JP2018159800A - 透明スクリーン、映像表示システム、及び透明スクリーンの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】耐光性、耐候性が高く、長期信頼性が優れるとともに、高い透明度を保持した透明スクリーンを提供する。【解決手段】 投影機３０から投影された映像を表示する透明スクリーン２０であって、少なくとも一方の主面２０ａに凹凸を有し、凹凸を有する主面２０ａにおける、算術粗さＲａが１ｎｍ以上かつ５００ｎｍ以下であり、粗さ曲線の平均長さＲＳｍが２００ｎｍ以上かつ５０００ｎｍ以下である。【選択図】図１

Description

本発明は、透明スクリーン、映像表示システム、及び透明スクリーンの製造方法に関する。

ショーケース、芸術品の展示ケース、建物・ショールーム等の窓、パーティション等に用いられる透明スクリーンとして、観察者側から見て反対側の光景が視認でき、且つ観察者は、プロジェクタなどの映像照射装置から照射された映像を視認することができる透明スクリーンが提案されている。

このような透明スクリーンは、リア型またはフロント型に分類される。フロント型の透明スクリーンは、透明スクリーンに対して観察者側と同じ側に設置された映像照射装置から照射された光を、透明スクリーン基板の表面で散乱反射させ、そして、その散乱反射させた光を映像として、透明スクリーンの表面に表示するように構成されている。一方、リア型の透明スクリーンは、透明スクリーンに対して観察者側の反対側に設置された映像照射装置から照射された光を散乱透過させ、その散乱透過させた光を映像として表示するように構成されている。

例えば特許文献１には、２枚の透明基材の中間層に、透明バインダ中に光散乱材（たとえば中空ビーズ）を分散させてなる光散乱層を形成させた透過型透明スクリーンが開示されている。

特許４８４７３２９号公報

しかし、前述のような透明スクリーンは、中間層に樹脂バインダと光散乱材を含むため、映像が不鮮明になったり、透明スクリーンが白濁したり、黒ずんで見えたりする。そのため、全体として透明度に関する指標で曇度を表すヘイズが高くなる傾向がある。それにより、また、樹脂層は、耐光性が低いため、太陽光が当たる環境下で使用した場合に経年劣化による色の変化が生じるという欠点もある。

そこで、本発明においては、映像が鮮明であるとともに、高い透明度を保持した透明スクリーンを提供するものである。

上記課題を解決する透明スクリーン、映像表示システム、及び透明スクリーンの製造方法は、以下の特徴を有する。
即ち、本発明に係る透明スクリーンは、映像を表示する透明スクリーンであって、少なくとも一方の主面に凹凸を有し、前記凹凸を有する主面における、算術粗さＲａが１ｎｍ以上かつ５００ｎｍ以下であり、粗さ曲線の平均長さＲＳｍが２００ｎｍ以上かつ５０００ｎｍ以下である透明スクリーン用基板により構成されてなる。
このような構成により、透明スクリーンは、高い透明度を保持することができる。また、投影機から投影された映像を、透明スクリーン上に鮮明に表示することができる。ここで、本明細書における「映像」とは、時間の経過とともに表示内容が変化する「動画」、及び時間が経過しても表示内容が変化しない「静止画」の両方を含む。

また、前記凹凸を有する主面における、最大高さ粗さＲｚが３０ｎｍ以上かつ６００ｎｍ以下である。
これにより、透明スクリーンの高い透明度を保持しつつ、投影機から投影された映像を、透明スクリーン上に鮮明に表示することができる。

また、ヘイズが、可視光の波長域において６０％未満である。
これにより、透明スクリーンの高い透明度を保持することができる。

また、ヘイズが、可視光の波長域において３０％未満である。
これにより、透明スクリーンの高い透明度をより保持することができる。

また、前記透明スクリーンは、複数枚の透明スクリーン用基板により構成されてなり、前記透明スクリーン用基板の主面の凹凸は、他の透明スクリーン用基板と接してなる。
これにより、汚れが付着しにくくすることができる。

