JP2018168378A - Sheet-like encapsulation material, encapsulation sheet, and electronic device - Google Patents

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健太 西嶋
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Abstract

To provide a low metal corrosive sheet-like encapsulation material excellent in water blockage property and an electronic device having the same.SOLUTION: There is provided a sheet-like encapsulation material consisting of an encapsulation resin layer and containing a polyolefin-based polymer and a specific thickener as encapsulation resins. The content of the thickener in the encapsulation resin is 0 to 20 pts.mass based on 100 pts.mass of the resin, water vapor permeation rate of the sheet-like encapsulation material at 40°C and relative humidity of 90% is 0.1 g/(mday) to 500 g/(mday), and electric conductivity at 25°C of an encapsulation material component extract liquid obtained by extracting an encapsulation material component by impregnating the encapsulation material of 1 g in water of 20 ml is 2 to 35 μS/cm.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、水分遮断性に優れ、かつ、デンドライトの析出によるマイグレーションが発生しにくいシート状封止材、このシート状封止材と基材シートとを有する封止シート、及びこれらのシート状封止材または封止シートを備える電子デバイスに関する。   The present invention provides a sheet-like sealing material that has excellent moisture barrier properties and is less prone to migration due to dendrite precipitation, a sealing sheet having the sheet-like sealing material and a base sheet, and these sheet-like sealing materials. The present invention relates to an electronic device including a stopper or a sealing sheet.

近年、有機EL素子は、低電圧直流駆動による高輝度発光が可能な発光素子として注目されている。
しかし、有機EL素子には、時間の経過とともに、発光輝度、発光効率、発光均一性等の発光特性が低下し易いという問題があった。
この発光特性の低下の問題の原因として、酸素や水分等が有機EL素子の内部に浸入し、電極や有機層を劣化させることが考えられる。そして、この対処方法として、封止材を用いる方法がいくつか提案されている。
In recent years, organic EL elements have attracted attention as light-emitting elements that can emit light with high luminance by low-voltage direct current drive.
However, the organic EL element has a problem that light emission characteristics such as light emission luminance, light emission efficiency, and light emission uniformity are likely to deteriorate with time.
As a cause of the problem of the deterioration of the light emission characteristics, it is conceivable that oxygen, moisture or the like enters the inside of the organic EL element and degrades the electrode or the organic layer. As a countermeasure, several methods using a sealing material have been proposed.

有機EL素子の封止材料である接着剤や粘着剤としては、透明性等の光学特性の観点から、アクリル系の接着剤や粘着剤(以下、「アクリル系接着剤等」という。)が提案されている。
例えば、特許文献1には、有機ELディスプレイ用の封止材料として、紫外線硬化機能と室温硬化機能を有するアクリル系接着剤が開示されている。
特許文献2には、熱履歴を受けた後であっても、有機EL表示素子による光を、優れた伝播効率でディスプレイ表面に伝播することができる粘着剤層を形成し得る粘着剤として、アクリル系粘着剤が開示されている。
As adhesives and pressure-sensitive adhesives that are sealing materials for organic EL elements, acrylic adhesives and pressure-sensitive adhesives (hereinafter referred to as “acrylic adhesives”) are proposed from the viewpoint of optical properties such as transparency. Has been.
For example, Patent Document 1 discloses an acrylic adhesive having an ultraviolet curing function and a room temperature curing function as a sealing material for an organic EL display.
Patent Document 2 discloses acrylic as an adhesive that can form an adhesive layer that can propagate light from an organic EL display element to the display surface with excellent propagation efficiency even after receiving a thermal history. System adhesives are disclosed.

近年、ディスプレイ用電極として、透明電極と補助電極とを備える複合電極が提案されている。
例えば、特許文献3には、基板上に形成された透明電極表面に、開口部を有する金属薄膜からなる補助電極(金属細線)を形成して得られる複合電極が記載されている。
しかしながら、従来の封止材を用いて素子等を封止すると、素子に直流電圧を印加した際に、時間の経過とともに、補助電極の溶解(腐食)による断線が生じたり、補助電極表面にデンドライトが析出し、短絡が生じたりすることがあった(これらはマイグレーションと呼ばれることがある)。
In recent years, a composite electrode including a transparent electrode and an auxiliary electrode has been proposed as a display electrode.
For example, Patent Document 3 describes a composite electrode obtained by forming an auxiliary electrode (metal thin wire) made of a metal thin film having an opening on the surface of a transparent electrode formed on a substrate.
However, when a device or the like is sealed using a conventional sealing material, disconnection due to dissolution (corrosion) of the auxiliary electrode occurs over time when a DC voltage is applied to the device, or dendrite is formed on the surface of the auxiliary electrode. Sometimes deposited, resulting in short circuits (these are sometimes referred to as migration).

特開2004−87153号公報JP 2004-87153 A 特開2004−224991号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2004-224991 特開2013−129887号公報JP 2013-129987 A

本発明は、かかる従来技術の実情に鑑みてなされたものであり、水分遮断性に優れ、かつ、マイグレーションが発生しにくいシート状封止材、このシート状封止材と基材シートとを有する封止シート、及びこれらのシート状封止材または封止シートを備える電子デバイスを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the actual situation of the prior art, and has a sheet-shaped sealing material that is excellent in moisture barrier properties and hardly causes migration, and includes the sheet-shaped sealing material and a base sheet. It aims at providing an electronic device provided with a sealing sheet and these sheet-like sealing materials or a sealing sheet.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、水蒸気透過率が低く、かつ、封止材成分を抽出して得られた抽出液の電気伝導度が低いシート状封止材は、水分遮断性に優れ、かつ、マイグレーションが発生しにくいことを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have obtained a sheet-like sealing material having a low water vapor permeability and a low electrical conductivity of an extract obtained by extracting a sealing material component. The present inventors have found that the moisture barrier property is excellent and migration is difficult to occur, and the present invention has been completed.

かくして本発明によれば、下記(1)〜(4)のシート状封止材、(5)〜(6)の封止シート、及び(7)の電子デバイス、が提供される。
(1)1又は2以上の封止樹脂層からなるシート状封止材であって、前記封止樹脂層が、封止樹脂として、ポリオレフィン系ポリマーを含有するものであり、かつ、脂肪族系石油樹脂、テルペン樹脂、ロジンエステル系樹脂、及びロジン系樹脂からなる群から選ばれる粘着付与剤を含有する、又は、含有しないものであり、前記封止樹脂層中の前記粘着付与剤の含有量が、封止樹脂100質量部に対して、0〜20質量部であり、前記シート状封止材の、温度40℃、相対湿度90%における、50μm厚に換算したときの水蒸気透過率が、0.1g/(m・day)以上、500g/(m・day)以下であり、かつ、前記シート状封止材1gを、25℃における電気伝導度が2μS/cmの水20mlに浸漬させ、封止材成分抽出液の25℃における電気伝導度が一定になるまでシート状封止材成分を抽出して得られた封止材成分抽出液の、25℃における電気伝導度が、2〜35μS/cmであることを特徴とする、シート状封止材。
(2)前記封止材成分抽出液の調製に用いた水の、25℃におけるpHが5.1であり、前記封止材成分抽出液のpHが、3.8〜6.5である、(1)に記載のシート状封止材。
(3)前記封止樹脂層中の前記ポリオレフィン系ポリマーの含有量が、封止樹脂層全体に対して、70〜100質量%である、(1)または(2)に記載のシート状封止材。
(4)電子デバイスの封止に用いられる、(1)〜(3)のいずれかに記載のシート状封止材。
(5)シート状封止材と基材シートとを有する封止シートであって、前記シート状封止材が、(1)〜(4)のいずれかに記載のシート状封止材であることを特徴とする封止シート。
(6)電子デバイスの封止に用いられる、(5)に記載の封止シート。
(7)前記(1)〜(4)のいずれかに記載のシート状封止材、または(5)若しくは(6)に記載の封止シートを備える電子デバイス。
Thus, according to the present invention, the following sheet-shaped sealing materials (1) to (4), the sealing sheets (5) to (6), and the electronic device (7) are provided.
(1) A sheet-like encapsulant comprising one or more encapsulating resin layers, wherein the encapsulating resin layer contains a polyolefin-based polymer as an encapsulating resin, and is aliphatic. A tackifier containing or not containing a tackifier selected from the group consisting of petroleum resins, terpene resins, rosin ester resins, and rosin resins, and the content of the tackifier in the sealing resin layer However, it is 0 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the sealing resin, and the water vapor permeability when converted to a thickness of 50 μm at a temperature of 40 ° C. and a relative humidity of 90% of the sheet-shaped sealing material is 1 g of the sheet-shaped sealing material is 0.1 g / (m 2 · day) or more and 500 g / (m 2 · day) or less, and is immersed in 20 ml of water having an electric conductivity of 2 μS / cm at 25 ° C. Let the sealant component extract liquid The electrical conductivity at 25 ° C. of the sealing material component extract obtained by extracting the sheet-shaped sealing material component until the electrical conductivity at 25 ° C. is constant is 2 to 35 μS / cm A sheet-like sealing material.
(2) The pH at 25 ° C. of water used for the preparation of the sealing material component extract is 5.1, and the pH of the sealing material component extract is 3.8 to 6.5. The sheet-like sealing material according to (1).
(3) The sheet-shaped sealing according to (1) or (2), wherein the content of the polyolefin-based polymer in the sealing resin layer is 70 to 100% by mass with respect to the entire sealing resin layer. Wood.
(4) The sheet-shaped sealing material in any one of (1)-(3) used for sealing of an electronic device.
(5) A sealing sheet having a sheet-shaped sealing material and a base sheet, wherein the sheet-shaped sealing material is the sheet-shaped sealing material according to any one of (1) to (4). A sealing sheet characterized by that.
(6) The sealing sheet according to (5), which is used for sealing an electronic device.
(7) An electronic device provided with the sheet-like sealing material according to any one of (1) to (4) or the sealing sheet according to (5) or (6).

本発明によれば、水分遮断性に優れ、かつ、デンドライトの析出によるマイグレーションが発生しにくいシート状封止材、このシート状封止材と基材シートとを有する封止シート、及びこれらのシート状封止材または封止シートを備える電子デバイスが提供される。   According to the present invention, a sheet-shaped encapsulant that has excellent moisture barrier properties and hardly undergoes migration due to the precipitation of dendrites, an encapsulating sheet having the sheet-shaped encapsulant and a base sheet, and these sheets An electronic device provided with a state-like sealing material or a sealing sheet is provided.

電極腐食試験に用いた配線基板の模式図である。It is a schematic diagram of the wiring board used for the electrode corrosion test.

以下、本発明を、1)シート状封止材、2)封止シート、及び、3)電子デバイス、に項分けして詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail by dividing into 1) a sheet-like encapsulant, 2) an encapsulating sheet, and 3) an electronic device.

1)シート状封止材
本発明のシート状封止材は、1又は2以上の封止樹脂層からなるシート状封止材であって、前記シート状封止材の、温度40℃、相対湿度90%における、50μm厚に換算したときの水蒸気透過率が、500g/(m・day)以下であり、かつ、前記シート状封止材1gを、25℃における電気伝導度が2μS/cmの水20mlに浸漬させ、封止材成分抽出液の25℃における電気伝導度が一定になるまでシート状封止材成分を抽出して得られた封止材成分抽出液の、25℃における電気伝導度が2〜35μS/cmであることを特徴とする。
1) Sheet-like encapsulant The sheet-like encapsulant of the present invention is a sheet-like encapsulant comprising one or more encapsulating resin layers, and the temperature of the sheet-like encapsulant is 40 ° C., relative The water vapor transmission rate when converted to a thickness of 50 μm at a humidity of 90% is 500 g / (m 2 · day) or less, and 1 g of the sheet-like sealing material has an electric conductivity of 2 μS / cm at 25 ° C. Of the sealing material component extract obtained by immersing in 20 ml of water and extracting the sheet-like sealing material component until the electrical conductivity of the sealing material component extract at 25 ° C. is constant. The conductivity is 2 to 35 μS / cm.

