品名「BYK−370」、「BYK−SILCLEAN3700」、「BYK−SILCLEAN3720」等を使用することができる。   Examples of the silicone-based leveling agent having a hydroxyl group include a polyether-modified polyorganosiloxane in which a polyether group is introduced into the main chain or side chain of a polyorganosiloxane skeleton (polydimethylsiloxane, etc.), and a polyorganosiloxane skeleton. Examples thereof include a polyester-modified polyorganosiloxane having a polyester group introduced into a chain or a side chain, and a silicone-modified (meth) acrylic resin having a polyorganosiloxane introduced into a (meth) acrylic resin. In these leveling agents, the hydroxyl group may have a polyorganosiloxane skeleton, or may have a polyether group or a polyester group. As a commercial product of such a leveling agent, for example, trade names “BYK-370”, “BYK-SILCLEAN3700”, “BYK-SILCLEAN3720”, and the like can be used.

上記レベリング剤の割合は、前記ポリオルガノシルセスキオキサン100重量部に対して、例えば0.01〜20重量部であり、好ましくは0.05〜15重量部であり、より好ましくは0.01〜10重量部であり、さらに好ましくは0.2〜5重量部である。レベリング剤の割合が少な過ぎると、ハードコート層の表面平滑性が低下するおそれがあり、多過ぎると、ハードコート層の表面硬度が低下するおそれがある。   The ratio of the leveling agent is, for example, 0.01 to 20 parts by weight, preferably 0.05 to 15 parts by weight, more preferably 0.01 to 100 parts by weight of the polyorganosilsesquioxane. -10 parts by weight, more preferably 0.2-5 parts by weight. If the ratio of the leveling agent is too small, the surface smoothness of the hard coat layer may be reduced, and if too high, the surface hardness of the hard coat layer may be reduced.

前記硬化性組成物は、さらに、その他任意の成分として、沈降シリカ、湿式シリカ、ヒュームドシリカ、焼成シリカ、酸化チタン、アルミナ、ガラス、石英、アルミノケイ酸、酸化鉄、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、カーボンブラック、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ホウ素等の無機質充填剤、これらの充填剤をオルガノハロシラン、オルガノアルコキシシラン、オルガノシラザン等の有機ケイ素化合物により処理した無機質充填剤;シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フッ素樹脂等の有機樹脂微粉末;銀、銅等の導電性金属粉末等の充填剤、硬化助剤、溶剤(有機溶剤等)、安定化剤(酸化防止剤、紫外線吸収剤、耐光安定剤、熱安定化剤、重金属不活性化剤など)、難燃剤(リン系難燃剤、ハロゲン系難燃剤、無機系難燃剤など)、難燃助剤、補強材(他の充填剤など)、核剤、カップリング剤(シランカップリング剤等)、滑剤、ワックス、可塑剤、離型剤、耐衝撃改良剤、色相改良剤、透明化剤、レオロジー調整剤(流動性改良剤など)、加工性改良剤、着色剤(染料、顔料など)、帯電防止剤、分散剤、消泡剤、ワキ防止剤、表面改質剤(スリップ剤など)、艶消し剤、消泡剤、抑泡剤、脱泡剤、抗菌剤、防腐剤、粘度調整剤、増粘剤、光増感剤、発泡剤などの慣用の添加剤を含んでいてもよい。これらの添加剤は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用できる。   The curable composition further includes precipitated silica, wet silica, fumed silica, calcined silica, titanium oxide, alumina, glass, quartz, aluminosilicate, iron oxide, zinc oxide, calcium carbonate, carbon as other optional components. Inorganic fillers such as black, silicon carbide, silicon nitride, boron nitride, etc., inorganic fillers obtained by treating these fillers with organosilicon compounds such as organohalosilanes, organoalkoxysilanes, organosilazanes; silicone resins, epoxy resins, fluorine Organic resin fine powders such as resins; fillers such as conductive metal powders such as silver and copper, curing aids, solvents (organic solvents, etc.), stabilizers (antioxidants, UV absorbers, light stabilizers, heat Stabilizers, heavy metal deactivators, etc.), flame retardants (phosphorous flame retardants, halogen flame retardants, inorganic flame retardants, etc.), flame retardant aids Reinforcing materials (other fillers, etc.), nucleating agents, coupling agents (silane coupling agents, etc.), lubricants, waxes, plasticizers, mold release agents, impact modifiers, hue improvers, clearing agents, rheology adjustment Agents (fluidity improvers, etc.), processability improvers, colorants (dyes, pigments, etc.), antistatic agents, dispersants, antifoaming agents, anti-waxing agents, surface modifiers (slip agents, etc.), matte Conventional additives such as an agent, an antifoaming agent, an antifoaming agent, a defoaming agent, an antibacterial agent, an antiseptic, a viscosity modifier, a thickener, a photosensitizer, and a foaming agent may be included. These additives can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

前記硬化性組成物は、特に限定されないが、上記の各成分を室温で又は必要に応じて加熱しながら攪拌・混合することにより調製することができる。なお、硬化性組成物は、各成分があらかじめ混合されたものをそのまま使用する1液系の組成物として使用することもできるし、例えば、別々に保管しておいた2以上の成分を使用前に所定の割合で混合して使用する多液系(例えば、2液系)の組成物として使用することもできる。   Although the said curable composition is not specifically limited, It can prepare by stirring and mixing each said component, heating at room temperature or as needed. The curable composition can also be used as a one-component composition in which components are mixed in advance, for example, two or more components stored separately before use. It can also be used as a multi-component (for example, two-component) composition used by mixing at a predetermined ratio.

前記硬化性組成物は、特に限定されないが、常温(約25℃)で液体であることが好ましい。より具体的には、前記硬化性組成物は、溶媒20%に希釈した液[特に、メチルイソブチルケトンの割合が20重量%である硬化性組成物(溶液)]の25℃における粘度として、300〜20000mPa・sが好ましく、より好ましくは500〜10000mPa・s、さらに好ましくは1000〜8000mPa・sである。上記粘度を300mPa・s以上とすることにより、ハードコート層の耐熱性がより向上する傾向がある。一方、上記粘度を20000mPa・s以下とすることにより、硬化性組成物の調製や取り扱いが容易となり、また、ハードコート層中に気泡が残存しにくくなる傾向がある。なお、硬化性組成物の粘度は、粘度計(商品名「MCR301」、アントンパール社製)を用いて、振り角5%、周波数0.1〜100(1/s)、温度:25℃の条件で測定される。   Although the said curable composition is not specifically limited, It is preferable that it is a liquid at normal temperature (about 25 degreeC). More specifically, the curable composition has a viscosity at 300C of a liquid diluted to 20% of a solvent [particularly, a curable composition (solution) in which the proportion of methyl isobutyl ketone is 20% by weight]. To 20000 mPa · s, more preferably 500 to 10000 mPa · s, and still more preferably 1000 to 8000 mPa · s. There exists a tendency for the heat resistance of a hard-coat layer to improve more by making the said viscosity into 300 mPa * s or more. On the other hand, when the viscosity is 20000 mPa · s or less, preparation and handling of the curable composition are facilitated, and bubbles tend not to remain in the hard coat layer. In addition, the viscosity of the curable composition was measured using a viscometer (trade name “MCR301”, manufactured by Anton Paar Co., Ltd.) with a swing angle of 5%, a frequency of 0.1 to 100 (1 / s), and a temperature of 25 ° C. Measured at conditions.

(ハードコート層)
本発明におけるハードコート層は、前記硬化性組成物に含まれるカチオン硬化性化合物(ポリオルガノシルセスキオキサン等)の重合反応を進行させて、硬化させることにより得ることができる。
(Hard coat layer)
The hard coat layer in the present invention can be obtained by causing a polymerization reaction of a cationic curable compound (such as polyorganosilsesquioxane) contained in the curable composition to proceed and curing.