また、本発明に係る映像表示システムは、請求項１〜請求項５の何れか一項に記載される透明スクリーンと、前記透明スクリーンに映像光を投影する投影機とを備え、前記投影機は、前記透明スクリーンの凹凸側に映像光を投影するように構成されてなる。
これにより、透明スクリーンの高い透明度を保持し、投影機から投影された映像を、透明スクリーン上に鮮明に表示することができる。

また、本発明に係る透明スクリーンの製造方法は、映像を表示する透明スクリーンの製造方法であって、ガラス基板に少なくとも一方の主面にウェットサンドブラスト処理を施し、主面に凹凸を形成する。
これにより、高い透明度を保持し、透明スクリーン上に表示された映像の解像度を保持した透明スクリーンを得ることができる。

また、前記主面において、算術粗さＲａが１ｎｍ以上かつ５００ｎｍ以下であり、粗さ曲線の平均長さＲＳｍが２００ｎｍ以上かつ５０００ｎｍ以下である凹凸を形成する。
これにより、透明スクリーンの高い透明度を保持し、投影機から投影された映像を、透明スクリーン上に鮮明に表示することができる。

本発明によれば、映像が鮮明であるとともに、高い透明度を保持した透明スクリーンを得ることができる。

本発明の第１の実施形態に係る透明スクリーンを示す概略側面断面図である。 本発明の第２の実施形態に係る透明スクリーンを示す概略側面断面図である。 本発明の第３の実施形態に係る透明スクリーンを示す概略側面断面図である。 リア型の透明スクリーンを説明するための概略側面断面図である。 リア型の透明スクリーンを説明するための概略側面断面図である。

次に、本発明に係る透明スクリーン、及び映像表示システムを実施するための形態を、添付の図面を用いて説明する。

図１に示す映像表示システム１０は、本発明に係る透明スクリーンを備えた映像表示システムの一実施形態である。図１に示す映像表示システム１０は、フロント型の映像表示システム１０である。透明スクリーンは、透明スクリーンに対して観察者側と同じ側に設置された映像照射装置から照射された光を、透明スクリーン基板の表面で散乱反射させ、そして、その散乱反射させた光を映像として、透明スクリーンの表面に表示するように構成されている。
映像表示システム１０は、映像を表示する透明スクリーン２０と、透明スクリーン２０の斜め上方側に配置される投影機３０とを備える。透明スクリーン２０は、本発明に係る透明スクリーンであり、投影機３０は、本発明に係る透明スクリーンに映像を投影する投影機の一例である。なお、図１において、「観察者側」とは、観察者Ｘが存在する側、すなわち紙面左側である。

映像表示システム１０は、透明スクリーン２０に対して投影機３０から映像光Ｌを投影することにより、透明スクリーン２０に映像を表示させている。
透明スクリーン２０は、例えば、空間を仕切るパーティションとして用いることができる。

投影機３０は、透明スクリーン２０に映像光Ｌを投射できるプロジェクタである。映像光Ｌは、透明スクリーン２０で散乱され反射光Ｒとなり、透明スクリーン２０に映像が表示される。なお、映像光Ｌの一部は、透明スクリーン２０を散乱透過する。そのため、映像は、観察者Ｘ側と反対側からも確認できる。ただし、観察者Ｘ側と反対側から映像を確認した場合、映像が反転して見える。プロジェクタとしては、例えば、短焦点プロジェクタが挙げられる。短焦点プロジェクタは、１０〜９０ｃｍの至近距離からの映像光Ｌの投射が可能なプロジェクタである。

（１）第１の実施形態に係る透明スクリーン
次に、透明スクリーン２０について説明する。透明スクリーン２０は、例えば、ガラス基板、石英基板、ポリカーボネート等の透明樹脂基板、結晶化ガラス基板、透明セラミック基板等により構成される。本実施形態では、透明スクリーン２０は、ガラス基板により構成される。透明スクリーン２０の少なくとも一方の主面２０ａに凹凸が形成されている。図１において、凹凸は、観察者Ｘ側に形成されている。透明スクリーン２０を構成するガラス基板としては、例えばアルミノシリケートガラス、又はホウケイ酸ガラスからなるガラス基板を用いることができる。ガラス基板がアルカリ含有アルミノシリケートガラスからなる場合、ガラス基板は、表面に化学強化層を有していても良い。
透明スクリーン２０の厚みは、例えば、３０μｍ〜５ｃｍ程度が好ましい。本実施形態のように、透明スクリーン２０がガラス基板により構成される場合、厚みが１００μｍ以下であれば、透明スクリーン２０は可撓性を有するため、透明スクリーン２０の形状を自由に設計できる。