本発明のシート状封止材の、温度40℃、相対湿度90%における、50μm厚に換算したときの水蒸気透過率は、500g/(m・day)以下であり、好ましくは50g/(m・day)以下であり、より好ましくは、20g/(m・day)以下である。下限値は特になく、小さいほど好ましいが、通常は、0.1g/(m・day)以上である。
水蒸気透過率が上記範囲のシート状封止材は、水分の浸入を十分に抑制することができる。したがって、このようなシート状封止材は、電子デバイス用の封止材として好適に用いられる。
The water vapor permeability of the sheet-shaped encapsulant of the present invention when converted to a thickness of 50 μm at a temperature of 40 ° C. and a relative humidity of 90% is 500 g / (m 2 · day) or less, preferably 50 g / (m 2 · day) or less, and more preferably 20 g / (m 2 · day) or less. Lower limit no particular, is preferably as small, usually is 0.1g / (m 2 · day) or more.
The sheet-like sealing material having a water vapor transmission rate in the above range can sufficiently suppress the intrusion of moisture. Therefore, such a sheet-like sealing material is suitably used as a sealing material for electronic devices.

シート状封止材の水蒸気透過率の値は、シート状封止材の厚みに依存する。従って、シート状封止材の厚みが50μmでない場合には、その厚みから換算して、50μm厚における水蒸気透過率を求めることができる。例えば、厚みがAμmで、水蒸気透過率がB{g/(m・day)}のシート状封止材の場合、厚みが50μmの時の水蒸気透過率は、A×B/50という式に当てはめて換算して求めることができる。 The value of the water vapor transmission rate of the sheet-like sealing material depends on the thickness of the sheet-like sealing material. Therefore, when the thickness of the sheet-like sealing material is not 50 μm, the water vapor transmission rate at a thickness of 50 μm can be obtained by converting from the thickness. For example, in the case of a sheet-like sealing material having a thickness of A μm and a water vapor transmission rate of B {g / (m 2 · day)}, the water vapor transmission rate when the thickness is 50 μm is expressed by the formula A × B / 50. It can be calculated by fitting.

本発明においては、用いる封止樹脂を適宜選択することで、目的の水蒸気透過率を有するシート状封止材を得ることができる。例えば、後述するように、封止樹脂層にゴム系ポリマーを多く含有させることで、水蒸気透過率が低いシート状封止材が得られる。
水蒸気透過率は、実施例に記載の方法により測定することができる。
In this invention, the sheet-like sealing material which has the target water-vapor-permeation rate can be obtained by selecting suitably sealing resin to be used. For example, as will be described later, a sheet-shaped sealing material having a low water vapor transmission rate can be obtained by containing a large amount of a rubber-based polymer in the sealing resin layer.
The water vapor transmission rate can be measured by the method described in the examples.

前記シート状封止材1gを、25℃における電気伝導度が2μS/cmの水20mlに浸漬させ、封止材成分抽出液の25℃における電気伝導度が一定になるまでシート状封止材成分を抽出して得られた封止材成分抽出液の、25℃における電気伝導度は、2〜35μS/cmであり、好ましくは2〜30μS/cmであり、より好ましくは2〜25μS/cmである。
封止材成分抽出液の電気伝導度が35μS/cm以下のシート状封止材は、デンドライトの析出によるマイグレーションが発生しにくい。したがって、このようなシート状封止材は、電子デバイス用の封止材として好適に用いられる。
1 g of the sheet-like sealing material is immersed in 20 ml of water having an electric conductivity of 2 μS / cm at 25 ° C., and the sheet-like sealing material component is kept until the electric conductivity at 25 ° C. of the sealing material component extract is constant. The electrical conductivity at 25 ° C. of the sealing material component extract obtained by extracting the slag is 2 to 35 μS / cm, preferably 2 to 30 μS / cm, more preferably 2 to 25 μS / cm. is there.
A sheet-like encapsulant having an electric conductivity of the encapsulant component extract of 35 μS / cm or less is less prone to migration due to dendrite precipitation. Therefore, such a sheet-like sealing material is suitably used as a sealing material for electronic devices.

封止材成分抽出液の調製に用いる25℃における電気伝導度が2μS/cmの水(脱イオン水、超純水)は、例えば、脱イオン処理等の精製処理を施すことにより得ることができる。
封止材成分抽出液の調製方法は特に限定されない。例えば、シート状封止材を25℃における電気伝導度が2μS/cmの水に浸漬させて抽出を開始し、所定時間おきに封止材成分抽出液の電気伝導度を測定しながら、電気伝導度が一定になるまで浸漬を続けることにより、封止材成分抽出液を得ることができる。このとき、溶液を攪拌しながら、抽出操作を行ってもよい。また、加圧条件下で抽出操作を行ってもよい。
抽出条件は、シート状封止材の種類や形状にもよるが、例えば、2気圧、121℃の条件で、24時間抽出処理を行うことにより、封止材成分抽出液を得ることができる。
電気伝導度は、実施例に記載の方法により測定することができる。
Water (deionized water, ultrapure water) having an electrical conductivity of 2 μS / cm at 25 ° C. used for the preparation of the sealing material component extract can be obtained, for example, by performing a purification process such as a deionization process. .
The method for preparing the sealing material component extract is not particularly limited. For example, the sheet-like encapsulant is immersed in water having an electric conductivity of 2 μS / cm at 25 ° C. and extraction is started, and the electric conductivity is measured while measuring the electric conductivity of the encapsulant component extract every predetermined time. By continuing soaking until the degree becomes constant, a sealing material component extract can be obtained. At this time, the extraction operation may be performed while stirring the solution. Moreover, you may perform extraction operation on pressurization conditions.
Although extraction conditions depend on the type and shape of the sheet-shaped sealing material, for example, a sealing material component extract can be obtained by performing an extraction process under conditions of 2 atm and 121 ° C. for 24 hours.
The electrical conductivity can be measured by the method described in the examples.

封止材成分抽出液の調製に用いた水の、25℃におけるpHが5.1のとき、封止材成分抽出液のpHは、好ましくは3.8〜6.5、より好ましくは4.0〜6.0である。
封止材成分抽出液のpHが上記範囲のシート状封止材は、デンドライトの析出によるマイグレーションが発生しにくいため、電子デバイス用の封止材として好適に用いられる。
When the pH at 25 ° C. of the water used for the preparation of the sealing material component extract is 5.1, the pH of the sealing material component extract is preferably 3.8 to 6.5, more preferably 4. 0-6.0.
A sheet-like encapsulant having a pH of the encapsulant component extract in the above range is preferably used as an encapsulant for electronic devices because migration due to precipitation of dendrites is unlikely to occur.

本発明のシート状封止材の厚みは、特に限定されないが、好ましくは、0.1〜100μm、より好ましくは、5〜90μm、さらに好ましくは、10〜80μmである。
厚みが上記範囲内のシート状封止材は、水分遮断性により優れる。
Although the thickness of the sheet-like sealing material of this invention is not specifically limited, Preferably, it is 0.1-100 micrometers, More preferably, it is 5-90 micrometers, More preferably, it is 10-80 micrometers.
A sheet-like sealing material having a thickness within the above range is more excellent in moisture barrier properties.

本発明のシート状封止材が、マイグレーションが発生しにくいものであることは、電極腐食試験(絶縁された電極間に直流電圧を印加し続けて電極を腐食させる試験)を行うことにより示される。
例えば、櫛型電極が形成された配線基板とシート状封止材とを貼合して得られた測定用試料を、130℃、相対湿度85%、1.3気圧の条件下に静置し、電極間に5Vの電圧を168時間印加した場合、本発明のシート状封止材を用いたときは、電極が腐食して細くなることも、デンドライトが生じることもないことから、本発明のシート状封止材が、マイグレーションが発生しにくいものであることが示される。
That the sheet-like sealing material of the present invention is less likely to cause migration is shown by performing an electrode corrosion test (a test in which a DC voltage is continuously applied between insulated electrodes to corrode the electrodes). .
For example, a measurement sample obtained by bonding a wiring substrate on which a comb-shaped electrode is formed and a sheet-like sealing material is allowed to stand under conditions of 130 ° C., 85% relative humidity, and 1.3 atmospheres. When a voltage of 5 V is applied between the electrodes for 168 hours, when the sheet-like sealing material of the present invention is used, the electrode does not corrode and become thin, and dendrite does not occur. It is shown that the sheet-like sealing material is less likely to cause migration.

電極腐食試験に用いる、櫛型電極が形成された配線基板の模式図を図1に示す。
図1(a)は、配線基板(10)を模式的に表す平面図であり、図1(b)は、図1(a)の配線基板(10)の、X−Y線に沿った断面図である。
配線基板(10)は、基板(1)上に、櫛型のアノード(2)と、櫛型のカソード(3)が設けられている。これら電極のライン幅/スペース幅は、例えば、50μm/50μmである。
配線基板(10)は、例えば、銅張積層板の銅箔にエッチング処理を施すことにより得ることができる。
FIG. 1 shows a schematic diagram of a wiring board on which comb-shaped electrodes are formed, used for an electrode corrosion test.
Fig.1 (a) is a top view which represents typically a wiring board (10), FIG.1 (b) is the cross section along the XY line of the wiring board (10) of Fig.1 (a). FIG.
The wiring substrate (10) is provided with a comb-shaped anode (2) and a comb-shaped cathode (3) on the substrate (1). The line width / space width of these electrodes is, for example, 50 μm / 50 μm.
The wiring board (10) can be obtained, for example, by performing an etching process on the copper foil of the copper clad laminate.

上記腐食試験を、電流を測定しながら行った場合、本発明のシート状封止材を用いた測定用試料は、ショートしないものである。このことからも、本発明のシート状封止材が、マイグレーションが発生しにくいものであることが示される。   When the corrosion test is performed while measuring the current, the measurement sample using the sheet-like sealing material of the present invention is not short-circuited. This also indicates that the sheet-like sealing material of the present invention is less prone to migration.

本発明のシート状封止材は、接着性に優れるものが好ましい。シート状封止材の接着性は、180°剥離試験を行うことで評価することができる。具体的には、引張試験機を用いて、剥離速度300mm/分、剥離角度180°の条件で剥離試験を行ったとき、接着力が、3N/25mm以上であるのが好ましい。
このようなシート状封止材であれば、封止したときに、被封止体との界面から水分等が浸入することを十分に防ぐことができる。
The sheet-like sealing material of the present invention is preferably excellent in adhesiveness. The adhesiveness of the sheet-like sealing material can be evaluated by performing a 180 ° peel test. Specifically, when a peel test is performed using a tensile tester under conditions of a peel rate of 300 mm / min and a peel angle of 180 °, the adhesive strength is preferably 3 N / 25 mm or more.
Such a sheet-like sealing material can sufficiently prevent moisture and the like from entering from the interface with the object to be sealed when sealed.

本発明のシート状封止材を構成する封止樹脂層は、封止樹脂を含有する層である。
封止樹脂は、本発明の効果が得られるものである限り、特に限定されない。
封止樹脂としては、ゴム系ポリマー、(メタ)アクリル系ポリマー、ポリオレフィン系ポリマー、ポリエステル系ポリマー、スチレン系熱可塑性エラストマー、シリコーン系ポリマー等が挙げられる。
The sealing resin layer which comprises the sheet-like sealing material of this invention is a layer containing sealing resin.
The sealing resin is not particularly limited as long as the effects of the present invention can be obtained.
Examples of the sealing resin include rubber polymers, (meth) acrylic polymers, polyolefin polymers, polyester polymers, styrene thermoplastic elastomers, silicone polymers, and the like.

ゴム系ポリマーは、天然ゴム又は合成ゴム等のゴム弾性を有するものである。例えば、天然ゴム(NR)、ブタジエンの単独重合体(ブタジエンゴム、BR)、クロロプレンの単独重合体(クロロプレンゴム、CR)、イソプレンの単独重合体、アクリロニトリルとブタジエンの共重合体(ニトリルゴム)、エチレン−プロピレン−非共役ジエン三元共重合体、イソブチレン系重合体、又はこれらを変性したもの等が挙げられる。ゴム系ポリマーのなかでも、イソブチレン系重合体がより好ましい。   The rubber-based polymer has rubber elasticity such as natural rubber or synthetic rubber. For example, natural rubber (NR), butadiene homopolymer (butadiene rubber, BR), chloroprene homopolymer (chloroprene rubber, CR), isoprene homopolymer, acrylonitrile-butadiene copolymer (nitrile rubber), Examples thereof include an ethylene-propylene-nonconjugated diene terpolymer, an isobutylene polymer, or a modification thereof. Of the rubber polymers, isobutylene polymers are more preferable.

