JP2018174919A - Block copolymer and surface treating agent using the same - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide block copolymers useful as a coupling agent of a cell culture substrate enabling cell detachment in a short time, and to provide coupling agents using the same.SOLUTION: The present invention provides a block copolymer consisting of a block of (A), (B), and (C), and having a sequence of (A)-(B)-(C). (A) is a thermoresponsive polymer block whose lower critical solution temperature (LCST) for water is within the range from 0 to 45°C, (B) is a hydrophobic polymer block having no LCST in the range from 0 to 45°C and having an HLB value (Griffin method) in the range from 0 to less than 9, and (C) is a hydrophilic polymer block having no LCST in the range from 0 to 45°C and having an HLB value (Griffin method) in the range from 9 to less than 20.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、短時間での細胞剥離を可能にする細胞培養用基材の表面処理剤として有用なブロック共重合体に関する。   The present invention relates to a block copolymer useful as a surface treatment agent for a cell culture substrate that enables cell detachment in a short time.

細胞培養は生化学的な現象の理解や有用物質の産生などに用いられ、また近年、幹細胞の発見や培養技術の進歩により、再生医療を始めとする細胞を用いた治療に大きな注目が寄せられている。   Cell culture is used to understand biochemical phenomena and produce useful substances, and in recent years, stem cell discovery and advances in culture technology have brought much attention to cell-based treatments including regenerative medicine. ing.

細胞の多くは接着性を有しており、体内においてはコラーゲン、フィブロネクチン、ラミニンなどの生体高分子に接着し、増殖・分化することが知られている。同様に、細胞培養においても接着性を有する細胞の多くは、培養する際に何らかの基材に接着する必要がある。従来、基材としては表面処理したガラスあるいは高分子が用いられていた。例えば、ポリスチレンにγ線照射あるいはシリコーンコーティングを行なった基材がある。また、コラーゲンやフィブロネクチンのような生体高分子を表面に塗布した基材も用いられる。   Many of the cells have adhesiveness, and it is known that they adhere to biological macromolecules such as collagen, fibronectin, laminin, and proliferate / differentiate in the body. Similarly, in cell culture, many of the adherent cells need to adhere to a certain substrate during culture. Conventionally, surface-treated glass or polymer has been used as a substrate. For example, there is a substrate obtained by subjecting polystyrene to γ-ray irradiation or silicone coating. In addition, a substrate coated with a biopolymer such as collagen or fibronectin on the surface is also used.

増殖する細胞は基材上で培養後、一般的に別の基材に植え継ぐ必要が有り、多くの場合はタンパク質分解酵素が用いられている。タンパク質分解酵素は細胞表面にあるタンパク質を分解し、細胞と基材の間の結合および細胞間の結合を切る役目を担っている。一方、タンパク質分解酵素は細胞の生存率に大きな影響を与えることが知られており、タンパク質分解酵素を用いずに細胞を基材から分離する手法は細胞にダメージを与えない方法として重要である。再生医療においても同様に、体外で培養した細胞にダメージを与えずに、さらに細胞間の結合を切断しない方法で細胞又は組織化した細胞を基材から分離し、体内に戻すことが求められており、タンパク質分解酵素を用いずに基材から分離する方法が求められている。   After culturing cells on a substrate, they generally need to be transferred to another substrate, and in many cases, proteolytic enzymes are used. Proteolytic enzymes degrade proteins on cell surfaces and play a role in breaking the bonds between cells and substrates and the bonds between cells. On the other hand, proteolytic enzymes are known to greatly affect cell viability, and a method of separating cells from a substrate without using proteolytic enzymes is important as a method that does not damage cells. Similarly in regenerative medicine, cells or organized cells are required to be separated from the substrate and returned to the body without damaging the cultured cells in vitro and further breaking the bond between the cells. There is a need for methods of separating from substrates without the use of proteolytic enzymes.

上記問題を解決するために、温度応答性重合体を基材表面に被覆した細胞培養用基材が特許文献1に開示されている。このような基材によれば、周囲環境の温度降下による温度応答性重合体のゾル転移で基材表面の接着力を弱めて、細胞を剥離させ、回収することができる。通常、細胞は体温付近で接着・培養する必要があり、培養後、体温以下で細胞を剥離できる基材が必要となる。   In order to solve the above problems, Patent Document 1 discloses a cell culture substrate coated with a temperature responsive polymer on the substrate surface. According to such a substrate, the adhesion of the substrate surface can be weakened by the sol transition of the temperature responsive polymer due to the temperature drop of the surrounding environment, and the cells can be exfoliated and recovered. Usually, cells need to be adhered and cultured near body temperature, and after culture, a substrate capable of detaching cells below body temperature is required.

文献2および3には、水中におけるゾル転移温度[下限臨界溶解温度(LCST)]が体温以下の範囲にある温度応答性重合体として、N−イソプロピルアクリルアミド重合体(LCST=32℃)、N−n−プロピルアクリルアミド重合体(LCST=21℃)、N−n−プロピルメタクリルアミド重合体(LCST=32℃)、N−エトキシエチルアクリルアミド重合体(LCST=約35℃)、N−テトラヒドロフルフリルアクリルアミド重合体(LCST=約28℃)、N−テトラヒドロフルフリルメタクリルアミド重合体(LCST=約35℃)、及びN,N−ジエチルアクリルアミド重合体(LCST=32℃)等が記載されている(特許文献2および3)。   In the documents 2 and 3, N-isopropylacrylamide polymer (LCST = 32 ° C), N-as a temperature responsive polymer having a sol transition temperature [lower limit critical solution temperature (LCST)] in water in the range not higher than body temperature. n-Propyl Acrylamide Polymer (LCST = 21 ° C.), N-n-Propyl Methacrylamide Polymer (LCST = 32 ° C.), N-Ethoxyethyl Acrylamide Polymer (LCST = about 35 ° C.), N-Tetrahydrofurfuryl Acrylamide Polymer (LCST = about 28 ° C.), N-tetrahydrofurfuryl methacrylamide polymer (LCST = about 35 ° C.), N, N-diethylacrylamide polymer (LCST = 32 ° C.), etc. are described (patented) Documents 2 and 3).

上記温度応答性重合体を細胞培養用基材に用いる場合、下限臨界溶解温度以下に細胞培養用基材の温度を下げる必要があるが、その時間によっては同時に細胞を低温化してしまう。細胞の低温化は細胞の活性低下を及ぼすため、冷却時間の短縮が必要である。   When the above-mentioned thermoresponsive polymer is used as a cell culture substrate, it is necessary to lower the temperature of the cell culture substrate to the lower limit critical dissolution temperature or less, but depending on the time, the temperature of the cells may be lowered simultaneously. Since cooling the cells exerts a decrease in the activity of the cells, it is necessary to shorten the cooling time.

さらに、文献4には、細胞剥離のための冷却時間の短縮を可能にする細胞培養用基材として、特定構造のブロック共重合体で表面を被覆した細胞培養用基材が開示されているが(特許文献4)、更なる冷却時間の短縮が求められていた。   Furthermore, Document 4 discloses a cell culture substrate coated on the surface with a block copolymer of a specific structure, as a cell culture substrate capable of shortening the cooling time for cell detachment. (Patent Document 4), further shortening of the cooling time has been required.

特開平2−211865号公報Unexamined-Japanese-Patent No. 2-211865 gazette 特開平3−266980号公報Unexamined-Japanese-Patent No. 3-266980 特開平5−244938号公報JP-A-5-244938 特開2016−192957号公報JP, 2016-192957, A

本発明の目的は、短時間での細胞剥離を可能にする細胞培養用基材の表面処理剤として有用なブロック共重合体およびそれを用いた表面処理剤を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a block copolymer useful as a surface treatment agent for a cell culture substrate that enables cell detachment in a short time and a surface treatment agent using the same.

本発明者らは、以上の点を鑑み、鋭意研究を重ねた結果、温度応答性の重合体および疎水性の重合体および親水性の重合体からなり、特定配列を有するブロック共重合体を基材上に被覆し成膜することで、短時間での細胞剥離を可能にすることを見出し、本発明を完成した。
[1]すなわち本発明によれば、下記(A)、(B)および(C)のブロックからなり、配列が(A)−(B)−(C)であるブロック共重合体が提供される。
In view of the above points, the inventors of the present invention have conducted intensive studies, and as a result, they have a block copolymer having a specific sequence, which is composed of a temperature responsive polymer, a hydrophobic polymer and a hydrophilic polymer. The inventors have found that coating on a material to form a film enables cell detachment in a short time, thereby completing the present invention.
[1] That is, according to the present invention, there is provided a block copolymer consisting of the following blocks (A), (B) and (C) and having the sequence (A)-(B)-(C): .

(A)水に対する下限臨界溶解温度(LCST)が0〜45℃の範囲にある温度応答性重合体ブロック。   (A) A temperature responsive polymer block having a lower limit critical solution temperature (LCST) to water in the range of 0 to 45 ° C.

(B)0〜45℃の範囲にLCSTを持たない、HLB値(グリフィン法)が0以上9未満の範囲にある疎水性重合体ブロック。   (B) A hydrophobic polymer block having an HLB value (Griffin method) in the range of 0 or more and less than 9 without LCST in the range of 0 to 45 ° C.

(C)0〜45℃の範囲にLCSTを持たない、HLB値(グリフィン法)が9以上20未満の範囲にある親水性重合体ブロック。
[2]また、本発明によれば、[1]に記載のブロック共重合体を含むことを特徴とする基材用表面処理剤が提供される。
[3]また、本発明によれば、[2]に記載の表面処理剤を基材に塗布されてなる膜が提供される。
[4]また、本発明によれば、[3]に記載の膜で表面を被覆した細胞培養用基材が提供される。
[5]また、本発明によれば、基材表面にブロック(A)分として5.0μg/cm以下の割合で被覆された[4]記載の細胞培養用基材が提供される。
[6]さらに、本発明によれば、[5]に記載の細胞培養用基材を用いて、ブロック(A)のLCSTより高い温度で細胞を培養し、細胞増殖後に温度をブロック(A)のLCSTより低くして増殖細胞を基材から剥離することを特徴とする細胞培養方法が提供される。
(C) A hydrophilic polymer block having an HLB value (Griffin method) in the range of 9 or more and less than 20 without LCST in the range of 0 to 45 ° C.
[2] Further, according to the present invention, there is provided a surface treatment agent for a substrate, comprising the block copolymer according to [1].
[3] Also, according to the present invention, there is provided a film obtained by applying the surface treatment agent according to [2] to a substrate.
[4] Further, according to the present invention, there is provided a cell culture substrate coated with the membrane according to [3].
[5] Further, according to the present invention, there is provided the cell culture substrate according to [4], which is coated on the surface of the substrate at a rate of 5.0 μg / cm 2 or less as the block (A).
[6] Furthermore, according to the present invention, cells are cultured at a temperature higher than LCST of block (A) using the cell culture substrate described in [5], and temperature is blocked after cell growth (A) A cell culture method is provided, characterized in that the proliferating cells are detached from the substrate by lowering the LCST of

温度応答性重合体と疎水性重合体と親水性重合体からなり、特定配列を有する本発明に記載のブロック共重合体から得られる膜を細胞培養用基材に被覆すれば、細胞培養後、温度降下による基材表面の親水化が促進され、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮することができる。これによって、細胞培養後、冷却処理を施しても、細胞にダメージを与えることなく、短時間で細胞を回収できる細胞培養用基材が得られるようになる。   After coating a cell culture substrate comprising a temperature-responsive polymer, a hydrophobic polymer and a hydrophilic polymer and having a specific sequence, which is obtained from the block copolymer according to the present invention, after cell culture, Hydrophilization of the substrate surface by temperature drop is promoted, and the cooling time required for cell detachment can be shortened. As a result, even after a cell culture, even if a cooling treatment is performed, a cell culture substrate capable of recovering cells in a short time without damaging the cells can be obtained.

以下、本発明を実施するための形態(以下、単に「本実施の形態」という。)について詳細に説明する。以下の本実施の形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明を以下の内容に限定する趣旨ではない。本発明は、その趣旨の範囲内で適宜に変形して実施できる。
1.ブロック共重合体
本発明のブロック共重合体は特定のブロック(A)および特定のブロック(B)および特定のブロック(C)からなり、配列が(A)−(B)−(C)であるブロック共重合体である。
Hereinafter, modes for carrying out the present invention (hereinafter, simply referred to as “the present embodiment”) will be described in detail. The following embodiment is an example for describing the present invention, and is not intended to limit the present invention to the following contents. The present invention can be appropriately modified and implemented within the scope of the spirit of the present invention.
1. Block copolymer The block copolymer of the present invention comprises a specific block (A) and a specific block (B) and a specific block (C), and the sequence is (A)-(B)-(C) It is a block copolymer.

本明細書において、下限臨界溶解温度(LCST;Lower Critical Solution Temperature)とは、この温度よりも低い温度では高分子が水に溶解して透明の溶液になるが、この温度よりも高い温度では不溶化して白濁するか沈殿が生じ、相分離する温度である。   In the present specification, the lower critical solution temperature (LCST) means that the polymer is dissolved in water to a clear solution at a temperature lower than this temperature, but it is insolubilized at a temperature higher than this temperature It is the temperature which becomes cloudy or precipitates and phase separates.

本発明におけるブロック(A)はLCSTが0℃〜45℃の範囲にある温度応答性重合体ブロックである。本発明のブロック共重合体を細胞培養用基材に用いた場合は、体温付近で細胞接着性を付与すると共に、温度降下で細胞を剥離し、ダメージを与えることなく細胞を分別回収するために、ブロック(A)のLCSTは20℃〜45℃の範囲にあることが好ましく、30℃〜40℃の範囲にあることがさらに好ましい。LCSTが0℃未満であれば細胞にダメージを与えることなく剥離することが困難となり、45℃を超えれば体温付近で細胞を接着できなくなり、細胞培養が困難となる。   The block (A) in the present invention is a temperature responsive polymer block having an LCST in the range of 0 ° C. to 45 ° C. When the block copolymer of the present invention is used as a substrate for cell culture, in order to impart cell adhesiveness at around body temperature and detach cells at a temperature drop and separately collect cells without giving damage. The LCST of block (A) is preferably in the range of 20 ° C. to 45 ° C., and more preferably in the range of 30 ° C. to 40 ° C. If LCST is less than 0 ° C., it becomes difficult to detach without damaging the cells, and if it exceeds 45 ° C., cells can not be attached at around body temperature, and cell culture becomes difficult.

本明細書において、HLB値(HLB;Hydrophile−Lipophile Balance)とは、W.C.Griffin, Journal of the Society of Cosmetic Chemists, 1, 311(1949).に記載の、水と油への親和性の程度を表す値であり、0から20までの値を取り、0に近いほど疎水性が高く、20に近いほど親水性が高くなる。計算によって決定する方法として、アトラス法、グリフィン法、デイビス法、川上法があるが、本発明においてはグリフィン法で計算した値を使用し、繰り返し単位中の親水部の式量と繰り返し単位の総式量を元に、下記の計算式で求めた。
HLB値=20×(親水部の式量)÷(総式量)
本発明におけるブロック(B)は、0℃〜45℃の範囲にLCSTを持たない、特定範囲のHLB値を有する疎水性重合体のブロックであり、ブロック共重合体の基材への接着に寄与する。
In the present specification, the HLB value (HLB; Hydrophile-Lipophile Balance) refers to W.K. C. Griffin, Journal of the Society of Cosmetic Chemists, 1, 311 (1949). The value is a value representing the degree of affinity to water and oil described in 1. The value is from 0 to 20. The closer to 0, the higher the hydrophobicity, and the closer to 20, the higher the hydrophilicity. There are Atlas method, Griffin method, Davis method and Kawakami method as a method of determining by calculation, but in the present invention, the value calculated by Griffin method is used, and the formula weight of hydrophilic part in the repeating unit and the total of repeating unit It calculated | required by the following formula based on formula weight.
HLB value = 20 × (formula weight of hydrophilic part) ÷ (total formula weight)
The block (B) in the present invention is a block of a hydrophobic polymer having a specific range of HLB value and having no LCST in the range of 0 ° C. to 45 ° C., and contributes to adhesion of the block copolymer to a substrate Do.

本発明におけるブロック(B)のHLB値は0以上9未満の範囲にあるが、基材に塗布して水中で剥離しない安定な膜を得るために、好ましくは0以上8以下の範囲に有り、さらに好ましくは0以上6以下の範囲にある。HLB値が9以上である場合は、基材に塗布した場合に水中で剥離しやすく安定な膜を得ることができない。   The HLB value of the block (B) in the present invention is in the range of 0 to less than 9, but preferably in the range of 0 to 8 in order to obtain a stable film that is not applied to the substrate and peeled off in water. More preferably, it is in the range of 0 or more and 6 or less. When the HLB value is 9 or more, it is easily peeled off in water when applied to a substrate, and a stable film can not be obtained.

本発明におけるブロック(C)は、0℃〜45℃の範囲にLCSTを持たない、特定範囲のHLB値を有する親水性重合体のブロックである。   The block (C) in the present invention is a block of a hydrophilic polymer having an HLB value in a specific range which does not have an LCST in the range of 0 ° C. to 45 ° C.

本発明におけるブロック(C)としては、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、カルボン酸金属塩、スルホン酸基、スルホン酸エステル基、スルホン酸金属塩、ヒドロキシ基、アルコキシ基、フェノキシ基、アミド基、アミノアルキル基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルファモイル基、カルバメート基、リン酸基、リン酸基の金属塩、オキシリン酸基、オキシリン酸基の金属塩、ホスホベタイン基、スルホベタイン基、カルボベタイン基、ポリエチレングリコール基、ピロリドン基から選ばれる少なくとも1種の親水性基を有するモノマーの重合体を例示することができる。   As the block (C) in the present invention, carboxylic acid group, carboxylic acid ester group, carboxylic acid metal salt, sulfonic acid group, sulfonic acid ester group, sulfonic acid metal salt, hydroxy group, alkoxy group, phenoxy group, amide group, Aminoalkyl group, carbamoyl group, sulfonamide group, sulfamoyl group, carbamate group, metal salt of phosphate group, oxyphosphate group, metal salt of oxyphosphate group, phosphobetaine group, sulfobetaine group, carbobetaine group And polymers of monomers having at least one hydrophilic group selected from polyethylene glycol groups and pyrrolidone groups.

本発明におけるブロック(C)は、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮するために、好ましくはタンパク質、ペプチド、糖タンパク質等の生体高分子と親和性の無いブロックまたは細胞と親和性の無いブロックであり、ホスホベタイン基、スルホベタイン基、カルボベタイン基、ポリエチレングリコール基、メトキシエチレン基、フルフリル基、ジアルキルアミノアルキル基、ピロリドン基から選ばれる少なくとも1種の親水性基を有するモノマーの重合体である。   The block (C) in the present invention is preferably a block having no affinity for biopolymers such as proteins, peptides and glycoproteins or a block having no affinity for cells in order to shorten the cooling time required for cell detachment. It is a polymer of a monomer having at least one hydrophilic group selected from phosphobetaine group, sulfobetaine group, carbobetaine group, polyethylene glycol group, methoxyethylene group, furfuryl group, dialkylaminoalkyl group and pyrrolidone group. .

本発明におけるブロック(C)のHLB値は9以上20未満の範囲にあるが、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮するために、好ましくは11以上20未満の範囲にあり、さらに好ましくは13以上20未満の範囲にある。HLB値が9未満である場合は、細胞剥離に必要な冷却時間が長くなり、細胞の活性低下を招く。   The HLB value of block (C) in the present invention is in the range of 9 or more and less than 20, but in order to shorten the cooling time required for cell detachment, it is preferably in the range of 11 or more and less than 20, more preferably 13 or more. It is in the range of less than 20. If the HLB value is less than 9, the cooling time required for cell detachment will be long, leading to a decrease in cell activity.

ブロック共重合体中のブロック(A)、ブロック(B)、ブロック(C)の配列は(A)−(B)−(C)であり、膜表面にブロック(A)とブロック(C)の両方が出やすくなり、細胞の接着性/増殖性と温度降下による剥離性を両立できる。一方、配列が(A)−(C)−(B)、(C)−(A)−(B)であれば、細胞の接着性/増殖性と温度降下による剥離性を両立できない。   The arrangement of block (A), block (B) and block (C) in the block copolymer is (A)-(B)-(C), and the block (A) and block (C) Both are easily released, and cell adhesion / growth and releasability due to temperature drop can be compatible. On the other hand, if the sequences are (A)-(C)-(B) and (C)-(A)-(B), the cell adhesion / proliferation and removability due to temperature drop can not be compatible.

本発明のブロック共重合体を構成するブロック(A)は、特に限定は無いが、下記一般式(1)で表される繰り返し単位の内、少なくとも1種類の繰り返し単位を含む重合体を用いることができる。   The block (A) constituting the block copolymer of the present invention is not particularly limited, but a polymer containing at least one kind of repeating unit among repeating units represented by the following general formula (1) is used Can.

Figure 2018174919
Figure 2018174919

R1は水素原子又はメチル基であり、LCSTを20℃〜45℃の範囲にするために、水素原子が用いられる。   R1 is a hydrogen atom or a methyl group, and a hydrogen atom is used to bring LCST in the range of 20 ° C to 45 ° C.

R2およびR3は各々独立して、水素基、炭素数1〜6の炭化水素基、フルフリル基またはテトラヒドロフルフリル基であり、R2とR3は互いに結合してピロリジン環、ピペリジン環もしくはモルホリン環を形成しても良い。   R2 and R3 are each independently a hydrogen group, a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a furfuryl group or a tetrahydrofurfuryl group, and R2 and R3 are combined with each other to form a pyrrolidine ring, a piperidine ring or a morpholine ring You may.

炭素数1〜6の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert.−ブチル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基を例示できるが、LCSTを20℃〜45℃の範囲にするために、好ましくはn−プロピル基、イソプロピル基が用いられる。   Examples of the hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, cyclopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert. Although -butyl group, n-hexyl group and isohexyl group can be illustrated, in order to make LCST into the range of 20 degreeC-45 degreeC, preferably n-propyl group and isopropyl group are used.

本発明における一般式(1)で表される繰り返し単位としては、N,N−ジエチルアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−n−プロピルアクリルアミド、N−n−プロピルメタクリルアミド、N−イソプロピルアクリルアミド、N−イソプロピルメタクリアミド、N−シクロプロピルアクリルアミド、N−シクロプロピルメタクリルアミド、N−エトキシエチルアクリルアミド、N−エトキシエチルメタクリルアミド、N−テトラヒドロフルフリルアクリルアミド、N−テトラヒドロフルフリルメタクリルアミド、1−(1−オキソ−2−プロペニル)ピロリジン、1−(1−オキソ−2−メチル−2−プロペニル)ピロリジン、1−(1−オキソ−2−プロペニル)ピペリジン、1−(1−オキソ−2−メチル−2−プロペニル)ピペリジン、4−(1−オキソ−2−プロペニル)モルホリン、4−(1−オキソ−2−メチル−2−プロペニル)モルホリンを重合して生成する繰り返し単位を例示できるが、LCSTを20℃〜45℃の範囲にするために、好ましくはN,N−ジエチルアクリルアミド、N−n−プロピルアクリルアミド、N−イソプロピルアクリルアミド、N−n−プロピルメタクリルアミド、N−エトキシエチルアクリルアミド、N−テトラヒドロフルフリルアクリルアミド、N−テトラヒドロフルフリルメタクリルアミドを重合して生成する繰り返し単位を、LCSTを30℃〜40℃の範囲にするために、さらに好ましくはN,N−ジエチルアクリルアミド、N−イソプロピルアクリルアミド、N−n−プロピルメタクリルアミド、N−エトキシエチルアクリルアミド、N−テトラヒドロフルフリルメタクリルアミドを重合して生成する繰り返し単位を用いる。   As a repeating unit represented by General formula (1) in this invention, N, N- diethyl acrylamide, N-ethyl acrylamide, N-n- propyl acrylamide, N-n- propyl methacrylamide, N- isopropyl acrylamide, N -Isopropyl methacrylamide, N-cyclopropyl acrylamide, N-cyclopropyl methacrylamide, N-ethoxyethyl acrylamide, N-ethoxyethyl methacrylamide, N-tetrahydrofurfuryl acrylamide, N-tetrahydrofurfuryl methacrylamide, 1- (1 -Oxo-2-propenyl) pyrrolidine, 1- (1-oxo-2-methyl-2-propenyl) pyrrolidine, 1- (1-oxo-2-propenyl) piperidine, 1- (1-oxo-2-methyl-) 2-propenyl The repeating unit formed by polymerizing piperidine, 4- (1-oxo-2-propenyl) morpholine and 4- (1-oxo-2-methyl-2-propenyl) morpholine can be exemplified, but the LCST is preferably 20 ° C. to 45 ° C. Preferably, N, N-diethyl acrylamide, N-n-propyl acrylamide, N-isopropyl acrylamide, N-n-propyl methacrylamide, N-ethoxyethyl acrylamide, N-tetrahydrofurfuryl acrylamide, in order to obtain a range of C. The repeating unit formed by polymerizing N-tetrahydrofurfuryl methacrylamide is more preferably N, N-diethyl acrylamide, N-isopropyl acrylamide, N-n-, in order to set the LCST in the range of 30 ° C. to 40 ° C. Propyl methacrylamide, N-etoki Ethyl acrylamide, using the repeating units produced by polymerizing N- tetrahydrofurfuryl methacrylamide.

本発明におけるブロック(A)は、特に限定は無いが、下記一般式(2)で表される繰り返し単位の内、少なくとも1種類の繰り返し単位を含む重合体を用いることができる。   Although the block (A) in the present invention is not particularly limited, a polymer containing at least one kind of repeating unit among repeating units represented by the following general formula (2) can be used.

Figure 2018174919
Figure 2018174919

R4は水素原子またはメチル基を表し、LCSTを20℃〜45℃の範囲にするために、水素原子が用いられる。   R4 represents a hydrogen atom or a methyl group, and a hydrogen atom is used to bring LCST in the range of 20 ° C to 45 ° C.

R5は、水素原子、炭素数1〜6の炭化水素基であり、LCSTを20℃〜45℃の範囲にするために、炭素数1〜3のアルキル基が用いられる。   R5 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms is used to make the LCST in the range of 20 ° C to 45 ° C.

炭素数1〜6の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert.−ブチル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基を例示できるが、LCSTを20℃〜45℃の範囲にするために、好ましくはメチル基、エチル基、n−プロピル基が用いられる。   Examples of the hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, cyclopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert. Although -butyl group, n-hexyl group and isohexyl group can be exemplified, in order to set LCST in the range of 20 ° C to 45 ° C, methyl group, ethyl group and n-propyl group are preferably used.

rは1〜10の整数であり、LCSTを20℃〜45℃の範囲にするために、1〜3の整数が用いられる。   r is an integer of 1 to 10, and an integer of 1 to 3 is used to make LCST in the range of 20 ° C to 45 ° C.

本発明における一般式(2)で表される繰り返し単位としては、LCSTを20℃〜45℃の範囲にするために、好ましくは2−(2−エトキシ)エトキシエチルビニルエーテルを重合して生成する繰り返し単位を用いる。   The repeating unit represented by the general formula (2) in the present invention is preferably a repeating unit formed by polymerizing 2- (2-ethoxy) ethoxyethyl vinyl ether in order to set LCST in the range of 20 ° C. to 45 ° C. Use a unit.

本発明におけるブロック(A)は、特に限定は無いが、下記一般式(3)で表される繰り返し単位の内、少なくとも1種類の繰り返し単位を含む重合体を用いることができる。   The block (A) in the present invention is not particularly limited, but a polymer containing at least one kind of repeating unit among repeating units represented by the following general formula (3) can be used.

Figure 2018174919
Figure 2018174919

R6は水素原子またはメチル基を表し、LCSTを20℃〜45℃の範囲にするために、水素原子が用いられる。   R6 represents a hydrogen atom or a methyl group, and a hydrogen atom is used to bring LCST in the range of 20 ° C to 45 ° C.

R7は炭素数1〜6の炭化水素基を表し、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert.−ブチル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基を例示できるが、LCSTを20℃〜45℃の範囲にするために、好ましくはメチル基、エチル基が用いられる。   R7 represents a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, cyclopropyl, n-butyl, isobutyl, tert. -Butyl group, n-hexyl group and isohexyl group can be exemplified, but methyl group and ethyl group are preferably used in order to set LCST in the range of 20 ° C to 45 ° C.

