JP2018163737A - Display device - Google Patents
Display device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018163737A JP2018163737A JP2017058910A JP2017058910A JP2018163737A JP 2018163737 A JP2018163737 A JP 2018163737A JP 2017058910 A JP2017058910 A JP 2017058910A JP 2017058910 A JP2017058910 A JP 2017058910A JP 2018163737 A JP2018163737 A JP 2018163737A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- protrusion
- layer
- display device
- sealing layer
- protrusions
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 105
- 239000012788 optical film Substances 0.000 claims abstract description 49
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 40
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 40
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 32
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 25
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 12
- 230000001629 suppression Effects 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 249
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 36
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 230000008569 process Effects 0.000 description 12
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 7
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Images
Abstract
Description
本発明の実施形態は、表示装置に関する。 Embodiments described herein relate generally to a display device.
例えば有機エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置などの表示装置においては、画素が形成された基板の表示面側に、例えば偏光子などの各種光学機能を有した光学フィルムが貼付される。 For example, in a display device such as an organic electroluminescence (EL) display device, an optical film having various optical functions such as a polarizer is attached to the display surface side of a substrate on which pixels are formed.
光学フィルムを貼付するに際して、当該フィルムと貼付面との間に気泡が混入する場合がある。このような気泡は、光学フィルムの剥離の原因となり得るし、表示品位の低下も招き得る。特に、表示装置の縁部近傍においては、表示装置に含まれる各種樹脂膜の端部による段差が存在するため、光学フィルムを貼り付ける際に気泡が生じやすい。 When sticking an optical film, air bubbles may be mixed between the film and the sticking surface. Such bubbles can cause peeling of the optical film and can also cause deterioration in display quality. In particular, in the vicinity of the edge of the display device, there are steps due to the ends of various resin films included in the display device, so that bubbles are easily generated when the optical film is attached.
光学フィルムが貼付された表示装置に加圧脱泡(オートクレーブ)などのプロセスを施すと、小さいサイズの気泡は除去できる。しかしながら、ある程度大きいサイズの気泡は当該プロセスを経ても残る可能性がある。 When a process such as pressure defoaming (autoclave) is applied to the display device to which the optical film is attached, bubbles having a small size can be removed. However, bubbles of a somewhat large size may remain after the process.
本開示の一態様における目的は、光学フィルムと貼付面との間における気泡の発生を抑制可能な表示装置を提供することである。 The objective in 1 aspect of this indication is providing the display apparatus which can suppress generation | occurrence | production of the bubble between an optical film and a sticking surface.
一実施形態に係る表示装置は、表示領域と前記表示領域の周囲の周辺領域とを有する基材と、前記基材の上方にある有機樹脂層と、前記表示領域において前記有機樹脂層の上方にある発光層と、前記発光層を覆う封止層と、前記表示領域及び前記周辺領域に亘って前記封止層の上方に貼り付けられた光学フィルムと、を備える。前記有機樹脂層は、前記周辺領域において延在する第1突出部と、平面視において前記第1突出部と前記表示領域の間に位置する第2突出部とを有する。前記第2突出部は、断面視において前記基材と前記封止層の間に位置する。前記光学フィルムは、平面視において前記第1突出部及び前記第2突出部と重畳している。 A display device according to an embodiment includes a base material having a display region and a peripheral region around the display region, an organic resin layer above the base material, and above the organic resin layer in the display region. A certain light emitting layer, a sealing layer covering the light emitting layer, and an optical film pasted on the sealing layer over the display region and the peripheral region. The organic resin layer includes a first protrusion that extends in the peripheral area, and a second protrusion that is positioned between the first protrusion and the display area in plan view. The second protrusion is located between the base material and the sealing layer in a cross-sectional view. The optical film overlaps with the first protrusion and the second protrusion in plan view.
他の実施形態に係る表示装置は、表示領域と前記表示領域の周囲の周辺領域とを有する基材と、前記表示領域及び前記周辺領域に亘って前記基材を覆う絶縁層と、前記絶縁層の上方にある有機樹脂層と、前記表示領域において前記有機樹脂層の上方に形成された発光層と、前記発光層を覆う封止層と、前記表示領域及び前記周辺領域に亘って前記封止層の上方に貼り付けられた光学フィルムと、を備える。前記絶縁層は、前記周辺領域において延在する第1溝部を有する。前記封止層の一部が前記第1溝部の内部に入っている。前記光学フィルムは、平面視において前記第1溝部と重畳している。 A display device according to another embodiment includes a base material having a display region and a peripheral region around the display region, an insulating layer covering the base material over the display region and the peripheral region, and the insulating layer An organic resin layer above the organic resin layer, a light emitting layer formed above the organic resin layer in the display region, a sealing layer covering the light emitting layer, and the sealing over the display region and the peripheral region And an optical film attached above the layer. The insulating layer has a first groove extending in the peripheral region. A part of the sealing layer is inside the first groove. The optical film overlaps with the first groove portion in plan view.
いくつかの実施形態につき、図面を参照しながら説明する。
なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有される。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。各図において、連続して配置される同一又は類似の要素については符号を省略することがある。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を省略することがある。
Several embodiments will be described with reference to the drawings.
It should be noted that the disclosure is merely an example, and those skilled in the art can easily conceive of appropriate changes while maintaining the gist of the invention are naturally included in the scope of the present invention. In addition, the drawings may be schematically represented in comparison with actual modes in order to clarify the description, but are merely examples, and do not limit the interpretation of the present invention. In each drawing, the reference numerals may be omitted for the same or similar elements arranged in succession. In addition, in the present specification and each drawing, components that perform the same or similar functions as those described above with reference to the previous drawings are denoted by the same reference numerals, and redundant detailed description may be omitted.
各実施形態においては、有機エレクトロルミネッセンス(EL)表示素子を有した表示装置を例示する。ただし、各実施形態は、他種の表示装置に対する、各実施形態にて開示される個々の技術的思想の適用を妨げるものではない。 In each embodiment, a display device having an organic electroluminescence (EL) display element is illustrated. However, each embodiment does not preclude the application of the individual technical ideas disclosed in each embodiment to other types of display devices.
[第1実施形態]
図1は、第1実施形態に係る表示装置1の概略的な構成を示す平面図である。表示装置1は、例えば、スマートフォン、タブレット端末、携帯電話端末、パーソナルコンピュータ、テレビ受像装置、車載装置、ゲーム機器、ウェアラブル端末等の種々の装置に用いることができる。
[First Embodiment]
FIG. 1 is a plan view showing a schematic configuration of a
表示装置1は、表示パネル2と、光学フィルム3と、フレキシブル回路基板4とを備えている。表示パネル2は、画像を表示する表示領域DAと、表示領域を囲う周辺領域SAとを備えている。表示領域DAは、第1方向X及び第2方向Yに配列された多数の画素PXを有している。第1方向X及び第2方向Yは、互いに直交する方向である。さらに、第1方向X及び第2方向Yと直交する方向を、第3方向Zと定義する。第3方向Zは、表示パネル2の厚さ方向に相当する。本開示では、第3方向Zと平行に表示装置1を見ることを平面視と呼ぶ。また、第3方向Zと平行な表示装置1の断面を見ることを断面視と呼ぶ。
The
画素PXは、異なる色に対応する複数の副画素SPを備えている。図1の例では、画素PXは、赤色に対応する副画素SPRと、緑色に対応する副画素SPGと、青色に対応する副画素SPBとを備えている。副画素SPR,SPG,SPBは、例えば第1方向Xに並んでいる。画素PXの態様はこの例に限られず、白色などの他の色の副画素を備えてもよい。 The pixel PX includes a plurality of subpixels SP corresponding to different colors. In the example of FIG. 1, the pixel PX includes a subpixel SPR corresponding to red, a subpixel SPG corresponding to green, and a subpixel SPB corresponding to blue. The subpixels SPR, SPG, SPB are arranged in the first direction X, for example. The form of the pixel PX is not limited to this example, and may include sub-pixels of other colors such as white.