イソブチレン系重合体は、主鎖及び/又は側鎖に、イソブチレン由来の繰り返し単位を有する重合体をいう。イソブチレン由来の繰り返し単位の量は、50質量%以上が好ましく、60質量%以上がより好ましく、70〜99質量%がさらに好ましい。
イソブチレン系重合体としては、イソブチレンの単独重合体(ポリイソブチレン)、イソブチレンとイソプレンの共重合体(ブチルゴム)、イソブチレンとn−ブテンの共重合体、イソブチレンとブタジエンの共重合体、及びこれら重合体を臭素化又は塩素化して得られるハロゲン化重合体等のイソブチレン系重合体、等が挙げられる。これらの中でも、イソブチレンとイソプレンの共重合体(ブチルゴム)が好ましい。
The isobutylene polymer refers to a polymer having repeating units derived from isobutylene in the main chain and / or side chain. The amount of the repeating unit derived from isobutylene is preferably 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, and further preferably 70 to 99% by mass.
Examples of the isobutylene polymer include isobutylene homopolymer (polyisobutylene), isobutylene-isoprene copolymer (butyl rubber), isobutylene-n-butene copolymer, isobutylene-butadiene copolymer, and these polymers. And an isobutylene polymer such as a halogenated polymer obtained by brominating or chlorinating a benzene. Among these, a copolymer of isobutylene and isoprene (butyl rubber) is preferable.

ゴム系ポリマーの数平均分子量(Mn)は、100,000〜2,000,000が好ましく、100,000〜1,500,000がより好ましく、100,000〜1,000,000がさらに好ましい。
ゴム系ポリマーの数平均分子量(Mn)が上記範囲内であることで、水蒸気透過率が低いシート状封止材が得られ易くなる。
ゴム系ポリマーの数平均分子量(Mn)は、テトラヒドロフランを溶媒として用いてゲルパーミエーションクロマトグラフィーを行い、標準ポリスチレン換算値として求めることができる。
The number average molecular weight (Mn) of the rubber polymer is preferably from 100,000 to 2,000,000, more preferably from 100,000 to 1,500,000, and further preferably from 100,000 to 1,000,000.
When the number average molecular weight (Mn) of the rubber-based polymer is within the above range, a sheet-like sealing material having a low water vapor transmission rate is easily obtained.
The number average molecular weight (Mn) of the rubber-based polymer can be obtained as a standard polystyrene equivalent value by performing gel permeation chromatography using tetrahydrofuran as a solvent.

(メタ)アクリル系ポリマーは、主鎖及び/又は側鎖に、(メタ)アクリル系モノマー由来の繰り返し単位を有する重合体である。例えば、(メタ)アクリル系モノマーの単独重合体若しくは共重合体、又はこれらを変性したもの等が挙げられる。ここで、「(メタ)アクリル」は、アクリル又はメタクリルを意味する(以下にて同じである。)。
(メタ)アクリル系ポリマーにおける(メタ)アクリル系モノマー由来の繰り返し単位の量は、50質量%以上が好ましく、60質量%以上がより好ましく、70〜99質量%がさらに好ましい。
(メタ)アクリル系モノマーとしては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル等のアルキル基の炭素数が1から20の(メタ)アクリル酸エステル;(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸ヒドロキシメチル等の反応性官能基を有する(メタ)アクリル系モノマーが挙げられる。
The (meth) acrylic polymer is a polymer having a repeating unit derived from a (meth) acrylic monomer in the main chain and / or side chain. For example, homopolymers or copolymers of (meth) acrylic monomers, or modified ones thereof may be mentioned. Here, “(meth) acryl” means acryl or methacryl (the same applies hereinafter).
The amount of the repeating unit derived from the (meth) acrylic monomer in the (meth) acrylic polymer is preferably 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, and further preferably 70 to 99% by mass.
Examples of (meth) acrylic monomers include alkyl groups such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl (meth) acrylate. Examples thereof include (meth) acrylic acid esters having 1 to 20 carbon atoms; (meth) acrylic monomers having reactive functional groups such as (meth) acrylic acid and hydroxymethyl (meth) acrylate.

ポリオレフィン系ポリマーは、主鎖及び/又は側鎖に、オレフィン系モノマー由来の繰り返し単位を有する重合体である。例えば、オレフィン系モノマーの単独重合体若しくは共重合体、又はこれらを変性したもの等が挙げられる。
オレフィン系モノマーとしては、エチレン;プロピレン、1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン、3−メチル−1−ブテン、1−ヘキセン、1−オクテン等の炭素数3〜20のα−オレフィン;シクロブテン、テトラシクロドデセン、ノルボルネン等の炭素数4〜20の環状オレフィン;又はこれらを変性したもの等が挙げられる。
The polyolefin-based polymer is a polymer having a repeating unit derived from an olefin-based monomer in the main chain and / or side chain. For example, homopolymers or copolymers of olefinic monomers, or modified ones thereof may be mentioned.
Examples of olefin monomers include ethylene; α-olefins having 3 to 20 carbon atoms such as propylene, 1-butene, 4-methyl-1-pentene, 3-methyl-1-butene, 1-hexene, 1-octene; cyclobutene , Tetracyclododecene, norbornene and other cyclic olefins having 4 to 20 carbon atoms; or modified ones thereof.

ポリエステル系ポリマーは、多価カルボン酸とポリオールとの重縮合により得られる重合体、又はこれを変性したものである。
多価カルボン酸としては、テレフタル酸、イソフタル酸、オルソフタル酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、トリメリット酸等が挙げられる。ポリオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール等の脂肪族アルコールや、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリエーテルポリオールが挙げられる。
The polyester polymer is a polymer obtained by polycondensation of a polyvalent carboxylic acid and a polyol, or a modification thereof.
Examples of the polyvalent carboxylic acid include terephthalic acid, isophthalic acid, orthophthalic acid, succinic acid, adipic acid, sebacic acid, cyclohexanedicarboxylic acid, trimellitic acid and the like. Examples of the polyol include aliphatic alcohols such as ethylene glycol and propylene glycol, and polyether polyols such as polyethylene glycol and polypropylene glycol.

スチレン系熱可塑性エラストマーは、スチレン由来の繰り返し単位を有する重合体又はこれらを変性したものである。例えば、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体(SBS)、SBSの水素添加物であるスチレン−エチレン−ブテン−スチレンブロック共重合体(SEBS)、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体(SIS)、SISの水素添加物であるスチレン−エチレン−プロピレン−スチレンブロック共重合体(SEPS)、スチレンとブタジエンの共重合体(スチレンブタジエンゴム、SBR)、スチレンとイソプレンの共重合体、スチレン−イソブチレンジブロック共重合体(SIB)、スチレン−イソブチレン−スチレントリブロック共重合体(SIBS)等が挙げられる。   The styrenic thermoplastic elastomer is a polymer having a repeating unit derived from styrene or a modified one thereof. For example, styrene-butadiene-styrene block copolymer (SBS), styrene-ethylene-butene-styrene block copolymer (SEBS) which is a hydrogenated product of SBS, styrene-isoprene-styrene block copolymer (SIS), SIS-hydrogenated styrene-ethylene-propylene-styrene block copolymer (SEPS), styrene-butadiene copolymer (styrene-butadiene rubber, SBR), styrene-isoprene copolymer, styrene-isobutylene diblock Examples thereof include a copolymer (SIB) and a styrene-isobutylene-styrene triblock copolymer (SIBS).

シリコーン系ポリマーは、主鎖及び/又は側鎖に、(ポリ)シロキサン構造を有する重合体、又はこれを変性したものである。
シリコーン系ポリマーとしては、ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、メチルハイドロジェンポリシロキサン等が挙げられる。
The silicone-based polymer is a polymer having a (poly) siloxane structure in the main chain and / or side chain, or a modification thereof.
Examples of the silicone polymer include dimethylpolysiloxane, methylphenylpolysiloxane, methylhydrogenpolysiloxane, and the like.

これらの封止樹脂は一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの中でも、水蒸気透過率が低いシート状封止材が得られ易いことから、封止樹脂としては、ゴム系ポリマー又はポリオレフィン系ポリマーが好ましい。
These sealing resins can be used alone or in combination of two or more.
Among these, a rubber-based polymer or a polyolefin-based polymer is preferable as the sealing resin because a sheet-shaped sealing material having a low water vapor transmission rate is easily obtained.

封止樹脂層は、架橋構造が形成されていてもよい。架橋構造が形成されることで、封止樹脂層は、十分な凝集力を有するものとなり、接着性により優れ、かつ、水蒸気透過率がより低いものとなる。
封止樹脂層中に架橋構造を形成する際は、接着剤等における公知の架橋構造形成方法を利用することができる。
The sealing resin layer may be formed with a crosslinked structure. By forming the crosslinked structure, the sealing resin layer has a sufficient cohesive force, is superior in adhesiveness, and has a lower water vapor transmission rate.
When a crosslinked structure is formed in the sealing resin layer, a known crosslinked structure forming method using an adhesive or the like can be used.

例えば、水酸基やカルボキシル基を有する封止樹脂を用いる場合、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、アジリジン系架橋剤、金属キレート系架橋剤等の架橋剤を用いることで、架橋構造を形成することができる。   For example, when a sealing resin having a hydroxyl group or a carboxyl group is used, a crosslinked structure is formed by using a crosslinking agent such as an isocyanate crosslinking agent, an epoxy crosslinking agent, an aziridine crosslinking agent, or a metal chelate crosslinking agent. Can do.

イソシアネート系架橋剤は、架橋性基としてイソシアネート基を有する化合物である。
イソシアネート系架橋剤としては、トリメチロールプロパン変性トリレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の芳香族ポリイソシアネート;ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ポリイソシアネート;イソホロンジイソシアネート、水素添加ジフェニルメタンジイソシアネート等の脂環式ポリイソシアネート;これらの化合物のビウレット体、イソシアヌレート体、さらにはエチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、トリメチロールプロパン、ヒマシ油などの低分子活性水素含有化合物との反応物であるアダクト体;等が挙げられる。
The isocyanate-based crosslinking agent is a compound having an isocyanate group as a crosslinkable group.
Isocyanate-based crosslinking agents include trimethylolpropane-modified tolylene diisocyanate, tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, etc .; aliphatic polyisocyanates such as hexamethylene diisocyanate; isophorone diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, etc. Alicyclic polyisocyanates of these compounds; biurets, isocyanurates of these compounds, and also reactants with low molecular active hydrogen-containing compounds such as ethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, trimethylolpropane, castor oil Adduct body; and the like.

エポキシ系架橋剤は、架橋性基としてエポキシ基を有する化合物である。
エポキシ系架橋剤としては、1,3−ビス(N,N’−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−m−キシリレンジアミン、エチレングリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、ジグリシジルアニリン、ジグリシジルアミン等が挙げられる。
The epoxy-based crosslinking agent is a compound having an epoxy group as a crosslinkable group.
Examples of the epoxy crosslinking agent include 1,3-bis (N, N′-diglycidylaminomethyl) cyclohexane, N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-m-xylylenediamine, ethylene glycol diglycidyl ether, Examples include 1,6-hexanediol diglycidyl ether, trimethylolpropane diglycidyl ether, diglycidyl aniline, diglycidyl amine and the like.

アジリジン系架橋剤は、架橋性基としてアジリジン基を有する化合物である。
アジリジン系架橋剤はとしては、ジフェニルメタン−4,4’−ビス(1−アジリジンカーボキサミド)、トリメチロールプロパントリ−β−アジリジニルプロピオネート、テトラメチロールメタントリ−β−アジリジニルプロピオネート、トルエン−2,4−ビス(1−アジリジンカーボキサミド)、トリエチレンメラミン、ビスイソフタロイル−1−(2−メチルアジリジン)、トリス−1−(2−メチルアジリジン)フォスフィン、トリメチロールプロパントリ−β−(2−メチルアジリジン)プロピオネート等が挙げられる。
An aziridine-based crosslinking agent is a compound having an aziridine group as a crosslinkable group.
Examples of the aziridine-based crosslinking agent include diphenylmethane-4,4′-bis (1-aziridinecarboxamide), trimethylolpropane tri-β-aziridinylpropionate, tetramethylolmethanetri-β-aziridinylpro Pionate, toluene-2,4-bis (1-aziridinecarboxamide), triethylenemelamine, bisisophthaloyl-1- (2-methylaziridine), tris-1- (2-methylaziridine) phosphine, tri And methylolpropane tri-β- (2-methylaziridine) propionate.

