JP2018160201A - Display with touch sensor - Google Patents

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Yuji Hamada
夕慎 濱田
敏彦 糸賀
Toshihiko Itoga
敏彦 糸賀
秋元 肇
Hajime Akimoto
秋元  肇
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a display with a touch sensor that can simplify the wiring of the entire display.SOLUTION: A display with a touch sensor comprises: a substrate including a plurality of pixels that are arranged in matrix, a plurality of video signal lines that supply video voltage to the pixels, and a plurality of scan signal lines that supply scan voltage to the pixels; and a piezoelectric layer and a first sensor electrode that form the touch sensor detecting the presence/absence of a pressing force. The video signal lines or the scan signal lines function as a second sensor electrode of the touch sensor.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、タッチセンサ付表示装置に関する。   The present invention relates to a display device with a touch sensor.

特許文献1は、液晶表示素子の裏面側にタッチ位置を検出するタッチ位置検出用センサ基板を備える表示装置が開示されている。   Patent Document 1 discloses a display device including a touch position detection sensor substrate that detects a touch position on the back side of a liquid crystal display element.

特開2008−84222号公報JP 2008-84222 A

表示装置の裏面側に押圧の有無を検出するタッチセンサ基板を設けると、画素書き込み用の配線とは別に押圧検出用の配線が増えるため表示装置全体の配線構造が複雑化する。   If a touch sensor substrate for detecting the presence or absence of pressure is provided on the back side of the display device, the wiring structure for the entire display device becomes complicated because the number of pressure detection wires increases in addition to the pixel writing wires.

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、表示装置全体の配線を単純化することが可能なタッチセンサ付表示装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a display device with a touch sensor capable of simplifying wiring of the entire display device.

本発明のタッチセンサ付表示装置は、マトリクス状に配置された複数の画素と、前記各画素に映像電圧を供給する複数の映像信号線と、前記各画素に走査電圧を供給する複数の走査信号線と、を含む基板と、前記基板の裏面側に配置され、押圧の有無を検知するタッチセンサを構成する圧電層と第1センサ電極と、を有し、前記映像信号線または前記走査信号線は、前記タッチセンサの第2センサ電極として機能する、ことを特徴とする。   The display device with a touch sensor according to the present invention includes a plurality of pixels arranged in a matrix, a plurality of video signal lines for supplying a video voltage to each pixel, and a plurality of scanning signals for supplying a scanning voltage to each pixel. A video signal line or a scanning signal line, comprising: a substrate including a line; a piezoelectric layer that is disposed on a back surface side of the substrate and that constitutes a touch sensor that detects presence or absence of pressing; and a first sensor electrode. Functions as a second sensor electrode of the touch sensor.

本発明の実施形態に係るタッチセンサ付表示装置の概略の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the outline of the display apparatus with a touch sensor which concerns on embodiment of this invention. 本実施形態に係るタッチセンサ付表示装置の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the display apparatus with a touch sensor which concerns on this embodiment. 本実施形態に係るタッチセンサの概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the touch sensor which concerns on this embodiment. 本実施形態に係るタッチセンサ付表示装置の押圧検出動作のタイミングを示す図である。It is a figure which shows the timing of the press detection operation | movement of the display apparatus with a touch sensor which concerns on this embodiment. 本実施形態に係るタッチセンサ付表示装置の押圧検出動作のタイミングを示す図である。It is a figure which shows the timing of the press detection operation | movement of the display apparatus with a touch sensor which concerns on this embodiment. 本実施形態に係るタッチセンサ付表示装置の全体構造を示す平面図である。It is a top view which shows the whole structure of the display apparatus with a touch sensor which concerns on this embodiment. 図6におけるVII−VII断面図である。It is VII-VII sectional drawing in FIG. 図6におけるVII−VII断面図である。It is VII-VII sectional drawing in FIG. 本実施形態に係るタッチセンサ付表示装置の第1の製造方法について説明する図である。It is a figure explaining the 1st manufacturing method of the display apparatus with a touch sensor concerning this embodiment. 本実施形態に係るタッチセンサ付表示装置の第1の製造方法について説明する図である。It is a figure explaining the 1st manufacturing method of the display apparatus with a touch sensor concerning this embodiment. 本実施形態に係るタッチセンサ付表示装置の第1の製造方法について説明する図である。It is a figure explaining the 1st manufacturing method of the display apparatus with a touch sensor concerning this embodiment. 本実施形態に係るタッチセンサ付表示装置の第2の製造方法について説明する図である。It is a figure explaining the 2nd manufacturing method of the display apparatus with a touch sensor concerning this embodiment. 本実施形態に係るタッチセンサ付表示装置の第2の製造方法について説明する図である。It is a figure explaining the 2nd manufacturing method of the display apparatus with a touch sensor concerning this embodiment. 本実施形態に係るタッチセンサ付表示装置の第2の製造方法について説明する図である。It is a figure explaining the 2nd manufacturing method of the display apparatus with a touch sensor concerning this embodiment. 本実施形態に係るタッチセンサ付表示装置の第2の製造方法について説明する図である。It is a figure explaining the 2nd manufacturing method of the display apparatus with a touch sensor concerning this embodiment.

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しつつ説明する。本実施形態では、有機EL表示装置を例にして説明するが、本発明に係る表示装置は有機EL表示装置に限定されず、例えば液晶表示装置であってもよい。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In this embodiment, an organic EL display device will be described as an example. However, the display device according to the present invention is not limited to the organic EL display device, and may be a liquid crystal display device, for example.

なお、以下の説明において参照する図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であり、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明は適宜省略することがある。   In addition, the drawings referred to in the following description may be schematically represented with respect to the width, thickness, shape, and the like of each part in comparison with the actual mode for clarity of explanation, but are merely examples. However, it does not limit the interpretation of the present invention. Further, in the present specification and each drawing, the same elements as those described above with reference to the previous drawings are denoted by the same reference numerals, and detailed description may be omitted as appropriate.

さらに、本発明の詳細な説明において、ある構成物と他の構成物との位置関係を規定する際、「上に」「下に」とは、ある構成物の直上あるいは直下に位置する場合のみでなく、特に断りの無い限りは、間にさらに他の構成物を介在する場合を含むものとする。   Further, in the detailed description of the present invention, when defining the positional relationship between a certain component and another component, “up” and “under” are only when they are positioned directly above or directly below a certain component. In addition, unless otherwise specified, the case where another component is further interposed is included.