ハードコート層のリコート性をより向上させるために、ハードコート層の表面にコロナ放電照射により表面を改質させるコロナ放電処理、プラズマ放電処理、オゾン暴露処理、エキシマ処理等の表面処理をすることが好ましい。なかでも容易にリコート性を向上させることができる点よりコロナ放電処理がより好ましい。   In order to further improve the recoatability of the hard coat layer, the surface of the hard coat layer may be subjected to surface treatment such as corona discharge treatment, plasma discharge treatment, ozone exposure treatment, excimer treatment for modifying the surface by corona discharge irradiation. preferable. Among these, corona discharge treatment is more preferable from the viewpoint that the recoatability can be easily improved.

コロナ放電処理は、尖った電極(針電極)の周りに不均一な電界を生じさせ、持続的な放電を発生させることでハードコート層表面を加工する処理である。プラズマ放電処理は、大気中で放電することによって活性化したプラスとマイナスの帯電粒子を発生させてハードコート層表面を加工する処理である。オゾン暴露処理は、例えば、酸素存在下で低圧水銀ランプ等を用いた紫外線照射によってオゾンを発生させてハードコート層表面を加工する処理である。エキシマ処理は、真空状態でエキシマランプを用いた紫外線照射やレーザー照射によってハードコート層表面を加工する処理である。   The corona discharge treatment is a treatment for processing the surface of the hard coat layer by generating a non-uniform electric field around a sharp electrode (needle electrode) and generating a continuous discharge. The plasma discharge treatment is a treatment for processing the surface of the hard coat layer by generating positive and negative charged particles activated by discharging in the atmosphere. The ozone exposure treatment is, for example, a treatment for processing the surface of the hard coat layer by generating ozone by ultraviolet irradiation using a low-pressure mercury lamp or the like in the presence of oxygen. The excimer process is a process for processing the hard coat layer surface by ultraviolet irradiation or laser irradiation using an excimer lamp in a vacuum state.

ハードコート層上に設けることができる機能層としては、例えば、耐擦傷性、耐摩耗性、防汚性(耐汚染性)、防指紋性、反射防止性(低反射性)等の機能を有する層が挙げられる。機能層は、携帯電話やスマートフォンなどの表示装置におけるハードコート層において用いられる上記で挙げた機能を有する一般的な公知乃至慣用の機能層である。機能層を構成する材料としては、例えば、アクリル系材料、フッ素系材料、シリコーン系材料が挙げられる。ハードコート層上に機能層を設ける方法としては、後記のハードコートフィルムと同様の塗布による方法、蒸着やスパッタリングなどによる方法が挙げられる。   The functional layer that can be provided on the hard coat layer has, for example, functions such as scratch resistance, abrasion resistance, antifouling property (contamination resistance), anti-fingerprint property, and antireflection property (low reflection property). Layer. The functional layer is a general known or commonly used functional layer having the above-described functions used in a hard coat layer in a display device such as a mobile phone or a smartphone. Examples of the material constituting the functional layer include acrylic materials, fluorine materials, and silicone materials. Examples of the method for providing the functional layer on the hard coat layer include a method by coating similar to the hard coat film described later, and a method by vapor deposition and sputtering.

前記ハードコート層の厚みは、表面硬度と耐擦傷性の観点から、例えば1〜100μm、好ましくは2〜80μm、より好ましくは3〜60μm、さらに好ましくは5〜50μmである。   From the viewpoint of surface hardness and scratch resistance, the thickness of the hard coat layer is, for example, 1 to 100 μm, preferably 2 to 80 μm, more preferably 3 to 60 μm, and further preferably 5 to 50 μm.

(基材)
本発明における基材としては、プラスチック基材、金属基材、セラミックス基材、半導体基材、ガラス基材、紙基材、木基材(木製基材)、表面が塗装表面である基材等の公知乃至慣用の基材を用いることができ、特に限定されない。中でも、プラスチック基材が好ましい。前記基材は、単層の構成を有していてもよいし、多層(積層)の構成を有していてもよく、その構成(構造)は特に限定されない。
(Base material)
As a base material in the present invention, a plastic base material, a metal base material, a ceramic base material, a semiconductor base material, a glass base material, a paper base material, a wood base material (wood base material), a base material whose surface is a painted surface, etc. The well-known thru | or usual base material can be used, and it does not specifically limit. Among these, a plastic substrate is preferable. The base material may have a single layer configuration or a multilayer (lamination) configuration, and the configuration (structure) is not particularly limited.

上記プラスチック基材を構成するプラスチック材料は、特に限定されないが、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル;ポリイミド;ポリカーボネート;ポリアミド;ポリアセタール;ポリフェニレンオキサイド;ポリフェニレンサルファイド;ポリエーテルスルホン;ポリエーテルエーテルケトン;ノルボルネン系モノマーの単独重合体(付加重合体や開環重合体等)、ノルボルネンとエチレンの共重合体等のノルボルネン系モノマーとオレフィン系モノマーの共重合体(付加重合体や開環重合体等の環状オレフィンコポリマー等)、これらの誘導体等の環状ポリオレフィン;ビニル系重合体(例えば、ポリメチルメタクリレート(PMMA)等のアクリル樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、アクリロニトリル−スチレン−ブタジエン樹脂(ABS樹脂)等);ビニリデン系重合体(例えば、ポリ塩化ビニリデン等);トリアセチルセルロース(TAC)等のセルロース系樹脂;エポキシ樹脂;フェノール樹脂;メラミン樹脂;ユリア樹脂;マレイミド樹脂;シリコーン等の各種プラスチック材料が挙げられる。なお、上記プラスチック基材は、1種のみのプラスチック材料により構成されたものであってもよいし、2種以上のプラスチック材料により構成されたものであってもよい。   Although the plastic material which comprises the said plastic base material is not specifically limited, Polyester, such as a polyethylene terephthalate (PET) and a polyethylene naphthalate (PEN); Polyimide; Polycarbonate; Polyamide; Polyacetal; Polyphenylene oxide; Polyphenylene sulfide; Polyethersulfone; Polyetheretherketone: Homopolymers of norbornene monomers (addition polymers and ring-opening polymers, etc.), norbornene monomers such as norbornene and ethylene copolymers, and copolymers of olefin monomers (addition polymers and open polymers). Cyclic olefin copolymers such as ring polymers), cyclic polyolefins such as derivatives thereof; vinyl polymers (for example, acrylic resins such as polymethyl methacrylate (PMMA), polystyrene, polyester Vinyl chloride, acrylonitrile-styrene-butadiene resin (ABS resin, etc.); vinylidene polymer (eg, polyvinylidene chloride, etc.); cellulose resin, such as triacetyl cellulose (TAC); epoxy resin; phenol resin; melamine resin; Examples include urea resins; maleimide resins; and various plastic materials such as silicone. The plastic substrate may be composed of only one kind of plastic material or may be composed of two or more kinds of plastic materials.

中でも、上記プラスチック基材としては、透明性に優れたハードコートフィルムを得ることを目的とする場合には、透明性に優れた基材(透明基材)を用いることが好ましく、より好ましくはポリエステルフィルム(特に、PET、PEN)、環状ポリオレフィンフィルム、ポリカーボネートフィルム、TACフィルム、PMMAフィルムである。   Among these, as the plastic substrate, when it is intended to obtain a hard coat film excellent in transparency, it is preferable to use a substrate excellent in transparency (transparent substrate), more preferably polyester. A film (especially PET, PEN), a cyclic polyolefin film, a polycarbonate film, a TAC film, and a PMMA film.

前記基材(特に、プラスチック基材)は、必要に応じて、酸化防止剤、紫外線吸収剤、耐光安定剤、熱安定剤、結晶核剤、難燃剤、難燃助剤、充填剤、可塑剤、耐衝撃性改良剤、補強剤、分散剤、帯電防止剤、発泡剤、抗菌剤等のその他の添加剤を含んでいてもよい。なお、添加剤は1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。   The base material (particularly, plastic base material) may be an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light-resistant stabilizer, a heat stabilizer, a crystal nucleating agent, a flame retardant, a flame retardant aid, a filler, or a plasticizer, if necessary. , Other additives such as impact resistance improvers, reinforcing agents, dispersants, antistatic agents, foaming agents, antibacterial agents and the like may be included. In addition, an additive can also be used individually by 1 type and can also be used in combination of 2 or more type.