金属キレート系架橋剤としては、金属原子がアルミニウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、鉄、スズ等であるキレート化合物が挙げられ、なかでも、アルミニウムキレート化合物が好ましい。
アルミニウムキレート化合物としては、ジイソプロポキシアルミニウムモノオレイルアセトアセテート、モノイソプロポキシアルミニウムビスオレイルアセトアセテート、モノイソプロポキシアルミニウムモノオレエートモノエチルアセトアセテート、ジイソプロポキシアルミニウムモノラウリルアセトアセテート、ジイソプロポキシアルミニウムモノステアリルアセトアセテート、ジイソプロポキシアルミニウムモノイソステアリルアセトアセテート等が挙げられる。
これらの架橋剤は、1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
Examples of the metal chelate-based crosslinking agent include chelate compounds in which the metal atom is aluminum, zirconium, titanium, zinc, iron, tin, etc. Among them, aluminum chelate compounds are preferable.
Aluminum chelate compounds include diisopropoxy aluminum monooleyl acetoacetate, monoisopropoxy aluminum bis oleyl acetoacetate, monoisopropoxy aluminum monooleate monoethyl acetoacetate, diisopropoxy aluminum monolauryl acetoacetate, diisopropoxy aluminum mono Examples include stearyl acetoacetate and diisopropoxyaluminum monoisostearyl acetoacetate.
These crosslinking agents can be used alone or in combination of two or more.

これらの架橋剤を用いて架橋構造を形成する場合、その使用量は、架橋剤の架橋性基(金属キレート系架橋剤の場合は、金属キレート系架橋剤)が、封止樹脂の水酸基及びカルボキシル基に対して、0.1〜5当量となる量が好ましく、0.2〜3当量となる量がより好ましい。   When a crosslinked structure is formed using these crosslinking agents, the amount used is that the crosslinking group of the crosslinking agent (in the case of a metal chelate crosslinking agent, the metal chelate crosslinking agent) is the hydroxyl group and carboxyl of the sealing resin. The amount of 0.1 to 5 equivalents relative to the group is preferred, and the amount of 0.2 to 3 equivalents is more preferred.

また、(メタ)アクリロイル基等の重合性官能基を有する封止樹脂を用いる場合、光重合開始剤や熱重合開始剤等を用いることで、架橋構造を形成することができる。   Moreover, when using sealing resin which has polymerizable functional groups, such as a (meth) acryloyl group, a crosslinked structure can be formed by using a photoinitiator, a thermal polymerization initiator, etc.

光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾイン安息香酸、ベンゾイン安息香酸メチル、ベンゾインジメチルケタール、2,4−ジエチルチオキサントン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンジルジフェニルサルファイド、テトラメチルチウラムモノサルファイド、アゾビスイソブチロニトリル、2−クロールアンスラキノン、ジフェニル(2,4,6−トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニル−ホスフィンオキサイドが挙げられる。   Examples of the photopolymerization initiator include benzophenone, acetophenone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin benzoic acid, benzoin benzoic acid methyl, benzoin dimethyl ketal, 2,4-diethylthioxanthone, 1 -Hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzyldiphenyl sulfide, tetramethylthiuram monosulfide, azobisisobutyronitrile, 2-chloroanthraquinone, diphenyl (2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphine oxide, bis (2,4,6 -Trimethylbenzoyl) -phenyl-phosphine oxide.

熱重合開始剤としては、過酸化水素;ペルオキソ二硫酸アンモニウム、ペルオキソ二硫酸ナトリウム、ペルオキソ二硫酸カリウム等のペルオキソ二硫酸塩;2,2’−アゾビス(2−アミジノプロパン)二塩酸塩、4,4’−アゾビス(4−シアノバレリン酸)、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)等のアゾ系化合物;過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酢酸、過コハク酸、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルヒドロパーオキサイド、クメンヒドロパーオキサイドなどの有機過酸化物;等が挙げられる。   Examples of the thermal polymerization initiator include hydrogen peroxide; peroxodisulfates such as ammonium peroxodisulfate, sodium peroxodisulfate, and potassium peroxodisulfate; 2,2′-azobis (2-amidinopropane) dihydrochloride, 4,4 Azo compounds such as' -azobis (4-cyanovaleric acid), 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile); benzoyl peroxide , Organic peroxides such as lauroyl peroxide, peracetic acid, persuccinic acid, di-t-butyl peroxide, t-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, and the like.

これらの重合開始剤は、1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの重合開始剤を用いて架橋構造を形成する場合、その使用量は、封止樹脂100質量部に対して、0.1〜100質量部が好ましく、1〜100質量部がより好ましい。
These polymerization initiators can be used singly or in combination of two or more.
When using these polymerization initiators to form a crosslinked structure, the amount used is preferably from 0.1 to 100 parts by weight, more preferably from 1 to 100 parts by weight, based on 100 parts by weight of the sealing resin.

封止樹脂層中の封止樹脂の含有量(架橋構造を形成しているときは、架橋構造部を含む)は、封止樹脂層全体に対して、70〜99.99質量%が好ましく、90〜99.95質量%がより好ましく、95〜99.9質量%がさらに好ましい。   The content of the sealing resin in the sealing resin layer (including a crosslinked structure when a crosslinked structure is formed) is preferably 70 to 99.99 mass% with respect to the entire sealing resin layer, 90 to 99.95% by mass is more preferable, and 95 to 99.9% by mass is more preferable.

封止樹脂層は、さらに、粘着付与剤を含有してもよい。
封止樹脂層に粘着付与剤を含有させることで、水分遮断性により優れ、かつ、粘着力により優れるシート状封止材が得られ易くなる。
The sealing resin layer may further contain a tackifier.
By including a tackifier in the sealing resin layer, it becomes easy to obtain a sheet-like sealing material that is excellent in moisture barrier properties and excellent in adhesive strength.

粘着付与剤は、シート状封止材の粘着性を向上させるものであれば特に限定されず、公知のものを用いることができる。例えば、脂環族系石油樹脂、脂肪族系石油樹脂、テルペン樹脂、エステル系樹脂、クマロン−インデン樹脂、ロジン系樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂、ブチラール樹脂、オレフィン樹脂、塩素化オレフィン樹脂、酢酸ビニル樹脂、及びこれらの変性樹脂又は水素添加された樹脂等が挙げられる。これらの中でも、脂肪族系石油樹脂、テルペン樹脂、ロジンエステル系樹脂、ロジン系樹脂等が好ましい。
粘着付与剤は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
A tackifier will not be specifically limited if it improves the adhesiveness of a sheet-like sealing material, A well-known thing can be used. For example, alicyclic petroleum resin, aliphatic petroleum resin, terpene resin, ester resin, coumarone-indene resin, rosin resin, epoxy resin, phenol resin, acrylic resin, butyral resin, olefin resin, chlorinated olefin resin , Vinyl acetate resins, and these modified resins or hydrogenated resins. Among these, aliphatic petroleum resins, terpene resins, rosin ester resins, rosin resins and the like are preferable.
A tackifier can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

粘着付与剤の重量平均分子量は、好ましくは、100〜10,000、より好ましくは500〜5,000である。
粘着付与剤の軟化点は、好ましくは、50〜160℃、より好ましくは60〜140℃、さらに好ましくは70〜130℃である。
The weight average molecular weight of the tackifier is preferably 100 to 10,000, more preferably 500 to 5,000.
The softening point of the tackifier is preferably 50 to 160 ° C, more preferably 60 to 140 ° C, and still more preferably 70 to 130 ° C.

また、粘着付与剤として、市販品をそのまま使用することもできる。例えば、市販品としては、エスコレッツ1000シリーズ(エクソン化学社製)、クイントンA、B、R、CXシリーズ(日本ゼオン社製)等の脂肪族系石油樹脂;アルコンP、Mシリーズ(荒川化学社製)、ESCOREZシリーズ(エクソン・ケミカル社製)、EASTOTACシリーズ(イーストマン・ケミカル社製)、IMARVシリーズ(出光興産社製)等の脂環族系石油樹脂;YSレジンP、Aシリーズ(安原油脂社製)、クリアロンPシリーズ(ヤスハラ・ケミカル製)、ピコライトA、Cシリーズ(ハーキュレス社製)等のテルペン系樹脂;フォーラルシリーズ(ハーキュレス社製)、ペンセルAシリーズ、エステルガム、スーパー・エステル、パインクリスタル(荒川化学工業社製)等のエステル系樹脂;等が挙げられる。   Moreover, a commercial item can also be used as it is as a tackifier. For example, commercially available products include aliphatic petroleum resins such as Escolets 1000 Series (Exxon Chemical Co., Ltd.), Quinton A, B, R, CX Series (Zeon Japan Co., Ltd.); Alcon P, M Series (Arakawa Chemical Co., Ltd.) ), ESCOREZ series (manufactured by Exxon Chemical), EASTOTAC series (manufactured by Eastman Chemical), ILARV series (manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd.); ), Clearon P series (manufactured by Yashara Chemical), picolite A, C series (manufactured by Hercules), etc .; Foal series (manufactured by Hercules), Pencel A series, ester gum, super ester, pine crystal Ester resins such as Arakawa Chemical Industries, etc .;

封止樹脂層が粘着付与剤を含有する場合、封止樹脂層中の粘着付与剤の含有量は、封止樹脂層全体に対して、0.1〜40質量%が好ましく、1〜30質量%がより好ましい。   When a sealing resin layer contains a tackifier, 0.1-40 mass% is preferable with respect to the whole sealing resin layer, and, as for content of the tackifier in a sealing resin layer, 1-30 mass % Is more preferable.

封止樹脂層は、本発明の効果を妨げない範囲で、その他の成分を含有してもよい。
その他の成分としては、紫外線吸収剤、シランカップリング剤、帯電防止剤、光安定剤、酸化防止剤、樹脂安定剤、充填剤、顔料、増量剤、軟化剤等の添加剤が挙げられる。
これらは、1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
封止樹脂層がその他の成分を含有する場合、その含有量は、それぞれ、封止樹脂層全体に対して、0.01〜5質量%が好ましく、0.01〜2質量%がより好ましい。
The sealing resin layer may contain other components as long as the effects of the present invention are not hindered.
Examples of other components include additives such as ultraviolet absorbers, silane coupling agents, antistatic agents, light stabilizers, antioxidants, resin stabilizers, fillers, pigments, extenders, and softeners.
These can be used singly or in combination of two or more.
When a sealing resin layer contains another component, 0.01-5 mass% is preferable with respect to the whole sealing resin layer, respectively, and 0.01-2 mass% is more preferable.

封止樹脂層の厚みは、特に限定されず、目的のシート状封止材の厚みに合わせて適宜決定することができる。封止樹脂層の厚みは、通常、0.1〜100μmであり、1.0〜80μmが好ましく、5.0〜50μmがより好ましい。   The thickness of the sealing resin layer is not particularly limited, and can be appropriately determined according to the thickness of the target sheet-like sealing material. The thickness of the sealing resin layer is usually 0.1 to 100 μm, preferably 1.0 to 80 μm, and more preferably 5.0 to 50 μm.

本発明のシート状封止材は、1又は2以上の封止樹脂層からなるものである。封止樹脂層数の上限は特にないが、通常、10層以下である。
本発明のシート状封止材が、2以上の封止樹脂層からなるものである場合、そのようなシート状封止材としては、同じ封止樹脂層を2層以上積層させたものであってもよく、異なる封止樹脂層を2層以上積層させたものであってもよい。
異なる封止樹脂層としては、封止樹脂が異なる層、封止樹脂以外の成分や、その含有量が異なる層等が挙げられる。
The sheet-like sealing material of the present invention comprises one or two or more sealing resin layers. The upper limit of the number of sealing resin layers is not particularly limited, but is usually 10 layers or less.
When the sheet-like sealing material of the present invention is composed of two or more sealing resin layers, such a sheet-like sealing material is a laminate of two or more of the same sealing resin layers. Alternatively, two or more different sealing resin layers may be laminated.
Examples of the different sealing resin layers include layers having different sealing resins, components other than the sealing resin, layers having different contents, and the like.