図1は、本発明の実施形態に係るタッチセンサ付表示装置の概略の構成を示す模式図である。タッチセンサ付表示装置1は、画像を表示する画素アレイ部4と、画素アレイ部4を駆動する駆動部と、圧電層5と、タッチ検出用電極9と、タッチ検出回路35と、を備える。なお、図1に示した概略図は一例であって、本実施形態はこれに限定されるものではない。   FIG. 1 is a schematic diagram showing a schematic configuration of a display device with a touch sensor according to an embodiment of the present invention. The display device with a touch sensor 1 includes a pixel array unit 4 that displays an image, a drive unit that drives the pixel array unit 4, a piezoelectric layer 5, a touch detection electrode 9, and a touch detection circuit 35. The schematic diagram shown in FIG. 1 is an example, and the present embodiment is not limited to this.

画素アレイ部4には、画素に対応してOLED6および画素回路8がマトリクス状に配置される。画素回路8は複数のTFT(点灯TFT10,駆動TFT12)やキャパシタ14で構成される。   In the pixel array unit 4, OLEDs 6 and pixel circuits 8 are arranged in a matrix corresponding to the pixels. The pixel circuit 8 includes a plurality of TFTs (lighting TFTs 10 and driving TFTs 12) and capacitors 14.

上記駆動部は、走査線駆動回路20、映像線駆動回路22、駆動電源回路24および制御装置26を含み、画素回路8を駆動しOLED6の発光を制御する。   The drive unit includes a scanning line drive circuit 20, a video line drive circuit 22, a drive power supply circuit 24, and a control device 26, and drives the pixel circuit 8 to control light emission of the OLED 6.

走査線駆動回路20は、画素の水平方向の並び(画素行)ごとに設けられた走査信号線28に接続されている。走査線駆動回路20は、制御装置26から入力されるタイミング信号に応じて走査信号線28を順番に選択し、選択した走査信号線28に、点灯TFT10をオンする走査電圧を出力する。   The scanning line driving circuit 20 is connected to a scanning signal line 28 provided for each horizontal arrangement (pixel row) of pixels. The scanning line driving circuit 20 sequentially selects the scanning signal lines 28 according to the timing signal input from the control device 26, and outputs a scanning voltage for turning on the lighting TFT 10 to the selected scanning signal line 28.

映像線駆動回路22は、画素の垂直方向の並び(画素列)ごとに設けられた映像信号線30に接続されている。映像線駆動回路22は、制御装置26から映像信号を入力され、走査線駆動回路20による走査信号線28の選択に合わせて、選択された画素行の映像信号に応じた映像電圧を各映像信号線30に出力する。当該電圧は、選択された画素行にて点灯TFT10を介してキャパシタ14に書き込まれる。駆動TFT12は、書き込まれた電圧に応じた電流をOLED6に供給し、これにより、選択された走査信号線28に対応する画素のOLED6が発光する。   The video line driving circuit 22 is connected to a video signal line 30 provided for each vertical arrangement (pixel column) of pixels. The video line driving circuit 22 receives a video signal from the control device 26, and outputs a video voltage corresponding to the video signal of the selected pixel row in accordance with the selection of the scanning signal line 28 by the scanning line driving circuit 20. Output to line 30. The voltage is written into the capacitor 14 via the lighting TFT 10 in the selected pixel row. The driving TFT 12 supplies a current corresponding to the written voltage to the OLED 6, whereby the OLED 6 of the pixel corresponding to the selected scanning signal line 28 emits light.

駆動電源回路24は、画素列ごとに設けられた駆動電源線32に接続され、駆動電源線32および選択された画素行の駆動TFT12を介してOLED6に電流を供給する。   The drive power supply circuit 24 is connected to a drive power supply line 32 provided for each pixel column, and supplies a current to the OLED 6 through the drive power supply line 32 and the drive TFT 12 of the selected pixel row.

ここで、OLED6の下部電極は、駆動TFT12に接続される。一方、各OLED6の上部電極は、全画素のOLED6に共通の電極で構成される。下部電極を陽極(アノード)として構成する場合は、高電位が入力され、上部電極は陰極(カソード)となって低電位が入力される。下部電極を陰極(カソード)として構成する場合は、低電位が入力され、上部電極は陽極(アノード)となって高電位が入力される。   Here, the lower electrode of the OLED 6 is connected to the driving TFT 12. On the other hand, the upper electrode of each OLED 6 is configured by an electrode common to the OLED 6 of all pixels. When the lower electrode is configured as an anode (anode), a high potential is input, and the upper electrode is a cathode (cathode) and a low potential is input. When the lower electrode is configured as a cathode (cathode), a low potential is input, and the upper electrode is an anode (anode) and a high potential is input.

なお、画素回路8については、図1に示す回路構成には限られない。OLED6に供給される電流値を制御する駆動TFT12は、駆動電源線32とOLED6との間に設けられるが、点灯TFT10やキャパシタ14の接続に関してはこの限りでない。また、画素回路8にさらに他のTFTが含まれていてもよい。   The pixel circuit 8 is not limited to the circuit configuration shown in FIG. The driving TFT 12 that controls the current value supplied to the OLED 6 is provided between the driving power supply line 32 and the OLED 6, but the connection of the lighting TFT 10 and the capacitor 14 is not limited to this. The pixel circuit 8 may further include other TFTs.

さらに、本実施形態のタッチセンサ付表示装置1は、画素アレイ部4を有するアレイ基板40(図2参照)の裏面側にタッチセンサ層11が形成されている。タッチセンサ層11は、圧電層5とタッチ検出用電極9とを含んでいる。これにより、画素アレイ部4の走査信号線28または映像信号線30と、圧電層5と、タッチ検出用電極9とでタッチセンサが構成される。本実施形態のタッチセンサは、タッチ(押圧)の有無を検出する感圧センサとする。感圧センサは、弾性変形する可撓性の圧電材料を2つの電極で挟み込んだ構造を有しており、感圧センサに圧力を加えることで生じる2つの電極間の静電容量変化から押圧の有無を検出するものである。本実施形態では、タッチ検出用電極9がタッチセンサの一方の電極(第1センサ電極)として機能し、走査信号線28または映像信号線30がタッチセンサの他方の電極(第2センサ電極)として機能する。   Further, in the display device with a touch sensor 1 of the present embodiment, the touch sensor layer 11 is formed on the back surface side of the array substrate 40 (see FIG. 2) having the pixel array unit 4. The touch sensor layer 11 includes a piezoelectric layer 5 and a touch detection electrode 9. Thereby, the scanning signal line 28 or the video signal line 30 of the pixel array unit 4, the piezoelectric layer 5, and the touch detection electrode 9 constitute a touch sensor. The touch sensor of this embodiment is a pressure-sensitive sensor that detects the presence or absence of a touch (press). The pressure-sensitive sensor has a structure in which a flexible piezoelectric material that is elastically deformed is sandwiched between two electrodes. The pressure-sensitive sensor is pressed from the capacitance change between the two electrodes caused by applying pressure to the pressure-sensitive sensor. The presence or absence is detected. In the present embodiment, the touch detection electrode 9 functions as one electrode (first sensor electrode) of the touch sensor, and the scanning signal line 28 or the video signal line 30 serves as the other electrode (second sensor electrode) of the touch sensor. Function.