前記基材(特に、プラスチック基材)の表面の一部又は全部には、粗化処理、易接着処理、静電気防止処理、サンドブラスト処理(サンドマット処理)、コロナ放電処理、プラズマ処理、ケミカルエッチング処理、ウォーターマット処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理、酸化処理、紫外線照射処理、シランカップリング剤処理等の公知乃至慣用の表面処理が施されていてもよい。なお、上記プラスチック基材は、未延伸フィルムであってもよいし、延伸フィルム(一軸延伸フィルム、二軸延伸フィルム等)であってもよい。なお、基材としては、市販品を使用することもできる。   Roughening treatment, easy adhesion treatment, antistatic treatment, sand blast treatment (sand mat treatment), corona discharge treatment, plasma treatment, chemical etching treatment are performed on part or all of the surface of the substrate (particularly plastic substrate). Further, known or conventional surface treatments such as water mat treatment, flame treatment, acid treatment, alkali treatment, oxidation treatment, ultraviolet irradiation treatment, silane coupling agent treatment, etc. may be applied. The plastic substrate may be an unstretched film or a stretched film (uniaxially stretched film, biaxially stretched film, etc.). In addition, a commercial item can also be used as a base material.

前記基材の厚みは、例えば、1〜1000μm程度、好ましくは5〜500μmである。   The thickness of the base material is, for example, about 1 to 1000 μm, preferably 5 to 500 μm.

(粘着層)
前記粘着層を構成する粘着剤としては、例えば、アクリル系粘着剤、シリコン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、天然ゴム系粘着剤、合成ゴム系粘着剤、エチレン−酢酸ビニル共重合体系粘着剤、エチレン−(メタ)アクリル酸エステル共重合体系粘着剤、スチレン−イソプレンブロック共重合体系粘着剤、スチレン−ブタジエンブロック共重合体系粘着剤等が挙げられる。上記粘着剤中には、各種の添加剤(例えば、帯電防止剤、スリップ剤等)や溶剤が含まれていてもよい。なかでも透明性が良く、薄くても十分な粘着力が得られる点で、アクリル系粘着剤、シリコン系粘着剤、ウレタン系粘着剤が好ましく、アクリル系粘着剤が特に好ましい。なお、上記粘着剤は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。
(Adhesive layer)
Examples of the pressure-sensitive adhesive constituting the pressure-sensitive adhesive layer include acrylic pressure-sensitive adhesives, silicon-based pressure-sensitive adhesives, urethane-based pressure-sensitive adhesives, natural rubber-based pressure-sensitive adhesives, synthetic rubber-based pressure-sensitive adhesives, ethylene-vinyl acetate copolymer-based pressure-sensitive adhesives, Examples thereof include an ethylene- (meth) acrylic ester copolymer-based adhesive, a styrene-isoprene block copolymer-based adhesive, and a styrene-butadiene block copolymer-based adhesive. The pressure-sensitive adhesive may contain various additives (for example, an antistatic agent and a slip agent) and a solvent. Among them, an acrylic pressure-sensitive adhesive, a silicon pressure-sensitive adhesive, and a urethane pressure-sensitive adhesive are preferable, and an acrylic pressure-sensitive adhesive is particularly preferable in that transparency is good and sufficient adhesive strength can be obtained even when it is thin. In addition, the said adhesive can also be used individually by 1 type, and can also be used in combination of 2 or more type.

前記粘着層を構成する粘着剤として、市販のOCA(Optical Clear Adhesive)フィルム(透明光学粘着フィルム)の粘着剤を用いてもよい。市販のOCAフィルムとしては、例えば、LUCIACS(登録商標) CS986シリーズ(型番「CS9861US」、「CS9862UA」、「CS9863UA」、「CS9864UA」、日東電工(株)社製)が挙げられる。   As the adhesive constituting the adhesive layer, a commercially available OCA (Optical Clear Adhesive) film (transparent optical adhesive film) adhesive may be used. Examples of the commercially available OCA film include LUCIACS (registered trademark) CS986 series (model numbers “CS9861US”, “CS9862UA”, “CS9863UA”, “CS9864UA”, manufactured by Nitto Denko Corporation).

前記粘着層の厚みは、曲面ディスプレイに固定できるだけの粘着性を有している限り特に制限されないが、例えば0.1〜50μm、好ましくは1〜45μm、より好ましくは2〜40μm、さらに好ましくは5〜35μmである。   The thickness of the adhesive layer is not particularly limited as long as it has sufficient adhesiveness to be fixed to a curved display, but is, for example, 0.1 to 50 μm, preferably 1 to 45 μm, more preferably 2 to 40 μm, and still more preferably 5 ˜35 μm.

[曲面ディスプレイ用ハードコートフィルム]
本発明の曲面ディスプレイ用ハードコートフィルムにおける曲面ディスプレイとは、その少なくとも一部に曲面形状を有するという意味であり、その全面が曲面形状となっていてもよく、また、曲面は表面に向かって凸形状に湾曲しても凹形状に湾曲してもよく、その曲面形状については特に制限されない。しかし、本発明においては、特にR(半径)が小さい曲面形状であることが、本発明の効果を得る上で好ましい。曲面のR(半径)としては、例えば100mm以下、好ましくは50mm以下、より好ましくは30mm以下、さらに好ましくは10mm以下である。
[Hard coat film for curved display]
The curved display in the hard coat film for curved display of the present invention means that at least a part thereof has a curved shape, the entire surface thereof may be a curved shape, and the curved surface is convex toward the surface. It may be curved into a shape or a concave shape, and the curved surface shape is not particularly limited. However, in the present invention, a curved surface shape having a particularly small R (radius) is preferable for obtaining the effects of the present invention. The R (radius) of the curved surface is, for example, 100 mm or less, preferably 50 mm or less, more preferably 30 mm or less, and still more preferably 10 mm or less.

本発明のハードコートフィルムの厚みは、例えば10〜1000μm、好ましくは15〜800μm、より好ましくは20〜700μm、さらに好ましくは30〜500μmである。   The thickness of the hard coat film of the present invention is, for example, 10 to 1000 μm, preferably 15 to 800 μm, more preferably 20 to 700 μm, and still more preferably 30 to 500 μm.

本発明のハードコートフィルムのハードコート層表面の鉛筆硬度は、例えばH以上、好ましくは2H以上、より好ましくは3H以上、さらに好ましくは4H以上、最も好ましくは6H以上である。なお、鉛筆硬度は、JIS K5600−5−4に記載の方法に準じて評価することができる。   The pencil hardness of the hard coat layer surface of the hard coat film of the present invention is, for example, H or more, preferably 2H or more, more preferably 3H or more, further preferably 4H or more, and most preferably 6H or more. The pencil hardness can be evaluated according to the method described in JIS K5600-5-4.

本発明のハードコートフィルムのハードコート層表面の耐擦傷性は、例えば、1kg/cm2の荷重をかけてスチールウール♯0000で表面を100回往復摺動しても(擦っても)目立った傷が付かない。 The scratch resistance of the hard coat layer surface of the hard coat film of the present invention was conspicuous even when the surface was reciprocated 100 times with steel wool # 0000 (rubbed) with a load of 1 kg / cm 2 . Not scratched.

本発明のハードコートフィルムは、ハードコート層表面の平滑性にも優れており、算術平均粗さRaが、JIS B0601に準拠した方法において、例えば0.1〜20nm、好ましくは0.1〜10nm、より好ましくは0.1〜5nmである。 The hard coat film of the present invention is also excellent in the smoothness of the hard coat layer surface, and the arithmetic average roughness Ra is, for example, 0.1 to 20 nm, preferably 0.1 to 0.1 nm in a method based on JIS B0601. The thickness is 10 nm, more preferably 0.1 to 5 nm.