本発明のシート状封止材は、1又は2以上の封止樹脂層からなるものであるが、これは、封止材として機能している状態を表したものである。すなわち、本発明のシート状封止材は、剥離シート等の、使用前に剥離される層を有するものであってもよい。本発明のシート状封止材が剥離シートを有するものである場合、後述する水蒸気透過率やシート状封止材の厚みは、剥離シートを除いたもの(封止樹脂層)の値である。   The sheet-like sealing material of the present invention comprises one or two or more sealing resin layers, and this represents a state functioning as a sealing material. That is, the sheet-like sealing material of the present invention may have a layer that is peeled off before use, such as a peeling sheet. When the sheet-like sealing material of the present invention has a release sheet, the water vapor transmission rate and the thickness of the sheet-like sealing material described below are the values excluding the release sheet (sealing resin layer).

剥離シートとしては、従来公知のものを利用することができる。例えば、剥離シート用の基材上に、剥離剤により剥離処理された剥離層を有するものが挙げられる。
剥離シート用の基材としては、グラシン紙、コート紙、上質紙等の紙基材;これらの紙基材にポリエチレン等の熱可塑性樹脂をラミネートしたラミネート紙;ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレン樹脂等のプラスチックフィルム;等が挙げられる。
剥離剤としては、シリコーン系樹脂、オレフィン系樹脂、イソプレン系樹脂、ブタジエン系樹脂等のゴム系エラストマー、長鎖アルキル系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等が挙げられる。
A conventionally well-known thing can be utilized as a peeling sheet. For example, what has the peeling layer by which peeling processing was carried out with the release agent on the base material for peeling sheets is mentioned.
As the base material for the release sheet, paper base materials such as glassine paper, coated paper, high-quality paper; laminated paper obtained by laminating a thermoplastic resin such as polyethylene on these paper base materials; polyethylene terephthalate resin, polybutylene terephthalate resin, Examples thereof include plastic films such as polyethylene naphthalate resin, polypropylene resin, and polyethylene resin.
Examples of the release agent include rubber elastomers such as silicone resins, olefin resins, isoprene resins, and butadiene resins, long chain alkyl resins, alkyd resins, and fluorine resins.

本発明のシート状封止材の製造方法は特に限定されない。例えば、キャスト法又は押出成形法を用いて、本発明のシート状封止材を製造することができる。
本発明のシート状封止材を、キャスト法により製造する場合、例えば、封止樹脂等の所定の成分を含有する樹脂組成物を調製し、この樹脂組成物を、公知の方法により、剥離シートの剥離処理面に塗工し、得られた塗膜を乾燥することで、剥離シート付封止樹脂層(剥離シート付の本発明のシート状封止材)を形成することができる。
The manufacturing method of the sheet-like sealing material of the present invention is not particularly limited. For example, the sheet-like sealing material of the present invention can be produced using a casting method or an extrusion method.
When the sheet-like sealing material of the present invention is produced by a casting method, for example, a resin composition containing a predetermined component such as a sealing resin is prepared, and this resin composition is prepared by a known method using a release sheet. It is possible to form a sealing resin layer with a release sheet (the sheet-like sealing material of the present invention with a release sheet) by applying to the release-treated surface and drying the obtained coating film.

樹脂組成物は、所定の成分、溶媒等を、常法に従って適宜混合・攪拌することにより調製することができる。
溶媒としては、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒;n−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒;シクロペンタン、シクロヘキサンなどの脂環式炭化水素系溶媒;等が挙げられる。
これらの溶媒は、1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
The resin composition can be prepared by appropriately mixing and stirring predetermined components, a solvent and the like according to a conventional method.
Solvents include aromatic hydrocarbon solvents such as benzene and toluene; ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone; n-pentane, n-hexane, and n- And aliphatic hydrocarbon solvents such as heptane; alicyclic hydrocarbon solvents such as cyclopentane and cyclohexane; and the like.
These solvents can be used alone or in combination of two or more.

樹脂組成物を塗工する方法としては、例えば、スピンコート法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法等が挙げられる。
塗膜を乾燥するときの乾燥条件としては、例えば80〜150℃で30秒〜5分間が挙げられる。
乾燥処理を行った後、そのまま1週間程度静置し、封止樹脂層を養生させてもよい。封止樹脂層を養生させることで、架橋構造を十分に形成することができる。
Examples of the method for applying the resin composition include spin coating, spray coating, bar coating, knife coating, roll coating, blade coating, die coating, and gravure coating.
As drying conditions when drying a coating film, 30 seconds-5 minutes are mentioned at 80-150 degreeC, for example.
After performing the drying treatment, the sealing resin layer may be cured by leaving it still for about one week. By curing the sealing resin layer, a crosslinked structure can be sufficiently formed.

封止樹脂層の形成後に、封止樹脂層上にもう1枚の剥離シートを積層させることで、両最外層として、それぞれ剥離シートを有するシート状封止材を得ることができる。
また、2以上の封止樹脂層からなるシート状封止材は、複数の封止樹脂層を形成し、これを、その封止樹脂層同士が対向するように積層させることで、得ることができる。
また、封止樹脂層の形成後に、その封止樹脂層上に樹脂組成物を塗工し、得られた塗膜を乾燥する方法によっても、2以上の封止樹脂層からなるシート状封止材を得ることができる。
After the sealing resin layer is formed, another sheet of release sheet is laminated on the sealing resin layer, whereby a sheet-like sealing material having release sheets as both outermost layers can be obtained.
Moreover, the sheet-like sealing material consisting of two or more sealing resin layers can be obtained by forming a plurality of sealing resin layers and laminating them so that the sealing resin layers face each other. it can.
Also, after forming the sealing resin layer, a sheet-like sealing composed of two or more sealing resin layers can be obtained by applying a resin composition on the sealing resin layer and drying the obtained coating film. A material can be obtained.

本発明のシート状封止材を、押出成形法により製造する場合、例えば、封止樹脂とその他の成分をドライブレンドし、このものを原料として用いて、押出製膜法により製膜することで、シート状封止材を得ることができる。
このとき、多層押出製膜法により製膜することで、2以上の封止樹脂層からなシート状封止材を得ることができる。
本発明のシート状封止材を、多層押出製膜法により製造する場合は、共押出多層フィルムを製造する際に用いられる公知の方法を利用することができる。
When producing the sheet-like sealing material of the present invention by an extrusion molding method, for example, by dry blending a sealing resin and other components, and using this as a raw material, a film is formed by an extrusion film forming method. A sheet-like sealing material can be obtained.
At this time, a sheet-like sealing material made of two or more sealing resin layers can be obtained by forming a film by a multilayer extrusion film forming method.
When manufacturing the sheet-like sealing material of this invention by a multilayer extrusion film forming method, the well-known method used when manufacturing a co-extrusion multilayer film can be utilized.

本発明のシート状封止材は、水分遮断性に優れ、かつ、デンドライトの析出によるマイグレーションが発生しにくい。したがって、後述するように、本発明のシート状封止材は、電子デバイスを封止する際に好適に用いられる。   The sheet-like sealing material of the present invention is excellent in moisture barrier properties, and migration due to precipitation of dendrite hardly occurs. Therefore, as will be described later, the sheet-like sealing material of the present invention is suitably used when sealing an electronic device.

2)封止シート
本発明の封止シートは、シート状封止材と基材シートとを有する封止シートであって、前記シート状封止材が、本発明のシート状封止材であることを特徴とする。
2) Sealing sheet The sealing sheet of this invention is a sealing sheet which has a sheet-like sealing material and a base material sheet, Comprising: The said sheet-like sealing material is a sheet-like sealing material of this invention. It is characterized by that.

用いる基材シートとしては、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、アクリル系樹脂、シクロオレフィン系ポリマー、芳香族系重合体、ポリウレタン系ポリマー等の樹脂製のフィルムやシート、アルミニウム等の金属箔及びこれらの積層体を用いることができる。
基材シートの厚みは、特に制限はないが、取り扱い易さの観点から、好ましくは0.5〜500μm、より好ましくは1〜200μm、さらに好ましくは5〜100μmである。
As the base sheet to be used, polyimide, polyamide, polyamideimide, polyphenylene ether, polyether ketone, polyether ether ketone, polyolefin, polyester, polycarbonate, polysulfone, polyethersulfone, polyphenylene sulfide, polyarylate, acrylic resin, cyclohexane Resin films and sheets such as olefin polymers, aromatic polymers, and polyurethane polymers, metal foils such as aluminum, and laminates thereof can be used.
Although there is no restriction | limiting in particular in the thickness of a base material sheet, From a viewpoint of the ease of handling, Preferably it is 0.5-500 micrometers, More preferably, it is 1-200 micrometers, More preferably, it is 5-100 micrometers.

基材シートには、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、帯電防止剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、着色剤等が含有されていてもよい。また、基材シートとシート状封止材との密着性を向上させる観点から、必要に応じて、基材シート表面に対し表面処理を施してもよい。   The base sheet may contain an ultraviolet absorber, a light stabilizer, an antioxidant, an antistatic agent, a slip agent, an antiblocking agent, a colorant and the like. Moreover, you may surface-treat with respect to the base material sheet surface as needed from a viewpoint of improving the adhesiveness of a base material sheet and a sheet-like sealing material.

前記基材シートには、直接又はその他の層を介してガスバリア層が形成されていてもよい。「ガスバリア層」は、空気、酸素、水蒸気等の気体を通過させにくい性質を有する層である。
ガスバリア層の厚みは特に制限されないが、ガスバリア性と取り扱い性の観点から、通常、10〜2000nm、好ましくは20〜1000nm、より好ましくは30〜500nm、さらに好ましくは40〜200nmの範囲である。
A gas barrier layer may be formed on the base sheet directly or via other layers. The “gas barrier layer” is a layer having a property that it is difficult for gas such as air, oxygen, and water vapor to pass therethrough.
The thickness of the gas barrier layer is not particularly limited, but is usually in the range of 10 to 2000 nm, preferably 20 to 1000 nm, more preferably 30 to 500 nm, and still more preferably 40 to 200 nm from the viewpoints of gas barrier properties and handleability.

ガスバリア層は、単層であっても、複数層であってもよいが、より高いガスバリア性が得られるという観点から、複数層であることが好ましい。   The gas barrier layer may be a single layer or a plurality of layers, but is preferably a plurality of layers from the viewpoint of obtaining higher gas barrier properties.

前記ガスバリア層は、温度40℃、相対湿度90%(以下、「90%RH」と略記する。)の環境下における水蒸気透過率が0.1g/m/day以下であることが好ましく、0.05g/m/day以下であることがより好ましく、0.005g/m/day以下であることがさらに好ましい。
ガスバリア層の温度40℃、90%RHの環境下における水蒸気透過率が0.1g/m/day以下であることで、透明基板上に形成された有機EL素子等の素子内部に酸素や水分等が浸入し、電極や有機層が劣化することを効果的に抑制することができる。
ガスバリア層の水蒸気等の透過率は、公知のガス透過率測定装置を使用して測定することができる。
The gas barrier layer preferably has a water vapor transmission rate of 0.1 g / m 2 / day or less in an environment of a temperature of 40 ° C. and a relative humidity of 90% (hereinafter abbreviated as “90% RH”). It is more preferable that it is 0.05 g / m 2 / day or less, and it is more preferable that it is 0.005 g / m 2 / day or less.
When the water vapor transmission rate in the environment of the gas barrier layer at 40 ° C. and 90% RH is 0.1 g / m 2 / day or less, oxygen or moisture is contained inside the element such as an organic EL element formed on the transparent substrate. Etc. can effectively prevent the electrode and the organic layer from deteriorating.
The permeability of water vapor or the like of the gas barrier layer can be measured using a known gas permeability measuring device.

ガスバリア層は、所望のガスバリア性を付与することができれば、材質等は特に限定されない。無機膜や、高分子化合物を含む層に改質処理を施して得られるガスバリア層等が挙げられる。これらの中でも、厚みが薄く、ガスバリア性に優れる層を効率よく形成できることから、ガスバリア層は、無機膜からなるガスバリア層、及び高分子化合物を含む層にイオンを注入して得られるガスバリア層が好ましい。   A material etc. will not be specifically limited if a gas barrier layer can provide desired gas barrier property. Examples thereof include an inorganic film and a gas barrier layer obtained by modifying a layer containing a polymer compound. Among these, the gas barrier layer is preferably a gas barrier layer made of an inorganic film and a gas barrier layer obtained by implanting ions into a layer containing a polymer compound because a layer having a small thickness and excellent gas barrier properties can be efficiently formed. .