本発明における一般式(3)で表される繰り返し単位としては、LCSTを20℃〜45℃の範囲にするために、好ましくはメチルビニルエーテルを重合して生成する繰り返し単位を用いる。   As a repeating unit represented by General formula (3) in this invention, in order to make LCST into the range of 20 degreeC-45 degreeC, Preferably the repeating unit which polymerizes and produces | generates a methyl vinyl ether is used.

本発明におけるブロック(B)は、特に限定は無いが、下記一般式(4)で表される繰り返し単位の内、少なくとも1種類の繰り返し単位を含む重合体を用いることができる。   The block (B) in the present invention is not particularly limited, but a polymer containing at least one kind of repeating unit among repeating units represented by the following general formula (4) can be used.

Figure 2018174919
Figure 2018174919

R8は水素原子またはメチル基を表し、基材に塗布して水中で剥離しない安定な膜を得るためにメチル基が用いられる。   R8 represents a hydrogen atom or a methyl group, and the methyl group is used in order to obtain a stable film which does not peel off in water by applying to a substrate.

Yは水素原子、塩素原子、アセトキシ基、ニトリル基、炭素数6〜30の芳香族炭化水素基を例示することができ、水中で剥離しない安定な膜を得るために、好ましくは水素原子、塩素原子、炭素数6〜30の芳香族炭化水素を用いることができる。炭素数6〜30の芳香族炭化水素基としてはフェニル基、1−ナフタレン基、2−ナフタレン基、9−アントラセン基、1−ピレン基およびその誘導体を例示することができる。   Y can be exemplified by a hydrogen atom, a chlorine atom, an acetoxy group, a nitrile group, and an aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms, and in order to obtain a stable film which does not peel off in water, preferably a hydrogen atom, chlorine An atom, an aromatic hydrocarbon having 6 to 30 carbon atoms can be used. As a C6-C30 aromatic hydrocarbon group, a phenyl group, 1-naphthalene group, 2-naphthalene group, 9-anthracene group, 1-pyrene group, and its derivative can be illustrated.

本発明における一般式(4)で表される繰り返し単位としては、エチレン、塩化ビニル、酢酸ビニル、アクリロニトリル、スチレン、1−ビニルナフタレン基、2−ビニルナフタレン基、9−ビニルアントラセン基、1−ビニルピレンを重合して生成する繰り返し単位を例示できる。   As the repeating unit represented by the general formula (4) in the present invention, ethylene, vinyl chloride, vinyl acetate, acrylonitrile, styrene, 1-vinylnaphthalene group, 2-vinylnaphthalene group, 9-vinylanthracene group, 1-vinylpyrene And a repeating unit formed by polymerizing

本発明におけるブロック(B)は、特に限定は無いが、一般式(5)で表される繰り返し単位の内、少なくとも1種類の繰り返し単位を含む重合体を用いることができる。   The block (B) in the present invention is not particularly limited, but a polymer containing at least one repeating unit of the repeating units represented by the general formula (5) can be used.

Figure 2018174919
Figure 2018174919

R9は水素原子またはメチル基を表し、基材に塗布して水中で剥離しない安定な膜を得るためにメチル基が用いられる。   R9 represents a hydrogen atom or a methyl group, and the methyl group is used in order to obtain a stable film which does not peel off in water by applying to a substrate.

R10は炭素数1〜30の炭化水素基であり、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert.−ブチル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ドデシル基、n−ヘキサデシル基、n−オクタデシル基を例示できるが、水中で剥離しない安定な膜を得るために、好ましくはn−ブチル基、イソブチル基、tert.−ブチル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ドデシル基、n−ヘキサデシル基、n−オクタデシル基が用いられる。   R10 is a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, and a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, a cyclopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a tert. -Butyl group, n-hexyl group, isohexyl group, n-octyl group, n-decyl group, n-dodecyl group, n-hexadecyl group, n-octadecyl group can be exemplified, but a stable film not peeled off in water is obtained Preferably, n-butyl group, isobutyl group, tert. -Butyl group, n-hexyl group, isohexyl group, n-octyl group, n-decyl group, n-dodecyl group, n-hexadecyl group, n-octadecyl group are used.

Zは、エステル結合、アミド結合、ウレタン結合、及びエーテル結合からなる群から選択される2価の結合であり、水中で剥離しない安定な膜を得るために、好ましくはエステル結合、アミド結合であり、特に好ましくはエステル結合である。   Z is a divalent bond selected from the group consisting of an ester bond, an amide bond, a urethane bond, and an ether bond, preferably an ester bond or an amide bond in order to obtain a stable film which does not peel off in water Particularly preferred is an ester bond.

本発明における一般式(5)で表される繰り返し単位としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、n−ペンチル(メタ)アクリレート、n−ヘキシル(メタ)アクリレート、n−オクチル(メタ)アクリレート、n−デシル(メタ)アクリレート、n−ウンデシル(メタ)アクリレート、n−ドデシル(メタ)アクリレート、n−テトラデシル(メタ)アクリレート、n−ヘキサデシル(メタ)アクリレート、n−オクタデシル(メタ)アクリレート、n−エイコシル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート化合物、N−n−オクチル(メタ)アクリルアミド、N−n−デシル(メタ)アクリルアミド、N−n−ドデシル(メタ)アクリルアミド、N−n−ヘキサデシル(メタ)アクリルアミド、N−n−オクタデシル(メタ)アクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド化合物、N−ビニル−n−オクチルアミド、N−ビニル−n−デシルアミド、N−ビニル−n−ドデシルアミド、N−ビニル−n−ヘキサデシルアミド等のN−ビニルアミド化合物を重合して生成する繰り返し単位を例示できるが、水中で剥離しない安定な膜を得るために、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、n−ペンチル(メタ)アクリレート、n−ヘキシル(メタ)アクリレート、n−ヘプチル(メタ)アクリレート、n−オクチル(メタ)アクリレート、n−トリデシル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート化合物を重合して生成する繰り返し単位を用いる。   As a repeating unit represented by General formula (5) in this invention, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate , Isobutyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, n-pentyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, n-decyl (meth) acrylate, n-undecyl (Meth) acrylates such as (meth) acrylate, n-dodecyl (meth) acrylate, n-tetradecyl (meth) acrylate, n-hexadecyl (meth) acrylate, n-octadecyl (meth) acrylate, n-eicosyl (meth) acrylate Compound N-n-octyl (meth) acrylamide, N-n-decyl (meth) acrylamide, N-n-dodecyl (meth) acrylamide, N-n-hexadecyl (meth) acrylamide, N-n-octadecyl (meth) acrylamide, etc. Polymerization of N-vinylamide compounds such as (meth) acrylamide compounds, N-vinyl-n-octylamide, N-vinyl-n-decylamide, N-vinyl-n-dodecylamide, N-vinyl-n-hexadecylamide For example, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, n-pentyl (meth) may be used to obtain a stable film which does not peel off in water. ) Acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, n-heptyl (meth) acrylate Over DOO, n- octyl (meth) acrylate, n- tridecyl (meth) using a repeating unit produced by polymerizing a (meth) acrylate compound of acrylate.

本発明におけるブロック(B)としては、上記以外に、N−シクロヘキシルマレイミド、N−フェニルマレイミド等のN−アルキルマレイミド化合物、フマル酸ジ−tert−ブチル、フマル酸ジ−n−ブチル等のフマル酸ジエステル化合物、N−ビニルイミダゾール、N−ビニルカルバゾール等から選ばれる少なくとも1つのモノマーの重合体を用いることができる。   As the block (B) in the present invention, in addition to the above, N-alkylmaleimide compounds such as N-cyclohexylmaleimide, N-phenylmaleimide and the like, fumaric acids such as di-tert-butyl fumarate and di-n-butyl fumarate A polymer of at least one monomer selected from diester compounds, N-vinylimidazole, N-vinylcarbazole and the like can be used.

本発明のブロック共重合体を構成するブロック(C)は特に限定は無いが、下記一般式(6)で表される繰り返し単位の内、少なくとも1種類の繰り返し単位を含む重合体を用いることができる。   The block (C) constituting the block copolymer of the present invention is not particularly limited, but a polymer containing at least one kind of repeating unit among repeating units represented by the following general formula (6) may be used it can.

Figure 2018174919
Figure 2018174919

R11は水素原子又はメチル基であり、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮するために、好ましくはメチル基を用いる。   R11 is a hydrogen atom or a methyl group, and preferably a methyl group is used to shorten the cooling time required for cell detachment.

R12は、炭素数1〜10の2価の炭化水素基であり、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮するために、好ましくは炭素数1〜6の2価の炭化水素基、特にアルキレンである。このようなアルキレンとして、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレンなどが例示され、好ましくはエチレンである。   R 12 is a C 1 to C 10 bivalent hydrocarbon group, and is preferably a C 1 to C 6 bivalent hydrocarbon group, particularly alkylene, in order to shorten the cooling time required for cell detachment. . Examples of such alkylene include methylene, ethylene, propylene, butylene, pentamethylene, hexamethylene and the like, with preference given to ethylene.

R13は、炭素数1〜4の2価の炭化水素基であり、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮するために、好ましくは炭素数1〜4のアルキレン、例えばメチレン、エチレン、プロピレン、ブチレンなどが例示され、エチレンが特に好ましい。   R13 is a divalent hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, and is preferably an alkylene having 1 to 4 carbon atoms, such as methylene, ethylene, propylene, butylene, etc., in order to shorten the cooling time required for cell detachment. Is exemplified, with ethylene being particularly preferred.

R14、R15、及びR16は、互いに独立して、水素原子又は炭素数1〜2の炭化水素基、例えばメチル基又はエチル基であり、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮するために、特にR14、R15、及びR16が同時に、水素原子又はメチル基、特にメチル基であることが好ましい。   R14, R15 and R16 are, independently of one another, a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 2 carbon atoms, such as a methyl group or an ethyl group, in particular R14 in order to shorten the cooling time required for cell detachment. , R15 and R16 are simultaneously preferably a hydrogen atom or a methyl group, especially a methyl group.

A1はエステル結合、アミド結合、ウレタン結合、及びエーテル結合からなる群から選択される2価の結合であり、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮するために、エステル結合、アミド結合、特にエステル結合が好ましい。   A1 is a divalent bond selected from the group consisting of an ester bond, an amide bond, a urethane bond, and an ether bond, and the ester bond, the amide bond, in particular, an ester bond, in order to shorten the cooling time required for cell detachment. Is preferred.

本発明における一般式(6)で表される繰り返し単位としては、2−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン、2−アクリロイルオキシエチルホスホリルコリン、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルホスホリルコリン、4−(メタ)アクリロイルオキシブチルホスホリルコリン、6−(メタ)アクリロイルオキシヘキシルホスホリルコリン、10−(メタ)アクリロイルオキシデシルホスホリルコリン、ω−(メタ)アクリロイル(ポリ)オキシエチレンホスホリルコリン、2−アクリルアミドエチルホスホリルコリン、3−アクリルアミドプロピルホスホリルコリン、4−アクリルアミドブチルホスホリルコリン、6−アクリルアミドヘキシルホスホリルコリン、10−アクリルアミドデシルホスホリルコリン、ω−(メタ)アクリルアミド(ポリ)オキシエチレンホスホリルコリンを重合して生成する繰り返し単位を例示できる。これらの繰り返し単位は、細胞膜の構成要素であるリン脂質に類似する構造を有することから、細胞の接着性を抑制することができる。細胞培養用基材にした場合に細胞剥離に必要な冷却時間を短縮するために、好ましくは2−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリンを重合して生成する繰り返し単位を用いる。   As a repeating unit represented by General formula (6) in this invention, 2-methacryloyl oxyethyl phosphoryl choline, 2-acryloyl oxy ethyl phosphoryl choline, 3- (meth) acryloyl oxy propyl phosphoryl choline, 4- (meth) acryloyl oxy butyl phosphoryl choline 6- (Meth) acryloyloxyhexyl phosphorylcholine, 10- (Meth) acryloyloxydecyl phosphorylcholine, ω- (Meth) acryloyl (poly) oxyethylene phosphoryl choline, 2-acrylamidoethyl phosphoryl choline, 3-acrylamido propyl phosphoryl choline, 4-acrylamido butyl Phosphoryl choline, 6-acrylamido hexyl phosphoryl choline, 10-acrylamido decyl phosphoryl choline, ω- (meth) a The repeating unit produced | generated by polymerizing chloramide (poly) oxy ethylene phosphoryl choline can be illustrated. These repeating units have structures similar to phospholipids that are constituents of cell membranes, and thus can suppress cell adhesion. In order to shorten the cooling time required for cell detachment when used as a cell culture substrate, preferably, a repeating unit formed by polymerizing 2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine is used.

本発明におけるブロック(C)は、特に限定は無いが、下記一般式(7)で表される繰り返し単位の内、少なくとも1種類の繰り返し単位を含む重合体を用いることができる。   Although the block (C) in the present invention is not particularly limited, a polymer containing at least one kind of repeating unit among repeating units represented by the following general formula (7) can be used.

Figure 2018174919
Figure 2018174919

R17は水素原子またはメチル基を表し、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮するためにメチル基が用いられる。   R17 represents a hydrogen atom or a methyl group, and a methyl group is used to shorten the cooling time required for cell detachment.

R18は−(CH2CH2O)i−(CH2CH(CH3)O)j−R19(式中、R19は水素原子、炭素数1〜30のアルキル基であり、iは1〜300の整数であり、jは0〜60の整数である。)で表されるポリオキシアルキレン基、−CH2−O−R20(式中、R20は水素原子、炭素数1〜6の炭化水素基である。)で表される置換基、フルフリル基、テトラヒドロフルフリル基、水素原子を示す。   R18 is-(CH2CH2O) i- (CH2CH (CH3) O) j-R19 (wherein, R19 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, i is an integer of 1 to 300, and j is It is an integer of 0 to 60. It is represented by a polyoxyalkylene group represented by), -CH2-O-R20 (wherein, R20 is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms). A substituent, a furfuryl group, a tetrahydrofurfuryl group, and a hydrogen atom are shown.

R19に用いられる炭素数1〜30のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert.−ブチル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基を例示できるが、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮するために好ましくはメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基が用いられる。   As a C1-C30 alkyl group used for R19, a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, an isopropyl group, a cyclopropyl group, n-butyl group, an isobutyl group, tert. -Butyl group, n-hexyl group and isohexyl group can be exemplified, but methyl group, ethyl group, n-propyl group and isopropyl group are preferably used in order to shorten the cooling time required for cell detachment.

R20に用いられる炭素数1〜6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert.−ブチル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基を例示できるが、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮するために好ましくはメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基が用いられる。   As a C1-C6 alkyl group used for R20, a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, an isopropyl group, a cyclopropyl group, n-butyl group, an isobutyl group, tert. -Butyl group, n-hexyl group and isohexyl group can be exemplified, but methyl group, ethyl group, n-propyl group and isopropyl group are preferably used in order to shorten the cooling time required for cell detachment.

本発明における一般式(7)で表される繰り返し単位としては、ポリエチレングリコールメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシメチルアクリレート、ヒドロキシメチルメタクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、2−メトキシエチルメタクリレート、フルフリルアクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレートまたはテトラヒドロフルフリルメタクリレートを重合して生成する繰り返し単位を例示できるが、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮するために、好ましくはポリエチレングリコールメタクリレート、2−メトキシエチルアクリレートまたはテトラヒドロフルフリルアクリレートを重合して生成する繰り返し単位を用いる。   As a repeating unit represented by General formula (7) in this invention, polyethyleneglycol methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, hydroxymethyl acrylate, hydroxymethyl methacrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 2-methoxy The repeating unit formed by polymerizing ethyl methacrylate, furfuryl acrylate, furfuryl methacrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate or tetrahydrofurfuryl methacrylate can be exemplified, but preferably polyethylene glycol to shorten the cooling time required for cell detachment. A repeating unit formed by polymerizing methacrylate, 2-methoxyethyl acrylate or tetrahydrofurfuryl acrylate is used.

本発明におけるブロック(C)は、特に限定は無いが、下記一般式(8)で表される繰り返し単位の内、少なくとも1種類の繰り返し単位を含む重合体を用いることができる。   The block (C) in the present invention is not particularly limited, but a polymer containing at least one kind of repeating unit among repeating units represented by the following general formula (8) can be used.

Figure 2018174919
Figure 2018174919

R21は水素原子またはメチル基を表し、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮するためにメチル基が用いられる。   R21 represents a hydrogen atom or a methyl group, and a methyl group is used to shorten the cooling time required for cell detachment.

R22は、炭素数1〜10の2価の炭化水素基であり、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮するために、好ましくは、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン等の炭素数1〜6の2価のアルキレン基であり、更に好ましくはエチレンである。   R22 is a divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and preferably has 1 carbon atom such as methylene, ethylene, propylene, butylene, pentylene or hexylene to shorten the cooling time required for cell detachment. It is a -6 divalent alkylene group, and more preferably ethylene.

R23は、炭素数1〜4の2価の炭化水素基であり、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮するために、好ましくは、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン等のアルキレン基であり、更に好ましくはエチレンである。   R23 is a divalent hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, and is preferably an alkylene group such as methylene, ethylene, propylene, butylene or the like to shorten the cooling time required for cell detachment, and more preferably Is ethylene.

R24及びR25は、各々独立して、水素原子又は炭素数1〜4の炭化水素基であり、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮するために、好ましくは、R24及びR25が同時に水素原子またはメチル基であり、更に好ましくは同時にメチル基である。   R24 and R25 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms. Preferably, R24 and R25 simultaneously represent a hydrogen atom or methyl to shorten the cooling time required for cell detachment. And more preferably simultaneously methyl groups.

A2は、エステル結合、アミド結合、ウレタン結合、及びエーテル結合からなる群から選択される2価の結合であり、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮するために、好ましくはエステル結合、アミド結合であり、特に好ましくはエステル結合である。   A2 is a divalent bond selected from the group consisting of an ester bond, an amide bond, a urethane bond, and an ether bond, and is preferably an ester bond or an amide bond to shorten the cooling time required for cell detachment. Particularly preferred is an ester bond.

Xはスルホン酸アニオン基、カルボン酸アニオン基、リン酸アニオン基、オキシアニオン基である。   X is a sulfonate anion group, a carboxylate anion group, a phosphate anion group, or an oxyanion group.

本発明における一般式(8)で表される繰り返し単位としては、ジメチル(2−メタクリロイルオキシエチル)(カルボキシラトメチル)アミニウム、ジメチル(2−メタクリロイルオキシエチル)(2−カルボキシラトエチル)アミニウム、ジメチル(2−アクリロイルオキシエチル)(2−カルボキシラトエチル)アミニウム、ジメチル(2−メタクリロイルオキシエチル)(3−カルボキシラトプロピル)アミニウム、ジメチル(2−アクリロイルオキシエチル)(3−カルボキシラトプロピル)アミニウム、ジメチル(3−メタクリロイルアミノプロピル)(3−スルホナトプロピル)アミニウム、ジメチル(3−メタクリロイルアミノプロピル)(4−スルホナトブチル)アミニウム、ジメチル(2−メタクリロイルオキシエチル)(2−スルホナトエチル)アミニウム、ジメチル(2−アクリロイルオキシエチル)(2−スルホナトエチル)アミニウム、ジメチル(2−メタクリロイルオキシエチル)(3−スルホナトプロピル)アミニウム、ジメチル(2−アクリロイルオキシエチル)(3−スルホナトプロピル)アミニウム、ジメチル(2−メタクリロイルオキシエチル)(2−ホスホナトエチル)アミニウム、ジメチル(2−アクリロイルオキシエチル)(2−ホスホナトエチル)アミニウム、ジメチル(2−メタクリロイルオキシエチル)(3−ホスホナトプロピル)アミニウム、またはジメチル(2−アクリロイルオキシエチル)(3−ホスホナトプロピル)アミニウムを重合して生成する繰り返し単位を例示できるが、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮するために、好ましくはジメチル(2−メタクリロイルオキシエチル)(カルボキシラトメチル)アミニウム、ジメチル(2−メタクリロイルオキシエチル)(2−カルボキシラトエチル)アミニウム、ジメチル(3−メタクリロイルアミノプロピル)(3−スルホナトプロピル)アミニウム、ジメチル(3−メタクリロイルアミノプロピル)(4−スルホナトブチル)アミニウムまたはジメチル(2−メタクリロイルオキシエチル)(2−スルホナトエチル)アミニウムを重合して生成する繰り返し単位を用いる。   As the repeating unit represented by the general formula (8) in the present invention, dimethyl (2-methacryloyloxyethyl) (carboxylatomethyl) aminium, dimethyl (2-methacryloyloxyethyl) (2-carboxylatoethyl) aminium, dimethyl (2-acryloyloxyethyl) (2-carboxylatoethyl) aminium, dimethyl (2-methacryloyloxyethyl) (3-carboxylatopropyl) aminium, dimethyl (2-acryloyloxyethyl) (3-carboxylatopropyl) aminium, Dimethyl (3-methacryloylaminopropyl) (3-sulfonatopropyl) aminium, dimethyl (3-methacryloylaminopropyl) (4-sulfonatobutyl) aminium, dimethyl (2-methacryloyloxyethyl) (2-sulfonatoethyl) aminium, dimethyl (2-acryloyloxyethyl) (2-sulfonatoethyl) aminium, dimethyl (2-methacryloyloxyethyl) (3-sulfonatopropyl) aminium, dimethyl (2-acryloyloxyethyl) ) (3-Sulfonatopropyl) aminium, dimethyl (2-methacryloyloxyethyl) (2-phosphonatoethyl) aminium, dimethyl (2-acryloyloxyethyl) (2-phosphonatoethyl) aminium, dimethyl (2-methacryloyloxyethyl) (3 -A repeating unit formed by polymerizing phosphonatopropyl) aminium or dimethyl (2-acryloyloxyethyl) (3-phosphonatopropyl) aminium can be exemplified, but the cooling time required for cell detachment is shortened. Preferably, dimethyl (2-methacryloyloxyethyl) (carboxylatomethyl) aminium, dimethyl (2-methacryloyloxyethyl) (2-carboxylatoethyl) aminium, dimethyl (3-methacryloylaminopropyl) (3-sulfonato) is preferred. A repeating unit formed by polymerizing propyl) aminium, dimethyl (3-methacryloylaminopropyl) (4-sulfonatobutyl) aminium or dimethyl (2-methacryloyloxyethyl) (2-sulfonatoethyl) aminium is used.

本発明におけるブロック(C)は、特に限定は無いが、下記一般式(9)で表される繰り返し単位の内、少なくとも1種類の繰り返し単位を含む重合体を用いることができる。   The block (C) in the present invention is not particularly limited, but a polymer containing at least one kind of repeating unit among repeating units represented by the following general formula (9) can be used.

Figure 2018174919
Figure 2018174919

R26は水素原子またはメチル基を表し、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮するためにメチル基が用いられる。   R26 represents a hydrogen atom or a methyl group, and a methyl group is used to shorten the cooling time required for cell detachment.

R27、R28は各々独立して水素原子又はメチル基である。   R 27 and R 28 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.

本発明における一般式(9)で表される繰り返し単位としては、アクリルアミドまたはN,N−ジメチルアクリルアミドを重合して生成する繰り返し単位を用いることができる。   As a repeating unit represented by General formula (9) in this invention, the repeating unit formed by superposing | polymerizing acrylamide or N, N- dimethyl acrylamide can be used.

本発明におけるブロック(C)は、特に限定は無いが、一般式(10)で表される繰り返し単位の内、少なくとも1種類の繰り返し単位を含む重合体を用いることができる。   The block (C) in the present invention is not particularly limited, but a polymer containing at least one repeating unit among the repeating units represented by the general formula (10) can be used.

Figure 2018174919
Figure 2018174919

R29は水素原子またはメチル基を表し、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮するためにメチル基が用いられる。   R29 represents a hydrogen atom or a methyl group, and a methyl group is used to shorten the cooling time required for cell detachment.

本発明における下記一般式(10)で表される繰り返し単位としては、N−ビニルピロリドンを重合して生成する繰り返し単位を用いることができる。   As a repeating unit represented by the following general formula (10) in the present invention, a repeating unit formed by polymerizing N-vinylpyrrolidone can be used.

本発明におけるブロック(C)は、特に限定は無いが、下記一般式(11)で表される繰り返し単位の内、少なくとも1種類の繰り返し単位を含む重合体を用いることができる。   Although the block (C) in the present invention is not particularly limited, a polymer containing at least one kind of repeating unit among repeating units represented by the following general formula (11) can be used.

Figure 2018174919
Figure 2018174919

R30は水素原子又はメチル基であり、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮するために、好ましくはメチル基を用いる。   R30 is a hydrogen atom or a methyl group, and preferably a methyl group is used to shorten the cooling time required for cell detachment.

R31は、炭素数1〜10の2価の炭化水素基であり、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮するために、好ましくは炭素数1〜6の2価の炭化水素基、特にアルキレンである。このようなアルキレンとして、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレンなどが例示され、好ましくはエチレンである。   R 31 is a C 1 to C 10 bivalent hydrocarbon group, and is preferably a C 1 to C 6 bivalent hydrocarbon group, particularly alkylene, in order to shorten the cooling time required for cell detachment. . Examples of such alkylene include methylene, ethylene, propylene, butylene, pentamethylene, hexamethylene and the like, with preference given to ethylene.

R32及びR33は、互いに独立して、水素原子又は炭素数1〜2の炭化水素基、例えばメチル基又はエチル基であり、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮するために、特にR32及びR33が同時に、水素原子又はメチル基、特にメチル基であることが好ましい。   R32 and R33 are, independently of each other, a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 2 carbon atoms, such as a methyl group or an ethyl group, and in order to shorten the cooling time required for cell detachment, particularly R32 and R33 At the same time, a hydrogen atom or a methyl group, particularly a methyl group, is preferred.

A3はエステル結合、アミド結合、ウレタン結合、及びエーテル結合からなる群から選択される2価の結合であり、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮するために、エステル結合、アミド結合、特にエステル結合が好ましい。   A3 is a divalent bond selected from the group consisting of an ester bond, an amide bond, a urethane bond, and an ether bond, and in order to shorten the cooling time required for cell detachment, an ester bond, an amide bond, particularly an ester bond Is preferred.

本発明における一般式(11)で表される繰り返し単位としては、アミノメチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノメチル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノメチル(メタ)アクリレート、アミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、3−アミノプロピル(メタ)アクリレート、3−(N,N−ジメチルアミノ)−プロピル(メタ)アクリレート、3−(N,N−ジエチルアミノ)−プロピル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミドメチルアミン、ジメチル[(メタ)アクリルアミドメチル]アミン、ジエチル[(メタ)アクリルアミドメチル]アミン、(メタ)アクリルアミドエチルアミン、ジメチル[(メタ)アクリルアミドエチル]アミン、ジエチル[(メタ)アクリルアミドエチル]アミン、3−(メタ)アクリルアミドプロピルアミン、ジメチル[3−(メタ)アクリルアミドプロピル]アミン、ジエチル[3−(メタ)アクリルアミドエチル]アミンを重合して生成する繰り返し単位を例示できるが、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮するために、好ましくはN,N−ジメチルアミノメチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチル[(メタ)アクリルアミドメチル]アミン、ジメチル[(メタ)アクリルアミドエチル]アミンを重合して生成する繰り返し単位を用いる。   As the repeating unit represented by the general formula (11) in the present invention, aminomethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminomethyl (meth) acrylate, N, N-diethylaminomethyl (meth) acrylate, aminoethyl Meta) acrylate, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-diethylaminoethyl (meth) acrylate, 3-aminopropyl (meth) acrylate, 3- (N, N-dimethylamino) -propyl (meth) ) Acrylate, 3- (N, N-diethylamino) -propyl (meth) acrylate, (meth) acrylamidomethylamine, dimethyl [(meth) acrylamidomethyl] amine, diethyl [(meth) acrylamidomethyl] amine, (meth) acrylamide Ethylamine, Dimethy [(Meth) acrylamidoethyl] amine, diethyl [(meth) acrylamidoethyl] amine, 3- (meth) acrylamidopropylamine, dimethyl [3- (meth) acrylamidopropyl] amine, diethyl [3- (meth) acrylamidoethyl] For example, N, N-dimethylaminomethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminoethyl (meth) is preferably used to shorten the cooling time required for cell detachment, although it is possible to exemplify a repeating unit formed by polymerizing an amine. A repeating unit formed by polymerizing acrylate), dimethyl [(meth) acrylamidomethyl] amine, dimethyl [(meth) acrylamidoethyl] amine is used.

ブロック共重合体中の各ブロックは直接結合していてもよいし、スペーサーを介して結合していてもよい。また、ブロック間の結合の少なくとも1つが下記一般式(12)および(13)で表される2価の結合の内、少なくとも1種類の結合を含む2価の結合であってもよい。   Each block in the block copolymer may be directly bonded or may be bonded via a spacer. In addition, at least one of the bonds between the blocks may be a divalent bond including at least one type of bond among the divalent bonds represented by the following general formulas (12) and (13).