本発明のハードコートフィルムは、ハードコート層表面の滑り性(防汚性)にも優れており、表面の水接触角が、例えば60°以上(例えば、60〜110°)であり、好ましくは70〜110°であり、より好ましくは80〜110°である。水接触角60°以上であると、滑り性(防汚性)に優れ、耐擦傷性にも優れる。   The hard coat film of the present invention is also excellent in the slip property (antifouling property) of the hard coat layer surface, and the water contact angle of the surface is, for example, 60 ° or more (for example, 60 to 110 °), preferably It is 70-110 degrees, More preferably, it is 80-110 degrees. When the water contact angle is 60 ° or more, the sliding property (antifouling property) is excellent and the scratch resistance is also excellent.

本発明のハードコートフィルムのヘイズは、特に限定されないが、1.5%以下が好ましく、より好ましくは1.0%以下である。なお、ヘイズの下限は、例えば0.1%である。ヘイズを特に1.0%以下とすることにより、例えば、非常に高い透明性が要求される用途(例えば、タッチパネル等のディスプレイの表面保護シート等)への使用に適する傾向がある。本発明のハードコートフィルムのヘイズは、例えば、基材として上述の透明基材を使用することによって容易に上記範囲に制御することができる。なお、ヘイズは、JIS K7136に準拠して測定することができる。   The haze of the hard coat film of the present invention is not particularly limited, but is preferably 1.5% or less, more preferably 1.0% or less. In addition, the minimum of haze is 0.1%, for example. By setting the haze to 1.0% or less, for example, the haze tends to be suitable for use in applications that require very high transparency (for example, surface protection sheets for displays such as touch panels). The haze of the hard coat film of the present invention can be easily controlled within the above range by using, for example, the above-mentioned transparent substrate as a substrate. The haze can be measured according to JIS K7136.

本発明のハードコートフィルムの全光線透過率は、特に限定されないが、85%以上が好ましく、より好ましくは90%以上である。なお、全光線透過率の上限は、特に限定されないが、例えば、99%である。全光線透過率を特に90%以上とすることにより、例えば、非常に高い透明性が要求される用途(例えば、タッチパネル等のディスプレイの表面保護シート等)への使用に適する傾向がある。本発明のハードコートフィルムの全光線透過率は、例えば、基材として上述の透明基材を使用することによって容易に上記範囲に制御することができる。なお、全光線透過率は、JIS K7361−1に準拠して測定することができる。   Although the total light transmittance of the hard coat film of this invention is not specifically limited, 85% or more is preferable, More preferably, it is 90% or more. The upper limit of the total light transmittance is not particularly limited, but is 99%, for example. By setting the total light transmittance to 90% or more in particular, for example, there is a tendency to be suitable for use in applications that require very high transparency (for example, surface protection sheets for displays such as touch panels). The total light transmittance of the hard coat film of the present invention can be easily controlled within the above range by using, for example, the above-mentioned transparent substrate as the substrate. The total light transmittance can be measured according to JIS K7361-1.

本発明のハードコートフィルムは、ハードコート層、基材層、及び粘着剤層以外の層、例えばアンカー層、反射防止層、防汚層、撥水層、撥油層、防曇層、保護フィルム層、印刷層、導電層、電磁波シールド層、紫外線吸収層、赤外線吸収層、ブルーライトカット層等を有していてもよい。また、ハードコート層は、ハードコートフィルムの一部のみに形成されていてもよいし、全面に形成されていてもよい。本発明のハードコートフィルムは、ハードコート層の表面を保護し、打ち抜き加工をし易くする目的で、表面保護フィルムを使用してもよい。表面保護フィルムとしては、公知乃至慣用の表面保護フィルムを使用することができる。   The hard coat film of the present invention is a layer other than the hard coat layer, the base material layer, and the adhesive layer, such as an anchor layer, an antireflection layer, an antifouling layer, a water repellent layer, an oil repellent layer, an antifogging layer, and a protective film layer. , A printing layer, a conductive layer, an electromagnetic wave shielding layer, an ultraviolet absorbing layer, an infrared absorbing layer, a blue light cut layer, and the like. Moreover, the hard coat layer may be formed only on a part of the hard coat film, or may be formed on the entire surface. The hard coat film of the present invention may use a surface protective film for the purpose of protecting the surface of the hard coat layer and facilitating punching. As the surface protective film, a known or commonly used surface protective film can be used.

本発明の曲面ディスプレイ用ハードコートフィルムにおけるディスプレイとしては、特に制限されないが、スマートフォン、タブレット端末、腕時計型端末(スマートウオッチ)、携帯ゲーム機、カーナビゲーションシステム、ノートパソコン、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイなどの装置(ディスプレイ装置)に備えられるディスプレイが挙げられる。   The display in the hard coat film for curved display according to the present invention is not particularly limited, but includes a smartphone, a tablet terminal, a wristwatch type terminal (smart watch), a portable game machine, a car navigation system, a notebook computer, a liquid crystal display, an organic EL display, and the like. The display with which the apparatus (display apparatus) is equipped is mentioned.

(曲面ディスプレイ用ハードコートフィルムの製造方法)
本発明のハードコートフィルムは、公知乃至慣用のハードコートフィルムの製造方法に準じて製造することができ、その製造方法は特に限定されないが、基材の一方の面に前記硬化性組成物を塗布し、硬化性組成物を硬化させることによりハードコート層を形成させ、基材の他方の面側に前記粘着剤を塗布して粘着層を形成させることにより製造できる。
(Method for producing hard coat film for curved display)
The hard coat film of the present invention can be produced according to a known or commonly used method for producing a hard coat film, and the production method is not particularly limited, but the curable composition is applied to one surface of a substrate. And it can manufacture by forming a hard-coat layer by hardening a curable composition, apply | coating the said adhesive to the other surface side of a base material, and forming an adhesive layer.

前記ハードコート層における硬化の方法は、周知の方法より適宜選択でき、例えば、活性エネルギー線の照射、及び/又は、加熱する方法が挙げられる。上記活性エネルギー線としては、例えば、赤外線、可視光線、紫外線、X線、電子線、α線、β線、γ線等のいずれを使用することもできる。中でも、取り扱い性に優れる点で、紫外線が好ましい。   The curing method in the hard coat layer can be appropriately selected from known methods, and examples thereof include irradiation with active energy rays and / or heating. As the active energy ray, for example, any of infrared rays, visible rays, ultraviolet rays, X-rays, electron beams, α rays, β rays, γ rays and the like can be used. Among these, ultraviolet rays are preferable in terms of excellent handleability.

前記ハードコート層における活性エネルギー線の照射による硬化の条件は、照射する活性エネルギー線の種類やエネルギー、ハードコート層の形状やサイズ等に応じて適宜調整することができ、特に限定されないが、紫外線を照射する場合には、例えば1〜1000mJ/cm2程度とすることが好ましい。なお、活性エネルギー線の照射には、例えば、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、カーボンアーク、メタルハライドランプ、太陽光、LEDランプ、レーザー等を使用することができる。活性エネルギー線の照射後には、さらに加熱処理(アニール、エージング)を施してさらに硬化反応を進行させることができる。 Conditions for curing by irradiation with active energy rays in the hard coat layer can be appropriately adjusted according to the type and energy of the active energy rays to be irradiated, the shape and size of the hard coat layer, and are not particularly limited. In the case of irradiating, for example, it is preferably about 1 to 1000 mJ / cm 2 . For irradiation with active energy rays, for example, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a xenon lamp, a carbon arc, a metal halide lamp, sunlight, an LED lamp, a laser, or the like can be used. After the irradiation with the active energy ray, a heating treatment (annealing and aging) can be further performed to further advance the curing reaction.

前記ハードコート層における加熱による硬化の条件は、特に限定されないが、例えば、30〜200℃が好ましく、より好ましくは50〜190℃である。硬化時間は適宜設定可能である。   Although the conditions for curing by heating in the hard coat layer are not particularly limited, for example, 30 to 200 ° C is preferable, and 50 to 190 ° C is more preferable. The curing time can be appropriately set.