無機膜としては、特に制限されず、例えば、無機蒸着膜が挙げられる。
無機蒸着膜としては、無機化合物や金属の蒸着膜が挙げられる。
無機化合物の蒸着膜の原料としては、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化スズ等の無機酸化物;窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化チタン等の無機窒化物;無機炭化物;無機硫化物;酸化窒化ケイ素等の無機酸化窒化物;無機酸化炭化物;無機窒化炭化物;無機酸化窒化炭化物等が挙げられる。
金属の蒸着膜の原料としては、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、及びスズ等が挙げられる。
The inorganic film is not particularly limited, and examples thereof include an inorganic vapor deposition film.
Examples of the inorganic vapor deposition film include vapor deposition films of inorganic compounds and metals.
As the raw material for the vapor-deposited film of the inorganic compound, inorganic oxides such as silicon oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, zinc oxide, indium oxide and tin oxide; inorganic nitrides such as silicon nitride, aluminum nitride and titanium nitride; inorganic carbides; Inorganic sulfides; inorganic oxynitrides such as silicon oxynitride; inorganic oxide carbides; inorganic nitride carbides; inorganic oxynitride carbides and the like.
Examples of the raw material for the metal vapor deposition film include aluminum, magnesium, zinc, and tin.

高分子化合物を含む層(以下、「高分子層」ということがある)にイオン注入して得られるガスバリア層において、用いる高分子化合物としては、ポリオルガノシロキサン、ポリシラザン系化合物等のケイ素含有高分子化合物、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、アクリル系樹脂、シクロオレフィン系ポリマー、芳香族系重合体等が挙げられる。これらの高分子化合物は1種単独で、あるいは2種以上を組合せて用いることができる。
これらの中でも、優れたガスバリア性を有するガスバリア層を形成できる観点から、ケイ素含有高分子化合物が好ましく、ポリシラザン系化合物がより好ましい。
In a gas barrier layer obtained by ion implantation into a layer containing a polymer compound (hereinafter sometimes referred to as “polymer layer”), the polymer compound used is a silicon-containing polymer such as polyorganosiloxane or polysilazane compound. Compound, polyimide, polyamide, polyamideimide, polyphenylene ether, polyether ketone, polyether ether ketone, polyolefin, polyester, polycarbonate, polysulfone, polyethersulfone, polyphenylene sulfide, polyarylate, acrylic resin, cycloolefin polymer, aromatic System polymers and the like. These polymer compounds can be used alone or in combination of two or more.
Among these, from the viewpoint of forming a gas barrier layer having excellent gas barrier properties, silicon-containing polymer compounds are preferable, and polysilazane compounds are more preferable.

ポリシラザン系化合物は、分子内に−Si−N−結合(シラザン結合)を含む繰り返し単位を有する高分子化合物である。具体的には、式(1)   A polysilazane compound is a polymer compound having a repeating unit containing a —Si—N— bond (silazane bond) in the molecule. Specifically, the formula (1)

Figure 2018168378
Figure 2018168378

で表される繰り返し単位を有する化合物が好ましい。また、用いるポリシラザン系化合物の数平均分子量は、特に限定されないが、100〜50,000であるのが好ましい。 The compound which has a repeating unit represented by these is preferable. The number average molecular weight of the polysilazane compound to be used is not particularly limited, but is preferably 100 to 50,000.

前記式(1)中、nは任意の自然数を表す。
Rx、Ry、Rzは、それぞれ独立して、水素原子、無置換若しくは置換基を有するアルキル基、無置換若しくは置換基を有するシクロアルキル基、無置換若しくは置換基を有するアルケニル基、無置換若しくは置換基を有するアリール基又はアルキルシリル基等の非加水分解性基を表す。これらの中でも、Rx、Ry、Rzとしては、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、又はフェニル基が好ましく、水素原子が特に好ましい。前記式(1)で表される繰り返し単位を有するポリシラザン系化合物としては、Rx、Ry、Rzが全て水素原子である無機ポリシラザン、Rx、Ry、Rzの少なくとも1つが水素原子ではない有機ポリシラザンのいずれであってもよい。
ポリシラザン系化合物は、1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。本発明においては、ポリシラザン系化合物として、ポリシラザン変性物を用いることもできる。また、本発明においては、ポリシラザン系化合物としては、ガラスコーティング材等として市販されている市販品をそのまま使用することもできる。
In said formula (1), n represents arbitrary natural numbers.
Rx, Ry, and Rz each independently represent a hydrogen atom, an unsubstituted or substituted alkyl group, an unsubstituted or substituted cycloalkyl group, an unsubstituted or substituted alkenyl group, unsubstituted or substituted Represents a non-hydrolyzable group such as an aryl group having a group or an alkylsilyl group; Among these, as Rx, Ry, and Rz, a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a phenyl group is preferable, and a hydrogen atom is particularly preferable. Examples of the polysilazane compound having a repeating unit represented by the formula (1) include inorganic polysilazanes in which Rx, Ry, and Rz are all hydrogen atoms, and organic polysilazanes in which at least one of Rx, Ry, and Rz is not a hydrogen atom. It may be.
The polysilazane compounds can be used alone or in combination of two or more. In the present invention, a modified polysilazane compound can also be used as the polysilazane compound. In the present invention, as the polysilazane compound, a commercially available product as a glass coating material or the like can be used as it is.

前記高分子層は、上述した高分子化合物の他に、本発明の目的を阻害しない範囲で他の成分を含んでいてもよい。他の成分としては、硬化剤、他の高分子、老化防止剤、光安定剤、難燃剤等が挙げられる。
高分子層中の高分子化合物の含有量は、より優れたガスバリア性を有するガスバリア層が得られることから、50質量%以上が好ましく、70質量%以上がより好ましい。
The polymer layer may contain other components in addition to the above-described polymer compound as long as the object of the present invention is not impaired. Examples of other components include curing agents, other polymers, anti-aging agents, light stabilizers, and flame retardants.
The content of the polymer compound in the polymer layer is preferably 50% by mass or more and more preferably 70% by mass or more because a gas barrier layer having better gas barrier properties can be obtained.

高分子層の厚みは特に制限されないが、好ましくは50〜300nm、より好ましくは50〜200nmの範囲である。
本発明においては、高分子層の厚みがナノオーダーであっても、充分なガスバリア性を有するガスバリア性積層体を得ることができる。
The thickness of the polymer layer is not particularly limited, but is preferably in the range of 50 to 300 nm, more preferably 50 to 200 nm.
In the present invention, even if the thickness of the polymer layer is nano-order, a gas barrier laminate having a sufficient gas barrier property can be obtained.

高分子層を形成する方法としては、例えば、高分子化合物の少なくとも一種、所望により他の成分、及び溶剤等を含有する層形成用溶液を、スピンコーター、ナイフコーター、グラビアコーター等の公知の装置を使用し、塗布し、得られた塗膜を適度に乾燥して形成する方法が挙げられる。   As a method for forming a polymer layer, for example, a known device such as a spin coater, a knife coater, a gravure coater, or the like is used to form a layer forming solution containing at least one kind of a polymer compound, and optionally other components and a solvent. The method of using and apply | coating and forming the coating film obtained by drying moderately is mentioned.

高分子層の改質処理としては、イオン注入処理、プラズマ処理、紫外線照射処理、熱処理等が挙げられる。
イオン注入処理は、後述するように、高分子層にイオンを注入して、高分子層を改質する方法である。
プラズマ処理は、高分子層をプラズマ中に晒して、高分子層を改質する方法である。例えば、特開2012−106421号公報に記載の方法に従って、プラズマ処理を行うことができる。
紫外線照射処理は、高分子層に紫外線を照射して高分子層を改質する方法である。例えば、特開2013−226757号公報に記載の方法に従って、紫外線改質処理を行うことができる。
これらの中でも、高分子層の表面を荒らすことなく、その内部まで効率よく改質し、よりガスバリア性に優れるガスバリア層を形成できることから、イオン注入処理が好ましい。
Examples of the polymer layer modification treatment include ion implantation treatment, plasma treatment, ultraviolet irradiation treatment, and heat treatment.
The ion implantation process is a method of modifying the polymer layer by implanting ions into the polymer layer, as will be described later.
The plasma treatment is a method for modifying the polymer layer by exposing the polymer layer to plasma. For example, plasma treatment can be performed according to a method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-106421.
The ultraviolet irradiation treatment is a method for modifying the polymer layer by irradiating the polymer layer with ultraviolet rays. For example, the ultraviolet modification treatment can be performed according to the method described in JP2013-226757A.
Among these, the ion implantation treatment is preferable because the gas barrier layer can be efficiently modified to the inside without roughening the surface of the polymer layer and more excellent in gas barrier properties.

高分子層に注入されるイオンとしては、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン等の希ガスのイオン;フルオロカーボン、水素、窒素、酸素、二酸化炭素、塩素、フッ素、硫黄等のイオン;
メタン、エタン等のアルカン系ガス類のイオン;エチレン、プロピレン等のアルケン系ガス類のイオン;ペンタジエン、ブタジエン等のアルカジエン系ガス類のイオン;アセチレン等のアルキン系ガス類のイオン;ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系ガス類のイオン;シクロプロパン等のシクロアルカン系ガス類のイオン;シクロペンテン等のシクロアルケン系ガス類のイオン;金属のイオン;有機ケイ素化合物のイオン;等が挙げられる。
これらのイオンは1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの中でも、より簡便にイオンを注入することができ、特に優れたガスバリア性を有するガスバリア層が得られることから、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン等の希ガスのイオンが好ましい。
As ions implanted into the polymer layer, ions of rare gases such as argon, helium, neon, krypton, and xenon; ions such as fluorocarbon, hydrogen, nitrogen, oxygen, carbon dioxide, chlorine, fluorine, and sulfur;
Ions of alkane gases such as methane and ethane; Ions of alkene gases such as ethylene and propylene; Ions of alkadiene gases such as pentadiene and butadiene; Ions of alkyne gases such as acetylene; Benzene, toluene, etc. Ions of aromatic hydrocarbon gases such as: ions of cycloalkane gases such as cyclopropane; ions of cycloalkene gases such as cyclopentene; ions of metals; ions of organosilicon compounds;
These ions can be used alone or in combination of two or more.
Among these, ions of rare gases such as argon, helium, neon, krypton, and xenon are preferable because ions can be more easily implanted and a gas barrier layer having particularly excellent gas barrier properties can be obtained.

イオンを注入する方法としては、特に限定されない。例えば、電界により加速されたイオン(イオンビーム)を照射する方法、プラズマ中のイオンを注入する方法等が挙げられ、簡便にガスバリア層が得られることから、後者のプラズマイオンを注入する方法が好ましい。   The method for implanting ions is not particularly limited. For example, a method of irradiating ions accelerated by an electric field (ion beam), a method of injecting ions in plasma, and the like can be mentioned. A gas barrier layer can be easily obtained, and the latter method of injecting plasma ions is preferable. .

用いる基材シートは透明であることが好ましい。基材シートの全光線透過率は80%以上が好ましく、85%以上がより好ましい。   The substrate sheet to be used is preferably transparent. The total light transmittance of the base sheet is preferably 80% or more, and more preferably 85% or more.

本発明の封止シートは、前記基材シートのほかに、保護層、導電体層、プライマー層等のその他の層をさらに有していてもよい。これらの層が積層される位置は、特に限定されない。   The sealing sheet of this invention may further have other layers, such as a protective layer, a conductor layer, and a primer layer, in addition to the base material sheet. The position where these layers are laminated is not particularly limited.

本発明の封止シートの製造方法は特に限定されない。例えば、前記剥離シート付シート状封止材の剥離シートの代わりに基材シートを用いることにより、本発明の封止シートを得ることができる。
また、前記剥離シート付シート状封止材のシート状封止材と、基材シートとが対向するように貼り合わせることにより、基材シート/シート状封止材/剥離シート、の層構成を有する本発明の封止シートを得ることができる。
The manufacturing method of the sealing sheet of this invention is not specifically limited. For example, the sealing sheet of this invention can be obtained by using a base material sheet instead of the peeling sheet of the sheet-like sealing material with a peeling sheet.
Moreover, by laminating the sheet-like sealing material of the sheet-like sealing material with the release sheet and the base material sheet so as to face each other, the layer configuration of the base material sheet / sheet-like sealing material / release sheet is obtained. The sealing sheet of the present invention can be obtained.