タッチ検出回路35は、タッチセンサ付表示装置1の表示面へのタッチ(押圧)の有無を検出する。タッチ検出回路35は、第1センサ電極(タッチ検出用電極9)と第2センサ電極(走査信号線28または映像信号線30)とに電気的に接続され、第1センサ電極と第2センサ電極との間の静電容量を検出することで表示面への押圧を検出する。   The touch detection circuit 35 detects the presence or absence of a touch (press) on the display surface of the display device with a touch sensor 1. The touch detection circuit 35 is electrically connected to the first sensor electrode (touch detection electrode 9) and the second sensor electrode (scanning signal line 28 or video signal line 30), and the first sensor electrode and the second sensor electrode. The pressure on the display surface is detected by detecting the capacitance between the two.

図2〜図5を用いて、本実施形態に係るタッチセンサによる押圧検出について説明する。図2は、本実施形態に係るタッチセンサ付表示装置の概略断面図である。図2に示すように、タッチセンサ付表示装置1は、アレイ基板40と、アレイ基板40に対向配置される対向基板60と、アレイ基板40の裏面側(対向基板60とは反対側)に配置されるタッチセンサ層11とを備えている。アレイ基板40は、基材70上に回路層74とOLED6と封止層106とが形成されている。タッチセンサ層11は、圧電層5と層間絶縁膜7とタッチ検出用電極9とが形成されている。なお、層間絶縁膜7は形成されなくてもよい。回路層74の走査信号線28または映像信号線30と、圧電層5と、タッチ検出用電極9とで本実施形態に係るタッチセンサが構成される。図2では、対向基板60の表面側(図における上側)がタッチセンサ付表示装置1の表示面となる。図2に示すように、表示面を指等で押圧すると、圧電層5の表面が分極し、第1センサ電極(タッチ検出用電極9)と第2センサ電極(走査信号線28または映像信号線30)との間の静電容量が、押圧のない場合に比べて増加する。このようにして、第1センサ電極と第2センサ電極との間の静電容量の変化を検出することで、表示面への押圧を検出することができる。   The detection of pressure by the touch sensor according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the display device with a touch sensor according to the present embodiment. As shown in FIG. 2, the display device with a touch sensor 1 is disposed on the array substrate 40, the counter substrate 60 disposed to face the array substrate 40, and the back side of the array substrate 40 (on the side opposite to the counter substrate 60). The touch sensor layer 11 is provided. In the array substrate 40, a circuit layer 74, an OLED 6, and a sealing layer 106 are formed on a base material 70. The touch sensor layer 11 includes a piezoelectric layer 5, an interlayer insulating film 7, and a touch detection electrode 9. The interlayer insulating film 7 may not be formed. The scanning signal line 28 or the video signal line 30 of the circuit layer 74, the piezoelectric layer 5, and the touch detection electrode 9 constitute a touch sensor according to this embodiment. In FIG. 2, the surface side (upper side in the figure) of the counter substrate 60 is the display surface of the display device 1 with a touch sensor. As shown in FIG. 2, when the display surface is pressed with a finger or the like, the surface of the piezoelectric layer 5 is polarized, and the first sensor electrode (touch detection electrode 9) and the second sensor electrode (scanning signal line 28 or video signal line). 30) increases compared to the case of no pressing. In this way, the pressure on the display surface can be detected by detecting the change in capacitance between the first sensor electrode and the second sensor electrode.

図3は、本実施形態に係るタッチセンサの概略構成を示す図である。図3に示すように、走査信号線28を第2センサ電極として用いる場合は、複数本の走査信号線28を短絡させて1つの電極としている。具体的には、複数本の走査信号線28が端部で共通に接続され、タッチ検出回路35に接続されている。また、第2センサ電極として映像信号線30を用いる場合は、複数の映像信号線30を短絡させて1つの電極としている。具体的には、複数本の映像信号線30が端部で共通に接続され、タッチ検出回路35に接続されている。なお、第2センサ電極として用いる走査信号線28(または映像信号線30)は、アレイ基板40に設けられている全ての走査信号線28(または映像信号線30)を用いてもよいし、一部の走査信号線28(または映像信号線30)を用いてもよい。なお、各走査信号線28、又は各映像信号線30を短絡する場合は、それぞれタッチ検出回路35との間にスイッチ36を介して行い、通常駆動の際はスイッチ36にて断続されるようにする。   FIG. 3 is a diagram illustrating a schematic configuration of the touch sensor according to the present embodiment. As shown in FIG. 3, when the scanning signal line 28 is used as the second sensor electrode, the plurality of scanning signal lines 28 are short-circuited to form one electrode. Specifically, a plurality of scanning signal lines 28 are connected in common at the ends and are connected to the touch detection circuit 35. When the video signal line 30 is used as the second sensor electrode, the plurality of video signal lines 30 are short-circuited to form one electrode. Specifically, a plurality of video signal lines 30 are connected in common at the ends, and are connected to the touch detection circuit 35. Note that all the scanning signal lines 28 (or video signal lines 30) provided on the array substrate 40 may be used as the scanning signal lines 28 (or video signal lines 30) used as the second sensor electrodes. Some scanning signal lines 28 (or video signal lines 30) may be used. Each scanning signal line 28 or each video signal line 30 is short-circuited with the touch detection circuit 35 via a switch 36, and is interrupted by the switch 36 during normal driving. To do.

本実施形態では、画素書き込み用の走査信号線28または映像信号線30を、タッチセンサの第2センサ電極として用いるため、押圧検出動作と画素書き込み動作とを時分割で制御する。図4は、本実施形態に係るタッチセンサ付表示装置の押圧検出動作のタイミングを示す図である。図4に示すように、1水平期間(1H)が押圧検出期間(T1)と画素書き込み期間(T2)とにわけられ、押圧検出動作と画素書き込み動作とが時分割で制御される。すなわち、タッチ検出回路35による押圧検出は、1水平期間(1H)のうち、画素書き込みがされていない期間に行われる。さらに、走査信号線28を第2センサ電極として用いる場合は、第2センサ電極となる走査信号線28が選択されていない期間に押圧検出が行われてよい。また、映像信号線30を第2センサ電極として用いる場合は、第2センサ電極となる映像信号線30に映像電圧が印加されていない期間に押圧検出が行われてよい。   In the present embodiment, since the scanning signal line 28 or the video signal line 30 for pixel writing is used as the second sensor electrode of the touch sensor, the pressure detection operation and the pixel writing operation are controlled in a time division manner. FIG. 4 is a diagram illustrating the timing of the pressing detection operation of the display device with a touch sensor according to the present embodiment. As shown in FIG. 4, one horizontal period (1H) is divided into a pressing detection period (T1) and a pixel writing period (T2), and the pressing detection operation and the pixel writing operation are controlled in a time-sharing manner. That is, the pressure detection by the touch detection circuit 35 is performed in a period in which pixel writing is not performed in one horizontal period (1H). Further, when the scanning signal line 28 is used as the second sensor electrode, the pressure detection may be performed during a period in which the scanning signal line 28 serving as the second sensor electrode is not selected. When the video signal line 30 is used as the second sensor electrode, the pressure detection may be performed during a period in which the video voltage is not applied to the video signal line 30 serving as the second sensor electrode.