透明スクリーン２０は、透光性を有する。なお、「透光性」とは、観察者Ｘの透明スクリーンの反対側から照射された光（太陽光、照明等）が観察者Ｘ側に透過することを意味する。例えば、透明スクリーン２０の可視光（波長域（３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ））の平均透過率は、４０％以上である。これにより、観察者Ｘの透明スクリーンの反対側から照射された光が観察者Ｘ側に透過することができる。このような平均透過率を有するガラス基板の具体例としては、ソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸ガラス、リチウムアルミノケイ酸ガラスなどが挙げられる。

透明スクリーン２０の主面２０ａの凹凸は、算術平均粗さＲａが１ｎｍ以上かつ５００ｎｍ以下となっている。

透明スクリーン２０の主面２０ａにおける算術平均粗さＲａが、このような範囲であることにより、透明スクリーン２０においては、高い透明度を保持しつつ、投影機３０から投影された映像を、透明スクリーン２０上に鮮明に表示することができる。

本実施形態の場合、透明スクリーン２０における算術平均粗さＲａの下限値は１ｎｍに設定されているが、１０ｎｍに設定することが好ましく、１５ｎｍに設定することがさらに好ましい。
また、算術平均粗さＲａの上限値は５００ｎｍに設定されているが、４００ｎｍに設定することが好ましく、３００ｎｍに設定することがさらに好ましい。

本実施形態の場合、透明スクリーン２０における粗さ曲線の平均長さＲＳｍが２００ｎｍ以上かつ５０００ｎｍ以下であることにより、投影機３０から投影された映像を、透明スクリーン２０上に鮮明に表示することができる。

本実施形態の場合、透明スクリーン２０における粗さ曲線の平均長さＲＳｍの下限値は２００ｎｍに設定されているが、２５０ｎｍに設定することが好ましく、３５０ｎｍに設定することがさらに好ましい。
また、粗さ曲線の平均長さＲＳｍの上限値は５０００ｎｍに設定されているが、４５００ｎｍに設定することが好ましく、４０００ｎｍに設定することがさらに好ましい。

本実施形態の場合、透明スクリーン２０においては、最大高さ粗さＲｚが３０ｎｍ以上かつ６００ｎｍ以下であることにより、高い透明度を保持しつつ、投影機３０から投影された映像を、透明スクリーン２０上に鮮明に表示することができる。

本実施形態の場合、透明スクリーン２０の主面２０ａにおける最大高さ粗さＲｚの下限値は３０ｎｍに設定されているが、３５ｎｍに設定することが好ましく、４０ｎｍに設定することがさらに好ましい。
また、最大高さ粗さＲｚの上限値は６００ｎｍに設定されているが、５００ｎｍに設定することが好ましく、４００ｎｍに設定することがさらに好ましい。

透明スクリーン２０の凹凸は、観察者Ｘが透明スクリーン２０を挟んで観察者Ｘの位置する反対側の物体または景色を視認する観点から、透明性に関する指標で曇度を表すヘイズが、可視光の波長域（３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）において６０％未満となるように形成されている。
透明スクリーン２０のヘイズを６０％未満とすることで、高い透明度を保持することができ、観察者Ｘは透明スクリーン２０の反対側の物体または景色を視認することができる。

本実施形態の場合、透明スクリーン２０のヘイズは６０％未満に設定されているが、５０％未満であることが好ましく、３０％未満であることがより好ましく、２０％未満であることがさらに好ましい。

また、透明スクリーン２０の少なくとも一方の主面に汚れの付着を防止し、撥水性、撥油性を付与するための防汚膜を形成することができる。
防汚膜は、主鎖中にケイ素を含む含フッ素重合体を含むことが好ましい。含フッ素重合体としては、例えば、主鎖中に、−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−ユニットを有し、かつ、フッ素を含む撥水性の官能基を側鎖に有する重合体を用いることができる。含フッ素重合体は、例えばシラノールを脱水縮合することにより合成することができる。