表示パネル2は、第1辺S1と、第2辺S2と、第3辺S3と、第4辺S4とを有した矩形状である。第1辺S1及び第2辺S2は、第1方向Xに並び、第2方向Yと平行である。第3辺S3及び第4辺S4は、第2方向Yに並び、第1方向Xと平行である。なお、表示パネル2は、正円形、楕円形、或いは四角形以外の多角形状など、矩形以外の形状であってもよい。図1の例では、表示領域DAも矩形状であるが、表示パネル2と同じく他の形状であってもよい。
The
表示パネル2は、端子部Tが設けられた端子領域TAを有している。図1の例においては、端子領域TAが周辺領域SAと第4辺S4との間に設けられている。フレキシブル回路基板4は、例えば異方性導電材などを介して端子部Tに接続されている。
The
光学フィルム3は、表示パネル2の表示面側に貼付されている。平面視において、光学フィルム3は、表示領域DAの全てと重畳し、周辺領域SAの少なくとも一部と重畳する。例えば、光学フィルム3の周縁部は、周辺領域SAの周縁部の近傍に位置している。この場合においては、光学フィルム3が周辺領域SAの大部分と重畳する。光学フィルム3は、周辺領域SAの全てと重畳してもよい。
The
表示パネル2は、周辺領域SAにおいて、第1突出部P1と第2突出部P2とを有している。光学フィルム3は、平面視において各突出部P1,P2と重畳している。各突出部P1,P2については、図4及び図5を用いて後に詳細に説明する。
The
図2は、副画素SPの回路構成の一例を示す図である。副画素SPは、有機EL素子OLEDと、第1スイッチング素子SW1と、第2スイッチング素子SW2とを備えている。有機EL素子OLEDのアノード電極は、第1スイッチング素子SW1を介して電源線PLに接続されている。有機EL素子OLEDのカソード電極は、接地されている。第1スイッチング素子SW1のゲート電極とソース電極(或いはドレイン電極)との間には、保持容量Cが形成されている。第1スイッチング素子SW1のゲート電極は、第2スイッチング素子SW2を介して映像線DLに接続されている。第2スイッチング素子SW2のゲート電極は、走査線GLに接続されている。例えば、各スイッチング素子SW1,SW2は、ポリシリコン薄膜トランジスタで構成することができる。 FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a circuit configuration of the sub-pixel SP. The sub-pixel SP includes an organic EL element OLED, a first switching element SW1, and a second switching element SW2. The anode electrode of the organic EL element OLED is connected to the power supply line PL via the first switching element SW1. The cathode electrode of the organic EL element OLED is grounded. A storage capacitor C is formed between the gate electrode and the source electrode (or drain electrode) of the first switching element SW1. The gate electrode of the first switching element SW1 is connected to the video line DL via the second switching element SW2. The gate electrode of the second switching element SW2 is connected to the scanning line GL. For example, each of the switching elements SW1 and SW2 can be composed of a polysilicon thin film transistor.
図3は、図1におけるIII−III線に沿う表示装置1の概略的な断面図である。ここでは、副画素SPR,SPG,SPBの断面を示している。これら副画素SPR,SPG,SPBの構成は同様のため、主に副画素SPGの構成要素に符号を付し、副画素SPR,SPBの構成要素は符号を省略している。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the
表示装置1は、基材5と、絶縁層6と、有機樹脂層7と、リブ8と、封止層SLと、第1〜第3パッシベーション層PV1〜PV3と、上述の光学フィルム3とを備えている。さらに、表示装置1は、各副画素SPに配置される要素として、上述の第1スイッチング素子SW1と、上述の有機EL素子OLEDと、反射層RFとを備えている。なお、上述の第2スイッチング素子SW2の図示は省略している。隣り合う副画素SPの有機EL素子OLEDは、リブ8により区画されている。
The
基材5は、例えばポリイミドなどの樹脂材料で形成され、可撓性を有している。但し、基材5は、ガラスなどの他の材料で形成されてもよい。絶縁層6は、第1絶縁層61(アンダーコート層)と、第2絶縁層62(ゲート絶縁膜)と、第3絶縁層63(層間絶縁膜)とを含む。第1絶縁層61は、基材5の主面を覆っている。第1絶縁層61の上に第1スイッチング素子SW1の半導体層SCが形成されている。第2絶縁層62は、第1絶縁層61及び半導体層SCを覆っている。第1スイッチング素子SW1のゲート電極GEは、第2絶縁層62の上に形成されている。第3絶縁層63は、第2絶縁層62及びゲート電極GEを覆っている。第1スイッチング素子SW1のソース電極SE及びドレイン電極DEは、第3絶縁層63の上に形成され、各絶縁層62,63に形成されたコンタクトホールを通じて半導体層SCに接触している。
The
有機樹脂層7は、第3絶縁層63、ソース電極SE、及びドレイン電極DEを覆っている。有機樹脂層7は、第1スイッチング素子SW1や第2スイッチング素子SW2により生じる凹凸を平坦化する。第1パッシベーション層PV1は、有機樹脂層7の上に形成されている。反射層RFは、第1パッシベーション層PV1の上に形成されている。例えば、反射層RFは、アルミニウムや銀などの光反射率が高い材料で形成することができる。
The
有機EL素子OLEDのアノード電極AEは、反射層RFの上に形成されている。アノード電極AEは、第1パッシベーション層PV1や有機樹脂層7を貫通するコンタクトホールを通じてドレイン電極DEに接触している。リブ8は、第1パッシベーション層PV1及びアノード電極AEの上に形成されている。有機発光層ORGは、隣り合うリブ8の間において、アノード電極AEの上に形成されている。カソード電極CEは、リブ8及び有機発光層ORGを覆っている。カソード電極CEは、複数の副画素SPに亘って連続的に形成されている。第2パッシベーション層PV2は、カソード電極CEを覆っている。
The anode electrode AE of the organic EL element OLED is formed on the reflective layer RF. The anode electrode AE is in contact with the drain electrode DE through a contact hole that penetrates the first passivation layer PV1 and the
封止層SLは、第2パッシベーション層PV2の上に形成されている。封止層SLは、第2パッシベーション層PV2及びカソード電極CEとともに有機発光層ORGを覆っている。第3パッシベーション層PV3は、封止層SLの上に形成されている。 The sealing layer SL is formed on the second passivation layer PV2. The sealing layer SL covers the organic light emitting layer ORG together with the second passivation layer PV2 and the cathode electrode CE. The third passivation layer PV3 is formed on the sealing layer SL.
封止層SLは、例えば絶縁性の有機樹脂材料で形成することができる。各パッシベーション層PV1〜PV3は、例えばSiNなどの絶縁性の無機樹脂材料で形成することができる。アノード電極AE及びカソード電極CEは、例えばITO(インジウム・ティン・オキサイド)などの透明導電材料で形成することができる。 The sealing layer SL can be formed of, for example, an insulating organic resin material. Each of the passivation layers PV1 to PV3 can be formed of an insulating inorganic resin material such as SiN. The anode electrode AE and the cathode electrode CE can be formed of a transparent conductive material such as ITO (indium tin oxide).
第1スイッチング素子SW1を介してアノード電極AEに映像信号が供給されると、アノード電極AEとカソード電極CEとの間に所定の電位差が生じる。この電位差により、有機発光層ORGが発光する。例えば、副画素SPRの有機発光層ORGが放つ色は赤色であり、副画素SPGの有機発光層ORGが放つ色は緑色であり、副画素SPBの有機発光層ORGが放つ色は青色である。各副画素SPR,SPG,SPBの有機発光層ORGが放つ光をいずれも同一色(例えば白色)とし、封止層SLの上方にカラーフィルタを配置してもよい。 When a video signal is supplied to the anode electrode AE via the first switching element SW1, a predetermined potential difference is generated between the anode electrode AE and the cathode electrode CE. Due to this potential difference, the organic light emitting layer ORG emits light. For example, the color emitted from the organic light emitting layer ORG of the subpixel SPR is red, the color emitted from the organic light emitting layer ORG of the subpixel SPG is green, and the color emitted from the organic light emitting layer ORG of the subpixel SPB is blue. The light emitted from the organic light emitting layer ORG of each subpixel SPR, SPG, SPB may be the same color (for example, white), and a color filter may be disposed above the sealing layer SL.