このように、本実施形態では、押圧検出動作と画素書き込み動作とを時分割で制御することで、画素書き込み用の走査信号線28または映像信号線30を、タッチセンサの第2センサ電極として機能させることができる。   As described above, in the present embodiment, the pixel detection scanning signal line 28 or the video signal line 30 functions as the second sensor electrode of the touch sensor by controlling the pressure detection operation and the pixel writing operation in a time-sharing manner. Can be made.

さらに、本実施形態に係るタッチセンサ付表示装置1は、感圧センサとは別にタッチ位置検出センサを設けてもよい。タッチ位置検出センサは、タッチセンサ付表示装置1の表示面におけるタッチ位置を検出する。本実施形態で用いるタッチ位置検出センサは、タッチ位置の静電容量変化を検出する静電容量結合方式、タッチ位置の抵抗値変化を検出する抵抗膜方式、その他公知の方式を用いることができる。例えば、静電容量結合方式のタッチ位置検出センサは、水平方向に延在する複数の第1電極と、垂直方向に延在する複数の第2電極とを含んで構成される。タッチの有無により第1電極と第2電極との間の静電容量が変化することから、第1電極に順次駆動信号(Tx)を出力し、第2電極に生じる検出信号(Rx)を検知することでタッチ位置を検出することができる。また、タッチ位置検出センサは、対向基板60の外側に設けられてもよいし、対向基板60の内側に設けられてもよい。   Furthermore, the display device 1 with a touch sensor according to the present embodiment may include a touch position detection sensor in addition to the pressure sensor. The touch position detection sensor detects a touch position on the display surface of the display device with a touch sensor 1. As the touch position detection sensor used in the present embodiment, a capacitance coupling method for detecting a change in the capacitance at the touch position, a resistance film method for detecting a change in the resistance value at the touch position, and other known methods can be used. For example, the capacitive coupling type touch position detection sensor includes a plurality of first electrodes extending in the horizontal direction and a plurality of second electrodes extending in the vertical direction. Since the capacitance between the first electrode and the second electrode changes depending on the presence or absence of touch, the drive signal (Tx) is sequentially output to the first electrode, and the detection signal (Rx) generated on the second electrode is detected. By doing so, the touch position can be detected. Further, the touch position detection sensor may be provided outside the counter substrate 60 or may be provided inside the counter substrate 60.

タッチセンサ付表示装置1が、感圧センサとタッチ位置検出センサとを備える場合は、押圧検出動作と画素書き込み動作とタッチ位置検出動作とを時分割で制御する必要がある。図5は、本実施形態に係るタッチセンサ付表示装置の押圧検出のタイミングを示す図である。図5に示すように、1水平期間(1H)が押圧検出期間(T1)と画素書き込み期間(T2)とタッチ位置検出期間(T3)とにわけられ、押圧検出動作と画素書き込み動作とタッチ位置検出動作とが時分割で制御される。すなわち、タッチ検出回路35による押圧検出は、1水平期間(1H)のうち、画素書き込みがされていない期間、かつ、タッチ位置検出がされていない期間に行われる。   When the display device with a touch sensor 1 includes a pressure-sensitive sensor and a touch position detection sensor, it is necessary to control the pressure detection operation, the pixel writing operation, and the touch position detection operation in a time-sharing manner. FIG. 5 is a diagram illustrating the timing of pressing detection in the display device with a touch sensor according to the present embodiment. As shown in FIG. 5, one horizontal period (1H) is divided into a press detection period (T1), a pixel writing period (T2), and a touch position detection period (T3). The detection operation is controlled in a time division manner. That is, the pressure detection by the touch detection circuit 35 is performed in a period in which pixel writing is not performed and a period in which the touch position is not detected in one horizontal period (1H).

このように、本実施形態では、タッチ位置検出センサを含んでいる場合であっても、押圧検出動作とタッチ位置検出動作と画素書き込み動作とを時分割で制御することで、押圧検出の精度を向上させることができる。   As described above, in this embodiment, even when a touch position detection sensor is included, the pressure detection accuracy is improved by controlling the pressure detection operation, the touch position detection operation, and the pixel writing operation in a time-sharing manner. Can be improved.

次に、本実施形態に係るタッチセンサ付表示装置1の構造について説明する。図6は、本実施形態に係るタッチセンサ付表示装置の全体構造を示す平面図である。タッチセンサ付表示装置1は、図1に示した画素アレイ部4が設けられる表示領域Aと、表示領域Aを囲む額縁領域Bと、各種部品を実装する部品実装領域Cとを有している。   Next, the structure of the display device 1 with a touch sensor according to the present embodiment will be described. FIG. 6 is a plan view showing the overall structure of the display device with a touch sensor according to the present embodiment. The display device with a touch sensor 1 has a display area A in which the pixel array unit 4 shown in FIG. 1 is provided, a frame area B surrounding the display area A, and a component mounting area C for mounting various components. .

図7A及び図7Bは、図6におけるVII−VII断面図である。なお、図7A及び図7Bでは、対向基板60の図示を省略している。図7Aは、タッチセンサ付表示装置1の表示領域A内における画素近傍を示す図である。また、図7Bは、額縁領域Bにおいて、カソード電極(上部電極104)に所定の電位を供給する部分(カソードコンタクト部140)と、部品実装領域Cにおいて、ドライバ集積回路IC等を実装する部分(端子部150)を示す図である。   7A and 7B are cross-sectional views taken along the line VII-VII in FIG. In FIG. 7A and FIG. 7B, the counter substrate 60 is not shown. FIG. 7A is a diagram illustrating the vicinity of a pixel in the display area A of the display device 1 with a touch sensor. 7B shows a part for supplying a predetermined potential to the cathode electrode (upper electrode 104) in the frame area B (cathode contact portion 140) and a part for mounting the driver integrated circuit IC or the like in the component mounting area C ( It is a figure which shows the terminal part 150).