透明スクリーン２０に防汚膜を有する場合、防汚膜の表面の凹凸が上述の表面粗さ（算術表面粗さＲａ、粗さ曲線の平均長さＲＳｍ、最大高さ粗さＲｚ）の範囲となるように、透明スクリーン２０の主面２０ａに凹凸が形成される。
また、透明スクリーン２０に防汚膜を有する場合、防汚膜を形成した後の透明スクリーン２０のヘイズが上述の範囲となるように、透明スクリーン２０の主面２０ａに凹凸が形成される。

また、透明スクリーン２０の少なくとも一方の主面に、様々な機能を付与するためのフィルムを貼り付けてもよい。フィルムとしては、着色フィルム、防汚フィルム、反射防止フィルム、防眩フィルム、防破フィルム等が挙げられる。

次に、主面２０ａに凹凸を有する透明スクリーン２０の作製方法について説明する。
前記凹凸は、当該主面２０ａにウェットブラスト処理を施すことにより形成される。
ウェットブラスト処理は、アルミナなどの個体粒子にて構成される砥粒と、水などの液体とを均一に攪拌してスラリーとしたものを、圧縮エアを用いて噴射ノズルからガラスからなるワークに対して高速で噴射することにより、前記ワークに凹凸を形成する処理である。

ウェットブラスト処理においては、高速に噴射されたスラリーがワークに衝突した際に、スラリー内の砥粒がワークの表面を削ることにより、ワークの表面に凹凸が形成されることとなる。この場合、ワークに噴射された砥粒や砥粒により削られたワークの破片は、ワークに噴射された液体により洗い流されるため、ワークに残留する粒子が少なくなる。透明スクリーン２０は、表面に凹凸が形成されたワークを、切断すること等により所望の大きさや形状に加工することにより得られる。

ウェットブラスト処理によりワークの主面に形成される凹凸の表面粗さは、主にスラリーに含まれる砥粒の粒度分布と、スラリーをワークに噴射する際の噴射圧力とにより調整可能である。

ウェットブラスト処理においては、スラリーをワークに噴射した場合、液体が砥粒をワークまで運ぶため、乾式ブラスト処理に比べて微細な砥粒を使用することができるとともに、砥粒がワークに衝突する際の衝撃が小さくなり、精密な加工を行うことが可能である。なお、乾式ブラスト処理を用いた場合、小さな砥粒を用いても適度な大きさの凹凸を形成することは困難である。このように、ワークに対してウェットブラスト処理を施すことで、透明スクリーン２０の主面２０ａに適度な大きさの凹凸を形成しやすく、高い透明度を保持し、投影機３０から投影された映像を、透明スクリーン２０上に鮮明に表示することができる。

なお、乾式ブラスト処理においては、噴射された砥粒がワークに衝突した際の摩擦によりワークに加工熱が発生するが、ウェットブラスト処理においては、処理中は液体がワークの表面を常に冷却しているため、ワークがブラスト処理により加熱されることがない。また、乾式ブラスト処理を施すことにより、透明スクリーン２０の主面２０ａに凹凸を形成することも可能であるが、乾式ブラスト処理では砥粒が透明スクリーン２０の主面に衝突する際の衝撃が大きすぎて、凹凸が形成された主面２０ａの表面粗さが大きくなりやすく、透明スクリーン２０の透明度が損なわれやすい。

また、透明スクリーン２０の主面２０ａに凹凸を形成する方法としては、透明スクリーン２０の主面２０ａをフッ化水素（ＨＦ）ガス又はフッ化水素酸によりエッチングする方法があるが、これらのエッチングにより得られる凹凸は小さくなりやすく、映像を明瞭に表示することが困難となりやすい。

（２）第２の実施形態に係る透明スクリーン
図２は、本発明の第２の実施形態に係る透明スクリーン４０を示す模式的断面図である。透明スクリーン４０は、一方に凹凸が形成された主面４１ａを有する透明スクリーン用基板４１の２枚が互いに重ね合わせられた構造からなる。具体的には、透明スクリーン用基板４１の主面４１ａどうしが重ね合わせられた構造である。透明スクリーンの凹凸が形成された表面には汚れが付着しやすく、クリーニングし難い。第２の実施形態に係る透明スクリーン４０は、凹凸が露出していないため、汚れが付着しにくく、クリーニングしやすい。