光学フィルム3は、光学機能層31を有するフィルムや光透過性を有するフィルムであれば、特に限定されない。また、光学フィルム3は、透明な接着層32を含む。例えば、光学フィルム3の厚さは、封止層SLの厚さの2倍以上である。一例として、光学フィルム3の厚さは100μmであり、封止層SLの厚さは10μmである。光学機能層31は、例えば光の特定の偏光成分を通過させ他の偏光成分を吸収する偏光層、光に位相差を与える位相差層、光を拡散させる拡散層など、特定の光学機能を有した1つ又は複数の層を含む。上述の光透過性を有するフィルムとは、例えば、製造過程で表示領域DAにある封止層SLを保護する保護フィルムである。すなわち、このフィルムは、封止層SLが形成された後、偏光板が貼り付けられる前において、封止層SL或いは第3パッシベーション層PV3の傷つきや、この傷から封止層SLに水分が浸入すること等を防止する。接着層32は、光学フィルム3を表示パネル2に接着(或いは粘着)する。図3の例では、接着層32により光学フィルム3が第3パッシベーション層PV3に接着されている。但し、第3パッシベーション層PV3を設けずに光学フィルム3を封止層SLに接着してもよいし、封止層SLの上に第3パッシベーション層PV3以外の層を形成し、この層に光学フィルム3を接着してもよい。
The
図4は、図1におけるIV−IV線に沿う表示装置1の概略的な断面図である。図3の断面図と同じく、基材5の上に絶縁層6が形成され、絶縁層6の上に有機樹脂層7が形成されている。なお、図4においては、絶縁層6に含まれる第1絶縁層61、第2絶縁層62、第3絶縁層63の境界の図示を省略している。また、表示領域DAにおいて、反射層RF、アノード電極AE、カソード電極CE、リブ8などの図示を省略している。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of the
有機樹脂層7は、周辺領域SAにおいて、第1突出部P1と、第2突出部P2とを有している。図1に示したように、第1突出部P1は、表示領域DAと表示装置1の各辺S1〜S4との間に延在している。第2突出部P2は、第1突出部P1と表示領域DAとの間に延在している。例えば、各突出部P1,P2は、いずれも表示領域DAを囲う矩形状である。但し、各突出部P1,P2の一部が途切れていてもよいし、表示装置1の角部において各突出部P1,P2が円弧状に曲がっていてもよい。
The
表示領域DAと第1辺S1との間において、各突出部P1,P2は、第2方向Yと平行に延びている。表示領域DAと第2辺S2との間においても、各突出部P1,P2は、第2方向Yと平行に延びている。表示領域DAと第3辺S3との間において、各突出部P1,P2は、第1方向Xと平行に延びている。表示領域DAと第4辺S4との間においても、各突出部P1,P2は、第1方向Xと平行に延びている。このように、各突出部P1,P2は、表示領域DAと各辺S1〜S4との間において、互いに平行に延びている。但し、各突出部P1,P2が平行でない箇所が存在してもよい。 Each protrusion P1, P2 extends in parallel with the second direction Y between the display area DA and the first side S1. Also between the display area DA and the second side S2, the protrusions P1 and P2 extend in parallel with the second direction Y. Each protrusion P1, P2 extends in parallel with the first direction X between the display area DA and the third side S3. Also between the display area DA and the fourth side S4, the protrusions P1 and P2 extend in parallel with the first direction X. Thus, each protrusion part P1, P2 is mutually extended in parallel between display area DA and each edge | side S1-S4. However, there may be locations where the protrusions P1 and P2 are not parallel.
各突出部P1,P2は、各パッシベーション層PV1,PV2で覆われている。各突出部P1,P2は、各パッシベーション層PV1,PV2のいずれか一方のみに覆われていてもよい。第2パッシベーション層PV2の上に形成された封止層SLは、第2突出部P2を乗り越えて、各突出部P1,P2の間の空間の少なくとも一部を満たしている。すなわち、第2突出部P2は、基材5と封止層SLとの間に位置する。
Each protrusion P1, P2 is covered with each passivation layer PV1, PV2. Each protrusion part P1, P2 may be covered only with either one of each passivation layer PV1, PV2. The sealing layer SL formed on the second passivation layer PV2 gets over the second protrusion P2 and fills at least a part of the space between the protrusions P1 and P2. That is, the 2nd protrusion part P2 is located between the
図5は、図4に示す表示装置1の概略的な平面図である。図5においては、基材5、各突出部P1,P2を含む有機樹脂層7、封止層SL、及び光学フィルム3を示し、他の要素を省略している。図4及び図5に示す例では、封止層SLが第1突出部P1を乗り越えていない。すなわち、封止層SLの端部Eは、各突出部P1,P2の間に位置している。封止層SLの上面は、端部Eまで第3パッシベーション層PV3で覆われている。以上述べた構成は、表示領域DAと各辺S1,S3,S4との間においても同様である。
FIG. 5 is a schematic plan view of the
表示装置1の製造時、第2パッシベーション層PV2の上に形成された硬化前の封止層SLは、各辺S1〜S4に向かって広がる。この封止層SLの広がりは、先ず第2突出部P2によって抑制される。さらに、第2突出部P2を乗り越えた封止層SLは、第1突出部P1で堰き止められる。このように、各突出部P1,P2により、封止層SLの形状を制御することができる。
When the
なお、封止層SLは、第1突出部P1を乗り越えてもよい。この場合には、封止層SLの端部Eが第1突出部P1と各辺S1〜S4との間に位置する。また、封止層SLの端部Eは、第1突出部P1の頂部上に位置してもよい。さらに、封止層SLの端部Eは、第2突出部P2の頂部上に位置してもよい。このように、封止層SLの端部Eと各突出部P1,P2との位置関係は種々のケースが想定される。但し、封止層SLの平面形状を好適に制御する観点からは、図4及び図5に示すように封止層SLの端部Eが各突出部P1,P2の間に位置することが好ましい。 The sealing layer SL may get over the first protrusion P1. In this case, the end E of the sealing layer SL is located between the first protrusion P1 and each of the sides S1 to S4. Further, the end E of the sealing layer SL may be located on the top of the first protrusion P1. Furthermore, the end E of the sealing layer SL may be located on the top of the second protrusion P2. Thus, various cases are assumed for the positional relationship between the end portion E of the sealing layer SL and the projecting portions P1 and P2. However, from the viewpoint of suitably controlling the planar shape of the sealing layer SL, it is preferable that the end E of the sealing layer SL is located between the protrusions P1 and P2 as shown in FIGS. .
図4に示すように、周辺領域SAにおいて、封止層SLは端部Eに向かって厚さが減少している。これにより、封止層SLの上面は、所定の角度θ(例えば2°〜5°)で傾斜している。封止層SLの上方に貼り付けられた光学フィルム3も、同程度の角度で傾斜している。
As shown in FIG. 4, the thickness of the sealing layer SL decreases toward the end E in the peripheral region SA. Thereby, the upper surface of the sealing layer SL is inclined at a predetermined angle θ (for example, 2 ° to 5 °). The
以上の構成の表示装置1においては、光学フィルム3を表示パネル2に貼り付けた際に、光学フィルム3の下方に気泡が生じ得る。このような気泡は、各突出部P1,P2や封止層SLの端部Eによる凹凸が存在する領域で生じ易い。図4及び図5においては、符号Bを付して、第1突出部P1の近傍で生じる気泡の一例を示している。なお、「気泡」との用語は、隙間、空間、或いは空気層などの他の用語で適宜に置き換えることができる。また、気泡の平面形状は図5に示すような楕円形に限られず、正円形や蛇行した輪郭を有する形状など、どのような形状であってもよい。
In the
光学フィルム3の下方の気泡は、例えば加圧脱泡(オートクレーブ)などの脱泡プロセスを経ることで、概ね除去することができる。しかしながら、サイズの大きい気泡は、脱泡プロセスを経ても残る可能性がある。
The bubbles below the
一方で、本実施形態の構成であれば、封止層SLの端部Eの近傍にて生じ得る気泡のサイズを小さくすることができる。すなわち図4に示すように、第2突出部P2の上方では、封止層SL及び第3パッシベーション層PV3の傾斜が緩和するので、光学フィルム3と第3パッシベーション層PV3とが密着する。したがって、気泡Bのサイズは、少なくとも各突出部P1,P2の間隔より小さくなる。なお、仮に第2突出部P2を無くして第1突出部P1のみを設けた場合、第1突出部P1の近傍に生じる気泡のサイズを制御することは困難である。
On the other hand, if it is the structure of this embodiment, the size of the bubble which may arise in the vicinity of the edge part E of sealing layer SL can be made small. That is, as shown in FIG. 4, since the inclination of the sealing layer SL and the third passivation layer PV3 is relaxed above the second projecting portion P2, the
ここで、図5に示すように、第1突出部P1の幅をW1、第2突出部P2の幅をW2と定義する。幅W1は、例えば第1突出部P1のいずれの位置においても一定である。また、幅W2は、例えば第2突出部P2のいずれの位置においても一定である。但し、各幅W1,W2は一定でなくてもよい。また、幅W1と幅W2は、例えば同じであるが(W1=W2)、異なってもよい。一例として、幅W2を幅W1より大きくしてもよい(W2>W1)。 Here, as shown in FIG. 5, the width of the first protrusion P1 is defined as W1, and the width of the second protrusion P2 is defined as W2. The width W1 is constant at any position of the first protrusion P1, for example. Further, the width W2 is constant at any position of the second protrusion P2, for example. However, each width W1, W2 may not be constant. The width W1 and the width W2 are the same (W1 = W2), for example, but may be different. As an example, the width W2 may be larger than the width W1 (W2> W1).