図7A及び図7Bで示されるように、本実施形態のタッチセンサ付表示装置1のアレイ基板40は、基材70上にTFT(点灯TFT10,駆動TFT12)や各種配線などからなる回路層74、各画素に対応するOLED6、およびOLED6を封止する封止層106などが積層された構造を有する。基材70は、例えば、ガラス、又はポリイミド等の可撓性のある樹脂で構成される。   As shown in FIGS. 7A and 7B, the array substrate 40 of the display device with a touch sensor 1 of the present embodiment has a circuit layer 74 made of TFTs (lighting TFTs 10 and driving TFTs 12) and various wirings on a base material 70, The OLED 6 corresponding to each pixel, the sealing layer 106 that seals the OLED 6, and the like are stacked. The substrate 70 is made of a flexible resin such as glass or polyimide, for example.

OLED6は、下部電極100と、有機材料層102と、上部電極104と、から構成されている。下部電極100と、有機材料層102と、上部電極104とは基材70側からこの順に積層されている。本実施形態では、下部電極100がOLED6の陽極(アノード)、上部電極104が陰極(カソード)である。   The OLED 6 includes a lower electrode 100, an organic material layer 102, and an upper electrode 104. The lower electrode 100, the organic material layer 102, and the upper electrode 104 are laminated in this order from the base material 70 side. In the present embodiment, the lower electrode 100 is the anode (anode) of the OLED 6 and the upper electrode 104 is the cathode (cathode).

回路層74は、上述した画素回路8、走査信号線28、映像信号線30、駆動電源線32などが形成される。駆動部の少なくとも一部分は、基材70上に回路層として表示領域Aに隣接する領域に形成することができる。   In the circuit layer 74, the pixel circuit 8, the scanning signal line 28, the video signal line 30, the drive power supply line 32, and the like described above are formed. At least a part of the driving unit can be formed as a circuit layer on the substrate 70 in a region adjacent to the display region A.

下部電極100は、表示領域において画素毎に形成されている。下部電極100は、導電性を有する材料からなり、例えばITOであることが好ましいが、IZO、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化アルミニウム等の透光性及び導電性を有する材料であってもよい。表示装置が下部電極側にOLED6の発光を取り出す場合は、下部電極100を透明電極として形成し、表示装置が上部電極側にOLED6の発光を取り出す場合は、下部電極100を反射電極として形成するのが好ましい。   The lower electrode 100 is formed for each pixel in the display area. The lower electrode 100 is made of a material having conductivity, and is preferably made of ITO, for example, but may be a material having translucency and conductivity, such as IZO, zinc oxide, indium oxide, and aluminum oxide. When the display device takes out the light emission of the OLED 6 on the lower electrode side, the lower electrode 100 is formed as a transparent electrode, and when the display device takes out the light emission of the OLED 6 on the upper electrode side, the lower electrode 100 is formed as a reflection electrode. Is preferred.

有機材料層102は、少なくとも発光層を有する層であり、下部電極100に接するように形成されている。有機材料層102は、例えば、正孔輸送層、発光層、電子輸送層等を含んで構成されている。発光層は、例えば、正孔と電子とが結合することによって発光する有機EL物質から構成されている。このような有機EL物質としては、例えば、一般的な有機発光材料が用いられてもよい。なお、有機材料層102は、アノードと発光層との間に配置される正孔注入層や電子ブロック層、カソードと発光層との間に配置される電子注入層や正孔ブロック層を含んで構成されてもよい。   The organic material layer 102 is a layer having at least a light emitting layer, and is formed in contact with the lower electrode 100. The organic material layer 102 includes, for example, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and the like. The light emitting layer is made of, for example, an organic EL material that emits light by combining holes and electrons. As such an organic EL substance, for example, a general organic light emitting material may be used. The organic material layer 102 includes a hole injection layer and an electron blocking layer disposed between the anode and the light emitting layer, and an electron injection layer and a hole blocking layer disposed between the cathode and the light emitting layer. It may be configured.

上部電極104は、表示領域全体の有機材料層102を覆うように形成されている。上部電極104がこのような構成を有することにより、上部電極104は表示領域Aにおいて、複数のOLED6の有機材料層102に共通に接触する。上部電極104は、透光性及び導電性を有する材料からなり、例えばITOであることが好ましいが、ITOやInZnO等の導電性金属酸化物に銀やマグネシウム等の金属を混入したもの、あるいは銀やマグネシウム等の金属薄膜と導電性金属酸化物を積層したものであってもよい。表示装置が下部電極側にOLED6の発光を取り出す場合は、上部電極104を反射電極として形成し、表示装置が上部電極側にOLED6の発光を取り出す場合は、上部電極104を透明電極として形成するのが好ましい。   The upper electrode 104 is formed so as to cover the organic material layer 102 in the entire display region. Since the upper electrode 104 has such a configuration, the upper electrode 104 is in common contact with the organic material layers 102 of the plurality of OLEDs 6 in the display region A. The upper electrode 104 is made of a material having translucency and conductivity, and is preferably, for example, ITO. However, a conductive metal oxide such as ITO or InZnO mixed with a metal such as silver or magnesium, or silver Alternatively, a metal thin film such as magnesium or magnesium and a conductive metal oxide may be laminated. When the display device takes out the light emission of the OLED 6 on the lower electrode side, the upper electrode 104 is formed as a reflective electrode, and when the display device takes out the light emission of the OLED 6 on the upper electrode side, the upper electrode 104 is formed as a transparent electrode. Is preferred.

封止層106は、上部電極104の上に基材70上全体を覆うように形成されている。封止層106は、基材70上全体を覆うように形成されていることで、回路層74やOLED6をはじめとする各層への酸素や水分の浸透を防止する。封止層106は、有機層160と、有機層160を上下で挟む第1無機層161及び第2無機層162とを含んで構成されている。   The sealing layer 106 is formed on the upper electrode 104 so as to cover the entire substrate 70. The sealing layer 106 is formed so as to cover the entire surface of the base material 70, thereby preventing oxygen and moisture from penetrating into each layer including the circuit layer 74 and the OLED 6. The sealing layer 106 includes an organic layer 160 and a first inorganic layer 161 and a second inorganic layer 162 that sandwich the organic layer 160 between the upper and lower sides.

また、下部電極100の下側には、さらにITO等の透明金属で構成された導電体膜111と、メタル層113とが配置され、下部電極100とメタル層113との間には、容量を蓄積するために窒化シリコンで構成された容量絶縁層98が形成されている。   Further, a conductor film 111 made of a transparent metal such as ITO and a metal layer 113 are disposed below the lower electrode 100, and a capacitance is provided between the lower electrode 100 and the metal layer 113. A capacitor insulating layer 98 made of silicon nitride is formed for storage.