本発明のハードコートフィルムは、可撓性及び加工性に優れたハードコート層から構成されるため、ロールトゥロール方式での製造が可能である。本発明のハードコートフィルムをロールトゥロール方式で製造することにより、その生産性を著しく高めることが可能である。本発明のハードコートフィルムをロールトゥロール方式で製造する方法としては、公知乃至慣用のロールトゥロール方式の製造方法を採用することができ、特に限定されないが、ロール状に巻いた基材を繰り出す工程(工程A)と、繰り出した基材の少なくとも一方の表面に硬化性組成物を塗布し、次いで、必要に応じて溶剤を乾燥によって除去した後、該硬化性組成物を硬化させることによりハードコート層を形成する工程(工程B)と、その後、得られた積層物を再びロールに巻き取る工程(工程C)とを必須の工程として含み、これら工程(工程A〜C)を連続的に実施する方法等が挙げられる。なお、当該方法は、工程A〜C以外の工程を含んでいてもよい。   Since the hard coat film of the present invention is composed of a hard coat layer excellent in flexibility and processability, it can be produced by a roll-to-roll method. By producing the hard coat film of the present invention by a roll-to-roll method, the productivity can be remarkably increased. As a method for producing the hard coat film of the present invention by a roll-to-roll method, a known or conventional roll-to-roll method can be adopted, and the method is not particularly limited. Applying the curable composition to at least one surface of the step (step A) and the substrate that has been fed out, and then removing the solvent by drying as necessary, followed by curing the curable composition The process (process B) which forms a coat layer, and the process (process C) which winds up the obtained laminated product on a roll again is included as an essential process, and these processes (process AC) are continuously here. The method etc. to implement are mentioned. In addition, the said method may include processes other than process AC.

本発明のハードコートフィルムにおける粘着層も上記ハードコート層と同様の方法で設けることができる。例えば、粘着層は、基材のハードコート層と他方の面側に粘着剤組成物を塗布して、必要に応じて溶剤を乾燥によって除去、及び/又は粘着剤組成物を硬化させることにより設けることができる。また、前記粘着層は、上記塗布以外の方法以外に、別途用意した粘着層(例えば、上述の市販のOCAフィルムの粘着剤)を基材のハードコート層と他方の面側に貼着させることで設けてもよい。   The pressure-sensitive adhesive layer in the hard coat film of the present invention can also be provided by the same method as the hard coat layer. For example, the pressure-sensitive adhesive layer is provided by applying the pressure-sensitive adhesive composition to the hard coat layer and the other surface side of the substrate, and removing the solvent by drying and / or curing the pressure-sensitive adhesive composition as necessary. be able to. In addition to the method other than the above application, the adhesive layer is prepared by attaching a separately prepared adhesive layer (for example, the above-mentioned commercially available OCA film adhesive) to the hard coat layer of the substrate and the other surface side. May be provided.

[ハードコートフィルム付き透明基板]
本発明のハードコートフィルム付き透明基板は、前記曲面ディスプレイ用ハードコートフィルムと、前記曲面ディスプレイ用ハードコートフィルムの粘着層側の面に貼着された、曲面を有する透明基板とを少なくとも含む。本発明のハードコートフィルム付き透明基板の好ましい態様の一例である断面模式図(ハードコート層4/基材5/粘着層6/透明基板7)を図2に示す。曲面を有する透明基板は、平面である透明基板よりも外部からの衝撃などで割れやすく、ガラスが飛散しやすい。本発明のハードコートフィルム付き透明基板は、前記曲面ディスプレイ用ハードコートフィルムが貼着されているため、割れにくく、また、割れたときの飛散を防ぐことができる。
[Transparent substrate with hard coat film]
The transparent substrate with a hard coat film of the present invention includes at least the hard coat film for curved display and the transparent substrate having a curved surface attached to the surface on the adhesive layer side of the hard coat film for curved display. FIG. 2 shows a schematic cross-sectional view (hard coat layer 4 / base material 5 / adhesive layer 6 / transparent substrate 7) as an example of a preferred embodiment of the transparent substrate with a hard coat film of the present invention. A transparent substrate having a curved surface is more likely to be broken by an external impact or the like than a flat transparent substrate, and glass is likely to be scattered. The transparent substrate with a hard coat film of the present invention is hard to break because the hard coat film for curved display is adhered, and can prevent scattering when broken.

前記透明基板は、少なくとも一部に曲面を有するものであり、その全面が曲面形状となっていてもよく、また、曲面は表面に向かって凸形状に湾曲しても凹形状に湾曲してもよく、その曲面形状については特に制限されない。また、前記透明基板は、通常のディスプレイ用途で使用される程度の透明性(例えば、全光線透過率が90%以上)を有していればよい。なお、前記透明基板は、ディスプレイがタッチパネル付きのディスプレイであり、且つガラス材料である場合、カバーガラスとも呼ばれる。   The transparent substrate has a curved surface at least partially, and the entire surface thereof may have a curved surface shape, and the curved surface may be curved in a convex shape or a concave shape toward the surface. Well, the curved surface shape is not particularly limited. Moreover, the said transparent substrate should just have transparency (for example, total light transmittance is 90% or more) of the grade used for a normal display use. In addition, the said transparent substrate is also called a cover glass, when a display is a display with a touch panel and it is a glass material.

前記透明基板を構成する材料としては、通常のディスプレイ用途で使用されるものであればよく、ガラスや樹脂が挙げられる。前記ガラスとしては、ソーダガラス、耐熱ガラス、強化ガラスなどが挙げられる。前記樹脂としては、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)、ポリカーボネート(PC)、ポリエーテルスルホン(PES)、環状オレフィン、ポリイミド(PI)、ポリアミド(PA)などが挙げられる。本発明のハードコートフィルムの可撓性に優れた効果が得られやすい点から、透明基板を構成する材料はガラスであることが好ましい。なお、現在では透明基板として、一般的にガラスが多く用いられている。   As a material which comprises the said transparent substrate, what is necessary is just used by the normal display use, Glass and resin are mentioned. Examples of the glass include soda glass, heat resistant glass, and tempered glass. Examples of the resin include polymethyl methacrylate (PMMA), polycarbonate (PC), polyethersulfone (PES), cyclic olefin, polyimide (PI), and polyamide (PA). It is preferable that the material which comprises a transparent substrate is glass from the point which is easy to acquire the effect excellent in the flexibility of the hard coat film of this invention. At present, glass is generally used as a transparent substrate.

前記透明基板の厚みは、例えば、10〜1000μm程度、好ましくは20〜500μmである。なお、曲面を有する透明基板の曲面のR(半径)は、上記の曲面ディスプレイ用ハードコートフィルムで述べた曲面のRと同様である。   The thickness of the transparent substrate is, for example, about 10 to 1000 μm, preferably 20 to 500 μm. In addition, the R (radius) of the curved surface of the transparent substrate having the curved surface is the same as the R of the curved surface described in the hard coat film for curved display described above.

ハードコートフィルム付き透明基板は、曲面を有する透明基板上に前記ハードコートフィルムの粘着層側を貼着することにより得ることができる。前記の貼着方法は、特に制限されないが、気泡が入らないように、ハードコートフィルムに適度に圧力をかけながらハードコートフィルムと透明基板を密着させる方法が挙げられる。ハードコートフィルム付き透明基板は、本発明のハードコートフィルムを用いていることから、可撓性及び加工性に優れており、透明基板の曲面形状におけるR(半径)が小さい場合であっても、容易に曲げて追従することができる。   The transparent substrate with a hard coat film can be obtained by sticking the adhesive layer side of the hard coat film on a transparent substrate having a curved surface. Although the said sticking method is not restrict | limited in particular, The method of sticking a hard-coat film and a transparent substrate is mentioned, applying moderate pressure to a hard-coat film so that a bubble may not enter. Since the transparent substrate with a hard coat film uses the hard coat film of the present invention, it is excellent in flexibility and workability, and even when R (radius) in the curved shape of the transparent substrate is small, It can be easily bent and followed.