また、図4に示すように、基材5から第1突出部P1の頂部までの第3方向Zにおける距離をD1(第1距離)、基材5から第2突出部P2の頂部までの第3方向Zにおける距離をD2(第2距離)と定義する。さらに、有機樹脂層7の各突出部P1,P2を除く部分において、基材5から有機樹脂層7の上面までの第3方向Zにおける距離をDと定義する。
Further, as shown in FIG. 4, the distance in the third direction Z from the
距離D1は、距離D2よりも小さいことが好ましい(D1<D2)。この場合、各突出部P1,P2の上方において光学フィルム3が緩やかに傾斜するので、表示パネル2と光学フィルム3との密着性が向上し、気泡の発生も抑制し易くなる。一例として、距離D2は、距離Dと同じである(D2=D)。第1突出部P1は、例えば有機樹脂層7の形成時にハーフトーンマスクを用いることで、第2突出部P2や有機樹脂層7の他の部分よりも低く形成することができる。
The distance D1 is preferably smaller than the distance D2 (D1 <D2). In this case, since the
さらに、図5に示すように、第1突出部P1と第2突出部P2との間の距離をdと定義する。ここで、距離dは、例えば各突出部P1,P2の幅方向(図5では第1方向X)における中心の間の距離に相当する。各突出部P1,P2が高さのピークを有する山状であれば、距離dは、これらピークの間の距離として定義することもできる。 Furthermore, as shown in FIG. 5, the distance between the 1st protrusion part P1 and the 2nd protrusion part P2 is defined as d. Here, the distance d corresponds to, for example, the distance between the centers in the width direction (the first direction X in FIG. 5) of the protrusions P1 and P2. If each protrusion P1, P2 has a mountain shape having a height peak, the distance d can also be defined as the distance between these peaks.
距離dは、50μm以下であることが好ましい(d≦50μm)。さらに、距離dは、30μm以下であるとより好ましい(d≦30μm)。距離dが50μm以下であれば、各突出部P1,P2の配列方向(図5では第1方向X)における気泡Bのサイズを50μm以下に制御できる。さらに、距離dが30μm以下であれば、各突出部P1,P2の配列方向における気泡Bのサイズを30μm以下に制御できる。50μm以下のサイズの気泡Bであれば、一般的な脱泡プロセスにより概ね消滅させることができる。気泡Bを完全に消滅させることができない場合でも、気泡Bのサイズを十分に小さくできる。さらに、30μm以下のサイズの気泡であれば、脱泡プロセスにより一層好適に消滅させることができる。 The distance d is preferably 50 μm or less (d ≦ 50 μm). Furthermore, the distance d is more preferably 30 μm or less (d ≦ 30 μm). If the distance d is 50 μm or less, the size of the bubbles B in the arrangement direction of the protrusions P1 and P2 (the first direction X in FIG. 5) can be controlled to 50 μm or less. Furthermore, if the distance d is 30 μm or less, the size of the bubble B in the arrangement direction of the protrusions P1 and P2 can be controlled to 30 μm or less. If the bubble B has a size of 50 μm or less, it can be almost eliminated by a general defoaming process. Even when the bubbles B cannot be completely eliminated, the size of the bubbles B can be made sufficiently small. Furthermore, if it is a bubble of 30 micrometers or less in size, it can be more suitably extinguished by a defoaming process.
本実施形態のように気泡の発生を抑制することができれば、光学フィルム3の剥離を防止できる。また、気泡が表示素子や周辺回路に悪影響を及ぼすことを防止できる。したがって、本実施形態によれば、信頼性の高い表示装置1を得ることが可能となる。
If generation | occurrence | production of a bubble can be suppressed like this embodiment, peeling of the
なお、本実施形態では、有機樹脂層7が2つの突出部P1,P2を含む例を示した。しかしながら、有機樹脂層7は、3つ以上の突出部を含んでもよい。
また、図4は上述の脱泡プロセスを行う前段階の断面図に相当する。当該プロセスを経た後の表示装置1においては、気泡Bが完全に消滅しているか、或いは極めて小さいサイズで残留する。
In the present embodiment, an example in which the
FIG. 4 corresponds to a cross-sectional view before the above-described defoaming process is performed. In the
[第2実施形態]
第2実施形態について説明する。ここでは主に第1実施形態との相違点に着目し、第1実施形態と同一の要素には同一の符号を付して説明を省略する。
図6は、第2実施形態に係る表示装置1を説明するための図であって、図5と同じく表示装置1の第2辺S2の近傍の概略的な平面図を示している。図6において、有機樹脂層7は、第1突出部P1と、複数の第2突出部P2と、複数の第3突出部P3とを有している。
[Second Embodiment]
A second embodiment will be described. Here, mainly focusing on the differences from the first embodiment, the same elements as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
FIG. 6 is a diagram for explaining the
第1突出部P1は、図1及び図4の例と同様に延在している。各第2突出部P2は、第1突出部P1に沿って間隔を開けて配列されている。図6の例では、各第2突出部P2が第1突出部P1と繋がっている。但し、各第2突出部P2の少なくとも一つが第1突出部P1と繋がっていなくてもよい。 The 1st protrusion part P1 is extended like the example of FIG.1 and FIG.4. Each 2nd protrusion part P2 is arranged at intervals along the 1st protrusion part P1. In the example of FIG. 6, each 2nd protrusion part P2 is connected with the 1st protrusion part P1. However, at least one of the second protrusions P2 may not be connected to the first protrusion P1.
各第3突出部P3は、第1突出部P1に沿って間隔を開けて配列されている。各第3突出部P3は、平面視において各第2突出部P2と表示領域DA(図6中の左方)の間に位置する。また、各第3突出部P3は、図4に示した第2突出部P2と同じく、断面視において基材5と封止層SLの間に位置している。
The third protrusions P3 are arranged at intervals along the first protrusion P1. Each third protrusion P3 is located between each second protrusion P2 and the display area DA (left side in FIG. 6) in plan view. Moreover, each 3rd protrusion part P3 is located between the
第1突出部P1の延在方向(図6では第2方向Y)において、各第2突出部P1の各々の中心と、各第3突出部P3の各々の中心とが互いにずれている。すなわち、各第2突出部P2と各第3突出部P3は、第1突出部P1の延在方向において互い違いに配列されている。 In the extending direction of the first protrusion P1 (second direction Y in FIG. 6), the center of each second protrusion P1 and the center of each third protrusion P3 are displaced from each other. That is, the second protrusions P2 and the third protrusions P3 are alternately arranged in the extending direction of the first protrusions P1.
ここで、第1突出部P1の幅をW1、第2突出部P2の幅をW2、第3突出部P3の幅をW3と定義する。例えば、幅W1,W2,W3は、それぞれ突出部P1,P2,P3のいずれの位置においても一定である。但し、各幅W1,W2,W3は一定でなくてもよい。また、各幅W1,W2,W3の大小関係は、適宜に定めることができる。一例として、幅W2を幅W1,W3より大きくしてもよい(W2>W1,W3)。また、幅W3を幅W1より大きくしてもよい(W3>W1)。 Here, the width of the first protrusion P1 is defined as W1, the width of the second protrusion P2 is defined as W2, and the width of the third protrusion P3 is defined as W3. For example, the widths W1, W2, and W3 are constant at any position of the protrusions P1, P2, and P3, respectively. However, the widths W1, W2, and W3 may not be constant. Moreover, the magnitude relationship of each width W1, W2, W3 can be determined suitably. As an example, the width W2 may be larger than the widths W1 and W3 (W2> W1, W3). Further, the width W3 may be larger than the width W1 (W3> W1).