本発明の封止シートは、水分遮断性に優れ、かつ、デンドライトの析出によるマイグレーションが発生しにくい。したがって、後述するように、本発明のシート状封止材は、電子デバイスを封止する際に好適に用いられる。   The encapsulating sheet of the present invention is excellent in moisture barrier properties and hardly causes migration due to precipitation of dendrites. Therefore, as will be described later, the sheet-like sealing material of the present invention is suitably used when sealing an electronic device.

3)電子デバイス
本発明の電子デバイスは、本発明のシート状封止材、又は、本発明の封止シートを備えるものである。
3) Electronic device The electronic device of this invention is equipped with the sheet-like sealing material of this invention, or the sealing sheet of this invention.

本発明の電子デバイスとしては、例えば、基板と、該基板上に形成された素子と、該素子を封止するための封止材とを備える電子デバイスであって、前記封止材が、本発明のシート状封止材であるもの、又は、基板と、該基板上に形成された素子と、該素子を封止するための封止シートとを備える電子デバイスであって、前記封止シートが、本発明の封止シートであるものが挙げられる。
本発明の電子デバイスにおいては、本発明の封止材を備えるものであるため、封止材が、電子デバイスの電極や配線等の導電部材と接触する場合であっても、これらの導電部材にデンドライトが析出し難いため、マイグレーションが発生しにくい。
As an electronic device of the present invention, for example, an electronic device comprising a substrate, an element formed on the substrate, and a sealing material for sealing the element, the sealing material is What is the sheet-like sealing material of the invention, or an electronic device comprising a substrate, an element formed on the substrate, and a sealing sheet for sealing the element, the sealing sheet However, what is the sealing sheet of this invention is mentioned.
Since the electronic device of the present invention includes the sealing material of the present invention, even if the sealing material is in contact with a conductive member such as an electrode or wiring of the electronic device, the conductive member Since dendrite does not easily precipitate, migration is unlikely to occur.

基板は、特に限定されるものではなく、種々の基板材料を用いることができる。特に、電子デバイスがボトムエミッション型の有機EL素子の場合は、可視光の透過率が高い基板材料を用いることが好ましい。また、素子外部から浸入しようとする水分やガスを阻止する遮断性能が高く、耐溶剤性や耐候性に優れている材料が好ましい。具体的には、石英やガラスなどの透明無機材料;ポリエチレンテレフタラート、ポリエチレンナフタラート、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリフェニレンスルフィド、ポリフッ化ビニリデン、アセチルセルロース、ブロム化フェノキシ、アラミド類、ポリイミド類、ポリスチレン類、ポリアリレート類、ポリスルホン類、ポリオレフィン類などの透明プラスチック;が挙げられる。
基板の厚さは特に制限されず、光の透過率や、素子内外を遮断する性能を勘案して、適宜選択することができる。
The substrate is not particularly limited, and various substrate materials can be used. In particular, when the electronic device is a bottom emission type organic EL element, it is preferable to use a substrate material having a high visible light transmittance. In addition, a material having a high blocking performance for blocking moisture and gas to enter from the outside of the element and having excellent solvent resistance and weather resistance is preferable. Specifically, transparent inorganic materials such as quartz and glass; polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, polystyrene, polyethylene, polypropylene, polyphenylene sulfide, polyvinylidene fluoride, acetyl cellulose, brominated phenoxy, aramids, polyimides, And transparent plastics such as polystyrenes, polyarylates, polysulfones, and polyolefins.
The thickness of the substrate is not particularly limited, and can be selected as appropriate in consideration of light transmittance and performance for blocking the inside and outside of the element.

また、基板上には、導電層が設けられていてもよい。導電層のシート抵抗は、500Ω/□以下であることが好ましく、100Ω/□以下であることがさらに好ましい。
導電層を形成する材料としては、公知の材料を用いることができる、具体的には、インジウム−スズ複合酸化物(ITO)、フッ素がドープされた酸化スズ(IV)SnO(FTO)、酸化スズ(IV)SnO、酸化亜鉛(II)ZnO、インジウム−亜鉛複合酸化物(IZO)等が挙げられる。
これらの材料は、一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。
Further, a conductive layer may be provided over the substrate. The sheet resistance of the conductive layer is preferably 500Ω / □ or less, and more preferably 100Ω / □ or less.
As a material for forming the conductive layer, known materials can be used. Specifically, indium-tin composite oxide (ITO), fluorine-doped tin oxide (IV) SnO 2 (FTO), oxidation tin (IV) SnO 2, zinc oxide (II) ZnO, indium - zinc oxide (IZO) and the like.
These materials can be used alone or in combination of two or more.

導電層上には、補助電極が設けられていてもよい。補助電極とは、開口部を有する金属薄膜からなり、導電層の導電性を向上させるものである。
従来のシート状封止材を補助電極等の金属部材に接触させた場合、金属部材にデンドライトが析出することがあった。
しかしながら、本発明のシート状封止材を補助電極等の金属部材に接触させた場合は、金属部材にデンドライトが析出し難いため、本発明の電子デバイスは、長期間にわたって安定に駆動し得るものである。
An auxiliary electrode may be provided over the conductive layer. The auxiliary electrode is made of a metal thin film having an opening and improves the conductivity of the conductive layer.
When a conventional sheet-like sealing material is brought into contact with a metal member such as an auxiliary electrode, dendrites may be deposited on the metal member.
However, when the sheet-like sealing material of the present invention is brought into contact with a metal member such as an auxiliary electrode, dendrites are difficult to deposit on the metal member, and therefore the electronic device of the present invention can be driven stably over a long period of time. It is.

素子としては、電気エネルギーを光に変換する素子(発光ダイオード、半導体レーザー等)や、逆に光を電気エネルギーに変換する素子(フォトダイオード、太陽電池等)である光電変換素子;有機EL層等の発光素子;等が挙げられる。
基板上に形成される素子の、種類や大きさ、形状、個数等は、特に制限されない。
As an element, an element that converts electric energy into light (light emitting diode, semiconductor laser, etc.), or a photoelectric conversion element that is an element that converts light into electric energy (photodiode, solar cell, etc.); organic EL layer, etc. And the like.
There are no particular restrictions on the type, size, shape, number, etc. of the elements formed on the substrate.

電子デバイスとしては、有機トランジスタ、有機メモリー、有機EL素子等の有機デバイス;液晶ディスプレイ;電子ペーパー;薄膜トランジスタ;エレクトロクロミックデバイス;電気化学発光デバイス;タッチパネル;太陽電池;熱電変換デバイス;圧電変換デバイス;蓄電デバイス;等が挙げられる。   Electronic devices include organic devices such as organic transistors, organic memories, and organic EL devices; liquid crystal displays; electronic paper; thin film transistors; electrochromic devices; electrochemiluminescence devices; touch panels; solar cells; Device; and the like.

電子デバイスの具体例としては、有機EL素子が挙げられる。例えば、透明基板上に、透明導電層、補助電極、有機EL層、電極、封止樹脂層をこの順で有するボトムエミッション型有機EL素子や、基板、電極層、有機EL層、透明電極、封止樹脂層をこの順で有するトップエミッション型有機EL素子が挙げられる。   Specific examples of the electronic device include an organic EL element. For example, a bottom emission type organic EL element having a transparent conductive layer, an auxiliary electrode, an organic EL layer, an electrode, and a sealing resin layer in this order on a transparent substrate, a substrate, an electrode layer, an organic EL layer, a transparent electrode, a seal The top emission type organic EL element which has a stop resin layer in this order is mentioned.

以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。但し、本発明は、以下の実施例になんら限定されるものではない。
各例中の部及び%は、特に断りのない限り、質量基準である。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples.
Unless otherwise indicated, the part and% in each example are based on mass.

(化合物及び材料)
各例で用いた化合物や材料を以下に示す。
封止樹脂(1):イソブチレンとイソプレンの共重合体(日本ブチル社製、Exxon Butyl 268、数平均分子量260,000、イソプレンの含有率1.7モル%)
粘着付与剤(1):(日本ゼオン社製、クイントンA100)
(Compounds and materials)
The compounds and materials used in each example are shown below.
Sealing resin (1): copolymer of isobutylene and isoprene (manufactured by Nippon Butyl Co., Exxon Butyl 268, number average molecular weight 260,000, isoprene content 1.7 mol%)
Tackifier (1): (Nippon Zeon, Quinton A100)

なお、封止樹脂(1)の数平均分子量は、下記条件でゲルパーミエーションクロマトグラフィーを行い、標準ポリスチレン換算値として求めた。
装置:東ソー社製、HLC−8020
カラム:東ソー社製、TSK guard column HXL−H、TSK gel GMHXL(×2)、TSK gel G2000HXL
カラム温度:40℃
展開溶媒:テトラヒドロフラン
流速:1.0mL/min
In addition, the number average molecular weight of sealing resin (1) performed the gel permeation chromatography on the following conditions, and calculated | required it as a standard polystyrene conversion value.
Apparatus: HLC-8020 manufactured by Tosoh Corporation
Column: manufactured by Tosoh Corporation, TSK guard column HXL-H, TSK gel GMHXL (× 2), TSK gel G2000HXL
Column temperature: 40 ° C
Developing solvent: Tetrahydrofuran Flow rate: 1.0 mL / min

剥離シート(1):シリコーン剥離処理したポリエチレンテレフタレートフィルム(リンテック社製、SP−PET381130、厚み38μm)
剥離シート(2):シリコーン剥離処理したポリエチレンテレフタレートフィルム(リンテック社製、SP−PET38T103−1、厚み38μm)
Release sheet (1): Polyethylene terephthalate film subjected to silicone release treatment (manufactured by Lintec Corporation, SP-PET381130, thickness: 38 μm)
Release sheet (2): Silicone release treated polyethylene terephthalate film (Lintec Corporation, SP-PET38T103-1, thickness 38 μm)

〔製造例1〕
攪拌機、温度計、還流冷却器、滴下装置及び窒素導入管を備えた反応容器に、アクリル酸メチル85部、アクリル酸2−ヒドロキシエチル15部、酢酸エチル200部、2,2'−アゾビスイソブチロニトリル0.16部を仕込み、窒素ガス雰囲気下、70℃で共重合反応を行い、重量平均分子量(Mw)37万、分子量分布(Mw/Mn)4.2のアクリル系共重合体(1)を含む溶液を得た。
[Production Example 1]
In a reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser, dropping device and nitrogen introduction tube, 85 parts of methyl acrylate, 15 parts of 2-hydroxyethyl acrylate, 200 parts of ethyl acetate, 2,2′-azobisiso 0.16 parts of butyronitrile was charged, and a copolymerization reaction was performed at 70 ° C. in a nitrogen gas atmosphere. An acrylic copolymer having a weight average molecular weight (Mw) of 370,000 and a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 4.2 ( A solution containing 1) was obtained.

アクリル酸メチルの仕込み量を95部、アクリル酸2−ヒドロキシエチルの仕込み量を5部に代えた点を除き、製造例1と同様の方法により、重量平均分子量(Mw)70万、分子量分布(Mw/Mn)2.6のアクリル系共重合体(2)を含む溶液を得た。   Weight average molecular weight (Mw) of 700,000, molecular weight distribution (Molecular weight distribution (Mw)) in the same manner as in Production Example 1, except that 95 parts of methyl acrylate was charged and 95 parts of 2-hydroxyethyl acrylate was replaced. A solution containing an acrylic copolymer (Mw / Mn) 2.6 was obtained.

〔参考例1〕
封止樹脂(1)をトルエンに溶解させ、固形分濃度20%の塗工液を得た。
得られた塗工液を、剥離シート(1)の剥離処理面上に、乾燥後の厚みが20μmになるように塗工し、得られた塗膜を120℃で2分間乾燥し、封止樹脂層を形成した。次いで、剥離シート(2)を、その剥離処理面で貼り合せて、剥離シート付シート状封止材(1)を得た。
[Reference Example 1]
The sealing resin (1) was dissolved in toluene to obtain a coating solution having a solid content concentration of 20%.
The obtained coating liquid was applied onto the release-treated surface of the release sheet (1) so that the thickness after drying was 20 μm, and the obtained coating film was dried at 120 ° C. for 2 minutes to be sealed. A resin layer was formed. Next, the release sheet (2) was bonded to the release-treated surface to obtain a sheet-like sealing material (1) with a release sheet.