Figure 2018174919
Figure 2018174919

Figure 2018174919
Figure 2018174919

R34は水素原子または炭素数1〜20の炭化水素基であるが、ブロック間の安定な結合を得ることを目的に水素原子であることが好ましい。炭素数1〜20の炭化水素基としてはメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基を例示することができる。
ブロック共重合体を構成する全繰り返し単位の量に対するブロック(A)を構成する繰り返し単位(a)の量の比率は1〜90mol%であり、基材に被覆した場合に、細胞接着性を付与すると共に、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮するために、5〜85mol%であることが好ましい。全繰り返し単位の量に対するブロック(A)を構成する繰り返し単位(a)の量の比率が1mol%未満であれば細胞接着性が低下し、90mol%を超えれば細胞剥離に必要な冷却時間が長くなる。
R34 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, but is preferably a hydrogen atom for the purpose of obtaining a stable bond between the blocks. As a C1-C20 hydrocarbon group, a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, n-hexyl group, n-octyl group can be illustrated.
The ratio of the amount of repeating units (a) constituting the block (A) to the amount of all repeating units constituting the block copolymer is 1 to 90 mol%, and when coated on a substrate, the cell adhesiveness is imparted In order to reduce the cooling time required for cell detachment, it is preferably 5 to 85 mol%. If the ratio of the amount of repeating units (a) constituting the block (A) to the amount of all repeating units is less than 1 mol%, the cell adhesion decreases, and if it exceeds 90 mol%, the cooling time required for cell detachment is long Become.

ブロック共重合体を構成する全繰り返し単位の量に対するブロック(B)を構成する繰り返し単位(b)の量の比率は1〜90mol%であり、基材に被覆する場合に、基材への接着性を付与すると共に、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮するために、5〜85mol%であることが好ましい。全繰り返し単位の量に対するブロック(B)を構成する繰り返し単位(b)の量の比率が1mol%未満であれば基材への接着性が低下し、90mol%を超えれば細胞剥離に必要な冷却時間が長くなる。   The ratio of the amount of repeating units (b) constituting the block (B) to the amount of all repeating units constituting the block copolymer is 1 to 90 mol%, and in the case of coating on a substrate, adhesion to the substrate It is preferable that it is 5-85 mol%, in order to provide property and to shorten the cooling time required for cell detachment. If the ratio of the amount of repeating units (b) constituting the block (B) to the amount of all repeating units is less than 1 mol%, the adhesion to the substrate decreases, and if it exceeds 90 mol%, the cooling necessary for cell detachment The time will be longer.

ブロック共重合体を構成する全繰り返し単位の量に対するブロック(C)を構成する繰り返し単位(c)の量の比率は1〜90mol%であり、基材に被覆した場合に、細胞接着性を付与すると共に、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮するために、5〜85mol%であることが好ましい。全繰り返し単位の量に対するブロック(C)を構成する繰り返し単位(c)の量の比率が1mol%未満であれば細胞剥離に必要な冷却時間が長くなり、90mol%を超えれば細胞接着性が低下する。   The ratio of the amount of repeating units (c) constituting the block (C) to the amount of all repeating units constituting the block copolymer is 1 to 90 mol%, and when it is coated on a substrate, the cell adhesiveness is imparted In order to reduce the cooling time required for cell detachment, it is preferably 5 to 85 mol%. If the ratio of the amount of repeating units (c) constituting the block (C) to the amount of all repeating units is less than 1 mol%, the cooling time required for cell detachment will be long, and if it exceeds 90 mol%, the cell adhesion will be reduced Do.

本発明のブロック共重合体の数平均分子量(Mn)は3,000以上1,000,000以下の範囲にあり、好ましくは4,000以上500,000以下、さらに好ましくは5,000以上200,000以下である。3,000未満の場合は細胞培養用基材に被覆しても細胞培養中に基材から培地中に溶出してしまう。また、1,000,000を越える場合は溶液粘度が高くなり、細胞培養用基材への被覆が困難になる。   The number average molecular weight (Mn) of the block copolymer of the present invention is in the range of 3,000 to 1,000,000, preferably 4,000 to 500,000, and more preferably 5,000 to 200, It is less than 000. If it is less than 3,000, even if it is coated on a cell culture substrate, it elutes from the substrate into the medium during cell culture. On the other hand, if it exceeds 1,000,000, the solution viscosity becomes high, which makes it difficult to coat the cell culture substrate.

本発明のブロック共重合体の合成方法としては、特に限定はないが、株式会社エヌ・ティー・エス発行、“ラジカル重合ハンドブック”、p.161〜225(2010)に記載のリビングラジカル重合技術を用いて、共重合する方法を用いることができる。   Although there is no limitation in particular as a synthesis method of the block copolymer of the present invention, "The radical polymerization handbook", p. The method of copolymerizing can be used using the living radical polymerization technique described in 161-225 (2010).

重合するモノマーの順番としては、ブロック(A)を生成するモノマーを(共)重合した後、ブロック(B)を生成するモノマーを(共)重合し、さらにブロック(C)を生成するモノマーを(共)重合する方法、ブロック(C)を生成するモノマーを(共)重合した後、ブロック(B)を生成するモノマーを(共)重合し、さらにブロック(A)を生成するモノマーを(共)重合する方法を用いることができる。   As for the order of monomers to be polymerized, (co) polymerize monomers forming block (A), (co) polymerize monomers forming block (B), and further monomers (block (C)) Method of co-polymerization, (co) polymerize monomers forming block (C), (co) polymerize monomers forming block (B), and (co) monomers further forming block (A) A polymerization method can be used.

本発明のブロック共重合体の合成方法としては、特に限定はないが、A. Michael, J. Prakt. Chem. 48, 94(1893)、R. Huisgen, in 1,3−Dipolar Cycloadditi−on Chemistry, ed. by A. Padwa, Wiley, New York, Vol. 1, 1−176(1984)、C. W. Tornoe, C. Christensen, M. Meldal, J. Org. Chem. 67, 3057−3062、V. V. Rostovtsev, L. G. Green, V. V. Fokin, K. B. Sharpless, Angew. Chem., Int. Ed. 41, 2596−2599(2002)に記載の、アジド基を有するブロックとアルキン基を有するブロックのクリック反応を用いることができる。   There is no particular limitation on the synthesis method of the block copolymer of the present invention. Michael, J. Prakt. Chem. 48, 94 (1893), R.S. Huisgen, in 1,3-Dipolar Cycloadditi-on Chemistry, ed. by A. Padwa, Wiley, New York, Vol. 1, 1-176 (1984), C.I. W. Tornoe, C. Christensen, M. Meldal, J.A. Org. Chem. 67, 3057-3062, V.I. V. Rostovtsev, L. G. Green, V. V. Fokin, K. B. Sharpless, Angew. Chem. , Int. Ed. 41, 2596-2599 (2002), and a click reaction of a block having an azide group and a block having an alkyne group can be used.

クリック反応の方法としては、ブロック(B)を生成するモノマーのリビングラジカル重合で末端にアルキン基を有するブロック(B)を合成し、さらにブロック(A)を生成するモノマーのリビングラジカル重合で末端にアルキン基を有するブロック(B)とブロック(A)からなるジブロック体を合成した後、末端にアジド基を有するブロック(C)を反応させる方法、ブロック(B)を生成するモノマーのリビングラジカル重合で末端にアジド基を有するブロック(B)を合成し、さらにブロック(A)を生成するモノマーのリビングラジカル重合で末端にアジド基を有するブロック(B)とブロック(A)からなるジブロック体を合成した後、末端にアルキン基を有するブロック(C)を反応させる方法、ブロック(B)を生成するモノマーのリビングラジカル重合で末端にアルキン基を有するブロック(B)を合成し、さらにブロック(C)を生成するモノマーのリビングラジカル重合で末端にアルキン基を有するブロック(B)とブロック(C)からなるジブロック体を合成した後、末端にアジド基を有するブロック(A)を反応させる方法、ブロック(B)を生成するモノマーのリビングラジカル重合で末端にアジド基を有するブロック(B)を合成し、さらにブロック(C)を生成するモノマーのリビングラジカル重合で末端にアジド基を有するブロック(B)とブロック(C)からなるジブロック体を合成した後、末端にアルキン基を有するブロック(A)を反応させる方法を用いることができる。   As a method of Click reaction, the block (B) having an alkyne group at the end is synthesized by living radical polymerization of a monomer forming the block (B), and the terminal is formed by living radical polymerization of a monomer forming a block (A). Method of reacting a block (B) having an alkyne group and a block (A) and then reacting a block (C) having an azide group at an end, living radical polymerization of a monomer forming the block (B) The block (B) having an azide group at the end is further synthesized, and the living radical polymerization of the monomer to form the block (A) further comprises a diblock consisting of the block (B) having an azide group at the end and the block (A) A method of reacting a block (C) having an alkyne group at the end after synthesis, to generate a block (B) The block (B) having an alkyne group at the end is synthesized by living radical polymerization of nomers, and the block (B) and the block (C) having an alkyne group at the end are formed by living radical polymerization of a monomer forming a block (C). Method of reacting a block (A) having an azido group at the end after synthesis of the diblock body, and synthesizing a block (B) having an azido group at the living radical polymerization of a monomer forming the block (B) And a block (A) having an alkyne group at the end after synthesizing a diblock consisting of a block (B) having an azido group at the end and a block (C) by living radical polymerization of a monomer that further generates a block (C). The method of making it react can be used.

ブロック共重合体の合成方法として上記アジド基を有するブロックとアルキン基を有するブロックのクリック反応を用いることによって、ブロック共重合体中のブロック間の少なくとも一つに、一般式(12)または(13)の2価の結合を含む2価の結合が導入される。
2.表面処理剤
本発明の基材用表面処理剤は、上記ブロック共重合体を含むものである。好ましくは、シャーレ、マルチウェルプレート、フラスコ、マイクロキャリアなどの細胞培養用基材用の表面処理剤である。
By using the click reaction of the block having an azide group and the block having an alkyne group as a synthesis method of the block copolymer, at least one of the blocks in the block copolymer can be represented by the general formula (12) or (13) A bivalent bond is introduced which comprises a bivalent bond of
2. Surface treatment agent The surface treatment agent for a substrate of the present invention contains the above-mentioned block copolymer. Preferably, it is a surface treatment agent for cell culture substrates such as petri dishes, multiwell plates, flasks, microcarriers and the like.

本発明の表面処理剤は、基材に塗布するだけで表面処理を行うことができるものである。   The surface treatment agent of the present invention can perform surface treatment only by applying to a substrate.

本発明の表面処理剤は、上記ブロック共重合体以外に、本ブロック共重合体を溶解することができる各種溶媒を含むものであってもよい。ブロック共重合体を溶解できる溶剤としては特に限定はされないが、適用後に蒸発して残留しない溶媒が好ましく、また、残留しても培養細胞に及ぼす影響が小さい、エタノール、水とエタノールの混合溶媒が特に好ましい。本発明の表面処理剤は、通常、溶液状のものであるが、上記の溶媒で溶解可能な粉末状であってもよい。   The surface treatment agent of the present invention may contain various solvents capable of dissolving the present block copolymer, in addition to the above-mentioned block copolymer. The solvent capable of dissolving the block copolymer is not particularly limited, but a solvent which does not evaporate after application is preferable, and even if it remains, ethanol, a mixed solvent of water and ethanol having little influence on cultured cells is preferable. Particularly preferred. The surface treatment agent of the present invention is usually in the form of a solution, but may be in the form of a powder that can be dissolved in the above-mentioned solvent.

本発明の表面処理剤の対象基材としては、特に限定はないが、前記ブロック共重合体は疎水性相互作用で基材に接着することから、好ましくは各種疎水性ポリマー材料が用いられる。疎水性ポリマー材料としては、例えば、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系ポリマー、ポリジメチルシロキサン等の各種シリコーンゴム、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート等が挙げられる。また、金属基材、セラミックス基材あるいはガラス基材にシランカップリング剤で表面処理したものも用いることができる。   The target substrate of the surface treatment agent of the present invention is not particularly limited. However, since the block copolymer adheres to the substrate by hydrophobic interaction, various hydrophobic polymer materials are preferably used. Examples of hydrophobic polymer materials include acrylic polymers such as polymethyl methacrylate, various silicone rubbers such as polydimethylsiloxane, polystyrene, polyethylene terephthalate, and polycarbonate. In addition, metal substrates, ceramic substrates or glass substrates that have been surface-treated with a silane coupling agent can also be used.

また、基材の形状は、特に限定はないが、例えば、板状、ビーズ状および繊維状の形状のほか、板状の基材に設けられた穴や溝や突起なども挙げられる。   Further, the shape of the substrate is not particularly limited, and examples thereof include plate-like, bead-like and fiber-like shapes, and holes, grooves and protrusions provided in a plate-like substrate.

本発明の表面処理剤を基材に塗布する方法としては、例えば、はけ塗り、ディップコーティング、スピンコーティング、バーコーティング、流し塗り、スプレー塗装、ロール塗装、エアーナイフコーティング、ブレードコーティングなど通常知られている各種の方法を用いることが可能である。   As a method for applying the surface treatment agent of the present invention to a substrate, for example, brush coating, dip coating, spin coating, bar coating, flow coating, spray coating, roll coating, air knife coating, blade coating, etc. are generally known. It is possible to use various methods.

3.膜
本発明の膜は、上記表面処理剤を各種基材に塗布した後、乾燥することによって得られる膜である。ブロック共重合体中にブロック(B)を含むことで細胞培養用基材に対して接着性を有する。また、ブロック共重合体中にブロック(A)を含むことで、細胞培養温度である37℃以上では膜表面は疎水性を示すことによりタンパク質などの付着を可能とし、細胞の接着培養が可能となる。さらに、細胞培養後に、温度降下させることで、膜表面が親水性に変化し、細胞剥離を促すことができる。また、ブロック共重合体中にブロック(C)を含むことで、温度を降下させた時の膜表面の親水化が更に進行し、剥離に必要な冷却時間を短縮することが可能になる。さらに、ブロック共重合体中に電荷を有するブロック(C)を含むことで、細胞の接着を促進し細胞増殖性の向上が期待できる。これらブロック共重合体中のブロック(A)、ブロック(B)、ブロック(C)の配列は(A)−(B)−(C)であり、膜表面にブロック(A)とブロック(C)の両方が出やすくなり、細胞の接着性/増殖性と温度降下による剥離性を両立できる。一方、配列が(A)−(C)−(B)であれば、ブロック(A)のみが表面に出やすくなり、温度応答性を発現するが、細胞の接着性/増殖性と温度降下による剥離性を両立できない。また、配列が(C)−(A)−(B)であれば、ブロック(C)のみが表面に出やすく、温度応答性を発現し難くなり、細胞の接着性/増殖性と温度降下による剥離性を両立できない。
3. Membrane The membrane of the present invention is a membrane obtained by applying the surface treatment agent to various substrates and then drying. By including the block (B) in the block copolymer, it has adhesiveness to the cell culture substrate. Also, by including block (A) in the block copolymer, the membrane surface becomes hydrophobic at 37 ° C. or higher, which is the cell culture temperature, to allow attachment of proteins and the like, and cell adhesion culture is possible. Become. Furthermore, after the cell culture, by lowering the temperature, the membrane surface becomes hydrophilic and cell exfoliation can be promoted. In addition, by including the block (C) in the block copolymer, hydrophilization of the film surface further proceeds when the temperature is lowered, and it becomes possible to shorten the cooling time necessary for peeling. Furthermore, by including a block (C) having a charge in the block copolymer, adhesion of cells can be promoted and improvement of cell proliferation can be expected. The arrangement of block (A), block (B) and block (C) in these block copolymers is (A)-(B)-(C), and block (A) and block (C) on the film surface Both are easily released, and cell adhesion / proliferation and peelability due to temperature drop can be compatible. On the other hand, if the sequence is (A)-(C)-(B), only the block (A) is likely to come out on the surface, and temperature response is expressed, but due to cell adhesion / growth and temperature drop Peelability can not be compatible. In addition, if the sequence is (C)-(A)-(B), only block (C) is likely to be exposed on the surface and it becomes difficult to express temperature response, and it is due to cell adhesion / growth and temperature drop. Peelability can not be compatible.

本発明の膜は、基材表面にブロック(A)分として0.1μg/cm以上5.0μg/cm以下の割合で被覆されることが好ましく、より好ましくは0.3μg/cm以上0.8μg/cm以下である。0.1μg/cm未満の場合は細胞培養用基材に被覆した時に細胞剥離に必要な冷却時間が長くなってしまう。5.0μg/cmを超える場合は細胞が細胞培養基材に接着しなくなり細胞が増殖しなくなる。0.3μg/cm以上0.8μg/cm以下では剥離に必要な冷却時間の長さ短縮と良好な細胞接着と細胞増殖を特に並立できる。なおここでいう被覆量の測定は定法に従えばよく、例えば、天秤を用いた秤量を利用すればよい。
4.細胞培養用基材
本発明の細胞培養用基材は、上記膜で基材表面を被覆した細胞培養用基材である。本発明の培養基材の表面は、細胞培養後、温度降下による基材表面の親水化を促進し、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮するために、ミクロ相分離構造を有することが好ましい。
The film of the present invention is preferably coated on the surface of the substrate at a rate of 0.1 μg / cm 2 or more and 5.0 μg / cm 2 or less as block (A), more preferably 0.3 μg / cm 2 or more It is 0.8 μg / cm 2 or less. If it is less than 0.1 μg / cm 2, the cooling time required for cell detachment will be long when coated on a cell culture substrate. If it exceeds 5.0 μg / cm 2 , the cells do not adhere to the cell culture substrate and the cells do not grow. 0.3 [mu] g / cm 2 or more 0.8 [mu] g / cm 2 or less can be particularly collateral good cell adhesion and cell growth length of the cooling time reduction and required for peeling. In addition, what is necessary is just to follow the usual method of measurement of the coating amount here, for example, what is necessary is just to utilize the weighing using a balance.
4. Cell Culture Substrate The cell culture substrate of the present invention is a cell culture substrate in which the substrate surface is covered with the above-mentioned membrane. The surface of the culture substrate of the present invention preferably has a microphase separation structure in order to promote hydrophilization of the substrate surface by temperature drop after cell culture and to shorten the cooling time required for cell detachment.

ミクロ相分離構造のドメイン径およびドメイン間隔は、各ブロック単位の比率、ブロック共重合体の分子量、塗布方法および塗布条件で任意に制御できる。細胞培養後、温度降下による基材表面の親水化を促進し、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮するために、ドメイン径およびドメイン間隔を細胞増殖因子よりも大きく、細胞よりも小さいことが好ましい。   The domain diameter and domain spacing of the microphase separation structure can be optionally controlled by the ratio of each block unit, the molecular weight of the block copolymer, the coating method and the coating conditions. After cell culture, in order to promote hydrophilization of the substrate surface by temperature drop and shorten the cooling time required for cell detachment, it is preferable that the domain size and the domain spacing be larger than cell growth factor and smaller than cells. .

本発明の細胞培養用基材による細胞培養は、培養基材の表面に被覆されたブロック(A)のLCSTよりも高い温度で行われるが、ヒト由来細胞を用いる場合は、高い培養効率を得ることを目的に体温付近で行うことが好ましく、35〜39℃の温度範囲で行うことがより好ましく、36〜38℃の温度範囲で行うことがさらに好ましい。その他の培養条件は特に限定されず、当分野において通常行われる条件下で培養を行ってよい。例えば、培地としては、ウシ胎児血清等の血清が添加されているものでもよいし、無血清培地でもよい。   Cell culture with the cell culture substrate of the present invention is performed at a temperature higher than the LCST of the block (A) coated on the surface of the culture substrate, but when using human-derived cells, high culture efficiency is obtained It is preferable to carry out in the vicinity of the body temperature for the purpose, more preferably in the temperature range of 35 to 39 ° C., and still more preferably in the temperature range of 36 to 38 ° C. Other culture conditions are not particularly limited, and the culture may be performed under conditions commonly used in the art. For example, the medium may be one to which serum such as fetal bovine serum is added, or may be a serum-free medium.

培養後、増殖細胞を細胞培養用基材から剥離するには、周囲の温度をブロック(A)のLCSTよりも低い温度、好ましくはLCSTより10℃低い温度以下に変化させるだけでよく、細胞を培養していた培養液中においても、その他の培地溶液中においても可能であり、目的に応じて選択することができる。その際、増殖細胞を効果的にかつ容易に剥離させるため、細胞培養用基材を軽くたたいたり、揺らしたり、更にはピペット等を使用して培地を撹拌するなどしてもよい。   After culture, in order to detach the proliferating cells from the cell culture substrate, it is only necessary to change the ambient temperature to a temperature lower than the LCST of block (A), preferably 10 ° C. lower than the LCST. It is possible in the culture solution which has been cultured, or in other medium solutions, and can be selected according to the purpose. At that time, in order to detach the proliferating cells effectively and easily, the cell culture substrate may be tapped, shaken, or the medium may be agitated using a pipette or the like.

本発明の培養基材を用いることによって、好ましくは培養した細胞が冷却のみで最大径5μm〜300μmの大きさで剥離することができる。さらに好ましくは冷却のみで単一細胞の形状で剥離することができる。剥離細胞の大きさ、形状は、ブロック共重合体の組成および分子量、細胞培養用基材の構造、細胞培養用基材の製造方法、細胞培養方法、培養される細胞の種類を選択することによって調整できる。例えば、ブロック共重合体の中のブロック(C)の比率を上げること、細胞培養用基材の製造方法によってブロック共重合体の厚さを増加させること、培養基材表面の凹凸を増加させることによって、細胞凝集塊の大きさを小さくでき、さらに単一細胞で剥離することができる。   By using the culture substrate of the present invention, preferably, cultured cells can be detached at a maximum diameter of 5 μm to 300 μm only by cooling. More preferably, it can be detached in the form of a single cell only by cooling. The size and shape of exfoliated cells can be determined by selecting the composition and molecular weight of the block copolymer, the structure of the cell culture substrate, the method of producing the cell culture substrate, the cell culture method, and the type of cells to be cultured. It can be adjusted. For example, increasing the ratio of blocks (C) in the block copolymer, increasing the thickness of the block copolymer by the method for producing a cell culture substrate, and increasing the unevenness of the culture substrate surface Can reduce the size of the cell aggregate and further detach in single cells.

本発明の細胞培養用基材を用いて培養される細胞としては、温度降下による刺激付与前の表面に接着可能なものであれば特に限定されるものではない。例えばチャイニーズハムスター卵巣由来CHO細胞やマウス結合組織L929細胞、ヒト胎児腎臓由来細胞HEK293細胞やヒト子宮頸癌由来HeLa細胞等の種々の培養細胞株に加え、例えば生体内の各組織、臓器を構成する上皮細胞や内皮細胞、収縮性を示す骨格筋細胞、平滑筋細胞、心筋細胞、神経系を構成するニューロン細胞、グリア細胞、繊維芽細胞、生体の代謝に関与する肝実質細胞、肝非実質細胞や脂肪細胞、分化能を有する細胞として、種々の組織に存在する幹細胞、さらにはそれらから分化誘導した細胞等を用いることができる。これら以外でも、血液、リンパ液、髄液、喀痰、尿又は便に含まれる細胞(生細胞)や、体内あるいは環境中に存在する微生物、ウイルス、原虫等を例示できる。   The cells cultured using the cell culture substrate of the present invention are not particularly limited as long as they can adhere to the surface prior to the application of a stimulus due to temperature drop. For example, in addition to various cultured cell lines such as Chinese hamster ovary-derived CHO cells and mouse connective tissue L929 cells, human embryonic kidney-derived cells HEK293 cells and human cervical cancer-derived HeLa cells, for example, each tissue in vivo and organs are constituted. Epithelial cells and endothelial cells, contractile skeletal muscle cells, smooth muscle cells, cardiomyocytes, neuronal cells that constitute the nervous system, glial cells, fibroblasts, hepatocytes involved in in vivo metabolism, non-hepatic cells Alternatively, as adipocytes and cells having differentiation ability, stem cells present in various tissues, and cells differentiated therefrom can be used. Besides these, cells (live cells) contained in blood, lymph, spinal fluid, sputum, urine or feces, microorganisms present in the body or in the environment, viruses, protozoa etc. can be exemplified.

以下に本発明の実施例を説明するが、本発明はこれら実施例により何ら制限されるものではない。なお、断りのない限り、試薬は市販品を用いた。   Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited by these examples. In addition, unless otherwise indicated, the reagent used the commercial item.

<ブロック共重合体の組成、ブロック共重合体中のモノマー量、有機溶媒量>
核磁気共鳴測定装置(日本電子製、商品名JNM−ECZ400S/LI)を用いたプロトン核磁気共鳴分光(1H−NMR)スペクトル分析より求めた。
<Composition of block copolymer, amount of monomers in block copolymer, amount of organic solvent>
It was determined by proton nuclear magnetic resonance spectroscopy (1H-NMR) spectrum analysis using a nuclear magnetic resonance measurement apparatus (manufactured by JEOL Ltd., trade name: JNM-ECZ400S / LI).

<ブロック共重合体の分子量、分子量分布>
重量平均分子量(Mw)、数平均分子量(Mn)および分子量分布(Mw/Mn)は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)によって測定した。GPC装置は東ソー(株)製 HLC−8320GPCを用い、カラムは東ソー製 TSKgelα−Mを2本用い、カラム温度を40℃に設定し、溶離液は10mMトリフルオロ酢酸ナトリウムを含む2,2,2−トリフルオロエタノールを用いて測定した。測定試料は1.0mg/mLで調製して測定した。分子量の検量線は、分子量既知のポリメタクリル酸メチル(Agilent Technologies製)を用いた。
<ブロック共重合体コート膜の厚さ>
ブロック共重合体がコートされた細胞培養基材の断面は透過型電子顕微鏡を用いて観察し、コート膜の厚さを評価した。透過型電子顕微鏡は日本電子製JEM−2100F を用いた。
<Molecular weight of block copolymer, molecular weight distribution>
Weight average molecular weight (Mw), number average molecular weight (Mn) and molecular weight distribution (Mw / Mn) were measured by gel permeation chromatography (GPC). The GPC apparatus uses HLC-8320GPC manufactured by Tosoh Corp., the column uses two TSKgel α-Ms manufactured by Tosoh Corporation, the column temperature is set to 40 ° C., and the eluent contains 2,2,2 containing 10 mM sodium trifluoroacetate -Measured using trifluoroethanol. The measurement sample was prepared and measured at 1.0 mg / mL. The calibration curve of molecular weight used polymethyl methacrylate (Agilent Technologies) of known molecular weight.
<Thickness of block copolymer coat film>
The cross section of the cell culture substrate coated with the block copolymer was observed using a transmission electron microscope to evaluate the thickness of the coated film. The transmission electron microscope used JEM-2100F made from Nippon Denshi.

<ブロック共重合体の被覆量>
濃度が既知の表面処理剤を細胞培養基材に塗布し、室温で5分間放置した後、加えた表面処理剤をパスツールピペット等で回収し、細胞培養基材上に残った表面処理剤の量を電子天秤で秤量した。表面処理剤の濃度と表面処理剤の量、および細胞培養基材への被覆面積から、ブロック共重合体の被覆量を単位μg/cmで算出した。
<Coating amount of block copolymer>
A surface treatment agent having a known concentration is applied to a cell culture substrate, left at room temperature for 5 minutes, and then the added surface treatment agent is recovered with a Pasteur pipette or the like, and the surface treatment agent remains on the cell culture substrate. The amount was weighed by an electronic balance. The amount of the block copolymer coated was calculated in units of μg / cm 2 from the concentration of the surface treating agent, the amount of the surface treating agent, and the coating area on the cell culture substrate.

<基材表面の対水接触角>
水中、40℃および15℃での気泡接触角(θ)(°)を測定し、40℃および15℃の対水接触角(180−θ)(°)を算出した。θは協和界面科学(株)製接触角計DM300を用いて、水中、3μLの気泡の接触角を測定した。
<Water contact angle of substrate surface>
The bubble contact angle (θ) (°) at 40 ° C. and 15 ° C. in water was measured, and the water contact angle (180-θ) (°) at 40 ° C. and 15 ° C. was calculated. The contact angle of 3 μl of bubbles in water was measured using a contact angle meter DM300 manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd., for θ.