[ディスプレイ装置]
本発明のディスプレイ装置は、前記曲面ディスプレイ用ハードコートフィルムと、前記透明基板と、ディスプレイパネル構成部材とを少なくとも備える。本発明のディスプレイ装置の好ましい態様の一例である断面模式図(ハードコート層4/基材5/粘着層6/透明基板7/ディスプレイパネル構成部材8)を図3に示す。本発明のディスプレイ装置は、スマートフォン、タブレット端末、携帯ゲーム機などのタッチパネル付きデバイスである場合、ディスプレイパネル構成部材以外にタッチパネル構成部材を有していてもよく、ディスプレイパネル構成部材とタッチパネル構成部材が一体となっていてもよい。また、これらの構成部材間に粘着層、中間層、下塗り層などのその他の層を有していてもよい。
[Display device]
The display device of the present invention comprises at least the hard coat film for curved display, the transparent substrate, and a display panel constituent member. FIG. 3 shows a cross-sectional schematic diagram (hard coat layer 4 / base material 5 / adhesive layer 6 / transparent substrate 7 / display panel constituent member 8) which is an example of a preferred embodiment of the display device of the present invention. When the display device of the present invention is a device with a touch panel such as a smartphone, a tablet terminal, or a portable game machine, the display device may have a touch panel constituent member in addition to the display panel constituent member. It may be integrated. Moreover, you may have other layers, such as an adhesion layer, an intermediate | middle layer, and undercoat, between these structural members.

前記ディスプレイパネル構成部材は、一般的な液晶ディスプレイや有機ELディスプレイなどを構成する部材である。前記ディスプレイパネル構成部材は、液晶ディスプレイである場合、例えば、偏光板、カラーフィルター、配向膜、液晶層、透明電極、アレイ基板、導光板、光源などが挙げられる。また、前記タッチパネル構成部材は、一般的なタッチパネルの構成部材であり、ITO層、配線層、タッチセンサー層などが挙げられる。   The display panel constituent member is a member constituting a general liquid crystal display, an organic EL display, or the like. When the display panel constituent member is a liquid crystal display, examples thereof include a polarizing plate, a color filter, an alignment film, a liquid crystal layer, a transparent electrode, an array substrate, a light guide plate, and a light source. Moreover, the said touch panel structural member is a structural member of a general touch panel, and an ITO layer, a wiring layer, a touch sensor layer, etc. are mentioned.

本発明のディスプレイ装置としては、ディスプレイを備えた装置であれば特に制限されないが、スマートフォン、タブレット端末、腕時計型端末(スマートウオッチ)、携帯ゲーム機、カーナビゲーションシステム、ノートパソコン、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイなどが挙げられる。   The display device of the present invention is not particularly limited as long as it is a device provided with a display, but a smartphone, a tablet terminal, a wristwatch type terminal (smart watch), a portable game machine, a car navigation system, a notebook computer, a liquid crystal display, an organic EL. A display etc. are mentioned.

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。なお、生成物の分子量の測定は、Alliance HPLCシステム 2695(Waters製)、Refractive Index Detector 2414(Waters製)、カラム:Tskgel GMHHR−M×2(東ソー(株)製)、ガードカラム:Tskgel guard column HHRL(東ソー(株)製)、カラムオーブン:COLUMN HEATER U−620(Sugai製)、溶媒:THF、測定条件:40℃により行った。また、生成物におけるT2体とT3体の割合[T3体/T2体]の測定は、JEOL ECA500(500MHz)による29Si−NMRスペクトル測定により行った。生成物のTd5(5%重量減少温度)は、TGA(熱重量分析)により、空気雰囲気下、昇温速度5℃/分の条件で測定した。表1に記載の硬化性組成物の原料の配合量の単位は、重量部である。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples, but the present invention is not limited to these examples. The molecular weight of the product was measured by Alliance HPLC system 2695 (manufactured by Waters), Refractive Index Detector 2414 (manufactured by Waters), column: Tskel GMH HR- M × 2 (manufactured by Tosoh Corp.), guard column: Tskel guard column H HR L (manufactured by Tosoh Corp.), column oven: COLUMN HEATER U-620 (manufactured by Sugai), solvent: THF, measurement conditions: 40 ° C. Moreover, the measurement of the ratio [T3 body / T2 body] of T2 body and T3 body in a product was performed by 29 Si-NMR spectrum measurement by JEOL ECA500 (500 MHz). T d5 (5% weight loss temperature) of the product was measured by TGA (thermogravimetric analysis) under an air atmosphere at a temperature rising rate of 5 ° C./min. The unit of the blending amount of the raw materials of the curable composition described in Table 1 is parts by weight.

合成例1:硬化性樹脂Aの合成
温度計、攪拌装置、還流冷却器、及び窒素導入管を取り付けた300ミリリットルのフラスコ(反応容器)に、窒素気流下で2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン(以下、「EMS」と称する)161.5ミリモル(39.79g)、フェニルトリメトキシシラン(以下、「PMS」と称する)9ミリモル(1.69g)、及びアセトン165.9gを仕込み、50℃に昇温した。このようにして得られた混合物に、5%炭酸カリウム水溶液4.70g(炭酸カリウムとして1.7ミリモル)を5分で滴下した後、水1700ミリモル(30.60g)を20分かけて滴下した。なお、滴下の間、著しい温度上昇は起こらなかった。その後、50℃のまま、重縮合反応を窒素気流下で4時間行った。
重縮合反応後の反応溶液中の生成物を分析したところ、数平均分子量は1911であり、分子量分散度は1.47であった。上記生成物の29Si−NMRスペクトルから算出されるT2体とT3体の割合[T3体/T2体]は10.3であった。
その後、反応溶液を冷却し、下層液が中性になるまで水洗を行い、上層液を分取した後、1mmHg、40℃の条件で上層液から溶媒を留去し、無色透明の液状の生成物(エポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン)を得た。上記生成物のTd5は370℃であった。
Synthesis Example 1: Synthesis of curable resin A 2- (3,4-epoxycyclohexyl) in a 300 ml flask (reaction vessel) equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser, and a nitrogen inlet tube under a nitrogen stream. ) Ethyltrimethoxysilane (hereinafter referred to as “EMS”) 161.5 mmol (39.79 g), phenyltrimethoxysilane (hereinafter referred to as “PMS”) 9 mmol (1.69 g), and acetone 165.9 g Was heated to 50 ° C. To the mixture thus obtained, 4.70 g of 5% aqueous potassium carbonate solution (1.7 mmol as potassium carbonate) was added dropwise over 5 minutes, and then 1700 mmol (30.60 g) of water was added dropwise over 20 minutes. . Note that no significant temperature increase occurred during the dropping. Thereafter, the polycondensation reaction was carried out for 4 hours under a nitrogen stream while maintaining the temperature at 50 ° C.
When the product in the reaction solution after the polycondensation reaction was analyzed, the number average molecular weight was 1911 and the molecular weight dispersity was 1.47. The ratio of T2 body and T3 body [T3 body / T2 body] calculated from the 29 Si-NMR spectrum of the product was 10.3.
Thereafter, the reaction solution is cooled, washed with water until the lower layer solution becomes neutral, and after the upper layer solution is separated, the solvent is distilled off from the upper layer solution under conditions of 1 mmHg and 40 ° C. to produce a colorless transparent liquid The product (epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane) was obtained. The product had a T d5 of 370 ° C.

なお、合成例1で得られた硬化性樹脂A(ポリオルガノシルセスキオキサン)のFT−IRスペクトルを上述の方法で測定したところ、いずれも1100cm-1付近に一つの固有吸収ピークを有することが確認された。 In addition, when the FT-IR spectrum of the curable resin A (polyorganosilsesquioxane) obtained in Synthesis Example 1 was measured by the above method, each had one intrinsic absorption peak in the vicinity of 1100 cm −1. Was confirmed.