また、隣り合う第2突出部P2の間の距離をd1、第1突出部P1と第3突出部P3との間の距離をd2、隣り合う第3突出部P3の間の距離をd3と定義する。距離d1は、例えば隣り合う第2突出部P2の配列方向(図6では第2方向Y)における中心の間の距離に相当する。各第2突出部P2が高さのピークを有する山状であれば、距離d1は、これらピークの間の距離として定義することもできる。距離d2は、例えば各突出部P1,P3の幅方向(図6では第1方向X)における中心の間の距離に相当する。各突出部P1,P3が高さのピークを有する山状であれば、距離d2は、これらピークの間の距離として定義することもできる。距離d3は、例えば隣り合う第3突出部P3の配列方向(図6では第2方向Y)における中心の間の距離に相当する。各第3突出部P3が高さのピークを有する山状であれば、距離d3は、これらピークの間の距離として定義することもできる。 Further, the distance between the adjacent second protrusions P2 is defined as d1, the distance between the first protrusion P1 and the third protrusion P3 is defined as d2, and the distance between the adjacent third protrusions P3 is defined as d3. To do. The distance d1 corresponds to, for example, the distance between the centers in the arrangement direction of the adjacent second protrusions P2 (second direction Y in FIG. 6). If each 2nd protrusion part P2 is a mountain shape which has a peak of height, the distance d1 can also be defined as the distance between these peaks. The distance d2 corresponds to, for example, the distance between the centers in the width direction (first direction X in FIG. 6) of the protrusions P1 and P3. If each protrusion P1, P3 is a mountain shape having a peak of height, the distance d2 can also be defined as the distance between these peaks. The distance d3 corresponds to, for example, the distance between the centers in the arrangement direction of the adjacent third protrusions P3 (second direction Y in FIG. 6). If each 3rd protrusion part P3 is a mountain shape which has a peak of height, the distance d3 can also be defined as a distance between these peaks.
各突出部P1,P2,P3の近傍に生じる気泡のサイズは、距離d1,d2,d3によって制御することが可能である。例えば、図6に示すように、隣り合う第2突出部P2の間には、気泡B1が生じ得る。また、隣り合う第3突出部P3の間には、気泡B2が生じ得る。気泡B1のサイズは、距離d1,d2によって制御できる。気泡B2のサイズは、距離d3によって制御できる。 The size of bubbles generated in the vicinity of the protrusions P1, P2, and P3 can be controlled by the distances d1, d2, and d3. For example, as shown in FIG. 6, a bubble B1 may be generated between the adjacent second protrusions P2. Further, a bubble B2 may be generated between the adjacent third protrusions P3. The size of the bubble B1 can be controlled by the distances d1 and d2. The size of the bubble B2 can be controlled by the distance d3.
例えば、距離d1,d2,d3は、50μm以下であることが好ましい(d1,d2,d3≦50μm)。さらに、距離d1,d2,d3は、30μm以下であるとより好ましい(d1,d2,d3≦30μm)。距離d1,d2,d3をこのように定めれば、気泡B1,B2を脱泡プロセスにより消滅させることが可能なサイズに制御できる。特に気泡B1に関しては、第1突出部P1の幅方向(図6では第1方向X)及び第2突出部P2の配列方向(図6では第2方向Y)の双方において、サイズを小さくすることが可能である。 For example, the distances d1, d2, and d3 are preferably 50 μm or less (d1, d2, d3 ≦ 50 μm). Furthermore, the distances d1, d2, and d3 are more preferably 30 μm or less (d1, d2, d3 ≦ 30 μm). If the distances d1, d2, and d3 are determined in this way, the bubbles B1 and B2 can be controlled to a size that can be eliminated by the defoaming process. In particular, regarding the bubble B1, the size should be reduced in both the width direction of the first protrusion P1 (first direction X in FIG. 6) and the arrangement direction of the second protrusion P2 (second direction Y in FIG. 6). Is possible.
図6には第2辺S2の近傍における構成を示したが、第1辺S1、第3辺S3、第4辺S4の近傍にも同様の構成を適用できる。
なお、図6の構成において、第3突出部P3を設けなくてもよい。この場合でも、各第2突出部P2の作用により、隣り合う第2突出部P2の間の気泡のサイズを小さくすることができる。
Although FIG. 6 shows the configuration in the vicinity of the second side S2, the same configuration can be applied to the vicinity of the first side S1, the third side S3, and the fourth side S4.
In the configuration of FIG. 6, the third protrusion P3 may not be provided. Even in this case, the size of the bubbles between the adjacent second protrusions P2 can be reduced by the action of each second protrusion P2.
[第3実施形態]
第3実施形態について説明する。ここでは主に第1実施形態との相違点に着目し、第1実施形態と同一の要素には同一の符号を付して説明を省略する。
図7は、第3実施形態を説明するための図であって、図4と同じく表示装置1の第2辺S2の近傍の概略的な断面図を示している。図7において、表示装置1は、封止層SLに代えて、第1封止層SL1と、第2封止層SL2とを備えている。
[Third Embodiment]
A third embodiment will be described. Here, mainly focusing on the differences from the first embodiment, the same elements as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
FIG. 7 is a diagram for explaining the third embodiment, and shows a schematic cross-sectional view of the vicinity of the second side S2 of the
第1封止層SL1は、封止層SLと同じく第2パッシベーション層PV2の上に形成されている。第2封止層SL2は、第3パッシベーション層PV3の上に形成されている。各封止層SL1,SL2は、例えば絶縁性の有機樹脂材料で形成することができる。光学フィルム3は、接着層32により第2封止層SL2に接着されている。
The first sealing layer SL1 is formed on the second passivation layer PV2 like the sealing layer SL. The second sealing layer SL2 is formed on the third passivation layer PV3. Each sealing layer SL1, SL2 can be formed of an insulating organic resin material, for example. The
第1封止層SL1は、有機発光層ORGを封止する。例えば、第2封止層SL2は、図1に示した端子部Tの表面から無機膜(例えば各パッシベーション層PV1〜PV3)を除去するプロセスにおいて、端子部T以外の表示パネル2の表面をマスクするための樹脂層である。
The first sealing layer SL1 seals the organic light emitting layer ORG. For example, the second sealing layer SL2 masks the surface of the
有機樹脂層7は、第1実施形態と同じく、第1突出部P1と、第2突出部P2とを有している。さらに、有機樹脂層7は、突出部P100を有している。突出部P100は、製造過程において硬化前の第1封止層SL1を堰き止め、第1封止層SL1の形状を制御する。各突出部P1,P2は、製造過程で硬化前の第2封止層SL2を堰き止め、第2封止層SL2の形状を制御する。さらに、各突出部P1,P2は、製造過程で第2封止層SL2と光学フィルム3との間に生じ得る気泡Bのサイズを小さく制御する。
The
図8は、本実施形態に係る表示装置1の概略的な平面図である。例えば図示したように、突出部P100は、各辺S1〜S4と表示領域DAとの間において、表示領域DAを囲う矩形状である。但し、突出部P100の一部が途切れていてもよいし、表示装置1の角部において突出部P100が円弧状に曲がっていてもよい。
FIG. 8 is a schematic plan view of the
第2封止層SL2は、上述のマスクとしての役割を担うため、端子領域TAも含め表示パネル2の表面を全体的に覆う必要がある。そこで、図8の例において、各突出部P1,P2は、各辺S1〜S3と表示領域DAとの間に設けられているが、第4辺S4と表示領域DAとの間には設けられていない。
Since the second sealing layer SL2 serves as the above-described mask, it is necessary to cover the entire surface of the
以上の本実施形態のように、表示装置1が第1封止層SL1と第2封止層SL2とを備える場合には、外側に端部が位置する一方を対象として各突出部P1,P2を設ければよい。なお、各突出部P1,P2の詳細な構成は第1実施形態と同じであるが、第2実施形態のように第3突出部P3をさらに有する構成を適用することもできる。
When the
[第4実施形態]
第4実施形態について説明する。ここでは主に第1実施形態との相違点に着目し、第1実施形態と同一の要素には同一の符号を付して説明を省略する。
図9は、第4実施形態を説明するための図であって、図4と同じく表示装置1の第2辺S2の近傍の概略的な断面図を示している。本実施形態において、表示装置1は、第1突出部P1や第2突出部P2に代えて、第1溝部GR1を備えている。
[Fourth Embodiment]
A fourth embodiment will be described. Here, mainly focusing on the differences from the first embodiment, the same elements as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
FIG. 9 is a diagram for explaining the fourth embodiment, and shows a schematic cross-sectional view in the vicinity of the second side S2 of the
第1溝部GR1は、絶縁層6に形成されている。第1溝部GR1は、絶縁層6を構成する第1絶縁層61、第2絶縁層62、及び第3絶縁層63の全てを貫通してもよいし、第3絶縁層63と第2絶縁層62を貫通してもよいし、第3絶縁層63のみを貫通してもよい。第1溝部GR1の平面形状は、例えば図1に示した第1突出部P1の平面形状と同様である。第1溝部GR1の幅は、例えばいずれの位置においても一定である。但し、第1溝部GR1の幅は、一定でなくてもよい。
The first groove part GR1 is formed in the insulating
第1溝部GR1は、第1パッシベーション層PV1で覆われている。さらに、第1溝部GR1の内部において、第1パッシベーション層PV1は、第2パッシベーション層PV2で覆われている。図9の例では、封止層SLが第1溝部GR1の内部を満たしている。封止層SLの端部Eは、例えば第1溝部GR1と重畳する。封止層SLは、第1溝部GR1の内部を一部のみ満たしてもよい。また、封止層SLの端部Eは、第1溝部GR1と第2辺S2との間に位置してもよい。 The first groove part GR1 is covered with a first passivation layer PV1. Further, the first passivation layer PV1 is covered with the second passivation layer PV2 inside the first groove portion GR1. In the example of FIG. 9, the sealing layer SL fills the inside of the first groove portion GR1. The end E of the sealing layer SL overlaps with the first groove part GR1, for example. The sealing layer SL may partially fill the inside of the first groove part GR1. Further, the end portion E of the sealing layer SL may be located between the first groove portion GR1 and the second side S2.