実施例1
[ブロック(C)の合成]
50mLシュレンク管にN,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート0.79g(5.0mmol)、RAFT剤として4−シアノ−4−[(ドデシルスルフォニルチオカルボニル)スルフォニル]ペンタノイックアシッド40.4mg(0.1mmol)、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル3.28mg(0.02mmol)を加え、1,4−ジオキサン5mLに溶解した。アルゴンバブリングを10分行った後、65℃で38時間反応させた。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート仕込み量の98%が重合していることを確認し、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレートの重合体(ブロック(C))を合成できた。N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート重合体ブロック(C)の繰り返し単位の親水部式量は炭素5個、水素10個、窒素1個、酸素2個の合計(116.1)であり、繰り返し単位総式量は157.2であり、HLB値(グリフィン法)は15であった。
Example 1
[Composition of block (C)]
In a 50 mL Schlenk tube, 0.79 g (5.0 mmol) of N, N-dimethylaminoethyl methacrylate, 40.4 mg (0.1 mmol) of 4-cyano-4-[(dodecylsulfonylthiocarbonyl) sulfonyl] pentanoic acid as an RAFT agent. 2.) 3.28 mg (0.02 mmol) of azobisisobutyronitrile as an initiator was added and dissolved in 5 mL of 1,4-dioxane. After bubbling argon for 10 minutes, reaction was carried out at 65 ° C. for 38 hours. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and measured by 1 H-NMR. As a result, it was confirmed that 98% of the charged amount of N, N-dimethylaminoethyl methacrylate was polymerized, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate The following polymers (block (C)) could be synthesized. The hydrophilic part weight of the repeating unit of the N, N-dimethylaminoethyl methacrylate polymer block (C) is the total (116.1) of 5 carbons, 10 hydrogens, 1 nitrogen and 2 oxygens, and the repeating units The total formula weight was 157.2 and the HLB value (Griffin method) was 15.

[ジブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液に、n−ブチルメタクリレート0.71g(5.0mol)、アゾビスイソブチロニトリル3.28mg(0.02mmol)、1,4−ジオキサン5mLを加え、アルゴンバブリングを10分行った後、65℃で70時間反応させた。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、n−ブチルメタクリレート仕込み量の92%が重合していることを確認し、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート重合体(ブロック(C))とn−ブチルメタクリレート重合体(ブロック(B))からなるジブロック共重合体を合成できた。n−ブチルメタクリレート重合体ブロック(B)の繰り返し単位の親水部式量は炭素1個、酸素2個の合計(44.0)であり、繰り返し単位総式量は142.2であり、HLB値(グリフィン法)は6であった。
[Synthesis of Diblock Copolymer]
To the reaction solution obtained above, 0.71 g (5.0 mol) of n-butyl methacrylate, 3.28 mg (0.02 mmol) of azobisisobutyronitrile, 5 mL of 1,4-dioxane are added, and argon bubbling is carried out The reaction was allowed to proceed at 65 ° C. for 70 hours. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and measured by 1 H-NMR. As a result, it was confirmed that 92% of the charged amount of n-butyl methacrylate was polymerized, and N, N-dimethylaminoethyl methacrylate polymer (block A diblock copolymer consisting of (C) and an n-butyl methacrylate polymer (block (B)) could be synthesized. The hydrophilic part weight of the repeating unit of the n-butyl methacrylate polymer block (B) is the sum of one carbon and two oxygen (44.0), and the total weight of the repeating unit is 142.2, and the HLB value (Griffin method) was 6.

[ブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液に、N−イソプロピルアクリルアミド1.13g(10.0mmol)、アゾビスイソブチロニトリル3.28mg(0.02mmol)を加え、アルゴンバブリングを10分行った後、65℃で65時間反応させた。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、N−イソプロピルアクリルアミド仕込み量の94%が重合していることを確認できた。
[Synthesis of block copolymer]
To the reaction solution obtained above, 1.13 g (10.0 mmol) of N-isopropylacrylamide and 3.28 mg (0.02 mmol) of azobisisobutyronitrile are added, and argon bubbling is carried out for 10 minutes, and then 65 ° C. Reaction for 65 hours. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and 1 H-NMR was measured. As a result, it was confirmed that 94% of the charged amount of N-isopropylacrylamide was polymerized.

反応溶液を蒸留水0.5Lに注ぎ込み、析出した白色固体をろ過した。得られた白色固体をクロロホルム200mLに溶解し、得られた溶液に無水硫酸マグネシウムを3g添加し、室温で15分間撹拌した。得られた懸濁液をろ過して硫酸マグネシウムを除いた後、エバポレーターを用いて、減圧下でろ液からクロロホルムを留去し、20mLまで濃縮した。得られた濃縮溶液をヘキサン250mLに注ぎ込み、析出した白色固体をろ過した。得られた白色固体を減圧下で2時間乾燥し、白色パウダーとして、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート重合体(ブロック(C))とn−ブチルメタクリレート重合体(ブロック(B))とN−イソプロピルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるブロック共重合体1.21gを得た。得られたブロック共重合体の組成、Mn、およびMw/Mnを表1に示す。また、ブロック共重合体の1H−NMR測定(測定溶媒:重水素化クロロホルム)でモノマーおよび有機溶媒は検出されなかった。   The reaction solution was poured into 0.5 L of distilled water, and the precipitated white solid was filtered. The obtained white solid was dissolved in 200 mL of chloroform, 3 g of anhydrous magnesium sulfate was added to the obtained solution, and the mixture was stirred at room temperature for 15 minutes. The resulting suspension was filtered to remove magnesium sulfate, and chloroform was distilled off from the filtrate under reduced pressure using an evaporator and concentrated to 20 mL. The resulting concentrated solution was poured into 250 mL of hexane, and the precipitated white solid was filtered. The obtained white solid is dried under reduced pressure for 2 hours to obtain N, N-dimethylaminoethyl methacrylate polymer (block (C)), n-butyl methacrylate polymer (block (B)) and N- as a white powder. 1.21 g of a block copolymer comprising isopropyl acrylamide polymer (block (A)) was obtained. The composition, Mn and Mw / Mn of the obtained block copolymer are shown in Table 1. Moreover, the monomer and the organic solvent were not detected by 1H-NMR measurement (measurement solvent: deuterated chloroform) of the block copolymer.

[表面処理剤の合成]
ブロック共重合体15mgをエタノール3.0gに添加し、撹拌することによって30秒で全て溶解し、0.5wt%の基材用表面処理剤を合成した。
[Synthesis of surface treatment agent]
15 mg of the block copolymer was added to 3.0 g of ethanol, and all were dissolved in 30 seconds by stirring to synthesize 0.5 wt% of a surface treatment agent for a substrate.

[膜評価]
コーニング社製細胞培養用ポリスチレン製ディッシュ(φ6cm)に、得られた表面処理剤を1.0mL加え、室温で5分間放置した後、加えた表面処理剤をパスツールピペットで回収した。室温で5分間放置しディッシュ表面を乾燥させた後、さらに、70℃で上記ディッシュを30分間加熱し、その後、水洗浄を行うことでN,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート重合体(ブロック(C))とn−ブチルメタクリレート重合体(ブロック(B))とN−イソプロピルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるブロック共重合体からなる膜が導入された細胞培養用基材を作製した。膜の厚さは10nmであり、ブロック(A)分として0.4μg/cmの割合で被覆されていた。40℃および15℃での対水接触角を評価した結果を表1に示す。15℃での対水接触角は40℃での対水接触角よりも低く温度応答性を示した。
[Film evaluation]
After adding 1.0 mL of the obtained surface treatment agent to a polystyrene dish (φ 6 cm) manufactured by Corning Co., and leaving at room temperature for 5 minutes, the added surface treatment agent was recovered with a Pasteur pipette. After drying the dish surface by leaving it to stand at room temperature for 5 minutes, the dish is further heated at 70 ° C. for 30 minutes and then washed with water to obtain N, N-dimethylaminoethyl methacrylate polymer (block (C) A cell culture substrate was prepared in which a membrane consisting of a block copolymer consisting of n-butyl methacrylate polymer (block (B)) and N-isopropylacrylamide polymer (block (A)) was introduced. The film thickness was 10 nm, and it was coated at a rate of 0.4 μg / cm 2 as the block (A). The results of evaluating the water contact angle at 40 ° C. and 15 ° C. are shown in Table 1. The water contact angle at 15 ° C showed a temperature response lower than the water contact angle at 40 ° C.

[細胞培養評価および剥離評価]
上記にて作製した、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート重合体(ブロック(C))とn−ブチルメタクリレート重合体(ブロック(B))とN−イソプロピルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるブロック共重合体からなる膜が導入された細胞培養用基材を用い、ヒト脂肪由来間葉系幹細胞(Cell Applications,Inc.製)(100個/mm2)を、37℃、CO2濃度5%で培養した。培地はヒト前駆脂肪細胞増殖培地(基本培地+添加剤)(Cell Applications,Inc.製)を用いた。細胞増殖が確認され、培養細胞が基材の100%を覆うまで培養したところで、10×10倍の顕微鏡で細胞数を確認した。細胞培養用基材を15℃に冷却後、アスピレーターで剥離した細胞を除去し、再度10×10倍の顕微鏡で細胞数を確認した。45分間冷却することで細胞は70%剥離した。
[Cell culture evaluation and exfoliation evaluation]
Consisting of N, N-dimethylaminoethyl methacrylate polymer (block (C)), n-butyl methacrylate polymer (block (B)) and N-isopropylacrylamide polymer (block (A)) prepared above Human adipose-derived mesenchymal stem cells (Cell Applications, Inc.) (100 cells / mm 2) at 37 ° C., 5% CO 2 concentration, using a cell culture substrate into which a membrane comprising a block copolymer has been introduced Cultured. As the medium, human preadipocyte growth medium (basic medium + additive) (manufactured by Cell Applications, Inc.) was used. When cell growth was confirmed and the cultured cells were cultured until they covered 100% of the substrate, the cell number was confirmed with a 10 × 10 × microscope. After cooling the cell culture substrate to 15 ° C., the detached cells were removed with an aspirator, and the cell number was confirmed again with a 10 × 10 × microscope. The cells were detached by 70% cooling for 45 minutes.

実施例2
[ブロック(C)の合成]
N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレートを0.39g(2.5mmol)用い、22時間反応させたこと以外は実施例1[ブロック(C)の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート仕込み量の87%が重合していることを確認し、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレートの重合体(ブロック(C))を合成できた。
Example 2
[Composition of block (C)]
The synthesis was performed in the same manner as in Example 1 [Synthesis of block (C)] except that 0.39 g (2.5 mmol) of N, N-dimethylaminoethyl methacrylate was used for reaction for 22 hours. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and measured by 1 H-NMR. As a result, it was confirmed that 87% of the charged amount of N, N-dimethylaminoethyl methacrylate was polymerized, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate The following polymers (block (C)) could be synthesized.

[ジブロック共重合体の合成]
n−ブチルメタクリレートを1.07g(7.5mmol)用い、69時間反応させたこと以外は実施例1[ジブロック共重合体の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、n−ブチルメタクリレート仕込み量の97%が重合していることを確認し、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート重合体(ブロック(C))とn−ブチルメタクリレート重合体(ブロック(B))からなるジブロック共重合体を合成できた。
[Synthesis of Diblock Copolymer]
The synthesis was carried out in the same manner as in Example 1 [Synthesis of diblock copolymer] except that 1.07 g (7.5 mmol) of n-butyl methacrylate was used and reacted for 69 hours. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and measured by 1 H-NMR. As a result, it was confirmed that 97% of the charged amount of n-butyl methacrylate was polymerized, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate polymer (block A diblock copolymer consisting of (C) and an n-butyl methacrylate polymer (block (B)) could be synthesized.

[ブロック共重合体の合成]
90時間反応させたこと以外は実施例1[ブロック共重合体の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、N−イソプロピルアクリルアミド仕込み量の92%が重合していることを確認できた。
[Synthesis of block copolymer]
The synthesis was carried out in the same manner as in [Synthesis of block copolymer] except that the reaction was carried out for 90 hours. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and measured by 1 H-NMR. As a result, it was confirmed that 92% of the charged amount of N-isopropylacrylamide was polymerized.

上記で得られた反応溶液を実施例1[ブロック共重合体の合成]と同様の方法で処理し、白色パウダーとして、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート重合体(ブロック(C))とn−ブチルメタクリレート重合体(ブロック(B))とN−イソプロピルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるブロック共重合体1.25gを得た。得られたブロック共重合体の組成、Mn、およびMw/Mnを表1に示す。   The reaction solution obtained above is treated in the same manner as in Example 1 [Synthesis of block copolymer] to give N, N-dimethylaminoethyl methacrylate polymer (block (C)) and n- as a white powder. There were obtained 1.25 g of a block copolymer comprising a butyl methacrylate polymer (block (B)) and an N-isopropylacrylamide polymer (block (A)). The composition, Mn and Mw / Mn of the obtained block copolymer are shown in Table 1.

[表面処理剤の合成]
上記で得られたブロック共重合体を用いたこと以外は実施例1[表面処理剤の合成]と同様の方法で合成を行い、表面処理剤を合成した。
[Synthesis of surface treatment agent]
The synthesis was carried out in the same manner as in Example 1 [Synthesis of surface treatment agent] except that the block copolymer obtained above was used, to synthesize a surface treatment agent.

[膜評価]
上記で得られた表面処理剤を用いたこと以外は実施例1[膜評価]に記載の方法と同様の方法で細胞培養用基材の作製を行い、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート重合体(ブロック(C))とn−ブチルメタクリレート重合体(ブロック(B))とN−イソプロピルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるブロック共重合体からなる膜が導入された細胞培養用基材を作製した。膜の厚さは10nmであり、ブロック(A)分として0.4μg/cmの割合で被覆されていた。40℃および15℃での対水接触角を評価した結果を表1に示す。15℃での対水接触角は40℃での対水接触角よりも低く温度応答性を示した。
[Film evaluation]
A cell culture substrate was prepared by the same method as that described in Example 1 [membrane evaluation] except that the surface treatment agent obtained above was used, and an N, N-dimethylaminoethyl methacrylate polymer was prepared. Cell culture substrate introduced with a film comprising a block copolymer comprising (block (C)), n-butyl methacrylate polymer (block (B)) and N-isopropylacrylamide polymer (block (A)) Was produced. The film thickness was 10 nm, and it was coated at a rate of 0.4 μg / cm 2 as the block (A). The results of evaluating the water contact angle at 40 ° C. and 15 ° C. are shown in Table 1. The water contact angle at 15 ° C showed a temperature response lower than the water contact angle at 40 ° C.

[細胞培養評価および剥離評価]
上記で作製した細胞培養用基材を用いたこと以外は実施例1[細胞培養評価および剥離評価]と同様の方法で評価した。細胞増殖が確認された。培養細胞が基材の100%を覆うまで培養した後、15℃で45分間冷却することで細胞は100%剥離した。
[Cell culture evaluation and exfoliation evaluation]
It evaluated by the method similar to Example 1 [cell culture evaluation and exfoliation evaluation] except using the base material for cell cultures produced above. Cell proliferation was confirmed. After the cultured cells were cultured until they covered 100% of the substrate, the cells were exfoliated 100% by cooling at 15 ° C. for 45 minutes.

比較例1
[ブロック(C)の合成]
実施例1[ブロック(C)の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート仕込み量の97%が重合していることを確認し、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレートの重合体(ブロック(C))を合成できた。
Comparative Example 1
[Composition of block (C)]
Synthesis was carried out in the same manner as in [Composition of block (C)]. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and measured by 1 H-NMR. As a result, it was confirmed that 97% of the charged amount of N, N-dimethylaminoethyl methacrylate was polymerized, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate The following polymers (block (C)) could be synthesized.

[ジブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液に、N−イソプロピルアクリルアミド1.13g(10.0mmol)、アゾビスイソブチロニトリル3.28mg(0.02mmol)、1,4−ジオキサン5mLを加え、アルゴンバブリングを10分行った後、65℃で70時間反応させた。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、N−イソプロピルアクリルアミド仕込み量の98%が重合していることを確認し、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート重合体(ブロック(C))とN−イソプロピルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるジブロック共重合体を合成できた。
[Synthesis of Diblock Copolymer]
To the reaction solution obtained above, 1.13 g (10.0 mmol) of N-isopropylacrylamide, 3.28 mg (0.02 mmol) of azobisisobutyronitrile, 5 mL of 1,4-dioxane are added, and argon bubbling is carried out The reaction was allowed to proceed at 65 ° C. for 70 hours. After the reaction, a portion of the reaction solution was collected, and 1H-NMR was measured. As a result, it was confirmed that 98% of the charged amount of N-isopropylacrylamide was polymerized, and N, N-dimethylaminoethyl methacrylate polymer (block A diblock copolymer consisting of (C) and an N-isopropylacrylamide polymer (block (A)) could be synthesized.

[ブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液に、n−ブチルメタクリレート0.71g(5.0mmol)、アゾビスイソブチロニトリル3.28mg(0.02mmol)を加え、アルゴンバブリングを10分行った後、65℃で65時間反応させた。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、n−ブチルメタクリレート仕込み量の92%が重合していることを確認できた。
[Synthesis of block copolymer]
To the reaction solution obtained above, 0.71 g (5.0 mmol) of n-butyl methacrylate and 3.28 mg (0.02 mmol) of azobisisobutyronitrile are added, and argon bubbling is carried out for 10 minutes, and then 65 ° C. Reaction for 65 hours. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and measured by 1 H-NMR. As a result, it was confirmed that 92% of the n-butyl methacrylate charge was polymerized.

得られた反応溶液をヘキサン250mLに注ぎ込み、析出した白色固体をろ過した。得られた白色固体を減圧下で2時間乾燥し、白色パウダーとして、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート重合体(ブロック(C))とN−イソプロピルアクリルアミド重合体(ブロック(A))とn−ブチルメタクリレート重合体(ブロック(B))からなるブロック共重合体2.11gを得た。得られたブロック共重合体の組成、Mn、およびMw/Mnを表1に示す。   The resulting reaction solution was poured into 250 mL of hexane, and the precipitated white solid was filtered. The obtained white solid is dried under reduced pressure for 2 hours to obtain, as a white powder, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate polymer (block (C)), N-isopropylacrylamide polymer (block (A)) and n- 2.11 g of a block copolymer comprising a butyl methacrylate polymer (block (B)) was obtained. The composition, Mn and Mw / Mn of the obtained block copolymer are shown in Table 1.

[表面処理剤の合成]
上記で得られたブロック共重合体を用いたこと以外は実施例1[表面処理剤の合成]と同様の方法で合成を行い、表面処理剤を合成した。
[Synthesis of surface treatment agent]
The synthesis was carried out in the same manner as in Example 1 [Synthesis of surface treatment agent] except that the block copolymer obtained above was used, to synthesize a surface treatment agent.

[膜評価]
上記で得られた表面処理剤を用いたこと以外は実施例1[膜評価]に記載の方法と同様の方法で細胞培養用基材の作製を行い、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート重合体(ブロック(C))とN−イソプロピルアクリルアミド重合体(ブロック(A))とn−ブチルメタクリレート重合体(ブロック(B))からなるブロック共重合体からなる膜が導入された細胞培養用基材を作製した。膜の厚さは10nmであり、ブロック(A)分として0.4μg/cmの割合で被覆されていた。40℃および15℃での対水接触角を評価した結果を表1に示す。15℃での対水接触角は40℃での対水接触角とほぼ同じで温度応答性を示さなかった。
[Film evaluation]
A cell culture substrate was prepared by the same method as that described in Example 1 [membrane evaluation] except that the surface treatment agent obtained above was used, and an N, N-dimethylaminoethyl methacrylate polymer was prepared. Cell culture substrate to which a film comprising a block copolymer comprising (block (C)), N-isopropylacrylamide polymer (block (A)) and n-butyl methacrylate polymer (block (B)) has been introduced Was produced. The film thickness was 10 nm, and it was coated at a rate of 0.4 μg / cm 2 as the block (A). The results of evaluating the water contact angle at 40 ° C. and 15 ° C. are shown in Table 1. The contact angle to water at 15 ° C was almost the same as the contact angle to water at 40 ° C and showed no temperature response.

[細胞培養評価および剥離評価]
上記で作製した細胞培養用基材を用いたこと以外は実施例1[細胞培養評価および剥離評価]と同様の方法で評価した。細胞増殖が確認された。培養細胞が基材の100%を覆うまで培養した後、15℃で45分間冷却しても細胞は全く剥離しなかった。
[Cell culture evaluation and exfoliation evaluation]
It evaluated by the method similar to Example 1 [cell culture evaluation and exfoliation evaluation] except using the base material for cell cultures produced above. Cell proliferation was confirmed. After the cultured cells were cultured to cover 100% of the substrate, the cells were not detached at all even when cooled at 15 ° C. for 45 minutes.

比較例2
[ブロック(B)の合成]
50mLシュレンク管にn−ブチルメタクリレート0.71g(5.0mmol)、RAFT剤として4−シアノ−4−[(ドデシルスルフォニルチオカルボニル)スルフォニル]ペンタノイックアシッド40.4mg(0.1mmol)、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル3.28mg(0.02mmol)を加え、1,4−ジオキサン5mLに溶解した。アルゴンバブリングを10分行った後、65℃で38時間反応させた。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、n−ブチルメタクリレート仕込み量の93%が重合していることを確認し、n−ブチルメタクリレートの重合体(ブロック(B))を合成できた。
Comparative example 2
[Composition of block (B)]
In a 50 mL Schlenk tube, 0.71 g (5.0 mmol) of n-butyl methacrylate, 40.4 mg (0.1 mmol) of 4-cyano-4-[(dodecylsulfonylthiocarbonyl) sulfonyl] pentanoic acid as an RAFT agent, an initiator 3.28 mg (0.02 mmol) of azobisisobutyro nitrile was added thereto as a solution and dissolved in 5 mL of 1,4-dioxane. After bubbling argon for 10 minutes, reaction was carried out at 65 ° C. for 38 hours. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and measured by 1 H-NMR. As a result, it was confirmed that 93% of the charged amount of n-butyl methacrylate was polymerized, and a polymer of n-butyl methacrylate (block (B) Could be synthesized.

[ジブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液に、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート0.79g(5.0mmol)、アゾビスイソブチロニトリル3.28mg(0.02mmol)、1,4−ジオキサン5mLを加え、アルゴンバブリングを10分行った後、65℃で70時間反応させた。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート仕込み量の92%が重合していることを確認し、n−ブチルメタクリレート重合体(ブロック(B))とN,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート重合体(ブロック(C))からなるジブロック共重合体を合成できた。
[Synthesis of Diblock Copolymer]
To the reaction solution obtained above, 0.79 g (5.0 mmol) of N, N-dimethylaminoethyl methacrylate, 3.28 mg (0.02 mmol) of azobisisobutyro nitrile, and 5 mL of 1,4-dioxane are added. After bubbling argon for 10 minutes, reaction was carried out at 65 ° C. for 70 hours. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and measured by 1 H-NMR. As a result, it was confirmed that 92% of the charged amount of N, N-dimethylaminoethyl methacrylate was polymerized, n-butyl methacrylate polymer (block A diblock copolymer consisting of (B) and an N, N-dimethylaminoethyl methacrylate polymer (block (C)) could be synthesized.

[ブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液に、N−イソプロピルアクリルアミド1.13g(10.0mmol)、アゾビスイソブチロニトリル3.28mg(0.02mmol)を加え、アルゴンバブリングを10分行った後、65℃で65時間反応させた。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、N−イソプロピルアクリルアミド仕込み量の88%が重合していることを確認できた。
[Synthesis of block copolymer]
To the reaction solution obtained above, 1.13 g (10.0 mmol) of N-isopropylacrylamide and 3.28 mg (0.02 mmol) of azobisisobutyronitrile are added, and argon bubbling is carried out for 10 minutes, and then 65 ° C. Reaction for 65 hours. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and measured by 1 H-NMR. As a result, it was confirmed that 88% of the charged amount of N-isopropylacrylamide was polymerized.

得られた反応溶液をヘキサン250mLに注ぎ込み、析出した白色固体をろ過した。得られた白色固体を減圧下で2時間乾燥し、白色パウダーとして、n−ブチルメタクリレート重合体ブロック(B)とN,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート重合体ブロック(C)とN−イソプロピルアクリルアミド重合体ブロック(A)からなるブロック共重合体2.05gを得た。得られたブロック共重合体の組成、Mn、およびMw/Mnを表1に示す。   The resulting reaction solution was poured into 250 mL of hexane, and the precipitated white solid was filtered. The obtained white solid is dried under reduced pressure for 2 hours to obtain n-butyl methacrylate polymer block (B), N, N-dimethylaminoethyl methacrylate polymer block (C) and N-isopropylacrylamide polymer as white powder. 2.05 g of a block copolymer comprising block (A) was obtained. The composition, Mn and Mw / Mn of the obtained block copolymer are shown in Table 1.

[表面処理剤の合成]
上記で得られたブロック共重合体を用いたこと以外は実施例1[表面処理剤の合成]と同様の方法で合成を行い、表面処理剤を合成した。
[Synthesis of surface treatment agent]
The synthesis was carried out in the same manner as in Example 1 [Synthesis of surface treatment agent] except that the block copolymer obtained above was used, to synthesize a surface treatment agent.

[膜評価]
上記で得られた表面処理剤を用いたこと以外は実施例1[膜評価]に記載の方法と同様の方法で細胞培養用基材の作製を行い、n−ブチルメタクリレート重合体ブロック(B)とN,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート重合体ブロック(C)とN−イソプロピルアクリルアミド重合体ブロック(A)からなるブロック共重合体からなる膜が導入された細胞培養用基材を作製した。膜の厚さは10nmであり、ブロック(A)分として0.4μg/cmの割合で被覆されていた。40℃および15℃での対水接触角を評価した結果を表1に示す。15℃での対水接触角は40℃での対水接触角よりも低く、温度応答性を示した。
[Film evaluation]
A cell culture substrate was prepared by the same method as described in Example 1 (membrane evaluation) except that the surface treatment agent obtained above was used, and n-butyl methacrylate polymer block (B) A cell culture substrate was prepared, into which a membrane comprising a block copolymer consisting of N, N-dimethylaminoethyl methacrylate polymer block (C) and N-isopropylacrylamide polymer block (A) was introduced. The film thickness was 10 nm, and it was coated at a rate of 0.4 μg / cm 2 as the block (A). The results of evaluating the water contact angle at 40 ° C. and 15 ° C. are shown in Table 1. The contact angle to water at 15 ° C. was lower than the contact angle to water at 40 ° C., indicating temperature responsiveness.

[細胞培養評価および剥離評価]
上記で作製した細胞培養用基材を用いたこと以外は実施例1[細胞培養評価および剥離評価]と同様の方法で評価した。細胞は接着せず、増殖できなかった。
[Cell culture evaluation and exfoliation evaluation]
It evaluated by the method similar to Example 1 [cell culture evaluation and exfoliation evaluation] except using the base material for cell cultures produced above. The cells did not adhere and could not grow.

比較例3
[重合体ブロック(B)の合成]
三方コックを備えた100mL試験管にn−ブチルメタクリレート2.4g(17mmol)、RAFT剤として4−シアノ−4−[(ドデシルスルフォニルチオカルボニル)スルフォニル]ペンタノイックアシッド108mg(267μmol)、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル8.8mg(53μmol)を加え、1,4−ジオキサン10mLに溶解した。アルゴンバブリングを10分行った後、65℃で25時間反応させた。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、n−ブチルメタクリレート仕込み量の93%が重合していることを確認し、n−ブチルメタクリレートの重合体(重合体ブロック(B))を合成できた。
Comparative example 3
[Synthesis of Polymer Block (B)]
2.4 g (17 mmol) n-butyl methacrylate in a 100 mL test tube equipped with a three-way cock, 108 mg (267 μmol) 4-cyano-4-[(dodecylsulfonylthiocarbonyl) sulfonyl] pentanoic acid as an RAFT agent, as an initiator 8.8 mg (53 μmol) of azobisisobutyronitrile was added and dissolved in 10 mL of 1,4-dioxane. After 10 minutes of argon bubbling, the reaction was carried out at 65 ° C. for 25 hours. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and 1H-NMR was measured. As a result, it was confirmed that 93% of the charged amount of n-butyl methacrylate was polymerized, and a polymer of n-butyl methacrylate (polymer block (polymer block B) could be synthesized.

[ジブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液に、1,4−ジオキサン20mL、N−イソプロピルアクリルアミド4.8g(42mmol)、アゾビスイソブチロニトリル8.8mg(53μmol)を加え、アルゴンバブリングを10分行った後、65℃で45時間反応させた。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、N−イソプロピルアクリルアミド仕込み量の97%が重合していることを確認できた。反応溶液を蒸留水300mLに注ぎ込み、析出した白色固体をろ過した。得られた白色固体をクロロホルム40mLに溶解し、得られた溶液に無水硫酸マグネシウムを1g添加し、室温で30分間撹拌した。得られた懸濁液をろ過して硫酸マグネシウムを除いた後、エバポレーターを用いて、減圧下でろ液からクロロホルムを留去し、10mLまで濃縮した。得られた濃縮溶液をヘキサン100mLに注ぎ込み、析出した白色固体をろ過した。得られた白色固体を減圧下、80℃で、6時間乾燥し、白色パウダーとして、n−ブチルメタクリレート重合体(ブロック(B))とN−イソプロピルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるジブロック共重合体3gを得た。得られたジブロック共重合体の組成、MnおよびMw/Mnを表1に示す。
[Synthesis of Diblock Copolymer]
After adding 20 mL of 1,4-dioxane, 4.8 g (42 mmol) of N-isopropylacrylamide and 8.8 mg (53 μmol) of azobisisobutyronitrile to the reaction solution obtained above, argon bubbling is performed for 10 minutes. The reaction was carried out at 65 ° C. for 45 hours. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and measured by 1 H-NMR. As a result, it was confirmed that 97% of the charged amount of N-isopropylacrylamide was polymerized. The reaction solution was poured into 300 mL of distilled water, and the precipitated white solid was filtered. The obtained white solid was dissolved in 40 mL of chloroform, 1 g of anhydrous magnesium sulfate was added to the obtained solution, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. The resulting suspension was filtered to remove magnesium sulfate, and chloroform was distilled off from the filtrate under reduced pressure using an evaporator and concentrated to 10 mL. The obtained concentrated solution was poured into 100 mL of hexane, and the precipitated white solid was filtered. The obtained white solid is dried at 80 ° C. under reduced pressure for 6 hours, and a di-hydrate comprising a n-butyl methacrylate polymer (block (B)) and an N-isopropylacrylamide polymer (block (A)) as a white powder. 3 g of block copolymer was obtained. The composition, Mn and Mw / Mn of the obtained diblock copolymer are shown in Table 1.

[表面処理剤の合成]
上記で得られたジブロック共重合体を用いたこと以外は実施例1[表面処理剤の合成]と同様の方法で合成を行い、表面処理剤を合成した。
[Synthesis of surface treatment agent]
The synthesis was carried out in the same manner as in Example 1 [Synthesis of surface treatment agent] except that the diblock copolymer obtained above was used, to synthesize a surface treatment agent.

[膜評価]
上記で得られた表面処理剤を用いたこと以外は実施例1[膜評価]に記載の方法と同様の方法で細胞培養用基材の作製を行い、n−ブチルメタクリレート重合体(ブロック(B))とN−イソプロピルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるジブロック共重合体からなる膜が導入された細胞培養用基材を作製した。膜の厚さは10nmであり、ブロック(A)分として0.5μg/cmの割合で被覆されていた。40℃および15℃での対水接触角を評価した結果を表1に示す。15℃での対水接触角は40℃での対水接触角よりも低く、温度応答性を示した。
[Film evaluation]
A cell culture substrate was prepared by the same method as described in Example 1 (membrane evaluation) except that the surface treatment agent obtained above was used, and n-butyl methacrylate polymer (block (B (B)) was used. ) And a N-isopropylacrylamide polymer (block (A)) were used to prepare a cell culture substrate into which a membrane consisting of a diblock copolymer was introduced. The film thickness was 10 nm, and it was coated at a rate of 0.5 μg / cm 2 as the block (A). The results of evaluating the water contact angle at 40 ° C. and 15 ° C. are shown in Table 1. The contact angle to water at 15 ° C. was lower than the contact angle to water at 40 ° C., indicating temperature responsiveness.

[細胞培養評価および剥離評価]
上記で作製した細胞培養用基材を用いたこと以外は実施例1[細胞培養評価および剥離評価]と同様の方法で評価した。細胞増殖が確認された。培養細胞が基材の100%を覆うまで培養した後、15℃で45分間冷却しても細胞は全く剥離しなかった。
[Cell culture evaluation and exfoliation evaluation]
It evaluated by the method similar to Example 1 [cell culture evaluation and exfoliation evaluation] except using the base material for cell cultures produced above. Cell proliferation was confirmed. After the cultured cells were cultured to cover 100% of the substrate, the cells were not detached at all even when cooled at 15 ° C. for 45 minutes.

比較例4
[膜評価]
ポリスチレン製ディッシュ表面にN−イソプロピルアクリルアミドが電子線重合された、セルシード製UpCell(R)φ35mmディッシュの40℃および15℃での対水接触角を評価した結果を表1に示す。15℃での対水接触角は40℃での対水接触角よりも低く、温度応答性を示した。
Comparative example 4
[Film evaluation]
Table 1 shows the results of evaluating the water contact angles at 40 ° C. and 15 ° C. of Upcell® 35 mm dish made of Cellseed, in which N-isopropylacrylamide is electron beam polymerized on the surface of a polystyrene dish. The contact angle to water at 15 ° C. was lower than the contact angle to water at 40 ° C., indicating temperature responsiveness.

[細胞培養評価および剥離評価]
上記細胞培養用基材を用いたこと以外は実施例1[細胞培養評価および剥離評価]と同様の方法で評価した。細胞増殖が確認された。培養細胞が基材の100%を覆うまで培養した後、15℃で45分間冷却しても細胞は全く剥離しなかった。
[Cell culture evaluation and exfoliation evaluation]
It evaluated by the same method as Example 1 [cell culture evaluation and exfoliation evaluation] except having used the above-mentioned substrate for cell culture. Cell proliferation was confirmed. After the cultured cells were cultured to cover 100% of the substrate, the cells were not detached at all even when cooled at 15 ° C. for 45 minutes.

実施例3
[ブロック(C)の合成]
N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレートを0.39g(2.5mmol)用い、22時間反応させたこと以外は実施例1[ブロック(C)の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート仕込み量の87%が重合していることを確認し、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレートの重合体(ブロック(C))を合成できた。
Example 3
[Composition of block (C)]
The synthesis was performed in the same manner as in Example 1 [Synthesis of block (C)] except that 0.39 g (2.5 mmol) of N, N-dimethylaminoethyl methacrylate was used for reaction for 22 hours. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and measured by 1 H-NMR. As a result, it was confirmed that 87% of the charged amount of N, N-dimethylaminoethyl methacrylate was polymerized, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate The following polymers (block (C)) could be synthesized.

[ジブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液、n−ブチルメタクリレート1.07g(7.5mmol)を用い、69時間反応させたこと以外は実施例1[ジブロック共重合体の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、n−ブチルメタクリレート仕込み量の97%が重合していることを確認し、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート重合体(ブロック(C))とn−ブチルメタクリレート重合体(ブロック(B))からなるジブロック共重合体を合成できた。
[Synthesis of Diblock Copolymer]
Using the reaction solution obtained above, 1.07 g (7.5 mmol) of n-butyl methacrylate, the reaction was carried out in the same manner as Example 1 [Synthesis of diblock copolymer] except that the reaction was carried out for 69 hours. went. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and measured by 1 H-NMR. As a result, it was confirmed that 97% of the charged amount of n-butyl methacrylate was polymerized, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate polymer (block A diblock copolymer consisting of (C) and an n-butyl methacrylate polymer (block (B)) could be synthesized.

[ブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液、N,N−ジエチルアクリルアミド1.26g(10.0mmol)を用い、90時間反応させたこと以外は実施例1[ブロック共重合体の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、N,N−ジエチルアクリルアミド仕込み量の95%が重合していることを確認できた。
[Synthesis of block copolymer]
Using the reaction solution obtained above, 1.26 g (10.0 mmol) of N, N-diethylacrylamide, synthesis was carried out in the same manner as Example 1 [Synthesis of block copolymer] except that reaction was carried out for 90 hours Did. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and 1 H-NMR was measured. As a result, it was confirmed that 95% of the charged amount of N, N-diethylacrylamide was polymerized.

上記で得られた反応溶液を実施例1[ブロック共重合体の合成]と同様の方法で処理し、白色パウダーとして、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート重合体(ブロック(C))とn−ブチルメタクリレート重合体(ブロック(B))とN,N−ジエチルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるブロック共重合体1.21gを得た。得られたブロック共重合体の組成、Mn、およびMw/Mnを表1に示す。   The reaction solution obtained above is treated in the same manner as in Example 1 [Synthesis of block copolymer] to give N, N-dimethylaminoethyl methacrylate polymer (block (C)) and n- as a white powder. 1.21 g of a block copolymer comprising a butyl methacrylate polymer (block (B)) and an N, N-diethylacrylamide polymer (block (A)) was obtained. The composition, Mn and Mw / Mn of the obtained block copolymer are shown in Table 1.

[表面処理剤の合成]
上記で得られたブロック共重合体を用いたこと以外は実施例1[表面処理剤の合成]と同様の方法で合成を行い、表面処理剤を合成した。
[Synthesis of surface treatment agent]
The synthesis was carried out in the same manner as in Example 1 [Synthesis of surface treatment agent] except that the block copolymer obtained above was used, to synthesize a surface treatment agent.

[膜評価]
上記で得られた表面処理剤を用いたこと以外は実施例1[膜評価]に記載の方法と同様の方法で細胞培養用基材の作製を行い、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート重合体(ブロック(C))とn−ブチルメタクリレート重合体(ブロック(B))とN,N−ジエチルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるブロック共重合体からなる膜が導入された細胞培養用基材を作製した。膜の厚さは10nmであり、ブロック(A)分として0.5μg/cmの割合で被覆されていた。40℃および15℃での対水接触角を評価した結果を表1に示す。15℃での対水接触角は40℃での対水接触角よりも低く温度応答性を示した。
[Film evaluation]
A cell culture substrate was prepared by the same method as that described in Example 1 [membrane evaluation] except that the surface treatment agent obtained above was used, and an N, N-dimethylaminoethyl methacrylate polymer was prepared. For cell culture to which a film comprising a block copolymer comprising (block (C)), n-butyl methacrylate polymer (block (B)) and N, N-diethylacrylamide polymer (block (A)) has been introduced A substrate was made. The film thickness was 10 nm, and it was coated at a rate of 0.5 μg / cm 2 as the block (A). The results of evaluating the water contact angle at 40 ° C. and 15 ° C. are shown in Table 1. The water contact angle at 15 ° C showed a temperature response lower than the water contact angle at 40 ° C.

[細胞培養評価および剥離評価]
上記で作製した細胞培養用基材を用いたこと以外は実施例1[細胞培養評価および剥離評価]と同様の方法で評価した。細胞増殖が確認された。培養細胞が基材の100%を覆うまで培養した後、15℃で45分間冷却することで細胞は100%剥離した。
[Cell culture evaluation and exfoliation evaluation]
It evaluated by the method similar to Example 1 [cell culture evaluation and exfoliation evaluation] except using the base material for cell cultures produced above. Cell proliferation was confirmed. After the cultured cells were cultured until they covered 100% of the substrate, the cells were exfoliated 100% by cooling at 15 ° C. for 45 minutes.

比較例5
[ブロック(C)の合成]
実施例3[ブロック(C)の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート仕込み量の95%が重合していることを確認し、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレートの重合体(ブロック(C))を合成できた。
Comparative example 5
[Composition of block (C)]
Synthesis was carried out in the same manner as in Example 3 [Synthesis of block (C)]. After the reaction, a part of the reaction solution was collected, and 1H-NMR was measured. As a result, it was confirmed that 95% of the charged amount of N, N-dimethylaminoethyl methacrylate was polymerized, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate The following polymers (block (C)) could be synthesized.

[ジブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液、N,N−ジエチルアクリルアミド1.26g(10.0mmol)を用い、90時間反応させたこと以外は比較例1[ジブロック共重合体の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、N,N−ジエチルアクリルアミド仕込み量の95%が重合していることを確認し、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート重合体(ブロック(C))とN,N−ジエチルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるジブロック共重合体を合成できた。
[Synthesis of Diblock Copolymer]
Using the reaction solution obtained above, 1.26 g (10.0 mmol) of N, N-diethylacrylamide for 90 hours, except that the reaction is carried out for 90 hours, in the same manner as in [Synthesis of diblock copolymer]. The synthesis was done. After the reaction, a part of the reaction solution was collected, and 1H-NMR was measured. As a result, it was confirmed that 95% of the charged amount of N, N-diethylacrylamide was polymerized, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate polymer A diblock copolymer consisting of (block (C)) and an N, N-diethylacrylamide polymer (block (A)) could be synthesized.

[ブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液、n−ブチルメタクリレート1.07g(7.5mmol)を用い、69時間反応させたこと以外は比較例1[ブロック共重合体の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、n−ブチルメタクリレート仕込み量の97%が重合していることを確認できた。
[Synthesis of block copolymer]
Using the reaction solution obtained above and 1.07 g (7.5 mmol) of n-butyl methacrylate, synthesis was carried out in the same manner as in Comparative Example 1 [Synthesis of block copolymer] except that the reaction was carried out for 69 hours. The After the reaction, as a result of collecting a part of the reaction solution and measuring 1 H-NMR, it could be confirmed that 97% of the charged amount of n-butyl methacrylate was polymerized.

上記で得られた反応溶液を比較例1[ブロック共重合体の合成]と同様の方法で処理し、白色パウダーとして、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート重合体(ブロック(C))とN,N−ジエチルアクリルアミド重合体(ブロック(A))とn−ブチルメタクリレート重合体(ブロック(B))からなるブロック共重合体1.25gを得た。得られたブロック共重合体の組成、Mn、およびMw/Mnを表1に示す。   The reaction solution obtained above is treated in the same manner as in Comparative Example 1 [Synthesis of block copolymer] to obtain N, N-dimethylaminoethyl methacrylate polymer (block (C)) and N, as a white powder. There were obtained 1.25 g of a block copolymer consisting of an N-diethylacrylamide polymer (block (A)) and an n-butyl methacrylate polymer (block (B)). The composition, Mn and Mw / Mn of the obtained block copolymer are shown in Table 1.

[表面処理剤の合成]
上記で得られたブロック共重合体を用いたこと以外は実施例1[表面処理剤の合成]と同様の方法で合成を行い、表面処理剤を合成した。
[Synthesis of surface treatment agent]
The synthesis was carried out in the same manner as in Example 1 [Synthesis of surface treatment agent] except that the block copolymer obtained above was used, to synthesize a surface treatment agent.

[膜評価]
上記で得られた表面処理剤を用いたこと以外は実施例1[膜評価]に記載の方法と同様の方法で細胞培養用基材の作製を行い、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート重合体(ブロック(C))とN,N−ジエチルアクリルアミド重合体(ブロック(A))とn−ブチルメタクリレート重合体(ブロック(B))からなるブロック共重合体からなる膜が導入された細胞培養用基材を作製した。膜の厚さは10nmであり、ブロック(A)分として0.5μg/cmの割合で被覆されていた。40℃および15℃での対水接触角を評価した結果を表1に示す。15℃での対水接触角は40℃での対水接触角とほぼ同じで温度応答性を示さなかった。
[Film evaluation]
A cell culture substrate was prepared by the same method as that described in Example 1 [membrane evaluation] except that the surface treatment agent obtained above was used, and an N, N-dimethylaminoethyl methacrylate polymer was prepared. For cell culture in which a film comprising a block copolymer comprising (block (C)), N, N-diethylacrylamide polymer (block (A)) and n-butyl methacrylate polymer (block (B)) is introduced A substrate was made. The film thickness was 10 nm, and it was coated at a rate of 0.5 μg / cm 2 as the block (A). The results of evaluating the water contact angle at 40 ° C. and 15 ° C. are shown in Table 1. The contact angle to water at 15 ° C was almost the same as the contact angle to water at 40 ° C and showed no temperature response.

[細胞培養評価および剥離評価]
上記で作製した細胞培養用基材を用いたこと以外は実施例1[細胞培養評価および剥離評価]と同様の方法で評価した。細胞増殖が確認された。培養細胞が基材の100%を覆うまで培養した後、15℃で45分間冷却しても細胞は全く剥離しなかった。
[Cell culture evaluation and exfoliation evaluation]
It evaluated by the method similar to Example 1 [cell culture evaluation and exfoliation evaluation] except using the base material for cell cultures produced above. Cell proliferation was confirmed. After the cultured cells were cultured to cover 100% of the substrate, the cells were not detached at all even when cooled at 15 ° C. for 45 minutes.

比較例6
[ブロック(B)の合成]
n−ブチルメタクリレート1.07g(7.5mmol)を用い、69時間反応させたこと以外は比較例2[ブロック(B)の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、n−ブチルメタクリレート仕込み量の97%が重合していることを確認し、n−ブチルメタクリレートの重合体(ブロック(B))を合成できた。
Comparative example 6
[Composition of block (B)]
The synthesis was performed in the same manner as in Comparative Example 2 [Synthesis of block (B)] except that 1.07 g (7.5 mmol) of n-butyl methacrylate was used for reaction for 69 hours. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and measured by 1 H-NMR. As a result, it was confirmed that 97% of the charged amount of n-butyl methacrylate was polymerized, and a polymer of n-butyl methacrylate (block (B) Could be synthesized.

[ジブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート0.39g(2.5mmol)を用い、48時間反応させたこと以外は比較例2[ジブロック共重合体の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート仕込み量の95%が重合していることを確認し、n−ブチルメタクリレート重合体(ブロック(B))とN,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート重合体(ブロック(C))からなるジブロック共重合体を合成できた。
[Synthesis of Diblock Copolymer]
Same as Comparative Example 2 [Synthesis of Diblock Copolymer] except that the reaction solution obtained above and 0.39 g (2.5 mmol) of N, N-dimethylaminoethyl methacrylate were reacted for 48 hours. The synthesis was done by the method. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and measured by 1 H-NMR. As a result, it was confirmed that 95% of the charged amount of N, N-dimethylaminoethyl methacrylate was polymerized, n-butyl methacrylate polymer (block A diblock copolymer consisting of (B) and an N, N-dimethylaminoethyl methacrylate polymer (block (C)) could be synthesized.

[ブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液、N,N−ジエチルアクリルアミド1.26g(10.0mmol)を用い、90時間反応させたこと以外は比較例2[ブロック共重合体の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、N,N−ジエチルアクリルアミド仕込み量の95%が重合していることを確認できた。
[Synthesis of block copolymer]
Using the reaction solution obtained above and 1.26 g (10.0 mmol) of N, N-diethylacrylamide, synthesis was carried out in the same manner as in Comparative Example 2 [Synthesis of block copolymer] except that the reaction was carried out for 90 hours. Did. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and 1 H-NMR was measured. As a result, it was confirmed that 95% of the charged amount of N, N-diethylacrylamide was polymerized.

上記で得られた反応溶液を比較例2[ブロック共重合体の合成]と同様の方法で処理し、白色パウダーとして、n−ブチルメタクリレート重合体(ブロック(B))とN,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート重合体(ブロック(C))とN,N−ジエチルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるブロック共重合体1.25gを得た。得られたブロック共重合体の組成、Mn、およびMw/Mnを表1に示す。   The reaction solution obtained above is treated in the same manner as in Comparative Example 2 [Synthesis of block copolymer] to obtain n-butyl methacrylate polymer (block (B)) and N, N-dimethylamino as white powder. There were obtained 1.25 g of a block copolymer consisting of an ethyl methacrylate polymer (block (C)) and an N, N-diethylacrylamide polymer (block (A)). The composition, Mn and Mw / Mn of the obtained block copolymer are shown in Table 1.

[表面処理剤の合成]
上記で得られたブロック共重合体を用いたこと以外は実施例1[表面処理剤の合成]と同様の方法で合成を行い、表面処理剤を合成した。
[Synthesis of surface treatment agent]
The synthesis was carried out in the same manner as in Example 1 [Synthesis of surface treatment agent] except that the block copolymer obtained above was used, to synthesize a surface treatment agent.

[膜評価]
上記で得られた表面処理剤を用いたこと以外は実施例1[膜評価]に記載の方法と同様の方法で細胞培養用基材の作製を行い、n−ブチルメタクリレート重合体(ブロック(B))とN,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート重合体(ブロック(C))とN,N−ジエチルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるブロック共重合体からなる膜が導入された細胞培養用基材を作製した。膜の厚さは10nmであり、ブロック(A)分として0.5μg/cmの割合で被覆されていた。40℃および15℃での対水接触角を評価した結果を表1に示す。15℃での対水接触角は40℃での対水接触角よりも低く、温度応答性を示した。
[Film evaluation]
A cell culture substrate was prepared by the same method as described in Example 1 (membrane evaluation) except that the surface treatment agent obtained above was used, and n-butyl methacrylate polymer (block (B (B)) was used. )) For cell culture in which a film comprising a block copolymer comprising N, N-dimethylaminoethyl methacrylate polymer (block (C)) and N, N-diethylacrylamide polymer (block (A)) is introduced A substrate was made. The film thickness was 10 nm, and it was coated at a rate of 0.5 μg / cm 2 as the block (A). The results of evaluating the water contact angle at 40 ° C. and 15 ° C. are shown in Table 1. The contact angle to water at 15 ° C. was lower than the contact angle to water at 40 ° C., indicating temperature responsiveness.

[細胞培養評価および剥離評価]
上記で作製した細胞培養用基材を用いたこと以外は実施例1[細胞培養評価および剥離評価]と同様の方法で評価した。細胞は接着せず、増殖できなかった。
[Cell culture evaluation and exfoliation evaluation]
It evaluated by the method similar to Example 1 [cell culture evaluation and exfoliation evaluation] except using the base material for cell cultures produced above. The cells did not adhere and could not grow.

実施例4
[ブロック(C)の合成]
N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレートを0.39g(2.5mmol)用い、22時間反応させたこと以外は実施例1[ブロック(C)の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート仕込み量の87%が重合していることを確認し、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレートの重合体(ブロック(C))を合成できた。
Example 4
[Composition of block (C)]
The synthesis was performed in the same manner as in Example 1 [Synthesis of block (C)] except that 0.39 g (2.5 mmol) of N, N-dimethylaminoethyl methacrylate was used for reaction for 22 hours. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and measured by 1 H-NMR. As a result, it was confirmed that 87% of the charged amount of N, N-dimethylaminoethyl methacrylate was polymerized, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate The following polymers (block (C)) could be synthesized.

[ジブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液、スチレン0.78g(7.5mmol)を用い、70時間反応させたこと以外は実施例1[ジブロック共重合体の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、スチレン仕込み量の97%が重合していることを確認し、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート重合体(ブロック(C))とスチレン重合体(ブロック(B))からなるジブロック共重合体を合成できた。スチレン重合体ブロック(B)の繰り返し単位の親水部式量は0であり、繰り返し単位総式量は104.1であり、HLB値(グリフィン法)は0であった。
[Synthesis of Diblock Copolymer]
The synthesis was carried out in the same manner as Example 1 [Synthesis of diblock copolymer] except that the reaction solution obtained above and 0.78 g (7.5 mmol) of styrene were reacted for 70 hours. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and measured by 1 H-NMR. As a result, it was confirmed that 97% of the charged amount of styrene was polymerized, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate polymer (block (C) ) And a styrene polymer (block (B)) could be synthesized. The hydrophilic part weight of the repeating unit of the styrene polymer block (B) was 0, the total weight of the repeating unit was 104.1, and the HLB value (Griffin method) was 0.

[ブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液、N−イソプロピルアクリルアミド1.13g(10.0mmol)を用い、90時間反応させたこと以外は実施例1[ブロック共重合体の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、N−イソプロピルアクリルアミド仕込み量の92%が重合していることを確認できた。
[Synthesis of block copolymer]
Using the reaction solution obtained above and 1.13 g (10.0 mmol) of N-isopropylacrylamide, the synthesis was carried out in the same manner as in [Synthesis of block copolymer] except that the reaction was carried out for 90 hours. The After the reaction, a part of the reaction solution was collected and measured by 1 H-NMR. As a result, it was confirmed that 92% of the charged amount of N-isopropylacrylamide was polymerized.

上記で得られた反応溶液を実施例1[ブロック共重合体の合成]と同様の方法で処理し、白色パウダーとして、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート重合体(ブロック(C))とスチレン重合体(ブロック(B))とN−イソプロピルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるブロック共重合体1.21gを得た。得られたブロック共重合体の組成、Mn、およびMw/Mnを表2に示す。   The reaction solution obtained above is treated in the same manner as in Example 1 [Synthesis of block copolymer] to obtain, as a white powder, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate polymer (block (C)) and styrene weight. 1.21 g of a block copolymer comprising the united (block (B)) and the N-isopropylacrylamide polymer (block (A)) was obtained. The composition, Mn, and Mw / Mn of the obtained block copolymer are shown in Table 2.

[表面処理剤の合成]
上記で得られたブロック共重合体を用いたこと以外は実施例1[表面処理剤の合成]と同様の方法で合成を行い、表面処理剤を合成した。
[Synthesis of surface treatment agent]
The synthesis was carried out in the same manner as in Example 1 [Synthesis of surface treatment agent] except that the block copolymer obtained above was used, to synthesize a surface treatment agent.

[膜評価]
上記で得られた表面処理剤を用いたこと以外は実施例1[膜評価]に記載の方法と同様の方法で細胞培養用基材の作製を行い、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート重合体(ブロック(C))とスチレン重合体(ブロック(B))とN−イソプロピルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるブロック共重合体からなる膜が導入された細胞培養用基材を作製した。膜の厚さは10nmであり、ブロック(A)分として0.5μg/cmの割合で被覆されていた。40℃および15℃での対水接触角を評価した結果を表2に示す。15℃での対水接触角は40℃での対水接触角よりも低く温度応答性を示した。
[Film evaluation]
A cell culture substrate was prepared by the same method as that described in Example 1 [membrane evaluation] except that the surface treatment agent obtained above was used, and an N, N-dimethylaminoethyl methacrylate polymer was prepared. A cell culture substrate was prepared in which a film comprising a block copolymer consisting of (block (C)), styrene polymer (block (B)) and N-isopropylacrylamide polymer (block (A)) was introduced. . The film thickness was 10 nm, and it was coated at a rate of 0.5 μg / cm 2 as the block (A). The results of evaluating the water contact angle at 40 ° C. and 15 ° C. are shown in Table 2. The water contact angle at 15 ° C showed a temperature response lower than the water contact angle at 40 ° C.

[細胞培養評価および剥離評価]
上記で作製した細胞培養用基材を用いたこと以外は実施例1[細胞培養評価および剥離評価]と同様の方法で評価した。細胞増殖が確認された。培養細胞が基材の100%を覆うまで培養した後、15℃で45分間冷却することで細胞は100%剥離した。
[Cell culture evaluation and exfoliation evaluation]
It evaluated by the method similar to Example 1 [cell culture evaluation and exfoliation evaluation] except using the base material for cell cultures produced above. Cell proliferation was confirmed. After the cultured cells were cultured until they covered 100% of the substrate, the cells were exfoliated 100% by cooling at 15 ° C. for 45 minutes.

比較例7
[ブロック(C)の合成]
実施例4[ブロック(C)の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート仕込み量の87%が重合していることを確認し、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレートの重合体(ブロック(C))を合成できた。
Comparative example 7
[Composition of block (C)]
Synthesis was carried out in the same manner as in Example 4 [Synthesis of block (C)]. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and measured by 1 H-NMR. As a result, it was confirmed that 87% of the charged amount of N, N-dimethylaminoethyl methacrylate was polymerized, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate The following polymers (block (C)) could be synthesized.

[ジブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液、N−イソプロピルアクリルアミド1.13g(10.0mmol)を用い、90時間反応させたこと以外は比較例1[ジブロック共重合体の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、N−イソプロピルアクリルアミド仕込み量の95%が重合していることを確認できた。N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート重合体(ブロック(C))とN−イソプロピルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるジブロック共重合体を合成できた。
[Synthesis of Diblock Copolymer]
Synthesis was carried out in the same manner as in Comparative Example 1 [Synthesis of Diblock Copolymer] except that the reaction solution obtained above and 1.13 g (10.0 mmol) of N-isopropylacrylamide were reacted for 90 hours. went. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and measured by 1 H-NMR. As a result, it was confirmed that 95% of the charged amount of N-isopropylacrylamide was polymerized. A diblock copolymer consisting of N, N-dimethylaminoethyl methacrylate polymer (block (C)) and N-isopropylacrylamide polymer (block (A)) could be synthesized.

[ブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液、スチレン0.78g(7.5mmol)を用い、70時間反応させたこと以外は比較例1[ブロック共重合体の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、スチレン仕込み量の97%が重合していることを確認できた。
[Synthesis of block copolymer]
Synthesis was carried out in the same manner as in Comparative Example 1 [Synthesis of block copolymer] except that the reaction solution obtained above and 0.78 g (7.5 mmol) of styrene were used for reaction for 70 hours. After the reaction, as a result of collecting a part of the reaction solution and measuring 1 H-NMR, it could be confirmed that 97% of the amount of styrene charged was polymerized.

上記で得られた反応溶液を比較例1[ブロック共重合体の合成]と同様の方法で処理し、白色パウダーとして、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート重合体(ブロック(C))とN−イソプロピルアクリルアミド重合体(ブロック(A))とスチレン重合体(ブロック(B))からなるブロック共重合体1.25gを得た。得られたブロック共重合体の組成、Mn、およびMw/Mnを表2に示す。   The reaction solution obtained above is treated in the same manner as in Comparative Example 1 [Synthesis of block copolymer] to obtain N, N-dimethylaminoethyl methacrylate polymer (block (C)) and N- as a white powder. There were obtained 1.25 g of a block copolymer consisting of an isopropylacrylamide polymer (block (A)) and a styrene polymer (block (B)). The composition, Mn, and Mw / Mn of the obtained block copolymer are shown in Table 2.

[表面処理剤の合成]
上記で得られたブロック共重合体を用いたこと以外は実施例1[表面処理剤の合成]と同様の方法で合成を行い、表面処理剤を合成した。
[Synthesis of surface treatment agent]
The synthesis was carried out in the same manner as in Example 1 [Synthesis of surface treatment agent] except that the block copolymer obtained above was used, to synthesize a surface treatment agent.

[膜評価]
上記で得られた表面処理剤を用いたこと以外は実施例1[膜評価]に記載の方法と同様の方法で細胞培養用基材の作製を行い、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート重合体(ブロック(C))とN−イソプロピルアクリルアミド重合体(ブロック(A))とスチレン重合体(ブロック(B))からなるブロック共重合体からなる膜が導入された細胞培養用基材を作製した。膜の厚さは10nmであり、ブロック(A)分として0.5μg/cmの割合で被覆されていた。40℃および15℃での対水接触角を評価した結果を表2に示す。15℃での対水接触角は40℃での対水接触角とほぼ同じで温度応答性を示さなかった。
[Film evaluation]
A cell culture substrate was prepared by the same method as that described in Example 1 [membrane evaluation] except that the surface treatment agent obtained above was used, and an N, N-dimethylaminoethyl methacrylate polymer was prepared. A cell culture substrate was prepared in which a film comprising a block copolymer consisting of (block (C)), N-isopropylacrylamide polymer (block (A)) and styrene polymer (block (B)) was introduced. . The film thickness was 10 nm, and it was coated at a rate of 0.5 μg / cm 2 as the block (A). The results of evaluating the water contact angle at 40 ° C. and 15 ° C. are shown in Table 2. The contact angle to water at 15 ° C was almost the same as the contact angle to water at 40 ° C and showed no temperature response.

[細胞培養評価および剥離評価]
上記で作製した細胞培養用基材を用いたこと以外は実施例1[細胞培養評価および剥離評価]と同様の方法で評価した。細胞増殖が確認された。培養細胞が基材の100%を覆うまで培養した後、15℃で45分間冷却しても細胞は全く剥離しなかった。
[Cell culture evaluation and exfoliation evaluation]
It evaluated by the method similar to Example 1 [cell culture evaluation and exfoliation evaluation] except using the base material for cell cultures produced above. Cell proliferation was confirmed. After the cultured cells were cultured to cover 100% of the substrate, the cells were not detached at all even when cooled at 15 ° C. for 45 minutes.

比較例8
[ブロック(B)の合成]
スチレン0.78g(7.5mmol)を用い、70時間反応させたこと以外は比較例2[ブロック(B)の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、スチレン仕込み量の97%が重合していることを確認し、スチレンの重合体(ブロック(B))を合成できた。
Comparative Example 8
[Composition of block (B)]
The synthesis was performed in the same manner as in Comparative Example 2 [Synthesis of block (B)] except that 0.78 g (7.5 mmol) of styrene was used for reaction for 70 hours. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and measured by 1 H-NMR. As a result, it was confirmed that 97% of the charged amount of styrene was polymerized, and a styrene polymer (block (B)) could be synthesized.

[ジブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート0.39g(2.5mmol)を用い、22時間反応させたこと以外は比較例2[ジブロック共重合体の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート仕込み量の87%が重合していることを確認し、スチレン重合体(ブロック(B))とN,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート重合体(ブロック(C))からなるジブロック共重合体を合成できた。
[Synthesis of Diblock Copolymer]
Same as Comparative Example 2 [Synthesis of Diblock Copolymer] except that the reaction solution obtained above and 0.39 g (2.5 mmol) of N, N-dimethylaminoethyl methacrylate were reacted for 22 hours. The synthesis was done by the method. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and measured by 1 H-NMR. As a result, it was confirmed that 87% of the charged amount of N, N-dimethylaminoethyl methacrylate was polymerized, and a styrene polymer (block (B) ) And a N, N-dimethylaminoethyl methacrylate polymer (block (C)) could be synthesized.

[ブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液、N−イソプロピルアクリルアミド1.13g(10.0mmol)を用い、90時間反応させたこと以外は比較例2[ブロック共重合体の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、N−イソプロピルアクリルアミド仕込み量の92%が重合していることを確認できた。
[Synthesis of block copolymer]
Using the reaction solution obtained above and 1.13 g (10.0 mmol) of N-isopropylacrylamide, the synthesis was carried out in the same manner as in Comparative Example 2 [Synthesis of block copolymer] except that the reaction was carried out for 90 hours. The After the reaction, a part of the reaction solution was collected and measured by 1 H-NMR. As a result, it was confirmed that 92% of the charged amount of N-isopropylacrylamide was polymerized.

上記で得られた反応溶液を比較例2[ブロック共重合体の合成]と同様の方法で処理し、白色パウダーとして、スチレン重合体(ブロック(B))とN,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート重合体(ブロック(C))とN−イソプロピルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるブロック共重合体1.25gを得た。得られたブロック共重合体の組成、Mn、およびMw/Mnを表2に示す。   The reaction solution obtained above is treated in the same manner as in Comparative Example 2 [Synthesis of block copolymer] to form a styrene powder (block (B)) and N, N-dimethylaminoethyl methacrylate as a white powder. There were obtained 1.25 g of a block copolymer comprising the united (block (C)) and the N-isopropylacrylamide polymer (block (A)). The composition, Mn, and Mw / Mn of the obtained block copolymer are shown in Table 2.

[表面処理剤の合成]
上記で得られたブロック共重合体を用いたこと以外は実施例1[表面処理剤の合成]と同様の方法で合成を行い、表面処理剤を合成した。
[Synthesis of surface treatment agent]
The synthesis was carried out in the same manner as in Example 1 [Synthesis of surface treatment agent] except that the block copolymer obtained above was used, to synthesize a surface treatment agent.

[膜評価]
上記で得られた表面処理剤を用いたこと以外は実施例1[膜評価]に記載の方法と同様の方法で細胞培養用基材の作製を行い、スチレン重合体(ブロック(B))とN,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート重合体(ブロック(C))とN−イソプロピルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるブロック共重合体からなる膜が導入された細胞培養用基材を作製した。膜の厚さは10nmであり、ブロック(A)分として0.5μg/cmの割合で被覆されていた。40℃および15℃での対水接触角を評価した結果を表2に示す。15℃での対水接触角は40℃での対水接触角よりも低く、温度応答性を示した。
[Film evaluation]
A cell culture substrate was prepared by the same method as described in Example 1 (membrane evaluation) except that the surface treatment agent obtained above was used, and a styrene polymer (block (B)) was used. A cell culture substrate was prepared in which a film comprising a block copolymer consisting of N, N-dimethylaminoethyl methacrylate polymer (block (C)) and N-isopropylacrylamide polymer (block (A)) was introduced. . The film thickness was 10 nm, and it was coated at a rate of 0.5 μg / cm 2 as the block (A). The results of evaluating the water contact angle at 40 ° C. and 15 ° C. are shown in Table 2. The contact angle to water at 15 ° C. was lower than the contact angle to water at 40 ° C., indicating temperature responsiveness.

[細胞培養評価および剥離評価]
上記で作製した細胞培養用基材を用いたこと以外は実施例1[細胞培養評価および剥離評価]と同様の方法で評価した。細胞は接着せず、増殖できなかった。
[Cell culture evaluation and exfoliation evaluation]
It evaluated by the method similar to Example 1 [cell culture evaluation and exfoliation evaluation] except using the base material for cell cultures produced above. The cells did not adhere and could not grow.

実施例5
[ブロック(C)の合成]
2−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリンを0.74g(2.5mmol)用い、48時間反応させたこと以外は実施例1[ブロック(C)の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、2−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン仕込み量の95%が重合していることを確認し、2−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリンの重合体(ブロック(C))を合成できた。2−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン重合体(ブロック(C))の繰り返し単位の親水部式量は炭素8個、水素17個、窒素1個、酸素6個、リン1個の合計(254.2)であり、繰り返し単位総式量は295.3であり、HLB値(グリフィン法)は17であった。
Example 5
[Composition of block (C)]
The synthesis was carried out in the same manner as Example 1 [Synthesis of block (C)] except that reaction was carried out for 48 hours using 0.74 g (2.5 mmol) of 2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine. After the reaction, a part of the reaction solution was collected, and 1H-NMR was measured. As a result, it was confirmed that 95% of the charged amount of 2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine was polymerized, and a polymer of 2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine ( The block (C) was able to be synthesized. The hydrophilic part weight of the repeating unit of 2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine polymer (block (C)) is a total of 25 carbons, 17 hydrogens, 1 nitrogen, 6 oxygens and 1 phosphorus (254.2). The total repeating unit weight was 295.3, and the HLB value (Griffin method) was 17.

[ジブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液、スチレン0.79g(7.5mmol)を用い、48時間反応させたこと以外は実施例1[ジブロック共重合体の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、スチレン仕込み量の95%が重合していることを確認し、2−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン重合体(ブロック(C))とスチレン重合体(ブロック(B))からなるジブロック共重合体を合成できた。
[Synthesis of Diblock Copolymer]
Using the reaction solution obtained above and 0.79 g (7.5 mmol) of styrene, the synthesis was carried out in the same manner as Example 1 [Synthesis of diblock copolymer] except that the reaction was carried out for 48 hours. After the reaction, a part of the reaction solution was collected, and 1H-NMR was measured. As a result, it was confirmed that 95% of the charged amount of styrene was polymerized, and 2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine polymer (block (C)) A diblock copolymer consisting of a styrene polymer (block (B)) could be synthesized.

[ブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液、N,N−ジエチルアクリルアミド1.26g(10.0mmol)を用い、90時間反応させたこと以外は実施例1[ブロック共重合体の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、N,N−ジエチルアクリルアミド仕込み量の92%が重合していることを確認できた。
[Synthesis of block copolymer]
Using the reaction solution obtained above, 1.26 g (10.0 mmol) of N, N-diethylacrylamide, synthesis was carried out in the same manner as Example 1 [Synthesis of block copolymer] except that reaction was carried out for 90 hours Did. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and measured by 1 H-NMR. As a result, it was confirmed that 92% of the charged amount of N, N-diethylacrylamide was polymerized.

上記で得られた反応溶液を実施例1[ブロック共重合体の合成]と同様の方法で処理し、白色パウダーとして、2−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン重合体(ブロック(C))とスチレン重合体(ブロック(B))とN,N−ジエチルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるブロック共重合体1.15gを得た。得られたブロック共重合体の組成、Mn、およびMw/Mnを表2に示す。   The reaction solution obtained above is treated in the same manner as in Example 1 [Synthesis of block copolymer] to give 2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine polymer (block (C)) and styrene polymer (white powder) as a white powder. 1.15 g of a block copolymer comprising the block (B) and the N, N-diethylacrylamide polymer (block (A)) was obtained. The composition, Mn, and Mw / Mn of the obtained block copolymer are shown in Table 2.

[表面処理剤の合成]
上記で得られたブロック共重合体を用いたこと以外は実施例1[表面処理剤の合成]と同様の方法で合成を行い、表面処理剤を合成した。
[Synthesis of surface treatment agent]
The synthesis was carried out in the same manner as in Example 1 [Synthesis of surface treatment agent] except that the block copolymer obtained above was used, to synthesize a surface treatment agent.

[膜評価]
上記で得られた表面処理剤を用いたこと以外は実施例1[膜評価]に記載の方法と同様の方法で細胞培養用基材の作製を行い、2−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン重合体(ブロック(C))とスチレン重合体(ブロック(B))とN,N−ジエチルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるブロック共重合体からなる膜が導入された細胞培養用基材を作製した。膜の厚さは10nmであり、ブロック(A)分として0.5μg/cmの割合で被覆されていた。40℃および15℃での対水接触角を評価した結果を表2に示す。15℃での対水接触角は40℃での対水接触角よりも低く温度応答性を示した。
[Film evaluation]
A cell culture substrate was prepared by the same method as described in Example 1 [membrane evaluation] except that the surface treatment agent obtained above was used, and 2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine polymer (block A cell culture substrate was prepared in which a film comprising a block copolymer consisting of (C), a styrene polymer (block (B)) and an N, N-diethylacrylamide polymer (block (A)) was introduced. . The film thickness was 10 nm, and it was coated at a rate of 0.5 μg / cm 2 as the block (A). The results of evaluating the water contact angle at 40 ° C. and 15 ° C. are shown in Table 2. The water contact angle at 15 ° C showed a temperature response lower than the water contact angle at 40 ° C.

[細胞培養評価および剥離評価]
上記にて作製した、2−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン重合体(ブロック(C))とスチレン重合体(ブロック(B))とN,N−ジエチルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるブロック共重合体からなる膜が導入された細胞培養用基材を用い、ヒト骨髄由来間葉系幹細胞(ロンザ社、PT−2501)(100個/mm2)を、37℃、CO2濃度5%で培養した。培地および添加因子はロンザ社PT−3001キットを用いた。細胞増殖が確認され、培養細胞が基材の100%を覆うまで培養したところで、10×10倍の顕微鏡で細胞数を確認した。細胞培養用基材を15℃に冷却後、アスピレーターで剥離した細胞を除去し、再度10×10倍の顕微鏡で細胞数を確認した。15分間冷却することで細胞は単一細胞の形状で100%剥離した。
[Cell culture evaluation and exfoliation evaluation]
Block copolymer consisting of 2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine polymer (block (C)), styrene polymer (block (B)) and N, N-diethylacrylamide polymer (block (A)) prepared above Human bone marrow-derived mesenchymal stem cells (Lonza, PT-2501) (100 cells / mm 2) were cultured at 37 ° C. and a CO 2 concentration of 5% using a cell culture substrate into which a combined membrane was introduced. The medium and the addition factor used Lonza PT-3001 kit. When cell growth was confirmed and the cultured cells were cultured until they covered 100% of the substrate, the cell number was confirmed with a 10 × 10 × microscope. After cooling the cell culture substrate to 15 ° C., the detached cells were removed with an aspirator, and the cell number was confirmed again with a 10 × 10 × microscope. Cooling for 15 minutes resulted in 100% detachment of cells in the form of single cells.

比較例9
[ブロック(C)の合成]
実施例5[ブロック(C)の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、2−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン仕込み量の95%が重合していることを確認し、2−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリンの重合体(ブロック(C))を合成できた。
Comparative Example 9
[Composition of block (C)]
Example 5 [Synthesis of block (C)] Synthesis was carried out in the same manner as described above. After the reaction, a part of the reaction solution was collected, and 1H-NMR was measured. As a result, it was confirmed that 95% of the charged amount of 2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine was polymerized, and a polymer of 2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine ( The block (C) was able to be synthesized.

[ジブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液、N,N−ジエチルアクリルアミド1.26g(10.0mmol)を用い、70時間反応させたこと以外は比較例1[ジブロック共重合体の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、N,N−ジエチルアクリルアミド仕込み量の95%が重合していることを確認し、2−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン重合体(ブロック(C))とN,N−ジエチルアクリルアミド(ブロック(A))からなるジブロック共重合体を合成できた。
[Synthesis of Diblock Copolymer]
Using the reaction solution obtained above, 1.26 g (10.0 mmol) of N, N-diethylacrylamide for 70 hours, except that the reaction is carried out for 70 hours, in the same manner as in [Synthesis of diblock copolymer]. The synthesis was done. After the reaction, a portion of the reaction solution was collected, and 1H-NMR was measured. As a result, it was confirmed that 95% of the charged amount of N, N-diethylacrylamide was polymerized, and 2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine polymer (block A diblock copolymer consisting of (C) and N, N-diethylacrylamide (block (A)) could be synthesized.

[ブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液、スチレン0.79g(7.5mmol)を用い、48時間反応させたこと以外は比較例1[ブロック共重合体の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、スチレン仕込み量の92%が重合していることを確認できた。
[Synthesis of block copolymer]
The synthesis was performed in the same manner as in Comparative Example 1 [Synthesis of block copolymer] except that the reaction solution obtained above and 0.79 g (7.5 mmol) of styrene were used for reaction for 48 hours. After the reaction, as a result of collecting a part of the reaction solution and measuring 1 H-NMR, it could be confirmed that 92% of the charged amount of styrene was polymerized.

得られた反応溶液をヘキサン250mLに注ぎ込み、析出した白色固体をろ過した。得られた白色固体を減圧下で2時間乾燥し、白色パウダーとして2−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン重合体(ブロック(C))とN,N−ジエチルアクリルアミド(ブロック(A))とスチレン重合体(ブロック(B))からなるブロック共重合体2.11gを得た。得られたブロック共重合体の組成、Mn、およびMw/Mnを表2に示す。   The resulting reaction solution was poured into 250 mL of hexane, and the precipitated white solid was filtered. The obtained white solid is dried under reduced pressure for 2 hours, and 2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine polymer (block (C)), N, N-diethylacrylamide (block (A)) and styrene polymer (block) as white powder. 2.11 g of a block copolymer consisting of (B) was obtained. The composition, Mn, and Mw / Mn of the obtained block copolymer are shown in Table 2.

[表面処理剤の合成]
上記で得られたブロック共重合体を用いたこと以外は実施例1[表面処理剤の合成]と同様の方法で合成を行い、表面処理剤を合成した。
[Synthesis of surface treatment agent]
The synthesis was carried out in the same manner as in Example 1 [Synthesis of surface treatment agent] except that the block copolymer obtained above was used, to synthesize a surface treatment agent.

[膜評価]
上記で得られた表面処理剤を用いたこと以外は実施例1[膜評価]に記載の方法と同様の方法で細胞培養用基材の作製を行い、2−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン重合体(ブロック(C))とN,N−ジエチルアクリルアミド(ブロック(A))とスチレン重合体(ブロック(B))からなるブロック共重合体からなる膜が導入された細胞培養用基材を作製した。膜の厚さは10nmであり、ブロック(A)分として0.5μg/cmの割合で被覆されていた。40℃および15℃での対水接触角を評価した結果を表2に示す。15℃での対水接触角は40℃での対水接触角とほぼ同じで温度応答性を示さなかった。
[Film evaluation]
A cell culture substrate was prepared by the same method as described in Example 1 [membrane evaluation] except that the surface treatment agent obtained above was used, and 2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine polymer (block A cell culture substrate was prepared in which a membrane comprising a block copolymer of (C), N, N-diethylacrylamide (block (A)) and a styrene polymer (block (B)) was introduced. The film thickness was 10 nm, and it was coated at a rate of 0.5 μg / cm 2 as the block (A). The results of evaluating the water contact angle at 40 ° C. and 15 ° C. are shown in Table 2. The contact angle to water at 15 ° C was almost the same as the contact angle to water at 40 ° C and showed no temperature response.

[細胞培養評価および剥離評価]
上記で作製した細胞培養用基材を用いたこと以外は実施例5[細胞培養評価および剥離評価]と同様の方法で評価した。細胞は接着せず、増殖できなかった。
[Cell culture evaluation and exfoliation evaluation]
It evaluated by the method similar to Example 5 [cell culture evaluation and exfoliation evaluation] except using the base material for cell cultures produced above. The cells did not adhere and could not grow.

比較例10
[ブロック(B)の合成]
スチレン0.79g(7.5mmol)を用い、48時間反応させたこと以外は比較例2[ブロック(B)の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、スチレン仕込み量の90%が重合していることを確認できた。
Comparative example 10
[Composition of block (B)]
The synthesis was performed in the same manner as in Comparative Example 2 [Synthesis of block (B)] except that 0.79 g (7.5 mmol) of styrene was used for reaction for 48 hours. After the reaction, as a result of collecting a part of the reaction solution and measuring 1 H-NMR, it could be confirmed that 90% of the charged amount of styrene was polymerized.

[ジブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液、2−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン0.74g(2.5mmol)を用い、48時間反応させたこと以外は比較例2[ジブロック共重合体の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、2−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン仕込み量の93%が重合していることを確認し、スチレン重合体(ブロック(B))と2−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン(ブロック(C))からなるジブロック共重合体を合成できた。
[Synthesis of Diblock Copolymer]
Using the reaction solution obtained above, 0.74 g (2.5 mmol) of 2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine and following the same procedure as in [Synthesis of diblock copolymer] in Comparative Example 2 except that reaction is carried out for 48 hours The synthesis was done. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and measured by 1 H-NMR. As a result, it was confirmed that 93% of the charged amount of 2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine was polymerized, and a styrene polymer (block (B)) A diblock copolymer consisting of 2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine (block (C)) could be synthesized.

[ブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液、N,N−ジエチルアクリルアミド1.26g(10.0mmol)を用い、75時間反応させたこと以外は比較例2[ブロック共重合体の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、N,N−ジエチルアクリルアミド仕込み量の92%が重合していることを確認できた。
[Synthesis of block copolymer]
Using the reaction solution obtained above and 1.26 g (10.0 mmol) of N, N-diethylacrylamide, synthesis was carried out in the same manner as in Comparative Example 2 [Synthesis of block copolymer] except that the reaction was carried out for 75 hours. Did. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and measured by 1 H-NMR. As a result, it was confirmed that 92% of the charged amount of N, N-diethylacrylamide was polymerized.

得られた反応溶液をヘキサン250mLに注ぎ込み、析出した白色固体をろ過した。得られた白色固体を減圧下で2時間乾燥し、白色パウダーとしてスチレン重合体(ブロック(B))と2−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン(ブロック(C))とN,N−ジエチルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるブロック共重合体2.31gを得た。得られたブロック共重合体の組成、Mn、およびMw/Mnを表2に示す。   The resulting reaction solution was poured into 250 mL of hexane, and the precipitated white solid was filtered. The obtained white solid is dried under reduced pressure for 2 hours, and a styrene polymer (block (B)), 2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine (block (C)) and an N, N-diethylacrylamide polymer (block) are obtained as a white powder. 2.31 g of a block copolymer consisting of (A) was obtained. The composition, Mn, and Mw / Mn of the obtained block copolymer are shown in Table 2.

[表面処理剤の合成]
上記で得られたブロック共重合体を用いたこと以外は実施例1[表面処理剤の合成]と同様の方法で合成を行い、表面処理剤を合成した。
[Synthesis of surface treatment agent]
The synthesis was carried out in the same manner as in Example 1 [Synthesis of surface treatment agent] except that the block copolymer obtained above was used, to synthesize a surface treatment agent.

[膜評価]
上記で得られた表面処理剤を用いたこと以外は実施例1[膜評価]に記載の方法と同様の方法で細胞培養用基材の作製を行い、スチレン重合体(ブロック(B))と2−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン(ブロック(C))とN,N−ジエチルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるブロック共重合体からなる膜が導入された細胞培養用基材を作製した。膜の厚さは10nmであり、ブロック(A)分として0.5μg/cmの割合で被覆されていた。40℃および15℃での対水接触角を評価した結果を表2に示す。15℃での対水接触角は40℃での対水接触角よりも低く温度応答性を示した。
[Film evaluation]
A cell culture substrate was prepared by the same method as described in Example 1 (membrane evaluation) except that the surface treatment agent obtained above was used, and a styrene polymer (block (B)) was used. A cell culture substrate was prepared in which a membrane consisting of a block copolymer consisting of 2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine (block (C)) and an N, N-diethylacrylamide polymer (block (A)) was introduced. The film thickness was 10 nm, and it was coated at a rate of 0.5 μg / cm 2 as the block (A). The results of evaluating the water contact angle at 40 ° C. and 15 ° C. are shown in Table 2. The water contact angle at 15 ° C showed a temperature response lower than the water contact angle at 40 ° C.

[細胞培養評価および剥離評価]
上記で作製した細胞培養用基材を用いたこと以外は実施例5[細胞培養評価および剥離評価]と同様の方法で評価した。細胞増殖が確認された。培養細胞が基材の100%を覆うまで培養した後、15℃で60分間冷却しても細胞は全く剥離しなかった。
[Cell culture evaluation and exfoliation evaluation]
It evaluated by the method similar to Example 5 [cell culture evaluation and exfoliation evaluation] except using the base material for cell cultures produced above. Cell proliferation was confirmed. After culturing until the cultured cells covered 100% of the substrate, the cells were not detached at all even when cooled at 15 ° C. for 60 minutes.

比較例11
[ブロック(B)の合成]
50mLシュレンク管に2−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン0.74g(2.5mmol)、スチレン0.79g(7.5mmol)、RAFT剤として4−シアノ−4−[(ドデシルスルフォニルチオカルボニル)スルフォニル]ペンタノイックアシッド40.4mg(0.1mmol)、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル6.56mg(0.04mmol)を加え、1,4−ジオキサン10mLに溶解した。アルゴンバブリングを10分行った後、65℃で48時間反応させた。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、2−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン仕込み量およびスチレン仕込み量の98%が重合していることを確認し、2−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリンとスチレンのランダム共重合体(ブロック(B))を合成できた。2−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリンとスチレンのランダム共重合体(ブロック(B))のHLB値は3であった。
Comparative example 11
[Composition of block (B)]
In a 50 mL Schlenk tube, 0.74 g (2.5 mmol) of 2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine, 0.79 g (7.5 mmol) of styrene, 4-cyano-4-[(dodecylsulfonylthiocarbonyl) sulfonyl] pentanoic as a RAFT agent 40.4 mg (0.1 mmol) of acid and 6.56 mg (0.04 mmol) of azobisisobutyronitrile as an initiator were added and dissolved in 10 mL of 1,4-dioxane. After bubbling argon for 10 minutes, the reaction was carried out at 65 ° C. for 48 hours. After the reaction, a portion of the reaction solution was collected and 1H-NMR was measured. As a result, it was confirmed that 98% of the charged amount of 2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine and styrene were polymerized, and 2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine And a random copolymer of styrene and styrene (block (B)) could be synthesized. The HLB value of the random copolymer of 2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine and styrene (block (B)) was 3.

[ジブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液、N,N−ジエチルアクリルアミド1.26g(10.0mmol)を用い、75時間反応させたこと以外は比較例2[ブロック共重合体の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、N,N−ジエチルアクリルアミド仕込み量の92%が重合していることを確認できた。
[Synthesis of Diblock Copolymer]
Using the reaction solution obtained above and 1.26 g (10.0 mmol) of N, N-diethylacrylamide, synthesis was carried out in the same manner as in Comparative Example 2 [Synthesis of block copolymer] except that the reaction was carried out for 75 hours. Did. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and measured by 1 H-NMR. As a result, it was confirmed that 92% of the charged amount of N, N-diethylacrylamide was polymerized.

得られた反応溶液をヘキサン250mLに注ぎ込み、析出した白色固体をろ過した。得られた白色固体を減圧下で2時間乾燥し、白色パウダーとして2−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリンとスチレンのランダム共重合体(ブロック(B))とN,N−ジエチルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるジブロック共重合体2.21gを得た。得られたジブロック共重合体の組成、Mn、およびMw/Mnを表2に示す。   The resulting reaction solution was poured into 250 mL of hexane, and the precipitated white solid was filtered. The obtained white solid is dried for 2 hours under reduced pressure, and a random copolymer of 2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine and styrene (block (B)) and an N, N-diethylacrylamide polymer (block (A) as white powder. 2.21 g of a diblock copolymer consisting of The composition, Mn, and Mw / Mn of the obtained diblock copolymer are shown in Table 2.