また、各OLED6の下側には、TFT12が形成されて、このTFT12によって発生する段差を平坦化するための平坦化層96が有機絶縁膜によって形成される。図2で示されるように、本実施形態のタッチセンサ付表示装置1のアレイ基板40のTFT12はトップゲート型となっており、活性層82の上側にゲート絶縁膜84を介してゲート電極86が形成されている。ゲート電極86は走査信号線28を構成している。さらに層間絶縁膜88とゲート絶縁膜84に形成されたホールを介して、活性層82を形成する半導体膜に配線層90(ソース電極90a、ドレイン電極90b)が接続されている。配線層90は映像信号線30を構成している。ゲート絶縁膜84および層間絶縁膜88としては、例えば、窒化シリコン(SiNy)や酸化シリコン(SiOx)などの無機絶縁材料が用いられる。   Further, a TFT 12 is formed below each OLED 6, and a flattening layer 96 for flattening a step generated by the TFT 12 is formed of an organic insulating film. As shown in FIG. 2, the TFT 12 of the array substrate 40 of the display device with a touch sensor 1 according to the present embodiment is a top gate type, and a gate electrode 86 is formed above the active layer 82 via a gate insulating film 84. Is formed. The gate electrode 86 constitutes the scanning signal line 28. Further, the wiring layer 90 (source electrode 90a, drain electrode 90b) is connected to the semiconductor film forming the active layer 82 through holes formed in the interlayer insulating film 88 and the gate insulating film 84. The wiring layer 90 constitutes the video signal line 30. As the gate insulating film 84 and the interlayer insulating film 88, for example, an inorganic insulating material such as silicon nitride (SiNy) or silicon oxide (SiOx) is used.

図7Aに示すTFT72が、nチャネルを有した駆動TFT12であるとすると、活性層82に接続するソース電極90aは、さらに、下部電極100と電気的に接続される。平坦化層96には、ソース電極90aと下部電極100とを接続するためのコンタクトホール110が形成される。平坦化層96に形成されたコンタクトホール110では、導電体膜111を介してソース電極90aと下部電極100とが接続される。また、TFT12の形成された領域や、下部電極100とソース電極90aが接続するためのコンタクトホール110の上側には、表示領域A内の各画素を隔てるバンク112が有機絶縁膜によって形成されている。また図2Aで示されるように、有機材料層102や上部電極104は、バンク112の形成後、その表面においても形成されるようになっている。   If the TFT 72 shown in FIG. 7A is a drive TFT 12 having an n channel, the source electrode 90a connected to the active layer 82 is further electrically connected to the lower electrode 100. A contact hole 110 for connecting the source electrode 90 a and the lower electrode 100 is formed in the planarization layer 96. In the contact hole 110 formed in the planarization layer 96, the source electrode 90 a and the lower electrode 100 are connected via the conductor film 111. In addition, on the region where the TFT 12 is formed and above the contact hole 110 for connecting the lower electrode 100 and the source electrode 90a, a bank 112 separating each pixel in the display region A is formed of an organic insulating film. . As shown in FIG. 2A, the organic material layer 102 and the upper electrode 104 are also formed on the surface after the bank 112 is formed.

図7Bは、本実施形態のタッチセンサ付表示装置1の額縁領域Bに形成されるカソードコンタクト部(図7B左側)と、部品実装領域Cに形成される端子部(図7B右側)を示す図である。額縁領域Bに形成されるカソードコンタクト部140では、上述のメタル層113の一部が、導電体膜111を介して上部電極104に接続されるようになっている。これにより、メタル層113と導電体膜111を介してカソード電極(上部電極104)に所定の電位が供給される。また、部品実装領域Cの回路層74には、表示領域Aにつながる配線116が形成されている。配線116の上には導電体膜117が形成され、導電体膜117の上には絶縁膜118が形成されている。絶縁膜118の一部が除去され、導電体膜117が露出している部分(端子部150)には、上述した駆動部を構成するドライバ集積回路ICが搭載されたり、FPCが接続されたりする。   7B is a diagram showing a cathode contact portion (left side in FIG. 7B) formed in the frame region B of the display device with a touch sensor 1 of the present embodiment (left side in FIG. 7B) and a terminal portion (right side in FIG. 7B) formed in the component mounting region C. It is. In the cathode contact portion 140 formed in the frame region B, a part of the metal layer 113 described above is connected to the upper electrode 104 via the conductor film 111. As a result, a predetermined potential is supplied to the cathode electrode (upper electrode 104) via the metal layer 113 and the conductor film 111. A wiring 116 connected to the display area A is formed in the circuit layer 74 in the component mounting area C. A conductor film 117 is formed on the wiring 116, and an insulating film 118 is formed on the conductor film 117. A part of the insulating film 118 is removed, and the portion where the conductive film 117 is exposed (terminal portion 150) is mounted with the driver integrated circuit IC that constitutes the driving portion described above or is connected to the FPC. .

本実施形態に係るタッチセンサ付表示装置1は、表示領域Aと額縁領域Bにおいて、アレイ基板40の裏面側にタッチセンサ層11が形成されている。タッチセンサ層11は、圧電層5と、タッチセンサの第1センサ電極となるタッチ検出用電極9とを含んでいる。図7では、基材70の裏面側に圧電層5が形成され、圧電層5の裏面側にタッチ検出用電極9が形成されている。圧電層5は、基材70の裏面側に隙間なく形成されている。より詳しくは、圧電層5と基材70との間には、導電層が配置されていない。圧電層5と基材70との間に導電層が配置されると、この導電層がタッチセンサの第2センサ電極として機能してしまうため、本実施形態に係るタッチセンサ付表示装置1では圧電層5と基材70との間に導電層を含まない構造としている。圧電層5は、セラミックス等の圧電材料が用いられる。又は、可撓性を有する基板上に表示装置が形成される場合は、そのフレキシブル性を阻害しないように、ポリ乳酸等を圧電層5として用いてもよい。タッチ検出用電極9は、金属等の導電性を有する材料が用いられる。さらに、本実施形態では、圧電層5とタッチ検出用電極9とは、アレイ基板40の裏面側に形成されているため、透過性材料に限られず非透過性材料を用いることができる。そして、図7におけるゲート電極86(走査信号線28に対応)または配線層90(映像信号線30に対応)がタッチセンサの第2センサ電極として用いられる。このように、本実施形態では、タッチセンサを構成するタッチセンサ層11がアレイ基板40の裏面側に隙間なく形成され、ゲート電極86または配線層90がタッチセンサを構成する第2センサ電極として用いられることで、タッチセンサがアレイ基板40と一体に形成される。   In the display device with a touch sensor 1 according to the present embodiment, the touch sensor layer 11 is formed on the back surface side of the array substrate 40 in the display area A and the frame area B. The touch sensor layer 11 includes a piezoelectric layer 5 and a touch detection electrode 9 serving as a first sensor electrode of the touch sensor. In FIG. 7, the piezoelectric layer 5 is formed on the back surface side of the substrate 70, and the touch detection electrode 9 is formed on the back surface side of the piezoelectric layer 5. The piezoelectric layer 5 is formed on the back surface side of the base material 70 without a gap. More specifically, no conductive layer is disposed between the piezoelectric layer 5 and the base material 70. When a conductive layer is disposed between the piezoelectric layer 5 and the base material 70, the conductive layer functions as the second sensor electrode of the touch sensor. Therefore, in the display device with a touch sensor 1 according to the present embodiment, the piezoelectric layer is piezoelectric. The conductive layer is not included between the layer 5 and the base material 70. The piezoelectric layer 5 is made of a piezoelectric material such as ceramics. Alternatively, when a display device is formed on a flexible substrate, polylactic acid or the like may be used as the piezoelectric layer 5 so as not to hinder the flexibility. The touch detection electrode 9 is made of a conductive material such as metal. Furthermore, in this embodiment, since the piezoelectric layer 5 and the touch detection electrode 9 are formed on the back surface side of the array substrate 40, not only the transmissive material but also a non-transmissive material can be used. Then, the gate electrode 86 (corresponding to the scanning signal line 28) or the wiring layer 90 (corresponding to the video signal line 30) in FIG. 7 is used as the second sensor electrode of the touch sensor. As described above, in this embodiment, the touch sensor layer 11 constituting the touch sensor is formed on the back side of the array substrate 40 without any gap, and the gate electrode 86 or the wiring layer 90 is used as the second sensor electrode constituting the touch sensor. As a result, the touch sensor is formed integrally with the array substrate 40.