なお、２枚の透明スクリーン用基板４１は、樹脂などの接着剤で接着しても良い。接着剤としては、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合（ＥＶＡ）、熱可塑性ポリウレタン（ＴＰＵ）等の熱可塑性樹脂でなる透明な接着剤が挙げられる。

（３）第３の実施形態に係る透明スクリーン
図３は、本発明の第３の実施形態に係る透明スクリーン５０を示す模式的断面図である。透明スクリーン５０は、凹凸が形成された主面５１ａを有する透明スクリーン用基板５１と、凹凸が形成されていない透明スクリーン用基板５２が互いに重ね合わせられた構造からなる。具体的には、透明スクリーン用基板５１の主面５１ａと、透明スクリーン用基板５２の主面５２ａが重ね合わされた構造である。凹凸が形成された主面５１ａが外部に露出していないため、汚れが付着しにくい。なお、２枚の透明スクリーン用基板５１・５２は、樹脂などの接着剤で接着しても良い。

なお、上述した実施形態では、フロント型の映像表示システムであるが、例えば、図４や図５のように、リア型の透明スクリーンであっても良い。図４及び図５において、映像表示システム６０は、観察者Ｘ側と反対方向に配された投影機３０から映像光Ｌが投影され、映像光Ｌは、透明スクリーンで散乱、透過して透過散乱光Ｓとなり、透明スクリーン２０に映像が表示される。

次に、主面２０ａに凹凸を形成した透明スクリーン２０の実施例について説明する。但し、透明スクリーン２０はこれに限定されるものではない。

［試料の作製］
本実施例においては、透明スクリーン２０の実施例として試料１〜４を作製し、比較例として試料５、６を作製した。
試料１〜６に用いた透明スクリーン２０としては、厚さが１．１ｍｍのアルカリ含有アルミノシリケートガラス基板を使用した。

実施例となる試料１〜４の透明スクリーン２０は、厚さが１．１ｍｍの上記のガラス基板にウェットブラスト処理を施すことにより、一方の主面２０ａに凹凸を形成して作製した。
具体的には、ガラス基板に一方の主面の全体に対し、粒度が♯４０００のアルミナにて構成される砥粒と水とを均一に攪拌することにより調製したスラリーを、ガラス基板を載置した処理台を１０ｍｍ／ｓの速度で移動させながら、所定の処理圧力のエアを用いて噴射するウェットブラストを２回繰り返した。前記砥粒としては、多角形状を有する砥粒を用いた。

試料１では、ガラス基板に対してスラリーを噴射した際の処理圧力は０．１ＭＰａであり、試料２では、ガラス基板に対してスラリーを噴射した際の処理圧力は０．１２ＭＰａであり、試料３では、ガラス基板に対してスラリーを噴射した際の処理圧力は０．１５ＭＰａであり、試料４では、ガラス基板に対してスラリーを噴射した際の処理圧力は０．２５ＭＰａであった。

比較例となる試料５の透明スクリーン２０は、ガラス基板の主面に処理を施していないものである。つまり試料５の透明スクリーン２０は未処理である。
比較例となる試料６の透明スクリーンは、ガラス基板の一方の主面にＳｉＯ_２成分を含む液体を噴射することにより塗布し、塗布したＳｉＯ_２成分を含む液体を乾燥させることにより当該主面にＳｉＯ_２コーティング膜を形成することで作製した。

［表面粗さの測定］
試料１〜６の透明スクリーン２０における主面２０ａの表面粗さを測定した。表面粗さの測定は、試料１〜４についてはウェットブラスト処理を施した主面２０ａに対して行い、試料５についてはいずれか一方の主面２０ａに対して行い、試料６についてはＳｉＯ_２コーティング膜を形成した側の主面２０ａに対して行った。

測定した表面粗さのパラメータは、算術表面粗さＲａ、最大高さ粗さＲｚ、及び粗さ曲線の平均長さＲＳｍである。
ただし、算術表面粗さＲａ、最大高さ粗さＲｚは試料１〜６について測定し、粗さ曲線の平均長さＲＳｍは試料１〜４、６について測定した。