実施例1
(ハードコートフィルムの作製)
合成例1で得られた硬化性樹脂A(ポリオルガノシルセスキオキサン)61.6重量部、脂環エポキシ基を有する化合物(商品名「EHPE3150」(株)ダイセル製)6.9重量部、メチルイソブチルケトン(MIBK)(関東化学(株)製)30重量部、光カチオン重合開始剤(商品名「CPI−210S」、サンアプロ(株)製)1重量部、シリコンアクリレート(商品名「KRM8479」、ダイセル・オルネクス(株)製)0.3重量部、及び表面に(メタ)アクリロイル基を含む基を有するシリカ粒子(商品名「BYK−LPX 22699」、ビックケミー・ジャパン(株)製)0.2重量部の混合溶液を調製し、これを硬化性組成物とした。
上記で得られた硬化性組成物を、PEN(ポリエチレンナフタレート)フィルム(商品名「テオネックス」(登録商標)、帝人デュポンフィルム(株)製、厚み50μm)上に、硬化後のハードコート層の厚みが40μmとなるようにワイヤーバー#44を使用して流延塗布した後、80℃のオーブン内で1分間放置(プレベイク)し、次いで5秒間紫外線を照射した(紫外線照射量:400mJ/cm2)。最後に150℃で30分間熱処理(エージング)することによって、ハードコート層を有するフィルム(ハードコート層/基材)を作製した。
さらにハードコート層を有するフィルムの基材面側にOCAフィルム(商品名「LUCIACS(登録商標) CS9861US」、日東電工(株)社製、粘着層の厚み25μm)の粘着層を貼着させ、ハードコートフィルムを得た。
Example 1
(Preparation of hard coat film)
61.6 parts by weight of curable resin A (polyorganosilsesquioxane) obtained in Synthesis Example 1, 6.9 parts by weight of a compound having an alicyclic epoxy group (trade name “EHPE3150” manufactured by Daicel Corporation), 30 parts by weight of methyl isobutyl ketone (MIBK) (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.), 1 part by weight of a cationic photopolymerization initiator (trade name “CPI-210S”, manufactured by San Apro Co., Ltd.), silicon acrylate (trade name “KRM8479”) , Manufactured by Daicel Ornex Co., Ltd.) 0.3 parts by weight, and silica particles having a group containing a (meth) acryloyl group on the surface (trade name “BYK-LPX 22699”, manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.) 2 parts by weight of a mixed solution was prepared and used as a curable composition.
The curable composition obtained above was applied on a PEN (polyethylene naphthalate) film (trade name “Teonex” (registered trademark), manufactured by Teijin DuPont Films, Inc., thickness 50 μm) of the hard coat layer after curing. After cast coating using wire bar # 44 to a thickness of 40 μm, it was left in an oven at 80 ° C. for 1 minute (prebaked), and then irradiated with ultraviolet rays for 5 seconds (UV irradiation amount: 400 mJ / cm 2 ). Finally, a film having a hard coat layer (hard coat layer / base material) was produced by heat treatment (aging) at 150 ° C. for 30 minutes.
Furthermore, an adhesive layer of an OCA film (trade name “LUCIACS (registered trademark) CS9861US”, manufactured by Nitto Denko Corporation, adhesive layer thickness 25 μm) is attached to the substrate side of the film having a hard coat layer, and hard A coated film was obtained.

実施例2、及び比較例1、2
硬化性組成物の組成を表1に示すように変更したこと、及びハードコート層の厚みを変更したこと以外は実施例1と同様にして、組成物を調製し、ハードコートフィルムを作製した。表1の硬化性組成物におけるラジカル硬化性樹脂「PETIA」は、ペンタエリスリトール(トリ/テトラ)アクリレート、商品名「PETIA」(ダイセル・オルネクス(株)社製である。表1の硬化性組成物におけるラジカル重合開始剤「Irgcure 184」は、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、商品名「IRGCURE 184」(BASF社製)である。
Example 2 and Comparative Examples 1 and 2
A composition was prepared and a hard coat film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the curable composition was changed as shown in Table 1 and the thickness of the hard coat layer was changed. The radical curable resin “PETIA” in the curable composition of Table 1 is pentaerythritol (tri / tetra) acrylate, trade name “PETIA” (manufactured by Daicel Ornex Co., Ltd.). The radical polymerization initiator “Irgcure 184” is 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, trade name “IRGCURE 184” (manufactured by BASF).

[評価]
上記で得た実施例1、2、及び比較例1、2のハードコートフィルム、又はガラス付きハードコートフィルムについて、以下の方法により各種評価を行った。結果を表1に示す。
[Evaluation]
The hard coat films of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 obtained above or the hard coat film with glass were subjected to various evaluations by the following methods. The results are shown in Table 1.

(耐屈曲性:円筒形マンドレル法)
上記で得たハードコートフィルムの耐屈曲性を、円筒形マンドレルを使用してJIS K5600−5−1に準じて試験を行い、評価した。直径が2,3,4,5,及び6mmのマンドレルを用い、ハードコート層が外側になるように試験を行った。直径6mmのマンドレルから順に直径が小さいマンドレルを使用して試験を行った。マンドレルによるハードコート層の割れが見られない最小の直径を表1に示す。なお、比較例2は直径6mmにてハードコート層の割れが見られたため、6mmNGと記載した。
(Bending resistance: Cylindrical mandrel method)
The bending resistance of the hard coat film obtained above was tested and evaluated according to JIS K5600-5-1 using a cylindrical mandrel. Tests were conducted using mandrels with diameters of 2, 3, 4, 5, and 6 mm so that the hard coat layer was on the outside. The test was performed using a mandrel having a smaller diameter in order from a mandrel having a diameter of 6 mm. Table 1 shows the minimum diameter at which the hard coat layer is not cracked by the mandrel. In Comparative Example 2, since the hard coat layer was cracked at a diameter of 6 mm, it was described as 6 mmNG.

(鉛筆硬度)
上記で得たハードコートフィルムにおける表面(ハードコート層の表面)の鉛筆硬度を、JIS K5600−5−4に準じて評価した。なお、荷重は750gで行った。
(Pencil hardness)
The pencil hardness of the surface of the hard coat film obtained above (the surface of the hard coat layer) was evaluated according to JIS K5600-5-4. The load was 750 g.

(飛散防止性:鉄球試験)
上記で得たハードコートフィルムの粘着層面にソーダガラス(アズワン(株)社製、50×50×3mm)を貼付けて、ガラス付きハードコートフィルムを準備した。このガラス付きハードコートフィルムのハードコート層面に1kgの鉄球(直径約62mm)を50cmの高さから落下させて、試験を行い、以下の基準で評価を行った。なお、ハードコートフィルムを貼らずに上記ガラス単体について試験を行ったところ、ガラスが割れ、ガラスが飛び散った(評価:×)。
評価基準
○(飛散防止性が良い): ガラスが割れるが、ガラスが飛び散らない
×(飛散防止性が悪い): ガラスが割れ、ガラスが飛び散る
(Spattering prevention: iron ball test)
Soda glass (manufactured by ASONE Co., Ltd., 50 × 50 × 3 mm) was attached to the adhesive layer surface of the hard coat film obtained above to prepare a hard coat film with glass. A 1 kg iron ball (diameter: about 62 mm) was dropped from a height of 50 cm onto the hard coat layer surface of the glass-coated hard coat film, a test was performed, and the following criteria were evaluated. In addition, when it tested about the said glass single-piece | unit, without sticking a hard coat film, glass broke and glass scattered (evaluation: x).
Evaluation criteria ○ (good scattering prevention): glass breaks but glass does not splash × (poor scattering prevention): glass breaks and glass scatters