本実施形態では、アレイ基板40に形成されている画素書き込み用のゲート電極86または配線層90がタッチセンサの第2センサ電極として用いられることで、第2センサ電極を別途設ける必要がなくタッチセンサ付表示装置1の配線を単純化することができる。   In the present embodiment, the pixel writing gate electrode 86 or the wiring layer 90 formed on the array substrate 40 is used as the second sensor electrode of the touch sensor, so there is no need to separately provide the second sensor electrode. Wiring of the attached display device 1 can be simplified.

また、本実施形態では、タッチセンサ層11をアレイ基板40の裏面側に形成している。タッチセンサを封止層106と対向基板60との間に形成するいわゆるオンセル型を用いる場合は、下層のOLED6が劣化しないプロセスでタッチセンサを形成する必要があり、例えば処理温度、成膜材料、処理溶剤等に制約が生じる。これに対して、本実施形態では、タッチセンサ層11をアレイ基板40の裏面側に形成するため、プロセスの制約を軽減することが可能となる。   In the present embodiment, the touch sensor layer 11 is formed on the back side of the array substrate 40. When a so-called on-cell type in which the touch sensor is formed between the sealing layer 106 and the counter substrate 60 is used, it is necessary to form the touch sensor by a process in which the lower OLED 6 does not deteriorate. There are restrictions on the processing solvent. On the other hand, in the present embodiment, since the touch sensor layer 11 is formed on the back surface side of the array substrate 40, it is possible to reduce process restrictions.

図8及び図9を用いて本実施形態に係るタッチセンサ付表示装置1の製造方法について説明する。図8A〜図8Cは、本実施形態に係るタッチセンサ付表示装置の第1の製造方法について説明する図である。第1の製造方法は、アレイ基板形成工程と、支持基板剥離工程と、タッチセンサ層貼り合わせ工程と、を含む。タッチセンサ層貼り合わせ工程以外は、有機EL表示装置の製造方法として公知であるため、ここでは詳細な説明は省略する。まず、支持基板170上に基材70、回路層74、OLED6、封止層106が積層されてアレイ基板40が形成される(図8A:アレイ基板形成工程)。支持基板170は、後から剥離しやすいように接着剤等を介して基材70に貼り付けられている。次に支持基板170が基材70から剥離される(図8B:支持基板剥離工程)。支持基板を剥離する方法としては、熱軟化、光分解等の方法が適用できる。そして、支持基板が剥離された基材70に圧電層5とタッチ検出用電極9とを含むタッチセンサ層が貼り付けられる(図8C:タッチセンサ層貼り合わせ工程)。ここで、基材70とタッチセンサ層(圧電層5)とは隙間なく貼り合わされ、基材70とタッチセンサ層(圧電層5)との間には導電層が配置されない。   A method for manufacturing the display device with a touch sensor 1 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 8A to 8C are views for explaining a first manufacturing method of the display device with a touch sensor according to the present embodiment. The first manufacturing method includes an array substrate forming step, a support substrate peeling step, and a touch sensor layer bonding step. Since it is well-known as a manufacturing method of an organic EL display device other than the touch sensor layer bonding step, detailed description is omitted here. First, the base substrate 70, the circuit layer 74, the OLED 6, and the sealing layer 106 are laminated on the support substrate 170 to form the array substrate 40 (FIG. 8A: array substrate forming step). The support substrate 170 is attached to the base material 70 via an adhesive or the like so that it can be easily peeled later. Next, the support substrate 170 is peeled from the base material 70 (FIG. 8B: support substrate peeling step). As a method for peeling the support substrate, methods such as thermal softening and photolysis can be applied. And the touch sensor layer containing the piezoelectric layer 5 and the electrode 9 for touch detection is affixed on the base material 70 from which the support substrate was peeled (FIG. 8C: touch sensor layer bonding process). Here, the base material 70 and the touch sensor layer (piezoelectric layer 5) are bonded together without any gap, and no conductive layer is disposed between the base material 70 and the touch sensor layer (piezoelectric layer 5).

図9A〜図9Dは、本実施形態に係るタッチセンサ付表示装置1の第2の製造方法について説明する図である。第2の製造方法は、回路層形成工程と、タッチセンサ層形成工程と、OLED形成工程と、封止層形成工程とを含む。第1の製造方法ではタッチセンサ層を基材70に貼り合わせたが、第2の製造方法では、タッチセンサ層を塗布形成する。例えばロールツーロール方式を適用してタッチセンサ層を塗布形成することができる。まず、基材70上に回路層74が形成される(図9A:回路層形成工程)。次に、基材70の裏面側に圧電層5とタッチ検出用電極9とを含むタッチセンサ層が形成される(図9B:タッチセンサ層形成工程)。ここでは、圧電層5とセンサ検出量電極7とがそれぞれ塗布形成される。そして、回路層の上にOLED6が形成され(図9C:OLED形成工程)、OLED6を封止する封止層106が形成される(図9D:封止層形成工程)。   9A to 9D are diagrams for describing a second manufacturing method of the display device with a touch sensor 1 according to the present embodiment. The second manufacturing method includes a circuit layer forming step, a touch sensor layer forming step, an OLED forming step, and a sealing layer forming step. In the first manufacturing method, the touch sensor layer is bonded to the substrate 70, but in the second manufacturing method, the touch sensor layer is applied and formed. For example, the touch sensor layer can be formed by applying a roll-to-roll method. First, the circuit layer 74 is formed on the base material 70 (FIG. 9A: circuit layer formation process). Next, a touch sensor layer including the piezoelectric layer 5 and the touch detection electrode 9 is formed on the back surface side of the substrate 70 (FIG. 9B: touch sensor layer forming step). Here, the piezoelectric layer 5 and the sensor detection amount electrode 7 are formed by coating. And OLED6 is formed on a circuit layer (FIG. 9C: OLED formation process), and the sealing layer 106 which seals OLED6 is formed (FIG. 9D: sealing layer formation process).