試料１〜５に対する算術表面粗さＲａ、最大高さ粗さＲｚの測定は、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて行った。

用いた原子間力顕微鏡は、Ｂｒｕｋｅｒ社製の原子間力顕微鏡（ＳＰＭ ｕｎｉｔ：Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ Ｉｃｏｎ，Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ ｕｎｉｔ： Ｎａｎｏ Ｓｃｏｐｅ Ｖ）であり、ＪＩＳ Ｂ０６０１‐２０１３に基づいて測定を実施した。また、測定条件は、タッピングモードを使用し、測定エリア１０×１０μｍの領域に対して、スキャンレートが１Ｈｚ、取得データ数が５１２×５１２となるように実施した。

試料６に対する算術表面粗さＲａ、最大高さ粗さＲｚの測定は、試料６の測定値が試料１〜５の測定値よりも大きくなることから、原子間力顕微鏡よりも大きな値を測定するのに適したレーザー顕微鏡を用いて行った。
また、試料１〜４、６に対する粗さ曲線の平均長さＲＳｍの測定は、本実施例において測定した他のパラメータよりも広い範囲を測定する必要があるため、原子間力顕微鏡よりも広範囲を測定するのに適したレーザー顕微鏡を用いて測定した。

用いたレーザー顕微鏡は、キーエンス製レーザー顕微鏡（ＶＫ−Ｘ２５０）であり、ＪＩＳ Ｂ０６０１‐２０１３に基づいて測定を実施した。
また、測定は、測定エリア約３２×２４μｍの領域に対して、取得データ数が１０２４×７６８ピクセルであり、基準長さが測定エリアの１/５程度となるように実施した。

［表面粗さの測定結果］
試料１〜６について行った表面粗さの測定結果について説明する。
表１に測定結果を示す。

表１に示すように、算術表面粗さＲａは、実施例となる試料１〜４については６．９ｎｍ〜１８．４ｎｍの範囲にあり、ウェットブラスト処理の処理圧力が大きくなるに従って算術表面粗さＲａの値も大きくなる傾向にある。未処理の比較例である試料５については、試料１〜４よりもＲａが小さく、０．２ｎｍであった。ＳｉＯ_２コーティング膜を形成した比較例である試料６については、試料１〜４よりもＲａが大きく１４６ｎｍであった。

最大高さ粗さＲｚは、実施例となる試料１〜４については１７３ｎｍ〜３８５ｎｍの範囲にあり、ウェットブラスト処理の処理圧力が大きくなるに従って最大高さ粗さＲｚの値も大きくなる傾向にある。未処理の比較例である試料５については、試料１〜４よりも小さく、１４ｎｍであった。ＳｉＯ_２コーティング膜を形成した比較例である試料６については、試料１〜４よりも大きく、８３１ｎｍであった。

粗さ曲線の平均長さＲＳｍは、実施例となる試料１〜４については８８８ｎｍ〜１２２０ｎｍの範囲にあり、ウェットブラスト処理の処理圧力が大きくなるに従って粗さ曲線の平均長さＲＳｍも大きくなる傾向にある。ＳｉＯ_２コーティング膜を形成した比較例である試料６については、試料１〜４よりも大きく、１４４０４ｎｍであった。

［ヘイズの測定］
試料１〜４、６についてヘイズの測定を行った。ヘイズの測定は、ＳＵＧＡ ＴＥＳＴＩＮＳＴＲＵＭＥＮＴＳ社製ヘーズコンピューター（Ｈａｚｅ Ｃｏｍｐｕｔｅｒ ＨＺ−２）を用い、ＪＩＳ Ｋ７１３６、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１に基づいて測定した。

［ヘイズの測定結果］
表１に示すように、ヘイズは、実施例となる試料１〜４については０．２２％〜１．７７％の範囲にあり、ウェットブラスト処理の処理圧力が大きくなるに従ってヘイズの値も大きくなる傾向にある。ＳｉＯ_２コーティング膜を形成した比較例である試料６については、試料１〜４よりも大きな１０．９％であった。