〔参考例2〕
封止樹脂(1)100部、及び粘着付与剤(1)20部をトルエンに溶解させ、固形分濃度20%の塗工液を得た。
得られた塗工液を、剥離シート(1)の剥離処理面上に、乾燥後の厚みが20μmになるように塗工し、得られた塗膜を120℃で2分間乾燥し、封止樹脂層を形成した。次いで、剥離シート(2)を、その剥離処理面で貼り合せて、剥離シート付シート状封止材(2)を得た。
[Reference Example 2]
100 parts of the sealing resin (1) and 20 parts of the tackifier (1) were dissolved in toluene to obtain a coating liquid having a solid content concentration of 20%.
The obtained coating liquid was applied onto the release-treated surface of the release sheet (1) so that the thickness after drying was 20 μm, and the obtained coating film was dried at 120 ° C. for 2 minutes to be sealed. A resin layer was formed. Next, the release sheet (2) was bonded to the release-treated surface to obtain a sheet-shaped sealing material (2) with a release sheet.

〔比較例1〕
製造例1で得た溶液の濃度を調整し、固形分濃度20%の塗工液を得た。
封止樹脂(1)を含有する塗工液に代えてこの塗工液を用いたことを除き、参考例1と同様の方法により、剥離シート付シート状封止材(3)を得た。
[Comparative Example 1]
The concentration of the solution obtained in Production Example 1 was adjusted to obtain a coating solution having a solid concentration of 20%.
A sheet-like sealing material with a release sheet (3) was obtained in the same manner as in Reference Example 1, except that this coating liquid was used instead of the coating liquid containing the sealing resin (1).

〔比較例2〕
製造例2で得た溶液の濃度を調整し、固形分濃度20%の塗工液を得た。
封止樹脂(1)を含有する塗工液に代えてこの塗工液を用いたことを除き、参考例1と同様の方法により、剥離シート付シート状封止材(4)を得た。
[Comparative Example 2]
The concentration of the solution obtained in Production Example 2 was adjusted to obtain a coating solution having a solid concentration of 20%.
A sheet-like sealing material with a release sheet (4) was obtained in the same manner as in Reference Example 1 except that this coating liquid was used instead of the coating liquid containing the sealing resin (1).

参考例1、2及び比較例1、2で得た剥離シート付シート状封止材(1)〜(4)について、以下の測定を行った。
(水蒸気透過率測定)
剥離シートを剥離したシート状封止材を2枚のポリエチレンテレフタレートフィルム(三菱樹脂社製、厚さ6μm)で挟むことで、水蒸気透過率測定用のサンプルを得た。次いで、水蒸気透過率測定装置(LYSSY社製、L80−5000)を用いて、温度40℃、相対湿度90%における、封止材の水蒸気透過率を測定した。
測定結果に対して、下記の計算を行い、厚みが50μmのときの水蒸気透過率を算出した。得られた、厚みが50μmのときの水蒸気透過率を第1表に示す。
The following measurements were performed on the sheet-like sealing materials with release sheets (1) to (4) obtained in Reference Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2.
(Water vapor transmission rate measurement)
By sandwiching the sheet-like sealing material from which the release sheet was peeled off between two polyethylene terephthalate films (Mitsubishi Resin Co., Ltd., thickness: 6 μm), a sample for measuring water vapor transmission rate was obtained. Subsequently, the water vapor transmission rate of the sealing material at a temperature of 40 ° C. and a relative humidity of 90% was measured using a water vapor transmission rate measuring device (manufactured by LYSSY, L80-5000).
The following calculation was performed on the measurement result, and the water vapor transmission rate when the thickness was 50 μm was calculated. The obtained water vapor transmission rate when the thickness is 50 μm is shown in Table 1.

Figure 2018168378
Figure 2018168378

(封止材成分抽出液の電気伝導度)
剥離シートを剥離したシート状封止材1gを水(電気伝導度:2μS/cm、pH:5.1)20mlに浸漬させ、密閉容器内で121℃、24時間、2atmの条件で撹拌して、シート状封止材成分を抽出した。次いで、固形分を濾別し、封止材成分抽出液を得た。
伝導率計(堀場製作所社製、製品名:B−173)を用いて、封止材成分抽出液の電気伝導度を測定した。測定結果を第1表に示す。
(Electrical conductivity of the sealing material component extract)
1 g of the sheet-like sealing material from which the release sheet has been peeled is immersed in 20 ml of water (electric conductivity: 2 μS / cm, pH: 5.1), and stirred in a sealed container at 121 ° C. for 24 hours under the conditions of 2 atm. Then, the sheet-like sealing material component was extracted. Subsequently, solid content was separated by filtration and the sealing material component extract was obtained.
The electrical conductivity of the sealing material component extract was measured using a conductivity meter (manufactured by Horiba, Ltd., product name: B-173). The measurement results are shown in Table 1.

(封止材成分抽出液のpH)
上記方法により得られた封止材成分抽出液のpHを、pHメーター(堀場製作所社製、製品名:B−212)を用いて測定した。測定結果を第1表に示す。
(PH of sealing material component extract)
The pH of the sealing material component extract obtained by the above method was measured using a pH meter (manufactured by Horiba, Ltd., product name: B-212). The measurement results are shown in Table 1.

(マイグレーション試験)
銅張積層板の銅箔にエッチング処理を施して、図1に示す配線基板(電極のライン幅/スペース幅:50μm/50μm)を得た。
配線基板の銅配線を覆うように、剥離シート付シート状封止材のシート状封止材を重ね、23℃で圧着した。
次いで、剥離シートを剥離して、測定用試料を得た。
この測定用試料を、130℃、相対湿度85%、1.3気圧の条件下に静置し、電極間に5Vの電圧を168時間印加した。
マイグレーション試験後、櫛形電極を顕微鏡で観察し、以下の基準でマイグレーションの有無を評価した。
○:電極の溶解が観られない。
×:電極の溶解又はデンドライトの形成が観られる。
(Migration test)
Etching was applied to the copper foil of the copper clad laminate to obtain a wiring board (electrode line width / space width: 50 μm / 50 μm) shown in FIG.
The sheet-shaped sealing material of the sheet-shaped sealing material with a release sheet was stacked and pressure-bonded at 23 ° C. so as to cover the copper wiring of the wiring board.
Subsequently, the release sheet was peeled off to obtain a measurement sample.
This measurement sample was allowed to stand under the conditions of 130 ° C., relative humidity 85% and 1.3 atm, and a voltage of 5 V was applied between the electrodes for 168 hours.
After the migration test, the comb electrode was observed with a microscope, and the presence or absence of migration was evaluated according to the following criteria.
○: Electrode dissolution is not observed.
×: Electrode dissolution or dendrite formation is observed.

また、試験後の電極の抵抗値を測定し、短絡(ショート)の有無を確認した。測定結果を第1表に示す。
なお、第1表中、試験後の抵抗値が、1MΩ以下にならない場合を、短絡しなかったとみなし、「A」とした。試験後の抵抗値が、1MΩ以下となる場合を、短絡したとみなし、「B」とした。
Moreover, the resistance value of the electrode after a test was measured and the presence or absence of the short circuit (short) was confirmed. The measurement results are shown in Table 1.
In Table 1, the case where the resistance value after the test did not become 1 MΩ or less was regarded as not short-circuited, and was designated as “A”. A case where the resistance value after the test was 1 MΩ or less was regarded as a short circuit, and was designated as “B”.

Figure 2018168378
Figure 2018168378

第1表から以下のことが分かる。
参考例1、2のシート状封止材は、水分遮断性に優れ、かつ、電極の溶解やデンドライトの析出がなく、電流の短絡も観測されなかった。
一方、比較例1、2のシート状封止材は、電極腐食試験において、電極の溶解やデンドライトの形成が観られ、また、電流の短絡が観測された。
The following can be seen from Table 1.
The sheet-like encapsulants of Reference Examples 1 and 2 were excellent in moisture barrier properties, did not dissolve electrodes or precipitate dendrites, and no current short circuit was observed.
On the other hand, in the sheet-like encapsulants of Comparative Examples 1 and 2, electrode dissolution and dendrite formation were observed in the electrode corrosion test, and a short circuit of current was observed.

1:基板
2:アノード
3:カソード
10:配線基板
1: Substrate 2: Anode 3: Cathode 10: Wiring substrate

Claims (7)

1又は2以上の封止樹脂層からなるシート状封止材であって、
前記封止樹脂層が、封止樹脂として、ポリオレフィン系ポリマーを含有するものであり、かつ、脂肪族系石油樹脂、テルペン樹脂、ロジンエステル系樹脂、及びロジン系樹脂からなる群から選ばれる粘着付与剤を含有する、又は、含有しないものであり、
前記封止樹脂層中の前記粘着付与剤の含有量が、封止樹脂100質量部に対して、0〜20質量部であり、
前記シート状封止材の、温度40℃、相対湿度90%における、50μm厚に換算したときの水蒸気透過率が、0.1g/(m・day)以上、500g/(m・day)以下であり、かつ、
前記シート状封止材1gを、25℃における電気伝導度が2μS/cmの水20mlに浸漬させ、封止材成分抽出液の25℃における電気伝導度が一定になるまでシート状封止材成分を抽出して得られた封止材成分抽出液の、25℃における電気伝導度が、2〜35μS/cmであることを特徴とする、シート状封止材。
A sheet-like sealing material comprising one or more sealing resin layers,
The sealing resin layer contains a polyolefin polymer as a sealing resin, and is tackified selected from the group consisting of aliphatic petroleum resins, terpene resins, rosin ester resins, and rosin resins. Containing or not containing agents,
Content of the said tackifier in the said sealing resin layer is 0-20 mass parts with respect to 100 mass parts of sealing resin,
The sheet-form sealing material has a water vapor transmission rate of 0.1 g / (m 2 · day) or more and 500 g / (m 2 · day) when converted to a thickness of 50 μm at a temperature of 40 ° C. and a relative humidity of 90%. And
1 g of the sheet-like sealing material is immersed in 20 ml of water having an electric conductivity of 2 μS / cm at 25 ° C., and the sheet-like sealing material component is kept until the electric conductivity at 25 ° C. of the sealing material component extract is constant. The sheet-form sealing material characterized by the electrical conductivity in 25 degreeC of the sealing-material component extract obtained by extracting a 2 being 35-S / cm.
前記封止材成分抽出液の調製に用いた水の、25℃におけるpHが5.1であり、前記封止材成分抽出液のpHが、3.8〜6.5である、請求項1に記載のシート状封止材。   The water used for the preparation of the sealing material component extract has a pH of 5.1 at 25 ° C, and the pH of the sealing material component extract is 3.8 to 6.5. The sheet-like sealing material described in 1. 前記封止樹脂層中の前記ポリオレフィン系ポリマーの含有量が、封止樹脂層全体に対して、70〜100質量%である、請求項1または2に記載のシート状封止材。   The sheet-like sealing material according to claim 1 or 2, wherein the content of the polyolefin-based polymer in the sealing resin layer is 70 to 100% by mass with respect to the entire sealing resin layer. 電子デバイスの封止に用いられる、請求項1〜3のいずれかに記載のシート状封止材。   The sheet-shaped sealing material in any one of Claims 1-3 used for sealing of an electronic device. シート状封止材と基材シートとを有する封止シートであって、
前記シート状封止材が、請求項1〜4のいずれかに記載のシート状封止材であることを特徴とする封止シート。
A sealing sheet having a sheet-like sealing material and a base sheet,
The said sheet-like sealing material is the sheet-like sealing material in any one of Claims 1-4, The sealing sheet characterized by the above-mentioned.
電子デバイスの封止に用いられる、請求項5に記載の封止シート。   The sealing sheet according to claim 5, which is used for sealing an electronic device. 請求項1〜4のいずれかに記載のシート状封止材、または請求項5若しくは6に記載の封止シートを備える電子デバイス。   An electronic device provided with the sheet-like sealing material in any one of Claims 1-4, or the sealing sheet of Claim 5 or 6.
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