第3パッシベーション層PV3は、封止層SLを覆っている。封止層SLの端部Eと第2辺S2との間において、第3パッシベーション層PV3は、第1パッシベーション層PV1を覆っている。光学フィルム3の接着層32は、第3パッシベーション層PV3と隙間なく接している。例えば図1に示した第1突出部P1と光学フィルム3との関係と同様に、光学フィルム3は、平面視において第1溝部GR1と重畳している。
The third passivation layer PV3 covers the sealing layer SL. Between the end E of the sealing layer SL and the second side S2, the third passivation layer PV3 covers the first passivation layer PV1. The
表示装置1の製造時において第2パッシベーション層PV2の上に形成された硬化前の封止層SLは、表示装置1の各辺S1〜S4に向かって広がる。このように広がる封止層SLは、第1溝部GR1によって堰き止められる。したがって、第1溝部GR1を設けることで、封止層SLの形状を制御することができる。
The sealing layer SL before curing formed on the second passivation layer PV2 at the time of manufacturing the
上述の各突出部P1,P2に代えて第1溝部GR1を設ける場合には、図4と図9との比較からも明らかなように、封止層SLの上面に凹凸が生じにくい。これにより、光学フィルム3を貼付面(図9の例では第3パッシベーション層PV3の上面)に密着させることができるので、気泡の発生を防止することが可能となる。仮に第1溝部GR1近傍における封止層SLの凹凸に起因して小さな気泡が発生したとしても、上述の脱泡プロセスにより消滅させることができる。
なお、図9には第2辺S2の近傍における構成を示したが、第1辺S1、第3辺S3、第4辺S4の近傍にも同様の構成を適用できる。
When the first groove portion GR1 is provided in place of the above-described protrusions P1 and P2, as is apparent from the comparison between FIG. 4 and FIG. 9, the top surface of the sealing layer SL is unlikely to be uneven. Thereby, since the
Although FIG. 9 shows the configuration in the vicinity of the second side S2, the same configuration can be applied to the vicinity of the first side S1, the third side S3, and the fourth side S4.
[第5実施形態]
第5実施形態について説明する。ここでは主に第4実施形態との相違点に着目し、第4実施形態と同一の要素には同一の符号を付して説明を省略する。
図10は、第5実施形態を説明するための図であって、図9と同じく表示装置1の第2辺S2の近傍の概略的な断面図を示している。図10において、絶縁層6は、第1溝部GR1に加え、第2溝部GR2を有している。
[Fifth Embodiment]
A fifth embodiment will be described. Here, mainly focusing on the differences from the fourth embodiment, the same elements as those in the fourth embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
FIG. 10 is a diagram for explaining the fifth embodiment, and shows a schematic cross-sectional view in the vicinity of the second side S2 of the
第2溝部GR2は、周辺領域SAにおいて、第1溝部GR1に沿って延在している。第2溝部GR2は、平面視において第1溝部GR1と表示領域DAとの間に位置している。第2溝部GR2は、絶縁層6を構成する第1絶縁層61、第2絶縁層62、及び第3絶縁層63の全てを貫通してもよいし、第3絶縁層63と第2絶縁層62を貫通してもよいし、第3絶縁層63のみを貫通してもよい。第1溝部GR1の平面形状は、例えば図1に示した第1突出部P1と同様であり、第2溝部GR2の平面形状は、例えば図1に示した第2突出部P2と同様である。第1溝部GR1の深さと、第2溝部GR2の深さとが異なっていてもよい。一例として、第2溝部GR2の深さを第1溝部GR1の深さより大きくしてもよい。
The second groove part GR2 extends along the first groove part GR1 in the peripheral region SA. The second groove part GR2 is located between the first groove part GR1 and the display area DA in plan view. The second groove portion GR2 may penetrate all of the first insulating
各溝部GR1,GR2の幅は、例えばいずれの位置においても一定である。但し、各溝部GR1,GR2の幅は、一定でなくてもよい。また、第1溝部GR1の幅と、第2溝部GR2の幅が異なっていてもよい。一例として、第2溝部GR2の幅を第1溝部GR1の幅より大きくしてもよい。 The width of each groove part GR1, GR2 is constant at any position, for example. However, the width of each groove part GR1, GR2 may not be constant. Further, the width of the first groove part GR1 and the width of the second groove part GR2 may be different. As an example, the width of the second groove part GR2 may be larger than the width of the first groove part GR1.
本実施形態のように2つの溝部GR1,GR2を設けた場合には、封止層SLの形状をより精度よく制御できる。溝部の数は2つに限られず、3つ以上であってもよい。
なお、図10には第2辺S2の近傍における構成を示したが、第1辺S1、第3辺S3、第4辺S4の近傍にも同様の構成を適用できる。
When the two groove portions GR1 and GR2 are provided as in the present embodiment, the shape of the sealing layer SL can be controlled with higher accuracy. The number of grooves is not limited to two and may be three or more.
In addition, although the structure in the vicinity of 2nd edge | side S2 was shown in FIG. 10, the same structure is applicable also to the vicinity of 1st edge | side S1, 3rd edge | side S3, and 4th edge | side S4.