[表面処理剤の合成]
上記で得られたジブロック共重合体を用いたこと以外は実施例1[表面処理剤の合成]と同様の方法で合成を行い、表面処理剤を合成した。
[Synthesis of surface treatment agent]
The synthesis was carried out in the same manner as in Example 1 [Synthesis of surface treatment agent] except that the diblock copolymer obtained above was used, to synthesize a surface treatment agent.

[膜評価]
上記で得られた表面処理剤を用いたこと以外は実施例1[膜評価]に記載の方法と同様の方法で細胞培養用基材の作製を行い、2−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリンとスチレンのランダム共重合体(ブロック(B))とN,N−ジエチルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるジブロック共重合体からなる膜が導入された細胞培養用基材を作製した。膜の厚さは10nmであり、ブロック(A)分として0.5μg/cmの割合で被覆されていた。40℃および15℃での対水接触角を評価した結果を表2に示す。15℃での対水接触角は40℃での対水接触角よりも低く温度応答性を示した。
[Film evaluation]
A cell culture substrate was prepared by the same method as described in Example 1 (membrane evaluation) except that the surface treatment agent obtained above was used, and a random of 2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine and styrene was used. A cell culture substrate was prepared in which a membrane consisting of a diblock copolymer consisting of a copolymer (block (B)) and an N, N-diethylacrylamide polymer (block (A)) was introduced. The film thickness was 10 nm, and it was coated at a rate of 0.5 μg / cm 2 as the block (A). The results of evaluating the water contact angle at 40 ° C. and 15 ° C. are shown in Table 2. The water contact angle at 15 ° C showed a temperature response lower than the water contact angle at 40 ° C.

[細胞培養評価および剥離評価]
上記で作製した細胞培養用基材を用いたこと以外は実施例5[細胞培養評価および剥離評価]と同様の方法で評価した。細胞増殖が確認された。培養細胞が基材の100%を覆うまで培養した後、15℃で60分間冷却することで細胞は単一細胞の形状で30%剥離した。
[Cell culture evaluation and exfoliation evaluation]
It evaluated by the method similar to Example 5 [cell culture evaluation and exfoliation evaluation] except using the base material for cell cultures produced above. Cell proliferation was confirmed. After the cultured cells were cultured until they covered 100% of the substrate, the cells were exfoliated 30% in the form of single cells by cooling at 15 ° C. for 60 minutes.

実施例6
[ブロック(C)の合成]
ジメチル(3−メタクリロイルアミノプロピル)(3−スルホナトプロピル)アミニウムを0.69g(2.5mmol)用い、48時間反応させたこと以外は実施例1[ブロック(C)の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、ジメチル(3−メタクリロイルアミノプロピル)(3−スルホナトプロピル)アミニウム仕込み量の90%が重合していることを確認し、ジメチル(3−メタクリロイルアミノプロピル)(3−スルホナトプロピル)アミニウムの重合体(ブロック(C))を合成できた。ジメチル(3−メタクリロイルアミノプロピル)(3−スルホナトプロピル)アミニウム重合体(ブロック(C))の繰り返し単位の親水部式量は炭素5個、水素11個、窒素1個、酸素4個、硫黄1個の合計(181.2)であり、繰り返し単位総式量は278.4であり、HLB値(グリフィン法)は13であった。
Example 6
[Composition of block (C)]
The same method as in Example 1 [Synthesis of block (C)] except that 0.69 g (2.5 mmol) of dimethyl (3-methacryloylaminopropyl) (3-sulfonatopropyl) aminium was used and reacted for 48 hours The synthesis was done in After the reaction, a portion of the reaction solution was collected, and 1H-NMR was measured. As a result, it was confirmed that 90% of the charged amount of dimethyl (3-methacryloylaminopropyl) (3-sulfonatopropyl) aminium was polymerized, A polymer (block (C)) of dimethyl (3-methacryloylaminopropyl) (3-sulfonatopropyl) aminium could be synthesized. The hydrophilic part weight of the repeating unit of dimethyl (3-methacryloylaminopropyl) (3-sulfonatopropyl) aminium polymer (block (C)) is 5 carbons, 11 hydrogens, 1 nitrogen, 4 oxygens, sulfur The total of one repeating unit (181.2), the total amount of repeating units was 278.4, and the HLB value (Griffin method) was 13.

[ジブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液、スチレン0.79g(7.5mmol)を用い、48時間反応させたこと以外は実施例1[ジブロック共重合体の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、スチレン仕込み量の95%が重合していることを確認し、ジメチル(3−メタクリロイルアミノプロピル)(3−スルホナトプロピル)アミニウム重合体(ブロック(C))とスチレン重合体(ブロック(B))からなるジブロック共重合体を合成できた。
[Synthesis of Diblock Copolymer]
Using the reaction solution obtained above and 0.79 g (7.5 mmol) of styrene, the synthesis was carried out in the same manner as Example 1 [Synthesis of diblock copolymer] except that the reaction was carried out for 48 hours. After the reaction, a part of the reaction solution was collected, and 1H-NMR was measured. As a result, it was confirmed that 95% of the styrene charge was polymerized, and dimethyl (3-methacryloylaminopropyl) (3-sulfonatopropyl) A diblock copolymer consisting of an aminium polymer (block (C)) and a styrene polymer (block (B)) could be synthesized.

[ブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液、N−エトキシエチルアクリルアミド1.26g(10.0mmol)を用い、90時間反応させたこと以外は実施例1[ブロック共重合体の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、N−エトキシエチルアクリルアミド仕込み量の92%が重合していることを確認できた。
[Synthesis of block copolymer]
Synthesis was carried out in the same manner as Example 1 [Synthesis of block copolymer] except that the reaction solution obtained above and 1.26 g (10.0 mmol) of N-ethoxyethyl acrylamide were reacted for 90 hours. went. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and measured by 1 H-NMR. As a result, it was confirmed that 92% of the charged amount of N-ethoxyethyl acrylamide was polymerized.

上記で得られた反応溶液を実施例1[ブロック共重合体の合成]と同様の方法で処理し、白色パウダーとして、ジメチル(3−メタクリロイルアミノプロピル)(3−スルホナトプロピル)アミニウム重合体(ブロック(C))とスチレン重合体(ブロック(B))とN−エトキシエチルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるブロック共重合体1.22gを得た。得られたブロック共重合体の組成、Mn、およびMw/Mnを表2に示す。   The reaction solution obtained above is treated in the same manner as in Example 1 [Synthesis of block copolymer] to give dimethyl (3-methacryloylaminopropyl) (3-sulfonatopropyl) aminium polymer (white powder). 1.22 g of a block copolymer comprising block (C), a styrene polymer (block (B)) and an N-ethoxyethyl acrylamide polymer (block (A)) was obtained. The composition, Mn, and Mw / Mn of the obtained block copolymer are shown in Table 2.

[表面処理剤の合成]
上記で得られたブロック共重合体を用いたこと以外は実施例1[表面処理剤の合成]と同様の方法で合成を行い、表面処理剤を合成した。
[Synthesis of surface treatment agent]
The synthesis was carried out in the same manner as in Example 1 [Synthesis of surface treatment agent] except that the block copolymer obtained above was used, to synthesize a surface treatment agent.

[膜評価]
上記で得られた表面処理剤を用いたこと以外は実施例1[膜評価]に記載の方法と同様の方法で細胞培養用基材の作製を行い、ジメチル(3−メタクリロイルアミノプロピル)(3−スルホナトプロピル)アミニウム重合体(ブロック(C))とスチレン重合体(ブロック(B))とN−エトキシエチルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるブロック共重合体からなる膜が導入された細胞培養用基材を作製した。膜の厚さは10nmであり、ブロック(A)分として0.5μg/cmの割合で被覆されていた。40℃および15℃での対水接触角を評価した結果を表2に示す。15℃での対水接触角は40℃での対水接触角よりも低く温度応答性を示した。
[Film evaluation]
A cell culture substrate was prepared by the same method as described in Example 1 (membrane evaluation) except that the surface treatment agent obtained above was used, and dimethyl (3-methacryloylaminopropyl) (3 -A film comprising a block copolymer comprising a sulfonatopropyl) aminium polymer (block (C)), a styrene polymer (block (B)) and an N-ethoxyethyl acrylamide polymer (block (A)) is introduced A cell culture substrate was prepared. The film thickness was 10 nm, and it was coated at a rate of 0.5 μg / cm 2 as the block (A). The results of evaluating the water contact angle at 40 ° C. and 15 ° C. are shown in Table 2. The water contact angle at 15 ° C showed a temperature response lower than the water contact angle at 40 ° C.

[細胞培養評価および剥離評価]
上記にて作製した細胞培養用基材を用いたこと以外は実施例5[細胞培養評価および剥離評価]と同様の方法で評価した。細胞増殖が確認された。培養細胞が基材の100%を覆うまで培養した後、15℃で15分間冷却することで細胞は単一細胞の形状で100%剥離した。
[Cell culture evaluation and exfoliation evaluation]
It evaluated by the method similar to Example 5 [cell culture evaluation and exfoliation evaluation] except using the base material for cell cultures produced above. Cell proliferation was confirmed. After cultured until the cultured cells covered 100% of the substrate, the cells were exfoliated in the form of single cells by cooling at 15 ° C. for 15 minutes.

比較例12
[ブロック(C)の合成]
実施例4[ブロック(C)の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、ジメチル(3−メタクリロイルアミノプロピル)(3−スルホナトプロピル)アミニウム仕込み量の90%が重合していることを確認し、ジメチル(3−メタクリロイルアミノプロピル)(3−スルホナトプロピル)アミニウムの重合体(ブロック(C))を合成できた。
Comparative Example 12
[Composition of block (C)]
Synthesis was carried out in the same manner as in Example 4 [Synthesis of block (C)]. After the reaction, a portion of the reaction solution was collected, and 1H-NMR was measured. As a result, it was confirmed that 90% of the charged amount of dimethyl (3-methacryloylaminopropyl) (3-sulfonatopropyl) aminium was polymerized, A polymer (block (C)) of dimethyl (3-methacryloylaminopropyl) (3-sulfonatopropyl) aminium could be synthesized.

[ジブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液、N−エトキシエチルアクリルアミド1.26g(10.0mmol)を用い、70時間反応させたこと以外は比較例1[ジブロック共重合体の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、N−エトキシエチルアクリルアミド仕込み量の95%が重合していることを確認し、ジメチル(3−メタクリロイルアミノプロピル)(3−スルホナトプロピル)アミニウム重合体(ブロック(C))とN−エトキシエチルアクリルアミド(ブロック(A))からなるジブロック共重合体を合成できた。
[Synthesis of Diblock Copolymer]
Using the reaction solution obtained above and 1.26 g (10.0 mmol) of N-ethoxyethyl acrylamide, synthesis was carried out in the same manner as in Comparative Example 1 [Synthesis of Diblock Copolymer] except that reaction was carried out for 70 hours Did. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and measured by 1 H-NMR. As a result, it was confirmed that 95% of the charged amount of N-ethoxyethyl acrylamide was polymerized, and dimethyl (3-methacryloylaminopropyl) (3- A diblock copolymer consisting of sulfonatopropyl) aminium polymer (block (C)) and N-ethoxyethyl acrylamide (block (A)) could be synthesized.

[ブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液、スチレン0.79g(7.5mmol)を用い、48時間反応させたこと以外は比較例1[ブロック共重合体の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、スチレン仕込み量の92%が重合していることを確認できた。
[Synthesis of block copolymer]
The synthesis was performed in the same manner as in Comparative Example 1 [Synthesis of block copolymer] except that the reaction solution obtained above and 0.79 g (7.5 mmol) of styrene were used for reaction for 48 hours. After the reaction, as a result of collecting a part of the reaction solution and measuring 1 H-NMR, it could be confirmed that 92% of the charged amount of styrene was polymerized.

得られた反応溶液をヘキサン250mLに注ぎ込み、析出した白色固体をろ過した。得られた白色固体を減圧下で2時間乾燥し、白色パウダーとしてジメチル(3−メタクリロイルアミノプロピル)(3−スルホナトプロピル)アミニウム重合体(ブロック(C))とN−エトキシエチルアクリルアミド(ブロック(A))とスチレン重合体(ブロック(B))からなるブロック共重合体2.41gを得た。得られたブロック共重合体の組成、Mn、およびMw/Mnを表2に示す。   The resulting reaction solution was poured into 250 mL of hexane, and the precipitated white solid was filtered. The obtained white solid is dried under reduced pressure for 2 hours, and dimethyl (3-methacryloylaminopropyl) (3-sulfonatopropyl) aminium polymer (block (C)) and N-ethoxyethyl acrylamide (block (block (C)) are obtained as a white powder. 2.41 g of a block copolymer comprising A) and a styrene polymer (block (B)) was obtained. The composition, Mn, and Mw / Mn of the obtained block copolymer are shown in Table 2.

[表面処理剤の合成]
上記で得られたブロック共重合体を用いたこと以外は実施例1[表面処理剤の合成]と同様の方法で合成を行い、表面処理剤を合成した。
[Synthesis of surface treatment agent]
The synthesis was carried out in the same manner as in Example 1 [Synthesis of surface treatment agent] except that the block copolymer obtained above was used, to synthesize a surface treatment agent.

[膜評価]
上記で得られた表面処理剤を用いたこと以外は実施例1[膜評価]に記載の方法と同様の方法で細胞培養用基材の作製を行い、ジメチル(3−メタクリロイルアミノプロピル)(3−スルホナトプロピル)アミニウム重合体(ブロック(C))とN−エトキシエチルアクリルアミド(ブロック(A))とスチレン重合体(ブロック(B))からなるブロック共重合体からなる膜が導入された細胞培養用基材を作製した。膜の厚さは10nmであり、ブロック(A)分として0.5μg/cmの割合で被覆されていた。40℃および15℃での対水接触角を評価した結果を表1に示す。15℃での対水接触角は40℃での対水接触角とほぼ同じで温度応答性を示さなかった。
[Film evaluation]
A cell culture substrate was prepared by the same method as described in Example 1 (membrane evaluation) except that the surface treatment agent obtained above was used, and dimethyl (3-methacryloylaminopropyl) (3 -A cell comprising a block copolymer comprising a sulfonatopropyl) aminium polymer (block (C)), N-ethoxyethyl acrylamide (block (A)) and a styrene polymer (block (B)) A culture substrate was prepared. The film thickness was 10 nm, and it was coated at a rate of 0.5 μg / cm 2 as the block (A). The results of evaluating the water contact angle at 40 ° C. and 15 ° C. are shown in Table 1. The contact angle to water at 15 ° C was almost the same as the contact angle to water at 40 ° C and showed no temperature response.

[細胞培養評価および剥離評価]
上記で作製した細胞培養用基材を用いたこと以外は実施例5[細胞培養評価および剥離評価]と同様の方法で評価した。細胞は接着せず、増殖できなかった。
[Cell culture evaluation and exfoliation evaluation]
It evaluated by the method similar to Example 5 [cell culture evaluation and exfoliation evaluation] except using the base material for cell cultures produced above. The cells did not adhere and could not grow.

比較例13
[ブロック(B)の合成]
スチレン0.79g(7.5mmol)を用い、48時間反応させたこと以外は比較例2[ブロック(B)の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、スチレン仕込み量の90%が重合していることを確認できた。
Comparative Example 13
[Composition of block (B)]
The synthesis was performed in the same manner as in Comparative Example 2 [Synthesis of block (B)] except that 0.79 g (7.5 mmol) of styrene was used for reaction for 48 hours. After the reaction, as a result of collecting a part of the reaction solution and measuring 1 H-NMR, it could be confirmed that 90% of the charged amount of styrene was polymerized.

[ジブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液、ジメチル(3−メタクリロイルアミノプロピル)(3−スルホナトプロピル)アミニウムを0.69g(2.5mmol)を用い、48時間反応させたこと以外は比較例2[ジブロック共重合体の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、ジメチル(3−メタクリロイルアミノプロピル)(3−スルホナトプロピル)アミニウム仕込み量の90%が重合していることを確認し、スチレン重合体(ブロック(B))とジメチル(3−メタクリロイルアミノプロピル)(3−スルホナトプロピル)アミニウム重合体(ブロック(C))からなるジブロック共重合体を合成できた。
[Synthesis of Diblock Copolymer]
Comparative Example 2 [Diblock, except that the reaction solution obtained above, was reacted with 0.69 g (2.5 mmol) of dimethyl (3-methacryloylaminopropyl) (3-sulfonatopropyl) aminium for 48 hours Synthesis was carried out in the same manner as in [Synthesis of copolymer]. After the reaction, a portion of the reaction solution was collected, and 1H-NMR was measured. As a result, it was confirmed that 90% of the charged amount of dimethyl (3-methacryloylaminopropyl) (3-sulfonatopropyl) aminium was polymerized, A diblock copolymer consisting of a styrene polymer (block (B)) and a dimethyl (3-methacryloylaminopropyl) (3-sulfonatopropyl) aminium polymer (block (C)) could be synthesized.

[ブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液、N−エトキシエチルアクリルアミド1.26g(10.0mmol)を用い、75時間反応させたこと以外は比較例2[ブロック共重合体の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、N−エトキシエチルアクリルアミド仕込み量の92%が重合していることを確認できた。
[Synthesis of block copolymer]
Synthesis was carried out in the same manner as Comparative Example 2 [Synthesis of block copolymer] except that the reaction solution obtained above and 1.26 g (10.0 mmol) of N-ethoxyethyl acrylamide were reacted for 75 hours. went. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and measured by 1 H-NMR. As a result, it was confirmed that 92% of the charged amount of N-ethoxyethyl acrylamide was polymerized.

得られた反応溶液をヘキサン250mLに注ぎ込み、析出した白色固体をろ過した。得られた白色固体を減圧下で2時間乾燥し、白色パウダーとしてスチレン重合体(ブロック(B))とジメチル(3−メタクリロイルアミノプロピル)(3−スルホナトプロピル)アミニウム重合体(ブロック(C))とN−エトキシエチルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるブロック共重合体2.21gを得た。得られたブロック共重合体の組成、Mn、およびMw/Mnを表2に示す。   The resulting reaction solution was poured into 250 mL of hexane, and the precipitated white solid was filtered. The obtained white solid is dried under reduced pressure for 2 hours, and a styrene polymer (block (B)) and a dimethyl (3-methacryloylaminopropyl) (3-sulfonatopropyl) aminium polymer (block (C) as a white powder are obtained. ) And 2.21 g of a block copolymer comprising N-ethoxyethyl acrylamide polymer (block (A)) were obtained. The composition, Mn, and Mw / Mn of the obtained block copolymer are shown in Table 2.

[表面処理剤の合成]
上記で得られたブロック共重合体を用いたこと以外は実施例1[表面処理剤の合成]と同様の方法で合成を行い、表面処理剤を合成した。
[Synthesis of surface treatment agent]
The synthesis was carried out in the same manner as in Example 1 [Synthesis of surface treatment agent] except that the block copolymer obtained above was used, to synthesize a surface treatment agent.

[膜評価]
上記で得られた表面処理剤を用いたこと以外は実施例1[膜評価]に記載の方法と同様の方法で細胞培養用基材の作製を行い、スチレン重合体(ブロック(B))とジメチル(3−メタクリロイルアミノプロピル)(3−スルホナトプロピル)アミニウム重合体(ブロック(C))とN−エトキシエチルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるブロック共重合体からなる膜が導入された細胞培養用基材を作製した。膜の厚さは10nmであり、ブロック(A)分として0.5μg/cmの割合で被覆されていた。40℃および15℃での対水接触角を評価した結果を表2に示す。15℃での対水接触角は40℃での対水接触角よりも低く温度応答性を示した。
[Film evaluation]
A cell culture substrate was prepared by the same method as described in Example 1 (membrane evaluation) except that the surface treatment agent obtained above was used, and a styrene polymer (block (B)) was used. A film comprising a block copolymer consisting of dimethyl (3-methacryloylaminopropyl) (3-sulfonatopropyl) aminium polymer (block (C)) and N-ethoxyethyl acrylamide polymer (block (A)) is introduced A cell culture substrate was prepared. The film thickness was 10 nm, and it was coated at a rate of 0.5 μg / cm 2 as the block (A). The results of evaluating the water contact angle at 40 ° C. and 15 ° C. are shown in Table 2. The water contact angle at 15 ° C showed a temperature response lower than the water contact angle at 40 ° C.

[細胞培養評価および剥離評価]
上記で作製した細胞培養用基材を用いたこと以外は実施例5[細胞培養評価および剥離評価]と同様の方法で評価した。細胞増殖が確認された。培養細胞が基材の100%を覆うまで培養した後、15℃で60分間冷却しても細胞は全く剥離しなかった。
[Cell culture evaluation and exfoliation evaluation]
It evaluated by the method similar to Example 5 [cell culture evaluation and exfoliation evaluation] except using the base material for cell cultures produced above. Cell proliferation was confirmed. After culturing until the cultured cells covered 100% of the substrate, the cells were not detached at all even when cooled at 15 ° C. for 60 minutes.

比較例14
[ブロック(B)の合成]
50mLシュレンク管にジメチル(3−メタクリロイルアミノプロピル)(3−スルホナトプロピル)アミニウムを0.69g(2.5mmol)、スチレン0.79g(7.5mmol)、RAFT剤として4−シアノ−4−[(ドデシルスルフォニルチオカルボニル)スルフォニル]ペンタノイックアシッド40.4mg(0.1mmol)、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル6.56mg(0.04mmol)を加え、1,4−ジオキサン10mLに溶解した。アルゴンバブリングを10分行った後、65℃で48時間反応させた。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、ジメチル(3−メタクリロイルアミノプロピル)(3−スルホナトプロピル)アミニウム仕込み量およびスチレン仕込み量の95%が重合していることを確認し、ジメチル(3−メタクリロイルアミノプロピル)(3−スルホナトプロピル)アミニウムとスチレンのランダム共重合体(ブロック(B))を合成できた。ジメチル(3−メタクリロイルアミノプロピル)(3−スルホナトプロピル)アミニウムとスチレンのランダム共重合体(ブロック(B))のHLB値は3であった。
Comparative Example 14
[Composition of block (B)]
In a 50 mL Schlenk tube, 0.69 g (2.5 mmol) of dimethyl (3-methacryloylaminopropyl) (3-sulfonatopropyl) aminium, 0.79 g (7.5 mmol) of styrene, 4-cyano-4- [4 as a RAFT agent 40.4 mg (0.1 mmol) of (dodecylsulfonylthiocarbonyl) sulfonyl] pentanoic acid and 6.56 mg (0.04 mmol) of azobisisobutyronitrile as an initiator were added and dissolved in 10 mL of 1,4-dioxane . After bubbling argon for 10 minutes, the reaction was carried out at 65 ° C. for 48 hours. After the reaction, a part of the reaction solution was collected, and 1H-NMR was measured. As a result, it was found that dimethyl (3-methacryloylaminopropyl) (3-sulfonatopropyl) aminium charged amount and 95% of styrene charged amount were polymerized. Were confirmed, and a random copolymer (block (B)) of dimethyl (3-methacryloylaminopropyl) (3-sulfonatopropyl) aminium and styrene could be synthesized. The HLB value of a random copolymer of dimethyl (3-methacryloylaminopropyl) (3-sulfonatopropyl) aminium and styrene (block (B)) was 3.

[ジブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液、N−エトキシエチルアクリルアミド1.26g(10.0mmol)を用い、75時間反応させたこと以外は比較例2[ブロック共重合体の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、N−エトキシエチルアクリルアミド仕込み量の90%が重合していることを確認できた。
[Synthesis of Diblock Copolymer]
Synthesis was carried out in the same manner as Comparative Example 2 [Synthesis of block copolymer] except that the reaction solution obtained above and 1.26 g (10.0 mmol) of N-ethoxyethyl acrylamide were reacted for 75 hours. went. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and measured by 1 H-NMR. As a result, it was confirmed that 90% of the charged amount of N-ethoxyethyl acrylamide was polymerized.

得られた反応溶液をヘキサン250mLに注ぎ込み、析出した白色固体をろ過した。得られた白色固体を減圧下で2時間乾燥し、白色パウダーとしてジメチル(3−メタクリロイルアミノプロピル)(3−スルホナトプロピル)アミニウムとスチレンのランダム共重合体(ブロック(B))とN−エトキシエチルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるジブロック共重合体2.42gを得た。得られたジブロック共重合体の組成、Mn、およびMw/Mnを表2に示す。   The resulting reaction solution was poured into 250 mL of hexane, and the precipitated white solid was filtered. The obtained white solid is dried under reduced pressure for 2 hours, and a random copolymer of dimethyl (3-methacryloylaminopropyl) (3-sulfonatopropyl) aminium and styrene (block (B)) and N-ethoxy as a white powder. 2.42 g of a diblock copolymer consisting of an ethyl acrylamide polymer (block (A)) was obtained. The composition, Mn, and Mw / Mn of the obtained diblock copolymer are shown in Table 2.

[表面処理剤の合成]
上記で得られたジブロック共重合体を用いたこと以外は実施例1[表面処理剤の合成]と同様の方法で合成を行い、表面処理剤を合成した。
[Synthesis of surface treatment agent]
The synthesis was carried out in the same manner as in Example 1 [Synthesis of surface treatment agent] except that the diblock copolymer obtained above was used, to synthesize a surface treatment agent.

[膜評価]
上記で得られた表面処理剤を用いたこと以外は実施例1[膜評価]に記載の方法と同様の方法で細胞培養用基材の作製を行い、ジメチル(3−メタクリロイルアミノプロピル)(3−スルホナトプロピル)アミニウムとスチレンのランダム共重合体(ブロック(B))とN−エトキシエチルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるジブロック共重合体からなる膜が導入された細胞培養用基材を作製した。膜の厚さは10nmであり、ブロック(A)分として0.5μg/cmの割合で被覆されていた。40℃および15℃での対水接触角を評価した結果を表2に示す。15℃での対水接触角は40℃での対水接触角よりも低く温度応答性を示した。
[Film evaluation]
A cell culture substrate was prepared by the same method as described in Example 1 (membrane evaluation) except that the surface treatment agent obtained above was used, and dimethyl (3-methacryloylaminopropyl) (3 For cell culture in which a membrane consisting of a diblock copolymer consisting of a random copolymer of (sulfonatopropyl) aminium and styrene (block (B)) and an N-ethoxyethyl acrylamide polymer (block (A)) has been introduced A substrate was made. The film thickness was 10 nm, and it was coated at a rate of 0.5 μg / cm 2 as the block (A). The results of evaluating the water contact angle at 40 ° C. and 15 ° C. are shown in Table 2. The water contact angle at 15 ° C showed a temperature response lower than the water contact angle at 40 ° C.

[細胞培養評価および剥離評価]
上記で作製した細胞培養用基材を用いたこと以外は実施例3[細胞培養評価および剥離評価]と同様の方法で評価した。細胞増殖が確認された。培養細胞が基材の100%を覆うまで培養した後、15℃で60分間冷却することで細胞は単一細胞の形状で30%剥離した。
[Cell culture evaluation and exfoliation evaluation]
It evaluated by the method similar to Example 3 [cell culture evaluation and exfoliation evaluation] except using the base material for cell cultures produced above. Cell proliferation was confirmed. After the cultured cells were cultured until they covered 100% of the substrate, the cells were exfoliated 30% in the form of single cells by cooling at 15 ° C. for 60 minutes.

実施例7
[ブロック(C)の合成]
2−メトキシエチルアクリレートを0.33g(2.5mmol)とRAFT剤としてシアノメチルドデシルトリチオカルボナート31.8mg(0.1mmol)用い、24時間反応させたこと以外は実施例1[ブロック(C)の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、2−メトキシエチルアクリレート仕込み量の96%が重合していることを確認し、2−メトキシエチルアクリレートの重合体(ブロック(C))を合成できた。2−メトキシエチルアクリレート重合体(ブロック(C))の繰り返し単位の親水部式量は炭素3個、水素4個、酸素3個の合計(88.1)であり、繰り返し単位総式量は130.1であり、HLB値(グリフィン法)は14であった。
Example 7
[Composition of block (C)]
Example 1 [Block (C), except that 0.33 g (2.5 mmol) of 2-methoxyethyl acrylate and 31.8 mg (0.1 mmol) of cyanomethyldodecyltrithiocarbonate as a RAFT agent were used and reacted for 24 hours Synthesis was carried out in the same manner as in the synthesis of After the reaction, a part of the reaction solution was collected and 1H-NMR was measured. As a result, it was confirmed that 96% of the charged amount of 2-methoxyethyl acrylate was polymerized, and a polymer (block (block C) could be synthesized. The hydrophilic part weight of the repeating unit of the 2-methoxyethyl acrylate polymer (block (C)) is the total (88.1) of 3 carbons, 4 hydrogens and 3 oxygens, and the total amount of repeating units is 130 .1, and the HLB value (Griffin method) was 14.

[ジブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液、n−ブチルアクリレート0.96g(7.5mmol)を用い、24時間反応させたこと以外は実施例1[ジブロック共重合体の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、n−ブチルアクリレート仕込み量の96%が重合していることを確認し、2−メトキシエチルアクリレート重合体(ブロック(C))とn−ブチルアクリレート重合体(ブロック(B))からなるジブロック共重合体を合成できた。n−ブチルアクリレート重合体(ブロック(B))の繰り返し単位の親水部式量は炭素1個、酸素2個の合計(88.1)であり、繰り返し単位総式量は128.2であり、HLB値(グリフィン法)は7であった。
[Synthesis of Diblock Copolymer]
Using the reaction solution obtained above, 0.96 g (7.5 mmol) of n-butyl acrylate, synthesis was carried out in the same manner as Example 1 [Synthesis of diblock copolymer] except that reaction was carried out for 24 hours. went. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and measured by 1 H-NMR. As a result, it was confirmed that 96% of the charged amount of n-butyl acrylate was polymerized, 2-methoxyethyl acrylate polymer (block (C) ) And a n-butyl acrylate polymer (block (B)) were able to synthesize a diblock copolymer. The hydrophilic part weight of the repeating unit of the n-butyl acrylate polymer (block (B)) is the sum (88.1) of one carbon and two oxygen, and the total weight of the repeating unit is 128.2 The HLB value (Griffin method) was 7.

[ブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液、N−イソプロピルアクリルアミド1.13g(10.0mmol)を用い、48時間反応させたこと以外は実施例1[ブロック共重合体の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、N−イソプロピルアクリルアミド仕込み量の94%が重合していることを確認できた。
[Synthesis of block copolymer]
Using the reaction solution obtained above and 1.13 g (10.0 mmol) of N-isopropylacrylamide, the synthesis was carried out in the same manner as in [Synthesis of block copolymer] except that the reaction was carried out for 48 hours. The After the reaction, a part of the reaction solution was collected and 1 H-NMR was measured. As a result, it was confirmed that 94% of the charged amount of N-isopropylacrylamide was polymerized.

上記で得られた反応溶液を実施例1[ブロック共重合体の合成]と同様の方法で処理し、白色パウダーとして、2−メトキシエチルアクリレート重合体(ブロック(C))とn−ブチルアクリレート重合体(ブロック(B))とN−イソプロピルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるブロック共重合体1.52gを得た。得られたブロック共重合体の組成、Mn、およびMw/Mnを表3に示す。   The reaction solution obtained above is treated in the same manner as in Example 1 [Synthesis of block copolymer] to give 2-methoxyethyl acrylate polymer (block (C)) and n-butyl acrylate as a white powder. 1.52 g of a block copolymer composed of the combined (block (B)) and the N-isopropylacrylamide polymer (block (A)) was obtained. The composition, Mn and Mw / Mn of the obtained block copolymer are shown in Table 3.

[表面処理剤の合成]
上記で得られたブロック共重合体を用いたこと以外は実施例1[表面処理剤の合成]と同様の方法で合成を行い、表面処理剤を合成した。
[Synthesis of surface treatment agent]
The synthesis was carried out in the same manner as in Example 1 [Synthesis of surface treatment agent] except that the block copolymer obtained above was used, to synthesize a surface treatment agent.

[膜評価]
上記で得られた表面処理剤を用いたこと以外は実施例1[膜評価]に記載の方法と同様の方法で細胞培養用基材の作製を行い、2−メトキシエチルアクリレート重合体(ブロック(C))とn−ブチルアクリレート重合体(ブロック(B))とN−イソプロピルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるブロック共重合体からなる膜が導入された細胞培養用基材を作製した。膜の厚さは10nmであり、ブロック(A)分として0.6μg/cmの割合で被覆されていた。40℃および15℃での対水接触角を評価した結果を表3に示す。15℃での対水接触角は40℃での対水接触角よりも低く温度応答性を示した。
[Film evaluation]
A cell culture substrate was prepared by the same method as described in Example 1 [membrane evaluation] except that the surface treatment agent obtained above was used, and a 2-methoxyethyl acrylate polymer (block ( C) A cell culture substrate was prepared in which a membrane comprising a block copolymer consisting of n-butyl acrylate polymer (block (B)) and N-isopropylacrylamide polymer (block (A)) was introduced. . The film thickness was 10 nm and was coated at a rate of 0.6 μg / cm 2 as block (A). The results of evaluating the water contact angle at 40 ° C. and 15 ° C. are shown in Table 3. The water contact angle at 15 ° C showed a temperature response lower than the water contact angle at 40 ° C.

[細胞培養評価および剥離評価]
上記にて作製した細胞培養用基材を用いたこと以外は実施例5[細胞培養評価および剥離評価]と同様の方法で評価した。細胞増殖が確認された。培養細胞が基材の100%を覆うまで培養した後、15℃で15分間冷却することで細胞は単一細胞の形状で100%剥離した。
[Cell culture evaluation and exfoliation evaluation]
It evaluated by the method similar to Example 5 [cell culture evaluation and exfoliation evaluation] except using the base material for cell cultures produced above. Cell proliferation was confirmed. After cultured until the cultured cells covered 100% of the substrate, the cells were exfoliated in the form of single cells by cooling at 15 ° C. for 15 minutes.

実施例8
[表面処理剤の合成]
実施例7で得られたブロック共重合体24mgをエタノール3.0gに添加し、撹拌することによって120秒で全て溶解し、0.8wt%の基材用表面処理剤を合成した。
Example 8
[Synthesis of surface treatment agent]
24 mg of the block copolymer obtained in Example 7 was added to 3.0 g of ethanol, and all were dissolved in 120 seconds by stirring to synthesize 0.8 wt% of a surface treatment agent for a substrate.

[膜評価]
上記で得られた表面処理剤を用いたこと以外は実施例1[膜評価]に記載の方法と同様の方法で細胞培養用基材の作製を行い、2−メトキシエチルアクリレート重合体(ブロック(C))とn−ブチルアクリレート重合体(ブロック(B))とN−イソプロピルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるブロック共重合体からなる膜が導入された細胞培養用基材を作製した。膜の厚さは13nmであり、ブロック(A)分として0.8μg/cmの割合で被覆されていた。40℃および15℃での対水接触角を評価した結果を表3に示す。15℃での対水接触角は40℃での対水接触角よりも低く温度応答性を示した。
[Film evaluation]
A cell culture substrate was prepared by the same method as described in Example 1 [membrane evaluation] except that the surface treatment agent obtained above was used, and a 2-methoxyethyl acrylate polymer (block ( C) A cell culture substrate was prepared in which a membrane comprising a block copolymer consisting of n-butyl acrylate polymer (block (B)) and N-isopropylacrylamide polymer (block (A)) was introduced. . The film thickness was 13 nm and was coated at a rate of 0.8 μg / cm 2 as the block (A). The results of evaluating the water contact angle at 40 ° C. and 15 ° C. are shown in Table 3. The water contact angle at 15 ° C showed a temperature response lower than the water contact angle at 40 ° C.

[細胞培養評価および剥離評価]
上記にて作製した細胞培養用基材を用いたこと以外は実施例5[細胞培養評価および剥離評価]と同様の方法で評価した。細胞増殖が確認された。培養細胞が基材の100%を覆うまで培養した後、15℃で15分間冷却することで細胞は単一細胞の形状で100%剥離した。
[Cell culture evaluation and exfoliation evaluation]
It evaluated by the method similar to Example 5 [cell culture evaluation and exfoliation evaluation] except using the base material for cell cultures produced above. Cell proliferation was confirmed. After cultured until the cultured cells covered 100% of the substrate, the cells were exfoliated in the form of single cells by cooling at 15 ° C. for 15 minutes.

実施例9
[表面処理剤の合成]
実施例7で得られたブロック共重合体48mgを2−メトキシエタノール3.0gに添加し、撹拌することによって600秒で全て溶解し、1.6wt%の基材用表面処理剤を合成した。
Example 9
[Synthesis of surface treatment agent]
48 mg of the block copolymer obtained in Example 7 was added to 3.0 g of 2-methoxyethanol, and all was dissolved in 600 seconds by stirring to synthesize a 1.6 wt% surface treatment agent for a substrate.

[膜評価]
上記で得られた表面処理剤を用いたこと以外は実施例1[膜評価]に記載の方法と同様の方法で細胞培養用基材の作製を行い、2−メトキシエチルアクリレート重合体(ブロック(C))とn−ブチルアクリレート重合体(ブロック(B))とN−イソプロピルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるブロック共重合体からなる膜が導入された細胞培養用基材を作製した。膜の厚さは26nmであり、ブロック(A)分として1.6μg/cmの割合で被覆されていた。40℃および15℃での対水接触角を評価した結果を表3に示す。15℃での対水接触角は40℃での対水接触角よりも低く温度応答性を示した。
[Film evaluation]
A cell culture substrate was prepared by the same method as described in Example 1 [membrane evaluation] except that the surface treatment agent obtained above was used, and a 2-methoxyethyl acrylate polymer (block ( C) A cell culture substrate was prepared in which a membrane comprising a block copolymer consisting of n-butyl acrylate polymer (block (B)) and N-isopropylacrylamide polymer (block (A)) was introduced. . The film thickness was 26 nm and was coated at a rate of 1.6 μg / cm 2 as block (A). The results of evaluating the water contact angle at 40 ° C. and 15 ° C. are shown in Table 3. The water contact angle at 15 ° C showed a temperature response lower than the water contact angle at 40 ° C.

[細胞培養評価および剥離評価]
上記にて作製した細胞培養用基材を用いたこと以外は実施例5[細胞培養評価および剥離評価]と同様の方法で評価した。細胞接着形状は伸展が低いが、細胞増殖が確認された。培養細胞が基材の100%を覆うまで培養した後、15℃で15分間冷却することで細胞は単一細胞の形状で100%剥離した。
[Cell culture evaluation and exfoliation evaluation]
It evaluated by the method similar to Example 5 [cell culture evaluation and exfoliation evaluation] except using the base material for cell cultures produced above. Although the cell adhesion shape had low spread, cell proliferation was confirmed. After cultured until the cultured cells covered 100% of the substrate, the cells were exfoliated in the form of single cells by cooling at 15 ° C. for 15 minutes.

実施例10
[表面処理剤の合成]
実施例7で得られたブロック共重合体93mgを2−メトキシエタノール3.0gに添加し、撹拌することによって600秒で全て溶解し、3.0wt%の基材用表面処理剤を合成した。
Example 10
[Synthesis of surface treatment agent]
93 mg of the block copolymer obtained in Example 7 was added to 3.0 g of 2-methoxyethanol, and all were dissolved in 600 seconds by stirring, whereby a 3.0 wt% surface treatment agent for a substrate was synthesized.

[膜評価]
上記で得られた表面処理剤を用いたこと以外は実施例1[膜評価]に記載の方法と同様の方法で細胞培養用基材の作製を行い、2−メトキシエチルアクリレート重合体(ブロック(C))とn−ブチルアクリレート重合体(ブロック(B))とN−イソプロピルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるブロック共重合体からなる膜が導入された細胞培養用基材を作製した。膜の厚さは50nmであり、ブロック(A)分として3.0μg/cmの割合で被覆されていた。40℃および15℃での対水接触角を評価した結果を表3に示す。15℃での対水接触角は40℃での対水接触角よりも低く温度応答性を示した。
[Film evaluation]
A cell culture substrate was prepared by the same method as described in Example 1 [membrane evaluation] except that the surface treatment agent obtained above was used, and a 2-methoxyethyl acrylate polymer (block ( C) A cell culture substrate was prepared in which a membrane comprising a block copolymer consisting of n-butyl acrylate polymer (block (B)) and N-isopropylacrylamide polymer (block (A)) was introduced. . The film thickness was 50 nm and was coated at a rate of 3.0 μg / cm 2 as block (A). The results of evaluating the water contact angle at 40 ° C. and 15 ° C. are shown in Table 3. The water contact angle at 15 ° C showed a temperature response lower than the water contact angle at 40 ° C.

[細胞培養評価および剥離評価]
上記にて作製した細胞培養用基材を用いたこと以外は実施例5[細胞培養評価および剥離評価]と同様の方法で評価した。細胞接着形状は伸展が低いが、細胞増殖が確認された。培養細胞が基材の100%を覆うまで培養した後、15℃で15分間冷却することで細胞は単一細胞の形状で100%剥離した。
[Cell culture evaluation and exfoliation evaluation]
It evaluated by the method similar to Example 5 [cell culture evaluation and exfoliation evaluation] except using the base material for cell cultures produced above. Although the cell adhesion shape had low spread, cell proliferation was confirmed. After cultured until the cultured cells covered 100% of the substrate, the cells were exfoliated in the form of single cells by cooling at 15 ° C. for 15 minutes.

実施例11
[表面処理剤の合成]
実施例7で得られたブロック共重合体158mgを2−メトキシエタノール3.0gに添加し、撹拌することによって600秒で全て溶解し、5.0wt%の基材用表面処理剤を合成した。
Example 11
[Synthesis of surface treatment agent]
158 mg of the block copolymer obtained in Example 7 was added to 3.0 g of 2-methoxyethanol, and all were dissolved in 600 seconds by stirring to synthesize a 5.0 wt% surface treatment agent for a substrate.

[膜評価]
上記で得られた表面処理剤を用いたこと以外は実施例1[膜評価]に記載の方法と同様の方法で細胞培養用基材の作製を行い、2−メトキシエチルアクリレート重合体(ブロック(C))とn−ブチルアクリレート重合体(ブロック(B))とN−イソプロピルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるブロック共重合体からなる膜が導入された細胞培養用基材を作製した。膜の厚さは80nmであり、ブロック(A)分として4.8μg/cmの割合で被覆されていた。40℃および15℃での対水接触角を評価した結果を表3に示す。15℃での対水接触角は40℃での対水接触角よりも低く温度応答性を示した。
[Film evaluation]
A cell culture substrate was prepared by the same method as described in Example 1 [membrane evaluation] except that the surface treatment agent obtained above was used, and a 2-methoxyethyl acrylate polymer (block ( C) A cell culture substrate was prepared in which a membrane comprising a block copolymer consisting of n-butyl acrylate polymer (block (B)) and N-isopropylacrylamide polymer (block (A)) was introduced. . The film thickness was 80 nm and was coated at a rate of 4.8 μg / cm 2 as block (A). The results of evaluating the water contact angle at 40 ° C. and 15 ° C. are shown in Table 3. The water contact angle at 15 ° C showed a temperature response lower than the water contact angle at 40 ° C.

[細胞培養評価および剥離評価]
上記にて作製した細胞培養用基材を用いたこと以外は実施例5[細胞培養評価および剥離評価]と同様の方法で評価した。細胞接着形状は伸展が低いが、細胞増殖が確認された。培養細胞が基材の100%を覆うまで培養した後、15℃で15分間冷却することで細胞は単一細胞の形状で100%剥離した。
[Cell culture evaluation and exfoliation evaluation]
It evaluated by the method similar to Example 5 [cell culture evaluation and exfoliation evaluation] except using the base material for cell cultures produced above. Although the cell adhesion shape had low spread, cell proliferation was confirmed. After cultured until the cultured cells covered 100% of the substrate, the cells were exfoliated in the form of single cells by cooling at 15 ° C. for 15 minutes.

比較例15
[ブロック(C)の合成]
実施例5[ブロック(C)の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、2−メトキシエチルアクリレート仕込み量の97%が重合していることを確認し、2−メトキシエチルアクリレートの重合体(ブロック(C))を合成できた。
Comparative example 15
[Composition of block (C)]
Example 5 [Synthesis of block (C)] Synthesis was carried out in the same manner as described above. After the reaction, a part of the reaction solution was collected, and 1H-NMR was measured. As a result, it was confirmed that 97% of the 2-methoxyethyl acrylate charge had been polymerized, and a polymer (block (block C) could be synthesized.

[ジブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液、N−イソプロピルアクリルアミド1.13g(10.0mmol)を用い、48時間反応させたこと以外は比較例1[ジブロック共重合体の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、N−イソプロピルアクリルアミド仕込み量の92%が重合していることを確認し、2−メトキシエチルアクリレート重合体(ブロック(C))とN−イソプロピルアクリルアミド(ブロック(A))からなるジブロック共重合体を合成できた。
[Synthesis of Diblock Copolymer]
Using the reaction solution obtained above, 1.13 g (10.0 mmol) of N-isopropylacrylamide, the reaction was carried out in the same manner as in Comparative Example 1 [Synthesis of diblock copolymer] except that reaction was carried out for 48 hours. went. After the reaction, a part of the reaction solution was collected, and 1H-NMR was measured. As a result, it was confirmed that 92% of the charged amount of N-isopropylacrylamide was polymerized, and 2-methoxyethyl acrylate polymer (block (C) ) And N-isopropylacrylamide (block (A)) could be synthesized.

[ブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液、n−ブチルアクリレート0.96g(7.5mmol)を用い、24時間反応させたこと以外は比較例1[ブロック共重合体の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、n−ブチルアクリレート仕込み量の96%が重合していることを確認できた。
[Synthesis of block copolymer]
Using the reaction solution obtained above and 0.96 g (7.5 mmol) of n-butyl acrylate, synthesis was carried out in the same manner as in Comparative Example 1 [Synthesis of block copolymer] except that the reaction was carried out for 24 hours. The After the reaction, as a result of collecting a part of the reaction solution and measuring 1 H-NMR, it could be confirmed that 96% of the n-butyl acrylate charge was polymerized.

得られた反応溶液をヘキサン250mLに注ぎ込み、析出した白色固体をろ過した。得られた白色固体を減圧下で2時間乾燥し、白色パウダーとして2−メトキシエチルアクリレート重合体(ブロック(C))とN−イソプロピルアクリレート(ブロック(A))とn−ブチルアクリレート重合体(ブロック(B))からなるブロック共重合体1.38gを得た。得られたブロック共重合体の組成、Mn、およびMw/Mnを表3に示す。   The resulting reaction solution was poured into 250 mL of hexane, and the precipitated white solid was filtered. The obtained white solid is dried under reduced pressure for 2 hours to obtain 2-methoxyethyl acrylate polymer (block (C)), N-isopropyl acrylate (block (A)) and n-butyl acrylate polymer (block) as white powder. 1.38 g of a block copolymer consisting of (B) was obtained. The composition, Mn and Mw / Mn of the obtained block copolymer are shown in Table 3.

[表面処理剤の合成]
上記で得られたブロック共重合体を用いたこと以外は実施例1[表面処理剤の合成]と同様の方法で合成を行い、表面処理剤を合成した。
[Synthesis of surface treatment agent]
The synthesis was carried out in the same manner as in Example 1 [Synthesis of surface treatment agent] except that the block copolymer obtained above was used, to synthesize a surface treatment agent.

[膜評価]
上記で得られた表面処理剤を用いたこと以外は実施例1[膜評価]に記載の方法と同様の方法で細胞培養用基材の作製を行い、2−メトキシエチルアクリレート重合体(ブロック(C))とN−イソプロピルアクリレート(ブロック(A))とn−ブチルアクリレート重合体(ブロック(B))からなるブロック共重合体からなる膜が導入された細胞培養用基材を作製した。膜の厚さは10nmであり、ブロック(A)分として0.5μg/cmの割合で被覆されていた。40℃および15℃での対水接触角を評価した結果を表3に示す。15℃での対水接触角は40℃での対水接触角とほぼ同じで温度応答性を示さなかった。
[Film evaluation]
A cell culture substrate was prepared by the same method as described in Example 1 [membrane evaluation] except that the surface treatment agent obtained above was used, and a 2-methoxyethyl acrylate polymer (block ( C) A cell culture substrate was prepared in which a membrane consisting of a block copolymer comprising N-isopropyl acrylate (block (A)) and n-butyl acrylate polymer (block (B)) was introduced. The film thickness was 10 nm, and it was coated at a rate of 0.5 μg / cm 2 as the block (A). The results of evaluating the water contact angle at 40 ° C. and 15 ° C. are shown in Table 3. The contact angle to water at 15 ° C was almost the same as the contact angle to water at 40 ° C and showed no temperature response.

[細胞培養評価および剥離評価]
上記で作製した細胞培養用基材を用いたこと以外は実施例5[細胞培養評価および剥離評価]と同様の方法で評価した。細胞は接着せず、増殖できなかった。
[Cell culture evaluation and exfoliation evaluation]
It evaluated by the method similar to Example 5 [cell culture evaluation and exfoliation evaluation] except using the base material for cell cultures produced above. The cells did not adhere and could not grow.

比較例16
[ブロック(B)の合成]
n−ブチルアクリレート0.96g(7.5mmol)とRAFT剤としてシアノメチルドデシルトリチオカルボナート31.8mg(0.1mmol)用い、24時間反応させたこと以外は比較例2[ブロック(B)の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、スチレン仕込み量の93%が重合していることを確認できた。
Comparative example 16
[Composition of block (B)]
Comparative Example 2 [Block (B) except that 0.96 g (7.5 mmol) of n-butyl acrylate and 31.8 mg (0.1 mmol) of cyanomethyldodecyltrithiocarbonate as a RAFT agent were used and reacted for 24 hours Synthesis was carried out in the same manner as in the synthesis]. After the reaction, as a result of collecting a part of the reaction solution and measuring 1 H-NMR, it could be confirmed that 93% of the charged amount of styrene was polymerized.

[ジブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液、2−メトキシエチルアクリレートを0.33g(2.5mmol)を用い、24時間反応させたこと以外は比較例2[ジブロック共重合体の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、2−メトキシエチルアクリレート仕込み量の95%が重合していることを確認し、n−ブチルアクリレート重合体(ブロック(B))と2−メトキシエチルアクリレート重合体(ブロック(C))からなるジブロック共重合体を合成できた。
[Synthesis of Diblock Copolymer]
By the same method as Comparative Example 2 [Synthesis of diblock copolymer] except that the reaction solution obtained above and 0.33 g (2.5 mmol) of 2-methoxyethyl acrylate were reacted for 24 hours. The synthesis was done. After the reaction, a part of the reaction solution was collected and measured by 1 H-NMR. As a result, it was confirmed that 95% of the 2-methoxyethyl acrylate charge had been polymerized, n-butyl acrylate polymer (block (B) ) And a 2-methoxyethyl acrylate polymer (block (C)) could be synthesized.

[ブロック共重合体の合成]
上記で得られた反応溶液、N−イソプロピルアクリルアミド1.13g(10.0mmol)を用い、48時間反応させたこと以外は比較例2[ブロック共重合体の合成]と同様の方法で合成を行った。反応後、反応溶液の一部を採取し1H−NMRを測定した結果、N−イソプロピルアクリルアミド仕込み量の94%が重合していることを確認できた。
[Synthesis of block copolymer]
Using the reaction solution obtained above and 1.13 g (10.0 mmol) of N-isopropylacrylamide, the synthesis was carried out in the same manner as in Comparative Example 2 [Synthesis of block copolymer] except that the reaction was carried out for 48 hours. The After the reaction, a part of the reaction solution was collected and 1 H-NMR was measured. As a result, it was confirmed that 94% of the charged amount of N-isopropylacrylamide was polymerized.

得られた反応溶液をヘキサン250mLに注ぎ込み、析出した白色固体をろ過した。得られた白色固体を減圧下で2時間乾燥し、白色パウダーとしてn−ブチルアクリレート重合体(ブロック(B))と2−メトキシエチルアクリレート重合体(ブロック(C))とN−イソプロピルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるブロック共重合体1.37gを得た。得られたブロック共重合体の組成、Mn、およびMw/Mnを表3に示す。   The resulting reaction solution was poured into 250 mL of hexane, and the precipitated white solid was filtered. The obtained white solid is dried under reduced pressure for 2 hours, and n-butyl acrylate polymer (block (B)), 2-methoxyethyl acrylate polymer (block (C)) and N-isopropylacrylamide polymer as white powder 1.37 g of a block copolymer consisting of (block (A)) was obtained. The composition, Mn and Mw / Mn of the obtained block copolymer are shown in Table 3.

[表面処理剤の合成]
上記で得られたブロック共重合体を用いたこと以外は実施例1[表面処理剤の合成]と同様の方法で合成を行い、表面処理剤を合成した。
[Synthesis of surface treatment agent]
The synthesis was carried out in the same manner as in Example 1 [Synthesis of surface treatment agent] except that the block copolymer obtained above was used, to synthesize a surface treatment agent.

[膜評価]
上記で得られた表面処理剤を用いたこと以外は実施例1[膜評価]に記載の方法と同様の方法で細胞培養用基材の作製を行い、n−ブチルアクリレート重合体(ブロック(B))と2−メトキシエチルアクリレート重合体(ブロック(C))とN−イソプロピルアクリルアミド重合体(ブロック(A))からなるブロック共重合体からなる膜が導入された細胞培養用基材を作製した。膜の厚さは10nmであり、ブロック(A)分として0.6μg/cmの割合で被覆されていた。40℃および15℃での対水接触角を評価した結果を表3に示す。15℃での対水接触角は40℃での対水接触角よりも低く温度応答性を示した。
[Film evaluation]
A cell culture substrate was prepared by the same method as described in Example 1 (membrane evaluation) except that the surface treatment agent obtained above was used, and n-butyl acrylate polymer (block (B (B)) was used. A cell culture substrate was prepared in which a membrane consisting of a block copolymer consisting of)), 2-methoxyethyl acrylate polymer (block (C)) and N-isopropylacrylamide polymer (block (A)) was introduced. . The film thickness was 10 nm and was coated at a rate of 0.6 μg / cm 2 as block (A). The results of evaluating the water contact angle at 40 ° C. and 15 ° C. are shown in Table 3. The water contact angle at 15 ° C showed a temperature response lower than the water contact angle at 40 ° C.

[細胞培養評価および剥離評価]
上記で作製した細胞培養用基材を用いたこと以外は実施例5[細胞培養評価および剥離評価]と同様の方法で評価した。細胞増殖が確認された。培養細胞が基材の100%を覆うまで培養した後、15℃で60分間冷却しても細胞は全く剥離しなかった。
[Cell culture evaluation and exfoliation evaluation]
It evaluated by the method similar to Example 5 [cell culture evaluation and exfoliation evaluation] except using the base material for cell cultures produced above. Cell proliferation was confirmed. After culturing until the cultured cells covered 100% of the substrate, the cells were not detached at all even when cooled at 15 ° C. for 60 minutes.

Figure 2018174919
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Claims (6)

下記(A)、(B)、(C)のブロックからなり、配列が(A)−(B)−(C)であるブロック共重合体。
(A)水に対する下限臨界溶解温度(LCST)が0〜45℃の範囲にある温度応答性重合体ブロック。
(B)0〜45℃の範囲にLCSTを持たない、HLB値(グリフィン法)が0以上9未満の範囲にある疎水性重合体ブロック。
(C)0〜45℃の範囲にLCSTを持たない、HLB値(グリフィン法)が9以上20未満の範囲にある親水性重合体ブロック。
The block copolymer which consists of a block of the following (A), (B), (C), and whose arrangement | sequence is (A)-(B)-(C).
(A) A temperature responsive polymer block having a lower limit critical solution temperature (LCST) to water in the range of 0 to 45 ° C.
(B) A hydrophobic polymer block having an HLB value (Griffin method) in the range of 0 or more and less than 9 without LCST in the range of 0 to 45 ° C.
(C) A hydrophilic polymer block having an HLB value (Griffin method) in the range of 9 or more and less than 20 without LCST in the range of 0 to 45 ° C.
請求項1記載のブロック共重合体を含むことを特徴とする基材用表面処理剤。   A surface treating agent for a substrate comprising the block copolymer according to claim 1. 請求項2記載の表面処理剤を基材に塗布されてなる膜。   A film obtained by applying the surface treatment agent according to claim 2 to a substrate. 基材表面にブロック(A)分として5.0μg/cm以下の割合で被覆された請求項3記載の膜。 The film according to claim 3, wherein the surface of the substrate is coated at a rate of 5.0 μg / cm 2 or less as the block (A). 請求項3または請求項4記載の膜で表面を被覆した細胞培養用基材。   A cell culture substrate coated with the membrane according to claim 3 or 4. 請求項5記載の細胞培養用基材を用いて、ブロック(A)のLCSTより高い温度で細胞を培養し、細胞増殖後に温度をブロック(A)のLCSTより低くして増殖細胞を基材から剥離することを特徴とする細胞培養方法。   A cell culture substrate according to claim 5 is used to culture the cells at a temperature higher than the LCST of block (A), and after cell growth, the temperature is made lower than the LCST of block (A) to grow proliferating cells from the substrate A cell culture method characterized by exfoliating.
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