以上、本発明の実施形態を説明してきたが、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではない。例えば、上述した実施形態で説明した構成は、実質的に同一の構成、同一の作用効果を奏する構成、または同一の目的を達成することができる構成により置き換えてもよい。   As mentioned above, although embodiment of this invention has been described, this invention is not limited to embodiment mentioned above. For example, the configuration described in the above-described embodiment may be replaced by a configuration that has substantially the same configuration, a configuration that exhibits the same operational effects, or a configuration that can achieve the same purpose.

1 タッチセンサ付表示装置、4 画素アレイ部、5 圧電層、6 OLED、7 層間絶縁膜、8 画素回路、9 タッチ検出用電極、10 点灯TFT、11 タッチセンサ層、12 駆動TFT、14 キャパシタ、20 走査線駆動回路、22 映像線駆動回路、24 駆動電源回路、26 制御装置、28 走査信号線、30 映像信号線、32 駆動電源線、35 タッチ検出回路、36 スイッチ、40 アレイ基板、60 対向基板、70 基材、74 回路層、82 活性層、84 ゲート絶縁膜、86 ゲート電極、88 層間絶縁膜、90 配線層、90a ソース電極、90b ドレイン電極、96 平坦化層、98 容量絶縁層、100 下部電極、102 有機材料層、104 上部電極、106 封止層、111,117 導電体膜、112 バンク、113 メタル層、116 配線、118 絶縁膜、140 カソードコンタクト部、150 端子部、160 有機層、161 第1無機層、162 第2無機層、170 支持基板。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Display apparatus with a touch sensor, 4 pixel array part, 5 piezoelectric layer, 6 OLED, 7 interlayer insulation film, 8 pixel circuit, 9 touch detection electrode, 10 lighting TFT, 11 touch sensor layer, 12 drive TFT, 14 capacitor, 20 scanning line drive circuit, 22 video line drive circuit, 24 drive power supply circuit, 26 control device, 28 scan signal line, 30 video signal line, 32 drive power supply line, 35 touch detection circuit, 36 switch, 40 array substrate, 60 facing Substrate, 70 base material, 74 circuit layer, 82 active layer, 84 gate insulating film, 86 gate electrode, 88 interlayer insulating film, 90 wiring layer, 90a source electrode, 90b drain electrode, 96 planarizing layer, 98 capacitive insulating layer, 100 Lower electrode, 102 Organic material layer, 104 Upper electrode, 106 Sealing layer, 111, 117 Conductor film, 112 Bank, 113 Metal Layer, 116 wiring, 118 insulating film, 140 cathode contact portion, 150 terminal portion, 160 organic layer, 161 first inorganic layer, 162 second inorganic layer, 170 supporting substrate.

Claims (7)

マトリクス状に配置された複数の画素と、
前記各画素に映像電圧を供給する複数の映像信号線と、
前記各画素に走査電圧を供給する複数の走査信号線と、
を含む基板と、
前記基板の裏面側に配置され、押圧の有無を検知するタッチセンサを構成する圧電層と第1センサ電極と、
を有し、
前記映像信号線または前記走査信号線は、前記タッチセンサの第2センサ電極として機能する、
ことを特徴とするタッチセンサ付表示装置。
A plurality of pixels arranged in a matrix;
A plurality of video signal lines for supplying a video voltage to each of the pixels;
A plurality of scanning signal lines for supplying a scanning voltage to each of the pixels;
A substrate comprising:
A piezoelectric layer and a first sensor electrode that are arranged on the back side of the substrate and constitute a touch sensor that detects the presence or absence of pressing;
Have
The video signal line or the scanning signal line functions as a second sensor electrode of the touch sensor.
A display device with a touch sensor.
前記基板の裏面側に前記圧電層が配置され、
前記圧電層の裏面側に第1センサ電極が配置される、
ことを特徴とする請求項1に記載のタッチセンサ付表示装置。
The piezoelectric layer is disposed on the back side of the substrate,
A first sensor electrode is disposed on the back side of the piezoelectric layer;
The display device with a touch sensor according to claim 1.
前記基板と前記圧電層との間には、導電層が配置されていない、
ことを特徴とする請求項2に記載のタッチセンサ付表示装置。
A conductive layer is not disposed between the substrate and the piezoelectric layer.
The display device with a touch sensor according to claim 2.
前記画素に書き込みがされていない期間に、前記タッチセンサによる押圧検出を行う、
ことを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載のタッチセンサ付表示装置。
During a period when no writing is performed on the pixel, pressure detection by the touch sensor is performed.
The display device with a touch sensor according to claim 1, wherein the display device has a touch sensor.
前記映像信号線が前記映像電圧を供給していない期間に、前記タッチセンサによる押圧検出を行う、
ことを特徴とする請求項4に記載のタッチセンサ付表示装置。
During the period when the video signal line is not supplying the video voltage, pressure detection by the touch sensor is performed.
The display device with a touch sensor according to claim 4.
前記走査信号線が選択されていない期間に、前記タッチセンサによる押圧検出を行う、
ことを特徴とする請求項4に記載のタッチセンサ付表示装置。
During a period when the scanning signal line is not selected, press detection by the touch sensor is performed.
The display device with a touch sensor according to claim 4.
タッチ位置を検出するタッチ位置検出センサをさらに含み、
前記画素に書き込みがされていない期間、かつ、前記タッチ位置検出センサによるタッチ位置検出がされていない期間に、前記タッチセンサによる押圧検出を行う、
ことを特徴とする請求項4に記載のタッチセンサ付表示装置。
It further includes a touch position detection sensor for detecting the touch position,
Pressure detection by the touch sensor is performed in a period in which the pixel is not written and in a period in which the touch position detection by the touch position detection sensor is not performed.
The display device with a touch sensor according to claim 4.
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