[第6実施形態]
第6実施形態について説明する。ここでは主に第5実施形態との相違点に着目し、第5実施形態と同一の要素には同一の符号を付して説明を省略する。
図11は、第6実施形態を説明するための図であって、図10と同じく表示装置1の第2辺S2の近傍の概略的な断面図を示している。図11において、表示装置1は、第3実施形態と同じく第1封止層SL1と、第2封止層SL2とを備えている。
[Sixth Embodiment]
A sixth embodiment will be described. Here, mainly focusing on the differences from the fifth embodiment, the same elements as those of the fifth embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
FIG. 11 is a diagram for explaining the sixth embodiment, and shows a schematic cross-sectional view in the vicinity of the second side S2 of the
絶縁層6は、第5実施形態と同じく、第1溝部GR1と、第2溝部GR2とを有している。さらに、絶縁層6は、溝部GR100を有している。溝部GR100は、製造過程において硬化前の第1封止層SL1を堰き止め、第1封止層SL1の形状を制御する。各溝部GR1,GR2は、製造過程で硬化前の第2封止層SL2を堰き止め、第2封止層SL2の形状を制御する。
The insulating
例えば、溝部GR100は、図8に示した突出部P100と同じく、表示領域DAを囲う平面形状とすることができる。各溝部GR1,GR2も同様に、表示領域DAを囲う平面形状とすることができる。他の例として、図8に示した各突出部P1,P2と同じく、各溝部GR1,GR2は、各辺S1〜S3と表示領域DAとの間に設けられ、第4辺S4と表示領域DAとの間に設けられていなくてもよい。 For example, the groove part GR100 can have a planar shape that surrounds the display area DA, like the protrusion part P100 shown in FIG. Similarly, each of the grooves GR1 and GR2 can have a planar shape surrounding the display area DA. As another example, like the protrusions P1 and P2 shown in FIG. 8, the grooves GR1 and GR2 are provided between the sides S1 to S3 and the display area DA, and the fourth side S4 and the display area DA. It does not need to be provided between.
本実施形態のように各溝部GR1,GR2で第2封止層SL2の形状を制御する場合、第2封止層SL2の上面に凹凸が生じにくくなる。したがって、光学フィルム3の下方における気泡の発生を防止することができる。
When the shape of the second sealing layer SL2 is controlled by the groove portions GR1 and GR2 as in the present embodiment, unevenness is less likely to occur on the upper surface of the second sealing layer SL2. Therefore, it is possible to prevent the generation of bubbles below the
なお、図11には第2辺S2の近傍における構成を示したが、第1辺S1、第3辺S3、第4辺S4の近傍にも同様の構成を適用できる。
第2封止層SL2の形状を制御するための溝部は、1つのみでもよいし、3つ以上でもよい。また、第1封止層SL1の形状を制御するための溝部は、2つ以上でもよい。
In addition, although the structure in the vicinity of 2nd edge | side S2 was shown in FIG. 11, the same structure is applicable also to the vicinity of 1st edge | side S1, 3rd edge | side S3, and 4th edge | side S4.
There may be only one groove for controlling the shape of the second sealing layer SL2, or three or more. Further, the number of grooves for controlling the shape of the first sealing layer SL1 may be two or more.
[第7実施形態]
第7実施形態について説明する。ここでは主に第1実施形態との相違点に着目し、第1実施形態と同一の要素には同一の符号を付して説明を省略する。
図12は、第7実施形態を説明するための図であって、図4と同じく表示装置1の第2辺S2の近傍の概略的な断面図を示している。
[Seventh Embodiment]
A seventh embodiment will be described. Here, mainly focusing on the differences from the first embodiment, the same elements as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
FIG. 12 is a diagram for explaining the seventh embodiment, and shows a schematic cross-sectional view in the vicinity of the second side S2 of the
図12において、表示装置1は、第1突出部P1の上方に配置された透明導電層TCを備えている。具体的には、透明導電層TCは、第2パッシベーション層PV2の上に形成されている。透明導電層TCは、直下の層よりも撥液性が高い材料、例えばITOで形成することができる。
In FIG. 12, the
このように撥液性の高い透明導電層TCを設けると、硬化前の封止層SLがこの透明導電層TCを越えて広がりにくくなる。したがって、封止層SLの形状をより精度良く制御できる。 When the transparent conductive layer TC having a high liquid repellency is provided in this way, the sealing layer SL before curing hardly spreads beyond the transparent conductive layer TC. Therefore, the shape of the sealing layer SL can be controlled with higher accuracy.
なお、図12には第2辺S2の近傍における構成を示したが、第1辺S1、第3辺S3、第4辺S4の近傍にも同様の構成を適用できる。
透明導電層TCを設ける位置は、図12の例に限られない。例えば、透明導電層TCは、各突出部P1,P2の間に設けられてもよいし、第2突出部P2の上方に設けられてもよいし、第1突出部P1と各辺S1〜S4との間に設けられてもよい。
また、図6に示した各突出部P1,P2,P3の近傍や、図7に示した各突出部P1,P2,P100の近傍において、本実施形態と同様に透明導電層TCを設けてもよい。
In addition, although the structure in the vicinity of 2nd edge | side S2 was shown in FIG. 12, the same structure is applicable also to the vicinity of 1st edge | side S1, 3rd edge | side S3, and 4th edge | side S4.
The position where the transparent conductive layer TC is provided is not limited to the example of FIG. For example, the transparent conductive layer TC may be provided between the protrusions P1 and P2, may be provided above the second protrusion P2, or the first protrusion P1 and the sides S1 to S4. Between the two.
Further, the transparent conductive layer TC may be provided in the vicinity of the protrusions P1, P2, P3 shown in FIG. 6 or in the vicinity of the protrusions P1, P2, P100 shown in FIG. Good.
[第8実施形態]
第8実施形態について説明する。ここでは主に第4実施形態との相違点に着目し、第4実施形態と同一の要素には同一の符号を付して説明を省略する。
図13は、第8実施形態を説明するための図であって、図4と同じく表示装置1の第2辺S2の近傍の概略的な断面図を示している。
[Eighth Embodiment]
An eighth embodiment will be described. Here, mainly focusing on the differences from the fourth embodiment, the same elements as those in the fourth embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
FIG. 13 is a diagram for explaining the eighth embodiment, and shows a schematic cross-sectional view in the vicinity of the second side S2 of the
図13において、表示装置1は、第1溝部GR1の内部に配置された透明導電層TCを備えている。具体的には、透明導電層TCは、第2パッシベーション層PV2の上に形成されている。透明導電層TCは、直下の層よりも撥液性が高い材料、例えばITOで形成することができる。
In FIG. 13, the
本実施形態の構成においても、第7実施形態と同じく、硬化前の封止層SLが透明導電層TCを越えて広がりにくくなる。したがって、封止層SLの形状をより精度良く制御できる。 Also in the configuration of the present embodiment, the sealing layer SL before curing does not easily extend beyond the transparent conductive layer TC as in the seventh embodiment. Therefore, the shape of the sealing layer SL can be controlled with higher accuracy.
なお、図13には第2辺S2の近傍における構成を示したが、第1辺S1、第3辺S3、第4辺S4の近傍にも同様の構成を適用できる。
透明導電層TCを設ける位置は、図13の例に限られない。例えば、透明導電層TCは、第1溝部GR1と表示領域DAとの間に設けられてもよいし、第1溝部GR1と各辺S1〜S4との間に設けられてもよい。
また、図10に示した各溝部GR1,GR2の近傍や、図11に示した各溝部GR1,GR2,GR100の近傍において、本実施形態と同様に透明導電層TCを設けてもよい。
Although FIG. 13 shows the configuration in the vicinity of the second side S2, the same configuration can be applied to the vicinity of the first side S1, the third side S3, and the fourth side S4.
The position where the transparent conductive layer TC is provided is not limited to the example of FIG. For example, the transparent conductive layer TC may be provided between the first groove part GR1 and the display area DA, or may be provided between the first groove part GR1 and the sides S1 to S4.
Further, the transparent conductive layer TC may be provided in the vicinity of the groove portions GR1 and GR2 shown in FIG. 10 and in the vicinity of the groove portions GR1, GR2 and GR100 shown in FIG.
以上の各実施形態にて開示した構成は、適宜に組み合わせることができる。例えば、封止層SL、第1封止層SL1、或いは第2封止層SL2の端部の近傍に、各実施形態にて開示した突出部と溝部の双方が設けられてもよい。 The configurations disclosed in the above embodiments can be appropriately combined. For example, both the protruding portion and the groove portion disclosed in each embodiment may be provided in the vicinity of the end portion of the sealing layer SL, the first sealing layer SL1, or the second sealing layer SL2.
本発明の実施形態として説明した表示装置を基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての表示装置も、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。
本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変形例に想到し得るものであり、それら変形例についても本発明の範囲に属するものと解される。例えば、上述の各実施形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除、若しくは設計変更を行ったもの、又は、工程の追加、省略若しくは条件変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含まれる。
また、各実施形態において述べた態様によりもたらされる他の作用効果について、本明細書の記載から明らかなもの、又は当業者において適宜想到し得るものについては、当然に本発明によりもたらされるものと解される。
All display devices that can be implemented by a person skilled in the art based on the display device described as the embodiment of the present invention are included in the scope of the present invention as long as they include the gist of the present invention.