(耐擦傷性)
上記で得たハードコートフィルムを屈曲部(曲面の半径5mm)を有する成形体に、ハードコート層側を表面にして貼り付け、ハードコート層の屈曲部(曲面)に対し、荷重1000g/cm2にて100回、#0000スチールウールを往復させた。下記の基準にて表面に付いた傷の有無を目視で確認し、耐擦傷性を評価した。
評価基準
○(耐擦傷性が良好):傷が見られない
×(耐擦傷性が不良):傷が見られる
(Abrasion resistance)
The hard coat film obtained above is attached to a molded body having a bent portion (curved radius: 5 mm) with the hard coat layer side as the surface, and a load of 1000 g / cm 2 is applied to the bent portion (curved surface) of the hard coat layer. # 0000 steel wool was reciprocated 100 times. Based on the following criteria, the presence or absence of scratches on the surface was visually confirmed, and scratch resistance was evaluated.
Evaluation criteria ○ (good scratch resistance): no scratches observed × (poor scratch resistance): scratches visible

Figure 2018189800
Figure 2018189800

1 ハードコートフィルム
2 ハードコートフィルム付き透明基板
3 ディスプレイ装置
4 ハードコート層
5 基材
6 粘着層
7 透明基板
8 ディスプレイパネル構成部材
1 Hard Coat Film 2 Transparent Substrate with Hard Coat Film 3 Display Device 4 Hard Coat Layer 5 Base Material 6 Adhesive Layer 7 Transparent Substrate 8 Display Panel Component

Claims (10)

ハードコート層、基材、及び粘着層を含む曲面ディスプレイ用ハードコートフィルムであって、
前記基材の一方の面に隣接する前記ハードコート層を有し、且つ前記基材の他方の面側に前記粘着層を有し、
前記ハードコート層は、下記ポリオルガノシルセスキオキサンと、表面に(メタ)アクリロイル基を含む基を有するシリカ粒子、及びシリコンアクリレートからなる群より選択される少なくとも1つの添加剤とを含む硬化性組成物の硬化物層である曲面ディスプレイ用ハードコートフィルム。
ポリオルガノシルセスキオキサン:下記式(1)で表される構成単位を有し、下記式(I)で表される構成単位と、下記式(II)で表される構成単位のモル比[式(I)で表される構成単位/式(II)で表される構成単位]が5以上であり、シロキサン構成単位の全量に対する、下記式(1)で表される構成単位及び下記式(4)で表される構成単位の合計の割合が55〜100モル%であり、数平均分子量が1000〜3000、分子量分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.0〜3.0である
Figure 2018189800
[式(1)中、R1は、エポキシ基を含有する基を示す。]
Figure 2018189800
[式(I)中、Raは、エポキシ基を含有する基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、又は水素原子を示す。]
Figure 2018189800
[式(II)中、Rbは、エポキシ基を含有する基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、又は水素原子を示す。Rcは、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示す。]
Figure 2018189800
[式(4)中、R1は、式(1)におけるものと同じ。Rcは、式(II)におけるものと同じ。]
A hard coat film for curved display including a hard coat layer, a substrate, and an adhesive layer,
Having the hard coat layer adjacent to one surface of the substrate, and having the adhesive layer on the other surface side of the substrate;
The hard coat layer includes a polyorganosilsesquioxane below, curable silica containing at least one additive selected from the group consisting of silica particles having a group containing a (meth) acryloyl group on the surface, and silicon acrylate. A hard coat film for curved display which is a cured product layer of the composition.
Polyorganosilsesquioxane: having a structural unit represented by the following formula (1), a molar ratio of the structural unit represented by the following formula (I) and the structural unit represented by the following formula (II) [ The structural unit represented by the formula (I) / the structural unit represented by the formula (II)] is 5 or more, and the structural unit represented by the following formula (1) and the following formula ( 4) The total proportion of the structural units represented by 55) is from 55 to 100 mol%, the number average molecular weight is 1000 to 3000, and the molecular weight dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.0 to 3.0. is there
Figure 2018189800
[In Formula (1), R < 1 > shows group containing an epoxy group. ]
Figure 2018189800
[In the formula (I), R a is a group containing an epoxy group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group. Represents a substituted or unsubstituted alkenyl group or a hydrogen atom. ]
Figure 2018189800
[In the formula (II), R b represents an epoxy group-containing group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group. Represents a substituted or unsubstituted alkenyl group or a hydrogen atom. R c represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. ]
Figure 2018189800
[In formula (4), R 1 is the same as that in formula (1). R c is the same as in formula (II). ]
前記ポリオルガノシルセスキオキサンは、さらに、下記式(2)で表される構成単位を有する請求項1に記載の曲面ディスプレイ用ハードコートフィルム。
Figure 2018189800
[式(2)中、R2は、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、又は、置換若しくは無置換のアルケニル基を示す。]
The hard coat film for curved display according to claim 1, wherein the polyorganosilsesquioxane further has a structural unit represented by the following formula (2).
Figure 2018189800
[In the formula (2), R 2 represents a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted group. An alkenyl group of ]
前記ポリオルガノシルセスキオキサンは、R2が、置換若しくは無置換のアリール基である請求項2に記載の曲面ディスプレイ用ハードコートフィルム。 The hard coat film for curved display according to claim 2 , wherein R 2 in the polyorganosilsesquioxane is a substituted or unsubstituted aryl group. 前記ポリオルガノシルセスキオキサンは、R1が、下記式(1a)で表される基、下記式(1b)で表される基、下記式(1c)で表される基、又は、下記式(1d)で表される基である請求項1〜3のいずれか1項に記載の曲面ディスプレイ用ハードコートフィルム。
Figure 2018189800
[式(1a)中、R1aは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
Figure 2018189800
[式(1b)中、R1bは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
Figure 2018189800
[式(1c)中、R1cは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
Figure 2018189800
[式(1d)中、R1dは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
In the polyorganosilsesquioxane, R 1 is a group represented by the following formula (1a), a group represented by the following formula (1b), a group represented by the following formula (1c), or the following formula The hard coat film for curved display according to any one of claims 1 to 3, which is a group represented by (1d).
Figure 2018189800
[In Formula (1a), R 1a represents a linear or branched alkylene group. ]
Figure 2018189800
[In formula (1b), R 1b represents a linear or branched alkylene group. ]
Figure 2018189800
[In Formula (1c), R 1c represents a linear or branched alkylene group. ]
Figure 2018189800
[In formula (1d), R 1d represents a linear or branched alkylene group. ]
前記ポリオルガノシルセスキオキサン以外のエポキシ化合物を含む請求項1〜4のいずれか1項に記載の曲面ディスプレイ用ハードコートフィルム。   The hard coat film for curved display according to any one of claims 1 to 4, comprising an epoxy compound other than the polyorganosilsesquioxane. 光カチオン重合開始剤を含む請求項1〜5のいずれか1項に記載の曲面ディスプレイ用ハードコートフィルム。   The hard coat film for curved display according to any one of claims 1 to 5, comprising a cationic photopolymerization initiator. 前記ハードコート層の厚みは、1〜100μmである請求項1〜6のいずれか1項に記載の曲面ディスプレイ用ハードコートフィルム。   The thickness of the said hard-coat layer is 1-100 micrometers, The hard coat film for curved surfaces display of any one of Claims 1-6. 総厚みは、10〜1000μmである請求項1〜7のいずれか1項に記載の曲面ディスプレイ用ハードコートフィルム。   Total thickness is 10-1000 micrometers, The hard coat film for curved surface displays of any one of Claims 1-7. 請求項1〜8のいずれか1項に記載の曲面ディスプレイ用ハードコートフィルムと、前記曲面ディスプレイ用ハードコートフィルムの粘着層側の面に貼着された、曲面を有する透明基板とを含むハードコートフィルム付き透明基板。   A hard coat comprising the hard coat film for a curved display according to any one of claims 1 to 8 and a transparent substrate having a curved face, which is attached to a surface of the hard coat film for a curved display on the adhesive layer side. Transparent substrate with film. 請求項1〜8のいずれか1項に記載の曲面ディスプレイ用ハードコートフィルムと、曲面を有する透明基板と、ディスプレイパネル構成部材とを備えるディスプレイ装置。   A display device comprising: the hard coat film for curved display according to any one of claims 1 to 8, a transparent substrate having a curved surface, and a display panel constituent member.
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