［映像の解像度評価］
投影機３０により透明スクリーン２０上に表示された映像の解像度について評価を行った。評価方法としては、透明スクリーン２０に表示される映像が鮮明に見えるか否かを以下に示す５段階で評価を行った。５：鮮明な映像が見える、４：映像が十分に視認できるが、５より不鮮明、３：映像が視認できる、２：映像が視認できるが、不鮮明、１：映像が僅かに視認でき、不鮮明。

［解像度の評価結果］
表１に示すように、映像の解像度は、実施例となる試料１〜３については３または４となり、試料４については５となった。未処理の比較例である試料５については１となった。ＳｉＯ_２コーティング膜を形成した比較例である試料６については５となった。

［透明スクリーン反対側の映像の視認性］
透明スクリーン２０に対して観察者Ｘが位置する反対側の背景の視認性について評価した。評価方法としては、観察者Ｘが透明スクリーン２０の正面から１ｍ離れた位置に立ち、透明スクリーン２０に対して反対側の背景が視認できるか否かを評価した。透明スクリーン２０の反対側の背景が視認できる場合を〇とし、それよりも背景が視認できない、もしくは視認できるが、不鮮明な場合を×として、反対側の視認性の判定を行った。

［反対側の視認性評価結果］
表１に示すように、反対側の視認性は、実施例となる試料１〜４については〇となり、未処理の比較例である試料５については○となり、ＳｉＯ_２コーティング膜を形成した比較例である試料６については×となった。

［各試料の総合評価］
表１に示すように、実施例となる試料１〜４については、透明スクリーン２０の主面２０ａの凹凸の形状が適切であるため、映像の解像度は３以上、反対側の背景の視認性が○といったように良好な評価結果が得られた。
一方、未処理の比較例である試料５については、透明スクリーン２０の主面２０ａの凹凸が小さいため、映像の解像度が１と低かった。
また、ＳｉＯ_２コーティング膜を形成した比較例である試料６については、凹凸が大きすぎるため、透明スクリーン２０の反対側の背景の視認性が×となった。

１０ 映像表示システム
２０ 透明スクリーン
２０ａ 主面
３０ 投影機

Claims (8)

1. 映像を表示する透明スクリーンであって、
   少なくとも一方の主面に凹凸を有し、
   前記凹凸を有する主面における、算術粗さＲａが１ｎｍ以上かつ５００ｎｍ以下であり、粗さ曲線の平均長さＲＳｍが２００ｎｍ以上かつ５０００ｎｍ以下である透明スクリーン用基板により構成されてなる、ことを特徴とする透明スクリーン。
2. 前記凹凸を有する主面における、最大高さ粗さＲｚが３０ｎｍ以上かつ６００ｎｍ以下である、ことを特徴とする請求項１に記載の透明スクリーン。
3. ヘイズが、可視光の波長域において６０％未満である、ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の透明スクリーン。
4. ヘイズが、可視光の波長域において３０％未満である、ことを特徴とする請求項１〜請求項３の何れか一項に記載の透明スクリーン。
5. 前記透明スクリーンは、複数枚の透明スクリーン用基板により構成されてなり、前記透明スクリーン用基板の主面の凹凸は、他の透明スクリーン用基板と接してなる、ことを特徴とする請求項１〜請求項４の何れか一項に記載の透明スクリーン。
6. 請求項１〜請求項５の何れか一項に記載される透明スクリーンと、
   前記透明スクリーンに映像光を投影する投影機とを備え、
   前記投影機は、前記透明スクリーンの凹凸に映像光を投影するように構成されてなる、ことを特徴とする映像表示システム。
7. 映像を表示する透明スクリーンの製造方法であって、
   ガラス基板に少なくとも一方の主面にウェットサンドブラスト処理を施し、主面に凹凸を形成する、ことを特徴とする透明スクリーンの製造方法。
8. 前記主面において、算術粗さＲａが１ｎｍ以上かつ５００ｎｍ以下であり、粗さ曲線の平均長さＲＳｍが２００ｎｍ以上かつ５０００ｎｍ以下である凹凸を形成する、ことを特徴とする請求項７に記載の透明スクリーンの製造方法。