In the scope of the idea of the present invention, those skilled in the art can conceive various modifications, and these modifications are also considered to be within the scope of the present invention. For example, those in which the person skilled in the art has appropriately added, deleted, or changed the design of the above-described embodiments, or those in which processes have been added, omitted, or changed conditions are also included in the present invention. As long as the gist is provided, it is included in the scope of the present invention.
Further, regarding other operational effects brought about by the aspects described in the respective embodiments, those that are apparent from the description of the present specification or that can be appropriately conceived by those skilled in the art are naturally understood to be brought about by the present invention. Is done.
1…表示装置、2…表示パネル、3…光学フィルム、4…フレキシブル回路基板、5…基材、6…絶縁層、7…有機樹脂層、31…光学機能層、32…接着層、DA…表示領域、SA…周辺領域、PX…画素、P1…第1突出部、P2…第2突出部、P3…第3突出部、P100…突出部、OLED…有機EL素子、AE…アノード電極、ORG…有機発光層、CE…カソード電極、RF…反射層、SL…封止層、SL1…第1封止層、SL2…第2封止層、B,B1,B2…気泡、PV1〜PV3…第1〜第3パッシベーション層、GR1…第1溝部、GR2…第2溝部、GR100…溝部、TC…透明導電層。
DESCRIPTION OF
Claims (10)
前記基材の上方にある有機樹脂層と、
前記表示領域において前記有機樹脂層の上方にある発光層と、
前記発光層を覆う封止層と、
前記表示領域及び前記周辺領域に亘って前記封止層の上方に貼り付けられた光学フィルムと、を備え、
前記有機樹脂層は、前記周辺領域において延在する第1突出部と、平面視において前記第1突出部と前記表示領域の間に位置する第2突出部とを有し、
前記第2突出部は、断面視において前記基材と前記封止層の間に位置し、
前記光学フィルムは、平面視において前記第1突出部及び前記第2突出部と重畳している、
表示装置。 A substrate having a display area and a peripheral area around the display area;
An organic resin layer above the substrate;
A light emitting layer above the organic resin layer in the display region;
A sealing layer covering the light emitting layer;
An optical film pasted above the sealing layer over the display region and the peripheral region,
The organic resin layer has a first protrusion that extends in the peripheral region, and a second protrusion that is positioned between the first protrusion and the display region in plan view,
The second protrusion is located between the base material and the sealing layer in a sectional view,
The optical film overlaps the first protrusion and the second protrusion in plan view.
Display device.
請求項1に記載の表示装置。 The end of the sealing layer is between the first protrusion and the second protrusion in plan view.
The display device according to claim 1.
請求項1又は2に記載の表示装置。 The second protrusion extends in parallel with the first protrusion.
The display device according to claim 1.
請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載の表示装置。 The distance between the first protrusion and the second protrusion is 50 μm or less.
The display device according to claim 1.
請求項1乃至4のうちいずれか1項に記載の表示装置。 The first distance between the top of the first protrusion and the base is smaller than the second distance between the top of the second protrusion and the base.
The display device according to claim 1.
前記複数の第2突出部は、前記第1突出部と繋がっている、
請求項1に記載の表示装置。 The organic resin layer has a plurality of the second protrusions arranged at intervals along the first protrusions,
The plurality of second protrusions are connected to the first protrusion,
The display device according to claim 1.
前記複数の第3突出部は、平面視において前記複数の第2突出部と前記表示領域の間に位置するとともに、断面視において前記基材と前記封止層の間に位置し、
前記第1突出部の延在方向において、前記複数の第2突出部の各々の中心と、前記複数の第3突出部の各々の中心とが互いにずれている、
請求項6に記載の表示装置。 The organic resin layer has a plurality of third protrusions arranged at intervals along the first protrusion,
The plurality of third protrusions are positioned between the plurality of second protrusions and the display region in a plan view, and are positioned between the base material and the sealing layer in a cross-sectional view,
In the extending direction of the first protrusion, the center of each of the plurality of second protrusions and the center of each of the plurality of third protrusions are shifted from each other.
The display device according to claim 6.
請求項6又は7に記載の表示装置。 The interval between the adjacent second protrusions is 50 μm or less.
The display device according to claim 6 or 7.
前記表示領域及び前記周辺領域に亘って前記基材を覆う絶縁層と、
前記絶縁層の上方にある有機樹脂層と、
前記表示領域において前記有機樹脂層の上方に形成された発光層と、
前記発光層を覆う封止層と、
前記表示領域及び前記周辺領域に亘って前記封止層の上方に貼り付けられた光学フィルムと、を備え、
前記絶縁層は、前記周辺領域において延在する第1溝部を有し、
前記封止層の一部が前記第1溝部の内部に入っており、
前記光学フィルムは、平面視において前記第1溝部と重畳している、
表示装置。 A substrate having a display area and a peripheral area around the display area;
An insulating layer covering the substrate over the display region and the peripheral region;
An organic resin layer above the insulating layer;
A light emitting layer formed above the organic resin layer in the display region;
A sealing layer covering the light emitting layer;
An optical film pasted above the sealing layer over the display region and the peripheral region,
The insulating layer has a first groove extending in the peripheral region;
A part of the sealing layer is inside the first groove,
The optical film overlaps with the first groove part in a plan view.
Display device.
前記第2溝部は、平面視において前記第1溝部と前記表示領域の間に位置する、
請求項9に記載の表示装置。 The insulating layer further includes a second groove portion extending along the first groove portion in the peripheral region,
The second groove is located between the first groove and the display area in plan view.
The display device according to claim 9.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017058910A JP2018163737A (en) | 2017-03-24 | 2017-03-24 | Display device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017058910A JP2018163737A (en) | 2017-03-24 | 2017-03-24 | Display device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018163737A true JP2018163737A (en) | 2018-10-18 |
Family
ID=63861087
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017058910A Pending JP2018163737A (en) | 2017-03-24 | 2017-03-24 | Display device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2018163737A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20230041336A (en) | 2021-09-17 | 2023-03-24 | 주식회사 제이스에프아이 | Anti-browning composition for fruits and vegetables |
-
2017
- 2017-03-24 JP JP2017058910A patent/JP2018163737A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20230041336A (en) | 2021-09-17 | 2023-03-24 | 주식회사 제이스에프아이 | Anti-browning composition for fruits and vegetables |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11026301B2 (en) | Organic EL device, method of manufacturing organic EL device, and electronic apparatus | |
KR102524429B1 (en) | Transparent display apparatus | |
KR102516055B1 (en) | flexible display device | |
KR102327918B1 (en) | Transparent Display Device and Method of manufacturing the same | |
US20230172023A1 (en) | Display panel and display apparatus | |
US10504849B2 (en) | Display device and method for manufacturing the same | |
JP2016173460A (en) | Display device | |
KR101147421B1 (en) | Organic light emitting diode display | |
US11563073B2 (en) | Array substrate and manufacturing method thereof, display panel, display device and pixel driving circuit | |
JP6187051B2 (en) | Electro-optical device, method of manufacturing electro-optical device, and electronic apparatus | |
US10276812B2 (en) | Display device and manufacturing method thereof | |
KR20200113048A (en) | Display device and manufacturing method of the same | |
JP2017143022A (en) | Electro-optical device and electronic apparatus | |
JP2015045784A (en) | Display device | |
JP2016143606A (en) | Organic el device and electronic apparatus | |
JP2018163737A (en) | Display device | |
KR20160047052A (en) | High Luminance Large Area Organic Light Emitting Diode Display | |
KR102533387B1 (en) | Flexible Display | |
KR20220092222A (en) | Organic light emitting display device | |
JP6443510B2 (en) | Organic EL device, method for manufacturing organic EL device, electronic device | |
JP2019024024A (en) | Organic el device and electronic apparatus | |
JP2019158963A (en) | Display device | |
KR20200047832A (en) | Display apparatus and method of manufacturing the same | |
KR101356618B1 (en) | Color filter substrate, method of fabricating the same and liquid crystal display device including the same | |
JP2010122379A (en) | Liquid crystal display and organic el display device |